JP2003251751A - Hard coat film - Google Patents

Hard coat film

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JP2003251751A
JP2003251751A JP2002059090A JP2002059090A JP2003251751A JP 2003251751 A JP2003251751 A JP 2003251751A JP 2002059090 A JP2002059090 A JP 2002059090A JP 2002059090 A JP2002059090 A JP 2002059090A JP 2003251751 A JP2003251751 A JP 2003251751A
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Yoshitaka Takesako
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a hard coat film capable of enhancing representative ability and visual perception without reducing hard coat performance and causing no deterioration in haze values nor in total light transmittance. <P>SOLUTION: The hard coat film having a hard coat layer (a) on one face of a base film is formed by laminating ionizing radiation-curable resin layers (b) and (c) an ionizing radiation-curable resin layer in sequence on the other face thereof. The hard coat layer (a) is 2-20 μm in thickness. The ionizing radiation-curable resin layer (b) has a refractive index in a range of 1.47-1.56 with 2-20 μm in thickness. The ionizing radiation-curable resin layer (c) contains metal oxides and has a refractive index in a range of 1.65-1.72 with 40-250 nm in thickness. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ハードコートフィ
ルムに関する。さらに詳しくは、本発明は、抵抗膜方式
のタッチパネル用として用いられ、屈折率調整層を設け
ることで、ハードコート性能を低下させることなく、画
像の表示性や視認性を向上させたタッチパネル用ハード
コートフィルムに関するものである。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a hard coat film. More specifically, the present invention is used for a resistive film type touch panel, and by providing a refractive index adjusting layer, a touch panel hard disk having improved image displayability and visibility without deteriorating the hard coat performance. It relates to a coated film.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、市場が増大している携帯用の情報
端末への入力装置として、タッチパネルが利用されてい
る。このタッチパネルは、ディスプレイ画面を直接指、
ペンなどで触れることによってデータを入力する装置で
ある。上記タッチパネルは、現在約9割が抵抗膜方式を
採用している。該抵抗膜方式のタッチパネルは、一般に
透明プラスチック基材の片面に錫ドープ酸化インジウム
(ITO)膜などの透明導電性薄膜を積層したタッチ側
プラスチック基板と、ガラスなどの透明基材の片面にI
TO膜などの透明導電性薄膜を積層したディスプレイ側
透明基板とを、絶縁スペーサを介して、各透明導電性薄
膜が向き合うように対向配置させた構造を有している。
そして、入力は、ペンや指でタッチ側プラスチック基板
のタッチ入力面(透明導電性薄膜側とは反対側の面をい
う。以下、同様)を押圧し、タッチ側プラスチック基板
の透明導電性薄膜と、ディスプレイ側透明基板の透明導
電性薄膜とを接触させて行う。しかしながら、このよう
な抵抗膜方式タッチパネルにおいては、入力操作を繰り
返すことにより、すなわちタッチ側プラスチック基板の
透明導電性薄膜とディスプレイ側透明基板の透明導電性
薄膜との接触を繰り返すことにより、タッチ側プラスチ
ック基板の透明導電性薄膜が摩耗したり、クラックが発
生したり、さらには基材から剥離してしまうなどの問題
が生じる。そこで、このような問題を解決するために、
一般に透明プラスチック基材と透明導電性薄膜との間
に、合成樹脂からなるハードコート層を設けることが行
われている。しかしながら、代表的な透明導電性薄膜で
あるITO膜の屈折率は約2であり、一方、合成樹脂か
らなるハードコート層の屈折率は1.4〜1.6程度であ
ることから、該ITO膜によって、短波長側の光が反射
し、タッチ側プラスチック基板が黄色みを帯びるという
現象が発生する。その結果、表示画像の視認性が低下し
たり、カラー表示のタッチパネルの場合、本来の色が若
干変化し、表示性が低下するなど、好ましくない事態を
招来する。ところで、屈折率が約2のITO膜とハード
コート層との間に、屈折率を調整する層を設けること
で、色目が変化することは、学術的にも知られたことで
ある。しかしながら、ハードコート性能を低下させるこ
となく、あるいはヘイズ値や全光線透過率などの光学特
性を損なうことなく、屈折率調整層を設けることは、こ
れまでできないのが実状であった。ハードコート性能が
低下すると、ペン入力タイプの場合、筆圧によりハード
コート層及びITO膜に傷が入りやすくなるし、ヘイズ
値が上昇したり、全光線透過率が低下すると、視認性が
低下するのを免れない。そのため、ITO膜の厚みを薄
くして対応することが試みられたが、この場合十分な導
電性が得られないという問題があった。
2. Description of the Related Art In recent years, a touch panel has been used as an input device for a portable information terminal whose market has been increasing. This touch panel directly touches the display screen with your finger,
A device that inputs data by touching it with a pen or the like. About 90% of the touch panels currently employ a resistive film type. The touch panel of the resistance film type generally has a touch-side plastic substrate in which a transparent conductive thin film such as a tin-doped indium oxide (ITO) film is laminated on one surface of a transparent plastic substrate, and an I-shaped one side of a transparent substrate such as glass.
It has a structure in which a display-side transparent substrate having a transparent conductive thin film such as a TO film laminated thereon is opposed to each other so that the transparent conductive thin films face each other via an insulating spacer.
For input, the touch input surface of the touch-side plastic substrate (the surface opposite to the transparent conductive thin film side; hereinafter the same) is pressed with a pen or finger, and the touch-side plastic substrate is connected with the transparent conductive thin film. , The transparent conductive thin film on the display-side transparent substrate is brought into contact with the transparent substrate. However, in such a resistive film type touch panel, by repeating the input operation, that is, by repeating the contact between the transparent conductive thin film of the touch side plastic substrate and the transparent conductive thin film of the display side transparent substrate, the touch side plastic substrate There arise problems such as abrasion of the transparent conductive thin film of the substrate, generation of cracks, and separation from the base material. Therefore, in order to solve such problems,
Generally, a hard coat layer made of a synthetic resin is provided between a transparent plastic substrate and a transparent conductive thin film. However, since the refractive index of an ITO film, which is a typical transparent conductive thin film, is about 2, the refractive index of a hard coat layer made of synthetic resin is about 1.4 to 1.6. Due to the film, light on the short wavelength side is reflected, and a phenomenon occurs that the touch-side plastic substrate becomes yellowish. As a result, the visibility of the display image is reduced, and in the case of a touch panel for color display, the original color is slightly changed, and the displayability is reduced, which causes an undesirable situation. By the way, it is also scientifically known that the color tone is changed by providing a layer for adjusting the refractive index between the ITO film having a refractive index of about 2 and the hard coat layer. However, it has been impossible in the past to provide a refractive index adjusting layer without deteriorating the hard coat performance or impairing the optical characteristics such as haze value and total light transmittance. When the hard coat performance is lowered, in the case of a pen input type, the hard coat layer and the ITO film are easily scratched by the writing pressure, and when the haze value is increased or the total light transmittance is decreased, the visibility is decreased. I cannot escape. Therefore, attempts have been made to reduce the thickness of the ITO film, but in this case, there is a problem that sufficient conductivity cannot be obtained.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、このような
事情のもとで、抵抗膜方式タッチパネルにおけるタッチ
側プラスチック基板として用いられるハードコートフィ
ルムであって、ハードコート性能を低下させることな
く、あるいはヘイズ値や全光線透過率を損なうことな
く、表示性及び視認性などを向上させ得るタッチパネル
用ハードコートフィルムを提供することを目的としてな
されたものである。
Under the above circumstances, the present invention provides a hard coat film used as a touch-side plastic substrate in a resistive touch panel, which does not deteriorate the hard coat performance. Alternatively, the object of the present invention is to provide a hard coat film for a touch panel that can improve displayability and visibility without impairing the haze value and the total light transmittance.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記の優
れた機能を有するハードコートフィルムを開発すべく鋭
意研究を重ねた結果、基材フィルムのITO膜を設ける
側のハードコート層上に、このハードコート層の屈折率
と該ITO膜の屈折率の中間的な屈折率を有するハード
コート層を設けることにより、その目的を達成し得るこ
とを見出し、この知見に基づいて本発明を完成するに至
った。すなわち、本発明は、(1)基材フィルムの一方
の面に、(a)厚さ2〜20μmのハードコート層を有
すると共に、他方の面に、(b)屈折率が1.47〜1.
56の範囲にある厚さ2〜20μmの電離放射線による
硬化樹脂層、及び(c)金属酸化物を含む屈折率が1.
65〜1.72の範囲にある厚さ40〜250nmの電
離放射線による硬化樹脂層が順に積層されてなるハード
コートフィルム、(2)(c)層における金属酸化物
が、酸化ジルコニウム及び/又はアンチモンドープ酸化
錫である第1項記載のハードコートフィルム、及び
(3)(c)層上に、厚さ5〜100nmの錫ドープ酸
化インジウム膜を有する第1項又は第2項記載のハード
コートフィルム、を提供するものである。
Means for Solving the Problems As a result of intensive studies to develop a hard coat film having the above-mentioned excellent function, the present inventors have found that the hard coat layer on the side of the base film on which the ITO film is to be provided is formed. It was found that the object can be achieved by providing a hard coat layer having an intermediate refractive index between the refractive index of the hard coat layer and the refractive index of the ITO film, and the present invention is based on this finding. It came to completion. That is, in the present invention, (1) a hard coat layer having a thickness of 2 to 20 μm is provided on one surface of a substrate film, and (b) a refractive index of 1.47 to 1 is provided on the other surface. .
A cured resin layer having a thickness of 2 to 20 μm in the range of 56 by ionizing radiation and (c) a metal oxide having a refractive index of 1.
A hard coat film in which a cured resin layer having a thickness of 40 to 250 nm in the range of 65 to 1.72 by ionizing radiation is laminated in order, and the metal oxide in the layer (2) and (c) is zirconium oxide and / or antimony. The hard coat film according to claim 1, which is doped tin oxide, and the hard coat film according to claim 1 or 2, which has a tin-doped indium oxide film having a thickness of 5 to 100 nm on the (3) (c) layer. , Is provided.

【0005】[0005]

【発明の実施の形態】本発明のタッチパネル用ハードコ
ートフィルムにおける基材フィルムとしては特に制限は
なく、従来タッチパネル用として使用されている公知の
透明プラスチックフィルムの中から適宣選択して用いる
ことができる。このようなプラスチックフィルムとして
は、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレ
ンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポ
リエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロ
ピレンフィルム、セロファン、ジアセチルセルロースフ
ィルム、トリアセチルセルロースフィルム、アセチルセ
ルロースブチレートフィルム、ポリ塩化ビニルフィル
ム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコー
ルフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体フィルム、
ポリスチレンフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポ
リメチルペンテンフィルム、ポリスルホンフィルム、ポ
リエーテルエーテルケトンフィルム、ポリエーテルスル
ホンフィルム、ポリエーテルイミドフィルム、ポリイミ
ドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ポリアミドフィル
ム、アクリル樹脂フィルム等を挙げることができる。こ
の基材フィルムの厚さとしては特に制限はないが、通常
20〜300μm、好ましくは50〜250μmの範囲
である。この厚さが20μm未満では機械的強度が不足
し、タッチパネルに用いた際のペン入力に対する変形が
大きくなりすぎ、耐久性が不十分となるおそれがあり、
一方300μmを超えるとタッチパネルに用いた際に、
フィルムを変形させるためのペン荷重が大きくなり、好
ましくない。また、この基材フィルムは、その表面に設
けられる層との密着性を向上させる目的で、所望により
片面又は両面に、プライマー処理、あるいは酸化法や凹
凸化法などにより表面処理を施すことができる。上記酸
化法としては、例えばコロナ放電処理、クロム酸処理
(湿式)、火炎処理、熱風処理、オゾン・紫外線照射処
理などが挙げられ、凹凸化法としては、例えばサンドブ
ラスト法、溶剤処理法などが挙げられる。これらの表面
処理法は基材フィルムの種類に応じて適宜選ばれるが、
一般にはコロナ放電処理法が効果及び操作性などの面か
ら、好ましく用いられる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The base film in the hard coat film for a touch panel of the present invention is not particularly limited and may be appropriately selected and used from known transparent plastic films conventionally used for touch panels. it can. Examples of such plastic films include polyester films such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate and polyethylene naphthalate, polyethylene films, polypropylene films, cellophane, diacetyl cellulose films, triacetyl cellulose films, acetyl cellulose butyrate films, polychlorinated films. Vinyl film, polyvinylidene chloride film, polyvinyl alcohol film, ethylene-vinyl acetate copolymer film,
Examples thereof include polystyrene film, polycarbonate film, polymethylpentene film, polysulfone film, polyetheretherketone film, polyethersulfone film, polyetherimide film, polyimide film, fluororesin film, polyamide film, acrylic resin film and the like. The thickness of the base film is not particularly limited, but is usually 20 to 300 μm, preferably 50 to 250 μm. If the thickness is less than 20 μm, the mechanical strength is insufficient, the deformation with respect to the pen input when used in a touch panel becomes too large, and the durability may be insufficient.
On the other hand, when it exceeds 300 μm, when it is used for a touch panel,
The pen load for deforming the film becomes large, which is not preferable. Further, this substrate film can be subjected to a surface treatment by a primer treatment, or an oxidation method or a textured method on one side or both sides, if desired, for the purpose of improving the adhesiveness with a layer provided on the surface thereof. . Examples of the oxidation method include corona discharge treatment, chromic acid treatment (wet), flame treatment, hot air treatment, ozone / ultraviolet irradiation treatment, and the like, and examples of the roughening method include a sandblast method and a solvent treatment method. To be These surface treatment methods are appropriately selected depending on the type of the base film,
Generally, the corona discharge treatment method is preferably used from the viewpoints of effects and operability.

【0006】本発明のハードコートフィルムにおいて
は、前記基材フィルムの一方の面に、(a)層としてハ
ードコート層が設けられる。このハードコート層には、
その形成用塗工液として、熱硬化型樹脂組成物及び電離
放射線硬化型樹脂組成物のいずれも用いることができ
る。なお、本発明でいう電離放射線とは、電磁波又は荷
電粒子線の中でエネルギー量子を有するもの、すなわ
ち、紫外線又は電子線などを指す。上記、熱硬化型樹脂
組成物としては、特に制限はなく、従来公知のものの中
から、適宜選択して用いることができる。この熱硬化型
樹脂組成物は、一般に熱硬化性樹脂を基本成分とし、さ
らに所望により他の樹脂及び硬化剤などを含有するもの
である。該熱硬化性樹脂としては、一般に分子量200
〜2,000,000程度のものが用いられる。上記熱硬
化性樹脂としては、例えば炭素−炭素二重結合やグリシ
ジル基を有するアクリレート系重合体、不飽和ポリエス
テル、イソプレン重合体、ブタジエン重合体、エポキシ
樹脂、フェノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂などが
挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、2種以上
を組み合わせて用いてもよい。また、他の樹脂として
は、ビニル樹脂、ウレタン樹脂、ポリエステル、ポリア
ミド、ポリカーボネート、ポリイミド、ニトリル樹脂、
シリコーン樹脂などが挙げられる。これらの樹脂は、塗
工液の粘度を調節したり、ハードコート層に所望の物性
を付与するために用いられるものであり、単独で用いて
も、2種以上を組み合わせて用いてもよい。さらに、硬
化剤としては、例えばジベンゾイルペルオキシド、ジラ
ウロイルペルオキシド、t−ブチルぺルオキシベンゾエ
ート、ジ−2−エチルヘキシルペルオキシジカーボネー
トなどの有機過酸化物、2,2'−アゾビスイソブチロニ
トリル、2,2'−アゾビス−2−メチルブチロニトリ
ル、2,2'−アゾビスジメチルバレロニトリルなどのア
ゾ化合物、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタ
ンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ヘ
キサメチレンジイソシアネートなどのポリイソシアネー
ト化合物、フェニレンジアミン、ヘキサメチレンテトラ
ミン、イソホロンジアミン、ジアミノジフェニルメタン
などのポリアミン類、ドデセニル無水コハク酸、無水フ
タル酸、テトラヒドロ無水フタル酸などの酸無水物、2
−メチルイミダゾール、2−エチルイミダゾール、2−
フェニルイミダゾールなどのイミダゾール類やジシアン
ジアミド、p−トルエンスルホン酸、トリフルオロメタ
ンスルホン酸などのルイス酸、ホルムアルデヒドなどが
挙げられる。これらの硬化剤は、使用する熱硬化性樹脂
の種類に応じて適宜選択される。
In the hard coat film of the present invention, a hard coat layer is provided as a layer (a) on one surface of the base film. This hard coat layer contains
Both a thermosetting resin composition and an ionizing radiation curable resin composition can be used as the forming coating liquid. The ionizing radiation in the present invention refers to electromagnetic waves or charged particle beams having energy quantum, that is, ultraviolet rays or electron beams. The thermosetting resin composition is not particularly limited, and can be appropriately selected and used from conventionally known ones. This thermosetting resin composition generally contains a thermosetting resin as a basic component and, if desired, further contains other resins and a curing agent. The thermosetting resin generally has a molecular weight of 200.
Approximately 2,000,000 is used. Examples of the thermosetting resin include acrylate polymers having a carbon-carbon double bond or a glycidyl group, unsaturated polyesters, isoprene polymers, butadiene polymers, epoxy resins, phenol resins, urea resins, melamine resins and the like. Can be mentioned. These may be used alone or in combination of two or more. Further, as the other resin, vinyl resin, urethane resin, polyester, polyamide, polycarbonate, polyimide, nitrile resin,
Silicone resin etc. are mentioned. These resins are used for adjusting the viscosity of the coating liquid and for imparting desired physical properties to the hard coat layer, and may be used alone or in combination of two or more kinds. Examples of the curing agent include organic peroxides such as dibenzoyl peroxide, dilauroyl peroxide, t-butyl peroxybenzoate, and di-2-ethylhexyl peroxydicarbonate, 2,2'-azobisisobutyronitrile. Azo compounds such as 2,2'-azobis-2-methylbutyronitrile, 2,2'-azobisdimethylvaleronitrile, polyisocyanate compounds such as tolylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, isophorone diisocyanate and hexamethylene diisocyanate, phenylene Polyamines such as diamine, hexamethylenetetramine, isophoronediamine and diaminodiphenylmethane, acid anhydrides such as dodecenyl succinic anhydride, phthalic anhydride and tetrahydrophthalic anhydride, 2
-Methylimidazole, 2-ethylimidazole, 2-
Examples thereof include imidazoles such as phenylimidazole, dicyandiamide, Lewis acids such as p-toluenesulfonic acid and trifluoromethanesulfonic acid, and formaldehyde. These curing agents are appropriately selected according to the type of thermosetting resin used.

【0007】また、この熱硬化型樹脂組成物には、所望
により、ハードコート層の防眩性、曲げ弾性率の向上、
体積収縮率の安定化、耐熱性などの向上を図る目的で、
例えばシリカ、アルミナ、水和アルミナなどの各種フィ
ラーを添加してもよい。さらに、各種添加剤、例えば酸
化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、帯電防止剤、レベ
リング剤、消泡剤なども添加することができる。一方、
電離放射線硬化型樹脂組成物としては、例えば光重合性
プレポリマー及び/又は光重合性モノマーと所望により
光重合開始剤などを含むものを挙げることができる。上
記光重合性プレポリマーには、ラジカル重合型とカチオ
ン重合型があり、ラジカル重合型の光重合性プレポリマ
ーとしては、例えばポリエステルアクリレート系、エポ
キシアクリレート系、ウレタンアクリレート系、ポリオ
ールアクリレート系などが挙げられる。ここで、ポリエ
ステルアクリレート系プレポリマーとしては、例えば多
価カルボン酸と多価アルコールの縮合によって得られる
両末端に水酸基を有するポリエステルオリゴマーの水酸
基を(メタ)アクリル酸でエステル化することにより、
あるいは、多価カルボン酸にアルキレンオキシドを付加
して得られるオリゴマーの末端の水酸基を(メタ)アク
リル酸でエステル化することにより得ることができる。
エポキシアクリレート系プレポリマーは、例えば、比較
的低分子量のビスフェノール型エポキシ樹脂やノボラッ
ク型エポキシ樹脂のオキシラン環に、(メタ)アクリル
酸を反応しエステル化することにより得ることができ
る。ウレタンアクリレート系プレポリマーは、例えば、
ポリエーテルポリオールやポリエステルポリオールとポ
リイソシアネートの反応によって得られるポリウレタン
オリゴマーを、(メタ)アクリル酸でエステル化するこ
とにより得ることができる。さらに、ポリオールアクリ
レート系プレポリマーは、ポリエーテルポリオールの水
酸基を(メタ)アクリル酸でエステル化することにより
得ることができる。これらの光重合性プレポリマーは1
種用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよ
い。
If desired, the thermosetting resin composition may have an improved antiglare property and flexural modulus of the hard coat layer.
For the purpose of stabilizing volume shrinkage and improving heat resistance,
For example, various fillers such as silica, alumina and hydrated alumina may be added. Further, various additives such as an antioxidant, an ultraviolet absorber, a light stabilizer, an antistatic agent, a leveling agent, an antifoaming agent and the like can be added. on the other hand,
Examples of the ionizing radiation-curable resin composition include those containing a photopolymerizable prepolymer and / or a photopolymerizable monomer and optionally a photopolymerization initiator. The photopolymerizable prepolymer includes a radical polymerization type and a cationic polymerization type, and examples of the radical polymerization type photopolymerizable prepolymer include polyester acrylate-based, epoxy acrylate-based, urethane acrylate-based, and polyol acrylate-based. To be Here, as the polyester acrylate-based prepolymer, for example, by esterifying the hydroxyl group of the polyester oligomer having a hydroxyl group at both ends obtained by condensation of a polyvalent carboxylic acid and a polyhydric alcohol with (meth) acrylic acid,
Alternatively, it can be obtained by esterifying the terminal hydroxyl group of an oligomer obtained by adding an alkylene oxide to a polycarboxylic acid with (meth) acrylic acid.
The epoxy acrylate prepolymer can be obtained, for example, by reacting (meth) acrylic acid with the oxirane ring of a bisphenol type epoxy resin or novolac type epoxy resin having a relatively low molecular weight to esterify. The urethane acrylate prepolymer is, for example,
It can be obtained by esterifying a polyurethane oligomer obtained by reacting a polyether polyol or polyester polyol with a polyisocyanate with (meth) acrylic acid. Furthermore, the polyol acrylate prepolymer can be obtained by esterifying the hydroxyl groups of the polyether polyol with (meth) acrylic acid. These photopolymerizable prepolymers are 1
One kind may be used, or two or more kinds may be used in combination.

【0008】一方、カチオン重合型の光重合性プレポリ
マーとしては、エポキシ系樹脂が通常使用される。この
エポキシ系樹脂としては、例えばビスフェノールやノボ
ラック樹脂などの多価フェノール類にエピクロルヒドリ
ンなどでエポキシ化した化合物、直鎖状オレフィン化合
物や環状オレフィン化合物を過酸化物などで酸化して得
られた化合物などが挙げられる。また、光重合性モノマ
ーとしては、例えば1,4−ブタンジオールジ(メタ)
アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)ア
クリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリ
レート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレー
ト、ネオペンチルグリコールアジペートジ(メタ)アク
リレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコー
ルジ(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニルジ(メ
タ)アクリレート、カプロラクトン変性ジシクロペンテ
ニルジ(メタ)アクリレート、エチレンオキシド変性リ
ン酸ジ(メタ)アクリレート、アリル化シクロヘキシル
ジ(メタ)アクリレート、イソシアヌレートジ(メタ)
アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)ア
クリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アク
リレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールト
リ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ
(メタ)アクリレート、プロピレンオキシド変性トリメ
チロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリス
(アクリロキシエチル)イソシアヌレート、プロピオン
酸変性ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレ
ート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレ
ート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキ
サ(メタ)アクリレートなどの多官能アクリレートが挙
げられる。これらの光重合性モノマーは1種用いてもよ
いし、2種以上を組み合わせて用いてもよく、また、前
記光重合性プレポリマーと併用してもよい。
On the other hand, an epoxy resin is usually used as the cationically polymerizable photopolymerizable prepolymer. Examples of the epoxy resin include compounds obtained by epoxidizing polyhydric phenols such as bisphenol and novolac resins with epichlorohydrin, compounds obtained by oxidizing linear olefin compounds and cyclic olefin compounds with peroxides, etc. Is mentioned. Further, as the photopolymerizable monomer, for example, 1,4-butanediol di (meth)
Acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol adipate di (meth) acrylate, hydroxypivalic acid neopentyl glycol di (meth) ) Acrylate, dicyclopentanyl di (meth) acrylate, caprolactone modified dicyclopentenyl di (meth) acrylate, ethylene oxide modified phosphoric acid di (meth) acrylate, allylated cyclohexyl di (meth) acrylate, isocyanurate di (meth)
Acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tri (meth) acrylate, propionic acid modified dipentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, propylene oxide modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate Polyfunctional acrylates such as acrylate, tris (acryloxyethyl) isocyanurate, propionic acid-modified dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, caprolactone-modified dipentaerythritol hexa (meth) acrylate . These photopolymerizable monomers may be used alone or in combination of two or more, and may be used in combination with the photopolymerizable prepolymer.

【0009】一方、所望により用いられる光重合開始剤
としては、ラジカル重合型の光重合性プレポリマーや光
重合性モノマーに対しては、例えばベンゾイン、ベンゾ
インメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベン
ゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン−n−ブチル
エーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、アセトフェ
ノン、ジメチルアミノアセトフェノン、2,2−ジメト
キシ−2−フェニルアセトフェノン、2,2−ジエトキ
シ−2−フェニルアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2
−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−ヒド
ロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−1
−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノ−
プロパン−1−オン、4−(2−ヒドロキシエトキシ)
フェニル−2(ヒドロキシ−2−プロプル)ケトン、ベ
ンゾフェノン、p−フェニルベンゾフェノン、4,4'−
ジエチルアミノベンゾフェノン、ジクロロベンゾフェノ
ン、2−メチルアントラキノン、2−エチルアントラキ
ノン、2−タ−シャリ−ブチルアントラキノン、2−ア
ミノアントラキノン、2−メチルチオキサントン、2−
エチルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、
2,4−ジメチルチオキサントン、2,4−ジエチルチオ
キサントン、ベンジルジメチルケタール、アセトフェノ
ンジメチルケタール、p−ジメチルアミン安息香酸エス
テルなどが挙げられる。また、カチオン重合型の光重合
性プレポリマーに対する光重合開始剤としては、例えば
芳香族スルホニウムイオン、芳香族オキソスルホニウム
イオン、芳香族ヨードニウムイオンなどのオニウムと、
テトラフルオロボレート、ヘキサフルオロホスフェー
ト、ヘキサフルオロアンチモネート、ヘキサフルオロア
ルセネートなどの陰イオンとからなる化合物が挙げられ
る。これらは1種用いてもよいし、2種以上を組み合わ
せて用いてもよく、また、その配合量は、前記光重合性
プレポリマー及び/又は光重合性モノマー100重量部
に対して、通常0.2〜10重量部の範囲で選ばれる。
また、この電離放射線硬化型樹脂組成物には、前記の熱
硬化型樹脂組成物と同様に、所望により、ハードコート
層の防眩性、曲げ弾性率の向上、体積収縮率の安定化、
耐熱性などの向上を図る目的で、例えばシリカ、アルミ
ナ、水和アルミナなどの各種フィラーを添加してもよ
い。さらに、各種添加剤、例えば酸化防止剤、紫外線吸
収剤、光安定剤、帯電防止剤、レベリング剤、消泡剤な
ども添加することができる。
On the other hand, as a photopolymerization initiator optionally used, for radical polymerization type photopolymerizable prepolymers and photopolymerizable monomers, for example, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, Benzoin-n-butyl ether, benzoin isobutyl ether, acetophenone, dimethylaminoacetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2,2-diethoxy-2-phenylacetophenone, 2-hydroxy-2
-Methyl-1-phenylpropan-1-one, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-1
-[4- (Methylthio) phenyl] -2-morpholino-
Propan-1-one, 4- (2-hydroxyethoxy)
Phenyl-2 (hydroxy-2-propyl) ketone, benzophenone, p-phenylbenzophenone, 4,4'-
Diethylaminobenzophenone, dichlorobenzophenone, 2-methylanthraquinone, 2-ethylanthraquinone, 2-tert-butyl-anthraquinone, 2-aminoanthraquinone, 2-methylthioxanthone, 2-
Ethylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone,
2,4-dimethyl thioxanthone, 2,4-diethyl thioxanthone, benzyl dimethyl ketal, acetophenone dimethyl ketal, p-dimethyl amine benzoate, etc. are mentioned. Further, as the photopolymerization initiator for the cationic polymerization type photopolymerizable prepolymer, for example, an onium such as an aromatic sulfonium ion, an aromatic oxosulfonium ion, or an aromatic iodonium ion,
Examples thereof include compounds consisting of anions such as tetrafluoroborate, hexafluorophosphate, hexafluoroantimonate and hexafluoroarsenate. These may be used alone or in combination of two or more, and the compounding amount thereof is usually 0 with respect to 100 parts by weight of the photopolymerizable prepolymer and / or the photopolymerizable monomer. It is selected in the range of 0.2 to 10 parts by weight.
Further, in this ionizing radiation curable resin composition, like the thermosetting resin composition described above, if desired, antiglare properties of the hard coat layer, improvement of flexural modulus, stabilization of volume shrinkage,
For the purpose of improving heat resistance and the like, various fillers such as silica, alumina, and hydrated alumina may be added. Further, various additives such as an antioxidant, an ultraviolet absorber, a light stabilizer, an antistatic agent, a leveling agent, an antifoaming agent and the like can be added.

【0010】本発明においては、(a)層のハードコー
ト層形成用塗工液として、前記熱硬化型樹脂組成物又は
電離放射線硬化型樹脂組成物を含む塗工液を調製する。
この塗工液の調製には必要に応じ適当な有機溶剤を用い
ることができる。この際用いる溶剤としては、例えばヘ
キサン、ヘプタン、シクロヘキサンなどの脂肪族炭化水
素、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素、塩化メ
チレン、塩化エチレンなどのハロゲン化炭化水素、メタ
ノール、エタノール、プロパノール、ブタノールなどの
アルコール、アセトン、メチルエチルケトン、2−ペン
タノン、イソホロンなどのケトン、酢酸エチル、酢酸ブ
チルなどのエステル、エチルセロソルブなどのセロソル
ブ系溶剤などが挙げられる。このようにして調製された
塗工液の濃度、粘度としては、コーティング可能な濃
度、粘度であればよく、特に制限されず、状況に応じて
適宜選定することができる。次に、前記基材フィルムの
一方の面に、上記塗工液を、従来公知の方法、例えばバ
ーコート法、ナイフコート法、ロールコート法、ブレー
ドコート法、ダイコート法、グラビアコート法などを用
いて、コーティングして塗膜を形成させ、乾燥後、熱硬
化型樹脂組成物を用いる場合には、加熱して該塗膜を硬
化させることにより、また電離放射線硬化型樹脂組成物
を用いる場合には、電離放射線を照射して該塗膜を硬化
させることにより、ハードコート層を形成させる。前記
電離放射線としては、前述したように紫外線や電子線な
どが用いられる。上記紫外線は、高圧水銀ランプ、ヒュ
ージョンHランプ、キセノンランプなどで得られ、照射
量は、通常100〜500mJ/cm2であり、一方電子線
は、電子線加速器などによって得られ、照射量は、通常
150〜350kVである。この電離放射線の中では、特
に紫外線が好適である。なお、電子線を使用する場合
は、重合開始剤を添加することなく、硬化膜を得ること
ができる。
In the present invention, a coating liquid containing the thermosetting resin composition or the ionizing radiation curable resin composition is prepared as the coating liquid for forming the hard coat layer (a).
A suitable organic solvent can be used for the preparation of this coating solution, if necessary. Examples of the solvent used at this time include aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane and cyclohexane, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, halogenated hydrocarbons such as methylene chloride and ethylene chloride, methanol, ethanol, propanol and butanol. Alcohol, acetone, methyl ethyl ketone, 2-pentanone, ketones such as isophorone, esters such as ethyl acetate and butyl acetate, and cellosolve-based solvents such as ethyl cellosolve. The concentration and viscosity of the coating liquid prepared in this way are not particularly limited as long as they can be coated, and can be appropriately selected depending on the situation. Next, on one surface of the substrate film, the coating solution is applied by a conventionally known method, for example, a bar coating method, a knife coating method, a roll coating method, a blade coating method, a die coating method, a gravure coating method, or the like. When a thermosetting resin composition is used after coating to form a coating film and drying, by heating to cure the coating film, or when using an ionizing radiation curable resin composition For forming a hard coat layer by irradiating with ionizing radiation to cure the coating film. As the ionizing radiation, ultraviolet rays, electron beams, etc. are used as described above. The ultraviolet rays are obtained with a high pressure mercury lamp, a fusion H lamp, a xenon lamp, etc., and the irradiation amount is usually 100 to 500 mJ / cm 2 , while the electron beam is obtained with an electron beam accelerator or the like, and the irradiation amount is It is usually 150 to 350 kV. Among these ionizing radiations, ultraviolet rays are particularly suitable. When an electron beam is used, a cured film can be obtained without adding a polymerization initiator.

【0011】本発明においては、このようにして形成さ
れた(a)層のハードコート層は、鉛筆硬度で2H以上
が好ましい。2Hより低い硬度では耐擦傷性の点で不十
分となるおそれがある。また、該ハードコート層の厚さ
は2〜20μmの範囲で選定される。この厚さが2μm
未満では耐擦傷性が不十分となるし、20μmを超える
と該(a)層にクラックが発生することがあり、また生
産性の面で不利となる。このハードコート層の厚さは2
〜15μmの範囲が好ましく、特に3〜10μmの範囲
が好ましい。当該(a)層のハードコート層には、防眩
性を付与する目的で、表面に凹凸形状を形成させること
ができる。この凹凸形状を形成するには、例えば熱硬化
型又は電離放射線硬化型樹脂組成物を塗工後、この未硬
化層表面に凹凸形状を有する賦形フィルムをラミネート
し、該未硬化層を熱硬化処理又は電離放射線による硬化
処理したのち、上記賦形フィルムを剥離する方法などを
用いることができる。本発明のハードコートフィルムに
おいては、基材フィルムの前記(a)層のハードコート
層が設けられている側の反対側の面に、(b)層とし
て、屈折率が1.47〜1.56の範囲にある、電離放射
線による硬化樹脂層が設けられる。この(b)層の屈折
率が上記範囲を逸脱すると、ITO膜を積層した場合に
生じる黄色みを抑制する本発明の効果が十分に発揮され
にくい。本発明においては、当該(b)層の厚さは、2
〜20μmの範囲で選定される。この厚さが2μm未満
ではハードコート性能が不十分であるし、20μmを超
えると該(b)層にクラックが発生することがあり、ま
た生産性の面でも不利となる。この(b)層の厚さは2
〜15μmの範囲が好ましく、特に3〜10μmの範囲
が好ましい。前記(b)層には、その形成用塗工液とし
て、電離放射線硬化型樹脂組成物が用いられる。この電
離放射線硬化型樹脂組成物としては、前記(a)層のハ
ードコート層において説明した電離放射線硬化型樹脂組
成物の中から、硬化樹脂層の屈折率が1.47〜1.56
の範囲にあるものを、適宜選択して用いることができ
る。なお、当該(b)層の形成方法については、後で説
明する。
In the present invention, the hard coat layer (a) thus formed preferably has a pencil hardness of 2H or more. If the hardness is less than 2H, the scratch resistance may be insufficient. The thickness of the hard coat layer is selected within the range of 2 to 20 μm. This thickness is 2 μm
If it is less than 10 μm, the scratch resistance is insufficient, and if it exceeds 20 μm, cracks may occur in the layer (a), which is disadvantageous in terms of productivity. The thickness of this hard coat layer is 2
The range is preferably from 15 to 15 μm, particularly preferably from 3 to 10 μm. The hard coat layer of the layer (a) can be provided with an uneven shape on the surface for the purpose of imparting antiglare properties. To form this uneven shape, for example, after coating a thermosetting or ionizing radiation curable resin composition, a shaped film having an uneven shape is laminated on the surface of this uncured layer, and the uncured layer is thermoset. After the treatment or curing treatment with ionizing radiation, a method of peeling off the shaped film can be used. In the hard coat film of the present invention, as the (b) layer, the refractive index is 1.47 to 1.1 on the surface of the base film opposite to the hard coat layer side of the (a) layer. A cured resin layer by ionizing radiation in the range of 56 is provided. If the refractive index of the layer (b) deviates from the above range, the effect of the present invention for suppressing the yellowish color generated when the ITO films are laminated is not sufficiently exhibited. In the present invention, the thickness of the (b) layer is 2
It is selected in the range of ˜20 μm. If the thickness is less than 2 μm, the hard coat performance is insufficient, and if it exceeds 20 μm, cracks may occur in the layer (b), which is also disadvantageous in terms of productivity. The thickness of this (b) layer is 2
The range is preferably from 15 to 15 μm, particularly preferably from 3 to 10 μm. For the layer (b), an ionizing radiation curable resin composition is used as a coating liquid for forming the layer (b). As the ionizing radiation curable resin composition, the cured resin layer has a refractive index of 1.47 to 1.56 from among the ionizing radiation curable resin compositions described in the hard coat layer of the layer (a).
Those in the range can be appropriately selected and used. The method of forming the layer (b) will be described later.

【0012】本発明のハードコートフィルムにおいて
は、前記(b)層上に、(c)層として、金属酸化物を
含む屈折率が1.65〜1.72の範囲にある、電離放射
線による硬化樹脂層が設けられる。前記金属酸化物とし
ては、例えば酸化ジルコニウム、アンチモンドープ酸化
錫(ATO)、酸化チタン、錫ドープ酸化インジウム
(ITO)、酸化タンタル、酸化錫、酸化ニオブなどの
微粒子を挙げることができる。これらの金属酸化物は、
1種を単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて
用いてもよいが、これらの中で、特に酸化ジルコニウム
及びATOが好適である。この金属酸化物としては、平
均粒径が10〜200nmの範囲にあるもの、特に10
〜80nmの範囲にあるものが好ましく用いられる。本
発明においては、当該(c)層における金属酸化物の含
有量としては、該(c)層の屈折率が1.65〜1.72
の範囲にあればよく、特に制限されず、使用する金属酸
化物の屈折率及び硬化樹脂の屈折率などに応じて、適宜
選定されるが、通常、硬化樹脂100重量部に対し、2
00〜600重量部程度である。(c)層の屈折率が上
記範囲を逸脱すると、ITO膜を積層した場合に生じる
黄色みを抑制する本発明の効果が十分に発揮されない。
当該(c)層の厚さは、40〜250nmの範囲で選定
される。この厚さが40nm未満のものは形成しにくい
し、250nmを超える厚い層は必要でなく、むしろ経
済的に不利となる。該(c)層の好ましい厚さは40〜
200nm、より好ましい厚さは50〜150nmの範
囲である。当該(c)層には、その形成用塗工液とし
て、硬化樹脂層の屈折率が1.65〜1.72の範囲にな
るように、前記金属酸化物を含む電離放射線硬化型樹脂
組成物が用いられる。この電離放射線硬化型樹脂組成物
としては、前記(a)層のハードコート層において説明
した電離放射線硬化型樹脂組成物の中から、適宜選択し
て用いることができる。
In the hard coat film of the present invention, as the layer (c) on the layer (b), a curing agent containing a metal oxide and having a refractive index in the range of 1.65 to 1.72 is cured by ionizing radiation. A resin layer is provided. Examples of the metal oxide include fine particles of zirconium oxide, antimony-doped tin oxide (ATO), titanium oxide, tin-doped indium oxide (ITO), tantalum oxide, tin oxide, niobium oxide and the like. These metal oxides are
One kind may be used alone, or two or more kinds may be used in combination, and among these, zirconium oxide and ATO are particularly preferable. The metal oxide having an average particle size in the range of 10 to 200 nm, particularly 10
Those in the range of -80 nm are preferably used. In the present invention, as the content of the metal oxide in the (c) layer, the refractive index of the (c) layer is 1.65 to 1.72.
It is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the refractive index of the metal oxide used, the refractive index of the cured resin, etc., but is usually 2 per 100 parts by weight of the cured resin.
It is about 100 to 600 parts by weight. If the refractive index of the layer (c) deviates from the above range, the effect of the present invention for suppressing the yellowish color generated when the ITO films are laminated will not be sufficiently exhibited.
The thickness of the layer (c) is selected in the range of 40 to 250 nm. If the thickness is less than 40 nm, it is difficult to form, and a thick layer exceeding 250 nm is not necessary, which is economically disadvantageous. The preferable thickness of the (c) layer is 40 to
200 nm, more preferred thickness is in the range of 50-150 nm. As the coating liquid for forming the layer (c), an ionizing radiation curable resin composition containing the metal oxide so that the cured resin layer has a refractive index in the range of 1.65 to 1.72. Is used. This ionizing radiation curable resin composition can be appropriately selected and used from the ionizing radiation curable resin compositions described in the hard coat layer of the layer (a).

【0013】本発明においては、前記(b)層及び
(c)層の形成は、以下に示す方法で行うのが有利であ
る。まず、基材フィルムの(a)層であるハードコート
層側とは反対側の面に、(b)層形成用塗工液をコーテ
ィングして塗膜を形成させ、電離放射線を照射してハー
フキュア状態に硬化させる。この際、紫外線を照射する
場合には、光量は、通常50〜150mJ/cm2程度で
ある。次いで、このようにして形成されたハーフキュア
状態の硬化層上に、(c)層形成用塗工液をコーティン
グして塗膜を形成させ、電離放射線を十分に照射し、前
記(b)層と共に完全に硬化させる。この際、紫外線を
照射する場合、光量は、通常400〜1000mJ/cm
2程度である。このようにして、基材フィルムの(a)
層側とは反対側の面に、層間密着性がよく、かつハード
コート性能に優れる(b)層及び(c)層が順次形成さ
れる。このような構成の本発明のハードコートフィルム
は、ハードコート性能を低下させることなく、あるいは
ヘイズ値や全光線透過率などの光学特性を損なうことな
く、前記(c)層上にITO膜を積層した場合に従来生
じていた黄色みを抑制することができ、タッチパネルに
用いた際に、画像の表示性や視認性を向上させることが
できる。本発明のハードコートフィルムを、タッチパネ
ルにおけるタッチ側プラスチック基板として用いる場合
には、前記(c)層上に、透明導電性薄膜が設けられ
る。この透明導電性薄膜としては、透明性と導電性を有
するものであればよく、特に制限されず、例えば酸化イ
ンジウム、酸化錫、酸化亜鉛、錫ドープ酸化インジウム
(ITO)、アンチモンドープ酸化錫(ATO)、亜鉛
−アルミニウム複合酸化物、インジウム−亜鉛複合酸化
物、金、銀、銅などの金属やその合金などからなる単層
又は2層以上の積層構造のものが挙げられる。これらの
中で、透明性、導電性、環境安定性、回路加工性などの
点からITO膜が好適である。この透明導電性薄膜の厚
さとしては、成膜性、導電性、透明性などの点から、5
〜100nmの範囲が好ましく、特に15〜50nmの
範囲が好適である。
In the present invention, the formation of the layers (b) and (c) is advantageously performed by the following method. First, the surface of the base film opposite to the hard coat layer side which is the (a) layer is coated with the (b) layer forming coating solution to form a coating film, which is then irradiated with ionizing radiation to form a half film. Cure to a cured state. At this time, when ultraviolet rays are irradiated, the light amount is usually about 50 to 150 mJ / cm 2 . Then, the half-cured cured layer thus formed is coated with a coating liquid for forming a layer (c) to form a coating film, which is sufficiently irradiated with ionizing radiation to form the layer (b). Completely cure with. At this time, when irradiating with ultraviolet rays, the light amount is usually 400 to 1000 mJ / cm 2.
It is about 2 . In this way, the base film (a)
Layers (b) and (c), which have good interlayer adhesion and excellent hard coat performance, are sequentially formed on the surface opposite to the layer side. The hard coat film of the present invention having such a constitution is obtained by laminating an ITO film on the layer (c) without deteriorating the hard coat performance or impairing the optical properties such as haze value and total light transmittance. In that case, it is possible to suppress the yellowishness that has conventionally occurred, and it is possible to improve the displayability and visibility of an image when used in a touch panel. When the hard coat film of the present invention is used as a touch-side plastic substrate in a touch panel, a transparent conductive thin film is provided on the (c) layer. The transparent conductive thin film is not particularly limited as long as it has transparency and conductivity, and examples thereof include indium oxide, tin oxide, zinc oxide, tin-doped indium oxide (ITO), antimony-doped tin oxide (ATO). ), A zinc-aluminum composite oxide, an indium-zinc composite oxide, a single layer or a laminated structure of two or more layers made of a metal such as gold, silver or copper or an alloy thereof. Among these, the ITO film is preferable from the viewpoints of transparency, conductivity, environmental stability, circuit processability, and the like. The thickness of the transparent conductive thin film is 5 from the viewpoint of film forming property, conductivity, transparency and the like.
The range of -100 nm is preferable, and the range of 15-50 nm is particularly preferable.

【0014】また、前記透明導電性薄膜の形成方法とし
ては特に制限はなく、真空蒸着法、スパッタリング法、
イオンプレーティング法などのPVD法(物理的気相蒸
着法)や、CVD法(化学的気相蒸着法)などの乾式プ
ロセス、あるいはスプレー法やゾル−ゲル法などの湿式
プロセスを用いることができるが、薄膜の均一性などの
点から、乾式プロセス、特に真空蒸着法及びスパッタリ
ング法が好ましい。このようにして形成された透明導電
性薄膜がITO膜である場合、その屈折率は約2であ
る。したがって、前記(c)層を設けずに、(b)層上
に直接ITO膜を形成した場合、得られたハードコート
フィルムは短波長側の光が反射して、黄色みを帯びるこ
とになる。本発明は、前記(c)層として、ITO膜の
屈折率と(b)層の屈折率の中間である屈折率が1.6
5〜1.72の範囲にある層を設けることにより、該短
波長側の光の反射を少なくし、黄色みを帯びることを抑
制したものである。
The method for forming the transparent conductive thin film is not particularly limited, and may be vacuum deposition method, sputtering method,
A PVD method (physical vapor deposition method) such as an ion plating method, a dry process such as a CVD method (chemical vapor deposition method), or a wet process such as a spray method or a sol-gel method can be used. However, a dry process, particularly a vacuum deposition method and a sputtering method are preferable from the viewpoint of the uniformity of the thin film. When the transparent conductive thin film thus formed is an ITO film, its refractive index is about 2. Therefore, when the ITO film is directly formed on the layer (b) without providing the layer (c), the obtained hard coat film has a yellowish color due to the reflection of light on the short wavelength side. . In the present invention, the layer (c) has a refractive index of 1.6 which is between the refractive index of the ITO film and the layer (b).
By providing the layer in the range of 5 to 1.72, the reflection of light on the short wavelength side is reduced and the formation of yellowish color is suppressed.

【0015】[0015]

【実施例】次に、本発明を実施例により、さらに詳細に
説明するが、本発明は、これらの例によってなんら限定
されるものではない。なお、ハードコートフィルムの性
能は、下記の方法に従って評価した。 (1)全光線透過率及びヘイズ値 日本電色工業(株)製ヘイズメーター「NDH−200
0」を使用して測定した。 (2)耐擦傷性 スチールウール#0000を用い、(a)層面を荷重
9.8×10-3N/mm2で5往復擦った後に目視観察し、
下記の判定基準で評価した。 ○:傷が付かない ×:傷が付く (3)透過b*(黄色み評価) 日本電色工業(株)製の同時側光方式分光式色差計「SQ
−2000」を使用し、測定した。透過b*が大きいほ
ど、黄色みが強い。
EXAMPLES The present invention will now be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. The performance of the hard coat film was evaluated according to the following method. (1) Total light transmittance and haze value Haze meter “NDH-200” manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.
It was measured using "0". (2) Using scratch-resistant steel wool # 0000, (a) the layer surface was rubbed 5 times with a load of 9.8 × 10 −3 N / mm 2 and visually observed,
The following criteria were used for evaluation. ○: Not scratched ×: Scratched (3) Transmission b * (Yellowness evaluation) Simultaneous side-light spectroscopic color difference meter “SQ” manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.
-2000 "was used. The larger the transmission b *, the stronger the yellowness.

【0016】実施例1 (1)多官能アクリル系樹脂の混合物[荒川化学工業
(株)製、商品名「ビームセット577」、固形分濃度1
00%]100重量部に、光開始剤[チバ・スペシャリ
ティケミカルズ(株)製、商品名「イルガキュア18
4」]5重量部を添加し、さらに全体の濃度が50重量
%になるようにトルエンで希釈して、(a)層形成用塗
工液を調製した。次に、厚さ188μmのポリエチレン
テレフタレート(PET)フィルム[東洋紡績(株)製、
商品名「A4300」]の一方の面に、上記の(a)層
形成用塗工液を、完全硬化後の厚さが5μmになるよう
にマイヤーバーNo8にて塗布したのち、これに紫外線
を光量300mJ/cm2で照射して、(a)層のハードコ
ート層を形成した。 (2)多官能アクリル系樹脂の混合物[荒川化学工業
(株)製、商品名「ビームセット577」、固形分濃度1
00%]100重量部に、光開始剤[チバ・スペシャリ
ティケミカルズ(株)製、商品名「イルガキュア18
4」]2重量部を添加し、さらに全体の濃度が50重量
%になるようにトルエンで希釈して、(b)層形成用塗
工液を調製した。次に、前記(1)の工程で形成したハ
ードコート層の反対側の面に、上記の(b)層形成用塗
工液を、完全硬化後の厚さが5μmになるようにマイヤ
ーバーNo8にて塗布したのち、これに紫外線を光量8
0mJ/cm2で照射して、ハーフキュア状態に硬化させ、
ハードコート層を形成した。 (3)酸化ジルコニウム含有紫外線硬化型アクリル系コ
ート剤[JSR(株)製、商品名「デソライトKZ725
2C」、酸化ジルコニウムの平均粒径70nm、固形分
濃度46重量%]をイソブチルアルコールで希釈し、固
形分濃度2重量%の(c)層形成用塗工液を調製した。
次に、前記(2)の工程で形成したハーフキュア状態の
ハードコート層上に、上記の(c)層形成用塗工液を、
完全硬化後の厚さが70nmになるようにマイヤーバー
No3にて塗布したのち、これに紫外線を光量500mJ
/cm2照射して、該ハーフキュア状態のハードコート層
と共に完全硬化させ、PETフィルムの(a)層とは反
対側の面に、屈折率1.53の(b)層及び屈折率1.6
9の(c)層を順に形成させて、目的のハードコートフ
ィルムを作製した。このハードコートフィルムの性能を
第1表に示す。また、前記(c)層上に、スパッタリン
グにより厚さ30nmのITO膜を形成し、このハード
コートフィルムの透過b*値を測定した。この結果も第
1表に示す。なお、該ITO膜の屈折率は2である。
Example 1 (1) Mixture of polyfunctional acrylic resin [Arakawa Chemical Industry
Co., Ltd., product name "Beamset 577", solid content concentration 1
00%] to 100 parts by weight of photoinitiator [Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd., trade name "Irgacure 18"
4 "] was added and further diluted with toluene so that the total concentration was 50% by weight, to prepare a coating solution for forming a layer (a). Next, a polyethylene terephthalate (PET) film having a thickness of 188 μm [manufactured by Toyobo Co., Ltd.,
Product name "A4300"] is coated on one side with the above-mentioned (a) layer-forming coating solution with a Meyer bar No. 8 so that the thickness after complete curing is 5 μm, and then ultraviolet rays are applied to this. Irradiation was performed with a light amount of 300 mJ / cm 2 to form a hard coat layer of layer (a). (2) Mixture of polyfunctional acrylic resin [Arakawa Chemical Industry
Co., Ltd., product name "Beamset 577", solid content concentration 1
00%] to 100 parts by weight of photoinitiator [Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd., trade name "Irgacure 18"
4 "] was added and further diluted with toluene so that the total concentration was 50% by weight, to prepare a coating solution for forming layer (b). Next, on the surface opposite to the hard coat layer formed in the step (1), the above-mentioned (b) layer forming coating solution was applied to a Meyer bar No. 8 so that the thickness after complete curing would be 5 μm. After applying it, apply ultraviolet light to it 8
Irradiate with 0 mJ / cm 2 to cure to half cure state,
A hard coat layer was formed. (3) Zirconium oxide-containing UV-curable acrylic coating agent [manufactured by JSR Corporation, trade name "Desolite KZ725"
2C ", zirconium oxide having an average particle size of 70 nm, and a solid content of 46% by weight] were diluted with isobutyl alcohol to prepare a coating solution for forming a layer (c) having a solid content of 2% by weight.
Next, the above-mentioned (c) layer-forming coating liquid is applied onto the half-cured hard coat layer formed in the step (2).
After applying with Meyer bar No.3 so that the thickness after complete curing would be 70 nm, the amount of ultraviolet light was 500 mJ.
/ Cm 2 irradiation to completely cure together with the hard coat layer in the half-cure state, and the (b) layer having a refractive index of 1.53 and the refractive index of 1.3 on the surface of the PET film opposite to the (a) layer. 6
The layer (c) of 9 was sequentially formed to prepare a desired hard coat film. The performance of this hard coat film is shown in Table 1. An ITO film having a thickness of 30 nm was formed on the layer (c) by sputtering, and the transmission b * value of this hard coat film was measured. The results are also shown in Table 1. The refractive index of the ITO film is 2.

【0017】実施例2 実施例1(3)の工程において、(c)層形成用塗工液
の代わりに、下記に示す塗工液を用いた以外は、実施例
1と同様に実施して、ハードコートフィルムを作製し
た。(c)層の厚さは70nm、屈折率は1.68であ
った。このハードコートフィルムの性能及び実施例1と
同様にITO膜を設けたハードコートフィルムの透過b
*を第1表に示す。 〈(c)層形成用塗工液の調製〉アンチモンドーブ酸化
錫(ATO)の分散液[大日本インキ化学工業(株)製、
商品名「TA−01D」、ATOの平均粒径60nm、
固形分濃度10重量%]100重量部に、紫外線硬化型
アクリル系樹脂[大日精化工業(株)製、商品名「セイカ
ビームEXF−01L(NS)」、固形分濃度100
%]3.3重量部を添加し、さらに全体の固形分濃度が
2重量%になるようにイソブタノールで希釈して、
(c)層形成用塗工液を調製した。
Example 2 In the same manner as in Example 1, except that the coating liquid shown below was used in place of the coating liquid for forming layer (c) in the step of Example 1 (3). , A hard coat film was produced. The layer (c) had a thickness of 70 nm and a refractive index of 1.68. The performance of this hard coat film and the transmission b of the hard coat film provided with the ITO film as in Example 1.
* Is shown in Table 1. <Preparation of coating liquid for forming layer (c)> Dispersion liquid of antimony tin oxide (ATO) [manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.,
Product name "TA-01D", ATO average particle size 60 nm,
Solid content concentration 10% by weight] 100 parts by weight, ultraviolet curable acrylic resin [manufactured by Dainichiseika Kogyo Co., Ltd., trade name "SEICA BEAM EXF-01L (NS)", solid content concentration 100
%] 3.3 parts by weight, and further diluted with isobutanol so that the total solid content concentration becomes 2% by weight,
(C) A layer forming coating liquid was prepared.

【0018】比較例1 実施例1において、(3)の工程を施さず、(c)層を
設けなかったこと以外は、実施例1と同様に実施して、
ハードコートフィルムを作製した。このハードコートフ
ィルムの性能を第1表に示す。また、(b)層上に、ス
パッタリングにより厚さ30nmのITO膜を形成し、
このハードコートフィルムの透過b*値を測定した。こ
の結果も第1表に示す。 比較例2 実施例1(3)の工程において、(c)層形成用塗工液
の代わりに、下記に示す塗工液を用いた以外は、実施例
1と同様に実施して、ハードコートフィルムを作製し
た。(c)層の厚さは70nm、屈折率は1.74であ
った。このハードコートフィルムの性能及び実施例1と
同様にITO膜を設けたハードコートフィルムの透過b
*値を第1表に示す。 〈(c)層形成用塗工液の調製〉酸化チタン分散液[大
日本インキ化学工業(株)製、商品名「TF−14D」、
酸化チタンの平均粒径60nm、固形分濃度10重量
%]100重量部に、紫外線硬化型アクリル系樹脂[大
日精化工業(株)製、商品名「セイカビームEXF−01
L(NS)」、固形分濃度100%]2.5重量部を添
加し、さらに全体の固形分濃度が2重量%になるように
イソブタノールで希釈して、(c)層形成用塗工液を調
製した。 比較例3 実施例1(3)の工程において、(c)層形成用塗工液
の代わりに、下記に示す塗工液を用いた以外は、実施例
1と同様に実施して、ハードコートフィルムを作製し
た。(c)層の厚さは70nm、屈折率は1.62であ
った。このハードコートフィルムの性能及び実施例1と
同様にITO膜を設けたハードコートフィルムの透過b
*値を第1表に示す。 〈(c)層形成用塗工液の調製〉五酸化アンチモン含有
紫外線硬化型アクリル系樹脂[触媒化成工業(株)製、商
品名「ELCOM P−4575」、五酸化アンチモン
の平均粒径40nm、固形分濃度30重量%]に、全体
の固形分濃度が2重量%になるように1−メトキシ−2
−プロパノールで希釈して、(c)層形成用塗工液を調
製した。
Comparative Example 1 The procedure of Example 1 was repeated except that the step (3) was not performed and the layer (c) was not provided.
A hard coat film was produced. The performance of this hard coat film is shown in Table 1. Further, an ITO film having a thickness of 30 nm is formed on the layer (b) by sputtering,
The transmission b * value of this hard coat film was measured. The results are also shown in Table 1. Comparative Example 2 Hard coating was carried out in the same manner as in Example 1 except that the coating liquid shown below was used in place of the coating liquid for layer formation (c) in the step of Example 1 (3). A film was made. The layer (c) had a thickness of 70 nm and a refractive index of 1.74. The performance of this hard coat film and the transmission b of the hard coat film provided with the ITO film as in Example 1.
* Values are shown in Table 1. <(C) Preparation of coating liquid for layer formation> Titanium oxide dispersion liquid [Dainippon Ink and Chemicals, Inc., trade name "TF-14D",
To 100 parts by weight of titanium oxide having an average particle size of 60 nm and a solid content concentration of 10% by weight, an ultraviolet curable acrylic resin [manufactured by Dainichiseika Kogyo Co., Ltd., trade name "SEICA BEAM EXF-01"
L (NS) ", solid content concentration 100%] 2.5 parts by weight, and further diluted with isobutanol so that the total solid content concentration becomes 2% by weight, and the coating for forming layer (c). A liquid was prepared. Comparative Example 3 Hard coating was performed in the same manner as in Example 1 except that the coating liquid shown below was used in place of the coating liquid for forming layer (c) in the step of Example 1 (3). A film was made. The layer (c) had a thickness of 70 nm and a refractive index of 1.62. The performance of this hard coat film and the transmission b of the hard coat film provided with the ITO film as in Example 1.
* Values are shown in Table 1. <(C) Preparation of Layer-Forming Coating Liquid> Antimony Pentoxide-Containing UV-Curable Acrylic Resin [Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd., trade name "ELCOM P-4575", average particle size of antimony pentoxide 40 nm, Solid content concentration of 30% by weight] so that the total solid content concentration becomes 2% by weight.
-(C) Layer forming coating liquid was prepared by diluting with propanol.

【0019】[0019]

【表1】 [Table 1]

【0020】[0020]

【発明の効果】本発明のハードコートフィルムは、タッ
チパネルにおけるタッチ側プラスチック基板用に用いら
れるものであって、屈折率調整層を設けることにより、
ハードコート性能を低下させることなく、あるいはヘイ
ズ値や全光線透過率などの光学特性を損なうことなく、
ITO膜を積層した場合に従来生じていた黄色みを抑制
することができ、タッチパネルの画像表示性や視認性を
向上させることができる。
The hard coat film of the present invention is used for a touch side plastic substrate in a touch panel, and by providing a refractive index adjusting layer,
Without deteriorating the hard coat performance, or without impairing the optical properties such as haze value and total light transmittance,
It is possible to suppress the yellowishness that has been conventionally generated when the ITO films are laminated, and it is possible to improve the image displayability and the visibility of the touch panel.

フロントページの続き Fターム(参考) 4F100 AA17D AA17H AA27D AA27H AA28D AA28E AA28H AA29D AA29H AA33D AA33E AA33H AK01A AK01C AK01D AK25 AK42 BA04 BA05 BA10B BA10D BA10E CA23D CA30 CC02B EH66E GB41 JB14C JB14D JK12B JN18C JN18D JN28 YY00B YY00C YY00DContinued front page    F-term (reference) 4F100 AA17D AA17H AA27D AA27H                       AA28D AA28E AA28H AA29D                       AA29H AA33D AA33E AA33H                       AK01A AK01C AK01D AK25                       AK42 BA04 BA05 BA10B                       BA10D BA10E CA23D CA30                       CC02B EH66E GB41 JB14C                       JB14D JK12B JN18C JN18D                       JN28 YY00B YY00C YY00D

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】基材フィルムの一方の面に、(a)厚さ2
〜20μmのハードコート層を有すると共に、他方の面
に、(b)屈折率が1.47〜1.56の範囲にある厚さ
2〜20μmの電離放射線による硬化樹脂層、及び
(c)金属酸化物を含む屈折率が1.65〜1.72の範
囲にある厚さ40〜250nmの電離放射線による硬化
樹脂層が順に積層されてなるハードコートフィルム。
1. A substrate having a thickness (a) of 2 on one surface thereof.
Having a hard coat layer having a thickness of 20 μm to 20 μm, and (b) having a refractive index in the range of 1.47 to 1.56 and having a thickness of 2 to 20 μm, which is cured by ionizing radiation, and (c) a metal. A hard coat film comprising an oxide-containing refractive index in the range of 1.65 to 1.72 and a cured resin layer having a thickness of 40 to 250 nm, which is sequentially cured by ionizing radiation.
【請求項2】(c)層における金属酸化物が、酸化ジル
コニウム及び/又はアンチモンドープ酸化錫である請求
項1記載のハードコートフィルム。
2. The hard coat film according to claim 1, wherein the metal oxide in the layer (c) is zirconium oxide and / or antimony-doped tin oxide.
【請求項3】(c)層上に、厚さ5〜100nmの錫ド
ープ酸化インジウム膜を有する請求項1又は2記載のハ
ードコートフィルム。
3. The hard coat film according to claim 1, which further comprises a tin-doped indium oxide film having a thickness of 5 to 100 nm on the layer (c).
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