JP4715652B2 - Piezoelectric vibrating piece - Google Patents

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  • Piezo-Electric Or Mechanical Vibrators, Or Delay Or Filter Circuits (AREA)

Description

本発明は、圧電材料を利用した圧電振動片の改良に関する。   The present invention relates to an improvement of a piezoelectric vibrating piece using a piezoelectric material.

HDD(ハード・ディスク・ドライブ)、モバイルコンピュータ、あるいはICカード等の小型の情報機器や、携帯電話、自動車電話、またはページングシステム等の移動体通信機器において、圧電振動子が広く使用されている。
そのような圧電振動子に用いられる圧電振動片として、圧電材料で形成した基部と、該基部から平行に延出した一対の振動腕と、該振動腕に形成した駆動用電極とを備えるいわゆる音叉型圧電振動片と呼ばれるものがある。
Piezoelectric vibrators are widely used in small information devices such as HDDs (hard disk drives), mobile computers, and IC cards, and mobile communication devices such as mobile phones, car phones, and paging systems.
As a piezoelectric vibrating piece used in such a piezoelectric vibrator, a so-called tuning fork including a base portion formed of a piezoelectric material, a pair of vibrating arms extending in parallel from the base portion, and a driving electrode formed on the vibrating arm. There is a so-called piezoelectric vibrating piece.

図7は、このような音叉型圧電振動片1の上記した一対の振動腕を縦方向に切断した概略断面図である。
図において、一対の振動腕2,3は基部に一体に固定されていて、該基部から片持ち式に互いに平行に延びており、駆動電圧を印加されることで、互いの先端部を近接・離間するように屈曲振動するものである。
図示されているように、振動腕2,3の各主面にはその表裏から溝4,4、溝5,5が形成されており、これら溝には対となる駆動電極6,6と7,7が形成されている。また、内側の電極と対となるように、各振動腕の両側面にも駆動電極7,7、6,6が形成されている。これにより、駆動電圧が印加されると各振動腕2,3は矢印で示すように電界が形成されることで、上記屈曲振動をするようになっている。
FIG. 7 is a schematic cross-sectional view of the tuning fork-type piezoelectric vibrating piece 1 having the pair of vibrating arms cut in the longitudinal direction.
In the figure, a pair of vibrating arms 2 and 3 are integrally fixed to a base part, extend in parallel with each other in a cantilevered manner from the base part, and when a driving voltage is applied, the tip parts of the vibration arms 2 and 3 come close to each other It bends and vibrates so as to be separated.
As shown in the figure, grooves 4, 4 and grooves 5, 5 are formed on the respective main surfaces of the vibrating arms 2, 3 from the front and back, and paired drive electrodes 6, 6, 7 are formed in these grooves. , 7 are formed. In addition, drive electrodes 7, 7, 6, and 6 are formed on both side surfaces of each vibrating arm so as to be paired with the inner electrodes. As a result, when a driving voltage is applied, each of the vibrating arms 2 and 3 is subjected to the bending vibration by forming an electric field as indicated by an arrow.

このような構造の音叉型圧電振動片1について、さらに電界効率を高めて、しかも小型化を図ろうとすると、各振動腕2、3に溝4,4,5,5,を形成していることから、剛性が低下してしまい、安定した屈曲振動が得られない。
また、ウエットエッチングで音叉型の外形を形成する場合には、材料によっては、結晶構造に起因して、方向により、エッチング速度が異なる所謂エッチング異方性があることから、理想的な外形を作ることができない。
すなわち、エッチング異方性によるヒレなどの異形部が形成されることによっても、屈曲振動が阻害され、クリスタルインピーダンスの増加につながる。
The tuning fork-type piezoelectric vibrating piece 1 having such a structure has grooves 4, 4, 5, 5 formed in the vibrating arms 2 and 3 in order to further increase the electric field efficiency and reduce the size. Therefore, the rigidity is lowered and stable bending vibration cannot be obtained.
When a tuning fork type outer shape is formed by wet etching, depending on the material, there is so-called etching anisotropy in which the etching rate varies depending on the direction due to the crystal structure. I can't.
That is, the formation of a deformed portion such as a fin due to etching anisotropy also inhibits bending vibration, leading to an increase in crystal impedance.

そこで、特許文献1のように、各振動腕に駆動電極で挟み込んだ圧電薄膜を形成し、この圧電薄膜の変形により、各振動腕に屈曲振動を行わせる手法が提案されている。
このような構成によれば、各振動腕に溝を形成する必要がなく、剛性の低下を原因とする屈曲振動の不良を生じることがない。
特開2003−227719
Therefore, as in Patent Document 1, a method is proposed in which a piezoelectric thin film sandwiched between drive electrodes is formed in each vibrating arm, and bending vibration is caused to each vibrating arm by deformation of the piezoelectric thin film.
According to such a configuration, it is not necessary to form a groove in each vibrating arm, and a bending vibration defect caused by a decrease in rigidity does not occur.
JP 2003-227719 A

しかしながら、特許文献1の共振子は、非圧電材料であるシリコンにより音叉を形成している。
しかし、シリコンの屈曲振動により生成される周波数は高く、所謂通常の音叉型圧電振動片の周波数領域(32.768kHz(「キロヘルツ」)程度の周波数を得ることが難しい。
また、シリコンは周波数−温度特性が非常に悪く、安定した周波数を得られない欠点がある。
However, the resonator disclosed in Patent Document 1 forms a tuning fork from silicon, which is a non-piezoelectric material.
However, the frequency generated by the bending vibration of silicon is high, and it is difficult to obtain a frequency in the frequency range (32.768 kHz (“kilohertz”)) of a so-called normal tuning fork type piezoelectric vibrating piece.
In addition, silicon has a very poor frequency-temperature characteristic and has a drawback that a stable frequency cannot be obtained.

この発明は、小型に構成でき、比較的低い周波数を安定して生成できる圧電振動片を提供することを目的とする。   An object of the present invention is to provide a piezoelectric vibrating piece that can be configured in a small size and can stably generate a relatively low frequency.

上記目的は、第1の発明にあっては、水晶、GaPO、またはLiである基材により形成された基部と、前記基部と同じ材料で一体に形成され、かつ前記基部から延びる少なくとも一対の振動腕と、を備え、前記振動腕の主面において、前記振動腕の中心線により分割された一方の領域に一方の第1の電極が形成され、他方の領域に他方の第1の電極が形成され、前記一方および他方の第1の電極は互いに異極であり、前記一方および他方の第1の電極の表面に圧電薄膜が形成され、前記圧電薄膜を挟んで前記一方の第1の電極と対となるように、一方の第2の電極が前記圧電薄膜の表面に形成され、前記圧電薄膜を挟んで前記他方の第1の電極と対となるように、他方の第2の電極が前記圧電薄膜の表面に形成され、前記振動腕には、前記振動腕の前記主面における前記一方の第1の電極と前記他方の第1の電極との間に溝が形成され、該溝によって、前記一方の第1の電極と前記他方の第1の電極との間の電界形成を抑制するよう構成されていることを特徴とする圧電振動片により、達成される。 In the first invention, the object is integrally formed of a base made of quartz, GaPO 4 , or Li 2 B 4 O 7 , the same material as the base, and the base At least one pair of vibrating arms extending from the first electrode, wherein one first electrode is formed in one region divided by the center line of the vibrating arm on the main surface of the vibrating arm, and the other region A first electrode is formed, the one and the other first electrodes are different from each other, a piezoelectric thin film is formed on a surface of the one and the other first electrode, and the one electrode is sandwiched between the one and the other One second electrode is formed on the surface of the piezoelectric thin film so as to be paired with the first electrode, and the other electrode is paired with the other first electrode across the piezoelectric thin film. A second electrode is formed on the surface of the piezoelectric thin film; In the vibrating arm, a groove is formed between the one first electrode and the other first electrode on the main surface of the vibrating arm, and the groove forms a groove between the first electrode and the first electrode. This is achieved by a piezoelectric vibrating piece configured to suppress the formation of an electric field between the other first electrode .

第1の発明の構成によれば、前記基部から平行に延びる振動腕の表面に、第1および第2の電極が圧電薄膜を挟んで対となるように形成されているので、第1および第2の電極に駆動電圧が印加されると、該圧電薄膜内に電界が形成される。この電界形成により圧電薄膜が変形し、それにともなって、各振動腕が前記圧電薄膜の変形に応じて屈曲振動を行う。
このため、圧電振動片を小型に形成する上で、その外形が必ずしも理想的な形状とされなくても、屈曲振動に大きな影響がない。また、各振動腕には電極形成のための溝を設ける必要がない。したがって、溝による剛性低下の恐れが無いので、剛性低下による屈曲振動への悪影響を排除できる。そして、これらの理由により、小型化をする上での制約がなくなるので、容易に小型の圧電振動片を作ることができる。
さらに、本発明では、圧電薄膜と基材との関係でみると、基材より圧電薄膜はその厚みがはるかに薄いから、基材のもつ特性を生かして、屈曲振動を行わせることができる。そして、本発明の前記基材は、ヤング率が小さく、かつ周波数−温度特性が良好な基材により形成されていることから、低いヤング率によって、小型に形成しても比較的低い周波数を実現することができる。いいかえれば、周波数を高くせずに小型化が可能となる。
また、隣り合う電極間における基材を介しての電界形成、すなわちクロストークを抑制することができる。
また、基材を水晶とすると、従来用いられていたシリコンと比較して、ヤング率においては、100方位のシリコンが131(Gpa)(ギガパスカル)と硬い材料であるのに対して、水晶が78(Gpa)と柔らかい材質であることから、周波数を十分低くすることができ、あるいは同じ周波数では、本発明の圧電振動片(圧電振動子)は約1/2の大きさとすることができる。
According to the configuration of the first invention, the first and second electrodes are formed on the surface of the vibrating arm extending in parallel from the base so as to be paired with the piezoelectric thin film interposed therebetween. When a driving voltage is applied to the two electrodes, an electric field is formed in the piezoelectric thin film. Due to this electric field formation, the piezoelectric thin film is deformed, and accordingly, each vibrating arm performs flexural vibration according to the deformation of the piezoelectric thin film.
For this reason, when the piezoelectric vibrating piece is formed in a small size, even if the outer shape is not necessarily an ideal shape, the bending vibration is not greatly affected. Further, it is not necessary to provide a groove for forming an electrode in each vibrating arm. Therefore, since there is no fear of a decrease in rigidity due to the groove, it is possible to eliminate an adverse effect on the bending vibration due to the decrease in rigidity. For these reasons, since there are no restrictions on downsizing, a small piezoelectric vibrating piece can be easily produced.
Furthermore, in the present invention, when viewed from the relationship between the piezoelectric thin film and the base material, the piezoelectric thin film is much thinner than the base material, and therefore, bending vibration can be performed by utilizing the characteristics of the base material. And since the base material of the present invention is formed of a base material having a small Young's modulus and good frequency-temperature characteristics, a relatively low frequency is realized even if it is formed in a small size due to a low Young's modulus. can do. In other words, it is possible to reduce the size without increasing the frequency.
In addition, it is possible to suppress electric field formation between adjacent electrodes, that is, crosstalk.
Also, if the base material is quartz, compared to silicon that has been used in the past, in terms of Young's modulus, silicon of 100 orientation is a hard material of 131 (Gpa) (gigapascal), whereas quartz is Since the material is soft as 78 (Gpa), the frequency can be made sufficiently low, or at the same frequency, the piezoelectric vibrating piece (piezoelectric vibrator) of the present invention can be about ½ in size.

第2の発明は、第1の発明の構成において、前記一方および他方の第1の電極、前記圧電薄膜、第一方および他方の2の電極、および前記溝は、前記振動腕の表面側および裏面側に形成されていることを特徴とする。 The second invention is the configuration of the first aspect of the invention, the one and the other of the first electrode, the piezoelectric thin film, the hand and the other second electrode, and the groove, the surface side of the vibrating arm And it is formed in the back surface side, It is characterized by the above-mentioned.

図1は、本発明の圧電振動片の第1の実施の形態を示す概略斜視図である。
図において、圧電振動片20は、基部21と、この基部から一方向に平行に、かつ同じ方向に延びる一対の振動腕22,23とを有している。
FIG. 1 is a schematic perspective view showing a first embodiment of a piezoelectric vibrating piece according to the present invention.
In the figure, the piezoelectric vibrating piece 20 has a base portion 21 and a pair of vibrating arms 22 and 23 extending in the same direction from the base portion in parallel to one direction.

ここで、圧電振動片20は、駆動電圧を印加して、所定のモードで励振させることにより圧電振動子を形成することができるものである。
圧電振動片20は、例えば、圧電材料で形成されている。好ましくは、圧電材料のうち、特に圧電基板として、例えば、圧電振動片20を複数もしくは多数分離することができる大きさの水晶ウエハを用いて形成されている。水晶を用いることにより、圧電振動片20を形成するための基材として、ヤング率が、78(Gpa)程度の柔らかい材質を選択でき、周波数−温度特性の上でも安定した性質を利用できるようになる。
すなわち、水晶を用いることで、その低いヤング率によって、圧電振動片を小型に形成しても比較的低い周波数を実現することができる。いいかえれば、周波数を高くせずに小型化が可能となる。
また、水晶以外にヤング率の小さいものとして、GaPO(59GPa)、Li(96GPa)などを使用することができる。
Here, the piezoelectric vibrating piece 20 can form a piezoelectric vibrator by applying a driving voltage and exciting it in a predetermined mode.
The piezoelectric vibrating piece 20 is made of, for example, a piezoelectric material. Preferably, among the piezoelectric materials, in particular, as a piezoelectric substrate, for example, a quartz crystal wafer having a size capable of separating a plurality or a large number of piezoelectric vibrating pieces 20 is used. By using quartz, a soft material having a Young's modulus of about 78 (Gpa) can be selected as a base material for forming the piezoelectric vibrating piece 20 so that a stable property can be used in terms of frequency-temperature characteristics. Become.
That is, by using quartz, a relatively low frequency can be realized even if the piezoelectric vibrating piece is formed in a small size due to its low Young's modulus. In other words, it is possible to reduce the size without increasing the frequency.
In addition to quartz, GaPO 4 (59 GPa), Li 2 B 4 O 7 (96 GPa), or the like can be used as a material having a small Young's modulus.

本実施形態の場合、特に、例えば、基材を水晶の単結晶から切り出す際、X軸が電気軸、Y軸が機械軸及びZ軸が光学軸となるように、このX軸、Y軸及びZ軸からなる直交座標系において、Z軸を中心に時計回りに0度ないし5度の範囲で回転して切り出した水晶Z板を所定の厚みに切断研磨して得られるものを用いている。
図示されているように、圧電振動片20は、各振動腕22,23が延びる方向をY軸方向としてもよいし、X軸方向としてもよい。
しかしながら、図1で示すように、各振動腕22,23が、X軸方向に沿って延びるように形成されていると、後述する図5で説明するように、振動腕の表面で、幅方向に隣接する電極間でクロストークとなる電界がY軸方向に生じても、水晶ではY軸方向に圧電現象が生じない。このことより、隣接した電極間のクロストークの弊害を防止する上で、振動腕22,23をX軸方向に沿って延びるように形成すると有利である。
In the case of this embodiment, in particular, for example, when the substrate is cut out from a single crystal of quartz, the X axis, the Y axis, and the X axis are the electrical axis, the Y axis is the mechanical axis, and the Z axis is the optical axis. In the orthogonal coordinate system composed of the Z axis, a crystal Z plate obtained by cutting and polishing to a predetermined thickness is used for a quartz Z plate that is cut by rotating clockwise around the Z axis in the range of 0 to 5 degrees.
As illustrated, in the piezoelectric vibrating piece 20, the direction in which the vibrating arms 22 and 23 extend may be the Y-axis direction or the X-axis direction.
However, as shown in FIG. 1, if each of the vibrating arms 22 and 23 is formed to extend along the X-axis direction, as illustrated in FIG. Even if an electric field causing crosstalk occurs between the electrodes adjacent to each other in the Y-axis direction, the piezoelectric phenomenon does not occur in the Y-axis direction in the crystal. For this reason, it is advantageous to form the vibrating arms 22 and 23 so as to extend along the X-axis direction in order to prevent the adverse effect of crosstalk between adjacent electrodes.

このような水晶ウエハをエッチングすることにより、図1の圧電振動片20の外形を形成している。エッチングには、効率の点でドライエッチングよりもウエットエッチングが適しており、例えば、前記水晶ウエハに所定のマスキングをして、フッ酸溶液を含むエッチング液に浸漬することによりウエットエッチングして、複数もしくは多数の圧電振動片20の外形を一度に形成することができる。   By etching such a quartz wafer, the outer shape of the piezoelectric vibrating piece 20 of FIG. 1 is formed. For etching, wet etching is more suitable than dry etching in terms of efficiency. For example, the quartz wafer is subjected to predetermined masking, and wet etching is performed by immersing in an etching solution containing a hydrofluoric acid solution. Or the external shape of many piezoelectric vibrating pieces 20 can be formed at once.

次に、圧電振動片20の電極配置および圧電薄膜の配置について説明する。
振動腕22表面の外側側縁には該振動腕22が延びる方向に沿って細い電極26aが形成されている。また、振動腕22表面の内側には、該振動腕22が延びる方向に沿って細い電極26bが形成されている。この電極26a,26bは振動腕22の第1の電極を構成している。
振動腕23表面の外側側縁には該振動腕23が延びる方向に沿って細い電極27aが形成されている。また、振動腕23表面の内側には、該振動腕23が延びる方向に沿って細い電極27bが形成されている。この電極27a,27bは振動腕23の第1の電極を構成している。
Next, the electrode arrangement of the piezoelectric vibrating piece 20 and the arrangement of the piezoelectric thin film will be described.
A thin electrode 26a is formed on the outer side edge of the surface of the vibrating arm 22 along the direction in which the vibrating arm 22 extends. A thin electrode 26b is formed inside the surface of the vibrating arm 22 along the direction in which the vibrating arm 22 extends. The electrodes 26 a and 26 b constitute a first electrode of the vibrating arm 22.
A thin electrode 27a is formed on the outer side edge of the surface of the vibrating arm 23 along the direction in which the vibrating arm 23 extends. Further, a thin electrode 27b is formed inside the surface of the vibrating arm 23 along the direction in which the vibrating arm 23 extends. The electrodes 27a and 27b constitute a first electrode of the vibrating arm 23.

電極26aと電極27aは、図示しない導電部により接続されている。電極26bと電極27bも図示しない導電部により接続されている。
なお、以上の電極は、水晶の上に例えば、クロムによる下地をスパッタリングで形成し、その上に金を成膜することにより形成した電極膜を、図1および図2に示された形状にフォトリソグラフィの手法などによって処理することにより得られる。
The electrode 26a and the electrode 27a are connected by a conductive portion (not shown). The electrode 26b and the electrode 27b are also connected by a conductive portion (not shown).
The above electrodes are formed by, for example, forming an electrode film formed by forming a base of chromium on a crystal by sputtering and forming a gold film thereon into the shape shown in FIGS. It is obtained by processing by a lithography technique or the like.

次に、図2に示されているように、各振動腕22,24の第1の電極26、27の上に圧電薄膜24,25を成膜する。
好ましくは、電極26aの上と、電極26bの上に、そして、電極27aと電極27bのそれぞれの上に個別に圧電薄膜を形成する。この圧電薄膜としては、酸化亜鉛(ZnO)を好適に使用することができるが、他に、AIN、PZTなどを使用することができ、さらに水晶薄膜を用いるようにしてもよい。圧電薄膜24,25の成膜は、スパッタリングなどにより行うことができる。
次に、図1および図1のA−A線端面図である図4を参照して理解されるように、
圧電薄膜24と25を挟んで第1の電極26,27の上に第2の電極28,29を形成する。
詳しくは、電極26aの上に電極28aを、電極26bの上に電極28bを、電極27aの上に電極29aを電極27bの上に電極29bを形成する。なお、電極28aと電極29aは、電極26bと27bと接続されている。電極28bと電極29bは電極26aと電極27aと接続されている。
Next, as shown in FIG. 2, the piezoelectric thin films 24 and 25 are formed on the first electrodes 26 and 27 of the vibrating arms 22 and 24.
Preferably, the piezoelectric thin film is individually formed on the electrode 26a, on the electrode 26b, and on each of the electrode 27a and the electrode 27b. As this piezoelectric thin film, zinc oxide (ZnO) can be preferably used, but in addition, AIN, PZT, or the like can be used, and a quartz thin film may be used. The piezoelectric thin films 24 and 25 can be formed by sputtering or the like.
Next, as will be understood with reference to FIG. 4 which is an end view taken along line AA of FIG. 1 and FIG.
Second electrodes 28 and 29 are formed on the first electrodes 26 and 27 with the piezoelectric thin films 24 and 25 interposed therebetween.
Specifically, the electrode 28a is formed on the electrode 26a, the electrode 28b is formed on the electrode 26b, the electrode 29a is formed on the electrode 27a, and the electrode 29b is formed on the electrode 27b. The electrode 28a and the electrode 29a are connected to the electrodes 26b and 27b. The electrode 28b and the electrode 29b are connected to the electrode 26a and the electrode 27a.

圧電振動片20は以上のように構成されており、圧電薄膜24,25をそれぞれ挟む各電極に駆動電圧を印加することにより、図4の矢印に示すように電界が形成される。これにより、振動腕22と振動腕23において、それぞれ仮想の中心線C1を挟んで一方の側縁の水晶材料がY方向に沿って、僅かに延伸すると、他方の側縁の材料はY方向に沿って収縮する。これを交互に繰り返すことにより、図1の矢印に示すように、各圧電薄膜が形成された振動腕22と振動腕23は、互いの先端を接近・離間させるように、屈曲振動し、通常の音叉圧電振動片と同様に所定の周波数を生成することができる。   The piezoelectric vibrating piece 20 is configured as described above, and an electric field is formed as shown by the arrows in FIG. 4 by applying a driving voltage to the electrodes sandwiching the piezoelectric thin films 24 and 25, respectively. Thus, in the vibrating arm 22 and the vibrating arm 23, when the crystal material on one side edge extends slightly along the Y direction across the virtual center line C1, the material on the other side edge extends in the Y direction. Shrink along. By repeating this alternately, as shown by the arrows in FIG. 1, the vibrating arm 22 and the vibrating arm 23 on which the respective piezoelectric thin films are formed bend and vibrate so that the tips of the piezoelectric thin films approach and separate from each other. A predetermined frequency can be generated in the same manner as the tuning fork piezoelectric vibrating piece.

図3は、圧電振動片20を特定の振動モードで励振する発振回路に接続した状態を示す等価回路である。
発振回路30は、増幅回路31と帰還回路32を含んでいる。
増幅回路31は、増幅器33と帰還抵抗34を含んで構成されている。帰還回路32は、ドレイン抵抗35と、コンデンサ36,37と、圧電振動片20とを含んで構成されている。
ここで、増幅器33はCMOSインバータを用いることができる。
このような構成により、圧電振動片20を利用して発振器を形成することができる。
FIG. 3 is an equivalent circuit showing a state in which the piezoelectric vibrating piece 20 is connected to an oscillation circuit that excites in a specific vibration mode.
The oscillation circuit 30 includes an amplifier circuit 31 and a feedback circuit 32.
The amplifier circuit 31 includes an amplifier 33 and a feedback resistor 34. The feedback circuit 32 includes a drain resistor 35, capacitors 36 and 37, and the piezoelectric vibrating piece 20.
Here, the amplifier 33 can use a CMOS inverter.
With such a configuration, an oscillator can be formed using the piezoelectric vibrating piece 20.

本実施形態は以上のように構成されており、第1および第2の電極26,27、および28,29が圧電薄膜24,25を挟んで対となるように形成されているので、第1および第2の電極26,27、および28,29に駆動電圧が印加されると、図4に示すように、圧電薄膜24,25内に電界が形成される。この電界形成により圧電薄膜24,25が変形し、それにともなって、各振動腕22,23が屈曲振動を行う。   The present embodiment is configured as described above, and the first and second electrodes 26, 27 and 28, 29 are formed so as to be paired with the piezoelectric thin films 24, 25 interposed therebetween. When a drive voltage is applied to the second electrodes 26, 27, and 28, 29, an electric field is formed in the piezoelectric thin films 24, 25 as shown in FIG. Due to the formation of the electric field, the piezoelectric thin films 24 and 25 are deformed, and the vibrating arms 22 and 23 bend and vibrate accordingly.

このため、圧電振動片20を小型に形成する上で、その外形が必ずしも理想的な形状とされなくても、屈曲振動に大きな影響がない。また、各振動腕22,23には電極形成のための溝を設ける必要がなく、溝による剛性低下の恐れが無いので、剛性低下による屈曲振動への悪影響を排除できる。そして、これらの理由により、小型化をする上での制約がなくなるので、容易に小型の圧電振動片20を得ることができる。   For this reason, in forming the piezoelectric vibrating piece 20 in a small size, even if the outer shape is not necessarily an ideal shape, the bending vibration is not greatly affected. Further, it is not necessary to provide a groove for electrode formation in each of the vibrating arms 22 and 23, and there is no fear of a decrease in rigidity due to the groove, so that it is possible to eliminate an adverse effect on bending vibration due to a decrease in rigidity. For these reasons, there is no restriction on downsizing, and the small piezoelectric vibrating piece 20 can be easily obtained.

さらに、圧電薄膜と基材である水晶との関係でみると、水晶部分より圧電薄膜24,25はその厚みがはるかに薄いから、基材のもつ特性を生かして、屈曲振動を行わせることができる。そして、基材は水晶であるから、従来用いられていたシリコンと比較して、ヤング率においては、100方位のシリコンが131(Gpa)(ギガパスカル)と硬い材料であるのに対して、水晶が78(Gpa)と柔らかい材質であることから、周波数を十分低くすることができ、あるいは同じ周波数では、圧電振動子(圧電振動子20)は約1/2の大きさとすることができる。   Further, when looking at the relationship between the piezoelectric thin film and the quartz crystal that is the base material, the piezoelectric thin films 24 and 25 are much thinner than the quartz crystal portion, so that the bending vibration can be performed by utilizing the characteristics of the base material. it can. And since the base material is quartz, compared to silicon that has been used in the past, in terms of Young's modulus, silicon of 100 orientation is a hard material of 131 (Gpa) (gigapascal), whereas quartz Is a soft material of 78 (Gpa), the frequency can be made sufficiently low, or at the same frequency, the piezoelectric vibrator (piezoelectric vibrator 20) can be about ½ the size.

図5は第1の実施形態の変形例を示す要部の図である。
すなわち、図5は変形例の圧電振動片に関して、図4と同じ箇所を示すものである。
図において、各振動腕22,23の各両側縁に形成した第1の電極26a,26bと27a,27bの間において、基材である水晶の表面に溝33,34を形成している。
これにより、隣接した電極26a,26b間、あるいは電極27a,27b間において溝33,34をそれぞれ形成することができるから、隣り合う電極間における基材(水晶)を介しての電界形成、すなわちクロストークを抑制することができる。
なお、振動腕22,23の長さ方向を水晶のX軸に沿わせると、このようなクロストークの弊害はなく、溝も不要である。
FIG. 5 is a diagram of a main part showing a modification of the first embodiment.
That is, FIG. 5 shows the same part as FIG. 4 regarding the piezoelectric vibrating piece of the modification.
In the figure, grooves 33 and 34 are formed on the surface of the crystal serving as the base material between the first electrodes 26a and 26b and 27a and 27b formed on both side edges of the vibrating arms 22 and 23, respectively.
Thereby, since the grooves 33 and 34 can be formed between the adjacent electrodes 26a and 26b or between the electrodes 27a and 27b, respectively, an electric field is formed between the adjacent electrodes via the base material (crystal), that is, a cross Talk can be suppressed.
In addition, if the length direction of the vibrating arms 22 and 23 is set along the X axis of the crystal, there is no such harmful effect of crosstalk, and no groove is required.

図6は第2の実施形態の変形例を示す要部の図である。
すなわち、図6は第2の実施形態の圧電振動片に関して、図4と同じ箇所を示すものである。第2の実施形態の圧電振動片において、図示の箇所以外は、図1ないし図5で説明した第1の実施形態と同じ構成であるから、重複する説明は省略し、相違点のみを説明する。
FIG. 6 is a diagram of a main part showing a modification of the second embodiment.
That is, FIG. 6 shows the same part as FIG. 4 regarding the piezoelectric vibrating piece of the second embodiment. Since the piezoelectric vibrating piece according to the second embodiment has the same configuration as that of the first embodiment described with reference to FIGS. 1 to 5 except for the portions shown in the drawings, overlapping description will be omitted, and only differences will be described. .

図6は振動腕22,23において、同一の構造であるため、振動腕22の構造だけを示している。
この実施形態では、第1および第2の各電極26,28とその間に配置され圧電薄膜24が、振動腕22の表裏両面に形成されている。
第2の実施形態では、このような構成とすることによって、振動腕22の表面側と裏面側でよりバランス良く屈曲振動するように駆動されるので、効率が良くなり、CI(クリスタルインピーダンス)値が低減される。
FIG. 6 shows only the structure of the vibrating arm 22 because the vibrating arms 22 and 23 have the same structure.
In this embodiment, the first and second electrodes 26, 28 and the piezoelectric thin film 24 disposed therebetween are formed on both front and back surfaces of the vibrating arm 22.
In the second embodiment, with such a configuration, the vibration arm 22 is driven to bend and vibrate in a balanced manner on the front surface side and the back surface side, so that the efficiency is improved and the CI (crystal impedance) value is improved. Is reduced.

本発明は上述の実施形態に限定されない。各実施形態や変形例の各構成はこれらを適宜組み合わせたり、省略し、図示しない他の構成と組み合わせることができる。
また、この発明は、圧電振動片を利用したものであれば、これをパッケージなどの収容容器に収めて使用してもよいし、その場合のパッケージは、セラミックを使用した箱状のものに限らず、金属製のシリンダー状のケース等のパッケージと同等の収容容器に圧電振動片を収容してもよい。
また、本発明は、基部から平行に延びる少なくとも一対の振動腕を備える圧電振動片に適用されるので、実施形態で説明した音叉型圧電振動片に限らず、双音叉圧電振動片やジャイロ振動子を形成するための圧電振動片などにも適用することができる。
The present invention is not limited to the above-described embodiment. Each configuration of each embodiment or modification may be combined or omitted as appropriate, and may be combined with other configurations not shown.
In the present invention, as long as the piezoelectric vibrating piece is used, the piezoelectric vibrating piece may be used in a container such as a package. In this case, the package is not limited to a box shape using ceramic. Alternatively, the piezoelectric vibrating piece may be housed in a housing container equivalent to a package such as a metal cylindrical case.
In addition, since the present invention is applied to a piezoelectric vibrating piece including at least a pair of vibrating arms extending in parallel from a base portion, the present invention is not limited to the tuning fork type piezoelectric vibrating piece described in the embodiment, and is a double tuning fork piezoelectric vibrating piece or a gyro vibrator. The present invention can also be applied to a piezoelectric vibrating piece for forming the film.

本発明の第1の実施形態に係る圧電振動片の概略斜視図。1 is a schematic perspective view of a piezoelectric vibrating piece according to a first embodiment of the present invention. 図1の圧電振動片の形成途中を示す概略斜視図。FIG. 2 is a schematic perspective view showing the middle of formation of the piezoelectric vibrating piece in FIG. 1. 図1の圧電振動片で発振器を形成した場合の構成図。The block diagram at the time of forming an oscillator with the piezoelectric vibrating piece of FIG. 図1のA−A線端面図。FIG. 2 is an end view taken along line AA in FIG. 1. 変形例の要部の図。The figure of the principal part of a modification. 第2の実施形態の要部の図。The figure of the principal part of 2nd Embodiment. 従来の圧電振動片の振動腕の概略断面図。FIG. 6 is a schematic cross-sectional view of a vibrating arm of a conventional piezoelectric vibrating piece.

符号の説明Explanation of symbols

20・・・圧電振動片、21・・・基部、22,23・・・振動腕、24,25・・・圧電薄膜、26,27・・・第1の電極、28,29・・・第2の電極   DESCRIPTION OF SYMBOLS 20 ... Piezoelectric vibrating piece, 21 ... Base, 22, 23 ... Vibrating arm, 24, 25 ... Piezoelectric thin film, 26, 27 ... First electrode, 28, 29 ... First 2 electrodes

Claims (2)

水晶、GaPO、またはLiである基材により形成された基部と、
前記基部と同じ材料で一体に形成され、かつ前記基部から延びる少なくとも一対の振動腕と、
を備え、
前記振動腕の主面において、前記振動腕の中心線により分割された一方の領域に一方の第1の電極が形成され、他方の領域に他方の第1の電極が形成され、
前記一方および他方の第1の電極は互いに異極であり、
前記一方および他方の第1の電極の表面に圧電薄膜が形成され、
前記圧電薄膜を挟んで前記一方の第1の電極と対となるように、一方の第2の電極が前記圧電薄膜の表面に形成され、
前記圧電薄膜を挟んで前記他方の第1の電極と対となるように、他方の第2の電極が前記圧電薄膜の表面に形成され、
前記振動腕には、前記振動腕の前記主面における前記一方の第1の電極と前記他方の第1の電極との間に溝が形成され、該溝によって、前記一方の第1の電極と前記他方の第1の電極との間の電界形成を抑制するよう構成されている
ことを特徴とする圧電振動片。
A base formed by a substrate that is quartz, GaPO 4 , or Li 2 B 4 O 7 ;
At least a pair of vibrating arms integrally formed of the same material as the base and extending from the base;
With
In the main surface of the vibrating arm, one first electrode is formed in one region divided by the center line of the vibrating arm, and the other first electrode is formed in the other region,
The one and the other first electrodes are different from each other,
A piezoelectric thin film is formed on the surfaces of the one and the other first electrodes;
One second electrode is formed on the surface of the piezoelectric thin film so as to be paired with the one first electrode across the piezoelectric thin film,
The other second electrode is formed on the surface of the piezoelectric thin film so as to be paired with the other first electrode across the piezoelectric thin film,
In the vibrating arm, a groove is formed between the one first electrode and the other first electrode on the main surface of the vibrating arm, and the groove forms the one first electrode. A piezoelectric vibrating piece configured to suppress formation of an electric field between the first electrode and the other first electrode .
前記一方および他方の第1の電極、前記圧電薄膜、第一方および他方の2の電極、および前記溝は、前記振動腕の表面側および裏面側に形成されていることを特徴とする請求項に記載の圧電振動片。 The one and the other of the first electrode, the piezoelectric thin film, the hand and the other second electrode, and the groove, wherein, characterized in that formed on the surface side and the back side of the vibrating arm Item 2. The piezoelectric vibrating piece according to Item 1 .
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