JP2008310527A - Layout design device and layout design method for semiconductor integrated circuit - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a layout design device and layout design method of a semiconductor integrated circuit to erase any unnecessary stack via causing a layout wiring error. <P>SOLUTION: This layout design method includes: an error discrimination step S6 for discriminating an error of the layout wiring after a power source is wired in a grid pattern; and a stack via erasure step S20 for, when there is a layout wiring error, designating an erasure range based on error coordinates, to remove a stack via in the erasure range. In the step S20, a region obtained by multiplying x directional and y directional prescribed ranges around coordinates having the arranged wiring error by range coefficients is defined as an erasure range, and when no stack via to be erased exists in the first erasure range, the range coefficients are increased so that the erasure range can be updated, and a stack via to be erased in the updated erasure range is discriminated. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、格子状電源配線を有する半導体集積回路のレイアウト設計装置及びレイアウト設計方法に関する。   The present invention relates to a layout design apparatus and layout design method for a semiconductor integrated circuit having a grid-like power supply wiring.

LSI(Large Scale Integration)及び論理回路のハードマクロ設計において、高集積密度でレイアウト設計を行うことはコストと動作スピードの面で大きなメリットがある。しかし、電源配線のメッシュ構造によるスタックビア(Via)が原因で部分的に迂回配線が発生する。これが配線ネックとなり、信号配線遅延時間が増加して高速化の妨げとなっていた。その解決策としては、スタックビアを削除して迂回配線率を減少させ高集積化を図ることが挙げられる。   In hard macro design of LSI (Large Scale Integration) and logic circuits, layout design with high integration density has great advantages in terms of cost and operation speed. However, the bypass wiring is partially generated due to the stack via (Via) due to the mesh structure of the power supply wiring. This becomes a wiring bottleneck and increases the signal wiring delay time, which hinders speeding up. As a solution to this problem, it is possible to reduce the bypass wiring rate by eliminating the stack via and achieve high integration.

従来のLSIレイアウト設計装置について説明する(例えば特許文献1参照。)。図13は、従来のLSIレイアウト設計装置の構成を示すブロック図である。図13において、LSIレイアウト設計装置111は、FB(function block)ブロックライブラリ(以下機能ブロックライブラリという。)101と、機能ブロックライブラリ読込み部102と、電源・クロック(CLK)配線部103と、機能ブロック配置部104と、冗長電源配線削除部105と、配線部106と、配線確認部107と、フロアプラン変更部108と、レイアウト情報出力部109と、機能削減又はチップサイズ変更部110と、制御メモリ112とを備える。   A conventional LSI layout design apparatus will be described (for example, see Patent Document 1). FIG. 13 is a block diagram showing a configuration of a conventional LSI layout design apparatus. In FIG. 13, an LSI layout design apparatus 111 includes an FB (function block) block library (hereinafter referred to as a function block library) 101, a function block library reading unit 102, a power / clock (CLK) wiring unit 103, and a function block. Arrangement unit 104, redundant power supply wiring deletion unit 105, wiring unit 106, wiring confirmation unit 107, floor plan change unit 108, layout information output unit 109, function reduction or chip size change unit 110, control memory 112.

機能ブロックライブラリ101には、予めレイアウト設計に必要な情報が格納されており、機能ブロックライブラリ読込み部102は、機能ブロックライブラリ101から必要なレイアウトデータを読込んで、電源・クロック配線部103に渡す。電源・クロック配線部103は、機能ブロックライブラリ読込み部102が読込んだレイアウトデータを基に電源配線とクロック配線とを行い、電源配線及びクロック配線の情報を付加したレイアウトデータを機能ブロック配置部104に渡す。機能ブロック配置部104は、電源・クロック配線部103で電源配線とクロック配線とが行われた後に機能ブロックを配置し、機能ブロックの配置情報を付加したレイアウトデータを冗長電源配線削除部105に渡す。   Information necessary for layout design is stored in the functional block library 101 in advance, and the functional block library reading unit 102 reads necessary layout data from the functional block library 101 and passes it to the power / clock wiring unit 103. The power supply / clock wiring unit 103 performs power supply wiring and clock wiring based on the layout data read by the functional block library reading unit 102, and the layout data to which information on the power supply wiring and clock wiring is added is provided to the functional block arrangement unit 104. To pass. The functional block arrangement unit 104 arranges the functional block after the power supply wiring and the clock wiring are performed by the power supply / clock wiring unit 103, and passes the layout data to which the functional block arrangement information is added to the redundant power supply wiring deletion unit 105. .

冗長電源配線削除部105は、機能ブロック配置部104で機能ブロックが配置された後に冗長な電源配線を削除し、冗長な電源配線の削除情報を付加したレイアウトデータを配線部106に渡す。配線部106は、冗長電源配線削除部105で冗長な電源配線が削除された後に機能ブロックへの配線を行い、機能ブロックへの配線情報を付加したレイアウトデータを配線確認部107に渡す。   The redundant power supply wiring deletion unit 105 deletes the redundant power supply wiring after the functional block is arranged by the functional block arrangement unit 104 and passes the layout data to which the redundant power supply wiring deletion information is added to the wiring unit 106. The wiring unit 106 performs wiring to the functional block after the redundant power supply wiring deleting unit 105 deletes the redundant power supply wiring, and passes the layout data to which the wiring information to the functional block is added to the wiring checking unit 107.

配線確認部107は、配線部106による配線が終了すると未配線の有無を判定し、その判定結果に応じて上記の処理で作成されたレイアウトデータをフロアプラン変更部108とレイアウト情報出力部109と機能削減又はチップサイズ変更部110とのうちのいずれかに渡す。つまり、配線確認部107は未配線がありかつ集積可能と判定するとレイアウトデータをフロアプラン変更部108に渡し、未配線がない判定されるとレイアウトデータをレイアウト情報出力部109に渡し、未配線がありかつ集積不可能と判定するとレイアウトデータを機能削減又はチップサイズ変更部110に渡す。   When the wiring by the wiring unit 106 is completed, the wiring confirmation unit 107 determines whether or not there is any wiring, and the layout data created by the above processing according to the determination result is used as the floor plan changing unit 108, the layout information output unit 109, and the like. It is passed to one of the function reduction or chip size changing unit 110. That is, the wiring confirmation unit 107 passes layout data to the floor plan changing unit 108 when it is determined that there is unwired and can be integrated, and passes layout data to the layout information output unit 109 when it is determined that there is no unwired. If it is determined that it is present and cannot be integrated, the layout data is transferred to the function reduction or chip size changing unit 110.

フロアプラン変更部108は、配線確認部107から渡されたレイアウトデータに対してフロアプランを変更し、変更後のレイアウトデータを機能ブロックライブラリ読込み部2に戻す。レイアウト情報出力部109は、配線確認部107から渡されたレイアウトデータを出力する。機能削減またはチップサイズ変更部110は配線確認部107から渡されたレイアウトデータに対して機能を削減するか、又はチップサイズを変更し、変更後のレイアウトデータを機能ブロックライブラリ読込み部102に戻す。   The floor plan changing unit 108 changes the floor plan for the layout data delivered from the wiring confirmation unit 107 and returns the changed layout data to the functional block library reading unit 2. The layout information output unit 109 outputs the layout data passed from the wiring confirmation unit 107. The function reduction or chip size changing unit 110 reduces the function of the layout data delivered from the wiring confirmation unit 107 or changes the chip size, and returns the changed layout data to the function block library reading unit 102.

図14は、従来技術の電源削除処理動作を示すフローチャートである。図14に示すように、1対の2層縦方向電源/グランド配線を挟んだ領域に機能ブロックが配置されていない場合(ステップS11)、領域内部の2層縦方向電源/グランド配線を削除する(ステップS12)。冗長電源配線削除部105は、1層横方向電源又はグランド配線の上下1ロウの領域に機能ブロックが配置されていない場合(ステップS13)、領域内部の1層横方向電源又はグランド配線を削除する(ステップS14)。冗長電源配線削除部105は、1対の2層縦方向電源/グランド配線と、1層横方向電源又はグランド配線とを挟んだ領域に機能ブロックが配置されていない場合(ステップS15)、領域内部の1対の2層縦方向電源/グランド配線と、1層横方向電源又はグランド配線と、1対の2層縦方向電源/グランド配線と1層横方向電源又はグランド配線とが交差している電源又はグランドビア(1TH)の削除を実行する(ステップS16)。   FIG. 14 is a flowchart showing the power supply deletion processing operation of the prior art. As shown in FIG. 14, when a functional block is not arranged in a region sandwiching a pair of two-layer vertical power supply / ground wiring (step S11), the two-layer vertical power supply / ground wiring inside the region is deleted. (Step S12). The redundant power supply wiring deletion unit 105 deletes the one-layer horizontal power supply or ground wiring inside the area when the functional block is not disposed in the upper and lower one row area of the one-layer horizontal power supply or ground wiring (step S13). (Step S14). When the functional block is not arranged in the area between the pair of two-layer vertical power supply / ground wiring and the one-layer horizontal power supply or ground wiring (step S15), the redundant power supply wiring deletion unit 105 A pair of two-layer vertical power supply / ground wiring, a single-layer horizontal power supply or ground wiring, and a pair of two-layer vertical power supply / ground wiring and one-layer horizontal power supply / ground wiring cross each other. The power supply or ground via (1TH) is deleted (step S16).

また、同様の問題を解決する公知技術として、特許文献2に記載の多層配線構造の半導体装置がある。この特許文献2に記載の技術においては、迂回配線が生じた近傍のスタックビアを縦一列又は横一列削除した領域分の信号のチャネル配線領域を確保することで迂回配線率の減少と高集積化を図っている。
特許3225929号公報 特許2002−184950号公報
Further, as a known technique for solving the same problem, there is a semiconductor device having a multilayer wiring structure described in Patent Document 2. In the technique described in Patent Document 2, the bypass wiring rate is reduced and the integration density is increased by securing a channel wiring region for a signal corresponding to a region in which a stack via in the vicinity of the bypass wiring is deleted in one vertical row or one horizontal row. I am trying.
Japanese Patent No. 3225929 Japanese Patent No. 2002-184950

上述の従来の方法においては、電源配線のメッシュ構造はX軸配線とY軸配線の交差部分をスタックビアで繋ぐ構成となっている。よって、チップ全体にスタックビアが多数存在する。そこで、一部のスタックビアの配置位置を、配線配置領域とするためにスタックビアを削除して配線領域を確保することで、集積度向上及び迂回配線率の減少を図ることができる。しかしながら、単純にスタックビアを削除すると、スタックビアを過剰に削除しすぎて、配線抵抗が上昇してしまう。   In the above-described conventional method, the mesh structure of the power supply wiring is configured such that the intersection of the X-axis wiring and the Y-axis wiring is connected by a stack via. Therefore, there are many stack vias in the entire chip. Therefore, by removing the stack vias and securing the wiring area so that the arrangement positions of some of the stack vias become wiring arrangement areas, it is possible to improve the degree of integration and reduce the bypass wiring ratio. However, if the stack via is simply deleted, the stack via is excessively deleted and the wiring resistance increases.

本発明にかかる半導体集積回路のレイアウト設計装置は、電源配線及びグランド配線からなる格子状電源配線を有する半導体集積回路のレイアウト設計装置であって、電源配線及び配置配線する自動配置配線部と、前記自動配置配線部が実行した配置配線のエラーを検出するデザインルールチェック部と、前記デザインルールチェック部により配置配線のエラーを検出した場合に、そのエラー座標に基づき削除範囲を指定し、当該削除範囲のスタックビアを取り除くための処理を行なうスタックビア削除部とを有するものである。   A layout design apparatus for a semiconductor integrated circuit according to the present invention is a layout design apparatus for a semiconductor integrated circuit having a grid-shaped power supply wiring composed of a power supply wiring and a ground wiring, and includes an automatic placement and wiring unit for power supply wiring and placement and wiring, A design rule check unit that detects an error of the placement and routing executed by the automatic placement and routing unit, and when a placement and routing error is detected by the design rule check unit, a deletion range is specified based on the error coordinates, and the deletion range And a stack via deletion unit that performs processing for removing the stack via.

本発明においては、デザインルールチェック部により配置配線エラーを検出した座標に基づき、その周囲のスタックビアを削除することで、配置配線エラーを引き起こす不要なスタックビアを削除することができる。   In the present invention, unnecessary stack vias that cause placement and routing errors can be deleted by deleting the surrounding stack vias based on the coordinates at which the placement and routing errors are detected by the design rule check unit.

本発明によれば、配置配線エラーを引き起こす不要なスタックビアを削除することができる半導体集積回路のレイアウト設計装置及びレイアウト設計方法を提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide a layout design apparatus and a layout design method for a semiconductor integrated circuit capable of eliminating an unnecessary stack via that causes a placement and routing error.

実施の形態1.
以下、本発明を適用した具体的な実施の形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。図1は、本発明の実施の形態1にかかる格子状電源配線を有する半導体集積回路のレイアウト設計装置を示すブロック図である。図1に示すように、本実施の形態にかかるレイアウト設計装置10は、見積もり&選択部11、電源データベース12、フロアプラン13、自動配置配線ツール14、デザインルールチェック部15、スタックビア削除部16、及びスタックビア追加部17を有する。
Embodiment 1 FIG.
Hereinafter, specific embodiments to which the present invention is applied will be described in detail with reference to the drawings. FIG. 1 is a block diagram showing a layout design apparatus for a semiconductor integrated circuit having a grid power supply wiring according to the first embodiment of the present invention. As shown in FIG. 1, the layout design apparatus 10 according to the present embodiment includes an estimation & selection unit 11, a power supply database 12, a floor plan 13, an automatic placement and routing tool 14, a design rule check unit 15, and a stack via deletion unit 16. , And a stack via addition unit 17.

見積もり&選択部11は、チップの消費電力を見積もり、その結果に基づき電源データベース12を参照して電源タイプを選択する。フロアプラン13は、チップサイズ決定の他、ピンアサインやマクロを搭載する場合にはマクロの配置位置や必要に応じてグルーピングなどの処理を行なう。なお、チップサイズの決定以外の処理は、通常のフロアプランで行なわれる処理である。自動配置配線ツール14は、チップの形状(フロアプラン情報)に対し、電源配線、配置処理及び配線処理を行なう。電源配線は、一般的には、電源配線スクリプトにより行なうことができる。配置配線処理は、ファンクションブロック(FB)をその形状等に応じて配置し、当該FBに配線する処理を行う。   The estimation & selection unit 11 estimates the power consumption of the chip, and selects a power source type by referring to the power source database 12 based on the result. In addition to determining the chip size, the floor plan 13 performs processing such as placement of macros and grouping as necessary when mounting pin assignments and macros. Processing other than the determination of the chip size is processing performed in a normal floor plan. The automatic placement and routing tool 14 performs power supply wiring, placement processing and wiring processing for the chip shape (floor plan information). In general, power supply wiring can be performed by a power supply wiring script. In the placement and wiring process, a function block (FB) is placed according to its shape or the like, and wiring to the FB is performed.

ここで、後述するように、本実施の形態においては、格子状電源配線を配置するが、例えば例えば縦方向に配置した第1層(M1)の電源配線と、横方向に配置した第4層(M4)の電源配線とを、スタックビアにより適当な間隔で接続する。ここで、本明細書において、スタックビアとはビアの上にビアを重ねたものであって、n層目のX方向配線と(n+m)(m≧2)層目のY方向配線とを接続する。この場合、これらのスタックビアが配置配線を悪化させる場合がある。すなわち、電源配線のメッシュ構造によるスタックビアが原因で部分的に迂回配線が発生し、これが配線ネックとなり、信号配線遅延時間が増加して高速化の妨げとなる場合がある。そこで、本実施の形態においては、スタックビア削除部16を設け、配置配線エラーを引き起こすスタックビアを削除することで配置配線エラーを解消する。   Here, as will be described later, in this embodiment, the grid-like power supply wiring is arranged. For example, the first layer (M1) power supply wiring arranged in the vertical direction and the fourth layer arranged in the horizontal direction, for example. The power wiring of (M4) is connected at an appropriate interval by stack vias. Here, in this specification, the stacked via is a via stacked on the via, and connects the X-direction wiring of the nth layer and the Y-direction wiring of the (n + m) (m ≧ 2) layer. To do. In this case, these stacked vias may deteriorate the placement and routing. In other words, the bypass wiring is partially generated due to the stack via due to the mesh structure of the power supply wiring, which becomes a wiring neck and increases the signal wiring delay time, which may hinder speeding up. Therefore, in this embodiment, the stack via deletion unit 16 is provided to eliminate the placement and routing error by deleting the stack via that causes the placement and routing error.

デザインルールチェック部15は、配置に関し、未配置セルとセルとの重なり等をチェックする。さらに配線に関し、配線間隔、信号配線のショート、及び未配線等をチェックする。スタックビア削除部16は、デザインルールチェック部15により配置配線のエラーを検出した場合に、そのエラー座標に基づきスタックビア削除範囲を指定し、当該スタックビア削除範囲のスタックビアを取り除くための処理を行なう。具体的には、デザインルールチェック部15のチェックでエラーが検出されたエラー座標(配線NG箇所)を抽出し、スタックビア削除範囲を設定する。そして、スタックビア削除範囲の座標を元に、自動配置配線ツール14に入力するビア削除スクリプトを作成する。ビア削除スクリプトを上記自動配置配線ツール14が実行することでスタックビアが削除される。少なくとも3層構造のメタルを接続するスタックビアを削除することにより、例えば2層目等の中間層のメタルを配置配線に使用することができる。   The design rule check unit 15 checks the overlap between the unplaced cells and the cells regarding the placement. Further, regarding wiring, wiring intervals, signal wiring shorts, unwiring, etc. are checked. When the design rule check unit 15 detects a placement and routing error, the stack via deletion unit 16 designates a stack via deletion range based on the error coordinates, and performs processing for removing the stack via in the stack via deletion range. Do. Specifically, an error coordinate (wiring NG location) where an error is detected by the check of the design rule check unit 15 is extracted, and a stack via deletion range is set. Then, a via deletion script to be input to the automatic placement and routing tool 14 is created based on the coordinates of the stack via deletion range. When the automatic placement and routing tool 14 executes the via deletion script, the stacked via is deleted. By removing the stack via that connects at least the metal of the three-layer structure, for example, the metal of the intermediate layer such as the second layer can be used for the placement and wiring.

スタックビア追加部17は、配置配線のエラーがなくなった場合に、スタックビアを追加可能か判定し、追加可能であればスタックビアを追加するための処理を行なう。上述したように、電源メッシュ構造にて元々存在していたスタックビアを配線性向上のためにスタックビア削除部16が削除するが、デザインルールチェック部15によるチェックがOKになった場合、このスタックビア削除範囲において、配線で未使用となった箇所が存在した場合には再びスタックビアを追加する。この処理により、過剰にスタックビアを削除した箇所に再度スタックビアを配置し、電源配線抵抗を低減することができる。   The stack via adding unit 17 determines whether or not a stack via can be added when there is no placement and routing error, and performs processing for adding a stack via if the stack via can be added. As described above, the stack via deletion unit 16 deletes the stack via originally existing in the power mesh structure in order to improve the wiring property. However, if the check by the design rule check unit 15 is OK, the stack via is deleted. If there is an unused part in the wiring within the via deletion range, a stack via is added again. By this process, the stack via can be disposed again at the place where the stack via is excessively deleted, and the power supply wiring resistance can be reduced.

次に、本実施の形態にかかる半導体集積回路のレイアウト設計方法について説明する。図2は、当該半導体集積回路のレイアウト設計方法を示すフローチャートである。図2に示すように、先ず、チップ消費電力を見積もる(ステップS1)。チップ消費電力を見積もった実行結果として消費電力見積もり結果が得られる。この消費電力見積もり結果に基づき、電源データベース12から電源タイプを選択する(ステップS2)。次に、フロアプラン13により、チップサイズを決定するほか、ピンアサインやマクロを搭載する場合にはマクロの配置位置や必要に応じてグルーピングなどの処理を行なう(ステップS3)。なお、チップサイズの決定以外の処理は、通常のフロアプランで行なわれる処理である。   Next, a layout design method for the semiconductor integrated circuit according to the present embodiment will be described. FIG. 2 is a flowchart showing a layout design method of the semiconductor integrated circuit. As shown in FIG. 2, first, chip power consumption is estimated (step S1). A power consumption estimation result is obtained as an execution result of estimating the chip power consumption. Based on the power consumption estimation result, a power supply type is selected from the power supply database 12 (step S2). Next, in addition to determining the chip size based on the floor plan 13, in the case of mounting a pin assignment or macro, processing such as macro placement and grouping as necessary is performed (step S3). Processing other than the determination of the chip size is processing performed in a normal floor plan.

次に、電源配線処理をする(ステップS5)。電源配線処理では、フロアプランステップS4にて生成したフロアプラン情報データのうち、チップ形状のデータを使用して、電源配線処理を行なう。この電源配線処理は、例えば、電源配線スクリプトを生成し、これを自動配置配線ツール14に実行させることで行なうことができる。図3及び図4は、電源配線を示す図である。図3及び図4に示すように、本実施の形態にかかる電源配線は、VDD配線及びGND配線が交互に配置され、かつ格子状に配置されている。ここで、各電源配線同士を接続するため、スタックビア57、57a、57bを設ける。   Next, power supply wiring processing is performed (step S5). In the power wiring process, the power wiring process is performed using the chip-shaped data among the floor plan information data generated in the floor plan step S4. This power supply wiring process can be performed, for example, by generating a power supply wiring script and causing the automatic placement and routing tool 14 to execute the script. 3 and 4 are diagrams showing the power supply wiring. As shown in FIGS. 3 and 4, in the power supply wiring according to the present embodiment, VDD wiring and GND wiring are alternately arranged and arranged in a grid pattern. Here, stack vias 57, 57a, and 57b are provided in order to connect the power supply wires to each other.

電源配線を配置したら、機能ブロックに対し、自動配置配線ツール14により、配置処理及び配線処理を行なう(ステップS5)。その後、配置配線に関するデザインルールチェックを行いエラーがあるか否か判定する(ステップS6)。具体的には、配置に関しては、未配置配線セル及びセルの重なり等をチェックする。また、配線に関しては、配線間隔、信号配線のショート、及び未配線等をチェックする。配置配線にエラーがある場合は、スタックビア削除工程に進む(ステップS10)。   When the power supply wiring is arranged, the automatic placement / wiring tool 14 performs placement processing and wiring processing on the functional block (step S5). Thereafter, a design rule check regarding placement and routing is performed to determine whether or not there is an error (step S6). Specifically, regarding the placement, the unplaced wiring cells and the overlap of the cells are checked. As for wiring, wiring intervals, signal wiring shorts, unwiring, and the like are checked. If there is an error in the placement and routing, the process proceeds to the stack via deletion process (step S10).

スタックビア削除工程S20では、先ず、配線NG箇所の抽出を行なう(ステップS21)。このステップS21では、配置配線のエラー検出ステップS6にて、配線エラーが検出された座標を抽出する。また、配線エラーのみならず、配線混雑箇所に関してもその座標を抽出する以下、これらの座標をエラー座標51(図3及び図4参照)という。なお、エラー座標51は、デザインルールチェック部15がデザインルールチェックを実施することで抽出することができる。そして、抽出したエラー座標51に基づき、スタックビア削除範囲を算出する(ステップS22)。   In the stack via deletion step S20, first, the wiring NG location is extracted (step S21). In this step S21, the coordinates where the wiring error is detected in the placement and routing error detection step S6 are extracted. In addition to extracting not only wiring errors but also wiring congested portions, these coordinates are hereinafter referred to as error coordinates 51 (see FIGS. 3 and 4). The error coordinates 51 can be extracted by the design rule check unit 15 performing the design rule check. Based on the extracted error coordinates 51, a stack via deletion range is calculated (step S22).

スタックビア削除範囲の算出では、先ず、エラー座標51を中心に、x方向53及びy方向54が所定の範囲×範囲係数"n"(52)のスタックビア削除範囲を設定する。範囲係数nは、例えば1、2、3・・・のような整数とすることができ、後述するように順次更新される値である。先ず、範囲係数を"1"としてスタックビア削除範囲55を設定する。当該スタックビア削除範囲55内に、スタックビア57が存在する場合、次のステップS23に進む。   In the calculation of the stack via deletion range, first, the stack via deletion range of a predetermined range × range coefficient “n” (52) is set in the x direction 53 and the y direction 54 with the error coordinate 51 as the center. The range coefficient n can be an integer such as 1, 2, 3,..., And is a value that is sequentially updated as will be described later. First, the stack via deletion range 55 is set by setting the range coefficient to “1”. When the stack via 57 exists in the stack via deletion range 55, the process proceeds to the next step S23.

図3及び図4に示す例においては、スタックビア削除範囲55にスタックビア57aがそれぞれ1つ及び4つ存在する。このようにスタックビア削除範囲55にスタックビアが含まれている場合は、次のステップに進む。ステップS23では、スタックビア削除範囲55がチップサイズより小さいか否かを判定する。チップサイズよりスタックビア削除範囲55が大きい場合は、ステップS3に戻り、フロアプラン処理から再度実行する。   In the example shown in FIGS. 3 and 4, one and four stack vias 57 a exist in the stack via deletion range 55, respectively. As described above, when the stack via deletion range 55 includes the stack via, the process proceeds to the next step. In step S23, it is determined whether or not the stack via deletion range 55 is smaller than the chip size. If the stack via deletion range 55 is larger than the chip size, the process returns to step S3 and is executed again from the floor plan process.

一方、スタックビア削除範囲55がチップサイズより小さい場合は、当該スタックビア削除範囲55内のスタックビア57aが削除可能である。この場合は、そのスタックビア削除範囲55の座標を元に、自動配置配線ツール14に入力するビア削除スクリプトを生成する(ステップS24)。そして、このビア削除スクリプトを自動配置配線ツール14にて実行することで、スタックビア削除範囲55内のスタックビア57aを全て削除する(ステップS25)。スタックビアを削除したら、ステップS5に戻り、配置配線処理(ステップS5)から再度実行する。すなわち、例えば図3に示す例においては、スタックビア57aを削除した座標位置は配置配線に使用することができる。この領域を使用することで配置配線のエラーが解消しうる。   On the other hand, when the stack via deletion range 55 is smaller than the chip size, the stack via 57a in the stack via deletion range 55 can be deleted. In this case, a via deletion script to be input to the automatic placement and routing tool 14 is generated based on the coordinates of the stacked via deletion range 55 (step S24). Then, by executing this via deletion script by the automatic placement and routing tool 14, all the stack vias 57a in the stack via deletion range 55 are deleted (step S25). When the stacked via is deleted, the process returns to step S5 and is executed again from the placement and routing process (step S5). That is, for example, in the example shown in FIG. 3, the coordinate position from which the stack via 57a is deleted can be used for placement and routing. By using this area, placement and routing errors can be resolved.

そして、ステップS6で再度配置配線のエラーが抽出されたら、再びスタックビア削除工程S20を実施する。ここで、先ほどの同一座標がエラー座標51として抽出された場合、図3に示すように、スタックビア削除範囲55には、既にスタックビア57aを削除したためスタックビアが存在しない。その場合は、スタックビア削除範囲を算出するための範囲係数52を大きな値に更新し、スタックビア削除範囲56とする。スタックビア削除範囲56には、削除することが可能なスタックビア57bが存在するので先ほどと同様、ステップS23からの処理を実行するのである。なお、本実施の形態においては、範囲係数nを1、2、3・・のように整数としているが、1、1.5、2・・・のように整数以外でもよい。   When the placement and routing error is extracted again in step S6, the stack via deletion step S20 is performed again. Here, when the same coordinates as above are extracted as the error coordinates 51, as shown in FIG. 3, no stack via exists in the stack via deletion range 55 because the stack via 57a has already been deleted. In this case, the range coefficient 52 for calculating the stack via deletion range is updated to a large value to obtain a stack via deletion range 56. Since there is a stack via 57b that can be deleted in the stack via deletion range 56, the processing from step S23 is executed as before. In the present embodiment, the range coefficient n is an integer such as 1, 2, 3,..., But may be other than an integer such as 1, 1.5, 2,.

こうして設定したスタックビア削除範囲内のスタックビア57を削除することで上記配置配線のエラーが解消された場合は、ステップS7に進む。ステップS7では、スタックビアが追加可能かを判断する(ステップS7)。上述のスタックビア削除工程S20においては、配線性向上のためにスタックビアを削除するが、その後、スタックビア削除範囲内において、削除したスタックビア(例えばスタックビア57a、57b)が存在していた領域のうち、配置配線(ステップS5)で未使用となった箇所が存在する場合がある。すなわち、図3に示す例では、スタックビア削除範囲55、56にそれぞれスタックビア57a、57bは1つしか存在しないが、範囲係数の設定の仕方等により、スタックビア削除範囲内に複数のスタックビアが存在する場合があり得る。その場合、全スタックビア57a、57bの位置を配置配線で使用するとは限らない。すなわち、削除したスタックビア57a、57bの箇所のうち、配置配線で未使用である箇所には、スタックビアを再度追加可能と判断し、過剰にスタックビアを削除した部分を復元すべく、スタックビア削除箇所にスタックビアを追加する(ステップS8)。ステップS7でスタックビア追加可能でない場合は、処理を終了する。   If the placement and routing error is eliminated by deleting the stack via 57 within the stack via deletion range set in this way, the process proceeds to step S7. In step S7, it is determined whether a stack via can be added (step S7). In the above-described stack via deletion step S20, the stack via is deleted for improving the wiring property. Thereafter, the deleted stack via (for example, the stack vias 57a and 57b) exists in the stack via deletion range. Among them, there may be a portion that is unused in the placement and routing (step S5). In other words, in the example shown in FIG. 3, there is only one stack via 57a, 57b in each of the stack via deletion ranges 55, 56. However, depending on how the range coefficient is set, a plurality of stack vias are included in the stack via deletion range. May exist. In that case, the positions of all the stacked vias 57a and 57b are not necessarily used for the placement and wiring. That is, among the deleted stack vias 57a and 57b, it is determined that a stack via can be added again to a portion that is unused in the placement and routing, and the stack via is deleted in order to restore the portion where the stack via is excessively deleted. A stack via is added to the deleted location (step S8). If it is not possible to add a stack via in step S7, the process ends.

スタックビア削除範囲算出方法について、更に詳細に説明する。図3及び図4に示すように、配線エラー座標51に対して、どれだけの範囲のスタックビアを削除するかを決めるための係数は範囲係数52により与えられる。範囲係数52の値は、図3に示すように、レイアウト設計の設計基準により決定し、これにより範囲係数を決定する。または、設計基準により決定しない場合は、図4に示すように、スタックビア削除範囲を電源ピッチ単位又はビアピッチ単位で更新していくこともできる。   The stacked via deletion range calculation method will be described in more detail. As shown in FIG. 3 and FIG. 4, a coefficient for determining the range of stack vias to be deleted with respect to the wiring error coordinate 51 is given by a range coefficient 52. As shown in FIG. 3, the value of the range coefficient 52 is determined by the design standard of the layout design, thereby determining the range coefficient. Alternatively, if not determined by the design criteria, the stack via deletion range can be updated in units of power supply pitch or via pitch as shown in FIG.

スタックビア削除部16は、配線エラー座標51をエラー座標値とし、このエラー座標値を中心に所定の範囲のX方向53、Y方向54の値に、範囲係数52を掛け合わせた範囲としたスタックビア削除範囲55を設定する。ここで、スタックビア削除範囲55内にスタックビア57が含まれない場合は、範囲係数52を更新し、X方向53、Y方向54いずれも±の両方向にスタックビア削除範囲を拡大したスタックビア削除範囲56とする。範囲係数52を更新し、スタックビア削除範囲を更新する処理は、スタックビア削除範囲内にスタックビア57が存在するようになるまで繰り返し実行する。すなわち、スタックビア削除範囲56にスタックビアが存在しない場合は、範囲係数を更新、又は電源ピッチ分若しくはビアピッチ分拡大したスタックビア削除範囲57を設定し、当該範囲内にスタックビアが含まれるか否かを判定する。   The stack via deletion unit 16 uses the wiring error coordinate 51 as an error coordinate value, and a stack obtained by multiplying the range coefficient 52 by the value in the X direction 53 and Y direction 54 of a predetermined range around the error coordinate value. A via deletion range 55 is set. Here, when the stack via 57 is not included in the stack via deletion range 55, the range coefficient 52 is updated, and the stack via deletion range is expanded in both the X direction 53 and the Y direction 54 in both ± directions. The range is 56. The process of updating the range coefficient 52 and updating the stack via deletion range is repeatedly executed until there is a stack via 57 within the stack via deletion range. That is, when there is no stack via in the stack via deletion range 56, the range coefficient is updated or the stack via deletion range 57 expanded by the power supply pitch or the via pitch is set, and whether or not the stack via is included in the range. Determine whether.

こうしてスタックビア削除範囲内にスタックビア57が含まれるようになったら、そのスタックビア削除範囲内のスタックビア57を削除し、配置配線エラーが解消されるか否かを判断する。解消されない場合は、さらに他のスタックビアが含まれる範囲になるまでスタックビア削除範囲の更新を行なう。   When the stack via 57 is included in the stack via deletion range in this way, the stack via 57 within the stack via deletion range is deleted, and it is determined whether or not the placement and routing error is resolved. If it is not solved, the stack via deletion range is updated until another stack via is included.

本実施の形態においては、配置配線で配線NGとなった場合に配線NG箇所を基点にスタックビア削除範囲を算出し、スタックビア削除範囲内のスタックビアを削除する。このように、スタックビア削除範囲を設定し、配置配線のエラーが解消されるまで、繰り返しスタックビア削除範囲を更新することでスタックビアを削除する。そして、この後に再度配置配線を実行することで、スタックビア周りの迂回配線率を低減し、信号配線遅延時間の短縮による高速化を図る。すなわち、このようにスタックビア削除範囲を設定して順次スタックビアを削除することにより、配置配線エラーを引き起こしているスタックビアのみを削除することができる。さらには、スタックビアを削除した箇所にスタックビアを追加可能か判断してスタックビアを追加することで、配置配線で未使用となったスタックビア配置位置に削除したスタックビアを再度追加し、配線抵抗の低減化を図ることができる。   In the present embodiment, when the placement and wiring becomes the wiring NG, the stack via deletion range is calculated based on the wiring NG location, and the stack via within the stack via deletion range is deleted. In this way, the stack via deletion range is set, and the stack via deletion is repeatedly updated until the placement and routing error is resolved, thereby deleting the stack via. Then, by performing placement and routing again after this, the detour wiring rate around the stack via is reduced, and the speed is increased by shortening the signal wiring delay time. That is, by setting the stack via deletion range in this way and sequentially deleting the stack vias, it is possible to delete only the stack vias causing the placement and routing error. Furthermore, by determining whether a stack via can be added to the place where the stack via has been deleted and adding the stack via, the deleted stack via is re-added to the stack via placement position that has not been used for placement and routing, and wiring is performed. The resistance can be reduced.

実施の形態2.
次に、本発明の実施の形態2について説明する。図5は、本実施の形態にかかる半導体集積回路のレイアウト設計装置を示す図である。図5に示すように、本実施の形態にかかるレイアウト設計装置10bは、図1に示す実施の形態1にかかるレイアウト設計装置10の構成に更に電源解析ツール18及び電源強化配線追加部19を有する。電源解析ツール18は、電源配線で発生するノイズの量に応じたエラーである電源解析エラーを検出する。具体的には、電源解析ルーツ18は、電源解析エラーとして、エレクトロマイグレーション(Electro migration:EM、電流が過度に流れることで配線に使う金属の原子配列が乱れ、断線する現象)が生じるか否か及び/又は電源配線の電圧降下(IR−ドロップ)が基準値以内か否かを検出する。すなわち、配置配線後の設計データと電源情報(電源供給点の指定)を元に電源の検証を行なう。そして、EM及びIRドロップの値が基準内にない場合は、そのエラー座標を抽出する。
Embodiment 2. FIG.
Next, a second embodiment of the present invention will be described. FIG. 5 is a diagram showing a layout design apparatus for a semiconductor integrated circuit according to the present embodiment. As shown in FIG. 5, the layout design apparatus 10b according to the present embodiment further includes a power analysis tool 18 and a power reinforcing wiring adding unit 19 in addition to the configuration of the layout design apparatus 10 according to the first embodiment shown in FIG. . The power analysis tool 18 detects a power analysis error that is an error corresponding to the amount of noise generated in the power wiring. Specifically, the power supply analysis root 18 determines whether or not electromigration (EM: phenomenon in which the atomic arrangement of metal used for wiring is disturbed and disconnected due to excessive current flow) occurs as a power supply analysis error. And / or it is detected whether the voltage drop (IR-drop) of a power supply wiring is within a reference value. That is, the power supply is verified based on the design data after placement and routing and the power supply information (designation of the power supply point). If the values of EM and IR drop are not within the standard, the error coordinates are extracted.

電源強化配線追加部19は、電源解析ツール18がEMやIRドロップの値が基準値を超えたことを検出した場合に、そのエラー座標に基づき電源強化配線追加範囲を指定し、当該電源強化配線追加範囲内に電源強化配線を追加する。具体的には、先ず、電源配線を追加することができる範囲(座標)を算出する。そして、この座標を元に、電源配線スクリプトを作成する。この電源配線スクリプトを上記自動配置配線ツール14が実行することで電源配線が追加される。   When the power analysis tool 18 detects that the value of the EM or IR drop exceeds the reference value, the power reinforcing wiring adding unit 19 specifies the power reinforcing wiring additional range based on the error coordinates, and the power reinforcing wiring Add power reinforcement wiring within the additional range. Specifically, first, a range (coordinates) in which power supply wiring can be added is calculated. Then, a power supply wiring script is created based on these coordinates. When the automatic placement and routing tool 14 executes this power supply wiring script, the power supply wiring is added.

次に、本実施の形態にかかる半導体集積回路のレイアウト方法について説明する。図6及び図7は、本実施の形態にかかる半導体集積回路のレイアウト方法を示すフローチャートである。図6に示すように、本実施の形態にかかる半導体集積回路のレイアウト方法は、スタックビア追加工程S8の後工程として、EM、IRドロップの検証工程S9、検証結果がOKか否かの判定工程S20、及び検証結果がOKでない場合は、電源強化配線追加工程S20を更に有する。なお、ステップS1〜S8及びステップS10は、実施の形態1と同様であり、その説明は省略する。   Next, a layout method of the semiconductor integrated circuit according to the present embodiment will be described. 6 and 7 are flowcharts showing a layout method of the semiconductor integrated circuit according to the present embodiment. As shown in FIG. 6, the layout method of the semiconductor integrated circuit according to the present embodiment includes an EM and IR drop verification step S9 as a subsequent step of the stack via addition step S8, and a determination step whether or not the verification result is OK. If S20 and the verification result is not OK, it further includes a power reinforcing wiring addition step S20. Steps S1 to S8 and step S10 are the same as those in the first embodiment, and a description thereof is omitted.

ステップS9では、EM・IRドロップを検証する。EM・IRドロップの検証では、配置配線後の設計データと電源情報(電源供給点の指定)を基に、電源解析ツール18にて検証を行なう。次に、ステップS10では、EM・IRドロップの値が基準内にあるか否かを判定する。そして、定められた基準内にないときは、エラーと判定する。エラー判定の場合は、電源強化配線追加工程S30に進む。   In step S9, the EM / IR drop is verified. In the verification of the EM / IR drop, the power supply analysis tool 18 performs verification based on the design data after placement and routing and the power supply information (designation of the power supply point). Next, in step S10, it is determined whether or not the value of the EM / IR drop is within the reference. If it is not within the set standard, it is determined as an error. In the case of error determination, the process proceeds to the power reinforcing wiring adding step S30.

電源強化配線追加工程S30では、先ず、EM、IR−DropNG箇所を抽出する(ステップS31)。NG箇所の抽出は、電源解析ツール18にて配置配線ツールでの配線エラーと同様に、エラー座標を抽出する。次に、当該エラー座標に基づき、電源強化配線追加範囲を算出する(ステップS32)。電源強化配線追加範囲の算出は、上述のスタックビア削除範囲の算出と同様の方法で行なう。すなわち、エラー座標を中心に、所定の範囲を有するX方向及びY方向の範囲を設定することで、電源強化配線追加範囲を設定する。そして、電源配線を追加できるか否かを判定する。そして、電源配線を追加できる範囲になるまで、範囲係数を大きくしていき、電源強化配線追加範囲を更新する。電源強化配線追加範囲が電源配線を追加できる範囲になったら、当該電源強化配線追加範囲がチップサイズより小さいか否かを判定する(ステップS33)。   In the power reinforcing wiring adding step S30, first, EM and IR-DropNG locations are extracted (step S31). In the extraction of the NG location, the error coordinates are extracted by the power source analysis tool 18 in the same manner as the wiring error in the placement and routing tool. Next, based on the error coordinates, a power reinforcing wiring additional range is calculated (step S32). The calculation of the power reinforcing wiring additional range is performed in the same manner as the calculation of the stack via deletion range described above. That is, by setting a range in the X direction and the Y direction having a predetermined range around the error coordinates, the power reinforcing wiring additional range is set. Then, it is determined whether or not the power supply wiring can be added. Then, the range coefficient is increased until the power supply wiring can be added, and the power reinforcing wiring addition range is updated. When the power reinforcing wiring addition range becomes a range where the power wiring can be added, it is determined whether or not the power reinforcing wiring adding range is smaller than the chip size (step S33).

電源強化配線追加範囲がチップ範囲より大きい場合は、ステップS3のフロアプラン処理に戻る。電源強化配線追加範囲がチップサイズより小さい場合は、電源強化配線追加部19により電源強化配線追加スクリプトを作成し(ステップS34)、当該電源強化配線追加スクリプトを自動配置配線ツール14により実行することで、電源強化配線を追加する(ステップS35)。こうして電源強化配線を追加したら、再びステップS9のEM・IRドロップの検証を行なう。再度EM、IR−Drop検証を実行し直し、ステップS10のEM、IR−Drop検証の判定がOKとなってレイアウト設計を終了する。   If the power reinforcing wiring addition range is larger than the chip range, the process returns to the floor plan process in step S3. When the power reinforcement wiring addition range is smaller than the chip size, a power reinforcement wiring addition script is created by the power reinforcement wiring addition unit 19 (step S34), and the power reinforcement wiring addition script is executed by the automatic placement and routing tool 14. Then, a power reinforcing wiring is added (step S35). When the power reinforcing wiring is added in this way, the EM / IR drop verification in step S9 is performed again. The EM and IR-Drop verification is performed again, the determination of the EM and IR-Drop verification in step S10 is OK, and the layout design is finished.

次に、電源強化配線追加範囲の算出方法について図8を参照して説明する。図8に示すように、電源強化配線を配置できる範囲を決めるための係数は範囲係数(62)で与えられる。範囲係数62はレイアウト設計の設計基準により決定することができる。EM、IRドロップエラー座標61に対して、X方向63、Y方向64の所定の範囲に対し、範囲係数mを掛け合わせて電源強化配線追加範囲とする。なお、範囲係数mの掛け合わせ方はどのようであってもよい。   Next, a method for calculating the power reinforcing wiring additional range will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 8, a coefficient for determining a range in which the power reinforcing wiring can be arranged is given by a range coefficient (62). The range coefficient 62 can be determined by the design standard of layout design. The EM and IR drop error coordinates 61 are multiplied by a range coefficient m to a predetermined range in the X direction 63 and the Y direction 64 to obtain a power enhancement wiring additional range. Note that any method of multiplying the range coefficient m may be used.

そして、EM、IRドロップエラー座標61を基点としてX方向63、Y64方向に範囲係数52に従って±の方向に電源強化配線範囲65を、電源強化配線範囲66へ拡大していく。電源強化配線範囲の拡大は、電源強化配線67を配線できる範囲まで繰り返し実行する。   Then, the power reinforcing wiring range 65 is expanded to the power reinforcing wiring range 66 in the ± direction according to the range coefficient 52 in the X direction 63 and the Y 64 direction with the EM and IR drop error coordinates 61 as a base point. The expansion of the power reinforcing wiring range is repeatedly performed until the power reinforcing wiring 67 can be wired.

本実施の形態においては、EM、IR−Drop検証でNGとなった場合に電源強化配線追加範囲内の空き領域に電源強化配線(及びスタックビア)を追加することでフロアプラン変更や論理変更、論理機能削減、及び配置変換による繰返し回数の削減や電源配線のEM、IR−Dropによる不具合の防止によって、大幅な設計工数の削減と機能低下の防止を図ることができる。   In this embodiment, when EM or IR-Drop verification results in NG, a floor plan change or a logic change is performed by adding a power reinforcement wiring (and a stack via) to an empty area within the power reinforcement wiring addition range. By reducing the number of repetitions by logical function reduction and layout conversion, and by preventing problems caused by EM and IR-Drop of power supply wiring, it is possible to significantly reduce design man-hours and prevent functional degradation.

すなわち、単純にスタックビアを削除して、配線領域を確保し、集積度向上及び迂回配線率減少を図ると、プロセス微細化に伴い電源配線のEM、IR−Dropによる不具合が顕著化する。通常、論理機能をLSIチップ上のどの領域(場所)に配置するかを決めるため、各論理機能を実現するブロックの寸法を求め、チップ上に無駄な領域(デッド・スペース)が残らないようにブロックの配置(フロアプラン)を行なうが、前記不具合によりフロアプランまで戻る手戻りが発生するという問題点がある。これに対し、本実施の形態においては、EM、IR−Dropを検証することで、EM、IR−Dropによる不具合を防止することができる。   That is, if the stack via is simply deleted to secure a wiring area to improve the degree of integration and reduce the detour wiring rate, problems due to EM and IR-Drop of the power supply wiring become conspicuous as the process becomes finer. Usually, in order to determine which area (location) on the LSI chip the logic function is to be placed, the size of the block that realizes each logic function is obtained so that no dead area (dead space) remains on the chip. Although the arrangement of the blocks (floor plan) is performed, there is a problem in that a return to the floor plan occurs due to the above-mentioned trouble. On the other hand, in this Embodiment, the malfunction by EM and IR-Drop can be prevented by verifying EM and IR-Drop.

実施の形態3.
次に、本発明の実施の形態3について説明する。本実施の形態においては、電源追加配線強化部19は、電源解析ツール18の解析結果により、EM又はIRドロップの値が基準値を上回っている箇所(エラー)が生じている座標が、スタックビア削除範囲内か否かを判定する。そして、当該エラーが生じている座標がスタックビア削除範囲内であれば、フロアプラン部13はフロアプランをやり直す。なお、レイアウト設計装置の構成は、実施の形態2と同様である。
Embodiment 3 FIG.
Next, a third embodiment of the present invention will be described. In the present embodiment, the power supply additional wiring strengthening unit 19 determines that the coordinates where the location (error) where the value of the EM or IR drop exceeds the reference value has occurred based on the analysis result of the power analysis tool 18 is a stack via. It is determined whether it is within the deletion range. If the coordinates where the error has occurred are within the stack via deletion range, the floor plan unit 13 redoes the floor plan. The configuration of the layout design apparatus is the same as that of the second embodiment.

図9及び図10は、本実施の形態にかかる半導体集積化意図のレイアウト設計方法のうち、それぞれスタックビア削除工程及び電源強化配線追加工程を示すフローチャートである。図9及び図10に示すように、本実施の形態においては、図6及び図7に示す実施の形態2にかかる半導体集積回路のレイアウト方法に対し、スタックビア削除工程S40においては、スタックビア削除範囲座標算出工程S41を追加する。また、電源強化配線追加工程S50においては、EM・IRドロップNG箇所がスタックビア削除範囲内か否かを判定する工程S51を有する。その他の工程は、実施の形態2と同様である。   FIG. 9 and FIG. 10 are flowcharts showing a stack via deletion process and a power reinforcing wiring addition process, respectively, in the layout design method intended for semiconductor integration according to the present embodiment. As shown in FIGS. 9 and 10, in the present embodiment, the stack via deletion process S40 is different from the semiconductor integrated circuit layout method according to the second embodiment shown in FIGS. 6 and 7 in the stack via deletion process S40. A range coordinate calculation step S41 is added. Further, the power reinforcing wiring adding step S50 includes a step S51 for determining whether or not the EM / IR drop NG location is within the stack via deletion range. Other steps are the same as those in the second embodiment.

すなわち、スタックビア削除工程S40において、ステップS25のスタックビア削除工程の後に、スタックビア削除範囲座標を算出する(ステップS41)。スタックビア削除範囲座標とは、ステップS22でスタックビア削除範囲を算出したもののうち、ステップS23でチップサイズより小さいと判定されたスタックビア削除範囲を示す座標である。   That is, in the stack via deletion step S40, the stack via deletion range coordinates are calculated after the stack via deletion step in step S25 (step S41). The stack via deletion range coordinate is a coordinate indicating the stack via deletion range determined to be smaller than the chip size in step S23 among the stack via deletion range calculated in step S22.

次に、電源強化配線追加工程S50において、ステップS33の電源強化配線追加範囲がチップサイズより小さい場合、ステップS31で抽出したEM・IRドロップNG座標がステップS41で算出したスタックビア削除範囲座標内であるか否かを判断する(ステップS51)。スタックビア削除範囲内は、基本的に配線性向上のためにスタックビアを削除しているため、すなわち、配置配線でのエラー座標を含む配置配線性がよくない箇所である。よって、当該スタックビア削除範囲内での電源強化配線の追加は困難である。このため、スタックビア削除範囲内に電源強化配線追加範囲が含まれる場合は、エラーとし、ステップS3のフロアプランから処理をやり直す。   Next, in the power enhancement wiring addition step S50, when the power enhancement wiring addition range in step S33 is smaller than the chip size, the EM / IR drop NG coordinates extracted in step S31 are within the stack via deletion range coordinates calculated in step S41. It is determined whether or not there is (step S51). Within the stack via deletion range, the stack via is basically deleted in order to improve the wiring property, that is, the place and wiring property including the error coordinate in the placement and wiring is not good. Therefore, it is difficult to add the power reinforcing wiring within the stack via deletion range. For this reason, if the power supply enhancement wiring addition range is included in the stack via deletion range, an error is determined and the process is repeated from the floor plan in step S3.

本実施の形態においては、スタックビア削除工程S40で算出したスタックビアの削除範囲内に、EM・IRドロップNG座標が含まれるか否かを検証することでフロアプラン変更や配置変換による繰返し回数の削減や電源配線のEM、IR−Dropによる不具合の防止によって、大幅な設計工数の削減と機能低下の防止を図ることができる。   In the present embodiment, it is verified whether or not the EM / IR drop NG coordinates are included in the stack via deletion range calculated in the stack via deletion step S40. Reduction of the design man-hours and prevention of functional degradation can be achieved by reducing the power supply wiring and preventing problems caused by EM and IR-Drop.

実施の形態4.
次に、本発明の実施の形態4について説明する。本実施の形態においては、電源追加配線強化部19は、電源解析ツール18が解析した結果、EM又はIRドロップエラーが生じている座標を含む所定範囲に含まれるフリップフロップ数が基準値以内か否かを判定する。そして、EM又はIRドロップエラーが生じている座標を含む所定範囲に含まれるフリップフロップ数が全て基準値以上である場合に、見積もり&選択部11により、当該半導体集積回路の消費電力の見積もりをやり直す。なお、レイアウト設計装置の構成は、実施の形態2と同様である。
Embodiment 4 FIG.
Next, a fourth embodiment of the present invention will be described. In the present embodiment, the power supply additional wiring strengthening unit 19 analyzes whether or not the number of flip-flops included in the predetermined range including the coordinates where the EM or IR drop error occurs is within the reference value as a result of analysis by the power analysis tool 18. Determine whether. Then, when the number of flip-flops included in the predetermined range including the coordinates where the EM or IR drop error occurs is equal to or more than the reference value, the estimation & selection unit 11 re-estimates the power consumption of the semiconductor integrated circuit. . The configuration of the layout design apparatus is the same as that of the second embodiment.

図11及び図12は、本実施の形態にかかる半導体集積化意図のレイアウト設計方法のうち、それぞれスタックビア削除工程及び電源強化配線追加工程を示すフローチャートである。図11及び図12に示すように、本実施の形態においては、図6及び図7に示す実施の形態2にかかる半導体集積回路のレイアウト方法に対し、スタックビア削除工程S60においては、削除範囲内のフリップフロップ(F/F)数算出工程S61を追加する。また、電源強化配線追加工程S70においては、EM・IR−DropNG箇所のF/F数が基準範囲内か否かを判定する工程S71を設ける。その他の工程は、実施の形態2と同様である。   FIG. 11 and FIG. 12 are flowcharts showing a stack via deletion step and a power reinforcing wiring addition step in the layout design method intended for semiconductor integration according to the present embodiment, respectively. As shown in FIGS. 11 and 12, in the present embodiment, the stack via deletion step S60 is within the deletion range as compared with the semiconductor integrated circuit layout method according to the second embodiment shown in FIGS. Flip-flop (F / F) number calculation step S61 is added. Further, in the power reinforcing wiring adding step S70, a step S71 for determining whether or not the F / F number at the EM / IR-DropNG location is within the reference range is provided. Other steps are the same as those in the second embodiment.

ステップS61におけるスタックビア削除範囲内のF/F数の算出は、スタックビア削除範囲とF/Fの配置座標の比較により求めることができる。スタックビア削除範囲内に含まれるF/F数をカウントする。本実施の形態においては、スタックビア削除範囲内に含まれるF/F数をカウントすることで、チップの単位領域内のF/F数を推定するものとする。   The calculation of the F / F number within the stack via deletion range in step S61 can be obtained by comparing the stack via deletion range with the F / F arrangement coordinates. The number of F / Fs included in the stack via deletion range is counted. In the present embodiment, the number of F / Fs in the unit area of the chip is estimated by counting the number of F / Fs included in the stack via deletion range.

電源強化配線追加工程S70では、ステップS31で抽出したエラー座標を所定領域内のF/F数が、基準範囲内か否かを判定する。この判定は、エラー座標が複数ある場合は、全てのエラー座標を含む各所定領域内のF/F数が基準範囲内か否かを判定する。この場合、プロセス等を考慮して、単位面積値の許容F/F数を検討し、例えば100μm内の許容F/F数を例えば100個が基準とすると、上述のステップS61でカウントしたF/F数がこの基準内か否かを判定する。 In the power reinforcing wiring adding step S70, it is determined whether or not the F / F number in the predetermined area is within the reference range for the error coordinates extracted in step S31. In this determination, when there are a plurality of error coordinates, it is determined whether or not the F / F number in each predetermined area including all the error coordinates is within the reference range. In this case, considering the process and the like, the allowable F / F number of the unit area value is examined. For example, when the allowable F / F number within 100 μm 2 is based on, for example, 100, the F counted in the above step S61. It is determined whether the / F number is within this standard.

なお、本実施の形態においては、ステップS61にてカウントしたF/F数に基づき判定するものとするが、ステップS31で抽出したエラー座標を含む所定領域の座標を抽出し、この座標とF/Fの配置座標の比較から、当該所定領域内のF/F数を算出し、これが基準値内か否かを判定してもよいことは勿論である。   In this embodiment, the determination is made based on the number of F / Fs counted in step S61. However, the coordinates of a predetermined area including the error coordinates extracted in step S31 are extracted, and these coordinates and F / Of course, it is possible to calculate the number of F / Fs in the predetermined area from the comparison of the arrangement coordinates of F and determine whether or not this is within the reference value.

ここで、全てのエラー座標を含む所定領域内のF/F数がいずれも基準値を満たさない場合には、ステップS1のパワー見積もり工程に戻る。この工程においては、チップ消費電力を見積もるが、ステップS71でNoであった場合は、この工程においてチップに含まれるF/F数等を見直す。   Here, when none of the F / F numbers in the predetermined area including all the error coordinates satisfy the reference value, the process returns to the power estimation process in step S1. In this process, the chip power consumption is estimated. If the answer is No in step S71, the number of F / Fs included in the chip is reviewed in this process.

本実施の形態においては、電源強化配線追加工程S70のEM、IR−DropNG箇所を含む所定領域内のF/F数を基準値と比較することで、電源強化配線追加工程S70に含まれる電源強化範囲算出工程S32、電源追加範囲がチップのサイズより小さいか否かの判定工程S33、電源強化配線追加スクリプト作成工程S34、及び電源強化配線追加工程S35を省略することができ、設計工数の削減ができる。   In the present embodiment, the power enhancement included in the power enhancement wiring addition step S70 is performed by comparing the F / F number in the predetermined area including the EM and IR-DropNG locations in the power enhancement wiring addition step S70 with the reference value. The range calculation step S32, the determination step S33 whether or not the power supply addition range is smaller than the chip size, the power strengthening wiring addition script creation step S34, and the power strengthening wiring addition step S35 can be omitted, and the design man-hour can be reduced. it can.

以上説明した実施の形態においては、以下の効果を奏する。すなわち、
1.スタックビア周りの迂回配線率が低減するため、信号配線遅延時間の短縮による高速化を図ることができる。さらに、未配線領域の収容に伴うフロアプラン変更や論理変更、及び論理機能削減による繰返し回数の削減や防止によって、大幅な設計工数の削減と機能低下の防止を図ることができる。
2.スタックビアを取り除いた箇所の座標とその箇所の追加スタックビア数情報で配置配線後のレイアウト設計データからEM、IR−Dropを予測できる。
3.電源配線のEM、IR−Dropによる不具合を改善するため、電源強化配線追加範囲内の空き領域にて電源強化配線(スタックビア)を追加することでフロアプランまで戻る繰返し回数の削減でレイアウト設計工数の削減ができる。
The embodiment described above has the following effects. That is,
1. Since the detour wiring rate around the stack via is reduced, it is possible to increase the speed by shortening the signal wiring delay time. Furthermore, by reducing or preventing the number of iterations due to floor plan changes, logic changes, and logic function reductions accompanying accommodation of unwired areas, it is possible to significantly reduce design man-hours and prevent functional degradation.
2. EM and IR-Drop can be predicted from the layout design data after placement and routing by the coordinates of the location where the stack via is removed and the number of additional stack vias at that location.
3. Layout design man-hours by reducing the number of iterations to return to the floor plan by adding power reinforcing wiring (stack via) in the empty area within the power reinforcing wiring additional range in order to improve defects due to EM and IR-Drop of power wiring Can be reduced.

なお、本発明は上述した実施の形態のみに限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々の変更が可能であることは勿論である。   It should be noted that the present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications can be made without departing from the scope of the present invention.

本発明の実施の形態1にかかる格子状電源配線を有する半導体集積回路のレイアウト設計装置を示すブロック図である。1 is a block diagram showing a layout design apparatus for a semiconductor integrated circuit having a grid power supply wiring according to a first embodiment of the present invention; 本発明の実施の形態1にかかる半導体集積回路のレイアウト設計方法を示すフローチャートである。4 is a flowchart showing a layout design method for a semiconductor integrated circuit according to the first embodiment of the present invention; 本発明の実施の形態1におけるスタックビア削除工程を説明する図である。It is a figure explaining the stacked via deletion process in Embodiment 1 of the present invention. 同じく、本発明の実施の形態1におけるスタックビア削除工程を説明する図である。Similarly, it is a figure explaining the stack via deletion process in Embodiment 1 of the present invention. 本発明の実施の形態2にかかる半導体集積回路のレイアウト設計装置を示す図である。It is a figure which shows the layout design apparatus of the semiconductor integrated circuit concerning Embodiment 2 of this invention. 本発明の実施の形態2にかかる半導体集積化意図のレイアウト設計方法のうち、スタックビア削除工程を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows a stack via deletion process among the layout design methods of the semiconductor integration intention concerning Embodiment 2 of this invention. 本発明の実施の形態2にかかる半導体集積化意図のレイアウト設計方法のうち、電源強化配線追加工程を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows a power reinforcement wiring addition process among the layout design methods of the semiconductor integration intention concerning Embodiment 2 of this invention. 本発明の実施の形態2における電源強化配線追加範囲の算出方法を説明する図である。It is a figure explaining the calculation method of the power supply reinforcement | strengthening wiring additional range in Embodiment 2 of this invention. 本発明の実施の形態3にかかる半導体集積化意図のレイアウト設計方法のうち、スタックビア削除工程を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows a stack via deletion process among the layout design methods of the semiconductor integration intention concerning Embodiment 3 of this invention. 本発明の実施の形態3にかかる半導体集積化意図のレイアウト設計方法のうち、電源強化配線追加工程を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows a power supply reinforcement | strengthening wiring addition process among the layout design methods of the semiconductor integration intention concerning Embodiment 3 of this invention. 本発明の実施の形態4にかかる半導体集積化意図のレイアウト設計方法のうち、スタックビア削除工程を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows a stack via deletion process among the layout design methods of the semiconductor integration intention concerning Embodiment 4 of this invention. 本発明の実施の形態4にかかる半導体集積化意図のレイアウト設計方法のうち、電源強化配線追加工程を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows a power reinforcement wiring addition process among the layout design methods of the semiconductor integration intention concerning Embodiment 4 of this invention. 従来のLSIレイアウト設計装置の構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the structure of the conventional LSI layout design apparatus. 従来の電源削除処理動作を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the conventional power supply deletion process operation.

符号の説明Explanation of symbols

11 見積もり&選択部
12 電源データベース
13 フロアプラン
14 自動配置配線ツール
15 デザインルールチェック部
15 自動配線ツール
16 スタックビア削除部
17 スタックビア追加部
18 電源解析ツール
19 電源強化配線追加部
51、61 エラー座標
52、62 範囲係数
53、63 X方向
54、64 Y方向
55、56 スタックビア削除範囲
57 スタックビア
65、66 電源強化配線範囲
67 電源強化配線
DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 Estimate & selection part 12 Power supply database 13 Floor plan 14 Automatic placement and routing tool 15 Design rule check part 15 Automatic wiring tool 16 Stack via deletion part 17 Stack via addition part 18 Power analysis tool 19 Power reinforcement wiring addition part 51 and 61 Error coordinates 52, 62 Range coefficient 53, 63 X direction 54, 64 Y direction 55, 56 Stack via deletion range 57 Stack via 65, 66 Power supply enhancement wiring range 67 Power supply enhancement wiring

Claims (15)

格子状電源配線を有する半導体集積回路のレイアウト設計装置であって、
電源配線及び配置配線を実行する自動配置配線部と、
前記自動配置配線部が実行した配置配線のエラーを検出するデザインルールチェック部と、
前記デザインルールチェック部により配置配線のエラーを検出した場合に、そのエラー座標に基づき削除範囲を指定し、当該削除範囲のスタックビアを取り除くための処理を行なうスタックビア削除部とを有する半導体集積回路のレイアウト設計装置。
A layout design apparatus for a semiconductor integrated circuit having a grid-like power wiring,
An automatic placement and routing unit for performing power supply wiring and placement and routing;
A design rule check unit for detecting an error of the placement and routing executed by the automatic placement and routing unit;
A semiconductor integrated circuit having a stack via deletion unit that designates a deletion range based on the error coordinates and performs a process for removing a stack via in the deletion range when an error in the placement and routing is detected by the design rule check unit Layout design equipment.
前記配置配線のエラーがなくなった場合に、スタックビアを追加可能か判定し、追加可能であればスタックビアを追加するための処理を行なうスタックビア追加部をさらに有する
ことを特徴とする請求項1記載の半導体集積回路のレイアウト設計装置。
2. The apparatus further comprises a stack via adding unit that determines whether or not a stack via can be added when the placement and routing error is eliminated, and performs processing for adding a stack via if it can be added. The layout design apparatus of the semiconductor integrated circuit as described.
電源配線で発生するノイズの量に応じたエラーである電源解析エラーを検出する電源解析部と、
前記電源解析部が前記電源解析エラーを検出した場合に、そのエラー座標に基づき配線追加範囲を指定し、当該配線追加範囲内に電源強化配線を追加する電源追加配線強化部とをさらに有する
ことを特徴とする請求項1又は2記載の半導体集積回路のレイアウト設計装置。
A power analysis unit that detects a power analysis error, which is an error according to the amount of noise generated in the power wiring,
The power supply analysis unit further includes a power supply additional wiring reinforcement unit that specifies a wiring addition range based on the error coordinates and adds a power reinforcement wiring within the wiring addition range when the power analysis error is detected. 3. The layout design apparatus for a semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein:
前記電源解析部は、エレクトロマイグレーションが生じるか否か及び/又は電源配線の電圧降下が基準値以内か否かを検出する
ことを特徴とする請求項3記載の半半導体集積回路のレイアウト設計装置。
The layout design apparatus for a semi-semiconductor integrated circuit according to claim 3, wherein the power supply analysis unit detects whether electromigration occurs and / or whether the voltage drop of the power supply wiring is within a reference value.
フロアプランを決定するフロアプラン部を有し、
前記電源追加配線強化部は、前記電源解析エラーが生じている座標が前記削除範囲内か否かを判定し、
前記フロアプラン部は、前記電源解析エラーが生じている座標が前記削除範囲内であれば、フロアプランをやり直す
ことを特徴とする請求項3又は4記載の半導体集積回路のレイアウト設計装置。
It has a floor plan section that determines the floor plan,
The power supply additional wiring reinforcement unit determines whether or not the coordinates where the power analysis error occurs are within the deletion range,
5. The layout design apparatus for a semiconductor integrated circuit according to claim 3, wherein the floor plan unit redoes the floor plan if the coordinates where the power analysis error occurs are within the deletion range.
半導体集積回路の消費電力を見積もる電力見積もり部を有し、
前記電源追加配線強化部は、前記電源解析エラーが生じている座標を含む所定範囲に含まれるフリップフロップ数が基準値以内か否かを判定し、
前記電力見積もり部は、前記電源解析エラーが生じている座標を含む所定範囲に含まれるフリップフロップ数が全て基準値以上である場合に当該半導体集積回路の消費電力の見積もりをやり直す
ことを特徴とする請求項3乃至5のいずれか1項記載の半導体集積回路のレイアウト設計装置。
A power estimation unit for estimating the power consumption of the semiconductor integrated circuit;
The power supply additional wiring reinforcement unit determines whether or not the number of flip-flops included in a predetermined range including coordinates where the power supply analysis error occurs is within a reference value,
The power estimation unit re-estimates the power consumption of the semiconductor integrated circuit when the number of flip-flops included in a predetermined range including the coordinates where the power analysis error has occurred is equal to or greater than a reference value. The layout design apparatus for a semiconductor integrated circuit according to claim 3.
前記スタックビア削除部は、配置配線のエラーが生じている座標を中心にx方向及びy方向の所定範囲に、第1の範囲係数を乗算した領域を第1削除範囲とし、当該第1削除範囲に削除すべきスタックビアが存在しない場合は、前記第1の範囲係数を大きい値に更新して前記所定範囲に乗算した領域を第2削除範囲とし、当該第2削除範囲に削除すべきスタックビアが存在するか否かを判定する
ことを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項記載の半導体集積回路のレイアウト設計装置。
The stack via deletion unit sets, as a first deletion range, an area obtained by multiplying a predetermined range in the x direction and the y direction by a first range coefficient around a coordinate where a placement and routing error has occurred. If there is no stack via to be deleted, the area obtained by updating the first range coefficient to a large value and multiplying the predetermined range is set as the second deletion range, and the stack via to be deleted in the second deletion range. 7. The layout design apparatus for a semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein whether or not there exists is determined.
前記スタックビア削除部は、配置配線のエラーが生じている座標を中心にx方向及びy方向の所定範囲を第1削除範囲とし、当該第1削除範囲に削除すべきスタックビアが存在しない場合は、当該第1削除範囲のx方向及びy方向を電源ピッチ又はビアピッチ分大きくした第2削除範囲を設定し、当該第2削除範囲に削除すべきスタックビアが存在するか否かを判定する
ことを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項記載の半導体集積回路のレイアウト設計装置。
The stack via deletion unit sets a predetermined range in the x direction and the y direction around the coordinates where the placement and routing error occurs as a first deletion range, and when there is no stack via to be deleted in the first deletion range Setting a second deletion range in which the x direction and the y direction of the first deletion range are increased by the power supply pitch or via pitch, and determining whether or not there is a stacked via to be deleted in the second deletion range. 7. The layout design apparatus for a semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein the layout design apparatus is a semiconductor integrated circuit layout design apparatus.
前記電源追加配線強化部は、前記電源解析エラーが生じている座標を中心にx方向及びy方向の所定範囲に、第2の範囲係数を乗算した領域を第1配線追加範囲とし、当該第1配線追加範囲に電源配線を追加できない場合は、前記第2の範囲係数を大きい値に更新して前記所定範囲に乗算した領域を第2配線追加範囲とし、当該第2配線追加範囲に電源配線が追加できるか否かを判定する
ことを特徴とする請求項3乃至8のいずれか1項記載の半導体集積回路のレイアウト設計装置。
The power supply additional wiring strengthening unit sets a region obtained by multiplying a predetermined range in the x direction and the y direction by a second range coefficient around the coordinates where the power analysis error has occurred as a first wiring additional range. When the power supply wiring cannot be added to the wiring addition range, the area obtained by updating the second range coefficient to a large value and multiplying the predetermined range is set as the second wiring addition range, and the power supply wiring is added to the second wiring addition range. The layout design apparatus for a semiconductor integrated circuit according to claim 3, wherein it is determined whether or not it can be added.
前記電源追加配線強化部は、電源解析エラーが生じている座標を中心にx方向及びy方向の所定範囲を第1配線追加範囲とし、当該第1配線追加範囲に電源配線を追加できない場合は、当該第1配線追加範囲のx方向及びy方向を電源ピッチ又はビアピッチ分大きくした第2配線追加範囲を設定し、当該第2配線追加範囲に電源配線が追加できるか否かを判定する
ことを特徴とする請求項3乃至8のいずれか1項記載の半導体集積回路のレイアウト設計装置。
The power supply additional wiring reinforcement unit sets a predetermined range in the x direction and the y direction around the coordinates where a power analysis error has occurred as a first wiring additional range, and when the power wiring cannot be added to the first wiring additional range, A second wiring addition range is set by increasing the x direction and y direction of the first wiring addition range by the power supply pitch or via pitch, and it is determined whether or not a power supply wiring can be added to the second wiring addition range. The layout design apparatus for a semiconductor integrated circuit according to claim 3.
格子状電源配線を有する半導体集積回路のレイアウト設計方法であって、
電源配線及び配置配線実行した後、配置配線のエラーを判定するエラー判定ステップと、
前記配置配線のエラーがある場合に、エラー座標に基づき削除範囲を指定し、当該削除範囲のスタックビアを取り除くスタックビア削除ステップとを有する半導体装置のレイアウト設計方法。
A layout design method for a semiconductor integrated circuit having a grid-like power supply wiring,
An error determination step for determining an error in the arrangement and wiring after executing the power supply wiring and the arrangement and wiring; and
A layout design method for a semiconductor device, comprising: a stack via deletion step of designating a deletion range based on an error coordinate and removing a stack via in the deletion range when there is an error in the placement and routing.
前記配置配線のエラーがなくなった場合に、スタックビアが追加可能か判定し、追加可能であればスタックビアを追加するスタックビア追加ステップを更に有する
ことを特徴とする請求項11に記載の半導体装置のレイアウト設計方法。
The semiconductor device according to claim 11, further comprising a stack via addition step of determining whether a stack via can be added when the placement and routing error is eliminated, and adding a stack via if it can be added. Layout design method.
電源配線で発生するノイズの量に応じたエラーである電源解析エラーを検出する電源エラー検出工程と、
前記電源解析エラーを検出した場合に、そのエラー座標に基づき配線追加範囲を指定し、当該配線追加範囲内に電源強化配線を追加する電源追加配線強化工程とをさらに有する
ことを特徴とする請求項11又は12記載の半導体集積回路のレイアウト設計方法。
A power error detection process for detecting a power analysis error, which is an error corresponding to the amount of noise generated in the power wiring,
The power supply additional wiring strengthening step of designating a wiring additional range based on the error coordinates when the power analysis error is detected and adding a power reinforcing wiring within the wiring additional range. 13. A layout design method for a semiconductor integrated circuit according to 11 or 12.
フロアプランを決定するフロアプラン工程を有し、
前記電源追加配線強化工程では、前記電源解析エラーが生じている座標が前記削除範囲内か否かを判定し、前記電源解析エラーが生じている座標が前記削除範囲内であれば、前記フロアプラン工程をやり直す
ことを特徴とする請求項13記載の半導体集積回路のレイアウト設計方法。
It has a floor plan process that determines the floor plan,
In the power supply additional wiring strengthening step, it is determined whether or not the coordinates where the power analysis error occurs are within the deletion range. If the coordinates where the power analysis error occurs are within the deletion range, the floor plan is determined. The layout design method for a semiconductor integrated circuit according to claim 13, wherein the process is repeated.
半導体集積回路の消費電力を見積もる電力見積もり工程を有し、
前記電源追加配線強化工程では、前記電源解析エラーが生じている座標を含む所定範囲に含まれるフリップフロップ数が基準値以内か否かを判定し、前記電源解析エラーが生じている座標を含む所定範囲に含まれるフリップフロップ数が全て基準値以上である場合には前記電力見積もり工程をやり直す
ことを特徴とする請求項13又は14記載の半導体集積回路のレイアウト設計方法。
A power estimation process for estimating the power consumption of the semiconductor integrated circuit;
In the power supply additional wiring strengthening step, it is determined whether or not the number of flip-flops included in a predetermined range including the coordinates where the power analysis error occurs is within a reference value, and the predetermined including the coordinates where the power analysis error occurs 15. The layout design method for a semiconductor integrated circuit according to claim 13, wherein when the number of flip-flops included in the range is equal to or greater than a reference value, the power estimation step is performed again.
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US8751992B2 (en) 2011-09-08 2014-06-10 Kabushiki Kaisha Toshiba Power supply wiring structure
JP2015149358A (en) * 2014-02-05 2015-08-20 株式会社メガチップス Semiconductor integrated circuit design method, program, layout data and reticle

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8614515B2 (en) 2010-12-28 2013-12-24 Kabushiki Kaisha Toshiba Wiring method for semiconductor integrated circuit, semiconductor-circuit wiring apparatus and semiconductor integrated circuit
US8751992B2 (en) 2011-09-08 2014-06-10 Kabushiki Kaisha Toshiba Power supply wiring structure
JP2015149358A (en) * 2014-02-05 2015-08-20 株式会社メガチップス Semiconductor integrated circuit design method, program, layout data and reticle

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