JP2007311683A - 貼り合せ方法及びその装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】 板状の接合対象物同士を貼り合せるときの衝撃荷重及び偏荷重を緩和して高精度に接合対象物を貼り合せる貼り合せ方法及びその装置を提供する。
【解決手段】 駆動部により昇降駆動されるヘッド部12又は一方の接合対象物を保持するステージ部13に弾性体7を設けて2枚の接合対象物が接触したときの衝撃荷重や偏荷重を緩和すると共に、荷重検出手段9及び制御アンプ10により荷重値が均一になるまで仮加圧してから接合に必要な荷重で2枚の接合対象物を貼り合せる。
【選択図】 図1

Description

本発明は、板状に形成された複数の接合対象物同士を互いの接合面で貼り合せる接合技術に関し、特にICチップやウエハあるいはガラスパネルなどを接合するのに好適な貼り合せ方法及びその装置に関するものである。
半導体ウエハやガラスパネルなどの板状に形成された接合対象物同士を接合面の間で貼り合せるために、両接合対象物の間が接近するように移動させて接触させたとき、両接合対象物の接合面間の平行度が低い場合、接触直前に点接触となるために衝撃荷重や偏荷重によるダメージが生じ、接合対象面で接触した後の加圧均一性が接合品質に与える影響が大きくなる。
両接合対象物の接合面間の平行度が低くなる原因は、接合対象物自体の両面間の平行度だけでなく、貼り合せる両接合対象物をそれぞれ保持する装置側の傾きが大きく影響する。接合対象物の平行精度や装置の精度には限界があり、それらを補正して両接合対象物が面接触した状態で加圧接合するより信頼性の高い貼り合せ技術の開発が要求されている。
特に、半導体分野においてはウエハの薄型化が進み、低コスト化の要求に応えるべくチップレベルでの接合からウエハレベルでの一括接合への要求が高まっている。しかしながら、薄型化や大型化が進行すると、接合対象物自体の平面度や貼り合せる接合対象物同士の平行度を一定の精度内に確保することが困難となる課題があり、接合対象物を貼り合せる装置において前記課題を解決することが要求されている。
接合対象物同士を貼り合せる際に、それらが接触する瞬間の衝撃荷重や偏荷重を回避する接合方法や、接合加圧の均一性を確保するための面接触を実現する面接合方法は重要課題であり、これを解決すべく接合対象物同士を貼り合せるときの精度を向上させる接合方法が提案されている。
例えば、図9に示すように、保持手段103上に上下に重ね合わせた2つの接合対象物101、102を接合する工程の前に、複数の非接触変位センサ105により平行度を計測し、この計測データに基づいてステージ104に配置された複数の微小変位機構106それぞれを独立して駆動することにより、平行度を所定精度内に収める平行調整機構を設けた構成が知られている(特許文献1参照)。
また、図10に示すように、球面軸受ホルダ116上に板バネ117で球面軸115を支持した倣い機構の下面に取り付けた保持手段121で一方の接合対象物111を保持し、それに対面させて他方の接合対象物112をステージ122上に保持し、球面軸115に加圧して両接合対象物111,112を貼り合せるとき、両接合面の平行の傾きによる点接触があると、板バネ117の弾性による倣いにより両接合面間の接触を点接触から面接触へ移行させて加圧接合する接合装置が開示されている(特許文献2参照)。
特開昭59−155919号公報 特開2004−281476号公報
しかしながら、上記平行調整機構を設けた構成においてサブミクロン単位での調整が可能であれば偏荷重は抑止できるが、実際には接合対象物の両面平行度のばらつきを接合工程を実施する毎に調整することは現実には困難であり、倣い機構と併せて貼り合せを実施することが多い。
ところが、倣い機構を設けた構成では、接触後の接合対象物同士の平行度確保を可能とし、加圧の均一性を確保することは可能であるが、接触する瞬間の衝撃荷重や偏荷重を抑止することは困難である。従って、平行調整機構や倣い機構では両接合対象物に傾きがあって点接触したときのダメージを緩和することには不充分である。
前述したように、半導体分野においてはウエハの薄型化が進展するのと同時に、チップレベルでの接合からウエハレベルでの接合が要求されるとき、接合対象物自体の平面度や貼り合せる接合対象物同士の平行度を一定の精度内に確保することが困難となる課題があり、接合対象物を貼り合せる装置において前記課題を解決することが要求されている。
本発明が目的とするところは、ウエハのように薄型化、大型化した接合対象物を貼り合せるときの接触衝撃によるダメージを抑制して高品質な加圧接合を実現する貼り合せ方法及びその装置を提供することにある。
上記目的を達成するための本願第1発明は、板状に形成された第1の接合対象物と第2の接合対象物とを互いの接合面で対面させ、接近移動させて面接触するように加圧して両接合対象物を接合する貼り合せ方法であって、接近移動により前記第1の接合対象物と第2の接合対象物とが接触する以前に、第1の接合対象物を保持する側と第2の接合対象物を保持する側とを弾性的に接触させ、この弾性接触に基づいて第1の接合対象物の接合面と第2の接合対象物との接合面の平行の傾きを補正して加圧することを特徴とする。
上記貼り合せ方法によれば、接近移動により第1の接合対象物と第2の接合対象物とが接触するより先に、それぞれの接合対象物を保持する側が弾性接触するので、接合対象物が接触した際の衝撃は緩和され、両接合面間の平行度が低下して点接触となったときでの接触衝撃が減少して両接合対象物が受けるダメージを抑制することができる。また、第1の接合対象物を保持する側と第2の接合対象物を保持する側とが弾性接触したときの荷重状態の偏りに基づいて第1の接合対象物の接合面と第2の接合対象物との接合面の平行の傾きを補正することにより、両接合面間の平行度が改善されるので、両接合対象物が面接触した状態で加圧することによって両接合対象物は加圧接合される。
上記貼り合せ方法において、第1の接合対象物又は第2の接合対象物を囲む等間隔の複数位置で弾性接触の状態を検出することにより偏荷重を検知し、それに基づいて加圧を制御することにより、両接合面間の平行度が低下して点接触になった状態で大きな接触加圧が加わることによる両接合対象物が受けるダメージを緩和し、加圧制御により両接合面の平行が一致するように加圧して面接触状態で接合加圧することによって両接合対象物は加圧接合される。
また、上記目的を達成するための本願第2発明は、板状に形成された第1の接合対象物と第2の接合対象物とをそれぞれ保持して互いの接合面で対面させ、接近移動させて面接触するように加圧して両接合対象物を接合する貼り合せ装置であって、前記第1の接合対象物又は第2の接合対象物を保持する側に、第1の接合対象物又は第2の接合対象物の接合面より対向する側に向けて突出し、第1の接合対象物を保持する側と第2の接合対象物を保持する側とを弾性的に接触させる衝撃緩和手段を第1の接合対象物又は第2の接合対象物を囲む位置に設けると共に、前記衝撃緩和手段の接触に基づいて第1の接合対象物と第2の接合対象物とが対面する互いの接合面の平行の傾きを補正する平行度補正手段を設けてなることを特徴とする。
上記貼り合せ装置によれば、接近移動により第1の接合対象物と第2の接合対象物とが接触するより先に衝撃緩和手段で弾性接触するので、接合対象物が接触した際の衝撃は緩和され、両接合面間の平行度が低下して点接触となったときでの接触衝撃が減少して両接合対象物が受けるダメージを抑制することができる。また、第1の接合対象物を保持する側と第2の接合対象物を保持する側とが弾性接触したときの荷重状態の偏りに基づいて第1の接合対象物の接合面と第2の接合対象物との接合面の平行の傾きを平行度補正手段で補正することにより、両接合面間の平行度が改善されるので、両接合対象物が面接触した状態で加圧することによって両接合対象物は加圧接合される。
上記構成において、衝撃緩和手段の対向する側への突出量は、少なくとも45μmとするのが好適で、両接合対象物をそれぞれ保持する装置の構成要素の加工精度や組立精度、更には接合対象物の両面平行度の精度を考慮すると、前記突出量に設定することが望ましい。
また、衝撃緩和手段が受ける荷重を第1の接合対象物又は第2の接合対象物を囲む等間隔の複数位置で検出する複数の荷重検出手段と、複数の荷重検出手段それぞれの検出荷重に基づいて加圧を制御する制御手段とを備えて構成することにより、第1の接合対象物又は第2の接合対象物を囲む複数位置で弾性接触の状態を検出することによって偏荷重を検知し、それに基づいて加圧を制御することにより、両接合面間の平行度が低下して点接触になった状態で大きな接触加圧が加わることによる両接合対象物が受けるダメージを緩和し、加圧制御により両接合面の平行が一致するように加圧して面接触状態で接合加圧することができる。
また、上記構成は、第1の接合対象物及び/又は第2の接合対象物としてウエハ同士又はウエハと半導体チップなどとの貼り合せに好適である。ウエハは薄型化されているだけでなく衝撃によるダメージが大きい素材であり、接合品質が性能品質にも大きく影響するので、高品質な接合状態が得られる貼り合せ装置が要求される。
本発明によれば、貼り合せる両接合対象物の加工精度及び両接合対象物をそれぞれ保持する装置の加工精度や組立精度には限界があり、それによる両接合面の平行が損なわれている状態で両接合対象物を接近移動させて接触させるとき、点接触が生じることによる衝撃荷重や偏荷重を緩和することができ、衝撃による接合対象物が受けるダメージを小さくすることができる。また、接合対象物を囲む複数位置で検出した荷重に基づいて加圧制御することにより、面接合させた接合面に均一加圧を加えて両接合対象物を高品質に貼り合せることができる。
図1は、実施形態に係る貼り合せ装置1の構成を示すもので、貼り合せ装置1は、ヘッド部12とステージ部13とを備えて構成され、ここでは接合対象物として第1のウエハ61と第2のウエハ62とを貼り合せる例を示している。
前記ヘッド部12は、昇降動作する駆動部(図示せず)の下部に取り付けられ、駆動部から発生された接合に必要な荷重を伝える加圧軸2と、ヘッド部12を構成する構成要素の累積平行度精度をキャンセルする平行調整機構部3と、球面軸受ホルダ43に板バネ41及び球面軸42を支持した倣い機構部(平行度補正手段)4と、第1のウエハ61を保持する上部保持手段51とを備えて構成されている。
前記平行調整機構部3は、図1及び図3に示すように、中央がくびれた構造に形成され、その周囲に配置された複数個のボルト31の押し引きにより、ヘッド部12の下端に取り付けられた上部保持手段51の表面と、ステージ部13に配設された下部保持手段52の表面との平行度を調節する。
また、倣い機構部4は、図1及び図4に示すように、上部保持手段51に保持された第1のウエハ61と、下部保持手段52に保持された第2のウエハ62とが接触した際に、互いの接合面が平行に且つ均一に面接触するように倣わせるものである。ここでは、板バネ41を用いて傾きを吸収する構成を採用している。板バネ41が取り付けられた球面軸受ホルダ43に球面で当接する球面軸42は、倣いによって傾きが生じた際にも加圧軸2から伝達される加圧力を分散させることなく、鉛直方向に伝える手段として採用されている。
また、上部保持手段51は、第1のウエハ61を保持できる手段であれば、真空吸着、機械的な固定治具などを採用することもできるが、ここでは接合対象物がウエハであるため、真空中での接合となるので、静電チャックが適用されている。
一方、ステージ部13は、図1及び図2に示すように、第2のウエハ62を保持する下部保持手段52と、この下部保持手段52が取り付けられたステージ台8と、第1のウエハ61と第2のウエハ62とが接触した際の衝撃荷重及び偏荷重を緩和するOリングからなる弾性体(衝撃緩和手段)7と、この弾性体7の下方に配置された複数の荷重検出手段9とを備えて構成されている。
図2は、前記ステージ部13を平面図として示すもので、弾性体7は下部保持手段52の外周を囲む円周上に配置されている。この弾性体7の形状は円形に限定されるものではなく、矩形や多角形であっても差し支えない。弾性体7はOリングなどでもよいが、できれば高精度な部材であることが望ましい。この弾性体7は本発明の特徴的な構成要素であり、詳細は後述する。
弾性体7の下方には複数個の荷重検出手段9が等間隔で配置されている。この荷重検出手段9は、検出精度を安定化させるために、加圧軸2と同軸の円周上に配置され、第2のウエハ62の近辺で荷重を検出するようにしている。荷重検出手段9は圧力の均一性を確保するための圧力制御を実施する観点から、デジタル信号で検出可能なロードセルセンサや歪センサが望ましいものとなる。また、その配置は、圧力の均一性を判断するために、3個以上のセンサを均等間隔で配置することが望ましい。ここでは図2に示すように、4個の荷重検出手段9を等間隔で配置している。
前記荷重検出手段9による検出値から第1のウエハ61と第2のウエハ62とが面接触した状態での均一な加圧を確認した後、検出値は均一性を保った状態で接合に必要な所定の荷重値を制御する制御アンプ(制御手段)10に入力され、駆動部にフィードバックされる。
上記構成になる貼り合せ装置1の動作について、図5〜図8を参照して以下に説明する。尚、図5は構成要素の加工精度の累積により傾斜が生じている状態を、図7はウエハに厚さ方向の平行が傾斜している状態をそれぞれ誇張して示している。また、図6及び図8に示すフローチャート中に記載したS1,S2…は工程手順を示すステップ番号で、本文に添記する番号に一致する。
図5に示すように、ヘッド部12を構成する加圧軸2及び平行調整機構部3、倣い機構部4のいずれかの平行精度が確保できていない場合、上部保持手段51及びそれに保持された第1のウエハ61は、ステージ部13に対して傾斜が生じる。このような状態は、部品の加工精度又は組立精度、あるいは平行調整機構部3の調整精度においても、完全に近い平行を達成することは現実には困難である。この累積精度はヘッド部12の構成によって異なるが、加圧軸2、平行調整機構部3、倣い機構部4、上部保持手段51の累計で40〜50μm程度の平行ずれが生じる。
このような状態でヘッド部12が下降すると、図5(b)に示すように、第1のウエハ61が第2のウエハ62に接触する瞬間に、面接触するのでなく片当たりすることになり、ヘッド部12の質量と速度とによる運動量分が接触した1点で点接触する衝突により、第2のウエハ62にダメージを与えてしまうことになる。
そこで、下部保持手段52が保持する第2のウエハ62の周囲に弾性体7を配置することにより、第1のウエハ61と第2のウエハ62とが接触する以前に、倣い機構部4の下面(球面軸受ホルダ43)が弾性体7に接触するので、弾性体7が衝撃を吸収して第1及び第2の各ウエハ61,62に対するダメージを緩和する。
図5、図6において、図5(a)示す状態から駆動部からの加圧により、図5(b)に示すように、ヘッド部12が下降開始すると(S1)、第1のウエハ61と第2のウエハ62とが接触する直前に、倣い機構部4と弾性体7とが接触するので(S2)、弾性体7の下方に配置された複数の荷重検出手段9は弾性体7に加わった荷重を検出し(S3)、図5(c)に示すように、倣い機構部4はヘッド部12とステージ部13とを平行状態を保つように動作する(S4)。荷重検出手段9が検出した弾性体7に加わった荷重は制御アンプ10に入力され、その検出値が一定値内(予め設定した所定値以下)であることを制御アンプ10で検知する。このデータは駆動部にフィードバックされるので、制御アンプ10で検知する荷重値が一定範囲内になるまで駆動部はヘッド部12を下降させる(S5)。倣い機構部4の作用により第1のウエハ61と第2のウエハ62との平行が修正されているので、図5(d)に示すように、ヘッド部12の下降により第1のウエハ61と第2のウエハ62とが面接触する。荷重検出手段9で検出される荷重検出値が一定になるようにして(S6)、ヘッド部12を更に下降させて接合に必要な荷重値まで加圧することにより(S7)、第1のウエハ61と第2のウエハ62とは対向面で貼り合わされる。
上述のようにヘッド部12の加工精度及び組立精度に起因する点接触による接合対象物が受けるダメージは、接合対象物とする第1のウエハ61及び第2のウエハ62の加工精度によっても発生する。ウエハの両面平行度は、6インチサイズのものでは厚さ方向で5μmの平行ずれが生じる。従って、ヘッド部12がステージ部13に対して平行であっても、図7に示すようにウエハに平行度が出ていない場合には、第1のウエハ61は第2のウエハ62に対して傾斜して接触する状態になり、このままでは点接触によりダメージを与えることになる(図7(b)参照)。
図7、図8において、図7(a)に示す状態から駆動部からの加圧により、図7(b)に示すように、ヘッド部12が下降開始して(S11)、図7(b)に示す状態になったとき、ヘッド部12の下面は弾性体7に接触する(S12)。弾性体7へのヘッド部12の接触は荷重検出手段9によって検出され(S13)、制御アンプ10に入力されるので、制御アンプ10は圧力状態の検知状態に基づいて駆動部を制御し、所定の圧力値が保たれるように駆動部はヘッド部12を徐々に下降させる。この状態では弾性体7によりヘッド部12の運動量をその弾性により吸収、緩和させながらヘッド部12は下降している。
この後、図7(c)に示すように、第1のウエハ61が第2のウエハ62に点接触したとき(S14)、荷重検出手段9は荷重変化を検出し(S15)、倣い機構部4は板バネ41が変形して第2のウエハ62の接合面が第1のウエハ61の接合面と平行になるように補正動作する(S16)。
荷重検出手段9は荷重状態を常時監視して第1のウエハ61と第2のウエハ62との平行度を確認する。制御アンプ10は荷重検出手段9の検出値が一定範囲内になるまで駆動部を制御してヘッド部12を下降させる(S17)。図7(d)に示すように、ヘッド部12の下降により第1のウエハ61と第2のウエハ62とが面接触するので(S18)、荷重検出手段9による検出を継続して荷重値が一定になるようにしてヘッド部12を下降させ、接合に必要な荷重値まで加圧することにより(S19)、第1のウエハ61と第2のウエハ62とは貼り合わされる。
ヘッド部12に取り付けられた上部保持手段51とステージ部13に取り付けられた下部保持手段52とに平行ずれが発生している場合においても、上記動作と同様の作用により修正がなされ、それらに保持された第1及び第2の各ウエハ61,62は面接触して貼り合わされる。
上記構成における弾性体7のステージ部13の上面からの突出量は、ヘッド部12の下降を制御する上で重要である。ヘッド部12の各構成要素の加工精度及び組立精度は累計で40〜50μmが限界と考えられるので、接合対象物であるウエハの加工精度が5〜15μm程度の平行度であることを考慮すると、接合対象物の厚さを加味して少なくとも45μmの突出量が必要となる。この弾性体7の突出量の調整は、弾性体7としてOリングを適用する場合には、その断面径が適合するものを採用するか、Oリングを埋め込む座ぐりの深さを調整することによって実現できる。
また、荷重検出手段9及び制御アンプ10により接合対象物間の平行を確認しながら均一荷重で加圧するとき、貼り合せる接合対象物の材質による差や、同一材質であっても製造ロット毎の違いによる平行度のばらつきなどがある場合、そのばらつきを記録して、予め平行調整機構部3により偏荷重を発生させる箇所の傾向に応じて平行調整することにより、弾性体7による吸収を低減し、初期状態から高精度の平行度を保って信頼性の高い貼り合せを実現することができる。
以上説明した実施形態の構成においては、弾性体7はステージ部13上に配置しているが、ヘッド部12の倣い機構部4を構成する球面軸受ホルダ43のステージ部13に対向する面に、上部保持手段51に沿って配置しても同様の効果が得られる。
以上の説明の通り本発明によれば、貼り合せる両接合対象物の加工精度及び両接合対象物をそれぞれ保持する装置の加工精度や組立精度には限界があり、それによる両接合面の平行が損なわれている状態で両接合対象物を接近移動させて接触させるとき、点接触が生じることによる衝撃荷重や偏荷重を緩和することができ、衝撃による接合対象物が受けるダメージを小さくすることができる。また、接合対象物を囲む複数位置で検出した荷重に基づいて加圧制御することにより、面接合させた接合面に均一加圧を加えて両接合対象物を高品質に貼り合せることができる。特に、半導体分野においては、チップ接合からウエハ接合となり、薄型化、大型化するウエハ同士を正確に貼り合せることは高精度の作業となるが、本発明によりウエハ同士の貼り合せを高品質に行うことが可能となる。
実施形態に係る貼り合せ装置の構成を示す断面図。 ステージ部の構成を示す平面図。 平行調整機構部の構成を示す断面図。 倣い機構部の構成を示す断面図。 装置精度を補正する動作を説明する説明図。 同上補正動作の工程手順を示すフローチャート。 接合対象物の精度を補正する動作を説明する説明図。 同上補正動作の工程手順を示すフローチャート。 従来技術に係る平行調整機構を示す断面図。 従来技術に係る倣い機構を示す断面図。
符号の説明
1 貼り合せ装置
2 加圧軸
3 平行調整機構部
4 倣い機構部(平行度補正手段)
7 弾性体(衝撃緩和手段)
9 荷重検出手段
10 制御アンプ(制御手段)
12 ヘッド部
13 ステージ部
51 上部保持手段
52 下部保持手段
61 第1のウエハ(第1の接合対象物)
62 第2のウエハ(第2の接合対象物)

Claims (6)

  1. 板状に形成された第1の接合対象物と第2の接合対象物とを互いの接合面で対面させ、接近移動させて面接触するように加圧して両接合対象物を接合する貼り合せ方法であって、
    接近移動により前記第1の接合対象物と第2の接合対象物とが接触する以前に、第1の接合対象物を保持する側と第2の接合対象物を保持する側とを弾性的に接触させ、この弾性接触に基づいて第1の接合対象物の接合面と第2の接合対象物との接合面の平行の傾きを補正して加圧することを特徴とする貼り合せ方法。
  2. 第1の接合対象物又は第2の接合対象物を囲む等間隔の複数位置で弾性接触の状態を検出することにより偏荷重を検知し、それに基づいて加圧を制御する請求項1に記載の貼り合せ方法。
  3. 板状に形成された第1の接合対象物と第2の接合対象物とをそれぞれ保持して互いの接合面で対面させ、接近移動させて面接触するように加圧して両接合対象物を接合する貼り合せ装置であって、
    前記第1の接合対象物又は第2の接合対象物を保持する側に、第1の接合対象物又は第2の接合対象物の接合面より対向する側に向けて突出し、第1の接合対象物を保持する側と第2の接合対象物を保持する側とを弾性的に接触させる衝撃緩和手段を第1の接合対象物又は第2の接合対象物を囲む位置に設けると共に、前記衝撃緩和手段の接触に基づいて第1の接合対象物と第2の接合対象物とが対面する互いの接合面の平行の傾きを補正する平行度補正手段を設けてなることを特徴とする貼り合せ装置。
  4. 衝撃緩和手段の対向する側への突出量は、少なくとも45μmである請求項3に記載の貼り合せ装置。
  5. 衝撃緩和手段が受ける荷重を第1の接合対象物又は第2の接合対象物を囲む等間隔の複数位置で検出する複数の荷重検出手段と、複数の荷重検出手段それぞれの検出荷重に基づいて加圧を制御する制御手段とを備えてなる請求項3に記載の貼り合せ装置。
  6. 第1の接合対象物及び/又は第2の接合対象物がウエハである請求項3〜5いずれか一項に記載の貼り合せ装置。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009200117A (ja) * 2008-02-19 2009-09-03 Nikon Corp 接合装置および製造方法
JP2011049318A (ja) * 2009-08-26 2011-03-10 Nikon Corp 基板重ね合わせ装置およびデバイスの製造方法
JP2016225662A (ja) * 2010-08-06 2016-12-28 ブルーワー サイエンス アイ エヌ シー. 薄ウェーハハンドリングのための多層接合層
KR20220115520A (ko) 2021-02-10 2022-08-17 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤 기판 첩부 장치 및 기판 첩부 방법

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5358764A (en) * 1976-11-06 1978-05-26 Mitsubishi Electric Corp Bonding method of flip chip
JPH0262059A (ja) * 1988-08-29 1990-03-01 Hitachi Ltd 半導体装置の製造方法及び装置
JPH04223349A (ja) * 1990-12-25 1992-08-13 Mitsubishi Electric Corp ギャングボンディング装置
JPH05198621A (ja) * 1992-01-21 1993-08-06 Matsushita Electric Ind Co Ltd フリップチップicの実装装置
WO2001071798A1 (fr) * 2000-03-23 2001-09-27 Nagase & Co., Ltd. Appareil utilise pour etancheifier un dispositif a semi-conducteurs
JP2003297879A (ja) * 2002-04-03 2003-10-17 Sony Corp 半導体チップ圧着装置

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5358764A (en) * 1976-11-06 1978-05-26 Mitsubishi Electric Corp Bonding method of flip chip
JPH0262059A (ja) * 1988-08-29 1990-03-01 Hitachi Ltd 半導体装置の製造方法及び装置
JPH04223349A (ja) * 1990-12-25 1992-08-13 Mitsubishi Electric Corp ギャングボンディング装置
JPH05198621A (ja) * 1992-01-21 1993-08-06 Matsushita Electric Ind Co Ltd フリップチップicの実装装置
WO2001071798A1 (fr) * 2000-03-23 2001-09-27 Nagase & Co., Ltd. Appareil utilise pour etancheifier un dispositif a semi-conducteurs
JP2003297879A (ja) * 2002-04-03 2003-10-17 Sony Corp 半導体チップ圧着装置

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009200117A (ja) * 2008-02-19 2009-09-03 Nikon Corp 接合装置および製造方法
JP2011049318A (ja) * 2009-08-26 2011-03-10 Nikon Corp 基板重ね合わせ装置およびデバイスの製造方法
JP2016225662A (ja) * 2010-08-06 2016-12-28 ブルーワー サイエンス アイ エヌ シー. 薄ウェーハハンドリングのための多層接合層
KR20220115520A (ko) 2021-02-10 2022-08-17 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤 기판 첩부 장치 및 기판 첩부 방법

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