JP2006190189A - Touch panel plastic substrate and touch panel using the same - Google Patents

Touch panel plastic substrate and touch panel using the same Download PDF

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Masahiro Ikeda
昌弘 池田
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a touch panel plastic substrate having improved pen sliding resistance, weather resistance and surface hardness, and to provide a touch panel using the same. <P>SOLUTION: The touch panel plastic substrate uses a thermoplastic resin film as a base film at least one face of which has a hard coat layer. The hard coat layer of the hard coat layer laminated film has a pencil hardness of 2H or more under 1kg load as specified in JIS K 5400, and the hard coat layer laminated film has a light permeability of 70% or more under 400nm after 1000-hour exposure test as specified in JIS K 7350-4. When a transparent conductive layer is formed thereon, a resistance value change ratio (R/R<SB>0</SB>) of the transparent conductive layer before/after 100,000-time test of pen sliding resistance (load: 2.2N) is 1.5 or less. The touch panel uses the same. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、優れた耐ペン摺動性、耐候性、表面硬度を有するタッチパネル用プラスチック基板及びそれを用いたタッチパネルに関するものである。 The present invention relates to a plastic substrate for a touch panel having excellent pen sliding resistance, weather resistance, and surface hardness, and a touch panel using the same.

透明タッチパネルは2枚の透明電極層の電極面同士を相対するように配置された構造を有し、その電極間の空間部には誤動作を防ぐ為に少なくとも一方の電極層上に、10μm以下の非導電性のスペーサーにより、一定保持されている。例えば、アナログ式タッチパネルの場合、タッチペン又は指の押し圧により電極面同士が接触して導通し、位置検出をする構造をとる。   The transparent touch panel has a structure in which the electrode surfaces of two transparent electrode layers are opposed to each other, and a space between the electrodes has a structure of 10 μm or less on at least one of the electrode layers in order to prevent malfunction. It is held constant by a non-conductive spacer. For example, in the case of an analog touch panel, the electrode surfaces are brought into contact with each other by the pressure of a touch pen or a finger and are connected to detect the position.

透明タッチパネルの構造は、一般的には上部電極/下部電極としてプラスチック基板/ガラス基板、ガラス基板/ガラス基板の構成がほとんどである。上部電極のほとんどはポリエチレンテレフタレート樹脂などのプラスチック基板を用いて作製されており、上部電極にガラス基板を用いる場合にはかなり薄い基板が必要になる。ガラス基板はサイズの大型化が難しく、軽量化、薄型化、破損防止、更にはロール・ツー・ロール方式による高生産性などのメリットから上部電極、下部電極ともにガラス基板からプラスチック基板への置き換えは徐々に進んでいる。   The structure of the transparent touch panel is generally composed of a plastic substrate / glass substrate and a glass substrate / glass substrate as the upper electrode / lower electrode. Most of the upper electrode is manufactured using a plastic substrate such as polyethylene terephthalate resin. When a glass substrate is used for the upper electrode, a considerably thin substrate is required. It is difficult to increase the size of glass substrates. From the merits such as weight reduction, thinning, damage prevention, and high productivity by roll-to-roll method, replacement of glass substrate with plastic substrate for both upper and lower electrodes is not possible. Progressing gradually.

プラスチック基板を用いた透明タッチパネルには、熱可塑性樹脂が好ましく用いられているが、一般に熱可塑性樹脂からなるプラスチック基板は、前記用途での電極パターニング工程、接着工程等で使用される極性溶媒等への耐性が不十分となる場合が多い。また、優れた耐ペン摺動性を得るためには、プラスチック基板の鉛筆硬度が2H以上が要求され、適当なハードコート層をプラスチック基板の片面もしくは両面に積層する必要がある。   Thermoplastic resins are preferably used for transparent touch panels using plastic substrates, but generally plastic substrates made of thermoplastic resins can be used for polar solvents, etc. used in electrode patterning processes, bonding processes, etc. In many cases, the tolerance of is insufficient. Further, in order to obtain excellent pen sliding resistance, the pencil hardness of the plastic substrate is required to be 2H or more, and an appropriate hard coat layer needs to be laminated on one side or both sides of the plastic substrate.

また、熱可塑性樹脂の中にはその化学構造によっては耐候性が劣るものがあり、野外で使用する場合には、長時間の紫外線照射により、プラスチック基板自体やハードコート層が光化学反応により劣化や黄変を生じて実用上問題となり、耐候性の向上も求められている。   In addition, some thermoplastic resins have poor weather resistance depending on their chemical structure, and when used outdoors, the plastic substrate itself and the hard coat layer may deteriorate due to photochemical reaction due to long-term ultraviolet irradiation. Yellowing is a practical problem, and there is a demand for improved weather resistance.

このような問題を解決する方法としては、従来よりアクリル系、メラミン系、ウレタン系、あるいはシリコン系といった樹脂、モノマーあるいはオリゴマーに紫外線吸収剤を含有するハードコート剤をプラスチックフィルムに塗布し、加熱により硬化させハードコート層を積層する方法が提案されているが、生産性が低い、表面硬度に劣る、ハードコート剤のポットライフが短いと言った問題があった。従って近年では、生産性が優れた紫外線硬化型のハードコート剤の検討が多く行われている。   As a method for solving such a problem, conventionally, a hard coat agent containing an ultraviolet absorber in an acrylic, melamine, urethane, or silicon resin, monomer, or oligomer is applied to a plastic film and heated. Although a method of curing and laminating a hard coat layer has been proposed, there are problems such as low productivity, poor surface hardness, and short pot life of the hard coat agent. Therefore, in recent years, many studies have been conducted on ultraviolet curable hard coat agents having excellent productivity.

しかしながら、プラスチック基板の耐候性向上の為には紫外線をハードコート層でカットする必要が有る為、紫外線硬化を阻害する紫外線吸収剤を添加したハードコート層を紫外線により硬化させなければならないという相反する課題があった。   However, in order to improve the weather resistance of the plastic substrate, it is necessary to cut the ultraviolet rays with the hard coat layer, so that the hard coat layer added with an ultraviolet absorber that inhibits ultraviolet curing must be cured with ultraviolet rays. There was a problem.

そこで、プラスチック基板への表面硬度と耐候性を付与出来る紫外線硬化型のハードコート剤の検討が行われ、多官能のウレタンアクリレート、多官能アクリレート、1分子中に1個の(メタ)アクリロイルオキシ基を有し、かつ分子中にヒドロキシル基、環状エーテル結合および鎖状エーテル結合の少なくとも1種を有するアクリレート、コロイダルシリカ、紫外線吸収剤、光開始剤および溶剤の混合物を用いる方法が提案されている。(特許文献1参照)
しかしながら、このハードコート剤は硬化に1000mJ/cm2もの紫外線照射が必要な為、プラスチック基板の透明性を損ない、さらにシリカ粒子を含有する為にペン入力時に透明導電性薄膜にクラック、剥離などの破壊が生じてしまうという問題があった。
Therefore, an ultraviolet curable hard coating agent capable of imparting surface hardness and weather resistance to a plastic substrate has been studied, and polyfunctional urethane acrylate, polyfunctional acrylate, one (meth) acryloyloxy group per molecule. And a method using a mixture of an acrylate having a hydroxyl group, a cyclic ether bond and a chain ether bond in the molecule, colloidal silica, an ultraviolet absorber, a photoinitiator, and a solvent. (See Patent Document 1)
However, since this hard coating agent requires 1000mJ / cm2 of UV irradiation for curing, it impairs the transparency of the plastic substrate, and also contains silica particles. There was a problem that would occur.

特開平9−157315号公報JP-A-9-157315

本発明の目的は、上記の様な透明性の低下や耐ペン摺動性の低下という問題点に鑑み、3官能以上のアクリレートを主成分とするモノマーもしくはオリゴマー、光重合開始剤、紫外線吸収剤、希釈溶剤の混合物をハードコート層として用いることにより、シリカ粒子を用いること無く、優れた耐ペン摺動性、耐候性、及び表面硬度を有するタッチパネル基板及びそれを用いたタッチパネルを提供することにある。   The object of the present invention is to solve the above-described problems of lowering transparency and pen-sliding resistance, and monomers or oligomers based on tri- or higher functional acrylates, photopolymerization initiators, ultraviolet absorbers. To provide a touch panel substrate having excellent pen sliding resistance, weather resistance, and surface hardness without using silica particles, and a touch panel using the same, by using a mixture of dilution solvents as a hard coat layer. is there.

すなわち本発明は、
(1)熱可塑性樹脂フィルムをベースフィルムとし、少なくともその片面にハードコート層を有し、ハードコート層積層フィルムのハードコート層のJIS K 5400に定める1Kg荷重での鉛筆硬度が2H以上、かつハードコート層積層フィルムのJIS K 7350−4に定める1000時間の暴露試験後の400nmにおける光線透過率が70%以上であり、ハードコート層積層フィルムのハードコート層の上に透明導電層を形成した際の透明導電層の耐ペン摺動性(荷重:2.2N)10万回試験前後の抵抗値変化比(R/R)が1.5以下であることを特徴とするタッチパネル用プラスチック基板、
(2)前記熱可塑性樹脂がポリエーテルサルホン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリサルホン樹脂、環状ポリオレフィン樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂である(1)項記載のタッチパネル用プラスチック基板、
(3)前記ハードコート層を形成するハードコート剤が、アクリレートを主成分とするモノマーもしくはオリゴマー、光重合開始剤、紫外線吸収剤を含有する(1)または(2)項記載のタッチパネル用プラスチック基板、
(4)(1)〜(3)項のいずれか記載のタッチパネル用プラスチック基板を用いたタッチパネル、
である。
That is, the present invention
(1) Using a thermoplastic resin film as a base film, having a hard coat layer on at least one surface thereof, and having a pencil hardness of 2H or more at a 1 kg load defined in JIS K 5400 of the hard coat layer of the hard coat layer laminated film When the light transmittance at 400 nm after the 1000-hour exposure test defined in JIS K 7350-4 of the coat layer laminated film is 70% or more and a transparent conductive layer is formed on the hard coat layer of the hard coat layer laminated film A plastic substrate for a touch panel, wherein the resistance change ratio (R / R 0 ) before and after the 100,000 times test is 1.5 or less;
(2) The plastic substrate for a touch panel according to (1), wherein the thermoplastic resin is a polyethersulfone resin, a polycarbonate resin, a polysulfone resin, a cyclic polyolefin resin, or a polyethylene terephthalate resin,
(3) The plastic substrate for a touch panel according to (1) or (2), wherein the hard coat agent for forming the hard coat layer contains a monomer or oligomer containing acrylate as a main component, a photopolymerization initiator, and an ultraviolet absorber. ,
(4) A touch panel using the plastic substrate for a touch panel according to any one of (1) to (3),
It is.

本発明に従うと、タッチパネル用プラスチック基板の表面硬度、耐候性、及び耐ペン摺動性を改善することが出来、さらに紫外線硬化性樹脂からなるハードコート層を用いている為、生産性に優れ、透明性への影響度合いも少なく、品質面で向上したハードコート層積層フィルムからなるタッチパネル用プラスチック基板を得ることが出来る。   According to the present invention, the surface hardness, weather resistance, and pen sliding resistance of the plastic substrate for touch panel can be improved, and further, since a hard coat layer made of an ultraviolet curable resin is used, the productivity is excellent. It is possible to obtain a plastic substrate for a touch panel made of a hard coat layer laminated film that has little influence on transparency and is improved in quality.

本発明のタッチパネル用プラスチック基板は、熱可塑性樹脂からなるベースフィルムの少なくとも片面にハードコート層を積層し、さらにその上に透明導電層を積層したものである。前記タッチパネル用プラスチック基板の構成は本発明の効果を損なわない範囲で、ベースフィルムの片面又は両面に目的に応じて各種構成層を設けても良い。各種構成層としては例えば、ガスバリア性の向上、透明導電層と透明プラスチックとの密着性などを向上させるには金属酸化物層を積層することも出来る。   The plastic substrate for a touch panel of the present invention is obtained by laminating a hard coat layer on at least one surface of a base film made of a thermoplastic resin, and further laminating a transparent conductive layer thereon. The structure of the plastic substrate for a touch panel may be provided with various constituent layers on one side or both sides of the base film according to the purpose within a range not impairing the effects of the present invention. As various constituent layers, for example, a metal oxide layer can be laminated in order to improve the gas barrier property and improve the adhesion between the transparent conductive layer and the transparent plastic.

本発明のタッチパネル用プラスチック基板は、紫外線吸収剤を有するハードコート層を積層することにより、そのハードコート層積層フィルムはJIS K 7350−4に定める1000時間の暴露試験後も、400nmにおいて70%以上の光線透過率を有することを特徴としている。該波長での光線透過率が70%未満であると、タッチパネル用プラスチック基板が黄色に着色し、透明度が下がり視認性が低下するという問題が出る。   The plastic substrate for a touch panel of the present invention is obtained by laminating a hard coat layer having an ultraviolet absorber, so that the hard coat layer laminated film is 70% or more at 400 nm even after the 1000 hour exposure test defined in JIS K 7350-4. It has the light transmittance of the following. When the light transmittance at the wavelength is less than 70%, the plastic substrate for touch panel is colored yellow, resulting in a problem that transparency is lowered and visibility is lowered.

本発明のタッチパネル用プラスチック基板は、JIS K 5400に定める1Kg荷重での鉛筆硬度が2H以上のハードコート層を積層することにより、その上に透明導電層を形成した際の透明導電層の耐ペン摺動性(荷重:2.2N)10万回試験試験前の抵抗値R、試験後の抵抗値Rの比(R/R)が1.5以下であることを特徴としている。耐ペン摺動性試験前の抵抗値の変化比(R/R)が1.5を超えると、正確な位置の検出が難しくなるという問題が発生し、実使用に耐えうるものではない。 The plastic substrate for a touch panel according to the present invention is a pen resistance of a transparent conductive layer when a transparent conductive layer is formed thereon by laminating a hard coat layer having a pencil hardness of 2H or more at a 1 kg load as defined in JIS K 5400. The slidability (load: 2.2N) is characterized in that the resistance value R 0 before the 100,000 test test and the ratio (R / R 0 ) of the resistance value R after the test are 1.5 or less. When the change ratio (R / R 0 ) of the resistance value before the pen slidability test exceeds 1.5, there is a problem that it is difficult to accurately detect the position, and it cannot be used in actual use.

本発明に使用するベースフィルムの樹脂は熱可塑性樹脂であり、例えばポリエーテルスルホン樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリカーボネート樹脂、環状ポリオレフィン樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂等があげられる。また、これらのフィルムは滑剤、耐熱安定剤、耐候安定剤、顔料、染料、無機質充填剤などを適宜ブレンドしても良い。また、高度の耐ペン摺動性が要求される用途では、透明導電層が結晶化しやすい150℃以上のガラス転移温度を有していることが好ましく、タッチパネル製造上、耐熱性、透明性、加工性、耐衝撃性のバランスの良いポリエーテルスルホン樹脂が特に好ましい。   The resin of the base film used in the present invention is a thermoplastic resin, and examples thereof include polyethersulfone resin, polysulfone resin, polycarbonate resin, cyclic polyolefin resin, and polyethylene terephthalate resin. These films may be appropriately blended with a lubricant, a heat stabilizer, a weather stabilizer, a pigment, a dye, an inorganic filler, and the like. In applications where high pen slidability is required, it is preferable that the transparent conductive layer has a glass transition temperature of 150 ° C. or higher that facilitates crystallization. A polyethersulfone resin having a good balance between properties and impact resistance is particularly preferred.

本発明に使用するベースフィルムの厚みは、特に限定はしないが、好ましくは50〜500μmであり、より好ましくは100〜400μmである。   Although the thickness of the base film used for this invention is not specifically limited, Preferably it is 50-500 micrometers, More preferably, it is 100-400 micrometers.

本発明に用いられるハードコート剤の主成分のアクリレートとしては、特に限定はしないが、透明導電層積層時の温度に耐え、透明性を維持できる樹脂が好ましく、その硬化物のガラス転位温度が150℃以上であることが好ましい。さらに硬化後の機械特性及び透明性、耐薬品性、耐熱性はもちろんのこと、塗布加工時の低粘度化等の諸物性を考慮した場合、具体的には3次元架橋の期待出来る3官能以上のアクリレートを主成分とするモノマーもしくはオリゴマーを架橋して成る紫外線硬化性樹脂が好ましい。3官能以上のアクリレートとしては、トリメチロールプロパントリアクリレート、イソシアヌル酸EO変性トリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ポリエステルアクリレート等が好ましいが、特に好ましいのは、イソシアヌル酸EO変性トリアクリレートおよびポリエステルアクリレートである。これらは単独で用いても良いし、2種以上併用しても構わない。また、これら3官能以上のアクリレートの他にエポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、等のいわゆるアクリル系樹脂を併用することが可能である。これらの樹脂は、いずれのコート方法用いても工業的な製造を考慮すると5分以内で硬化できるものが望ましい。   The acrylate as the main component of the hard coat agent used in the present invention is not particularly limited, but a resin that can withstand the temperature at the time of laminating the transparent conductive layer and maintain the transparency is preferable, and the glass transition temperature of the cured product is 150. It is preferable that the temperature is at least ° C. In addition to the mechanical properties and transparency after curing, chemical resistance, and heat resistance, as well as various physical properties such as low viscosity during coating processing, specifically, more than three functionalities that can be expected to achieve three-dimensional crosslinking An ultraviolet curable resin obtained by crosslinking a monomer or oligomer containing acrylate as a main component is preferable. Trifunctional or higher acrylates include trimethylolpropane triacrylate, isocyanuric acid EO-modified triacrylate, pentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, Ditrimethylolpropane tetraacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, polyester acrylate and the like are preferable, but isocyanuric acid EO-modified triacrylate and polyester acrylate are particularly preferable. These may be used alone or in combination of two or more. In addition to these tri- or higher functional acrylates, so-called acrylic resins such as epoxy acrylate and urethane acrylate can be used in combination. These resins are preferably those that can be cured within 5 minutes in consideration of industrial production regardless of which coating method is used.

紫外線吸収剤の例としては、特に限定せず、ヒンダ−ドアミン系のような高分子用光安定剤も含まれる。本発明のハードコート層の主成分のアクリレートに対する良好な溶解性及びプラスチック基板の耐候性改善と言う点から、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、サリチル酸フェニル系、安息香酸フェニル系、シアノアクリレート系の誘導化合物であり、その最大吸収波長が250〜400nmの範囲にあるものが好ましい。   Examples of the ultraviolet absorber are not particularly limited, and also include light stabilizers for polymers such as hindered amines. From the viewpoint of good solubility in acrylate of the main component of the hard coat layer of the present invention and improvement in weather resistance of the plastic substrate, benzophenone, benzotriazole, phenyl salicylate, phenyl benzoate, and cyanoacrylate derivatives It is preferable that the maximum absorption wavelength is in the range of 250 to 400 nm.

本発明で用いる紫外線吸収剤の具体例としては、2−ヒドロキシベンゾフェノン、5−クロロー2―ヒドロキシベンゾフェノン、2,4−ジヒドロキシベンゾエノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−アセトキシエトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−n−オクトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−iso−オクトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシ−5−スルフォベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−アクリロキシベンゾフェノン、2,2’,4,4’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、4−ドデシロキシ−2−ヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシー4−オクタデシルオキシベンゾフェノン、2−2’−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2−2’−ジヒドロキシ−4,4’ジメトキシベンゾフェノン、2−(2’−ヒドロキシ−5’メチルフェニル)−ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−5’− tert−オクチルフェニル)−ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’−t−ブチル−5’−メチルフェニル)5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’ ,5’−ジ−tert−アミルフェニル)−ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’ ,5’−ジ−tert−ブチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2‘−ヒドロキシ−3’ ,5’−ジ−tert−ブチルフェニル)−5−ベンゾトリアゾール、2−{2’−ヒドロキシ−3’ ,5’−ジ(1,1−ジメチルベンジル)フェニル}−2H−ベンゾトリアゾール、2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4,6−ビス(1−メチル−1−フェニルエチル)フェノール、2−{5−クロロ(2H)−ベンゾトリアゾール−2−イル}−4−メチル−6−(tert−ブチル)フェノール、2−(2’−ヒドロキシ−5’−メタクリロキシフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール、フェニルサリシレート、p−tert−ブチルフェニルサリシレート、p−オクチルフェニルサリシレート、等が挙げられる。これらの紫外線吸収剤は単独で使用しても良いし、2種以上併用しても構わない。   Specific examples of the ultraviolet absorber used in the present invention include 2-hydroxybenzophenone, 5-chloro-2-hydroxybenzophenone, 2,4-dihydroxybenzoenone, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-acetoxy. Ethoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-n-octoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-iso-octoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxy-5-sulfobenzophenone, 2-hydroxy-4-acryloxybenzophenone 2,2 ′, 4,4′-tetrahydroxybenzophenone, 4-dodecyloxy-2-hydroxybenzophenone, 2-hydroxy-4-octadecyloxybenzophenone, 2-2′-dihydroxy-4-methoxybenzophenone, 2-2′- The Droxy-4,4′dimethoxybenzophenone, 2- (2′-hydroxy-5′methylphenyl) -benzotriazole, 2- (2′-hydroxy-5′-tert-octylphenyl) -benzotriazole, 2- (2 '-Hydroxy-3'-t-butyl-5'-methylphenyl) 5-chlorobenzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3', 5'-di-tert-amylphenyl) -benzotriazole, 2- (2′-hydroxy-3 ′, 5′-di-tert-butylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2′-hydroxy-3 ′, 5′-di-tert-butylphenyl) -5 Benzotriazole, 2- {2′-hydroxy-3 ′, 5′-di (1,1-dimethylbenzyl) phenyl} -2H-benzotriazole, 2- (2H-benzotria 2-yl) -4,6-bis (1-methyl-1-phenylethyl) phenol, 2- {5-chloro (2H) -benzotriazol-2-yl} -4-methyl-6- ( tert-butyl) phenol, 2- (2′-hydroxy-5′-methacryloxyphenyl) -2H-benzotriazole, phenyl salicylate, p-tert-butylphenyl salicylate, p-octylphenyl salicylate, and the like. These ultraviolet absorbers may be used alone or in combination of two or more.

前記紫外線吸収剤の添加量は、主成分のアクリレート100重量部に対して0.5〜10重量部であることが好ましく、1〜5重量部がより好ましい。添加量が下限値未満の場合、ハードコート層積層フィルムの耐候性が低下し、また上限値を超えた場合はハードコート層の硬化が十分に行われず、表面硬度及びベースフィルムとハードコート層との十分な密着性が得られなくなる。   The addition amount of the ultraviolet absorber is preferably 0.5 to 10 parts by weight, more preferably 1 to 5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the main component acrylate. When the addition amount is less than the lower limit, the weather resistance of the hard coat layer laminated film is lowered, and when the upper limit is exceeded, the hard coat layer is not sufficiently cured, the surface hardness and the base film and the hard coat layer It is impossible to obtain sufficient adhesion.

本発明で用いる光重合開始剤は特に限定しない。具体例として、2,4,6−トリメチルベンゾイルフェニルホスフィンオキシサイド、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2−メチル−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノ−1−プロパノン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタン−1−オン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、ベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン等が挙げられる。これらの光重合開始剤は単独で使用しても良いし、2種以上併用しても構わない。   The photopolymerization initiator used in the present invention is not particularly limited. Specific examples include 2,4,6-trimethylbenzoylphenylphosphine oxycide, benzoin isopropyl ether, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2-methyl. -[4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino-1-propanone, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butan-1-one, 2-hydroxy-2-methyl Examples include -1-phenylpropan-1-one, benzophenone, and 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one. These photopolymerization initiators may be used alone or in combination of two or more.

前記、光重合開始剤の添加量は主成分のアクリレートに対して0.1〜5重量部であり好ましくは0.5〜3重量部である。下限値未満ではハードコート層の硬化が不十分となり好ましくない。また、上限値を超える場合は、ハードコート層の黄変を生じたり、耐候性が低下するため好ましくない。   The addition amount of the photopolymerization initiator is 0.1 to 5 parts by weight, preferably 0.5 to 3 parts by weight, based on the main component acrylate. Less than the lower limit is not preferable because the hard coat layer is insufficiently cured. Moreover, when exceeding an upper limit, since yellowing of a hard-coat layer will be produced or a weather resistance will fall, it is unpreferable.

溶剤については、前記の主成分のアクリレートを溶解するものであれば特に限定しない。具体的には、エタノール、イソプロピルアルコール、イソブチルアルコール、ベンゼン、トルエン、キシレン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、酢酸エチル、酢酸n−ブチル、酢酸イソアミル、乳酸エチル、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、等が挙げられる。これらの溶剤は1種を単独で用いても良いし、2種以上を併用しても良い。   The solvent is not particularly limited as long as it dissolves the main component acrylate. Specifically, ethanol, isopropyl alcohol, isobutyl alcohol, benzene, toluene, xylene, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, ethyl acetate, n-butyl acetate, isoamyl acetate, ethyl lactate, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, methyl Examples include cellosolve acetate and propylene glycol monomethyl ether acetate. These solvents may be used alone or in combination of two or more.

前記溶剤の添加量は前記のアクリレート成分、紫外線吸収剤、光重合開始剤の混合物100重量部に対し、30〜400重量部である。下限値未満ではハードコート層を均一に積層することが出来ず好ましくない。また、上限値以上であるとハードコート層の膜厚が薄くなり表面硬度が低下するために好ましくない。   The addition amount of the solvent is 30 to 400 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the mixture of the acrylate component, the ultraviolet absorber and the photopolymerization initiator. If it is less than the lower limit, the hard coat layer cannot be uniformly laminated, which is not preferable. On the other hand, it is not preferable that the upper limit is exceeded because the film thickness of the hard coat layer is reduced and the surface hardness is lowered.

本発明のハードコート剤の塗布量は、硬化被膜の膜厚が1〜20μmの範囲にあることが好ましい。膜厚が下限値未満になると十分な表面硬度が得られず、上限値以上になると、硬化が不十分になる、硬化被膜にクラックが入る、外観や透明性が悪くなるため好ましくない。 The coating amount of the hard coat agent of the present invention is preferably such that the film thickness of the cured coating is in the range of 1 to 20 μm. If the film thickness is less than the lower limit, sufficient surface hardness cannot be obtained, and if it exceeds the upper limit, curing is insufficient, cracks are formed in the cured film, and the appearance and transparency are unfavorable.

本発明のハードコート層は、グラビアコート法、キスコート法等の公知の方法を用いて塗布することが出来る。   The hard coat layer of the present invention can be applied using a known method such as a gravure coating method or a kiss coating method.

本発明のハードコート層を硬化させるための紫外線照射に関しては、必要な波長の光を選択的に照射してもよい。具体的には、照射部に選択透過フィルターをもうけるか、フィルムの塗膜が形成される側とは反対面から照射する方法などが挙げられる。また大気中の酸素によってハードコート剤の硬化反応を阻害させる場合には、窒素など不活性ガス雰囲気下で照射を行っても良い。紫外線照射量は、365nmまたは254nmの波長か、ある波長を選択的に照射する場合は、紫外線領域で最大照射量となる波長域での照射量を、紫外線照度計によって測定するとよい。   Regarding the ultraviolet irradiation for curing the hard coat layer of the present invention, light having a necessary wavelength may be selectively irradiated. Specifically, a method of irradiating from the surface opposite to the side on which the coating film of the film is formed, or providing a selective transmission filter in the irradiation part can be mentioned. Further, when the curing reaction of the hard coat agent is inhibited by oxygen in the atmosphere, irradiation may be performed in an inert gas atmosphere such as nitrogen. In the case of selectively irradiating a wavelength of 365 nm or 254 nm with an ultraviolet irradiation amount, the irradiation amount in the wavelength region that is the maximum irradiation amount in the ultraviolet region may be measured by an ultraviolet illuminometer.

本発明のハードコート層積層フィルムに透明導電層を積層させる方法としては、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、CDV法等が挙げられるが特に限定はしない。   Examples of the method for laminating the transparent conductive layer on the hard coat layer laminated film of the present invention include, but are not particularly limited to, a sputtering method, a vacuum deposition method, an ion plating method, and a CDV method.

以下、実施例を上げて本発明を更に詳細に説明するが、これらは単なる例示であり、本発明はこれらの実施例に何ら限定されることはない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example is given and this invention is demonstrated further in detail, these are only illustrations and this invention is not limited to these Examples at all.

<実施例1>
溶融押出し法にて成形された、厚さ200μmのポリエーテルスルホンフィルムをベースフィルムとして用いた。このベースフィルムに、巻出装置、コーター部、加熱乾燥ゾーン、高圧水銀灯、巻取装置を有する製造装置を用いて次の加工を行った。ハードコート剤として、イソシアヌル酸EO変性トリアクリレート100重量部、紫外線吸収剤として、2−(2’−ヒドロキシ−5’−メチルフェニル)−ベンンゾトリアゾール1重量部、2−ヒドロキシ−4−メトキシ−ベンゾフェノン0.5重量部、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−セバケート0.5重量部、光重合開始剤として2、2−ジメトキシ−1、2−ジフェニルエタン−1−オン2重量部、酢酸ブチル200重量部の混合液を用いた。この混合液をグラビアコート法により塗布し、120℃で5分間加熱して溶媒を除去後、高圧水銀灯を用いて紫外線を350mJ/cm2照射し、厚さ10μmのハードコート層を形成した。得られたハードコート層積層フィルムの外観、表面硬度、密着性、及び耐候性の評価結果を表1に示す。次にハードコート層上にDCマグネトロン法により初期真空度3×10‐4Paに引き、酸素/アルゴンガス4%の混合ガスを導入し、1×10‐1Paの条件下において成膜し、In/In+Snの原子比が0.98であるIn、SnOからなる酸化物の透明電極薄膜を積層した。表面抵抗(Ro)は300Ω/□であり、膜厚は30Åであった。このようにして得られたタッチパネル用プラスチック基板の耐ペン摺動性の評価結果を表1に記す。
<Example 1>
A polyethersulfone film having a thickness of 200 μm formed by a melt extrusion method was used as a base film. This base film was subjected to the following processing using a production apparatus having an unwinding device, a coater unit, a heat drying zone, a high-pressure mercury lamp, and a winding device. As hard coating agent, isocyanuric acid EO-modified triacrylate 100 parts by weight, and as UV absorber, 2- (2′-hydroxy-5′-methylphenyl) -benzotriazole 1 part by weight, 2-hydroxy-4-methoxy -0.5 part by weight of benzophenone, 0.5 part by weight of bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) -sebacate, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane as a photopolymerization initiator A mixed solution of 2 parts by weight of -1-one and 200 parts by weight of butyl acetate was used. This mixed solution was applied by a gravure coating method, heated at 120 ° C. for 5 minutes to remove the solvent, and then irradiated with ultraviolet rays at 350 mJ / cm 2 using a high pressure mercury lamp to form a 10 μm thick hard coat layer. Table 1 shows the evaluation results of the appearance, surface hardness, adhesion, and weather resistance of the obtained hard coat layer laminated film. Next, an initial vacuum degree of 3 × 10 −4 Pa is drawn on the hard coat layer by a DC magnetron method, a mixed gas of oxygen / argon gas 4% is introduced, and a film is formed under conditions of 1 × 10 −1 Pa. An oxide transparent electrode thin film made of In 2 O 5 and SnO 2 having an In / In + Sn atomic ratio of 0.98 was stacked. The surface resistance (Ro) was 300Ω / □ and the film thickness was 30 mm. Table 1 shows the evaluation results of the pen sliding resistance of the plastic substrate for touch panel thus obtained.

<実施例2>
ハードコート剤として、トリメチロールプロパントリアクリレート80重量部、ポリエステルアクリレート20重量部、光重合開始剤として2、2−ジメトキシ−1、2−ジフェニルエタン−1−オン2重量部、紫外線吸収剤として、2−(2’−ヒドロキシ−5’− tert−オクチルフェニル)−ベンゾトリアゾール1.5重量部、2−ヒドロキシベンゾフェノン1重量部、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−セバケート0.5重量部、酢酸ブチル200重量部の混合液を用いた以外は実施例1と同様にしてハードコート層を積層した。得られたハードコート層積層フィルムの外観、表面硬度、密着性、及び耐候性の評価結果を表1に示す。次にハードコート層上に実施例1と同様の方法でIn/In+Snの原子比が0.98であるIn、SnOからなる酸化物の透明電極薄膜を積層した。表面抵抗(Ro)は300Ω/□であり、膜厚は30Åであった。このようにして得られたタッチパネル用プラスチック基板の耐ペン摺動性の評価結果を表1に記す。
<Example 2>
As a hard coating agent, 80 parts by weight of trimethylolpropane triacrylate, 20 parts by weight of polyester acrylate, 2, 2-dimethoxy-1, 2-diphenylethane-1-one as 2 parts by weight of a photopolymerization initiator, and as an ultraviolet absorber, 2- (2′-hydroxy-5′-tert-octylphenyl) -benzotriazole 1.5 parts by weight, 2-hydroxybenzophenone 1 part by weight, bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) -sebacate A hard coat layer was laminated in the same manner as in Example 1 except that a mixed solution of 0.5 parts by weight and 200 parts by weight of butyl acetate was used. Table 1 shows the evaluation results of the appearance, surface hardness, adhesion, and weather resistance of the obtained hard coat layer laminated film. Next, an oxide transparent electrode thin film made of In 2 O 5 and SnO 2 having an In / In + Sn atomic ratio of 0.98 was laminated on the hard coat layer in the same manner as in Example 1. The surface resistance (Ro) was 300Ω / □ and the film thickness was 30 mm. Table 1 shows the evaluation results of the pen sliding resistance of the plastic substrate for a touch panel thus obtained.

<実施例3>
ベースフィルムとして、溶融押出し法にて成形された厚さ200μmのポリカーボネートフィルムを用いたこと以外は実施例1と同様にしてハードコート層を積層した。得られたハードコート層積層フィルムの外観、表面硬度、密着性、及び耐候性の評価結果を表1に示す。次にハードコート層上に実施例1と同様の方法で、In/In+Snの原子比が0.98であるIn、SnOからなる酸化物の透明電極薄膜を積層した。表面抵抗(Ro)は310Ω/□であり、膜厚は30Åであった。このようにして得られたタッチパネル用プラスチック基板の耐ペン摺動性の評価結果を表1に記す。
<Example 3>
A hard coat layer was laminated in the same manner as in Example 1 except that a 200 μm-thick polycarbonate film formed by a melt extrusion method was used as the base film. Table 1 shows the evaluation results of the appearance, surface hardness, adhesion, and weather resistance of the obtained hard coat layer laminated film. Next, an oxide transparent electrode thin film made of In 2 O 5 and SnO 2 having an In / In + Sn atomic ratio of 0.98 was laminated on the hard coat layer in the same manner as in Example 1. The surface resistance (Ro) was 310Ω / □ and the film thickness was 30 mm. Table 1 shows the evaluation results of the pen sliding resistance of the plastic substrate for touch panel thus obtained.

<比較例1>
ハードコート剤として、イソシアヌル酸EO変性トリアクリレート100重量部、光重合開始剤として2、2−ジメトキシ−1、2−ジフェニルエタン−1−オン2重量部、酢酸ブチル200重量部の混合液を用いた以外は実施例1と同様にしてハードコート層を積層した。得られたハードコート層積層フィルムの外観、表面硬度、密着性、及び耐候性の評価結果を表1に示す。次にハードコート層上に実施例1と同様の方法でIn/In+Snの原子比が0.98であるIn、SnOからなる酸化物の透明電極薄膜を積層した。表面抵抗(Ro)は300Ω/□であり、膜厚は30Åであった。このようにして得られたタッチパネル用プラスチック基板の耐ペン摺動性の評価結果を表1に記す。
<Comparative Example 1>
As a hard coating agent, a mixed solution of 100 parts by weight of isocyanuric acid EO-modified triacrylate, 2, 2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one as a photopolymerization initiator, and 200 parts by weight of butyl acetate is used. A hard coat layer was laminated in the same manner as in Example 1 except that. Table 1 shows the evaluation results of the appearance, surface hardness, adhesion, and weather resistance of the obtained hard coat layer laminated film. Next, an oxide transparent electrode thin film made of In 2 O 5 and SnO 2 having an In / In + Sn atomic ratio of 0.98 was laminated on the hard coat layer in the same manner as in Example 1. The surface resistance (Ro) was 300Ω / □, and the film thickness was 30 mm. Table 1 shows the evaluation results of the pen sliding resistance of the plastic substrate for touch panel thus obtained.

<比較例2>
ハードコート剤として、イソシアヌル酸EO変性トリアクリレート100重量部、光重合開始剤として2、2−ジメトキシ−1、2−ジフェニルエタン−1−オン2重量部、紫外線吸収剤として、2−(2’−ヒドロキシ−5’−メチルフェニル)−ベンンゾトリアゾール1重量部、2−ヒドロキシ−4−メトキシ−ベンゾフェノン0.5重量部、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−セバケート0.5重量部、粒子径80nmのシリカ粒子10重量部、酢酸ブチル200重量部の混合液を用いた以外は実施例1と同様にして、ハードコート層を積層した。得られたハードコート層積層フィルムの外観、表面硬度、密着性、及び耐候性の評価結果を表1に示す。次にハードコート層上に実施例1と同様の方法でIn/In+Snの原子比が0.98であるIn、SnOからなる酸化物の透明電極薄膜を積層した。表面抵抗(Ro)は305Ω/□であり、膜厚は30Åであった。このようにして得られたタッチパネル用プラスチック基板の耐ペン摺動性の評価結果を表1に記す。
<Comparative example 2>
As hard coating agent, isocyanuric acid EO-modified triacrylate 100 parts by weight, as photopolymerization initiator 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one 2 parts by weight, as ultraviolet absorber 2- (2 ′ -Hydroxy-5'-methylphenyl) -benzotriazole 1 part by weight, 2-hydroxy-4-methoxy-benzophenone 0.5 part by weight, bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) A hard coat layer was laminated in the same manner as in Example 1 except that a mixed solution of 0.5 parts by weight of sebacate, 10 parts by weight of silica particles having a particle diameter of 80 nm, and 200 parts by weight of butyl acetate was used. Table 1 shows the evaluation results of the appearance, surface hardness, adhesion, and weather resistance of the obtained hard coat layer laminated film. Next, an oxide transparent electrode thin film made of In 2 O 5 and SnO 2 having an In / In + Sn atomic ratio of 0.98 was laminated on the hard coat layer in the same manner as in Example 1. The surface resistance (Ro) was 305Ω / □, and the film thickness was 30 mm. Table 1 shows the evaluation results of the pen sliding resistance of the plastic substrate for touch panel thus obtained.

<比較例3>
ハードコート剤として、2−エチルへキシルアクリレート100重量部、光重合開始剤として2、2−ジメトキシ−1、2−ジフェニルエタン−1−オン2重量部、紫外線吸収剤として、2−(2’−ヒドロキシ−5’−メチルフェニル)−ベンンゾトリアゾール1重量部、2−ヒドロキシ−4−メトキシ−ベンゾフェノン0.5重量部、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−セバケート0.5重量部、酢酸ブチル200重量部の混合液を用いた以外は実施例1と同様にして、ハードコート層を積層した。得られたハードコート層積層フィルムの外観、表面硬度、密着性、及び耐候性の評価結果を表1に示す。次にハードコート層上に実施例1と同様の方法でIn/In+Snの原子比が0.98であるIn、SnOからなる酸化物の透明電極薄膜を積層した。表面抵抗(Ro)は305Ω/□であり、膜厚は30Åであった。このようにして得られたタッチパネル用プラスチック基板の耐ペン摺動性の評価結果を表1に記す。
<Comparative Example 3>
As hard coating agent, 100 parts by weight of 2-ethylhexyl acrylate, 2, 2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one as photopolymerization initiator, 2 parts by weight as UV absorber, 2- (2 ′ -Hydroxy-5'-methylphenyl) -benzotriazole 1 part by weight, 2-hydroxy-4-methoxy-benzophenone 0.5 part by weight, bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) -A hard coat layer was laminated in the same manner as in Example 1 except that a mixed solution of 0.5 parts by weight of sebacate and 200 parts by weight of butyl acetate was used. Table 1 shows the evaluation results of the appearance, surface hardness, adhesion, and weather resistance of the obtained hard coat layer laminated film. Next, an oxide transparent electrode thin film made of In 2 O 5 and SnO 2 having an In / In + Sn atomic ratio of 0.98 was laminated on the hard coat layer in the same manner as in Example 1. The surface resistance (Ro) was 305Ω / □, and the film thickness was 30 mm. Table 1 shows the evaluation results of the pen sliding resistance of the plastic substrate for touch panel thus obtained.

評価の方法及び基準は、下記の(a)〜(e)に記載した。
(a) 外観については、ハードコート層積層後の熱可塑性樹脂フィルム表面を目視で確認した。
白化、塗布ハジキが見られるものについて不良と判断した。
(b) ハードコート層とベースフィルムとの密着性については、JIS―K5400に従い
碁盤目剥離試験で評価した。試験結果は、100個の碁盤目中の剥離しないで残存した目の数を%で示す。
残存した目の割合が95%未満の場合、不良と判断した。
(c) ハードコート層の表面硬度は、JIS‐K5400に定める方法で1kg荷重にて評価した。試験は5回行った後、表面のキズを目視で確認した。
キズが3本以上入っていた場合について不良と判断した。
(d) ハードコート層積層フィルムの耐候性は、JIS−K7350−4に定める方法を用いて試験した。試験条件はブラックパネル温度63℃、照射強度500Wで1000時間の促進暴露試験を行い、暴露最終サンプルについてハードコート層とベースフィルムとの密着性をJIS−K5400に定める方法で評価した。また、ハードコート層積層フィルムの400nmにおける光線透過率をJIS−K7361に定める方法で評価した。
促進暴露試験後の400nmにおける光線透過率が70%以下の場合、不良と判断した。
(e) 耐ペン摺動性については、作製したプラスチック基板をペンプロッタFP8300(グラフテック社製)を使用し、この基板の上面を先端が0.8mmのポリアセタール製のペンで荷重2.2N、直線状に10万回摺動後、摺動した線を横切る範囲で抵抗変化をJIS K7194に定める方法により評価した。
1.5以下を良とした。
The evaluation method and criteria are described in the following (a) to (e).
(a) About the external appearance, the thermoplastic resin film surface after hard-coat layer lamination | stacking was confirmed visually.
Those with whitening and coating repelling were judged to be defective.
(b) The adhesion between the hard coat layer and the base film was evaluated by a cross-cut peel test in accordance with JIS-K5400. The test result indicates the number of remaining eyes without peeling in 100 grids in%.
When the ratio of the remaining eyes was less than 95%, it was judged as defective.
(c) The surface hardness of the hard coat layer was evaluated at a 1 kg load by the method defined in JIS-K5400. After the test was conducted 5 times, the surface was visually checked for scratches.
A case where 3 or more scratches were present was judged as defective.
(d) The weather resistance of the hard coat layer laminated film was tested using the method defined in JIS-K7350-4. Test conditions were an accelerated exposure test for 1000 hours at a black panel temperature of 63 ° C. and an irradiation intensity of 500 W, and the adhesion between the hard coat layer and the base film of the final exposed sample was evaluated by the method defined in JIS-K5400. Further, the light transmittance at 400 nm of the hard coat layer laminated film was evaluated by the method defined in JIS-K7361.
When the light transmittance at 400 nm after the accelerated exposure test was 70% or less, it was judged as defective.
(e) For pen slidability, the produced plastic substrate was a pen plotter FP8300 (manufactured by Graphtec), and the top surface of this substrate was a polyacetal pen with a tip of 0.8 mm, a load of 2.2 N, linear After sliding 100,000 times, the resistance change was evaluated by the method defined in JIS K7194 within the range crossing the slid line.
1.5 or less was considered good.

Figure 2006190189
Figure 2006190189

本発明に従うと、タッチパネル用プラスチック基板の表面硬度、耐候性、及び耐ペン摺動性を改善することが出来、さらに紫外線硬化性樹脂からなるハードコート層を用いている為、生産性に優れ、透明性への影響度合いも少なく、品質面で向上したハードコート層積層フィルムからなるタッチパネル用プラスチック基板を得ることが出来る。   According to the present invention, the surface hardness, weather resistance, and pen sliding resistance of the plastic substrate for touch panel can be improved, and further, since a hard coat layer made of an ultraviolet curable resin is used, the productivity is excellent. It is possible to obtain a plastic substrate for a touch panel made of a hard coat layer laminated film that has little influence on transparency and is improved in quality.

Claims (4)

熱可塑性樹脂フィルムをベースフィルムとし、少なくともその片面にハードコート層を有し、ハードコート層積層フィルムのハードコート層のJIS K 5400に定める1Kg荷重での鉛筆硬度が2H以上、かつハードコート層積層フィルムのJIS K 7350−4に定める1000時間の暴露試験後の400nmにおける光線透過率が70%以上であり、ハードコート層積層フィルムのハードコート層上に透明導電層を形成した際の透明導電層の耐ペン摺動性(荷重:2.2N)10万回試験前後の抵抗値変化比(R/R)が1.5以下であることを特徴とするタッチパネル用プラスチック基板。 A thermoplastic resin film is used as a base film, and a hard coat layer is provided on at least one surface thereof. The hard coat layer of the hard coat layer laminate film has a pencil hardness of 2H or more at a 1 kg load as defined in JIS K 5400, and a hard coat layer laminate. Transparent conductive layer when light transmittance at 400 nm after exposure test for 1000 hours defined in JIS K 7350-4 of the film is 70% or more and a transparent conductive layer is formed on the hard coat layer of the hard coat layer laminated film A plastic substrate for a touch panel, wherein a resistance change ratio (R / R 0 ) before and after a 100,000 times test is 1.5 or less. 前記熱可塑性樹脂がポリエーテルサルホン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリサルホン樹脂、環状ポリオレフィン樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂であることを特徴とする請求項1記載のタッチパネル用プラスチック基板。   The touch panel plastic substrate according to claim 1, wherein the thermoplastic resin is a polyether sulfone resin, a polycarbonate resin, a polysulfone resin, a cyclic polyolefin resin, or a polyethylene terephthalate resin. 前記ハードコート層を形成するハードコート剤が、アクリレートを主成分とするモノマーもしくはオリゴマー、光重合開始剤、紫外線吸収剤を含有する請求項1または2記載のタッチパネル用プラスチック基板。   The plastic substrate for a touch panel according to claim 1 or 2, wherein the hard coat agent forming the hard coat layer contains a monomer or an oligomer mainly composed of acrylate, a photopolymerization initiator, and an ultraviolet absorber. 請求項1〜3のいずれか記載のタッチパネル用プラスチック基板を用いたタッチパネル。   The touch panel using the plastic substrate for touch panels in any one of Claims 1-3.
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