JP2006242222A - Integrated gas control device and its method - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、半導体、液晶等のプロセス工程において、手動弁、自動弁、マスフロコントローラ等の各種の配管機器を搭載してプロセスガス等のガス流体を流量制御するための集積化ガス制御装置と集積化ガス制御方法に関する。 The present invention provides an integrated gas control device for controlling the flow rate of a gas fluid such as a process gas by mounting various piping devices such as a manual valve, an automatic valve, and a mass flow controller in a process step such as semiconductor and liquid crystal. The present invention relates to an integrated gas control method.
集積弁等の配管機器を搭載して構成される集積化ガス制御装置は、通常1つの流体の制御ラインに対して1本のベースレールである略レール状の装着部位を設けたベース板を設け、このベースレールに対して内部にガス流路を形成したジョイントである流路ブロックを設置し、この流路ブロックに対して各配管機器を載置した状態で配管機器に設けたフランジ部分をボルトで締め付けて一体に固着している。配管機器と流路ブロックとの間にはガスケットを装着し、ボルトの締付け時にはこのガスケットを挟着するように押し潰すことでメタルタッチによって配管機器と流路ブロックとの間をシールし、これらの接続部分からのガス漏れを防ぐ構造となっている。 An integrated gas control device configured by mounting piping equipment such as an integrated valve is usually provided with a base plate provided with a substantially rail-shaped mounting portion that is one base rail for one fluid control line. A flow path block, which is a joint in which a gas flow path is formed inside, is installed on the base rail, and the flange portion provided on the piping equipment is bolted in a state where each piping equipment is placed on the flow path block. Tightened with and firmly attached. A gasket is installed between the piping equipment and the flow block, and when tightening the bolts, the gasket is crushed so as to sandwich the gasket to seal between the piping equipment and the flow block by metal touch. The structure prevents gas leakage from the connection.
流路ブロック内部には、隣接する配管機器の入口側と出口側の流路を連結するための流路穴が形成され、この流路穴は、例えば、加工機などによって穴あけ加工して形成される。流路穴は流路ブロックの一面側に開口するように設けられ、この流路穴の入口側と出口側の開口部には、隣接する一方側の配管機器の入口側、又は他方側の配管機器の出口側の流路を接続するように取付け固定し、各配管機器を所定の順序で流路ブロックの片側に配設して集積化ガス制御装置全体の流路を構成している。 Inside the channel block, a channel hole for connecting the inlet side and outlet side channels of adjacent piping devices is formed, and this channel hole is formed by drilling with a processing machine or the like, for example. The The flow path hole is provided so as to open to one surface side of the flow path block, and the inlet side and the outlet side of the adjacent one side piping device are provided at the inlet side and the outlet side of the flow path hole. The flow path on the outlet side of the equipment is attached and fixed so as to be connected, and each piping equipment is arranged on one side of the flow path block in a predetermined order to constitute the flow path of the integrated gas control apparatus as a whole.
この種の集積化ガス制御装置としては、例えば、ユニット取付面と、配管機器間を接続するガス流路が断続的に形成され、このような流路端部の開口が取付面に開設されたベースブロックに対してフィルター、レギュレータ、バルブ等の集積ユニットを連設したものがある(例えば、特許文献1参照。)。各集積ユニットは、取付プレートによってベースブロックの取付面にボルト固着され、ベースブロックの一面側に固定されている。
ベースブロック内部のガス流路は、集積ユニットの間に位置し、V字状に一面側に流路を開口させたV字流路と、各端面側に一方の流路が開設された供給流路と排出流路によって形成され、隣接する集積ユニットのポートを接続している。
As this type of integrated gas control device, for example, a unit mounting surface and a gas flow path connecting between piping devices are formed intermittently, and such an opening at the end of the flow channel is opened in the mounting surface. There is one in which integrated units such as a filter, a regulator, and a valve are connected to the base block (for example, see Patent Document 1). Each integrated unit is bolted to the mounting surface of the base block by a mounting plate and fixed to one surface side of the base block.
The gas flow path inside the base block is located between the integrated units, and is a V-shaped flow path having a flow path opened on one side in a V shape, and a supply flow in which one flow path is opened on each end face side. It is formed by a channel and a discharge channel, and connects the ports of adjacent integrated units.
また、プロセスガスを取り扱うガスパネル組立体用のプロセスガスラインにおいて、プロセスガス等のガスを送給する内部ガス通路を有し、接続ポートとガス流れ連通状態にてマニホルド面から伸長する、取付け装置に対する内部ガス通路と連通状態にて、マニホルド面に沿った複数の装置接続ポートを有する単一体マニホルドを備えたプロセスガスラインがある(例えば、特許文献2参照。)。マニホルド内には穴を穿孔することで流路が形成され、隣接する能動的装置領域同士は、開孔と穴によって形成される断面V字形の接続穴によって接続されてマニホルドの一面側に取付けられ、接続穴を介して装置から次の装置へガスを供給可能にしている。 In addition, in a process gas line for a gas panel assembly for handling process gas, the mounting device has an internal gas passage for supplying gas such as process gas and extends from the manifold surface in a gas flow communication state with the connection port. There is a process gas line with a single body manifold having a plurality of device connection ports along the manifold surface in communication with the internal gas passages for (see, for example, Patent Document 2). A flow path is formed by drilling a hole in the manifold, and adjacent active device regions are connected to one side of the manifold by a connection hole having a V-shaped cross section formed by the opening and the hole. The gas can be supplied from the device to the next device through the connection hole.
また、例えば、図5に示すような集積化ガス制御装置がある。このガス制御装置1は、板状のベース体2の内部に凹型形状の流路穴3を形成することにより、ベース体2にバルブ、レギュレータ、圧力センサ等の各配管機器4の流路接続用のガス流出口5とガス流入口6を形成している。各配管機器4は、ベース体2に対して1方向側である表面2a側に取付けられ、取付け時には、ガス流出口5、ガス流入口6に流路を合わせるように配管機器4を載置し、この状態で各配管機器4に固着した取付プレート7を固着ボルト8で固着して取付け、配管機器4は、ベース体2の上に並設した状態で取付けられている。
このように、特許文献1、2並びに図5の集積化ガス制御装置を含む集積化ガス制御装置においては、何れに場合においても各配管機器がベース体の1面側に取付けられている。
また、配管機器4の搭載間隔は、通常、基本性能として定まっており、例えば、マスフロコントローラ9を除く各配管機器同士の取付けピッチは、40mmと定められているのが一般的である。
Thus, in the integrated gas control device including the integrated gas control device of
Further, the mounting interval of the
上述したように、配管機器の取付けピッチは基本性能として一定の値に決まっているために、この取付けピッチに即して配管機器を搭載する必要がある。図5の集積化ガス制御装置1のようにベース体2の1平面上に配管機器4を並設して搭載する場合、各配管機器4は少なくとも取付プレート7の寸法以上の取付け寸法が必要となる。また、これをスパン(配管機器4同士の間隔)の合計で表す場合、例えば、図においてマスフロコントローラ9より右側に搭載した5個の配管機器4に挟まれたスパンの数は4個となっており、スパンのピッチの長さをlとすると、ガス流路(ライン)の流れ方向では、スパン4(個)×スパンのピッチの長さl:40(mm)=160(mm)以上の取付け寸法が必要となっていた。ピッチの長さlは、配管機器4をベース体2に固定するために最低限必要な長さであるため、集積化ガス制御装置1の全体長さをこれ以上短くすることはできず、この種のガス制御装置1は、図示しない外部の流路を連結する連結部2b、2c間の距離であるスティック長さ(ガス制御装置全体の長さ)Yが長くなっていた。このためガス制御装置1の設置場所が限られていた。
As described above, since the mounting pitch of the piping equipment is determined to be a constant value as the basic performance, it is necessary to mount the piping equipment according to this mounting pitch. When the
このため、例えば、集積化ガス制御装置を用いて半導体製造装置などの装置(以下、製造装置という)を設ける場合、製造装置における集積化ガス制御装置の配置スペースが大きくなるという問題が生じ、製造装置の設計時にはこの設置スペースの確保が設計上の大きな制約事項となっていた。このように、ベース体1の一平面上に配管機器4を並設するタイプの集積化ガス制御装置は、全体が大型化するため製造装置全体のレイアウトが難しくなり、結果的に製造装置全体が大型化し、ひいてはフットプリントの点において問題を有していた。以上のように、この種のタイプの集積化ガス制御装置は、製造装置への設置箇所が限られて高集積化が難しくなっていた。
For this reason, for example, when an apparatus such as a semiconductor manufacturing apparatus (hereinafter referred to as a manufacturing apparatus) is provided using an integrated gas control apparatus, there arises a problem that an arrangement space of the integrated gas control apparatus in the manufacturing apparatus increases. Ensuring this installation space was a major design constraint when designing the device. As described above, the integrated gas control device of the type in which the
本発明は、従来の課題点に鑑みて開発したものであり、その目的とするところは、高集積化により配管機器を搭載できる集積化ガス制御装置であり、制御装置本体を小型化することにより半導体製造装置などの製造装置に搭載した場合に、製造装置全体のフットプリント性を向上させることができる集積化ガス制御装置と集積化ガス制御方法を提供することにある。 The present invention has been developed in view of the conventional problems, and an object of the present invention is an integrated gas control device that can be equipped with piping equipment by high integration, and by downsizing the control device main body. An object of the present invention is to provide an integrated gas control device and an integrated gas control method capable of improving the footprint of the entire manufacturing apparatus when mounted on a manufacturing apparatus such as a semiconductor manufacturing apparatus.
上記の目的を達成するため、請求項1に係る発明は、ガス流路を有する流路プレートの表裏面に当該流路に連通する開口部を複数個あけ、これらの開口部は流路プレートの表裏面に沿って千鳥状態に配設すると共に、各開口部にそれぞれ配管機器を流路プレートの表裏面を挟持するように配置した集積化ガス制御装置である。 In order to achieve the above object, the invention according to claim 1 is provided with a plurality of openings communicating with the flow path on the front and back surfaces of the flow path plate having the gas flow path. The integrated gas control device is arranged in a zigzag state along the front and back surfaces, and the piping device is disposed in each opening so as to sandwich the front and back surfaces of the flow path plate.
請求項2に係る発明は、複数個の開口部は、流路プレートの表裏面に配置される配管機器の流入口と流出口から成る集積化ガス制御装置である。
The invention according to
請求項3に係る発明は、流路プレートの表裏面に形成した開口部に配管機器を配設して当該配管機器を流路プレートの表裏面に千鳥状態に配置した集積化ガス制御装置である。
The invention according to
請求項4に係る発明は、ガス流路は、流路プレートの一次側配管機器の出口側流路から二次側配管機器の入口側流路にかけてテーパ状流路と逆テーパ状流路を順次形成した集積化ガス制御装置である。
In the invention according to
請求項5に係る発明は、配管機器は、バルブ、レギュレータ、圧力センサ、マスフロコントローラその他の機器である集積化ガス制御装置である。
The invention according to
請求項6に係る発明は、流路プレートに形成したガス流路にガス流体を供給し、このガス流路を流路プレートの表裏面に沿って千鳥状態に配設した流入口と流出口を有する開口部に順次供給し、当該流路プレートの表裏面の開口部に千鳥状態に順次配置した配管機器でガス制御を行うようにした集積化ガス制御方法である。
The invention according to
請求項1に係る発明によると、配管機器を効率的に搭載して全体を小型化できる集積化ガス制御装置であり、限られたスペースの設置箇所に所定数の配管機器を高集積化によって搭載することができるため、あらゆる取付け場所に応用して配置することのできる集積化ガス制御装置である。よって、この集積化ガス制御装置本体を半導体製造装置等の製造装置に搭載することにより製造装置全体の省スペース化を図ることができ、フットプリント性を向上させることが可能となる。
更には、チャンバーに直付けするなどのガス系の装置周りにも配設でき、様々な設置箇所に対してフレキシブルに対応でき、制御装置本体に搭載する配管機器のラインの構成の変更も容易に行うことができる集積化ガス制御装置である。
また、例えば、1枚の板状部材から簡単に流路プレートを構成することができ、流路プレートを板状にすることにより、溶接・研磨等の製造工程において工数を削減することができ、容易に製造できる集積化ガス制御装置である。
The invention according to claim 1 is an integrated gas control device that can efficiently mount piping equipment and reduce the overall size, and a predetermined number of piping equipment is mounted in a limited space by high integration. Therefore, it is an integrated gas control device that can be applied to any installation location. Therefore, by mounting this integrated gas control device main body on a manufacturing apparatus such as a semiconductor manufacturing apparatus, it is possible to save space in the entire manufacturing apparatus and improve the footprint.
Furthermore, it can be installed around gas-type devices such as directly attached to the chamber, can be flexibly adapted to various installation locations, and it is easy to change the line configuration of piping equipment mounted on the control device body. An integrated gas control device that can be implemented.
In addition, for example, a flow path plate can be configured easily from a single plate-like member, and by making the flow path plate into a plate shape, man-hours can be reduced in manufacturing processes such as welding and polishing, It is an integrated gas control device that can be easily manufactured.
請求項2に係る発明によると、流路プレートの表裏面に配管機器を効率良く配設することができ、制御装置本体を小型化できる集積化ガス制御装置である。
According to the invention which concerns on
請求項3に係る発明によると、全体をコンパクト化しつつ形成できる集積化ガス制御装置であり、設置時の長さを大幅に短縮してあらゆる箇所に取付けが可能となる。 According to the third aspect of the present invention, the integrated gas control device can be formed while being made compact as a whole, and the length at the time of installation can be greatly shortened, and it can be attached to any location.
請求項4に係る発明によると、接続し合う配管機器の出口側流路と入口側流路を直線状に形成することができるため、ガス流体を滞留させることなくスムーズに流すことができ、パーティクルの発生も防ぐことができる集積化ガス制御装置である。また、流路を容易に成形加工することもできる集積化ガス制御装置である。
According to the invention of
請求項5に係る発明によると、各種の配管機器を搭載することができ、必要な流路構成に応じて配管機器の組み合わせを変更して、所望のガス制御機能を発揮する制御装置本体を構成することができる集積化ガス制御装置である。
According to the invention which concerns on
請求項6に係る発明によると、限られたスペースの設置箇所に所定数の配管機器を高集積化によって搭載した集積化ガス制御装置に対して、ガス流体をスムーズに流しながら制御を行うことができ、内部のガス流体が滞留するのを防いだり、パーティクルの発生を防止して高精度の流体を確実にガス制御することができる集積化ガス制御方法である。
According to the invention which concerns on
本発明における集積化ガス制御装置の実施形態及びその作用と集積化ガス制御方法を図面に基づいて詳細に説明する。
図1乃至図4において、本発明における集積化ガス制御装置を示している。集積化ガス制御装置本体10には、プロセスガス等の流体を供給制御するガス制御ライン11を設けている。ガス制御ライン11は、縦型形状に設けられた各配管機器100とプレート状の流路プレート13内部に設けたガス流路12と連通させることで構成され、流路プレート13に配管機器100を搭載することで制御装置本体10が構成される。本実施形態においては、図2に示すように、ガス流路12を流体プレート10に複数並設し、各ガス流路12に配管機器100を配置して複数のガス制御ライン11を構成するようにしている。
An embodiment of an integrated gas control device according to the present invention, its operation, and an integrated gas control method will be described in detail with reference to the drawings.
1 to 4 show an integrated gas control apparatus according to the present invention. The integrated gas control device
流路プレート13の表裏面13a、13bには、ガス流路12に連通する開口部14を複数個あけており、この開口部14は、流路プレート13の表裏面13a、13bに配置される配管機器100の流入口14aと流出口14bとから成り、この開口部14は、図1に示すように流路プレート13の表裏面13a、13bに沿って千鳥状態に配設される。流入口14a、流出口14bには、開口部14に配置する配管機器100の入口側流路100b、出口側流路100cがそれぞれ接続される。ガス流路12は、一次側配管機器100の出口側流路100cから二次側配管機器100の入口側流路100bにかけてテーパ状流路と逆テーパ状流路を順次形成したものとなっている。
A plurality of
開口部14の加工は、図示しない穿孔ドリル等を有する制御加工機によって行い、加工時には、流路プレート13の肉厚方向から所定の傾斜を設けながら貫通させるようにして形成する。制御加工機はコンピュータ制御などによって制御し、1枚の板状部材を連続的に加工して開口部14を形成でき、このため、短時間での加工を可能にしている。
図1において、1組の開口部14から他の開口部14までのピッチの長さ(配管機器100同士のピッチ)pは、同一長さによって形成し、このように配管機器100の搭載間隔を同じにすることで各配管機器100の搭載方向の載置面積を同じにしたときに、配管機器100を何れの開口部14に対しても接続可能とすることができ、制御装置本体10の流路の変更などに伴って配管機器100の取付け位置や取付け順序が変わったとしても、取付けが可能であり、新たに流路プレートを形成する必要がない。
ここで、開口部14から他の開口部14までのピッチの長さpを40mmとすると、制御装置本体10におけるマスフロコントローラ107より右側に搭載された5個の配管機器100が搭載されている取付け寸法は、図1に示されるように2個のスパンのピッチの長さpで済み、スパン2(個)×スパンのピッチの長さp:40(mm)=80(mm)の取付け寸法に抑えることができる。この取付け寸法は、図5における5個の配管機器を一面側に並設した場合の取付け寸法である160(mm)に比較して大幅に短くなっており、従って、制御装置本体10の後述する接続部22、23同士の距離であるスティック長さ(制御装置本体10の全体長さ)Xを図5のスティック長さYに対して大幅に短縮することが可能となっている。
The
In FIG. 1, the pitch length (pitch between the piping devices 100) p from one set of
Here, if the length p of the pitch from the
図4に示す深穴15は、配管機器100の入口・出口側流路100b、100cと流路プレート13の開口部14とをシールするステンレス製の図示しないガスケット装着用として形成している。ガスケットは、断面略C字形状に形成し、圧縮力が加わったときに上下側に設けた2箇所の突起でシール力を発揮するようにした、いわゆるCシールと呼ばれるシール形状、或は、断面略逆U字形状に形成し、圧縮力が加わったときに上側と拡径面側でシールするようにした、いわゆるWシールと呼ばれるシール形状があり、何れのシール形状のガスケットを用いてもよい。また、これ以外の構造のガスケットを用いることもできる。
深穴15の外周囲には、制御加工機で円状に切削して配管機器100取付け用の取付凹部17を形成している。
The
An outer periphery of the
制御装置本体10を構成する場合には、流路プレート13の表裏面13a、13bに形成した開口部14に配管機器100を配設し、この配管機器100を表裏面13a、13bに千鳥状態に配置し、各開口部14にそれぞれ配管機器100を配置したときに表裏面13a、13bを挟持するように配置するようにしている。
配管機器100の取付け時には、配管機器100のボデー100aに平坦状に形成された下面側と深穴15との間にガスケットを挟着した状態で入口側流路100bと出口側流路100cを流路プレート13の流入口14a、流出口14bにそれぞれ接続しながら、適宜の手段、例えば、センターロック手段と呼ばれる図示しないユニオンナットを用いた固着手段によって固着することで流路プレート13に対して配管機器100が位置決めされた状態で確実に装着される。ガスケットには図示しない流体通過用の穴を形成しており、これらの穴を介して入口側流路100b、出口側流路100cと、流入口14a、流出口14bがそれぞれ連通し、この状態によって配管機器100と流路プレート13とがシールされる。
When the control device
When the
センターロック手段によって配管機器100を取付けた場合には、配管機器100が流路プレート13に対して位置決めした状態から傾くおそれがないため片締めのおそれがなく、緊密なシール状態を維持することが可能となる。特に、ユニオンナットを用いて螺着固定しながら接続するようにすれば、配管機器100の全体を簡単な操作で偶力を発生させずにバランスよく締付けることができ、シール性が向上する。また、取付け部分のボリュームを抑えることができるため小型化が可能となる。
When the
配管機器100の取付け構造としては、ユニオンナットを用いたセンターロック手段以外にも、例えば、溶着によって固着したり、或は、図1のように配管機器100を上方側から4本の固定ボルト18によって締め付けることにより流路プレート13に固定することもでき、固定ボルト18で固定する場合、表裏面13a、13b側の配管機器100に固着した固定用のブロックである取付部19で流路プレート13を挟持しているため、この取付部19の重なり部分に対して固定ボルト18を固定することができ、これにより、強固に締付け固定できるばかりか、固定ボルト18の本数を減らすことができる。配管機器100を搭載するブロック19は、固定ボルト18で固定しても良いが、その他流路プレート13とブロック19を金属材表面を接合する手段、例えば、摩擦攪拌接合を用いて一体化接合するようにしても良い。
また、配管機器100の取付け構造は、これ以外にも各種の構造により取付けることも可能である。
As the mounting structure of the
Moreover, the attachment structure of the
配管機器100は、本実施形態においては、その一例として流路を開閉する入口側の手動弁101、流路を開閉する自動弁105、ガスの流路を開閉する出口側の自動弁109からなるバルブ、ガス中に含まれる不純物を除去するフィルターユニット102、ガスの圧力を調整するレギュレータ103、流れるガスの圧力を検出する圧力トランデューサ(圧力センサ)104、内部に自動バルブ、センサ、バイパス、センサーアンプ等を搭載し、更に、使用する環境温度や供給ガス圧の影響を受けることなく電気信号により与えられた設定流量値に自動制御するマスフロコントローラ107、その他の機器から成っている。本実施形態におけるマスフロコントローラ107を搭載する場合は、図示しない入口・出口側流路の間隔に合わせて開口部14同士の間隔を形成する必要があるが、マスフロコントローラ107を、内部に自動バルブを有するバルブ部と、内部にセンサ、バイパス、センサーアンプを有するセンサ・バイパス部に分割し、分割した各ユニットの取付部を他の配管機器100の取付部19と同形状に形成することにより、他の配管機器100と同一ピッチで搭載することもできる。
In this embodiment, the
配管機器100は、制御装置本体10に対して上記以外の組み合わせによって搭載できるのは勿論であり、流体の種類、用途などに応じて任意の組み合わせとすることが可能である。また、例えば、手動弁101は、スプリングではじかないようにしたトグル構造による手動操作機構を有するものであってもよく、このように搭載方向の載置面積が同じであれば、同じ手動弁であっても操作方法の異なるバルブが取付け可能である。更に、他の配管機器に関しても、同じ搭載面積の配管機器であれば、態様の異なるものを取付け可能であることは勿論である。
また、配管機器として図示しないパージ弁を搭載するようにしてもよく、この場合、流路プレート13に図示しないパージ流路を形成し、このパージ流路に接続するようにパージ弁を搭載することでパージ弁を介してガス流体をパージすることが可能となる。
Of course, the
Further, a purge valve (not shown) may be mounted as a piping device. In this case, a purge flow path (not shown) is formed in the
図1、3、4において、流路プレート13の側面には、入口側連通流路20と出口側連通流路21を形成している。入口側連通流路20は、入口側の配管機器である手動弁101の入口側流路100b側からガス流体を流入可能に外部と連通して形成したものであり、一方、出口側連通流路21は、出口側の配管機器である自動弁109の出口側流路100c側からガス流体を流出可能に外部と連通して形成している。流路プレート13本体に入口側連通流路20からガス等の流体を流入すると、各配管機器10によってこの流体が制御され、出口側連通流路21から流出される。
接続部22、23は入口側連通流路20、出口側連通流路21に設けた接続部位であり、この接続部22、23を介して図示しない他の接続流路に接続可能に設けている。
1, 3, and 4, an inlet-
The
図4においては、流路プレート13の流路方向に沿った側面に取付け用の取付部材25を設けたものであり、この板状の取付部材25にボルト取付穴26を設けた状態で流路プレート13の側面に固着することで制御装置本体10の側面側が取付け可能になり、例えば、図示しない半導体製造装置におけるチャンバーの外周面に直接固着することが可能となる。この取付部材25は板状以外の形状であってもよく、更には、流路プレート13に予め固着用の穴を形成し、この穴に取付部材としてボルトを使用して固着するようにしてもよい。
取付部材25を設けた場合には、前記のように制御装置本体10をチャンバー等の壁面部位に直接取付けることが可能になるため、半導体製造装置等の製造装置に対して設置箇所をわざわざ設ける必要がなくなり、製造装置全体のフットプリントをより向上させることに繋がる。
In FIG. 4, a mounting
When the mounting
なお、上記実施形態においては、流路プレート13を1枚の板状部材から形成するようにしているが、複数枚のプレート状部材やブロック状部材を組み合わせて形成してもよい。また、流路プレート13は、ステンレス鋼を材料として形成するのがよいが、ステンレス鋼以外の金属材料であってもよく、樹脂等の他の耐食性を有する材料を用いて形成してもよい。
In the above embodiment, the
次に、上記実施形態における集積化ガス制御装置の作用、並びに集積化ガス制御方法について説明する。
本発明の集積化ガス制御装置は、流路プレート13の表裏面13a、13bに当該流路に連通する複数個の開口部14をあけ、この開口部14を流路プレート13の表裏面13a、13bに沿って千鳥状態に配設し、開口部14に配管機器100を流路プレート13の表裏面13a、13bを挟持するように千鳥状態で配置しているので、流路プレート13の両面側に配管機器100を配設することができ、しかも、表裏面13a、13bに配置される配管機器100の出口側流路100cと入口側流路100bを流出口14c、流入口14bを介してガス流路12によって接続するようにしているので、配管機器100の取付け長さを短くすることができ、配管機器を一平面上に並設して搭載した場合の図5におけるスティック長さYに比較して図1における制御装置本体10全体のスティック長さXを短くすることができる。この場合、スティック長さXは接続部22から接続部23までの長さとなり、左右両側の配管機器100から接続部22、23までの距離を足したものであるため、図5の配管機器を一面側に並設した場合と比較すると、実際には60%程度までの短縮となる。
Next, the operation of the integrated gas control device and the integrated gas control method in the above embodiment will be described.
In the integrated gas control apparatus of the present invention, a plurality of
このように、配管機器100を流路プレート13の表裏面13a、13bに配置した場合には制御装置本体10を短くすることができ、狭い場所でもこの制御装置本体10を設置することができる。従って、この制御装置本体10を用いて半導体製造装置などの製造装置を構成する場合、限られた設置箇所に所定数の配管機器100を搭載しながら集積化ガス制御装置を構成することができ、制御装置本体10をコンパクト化することにより製造装置のフットプリント性を向上させることができ、製造装置全体の高集積化を図ることができる。
また、板状の流路プレート13に対して直接配管機器100を載置した状態で取付け固定することができるため、取付け用のベースレールが不要であり、部品点数も削減することができる。よって、コスト・納期・軽量化・設計工数の点においてもこれらを向上させることができる。
As described above, when the
In addition, since the
上記の制御装置本体10に対して流体を流す場合には、流路プレート13に形成したガス流路12にガス流体を供給し、このガス流路12を流路プレート13の表裏面13a、13bに沿って千鳥状態に配設した流入口14aと流出口14bを有する開口部14に順次供給し、開口部14に千鳥状態に順次配置した配管機器100でガス制御を行うようにして制御装置本体10を制御するようにしている。このとき、制御装置本体10内部にはガス流体がガス流路12を直線的に流れるため、ガス流体をスムーズに流すことができ、ガス流路12内部にガス流体が滞留したり、パーティクルが発生したりすることを防いでいる。
入口側連通流路20から流体を供給する場合、流路プレート13にガス流路12を複数連設して設け、各連通流路20から流体を供給制御してガス流路12を制御することができ、また、これ以外にも、例えば、パージ流路を設ける場合に隣接するガス流路のパージ流路を予め連通させておき、流路の一部を別のガス流路と共用することにより、流路プレート13をより一層小型化することができると共に、流路がより簡略化されることによりパーティクルの発生等を一層抑えながら制御を行うことができる。
When a fluid is allowed to flow to the control device
When fluid is supplied from the inlet
10 制御装置本体
12 ガス流路
13 流路プレート
13a 表面
13b 裏面
14 開口部
14a 流入口
14b 流出口
100 配管機器
100b 入口側流路
100c 出口側流路
DESCRIPTION OF
Claims (6)
A gas fluid is supplied to the gas flow path formed in the flow path plate, and the gas flow path is sequentially supplied to openings having an inlet and an outlet arranged in a staggered manner along the front and back surfaces of the flow path plate. An integrated gas control method characterized in that gas control is performed by piping equipment sequentially arranged in a staggered manner in the openings on the front and back surfaces of the flow path plate.
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