JP2011082070A - Optical device - Google Patents

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JP2011082070A JP2009234502A JP2009234502A JP2011082070A JP 2011082070 A JP2011082070 A JP 2011082070A JP 2009234502 A JP2009234502 A JP 2009234502A JP 2009234502 A JP2009234502 A JP 2009234502A JP 2011082070 A JP2011082070 A JP 2011082070A
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Akihiko Okada
昭彦 岡田
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Dai Nippon Printing Co Ltd
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Dai Nippon Printing Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical device which has superior gas barrier properties, dimensional stability, and strength despite its flexibility and which can be manufactured at low cost. <P>SOLUTION: The optical device includes a first lamination, having a flexible first glass board and a first reinforcing layer made of a resin material and formed on the first glass board; a second lamination having a flexible second glass board and a second reinforcing layer made of a resin material and formed on the second glass board; and an optical element placed pinched between the first lamination and the second lamination. The thermal expansion coefficient of the first reinforcing layer is substantially the same as that of the second reinforcing layer. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、フレキシブルな光学装置に関するものである。   The present invention relates to a flexible optical device.

現在のフラットパネルディスプレイは、その用途をテレビやデスクトップモニターのみならず、携帯用ノートパソコン、携帯電話、携帯用ページャー、携帯用ゲーム機等の携帯型電子機器等にまで広く拡大していることから、さらなる軽量化、小型化、および、薄型化が求められている。その一方で、近年中に実施化が計画されている地上デジタル放送の本格普及や、今後のユビキタスネットワークのさらなる進化に対応して、モバイルディスプレイの普及拡大が確実に予測されることから、これに備えて現在のフラットパネルディスプレイよりもさらに薄型・軽量であるフレキシブルディスプレイの実用化が求められている。   Current flat panel displays are widely used not only for TVs and desktop monitors, but also for portable electronic devices such as portable notebook computers, mobile phones, portable pagers, and portable game machines. Further weight reduction, size reduction, and thickness reduction are required. On the other hand, in response to the full-scale spread of digital terrestrial broadcasting, which is planned to be implemented in recent years, and the further evolution of the ubiquitous network in the future, the spread of mobile displays is definitely predicted. Therefore, there is a demand for practical use of a flexible display that is thinner and lighter than current flat panel displays.

ここで、フレキシブルディスプレイは、従来のフラットパネルディスプレイよりもさらに薄型化・軽量化されるという利点を有するのみならず、自在に変形させることも可能になることから、例えば、ローラブル(巻き取り可能な)モバイルディスプレイを実現することもでき、よりモバイルに適したディスプレイを得ることができるという利点もある。また、フレキシブルディスプレイは長尺のフィルムを用いて連続プロセスによって製造することも可能になることから、大量生産性に優れるという利点も期待されている。   Here, the flexible display not only has the advantage of being thinner and lighter than the conventional flat panel display, but also can be freely deformed. ) A mobile display can be realized, and there is an advantage that a display suitable for mobile can be obtained. In addition, since the flexible display can be manufactured by a continuous process using a long film, an advantage of excellent mass productivity is also expected.

ところで、有機ELディスプレイ、液晶ディスプレイ、および電子ペーパー等に代表されるフラットパネルディスプレイを構成する部材としては、これまで主としてガラス基板が用いられてきたところ、フレキシブル化するに当たっては当該ガラス基板に代えて、可撓性を有する基板を用いる必要がある。従来、このような可撓性を有する基板としては、樹脂製フィルムが用いられることが一般的であった(例えば、特許文献1、2)。しかしながら、ガラス基板に代えて樹脂製フィルムが用いられた場合には次のような問題点があった。
まず第1に、樹脂製フィルムはガラス基板と比較して寸法安定性が劣るため、ディスプレイ等を作製する際にトータルピッチがズレてしまうという問題点があった。
第2に、樹脂製フィルムはガラス基板と比較してガスバリア性に劣るため、作製されたディスプレイの耐久性が劣るという問題点があった。このような問題点は、特に有機ELディスプレイを作製する場合に顕著であった。
さらに第3に、樹脂製フィルムはバリア性を向上させるために、例えば、SiON膜を形成すると透過率の低下が起こるという問題や、樹脂製フィルム上にSiON膜、オーバーコート層、およびSiON膜をこの順で積層した場合には、膜厚が光の波長の数倍(100nm〜200nm)のときに光学干渉が起こり、透過率の低下につながるという問題点もあった。
By the way, as a member constituting a flat panel display represented by an organic EL display, a liquid crystal display, an electronic paper, and the like, a glass substrate has been mainly used so far. It is necessary to use a flexible substrate. Conventionally, a resin film is generally used as such a flexible substrate (for example, Patent Documents 1 and 2). However, when a resin film is used instead of the glass substrate, there are the following problems.
First, since the resin film is inferior in dimensional stability as compared with the glass substrate, there is a problem that the total pitch is shifted when a display or the like is produced.
Secondly, since the resin film is inferior in gas barrier properties as compared with the glass substrate, there is a problem that the durability of the produced display is inferior. Such a problem was remarkable especially when producing an organic EL display.
Thirdly, in order to improve the barrier property of the resin film, for example, the problem that the transmittance decreases when the SiON film is formed, and the SiON film, the overcoat layer, and the SiON film are formed on the resin film. When the layers are stacked in this order, there is a problem that optical interference occurs when the film thickness is several times the wavelength of light (100 nm to 200 nm), leading to a decrease in transmittance.

特開平8−62591号公報JP-A-8-62591 特開2003−89165号公報JP 2003-89165 A

本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、フレキシブル性を備えるにもかかわらずガスバリア性に優れ、寸法安定性が良好であり、かつ強度に優れ、さらには低コストで製造することが可能な光学装置を提供することを主目的とする。   The present invention has been made in view of the above problems, and despite having flexibility, is excellent in gas barrier properties, good in dimensional stability, excellent in strength, and further manufactured at low cost. It is a main object to provide an optical device capable of satisfying the requirements.

上記課題を解決するために本発明は、フレキシブル性を有する第1ガラス基板、および上記第1ガラス基板上に形成され、樹脂材料からなる第1補強層を有する第1積層体と、フレキシブル性を有する第2ガラス基板、および上記第2ガラス基板上に形成され、樹脂材料からなる第2補強層を有する第2積層体と、上記第1積層体および上記第2積層体の間に、挟持されるように配置された光学素子とを有する光学装置であって、上記第1補強層および上記第2補強層の熱膨張係数が実質的に同一であることを特徴とする光学装置を提供する。   In order to solve the above-mentioned problems, the present invention provides a flexible first glass substrate, a first laminate formed on the first glass substrate and having a first reinforcing layer made of a resin material, and flexibility. Sandwiched between the second glass substrate having the second laminated body and the second laminated body formed on the second glass substrate and having the second reinforcing layer made of a resin material, and the first laminated body and the second laminated body. An optical device having an optical element arranged as described above, wherein the first reinforcing layer and the second reinforcing layer have substantially the same thermal expansion coefficient.

本発明によれば、上記第1積層体および上記第2積層体が、フレキシブル性を有するガラス基板(第1ガラス基板、第2ガラス基板)に樹脂材料からなる補強層(第1補強層、第2補強層)が積層された構成を有するものであることにより、本発明の光学装置を全体としてフレキシブル性を有するものにすることができる。また、ガラス基板が用いられていることにより、第1積層体および第2積層体をトータルピッチ(寸法安定性)が優れたものにできる。
また、本発明によれば、第1積層体および第2積層体にガラス基板(第1ガラス基板、第2ガラス基板)が用いられていることによりガスバリア性に優れるため、外部からの酸素および水蒸気等の侵入による光学素子の劣化を抑制することができる。
また、上記第1補強層と上記第2補強層との熱膨張係数が実質的に同一であることにより、第1積層体と第2積層体との寸法安定性を同程度にすることができるため、全体として寸法安定性が高い光学装置を得ることができる。
According to the present invention, the first laminated body and the second laminated body are made of a glass substrate having flexibility (first glass substrate, second glass substrate) and a reinforcing layer (first reinforcing layer, second glass substrate) made of a resin material. By having a configuration in which (2 reinforcing layers) are laminated, the optical device of the present invention can have flexibility as a whole. Further, by using the glass substrate, the first laminated body and the second laminated body can be made excellent in total pitch (dimensional stability).
In addition, according to the present invention, since the glass substrate (first glass substrate, second glass substrate) is used for the first laminate and the second laminate, the gas barrier property is excellent. It is possible to suppress the deterioration of the optical element due to the intrusion.
Further, since the thermal expansion coefficients of the first reinforcing layer and the second reinforcing layer are substantially the same, the dimensional stability of the first laminated body and the second laminated body can be made comparable. Therefore, an optical device having high dimensional stability as a whole can be obtained.

さらに、本発明の光学装置は、上記第1積層体および第2積層体がフレキシブル性を有することから、例えば、Roll to Rollプロセスを適宜採用することにより、低コストで製造することが可能である。
このようなことから、本発明によればガスバリア性に優れ、フレキシブル性を備えるにもかかわらず寸法安定性が高く、かつ強度に優れ、さらには低コストで製造することが可能な光学装置を提供することができる。
Furthermore, since the first laminated body and the second laminated body have flexibility, the optical device of the present invention can be manufactured at a low cost by appropriately adopting a Roll to Roll process, for example. .
Therefore, according to the present invention, there is provided an optical device that is excellent in gas barrier properties, has high dimensional stability, has excellent strength, and can be manufactured at low cost despite having flexibility. can do.

本発明においては上記第1補強層と上記第2補強層とが同一の厚みであり、かつ同一の材料からなることが好ましい。これにより、本発明に用いられる第1補強層と第2補強層との熱膨張係数を同一にすることができるため、第1積層体と第2積層体との寸法安定性の差に起因する表示品質の低下を防止し、幅広い温度領域において良好な画像を表示させることが可能になるからである。   In the present invention, it is preferable that the first reinforcing layer and the second reinforcing layer have the same thickness and are made of the same material. Thereby, since the thermal expansion coefficient of the 1st reinforcement layer and 2nd reinforcement layer which are used for this invention can be made the same, it originates in the difference in the dimensional stability of a 1st laminated body and a 2nd laminated body. This is because it is possible to prevent deterioration in display quality and display a good image in a wide temperature range.

本発明においては、上記第1積層体が、上記第1積層体上に第1補強基板が形成されたものであり、上記第2積層体が、上記第2積層体上に第2補強基板が形成されたものであり、さらに、上記第1補強基板と上記第2補強基板とは熱膨張係数が実質的に同一であることが好ましい。これにより、第1積層体および第2積層体の強度を向上させることができる結果、本発明の光学装置がフレキシブル性を有することに起因して破損しやすくなることを防止できるからである。また、上記第1補強基板と上記第2補強基板とは熱膨張係数が実質的に同一であることにより、熱膨張係数の差に起因する表示品質の低下を防止し、幅広い温度領域において良好な画像を表示させることが可能になるからである。このような観点から、本発明においては、上記第1補強基板と上記第2補強基板とが同一の厚みであり、かつ同一の材料からなることが好ましい。   In the present invention, the first laminated body has a first reinforcing substrate formed on the first laminated body, the second laminated body has a second reinforcing substrate on the second laminated body. Further, it is preferable that the first reinforcing substrate and the second reinforcing substrate have substantially the same thermal expansion coefficient. Thereby, the strength of the first laminated body and the second laminated body can be improved, and as a result, the optical device of the present invention can be prevented from being easily damaged due to having flexibility. In addition, since the first and second reinforcing substrates have substantially the same thermal expansion coefficient, the display quality is prevented from being deteriorated due to the difference in the thermal expansion coefficient, and the first reinforcing substrate and the second reinforcing substrate are excellent in a wide temperature range. This is because an image can be displayed. From such a viewpoint, in the present invention, it is preferable that the first reinforcing substrate and the second reinforcing substrate have the same thickness and are made of the same material.

また本発明においては、上記第1積層体が上記第1ガラス基板と上記第1補強層との間に調色層が形成された構成を有するカラーフィルターであることが好ましい。これにより、本発明の光学装置をフレキシブル性を有する表示装置として用いることが可能になるからである。   Moreover, in this invention, it is preferable that the said 1st laminated body is a color filter which has the structure by which the toning layer was formed between the said 1st glass substrate and the said 1st reinforcement layer. This is because the optical device of the present invention can be used as a display device having flexibility.

本発明の光学装置は、フレキシブル性を備えるにもかかわらずガスバリア性に優れ、寸法安定性が良好であり、かつ強度に優れ、さらには低コストで製造することができるという効果を奏する。   The optical device of the present invention is advantageous in that although it has flexibility, it has excellent gas barrier properties, good dimensional stability, excellent strength, and can be manufactured at low cost.

本発明の光学装置の一例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows an example of the optical apparatus of this invention. 本発明に用いられる第1積層体の一例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows an example of the 1st laminated body used for this invention. 本発明において第1積層体をカラーフィルターとして用いる場合の一例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows an example in the case of using a 1st laminated body as a color filter in this invention. 本発明において第1積層体をカラーフィルターとして用いる場合の他の例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the other example when using a 1st laminated body as a color filter in this invention. 本発明において第1積層体をカラーフィルターとして用いる場合の他の例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the other example when using a 1st laminated body as a color filter in this invention.

以下、本発明の光学装置について詳細に説明する。   Hereinafter, the optical apparatus of the present invention will be described in detail.

上述したように、本発明の光学装置は、フレキシブル性を有する第1ガラス基板、および上記第1ガラス基板上に形成され、樹脂材料からなる第1補強層を有する第1積層体と、フレキシブル性を有する第2ガラス基板、および上記第2ガラス基板上に形成され、樹脂材料からなる第2補強層を有する第2積層体と、上記第1積層体および上記第2積層体の間に、挟持されるように配置された光学素子とを有するものであって、上記第1補強層および上記第2補強層の熱膨張係数が実質的に同一であることを特徴とするものである。   As described above, the optical device of the present invention includes a first glass substrate having flexibility, a first laminate formed on the first glass substrate and having a first reinforcing layer made of a resin material, and flexibility. Sandwiched between a second glass substrate having a second laminated body formed on the second glass substrate and having a second reinforcing layer made of a resin material, and the first laminated body and the second laminated body The first reinforcing layer and the second reinforcing layer have substantially the same thermal expansion coefficient. The optical elements are arranged as described above.

このような本発明の光学装置について図を参照しながら説明する。図1は本発明の光学装置の一例を示す概略断面図である。図1に例示するように本発明の光学装置1は、光学素子10が、第1積層体20および第2積層体30によって挟持された構成を有するものである。ここで、本発明の光学装置1において上記第1積層体20は、フレキシブル性を有する第1ガラス基板21と、当該第1ガラス基板21上に形成され、樹脂材料からなる第1補強層22とを有するものである。また、本発明の光学装置1において上記第2積層体30は、フレキシブル性を有する第2ガラス基板31と、当該第2ガラス基板31上に形成され、樹脂材料からなる第2補強層32とを有するものである。そして、本発明の光学装置1は、上記第1補強層22および上記第2補強層32の熱膨張係数が実質的に同一であることを特徴とするものである。   Such an optical apparatus of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of the optical apparatus of the present invention. As illustrated in FIG. 1, the optical device 1 of the present invention has a configuration in which an optical element 10 is sandwiched between a first stacked body 20 and a second stacked body 30. Here, in the optical device 1 of the present invention, the first laminated body 20 includes a first glass substrate 21 having flexibility, and a first reinforcing layer 22 formed on the first glass substrate 21 and made of a resin material. It is what has. Further, in the optical device 1 of the present invention, the second laminated body 30 includes a second glass substrate 31 having flexibility, and a second reinforcing layer 32 formed on the second glass substrate 31 and made of a resin material. It is what you have. The optical device 1 according to the present invention is characterized in that the first reinforcing layer 22 and the second reinforcing layer 32 have substantially the same thermal expansion coefficient.

なお、図1においては光学素子として有機EL素子が用いられた例を示したが、本願に係る光学装置は、このような例に限定されるものではなく任意の機能を有する光学素子を用いることができるものである。   1 shows an example in which an organic EL element is used as an optical element, the optical device according to the present application is not limited to such an example, and an optical element having an arbitrary function is used. It is something that can be done.

本発明によれば、上記第1積層体および上記第2積層体が、フレキシブル性を有するガラス基板(第1ガラス基板、第2ガラス基板)に樹脂材料からなる補強層(第1補強層、第2補強層)が積層された構成を有するものであることにより、本発明の光学装置を全体としてフレキシブル性を有するものにすることができる。また、ガラス基板が用いられていることにより、第1積層体および第2積層体をトータルピッチ(寸法安定性)が優れたものにできる。
また、本発明によれば、第1積層体および第2積層体にガラス基板(第1ガラス基板、第2ガラス基板)が用いられていることによりガスバリア性に優れるため、外部からの酸素および水蒸気等の侵入による光学素子の劣化を抑制することができる。
また、上記第1補強層と上記第2補強層との熱膨張係数が実質的に同一であることにより、第1積層体と第2積層体との寸法安定性を同程度にすることができるため、全体として寸法安定性が高い光学装置を得ることができる。
さらに、本発明の光学装置は、上記第1積層体および第2積層体がフレキシブル性を有することから、例えば、Roll to Rollプロセスを適宜採用することにより、低コストで製造することが可能である。
このようなことから、本発明によればガスバリア性に優れ、フレキシブル性を備えるにもかかわらず寸法安定性が高く、かつ強度に優れ、さらには低コストで製造することが可能な光学装置を提供することができる。
According to the present invention, the first laminated body and the second laminated body are made of a glass substrate having flexibility (first glass substrate, second glass substrate) and a reinforcing layer (first reinforcing layer, second glass substrate) made of a resin material. By having a configuration in which (2 reinforcing layers) are laminated, the optical device of the present invention can have flexibility as a whole. Further, by using the glass substrate, the first laminated body and the second laminated body can be made excellent in total pitch (dimensional stability).
In addition, according to the present invention, since the glass substrate (first glass substrate, second glass substrate) is used for the first laminate and the second laminate, the gas barrier property is excellent. It is possible to suppress the deterioration of the optical element due to the intrusion.
Further, since the thermal expansion coefficients of the first reinforcing layer and the second reinforcing layer are substantially the same, the dimensional stability of the first laminated body and the second laminated body can be made comparable. Therefore, an optical device having high dimensional stability as a whole can be obtained.
Furthermore, since the first laminated body and the second laminated body have flexibility, the optical device of the present invention can be manufactured at a low cost by appropriately adopting a Roll to Roll process, for example. .
Therefore, according to the present invention, there is provided an optical device that is excellent in gas barrier properties, has high dimensional stability, has excellent strength, and can be manufactured at low cost despite having flexibility. can do.

本発明の光学装置は少なくとも第1積層体、光学素子、および第2積層体を有するものであり、必要に応じて他の任意の構成を有してもよいものである。
以下、本発明に用いられる各構成について順に説明する。
The optical device of the present invention has at least a first laminate, an optical element, and a second laminate, and may have any other configuration as necessary.
Hereafter, each structure used for this invention is demonstrated in order.

1.第1積層体
まず、本発明に用いられる第1積層体について説明する。本発明に用いられる第1積層体は、フレキシブル性を有する第1ガラス基板と、上記第1ガラス基板上に形成され、樹脂材料からなる第1補強層とを有するものである。
1. First Laminate First, the first laminate used in the present invention will be described. The 1st laminated body used for this invention has a 1st glass substrate which has flexibility, and the 1st reinforcement layer which is formed on the said 1st glass substrate and consists of resin materials.

(1)第1ガラス基板
本発明に用いられる第1ガラス基板について説明する。本発明に用いられる第1ガラス基板はフレキシブル性を有するものである。本発明の光学装置は第1積層体に用いられる第1ガラス基板がフレキシブル性を有するものであることにより、全体としてフレキシブル性を有するものとすることができ、かつガスバリア性にも優れ、さらに低コストで製造することも可能となるのである。
(1) 1st glass substrate The 1st glass substrate used for this invention is demonstrated. The first glass substrate used in the present invention has flexibility. In the optical device of the present invention, the first glass substrate used in the first laminate has flexibility, so that it can have flexibility as a whole, has excellent gas barrier properties, and is low. It is also possible to manufacture at a cost.

本発明に用いられる第1ガラス基板としては、フレキシブル性を有するものであれば特に限定されるものではない。ここで、上記「フレキシブル性を有する」とは、ガラス基板が応力によって容易に曲がり変形し、復元できる程度の厚みと剛性を有することを意味するものである。そして、本発明においては、少なくとも曲げ半径100mmで繰り返し10回の曲げ試験を行った際に割れやヒビが生じない場合に、フレキシブル性を有すると評価する。もっとも、本発明に用いられる第1ガラス基板としては、より好ましくは曲げ半径50mm、さらに好ましくは曲げ半径30mmで同様に評価した場合でも、割れやヒビが生じない程度のフレキシブル性を有することが好ましい。なお、当該フレキシブル性の程度は、主として第1ガラス基板の厚みを調整することにより制御することができる。   The first glass substrate used in the present invention is not particularly limited as long as it has flexibility. Here, “having flexibility” means that the glass substrate has a thickness and rigidity that can be easily bent and deformed by stress and can be restored. And in this invention, it is evaluated that it has flexibility, when a crack and a crack do not arise when a bending test is repeated 10 times at least with a bending radius of 100 mm. However, as the first glass substrate used in the present invention, it is preferable that the first glass substrate has flexibility so as not to cause cracks or cracks even when evaluated similarly at a bending radius of 50 mm, more preferably at a bending radius of 30 mm. . The degree of flexibility can be controlled mainly by adjusting the thickness of the first glass substrate.

本発明に用いられる第1ガラス基板の厚みは、第1ガラス基板にフレキシブル性を付与できる範囲内であれば特に限定されるものではなく、ガスバリア性等の諸性能を勘案して適宜決定することができるものである。中でも本発明に用いられる第1ガラス基板の厚みは1μm〜150μmの範囲内であることが好ましく、20μm〜120μmの範囲内であることがより好ましく、50μm〜100μmの範囲内であることが特に好ましい。第1ガラス基板の厚みが上記範囲よりも厚いと、本発明の光学装置の用途によっては光学装置全体のフレキシブル性が不十分になってしまう場合があるからである。また、例えば、本発明の光学装置を有機EL表示装置として使用した場合、有機EL素子の発光層からの光が第1ガラス基板を入射した位置から、第1ガラス基板から光が出射した位置までの距離が大きくなり、光の混色が起きやすくなる場合があるからである。一方、第1ガラス基板の厚みが上記範囲よりも薄いと、第1ガラス基板のガスバリア性が不十分になってしまう可能性があるからである。また第1ガラス基板の厚みが薄いと強度不足でクラックが入ったり、割れたりするからである。   The thickness of the 1st glass substrate used for this invention will not be specifically limited if it is in the range which can provide flexibility to a 1st glass substrate, It determines suitably considering various performances, such as gas barrier property. It is something that can be done. Among them, the thickness of the first glass substrate used in the present invention is preferably in the range of 1 μm to 150 μm, more preferably in the range of 20 μm to 120 μm, and particularly preferably in the range of 50 μm to 100 μm. . This is because if the thickness of the first glass substrate is larger than the above range, the flexibility of the entire optical device may be insufficient depending on the use of the optical device of the present invention. Further, for example, when the optical device of the present invention is used as an organic EL display device, from the position where light from the light emitting layer of the organic EL element is incident on the first glass substrate to the position where light is emitted from the first glass substrate. This is because there is a case where the distance becomes larger and light color mixture tends to occur. On the other hand, if the thickness of the first glass substrate is thinner than the above range, the gas barrier property of the first glass substrate may be insufficient. Moreover, if the thickness of the first glass substrate is thin, it will crack or break due to insufficient strength.

本発明に用いられる第1ガラス基板の厚みは、後述する第2ガラス基板の厚みとの差が0〜50μmの範囲内であることが好ましく、第2ガラス基板の厚みと同一であることが好ましい。これにより、第1ガラス基板と第2ガラス基板との熱膨張係数をほぼ同一にすることができ、本発明の光学装置をさらにトータルピッチのズレが少ないものとすることができるからである。   The thickness of the first glass substrate used in the present invention is preferably within the range of 0 to 50 μm, and preferably the same as the thickness of the second glass substrate. . Thereby, the thermal expansion coefficients of the first glass substrate and the second glass substrate can be made substantially the same, and the optical device of the present invention can be further reduced in the total pitch.

本発明に用いられる第1ガラス基板のガスバリア性としては、本発明の光学装置の用途や、本発明の光学装置に用いられる光学素子の種類等に応じて適宜決定することができるものであり、特に限定されるものではない。中でも本発明に用いられる第1ガラス基板のガスバリア性は、酸素透過率(OTR)が1×10−3cc/m/day/atm以下であることが好ましく、1×10−4cc/m/day/atm以下であることがより好ましい。
また、水蒸気透過率(WVTR)が1×10−5g/m/day以下であることが好ましく、1×10−6g/m/day以下であることがより好ましい。これよりも水蒸気透過率が高いと水蒸気、酸素などにより光学素子が劣化する懸念があるからである。特に光学素子として有機EL素子が用いられる場合には発光特性が失われ、ダークスポットなどが発生するなどの問題が生じる可能性があるからである。
ここで、上記酸素透過率および水蒸気透過率の値は、酸素透過率はMOCON社のOX-TRAN装置を用い、23℃、90%RHの環境下、水蒸気透過率はMOCON社のPERMATRAN−W装置を用い、40℃、90%RHの環境下で測定することができる。
The gas barrier property of the first glass substrate used in the present invention can be appropriately determined according to the use of the optical device of the present invention, the type of optical element used in the optical device of the present invention, and the like. It is not particularly limited. Among them, the gas barrier property of the first glass substrate used in the present invention is preferably an oxygen transmission rate (OTR) of 1 × 10 −3 cc / m 2 / day / atm or less, preferably 1 × 10 −4 cc / m. More preferably, it is 2 / day / atm or less.
The water vapor transmission rate (WVTR) is preferably 1 × 10 −5 g / m 2 / day or less, more preferably 1 × 10 −6 g / m 2 / day or less. This is because if the water vapor transmission rate is higher than this, the optical element may be deteriorated by water vapor, oxygen, or the like. This is because, in particular, when an organic EL element is used as an optical element, there is a possibility that light emission characteristics are lost and problems such as generation of dark spots occur.
Here, the oxygen transmission rate and the water vapor transmission rate are as follows. The oxygen transmission rate is an MOX OX-TRAN device, and the water vapor transmission rate is MOCON's PERMATRAN-W device in an environment of 23 ° C. and 90% RH. Can be measured in an environment of 40 ° C. and 90% RH.

本発明に用いられる第1ガラス基板は、ディスプレイ用に用いられる無アルカリガラスが望ましい。具体的には、OA10(日本電気硝子社)、AN100(旭硝子社)、NA35(NHテクノガラス社)、EAGLE(コーニング社)、および1737材(コーニング社)などガラス製造各社のガラスを、適宜厚みを調整して用いることが望ましい。その他ソーダライム材、低屈折ガラス、高屈折ガラスなど用いても良く、基本的にガスバリア性に優れるガラスであれば積層可能である。
なお、ガラスの厚みを調整する方法としては、例えば、任意の厚みを有するガラス基板を機械を用いた機械研磨法、またはエッチング等の化学的研磨法で研磨することにより厚みを小さくする方法を挙げることができる。このような方法によれば、ガラス基板の厚みを任意に調整することができることに加えて、研磨後のガラス基板の表面粗さ(Ra)を小さくできるという利点がある。
The first glass substrate used in the present invention is preferably alkali-free glass used for display. Specifically, the glass of each glass manufacturing company such as OA10 (Nippon Electric Glass Co., Ltd.), AN100 (Asahi Glass Co., Ltd.), NA35 (NH Techno Glass Co., Ltd.), EAGLE (Corning Co., Ltd.), and 1737 material (Corning Co., Ltd.) is appropriately thickened. It is desirable to adjust and use. Other materials such as soda lime, low refractive glass, and high refractive glass may be used. Basically, any glass having excellent gas barrier properties can be laminated.
In addition, as a method of adjusting the thickness of the glass, for example, a method of reducing the thickness by polishing a glass substrate having an arbitrary thickness by a mechanical polishing method using a machine or a chemical polishing method such as etching is exemplified. be able to. According to such a method, in addition to being able to arbitrarily adjust the thickness of the glass substrate, there is an advantage that the surface roughness (Ra) of the polished glass substrate can be reduced.

(2)第1補強層
次に、第1積層体に用いられる第1補強層について説明する。本発明に用いられる第1補強層は樹脂材料からなるものであり、上記第1ガラス基板上に形成されることにより、当該第1ガラス基板の破損を防止するものである。また、本発明に用いられる第1補強層は、後述する第2補強層と熱膨張係数が実質的に同一であるものである。
(2) 1st reinforcement layer Next, the 1st reinforcement layer used for a 1st laminated body is demonstrated. The 1st reinforcement layer used for this invention consists of resin materials, and prevents the damage of the said 1st glass substrate by being formed on the said 1st glass substrate. The first reinforcing layer used in the present invention is substantially the same in thermal expansion coefficient as a second reinforcing layer described later.

なお、本発明において熱膨張係数が実質的に同一とは、第1補強層と第2補強層の熱膨張係数の差が、±10%以下であることを意味するものである。もっとも、後述するように第1補強層は第2補強層と厚みが同一であり、同一の樹脂材料からなることが好ましい。   In the present invention, the fact that the thermal expansion coefficient is substantially the same means that the difference in thermal expansion coefficient between the first reinforcing layer and the second reinforcing layer is ± 10% or less. However, as will be described later, the first reinforcing layer has the same thickness as the second reinforcing layer and is preferably made of the same resin material.

本発明に用いられる第1補強層としては、後述する第2補強層と熱膨張係数が実質的に同一であり、上記第1ガラス基板を所望の程度に補強できるものであれば特に限定されるものではない。中でも本発明に用いられる第1補強層は、熱膨張係数が第1ガラス基板の熱膨張係数により近いことが望ましい。第1補強層の熱膨張係数が第1ガラス基板の熱膨張係数により近いことにより、第1補強層と第1ガラス基板との熱膨張係数の差に起因して第1積層体が反ったり、撓んだりしてしまうことを防止できるからである。このような観点から、第1補強層の熱膨張係数は第1ガラス基板の熱膨張係数の2倍以内であることが好ましい。より具体的には、第1補強層の熱膨張係数は0.9ppm/℃〜3.0ppm/℃の範囲内であることが好ましく、0.9ppm/℃〜2.5ppm/℃の範囲内であることがより好ましく、0.9ppm/℃〜2.0ppm/℃の範囲内であることがさらに好ましい。   As a 1st reinforcement layer used for this invention, a thermal expansion coefficient is substantially the same as the 2nd reinforcement layer mentioned later, and if it can reinforce the said 1st glass substrate to a desired grade, it will be specifically limited. It is not a thing. In particular, it is desirable that the first reinforcing layer used in the present invention has a thermal expansion coefficient closer to that of the first glass substrate. When the thermal expansion coefficient of the first reinforcing layer is closer to the thermal expansion coefficient of the first glass substrate, the first laminate is warped due to the difference in thermal expansion coefficient between the first reinforcing layer and the first glass substrate, It is because it can prevent bending. From such a viewpoint, it is preferable that the thermal expansion coefficient of the first reinforcing layer is within twice the thermal expansion coefficient of the first glass substrate. More specifically, the thermal expansion coefficient of the first reinforcing layer is preferably in the range of 0.9 ppm / ° C to 3.0 ppm / ° C, and in the range of 0.9 ppm / ° C to 2.5 ppm / ° C. More preferably, it is more preferably in the range of 0.9 ppm / ° C. to 2.0 ppm / ° C.

ここで、上記第1補強層の熱膨張係数は、例えば、熱機械的分析装置Thermo Plus TMA8310(リガク社製)によって、昇温速度10℃/minで、引っ張り加重:1〜10g程度で測定することができる。   Here, the thermal expansion coefficient of the first reinforcing layer is measured with a thermomechanical analyzer Thermo Plus TMA8310 (manufactured by Rigaku Corporation) at a heating rate of 10 ° C./min and a tensile load of about 1 to 10 g. be able to.

第1補強層に用いられる樹脂材料としては、例えば、ポリビニルアルコール、部分ホルマール化ポリビニルアルコール、エチレン・酢酸ビニル共重合体の部分ケン化ポリマーなどを含むポリビニルアルコール系樹脂、ポリオレフィン樹脂、アクリル樹脂、PET(ポリテレフタル酸エチレン)やPEN(ポリエチレンナフタレート)などのポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、およびポリサルホン樹脂等を挙げることができる。本発明においてはこれらのいずれの樹脂材料であっても好適に用いられることができるが、なかでもPETまたはPENが用いられることが特に好ましい。PETおよびPENは熱膨張係数が他の樹脂と比較して相対的に小さく、第1ガラス基板の熱膨張係数に近いからである。   Examples of the resin material used for the first reinforcing layer include polyvinyl alcohol, partially formalized polyvinyl alcohol, polyvinyl alcohol resin including partially saponified polymer of ethylene / vinyl acetate copolymer, polyolefin resin, acrylic resin, and PET. Examples thereof include polyester resins such as (polyethylene terephthalate) and PEN (polyethylene naphthalate), polyamide resins, polyamideimide resins, polyimide resins, polycarbonate resins, and polysulfone resins. In the present invention, any of these resin materials can be preferably used, and among these, it is particularly preferable to use PET or PEN. This is because PET and PEN have a relatively small thermal expansion coefficient compared to other resins, and are close to the thermal expansion coefficient of the first glass substrate.

なお、第1補強層に用いられる樹脂材料は1種類のみであってもよく、あるいは2種類以上であってもよい。また、第1補強層に用いられる樹脂材料は、後述する第2補強層に用いられる樹脂材料と同一であることが好ましい。   In addition, the resin material used for a 1st reinforcement layer may be only 1 type, or 2 or more types may be sufficient as it. Moreover, it is preferable that the resin material used for a 1st reinforcement layer is the same as the resin material used for the 2nd reinforcement layer mentioned later.

また第1補強層の厚みは、上記第1ガラス基板のフレキシブル性を損なわない範囲内であれば特に限定されるものではない。中でも本発明に用いられる第1補強層の厚みは、10μm〜500μmの範囲内であることが好ましく、50μm〜250μmの範囲内であることがより好ましく、75μm〜150μmの範囲内であることがさらに好ましい。厚みが上記範囲よりも薄いと、第1補強層による第1ガラス基板の補強効果が不十分になる場合があるからである。また、厚みが薄いとバリア性が不十分になる場合があるからである。一方、厚みが上記範囲よりも厚いと、第1積層体のフレキシブル性が損なわれるおそれがあるからである。   The thickness of the first reinforcing layer is not particularly limited as long as it does not impair the flexibility of the first glass substrate. Among these, the thickness of the first reinforcing layer used in the present invention is preferably in the range of 10 μm to 500 μm, more preferably in the range of 50 μm to 250 μm, and further preferably in the range of 75 μm to 150 μm. preferable. This is because if the thickness is thinner than the above range, the reinforcing effect of the first glass substrate by the first reinforcing layer may be insufficient. Moreover, it is because barrier property may become inadequate when thickness is thin. On the other hand, if the thickness is thicker than the above range, the flexibility of the first laminate may be impaired.

なお、第1補強層に用いられる樹脂材料として、後述する第2補強層と同一の樹脂材料が用いられる場合、本発明における第1補強層の厚みは、第2補強層の厚みと同一であることが好ましい。これにより、第1補強層と第2補強層との熱膨張係数を同一にすることができ、本発明の光学装置を寸法安定性の高いものにできるからである。   In addition, when the same resin material as the 2nd reinforcement layer mentioned later is used as a resin material used for a 1st reinforcement layer, the thickness of the 1st reinforcement layer in this invention is the same as the thickness of a 2nd reinforcement layer. It is preferable. This is because the thermal expansion coefficients of the first reinforcing layer and the second reinforcing layer can be made the same, and the optical device of the present invention can have high dimensional stability.

(3)任意の構成
本発明に用いられる第1積層体は、少なくとも上記第1ガラス基板、および第1補強層を有するものであるが、必要に応じて他の任意の構成を有してもよいものである。第1積層体に用いられる任意の構成としては、本発明の光学装置の用途や使用態様等に応じて適宜所望の機能を有する構成を用いることができるものであり、特に限定されるものではない。このような任意の構成としては、例えば、上記第1補強層上に配置された第1補強基板を挙げることができる。このような第1補強基板が用いられることにより、本発明に用いられる第1積層体をさらに補強し、光学装置の製造工程等において破損することをより効果的に防止することができる。
(3) Arbitrary Configuration The first laminate used in the present invention has at least the first glass substrate and the first reinforcing layer, but may have other arbitrary configurations as necessary. It ’s good. As an arbitrary structure used for the first laminate, a structure having a desired function can be used as appropriate according to the use and usage of the optical device of the present invention, and is not particularly limited. . As such an arbitrary configuration, for example, a first reinforcing substrate disposed on the first reinforcing layer can be cited. By using such a 1st reinforcement board | substrate, the 1st laminated body used for this invention can be further reinforced, and it can prevent more effectively that it breaks in the manufacturing process etc. of an optical apparatus.

図2は、本発明に用いられる第1積層体が上記第1補強基板を有する場合の一例を示す概略断面図である。図2に例示するように、本発明に用いられる第1積層体20は、第1補強層22上に第1補強基板23が形成されているものであってもよい。   FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing an example of the case where the first laminate used in the present invention has the first reinforcing substrate. As illustrated in FIG. 2, the first laminate 20 used in the present invention may have a first reinforcing substrate 23 formed on a first reinforcing layer 22.

上記第1補強基板としては、本発明に用いられる第1積層体を補強することができるものであれば特に限定されるものではなく、本発明の光学装置の用途等に応じて適宜、任意の材料からなる基板を選択して用いることができる。本発明に用いられる第1補強基板を構成する材料としては、例えば、ガラス等の無機材料からなる基板や樹脂材料等からなる基板を挙げることができる。本発明においてはこれらのいずれの基板であっても第1補強基板として好適に用いることができるが、なかでも樹脂材料からなる基板が用いられることが好ましい。樹脂材料からなる基板は、可撓性に優れるため第1積層体のフレキシブル性を損なうことなく補強することが可能になるからである。   The first reinforcing substrate is not particularly limited as long as it can reinforce the first laminate used in the present invention, and may be arbitrarily selected according to the use of the optical device of the present invention. A substrate made of a material can be selected and used. As a material which comprises the 1st reinforcement board | substrate used for this invention, the board | substrate which consists of a board | substrate consisting of inorganic materials, such as glass, a resin material etc. can be mentioned, for example. In the present invention, any of these substrates can be suitably used as the first reinforcing substrate, but among them, a substrate made of a resin material is preferably used. This is because the substrate made of a resin material is excellent in flexibility and can be reinforced without impairing the flexibility of the first laminate.

第1補強基板として用いられる樹脂材料の例としては、例えば、PET、PEN等を挙げることができる。   Examples of the resin material used as the first reinforcing substrate include PET and PEN.

また、本発明に用いられる第1補強基板の厚みとしては、本発明に用いられる第1補強基板の可撓性を、第1積層体のフレキシブル性を損なわない程度にできる範囲内であれば特に限定されるものではなく、第1補強基板を構成する材料等に応じて適宜決定することができる。中でも本発明に用いられる第1補強基板の厚みは10μm〜500μmの範囲内であることが好ましく、50μm〜250μmの範囲内であることがより好ましく、75μm〜150μmの範囲内であることがさらに好ましい。厚みが上記範囲よりも厚いと、第1積層体のフレキシブル性が不十分になってしまう場合があるからである。また厚みが厚いとコスト高になるという問題点も生じ得る。一方、厚みが上記範囲よりも薄いと、第1補強基板を使用することによる補強効果が不十分となってしまう場合があるからである。また、厚みが薄いと強度不足で第1積層体が反り易くなってしまうおそれもあるからである。   The thickness of the first reinforcing substrate used in the present invention is particularly within the range where the flexibility of the first reinforcing substrate used in the present invention is within a range that does not impair the flexibility of the first laminate. It is not limited, and can be determined as appropriate according to the material constituting the first reinforcing substrate. Among them, the thickness of the first reinforcing substrate used in the present invention is preferably in the range of 10 μm to 500 μm, more preferably in the range of 50 μm to 250 μm, and still more preferably in the range of 75 μm to 150 μm. . This is because if the thickness is larger than the above range, the flexibility of the first laminate may be insufficient. Moreover, the problem that the cost will become high when the thickness is thick may arise. On the other hand, if the thickness is less than the above range, the reinforcing effect by using the first reinforcing substrate may be insufficient. Moreover, it is because there exists a possibility that a 1st laminated body may warp easily because strength is insufficient when thickness is thin.

なお、後述する第2積層体に第2補強基板が用いられる場合、第1補強基板は第2補強基板と熱膨張係数が実質的に同一であることが好ましい。ここで、熱膨張係数が実質的に同一であるとは、第1補強基板と第2補強基板との熱膨張係数の差が±15%以下であることを意味するものである。もっとも、後述する第2積層体に第2補強基板が用いられる場合、本発明に用いられる第1補強基板は、第2補強基板と厚みが同一であり、かつ同一の材料からなるものであることが好ましい。これにより、第1積層体と第2積層体との寸法安定性を同程度にすることができるため、全体としてより寸法安定性が高い光学装置を得ることができるからである。   In addition, when a 2nd reinforcement board | substrate is used for the 2nd laminated body mentioned later, it is preferable that a 1st reinforcement board | substrate has a thermal expansion coefficient substantially the same as a 2nd reinforcement board | substrate. Here, the fact that the thermal expansion coefficients are substantially the same means that the difference in thermal expansion coefficient between the first reinforcing substrate and the second reinforcing substrate is ± 15% or less. But when a 2nd reinforcement board | substrate is used for the 2nd laminated body mentioned later, the 1st reinforcement board | substrate used for this invention is the same thing as a 2nd reinforcement board | substrate, and consists of the same material. Is preferred. Thereby, since the dimensional stability of the first stacked body and the second stacked body can be made comparable, an optical device having higher dimensional stability as a whole can be obtained.

(4)第1積層体
本発明に用いられる第1積層体は、上述したように第1ガラス基板、および第1補強層を有するものであり、本発明の光学装置の用途に応じて任意の構成を採用することにより、所望の機能を奏する部材として使用することができるものである。ここで、本発明に用いられる第1積層体の使用態様としては、本発明の光学装置の用途に応じて適宜決定することができるものであるが、一例として本発明の光学装置を表示装置として用いる場合に、第1積層体をカラーフィルターとして用いる態様を挙げることができる。より具体的には、上記光学素子として液晶素子、有機EL素子、および電子ペーパー用素子等を用い、本願の光学装置を表示装置として用いる場合においては、上記第1ガラス基板と上記第1補強層との間に調色層を形成することにより、本発明における第1積層体をカラーフィルターとして用いることができる。
(4) 1st laminated body The 1st laminated body used for this invention has a 1st glass substrate and a 1st reinforcement layer as mentioned above, and is arbitrary according to the use of the optical apparatus of this invention. By adopting the configuration, it can be used as a member having a desired function. Here, the usage mode of the first laminate used in the present invention can be appropriately determined according to the use of the optical device of the present invention. As an example, the optical device of the present invention is used as a display device. When using, the aspect which uses a 1st laminated body as a color filter can be mentioned. More specifically, when the liquid crystal element, the organic EL element, the electronic paper element, or the like is used as the optical element, and the optical device of the present application is used as a display device, the first glass substrate and the first reinforcing layer are used. By forming a toning layer between the first laminate and the second laminate, the first laminate in the present invention can be used as a color filter.

図3は、本発明における第1積層体の使用態様の一例を示す概略断面図である。図3に例示するように、本発明における第1積層体20は、第1ガラス基板21と第1補強層22との間に調色層24(24R、24G,24B)を形成することにより、カラーフィルターとして用いることができる。   FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing an example of how the first laminate is used in the present invention. As illustrated in FIG. 3, the first laminate 20 according to the present invention forms the toning layer 24 (24 R, 24 G, 24 B) between the first glass substrate 21 and the first reinforcing layer 22. It can be used as a color filter.

このように、本発明における第1積層体をカラーフィルターとして使用する場合、上記調色層としては、本発明に用いられる光学素子の機能に応じて所望の色を表示させることができるものであれば特に限定されるものではない。このような調色層の態様としては、調色層が着色層である態様(第1態様)、調色層が着色層と、上記着色層上に形成された色変換層とからなる態様(第2態様)、調色層が色変換層である態様(第3態様)が挙げられる。
以下、それぞれの態様について説明する。
Thus, when using the 1st laminated body in this invention as a color filter, as said toning layer, a desired color can be displayed according to the function of the optical element used for this invention. There is no particular limitation. As an aspect of such a toning layer, an aspect in which the toning layer is a colored layer (first aspect), an aspect in which the toning layer is composed of a colored layer and a color conversion layer formed on the colored layer ( 2nd aspect) and the aspect (3rd aspect) whose toning layer is a color conversion layer are mentioned.
Each aspect will be described below.

(第1態様)
本態様において、調色層とは着色層を指すものである。上記図3に例示したように、本態様の第1積層体20は、調色層が、着色層24(図3中では、赤色着色層24R、緑色着色層24G、青色着色層24B)からなるものである。なお、本態様においては、図3に示すように各着色層25の間に遮光部24を形成してもよい。
(First aspect)
In the present embodiment, the toning layer refers to a colored layer. As illustrated in FIG. 3, in the first laminate 20 of this aspect, the toning layer includes the colored layer 24 (in FIG. 3, the red colored layer 24 </ b> R, the green colored layer 24 </ b> G, and the blue colored layer 24 </ b> B). Is. In this embodiment, a light shielding portion 24 may be formed between the colored layers 25 as shown in FIG.

各色の着色層は、画素に対応して規則的に配列される。着色層の配列としては、各色の着色層が巨視的に見て平均的に配列されていれば特に限定されるものではなく、例えばストライプ配列、モザイク配列、デルタ配列等が挙げられる。   The colored layers of each color are regularly arranged corresponding to the pixels. The arrangement of the colored layers is not particularly limited as long as the colored layers of the respective colors are arranged on an average when viewed macroscopically, and examples thereof include a stripe arrangement, a mosaic arrangement, and a delta arrangement.

上記着色層は、各色の顔料や染料等の着色剤をバインダ樹脂中に分散または溶解させたものである。
赤色着色層に用いられる着色剤としては、例えばペリレン系顔料、レーキ顔料、アゾ系顔料、キナクリドン系顔料、アントラキノン系顔料、アントラセン系顔料、イソインドリン系顔料等が挙げられる。これらの顔料は単独で用いてもよく2種以上を混合して用いてもよい。
緑色着色層に用いられる着色剤としては、例えばハロゲン多置換フタロシアニン系顔料もしくはハロゲン多置換銅フタロシアニン系顔料等のフタロシアニン系顔料、トリフェニルメタン系塩基性染料、イソインドリン系顔料、イソインドリノン系顔料等が挙げられる。これらの顔料もしくは染料は単独で用いてもよく2種以上を混合して用いてもよい。
青色着色層に用いられる着色剤としては、例えば銅フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、インダンスレン系顔料、インドフェノール系顔料、シアニン系顔料、ジオキサジン系顔料等が挙げられる。これらの顔料は単独で用いてもよく2種以上を混合して用いてもよい。
The colored layer is obtained by dispersing or dissolving a colorant such as a pigment or dye of each color in a binder resin.
Examples of the colorant used in the red coloring layer include perylene pigments, lake pigments, azo pigments, quinacridone pigments, anthraquinone pigments, anthracene pigments, and isoindoline pigments. These pigments may be used alone or in combination of two or more.
Examples of the colorant used in the green coloring layer include phthalocyanine pigments such as halogen polysubstituted phthalocyanine pigments or halogen polysubstituted copper phthalocyanine pigments, triphenylmethane basic dyes, isoindoline pigments, and isoindolinone pigments. Etc. These pigments or dyes may be used alone or in combination of two or more.
Examples of the colorant used in the blue colored layer include copper phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, indanthrene pigments, indophenol pigments, cyanine pigments, dioxazine pigments and the like. These pigments may be used alone or in combination of two or more.

また、着色層に用いられるバインダ樹脂としては、透明な樹脂が挙げられる。
着色層の形成方法として印刷法を用いる場合、バインダ樹脂としては、例えばポリメチルメタクリレート樹脂、ポリアクリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂、ヒドロキシエチルセルロース樹脂、カルボキシメチルセルロース樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、マレイン酸樹脂、ポリアミド樹脂等が挙げられる。
また、着色層の形成方法としてフォトリソグラフィー法を用いる場合、バインダ樹脂としては、通常、アクリレート系、メタクリレート系、ポリ桂皮酸ビニル系、もしくは環化ゴム系等の反応性ビニル基を有する電離放射線硬化性樹脂が使用される。通常は、電子線硬化性樹脂または紫外線硬化性樹脂が用いられる。
紫外線硬化性樹脂を使用する場合には、バインダ樹脂に光重合開始剤が単独または複数組み合わせて使用される。また、紫外線硬化性樹脂を用いる場合には、必要に応じて増感剤、塗布性改良剤、現像改良剤、架橋剤、重合禁止剤、可塑剤、難燃剤等を用いてもよい。
Moreover, transparent resin is mentioned as binder resin used for a colored layer.
When a printing method is used as a method for forming the colored layer, examples of the binder resin include polymethyl methacrylate resin, polyacrylate resin, polycarbonate resin, polyvinyl alcohol resin, polyvinyl pyrrolidone resin, hydroxyethyl cellulose resin, carboxymethyl cellulose resin, and polyvinyl chloride resin. Melamine resin, phenol resin, alkyd resin, epoxy resin, polyurethane resin, polyester resin, maleic acid resin, polyamide resin and the like.
In addition, when a photolithography method is used as a method for forming a colored layer, the binder resin is usually an ionizing radiation curing having a reactive vinyl group such as an acrylate, methacrylate, polyvinyl cinnamate, or cyclized rubber. Is used. Usually, an electron beam curable resin or an ultraviolet curable resin is used.
When an ultraviolet curable resin is used, a photopolymerization initiator is used alone or in combination with a binder resin. When an ultraviolet curable resin is used, a sensitizer, a coatability improver, a development improver, a crosslinking agent, a polymerization inhibitor, a plasticizer, a flame retardant, and the like may be used as necessary.

また、着色層の形成方法としては、例えば着色剤をバインダ樹脂に混合、分散または可溶化させて着色層形成用塗工液を調製し、この着色層形成用塗工液を用いてフォトリソグラフィー法によってパターニングする方法、あるいは、着色層形成用塗工液を用いてインクジェット法によりパターニングする方法が用いられる。   As a method for forming a colored layer, for example, a coloring agent is mixed, dispersed or solubilized in a binder resin to prepare a colored layer forming coating solution, and a photolithography method using the colored layer forming coating solution. A method of patterning by a method of patterning by an ink jet method using a coating solution for forming a colored layer is used.

本発明に用いられる着色層の膜厚としては、一般的なカラーフィルタに用いられる着色層の膜厚と同様とすることができる。   The thickness of the colored layer used in the present invention can be the same as the thickness of the colored layer used in a general color filter.

(第2態様)
本態様において調色層とは、着色層と上記着色層上に形成された色変換層とからなるものを指す。
(Second aspect)
In this embodiment, the toning layer refers to a layer composed of a colored layer and a color conversion layer formed on the colored layer.

図4は、本態様の第1積層体の一例を示す概略断面図である。図4に示すように、本態様の第1積層体20は、調色層が、着色層24(図4中では、赤色着色層24R、緑色着色層24G、青色着色層24B)と、各色の着色層24上に形成された色変換層24’(図4中では、赤色色変換層24’R,緑色色変換層24’G、および青色色変換層24’B)と、からなるものである。なお、本態様においては、図4に示すように各着色層24の間に遮光部25を形成してもよい。   FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing an example of the first laminate of this aspect. As shown in FIG. 4, in the first laminate 20 of this embodiment, the toning layer has a colored layer 24 (in FIG. 4, a red colored layer 24R, a green colored layer 24G, and a blue colored layer 24B) and each color. A color conversion layer 24 ′ formed on the colored layer 24 (in FIG. 4, a red color conversion layer 24′R, a green color conversion layer 24′G, and a blue color conversion layer 24′B). is there. In this embodiment, a light shielding portion 25 may be formed between the colored layers 24 as shown in FIG.

本態様によれば、調色層が、着色層と、着色層上に形成された色変換層とからなるものであることから、光学装置の発光層からの光の色相補正が可能となり、3原色のバランスの優れた第1積層体とすることができる。   According to this aspect, since the toning layer is composed of the colored layer and the color conversion layer formed on the colored layer, the hue of light from the light emitting layer of the optical device can be corrected. It can be set as the 1st laminated body excellent in the balance of a primary color.

(i)着色層
本態様に用いられる着色層については、上述したものと同様であるため、ここでの記載は省略する。
(I) Colored layer The colored layer used in this embodiment is the same as that described above, and thus description thereof is omitted here.

(ii)色変換層
本態様に用いられる色変換層は、着色層に対応して設けられるものであり、通常は赤色色変換層、緑色色変換層および青色色変換層の3種類の色変換層を有するものである。本態様においては、3種類の色変換層が全て着色層上に形成されていてもよく、3種類の色変換層のうち1種類または2種類の色変換層が着色層上に形成されていてもよい。
(Ii) Color Conversion Layer The color conversion layer used in the present embodiment is provided corresponding to the colored layer, and usually three types of color conversion, a red color conversion layer, a green color conversion layer, and a blue color conversion layer. It has a layer. In this aspect, all of the three types of color conversion layers may be formed on the colored layer, and one or two of the three types of color conversion layers are formed on the colored layer. Also good.

また、本態様に用いられる色変換層の構成は、本発明の第1積層体を適用する有機EL素子の発光層の構成により異なるものとなる。   Moreover, the structure of the color conversion layer used for this aspect changes with structures of the light emitting layer of the organic EL element to which the 1st laminated body of this invention is applied.

上記色変換層に用いられる材料は、入射光を吸収して各色の蛍光を発する色変換蛍光体が樹脂中に分散または溶解されたものであり、3色とも通常の有機EL表示装置用カラーフィルタに使用される色変換層の材料と同様であるので、ここでの説明は省略する。   The material used for the color conversion layer is a material in which a color conversion phosphor that absorbs incident light and emits fluorescence of each color is dispersed or dissolved in a resin, and all three colors are ordinary color filters for organic EL display devices. Since the material is the same as that of the color conversion layer used in the above, description thereof is omitted here.

上記色変換層においては、色変換層が形成されていない場合に透過層が形成されていてもよい。
透過層が形成されている場合、この透過層は、赤色着色層上に形成されている場合は赤色光を透過するものであり、緑色着色層上に形成されている場合は緑色光を透過するものであり、青色着色層上に形成されている場合は青色光を透過するものであれば特に限定されるものではなく、例えば色変換蛍光体を含まず、通常用いられる樹脂からなるものとすることができる。
In the color conversion layer, a transmission layer may be formed when the color conversion layer is not formed.
When the transmissive layer is formed, the transmissive layer transmits red light when formed on the red colored layer, and transmits green light when formed on the green colored layer. If it is formed on a blue colored layer, it is not particularly limited as long as it transmits blue light. For example, it does not include a color conversion phosphor and is made of a commonly used resin. be able to.

上記色変換層の厚みとしては、0.5μm〜30μm程度であることが好ましく、より好ましくは5μm〜20μm、さらに好ましくは8μm〜15μmの範囲内である。色変換層の厚みが厚すぎると色変換層の構成による段差(凹凸)が大きくなり、その表面を平坦化するのが困難となるからである。逆に、色変換層の厚みが薄すぎると、色変換効率が低下する可能性があるからである。また、色変換層の厚みを薄膜化するために色変換層中の有機蛍光体の含有量を増やすと濃度消光が生じるおそれがある。   The thickness of the color conversion layer is preferably about 0.5 μm to 30 μm, more preferably 5 μm to 20 μm, and still more preferably 8 μm to 15 μm. This is because if the thickness of the color conversion layer is too thick, the level difference (unevenness) due to the configuration of the color conversion layer increases, and it becomes difficult to flatten the surface. Conversely, if the thickness of the color conversion layer is too thin, the color conversion efficiency may be reduced. Further, if the content of the organic phosphor in the color conversion layer is increased in order to reduce the thickness of the color conversion layer, concentration quenching may occur.

色変換層の形成方法としては、例えば上記各色変換蛍光体および樹脂を必要に応じて溶剤、希釈剤もしくは適宜な添加剤と共に混合して、各色変換層形成用塗工液を調製し、この各色変換層形成用塗工液を用いてフォトリソグラフィー法によってパターニングする方法、あるいは、上記の各色変換層形成用塗工液を用いて印刷法によりパターニングする方法が用いられる。   As a method for forming the color conversion layer, for example, each color conversion phosphor and resin are mixed with a solvent, a diluent or an appropriate additive as necessary to prepare a coating liquid for forming each color conversion layer. A method of patterning by a photolithography method using a conversion layer forming coating solution, or a method of patterning by a printing method using each of the above color conversion layer forming coating solutions is used.

なお、本態様において着色層と色変換層とが上記ガラス基板上に積層される順番は、着色層、色変換層の順であってもよく、またこの逆順であってもよい。   In this embodiment, the order in which the colored layer and the color conversion layer are laminated on the glass substrate may be the order of the colored layer and the color conversion layer, or the reverse order.

(第3態様)
本態様において調色層とは、色変換層を指す。
(Third aspect)
In the present embodiment, the toning layer refers to a color conversion layer.

図5は、本態様の第1積層体の一例を示す概略断面図である。本態様の第1積層体20は、調色層が、色変換層24’(図5中では、赤色色変換層24’R,緑色色変換層24’G、および青色色変換層24’B)からなるものである。なお、図5に例示するように、本態様においては、色変換層24’の間に遮光部25を有していてもよい。   FIG. 5 is a schematic cross-sectional view showing an example of the first laminate of this aspect. In the first laminate 20 of the present embodiment, the toning layer has a color conversion layer 24 ′ (in FIG. 5, a red color conversion layer 24′R, a green color conversion layer 24′G, and a blue color conversion layer 24′B). ). As illustrated in FIG. 5, in this aspect, the light shielding portion 25 may be provided between the color conversion layers 24 ′.

本態様に用いられる色変換層は、発光層の発光光源の種類に応じて特に限定されるものではなく、色変換層が所望の色相補正を行うことができれば特に限定されるものではないが、上記色変換層が青系の光を赤色に変化させる赤色色変換層、および青系の光を緑色に変換させる緑色色変換層を有する色変換層であることが好ましい。色変換層への入射光は一般に青色光の成分を含むものであるか、あるいは青色光および緑色光の成分を含むものである場合が多いからである。発光層からの光が青色光であるため、青色色変換層を形成する必要はないが、色変換層を平坦化させるために、赤色色変換層および緑色色変換層と同等の厚みを有する透過層を形成してもよい。   The color conversion layer used in the present embodiment is not particularly limited depending on the type of light emitting light source of the light emitting layer, and is not particularly limited as long as the color conversion layer can perform a desired hue correction. The color conversion layer is preferably a color conversion layer having a red color conversion layer that changes blue light into red and a green color conversion layer that converts blue light into green. This is because the light incident on the color conversion layer generally contains a blue light component or often contains blue light and green light components. Since the light from the light emitting layer is blue light, it is not necessary to form a blue color conversion layer, but in order to flatten the color conversion layer, the transmission has a thickness equivalent to that of the red color conversion layer and the green color conversion layer. A layer may be formed.

赤色色変換層、緑色色変換層、および透過層については、上述したものと同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。   Since the red color conversion layer, the green color conversion layer, and the transmission layer can be the same as those described above, description thereof is omitted here.

(その他)
本発明においては、調色層が着色層であることが好ましい。着色層に含まれる顔料を調整することにより、第1積層体からなるカラーフィルターの発色を良好なものに調整することができるからである。
(Other)
In the present invention, the toning layer is preferably a colored layer. This is because by adjusting the pigment contained in the colored layer, it is possible to adjust the color development of the color filter composed of the first laminate to a favorable one.

2.第2積層体
次に、本発明に用いられる第2積層体について説明する。上述したように、本発明に用いられる第2積層体は、フレキシブル性を有する第2ガラス基板と、上記第2ガラス基板上に形成され、樹脂材料からなる第2補強層とを有するものである。
本発明の光学装置は、本発明に用いられる第2積層体の第2ガラス基板がフレキシブル性を有するものであることにより、全体としてフレキシブル性を有するものとすることができ、かつフレキシブル性を有することにより、ガスバリア性にも優れ、かつRoll to Rollプロセス等により低コストで製造することも可能となるのである。
2. Second Laminate Next, the second laminate used in the present invention will be described. As described above, the second laminate used in the present invention has a flexible second glass substrate and a second reinforcing layer formed on the second glass substrate and made of a resin material. .
The optical device of the present invention can be flexible as a whole because the second glass substrate of the second laminate used in the present invention has flexibility, and has flexibility. Therefore, it is excellent in gas barrier properties and can be manufactured at a low cost by a Roll to Roll process or the like.

上記第2積層体に用いられる第2ガラス基板については、上記第1積層体に用いられるものと同様であるため、ここでの詳しい説明は省略する。   About the 2nd glass substrate used for the said 2nd laminated body, since it is the same as that of what is used for the said 1st laminated body, detailed description here is abbreviate | omitted.

また、上記第2補強層については、上述した第1補強層と熱膨張係数が実質的に同一である樹脂材料からなるものであれば特に限定されるものではない。第2補強層に用いられる樹脂材料については、上記第1補強層とほぼ同様のものを用いることができるため、ここでの詳しい説明は省略する。さらに本発明に用いられる第2補強層は、熱膨張係数が第2ガラス基板の熱膨張係数により近いことが望ましい。第2補強層の熱膨張係数が第2ガラス基板の熱膨張係数により近いことにより、第2補強層と第2ガラス基板との熱膨張係数の差に起因して第2積層体が反ったり、撓んだりしてしまうことを防止できるからである。このような観点から、第2補強層の熱膨張係数は第2ガラス基板の熱膨張係数の2倍以内であることが好ましい。より具体的には、第2補強層の熱膨張係数は0.9ppm/℃〜3.0ppm/℃の範囲内であることが好ましく、0.9ppm/℃〜2.5ppm/℃の範囲内であることがより好ましく、0.9ppm/℃〜2.0ppm/℃の範囲内であることがさらに好ましい。   The second reinforcing layer is not particularly limited as long as it is made of a resin material having substantially the same thermal expansion coefficient as that of the first reinforcing layer. Since the resin material used for the second reinforcing layer can be substantially the same as the first reinforcing layer, detailed description thereof is omitted here. Furthermore, the second reinforcing layer used in the present invention desirably has a thermal expansion coefficient closer to that of the second glass substrate. When the thermal expansion coefficient of the second reinforcing layer is closer to the thermal expansion coefficient of the second glass substrate, the second laminate is warped due to the difference in thermal expansion coefficient between the second reinforcing layer and the second glass substrate, It is because it can prevent bending. From such a viewpoint, it is preferable that the thermal expansion coefficient of the second reinforcing layer is within twice the thermal expansion coefficient of the second glass substrate. More specifically, the thermal expansion coefficient of the second reinforcing layer is preferably in the range of 0.9 ppm / ° C to 3.0 ppm / ° C, and in the range of 0.9 ppm / ° C to 2.5 ppm / ° C. More preferably, it is more preferably in the range of 0.9 ppm / ° C. to 2.0 ppm / ° C.

なお、上記第2積層体に用いられる第2ガラス基板、および第2補強層は上記第1積層体に用いられるものと同一の材料からなり、かつ同一の厚みからなるものであることが好ましい。これにより、第1積層体と、第2積層体との熱膨張係数をほぼ一致させることができるため、本発明の光学装置を、寸度変化に伴う表示品質の低下が生じにくいものとすることができるからである。   In addition, it is preferable that the 2nd glass substrate used for the said 2nd laminated body and a 2nd reinforcement layer consist of the same material as what is used for the said 1st laminated body, and consist of the same thickness. Thereby, the thermal expansion coefficients of the first laminated body and the second laminated body can be made to substantially coincide with each other, so that the optical device of the present invention is less likely to cause deterioration in display quality due to dimensional change. Because you can.

また、本発明に用いられる第2積層体には、上記第2ガラス基板および第2補強層以外の任意の構成を有するものであってもよい。本発明に用いられる任意の構成としては、本発明の光学装置の用途や使用態様等に応じて適宜所望の機能を有する構成を用いることができ、特に限定されるものではない。このような任意の構成としては、上記第2補強層上に配置される第2補強基板を挙げることができる。このような第2補強基板が用いられることにより、本発明に用いられる第2積層体を補強し、光学装置の製造工程等において破損することをより効果的に防止することができる。
ここで、上記第2補強基板としては、上述した第1補強基板と同一のものを用いることができるため、ここでの詳しい説明は省略する。
The second laminate used in the present invention may have any configuration other than the second glass substrate and the second reinforcing layer. As an arbitrary configuration used in the present invention, a configuration having a desired function can be appropriately used according to the use and usage of the optical apparatus of the present invention, and is not particularly limited. As such an arbitrary configuration, a second reinforcing substrate disposed on the second reinforcing layer can be exemplified. By using such a second reinforcing substrate, it is possible to reinforce the second laminate used in the present invention and more effectively prevent breakage in the optical device manufacturing process and the like.
Here, since the same thing as the 1st reinforcement board | substrate mentioned above can be used as said 2nd reinforcement board | substrate, detailed description here is abbreviate | omitted.

なお、上述した第1積層体に第1補強基板が用いられる場合、第2補強基板は第1補強基板と熱膨張係数が実質的に同一であることが好ましい。ここで、「熱膨張係数が実質的に同一である」の意味については前述したとおりである。さらに、上述した第1積層体に第1補強基板が用いられる場合、本発明に用いられる第2補強基板は、第1補強基板と厚みが同一であり、かつ同一の材料からなるものであることが好ましい。これにより、第1積層体と第2積層体との寸法安定性を同程度にすることができるため、全体としてより寸法安定性が高い光学装置を得ることができるからである。   In addition, when a 1st reinforcement board | substrate is used for the 1st laminated body mentioned above, it is preferable that a 2nd reinforcement board | substrate has a thermal expansion coefficient substantially the same as a 1st reinforcement board | substrate. Here, the meaning of “the thermal expansion coefficients are substantially the same” is as described above. Furthermore, when a 1st reinforcement board | substrate is used for the 1st laminated body mentioned above, the 2nd reinforcement board | substrate used for this invention has the same thickness as a 1st reinforcement board | substrate, and consists of the same material. Is preferred. Thereby, since the dimensional stability of the first stacked body and the second stacked body can be made comparable, an optical device having higher dimensional stability as a whole can be obtained.

3.光学素子
次に、本発明に用いられる光学素子について説明する。本発明に用いられる光学素子としては、本発明の光学装置の用途に応じて適宜選択されるものである。ここで、本発明における光学素子とは、光学的機能を有するものであり、当該光学的機能とは、例えば、発光機能、画像表示機能等を挙げることができる。上記光学素子として発光機能を有するものを使用した場合、本発明の光学装置は発光装置(照明装置)として使用することができ、上記光学素子として画像表示機能を有するものを使用した場合、本発明の光学装置を表示装置として使用することができる。
3. Optical Element Next, the optical element used in the present invention will be described. The optical element used in the present invention is appropriately selected according to the use of the optical device of the present invention. Here, the optical element in the present invention has an optical function, and examples of the optical function include a light emitting function and an image display function. When the optical element having a light emitting function is used, the optical device of the present invention can be used as a light emitting device (illuminating device). When the optical element having an image display function is used, the present invention is used. These optical devices can be used as a display device.

上記画像表示機能を有する光学素子としては、例えば、液晶表示装置に用いられる液晶セル、有機EL表示装置に用いられる有機EL素子、および電子ペーパー装置に用いられる電子ペーパー用素子(粒子移動タイプ、液晶タイプ、電気化学タイプ等)等を挙げることができる。ここで、上記光学素子として液晶セルを用いることにより本発明の光学装置は液晶表示装置となり、有機EL素子を用いることにより有機EL表示装置となり、さらに電子ペーパー用素子を用いることにより電子ペーパー装置となる。   Examples of the optical element having the image display function include a liquid crystal cell used in a liquid crystal display device, an organic EL element used in an organic EL display device, and an electronic paper element used in an electronic paper device (particle movement type, liquid crystal Type, electrochemical type, etc.). Here, by using a liquid crystal cell as the optical element, the optical device of the present invention becomes a liquid crystal display device, by using an organic EL element, an organic EL display device, and further by using an electronic paper element, Become.

上記液晶セル、有機EL素子、および電子ペーパー用素子としては特に限定されるものではなく、一般的に公知の素子を用いることができる。
なお、本発明においてはこれらのいずれの素子であっても好適に用いることができるが、第1積層体および第2積層体に、それぞれ第1ガラス基板、第2ガラス基板が用いられていることにより、第1積層体および第2積層体はガスバリア性に優れたものになっている。このため、本発明においては特に有機EL素子が用いられることが好ましい。また、光学素子として有機EL素子が用いられることにより、本発明の光学装置が有機EL表示装置となる場合、当該有機EL表示装置としてはパッシブマトリクス(PM)型であってもよく、あるいなアクティブマトリクス(AM)型であってもよい。
The liquid crystal cell, the organic EL element, and the electronic paper element are not particularly limited, and generally known elements can be used.
In the present invention, any of these elements can be suitably used, but the first glass substrate and the second glass substrate are used for the first laminate and the second laminate, respectively. Thus, the first laminate and the second laminate are excellent in gas barrier properties. For this reason, in the present invention, an organic EL element is particularly preferably used. In addition, when an organic EL element is used as an optical element and the optical device of the present invention is an organic EL display device, the organic EL display device may be a passive matrix (PM) type, or more active. It may be a matrix (AM) type.

4.光学装置
上述したように、本発明の光学装置は、第1積層体と第2積層体との間に光学素子が挟持された構成を有するものであるが、本発明において光学素子が第1積層体と第2積層体との間に挟持される態様としては、本発明に用いられる光学素子の種類等に応じて適宜決定されるものであり、特に限定されるものではない。したがって、本発明においては、第1積層体および第2積層体が、それぞれ第1ガラス基板および第2ガラス基板が光学素子側に配置されるように光学素子が挟持される態様であってもよく、あるいは反対に第1ガラス基板および第2ガラス基板が外側に配置されるように光学素子が挟持される態様であってもよい。例えば、上記光学素子として有機EL素子を用い、本発明の光学装置を有機EL表示装置として用いる場合においては前者の態様が好ましい。このような態様によればデガス等の影響により、有機EL素子が劣化してしまうことを防止できるからである。
4). Optical Device As described above, the optical device of the present invention has a configuration in which the optical element is sandwiched between the first stacked body and the second stacked body. In the present invention, the optical element is the first stacked body. As an aspect clamped between a body and a 2nd laminated body, it determines suitably according to the kind etc. of the optical element used for this invention, and it does not specifically limit. Therefore, in the present invention, the first laminated body and the second laminated body may be an embodiment in which the optical element is sandwiched so that the first glass substrate and the second glass substrate are disposed on the optical element side, respectively. Alternatively, the optical element may be sandwiched so that the first glass substrate and the second glass substrate are disposed outside. For example, when the organic EL element is used as the optical element and the optical device of the present invention is used as the organic EL display device, the former mode is preferable. This is because according to such an aspect, it is possible to prevent the organic EL element from being deteriorated due to the influence of degas or the like.

5.光学装置の製造方法
本発明の光学装置は、上述したように第1積層体と第2積層体との間に光学素子が挟持せることができる方法により適宜製造することできる。このような方法としては、例えば、第1積層体を作製する第1積層体作製工程と、第2積層体を作製する第2積層体作製工程と、上記第1積層体および第2積層体を用い、光学素子を第1積層体および第2積層体で挟持させる封止工程とを用いる方法を例示することができる。また、第1積層体あるいは第2積層体上の一方に光学素子を直接形成した後、他方の積層体を当該光学素子上に配置する方法も用いることができる。
5). Manufacturing Method of Optical Device The optical device of the present invention can be appropriately manufactured by a method in which an optical element can be sandwiched between the first stacked body and the second stacked body as described above. As such a method, for example, a first laminated body producing step for producing a first laminated body, a second laminated body producing step for producing a second laminated body, and the first laminated body and the second laminated body, And a method using a sealing step in which the optical element is sandwiched between the first laminated body and the second laminated body. In addition, a method in which an optical element is directly formed on one of the first stacked body and the second stacked body and then the other stacked body is disposed on the optical element can also be used.

上記第1積層体作製工程、および第2積層体作製工程において第1積層体および第2積層体を作製する方法としては、上述したような構成を有する第1積層体および第2積層体を作製することができる方法であれば特に限定されるものではない。このような方法としては、例えば、任意の厚みのガラス基板を用い、当該ガラス基板上に樹脂材料からなる補強層を形成する補強層形成工程と、上記ガラス基板を研磨するガラス基板研磨工程と、を有する方法を例示することができる。このような方法により、第1積層体および第2積層体を作製することができる。また、このような方法によれば上記ガラス板研磨工程でガラス基板の厚みを任意に調整することができることに加え、ガラス基板の表面粗さ(Ra)が小さいものとすることができるという利点がある。上記方法によれば、例えば、研磨後のガラス基板の表面粗さ(Ra)を2nm以下にすることも可能となる。   As a method for producing the first laminated body and the second laminated body in the first laminated body producing step and the second laminated body producing step, the first laminated body and the second laminated body having the above-described configuration are produced. The method is not particularly limited as long as it can be performed. As such a method, for example, using a glass substrate of an arbitrary thickness, a reinforcing layer forming step of forming a reinforcing layer made of a resin material on the glass substrate, a glass substrate polishing step of polishing the glass substrate, Can be exemplified. By such a method, a 1st laminated body and a 2nd laminated body can be produced. Moreover, according to such a method, in addition to being able to arbitrarily adjust the thickness of the glass substrate in the glass plate polishing step, there is an advantage that the surface roughness (Ra) of the glass substrate can be made small. is there. According to the above method, for example, the surface roughness (Ra) of the polished glass substrate can be 2 nm or less.

上記補強層形成工程に用いられるガラス基板としては、フレキシブル性を有するものであってもよく、あるいはフレキシブル性を有しないものであってもよい。第1積層体作製工程において作製される第1積層体は、最終的にフレキシブル性を有するものとなるが、本工程に用いられるガラス基板がフレキシブル性を有しない場合であっても、後述するガラス基板研磨工程においてガラス基板の厚みが薄くされることにより、フレキシブル性が付与されるため、本工程においてはフレキシブル性の有無は問わないのである。むしろ、本工程においては、高い位置精度や厚み精度で調色層を形成することができるという観点から、本工程に用いられるガラス基板はフレキシブル性を有さないものであることが好ましい。したがって、上記研磨前のガラス基板の厚みは、0.1mm〜2mmの範囲内であることが好ましく、0.3mm〜1.1mmの範囲内であることがより好ましく、0.4mm〜0.7mmの範囲内であることがさらに好ましい。
なお、第1積層体あるいは第2積層体の製造コストを抑えるには、量産されたガラス基板を用いることがよい。それ以外のガラス基板とコスト高になってしまう。またガラス基板研磨工程での負担を考えると研磨前のガラス基板は極力薄いものを用いるのが良いが、あまり薄すぎると製造ラインの搬送トラブルを招くおそれがある。
The glass substrate used in the reinforcing layer forming step may have flexibility or may not have flexibility. Although the 1st laminated body produced in a 1st laminated body preparation process will finally have flexibility, even if it is a case where the glass substrate used for this process does not have flexibility, the glass mentioned later Since flexibility is imparted by reducing the thickness of the glass substrate in the substrate polishing step, the presence or absence of flexibility does not matter in this step. Rather, in this step, it is preferable that the glass substrate used in this step does not have flexibility from the viewpoint that the toning layer can be formed with high positional accuracy and thickness accuracy. Therefore, the thickness of the glass substrate before polishing is preferably in the range of 0.1 mm to 2 mm, more preferably in the range of 0.3 mm to 1.1 mm, and 0.4 mm to 0.7 mm. More preferably, it is in the range.
In order to reduce the manufacturing cost of the first laminated body or the second laminated body, it is preferable to use a mass-produced glass substrate. It becomes expensive with other glass substrates. Considering the burden in the glass substrate polishing step, it is preferable to use a glass substrate before polishing that is as thin as possible. However, if it is too thin, there is a risk of causing trouble in transporting the production line.

本発明に用いられるガラス基板としては、ディスプレイ用に用いられる無アルカリガラスが望ましい。具体的には、OA10(日本電気硝子社)、AN100(旭硝子社)、NA35(NHテクノガラス社)、EAGLE(コーニング社)、および1737材(コーニング社)などガラス製造各社のガラスを用いることが望ましい。
その他ソーダライム材、低屈折ガラス、高屈折ガラスなど用いても良く、基本的にガスバリア性に優れるガラスであれば積層可能である。
As a glass substrate used for this invention, the alkali free glass used for a display is desirable. Specifically, the glass of each glass manufacturing company such as OA10 (Nippon Electric Glass), AN100 (Asahi Glass), NA35 (NH Techno Glass), EAGLE (Corning), and 1737 materials (Corning) may be used. desirable.
Other materials such as soda lime, low refractive glass, and high refractive glass may be used. Basically, any glass having excellent gas barrier properties can be laminated.

次に、上記補強層形成工程について説明する。本工程において補強層を形成する方法としては、所望の樹脂材料を用いて所定の厚みの補強層を形成することができる方法であれば特に限定されるものではなく、例えば、樹脂材料を含有する補強層形成用組成物を上記ガラス基板上(調色層が形成されている場合は調色層上)に塗布した後、これを必要に応じて硬化させる方法や、あるいは所望の樹脂材料からなる樹脂フィルムをガラス基板上(調色層が形成されている場合は調色層上)に貼り合わせる方法等を挙げることができるが、この限りではない。なお、上記所望の樹脂材料からなる樹脂フィルムをガラス基板上に貼り合わせる方法の場合には、上記樹脂フィルムとガラス基板との間に接着剤層を介在させてもよい。   Next, the reinforcing layer forming step will be described. The method for forming the reinforcing layer in this step is not particularly limited as long as it can form a reinforcing layer having a predetermined thickness using a desired resin material. For example, a resin material is contained. The reinforcing layer forming composition is applied on the glass substrate (or on the toning layer when the toning layer is formed), and then cured as necessary, or made of a desired resin material. Although the method etc. which affix a resin film on a glass substrate (on a toning layer when the toning layer is formed) can be mentioned, it is not this limitation. In addition, in the case of the method of bonding the resin film which consists of the said desired resin material on a glass substrate, you may interpose an adhesive bond layer between the said resin film and a glass substrate.

次に、上記ガラス基板研磨工程について説明する。本工程は上記補強層が形成されたガラス基板を補強層が形成された面とは反対側から研磨することにより、第1積層体および第2積層体がフレキシブル性を備える程度にガラス基板の厚みを低減する工程である。ここで、本工程においてガラス板を研磨する際には、補強層が形成されていることによってガラス基板の強度が向上されているため、この程度の厚みまでガラス基板を研磨したとしても、ガラス基板に破損等を生じることを著しく低減することができる。   Next, the glass substrate polishing step will be described. In this step, the glass substrate on which the reinforcing layer is formed is polished from the side opposite to the surface on which the reinforcing layer is formed, so that the thickness of the glass substrate is such that the first laminate and the second laminate have flexibility. This is a process for reducing. Here, when the glass plate is polished in this step, since the strength of the glass substrate is improved by forming the reinforcing layer, even if the glass substrate is polished to such a thickness, the glass substrate It is possible to remarkably reduce the occurrence of damage and the like.

本工程においてガラス基板を研磨する方法としては、ガラス基板の厚みを上記範囲内にすることができる方法であれば特に限定されるものではない。このような研磨方法としては、例えば、機械を用いた機械研磨法、エッチング等の化学的研磨法を挙げることができる。
機械研磨法としては、一般的な精密機器に用いられる無機材料からなる透明基板を研磨する方法と同様であるのでここでの説明は省略する。
また、化学的研磨方法としては、ドライエッチングであってもよいし、ウェットエッチングであってもよい。通常ウェットエッチングが好適に用いられる。これは、ウェットエッチングはコストや生産効率の点で有利であるからであり、かつ、化学反応で溶解が進行するため、エッチング剤を選択することにより、エッチング速度を制御することが容易であるからである。
The method for polishing the glass substrate in this step is not particularly limited as long as the thickness of the glass substrate can be within the above range. Examples of such a polishing method include a mechanical polishing method using a machine and a chemical polishing method such as etching.
Since the mechanical polishing method is the same as the method of polishing a transparent substrate made of an inorganic material used in general precision equipment, description thereof is omitted here.
The chemical polishing method may be dry etching or wet etching. Usually, wet etching is preferably used. This is because wet etching is advantageous in terms of cost and production efficiency, and since dissolution proceeds by a chemical reaction, it is easy to control the etching rate by selecting an etching agent. It is.

本工程において研磨された後のガラス基板の厚みとしては、0.01mm〜0.2mmの範囲内であれば特に限定されるものではないが、なかでも0.01mm〜0.15mmの範囲内であることがより好ましく、0.05mm〜0.1mmの範囲内であることがさらに好ましい。厚みが上記範囲よりも薄いとガラス基板研磨工程において研磨する際に、クラック、ピンホールなどが発生しやすくなるからである。また厚すぎると研磨後のガラス基板のフレキシブル性が不十分となる場合があるからである。なお、上述したように本工程において研磨されるガラス基板には補強層が形成されていることから、上記範囲にまでガラス基板を研磨したとしても、破損等を生じることなく、高い厚み精度で研磨することが可能である。   The thickness of the glass substrate after being polished in this step is not particularly limited as long as it is within a range of 0.01 mm to 0.2 mm, but in particular within a range of 0.01 mm to 0.15 mm. More preferably, it is more preferably in the range of 0.05 mm to 0.1 mm. This is because if the thickness is less than the above range, cracks, pinholes and the like are likely to occur during polishing in the glass substrate polishing step. Moreover, it is because the flexibility of the glass substrate after grinding | polishing may become inadequate when too thick. In addition, since the reinforcing layer is formed on the glass substrate to be polished in this step as described above, even if the glass substrate is polished to the above range, it is polished with high thickness accuracy without causing damage or the like. Is possible.

次に、上記封止工程について説明する。フレキシブル性を有する第1積層体および第2積層体を用い、光学装置を両積層体の間に挟まれるように封止する工程である。本工程において光学素子を第1積層体および第2積層体で封止する方法としては、上記光学素子を確実に封止できる方法であれば特に限定されるものではない。ここで、上記第1積層体および第2積層体はフレキシブル性を有するため、本工程をRoll to Rollプロセスにより実施することができる。また、本工程においては、光学素子を封止するために必要に応じてシール材等を用いる方法も任意に用いることができる。   Next, the sealing process will be described. In this step, the first laminated body and the second laminated body having flexibility are used and the optical device is sealed so as to be sandwiched between the two laminated bodies. The method for sealing the optical element with the first laminate and the second laminate in this step is not particularly limited as long as the optical element can be reliably sealed. Here, since the first stacked body and the second stacked body have flexibility, this step can be performed by a Roll to Roll process. In this step, a method using a sealant or the like can be arbitrarily used as necessary to seal the optical element.

なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。   The present invention is not limited to the above embodiment. The above-described embodiment is an exemplification, and the present invention has substantially the same configuration as the technical idea described in the claims of the present invention, and any device that exhibits the same function and effect is the present invention. It is included in the technical scope of the invention.

以下、実施例を示すことにより本発明についてより具体的に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described more specifically by showing examples.

[実施例]
OA10(日本電気硝子社)のガラス基板(150×150mm、厚み0.7mm)、に遮光部および着色層を作製した。ここで、遮光部はブラックレジスト(TOK社製)をプレベーク(80℃×180sec)後に厚み1μm程度になるよう塗布し、プレベーク後、マスク露光(露光量:100mJ/cm程度)、現像(KOH:1%溶液を用いて約60sec現像した後、水洗60sec)し、さらにポストベーク(230℃で30分)することにより形成した。次いで、着色層を形成するため、着色レジストをR,G,Bの順、1色毎に、同様の方法で作製した。
次に、第1補強層としてPETフィルム(厚み100μm)を用い、これをUV硬化型接着剤を用いて真空下で、上記ガラス基板の着色層が形成された側に張り合わせた。このとき、接着剤の膜厚は約50μmであった。貼り合せ後、UV光を照射しUV硬化型接着剤を硬化させた。次に、フレキシブル性を出すために第1補強層を貼り合せたガラス基板を、着色層が形成された側とは反対側からポリッシュ研磨し、荒削りでガラス基板の厚みを0.7mmから0.11mmまで薄膜化した。さらに仕上げ研磨によりガラス基板の厚みを0.1mmの厚みに仕上げた。このようにして作製した第1積層体は、第1ガラス基板(0.1mm)、接着剤(0.05mm)、第1補強層(0.1mm)を合わせたトータルで厚みが0.25mmであった。なお、仕上げ研磨後の第1ガラス基板の表面粗さ(Ra)は2nm以下であった。また、作製した第1積層体のトータルピッチ(寸法安定性)は1.5μm/100mm以下を達成した。ここで、トータルピッチの評価は、遮光部形成時に十字パターンをガラス基板の4つの角に形成しておき、十字パターンの中心座標を測定することで設計値に対する伸び縮みを評価する方法によって行った。測定装置は、SIMC−800(ソキア社製)を用いた。評価に際して、測定装置の環境は23.0℃で管理し、測定基板も23.0℃になるまで測定ステージ上に保持した後、測定を行った。
[Example]
A light shielding portion and a colored layer were produced on a glass substrate (150 × 150 mm, thickness 0.7 mm) of OA10 (Nippon Electric Glass Co., Ltd.). Here, a black resist (manufactured by TOK Co.) is applied to the light-shielding portion so as to have a thickness of about 1 μm after pre-baking (80 ° C. × 180 sec), and after pre-baking, mask exposure (exposure amount: about 100 mJ / cm 2 ), development (KOH) 1% solution was used for development for about 60 seconds, followed by washing with water (60 seconds), followed by post-baking (at 230 ° C. for 30 minutes). Next, in order to form a colored layer, a colored resist was prepared in the same manner for each color in the order of R, G, and B.
Next, a PET film (thickness: 100 μm) was used as the first reinforcing layer, and this was laminated to the side of the glass substrate on which the colored layer was formed under vacuum using a UV curable adhesive. At this time, the film thickness of the adhesive was about 50 μm. After bonding, UV light was irradiated to cure the UV curable adhesive. Next, the glass substrate on which the first reinforcing layer is bonded in order to provide flexibility is polished from the side opposite to the side on which the colored layer is formed, and the thickness of the glass substrate is reduced from 0.7 mm to 0.00 mm by roughing. The film thickness was reduced to 11 mm. Further, the glass substrate was finished to a thickness of 0.1 mm by finish polishing. The first laminate thus produced has a total thickness of 0.25 mm including the first glass substrate (0.1 mm), the adhesive (0.05 mm), and the first reinforcing layer (0.1 mm). there were. In addition, the surface roughness (Ra) of the 1st glass substrate after final polishing was 2 nm or less. Moreover, the total pitch (dimensional stability) of the produced 1st laminated body achieved 1.5 micrometer / 100mm or less. Here, the total pitch was evaluated by a method in which a cross pattern was formed at the four corners of the glass substrate when the light-shielding portion was formed, and the expansion / contraction relative to the design value was evaluated by measuring the center coordinates of the cross pattern. . As a measuring apparatus, SIMC-800 (manufactured by Sokkia) was used. In the evaluation, the environment of the measurement apparatus was controlled at 23.0 ° C., and the measurement substrate was held on the measurement stage until it reached 23.0 ° C., and then the measurement was performed.

作製した第1積層体上に、ITO成膜、ITO膜のパターニング、絶縁層、隔壁、有機EL素子(白色)、カソードを順次形成し、PM型の有機EL素子を作製した。   An ITO film, ITO film patterning, an insulating layer, a partition, an organic EL element (white), and a cathode were sequentially formed on the produced first laminate to produce a PM type organic EL element.

OA10(日本電気硝子社)のガラス基板(150×150mm、厚み0.7mm)、を用い、当該ガラス基板上に、UV硬化型接着剤を用いて第2補強層としてのPETフィルム(厚み100μm)を貼り合わせた。このとき、接着剤の膜厚は約50μmであった。
次に、第2補強層が形成された面とは反対側からガラス基板を研磨し、ガラス基板の厚みを0.1mmとした。このようにして作製した第2積層体を、上記第1積層体上に形成された有機EL素子上に配置し、封止した。これにより有機EL表示装置を作製した。
Using a glass substrate (150 × 150 mm, thickness 0.7 mm) of OA10 (Nippon Electric Glass Co., Ltd.), a PET film (thickness 100 μm) as a second reinforcing layer using a UV curable adhesive on the glass substrate. Were pasted together. At this time, the film thickness of the adhesive was about 50 μm.
Next, the glass substrate was polished from the side opposite to the surface on which the second reinforcing layer was formed, and the thickness of the glass substrate was set to 0.1 mm. The second laminate produced in this manner was placed on the organic EL element formed on the first laminate and sealed. Thus, an organic EL display device was produced.

[比較例]
ガラス基板に変えて、PETフィルムにSiONを100nmの厚みで積層させたバリアフィルムを用い、当該バリアフィルム上に実施例と同様の方法により着色層、および有機EL素子を作製した。
次に、PETフィルムにSiONを100nm積層させたバリアフィルムを用い、当該バリアフィルムを、上記有機EL素子上に配置し、封止した。これにより有機EL表示装置を作製した。
[Comparative example]
Instead of the glass substrate, a barrier film obtained by laminating SiON with a thickness of 100 nm on a PET film was used, and a colored layer and an organic EL element were produced on the barrier film by the same method as in the examples.
Next, using a barrier film obtained by laminating 100 nm of SiON on a PET film, the barrier film was placed on the organic EL element and sealed. Thus, an organic EL display device was produced.

[評価]
実施例、比較例において作製した有機EL表示装置について点灯試験を行った結果、実施例では水分などのデガスに起因する素子の劣化、ダークスポットは見られなかった。
これに対して比較例では、バリア性の不十分が起因すると見られる黒点(ダークスポット)が多数発生した。
[Evaluation]
As a result of conducting a lighting test on the organic EL display devices manufactured in Examples and Comparative Examples, no deterioration of elements and dark spots due to degas such as moisture were observed in the Examples.
On the other hand, in the comparative example, many black spots (dark spots) that seem to be caused by insufficient barrier properties occurred.

1 … 光学装置
10 … 光学素子
20 … 第1積層体
21 … 第1ガラス基板
22 … 第1補強層
23 … 第1補強基板
24 … 調色層
25 … 遮光部
30 … 第2積層体
31 … 第2ガラス基板
32 … 第2補強層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Optical apparatus 10 ... Optical element 20 ... 1st laminated body 21 ... 1st glass substrate 22 ... 1st reinforcement layer 23 ... 1st reinforcement substrate 24 ... Toning layer 25 ... Light-shielding part 30 ... 2nd laminated body 31 ... 1st 2 glass substrates 32 ... 2nd reinforcement layer

Claims (5)

フレキシブル性を有する第1ガラス基板、および前記第1ガラス基板上に形成され、樹脂材料からなる第1補強層を有する第1積層体と、
フレキシブル性を有する第2ガラス基板、および前記第2ガラス基板上に形成され、樹脂材料からなる第2補強層を有する第2積層体と、
前記第1積層体および前記第2積層体の間に、挟持されるように配置された光学素子とを有する光学装置であって、
前記第1補強層および前記第2補強層の熱膨張係数が実質的に同一であることを特徴とする光学装置。
A first glass substrate having flexibility, and a first laminate formed on the first glass substrate and having a first reinforcing layer made of a resin material;
A second glass substrate having flexibility, and a second laminated body formed on the second glass substrate and having a second reinforcing layer made of a resin material;
An optical device having an optical element disposed so as to be sandwiched between the first stacked body and the second stacked body,
The optical device, wherein the first reinforcing layer and the second reinforcing layer have substantially the same thermal expansion coefficient.
前記第1補強層と前記第2補強層とが同一の厚みであり、かつ同一の材料からなることを特徴とする、請求項1に記載の光学装置。   The optical device according to claim 1, wherein the first reinforcing layer and the second reinforcing layer have the same thickness and are made of the same material. 前記第1積層体が、前記第1積層体上に第1補強基板が形成されたものであり、
前記第2積層体が、前記第2積層体上に第2補強基板が形成されたものであり、
さらに、前記第1補強基板と前記第2補強基板とは熱膨張係数が実質的に同一であることを特徴とする、請求項1または請求項2に記載の光学装置。
The first laminated body is obtained by forming a first reinforcing substrate on the first laminated body,
The second laminate has a second reinforcing substrate formed on the second laminate,
The optical device according to claim 1, wherein the first reinforcing substrate and the second reinforcing substrate have substantially the same thermal expansion coefficient.
前記第1補強基板と前記第2補強基板とが厚みが同一であり、かつ同一の材料からなることを特徴とする、請求項1から請求項3までのいずれかの請求項に記載の光学装置。   The optical device according to any one of claims 1 to 3, wherein the first reinforcing substrate and the second reinforcing substrate have the same thickness and are made of the same material. . 前記第1積層体が、前記第1ガラス基板と前記第1補強層との間に着色層が形成された構成を有するカラーフィルターであることを特徴とする、請求項1から請求項4までのいずれかの請求項に記載の光学装置。   The first laminated body is a color filter having a configuration in which a colored layer is formed between the first glass substrate and the first reinforcing layer. An optical device according to any one of the claims.
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