JP3488614B2 - Laminate material recess inspection device and laser processing device - Google Patents

Laminate material recess inspection device and laser processing device

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JP3488614B2
JP3488614B2 JP320298A JP320298A JP3488614B2 JP 3488614 B2 JP3488614 B2 JP 3488614B2 JP 320298 A JP320298 A JP 320298A JP 320298 A JP320298 A JP 320298A JP 3488614 B2 JP3488614 B2 JP 3488614B2
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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、いわゆるプリント
基板と呼称される積層配線基板等の積層材料に対してレ
ーザビームを照射してブラインドバイアホール、溝等を
形成するようにされた凹設部を検査する積層材料の凹設
部検査装置、特に凹設部の底部に除去されずに残留する
残留材料の状況を破壊検査を行うことなく知ることがで
きるととに、残留材料の厚さの検出等を行うことができ
る積層材料の凹設部検査装置、及びこのような凹設部検
査装置を備えたレーザ加工装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a recessed portion which is formed by irradiating a laminated material such as a laminated wiring board, which is a so-called printed board, with a laser beam to form blind via holes, grooves and the like. It is possible to know the state of the residual material that remains without being removed at the bottom of the concave part without performing a destructive inspection, and to check the thickness of the residual material. The present invention relates to a laminated material recessed portion inspection device that can perform detection and the like, and a laser processing apparatus including such a recessed portion inspection device.

【0002】[0002]

【従来の技術】最近の電子機器の高性能化に伴い、配線
の高密度化が要求されており、この要求を満たすにはプ
リント基板の多層化、小形化が要求されている。そのた
めにはブラインドバイアホール(以下BVHという)と
呼称される穴径150μm程度の層間導通接続用の微細
とまり穴の形成が必須となる。しかし、現状のドリル加
工では直径0.2mm以下の穴あけは困難であることに
加え、高密度プリント基板では絶縁層厚さが100μm
以下となり、この精度で深さ制御を行うことが困難なた
め、ドリル加工では微細BVHの形成は不可能である。
2. Description of the Related Art With the recent high performance of electronic equipment, there has been a demand for higher density wiring, and in order to meet this requirement, a multilayer printed circuit board and a small size are required. For that purpose, it is essential to form a fine blind hole for the interlayer conductive connection having a hole diameter of about 150 μm, which is called a blind via hole (hereinafter referred to as BVH). However, it is difficult to drill holes with a diameter of 0.2 mm or less in the current drilling process, and the insulating layer thickness is 100 μm for high-density printed circuit boards.
Since it is difficult to perform the depth control with this accuracy, it is impossible to form the fine BVH by drilling.

【0003】このドリル加工に代わるBVH形成法とし
て炭酸ガスレーザ、YAGレーザやエキシマレーザ等の
レーザビームを応用する方法が注目され、一部実用化さ
れている。これらの加工法のうち、炭酸ガスレーザによ
る加工法は、プリント基板を構成する絶縁基材である樹
脂やガラス繊維と導体層である銅に対する炭酸ガスレー
ザの光エネルギの吸収率の差を利用したものである。
As a BVH forming method replacing the drilling, a method of applying a laser beam such as a carbon dioxide gas laser, a YAG laser or an excimer laser has attracted attention and has been partially put into practical use. Among these processing methods, the carbon dioxide laser processing method uses the difference in the absorption rate of the light energy of the carbon dioxide laser with respect to the resin or glass fiber which is the insulating base material constituting the printed circuit board and the copper which is the conductor layer. is there.

【0004】図10〜図14は、従来のプリント基板の
BVH加工法を示すもので、図10は微細な貫通孔部を
加工する工程を説明する説明図、図11はBVHを形成
する凹設部を加工する加工方法を説明する説明図であ
る。図12は光学顕微鏡を備えたレーザ加工装置の構成
図、図13は光学顕微鏡の構成図、図14は照射された
光の反射の状況を説明するための説明図である。
10 to 14 show a conventional BVH processing method for a printed circuit board. FIG. 10 is an explanatory view for explaining a process of processing a fine through hole portion, and FIG. 11 is a recess for forming a BVH. It is explanatory drawing explaining the processing method which processes a part. FIG. 12 is a block diagram of a laser processing apparatus equipped with an optical microscope, FIG. 13 is a block diagram of an optical microscope, and FIG. 14 is an explanatory diagram for explaining a reflection state of irradiated light.

【0005】例えば、銅は炭酸ガスレーザをほとんど反
射するので、図10(a)に示すようにプリント基板2
1の表面の銅箔24に必要な径の孔を穿孔するように銅
箔除去部36をエッチング等により形成し、この銅箔除
去部36に炭酸ガスレーザであるレーザビーム20を照
射することによって、プリント基板21を構成するエポ
キシ樹脂やガラス繊維を選択的に分解・除去して、図1
0(b)のようにプリント基板21を貫通する微細な加
工孔部37を形成することができる。
For example, since copper almost reflects a carbon dioxide laser, the printed circuit board 2 as shown in FIG.
By forming a copper foil removing portion 36 by etching or the like so as to form a hole having a required diameter in the copper foil 24 on the surface of No. 1, and irradiating the copper foil removing portion 36 with a laser beam 20 which is a carbon dioxide gas laser, By selectively decomposing and removing the epoxy resin and the glass fiber forming the printed circuit board 21, as shown in FIG.
It is possible to form a fine processed hole portion 37 penetrating the printed board 21 as shown in 0 (b).

【0006】また、図11に示すようにプリント基板2
1の内部に内層の銅箔24を予め積層しておけばレーザ
ビーム20を照射したときのプリント基板21の分解・
除去は内層の銅箔24で停止するため、内層の銅箔24
で確実に停止するとまり穴加工部6(以下単に穴加工部
6という)を形成できる。しかし、このように内層の銅
箔24で停止すると穴加工部6を炭酸ガスレーザで加工
した場合、十分にレーザビームを照射しても厚さ1μm
以下の絶縁基材である樹脂やガラス繊維が内層の銅箔2
4上、すなわち穴加工部6の底部6aに残留してしま
う。
Further, as shown in FIG. 11, the printed circuit board 2
If a copper foil 24 as an inner layer is preliminarily laminated inside 1, the disassembly of the printed circuit board 21 when the laser beam 20 is irradiated
Since the removal stops at the inner copper foil 24, the inner copper foil 24
When it is surely stopped with, the blind hole processing portion 6 (hereinafter simply referred to as the hole processing portion 6) can be formed. However, when the hole processing portion 6 is processed by the carbon dioxide laser when the inner copper foil 24 is stopped in this way, the thickness is 1 μm even if the laser beam is sufficiently irradiated.
Copper foil 2 with inner layer of resin or glass fiber
4 above, that is, it remains on the bottom portion 6a of the hole processing portion 6.

【0007】このため、レーザ加工後、残留樹脂を過マ
ンガン酸などでエッチングして残留樹脂を完全に除去す
る必要がある。このとき、穴加工部6の穴径が100μ
m程度まで小さくなると、エッチング液が穴加工部6内
まで行き渡りにくくなる。このため、レーザ加工条件等
の不良で残留樹脂の厚さが厚くなると、エッチングによ
り残留樹脂を完全に除去できないと穴加工部6が発生し
やすい。この状態のままめっきを施しBVHを形成する
とめっき膜と内層の銅箔24の間に一部の樹脂が残留し
たままになる。
Therefore, after laser processing, it is necessary to completely remove the residual resin by etching the residual resin with permanganate or the like. At this time, the hole diameter of the hole processing part 6 is 100μ.
When it is reduced to about m, it becomes difficult for the etching solution to reach the inside of the hole processing portion 6. For this reason, if the residual resin becomes thick due to defects such as laser processing conditions, the hole-processed portion 6 is likely to occur unless the residual resin can be completely removed by etching. When plating is performed in this state to form BVH, a part of the resin remains between the plating film and the inner layer copper foil 24.

【0008】ここで、熱サイクル等により応力がかかる
と、クラックが発生し進展してめっき膜が剥がれてしま
う。めっき膜が剥がれると内層の銅箔24とめっき膜と
の間が不導通になり、製品不良となる。また、めっき膜
と内層の銅箔24の間に全面に亘って樹脂が残留してい
れば、最初から不導通で不良となる。このため、レーザ
加工後の残留樹脂の厚さを検査し、厚さが厚い場合はさ
らにレーザ加工を行い残留樹脂を除去することが必要と
なる。
[0008] Here, when stress is applied due to a heat cycle or the like, cracks are generated and propagate, and the plating film is peeled off. When the plating film is peeled off, the copper foil 24 of the inner layer is not electrically connected to the plating film, resulting in a defective product. Further, if the resin remains over the entire surface between the plated film and the copper foil 24 of the inner layer, the resin is not conductive from the beginning and becomes defective. For this reason, it is necessary to inspect the thickness of the residual resin after laser processing and, if the thickness is large, further perform laser processing to remove the residual resin.

【0009】さらに、YAGレーザやエキシマレーザに
よる加工法があり、この加工法は1パルスでの除去深さ
が1μmオーダであることを利用したものである。これ
らの加工法では、1パルスの除去量が少ないため、加工
に必要なパルス数が多くなり加工中のエネルギ変動等の
外乱の影響が平均化される。このことを利用して、パル
ス数を適正に選択することで内層の銅箔24の近傍で停
止する穴加工部を均一に形成しようとするものである。
Further, there is a processing method using a YAG laser or an excimer laser, and this processing method utilizes the fact that the removal depth per pulse is on the order of 1 μm. In these processing methods, since the removal amount of one pulse is small, the number of pulses required for processing increases, and the influence of disturbance such as energy fluctuation during processing is averaged. By utilizing this fact, the number of pulses is appropriately selected to uniformly form the drilled portion that stops near the inner copper foil 24.

【0010】しかし、YAGレーザやエキシマレーザに
よる加工法でも長時間周期でのエネルギ変動が生じた場
合には、炭酸ガスレーザと同様に厚さ1μm以下の樹脂
が内層の銅箔24上に残留してしまう場合が生じる。
However, when energy fluctuations occur over a long period even in the processing method using a YAG laser or an excimer laser, a resin having a thickness of 1 μm or less remains on the inner copper foil 24 as in the carbon dioxide laser. It may happen.

【0011】このため、従来の積層材料のレーザ加工装
置は図12に示すように光学顕微鏡を具備し、穴加工部
6の検査を行っていた。しかし、日経サイエンス199
0年10月号第45ページに示されるような従来の光学
顕微鏡では、図12に示す穴加工部6の底部6aに10
μm程度以上の残留樹脂22が残った加工不良は検出で
きるが、上記のような数μm程度の残留樹脂22を検出
することが不可能であった。なお、プリント基板21
は、エポキシ樹脂18とガラスエポキシ19を有し、間
に銅箔24が設けられている。
For this reason, the conventional laser processing apparatus for laminated materials is equipped with an optical microscope as shown in FIG. 12 to inspect the hole processing portion 6. However, Nikkei Science 199
In the conventional optical microscope as shown on page 45 of the October 0 issue, the bottom portion 6a of the hole machining portion 6 shown in FIG.
A processing defect in which the residual resin 22 of about μm or more remains can be detected, but it is impossible to detect the residual resin 22 of about several μm as described above. The printed circuit board 21
Has an epoxy resin 18 and a glass epoxy 19, and a copper foil 24 is provided therebetween.

【0012】このため、現状では、めっき後、破壊検査
により穴加工部6を切断・研磨後、断面観察により残留
樹脂厚さの検査を行ったり、破壊検査の代りに検査用の
穴加工部6を別に設けて同様にこの穴加工部を切断・研
磨後、断面観察により残留樹脂厚さの検査を行ったりし
ていた。このため、検査に要する時間が著しく長くかか
った。この他の方法でも基板を非破壊で簡便に残留樹脂
を検出することはできなかった。
For this reason, at present, after plating, the hole processing portion 6 is cut and polished by a destructive inspection, and then the residual resin thickness is inspected by observing a cross section, or instead of the destructive inspection, the hole processing portion 6 for inspection is used. Similarly, after separately cutting and polishing the hole processed portion, the residual resin thickness is inspected by observing the cross section. Therefore, the time required for the inspection was extremely long. Even with this other method, the residual resin could not be easily detected without destructing the substrate.

【0013】以下に従来の光学顕微鏡で残留樹脂を検出
できない理由について説明する。従来の光学顕微鏡は図
13に示すように構成されている。光源1から出た光学
顕微鏡の照明用の白色光38はビームスプリッタ25に
より対物レンズ5を経由してプリント基板21に照射さ
れる。プリント基板21からの反射光は対物レンズ5に
より拡大した倒立実像27を結像レンズ9の前方(図1
3の右方)に作り、この実像をCCD(固体撮像素子)
カメラ11で検出する。
The reason why the residual resin cannot be detected by the conventional optical microscope will be described below. A conventional optical microscope is configured as shown in FIG. The white light 38 for illumination of the optical microscope emitted from the light source 1 is applied to the printed board 21 by the beam splitter 25 via the objective lens 5. The reflected light from the printed circuit board 21 forms an inverted real image 27 magnified by the objective lens 5 in front of the imaging lens 9 (see FIG. 1).
3) (to the right of 3) and make this real image CCD (solid-state image sensor)
It is detected by the camera 11.

【0014】図12に戻って、この像を画像処理装置1
2により解析し、残留樹脂の有無を判定する。この判定
結果はレーザ発振器13と加工テーブル17を制御する
制御装置13に伝達され、残留樹脂22が所定厚さより
も多くある場合には、加工テーブル17を移動させるこ
とによりレーザビーム20を位置決めし、転写マスク1
4、位置決めミラー15、転写レンズ16を経てプリン
ト基板21にもう一度その穴加工部6にレーザ照射を行
い、残留樹脂22をさらに除去する。
Returning to FIG. 12, this image is processed by the image processing apparatus 1.
The analysis is performed according to 2, and the presence or absence of residual resin is determined. This determination result is transmitted to the control device 13 that controls the laser oscillator 13 and the processing table 17, and when the residual resin 22 is more than the predetermined thickness, the processing table 17 is moved to position the laser beam 20, Transfer mask 1
4, through the positioning mirror 15 and the transfer lens 16, the printed circuit board 21 is again irradiated with laser to the hole processing portion 6 to further remove the residual resin 22.

【0015】ここで、図14に示すように、光学顕微鏡
の照明光である白色光38が残留樹脂22の表面に照射
されると、一部は表面より反射光29として反射され、
その他は残留樹脂22を透過しての底部の銅箔24に達
し、反射光30としてほとんど反射される。従って、銅
箔24上の厚さの薄い残留樹脂22に対して、白色光3
8を照明光として照射すると、大部分の反射光は銅箔2
4から戻ってくる反射光30であるるため、残留樹脂2
2は見えない。
Here, as shown in FIG. 14, when the white light 38, which is the illumination light of the optical microscope, is applied to the surface of the residual resin 22, a part of it is reflected as reflected light 29 from the surface,
Others reach the bottom copper foil 24 after passing through the residual resin 22 and are almost reflected as reflected light 30. Therefore, the white light 3 is generated against the residual resin 22 having a small thickness on the copper foil 24.
When 8 is illuminated as illumination light, most of the reflected light is copper foil 2
Since it is the reflected light 30 returning from 4, the residual resin 2
I can't see 2.

【0016】[0016]

【発明が解決しようとする課題】従来の積層材料の凹設
部検査装置である光学顕微鏡は以上のように構成されて
いるので、残留樹脂が薄い場合に検出ができないという
問題があった。この発明は、上記のような問題点を解消
するためになされたもので、非破壊で簡便に積層材料の
凹設部の底部に除去されずに残留する材料の厚さの検出
を行うことができる凹設部検査装置、及びこのような凹
設部検査装置を備えたレーザ加工装置を得ることを目的
とする。
Since the optical microscope, which is the conventional apparatus for inspecting the recessed portion of the laminated material, is constructed as described above, there is a problem that it cannot be detected when the residual resin is thin. The present invention has been made in order to solve the above problems, and it is possible to easily detect the thickness of the material remaining without being removed at the bottom of the recessed portion of the laminated material in a nondestructive manner. An object of the present invention is to obtain a recessed portion inspection device that can be used, and a laser processing apparatus including such a recessed portion inspection device.

【0017】[0017]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の積層材料の凹設部検査装置においては、第
一の材料と第二の材料とを層状に形成した積層材料に加
工用レーザビーム照射装置によりレーザビームを照射し
て第一の材料を除去して第二の材料上に形成される凹設
部の底部に除去されずに残留する第一の材料である残留
材料に対する吸収係数が所定値以上である第一の照明光
及び残留材料に対する吸収係数が所定値よりも小さい第
二の照明光を照射する照明光照射装置、及び残留材料の
表面から反射される第一の照明光に基づいて残留材料の
表面の位置を求めるとともに残留材料中を通過して第二
の材料の表面から反射される第二の照明光に基づいて第
二の材料の表面の位置を求め両表面の位置に基づき残留
材料の厚さを検出する光検出装置を備えたものである。
第一の照明光と第二の照明光との残留材料に対する吸収
係数を異ならせ、第一の照明光の波長を残留材料の表面
で反射されるものの方が第二の材料の表面で反射される
ものよりも大きくなるようにすることにより残留材料の
表面の位置を検出することができ、別の照明光の波長を
第二の材料の表面で反射されるものの方が残留材料の表
面で反射されるものよりも大きくなるようにすることに
より第二の材料の表面の位置を検出でき、この両表面の
位置の差から残留材料の厚さを検出することができる。
In order to achieve the above object , the apparatus for inspecting a recess of a laminated material according to the present invention comprises:
A recessed portion formed on the second material by irradiating a laser beam on a laminated material formed by layering the first material and the second material with a laser beam irradiation device for processing to remove the first material Irradiation of the first illumination light whose absorption coefficient for the residual material, which is the first material remaining without being removed at the bottom of the, of the first material, and the second illumination light whose absorption coefficient for the residual material, is smaller than the predetermined value. Illuminating light irradiating device for determining the position of the surface of the residual material based on the first illuminating light reflected from the surface of the residual material, and passing through the residual material and reflecting from the surface of the second material. It is provided with a photodetector for determining the position of the surface of the second material based on the second illumination light and detecting the thickness of the residual material based on the positions of both surfaces.
The absorption coefficients of the first illuminating light and the second illuminating light with respect to the residual material are made different, and the wavelength of the first illuminating light is reflected on the surface of the residual material and is reflected on the surface of the second material. The position of the surface of the residual material can be detected by making it larger than the one, and the wavelength of another illumination light is reflected by the surface of the second material is reflected by the surface of the second material. It is possible to detect the position of the surface of the second material by making the thickness larger than that, and it is possible to detect the thickness of the residual material from the difference between the positions of the two surfaces.

【0018】さらに、第一の照明光は紫外光であり、第
二の照明光は白色光であることを特徴とする。残留材料
は一般的に有機材料であるが、紫外光は有機材料に対す
る減衰係数が大きく、白色光は有機材料に対する減衰係
数が小さいので、第一及び第二の照明光として用いるこ
とができる。
Further, the first illumination light is ultraviolet light, and the second illumination light is white light. The residual material is generally an organic material, but since ultraviolet light has a large attenuation coefficient with respect to the organic material and white light has a small attenuation coefficient with respect to the organic material, it can be used as the first and second illumination lights.

【0019】この発明におけるレーザ加工装置は、上記
各積層材料の凹設部検査装置のうちの一つを備えたもの
である。このような積層材料の凹設部検査装置を備えれ
ば、凹設部の加工後破壊検査を行うことなく直ちに残留
材料の状況を知ることができ、必要に応じて再度残留材
料を除去する加工を行うことができる。
The laser processing apparatus according to the present invention comprises one of the above-mentioned recessed portion inspection apparatuses for laminated materials. If such a recessed part inspection device for laminated material is provided, the state of the residual material can be immediately known without performing a destructive inspection after processing the recessed part, and a process for removing the residual material again if necessary. It can be performed.

【0020】[0020]

【発明の実施の形態】実施の形態1. 以下、この発明の実施の一形態を図により説明する。図
1、図2は本発明の実施の一形態を示すもので、図1は
である凹設部検査装置(以下、単に検査装置という場合
もある)を備えたレーザ加工装置の構成を示す構成図、
図2は凹設部に残留樹脂があるときとないときの反射光
強度を説明する説明図である。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiment 1. An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. 1 and 2 show an embodiment of the present invention. FIG. 1 shows a configuration of a laser processing apparatus including a concave portion inspection apparatus (hereinafter, sometimes simply referred to as an inspection apparatus). Figure,
FIG. 2 is an explanatory diagram for explaining the reflected light intensity when there is residual resin in the concave portion and when there is no residual resin.

【0021】図1において、積層材料であるプリント基
板21は層状に形成されたエポキシ樹脂18とガラスエ
ポキシ19とを有する。レーザ加工装置は、レーザ発振
器13として炭酸ガスレーザを用いている。レーザ発振
器13から出た加工用のレーザビーム20は、転写マス
ク14、位置決めミラー15、転写レンズ16を経てプ
リント基板21に照射され、エポキシ樹脂18を除去し
て所定の径を穴を穿設して穴加工部6を形成する。この
とき、上述のようにレーザビーム20を当てたにもかか
わらず穴加工部6の底部6aに除去されずに残留樹脂2
2が残留する場合がある。
In FIG. 1, a printed circuit board 21 which is a laminated material has an epoxy resin 18 and a glass epoxy 19 formed in layers. The laser processing apparatus uses a carbon dioxide gas laser as the laser oscillator 13. The processing laser beam 20 emitted from the laser oscillator 13 is applied to the printed board 21 through the transfer mask 14, the positioning mirror 15, and the transfer lens 16, and the epoxy resin 18 is removed to form a hole with a predetermined diameter. To form the hole processing portion 6. At this time, even though the laser beam 20 is applied as described above, the residual resin 2 is not removed by the bottom portion 6a of the hole processing portion 6
2 may remain.

【0022】なお、この実施の形態においては、照明光
として残留樹脂を励起させる紫外光を発生する光源1と
して水銀ランプを用いた。励起フィルタ3は、残留樹脂
22を励起する波長付近の紫外光である励起光7を主に
透過させるもので、330〜380nm付近に透過特性
を有するものを用いた。ダイクロイックミラー4は38
0nm以下は反射し400nm以上は透過する特性を有
するものを用いている。また、吸収フィルタ10は41
0nm以下の波長を吸収するフィルタを使用した。
In this embodiment, a mercury lamp is used as the light source 1 for generating the ultraviolet light that excites the residual resin as the illumination light. The excitation filter 3 mainly transmits the excitation light 7, which is the ultraviolet light in the vicinity of the wavelength that excites the residual resin 22, and has a transmission characteristic in the vicinity of 330 to 380 nm. 38 for dichroic mirror 4
A material having a property of reflecting light of 0 nm or less and transmitting light of 400 nm or more is used. In addition, the absorption filter 10 has 41
A filter that absorbs wavelengths below 0 nm was used.

【0023】光源1から出た光は、励起フィルタ3、ダ
イクロイックミラー4、対物レンズ5を経由して、加工
後の穴加工部6の底部6aに照射される。励起フィルタ
3を通過した励起光7は、穴加工部6の底部6aの残留
樹脂22を励起させ蛍光を発生させる波長域とされてい
るので、残留樹脂22が存在する場合にはルミネセンス
8が発生する。このルミネセンス8は対物レンズ5と結
像レンズ9により主として蛍光波長の近傍の波長を透過
させる吸収フィルタ10を介してCCDカメラ11上に
像を結像する。この像を画像処理装置12により解析
し、残留樹脂22の有無を判定する。
The light emitted from the light source 1 passes through the excitation filter 3, the dichroic mirror 4 and the objective lens 5 and is applied to the bottom portion 6a of the processed hole processing portion 6. Since the excitation light 7 that has passed through the excitation filter 3 has a wavelength range in which the residual resin 22 on the bottom portion 6a of the hole processing portion 6 is excited to generate fluorescence, the luminescence 8 is generated when the residual resin 22 is present. Occur. The luminescence 8 forms an image on the CCD camera 11 by the objective lens 5 and the imaging lens 9 through the absorption filter 10 which transmits mainly wavelengths near the fluorescence wavelength. This image is analyzed by the image processing device 12 to determine the presence or absence of the residual resin 22.

【0024】この判定結果はレーザ発振器13と加工テ
ーブル17を制御する制御装置23に伝達され、残留樹
脂22の厚さが所定厚さよりも厚い場合には、加工テー
ブル17を移動させることによりレーザビーム20を位
置決めし、もう一度その穴加工部6にレーザ照射を行い
残留樹脂22をさらに除去する。
The result of this determination is transmitted to the control device 23 which controls the laser oscillator 13 and the processing table 17, and when the residual resin 22 is thicker than a predetermined thickness, the processing table 17 is moved to move the laser beam. 20 is positioned, and the hole processing portion 6 is again irradiated with laser to further remove the residual resin 22.

【0025】本実施の形態では、上記のように、レーザ
発振器13として炭酸ガスレーザを、励起光7を発生す
る光源1として水銀ランプを用い、供試品として穴加工
部6の底部6aの銅箔24上に部分的に厚さ1μm以下
のエポキシ樹脂の残留樹脂22が残留した穴加工部6
と、完全にエポキシ樹脂が除去されて銅箔24上に残留
樹脂が残存しない穴加工部6と、が混在したプリント基
板21をCCDカメラ11により観察した。
In the present embodiment, as described above, a carbon dioxide laser is used as the laser oscillator 13, a mercury lamp is used as the light source 1 for generating the excitation light 7, and the copper foil of the bottom portion 6a of the hole processing portion 6 is used as the sample. Hole processing part 6 in which residual resin 22 of epoxy resin having a thickness of 1 μm or less remains partially on 24
Then, the printed circuit board 21 in which the epoxy resin was completely removed and the hole processing portion 6 in which the residual resin did not remain on the copper foil 24 was mixed was observed by the CCD camera 11.

【0026】上記試料を観察した結果、エポキシ樹脂2
2が残留している穴加工部6は明るく、銅箔24が露出
している穴加工部6は暗い像が得られ、残留樹脂22を
像の明暗の目視により容易に判別することができた。な
お、観察はCCDカメラ11によらなくとも、残留材料
からの蛍光を直接目視して行ってもよい。
As a result of observing the above sample, epoxy resin 2
The hole-processed portion 6 in which 2 remains is bright, and the hole-processed portion 6 in which the copper foil 24 is exposed has a dark image, and the residual resin 22 can be easily distinguished by visually observing the brightness of the image. . The observation may be performed by directly observing fluorescence from the residual material without using the CCD camera 11.

【0027】さらに、画像処理装置12により穴加工部
の円形の像33を図2に示すように予め定められた矩形
の区域34内の反射光強度xの平均Xが、予め設定され
た所定の反射光強度35よりも明るい場合は残留樹脂が
所定厚さより多く残留した穴加工部、反射光強度yの平
均Yが反射光強度35よりも暗い場合はエポキシの残留
が所定厚さより少ない穴加工部と判定することにし、穴
加工部を判別した結果、簡便にエポキシが所定厚さより
多く残留した穴加工部を判別できた。この判別は、画像
処理装置12で行った。なお、機械によらなくとも、目
視によっても判別が可能である。
Further, the average X of the reflected light intensities x in a rectangular area 34, which is predetermined by the image processing device 12 in the circular image 33 of the hole-processed portion, is set in advance as shown in FIG. When the light intensity is higher than the reflected light intensity 35, a holed portion where the residual resin remains in excess of a predetermined thickness, and when the average Y of the reflected light intensity y is darker than the reflected light intensity 35, a holed portion where the epoxy remains less than the predetermined thickness. As a result of discriminating the hole-machined portion, it was possible to easily discriminate the hole-machined portion in which the epoxy remained more than the predetermined thickness. This determination was performed by the image processing device 12. It should be noted that it is possible to make a visual judgment without depending on the machine.

【0028】なお、比較例1として、この供試品のプリ
ント基板21をめっき後、断面を研磨し、電子顕微鏡で
めっき層と銅箔の間に残留樹脂の有無を観察した。この
観察結果と本実施の形態で述べた画像処理装置12によ
り穴加工部の明暗で判定した結果とを比較したところ、
両方の結果はよく対応しており、本検査装置の妥当性が
検証された。
As Comparative Example 1, the printed board 21 of this sample was plated, the cross section was polished, and the presence or absence of residual resin between the plated layer and the copper foil was observed by an electron microscope. When this observation result is compared with the result determined by the image processing device 12 described in the present embodiment based on the lightness and darkness of the hole processing portion,
Both results corresponded well, and the validity of this inspection device was verified.

【0029】また、比較例2として、従来の手法と比較
するために、実施の形態1において照明光をエポキシ樹
脂の残留樹脂22を励起させることのない可視光とし
て、励起フィルタ3及びダイクロックミラー4を除き同
様の試験を行ったところ、穴加工部間で濃淡は発生せ
ず、残留樹脂量の大小あるいは残留の有無は検出できな
かった。
In addition, as a comparative example 2, in order to compare with the conventional method, the excitation light and the dichroic mirror as the visible light which does not excite the residual resin 22 of the epoxy resin in the first embodiment. When the same test was performed except for 4, no shade was generated between the drilled parts, and the magnitude of the residual resin amount or the presence or absence of residual resin could not be detected.

【0030】以上のように、本発明によれば、非破壊で
簡便に銅箔24上の残留樹脂24を検出することが可能
となる。なお、残留樹脂22はエポキシ樹脂に限らず、
ポリイミド樹脂その他の樹脂であってもよく、樹脂の種
類に応じて適切な波長の励起光を照射することにより同
様に蛍光を放射するので、容易に判別することができ
る。
As described above, according to the present invention, it is possible to detect the residual resin 24 on the copper foil 24 easily and nondestructively. The residual resin 22 is not limited to the epoxy resin,
It may be a polyimide resin or other resin, and similarly emits fluorescence when irradiated with excitation light having an appropriate wavelength depending on the type of resin, so that it can be easily discriminated.

【0031】また、CCDカメラ11は可視光を対象に
しており、また目視に穴加工部6の明暗を判別すときの
目の保護のために、主に蛍光波長のみを通過させる吸収
フィルタ10を用いたが、吸収フィルタ10は必須のも
のではなく、例えばフォトダイオード等を使用する場合
は紫外線を含めたルミネセンスを検出可能であるので不
要である。
Further, the CCD camera 11 is intended for visible light, and for the purpose of protecting the eyes when visually recognizing whether the hole processing portion 6 is bright or dark, the absorption filter 10 which mainly passes only the fluorescence wavelength is used. Although the absorption filter 10 is used, the absorption filter 10 is not indispensable. For example, when a photodiode or the like is used, luminescence including ultraviolet rays can be detected, and therefore it is unnecessary.

【0032】実施の形態2. 図3は本発明の他の実施の形態を示す検査装置及びレー
ザ加工装置の構成図である。図3において、レーザ発振
器13として波長473nmのYAGレーザの第二高調
波を用いている。レーザ発振器13は穴加工部6を加工
するレーザビーム20(図1参照)を発生するとともに
穴加工部6の底部6aに残留するエポキシ樹脂の残留樹
脂22を励起するための励起光7を発生する。具体的に
は、レーザ発振器13の出力を絞ることにより励起光7
を発する図1の光源1に相当するものとして用いる。
Embodiment 2. FIG. 3 is a configuration diagram of an inspection apparatus and a laser processing apparatus showing another embodiment of the present invention. In FIG. 3, the second harmonic of a YAG laser having a wavelength of 473 nm is used as the laser oscillator 13. The laser oscillator 13 generates a laser beam 20 (see FIG. 1) for processing the hole processing part 6 and also generates excitation light 7 for exciting the residual resin 22 of the epoxy resin remaining on the bottom 6a of the hole processing part 6. . Specifically, the pumping light 7 is generated by narrowing the output of the laser oscillator 13.
Used as the light source 1 of FIG.

【0033】穴加工部6を形成するときは、レーザ発振
器13の出力されたレーザビームは、ダイクロイックミ
ラー4により対物レンズ5を経由して、プリント基板2
1に照射され、穴加工部6を形成する。その後、加工後
の穴加工部6の底部6aに出力を10%程度に絞り励起
光7として照射する。この励起用のレーザ光を、穴加工
部6の残留樹脂22を励起させ蛍光を発生させる波長域
とすることで、残留樹脂22が存在する場合にはルミネ
センス8が発生する。なお、ダイクロイックミラー4
は、490nm以下は反射、505nm以上は透過する
特性を有するものを、吸収フィルタ10は520nm以
下の波長を吸収するフィルタを使用している。
When forming the hole processing portion 6, the laser beam output from the laser oscillator 13 is passed through the objective lens 5 by the dichroic mirror 4 and the printed circuit board 2.
1 is irradiated to form a hole processing part 6. After that, the bottom portion 6a of the processed hole processing portion 6 is irradiated with the diaphragm excitation light 7 with an output of about 10%. When the excitation laser light is in a wavelength range in which the residual resin 22 in the hole processing portion 6 is excited to generate fluorescence, luminescence 8 is generated when the residual resin 22 is present. In addition, dichroic mirror 4
Has a property of reflecting 490 nm or less and transmitting 505 nm or more, and the absorption filter 10 uses a filter that absorbs a wavelength of 520 nm or less.

【0034】このルミネセンス8は対物レンズ5と結像
レンズ9により蛍光波長の近傍の波長のみを透過させる
吸収フィルタ10を介してCCDカメラ11上に像を結
像する。この像の明暗を画像処理装置12により解析
し、残留樹脂22の有無や残留の程度を判定する。この
判定結果はレーザ発振器13と加工テーブル17を制御
する制御装置23に伝達され、残留樹脂22が所定厚さ
よりも多くある場合には、レーザ強度を増加させもう一
度その穴加工部6にレーザ照射を行い残留樹脂22をさ
らに除去する。
This luminescence 8 forms an image on the CCD camera 11 via the absorption filter 10 that transmits only wavelengths near the fluorescence wavelength by the objective lens 5 and the imaging lens 9. The brightness of this image is analyzed by the image processing device 12, and the presence or absence of the residual resin 22 and the degree of residual resin 22 are determined. This determination result is transmitted to the control device 23 which controls the laser oscillator 13 and the processing table 17, and when the residual resin 22 is more than the predetermined thickness, the laser intensity is increased and the hole processing portion 6 is irradiated with the laser again. Then, the residual resin 22 is further removed.

【0035】本実施の形態では、上記のようにレーザ発
振器13として波長473nmのYAGレーザの第二高
調波を用いた。供試品として銅箔24上に部分的に厚さ
1μm以下のエポキシ樹脂が残留した穴加工部6と、完
全にエポキシ樹脂が除去されてエポキシ樹脂が残存しな
い穴加工部6と、が混在したプリント基板21を用い、
その穴加工部6の底部6aを観察した。上記供試品を観
察した結果、底部6aにエポキシ樹脂が残留している穴
加工部6は明るく、銅箔が露出している穴加工部6は暗
い像が得られ、残留樹脂22を明確に検出することがで
きた。
In the present embodiment, the second harmonic of the YAG laser having a wavelength of 473 nm is used as the laser oscillator 13 as described above. As a sample, a hole-processed portion 6 in which the epoxy resin having a thickness of 1 μm or less partially remained on the copper foil 24 and a hole-processed portion 6 in which the epoxy resin was completely removed and no epoxy resin remained were mixed. Using the printed circuit board 21,
The bottom portion 6a of the hole processing portion 6 was observed. As a result of observing the sample under test, a hole imaged portion 6 where the epoxy resin remains on the bottom portion 6a is bright, and a hole imaged portion 6 where the copper foil is exposed has a dark image, and the residual resin 22 is clearly shown. Could be detected.

【0036】この穴加工部の像を図2に示すのと同様に
予め定められた区域内の反射光強度の平均が、予め設定
された反射光強度よりも明るい場合はエポキシが所定厚
さより多く残留した穴加工部、暗い場合はエポキシの残
留が所定厚さより少ない穴加工部と判定することとし、
穴加工部6の残留樹脂の有無や程度を判別した結果容易
にエポキシが所定厚さより多く残留した穴加工部を判別
できた。
If the average of the reflected light intensities in the predetermined area is brighter than the preset reflected light intensity as in the case of the image of the hole-processed portion shown in FIG. 2, the epoxy is more than the predetermined thickness. Remaining hole-processed part, and if it is dark, it is determined that the remaining hole of epoxy is less than the specified thickness.
As a result of determining the presence or absence and the degree of residual resin in the hole processing portion 6, it was possible to easily determine the hole processing portion in which the epoxy remained in excess of the predetermined thickness.

【0037】なお、この供試品のプリント基板をめっき
後、断面を研磨し、電子顕微鏡で観察し、めっき層と銅
箔の間の残留樹脂の状況を観察した。この結果と本実施
の形態で述べた検査装置による判定結果との比較を行っ
たところ、両方の結果はよく対応しており、本検査装置
による判定の妥当性が検証された。
After plating the printed board of this sample, the cross section was polished and observed with an electron microscope to observe the state of residual resin between the plating layer and the copper foil. When this result was compared with the determination result by the inspection device described in the present embodiment, both results correspond well, and the validity of the determination by the inspection device was verified.

【0038】実施の形態3. 図4〜図7はさらにこの発明の他の実施の形態を示すも
ので、図4は検査装置及びレーザ加工装置の構成図、図
5は反射の状況を説明するための説明図である。図7は
残留材料の残留膜圧と反射光強度の関係を示す特性図、
図8は凹設部に残留樹脂があるときとないときの反射光
強度を説明する説明図である。
Embodiment 3. 4 to 7 show another embodiment of the present invention. FIG. 4 is a configuration diagram of an inspection device and a laser processing device, and FIG. 5 is an explanatory diagram for explaining a reflection state. FIG. 7 is a characteristic diagram showing the relationship between the residual film pressure of the residual material and the reflected light intensity,
FIG. 8 is an explanatory diagram for explaining the reflected light intensity when there is residual resin in the recessed portion and when there is no residual resin.

【0039】これらの図において、光源1から照明用の
紫外光2を送出し、ビームスプリッタ25から対物レン
ズ5を経由してプリント基板21に照射する。プリント
基板21の穴加工部の底部(図4においては、図示を省
略)からの反射光32は対物レンズ5と結像レンズ9に
より照明用の紫外光2の近傍の波長のみを透過させるバ
ンドパスフィルタ31を介してCCDカメラ11に装着
されたイメージインテンシファイア26上に像27を結
像する。
In these figures, the ultraviolet light 2 for illumination is sent from the light source 1, and is irradiated onto the printed board 21 from the beam splitter 25 via the objective lens 5. The reflected light 32 from the bottom of the hole-processed portion of the printed board 21 (not shown in FIG. 4) is a bandpass that transmits only the wavelength in the vicinity of the ultraviolet light 2 for illumination by the objective lens 5 and the imaging lens 9. An image 27 is formed on the image intensifier 26 mounted on the CCD camera 11 via the filter 31.

【0040】この像27が画像処理装置12で解析さ
れ、解析結果がCRT28に表示されるとともに、制御
装置23に解析結果が送られる。ここで、イメージイン
テンシファイア26は入射光強度を数万倍にも増強でき
るデバイスで、イメージインテンシファイア26に印加
する電圧を調整することで、ゲインを調整でき、入射光
強度の増強程度を変化させることが可能である。
The image 27 is analyzed by the image processing device 12, the analysis result is displayed on the CRT 28, and the analysis result is sent to the control device 23. Here, the image intensifier 26 is a device that can increase the incident light intensity by tens of thousands of times. By adjusting the voltage applied to the image intensifier 26, the gain can be adjusted and the intensity of the incident light can be increased. It can be changed.

【0041】ところで、図5に示すように、照明用の紫
外光2がプリント基板21の穴加工部の底部に残留する
残留樹脂22の表面に照射されると、一部は表面より樹
脂表面反射光29として反射され対物レンズ5(図4)
に達し、その他は残留樹脂22に吸収されつつ残留樹脂
22を透過して穴加工部の底部の銅箔24に達する。
By the way, as shown in FIG. 5, when the surface of the residual resin 22 remaining at the bottom of the hole-formed portion of the printed board 21 is irradiated with the ultraviolet light 2 for illumination, a part of the resin surface is reflected from the surface. Objective lens 5 reflected as light 29 (FIG. 4)
And the others pass through the residual resin 22 while being absorbed by the residual resin 22 and reach the copper foil 24 at the bottom of the holed portion.

【0042】銅箔24に到達した紫外光2は、一部は吸
収され、残りは銅箔表面反射光30として反射され、再
び残留樹脂22中を吸収されながら通過して残留樹脂2
2から出て対物レンズ5に達する。銅箔表面反射光30
が樹脂表面反射光29に比較して著しく大きい場合に
は、樹脂表面反射光29を検知することが困難となり、
樹脂表面は検出できない。すなわち、残留樹脂22は検
出できず、銅箔24を検知できるだけである。
The ultraviolet light 2 that reaches the copper foil 24 is partially absorbed and the rest is reflected as reflected light 30 on the surface of the copper foil 24, and again passes through the residual resin 22 while being absorbed and passes through the residual resin 2.
It goes out of 2 and reaches the objective lens 5. Copper foil surface reflected light 30
Is significantly larger than the resin surface reflected light 29, it becomes difficult to detect the resin surface reflected light 29,
The resin surface cannot be detected. That is, the residual resin 22 cannot be detected, but only the copper foil 24 can be detected.

【0043】従って、残留樹脂22を検知するために
は、残留樹脂22の表面での残留樹脂反射光29が、銅
箔24の表面での銅箔反射光30よりも大きい光を使用
する必要がある。そこで、この実施の形態では、銅箔2
4に対する反射率が低い紫外光(反射率:約30%)を
照明光として用いた。なお、可視光は銅箔24に対する
反射率が70〜95%程度であり、上記紫外光の30%
よりもかなり高い。
Therefore, in order to detect the residual resin 22, it is necessary to use light in which the residual resin reflected light 29 on the surface of the residual resin 22 is larger than the copper foil reflected light 30 on the surface of the copper foil 24. is there. Therefore, in this embodiment, the copper foil 2
Ultraviolet light having a low reflectance for 4 (reflectance: about 30%) was used as illumination light. The visible light has a reflectance of about 70 to 95% with respect to the copper foil 24, which is 30% of the ultraviolet light.
Much higher than.

【0044】今、残留樹脂に対する吸収係数がα/cm
で強度Kの紫外光2が残留樹脂22に入射すると仮定す
る。紫外光2に対する残留樹脂22の吸収係数がα/c
mであるから、残留樹脂22の表面から深さzの地点で
の紫外光の強度J(z)は J(z)=K・exp(−α・z) (1) で表される。
Now, the absorption coefficient for the residual resin is α / cm.
It is assumed that the ultraviolet light 2 having the intensity K is incident on the residual resin 22. The absorption coefficient of the residual resin 22 for the ultraviolet light 2 is α / c
Therefore, the intensity J (z) of the ultraviolet light at the point of the depth z from the surface of the residual resin 22 is represented by J (z) = K · exp (−α · z) (1).

【0045】紫外光2に対する残留樹脂22の表面での
反射率を約10%とすると、樹脂表面反射光29の強度
Aは、次のようになる。 A=0.1K (2) また、残留樹脂22中に入射する入射光の強度Bは、 B=0.9K (3) となる。従って、厚さd(cm)の残留樹脂22中を減
衰しながら通過し銅箔24の表面に到達した紫外光2の
強度Cは、 C=0.9K・exp(−α・d) (4) となる。
Assuming that the reflectance of the surface of the residual resin 22 with respect to the ultraviolet light 2 is about 10%, the intensity A of the resin surface reflected light 29 is as follows. A = 0.1K (2) Further, the intensity B of the incident light entering the residual resin 22 is B = 0.9K (3). Therefore, the intensity C of the ultraviolet light 2 that has passed through the residual resin 22 having a thickness d (cm) while being attenuated and has reached the surface of the copper foil 24 is C = 0.9K · exp (−α · d) (4 ).

【0046】そして、銅箔24の表面での銅箔表面反射
光30の強度Dは、銅箔24の表面での反射率は30%
程度であるため、次のようになる。D=0.9K・{e
xp(−α・d)}・0.3 (5)こ
の反射された光が、さらに残留樹脂22中を減衰しなが
ら通過して残留樹脂22の表面から銅箔表面反射光30
と出ていく。この銅箔表面反射光30の強度Eは、厚さ
dの残留樹脂22中でさらに上記(5)式の値よりもe
xp(−α・d)だけ減衰し、 E=0.9K・{exp(−2α・d)}・0.3 (6) となる。
The intensity D of the copper foil surface reflected light 30 on the surface of the copper foil 24 has a reflectance of 30% on the surface of the copper foil 24.
Since it is a degree, it becomes as follows. D = 0.9K ・ {e
xp (−α · d)} · 0.3 (5) This reflected light further passes through the residual resin 22 while being attenuated, and is reflected from the surface of the residual resin 22 by the copper foil surface reflected light 30.
It goes out. The intensity E of the reflected light 30 on the surface of the copper foil is more e than the value of the above formula (5) in the residual resin 22 having the thickness d.
It is attenuated by xp (−α · d) and becomes E = 0.9K · {exp (−2α · d)} · 0.3 (6).

【0047】穴加工部の底部からの反射光強度Rは、銅
箔24から銅箔表面反射光30と樹脂表面反射光29の
和であるから R=A+E (7) となる。図6に残留樹脂の残留膜厚tと反射光強度Rの
関係をいくつかの吸収係数αについて示す。この曲線の
傾きが大きいものほど残留膜厚の変化に伴い穴加工部の
底部の明るさが大きく変化することになる。
Since the reflected light intensity R from the bottom of the hole-processed portion is the sum of the copper foil surface-reflected light 30 to the copper foil surface-reflected light 30 and the resin surface-reflected light 29, R = A + E (7). FIG. 6 shows the relationship between the residual film thickness t of the residual resin and the reflected light intensity R for some absorption coefficients α. The larger the slope of this curve, the greater the change in the brightness of the bottom of the hole-processed portion as the residual film thickness changes.

【0048】残留膜厚が0.2μm程度なら化学処理で
除去できるため不良とならない。これが0.6μm程度
を超えると化学処理で除去できなくなり不良となる場合
が多くなる。この膜厚の差による反射光強度の変化を機
械で検知するには、例えばCCDカメラ11、画像処理
装置12にて検知するには20%程度以上の反射光強度
Rの変化が必要である。すなわち、残留膜厚0.2μm
のときの反射光強度と残留膜厚0.6μmのときの反射
光強度との差が0.2(20%)生ずるためには、図6
より吸収係数α≧5000/cm程度が必要条件とな
る。図6によれば、吸収係数α=5000/cmのと
き、残留膜厚0.2μmでの反射光強度は約0.32、
残留膜厚0.6μmのときの反射光強度は約0.25で
あり、0.25/0.32=0.78となり20%強の
変化があることになる。
If the residual film thickness is about 0.2 μm, it can be removed by a chemical treatment, so that no defect occurs. If it exceeds about 0.6 μm, it cannot be removed by chemical treatment, and it often becomes defective. In order to mechanically detect the change in the reflected light intensity due to the difference in the film thickness, for example, in the CCD camera 11 and the image processing device 12, it is necessary to change the reflected light intensity R by about 20% or more. That is, the residual film thickness 0.2 μm
The difference between the reflected light intensity at the time of and the reflected light intensity at the residual film thickness of 0.6 μm is 0.2 (20%).
More necessary is an absorption coefficient α ≧ 5000 / cm. According to FIG. 6, when the absorption coefficient α = 5000 / cm, the reflected light intensity at a residual film thickness of 0.2 μm is about 0.32,
When the residual film thickness is 0.6 μm, the reflected light intensity is about 0.25, which is 0.25 / 0.32 = 0.78, which is a change of more than 20%.

【0049】上記検討を基に、本実施の形態において、
照明光を発生する光源1として波長337nmの紫外光
2を発生する窒素レーザを用い、供試品のプリント基板
21として銅箔24上に厚さ約1μmと約0.4μmの
ポリイミド樹脂が残留した穴加工部が混在したプリント
基板を用いた。なお、本実施の形態で用いた波長337
nmの紫外光のポリイミド樹脂に対する吸収係数は約8
000/cmである。また、バンドパスフィルタ31と
して337nm付近のバンドパス幅10nmのフィルタ
を用いた。
Based on the above examination, in the present embodiment,
A nitrogen laser that emits ultraviolet light 2 having a wavelength of 337 nm is used as a light source 1 that emits illumination light, and a polyimide resin having a thickness of about 1 μm and about 0.4 μm remains on a copper foil 24 as a printed circuit board 21 of a sample. A printed circuit board with a hole-processed portion was used. Note that the wavelength 337 used in this embodiment is
Absorption coefficient of ultraviolet light of nm for polyimide resin is about 8
000 / cm. As the bandpass filter 31, a filter having a bandpass width of 10 nm near 337 nm was used.

【0050】本実施の形態の検査装置を用いて上記プリ
ント基板21を検査した結果、イメージインテンシファ
イア26のゲインを調節することにより、ポリイミドが
約1μm残留している穴加工部は暗く、約0.4μm残
留した穴加工部は明るい像が得られた。
As a result of inspecting the printed circuit board 21 using the inspection apparatus of the present embodiment, by adjusting the gain of the image intensifier 26, the holed portion where the polyimide remains about 1 μm is dark and A bright image was obtained in the hole-processed portion where 0.4 μm remained.

【0051】この穴加工部の像33を図7に示すように
予め定めた区域34の反射光uの強度の平均Uが、予め
定められた所定の反射光の強度レベル35よりも明るい
場合はポリイミドが約0.4μm残留した穴加工部と判
定し、反射光vの強度の平均Vが、反射光の強度レベル
35よりも暗い場合はポリイミドが約1μm残留した穴
加工部と判定することとし、穴加工部を判別した結果、
ポリイミドが1μm残留した穴加工部を容易に判別でき
た。この判別は、インテンシィファイア26の像を解析
する画像処理装置12で行った。
If the average U of the intensities of the reflected light u in the predetermined area 34 is brighter than the predetermined intensity level 35 of the predetermined reflected light, as shown in FIG. It is determined that the polyimide is a hole-processed portion in which about 0.4 μm remains, and when the average V of the intensities of the reflected light v is darker than the reflected light intensity level 35, it is determined that the polyimide is a hole-processed portion in which about 1 μm remains. , As a result of distinguishing the hole processing part,
It was possible to easily discriminate the hole-processed portion where the polyimide remained by 1 μm. This determination is performed by the image processing device 12 that analyzes the image of the intensifier 26.

【0052】なお、このプリント基板をめっき後、断面
を研磨し、電子顕微鏡で観察したところ、めっき層と銅
箔の間に残留樹脂部分が観察された。この観察結果と本
実施の形態で述べた検査装置での結果との比較を行った
ところ、両方の結果は100%対応しており、本検査装
置による検出の妥当性が検証された。
After the printed circuit board was plated, the cross section was polished and observed with an electron microscope. As a result, a residual resin portion was observed between the plated layer and the copper foil. When this observation result and the result of the inspection device described in the present embodiment are compared, both results are 100% compatible, and the validity of the detection by the present inspection device was verified.

【0053】また、比較例1として、従来の手法と比較
するために、図4の光源1を可視光として、バンドパス
フィルタ31を除いて同様の試験を行ったところ、イメ
ージインテンシファイア26のゲインを調整しても残留
樹脂22の厚い薄いで穴加工部の底部の明るさに変化は
なく、残留樹脂厚さの大小を検出できなかった。
In addition, as Comparative Example 1, in order to compare with the conventional method, the light source 1 of FIG. 4 was used as visible light, and a similar test was performed except for the bandpass filter 31. Even if the gain was adjusted, the brightness of the bottom of the hole-processed portion did not change because the residual resin 22 was thick and thin, and the magnitude of the residual resin thickness could not be detected.

【0054】さらに、比較例2として、この実施の形態
において、窒素レーザを用いず、ポリイミドに対する吸
収係数が約4000/cmである波長442nmの光を
発生するHe−Cdレーザを用い、バンドパスフィルタ
もこの波長用に交換して同様の試験を行ったところ、判
別はできたものの、断面観察での結果との一致率は80
%まで低下していた。すなわち、吸収係数が約4000
/cmでは判別の精度が低くなる。
Further, as Comparative Example 2, in this embodiment, a nitrogen laser is not used, but a He-Cd laser which emits light having a wavelength of 442 nm having an absorption coefficient of about 4000 / cm for polyimide is used and a bandpass filter is used. When the same test was carried out by exchanging for this wavelength as well, it was possible to discriminate, but the agreement rate with the result of cross-section observation was 80.
It had fallen to%. That is, the absorption coefficient is about 4000
/ Cm, the accuracy of discrimination becomes low.

【0055】なお、ポリイミド以外の樹脂の場合も、そ
の樹脂に応じて吸収係数が5000/cm以上になるよ
うな波長の光を選べばよい。以上のように、本発明によ
れば、非破壊で簡便に銅箔24上の残留樹脂22の残留
厚さを検出することが可能となる。
In the case of a resin other than polyimide, it is sufficient to select a light having a wavelength having an absorption coefficient of 5000 / cm or more depending on the resin. As described above, according to the present invention, it is possible to detect the residual thickness of the residual resin 22 on the copper foil 24 easily and nondestructively.

【0056】実施の形態4. 図8、図9は、さらにこの発明の他の実施の形態を示す
もので、図8は検査装置及びレーザ加工装置の動作を説
明するための説明図、図9は焦点位置がずれた場合の光
の通路を説明する説明図である。図8において、光源1
は照明用の光として紫外光2(図8(a))と白色光3
8(図8(b))とを切換えて発生しうるようにされて
いる。まず、紫外光2の場合、図8(a)のように、光
源1の前におかれたピンホール板39aから出射した紫
外光2はビームスプリッタ25により対物レンズ5を経
由して、残留樹脂22の表面に照射される。このとき、
残留樹脂22上で焦点が結ぶようにプリント基板21が
設置された場合、残留樹脂22の表面からの反射光32
aは対物レンズ5により、光検出器40の前に設置され
たピンホール板39bの位置に焦点を結び、ピンホール
板39bを通過して光電検出器40で検知される。
Fourth Embodiment 8 and 9 show another embodiment of the present invention. FIG. 8 is an explanatory diagram for explaining the operation of the inspection device and the laser processing device, and FIG. 9 shows a case where the focal position is deviated. It is explanatory drawing explaining the path | route of light. In FIG. 8, the light source 1
Is ultraviolet light 2 (FIG. 8A) and white light 3 as light for illumination.
8 (FIG. 8 (b)). First, in the case of the ultraviolet light 2, as shown in FIG. 8A, the ultraviolet light 2 emitted from the pinhole plate 39a placed in front of the light source 1 is passed through the objective lens 5 by the beam splitter 25 and the residual resin The surface of 22 is irradiated. At this time,
When the printed circuit board 21 is installed so as to be focused on the residual resin 22, the reflected light 32 from the surface of the residual resin 22
The objective lens 5 is focused on the position of the pinhole plate 39b installed in front of the photodetector 40 by the objective lens 5, passes through the pinhole plate 39b, and is detected by the photoelectric detector 40.

【0057】この紫外光2による光学系では光源1側の
ピンホール板39aにより生じた点光源と光電検出器4
0側のピンホール板39bが対物レンズ5に対して共役
の位置関係にある。このような光学系を共焦点光学系と
呼ぶ。共焦点光学系の場合、図9に示すように試料であ
る残留樹脂22上で焦点がずれると、反射光32aは光
電検出器40側のピンホール板39bの手前で大きくぼ
けてしまい、ピンホール板39bを通過できない。
In the optical system using the ultraviolet light 2, the point light source generated by the pinhole plate 39a on the light source 1 side and the photoelectric detector 4 are used.
The 0-side pinhole plate 39b has a conjugate positional relationship with the objective lens 5. Such an optical system is called a confocal optical system. In the case of the confocal optical system, when the focus is deviated on the residual resin 22 which is the sample as shown in FIG. 9, the reflected light 32a is largely blurred in front of the pinhole plate 39b on the photoelectric detector 40 side, and the pinhole. It cannot pass through the plate 39b.

【0058】このように、光電検出器40は残留樹脂2
2上に焦点が合った場合のみ反射光32aを検出できる
ため、焦点位置を正確に検出できる。なお、焦点位置の
調節は、プリント基板21を載せた加工テーブル17
(図1参照)を図8の左右方向に動かすことにより行
う。
As described above, the photoelectric detector 40 has the residual resin 2
Since the reflected light 32a can be detected only when the light beam 2 is in focus, the focus position can be accurately detected. The focus position is adjusted by the processing table 17 on which the printed circuit board 21 is placed.
(See FIG. 1) is moved in the left-right direction in FIG.

【0059】ここで、紫外光2の反射光32aは、図5
に示すように樹脂表面反射光29と銅箔表面反射光30
の2種類がある。紫外光で少なくとも樹脂表面を検出す
るためには、樹脂表面反射光29の強度Aが入射強度の
10%しかないため、銅箔表面反射光30の強度Eを樹
脂表面反射光29の強度A以下としなければならない。
従って、実施の形態3に述べた(2)式、(6)式にお
いて、A≧Eとなるようにするためには、残留樹脂厚さ
dを1μmとして吸収係数α≧5000/cmが必要条
件となる。
Here, the reflected light 32a of the ultraviolet light 2 is as shown in FIG.
As shown in, the light reflected from the resin surface 29 and the light reflected from the copper foil surface 30
There are two types. In order to detect at least the resin surface with ultraviolet light, since the intensity A of the resin surface reflected light 29 is only 10% of the incident intensity, the intensity E of the copper foil surface reflected light 30 is equal to or less than the intensity A of the resin surface reflected light 29. And have to.
Therefore, in order to satisfy A ≧ E in the expressions (2) and (6) described in the third embodiment, the absorption coefficient α ≧ 5000 / cm is a necessary condition with the residual resin thickness d of 1 μm. Becomes

【0060】次に、銅箔24の位置を探すために、照明
光を白色光38に切換えて焦点位置を検出する。この
時、白色光38は紫外光2よりも残留樹脂22に対する
吸収係数が著しく小さく、銅箔24に対する反射率が高
いため、銅箔24の銅箔表面反射光30の強度が高い。
従って、銅箔24の表面の位置を図9の原理に従って焦
点位置を検出することによって、銅箔24の位置を正確
に検出できる。なお、焦点位置の調節は、紫外光2の場
合と同様にプリント基板21を載せた加工テーブル17
(図1参照)を図8の左右方向に動かすことにより行
う。
Next, in order to find the position of the copper foil 24, the illumination light is switched to the white light 38 to detect the focus position. At this time, the white light 38 has a remarkably smaller absorption coefficient with respect to the residual resin 22 than the ultraviolet light 2 and has a high reflectance with respect to the copper foil 24. Therefore, the intensity of the copper foil surface reflected light 30 of the copper foil 24 is high.
Therefore, the position of the copper foil 24 can be accurately detected by detecting the focal position of the surface of the copper foil 24 according to the principle of FIG. The focus position is adjusted by the processing table 17 on which the printed circuit board 21 is placed as in the case of the ultraviolet light 2.
(See FIG. 1) is moved in the left-right direction in FIG.

【0061】これにより、紫外光2と白色光38での焦
点位置の差d(図8(b))が残留膜厚となり、残留膜
厚を非破壊で簡便に測定することができる。そして、残
留膜厚が所定値、例えば0.15μm以上なら、加工用
レーザ光線を穴加工部6に再度照射して、残留樹脂の除
去を行う。
As a result, the difference d between the focal positions of the ultraviolet light 2 and the white light 38 (FIG. 8B) becomes the residual film thickness, and the residual film thickness can be measured nondestructively and easily. Then, when the residual film thickness is a predetermined value, for example, 0.15 μm or more, the hole processing portion 6 is irradiated again with the processing laser beam to remove the residual resin.

【0062】上記検討を基に、本実施の形態では、紫外
光2として波長337nmの窒素レーザを、白色光38
としてハロゲンランプ光を用い、プリント基板21とし
て銅箔24上に厚さ約1μmのポリイミド樹脂が残留樹
脂22として残留した穴加工部6が形成されたプリント
基板を用いた。なお、本実施の形態で用いた波長337
nmの光のポリイミド樹脂に対する吸収係数は約800
0/cmである。
Based on the above examination, in this embodiment, a nitrogen laser having a wavelength of 337 nm is used as the ultraviolet light 2, and a white light 38 is emitted.
As the printed circuit board 21, a printed circuit board having a hole-processed portion 6 in which a polyimide resin having a thickness of about 1 μm remained as a residual resin 22 was used as the printed circuit board 21. Note that the wavelength 337 used in this embodiment is
The absorption coefficient of light of nm for polyimide resin is about 800.
It is 0 / cm.

【0063】本実施の形態で述べた検査装置を用いて上
記プリント基板21の残留樹脂22の残留膜厚を測定し
た結果、残留ポリイミド厚dが約1μmであることが確
認された。なお、上記実施の形態では紫外光2と白色光
38を用いたが、これに限られるものではなく、白色光
38の代わりに例えば紫外光2の吸収係数よりも吸収係
数が小さい紫外光を用いることもできる。
As a result of measuring the residual film thickness of the residual resin 22 on the printed circuit board 21 using the inspection apparatus described in the present embodiment, it was confirmed that the residual polyimide thickness d was about 1 μm. It should be noted that although the ultraviolet light 2 and the white light 38 are used in the above-described embodiment, the invention is not limited to this, and instead of the white light 38, for example, ultraviolet light having an absorption coefficient smaller than that of the ultraviolet light 2 is used. You can also

【0064】また、上記各実施の形態では、銅箔24で
ある場合について述べたが、アルミニウム箔等のレーザ
ビームに対する反射率が所定値以上のものであれば同様
の効果を奏する。また、紫外光2や励起光7の波長は、
残留樹脂の材料に合わせて適宜選定すればよい。
In each of the above embodiments, the case of the copper foil 24 has been described, but the same effect can be obtained as long as the reflectance of the aluminum foil or the like with respect to the laser beam is a predetermined value or more. The wavelengths of the ultraviolet light 2 and the excitation light 7 are
It may be appropriately selected according to the material of the residual resin.

【0065】[0065]

【発明の効果】本発明は以上説明したように構成されて
いるので、次のような効果を奏する。すなわち、第一の
材料と第二の材料とを層状に形成した積層材料に加工用
レーザビーム照射装置によりレーザビームを照射して第
一の材料を除去して第二の材料上に形成される凹設部の
底部に除去されずに残留する第一の材料である残留材料
に残留材料に対する吸収係数が所定値以上である第一の
照明光及び残留材料に対する吸収係数が所定値よりも小
さい第二の照明光を照射する照明光照射装置、及び残留
材料の表面から反射される第一の照明光に基づいて残留
材料の表面の位置を求めるとともに残留材料中を通過し
て第二の材料の表面から反射される第二の照明光に基づ
いて第二の材料の表面の位置を求め両表面の位置に基づ
き残留材料の厚さを検出する光検出装置を備えたもので
あるので、第一の照明光と第二の照明光との残留材料に
対する吸収係数を異ならせ、第一の照明光の波長を残留
材料の表面で反射されるものの方が第二の材料の表面で
反射されるものよりも大きくなるようにすることにより
残留材料の表面の位置を検出することができ、別の照明
光の波長を第二の材料の表面で反射されるものの方が残
留材料の表面で反射されるものよりも大きくなるように
することにより第二の材料の表面の位置を検出すること
ができ、この両表面の位置の差から残留材料の厚さを知
り、必要に応じて適切な処置を講じることができる。
Since the present invention is configured as described above, it has the following effects. That is, the first
The bottom of the recessed portion formed on the second material by irradiating the laminated material formed by layering the material and the second material with the laser beam by the processing laser beam irradiation device to remove the first material To the residual material that is the first material that remains without being removed by the first illumination light whose absorption coefficient for the residual material is a predetermined value or more and the second illumination light whose absorption coefficient for the residual material is smaller than the predetermined value. The position of the surface of the residual material is determined based on the illumination light irradiation device for irradiating and the first illumination light reflected from the surface of the residual material, and the position of the surface of the residual material is passed through the residual material and reflected from the surface of the second material. The second illumination light is used to determine the position of the surface of the second material and to detect the thickness of the residual material based on the positions of both surfaces. The absorption coefficient for the residual material with the second illumination light Normalize and detect the position of the surface of the residual material by making the wavelength of the first illumination light larger on the surface of the residual material than on the surface of the second material. Of the surface of the second material by allowing the wavelength of another illumination light to be greater on the surface of the second material than on the surface of the second material. The position can be detected, the thickness of the residual material can be known from the difference between the positions of the two surfaces, and appropriate measures can be taken if necessary.

【0066】さらに、第一の照明光は紫外光であり、第
二の照明光は白色光であることを特徴とするので、残留
材料は一般的に有機材料であるが、紫外光は有機材料に
対する減衰係数が大きく、白色光は有機材料に対する減
衰係数が小さいので、第一及び第二の照明光として用い
ることができる。
Furthermore, since the first illumination light is ultraviolet light and the second illumination light is white light, the residual material is generally an organic material, but the ultraviolet light is an organic material. Has a large attenuation coefficient with respect to, and white light has a small attenuation coefficient with respect to an organic material, and thus can be used as the first and second illumination lights.

【0067】さらに、この発明におけるレーザ加工装置
は、上記各積層材料の凹設部検査装置のうちの一つを備
えたものであるので、凹設部の加工後破壊検査を行うこ
となく直ちに残留材料の有無を知ることができ、必要に
応じて再度残留材料を除去する加工を行うことができ、
信頼性、生産性を向上させることができる。
Further, since the laser processing apparatus according to the present invention is equipped with one of the above-mentioned recessed portion inspection apparatuses for laminated materials, the laser processing apparatus immediately remains without performing a destructive inspection after processing the recessed portions. It is possible to know the presence or absence of material, and it is possible to perform processing to remove residual material again if necessary,
Reliability and productivity can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 この発明の実施の一形態を示す検査装置を備
えたレーザ加工装置の構成を示す構成図である。
FIG. 1 is a configuration diagram showing a configuration of a laser processing apparatus provided with an inspection apparatus showing an embodiment of the present invention.

【図2】 図1の検査装置における凹設部に残留樹脂が
あるときとないときの反射光強度を説明する説明図であ
る。
FIG. 2 is an explanatory diagram illustrating reflected light intensities when a residual resin is present in a recessed portion in the inspection apparatus of FIG. 1 and when it is not.

【図3】 この発明の他の実施の形態を示す検査装置及
びレーザ加工装置の構成図である。
FIG. 3 is a configuration diagram of an inspection apparatus and a laser processing apparatus showing another embodiment of the present invention.

【図4】 さらに、この発明の他の実施の形態を示す検
査装置及びレーザ加工装置の構成図である。
FIG. 4 is a configuration diagram of an inspection apparatus and a laser processing apparatus showing another embodiment of the present invention.

【図5】 図4の検査装置における反射の状況を説明す
るための説明図である。
5 is an explanatory diagram for explaining a reflection state in the inspection device of FIG.

【図6】 図4の検査装置における残留材料の残留膜圧
と反射光強度の関係を示す特性図である。
6 is a characteristic diagram showing the relationship between the residual film pressure of the residual material and the reflected light intensity in the inspection device of FIG.

【図7】 図4の検査装置における凹設部に残留樹脂が
あるときとないときの反射光強度を説明する説明図であ
る。
FIG. 7 is an explanatory diagram illustrating reflected light intensities when a residual resin is present in a recessed portion in the inspection apparatus of FIG. 4 and when it is not.

【図8】 さらに、この発明の他の実施の形態を示す検
査装置及びレーザ加工装置の動作を説明するための説明
図である。
FIG. 8 is an explanatory diagram for explaining the operation of the inspection device and the laser processing device according to another embodiment of the present invention.

【図9】 図8の検出装置において焦点位置がずれた場
合の光の通路を説明する説明図である。
9 is an explanatory diagram illustrating a light path when the focus position is deviated in the detection device of FIG.

【図10】 従来のプリント基板のBVH加工法を示す
もので、微細な貫通孔部を加工する工程を説明する説明
図である。
FIG. 10 is a diagram illustrating a conventional BVH processing method for a printed circuit board and is an explanatory diagram illustrating a step of processing a fine through hole portion.

【図11】 従来のプリント基板のBVH加工法を示す
もので、BVHを形成する凹設部を加工する加工方法を
説明する説明図である。
FIG. 11 is a diagram illustrating a conventional BVH processing method for a printed circuit board, and is an explanatory diagram illustrating a processing method for processing a recessed portion for forming a BVH.

【図12】 光学顕微鏡を備えた従来のレーザ加工装置
の構成図である。
FIG. 12 is a configuration diagram of a conventional laser processing apparatus including an optical microscope.

【図13】 図12の光学顕微鏡の構成図である。13 is a configuration diagram of the optical microscope of FIG.

【図14】 プリント基板における照射された光の反射
の状況を説明するための説明図である。
FIG. 14 is an explanatory diagram for explaining a state of reflection of irradiated light on a printed circuit board.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 光源、2 紫外光、6 穴加工部、6a 底部、7
励起光、8 蛍光、11 CCDカメラ、12 画像
処理装置、13 レーザ発振器、18 エポキシ樹脂、
19 ガラスエポキシ、20 レーザビーム、21 プ
リント基板、22 残留樹脂、24 銅箔、27 像、
29 樹脂表面反射光、30 銅箔表面反射光、32
a,32b 穴加工部の底部からの反射光、33 穴加
工部の像、38 白色光、39a,39b ピンホール
板。
1 light source, 2 ultraviolet light, 6 hole processing part, 6a bottom part, 7
Excitation light, 8 fluorescence, 11 CCD camera, 12 image processing device, 13 laser oscillator, 18 epoxy resin,
19 glass epoxy, 20 laser beam, 21 printed circuit board, 22 residual resin, 24 copper foil, 27 image,
29 resin surface reflected light, 30 copper foil surface reflected light, 32
a, 32b Reflected light from the bottom of the hole processed part, 33 Image of the hole processed part, 38 White light, 39a, 39b Pinhole plate.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭55−143401(JP,A) 特開 昭58−161808(JP,A) 特開 平7−83841(JP,A) 特開 平7−128247(JP,A) 特開 平4−236307(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G01N 21/84 - 21/958 G01B 11/00 - 11/30 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (56) References JP-A-55-143401 (JP, A) JP-A-58-161808 (JP, A) JP-A-7-83841 (JP, A) JP-A-7- 128247 (JP, A) JP-A-4-236307 (JP, A) (58) Fields investigated (Int.Cl. 7 , DB name) G01N 21/84-21/958 G01B 11/00-11/30

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 第一の材料と第二の材料とを層状に形成
した積層材料に加工用レーザビーム照射装置によりレー
ザビームを照射して上記第一の材料を除去して上記第二
の材料上に形成される凹設部の底部に除去されずに残留
する上記第一の材料である残留材料に対する吸収係数が
所定値以上である第一の照明光及び上記残留材料に対す
る吸収係数が上記所定値よりも小さい第二の照明光を照
射する照明光照射装置、及び上記残留材料の表面から反
射される上記第一の照明光に基づいて上記残留材料の表
面の位置を求めるとともに上記残留材料中を通過して上
記第二の材料の表面から反射される上記第二の照明光に
基づいて上記第二の材料の表面の位置を求め上記両表面
の位置に基づき上記残留材料の厚さを検出する光検出装
置を備えた積層材料の凹設部検査装置。
1. A first material and a second material are formed in layers.
Laminated laminated material with a laser beam irradiation device for processing.
Irradiate the beam to remove the first material and remove the second material.
Remains on the bottom of the recess formed on the material
The absorption coefficient for the residual material that is the first material
For the first illumination light above the specified value and the above residual material
The second illumination light whose absorption coefficient is smaller than the above specified value.
Illuminating light irradiating device and the surface of the residual material
A table of the residual material based on the first illumination light emitted.
Determine the position of the surface and pass through the above residual material
In the second illumination light reflected from the surface of the second material
Based on the position of the surface of the second material based on
A photodetector that detects the thickness of the residual material based on the position of
A device for inspecting a recessed portion of a laminated material, which is provided with a table.
【請求項2】 上記第一の照明光は紫外光であり、上記
第二の照明光は白色光であることを特徴とする請求項1
に記載の積層材料の凹設部検査装置。
2. The first illumination light is ultraviolet light,
The second illumination light is white light.
An apparatus for inspecting a recessed portion of a laminated material as set forth in .
【請求項3】 請求項1又は請求項2に記載の積層材料
の凹設部検査装置を備えたレーザ加工装置。
3. The laminated material according to claim 1 or 2.
Laser processing device equipped with the recessed part inspection device.
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