JP2009102494A - Composition for use in screen printing - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide such a composition for use in screen printing as gives a polyimide membrane having a good screen printability and also having excellent mechanical strengths and a flexibility. <P>SOLUTION: The composition for use in screen printing comprises (A) a polyamic acid having a weight-average molecular weight of 80,000-500,000, (B) an epoxy resin with a specific structure, (C) a metal oxide microparticle having an average particle diameter of 0.001 μm-10 μm, and (D) a solvent. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明はスクリーン印刷用組成物に関し、例えば電子部品の製作において絶縁膜層を形成するためのポリアミド酸組成物、該組成物を用いて形成されるポリイミド膜、および該ポリイミド膜を形成したフィルム基板、該フィルム基板を有する電子部品に関する。   The present invention relates to a composition for screen printing, for example, a polyamic acid composition for forming an insulating film layer in the manufacture of electronic components, a polyimide film formed using the composition, and a film substrate on which the polyimide film is formed. And an electronic component having the film substrate.

ポリイミドは耐熱性、電気絶縁性に優れるため、電子通信分野で広く用いられている材料である(例えば、特許文献1〜3を参照。)。ポリイミドを所望のパターン膜として使用する場合、従来はエッチングや感光性ポリイミドを用いてパターンを形成することが一般的であったが、フォトレジスト、現像液、エッチング液、剥離液などの多種大量の薬液が必要であり、さらに煩雑な工程を要するものであった。そこで、近年、スクリーン印刷により所望のパターン膜を形成する方法が検討されている。   Polyimide is a material widely used in the field of electronic communication because it is excellent in heat resistance and electrical insulation (see, for example, Patent Documents 1 to 3). When polyimide is used as a desired pattern film, it has been common to form a pattern using etching or photosensitive polyimide. However, a large amount of photoresist, developer, etchant, stripper, etc. A chemical solution is required, and further complicated steps are required. Therefore, in recent years, methods for forming a desired pattern film by screen printing have been studied.

スクリーン印刷用組成物は各種提案されているが(例えば、特許文献4、5を参照。)、一般的に粘度調整(チキソトロピー性付与)をするために組成物に樹脂微粒子または無機微粒子を添加して使用する。しかしながら、添加する樹脂微粒子または無機微粒子の粒径が大きかったり、あるいは組成物中での分散性が良くなかったりすると、メッシュ目残りやにじみが生じて、膜平坦性が悪化するという問題があった。
また、微粒子を添加したことにより得られるポリイミド膜の機械的強度が極端に悪化して、ポリイミド膜形成時にポリイミドの収縮に起因する残留歪のためクラックが発生することがある。特に、フレキシブル基板を用いた場合は、屈曲特性が問題となることが多いため、屈曲特性の良好なポリイミド膜が望まれている。この屈曲特性とは、フレキシブル基板を垂直に立て、両端を把持し、両端を交互に上下移動させたとき、該フレキシブル基板や基板上の回路が折曲したり、切断したりしないか否かの特性のことであり、摺動特性ともいわれる。
Various screen printing compositions have been proposed (see, for example, Patent Documents 4 and 5). In general, resin fine particles or inorganic fine particles are added to the composition in order to adjust the viscosity (providing thixotropy). To use. However, if the particle size of the resin fine particles or inorganic fine particles to be added is large, or if the dispersibility in the composition is not good, there is a problem that mesh residue and blurring occur and the film flatness deteriorates. .
In addition, the mechanical strength of the polyimide film obtained by adding the fine particles may be extremely deteriorated, and cracks may occur due to residual strain caused by polyimide shrinkage when the polyimide film is formed. In particular, when a flexible substrate is used, since a bending characteristic often becomes a problem, a polyimide film having a good bending characteristic is desired. This bending property means whether or not the flexible substrate and the circuit on the substrate are not bent or cut when the flexible substrate is vertically set up, held at both ends, and alternately moved up and down. It is a characteristic and is also called a sliding characteristic.

特開2000−039714号公報JP 2000-039714 A 特開2003−238683号公報JP 2003-238683 A 特開2004−094118号公報JP 2004-094118 A 特開平4−153261号公報JP-A-4-153261 特開2007−16158号公報JP 2007-16158 A

上述する状況の下、スクリーン印刷性が良好であり、メッシュ目残りや、にじみ等を引き起こすことなく均一な膜厚のポリイミド膜が得られる、スクリーン印刷用組成物が求められている。また、機械的強度が強固で、クラックが発生することなく屈曲性の良好な、スクリーン印刷用組成物が求められている。   Under the circumstances described above, there is a need for a screen printing composition that has good screen printability and can obtain a polyimide film having a uniform thickness without causing mesh residue or bleeding. There is also a need for a composition for screen printing that is strong in mechanical strength and has good flexibility without cracks.

本発明者等は、特定の重量平均分子量を有するポリアミド酸(A)、特定構造のエポキシ樹脂(B)、特定の平均粒子径を有する金属酸化物微粒子(C)および溶媒(D)を含むスクリーン印刷用組成物が、上述する優れた特性を有することを見出し本発明を完成させた。
本発明は以下のようなスクリーン印刷用組成物等を提供する。
The present inventors have disclosed a screen comprising a polyamic acid (A) having a specific weight average molecular weight, an epoxy resin (B) having a specific structure, fine metal oxide particles (C) having a specific average particle size, and a solvent (D). The present invention was completed by finding that the printing composition has the above-described excellent characteristics.
The present invention provides the following screen printing composition and the like.

[1] 下記一般式(1)で表される構成単位を有する重量平均分子量80,000〜500,000のポリアミド酸(A)、エポキシ樹脂(B)、平均粒子径が0.001μm〜10μmの金属酸化物微粒子(C)および溶媒(D)を含むスクリーン印刷用組成物であり、エポキシ樹脂(B)が、N,N,N',N'−テトラグリシジル−m−キシレンジアミン、1,3−ビス(N,N−ジグリシジルアミノメチル)シクロヘキサン、N,N,N',N'−テトラグリシジル−4,4'−ジアミノジフェニルメタンおよび下記式(2)〜(4)で表される化合物からなる群から選ばれる1以上の化合物からなることを特徴とするスクリーン印刷用組成物。

Figure 2009102494
(式(1)中、R1とR2はそれぞれ独立して炭素数2〜100の有機基である。) [1] Polyamic acid (A) having a structural unit represented by the following general formula (1) (A) having a weight average molecular weight of 80,000 to 500,000, epoxy resin (B), metal oxide fine particles having an average particle size of 0.001 μm to 10 μm ( C) and a solvent (D), and the epoxy resin (B) contains N, N, N ′, N′-tetraglycidyl-m-xylenediamine, 1,3-bis (N, N-diglycidylaminomethyl) cyclohexane, N, N, N ′, N′-tetraglycidyl-4,4′-diaminodiphenylmethane and selected from the group consisting of compounds represented by the following formulas (2) to (4) A composition for screen printing, comprising one or more compounds.
Figure 2009102494
(In formula (1), R 1 and R 2 are each independently an organic group having 2 to 100 carbon atoms.)

[2] ポリアミド酸(A)の重量平均分子量が100,000〜200,000である、上記[1]に記載のスクリーン印刷用組成物。 [2] The composition for screen printing according to the above [1], wherein the polyamic acid (A) has a weight average molecular weight of 100,000 to 200,000.

[3] エポキシ樹脂(B)が、N,N,N',N'−テトラグリシジル−m−キシレンジアミン、1,3−ビス(N,N−ジグリシジルアミノメチル)シクロヘキサン、N,N,N',N'−テトラグリシジル−4,4'−ジアミノジフェニルメタンから選ばれる1以上の化合物からなる、上記[1]又は[2]に記載のスクリーン印刷用組成物。 [3] The epoxy resin (B) is N, N, N ′, N′-tetraglycidyl-m-xylenediamine, 1,3-bis (N, N-diglycidylaminomethyl) cyclohexane, N, N, N The composition for screen printing according to the above [1] or [2], comprising one or more compounds selected from ', N'-tetraglycidyl-4,4'-diaminodiphenylmethane.

[4] スクリーン印刷用組成物全量を基準として、ポリアミド酸(A)を5〜60重量%、エポキシ樹脂(B)を5〜60重量%、金属酸化物微粒子(C)を0.1〜10重量%、溶媒(D)を20〜89.9重量%含む、上記[1]〜[3]のいずれかに記載のスクリーン印刷用組成物。 [4] Based on the total amount of the composition for screen printing, the polyamic acid (A) is 5 to 60% by weight, the epoxy resin (B) is 5 to 60% by weight, and the metal oxide fine particles (C) are 0.1 to 10%. The composition for screen printing according to any one of the above [1] to [3], comprising 20% by weight and 20 to 89.9% by weight of the solvent (D).

[5] テトラカルボン酸二無水物(a1)として、ピロメリット酸二無水物、1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物及び1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸二無水物からなる群から選ばれる少なくとも1種と、ジアミン(a2)として、4,4'−ジアミノジフェニルエーテル、4,4'−ジアミノジフェニルメタン及び4,4'−ジアミノジフェニルエタンからなる群から選ばれる少なくとも1種とを用いて得られる、重量平均分子量80,000〜500,000のポリアミド酸(A)、
エポキシ樹脂(B)として、N,N,N',N'−テトラグリシジル−4,4'−ジアミノジフェニルメタン、
金属酸化物微粒子(C)として、平均粒子径が0.001μm〜10μmのシリカ微粒子、および
溶媒(D)として、N−メチル−2−ピロリドン
を含むスクリーン印刷用組成物。
[5] As tetracarboxylic dianhydride (a1), pyromellitic dianhydride, 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride and 1,2,3,4-butanetetracarboxylic dianhydride At least one selected from the group consisting of anhydrides and at least selected from the group consisting of 4,4′-diaminodiphenyl ether, 4,4′-diaminodiphenylmethane and 4,4′-diaminodiphenylethane as the diamine (a2) A polyamic acid (A) having a weight average molecular weight of 80,000 to 500,000, obtained using
As the epoxy resin (B), N, N, N ′, N′-tetraglycidyl-4,4′-diaminodiphenylmethane,
A composition for screen printing comprising, as metal oxide fine particles (C), silica fine particles having an average particle size of 0.001 μm to 10 μm, and N-methyl-2-pyrrolidone as a solvent (D).

[6] 上記[1]〜[5]のいずれかに記載されたスクリーン印刷用組成物から得られた、ポリイミド膜又はパターン状ポリイミド膜。 [6] A polyimide film or a patterned polyimide film obtained from the composition for screen printing described in any one of [1] to [5].

[7] 上記[1]〜[5]のいずれかに記載されたスクリーン印刷用組成物をスクリーン印刷によって塗布してポリアミド酸膜を形成する工程、および、形成されたポリアミド酸膜を処理してポリイミド膜を形成する工程を経て得られた、ポリイミド膜又はパターン状ポリイミド膜。 [7] A step of applying the composition for screen printing described in any one of [1] to [5] above by screen printing to form a polyamic acid film, and treating the formed polyamic acid film A polyimide film or a patterned polyimide film obtained through a step of forming a polyimide film.

[8] 基板上に上記[7]に記載されたポリイミド膜又はパターン状ポリイミド膜が形成されたフィルム基板。 [8] A film substrate in which the polyimide film or patterned polyimide film described in [7] is formed on a substrate.

[9] 上記[8]に記載されたフィルム基板を有する電子部品。 [9] An electronic component having the film substrate described in [8].

本発明の好ましい態様に係るスクリーン印刷用組成物は、例えば、スクリーン印刷性が良好であり、メッシュ目残り、にじみ等を引き起こすことなく均一な膜厚のポリイミド膜が得られる。また、本発明の好ましい態様に係るスクリーン印刷用組成物を用いると、機械的強度が強固で、クラックが発生することなく屈曲性の良好なポリイミド膜を形成できる。   The composition for screen printing according to a preferred embodiment of the present invention has, for example, good screen printability, and a polyimide film having a uniform thickness can be obtained without causing mesh residue or bleeding. Moreover, when the composition for screen printing which concerns on the preferable aspect of this invention is used, mechanical strength is strong and it can form a flexible polyimide film without generating a crack.

さらに、パターン状ポリイミド膜の形成のために、本発明の好ましい態様に係るスクリーン印刷用組成物を用いる場合、フォトマスクを使用する必要がないので多品種の生産や大量生産が可能であり、また、製造に要する工程数を少なくすることができる。また、本発明のスクリーン印刷用組成物から形成されたポリイミド膜は、例えば、耐熱性、電気絶縁性が高く、電子部品の信頼性、歩留まりを向上させることができる。   Furthermore, when the composition for screen printing according to a preferred embodiment of the present invention is used for the formation of a patterned polyimide film, it is not necessary to use a photomask, so that it is possible to produce a variety of products and mass production, The number of steps required for manufacturing can be reduced. Moreover, the polyimide film formed from the composition for screen printing of this invention has high heat resistance and electrical insulation, for example, and can improve the reliability and yield of an electronic component.

1 本発明のスクリーン印刷用組成物
本発明のスクリーン印刷用組成物は、ポリアミド酸(A)、エポキシ樹脂(B)、金属酸化物微粒子(C)および溶媒(D)を含むスクリーン印刷用組成物である。
スクリーン印刷用組成物は、例えば、ポリアミド酸(A)およびエポキシ樹脂(B)を溶媒(D)に溶解した後、金属酸化物微粒子(C)やその他の添加剤を常法により混合して得ることができる。具体的には、例えば、塗料分野で行われているロール練り、ミキサー混合などが適用され、混合装置としては、ライカイ機、三本ロール、ボールミル、プラネタリーミキサー等を用いることができる。これらの混合装置を適宜2種以上組み合わせて用いてもよい。
1. Screen printing composition of the present invention The screen printing composition of the present invention comprises a polyamic acid (A), an epoxy resin (B), metal oxide fine particles (C) and a solvent (D). It is.
The screen printing composition is obtained, for example, by dissolving the polyamic acid (A) and the epoxy resin (B) in the solvent (D) and then mixing the metal oxide fine particles (C) and other additives by a conventional method. be able to. Specifically, for example, roll kneading, mixer mixing, and the like performed in the paint field are applied, and as a mixing device, a reiki machine, a three-roll, a ball mill, a planetary mixer, or the like can be used. Two or more of these mixing apparatuses may be used in combination as appropriate.

1.1 スクリーン印刷用組成物の粘度
スクリーン印刷用組成物の粘度は特に限定されないが、回転型粘度計での粘度が25℃で500〜500,000mPa・s、チキソトロピー係数が2.0〜10.0であるのが好ましい。より好ましくは、粘度が25℃で1,000〜400,000mPa・s、チキソトロピー係数が3.0〜7.0であり、さらに好ましくは、粘度が25℃で5,000〜300,000mPa・s、チキソトロピー係数が3.0〜5.0である。
粘度が500mPa・s以上であると、印刷後のペーストの流れ出しもなく均一な塗膜が得られる。一方、粘度が500,000mPa・s以下であればペーストの基材への転写性が良好であり、印刷膜中のボイドやピンホールの発生を抑えることができる。また、チキソトロピー係数が2.0以上であると、ペーストの糸引きの発生もなく、印刷後のペーストの流れ出しもない。一方、チキソトロピー係数が10.0以下であると、印刷後の塗膜のかすれやムラが生じない。
ここで、スクリーン印刷用組成物の粘度は、E型粘度計(TOKYO KEIKI製 VISCONIC ELD)を用いて、25℃で計測されたものである。また、チキソトロピー係数は、レオメーター(Brookfield製R/Sプラスレオメーター)を用いて、回転数1rpm〜10rpmの25℃のみかけ粘度から算出されたものである。
1.1 Viscosity of Screen Printing Composition The viscosity of the screen printing composition is not particularly limited, but the viscosity on a rotary viscometer is 500 to 500,000 mPa · s at 25 ° C., and the thixotropic coefficient is 2.0 to 10. 0 is preferred. More preferably, the viscosity is 1,000 to 400,000 mPa · s at 25 ° C. and the thixotropic coefficient is 3.0 to 7.0, and still more preferably, the viscosity is 5,000 to 300,000 mPa · s at 25 ° C. and the thixotropic coefficient is 3. 0-5.0.
When the viscosity is 500 mPa · s or more, a uniform coating film can be obtained without the paste flowing out after printing. On the other hand, if the viscosity is 500,000 mPa · s or less, the transfer property of the paste to the substrate is good, and the occurrence of voids and pinholes in the printed film can be suppressed. Further, when the thixotropy coefficient is 2.0 or more, there is no occurrence of paste stringing and no paste flows out after printing. On the other hand, if the thixotropy coefficient is 10.0 or less, the coating film after printing will not be blurred or uneven.
Here, the viscosity of the composition for screen printing was measured at 25 ° C. using an E-type viscometer (VISCONIC ELD manufactured by TOKYO KEIKI). The thixotropy coefficient is calculated from the apparent viscosity at 25 ° C. at a rotation speed of 1 to 10 rpm using a rheometer (R / S plus rheometer manufactured by Brookfield).

1.2 ポリアミド酸(A)
ポリアミド酸(A)は、上記一般式(1)で表される構成単位を有するポリアミド酸である。以下、式(1)で表される構成単位について説明する。
1.2 Polyamic acid (A)
The polyamic acid (A) is a polyamic acid having a structural unit represented by the general formula (1). Hereinafter, the structural unit represented by Formula (1) will be described.

1.2.1 一般式(1)で表される構成単位
上記式(1)中のR1は、構成単位ごとにそれぞれ独立して4価の炭素数2〜100の有機基であり、R2は、構成単位ごとにそれぞれ独立して2価の炭素数2〜100の有機基である。4価及び2価共に「炭素数2〜100の有機基」は、好ましくは炭素数3〜70の有機基であり、より好ましくは炭素数4〜50の有機基である。
1.2.1 Structural Unit Represented by General Formula (1) In the above formula (1), R 1 is a tetravalent organic group having 2 to 100 carbon atoms independently for each structural unit. 2 is a divalent organic group having 2 to 100 carbon atoms independently for each structural unit. The “organic group having 2 to 100 carbon atoms” is preferably an organic group having 3 to 70 carbon atoms, and more preferably an organic group having 4 to 50 carbon atoms.

上記「有機基」としては、具体的には、置換基を有していてもよい炭素数2〜20の炭化水素、置換基を有していてもよい炭素数2〜20のアルコキシ、置換基を有していてもよい炭素数6〜20のアリールオキシ、置換基を有していてもよいアミノ、置換基を有していてもよいシリル、置換基を有していてもよいアルキルチオ(−SY1、式中、Y1は置換基を有していてもよい炭素数2〜20のアルキルを示す。)、置換基を有していてもよいアリールチオ(−SY2、式中、Y2は置換基を有していてもよい炭素数6〜18のアリールを示す。)、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル(−SO23、式中、Y3は置換基を有していてもよい炭素数2〜20のアルキルを示す。)、置換基を有していてもよいアリールスルホニル(−SO24、式中、Y4は置換基を有していてもよい炭素数6〜18のアリールを示す。)が挙げられる。 Specific examples of the “organic group” include hydrocarbons having 2 to 20 carbon atoms which may have a substituent, alkoxy having 2 to 20 carbon atoms which may have a substituent, and substituents. Aryloxy having 6 to 20 carbon atoms which may have, amino which may have a substituent, silyl which may have a substituent, alkylthio which may have a substituent (- SY 1 , wherein Y 1 represents an optionally substituted alkyl having 2 to 20 carbon atoms), and optionally substituted arylthio (—SY 2 , wherein Y 2 Represents an optionally substituted aryl having 6 to 18 carbon atoms), an optionally substituted alkylsulfonyl (—SO 2 Y 3 , wherein Y 3 has a substituent. An alkylsulfonyl having 2 to 20 carbon atoms which may be substituted.), An arylsulfonyl which may have a substituent (-SO 2 Y 4,: in the formula, Y 4 is. To an aryl having 6 to 18 carbon atoms which may have a substituent group).

「炭素数2〜20の炭化水素」の炭化水素は、飽和若しくは不飽和の非環式であってもよいし、飽和若しくは不飽和の環式であってもよい。炭素数2〜20の炭化水素が非環式の場合には、直鎖状でもよいし、分岐鎖状でもよい。「炭素数2〜20の炭化水素」には、炭素数2〜20のアルキル、炭素数2〜20のアルケニル、炭素数2〜20のアルキニル、炭素数4〜20のアルキルジエニル、炭素数6〜18のアリール、炭素数7〜20のアルキルアリール、炭素数7〜20のアリールアルキル、炭素数4〜20のシクロアルキル、及び炭素数4〜20のシクロアルケニルなどが含まれる。   The hydrocarbon of “C2-C20 hydrocarbon” may be saturated or unsaturated acyclic, or may be saturated or unsaturated cyclic. When the hydrocarbon having 2 to 20 carbon atoms is acyclic, it may be linear or branched. “C2-C20 hydrocarbon” includes C2-C20 alkyl, C2-C20 alkenyl, C2-C20 alkynyl, C4-C20 alkyldienyl, C6-C6. -18 aryl, C7-20 alkylaryl, C7-20 arylalkyl, C4-20 cycloalkyl, C4-20 cycloalkenyl and the like are included.

「炭素数2〜20のアルキル」は、炭素数2〜10のアルキルであることが好ましく、炭素数2〜6のアルキルであることが更に好ましい。アルキルの例としては、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、s−ブチル、t−ブチル、i−ブチル、ペンチル、ヘキシル、及びドデシル等を挙げることができる。   “C2-C20 alkyl” is preferably C2-C10 alkyl, and more preferably C2-C6 alkyl. Examples of alkyl include ethyl, propyl, isopropyl, butyl, s-butyl, t-butyl, i-butyl, pentyl, hexyl, dodecyl and the like.

「炭素数2〜20のアルケニル」は、炭素数2〜10のアルケニルであることが好ましく、炭素数2〜6のアルケニルであることが更に好ましい。アルケニルの例としては、ビニル、アリル、プロペニル、イソプロペニル、2−メチル−1−プロペニル、2−メチルアリル、及び2−ブテニル等を挙げることができる。   The “alkenyl having 2 to 20 carbon atoms” is preferably alkenyl having 2 to 10 carbon atoms, and more preferably alkenyl having 2 to 6 carbon atoms. Examples of alkenyl include vinyl, allyl, propenyl, isopropenyl, 2-methyl-1-propenyl, 2-methylallyl, 2-butenyl and the like.

「炭素数2〜20のアルキニル」は、炭素数2〜10のアルキニルであることが好ましく、炭素数2〜6のアルキニルであることが更に好ましい。アルキニルの例としては、エチニル、プロピニル、及びブチニル等を挙げることができる。   “Alkynyl having 2 to 20 carbon atoms” is preferably alkynyl having 2 to 10 carbon atoms, more preferably alkynyl having 2 to 6 carbon atoms. Examples of alkynyl include ethynyl, propynyl, butynyl and the like.

「炭素数4〜20のアルキルジエニル」は、炭素数4〜10のアルキルジエニルであることが好ましく、炭素数4〜6のアルキルジエニルであることが更に好ましい。アルキルジエニルの例としては、1,3−ブタジエニル等を挙げることができる。   The “C4-20 alkyldienyl” is preferably C4-10 alkyldienyl, and more preferably C4-6 alkyldienyl. Examples of alkyldienyl include 1,3-butadienyl.

「炭素数6〜18のアリール」は、炭素数6〜10のアリールであることが好ましい。アリールの例としては、フェニル、1−ナフチル、2−ナフチル、インデニル、ビフェニリル、アントリル、及びフェナントリル等を挙げることができる。   “C6-C18 aryl” is preferably C6-C10 aryl. Examples of aryl include phenyl, 1-naphthyl, 2-naphthyl, indenyl, biphenylyl, anthryl, phenanthryl and the like.

「炭素数7〜20のアルキルアリール」は、炭素数7〜12のアルキルアリールであることが好ましい。アルキルアリールの例としては、o−トリル、m−トリル、p−トリル、2,3−キシリル、2,4−キシリル、2,5−キシリル、o−クメニル、m−クメニル、p−クメニル、及びメシチル等を挙げることができる。   The “alkyl aryl having 7 to 20 carbon atoms” is preferably alkyl aryl having 7 to 12 carbon atoms. Examples of alkylaryl include o-tolyl, m-tolyl, p-tolyl, 2,3-xylyl, 2,4-xylyl, 2,5-xylyl, o-cumenyl, m-cumenyl, p-cumenyl, and Examples include mesityl.

「炭素数7〜20のアリールアルキル」は、炭素数7〜12のアリールアルキルであることが好ましい。アリールアルキルの例としては、ベンジル、フェネチル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、1−ナフチルメチル、2−ナフチルメチル、2,2−ジフェニルエチル、3−フェニルプロピル、4−フェニルブチル、及び5−フェニルペンチル等を挙げることができる。   The “arylalkyl having 7 to 20 carbon atoms” is preferably arylalkyl having 7 to 12 carbon atoms. Examples of arylalkyl include benzyl, phenethyl, diphenylmethyl, triphenylmethyl, 1-naphthylmethyl, 2-naphthylmethyl, 2,2-diphenylethyl, 3-phenylpropyl, 4-phenylbutyl, and 5-phenylpentyl. Etc.

「炭素数4〜20のシクロアルキル」は、炭素数4〜10のシクロアルキルであることが好ましい。シクロアルキルの例としては、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、及びシクロヘキシル等を挙げることができる。   The “cycloalkyl having 4 to 20 carbon atoms” is preferably cycloalkyl having 4 to 10 carbon atoms. Examples of cycloalkyl include cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, cyclohexyl and the like.

「炭素数4〜20のシクロアルケニル」は、炭素数4〜10のシクロアルケニルであることが好ましい。シクロアルケニルの例としては、シクロプロペニル、シクロブテニル、シクロペンテニル、及びシクロヘキセニル等を挙げることができる。   The “C4-20 cycloalkenyl” is preferably a C4-10 cycloalkenyl. Examples of cycloalkenyl include cyclopropenyl, cyclobutenyl, cyclopentenyl, cyclohexenyl and the like.

「炭素数2〜20のアルコキシ」は、炭素数2〜10のアルコキシであることが好ましく、炭素数2〜6のアルコキシであることが更に好ましい。アルコキシの例としては、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、及びペンチルオキシ等を挙げることができる。   “Alkoxy having 2 to 20 carbon atoms” is preferably alkoxy having 2 to 10 carbon atoms, and more preferably alkoxy having 2 to 6 carbon atoms. Examples of alkoxy include ethoxy, propoxy, butoxy, pentyloxy and the like.

「炭素数6〜20のアリールオキシ」は、炭素数6〜10のアリールオキシであることが好ましい。アリールオキシの例としては、フェニルオキシ、ナフチルオキシ、及びビフェニルオキシ等を挙げることができる。   “C6-C20 aryloxy” is preferably C6-C10 aryloxy. Examples of aryloxy include phenyloxy, naphthyloxy, biphenyloxy and the like.

「アルキルチオ(−SY1、式中、Y1は置換基を有してもよい炭素数2〜20のアルキルを示す。)」及び「アルキルスルホニル(−SO23、式中、Y3は置換基を有してもよい炭素数2〜20のアルキルを示す。)」において、Y1及びY3は、炭素数2〜10のアルキルであることが好ましく、炭素数2〜6のアルキルであることが更に好ましい。アルキルの例としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、n−ブチル、s−ブチル、t−ブチル、ペンチル、ヘキシル、及びドデカニル等を挙げることができる。 “Alkylthio (—SY 1 , wherein Y 1 represents an optionally substituted alkyl having 2 to 20 carbon atoms)” and “alkylsulfonyl (—SO 2 Y 3 , wherein Y 3 is In the formula (2), Y 1 and Y 3 are preferably alkyl having 2 to 10 carbons, and may be alkyl having 2 to 6 carbons. More preferably it is. Examples of alkyl include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, n-butyl, s-butyl, t-butyl, pentyl, hexyl, dodecanyl and the like.

「アリールチオ(−SY2、式中、Y2は置換基を有してもよい炭素数6〜18のアリールを示す。)」及び「アリールスルホニル(−SO24、式中、Y4は置換基を有してもよい炭素数6〜18のアリールを示す。)」において、Y2及びY4は、炭素数6〜10のアリールであることが好ましい。アリールの例としては、フェニル、1−ナフチル、2−ナフチル、インデニル、ビフェニリル、アントリル、フェナントリル等を挙げることができる。 “Arylthio (—SY 2 , wherein Y 2 represents aryl having 6 to 18 carbon atoms which may have a substituent)” and “Arylsulfonyl (—SO 2 Y 4 , wherein Y 4 is In the formula ( 2 ), Y 2 and Y 4 are preferably aryl having 6 to 10 carbon atoms. Examples of aryl include phenyl, 1-naphthyl, 2-naphthyl, indenyl, biphenylyl, anthryl, phenanthryl and the like.

「炭素数2〜20の炭化水素」、「炭素数2〜20のアルコキシ」、「炭素数6〜20のアリールオキシ」、「アミノ」、「シリル」、「アルキルチオ」、「アリールチオ」、「アルキルスルホニル」及び「アリールスルホニル」には、置換基が導入されていてもよい。この置換基としては、例えば、エステル、カルボキシル、アミド、アルキン、トリメチルシリル、アミノ、ホスホニル、チオ、カルボニル、ニトロ、スルホ、イミノ、ハロゲノ、及びアルコキシなどを挙げることができる。
この場合、置換基は、置換可能な位置に1個以上、置換可能な最大数まで導入されていてもよく、好ましくは1個〜4個導入されていてもよい。置換基数が2個以上である場合、各置換基は同一であっても異なっていてもよい。
“C2-C20 hydrocarbon”, “C2-C20 alkoxy”, “C6-C20 aryloxy”, “amino”, “silyl”, “alkylthio”, “arylthio”, “alkyl” Substituents may be introduced into “sulfonyl” and “arylsulfonyl”. Examples of this substituent include ester, carboxyl, amide, alkyne, trimethylsilyl, amino, phosphonyl, thio, carbonyl, nitro, sulfo, imino, halogeno, and alkoxy.
In this case, one or more substituents may be introduced at the substitutable position up to the maximum number that can be substituted, and preferably 1 to 4 substituents may be introduced. When the number of substituents is 2 or more, each substituent may be the same or different.

「置換基を有してもよいアミノ」の例としては、アミノ、ジメチルアミノ、メチルアミノ、メチルフェニルアミノ、及びフェニルアミノ等を挙げることができる。   Examples of “amino optionally having a substituent” include amino, dimethylamino, methylamino, methylphenylamino, phenylamino and the like.

「置換基を有していてもよいシリル」の例としては、ジメチルシリル、ジエチルシリル、トリメチルシリル、トリエチルシリル、トリメトキシシリル、トリエトキシシリル、ジフェニルメチルシリル、トリフェニルシリル、トリフェノキシシリル、ジメチルメトキシシリル、ジメチルフェノキシシリル、及びメチルメトキシフェニル等を挙げることができる。   Examples of “optionally substituted silyl” include dimethylsilyl, diethylsilyl, trimethylsilyl, triethylsilyl, trimethoxysilyl, triethoxysilyl, diphenylmethylsilyl, triphenylsilyl, triphenoxysilyl, dimethylmethoxy Examples thereof include silyl, dimethylphenoxysilyl, and methylmethoxyphenyl.

以上、基本的には有機基を1価の具体例で説明したが、2価の有機基の具体例については、上記説明した1価の有機基においてさらに価数を1つ増やした基をもって説明することができる。同様に、4価の有機基の具体例については、上記説明した1価の有機基においてさらに価数を3つ増やした基をもって説明することができる。なお、上述した式(1)で表される化学式中の有機基の説明は、他の式番号で表される化学式中の「有機基」の説明としても援用することができる。   As described above, the organic group is basically described with a monovalent specific example, but the specific example of the divalent organic group is described with a group in which the valence is further increased by one in the above-described monovalent organic group. can do. Similarly, specific examples of the tetravalent organic group can be described using a group obtained by further increasing the valence by three in the monovalent organic group described above. The description of the organic group in the chemical formula represented by the formula (1) described above can also be used as the description of the “organic group” in the chemical formula represented by another formula number.

ポリアミド酸(A)は、少なくとも、テトラカルボン酸二無水物(a1)と、ジアミン(a2)とを反応させて得ることができるが、当該製法で得られたポリアミド酸に限定されるものではない。以下に、ポリアミド酸(A)を得るために用いることができる、テトラカルボン酸二無水物(a1)とジアミン(a2)を説明する。   The polyamic acid (A) can be obtained by reacting at least the tetracarboxylic dianhydride (a1) and the diamine (a2), but is not limited to the polyamic acid obtained by the production method. . Below, tetracarboxylic dianhydride (a1) and diamine (a2) which can be used in order to obtain a polyamic acid (A) are demonstrated.

1.2.2 テトラカルボン酸二無水物(a1)
ポリアミド酸(A)の合成に用いられるテトラカルボン酸二無水物(a1)の具体例としては、例えば、2,2',3,3'−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,3,3',4'−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,2',3,3'−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、2,3,3',4'−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、2,2',3,3'−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、2,3,3',4'−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、エチレングリコールビス(アンヒドロトリメリテート)、エタンテトラカルボン酸二無水物、4−(2,5−ジオキソテトラヒドロフラン−3−イル)−1,2,3,4−テトラヒドロナフタレン−1,2−ジカルボン酸無水物、5−(2,5−ジオキソテトラヒドロフリル)−3−メチル−3−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸無水物、下記式(a1-1)〜(a1-73)で表される化合物等のテトラカルボン酸二無水物が挙げられる。
1.2.2 Tetracarboxylic dianhydride (a1)
Specific examples of the tetracarboxylic dianhydride (a1) used for the synthesis of the polyamic acid (A) include, for example, 2,2 ′, 3,3′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 2,3,3 ', 4'-Benzophenone tetracarboxylic dianhydride, 2,2', 3,3'-diphenylsulfone tetracarboxylic dianhydride, 2,3,3 ', 4'-diphenyl sulfone tetracarboxylic dianhydride 2,2 ′, 3,3′-diphenyl ether tetracarboxylic dianhydride, 2,3,3 ′, 4′-diphenyl ether tetracarboxylic dianhydride, ethylene glycol bis (anhydro trimellitate), ethane tetra Carboxylic dianhydride, 4- (2,5-dioxotetrahydrofuran-3-yl) -1,2,3,4-tetrahydronaphthalene-1,2-dicarboxylic anhydride, 5- (2,5-di Oxotetrahydrofuryl) -3-methyl And tetracarboxylic dianhydrides such as compounds represented by the following formulas (a1-1) to (a1-73): ru-3-cyclohexene-1,2-dicarboxylic anhydride.

Figure 2009102494
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テトラカルボン酸二無水物の上記具体例の中でも、式a1-1、a1-2、a1-5、a1-6、a1-7、a1-8、a1-9、a1-14、a1-15、a1-16、a1-17、a1-18及びa1-20で表される化合物が溶媒への溶解性が高く高濃度のスクリーン印刷用組成物を調製できるので好ましい。また、スクリーン印刷用組成物の用途によっては高い絶縁性が必要とされるが、このような場合には、式a1-14、a1-15、a1-16、a1-17、a1-18及びa1-20等で表される化合物を用いるのが特に好ましい。   Among the above specific examples of tetracarboxylic dianhydride, the formulas a1-1, a1-2, a1-5, a1-6, a1-7, a1-8, a1-9, a1-14, a1-15, The compounds represented by a1-16, a1-17, a1-18, and a1-20 are preferable because they have a high solubility in a solvent and can produce a high-concentration screen printing composition. Further, depending on the application of the screen printing composition, high insulation is required. In such a case, the formulas a1-14, a1-15, a1-16, a1-17, a1-18 and a1 It is particularly preferable to use a compound represented by −20 or the like.

また、上記テトラカルボン酸二無水物は一種単独でも、または二種以上組み合わせて使用してもよい。さらに、式a1-1、a1-2、a1-5、a1-6、a1-7、a1-8又はa1-9で示される芳香族テトラカルボン酸二無水物と式a1-14、a1-15、a1-16、a1-17、a1-18又はa1-20で示される脂環式テトラカルボン酸二無水物を併用すると、溶媒への高い溶解性とポリイミド膜の高い絶縁性を同時に実現できるために好ましい。これらのなかでも、式a1-1で示されるピロメリット酸二無水物と式a1-14で示される1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物の併用、或いは式a1-1で示されるピロメリット酸二無水物と式a1-18で示される1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸二無水物の併用が好ましく、式a1-1で示されるピロメリット酸二無水物と式a1-14で示される1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物の併用が特に好ましい。   Moreover, the said tetracarboxylic dianhydride may be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types. Further, an aromatic tetracarboxylic dianhydride represented by the formula a1-1, a1-2, a1-5, a1-6, a1-7, a1-8 or a1-9 and the formula a1-14, a1-15 , A1-16, a1-17, a1-18 or a1-20 together with the alicyclic tetracarboxylic dianhydride, it is possible to achieve high solubility in solvent and high insulation of polyimide film at the same time Is preferable. Among these, the combination of pyromellitic dianhydride represented by the formula a1-1 and 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride represented by the formula a1-14, or the formula a1-1 The combination of pyromellitic dianhydride shown and 1,2,3,4-butanetetracarboxylic dianhydride shown by formula a1-18 is preferred, and pyromellitic dianhydride shown by formula a1-1 The combined use of 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride represented by the formula a1-14 is particularly preferred.

なお、スクリーン印刷用組成物に含まれるポリアミド酸(A)を合成するために用いることができるテトラカルボン酸二無水物(a1)は、本明細書で例示したテトラカルボン酸二無水物に限定されることなく、本発明の目的が達成される範囲内で他にも種々の形態のテトラカルボン酸二無水物を用いることができる。
また、スクリーン印刷用組成物に含まれるポリアミド酸(A)を合成するために用いることができるテトラカルボン酸二無水物(a1)は、1種単独、または、2種以上を組み合わせて用いることができる。すなわち、2種以上の組み合わせとしては、上記テトラカルボン酸二無水物同士、上記テトラカルボン酸二無水物とそれ以外のテトラカルボン酸二無水物、または、上記テトラカルボン酸二無水物以外のテトラカルボン酸二無水物同士を用いることができる。
The tetracarboxylic dianhydride (a1) that can be used to synthesize the polyamic acid (A) contained in the screen printing composition is limited to the tetracarboxylic dianhydrides exemplified herein. Without departing from the above, various other forms of tetracarboxylic dianhydride can be used as long as the object of the present invention is achieved.
The tetracarboxylic dianhydride (a1) that can be used for synthesizing the polyamic acid (A) contained in the screen printing composition may be used alone or in combination of two or more. it can. That is, two or more kinds of combinations include the above tetracarboxylic dianhydrides, the above tetracarboxylic dianhydrides and other tetracarboxylic dianhydrides, or a tetracarboxylic acid other than the above tetracarboxylic dianhydrides. Acid dianhydrides can be used.

1.2.3 ジアミン(a2)
ポリアミド酸(A)の合成に用いられるジアミン(a2)は、アミノ基を2つ有していれば特に限定されるものではないが、例えば下記一般式(II)〜(VIII)で表される化合物が挙げられる。
1.2.3 Diamine (a2)
The diamine (a2) used for the synthesis of the polyamic acid (A) is not particularly limited as long as it has two amino groups. For example, it is represented by the following general formulas (II) to (VIII). Compounds.

Figure 2009102494
式(II)中、A1は、−(CH2)m−であり、ここでmは1〜6の整数であり、
式(III)〜(VIII)中、A1は、それぞれ独立して、単結合、−O−、−S−、−S−S−、−SO2−、−CO−、−CONH−、−NHCO−、−C(CH3)2−、−C(CF3)2−、−(CH2)m−、−O−(CH2)m−O−、又は−S−(CH2)m−S−であり、ここでmは1〜6の整数であり、A2は、それぞれ独立して、単結合、−O−、−S−、−CO−、−C(CH3)2−、−C(CF3)2−、又は炭素数1〜3のアルキレンであり、シクロヘキサン環またはベンゼン環に結合している水素は、−F、又は−CH3に置き換えられていてもよい。
Figure 2009102494
In the formula (II), A 1 is — (CH 2 ) m —, where m is an integer of 1 to 6,
In formulas (III) to (VIII), A 1 each independently represents a single bond, —O—, —S—, —S—S—, —SO 2 —, —CO—, —CONH—, — NHCO -, - C (CH 3 ) 2 -, - C (CF 3) 2 -, - (CH 2) m -, - O- (CH 2) m -O-, or -S- (CH 2) m is -S-, where m is an integer from 1 to 6, a 2 are each independently a single bond, -O -, - S -, - CO -, - C (CH 3) 2 - , —C (CF 3 ) 2 —, or alkylene having 1 to 3 carbon atoms, and hydrogen bonded to the cyclohexane ring or the benzene ring may be replaced with —F or —CH 3 .

一般式(II)で表されるジアミンとしては、例えば式(II-1)〜(II-3)で表されるジアミンが挙げられる。   Examples of the diamine represented by the general formula (II) include diamines represented by the formulas (II-1) to (II-3).

Figure 2009102494
Figure 2009102494

一般式(III)で表されるジアミンとしては、例えば式(III-1)又は(III-2)で表されるジアミンが挙げられる。   Examples of the diamine represented by the general formula (III) include diamines represented by the formula (III-1) or (III-2).

Figure 2009102494
Figure 2009102494

一般式(IV)で表されるジアミンとしては、例えば式(IV-1)〜(IV-3)で表されるジアミンが挙げられる。   Examples of the diamine represented by the general formula (IV) include diamines represented by the formulas (IV-1) to (IV-3).

Figure 2009102494
Figure 2009102494

一般式(V)で表されるジアミンとしては、例えば式(V-1)〜(V-5)で表されるジアミンが挙げられる。   Examples of the diamine represented by the general formula (V) include diamines represented by the formulas (V-1) to (V-5).

Figure 2009102494
Figure 2009102494

一般式(VI)で表されるジアミンとしては、例えば式(VI-1)〜(VI-30)で表されるジアミンが挙げられる。   Examples of the diamine represented by the general formula (VI) include diamines represented by the formulas (VI-1) to (VI-30).

Figure 2009102494
Figure 2009102494

Figure 2009102494
Figure 2009102494

Figure 2009102494
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Figure 2009102494
Figure 2009102494

一般式(VII)で表されるジアミンとしては、例えば式(VII-1)〜(VII-6)で表されるジアミンが挙げられる。   Examples of the diamine represented by the general formula (VII) include diamines represented by the formulas (VII-1) to (VII-6).

Figure 2009102494
Figure 2009102494

一般式(VIII)で表されるジアミンとしては、例えば式(VIII-1)〜(VIII-11)で表されるジアミンが挙げられる。   Examples of the diamine represented by the general formula (VIII) include diamines represented by the formulas (VIII-1) to (VIII-11).

Figure 2009102494
Figure 2009102494

一般式(II)〜(VIII)で表されるジアミン(a2)の上記具体例の中でも、より好ましくは、式(V-1)〜(V-5)、式(VI-1)〜(VI-15)、式(VI-26)、式(VI-27)、式(VII-1)〜(VII-6)、式(VIII-1)〜(VIII-11)で表される芳香族ジアミンが挙げられる。さらに好ましくは、式(V-1)、式(VI-1)、式(VI-7)、式(VI-10)、又は式(VI-13)で表されるジアミンが挙げられる。   Among the specific examples of the diamine (a2) represented by the general formulas (II) to (VIII), more preferably, the formulas (V-1) to (V-5) and the formulas (VI-1) to (VI) -15), Formula (VI-26), Formula (VI-27), Formulas (VII-1) to (VII-6), and Formulas (VIII-1) to (VIII-11) Is mentioned. More preferable examples include diamines represented by formula (V-1), formula (VI-1), formula (VI-7), formula (VI-10), or formula (VI-13).

ポリアミド酸(A)の合成に用いられるジアミン(a2)としては、さらに一般式(IX)で表されるジアミンが挙げられる。   Examples of the diamine (a2) used for the synthesis of the polyamic acid (A) further include a diamine represented by the general formula (IX).

Figure 2009102494
式(IX)中、
3は、単結合、−O−、−COO−、−OCO−、−CO−、−CONH−または−(CH2)m−であり、ここで、mは1〜6の整数であり、
6は、ステロイド骨格を有する基、シクロヘキサン環とベンゼン環とからなる群から選ばれる1以上を有する基、または、ベンゼン環に結合している2つのアミノ基の位置関係がパラ位のときは炭素数2〜30のアルキル、もしくは該位置関係がメタのときは炭素数1〜10のアルキルまたはフェニルであり、
該アルキルにおいては、任意の−CH2−が−CF2−、−CHF−、−O−、−CH=CH−または−C≡C−で置き換えられていてもよく、−CH3が−CH2F、−CHF2または−CF3で置き換えられていてもよく、
該フェニルの環形成炭素に結合している水素は、−F、−CH3、−OCH3、−OCH2F、−OCHF2または−OCF3と置き換えられていてもよい。
Figure 2009102494
In formula (IX),
A 3 is a single bond, —O—, —COO—, —OCO—, —CO—, —CONH— or — (CH 2 ) m —, wherein m is an integer of 1 to 6,
R 6 is a group having a steroid skeleton, a group having one or more selected from the group consisting of a cyclohexane ring and a benzene ring, or when the positional relationship between two amino groups bonded to the benzene ring is para-position An alkyl having 2 to 30 carbon atoms, or an alkyl having 1 to 10 carbon atoms or phenyl when the positional relationship is meta;
In the alkyl, any —CH 2 — may be replaced by —CF 2 —, —CHF—, —O—, —CH═CH— or —C≡C—, and —CH 3 may be —CH 2 F, -CHF 2 or -CF 3 may be substituted,
Hydrogen bonded to the phenyl ring carbon is, -F, -CH 3, -OCH 3 , -OCH 2 F, may be replaced with -OCHF 2 or -OCF 3.

一般式(IX)において、2つのアミノ基はフェニル環炭素に結合しているが、好ましくは、2つのアミノ基の結合位置関係は、メタ位またはパラ位であることが好ましい。さらに2つのアミノ基はそれぞれ、「R6−A3−」の結合位置を1位としたときに3位と5位、または2位と5位に結合していることが好ましい。
一般式(IX)で表されるジアミンとしては、例えば下記一般式(IX-1)〜(IX-11)で表されるジアミンが挙げられる。
In the general formula (IX), the two amino groups are bonded to the phenyl ring carbon. Preferably, the bonding position relationship between the two amino groups is preferably the meta position or the para position. Each two additional amino group, "R 6 -A 3 -" 3-position when the 1-position of the bond position of the 5-position, or 2 position and is preferably bonded to the 5-position.
Examples of the diamine represented by the general formula (IX) include diamines represented by the following general formulas (IX-1) to (IX-11).

Figure 2009102494
Figure 2009102494

Figure 2009102494
Figure 2009102494

上記一般式(IX-1)、(IX-2)、(IX-7)および(IX-8)中、R18は炭素数2〜30の有機基であるが、これらの中でも炭素数3〜12のアルキルまたは炭素数3〜12のアルコキシが好ましく、炭素数5〜12のアルキルまたは炭素数5〜12のアルコキシがさらに好ましい。また、上記一般式(IX-3)〜(IX-6)および一般式(IX-9)〜(IX-11)中、R19は−Hまたは炭素数1〜30の有機基であるが、これらの中でも炭素数1〜10のアルキルまたは炭素数1〜10のアルコキシが好ましく、炭素数3〜10のアルキルまたは炭素数3〜10のアルコキシがさらに好ましい。 In the general formulas (IX-1), (IX-2), (IX-7) and (IX-8), R 18 is an organic group having 2 to 30 carbon atoms. 12 alkyl or C3-C12 alkoxy is preferable, and C5-C12 alkyl or C5-C12 alkoxy is more preferable. In the general formulas (IX-3) to (IX-6) and the general formulas (IX-9) to (IX-11), R 19 is —H or an organic group having 1 to 30 carbon atoms. Among these, alkyl having 1 to 10 carbons or alkoxy having 1 to 10 carbons is preferable, and alkyl having 3 to 10 carbons or alkoxy having 3 to 10 carbons is more preferable.

一般式(IX)で表されるジアミンとしては、さらに、例えば下記一般式(IX-12)〜(IX-17)で表されるジアミンが挙げられる。   Examples of the diamine represented by the general formula (IX) further include diamines represented by the following general formulas (IX-12) to (IX-17).

Figure 2009102494
Figure 2009102494

上記一般式(IX-12)〜(IX-15)においてR20は−Hまたは炭素数1〜30の有機基であり、炭素数4〜16のアルキルが好ましく、炭素数6〜16のアルキルがさらに好ましい。上記一般式(IX-16)と式(IX-17)においてR21は−Hまたは炭素数1〜30の有機基であり、炭素数6〜20のアルキルが好ましく、炭素数8〜20のアルキルがさらに好ましい。 In the general formulas (IX-12) to (IX-15), R 20 is —H or an organic group having 1 to 30 carbon atoms, preferably an alkyl group having 4 to 16 carbon atoms, and an alkyl group having 6 to 16 carbon atoms. Further preferred. In the general formulas (IX-16) and (IX-17), R 21 represents —H or an organic group having 1 to 30 carbon atoms, preferably an alkyl group having 6 to 20 carbon atoms, and an alkyl group having 8 to 20 carbon atoms. Is more preferable.

一般式(IX)で表されるジアミンとしては、さらに、例えば下記一般式(IX-18)〜(IX-38)で表されるジアミンが挙げられる。   Examples of the diamine represented by the general formula (IX) further include diamines represented by the following general formulas (IX-18) to (IX-38).

Figure 2009102494
Figure 2009102494

Figure 2009102494
Figure 2009102494

Figure 2009102494
Figure 2009102494

上記一般式(IX-18)、(IX-19)、(IX-22)、(IX-24)、(IX-25)、(IX-28)、(IX-30)、(IX-31)、(IX-36)および(IX-37)においてR22は−Hまたは炭素数1〜30の有機基であり、炭素数1〜12のアルキル、炭素数1〜12のアルコキシが好ましく、炭素数3〜12のアルキルまたは炭素数3〜12のアルコキシがさらに好ましい。また、上記一般式(IX-20)、(IX-21)、(IX-23)、(IX-26)、(IX-27)、(IX-29)、(IX-32)〜(IX-35)および(IX-38)において、R23は−H、−F、炭素数1〜12のアルキル、炭素数1〜12のアルコキシ、−CN、−OCH2F、−OCHF2または−OCF3であり、炭素数3〜12のアルキルまたは炭素数3〜12のアルコキシがさらに好ましい。上記一般式(IX-33)と(IX-34)において、A9は炭素数1〜12のアルキレンである。 General formula (IX-18), (IX-19), (IX-22), (IX-24), (IX-25), (IX-28), (IX-30), (IX-31) , (IX-36) and (IX-37), R 22 is —H or an organic group having 1 to 30 carbon atoms, preferably alkyl having 1 to 12 carbons or alkoxy having 1 to 12 carbons, More preferred is alkyl having 3 to 12 or alkoxy having 3 to 12 carbon atoms. In addition, the above general formulas (IX-20), (IX-21), (IX-23), (IX-26), (IX-27), (IX-29), (IX-32) to (IX-32) 35) and (IX-38), R 23 represents —H, —F, alkyl having 1 to 12 carbons, alkoxy having 1 to 12 carbons, —CN, —OCH 2 F, —OCHF 2 or —OCF 3. More preferably, alkyl having 3 to 12 carbons or alkoxy having 3 to 12 carbons is used. In the above general formulas (IX-33) and (IX-34), A 9 is alkylene having 1 to 12 carbons.

一般式(IX)で表されるジアミンとしては、さらに、例えば下記式(IX-39)〜(IX-48)で表されるジアミンが挙げられる。   Examples of the diamine represented by the general formula (IX) further include diamines represented by the following formulas (IX-39) to (IX-48).

Figure 2009102494
Figure 2009102494

Figure 2009102494
Figure 2009102494

一般式(IX)で表されるジアミン(a2)のうち、一般式(IX-1)〜式(IX-11)で表されるジアミンが好ましく、一般式(IX-2)、式(IX-4)、式(IX-5)、及び式(IX-6)で表されるジアミンがさらに好ましい。   Of the diamines (a2) represented by the general formula (IX), diamines represented by the general formulas (IX-1) to (IX-11) are preferable, and the general formulas (IX-2) and (IX- More preferred are diamines represented by 4), formula (IX-5) and formula (IX-6).

ポリアミド酸(A)の合成に用いられるジアミン(a2)は、さらに下記一般式(XI)〜(XII)で表される化合物が挙げられる。   Examples of the diamine (a2) used in the synthesis of the polyamic acid (A) further include compounds represented by the following general formulas (XI) to (XII).

Figure 2009102494
式(XI)と(XII)中、R10は−Hまたは−CH3であり、R11はそれぞれ独立して、−Hまたは炭素数1〜20のアルキルもしくは炭素数2〜20アルケニルであり、A6はそれぞれ独立して、単結合、−C(=O)−または−CH2−であり、R13およびR14はそれぞれ独立して、−H、炭素数1〜20のアルキルまたはフェニルである。
Figure 2009102494
In formulas (XI) and (XII), R 10 is —H or —CH 3 , R 11 is independently —H, alkyl having 1 to 20 carbons or alkenyl having 2 to 20 carbons, A 6 is each independently a single bond, —C (═O) — or —CH 2 —, and R 13 and R 14 are each independently —H, alkyl having 1 to 20 carbons or phenyl. is there.

一般式(XI)において、2つの「NH2−Ph−A6−O−」の一方はステロイド核の3位に結合し、もう一方は6位に結合していることが好ましい。また、2つのアミノ基はそれぞれ、フェニル環炭素に結合しており、A6の結合位置に対して、メタ位またはパラ位に結合していることが好ましい。
一般式(XI)で表されるジアミンとしては、例えば式(XI-1)〜(XI-4)で表されるジアミンが挙げられる。
In general formula (XI), it is preferable that one of the two “NH 2 —Ph—A 6 —O—” is bonded to the 3-position of the steroid nucleus and the other is bonded to the 6-position. The two amino groups are each bonded to the phenyl ring carbon, and preferably bonded to the meta position or the para position with respect to the bonding position of A 6 .
Examples of the diamine represented by the general formula (XI) include diamines represented by the formulas (XI-1) to (XI-4).

Figure 2009102494
Figure 2009102494

一般式(XII)において、2つの「NH2−(R14−)Ph−A6−O−」は、それぞれフェニル環炭素に結合しているが、好ましくはステロイド核が結合している炭素に対してメタ位またはパラ位の炭素に結合している。また、2つのアミノ基はそれぞれフェニル環炭素に結合しているが、A6に対してメタ位またはパラ位に結合していることが好ましい。
一般式(XII)で表されるジアミンとしては、例えば式(XII-1)〜(XII-8)で表されるジアミンが挙げられる。
In the general formula (XII), two “NH 2 — (R 14 —) Ph—A 6 —O—” are each bonded to the phenyl ring carbon, but preferably to the carbon to which the steroid nucleus is bonded. On the other hand, it is bonded to carbon in the meta or para position. The two amino groups are each bonded to the phenyl ring carbon, but are preferably bonded to the meta position or the para position with respect to A 6 .
Examples of the diamine represented by the general formula (XII) include diamines represented by the formulas (XII-1) to (XII-8).

Figure 2009102494
Figure 2009102494

Figure 2009102494
Figure 2009102494

ポリアミド酸(A)の合成に用いられるジアミン(a2)は、さらに一般式(XIII)又は(XIV)で表される化合物が挙げられる。   Examples of the diamine (a2) used in the synthesis of the polyamic acid (A) further include compounds represented by the general formula (XIII) or (XIV).

Figure 2009102494
式(XIII)中、R15は−Hまたは炭素数1〜20のアルキルであり、該アルキルのうち炭素数2〜20のアルキルの任意の−CH2−は、−O−、−CH=CH−または−C≡C−で置き換えられてもよく、A7はそれぞれ独立して−O−または炭素数1〜6のアルキレンであり、A8は単結合または炭素数1〜3のアルキレンであり、環Tは1,4−フェニレンまたは1,4−シクロヘキシレンであり、hは0または1である。
Figure 2009102494
In the formula (XIII), R 15 is —H or alkyl having 1 to 20 carbons, and any —CH 2 — of the alkyl having 2 to 20 carbons among the alkyls is —O—, —CH═CH -Or -C≡C- may be substituted, each A 7 is independently -O- or alkylene having 1 to 6 carbon atoms, and A 8 is a single bond or alkylene having 1 to 3 carbon atoms. , Ring T is 1,4-phenylene or 1,4-cyclohexylene, and h is 0 or 1.

Figure 2009102494
式(XIV)中、R16は炭素数2〜30のアルキルであり、これらの中でも炭素6〜20のアルキルが好ましい。R17は−Hまたは炭素数1〜30のアルキルであり、これらの中でも炭素1〜10のアルキルが好ましい。A7はそれぞれ独立して−O−または炭素数1〜6のアルキレンである。
Figure 2009102494
In the formula (XIV), R 16 is alkyl having 2 to 30 carbons, and among these, alkyl having 6 to 20 carbons is preferable. R 17 is —H or alkyl having 1 to 30 carbons, and among these, alkyl having 1 to 10 carbons is preferable. A 7 is independently —O— or alkylene having 1 to 6 carbon atoms.

一般式(XIII)において、2つのアミノ基はそれぞれフェニル環炭素に結合しているが、A7に対してメタ位またはパラに結合していることが好ましい。
一般式(XIII)で表されるジアミンとしては、例えば下記一般式(XIII-1)〜(XIII-9)で表されるジアミンが挙げられる。
In the general formula (XIII), the two amino groups are each bonded to the phenyl ring carbon, but are preferably bonded to the meta position or para to A 7 .
Examples of the diamine represented by the general formula (XIII) include diamines represented by the following general formulas (XIII-1) to (XIII-9).

Figure 2009102494
Figure 2009102494

Figure 2009102494
一般式(XIII-1)〜(XIII-3)において、R24は−H、炭素数1〜20のアルキルが好ましく、一般式(XIII-4)〜(XIII-9)においてR25は−H、炭素数1〜10のアルキルがさらに好ましい。
Figure 2009102494
In the general formulas (XIII-1) to (XIII-3), R 24 is preferably —H and alkyl having 1 to 20 carbon atoms. In the general formulas (XIII-4) to (XIII-9), R 25 is —H. Further, alkyl having 1 to 10 carbon atoms is more preferable.

一般式(XIV)において、2つのアミノ基はそれぞれフェニル環炭素に結合しているが、A7に対してメタ位またはパラ位に結合していることが好ましい。
一般式(XIV)で表されるジアミンとしては、例えば下記一般式(XIV-1)〜(XIV-3)で表されるジアミンが挙げられる。
In the general formula (XIV), the two amino groups are each bonded to the phenyl ring carbon, but are preferably bonded to the meta position or the para position with respect to A 7 .
Examples of the diamine represented by the general formula (XIV) include diamines represented by the following general formulas (XIV-1) to (XIV-3).

Figure 2009102494
Figure 2009102494

一般式(XIV-1)〜(XIV-3)中、R26は炭素数2〜30のアルキルであり、これらの中でも炭素数6〜20のアルキルが好ましく、R27は−Hまたは炭素数1〜30のアルキルであり、これらの中でも−Hまたは炭素数1〜10のアルキルが好ましい。 In the general formulas (XIV-1) to (XIV-3), R 26 is alkyl having 2 to 30 carbons, and among these, alkyl having 6 to 20 carbons is preferable, and R 27 is —H or 1 carbon. -30 alkyl. Among these, -H or alkyl having 1 to 10 carbon atoms is preferable.

上述のとおり、ポリアミド酸(A)の合成に用いられるジアミン(a2)は、例えば、一般式(II)〜(XIV)で表されるジアミンを用いることができるが、これらのジアミン以外のジアミンも用いることができる。例えば、ナフタレン構造を有するナフタレン系ジアミン、フルオレン構造を有するフルオレン系ジアミン、またはシロキサン結合を有するシロキサン系ジアミンなどを単独または他のジアミンと混合して用いることができる。   As described above, as the diamine (a2) used for the synthesis of the polyamic acid (A), for example, diamines represented by the general formulas (II) to (XIV) can be used. Can be used. For example, a naphthalene diamine having a naphthalene structure, a fluorene diamine having a fluorene structure, a siloxane diamine having a siloxane bond, or the like can be used alone or mixed with another diamine.

シロキサン系ジアミンは、特に限定されないが、下記一般式(10)で表されるものが好ましく使用され得る。   The siloxane-based diamine is not particularly limited, but those represented by the following general formula (10) can be preferably used.

Figure 2009102494
式(10)中、R3およびR4は、それぞれ独立して、炭素数1〜3のアルキルまたはフェニルであり、R5は、それぞれ独立して、メチレン、フェニレンまたはアルキル置換されたフェニレンであり、xはそれぞれ独立して1〜6の整数であり、yは1〜70の整数である。ここで、より好ましいyは1〜15の整数である。
Figure 2009102494
In Formula (10), R 3 and R 4 are each independently alkyl or phenyl having 1 to 3 carbon atoms, and R 5 is each independently methylene, phenylene or alkyl-substituted phenylene. , X are each independently an integer of 1-6, and y is an integer of 1-70. Here, more preferable y is an integer of 1-15.

さらに、好ましくは、ポリアミド酸(A)の合成に用いられるジアミン(a2)として、下記一般式(11)〜(18)で表されるジアミンが使用され得る。   Furthermore, Preferably, the diamine represented by the following general formula (11)-(18) may be used as diamine (a2) used for the synthesis | combination of polyamic acid (A).

Figure 2009102494
式(11)〜(18)中、R30およびR31は、それぞれ独立して、炭素数3〜20のアルキルである。
Figure 2009102494
In formulas (11) to (18), R 30 and R 31 are each independently alkyl having 3 to 20 carbon atoms.

なお、スクリーン印刷用組成物に含まれるポリアミド酸(A)を合成するために用いることができるジアミン(a2)は、本明細書で例示したジアミンに限定されることなく、本発明の目的が達成される範囲内で他にも種々の形態のジアミンを用いることができる。
また、スクリーン印刷用組成物に含まれるポリアミド酸(A)を合成するために用いることができるジアミン(a2)は、1種単独、または、2種以上を組み合わせて用いることができる。すなわち、2種以上の組み合わせとしては、上記ジアミン同士、上記ジアミンとそれ以外のジアミン、または、上記ジアミン以外のジアミン同士を用いることができる。
The diamine (a2) that can be used to synthesize the polyamic acid (A) contained in the screen printing composition is not limited to the diamines exemplified in the present specification, and the object of the present invention is achieved. Various other forms of diamine can be used within the range.
The diamine (a2) that can be used for synthesizing the polyamic acid (A) contained in the screen printing composition can be used alone or in combination of two or more. That is, as a combination of two or more kinds, the above diamines, the above diamine and other diamines, or diamines other than the above diamines can be used.

また、スクリーン印刷用組成物から得られるポリイミド膜の機械的強度を強固なものとするためには、ベンゼン環のパラ位に2つのアミノ基が結合した芳香族ジアミン、あるいは2つのアニリンの4位が2価の有機基で連結された構造の芳香族ジアミンが特に好ましい。
ベンゼン環のパラ位に2つのアミノ基が結合した芳香族ジアミンの具体例としては、式(V-1)、式(V-3)〜(V-5)で表される芳香族ジアミンが挙げられる。
2つのアニリンの4位が2価の有機基で連結された構造の芳香族ジアミンの具体例としては、式(VI-1)、式(VI-7)、式(VI-10)〜(VI-13)、式(VI-27)、式(VII-1)〜(VII-6)、式(VIII-1)〜(VIII-11)、式(XI-1)、式(XI-2)、式(XII-1)、式(XII-2)、式(XII-5)、式(XII-7)、式(XII-8)、一般式(XIII-1)〜(XIII-9)、及び一般式(XIV-1)〜(XIIV-3)で表される芳香族ジアミンが挙げられる。
特に好ましくは、式(V-1)、式(V-3)〜(V-5)、式(VI-1)、式(VI-7)、式(VI-10)〜(VI-13)、及び式(VI-27)で表される芳香族ジアミンが挙げられる。
1.5 ポリアミド酸を構成するその他の構成単位
ポリアミド酸(A)は、上記一般式(1)で表される構成単位とは異なる他の構成単位を有していてもよく、例えば下記一般式(19)または一般式(20)で表される分子末端基の群から選ばれる1以上の分子末端基を有するポリアミド酸などが挙げられる。

Figure 2009102494
(式中、R7とR8はそれぞれ独立して、炭素数2〜100の有機基である。) In order to strengthen the mechanical strength of the polyimide film obtained from the screen printing composition, an aromatic diamine in which two amino groups are bonded to the para-position of the benzene ring, or the 4-position of two anilines. An aromatic diamine having a structure in which is linked with a divalent organic group is particularly preferred.
Specific examples of aromatic diamines in which two amino groups are bonded to the para-position of the benzene ring include aromatic diamines represented by formulas (V-1) and (V-3) to (V-5). It is done.
Specific examples of the aromatic diamine having a structure in which the 4-position of two anilines are linked by a divalent organic group include formula (VI-1), formula (VI-7), formula (VI-10) to (VI -13), formula (VI-27), formula (VII-1) to (VII-6), formula (VIII-1) to (VIII-11), formula (XI-1), formula (XI-2) Formula (XII-1), Formula (XII-2), Formula (XII-5), Formula (XII-7), Formula (XII-8), General Formula (XIII-1) to (XIII-9), And aromatic diamines represented by the general formulas (XIV-1) to (XIIV-3).
Particularly preferably, Formula (V-1), Formula (V-3) to (V-5), Formula (VI-1), Formula (VI-7), Formula (VI-10) to (VI-13) And aromatic diamines represented by the formula (VI-27).
1.5 Other Structural Units Containing Polyamic Acid The polyamic acid (A) may have another structural unit different from the structural unit represented by the general formula (1), for example, the following general formula And polyamic acid having one or more molecular end groups selected from the group of molecular end groups represented by formula (20) or general formula (20).
Figure 2009102494
(In the formula, R 7 and R 8 are each independently an organic group having 2 to 100 carbon atoms.)

1.2.4 ポリアミド酸(A)を合成するための反応条件
<モノマー比>
ポリアミド酸(A)は、たとえば、テトラカルボン酸二無水物(a1)と、ジアミン(a2)とを反応させて合成できる。
テトラカルボン酸二無水物(a1)1モルに対して、ジアミン(a2)0.9〜1.1モル用いることが好ましく、テトラカルボン酸二無水物(a1)1モルに対して、ジアミン(a2)0.95〜1.05モル用いることがさらに好ましい。テトラカルボン酸二無水物(a1)1モルに対して、ジアミン(a2)1モル(等モル)用いることが特に好ましい。
1.2.4 Reaction conditions for synthesizing polyamic acid (A) <monomer ratio>
Polyamic acid (A) can be synthesized, for example, by reacting tetracarboxylic dianhydride (a1) with diamine (a2).
It is preferable to use 0.9-1.1 mol of diamine (a2) with respect to 1 mol of tetracarboxylic dianhydride (a1), and diamine (a2) with respect to 1 mol of tetracarboxylic dianhydride (a1). It is more preferable to use 0.95 to 1.05 mol. It is particularly preferable to use 1 mole (equal mole) of diamine (a2) to 1 mole of tetracarboxylic dianhydride (a1).

<反応溶媒>
テトラカルボン酸二無水物(a1)と、ジアミン(a2)とを反応させてポリアミド酸(A)を合成する場合に用いられる溶媒としては、当該ポリアミド酸(A)が合成できれば特に限定されるものではないが、例えば、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、3−メトキシプロピオン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、シクロヘキサノン、γ−ブチロラクトン、N−メチル−2−ピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミドおよびN,N−ジメチルアセトアミド、などを挙げることができる。
これらの中でもγ−ブチロラクトン、N−メチル−2−ピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミドおよびN,N−ジメチルアセトアミドは、ポリアミド酸(A)の溶解性が高いので好ましい。
これらの反応溶媒は単独でも、2種以上の混合溶媒としても使用できる。また、上記反応溶媒以外に他の溶媒を混合して用いることもできる。
<Reaction solvent>
The solvent used when synthesizing the polyamic acid (A) by reacting the tetracarboxylic dianhydride (a1) with the diamine (a2) is particularly limited as long as the polyamic acid (A) can be synthesized. Although not, for example, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate , Cyclohexanone, γ-butyrolactone, N-methyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylformamide and N, N-dimethylacetamide, etc. .
Among these, γ-butyrolactone, N-methyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylformamide and N, N-dimethylacetamide are preferable because the solubility of the polyamic acid (A) is high.
These reaction solvents can be used alone or as a mixed solvent of two or more. In addition to the reaction solvent, other solvents can be mixed and used.

反応溶媒は、テトラカルボン酸二無水物(a1)とジアミン(a2)との合計100重量部に対し100重量部以上使用すると、反応がスムーズに進行するので好ましい。反応は0℃〜100℃で、0.2〜20時間反応させるのが好ましい。   The reaction solvent is preferably used in an amount of 100 parts by weight or more with respect to a total of 100 parts by weight of the tetracarboxylic dianhydride (a1) and the diamine (a2) because the reaction proceeds smoothly. The reaction is preferably performed at 0 to 100 ° C. for 0.2 to 20 hours.

<反応系への添加順序>
また、反応原料の反応系への添加順序に特に限定されない。すなわち、テトラカルボン酸二無水物(a1)とジアミン(a2)とを同時に反応溶媒に加える、ジアミン(a2)を反応溶媒中に溶解させた後にテトラカルボン酸二無水物(a1)を添加する、テトラカルボン酸二無水物(a1)を反応溶媒中に溶解させた後にジアミン(a2)を添加する、などいずれの方法も用いることができる。
<Order of addition to reaction system>
Moreover, it does not specifically limit to the addition order to the reaction system of a reaction raw material. That is, tetracarboxylic dianhydride (a1) and diamine (a2) are simultaneously added to the reaction solvent, and after dissolving diamine (a2) in the reaction solvent, tetracarboxylic dianhydride (a1) is added. Any method can be used, such as adding diamine (a2) after dissolving tetracarboxylic dianhydride (a1) in the reaction solvent.

1.2.5 ポリアミド酸(A)の濃度
スクリーン印刷用組成物中のポリアミド酸(A)の濃度は、5〜60重量%が好ましく、10〜40重量%がさらに好ましい。この濃度範囲であると、スクリーン印刷用組成物から形成された塗膜の機械的強度が強固であり、耐熱性、耐薬品性、及び平坦性が良好である。
1.2.5 Concentration of Polyamic Acid (A) The concentration of the polyamic acid (A) in the screen printing composition is preferably 5 to 60% by weight, and more preferably 10 to 40% by weight. Within this concentration range, the mechanical strength of the coating film formed from the screen printing composition is strong, and the heat resistance, chemical resistance and flatness are good.

1.2.6 ポリアミド酸(A)の重量平均分子量
重量平均分子量が80,000〜500,000であるポリアミド酸(A)からは、特にメッシュ目残りや、にじみ等を引き起こすことなく均一な膜厚のポリイミド膜が得られ、得られるポリイミド膜の機械的強度が強固で、クラックが発生することなく屈曲性が良好であり、スクリーン印刷用組成物として好ましい。
80,000以上の重量平均分子量を有するポリアミド酸(A)は、得られるポリイミド膜の機械的強度が強固で、クラックが発生することなく屈曲性が良好であり、500,000以下の重量平均分子量を有するポリアミド酸(A)は、粘度をスクリーン印刷用に適切に調整することが可能であり、メッシュ目残りや、にじみ等を引き起こすことなく均一な膜厚のポリイミド膜が得られることから、これらの範囲の分子量のポリアミド酸(A)は、スクリーン印刷用組成物として好ましく用いることができる。
スクリーン印刷性、および得られるポリイミド膜の機械的強度をさらに向上させるために、ポリアミド酸(A)の重量平均分子量は100,000〜200,000であることが好ましく、120,000〜180,000であることがさらに好ましい。
1.2.6 Polyamic acid (A) weight average molecular weight Polyamic acid (A) having a weight average molecular weight of 80,000 to 500,000 is a polyimide film having a uniform thickness without causing mesh residue or bleeding. The resulting polyimide film has a high mechanical strength, has good flexibility without cracking, and is preferred as a composition for screen printing.
The polyamic acid (A) having a weight average molecular weight of 80,000 or more is a polyamic acid having a strong mechanical strength of the resulting polyimide film, good flexibility without cracks, and a weight average molecular weight of 500,000 or less. In (A), the viscosity can be appropriately adjusted for screen printing, and a polyimide film having a uniform film thickness can be obtained without causing mesh residue or blurring. The polyamic acid (A) can be preferably used as a composition for screen printing.
In order to further improve the screen printability and the mechanical strength of the resulting polyimide film, the polyamic acid (A) preferably has a weight average molecular weight of 100,000 to 200,000, more preferably 120,000 to 180,000.

ポリアミド酸(A)の重量平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィ(GPC)法により測定することができる。具体的には、得られたポリアミド酸(A)をN,N−ジメチルホルムアミド(DMF)でポリアミド酸の濃度が約1重量%になるように希釈し、東ソー株式会社製カラムG4000HXL、G3000HXL、G2500HXLおよびG2000HXLを用いて、DMFを展開剤としてゲル浸透クロマトグラフィ(GPC)法により測定し、ポリスチレン換算することにより求めることができる。   The weight average molecular weight of the polyamic acid (A) can be measured by a gel permeation chromatography (GPC) method. Specifically, the obtained polyamic acid (A) is diluted with N, N-dimethylformamide (DMF) so that the polyamic acid concentration is about 1% by weight, and columns G4000HXL, G3000HXL, G2500HXL manufactured by Tosoh Corporation are used. And G2000HXL, it can be obtained by measuring by gel permeation chromatography (GPC) method using DMF as a developing agent and converting to polystyrene.

1.3 エポキシ樹脂(B)
エポキシ樹脂(B)としては、具体的には、N,N,N',N'−テトラグリシジル−m−キシレンジアミン、1,3−ビス(N,N−ジグリシジルアミノメチル)シクロヘキサン、N,N,N',N'−テトラグリシジル−4,4'−ジアミノジフェニルメタンおよび下記式(2)〜(4)で表される化合物からなる群から選ばれる1以上の化合物などが挙げられる。エポキシ樹脂(B)は一種のみを用いてもよく、また、二種以上を混合して用いてもよい。
1.3 Epoxy resin (B)
Specific examples of the epoxy resin (B) include N, N, N ′, N′-tetraglycidyl-m-xylenediamine, 1,3-bis (N, N-diglycidylaminomethyl) cyclohexane, N, Examples thereof include one or more compounds selected from the group consisting of N, N ′, N′-tetraglycidyl-4,4′-diaminodiphenylmethane and compounds represented by the following formulas (2) to (4). Epoxy resin (B) may be used alone or in combination of two or more.

Figure 2009102494
Figure 2009102494

これらの中でも、N,N,N',N'−テトラグリシジル−m−キシレンジアミン、1,3−ビス(N,N−ジグリシジルアミノメチル)シクロヘキサン、N,N,N',N'−テトラグリシジル−4,4'−ジアミノジフェニルメタンから選ばれる1以上の化合物は、得られるポリイミド膜の機械的強度および平坦性が特に良好であるため好ましい。   Among these, N, N, N ′, N′-tetraglycidyl-m-xylenediamine, 1,3-bis (N, N-diglycidylaminomethyl) cyclohexane, N, N, N ′, N′-tetra One or more compounds selected from glycidyl-4,4′-diaminodiphenylmethane are preferred because the resulting polyimide film has particularly good mechanical strength and flatness.

スクリーン印刷用組成物中のエポキシ樹脂(B)の濃度は、5〜60重量%が好ましく、10〜40重量%がさらに好ましい。この濃度範囲であると、スクリーン印刷用組成物から形成された塗膜の機械的強度が強固であり、耐熱性、耐薬品性、平坦性が良好である。   The concentration of the epoxy resin (B) in the screen printing composition is preferably 5 to 60% by weight, and more preferably 10 to 40% by weight. Within this concentration range, the mechanical strength of the coating film formed from the composition for screen printing is strong, and the heat resistance, chemical resistance and flatness are good.

1.4 金属酸化物微粒子(C)1.4 Metal oxide fine particles (C)

金属酸化物微粒子(C)は、一種の金属からなる酸化物の微粒子であっても、二種以上の金属からなる酸化物(即ち、複合酸化物)の微粒子であってもよい。一種の金属からなる酸化物の具体例としては、ケイ素、アルミニウム、マグネシウム、ジルコニウム、及びチタン等の金属の酸化物である、シリカ(SiO2)、アルミナ(Al23)、及びチタニア(TiO2)、ジルコニア(ZrO2)等が挙げられる。複合酸化物の具体例としては、前記金属の複合酸化物である、シリカ−アルミナ複合酸化物、シリカ−チタニア複合酸化物、シリカ−ジルコニア複合酸化物、シリカ−マグネシア複合酸化物、アルミナ−マグネシア複合酸化物等の二成分系複合酸化物や、シリカ−アルミナ−マグネシア複合酸化物、シリカ−アルミナ−チタニア複合酸化物、シリカ−チタニア−マグネシア複合酸化物等の三成分系複合酸化物等が挙げられる。これら金属酸化物微粒子の中でも、シリカ微粒子を主成分とする(即ち、60〜100重量%含有する)、金属酸化物微粒子が好ましい。 The metal oxide fine particles (C) may be oxide fine particles made of one kind of metal or oxide (ie, complex oxide) made of two or more metals. Specific examples of oxides composed of one kind of metal include oxides of metals such as silicon, aluminum, magnesium, zirconium, and titanium, silica (SiO 2 ), alumina (Al 2 O 3 ), and titania (TiO 2 ). 2 ), zirconia (ZrO 2 ) and the like. Specific examples of the composite oxide include silica-alumina composite oxide, silica-titania composite oxide, silica-zirconia composite oxide, silica-magnesia composite oxide, and alumina-magnesia composite, which are composite oxides of the above metals. Binary composite oxides such as oxide, ternary composite oxides such as silica-alumina-magnesia composite oxide, silica-alumina-titania composite oxide, silica-titania-magnesia composite oxide, etc. . Among these metal oxide fine particles, metal oxide fine particles containing silica fine particles as a main component (that is, containing 60 to 100% by weight) are preferable.

金属酸化物微粒子(C)は、溶融金属酸化物粉体、金属酸化物破砕物、高温気相反応で合成した煙霧質金属酸化物(ヒュームド金属酸化物)、及び湿式法で合成した金属酸化物等が挙げられるが、これらのなかでも、煙霧質金属酸化物(ヒュームド金属酸化物)が好ましい。   Metal oxide fine particles (C) are molten metal oxide powder, crushed metal oxide, fumed metal oxide synthesized by high temperature gas phase reaction (fumed metal oxide), and metal oxide synthesized by wet method. Among these, fumed metal oxides (fumed metal oxides) are preferable.

金属酸化物微粒子(C)は、表面処理されているものである必要はないが、表面がシラザン類および/またはシランカップリング剤で処理されているものが好ましい。   The metal oxide fine particles (C) need not be surface-treated, but those having a surface treated with silazanes and / or a silane coupling agent are preferred.

シラザン類は、例えば、ヘキサメチルジシラザン(HMDS)、ヘキサフェニルジシラザン等のシラザン類、あるいはこれらの中の二種以上を組み合わせたものである。これらの中でも、ヘキサメチルジシラザンが、シリカの凝集を抑制し、酸性であるシリカを塩基性に傾け、有機物に対する親和性を向上させ均一性を向上させて、スクリーン印刷用組成物中での安定性を向上させる点で好ましい。   Silazanes are, for example, silazanes such as hexamethyldisilazane (HMDS) and hexaphenyldisilazane, or combinations of two or more thereof. Among these, hexamethyldisilazane suppresses the aggregation of silica, tilts acidic silica to basic, improves affinity for organic matter, improves uniformity, and stabilizes in screen printing compositions. It is preferable at the point which improves property.

シランカップリング剤は、例えば、アミノ、グリシジル、メルカプト、ウレイド、ヒドロキシおよびアルコキシからなる基の群から選ばれる少なくとも一種の活性基(反応性有機官能基)を有する化合物、あるいはその組み合わせ(例えば、アルコキシ基とその他の反応性官能基との組み合わせ)である。シランカップリング剤の具体例としては、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン等のエポキシ官能性基含有オルガノアルコキシシラン、アミノプロピルトリエトキシシラン、ウレイドプロピルトリエトキシシラン、N−フェニルアミノプロピルトリメトキシシラン等のアミノ官能性基含有オルガノアルコキシシラン、フェニルトリメトキシシラン等のアリールアルコキシシラン、メチルトリメトキシシラン、オクタデシルトリメトキシシラン等のアルキルアルコキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、アリルトリメトキシシラン等のアルケニルアルコキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等のメルカプト官能性基含有オルガノアルコキシシラン等が挙げられる。   The silane coupling agent is, for example, a compound having at least one active group (reactive organic functional group) selected from the group consisting of amino, glycidyl, mercapto, ureido, hydroxy and alkoxy, or a combination thereof (for example, alkoxy Group and other reactive functional groups). Specific examples of the silane coupling agent include epoxy functional group-containing organoalkoxysilanes such as γ-glycidoxypropyltriethoxysilane and β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, aminopropyltriethoxysilane Aminofunctional group-containing organoalkoxysilanes such as ureidopropyltriethoxysilane and N-phenylaminopropyltrimethoxysilane, arylalkoxysilanes such as phenyltrimethoxysilane, alkylalkoxysilanes such as methyltrimethoxysilane and octadecyltrimethoxysilane , Alkenylalkoxysilanes such as vinyltrimethoxysilane and allyltrimethoxysilane, mercaptofunctional group-containing organoalkoxysilanes such as γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, etc. And the like.

金属酸化物微粒子(C)としては、市販品では、日本アエロジル社製のR812、RX200、NX90、及びNAX50等が好ましく、R812が最も好ましい。   As the metal oxide fine particles (C), commercially available products such as R812, RX200, NX90, and NAX50 manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd. are preferable, and R812 is most preferable.

金属酸化物微粒子(C)の平均粒子径は、0.001μm〜10μmが好ましく、0.005μm〜0.040μmがさらに好ましい。この平均粒子径の範囲であると、良好なチキソトロピー性が得られ、さらにメッシュ目残り、にじみ等を引き起こすことなく均一な膜厚のポリイミド膜が得られる。   The average particle diameter of the metal oxide fine particles (C) is preferably 0.001 μm to 10 μm, and more preferably 0.005 μm to 0.040 μm. When the average particle diameter is in this range, good thixotropy can be obtained, and a polyimide film having a uniform thickness can be obtained without causing mesh residue or bleeding.

スクリーン印刷用組成物中の金属酸化物微粒子(C)の濃度は、0.1〜10重量%が好ましく、1.0〜5.0重量%がさらに好ましい。この濃度範囲であると、スクリーン印刷用組成物から形成された塗膜の機械的強度が強固であり、耐熱性、耐薬品性、平坦性が良好である。   The concentration of the metal oxide fine particles (C) in the screen printing composition is preferably 0.1 to 10% by weight, and more preferably 1.0 to 5.0% by weight. Within this concentration range, the mechanical strength of the coating film formed from the composition for screen printing is strong, and the heat resistance, chemical resistance and flatness are good.

1.5 溶媒(D)
スクリーン印刷用組成物は、例えば、ポリアミド酸(A)およびエポキシ樹脂(B)を溶媒(D)に溶解した後、金属酸化物微粒子(C)を混合して得ることができる。したがって、スクリーン印刷用組成物に含まれる溶媒(D)は、ポリアミド酸(A)およびエポキシ樹脂(B)を溶解し、金属酸化物微粒子(C)を分散することができる溶媒であれば特に制限されない。また、単独ではポリアミド酸(A)およびエポキシ樹脂(B)を溶解しない溶媒であっても、他の溶媒と混合することによって上記条件を満たすようにすることで、スクリーン印刷用組成物の溶媒(D)として用いることが可能である。
1.5 Solvent (D)
The screen printing composition can be obtained, for example, by dissolving the polyamic acid (A) and the epoxy resin (B) in the solvent (D) and then mixing the metal oxide fine particles (C). Accordingly, the solvent (D) contained in the screen printing composition is not particularly limited as long as it is a solvent that can dissolve the polyamic acid (A) and the epoxy resin (B) and disperse the metal oxide fine particles (C). Not. Further, even if the solvent alone does not dissolve the polyamic acid (A) and the epoxy resin (B), the solvent for the screen printing composition (by satisfying the above condition by mixing with another solvent ( D) can be used.

溶媒(D)の具体例としては、N−メチル−2−ピロリドン、ジメチルイミダゾリジノン、N−メチルカプロラクタム、N−メチルプロピオンアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジエチルホルムアミド、ジエチルアセトアミド、γ−ブチロラクトン、乳酸エチル、3−メチル−3−メトキシブタノール、テトラリン、イソホロン、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、3−メトキシプロピオン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、マロン酸ジエチル、エタノール、2−プロパノール、ジオキサン、及びエチレングリコール等を挙げることができる。   Specific examples of the solvent (D) include N-methyl-2-pyrrolidone, dimethylimidazolidinone, N-methylcaprolactam, N-methylpropionamide, N, N-dimethylacetamide, dimethyl sulfoxide, N, N-dimethylformamide. N, N-diethylformamide, diethylacetamide, γ-butyrolactone, ethyl lactate, 3-methyl-3-methoxybutanol, tetralin, isophorone, ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol dimethyl ether, Diethylene glycol methyl ethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monobutyl ether, propylene glycol Examples thereof include nomethyl ether acetate, dipropylene glycol monomethyl ether, methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, diethyl malonate, ethanol, 2-propanol, dioxane, and ethylene glycol.

これらの溶媒の中でも、例えばポリアミド酸(A)の溶解性の点で、γ−ブチロラクトン、N−メチル−2−ピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミドおよび/またはN,N−ジメチルアセトアミドを溶媒(D)として含むことが好ましい。
これらの溶媒は、一種のみを用いてもよく、また、二種以上を混合して用いてもよい。また、溶媒の濃度は、20〜89.9重量%が好ましい。より好ましくは25〜85重量%であり、さらに好ましくは30〜80重量%である。
Among these solvents, for example, γ-butyrolactone, N-methyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylformamide and / or N, N-dimethylacetamide are used as the solvent (D in view of solubility of the polyamic acid (A). ) Is preferably included.
These solvents may be used alone or in combination of two or more. Further, the concentration of the solvent is preferably 20 to 89.9% by weight. More preferably, it is 25-85 weight%, More preferably, it is 30-80 weight%.

1.6 スクリーン印刷用組成物における水分量
スクリーン印刷用組成物中の水分量は特に限定されないが、ポリアミド酸(A)の安定性の点で10,000ppm以下が好ましく、5,000ppm以下がさらに好ましい。これらの水分量であると、スクリーン印刷用組成物の粘度変化が少なく保存安定性に優れるので好ましい。
1.6 Water Content in Screen Printing Composition The water content in the screen printing composition is not particularly limited, but is preferably 10,000 ppm or less, and more preferably 5,000 ppm or less in terms of the stability of the polyamic acid (A). These water contents are preferable because the viscosity of the screen printing composition is small and excellent in storage stability.

1.7 スクリーン印刷用組成物に添加される添加剤
目的とする特性によっては、スクリーン印刷用組成物には、上述した主要成分のほかに、さらに、界面活性剤、帯電防止剤、カップリング剤、消泡剤、トリメリット酸等のエポキシ硬化剤、アミノシリコン化合物、溶媒、pH調整剤、防錆剤、防腐剤、防黴剤、酸化防止剤、還元防止剤、蒸発促進剤、キレート化剤、水溶性ポリマー、導電性フィラー、顔料、染料等の着色剤等の添加剤を必要により選択して添加することができる。
1.7 Additives added to the screen printing composition Depending on the intended properties, the screen printing composition may contain a surfactant, an antistatic agent, a coupling agent in addition to the main components described above. , Antifoaming agents, epoxy hardeners such as trimellitic acid, aminosilicon compounds, solvents, pH adjusters, rust inhibitors, antiseptics, antifungal agents, antioxidants, anti-reduction agents, evaporation accelerators, chelating agents Additives such as colorants such as water-soluble polymers, conductive fillers, pigments and dyes can be selected and added as necessary.

(1)界面活性剤
スクリーン印刷用組成物の塗布性の向上を望むときには、かかる目的に沿った界面活性剤を添加してもよい。界面活性剤の具体例としては、商品名「Byk-300」、「Byk-306」、「Byk-335」、「Byk-310」、「Byk-341」、「Byk-344」、「Byk-370」(ビック・ケミー(株)製)などのシリコン系界面活性剤;商品名「Byk-354」、「ByK-358」、「Byk-361」(ビック・ケミー(株)製)などのアクリル系界面活性剤、商品名「DFX-18」、「フタージェント250」、「フタージェント251」(ネオス(株)製)などのフッ素系界面活性剤を挙げることができる。これらの界面活性剤は、一種のみを用いてもよく、また、二種以上を混合して用いてもよい。
界面活性剤は、例えば、下地基板への濡れ性、レベリング性、または塗布性を向上させるために使用するものであり、界面活性剤の含有量は、基本的には上記主要成分を単独で補って又は他の添加剤と共に補って全成分の含有量がスクリーン印刷用組成物の100重量%となるように調整されるが、スクリーン印刷用組成物の全重量を基準として、好ましくは0.01〜1重量%である。
(1) Surfactant When it is desired to improve the applicability of the screen printing composition, a surfactant suitable for the purpose may be added. Specific examples of surfactants include trade names “Byk-300”, “Byk-306”, “Byk-335”, “Byk-310”, “Byk-341”, “Byk-344”, “Byk- Silicone surfactants such as “370” (by Big Chemie); acrylics such as “Byk-354”, “ByK-358” and “Byk-361” (by Big Chemie) Fluorine-based surfactants such as trade-name surfactants, trade names “DFX-18”, “Factent 250”, “Factent 251” (manufactured by Neos Co., Ltd.). These surfactants may be used alone or in combination of two or more.
The surfactant is used, for example, to improve the wettability, leveling property, or coating property to the base substrate, and the surfactant content basically supplements the main component alone. Or supplemented with other additives to adjust the content of all components to 100% by weight of the screen printing composition, preferably 0.01 to 1 based on the total weight of the screen printing composition. % By weight.

(2)帯電防止剤
スクリーン印刷用組成物に添加してもよい帯電防止剤は、特に限定されるものではなく、公知の帯電防止剤を用いることができる。具体的には、酸化錫、酸化錫・酸化アンチモン複合酸化物、酸化錫・酸化インジウム複合酸化物等の金属酸化物や四級アンモニウム塩等が挙げられる。これらの帯電防止剤は、一種のみを用いてもよく、また、二種以上を混合して用いてもよい。
帯電防止剤は、例えば、帯電を防止するために使用するものであり、帯電防止剤の含有量は、基本的には上記主要成分を単独で補って又は他の添加剤と共に補って全成分の含有量がスクリーン印刷用組成物の100重量%となるように調整されるが、スクリーン印刷用組成物の全重量を基準として、好ましくは0.01〜1重量%である。
(2) Antistatic agent The antistatic agent that may be added to the screen printing composition is not particularly limited, and a known antistatic agent can be used. Specific examples include metal oxides such as tin oxide, tin oxide / antimony oxide composite oxide, and tin oxide / indium oxide composite oxide, and quaternary ammonium salts. These antistatic agents may be used alone or in admixture of two or more.
The antistatic agent is used, for example, to prevent electrification, and the content of the antistatic agent is basically made up of the above main components alone or together with other additives to make up all the components. The content is adjusted to be 100% by weight of the screen printing composition, and is preferably 0.01 to 1% by weight based on the total weight of the screen printing composition.

(3)カップリング剤
スクリーン印刷用組成物に添加してもよいカップリング剤は、特に限定されるものではなく、公知のカップリング剤を用いることができる。カップリング剤はシランカップリング剤が好ましく、具体的には、トリアルコキシシラン化合物またはジアルコキシシラン化合物等を挙げることができる。好ましくは、例えば、γ−ビニルプロピルトリメトキシシラン、γ−ビニルプロピルトリエトキシシラン、γ−アクリロイルプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アクリロイルプロピルトリメトキシシラン、γ−アクリロイルプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アクリロイルプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロイルプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロイルプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロイルプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロイルプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−アミノエチル−γ−イミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−アミノエチル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−アミノエチル−γ−アミノプロピルトジエトキシシラン、N−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−フェニル−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−フェニル−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−フェニル−γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、γ−イソシアナートプロピルメチルジエトキシシラン、γ−イソシアナートプロピルトリエトキシシラン等が例示できる。これらの中でも、γ−ビニルプロピルトリメトキシシラン、γ−アクリロイルプロピルトリメトキシシラン、γ-メタクリロイルプロピルトリメトキシシラン、及びγ−イソシアナートプロピルトリエトキシシランなどが挙げられる。
(3) Coupling agent The coupling agent that may be added to the screen printing composition is not particularly limited, and a known coupling agent can be used. The coupling agent is preferably a silane coupling agent, and specific examples include trialkoxysilane compounds and dialkoxysilane compounds. Preferably, for example, γ-vinylpropyltrimethoxysilane, γ-vinylpropyltriethoxysilane, γ-acryloylpropylmethyldimethoxysilane, γ-acryloylpropyltrimethoxysilane, γ-acryloylpropylmethyldiethoxysilane, γ-acryloylpropyl Triethoxysilane, γ-methacryloylpropylmethyldimethoxysilane, γ-methacryloylpropyltrimethoxysilane, γ-methacryloylpropylmethyldiethoxysilane, γ-methacryloylpropyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, γ-glycyl Sidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ-aminopropylmethyl Rudimethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, N-aminoethyl-γ-iminopropylmethyldimethoxysilane, N-aminoethyl-γ-aminopropyl Trimethoxysilane, N-aminoethyl-γ-aminopropyltodiethoxysilane, N-phenyl-γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-phenyl-γ-aminopropyltriethoxysilane, N-phenyl-γ-aminopropylmethyl Dimethoxysilane, N-phenyl-γ-aminopropylmethyldiethoxysilane, γ-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropylmethyldiethoxysilane, γ-mercaptopro Le triethoxysilane, .gamma. isocyanate propyl methyl diethoxy silane, .gamma. isocyanate propyl triethoxysilane and the like. Among these, γ-vinylpropyltrimethoxysilane, γ-acryloylpropyltrimethoxysilane, γ-methacryloylpropyltrimethoxysilane, γ-isocyanatopropyltriethoxysilane, and the like can be given.

これらのカップリング剤は、一種のみを用いてもよく、また、二種以上を混合して用いてもよい。カップリング剤の含有量は、基本的には上記主要成分を単独で補って又は他の添加剤と共に補って全成分の含有量がスクリーン印刷用組成物の100重量%となるように調整されるが、スクリーン印刷用組成物の全重量を基準として、好ましくは0.01〜3重量%である。   These coupling agents may be used alone or in combination of two or more. The coupling agent content is basically adjusted by supplementing the main component alone or with other additives so that the total component content is 100% by weight of the screen printing composition. Is preferably 0.01 to 3% by weight, based on the total weight of the screen printing composition.

(4)エポキシ硬化剤
スクリーン印刷用組成物に添加してもよいエポキシ硬化剤は、特に限定されるものではなく、公知のエポキシ硬化剤を用いることができる。具体的には、有機酸ジヒドラジド化合物、イミダゾールおよびその誘導体、ジシアンジアミド、芳香族アミン、多価カルボン酸、及び多価カルボン酸無水物等が挙げられる。さらに具体的には、ジシアンジアミド等のジシアンジアミド類、アジピン酸ジヒドラジド、1,3−ビス(ヒドラジノカルボエチル)−5−イソプロピルヒダントイン等の有機酸ジヒドラジド、2,4−ジアミノ−6−[2'−エチルイミダゾリル−(1')]−エチルトリアジン、2−フェニルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、2−フェニル−4−メチル−5−ヒドロキシメチルイミダゾール等のイミダゾール誘導体、無水フタル酸、無水トリメリット酸、1,2,4−シクロヘキサントリカルボン酸−1,2−無水物等の酸無水物等が挙げられる。これらの中でも透明性が良好なトリメリット酸、1,2,4−シクロヘキサントリカルボン酸−1,2−無水物が好ましい。
(4) Epoxy hardener The epoxy hardener which may be added to the composition for screen printing is not specifically limited, A well-known epoxy hardener can be used. Specific examples include organic acid dihydrazide compounds, imidazole and its derivatives, dicyandiamide, aromatic amines, polyvalent carboxylic acids, and polyvalent carboxylic acid anhydrides. More specifically, dicyandiamides such as dicyandiamide, adipic acid dihydrazide, organic acid dihydrazides such as 1,3-bis (hydrazinocarboethyl) -5-isopropylhydantoin, 2,4-diamino-6- [2′- Ethylimidazolyl- (1 ′)]-ethyltriazine, 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, imidazole derivatives such as 2-phenyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole, phthalic anhydride, Examples include melic acid and acid anhydrides such as 1,2,4-cyclohexanetricarboxylic acid-1,2-anhydride. Among these, trimellitic acid and 1,2,4-cyclohexanetricarboxylic acid-1,2-anhydride having good transparency are preferable.

これらのエポキシ硬化剤は、一種のみを用いてもよく、また、二種以上を混合して用いてもよい。エポキシ硬化剤の含有量は、基本的には上記主要成分を単独で補って又は他の添加剤と共に補って全成分の含有量がスクリーン印刷用組成物の100重量%となるように調整されるが、スクリーン印刷用組成物の全重量を基準として、好ましくは0.2〜5重量%である。   These epoxy curing agents may be used alone or in combination of two or more. The content of the epoxy curing agent is basically adjusted by supplementing the above main component alone or with other additives so that the content of all components is 100% by weight of the screen printing composition. However, it is preferably 0.2 to 5% by weight based on the total weight of the screen printing composition.

(5)アミノシリコン化合物
スクリーン印刷用組成物に添加してもよいアミノシリコン化合物は、特に限定されるものではなく、公知のアミノシリコン化合物を用いることができる。具体的には、パラアミノフェニルトリメトキシシラン、パラアミノフェニルトリエトキシシラン、メタアミノフェニルトリメトキシシラン、メタアミノフェニルトリエトキシシラン、アミノプロピルトリメトキシシラン、及びアミノプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。これらのアミノシリコン化合物は、一種のみを用いてもよく、また、二種以上を混合して用いてもよい。
アミノシリコン化合物は、例えば、基板への密着性を良くするために使用するものであり、アミノシリコン化合物の含有量は、基本的には上記主要成分を単独で補って又は他の添加剤と共に補って全成分の含有量がスクリーン印刷用組成物の100重量%となるように調整されるが、スクリーン印刷用組成物の全重量を基準として、好ましくは0.05〜2重量%である。
(5) Aminosilicon compound The aminosilicon compound that may be added to the composition for screen printing is not particularly limited, and a known aminosilicon compound can be used. Specific examples include paraaminophenyltrimethoxysilane, paraaminophenyltriethoxysilane, metaaminophenyltrimethoxysilane, metaaminophenyltriethoxysilane, aminopropyltrimethoxysilane, and aminopropyltriethoxysilane. These aminosilicon compounds may be used alone or in combination of two or more.
The aminosilicon compound is used, for example, to improve adhesion to the substrate, and the content of the aminosilicon compound is basically supplemented by supplementing the main component alone or with other additives. The content of all the components is adjusted to be 100% by weight of the screen printing composition, but is preferably 0.05 to 2% by weight based on the total weight of the screen printing composition.

(6)その他の添加剤
スクリーン印刷用組成物には、本発明の目的を損なわない範囲(好ましくはスクリーン印刷用組成物全量を基準として20重量%以内)で、可溶性ポリイミド、ポリエステル、アクリル酸ポリマー、アクリレートポリマー等のポリマー成分を混合してもよい。
また、スクリーン印刷用組成物には、ジカルボン酸もしくはその誘導体とジアミンとの反応生成物であるポリアミドやテトラカルボン酸二無水物、ジカルボン酸もしくはその誘導体とジアミンとの反応生成物であるポリアミドイミド等のポリマー成分を本発明の目的を損なわない範囲で添加することができる。
(6) Other additives The composition for screen printing is a soluble polyimide, polyester, acrylic acid polymer within a range that does not impair the object of the present invention (preferably within 20% by weight based on the total amount of the composition for screen printing). A polymer component such as an acrylate polymer may be mixed.
In addition, the composition for screen printing includes polyamide which is a reaction product of dicarboxylic acid or its derivative and diamine, tetracarboxylic dianhydride, polyamideimide which is a reaction product of dicarboxylic acid or its derivative and diamine, etc. These polymer components can be added within a range not impairing the object of the present invention.

2 本発明のポリイミド膜
本発明のポリイミド膜又はパターン状ポリイミド膜は、上述したスクリーン印刷用組成物を、基板表面にスクリーン印刷により塗布し、ホットプレート、またはオーブンなどで加熱処理することにより、全面または所定のパターン状(たとえばライン状)の膜として得ることができる。また、ポリイミド膜の形成は、加熱処理に限定されず、UV処理やイオンビーム、電子線、ガンマ線などの処理でもよい。
2 Polyimide film of the present invention The polyimide film or the patterned polyimide film of the present invention is obtained by applying the above-described screen printing composition to the substrate surface by screen printing and heat-treating it with a hot plate or oven. Alternatively, it can be obtained as a film having a predetermined pattern (for example, a line). In addition, the formation of the polyimide film is not limited to the heat treatment, and may be a treatment such as UV treatment, ion beam, electron beam, or gamma ray.

<スクリーン印刷用組成物の塗布>
スクリーン印刷用組成物の塗布方法は、以下の工程で実施する。まず、基板の表面を全面開口部、あるいは所定パターンの開口部を有するマスクで覆い、スクリーン印刷機のスキージ部にスクリーン印刷用組成物を投入する。次いで、スキージを移動させてスクリーン印刷用組成物を加圧しながらマスク上を移動させることにより、該マスキング部材の開口部にスクリーン印刷用組成物を充填する(充填工程)。次に、マスクを取り外す。こうして、前記基体の表面にスクリーン印刷用組成物を塗布することができる。
<Application of composition for screen printing>
The application method of the composition for screen printing is implemented in the following steps. First, the surface of the substrate is covered with a whole surface opening or a mask having openings of a predetermined pattern, and the composition for screen printing is put into a squeegee part of a screen printer. Next, the screen printing composition is filled in the opening of the masking member by moving the squeegee on the mask while applying pressure to the screen printing composition (filling step). Next, the mask is removed. Thus, the screen printing composition can be applied to the surface of the substrate.

<ポリアミド酸の膜の形成>
基板上にスクリーン印刷用組成物を塗布した後、ホットプレート、またはオーブンなどでの加熱により溶媒を気化等させて除去する、すなわち乾燥することによってポリアミド酸の膜を形成することができる。加熱条件は各成分の種類および配合割合によって異なるが、通常70〜120℃で、オーブンを用いた場合5〜15分間、ホットプレートを用いた場合1〜5分間でポリアミド酸の膜が形成される。
<Formation of polyamic acid film>
After the composition for screen printing is applied on the substrate, the film of polyamic acid can be formed by removing the solvent by evaporating it by heating with a hot plate or an oven, that is, drying. Heating conditions vary depending on the type and mixing ratio of each component, but a film of polyamic acid is usually formed at 70 to 120 ° C. for 5 to 15 minutes when using an oven and 1 to 5 minutes when using a hot plate. .

<ポリイミドの膜の形成>
ポリアミド酸の膜を形成後、ポリアミド酸をイミド化させるために180〜350℃、好ましくは200〜300℃で、オーブンを用いた場合30〜90分間、ホットプレートを用いた場合5〜30分間加熱処理することによってポリイミド膜を得ることができる。ポリアミド酸の膜がパターン状に形成されている場合には、パターン状のポリイミド膜が形成される。本明細書では、特に言及のない限り、ポリイミド膜は、パターン状のポリイミド膜を含むものとする。
<Formation of polyimide film>
After forming the polyamic acid film, heat at 180 to 350 ° C., preferably 200 to 300 ° C. to imidize the polyamic acid, 30 to 90 minutes when using an oven, 5 to 30 minutes when using a hot plate A polyimide film can be obtained by processing. When the polyamic acid film is formed in a pattern, a patterned polyimide film is formed. In this specification, unless otherwise specified, the polyimide film includes a patterned polyimide film.

このようにして得られたポリイミド膜は、耐熱性、電気絶縁性に優れた絶縁膜である。本発明のポリイミド膜はイミド化と同時にポリアミド酸のカルボン酸とエポキシ樹脂とが反応し、比較的強靭で、耐薬品性、平坦性、密着性および耐スパッタ性に優れた絶縁膜となるので好ましい。   The polyimide film thus obtained is an insulating film excellent in heat resistance and electrical insulation. The polyimide film of the present invention is preferable since the carboxylic acid of the polyamic acid and the epoxy resin react simultaneously with imidization and become an insulating film that is relatively tough and excellent in chemical resistance, flatness, adhesion, and sputtering resistance. .

3 本発明のフィルム基板
本発明のフィルム基板は、例えば、配線が形成されたポリイミドフィルム等の基板上に、本発明のスクリーン印刷用組成物をスクリーン印刷によって全面または所定のパターン状(ライン状等)に塗布し、その後、当該基板を乾燥し、さらに加熱処理などしてポリイミド膜を形成して得られる。
3 Film Substrate of the Present Invention The film substrate of the present invention is, for example, the entire surface or a predetermined pattern (line shape etc.) of the screen printing composition of the present invention by screen printing on a substrate such as a polyimide film on which wiring is formed. ), And then drying the substrate, followed by heat treatment to form a polyimide film.

4 本発明の電子部品
本発明の電子部品は、例えば、予め配線が形成されたポリイミドフィルム等のフィルム基板上に、本発明のスクリーン印刷用組成物をスクリーン印刷によって全面または所定のパターン状(ライン状等)に塗布し、その後、当該フィルム基板を乾燥し、さらに加熱処理などしてポリイミド膜を形成して得られる。このようにして得られた電子部品は、絶縁性を有するポリイミド膜で被覆されたフレキシブルな電子部品となる。
4 Electronic Component of the Present Invention The electronic component of the present invention can be obtained, for example, by applying the screen printing composition of the present invention to a whole surface or a predetermined pattern (line) on a film substrate such as a polyimide film on which wiring has been previously formed. The film substrate is then dried and further subjected to heat treatment to form a polyimide film. The electronic component thus obtained becomes a flexible electronic component coated with an insulating polyimide film.

以下、本発明を実施例および比較例により説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a comparative example demonstrate this invention, this invention is not limited to these Examples.

実施例および比較例で用いる、テトラカルボン酸二無水物(a1)、ジアミン(a2)、エポキシ樹脂(B)、および溶媒(D)の名称を略号で示す。以下の記述にはこの略号を使用する。   The names of tetracarboxylic dianhydride (a1), diamine (a2), epoxy resin (B), and solvent (D) used in Examples and Comparative Examples are abbreviated. This abbreviation is used in the following description.

テトラカルボン酸二無水物(a1)
PMDA:ピロメリット酸二無水物
CBDA:1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物
BDA :1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸二無水物
ODPA:3,3'−4,4'−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物
Tetracarboxylic dianhydride (a1)
PMDA: pyromellitic dianhydride CBDA: 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride BDA: 1,2,3,4-butanetetracarboxylic dianhydride ODPA: 3,3′-4 , 4'-Diphenyl ether tetracarboxylic dianhydride

ジアミン(a2)
DDE :4,4'−ジアミノジフェニルエーテル
DDM :4,4'−ジアミノジフェニルメタン
DDEt:4,4'−ジアミノジフェニルエタン
DDS :4,4'−ジアミノジフェニルスルフォン
Diamine (a2)
DDE: 4,4′-diaminodiphenyl ether DDM: 4,4′-diaminodiphenylmethane DDEt: 4,4′-diaminodiphenylethane DDS: 4,4′-diaminodiphenylsulfone

エポキシ樹脂(B)
TGDDM :N,N,N',N'-テトラグリシジル-4,4'-ジアミノジフェニルメタン
jER828:下記一般式(5)で表される化合物

Figure 2009102494
式(5)中、nは0〜10の整数である。 Epoxy resin (B)
TGDDM: N, N, N ′, N′-tetraglycidyl-4,4′-diaminodiphenylmethane jER828: Compound represented by the following general formula (5)
Figure 2009102494
In formula (5), n is an integer of 0-10.

溶媒(D)
NMP: N−メチル−2−ピロリドン
GBL: γ−ブチロラクトン
Solvent (D)
NMP: N-methyl-2-pyrrolidone GBL: γ-butyrolactone

[実施例1]スクリーン印刷用組成物(1)
温度計、攪拌機、原料仕込み口および窒素ガス導入口を備えた300mlの四つ口フラスコに、以下に示すとおりに原料を仕込み、乾燥窒素気流下において40℃で5hr攪拌したところ、淡黄色透明なポリアミド酸の15重量%溶液を得た。この溶液のGPCで測定した重量平均分子量は154,000であった。
成分(a1) PMDA 3.213 g
成分(a1) CBDA 2.889 g
成分(a2) DDE 5.899 g
成分(D) NMP 68.0 g
この溶液に成分(B)のTGDDMを10.0g、成分(C)のシリカ微粒子(日本アエロジル社製、商品名:Aerosol R812、平均粒子径0.007μm)を4.0g、消泡剤(東レ・ダウコーニング社製、商品名:56 additive)を1.0g混合し、スクリーン印刷用組成物(1)を得た。得られたスクリーン印刷用組成物の粘度は、8,500mPa・s(25℃)であった。
[Example 1] Screen printing composition (1)
When a raw material was charged as shown below into a 300 ml four-necked flask equipped with a thermometer, a stirrer, a raw material charging port, and a nitrogen gas inlet, the mixture was stirred at 40 ° C. for 5 hours under a dry nitrogen stream. A 15% by weight solution of polyamic acid was obtained. The weight average molecular weight measured by GPC of this solution was 154,000.
Ingredient (a1) PMDA 3.213 g
Ingredient (a1) CBDA 2.889 g
Ingredient (a2) DDE 5.899 g
Ingredient (D) NMP 68.0 g
To this solution, 10.0 g of TGDDM of component (B), 4.0 g of silica fine particles of component (C) (product name: Aerosol R812, average particle size 0.007 μm), antifoaming agent (Toray 1.0 g of Dow Corning, trade name: 56 additive) was mixed to obtain a composition for screen printing (1). The viscosity of the obtained screen printing composition was 8,500 mPa · s (25 ° C.).

ポリアミド酸の重量平均分子量は、得られたポリアミド酸を(リン酸/DMF=1.25/100:重量比)希釈液でポリアミド酸濃度が約1重量%になるように希釈し、GPC装置:クロマトパックC-R7A(島津製作所製)を用いて、上記希釈液を展開剤としてGPC法により測定し、ポリスチレン換算することにより求めた。カラムはGF-310HQ(昭和電工株式会社製)とGF-510HQ(昭和電工株式会社製)を接続して使用し、カラム温度40℃、流速0.5ml/minの条件で測定した。
スクリーン印刷用組成物の粘度は、コーンプレート型レオメーター(ブルックフィールド製 R/S+)で測定した。
The weight average molecular weight of the polyamic acid was determined by diluting the obtained polyamic acid with a dilute solution (phosphoric acid / DMF = 1.25 / 100: weight ratio) so that the polyamic acid concentration was about 1% by weight. Using Chromatopack C-R7A (manufactured by Shimadzu Corporation), the diluted solution was measured by the GPC method using a developing agent, and was calculated by polystyrene conversion. The column was used by connecting GF-310HQ (manufactured by Showa Denko KK) and GF-510HQ (manufactured by Showa Denko KK) under the conditions of a column temperature of 40 ° C. and a flow rate of 0.5 ml / min.
The viscosity of the screen printing composition was measured with a cone plate rheometer (Brookfield R / S +).

[実施例2]スクリーン印刷用組成物(2)
温度計、攪拌機、原料仕込み口および窒素ガス導入口を備えた300mlの四つ口フラスコに、以下に示すとおりに原料を仕込み、乾燥窒素気流下において40℃で5hr攪拌したところ、淡黄色透明なポリアミド酸の15重量%溶液を得た。この溶液のGPCで測定した重量平均分子量は92,000であった。
成分(a1) PMDA 3.205 g
成分(a1) BDA 2.911 g
成分(a2) DDE 5.884 g
成分(D) NMP 68.0 g
この溶液に成分(B)のTGDDMを10.0g、成分(C)のシリカ微粒子「Aerosol R812」を4.0g、消泡剤「56 additive」を1.0g混合し、スクリーン印刷用組成物(2)を得た。得られたスクリーン印刷用組成物の粘度は、8,000mPa・s(25℃)であった。
[Example 2] Screen printing composition (2)
When a raw material was charged as shown below into a 300 ml four-necked flask equipped with a thermometer, a stirrer, a raw material charging port, and a nitrogen gas inlet, the mixture was stirred at 40 ° C. for 5 hours under a dry nitrogen stream. A 15% by weight solution of polyamic acid was obtained. The weight average molecular weight measured by GPC of this solution was 92,000.
Ingredient (a1) PMDA 3.205 g
Ingredient (a1) BDA 2.911 g
Ingredient (a2) DDE 5.884 g
Ingredient (D) NMP 68.0 g
To this solution, 10.0 g of TGDDM of component (B), 4.0 g of silica fine particle “Aerosol R812” of component (C) and 1.0 g of defoaming agent “56 additive” were mixed, and the composition for screen printing ( 2) was obtained. The viscosity of the obtained screen printing composition was 8,000 mPa · s (25 ° C.).

[比較例1]スクリーン印刷用組成物(E1)
温度計、攪拌機、原料仕込み口および窒素ガス導入口を備えた300mlの四つ口フラスコに、以下に示すとおりに原料を仕込み、乾燥窒素気流下において40℃で5hr攪拌したところ、淡黄色透明なポリアミド酸の33重量%溶液を得た。この溶液のGPCで測定した重量平均分子量は47,000であった。
成分(a1) ODPA 10.25 g
成分(a2) DDS 16.41 g
成分(D) NMP 40.0 g
成分(D) GBL 13.3 g
この溶液に成分(B)のTGDDMを10.0g、成分(C)のシリカ微粒子「Aerosol R812」を4.0g、消泡剤「56 additive」を1.0g混合し、スクリーン印刷用組成物(E1)を得た。得られたスクリーン印刷用組成物の粘度は、2,000mPa・s(25℃)であった。
[Comparative Example 1] Screen printing composition (E1)
When a raw material was charged as shown below into a 300 ml four-necked flask equipped with a thermometer, a stirrer, a raw material charging port, and a nitrogen gas inlet, the mixture was stirred at 40 ° C. for 5 hours under a dry nitrogen stream. A 33% by weight solution of polyamic acid was obtained. The weight average molecular weight measured by GPC of this solution was 47,000.
Ingredient (a1) ODPA 10.25 g
Ingredient (a2) DDS 16.41 g
Ingredient (D) NMP 40.0 g
Ingredient (D) GBL 13.3 g
To this solution, 10.0 g of TGDDM of component (B), 4.0 g of silica fine particle “Aerosol R812” of component (C) and 1.0 g of defoaming agent “56 additive” were mixed, and the composition for screen printing ( E1) was obtained. The viscosity of the obtained screen printing composition was 2,000 mPa · s (25 ° C.).

[実施例3〜5、比較例2〜5]
スクリーン印刷用組成物(3)〜(5)、スクリーン印刷用組成物(E2)〜(E5)
表1及び表2に示すとおりに原料を仕込むこと以外は実施例1と同じ条件でスクリーン印刷用組成物を調製し、スクリーン印刷用組成物(3)〜(5)、スクリーン印刷用組成物(E2)〜(E5)を得た。
得られたスクリーン印刷用組成物(3)〜(5)、スクリーン印刷用組成物(E2)〜(E5)のポリアミド酸(A)の重量平均分子量、および25℃における粘度を実施例1と同じ条件で測定した。これらの測定結果は表1及び表2に示すとおりであった。
[Examples 3 to 5, Comparative Examples 2 to 5]
Screen printing compositions (3) to (5), screen printing compositions (E2) to (E5)
A screen printing composition was prepared under the same conditions as in Example 1 except that the raw materials were charged as shown in Tables 1 and 2, and the screen printing compositions (3) to (5), the screen printing composition ( E2) to (E5) were obtained.
The weight average molecular weight and the viscosity at 25 ° C. of the polyamic acid (A) of the obtained screen printing compositions (3) to (5) and the screen printing compositions (E2) to (E5) are the same as those in Example 1. Measured under conditions. These measurement results were as shown in Tables 1 and 2.

Figure 2009102494
Figure 2009102494

Figure 2009102494
Figure 2009102494

すべてのスクリーン印刷用組成物には、消泡剤「56 additive」を1.0g混合した。   All screen printing compositions were mixed with 1.0 g of the antifoam “56 additive”.

[実施例6]
スクリーン印刷用組成物(1)を使用したポリイミド膜の形成および屈曲性の評価
<スクリーン印刷によるライン状ポリイミド膜の形成>
実施例1で調製されたスクリーン印刷用組成物(1)を、スクリーン印刷装置(東海精機社製、SERIA SSA-PC250E)で基板(東レデュポン株式会社製、カプトン200H(厚さ50μm))上に幅1mm、長さ5cmのライン&スペースのスクリーン版を用いて塗布した。基板を80℃のホットプレートで5分間乾燥した後、230℃のオーブンで30分間加熱し、ライン状に形成された絶縁性のポリイミド膜を得た。
得られたポリイミド膜のライン幅、エッジの直線性を光学顕微鏡で観察し、膜厚を測定した。膜厚は触針式膜厚計(KLA-Tencor Japan株式会社製、αステップ200)を使用し、3箇所の測定値の平均値を膜厚とした。得られたポリイミド膜のライン幅および膜厚はそれぞれ1.2mm、10μmであった。ライン幅はほぼ塗布したときの幅を維持しており、ラインのエッジの直線性も良好であり、ラインは十分な厚みを有していた。
[Example 6]
Formation of Polyimide Film Using Screen Printing Composition (1) and Evaluation of Flexibility <Formation of Line Polyimide Film by Screen Printing>
The composition for screen printing (1) prepared in Example 1 was applied on a substrate (Toray DuPont, Kapton 200H (thickness 50 μm)) with a screen printing device (Toray Seiki, SERIA SSA-PC250E). Coating was performed using a line and space screen plate having a width of 1 mm and a length of 5 cm. The substrate was dried on an 80 ° C. hot plate for 5 minutes, and then heated in an oven at 230 ° C. for 30 minutes to obtain an insulating polyimide film formed in a line shape.
The line width and edge linearity of the obtained polyimide film were observed with an optical microscope, and the film thickness was measured. The film thickness was determined by using a stylus film thickness meter (manufactured by KLA-Tencor Japan Co., Ltd., α step 200), and taking the average value of the measured values at three locations as the film thickness. The line width and film thickness of the obtained polyimide film were 1.2 mm and 10 μm, respectively. The line width was almost the same as when applied, the linearity of the edge of the line was good, and the line had a sufficient thickness.

<スクリーン印刷による正方形パターン状ポリイミド膜の形成>
幅1mm、長さ5cmのライン&スペースのスクリーン版の代わりに1mm×1mm、5mm×5mmおよび10mm×10mmの正方形パターンのスクリーン版を用いる以外は、同じ条件で正方形パターン状ポリイミド膜を得た。10mm×10mmの正方形パターンの得られたポリイミド膜の光学顕微鏡写真は、図1のとおりであった。
<Formation of square patterned polyimide film by screen printing>
A square pattern-shaped polyimide film was obtained under the same conditions except that 1 mm × 1 mm, 5 mm × 5 mm, and 10 mm × 10 mm square pattern screen plates were used instead of the line and space screen plates having a width of 1 mm and a length of 5 cm. The optical micrograph of the obtained polyimide film having a 10 mm × 10 mm square pattern was as shown in FIG.

<ポリイミド膜の屈曲性(耐折性)>
実施例1で調製されたスクリーン印刷用組成物(1)を、基板(東レデュポン株式会社製、カプトン200H(厚さ50μm))上にアプリケーターを用いて塗布した。ホットプレートを用いて、50℃で30分間乾燥した後、230℃のオーブンで30分間加熱し、基板の片面に製膜した。基板のTD方向(Transverse direction)が試験試料の長さ方向となるように、幅1.5cm、長さ13cmに裁断し、試験試料を作製した。
試験試料は、耐折性試験機(株式会社東洋精機製作所製、MIT-DA)を用いて、折り曲げ面の曲率半径0.38mm、折り曲げ角135°、張力4.9N、試験温度25℃とし、毎分175回の速度で折り曲げをおこない、所定回数でのクラックの有無を観察したところ、折り曲げ回数1000回でクラックの発生は無く、◎評価であった。
屈曲性の結果は、以下のように評価した。
◎:1000回でクラックの発生しない場合
○:100回でクラックは発生しないが1000回でクラックが観察された場合
△:50回でクラックは発生しないが100回でクラックが観察された場合
×:50回でクラックが観察された場合
<Flexibility of polyimide film (folding resistance)>
The screen printing composition (1) prepared in Example 1 was applied onto a substrate (manufactured by Toray DuPont Co., Ltd., Kapton 200H (thickness 50 μm)) using an applicator. After drying at 50 ° C. for 30 minutes using a hot plate, the substrate was heated in an oven at 230 ° C. for 30 minutes to form a film on one side of the substrate. A test sample was produced by cutting the substrate into a width of 1.5 cm and a length of 13 cm so that the TD direction (Transverse direction) of the substrate was the length direction of the test sample.
The test sample was a folding resistance tester (manufactured by Toyo Seiki Co., Ltd., MIT-DA) with a bending surface with a curvature radius of 0.38 mm, a bending angle of 135 °, a tension of 4.9 N, and a test temperature of 25 ° C. Bending was performed at a speed of 175 times per minute, and the presence or absence of cracks was observed at a predetermined number of times.
The result of flexibility was evaluated as follows.
◎: When no crack occurs after 1000 times ○: No crack occurs after 100 times, but cracks are observed after 1000 times Δ: No cracks occur after 50 times, but cracks are observed after 100 times ×: When a crack is observed after 50 times

[比較例6][Comparative Example 6]
スクリーン印刷用組成物(E1)を使用したポリイミド膜の形成および屈曲性の評価Formation of polyimide film using composition for screen printing (E1) and evaluation of flexibility

<スクリーン印刷によるライン状ポリイミド膜の形成>
比較例1で調製されたスクリーン印刷用組成物(E1)を使用した以外は、実施例6と同じ条件でライン状に形成された絶縁性のポリイミド膜を得た。
得られたポリイミド膜について、実施例6と同じ条件で評価を行った。その結果、ポリイミド膜のライン幅は1.5mmとなり、塗布したときの幅より大幅に広がってしまった。また、得られたポリイミド膜のラインのエッジの直線性も不十分でギザギザがあった。さらに、得られたポリイミド膜のラインの膜厚は5μmであり、充分な厚さが得られなかった。
<Formation of line-shaped polyimide film by screen printing>
An insulating polyimide film formed in a line was obtained under the same conditions as in Example 6 except that the screen printing composition (E1) prepared in Comparative Example 1 was used.
The obtained polyimide film was evaluated under the same conditions as in Example 6. As a result, the line width of the polyimide film was 1.5 mm, which was significantly wider than the width when applied. Moreover, the linearity of the edge of the line of the obtained polyimide film was insufficient, and there was a jaggedness. Furthermore, the film thickness of the obtained polyimide film line was 5 μm, and a sufficient thickness could not be obtained.

<スクリーン印刷による正方形パターン状ポリイミド膜の形成>
幅1mm、長さ5cmのライン&スペースのスクリーン版の代わりに1mm×1mm、5mm×5mmおよび10mm×10mmの正方形パターンのスクリーン版を用いる以外は、同じ条件で正方形パターン状ポリイミド膜を得た。10mm×10mmの正方形パターンの得られたポリイミド膜の光学顕微鏡写真は、図2のとおりであった。
<Formation of square patterned polyimide film by screen printing>
A square pattern-shaped polyimide film was obtained under the same conditions except that 1 mm × 1 mm, 5 mm × 5 mm, and 10 mm × 10 mm square pattern screen plates were used instead of the line and space screen plates having a width of 1 mm and a length of 5 cm. The optical micrograph of the obtained polyimide film having a 10 mm × 10 mm square pattern was as shown in FIG.

<ポリイミド膜の屈曲性(耐折性)>
比較例1で調製されたスクリーン印刷用組成物(E1)を使用した以外は、実施例6と同じ条件で耐折性試験試料を作製した。
試験試料は、実施例6と同じ条件で折り曲げをおこない、所定回数でのクラックの有無を観察したところ、折り曲げ回数50回でクラックが発生し、×評価であった。
<Flexibility of polyimide film (folding resistance)>
A fold resistance test sample was prepared under the same conditions as in Example 6 except that the screen printing composition (E1) prepared in Comparative Example 1 was used.
The test sample was bent under the same conditions as in Example 6, and the presence or absence of cracks was observed a predetermined number of times.

[実施例7〜10、比較例7〜10]
スクリーン印刷用組成物(2)〜(5)、スクリーン印刷用組成物(E2)〜(E5)を使用したポリイミド膜の形成および屈曲性の評価
それぞれ、表3に示すスクリーン印刷用組成物を使用したこと以外は実施例6と同じ条件で、実施例7〜10及び比較例7〜10に係るライン状に形成された絶縁性のポリイミド膜を得た。さらに、実施例6と同じ条件で耐折性試験試料を作製し、折り曲げをおこない、所定回数でのクラックの有無を観察した。その結果を表3に示す。
表3に示されるように、実施例6〜10に係るポリイミド膜は、ラインのエッジの直線性も良好であり、ラインは十分な厚みを有していた。
[Examples 7 to 10, Comparative Examples 7 to 10]
Formation of Polyimide Film Using Screen Printing Compositions (2) to (5) and Screen Printing Compositions (E2) to (E5) and Evaluation of Flexibility Each of the screen printing compositions shown in Table 3 is used. The insulating polyimide film formed in the line shape which concerns on Examples 7-10 and Comparative Examples 7-10 was obtained on the same conditions as Example 6 except having carried out. Further, a folding resistance test sample was prepared under the same conditions as in Example 6, bent, and observed for the presence or absence of cracks at a predetermined number of times. The results are shown in Table 3.
As shown in Table 3, the polyimide films according to Examples 6 to 10 had good linearity at the edge of the line, and the line had a sufficient thickness.

Figure 2009102494
Figure 2009102494

*)比較例9のスクリーン印刷用組成物(E4)を基板に塗布・乾燥した後、230℃のオーブンで過熱したところ、得られたポリイミド膜が白濁化して膜が不均一となったため、その後の評価はおこなわなかった。 *) After applying and drying the screen printing composition (E4) of Comparative Example 9 on the substrate, it was heated in an oven at 230 ° C., and the resulting polyimide film became cloudy and the film became non-uniform. Was not evaluated.

本発明の活用法として、例えば、フレキシブル配線基板用カバーレイ、絶縁膜、それを用いた電子部品を挙げることができる。   Examples of the utilization method of the present invention include a coverlay for a flexible wiring board, an insulating film, and an electronic component using the same.

図1は、実施例6で得られたポリイミド膜の光学顕微鏡写真である。1 is an optical micrograph of the polyimide film obtained in Example 6. FIG. 図2は、比較例6で得られたポリイミド膜の光学顕微鏡写真である。FIG. 2 is an optical micrograph of the polyimide film obtained in Comparative Example 6.

Claims (9)

下記一般式(1)で表される構成単位を有する重量平均分子量80,000〜500,000のポリアミド酸(A)、エポキシ樹脂(B)、平均粒子径が0.001μm〜10μmの金属酸化物微粒子(C)および溶媒(D)を含むスクリーン印刷用組成物であり、エポキシ樹脂(B)が、N,N,N',N'−テトラグリシジル−m−キシレンジアミン、1,3−ビス(N,N−ジグリシジルアミノメチル)シクロヘキサン、N,N,N',N'−テトラグリシジル−4,4'−ジアミノジフェニルメタンおよび下記式(2)〜(4)で表される化合物からなる群から選ばれる1以上の化合物からなることを特徴とするスクリーン印刷用組成物。
Figure 2009102494
(式(1)中、R1とR2はそれぞれ独立して炭素数2〜100の有機基である。)
A polyamic acid (A) having a structural unit represented by the following general formula (1) having a weight average molecular weight of 80,000 to 500,000, an epoxy resin (B), metal oxide fine particles (C) having an average particle size of 0.001 μm to 10 μm, and A composition for screen printing containing a solvent (D), wherein the epoxy resin (B) is N, N, N ′, N′-tetraglycidyl-m-xylenediamine, 1,3-bis (N, N-di) Glycidylaminomethyl) cyclohexane, N, N, N ′, N′-tetraglycidyl-4,4′-diaminodiphenylmethane and one or more selected from the group consisting of compounds represented by the following formulas (2) to (4) A composition for screen printing, comprising a compound.
Figure 2009102494
(In formula (1), R 1 and R 2 are each independently an organic group having 2 to 100 carbon atoms.)
ポリアミド酸(A)の重量平均分子量が100,000〜200,000である、請求項1に記載のスクリーン印刷用組成物。   The composition for screen printing according to claim 1, wherein the polyamic acid (A) has a weight average molecular weight of 100,000 to 200,000. エポキシ樹脂(B)が、N,N,N',N'−テトラグリシジル−m−キシレンジアミン、1,3−ビス(N,N−ジグリシジルアミノメチル)シクロヘキサン、N,N,N',N'−テトラグリシジル−4,4'−ジアミノジフェニルメタンから選ばれる1以上の化合物からなる、請求項1又は2に記載のスクリーン印刷用組成物。   The epoxy resin (B) is N, N, N ′, N′-tetraglycidyl-m-xylenediamine, 1,3-bis (N, N-diglycidylaminomethyl) cyclohexane, N, N, N ′, N The composition for screen printing according to claim 1 or 2, comprising one or more compounds selected from '-tetraglycidyl-4,4'-diaminodiphenylmethane. スクリーン印刷用組成物全量を基準として、ポリアミド酸(A)を5〜60重量%、エポキシ樹脂(B)を5〜60重量%、金属酸化物微粒子(C)を0.1〜10重量%、溶媒(D)を20〜89.9重量%含む、請求項1〜3のいずれかに記載のスクリーン印刷用組成物。   Based on the total amount of the composition for screen printing, the polyamic acid (A) is 5 to 60% by weight, the epoxy resin (B) is 5 to 60% by weight, the metal oxide fine particles (C) are 0.1 to 10% by weight, The composition for screen printing in any one of Claims 1-3 containing 20-89.9 weight% of solvents (D). テトラカルボン酸二無水物(a1)として、ピロメリット酸二無水物、1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物及び1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸二無水物からなる群から選ばれる少なくとも1種と、ジアミン(a2)として、4,4'−ジアミノジフェニルエーテル、4,4'−ジアミノジフェニルメタン及び4,4'−ジアミノジフェニルエタンからなる群から選ばれる少なくとも1種とを用いて得られる、重量平均分子量80,000〜500,000のポリアミド酸(A)、
エポキシ樹脂(B)として、N,N,N',N'−テトラグリシジル−4,4'−ジアミノジフェニルメタン、
金属酸化物微粒子(C)として、平均粒子径が0.001μm〜10μmのシリカ微粒子、および
溶媒(D)として、N−メチル−2−ピロリドン
を含むスクリーン印刷用組成物。
As tetracarboxylic dianhydride (a1), pyromellitic dianhydride, 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride and 1,2,3,4-butanetetracarboxylic dianhydride And at least one selected from the group consisting of 4,4′-diaminodiphenyl ether, 4,4′-diaminodiphenylmethane, and 4,4′-diaminodiphenylethane as diamine (a2), and at least one selected from the group consisting of A polyamic acid (A) having a weight average molecular weight of 80,000 to 500,000, obtained using
As the epoxy resin (B), N, N, N ′, N′-tetraglycidyl-4,4′-diaminodiphenylmethane,
A composition for screen printing comprising, as metal oxide fine particles (C), silica fine particles having an average particle size of 0.001 μm to 10 μm, and N-methyl-2-pyrrolidone as a solvent (D).
請求項1〜5のいずれかに記載されたスクリーン印刷用組成物から得られた、ポリイミド膜又はパターン状ポリイミド膜。   A polyimide film or a patterned polyimide film obtained from the composition for screen printing according to claim 1. 請求項1〜5のいずれかに記載されたスクリーン印刷用組成物をスクリーン印刷によって塗布してポリアミド酸膜を形成する工程、および、形成されたポリアミド酸膜を処理してポリイミド膜を形成する工程を経て得られた、ポリイミド膜又はパターン状ポリイミド膜。   A step of applying the screen printing composition according to any one of claims 1 to 5 by screen printing to form a polyamic acid film, and a step of treating the formed polyamic acid film to form a polyimide film A polyimide film or a patterned polyimide film obtained through the process. 基板上に請求項7に記載されたポリイミド膜又はパターン状ポリイミド膜が形成されたフィルム基板。   A film substrate in which the polyimide film or patterned polyimide film according to claim 7 is formed on a substrate. 請求項8に記載されたフィルム基板を有する電子部品。   An electronic component having the film substrate according to claim 8.
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