JP2014148562A - Curable resin composition, film, prepreg, and cured product - Google Patents

Curable resin composition, film, prepreg, and cured product Download PDF

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Yuki Hayashi
祐紀 林
Kazuhiro Sorioka
和宏 反岡
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Zeon Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a curable resin composition that gives a cured product having low linear expansion and excellent electric characteristics and heat resistance.SOLUTION: The curable resin composition comprises a polyfunctional epoxy compound (A), an active ester compound (B), a benzoxazine compound (C), and a filler (D), in which a ratio of phenolic hydroxyl groups in the benzoxazine compound (C) to active ester groups of the active ester compound (B) is 0.3 to 0.9 in terms of an equivalent ratio of (phenolic hydroxyl groups)/(active ester groups).

Description

本発明は、硬化性樹脂組成物、フィルム、プリプレグ、及び硬化物に関する。   The present invention relates to a curable resin composition, a film, a prepreg, and a cured product.

電子機器の小型化、多機能化、通信高速化などの追求に伴い、電子機器に用いられる回路基板のさらなる高密度化が要求されており、このような高密度化の要求に応えるために、回路基板の多層化が図られている。このような多層回路基板は、例えば、電気絶縁層とその表面に形成された導体層とからなる内層基板の上に、電気絶縁層を積層し、この電気絶縁層の上に導体層を形成させ、さらに、これら電気絶縁層の積層と、導体層の形成と、を繰り返し行なうことにより形成される。   With the pursuit of downsizing, multi-functionalization, high-speed communication, etc. of electronic devices, there is a need for higher density circuit boards used in electronic devices. To meet such demands for higher density, Circuit boards are being made multilayered. In such a multilayer circuit board, for example, an electrical insulation layer is laminated on an inner layer substrate composed of an electrical insulation layer and a conductor layer formed on the surface thereof, and a conductor layer is formed on the electrical insulation layer. Further, it is formed by repeatedly stacking these electrical insulating layers and forming the conductor layer.

このような多層回路基板の電気絶縁層を構成するための材料としては、一般的にセラミックや熱硬化性樹脂が用いられている。なかでも、熱硬化性樹脂としてのエポキシ樹脂は、経済性と性能のバランスの点で優れるため、広く使用されている。   As a material for constituting such an electrical insulating layer of the multilayer circuit board, a ceramic or a thermosetting resin is generally used. Among these, epoxy resins as thermosetting resins are widely used because they are excellent in terms of balance between economy and performance.

このような電気絶縁層を構成するためのエポキシ樹脂材料として、たとえば、特許文献1には、エポキシ樹脂、エポキシ硬化剤、フェノキシ樹脂及び/又はポリビニルアセタール樹脂、ならびにリン含有ベンゾオキサジン化合物を含有する樹脂組成物が開示されている。   As an epoxy resin material for constituting such an electrical insulating layer, for example, Patent Document 1 discloses an epoxy resin, an epoxy curing agent, a phenoxy resin and / or a polyvinyl acetal resin, and a resin containing a phosphorus-containing benzoxazine compound. A composition is disclosed.

国際公開第2009/038166号International Publication No. 2009/038166

しかしながら、本発明者らが検討したところ、上述した特許文献1に記載の樹脂組成物を用いて、電子材料用プリント基板の絶縁樹脂層を形成した場合、樹脂層の線膨張率(特に、高温側の線膨張率)が大きく、積層基板の変形が大きくなってしまうという問題があることが明らかになった。   However, when the present inventors examined, when the insulating resin layer of the printed circuit board for electronic materials was formed using the resin composition of patent document 1 mentioned above, the linear expansion coefficient (especially high temperature) of a resin layer was formed. It has become clear that there is a problem that the linear expansion coefficient on the side is large and the deformation of the laminated substrate becomes large.

本発明の目的は、低線膨張で、電気特性及び耐熱性に優れた硬化物を与える硬化性樹脂組成物、ならびに、これを用いて得られるフィルム、プリプレグ、及び硬化物を提供することである。   An object of the present invention is to provide a curable resin composition that gives a cured product having low linear expansion and excellent electrical characteristics and heat resistance, and a film, a prepreg, and a cured product obtained using the same. .

本発明者らは、上記目的を達成するために鋭意研究した結果、多官能エポキシ化合物、活性エステル化合物、ベンゾオキサジン化合物、及び充填剤を含有し、多官能エポキシ化合物に対するベンゾオキサジン化合物の配合割合が所定の範囲に制御された樹脂組成物が、低線膨張であり、かつ、電気特性及び耐熱性に優れた硬化物を与えることができることを見出し、本発明を完成させるに至った。   As a result of diligent research to achieve the above object, the present inventors contain a polyfunctional epoxy compound, an active ester compound, a benzoxazine compound, and a filler, and the blending ratio of the benzoxazine compound to the polyfunctional epoxy compound is The present inventors have found that a resin composition controlled within a predetermined range can provide a cured product having low linear expansion and excellent electrical characteristics and heat resistance, and has completed the present invention.

すなわち、本発明によれば、
〔1〕多官能エポキシ化合物(A)、活性エステル化合物(B)、ベンゾオキサジン化合物(C)、及び充填剤(D)を含有してなり、前記活性エステル化合物(B)の活性エステル基と、前記ベンゾオキサジン化合物(C)のフェノール性水酸基との比率が、「フェノール性水酸基/活性エステル基」の当量比で、0.3〜0.9である硬化性樹脂組成物、
〔2〕前記多官能エポキシ化合物(A)のエポキシ基と、前記活性エステル化合物(B)の活性エステル基と、前記ベンゾオキサジン化合物(C)のフェノール性水酸基との比率が、「(活性エステル基+フェノール性水酸基)/エポキシ基」の当量比で、1.0〜2.0である前記〔1〕に記載の硬化性樹脂組成物、
〔3〕前記多官能エポキシ化合物(A)100重量部に対する、前記ベンゾオキサジン化合物(C)の含有割合が38〜85重量部である前記〔1〕又は〔2〕に記載の硬化性樹脂組成物、
〔4〕前記〔1〕〜〔3〕のいずれかに記載の樹脂組成物からなるフィルム、
〔5〕前記〔1〕〜〔3〕のいずれかに記載の硬化性樹脂組成物を繊維基材に含浸してなるプリプレグ、ならびに、
〔6〕前記〔1〕〜〔3〕のいずれかに記載の樹脂組成物、前記〔4〕に記載のフィルム、又は前記〔5〕に記載のプリプレグを硬化してなる硬化物、
が提供される。
That is, according to the present invention,
[1] A polyfunctional epoxy compound (A), an active ester compound (B), a benzoxazine compound (C), and a filler (D), and an active ester group of the active ester compound (B); The ratio of the benzoxazine compound (C) to the phenolic hydroxyl group is a curable resin composition having an equivalent ratio of “phenolic hydroxyl group / active ester group” of 0.3 to 0.9,
[2] The ratio of the epoxy group of the polyfunctional epoxy compound (A), the active ester group of the active ester compound (B), and the phenolic hydroxyl group of the benzoxazine compound (C) is “(active ester group) + Phenolic hydroxyl group) / epoxy group "in an equivalent ratio of 1.0 to 2.0, the curable resin composition according to [1] above,
[3] The curable resin composition according to [1] or [2], wherein a content ratio of the benzoxazine compound (C) is 38 to 85 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the polyfunctional epoxy compound (A). ,
[4] A film comprising the resin composition according to any one of [1] to [3],
[5] A prepreg formed by impregnating a fiber base material with the curable resin composition according to any one of [1] to [3], and
[6] The resin composition according to any one of [1] to [3], the film according to [4], or the cured product obtained by curing the prepreg according to [5],
Is provided.

本発明によれば、低線膨張であり(特に、高温とした場合でも、線膨張率が低く抑えられており)、電気特性及び耐熱性に優れた硬化物を与える硬化性樹脂組成物、ならびに、これを用いて得られるフィルム、プリプレグ、及び硬化物が提供される。   According to the present invention, the curable resin composition has a low linear expansion (particularly, the linear expansion coefficient is kept low even at high temperatures), and gives a cured product excellent in electrical characteristics and heat resistance, and A film, a prepreg, and a cured product obtained using the same are provided.

本発明の硬化性樹脂組成物は、多官能エポキシ化合物(A)、活性エステル化合物(B)、ベンゾオキサジン化合物(C)、及び充填剤(D)を含有してなり、前記活性エステル化合物(B)の活性エステル基と、前記ベンゾオキサジン化合物(C)のフェノール性水酸基との比率が、「フェノール性水酸基/活性エステル基」の当量比で、0.3〜0.9である組成物である。   The curable resin composition of the present invention contains a polyfunctional epoxy compound (A), an active ester compound (B), a benzoxazine compound (C), and a filler (D), and the active ester compound (B ) And the phenolic hydroxyl group of the benzoxazine compound (C) is an equivalent ratio of “phenolic hydroxyl group / active ester group” of 0.3 to 0.9. .

(多官能エポキシ化合物(A))
本発明で用いる多官能エポキシ化合物(A)は、エポキシ基を2つ以上有するものであればよく、特に限定されない。
(Polyfunctional epoxy compound (A))
The polyfunctional epoxy compound (A) used in the present invention is not particularly limited as long as it has two or more epoxy groups.

多官能エポキシ化合物(A)の例としては、フェノールノボラック型エポキシ化合物、クレゾールノボラック型エポキシ化合物、クレゾール型エポキシ化合物、ビスフェノールA型エポキシ化合物、ビスフェノールF型エポキシ化合物、ポリフェノール型エポキシ化合物、臭素化ビスフェノールA型エポキシ化合物、臭素化ビスフェノールF型エポキシ化合物、水素添加ビスフェノールA型エポキシ化合物等のグリシジルエーテル型エポキシ化合物、脂環式エポキシ化合物、グリシジルエステル型エポキシ化合物、グリシジルアミン型エポキシ化合物、イソシアヌレート型エポキシ化合物や、脂環式オレフィン構造又はフルオレン構造を有するエポキシ化合物等が挙げられる。これらのなかでも、得られるフィルム、多層フィルム、プリプレグ、積層体及び硬化物の機械物性を良好なものとすることができるという点より、ビスフェノールA型エポキシ化合物、ポリフェノール型エポキシ化合物や、脂環式オレフィン構造又はフルオレン構造を有するエポキシ化合物が好ましい。さらに、樹脂組成物の樹脂流動性を良好とする点から、脂環式オレフィン構造を有するエポキシ化合物が特に好ましい。なお、これらは1種を単独で用いてもよいし2種以上を併用してもよい。   Examples of the polyfunctional epoxy compound (A) include phenol novolac type epoxy compounds, cresol novolac type epoxy compounds, cresol type epoxy compounds, bisphenol A type epoxy compounds, bisphenol F type epoxy compounds, polyphenol type epoxy compounds, and brominated bisphenol A. Type epoxy compounds, brominated bisphenol F type epoxy compounds, hydrogenated bisphenol A type epoxy compounds, etc. glycidyl ether type epoxy compounds, alicyclic epoxy compounds, glycidyl ester type epoxy compounds, glycidyl amine type epoxy compounds, isocyanurate type epoxy compounds And an epoxy compound having an alicyclic olefin structure or a fluorene structure. Among these, bisphenol A type epoxy compound, polyphenol type epoxy compound, and alicyclic type from the point that the mechanical properties of the obtained film, multilayer film, prepreg, laminate and cured product can be improved. Epoxy compounds having an olefin structure or a fluorene structure are preferred. Furthermore, the epoxy compound which has an alicyclic olefin structure from the point which makes the resin fluidity | liquidity of a resin composition favorable is especially preferable. In addition, these may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.

ビスフェノールA型エポキシ化合物としては、たとえば、商品名「jER827、jER828、jER828EL、jER828XA、jER834」(以上、三菱化学社製)、商品名「エピクロン840、エピクロン840−S、エピクロン850、エピクロン850−S、エピクロン850−LC」(以上、DIC社製、「エピクロン」は登録商標)などが挙げられる。ポリフェノール型エポキシ化合物としては、たとえば、商品名「1032H60、XY−4000」(以上、三菱化学社製)などが挙げられる。脂環式オレフィン構造又はフルオレン構造を有するエポキシ化合物としては、ジシクロペンタジエン骨格を有するエポキシ化合物〔たとえば、商品名「エピクロンHP7200L、エピクロンHP7200、エピクロンHP7200H、エピクロンHP7200HH、エピクロンHP7200HHH」(以上、DIC社製);商品名「Tactix558」(ハンツマン・アドバンスト・マテリアル社製);商品名「XD−1000−1L、XD−1000−2L」(以上、日本化薬社製)〕や、フルオレン骨格を有するエポキシ化合物〔たとえば、商品名「オンコートEX−1010、オンコートEX−1011、オンコートEX−1012、オンコートEX−1020、オンコートEX−1030、オンコートEX−1040、オンコートEX−1050、オンコートEX−1051」(以上、ナガセケムテックス社製、「オンコート」は登録商標);商品名「オグソールPG−100、オグソールEG−200、オグソールEG−250)」(以上、大阪ガスケミカル社製、「オグソール」は登録商標)〕などが挙げられる。また、これらに加えて、液状の多官能エポキシ化合物〔たとえば、商品名「デナコールEX−711、デナコールEX−721、デナコールEX−810、デナコールEX−811、デナコールEX−821、デナコールEX−830、デナコールEX−851」(以上、ナガセケムテックス社製、「デナコール」は登録商標);商品名「エポリードGT401」(以上、ダイセル化学工業社製、「エポリード」は登録商標)〕などを用いることができる。   As the bisphenol A type epoxy compound, for example, trade names “jER827, jER828, jER828EL, jER828XA, jER834” (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), trade names “Epicron 840, Epicron 840-S, Epicron 850, Epicron 850-S”. , Epicron 850-LC ”(manufactured by DIC,“ Epicron ”is a registered trademark), and the like. As a polyphenol type epoxy compound, a brand name "1032H60, XY-4000" (above, Mitsubishi Chemical Corporation make) etc. are mentioned, for example. As an epoxy compound having an alicyclic olefin structure or a fluorene structure, an epoxy compound having a dicyclopentadiene skeleton [for example, trade names “Epicron HP7200L, Epicron HP7200, Epicron HP7200H, Epicron HP7200HH, Epicron HP7200HHH” (above, manufactured by DIC Corporation) ); Trade name “Tactix 558” (manufactured by Huntsman Advanced Materials); trade names “XD-1000-1L, XD-1000-2L” (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)] and epoxy compounds having a fluorene skeleton [For example, the product names “ONCOAT EX-1010, ONCOAT EX-1011, ONCOAT EX-1012, ONCOAT EX-1020, ONCOAT EX-1030, ONCOAT EX-1040, ONCOA EX-1050, ONCOAT EX-1051 "(manufactured by Nagase ChemteX Corporation," ONCOAT "is a registered trademark); trade name" Ogsol PG-100, Ogsol EG-200, Ogsol EG-250) "(above, Osaka Gas Chemical Co., Ltd., “Ogsol” is a registered trademark)] and the like. In addition to these, liquid polyfunctional epoxy compounds [for example, trade names “Denacol EX-711, Denacol EX-721, Denacol EX-810, Denacol EX-811, Denacol EX-821, Denacol EX-830, Denacol EX-851 "(Nagase ChemteX Corporation," Denacol "is a registered trademark); trade name" Epolide GT401 "(above, Daicel Chemical Industries," Epolide "is a registered trademark)) can be used. .

(活性エステル化合物(B))
本発明で用いる活性エステル化合物(B)は、活性エステル基を有するものであればよいが、本発明においては、分子内に少なくとも2つの活性エステル基を有する化合物が好ましい。活性エステル化合物(B)は、活性エステル基の作用により、エポキシ化合物(A)の硬化剤として作用する。
(Active ester compound (B))
The active ester compound (B) used in the present invention may be any compound having an active ester group, but in the present invention, a compound having at least two active ester groups in the molecule is preferable. The active ester compound (B) acts as a curing agent for the epoxy compound (A) by the action of the active ester group.

活性エステル化合物(B)としては、耐熱性等の観点から、カルボン酸化合物及び/又はチオカルボン酸化合物と、ヒドロキシ化合物及び/又はチオール化合物とを反応させたものから得られる活性エステル化合物が好ましく、カルボン酸化合物と、フェノール化合物、ナフトール化合物及びチオール化合物からなる群から選択される1種又は2種以上とを反応させたものから得られる活性エステル化合物がより好ましく、なかでも、カルボン酸化合物とフェノール性水酸基を有する芳香族化合物とを反応させたものから得られ、かつ、分子内に少なくとも2つの活性エステル基を有する芳香族化合物が特に好ましい。活性エステル化合物(B)は、直鎖状または多分岐状であってもよく、活性エステル化合物(B)が、少なくとも2つのカルボン酸を分子内に有する化合物に由来する場合を例示すると、このような少なくとも2つのカルボン酸を分子内に有する化合物が、脂肪族鎖を含む場合には、エポキシ樹脂との相溶性を高くすることができ、また、芳香族環を有する場合には、耐熱性を高くすることができる。   The active ester compound (B) is preferably an active ester compound obtained by reacting a carboxylic acid compound and / or a thiocarboxylic acid compound with a hydroxy compound and / or a thiol compound from the viewpoint of heat resistance and the like. An active ester compound obtained by reacting an acid compound with one or more selected from the group consisting of a phenol compound, a naphthol compound, and a thiol compound is more preferable, and among them, a carboxylic acid compound and a phenolic compound are preferred. An aromatic compound obtained from a reaction with an aromatic compound having a hydroxyl group and having at least two active ester groups in the molecule is particularly preferred. The active ester compound (B) may be linear or multi-branched. For example, the active ester compound (B) is derived from a compound having at least two carboxylic acids in the molecule. When the compound having at least two carboxylic acids in the molecule contains an aliphatic chain, the compatibility with the epoxy resin can be increased, and when it has an aromatic ring, the heat resistance is improved. Can be high.

活性エステル化合物(B)を形成するためのカルボン酸化合物の具体例としては、安息香酸、酢酸、コハク酸、マレイン酸、イタコン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、ピロメリット酸等が挙げられる。これらのなかでも、耐熱性の観点より、コハク酸、マレイン酸、イタコン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸が好ましく、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸がより好ましく、イソフタル酸、テレフタル酸がさらに好ましい。   Specific examples of the carboxylic acid compound for forming the active ester compound (B) include benzoic acid, acetic acid, succinic acid, maleic acid, itaconic acid, phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, pyromellitic acid and the like. . Among these, from the viewpoint of heat resistance, succinic acid, maleic acid, itaconic acid, phthalic acid, isophthalic acid and terephthalic acid are preferred, phthalic acid, isophthalic acid and terephthalic acid are more preferred, and isophthalic acid and terephthalic acid are further preferred. preferable.

活性エステル化合物(B)を形成するためのチオカルボン酸化合物の具体例としては、チオ酢酸、チオ安息香酸等が挙げられる。   Specific examples of the thiocarboxylic acid compound for forming the active ester compound (B) include thioacetic acid and thiobenzoic acid.

活性エステル化合物(B)を形成するためのフェノール化合物及びナフトール化合物の具体例としては、ハイドロキノン、レゾルシン、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、フェノールフタリン、メチル化ビスフェノールA、メチル化ビスフェノールF、メチル化ビスフェノールS、フェノール、o−クレゾール、m−クレゾール、p−クレゾール、カテコール、α−ナフトール、β−ナフトール、1,5−ジヒドロキシナフタレン、1,6−ジヒドロキシナフタレン、2,6−ジヒドロキシナフタレン、ジヒドロキシベンゾフェノン、トリヒドロキシベンゾフェノン、テトラヒドロキシベンゾフェノン、フロログルシン、ベンゼントリオール、ジシクロペンタジエニルジフェノール、フェノールノボラック等が挙げられる。これらのなかでも耐熱性、溶解性の観点から、1,5−ジヒドロキシナフタレン、1,6−ジヒドロキシナフタレン、2,6−ジヒドロキシナフタレン、ジヒドロキシベンゾフェノン、トリヒドロキシベンゾフェノン、テトラヒドロキシベンゾフェノン、ジシクロペンタジエニルジフェノール、フェノールノボラックが好ましく、ジヒドロキシベンゾフェノン、トリヒドロキシベンゾフェノン、テトラヒドロキシベンゾフェノン、ジシクロペンタジエニルジフェノール、フェノールノボラックがより好ましく、ジシクロペンタジエニルジフェノール、フェノールノボラックがさらに好まし好ましい。   Specific examples of the phenol compound and naphthol compound for forming the active ester compound (B) include hydroquinone, resorcin, bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, phenolphthaline, methylated bisphenol A, methylated bisphenol F, and methyl. Bisphenol S, phenol, o-cresol, m-cresol, p-cresol, catechol, α-naphthol, β-naphthol, 1,5-dihydroxynaphthalene, 1,6-dihydroxynaphthalene, 2,6-dihydroxynaphthalene, dihydroxy Benzophenone, trihydroxybenzophenone, tetrahydroxybenzophenone, phloroglucin, benzenetriol, dicyclopentadienyl diphenol, phenol novolac, etc. The Among these, from the viewpoint of heat resistance and solubility, 1,5-dihydroxynaphthalene, 1,6-dihydroxynaphthalene, 2,6-dihydroxynaphthalene, dihydroxybenzophenone, trihydroxybenzophenone, tetrahydroxybenzophenone, dicyclopentadienyl Diphenol and phenol novolak are preferable, dihydroxybenzophenone, trihydroxybenzophenone, tetrahydroxybenzophenone, dicyclopentadienyl diphenol and phenol novolak are more preferable, and dicyclopentadienyl diphenol and phenol novolak are more preferable.

活性エステル化合物(B)を形成するためのチオール化合物の具体例としては、ベンゼンジチオール、トリアジンジチオール等が挙げられる。   Specific examples of the thiol compound for forming the active ester compound (B) include benzenedithiol and triazinedithiol.

本発明において、活性エステル化合物(B)としては、たとえば、特開2002−12650号公報及び特開2004−277460号公報に開示されている活性エステル化合物、あるいは、市販のものを用いることができる。市販されている活性エステル化合物としては、たとえば、商品名「EXB9451、EXB9460、EXB9460S、HPC−8000−65T」(以上、DIC社製)、商品名「DC808」(ジャパンエポキシレジン社製)、商品名「YLH1026」(ジャパンエポキシレジン社製)などが挙げられる。   In the present invention, as the active ester compound (B), for example, active ester compounds disclosed in JP-A Nos. 2002-12650 and 2004-277460, or commercially available products can be used. Examples of commercially available active ester compounds include trade names “EXB9451, EXB9460, EXB9460S, HPC-8000-65T” (manufactured by DIC), trade names “DC808” (manufactured by Japan Epoxy Resins), trade names, and the like. “YLH1026” (manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.) and the like can be mentioned.

活性エステル化合物(B)の製造方法は特に限定されず、公知の方法により製造することができるが、たとえば、カルボン酸化合物及び/又はチオカルボン酸化合物とヒドロキシ化合物及び/又はチオール化合物との縮合反応によって得ることができる。   The production method of the active ester compound (B) is not particularly limited, and can be produced by a known method. For example, by a condensation reaction between a carboxylic acid compound and / or a thiocarboxylic acid compound and a hydroxy compound and / or a thiol compound. Can be obtained.

本発明の硬化性樹脂組成物中における、活性エステル化合物(B)の配合量は、多官能エポキシ化合物(A)100重量部に対して、好ましくは20〜120重量部、より好ましくは40〜100重量部、さらに好ましくは50〜90重量部の範囲である。活性エステル化合物(B)の配合量を上記範囲とすることにより、硬化物としての電気特性、及び低熱性、線膨張係数を向上させることができる。   The compounding amount of the active ester compound (B) in the curable resin composition of the present invention is preferably 20 to 120 parts by weight, more preferably 40 to 100 parts per 100 parts by weight of the polyfunctional epoxy compound (A). Part by weight, more preferably in the range of 50 to 90 parts by weight. By making the compounding quantity of an active ester compound (B) into the said range, the electrical property as a hardened | cured material, low heat property, and a linear expansion coefficient can be improved.

(ベンゾオキサジン化合物(C))
本発明で用いるベンゾオキサジン化合物(C)は、オキサジンとベンゼン環の縮合環であるベンゾオキサジン環を有する化合物であり、ベンゾオキサジンモノマーまたはベンゾオキサジンオリゴマーの他、これらがオキサジン環の開環重合によって重合された重合体も含まれる。ベンゾオキサジン化合物(C)は、通常、オキサジン環が開環することでフェノール性水酸基を生じるものであり、このようなフェノール性水酸基の作用により、エポキシ化合物(A)の硬化剤として作用するものである。
(Benzoxazine compound (C))
The benzoxazine compound (C) used in the present invention is a compound having a benzoxazine ring, which is a condensed ring of oxazine and a benzene ring. Also included are polymers that have been made. The benzoxazine compound (C) usually generates a phenolic hydroxyl group by opening the oxazine ring, and acts as a curing agent for the epoxy compound (A) by the action of such a phenolic hydroxyl group. is there.

このようなベンゾオキサジン化合物(C)としては、たとえば、下記一般式(1)、下記一般式(2)又は下記一般式(3)で表される化合物や、該化合物のオリゴマー、あるいは、これらがオキサジン環の開環重合によって重合された重合体などが挙げられる。

Figure 2014148562
Figure 2014148562
Figure 2014148562
As such a benzoxazine compound (C), for example, a compound represented by the following general formula (1), the following general formula (2) or the following general formula (3), an oligomer of the compound, Examples thereof include polymers polymerized by ring-opening polymerization of an oxazine ring.
Figure 2014148562
Figure 2014148562
Figure 2014148562

なお、上記一般式(1)、(2)、(3)中、X、X、Xは、それぞれ、置換基を有していてもよいメチレン基、エチレン基、プロピレン基、フェニレン基、ビフェニレン基、ナフチレン基、シクロヘキシレン基、ジシクロペンタジエニレン基又は硫黄原子を含有する連結基である。また、上記一般式(3)中、Rは、それぞれ独立して、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、シクロヘキシル基又はジシクロペンタジエニル基である。 In the general formulas (1), (2), and (3), X 1 , X 2 , and X 3 are each a methylene group, ethylene group, propylene group, or phenylene group that may have a substituent. , A biphenylene group, a naphthylene group, a cyclohexylene group, a dicyclopentadienylene group or a linking group containing a sulfur atom. In the general formula (3), each R 1 is independently a hydrogen atom, methyl group, ethyl group, propyl group, phenyl group, biphenyl group, naphthyl group, cyclohexyl group or dicyclopentadienyl group. is there.

また、ベンゾオキサジン化合物(C)としては、たとえば、市販品を用いてもよく、たとえば、P−d型ベンゾオキサジン(水酸基当量217、四国化成工業社製)、F−a型ベンゾオキサジン(水酸基当量217、四国化成工業社製)、商品名「BS−BXZ、BF−BXZ、BA−BXZ」(以上、小西化学社製)、商品名「MT35800、MT35900、MT36000、RD2009−008、RD2007−027」(以上、ハンツマン社製)などが挙げられる。   Moreover, as a benzoxazine compound (C), you may use a commercial item, for example, Pd type benzoxazine (Hydroxyl equivalent 217, Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd.), Fa type benzoxazine (Hydroxyl equivalent) 217, manufactured by Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd.), trade names "BS-BXZ, BF-BXZ, BA-BXZ" (above, manufactured by Konishi Chemical Co., Ltd.), trade names "MT35800, MT35900, MT36000, RD2009-008, RD2007-027" (Above, manufactured by Huntsman).

本発明の硬化性樹脂組成物において、活性エステル化合物(B)の活性エステル基と、ベンゾオキサジン化合物(C)のフェノール性水酸基との比率が、「フェノール性水酸基/活性エステル基」の当量比で、0.3〜0.9の範囲であり、0.31〜0.8の範囲であることが好ましい。「フェノール性水酸基/活性エステル基」の当量比を上記範囲とすることにより、硬化物としたときの耐熱性、及び線膨張係数のさらなる向上が可能となる。   In the curable resin composition of the present invention, the ratio of the active ester group of the active ester compound (B) to the phenolic hydroxyl group of the benzoxazine compound (C) is an equivalent ratio of “phenolic hydroxyl group / active ester group”. , 0.3 to 0.9, and preferably 0.31 to 0.8. By setting the equivalent ratio of “phenolic hydroxyl group / active ester group” within the above range, it is possible to further improve the heat resistance and the linear expansion coefficient when cured.

本発明の硬化性樹脂組成物中における、ベンゾオキサジン化合物(C)の配合量は、多官能エポキシ化合物(A)100重量部に対して、好ましくは38〜85重量部であり、より好ましくは40〜70重量部、さらに好ましくは42〜60重量部の範囲である。ベンゾオキサジン化合物(C)の配合量を上記範囲とすることにより、硬化物としての電気特性、及び低熱性、線膨張係数を向上させることができる。   The blending amount of the benzoxazine compound (C) in the curable resin composition of the present invention is preferably 38 to 85 parts by weight, more preferably 40 parts per 100 parts by weight of the polyfunctional epoxy compound (A). It is -70 weight part, More preferably, it is the range of 42-60 weight part. By making the compounding quantity of a benzoxazine compound (C) into the said range, the electrical property as a hardened | cured material, low heat property, and a linear expansion coefficient can be improved.

また、本発明の硬化性樹脂組成物においては、多官能エポキシ化合物(A)のエポキシ基と、活性エステル化合物(B)の活性エステル基及びベンゾオキサジン化合物(C)のフェノール性水酸基との比率が、「(活性エステル基+フェノール性水酸基)/エポキシ基」の当量比で、1.0〜2.0の範囲であることが好ましく、1.05〜1.8の範囲であることがより好ましく、1.1〜1.7の範囲であることがさらに好ましい。「(活性エステル基+フェノール性水酸基)/エポキシ基」の当量比、「フェノール性水酸基/フェノール性エステル基」の当量比を上記範囲とすることにより、硬化物としたときの耐熱性、及び線膨張係数をより向上させることができる。   In the curable resin composition of the present invention, the ratio of the epoxy group of the polyfunctional epoxy compound (A) to the active ester group of the active ester compound (B) and the phenolic hydroxyl group of the benzoxazine compound (C) is The equivalent ratio of “(active ester group + phenolic hydroxyl group) / epoxy group” is preferably in the range of 1.0 to 2.0, more preferably in the range of 1.05 to 1.8. More preferably, it is in the range of 1.1 to 1.7. By setting the equivalent ratio of “(active ester group + phenolic hydroxyl group) / epoxy group” and the equivalent ratio of “phenolic hydroxyl group / phenolic ester group” within the above range, heat resistance when cured product and line The expansion coefficient can be further improved.

(充填剤(D))
本発明で用いる充填剤(D)としては、工業的に一般に使用されるものであれば格別な限定はなく、無機充填剤及び有機充填剤のいずれも用いることができるが、無機充填剤が好ましく用いられる。充填剤(D)を配合することにより、硬化物とした場合に、得られる硬化物を低線膨張性を有するものとすることができる。
(Filler (D))
The filler (D) used in the present invention is not particularly limited as long as it is generally used industrially, and any of inorganic fillers and organic fillers can be used, but inorganic fillers are preferred. Used. By mix | blending a filler (D), when it is set as hardened | cured material, the hardened | cured material obtained can be made into what has low linear expansion property.

無機充填剤の具体例としては、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、炭酸バリウム、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化マグネシウム、ケイ酸マグネシウム、ケイ酸カルシウム、ケイ酸ジルコニウム、水和アルミナ、水酸化マグネシウム、水酸化アルミニウム、硫酸バリウム、シリカ、タルク、クレーなどを挙げることができる。これらの中でも、硬化物の表面粗化処理に使用される過マンガン酸塩の水溶液などの酸化性化合物により、分解もしくは溶解しないものが好ましく、その中でも特にシリカが、微細な粒子が得やすいため好ましい。なお、無機充填剤は、シランカップリング剤処理やステアリン酸などの有機酸処理をしたものであってもよい。   Specific examples of inorganic fillers include calcium carbonate, magnesium carbonate, barium carbonate, zinc oxide, titanium oxide, magnesium oxide, magnesium silicate, calcium silicate, zirconium silicate, hydrated alumina, magnesium hydroxide, aluminum hydroxide , Barium sulfate, silica, talc, clay and the like. Among these, those that are not decomposed or dissolved by an oxidizing compound such as an aqueous solution of permanganate used for the surface roughening treatment of the cured product are preferable, and silica is particularly preferable because fine particles are easily obtained. . The inorganic filler may be treated with a silane coupling agent or an organic acid such as stearic acid.

また、充填剤(D)としては、樹脂層とした場合における誘電特性を低下させない非導電性のものであることが好ましい。また、充填剤(D)の形状は、特に限定されず、球状、繊維状、板状などであってもよいが、分散性や樹脂組成物の樹脂流動性を良好なものとするために、微細な球状であることが好ましい。   Further, the filler (D) is preferably a non-conductive material that does not deteriorate the dielectric properties when the resin layer is used. In addition, the shape of the filler (D) is not particularly limited, and may be spherical, fibrous, plate-like, etc. In order to make the dispersibility and the resin fluidity of the resin composition good, A fine spherical shape is preferred.

充填剤(D)の平均粒子径は、好ましくは0.05〜1.5μmであり、より好ましくは0.1〜1μmである。充填剤(D)の平均粒子径が上記範囲にあることにより、硬化性樹脂組成物の流動性を良好なものとしながら、樹脂層とした場合における線膨張率を低くすることができる。なお、平均粒子径は、粒度分布測定装置により測定することができる。   The average particle diameter of the filler (D) is preferably 0.05 to 1.5 μm, more preferably 0.1 to 1 μm. When the average particle diameter of the filler (D) is in the above range, the linear expansion coefficient when the resin layer is formed can be lowered while the fluidity of the curable resin composition is improved. The average particle diameter can be measured with a particle size distribution measuring device.

充填剤(D)の配合量は、硬化性樹脂組成物中(有機溶剤を含む場合には有機溶剤を除く硬化性樹脂組成物中)、好ましくは30〜90重量%であり、より好ましくは40〜80重量%、さらに好ましくは50〜70重量%である。   The blending amount of the filler (D) is in the curable resin composition (in the curable resin composition excluding the organic solvent when an organic solvent is included), preferably 30 to 90% by weight, more preferably 40. -80% by weight, more preferably 50-70% by weight.

(その他の成分)
また、本発明の硬化性樹脂組成物は、必要に応じて、硬化促進剤を含有していてもよい。硬化促進剤としては特に限定されないが、たとえば、脂肪族ポリアミン、芳香族ポリアミン、第2級アミン、第3級アミン、酸無水物、イミダゾール誘導体、有機酸ヒドラジド、ジシアンジアミド及びその誘導体、尿素誘導体などが挙げられるが、これらのなかでも、イミダゾール誘導体が特に好ましい。
(Other ingredients)
Moreover, the curable resin composition of this invention may contain the hardening accelerator as needed. The curing accelerator is not particularly limited, and examples thereof include aliphatic polyamines, aromatic polyamines, secondary amines, tertiary amines, acid anhydrides, imidazole derivatives, organic acid hydrazides, dicyandiamide and derivatives thereof, urea derivatives, and the like. Among them, imidazole derivatives are particularly preferable among these.

イミダゾール誘導体としては、イミダゾール骨格を有する化合物であればよく、特に限定されないが、たとえば、2−エチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、ビス−2−エチル−4−メチルイミダゾール、1−メチル−2−エチルイミダゾール、2−イソプロピルイミダゾール、2,4−ジメチルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾールなどのアルキル置換イミダゾール化合物;2−フェニルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−エチルイミダゾール、1−ベンジル−2−フェニルイミダゾール、ベンズイミダゾール、2−エチル−4−メチル−1−(2’−シアノエチル)イミダゾールなどのアリール基やアラルキル基などの環構造を含有する炭化水素基で置換されたイミダゾール化合物などが挙げられる。これらは1種を単独で、又は2種類以上を組み合わせて使用することができる。   The imidazole derivative is not particularly limited as long as it is a compound having an imidazole skeleton, and examples thereof include 2-ethylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, bis-2-ethyl-4-methylimidazole, and 1-methyl. Alkyl-substituted imidazole compounds such as 2-ethylimidazole, 2-isopropylimidazole, 2,4-dimethylimidazole, 2-heptadecylimidazole; 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 1-benzyl-2- Aryl groups and aralkyl groups such as methylimidazole, 1-benzyl-2-ethylimidazole, 1-benzyl-2-phenylimidazole, benzimidazole, 2-ethyl-4-methyl-1- (2′-cyanoethyl) imidazole, etc. ring Such as imidazole compounds substituted with a hydrocarbon group containing a granulation and the like. These can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

硬化促進剤を配合する場合における配合量は、使用目的に応じて適宜選択すればよいが、多官能エポキシ化合物(A)100重量部に対して、好ましくは、0.1〜10重量部、より好ましくは0.5〜8重量部、さらに好ましくは0.5〜6重量部である。   The blending amount in the case of blending the curing accelerator may be appropriately selected according to the purpose of use, but is preferably 0.1 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the polyfunctional epoxy compound (A). Preferably it is 0.5-8 weight part, More preferably, it is 0.5-6 weight part.

さらに、本発明の硬化性樹脂組成物には、硬化物とした際における難燃性を向上させる目的で、例えば、ハロゲン系難燃剤やリン酸エステル系難燃剤などの一般の電気絶縁膜形成用の樹脂組成物に配合される難燃剤を配合してもよい。本発明の硬化性樹脂組成物に難燃剤を配合する場合の配合量は、多官能エポキシ化合物(A)100重量部に対して、好ましくは100重量部以下であり、より好ましくは60重量部以下である。   Furthermore, the curable resin composition of the present invention is for the purpose of improving the flame retardancy when used as a cured product, for example, for forming a general electric insulation film such as a halogen-based flame retardant or a phosphate ester-based flame retardant. You may mix | blend the flame retardant mix | blended with this resin composition. When the flame retardant is blended in the curable resin composition of the present invention, the blending amount is preferably 100 parts by weight or less, more preferably 60 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the polyfunctional epoxy compound (A). It is.

また、本発明の硬化性樹脂組成物には、さらに必要に応じて、難燃助剤、耐熱安定剤、耐候安定剤、老化防止剤、紫外線吸収剤(レーザー加工性向上剤)、レベリング剤、帯電防止剤、スリップ剤、アンチブロッキング剤、防曇剤、滑剤、染料、天然油、合成油、ワックス、乳剤、磁性体、誘電特性調整剤、靭性剤などの任意成分を配合してもよい。これらの任意成分の配合割合は、本発明の目的を損なわない範囲で適宜選択すればよい。   Further, the curable resin composition of the present invention further includes a flame retardant aid, a heat resistance stabilizer, a weather resistance stabilizer, an anti-aging agent, an ultraviolet absorber (laser processability improver), a leveling agent, if necessary. You may mix | blend arbitrary components, such as an antistatic agent, a slip agent, an antiblocking agent, an antifogging agent, a lubricant, a dye, a natural oil, a synthetic oil, a wax, an emulsion, a magnetic body, a dielectric property modifier, and a toughening agent. What is necessary is just to select suitably the mixture ratio of these arbitrary components in the range which does not impair the objective of this invention.

本発明の硬化性樹脂組成物の製造方法としては、特に限定されるものではなく、上記各成分を、そのまま混合してもよいし、有機溶剤に溶解もしくは分散させた状態で混合してもよいし、上記各成分の一部を有機溶剤に溶解もしくは分散させた状態の組成物を調製し、当該組成物に残りの成分を混合してもよい。   The method for producing the curable resin composition of the present invention is not particularly limited, and the above components may be mixed as they are, or may be mixed in a state dissolved or dispersed in an organic solvent. Then, a composition in a state where a part of each of the above components is dissolved or dispersed in an organic solvent may be prepared, and the remaining components may be mixed with the composition.

(フィルム)
本発明のフィルムは、上述した本発明の硬化性樹脂組成物をシート状又はフィルム状に成形してなる成形体である。
(the film)
The film of this invention is a molded object formed by shape | molding the curable resin composition of this invention mentioned above in a sheet form or a film form.

本発明の硬化性樹脂組成物を、シート状又はフィルム状に成形して成形体とする際には、本発明の硬化性樹脂組成物を、必要に応じて有機溶剤を添加して、支持体に塗布、散布又は流延し、次いで乾燥することより得ることが好ましい。   When the curable resin composition of the present invention is molded into a sheet shape or a film shape to obtain a molded body, the curable resin composition of the present invention is added to an organic solvent as necessary, and a support. It is preferably obtained by applying, spraying or casting to the substrate and then drying.

この際に用いる支持体としては、樹脂フィルムや金属箔などが挙げられる。樹脂フィルムとしては、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリアリレートフィルム、ナイロンフィルムなどが挙げられる。これらのフィルムのうち、耐熱性、耐薬品性、剥離性などの観点からポリエチレンテレフタレートフィルム又はポリエチレンナフタレートフィルムが好ましい。金属箔としては、銅箔、アルミ箔、ニッケル箔、クロム箔、金箔、銀箔などが挙げられる。   Examples of the support used in this case include a resin film and a metal foil. Examples of the resin film include polyethylene terephthalate film, polypropylene film, polyethylene film, polycarbonate film, polyethylene naphthalate film, polyarylate film, and nylon film. Among these films, a polyethylene terephthalate film or a polyethylene naphthalate film is preferable from the viewpoint of heat resistance, chemical resistance, peelability, and the like. Examples of the metal foil include copper foil, aluminum foil, nickel foil, chrome foil, gold foil, and silver foil.

シート状又はフィルム状の成形体の厚さは、特に限定されないが、作業性などの観点から、通常、1〜150μm、好ましくは2〜100μm、より好ましくは5〜80μmである。   The thickness of the sheet-like or film-like molded body is not particularly limited, but is usually 1 to 150 μm, preferably 2 to 100 μm, more preferably 5 to 80 μm from the viewpoint of workability and the like.

本発明の硬化性樹脂組成物を塗布する方法としては、ディップコート、ロールコート、カーテンコート、ダイコート、スリットコート、グラビアコートなどが挙げられる。   Examples of the method for applying the curable resin composition of the present invention include dip coating, roll coating, curtain coating, die coating, slit coating, and gravure coating.

なお、本発明においては、シート状又はフィルム状の成形体としては、本発明の硬化性樹脂組成物が未硬化又は半硬化の状態であることが好ましい。ここで未硬化とは、成形体を、多官能エポキシ化合物(A)を溶解可能な溶剤に漬けたときに、実質的に多官能エポキシ化合物(A)の全部が溶解する状態をいう。また、半硬化とは、加熱すれば更に硬化しうる程度に途中まで硬化された状態であり、好ましくは、多官能エポキシ化合物(A)を溶解可能な溶剤に多官能エポキシ化合物(A)の一部(具体的には7重量%以上の量であり、かつ、一部が残存するような量)が溶解する状態であるか、あるいは、溶剤中に成形体を24時間浸漬した後の体積が、浸漬前の体積の200%以上(膨潤率)である状態をいう。   In the present invention, it is preferable that the curable resin composition of the present invention is in an uncured or semi-cured state as a sheet-shaped or film-shaped molded body. Here, uncured means a state in which substantially all of the polyfunctional epoxy compound (A) is dissolved when the molded body is immersed in a solvent capable of dissolving the polyfunctional epoxy compound (A). The semi-cured is a state where it is cured halfway to such an extent that it can be further cured by heating. Preferably, one half of the multifunctional epoxy compound (A) is dissolved in a solvent capable of dissolving the multifunctional epoxy compound (A). Part (specifically, an amount of 7% by weight or more and an amount such that a part remains), or the volume after the molded body is immersed in a solvent for 24 hours The state which is 200% or more (swelling rate) of the volume before immersion.

また、本発明の硬化性樹脂組成物を、支持体上に塗布した後、必要に応じて、乾燥を行ってもよい。乾燥温度は、本発明の硬化性樹脂組成物が硬化しない程度の温度とすることが好ましく、通常、20〜300℃、好ましくは30〜200℃である。乾燥温度が高すぎると、硬化反応が進行しすぎて、得られる成形体が未硬化又は半硬化の状態とならなくなるおそれがある。また、乾燥時間は、通常、30秒間〜1時間、好ましくは1分間〜30分間である。   Moreover, after apply | coating the curable resin composition of this invention on a support body, you may dry as needed. The drying temperature is preferably a temperature at which the curable resin composition of the present invention is not cured, and is usually 20 to 300 ° C, preferably 30 to 200 ° C. If the drying temperature is too high, the curing reaction proceeds too much, and the resulting molded article may not be in an uncured or semi-cured state. The drying time is usually 30 seconds to 1 hour, preferably 1 minute to 30 minutes.

そして、このようにして得られる本発明のフィルムは、支持体上に付着させた状態で、又は支持体からはがして、使用される。   And the film of this invention obtained in this way is used in the state made to adhere on a support body, or peeling from a support body.

(多層フィルム)
上述した本発明の硬化性樹脂組成物からなる接着層と、被めっき層用樹脂組成物からなる被めっき層とを有する多層フィルムを得ることができる。
(Multilayer film)
A multilayer film having the above-described adhesive layer made of the curable resin composition of the present invention and the plated layer made of the resin composition for plated layer can be obtained.

被めっき層を形成するための被めっき層用樹脂組成物としては、特に限定されないが、極性基を有する脂環式オレフィン重合体、及び硬化剤を含有してなるものが挙げられる。   Although it does not specifically limit as a resin composition for to-be-plated layers for forming a to-be-plated layer, What contains the alicyclic olefin polymer which has a polar group, and a hardening | curing agent is mentioned.

極性基を有する脂環式オレフィン重合体としては、特に限定されず、脂環式構造として、シクロアルカン構造やシクロアルケン構造などを有するものが挙げられるが、機械的強度や耐熱性などの観点から、シクロアルカン構造を有するものが好ましい。また、極性基を有する脂環式オレフィン重合体に含有される極性基としては、上述した脂環式オレフィン重合体(E)に含有されるエポキシ反応性基と同様なものを用いることができ、そのため、極性基を有する脂環式オレフィン重合体としては、上述した脂環式オレフィン重合体(E)と同様のものを用いることができる。   The alicyclic olefin polymer having a polar group is not particularly limited, and examples of the alicyclic structure include those having a cycloalkane structure or a cycloalkene structure. From the viewpoint of mechanical strength, heat resistance, and the like. Those having a cycloalkane structure are preferred. Moreover, as a polar group contained in the alicyclic olefin polymer having a polar group, the same epoxy reactive group contained in the alicyclic olefin polymer (E) described above can be used, Therefore, as the alicyclic olefin polymer having a polar group, the same alicyclic olefin polymer (E) as described above can be used.

また、硬化剤としては、加熱により脂環式オレフィン重合体に架橋構造を形成させることのできるものであればよく、特に限定されず、一般の電気絶縁膜形成用の樹脂組成物に配合される硬化剤を用いることができる。このような硬化剤の具体例としては、多価エポキシ化合物、多価イソシアナート化合物、多価アミン化合物、多価ヒドラジド化合物、アジリジン化合物、塩基性金属酸化物、有機金属ハロゲン化物などが挙げられる。   Further, the curing agent is not particularly limited as long as it can form a crosslinked structure in the alicyclic olefin polymer by heating, and is blended into a general resin composition for forming an electrical insulating film. A curing agent can be used. Specific examples of such curing agents include polyvalent epoxy compounds, polyvalent isocyanate compounds, polyvalent amine compounds, polyhydric hydrazide compounds, aziridine compounds, basic metal oxides, and organometallic halides.

前記多層フィルムは、たとえば、以下の2つの方法:(1)上述した被めっき層用樹脂組成物を支持体上に塗布、散布又は流延し、必要に応じて乾燥させ、次いで、その上に、上述した本発明の硬化性樹脂組成物をさらに塗布又は流延し、必要に応じて乾燥させることにより製造する方法;(2)上述した被めっき層用樹脂組成物を支持体上に塗布、散布又は流延し、必要に応じて乾燥させて得られたシート状又はフィルム状に成形してなる被めっき層用成形体と、上述した本発明の硬化性樹脂組成物を支持体上に塗布、散布又は流延し、必要に応じて乾燥させて、シート状又はフィルム状に成形してなる接着層用成形体を積層し、これらの成形体を一体化させることにより製造する方法、により製造することができる。これらの製造方法の内、より容易なプロセスであり生産性に優れることから、上記(1)の製造方法が好ましい。なお、この際における、被めっき層用樹脂組成物及び本発明の硬化性樹脂組成物を塗布する際に用いる支持体及び塗布方法としては、上述した本発明のフィルムと同様とすることができる。   For example, the multilayer film is formed by the following two methods: (1) The above-described resin composition for a layer to be plated is applied, spread, or cast on a support, and is dried as necessary. , A method for further applying or casting the above-described curable resin composition of the present invention and drying it as necessary; (2) applying the above-mentioned resin composition for a layer to be plated on a support; A molded body for a layer to be plated formed by spraying or casting and drying as necessary is formed into a sheet or film, and the above-described curable resin composition of the present invention is applied onto a support. Manufactured by a method of manufacturing by spreading, casting or drying, if necessary, forming into a sheet or film, laminating a molded product for an adhesive layer, and integrating these molded products can do. Among these production methods, the production method (1) is preferred because it is an easier process and is excellent in productivity. In this case, the support and coating method used when the resin composition for a layer to be plated and the curable resin composition of the present invention are applied can be the same as those of the above-described film of the present invention.

また、前記多層フィルムにおいては、当該多層フィルムを構成する被めっき層及び接着層が未硬化又は半硬化の状態であることが好ましい。これらを未硬化又は半硬化の状態とすることにより、前記多層フィルムを構成する接着層を接着性の高いものとすることできる。   Moreover, in the said multilayer film, it is preferable that the to-be-plated layer and contact bonding layer which comprise the said multilayer film are a non-hardened or semi-hardened state. By making these into an uncured or semi-cured state, the adhesive layer constituting the multilayer film can be made highly adhesive.

(プリプレグ)
本発明のプリプレグは、上述した本発明の樹脂組成物を繊維基材に含浸してなる、シート状又はフィルム状の複合成形体である。
(Prepreg)
The prepreg of the present invention is a sheet-shaped or film-shaped composite molded body formed by impregnating a fiber base material with the above-described resin composition of the present invention.

この場合に用いる繊維基材としては、たとえば、ポリアミド繊維、ポリアラミド繊維やポリエステル繊維等の有機繊維や、ガラス繊維、カーボン繊維等などの無機繊維が挙げられる。また、繊維基材の形態としては、平織りもしくは綾織りなどの織物の形態、または不織布の形態等が挙げられる。   Examples of the fiber base used in this case include organic fibers such as polyamide fiber, polyaramid fiber and polyester fiber, and inorganic fibers such as glass fiber and carbon fiber. Moreover, as a form of a fiber base material, the form of textiles, such as a plain weave or a twill, or the form of a nonwoven fabric, etc. are mentioned.

シート状又はフィルム状の複合成形体の厚さは、特に限定されないが、作業性などの観点から、通常、1〜150μm、好ましくは2〜100μm、より好ましくは5〜80μmである。また、複合成形体中の繊維基材の量は、通常、20〜90重量%、好ましくは30〜85重量%である。   The thickness of the sheet-like or film-like composite molded body is not particularly limited, but is usually 1 to 150 μm, preferably 2 to 100 μm, and more preferably 5 to 80 μm from the viewpoint of workability. The amount of the fiber base in the composite molded body is usually 20 to 90% by weight, preferably 30 to 85% by weight.

本発明の硬化性樹脂組成物を、繊維基材に含浸させる方法としては、特に限定されないが、粘度などを調整するために本発明の硬化性樹脂組成物に有機溶剤を添加し、有機溶剤を添加した硬化性樹脂組成物に繊維基材を浸漬する方法、有機溶剤を添加した硬化性樹脂組成物を繊維基材に塗布や散布する方法などが挙げられる。塗布又は散布する方法においては、支持体の上に繊維基材を置いて、これに、有機溶剤を添加した硬化性樹脂組成物を塗布又は散布することができる。なお、シート状又はフィルム状の複合成形体としては、上述したシート状又はフィルム状の成形体と同様に、本発明の硬化性樹脂組成物が未硬化又は半硬化の状態で含有されていることが好ましい。   The method for impregnating the fiber base material with the curable resin composition of the present invention is not particularly limited, but an organic solvent is added to the curable resin composition of the present invention to adjust the viscosity and the like. The method of immersing a fiber base material in the added curable resin composition, the method of apply | coating or spraying the curable resin composition which added the organic solvent to a fiber base material, etc. are mentioned. In the method of coating or spraying, a fiber base material is placed on a support, and a curable resin composition to which an organic solvent is added can be coated or sprayed. In addition, as a sheet-like or film-like composite molded body, the curable resin composition of the present invention is contained in an uncured or semi-cured state, similarly to the above-described sheet-shaped or film-shaped molded body. Is preferred.

また、本発明の硬化性樹脂組成物を、繊維基材に含浸させた後、必要に応じて、乾燥を行ってもよい。乾燥温度は、本発明の硬化性樹脂組成物が硬化しない程度の温度とすることが好ましく、通常、20〜300℃、好ましくは30〜200℃である。乾燥温度が高すぎると、硬化反応が進行しすぎて、得られる複合成形体が未硬化又は半硬化の状態とならなくなるおそれがある。また、乾燥時間は、通常、30秒間〜1時間、好ましくは1分間〜30分間である。   Moreover, after impregnating the fiber base material with the curable resin composition of this invention, you may dry as needed. The drying temperature is preferably a temperature at which the curable resin composition of the present invention is not cured, and is usually 20 to 300 ° C, preferably 30 to 200 ° C. If the drying temperature is too high, the curing reaction proceeds too much, and the resulting composite molded article may not be in an uncured or semi-cured state. The drying time is usually 30 seconds to 1 hour, preferably 1 minute to 30 minutes.

そして、このようにして得られる本発明のプリプレグは、これを加熱し、硬化させることにより硬化物とすることができる。   And the prepreg of this invention obtained in this way can be made into hardened | cured material by heating this and making it harden | cure.

硬化温度は、通常、30〜400℃、好ましくは70〜300℃、より好ましくは100〜200℃である。また、硬化時間は、0.1〜5時間、好ましくは0.5〜3時間である。加熱の方法は特に制限されず、例えば電気オーブンなどを用いて行えばよい。   The curing temperature is usually 30 to 400 ° C, preferably 70 to 300 ° C, more preferably 100 to 200 ° C. The curing time is 0.1 to 5 hours, preferably 0.5 to 3 hours. The heating method is not particularly limited, and may be performed using, for example, an electric oven.

(積層体)
上述したフィルム、多層フィルム、又はプリプレグを基材に積層してなる積層体を得ることができる。前記積層体としては、少なくとも、上述したフィルム、多層フィルム、又はプリプレグを積層してなるものであればよいが、表面に導体層を有する基板と、上述したフィルム、多層フィルム、又はプリプレグからなる電気絶縁層とを積層してなるものが好ましい。
(Laminate)
A laminate formed by laminating the above-described film, multilayer film, or prepreg on a substrate can be obtained. The laminate may be at least a film formed by laminating the above-described film, multilayer film, or prepreg, and an electric circuit composed of a substrate having a conductor layer on the surface and the above-described film, multilayer film, or prepreg. What laminates | stacks an insulating layer is preferable.

表面に導体層を有する基板は、電気絶縁性基板の表面に導体層を有するものである。電気絶縁性基板は、公知の電気絶縁材料(たとえば、脂環式オレフィン重合体、エポキシ樹脂、マレイミド樹脂、(メタ)アクリル樹脂、ジアリルフタレート樹脂、トリアジン樹脂、ポリフェニルエーテル、ガラス等)を含有する樹脂組成物を硬化して形成されたものである。導体層は、特に限定されないが、通常、導電性金属等の導電体により形成された配線を含む層であって、更に各種の回路を含んでいてもよい。配線や回路の構成、厚み等は、特に限定されない。表面に導体層を有する基板の具体例としては、プリント配線基板、シリコンウェーハ基板等を挙げることができる。表面に導体層を有する基板の厚みは、通常、10μm〜10mm、好ましくは20μm〜5mm、より好ましくは30μm〜2mmである。   A substrate having a conductor layer on the surface has a conductor layer on the surface of the electrically insulating substrate. The electrically insulating substrate contains a known electrically insulating material (for example, alicyclic olefin polymer, epoxy resin, maleimide resin, (meth) acrylic resin, diallyl phthalate resin, triazine resin, polyphenyl ether, glass, etc.). The resin composition is formed by curing. Although a conductor layer is not specifically limited, Usually, it is a layer containing the wiring formed with conductors, such as an electroconductive metal, Comprising: Various circuits may be included further. The configuration and thickness of the wiring and circuit are not particularly limited. Specific examples of the substrate having a conductor layer on the surface include a printed wiring board and a silicon wafer substrate. The thickness of the substrate having a conductor layer on the surface is usually 10 μm to 10 mm, preferably 20 μm to 5 mm, more preferably 30 μm to 2 mm.

表面に導体層を有する基板は、電気絶縁層との密着性を向上させるために、導体層表面に前処理が施されていることが好ましい。前処理の方法としては、公知の技術を、特に限定されず使用することができる。例えば、導体層が銅からなるものであれば、強アルカリ酸化性溶液を導体層表面に接触させて、導体表面に酸化銅の層を形成して粗化する酸化処理方法、導体層表面を先の方法で酸化した後に水素化ホウ素ナトリウム、ホルマリンなどで還元する方法、導体層にめっきを析出させて粗化する方法、導体層に有機酸を接触させて銅の粒界を溶出して粗化する方法、及び導体層にチオール化合物やシラン化合物などによりプライマー層を形成する方法等が挙げられる。これらの内、微細な配線パターンの形状維持の容易性の観点から、導体層に有機酸を接触させて銅の粒界を溶出して粗化する方法、及び、チオール化合物やシラン化合物などによりプライマー層を形成する方法が好ましい。   The substrate having a conductor layer on the surface is preferably pretreated on the surface of the conductor layer in order to improve adhesion to the electrical insulating layer. As a pretreatment method, a known technique can be used without any particular limitation. For example, if the conductor layer is made of copper, an oxidation treatment method in which a strong alkali oxidizing solution is brought into contact with the surface of the conductor layer to form a copper oxide layer on the conductor surface and roughened, After oxidation with this method, reduce with sodium borohydride, formalin, etc., deposit and roughen the plating on the conductor layer, contact the organic acid with the conductor layer to elute the copper grain boundaries and roughen And a method of forming a primer layer with a thiol compound or a silane compound on the conductor layer. Among these, from the viewpoint of easy maintenance of the shape of a fine wiring pattern, a method in which an organic acid is brought into contact with a conductor layer to elute and roughen the grain boundaries of copper, and a primer using a thiol compound or a silane compound A method of forming a layer is preferred.

また、例えば、表面に導体層を有する基板上に、上述したフィルム(すなわち、本発明の硬化性樹脂組成物を、シート状又はフィルム状に成形してなる成形体)、積層フィルム(本発明の硬化性樹脂組成物からなる接着層と、被めっき層とからなるシート状又はフィルム状の成形体)又はプリプレグ(本発明の硬化性樹脂組成物を、繊維基材に含浸させてなる複合成形体)を加熱圧着することにより、積層体を製造することができる。   Further, for example, on the substrate having a conductor layer on the surface, the above-described film (that is, a molded product obtained by molding the curable resin composition of the present invention into a sheet or film), a laminated film (of the present invention). A composite molded product obtained by impregnating a fiber base material with a prepreg (a curable resin composition of the present invention) or a prepreg (adhesive layer comprising a curable resin composition and a layer to be plated) or a prepreg. ) Can be produced by thermocompression bonding.

加熱圧着の方法としては、支持体付きの成形体又は複合成形体を、上述した基板の導体層に接するように重ね合わせ、加圧ラミネータ、プレス、真空ラミネータ、真空プレス、ロールラミネータなどの加圧機を使用して加熱圧着(ラミネーション)する方法が挙げられる。加熱加圧することにより、基板表面の導体層と成形体又は複合成形体との界面に空隙が実質的に存在しないように結合させることができる。   As a method of thermocompression bonding, a molded body with a support or a composite molded body is superposed so as to be in contact with the conductor layer of the substrate described above, and a pressure laminator, a press, a vacuum laminator, a vacuum press, a roll laminator or the like The method of carrying out thermocompression bonding (lamination) using is mentioned. By heating and pressurizing, bonding can be performed so that there is substantially no void at the interface between the conductor layer on the substrate surface and the molded body or composite molded body.

加熱圧着操作の温度は、通常、30〜250℃、好ましくは70〜200℃であり、加える圧力は、通常、10kPa〜20MPa、好ましくは100kPa〜10MPaであり、時間は、通常、30秒〜5時間、好ましくは1分〜3時間である。また、加熱圧着は、配線パターンの埋め込み性を向上させ、気泡の発生を抑えるために減圧下で行うのが好ましい。加熱圧着を行う減圧下の圧力は、通常100kPa〜1Pa、好ましくは40kPa〜10Paである。   The temperature of the thermocompression bonding operation is usually 30 to 250 ° C., preferably 70 to 200 ° C., the pressure applied is usually 10 kPa to 20 MPa, preferably 100 kPa to 10 MPa, and the time is usually 30 seconds to 5 seconds. Time, preferably 1 minute to 3 hours. The thermocompression bonding is preferably performed under reduced pressure in order to improve the embedding property of the wiring pattern and suppress the generation of bubbles. The pressure under reduced pressure at which thermocompression bonding is performed is usually 100 kPa to 1 Pa, preferably 40 kPa to 10 Pa.

(硬化物)
本発明の硬化物は、前記フィルム、前記多層フィルム、前記プリプレグ、前記積層体における硬化性樹脂組成物からなる個所に対して硬化する処理を行なうことで、硬化物とすることができる。硬化は、通常、導体層上に、本発明のフィルム又は多層フィルムが形成された基板全体を加熱することにより行う。硬化は、上述した加熱圧着操作と同時に行うことができる。また、まず加熱圧着操作を硬化の起こらない条件、すなわち比較的低温、短時間で行った後、硬化を行ってもよい。
(Cured product)
The hardened | cured material of this invention can be made into hardened | cured material by performing the process hardened | cured with respect to the location which consists of the curable resin composition in the said film, the said multilayer film, the said prepreg, and the said laminated body. Curing is usually performed by heating the entire substrate on which the film or multilayer film of the present invention is formed on the conductor layer. Curing can be performed simultaneously with the above-described thermocompression bonding operation. Alternatively, the thermocompression may be performed after the thermocompression operation is performed under conditions that do not cause curing, that is, at a relatively low temperature and in a short time.

また、電気絶縁層の平坦性を向上させる目的や、電気絶縁層の厚みを増す目的で、基板の導体層上に本発明のフィルム、多層フィルム又はプリプレグ等を2以上接して貼り合わせて積層してもよい。   In addition, for the purpose of improving the flatness of the electrical insulating layer or increasing the thickness of the electrical insulating layer, two or more films, multilayer films, prepregs, etc. of the present invention are bonded and laminated on the conductor layer of the substrate. May be.

硬化温度は、通常、30〜400℃、好ましくは70〜300℃、より好ましくは100〜200℃である。また、硬化時間は、0.1〜5時間、好ましくは0.5〜3時間である。加熱の方法は特に制限されず、例えば電気オーブンなどを用いて行えばよい。   The curing temperature is usually 30 to 400 ° C, preferably 70 to 300 ° C, more preferably 100 to 200 ° C. The curing time is 0.1 to 5 hours, preferably 0.5 to 3 hours. The heating method is not particularly limited, and may be performed using, for example, an electric oven.

(複合体)
前記積層体の電気絶縁層上に、さらに別の導体層を形成して複合体を得ることができる。かかる導体層としては金属めっき又は金属箔を使用することができる。金属めっき材料としては、金、銀、銅、ロジウム、パラジウム、ニッケル又はスズ等、金属箔としては前述のフィルム、多層フィルム又はプリプレグの支持体として使用されるものが挙げられる。なお、導体層としては金属めっきを使用する方法のほうが、微細配線が可能であるという点より、好ましい。以下、前記複合体の製造方法を、導体層として金属めっきを用いた多層回路基板を例示して、説明する。
(Complex)
Another conductor layer can be formed on the electrical insulating layer of the laminate to obtain a composite. As the conductor layer, metal plating or metal foil can be used. Examples of the metal plating material include gold, silver, copper, rhodium, palladium, nickel or tin, and examples of the metal foil include those used as a support for the above-mentioned film, multilayer film or prepreg. In addition, the method of using metal plating as the conductor layer is preferable from the point that fine wiring is possible. Hereinafter, the manufacturing method of the composite will be described by exemplifying a multilayer circuit board using metal plating as a conductor layer.

まず、積層体に、電気絶縁層を貫通するビアホールやスルーホールを形成する。ビアホールは、多層回路基板とした場合に、多層回路基板を構成する各導体層を連結するために形成される。ビアホールやスルーホールは、フォトリソグラフィ法のような化学的処理により、又は、ドリル、レーザー、プラズマエッチングなどの物理的処理などにより形成することができる。これらの方法の中でもレーザーによる方法(炭酸ガスレーザー、エキシマレーザー、UV−YAGレーザーなど)は、より微細なビアホールを電気絶縁層の特性を低下させずに形成できるので好ましい。   First, a via hole or a through hole that penetrates the electrical insulating layer is formed in the laminate. The via hole is formed to connect the respective conductor layers constituting the multilayer circuit board when the multilayer circuit board is used. The via hole or the through hole can be formed by chemical processing such as photolithography or physical processing such as drilling, laser, or plasma etching. Among these methods, a laser method (carbon dioxide laser, excimer laser, UV-YAG laser, or the like) is preferable because a finer via hole can be formed without degrading the characteristics of the electrical insulating layer.

次に、積層体の電気絶縁層(すなわち、本発明の硬化物)の表面を、粗化する表面粗化処理を行う。表面粗化処理は、電気絶縁層上に形成する導電層との接着性を高めるために行う。
電気絶縁層の表面平均粗度Raは、好ましくは0.05μm以上0.5μm未満、より好ましくは0.06μm以上0.3μm以下であり、かつ表面十点平均粗さRzjisは、好ましくは0.3μm以上6μm未満、より好ましくは0.5μm以上5μm以下である。なお、本明細書において、RaはJIS B0601−2001に示される算術平均粗さであり、表面十点平均粗さRzjisは、JIS B0601−2001付属書1に示される十点平均粗さである。
Next, the surface roughening process which roughens the surface of the electric insulation layer (namely, cured | curing material of this invention) of a laminated body is performed. The surface roughening treatment is performed in order to improve the adhesiveness with the conductive layer formed on the electrical insulating layer.
The surface average roughness Ra of the electrical insulating layer is preferably 0.05 μm or more and less than 0.5 μm, more preferably 0.06 μm or more and 0.3 μm or less, and the surface 10-point average roughness Rzjis is preferably 0.00. They are 3 micrometers or more and less than 6 micrometers, More preferably, they are 0.5 micrometers or more and 5 micrometers or less. In this specification, Ra is the arithmetic average roughness shown in JIS B0601-2001, and the surface ten-point average roughness Rzjis is the ten-point average roughness shown in JIS B0601-2001 appendix 1.

表面粗化処理方法としては、特に限定されないが、電気絶縁層表面と酸化性化合物とを接触させる方法などが挙げられる。酸化性化合物としては、無機酸化性化合物や有機酸化性化合物などの酸化能を有する公知の化合物が挙げられる。電気絶縁層の表面平均粗度の制御の容易さから、無機酸化性化合物や有機酸化性化合物を用いるのが特に好ましい。無機酸化性化合物としては、過マンガン酸塩、無水クロム酸、重クロム酸塩、クロム酸塩、過硫酸塩、活性二酸化マンガン、四酸化オスミウム、過酸化水素、過よう素酸塩などが挙げられる。有機酸化性化合物としてはジクミルパーオキサイド、オクタノイルパーオキサイド、m−クロロ過安息香酸、過酢酸、オゾンなどが挙げられる。   Although it does not specifically limit as a surface roughening processing method, The method etc. which make an electrical insulating layer surface and an oxidizing compound contact are mentioned. Examples of the oxidizing compound include known compounds having oxidizing ability, such as inorganic oxidizing compounds and organic oxidizing compounds. In view of easy control of the surface average roughness of the electrical insulating layer, it is particularly preferable to use an inorganic oxidizing compound or an organic oxidizing compound. Examples of inorganic oxidizing compounds include permanganate, chromic anhydride, dichromate, chromate, persulfate, activated manganese dioxide, osmium tetroxide, hydrogen peroxide, periodate, and the like. . Examples of the organic oxidizing compound include dicumyl peroxide, octanoyl peroxide, m-chloroperbenzoic acid, peracetic acid, and ozone.

無機酸化性化合物や有機酸化性化合物を用いて電気絶縁層表面を表面粗化処理する方法に格別な制限はない。例えば、上記酸化性化合物を溶解可能な溶媒に溶解して調製した酸化性化合物溶液を電気絶縁層表面に接触させる方法が挙げられる。酸化性化合物溶液を、電気絶縁層の表面に接触させる方法としては、特に限定されないが、たとえば、電気絶縁層を酸化性化合物溶液に浸漬するディップ法、酸化性化合物溶液の表面張力を利用して、酸化性化合物溶液を、電気絶縁層に載せる液盛り法、酸化性化合物溶液を、電気絶縁層に噴霧するスプレー法、などいかなる方法であってもよい。表面粗化処理を行うことにより、電気絶縁層の、導体層など他の層との間の密着性を向上させることができる。   There is no particular limitation on the method of roughening the surface of the electrical insulating layer using an inorganic oxidizing compound or an organic oxidizing compound. For example, there is a method in which an oxidizing compound solution prepared by dissolving the oxidizing compound in a soluble solvent is brought into contact with the surface of the electrical insulating layer. The method for bringing the oxidizing compound solution into contact with the surface of the electrical insulating layer is not particularly limited. For example, the dipping method in which the electrical insulating layer is immersed in the oxidizing compound solution, the surface tension of the oxidizing compound solution is used. Any method may be used, such as a liquid filling method in which the oxidizing compound solution is placed on the electric insulating layer, or a spray method in which the oxidizing compound solution is sprayed on the electric insulating layer. By performing the surface roughening treatment, it is possible to improve the adhesion between the electrical insulating layer and another layer such as a conductor layer.

これらの酸化性化合物溶液を電気絶縁層表面に接触させる温度や時間は、酸化性化合物の濃度や種類、接触方法などを考慮して、任意に設定すればよいが、温度は、通常、10〜250℃、好ましくは20〜180℃であり、時間は、通常、0.5〜60分間、好ましくは1〜40分間である。   The temperature and time for bringing these oxidizing compound solutions into contact with the surface of the electrical insulating layer may be set arbitrarily in consideration of the concentration and type of the oxidizing compound, the contact method, etc. It is 250 degreeC, Preferably it is 20-180 degreeC, and time is 0.5 to 60 minutes normally, Preferably it is 1 to 40 minutes.

なお、表面粗化処理後、酸化性化合物を除去するため、表面粗化処理後の電気絶縁層表面を水で洗浄する。また、水だけでは洗浄しきれない物質が付着している場合には、その物質を溶解可能な洗浄液でさらに洗浄したり、他の化合物と接触させたりすることにより水に可溶な物質にしてから水で洗浄する。例えば、過マンガン酸カリウム水溶液や過マンガン酸ナトリウム水溶液などのアルカリ性水溶液を電気絶縁層と接触させた場合は、発生した二酸化マンガンの皮膜を除去する目的で、硫酸ヒドロキシアミンと硫酸との混合液などの酸性水溶液により中和還元処理した後に水で洗浄することができる。   Note that the surface of the electrical insulating layer after the surface roughening treatment is washed with water in order to remove the oxidizing compound after the surface roughening treatment. In addition, if a substance that cannot be washed with water is attached, the substance can be further washed with a dissolvable cleaning solution or brought into contact with other compounds to make it soluble in water. Wash with water. For example, when an alkaline aqueous solution such as an aqueous potassium permanganate solution or an aqueous sodium permanganate solution is brought into contact with the electrical insulating layer, a mixed solution of hydroxyamine sulfate and sulfuric acid is used to remove the generated manganese dioxide film. It can wash | clean with water, after neutralizing-reducing process with the acidic aqueous solution of this.

次いで、積層体の電気絶縁層について表面粗化処理を行った後、電気絶縁層の表面及びビアホールやスルーホールの内壁面に、導体層を形成する。
導体層の形成方法は、密着性に優れる導体層を形成できるという観点より、無電解めっき法により行なう。
Next, after surface roughening treatment is performed on the electrical insulating layer of the laminate, a conductor layer is formed on the surface of the electrical insulating layer and the inner wall surfaces of the via holes and through holes.
The conductive layer is formed by electroless plating from the viewpoint that a conductive layer having excellent adhesion can be formed.

たとえば、無電解めっき法により導体層を形成する際においては、まず、金属薄膜を電気絶縁層の表面に形成させる前に、電気絶縁層上に、銀、パラジウム、亜鉛、コバルトなどの触媒核を付着させるのが一般的である。触媒核を電気絶縁層に付着させる方法は特に制限されず、例えば、銀、パラジウム、亜鉛、コバルトなどの金属化合物やこれらの塩や錯体を、水又はアルコールもしくはクロロホルムなどの有機溶剤に0.001〜10重量%の濃度で溶解した液(必要に応じて酸、アルカリ、錯化剤、還元剤などを含有していてもよい。)に浸漬した後、金属を還元する方法などが挙げられる。   For example, when forming a conductor layer by an electroless plating method, first, before forming a metal thin film on the surface of the electrical insulation layer, catalyst nuclei such as silver, palladium, zinc, and cobalt are formed on the electrical insulation layer. It is common to attach. The method for attaching the catalyst nucleus to the electrical insulating layer is not particularly limited. For example, a metal compound such as silver, palladium, zinc, or cobalt, or a salt or complex thereof is added to water or an organic solvent such as alcohol or chloroform to 0.001. Examples include a method of reducing a metal after dipping in a solution (which may contain an acid, an alkali, a complexing agent, a reducing agent, etc., if necessary) dissolved at a concentration of 10 to 10% by weight.

無電解めっき法に用いる無電解めっき液としては、公知の自己触媒型の無電解めっき液を用いればよく、めっき液中に含まれる金属種、還元剤種、錯化剤種、水素イオン濃度、溶存酸素濃度などは特に限定されない。例えば、次亜リン酸アンモニウム、次亜リン酸、水素化硼素アンモニウム、ヒドラジン、ホルマリンなどを還元剤とする無電解銅めっき液;次亜リン酸ナトリウムを還元剤とする無電解ニッケル−リンめっき液;ジメチルアミンボランを還元剤とする無電解ニッケル−ホウ素めっき液;無電解パラジウムめっき液;次亜リン酸ナトリウムを還元剤とする無電解パラジウム−リンめっき液;無電解金めっき液;無電解銀めっき液;次亜リン酸ナトリウムを還元剤とする無電解ニッケル−コバルト−リンめっき液などの無電解めっき液を用いることができる。   As the electroless plating solution used in the electroless plating method, a known autocatalytic electroless plating solution may be used, and the metal species, reducing agent species, complexing agent species, hydrogen ion concentration, The dissolved oxygen concentration is not particularly limited. For example, electroless copper plating solution using ammonium hypophosphite, hypophosphorous acid, ammonium borohydride, hydrazine, formalin, etc. as a reducing agent; electroless nickel-phosphorous plating solution using sodium hypophosphite as a reducing agent Electroless nickel-boron plating solution using dimethylamine borane as a reducing agent; electroless palladium plating solution; electroless palladium-phosphorous plating solution using sodium hypophosphite as a reducing agent; electroless gold plating solution; electroless silver Plating solution: An electroless plating solution such as an electroless nickel-cobalt-phosphorous plating solution using sodium hypophosphite as a reducing agent can be used.

金属薄膜を形成した後、基板表面を防錆剤と接触させて防錆処理を施すことができる。また、金属薄膜を形成した後、密着性向上などのため、金属薄膜を加熱することもできる。加熱温度は、通常、50〜350℃、好ましくは80〜250℃である。なお、この際において、加熱は加圧条件下で実施してもよい。このときの加圧方法としては、例えば、熱プレス機、加圧加熱ロール機などの物理的加圧手段を用いる方法が挙げられる。加える圧力は、通常、0.1〜20MPa、好ましくは0.5〜10MPaである。この範囲であれば、金属薄膜と電気絶縁層との高い密着性が確保できる。   After forming the metal thin film, the substrate surface can be brought into contact with a rust preventive agent to carry out a rust prevention treatment. Moreover, after forming a metal thin film, a metal thin film can also be heated in order to improve adhesiveness. The heating temperature is usually 50 to 350 ° C, preferably 80 to 250 ° C. In this case, heating may be performed under a pressurized condition. As a pressurizing method at this time, for example, a method using a physical pressurizing means such as a hot press machine or a pressurizing and heating roll machine can be cited. The applied pressure is usually 0.1 to 20 MPa, preferably 0.5 to 10 MPa. If it is this range, the high adhesiveness of a metal thin film and an electrically insulating layer is securable.

このようにして形成された金属薄膜上にめっき用レジストパターンを形成し、更にその上に電解めっきなどの湿式めっきによりめっきを成長させ(厚付けめっき)、次いで、レジストを除去し、更にエッチングにより金属薄膜をパターン状にエッチングして導体層を形成する。従って、この方法により形成される導体層は、通常、パターン状の金属薄膜と、その上に成長させためっきとからなる。   A resist pattern for plating is formed on the metal thin film thus formed, and further, plating is grown thereon by wet plating such as electrolytic plating (thick plating), then the resist is removed, and further etched. The metal thin film is etched into a pattern to form a conductor layer. Therefore, the conductor layer formed by this method usually consists of a patterned metal thin film and plating grown thereon.

あるいは、多層回路基板を構成する導体層として、金属めっきの代わりに、金属箔を用いた場合には、以下の方法により製造することができる。   Alternatively, when a metal foil is used instead of metal plating as the conductor layer constituting the multilayer circuit board, it can be manufactured by the following method.

すなわち、まず、上記と同様にして、フィルム、多層フィルム又はプリプレグからなる電気絶縁層と金属箔からなる導体層とから構成される積層体を準備する。このような積層体としては、積層成形した場合に、硬化性樹脂組成物を各要求特性が保持できる硬化度とし、その後の加工を行なった場合や、多層回路基板とした際に問題のないようなものとすることが望ましく、特に、積層成形を、真空下に行なうことにより形成することが望ましい。なお、このようなフィルム、多層フィルム又はプリプレグからなる電気絶縁層と金属箔からなる導体層とから構成される積層体は、たとえば、公知のサブトラクティブ法によりプリント配線板にも用いることができる。   That is, first, in the same manner as described above, a laminate composed of an electrical insulating layer made of a film, a multilayer film or a prepreg and a conductor layer made of a metal foil is prepared. As such a laminated body, when laminated, the curable resin composition has a degree of curing that can maintain each required characteristic, and there is no problem when it is processed afterwards or when a multilayer circuit board is formed. In particular, it is desirable to form by laminating under vacuum. In addition, the laminated body comprised from the electrically insulating layer which consists of such a film, a multilayer film, or a prepreg, and the conductor layer which consists of metal foil can be used also for a printed wiring board by a well-known subtractive method, for example.

そして、準備した積層体に、上記と同様にして、電気絶縁層を貫通するビアホールやスルーホールを形成し、次いで、形成したビアホール内の樹脂残渣を除去するために、スルーホールを形成した積層体について、デスミア処理を行なう。デスミア処理の方法は特に限定されないが、例えば、過マンガン酸塩などの酸化性化合物の溶液(デスミア液)を接触させる方法が挙げられる。具体的には、過マンガン酸ナトリウム濃度60g/リットル、水酸化ナトリウム濃度28g/リットルになるように調整した60〜80℃の水溶液に、ビアホールを形成した積層体を1〜50分間揺動浸漬することにより、デスミア処理を行なうことができる。   Then, in the same manner as described above, via holes and through holes penetrating the electrical insulating layer are formed in the prepared laminated body, and then the laminated body in which through holes are formed in order to remove the resin residue in the formed via holes. About desmear processing. Although the method of a desmear process is not specifically limited, For example, the method of contacting the solution (desmear liquid) of oxidizing compounds, such as a permanganate, is mentioned. Specifically, the laminated body in which the via hole is formed is immersed for 1 to 50 minutes in an aqueous solution at 60 to 80 ° C. adjusted to have a sodium permanganate concentration of 60 g / liter and a sodium hydroxide concentration of 28 g / liter. Thus, desmear processing can be performed.

次いで、積層体についてデスミア処理を行った後、ビアホール内壁面に、導体層を形成する。導体層の形成方法は、特に限定されず、無電解めっき法または電解めっき法のいずれも用いることができるが、密着性に優れる導体層を形成できるという観点より、上記した導体層として金属めっきを形成する方法と同様に、無電解めっき法により行なうことができる。   Subsequently, after performing a desmear process about a laminated body, a conductor layer is formed in a via hole inner wall surface. The method for forming the conductor layer is not particularly limited, and either an electroless plating method or an electrolytic plating method can be used. From the viewpoint that a conductor layer having excellent adhesion can be formed, metal plating is used as the above-described conductor layer. It can carry out by the electroless-plating method similarly to the method of forming.

次いで、ビアホール内壁面に導体層を形成した後、金属箔上に、めっき用レジストパターンを形成し、更にその上に電解めっきなどの湿式めっきによりめっきを成長させ(厚付けめっき)、次いで、レジストを除去し、更にエッチングにより金属箔をパターン状にエッチングして導体層を形成する。従って、この方法により形成される導体層は、通常、パターン状の金属箔と、その上に成長させためっきとからなる。   Next, after forming a conductor layer on the inner wall surface of the via hole, a resist pattern for plating is formed on the metal foil, and further, plating is grown on the metal foil by wet plating such as electrolytic plating (thick plating). Then, the metal foil is etched into a pattern by etching to form a conductor layer. Therefore, the conductor layer formed by this method usually consists of a patterned metal foil and plating grown thereon.

以上のようにして得られた多層回路基板を、上述した積層体を製造するための基板とし、これを上述した成形体又は複合成形体とを加熱圧着し、硬化して電気絶縁層を形成し、さらにこの上に、上述した方法に従い、導電層の形成を行い、これらを繰り返すことにより、更なる多層化を行うことができ、これにより所望の多層回路基板とすることができる。   The multilayer circuit board obtained as described above is used as a substrate for manufacturing the above-described laminate, and this is thermocompression-bonded with the above-described molded body or composite molded body and cured to form an electrical insulating layer. Further, by further forming a conductive layer in accordance with the above-described method and repeating these, further multilayering can be performed, and thereby a desired multilayer circuit board can be obtained.

このようにして得られる複合体(及び本発明の複合体の一例としての多層回路基板)は、本発明の硬化性樹脂組成物からなる電気絶縁層(本発明の硬化物)を有してなり、該電気絶縁層は、低線膨張であり、電気特性、耐熱性、配線埋め込み平坦性に優れるものであるため、この複合体(及びこの複合体の一例としての多層回路基板)は、各種用途に好適に用いることができる。   The composite thus obtained (and the multilayer circuit board as an example of the composite of the present invention) has an electrical insulating layer (cured product of the present invention) comprising the curable resin composition of the present invention. Since the electrical insulating layer has low linear expansion and is excellent in electrical characteristics, heat resistance, and wiring embedding flatness, the composite (and a multilayer circuit board as an example of the composite) is used in various applications. Can be suitably used.

(電子材料用基板)
本発明の硬化物又は複合体からなる電子材料用基板を得ることができる。このような本発明の硬化物又は複合体からなる電子材料用基板は、携帯電話機、PHS、ノート型パソコン、PDA(携帯情報端末)、携帯テレビ電話機、パーソナルコンピューター、スーパーコンピューター、サーバー、ルーター、液晶プロジェクタ、エンジニアリング・ワークステーション(EWS)、ページャ、ワードプロセッサ、テレビ、ビューファインダ型又はモニタ直視型のビデオテープレコーダ、電子手帳、電子卓上計算機、カーナビゲーション装置、POS端末、タッチパネルを備えた装置などの各種電子機器に好適に用いることができる。
(Electronic material substrate)
An electronic material substrate comprising the cured product or composite of the present invention can be obtained. Such a substrate for an electronic material comprising a cured product or a composite of the present invention includes a mobile phone, a PHS, a notebook computer, a PDA (personal digital assistant), a mobile video phone, a personal computer, a supercomputer, a server, a router, and a liquid crystal. Projector, engineering workstation (EWS), pager, word processor, TV, viewfinder type or monitor direct view type video tape recorder, electronic notebook, electronic desk calculator, car navigation device, POS terminal, device with touch panel, etc. It can use suitably for an electronic device.

以下に実施例及び比較例を挙げて、本発明についてより具体的に説明する。なお、各例中の部及び%は、特に断りのない限り、重量基準である。各種の物性については、以下の方法に従って評価した。   Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples and comparative examples. In addition, the part and% in each example are a basis of weight unless there is particular notice. Various physical properties were evaluated according to the following methods.

(1)比誘電率
フィルム状硬化物から幅2.6mm、長さ80mm、厚さ40μmの小片を切り出し、空洞共振器摂動法誘電率測定装置を用いて10GHzにおける比誘電率の測定を行ない、以下の基準で評価した。
A:比誘電率が3.2未満
B:比誘電率が3.2以上、3.3未満
C:比誘電率が3.3以上
(1) Relative permittivity A small piece having a width of 2.6 mm, a length of 80 mm, and a thickness of 40 μm was cut out from the film-like cured product, and the relative permittivity at 10 GHz was measured using a cavity resonator perturbation method permittivity measurement apparatus. Evaluation was made according to the following criteria.
A: Relative permittivity is less than 3.2 B: Relative permittivity is 3.2 or more and less than 3.3 C: Relative permittivity is 3.3 or more

(2)誘電正接
フィルム状硬化物から幅2.6mm、長さ80mm、厚さ40μmの小片を切り出し、空洞共振器摂動法誘電率測定装置を用いて10GHzにおける誘電正接の測定を行ない、以下の基準で評価した。
A:誘電正接が0.009未満
B:誘電正接が0.009以上、0.010未満
C:誘電正接が0.010以上
(2) Dielectric loss tangent A 2.6 mm wide, 80 mm long, 40 μm thick piece was cut out from the cured film and measured for dielectric loss tangent at 10 GHz using a cavity resonator perturbation method dielectric constant measurement device. Evaluated by criteria.
A: Dielectric tangent is less than 0.009 B: Dielectric tangent is 0.009 or more and less than 0.010 C: Dielectric tangent is 0.010 or more

(3)線膨張係数
フィルム状硬化物から幅6mm、長さ15.4mm、厚さ40μmの小片を切り出し、支点間距離10mm、昇温速度10℃/分の条件で、熱機械分析装置(TMA/SDTA840:メトラー・トレド社製)により、30℃〜240℃の線膨張係数の測定を行い、測定の結果得られた30〜150℃における線膨張係数α1、150〜240℃における線膨張係数α2を、それぞれ求めた。
(3) Linear expansion coefficient A small piece having a width of 6 mm, a length of 15.4 mm, and a thickness of 40 μm was cut out from the film-like cured product, and was subjected to a thermomechanical analyzer (TMA) under the conditions of a distance between supporting points of 10 mm and a heating rate of 10 ° C./min. / SDTA840: manufactured by METTLER TOLEDO), the linear expansion coefficient at 30 ° C. to 240 ° C. is measured, and the linear expansion coefficient α1 at 30 to 150 ° C. and the linear expansion coefficient α2 at 150 to 240 ° C. obtained as a result of the measurement. Sought for each.

(4)ガラス転移温度(Tg)
フィルム状硬化物のガラス転移温度(Tg)を、前記条件で熱機械分析装置(TMA)によるガラス転移温度前後の曲線に接線を引き、この接線の交点からTgを求めた。
(4) Glass transition temperature (Tg)
With respect to the glass transition temperature (Tg) of the film-like cured product, a tangent line was drawn on a curve before and after the glass transition temperature by a thermomechanical analyzer (TMA) under the above conditions, and Tg was determined from the intersection of the tangent lines.

実施例1
(硬化性樹脂組成物の調製)
多官能エポキシ化合物(A)としてのジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂(A−1)(商品名「EPICLON HP−7200HH」、DIC社製、エポキシ基当量250)40部、多官能エポキシ化合物(A)としてのエポキシ化ブタンテトラカルボン酸テトラキス(3−シクロヘキセニルメチル)修飾ε−カプロラクトン(A−2)(商品名「エポリードGT401」、ダイセル化学工業社製、エポキシ基当量183)60部、活性エステル化合物(B)としての活性エステル樹脂(B−1)(商品名「EPICLON HPC−8000−65T」、不揮発分65重量%のトルエン溶液、DIC社製、活性エステル基当量223)134部、ベンゾオキサジン化合物(C)としてのP−d型ベンゾオキサジン(C−1)(四国化成工業社製、上記一般式(2)において、Xがメチレン基である化合物、フェノール性水酸基当量217)44部、充填剤(D)としてのシリカ(D−1)(商品名「SC2500−SXJ」、アドマテックス社製、アミン処理品)525部、老化防止剤としてのヒンダードフェノール系酸化防止剤(商品名「イルガノックス3114」、BASF社製)1.6部、及びアニソール110部を混合し、遊星式攪拌機で3分間攪拌した。
さらにこれに、硬化促進剤として1−べンジル−2−フェニルイミダゾールをアニソールに30%溶解した溶液を固形分換算で13部(硬化促進剤4部)を混合し、遊星式攪拌機で5分間攪拌して硬化性樹脂組成物のワニスを得た。
Example 1
(Preparation of curable resin composition)
As a polyfunctional epoxy compound (A), 40 parts of a dicyclopentadiene type epoxy resin (A-1) (trade name “EPICLON HP-7200HH”, manufactured by DIC, epoxy group equivalent 250), as a polyfunctional epoxy compound (A) Epoxidized butanetetracarboxylic acid tetrakis (3-cyclohexenylmethyl) modified ε-caprolactone (A-2) (trade name “Epolide GT401”, manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd., epoxy group equivalent 183), active ester compound ( B) Active ester resin (B-1) (trade name “EPICLON HPC-8000-65T”, toluene solution with a nonvolatile content of 65% by weight, manufactured by DIC, active ester group equivalent 223) 134 parts, benzoxazine compound ( Pd-type benzoxazine (C-1) as C) (Shikoku Chemicals) In the above general formula (2), 44 parts by weight of a compound in which X 2 is a methylene group, phenolic hydroxyl group equivalent 217, silica (D-1) as a filler (D) (trade name “SC2500-SXJ” 525 parts manufactured by Admatechs Co., Ltd.), 1.6 parts of a hindered phenolic antioxidant (trade name “Irganox 3114”, manufactured by BASF) as an anti-aging agent, and 110 parts of anisole are mixed. The mixture was stirred for 3 minutes with a planetary stirrer.
Furthermore, 13 parts (4 parts of curing accelerator) in terms of solid content was mixed with a solution obtained by dissolving 30% of 1-benzyl-2-phenylimidazole in anisole as a curing accelerator, and stirred for 5 minutes with a planetary stirrer. Thus, a varnish of the curable resin composition was obtained.

(フィルム成形体の作製)
次いで、上記にて得られた硬化性樹脂組成物のワニスを、ダイコーターを用いて、縦300mm×横300mmの大きさで厚さが38μm、表面平均粗度Raが0.08μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(支持体:ルミラー(登録商標)T60 東レ社製)上に塗工し、次いで、窒素雰囲気下、80℃で10分間乾燥し、支持体上に厚さ43μmの樹脂組成物のフィルム成形体を得た。
(Production of film molding)
Next, the varnish of the curable resin composition obtained above is a polyethylene terephthalate film having a size of 300 mm in length and 300 mm in width, a thickness of 38 μm, and a surface average roughness Ra of 0.08 μm, using a die coater. (Support: Lumirror (registered trademark) T60 manufactured by Toray Industries, Inc.) and then dried in a nitrogen atmosphere at 80 ° C. for 10 minutes to form a 43 μm thick resin composition film molding on the support. Obtained.

(フィルム状硬化物の作製)
次いで、厚さ10μmの銅箔に、得られた硬化性樹樹脂組成物のフィルム成形体から切り出した小片を、支持体が付いた状態で、硬化性樹脂組成物が内側になるようにして、耐熱性ゴム製プレス板を上下に備えた真空ラミネータを用い、200Paに減圧して、温度110℃、圧力0.1MPaで60秒間加熱圧着積層し、その後180℃で120分間空気中で加熱硬化した。硬化後、銅箔付き硬化樹脂を切り出し、銅箔を1mol/Lの過硫酸アンモニウム水溶液にて溶解し、フィルム状の硬化物を得た。得られたフィルム状硬化物を用いて、上記方法に従い、比誘電率、誘電正接、線膨張係数、及びガラス転移温度の測定を行った。結果を表1に示す。
(Preparation of cured film)
Next, on a copper foil having a thickness of 10 μm, a small piece cut out from the film molded body of the obtained curable resin resin composition, with the support attached, the curable resin composition is on the inside, Using a vacuum laminator equipped with heat-resistant rubber press plates at the top and bottom, the pressure was reduced to 200 Pa, thermocompression laminated at a temperature of 110 ° C. and a pressure of 0.1 MPa for 60 seconds, and then heated and cured in air at 180 ° C. for 120 minutes. . After curing, the cured resin with a copper foil was cut out and the copper foil was dissolved in a 1 mol / L ammonium persulfate aqueous solution to obtain a film-like cured product. Using the obtained film-like cured product, the relative dielectric constant, dielectric loss tangent, linear expansion coefficient, and glass transition temperature were measured according to the above methods. The results are shown in Table 1.

実施例2
各成分の配合量を表1に示すとおりとした以外は、実施例1と同様にして、硬化性樹樹脂組成物のワニスを得て、得られた硬化性樹樹脂組成物のワニスを用いた以外は、実施例1と同様にして、フィルム成形体及びフィルム状硬化物を製造し、同様に評価を行った。結果を表1に示す。
Example 2
A varnish of the curable resin resin composition was obtained in the same manner as in Example 1 except that the blending amount of each component was as shown in Table 1, and the varnish of the obtained curable resin resin composition was used. Except for the above, a film molded body and a film-like cured product were produced in the same manner as in Example 1 and evaluated in the same manner. The results are shown in Table 1.

比較例1〜4
各成分の配合量を表1に示すとおりとした以外は、実施例1と同様にして、硬化性樹樹脂組成物のワニスを得て、得られた硬化性樹樹脂組成物のワニスを用いた以外は、実施例1と同様にして、フィルム成形体及びフィルム状硬化物を製造し、同様に評価を行った。結果を表1に示す。
Comparative Examples 1-4
A varnish of the curable resin resin composition was obtained in the same manner as in Example 1 except that the blending amount of each component was as shown in Table 1, and the varnish of the obtained curable resin resin composition was used. Except for the above, a film molded body and a film-like cured product were produced in the same manner as in Example 1 and evaluated in the same manner. The results are shown in Table 1.

Figure 2014148562
Figure 2014148562

表1に示すように、本発明の硬化性樹脂組成物を用いることにより、得られるフィルム状硬化物(電気絶縁層)を、低線膨張で、電気特性(比誘電率及び誘電正接)及び耐熱性に優れたものとすることができることが確認できる(実施例1,2)。特に、本発明の硬化性樹脂組成物を用いて得られるフィルム状硬化物(電気絶縁層)は、表1からも確認できるように、高温側における線膨張率(すなわち、150〜240℃における線膨張係数)が低く、高温環境下における低線膨張性に特に優れるものであることが確認できる。   As shown in Table 1, by using the curable resin composition of the present invention, the obtained film-like cured product (electrical insulating layer) has low linear expansion, electrical characteristics (dielectric constant and dielectric loss tangent), and heat resistance. It can confirm that it can be set as the thing excellent in property (Example 1, 2). In particular, the film-like cured product (electrical insulating layer) obtained by using the curable resin composition of the present invention has a linear expansion coefficient on the high temperature side (that is, a line at 150 to 240 ° C.) as can be confirmed from Table 1. (Expansion coefficient) is low, and it can be confirmed that it is particularly excellent in low linear expansion under a high temperature environment.

一方、ベンゾオキサジン化合物(C)を配合しなかった場合や、ベンゾオキサジン化合物(C)の配合量が少なすぎる場合には、得られるフィルム状硬化物は、線膨張係数が、低温側(30〜150℃)、高温側(150〜240℃)のいずれにおいても高くなり、低線膨張性に劣るものとなった(比較例1〜3)。
また、ベンゾオキサジン化合物(C)の配合量が多すぎる場合には、得られるフィルム状硬化物は、誘電正接が高く、電気特性に劣るものとなった(比較例4)。
On the other hand, when the benzoxazine compound (C) is not blended or when the blended amount of the benzoxazine compound (C) is too small, the obtained film-like cured product has a linear expansion coefficient on the low temperature side (30 to 30). 150 ° C.) and on the high temperature side (150 to 240 ° C.), both of which were inferior in low linear expansion (Comparative Examples 1 to 3).
Moreover, when there were too many compounding quantities of a benzoxazine compound (C), the film-form hardened | cured material obtained had a high dielectric loss tangent, and became inferior to an electrical property (comparative example 4).

Claims (6)

多官能エポキシ化合物(A)、活性エステル化合物(B)、ベンゾオキサジン化合物(C)、及び充填剤(D)を含有してなり、
前記活性エステル化合物(B)の活性エステル基と、前記ベンゾオキサジン化合物(C)のフェノール性水酸基との比率が、「フェノール性水酸基/活性エステル基」の当量比で、0.3〜0.9である硬化性樹脂組成物。
A polyfunctional epoxy compound (A), an active ester compound (B), a benzoxazine compound (C), and a filler (D);
The ratio of the active ester group of the active ester compound (B) to the phenolic hydroxyl group of the benzoxazine compound (C) is 0.3 to 0.9 in terms of an equivalent ratio of “phenolic hydroxyl group / active ester group”. A curable resin composition.
前記多官能エポキシ化合物(A)のエポキシ基と、前記活性エステル化合物(B)の活性エステル基と、前記ベンゾオキサジン化合物(C)のフェノール性水酸基との比率が、「(活性エステル基+フェノール性水酸基)/エポキシ基」の当量比で、1.0〜2.0である請求項1に記載の硬化性樹脂組成物。   The ratio of the epoxy group of the polyfunctional epoxy compound (A), the active ester group of the active ester compound (B), and the phenolic hydroxyl group of the benzoxazine compound (C) is “(active ester group + phenolic). The curable resin composition according to claim 1, wherein the equivalent ratio of “hydroxyl group) / epoxy group” is 1.0 to 2.0. 前記多官能エポキシ化合物(A)100重量部に対する、前記ベンゾオキサジン化合物(C)の含有割合が38〜85重量部である請求項1又は2に記載の硬化性樹脂組成物。   The curable resin composition according to claim 1 or 2, wherein a content ratio of the benzoxazine compound (C) is 38 to 85 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the polyfunctional epoxy compound (A). 請求項1〜3のいずれかに記載の硬化性樹脂組成物からなるフィルム。   The film which consists of a curable resin composition in any one of Claims 1-3. 請求項1〜3のいずれかに記載の樹脂組成物を繊維基材に含浸してなるプリプレグ。   A prepreg obtained by impregnating a fiber base material with the resin composition according to claim 1. 請求項1〜3のいずれかに記載の硬化性樹脂組成物、請求項4に記載のフィルム、又は請求項5に記載のプリプレグを硬化してなる硬化物。   Hardened | cured material formed by hardening | curing the curable resin composition in any one of Claims 1-3, the film of Claim 4, or the prepreg of Claim 5.
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