JP3110777B2 - 画像表示装置 - Google Patents
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- JP3110777B2 JP3110777B2 JP03041267A JP4126791A JP3110777B2 JP 3110777 B2 JP3110777 B2 JP 3110777B2 JP 03041267 A JP03041267 A JP 03041267A JP 4126791 A JP4126791 A JP 4126791A JP 3110777 B2 JP3110777 B2 JP 3110777B2
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J29/00—Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
- H01J29/46—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the ray or beam, e.g. electron-optical arrangement
- H01J29/58—Arrangements for focusing or reflecting ray or beam
- H01J29/62—Electrostatic lenses
- H01J29/622—Electrostatic lenses producing fields exhibiting symmetry of revolution
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2229/00—Details of cathode ray tubes or electron beam tubes
- H01J2229/48—Electron guns
- H01J2229/4824—Constructional arrangements of electrodes
- H01J2229/4827—Electrodes formed on surface of common cylindrical support
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、表示スクリーンと当該
スクリーンに対向して配置されている電子銃とを有す
る、電子光学軸に中心を有する陰極と協同して電子ビー
ム発生部を構成する複数の電極とを備えた表示管を有
し、当該電子銃が、更に、集束レンズを構成する高電気
抵抗材料の抵抗構造が設けられている外側表面と内側表
面とを有する管状構造を備えた画像表示装置に関する。
スクリーンに対向して配置されている電子銃とを有す
る、電子光学軸に中心を有する陰極と協同して電子ビー
ム発生部を構成する複数の電極とを備えた表示管を有
し、当該電子銃が、更に、集束レンズを構成する高電気
抵抗材料の抵抗構造が設けられている外側表面と内側表
面とを有する管状構造を備えた画像表示装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、低い球面収差を得るために、表示
管に（特に螺旋構造の）高抵抗構造により構成されてい
る主集束レンズを使用する事に関する研究が盛んに行わ
れている。抵抗構造は、静的集束電圧を供給する少なく
とも一個のコンタクトと陽極電圧を供給する少なくとも
一個のコンタクトとを有している。
管に（特に螺旋構造の）高抵抗構造により構成されてい
る主集束レンズを使用する事に関する研究が盛んに行わ
れている。抵抗構造は、静的集束電圧を供給する少なく
とも一個のコンタクトと陽極電圧を供給する少なくとも
一個のコンタクトとを有している。
【０００３】しかしながら、静的集束信号と共に動的補
正信号をも供給する場合には、従来の集束管によるこれ
まで行われてきた実験を根拠に期待できる所望の効果
が、特に16KHzを越える走査周波数では得られない。
（例えば、スクリーン全体に渡って電子ビームを集束状
態に保つために偏向角を大きくしなければならない様な
場合には、動的集束電圧を印加することによる補正が必
要となる事がある。コーナーでは、集束電圧はスクリー
ンの中心におけるそれとは異なる事が必要となる。この
事は、動的集束電圧が、その強度がスクリーン上の電子
ビームスポットの位置の函数である走査周波数で変化す
る信号であることを意味する。）
正信号をも供給する場合には、従来の集束管によるこれ
まで行われてきた実験を根拠に期待できる所望の効果
が、特に16KHzを越える走査周波数では得られない。
（例えば、スクリーン全体に渡って電子ビームを集束状
態に保つために偏向角を大きくしなければならない様な
場合には、動的集束電圧を印加することによる補正が必
要となる事がある。コーナーでは、集束電圧はスクリー
ンの中心におけるそれとは異なる事が必要となる。この
事は、動的集束電圧が、その強度がスクリーン上の電子
ビームスポットの位置の函数である走査周波数で変化す
る信号であることを意味する。）
【０００４】
【本発明の概要】本発明の目的は、動的補正信号の使用
に特に適している、螺旋抵抗型の集束レンズの様な静電
界レンズを有する表示管を備えた画像表示装置を提供す
る事である。
に特に適している、螺旋抵抗型の集束レンズの様な静電
界レンズを有する表示管を備えた画像表示装置を提供す
る事である。
【０００５】この目的の達成のために、本発明の画像表
示装置が特徴とする点は、前記抵抗構造が、陽極電圧を
印加する第一電圧供給手段に接続されるように構成され
ていてかつ軸方向に離間されている少なくとも二個の電
気コンタクトを有し、かつ当該電気コンタクトの間に配
置されている低抵抗電極手段に電気的に接続されてい
て、その電極手段が、静的集束電圧と動的補正電圧を印
加する第二電圧供給手段に接続されるように構成されて
いる点である。低抵抗電極手段は、一個又はそれ以上の
個別金属部品又は導電層により構成しても良い。
示装置が特徴とする点は、前記抵抗構造が、陽極電圧を
印加する第一電圧供給手段に接続されるように構成され
ていてかつ軸方向に離間されている少なくとも二個の電
気コンタクトを有し、かつ当該電気コンタクトの間に配
置されている低抵抗電極手段に電気的に接続されてい
て、その電極手段が、静的集束電圧と動的補正電圧を印
加する第二電圧供給手段に接続されるように構成されて
いる点である。低抵抗電極手段は、一個又はそれ以上の
個別金属部品又は導電層により構成しても良い。
【０００６】本発明は、それ自身、（螺旋）レンズ構造
の高抵抗により、その層が螺旋構造を形成せずに均一で
あるこれらの場所においてすら、抵抗層の固有RC時定数
を長くする事が出来ると言う認識に基づいている。換言
すると、集束信号は抵抗構造に全く進行しないか又は殆
ど進行しない。
の高抵抗により、その層が螺旋構造を形成せずに均一で
あるこれらの場所においてすら、抵抗層の固有RC時定数
を長くする事が出来ると言う認識に基づいている。換言
すると、集束信号は抵抗構造に全く進行しないか又は殆
ど進行しない。
【０００７】本発明の本質的な点は、高抵抗構造を上述
した低抵抗電極手段に接続することにより、動的補正信
号が集束レンズの中央部分の主集束レンズから充分離れ
た所まで広がることが可能となるようにRC時定数が減少
する領域が得られる点である。後に詳細に説明するよう
に、中間電極手段は、例えば、同軸電極リング、ビーム
通過開口を有する一個又はそれ以上の横断金属板、管状
構造の内壁及び／又は抵抗構造の内側表面に設けられて
いる薄い導電層により構成する事が可能である。蒸着、
スパッタリング又はペインティングは、この薄い導電層
を形成するのに適した方法の例である。MHz領域までの
周波数を有する（例えば、動的集束信号の様な）動的補
正信号により所望の効果が得られる事は明らかである。
した低抵抗電極手段に接続することにより、動的補正信
号が集束レンズの中央部分の主集束レンズから充分離れ
た所まで広がることが可能となるようにRC時定数が減少
する領域が得られる点である。後に詳細に説明するよう
に、中間電極手段は、例えば、同軸電極リング、ビーム
通過開口を有する一個又はそれ以上の横断金属板、管状
構造の内壁及び／又は抵抗構造の内側表面に設けられて
いる薄い導電層により構成する事が可能である。蒸着、
スパッタリング又はペインティングは、この薄い導電層
を形成するのに適した方法の例である。MHz領域までの
周波数を有する（例えば、動的集束信号の様な）動的補
正信号により所望の効果が得られる事は明らかである。
【０００８】低抵抗中間電極を単純な方法で設ける事を
可能とする構成が特徴とする点は、前記管状構造が、協
同して主集束レンズを構成している抵抗構造を各々が有
している少なくとも二本の位置合わせされたサブ管を備
え、かつ前記低抵抗電極手段がビーム通過開口を有する
少なくとも一枚の金属板からなり、その金属板が、前記
サブ管の向き合う端の間に横切って配置されている点で
ある。
可能とする構成が特徴とする点は、前記管状構造が、協
同して主集束レンズを構成している抵抗構造を各々が有
している少なくとも二本の位置合わせされたサブ管を備
え、かつ前記低抵抗電極手段がビーム通過開口を有する
少なくとも一枚の金属板からなり、その金属板が、前記
サブ管の向き合う端の間に横切って配置されている点で
ある。
【０００９】この構成の一実施例が特徴とする点は、前
記ビーム発生部が生じ得る前記サブ管の位置合わせ誤差
を補正する補正手段を備えている点である。
記ビーム発生部が生じ得る前記サブ管の位置合わせ誤差
を補正する補正手段を備えている点である。
【００１０】位置合わせ誤差を発生させないようにする
別の構成が特徴とする点は、前記管状構造が、集束レン
ズを構成するその内側表面に設けられた抵抗構造を有し
ている一本の管を備え、前記抵抗構造と電気的コンタク
トを行う導電物質の、前記低抵抗電極手段を構成する管
状構造が当該管内に配置されていて、かつ前記管状構造
が前記管の壁内の開口を介して電気コンタクトに接続さ
れている点である。
別の構成が特徴とする点は、前記管状構造が、集束レン
ズを構成するその内側表面に設けられた抵抗構造を有し
ている一本の管を備え、前記抵抗構造と電気的コンタク
トを行う導電物質の、前記低抵抗電極手段を構成する管
状構造が当該管内に配置されていて、かつ前記管状構造
が前記管の壁内の開口を介して電気コンタクトに接続さ
れている点である。
【００１１】動的集束に対しては、低抵抗中央電極が電
子ビームに回転対称の効果を与えるように構成されてい
る。
子ビームに回転対称の効果を与えるように構成されてい
る。
【００１２】動的かつ非点収差集束に対しては、低抵抗
中央電極が非回転対称の効果を与える様に構成されるべ
きである。
中央電極が非回転対称の効果を与える様に構成されるべ
きである。
【００１３】
【実施例】本発明の画像表示装置のいくつかの実施例
を、図面を用いてより詳細に説明する。
を、図面を用いてより詳細に説明する。
【００１４】図1に示されている装置は、表示窓2、円錐
部分3及びネック4からなる、とりわけガラス包囲器1か
ら形成されている陰極線管を備えている。このネックに
は、陰極と共に電子銃の電子発生部43を構成している電
極構造8と9とが収容されている。電子銃の電子光学軸6
は、包囲器の軸でもある。電子ビーム12は、順次形成さ
れかつ陰極7と電極構造8、9とにより加速される。参照
番号10は、その内側表面が、表示窓2の内側の表示スク
リーン14にビームを集束させる集束レンズを形成する非
常に高抵抗の物質の（特に螺旋形状の）抵抗構造11を保
持している管状構造を表す。抵抗構造11は、電気的に、
低抵抗金属入力電極13aと低抵抗金属出力電極13bとに接
続されている。いわゆるユニポテンシャルレンズの場
合、電極に印加される適切な電圧の例は、 −陰極7 数十V（例えば、50V） −電極8 0V −電極9 数百V（例えば、400V） −入力及び出力集束レンズ 数十KV（例えば、30KV） −中央部分集束レンズ 数KV（例えば、5KV） である。電子ビーム12は、表示スクリーン14に渡って軸
6から偏向コイルのシステム5により偏向される。表示ス
クリーン14は、円錐部分3の内側壁の導電被覆を介して
電気的に電極11の端に接続されている薄いアルミニウム
薄膜により被覆されている蛍光体層から構成されてい
る。
部分3及びネック4からなる、とりわけガラス包囲器1か
ら形成されている陰極線管を備えている。このネックに
は、陰極と共に電子銃の電子発生部43を構成している電
極構造8と9とが収容されている。電子銃の電子光学軸6
は、包囲器の軸でもある。電子ビーム12は、順次形成さ
れかつ陰極7と電極構造8、9とにより加速される。参照
番号10は、その内側表面が、表示窓2の内側の表示スク
リーン14にビームを集束させる集束レンズを形成する非
常に高抵抗の物質の（特に螺旋形状の）抵抗構造11を保
持している管状構造を表す。抵抗構造11は、電気的に、
低抵抗金属入力電極13aと低抵抗金属出力電極13bとに接
続されている。いわゆるユニポテンシャルレンズの場
合、電極に印加される適切な電圧の例は、 −陰極7 数十V（例えば、50V） −電極8 0V −電極9 数百V（例えば、400V） −入力及び出力集束レンズ 数十KV（例えば、30KV） −中央部分集束レンズ 数KV（例えば、5KV） である。電子ビーム12は、表示スクリーン14に渡って軸
6から偏向コイルのシステム5により偏向される。表示ス
クリーン14は、円錐部分3の内側壁の導電被覆を介して
電気的に電極11の端に接続されている薄いアルミニウム
薄膜により被覆されている蛍光体層から構成されてい
る。
【００１５】集束レンズの中央部分に集束電圧を印加す
るためには、低抵抗電極が本発明の範囲内では必要とな
る。この電極は、様々な方法で構成することができる。
それらの例が、図5、6、7及び8に示されている。
るためには、低抵抗電極が本発明の範囲内では必要とな
る。この電極は、様々な方法で構成することができる。
それらの例が、図5、6、7及び8に示されている。
【００１６】図1の表示管の電子銃の使用に適している
型の集束レンズの構成のいくつかの詳細を、図2を参照
して説明する。その型は、管状（ガラス）包囲器15を備
えている。中央同軸開口18a、18bを有する横断金属電極
板17a、17bが両端に設けられている包囲器15の内側は、
適切な電圧が印加されると集束レンズ17を構成する螺旋
構造が形成されている高抵抗層16を保持している。平行
な斜めのラインのパターンは、抵抗層16が存在していな
い位置を線図的に表している。従って螺旋構造の部分
は、常にこれらの二本のラインの間に存在している。高
抵抗層16を、例えば、少量（例えば、数重量％）の金属
酸化物（特にルテニウム酸化物）粒子を有するガラスエ
ナメルから構成しても良い。層16の厚さは1〜10μm、例
えば3μmとしても良い。その様な層の単位面積当りの抵
抗は、金属酸化物の濃度とその層に加えられる熱処理に
依存する。実際には、単位面積当り104〜108Ωの抵抗値
が実現された。単位面積当りの所望の抵抗値は、関係す
るパラメータを調整する事によって得られる。単位面積
当り106Ωの抵抗値が、当該応用に特に適している。層1
6内に形成される螺旋構造（この構造は、連続した螺
旋、及び図2の例の様に螺旋構造が存在しないセグメン
トにより接続されている複数の分離された螺旋（六個）
を有していても良い）の全抵抗値は、10GΩのオーダと
する事が出来るが、これは30KVの電圧差で数mAの電流が
両端に流れることを意味している。この図及び他の全て
の図に於いて、（斜めの）ラインパターンは、物質が、
例えば、回転切削ツールによって抵抗層から除去されて
いる抵抗層の位置を示す。
型の集束レンズの構成のいくつかの詳細を、図2を参照
して説明する。その型は、管状（ガラス）包囲器15を備
えている。中央同軸開口18a、18bを有する横断金属電極
板17a、17bが両端に設けられている包囲器15の内側は、
適切な電圧が印加されると集束レンズ17を構成する螺旋
構造が形成されている高抵抗層16を保持している。平行
な斜めのラインのパターンは、抵抗層16が存在していな
い位置を線図的に表している。従って螺旋構造の部分
は、常にこれらの二本のラインの間に存在している。高
抵抗層16を、例えば、少量（例えば、数重量％）の金属
酸化物（特にルテニウム酸化物）粒子を有するガラスエ
ナメルから構成しても良い。層16の厚さは1〜10μm、例
えば3μmとしても良い。その様な層の単位面積当りの抵
抗は、金属酸化物の濃度とその層に加えられる熱処理に
依存する。実際には、単位面積当り104〜108Ωの抵抗値
が実現された。単位面積当りの所望の抵抗値は、関係す
るパラメータを調整する事によって得られる。単位面積
当り106Ωの抵抗値が、当該応用に特に適している。層1
6内に形成される螺旋構造（この構造は、連続した螺
旋、及び図2の例の様に螺旋構造が存在しないセグメン
トにより接続されている複数の分離された螺旋（六個）
を有していても良い）の全抵抗値は、10GΩのオーダと
する事が出来るが、これは30KVの電圧差で数mAの電流が
両端に流れることを意味している。この図及び他の全て
の図に於いて、（斜めの）ラインパターンは、物質が、
例えば、回転切削ツールによって抵抗層から除去されて
いる抵抗層の位置を示す。
【００１７】図1の電子銃は、その前方に集束レンズ17
を有する、一般には陰極7、グリッド電極8及び陽極9を
備えているビーム発生部43を有している。図1の場合、
ビーム発生部43の部品は、例えば、軸方向のガラス−セ
ラミック・マウンティング・ロッドによって表示管内に
別々にマウントされている。これに代えて、それらを集
束レンズの管状包囲器10内にマウントさせても良い。
を有する、一般には陰極7、グリッド電極8及び陽極9を
備えているビーム発生部43を有している。図1の場合、
ビーム発生部43の部品は、例えば、軸方向のガラス−セ
ラミック・マウンティング・ロッドによって表示管内に
別々にマウントされている。これに代えて、それらを集
束レンズの管状包囲器10内にマウントさせても良い。
【００１８】発生する画像誤差を動的集束によって補正
することが必要となる場合がある。電子ビームを集束さ
せる電子レンズのパワーは、その時点で電子ビームを支
配している偏向の函数として調整される。この事によ
り、広がっている主画像面が、電子ビームが表示スクリ
ーンに射突する位置で表示スクリーンと交差する事が可
能となる。この補正方法は、集束レンズの電極に補正動
的集束電圧を発生させるために制御装置内に余分な回路
を必要とする。
することが必要となる場合がある。電子ビームを集束さ
せる電子レンズのパワーは、その時点で電子ビームを支
配している偏向の函数として調整される。この事によ
り、広がっている主画像面が、電子ビームが表示スクリ
ーンに射突する位置で表示スクリーンと交差する事が可
能となる。この補正方法は、集束レンズの電極に補正動
的集束電圧を発生させるために制御装置内に余分な回路
を必要とする。
【００１９】螺旋抵抗構造の物質が高電気抵抗（例え
ば、１０ＧΩ）を有している場合には、ＲＣ時定数は長
く（例えば、１０ｍｓ）なる。この結果、電極１８ａに
印加される動的集束電圧の効果は殆ど螺旋抵抗構造に到
達しないであろう。本発明はこの点についての解決法を
提供する。この解決法の原理を、本発明の画像表示装置
の電子銃の使用に適している集束レンズの二個の設計例
を示す、図３及び図４を参照して説明する。
ば、１０ＧΩ）を有している場合には、ＲＣ時定数は長
く（例えば、１０ｍｓ）なる。この結果、電極１８ａに
印加される動的集束電圧の効果は殆ど螺旋抵抗構造に到
達しないであろう。本発明はこの点についての解決法を
提供する。この解決法の原理を、本発明の画像表示装置
の電子銃の使用に適している集束レンズの二個の設計例
を示す、図３及び図４を参照して説明する。
【００２０】集束レンズのこれらの二個の型の場合、二
本の電気供給リード（陽極リードと集束リード）しか必
要としない。
本の電気供給リード（陽極リードと集束リード）しか必
要としない。
【００２１】図3は、陽極電圧Vaが両端に印加されかつ
集束電圧が中央部分に印加されている螺旋集束レンズ
（いわゆるユニポテンシャル・レンズ）を線図的に示
す。ユニポテンシャル・レンズ設計の特徴は、バイポテ
ンシャル・レンズ設計の場合とは異なり、対物側のレン
ズ部分と像側のレンズ部分にかかる電圧が等しい事であ
る。これらの二個の部分の抵抗構造を対称的にすること
も可能である。各構造は、例えば、五個の螺旋セグメン
トを有している。（図3の例に於いては、三個の螺旋セ
グメントが各々の部分に設けられている。）
集束電圧が中央部分に印加されている螺旋集束レンズ
（いわゆるユニポテンシャル・レンズ）を線図的に示
す。ユニポテンシャル・レンズ設計の特徴は、バイポテ
ンシャル・レンズ設計の場合とは異なり、対物側のレン
ズ部分と像側のレンズ部分にかかる電圧が等しい事であ
る。これらの二個の部分の抵抗構造を対称的にすること
も可能である。各構造は、例えば、五個の螺旋セグメン
トを有している。（図3の例に於いては、三個の螺旋セ
グメントが各々の部分に設けられている。）
【００２２】図4は、陽極電圧Vaが一端と両端の中間に
位置している第一部分とに印加されていて、かつ集束電
圧Vfが他端と両端の中間に位置している第二部分とに印
加されている螺旋集束レンズ（いわゆる四極ポテンシャ
ル・レンズ）を線図的に示している。
位置している第一部分とに印加されていて、かつ集束電
圧Vfが他端と両端の中間に位置している第二部分とに印
加されている螺旋集束レンズ（いわゆる四極ポテンシャ
ル・レンズ）を線図的に示している。
【００２３】この様なレンズは、対物側で収束電圧のポ
テンシャルを有し、その後ポテンシャルが陽極電圧にま
で増大しその後そのポテンシャルが集束電圧にまで減少
しかつ最後に再び陽極電圧にまで増大すると言う電圧分
布を有していても良い。
テンシャルを有し、その後ポテンシャルが陽極電圧にま
で増大しその後そのポテンシャルが集束電圧にまで減少
しかつ最後に再び陽極電圧にまで増大すると言う電圧分
布を有していても良い。
【００２４】他の型の「マルチポテンシャル」レンズも
又可能である。
又可能である。
【００２５】電圧は、例えば、その内側表面に抵抗構造
を保持しているガラス管の壁内の各々の所望の位置に開
口を形成し、かつ抵抗層とコンタクトする電気的コンタ
クトを（例えば、インディウム・ペレット）この開口内
に設けることによって、印加させることが出来る。この
型の電気コンタクトに代えて、抵抗層と電気的コンタク
トを為す金属フランジをガラス管の両端に設けることも
出来る。
を保持しているガラス管の壁内の各々の所望の位置に開
口を形成し、かつ抵抗層とコンタクトする電気的コンタ
クトを（例えば、インディウム・ペレット）この開口内
に設けることによって、印加させることが出来る。この
型の電気コンタクトに代えて、抵抗層と電気的コンタク
トを為す金属フランジをガラス管の両端に設けることも
出来る。
【００２６】しかしながら、本発明の範囲内では、動的
補正信号を印加する電極は、抵抗層に常に電気的に接続
されている低抵抗中間電極とすべきである。
補正信号を印加する電極は、抵抗層に常に電気的に接続
されている低抵抗中間電極とすべきである。
【００２７】図3のレンズ設計の一実施例が、図5に示さ
れている。この図に示される抵抗レンズ構成は、サブ管
21とサブ管22とを備えている。同軸開口を各々有してい
る金属フランジ（例えば、CrFeのフランジ）23、24はサ
ブ管21の両端に封止されていて、かつ同軸開口を各々有
している金属フランジ25、26はサブ管22の両端に封止さ
れている。フランジ23、26は陽極電圧Vaを印加する機能
を果たす。図2に関して記載された方法により、螺旋構
造を有する高抵抗層27、28がサブ管21、22に配置されて
いる。ビーム通過開口を各々有するフランジ24、25は、
共に溶接されていてかつ協同して（静的＋動的）集束電
圧Vfを印加する機能を果たす低抵抗中間電極を構成して
いる。
れている。この図に示される抵抗レンズ構成は、サブ管
21とサブ管22とを備えている。同軸開口を各々有してい
る金属フランジ（例えば、CrFeのフランジ）23、24はサ
ブ管21の両端に封止されていて、かつ同軸開口を各々有
している金属フランジ25、26はサブ管22の両端に封止さ
れている。フランジ23、26は陽極電圧Vaを印加する機能
を果たす。図2に関して記載された方法により、螺旋構
造を有する高抵抗層27、28がサブ管21、22に配置されて
いる。ビーム通過開口を各々有するフランジ24、25は、
共に溶接されていてかつ協同して（静的＋動的）集束電
圧Vfを印加する機能を果たす低抵抗中間電極を構成して
いる。
【００２８】図6は、図5の構造と実質上同一の構造を示
している。しかしながら、この場合には、向かい合って
いるフランジ24、25は共に溶接されておらず、（例え
ば、図示されていないガラス又はセラミック・ロッドに
マウントする事により）相互に電気的に絶縁された状態
に配置されている。この事により、静的かつ動的集束電
圧Vf（静的＋動的）を、例えば、フランジ25に、かつ静
的集束電圧Vf（静的）をフランジ24に印加する事が可能
となる。図5と6に示される構成の場合、同軸中央開口2
9、30を有する金属フランジ24、25は低抵抗電極として
機能する。開口29、30は、図5に示すような回転対称形
状を有していても良い。開口29、30が、例えば、図6の
様に、四角形又は長細い形（楕円又は長方形）の非回転
対称形状を有している場合には、電圧印加により、非点
収差レンズを形成する四極電界がそれらの間に形成され
る。印加された動的集束電圧は、集束レンズを通過する
電子ビームを水平方向及び垂直方向の両方向に発散させ
る効果を有している。この発散効果を、動的及び静的集
束電圧を印加したときにフランジ24、25の間に形成され
る非点収差レンズにより、水平方向で補償しかつ垂直方
向に増大させることが可能である。これにより、垂直と
水平の集束を独立に行う事が可能となる。この事は、カ
ラー表示管（動的非点収差集束が問題となる）の場合に
特に重要である。
している。しかしながら、この場合には、向かい合って
いるフランジ24、25は共に溶接されておらず、（例え
ば、図示されていないガラス又はセラミック・ロッドに
マウントする事により）相互に電気的に絶縁された状態
に配置されている。この事により、静的かつ動的集束電
圧Vf（静的＋動的）を、例えば、フランジ25に、かつ静
的集束電圧Vf（静的）をフランジ24に印加する事が可能
となる。図5と6に示される構成の場合、同軸中央開口2
9、30を有する金属フランジ24、25は低抵抗電極として
機能する。開口29、30は、図5に示すような回転対称形
状を有していても良い。開口29、30が、例えば、図6の
様に、四角形又は長細い形（楕円又は長方形）の非回転
対称形状を有している場合には、電圧印加により、非点
収差レンズを形成する四極電界がそれらの間に形成され
る。印加された動的集束電圧は、集束レンズを通過する
電子ビームを水平方向及び垂直方向の両方向に発散させ
る効果を有している。この発散効果を、動的及び静的集
束電圧を印加したときにフランジ24、25の間に形成され
る非点収差レンズにより、水平方向で補償しかつ垂直方
向に増大させることが可能である。これにより、垂直と
水平の集束を独立に行う事が可能となる。この事は、カ
ラー表示管（動的非点収差集束が問題となる）の場合に
特に重要である。
【００２９】図7は、図6の集束レンズの構造と実質上同
一の構造を示す。しかしながら、この場合、別の横断電
極31がフランジ24と25の間に配置されている。この様に
して必要な静的かつ動的集束電圧を電極24、25及び31に
印加させることが可能となる。
一の構造を示す。しかしながら、この場合、別の横断電
極31がフランジ24と25の間に配置されている。この様に
して必要な静的かつ動的集束電圧を電極24、25及び31に
印加させることが可能となる。
【００３０】図9は、各々がビーム通過開口を有し、か
つ突起部54、55、56及び57に係合している二枚の金属フ
ランジ24′と25′を備えた低抵抗電極手段を有し、活性
化に応じて四極フィールドをフランジの間に発生させる
集束レンズ構成の一部を示す。
つ突起部54、55、56及び57に係合している二枚の金属フ
ランジ24′と25′を備えた低抵抗電極手段を有し、活性
化に応じて四極フィールドをフランジの間に発生させる
集束レンズ構成の一部を示す。
【００３１】図5、6、7と9の場合、集束レンズは、抵抗
構造を有する少なくとも二本のサブ管を常に備えてい
る。このため、サブ管の位置合わせずれが発生すること
がある。この位置合わせずれの発生は集束レンズの特に
前方に配置された補正手段によって補正することが出来
る。所望の補正は、例えば、電子銃のビーム発生部の最
後の電極（図1の電極9）に永久磁石材料のリング42を設
けかつ電子銃を表示管内にマウントした後に外部からこ
のリングを磁性化する事により実現される。図5、6と7
から、金属フランジ24、25（そして31）は、陽極（高）
電圧をフランジ23に印加する貫通接続ワイア32に相対的
に近接していることが明らかである。フランジ24、25
（及び31）は（低）集束電圧に維持されるので、この事
により、特にフランジがラフである（又は突起部を有す
る）場合、フランジ24、25（そして31）が貫通接続ワイ
ア32に対し望ましくない電子を放出する事がある。これ
を防ぐには、異なった電圧に維持される部品が、例え
ば、その物質の表面を酸化させるか又は絶縁層によりそ
れを被覆させることによる接続ワイアの絶縁化により、
決して互いに「会わ」ない様にすべきである。しかしな
がら、電気絶縁保護被覆は最も低い電圧に維持される部
品（例えば、フランジ24、25（そして31））に設けるこ
とが望ましい。セラミック材料又はガラスの薄い層が絶
縁に適している。後者の場合、アルミニウム隣ガラスを
選択するのが良い。これは、薄い層にして設けることが
可能でかつ低温で既に高粘度を有している。従って、使
用される金属とガラスの膨張係数に対し自由度が非常に
大きくなる。層の粘度が高くかつその厚みが薄い（ミク
ロンのオーダ）場合にも、この層は、それが設けられて
いる表面の生じ得る不規則性に容易に追随し、その結果
この表面を満足に被覆する事が出来る。これに代わる例
は、クロムを含む材料からフランジ24、25（そして31）
を製造しかつそれに酸化処理を行う事である。
構造を有する少なくとも二本のサブ管を常に備えてい
る。このため、サブ管の位置合わせずれが発生すること
がある。この位置合わせずれの発生は集束レンズの特に
前方に配置された補正手段によって補正することが出来
る。所望の補正は、例えば、電子銃のビーム発生部の最
後の電極（図1の電極9）に永久磁石材料のリング42を設
けかつ電子銃を表示管内にマウントした後に外部からこ
のリングを磁性化する事により実現される。図5、6と7
から、金属フランジ24、25（そして31）は、陽極（高）
電圧をフランジ23に印加する貫通接続ワイア32に相対的
に近接していることが明らかである。フランジ24、25
（及び31）は（低）集束電圧に維持されるので、この事
により、特にフランジがラフである（又は突起部を有す
る）場合、フランジ24、25（そして31）が貫通接続ワイ
ア32に対し望ましくない電子を放出する事がある。これ
を防ぐには、異なった電圧に維持される部品が、例え
ば、その物質の表面を酸化させるか又は絶縁層によりそ
れを被覆させることによる接続ワイアの絶縁化により、
決して互いに「会わ」ない様にすべきである。しかしな
がら、電気絶縁保護被覆は最も低い電圧に維持される部
品（例えば、フランジ24、25（そして31））に設けるこ
とが望ましい。セラミック材料又はガラスの薄い層が絶
縁に適している。後者の場合、アルミニウム隣ガラスを
選択するのが良い。これは、薄い層にして設けることが
可能でかつ低温で既に高粘度を有している。従って、使
用される金属とガラスの膨張係数に対し自由度が非常に
大きくなる。層の粘度が高くかつその厚みが薄い（ミク
ロンのオーダ）場合にも、この層は、それが設けられて
いる表面の生じ得る不規則性に容易に追随し、その結果
この表面を満足に被覆する事が出来る。これに代わる例
は、クロムを含む材料からフランジ24、25（そして31）
を製造しかつそれに酸化処理を行う事である。
【００３２】不必要なフィールドエミッションの発生を
防ぐ別の方法を、図8を参照して説明する。
防ぐ別の方法を、図8を参照して説明する。
【００３３】この場合、二本の（又はそれ以上の）サブ
管（例えば各々35mmの長さを有する二本の管）の代わり
に、集束レンズ33は（例えば、70mmの長さを有する）一
本の管34を備えている。管34の内側面には、例えば、螺
旋パターンを有する高抵抗層35が前述した方法で設けら
れている。その両端には、そこに電気的に接続されてい
てかつ陽極電圧Vaを印加するフランジ36、37を設けても
良い。管34は、抵抗層35の螺旋パターンが設けられてい
ない部分と電気的にコンタクトしかつ（クランピング）
係合している（例えばCrNiからなる）同軸金属リング38
を内蔵している。集束リード40は、管34の壁内の（例え
ば、1.5×3mm）の開口39を介して集束電極として機能す
るクランピング・リング38に（例えば、レーザ溶接によ
り）溶接されている。この開口39は、抵抗層35を設けた
後に（例えば、サンドブラストにより）形成されること
が望ましい。この構成の場合、管34の壁が集束電極38を
陽極貫通接続ワイア41からシールドしているので、前述
したフィールドエミッション問題が防止される。動的集
束が生じる領域は、かなりの程度集束電極（この場合ク
ランピング・リング38）の幅によって決まる。螺旋部分
の間に位置する抵抗層35の中断されていない部分の幅も
この幅が集束電極の幅と異なる場合には機能する。静的
集束は螺旋パターンの長さに渡って発生する。
管（例えば各々35mmの長さを有する二本の管）の代わり
に、集束レンズ33は（例えば、70mmの長さを有する）一
本の管34を備えている。管34の内側面には、例えば、螺
旋パターンを有する高抵抗層35が前述した方法で設けら
れている。その両端には、そこに電気的に接続されてい
てかつ陽極電圧Vaを印加するフランジ36、37を設けても
良い。管34は、抵抗層35の螺旋パターンが設けられてい
ない部分と電気的にコンタクトしかつ（クランピング）
係合している（例えばCrNiからなる）同軸金属リング38
を内蔵している。集束リード40は、管34の壁内の（例え
ば、1.5×3mm）の開口39を介して集束電極として機能す
るクランピング・リング38に（例えば、レーザ溶接によ
り）溶接されている。この開口39は、抵抗層35を設けた
後に（例えば、サンドブラストにより）形成されること
が望ましい。この構成の場合、管34の壁が集束電極38を
陽極貫通接続ワイア41からシールドしているので、前述
したフィールドエミッション問題が防止される。動的集
束が生じる領域は、かなりの程度集束電極（この場合ク
ランピング・リング38）の幅によって決まる。螺旋部分
の間に位置する抵抗層35の中断されていない部分の幅も
この幅が集束電極の幅と異なる場合には機能する。静的
集束は螺旋パターンの長さに渡って発生する。
【００３４】生じ得る高電圧問題を防止するために、集
束リード40が高電圧貫通接続ワイヤ41に「会わ」ないこ
とが重要である。これを実現するためにワイヤ41の位置
に対し120゜と180゜の角度で回転する位置に、開口39を
設けることが有益である。
束リード40が高電圧貫通接続ワイヤ41に「会わ」ないこ
とが重要である。これを実現するためにワイヤ41の位置
に対し120゜と180゜の角度で回転する位置に、開口39を
設けることが有益である。
【００３５】その最も単純な形態の場合、同軸集束リン
グ38は動的集束が可能となるように回転対称である。本
発明の範囲内に於いては、回転対称リングとは、その周
辺が正確に円周に従う（閉じた）リングのみならず、二
個の端が僅かに重なっている、又は二個の端が一面内で
互いに対向して位置していて、小さなギャップを設ける
か又は突合せ接続の何れかにより、実質上（開放されて
いる）円状のリングをも意味するものと理解されるべき
である。
グ38は動的集束が可能となるように回転対称である。本
発明の範囲内に於いては、回転対称リングとは、その周
辺が正確に円周に従う（閉じた）リングのみならず、二
個の端が僅かに重なっている、又は二個の端が一面内で
互いに対向して位置していて、小さなギャップを設ける
か又は突合せ接続の何れかにより、実質上（開放されて
いる）円状のリングをも意味するものと理解されるべき
である。
【００３６】個別のリング（38）の代わりに導電（低抵
抗）材料の層又はテープを集束電極として使用すること
が可能である。その様な層は、高抵抗構造35を設ける前
に管34の内側壁に設けることが出来る。別の方法は高抵
抗構造35を設けかつ導電材料の層、例えば「Leitsilbe
r」の名称で売られている導電ペイントの層によりそれ
を被覆することである。
抗）材料の層又はテープを集束電極として使用すること
が可能である。その様な層は、高抵抗構造35を設ける前
に管34の内側壁に設けることが出来る。別の方法は高抵
抗構造35を設けかつ導電材料の層、例えば「Leitsilbe
r」の名称で売られている導電ペイントの層によりそれ
を被覆することである。
【００３７】既に前述したように本発明は、集束レンズ
領域に於いて四極電界を発生させる目的で動的非点収差
集束に使用することが出来る。しかしながら、これを集
束レンズ領域に於いて他の動的多重極フィールド、例え
ば（ビーム変位のための）動的二極フィールドを発生さ
せるために使用してもよい。
領域に於いて四極電界を発生させる目的で動的非点収差
集束に使用することが出来る。しかしながら、これを集
束レンズ領域に於いて他の動的多重極フィールド、例え
ば（ビーム変位のための）動的二極フィールドを発生さ
せるために使用してもよい。
【００３８】動的信号をオーミックに抵抗レンズに結合
させるという本発明の原理は、投射型ＴV管に有利に使
用することが可能であるが、この原理はカラー表示管に
使用することも可能である。他の可能性は、高周波偏向
が、例えばオーミックに結合されている信号により動的
集束信号と同様に実行することが可能なオシロスコープ
管に使用することである。
させるという本発明の原理は、投射型ＴV管に有利に使
用することが可能であるが、この原理はカラー表示管に
使用することも可能である。他の可能性は、高周波偏向
が、例えばオーミックに結合されている信号により動的
集束信号と同様に実行することが可能なオシロスコープ
管に使用することである。
【００３９】動的非点収差集束（Dynamic Astigmatic F
ocusing）は、例えば図10に示される態様で、前述した
事項とは異なった方法で実行することも可能である。こ
の場合集束レンズの抵抗層46は数mmの中間領域47で中断
している。この領域に於いて管状構造50の内側壁は、数
mmの長さの突起部に係合している二個の金属電極48、49
を保持している。各電極48、49は、電気的にコンタクト
するように抵抗層46にわずか重なっている。電極は、例
えばエッチング又はレーザによって指構造が設けられて
いる、非電気プロセスまたは真空蒸着プロセスにより設
けられている低抵抗材料の層から形成することも可能で
ある。支持体を合成材料のホイルとすることも可能であ
る。その代わりに図8に示されるタイプ24′、25′の電
極も可能である。図11はより詳細に領域47とその直接の
周辺を示している。電圧Vf（静的）は電極48に印加さ
れ、電圧Vf（静的＋動的）は電極49に印加される。
ocusing）は、例えば図10に示される態様で、前述した
事項とは異なった方法で実行することも可能である。こ
の場合集束レンズの抵抗層46は数mmの中間領域47で中断
している。この領域に於いて管状構造50の内側壁は、数
mmの長さの突起部に係合している二個の金属電極48、49
を保持している。各電極48、49は、電気的にコンタクト
するように抵抗層46にわずか重なっている。電極は、例
えばエッチング又はレーザによって指構造が設けられて
いる、非電気プロセスまたは真空蒸着プロセスにより設
けられている低抵抗材料の層から形成することも可能で
ある。支持体を合成材料のホイルとすることも可能であ
る。その代わりに図8に示されるタイプ24′、25′の電
極も可能である。図11はより詳細に領域47とその直接の
周辺を示している。電圧Vf（静的）は電極48に印加さ
れ、電圧Vf（静的＋動的）は電極49に印加される。
【００４０】図12はより単純な解決法を示す。ここにお
いて螺旋パターンが形成されている抵抗層46は、（図
5、6、7、9、10と11に示されている構成の様に）所定の
（中間）領域に渡って中断されておらず、それは図9に
示される構成のように連続している。指構造は、抵抗層
46におけるスクラッチ51によって形成されている（スク
ラッチ当りの電圧降下を減少させるために複数の平行の
スクラッチが存在していても良い）。二個のテープ形状
の金属電極52、53の形態の管状構造が、このスクラッチ
から短距離（数mm）離れた位置で両側に設けられてい
る。これらの電極は図11に示される電極と同様な方法で
活性化される。これらのテープ形状の電極及び指の間の
距離を小さくすることによりDAF信号が指の間の端に入
り込むことが可能となる。この解決法は、精度が抵抗層
内のスクラッチにより決まり、テープ形状をした電極の
形状又は位置によっては決まらないという利点がある。
いて螺旋パターンが形成されている抵抗層46は、（図
5、6、7、9、10と11に示されている構成の様に）所定の
（中間）領域に渡って中断されておらず、それは図9に
示される構成のように連続している。指構造は、抵抗層
46におけるスクラッチ51によって形成されている（スク
ラッチ当りの電圧降下を減少させるために複数の平行の
スクラッチが存在していても良い）。二個のテープ形状
の金属電極52、53の形態の管状構造が、このスクラッチ
から短距離（数mm）離れた位置で両側に設けられてい
る。これらの電極は図11に示される電極と同様な方法で
活性化される。これらのテープ形状の電極及び指の間の
距離を小さくすることによりDAF信号が指の間の端に入
り込むことが可能となる。この解決法は、精度が抵抗層
内のスクラッチにより決まり、テープ形状をした電極の
形状又は位置によっては決まらないという利点がある。
【００４１】後者の二例の方法を採用するとライン周波
数及びフィールド周波数でDAFが可能となる。他の有利
な点は指構造を有するDAF電極が非常に効果的である点
である。
数及びフィールド周波数でDAFが可能となる。他の有利
な点は指構造を有するDAF電極が非常に効果的である点
である。
【００４２】更に改良された例（図13参照）は、直方体
指（又は矩形波）構造をsin2φ函数の様なより緩慢に変
化するプロフィールによって置き換えることである。そ
のようなスクラッチ54は設けることがより容易であって
そしてレンズの誤差をより少なくする結果をもたらすで
あろう。この場合にも、電圧Vf（静的）及びVf（静的＋
動的）が各々印加されるテープ形状の電極52′と53′が
使用される。
指（又は矩形波）構造をsin2φ函数の様なより緩慢に変
化するプロフィールによって置き換えることである。そ
のようなスクラッチ54は設けることがより容易であって
そしてレンズの誤差をより少なくする結果をもたらすで
あろう。この場合にも、電圧Vf（静的）及びVf（静的＋
動的）が各々印加されるテープ形状の電極52′と53′が
使用される。
【００４３】本発明は、層が螺旋構造を形成していない
これらの位置に於いてさえ、高抵抗層構造により固有の
RC時定数が長い状態が得られ、その結果動的集束信号の
ようなH.F.補正信号が、抵抗構造に進入せずあるいは殆
ど進入しないと言う認識に基づいている。この事は又集
束レンズ部分の外側の抵抗構造の部分が補正要素を構成
している場合にも成り立つ。これを前述した型の補正要
素としてもよく、又は円周状に配置されている複数の部
分（例えば2、4、又は8）を有する円柱状要素60として
も良い。それらの各々は、補正電圧を印加する電圧発生
手段に接続されるように設計されていて、それらの各々
はその抵抗を減少させる低抵抗電極手段にコンタクトさ
れている（図14参照）。各低抵抗電極手段は少なくとも
電圧コンタクトの領域に於いてそれ自身の補正要素部分
とコンタクトするべきである。必要に応じて、補正要素
部分を、集束レンズを構成する抵抗構造部分に電気的に
接続させることは可能である。
これらの位置に於いてさえ、高抵抗層構造により固有の
RC時定数が長い状態が得られ、その結果動的集束信号の
ようなH.F.補正信号が、抵抗構造に進入せずあるいは殆
ど進入しないと言う認識に基づいている。この事は又集
束レンズ部分の外側の抵抗構造の部分が補正要素を構成
している場合にも成り立つ。これを前述した型の補正要
素としてもよく、又は円周状に配置されている複数の部
分（例えば2、4、又は8）を有する円柱状要素60として
も良い。それらの各々は、補正電圧を印加する電圧発生
手段に接続されるように設計されていて、それらの各々
はその抵抗を減少させる低抵抗電極手段にコンタクトさ
れている（図14参照）。各低抵抗電極手段は少なくとも
電圧コンタクトの領域に於いてそれ自身の補正要素部分
とコンタクトするべきである。必要に応じて、補正要素
部分を、集束レンズを構成する抵抗構造部分に電気的に
接続させることは可能である。
【００４４】本発明の別の特徴点は、高抵抗補正要素の
各々の個別部分に低抵抗電極手段をコンタクトさせるこ
とにより、有効である補正要素に渡って動的補正信号が
充分速く拡散することが出来る程度にRC時定数が減少す
る領域が得られる点である。低抵抗電極手段は、例えば
管状構造の内側壁に設けられている薄い導電層から形成
することが可能である。真空蒸着、スパッタリング又は
ペインティングが、薄い導電層を設けるための適切な技
術の例である。この場合MHz領域までの周波数を有する
（例えば動的集束信号）の動的補正信号が所望の効果を
提供することも明らかである。
各々の個別部分に低抵抗電極手段をコンタクトさせるこ
とにより、有効である補正要素に渡って動的補正信号が
充分速く拡散することが出来る程度にRC時定数が減少す
る領域が得られる点である。低抵抗電極手段は、例えば
管状構造の内側壁に設けられている薄い導電層から形成
することが可能である。真空蒸着、スパッタリング又は
ペインティングが、薄い導電層を設けるための適切な技
術の例である。この場合MHz領域までの周波数を有する
（例えば動的集束信号）の動的補正信号が所望の効果を
提供することも明らかである。
【図１】 本発明の表示管を備えた画像表示装置の断
面図を線図的に示す。
面図を線図的に示す。
【図２】 図1の装置の使用に適した電子銃の集束レ
ンズの一部についての長手方向の断面図の正面図であ
る。
ンズの一部についての長手方向の断面図の正面図であ
る。
【図３】 電子銃に使用することが出来る集束レンズ
第一実施例の基本ダイグラムを示す。
第一実施例の基本ダイグラムを示す。
【図４】 電子銃に使用することが出来る集束レンズ
第二実施例の基本ダイアグラムを示す。
第二実施例の基本ダイアグラムを示す。
【図５】 図3の基本ダイアグラムの具体例を示す。
【図６】 図3の基本ダイアグラムの具体例を示す。
【図７】 図3の基本ダイアグラムの具体例を示す。
【図８】 図3の基本ダイアグラムの別の具体例を示
す。
す。
【図９】 aは、非回転対称効果を発生させる電極手
段を有する集束レンズの一部の長手方向の断面図で、b
は、その斜視図である。
段を有する集束レンズの一部の長手方向の断面図で、b
は、その斜視図である。
【図１０】 図9の構成の変形例を示す。
【図１１】 図9の構成の変形例を示す。
【図１２】 図9の構成の変形例を示す。
【図１３】 図9の構成の変形例を示す。
【図１４】 本発明の別の使用例を示す。
1…ガラス包囲器 2…ディスプレイ窓
3…円錐部分 4…ネック 6…電子光学軸
7…陰極 8…グリッド電極 9…陽極
10…管状構造 11…抵抗構造 12…電子ビーム 13a…低抵抗金属入力電極 13b…低抵抗金属出
力電極 14…表示スクリーン 16…高抵抗層 17a、17b…横断金属電極板 18a、18b…中央同軸
開口 23、24、25、26…金属フランジ 29、30…開口
31…横断電極 32…貫通接続ワイア 33…集束レンズ
34…管 35…高抵抗構造 36、37…フランジ
38…集束電極 39…開口 40…集束リード
41…ワイヤ 42…リング 43…ビーム発生部
46…抵抗層 47…中間領域 48、49…金属電極
50…管状構造 51…スクラッチ 52、52′、53、53′
…金属電極 54、55、56、57…突起部 60…円柱状要素
3…円錐部分 4…ネック 6…電子光学軸
7…陰極 8…グリッド電極 9…陽極
10…管状構造 11…抵抗構造 12…電子ビーム 13a…低抵抗金属入力電極 13b…低抵抗金属出
力電極 14…表示スクリーン 16…高抵抗層 17a、17b…横断金属電極板 18a、18b…中央同軸
開口 23、24、25、26…金属フランジ 29、30…開口
31…横断電極 32…貫通接続ワイア 33…集束レンズ
34…管 35…高抵抗構造 36、37…フランジ
38…集束電極 39…開口 40…集束リード
41…ワイヤ 42…リング 43…ビーム発生部
46…抵抗層 47…中間領域 48、49…金属電極
50…管状構造 51…スクラッチ 52、52′、53、53′
…金属電極 54、55、56、57…突起部 60…円柱状要素
フロントページの続き (73)特許権者 590000248 Ｇｒｏｅｎｅｗｏｕｄｓｅｗｅｇ １, 5621 ＢＡ Ｅｉｎｄｈｏｖｅｎ， Ｔ ｈｅ Ｎｅｔｈｅｒｌａｎｄｓ (72)発明者 ゲルウィム・ヤン・ゴールフイス オランダ国 アインドーフェン フルー ネヴァウツウェッハ １ (72)発明者 ゲラルドゥス・ヤコブス・アルカディウ ス・ヘリングス オランダ国 アインドーフェン フルー ネヴァウツウェッハ １ (72)発明者 ゲラルドゥス・アルノルドゥス・ヘルマ ン・マリア・ブレイッセン オランダ国 アインドーフェン フルー ネヴァウツウェッハ １ (72)発明者 ティエルク・ゲリット・スパンヤー オランダ国 アインドーフェン フルー ネヴァウツウェッハ １ (56)参考文献 特開 昭47−36761（ＪＰ，Ａ) 特開 昭56−6356（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H01J 29/48
Claims (6)
- 【請求項１】 表示スクリーンと当該スクリーンに対向
して配置されている電子銃とを有する、電子光学軸に中
心を有する陰極と協働して電子ビーム発生部を構成する
複数の電極とを備えた表示管を有し、当該電子銃が、更
に、集束レンズを構成する高電気抵抗材料の抵抗構造が
設けられている外側表面と内側表面とを有する管状構造
を備えた画像表示装置に於いて、前記抵抗構造が、陽極
電圧を印加する第一電圧供給手段に接続されるように構
成されていてかつ軸方向に離間されている少なくとも二
個の電気コンタクトを有し、かつ当該電気コンタクトの
間に配置されている低抵抗電極手段に電気的に接続され
ていて、その電極手段が、静的集束電圧と動的補正電圧
を印加する第二電圧供給手段に接続されるように構成さ
れている事を特徴とする画像表示装置。 - 【請求項２】 前記管状構造が、協働して主集束レンズ
を構成している抵抗構造を各々が有している少なくとも
二本の位置合わせされたサブ管を備え、かつ前記低抵抗
電極手段がビーム通過開口を有する少なくとも一枚の金
属板からなり、その金属板が、前記サブ管の向き合う端
の間に横切って配置されている事を特徴とする請求項１
記載の表示装置。 - 【請求項３】 前記ビーム発生部が生じ得る前記サブ管
の位置合わせ誤差を補正する補正手段を備えている事を
特徴とする請求項２記載の表示装置。 - 【請求項４】 前記管状構造が、集束レンズを構成する
その内側表面に設けられた抵抗構造を有している一本の
管を備え、前記抵抗構造と電気的コンタクトを行う導電
物質の、前記低抵抗電極手段を構成する管状構造が当該
管内に配置されていて、かつ前記管状構造が前記管の壁
内の開口を介して電気コンタクトに接続されている事を
特徴とする請求項１記載の表示装置。 - 【請求項５】 電圧印加により、前記低抵抗電極手段が
前記電子ビームに非回転対称効果を与える事を特徴とす
る請求項１、２又は４記載の表示装置。 - 【請求項６】 表示スクリーンと当該スクリーンに対向
して配置されている電子銃とを有し、電子光学軸に中心
を有する陰極と協働して電子ビーム発生部を構成する複
数の電極とを備えた表示管を有し、当該電子銃が、更
に、集束レンズを構成する高電気抵抗材料の抵抗構造が
設けられている内側表面を有する管状構造を備えた画像
表示装置に於いて、前記抵抗構造が、補正要素を構成す
る少なくとも二個の円周状に配置された部分を有し、各
部分が補正電圧を印加する電圧供給手段に接続されるよ
うに構成されていてかつ各々がその抵抗を減少させる低
抵抗電極手段にコンタクトされている事を特徴とする画
像表示装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| NL9000349A NL9000349A (nl) | 1990-02-14 | 1990-02-14 | Beeldbuis met elektronenkanon met focuslens van het spiraaltype. |
| NL9000349 | 1990-02-14 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0773818A JPH0773818A (ja) | 1995-03-17 |
| JP3110777B2 true JP3110777B2 (ja) | 2000-11-20 |
Family
ID=19856589
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP03041267A Expired - Fee Related JP3110777B2 (ja) | 1990-02-14 | 1991-02-13 | 画像表示装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0442571B1 (ja) |
| JP (1) | JP3110777B2 (ja) |
| DE (1) | DE69121260T2 (ja) |
| NL (1) | NL9000349A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE69214876T2 (de) * | 1991-05-16 | 1997-04-30 | Philips Electronics Nv | Kathodenstrahlröhre/Abtastlaser mit schneller Abtastung |
| US5749638A (en) * | 1995-11-14 | 1998-05-12 | U.S. Philips Corporation | Rapidly scanning cathode-ray tube laser |
| US6270390B1 (en) | 1996-04-11 | 2001-08-07 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method for making electron gun |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR1407985A (fr) * | 1963-09-16 | 1965-08-06 | Thomson Houston Comp Francaise | Perfectionnements apportés aux systèmes de lentilles électrostatiques pour tubes à images |
| NL8801308A (nl) * | 1988-05-20 | 1989-12-18 | Philips Nv | Beeldbuis met spiraalfocusseerlens met niet-rotatiesymmetrisch lenselement. |
-
1990
- 1990-02-14 NL NL9000349A patent/NL9000349A/nl not_active Application Discontinuation
-
1991
- 1991-02-11 EP EP19910200279 patent/EP0442571B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1991-02-11 DE DE1991621260 patent/DE69121260T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1991-02-13 JP JP03041267A patent/JP3110777B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0442571A1 (en) | 1991-08-21 |
| EP0442571B1 (en) | 1996-08-14 |
| DE69121260D1 (de) | 1996-09-19 |
| JPH0773818A (ja) | 1995-03-17 |
| NL9000349A (nl) | 1991-09-02 |
| DE69121260T2 (de) | 1997-03-06 |
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