JP2006242222A - Integrated gas control device and its method - Google Patents

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Tatsuo Araki
達雄 荒木
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an integrated gas control device which is highly integrated with piping equipment to be mounted thereon, for improving the foot-print performance of a whole manufacturing device, when mounted on the manufacturing device such as a semiconductor manufacturing device by miniaturizing a control device body, and to provide its method. <P>SOLUTION: A plurality of opening portions 14 are formed in surface and reverse 13a, 13b of a flow path plate 13 having a gas flow path 12, in communication with the flow path. The opening portions 14 are arranged in zigzag along the surface and reverse 13a, 13b of the flow path plate 13. The piping equipment 100 is arranged in each of the opening portions 14 to hold the surface and reverse 13a, 13b of the flow path plate 13. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、半導体、液晶等のプロセス工程において、手動弁、自動弁、マスフロコントローラ等の各種の配管機器を搭載してプロセスガス等のガス流体を流量制御するための集積化ガス制御装置と集積化ガス制御方法に関する。   The present invention provides an integrated gas control device for controlling the flow rate of a gas fluid such as a process gas by mounting various piping devices such as a manual valve, an automatic valve, and a mass flow controller in a process step such as semiconductor and liquid crystal. The present invention relates to an integrated gas control method.

集積弁等の配管機器を搭載して構成される集積化ガス制御装置は、通常1つの流体の制御ラインに対して1本のベースレールである略レール状の装着部位を設けたベース板を設け、このベースレールに対して内部にガス流路を形成したジョイントである流路ブロックを設置し、この流路ブロックに対して各配管機器を載置した状態で配管機器に設けたフランジ部分をボルトで締め付けて一体に固着している。配管機器と流路ブロックとの間にはガスケットを装着し、ボルトの締付け時にはこのガスケットを挟着するように押し潰すことでメタルタッチによって配管機器と流路ブロックとの間をシールし、これらの接続部分からのガス漏れを防ぐ構造となっている。   An integrated gas control device configured by mounting piping equipment such as an integrated valve is usually provided with a base plate provided with a substantially rail-shaped mounting portion that is one base rail for one fluid control line. A flow path block, which is a joint in which a gas flow path is formed inside, is installed on the base rail, and the flange portion provided on the piping equipment is bolted in a state where each piping equipment is placed on the flow path block. Tightened with and firmly attached. A gasket is installed between the piping equipment and the flow block, and when tightening the bolts, the gasket is crushed so as to sandwich the gasket to seal between the piping equipment and the flow block by metal touch. The structure prevents gas leakage from the connection.

流路ブロック内部には、隣接する配管機器の入口側と出口側の流路を連結するための流路穴が形成され、この流路穴は、例えば、加工機などによって穴あけ加工して形成される。流路穴は流路ブロックの一面側に開口するように設けられ、この流路穴の入口側と出口側の開口部には、隣接する一方側の配管機器の入口側、又は他方側の配管機器の出口側の流路を接続するように取付け固定し、各配管機器を所定の順序で流路ブロックの片側に配設して集積化ガス制御装置全体の流路を構成している。   Inside the channel block, a channel hole for connecting the inlet side and outlet side channels of adjacent piping devices is formed, and this channel hole is formed by drilling with a processing machine or the like, for example. The The flow path hole is provided so as to open to one surface side of the flow path block, and the inlet side and the outlet side of the adjacent one side piping device are provided at the inlet side and the outlet side of the flow path hole. The flow path on the outlet side of the equipment is attached and fixed so as to be connected, and each piping equipment is arranged on one side of the flow path block in a predetermined order to constitute the flow path of the integrated gas control apparatus as a whole.

この種の集積化ガス制御装置としては、例えば、ユニット取付面と、配管機器間を接続するガス流路が断続的に形成され、このような流路端部の開口が取付面に開設されたベースブロックに対してフィルター、レギュレータ、バルブ等の集積ユニットを連設したものがある(例えば、特許文献1参照。)。各集積ユニットは、取付プレートによってベースブロックの取付面にボルト固着され、ベースブロックの一面側に固定されている。
ベースブロック内部のガス流路は、集積ユニットの間に位置し、V字状に一面側に流路を開口させたV字流路と、各端面側に一方の流路が開設された供給流路と排出流路によって形成され、隣接する集積ユニットのポートを接続している。
As this type of integrated gas control device, for example, a unit mounting surface and a gas flow path connecting between piping devices are formed intermittently, and such an opening at the end of the flow channel is opened in the mounting surface. There is one in which integrated units such as a filter, a regulator, and a valve are connected to the base block (for example, see Patent Document 1). Each integrated unit is bolted to the mounting surface of the base block by a mounting plate and fixed to one surface side of the base block.
The gas flow path inside the base block is located between the integrated units, and is a V-shaped flow path having a flow path opened on one side in a V shape, and a supply flow in which one flow path is opened on each end face side. It is formed by a channel and a discharge channel, and connects the ports of adjacent integrated units.

また、プロセスガスを取り扱うガスパネル組立体用のプロセスガスラインにおいて、プロセスガス等のガスを送給する内部ガス通路を有し、接続ポートとガス流れ連通状態にてマニホルド面から伸長する、取付け装置に対する内部ガス通路と連通状態にて、マニホルド面に沿った複数の装置接続ポートを有する単一体マニホルドを備えたプロセスガスラインがある(例えば、特許文献2参照。)。マニホルド内には穴を穿孔することで流路が形成され、隣接する能動的装置領域同士は、開孔と穴によって形成される断面V字形の接続穴によって接続されてマニホルドの一面側に取付けられ、接続穴を介して装置から次の装置へガスを供給可能にしている。   In addition, in a process gas line for a gas panel assembly for handling process gas, the mounting device has an internal gas passage for supplying gas such as process gas and extends from the manifold surface in a gas flow communication state with the connection port. There is a process gas line with a single body manifold having a plurality of device connection ports along the manifold surface in communication with the internal gas passages for (see, for example, Patent Document 2). A flow path is formed by drilling a hole in the manifold, and adjacent active device regions are connected to one side of the manifold by a connection hole having a V-shaped cross section formed by the opening and the hole. The gas can be supplied from the device to the next device through the connection hole.

また、例えば、図5に示すような集積化ガス制御装置がある。このガス制御装置1は、板状のベース体2の内部に凹型形状の流路穴3を形成することにより、ベース体2にバルブ、レギュレータ、圧力センサ等の各配管機器4の流路接続用のガス流出口5とガス流入口6を形成している。各配管機器4は、ベース体2に対して1方向側である表面2a側に取付けられ、取付け時には、ガス流出口5、ガス流入口6に流路を合わせるように配管機器4を載置し、この状態で各配管機器4に固着した取付プレート7を固着ボルト8で固着して取付け、配管機器4は、ベース体2の上に並設した状態で取付けられている。
このように、特許文献1、2並びに図5の集積化ガス制御装置を含む集積化ガス制御装置においては、何れに場合においても各配管機器がベース体の1面側に取付けられている。
また、配管機器4の搭載間隔は、通常、基本性能として定まっており、例えば、マスフロコントローラ9を除く各配管機器同士の取付けピッチは、40mmと定められているのが一般的である。
特開2000−171000号公報 特表2001−521120号公報
Further, for example, there is an integrated gas control device as shown in FIG. This gas control device 1 is used for connecting a flow path of each piping device 4 such as a valve, a regulator, and a pressure sensor to the base body 2 by forming a concave flow path hole 3 inside the plate-shaped base body 2. The gas outlet 5 and the gas inlet 6 are formed. Each piping device 4 is attached to the surface 2a side which is one direction side with respect to the base body 2, and at the time of installation, the piping device 4 is placed so that the flow path is aligned with the gas outlet 5 and the gas inlet 6. In this state, the mounting plate 7 fixed to each piping device 4 is fixed and fixed with fixing bolts 8, and the piping device 4 is mounted in a state of being arranged side by side on the base body 2.
Thus, in the integrated gas control device including the integrated gas control device of Patent Documents 1 and 2 and FIG. 5, in each case, each piping device is attached to one surface side of the base body.
Further, the mounting interval of the piping devices 4 is usually determined as basic performance. For example, the mounting pitch between the piping devices except the mass flow controller 9 is generally set to 40 mm.
JP 2000-171000 A JP-T-2001-521120

上述したように、配管機器の取付けピッチは基本性能として一定の値に決まっているために、この取付けピッチに即して配管機器を搭載する必要がある。図5の集積化ガス制御装置1のようにベース体2の1平面上に配管機器4を並設して搭載する場合、各配管機器4は少なくとも取付プレート7の寸法以上の取付け寸法が必要となる。また、これをスパン(配管機器4同士の間隔)の合計で表す場合、例えば、図においてマスフロコントローラ9より右側に搭載した5個の配管機器4に挟まれたスパンの数は4個となっており、スパンのピッチの長さをlとすると、ガス流路(ライン)の流れ方向では、スパン4(個)×スパンのピッチの長さl:40(mm)=160(mm)以上の取付け寸法が必要となっていた。ピッチの長さlは、配管機器4をベース体2に固定するために最低限必要な長さであるため、集積化ガス制御装置1の全体長さをこれ以上短くすることはできず、この種のガス制御装置1は、図示しない外部の流路を連結する連結部2b、2c間の距離であるスティック長さ(ガス制御装置全体の長さ)Yが長くなっていた。このためガス制御装置1の設置場所が限られていた。   As described above, since the mounting pitch of the piping equipment is determined to be a constant value as the basic performance, it is necessary to mount the piping equipment according to this mounting pitch. When the piping devices 4 are mounted side by side on one plane of the base body 2 as in the integrated gas control device 1 of FIG. 5, each piping device 4 needs to have a mounting dimension that is at least the dimension of the mounting plate 7. Become. In addition, when this is expressed as the total of spans (intervals between the piping devices 4), for example, the number of spans sandwiched between five piping devices 4 mounted on the right side of the mass flow controller 9 in the figure is four. In the flow direction of the gas flow path (line), span 4 (pieces) × span pitch length l: 40 (mm) = 160 (mm) or more Mounting dimensions were required. Since the length l of the pitch is a minimum length necessary for fixing the piping device 4 to the base body 2, the entire length of the integrated gas control device 1 cannot be further reduced. The seed gas control apparatus 1 has a long stick length (the entire length of the gas control apparatus) Y, which is the distance between the connecting portions 2b and 2c that connect external flow paths (not shown). For this reason, the installation place of the gas control apparatus 1 was limited.

このため、例えば、集積化ガス制御装置を用いて半導体製造装置などの装置(以下、製造装置という)を設ける場合、製造装置における集積化ガス制御装置の配置スペースが大きくなるという問題が生じ、製造装置の設計時にはこの設置スペースの確保が設計上の大きな制約事項となっていた。このように、ベース体1の一平面上に配管機器4を並設するタイプの集積化ガス制御装置は、全体が大型化するため製造装置全体のレイアウトが難しくなり、結果的に製造装置全体が大型化し、ひいてはフットプリントの点において問題を有していた。以上のように、この種のタイプの集積化ガス制御装置は、製造装置への設置箇所が限られて高集積化が難しくなっていた。   For this reason, for example, when an apparatus such as a semiconductor manufacturing apparatus (hereinafter referred to as a manufacturing apparatus) is provided using an integrated gas control apparatus, there arises a problem that an arrangement space of the integrated gas control apparatus in the manufacturing apparatus increases. Ensuring this installation space was a major design constraint when designing the device. As described above, the integrated gas control device of the type in which the piping device 4 is arranged in parallel on one plane of the base body 1 is large in size, so that it is difficult to lay out the entire manufacturing device. There was a problem in terms of the footprint and the footprint. As described above, this type of integrated gas control device is difficult to achieve high integration due to limited installation locations in the manufacturing apparatus.

本発明は、従来の課題点に鑑みて開発したものであり、その目的とするところは、高集積化により配管機器を搭載できる集積化ガス制御装置であり、制御装置本体を小型化することにより半導体製造装置などの製造装置に搭載した場合に、製造装置全体のフットプリント性を向上させることができる集積化ガス制御装置と集積化ガス制御方法を提供することにある。   The present invention has been developed in view of the conventional problems, and an object of the present invention is an integrated gas control device that can be equipped with piping equipment by high integration, and by downsizing the control device main body. An object of the present invention is to provide an integrated gas control device and an integrated gas control method capable of improving the footprint of the entire manufacturing apparatus when mounted on a manufacturing apparatus such as a semiconductor manufacturing apparatus.

上記の目的を達成するため、請求項1に係る発明は、ガス流路を有する流路プレートの表裏面に当該流路に連通する開口部を複数個あけ、これらの開口部は流路プレートの表裏面に沿って千鳥状態に配設すると共に、各開口部にそれぞれ配管機器を流路プレートの表裏面を挟持するように配置した集積化ガス制御装置である。   In order to achieve the above object, the invention according to claim 1 is provided with a plurality of openings communicating with the flow path on the front and back surfaces of the flow path plate having the gas flow path. The integrated gas control device is arranged in a zigzag state along the front and back surfaces, and the piping device is disposed in each opening so as to sandwich the front and back surfaces of the flow path plate.

請求項2に係る発明は、複数個の開口部は、流路プレートの表裏面に配置される配管機器の流入口と流出口から成る集積化ガス制御装置である。   The invention according to claim 2 is the integrated gas control device in which the plurality of openings are composed of an inlet and an outlet of a piping device arranged on the front and back surfaces of the flow path plate.

請求項3に係る発明は、流路プレートの表裏面に形成した開口部に配管機器を配設して当該配管機器を流路プレートの表裏面に千鳥状態に配置した集積化ガス制御装置である。   The invention according to claim 3 is an integrated gas control device in which piping equipment is disposed in openings formed on the front and back surfaces of the flow path plate, and the piping equipment is disposed in a staggered manner on the front and back surfaces of the flow path plate. .

請求項4に係る発明は、ガス流路は、流路プレートの一次側配管機器の出口側流路から二次側配管機器の入口側流路にかけてテーパ状流路と逆テーパ状流路を順次形成した集積化ガス制御装置である。   In the invention according to claim 4, in the gas flow path, the tapered flow path and the reverse tapered flow path are sequentially formed from the outlet side flow path of the primary side piping equipment to the inlet side flow path of the secondary side piping equipment. It is the integrated gas control apparatus which was formed.

請求項5に係る発明は、配管機器は、バルブ、レギュレータ、圧力センサ、マスフロコントローラその他の機器である集積化ガス制御装置である。   The invention according to claim 5 is the integrated gas control device in which the piping device is a valve, a regulator, a pressure sensor, a mass flow controller, or other devices.

請求項6に係る発明は、流路プレートに形成したガス流路にガス流体を供給し、このガス流路を流路プレートの表裏面に沿って千鳥状態に配設した流入口と流出口を有する開口部に順次供給し、当該流路プレートの表裏面の開口部に千鳥状態に順次配置した配管機器でガス制御を行うようにした集積化ガス制御方法である。   The invention according to claim 6 supplies the gas fluid to the gas flow path formed in the flow path plate, and has an inlet and an outlet that are arranged in a zigzag state along the front and back surfaces of the flow path plate. This is an integrated gas control method in which gas control is performed with piping equipment that is sequentially supplied to the openings having the flow path and sequentially arranged in a zigzag manner in the openings on the front and back surfaces of the flow path plate.

請求項1に係る発明によると、配管機器を効率的に搭載して全体を小型化できる集積化ガス制御装置であり、限られたスペースの設置箇所に所定数の配管機器を高集積化によって搭載することができるため、あらゆる取付け場所に応用して配置することのできる集積化ガス制御装置である。よって、この集積化ガス制御装置本体を半導体製造装置等の製造装置に搭載することにより製造装置全体の省スペース化を図ることができ、フットプリント性を向上させることが可能となる。
更には、チャンバーに直付けするなどのガス系の装置周りにも配設でき、様々な設置箇所に対してフレキシブルに対応でき、制御装置本体に搭載する配管機器のラインの構成の変更も容易に行うことができる集積化ガス制御装置である。
また、例えば、1枚の板状部材から簡単に流路プレートを構成することができ、流路プレートを板状にすることにより、溶接・研磨等の製造工程において工数を削減することができ、容易に製造できる集積化ガス制御装置である。
The invention according to claim 1 is an integrated gas control device that can efficiently mount piping equipment and reduce the overall size, and a predetermined number of piping equipment is mounted in a limited space by high integration. Therefore, it is an integrated gas control device that can be applied to any installation location. Therefore, by mounting this integrated gas control device main body on a manufacturing apparatus such as a semiconductor manufacturing apparatus, it is possible to save space in the entire manufacturing apparatus and improve the footprint.
Furthermore, it can be installed around gas-type devices such as directly attached to the chamber, can be flexibly adapted to various installation locations, and it is easy to change the line configuration of piping equipment mounted on the control device body. An integrated gas control device that can be implemented.
In addition, for example, a flow path plate can be configured easily from a single plate-like member, and by making the flow path plate into a plate shape, man-hours can be reduced in manufacturing processes such as welding and polishing, It is an integrated gas control device that can be easily manufactured.

請求項2に係る発明によると、流路プレートの表裏面に配管機器を効率良く配設することができ、制御装置本体を小型化できる集積化ガス制御装置である。   According to the invention which concerns on Claim 2, it is an integrated gas control apparatus which can arrange | position piping equipment to the front and back of a flow-path plate efficiently, and can reduce a control apparatus main body.

請求項3に係る発明によると、全体をコンパクト化しつつ形成できる集積化ガス制御装置であり、設置時の長さを大幅に短縮してあらゆる箇所に取付けが可能となる。   According to the third aspect of the present invention, the integrated gas control device can be formed while being made compact as a whole, and the length at the time of installation can be greatly shortened, and it can be attached to any location.

請求項4に係る発明によると、接続し合う配管機器の出口側流路と入口側流路を直線状に形成することができるため、ガス流体を滞留させることなくスムーズに流すことができ、パーティクルの発生も防ぐことができる集積化ガス制御装置である。また、流路を容易に成形加工することもできる集積化ガス制御装置である。   According to the invention of claim 4, since the outlet side channel and the inlet side channel of the piping equipment to be connected can be formed in a straight line, the gas fluid can flow smoothly without stagnation. This is an integrated gas control device that can prevent the occurrence of gas. Further, the integrated gas control device can easily form the flow path.

請求項5に係る発明によると、各種の配管機器を搭載することができ、必要な流路構成に応じて配管機器の組み合わせを変更して、所望のガス制御機能を発揮する制御装置本体を構成することができる集積化ガス制御装置である。   According to the invention which concerns on Claim 5, various piping equipment can be mounted, the combination of piping equipment is changed according to required flow path structure, and the control apparatus main body which exhibits a desired gas control function is comprised. An integrated gas control device that can.

請求項6に係る発明によると、限られたスペースの設置箇所に所定数の配管機器を高集積化によって搭載した集積化ガス制御装置に対して、ガス流体をスムーズに流しながら制御を行うことができ、内部のガス流体が滞留するのを防いだり、パーティクルの発生を防止して高精度の流体を確実にガス制御することができる集積化ガス制御方法である。   According to the invention which concerns on Claim 6, it is possible to perform control while smoothly flowing the gas fluid to the integrated gas control device in which a predetermined number of piping devices are installed in a limited space by high integration. This is an integrated gas control method that can prevent the internal gas fluid from staying or prevent the generation of particles to reliably control the gas with high precision.

本発明における集積化ガス制御装置の実施形態及びその作用と集積化ガス制御方法を図面に基づいて詳細に説明する。
図1乃至図4において、本発明における集積化ガス制御装置を示している。集積化ガス制御装置本体10には、プロセスガス等の流体を供給制御するガス制御ライン11を設けている。ガス制御ライン11は、縦型形状に設けられた各配管機器100とプレート状の流路プレート13内部に設けたガス流路12と連通させることで構成され、流路プレート13に配管機器100を搭載することで制御装置本体10が構成される。本実施形態においては、図2に示すように、ガス流路12を流体プレート10に複数並設し、各ガス流路12に配管機器100を配置して複数のガス制御ライン11を構成するようにしている。
An embodiment of an integrated gas control device according to the present invention, its operation, and an integrated gas control method will be described in detail with reference to the drawings.
1 to 4 show an integrated gas control apparatus according to the present invention. The integrated gas control device main body 10 is provided with a gas control line 11 for controlling supply of fluid such as process gas. The gas control line 11 is configured by communicating each piping device 100 provided in a vertical shape with the gas flow path 12 provided in the plate-shaped flow path plate 13, and the piping device 100 is connected to the flow path plate 13. The control device main body 10 is configured by mounting. In the present embodiment, as shown in FIG. 2, a plurality of gas flow paths 12 are arranged side by side on the fluid plate 10, and piping devices 100 are arranged in each gas flow path 12 to form a plurality of gas control lines 11. I have to.

流路プレート13の表裏面13a、13bには、ガス流路12に連通する開口部14を複数個あけており、この開口部14は、流路プレート13の表裏面13a、13bに配置される配管機器100の流入口14aと流出口14bとから成り、この開口部14は、図1に示すように流路プレート13の表裏面13a、13bに沿って千鳥状態に配設される。流入口14a、流出口14bには、開口部14に配置する配管機器100の入口側流路100b、出口側流路100cがそれぞれ接続される。ガス流路12は、一次側配管機器100の出口側流路100cから二次側配管機器100の入口側流路100bにかけてテーパ状流路と逆テーパ状流路を順次形成したものとなっている。   A plurality of openings 14 communicating with the gas flow path 12 are formed in the front and back surfaces 13 a and 13 b of the flow path plate 13, and the openings 14 are arranged on the front and back faces 13 a and 13 b of the flow path plate 13. It consists of the inlet 14a and the outlet 14b of the piping apparatus 100, and this opening part 14 is arrange | positioned in zigzag state along the front and back surfaces 13a and 13b of the flow-path plate 13, as shown in FIG. The inlet side channel 100b and the outlet side channel 100c of the piping device 100 disposed in the opening 14 are connected to the inlet port 14a and the outlet port 14b, respectively. The gas flow path 12 is formed by sequentially forming a tapered flow path and a reverse tapered flow path from the outlet side flow path 100 c of the primary side piping device 100 to the inlet side flow path 100 b of the secondary side piping device 100. .

開口部14の加工は、図示しない穿孔ドリル等を有する制御加工機によって行い、加工時には、流路プレート13の肉厚方向から所定の傾斜を設けながら貫通させるようにして形成する。制御加工機はコンピュータ制御などによって制御し、1枚の板状部材を連続的に加工して開口部14を形成でき、このため、短時間での加工を可能にしている。
図1において、1組の開口部14から他の開口部14までのピッチの長さ(配管機器100同士のピッチ)pは、同一長さによって形成し、このように配管機器100の搭載間隔を同じにすることで各配管機器100の搭載方向の載置面積を同じにしたときに、配管機器100を何れの開口部14に対しても接続可能とすることができ、制御装置本体10の流路の変更などに伴って配管機器100の取付け位置や取付け順序が変わったとしても、取付けが可能であり、新たに流路プレートを形成する必要がない。
ここで、開口部14から他の開口部14までのピッチの長さpを40mmとすると、制御装置本体10におけるマスフロコントローラ107より右側に搭載された5個の配管機器100が搭載されている取付け寸法は、図1に示されるように2個のスパンのピッチの長さpで済み、スパン2(個)×スパンのピッチの長さp:40(mm)=80(mm)の取付け寸法に抑えることができる。この取付け寸法は、図5における5個の配管機器を一面側に並設した場合の取付け寸法である160(mm)に比較して大幅に短くなっており、従って、制御装置本体10の後述する接続部22、23同士の距離であるスティック長さ(制御装置本体10の全体長さ)Xを図5のスティック長さYに対して大幅に短縮することが可能となっている。
The opening 14 is processed by a control processing machine having a drill drill or the like (not shown), and is formed so as to be penetrated while providing a predetermined inclination from the thickness direction of the flow path plate 13 at the time of processing. The controlled processing machine can be controlled by computer control or the like, and can continuously process one plate-like member to form the opening 14, thereby enabling processing in a short time.
In FIG. 1, the pitch length (pitch between the piping devices 100) p from one set of openings 14 to the other openings 14 is formed by the same length, and thus the mounting interval of the piping devices 100 is set as described above. When the same mounting area in the mounting direction of each piping device 100 is made the same, the piping device 100 can be connected to any opening 14, and the flow of the control device main body 10 can be changed. Even if the mounting position or mounting order of the piping device 100 is changed due to a change in the path or the like, the piping device 100 can be mounted and there is no need to newly form a flow path plate.
Here, if the length p of the pitch from the opening 14 to the other opening 14 is 40 mm, the five piping devices 100 mounted on the right side of the mass flow controller 107 in the control device body 10 are mounted. As shown in FIG. 1, the mounting dimension may be the length p of the pitch of two spans, and the mounting dimension of span 2 (pieces) × span pitch length p: 40 (mm) = 80 (mm) Can be suppressed. This mounting dimension is significantly shorter than 160 (mm), which is the mounting dimension when five piping devices in FIG. 5 are arranged side by side, and therefore, the control device body 10 will be described later. The stick length X (the overall length of the control device main body 10) X, which is the distance between the connecting portions 22 and 23, can be greatly reduced with respect to the stick length Y in FIG.

図4に示す深穴15は、配管機器100の入口・出口側流路100b、100cと流路プレート13の開口部14とをシールするステンレス製の図示しないガスケット装着用として形成している。ガスケットは、断面略C字形状に形成し、圧縮力が加わったときに上下側に設けた2箇所の突起でシール力を発揮するようにした、いわゆるCシールと呼ばれるシール形状、或は、断面略逆U字形状に形成し、圧縮力が加わったときに上側と拡径面側でシールするようにした、いわゆるWシールと呼ばれるシール形状があり、何れのシール形状のガスケットを用いてもよい。また、これ以外の構造のガスケットを用いることもできる。
深穴15の外周囲には、制御加工機で円状に切削して配管機器100取付け用の取付凹部17を形成している。
The deep hole 15 shown in FIG. 4 is formed for mounting a gasket (not shown) made of stainless steel that seals the inlet / outlet channels 100 b and 100 c of the piping device 100 and the opening 14 of the channel plate 13. The gasket is formed in a substantially C-shaped cross section, and when a compressive force is applied, a seal shape called a so-called C seal, or a cross section in which two projections provided on the upper and lower sides exert a sealing force. There is a so-called W-seal seal shape that is formed in a substantially inverted U shape and seals on the upper side and the expanded surface side when a compressive force is applied, and any seal-shaped gasket may be used. . In addition, gaskets having other structures can be used.
An outer periphery of the deep hole 15 is cut into a circular shape by a control processing machine to form a mounting recess 17 for mounting the piping device 100.

制御装置本体10を構成する場合には、流路プレート13の表裏面13a、13bに形成した開口部14に配管機器100を配設し、この配管機器100を表裏面13a、13bに千鳥状態に配置し、各開口部14にそれぞれ配管機器100を配置したときに表裏面13a、13bを挟持するように配置するようにしている。
配管機器100の取付け時には、配管機器100のボデー100aに平坦状に形成された下面側と深穴15との間にガスケットを挟着した状態で入口側流路100bと出口側流路100cを流路プレート13の流入口14a、流出口14bにそれぞれ接続しながら、適宜の手段、例えば、センターロック手段と呼ばれる図示しないユニオンナットを用いた固着手段によって固着することで流路プレート13に対して配管機器100が位置決めされた状態で確実に装着される。ガスケットには図示しない流体通過用の穴を形成しており、これらの穴を介して入口側流路100b、出口側流路100cと、流入口14a、流出口14bがそれぞれ連通し、この状態によって配管機器100と流路プレート13とがシールされる。
When the control device main body 10 is configured, the piping device 100 is disposed in the openings 14 formed in the front and back surfaces 13a and 13b of the flow path plate 13, and the piping device 100 is staggered on the front and back surfaces 13a and 13b. It arrange | positions and it arrange | positions so that front and back 13a, 13b may be pinched | interposed when the piping apparatus 100 is each arrange | positioned at each opening part 14. As shown in FIG.
When the piping device 100 is mounted, the inlet-side flow channel 100b and the outlet-side flow channel 100c are flown in a state where a gasket is sandwiched between the lower surface side and the deep hole 15 formed flat on the body 100a of the piping device 100. While being connected to the inlet 14a and outlet 14b of the path plate 13, respectively, the pipe is fixed to the flow path plate 13 by fixing by an appropriate means, for example, a fixing means using a union nut (not shown) called a center lock means. The device 100 is securely mounted in a positioned state. The gasket has holes for fluid passage (not shown), and the inlet-side channel 100b, the outlet-side channel 100c, the inlet port 14a, and the outlet port 14b communicate with each other through these holes. The piping device 100 and the flow path plate 13 are sealed.

センターロック手段によって配管機器100を取付けた場合には、配管機器100が流路プレート13に対して位置決めした状態から傾くおそれがないため片締めのおそれがなく、緊密なシール状態を維持することが可能となる。特に、ユニオンナットを用いて螺着固定しながら接続するようにすれば、配管機器100の全体を簡単な操作で偶力を発生させずにバランスよく締付けることができ、シール性が向上する。また、取付け部分のボリュームを抑えることができるため小型化が可能となる。   When the piping device 100 is attached by the center lock means, the piping device 100 is not likely to be tilted from the state where it is positioned with respect to the flow path plate 13, so that there is no risk of one-side tightening and a tight seal state can be maintained. It becomes possible. In particular, if the connection is made while screwing and fixing using a union nut, the entire piping device 100 can be tightened in a balanced manner without generating a couple of forces by a simple operation, and the sealing performance is improved. Further, since the volume of the attachment portion can be suppressed, the size can be reduced.

配管機器100の取付け構造としては、ユニオンナットを用いたセンターロック手段以外にも、例えば、溶着によって固着したり、或は、図1のように配管機器100を上方側から4本の固定ボルト18によって締め付けることにより流路プレート13に固定することもでき、固定ボルト18で固定する場合、表裏面13a、13b側の配管機器100に固着した固定用のブロックである取付部19で流路プレート13を挟持しているため、この取付部19の重なり部分に対して固定ボルト18を固定することができ、これにより、強固に締付け固定できるばかりか、固定ボルト18の本数を減らすことができる。配管機器100を搭載するブロック19は、固定ボルト18で固定しても良いが、その他流路プレート13とブロック19を金属材表面を接合する手段、例えば、摩擦攪拌接合を用いて一体化接合するようにしても良い。
また、配管機器100の取付け構造は、これ以外にも各種の構造により取付けることも可能である。
As the mounting structure of the piping device 100, in addition to the center lock means using a union nut, for example, it is fixed by welding, or the piping device 100 is fixed from the upper side with four fixing bolts 18 as shown in FIG. It can also be fixed to the flow path plate 13 by tightening with the fixing bolt 18, and when fixed with the fixing bolt 18, the flow path plate 13 is attached by the mounting portion 19 which is a fixing block fixed to the piping device 100 on the front and back surfaces 13 a, 13 b side. Therefore, the fixing bolt 18 can be fixed to the overlapping portion of the mounting portion 19, whereby not only the fixing bolt 18 can be firmly tightened and fixed, but also the number of the fixing bolts 18 can be reduced. The block 19 on which the piping device 100 is mounted may be fixed with fixing bolts 18, but the other flow path plate 13 and the block 19 are integrally bonded using means for bonding the metal material surfaces, for example, friction stir welding. You may do it.
Moreover, the attachment structure of the piping apparatus 100 can also be attached by various structures besides this.

配管機器100は、本実施形態においては、その一例として流路を開閉する入口側の手動弁101、流路を開閉する自動弁105、ガスの流路を開閉する出口側の自動弁109からなるバルブ、ガス中に含まれる不純物を除去するフィルターユニット102、ガスの圧力を調整するレギュレータ103、流れるガスの圧力を検出する圧力トランデューサ(圧力センサ)104、内部に自動バルブ、センサ、バイパス、センサーアンプ等を搭載し、更に、使用する環境温度や供給ガス圧の影響を受けることなく電気信号により与えられた設定流量値に自動制御するマスフロコントローラ107、その他の機器から成っている。本実施形態におけるマスフロコントローラ107を搭載する場合は、図示しない入口・出口側流路の間隔に合わせて開口部14同士の間隔を形成する必要があるが、マスフロコントローラ107を、内部に自動バルブを有するバルブ部と、内部にセンサ、バイパス、センサーアンプを有するセンサ・バイパス部に分割し、分割した各ユニットの取付部を他の配管機器100の取付部19と同形状に形成することにより、他の配管機器100と同一ピッチで搭載することもできる。   In this embodiment, the piping device 100 includes an inlet-side manual valve 101 that opens and closes a flow path, an automatic valve 105 that opens and closes a flow path, and an automatic valve 109 that opens and closes a gas flow path. Valve, filter unit 102 for removing impurities contained in gas, regulator 103 for adjusting the pressure of gas, pressure transducer (pressure sensor) 104 for detecting the pressure of flowing gas, automatic valve, sensor, bypass, sensor inside An amplifier and the like are mounted, and further, a mass flow controller 107 that automatically controls a set flow rate value given by an electric signal without being affected by an environmental temperature to be used or a supply gas pressure, and other devices. When the mass flow controller 107 according to the present embodiment is mounted, it is necessary to form the interval between the openings 14 in accordance with the interval between the inlet and outlet channels (not shown), but the mass flow controller 107 is automatically installed inside. By dividing into a valve part having a valve and a sensor bypass part having a sensor, a bypass, and a sensor amplifier inside, and forming the attachment part of each divided unit in the same shape as the attachment part 19 of another piping device 100 It can also be mounted at the same pitch as other piping equipment 100.

配管機器100は、制御装置本体10に対して上記以外の組み合わせによって搭載できるのは勿論であり、流体の種類、用途などに応じて任意の組み合わせとすることが可能である。また、例えば、手動弁101は、スプリングではじかないようにしたトグル構造による手動操作機構を有するものであってもよく、このように搭載方向の載置面積が同じであれば、同じ手動弁であっても操作方法の異なるバルブが取付け可能である。更に、他の配管機器に関しても、同じ搭載面積の配管機器であれば、態様の異なるものを取付け可能であることは勿論である。
また、配管機器として図示しないパージ弁を搭載するようにしてもよく、この場合、流路プレート13に図示しないパージ流路を形成し、このパージ流路に接続するようにパージ弁を搭載することでパージ弁を介してガス流体をパージすることが可能となる。
Of course, the piping device 100 can be mounted on the control device main body 10 by a combination other than the above, and any combination can be used according to the type of fluid, the application, and the like. Further, for example, the manual valve 101 may have a manual operation mechanism with a toggle structure that is not repelled by a spring. If the mounting area in the mounting direction is the same as described above, the same manual valve may be used. Even in this case, a valve with a different operation method can be mounted. Furthermore, it is needless to say that other piping devices having different aspects can be attached as long as the piping devices have the same mounting area.
Further, a purge valve (not shown) may be mounted as a piping device. In this case, a purge flow path (not shown) is formed in the flow path plate 13, and the purge valve is mounted so as to be connected to the purge flow path. The gas fluid can be purged via the purge valve.

図1、3、4において、流路プレート13の側面には、入口側連通流路20と出口側連通流路21を形成している。入口側連通流路20は、入口側の配管機器である手動弁101の入口側流路100b側からガス流体を流入可能に外部と連通して形成したものであり、一方、出口側連通流路21は、出口側の配管機器である自動弁109の出口側流路100c側からガス流体を流出可能に外部と連通して形成している。流路プレート13本体に入口側連通流路20からガス等の流体を流入すると、各配管機器10によってこの流体が制御され、出口側連通流路21から流出される。
接続部22、23は入口側連通流路20、出口側連通流路21に設けた接続部位であり、この接続部22、23を介して図示しない他の接続流路に接続可能に設けている。
1, 3, and 4, an inlet-side communication channel 20 and an outlet-side communication channel 21 are formed on the side surface of the channel plate 13. The inlet-side communication channel 20 is formed to communicate with the outside so that a gas fluid can flow in from the inlet-side channel 100b side of the manual valve 101 which is a piping device on the inlet side. 21 is formed in communication with the outside so that the gas fluid can flow out from the outlet-side flow path 100c side of the automatic valve 109 which is piping equipment on the outlet side. When a fluid such as a gas flows into the main body of the flow path plate 13 from the inlet side communication flow path 20, the fluid is controlled by each piping device 10 and flows out from the outlet side communication flow path 21.
The connection parts 22 and 23 are connection parts provided in the inlet side communication flow path 20 and the outlet side communication flow path 21, and are provided so as to be connectable to other connection flow paths (not shown) via the connection parts 22 and 23. .

図4においては、流路プレート13の流路方向に沿った側面に取付け用の取付部材25を設けたものであり、この板状の取付部材25にボルト取付穴26を設けた状態で流路プレート13の側面に固着することで制御装置本体10の側面側が取付け可能になり、例えば、図示しない半導体製造装置におけるチャンバーの外周面に直接固着することが可能となる。この取付部材25は板状以外の形状であってもよく、更には、流路プレート13に予め固着用の穴を形成し、この穴に取付部材としてボルトを使用して固着するようにしてもよい。
取付部材25を設けた場合には、前記のように制御装置本体10をチャンバー等の壁面部位に直接取付けることが可能になるため、半導体製造装置等の製造装置に対して設置箇所をわざわざ設ける必要がなくなり、製造装置全体のフットプリントをより向上させることに繋がる。
In FIG. 4, a mounting member 25 for mounting is provided on the side surface of the flow path plate 13 along the flow path direction, and the plate-shaped mounting member 25 is provided with a bolt mounting hole 26. By fixing to the side surface of the plate 13, the side surface side of the control device main body 10 can be attached. For example, it can be directly fixed to the outer peripheral surface of the chamber in a semiconductor manufacturing apparatus (not shown). The mounting member 25 may have a shape other than a plate shape. Further, a hole for fixing may be formed in the flow path plate 13 in advance, and the hole may be fixed using a bolt as the mounting member. Good.
When the mounting member 25 is provided, the control device main body 10 can be directly mounted on a wall surface portion such as a chamber as described above. Therefore, it is necessary to provide an installation location for a manufacturing apparatus such as a semiconductor manufacturing apparatus. This leads to a further improvement in the footprint of the entire manufacturing apparatus.

なお、上記実施形態においては、流路プレート13を1枚の板状部材から形成するようにしているが、複数枚のプレート状部材やブロック状部材を組み合わせて形成してもよい。また、流路プレート13は、ステンレス鋼を材料として形成するのがよいが、ステンレス鋼以外の金属材料であってもよく、樹脂等の他の耐食性を有する材料を用いて形成してもよい。   In the above embodiment, the flow path plate 13 is formed from a single plate-like member, but may be formed by combining a plurality of plate-like members or block-like members. Further, the flow path plate 13 is preferably formed using stainless steel as a material, but may be a metal material other than stainless steel, or may be formed using a material having other corrosion resistance such as a resin.

次に、上記実施形態における集積化ガス制御装置の作用、並びに集積化ガス制御方法について説明する。
本発明の集積化ガス制御装置は、流路プレート13の表裏面13a、13bに当該流路に連通する複数個の開口部14をあけ、この開口部14を流路プレート13の表裏面13a、13bに沿って千鳥状態に配設し、開口部14に配管機器100を流路プレート13の表裏面13a、13bを挟持するように千鳥状態で配置しているので、流路プレート13の両面側に配管機器100を配設することができ、しかも、表裏面13a、13bに配置される配管機器100の出口側流路100cと入口側流路100bを流出口14c、流入口14bを介してガス流路12によって接続するようにしているので、配管機器100の取付け長さを短くすることができ、配管機器を一平面上に並設して搭載した場合の図5におけるスティック長さYに比較して図1における制御装置本体10全体のスティック長さXを短くすることができる。この場合、スティック長さXは接続部22から接続部23までの長さとなり、左右両側の配管機器100から接続部22、23までの距離を足したものであるため、図5の配管機器を一面側に並設した場合と比較すると、実際には60%程度までの短縮となる。
Next, the operation of the integrated gas control device and the integrated gas control method in the above embodiment will be described.
In the integrated gas control apparatus of the present invention, a plurality of openings 14 communicating with the flow path are formed in the front and back surfaces 13a and 13b of the flow path plate 13, and the openings 14 are formed on the front and back surfaces 13a and 13a of the flow path plate 13. 13b is arranged in a zigzag state along the line 13b, and the piping device 100 is arranged in the zigzag state so as to sandwich the front and back surfaces 13a, 13b of the flow path plate 13 in the opening portion 14. In addition, the piping device 100 can be disposed on the front and back surfaces 13a and 13b, and the outlet side flow channel 100c and the inlet side flow channel 100b of the piping device 100 disposed on the front and back surfaces 13a and 13b are passed through the outlet 14c and the inlet 14b. Since the connection is made by the flow path 12, the installation length of the piping device 100 can be shortened, and compared with the stick length Y in FIG. 5 when the piping devices are mounted side by side on one plane. It is possible to shorten the stick length X of the entire controller body 10 in FIG. 1 and. In this case, the stick length X is the length from the connecting portion 22 to the connecting portion 23, and is the sum of the distance from the piping device 100 on both the left and right sides to the connecting portions 22, 23. Compared with the case where they are arranged side by side, the actual reduction is about 60%.

このように、配管機器100を流路プレート13の表裏面13a、13bに配置した場合には制御装置本体10を短くすることができ、狭い場所でもこの制御装置本体10を設置することができる。従って、この制御装置本体10を用いて半導体製造装置などの製造装置を構成する場合、限られた設置箇所に所定数の配管機器100を搭載しながら集積化ガス制御装置を構成することができ、制御装置本体10をコンパクト化することにより製造装置のフットプリント性を向上させることができ、製造装置全体の高集積化を図ることができる。
また、板状の流路プレート13に対して直接配管機器100を載置した状態で取付け固定することができるため、取付け用のベースレールが不要であり、部品点数も削減することができる。よって、コスト・納期・軽量化・設計工数の点においてもこれらを向上させることができる。
As described above, when the piping device 100 is disposed on the front and back surfaces 13a and 13b of the flow path plate 13, the control device main body 10 can be shortened, and the control device main body 10 can be installed even in a narrow place. Therefore, when a manufacturing apparatus such as a semiconductor manufacturing apparatus is configured using the control apparatus main body 10, an integrated gas control apparatus can be configured while a predetermined number of piping devices 100 are mounted in a limited installation location. By downsizing the control device main body 10, the footprint of the manufacturing apparatus can be improved, and the entire manufacturing apparatus can be highly integrated.
In addition, since the piping device 100 can be mounted and fixed directly on the plate-like flow path plate 13, no mounting base rail is required, and the number of parts can be reduced. Therefore, these can be improved also in terms of cost, delivery date, weight reduction, and design man-hours.

上記の制御装置本体10に対して流体を流す場合には、流路プレート13に形成したガス流路12にガス流体を供給し、このガス流路12を流路プレート13の表裏面13a、13bに沿って千鳥状態に配設した流入口14aと流出口14bを有する開口部14に順次供給し、開口部14に千鳥状態に順次配置した配管機器100でガス制御を行うようにして制御装置本体10を制御するようにしている。このとき、制御装置本体10内部にはガス流体がガス流路12を直線的に流れるため、ガス流体をスムーズに流すことができ、ガス流路12内部にガス流体が滞留したり、パーティクルが発生したりすることを防いでいる。
入口側連通流路20から流体を供給する場合、流路プレート13にガス流路12を複数連設して設け、各連通流路20から流体を供給制御してガス流路12を制御することができ、また、これ以外にも、例えば、パージ流路を設ける場合に隣接するガス流路のパージ流路を予め連通させておき、流路の一部を別のガス流路と共用することにより、流路プレート13をより一層小型化することができると共に、流路がより簡略化されることによりパーティクルの発生等を一層抑えながら制御を行うことができる。
When a fluid is allowed to flow to the control device main body 10, a gas fluid is supplied to the gas flow path 12 formed in the flow path plate 13, and the gas flow path 12 passes through the front and back surfaces 13 a and 13 b of the flow path plate 13. Are sequentially supplied to the opening 14 having the inlet 14a and the outlet 14b arranged in a zigzag state along the pipe, and the gas control is performed by the piping device 100 sequentially arranged in the zigzag state in the opening 14. 10 is controlled. At this time, since the gas fluid flows linearly through the gas flow path 12 inside the control device main body 10, the gas fluid can flow smoothly, and the gas fluid stays inside the gas flow path 12 or particles are generated. To prevent you from doing.
When fluid is supplied from the inlet side communication channel 20, a plurality of gas channels 12 are provided in series on the channel plate 13, and supply of fluid is controlled from each communication channel 20 to control the gas channel 12. In addition to this, for example, when providing a purge flow path, a purge flow path of an adjacent gas flow path is connected in advance, and a part of the flow path is shared with another gas flow path. As a result, the flow path plate 13 can be further reduced in size, and the flow path can be further simplified, and control can be performed while further suppressing generation of particles and the like.

本発明における集積化ガス制御装置の一実施形態を示した一部切欠き側面図である。It is a partially cutaway side view showing one embodiment of an integrated gas control device in the present invention. 集積化ガス制御装置本体の斜視図である。It is a perspective view of the integrated gas control apparatus main body. 流体の流れを示した説明図である。It is explanatory drawing which showed the flow of the fluid. 流路プレートの一例を示した一部切欠き斜視図である。It is a partially cutaway perspective view showing an example of a flow path plate. 従来のガス制御装置を示した側面図である。It is the side view which showed the conventional gas control apparatus.

符号の説明Explanation of symbols

10 制御装置本体
12 ガス流路
13 流路プレート
13a 表面
13b 裏面
14 開口部
14a 流入口
14b 流出口
100 配管機器
100b 入口側流路
100c 出口側流路
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Control apparatus main body 12 Gas flow path 13 Flow path plate 13a Front surface 13b Back surface 14 Opening part 14a Inlet 14b Outlet 100 Piping equipment 100b Inlet side flow path 100c Outlet side flow path

Claims (6)

ガス流路を有する流路プレートの表裏面に当該流路に連通する開口部を複数個あけ、これらの開口部は前記流路プレートの表裏面に沿って千鳥状態に配設すると共に、各開口部にそれぞれ配管機器を前記流路プレートの表裏面を挟持するように配置したことを特徴とする集積化ガス制御装置。 A plurality of openings communicating with the flow path are formed on the front and back surfaces of the flow path plate having the gas flow paths, and these openings are arranged in a zigzag state along the front and back surfaces of the flow path plate. An integrated gas control device characterized in that piping devices are arranged in the respective sections so as to sandwich the front and back surfaces of the flow path plate. 前記複数個の開口部は、前記流路プレートの表裏面に配置される配管機器の流入口と流出口から成る請求項1記載の集積化ガス制御装置。 2. The integrated gas control device according to claim 1, wherein the plurality of openings include an inlet and an outlet of piping equipment disposed on the front and back surfaces of the flow path plate. 前記流路プレートの表裏面に形成した開口部に配管機器を配設して当該配管機器を前記流路プレートの表裏面に千鳥状態に配置した請求項1又は2に記載の集積化ガス制御装置。 The integrated gas control device according to claim 1 or 2, wherein piping devices are arranged in openings formed on the front and back surfaces of the flow path plate, and the piping devices are arranged in a staggered state on the front and back surfaces of the flow path plate. . 前記ガス流路は、前記流路プレートの一次側配管機器の出口側流路から二次側配管機器の入口側流路にかけてテーパ状流路と逆テーパ状流路を順次形成した請求項1乃至3の何れか1項に記載の集積化ガス制御装置。 The said gas flow path formed the taper flow path and the reverse taper flow path in order from the exit side flow path of the primary side piping equipment of the said flow path plate to the inlet side flow path of the secondary side piping equipment. 4. The integrated gas control apparatus according to any one of 3 above. 前記配管機器は、バルブ、レギュレータ、圧力センサ、マスフロコントローラその他の機器である請求項1乃至4の何れか1項に記載の集積化ガス制御装置。 The integrated gas control device according to any one of claims 1 to 4, wherein the piping device is a valve, a regulator, a pressure sensor, a mass flow controller, or other devices. 流路プレートに形成したガス流路にガス流体を供給し、このガス流路を前記流路プレートの表裏面に沿って千鳥状態に配設した流入口と流出口を有する開口部に順次供給し、当該流路プレートの表裏面の前記開口部に千鳥状態に順次配置した配管機器でガス制御を行うようにしたことを特徴とする集積化ガス制御方法。


A gas fluid is supplied to the gas flow path formed in the flow path plate, and the gas flow path is sequentially supplied to openings having an inlet and an outlet arranged in a staggered manner along the front and back surfaces of the flow path plate. An integrated gas control method characterized in that gas control is performed by piping equipment sequentially arranged in a staggered manner in the openings on the front and back surfaces of the flow path plate.


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