JP2014501393A5 - - Google Patents
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本発明は、その好適な実施形態を参照して特に示されかつ記載されたが、その好適な実施形態においては、添付の特許請求の範囲に包含される本発明の範囲を逸脱せずに、形態および詳細において種々の変更がなされ得ることが当業者によって理解されるであろう。例えば、本発明は、ＯＣＴまたは分光分析だけに関連して記載されたが、本発明はまた、ＩＶＵＳ、ＦＬＩＶＵＳ、ＨＩＦＵ、圧力検知ワイヤおよび画像誘導治療装置とともに応用され得るであろう。
なお、本発明は、実施の態様として以下の内容を含む。
〔態様１〕
レーザ掃引光源を提供する工程と、
前記レーザ掃引光源のモード同期動作を制御し、掃引光信号を生成する工程と、
前記掃引光信号を、参照アームと、試料が位置する試料アームとを有する干渉計に伝送する工程と、
前記試料アームおよび前記参照アームから戻る前記掃引光信号を組み合わせて、干渉信号を生成する工程と、
前記干渉信号を検出する工程と、
前記検出された干渉信号から前記試料の画像情報を生成する工程とを備えた、光コヒーレンス画像化方法。
〔態様２〕
態様１に記載の方法において、前記レーザ掃引光源の前記モード同期動作を制御する工程は、前記レーザ掃引光源のレーザキャビティ内の光を増幅する光利得素子へのバイアス電流を制御する工程を含む、光コヒーレンス画像化方法。
〔態様３〕
態様２に記載の方法において、前記バイアス電流を制御する工程は、前記バイアス電流を前記レーザキャビティ内の光の往復移動時間に基づく周波数で変調する工程を含む、光コヒーレンス画像化方法。
〔態様４〕
態様１に記載の方法において、前記レーザ掃引光源の前記モード同期動作を制御する工程は、前記レーザ掃引光源のレーザキャビティの利得を変調する工程を含む、光コヒーレンス画像化方法。
〔態様５〕
態様４に記載の方法において、前記レーザキャビティの利得は、前記レーザキャビティ内の光の往復移動時間に基づく周波数で変調される、光コヒーレンス画像化方法。
〔態様６〕
態様１に記載の方法において、前記レーザ掃引光源の前記モード同期動作を制御する工程は、前記レーザ掃引光源のレーザキャビティ内の光信号の位相を変調する工程を含む、光コヒーレンス画像化方法。
〔態様７〕
態様１に記載の方法において、前記レーザ掃引光源のモード同期動作を制御する工程は、レーザキャビティを制御して、当該レーザキャビティ内を循環するパルスの数を低減させる工程を含む、光コヒーレンス画像化方法。
〔態様８〕
同調帯域にわたり周波数同調される掃引光信号を生成する掃引レーザ光源であって、当該掃引レーザ光源のモード同期動作が制御される、掃引レーザ光源と、
前記掃引光信号を、参照アームと、試料に導く試料アームとの間で分割する干渉計と、
前記参照アームからおよび前記試料アームからの前記掃引光信号から生成される干渉信号を検出する検出器システムとを備えた、光コヒーレンス分析システム。
〔態様９〕
態様８に記載のシステムにおいて、前記掃引レーザ光源は、利得媒質と、前記掃引光信号の周波数を制御する同調素子とを含む、光コヒーレンス分析システム。
〔態様１０〕
態様９に記載のシステムにおいて、前記掃引レーザ光源の前記モード同期動作が、前記利得媒質へのバイアス電流を変調することによって制御される、光コヒーレンス分析システム。
〔態様１１〕
態様１０に記載のシステムにおいて、前記バイアス電流は、前記キャビティ内の光の往復移動時間に基づく周波数で変調される、光コヒーレンス分析システム。
〔態様１２〕
態様８に記載のシステムにおいて、前記掃引レーザ光源の前記モード同期動作は、前記掃引レーザ光源のレーザキャビティ内の位相変調器によって制御される、光コヒーレンス分析システム。
〔態様１３〕
態様１２に記載のシステムにおいて、前記位相変調器は、前記キャビティ内の光の往復移動時間に基づく周波数で変調される、光コヒーレンス分析システム。
〔態様１４〕
態様８に記載のシステムにおいて、前記掃引レーザ光源の前記モード同期動作は、前記掃引レーザ光源のレーザキャビティの利得を変調することによって制御される、光コヒーレンス分析システム。
〔態様１５〕
態様１４に記載のシステムにおいて、前記レーザキャビティの前記利得は、前記レーザキャビティ内の光の往復移動時間に基づく周波数で変調される、光コヒーレンス分析システム。
〔態様１６〕
態様８に記載のシステムにおいて、前記掃引レーザ光源のレーザキャビティが制御されて、前記レーザキャビティ内を循環するパルスの数を低減させる、光コヒーレンス分析システム。
〔態様１７〕
モード同期掃引レーザ光源であって、
光を増幅するレーザキャビティ内の利得素子と、
前記レーザキャビティ用の可変同調素子と、
前記可変同調素子を同調帯域にわたり掃引して、掃引光信号を生成する同調制御器とを備え、
当該モード同期掃引レーザ光源のモード同期動作が制御される、モード同期掃引レーザ光源。
〔態様１８〕
態様１７に記載の光源において、前記レーザキャビティ内を循環するパルスの数を低減させるように、前記レーザ掃引光源の前記モード同期動作が制御される、モード同期掃引レーザ光源。
〔態様１９〕
態様１７に記載の光源において、前記レーザ掃引光源の前記モード同期動作を制御するように、前記レーザキャビティの利得が変調される、モード同期掃引レーザ光源。
〔態様２０〕
態様１７に記載の光源において、前記レーザ掃引光源の前記モード同期動作を制御するように、前記レーザキャビティの位相光信号が変調される、モード同期掃引レーザ光源。
なお、本発明は、実施の態様として以下の内容を含む。
〔態様１〕
レーザ掃引光源を提供する工程と、
前記レーザ掃引光源のモード同期動作を制御し、掃引光信号を生成する工程と、
前記掃引光信号を、参照アームと、試料が位置する試料アームとを有する干渉計に伝送する工程と、
前記試料アームおよび前記参照アームから戻る前記掃引光信号を組み合わせて、干渉信号を生成する工程と、
前記干渉信号を検出する工程と、
前記検出された干渉信号から前記試料の画像情報を生成する工程とを備えた、光コヒーレンス画像化方法。
〔態様２〕
態様１に記載の方法において、前記レーザ掃引光源の前記モード同期動作を制御する工程は、前記レーザ掃引光源のレーザキャビティ内の光を増幅する光利得素子へのバイアス電流を制御する工程を含む、光コヒーレンス画像化方法。
〔態様３〕
態様２に記載の方法において、前記バイアス電流を制御する工程は、前記バイアス電流を前記レーザキャビティ内の光の往復移動時間に基づく周波数で変調する工程を含む、光コヒーレンス画像化方法。
〔態様４〕
態様１に記載の方法において、前記レーザ掃引光源の前記モード同期動作を制御する工程は、前記レーザ掃引光源のレーザキャビティの利得を変調する工程を含む、光コヒーレンス画像化方法。
〔態様５〕
態様４に記載の方法において、前記レーザキャビティの利得は、前記レーザキャビティ内の光の往復移動時間に基づく周波数で変調される、光コヒーレンス画像化方法。
〔態様６〕
態様１に記載の方法において、前記レーザ掃引光源の前記モード同期動作を制御する工程は、前記レーザ掃引光源のレーザキャビティ内の光信号の位相を変調する工程を含む、光コヒーレンス画像化方法。
〔態様７〕
態様１に記載の方法において、前記レーザ掃引光源のモード同期動作を制御する工程は、レーザキャビティを制御して、当該レーザキャビティ内を循環するパルスの数を低減させる工程を含む、光コヒーレンス画像化方法。
〔態様８〕
同調帯域にわたり周波数同調される掃引光信号を生成する掃引レーザ光源であって、当該掃引レーザ光源のモード同期動作が制御される、掃引レーザ光源と、
前記掃引光信号を、参照アームと、試料に導く試料アームとの間で分割する干渉計と、
前記参照アームからおよび前記試料アームからの前記掃引光信号から生成される干渉信号を検出する検出器システムとを備えた、光コヒーレンス分析システム。
〔態様９〕
態様８に記載のシステムにおいて、前記掃引レーザ光源は、利得媒質と、前記掃引光信号の周波数を制御する同調素子とを含む、光コヒーレンス分析システム。
〔態様１０〕
態様９に記載のシステムにおいて、前記掃引レーザ光源の前記モード同期動作が、前記利得媒質へのバイアス電流を変調することによって制御される、光コヒーレンス分析システム。
〔態様１１〕
態様１０に記載のシステムにおいて、前記バイアス電流は、前記キャビティ内の光の往復移動時間に基づく周波数で変調される、光コヒーレンス分析システム。
〔態様１２〕
態様８に記載のシステムにおいて、前記掃引レーザ光源の前記モード同期動作は、前記掃引レーザ光源のレーザキャビティ内の位相変調器によって制御される、光コヒーレンス分析システム。
〔態様１３〕
態様１２に記載のシステムにおいて、前記位相変調器は、前記キャビティ内の光の往復移動時間に基づく周波数で変調される、光コヒーレンス分析システム。
〔態様１４〕
態様８に記載のシステムにおいて、前記掃引レーザ光源の前記モード同期動作は、前記掃引レーザ光源のレーザキャビティの利得を変調することによって制御される、光コヒーレンス分析システム。
〔態様１５〕
態様１４に記載のシステムにおいて、前記レーザキャビティの前記利得は、前記レーザキャビティ内の光の往復移動時間に基づく周波数で変調される、光コヒーレンス分析システム。
〔態様１６〕
態様８に記載のシステムにおいて、前記掃引レーザ光源のレーザキャビティが制御されて、前記レーザキャビティ内を循環するパルスの数を低減させる、光コヒーレンス分析システム。
〔態様１７〕
モード同期掃引レーザ光源であって、
光を増幅するレーザキャビティ内の利得素子と、
前記レーザキャビティ用の可変同調素子と、
前記可変同調素子を同調帯域にわたり掃引して、掃引光信号を生成する同調制御器とを備え、
当該モード同期掃引レーザ光源のモード同期動作が制御される、モード同期掃引レーザ光源。
〔態様１８〕
態様１７に記載の光源において、前記レーザキャビティ内を循環するパルスの数を低減させるように、前記レーザ掃引光源の前記モード同期動作が制御される、モード同期掃引レーザ光源。
〔態様１９〕
態様１７に記載の光源において、前記レーザ掃引光源の前記モード同期動作を制御するように、前記レーザキャビティの利得が変調される、モード同期掃引レーザ光源。
〔態様２０〕
態様１７に記載の光源において、前記レーザ掃引光源の前記モード同期動作を制御するように、前記レーザキャビティの位相光信号が変調される、モード同期掃引レーザ光源。
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