JP2807836B2 - Polishing method for backside of stamper for manufacturing optical disc - Google Patents
Polishing method for backside of stamper for manufacturing optical discInfo
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Description
【発明の詳細な説明】 ＜産業上の利用分野＞ 本発明は、例えば光記録ディスク、光磁気記録ディス
ク、光再生専用ディスク等に代表される光ディスクの製
造に用いられるスタンパの裏面研磨方法に関する。Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method of polishing a back surface of a stamper used for manufacturing an optical disk represented by, for example, an optical recording disk, a magneto-optical recording disk, and a disk exclusively for optical reproduction.
＜従来の技術＞ 光記録ないし光磁気ディスクや光再生専用ディスクで
は、記録点として、あるいはトラッキングや各種アドレ
ス用に各種のグルーブやピットが形成されている。<Prior Art> In an optical recording or magneto-optical disk or an optical read-only disk, various grooves and pits are formed as recording points or for tracking and various addresses.
そして、この光再生専用ディスクや、光記録ディスク
ないし光磁気記録ディスク基板の製造に際しては、基板
の射出成型時にグルーブやピットを一体的に形成するイ
ンジェクション法の場合でも、基板上にフォトポリマー
層を形成して、このフォトポリマー層にグルーブやピッ
トを形成するいわゆる2P法の場合でも、これらのグルー
ブやピットを転写するためのスタンパを使用して複製的
に製造する。When manufacturing the optical read-only disk, the optical recording disk or the magneto-optical recording disk substrate, a photopolymer layer is formed on the substrate even in the case of an injection method in which grooves and pits are integrally formed during injection molding of the substrate. Even in the case of the so-called 2P method of forming and forming grooves and pits in the photopolymer layer, the photopolymer layer is duplicatedly manufactured using a stamper for transferring these grooves and pits.
この場合、スタンパは、通常、以下のように製造され
る。In this case, the stamper is usually manufactured as follows.
１）スタンパ作製時の基板（原板）となる例えば円板状
ガラス板を平坦面に研磨する工程 ２）この研磨面をスクラブ処理する工程 ３）スクラブ処理後の研磨面を洗浄する工程 ４）この研磨面にフォトレジスト層を形成する工程 ５）このフォトレジスト層に例えばレーザビームを照射
して、光ディスクのグルーブおよび／またはピット転写
用のスタンパパターンに対応する母型パターンを露光す
る工程 ６）露光後のフォトレジスト層を現像処理して母型パタ
ーン（原盤パターン）を形成する工程 ７）この母型パターンの上に金属下地層を形成する工程 ８）この金属下地層の上に金属電鋳膜をメッキする工程 ９）この金属下地層と金属下地層から形成される金属膜
をガラス板から剥離する工程 10）その外周面および孔部内周面を整形する工程 11）内外周を整形した後の転写面の裏面を平坦面に研磨
する工程 12）その他の必要工程 ところで、光ディスクの場合には、グルーブおよび／
またはピット（以下、通常はグルーブをもって代表させ
る）の形成面の平坦精度がそのまま光ディスクの性能に
影響するため、スタンパ作製時の基板となるガラス板の
表面およびスタンパ裏面の面精度をいかに高めるかが、
光ディスク製造上の重要な問題となってくる。1) A step of polishing, for example, a disc-shaped glass plate, which becomes a substrate (original plate) when a stamper is manufactured, to a flat surface 2) A step of scrubbing the polished surface 3) A step of cleaning the polished surface after the scrubbing process 4) Step of forming a photoresist layer on the polished surface 5) Step of irradiating the photoresist layer with, for example, a laser beam to expose a master pattern corresponding to a groove and / or a stamper pattern for pit transfer of an optical disk 6) Exposure A step of developing the subsequent photoresist layer to form a master pattern (master pattern) 7) A step of forming a metal base layer on the base pattern 8) A metal electroformed film on the metal base layer 9) Step of peeling the metal base layer and the metal film formed from the metal base layer from the glass plate 10) Forming the outer peripheral surface and the inner peripheral surface of the hole 11) in step 12 is polished to a flat surface to the back surface of the transfer surface after shaping the outer periphery) other necessary steps Incidentally, in the case of an optical disk, grooves and /
Alternatively, the flatness of the surface on which pits (hereinafter, typically represented by grooves) are formed directly affects the performance of the optical disk. ,
This becomes an important problem in optical disk manufacturing.
特に、スタンパ裏面の場合には、インジェクション法
の場合にはスタンパを金型内の所定位置に取付け、ま
た、2P法の場合にはスタンパをスタンピングマシンのプ
レス面に取付けて使用する関係で、スタンパ裏面の面精
度は、製造される光ディスクのグルーブの深さや幅に直
接的な影響を及ぼすため、スタンパ裏面を研磨するなど
してスタンパ裏面の精度を高めるような対策がとられて
いる。In particular, in the case of the back side of the stamper, the stamper is attached to a predetermined position in the mold in the case of the injection method, and the stamper is attached to the press surface of the stamping machine in the case of the 2P method. Since the surface accuracy of the back surface directly affects the depth and width of the groove of the optical disk to be manufactured, measures have been taken to increase the accuracy of the back surface of the stamper by polishing the back surface of the stamper.
スタンパの裏面研磨法としては、フリーアブレッシブ
加工法など、遊離砥粒を用いる方法、あるいは研磨テー
プを用いる方法などが利用されている。As a method of polishing the back surface of the stamper, a method using free abrasive grains, such as a free abrasive processing method, or a method using a polishing tape is used.
研磨テープを用いる場合、例えば特開昭58−196962号
公報に記載されているように、ゴムローラ等の押圧部材
により研磨テープをスタンパ裏面に押圧しながら、スタ
ンパを回転させることにより研磨を行なう。When a polishing tape is used, for example, as described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 58-196962, polishing is performed by rotating the stamper while pressing the polishing tape against the back surface of the stamper with a pressing member such as a rubber roller.
＜発明が解決しようとする課題＞ 光ディスクでは、情報記録面あるいは情報担持面上に
再生ヘッドからレーザ光等の再生光を照射し、情報の再
生を行なう。このとき情報記録面あるいは情報担持面に
凹凸があると、再生ヘッドはフォーカシングを行なうた
めに下方あるいは上方に加速する。<Problems to be Solved by the Invention> In an optical disk, information is reproduced by irradiating a reproduction head with a reproduction light such as a laser beam on an information recording surface or an information carrying surface. At this time, if there is unevenness on the information recording surface or the information carrying surface, the reproducing head accelerates downward or upward to perform focusing.
このときの加速度は面振れ加速度と呼ばれ、これはデ
ィスク回転数が高いほど大きくなる。The acceleration at this time is called a plane runout acceleration, which becomes larger as the disk rotation speed is higher.
例えば、光再生専用ディスクであるコンパクトディス
ク（CD）の使用時の回転数は最大でも600rpm程度である
が、光磁気記録ディスク等の情報記録用光ディスクは、
アクセス速度やデータ転送速度が高速であることが要求
されるので、1800〜3600rpm程度の高回転にて使用され
る。例えば1800rpmで使用する場合、ディスク中心から
半径方向に55mmの位置での面振れ加速度は、CDの８倍程
度にも達する。For example, the rotation speed when using a compact disk (CD) which is a disk exclusively for optical reproduction is about 600 rpm at the maximum, but an optical disk for information recording such as a magneto-optical recording disk is
Since the access speed and the data transfer speed are required to be high, they are used at a high rotation speed of about 1800 to 3600 rpm. For example, when used at 1800 rpm, the surface runout acceleration at a position 55 mm in the radial direction from the center of the disk reaches about eight times that of the CD.
従って、高速回転させて使用する情報記録用光ディス
クでは、ディスク基板表面の凹凸を極めて小さく抑える
必要があり、このため、スタンパ裏面の研磨精度をさら
に向上させる必要がある。Therefore, in an information recording optical disk which is used by rotating at a high speed, it is necessary to minimize irregularities on the surface of the disk substrate, and therefore it is necessary to further improve the polishing accuracy of the back surface of the stamper.
本発明は、このような事情からなされたものであり、
原盤フォトレジスト層から剥離したスタンパ用金属膜の
裏面を高精度に研磨することのできる光ディスク製造用
スタンパの裏面研磨方法を提供することを目的とする。The present invention has been made under such circumstances,
It is an object of the present invention to provide a method for polishing a back surface of a stamper for manufacturing an optical disk, which can polish the back surface of the metal film for a stamper peeled from a master photoresist layer with high precision.
＜課題を解決するための手段＞ このような目的は、下記（１）〜（３）の本発明によ
って達成される。<Means for Solving the Problems> Such an object is achieved by the present invention of the following (1) to (3).
（１）回転する光ディスク製造用スタンパの裏面に、押
圧ローラにより研磨テープを押圧してスタンパ裏面を研
磨するに際し、 前記押圧ローラの裏面が、JIS K 6301に規定された硬
度で表示したとき80度以下である厚さ5mm以上のゴムで
被覆されている押圧ローラを用い、 前記押圧ローラの押圧力が、0.5〜3.0kgf/cm2とする
ことを特徴とする光ディスク製造用スタンパの裏面研磨
方法。(1) When the polishing tape is pressed against the back surface of the rotating stamper for manufacturing an optical disk by a pressing roller to polish the back surface of the stamper, the back surface of the pressing roller is 80 degrees when represented by the hardness specified in JIS K 6301. A method for polishing a back surface of a stamper for manufacturing an optical disk, characterized in that a pressing roller coated with rubber having a thickness of 5 mm or more is used as described below, and a pressing force of the pressing roller is 0.5 to 3.0 kgf / cm 2 .
（２）前記研磨テープの移送速度が1.0〜4.0mm/secであ
る上記（１）に記載の光ディスク製造用スタンパの裏面
研磨方法。(2) The method for polishing a back surface of a stamper for manufacturing an optical disk according to the above (1), wherein the transfer speed of the polishing tape is 1.0 to 4.0 mm / sec.
（３）前記スタンパの回転数が100〜400rpmである上記
（１）または（２）に記載の光ディスク製造用スタンパ
の裏面研磨方法。(3) The method of polishing a back surface of a stamper for manufacturing an optical disk according to the above (1) or (2), wherein the rotation speed of the stamper is 100 to 400 rpm.
＜作 用＞ 本発明では、研磨テープをスタンパ裏面に押圧するた
めの押圧ローラ表面が、上記硬度のゴムで構成されてい
るため、押圧ローラが研磨機の振動を拾うことが顕著に
減少し、スタンパ裏面を極めて平滑かつ均一に研磨する
ことができる。<Operation> In the present invention, the surface of the pressing roller for pressing the polishing tape against the back surface of the stamper is made of rubber having the above hardness, so that the pressing roller significantly reduces the vibration of the polishing machine, The back surface of the stamper can be extremely smoothly and uniformly polished.
このため、本発明により得られたスタンパを用いて製
造された光ディスクは、面振れ加速度が極めて小さい。
本発明のスタンパを用いて製造された光ディスクは、面
振れ加速度を例えば1800rpmにて10m/sec2以下、さらに
は5m/sec2以下とすることができる。For this reason, the optical disk manufactured by using the stamper obtained according to the present invention has extremely small surface runout acceleration.
The optical disc manufactured by using the stamper of the present invention can have a surface run-out acceleration of, for example, 10 m / sec 2 or less at 1800 rpm, and further 5 m / sec 2 or less.
なお、特開昭58−196962号公報では、研磨テープをス
タンパに押圧するための部材としてゴムローラを用いる
旨が開示されているが、ゴムの硬度についての開示はな
い。また、同公報に開示されているスタンパはオーディ
オレコードやビデオディスク製造に用いられるものであ
り、同公報には高速回転が要求される情報記録用光ディ
スクに関する記載はない。JP-A-58-196962 discloses that a rubber roller is used as a member for pressing a polishing tape against a stamper, but does not disclose the hardness of rubber. The stamper disclosed in the publication is used for producing an audio record or a video disc, and there is no description in the publication concerning an information recording optical disk which requires high-speed rotation.
＜具体的構成＞ 以下、本発明の具体的構成を詳細に説明する。<Specific Configuration> Hereinafter, a specific configuration of the present invention will be described in detail.
本発明に用いるスタンパ裏面研磨装置の概略図を、第
１図に示す。FIG. 1 is a schematic view of a stamper backside polishing apparatus used in the present invention.
第１図に示す研磨装置では、送出リール１から研磨テ
ープ２が送り出され、図示しない駆動手段により回転さ
れる巻き取りリール３に巻き取られる。In the polishing apparatus shown in FIG. 1, a polishing tape 2 is sent out from a delivery reel 1 and is taken up on a take-up reel 3 rotated by a driving means (not shown).
研磨テープ２は、その走行経路の途中で、押圧ローラ
４によりスタンパ10の裏面に押し付けられる。押圧ロー
ラ４は、自由回転ローラであり、図示しない弾性部材に
より研磨テープ２を介してスタンパ10裏面に押圧され
る。The polishing tape 2 is pressed against the back surface of the stamper 10 by the pressing roller 4 in the middle of the travel path. The pressing roller 4 is a freely rotating roller, and is pressed against the back surface of the stamper 10 via the polishing tape 2 by an elastic member (not shown).
スタンパ10は、通常、Ni電鋳膜等の金属膜であり、そ
の直径は通常80〜300mm程度、厚さは0.2〜0.5mm程度で
ある。The stamper 10 is usually a metal film such as a Ni electroformed film, and has a diameter of usually about 80 to 300 mm and a thickness of about 0.2 to 0.5 mm.
スタンパ10は、ターンテーブル８上に治具により固定
される。図示例では、ガラス原盤９をターンテーブル８
上に載置し、両面テープ11を用いてスタンパ10を貼り付
けている。The stamper 10 is fixed on the turntable 8 by a jig. In the illustrated example, the glass master 9 is
The stamper 10 is placed on the upper surface, and the double-sided tape 11 is used.
ターンテーブル８の回転軸12は図示しない駆動手段に
より接続され、スタンパ10は回転可能となっている。The rotating shaft 12 of the turntable 8 is connected by driving means (not shown), and the stamper 10 is rotatable.
スタンパ10の裏面研磨に際しては、スタンパ10を回転
させながら、巻き取りリール３に研磨テープ２を巻き取
り、同時に送出リール１、研磨テープ２、巻き取りリー
ル３および押圧ローラ４を、図示しない駆動手段によ
り、スタンパ10の半径方向に一体的に往復運動させる。When polishing the back surface of the stamper 10, the polishing tape 2 is wound on the take-up reel 3 while rotating the stamper 10, and at the same time, the sending reel 1, the polishing tape 2, the take-up reel 3 and the pressing roller 4 are driven by driving means (not shown). As a result, the stamper 10 is reciprocated integrally in the radial direction.
このとき、押圧ローラ４は、研磨テープ２の移送に伴
って回転する。また、研磨時、スタンパ裏面上には、研
磨カスを除去するため、あるいは研磨時の温度上昇を抑
えるために、水や洗剤、潤滑油等が流される。At this time, the pressing roller 4 rotates with the transfer of the polishing tape 2. Further, at the time of polishing, water, detergent, lubricating oil and the like are flowed on the back surface of the stamper in order to remove polishing debris or to suppress a rise in temperature during polishing.
本発明では、このような研磨装置によりスタンパ裏面
を研磨するに際し、表面がゴムで構成されている押圧ロ
ーラ４を用いる。図示例では、押圧ローラ４の表面を、
ゴム層41で被覆している。In the present invention, when the back surface of the stamper is polished by such a polishing apparatus, the pressing roller 4 whose surface is made of rubber is used. In the illustrated example, the surface of the pressing roller 4 is
It is covered with a rubber layer 41.
そして、本発明では、JIS K 6301に規定された硬度で
表示したとき、80度以下の硬度を有するゴムを押圧ロー
ラに用いる。ゴムの硬度が80度を超えると、スタンパ10
を駆動するモータ等の振動がスタンパ10と研磨テープ２
との接触状態に与える影響が大きくなり、研磨を均一に
行なうことが困難となる。In the present invention, rubber having a hardness of not more than 80 degrees is used for the pressing roller when expressed by the hardness specified in JIS K6301. If the rubber hardness exceeds 80 degrees, the stamper 10
The vibration of the motor for driving the stamper 10 and the polishing tape 2
The effect on the state of contact with the metal becomes large, making it difficult to perform polishing uniformly.
なお、用いるゴムの硬度の下限は特にないが、硬度が
20度未満となると研磨レートが極端に低下するため好ま
しくない。Although there is no particular lower limit for the hardness of the rubber used,
If it is less than 20 degrees, the polishing rate is extremely lowered, which is not preferable.
押圧ローラ４の表面のゴム層41は、厚さが5mm以上、
特に8mm以上であることが好ましい。ゴム層41の厚さが
上記範囲未満となると、本発明の効果が十分には発現し
ない。The rubber layer 41 on the surface of the pressing roller 4 has a thickness of 5 mm or more,
In particular, it is preferably 8 mm or more. If the thickness of the rubber layer 41 is less than the above range, the effects of the present invention will not be sufficiently exhibited.
なお、押圧ローラ４の中心部は、通常、金属等の剛性
材質で構成される。The center of the pressing roller 4 is usually made of a rigid material such as metal.
押圧ローラ４に用いるゴムは上記範囲の硬度を有して
いればその材質に特に制限はないが、加工が容易である
ことから、ウレタンゴムを用いることが好ましい。The material of the rubber used for the pressing roller 4 is not particularly limited as long as it has the hardness in the above range, but it is preferable to use urethane rubber because processing is easy.
押圧ローラ４の直径および幅に特に制限はなく、研磨
するスタンパの寸法等に応じて適宜決定すればよいが、
通常、直径40〜60mm程度、幅20〜100mm程度である。ま
た、スタンパの研磨面は、通常環状となるが、押圧ロー
ラ幅はこの研磨面の幅の50〜100％程度であることが好
ましい。The diameter and width of the pressing roller 4 are not particularly limited, and may be determined as appropriate according to the dimensions of the stamper to be polished.
Usually, the diameter is about 40 to 60 mm and the width is about 20 to 100 mm. The polishing surface of the stamper is usually annular, but the width of the pressing roller is preferably about 50 to 100% of the width of the polishing surface.
研磨テープ２に対する押圧ローラ４の押圧力は、0.5
〜3.0kgf/cm2、特に0.5〜2.0kgf/cm2であることが好ま
しい。押圧力が上記範囲未満となると研磨速度が低下
し、上記範囲を超えると研磨面の均一性が低下する。The pressing force of the pressing roller 4 against the polishing tape 2 is 0.5
~3.0kgf / cm 2, it is preferred that particularly 0.5~2.0kgf / cm 2. When the pressing force is less than the above range, the polishing rate decreases, and when the pressing force exceeds the above range, the uniformity of the polished surface decreases.
研磨テープ２の移送速度は、1.0〜4.0mm/sec、特に1.
5〜3.0mm/secであることが好ましい。移送速度が上記範
囲未満となると研磨くずを巻き込んで研磨キズが発生す
ることがあり、上記範囲を超えると研磨テープが上すべ
りして研磨面にムラが生じることがある。The transfer speed of the polishing tape 2 is 1.0 to 4.0 mm / sec, especially 1.
It is preferably 5 to 3.0 mm / sec. If the transfer speed is less than the above range, polishing scraps may be involved and polishing scratches may occur. If the transfer speed exceeds the above range, the polishing tape may slip and unevenness may occur on the polished surface.
研磨時に、スタンパ10の回転数は100〜400rpm、特に1
50〜300rpmであることが好ましい。回転数が上記範囲未
満となると研磨レートが低下し、上記範囲を超えると研
磨時に発生する熱により、スタンパに歪みが発生するこ
とがある。During polishing, the rotation speed of the stamper 10 is 100 to 400 rpm, especially 1
Preferably it is 50-300 rpm. If the number of rotations is less than the above range, the polishing rate will decrease, and if it exceeds the above range, distortion may occur in the stamper due to heat generated during polishing.
押圧ローラ４と研磨テープ２とを、スタンパ10の半径
方向に一体的に往復運動させるに際し、往復速度は３〜
30秒／往復、特に５〜10秒／往復とすることが好まし
い。１往復あたりの所要時間が上記範囲未満となると研
磨キズが発生することがあり、上記範囲を超えると径方
向での厚みムラが発生することがある。When the pressing roller 4 and the polishing tape 2 are reciprocated integrally in the radial direction of the stamper 10, the reciprocating speed is 3 to
It is preferably 30 seconds / round trip, especially 5 to 10 seconds / round trip. If the required time per reciprocation is less than the above range, polishing flaws may occur, and if it exceeds the above range, thickness unevenness in the radial direction may occur.
本発明は、スタンパ裏面の荒研磨および仕上げ研磨の
いずれにも適用されることが好ましい。The present invention is preferably applied to both rough polishing and finish polishing of the back surface of the stamper.
研磨レートは、押圧ローラの押圧力、スタンパ、研磨
テープ等の各種条件によって異なるが、荒研磨が10/100
μm/min〜１μm/min程度、仕上げ研磨が2/100μm/min〜
20/100μm/min程度であることが好ましい。The polishing rate varies depending on various conditions such as the pressing force of the pressing roller, stamper, and polishing tape.
μm / min ~ 1μm / min, Finish polishing is 2 / 100μm / min ~
It is preferably about 20/100 μm / min.
また、研磨により削り取られる厚さは、荒研磨で2.0
〜10.0μｍ程度、仕上げ研磨で0.5〜2.0μｍ程度である
ことが好ましい。The thickness removed by polishing is 2.0
The thickness is preferably about 10.0 μm and about 0.5 to 2.0 μm in finish polishing.
本発明に用いる研磨テープ２に特に制限はなく、プラ
スチックベースにホワイトアルミナ等の各種砥粒をバイ
ンダで固定した通常のものを用いればよい。There is no particular limitation on the polishing tape 2 used in the present invention, and a normal tape in which various abrasive grains such as white alumina are fixed to a plastic base with a binder may be used.
本発明で用いる研磨装置は、前述した押圧ローラを有
するものであれば特に制限はなく、市販の各種研磨装置
を用いて、前記各種条件を満足するようにして研磨を行
なえばよい。本発明に好適な研磨装置としては、（株）
今井製作所製２ヘッドスタンパー研磨機、（株）サンシ
ン製スタンパー研磨機等が挙げられる。The polishing apparatus used in the present invention is not particularly limited as long as it has the above-mentioned pressing roller. Polishing may be performed by using various commercially available polishing apparatuses so as to satisfy the various conditions. As a polishing apparatus suitable for the present invention,
Examples include a two-head stamper polisher manufactured by Imai Seisakusho and a stamper polisher manufactured by Sanshin Co., Ltd.
＜実施例＞ 以下、実施例を挙げて本発明をさらに詳細に説明す
る。<Example> Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples.
［実施例１］ トラッキング用の母型パターンが形成されたフォトレ
ジスト層を有するNi電鋳膜を作製し、スタンパとした。
スタンパの直径は148mm、厚さは0.3mmとし、表面のパタ
ーンはスパイラル状のプリグルーブで、トラックピッチ
は1.6μｍ、グルーブ深さは0.07〜0.08μｍとした。[Example 1] A Ni electroformed film having a photoresist layer on which a master pattern for tracking was formed was prepared and used as a stamper.
The diameter of the stamper was 148 mm, the thickness was 0.3 mm, the surface pattern was a spiral pre-groove, the track pitch was 1.6 μm, and the groove depth was 0.07 to 0.08 μm.
次に、第１図に示す構成を有する研磨機（サンシン工
業社製スタンパ用テープ研磨機）を用い、下記の条件で
スタンパ裏面の研磨を行なった。Next, the back surface of the stamper was polished under the following conditions using a polishing machine (a stamper tape polisher manufactured by Sanshin Industry Co., Ltd.) having the configuration shown in FIG.
（押圧ローラ） ゴム層厚さ:10mm ゴム材質 ：ウレタンゴム 押圧力 :1kgf/cm2 ローラ直径:40mm ローラ幅 :50mm スタンパ半径方向の往復速度:6秒／往復 （スタンパ） 回転数 :250rpm （研磨テープ） 日本ミクロコーティング社製のWA2000（砥粒の平均粒
径約６μｍ）およびWA4000（砥粒の平均粒径約３μｍ）
を使用した。(Pressing roller) Rubber layer thickness: 10mm Rubber material: Urethane rubber Pressing force: 1kgf / cm 2 Roller diameter: 40mm Roller width: 50mm Reciprocating speed in the radial direction of the stamper: 6 seconds / reciprocating (Stamper) Number of revolutions: 250rpm (polishing) Tape) WA2000 (average particle size of abrasive grains: about 6 μm) and WA4000 (average particle size of abrasive grains: about 3 μm) manufactured by Nihon Micro Coating Co., Ltd.
It was used.
荒研磨は、WA2000を用いて研磨レート0.5μm/minにて
10分間行なった。また、仕上げ研磨は、WA4000を用いて
研磨レート0.1μm/minにて10分間行った。For rough polishing, use WA2000 at a polishing rate of 0.5 μm / min.
Performed for 10 minutes. Finish polishing was performed for 10 minutes at a polishing rate of 0.1 μm / min using WA4000.
なお、下記表１に示されるように、硬度の異なるゴム
を有する押圧ローラを用いて、複数のスタンパの裏面研
磨を行なった。In addition, as shown in the following Table 1, the back surfaces of a plurality of stampers were polished using pressing rollers having rubbers having different hardnesses.
これらのスタンパにて、射出圧縮機構をもった成形機
を用いポリカーボネート樹脂にて成形を行ない光ディス
ク基板No.1〜３を得た。With these stampers, molding was performed with polycarbonate resin using a molding machine having an injection compression mechanism, and optical disk substrates Nos. 1 to 3 were obtained.
各光ディスク基板製造に用いたスタンパ作製時の押圧
ローラのゴム硬度を、表１に示す。Table 1 shows the rubber hardness of the pressing roller at the time of manufacturing the stamper used for manufacturing each optical disk substrate.
これらの光ディスク基板について、面振れ加速度の測
定を行なった。The run-out acceleration of these optical disk substrates was measured.
面振れ加速度の測定は、基板回転数1800rpmにて基板
中心から55mmの位置で行なった。なお、測定サンプル数
は、各光ディスク基板について３個とし、各サンプルの
最大面振れ加速度の平均値を表１に示した。The measurement of the plane runout acceleration was performed at a position of 55 mm from the center of the substrate at a substrate rotation speed of 1800 rpm. The number of measurement samples was three for each optical disk substrate, and the average value of the maximum surface deflection acceleration of each sample is shown in Table 1.
面振れ加速度は、フォーカシングサーボ時の光ピック
アップの加速度で表わされ、トラッキング用グルーブが
形成された基板の平坦度を示すものである。The surface deflection acceleration is represented by the acceleration of the optical pickup during focusing servo, and indicates the flatness of the substrate on which the tracking groove is formed.
面振れ加速度は10m/sec2以下であることが好ましく、
1800rpmにおける面振れ加速度が5m/sec2以下であれば、
3600rpmでも十分に使用可能となる。The surface runout acceleration is preferably 10 m / sec 2 or less,
If the run-out acceleration at 1800 rpm is 5 m / sec 2 or less,
Even 3600 rpm can be used sufficiently.
なお、硬度20度未満のゴムを有する押圧ローラを用い
てスタンパ裏面の研磨を行なったところ、実用不可能な
程度まで研磨レートが低下した。 When the back surface of the stamper was polished using a pressing roller having a rubber having a hardness of less than 20 degrees, the polishing rate was reduced to a level that was not practical.
また、No.2を用い、押圧ローラの押圧力を0.3kgf/cm2
および3.5kgf/cm2としたときの面振れ加速度は、それぞ
れ20.9m/sec2および15.3m/sec2となった。Further, using a No.2, 0.3 kgf / cm 2 the pressing force of the pressing roller
And surface vibration acceleration when a 3.5 kgf / cm 2 became 20.9m / sec 2 and 15.3 m / sec 2, respectively.
以上の実施例の結果から、本発明の効果が明らかであ
る。The effects of the present invention are clear from the results of the above examples.
＜発明の効果＞ 以上述べたように、本発明によれば、光ディスク製造
用スタンパの裏面を高精度に研磨することのできる方法
が実現する。<Effects of the Invention> As described above, according to the present invention, a method capable of polishing the back surface of the stamper for manufacturing an optical disc with high precision is realized.
第１図は、本発明に用いるスタンパ裏面研磨装置の概略
図である。 符号の説明 １……送出リール ２……研磨テープ ３……巻き取りリール ４……押圧ローラ 41……ゴム層 ８……ターンテーブル ９……ガラス原盤 10……スタンパ 11……両面テープ 12……回転軸FIG. 1 is a schematic view of a stamper back surface polishing apparatus used in the present invention. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Sending reel 2 ... Abrasive tape 3 ... Winding reel 4 ... Pressing roller 41 ... Rubber layer 8 ... Turn table 9 ... Glass master 10 ... Stamper 11 ... Double-sided tape 12 ... …Axis of rotation
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭58−196962（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−89264（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) G11B 7/26 511 B29C 33/38 B29L 17:00────────────────────────────────────────────────── (5) References JP-A-58-196962 (JP, A) JP-A-63-89264 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 6 , DB name) G11B 7/26 511 B29C 33/38 B29L 17:00
Claims (3)
に、押圧ローラにより研磨テープを押圧してスタンパ裏
面を研磨するに際し、 前記押圧ローラの裏面が、JIS K 6301に規定された硬度
で表示したとき80度以下である厚さ5mm以上のゴムで被
覆されている押圧ローラを用い、 前記押圧ローラの押圧力が、0.5〜3.0kgf/cm2とするこ
とを特徴とする光ディスク製造用スタンパの裏面研磨方
法。When the polishing tape is pressed against the back surface of a rotating stamper for manufacturing an optical disc by a pressing roller to polish the back surface of the stamper, the back surface of the pressing roller is displayed with a hardness specified in JIS K 6301. using a pressing roller that is coated with 80 degrees or less in thickness 5mm more rubbers is, the pressing force of the pressing roller, the back surface grinding of the optical disk producing stamper, characterized in that the 0.5~3.0kgf / cm 2 Method.
ecである請求項１に記載の光ディスク製造用スタンパの
裏面研磨方法。2. The transfer speed of the polishing tape is 1.0 to 4.0 mm / s.
2. The method for polishing the back surface of a stamper for manufacturing an optical disk according to claim 1, wherein the stamper is ec.
る請求項１または２に記載の光ディスク製造用スタンパ
の裏面研磨方法。3. The method according to claim 1, wherein the rotation speed of the stamper is 100 to 400 rpm.
Priority Applications (2)
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|---|---|---|---|
| JP1267692A JP2807836B2 (en) | 1989-10-13 | 1989-10-13 | Polishing method for backside of stamper for manufacturing optical disc |
| US07/819,067 US5209027A (en) | 1989-10-13 | 1992-01-10 | Polishing of the rear surface of a stamper for optical disk reproduction |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1267692A JP2807836B2 (en) | 1989-10-13 | 1989-10-13 | Polishing method for backside of stamper for manufacturing optical disc |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03130944A JPH03130944A (en) | 1991-06-04 |
| JP2807836B2 true JP2807836B2 (en) | 1998-10-08 |
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Family Applications (1)
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|---|---|---|---|
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Families Citing this family (1)
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|---|---|---|---|---|
| JP2007258240A (en) * | 2006-03-20 | 2007-10-04 | Tokyo Electron Ltd | Surface processing method |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58196962A (en) * | 1982-05-11 | 1983-11-16 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Device for grinding the surface of thin plate |
| JPS6389264A (en) * | 1986-10-03 | 1988-04-20 | Hitachi Ltd | Disc processing device |
-
1989
- 1989-10-13 JP JP1267692A patent/JP2807836B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
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