JP2006319233A - Brittle member treatment apparatus - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は脆質部材の処理装置及び処理方法に係り、特に、裏面研削が行われた半導体ウエハをリングフレームに転着させる機能を備えた脆質部材の処理装置に関する。 The present invention relates to a brittle member processing apparatus and processing method, and more particularly to a brittle member processing apparatus having a function of transferring a semiconductor wafer subjected to back grinding to a ring frame.
従来より、回路面が形成された半導体ウエハ(以下、単に、「ウエハ」と称する)は、前記回路面に保護シートを貼付した状態で裏面研削を行い、その後に、リングフレームにウエハを一体化させるマウント処理と、保護シートをウエハから剥離する剥離処理が行われている。 Conventionally, a semiconductor wafer with a circuit surface formed (hereinafter simply referred to as “wafer”) is subjected to back surface grinding with a protective sheet applied to the circuit surface, and then the wafer is integrated into a ring frame. A mounting process is performed, and a peeling process for peeling the protective sheet from the wafer is performed.
前記処理を行うウエハ処理装置としては、例えば、特許文献1に記載されている。このウエハ処理装置は、ウエハをリングフレームの内周側に配置するとともに、これらウエハ及びリングフレームにマウントテープを貼付して両者を一体化させるマウント装置と、前記ウエハの回路面側に貼付されている保護シートに剥離用テープを接着し、当該剥離用テープを斜め上方に引っ張りながら保護シートをウエハから剥離する剥離装置とを備えて構成されている。 An example of a wafer processing apparatus that performs the processing is described in Patent Document 1. In this wafer processing apparatus, a wafer is disposed on the inner peripheral side of the ring frame, and a mounting device for attaching a mounting tape to the wafer and the ring frame so as to integrate them, and a wafer attached to the circuit surface side of the wafer. And a peeling device for peeling the protective sheet from the wafer while adhering the peeling tape to the protective sheet and pulling the peeling tape obliquely upward.
前記特許文献1の構成によれば、ウエハとリングフレームとの一体化、すなわちマウントと、保護シートの剥離処理とを一連の工程で行うことができる。
しかしながら、近時要求されているウエハ板厚は、数十μmオーダーとなってきているため、回路面に保護シートを貼付しただけの状態では、研削時のウエハ支持に足りる剛性を保護シートが確保できず、表面平滑性を維持した極薄研削を達成することができない。また、研削後において、ウエハ裏面にスパッタリングや、金属蒸着等の表面処理を行う関係上、保護シートに耐熱性、耐食性が要求されるが、樹脂製の保護シートではかかる要求に対応することができないのが実状である。
そこで、前記回路面に両面粘着シートを介して一定の剛性若しくは板厚を有するガラス板等の硬質部材を貼付し、当該硬質部材の剛性若しくは板厚を利用することによってウエハに損傷を与えることなく極薄に裏面研削を行うことが行われている。
According to the structure of the said patent document 1, integration of a wafer and a ring frame, ie, a mount, and the peeling process of a protection sheet can be performed in a series of processes.
However, since the recently required wafer thickness is on the order of several tens of μm, the protective sheet secures sufficient rigidity to support the wafer during grinding when the protective sheet is simply pasted on the circuit surface. It is not possible to achieve ultra-thin grinding while maintaining surface smoothness. In addition, after grinding, the protective sheet is required to have heat resistance and corrosion resistance due to the surface treatment such as sputtering and metal deposition on the back surface of the wafer, but the protective sheet made of resin cannot meet such requirements. This is the actual situation.
Therefore, a hard member such as a glass plate having a certain rigidity or plate thickness is attached to the circuit surface via a double-sided adhesive sheet, and the wafer is not damaged by using the rigidity or plate thickness of the hard member. Ultra-thin back grinding is performed.
ところが、このような極薄化されたウエハが処理対象となる場合には、特許文献1に記載された装置ではウエハから硬質部材を剥離することができないため、別途の作業工程において、硬質部材とウエハとを剥離することが必要となり、処理の一連性が阻害されて作業効率を大幅に低下させてしまう、という不都合を招来する。 However, when such an extremely thin wafer is a processing target, the apparatus described in Patent Document 1 cannot separate the hard member from the wafer. It is necessary to peel off the wafer, which causes a disadvantage that the sequence of processing is hindered and the working efficiency is greatly reduced.
そこで、本発明者は、ウエハを支持する硬質部材を剥離してリングフレームにウエハを転着するウエハ処理装置を提案した(特願2004−343736号)。
しかしながら、既提案のウエハ処理装置にあっては、後工程において、ウエハのチップをピックアップするときの突き上げを考慮して、接着テープ(ダイシングテープ)の性能を決定する必要がある。すなわち、チップをピックアップする際に、ダイシングテープの裏側からチップを突き上げる場合には、対象とするチップがスムースに突き上げられるように柔らかな素材(いわゆる腰の弱い素材)を使用することが必要となり、リングフレームへの転着に際して硬質部材を剥離するときに、接着テープが伸びてしまって剥離に支障を生じさせる場合がある。
Therefore, the present inventor has proposed a wafer processing apparatus that peels off a hard member that supports a wafer and transfers the wafer to a ring frame (Japanese Patent Application No. 2004-343736).
However, in the proposed wafer processing apparatus, it is necessary to determine the performance of the adhesive tape (dicing tape) in consideration of the push-up when the wafer chip is picked up in the subsequent process. That is, when picking up a chip, when pushing up the chip from the back side of the dicing tape, it is necessary to use a soft material (so-called low-waist material) so that the target chip can be pushed up smoothly, When the hard member is peeled off when transferred to the ring frame, the adhesive tape may be stretched to cause a trouble in peeling.
[発明の目的]
本発明の目的は、硬質部材に貼付された脆質部材をフレームに転着する際に、接着テープの伸びを効果的に防止して硬質部材を脆質部材から剥離する際の妨げを解消することのできる脆質部材の処理装置を提供することにある。
[Object of invention]
The object of the present invention is to effectively prevent the expansion of the adhesive tape when transferring a brittle member affixed to a hard member to a frame, thereby eliminating the obstacle when peeling the hard member from the brittle member. An object of the present invention is to provide a brittle member processing apparatus.
前記目的を達成するため、本発明は、硬質部材に貼付された脆質部材を処理対象物とし、前記硬質部材から脆質部材を剥離して所定のフレームに設けられた第1の接着テープに転着させる脆質部材の処理装置において、
前記第1の接着テープの前記脆質部材が接着している面の反対側に、第2の接着テープを貼り付けて前記転着を行う、という構成を採っている。
In order to achieve the above object, the present invention provides a first adhesive tape provided on a predetermined frame by using a brittle member attached to a hard member as an object to be processed and peeling the brittle member from the hard member. In the processing equipment for brittle members to be transferred,
The second adhesive tape is attached to the opposite side of the surface of the first adhesive tape to which the brittle member is adhered, and the transfer is performed.
また、本発明は、硬質部材に両面粘着テープを介して貼付された半導体ウエハを処理対象物とし、前記硬質部材から半導体ウエハを剥離してリングフレームに貼付された第1の接着テープに転着させる脆質部材の処理装置において、
前記第1の接着テープの前記半導体ウエハが接着している面の反対側に、第2の接着テープを貼り付けて前記転着を行う、という構成を採っている。
Further, the present invention uses a semiconductor wafer attached to a hard member via a double-sided adhesive tape as an object to be processed, and transfers the semiconductor wafer to a first adhesive tape attached to a ring frame by peeling the semiconductor wafer from the hard member. In the processing apparatus of the brittle member to be made,
The second adhesive tape is attached to the opposite side of the surface of the first adhesive tape to which the semiconductor wafer is adhered, and the transfer is performed.
本発明において、第1及び第2の接着テープは、二連の貼付ユニットを介して順次貼り付けられる、という構成を採ることができる。 In this invention, the 1st and 2nd adhesive tape can take the structure that it affixes sequentially via a double sticking unit.
また、前記第1の接着テープは紫外線硬化型接着テープが用いられる。 The first adhesive tape is an ultraviolet curable adhesive tape.
更に、前記第2の接着テープは、前記第1の接着テープに比べて粘着力が低い接着テープが用いられる。 Further, the second adhesive tape is an adhesive tape having a lower adhesive strength than the first adhesive tape.
また、前記第2の接着テープは第1の接着テープよりも剛性が高いものが用いられる。 The second adhesive tape is higher in rigidity than the first adhesive tape.
更に前記第2の接着テープは、第1の接着テープよりも外形が小さく設けられている。 Furthermore, the second adhesive tape has a smaller outer shape than the first adhesive tape.
本発明によれば、リングフレームに半導体ウエハを支持するための接着テープが第1の接着テープと第2の接着テープとの二層構造となるため、半導体ウエハに貼付されている硬質部材を剥離するときの剥離力によって接着テープが伸びてしまうことが防止され、硬質部材の剥離を確実且つスムースに行うことができる。
また、第2の接着テープは、転着が行われた後に剥離することにより、後工程において、半導体ウエハのチップをピックアップする際の支持が第1の接着テープによるものとなり、当該ピックアップの際のチップ突き上げを十分に行うことが可能となる。
According to the present invention, since the adhesive tape for supporting the semiconductor wafer on the ring frame has a two-layer structure of the first adhesive tape and the second adhesive tape, the hard member attached to the semiconductor wafer is peeled off. It is possible to prevent the adhesive tape from being stretched by the peeling force when it is done, and the hard member can be peeled reliably and smoothly.
Further, the second adhesive tape is peeled off after the transfer is performed, so that the support for picking up the chip of the semiconductor wafer will be supported by the first adhesive tape in the subsequent process. It is possible to sufficiently push up the tip.
以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
図1には、本発明に係る脆質部材の処理装置がウエハ処理装置に適用された概略斜視図が示され、また、図2には、ウエハの処理工程を経時的に説明するための断面図が示されている。ここで、本実施形態に係る処理対象物Aは、図2(A)に示されるように、脆質部材としてのウエハWの回路面(同図中下面)側に、紫外線硬化型粘着剤による両面粘着シートSを介して硬質部材としてのガラス板Pが接着されている。なお、本実施形態における両面粘着シートSは、ベースシートの一方の面に紫外線硬化型粘着剤を有し、他方の面に弱粘性の粘着剤を有する三層構造とされている。この処理対象物Aは、図2(B)に示されるように、ウエハWがリングフレームRFの内周側に配置された状態で、第1の接着テープを構成するダイシングテープDTと、第2の接着テープを構成する補強テープRTを介して一体化される。そして、図2(C)に示されるように、両面粘着シートSとガラス板Pとの界面で当該ガラス板Pが剥離された後、図2(D)に示されるように、補強テープRTが剥離され、更に、図2(E)に示されるように、ウエハWの回路面側に残された両面粘着シートSがウエハWから剥離され、最終的に、リングフレームRFの内側にダイシングテープDTを介してウエハWだけが残される処理を行うものとなっている(図2(F)参照)。 FIG. 1 is a schematic perspective view in which a brittle member processing apparatus according to the present invention is applied to a wafer processing apparatus, and FIG. 2 is a cross-sectional view for explaining the wafer processing steps over time. The figure is shown. Here, as shown in FIG. 2A, the processing object A according to the present embodiment is made of ultraviolet curable adhesive on the circuit surface (lower surface in the drawing) side of the wafer W as a brittle member. A glass plate P as a hard member is bonded via a double-sided pressure-sensitive adhesive sheet S. In addition, the double-sided pressure-sensitive adhesive sheet S in the present embodiment has a three-layer structure having an ultraviolet curable pressure-sensitive adhesive on one surface of the base sheet and a weakly viscous pressure-sensitive adhesive on the other surface. As shown in FIG. 2B, the processing object A includes a dicing tape DT constituting the first adhesive tape in a state where the wafer W is disposed on the inner peripheral side of the ring frame RF, and a second dicing tape DT. Are integrated via a reinforcing tape RT constituting the adhesive tape. Then, as shown in FIG. 2C, after the glass plate P is peeled off at the interface between the double-sided pressure-sensitive adhesive sheet S and the glass plate P, as shown in FIG. Further, as shown in FIG. 2E, the double-sided pressure-sensitive adhesive sheet S left on the circuit surface side of the wafer W is peeled from the wafer W, and finally the dicing tape DT is placed inside the ring frame RF. Through this process, only the wafer W is left (see FIG. 2F).
図1において、ウエハ処理装置10は、マガジン11内に収容された処理対象物Aをロボットアーム12を介して一枚ずつ取り出すとともに、前記両面粘着シートSの紫外線硬化型粘着剤層を硬化させる紫外線照射装置13と、この紫外線照射装置13で紫外線照射された処理対象物Aを移載して位置決めを行うアライメント装置16と、処理対象物AをリングフレームRFに一体化させるマウント装置17と、処理対象物Aからガラス板Pを剥離してリングフレームRFにウエハWを転着させる転着装置20と、前記補強テープRT及びウエハWの回路面側に残された両面粘着シートSを剥離する剥離装置21と、両面粘着シートSが剥離された後のウエハWがリングフレームRFに支持された状態でこれを収納するストッカ23とを備えて構成されている。
In FIG. 1, the
前記マガジン11には、多数の処理対象物Aを略水平姿勢に保った状態で、ウエハWの裏面側を上面側にして多段状に収容されている。このマガジン11から処理対象物Aを取り出すロボットアーム12は、多関節アーム部12Aと、当該多関節アーム部12Aを支持する昇降体12Bとを含む。多関節アーム部12Aの先端側は二股に分岐した形状をなし、その分岐の先端部に図示しない吸着部を備えて構成され、これにより、処理対象物Aの裏面側(上面側)を吸着して紫外線照射装置13に移載する他、アライメント装置16で位置決めされた処理対象物Aを吸着してマウント装置17側に移載するように設けられている。
In the
前記紫外線照射装置13は、相互に略平行に配置された一対のガイドレール25,25に沿って移動可能なスライドテーブル27と、このスライドテーブル27の上方に位置する紫外線照射部28とからなる。スライドテーブル27は処理対象物Aを載置した状態で、前記ガイドレール25に沿って移動し、これにより、前記両面粘着シートSの紫外線硬化型粘着層側を硬化させて後述する剥離に備えるようになっている。
The ultraviolet irradiation device 13 includes a slide table 27 movable along a pair of
前記アライメント装置16は、平面視略方形の外形をなすプレート部材30と、このプレート部材30の中央部に設けられた中央テーブル31と、前記プレート部材30に支持されるとともに平面内で相互に離間接近可能に設けられ、且つ、平面視略半円弧状をなす一対の凸部32,32とにより構成されている。中央テーブル31は、略水平面内で回転可能に設けられており、処理対象物Aを回転させて図示しないカメラ等によってウエハWの結晶方向を特定する位置決めを行う一方、前記凸部32,32を接近させることで、ウエハWの芯出しが行えるようになっている。アライメント装置16と前記紫外線照射装置13との側方位置には、ロッドレスシリンダ35を介して移動可能なスライダ36と、当該スライダ36に昇降可能に支持されるとともに、先端側に二股分岐部を有する吸着アーム37が設けられ、吸着アーム37が処理対象物Aを吸着して紫外線照射装置13から当該処理対象物Aをアライメント装置16側に移載するようになっている。
The
前記マウント装置17は、図1及び図3に示されるように、リングフレームRFと処理対象物Aを支持するマウントテーブル40と、リングフレームRFと処理対象物Aとを一体化させるダイシングテープDTを貼付するとともに、当該ダイシングテープDTの上面側、すなわち、ウエハWが接着する面の反対側に補強テープRTを貼付する二連状態の第1及び第2の貼付ユニット41A、41Bとを備えて構成されている。リングフレームRFは、マウントテーブル40の側方に配置されたストックテーブル42上に積み重ねた状態でストックされており、最上位のリングフレームRFが、吸着部43Aを備えた移載アーム43によってマウントテーブル40上に移載される。移載アーム43は、単軸ロボット44を介して移動可能なスライドブロック45に支持されている。また、ストックテーブル42は、昇降用ロボット46に昇降可能に支持され、移載アーム43の吸着部43AがリングフレームRFを吸着して移載するごとに当該リングフレームRFの板厚分を上昇させるようになっている。
As shown in FIGS. 1 and 3, the mounting
前記マウントテーブル40は、一対のガイドレール47,47に沿って移動可能に設けられたスライドベース48に昇降可能に設けられ、移載アーム43がマウントテーブル40上に位置したときに、リングフレームRFを受け取る高さ位置まで上昇可能に設けられている。
The mount table 40 is provided so as to be movable up and down on a
前記第1の貼付ユニット41Aは、ダイシングテープDTをリングフレームRFとウエハWの裏面(図中上面)に貼付するものである。本実施形態におけるダイシングテープDTは、帯状をなす紫外線硬化型樹脂テープの一方の面に帯状の剥離シートが貼付されたものが原反L1として採用されており、当該原反L1における樹脂テープの面内に閉ループ状の切り込みを形成することで、平面視略円形のダイシングテープDTが所定間隔毎に形成されている。第1の貼付ユニット41Aは、略鉛直面内に向けられた板状のフレームFの面内に回転可能に支持されるとともに、フレームFの背面側に設けられた図示しないトルクモータによって所定の張力を付与しながら前記原反L1を繰り出し可能に支持する繰出ロール50Aと、繰り出された原反L1の繰出方向を急激に反転させてダイシングテープDTを剥離するピールプレート51Aと、このピールプレート51Aの先端縁に沿って配置されたプレスロール52Aと、原反L1に巻取力を付与する駆動ロール55Aと、駆動ロール55Aに原反L1を挟み込むニップロール56Aと、ダイシングテープDTが剥がされた原反L1のリード端を固定し巻き取る巻取ロール53Aと、繰り出し経路の途中に配置されたガイドロール54Aとにより構成されている。なお、巻取ロール53Aは、駆動ロール55Aにおいて、フレームFの背面側に設けられた図示しないモータの出力軸にプーリによって連結され、滑りベルトを介してダイシングテープDTが剥がされた原反L1を弛みなく巻き取りできるように構成されている。
The first attaching
前記第2の貼付ユニット41Bは、実質的に第1の貼付ユニット41Aと同一の装置構成とされている。従って、同一部分については、第1の貼付ユニット41Aの説明に用いた参照番号を同一とし、当該番号の後に「B」を付して説明を省略する。なお、第2の貼付ユニット41Bに用いられる原反L2は、帯状をなす樹脂テープの一方の面に帯状の剥離シートが貼付されたものが採用されており、当該原反L2における樹脂テープの面内に閉ループ状の切り込みを形成することで、平面視略円形の補強テープRTが所定間隔毎に形成されている。この補強テープRTは、ダイシングテープDTに比べて粘着力が低くされているとともに、ダイシングテープDTよりも剛性の高いもの、すなわち腰の強いものが採用されている。また、補強テープRTの外径は、ダイシングテープDTの外径よりも小さく設定されている。
The
前記転着装置20は、図1、図4及び図5に示されるように、処理対象物Aのガラス板Pを支持する吸着テーブル60と、ガラス板Pと干渉しない位置でリングフレームRFを支持する一対のアーム61,61と、ガラス板Pと両面粘着シートSの紫外線硬化型粘着剤層との境界部分に剥離のきっかけ部62(図2(B)参照)を形成する剥離きっかけ部形成装置63と、前記剥離きっかけ部62からガラス板Pと両面粘着シートSが剥離を開始するように吸着テーブル60とアーム61,61を相対移動させる駆動手段64とを備えて構成されている。
As shown in FIGS. 1, 4, and 5, the
前記吸着テーブル60は、図5に示されるように、その中央部に平面視略U字形の凹部60Aを備えた上面形状となっている。U字部の円弧部はガラス板Pの外周形状と略同形状に設けられているとともに、リングフレームRFをアーム61上に載置してU字部の円弧方向にガラス板Pを押し当てるようにスライドさせたときに、処理対象物AをX方向に位置決めができるようになっている。また、凹部60Aの底面には多数の吸着孔60Bが設けられている。凹部60は、前記ガラス板Pの厚みに一致した深さに設定され、これにより、ガラス板Pの上面位置すなわち両面粘着シートSの紫外線硬化型粘着剤層との界面外周部分に剥離きっかけ部62が形成できるように構成されている。なお、吸着テーブル60は、図示しない昇降装置を介して昇降可能に設けられ、吸着テーブル60を一時的に下降させることで、ウエハWとガラス板Pとを剥離した後に、当該ウエハWの両面粘着シートSとガラス板Pとが再び接着しないように保たれる。
As shown in FIG. 5, the suction table 60 has a top surface shape having a
前記一対のアーム61,61には段部61A,61Aがそれぞれ形成され、リングフレームRFを載置したときにY方向へのずれを規制するようになっている。アーム61,61の一端側、すなわち、図4中左側手前の一端部間には連結バー66が設けられており、この連結バー66には、リングフレームRFの移動を規制するように保持可能な二つのチャック部材68,68が設けられている。
前記剥離きっかけ部形成装置63は、図5に示されるように、単軸ロボット70と、当該単軸ロボット70に沿って移動可能な起立ブロック71と、この起立ブロック71の上端部に取り付けられたブレード部材72とにより構成されている。ブレード部材72の先端側は、起立ブロック71が単軸ロボット70に沿って移動することで、吸着テーブル60の上面に沿って進退可能に設けられている。そのため、ブレード部材72の先端刃72Aが吸着テーブル60の中央に向かって前進したときに、ガラス板Pと両面粘着テープSの外周縁側から先端刃72Aが入り込んでガラス板Pと両面粘着テープSの紫外線硬化型粘着剤層との界面部分に隙間を形成し、当該隙間を剥離きっかけ部62として形成するようになっている。
As shown in FIG. 5, the peeling trigger
前記駆動手段64は、前記一対のアーム61,61の端部に設けられたブロック74,74を貫通して延びるとともに、図示しない支持フレームに支持された回転軸75と、当該回転軸75を周方向に回転させるモータMとにより構成され、このモータMの駆動により、アーム61,61は、前記回転軸75を回転中心とする一方、連結バー66が設けられている側の一端を自由端として回転可能となっている。すなわち、アーム61,61は、略水平に保たれる初期位置と、前記自由端が上昇してアーム61全体が起立する位置との間で回転可能に設けられている。
The driving means 64 extends through the
前記転着装置20とマウント装置17との間の側方位置には、単軸ロボット77を介して移動可能な移載アーム78が設けられ、この移載アーム78は、前記ダイシングテープDT、補強テープRTを介してリングフレームRFに一体化された処理対象物Aを吸着して前記転着装置20に移載するように構成されている。
A
また、転着装置20の図5中右側領域には、ガラス板除去装置80が設けられている。このガラス板除去装置80は、Y軸方向に延びるシリンダ81に沿って移動可能なスライダ82と、当該スライダ82に設けられたZ軸シリンダ83を介して支持された吸着アーム85と、ガラス板Pを多段型に積み上げて回収可能な昇降タイプの回収テーブル86とにより構成されている。
Moreover, the glass
図1及び図5に示されるように、前記転着装置20によってガラス板Pが剥離されてリングフレームRFに転着されたウエハWは、反転移載装置88を介して剥離装置21側に移載される。この反転移載装置88は、Y軸方向に沿って配置された単軸ロボット89と、この単軸ロボット89に沿って移動するスライダ90に支持された昇降用単軸ロボット91と、当該昇降用単軸ロボット91に沿って移動する昇降スライダ92と、当該昇降スライダ92に回転可能に支持された反転吸着アーム93とにより構成されている。反転吸着アーム93は、前記リングフレームRFの上面部分を吸着した後に、剥離用吸着テーブル100に移載したり、後述する受け取り装置94からリングフレームRF反転時にリングフレームRFを受け取ったりするように設けられている。
As shown in FIGS. 1 and 5, the wafer W from which the glass plate P has been peeled off by the
前記受け取り装置94は、図1及び図6に示されるように、Z軸単軸ロボット96と、このZ軸単軸ロボット96に支持されたスライダ97と、当該スライダ97に支持された昇降吸着アーム98とを備え、当該昇降吸着アーム98は、後述する補強テープRTの剥離後にリングフレームRF部分を吸着して前記反転吸着アーム93に受け渡すようになっている。
As shown in FIGS. 1 and 6, the receiving
前記剥離装置21は、図6に示されるように、前記剥離用吸着テーブル100をX方向に沿って移動可能に支持する一対のガイドレール101,101と、これらガイドレール101間に配置されるとともに、前記剥離用吸着テーブル100の下面側に位置する図示しないナット部材を貫通して延びる送りねじ軸102と、補強テープRT及び両面粘着シートSを剥離する剥離ユニット105とにより構成されている。
As shown in FIG. 6, the peeling device 21 is disposed between a pair of
剥離ユニット105は、剥離用テープ供給部106と、剥離用テープ接着部107と、剥離用テープ引っ張り部108とにより構成されている。剥離用テープ供給部106は、Z軸方向に延びる第1のシリンダ110に沿って昇降可能に支持された第1の昇降板111と、この第1の昇降板111の面内に配置されるとともに、ロール状に巻回された剥離用テープPTを支持する支持ロール112と、剥離用テープPTのガイドロール113と、剥離用テープPTを略水平姿勢に案内するガイド部材115とにより構成されている。ガイド部材115は、水平シリンダ117に連結された略L字状のブラケット120を備え、当該ブラケット120は、その長片側が略水平面内に位置して剥離用テープPTを上面側で案内するように設けられている。
The peeling unit 105 includes a peeling
前記剥離用テープ接着部107は、Z軸方向に延びる第2のシリンダ121と、当該第2のシリンダ121に昇降可能に支持された第2の昇降板122と、この第2の昇降板122の面内に配置されたカッター刃123と、当該カッター刃123の下部に位置するカッター受け124と、カッター刃123の隣接位置に設けられた溶着ユニット125とにより構成されている。カッター受け124は、第2の昇降板122の裏面に設けられた図示しないシリンダによって、当該第2の昇降板122の面に対して出没自在に支持されているとともに、カッター刃123はカッター受け124に向かって進退可能に設けられている。また、溶着ユニット125は、シリンダ本体127の下端から下方に延びるピストンロッド128の下端にヒートブロック129を備えており、当該ヒートブロック129が剥離用テープPTを補強テープRT或いはウエハW上の両面粘着シートSに溶着するように構成されている。
The peeling
前記剥離シート引っ張り部108は、前記剥離用テープ供給部106と剥離用テープ接着部107に対向する位置で前記ガイドレール101に沿うシリンダ130と、このシリンダ130に沿って移動するスライダ132と、当該スライダ132に支持されたアーム134の先端に設けられたチャック136とからなる。チャック136は、下顎136A及び上顎136Bとからなり、これら下顎136A及び上顎136B間の空間を閉塞させることで、剥離用テープPTを挟み込んでこれを保持するように設けられている。従って、チャック136が剥離用テープPTを挟み込み、且つ、剥離用テープPTの一部が補強テープRT或いは両面粘着シートSに溶着された後に、図7(B)、(D)中右側にチャック136を移動させることで、補強テープRT或いは両面粘着シートSが引っ張られてダイシングテープDTやウエハWの面から次第に剥離されることとなる。なお、剥離された補強テープRT、両面粘着シートSは、図示しない廃棄ボックスに廃棄される。
The peeling
図6に示されるように、剥離用テープ接着部107の側方には、最終移載装置140が配置されている。この最終移載装置140は、X軸方向に延びるシリンダ141と、このシリンダ141に支持されたスライダ142と、当該スライダ142に昇降可能に支持された吸着アーム144とからなる。吸着アーム144は、下方に移動してきた剥離用テーブル100上のリングフレームRFを吸着し、前記ガイドレール101の延長線上に位置する断面L字状をなす一対の通路形成体145,145間に、リングフレームRFに一体化されたウエハWを移載するようになっている。そして、通路形成体145間に移載されたリングフレームRFは、通路形成体145間に配置されたキッカー146を介してストッカ23に収容されるように構成されている。
As shown in FIG. 6, a
次に、本実施形態におけるウエハ処理装置10の全体的な動作について説明する。
Next, the overall operation of the
マガジン11に収容された処理対象物Aは、ロボットアーム12によって一つずつ取り出されて紫外線照射装置13に移載される。紫外線照射装置13では、処理対象物Aのガラス板P越しに紫外線を照射して両面粘着シートSの紫外線硬化型粘着剤層を硬化させておき、後工程における剥離に備えられる。
The processing objects A stored in the
紫外線照射が行われた処理対象物Aは、吸着アーム37によってアライメント装置16に移載され、当該アライメント装置16にて結晶方位の特定と芯出しが行われる。そして、アライメントされた処理対象物Aは、ロボットアーム12を介してマウント装置17のマウントテーブル40に移載される。この際、マウントテーブル40には、移載アーム43の作動によってリングフレームRFが予め移載されている。
The processing object A that has been irradiated with ultraviolet rays is transferred to the
マウントテーブル40に移載された処理対象物AとリングフレームRFの上面側には、マウントテーブル40が第1の貼付ユニット41A及び第2の貼付ユニット41Bの下方を通過する方向に移動する際に、各ユニット41A、41Bのピールプレート51A、51Bの先端位置で順次剥離されるダイシングテープDT及び補強テープRTがプレスロール52A、52Bによる押圧力を受けて貼付され、これにより、処理対象物AとリングフレームRFとが一体化されることとなる。
When the mount table 40 moves on the upper surface side of the processing object A and the ring frame RF transferred to the mount table 40 in a direction passing below the
このようにして一体化された処理対象物AとリングフレームRFは、マウントテーブル40が転着装置20側に移動したときに、その上方に待機している移載アーム78に吸着保持されて転着装置20に移載される。この移載が完了した状態では、転着装置20の吸着テーブル60の中央部に設けられた凹部60A内にガラス板Pが受容されて吸着保持される一方、リングフレームRFは、アーム61,61の各内側に形成された段部61A,61A内に受容され、この状態で、連結バー65側に設けられたチャック部材68がリングフレームRFの外周部分を挟み込むこととなる。次いで、剥離きっかけ部形成装置63が作動し、ブレード部材72が吸着テーブル60の上面に沿って処理対象物Aの中心方向に前進し、ガラス板Pと両面粘着シートSの紫外線硬化型粘着剤層との外周縁部分における界面に先端刃72Aが所定量入り込むことで隙間が形成され、当該隙間によって剥離きっかけ部62が形成される。
When the mount table 40 moves to the
次いで、駆動手段64のモータMが駆動し、一対のアーム61,61の自由端側が吸着テーブル60から上方に離間するように回転して初期の水平位置から起立する方向に角度変位する。この変位角度の増大に伴ってガラス板Pと両面粘着シートSとの接着面積は次第に減少し、一定の起立角度、例えば、略45度程度までアーム61が回転したときに、両者の接着面積がゼロとなり、ウエハWは、両面粘着シートSと共にガラス板Pから完全に剥離されてウエハWがリングフレームRFに転着されることとなる。この際、ウエハWは、ダイシングテープDTと補強テープRTによって支持されているため、ダイシングテープが伸びてしまうような不都合はなく、これによりガラス板Pの剥離を確実に行うことができる。
Next, the motor M of the driving means 64 is driven, and the free ends of the pair of
前記剥離が終了すると、アーム61,61が初期の水平姿勢に復帰する。この際、吸着テーブル60は、上面位置を僅かに低くする方向に下降し、ウエハWの下面側に存在する両面粘着シートSがガラス板Pに再び接着することがないように保たれる。そして、初期の水平姿勢に戻されたリングフレームRF及びこれに転着して一体化されているウエハWは、反転移載装置88の反転吸着アーム93に吸着保持され、剥離用テーブル100に移載される(図7(A)参照)。この段階では、剥離用テーブル100上のウエハWは、補強テープRTが上面側になるように載置される。なお、リングフレームRFがウエハWと共に移載された後において、転着装置20の吸着テーブル60には、ガラス板Pが残された状態となるが、当該ガラス板Pは、ガラス除去装置80の吸着アーム85に吸着されて回収テーブル86に収容される。
When the peeling is completed, the
前記補強テープRTは、剥離用テーブル100が剥離装置21の下方を通過する際に剥離される。すなわち、剥離用テーブル100が剥離ユニット105の下方に移動して、剥離用テープPTを補強テープRTの端部側に溶着し、剥離用テープPTを挟持するチャック136が横方向に相対移動することで補強用テープRTをダイシングテープDTから剥離することができる(図7(B)参照)。この際、補強用テープRTは、ダイシングテープDTよりも外形すなわち直径が小さく設定されているため、ダイシングテープDTがリングフレームRFから剥がれてしまうような不都合は生じない、なお、剥離動作若しくは作用は、前述した既提案の特願2004−343736号と実質的に同一である。
The reinforcing tape RT is peeled off when the peeling table 100 passes below the peeling device 21. That is, the peeling table 100 moves below the peeling unit 105, the peeling tape PT is welded to the end portion side of the reinforcing tape RT, and the
補強テープRTが剥離された後は、剥離用テーブルが前記受け取り装置94側に復帰して当該受け取り装置94によってリングフレームRFに一体化されているウエハWが吸着されて上昇し、その下面側に反転吸着アーム93が位置してリングフレームRFを吸着し、その上下を反転して、剥離用テーブル100上に再度移載し、これにより、両面粘着シートSが上面側に表出した状態とされる。そして、前記補強テープRTを剥離した動作と同様にして、両面粘着シートSが剥離ユニット105を介して剥離される。
After the reinforcing tape RT is peeled off, the peeling table returns to the receiving
両面粘着シートSが剥離された後のウエハWは、リングフレームRFと共に吸着されてストッカ23に収納され、所定のストック量に達した後に、ダイシング、ダイボンディング等の後工程処理が行われる。
The wafer W from which the double-sided pressure-sensitive adhesive sheet S has been peeled is adsorbed together with the ring frame RF and stored in the
従って、このような実施形態によれば、ウエハWを極薄に研削するためにガラス板Pが用いられた場合であっても、ダイシングテープDTに補強テープRTが貼り付けられているため、ガラス板を剥離する際に、ダイシングテープが伸びてしまう不都合を解消してガラス板の剥離を確実に行うことができる。
また、補強テープDTは、剥離ユニットを介してダイシングテープから剥離される構成であるため、ダイシング後のチップをピックアップする際に、チップの突き上げは従来と同様にスムースに行うことが可能となる。
Therefore, according to such an embodiment, even when the glass plate P is used to grind the wafer W to an extremely thin thickness, the reinforcing tape RT is attached to the dicing tape DT. When the plate is peeled off, the inconvenience that the dicing tape is stretched can be eliminated and the glass plate can be peeled off reliably.
Further, since the reinforcing tape DT is peeled off from the dicing tape via the peeling unit, when the chip after dicing is picked up, the chip can be pushed up smoothly as before.
以上のように、本発明を実施するための最良の構成、方法等は、前記記載で開示されているが、本発明は、これに限定されるものではない。
すなわち、本発明は、主に特定の実施形態に関して特に図示、説明されているが、本発明の技術的思想及び目的の範囲から逸脱することなく、以上説明した実施形態に対し、形状、位置若しくは配置等に関し、必要に応じて当業者が様々な変更を加えることができるものである。
As described above, the best configuration, method, and the like for carrying out the present invention have been disclosed in the above description, but the present invention is not limited to this.
That is, the present invention has been illustrated and described mainly with respect to specific embodiments, but the shape, position, or position of the above-described embodiments can be reduced without departing from the scope of the technical idea and object of the present invention. With respect to the arrangement and the like, those skilled in the art can make various changes as necessary.
例えば、戦記実施形態では、脆質部材が半導体ウエハWである場合を示したが、その他の脆質な板状体を転着する場合にも適用可能である。 For example, in the war record embodiment, the case where the brittle member is the semiconductor wafer W has been shown, but the present invention can also be applied to the case of transferring another brittle plate-like body.
10 ウエハ処理装置
41A 第1の貼付ユニット
41B 第2の貼付ユニット
A 処理対象物
DT ダイシングテープ(第1の接着テープ)
RT 補強テープ(第2の接着テープ)
RF リングフレーム(保持部材)
P ガラス板(硬質部材)
S 両面粘着シート
W 半導体ウエハ(脆質部材)
DESCRIPTION OF
RT reinforcing tape (second adhesive tape)
RF ring frame (holding member)
P glass plate (hard material)
S Double-sided adhesive sheet W Semiconductor wafer (brittle member)
Claims (7)
前記第1の接着テープの前記脆質部材が接着している面の反対側に、第2の接着テープを貼り付けて前記転着を行うことを特徴とする脆質部材の処理装置。 In the processing apparatus of the brittle member which makes the brittle member affixed to the hard member an object to be processed, peels the brittle member from the hard member and transfers it to the first adhesive tape provided in a predetermined frame,
An apparatus for treating a brittle member, wherein the transfer is performed by attaching a second adhesive tape to the opposite side of the surface of the first adhesive tape to which the brittle member is bonded.
前記第1の接着テープの前記半導体ウエハが接着している面の反対側に、第2の接着テープを貼り付けて前記転着を行うことを特徴とする脆質部材の処理装置。 Processing of a brittle member having a semiconductor wafer attached to a hard member via a double-sided adhesive tape as an object to be processed, peeling the semiconductor wafer from the hard member and transferring it to a first adhesive tape attached to a ring frame In the device
An apparatus for treating a brittle member, wherein the transfer is performed by attaching a second adhesive tape to the opposite side of the surface of the first adhesive tape to which the semiconductor wafer is bonded.
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