JP2020142402A - エンボス加工型、エンボス加工装置及びエンボス加工方法 - Google Patents

Abstract

【課題】意匠性に優れた化粧シートを製造することが可能な、エンボス加工型、エンボス加工装置及びエンボス加工方法を提供する。【解決手段】エンボス加工型は、エンボス加工装置に設けられる。エンボス加工型は、エンボス加工装置に設けられる加熱部によって加熱される。エンボス加工型は、凸状の型部を含む。型部は、基材の表面に形成される１つの凹部に対応する。型部は、スリットによって分割された複数の突起の集合体である。スリットは、基材の表面に接する型部の外面に設けられる。スリットでは、切り込み方向が型部の高さ方向に対応する。複数の突起は、スリットを介して隣り合う。【選択図】図４

Description

本発明は、エンボス加工装置のエンボス加工型と、エンボス加工装置と、エンボス加工装置で実施されるエンボス加工方法に関する。

エンボス加工に関する技術が提案されている。例えば、特許文献１には、座席用表皮材の製造方法及びエンボスロールが開示されている。座席用表皮材は、長尺材の表面にエンボス模様を付与することにより形成される。製造方法は、長尺材を押圧する工程を備える。この工程では、長尺材は、エンボスロールとフラットロールの間を通過する。エンボスロールには、ベース面から突出する複数の型押部が設けられる。型押部は、長側面及び短側面を備える。長側面及び短側面は、エンボスロールのベース面から垂直に形成される。型押部では、ベース面から最も高い部分は、ベース面と略平行な平面状の頂面として形成される。長側面及び頂面は、連なる。短側面と頂面の間には、５つの段差が形成される。５つの段差は、同一形状で同一の大きさに形成される。各段差は、底面と、立面で構成される。底面は、ベース面に略平行な面である。立面は、ベース面に略垂直な面である。複数の型押部は、次の状態で配置される。前述の状態は、隣り合う２つの型押部の段差同士が向かい合う状態である。更に、前述の状態は、隣り合う２つの型押部の長側面同士が向かい合う状態である。ベース面と長尺材の表地の間には、約１ｍｍのクリアランスが形成される。ベース面は、長尺材の表地の表面に接触しない。座席用表皮材の表地側には、型押部の加熱及び押圧により凹部が形成される。２つの型押部の段差が向かい合った部分で押圧された長尺材の表面は、緩やかな傾斜面が隣り合う形状となる。２つの型押部の長側面が向かい合った部分で押圧された長尺材の表面は、垂直に近い急な傾斜面となる。座席用表皮材では、見る方向により表面光沢が変化する。型押部の段差による微細な段差は、緩やかな傾斜面に形成された横方向の細線として視認される。

特許第５９１３７５５号公報

化粧シートは、所定の製品用又は部品用の表皮材である。化粧シートでは、基材の表面に凹部が設けられる。化粧シートの製造には、エンボス加工装置が用いられる。エンボス加工装置は、エンボス加工方法を実施し、基材の表面をエンボス加工する。エンボス加工装置は、エンボス加工型を備える。エンボス加工型は、凹部に対応する凸状の型部を含む。エンボス加工方法は、エンボス加工型が加熱された状態で行われることがある。エンボス加工方法の実施時、加熱された型部が基材の表面に押圧され、凹部が基材の表面に形成される。発明者は、基材の表面に加熱された型部を押圧することで、凹部の内面にテカリが生じ易くなることを知っている。凹部の内面に生じたテカリは、化粧シートの意匠性を損なう。

本発明は、意匠性に優れた化粧シートを製造することが可能な、エンボス加工型、エンボス加工装置及びエンボス加工方法を提供することを目的とする。

本発明の一側面は、エンボス加工装置に設けられるエンボス加工型であって、前記エンボス加工型は、前記エンボス加工装置に設けられる加熱部によって加熱され、基材の表面に形成される１つの凹部に対応する、凸状の型部を含み、前記型部は、前記基材の表面に接する前記型部の外面に設けられた切り込み方向が前記型部の高さ方向に対応するスリットによって分割された複数の突起の集合体であり、前記複数の突起は、前記スリットを介して隣り合う、エンボス加工型である。

このエンボス加工型によれば、基材の表面に接する型部の面積を少なくすることができる。エンボス加工型が加熱部によって加熱された状態で、型部から基材に加えられる熱量を低減することができる。凹部の内面をテカリのない面とすることができる。

エンボス加工型では、前記複数の突起は、前記高さ方向の高さ寸法が第一値である第一突起と、前記高さ寸法が前記第一値より小さい第二値で、且つ前記第一突起と前記スリットを介して隣り合う第二突起と、を含む、ようにしてもよい。この構成によれば、基材の表面に次の形状の凹部を形成することができる。前述の形状は、底面が基材の表面に対して傾斜する形状である。

エンボス加工型では、前記複数の突起は、前記高さ方向の高さ寸法が第一値となる第一突起と、前記高さ寸法が前記第一値となる第二突起と、を含む、ようにしてもよい。この構成によれば、基材の表面に次の形状の凹部を形成することができる。前述の形状は、底面が基材の表面に沿った形状である。

本発明の他の側面は、上述した何れかのエンボス加工型と、前記加熱部と、前記エンボス加工型と共に前記基材を挟み込むエンボス受型と、を備えるエンボス加工装置である。

本発明の更に他の側面は、上述のエンボス加工装置で実施されるエンボス加工方法であって、前記基材の表面に前記型部を押圧し、前記基材の表面に凹部を形成するエンボス工程を含む、エンボス加工方法である。

上述のエンボス加工装置及びエンボス加工方法によれば、凹部の内面をテカリのない面とすることができる。

本発明によれば、意匠性に優れた化粧シートを製造することが可能な、エンボス加工型、エンボス加工装置及びエンボス加工方法を得ることができる。

化粧シートの概略構成の一例を示す斜視図である。 基材の概略構成の一例を示す斜視図である。図１の化粧シートのエンボス加工前を示す。 エンボス加工装置の概略構成の一例を示す側面図である。エンボス加工型及びエンボス受型は、平板状の形状を有する。基材及び化粧シートは、エンボス加工装置に対応する部分を示す。 型部の概略構成の一例を示す斜視図である。型部は、図３のエンボス加工型の型部に対応する。エンボス加工型の一部を幅方向の一部を省略して示す。 型部の概略構成の他の例を示す斜視図である。スリットが幅方向及び長さ方向に沿って設けられた型部を示す。エンボス加工型の一部を幅方向の一部を省略して示す。 凹部の概略構成の他の例を示す斜視図である。化粧シートの一部を示す。 上段は、型部の概略構成の更に他の例を示す斜視図である。型部は、図６の凹部に対応する。エンボス加工型の一部を示す。下段は、上段のＹ矢視図である。 凹部の概略構成の更に他の例を示す斜視図である。化粧シートの一部を示す。 上段は、型部の概略構成の更に他の例を示す斜視図である。型部は、図８の凹部に対応する。エンボス加工型の一部を示す。下段は、上段のＹ矢視図である。 凹部の概略構成の更に他の例を示す斜視図である。化粧シートの一部を短手方向の一部を省略して示す。 上段は、型部の概略構成の更に他の例を示す斜視図である。型部は、図１０の凹部に対応する。エンボス加工型の一部を幅方向の一部を省略して示す。下段は、上段のＹ矢視図である。 エンボス加工装置の概略構成の他の例を示す側面図である。エンボス加工型及びエンボス受型は、ロール形状を有する。エンボス加工型がエンボス受型に対して押圧された状態を示す。基材及び化粧シートと、エンボス受型の弾性部のうち、エンボス加工型の型部が食い込んだ部分を切断面とする。基材及び化粧シートは、エンボス加工装置に対応する部分を示す。 エンボス加工型の概略構成の他の例を示す斜視図である。エンボス加工型は、図１２のエンボス加工型の型部に対応する。

本発明を実施するための実施形態について、図面を用いて説明する。本発明は、以下に記載の構成に限定されるものではなく、同一の技術的思想において種々の構成を採用することができる。例えば、以下に示す構成の一部は、省略し又は他の構成等に置換してもよい。他の構成を含むようにしてもよい。実施形態の各図は、所定の構成を模式的に示したものである。従って、実施形態の各図は、他の図との対応、又は図中の構成を特定する後述の数値との対応が正確ではない場合もある。実施形態の各図では、「高さ寸法」等の所定の部分の寸法は、任意に選択した１つの部分に対して示す。実施形態の各図で、ハッチングは、切断面を示す。破線は、かくれ線である。二点鎖線は、想像線である。

＜化粧シート＞
化粧シート１０について、図１，２を参照して説明する。化粧シート１０は、所定の製品用又は部品用の表皮材である。化粧シート１０は、基材２０と、凹部３０を含む（図１参照）。凹部３０は、基材２０の表面に設けられる。実施形態では、化粧シート１０及び基材２０は、長尺のシート材とする。基材２０の長手方向及び短手方向の各寸法は、諸条件を考慮して適宜決定される。また、化粧シート１０は、複数の凹部３０を含むこととする。複数の凹部３０は、エンボス加工装置５０により基材２０の表面に形成される。エンボス加工装置５０は、エンボス加工方法を実施する。エンボス加工装置５０及びエンボス加工方法については、後述する。基材２０の長手方向は、化粧シート１０の長手方向となり、基材２０の短手方向は、化粧シート１０の短手方向となる。実施形態では、化粧シート１０及び基材２０の長手方向を「長手方向」といい、化粧シート１０及び基材２０の短手方向を「短手方向」という（図１，２参照）。長手方向及び短手方向は、互いに直交する。

基材２０としては、各種のシート材が採用される。例えば、厚さの異なる各種のシート材が基材２０として採用される。基材２０は、２層以上の積層体である。この場合、化粧シート１０も、基材２０と同数の積層体となる。実施形態では、基材２０は、３層の積層体であり、第一シート２２と、第二シート２４と、第三シート２６を含む（図２参照）。基材２０は、クッション性を有する。この場合、化粧シート１０も、３層の積層体となり（図１参照）、クッション性を有する。但し、基材２０は、２層又は４層以上の積層体としてもよい。基材２０を２層の積層体とする場合、基材２０は、第一シート２２及び第二シート２４を含む積層体としてもよい。この他、基材２０は、積層体ではない単一層のシート材としてもよい。基材２０を単一層のシート材とする場合、基材２０は、第一シート２２として採用可能なシート材としてもよい。また、基材２０は、クッション性を有する厚手のシート材としてもよい。

実施形態では、化粧シート１０及び基材２０の厚さ方向を「厚さ方向」という（図１，２参照）。厚さ方向は、化粧シート１０及び基材２０で第一シート２２、第二シート２４及び第三シート２６が積層される方向に一致する。厚さ方向の一方側を「表側」といい、厚さ方向の他方側を「裏側」という。基材２０では、厚さ方向の表側は、第一シート２２が設けられる側となり、厚さ方向の裏側は、第三シート２６が設けられる側となる。基材２０、第一シート２２、第二シート２４及び第三シート２６の各シート材では、表面は、厚さ方向の表側となる面であり、裏面は、厚さ方向の裏側となる面である（図２参照）。エンボス加工により、基材２０の表面は、化粧シート１０の表面となり、基材２０の裏面は、化粧シート１０の裏面となる（図１，２参照）。即ち、化粧シート１０の状態では、化粧シート１０の表面及び基材２０の表面は、同じ面を意味する。また、化粧シート１０の状態では、化粧シート１０の裏面及び基材２０の裏面は、同じ面を意味する。例えば、化粧シート１０が車両内装用の表皮材である場合、化粧シート１０の表面は、車両の内装品の表面となる。車両のユーザは、内装品の表面として、化粧シート１０の表面を視認する。

基材２０は、第二シート２４の表面に第一シート２２を貼り合わせ、第二シート２４の裏面に第三シート２６を貼り合わせて形成される（図２参照）。第二シート２４と第一シート２２の貼り合わせ及び第二シート２４と第三シート２６の貼り合わせには、公知の工法が採用される。例えば、前述の貼り合わせは、接着剤を介して行われる。この他、前述の貼り合わせは、フレームラミネートによって行われる。前述の２つの工法を比較した場合、発明者は、基材２０の製造時の工程負荷及び基材２０の軽量化の点で、フレームラミネートが好ましいと考える。フレームラミネートは、既に実用化された技術である。従って、フレームラミネートに関する説明は、省略する。第一シート２２には、第二シート２４への貼り合わせに先立ち、次の前処理を施すようにしてもよい。前述の前処理としては、ヒートセット又は精練が例示される。この他、第一シート２２には、第二シート２４への貼り合わせに先立ち、加色工程を実施し、又は起毛工程を実施してもよい。

第一シート２２としては、各種のシート材が採用される。例えば、第一シート２２としては、繊維質シート材が採用される。繊維質シート材としては、織物、編物、不織布又は天然皮革が例示される。天然皮革は、床革を含む。また、第一シート２２としては、次のようなシート材が採用される。前述のシート材は、繊維質シート材に合成樹脂を含浸又は積層させたシート材である。このようなシート材としては、人工皮革、合成皮革又はポリ塩化ビニルレザーが例示される。更に、第一シート２２としては、樹脂シートが採用される。前述の樹脂シートは、樹脂フィルムを含む。この他、第一シート２２としては、前述のシート材のうちの一部又は全部のシート材の複合材が採用される。

第一シート２２では、繊維質シート材は、合成繊維を素材としたシート材とするとよい。合成繊維は、エンボス加工における加工性に優れた素材である。好ましくは、繊維質シート材は、熱可塑性樹脂製の繊維を素材としたシート材とするとよい。熱可塑性樹脂としては、ポリオレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、塩化ビニル樹脂又はポリ塩化ビニリデンが例示される。ポリオレフィン系樹脂としては、ポリエチレン又はポリプロピレンが例示される。ポリエステル系樹脂としては、ポリエチレンテレフタレートが例示される。ポリアミド系樹脂としては、ナイロン６又はナイロン６６が例示される。

発明者は、上述した熱可塑性樹脂のうち、ポリエステル系樹脂が好ましいと考える。ポリエステル系樹脂は、例えば、次の諸特性に優れた熱可塑性樹脂である。前述の諸特性は、強度と、耐摩耗性と、耐熱性である。更に、発明者は、ポリエステル系樹脂のうち、前述の諸特性の点で、ポリエチレンテレフタレートが好ましいと考える。但し、繊維質シート材は、前述の複数の樹脂を含む群から選ばれる１種又は２種以上の熱可塑性樹脂製の繊維を素材として形成してもよい。この他、繊維質シート材は、前述の諸特性に影響を及ぼさない範囲で、熱可塑性樹脂製の繊維に、次の繊維を次の手法により組み合わせたシート材としてもよい。前述の繊維は、例えば、天然繊維及び再生繊維の一方又は両方である。前述の手法としては、混紡、混繊、交撚、交織又は交編が例示される。

第一シート２２が繊維質シート材に合成樹脂を含浸又は積層させたシート材であるとする。この場合、含浸又は積層される樹脂としては、公知の合成樹脂が採用される。前述の合成樹脂としては、ポリウレタン樹脂又は塩化ビニル樹脂が例示される。繊維質シート材は、公知の染料又は顔料により着色されていてもよい。染料又は顔料は、諸条件を考慮して適宜選択される。

第一シート２２では、繊維の単繊維繊度は、０．２〜７．０ｄｔｅｘの範囲の所定値とするとよい。単繊維繊度を０．２ｄｔｅｘ以上とすることで、エンボス加工装置５０で製造される化粧シート１０で、凹部３０の内面をテカリのない状態とし易くすることができる。化粧シート１０の風合い及び意匠性を良好にすることができる。単繊維繊度を７．０ｄｔｅｘ以下とすることで、基材２０の表面に凹部３０を形成し易くすることができる。複雑な形状の凹部への対応が可能となる。好ましくは、単繊維繊度は、１．１〜４．７ｄｔｅｘとするとよい。エンボス加工装置５０で製造される化粧シート１０で、凹部３０の内面のうち、次の面を滑らかな面とし易くすることができる。前述の面は、後述する型部７０の頂面に対応する面である。実施形態では、前述の面は、凹部３０の底面である。以下では、前述の面を凹部３０の底面として説明する。

第一シート２２では、糸条の繊度は、８４〜５０４ｄｔｅｘの範囲の所定値とするとよい。糸条の繊度を８４ｄｔｅｘ以上とすることで、エンボス加工装置５０で製造される化粧シート１０で、凹部３０の内面をテカリのない状態とし易くすることができる。化粧シート１０の風合い及び意匠性を良好にすることができる。糸条の繊度を５０４ｄｔｅｘ以下とすることで、基材２０の表面に凹部３０を形成し易くすることができる。複雑な形状の凹部への対応が可能となる。好ましくは、糸条の繊度は、１６７〜５０４ｄｔｅｘとするとよい。エンボス加工装置５０で製造される化粧シート１０で、凹部３０の底面を滑らかな面とし易くすることができる。

第一シート２２が長尺の織物であるとする。この場合、第一シート２２の密度は、短手方向では、２５〜１８０本／２５．４ｍｍとするとよく、長手方向では、３５〜１８５本／２５．４ｍｍとするとよい。第一シート２２が長尺の編物であるとする。この場合、第一シート２２の密度は、短手方向では、２５〜８５ウエル／２５．４ｍｍとするとよく、長手方向では、２５〜８５コース／２５．４ｍｍとするとよい。第一シート２２の密度を前述の下限値以上とすることで、エンボス加工方法の実施時、凹部３０の加工性を良好にすることができる。第一シート２２の密度を前述の上限値以下とすることで、化粧シート１０の風合いを良好にすることができる。

第一シート２２の厚さは、０．５〜１５ｍｍの範囲の所定値とするとよい。但し、第一シート２２の厚さは、前述の範囲とは異なる値としてもよい。第一シート２２の厚さは、諸条件を考慮して適宜決定される。上述した通り、基材２０を第一シート２２として採用可能な単一層のシート材とする場合、基材２０（第一シート２２）の厚さは、３ｍｍ以上とするとよい。

第二シート２４は、クッション性を有する。これに伴い、基材２０は、クッション性を有する。第二シート２４としては、クッション性を有する各種のシート材が採用される。このようなシート材としては、合成樹脂発泡体が例示される。合成樹脂発泡体としては、軟質ポリウレタンフォームが例示される。

第二シート２４が軟質ポリウレタンフォームである場合、第二シート２４の厚さは、３〜１５ｍｍの範囲の所定値とするとよい。好ましくは、軟質ポリウレタンフォーム製の第二シート２４の厚さは、５〜１０ｍｍの範囲の所定値とするとよい。前述の厚さを３ｍｍ以上とすることで、化粧シート１０の意匠性を良好にすることができる。複雑な形状の凹部への対応が可能となる。前述の厚さを１５ｍｍ以下とすることで、化粧シート１０の風合いを良好にすることができる。

第二シート２４が軟質ポリウレタンフォームである場合、第二シート２４の密度は、１６〜６０ｋｇ／ｍ^３の範囲の所定値とするとよい。好ましくは、軟質ポリウレタンフォーム製の第二シート２４の密度は、２０〜４０ｋｇ／ｍ^３の範囲の所定値とするとよい。前述の密度は、ＪＩＳ Ｋ７２２２：２００５（発泡プラスチック及びゴム−見掛け密度の求め方）に準拠して取得される見掛け密度である。前述の密度を１６ｋｇ／ｍ^３以上とすることで、エンボス加工方法の実施時、凹部３０の加工性を良好にすることができる。前述の密度を６０ｋｇ／ｍ^３以下とすることで、化粧シート１０の風合いを良好にすることができる。

第二シート２４が軟質ポリウレタンフォームである場合、第二シート２４の硬さは、３６〜３６０Ｎの範囲の所定値とするとよい。前述の硬さは、ＪＩＳ Ｋ６４００−２：２０１２（軟質発泡材料−物理特性−第２部：硬さ及び圧縮応力−ひずみ特性の求め方）の硬さ試験Ｄ法に準拠して取得される硬さである。前述の硬さを３６Ｎ以上とすることで、エンボス加工方法の実施時、凹部３０の加工性を良好にすることができる。前述の硬さを３６０Ｎ以下とすることで、化粧シート１０の風合いを良好にすることができる。

第二シート２４が軟質ポリウレタンフォームである場合、第二シート２４の反発弾性は、２０％以上の所定値とするとよい。好ましくは、軟質ポリウレタンフォーム製の第二シート２４の反発弾性は、３０％以上とするとよい。前述の反発弾性は、ＪＩＳ Ｋ６４００−３：２０１１（軟質発泡材料−物理特性−第３部：反発弾性の求め方）に準拠して取得される反発弾性である。前述の反発弾性を２０％以上とすることで、エンボス加工方法の実施時、凹部３０の加工性を良好にすることができる。前述の反発弾性の上限値は、特に限定されない。例えば、前述の反発弾性の上限値は、７０％以下としてもよい。

第二シート２４が軟質ポリウレタンフォームである場合、第二シート２４の圧縮残留ひずみは、３０％以下の所定値とするとよい。好ましくは、軟質ポリウレタンフォーム製の第二シート２４の圧縮残留ひずみは、１５％以下とするとよい。前述の圧縮残留ひずみは、ＪＩＳ Ｋ６４００−４：２００４（軟質発泡材料−物理特性の求め方―第４部：圧縮残留ひずみ及び繰返し圧縮残留ひずみ）のＡ法（７０℃の圧縮）に準拠して取得される圧縮残留ひずみである。前述の圧縮残留ひずみを３０％以下とすることで、エンボス加工方法の実施時、凹部３０の加工性を良好にすることができる。前述の圧縮残留ひずみの下限値は、特に限定されない。例えば、前述の圧縮残留ひずみの下限値は、０％以上としてもよい。

第二シート２４が軟質ポリウレタンフォームである場合、第二シート２４の繰返し圧縮残留ひずみは、１０％以下の所定値とするとよい。好ましくは、軟質ポリウレタンフォーム製の第二シート２４の繰返し圧縮残留ひずみは、６％以下とするとよい。前述の繰返し圧縮残留ひずみは、ＪＩＳ Ｋ６４００−４：２００４（軟質発泡材料−物理特性の求め方―第４部：圧縮残留ひずみ及び繰返し圧縮残留ひずみ）のＢ法（定変位法）に準拠して取得される繰返し圧縮残留ひずみである。繰返し圧縮残留ひずみの測定では、常温で５０％の圧縮を８００００回実施した。前述の繰返し圧縮残留ひずみを１０％以下とすることで、エンボス加工方法の実施時、凹部３０の加工性を良好にすることができる。前述の繰返し圧縮残留ひずみの下限値は、特に限定されない。例えば、前述の繰返し圧縮残留ひずみの下限値は、０％以上としてもよい。

第三シート２６としては、各種のシート材が採用される。例えば、第三シート２６としては、織物、編物又は不織布が採用される。第三シート２６は、合成繊維を素材としたシート材とするとよい。合成繊維としては、第一シート２２に関連して上述した樹脂製の繊維が例示される。例えば、第三シート２６は、ポリエステル系樹脂製の繊維を素材としたシート材としてもよい。

基材２０では、５％モジュラスは、１０〜５００Ｎの範囲の所定値とするとよい。５％モジュラスは、次の試験方法により測定される５％伸張時のモジュラスである。基材２０が織物である場合、経方向は、織方向に一致する。基材２０が編物である場合、経方向は、編方向に一致する。また、経方向は、実施形態で長手方向と定義する方向に一致する。
［試験方法］
試験片形状：φ３００ｍｍ
試験装置：インストロン型引張試験機（株式会社島津製作所製オートグラフＡＧ−１）
評点配置：試験片中央部，経方向
評点間隔：２００ｍｍ
引張速度：２００ｍｍ／分
５％モジュラスを１０Ｎ以上とすることで、基材２０の表面に凹部３０を形成し易くすることができる。５％モジュラスを５００Ｎ以下とすることで、化粧シート１０の意匠性を良好にすることができる。更に、複雑な形状の凹部への対応が可能となる。好ましくは、５％モジュラスは、１４〜１０９Ｎとするとよい。５％モジュラスを前述の範囲とすることで、エンボス加工装置５０で製造される化粧シート１０で、凹部３０の底面を滑らかな面とし易くすることができる。

化粧シート１０では、複数の凹部３０は、長手方向に所定の間隔Ｗで繰り返して配置される（図１参照）。これに伴い、化粧シート１０では、表面が凹凸状となる。但し、このような複数の凹部３０の配置は、例示である。複数の凹部３０の配置は、諸条件を考慮して適宜決定される。化粧シートでは、凹部３０は、少なくとも１つ設けられていればよい。複数の凹部３０は、同一形状の凹部である。但し、複数の凹部３０は、異なる形状の凹部としてもよい。また、化粧シート１０では、凹部３０は、厚さ方向に基材２０を貫通せず、短手方向に基材２０を横断する（図１参照）。更に、凹部３０は、底面が基材２０の表面に対して傾斜する形状を有する。即ち、凹部３０の底面は、傾斜面である。但し、このような凹部３０の形状は、例示である。

＜エンボス加工装置＞
エンボス加工装置５０について、図３，４を参照して説明する。エンボス加工装置５０は、化粧シート１０を製造する加工装置である。エンボス加工装置５０は、供給装置９５から繰り出された長尺の基材２０を搬送し、基材２０にエンボス加工を行う（図３参照）。エンボス加工装置５０では、エンボス加工は、連続的に行われる。基材２０は、エンボス加工装置５０でエンボス加工が施された後、化粧シート１０として、回収装置９６に回収される。

図３では、供給装置９５及び回収装置９６の図示は、簡略化されている。基材２０及び化粧シート１０は、供給装置９５から回収装置９６まで連続した長尺のシート材の態様を有する。供給装置９５としては、公知のエンボス加工装置に設けられる供給装置を採用できる。回収装置９６としては、公知のエンボス加工装置に設けられる回収装置を採用できる。従って、供給装置９５及び回収装置９６に関する説明は、省略する。実施形態では、基材２０及び化粧シート１０が供給装置９５から回収装置９６に向けて搬送される方向を「搬送方向」という。搬送方向は、長手方向に沿った方向となる。

エンボス加工装置５０は、エンボス加工型６０と、エンボス受型８０と、加熱部９０を備える。エンボス加工型６０は、平板状の形状を有する。エンボス受型８０は、平板状の形状を有する。エンボス加工型６０及びエンボス受型８０は、配置方向に並んで設けられる。エンボス加工型６０は、配置方向の第一側に設けられる。エンボス受型８０は、配置方向の第二側に設けられる。

実施形態では、配置方向を鉛直方向とし、搬送方向を水平方向とする。また、配置方向の第一側を鉛直方向の上側とし、配置方向の第二側を鉛直方向の下側とする。この場合、基材２０の厚さ方向は、鉛直方向に一致する。また、エンボス加工型６０の幅方向（図４参照）は、短手方向に一致し、エンボス受型８０の幅方向は、エンボス加工型６０の幅方向及び短手方向に一致する。実施形態では、エンボス加工型６０の幅方向及びエンボス受型８０の幅方向を「幅方向」という。平板状のエンボス加工型６０及びエンボス受型８０を特定する方向として、幅方向に直交する方向を「長さ方向」という（図３，４参照）。長さ方向は、長手方向に一致し、搬送方向に沿った方向となる。配置方向は、鉛直方向とは異なる方向としてもよい。搬送方向は、水平方向とは異なる方向としてもよい。搬送方向は、配置方向に対して直交する方向とするとよい。

エンボス加工装置５０では、エンボス加工型６０は、エンボス受型８０に対して配置方向に相対的に移動する。この相対的な移動では、配置方向の第一側から第二側への移動及び配置方向の第二側から第一側への移動が繰り返される。エンボス加工装置５０では、エンボス加工型６０とエンボス受型８０の間の相対的な移動は、エンボス受型８０の位置を固定した状態で、エンボス加工型６０を配置方向に往復移動させて行われる（図３参照）。但し、図３では、次の駆動機構の図示は、省略されている。前述の駆動機構は、エンボス加工型６０を配置方向に往復移動させる機構である。エンボス加工型６０は、公知のエンボス加工型と同様の材料にて形成される。例えば、エンボス加工型６０は、金属製とされる。エンボス加工型６０を形成する金属としては、鋼材が例示される。

エンボス加工型６０は、型部７０を含む（図３，４参照）。型部７０は、凹部３０に対応する形状を有する（図１，３，４参照）。エンボス加工方法の実施時、型部７０は、基材２０の表面に接し、基材２０の表面を押圧する（図３で二点鎖線で示す「エンボス加工型６０」参照）。これに伴い、型部７０は、基材２０の表面に凹部３０を形成する。１つの型部７０は、１つの凹部３０に対応する。１つの凹部３０は、１つの型部７０によって基材２０の表面に形成される。基材２０の表面に接する型部７０の外面には、スリットＳが形成される。スリットＳは、切り込み方向が型部７０の高さ方向に対応する隙間である。実施形態では、高さ方向及び切り込み方向は、共に配置方向に一致する（図４参照）。型部７０は、スリットＳによって分割される。即ち、型部７０は、複数の突起Ｐの集合体である。型部７０では、複数の突起Ｐは、スリットＳを介して隣り合う。

実施形態では、１つの型部７０は、５つのスリットＳ１，Ｓ２，Ｓ３，Ｓ４，Ｓ５によって分割された６つの突起Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４，Ｐ５，Ｐ６を含む（図４参照）。突起Ｐ１は、スリットＳ１を介して突起Ｐ２と隣り合う。突起Ｐ２は、スリットＳ２を介して突起Ｐ３と隣り合う。突起Ｐ３は、スリットＳ３を介して突起Ｐ４と隣り合う。突起Ｐ４は、スリットＳ４を介して突起Ｐ５と隣り合う。突起Ｐ５は、スリットＳ５を介して突起Ｐ６と隣り合う。エンボス加工型６０では、スリットＳ１，Ｓ２，Ｓ３，Ｓ４，Ｓ５は、幅方向に沿って型部７０に設けられる。従って、突起Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４，Ｐ５，Ｐ６が隣り合う方向は、長さ方向に一致する。また、突起Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４，Ｐ５，Ｐ６の幅寸法は、スリットＳ１，Ｓ２，Ｓ３，Ｓ４，Ｓ５の幅寸法に一致する。幅寸法は、幅方向の寸法である。

実施形態では、突起Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４，Ｐ５，Ｐ６を区別しない場合、又はこれらを総称する場合、「突起Ｐ」という。スリットＳ１，Ｓ２，Ｓ３，Ｓ４，Ｓ５を区別しない場合、又はこれらを総称する場合、「スリットＳ」という。また、突起Ｐの配置方向の第二側の面を「頂面」という。型部７０の頂面は、突起Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４，Ｐ５，Ｐ６の頂面を含む。即ち、突起Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４，Ｐ５，Ｐ６の頂面は、型部７０の頂面を形成する。

突起Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４，Ｐ５，Ｐ６の頂面は、同一形状である。突起Ｐの頂面は、長辺及び短辺を有する矩形の平面形状を有する。突起Ｐの頂面の長辺は、幅方向に沿った辺である。従って、突起Ｐの幅寸法は、突起Ｐの長辺寸法ともいえる。突起Ｐの頂面の短辺は、長さ方向に沿った辺である。型部７０では、突起Ｐの頂面は、ベース面６４に沿って設けられ、突起Ｐの側面は、ベース面６４に垂直に設けられる（図４参照）。突起Ｐの側面は、突起Ｐの配置方向に沿った面であり、スリットＳとなる空間を形成する。ベース面６４は、エンボス加工型６０の配置方向の第二側の面で、型部７０が設けられていない領域である。エンボス加工型６０は、配置方向の第二側の面でエンボス受型８０と配置方向に対向する。

突起Ｐの高さ寸法は、突起Ｐ１、突起Ｐ２、突起Ｐ３、突起Ｐ４、突起Ｐ５及び突起Ｐ６の順で漸次減少し、「Ｐ１＞Ｐ２＞Ｐ３＞Ｐ４＞Ｐ５＞Ｐ６」に設定される（図４参照）。例えば、突起Ｐの高さ寸法は、一定の割合又はこれに近い状態で減少させるとよい。高さ寸法は、高さ方向の寸法である。型部７０では、隣り合う突起Ｐの高さ寸法の寸法差は、０．２〜２．０ｍｍの範囲の所定値とするとよい。隣り合う突起Ｐで高さ寸法の寸法差を前述の範囲とすることで、凹部３０の底面を滑らかな面とすることができる。基材２０の表面に凹部３０を形成し易くすることができる。複雑な形状の凹部への対応が可能となる。隣り合う突起Ｐの高さ方向の寸法差は、複数の突起Ｐのうち、隣り合う突起Ｐの全ての組み合わせで同じ値としてもよい。即ち、前述の寸法差は、「Ｐ１−Ｐ２＝Ｐ２−Ｐ３＝Ｐ３−Ｐ４＝Ｐ４−Ｐ５＝Ｐ５−Ｐ６」としてもよい。

突起Ｐの短辺寸法は、０．３〜５．０ｍｍの範囲の所定値とするとよい。突起Ｐの短辺寸法を０．３ｍｍ以上とすることで、エンボス加工方法の実施時、凹部３０の加工性を良好にすることができる。突起Ｐの短辺寸法を５．０ｍｍ以下とすることで、凹部３０の内面をテカリのない状態とし易くすることができる。化粧シート１０の風合い及び意匠性を良好にすることができる。好ましくは、突起Ｐの短辺寸法を０．５〜１．０ｍｍの範囲の所定値とするとよい。突起Ｐの短辺寸法を前述の範囲とすることで、凹部３０の底面を滑らかな面とすることができる。突起Ｐの短辺寸法は、突起Ｐの長さ方向の寸法ともいえる。

スリットＳの隙間寸法は、０．６〜２．５ｍｍの範囲の所定値とするとよい。隙間寸法は、スリットＳの長さ方向の寸法である。複数のスリットＳで隙間寸法は、全て同じ値とするとよい。即ち、スリットＳの隙間寸法は、「Ｓ１＝Ｓ２＝Ｓ３＝Ｓ４＝Ｓ５」とするとよい。この点に関し、図３，４及び後述する図５，９，１１〜１３の型部７０は、前述の条件を満足する。スリットＳの隙間寸法は、隣り合う突起Ｐの間隔に一致する。複数のスリットＳでは、隙間寸法を０．６ｍｍ以上とすることで、凹部３０の内面をテカリのない状態とし易くすることができる。化粧シート１０の風合い及び意匠性を良好にすることができる。隙間寸法を２．５ｍｍ以下とすることで、エンボス加工によって形成される凹部を１つのまとまりある凹部３０とすることができる。好ましくは、スリットＳの隙間寸法は、０．６〜１．５ｍｍの範囲の所定値とするとよい。隙間寸法を前述の範囲とすることで、凹部３０の底面を滑らかな面とすることができる。

型部７０では、次の第一面積に対する次の第二面積の面積比（第二面積／第一面積）は、３８〜５１％の範囲の所定値とするとよい。第一面積は、次の２つの合計面積を合わせた面積である。前述の２つの合計面積は、配置方向の第二側から正面視した複数の突起Ｐの合計面積と、配置方向の第二側から正面視した複数のスリットＳの合計面積である。換言すれば、第一面積は、配置方向の第二側から正面視した型部７０の総面積である。第二面積は、配置方向の第二側から正面視した複数の突起Ｐの合計面積である。前述の面積比を３８％以上とすることで、基材２０の表面に凹部３０を形成し易くすることができる。複雑な形状の凹部への対応が可能となる。前述の面積比を５１％以下とすることで、凹部３０の内面をテカリのない状態とし易くすることができる。化粧シート１０の風合い及び意匠性を良好にすることができる。但し、第一面積に対する第二面積の割合は、３２〜６５％の範囲の所定値としてもよい。

型部７０では、第二面積は、凹部３０の形状に応じて適宜決定される。但し、第二面積は、４７〜１２００ｍｍ^２の範囲の所定値とするとよい。第二面積を４７ｍｍ^２以上とすることで、エンボス加工方法の実施時、凹部３０の加工性を良好にすることができる。第二面積を１２００ｍｍ^２以下とすることで、凹部３０の内面をテカリのない状態とし易くすることができる。化粧シート１０の風合い及び意匠性を良好にすることができる。１つの突起Ｐで配置方向の第二側から正面視したその突起Ｐの面積は、諸条件を考慮して適宜決定される。例えば、１つの突起Ｐの前述の面積の決定には、第二面積の場合と同様、凹部３０の形状が考慮される。

エンボス受型８０は、弾性部８４と、本体部８６を含む（図３参照）。弾性部８４は、樹脂製とされる。弾性部８４は、本体部８６の配置方向の第一側の面に設けられる。弾性部８４は、本体部８６と一体をなす。本体部８６は、エンボス加工型６０と同様の材料で形成される。弾性部８４では、配置方向の第一側の面が平滑面となる。弾性部８４の配置方向の第一側の面は、エンボス受型８０の配置方向の第一側の面を形成する。エンボス受型８０の配置方向の第一側の面は、エンボス受型８０の外面を形成する。エンボス受型８０は、配置方向の第一側の面でエンボス加工型６０と配置方向に対向する。弾性部８４は、公知の樹脂により形成される。前述の樹脂としては、ゴム、熱可塑性エラストマー又はプラスチックが例示される。発明者は、前述の各樹脂のうち、ゴムが好ましいと考える。発明者は、耐熱性、耐久性及び汎用性の点で、シリコーンゴムが好ましいと考える。シリコーンゴムは、安価である。

加熱部９０は、エンボス加工型６０に設けられる。加熱部９０は、エンボス加工型６０の内部に埋め込まれる。加熱部９０は、電気ヒータである。実施形態では、エンボス加工型６０に対し、４つの加熱部９０が等角度間隔で埋め込まれている。但し、加熱部９０は、電気ヒータとは異なる種類の加熱部としてもよい。加熱部９０の数は、３つ以下又は５つ以上としてもよい。加熱部９０の種類及び数は、諸条件を考慮して適宜決定される。エンボス加工型６０における加熱部９０の配置は、諸条件を考慮して適宜決定される。

加熱部９０は、エンボス加工型６０を所定の温度に加熱する。前述の温度は、基材２０の種類に応じて適宜設定される。例えば、前述の温度は、第一シート２２及び第二シート２４の一方又は両方の材質を考慮して適宜設定される。第一シート２２がポリエチレンテレフタレートであるとする。ポリエチレンテレフタレートの融点は、２６０℃である。この場合、加熱部９０は、エンボス加工型６０を６０〜２６０℃の範囲の所定値に加熱する。好ましくは、加熱部９０は、エンボス加工型６０を６０〜２２０℃の範囲の所定値に加熱する。より好ましくは、加熱部９０は、エンボス加工型６０を１３０〜２１０℃の範囲の所定値に加熱する。

＜エンボス加工方法＞
エンボス加工方法について、図１〜３を参照して説明する。エンボス加工方法は、エンボス加工装置５０で実施される。エンボス加工方法は、供給工程と、エンボス工程と、回収工程を含む（図３参照）。エンボス加工方法により、図２の基材２０から図１の化粧シート１０が製造される。従って、エンボス加工方法は、化粧シート１０の製造方法ともいえる。エンボス加工方法では、基材２０を搬送方向に間欠的に搬送しつつ、供給工程、エンボス工程及び回収工程が順次実施される。供給工程は、繰り返し実施される。エンボス工程は、繰り返し実施される。回収工程は、繰り返し実施される。化粧シート１０では、複数の凹部３０が長手方向に所定の間隔Ｗで繰り返される（図１参照）。エンボス加工装置５０では、型部７０は、エンボス加工型６０に１つ設けられる（図３参照）。従って、エンボス加工装置５０では、基材２０の１回の搬送量は、間隔Ｗに一致した量とされる。

エンボス加工方法では、基材２０を押圧することで、凹部３０が基材２０の表面に形成される（図２，１参照）。加熱部９０は、エンボス加工型６０を加熱する。エンボス加工方法は、エンボス加工型６０が所定の温度に加熱された状態で実施される。エンボス加工装置５０では、加熱部９０のような加熱部は、エンボス受型８０には設けられない。従って、エンボス加工方法では、エンボス受型８０は、直接的には加熱されない。但し、エンボス加工装置５０では、エンボス受型８０に加熱部を設けてもよい。これにより、エンボス加工方法を、エンボス受型８０が加熱部によって所定の温度に加熱された状態で実施することができる。エンボス受型８０に加熱部を設ける場合、この加熱部により加熱されるエンボス受型８０の温度は、諸条件を考慮して適宜設定される。エンボス受型８０に加熱部を設けるか否かは、諸条件を考慮して適宜決定される。

エンボス加工方法の実施に先立ち、エンボス加工装置５０は、次の位置が次の第一状態となるように調整される。前述の位置は、基材２０の表面に対するエンボス加工型６０の配置方向の位置である。第一状態は、ベース面６４が基材２０の表面に接しない状態である。第一状態は、配置方向の第二側の移動端に移動したエンボス加工型６０を基準とする。図３で二点鎖線で示すエンボス加工型６０は、配置方向の第二側の移動端に移動したエンボス加工型を示す。

この他、エンボス加工装置５０は、次の第二状態及び第三状態とするとよい。第二状態は、型部７０が弾性部８４に食い込むこととなる状態である。第三状態は、次の寸法が基材２０の厚さより大きくなる状態である。前述の寸法は、ベース面６４とエンボス受型８０の外面（配置方向の第一側の面）の間の配置方向の寸法である。第二状態及び第三状態のエンボス加工装置５０でエンボス加工方法を実施することで、凹部３０の内面全体の形状を明瞭にすることができる。これに伴い、化粧シート１０の意匠性を向上させることができる。第二状態及び第三状態は、上述の第一状態と同様、配置方向の第二側の移動端に移動したエンボス加工型６０のベース面６４を基準とする。図３では、二点鎖線で示すエンボス加工型６０及び弾性部８４は、第二状態に対応する態様では図示されていない。

供給工程は、エンボス加工装置５０に基材２０を供給する工程である（図３参照）。即ち、供給工程では、供給装置９５から基材２０が繰り出される。供給装置９５から繰り出された基材２０は、搬送方向に搬送され、エンボス加工装置５０に到達する。

エンボス工程は、基材２０の表面に複数の凹部３０を形成する工程である（図３参照）。エンボス工程では、エンボス加工装置５０に到達した基材２０にエンボス加工が施される。エンボス工程では、搬送方向に搬送される基材２０は、搬送途中に、エンボス受型８０上に到達する。このとき、基材２０は、裏面で弾性部８４に接し、裏側からエンボス受型８０に支持される。エンボス加工型６０は、配置方向の第一側から第二側に移動し、配置方向の第二側の移動端に到達する（図３で二点鎖線で示す「エンボス加工型６０」参照）。これに伴い、エンボス加工型６０は、エンボス受型８０と共に基材２０を挟み込む。基材２０は、表面で型部７０に接し、型部７０によって押圧される。但し、基材２０では、表面は、ベース面６４に接触しない。基材２０は、加熱部９０によって加熱されたエンボス加工型６０からの熱によって加熱される。型部７０は、基材２０に食い込む。その後、エンボス加工型６０は、配置方向の第二側から第一側に移動し、第一側の移動端に到達する（図３で実線で示す「エンボス加工型６０」参照）。エンボス工程により、基材２０は、化粧シート１０へと形成される（図２，１参照）。

基材２０は、エンボス加工型６０が配置方向の第二側から第一側に移動し、型部７０が基材２０から離間した後の所定のタイミングで、搬送方向に間隔Ｗに一致した搬送量だけ搬送される。回収工程は、エンボス加工装置５０を通過した基材２０を回収する工程である（図３参照）。即ち、回収工程では、化粧シート１０が回収装置９６によってエンボス加工装置５０から回収される。

エンボス工程では、基材２０の押圧時間は、０．１〜６０秒の範囲の所定値とするとよい。好ましくは、基材２０の押圧時間は、１．０〜１０秒の範囲の所定値とするとよい。基材２０の押圧時間は、型部７０の形状を考慮して適宜設定される。基材２０の押圧時間を０．１秒以上とすることで、基材２０に押圧力を適切に作用させることができる。基材２０の表面に十分な凹部３０を形成することができる。基材２０の押圧時間を６０秒以下とすることで、次のような不具合が凹部３０の内面に発生することを防止することができる。前述の不具合は、テカリと、変色と、破れである。このことは、化粧シート１０の裏面についても同様である。更に、基材２０の押圧時間を６０秒以下とすることで、エンボス受型８０がエンボス加工型６０からの熱によって変形することを抑制することができる。

エンボス工程では、基材２０の押圧力は、１００〜２０００Ｎ／ｃｍの範囲の所定値とするとよい。基材２０の押圧力を１００Ｎ／ｃｍ以上とすることで、基材２０に押圧力を適切に作用させることができる。基材２０の表面に十分な凹部３０を形成することができる。基材２０の押圧力を２０００Ｎ／ｃｍ以下とすることで、次のような不具合が凹部３０の内面に発生することを防止することができる。前述の不具合は、テカリと、変色と、破れである。このことは、化粧シート１０の裏面についても同様である。更に、基材２０の押圧力を２０００Ｎ／ｃｍ以下とすることで、エンボス受型８０がエンボス加工型６０からの熱によって変形することを抑制することができる。

＜実施形態の効果＞
実施形態によれば、次のような効果を得ることができる。

（１）エンボス加工装置５０は、エンボス加工型６０と、エンボス受型８０と、加熱部９０を備える（図３参照）。エンボス加工装置５０は、エンボス加工方法を実施する。エンボス加工型６０は、凸状の型部７０を含む（図３，４参照）。型部７０は、基材２０の表面に形成される１つの凹部３０に対応する。エンボス加工方法の実施時、型部７０は、基材２０の表面に接する。型部７０は、スリットＳ１，Ｓ２，Ｓ３，Ｓ４，Ｓ５によって分割された突起Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４，Ｐ５，Ｐ６の集合体である（図４参照）。突起Ｐ１は、スリットＳ１を介して突起Ｐ２と隣り合う。突起Ｐ２は、スリットＳ２を介して突起Ｐ３と隣り合う。突起Ｐ３は、スリットＳ３を介して突起Ｐ４と隣り合う。突起Ｐ４は、スリットＳ４を介して突起Ｐ５と隣り合う。突起Ｐ５は、スリットＳ５を介して突起Ｐ６と隣り合う。

そのため、基材２０の表面に接する型部７０の面積を少なくすることができる。エンボス加工型６０が加熱部９０によって加熱された状態で、型部７０から基材２０に加えられる熱量を低減することができる。凹部３０の内面をテカリのない面とすることができる。例えば、エンボス加工方法の実施時、基材２０の表面で凹部３０の底面となる領域は、突起Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４，Ｐ５，Ｐ６の頂面と接する。従って、凹部３０では、底面でのテカリの発生が抑制される。意匠性に優れた化粧シート１０を製造することができる。

（２）型部７０では、突起Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４，Ｐ５，Ｐ６の高さ寸法は、「Ｐ１＞Ｐ２＞Ｐ３＞Ｐ４＞Ｐ５＞Ｐ６」に設定される（図４参照）。そのため、基材２０の表面に次の形状の凹部３０を形成することができる。前述の形状は、底面が基材２０の表面に対して傾斜する形状である。

＜変形例＞
実施形態は、次のようにすることもできる。以下に示す変形例のうちの幾つかの構成は、適宜組み合わせて採用することもできる。以下では、上記とは異なる点を説明することとし、同様の点についての説明は、適宜省略する。

（１）型部７０は、凹部３０に対応する形状を有する（図１，３，４参照）。凹部３０は、短手方向に基材２０を横断し且つ底面が基材２０の表面に対して傾斜する形状を有する（図１参照）。型部７０は、スリットＳ１，Ｓ２，Ｓ３，Ｓ４，Ｓ５によって分割され、スリットＳを介して隣り合う突起Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４，Ｐ５，Ｐ６を含む（図４参照）。型部７０では、スリットＳ１，Ｓ２，Ｓ３，Ｓ４，Ｓ５は、幅方向に沿って設けられ且つ一定の隙間寸法を有する直線的な隙間であり、突起Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４，Ｐ５，Ｐ６は、長辺及び短辺を有する矩形の平面形状の頂面を含む。

型部７０では、スリットＳは、長さ方向に沿って設けるようにしてもよく、又は幅方向及び長さ方向の両方向に沿って格子状に設けるようにしてもよい（図５参照）。図５では、図４との対応を明らかにするため、各部に対する符号は、上記と同様としている。但し、図５では、長さ方向に沿ったスリットを「スリットＳＬ」といい、スリットＳ１，Ｓ２，Ｓ３，Ｓ４，Ｓ５と区別する。この場合、スリットＳは、スリットＳ１，Ｓ２，Ｓ３，Ｓ４，Ｓ５及びスリットＳＬの一部に対応し、又はこれらを総称する。図５の型部７０では、突起Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４，Ｐ５，Ｐ６は、長さ方向に沿ったスリットＳＬによって幅方向に分割される。

スリットＳＬは、次の部分の幅寸法が同じとなる幅方向の所定の位置、又は次の部分の幅寸法が異なることとなる幅方向の所定の位置の何れに設けるようにしてもよい。前述の部分は、スリットＳＬによって分割された１つの突起Ｐの複数の部分である。スリットＳＬを設ける幅方向の位置は、諸条件を考慮して適宜決定される。また、スリットＳＬの数は、諸条件を考慮して適宜決定される。スリットＳＬの隙間寸法は、スリットＳ１，Ｓ２，Ｓ３，Ｓ４，Ｓ５の隙間寸法と同じ値としてもよく、又はスリットＳ１，Ｓ２，Ｓ３，Ｓ４，Ｓ５の隙間寸法とは異なる値としてもよい。スリットＳＬの隙間寸法は、スリットＳＬによって分割された１つの突起Ｐの複数の部分のうち、幅方向に隣り合う２つの部分の間隔に一致する。

スリットは、一定の隙間寸法を有する直線的な隙間でなくてもよい。換言すれば、突起の頂面は、長辺及び短辺を有する矩形でなくてもよい。例えば、突起の頂面は、ジグザグ、矩形波又は正弦波（波線）の形状であってもよい。また、突起の頂面は、円形、楕円形、多角形（四角形を除く）、星形及び花形の何れであってもよい。更に、突起の頂面は、不規則な任意の形状であってもよい。この場合、スリットは、突起の頂面の形状に対応する隙間となる。突起の形状は、正方形であってもよい。この場合、スリットは、上記同様、一定の隙間寸法を有する直線的な隙間となる。

（２）化粧シート１０では、次の形状を有する凹部３０を例示した（図１参照）。前述の形状は、短手方向に基材２０を横断する形状である。更に、前述の形状は、底面が基材２０の表面に対して傾斜する形状である。化粧シートでは、意匠性の点で、各種の凹部が求められる。例えば、化粧シート１０に設ける凹部３０が次の態様であるとする（図６参照）。前述の態様は、化粧シート１０を平面視した場合の形状が三角形である態様である。更に、前述の態様は、底面が三角形の底辺から頂点の側に傾斜する態様である。凹部が図６の凹部３０である場合、型部は、例えば、図７の型部７０とするとよい。図６，７では、図１，４との対応を明らかにするため、各部に対する符号は、上記と同様としている。

図７の型部７０は、図４の型部７０と同様、５つのスリットＳ１，Ｓ２，Ｓ３，Ｓ４，Ｓ５によって分割された６つの突起Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４，Ｐ５，Ｐ６を含む。突起Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４，Ｐ５の頂面は、台形の平面形状を有する。突起Ｐ６の頂面は、三角形の平面形状を有する。突起Ｐの幅寸法は、突起Ｐ１、突起Ｐ２、突起Ｐ３、突起Ｐ４、突起Ｐ５及び突起Ｐ６の順で漸次減少し、「Ｐ１＞Ｐ２＞Ｐ３＞Ｐ４＞Ｐ５＞Ｐ６」に設定される。突起Ｐの幅寸法は、一定の割合又はこれに近い状態で減少させるとよい。

図７の型部７０では、突起Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４，Ｐ５，Ｐ６の側辺寸法は、同じ値である。側辺寸法は、図４の型部７０では、突起Ｐの短辺寸法に対応する。図７及び後述する図９の型部７０は、頂面の平面形状が矩形ではない突起Ｐを含む。そこで、図７，９の型部７０では、突起Ｐの長さ方向の寸法を「側辺寸法」という。また、突起Ｐの高さ寸法は、図４の型部７０と同様、突起Ｐ１、突起Ｐ２、突起Ｐ３、突起Ｐ４、突起Ｐ５及び突起Ｐ６の順で漸次減少し、「Ｐ１＞Ｐ２＞Ｐ３＞Ｐ４＞Ｐ５＞Ｐ６」に設定される。更に、スリットＳの隙間寸法は、上述した通り、「Ｓ１＝Ｓ２＝Ｓ３＝Ｓ４＝Ｓ５」とするとよい。

また、化粧シート１０に設ける凹部３０が次の態様であるとする（図８参照）。前述の態様は、化粧シート１０を平面視した場合の形状が菱形である態様である。更に、前述の態様は、底面が長さ方向の中央領域を境界として、２つの頂点の側に傾斜する態様である。但し、図８の凹部３０では、前述の中央領域の幅方向の両辺は、長さ方向に沿った形状を有する。従って、化粧シート１０を平面視した場合の凹部３０の形状は、完全な菱形ではない。凹部が図８の凹部３０である場合、型部は、例えば、図９の型部７０とするとよい。図８，９では、図１，４との対応を明らかにするため、各部に対する符号は、上記と同様としている。

図９の型部７０は、６つのスリットＳ１，Ｓ２，Ｓ３，Ｓ４，Ｓ５，Ｓ６によって分割された７つの突起Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４，Ｐ５，Ｐ６，Ｐ７を含む。突起Ｐ１，Ｐ７の頂面は、三角形の平面形状を有する。突起Ｐ２，Ｐ３，Ｐ５，Ｐ６の頂面は、台形の平面形状を有する。突起Ｐ４の頂面は、矩形の平面形状を有する。突起Ｐ１は、突起Ｐ４を基準として突起Ｐ７と線対称の形状を有する。突起Ｐ２は、突起Ｐ４を基準として突起Ｐ６と線対称の形状を有する。突起Ｐ３は、突起Ｐ４を基準として突起Ｐ５と線対称の形状を有する。突起Ｐの幅寸法は、突起Ｐ４、突起Ｐ３、突起Ｐ２及び突起Ｐ１の順で漸次減少し、突起Ｐ４、突起Ｐ５、突起Ｐ６及び突起Ｐ７の順で漸次減少し、「Ｐ４＞Ｐ３＝Ｐ５＞Ｐ２＝Ｐ６＞Ｐ１＝Ｐ７」に設定される。突起Ｐの幅寸法は、一定の割合又はこれに近い状態で減少させるとよい。

図９の型部７０では、突起Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４，Ｐ５，Ｐ６，Ｐ７の側辺寸法は、同じ値である。また、突起Ｐの高さ寸法は、突起Ｐ４、突起Ｐ３、突起Ｐ２及び突起Ｐ１の順で漸次減少し、突起Ｐ４、突起Ｐ５、突起Ｐ６及び突起Ｐ７の順で漸次減少し、「Ｐ４＞Ｐ３＝Ｐ５＞Ｐ２＝Ｐ６＞Ｐ１＝Ｐ７」に設定される。更に、スリットＳの隙間寸法は、「Ｓ１＝Ｓ２＝Ｓ３＝Ｓ４＝Ｓ５＝Ｓ６」とするとよい。この点に関し、図９の型部７０は、前述の条件を満足する。

更に、化粧シート１０に設ける凹部３０が次の態様であるとする（図１０参照）。前述の態様は、図１の凹部３０と同様、厚さ方向に基材２０を貫通せず、短手方向に基材２０を横断する態様である。更に、前述の態様は、底面が基材２０の表面に沿った態様である。凹部が図１０の凹部３０である場合、型部は、例えば、図１１の型部７０とするとよい。図１０，１１では、図１，４との対応を明らかにするため、各部に対する符号は、上記と同様としている。

図１１の型部７０は、図４の型部７０と同様、５つのスリットＳ１，Ｓ２，Ｓ３，Ｓ４，Ｓ５によって分割された６つの突起Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４，Ｐ５，Ｐ６を含む。図１１の型部７０及び図４の型部７０の相違は、高さ寸法である。即ち、図１１の型部７０では、突起Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４，Ｐ５，Ｐ６の高さ寸法は、「Ｐ１＝Ｐ２＝Ｐ３＝Ｐ４＝Ｐ５＝Ｐ６」に設定される。突起Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４，Ｐ５，Ｐ６の高さ寸法を一致させることで、基材２０の表面に次の形状の凹部３０を形成することができる。前述の形状は、底面が基材２０の表面に沿った形状である。

図６，８，１０では、説明の便宜上、長手方向及び短手方向を前述の各図の通りに設定し、図７，９，１１では、長さ方向を長手方向に対応させ、幅方向を短手方向に対応させた。図６，８，１０に例示する凹部３０を含む化粧シート１０では、長手方向及び短手方向は、前述の各図とは異なる向きとしてもよい。例えば、図６，８，１０では、短手方向として設定した方向を長手方向と設定し、長手方向として設定した方向を短手方向と設定してもよい。この場合、図７，９，１１では、幅方向として設定した方向が長さ方向となり、長さ方向として設定した方向が幅方向となる。

この他、化粧シートでは、凹部は、底面を含まない凹部としてもよい。底面を含まない凹部としては、錐状の凹部又は半球状の凹部が例示される。エンボス加工型では、型部は、凹部に対応する形状とされ、型部は、１又は複数のスリットによって複数の突起に分割される。

（３）エンボス加工装置５０では、エンボス加工型６０とエンボス受型８０の相対的な移動は、エンボス受型８０の位置を固定した状態で、エンボス加工型６０を配置方向に往復移動させて行われる（図３参照）。エンボス加工型６０とエンボス受型８０の相対的な移動は、これとは異なる態様としてもよい。例えば、エンボス加工型６０とエンボス受型８０の相対的な移動は、エンボス加工型６０及びエンボス受型８０をそれぞれ配置方向に往復移動させて行うようにしてもよい。

（４）エンボス加工装置５０では、エンボス加工型６０及びエンボス受型８０は、平板状の形状を有する（図３，４参照）。エンボス加工型及びエンボス受型は、平板状の形状とは異なる形状としてもよい。例えば、エンボス加工型６０及びエンボス受型８０は、図１２，１３に示すように、ロール形状としてもよい。この場合、エンボス加工型６０は、エンボスロールと称されることもあり、エンボス受型８０は、受けロール又はバックアップロールと称されることもある。図１２，１３では、図３，４との対応を明らかにするため、各部に対する符号は、上記と同様としている。図１２では、図３と同様、供給装置９５及び回収装置９６の図示は、簡略化されている。

図１２のエンボス加工装置５０では、エンボス加工型６０及びエンボス受型８０は、配置方向に並んで設けられる。エンボス加工型６０は、配置方向の第一側に設けられる。エンボス受型８０は、配置方向の第二側に設けられる。配置方向は、図３のエンボス加工装置５０と同様、鉛直方向となり、搬送方向は、水平方向となる。エンボス加工型６０の幅方向及びエンボス受型８０の幅方向は、短手方向に一致する。エンボス加工型６０のシャフト６２及びエンボス受型８０のシャフト８２は、平行な状態となる。

エンボス加工型６０は、シャフト６２を回転軸として、搬送方向に対応する方向に回転する。エンボス加工型６０には、駆動部からの駆動力が付与される。駆動部は、シャフト６２に取り付けられる。これに伴い、エンボス加工型６０は、前述したように回転する。図１２，１３では、駆動部の図示は、省略されている。駆動部としては、モータが例示される。図１２に示す次の矢印は、エンボス加工型６０の回転方向を示す。前述の矢印は、エンボス加工型６０の内部に示す片矢の矢印である。

エンボス加工型６０では、複数の型部７０がロール形状のエンボス加工型６０の外周面に等角度間隔で設けられる。この場合、複数の型部７０は、周方向に間隔Ｗに対応させて配置される。エンボス加工型６０で周方向は、シャフト６２を中心とする円周方向である。また、周方向は、エンボス加工型６０の回転方向及びこれとは反対の方向に一致する。更に、周方向は、長手方向に対応する。

型部７０では、複数の突起Ｐは、エンボス加工型６０の径方向に沿って設けられる。この場合、上述したスリットＳの隙間寸法は、隣り合う突起Ｐの周方向の最大間隔として定義するとよい（図１３参照）。突起Ｐの頂面は、ベース面６４と同心円の円弧形状を有する。ロール形状のエンボス加工型６０では、ベース面６４は、エンボス加工型６０の外周面で、周方向に隣り合う２つの凸状の型部７０の間の底側となる領域ともいえる。前述の底側は、ロール状であるエンボス加工型６０の径方向を基準とした場合、中心側（シャフト６２の側）となる。

エンボス受型８０は、シャフト８２を回転軸として、搬送方向に対応する方向に回転する。エンボス受型８０の回転方向は、エンボス加工型６０の回転方向とは反対となる。エンボス受型８０は、基材２０の裏面に接する。エンボス加工装置５０では、エンボス加工型６０は、エンボス受型８０と共に基材２０を挟み込む。エンボス受型８０は、基材２０の裏面に接した状態で、エンボス加工型６０の回転に従動して回転する。図１２に示す次の矢印は、エンボス受型８０の回転方向を示す。前述の矢印は、エンボス受型８０の内部に示す片矢の矢印である。

エンボス加工方法の実施に先立ち、図１２のエンボス加工装置５０は、図３のエンボス加工装置５０での第一状態と同様、次の位置が次の第四状態となるように調整される。前述の位置は、基材２０の表面に対するエンボス加工型６０の配置方向の位置である。第四状態は、基材２０がエンボス加工型６０とエンボス受型８０の間を通過する際、ベース面６４が基材２０の表面に接しない状態である。

この他、図１２のエンボス加工装置５０は、図３のエンボス加工装置５０での第二状態及び第三状態と同様、次の第五状態及び第六状態とするとよい。第五状態は、型部７０が弾性部８４に食い込むこととなる状態である（図１２で配置方向の第二側に示す「型部７０」参照）。第六状態は、次の寸法が基材２０の厚さより大きくなる状態である。前述の寸法は、ベース面６４とエンボス受型８０の外周面の間の配置方向の寸法である。

エンボス工程では、搬送方向に搬送される基材２０は、搬送途中に、エンボス加工型６０とエンボス受型８０の間を通過する。このとき、基材２０は、裏面で弾性部８４に接し、裏側からエンボス受型８０に支持される。基材２０は、表面で型部７０に接し、型部７０によって押圧される。基材２０は、加熱部９０によって加熱されたエンボス加工型６０からの熱によって加熱される。型部７０は、基材２０に食い込む。エンボス工程により、基材２０は、化粧シート１０へと形成される（図２，１参照）。エンボス工程では、基材２０は、表面がベース面６４に接触することなく、エンボス加工型６０とエンボス受型８０の間を通過する。

図１２では、次の部分の図示は、簡略化されている。前述の部分は、エンボス受型８０によって支持されている基材２０の部分である。更に、前述の部分は、前述の基材２０の部分を支持する弾性部８４の部分である。即ち、図１２では、前述の基材２０の部分は、一部が省略され、型部７０に対応する凹状には図示されていない。また、前述の弾性部８４の部分は、弾性変形が生じた状態では図示されていない。

図１２のエンボス加工装置５０で実施されるエンボス加工方法では、基材２０の搬送速度は、次のように設定するとよく、また、このエンボス加工方法のエンボス工程では、基材２０の押圧時間及び基材２０の押圧力は、次のように設定するとよい。即ち、基材２０の搬送速度は、０．１〜１０ｍ／分の範囲の所定値とするとよい。好ましくは、基材２０の搬送速度は、０．３〜５ｍ／分の範囲の所定値とするとよい。基材２０の搬送速度を０．１ｍ／分以上とすることで、次のような不具合が凹部３０の内面に発生することを防止することができる。前述の不具合は、テカリと、変色と、破れである。このことは、化粧シート１０の裏面についても同様である。更に、基材２０の搬送速度を０．１ｍ／分以上とすることで、エンボス受型８０がエンボス加工型６０からの熱によって変形することを抑制することができる。基材２０の搬送速度を１０ｍ／分以下とすることで、基材２０がエンボス加工型６０とエンボス受型８０の間を通過する際、基材２０に押圧力を適切に作用させることができる。基材２０の表面に十分な凹部３０を形成することができる。

基材２０の押圧時間は、０．０１〜５秒の範囲の所定値とするとよい。好ましくは、基材２０の押圧時間は、０．１〜２秒の範囲の所定値とするとよい。基材２０の押圧時間は、型部７０の形状を考慮して適宜設定される。基材２０の押圧時間を０．０１秒以上とすることで、基材２０がエンボス加工型６０とエンボス受型８０の間を通過する際、基材２０に押圧力を適切に作用させることができる。基材２０の表面に十分な凹部３０を形成することができる。基材２０の押圧時間を５秒以下とすることで、次のような不具合が凹部３０の内面に発生することを防止することができる。前述の不具合は、テカリと、変色と、破れである。このことは、化粧シート１０の裏面についても同様である。更に、基材２０の押圧時間を５秒以下とすることで、エンボス受型８０がエンボス加工型６０からの熱によって変形することを抑制することができる。

基材２０の押圧力は、２００〜２０００Ｎ／ｃｍの範囲の所定値とするとよい。基材２０の押圧力を２００Ｎ／ｃｍ以上とすることで、基材２０がエンボス加工型６０とエンボス受型８０の間を通過する際、基材２０に押圧力を適切に作用させることができる。基材２０の表面に十分な凹部３０を形成することができる。基材２０の押圧力を２０００Ｎ／ｃｍ以下とすることで、次のような不具合が凹部３０の内面に発生することを防止することができる。前述の不具合は、テカリと、変色と、破れである。このことは、化粧シート１０の裏面についても同様である。更に、基材２０の押圧力を２０００Ｎ／ｃｍ以下とすることで、エンボス受型８０がエンボス加工型６０からの熱によって変形することを抑制することができる。

エンボス加工装置では、エンボス加工型及びエンボス受型は、例えば、次のようにしてもよい。即ち、エンボス加工装置は、ロール形状のエンボス加工型６０（図１２，１３参照）と、平板状のエンボス受型８０（図３参照）を備えるようにしてもよい。

（５）エンボス受型８０は、弾性部８４と、本体部８６を含む（図３，１２参照）。エンボス受型では、本体部８６は、省略してもよい。例えば、エンボス受型は、本体部８６を含まない樹脂製としてもよい。ロール形状のエンボス受型では、シャフトも、樹脂製としてもよい。また、エンボス受型では、弾性部８４は、省略してもよい。例えば、エンボス受型は、弾性部８４を含まない金属製としてもよい。

１０ 化粧シート、 ２０ 基材、 ２２ 第一シート、 ２４ 第二シート
２６ 第三シート、 ３０ 凹部、 ５０ エンボス加工装置
６０ エンボス加工型、 ６２ シャフト、 ６４ ベース面、 ７０ 型部
８０ エンボス受型、 ８２ シャフト、 ８４ 弾性部、 ８６ 本体部
９０ 加熱部、 ９５ 供給装置、 ９６ 回収装置
Ｐ，Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３，Ｐ４，Ｐ５，Ｐ６，Ｐ７ 突起
Ｓ，Ｓ１，Ｓ２，Ｓ３，Ｓ４，Ｓ５，Ｓ６，ＳＬ スリット、 Ｗ 間隔

Claims (5)

1. エンボス加工装置に設けられるエンボス加工型であって、
   前記エンボス加工型は、
   前記エンボス加工装置に設けられる加熱部によって加熱され、
   基材の表面に形成される１つの凹部に対応する、凸状の型部を含み、
   前記型部は、前記基材の表面に接する前記型部の外面に設けられた切り込み方向が前記型部の高さ方向に対応するスリットによって分割された複数の突起の集合体であり、
   前記複数の突起は、前記スリットを介して隣り合う、エンボス加工型。
2. 前記複数の突起は、
   前記高さ方向の高さ寸法が第一値である第一突起と、
   前記高さ寸法が前記第一値より小さい第二値で、且つ前記第一突起と前記スリットを介して隣り合う第二突起と、を含む、請求項１に記載のエンボス加工型。
3. 前記複数の突起は、
   前記高さ方向の高さ寸法が第一値となる第一突起と、
   前記高さ寸法が前記第一値となる第二突起と、を含む、請求項１に記載のエンボス加工型。
4. 請求項１から請求項３の何れか１項に記載のエンボス加工型と、
   前記加熱部と、
   前記エンボス加工型と共に前記基材を挟み込むエンボス受型と、を備えるエンボス加工装置。
5. 請求項４に記載のエンボス加工装置で実施されるエンボス加工方法であって、
   前記基材の表面に前記型部を押圧し、前記基材の表面に凹部を形成するエンボス工程を含む、エンボス加工方法。

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