JP2007091870A - Polymerizable composition and cured product thereof - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a polymerizable composition useful for obtaining cured products having excellent optical properties[e.g. high refractive index, high transparency(transparency to visible rays)] and also having characteristics including high adhesion to substrate, hard coatability and high heat resistance. <P>SOLUTION: The polymerizable composition comprises a specific polyfunctional (meth)acrylate having a fluorene skeleton[for example, 9,9-bis(4- (meth)acryloyloxyethoxyphenyl)fluorene], a hydrolytically condensable organosilicon compound having polymerizable group[for example, (meth)acryloyloxyalkyl tri-1-4C alkoxysilane], and a photoacid generator. This composition may also contain a photoradical initiator for improving its photopolymerizability. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、優れた光学的特性(例えば、高屈折率、高透明性(可視光線に対する透明性)など)を有し、かつ基板に対する高い密着性、ハードコート性、高耐熱性などの特性を有する硬化物を得るのに有用な重合性組成物(特に、光重合性組成物)、この組成物が硬化した硬化物(ハイブリッド硬化物)、およびこの硬化物を形成する方法に関する。   The present invention has excellent optical properties (for example, high refractive index, high transparency (transparency to visible light), etc.) and high adhesion to the substrate, hard coat properties, high heat resistance, etc. The present invention relates to a polymerizable composition (especially a photopolymerizable composition) useful for obtaining a cured product having the cured product, a cured product obtained by curing the composition (hybrid cured product), and a method for forming the cured product.

従来より、アルコキシシランの加水分解による縮合反応を利用して、基材表面にシロキサン結合からなる硬化塗膜を得る方法が知られている。例えば、テトラエチルシリケートやテトラメチルシリケートなどのアルコキシシランを、酸または塩基の存在下で加水分解により縮合反応させた後、基板に塗布し、加熱処理することにより基板にシリカ薄膜を形成させることができる。   Conventionally, a method for obtaining a cured coating film composed of a siloxane bond on the surface of a substrate by utilizing a condensation reaction by hydrolysis of alkoxysilane is known. For example, an alkoxysilane such as tetraethyl silicate or tetramethyl silicate can be subjected to a condensation reaction by hydrolysis in the presence of an acid or base, and then applied to the substrate, followed by heat treatment to form a silica thin film on the substrate. .

この方法は、通常、ゾルゲル法と呼ばれている方法であって、近年、分子オーダーで制御した新しい組成を有するガラスやセラミック材料の製造法として注目されている。一方、部分的に有機官能基を有するアルコキシシランは、シランカップリング剤としてガラス基板や繊維の表面処理剤として使用されているだけでなく、加水分解による縮合反応によって、プラスチック等に対して比較的表面硬度の高い塗膜が得られることから、高硬度塗料(ハードコーティング)として、メタクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂及びジアリルカーボネート樹脂などの皮膜の耐擦傷性を付与させるために利用されている。   This method is generally called a sol-gel method, and has recently attracted attention as a method for producing glass or ceramic materials having a new composition controlled on a molecular order. On the other hand, alkoxysilanes partially having an organic functional group are not only used as glass substrate and fiber surface treatment agents as silane coupling agents, but also relatively with respect to plastics and the like by condensation reaction by hydrolysis. Since a coating film having a high surface hardness can be obtained, it is used as a high-hardness paint (hard coating) for imparting scratch resistance of films such as methacrylic resin, polycarbonate resin and diallyl carbonate resin.

このようなアルコキシシランを含む多くのコーティング組成物は、熱硬化性であり、保存安定性、硬化時間及び硬化時の加熱条件の設定等に問題を有し、硬化に際しては、浴管理、加熱温度・加熱時間等の工程管理に注意が必要とされている。   Many coating compositions containing such alkoxysilanes are thermosetting and have problems with storage stability, curing time, setting of heating conditions during curing, etc., during curing, bath management, heating temperature・ Care must be taken for process management such as heating time.

一方、光硬化性のアルコキシシランを光硬化させる方法も提案されている。例えば、特開平8−302284号公報(特許文献1)には、3−(メタ)アクリルオキシプロピル基、ビニル基、フェニル基、またはメチル基を有する特定のアルコキシシラン化合物及び光酸発生剤を含有する光硬化性コーティング組成物が開示されている。この文献では、光硬化性コーティング組成物に、紫外線を照射することにより加熱工程を設けることなく硬化被膜を形成できる。また、この文献の光硬化性コーティング組成物では、基材に対する密着性および表面硬度において比較的高い硬化皮膜を得ることができる。   On the other hand, a method of photocuring photocurable alkoxysilane has also been proposed. For example, JP-A-8-302284 (Patent Document 1) contains a specific alkoxysilane compound having a 3- (meth) acryloxypropyl group, a vinyl group, a phenyl group, or a methyl group and a photoacid generator. A photocurable coating composition is disclosed. In this document, a cured film can be formed by irradiating a photocurable coating composition with ultraviolet rays without providing a heating step. Moreover, with the photocurable coating composition of this literature, a comparatively high cured film can be obtained in the adhesiveness with respect to a base material, and surface hardness.

しかしながら、近年、電子材料用途などでは、この文献に記載の方法などの従来の方法では付与できない特性(例えば、高屈折率、高透明性など)を有するコーティング被膜が求められており、このような特性を付与できるさらなる材料の開発が望まれている。
特開平8−302284号公報(特許請求の範囲)
However, in recent years, there has been a demand for a coating film having characteristics (for example, high refractive index, high transparency, etc.) that cannot be imparted by conventional methods such as the method described in this document for use in electronic materials. Development of further materials that can impart properties is desired.
JP-A-8-302284 (Claims)

従って、本発明の目的は、基板に対する高い密着性、ハードコート性、耐熱性などの特性に優れるとともに、高透明性、高屈折率などの特性(光学的特性)にも優れた硬化物を生成可能な重合性組成物、この重合性組成物が硬化した硬化物(ハイブリッド硬化物)、およびこの硬化物の製造方法を提供することにある。   Therefore, the object of the present invention is to produce a cured product having excellent properties such as high adhesion to the substrate, hard coat properties, heat resistance and high transparency and high refractive index (optical properties). An object of the present invention is to provide a polymerizable composition, a cured product obtained by curing the polymerizable composition (hybrid cured product), and a method for producing the cured product.

本発明者らは、前記課題を達成するため鋭意検討した結果、フルオレン骨格を有する特定の多官能性(メタ)アクリレートと、重合性基を有するアルコキシシラン類と、光酸発生剤とを組み合わせ、前記多官能性(メタ)アクリレートと前記アルコキシシラン類とを共重合させるととともに、発生する酸により前記アルコキシシラン類のゾルゲル反応を生じさせることにより、基板に対する高い密着性などの特性と、光学的特性(高透明性、高屈折率など)とを両立できる硬化物又は硬化塗膜(ハイブリッド膜)を形成できることを見いだし、本発明を完成した。   As a result of earnest studies to achieve the above-mentioned problems, the present inventors combined a specific polyfunctional (meth) acrylate having a fluorene skeleton, an alkoxysilane having a polymerizable group, and a photoacid generator, By co-polymerizing the polyfunctional (meth) acrylate and the alkoxysilanes and causing a sol-gel reaction of the alkoxysilanes with the acid generated, characteristics such as high adhesion to the substrate, and optical The inventors have found that a cured product or a cured coating film (hybrid film) capable of achieving both properties (high transparency, high refractive index, etc.) can be formed, and the present invention has been completed.

すなわち、本発明の重合性組成物(光重合性組成物)は、下記式(1)で表される多官能性(メタ)アクリレート、重合性基を有する加水分解縮合性有機ケイ素化合物、および光酸発生剤で構成されている。   That is, the polymerizable composition (photopolymerizable composition) of the present invention includes a polyfunctional (meth) acrylate represented by the following formula (1), a hydrolytic condensable organosilicon compound having a polymerizable group, and light. It consists of an acid generator.

Figure 2007091870
Figure 2007091870

(式中、R1a、R1b、R2aおよびR2bは置換基を示し、R3aおよびR3bはアルキレン基を示し、R4aおよびR4bは水素原子又はメチル基を示す。k1及びk2は同一又は異なって0〜4の整数を示し、m1及びm2は同一又は異なって0〜3の整数を示し、n1およびn2は同一又は異なって0又は1以上の整数を示し、p1およびp2は同一又は異なって1〜4の整数を示す。ただし、m1+p1及びm2+p2は、それぞれ、1〜5の整数である)
前記組成物において、前記多官能性(メタ)アクリレートは、例えば、前記式(1)において、R3aおよびR3bがC2-4アルキレン基、n1およびn2がそれぞれ1以上の整数、かつp1およびp2がそれぞれ1〜3である化合物、特に、R3aおよびR3bがC2-3アルキレン基、n1およびn2がそれぞれ1又は2、かつp1およびp2がそれぞれ1〜3(特に1)である化合物であってもよい。
(In the formula, R 1a , R 1b , R 2a and R 2b represent a substituent, R 3a and R 3b represent an alkylene group, R 4a and R 4b represent a hydrogen atom or a methyl group, and k 1 and k 2 represent The same or different and an integer of 0 to 4, m1 and m2 are the same or different and represent an integer of 0 to 3, n1 and n2 are the same or different and represent an integer of 0 or 1 and p1 and p2 are the same Or it is different and represents an integer of 1 to 4, where m1 + p1 and m2 + p2 are each an integer of 1 to 5)
In the composition, the polyfunctional (meth) acrylate is, for example, in the formula (1), wherein R 3a and R 3b are C 2-4 alkylene groups, n1 and n2 are each an integer of 1 or more, and p1 and Compounds in which p2 is 1 to 3, particularly R 3a and R 3b are C 2-3 alkylene groups, n1 and n2 are each 1 or 2, and p1 and p2 are each 1 to 3 (especially 1) It may be.

また、前記組成物において、重合性基を有する加水分解縮合性有機ケイ素化合物が、下記式(2)で表される化合物又はその部分縮合物であってもよい。   In the composition, the hydrolytic condensable organosilicon compound having a polymerizable group may be a compound represented by the following formula (2) or a partial condensate thereof.

X−(A)c−Si(OR4)a(R5)3-a (2)
[式中、Xは、重合性基、Aは連結基を示し、R4は、炭化水素基又は基−[(R6O)b−R7](式中、R6は、アルキレン基であり、R7は炭化水素基であり、bは1以上の整数を示す)であり、R5は、水素原子、ヒドロキシル基、ハロゲン原子又は炭化水素基を示す。aは1〜3の整数、cは0又は1を示す。]
前記式(2)において、重合性基は(メタ)アクリロイル基であってもよく、前記式(2)で表される化合物は、例えば、(メタ)アクリロイルオキシアルキルトリC1-4アルコキシシラン、(メタ)アクリロイルオキシアルキルトリ(C1-4アルコキシC2-4アルコキシ)シラン、(メタ)アクリロイルオキシアルキルアミノアルキルトリC1-4アルコキシシラン、および(メタ)アクリロイルオキシアルキルトリC6-10アリールオキシシランから選択された少なくとも1種であってもよい。
X- (A) c -Si (OR 4) a (R 5) 3-a (2)
[Wherein, X represents a polymerizable group, A represents a linking group, R 4 represents a hydrocarbon group or a group — [(R 6 O) b —R 7 ] (wherein R 6 represents an alkylene group) R 7 is a hydrocarbon group, b is an integer of 1 or more, and R 5 is a hydrogen atom, a hydroxyl group, a halogen atom or a hydrocarbon group. a represents an integer of 1 to 3, and c represents 0 or 1. ]
In the formula (2), the polymerizable group may be a (meth) acryloyl group, and the compound represented by the formula (2) is, for example, (meth) acryloyloxyalkyltri-C 1-4 alkoxysilane, (meth) acryloyloxy alkyl tri (C 1-4 alkoxy C 2-4 alkoxy) silane, (meth) acryloyloxy alkyl amino alkyl tri C 1-4 alkoxysilane, and (meth) acryloyloxy alkyl tri C 6-10 aryl It may be at least one selected from oxysilane.

前記組成物において、光酸発生剤は、トリアリールスルホニウム塩、ビス(アルキルアリール)ヨードニウム塩、および下記式(6)で表される化合物から選択された少なくとも1種であってもよい。   In the composition, the photoacid generator may be at least one selected from a triarylsulfonium salt, a bis (alkylaryl) iodonium salt, and a compound represented by the following formula (6).

Figure 2007091870
Figure 2007091870

(式中、R17、R18およびR19は置換基、p、qおよびrは同一又は異なってそれぞれ0〜4の整数、Yは水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基又はアルキル基を示す。)
また、前記組成物において、重合性基を有する加水分解縮合性有機ケイ素化合物の割合は、式(1)で表される多官能性(メタ)アクリレート100重量部に対して、例えば、50〜700重量部程度であってもよく、光酸発生剤の割合は、式(1)で表される多官能性(メタ)アクリレート100重量部に対して、0.5〜5重量部程度であってもよい。
(Wherein R 17 , R 18 and R 19 are substituents, p, q and r are the same or different and each represents an integer of 0 to 4, Y represents a hydrogen atom, a halogen atom, a nitro group or an alkyl group.)
Moreover, in the said composition, the ratio of the hydrolytic condensable organosilicon compound which has a polymeric group is 50-700 with respect to 100 weight part of polyfunctional (meth) acrylate represented by Formula (1), for example. The proportion of the photoacid generator may be about 0.5 to 5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the polyfunctional (meth) acrylate represented by the formula (1). Also good.

本発明の組成物は、さらに、重合性基を有しない加水分解縮合性有機ケイ素化合物を含んでいてもよい。このような有機ケイ素化合物は、例えば、下記式(3)で表される化合物、下記式(3)で表される化合物のオリゴマー、又は下記式(3)で表される化合物の部分縮合物で構成してもよい。   The composition of the present invention may further contain a hydrolytic condensable organosilicon compound having no polymerizable group. Such an organosilicon compound is, for example, a compound represented by the following formula (3), an oligomer of a compound represented by the following formula (3), or a partial condensate of a compound represented by the following formula (3). It may be configured.

Si(OR8)d(R9)4-d (3)
[式中、R8は、炭化水素基又は基−[(R10O)e−R11](式中、R10は、アルキレン基であり、R11は炭化水素基であり、eは1以上の整数を示す)であり、R9は、水素原子、ヒドロキシル基、ハロゲン原子又は炭化水素基を示す。dは1〜4の整数を示す。]
前記重合性基を有しない加水分解縮合性有機ケイ素化合物は、例えば、C6-8アリールトリC1-4アルコキシシラン、テトラC1-4アルコキシシラン、テトラC6-8アリールオキシシラン、およびテトラC1-4アルコキシシランのオリゴマーから選択された少なくとも1種の化合物又はその部分縮合物で構成してもよい。
Si (OR 8 ) d (R 9 ) 4-d (3)
[Wherein R 8 is a hydrocarbon group or group — [(R 10 O) e —R 11 ] (wherein R 10 is an alkylene group, R 11 is a hydrocarbon group, and e is 1 R 9 represents a hydrogen atom, a hydroxyl group, a halogen atom or a hydrocarbon group. d shows the integer of 1-4. ]
Wherein no hydrolytic condensable organic silicon compound a polymerizable group, for example, C 6-8 Arirutori C 1-4 alkoxysilane, tetra C 1-4 alkoxy silanes, tetra C 6-8 aryloxy silane and tetra C, You may comprise at least 1 type of compound selected from the oligomer of 1-4 alkoxysilane, or its partial condensate.

前記組成物は、さらに、非ケイ素系加水分解縮合性有機金属化合物、例えば、チタン、ジルコニウム、アルミニウム、および亜鉛から選択された非ケイ素系金属のアルコキシド(金属アルコキシド)を含んでいてもよい。このような非ケイ素系加水分解縮合性有機金属化合物は、前記重合性基を有する加水分解縮合性有機ケイ素化合物と組み合わせて本発明の組成物を構成してもよい。   The composition may further contain a non-silicon hydrolytic condensable organometallic compound, for example, an alkoxide of a non-silicon metal selected from titanium, zirconium, aluminum, and zinc (metal alkoxide). Such a non-silicon hydrolytic condensable organometallic compound may constitute the composition of the present invention in combination with the hydrolytic condensable organosilicon compound having a polymerizable group.

本発明の組成物は、さらに、光ラジカル開始剤を含んでいてもよい。   The composition of the present invention may further contain a photo radical initiator.

本発明は、前記重合性組成物を、基材(例えば、基板)上に塗布して塗膜を形成したのち、光照射し、前記重合性組成物の硬化物を製造する方法を含む。この方法では、光照射後、さらに加熱してもよい。また、この方法では、効率よく加水分解縮合させるため、重合性基を有する加水分解縮合性有機ケイ素化合物が部分的に縮合した重合性組成物を基材上に塗布してもよい。さらに、本発明は、前記重合性組成物が硬化した硬化物(硬化塗膜など)を含む。   The present invention includes a method for producing a cured product of the polymerizable composition by applying the polymerizable composition on a base material (for example, a substrate) to form a coating film and then irradiating with light. In this method, heating may be performed after the light irradiation. In this method, a polymerizable composition in which a hydrolytic condensable organosilicon compound having a polymerizable group is partially condensed may be applied on a substrate for efficient hydrolysis and condensation. Furthermore, this invention contains the hardened | cured material (cured coating film etc.) which the said polymeric composition hardened | cured.

なお、本明細書において、「フルオレン類」とは、「置換基を有さないフルオレン」と「置換基を有するフルオレン」とを含み、「置換基を有していてもよいフルオレン」を意味する。   In the present specification, “fluorenes” includes “fluorene having no substituent” and “fluorene having a substituent”, and means “fluorene which may have a substituent”. .

本発明の重合性組成物は、フルオレン骨格を有する多官能性(メタ)アクリレートと重合性基を有するアルコキシシラン類と光酸発生剤とを組み合わせるので、基板に対する高い密着性、ハードコート性、耐熱性などの特性に優れるとともに、高透明性、高屈折率などの特性(光学的特性)にも優れた硬化物を生成又は形成可能である。   Since the polymerizable composition of the present invention combines a polyfunctional (meth) acrylate having a fluorene skeleton, an alkoxysilane having a polymerizable group, and a photoacid generator, it has high adhesion to the substrate, hard coat properties, and heat resistance. It is possible to produce or form a cured product that is excellent in properties such as properties and excellent in properties (optical properties) such as high transparency and high refractive index.

本発明の重合性組成物(特に、光重合性組成物、以下、単に組成物などということがある)は、フルオレン骨格を有する多官能性(メタ)アクリレート、重合性基を有する加水分解縮合性有機ケイ素化合物および光酸発生剤で少なくとも構成されている。   The polymerizable composition of the present invention (in particular, a photopolymerizable composition, hereinafter sometimes simply referred to as a composition or the like) is a polyfunctional (meth) acrylate having a fluorene skeleton, hydrolytic condensability having a polymerizable group. It comprises at least an organosilicon compound and a photoacid generator.

(フルオレン骨格を有する多官能性(メタ)アクリレート)
フルオレン骨格を有する多官能性(メタ)アクリレート樹脂(以下、単にフルオレン(メタ)アクリレートなどということがある)は、化合物中にフルオレン骨格(9,9−ビスフェニルフルオレン骨格)を有する多官能性(メタ)アクリレートであればよく、通常、下記式(1)で表される化合物である。本発明の組成物は、このようなフルオレン骨格を有する多官能性(メタ)アクリレートで構成されているため、高透明性、高屈折率などの特性を効率よく硬化物(ハイブリッド硬化物)に付与できる。
(Polyfunctional (meth) acrylate having a fluorene skeleton)
A polyfunctional (meth) acrylate resin having a fluorene skeleton (hereinafter sometimes simply referred to as fluorene (meth) acrylate) is a polyfunctional compound having a fluorene skeleton (9,9-bisphenylfluorene skeleton) in a compound ( It may be a (meth) acrylate, and is usually a compound represented by the following formula (1). Since the composition of the present invention is composed of such a polyfunctional (meth) acrylate having a fluorene skeleton, it provides a cured product (hybrid cured product) with high transparency and high refractive index efficiently. it can.

Figure 2007091870
Figure 2007091870

(式中、R1a、R1b、R2aおよびR2bは置換基を示し、R3aおよびR3bはアルキレン基を示し、R4aおよびR4bは水素原子又はメチル基を示す。k1及びk2は同一又は異なって0〜4の整数を示し、m1及びm2は同一又は異なって0〜3の整数を示し、n1およびn2は同一又は異なって0又は1以上の整数を示し、p1およびp2は同一又は異なって1〜4の整数を示す。ただし、m1+p1及びm2+p2は、それぞれ、1〜5の整数である)
1aおよびR1bで表される置換基としては、特に限定されないが、通常、アルキル基である場合が多い。アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、t−ブチル基などのC1-6アルキル基(例えば、C1-4アルキル基、特にメチル基)などが例示できる。基R1aおよびR1bは互いに異なっていてもよく、同一であってもよい。また、基R1a(又はR1b)が、同一のベンゼン環に複数存在する場合、それぞれの基は互いに異なっていてもよく、同一であってもよい。なお、フルオレン骨格を構成するベンゼン環に対する基R1a(又はR1b)の結合位置(置換位置)は、特に限定されない。好ましい置換数k1およびk2は、0又は1、特に、0である。なお、置換数k1及びk2は、異なっていてもよいが、通常、同一である。
(In the formula, R 1a , R 1b , R 2a and R 2b represent a substituent, R 3a and R 3b represent an alkylene group, R 4a and R 4b represent a hydrogen atom or a methyl group, and k 1 and k 2 represent The same or different and an integer of 0 to 4, m1 and m2 are the same or different and represent an integer of 0 to 3, n1 and n2 are the same or different and represent an integer of 0 or 1 and p1 and p2 are the same Or it is different and represents an integer of 1 to 4, where m1 + p1 and m2 + p2 are each an integer of 1 to 5)
The substituent represented by R 1a and R 1b is not particularly limited, but is usually an alkyl group in many cases. Examples of the alkyl group include C 1-6 alkyl groups such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, and a t-butyl group (for example, a C 1-4 alkyl group, particularly a methyl group). . The groups R 1a and R 1b may be different from each other or the same. When a plurality of groups R 1a (or R 1b ) are present on the same benzene ring, the groups may be different from each other or the same. In addition, the bonding position (substitution position) of the group R 1a (or R 1b ) with respect to the benzene ring constituting the fluorene skeleton is not particularly limited. Preferred substitution numbers k1 and k2 are 0 or 1, in particular 0. The substitution numbers k1 and k2 may be different but are usually the same.

置換基R2aおよびR2bとしては、アルキル基(メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基などのC1-20アルキル基、好ましくはC1-8アルキル基、さらに好ましくはC1-6アルキル基など)、シクロアルキル基(シクロペンチル基、シクロへキシル基などのC5-10シクロアルキル基、好ましくはC5-8シクロアルキル基、さらに好ましくはC5-6シクロアルキル基など)、アリール基[フェニル基、アルキルフェニル基(メチルフェニル基(トリル基)、ジメチルフェニル基(キシリル基)など)などのC6-10アリール基、好ましくはC6-8アリール基、特にフェニル基など]、アラルキル基(ベンジル基、フェネチル基などのC6-10アリール−C1-4アルキル基など)などの炭化水素基;アルコキシ基(メトキシ基などのC1-4アルコキシ基など);ヒドロキシル基;ヒドロキシ(ポリ)アルキレンオキシ基(ヒドロキシ(ポリ)C2-4アルキレンオキシ基など);アシル基(アセチル基などのC1-6アシル基など);アルコキシカルボニル基(メトキシカルボニル基などのC1-4アルコキシカルボニル基など);ハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子など);ニトロ基;シアノ基などが挙げられる。なお、前記ヒドロキシル基又はヒドロキシ(ポリ)アルキレンオキシ基は、後述する製造方法において、原料となる多価アルコールの残基((メタ)アクリル酸又はその誘導体と反応しなかった基)である場合が多い。 As the substituents R 2a and R 2b , an alkyl group (a C 1-20 alkyl group such as methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, s-butyl group, t-butyl group, preferably C 1 -8 alkyl group, more preferably C 1-6 alkyl group, etc., cycloalkyl group (C 5-10 cycloalkyl group such as cyclopentyl group, cyclohexyl group, etc., preferably C 5-8 cycloalkyl group, more preferably etc. C 5-6 cycloalkyl group), an aryl group [phenyl group, alkylphenyl group (methylphenyl group (tolyl group), C 6-10 aryl group such as a dimethylphenyl group (xylyl), etc.), preferably C 6-8 aryl group, especially phenyl group, an aralkyl hydrocarbon group, such as (a benzyl group, C 6-10 and aryl -C 1-4 alkyl group such as a phenethyl group); alkoxy (Such as C 1-4 alkoxy group such as methoxy group); a hydroxyl group; hydroxy (poly) alkyleneoxy group (such as hydroxy (poly) C 2-4 alkyleneoxy group); C 1-6, such as acyl groups (acetyl group An acyl group); an alkoxycarbonyl group (C 1-4 alkoxycarbonyl group such as a methoxycarbonyl group); a halogen atom (fluorine atom, chlorine atom, etc.); a nitro group; a cyano group and the like. The hydroxyl group or hydroxy (poly) alkyleneoxy group may be a residue of a polyhydric alcohol (a group that has not reacted with (meth) acrylic acid or a derivative thereof) as a raw material in the production method described later. Many.

好ましい置換基R2a(又はR2b)は、アルキル基(C1-6アルキル基)、シクロアルキル基(C5-8シクロアルキル基)、アリール基(C6-10アリール基)、アラルキル基(C6-8アリール−C1-2アルキル基)である。これらのうち、特に、C1-4アルキル基(特に、メチル基)、C6-8アリール基(特に、フェニル基)が好ましい。基R2aおよびR2bは互いに同一又は異なっていてもよいが、通常、同一である。また、基R2a(又はR2b)が、同一のベンゼン環に複数存在する場合、それぞれの基は互いに異なっていてもよく、同一であってもよい。 Preferred substituents R 2a (or R 2b ) are an alkyl group (C 1-6 alkyl group), a cycloalkyl group (C 5-8 cycloalkyl group), an aryl group (C 6-10 aryl group), an aralkyl group ( C 6-8 aryl-C 1-2 alkyl group). Of these, C 1-4 alkyl groups (particularly methyl groups) and C 6-8 aryl groups (particularly phenyl groups) are particularly preferred. The groups R 2a and R 2b may be the same or different from each other but are usually the same. When a plurality of groups R 2a (or R 2b ) are present in the same benzene ring, the groups may be different from each other or the same.

また、置換基R2a(又はR2b)の置換位置は、特に限定されず、後述する置換数p1(又はp2)などに応じて、フェニル基の2〜6位(例えば、2位、3位、5位、6位、3,5−位など)の適当な位置に置換できる。 In addition, the substitution position of the substituent R 2a (or R 2b ) is not particularly limited, and it depends on the number of substitutions p1 (or p2), which will be described later, etc. 5), 6th position, 3,5-position, etc.).

好ましい置換数m1およびm2は、0〜3、さらに好ましくは0〜2である。なお、置換数m1およびm2は、異なっていてもよいが、通常、同一である場合が多い。   The preferred substitution numbers m1 and m2 are 0 to 3, more preferably 0 to 2. The substitution numbers m1 and m2 may be different but are usually the same in many cases.

3aおよびR3bで表されるアルキレン基(又はアルキリデン基)としては、限定されないが、例えば、C1-6アルキレン基(例えば、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、ブタン−1,2−ジイル基など)などが例示でき、好ましくはC2-4アルキレン基、特に、C2-3アルキレン基(特に、エチレン基、プロピレン基)が好ましい。なお、R3aおよびR3bは互いに同一の又は異なるアルキレン基であってもよいが、通常、同一のアルキレン基である。 Examples of the alkylene group (or alkylidene group) represented by R 3a and R 3b include, but are not limited to, for example, a C 1-6 alkylene group (eg, methylene group, ethylene group, trimethylene group, propylene group, butane-1, 2-diyl group, etc.) can be exemplified, and a C 2-4 alkylene group, particularly a C 2-3 alkylene group (particularly an ethylene group, a propylene group) is preferable. R 3a and R 3b may be the same or different alkylene groups, but are usually the same alkylene group.

オキシアルキレン基(又はアルコキシ基)の繰り返し数(付加数)n1およびn2は、特に限定されないが、同一又は異なって、それぞれ、0〜15程度の範囲から選択でき、例えば、0〜12(例えば、1〜12)、好ましくは0〜8(例えば、1〜8)、さらに好ましくは0〜6(例えば、1〜6)であってもよく、通常、1以上[例えば、1〜4(例えば、1〜3)、特に1又は2程度]であってもよい。なお、n1(又はn2)が2以上の場合、ポリアルコキシ(ポリアルキレンオキシ)基は、同一のアルコキシ基(オキシアルキレン基)で構成されていてもよく、異種のアルコキシ基(例えば、エトキシ基とプロピレンオキシ基)が混在して構成されていてもよいが、通常、同一のアルコキシ基で構成されている場合が多い。   The number of repetitions (addition number) n1 and n2 of the oxyalkylene group (or alkoxy group) is not particularly limited, but is the same or different and can be selected from the range of about 0 to 15, for example, 0 to 12 (for example, 1-12), preferably 0-8 (eg, 1-8), more preferably 0-6 (eg, 1-6), usually 1 or more [eg, 1-4 (eg, 1-3), especially about 1 or 2]. When n1 (or n2) is 2 or more, the polyalkoxy (polyalkyleneoxy) group may be composed of the same alkoxy group (oxyalkylene group), and different alkoxy groups (for example, ethoxy group and Propyleneoxy group) may be mixed, but usually it is often composed of the same alkoxy group.

(メタ)アクリロイルオキシ基又は(メタ)アクリロイルオキシ(ポリ)アルコキシ基(以下、(メタ)アクリロイルオキシ基含有基という場合がある)の置換数p1およびp2は、それぞれ、1〜3が好ましく、特に1又は2が好ましい。また、p1とp2との和(p1+p2)は、例えば、2〜6、好ましくは2〜4(特に2又は4)であってもよい。なお、置換数p1およびp2は、異なっていてもよいが、通常、同一である場合が多い。(メタ)アクリロイルオキシ基含有基の置換位置は、特に限定されず、p1(又はp2)の数に応じて、フルオレンの9位に置換するフェニル基の2〜6位から選択でき、例えば、p1(又はp2)が1の場合、例えば、2〜6位(好ましくは2又は4位、特に4位)であってもよく、p1(又はp2)が2の場合、例えば、3,4−位、3,5−位などであってもよく、p1(又はp2)が3の場合、例えば、3,4,5−位、2,3,4−位、2,3,5−位、2,3,6−位などであってもよい。   The number of substitution p1 and p2 of the (meth) acryloyloxy group or (meth) acryloyloxy (poly) alkoxy group (hereinafter sometimes referred to as (meth) acryloyloxy group-containing group) is preferably 1 to 3, respectively. 1 or 2 is preferred. The sum of p1 and p2 (p1 + p2) may be, for example, 2 to 6, preferably 2 to 4 (particularly 2 or 4). The substitution numbers p1 and p2 may be different but are usually the same in many cases. The substitution position of the (meth) acryloyloxy group-containing group is not particularly limited, and can be selected from 2 to 6 positions of the phenyl group substituted at the 9 position of fluorene according to the number of p1 (or p2), for example, p1 When (or p2) is 1, it may be, for example, 2-6 position (preferably 2 or 4 position, especially 4 position), and when p1 (or p2) is 2, for example, 3,4-position , 3,5-position, etc., and when p1 (or p2) is 3, for example, 3,4,5-position, 2,3,4-position, 2,3,5-position, 2 , 3,6-position, etc.

なお、同一のベンゼン環に置換する複数の(メタ)アクリロイルオキシ基含有基は、同一であってもよく、異なっていてもよい。例えば、複数の(メタ)アクリロイルオキシ基含有基が、(i)n1=0(n2=0)である(メタ)アクリロイルオキシ基単独で構成されていてもよく、(ii)n1=0(n2=0)である(メタ)アクリロイルオキシ基とn1≠0(n2≠0)である(メタ)アクリロイルオキシ(ポリ)アルコキシ基(2−(メタ)アクリロイルオキシエトキシ基など)とで構成されていてもよく、(iii)n1≠0(n2≠0)である同一の(メタ)アクリロイルオキシ(ポリ)アルコキシ基単独で構成されていてもよく、(iv)n1≠0(n2≠0)である異なる(メタ)アクリロイルオキシ(ポリ)アルコキシ基[例えば、2−(メタ)アクリロイルオキシエトキシ基と2−(2−(メタ)アクリロイルオキシエトキシ)エトキシ基]で構成されていてもよい。   In addition, the several (meth) acryloyloxy group containing group substituted by the same benzene ring may be the same, and may differ. For example, a plurality of (meth) acryloyloxy group-containing groups may be composed of (i) n1 = 0 (n2 = 0) alone (meth) acryloyloxy group, and (ii) n1 = 0 (n2 = 0) and a (meth) acryloyloxy (poly) alkoxy group (such as a 2- (meth) acryloyloxyethoxy group) where n1 ≠ 0 (n2 ≠ 0) (Iii) It may be composed of the same (meth) acryloyloxy (poly) alkoxy group alone where n1 ≠ 0 (n2 ≠ 0), and (iv) n1 ≠ 0 (n2 ≠ 0). It is composed of different (meth) acryloyloxy (poly) alkoxy groups [for example, 2- (meth) acryloyloxyethoxy group and 2- (2- (meth) acryloyloxyethoxy) ethoxy group]. It may be.

前記式(1)で表される代表的な多官能性(メタ)アクリレートには、例えば、9,9−ビス(モノ乃至トリヒドロキシフェニル)フルオレン類の(メタ)アクリレート、9,9−ビス(モノ乃至トリヒドロキシフェニル)フルオレン類のアルキレンオキシド(C2-4アルキレンオキシド)付加体の(メタ)アクリレートなどが含まれる。 Typical polyfunctional (meth) acrylates represented by the formula (1) include, for example, (meth) acrylates of 9,9-bis (mono to trihydroxyphenyl) fluorenes, 9,9-bis ( And (meth) acrylates of alkylene oxide (C 2-4 alkylene oxide) adducts of mono to trihydroxyphenyl) fluorenes.

9,9−ビス(モノ乃至トリヒドロキシフェニル)フルオレン類の(メタ)アクリレートとしては、9,9−ビス(モノ(メタ)アクリロイルオキシフェニル)フルオレン類、9,9−ビス(ジ(メタ)アクリロイルオキシフェニル)フルオレン類、9,9−ビス(トリ(メタ)アクリロイルオキシフェニル)フルオレン類などが挙げられる。   As (meth) acrylates of 9,9-bis (mono to trihydroxyphenyl) fluorenes, 9,9-bis (mono (meth) acryloyloxyphenyl) fluorenes, 9,9-bis (di (meth) acryloyl) And oxyphenyl) fluorenes and 9,9-bis (tri (meth) acryloyloxyphenyl) fluorenes.

9,9−ビス(モノ(メタ)アクリロイルオキシフェニル)フルオレン類には、9,9−ビス((メタ)アクリロイルオキシフェニル)フルオレン[例えば、9,9−ビス(4−(メタ)アクリロイルオキシフェニル)フルオレン、置換基を有する9,9−ビス((メタ)アクリロイルオキシフェニル)フルオレン{例えば、9,9−ビス(アルキル−(メタ)アクリロイルオキシフェニル)フルオレン[9,9−ビス(4−(メタ)アクリロイルオキシ−2−メチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−(メタ)アクリロイルオキシ−3−メチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−(メタ)アクリロイルオキシ−3−エチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(3−(メタ)アクリロイルオキシ−6−メチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(2−(メタ)アクリロイルオキシ−4−メチルフェニル)フルオレンなどの9,9−ビス(C1-4アルキル−(メタ)アクリロイルオキシフェニル)フルオレンなど]、9,9−ビス(ジアルキル−(メタ)アクリロイルオキシフェニル)フルオレン[9,9−ビス(4−(メタ)アクリロイルオキシ−3,5−ジメチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−(メタ)アクリロイルオキシ−2,6−ジメチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−(メタ)アクリロイルオキシ−3,5−ジ−t−ブチルフェニル)フルオレンなどの9,9−ビス(ジC1-4アルキル−(メタ)アクリロイルオキシフェニル)フルオレンなど]、9,9−ビス(シクロアルキル−(メタ)アクリロイルオキシフェニル)フルオレン[9,9−ビス(4−(メタ)アクリロイルオキシ−3−シクロヘキシルフェニル)フルオレンなどの9,9−ビス(C5-8シクロアルキル−(メタ)アクリロイルオキシフェニル)フルオレンなど]、9,9−ビス(アリール(メタ)アクリロイルオキシフェニル)フルオレン[9,9−ビス(4−(メタ)アクリロイルオキシ−3−フェニルフェニル)フルオレンなどの9,9−ビス(C6-8アリール−(メタ)アクリロイルオキシフェニル)フルオレンなど]など}などが挙げられる。 9,9-bis (mono (meth) acryloyloxyphenyl) fluorenes include 9,9-bis ((meth) acryloyloxyphenyl) fluorene [e.g., 9,9-bis (4- (meth) acryloyloxyphenyl). ) Fluorene, substituted 9,9-bis ((meth) acryloyloxyphenyl) fluorene {e.g., 9,9-bis (alkyl- (meth) acryloyloxyphenyl) fluorene [9,9-bis (4- ( (Meth) acryloyloxy-2-methylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4- (meth) acryloyloxy-3-methylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4- (meth) acryloyloxy-3-ethyl) Phenyl) fluorene, 9,9-bis (3- (meth) acryloyloxy-6-methylphenyl) phenyl Oren, 9,9-bis (2- (meth) acryloyloxy-4-methylphenyl) 9,9-bis fluorene (C 1-4 alkyl - (meth) acryloyloxy phenyl) fluorene, etc.], 9,9 -Bis (dialkyl- (meth) acryloyloxyphenyl) fluorene [9,9-bis (4- (meth) acryloyloxy-3,5-dimethylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4- (meth) acryloyloxy) 9,9-bis (diC 1-4 alkyl) such as -2,6-dimethylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4- (meth) acryloyloxy-3,5-di-t-butylphenyl) fluorene -(Meth) acryloyloxyphenyl) fluorene, etc.], 9,9-bis (cycloalkyl- (meth) acryloyloxyphenyl) fluoro 9,9-bis (C 5-8 cycloalkyl- (meth) acryloyloxyphenyl) fluorene such as len [9,9-bis (4- (meth) acryloyloxy-3-cyclohexylphenyl) fluorene], 9,9-bis (C 6-8 aryl- (meta) such as 9-bis (aryl (meth) acryloyloxyphenyl) fluorene [9,9-bis (4- (meth) acryloyloxy-3-phenylphenyl) fluorene ] Acryloyloxyphenyl) fluorene etc.] etc.}.

9,9−ビス(ジ(メタ)アクリロイルオキシフェニル)フルオレン類には、上記9,9−ビス(モノ(メタ)アクリロイルオキシフェニル)フルオレン類に対応するフルオレン類、例えば、9,9−ビス(ジ(メタ)アクリロイルオキシフェニル)フルオレン[9,9−ビス(3,4−ジ(メタ)アクリロイルオキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(2,4−ジ(メタ)アクリロイルオキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(3,5−ジ(メタ)アクリロイルオキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(2,3−ジ(メタ)アクリロイルオキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(2,6−ジ(メタ)アクリロイルオキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(2,5−ジ(メタ)アクリロイルオキシフェニル)フルオレンなど]、置換基を有する9,9−ビス(ジ(メタ)アクリロイルオキシフェニル)フルオレン{例えば、9,9−ビス(アルキル−ジ(メタ)アクリロイルオキシフェニル)フルオレン[9,9−ビス(3,4−ジ(メタ)アクリロイルオキシ−5−メチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(3,4−ジ(メタ)アクリロイルオキシ−6−メチルフェニル)フルオレンなどの9,9−ビス(C1-4アルキル−ジ(メタ)アクリロイルオキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(2,4−ジ(メタ)アクリロイルオキシ3,6−ジメチルフェニル)フルオレンなどの9,9−ビス(ジC1-4アルキル−ジ(メタ)アクリロイルオキシフェニル)フルオレンなど]、9,9−ビス(アルコキシ−ジ(メタ)アクリロイルオキシフェニル)フルオレン[例えば、9,9−ビス(3,4−ジ(メタ)アクリロイルオキシ5−メトキシフェニル)フルオレンなどの9,9−ビス(C1-4アルコキシ−ジ(メタ)アクリロイルオキシフェニル)フルオレンなど]、9,9−ビス(アリール−ジ(メタ)アクリロイルオキシフェニル)フルオレン[例えば、9,9−ビス(3,4−ジ(メタ)アクリロイルオキシ5−フェニルフェニル)フルオレンなどの9,9−ビス(C6-8アリール−ジ(メタ)アクリロイルオキシフェニル)フルオレンなど]など}などが挙げられる。 The 9,9-bis (di (meth) acryloyloxyphenyl) fluorenes include fluorenes corresponding to the 9,9-bis (mono (meth) acryloyloxyphenyl) fluorenes such as 9,9-bis ( Di (meth) acryloyloxyphenyl) fluorene [9,9-bis (3,4-di (meth) acryloyloxyphenyl) fluorene, 9,9-bis (2,4-di (meth) acryloyloxyphenyl) fluorene, 9,9-bis (3,5-di (meth) acryloyloxyphenyl) fluorene, 9,9-bis (2,3-di (meth) acryloyloxyphenyl) fluorene, 9,9-bis (2,6- Di (meth) acryloyloxyphenyl) fluorene, 9,9-bis (2,5-di (meth) acryloyloxyphenyl) fluorene ], 9,9-bis (di (meth) acryloyloxyphenyl) fluorene having a substituent {for example, 9,9-bis (alkyl-di (meth) acryloyloxyphenyl) fluorene [9,9-bis (3 9,9-bis (C 1 ) such as 1,4-di (meth) acryloyloxy-5-methylphenyl) fluorene, 9,9-bis (3,4-di (meth) acryloyloxy-6-methylphenyl) fluorene -4 alkyl - di (meth) acryloyloxy phenyl) fluorene, 9,9-bis (2,4-di (meth) acryloyloxy 3,6-dimethylphenyl) fluorene such as 9,9-bis (di C 1- 4 alkyl-di (meth) acryloyloxyphenyl) fluorene, etc.], 9,9-bis (alkoxy-di (meth) acryloyloxyphenyl) fluoro [For example, 9,9-bis (C 1-4 alkoxy-di (meth) acryloyloxyphenyl) fluorene such as 9,9-bis (3,4-di (meth) acryloyloxy5-methoxyphenyl) fluorene] 9,9-bis (aryl-di (meth) acryloyloxyphenyl) fluorene [e.g., 9,9- such as 9,9-bis (3,4-di (meth) acryloyloxy5-phenylphenyl) fluorene] Bis (C 6-8 aryl-di (meth) acryloyloxyphenyl) fluorene and the like] and the like}.

9,9−ビス(トリ(メタ)アクリロイルオキシフェニル)フルオレン類には、上記9,9−ビス(モノ又はジ(メタ)アクリロイルオキシフェニル)フルオレン類に対応するフルオレン類、例えば、9,9−ビス(2,4,6−(メタ)アクリロイルオキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(2,4,5−トリ(メタ)アクリロイルオキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(3,4,5−トリ(メタ)アクリロイルオキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(2,3,4−トリ(メタ)アクリロイルオキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(2,3,5−トリ(メタ)アクリロイルオキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(2,3,6−トリ(メタ)アクリロイルオキシフェニル)フルオレンなどの9,9−ビス(トリ(メタ)アクリロイルオキシフェニル)フルオレンなどが含まれる。   The 9,9-bis (tri (meth) acryloyloxyphenyl) fluorenes include fluorenes corresponding to the 9,9-bis (mono or di (meth) acryloyloxyphenyl) fluorenes such as 9,9- Bis (2,4,6- (meth) acryloyloxyphenyl) fluorene, 9,9-bis (2,4,5-tri (meth) acryloyloxyphenyl) fluorene, 9,9-bis (3,4,5 -Tri (meth) acryloyloxyphenyl) fluorene, 9,9-bis (2,3,4-tri (meth) acryloyloxyphenyl) fluorene, 9,9-bis (2,3,5-tri (meth) acryloyl) 9,9-bis (tri) such as oxyphenyl) fluorene, 9,9-bis (2,3,6-tri (meth) acryloyloxyphenyl) fluorene Meth) acryloyloxy phenyl) contains fluorene and the like.

9,9−ビス(モノ乃至トリヒドロキシフェニル)フルオレン類のアルキレンオキシド付加体の(メタ)アクリレートには、9,9−ビス(モノヒドロキシフェニル)フルオレン類のアルキレンオキシド付加体の(メタ)アクリレート(特に、ジ(メタ)アクリレート)、例えば、9,9−ビス((メタ)アクリロイルオキシアルコキシフェニル)フルオレン[例えば、9,9−ビス(4−(メタ)アクリロイルオキシエトキシフェニル)フルオレンなどの9,9−ビス((メタ)アクリロイルオキシC2-4アルコキシフェニル)フルオレンなど]、置換基を有する9,9−ビス((メタ)アクリロイルオキシアルコキシフェニル)フルオレン{例えば、9,9−ビス(アルキル−(メタ)アクリロイルオキシアルコキシフェニル)フルオレン[例えば、9,9−ビス(4−(メタ)アクリロイルオキシエトキシ−3−メチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−(メタ)アクリロイルオキシエトキシ−3−エチルフェニル)フルオレンなどの9,9−ビス(C1-4アルキル−(メタ)アクリロイルオキシC2-4アルコキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−(メタ)アクリロイルオキシエトキシ−3,5−ジメチルフェニル)フルオレンなどの9,9−ビス(ジC1-4アルキル−(メタ)アクリロイルオキシC2-4アルコキシフェニル)フルオレンなど]、9,9−ビス(シクロアルキル−(メタ)アクリロイルオキシアルコキシフェニル)フルオレン[9,9−ビス(4−(メタ)アクリロイルオキシエトキシ−3−シクロヘキシルフェニル)フルオレンなどの9,9−ビス(C5-8シクロアルキル−(メタ)アクリロイルオキシC2-4アルコキシフェニル)フルオレン]、9,9−ビス(アリール−(メタ)アクリロイルオキシアルコキシフェニル)フルオレン[9,9−ビス(4−(メタ)アクリロイルオキシエトキシ−3−フェニルフェニル)フルオレンなどの9,9−ビス(C6-8アリール−(メタ)アクリロイルオキシC2-4アルコキシフェニル)フルオレンなど]、これらの化合物に対応する9,9−ビス((メタ)アクリロイルオキシポリアルコキシフェニル)フルオレン類[例えば、9,9−ビス{4−[2−(2−(メタ)アクリロイルオキシエトキシ)エトキシ]フェニル}フルオレンなどの9,9−ビス{((メタ)アクリロイルオキシC2-4アルコキシ)C2-4アルコキシフェニル}フルオレンなど]など;これらの化合物に対応する9,9−ビス[ジ(ヒドロキシ)フェニル]フルオレン類のアルキレンオキシド付加体(C2-4アルキレンオキシド付加体)の(メタ)アクリレート(ジ乃至テトラ(メタ)アクリレート、特にテトラ(メタ)アクリレート){例えば、9,9−ビス[3,4−ジ(2−(メタ)アクリロイルオキシC2-4アルコキシ)フェニル]フルオレンなどの9,9−ビス[ジ(ヒドロキシアルコキシ)フェニル]フルオレン類のジ乃至テトラ(メタ)アクリレート、9,9−ビス{3,4−ジ[2−(2−(メタ)アクリロイルオキシC2-4アルコキシ)C2-4アルコキシ]フェニル}フルオレンなどの9,9−ビス[ジ(ヒドロキシポリアルコキシ)フェニル]フルオレンのジ乃至テトラ(メタ)アクリレートなど};これらの化合物に対応する9,9−ビス[トリ(ヒドロキシ)フェニル]フルオレン類のアルキレンオキシド付加体(C2-4アルキレンオキシド付加体)の(メタ)アクリレート(ジ乃至ヘキサ(メタ)アクリレート、特にヘキサ(メタ)アクリレート){例えば、9,9−ビス[3,4,5−トリ(2−(メタ)アクリロイルオキシC2-4アルコキシ)フェニル]フルオレンなどの9,9−ビス[トリ(ヒドロキシアルコキシ)フェニル]フルオレン類のジ乃至ヘキサ(メタ)アクリレート、9,9−ビス{3,4,5−トリ[2−(2−(メタ)アクリロイルオキシC2-4アルコキシ)C2-4アルコキシ]フェニル}フルオレンなどの9,9−ビス[トリ(ヒドロキシポリアルコキシ)フェニル]フルオレンのジ乃至ヘキサ(メタ)アクリレートなど}などが挙げられる。 The (meth) acrylate of an alkylene oxide adduct of 9,9-bis (mono to trihydroxyphenyl) fluorenes includes a (meth) acrylate of an alkylene oxide adduct of 9,9-bis (monohydroxyphenyl) fluorenes ( In particular, di (meth) acrylate), for example 9,9-bis ((meth) acryloyloxyalkoxyphenyl) fluorene [for example 9,9 such as 9,9-bis (4- (meth) acryloyloxyethoxyphenyl) fluorene. 9-bis ((meth) acryloyloxy C 2-4 alkoxyphenyl) fluorene and the like], 9,9-bis ((meth) acryloyloxyalkoxyphenyl) fluorene having a substituent {for example, 9,9-bis (alkyl- (Meth) acryloyloxyalkoxyphenyl) fluorene [For example, 9,9-bis (4- (meth) acryloyloxyethoxy-3-methylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4- (meth) acryloyloxyethoxy-3-ethylphenyl) fluorene, etc. 9 such as 9-bis (C 1-4 alkyl- (meth) acryloyloxy C 2-4 alkoxyphenyl) fluorene, 9,9-bis (4- (meth) acryloyloxyethoxy-3,5-dimethylphenyl) fluorene , 9-bis (diC 1-4 alkyl- (meth) acryloyloxy C 2-4 alkoxyphenyl) fluorene and the like], 9,9-bis (cycloalkyl- (meth) acryloyloxyalkoxyphenyl) fluorene [9,9 -9,9- such as bis (4- (meth) acryloyloxyethoxy-3-cyclohexylphenyl) fluorene Bis (C 5-8 cycloalkyl- (meth) acryloyloxy C 2-4 alkoxyphenyl) fluorene], 9,9-bis (aryl- (meth) acryloyloxyalkoxyphenyl) fluorene [9,9-bis (4- 9,9-bis (C 6-8 aryl- (meth) acryloyloxy C 2-4 alkoxyphenyl) fluorene, etc.] such as (meth) acryloyloxyethoxy-3-phenylphenyl) fluorene, 9 corresponding to these compounds , 9-bis ((meth) acryloyloxypolyalkoxyphenyl) fluorenes [e.g., 9,9 such as 9,9-bis {4- [2- (2- (2- (meth) acryloyloxyethoxy) ethoxy] phenyl} fluorene) - bis {((meth) acryloyloxy C 2-4 alkoxy) C 2-4 alkoxyphenyl} fluorene Etc.] and the like; these correspond to the compound 9,9-bis [di (hydroxy) phenyl] alkylene oxide adducts of fluorenes of (C 2-4 alkylene oxide adducts) (meth) acrylate (di- to tetra (meth ) acrylates, especially tetra (meth) acrylate) {e.g., 9,9-bis [3,4-di (2- (meth) acryloyloxy C 2-4 alkoxy) phenyl] fluorene such as 9,9-bis [di (Hydroxyalkoxy) phenyl] fluorene di- to tetra (meth) acrylate, 9,9-bis {3,4-di [2- (2- (meth) acryloyloxy C 2-4 alkoxy) C 2-4 alkoxy ] 9} -bis [di (hydroxypolyalkoxy) phenyl] fluorene such as phenyl} fluorene }; These correspond to the compound 9,9-bis [tri (hydroxymethyl) phenyl] alkylene oxide adducts of fluorenes of (C 2-4 alkylene oxide adducts) (meth) acrylate (di- to hexa (meth) acrylate , in particular hexa (meth) acrylate) {e.g., 9,9-bis [3,4,5-tri (2- (meth) acryloyloxy C 2-4 alkoxy) phenyl] fluorene such as 9,9-bis [tri (Hydroxyalkoxy) phenyl] fluorene di to hexa (meth) acrylate, 9,9-bis {3,4,5-tri [2- (2- (meth) acryloyloxy C 2-4alkoxy ) C 2- 4 alkoxy] phenyl} fluorene 9,9-bis [tri (hydroxy polyalkoxy) phenyl] di- to hexa (meth) acrylate fluorene Rate, etc.} and the like.

フルオレン骨格を有する多官能性(メタ)アクリレートは、単独で又は2種以上組み合わせてもよい。   Polyfunctional (meth) acrylates having a fluorene skeleton may be used alone or in combination of two or more.

なお、フルオレン骨格を有する多官能性(メタ)アクリレートは、市販品を用いてもよく、製造したものを用いてもよい。このような多官能性(メタ)アクリレートは、対応する9,9−ビス(ヒドロキシフェニル)フルオレン類[すなわち、9,9−ビス(モノヒドロキシフェニル)フルオレン類、9,9−ビス(ジヒドロキシフェニル)フルオレン類、又は9,9−ビス(トリヒドロキシフェニル)フルオレン類]又はそのアルキレンオキシド付加体と、(メタ)アクリル酸又はその誘導体[例えば、(メタ)アクリル酸低級アルキルエステル(例えば、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸ブチルなどのC1-4アルキル(メタ)アクリレートなど)、(メタ)アクリル酸ハライド((メタ)アクリル酸クロライドなど)など]とを反応させることにより製造できる。 In addition, the polyfunctional (meth) acrylate which has a fluorene skeleton may use a commercial item, and may use what was manufactured. Such polyfunctional (meth) acrylates have the corresponding 9,9-bis (hydroxyphenyl) fluorenes [ie, 9,9-bis (monohydroxyphenyl) fluorenes, 9,9-bis (dihydroxyphenyl) Fluorenes, or 9,9-bis (trihydroxyphenyl) fluorenes] or an alkylene oxide adduct thereof, and (meth) acrylic acid or a derivative thereof [for example, (meth) acrylic acid lower alkyl ester (for example, (meth) Methyl acrylate, ethyl (meth) acrylate, C 1-4 alkyl (meth) acrylate such as butyl (meth) acrylate), (meth) acrylic acid halide (such as (meth) acrylic acid chloride), etc.] It can manufacture by making it react.

代表的な9,9−ビス(ヒドロキシフェニル)フルオレン類には、9,9−ビス(モノヒドロキシフェニル)フルオレン類{例えば、9,9−ビス(ヒドロキシフェニル)フルオレン[9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレンなど]、9,9−ビス(アルキル−ヒドロキシフェニル)フルオレン[9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−エチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(3−ヒドロキシ−6−メチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(2−ヒドロキシ−4−メチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−2,6−ジメチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルフェニル)フルオレンなどの9,9−ビス(モノ又はジC1-4アルキル−ヒドロキシフェニル)フルオレンなど]、9,9−ビス(シクロアルキル−ヒドロキシフェニル)フルオレン[9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−シクロヘキシルフェニル)フルオレンなどの9,9−ビス(C5-8シクロアルキル−モノヒドロキシフェニル)フルオレンなど]、9,9−ビス(アリール−ヒドロキシフェニル)フルオレン[例えば、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−フェニルフェニル)フルオレンなどの9,9−ビス(C6-8アリール−ヒドロキシフェニル)フルオレンなど]など};9,9−ビス(ジヒドロキシフェニル)フルオレン類{例えば、9,9−ビス(ジヒドロキシフェニル)フルオレン[9,9−ビス(3,4−ジヒドロキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(2,4−ジヒドロキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(2,5−ジヒドロキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(3,5−ジヒドロキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(2,3−ジヒドロキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(2,6−ジヒドロキシフェニル)フルオレンなど]、9,9−ビス(アルキル−ジヒドロキシフェニル)フルオレン[9,9−ビス(3,4−ジヒドロキシ−5−メチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(2,4−ジヒドロキシ−3,6−ジメチルフェニル)フルオレンなどの9,9−ビス(モノ又はジC1-4アルキル−ジヒドロキシフェニル)フルオレンなど]、9,9−ビス(アリール−ジヒドロキシフェニル)フルオレン[例えば、9,9−ビス(3,4−ジヒドロキシ−5−フェニルフェニル)フルオレンなどの9,9−ビス(C6-8アリール−ジヒドロキシフェニル)フルオレンなど]など};9,9−ビス(トリヒドロキシフェニル)フルオレン類[例えば、9,9−ビス(3,4,5−トリヒドロキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(2,4,6−トリヒドロキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(2,4,5−トリヒドロキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(2,3,4−トリヒドロキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(2,3,5−トリヒドロキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(2,3,6−トリヒドロキシフェニル)フルオレンなどの9,9−ビス(トリヒドロキシフェニル)フルオレンなど]が含まれる。 Representative 9,9-bis (hydroxyphenyl) fluorenes include 9,9-bis (monohydroxyphenyl) fluorenes {eg, 9,9-bis (hydroxyphenyl) fluorene [9,9-bis (4 -Hydroxyphenyl) fluorene and the like], 9,9-bis (alkyl-hydroxyphenyl) fluorene [9,9-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4-hydroxy-3- Ethylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4-hydroxy-2-methylphenyl) fluorene, 9,9-bis (3-hydroxy-6-methylphenyl) fluorene, 9,9-bis (2-hydroxy-4) -Methylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) fluorene, 9,9-bi (4-hydroxy-2,6-dimethylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4-hydroxy-3,5-di -t- butyl phenyl) fluorene such as 9,9-bis (mono- or di-C 1- 4 alkyl-hydroxyphenyl) fluorene and the like], 9,9-bis (cycloalkyl-hydroxyphenyl) fluorene [9,9-bis (4-hydroxy-3-cyclohexylphenyl) fluorene and other 9,9-bis (C 5 -8 cycloalkyl-monohydroxyphenyl) fluorene and the like], 9,9-bis (aryl-hydroxyphenyl) fluorene [for example, 9,9- such as 9,9-bis (4-hydroxy-3-phenylphenyl) fluorene. bis (C 6-8 aryl - hydroxyphenyl) fluorene, etc.], etc.}; 9,9-bis (dihydroxyphenyl) Luolenes {for example, 9,9-bis (dihydroxyphenyl) fluorene [9,9-bis (3,4-dihydroxyphenyl) fluorene, 9,9-bis (2,4-dihydroxyphenyl) fluorene, 9,9- Bis (2,5-dihydroxyphenyl) fluorene, 9,9-bis (3,5-dihydroxyphenyl) fluorene, 9,9-bis (2,3-dihydroxyphenyl) fluorene, 9,9-bis (2,6 -Dihydroxyphenyl) fluorene and the like], 9,9-bis (alkyl-dihydroxyphenyl) fluorene [9,9-bis (3,4-dihydroxy-5-methylphenyl) fluorene, 9,9-bis (2,4- dihydroxy-3,6-dimethylphenyl) fluorene such as 9,9-bis (mono- or di-C 1-4 alkyl - dihydroxy Eniru) fluorene, etc.], 9,9-bis (aryl - dihydroxyphenyl) fluorene [e.g., 9,9-bis (3,4-dihydroxy-5-phenylphenyl) fluorene such as 9,9-bis (C 6- 8 aryl-dihydroxyphenyl) fluorene and the like]; 9,9-bis (trihydroxyphenyl) fluorenes [eg, 9,9-bis (3,4,5-trihydroxyphenyl) fluorene, 9,9-bis (2,4,6-trihydroxyphenyl) fluorene, 9,9-bis (2,4,5-trihydroxyphenyl) fluorene, 9,9-bis (2,3,4-trihydroxyphenyl) fluorene, 9 , 9-bis (2,3,5-trihydroxyphenyl) fluorene, 9,9-bis (2,3,6-trihydroxyphenyl) fluorene 9,9-bis such Ren (trihydroxyphenyl) fluorene, etc.] is included.

なお、ビス(モノヒドロキシフェニル)フルオレン類は、種々の合成方法、例えば、(a)塩化水素ガス及びメルカプトカルボン酸の存在下、フルオレノン類とフェノール類とを反応させる方法(文献[J. Appl. Polym. Sci., 27(9), 3289, 1982]、特開平6−145087号公報、特開平8−217713号公報)、(b)酸触媒(及びアルキルメルカプタン)の存在下、9−フルオレノンとアルキルフェノール類とを反応させる方法(特開2000−26349号公報)、(c)塩酸及びチオール類(メルカプトカルボン酸など)の存在下、フルオレノン類とフェノール類とを反応させる方法(特開2002−47227号公報)、(d)硫酸及びチオール類(メルカプトカルボン酸など)の存在下、フルオレノン類とフェノール類とを反応させ、炭化水素類と極性溶媒とで構成された晶析溶媒で晶析させてビスフェノールフルオレンを製造する方法(特開2003−221352号公報)などを利用して製造できる。   Note that bis (monohydroxyphenyl) fluorenes can be prepared by various synthesis methods, for example, (a) a method of reacting a fluorenone with a phenol in the presence of hydrogen chloride gas and mercaptocarboxylic acid (reference [J. Appl. Polym. Sci., 27 (9), 3289, 1982], JP-A-6-145087, JP-A-8-217713), (b) 9-fluorenone in the presence of an acid catalyst (and alkyl mercaptan) A method of reacting alkylphenols (JP 2000-26349 A), (c) a method of reacting fluorenones and phenols in the presence of hydrochloric acid and thiols (such as mercaptocarboxylic acid) (JP 2002-47227 A). (D), (d) in the presence of sulfuric acid and thiols (such as mercaptocarboxylic acid), fluorenones and phenols are reacted to form hydrocarbons It can be produced by using a method of producing bisphenolfluorene by crystallization with a crystallization solvent composed of a kind and a polar solvent (Japanese Patent Laid-Open No. 2003-221352).

また、9,9−ビス(ジ又はトリヒドロキシフェニル)フルオレン類は、上記9,9−ビス(モノヒドロキシフェニル)フルオレン類の製造方法において、フェノール類の代わりに、対応する多価アルコール類(ジヒドロキシフェノール類、トリヒドロキシフェノール類)を使用することにより製造できる。   In addition, 9,9-bis (di- or trihydroxyphenyl) fluorenes can be obtained by using the corresponding polyhydric alcohols (dihydroxy) instead of phenols in the above-mentioned 9,9-bis (monohydroxyphenyl) fluorenes production method. Phenols and trihydroxyphenols).

さらに、9,9−ビス(モノヒドロキシフェニル)フルオレン類のアルキレンオキシド付加体の製造方法は、特に限定されないが、例えば、9,9−ビス(ヒドロキシフェニル)フルオレン類と、対応するアルキレンオキサイド(C2-4アルキレンオキシド)又はアルキレンカーボネート(C2-4アルキレンカーボネート)を、必要に応じて触媒(塩基触媒など)の存在下で反応させる方法や、フルオレノンと対応するフェノキシC2-4アルコール類とを反応させる方法(例えば、特開平11−349657号公報)などにより製造してもよい。また、9,9−ビス(ジ又はトリヒドロキシフェニル)フルオレン類のアルキレンオキシド付加体は、上記製造方法において、9,9−ビス(ヒドロキシフェニル)フルオレン類又はフェノキシC2-4アルコール類に代えて、対応するアルコール類[9,9−ビス(ジ又はトリヒドロキシフェニル)フルオレン類、ジ又はトリ(ヒドロキシC2-4アルコキシ)ベンゼン類など]を使用することにより製造できる。 Furthermore, although the manufacturing method of the alkylene oxide adduct of 9,9-bis (monohydroxyphenyl) fluorene is not specifically limited, For example, 9,9-bis (hydroxyphenyl) fluorene and corresponding alkylene oxide (C 2-4 alkylene oxide) or alkylene carbonate (C 2-4 alkylene carbonate), if necessary, in the presence of a catalyst (such as a base catalyst) or a phenoxy C 2-4 alcohol corresponding to fluorenone It may be produced by a method of reacting with (for example, JP-A-11-349657). Moreover, the alkylene oxide adduct of 9,9-bis (di or trihydroxyphenyl) fluorenes is replaced with 9,9-bis (hydroxyphenyl) fluorenes or phenoxy C 2-4 alcohols in the above production method. The corresponding alcohols [9,9-bis (di or trihydroxyphenyl) fluorenes, di or tri (hydroxy C 2-4 alkoxy) benzenes, etc.] can be used.

(重合性基を有する加水分解縮合性有機ケイ素化合物)
重合性基(重合性官能基、ラジカル重合性基、光重合性基)を有する加水分解縮合性有機ケイ素化合物(以下、単に、有機ケイ素化合物などということがある)は、重合性基(詳細には、前記多官能性(メタ)アクリレートと共重合可能な重合性基)を有し、かつケイ素原子に直接結合した加水分解縮合性基(例えば、アルコキシ基、アリールオキシ基、塩素原子などのハロゲン原子)を少なくとも1つ有する化合物であれば特に限定されないが、例えば、下記式(2)で表される化合物などが挙げられる。
(Hydrolytic condensable organosilicon compound having a polymerizable group)
A hydrolyzable condensable organosilicon compound having a polymerizable group (polymerizable functional group, radical polymerizable group, photopolymerizable group) (hereinafter sometimes simply referred to as an organosilicon compound) is a polymerizable group (in detail). Is a hydrolytic condensable group (for example, an alkoxy group, an aryloxy group, a halogen atom such as a chlorine atom) having a polyfunctional (meth) acrylate copolymerizable group) and directly bonded to a silicon atom. Although it will not specifically limit if it is a compound which has at least 1 atom), For example, the compound etc. which are represented by following formula (2) are mentioned.

X−(A)c−Si(OR4)a(R5)3-a (2)
[式中、Xは、重合性基、Aは連結基を示し、R4は、炭化水素基又は基−[(R6O)b−R7](式中、R6は、アルキレン基であり、R7は炭化水素基であり、bは1以上の整数を示す)であり、R5は、水素原子、ヒドロキシル基、ハロゲン原子又は炭化水素基を示す。aは1〜3の整数、cは0又は1を示す。]
上記式(2)において、重合性基(又は重合性基を含む基)としては、例えば、アルケニル基(例えば、ビニル基、アリル基などのC2-6アルケニル基、好ましくはC2-4アルケニル基、さらに好ましくはC2-3アルケニル基)、(メタ)アクリロイル基などが挙げられる。重合性の観点から、(メタ)アクリロイル基、特に、アクリロイルオキシ基が好ましい。
X- (A) c -Si (OR 4) a (R 5) 3-a (2)
[Wherein, X represents a polymerizable group, A represents a linking group, R 4 represents a hydrocarbon group or a group — [(R 6 O) b —R 7 ] (wherein R 6 represents an alkylene group) R 7 is a hydrocarbon group, b is an integer of 1 or more, and R 5 is a hydrogen atom, a hydroxyl group, a halogen atom or a hydrocarbon group. a represents an integer of 1 to 3, and c represents 0 or 1. ]
In the above formula (2), examples of the polymerizable group (or a group containing a polymerizable group) include alkenyl groups (for example, C 2-6 alkenyl groups such as vinyl groups and allyl groups, preferably C 2-4 alkenyl groups). Group, more preferably C 2-3 alkenyl group), (meth) acryloyl group and the like. From the viewpoint of polymerizability, a (meth) acryloyl group, particularly an acryloyloxy group is preferred.

前記重合性基は、連結基を介してケイ素原子に結合していてもよい。式(2)において、連結基Aとしては、二価の炭化水素基[例えば、アルキレン基(メチレン基などのアルキリデン基を含む、以下同じ)(例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基、ブチレン基などのC1-10アルキレン基、好ましくはC1-6アルキレン基、さらに好ましくはC2-4アルキレン基など)、シクロアルキレン基(例えば、シクロヘキシレン基などのC5-8シクロアルキレン基など)、アリーレン基(例えば、フェニレン基などのC6-10アリーレン基など)など]、オキシアルキレン基[例えば、オキシメチレン基、オキシエチレン基、オキシプロピレン基(オキシトリメチレン基)、オキシブチレン基などのオキシC1-10アルキレン基、好ましくはオキシC1-6アルキレン基、さらに好ましくはオキシC2-4アルキレン基など]、イミノ基(−NH−)、イミノアルキレン基(イミノメチレン基、イミノエチレン基、イミノトリメチレン基などのイミノC1-10アルキレン基、好ましくはイミノC1-6アルキレン基、さらに好ましくはイミノC2-4アルキレン基など)、オキシアルキレンイミノアルキレン基(例えば、オキシトリメチレンイミノトリメチレン基などのオキシC2-6アルキレン−イミノ−C2-6アルキレン基、好ましくはオキシC2-4アルキレン−イミノ−C2-4アルキレン基など)などが挙げられる。これらの連結基は、ヒドロキシル基などの置換基を有していてもよい。連結基の数cは、0又は1であればよく、連結基の種類などに応じて適宜選択できる。重合性基が(メタ)アクリロイル基である場合、通常、cは1である場合が多い。 The polymerizable group may be bonded to a silicon atom via a linking group. In the formula (2), the linking group A is a divalent hydrocarbon group [for example, an alkylene group (including an alkylene group such as a methylene group, the same applies hereinafter) (for example, a methylene group, an ethylene group, a propylene group, a trimethylene group). A C 1-10 alkylene group such as a butylene group, preferably a C 1-6 alkylene group, more preferably a C 2-4 alkylene group, and a cycloalkylene group (eg, a C 5-8 cycloalkylene such as a cyclohexylene group). Group), arylene group (for example, C 6-10 arylene group such as phenylene group)], oxyalkylene group [for example, oxymethylene group, oxyethylene group, oxypropylene group (oxytrimethylene group), oxybutylene oxy C 1-10 alkylene group such group, preferably oxy C 1-6 alkylene group, more preferably oxy C 2-4 a Such Killen group], an imino group (-NH-), iminoalkylene group (iminomethylene group, Iminoechiren group, imino C 1-10 alkylene group such as imino trimethylene group, preferably imino C 1-6 alkylene group, further preferably such imino C 2-4 alkylene group), an oxyalkylene imino alkylene group (e.g., oxy-C 2-6 alkylene such as oxytrimethylene imino trimethylene group - imino -C 2-6 alkylene group, preferably oxy C 2 -4 alkylene-imino-C 2-4 alkylene group, etc.). These linking groups may have a substituent such as a hydroxyl group. The number c of linking groups may be 0 or 1, and can be appropriately selected according to the type of the linking group. When the polymerizable group is a (meth) acryloyl group, c is usually 1 in many cases.

前記式(2)において、代表的なユニット[X−(A)c]−としては、アルケニル基(例えば、ビニル基、アリル基など)、(メタ)アクリロイルオキシアルキル基、(メタ)アクリロイルオキシアルキルアミノアルキル基などが挙げられ、特に、(メタ)アクリロイルオキシアルキル基(例えば、(メタ)アクリロイルオキシプロピル基などの(メタ)アクリロイルオキシC2-4アルキル基)などの(メタ)アクリロイル基を含む基が好ましい。 In the above formula (2), representative units [X— (A) c ] — include alkenyl groups (for example, vinyl group, allyl group, etc.), (meth) acryloyloxyalkyl groups, (meth) acryloyloxyalkyls. Examples include aminoalkyl groups, and particularly include (meth) acryloyl groups such as (meth) acryloyloxyalkyl groups (for example, (meth) acryloyloxy C 2-4 alkyl groups such as (meth) acryloyloxypropyl groups). Groups are preferred.

前記式(2)において、基R4(及び基R7)で表される炭化水素基としては、例えば、アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などのC1-6アルキル基、好ましくはC1-4アルキル基、さらに好ましくはC1-2アルキル基など)、アリール基(例えば、フェニル基、トリル基などのC6-10アリール基、好ましくはC6-8アリール基)などが例示できる。また、基−O−[(R6O)b−R7]において、基R6で表されるアルキレン基としては、限定されないが、例えば、C2-4アルキレン基(エチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、ブタン−1,2−ジイル基など)などが例示でき、特に、C2-3アルキレン基(特に、エチレン基、プロピレン基)が好ましい。アルキレンオキシ(R6O)単位の付加数bは、1以上であればよく、例えば、1〜4、好ましくは1〜2、さらに好ましくは1であってもよい。また、好ましい基−O−[(R6O)b−R7]には、2−メトキシエトキシ基、2−エトキシエトキシ基などのC1-4アルコキシC2-4アルコキシ基(特に、C1-2アルコキシエトキシ基)などが含まれる。 In the formula (2), examples of the hydrocarbon group represented by the group R 4 (and the group R 7 ) include C 1-6 such as an alkyl group (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group). An alkyl group, preferably a C 1-4 alkyl group, more preferably a C 1-2 alkyl group, etc., an aryl group (eg, a C 6-10 aryl group such as a phenyl group, a tolyl group, preferably a C 6-8 aryl group) Group) and the like. In the group —O — [(R 6 O) b —R 7 ], the alkylene group represented by the group R 6 is not limited, and examples thereof include a C 2-4 alkylene group (ethylene group, trimethylene group, Propylene group, butane-1,2-diyl group, etc.) can be exemplified, and C 2-3 alkylene groups (particularly ethylene groups, propylene groups) are particularly preferable. The addition number b of the alkyleneoxy (R 6 O) unit may be 1 or more, and may be, for example, 1 to 4, preferably 1 to 2, and more preferably 1. Preferred groups -O-[(R 6 O) b -R 7 ] include C 1-4 alkoxy C 2-4 alkoxy groups such as 2-methoxyethoxy group and 2-ethoxyethoxy group (particularly C 1 -2 alkoxyethoxy group) and the like.

また、好ましい置換数aは、2〜3、さらに好ましくは3である。なお、置換数aが複数である場合、複数の基R4は、同一又は異なっていてもよい。 Moreover, the preferable substitution number a is 2-3, More preferably, it is 3. In addition, when the substitution number a is plural, the plural groups R 4 may be the same or different.

基R5で表されるハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが例示できる。また、基R5で表される炭化水素基としては、例えば、アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基などのC1-8アルキル基、好ましくはC1-6アルキル基、さらに好ましくはC1-4アルキル基)、アルケニル基(例えば、ビニル基、アリル基などのC2-6アルケニル基、好ましくはC2-4アルケニル基、さらに好ましくはC2-3アルケニル基)、シクロアルキル基(例えば、シクロヘキシル基などのC5-8シクロアルキル基)、アリール基(例えば、フェニル基、トリル基、キシリル基などのC6-15アリール基、好ましくはC6-10アリール基、さらに好ましくはC6-8アリール基)などが挙げられる。これらのうち、好ましい炭化水素基(置換基を有していてもよい炭化水素基)には、アルキル基(C1-6アルキル基など)、アリール基(C6-10アリール基など)などが含まれる。 Examples of the halogen atom represented by the group R 5 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom. Examples of the hydrocarbon group represented by the group R 5 include an alkyl group (for example, a C 1-8 alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, and a propyl group, preferably a C 1-6 alkyl group, more preferably Is a C 1-4 alkyl group), an alkenyl group (for example, a C 2-6 alkenyl group such as a vinyl group or an allyl group, preferably a C 2-4 alkenyl group, more preferably a C 2-3 alkenyl group), cycloalkyl Group (for example, C 5-8 cycloalkyl group such as cyclohexyl group), aryl group (for example, C 6-15 aryl group such as phenyl group, tolyl group, xylyl group, preferably C 6-10 aryl group, more preferably Is a C 6-8 aryl group). Among these, preferred hydrocarbon groups (hydrocarbon groups which may have a substituent) include alkyl groups (C 1-6 alkyl groups, etc.), aryl groups (C 6-10 aryl groups, etc.) and the like. included.

なお、基R5で表される炭化水素基は、置換基を有していてもよい。炭化水素基(上記例示の炭化水素基など)に置換する置換基としては、例えば、ハロゲン原子(塩素原子、臭素原子など、特に、塩素原子)、アミノ基又はN−置換アミノ基[例えば、アミノアルキルアミノ基(2−アミノエチルアミノ基などのアミノC2-4アルキルアミノ基など)、アルケニルアミノ基(アリルアミノ基などのC2-4アルケニルアミノ基など)、アルケニルアミノアルキル基(アリルアミノプロピル基など)など]、メルカプト基(又は置換メルカプト基)、エポキシ基含有基[エポキシシクロアルキル基(3,4−エポキシシクロヘキシル基などのエポキシC3-8シクロヘキシル基、好ましくはエポキシC5-8シクロアルキル基、さらに好ましくはエポキシC5-6シクロアルキル基)、グリシジルオキシ基など]、(メタ)アクリロイルオキシ基などが挙げられる。これらの置換基は、単独で又は2種以上組み合わせて炭化水素基に置換していてもよい。これらの置換基のうち、なお、置換数(3−a)が複数である場合、複数の基R5は、同一又は異なっていてもよい。 Note that the hydrocarbon group represented by the group R 5 may have a substituent. Examples of the substituent substituted on the hydrocarbon group (such as the hydrocarbon group exemplified above) include, for example, a halogen atom (chlorine atom, bromine atom, etc., particularly chlorine atom), an amino group, or an N-substituted amino group [for example, amino Alkylamino groups (such as amino C 2-4 alkylamino groups such as 2-aminoethylamino group), alkenylamino groups (such as C 2-4 alkenylamino groups such as allylamino group), alkenylaminoalkyl groups (allylaminopropyl group) Etc.], mercapto group (or substituted mercapto group), epoxy group-containing group [epoxy cycloalkyl group (epoxy C 3-8 cyclohexyl group such as 3,4-epoxy cyclohexyl group, preferably epoxy C 5-8 cycloalkyl group) group, more preferably an epoxy C 5-6 cycloalkyl group), glycidyl group, (meth) Such as Riroiruokishi group, and the like. These substituents may be substituted alone or in combination of two or more with a hydrocarbon group. Among these substituents, when the number of substitutions (3-a) is plural, the plural groups R 5 may be the same or different.

前記式(2)で表される代表的な有機ケイ素化合物としては、例えば、重合性基を有するモノアルコキシシラン類{例えば、アルケニル基を有するモノアルコキシシラン[例えば、アルケニルジアルキルアルコキシシラン(例えば、ビニルジメチルエトキシシランなどのC2-4アルケニル−ジC1-4アルキル−C1-4アルコキシシランなど)など]など}、重合性基を有するジアルコキシシラン類{例えば、アルケニル基を有するジアルコキシシラン[例えば、アルケニルアルキルジアルコキシシラン(例えば、ビニルジメトキシメチルシラン、ビニルジエトキシメチルシランなどのC2-4アルケニルC1-4アルキルジC1-4アルコキシシラン)、ジアルケニルジアルコキシシラン(例えば、ジビニルジメトキシシラン、ジビニルジエトキシシランなどのジC2-4アルケニルジC1-4アルコキシシラン)など]、(メタ)アクリロイルオキシ基を有するジアルコキシシラン[例えば、(メタ)アクリロイルオキシアルキルジアルコキシシラン(例えば、3−(メタ)アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−(メタ)アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシランなどの(メタ)アクリロイルオキシC2-4アルキルC1-4アルキルジC1-4アルコキシシランなど)など]など}、重合性基を有するトリアルコキシシラン類、重合性基を有するトリアリールオキシシラン類、これらに対応するモノ乃至トリハロシラン類などが挙げられる。 As a typical organosilicon compound represented by the formula (2), for example, monoalkoxysilanes having a polymerizable group {for example, monoalkoxysilane having an alkenyl group [for example, alkenyldialkylalkoxysilane (for example, vinyl C 2-4 alkenyl-diC 1-4 alkyl-C 1-4 alkoxysilane, etc.)], etc.], dialkoxysilanes having a polymerizable group {eg, dialkoxysilanes having an alkenyl group [For example, alkenyl alkyl dialkoxy silane (eg, C 2-4 alkenyl C 1-4 alkyl di C 1-4 alkoxy silane such as vinyl dimethoxymethyl silane, vinyl diethoxymethyl silane), dialkenyl dialkoxy silane (eg, divinyl Dimethoxysilane, divinyldiethoxysilane, etc. Di C 2-4 Arukeniruji C 1-4 alkoxysilane), etc.], (meth) acrylate dialkoxysilane having acryloyloxy group [for example, (meth) acryloyloxy alkyl dialkoxy silanes (e.g., 3- (meth) acryloyloxy Propylmethyldimethoxysilane, (meth) acryloyloxy C 2-4 alkyl C 1-4 alkyldi C 1-4 alkoxysilane, etc.) such as 3- (meth) acryloyloxypropylmethyldiethoxysilane], etc.], polymerizable group And trialkoxysilanes having a polymerizable group, triaryloxysilanes having a polymerizable group, and mono- to trihalosilanes corresponding to these.

重合性基を有するトリアルコキシシラン類としては、アルケニル基を有するトリアルコキシシラン{例えば、アルケニルトリアルコキシシラン[例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリプロポキシシラン、ビニルトリイソプロポキシシラン、ビニルトリ(t−ブトキシ)シラン、アリルトリメトキシシラン、アリルトリエトキシシランなどのC2-4アルケニルトリC1-4アルコキシシラン]、アルケニルトリ(アルコキシアルコキシ)シラン[例えば、ビニルトリ(2−メトキシエトキシ)シランなどのC2-4アルケニルトリ(C1-4アルコキシC2-4アルコキシ)シラン]など}、(メタ)アクリロイルオキシ基を有するトリアルコキシシラン{例えば、(メタ)アクリロイルオキシアルキルトリアルコキシシラン[例えば、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルトリメトキシシラン、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルトリエトキシシラン、3−(メタ)アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、3−(メタ)アクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン、3−(メタ)アクリロイルオキシプロピルトリプロポキシシランなどの(メタ)アクリロイルオキシアルキルトリC1-4アルコキシシラン、好ましくは(メタ)アクリロイルオキシC2-4アルキルトリC1-4アルコキシシラン、さらに好ましくは(メタ)アクリロイルオキシC2-4アルキルトリC1-2アルコキシシランなど]、(メタ)アクリロイルオキシアルキルトリ(アルコキシアルコキシ)シラン[例えば、3−(メタ)アクリロイルオキシプロピルトリス(2−メトキシエトキシ)シランなどの、好ましくは(メタ)アクリロイルオキシC2-4アルキルトリ(C1-4アルコキシC2-4アルコキシ)シラン、さらに好ましくは(メタ)アクリロイルオキシC2-4アルキルトリ(C1-2アルコキシC2-4アルコキシ)シランなど]、(メタ)アクリロイルオキシアルキルアミノアルキルトリアルコキシシラン[例えば、N−(3−(メタ)アクリロイルオキシ2−ヒドロキシプロピル)−3−アミノプロピルトリエトキシシランなどの(メタ)アクリロイルオキシアルキルアミノアルキルトリC1-4アルコキシシラン、好ましくは[(メタ)アクリロイルオキシC2-4アルキル]アミノC2-4アルキルトリC1-4アルコキシシランなど]、さらに好ましくは[(メタ)アクリロイルオキシC2-4アルキル]アミノC2-4アルキルトリC1-2アルコキシシランなど]など}などが挙げられる。 Trialkoxysilanes having a polymerizable group include trialkoxysilanes having an alkenyl group {for example, alkenyltrialkoxysilane [for example, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltripropoxysilane, vinyltriisopropoxysilane, vinyl tri (t-butoxy) silane, allyl trimethoxy silane, C 2-4 Arukenirutori C 1-4 alkoxysilane such as allyl triethoxysilane, Arukenirutori (alkoxyalkoxy) silane [e.g., vinyl tri (2-methoxyethoxy) C 2-4 Arukenirutori such as a silane (C 1-4 alkoxy C 2-4 alkoxy) silane], etc.}, (meth) trialkoxysilane having an acryloyloxy group {e.g., (meth) acryloyloxy alkyl trialkoxy Lan [e.g., 2- (meth) acryloyloxyethyltrimethoxysilane, 2- (meth) acryloyloxyethyltriethoxysilane, 3- (meth) acryloyloxypropyltrimethoxysilane, 3- (meth) acryloyloxypropyltriethoxy (Meth) acryloyloxyalkyltri C 1-4 alkoxysilanes such as silane, 3- (meth) acryloyloxypropyltripropoxysilane, preferably (meth) acryloyloxy C 2-4 alkyltri C 1-4 alkoxysilane, preferably (meth) acryloyloxy C 2-4 alkyl tri C 1-2 alkoxysilane, etc.], (meth) acryloyloxy alkyl tri (alkoxyalkoxy) silane [e.g., 3- (meth) acryloyloxy propyl tris (2-methoxy Butoxy) such as silane, preferably (meth) acryloyloxy C 2-4 alkyl tri (C 1-4 alkoxy C 2-4 alkoxy) silane, more preferably (meth) acryloyloxy C 2-4 alkyl tri (C 1 -2 alkoxy C 2-4 alkoxy) silane, etc.], (meth) acryloyloxy alkyl aminoalkyl trialkoxysilane [e.g., N-(3- (meth) acryloyloxy 2-hydroxypropyl) -3-aminopropyltriethoxysilane (Meth) acryloyloxyalkylaminoalkyltri-C 1-4 alkoxysilane, such as [(meth) acryloyloxy C 2-4 alkyl] amino C 2-4 alkyltri-C 1-4 alkoxysilane, etc.], more preferably the [(meth) acryloyloxy C 2-4 alkyl] amino C 2-4 alkyl tri 1-2 alkoxysilane, etc.], etc.} and the like.

重合性基を有するトリアリールオキシシラン類としては、例えば、アルケニル基を有するトリアリールオキシシラン[例えば、アルケニルトリアリールオキシシラン(例えば、ビニルトリフェノキシシランなどのC2-4アルケニルトリC6-10アリールオキシシラン)など]、(メタ)アクリロイルオキシ基を有するトリアリールオキシシラン{例えば、(メタ)アクリロイルオキシアルキルトリアリールオキシシラン[例えば、3−(メタ)アクリロイルオキシプロピルトリフェノキシシシランなどの(メタ)アクリロイルオキシアルキルトリC6-10アリールオキシシラン、好ましくは(メタ)アクリロイルオキシC2-4アルキルトリC6-8アリールオキシシランなど]など}などが挙げられる。 Examples of the triaryloxysilane having a polymerizable group include triaryloxysilane having an alkenyl group [for example, C 2-4 alkenyltri C 6-10 such as alkenyltriaryloxysilane (for example, vinyltriphenoxysilane). Aryloxysilane)], triaryloxysilane having a (meth) acryloyloxy group {e.g. (meth) acryloyloxyalkyltriaryloxysilane [e.g. 3- (meth) acryloyloxypropyltriphenoxy silane ( Meth) acryloyloxyalkyltri-C 6-10 aryloxysilane, preferably (meth) acryloyloxy C 2-4 alkyltri-C 6-8 aryloxysilane, etc.].

これらの有機ケイ素化合物は、単独で又は2種以上組み合わせてもよい。   These organosilicon compounds may be used alone or in combination of two or more.

これらの有機ケイ素化合物のうち、重合性の観点から、(メタ)アクリロイル基を有する加水分解縮合性有機ケイ素化合物[例えば、(メタ)アクリロイルオキシアルキルトリC1-4アルコキシシラン、(メタ)アクリロイルオキシアルキルトリ(C1-4アルコキシC2-4アルコキシ)シラン、(メタ)アクリロイルオキシアルキルアミノアルキルトリC1-4アルコキシシランなどの(メタ)アクリロイル基を有するトリアルコキシシラン;(メタ)アクリロイルオキシアルキルトリC6-10アリールオキシシランなどの(メタ)アクリロイル基を有するトリアリールオキシシランなど]が好ましい。 Among these organosilicon compounds, from the viewpoint of polymerizability, a hydrolytic condensable organosilicon compound having a (meth) acryloyl group [for example, (meth) acryloyloxyalkyltri-C 1-4 alkoxysilane, (meth) acryloyloxy Trialkoxysilanes having a (meth) acryloyl group such as alkyltri (C 1-4 alkoxyC 2-4 alkoxy) silane, (meth) acryloyloxyalkylaminoalkyltriC 1-4 alkoxysilane; (meth) acryloyloxyalkyl Triaryloxysilane having a (meth) acryloyl group such as tri-C 6-10 aryloxysilane ] is preferable.

なお、前記のように、重合性基を有する有機ケイ素化合物には、加水分解縮合性基が部分的に縮合した部分縮合物も含まれる。すなわち、本発明の組成物において、重合性基を有する有機ケイ素化合物は、前記有機ケイ素化合物(前記例示の有機ケイ素化合物)が部分的に縮合した部分縮合物(縮合物、オリゴマー)の形態で本発明の組成物を構成していてもよい。このような部分縮合物は、前記重合性基を有する有機ケイ素化合物の部分縮合物であってもよく、重合性基を有する有機ケイ素化合物と、後述する他の加水分解性化合物(重合性基を有しない有機ケイ素化合物、非ケイ素系加水分解縮合性有機金属化合物など)とが部分的に縮合した部分縮合物の形態で組成物を構成していてもよい。   As described above, the organosilicon compound having a polymerizable group includes a partial condensate in which a hydrolytic condensable group is partially condensed. That is, in the composition of the present invention, the organosilicon compound having a polymerizable group is in the form of a partial condensate (condensate, oligomer) obtained by partially condensing the organosilicon compound (the organosilicon compound illustrated above). You may comprise the composition of invention. Such a partial condensate may be a partial condensate of an organosilicon compound having a polymerizable group, and an organosilicon compound having a polymerizable group and other hydrolyzable compounds (polymerizable groups described later). The composition may be configured in the form of a partial condensate that is partially condensed with an organosilicon compound that is not present, a non-silicon hydrolytic condensable organometallic compound, and the like.

このような部分縮合物は、硬化前において、ゾル状を保持できる(又は加水分解縮合性基が残存している)限り、縮合の程度(部分縮合)は特に限定されない。なお、部分縮合物は、網目状の部分縮合物(又は部分縮合物)であってもよく、鎖状又は直鎖状の部分縮合物であってもよい。通常、重合性基を有するトリアルコキシシランや重合性基を有するトリアリールオキシシランなどの部分縮合物は、網目状(又は三次元網目状)の縮合物であってもよい。   The degree of condensation (partial condensation) is not particularly limited as long as such a partial condensate can maintain a sol state (or a hydrolysis-condensable group remains) before curing. The partial condensate may be a network-like partial condensate (or partial condensate), or may be a linear or linear partial condensate. Usually, a partial condensate such as a trialkoxysilane having a polymerizable group or a triaryloxysilane having a polymerizable group may be a network (or three-dimensional network) condensate.

重合性基を有する加水分解縮合性有機ケイ素化合物の割合[部分縮合物である場合は、加水分解前のモノマー又はオリゴマー換算、以下、部分縮合物の割合について同じ]は、フルオレン骨格を有する多官能性(メタ)アクリレート100重量部に対して、10〜2000重量部程度の範囲から選択でき、例えば、30〜1000重量部、好ましくは40〜800重量部(例えば、50〜700重量部)、さらに好ましくは50〜500重量部(例えば、100〜450重量部)程度であってもよい。   The proportion of the hydrolyzable condensable organosilicon compound having a polymerizable group [in the case of a partial condensate, converted into a monomer or oligomer before hydrolysis, hereinafter the same for the proportion of the partial condensate] is a polyfunctional having a fluorene skeleton. Can be selected from the range of about 10 to 2000 parts by weight, for example, 30 to 1000 parts by weight, preferably 40 to 800 parts by weight (for example, 50 to 700 parts by weight) Preferably, it may be about 50 to 500 parts by weight (for example, 100 to 450 parts by weight).

本発明の組成物は、必要に応じて、さらに、前記重合性基を有する加水分解縮合性有機ケイ素化合物に含まれない加水分解縮合性有機金属化合物を含んでいてもよい。このような有機金属化合物としては、重合性基を有しない加水分解縮合性有機ケイ素化合物、非ケイ素系加水分解縮合性有機金属化合物などが挙げられる。本発明の組成物は、これらの重合性基を有しない加水分解縮合性有機ケイ素化合物と、非ケイ素系加水分解縮合性有機金属化合物とを組み合わせて含んでいてもよい。   The composition of the present invention may further contain a hydrolysis-condensable organometallic compound that is not included in the hydrolysis-condensable organosilicon compound having a polymerizable group, if necessary. Examples of such an organometallic compound include a hydrolytic condensable organosilicon compound having no polymerizable group, a non-silicon hydrolytic condensable organometallic compound, and the like. The composition of the present invention may contain a combination of a hydrolytic condensable organosilicon compound having no polymerizable group and a non-silicon hydrolytic condensable organometallic compound.

(重合性基を有しない加水分解縮合性有機ケイ素化合物)
重合性基を有しない(又は非ラジカル重合性の)加水分解縮合性有機ケイ素化合物(以下、単に重合性基を有しない有機ケイ素化合物などということがある)は、ケイ素原子に直接結合した加水分解縮合性基を少なくとも1つ有する化合物であればよく、通常、下記式(3)で表される化合物、下記式(3)で表される化合物のオリゴマー、下記式(3)で表される化合物の部分縮合物を好適に使用できる。
(Hydrolytic condensable organosilicon compound having no polymerizable group)
Hydrolytic condensable organosilicon compounds having no polymerizable group (or non-radical polymerizable) (hereinafter sometimes simply referred to as organosilicon compounds having no polymerizable group) are hydrolyzed directly bonded to silicon atoms. Any compound having at least one condensable group may be used. Usually, a compound represented by the following formula (3), an oligomer of a compound represented by the following formula (3), a compound represented by the following formula (3) These partial condensates can be preferably used.

Si(OR8)d(R9)4-d (3)
[式中、R8は、炭化水素基又は基−[(R10O)e−R11](式中、R10は、アルキレン基であり、R11は炭化水素基であり、eは1以上の整数を示す)であり、R9は、水素原子、ヒドロキシル基、ハロゲン原子又は炭化水素基を示す。dは1〜4の整数を示す。]
上記式(3)において、基R8(および基R11)で表される炭化水素基としては、前記式(2)で表される化合物の項で例示した炭化水素基(例えば、C1-6アルキル基、C6-10アリール基など)などが例示できる。また、基−O−[(R10O)e−R11]において、アルキレン基R10は前記式(2)で表される化合物の項で例示したアルキレン基と同様であり、eもまた前記式(2)におけるbと同様である。
Si (OR 8 ) d (R 9 ) 4-d (3)
[Wherein R 8 is a hydrocarbon group or group — [(R 10 O) e —R 11 ] (wherein R 10 is an alkylene group, R 11 is a hydrocarbon group, and e is 1 R 9 represents a hydrogen atom, a hydroxyl group, a halogen atom or a hydrocarbon group. d shows the integer of 1-4. ]
In the above formula (3), examples of the hydrocarbon group represented by the group R 8 (and the group R 11 ) include the hydrocarbon groups exemplified in the section of the compound represented by the formula (2) (for example, C 1- 6 alkyl group, C 6-10 aryl group, etc.). In the group —O — [(R 10 O) e —R 11 ], the alkylene group R 10 is the same as the alkylene group exemplified in the section of the compound represented by the formula (2), and e is It is the same as b in Formula (2).

前記式(3)において、基R9で表されるハロゲン原子及び炭化水素基もまた、前記式(2)で表される化合物の項で例示したハロゲン原子及び炭化水素基と同様である。ただし、基R9が炭化水素基である場合、炭化水素基は、置換基として重合性基(アルケニルアミノ基、(メタ)アクリロイルオキシ基など)を有しない。好ましい置換数dは、2〜4、さらに好ましくは3又は4である。なお、置換数dが複数である場合、複数の基R9は、同一又は異なっていてもよい。 In the formula (3), the halogen atom and hydrocarbon group represented by the group R 9 are also the same as the halogen atom and hydrocarbon group exemplified in the section of the compound represented by the formula (2). However, when the group R 9 is a hydrocarbon group, the hydrocarbon group does not have a polymerizable group (such as an alkenylamino group or a (meth) acryloyloxy group) as a substituent. The preferred substitution number d is 2 to 4, more preferably 3 or 4. In addition, when the substitution number d is plural, the plural groups R 9 may be the same or different.

前記式(3)で表される代表的な有機ケイ素化合物としては、モノアルコキシシラン類(例えば、ビニルジメチルエトキシシランなどのアルケニルジアルキルアルコキシシランなど)、ジアルコキシシラン類、トリアルコキシシラン類、テトラアルコキシシラン類、テトラアリールオキシシラン類などが挙げられる。   Typical organosilicon compounds represented by the formula (3) include monoalkoxysilanes (eg, alkenyldialkylalkoxysilanes such as vinyldimethylethoxysilane), dialkoxysilanes, trialkoxysilanes, tetraalkoxys. Examples thereof include silanes and tetraaryloxysilanes.

ジアルコキシシラン類としては、例えば、ジアルキルジアルコキシシラン(例えば、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシランなどのジC1-4アルキルジC1-4アルコキシシランなど);ジアリールジアルコキシシラン(例えば、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシランなどのジC6-10アリールジC1-4アルコキシシランなど);エポキシ基を有するジアルコキシシラン{例えば、(グリシジルオキシアルキル)アルキルジアルコキシシラン[例えば、3−グリシジルオキシプロピルメチルジメトキシシランなどの(グリシジルオキシC2-4アルキル)C1-4アルキルジC1-4アルコキシシランなど]など}、アミノ基を有するジアルコキシシラン(例えば、3−アミノプロピルメチルジメトキシシランなどのアミノC2-4アルキルC1-4アルキルジC1-4アルコキシシラン;3−[N−(2−アミノエチル)アミノ]プロピルメチルジメトキシシランなどの(アミノC2-4アルキルアミノ)C1-4アルキル−C1-4アルキルジC1-4アルコキシシランなど)、メルカプト基を有するジアルコキシシラン(例えば、3−メルカプトプロピルメチルジメトキシシランなどのメルカプトC2-4アルキルC1-4アルキルジC1-4アルコキシシラン)などの置換基(例えば、エポキシ基、アミノ基、メルカプト基、およびハロゲン原子から選択された少なくとも1種の置換基)を有するジアルコキシシランが挙げられる。 The dialkoxysilane, for example, dialkyl dialkoxy silanes (e.g., dimethyldimethoxysilane, and di C 1-4 alkyl di C 1-4 alkoxysilane such as dimethyl diethoxy silane); diaryl dialkoxy silanes (e.g., diphenyldimethoxysilane Silane, di-C 6-10 aryl di-C 1-4 alkoxy silane such as diphenyldiethoxy silane); dialkoxy silane having an epoxy group {eg (glycidyloxyalkyl) alkyl dialkoxy silane [eg 3-glycidyloxypropyl amino, such as etc. (glycidyloxy C 2-4 alkyl) C 1-4 alkyl di C 1-4 alkoxysilane]}, dialkoxysilane having an amino group (e.g., 3-aminopropyl methyl dimethoxy silane, methyl dimethoxy silane 2-4 alkyl C 1-4 alkyl di C 1-4 alkoxysilane; 3- [N- (2- aminoethyl) amino] (amino C 2-4 alkylamino), such as methyldimethoxysilane C 1-4 alkyl - C 1-4 alkyldiC 1-4 alkoxysilane), dialkoxysilane having a mercapto group (for example, mercapto C 2-4 alkyl C 1-4 alkyldiC 1-4 alkoxysilane such as 3-mercaptopropylmethyldimethoxysilane) Dialkoxysilane having a substituent (for example, at least one substituent selected from an epoxy group, an amino group, a mercapto group, and a halogen atom).

トリアルコキシシラン類としては、例えば、トリアルコキシシラン(例えば、トリメトキシシラン、トリエトキシシラン、トリプロポキシシランなどのトリC1-4アルコキシシランなど);アルキルトリアルコキシシラン(例えば、メチルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、プロピルトリメトキシシラン、イソプロピルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、イソプロピルトリエトキシシランなどのC1-4アルキルトリC1-4アルコキシシランなど);アリールトリアルコキシシラン(例えば、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリプロポキシシランなどのC6-10アリールトリC1-4アルコキシシラン、好ましくはC6-8アリールトリC1-4アルコキシシラン、さらに好ましくはC6-8アリールトリC1-2アルコキシシランなど);ハロアルキルトリアルコキシシラン(例えば、2−クロロエチルトリメトキシシラン、2−クロロエチルトリエトキシシラン、3−クロロプロピルトリメトキシシラン、3−クロロプロピルトリエトキシシランなどのクロロC2-4アルキルトリC1-4アルコキシシランなど)、エポキシ基を有するトリアルコキシシラン{例えば、(グリシジルオキシアルキル)トリアルコキシシラン(例えば、2−グリシジルオキシエチルトリメトキシシラン、2−グリシジルオキシエチルトリエトキシシラン、3−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシジルオキシプロピルトリエトキシシランなどのグリシジルオキシC2-4アルキルトリC1-4アルコキシシランなど)、エポキシシクロアルキルトリメトキシシラン[例えば、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン、3−(3,4−エポキシシクロヘキシル)プロピルトリメトキシシランなどのエポキシC5-8シクロアルキルC2-4アルキルトリC1-4アルコキシシランなど]など}、アミノ基を有するトリアルコキシシラン(例えば、2−アミノエチルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシランなどのアミノC2-4アルキルトリC1-4アルコキシシラン;2−[N−(2−アミノエチル)アミノ]エチルトリメトキシシラン、3−[N−(2−アミノエチル)アミノ]プロピルトリメトキシシランなどのN−(アミノC2-4アルキル)アミノC2-4アルキルトリC1-4アルコキシシランなど)、メルカプト基を有するトリアルコキシシラン(例えば、2−メルカプトエチルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリエトキシシランなどのメルカプトC2-4アルキルトリC1-4アルコキシシラン)などの置換基(例えば、エポキシ基、アミノ基、メルカプト基、およびハロゲン原子から選択された少なくとも1種の置換基)を有するトリアルコキシシランが挙げられる。 Examples of trialkoxysilanes include trialkoxysilanes (eg, tri-C 1-4 alkoxysilanes such as trimethoxysilane, triethoxysilane, and tripropoxysilane); alkyltrialkoxysilanes (eg, methyltrimethoxysilane, C 1-4 alkyl tri C 1-4 alkoxy silane such as ethyl trimethoxy silane, propyl trimethoxy silane, isopropyl trimethoxy silane, methyl triethoxy silane, ethyl triethoxy silane, propyl triethoxy silane, isopropyl triethoxy silane, etc.) Aryltrialkoxysilanes (eg C 6-10 aryltriC 1-4 alkoxysilanes such as phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, phenyltripropoxysilane, preferably C 6-8 aliquots); Rutori C 1-4 alkoxysilane, more preferably such C 6-8 Arirutori C 1-2 alkoxysilane); haloalkyl trialkoxysilane (e.g., 2-chloroethyl trimethoxysilane, 2-chloroethyl triethoxy silane, 3- Chloro C 2-4 alkyl tri C 1-4 alkoxysilanes such as chloropropyltrimethoxysilane, 3-chloropropyltriethoxysilane), trialkoxysilanes having an epoxy group {for example, (glycidyloxyalkyl) trialkoxysilane ( for example, 2-glycidyloxy ethyltrimethoxysilane, 2- glycidyloxy triethoxysilane, 3-glycidyloxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidyloxy C 2-4 Arukiruto such glycidyloxypropyltriethoxysilane Such as C 1-4 alkoxysilane), epoxy cycloalkyl trimethoxysilane [e.g., 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyl triethoxysilane, 3- (Epoxy C 5-8 cycloalkyl C 2-4 alkyl tri-C 1-4 alkoxysilane etc. such as 3,4-epoxycyclohexyl) propyltrimethoxysilane etc.]}, trialkoxysilane having an amino group (for example, 2- Amino C 2-4 alkyltri C 1-4 alkoxysilanes such as aminoethyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane; 2- [N- (2-aminoethyl) amino] Ethyltrimethoxysilane, 3- [N- (2-aminoethyl) amino] B pills trimethoxysilane such as N- (amino C 2-4 alkyl) such as amino C 2-4 alkyl tri C 1-4 alkoxy silane), trialkoxysilane having a mercapto group (e.g., 2-mercaptoethyl trimethoxysilane Substituents such as, for example, epoxy groups, amino groups, mercapto groups, and halogens such as mercapto C 2-4 alkyltri C 1-4 alkoxysilanes such as 3-mercaptopropyltrimethoxysilane and 3-mercaptopropyltriethoxysilane And trialkoxysilane having at least one substituent selected from atoms.

テトラアルコキシシラン類としては、上記例示のジ又はトリアルコキシシラン類に対応するテトラアルコキシシラン、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシランなどのテトラC1-4アルコキシシランなどが挙げられる。テトラアリールオキシシラン類としては、例えば、テトラアリールオキシシラン[例えば、テトラフェノキシシランなどのテトラC6-10アリールオキシシラン、好ましくはテトラC6-8アリールオキシシランなど]などが挙げられる。 Tetraalkoxysilanes include tetraalkoxysilanes corresponding to the above-exemplified di- or trialkoxysilanes, for example, tetra-C 1-4 alkoxysilanes such as tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrapropoxysilane, and tetrabutoxysilane Is mentioned. Examples of the tetraaryloxysilane include tetraaryloxysilane [eg, tetra C 6-10 aryloxy silane such as tetraphenoxy silane, preferably tetra C 6-8 aryloxy silane].

前記式(3)で表される化合物のオリゴマーとしては、前記式(3)で表されるアルコキシシラン(例えば、前記例示のジアルコキシシラン類、トリアルコキシシラン類、テトラアルコキシシラン類など)のオリゴマー(又は縮合物)などが挙げられる。このようなオリゴマーは、単一の有機ケイ素化合物のオリゴマーであってもよく、複数の有機ケイ素化合物の縮合物(例えば、トリアルコキシシラン類とテトラアルコキシシラン類とのオリゴマー、異種のテトラアルコキシシラン類のオリゴマーなど)であってもよい。前記オリゴマーは、通常、トリアルコキシシラン類、テトラアルコキシシラン類、およびテトラアリールオキシシラン類から選択された少なくとも1種で少なくとも構成された有機ケイ素化合物の縮合物であってもよい。   As an oligomer of the compound represented by the formula (3), an oligomer of an alkoxysilane represented by the formula (3) (for example, dialkoxysilanes, trialkoxysilanes, tetraalkoxysilanes exemplified above). (Or a condensate). Such an oligomer may be an oligomer of a single organosilicon compound, or a condensate of a plurality of organosilicon compounds (for example, an oligomer of trialkoxysilanes and tetraalkoxysilanes, different tetraalkoxysilanes) And the like. The oligomer may be a condensate of an organosilicon compound usually composed of at least one selected from trialkoxysilanes, tetraalkoxysilanes, and tetraaryloxysilanes.

前記オリゴマーの数平均重合度は、例えば、2〜10、好ましくは2〜8、さらに好ましくは3〜6程度であってもよい。   The number average degree of polymerization of the oligomer may be, for example, 2 to 10, preferably 2 to 8, and more preferably about 3 to 6.

前記オリゴマーは、通常、鎖状又は直鎖状の縮合物(又は部分縮合物)であってもよい。   The oligomer may be a linear or linear condensate (or partial condensate).

代表的なオリゴマーとしては、トリアルコキシシラン類、テトラアルコキシシラン類(前記例示のテトラアルコキシシラン類)、テトラアリールオキシシラン類の縮合物(部分縮合物)などが挙げられる。テトラアルコキシシランの縮合物(オリゴマー)には、下記式(4)で表される直鎖状のアルコキシシラン縮合物などが含まれる。   Representative oligomers include trialkoxysilanes, tetraalkoxysilanes (tetraalkoxysilanes exemplified above), condensates (partial condensates) of tetraaryloxysilanes, and the like. The tetraalkoxysilane condensate (oligomer) includes a linear alkoxysilane condensate represented by the following formula (4).

Figure 2007091870
Figure 2007091870

(式中、R12はアルキル基を示し、fは2以上の整数を示す)
上記式(4)において、基R12としては、前記例示のアルキル基が挙げられ、好ましい基R12には、メチル基、エチル基、プロピル基などのC1-4アルキル基(特にC1-2アルキル基)などが含まれる。なお、前記のように、複数の基R12は、同一の基であってもよく、異なる基であってもよい。また、好ましい縮合度(重合度)fは、例えば、2〜8、好ましくは2〜6、さらに好ましくは3〜5程度であってもよい。
(Wherein R 12 represents an alkyl group, and f represents an integer of 2 or more)
In the above formula (4), examples of the group R 12 include the alkyl groups exemplified above, and preferred groups R 12 include C 1-4 alkyl groups such as a methyl group, an ethyl group, and a propyl group (particularly C 1- 2 alkyl group) and the like. As described above, the plurality of groups R 12 may be the same group or different groups. Further, the preferable degree of condensation (degree of polymerization) f may be, for example, about 2 to 8, preferably about 2 to 6, and more preferably about 3 to 5.

好ましい重合性基を有しない加水分解縮合性有機ケイ素化合物としては、トリアルコキシシラン[例えば、アリールトリアルコキシシラン(例えば、C6-8アリールトリC1-4アルコキシシランなど)など]、テトラアルコキシシラン[例えば、テトラアルコキシシラン(テトラC1-4アルコキシシランなど)など]、テトラアリールオキシシラン(例えば、テトラフェノキシシランなどのテトラC6-8アリールオキシシラン)、これらの化合物のオリゴマー[例えば、テトラアルコキシシラン(例えば、テトラC1-4アルコキシシランなど)のオリゴマー]などが挙げられる。 Examples of the hydrolytic condensable organosilicon compound having no polymerizable group include trialkoxysilane [eg, aryltrialkoxysilane (eg, C 6-8 aryltri C 1-4 alkoxysilane etc.)], tetraalkoxysilane [ For example, tetraalkoxy silane (tetra C 1-4 alkoxy silane etc.), tetraaryloxy silane (eg tetra C 6-8 aryloxy silane such as tetraphenoxy silane), oligomers of these compounds [eg tetra alkoxy Silane (eg, oligomers of tetra C 1-4 alkoxysilane)] and the like.

なお、重合性基を有する有機ケイ素化合物の場合と同様に、重合性基を有しない有機ケイ素化合物には、加水分解縮合性基が部分的に縮合した部分縮合物も含まれる。すなわち、本発明の組成物において、重合性基を有しない有機ケイ素化合物は、前記有機ケイ素化合物(前記例示の有機ケイ素化合物)が部分的に縮合した部分縮合物(縮合物、オリゴマー)の形態で本発明の組成物を構成していてもよい。このような部分縮合物は、前記重合性基を有しない有機ケイ素化合物の部分縮合物であってもよく、前記重合性基を有しない有機ケイ素化合物と、他の加水分解性化合物(前記重合性基を有する有機ケイ素化合物、後述の非ケイ素系加水分解縮合性有機金属化合物など)とが部分的に縮合した部分縮合物の形態で組成物を構成していてもよい。   As in the case of the organosilicon compound having a polymerizable group, the organosilicon compound having no polymerizable group includes a partial condensate in which a hydrolytic condensable group is partially condensed. That is, in the composition of the present invention, the organosilicon compound having no polymerizable group is in the form of a partial condensate (condensate or oligomer) obtained by partially condensing the organosilicon compound (the exemplified organosilicon compound). You may comprise the composition of this invention. Such a partial condensate may be a partial condensate of an organosilicon compound having no polymerizable group, and an organosilicon compound having no polymerizable group and another hydrolyzable compound (the polymerizable compound described above). The composition may be configured in the form of a partial condensate obtained by partially condensing an organosilicon compound having a group and a non-silicon hydrolytic condensable organometallic compound described later.

このような部分縮合物は、硬化前において、ゾル状を保持できる(又は加水分解縮合性基が残存している)限り、縮合の程度(部分縮合)は特に限定されない。   The degree of condensation (partial condensation) is not particularly limited as long as such a partial condensate can maintain a sol state (or a hydrolysis-condensable group remains) before curing.

重合性基を有しない有機ケイ素化合物は、単独で又は2種以上組み合わせてもよい。   The organosilicon compounds having no polymerizable group may be used alone or in combination of two or more.

本発明の組成物が、重合性基を有しない加水分解縮合性有機ケイ素化合物を含む場合、重合性基を有しない加水分解縮合性有機ケイ素化合物の割合は、フルオレン骨格を有する多官能性(メタ)アクリレート100重量部に対して、10〜2000重量部程度の範囲から選択でき、例えば、30〜1000重量部、好ましくは40〜800重量部(例えば、50〜700重量部)、さらに好ましくは50〜500重量部(例えば、100〜450重量部)程度であってもよい。   When the composition of the present invention contains a hydrolyzable condensable organosilicon compound having no polymerizable group, the proportion of the hydrolyzable condensable organosilicon compound having no polymerizable group is a polyfunctional (meta-functional) compound having a fluorene skeleton. ) It can be selected from the range of about 10 to 2000 parts by weight with respect to 100 parts by weight of acrylate, for example, 30 to 1000 parts by weight, preferably 40 to 800 parts by weight (for example, 50 to 700 parts by weight), and more preferably 50 About 500 parts by weight (for example, 100 to 450 parts by weight) may be used.

(非ケイ素系加水分解縮合性有機金属化合物)
非ケイ素系加水分解縮合性有機金属化合物(以下、単に非ケイ素系有機金属化合物ということがある)としては、例えば、非ケイ素系金属アルコキシド又はその部分縮合物などが挙げられる。非ケイ素系金属アルコキシドとしては、チタン、ジルコニウム、アルミニウム、および亜鉛から選択された非ケイ素系金属の金属アルコキシド、例えば、下記式(5)で表される金属アルコキシドなどが挙げられる。
(Non-silicon hydrolytic condensable organometallic compound)
Examples of the non-silicon hydrolytic condensable organometallic compound (hereinafter sometimes simply referred to as non-silicon based organometallic compound) include non-silicon based metal alkoxides or partial condensates thereof. Examples of the non-silicon metal alkoxide include metal alkoxides of non-silicon metals selected from titanium, zirconium, aluminum, and zinc, for example, metal alkoxides represented by the following formula (5).

M(OR13)m(R14)n (5)
[式中、Mはチタン、ジルコニウム、アルミニウム又は亜鉛を表す。R13は、アルキル基又は基−[(R15O)g−R16](式中、R15は、アルキレン基であり、R16はアルキル基であり、gは1以上の整数を示す)、R14は、水素原子、ヒドロキシル基、ハロゲン原子又は置換基を有していてもよい炭化水素基を示し、mは1以上の整数、nは0又は1以上の整数を表す。]
前記式(5)において、基R13(および基R16)で表されるアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などのC1-18アルキル基、好ましくはC1-10アルキル基、さらに好ましくはC1-6アルキル基(例えば、C1-4アルキル基)などが例示できる。基R14で表されるハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが例示できる。また、基−O−[(R15O)g−R16]で表されるポリアルコキシ基において、基R15で表されるアルキレン基としては、限定されないが、例えば、C2-4アルキレン基(エチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、ブタン−1,2−ジイル基など)などが例示でき、特に、C2-3アルキレン基(特に、エチレン基、プロピレン基)が好ましい。アルキレンオキシ(R15O)単位の付加数gは、1以上であればよく、例えば、1〜4、好ましくは1〜2、さらに好ましくは1であってもよい。好ましいポリアルコキシ基には、2−メトキシエトキシ基、2−エトキシエトキシ基などのC1-4アルコキシC2-4アルコキシ基(特に、C1-2アルコキシエトキシ基)などが含まれる。
M (OR 13 ) m (R 14 ) n (5)
[Wherein M represents titanium, zirconium, aluminum or zinc. R 13 is an alkyl group or a group - [(R 15 O) g -R 16] ( wherein, R 15 is an alkylene group, R 16 is an alkyl group, g is an integer of 1 or more) , R 14 represents a hydrogen atom, a hydroxyl group, a halogen atom or an optionally substituted hydrocarbon group, m represents an integer of 1 or more, and n represents 0 or an integer of 1 or more. ]
In the formula (5), examples of the alkyl group represented by the group R 13 (and the group R 16 ) include C 1-18 alkyl groups such as methyl group, ethyl group, propyl group, and butyl group, preferably C Examples thereof include a 1-10 alkyl group, more preferably a C 1-6 alkyl group (for example, a C 1-4 alkyl group). Examples of the halogen atom represented by the group R 14 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom. Further, in the polyalkoxy group represented by the group —O — [(R 15 O) g —R 16 ], the alkylene group represented by the group R 15 is not limited, but for example, a C 2-4 alkylene group. (Ethylene group, trimethylene group, propylene group, butane-1,2-diyl group, etc.) can be exemplified, and C 2-3 alkylene groups (particularly ethylene groups, propylene groups) are particularly preferable. The addition number g of alkyleneoxy (R 15 O) units may be 1 or more, and may be, for example, 1 to 4, preferably 1 to 2, and more preferably 1. Preferred polyalkoxy groups include C 1-4 alkoxy C 2-4 alkoxy groups (particularly C 1-2 alkoxyethoxy groups) such as 2-methoxyethoxy group and 2-ethoxyethoxy group.

また、好ましいアルコキシ基の置換数mは、金属原子Mの種類に応じて、例えば、2〜4程度である。なお、置換数mが複数である場合、複数の基R13は、同一又は異なっていてもよい。 Moreover, the preferable substitution number m of an alkoxy group is about 2-4 according to the kind of metal atom M, for example. In addition, when the substitution number m is plural, the plural groups R 13 may be the same or different.

基R14で表される炭化水素基としては、前記式(2)で表される化合物の項で例示の前記基R5と同様の炭化水素基、例えば、アルキル基(例えば、C1-6アルキル基など)、アリール基(例えば、C6-10アリール基など)などが含まれる。また、基R14で表される炭化水素基は、前記基R5と同様の置換基を有していてもよい。なお、好ましい置換数nは、0〜2である。また、置換数nが複数である場合、複数の基R14は、同一又は異なっていてもよい。 Examples of the hydrocarbon group represented by the group R 14 include the same hydrocarbon groups as the group R 5 exemplified in the section of the compound represented by the formula (2), for example, an alkyl group (for example, C 1-6 Alkyl group, etc.), aryl groups (eg C 6-10 aryl group, etc.) and the like. In addition, the hydrocarbon group represented by the group R 14 may have the same substituent as the group R 5 . In addition, the preferable substitution number n is 0-2. When the number of substitutions n is plural, the plural groups R 14 may be the same or different.

代表的な非ケイ素系金属アルコキシドとしては、アルミニウムアルコキシド類[例えば、トリアルコキシアルミニウム(トリメトキシアルミニウム、トリエトキシアルミニウム、トリプロポキシアルミニウム、トリn−ブトキシアルミニウム、トリs−ブトキシアルミニウム、トリt−ブトキシアルミニウムなどのトリC1-4アルコキシアルミニウムなど)など]、チタンアルコキシド類[例えば、ジアルキルジアルコキシチタン(ジエチルジエトキシチタンなどのジアルキルジC1-4アルコキシチタン)などのジアルコキシチタン;トリアルコキシチタン(例えば、トリメトキシチタンなどのトリC1-4アルコキシチタン)、アルキルトリアルコキシチタン(例えば、エチルトリメトキシチタンなどのアルキルトリC1-4アルコキシチタン)、アリールトリアルコキシチタン(例えば、フェニルトリメトキシチタンなどのアリールトリC1-4アルコキシチタン)などのトリアルコキシチタン;テトラアルコキシチタン(例えば、テトラメトキシチタン、テトラエトキシチタン、テトラプロポキシチタン、テトライソプロポキシチタン、テトライソブトキシチタン、テトラn−ブトキシチタン、テトラt−ブトキシチタン、テトラノニルオキシチタン、テトラキス(2−エチルヘキシルオキシ)チタン、テトラキス(メトキシプロポキシ)チタン、テトラステアリルオキシチタン、テトライソステアリルオキシチタンなどのテトラC1-18アルコキシチタンなど)など]、ジルコニウムアルコキシド類[例えば、テトラアルコキシジルコニウム(例えば、テトラメトキシジルコニウム、テトラエトキシジルコニウム、テトライソプロポキシジルコニウム、テトライソブトキシジルコニウム、テトラn−ブトキシジルコニウム、テトラt−ブトキシジルコニウム、テトラキス(2−エチルヘキシルオキシ)ジルコニウム、テトラキス(2−メチル−2−ブトキシ)ジルコニウムなどのテトラC1-18アルコキシジルコニウムなど)など]、亜鉛アルコキシド類(例えば、ビスメトキシエトキシ亜鉛など)などが挙げられる。 Typical non-silicon metal alkoxides include aluminum alkoxides [for example, trialkoxyaluminum (trimethoxyaluminum, triethoxyaluminum, tripropoxyaluminum, tri-n-butoxyaluminum, tris-butoxyaluminum, tri-t-butoxyaluminum). tri C 1-4 alkoxy aluminum, etc.), etc.], such as titanium alkoxides [e.g., dialkoxy titanium dialkyl dialkoxy titanium (Jiarukiruji C 1-4 alkoxy titanium such as diethyl diethoxy titanium); trialkoxy titanium (e.g. , Tri-C 1-4 alkoxy titanium such as trimethoxy titanium), alkyl trialkoxy titanium (eg, alkyl tri-C 1-4 alkoxy titanium such as ethyl trimethoxy titanium), Trialkoxytitanium such as reeltrialkoxytitanium (eg aryltri C 1-4 alkoxytitanium such as phenyltrimethoxytitanium); tetraalkoxytitanium (eg tetramethoxytitanium, tetraethoxytitanium, tetrapropoxytitanium, tetraisopropoxytitanium, Tetraisobutoxy titanium, tetra n-butoxy titanium, tetra t-butoxy titanium, tetranonyloxy titanium, tetrakis (2-ethylhexyloxy) titanium, tetrakis (methoxypropoxy) titanium, tetrastearyloxy titanium, tetraisostearyloxy titanium, etc. tetra C 1-18 alkoxy, such as titanium), etc.], zirconium alkoxides [e.g., tetraalkoxy zirconium (e.g., tetramethoxysilane zirconium, tetra Butoxy zirconium, tetra-iso-propoxy zirconium, tetraisobutoxy zirconium, tetra-n- butoxy zirconium, tetra-t- butoxy zirconium, tetrakis (2-ethylhexyl oxy) zirconium, tetra C 1 such as tetrakis (2-methyl-2-butoxy) zirconium -18 alkoxyzirconium etc.)], zinc alkoxides (eg bismethoxyethoxyzinc etc.) and the like.

なお、非ケイ素系金属アルコキシドは、錯体(金属錯体)を形成していていもよい。錯体において、配位子(又は配位子を形成する化合物)としては、特に制限されないが、特に、有機化合物[キレート形成性有機化合物(例えば、アセチルアセトン、アセト酢酸エステルなどのβ−ジケトン構造を有する化合物など)など]を配位子とする錯体が好ましい。このような金属錯体は、溶媒に対する溶解性に優れているため、好適に用いることができる。   Note that the non-silicon metal alkoxide may form a complex (metal complex). In the complex, the ligand (or the compound forming the ligand) is not particularly limited, but in particular, an organic compound [a chelate-forming organic compound (for example, having a β-diketone structure such as acetylacetone or acetoacetate). And the like. Since such a metal complex is excellent in solubility in a solvent, it can be suitably used.

なお、非ケイ素系有機金属化合物は、前記と同様に、加水分解縮合性基が部分的に縮合した部分縮合物の形態で本発明の組成物を構成していてもよい。このような部分縮合物は、前記ケイ素系有機金属化合物の部分縮合物であってもよく、前記非ケイ素系有機金属化合物と、他の加水分解性化合物(前記重合性基を有する有機ケイ素化合物、重合性基を有しない有機ケイ素化合物など)とが部分的に縮合した部分縮合物の形態で組成物を構成していてもよい。   In addition, the non-silicon-type organometallic compound may comprise the composition of this invention with the form of the partial condensate which the hydrolytic condensable group partially condensed like the above. Such a partial condensate may be a partial condensate of the silicon-based organometallic compound, the non-silicon-based organometallic compound, and other hydrolyzable compounds (the organosilicon compound having the polymerizable group, The composition may be configured in the form of a partial condensate obtained by partial condensation with an organosilicon compound having no polymerizable group.

このような部分縮合物は、硬化前において、ゾル状を保持できる(又は加水分解縮合性基が残存している)限り、縮合の程度(部分縮合)は特に限定されない。   The degree of condensation (partial condensation) is not particularly limited as long as such a partial condensate can maintain a sol state (or a hydrolysis-condensable group remains) before curing.

非ケイ素系有機金属化合物は、単独で又は2種以上組み合わせてもよい。   Non-silicon-based organometallic compounds may be used alone or in combination of two or more.

本発明の組成物が、非ケイ素系加水分解縮合性有機金属化合物を含む場合、非ケイ素系加水分解縮合性有機金属化合物の割合は、フルオレン骨格を有する多官能性(メタ)アクリレート100重量部に対して、50〜5000重量部程度の範囲から選択でき、例えば、100〜4000重量部、好ましくは150〜3000重量部、さらに好ましくは200〜2000重量部(例えば、300〜1000重量部)程度であってもよい。   When the composition of the present invention contains a non-silicon hydrolytic condensable organometallic compound, the ratio of the non-silicon hydrocondensable organometallic compound is 100 parts by weight of a polyfunctional (meth) acrylate having a fluorene skeleton. On the other hand, it can be selected from the range of about 50 to 5000 parts by weight, for example, 100 to 4000 parts by weight, preferably 150 to 3000 parts by weight, more preferably 200 to 2000 parts by weight (for example, 300 to 1000 parts by weight). There may be.

また、重合性基を有しない加水分解縮合性有機ケイ素化合物と、非ケイ素系加水分解縮合性有機金属化合物とを組み合わせる場合、重合性基を有しない加水分解縮合性有機ケイ素化合物と、非ケイ素系加水分解縮合性有機金属化合物との割合は、前者/後者=90/10〜1/99、好ましくは80/20〜3/97、さらに好ましくは60/40〜5/95(例えば、40/60〜7/93)、特に30/70〜8/92程度であってもよい。   In addition, when a hydrolytic condensable organosilicon compound having no polymerizable group and a non-silicon hydrolytic condensable organometallic compound are combined, the hydrolytic condensable organosilicon compound having no polymerizable group and a non-silicon based The ratio with the hydrolytic condensable organometallic compound is the former / the latter = 90/10/1/99, preferably 80 / 20-3 / 97, more preferably 60 / 40-5 / 95 (for example, 40/60 ~ 7/93), in particular about 30 / 70-8 / 92.

(光酸発生剤)
光酸発生剤としては、光の作用により酸を発生する化合物(成分)であれば特に限定されず、慣用の化合物を用いることができ、例えば、オニウム塩、メタロセン錯体などを好適に使用できる。オニウム塩としては、ジアゾニウム塩、スルホニウム塩、ヨードニウム塩、ホスホニウム塩、セレニウム塩などが例示でき、これらの対イオンとしては、CF3SO3 -、BF4 -、PF6 -、AsF6 -およびSbF6 -などのアニオンが用いられる。
(Photoacid generator)
The photoacid generator is not particularly limited as long as it is a compound (component) that generates an acid by the action of light, and a conventional compound can be used. For example, an onium salt, a metallocene complex, and the like can be preferably used. Examples of the onium salts include diazonium salts, sulfonium salts, iodonium salts, phosphonium salts, selenium salts, and the counter ions include CF 3 SO 3 , BF 4 , PF 6 , AsF 6 and SbF. 6 - anion, such as is used.

代表的な光酸発生剤としては、スルホニウム塩{例えば、トリアリールスルホニウム塩[トリフェニルスルホニウムトリフレート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、(4−フェニルチオフェニル)ジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、(4−フェニルチオフェニル)ジフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェートなどのトリフェニルスルホニウム塩など]、ビス[4−(ジフェニルスルホニオ)フェニル]スルフィド−ビス−ヘキサフルオロアンチモネート、ビス[4−(ジフェニルスルホニオ)フェニル]スルフィド−ビス−ヘキサフルオロホスフェート、(4−メトキシフェニル)ジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート)など}、ジアゾニウム塩(4−クロロベンゼンジアゾニウムヘキサフルオロホスフェートなど)、ヨードニウム塩{例えば、ビス(アルキルアリール)ヨードニウム塩[例えば、ビス(4−t−ブチルフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロホスフェートなどのビス(アルキルフェニル)ヨードニウム塩など]、アルコキシカルボニルアルコキシ−トリアルキルアリールヨードニウム塩[例えば、4−[(1−エトキシカルボニル−エトキシ)フェニル]−(2,4,6−トリメチルフェニル)−ヨードニウムヘキサフルオロホスフェートなど]、ビス(アルコキシアリール)ヨードニウム塩[例えば、(4−メトキシフェニル)フェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネートなどのビス(アルコキシフェニル)ヨードニウム塩など]など}、ホスホニウム塩(ベンジルトリフェニルホスホニウムヘキサフルオロアンチモネートなど)、セレニウム塩(トリフェニルセレニウムヘキサフルオロホスフェートなど)、メタロセン錯体[例えば、(η5又はη6−イソプロピルベンゼン)(η5−シクロペンタジエニル)鉄(II)ヘキサフルオロホスフェートなど]などが挙げられる。 Typical photoacid generators include sulfonium salts {for example, triarylsulfonium salts [triphenylsulfonium triflate, triphenylsulfonium hexafluoroantimonate, triphenylsulfonium hexafluorophosphate, (4-phenylthiophenyl) diphenylsulfonium Hexafluoroantimonate, triphenylsulfonium salts such as (4-phenylthiophenyl) diphenylsulfonium hexafluorophosphate], bis [4- (diphenylsulfonio) phenyl] sulfide-bis-hexafluoroantimonate, bis [4- (Diphenylsulfonio) phenyl] sulfide-bis-hexafluorophosphate, (4-methoxyphenyl) diphenylsulfonium hexafluoroan Monate), etc., diazonium salts (such as 4-chlorobenzenediazonium hexafluorophosphate), iodonium salts {eg, bis (alkylaryl) iodonium salts [eg, bis (4-t-butylphenyl) iodonium hexafluorophosphate, etc. Alkylphenyl) iodonium salts], alkoxycarbonylalkoxy-trialkylaryliodonium salts [e.g. 4-[(1-ethoxycarbonyl-ethoxy) phenyl]-(2,4,6-trimethylphenyl) -iodonium hexafluorophosphate, etc. ], Bis (alkoxyaryl) iodonium salts [for example, bis (alkoxyphenyl) iodonium such as (4-methoxyphenyl) phenyliodonium hexafluoroantimonate Such unsalted] etc.}, (such as benzyl triphenyl phosphonium hexafluoroantimonate) phosphonium salts, (such as triphenyl selenium hexafluorophosphate) selenium salts, metallocene complexes [e.g., (eta 5 or eta 6 - isopropylbenzene) (eta 5 -cyclopentadienyl) iron (II) hexafluorophosphate etc.].

また、光酸発生剤には、光ラジカル開始剤の機能を備えた化合物も含まれる。このような光酸発生剤には、下記式(6)で表される化合物などが挙げられる。   The photoacid generator also includes a compound having the function of a photoradical initiator. Examples of such a photoacid generator include a compound represented by the following formula (6).

Figure 2007091870
Figure 2007091870

(式中、R17、R18およびR19は置換基、p、qおよびrは同一又は異なってそれぞれ0〜5の整数、Yは水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基又はアルキル基を示す。)
上記式(6)において、R17、R18およびR19で表される置換基としては、例えば、炭化水素基[例えば、アルキル基(例えば、メチル基などのC1-4アルキル基など)など]、アルコキシ基(例えば、メトキシ基などのC1-4アルコキシ基)、ハロゲン原子(塩素原子など)、官能基(ヒドロキシル基、アミノ基、置換アミノ基など)などが挙げられる。R17、R18およびR19はそれぞれ同一又は異なっていてもよい。なお、p、qおよびrはそれぞれ好ましくは0〜3、さらに好ましくは0又は1、特に0であってもよい。
(Wherein R 17 , R 18 and R 19 are substituents, p, q and r are the same or different and each represents an integer of 0 to 5, Y represents a hydrogen atom, a halogen atom, a nitro group or an alkyl group.)
In the above formula (6), examples of the substituent represented by R 17 , R 18 and R 19 include a hydrocarbon group [for example, an alkyl group (for example, a C 1-4 alkyl group such as a methyl group), etc. ], An alkoxy group (for example, a C 1-4 alkoxy group such as a methoxy group), a halogen atom (such as a chlorine atom), a functional group (such as a hydroxyl group, an amino group, and a substituted amino group). R 17 , R 18 and R 19 may be the same or different. Note that p, q and r are each preferably 0 to 3, more preferably 0 or 1, particularly 0.

また、前記式(6)の基Yにおいて、ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられ、特に塩素原子が好ましい。また、基Yにおいて、アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基などのC1-10アルキル基、好ましくはC1-6アルキル基、さらに好ましくはC1-4アルキル基などが挙げられる。特に好ましい基Yにはメチル基が含まれる。 In the group Y of the formula (6), examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom, and a chlorine atom is particularly preferable. In the group Y, examples of the alkyl group include a C 1-10 alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and an isopropyl group, preferably a C 1-6 alkyl group, and more preferably a C 1-4 alkyl group. Groups and the like. Particularly preferred groups Y include methyl groups.

これらの光酸発生剤のうち、オニウム塩[特に、スルホニウム塩(トリアリールスルホニウム塩など)、ヨードニウム塩(ビス(アルキルアリール)ヨードニウム塩など)]、前記式(6)で表される化合物などが好ましい。光酸発生剤は、単独で又は2種以上組み合わせて使用してもよい。   Among these photoacid generators, onium salts [especially sulfonium salts (such as triarylsulfonium salts), iodonium salts (such as bis (alkylaryl) iodonium salts)], compounds represented by the above formula (6), and the like. preferable. You may use a photo-acid generator individually or in combination of 2 or more types.

光酸発生剤の割合は、フルオレン骨格を有する多官能性(メタ)アクリレート100重量部に対して、0.1〜10重量部程度の範囲から選択でき、例えば、0.5〜10重量部(例えば、1〜10重量部)、好ましくは0.5〜5重量部、さらに好ましくは1〜5重量部(例えば、1〜3重量部)程度であってもよい。また、光酸発生剤の割合は、重合性基を有する加水分解縮合性有機ケイ素化合物100重量部に対して、0.01〜8重量部程度の範囲から選択でき、例えば、0.02〜5重量部(例えば、0.03〜3重量部)、好ましくは0.05〜3重量部、さらに好ましくは0.08〜2重量部(例えば、0.1〜1重量部)程度であってもよい。さらに、前記組成物が重合性基を有する加水分解縮合性有機ケイ素化合物以外の加水分解縮合性有機金属化合物を含む場合、光酸発生剤の割合は、加水分解縮合性有機金属化合物の総量(例えば、重合性基を有する加水分解縮合性有機ケイ素化合物と、重合性基を有しない加水分解縮合性有機ケイ素化合物及び/又は非ケイ素系加水分解縮合性有機金属化合物との総量)100重量部に対して、例えば、0.001〜5重量部、好ましくは0.005〜3重量部、さらに好ましくは0.001〜2重量部程度であってもよい。なお、前記光酸発生剤の使用量は、溶媒を含む前記組成物(塗布液)全体の10重量%以下、好ましくは1〜5重量%であってもよい。   The ratio of the photoacid generator can be selected from the range of about 0.1 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the polyfunctional (meth) acrylate having a fluorene skeleton. For example, it may be about 1 to 10 parts by weight), preferably about 0.5 to 5 parts by weight, and more preferably about 1 to 5 parts by weight (for example, 1 to 3 parts by weight). Moreover, the ratio of a photo-acid generator can be selected from the range of about 0.01-8 weight part with respect to 100 weight part of hydrolysis-condensable organosilicon compounds which have a polymeric group, for example, 0.02-5 Even if it is a weight part (for example, 0.03-3 weight part), Preferably it is 0.05-3 weight part, More preferably, it is about 0.08-2 weight part (for example, 0.1-1 weight part). Good. Furthermore, when the composition contains a hydrolytic condensable organometallic compound other than the hydrolytic condensable organosilicon compound having a polymerizable group, the ratio of the photoacid generator is the total amount of the hydrolytic condensable organometallic compound (for example, , The total amount of the hydrolytic condensable organosilicon compound having a polymerizable group and the hydrolytic condensable organosilicon compound and / or the non-silicon hydrolytic condensable organometallic compound having no polymerizable group) to 100 parts by weight For example, it may be about 0.001 to 5 parts by weight, preferably about 0.005 to 3 parts by weight, and more preferably about 0.001 to 2 parts by weight. In addition, the usage-amount of the said photo-acid generator may be 10 weight% or less of the whole said composition (coating liquid) containing a solvent, Preferably it may be 1-5 weight%.

本発明では、前記多官能性(メタ)アクリレートと重合性基(ラジカル重合性基)を有する有機ケイ素化合物と光酸発生剤とを組み合わせるので、ゾルゲル反応による加水分解縮合およびラジカル重合により、硬化物を得ることができる。そのため、本発明の組成物は、前記ラジカル重合を促進するため、重合開始剤(ラジカル重合開始剤)を含んでいてもよい。   In the present invention, the polyfunctional (meth) acrylate, the organosilicon compound having a polymerizable group (radical polymerizable group), and the photoacid generator are combined, so that the cured product is obtained by hydrolysis condensation and radical polymerization by sol-gel reaction. Can be obtained. Therefore, the composition of the present invention may contain a polymerization initiator (radical polymerization initiator) in order to promote the radical polymerization.

このような重合開始剤には、光ラジカル開始剤、熱重合開始剤などが含まれる。本発明の組成物は、特に、光酸発生剤により加水分解縮合を生じさせるという観点から、少なくとも光ラジカル開始剤を含む組成物(光重合性組成物)であるのが好ましい。光ラジカル発生剤と光酸発生剤とを組み合わせることにより、光照射により、加水分解縮合及びラジカル重合を生じさせることができ、効率よく優れた光学的特性(高透明性など)および機械的特性(高硬度など)を有する硬化物を得ることできる。   Such a polymerization initiator includes a photo radical initiator, a thermal polymerization initiator, and the like. In particular, the composition of the present invention is preferably a composition (photopolymerizable composition) containing at least a photoradical initiator from the viewpoint of causing hydrolytic condensation with a photoacid generator. By combining a photo radical generator and a photo acid generator, hydrolytic condensation and radical polymerization can be caused by irradiation with light. Efficient optical properties (high transparency, etc.) and mechanical properties ( A cured product having high hardness or the like can be obtained.

(光ラジカル開始剤)
光ラジカル開始剤(光重合開始剤、光ラジカル発生剤)としては、例えば、ベンゾイン類(ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテルなどのベンゾインアルキルエーテル類など)、アセトフェノン類(アセトフェノン、p−ジメチルアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2,2−ジエトキシ−2−フェニルアセトフェノン、1,1−ジクロロアセトフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンなど)、アミノアセトフェノン類{2−メチル−2−モルホリノ(4−チオメチルフェニル)プロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)−ブタノン−1など}、アントラキノン類(アントラキノン、2−メチルアントラキノン、2−エチルアントラキノン、2−t−ブチルアントラキノン、1−クロロアントラキノンなど)、(チオ)キサントン類(チオキサントン、2,4−ジメチルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジイソプロピルチオキサントンなど)、ケタール類(アセトフェノンジメチルケタール、ベンジルジメチルケタールなど)、ベンゾフェノン類(ベンゾフェノンなど)、安息香酸エステル類(o−ベンゾイル安息香酸メチル、p−ジメチルアミノ安息香酸エステルなど)、スルフィド類(ベンジルジフェニルサルファイド)、アシルフォスフィンオキサイド類、カンファーキノン類などが例示できる。これらの光ラジカル開始剤は、単独で又は2種以上を組み合わせて所望の性能に応じて配合して使用することができる。
(Photo radical initiator)
Examples of the photo radical initiator (photo polymerization initiator, photo radical generator) include benzoins (benzoin alkyl ethers such as benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, and benzoin isobutyl ether), acetophenone (Acetophenone, p-dimethylacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2,2-diethoxy-2-phenylacetophenone, 1, 1-dichloroacetophenone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, etc.), aminoacetophenones {2-methyl-2-morpholino (4-thiomethylphenyl) propan-1-one, 2-benzyl-2-dimethyl Ruamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1}, anthraquinones (anthraquinone, 2-methylanthraquinone, 2-ethylanthraquinone, 2-t-butylanthraquinone, 1-chloroanthraquinone, etc.), (thio) xanthone (Thioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2,4-diisopropylthioxanthone, etc.), ketals (acetophenone dimethyl ketal, benzyldimethyl ketal, etc.), benzophenones (benzophenone, etc.) ), Benzoates (methyl o-benzoylbenzoate, p-dimethylaminobenzoate, etc.), sulfides (benzyldiphenyl sulfide), acylphosphine oxides S, camphor quinone, and others. These photo radical initiators can be used alone or in combination of two or more according to the desired performance.

光ラジカル開始剤の割合は、フルオレン骨格を有する多官能性(メタ)アクリレート100重量部に対して、例えば、0.1〜10重量部程度の範囲から選択でき、例えば、0.5〜10重量部(例えば、1〜10重量部)、好ましくは0.5〜5重量部、さらに好ましくは1〜5重量部(例えば、1〜3重量部)程度であってもよい。また、光ラジカル開始剤の割合は、フルオレン骨格を有する多官能性(メタ)アクリレート及び重合性基を有する加水分解縮合性有機ケイ素化合物の総量100重量部に対して、0.01〜8重量部程度の範囲から選択でき、例えば、0.02〜5重量部(例えば、0.03〜3重量部)、好ましくは0.05〜3重量部、さらに好ましくは0.08〜2重量部(例えば、0.1〜1重量部)程度であってもよい。なお、前記光ラジカル開始剤の使用量は、溶媒を含む前記組成物(塗布液)全体の10重量%以下、好ましくは1〜5重量%であってもよい。   The ratio of the photo radical initiator can be selected from the range of about 0.1 to 10 parts by weight, for example, 0.5 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the polyfunctional (meth) acrylate having a fluorene skeleton. Part (for example, 1 to 10 parts by weight), preferably 0.5 to 5 parts by weight, more preferably about 1 to 5 parts by weight (for example, 1 to 3 parts by weight). The ratio of the photo radical initiator is 0.01 to 8 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total amount of the polyfunctional (meth) acrylate having a fluorene skeleton and the hydrolytic condensable organosilicon compound having a polymerizable group. For example, 0.02 to 5 parts by weight (for example, 0.03 to 3 parts by weight), preferably 0.05 to 3 parts by weight, and more preferably 0.08 to 2 parts by weight (for example, 0.1-1 part by weight). In addition, the usage-amount of the said photoradical initiator may be 10 weight% or less of the whole said composition (coating liquid) containing a solvent, Preferably it may be 1-5 weight%.

なお、光ラジカル開始剤は、光増感剤と組み合わせてもよい。光増感剤としては、第3級アミン類{例えば、トリアルキルアミン、トリアルカノールアミン(トリエタノールアミンなど)、N,N−ジメチルアミノ安息香酸エチル[p−(ジメチルアミノ)安息香酸エチルなど]、N,N−ジメチルアミノ安息香酸アミル[p−(ジメチルアミノ)安息香酸アミルなど]などのジアルキルアミノ安息香酸アルキルエステル、4,4−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン(ミヒラーズケトン)などのビス(ジアルキルアミノ)ベンゾフェノン、4−(ジメチルアミノ)ベンゾフェノンなどのジアルキルアミノベンゾフェノンなど}などの慣用の光増感剤などが挙げられる。光増感剤は、単独で又は2種以上組み合わせてもよい。   The photo radical initiator may be combined with a photo sensitizer. As photosensitizers, tertiary amines {eg, trialkylamines, trialkanolamines (such as triethanolamine), ethyl N, N-dimethylaminobenzoate [such as ethyl p- (dimethylamino) benzoate] , N, N-dimethylaminobenzoic acid amyl [p- (dimethylamino) benzoic acid amyl etc.] and other dialkylaminobenzoic acid alkyl esters, 4,4-bis (diethylamino) benzophenone (Michler's ketone) and other bis (dialkylamino) Conventional photosensitizers such as benzophenone, dialkylaminobenzophenone such as 4- (dimethylamino) benzophenone} and the like. The photosensitizers may be used alone or in combination of two or more.

なお、熱重合開始剤としては、ジアルキルパーオキサイド類(ジ−t−ブチルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイドなど)、ジアシルパーオキサイド類[ジアルカノイルパーオキサイド(ラウロイルパーオキサイドなど)、ジアロイルパーオキサイド(ベンゾイルパーオキサイド、ベンゾイルトルイルパーオキサイド、トルイルパーオキサイドなど)など]、過酸エステル類[過酢酸t−ブチル、t−ブチルパーオキシオクトエート、t−ブチルパーオキシベンゾエートなどの過カルボン酸アルキルエステルなど]、ケトンパーオキサイド類、パーオキシカーボネート類、パーオキシケタール類などの有機過酸化物;アゾニトリル化合物[2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)、2,2’−アゾビス(イソブチロニトリル)、2,2’−アゾビス(2−メチルブチロニトリル)、2,2’−アゾビス(4−メトキシ−2,4−ジメチルバレロニトリル)など]、アゾアミド化合物{2,2’−アゾビス{2−メチル−N−[1,1−ビス(ヒドロキシメチル)−2−ヒドロキシエチル]プロピオンアミド}など}、アゾアミジン化合物{2,2’−アゾビス(2−アミジノプロパン)二塩酸塩、2,2’−アゾビス[2−(2−イミダゾリン−2−イル)プロパン]二塩酸塩など}、アゾアルカン化合物[2,2’−アゾビス(2,4,4−トリメチルペンタン)、4,4’−アゾビス(4−シアノペンタン酸)など]、オキシム骨格を有するアゾ化合物[2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオンアミドオキシム)など]などのアゾ化合物などが含まれる。熱重合開始剤は、単独で又は2種以上組み合わせて使用してもよい。   In addition, as the thermal polymerization initiator, dialkyl peroxides (di-t-butyl peroxide, dicumyl peroxide, etc.), diacyl peroxides [dialkanoyl peroxide (lauroyl peroxide, etc.), dialoyl peroxide ( Benzoyl peroxide, benzoyl toluyl peroxide, toluyl peroxide, etc.)], peracid esters [percarboxylic acid alkyl esters such as t-butyl peracetate, t-butyl peroxy octoate, t-butyl peroxybenzoate, etc.] ], Peroxides such as ketone peroxides, peroxycarbonates, peroxyketals; azonitrile compounds [2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile), 2,2′-azobis (isobutyronitrite) ), 2,2′-azobis (2-methylbutyronitrile), 2,2′-azobis (4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile)], azoamide compound {2,2′-azobis { 2-methyl-N- [1,1-bis (hydroxymethyl) -2-hydroxyethyl] propionamide} and the like}, azoamidine compounds {2,2′-azobis (2-amidinopropane) dihydrochloride, 2,2 '-Azobis [2- (2-imidazolin-2-yl) propane] dihydrochloride etc.}, azoalkane compound [2,2′-azobis (2,4,4-trimethylpentane), 4,4′-azobis ( 4-cyanopentanoic acid), etc.], and azo compounds having an oxime skeleton [2,2′-azobis (2-methylpropionamidooxime), etc.] . You may use a thermal-polymerization initiator individually or in combination of 2 or more types.

なお、本発明の組成物は、必要に応じて、添加剤を含んでいてもよい。このような添加剤としては、例えば、顔料、着色剤、増粘剤、増感剤、消泡剤、レベリング剤、塗布性改良剤、滑剤、安定剤(酸化防止剤、熱安定剤、耐光安定剤、光安定剤など)、紫外線吸収剤、可塑剤、界面活性剤、溶解促進剤、充填剤、帯電防止剤、硬化剤、ポリシラン(特開2002−348357号公報に記載のポリシランなど)などが挙げられる。これらの添加剤は、単独で又は2種以上組み合わせてもよい。   In addition, the composition of this invention may contain the additive as needed. Such additives include, for example, pigments, colorants, thickeners, sensitizers, antifoaming agents, leveling agents, coatability improvers, lubricants, stabilizers (antioxidants, heat stabilizers, light-resistant stability). Agents, light stabilizers, etc.), ultraviolet absorbers, plasticizers, surfactants, dissolution accelerators, fillers, antistatic agents, curing agents, polysilanes (polysilanes described in JP-A-2002-348357, etc.), etc. Can be mentioned. These additives may be used alone or in combination of two or more.

また、前記組成物は、溶媒を含んでいてもよい。このような溶媒を含む組成物は、例えば、基材上に塗膜(硬化塗膜)を形成するためのコーティング液として好適に用いることができる。このような塗布液を構成する溶媒としては、特に限定されず、慣用の溶媒、例えば、炭化水素類(ペンタン、ヘキサンなどの脂肪族炭化水素類、シクロヘキサンなどの脂環族炭化水素類、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類など)、ハロゲン系溶媒(ジクロロメタンなどのハロアルカン、モノクロロベンゼンなどのハロアレーンなど)、アルコール類(メタノール、エタノール、プロパノールなどのアルキルアルコール類など)、ジオール類(エチレングリコール、プロピレングリコールなどのアルカンジオール類、ジエチレングリコール、ポリオキシエチレングリコールなどの(ポリ)オキシアルキレングリコールなど)、エーテル類(ジエチルエーテルなどの鎖状エーテル類、テトラヒドロフランなどの環状エーテル類など)、エステル類(エチルアセテートなどの酢酸エステル類、乳酸エチルなど)、ケトン類(アセトン、エチルメチルケトン、2−ブタノンなどのジアルキルケトン類、シクロペンタノン、シクロヘキサノンなどの環状ケトン類など)、グリコールエーテルエステル類(エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールメチルアセテート、セロソルブアセテートなど)、グリコールエーテル類[例えば、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジグライム、ジメトキシエタンなど)などが挙げられる。これらの溶媒は、単独で又は二種以上組み合わせて用いてもよい。なお、溶媒を含む前記組成物において、各固形成分(多官能性(メタ)アクリレート、重合性基を有する有機ケイ素化合物、光酸発生剤など)は、溶媒に溶解又は分散していてもよい。また、溶媒の割合は、塗布液の粘度に応じて適宜調整できる。   The composition may contain a solvent. The composition containing such a solvent can be suitably used as, for example, a coating liquid for forming a coating film (cured coating film) on a substrate. The solvent constituting such a coating solution is not particularly limited, and is a conventional solvent, for example, hydrocarbons (aliphatic hydrocarbons such as pentane and hexane, alicyclic hydrocarbons such as cyclohexane, toluene, Aromatic hydrocarbons such as xylene), halogenated solvents (haloalkanes such as dichloromethane, haloarenes such as monochlorobenzene), alcohols (such as alkyl alcohols such as methanol, ethanol, propanol), diols (ethylene glycol, Alkanediols such as propylene glycol, (poly) oxyalkylene glycols such as diethylene glycol and polyoxyethylene glycol), ethers (chain ethers such as diethyl ether, cyclic ethers such as tetrahydrofuran), Steal (acetic esters such as ethyl acetate, ethyl lactate, etc.), ketones (dialkyl ketones such as acetone, ethyl methyl ketone, 2-butanone, cyclic ketones such as cyclopentanone, cyclohexanone, etc.), glycol ether esters (Ethylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol methyl acetate, cellosolve acetate, etc.), glycol ethers [eg, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, diethylene glycol methyl ethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, Propylene glycol monomethyl ether, diglyme, dimethoxyethane, etc.) And the like. These solvents may be used alone or in combination of two or more. In the composition containing a solvent, each solid component (polyfunctional (meth) acrylate, organosilicon compound having a polymerizable group, photoacid generator, etc.) may be dissolved or dispersed in the solvent. Moreover, the ratio of a solvent can be suitably adjusted according to the viscosity of a coating liquid.

本発明の組成物は、慣用の方法、例えば、前記フルオレン骨格を有する多官能性(メタ)アクリレートと、前記重合性基を有する有機ケイ素化合物と、前記光酸発生剤と、必要に応じて他の成分(重合性基を有しない有機ケイ素化合物、非ケイ素系加水分解縮合性有機金属化合物、溶媒など)とを混合することにより調製できる。   The composition of the present invention may be prepared by a conventional method, for example, the polyfunctional (meth) acrylate having the fluorene skeleton, the organosilicon compound having the polymerizable group, the photoacid generator, and the other as necessary. The above components (organic silicon compound having no polymerizable group, non-silicon hydrolytic condensable organometallic compound, solvent, etc.) can be mixed.

例えば、本発明の組成物を塗布液として使用する場合、前記フルオレン骨格を有する多官能性(メタ)アクリレートと、前記重合性基を有する有機ケイ素化合物と、前記光酸発生剤と(必要に応じて他の成分と)を、溶媒に混合(又は溶解又は分散)させることにより調製してもよい。   For example, when the composition of the present invention is used as a coating solution, the polyfunctional (meth) acrylate having the fluorene skeleton, the organosilicon compound having the polymerizable group, and the photoacid generator (if necessary) And other components) may be mixed (or dissolved or dispersed) in a solvent.

また、前記重合性基を有する有機ケイ素化合物、前記重合性基を有しない有機ケイ素化合物、非ケイ素系加水分解縮合性有機金属化合物などの加水分解縮合性有機金属化合物が部分的に縮合した部分縮合物(部分縮合ゾル)は、例えば、部分縮合物に対応するモノマー及び/又はオリゴマーを、適当な溶媒(例えば、テトラヒドロフラン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、乳酸エチルなどの前記例示の溶媒)に分散又は溶解させ、酸触媒(塩酸、などの無機酸、ギ酸、シュウ酸などの有機酸)の存在下で、加熱(加熱処理)することにより調製できる。加熱処理において、加熱温度および加熱時間は適当に選択でき、加熱温度は、例えば、40℃〜100℃、好ましくは60〜80℃程度であってもよい。このような部分縮合物の調製においては、必要に応じて、水などを混合して加水分解縮合を促進させてもよい。   Further, partial condensation in which a hydrolytic condensable organometallic compound such as an organosilicon compound having a polymerizable group, an organosilicon compound not having the polymerizable group, or a non-silicon hydrolytic condensable organometallic compound is partially condensed. For example, the product (partial condensation sol) is obtained by dispersing or dissolving the monomer and / or oligomer corresponding to the partial condensate in an appropriate solvent (for example, the above-mentioned solvents such as tetrahydrofuran, propylene glycol monomethyl ether acetate, and ethyl lactate). And heated (heat treatment) in the presence of an acid catalyst (an inorganic acid such as hydrochloric acid, or an organic acid such as formic acid or oxalic acid). In the heat treatment, the heating temperature and the heating time can be appropriately selected, and the heating temperature may be, for example, about 40 ° C to 100 ° C, preferably about 60 to 80 ° C. In the preparation of such a partial condensate, if necessary, water or the like may be mixed to promote hydrolysis condensation.

また、部分縮合物を用いる場合、上記のようにして予め調製した部分縮合物と、他の成分(多官能性(メタ)アクリレートなど)とを混合して本発明の組成物を調製してもよく、各成分(多官能性(メタ)アクリレート、光酸発生剤、部分縮合していない重合性基を有する有機ケイ素化合物、および溶媒など)を混合後、前記と同様にして、部分縮合させてもよい。   When using a partial condensate, the composition of the present invention can be prepared by mixing the partial condensate prepared in advance as described above with other components (polyfunctional (meth) acrylate, etc.). Well, after mixing each component (polyfunctional (meth) acrylate, photoacid generator, organosilicon compound having a polymerizable group that is not partially condensed, and solvent, etc.), it is then partially condensed as described above. Also good.

[硬化物およびその製造方法]
本発明の硬化物(前記重合性組成物が硬化(又は架橋)した硬化物)は、前記組成物に光を照射して硬化反応(又は架橋反応)により硬化(又は架橋)させることにより製造又は調製できる。実用的な方法では、前記重合性組成物を、基材上に塗布して塗膜を形成したのち、光照射する(又は必要に応じて光照射後、さらに加熱)ことにより、本発明の硬化物(硬化膜、硬化パターンなど)を調製してもよい。すなわち、本発明では、光照射により発生する酸(又は酸触媒)(及びラジカル)により、重合性基を有する有機ケイ素化合物を加水分解縮合させるとともに、多官能性(メタ)アクリレートと有機ケイ素化合物とを重合させることによって、硬化物(ハイブリッド硬化物)を製造する。
[Hardened product and production method thereof]
The cured product of the present invention (cured product obtained by curing (or crosslinking) the polymerizable composition) is produced by irradiating the composition with light and curing (or crosslinking) by curing reaction (or crosslinking reaction). Can be prepared. In a practical method, the polymerizable composition is applied onto a substrate to form a coating film, and then light-irradiated (or further heated after light irradiation as necessary) to cure the present invention. Products (cured films, cured patterns, etc.) may be prepared. That is, in the present invention, an acid (or acid catalyst) (and radical) generated by light irradiation is used to hydrolyze and condense an organosilicon compound having a polymerizable group, and a polyfunctional (meth) acrylate and an organosilicon compound Is cured to produce a cured product (hybrid cured product).

硬化物(有機無機ハイブリッド硬化物)は、特に限定されず、三次元的硬化物、硬化膜や硬化パターンなどの一次元又は二次元的硬化物、点又はドット状硬化物などであってもよい。本発明の重合性組成物は、特に、基材上での薄膜を製造するのに適している。このような方法により得られる硬化物は、前記のように、基板に対する密着性、ハードコート性(又は硬度)、耐熱性、可視光の透明性などに優れ、耐溶剤性、低収縮率、低吸水性を有し、さらに、屈折率が高く、良好な撥水性を有している。   The cured product (organic-inorganic hybrid cured product) is not particularly limited, and may be a three-dimensional cured product, a one-dimensional or two-dimensional cured product such as a cured film or a cured pattern, or a dot or dot-shaped cured product. . The polymerizable composition of the present invention is particularly suitable for producing a thin film on a substrate. As described above, the cured product obtained by such a method is excellent in adhesion to the substrate, hard coat property (or hardness), heat resistance, visible light transparency, etc., solvent resistance, low shrinkage, low It has water absorption, and has a high refractive index and good water repellency.

例えば、本発明の硬化物の屈折率は、1.50以上(例えば、1.51〜1.9程度)、好ましくは1.52以上(例えば、1.53〜1.87程度)、さらに好ましくは1.54以上(例えば、1.55〜1.85程度)であり、1.6以上[例えば、1.62〜1.84、好ましくは1.63〜1.83、さらに好ましくは1.64〜1.82程度]にすることもできる。   For example, the refractive index of the cured product of the present invention is 1.50 or more (for example, about 1.51 to 1.9), preferably 1.52 or more (for example, about 1.53 to 1.87), and more preferably. Is 1.54 or more (for example, about 1.55 to 1.85), and 1.6 or more [for example, 1.62 to 1.84, preferably 1.63 to 1.83, more preferably 1. 64 to 1.82].

基材の塗布に供する前記組成物において、加水分解縮合性有機金属化合物(少なくとも重合性基を有する加水分解縮合性有機ケイ素化合物)は、部分的に縮合していない化合物であってもよく、基材における加水分解縮合をより一層効率よく進行させるため、前記のように、予め、部分的に縮合した加水分解縮合性有機金属化合物(少なくとも重合性基を有する加水分解縮合性有機ケイ素化合物)であってもよい。このような部分縮合物(部分縮合ゾル)は、前記重合性基を有する有機ケイ素化合物の部分縮合物であってもよく、前記重合性基を有する有機ケイ素化合物と他の加水分解縮合性有機金属化合物(例えば、重合性基を有しない有機ケイ素化合物及び/又は非ケイ素系加水分解縮合性有機金属化合物)との部分共縮合物であってもよい。   In the composition used for coating the substrate, the hydrolytic condensable organometallic compound (at least the hydrolytic condensable organosilicon compound having a polymerizable group) may be a compound that is not partially condensed. In order to make the hydrolysis condensation in the material proceed more efficiently, as described above, it was a partially condensed hydrolysis-condensable organometallic compound (hydrolyzable-condensable organosilicon compound having at least a polymerizable group). May be. Such a partial condensate (partial condensate sol) may be a partial condensate of the organosilicon compound having the polymerizable group, and the organosilicon compound having the polymerizable group and other hydrolytic condensable organic metal. It may be a partial cocondensate with a compound (for example, an organosilicon compound having no polymerizable group and / or a non-silicon hydrolytic condensable organometallic compound).

塗布方法としては、例えば、フローコーティング法、スピンコーティング法、スプレーコーティング法、スクリーン印刷法、キャスト法、バーコーティング法、カーテンコーティング法、ロールコーティング法、グラビアコーティング法、ディッピング法、スリット法などを挙げることができる。   Examples of the coating method include flow coating method, spin coating method, spray coating method, screen printing method, cast method, bar coating method, curtain coating method, roll coating method, gravure coating method, dipping method, slit method and the like. be able to.

塗膜の厚みは、硬化物の用途によって応じて、0.01μm〜10mm程度の範囲から選択でき、例えば、フォトレジストの場合、0.05〜10μm(特に0.1〜5μm)程度であってもよく、プリント配線基板の場合、10μm〜5mm(特に100μm〜1mm)程度であってもよく、光学薄膜の場合、0.1〜100μm(特に0.3〜50μm)程度であってもよい。   The thickness of the coating film can be selected from a range of about 0.01 μm to 10 mm depending on the use of the cured product. For example, in the case of a photoresist, the thickness is about 0.05 to 10 μm (particularly 0.1 to 5 μm). In the case of a printed circuit board, it may be about 10 μm to 5 mm (particularly 100 μm to 1 mm), and in the case of an optical thin film, it may be about 0.1 to 100 μm (particularly 0.3 to 50 μm).

照射又は露光する光は、例えば、ガンマー線、X線、紫外線、可視光線などであってもよく、通常、可視光又は紫外線、特に紫外線である場合が多い。光の波長は、例えば、150〜800nm、好ましくは150〜600nm、さらに好ましくは200〜400nm(特に300〜400nm)程度である。照射光量は、塗膜の厚みにより異なるが、例えば、100〜10000mJ/cm2、好ましくは500〜5000mJ/cm2、さらに好ましくは1000〜3000mJ/cm2程度であってもよい。光源としては、露光する光線の種類に応じて選択でき、例えば、紫外線の場合は、低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、重水素ランプ、ハロゲンランプ、レーザー光(ヘリウム−カドミウムレーザー、エキシマレーザーなど)などを用いることができる。このような光照射により、前記組成物の硬化(および重合)反応が進行する。 The light to be irradiated or exposed may be, for example, gamma rays, X-rays, ultraviolet rays, visible rays, etc., and is usually visible rays or ultraviolet rays, particularly ultraviolet rays in many cases. The wavelength of light is, for example, about 150 to 800 nm, preferably 150 to 600 nm, more preferably about 200 to 400 nm (particularly 300 to 400 nm). Irradiation dose may vary depending on the thickness of the coating film, for example, 100~10000mJ / cm 2, preferably 500~5000mJ / cm 2, more preferably about 1000~3000mJ / cm 2. The light source can be selected according to the type of light beam to be exposed. For example, in the case of ultraviolet rays, a low pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a deuterium lamp, a halogen lamp, a laser beam (helium-cadmium laser, Excimer laser etc.) can be used. By such light irradiation, the curing (and polymerization) reaction of the composition proceeds.

塗膜(又は被膜)は、加熱工程により加熱(加熱処理)すると、硬化又は架橋反応(およびゾル−ゲル反応)及びラジカル重合反応が促進され、高度の三次元架橋が起こり、より一層高硬度の硬化物(硬化塗膜)を得ることができる。塗膜の加熱は、通常、光照射後、又は光照射とともに行われ、通常、光照射後(アフターキュア)に行われる場合が多い。加熱温度は、例えば、60〜250℃、好ましくは100〜200℃程度であってもよい。加熱時間は、例えば、5秒以上(例えば、10秒〜5時間程度)、1分〜4時間、好ましくは10分〜3時間程度であってもよく、通常、20分〜2.5時間(例えば、30分〜2時間)程度であってもよい。   When the coating film (or coating film) is heated (heat treatment) by a heating step, curing or crosslinking reaction (and sol-gel reaction) and radical polymerization reaction are promoted, and high degree of three-dimensional crosslinking occurs, and the hardness of the coating film becomes higher. A cured product (cured coating film) can be obtained. Heating of the coating film is usually performed after light irradiation or with light irradiation, and is usually performed after light irradiation (after-cure) in many cases. The heating temperature may be, for example, about 60 to 250 ° C, preferably about 100 to 200 ° C. The heating time may be, for example, 5 seconds or more (for example, about 10 seconds to 5 hours), 1 minute to 4 hours, preferably about 10 minutes to 3 hours, and usually 20 minutes to 2.5 hours ( For example, it may be about 30 minutes to 2 hours.

さらに、パターンや画像を形成する場合(例えば、プリント配線基板などを製造する場合)、基材上に形成した塗膜をパターン露光してもよく、このパターン露光は、レーザ光の走査により行ってもよく、フォトマスクを介して光照射することにより行ってもよい。このようなパターン露光により生成した非照射領域(未露光部)を現像剤で現像(又は溶解)することによりパターン又は画像を形成できる。現像剤としては、水、アルカリ水溶液、親水性溶媒(例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノールなどのアルコール類、アセトンなどのケトン類、ジオキサン、テトラヒドロフランなどのエーテル類、セロソルブ類、セロソルブアセテート類など)や、これらの混合液などを用いることができる。   Furthermore, when forming a pattern or an image (for example, when manufacturing a printed wiring board etc.), the coating film formed on the base material may be subjected to pattern exposure, and this pattern exposure is performed by scanning with a laser beam. Alternatively, light irradiation may be performed through a photomask. A pattern or an image can be formed by developing (or dissolving) a non-irradiated region (unexposed portion) generated by such pattern exposure with a developer. Developers include water, alkaline aqueous solutions, hydrophilic solvents (for example, alcohols such as methanol, ethanol and isopropanol, ketones such as acetone, ethers such as dioxane and tetrahydrofuran, cellosolves, cellosolve acetates, etc.) A mixture of these can be used.

露光後に被膜を加熱する場合、現像工程は、加熱工程の前に行ってもよく、加熱工程の後で行ってもよい。このような方法では、小さな露光量でも、基材上に、精細で高精度のパターンを形成できる。従って、本発明の樹脂組成物は、精密なパターンを必要とする用途、例えば、電子機器のプリント配線基板などの製造に適している。   When the coating is heated after the exposure, the development step may be performed before the heating step or after the heating step. In such a method, a fine and highly accurate pattern can be formed on a substrate even with a small exposure amount. Therefore, the resin composition of the present invention is suitable for applications requiring a precise pattern, for example, the production of printed wiring boards for electronic devices.

光学薄膜を形成する場合には、前記光重合性樹脂組成物を、基材上に複数層形成してもよい。また、基材上に他の機能層などを形成した後、その機能層の上に、前記光重合性樹脂組成物で形成された層を形成してもよい。本発明の硬化物は、可視光の透過性やハードコート性に優れ、高い屈折率を有し、光学的特性にも優れるため、特に、液晶ディスプレイなどの反射防止膜の高屈折率層、反射板などの光学薄膜に適している。   When forming an optical thin film, a plurality of layers of the photopolymerizable resin composition may be formed on a substrate. Moreover, after forming another functional layer etc. on a base material, you may form the layer formed with the said photopolymerizable resin composition on the functional layer. The cured product of the present invention is excellent in visible light transmittance and hard coat properties, has a high refractive index, and is excellent in optical properties. Suitable for optical thin films such as plates.

基材の材質は、用途に応じて選択され、例えば、プリント配線基板や光学薄膜の場合には、シリコン、ガリウム砒素、窒化ガリウム、炭化シリコンなどの半導体、アルミニウム、銅などの金属、酸化ジルコニウム、酸化チタン、PZTなどのセラミック、透明無機材料(ガラス、石英、フッ化マグネシウム、フッ化カルシウムなど)、透明樹脂(ポリメチルメタクリレート、ポリメチルアクリレート、ポリスチレンなど)などが用いられる。   The material of the base material is selected according to the application. For example, in the case of a printed wiring board or an optical thin film, a semiconductor such as silicon, gallium arsenide, gallium nitride, or silicon carbide, a metal such as aluminum or copper, zirconium oxide, Ceramics such as titanium oxide and PZT, transparent inorganic materials (such as glass, quartz, magnesium fluoride, and calcium fluoride), transparent resins (such as polymethyl methacrylate, polymethyl acrylate, and polystyrene) are used.

本発明の重合性組成物は、塗料、電気機器の絶縁材、電線被覆材、電子機器の封止材、プリント配線基板、保護膜、フォトレジスト、印刷製版材、インキ、接着剤、粘着材、液晶ディスプレイなどの反射防止膜の高屈折率層、反射板などの広範な用途に用いることができる。   The polymerizable composition of the present invention is a paint, an insulating material for electrical equipment, a wire coating material, a sealing material for electronic equipment, a printed wiring board, a protective film, a photoresist, a printing plate making material, an ink, an adhesive, an adhesive, It can be used for a wide range of applications such as a high refractive index layer of an antireflection film such as a liquid crystal display, a reflection plate, and the like.

以下に、実施例に基づいて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail based on examples, but the present invention is not limited to these examples.

(実施例1)
9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]フルオレンのアクリル酸エステル[すなわち、9,9−ビス(4−アクリロイルオキシエトキシフェニル)フルオレン]0.1g、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン0.4g、テトラヒドロフラン(THF)1g、光ラジカル開始剤(2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、商品名「ダロキュア1173」)2mg、および光酸発生剤[4−(1−エトキシカルボニルエトキシ)フェニル−2’,4’,6’−トリメチルフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、日本曹達(株)製]2mgを加えて調製した塗布液を、ガラス基板にスピンコートして製膜した。得られた塗膜に、紫外線を照射(1300mJ/cm2)で、アクリレートの硬化ならびにゾル−ゲル反応でハイブリッド膜を作製した。さらに、得られたハイブリッド膜を150℃で1.5時間アフターキュアすることで、強固で透明な膜が得られた。得られた膜の屈折率は1.55であり、耐熱性も高かった。
Example 1
Acrylic ester of 9,9-bis [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] fluorene [ie, 9,9-bis (4-acryloyloxyethoxyphenyl) fluorene] 0.1 g, acryloyloxypropyltrimethoxysilane 0 .4 g, tetrahydrofuran (THF) 1 g, photoradical initiator (2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, trade name “Darocur 1173”) 2 mg, And a photo acid generator [4- (1-ethoxycarbonylethoxy) phenyl-2 ′, 4 ′, 6′-trimethylphenyliodonium hexafluorophosphate, manufactured by Nippon Soda Co., Ltd.] 2 mg, A glass substrate was spin coated to form a film. The obtained coating film was irradiated with ultraviolet rays (1300 mJ / cm 2 ) to produce a hybrid film by curing of acrylate and sol-gel reaction. Further, the obtained hybrid film was after-cured at 150 ° C. for 1.5 hours to obtain a strong and transparent film. The resulting film had a refractive index of 1.55 and high heat resistance.

(実施例2)
9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]フルオレンのアクリル酸エステル0.1g、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン0.2g、フェニルトリメトキシシラン0.2g、THF1g、光ラジカル開始剤(2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、商品名「ダロキュア1173」)2mg、および光酸発生剤[4−(1−エトキシカルボニルエトキシ)フェニル−2’,4’,6’−トリメチルフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、日本曹達(株)製]2mgを加えて調製した塗布液を、ガラス基板にスピンコートして製膜した。得られた塗膜に、紫外線を照射(1300mJ/cm2)し、アクリレートの硬化ならびにゾル−ゲル反応でハイブリッド膜を作製した。さらに、得られたハイブリッド膜を150℃で1.5時間アフターキュアすることで、強固で透明な膜が得られた。得られた膜の屈折率は1.57であり、耐熱性も高かった。
(Example 2)
9,9-bis [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] fluorene acrylate ester 0.1 g, acryloyloxypropyltrimethoxysilane 0.2 g, phenyltrimethoxysilane 0.2 g, THF 1 g, photoradical initiator ( 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd., trade name “Darocur 1173”) 2 mg, and photoacid generator [4- (1-ethoxycarbonylethoxy ) Phenyl-2 ′, 4 ′, 6′-trimethylphenyliodonium hexafluorophosphate, manufactured by Nippon Soda Co., Ltd.] A coating solution prepared by adding 2 mg was spin-coated on a glass substrate to form a film. The obtained coating film was irradiated with ultraviolet rays (1300 mJ / cm 2 ), and a hybrid film was prepared by curing of acrylate and sol-gel reaction. Further, the obtained hybrid film was after-cured at 150 ° C. for 1.5 hours to obtain a strong and transparent film. The obtained film had a refractive index of 1.57 and high heat resistance.

(実施例3)
9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]フルオレンのアクリル酸エステル0.1g、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン0.2g、フェニルトリメトキシシラン0.2g、THF1g、テトライソプロポキシチタン2g、および光ラジカル開始剤(2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、商品名「ダロキュア1173」)2mg、光酸発生剤[4−(1−エトキシカルボニルエトキシ)フェニル−2’,4’,6’−トリメチルフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、日本曹達(株)製]2mgを加えて調製した塗布液を、ガラス基板にスピンコートして製膜した。得られた塗膜に、紫外線を照射(1300mJ/cm2)し、アクリレートの硬化ならびにゾル−ゲル反応でハイブリッド膜を作製した。さらに、得られたハイブリッド膜を150℃で1.5時間アフターキュアすることで、強固で透明な膜が得られた。得られた膜の屈折率は1.65であり、耐熱性も高かった。
(Example 3)
Acrylic ester of 9,9-bis [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] fluorene 0.1 g, 0.2 g of acryloyloxypropyltrimethoxysilane, 0.2 g of phenyltrimethoxysilane, 1 g of THF, 2 g of tetraisopropoxytitanium , And photo radical initiator (2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, trade name “Darocur 1173”), 2 mg of photoacid generator [4- (1-Ethoxycarbonylethoxy) phenyl-2 ′, 4 ′, 6′-trimethylphenyliodonium hexafluorophosphate, Nippon Soda Co., Ltd.] 2 mg of the coating solution prepared by spin coating on a glass substrate Filmed. The obtained coating film was irradiated with ultraviolet rays (1300 mJ / cm 2 ), and a hybrid film was prepared by curing of acrylate and sol-gel reaction. Further, the obtained hybrid film was after-cured at 150 ° C. for 1.5 hours to obtain a strong and transparent film. The obtained film had a refractive index of 1.65 and high heat resistance.

(実施例4)
・部分縮合ゾルの調製
9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]フルオレンのアクリル酸エステル1g、3−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン(APTMS)4gをテトラヒドロフラン(THF)5mlに溶解し、水0.5gおよびギ酸40.5mgを加えた後、60℃で2時間攪拌し、冷却後、部分縮合したシリカゾル(固形分25%)を調製した。
Example 4
-Preparation of partially condensed sol 1 g of acrylic acid ester of 9,9-bis [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] fluorene and 4 g of 3-acryloyloxypropyltrimethoxysilane (APTMS) were dissolved in 5 ml of tetrahydrofuran (THF). After adding 0.5 g of water and 40.5 mg of formic acid, the mixture was stirred at 60 ° C. for 2 hours, cooled, and then partially condensed silica sol (solid content 25%) was prepared.

・硬化膜の作成
前記部分縮合ゾル0.4g(固形分換算0.1g)、THF10g、光ラジカル開始剤(2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、商品名「ダロキュア1173」)2mg、光酸発生剤[4−(1−エトキシカルボニルエトキシ)フェニル−2’,4’,6’−トリメチルフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、日本曹達(株)製]2mgを加えて調製した塗布液を、ガラス基板にスピンコートして製膜した。得られた塗膜に、紫外線を照射(1300mJ/cm2)し、アクリレートの硬化ならびにゾル−ゲル反応でハイブリッド膜を作製した。得られたハイブリッド膜を、150℃で1.5時間アフターキュアすることで、強固で透明な膜(膜厚86nm)が得られた。得られた膜の屈折率は1.56であり、耐熱性も高かった。
-Preparation of cured film 0.4 g of the above partial condensation sol (0.1 g in terms of solid content), 10 g of THF, photo radical initiator (2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, Ciba Specialty Chemicals) 2 mg, photo acid generator [4- (1-ethoxycarbonylethoxy) phenyl-2 ′, 4 ′, 6′-trimethylphenyliodonium hexafluorophosphate, Nippon Soda Co., Ltd. )] A coating solution prepared by adding 2 mg was spin-coated on a glass substrate to form a film. The obtained coating film was irradiated with ultraviolet rays (1300 mJ / cm 2 ), and a hybrid film was prepared by curing of acrylate and sol-gel reaction. The obtained hybrid film was after-cured at 150 ° C. for 1.5 hours to obtain a strong and transparent film (film thickness: 86 nm). The obtained film had a refractive index of 1.56 and high heat resistance.

(実施例5)
・部分縮合ゾルの調製
3−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン(APTMS)4gをテトラヒドロフラン(THF)5mlに溶解し、水0.5gおよびギ酸40.5mgを加えた後、60℃で2時間攪拌し、冷却後、部分縮合したシリカゾル(固形分25%)を調製した。
(Example 5)
Preparation of partially condensed sol 3-acryloyloxypropyltrimethoxysilane (APTMS) 4 g was dissolved in tetrahydrofuran (THF) 5 ml, water 0.5 g and formic acid 40.5 mg were added, and the mixture was stirred at 60 ° C. for 2 hours. After cooling, a partially condensed silica sol (solid content 25%) was prepared.

・硬化膜の作成
9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]フルオレンのアクリル酸エステル0.1g、前記部分縮合ゾル0.4g(固形分換算0.1g)、THF10g、光ラジカル開始剤(2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、商品名「ダロキュア1173」)2mg、および光酸発生剤[4−(1−エトキシカルボニルエトキシ)フェニル−2’,4’,6’−トリメチルフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、日本曹達(株)製]2mgを加えて調製した塗布液を、ガラス基板にスピンコートして製膜した。得られた塗膜に、紫外線を照射(1300mJ/cm2)し、アクリレートの硬化ならびにゾル−ゲル反応でハイブリッド膜を作製した。得られたハイブリッド膜を、150℃で1.5時間アフターキュアすることで、強固で透明な膜(膜厚86nm)が得られた。得られた膜の屈折率は1.56であり、耐熱性も高かった。
-Preparation of cured film 9,9-bis [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] fluorene acrylic ester 0.1 g, partial condensation sol 0.4 g (0.1 g in terms of solid content), THF 10 g, photoradical 2 mg of initiator (2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, trade name “Darocur 1173”), and photoacid generator [4- (1- [Ethoxycarbonylethoxy) phenyl-2 ′, 4 ′, 6′-trimethylphenyliodonium hexafluorophosphate, Nippon Soda Co., Ltd.] 2 mg of the coating solution prepared by spin coating on a glass substrate to form a film. The obtained coating film was irradiated with ultraviolet rays (1300 mJ / cm 2 ), and a hybrid film was prepared by curing of acrylate and sol-gel reaction. The obtained hybrid film was after-cured at 150 ° C. for 1.5 hours to obtain a strong and transparent film (film thickness: 86 nm). The obtained film had a refractive index of 1.56 and high heat resistance.

(実施例6)
・部分縮合ゾルの調製
3−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン(APTMS)2.07g、フェニルトリメトキシシラン(PTMS)1.98gをテトラヒドロフラン(THF)5mlに溶解し、水0.5gおよびギ酸40.5mgを加えた後、60℃で2時間攪拌し、冷却後、部分縮合したシリカゾル(固形分27.2%)を調製した。
(Example 6)
-Preparation of partially condensed sol 3-acryloyloxypropyltrimethoxysilane (APTMS) 2.07g, phenyltrimethoxysilane (PTMS) 1.98g was dissolved in tetrahydrofuran (THF) 5ml, water 0.5g and formic acid 40.5mg. Then, the mixture was stirred at 60 ° C. for 2 hours, cooled, and partially condensed silica sol (solid content: 27.2%) was prepared.

・硬化膜の作成
9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]フルオレンのアクリル酸エステル0.1g、前記部分縮合ゾル0.37(固形分換算0.1g)、THF10g、光ラジカル開始剤(2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、商品名「ダロキュア1173」)2mg、および光酸発生剤[4−(1−エトキシカルボニルエトキシ)フェニル−2’,4’,6’−トリメチルフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、日本曹達(株)製]2mgを加えて調製した塗布液を、ガラス基板にスピンコートして製膜した。得られた塗膜に、紫外線を照射(1300mJ/cm2)し、アクリレートの硬化ならびにゾル−ゲル反応でハイブリッド膜を作製した。得られたハイブリッド膜を、150℃で1.5時間アフターキュアすることで、強固で透明な膜(膜厚86nm)が得られた。得られた膜の屈折率は1.58であり、耐熱性も高かった。
Preparation of cured film 9,9-bis [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] fluorene acrylate ester 0.1 g, partial condensation sol 0.37 (0.1 g in terms of solid content), THF 10 g, photoradical 2 mg of initiator (2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, trade name “Darocur 1173”), and photoacid generator [4- (1- [Ethoxycarbonylethoxy) phenyl-2 ′, 4 ′, 6′-trimethylphenyliodonium hexafluorophosphate, Nippon Soda Co., Ltd.] 2 mg of the coating solution prepared by spin coating on a glass substrate to form a film. The obtained coating film was irradiated with ultraviolet rays (1300 mJ / cm 2 ), and a hybrid film was prepared by curing of acrylate and sol-gel reaction. The obtained hybrid film was after-cured at 150 ° C. for 1.5 hours to obtain a strong and transparent film (film thickness: 86 nm). The obtained film had a refractive index of 1.58 and high heat resistance.

(実施例7)
・部分縮合ゾルの調製
3−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン(APTMS)2g、フェニルトリメトキシシラン(PTMS)2gおよびテトライソプロポキシチタン20gをテトラヒドロフラン(THF)10mlに溶解し、ギ酸60mgを加えた後、60℃で2時間攪拌し、冷却後、部分縮合したゾルを調製した(固形分約17%)。
(Example 7)
-Preparation of partially condensed sol 3-acryloyloxypropyltrimethoxysilane (APTMS) 2g, phenyltrimethoxysilane (PTMS) 2g and tetraisopropoxytitanium 20g were dissolved in tetrahydrofuran (THF) 10ml, formic acid 60mg was added, After stirring at 60 ° C. for 2 hours and cooling, a partially condensed sol was prepared (solid content about 17%).

・硬化膜の作成
9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]フルオレンのアクリル酸エステル0.1g、前記部分縮合ゾル0.56g(固形分換算0.1g)、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)4g、光ラジカル開始剤(2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、商品名「ダロキュア1173」)2mg、および光酸発生剤[4−(1−エトキシカルボニルエトキシ)フェニル−2’,4’,6’−トリメチルフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、日本曹達(株)製]2mgを加えて調製した塗布液を、ガラス基板にスピンコートして製膜した。得られた塗膜に、紫外線を照射(1300mJ/cm2)し、アクリレートの硬化ならびにゾル−ゲル反応でハイブリッド膜を作製した。得られたハイブリッド膜を、150℃で1.5時間アフターキュアすることで、強固で透明な膜(膜厚280nm)が得られた。得られた膜の屈折率は1.65であり、耐熱性も高かった。
-Preparation of cured film 9,9-bis [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] fluorene acrylate ester 0.1 g, partial condensation sol 0.56 g (solid content conversion 0.1 g), propylene glycol monomethyl ether 4 g of acetate (PGMEA), 2 mg of photo radical initiator (2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Inc., trade name “Darocur 1173”), and photoacid A coating solution prepared by adding 2 mg of a generator [4- (1-ethoxycarbonylethoxy) phenyl-2 ′, 4 ′, 6′-trimethylphenyliodonium hexafluorophosphate, manufactured by Nippon Soda Co., Ltd.] onto a glass substrate A film was formed by spin coating. The obtained coating film was irradiated with ultraviolet rays (1300 mJ / cm 2 ), and a hybrid film was prepared by curing of acrylate and sol-gel reaction. The obtained hybrid film was after-cured at 150 ° C. for 1.5 hours to obtain a strong and transparent film (film thickness: 280 nm). The obtained film had a refractive index of 1.65 and high heat resistance.

(実施例8)
9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]フルオレンのアクリル酸エステル0.1g、実施例7で調製した部分縮合ゾル1.38g(固形分換算0.23g)、PGMEA4g、光ラジカル開始剤(2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、商品名「ダロキュア1173」)4mg、および光酸発生剤[4−(1−エトキシカルボニルエトキシ)フェニル−2’,4’,6’−トリメチルフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、日本曹達(株)製]4mgを加え、さらにTHFで10倍希釈して得られた塗布液を、ガラス基板にスピンコートして製膜した。得られた塗膜に、紫外線を照射(1300mJ/cm2)し、アクリレートの硬化ならびにゾル−ゲル反応でハイブリッド膜を作製した。得られたハイブリッド膜を150℃で1.5時間アフターキュアすることで、強固で透明な膜(膜厚55nm)が得られた。得られた膜の屈折率は1.81であり、耐熱性も高かった。
(Example 8)
Acrylic ester of 9,9-bis [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] fluorene 0.1 g, 1.38 g partially condensed sol prepared in Example 7 (solid content 0.23 g), PGMEA 4 g, photoradical 4 mg of initiator (2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, manufactured by Ciba Specialty Chemicals, trade name “Darocur 1173”), and photoacid generator [4- (1- [Ethoxycarbonylethoxy) phenyl-2 ′, 4 ′, 6′-trimethylphenyliodonium hexafluorophosphate, Nippon Soda Co., Ltd.] 4 mg was added, and the coating solution obtained by diluting 10 times with THF was added to a glass substrate. The film was formed by spin coating. The obtained coating film was irradiated with ultraviolet rays (1300 mJ / cm 2 ), and a hybrid film was prepared by curing of acrylate and sol-gel reaction. The obtained hybrid film was after-cured at 150 ° C. for 1.5 hours to obtain a strong and transparent film (film thickness 55 nm). The obtained film had a refractive index of 1.81 and high heat resistance.

(比較例1)
ペンタエリスリトールトリアクリレート0.1g、実施例5で調製した部分縮合ゾル0.4g(固形分換算0.1g)、THF10g、光ラジカル開始剤(2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、商品名「ダロキュア1173」)2mg、および光酸発生剤[4−(1−エトキシカルボニルエトキシ)フェニル−2’,4’,6’−トリメチルフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、日本曹達(株)製]2mgを加えて調製した塗布液を、ガラス基板にスピンコートして製膜した。得られた塗膜に、紫外線を照射(1300mJ/cm2)し、アクリレートの硬化ならびにゾル−ゲル反応でのハイブリッド膜を作製した。得られたハイブリッド膜を150℃で1.5時間アフターキュアし、透明な膜(膜厚86nm)が得られた。得られた膜の屈折率は1.48であった。
(Comparative Example 1)
0.1 g of pentaerythritol triacrylate, 0.4 g of partially condensed sol prepared in Example 5 (0.1 g in terms of solid content), 10 g of THF, photoradical initiator (2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropane-1) -ON, 2 mg of Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd., trade name "Darocur 1173"), and photoacid generator [4- (1-ethoxycarbonylethoxy) phenyl-2 ', 4', 6'-trimethylphenyl A coating solution prepared by adding 2 mg of iodonium hexafluorophosphate, manufactured by Nippon Soda Co., Ltd. was spin-coated onto a glass substrate to form a film. The obtained coating film was irradiated with ultraviolet rays (1300 mJ / cm 2 ) to prepare a hybrid film by curing of acrylate and sol-gel reaction. The obtained hybrid film was after-cured at 150 ° C. for 1.5 hours to obtain a transparent film (film thickness: 86 nm). The refractive index of the obtained film was 1.48.

Claims (16)

下記式(1)で表される多官能性(メタ)アクリレート、重合性基を有する加水分解縮合性有機ケイ素化合物、および光酸発生剤で構成された重合性組成物。
Figure 2007091870
(式中、R1a、R1b、R2aおよびR2bは置換基を示し、R3aおよびR3bはアルキレン基を示し、R4aおよびR4bは水素原子又はメチル基を示す。k1及びk2は同一又は異なって0〜4の整数を示し、m1及びm2は同一又は異なって0〜3の整数を示し、n1およびn2は同一又は異なって0又は1以上の整数を示し、p1およびp2は同一又は異なって1〜4の整数を示す。ただし、m1+p1及びm2+p2は、それぞれ、1〜5の整数である)
A polymerizable composition comprising a polyfunctional (meth) acrylate represented by the following formula (1), a hydrolytic condensable organosilicon compound having a polymerizable group, and a photoacid generator.
Figure 2007091870
(In the formula, R 1a , R 1b , R 2a and R 2b represent a substituent, R 3a and R 3b represent an alkylene group, R 4a and R 4b represent a hydrogen atom or a methyl group, and k 1 and k 2 represent The same or different and an integer of 0 to 4, m1 and m2 are the same or different and represent an integer of 0 to 3, n1 and n2 are the same or different and represent an integer of 0 or 1 and p1 and p2 are the same Or it is different and represents an integer of 1 to 4, where m1 + p1 and m2 + p2 are each an integer of 1 to 5)
式(1)において、R3aおよびR3bがC2-3アルキレン基、n1およびn2がそれぞれ1又は2、かつp1およびp2がそれぞれ1〜3である請求項1記載の重合性組成物。 The polymerizable composition according to claim 1, wherein, in formula (1), R 3a and R 3b are C 2-3 alkylene groups, n1 and n2 are each 1 or 2, and p1 and p2 are each 1 to 3. 重合性基を有する加水分解縮合性有機ケイ素化合物が、下記式(2)で表される化合物又はその部分縮合物である請求項1記載の重合性組成物。
X−(A)c−Si(OR4)a(R5)3-a (2)
[式中、Xは、重合性基、Aは連結基を示し、R4は、炭化水素基又は基−[(R6O)b−R7](式中、R6は、アルキレン基であり、R7は炭化水素基であり、bは1以上の整数を示す)であり、R5は、水素原子、ヒドロキシル基、ハロゲン原子又は炭化水素基を示す。aは1〜3の整数、cは0又は1を示す。]
The polymerizable composition according to claim 1, wherein the hydrolytic condensable organosilicon compound having a polymerizable group is a compound represented by the following formula (2) or a partial condensate thereof.
X- (A) c -Si (OR 4) a (R 5) 3-a (2)
[Wherein, X represents a polymerizable group, A represents a linking group, R 4 represents a hydrocarbon group or a group — [(R 6 O) b —R 7 ] (wherein R 6 represents an alkylene group) R 7 is a hydrocarbon group, b is an integer of 1 or more, and R 5 is a hydrogen atom, a hydroxyl group, a halogen atom or a hydrocarbon group. a represents an integer of 1 to 3, and c represents 0 or 1. ]
式(2)において、重合性基が(メタ)アクリロイル基である請求項3記載の重合性組成物。   The polymerizable composition according to claim 3, wherein in the formula (2), the polymerizable group is a (meth) acryloyl group. 式(2)で表される化合物が、(メタ)アクリロイルオキシアルキルトリC1-4アルコキシシラン、(メタ)アクリロイルオキシアルキルトリ(C1-4アルコキシC2-4アルコキシ)シラン、(メタ)アクリロイルオキシアルキルアミノアルキルトリC1-4アルコキシシラン、および(メタ)アクリロイルオキシアルキルトリC6-10アリールオキシシランから選択された少なくとも1種である請求項3記載の重合性組成物。 The compound represented by the formula (2) is (meth) acryloyloxyalkyltri-C 1-4 alkoxysilane, (meth) acryloyloxyalkyltri (C 1-4 alkoxyC 2-4 alkoxy) silane, (meth) acryloyl. The polymerizable composition according to claim 3, which is at least one selected from oxyalkylaminoalkyltri-C 1-4 alkoxysilane and (meth) acryloyloxyalkyltri-C 6-10 aryloxysilane . 光酸発生剤が、トリアリールスルホニウム塩、ビス(アルキルアリール)ヨードニウム塩、および下記式(6)で表される化合物から選択された少なくとも1種である請求項1記載の重合性組成物。
Figure 2007091870
(式中、R17、R18およびR19は置換基、p、qおよびrは同一又は異なってそれぞれ0〜4の整数、Yは水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基又はアルキル基を示す。)
The polymerizable composition according to claim 1, wherein the photoacid generator is at least one selected from a triarylsulfonium salt, a bis (alkylaryl) iodonium salt, and a compound represented by the following formula (6).
Figure 2007091870
(Wherein R 17 , R 18 and R 19 are substituents, p, q and r are the same or different and each represents an integer of 0 to 4, Y represents a hydrogen atom, a halogen atom, a nitro group or an alkyl group.)
重合性基を有する加水分解縮合性有機ケイ素化合物の割合が、式(1)で表される多官能性(メタ)アクリレート100重量部に対して、50〜700重量部であり、光酸発生剤の割合が、式(1)で表される多官能性(メタ)アクリレート100重量部に対して、0.5〜5重量部である請求項1記載の重合性組成物。   The ratio of the hydrolytic condensable organosilicon compound having a polymerizable group is 50 to 700 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the polyfunctional (meth) acrylate represented by the formula (1). The polymerizable composition according to claim 1, wherein the ratio is 0.5 to 5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the polyfunctional (meth) acrylate represented by the formula (1). さらに、重合性基を有しない加水分解縮合性有機ケイ素化合物を含む請求項1記載の重合性組成物。   The polymerizable composition according to claim 1, further comprising a hydrolytic condensable organosilicon compound having no polymerizable group. 重合性基を有しない加水分解縮合性有機ケイ素化合物が、下記式(3)で表される化合物、下記式(3)で表される化合物のオリゴマー、又は下記式(3)で表される化合物の部分縮合物で構成されている請求項8記載の重合性組成物。
Si(OR8)d(R9)4-d (3)
[式中、R8は、炭化水素基又は基−[(R10O)e−R11](式中、R10は、アルキレン基であり、R11は炭化水素基であり、eは1以上の整数を示す)であり、R9は、水素原子、ヒドロキシル基、ハロゲン原子又は炭化水素基を示す。dは1〜4の整数を示す。]
Hydrolytic condensable organosilicon compound having no polymerizable group is a compound represented by the following formula (3), an oligomer of a compound represented by the following formula (3), or a compound represented by the following formula (3) The polymerizable composition according to claim 8, comprising a partial condensate of
Si (OR 8 ) d (R 9 ) 4-d (3)
[Wherein R 8 is a hydrocarbon group or group — [(R 10 O) e —R 11 ] (wherein R 10 is an alkylene group, R 11 is a hydrocarbon group, and e is 1 R 9 represents a hydrogen atom, a hydroxyl group, a halogen atom or a hydrocarbon group. d shows the integer of 1-4. ]
重合性基を有しない加水分解縮合性有機ケイ素化合物が、C6-8アリールトリC1-4アルコキシシラン、テトラC1-4アルコキシシラン、テトラC6-8アリールオキシシラン、およびテトラC1-4アルコキシシランのオリゴマーから選択された少なくとも1種の化合物又はその部分縮合物で構成されている請求項8記載の重合性組成物。 No hydrolytic condensable organic silicon compound polymerizable group, C 6-8 Arirutori C 1-4 alkoxysilane, tetra C 1-4 alkoxy silanes, tetra C 6-8 aryloxy silane and tetra C 1-4, The polymerizable composition according to claim 8, comprising at least one compound selected from oligomers of alkoxysilanes or a partial condensate thereof. さらに、チタン、ジルコニウム、アルミニウム、および亜鉛から選択された非ケイ素系金属のアルコキシドを含む請求項1記載の重合性組成物。   The polymerizable composition according to claim 1, further comprising an alkoxide of a non-silicon metal selected from titanium, zirconium, aluminum, and zinc. さらに、光ラジカル開始剤を含む請求項1記載の重合性組成物。   Furthermore, the polymeric composition of Claim 1 containing a photoradical initiator. 請求項1記載の重合性組成物を、基材上に塗布して塗膜を形成したのち、光照射し、前記重合性組成物の硬化物を製造する方法。   A method for producing a cured product of the polymerizable composition by applying the polymerizable composition according to claim 1 on a substrate to form a coating film and then irradiating with light. 光照射後、さらに加熱する請求項13記載の方法。   The method of Claim 13 which heats after light irradiation. 重合性基を有する加水分解縮合性有機ケイ素化合物が部分的に縮合した重合性組成物を基材上に塗布する請求項13記載の方法。   The method according to claim 13, wherein a polymerizable composition obtained by partially condensing a hydrolytic condensable organosilicon compound having a polymerizable group is applied onto a substrate. 請求項1記載の重合性組成物が硬化した硬化物。   A cured product obtained by curing the polymerizable composition according to claim 1.
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Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008136267A1 (en) * 2007-04-27 2008-11-13 Kazufumi Ogawa Antireflection film and method for producing the same
JP2009256293A (en) * 2008-03-26 2009-11-05 Osaka Gas Co Ltd Silicon compound having fluorene skeleton
JP2009269854A (en) * 2008-05-07 2009-11-19 Osaka Gas Co Ltd Fluorene skeleton-bearing silicon compound and its polymerizable composition
KR20110097767A (en) * 2008-11-27 2011-08-31 도레이 카부시키가이샤 Siloxane resin composition and protective film for touch panel using same
EP2499659A1 (en) * 2009-11-10 2012-09-19 FUJIFILM Corporation Curable composition for imprints, patterning method and pattern
JP2014034596A (en) * 2012-08-07 2014-02-24 Osaka Gas Chem Kk Composition for forming gradient film and gradient film formed by the same
KR20140049584A (en) 2011-08-11 2014-04-25 오사카 가스 케미칼 가부시키가이샤 Multifunctional (meth)acrylate having fluorene skeleton and curable composition containing same
KR20150011498A (en) * 2013-07-23 2015-02-02 동우 화인켐 주식회사 Thermosetting resin composition, color filter and display device having a protective film formed by using the same
TWI475029B (en) * 2009-06-19 2015-03-01 Nissan Chemical Ind Ltd Low-dielectric imprinting material
KR101549722B1 (en) * 2012-07-03 2015-09-02 제일모직주식회사 Photocurable composition, protective layer prepared from the same and optical member comprising the same
JP2016151641A (en) * 2015-02-17 2016-08-22 富士フイルム株式会社 Photosensitive composition, production method of cured product, cured product, cured film, touch panel, and display device
JP2020033518A (en) * 2018-08-31 2020-03-05 大阪ガスケミカル株式会社 Self-healing material using fluorene compound
US10689318B2 (en) 2016-02-03 2020-06-23 Taoka Chemical Co., Ltd. Bisphenol having fluorene skeleton, method for producing same, polyarylate resin, (meth)acrylate compound and epoxy resin which are derived from the bisphenol
CN114605626A (en) * 2022-04-11 2022-06-10 仲恺农业工程学院 Organosilicon compound containing fluorenyl and preparation method and application thereof

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06220131A (en) * 1993-01-22 1994-08-09 Nippon Kayaku Co Ltd Radiation-setting resin composition, resin composition for optical material and cured product therefrom
JPH08302284A (en) * 1995-05-09 1996-11-19 Osaka City Photocurable coating composition and cured coating film using the same
WO2003064535A1 (en) * 2002-01-25 2003-08-07 Sumitomo Bakelite Co., Ltd. Transparent composite composition
JP2004244428A (en) * 2003-02-10 2004-09-02 Arakawa Chem Ind Co Ltd Alkoxysilane derivative, curable composition and its cured product
JP2006309125A (en) * 2005-03-28 2006-11-09 Toray Ind Inc Photosensitive transparent resin composition and translucent liquid crystal display

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06220131A (en) * 1993-01-22 1994-08-09 Nippon Kayaku Co Ltd Radiation-setting resin composition, resin composition for optical material and cured product therefrom
JPH08302284A (en) * 1995-05-09 1996-11-19 Osaka City Photocurable coating composition and cured coating film using the same
WO2003064535A1 (en) * 2002-01-25 2003-08-07 Sumitomo Bakelite Co., Ltd. Transparent composite composition
JP2004244428A (en) * 2003-02-10 2004-09-02 Arakawa Chem Ind Co Ltd Alkoxysilane derivative, curable composition and its cured product
JP2006309125A (en) * 2005-03-28 2006-11-09 Toray Ind Inc Photosensitive transparent resin composition and translucent liquid crystal display

Cited By (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8475916B2 (en) 2007-04-27 2013-07-02 Empire Technology Development Llc Antireflection film and method for manufacturing the same
WO2008136267A1 (en) * 2007-04-27 2008-11-13 Kazufumi Ogawa Antireflection film and method for producing the same
JP2009256293A (en) * 2008-03-26 2009-11-05 Osaka Gas Co Ltd Silicon compound having fluorene skeleton
JP2009269854A (en) * 2008-05-07 2009-11-19 Osaka Gas Co Ltd Fluorene skeleton-bearing silicon compound and its polymerizable composition
TWI450932B (en) * 2008-11-27 2014-09-01 Toray Industries Silicane resin composition and protective film for touch panel using the same
KR20110097767A (en) * 2008-11-27 2011-08-31 도레이 카부시키가이샤 Siloxane resin composition and protective film for touch panel using same
KR101643262B1 (en) 2008-11-27 2016-07-27 도레이 카부시키가이샤 Siloxane resin composition and protective film for touch panel using same
US8492450B2 (en) * 2008-11-27 2013-07-23 Toray Industries, Inc. Siloxane resin composition and protective film for touch panel using the same
JP5589387B2 (en) * 2008-11-27 2014-09-17 東レ株式会社 Siloxane resin composition and protective film for touch panel using the same
TWI475029B (en) * 2009-06-19 2015-03-01 Nissan Chemical Ind Ltd Low-dielectric imprinting material
EP2499659A1 (en) * 2009-11-10 2012-09-19 FUJIFILM Corporation Curable composition for imprints, patterning method and pattern
EP2499659A4 (en) * 2009-11-10 2013-10-09 Fujifilm Corp Curable composition for imprints, patterning method and pattern
US9684233B2 (en) 2009-11-10 2017-06-20 Fujifilm Corporation Curable composition for imprints, patterning method and pattern
KR20140049584A (en) 2011-08-11 2014-04-25 오사카 가스 케미칼 가부시키가이샤 Multifunctional (meth)acrylate having fluorene skeleton and curable composition containing same
KR101549722B1 (en) * 2012-07-03 2015-09-02 제일모직주식회사 Photocurable composition, protective layer prepared from the same and optical member comprising the same
JP2014034596A (en) * 2012-08-07 2014-02-24 Osaka Gas Chem Kk Composition for forming gradient film and gradient film formed by the same
KR20150011498A (en) * 2013-07-23 2015-02-02 동우 화인켐 주식회사 Thermosetting resin composition, color filter and display device having a protective film formed by using the same
KR101953923B1 (en) 2013-07-23 2019-05-22 동우 화인켐 주식회사 Thermosetting resin composition, color filter and display device having a protective film formed by using the same
JP2016151641A (en) * 2015-02-17 2016-08-22 富士フイルム株式会社 Photosensitive composition, production method of cured product, cured product, cured film, touch panel, and display device
US10689318B2 (en) 2016-02-03 2020-06-23 Taoka Chemical Co., Ltd. Bisphenol having fluorene skeleton, method for producing same, polyarylate resin, (meth)acrylate compound and epoxy resin which are derived from the bisphenol
TWI702204B (en) * 2016-02-03 2020-08-21 日商田岡化學工業股份有限公司 Bisphenol having fluorene skeleton and a method for manufacturing the same, and polyarylate resin, (meth)acrylate compound and epoxy resin derived from the bisphenol
JP2020033518A (en) * 2018-08-31 2020-03-05 大阪ガスケミカル株式会社 Self-healing material using fluorene compound
CN114605626A (en) * 2022-04-11 2022-06-10 仲恺农业工程学院 Organosilicon compound containing fluorenyl and preparation method and application thereof
CN114605626B (en) * 2022-04-11 2024-03-01 仲恺农业工程学院 Fluorenyl-containing organosilicon compound and preparation method and application thereof

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