JP2016071626A - Method for manufacturing touch sensor - Google Patents

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勇治 野並
Yuji Nonami
勇治 野並
溝根 信也
Shinya Mizone
信也 溝根
章博 井原
Akihiro Ihara
章博 井原
小園 利一
Riichi Kozono
利一 小園
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing a touch sensor mounted for an input operation unit of various electronic apparatuses which can inexpensively configure a touch sensor integrated with a cover lens.SOLUTION: A method for manufacturing a touch sensor includes: a first step of forming a substrate portion 40 with a predetermined resin; a second step of forming a conductive metal film 800 on a first surface 41 of the substrate portion 40; a third step of forming a coated film 850 before exposure overlapping the conductive metal film 800; a fourth step of forming the coated film 850 into a first resin coating 900 having a first film thickness portion 910 and a second film thickness portion 920; a fifth step of removing the first film thickness portion 910 and thereby forming the first resin coating 900 into a substance having an exposed portion 810 of a conductive metal film 800, and forming the second film thickness portion 920 into a first resin layer 61; a sixth step of removing the exposed portion 810 of the conductive metal film 800, and thereby forming a metal pattern 50 which becomes a conductive site of a detection section 20 from the conductive metal film 800; and a seventh step of forming a second resin layer 62 on the side of the first surface 41 of the substrate portion 40.SELECTED DRAWING: Figure 11

Description

本発明は、各種電子機器の入力操作部等に搭載されるタッチセンサの製造方法に関するものである。   The present invention relates to a method for manufacturing a touch sensor mounted on an input operation unit or the like of various electronic devices.

近年、各種電子機器では、入力操作部に対して指などでのタッチ操作で入力操作をするものが増えている。例えば、その代表としては、スマートフォン等の携帯機器があげられる。   In recent years, an increasing number of various electronic devices perform an input operation by a touch operation with a finger or the like on an input operation unit. For example, a representative example thereof is a mobile device such as a smartphone.

そして、その入力操作部としては、光透過性を有する静電容量式のタッチセンサを搭載して構成したものが多い。例えば、平板状に形成された樹脂製のカバーレンズに静電容量式のタッチセンサを粘着剤で貼り合わせた構成のタッチセンサ付きカバーレンズが表示装置の前方位置に配された構成とされ、その使用時には、カバーレンズ、タッチセンサを介して機器内に配設された表示装置の表示内容を視認しつつカバーレンズの表面を指で操作する形態のものが普及している。   In many cases, the input operation unit is configured by mounting a capacitive touch sensor having optical transparency. For example, a cover lens with a touch sensor having a structure in which a capacitive touch sensor is bonded to a resin cover lens formed in a flat plate shape with an adhesive is arranged at the front position of the display device. In use, a configuration in which the surface of the cover lens is operated with a finger while visually recognizing the display content of a display device disposed in the device via a cover lens and a touch sensor has become widespread.

静電容量式のタッチセンサは、一般的に、ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムなどの基材部の表面に重ねて検知部が形成された構成になっている。検知部の導電部位は、例えばITO製の導電パターンが所定形状で基材部の表面上に形成されていたり、導電性ナノワイヤーを樹脂に分散したものを所定形状で基材部の表面上に塗布形成して構成されているものであった。   Generally, the capacitive touch sensor has a configuration in which a detection unit is formed on a surface of a base material unit such as a polyethylene terephthalate (PET) film. For example, the conductive part of the detection part has an ITO conductive pattern formed on the surface of the base part in a predetermined shape, or a conductive nanowire dispersed in a resin on the surface of the base part in a predetermined shape. It was configured by coating and forming.

なお、この出願の発明に関連する先行技術文献情報としては、例えば、特許文献1、特許文献2が知られている。   As prior art document information related to the invention of this application, for example, Patent Document 1 and Patent Document 2 are known.

特開2012−174003号公報JP 2012-174003 A 特開2012−181828号公報JP 2012-181828 A

しかしながら、検知部の導電部位の材質をITO製にすると、材料費や加工工数などの面でコストがかかる。また、導電性ナノワイヤー製のものも同様に、素材などが高価であって安価に構成することに限界があった。   However, if the material of the conductive portion of the detection unit is made of ITO, costs are increased in terms of material costs and processing man-hours. Similarly, those made of conductive nanowires have a limitation in that the materials are expensive and can be constructed inexpensively.

また、一般的に、タッチセンサは検知部を有する面とは反対側の面がカバーレンズに粘着保持されたタッチセンサ付きカバーレンズに構成されて機器に搭載され、その搭載状態でカバーレンズへのタッチ操作で使用される。そのカバーレンズにタッチセンサを貼り合わせる際に、貼り合わせずれ等が大きく生じないように貼り合わせる必要があった。   Also, in general, a touch sensor is configured as a cover lens with a touch sensor in which a surface opposite to a surface having a detection unit is adhesively held by a cover lens, and is mounted on a device. Used for touch operations. When the touch sensor is bonded to the cover lens, the cover sensor needs to be bonded so that a bonding deviation or the like does not occur.

本発明は、このような従来の課題を解決するものであり、安価にカバーレンズ一体型のタッチセンサを構成することができるタッチセンサの製造方法を提供することを目的とする。   The present invention solves such a conventional problem, and an object of the present invention is to provide a touch sensor manufacturing method capable of constructing a cover lens integrated touch sensor at a low cost.

上記目的を達成するために、本発明によるタッチセンサの製造方法は、以下の工程を有する。第1工程で第1表面を有する基材部を所定の樹脂で形成し、第2工程で基材部の第1表面に導電金属膜を成膜する。そして、第3工程で導電金属膜に重ねて液状の第1樹脂液を塗布して露光前の塗膜を形成し、第4工程で露光前の塗膜を、第1膜厚部と第2膜厚部とを有する第1樹脂被膜に形成する。そして、第5工程で第1樹脂被膜の第1膜厚部を除去することによって導電金属膜の表出部を有するものにすると共に、第2膜厚部を第1樹脂層に形成し、第6工程で導電金属膜の表出部箇所を除去することによって、導電金属膜から検知部の導電部位となる金属パターンを形成し、第7工程で基材部の第1表面側に液状の第2樹脂液を塗布して第1表面41側を覆う第2樹脂層を形成するようにしたものである。   In order to achieve the above object, a method for manufacturing a touch sensor according to the present invention includes the following steps. In the first step, the base portion having the first surface is formed of a predetermined resin, and in the second step, a conductive metal film is formed on the first surface of the base portion. Then, in the third step, a liquid first resin liquid is applied over the conductive metal film to form a pre-exposure coating, and in the fourth step, the pre-exposure coating is applied to the first film thickness portion and the second thickness. A first resin film having a film thickness portion is formed. Then, in the fifth step, the first film portion of the first resin film is removed to have the exposed portion of the conductive metal film, and the second film thickness portion is formed on the first resin layer. By removing the exposed portion of the conductive metal film in 6 steps, a metal pattern to be a conductive portion of the detection portion is formed from the conductive metal film, and in the seventh step, a liquid first is formed on the first surface side of the base material portion. The second resin liquid is applied to form a second resin layer covering the first surface 41 side.

本発明によれば、基材部の厚み設定が容易にでき、かつその基材部に金属パターンを直接設ける製造方法としたため、安価にカバーレンズ一体型のタッチセンサを構成することができるタッチセンサの製造方法が提供できるという有利な効果が得られる。   According to the present invention, since the thickness of the base material can be easily set and the manufacturing method is such that the metal pattern is directly provided on the base material, a touch sensor integrated with a cover lens can be constructed at low cost. The advantageous effect that the manufacturing method can be provided is obtained.

本発明の実施形態によるタッチセンサの製造方法で製造したタッチセンサを搭載したスマートフォンの外観斜視図1 is an external perspective view of a smartphone equipped with a touch sensor manufactured by a touch sensor manufacturing method according to an embodiment of the present invention. スマートフォンの分解斜視図Exploded perspective view of smartphone スマートフォンの構成を模式的に示すブロック図Block diagram schematically showing the configuration of the smartphone タッチセンサの断面図Cross section of touch sensor タッチセンサを下方から見た図View of touch sensor from below 図5において要部を拡大して示す図The figure which expands and shows the principal part in FIG. タッチセンサの製造方法を説明する図The figure explaining the manufacturing method of a touch sensor タッチセンサの製造方法を説明する図The figure explaining the manufacturing method of a touch sensor タッチセンサの製造方法を説明する図The figure explaining the manufacturing method of a touch sensor タッチセンサの製造方法を説明する図The figure explaining the manufacturing method of a touch sensor タッチセンサの製造方法を説明する図The figure explaining the manufacturing method of a touch sensor タッチセンサの製造方法を説明する図The figure explaining the manufacturing method of a touch sensor タッチセンサの製造方法を説明する図The figure explaining the manufacturing method of a touch sensor タッチセンサの変形例を示す斜視図The perspective view which shows the modification of a touch sensor

本発明によるタッチセンサの製造方法について、以下に図面を用いて説明する。   A method for manufacturing a touch sensor according to the present invention will be described below with reference to the drawings.

(実施の形態)
図1は本発明の実施形態によるタッチセンサの製造方法で製造したタッチセンサを搭載したスマートフォンの外観斜視図、図2はスマートフォンの分解斜視図、図3はスマートフォンの構成を模式的に示すブロック図、図4はタッチセンサの断面図、図5はタッチセンサを下方から見た図、図6は図5において要部を拡大して示す図である。なお、図4は、タッチセンサの検知部での断面位置を示したものである。図7〜図13はタッチセンサの製造方法を説明する図、図14はタッチセンサの変形例を示す斜視図である。
(Embodiment)
1 is an external perspective view of a smartphone equipped with a touch sensor manufactured by a touch sensor manufacturing method according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is an exploded perspective view of the smartphone, and FIG. 3 is a block diagram schematically showing the configuration of the smartphone. 4 is a cross-sectional view of the touch sensor, FIG. 5 is a view of the touch sensor as viewed from below, and FIG. 6 is an enlarged view of the main part in FIG. FIG. 4 shows a cross-sectional position at the detection unit of the touch sensor. 7 to 13 are diagrams for explaining a method for manufacturing a touch sensor, and FIG. 14 is a perspective view showing a modification of the touch sensor.

本発明の実施形態によるタッチセンサ10は、例えばスマートフォン100(図1参照)に搭載されて使用される静電容量式のものである。   The touch sensor 10 according to the embodiment of the present invention is, for example, a capacitance type that is used by being mounted on a smartphone 100 (see FIG. 1).

スマートフォン100は、図1や図2に示すように、外枠状に形成された筐体110を備えている。筐体110の前方位置にはカバーレンズ一体型のタッチセンサ10が装着されている。カバーレンズ一体型のタッチセンサ10は光透過性を有している。   As shown in FIGS. 1 and 2, the smartphone 100 includes a housing 110 formed in an outer frame shape. A cover lens-integrated touch sensor 10 is attached to a front position of the housing 110. The cover lens-integrated touch sensor 10 has optical transparency.

筐体110内には、図3に示すように、表示装置300、マイク410、スピーカ420などが配されている。また、筐体110内に配された配線基板には、第1制御部510や第2制御部520が実装されている。さらに、電波用の送受信部550なども配線基板に構成されている。なお、表示装置300は、図示は省略するが、カバーレンズ一体型のタッチセンサ10の後方位置に配置されている。   In the housing 110, as shown in FIG. 3, a display device 300, a microphone 410, a speaker 420, and the like are arranged. In addition, the first control unit 510 and the second control unit 520 are mounted on the wiring board disposed in the housing 110. Further, a radio wave transmission / reception unit 550 and the like are also formed on the wiring board. Although not shown, the display device 300 is disposed behind the cover lens integrated touch sensor 10.

第1制御部510は、図3に示したように、表示装置300、マイク410、スピーカ420等の各種の機能部位を制御する機能を備え、それぞれに接続されている。また、第2制御部520は、第1制御部510に接続されている。   As shown in FIG. 3, the first control unit 510 has a function of controlling various functional parts such as the display device 300, the microphone 410, and the speaker 420, and is connected to each. The second control unit 520 is connected to the first control unit 510.

筐体110の側部には、図1に示したように側面スイッチ部600が三つ設けられている。各々の側面スイッチ部600も第1制御部510に接続されている(図3参照)。例えば、側面スイッチ部600の内の一つを押圧操作すると、そのスイッチ信号が第1制御部510で検出され、第1制御部510の制御で表示装置300の表示中の画面の遷移がなされるなどの制御が行われる。   As shown in FIG. 1, three side switch parts 600 are provided on the side part of the casing 110. Each side switch 600 is also connected to the first controller 510 (see FIG. 3). For example, when one of the side surface switch units 600 is pressed, the switch signal is detected by the first control unit 510, and the display screen of the display device 300 is changed under the control of the first control unit 510. Control is performed.

カバーレンズ一体型のタッチセンサ10は、図3に示したように、第2制御部520に接続されて制御されている。第2制御部520は、タッチセンサ10に対し、指等で近接操作またはタッチ操作がされた際にタッチセンサ10に生じる静電容量の変化を検出し、その検出結果に応じた所定信号を出力する機能を有する。第2制御部520からの所定信号が第1制御部510に入力されると、第1制御部510は、その所定信号に応じて各種の機能部位などの制御を行う。   As shown in FIG. 3, the cover lens integrated type touch sensor 10 is connected to and controlled by the second control unit 520. The second control unit 520 detects a change in capacitance generated in the touch sensor 10 when a proximity operation or a touch operation is performed on the touch sensor 10 with a finger or the like, and outputs a predetermined signal according to the detection result. It has the function to do. When a predetermined signal from the second control unit 520 is input to the first control unit 510, the first control unit 510 controls various functional parts according to the predetermined signal.

以上のように、カバーレンズ一体型のタッチセンサ10や各種の機能部位などを有してスマートフォン100は構成されている。   As described above, the smartphone 100 is configured to include the cover lens integrated touch sensor 10 and various functional parts.

次に、このカバーレンズ一体型のタッチセンサ10について説明する。   Next, the cover lens integrated type touch sensor 10 will be described.

タッチセンサ10は、図4〜図6に示したように、平板状に形成されている本体部15を有し、その本体部15に複数の検知部20が設けられて構成されたものになっている。本体部15にはフレキシブル配線板が装着されているが、その図示などは省略する。   As shown in FIGS. 4 to 6, the touch sensor 10 includes a main body portion 15 formed in a flat plate shape, and the main body portion 15 includes a plurality of detection units 20. ing. Although a flexible wiring board is attached to the main body portion 15, illustration thereof is omitted.

本体部15は、それぞれの検知部20にあたる位置では、図4に示すように、平面に形成された第1表面41を有する樹脂製の基材部40と、第1表面41に重ねて配された導電金属からなる金属パターン50と、金属パターン50に重なる第1樹脂層61と、第1樹脂層61を覆うように第1表面41側に重なる第2樹脂層62とを備えている。   As shown in FIG. 4, the main body portion 15 is disposed so as to overlap the first surface 41 and a resin base material portion 40 having a first surface 41 formed in a plane at positions corresponding to the respective detection portions 20. A metal pattern 50 made of conductive metal, a first resin layer 61 overlapping the metal pattern 50, and a second resin layer 62 overlapping the first surface 41 side so as to cover the first resin layer 61 are provided.

なお、詳細は後述するが金属パターン50と第1樹脂層61は平面視では同じ形状に形成されたものになっている。また、第1樹脂層61や第2樹脂層62は、樹脂のみで構成されたものとなっている。   In addition, although mentioned later for details, the metal pattern 50 and the 1st resin layer 61 are formed in the same shape by planar view. Moreover, the 1st resin layer 61 and the 2nd resin layer 62 are comprised only with resin.

基材部40は、例えば光透過性を有するポリカーボネート(PC)樹脂で形成されている。また、第1樹脂層61、第2樹脂層62も光透過性を有する素材のもので形成されている。   The base material portion 40 is made of, for example, a light-transmitting polycarbonate (PC) resin. Further, the first resin layer 61 and the second resin layer 62 are also made of a light transmissive material.

なお、基材部40の材質は、PC樹脂以外では、ポリエチレンテレフタレート(PET)樹脂、ポリメチルメタクリレート(PMMA)樹脂、環状オレフィン樹脂等の光透過性の樹脂を用いることができる。   In addition, as a material of the base material portion 40, a light transmissive resin such as a polyethylene terephthalate (PET) resin, a polymethyl methacrylate (PMMA) resin, or a cyclic olefin resin can be used other than the PC resin.

そして、基材部40の厚みとしては、カバーレンズ一体型の構成とする際には、強度が確保されつつ、操作時に所定の静電容量の変化量が得られる厚みにすればよい。その厚みは、用いる樹脂の特性などによって左右されるが、例えばPC樹脂を用いる場合では、強度確保の観点からすると1mm程度の厚みがあればよい。望ましくは1mm前後より厚いとよい。その反面、厚すぎると操作時に所定の静電容量の変化量が得られ難くなるため、3mm程度までの厚み、望ましくは3mm前後より薄い厚みにするのが好ましい。   The thickness of the base material portion 40 may be set to a thickness at which a predetermined amount of change in capacitance can be obtained during operation while ensuring strength when the cover lens is integrated. The thickness depends on the characteristics of the resin used. For example, in the case of using a PC resin, a thickness of about 1 mm is sufficient from the viewpoint of securing strength. Desirably, it is thicker than about 1 mm. On the other hand, if it is too thick, it becomes difficult to obtain a predetermined change in capacitance during operation, so it is preferable to make the thickness up to about 3 mm, preferably less than about 3 mm.

なお、スマートフォン100用のように表示内容の透過が必要となる場合以外では、基材部40などは光透過性を有するものとしなくてもよい。   In addition, the base material part 40 etc. do not need to have a light transmittance except the case where transmission of display content is required as for the smartphone 100.

そして、当該カバーレンズ一体型のタッチセンサ10では、基材部40の第1表面41に対向する第2表面42側が、指等での操作をする操作面側になる。そのため、第2表面42には、ハードコート層48などの機能成膜が重ねて設けられている。なお、機能成膜としては、ハードコート層48の他に、例えば反射防止機能やアンチフィンガープリント機能を有する層があげられ、図4に示したハードコート層48としても反射防止機能やアンチフィンガープリント機能をあわせ持つものなどにしてもよく、または、それらの機能を有する層が第2表面42に積層形成されていてもよい。   In the cover lens integrated type touch sensor 10, the second surface 42 side facing the first surface 41 of the base material portion 40 is an operation surface side for performing an operation with a finger or the like. Therefore, the second surface 42 is provided with a functional film such as a hard coat layer 48 in an overlapping manner. In addition to the hard coat layer 48, examples of the functional film formation include a layer having an antireflection function and an anti-fingerprint function. The hard coat layer 48 shown in FIG. Those having functions may be used, or layers having these functions may be laminated on the second surface 42.

個々の検知部20の形状は、同じ大きさの矩形状であり、図5や図6に示したように、複数の検知部20が互いに独立したマトリクス状の配置状態になるように基材部40に形成されている。そして、各々の検知部20毎に、引き出し部30が設けられている。引き出し部30は、本体部15の外縁位置までそれぞれ引き回されて、本体部15に装着されている図示しないフレキシブル配線板に接続されている。そして、このフレキシブル配線板を介して、個々の検知部20は第2制御部520に接続されている。   The shape of each detection unit 20 is a rectangular shape having the same size, and as shown in FIG. 5 and FIG. 6, the base material unit so that the plurality of detection units 20 are arranged in a matrix form independent of each other. 40. A drawer 30 is provided for each detector 20. The lead portions 30 are respectively routed to the outer edge position of the main body portion 15 and connected to a flexible wiring board (not shown) attached to the main body portion 15. And each detection part 20 is connected to the 2nd control part 520 via this flexible wiring board.

それぞれの検知部20は、その導電部位が、第1表面41に重ねて形成された金属パターン50(図4参照)で構成されたものになっている。金属パターン50は、平面視では、矩形状の外枠とその外枠内に互いに交差してメッシュ状になるように設けられている。それらの金属パターン50は、全てが同じ幅で、かつ同じ厚みで形成されており、互いに連結している。また、同様にそれぞれの引き出し部30も、その導電部位が、互いに連結した金属パターン50で構成されたものになっている。   Each of the detection units 20 is configured such that the conductive portion is composed of a metal pattern 50 (see FIG. 4) formed so as to overlap the first surface 41. In a plan view, the metal pattern 50 is provided so as to have a rectangular outer frame and mesh with each other in the outer frame. The metal patterns 50 are all formed with the same width and the same thickness, and are connected to each other. Similarly, each of the lead portions 30 is also configured such that the conductive portions are composed of metal patterns 50 connected to each other.

ここで、金属パターン50について説明する。金属パターン50は、その幅が0.5μm〜3μmのものに設定して形成されている。検知部20の外枠内では、50μm〜1000μmピッチの平行関係で形成されている上記複数の金属パターン50同士が互いに略直交関係で交差するように連結されてメッシュ状に形成されている。なお、検知部20の外枠内の金属パターン50と外枠の金属パターン50も連結して形成されている。そして、外枠内などの連結した金属パターン50が規則的な配置状態のものであれば、第1表面41に金属パターン50が配されていない領域それぞれも規則的で同じ面積に確保されるため好ましい。   Here, the metal pattern 50 will be described. The metal pattern 50 is formed with a width of 0.5 μm to 3 μm. In the outer frame of the detector 20, the metal patterns 50 formed in a parallel relationship with a pitch of 50 μm to 1000 μm are connected so as to intersect with each other in a substantially orthogonal relationship and are formed in a mesh shape. The metal pattern 50 in the outer frame of the detection unit 20 and the metal pattern 50 in the outer frame are also connected and formed. If the connected metal patterns 50 in the outer frame or the like are in a regular arrangement state, the regions where the metal patterns 50 are not arranged on the first surface 41 are also secured in a regular and the same area. preferable.

そして、金属パターン50は、銅、銀、アルミニウム、金及びそれぞれの合金などの導電金属製で、厚さが0.5μm〜3μmで設けられている。   The metal pattern 50 is made of a conductive metal such as copper, silver, aluminum, gold, and alloys thereof, and has a thickness of 0.5 μm to 3 μm.

なお、金属パターン50は、その幅や厚みが3μm以下の場合には、金属パターン50の視認は殆ど感じられなくなり、所謂光透過性を有する状態になる。このため、金属パターン50は幅が3μm以下になることを目安に設定している。そして、上記金属パターン50の幅や厚み設定にして、基材部40を透明な樹脂で形成すると、所謂透明なタッチパネルを得ることができる。なお、金属パターン50の幅や厚みが3μm以下であっても、当該構成のように金属パターン50をメッシュ状に設けたものに構成すれば、完全な断線状態になることが回避可能なものとして得ることができる。   Note that when the metal pattern 50 has a width or thickness of 3 μm or less, the metal pattern 50 is hardly perceived and is in a so-called light-transmitting state. For this reason, the metal pattern 50 is set so that the width is 3 μm or less. And when the width | variety and thickness setting of the said metal pattern 50 are set and the base material part 40 is formed with transparent resin, what is called a transparent touch panel can be obtained. In addition, even if the width and thickness of the metal pattern 50 are 3 μm or less, it is possible to avoid a complete disconnection state if the metal pattern 50 is configured in a mesh shape as in the configuration. Can be obtained.

そして、図4に示したように、当該構成では、金属パターン50に第1樹脂層61が重ねて設けられている。さらに、第1樹脂層61および金属パターン50が配されていない第1表面41箇所を覆うように第2樹脂層62が重ねて設けられている。   As shown in FIG. 4, in this configuration, the first resin layer 61 is provided so as to overlap the metal pattern 50. Further, a second resin layer 62 is provided so as to cover the first surface 41 where the first resin layer 61 and the metal pattern 50 are not disposed.

第1樹脂層61は、例えば絶縁レジストとしてなる光透過性を有するアクリル樹脂などからなり、第2樹脂層62は、例えば絶縁レジストとしてなる光透過性を有するアクリル樹脂などからなる。両者は同一のものであると使用材料の種類が抑えられて好ましい。なお、第1樹脂層61は、平面視では連結された金属パターン50と同じ形状で形成されている。   The first resin layer 61 is made of, for example, a light-transmitting acrylic resin that serves as an insulating resist, and the second resin layer 62 is made of, for example, a light-transmitting acrylic resin that is used as an insulating resist. It is preferable that both are the same because the types of materials used are suppressed. The first resin layer 61 is formed in the same shape as the connected metal patterns 50 in plan view.

第1樹脂層61の厚さは、0.1μm〜3μmである。第2樹脂層62の厚さは、第1表面41に重なった箇所で、1.0μm〜100μmである。なお、第2樹脂層62は、基材部40側とは反対の面が同一高さの平面で形成されたものとなっている。   The thickness of the first resin layer 61 is 0.1 μm to 3 μm. The thickness of the second resin layer 62 is 1.0 μm to 100 μm at a portion overlapping the first surface 41. In addition, the 2nd resin layer 62 has a surface opposite to the base material portion 40 side formed with a flat surface having the same height.

なお、第2表面42側には、ハードコート層48などの機能成膜が重ねて設けられていることは上述したとおりである。   As described above, the second surface 42 side is provided with the functional film such as the hard coat layer 48 in an overlapping manner.

以上のように構成されたタッチセンサ10は、本体部15における基材部40の第1表面41側を筐体110の内部に向けて、基材部40の第2表面42側が操作面になるように第2表面42側を露出させて機器に搭載される(図1参照)。   In the touch sensor 10 configured as described above, the first surface 41 side of the base material portion 40 in the main body portion 15 faces the inside of the housing 110, and the second surface 42 side of the base material portion 40 becomes the operation surface. Thus, the second surface 42 side is exposed and mounted on the device (see FIG. 1).

次に、当該カバーレンズ一体型のタッチセンサ10を搭載したスマートフォン100への入力操作状態について説明する。   Next, an input operation state to the smartphone 100 equipped with the cover lens integrated touch sensor 10 will be described.

使用者は、スマートフォン100の表示装置300に各種のアイコンを表示させ、その状態で所望アイコンに応じたタッチセンサ10の第2表面42側の表面位置を指でタッチ操作する。このタッチ操作に応じて、タッチセンサ10の相応する検知部20に静電容量の変化が生じる。この静電容量の変化は、引き出し部30を通じて第2制御部520によって検出され、検出結果に応じた信号が第1制御部510に入力される。第1制御部510は、その入力信号に応じて、表示装置300の表示を所望アイコンに対応する次画面に遷移等させる。   The user displays various icons on the display device 300 of the smartphone 100, and in that state, touches the surface position on the second surface 42 side of the touch sensor 10 corresponding to the desired icon with a finger. In accordance with this touch operation, a change in capacitance occurs in the corresponding detection unit 20 of the touch sensor 10. This change in capacitance is detected by the second control unit 520 through the lead-out unit 30 and a signal corresponding to the detection result is input to the first control unit 510. The first control unit 510 changes the display of the display device 300 to the next screen corresponding to the desired icon in accordance with the input signal.

このとき、当該カバーレンズ一体型のタッチセンサ10では、従来品よりも検出精度が向上したものともなる。   At this time, the cover lens-integrated touch sensor 10 has improved detection accuracy compared to the conventional product.

従来品は、基材部の表面に重ねて検知部が構成され、その検知部側とは反対の基材部の面が粘着剤を介してカバーレンズに貼り合わせられる。そして、その被着側とは反対のカバーレンズの面上への入力操作をする形態で使用される。   In the conventional product, a detection unit is configured to overlap the surface of the base material part, and the surface of the base material part opposite to the detection part side is bonded to the cover lens via an adhesive. And it is used in the form which performs input operation on the surface of the cover lens opposite to the adherence side.

これに対して、本発明によるタッチセンサ10では、カバーレンズ一体型であるため、粘着剤が不要であり、その分、第1表面41に重ねて形成した金属パターン50が操作中の指に近づいて位置するようにできる。このため、指との間での静電容量が大きい値となって、従来品よりも検出精度が向上したものとなり、機器の薄型化にも貢献できる。   On the other hand, since the touch sensor 10 according to the present invention is a cover lens integrated type, no adhesive is required, and the metal pattern 50 formed so as to overlap the first surface 41 approaches the finger being operated. Can be positioned. For this reason, the capacitance between the finger and the finger becomes a large value, the detection accuracy is improved as compared with the conventional product, and the device can be made thinner.

次に、タッチセンサ10の製造方法について、図7〜図13を用いて説明する。   Next, a method for manufacturing the touch sensor 10 will be described with reference to FIGS.

第1工程で、ポリカーボネート樹脂などの樹脂を用いて、図7に示したように、対向する第1表面41と第2表面42を有した基材部40を仕掛品701として射出成形で形成する。なお、仕掛品701は、一つずつの単体状態で形成してもよいが、例えば基材部40に相当する部分が複数取り可能な大判状のもので形成してもよい。そして、基材部40は、少なくとも第1表面41が平面よりなるものとして形成する。   In the first step, using a resin such as polycarbonate resin, as shown in FIG. 7, the base material portion 40 having the first surface 41 and the second surface 42 facing each other is formed as an in-process product 701 by injection molding. . The work-in-progress 701 may be formed in a single unit state, but may be formed in a large shape that allows a plurality of portions corresponding to the base material portion 40 to be taken. And the base material part 40 is formed as that in which the 1st surface 41 consists of a plane at least.

次に、第2工程で、図8に示したように、基材部40の第1表面41側の全面に銅等の導電金属からなる導電金属膜800を成膜して仕掛品702に形成する。導電金属膜800は、例えば0.1μm〜3.0μmの厚みで形成し、少なくとも金属パターン50で必要となる厚みを充足する厚みに形成する。その成膜方法はスパッタ法や蒸着法を用いればよいが特に限定はされない。   Next, in the second step, as shown in FIG. 8, a conductive metal film 800 made of a conductive metal such as copper is formed on the entire surface of the base portion 40 on the first surface 41 side to form the work-in-process 702. To do. The conductive metal film 800 is formed with a thickness of, for example, 0.1 μm to 3.0 μm, and is formed to a thickness that satisfies at least the thickness required for the metal pattern 50. The film forming method may be a sputtering method or a vapor deposition method, but is not particularly limited.

第3工程で、基材部40の第1表面41側に液状の第1樹脂液を塗布する。第1樹脂液はUV硬化型のものであり、塗布方法としてはスピンコート法を用いるとよい。これによって、図9に示したように、露光前の第1樹脂液の塗膜850が導電金属膜800に重なった仕掛品703にする。なお、スピンコート法を用いると、露光前の塗膜850として、導電金属膜800側とは反対の表面が同一高さのものに形成できるため好ましい。なお、基材部40に相当する部分が複数取り可能な円形の大判状のものにしておくと生産効率に優れる。   In the third step, the liquid first resin liquid is applied to the first surface 41 side of the base material portion 40. The first resin liquid is of a UV curable type, and a spin coating method may be used as a coating method. As a result, as shown in FIG. 9, the work-in-process 703 in which the coating film 850 of the first resin liquid before exposure overlaps the conductive metal film 800 is obtained. Note that it is preferable to use a spin coating method because the surface opposite to the conductive metal film 800 side can be formed to have the same height as the coating film 850 before exposure. In addition, it is excellent in production efficiency if it is made into the circular large-sized thing which can take a part corresponding to the base material part 40 in multiple numbers.

その後、第4工程で、露光前の第1樹脂液の塗膜850に、例えば、スタンパーを押し当てた状態でUV照射をする。スタンパーは、押し当てる面が凹凸面に形成されている。その凹凸形状としては、導電金属膜800から金属パターン50に形成する箇所は、塗膜850が厚く残り、それ以外の箇所は塗膜850が薄く残る形状で構成されたものを用いる。なお、スタンパーの材質は特に限定はされないが、樹脂製の樹脂スタンパーであるとスタンパーの製作が容易であるため好ましい。   Thereafter, in the fourth step, the UV irradiation is performed in a state where, for example, a stamper is pressed against the coating film 850 of the first resin liquid before exposure. The stamper has an uneven surface to be pressed. As the concavo-convex shape, a portion formed from the conductive metal film 800 to the metal pattern 50 has a configuration in which the coating film 850 remains thick, and other portions are formed in a shape in which the coating film 850 remains thin. The material of the stamper is not particularly limited, but a resin resin stamper is preferable because the stamper can be easily manufactured.

そして、スタンパーを押し当てたまま、UV照射を行う。これによって、図10に示すように、露光前の塗膜850がスタンパーの押し当て面の凹凸形状に応じた形状で硬化して第1樹脂被膜900に形成された仕掛品704を得る。つまり、仕掛品704としては、導電金属膜800に重なって形成された第1樹脂被膜900を備えたものに形成される。なお、第1樹脂液としては、UV硬化型の樹脂材料のものを用いると硬化時間などの短縮化が図れるため好ましいが、第1樹脂液はUV硬化型のもののみに限定はされない。   Then, UV irradiation is performed with the stamper pressed. As a result, as shown in FIG. 10, the in-process product 704 formed on the first resin coating 900 is obtained by curing the coating 850 before exposure in a shape corresponding to the uneven shape of the pressing surface of the stamper. In other words, the work-in-process 704 is formed with the first resin film 900 formed so as to overlap the conductive metal film 800. As the first resin liquid, it is preferable to use a UV curable resin material because the curing time can be shortened. However, the first resin liquid is not limited to the UV curable resin material.

なお、以上の説明からも判るように、当該製造方法では、第3工程から第4工程にかけて、所謂インプリントリソグラフィーを行って第1樹脂被膜900付きの仕掛品704に形成している。   As can be seen from the above description, in the manufacturing method, so-called imprint lithography is performed from the third step to the fourth step to form the work-in-process 704 with the first resin coating 900.

第1樹脂被膜900は、図10に示したように、第1膜厚部910と第1膜厚部910より厚く形成された第2膜厚部920とが一体で形成されたものになっている。   As shown in FIG. 10, the first resin film 900 is formed by integrally forming a first film thickness part 910 and a second film thickness part 920 formed thicker than the first film thickness part 910. Yes.

第2膜厚部920は、金属パターン50の形成箇所に合わせて設けられたものになっている。つまり、第2膜厚部920は、平面視では互いに連結するメュシュ状などの形状に設けられ、その幅は、形成する金属パターン50の幅と同等程度、もしくはそれよりも若干太幅で設けられたものになっている。   The second film thickness portion 920 is provided in accordance with the location where the metal pattern 50 is formed. That is, the second film thickness portion 920 is provided in a shape such as a mesh shape that is connected to each other in plan view, and the width thereof is approximately the same as the width of the metal pattern 50 to be formed or slightly wider than that. It has become a thing.

第1膜厚部910は、導電金属膜800側とは反対の表面が平面に形成されている。そして、第1膜厚部910は、図10に示したように、導電金属膜800から表面までの厚み(以下、第1厚みと記載する)がB寸法で形成されている。また、第2膜厚部920も、導電金属膜800側とは反対の表面が平面で形成されている。そして、第2膜厚部920は、図10に示したように、導電金属膜800から表面までの厚み(以下、第2厚みと記載する)がC寸法で形成されている。   The first film thickness portion 910 has a flat surface opposite to the conductive metal film 800 side. As shown in FIG. 10, the first film thickness portion 910 is formed with a B dimension from the conductive metal film 800 to the surface (hereinafter referred to as the first thickness). The second film thickness portion 920 is also formed with a flat surface opposite to the conductive metal film 800 side. As shown in FIG. 10, the second film thickness portion 920 has a thickness from the conductive metal film 800 to the surface (hereinafter referred to as a second thickness) having a C dimension.

第5工程では、仕掛品704に対して、例えば、酸素ガスを用いたエッチング処理を全面に行い、第1樹脂被膜900の第1膜厚部910を除去した仕掛品705(図11参照)に形成する。   In the fifth step, the work-in-process 704 is subjected to, for example, an etching process using oxygen gas on the entire surface, and the work-in-process 705 (see FIG. 11) from which the first film thickness portion 910 of the first resin coating 900 has been removed. Form.

この第1樹脂被膜900の第1膜厚部910の除去の際には、第2膜厚部920の除去も同時に進む。このため、第1膜厚部910の第1厚み(B寸法)と第2膜厚部920の第2厚み(C寸法)の設定は、第1膜厚部910が除去された仕掛品705の状態で、第2膜厚部920が例えば0.1μm〜3.0μmの第1樹脂層61として導電金属膜800に重なって残るように、第1厚み(B寸法)および第2厚み(C寸法)を設定している。言い換えると、第1樹脂被膜900の第2膜厚部920の第2厚み(C寸法)は、第1膜厚部910の第1厚み(B寸法)と導電金属膜800に重なって残る第1樹脂層61の厚さの和に対して同等以上の厚みで設定して形成している。   When removing the first film thickness portion 910 of the first resin film 900, the removal of the second film thickness portion 920 proceeds simultaneously. For this reason, the setting of the first thickness (B dimension) of the first film thickness part 910 and the second thickness (C dimension) of the second film thickness part 920 is performed on the work-in-process 705 from which the first film thickness part 910 is removed. In the state, the first thickness (B dimension) and the second thickness (C dimension) are such that the second film thickness portion 920 remains on the conductive metal film 800 as the first resin layer 61 having a thickness of, for example, 0.1 μm to 3.0 μm. ) Is set. In other words, the second thickness (C dimension) of the second film thickness portion 920 of the first resin coating 900 overlaps the first thickness (B dimension) of the first film thickness portion 910 and the conductive metal film 800 to remain. The thickness is set equal to or greater than the sum of the thicknesses of the resin layers 61.

導電金属膜800に重なって残った第1樹脂層61は、金属パターン50の形成位置に対応して形成され、例えば、平面視では互いにメッシュ状などに連結した形状になっている。   The first resin layer 61 remaining on the conductive metal film 800 is formed corresponding to the position where the metal pattern 50 is formed. For example, in a plan view, the first resin layer 61 is connected to each other in a mesh shape.

そして、仕掛品705は、図11に示したように、第1樹脂層61で覆われていない導電金属膜800箇所は、外方に露出した表出部810になっている。   In the work-in-process 705, as shown in FIG. 11, the 800 portions of the conductive metal film not covered with the first resin layer 61 are exposed portions 810 exposed to the outside.

続いて、第6工程で、導電金属膜800の表出部810箇所を除去する。例えば、導電金属膜800が銅素材からなるものであれば、銅に対するエッチング処理をして、表出部810箇所を除去して仕掛品706を得る(図12参照)。   Subsequently, in a sixth step, 810 exposed portions of the conductive metal film 800 are removed. For example, if the conductive metal film 800 is made of a copper material, an etching process is performed on copper, and the exposed portion 810 is removed to obtain a work-in-process 706 (see FIG. 12).

仕掛品706では、導電金属膜800は、表出部810箇所が除去されることによって、第1樹脂層61で覆われた部分だけが残り、その残った部分が金属パターン50になる。つまり、この第6工程で、導電金属膜800から第1表面41に重なって位置する金属パターン50が形成される。金属パターン50は、その厚みや幅が0.5μm〜3μmで、平面視では互いにメッシュ状などに連結した形状のものに形成される。第1樹脂層61は、金属パターン50とほぼ同等の幅で金属パターン50の全てに重なっている。そして、仕掛品706では、金属パターン50が配されていない第1表面41部分は露出している。   In the work-in-process 706, the conductive metal film 800 is removed at the exposed portion 810, so that only the portion covered with the first resin layer 61 remains and the remaining portion becomes the metal pattern 50. That is, in the sixth step, the metal pattern 50 is formed so as to overlap with the first surface 41 from the conductive metal film 800. The metal pattern 50 has a thickness and width of 0.5 μm to 3 μm, and is formed in a shape connected to each other in a mesh shape or the like in plan view. The first resin layer 61 overlaps all of the metal pattern 50 with a width substantially equal to that of the metal pattern 50. In the work in process 706, the first surface 41 portion where the metal pattern 50 is not disposed is exposed.

第7工程では、仕掛品706に対して第1表面41側から液状の第2樹脂液を塗布し、その後、第2樹脂液を硬化させることにより、第1表面41側の全体を覆う第2樹脂層62が形成された仕掛品707に形成する。なお、第2樹脂層62は、表面高さ位置が均一的な高さ設定で設けるとよく、第2樹脂液をUV硬化型のものとして、その塗布方法としてもスピンコート法を用いるとよいこと等は第1樹脂液の場合と同じである。   In the seventh step, the second resin liquid that is liquid is applied to the work-in-process 706 from the first surface 41 side, and then the second resin liquid is cured, thereby covering the entire first surface 41 side. It is formed on the work-in-process 707 on which the resin layer 62 is formed. The second resin layer 62 is preferably provided with a uniform height setting on the surface height, and the second resin liquid is a UV curable type, and the spin coating method may be used as the coating method. Etc. are the same as in the case of the first resin liquid.

その後、仕掛品707の第2表面42側にハードコート層48などの機能成膜を設けて、タッチセンサ10の本体部15に完成させる。なお、大判状のもので形成している場合には、外形を打ち抜き、タッチセンサ10の本体部15に形成する。   Thereafter, a functional film such as a hard coat layer 48 is provided on the second surface 42 side of the work-in-process 707 to complete the main body 15 of the touch sensor 10. In addition, when it is formed in a large shape, the outer shape is punched and formed on the main body portion 15 of the touch sensor 10.

なお、ハードコート層48などの機能成膜の形成タイミングは第1工程の後などに行ってもよい。そして、カバーレンズ一体型のタッチセンサ10の場合には、この第2表面42側の機能成膜の上を指等で操作するようになる。つまり、機能成膜としても表面が平坦なものとする必要がある。このため、機能成膜もスピンコート法を用いて形成するとよい。   The formation timing of the functional film such as the hard coat layer 48 may be performed after the first step. In the case of the cover lens integrated type touch sensor 10, the function film on the second surface 42 side is operated with a finger or the like. That is, it is necessary to make the surface flat for functional film formation. For this reason, it is preferable to form the functional film using the spin coat method.

続いて、本体部15にフレキシブル配線板を装着させるなどしてタッチセンサ10とする。   Subsequently, the touch sensor 10 is formed by attaching a flexible wiring board to the main body 15.

以上のように、当該製造方法によれば、カバーレンズ一体型のタッチセンサ10を容易かつ簡素な工程で製造することができる。そして、このタッチセンサ10では、検出部の材質としても高価なITO製や導電性ナノワイヤーを用いないため、安価に構成することができる。さらに、スピンコート法を用いると、第1樹脂液や第2樹脂液を短時間で同一高さに塗布でき、かつ大判状のもので効率よく形成することも可能となり、これも安価で高品質なタッチセンサ10を得ることに寄与する。   As described above, according to the manufacturing method, the cover lens integrated touch sensor 10 can be manufactured in an easy and simple process. And since this touch sensor 10 does not use expensive ITO-made or electroconductive nanowires as a material of a detection part, it can be comprised at low cost. Furthermore, when the spin coating method is used, the first resin liquid and the second resin liquid can be applied to the same height in a short time, and can be formed efficiently in a large size, which is also inexpensive and high quality. This contributes to obtaining a touch sensor 10 that is reliable.

さらに、当該製造方法では、基材部40の厚み設定が容易にでき、かつその基材部40に金属パターン50を直接設ける製造方法としたため、カバーレンズ一体型のタッチセンサ10を容易に製造することができる。カバーレンズ一体型のタッチセンサ10であれば、機器に搭載するにあたって、従来品のようにカバーレンズへの貼り合わせ工程が不要となって、貼り合わせずれが起こること等がなくせるという利点も有する。なお、従来品のようにカバーレンズに貼り合わせて使用するものを製造してもよい。その場合には、基材部40の形成厚みを相応する厚みにすればよい。   Further, in the manufacturing method, since the thickness of the base material portion 40 can be easily set and the metal pattern 50 is directly provided on the base material portion 40, the cover lens integrated touch sensor 10 is easily manufactured. be able to. The cover lens-integrated touch sensor 10 has an advantage that when it is mounted on a device, a bonding process to the cover lens is not required as in the conventional product, so that a bonding deviation does not occur. . In addition, you may manufacture what is affixed and used for a cover lens like a conventional product. In that case, what is necessary is just to make the formation thickness of the base material part 40 into a corresponding thickness.

なお、上記では基材部40が平板状で、曲がっていない形状のもので説明した。しかしながら、当該製造方法であれば、図14に示した変形例のタッチセンサ10Aを得ることも可能である。タッチセンサ10Aは、短手方向側のみが円弧状になる形状で形成されている。   In the above description, the base material portion 40 has a flat plate shape and is not bent. However, if it is the said manufacturing method, it is also possible to obtain the touch sensor 10A of the modification shown in FIG. The touch sensor 10A is formed in a shape in which only the short side is an arc.

タッチセンサ10Aを製造するには、上述した第1工程で基材部を短手方向側のみが円弧状になったものに形成する。その後の第2工程以降は同じ製造工程を用いて製造すればタッチセンサ10Aを得ることができる。なお、タッチセンサ10Aのように基材部の第1表面や第2表面が曲面的な形状である場合でも、スピンコート法を用いると第1樹脂液などの塗布が容易にできて好ましい。   In order to manufacture the touch sensor 10A, the base material portion is formed in an arc shape only on the short side in the first step described above. If the second and subsequent steps are manufactured using the same manufacturing process, the touch sensor 10A can be obtained. Note that even when the first surface and the second surface of the base member have a curved shape like the touch sensor 10A, it is preferable to apply the first resin liquid or the like by using the spin coating method.

なお、上述した金属パターン50を導電部位とした検知部20は、タッチセンサ10、10A以外の構成のものに適用してもよい。例えば、X方向に伸びる帯状の検知部を設けた第1板状部材と、Y方向に伸びる帯状の検知部を設けた第2板状部材とを貼り合わせて構成したものなどに適用可能である。   In addition, you may apply the detection part 20 which used the metal pattern 50 mentioned above as the electroconductive part to things other than the touch sensor 10 and 10A. For example, the present invention can be applied to a configuration in which a first plate-like member provided with a strip-like detection part extending in the X direction and a second plate-like member provided with a strip-like detection part extending in the Y direction are bonded together. .

なお、以上では、タッチセンサ10、10Aを光透過性を有したものとしてスマートフォン100に搭載した例で説明したが、搭載する機器は特に限定されることはなく、各種電子機器の入力操作部用等として搭載することが可能である。また、表示内容の視認が必要のない箇所に、タッチセンサ10、10Aを配設してもよい。その場合には、タッチセンサ10、10Aの光透過性も不要となるため、使用材料の選択の幅が広がり、さらに安価に構成することも可能となる。なお、光透過性が不要とされたタッチセンサを搭載する機器としても、例えば自動車の車室内の操作パネルなどがあげられるが特に限定はされない。   In the above description, the touch sensors 10 and 10A are described as being mounted on the smartphone 100 as having light transmissivity. However, the devices to be mounted are not particularly limited, and are for input operation units of various electronic devices. Etc. can be mounted. Moreover, you may arrange | position the touch sensors 10 and 10A in the location which does not require visual recognition of the display content. In that case, since the light transmittance of the touch sensors 10 and 10A is not required, the range of selection of materials to be used is widened, and it is possible to configure at a lower cost. In addition, as a device equipped with a touch sensor that does not require light transmission, for example, an operation panel in a passenger compartment of an automobile can be cited, but there is no particular limitation.

本発明によるタッチセンサの製造方法は、安価にカバーレンズ一体型のタッチセンサを構成することができ、そのタッチセンサは主に各種電子機器の入力操作部用等に有用である。   The method for manufacturing a touch sensor according to the present invention can form a cover lens-integrated touch sensor at low cost, and the touch sensor is mainly useful for input operation units of various electronic devices.

10、10A タッチセンサ
15 本体部
20 検知部
30 引き出し部
40 基材部
41 第1表面
42 第2表面
48 ハードコート層
50 金属パターン
61 第1樹脂層
62 第2樹脂層
100 スマートフォン
110 筐体
300 表示装置
410 マイク
420 スピーカ
510 第1制御部
520 第2制御部
550 送受信部
600 側面スイッチ部
701、702、703、704、705、706、707 仕掛品
800 導電金属膜
810 表出部
850 塗膜
900 第1樹脂被膜
910 第1膜厚部
920 第2膜厚部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10, 10A Touch sensor 15 Main body part 20 Detection part 30 Drawer part 40 Base part 41 1st surface 42 2nd surface 48 Hard coat layer 50 Metal pattern 61 1st resin layer 62 2nd resin layer 100 Smartphone 110 Case 300 Display Device 410 Microphone 420 Speaker 510 First control unit 520 Second control unit 550 Transmission / reception unit 600 Side switch unit 701, 702, 703, 704, 705, 706, 707 Work in progress 800 Conductive metal film 810 Exposed unit 850 Coating film 900 First 1 resin film 910 first film thickness part 920 second film thickness part

Claims (7)

対向する第1表面と第2表面を有した基材部を所定の樹脂で形成する第1工程と、
前記基材部の前記第1表面に導電金属膜を成膜する第2工程と、
前記導電金属膜に重ねて液状の第1樹脂液を塗布して露光前の塗膜を形成する第3工程と、
前記露光前の塗膜を、第1膜厚部と第2膜厚部とを有する第1樹脂被膜に形成する第4工程と、
前記第1樹脂被膜の前記第1膜厚部を除去することによって前記導電金属膜の表出部を有するものにすると共に、前記第2膜厚部を第1樹脂層に形成する第5工程と、
前記導電金属膜の前記表出部箇所を除去することによって、前記導電金属膜から検知部の導電部位となる金属パターンを形成する第6工程と、
前記基材部の前記第1表面側に液状の第2樹脂液を塗布し、その後、前記第2樹脂液を硬化させて、前記第1表面41側を覆う第2樹脂層を形成する第7工程と、を有するタッチセンサの製造方法。
A first step of forming a base portion having a first surface and a second surface facing each other with a predetermined resin;
A second step of forming a conductive metal film on the first surface of the base portion;
A third step of forming a pre-exposure coating film by applying a liquid first resin liquid on the conductive metal film;
A fourth step of forming the coating film before exposure on a first resin film having a first film thickness portion and a second film thickness portion;
Removing the first film thickness portion of the first resin coating to have the exposed portion of the conductive metal film, and forming the second film thickness portion on the first resin layer; ,
A sixth step of forming a metal pattern serving as a conductive portion of the detection unit from the conductive metal film by removing the exposed portion of the conductive metal film;
A liquid second resin liquid is applied to the first surface side of the base portion, and then the second resin liquid is cured to form a second resin layer covering the first surface 41 side. And a method for manufacturing the touch sensor.
前記基材部を形成する所定の樹脂として光透過性を有するものを用いると共に、前記金属パターンの幅を0.5μm〜3μmで設けた請求項1記載のタッチセンサの製造方法。 The touch sensor manufacturing method according to claim 1, wherein a resin having light permeability is used as the predetermined resin for forming the base portion, and the width of the metal pattern is 0.5 μm to 3 μm. 前記第3工程において、前記第1樹脂液の塗布をスピンコート法で行う請求項1記載のタッチセンサの製造方法。 The touch sensor manufacturing method according to claim 1, wherein in the third step, the first resin liquid is applied by a spin coating method. 前記第4工程で、スタンパーを用いて前記第1樹脂被膜に形成する請求項1記載のタッチセンサの製造方法。 The method for manufacturing a touch sensor according to claim 1, wherein in the fourth step, the first resin film is formed using a stamper. 前記第4工程で形成される前記第1樹脂被膜は、前記第2膜厚部の厚みが、前記第1膜厚部の厚みと第1樹脂層の厚さとの和に対して同等以上の厚みで形成される請求項1記載のタッチセンサの製造方法。 In the first resin film formed in the fourth step, the thickness of the second film thickness portion is equal to or greater than the sum of the thickness of the first film thickness portion and the thickness of the first resin layer. The touch sensor manufacturing method according to claim 1, which is formed by: 前記第7工程において、前記第2樹脂液の塗布をスピンコート法で行う請求項1記載のタッチセンサの製造方法。 The touch sensor manufacturing method according to claim 1, wherein in the seventh step, the second resin liquid is applied by a spin coating method. 前記基材部の前記第2表面側にスピンコート法で機能成膜を形成するようにした請求項1記載のタッチセンサの製造方法。 The touch sensor manufacturing method according to claim 1, wherein the functional film is formed on the second surface side of the base material by a spin coating method.
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