JP2009098834A - Capacitance type input device, display device with input function and electronic equipment - Google Patents

Capacitance type input device, display device with input function and electronic equipment Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a capacitance type input device, a display device with input function and electronic equipment, preventing a light transmittance from being deteriorated even when a shielding conductive layer is provided, while improving productivity and a yield, or the like. <P>SOLUTION: In this capacitance type input device 1, the shielding conductive layer 18 faces one face 10a of a translucent substrate 10 where translucent electrodes 11, 12 for detecting an input operation position are formed, so that the translucent electrodes 11, 12 can be protected from external noise. A translucent material 15 having a high refractive index is filled between the one face 10a of the translucent substrate 10 and a support substrate 19 with the shielding conductive layer 18 formed thereon, so that no reflective interface exists between the translucent substrate 10 and the shielding conductive layer 18. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、指などが接触あるいは接近した位置を検出可能な静電容量型入力装置、入力機能付き表示装置および電子機器に関するものである。   The present invention relates to a capacitance-type input device that can detect a position where a finger or the like has touched or approached, a display device with an input function, and an electronic apparatus.

近年、携帯電話、カーナビゲーション、パーソナルコンピュータ、券売機、銀行の端末などの電子機器では、近年、液晶装置などの表面に、タッチパネルと称せられる入力装置が配置され、液晶装置の画像表示領域に表示された指示画像を参照しながら、入力装置の所定箇所を指などで押下することで、情報の入力が行えるものがある。   In recent years, in electronic devices such as mobile phones, car navigation systems, personal computers, ticket vending machines, bank terminals, etc., in recent years, an input device called a touch panel has been arranged on the surface of a liquid crystal device or the like and displayed in an image display area of the liquid crystal device. Some information can be input by pressing a predetermined portion of the input device with a finger or the like while referring to the indicated instruction image.

このような入力装置（タッチパネル）には、抵抗膜型、静電容量型などがあるが、抵抗膜型の入力装置は、フィルムとガラスの２枚構造でフィルムを押下してショートさせる構造のため、動作温度範囲の狭さや、経時変化に弱いという欠点を有している。   Such an input device (touch panel) includes a resistance film type and a capacitance type, but the resistance film type input device has a structure in which a film is pressed and short-circuited by a two-layer structure of film and glass. However, it has the disadvantage that the operating temperature range is narrow and it is vulnerable to changes over time.

これに対して、静電容量型の入力装置は、一枚の基板に透光性導電膜を形成すればよいという利点がある。かかる静電容量型の入力装置では、例えば、互いに交差する方向に電極を延在させて、指などが接触あるいは近接した際、電極間の静電容量が変化することを検知して入力位置を検出するタイプのものがある（例えば、特許文献１）。   On the other hand, the capacitive input device has an advantage that a light-transmitting conductive film is formed on a single substrate. In such a capacitance-type input device, for example, when electrodes are extended in directions intersecting each other, when a finger or the like comes into contact or close to it, the change in capacitance between the electrodes is detected and the input position is determined. There is a detection type (for example, Patent Document 1).

また、静電容量型の入力装置としては、透光性導電膜の両端に同相、同電位の交流を印加し、指が接触あるいは近接してキャパシタが形成される際に流れる微弱電流を検知して入力位置を検出するタイプのものもある（例えば、特許文献２）。
特開２００７−１２２３２６号公報 特開平５−３２４２０３号公報 In addition, as an electrostatic capacitance type input device, an alternating current of the same phase and the same potential is applied to both ends of the translucent conductive film to detect a weak current flowing when a capacitor is formed in contact with or close to a finger. There is also a type that detects an input position (for example, Patent Document 2).
JP 2007-122326 A JP-A-5-324203

このような静電容量型入力装置は、微弱な電流を検出するため、外部からのノイズに弱いという問題がある。そこで、入力装置を完成させた後、入力装置を液晶装置と組み合わせる前に、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）フィルムやＩＴＯガラスを挿入した構造や、入力装置に直接、ＩＴＯをスパッタ形成するなどの方法が考えられている。   Such a capacitive input device has a problem that it is vulnerable to noise from the outside because it detects a weak current. Therefore, after the input device is completed and before the input device is combined with the liquid crystal device, there is a structure in which an ITO (Indium Tin Oxide) film or ITO glass is inserted, or a method in which ITO is directly formed on the input device by sputtering. It is considered.

しかしながら、上記いずれのシード対策でも、ＩＴＯ層を挿入した分、界面が増えるため、界面での反射が原因で光線透過率が低下するという問題点がある。   However, any of the above-mentioned seed countermeasures has a problem in that the light transmittance decreases because of the reflection at the interface because the interface increases as the ITO layer is inserted.

また、上記いずれのシールド対策でも、ＩＴＯに対する導電接続や、貼り合わせ、成膜に多大な手間がかかる一方、歩留まりが低下するという問題点がある。   In addition, any of the above-described shield measures has a problem in that the yield of the conductive connection, bonding, and film formation to ITO is reduced while a great deal of labor is required.

さらに、静電容量型入力装置が完成した後、ＩＴＯ層をスパッタ形成する場合には、静電容量型入力装置を損傷させないように低真空かつ低温でスパッタリングする必要があるため、抵抗値の高いＩＴＯしか形成できないという問題点もある。   Further, when the ITO layer is formed by sputtering after the capacitive input device is completed, it is necessary to perform sputtering at a low vacuum and low temperature so as not to damage the capacitive input device. There is also a problem that only ITO can be formed.

以上の問題点に鑑みて、本発明の課題は、シールド用導電層を設けても光線透過率の低下が発生しない静電容量型入力装置、入力機能付き表示装置および電子機器を提供することにある。   In view of the above problems, an object of the present invention is to provide a capacitance-type input device, a display device with an input function, and an electronic apparatus that do not cause a decrease in light transmittance even if a conductive layer for shielding is provided. is there.

次に、本発明の課題は、製造途中でシールド用導電層を組み込みことにより、生産性の向上や歩留まりの向上などを図ることのできる静電容量型入力装置、入力機能付き表示装置および電子機器を提供することにある。   Next, an object of the present invention is to provide a capacitance-type input device, a display device with an input function, and an electronic device that can improve productivity and yield by incorporating a conductive layer for shielding in the middle of manufacturing. Is to provide.

上記課題を解決するために、本発明では、透光性基板の一方面に入力操作位置を検出するための電極を備えた静電容量型入力装置において、前記透光性基板の前記一方面に対してシールド用導電層が対向配置され、当該シールド用導電層と前記透光性基板の前記一方面との間には高屈折率の透光性材料が充填されていることを特徴とする。   In order to solve the above-described problems, in the present invention, in the capacitive input device including an electrode for detecting an input operation position on one surface of the translucent substrate, the one surface of the translucent substrate is provided on the one surface. On the other hand, a shield conductive layer is disposed oppositely, and a light-transmitting material having a high refractive index is filled between the shield conductive layer and the one surface of the light-transmitting substrate.

本発明では、透光性基板において、入力操作位置を検出するための電極が形成されている一方面側にシールド用導電層を対向させているので、電極を外部ノイズから保護することができる。また、透光性基板の一方面とシールド用導電層との間には高屈折率の透光性材料が充填されているため、透光性基板とシールド用導電層との間には、反射性の界面が存在しない。それ故、シールド用導電層を設けても光線透過率の低下が発生しない。   In the present invention, in the translucent substrate, since the shield conductive layer is opposed to the one surface on which the electrode for detecting the input operation position is formed, the electrode can be protected from external noise. In addition, since the light-transmitting material having a high refractive index is filled between the one surface of the light-transmitting substrate and the shielding conductive layer, there is no reflection between the light-transmitting substrate and the shielding conductive layer. There is no sex interface. Therefore, even if the shielding conductive layer is provided, the light transmittance does not decrease.

本発明において、前記シールド用導電層は、透光性の支持基板上に形成された状態で前記透光性基板の前記一方面側に対向していることが好ましい。このように構成すると、透光性基板の一方面側にシールド用導電層を容易に対向させることができるとともに、透光性基板の一方面とシールド用導電層との間には高屈折率の透光性材料を容易かつ確実に充填することができる。それ故、シールド用導電層を設けても、生産性の向上や歩留まりの向上などを図ることができる。また、予め、シールド用導電層が形成された支持基板を用いて入力装置を組み立てることができるため、高真空かつ高温でスパッタリングすることができ、抵抗値の低いＩＴＯ層によってシールド用導電層を形成することができる。かかるシールド用導電層によれば、優れたシールド効果を発揮する。   In the present invention, it is preferable that the conductive layer for shielding is opposed to the one surface side of the translucent substrate in a state formed on the translucent support substrate. With this configuration, the shield conductive layer can be easily opposed to one side of the translucent substrate, and a high refractive index is provided between the one side of the translucent substrate and the shield conductive layer. The translucent material can be filled easily and reliably. Therefore, even if a conductive layer for shielding is provided, productivity and yield can be improved. In addition, since the input device can be assembled using the support substrate on which the shield conductive layer is formed in advance, sputtering can be performed at high vacuum and high temperature, and the shield conductive layer is formed by the ITO layer having a low resistance value. can do. According to such a conductive layer for shielding, an excellent shielding effect is exhibited.

この場合、前記透光性基板の前記一方面と、前記支持基板において前記シールド用導電層が形成されている面とはシール材によって貼り合わされており、前記透光性基板と前記支持基板において前記シール材で囲まれた領域内に前記透光性材料が充填されていることが好ましい。このように構成すると、透光性基板の一方面側にシールド用導電層をより容易に対向させることができるとともに、透光性基板の一方面とシールド用導電層との間には高屈折率の透光性材料をより容易かつより確実に充填することができる。それ故、シールド用導電層を設けても、生産性の向上や歩留まりの向上などを図ることができる。   In this case, the one surface of the translucent substrate and the surface of the support substrate on which the shield conductive layer is formed are bonded together by a sealing material, and the translucent substrate and the support substrate It is preferable that the translucent material is filled in a region surrounded by the sealing material. With this configuration, the shield conductive layer can be more easily opposed to one surface side of the translucent substrate, and a high refractive index is provided between the one surface of the translucent substrate and the shield conductive layer. This translucent material can be filled more easily and more reliably. Therefore, even if a conductive layer for shielding is provided, productivity and yield can be improved.

本発明において、前記透光性基板の前記一方面には、前記シールド用導電層と導電接続されるシールド用電極が形成され、前記シール材には、前記シールド用導電層と前記シールド用電極とを導電接続するための基板間導通材が配合されていることが好ましい。このように構成すると、透光性基板の側のみを外部と配線接続すればよいので、生産性の向上を図ることができる。   In the present invention, a shield electrode that is conductively connected to the shield conductive layer is formed on the one surface of the translucent substrate, and the seal material includes the shield conductive layer and the shield electrode. It is preferable that an inter-substrate conductive material for conductively connecting the two is mixed. With this configuration, it is only necessary to wire-connect only the light-transmitting substrate side to the outside, so that productivity can be improved.

この場合、前記基板間導通材は、前記シール材に配合されていることが好ましい。このように構成すると、透光性基板と支持基板との貼り合わせ工程を利用して、基板間の導通を図ることができ、生産性の向上を図ることができる。   In this case, it is preferable that the inter-substrate conductive material is blended in the sealing material. If comprised in this way, conduction | electrical_connection between board | substrates can be aimed at using the bonding process of a translucent board | substrate and a support substrate, and productivity can be aimed at.

本発明において、前記透光性基板は、前記一方面を入力操作側とは反対側に向けて配置された場合、前記支持基板は、前記透光性基板に対して入力操作側とは反対側において、前記シールド用導電層が形成されている面を入力操作側に向けて配置される。この場合、前記支持基板において前記シールド用導電層が形成されている側とは反対側の面には、当該支持基板との間に液晶層を保持する基板が対向配置されていることが好ましい。すなわち、支持基板自身が液晶装置を構成する基板として用いられていることが好ましい。このように構成すると、部品点数の削減を図ることができる。また、部材が減る分、光線透過率が向上する。   In the present invention, when the translucent substrate is arranged with the one surface facing away from the input operation side, the support substrate is opposite to the input operation side with respect to the translucent substrate. The surface on which the shield conductive layer is formed is arranged with the input operation side facing. In this case, it is preferable that a substrate holding the liquid crystal layer is disposed opposite to the surface of the support substrate opposite to the side where the shield conductive layer is formed. That is, the support substrate itself is preferably used as a substrate constituting the liquid crystal device. With this configuration, the number of parts can be reduced. Further, the light transmittance is improved as the number of members is reduced.

本発明を適用した静電容量型入力装置を用いて入力機能付き表示装置を構成する場合、前記静電容量型入力装置に対して、入力操作側とは反対側に画像生成装置が構成される。   When a display device with an input function is configured using a capacitance type input device to which the present invention is applied, an image generation device is configured on the side opposite to the input operation side with respect to the capacitance type input device. .

かかる入力機能付き表示装置は、銀行端末などの端末、携帯電話機、モバイルコンピュータなどの電子機器に搭載される。   Such display devices with an input function are mounted on electronic devices such as terminals such as bank terminals, mobile phones, and mobile computers.

図面を参照して、本発明の実施の形態を説明する。なお、以下の説明で参照する図においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならしめてある。   Embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In the drawings to be referred to in the following description, the scales are different for each layer and each member so that each layer and each member have a size that can be recognized on the drawing.

［実施の形態１］
（全体構成）
図１（ａ）、（ｂ）は各々、本発明を適用した入力装置付き表示装置の要部構成を模式的に示す説明図、およびこの入力装置付き表示装置の平面的な構成を模式的に示す説明図である。図２は、本形態の入力装置付き表示装置の断面構成を模式的に示す説明図である。なお、図１（ｂ）において、第１の透光性電極および第２の透光性電極について実線で簡略化して示してあり、それらの数も減らして示してある。また、図２でも、透光性電極、および液晶装置の画素電極や対向電極などについては簡略化して示してある。 [Embodiment 1]
(overall structure)
1 (a) and 1 (b) are explanatory diagrams schematically showing a main part configuration of a display device with an input device to which the present invention is applied, and a plan view configuration of the display device with an input device. It is explanatory drawing shown. FIG. 2 is an explanatory diagram schematically showing a cross-sectional configuration of the display device with an input device of the present embodiment. Note that in FIG. 1B, the first and second translucent electrodes are shown in simplified form with solid lines, and the numbers thereof are also reduced. In FIG. 2, the translucent electrode, the pixel electrode and the counter electrode of the liquid crystal device are also shown in a simplified manner.

図１（ａ）および図２において、本形態の入力装置付き表示装置１００は概ね、画像生成装置としての液晶装置５と、この液晶装置５において表示光を出射する側の面に重ねて配置されたパネル状の静電容量型入力装置１（タッチパネル）とを有している。液晶装置５は、透過型、反射型あるいは半透過反射型のアクティブマトリクス型の液晶パネル５ａを備えている。本形態において、液晶パネル５ａは、透過型であるため、表示光の出射側とは反対側にバックライト装置（図示せず）が配置される。また、液晶装置５において、液晶パネル５ａに対して表示光の出射側には第１偏光板８１が重ねて配置され、その反対側に第２偏光板８２が重ねて配置されている。   In FIG. 1A and FIG. 2, the display device 100 with an input device of this embodiment is generally arranged so as to overlap with a liquid crystal device 5 as an image generating device and a surface of the liquid crystal device 5 on the side from which display light is emitted. Panel-type capacitive input device 1 (touch panel). The liquid crystal device 5 includes a transmissive, reflective, or transflective active matrix liquid crystal panel 5a. In this embodiment, since the liquid crystal panel 5a is a transmission type, a backlight device (not shown) is disposed on the side opposite to the display light emission side. Further, in the liquid crystal device 5, the first polarizing plate 81 is disposed on the liquid crystal panel 5a on the display light emission side, and the second polarizing plate 82 is disposed on the opposite side.

液晶パネル５ａは、表示光の出射側に配置された透光性の素子基板５０と、この素子基板５０に対して対向配置された状態でシール材７１により貼り合わされた透光性の対向基板６０と、対向基板６０と素子基板５０との間に保持された液晶層５５とを備えており、素子基板５０には画素電極５３が形成され、対向基板６０には共通電極６２が形成されている。素子基板５０において、対向基板６０の縁から張り出した張出領域５９には駆動用ＩＣ７５がＣＯＧ実装されているとともに、張出領域５９にはフレキシブル基板７３が接続されている。なお、素子基板５０には、素子基板５０上のスイッチング素子と同時に駆動回路を形成することもある。また、表示光の出射側に対向基板６０が配置され、対向基板６０において表示光の出射側とは反対側に素子基板５０が配置されることもある。   The liquid crystal panel 5a includes a translucent element substrate 50 disposed on the display light emitting side and a translucent counter substrate 60 bonded to the element substrate 50 with a sealing material 71 in a state of being opposed to the element substrate 50. And a liquid crystal layer 55 held between the counter substrate 60 and the element substrate 50, a pixel electrode 53 is formed on the element substrate 50, and a common electrode 62 is formed on the counter substrate 60. . In the element substrate 50, a driving IC 75 is COG mounted in an overhanging region 59 projecting from the edge of the counter substrate 60, and a flexible substrate 73 is connected to the overhanging region 59. Note that a drive circuit may be formed on the element substrate 50 simultaneously with the switching elements on the element substrate 50. The counter substrate 60 may be disposed on the display light emission side, and the element substrate 50 may be disposed on the opposite substrate 60 on the side opposite to the display light emission side.

静電容量型入力装置１は、ガラス基板などからなる透光性基板１０の一方面１０ａに、後述する透光性電極１１、１２が形成され、その端部１３にはフレキシブル基板３３が接続されている。透光性電極１１、１２はＩＴＯ膜からなる。   In the capacitive input device 1, translucent electrodes 11, 12 described later are formed on one surface 10 a of a translucent substrate 10 made of a glass substrate or the like, and a flexible substrate 33 is connected to an end 13 thereof. ing. The translucent electrodes 11 and 12 are made of an ITO film.

かかる静電容量型入力装置１においては、透光性基板１０の上面側が入力操作面になっており、入力操作面の略中央領域が、指先による入力が行われる入力領域１００ａになっている。   In such a capacitive input device 1, the upper surface side of the translucent substrate 10 is an input operation surface, and a substantially central region of the input operation surface is an input region 100a where input by a fingertip is performed.

図１（ｂ）に示すように、透光性基板１０の一方面１０ａには、矢印Ｘで示す第１の方向に延在する複数列の透光性電極１１と、矢印Ｙで示す第１の方向に交差する第２の方向に延在する複数列の透光性電極１２とが形成されている。なお、図１（ｂ）に示す構成は概念図であって、透光性電極１１、１２のパターンとしては、パッドと称せられる広い面積の部分を備えている構成、左右逆向きの三角形状のパターンが交互に配置された構成などが採用される。   As shown in FIG. 1B, a plurality of rows of translucent electrodes 11 extending in the first direction indicated by the arrow X and the first side indicated by the arrow Y are formed on the one surface 10 a of the translucent substrate 10. A plurality of rows of translucent electrodes 12 extending in a second direction intersecting with the direction of are formed. Note that the configuration shown in FIG. 1B is a conceptual diagram, and the pattern of the translucent electrodes 11 and 12 includes a configuration having a large area portion called a pad, and a triangular shape in the opposite direction. A configuration in which patterns are alternately arranged is employed.

静電容量型入力装置１では、複数の透光性電極１１、１２に順次、電圧印加して電荷を与えた際、いずれかの箇所に導電体である指が接触または近接すると、透光性電極１１、１２と、指との間で容量が形成され、透光性電極１１、１２を介して検出される静電容量が低下するので、いずれの箇所に指が接触または近接したかを検出することができる。   In the capacitive input device 1, when a voltage is applied to the plurality of translucent electrodes 11, 12 in order and a charge is applied thereto, if a finger as a conductor contacts or approaches any location, the translucency is achieved. Capacitance is formed between the electrodes 11 and 12 and the finger, and the capacitance detected through the translucent electrodes 11 and 12 decreases, so it is possible to detect where the finger touches or approaches can do.

再び図１（ａ）および図２において、静電容量型入力装置１は、液晶装置５の第１偏光板８１に重ねて配置されて入力機能付き表示装置１００を構成する。この入力機能付き表示装置１００において、液晶装置５は入力領域１００ａ内（画像表示領域内）に動画や静止画を表示可能であり、入力機能付き表示装置１００に対して、静電容量型入力装置１を介して入力を行う際の指示画像なども表示する。従って、利用者は、液晶装置５で表示された指示画像を見ながら静電容量型入力装置１に指を接触または近接させる。そして、いずれの箇所に指が接触または近接したかを検出することにより、入力された情報を判別する。   In FIG. 1A and FIG. 2 again, the capacitive input device 1 is arranged so as to overlap the first polarizing plate 81 of the liquid crystal device 5 to constitute the display device 100 with an input function. In the display device with an input function 100, the liquid crystal device 5 can display a moving image or a still image in the input area 100a (in the image display area). An instruction image when inputting via 1 is also displayed. Accordingly, the user brings his / her finger into contact with or approaches the capacitive input device 1 while viewing the instruction image displayed on the liquid crystal device 5. Then, the input information is discriminated by detecting at which part the finger is in contact with or in proximity.

（シールド構造）
静電容量型入力装置１は、微弱な電流を検出するため、外部からのノイズに弱いという問題がある。そこで、本形態では、以下に説明するように、透光性基板１０の一方面１０ａに対して、シールド用導電層１８を高屈折率の透光性材料１５を介して対向させてある。本形態において、高屈折率の透光性材料１５は、屈折率が１．４〜１．９の樹脂材料、例えば、メタクリレート系樹脂などからなる。 (Shield structure)
Since the capacitive input device 1 detects a weak current, there is a problem that it is vulnerable to external noise. Therefore, in this embodiment, as will be described below, the shield conductive layer 18 is opposed to the one surface 10a of the translucent substrate 10 with the translucent material 15 having a high refractive index interposed therebetween. In this embodiment, the high refractive index translucent material 15 is made of a resin material having a refractive index of 1.4 to 1.9, for example, a methacrylate resin.

このように構成するにあたって、シールド用導電層１８は、透光性の支持基板１９上の全面にスパッタ法などで形成されたＩＴＯ膜であり、透光性基板１０の一方面１０ａ側に対向している。このようにシールド用導電層１８であるＩＴＯ膜を支持基板１９にスパッタ法で製膜する場合には、支持基板１９の単体の状態でスパッタリングすることが可能であり、高真空且つ高温でスパッタリングすることが可能なため抵抗値の低い良好なＩＴＯ膜が形成可能である。ここで、透光性基板１０は、一方面１０ａを入力操作側とは反対側に向けて配置され、支持基板１９は、透光性基板１０に対して入力操作側とは反対側において、シールド用導電層１８が形成されている面を入力操作側に向けて配置されている。   In this configuration, the shield conductive layer 18 is an ITO film formed on the entire surface of the light-transmitting support substrate 19 by sputtering or the like, and is opposed to the one surface 10 a side of the light-transmitting substrate 10. ing. As described above, when the ITO film as the shielding conductive layer 18 is formed on the support substrate 19 by the sputtering method, the support substrate 19 can be sputtered in a single state, and is sputtered at a high vacuum and at a high temperature. Therefore, a good ITO film having a low resistance value can be formed. Here, the translucent substrate 10 is disposed with one surface 10a facing away from the input operation side, and the support substrate 19 is shielded with respect to the translucent substrate 10 on the side opposite to the input operation side. The surface on which the conductive layer 18 is formed is arranged facing the input operation side.

また、透光性基板１０の一方面１０ａと、支持基板１９においてシールド用導電層１８が形成されている面とは矩形枠状のシール材３１によって貼り合わされており、透光性基板１０と支持基板１９においてシール材３１で囲まれた領域内に、高屈折率の透光性材料１５が充填され、封止されている。かかる構造は、シール材７１によって素子基板５０と対向基板６０とを貼り合わせ、シール材７１で囲まれた領域内に液晶を充填され、封止した構造と同様である。   Further, the one surface 10a of the translucent substrate 10 and the surface of the support substrate 19 on which the shield conductive layer 18 is formed are bonded together by a rectangular frame-shaped sealing material 31, and the translucent substrate 10 and the support substrate 19 are supported. A region surrounded by the sealing material 31 in the substrate 19 is filled with a light-transmitting material 15 having a high refractive index and sealed. Such a structure is the same as the structure in which the element substrate 50 and the counter substrate 60 are bonded to each other with the sealing material 71 and the region surrounded by the sealing material 71 is filled with liquid crystal and sealed.

また、透光性基板１０の一方面１０ａにおいて、シールド用導電層１８と重なる位置には、シールド用導電層１８と導電接続されるシールド用電極３８が形成され、透光性基板１０と支持基板１９との間にはシールド用導電層１８とシールド用電極３８とを導電接続するための基板間導通材３０が配置されている。本形態において、基板間導通材３０は、表面に金属層が形成されたプラスチックビーズなどであり、シール材３１に配合されている。かかる構造は、シール材７１に配合された基板間導通材によって、素子基板５０と対向基板６０とを導通させる構造と同様である。   In addition, on one surface 10a of the translucent substrate 10, a shield electrode 38 that is conductively connected to the shield conductive layer 18 is formed at a position overlapping the shield conductive layer 18, and the translucent substrate 10 and the support substrate are formed. An inter-substrate conducting material 30 for conductively connecting the shielding conductive layer 18 and the shielding electrode 38 is disposed between the shielding conductive layer 18 and the shielding electrode 38. In this embodiment, the inter-substrate conductive material 30 is a plastic bead having a metal layer formed on the surface thereof, and is blended in the seal material 31. Such a structure is the same as the structure in which the element substrate 50 and the counter substrate 60 are electrically connected by the inter-substrate conductive material blended in the sealing material 71.

（製造方法）
このような構成の入力機能付き表示装置１００の製造工程のうち、静電容量型入力装置１を製造するには、透光性電極１１、１２を形成した透光性基板１０と、シールド用導電層１８を形成した支持基板１０とをシール材３１により所定の隙間を介して対向する状態に貼り合わせ、パネル構造体とする。その結果、透光性電極１１、１２とシールド用導電層１８とが対向する状態となる。 (Production method)
In the manufacturing process of the display device with an input function 100 having such a configuration, in order to manufacture the capacitance-type input device 1, the translucent substrate 10 on which the translucent electrodes 11 and 12 are formed and the shielding conductive material. The support substrate 10 on which the layer 18 is formed is bonded to a state in which the support substrate 10 is opposed to the support substrate 10 with a predetermined gap therebetween to form a panel structure. As a result, the translucent electrodes 11 and 12 and the shielding conductive layer 18 face each other.

次に、パネル構造体を所定寸法に切断して、シール材３１の途切れ部分を露出させ、この途切れ部分から、高屈折率の透光性材料１５をシール材３１で囲まれた領域内に充填した後、途切れ部分を樹脂などで封止する。   Next, the panel structure is cut to a predetermined size to expose the discontinuous portion of the sealing material 31, and the region surrounded by the sealing material 31 is filled with the translucent material 15 having a high refractive index from the discontinuous portion. After that, the interrupted portion is sealed with resin or the like.

次に、透光性基板１０の端部１３にフレキシブル基板３３を接続すれば、静電容量型入力装置１を得ることができ、かかる静電容量型入力装置１を液晶装置５に重ねれば、入力機能付き表示装置１００を得ることができる。   Next, if the flexible substrate 33 is connected to the end portion 13 of the translucent substrate 10, the capacitive input device 1 can be obtained. If the capacitive input device 1 is overlaid on the liquid crystal device 5. The display device 100 with an input function can be obtained.

（本形態の主な効果）
以上説明したように、本形態では、透光性基板１０において、入力操作位置を検出するための透光性電極１１、１２が形成されている一方面１０ａ側にシールド用導電層１８を対向させているので、透光性電極１１、１２を外部ノイズから保護することができる。 (Main effects of this form)
As described above, in this embodiment, in the translucent substrate 10, the shield conductive layer 18 is opposed to the one surface 10a side on which the translucent electrodes 11 and 12 for detecting the input operation position are formed. Therefore, the translucent electrodes 11 and 12 can be protected from external noise.

また、透光性基板１０の一方面１０ａとシールド用導電層１８との間には高屈折率の透光性材料１５が充填されているため、透光性基板１０とシールド用導電層１８との間には、反射性の界面が存在しない。それ故、シールド用導電層１８を設けても光線透過率の低下が発生しない。   Further, since the light-transmitting material 15 having a high refractive index is filled between the one surface 10a of the light-transmitting substrate 10 and the shielding conductive layer 18, the light-transmitting substrate 10, the shielding conductive layer 18 and the like. There is no reflective interface between them. Therefore, even if the shielding conductive layer 18 is provided, the light transmittance does not decrease.

また、本形態では、シールド用導電層１８は、透光性の支持基板１９上に形成された状態で透光性基板１０の一方面１０ａ側に対向している構成を採用したため、透光性基板１０の一方面１０ａ側にシールド用導電層１８を容易に対向させることができるとともに、透光性基板１０の一方面１０ａとシールド用導電層１８との間には高屈折率の透光性材料１５を容易かつ確実に充填することができる。それ故、シールド用導電層１８を設けても、生産性の向上や歩留まりの向上などを図ることができる。   In this embodiment, since the shield conductive layer 18 is formed on the translucent support substrate 19 and faces the one surface 10 a of the translucent substrate 10, the translucent substrate 18 is used. The shield conductive layer 18 can be easily opposed to the one surface 10 a side of the substrate 10, and a high refractive index light transmissive property is provided between the one surface 10 a of the light transmissive substrate 10 and the shield conductive layer 18. The material 15 can be filled easily and reliably. Therefore, even if the shield conductive layer 18 is provided, productivity and yield can be improved.

また、予め、シールド用導電層１８が形成された支持基板１９を用いて静電容量型入力装置１を組み立てることができるため、静電容量型入力装置１を組み立てた後、シールド用導電層１８をスパッタ形成する場合と違って、高真空かつ高温でＩＴＯ膜をスパッタリングすることができる。それ故、抵抗値の低いＩＴＯ膜によってシールド用導電層１８を形成することができ、かかるシールド用導電層１８によれば、優れたシールド効果を発揮する。   Further, since the capacitive input device 1 can be assembled using the support substrate 19 on which the shield conductive layer 18 is formed in advance, the shield conductive layer 18 is assembled after the capacitive input device 1 is assembled. Unlike the case of sputtering, the ITO film can be sputtered at high vacuum and high temperature. Therefore, the shield conductive layer 18 can be formed of an ITO film having a low resistance value, and the shield conductive layer 18 exhibits an excellent shielding effect.

さらに、透光性基板１０と支持基板１９とはシール材３１によって貼り合わされ、シール材３１で囲まれた領域内に透光性材料１５が充填されているので、透光性基板１０の一方面１０ａ側にシールド用導電層１８をより容易に対向させることができるとともに、透光性基板１０の一方面１０ａとシールド用導電層１８との間には高屈折率の透光性材料１５をより容易かつより確実に充填することができる。それ故、シールド用導電層１８を設けても、生産性の向上や歩留まりの向上などを図ることができる。また、シール材３１に配合した基板間導通材３０によって基板間の導通を図ったため、透光性基板１０の側のみをフレキシブル基板３３で外部と配線接続すればよく、支持基板１９への配線接続が不要であるという利点もある。   Furthermore, since the translucent substrate 10 and the support substrate 19 are bonded together by the sealing material 31 and the translucent material 15 is filled in a region surrounded by the sealing material 31, one surface of the translucent substrate 10 is provided. The shield conductive layer 18 can be more easily opposed to the 10a side, and a high-refractive-index translucent material 15 is placed between the one surface 10a of the translucent substrate 10 and the shield conductive layer 18. Easy and more reliable filling. Therefore, even if the shield conductive layer 18 is provided, productivity and yield can be improved. In addition, since the inter-substrate conductive material 30 blended in the sealing material 31 is used to connect the substrates, only the light-transmitting substrate 10 side needs to be connected to the outside with the flexible substrate 33, and the wiring connection to the support substrate 19 There is also an advantage that is unnecessary.

［実施の形態１の変形例］
実施の形態１において、透光性電極１１、１２を形成した透光性基板１０と、シールド用導電層１８を形成した支持基板１９とをシール材３１により所定の隙間を介して対向する状態に貼り合わせ、パネル構造体とした後、支持基板１９の外面側を研磨して支持基板１９を薄板化すれば、静電容量型入力装置１の薄型化を図ることができるとともに、光線透過率を高めることができる。 [Modification of Embodiment 1]
In the first embodiment, the translucent substrate 10 on which the translucent electrodes 11 and 12 are formed and the support substrate 19 on which the shielding conductive layer 18 is formed are opposed to each other by a sealant 31 with a predetermined gap. After bonding and forming a panel structure, if the support substrate 19 is thinned by polishing the outer surface side of the support substrate 19, the capacitive input device 1 can be thinned and the light transmittance can be increased. Can be increased.

［実施の形態２］
図３は、本発明の実施の形態２に係る入力機能付き表示装置１００の断面構成を模式的に示す説明図である。 [Embodiment 2]
FIG. 3 is an explanatory diagram schematically showing a cross-sectional configuration of the display device with an input function 100 according to the second embodiment of the present invention.

図３に示す静電容量型入力装置１でも、実施の形態１と同様、外部からのノイズに弱いという問題があるため、透光性基板１０の一方面１０ａに対してシールド用導電層１８を対向させ、一方面１０ａとシールド用導電層１８との間には高屈折率の透光性材料１５を充填してある。本形態において、高屈折率の透光性材料１５は、屈折率が１．４〜１．９の樹脂材料からなる。   3 also has a problem that it is vulnerable to noise from the outside, similarly to the first embodiment, the shield conductive layer 18 is formed on the one surface 10a of the translucent substrate 10. A transparent material 15 having a high refractive index is filled between the one surface 10a and the shielding conductive layer 18 so as to face each other. In this embodiment, the high refractive index translucent material 15 is made of a resin material having a refractive index of 1.4 to 1.9.

このように構成するにあたって、本形態では、透光性基板１０は、一方面１０ａを入力操作側とは反対側に向けて配置され、シールド用導電層１８は、液晶パネル５ａに用いた素子基板５０を支持基板として形成されている。すなわち、本形態では、素子基板５０の裏面側（入力操作側の面／対向基板６０が配置されている側とは反対側の面）の全面にスパッタ法などでＩＴＯ膜を形成し、かかるＩＴＯ膜をシールド用導電層１８として用いている。このため、第１偏光板８１は、透光性基板１０に対して入力操作側の面に重ねて配置されている。   In this configuration, in this embodiment, the translucent substrate 10 is disposed with one surface 10a facing away from the input operation side, and the shield conductive layer 18 is an element substrate used for the liquid crystal panel 5a. 50 is formed as a support substrate. That is, in this embodiment, an ITO film is formed on the entire back surface side of the element substrate 50 (the surface on the input operation side / the surface opposite to the side on which the counter substrate 60 is disposed) by a sputtering method or the like. A film is used as the conductive layer 18 for shielding. For this reason, the first polarizing plate 81 is disposed so as to overlap the surface on the input operation side with respect to the translucent substrate 10.

ここで、透光性基板１０の一方面１０ａと、素子基板５０においてシールド用導電層１８が形成されている面とは矩形枠状のシール材３１によって貼り合わされており、透光性基板１０と支持基板１９においてシール材３１で囲まれた領域内に、高屈折率の透光性材料１５が充填され、封止されている。   Here, the one surface 10 a of the translucent substrate 10 and the surface of the element substrate 50 on which the shield conductive layer 18 is formed are bonded together by a rectangular frame-shaped sealing material 31. A region surrounded by the sealing material 31 in the support substrate 19 is filled with a light-transmitting material 15 having a high refractive index and sealed.

また、透光性基板１０の一方面１０ａには、シールド用導電層１８と導電接続されるシールド用電極３８が形成され、透光性基板１０と支持基板１９との間にはシールド用導電層１８とシールド用電極３８とを導電接続するための基板間導通材３０が配置されている。本形態において、基板間導通材３０は、表面に金属層が形成されたプラスチックビーズなどであり、シール材３１に配合されている。   Further, a shield electrode 38 that is conductively connected to the shield conductive layer 18 is formed on the one surface 10 a of the translucent substrate 10, and the shield conductive layer is interposed between the translucent substrate 10 and the support substrate 19. An inter-substrate conducting material 30 for conductively connecting 18 and the shield electrode 38 is disposed. In this embodiment, the inter-substrate conductive material 30 is a plastic bead having a metal layer formed on the surface thereof, and is blended in the seal material 31.

このような構成の入力機能付き表示装置１００の製造工程のうち、静電容量型入力装置１を製造するには、まず、液晶パネル５ａを形成した後、素子基板５０の入力操作側の面にスパッタ法などでシールド用導電層１８を形成しておく。あるいは、シールド用導電層１８を形成した素子基板５０を用いて液晶パネル５ａを形成しておく。   In the manufacturing process of the display device with an input function 100 having such a configuration, in order to manufacture the capacitive input device 1, first, after the liquid crystal panel 5 a is formed, the surface of the element substrate 50 on the input operation side is formed. The shield conductive layer 18 is formed by sputtering or the like. Alternatively, the liquid crystal panel 5a is formed using the element substrate 50 on which the shield conductive layer 18 is formed.

そして、透光性電極１１、１２を形成した透光性基板１０と、液晶パネル５ａの素子基板５０とをシール材３１により所定の隙間を介して対向する状態に貼り合わせ、パネル構造体とする。その結果、透光性電極１１、１２とシールド用導電層１８とが対向する状態となる。   And the translucent board | substrate 10 in which the translucent electrodes 11 and 12 were formed, and the element board | substrate 50 of the liquid crystal panel 5a are bonded together in the state which opposes through a predetermined gap by the sealing material 31, and it is set as a panel structure. . As a result, the translucent electrodes 11 and 12 and the shielding conductive layer 18 face each other.

次に、パネル構造体を所定寸法に切断して、シール材３１の途切れ部分を露出させ、この途切れ部分から、高屈折率の透光性材料１５をシール材３１で囲まれた領域内に充填した後、途切れ部分を樹脂などで封止する。   Next, the panel structure is cut into a predetermined size to expose a discontinuous portion of the sealing material 31, and a high refractive index translucent material 15 is filled into the region surrounded by the sealing material 31 from the discontinuous portion. After that, the interrupted portion is sealed with resin or the like.

次に、透光性基板１０の端部１３にフレキシブル基板３３を接続すれば、静電容量型入力装置１および入力機能付き表示装置１００を得ることができる。   Next, if the flexible substrate 33 is connected to the end portion 13 of the translucent substrate 10, the capacitive input device 1 and the display device 100 with an input function can be obtained.

以上説明したように、本形態でも、実施の形態１と同様、透光性基板１０において、入力操作位置を検出するための透光性電極１１、１２が形成されている一方面１０ａ側にシールド用導電層１８を対向させているので、透光性電極１１、１２を外部ノイズから保護することができる。また、透光性基板１０の一方面１０ａとシールド用導電層１８との間には高屈折率の透光性材料１５が充填されているため、透光性基板１０とシールド用導電層１８との間には、反射性の界面が存在しない。それ故、シールド用導電層１８を設けても光線透過率の低下が発生しないなど、実施の形態１と同様な効果を奏する。   As described above, in the present embodiment as well, in the same manner as in the first embodiment, the transparent substrate 10 is shielded on the one surface 10a side where the transparent electrodes 11 and 12 for detecting the input operation position are formed. Since the conductive layer 18 is opposed, the translucent electrodes 11 and 12 can be protected from external noise. Further, since the light-transmitting material 15 having a high refractive index is filled between the one surface 10a of the light-transmitting substrate 10 and the shielding conductive layer 18, the light-transmitting substrate 10, the shielding conductive layer 18 and the like. There is no reflective interface between them. Therefore, the same effects as those of the first embodiment can be obtained, for example, even when the shielding conductive layer 18 is provided, the light transmittance does not decrease.

また、本形態では素子基板５０をシールド用導電層１８の支持基板として用いたため、部品点数の削減を図ることができるとともに、部材が減る分、光線透過率が向上する。   Further, in this embodiment, since the element substrate 50 is used as a support substrate for the shielding conductive layer 18, the number of components can be reduced, and the light transmittance is improved by reducing the number of members.

さらに、予め、シールド用導電層１８が形成された素子基板５０を用いて静電容量型入力装置１を組み立てることができるため、静電容量型入力装置１を組み立てた後、シールド用導電層１８をスパッタ形成する場合と違って、高真空かつ高温でＩＴＯ膜をスパッタリングすることができる。それ故、抵抗値の低いＩＴＯ膜によってシールド用導電層１８を形成することができ、かかるシールド用導電層１８によれば、優れたシールド効果を発揮する。   Furthermore, since the capacitive input device 1 can be assembled using the element substrate 50 on which the shield conductive layer 18 is formed in advance, the shield conductive layer 18 is assembled after the capacitive input device 1 is assembled. Unlike the case of sputtering, the ITO film can be sputtered at high vacuum and high temperature. Therefore, the shield conductive layer 18 can be formed of an ITO film having a low resistance value, and the shield conductive layer 18 exhibits an excellent shielding effect.

［実施の形態２の変形例１］
実施の形態２では、液晶装置５において素子基板５０が入力操作側に配置されていたが、対向基板６０が入力操作側に配置されている場合、対向基板６０をシールド用導電層１８の支持基板として用いればよい。また、第１偏光板８１が液晶パネル５ａと透光性基板１０との間に配置されている場合、第１偏光板８１をシールド用導電層１８の支持基板として用いてもよい。 [Modification 1 of Embodiment 2]
In the second embodiment, the element substrate 50 is disposed on the input operation side in the liquid crystal device 5. However, when the counter substrate 60 is disposed on the input operation side, the counter substrate 60 is used as the support substrate for the shield conductive layer 18. May be used. Moreover, when the 1st polarizing plate 81 is arrange | positioned between the liquid crystal panel 5a and the translucent board | substrate 10, you may use the 1st polarizing plate 81 as a support substrate of the conductive layer 18 for shielding.

［実施の形態２の変形例２］
図４（ａ）、（ｂ）は各々、本発明の実施の形態２の変形例２に係る入力装置付き表示装置の断面構成を模式的に示す説明図である。なお、本形態の基本的な構成は実施の形態２と同様であるため、共通する部分には同一の符号を付してそれらの説明を省略する。 [Modification 2 of Embodiment 2]
4 (a) and 4 (b) are explanatory views schematically showing a cross-sectional configuration of a display device with an input device according to a second modification of the second embodiment of the present invention. Since the basic configuration of this embodiment is the same as that of the second embodiment, common portions are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.

実施の形態２では、ＴＮモードの液晶装置５を用いて静電容量型入力装置１を構成し、シールド用導電層１８によって、タッチパネル１がノイズに弱いという問題を解消したが、液晶装置５において、横電界を利用したＩＰＳ(In Plane Switching)モードあるいはＦＦＳ（Fring Field Switching）モードを採用する場合、シールド用導電層１８によって液晶装置５を静電気から保護する構成を採用してもよい。   In the second embodiment, the capacitance type input device 1 is configured using the TN mode liquid crystal device 5, and the problem that the touch panel 1 is vulnerable to noise is eliminated by the shielding conductive layer 18. When adopting an IPS (In Plane Switching) mode or a FFS (Fring Field Switching) mode using a lateral electric field, a configuration in which the liquid crystal device 5 is protected from static electricity by the shielding conductive layer 18 may be employed.

例えば、図４（ａ）に示すように、静電容量型入力装置１にＩＰＳモードの液晶装置５を用いるにあたって、表示光の出射側に対向基板６０を配置し、対向基板６０に対して表示光の出射側とは反対側に素子基板５０を配置した場合、対向基板６０の裏面側（入力操作側の面／素子基板５０が配置されている側とは反対側の面）の全面にスパッタ法などでＩＴＯ膜を形成し、かかるＩＴＯ膜をシールド用導電層１８として用いる。この場合、第１偏光板８１は、透光性基板１０に対して入力操作側の面に重ねて配置される。   For example, as shown in FIG. 4A, when the IPS mode liquid crystal device 5 is used for the capacitive input device 1, the counter substrate 60 is disposed on the display light emitting side, and the display is performed with respect to the counter substrate 60. When the element substrate 50 is disposed on the side opposite to the light emitting side, sputtering is performed on the entire back surface of the counter substrate 60 (the surface on the input operation side / the surface opposite to the side on which the element substrate 50 is disposed). An ITO film is formed by a method or the like, and the ITO film is used as the shielding conductive layer 18. In this case, the first polarizing plate 81 is disposed so as to overlap the surface on the input operation side with respect to the translucent substrate 10.

このような構成の静電容量型入力装置１では、素子基板５０の側に共通電極５２および画素電極５３が各々櫛歯状に形成されるため、対向基板６０の側には電極が形成されない。このため、対向基板６０の側から静電気が侵入しやすいことになるが、本形態では、対向基板６０の裏面側に、タッチパネル１に対するシールド用導電層１８が形成されており、かかるシールド用導電層１８は、対向基板６０の側から静電気が侵入することを防止する効果を発揮する。   In the capacitance-type input device 1 having such a configuration, the common electrode 52 and the pixel electrode 53 are each formed in a comb shape on the element substrate 50 side, and thus no electrode is formed on the counter substrate 60 side. For this reason, although static electricity easily enters from the side of the counter substrate 60, in this embodiment, the shield conductive layer 18 for the touch panel 1 is formed on the back surface side of the counter substrate 60. No. 18 exhibits the effect of preventing static electricity from entering from the counter substrate 60 side.

また、図４（ｂ）に示すように、静電容量型入力装置１にＦＦＳモードの液晶装置５を用いるにあたって、表示光の出射側に対向基板６０を配置し、対向基板６０に対して表示光の出射側とは反対側に素子基板５０を配置した場合にも、対向基板６０の裏面側（入力操作側の面／素子基板５０が配置されている側とは反対側の面）の全面にスパッタ法などでＩＴＯ膜を形成し、かかるＩＴＯ膜をシールド用導電層１８として用いる。この場合、第１偏光板８１は、透光性基板１０に対して入力操作側の面に重ねて配置される。   4B, when the FFS mode liquid crystal device 5 is used in the capacitive input device 1, the counter substrate 60 is disposed on the display light emitting side, and the display is performed with respect to the counter substrate 60. Even when the element substrate 50 is disposed on the side opposite to the light emitting side, the entire back surface side (surface on the input operation side / surface opposite to the side on which the element substrate 50 is disposed) of the counter substrate 60. An ITO film is formed by sputtering or the like, and this ITO film is used as the conductive layer 18 for shielding. In this case, the first polarizing plate 81 is disposed so as to overlap the surface on the input operation side with respect to the translucent substrate 10.

このような構成の静電容量型入力装置１では、素子基板５０の側に共通電極５２、誘電体層５４、およびスリット付きの画素電極５３がこの順に形成されるため、対向基板６０の側には電極が形成されない。このため、対向基板６０の側から静電気が侵入しやすいことになるが、本形態では、対向基板６０の裏面側に、タッチパネル１に対するシールド用導電層１８が形成されており、かかるシールド用導電層１８は、対向基板６０の側から静電気が侵入することを防止する効果を発揮する。なお、ＦＦＳモードの液晶装置５では、画素電極、誘電体層、およびスリット付きの共通電極がこの順に形成されることがあるが、かかる構成を採用した場合も、シールド用導電層１８によって、対向基板６０の側から静電気が侵入することを防止することができる。   In the capacitance type input device 1 having such a configuration, the common electrode 52, the dielectric layer 54, and the pixel electrode 53 with the slit are formed in this order on the element substrate 50 side. No electrode is formed. For this reason, although static electricity easily enters from the side of the counter substrate 60, in this embodiment, the shield conductive layer 18 for the touch panel 1 is formed on the back surface side of the counter substrate 60. No. 18 exhibits the effect of preventing static electricity from entering from the counter substrate 60 side. In the FFS mode liquid crystal device 5, the pixel electrode, the dielectric layer, and the common electrode with slits may be formed in this order. Static electricity can be prevented from entering from the substrate 60 side.

［電子機器への搭載例］
次に、上述した実施形態に係る入力機能付き表示装置１００を適用した電子機器について説明する。図５（ａ）に、入力機能付き表示装置１００を備えたモバイル型のパーソナルコンピュータの構成を示す。パーソナルコンピュータ２０００は、表示ユニットとしての入力機能付き表示装置１００と本体部２０１０を備える。本体部２０１０には、電源スイッチ２００１及びキーボード２００２が設けられている。図５（ｂ）に、入力機能付き表示装置１００を備えた携帯電話機の構成を示す。携帯電話機３０００は、複数の操作ボタン３００１及びスクロールボタン３００２、並びに表示ユニットとしての入力機能付き表示装置１００を備える。スクロールボタン３００２を操作することによって、入力機能付き表示装置１００に表示される画面がスクロールされる。図５（ｃ）に、入力機能付き表示装置１００を適用した情報携帯端末（ＰＤＡ：Personal Digital Assistants）の構成を示す。情報携帯端末４０００は、複数の操作ボタン４００１及び電源スイッチ４００２、並びに表示ユニットとしての入力機能付き表示装置１００を備える。電源スイッチ４００２を操作すると、住所録やスケジュール帳といった各種の情報が入力機能付き表示装置１００に表示される。 [Example of mounting on electronic equipment]
Next, an electronic apparatus to which the display device with an input function 100 according to the above-described embodiment is applied will be described. FIG. 5A shows a configuration of a mobile personal computer including the display device 100 with an input function. The personal computer 2000 includes a display device 100 with an input function as a display unit and a main body 2010. The main body 2010 is provided with a power switch 2001 and a keyboard 2002. FIG. 5B shows a configuration of a mobile phone including the display device 100 with an input function. The cellular phone 3000 includes a plurality of operation buttons 3001, scroll buttons 3002, and the display device 100 with an input function as a display unit. By operating the scroll button 3002, the screen displayed on the display device 100 with an input function is scrolled. FIG. 5C shows a configuration of a personal digital assistant (PDA) to which the display device 100 with an input function is applied. The information portable terminal 4000 includes a plurality of operation buttons 4001, a power switch 4002, and the display device 100 with an input function as a display unit. When the power switch 4002 is operated, various kinds of information such as an address book and a schedule book are displayed on the display device 100 with an input function.

なお、入力機能付き表示装置１００が適用される電子機器としては、図５に示すものの他、デジタルスチルカメラ、液晶テレビ、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた機器等などが挙げられる。そして、これらの各種電子機器の表示部として、前述した入力機能付き表示装置１００が適用可能である。   Note that electronic devices to which the display device 100 with an input function is applied include those shown in FIG. 5, a digital still camera, a liquid crystal television, a viewfinder type, a monitor direct-view type video tape recorder, a car navigation device, a pager, and an electronic device. Examples include a notebook, a calculator, a word processor, a workstation, a videophone, a POS terminal, and a device equipped with a touch panel. And the display apparatus 100 with an input function mentioned above is applicable as a display part of these various electronic devices.

本発明を適用した入力機能付き表示装置の構成を模式的に示す説明図である。It is explanatory drawing which shows typically the structure of the display apparatus with an input function to which this invention is applied. 本発明の実施の形態１に係る入力機能付き表示装置の断面構成を模式的に示す説明図である。It is explanatory drawing which shows typically the cross-sectional structure of the display apparatus with an input function which concerns on Embodiment 1 of this invention. 本発明の実施の形態２に係る入力機能付き表示装置の断面構成を模式的に示す説明図である。It is explanatory drawing which shows typically the cross-sectional structure of the display apparatus with an input function which concerns on Embodiment 2 of this invention. （ａ）、（ｂ）は各々、本発明の実施の形態２の変形例２に係る入力装置付き表示装置の断面構成を模式的に示す説明図である。(A), (b) is explanatory drawing which shows typically the cross-sectional structure of the display apparatus with an input device which concerns on the modification 2 of Embodiment 2 of this invention, respectively. 本発明に係る入力機能付き表示装置を用いた電子機器の説明図である。It is explanatory drawing of the electronic device using the display apparatus with an input function which concerns on this invention.

符号の説明Explanation of symbols

１・・静電容量型入力装置、５・・液晶装置、１０・・透光性基板、１１、１２・・透光性電極、１５・・高屈折率の透光性材料、１８・・シールド用導電層、１９・・シールド用導電層の支持基板、３０・・基板間導通材、３１・・シール材、３８・・シールド用電極、５０・・素子基板、８１・・第１偏光板、１００・・入力機能付き表示装置 1 .. Capacitive type input device 5.. Liquid crystal device 10.. Translucent substrate 11, 12 .. Translucent electrode 15.. High refractive index translucent material 18. Conductive layer, 19 .. Support substrate for shield conductive layer, 30 .. Conductive material between substrates, 31 .. Sealing material, 38 .. Electrode for shield, 50 .. Element substrate, 81. 100 .. Display device with input function

Claims (9)

透光性基板の一方面に入力操作位置を検出するための電極を備えた静電容量型入力装置において、
前記透光性基板の前記一方面に対してシールド用導電層が対向配置され、
当該シールド用導電層と前記透光性基板の前記一方面との間には高屈折率の透光性材料が充填されていることを特徴とする静電容量型入力装置。 In the capacitance-type input device including an electrode for detecting the input operation position on one surface of the translucent substrate,
A conductive layer for shielding is disposed opposite to the one surface of the translucent substrate,
A capacitance-type input device, wherein a high refractive index light-transmitting material is filled between the shielding conductive layer and the one surface of the light-transmitting substrate. 前記シールド用導電層は、透光性の支持基板上に形成された状態で前記透光性基板の前記一方面側に対向していることを特徴とする請求項１に記載の静電容量型入力装置。   2. The capacitance type according to claim 1, wherein the shielding conductive layer is opposed to the one surface side of the translucent substrate in a state of being formed on the translucent support substrate. Input device. 前記透光性基板の前記一方面と、前記支持基板において前記シールド用導電層が形成されている面とはシール材によって貼り合わされており、
前記透光性基板と前記支持基板において前記シール材で囲まれた領域内に前記透光性材料が充填されていることを特徴とする請求項２に記載の静電容量型入力装置。 The one surface of the translucent substrate and the surface on which the shielding conductive layer is formed on the support substrate are bonded together by a sealing material,
The capacitive input device according to claim 2, wherein the translucent material is filled in a region surrounded by the sealant in the translucent substrate and the support substrate. 前記透光性基板の前記一方面には、前記シールド用導電層と導電接続されるシールド用電極が形成され、
前記透光性基板と前記支持基板との間には前記シールド用導電層と前記シールド用電極とを導電接続するための基板間導通材が配置されていることを特徴とする請求項３に記載の静電容量型入力装置。 On the one surface of the translucent substrate, a shielding electrode that is conductively connected to the shielding conductive layer is formed,
The inter-substrate conductive material for conductively connecting the shield conductive layer and the shield electrode is disposed between the translucent substrate and the support substrate. Capacitive input device. 前記基板間導通材は、前記シール材に配合されていることを特徴とする請求項４に記載の静電容量型入力装置。   The capacitive input device according to claim 4, wherein the inter-substrate conductive material is blended in the sealing material. 前記透光性基板は、前記一方面を入力操作側とは反対側に向けて配置され、
前記支持基板は、前記透光性基板に対して入力操作側とは反対側において、前記シールド用導電層が形成されている面を入力操作側に向けて配置されていることを特徴とする請求項２乃至５の何れか一項に記載の静電容量型入力装置。 The translucent substrate is disposed with the one surface facing the input operation side,
The support substrate is disposed on the side opposite to the input operation side with respect to the translucent substrate, with the surface on which the conductive layer for shielding is formed facing the input operation side. Item 6. The capacitive input device according to any one of Items 2 to 5. 前記支持基板において前記シールド用導電層が形成されている側とは反対側の面には、当該支持基板との間に液晶層を保持する基板が対向配置されていることを特徴とする請求項６に記載の静電容量型入力装置。   The substrate holding the liquid crystal layer is disposed opposite to the surface of the support substrate opposite to the side on which the shield conductive layer is formed. 6. The capacitance-type input device according to 6. 請求項１乃至７の何れか一項に記載の静電容量型入力装置を備えた入力機能付き表示装置であって、
前記静電容量型入力装置に対して、入力操作側とは反対側に画像生成装置が構成されていることを特徴とする入力機能付き表示装置。 A display device with an input function, comprising the capacitance-type input device according to any one of claims 1 to 7,
A display device with an input function, wherein an image generating device is configured on the opposite side to the input operation side with respect to the capacitance type input device. 請求項８に記載の入力機能付き表示装置を備えていることを特徴とする電子機器。   An electronic apparatus comprising the display device with an input function according to claim 8.
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