JP2012511619A - シルセスキオキサン樹脂 - Google Patents
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Abstract
【選択図】 なし
Description
なし。
(Ph(CH2)rSiO(3-x)/2(OR')x)m
(HSiO(3-x)/2(OR')x)n
(MeSiO(3-x)/2(OR')x)o
(RSiO(3-x)/2(OR')x)p
(R1SiO(3-x)/2(OR')x)q
を備え、ここで、Phがフェニル基、Meがメチル基、R’が水素原子又は1〜4の炭素原子をもつ炭化水素基、R1が置換フェニル基、エステル基、ポリエーテル基、メルカプト基、硫黄含有有機官能基、ヒドロキシル生成基、アリールスルホン酸エステル基及び反応性又は硬化性の有機官能基から選択され、rが0、1、2、3又は4の値、xが0、1又は2の値であり、前記樹脂では、mが0より大きく〜0.90の値、nが0.05〜0.99の値、oが0〜0.95の値、pが0.01〜0.5の値、qが0〜0.5の値、m+n+o+p+q=1である。これらの樹脂が反射防止膜に用いられるとき、前記硬化したフィルムは、(例えばPGMEAに対する)優れた耐溶剤性を示し、エッチング、湿式現像、湿式剥離、その他を含む種々の手段によって除去できる。
(Ph(CH2)rSiO(3-x)/2(OR')x)m
(HSiO(3-x)/2(OR')x)n
(MeSiO(3-x)/2(OR')x)o
(RSiO(3-x)/2(OR')x)p
(R1SiO(3-x)/2(OR')x)q
ここで、Phがフェニル基、Meがメチル基、R’が水素原子又は1〜4の炭素原子をもつ炭化水素基であり、Rがカルボン酸基、カルボン酸形成基又はその混合物から選択され、R1が置換フェニル基、エステル基、ポリエーテル基、メルカプト基、硫黄含有有機官能基、ヒドロキシル生成基、アリールスルホン酸エステル基及び反応性又は硬化性の有機官能基から選択され、rが0、1、2、3又は4の値、xが0、1又は2の値であり、前記樹脂では、mが0より大きく〜0.90の値、nが0.05〜0.99の値、oが0〜0.95の値、pが0.01〜0.5の値、qが0〜0.5の値、m+n+o+p+q=1である。一般的に、前記oは0.25〜0.80の値であり、選択的には0.2〜0.75である。一般的に、前記pは0.015〜0.35の値であり、選択的には0.025〜0.25である。一般的に、前記qは0〜0.15の値であり、選択的には0〜0.1である。
(MeO)3Si-(CH2)2-COOtBu
(MeO)3Si-(CH2)d-(OCH2CH2)e-COOtBu
(MeO)3Si-(CH2)2-COO-SiMe3
(MeO)3Si-(CH2)d-(OCH2CH2)e-COO-SiMe3
CH2=CH-(CH2)g-COOR3;
ここで、R3がtBu、SiMe3、SitBuMe2又はCPh3から選択され、g=0〜8である;
CH2=CH-(CH2)g-COO-CH2-OMe;
ここで、g=0〜8である;
CH2=CH-(CH2)g-(OCH2CH2)h-COOR3;
ここで、R3がtBu、SiMe3、SitBuMe2又はCPh3から選択され、g=0〜8であり、h=1〜10である;
(Ph(CH2)rSiO(3-x)/2(OR')x)m
(HSiO(3-x)/2(OR')x)n''
(MeSiO(3-x)/2(OR')x)o
(R1SiO(3-x)/2(OR')x)q
を備え、ここでPhがフェニル基、Meがメチル基、R’が水素原子又は1〜4個の炭素原子を有する炭化水素基、R1が置換フェニル基、エステル基、ポリエーテル基、メルカプト基、硫黄含有有機官能基、ヒドロキシル生成基、アリールスルホン酸エステル基及び反応性又は硬化性の有機官能基から選択され、rが0、1、2、3又は4の値、xが0、1又は2の値であり、前記樹脂では、mが0〜0.90の値、n''が0.05〜0.99の値、oが0〜0.95の値、pが0.01〜0.5の値、qが0〜0.5の値、m+n''+o+q≒1である。
(i)以下の構成単位:
(Ph(CH2)rSiO(3-x)/2(OR')x)m
(HSiO(3-x)/2(OR')x)n
(MeSiO(3-x)/2(OR')x)o
(RSiO(3-x)/2(OR')x)p
(R1SiO(3-x)/2(OR')x)q
を有し、ここでPhがフェニル基、Meがメチル基、R’が水素原子又は1〜4の炭素原子をもつ炭化水素基、Rがカルボン酸基、カルボン酸形成基又はその混合物から選択され、R1が置換フェニル基、エステル基、ポリエーテル基、メルカプト基、硫黄含有有機官能基、ヒドロキシル生成基、アリールスルホン酸エステル基及び反応性又は硬化性の有機官能基から選択され、rが0、1、2、3又は4の値、xが0、1又は2の値、前記樹脂では、mが0〜0.90より大きい値、nが0.05〜0.99の値、oが0〜0.95の値、pが0.01〜0.5の値、qが0〜0.5の値、m+n+o+p+q≒1であるシルセスキオキサン樹脂と、
(ii)溶媒と
を備える反射防止膜(ARC)用組成物に関する。
T(Ph) 0.10T(H) 0.20T(Me) 0.625T(PSA) 0.075
プロピレングリコールメチルエーテルアセテート(PGMEA)を445.1g、プロピル無水コハク酸を30.89g、フェニルトリクロロシランを28.62g(0.135mol)、メチルトリクロロシランを126.40g(0.846mol)、トリクロロシランを36.65g(0.271mol)、反応容器に投入した。容器温度は25℃に設定されていた。溶液を積極的に攪拌した。フラスコに1080g、のPGMEA及び54.1gのイオン除去水を入れた。PGMEAに全ての水が溶解するまで、前記PGMEA及び水の混合物を積極的に攪拌した。次に、1時間を超えて反応容器を積極的に攪拌しながら、前記PGMEA/水の溶液を、窒素下で前記反応容器に加えた。前記溶液の付加が完了した後、前記反応容器中の前記混合物を、DI水(2×571g)を用いて三度洗浄した。その後、クリアなPGMEA溶液を提供するため、エタノール(EtOH)を120g加えた後に、前記PGMEA/水の溶液を取り除いた。さらにPGMEAを追加することで前記溶液を10質量%に希釈し、その後、0.2mmテフロン(登録商標)フィルターを通してろ過を行った。GPC(vs.ポリスチレン):Mw=11300、Mw/Mn=2.70であった。
T(Ph) 0.05T(H) 0.50T(Me) 0.425T(PSA) 0.075
プロピレングリコールメチルエーテルアセテート(PGMEA)を672.5g、3−(トリエトキシシリル)プロピルコハク酸無水物を11.42g(0.038mol)、フェニルトリクロロシランを15387g(0.075mol)、メチルトリクロロシランを95.29g(0.638mol)、トリクロロシランを101.59g(0.750mol)、反応容器に投入した。容器温度は25℃に設定されていた。溶液を積極的に攪拌した。フラスコに1080g、のPGMEA及び59.4gのイオン除去水を入れた。PGMEAに全ての水が溶解するまで、前記PGMEA及び水の混合物を積極的に攪拌した。次に、1時間を超えて反応容器を積極的に攪拌しながら、前記PGMEA/水の溶液を、窒素下で前記反応容器に加えた。前記溶液の付加が完了した後、前記反応容器中の前記混合物を、DI水(2×500g)を用いて三度洗浄した。その後、クリアなPGMEA溶液を提供するため、EtOH(120g)を加えた後に、前記PGMEA/水の溶液を取り除いた。さらにPGMEAを追加することで、前記溶液を10質量%に希釈し、その後、0.2mmテフロン(登録商標)フィルターを通してろ過を行った。GPC(vs.ポリスチレン):Mw=44300、Mw/Mn=5.99であった。
T(PhEt) 0.07T(H) 0.70T(CH 2 CHMeCOOtBu) 0.23
トルエン200mL中に水素シルセスキオキサン樹脂(Mn=2200、37.10g、0.7mol)を含むフラスコに、スチレン(7.29g、0.07mol)及びt−ブチルメタクリレート(32.71g、0.23mol)を加え、その後、白金触媒を加えた。前記混合物を、室温下で、攪拌し、UVランプを用いて照射を行った。18時間後、標題の樹脂を粘着性のオイルとして生成するため、40℃で揮発性物質を除去した。10質量%溶液を提供するため、前記樹脂をPGMEAに溶解し、該溶液を、0.2mmテフロン(登録商標)フィルターを通してろ過を行った。GPC(vs.ポリスチレン):Mw=4890、Mw/Mn=2.44であった。
T(PhEt) 0.07T(H) 0.74T[(CH 2 ) 3 COOtBu)] 0.19
トルエン200mL中に水素シルセスキオキサン樹脂(Mn=2200、37.10g、0.7mol)を含むフラスコに、スチレン(3.65g、0.035mol)及びt−ブチルブテノエート(17.0g、0.115mol)を加え、その後、白金触媒を加えた。前記混合物を、攪拌し、夜通し還流を行った。その後、粘着性のオイルを生成するため、40℃で揮発性物質を除去した。110質量%溶液を提供するため、前記オイルをPGMEAに溶解し、該溶液を、0.2mmテフロン(登録商標)フィルターを通してろ過を行った。GPC(vs.ポリスチレン):Mw=5730、Mw/Mn=2.21であった。
T(PhEt) 0.07T(H) 0.70T[(CH 2 ) 3 COOtBu)] 0.23
トルエン100mL中に水素シルセスキオキサン樹脂(Mn=11800、20g、0.38mol)を含むフラスコに、スチレン(3.65g、0.035mol)及びt−ブチルブテノエート(14.22g、0.095mol)を加え、その後、白金触媒を加えた。粘着性のオイルを生成するため、40℃でロータリーベイパー(rotary vapor)を行った。10質量%溶液を提供するため、10質量%溶液を提供するため、前記オイルをPGMEAに溶解し、該溶液を、0.2mmテフロン(登録商標)フィルターを通してろ過を行った。GPC(vs.ポリスチレン):Mw=15300、Mw/Mn=2.78であった。
T(Ph) 0.1T(H) 0.2T(Me) 0.6T((CH 2 ) 3 COOtBu) 0.1
トルエン100mL中にT(Ph)0.1T(H)0.2T(Me)0.6樹脂(20g、0.38mol)を含むフラスコに、スチレン(3.65g、0.035mol)及びt−ブチルブテノエート(3.26g、0.022mol)を加え、その後、白金触媒を加えた。前記混合物を、攪拌し、夜通し還流を行った。その後、白い固体を生成するため、40℃でロータリーベイパーを用いて揮発性物質を除去した。110質量%溶液を提供するため、前記樹脂をPGMEAに溶解し、該溶液を、0.2mmテフロン(登録商標)フィルターを通してろ過を行った。GPC(vs.ポリスチレン):Mw=12450、Mw/Mn=2.95であった。
T(Ph) 0.07T(H) 0.45T(Me) 0.36T((CH 2 ) 3 COOtBu) 0.12
PGMEA(600g)、フェニルトリメトキシシラン(13.9g、0.07mol)、トリエトキシシラン(73.9g、0.45mol)、メチルトリエトキシシランを(64.2g、0.36mol)、(3−tert−ブチル)プロピルトリメトキシシラン(31.7g、0.12mol)、及び、脱イオン水(54g、3mol)をフラスコに投入した。前記溶液を、室温下で5分間攪拌し、その後、硝酸(70%、0.64g)を加えた。前記混合物を、80℃で、夜通し攪拌し、その後、4時間還流を行うことで、低沸点の揮発性物質を凝結させ、除去した。前記溶液を室温まで冷却し、無色透明な溶液を生成した。前記溶液を、その後、脱イオン水によって洗浄した。残留水を、いくらかのPGMEAとともに除去した。前記溶液を、PGMEAによって、10%溶液に希釈した。GPC(vs.ポリスチレン):Mw=6300、Mw/Mn=2.58であった。
T(Ph) 0.07T(H) 0.45T(Me) 0.36T((CH 2 ) 3 COOtBu) 0.12
PGMEA(600g)、フェニルトリメトキシシラン(19.8g、0.10mol)、トリエトキシシラン(32.8g、0.20mol)、メチルトリエトキシシランを(111.4g、0.625mol)、(3−tert−ブチル)プロピルトリメトキシシラン(19.8g、0.075mol)、及び、脱イオン水(54g、3mol)をフラスコに投入した。前記溶液を、室温下で5分間攪拌し、その後、硝酸(70%、0.64g)を加えた。前記混合物を、80℃で、夜通し攪拌し、その後、4時間還流を行うことで、低沸点の揮発性物質を凝結させ、除去した。前記溶液を室温まで冷却し、無色透明な溶液を生成した。前記溶液を、その後、脱イオン水によって洗浄した。残留水を、いくらかのPGMEAとともに除去した。前記溶液を、PGMEAによって、10%溶液に希釈した。GPC(vs.ポリスチレン):Mw=5300、Mw/Mn=2.45であった。
Claims (19)
- 以下の構成単位:
(Ph(CH2)rSiO(3-x)/2(OR')x)m
(HSiO(3-x)/2(OR')x)n
(MeSiO(3-x)/2(OR')x)o
(RSiO(3-x)/2(OR')x)p
(R1SiO(3-x)/2(OR')x)q
を備え、ここで、Phがフェニル基、Meがメチル基、R'が水素原子又は1〜4の炭素原子を有する炭化水素基、rが0、1、2、3又は4の値、xが0、1又は2の値であり;前記樹脂では、mが0〜0.90の値;nが0.05〜0.99の値;oが0〜0.95の値;pが0.01〜0.5の値;qが0〜0.5の値;m+n+o+p+q=1である、シルセスキオキサン樹脂。 - 前記mが0.05〜0.25の値、nが0.15〜0.80の値、oが0.25〜0.80の値、pが0.015〜0.35の値、qが0〜0.15の値である請求項1に記載の樹脂。
- 前記R'がHである請求項1に記載の樹脂。
- 前記Rが、式−R2C(O)OHを有するカルボン酸基であり、ここでR2が1〜10の炭素原子を有するアルキレン基から選択される請求項1に記載の樹脂。
- 前記Rが式−R2C(O)OR3のカルボン酸形成基であり、ここでR2が1〜10の炭素原子を有するアルキレン基から選択され、R3が保護基である請求項1に記載の樹脂。
- 前記Rがカルボン酸基と、カルボン酸形成基との混合物である請求項1に記載の樹脂。
- 前記保護基が、t−ブチル、トリメチルシリル、無水物基、メチルチオメチルエステル、ベンジルオキシメチルエステル、ジフェニルメチルエステル及びp−メトキシベンジルエステルから選択される請求項5に記載の樹脂。
- (A)シラン反応体の合計が100モル%の条件で、0〜90モル%のPh(CH2)rSiX3と、5〜99モル%のHSiX3と、0〜95モル%のMeSiX3と、1〜95モル%のRSiX3と、0〜50モル%のR1SiX3とからなるシラン反応体の混合物と、
(B)前記シラン反応体中のX1モル当たり0.5〜2モルの水とを、
有機溶媒中で反応させる工程を備え、
ここで、Phがフェニル基、Meがメチル基、Rがカルボン酸基、カルボン酸形成基又はその混合物から選択され、R1が置換フェニル基、エステル基、ポリエーテル基、メルカプト基、硫黄含有有機官能基、ヒドロキシル生成基、アリールスルホン酸エステル基及び反応性又は硬化性の有機官能基から選択され、rが0、1、2、3又は4の値、Xが加水分解性基であるシルセスキオキサン樹脂の製造方法。 - 前記(A)+(B)の質量に対し0.05〜1質量%の触媒がさらに存在する請求項8に記載の方法。
- 前記有機溶媒が、前記(A)+(B)の質量に対し1〜99質量%の量で存在する請求項8に記載の方法。
- 前記有機溶媒が、飽和脂肪族化合物、脂環式化合物、芳香族化合物、エーテル、ケトン、ハロゲン飽和アルカン化合物、ハロゲン化芳香族化合物、エステル及びシリコーンから選択される請求項11に記載の方法。
- カルボキシレートオレフィンを遷移金属触媒の存在下Si−H含有シルセスキオキサン樹脂にグラフト化することを備えるシルセスキオキサン樹脂の製造方法。
- 前記SiH含有シルセスキオキサン樹脂が、以下の構成単位:
(Ph(CH2)rSiO(3-x)/2(OR')x)m
(HSiO(3-x)/2(OR')x)n
(MeSiO(3-x)/2(OR')x)o
(RSiO(3-x)/2(OR')x)p
(R1SiO(3-x)/2(OR')x)q
を備え、ここでPhがフェニル基、Meがメチル基、R'が水素原子または1〜4個の炭素原子を有する炭化水素基、R1が置換フェニル基、エステル基、ポリエーテル基、メルカプト基、硫黄含有有機官能基、ヒドロキシル生成基、アリールスルホン酸エステル基及び反応性又は硬化性の有機官能基から選択され、rが0、1、2、3又は4の値、xが0、1又は2の値、前記樹脂では、mが0〜0.90の値、n''が0.10〜1の値、oが0〜0.95の値、qが0〜0.5の値、m+n+o+p+q=1である請求項13に記載の方法。。 - 前記遷移金属触媒が白金触媒である請求項16に記載の方法。
- (i)以下の構成単位:
(Ph(CH2)rSiO(3-x)/2(OR')x)m
(HSiO(3-x)/2(OR')x)n
(MeSiO(3-x)/2(OR')x)o
(RSiO(3-x)/2(OR')x)p
(R1SiO(3-x)/2(OR')x)q
を有し、ここでPhがフェニル基、Meがメチル基、R’が水素原子又は1〜4の炭素原子をもつ炭化水素基、R1が置換フェニル基、エステル基、ポリエーテル基、メルカプト基、硫黄含有有機官能基、ヒドロキシル生成基、アリールスルホン酸エステル基及び反応性又は硬化性の有機官能基から選択され、rが0、1、2、3又は4の値、xが0、1又は2の値であり、前記樹脂では、mが0より大きく〜0.90の値、nが0.05〜0.99の値、oが0〜0.95の値、pが0.01〜0.5の値、qが0〜0.5の値、m+n+o+p+q=1であるシルセスキオキサン樹脂と、
(ii)溶媒と
を備える反射防止塗膜(ARC)用組成物。 - 前記ARC組成物の総質量に対し10〜99質量%の溶媒が存在する請求項17に記載のARC組成物。
- 前記溶媒が、1−メトキシ−2−プロパノール、プロピレングリコールモノメチルエチルアセテートガンマ−ブチロラクトン及びシクロヘキサノンから選択される請求項17に記載のARC組成物。
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