JP2005331572A - Method for manufacturing organic el device, the organic el device, and electronic equipment - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing an organic EL device in which cured adhesives 15b will not be arranged, projecting from active surfaces 21 of element substrates 20. <P>SOLUTION: The method for manufacturing the large-sized organic EL device, by tiling has (a) a process of applying the adhesives 15 of a photosetting type having anaerobiosis, (b) a process of aligning and arranging a plurality of the element substrates 20 on a large-sized support substrate 10 via the adhesives 15, (c) a process of curing the adhesives 15 by irradiating the adhesives with light 18 from the rear side of the transparent support substrate 10, and (d) a process of cleaning the respective element substrates 20 and removing the uncured adhesives overflowing to the active surfaces 21 of the respective element substrates 20. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、有機EL装置の製造方法、有機EL装置および電子機器に関するものである。   The present invention relates to a method for manufacturing an organic EL device, an organic EL device, and an electronic apparatus.

近年、軽量、薄型で、自発光タイプで明瞭な表示の可能な表示装置として、有機エレクトロルミネッセンス素子(以下、有機EL素子と表記する)を用いた表示パネルが有望視されている。しかし、有機EL素子の駆動には比較的大きな電流が必要であり、その駆動には低温ポリシリコンプロセスによる薄膜トランジスタ等、高性能の素子を用いる必要がある。低温ポリシリコンプロセスには、レーザーによる結晶化工程等、基板の大型化に対応することが難しい工程があり、大型パネルを得ることが難しいと言う問題がある。そこで、複数の小型パネルを並列に配置して大型パネルを製造する方法(タイリング)が提案されている(例えば、特許文献1参照)。   In recent years, a display panel using an organic electroluminescence element (hereinafter referred to as an organic EL element) has been promising as a light-weight, thin, self-luminous display device capable of clear display. However, a relatively large current is required for driving the organic EL element, and it is necessary to use a high-performance element such as a thin film transistor by a low-temperature polysilicon process for driving. The low-temperature polysilicon process has a problem that it is difficult to cope with an increase in the size of the substrate, such as a crystallization process using a laser, and it is difficult to obtain a large panel. Therefore, a method (tiling) for manufacturing a large panel by arranging a plurality of small panels in parallel has been proposed (see, for example, Patent Document 1).

図8は、タイリングによって製造された有機EL装置の断面構成図である。まず、有機EL素子200の駆動用TFTおよび画素電極(いずれも不図示)を備えた複数の素子基板20を形成する。次に、大型の支持基板10の表面に光硬化型接着剤15を塗布し、その表面に各素子基板20を整列配置する。そして、支持基板10の裏側から光を照射して、光硬化型接着剤15を硬化させることにより、各素子基板20を支持基板10に接着するとともに、隣接する素子基板20r、20sの側面同士を相互に接着する。   FIG. 8 is a cross-sectional configuration diagram of an organic EL device manufactured by tiling. First, a plurality of element substrates 20 provided with driving TFTs and pixel electrodes (both not shown) of the organic EL element 200 are formed. Next, the photocurable adhesive 15 is applied to the surface of the large support substrate 10, and the element substrates 20 are aligned on the surface. And by irradiating light from the back side of the support substrate 10 and hardening the photocurable adhesive 15, each element substrate 20 is bonded to the support substrate 10, and the side surfaces of the adjacent element substrates 20r and 20s are bonded to each other. Adhere to each other.

その後、各素子基板20における画素電極(不図示)の表面に、正孔注入/輸送層70や有機発光層60、陰極50等を成膜して、複数の有機EL素子200を形成する。また、各素子基板20の上方に封止基板(不図示)を配置して、すべての有機EL素子200を密閉封止する。以上により、大型の有機EL装置1が完成する。
特開2001−100668号公報
Thereafter, a hole injection / transport layer 70, an organic light emitting layer 60, a cathode 50, and the like are formed on the surface of a pixel electrode (not shown) in each element substrate 20 to form a plurality of organic EL elements 200. Further, a sealing substrate (not shown) is disposed above each element substrate 20 to hermetically seal all the organic EL elements 200. The large organic EL device 1 is thus completed.
JP 2001-1000066 A

図7は、各素子基板を支持基板に接着する工程の説明図である。図7(a)に示すように、各素子基板20の接着工程では、隣接する素子基板20r、20sの隙間からその能動面21に接着剤15cが溢れ出してしまう。そこで、図7(b)に示すように、各素子基板20の能動面21に保護シート(マスキングテープ)24を貼り付けた状態で、各素子基板20を接着している。この場合、保護シート24上に接着剤15cが溢れ出して硬化するが、保護シート24を除去することにより、各素子基板20の能動面21を露出させることができる。   FIG. 7 is an explanatory diagram of a process of bonding each element substrate to a support substrate. As shown in FIG. 7A, in the bonding step of each element substrate 20, the adhesive 15c overflows from the gap between the adjacent element substrates 20r and 20s to the active surface 21 thereof. Therefore, as shown in FIG. 7B, each element substrate 20 is bonded with the protective sheet (masking tape) 24 attached to the active surface 21 of each element substrate 20. In this case, the adhesive 15 c overflows and hardens on the protective sheet 24, but the active surface 21 of each element substrate 20 can be exposed by removing the protective sheet 24.

しかしながら、保護シート24を除去しても、図7(c)に示すように、素子基板20の能動面から接着剤15bの上端面が突出した状態となり、段差51が出現するという問題がある。そして、図8に示すように、各素子基板20の能動面21に陰極50を形成すると、接着剤15bの段差51において陰極50の段切れが発生する。これにより、隣接する素子基板20r、20sに形成された陰極50r、50sを導電接続することが不可能になる。   However, even if the protective sheet 24 is removed, the upper end surface of the adhesive 15b protrudes from the active surface of the element substrate 20 as shown in FIG. Then, as shown in FIG. 8, when the cathode 50 is formed on the active surface 21 of each element substrate 20, the cathode 50 is disconnected at the step 51 of the adhesive 15b. This makes it impossible to conductively connect the cathodes 50r and 50s formed on the adjacent element substrates 20r and 20s.

ところで、正孔注入/輸送層70や有機発光層60等の機能層は、液滴吐出法によって形成することが望ましい。液滴吐出法は、機能層の形成材料を含む液状体を液滴吐出ヘッドから吐出して機能層を形成する方法であり、所定厚さの機能層を所定位置に正確に形成することができる。しかしながら、吐出する液体の着弾の精度を高めるためには、液滴吐出ヘッドと素子基板との間隔を非常に狭くする必要がある。素子基板20の能動面21から硬化した接着剤15bが突出していると、その接着剤15bに対して移動中の液滴吐出ヘッドが衝突し、この方法を用いての形成が適用出来なくなる。   By the way, it is desirable to form functional layers such as the hole injection / transport layer 70 and the organic light emitting layer 60 by a droplet discharge method. The droplet discharge method is a method of forming a functional layer by discharging a liquid containing a functional layer forming material from a droplet discharge head, and a functional layer having a predetermined thickness can be accurately formed at a predetermined position. . However, in order to increase the accuracy of the landing of the liquid to be discharged, it is necessary to make the interval between the droplet discharge head and the element substrate very narrow. If the cured adhesive 15b protrudes from the active surface 21 of the element substrate 20, the moving liquid droplet ejection head collides with the adhesive 15b, and the formation using this method cannot be applied.

本発明は、上記問題を解決するためになされたものであって、硬化した接着剤が素子基板の能動面から突出して配置されることのない有機EL装置の製造方法の提供を目的とする。
また本発明は、信頼性に優れた有機EL装置および電子機器の提供を目的とする。
The present invention has been made to solve the above-described problems, and an object of the present invention is to provide a method for manufacturing an organic EL device in which a hardened adhesive does not protrude from an active surface of an element substrate.
Another object of the present invention is to provide an organic EL device and an electronic apparatus with excellent reliability.

上記目的を達成するため、本発明の有機EL装置の製造方法は、有機EL素子を形成すべき複数の素子基板の側面同士を接着して、大型の有機EL装置を製造する方法であって、前記各素子基板の側面同士を、嫌気性接着剤によって接着する工程を有することを特徴とする。
この構成によれば、各素子基板の能動面に溢れ出した接着剤を除去することができる。したがって、硬化した接着剤が素子基板の能動面から突出して配置されることはない。
In order to achieve the above object, a method for manufacturing an organic EL device of the present invention is a method for manufacturing a large organic EL device by bonding side surfaces of a plurality of element substrates on which organic EL elements are to be formed, It has the process of adhere | attaching the side surfaces of each said element board | substrate with an anaerobic adhesive agent.
According to this configuration, it is possible to remove the adhesive overflowing on the active surface of each element substrate. Therefore, the cured adhesive is not disposed so as to protrude from the active surface of the element substrate.

また、前記接着工程の後に、前記各素子基板を洗浄して未硬化の前記嫌気性接着剤を除去する工程を有することが望ましい。
この構成によれば、余剰の接着剤を基板洗浄により簡単に除去することができる。すなわち、余分な工程を付加すること無く、接合部での接着剤の段差の無い大型基板を作製することが可能となる。したがって、有機EL装置の製造コストを低減することができる。
Moreover, it is desirable to have the process of wash | cleaning each said element substrate and removing the said non-hardened anaerobic adhesive after the said adhesion process.
According to this configuration, excess adhesive can be easily removed by substrate cleaning. That is, it is possible to produce a large-sized substrate without an adhesive step at the joint without adding an extra step. Therefore, the manufacturing cost of the organic EL device can be reduced.

また、前記接着剤および前記素子基板は、可視光透過性を有する材料によって構成され、前記接着剤の屈折率は、前記素子基板の屈折率と略同等であることが望ましい。
前記接着剤に、前記素子基板の屈折率に近い屈折率を有するものを用いることにより、ボトムエミッション型の有機EL装置の場合に、素子基板と接着剤との界面における光の反射及び散乱を低減することが可能になり、接合部分の表示への影響を低減することができる。
Further, it is desirable that the adhesive and the element substrate are made of a material having visible light permeability, and the refractive index of the adhesive is approximately equal to the refractive index of the element substrate.
By using an adhesive having a refractive index close to the refractive index of the element substrate, the reflection and scattering of light at the interface between the element substrate and the adhesive is reduced in the case of a bottom emission type organic EL device. It is possible to reduce the influence on the display of the joint portion.

また、前記接着工程の後に、前記各素子基板の能動面に液滴吐出法により機能層を形成する工程を有することが望ましい。
液滴吐出法は、液滴吐出ヘッドを移動させながら各画素に順次機能層を吐出形成して行く方法であり、基板を大型化した場合でも液滴吐出ヘッドの移動範囲を変更するだけで対応することができる。このため、接合後の大型基板に対して、効率良く機能層を形成することが出来る。
そして、前記構成によれば、硬化した接着剤が素子基板の能動面から突出して配置されることがないので、突出した接着剤に対して移動中の液滴吐出ヘッドが衝突することもない。したがって、安全かつ正確に機能層を形成することができる。
Moreover, it is desirable to have a step of forming a functional layer on the active surface of each element substrate by a droplet discharge method after the bonding step.
The droplet discharge method is a method in which functional layers are sequentially discharged and formed on each pixel while moving the droplet discharge head. Even when the substrate is enlarged, it can be handled simply by changing the moving range of the droplet discharge head. can do. For this reason, a functional layer can be efficiently formed with respect to the large sized board | substrate after joining.
According to the above configuration, since the cured adhesive is not disposed so as to protrude from the active surface of the element substrate, the moving droplet discharge head does not collide with the protruded adhesive. Therefore, the functional layer can be formed safely and accurately.

また、前記接着工程の後に、前記各素子基板の能動面に前記有機EL素子の共通電極を形成することが望ましい。
前記構成によれば、硬化した接着剤が素子基板の能動面から突出して配置されることがないので、その能動面に前記有機EL素子の共通電極を形成することにより、共通電極の段切れを防止することができる。
In addition, it is desirable to form a common electrode of the organic EL element on the active surface of each element substrate after the bonding step.
According to the above configuration, the hardened adhesive is not disposed so as to protrude from the active surface of the element substrate. Therefore, by forming the common electrode of the organic EL element on the active surface, the common electrode is disconnected. Can be prevented.

一方、本発明の有機EL装置は、上述した有機EL装置の製造方法を使用して製造したことを特徴とする。
上述した有機EL装置の製造方法によれば、硬化した接着剤が素子基板の能動面から突出して配置されることがないので、素子基板の能動面に共通電極を段切れなく連続して形成することができる。したがって、信頼性に優れた有機EL装置を提供することができる。
On the other hand, the organic EL device of the present invention is manufactured using the above-described method for manufacturing an organic EL device.
According to the method for manufacturing the organic EL device described above, the cured adhesive is not disposed so as to protrude from the active surface of the element substrate, and therefore, the common electrode is continuously formed on the active surface of the element substrate without being disconnected. be able to. Therefore, an organic EL device with excellent reliability can be provided.

一方、本発明の電子機器は、上述した有機EL装置を備えたことを特徴とする。
この構成によれば、信頼性に優れ、大型の表示画面を備えた電子機器を提供することができる。
On the other hand, an electronic apparatus according to the present invention includes the above-described organic EL device.
According to this configuration, it is possible to provide an electronic device that is excellent in reliability and includes a large display screen.

以下、本発明の実施の形態につき図面を参照して説明する。なお、以下で参照する各図面においては、図面を見やすくするため、各構成要素の膜厚や寸法の比率などを適宜異ならせて示している。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. In each drawing referred to below, in order to make the drawing easy to see, the film thickness, the ratio of dimensions, etc. of each component are appropriately changed.

[有機EL装置]
(回路構成)
図1は、実施形態に係る有機EL装置(有機エレクトロルミネッセンス装置)の配線構造を示す回路構成図である。この有機EL装置1は、スイッチング素子として薄膜トランジスタ(TFT)を用いたアクティブマトリクス方式のもので、複数の走査線101‥と、各走査線101に対して直交する方向に延びる複数の信号線102‥と、各信号線102に並列に延びる複数の電源線103‥とからなる配線構成を有し、走査線101と信号線102との各交点付近に画素領域Xを形成したものである。信号線102には、シフトレジスタ、レベルシフタ、ビデオライン及びアナログスイッチ等を備えるデータ線駆動回路100が接続されている。また、走査線101には、シフトレジスタ及びレベルシフタ等を備える走査線駆動回路80が接続されている。
[Organic EL device]
(Circuit configuration)
FIG. 1 is a circuit configuration diagram showing a wiring structure of an organic EL device (organic electroluminescence device) according to an embodiment. The organic EL device 1 is of an active matrix type using thin film transistors (TFTs) as switching elements, and has a plurality of scanning lines 101 and a plurality of signal lines 102 extending in a direction orthogonal to the scanning lines 101. And a plurality of power supply lines 103 extending in parallel to each signal line 102, and a pixel region X is formed in the vicinity of each intersection between the scanning line 101 and the signal line 102. A data line driving circuit 100 including a shift register, a level shifter, a video line, an analog switch, and the like is connected to the signal line 102. In addition, a scanning line driving circuit 80 including a shift register, a level shifter, and the like is connected to the scanning line 101.

さらに、画素領域Xの各々には、走査線101を介して走査信号がゲート電極に供給されるスイッチング用TFT112と、このスイッチング用TFT112を介して信号線102から供給される画素信号を保持する保持容量113と、保持容量113によって保持された画素信号がゲート電極に供給される駆動用TFT123と、この駆動用TFT123を介して電源線103に電気的に接続したときに電源線103から駆動電流が流れ込む画素電極23と、この画素電極23と陰極(対向電極)50との間に挟み込まれた機能層110とが設けられている。その機能層110として少なくとも有機発光層を備えることにより、有機EL素子が構成されている。   Further, in each pixel region X, a switching TFT 112 to which a scanning signal is supplied to the gate electrode via the scanning line 101 and a pixel signal to be supplied from the signal line 102 via the switching TFT 112 are held. A capacitor 113, a driving TFT 123 to which a pixel signal held by the holding capacitor 113 is supplied to the gate electrode, and a driving current from the power source line 103 when electrically connected to the power source line 103 via the driving TFT 123 are supplied. A pixel electrode 23 that flows in and a functional layer 110 sandwiched between the pixel electrode 23 and a cathode (counter electrode) 50 are provided. By providing at least an organic light emitting layer as the functional layer 110, an organic EL element is configured.

上記構成を備えた有機EL装置1において、走査線101が駆動されてスイッチング用TFT112がオン状態になると、そのときの信号線102の電位が保持容量113に保持され、該保持容量113の状態に応じて、駆動用TFT123のオン・オフ状態が決まる。そして、駆動用TFT123のチャネルを介して電源線103から画素電極23に電流が流れ、さらに機能層110を介して陰極50に電流が流れる。すると、機能層110は、自身に流れる電流量に応じて発光するようになっている。   In the organic EL device 1 having the above configuration, when the scanning line 101 is driven and the switching TFT 112 is turned on, the potential of the signal line 102 at that time is held in the holding capacitor 113, and the holding capacitor 113 is in the state. Accordingly, the on / off state of the driving TFT 123 is determined. Then, a current flows from the power supply line 103 to the pixel electrode 23 through the channel of the driving TFT 123, and further a current flows to the cathode 50 through the functional layer 110. Then, the functional layer 110 emits light according to the amount of current flowing through it.

(平面構成)
次に、本実施形態の有機EL装置1の具体的な構造につき、図2及び図3を参照して説明する。
図2は、実施形態に係る有機EL装置の平面構成を模式的に示す図である。本実施形態の有機EL装置1は、大型の支持基板10の表面に、複数の小型の素子基板20を整列配置したものである。図2では4枚の素子基板20を2行×2列に配置しているが、素子基板20の枚数はこれに限られず、少なくとも2枚以上であればよい。有機EL装置1の中央部には、素子形成領域4が設けられている。この素子形成領域4には、有機EL素子200が平面視マトリクス状に規則的に配置されている。また、素子形成領域4の周縁部には後述する離間部材35が形成され、その離間部材35の外側には複数の外部接続用端子22が設けられている。
(Plane configuration)
Next, a specific structure of the organic EL device 1 of the present embodiment will be described with reference to FIGS.
FIG. 2 is a diagram schematically illustrating a planar configuration of the organic EL device according to the embodiment. In the organic EL device 1 according to the present embodiment, a plurality of small element substrates 20 are aligned on the surface of a large support substrate 10. In FIG. 2, four element substrates 20 are arranged in 2 rows × 2 columns, but the number of element substrates 20 is not limited to this, and may be at least two. An element formation region 4 is provided in the central portion of the organic EL device 1. In the element formation region 4, the organic EL elements 200 are regularly arranged in a matrix in a plan view. In addition, a spacing member 35 described later is formed on the peripheral portion of the element forming region 4, and a plurality of external connection terminals 22 are provided outside the spacing member 35.

(断面構成)
図3は、実施形態に係る有機EL装置の断面構成を模式的に示す図であり、図2のA−A線に沿う側面断面図である。図3に示すように、本実施形態の有機EL装置1では、大型の支持基板10の表面に、複数の小型の素子基板20が接着剤15により固着されている。各素子基板20は、基板本体20Aと、その基板本体20Aの表面に配置された回路部11とを主として構成されている。その回路部11の表面には、複数の有機EL素子200が形成されている。その有機EL素子を覆うように接着層33が形成され、さらに封止基板30により密閉封止されて、有機EL装置1が構成されている。
(Cross section configuration)
FIG. 3 is a diagram schematically illustrating a cross-sectional configuration of the organic EL device according to the embodiment, and is a side cross-sectional view taken along the line AA in FIG. 2. As shown in FIG. 3, in the organic EL device 1 of this embodiment, a plurality of small element substrates 20 are fixed to the surface of a large support substrate 10 with an adhesive 15. Each element substrate 20 mainly includes a substrate body 20A and a circuit unit 11 disposed on the surface of the substrate body 20A. A plurality of organic EL elements 200 are formed on the surface of the circuit unit 11. An adhesive layer 33 is formed so as to cover the organic EL element, and is further hermetically sealed by a sealing substrate 30 to constitute the organic EL device 1.

いわゆるトップエミッション型の有機EL装置の場合、封止基板30側から表示光を取り出すので、基板本体20Aとして透明基板及び不透明基板のいずれを用いてもよい。不透明基板として、例えばアルミナ等のセラミックス、ステンレススチール等の金属シートに表面酸化などの絶縁処理を施したものが利用可能であり、また耐衝撃性や軽量化を考慮して熱硬化性樹脂や熱可塑性樹脂、さらにはそのフィルム(プラスチックフィルム)などを用いることも可能である。一方、ボトムエミッション型の有機EL装置の場合、基板本体20A側から表示光を取り出すので、基板本体20Aとして透明基板を用いる必要がある。その透明基板として、例えばガラスや石英等を利用することが可能である。   In the case of a so-called top emission type organic EL device, since display light is taken out from the sealing substrate 30 side, either a transparent substrate or an opaque substrate may be used as the substrate body 20A. As the opaque substrate, for example, a ceramic sheet such as alumina, or a metal sheet such as stainless steel that has been subjected to an insulation treatment such as surface oxidation can be used. It is also possible to use a plastic resin or a film (plastic film) thereof. On the other hand, in the case of a bottom emission type organic EL device, since display light is extracted from the substrate body 20A side, it is necessary to use a transparent substrate as the substrate body 20A. For example, glass or quartz can be used as the transparent substrate.

その基板本体20A上には、駆動用TFT123等を含む回路部11が形成されている。この駆動用TFT123等は、図1に示すデータ線駆動回路100及び走査線駆動回路80等に接続されている。一方、図2に示す回路部11の表面には、複数の画素電極23がマトリクス状に配列形成されている。この画素電極23への通電は、前記駆動用TFT123等によって制御されるようになっている。また、回路部11の表面における画素電極23の周囲には、隔壁構造体(バンク)221が配設されている。この隔壁構造体221は、有機材料(例えば、ポリイミド)等の電気絶縁性材料からなり、画素電極23の形成領域に開口部221aを有している。   On the substrate body 20A, a circuit unit 11 including a driving TFT 123 and the like is formed. The driving TFT 123 and the like are connected to the data line driving circuit 100 and the scanning line driving circuit 80 shown in FIG. On the other hand, a plurality of pixel electrodes 23 are arranged in a matrix on the surface of the circuit section 11 shown in FIG. The energization of the pixel electrode 23 is controlled by the driving TFT 123 and the like. A partition wall structure (bank) 221 is disposed around the pixel electrode 23 on the surface of the circuit unit 11. The partition wall structure 221 is made of an electrically insulating material such as an organic material (for example, polyimide), and has an opening 221 a in the formation region of the pixel electrode 23.

そして、その開口部221aの内側であって、陽極として機能する画素電極23の表面に、この画素電極23からの正孔を注入/輸送する正孔注入/輸送層70と、電気光学物質の一つである有機EL物質を備える有機発光層60と、陰極50とが順に積層形成されて、有機EL素子200が構成されている。このような構成のもと、正孔注入/輸送層70から注入された正孔と、陰極50からの供給された電子とが、有機発光層60において結合することにより、有機EL素子200が発光するようになっている。なお有機EL素子200は、上述した各層の他に、電子注入/輸送層、正孔阻止層(ホールブロック層)、電子阻止層(エレクトロンブロック層)等を備えるものであってもよい。   A hole injection / transport layer 70 that injects / transports holes from the pixel electrode 23 on the surface of the pixel electrode 23 that functions as an anode inside the opening 221a, and an electro-optic material. An organic light emitting layer 60 including a single organic EL material and a cathode 50 are sequentially stacked to form an organic EL element 200. Under such a configuration, the holes injected from the hole injection / transport layer 70 and the electrons supplied from the cathode 50 are combined in the organic light emitting layer 60, whereby the organic EL element 200 emits light. It is supposed to be. The organic EL element 200 may include an electron injection / transport layer, a hole blocking layer (hole blocking layer), an electron blocking layer (electron blocking layer), and the like in addition to the above-described layers.

トップエミッション型の有機EL装置の場合、画素電極23は透明である必要がなく、金属材料等の適宜な導電性材料によって形成される。また、ボトムエミッション型の有機EL装置の場合、画素電極23はITO(インジウム錫酸化物)等の透明導電性材料によって形成される。
正孔注入/輸送層70の形成材料としては、例えばポリチオフェン誘導体、ポリピロール誘導体など、またはそれらのドーピング体などが用いられる。具体的には、3,4−ポリエチレンジオキシチオフェン/ポリスチレンスルフォン酸(PEDOT/PSS)等が好適に用いられる。
In the case of a top emission type organic EL device, the pixel electrode 23 does not need to be transparent, and is formed of an appropriate conductive material such as a metal material. In the case of a bottom emission type organic EL device, the pixel electrode 23 is formed of a transparent conductive material such as ITO (indium tin oxide).
As a material for forming the hole injection / transport layer 70, for example, a polythiophene derivative, a polypyrrole derivative, or a doped body thereof is used. Specifically, 3,4-polyethylenedioxythiophene / polystyrene sulfonic acid (PEDOT / PSS) or the like is preferably used.

有機発光層60の形成材料としては、蛍光あるいは燐光を発光することが可能な公知の発光材料を用いることができる。具体的には、(ポリ)フルオレン誘導体(PF)、(ポリ)パラフェニレンビニレン誘導体(PPV)、ポリフェニレン誘導体(PP)、ポリパラフェニレン誘導体(PPP)、ポリビニルカルバゾール(PVK)、ポリチオフェン誘導体、ポリメチルフェニルシラン(PMPS)などのポリシラン系などが好適に用いられる。
また、これらの高分子材料に、ペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素などの高分子系材料や、ルブレン、ペリレン、9,10−ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン6、キナクリドン等の低分子材料をドープして用いることもできる。
なお、上述した高分子材料に代えて、従来公知の低分子材料を用いることもできる。
また、必要に応じて、このような有機発光層60の上にカルシウムやマグネシウム、リチウム、ナトリウム、ストロンチウム、バリウム、セシウムを主成分とした金属又は金属化合物からなる電子注入層を形成してもよい。
As a material for forming the organic light emitting layer 60, a known light emitting material capable of emitting fluorescence or phosphorescence can be used. Specifically, (poly) fluorene derivative (PF), (poly) paraphenylene vinylene derivative (PPV), polyphenylene derivative (PP), polyparaphenylene derivative (PPP), polyvinylcarbazole (PVK), polythiophene derivative, polymethyl Polysilanes such as phenylsilane (PMPS) are preferably used.
In addition, these polymer materials include polymer materials such as perylene dyes, coumarin dyes, rhodamine dyes, rubrene, perylene, 9,10-diphenylanthracene, tetraphenylbutadiene, Nile red, coumarin 6, and quinacridone. It can also be used by doping a low molecular weight material such as.
In addition, it replaces with the polymeric material mentioned above, a conventionally well-known low molecular material can also be used.
Further, if necessary, an electron injection layer made of a metal or a metal compound mainly composed of calcium, magnesium, lithium, sodium, strontium, barium, or cesium may be formed on the organic light emitting layer 60. .

陰極50は、有機発光層60および隔壁構造体221の表面を覆うように配設されている。トップエミッション型の有機EL装置の場合、陰極50の形成材料として、ITO等の透明導電性材料が用いられる。また、ボトムエミッション型の有機EL装置の場合、陰極50の形成材料として、金属材料等の適宜の導電性材料が用いられる。この場合、仕事関数の小さいカルシウム(Ca)等の金属材料により陰極50を構成することが望ましい。さらに、陰極50のキャップ層として、導電性の高いアルミニウム(Al)等の被膜を形成することが望ましい。   The cathode 50 is disposed so as to cover the surfaces of the organic light emitting layer 60 and the partition structure 221. In the case of a top emission type organic EL device, a transparent conductive material such as ITO is used as a material for forming the cathode 50. In the case of a bottom emission type organic EL device, an appropriate conductive material such as a metal material is used as a material for forming the cathode 50. In this case, it is desirable that the cathode 50 be made of a metal material such as calcium (Ca) having a small work function. Furthermore, it is desirable to form a film made of aluminum (Al) or the like having high conductivity as the cap layer of the cathode 50.

その陰極50は、素子基板20の周縁部に形成された陰極用配線202に接続されている。この陰極用配線202は、他の配線とともに外部接続用端子22に導電接続されている。これにより、陰極50は、図示しない駆動IC(駆動回路)に接続可能となっている。   The cathode 50 is connected to a cathode wiring 202 formed on the peripheral edge of the element substrate 20. The cathode wiring 202 is conductively connected to the external connection terminal 22 together with other wiring. Thereby, the cathode 50 can be connected to a drive IC (drive circuit) (not shown).

(タイリング)
図3に示すように、本実施形態の有機EL装置1は、大型の支持基板10の表面に、複数の小型の素子基板20を整列配置したものである。支持基板10の表面と素子基板20の裏面との間(例えば、隙間30μm程度)、および隣接する素子基板20r、20sの間(例えば、隙間160μm程度)には、接着剤15が配設されて固着されている。この接着剤15として、空気との接触により硬化速度が低下する嫌気性接着剤が採用されている。例えば、株式会社アーデル製のベネフィックスS105(製品名)は、嫌気性を備えた光硬化型接着剤であり、空気界面から厚さ約0.2mmの範囲がほとんど硬化しない性質を有する。なお、嫌気性接着剤として光硬化型接着剤を採用する場合には、支持基板10として光透過性基板を採用することが望ましい。
(tiring)
As shown in FIG. 3, the organic EL device 1 according to the present embodiment has a plurality of small element substrates 20 arranged on the surface of a large support substrate 10. An adhesive 15 is disposed between the front surface of the support substrate 10 and the back surface of the element substrate 20 (for example, a gap of about 30 μm) and between adjacent element substrates 20r and 20s (for example, a gap of about 160 μm). It is fixed. As the adhesive 15, an anaerobic adhesive whose curing speed is reduced by contact with air is employed. For example, Benefix S105 (product name) manufactured by Adel Co., Ltd. is a photo-curing adhesive having anaerobic properties, and has a property that the thickness of about 0.2 mm from the air interface hardly cures. In addition, when a photocurable adhesive is employed as the anaerobic adhesive, it is desirable to employ a light transmissive substrate as the support substrate 10.

隣接する素子基板20r、20sの隙間に配設された接着剤15bは、各素子基板20r、20sの能動面21と同等の高さまで充填されている。したがって、その接着剤15bの上端面および各素子基板20r、20sの能動面21に配設された陰極50は、段切れなく連続して形成されている。これにより、各素子基板20r、20sに形成された陰極50r、50sは相互に導通可能とされている。   The adhesive 15b disposed in the gap between the adjacent element substrates 20r and 20s is filled to the same height as the active surface 21 of each element substrate 20r and 20s. Therefore, the cathode 50 disposed on the upper end surface of the adhesive 15b and the active surface 21 of each element substrate 20r, 20s is continuously formed without disconnection. Thereby, the cathodes 50r and 50s formed on the element substrates 20r and 20s can be electrically connected to each other.

このように整列配置された素子基板群の周縁部には、アクリル樹脂等の有機材料やシリコン酸化物等の無機材料等からなる離間部材35が立設されている。またその離間部材35の上端面には、封止基板30が配置されている。そして、離間部材35および封止基板30によって囲まれた空間に、接着層33が充填されている。この接着層33は、例えばウレタン系、アクリル系、エポキシ系、ポリオレフィン系などの樹脂材料からなり、封止基板30を接着する機能に加え、有機EL素子200への酸素や水分等の浸入を防止する機能を有している。   A separation member 35 made of an organic material such as acrylic resin, an inorganic material such as silicon oxide, or the like is erected on the peripheral portion of the element substrate group arranged in this manner. A sealing substrate 30 is disposed on the upper end surface of the spacing member 35. A space surrounded by the separation member 35 and the sealing substrate 30 is filled with the adhesive layer 33. The adhesive layer 33 is made of, for example, a resin material such as urethane, acrylic, epoxy, or polyolefin. In addition to the function of adhering the sealing substrate 30, the adhesion of the organic EL element 200 is prevented from entering oxygen, moisture, and the like. It has a function to do.

なお、トップエミッション型の有機EL装置の場合、接着層33および封止基板30は光透過性を有する必要がある。そのため封止基板30は、ガラスや石英等の透明材料によって構成されている。また接着層33は、樹脂材料の材質や膜厚を適宜に調整することにより、可視光領域における光透過率を80%以上とすることが望ましい。
また、ボトムエミッション型の有機EL装置の場合、硬化後の接着剤15は光透過性を有する必要がある。ここで、接着剤15の構成材料の屈折率は、支持基板10および/または素子基板20の構成材料の屈折率と同等であることが望ましい。この構成によれば、支持基板10および/または素子基板20と接着剤15との界面における光の反射及び散乱を低減することが可能になり、接合部分の表示への影響を低減することができる。
In the case of a top emission type organic EL device, the adhesive layer 33 and the sealing substrate 30 are required to have light transmittance. Therefore, the sealing substrate 30 is made of a transparent material such as glass or quartz. The adhesive layer 33 preferably has a light transmittance of 80% or more in the visible light region by appropriately adjusting the material and film thickness of the resin material.
Further, in the case of a bottom emission type organic EL device, the cured adhesive 15 needs to have light transmittance. Here, the refractive index of the constituent material of the adhesive 15 is desirably equal to the refractive index of the constituent material of the support substrate 10 and / or the element substrate 20. According to this configuration, it is possible to reduce the reflection and scattering of light at the interface between the support substrate 10 and / or the element substrate 20 and the adhesive 15, and the influence on the display of the joint portion can be reduced. .

[有機EL装置の製造方法]
次に、本実施形態に係る有機EL装置の製造方法につき、図4および図5を用いて説明する。図4および図5は、実施形態に係る有機EL装置の製造方法の工程図である。なお、図4および図5では、図面を簡略化して理解を容易にするため、素子基板20における回路部の記載を省略している。
まず、図4(a)に示すように、支持基板10の表面に光硬化性の接着剤15を塗布する。なお、素子基板の裏面から側面にかけて接着剤を塗布してもよい。
[Method for Manufacturing Organic EL Device]
Next, a method for manufacturing the organic EL device according to this embodiment will be described with reference to FIGS. 4 and 5 are process diagrams of the method for manufacturing the organic EL device according to the embodiment. 4 and 5, the circuit portion of the element substrate 20 is not shown in order to simplify the drawings and facilitate understanding.
First, as shown in FIG. 4A, a photocurable adhesive 15 is applied to the surface of the support substrate 10. An adhesive may be applied from the back surface to the side surface of the element substrate.

次に、図4(b)に示すように、支持基板10の表面の所定の位置に各素子基板20を整列配置する。各素子基板20は、あらかじめ基板本体上に画素電極を含む回路部及び隔壁構造体(バンク)が形成されているものである。支持基板10に対して各素子基板20との間が所定の間隔となる様に指示基板10を押圧すると、支持基板10上に塗布されていた接着剤15は粘度が低いため、隣接する素子基板20r、20sの隙間に押し出されこの隙間を充填する。さらに余剰となった接着剤15bは、素子基板20r、20sの能動面21に溢れ出る。   Next, as shown in FIG. 4B, the element substrates 20 are aligned and arranged at predetermined positions on the surface of the support substrate 10. Each element substrate 20 has a circuit unit including a pixel electrode and a partition structure (bank) formed in advance on a substrate body. When the instruction substrate 10 is pressed against the support substrate 10 so that the distance between each element substrate 20 is a predetermined distance, the adhesive 15 applied on the support substrate 10 has a low viscosity. It is pushed out into the gaps 20r and 20s to fill the gaps. Furthermore, the excess adhesive 15b overflows to the active surface 21 of the element substrates 20r and 20s.

次に、図4(c)に示すように、透明な支持基板10の裏面から光18を照射して、接着剤15を硬化させる。その光18として、例えば可視光を照射すればよい。本実施形態では、接着剤15として嫌気性接着剤を採用している。素子基板20r、20sの能動面に溢れ出した接着剤15cは、空気と接触しているので、光を照射しても硬化しない。一方、支持基板10と素子基板20との隙間に配置された接着剤15a、および隣接する素子基板20r、20sの隙間に充填された接着剤15bは、空気と接触していないので、光の照射により硬化する。
ここで、光18の強度や照射時間等の照射条件、および接着剤15の配合を調整することにより、隣接する素子基板20r、20sの隙間に充填された接着剤15b、および支持基板10と素子基板20との間に充填された接着剤15aのみを硬化させることが望ましい。すなわち、素子基板20の能動面21より低い位置に充填された接着剤15bを硬化させるとともに、能動面21より高い位置に溢れ出した接着剤15cを未硬化のまま残すようにする。
Next, as shown in FIG. 4C, the adhesive 15 is cured by irradiating light 18 from the back surface of the transparent support substrate 10. For example, visible light may be irradiated as the light 18. In the present embodiment, an anaerobic adhesive is employed as the adhesive 15. Since the adhesive 15c overflowing to the active surfaces of the element substrates 20r and 20s is in contact with air, it does not cure even when irradiated with light. On the other hand, since the adhesive 15a disposed in the gap between the support substrate 10 and the element substrate 20 and the adhesive 15b filled in the gap between the adjacent element substrates 20r and 20s are not in contact with air, light irradiation is performed. To cure.
Here, by adjusting the irradiation conditions such as the intensity and irradiation time of the light 18 and the composition of the adhesive 15, the adhesive 15b filled in the gap between the adjacent element substrates 20r and 20s, and the support substrate 10 and the element It is desirable to cure only the adhesive 15a filled between the substrate 20 and the substrate 20. That is, the adhesive 15b filled in a position lower than the active surface 21 of the element substrate 20 is cured, and the adhesive 15c overflowing to a position higher than the active surface 21 is left uncured.

次に、図4(d)に示すように、素子基板20の能動面21を洗浄して、未硬化の接着剤15cを除去する。この洗浄には、一般にパネル洗浄に使用される有機溶剤やアルカリ洗剤等の洗浄液を利用することができる。これにより、素子基板20の能動面に溢れ出た未硬化の接着剤15cが除去され、隣接する素子基板20r、20sの隙間に充填され硬化した接着剤が残る。以上により、支持基板10上に各素子基板20が固着される。   Next, as shown in FIG. 4D, the active surface 21 of the element substrate 20 is washed to remove the uncured adhesive 15c. For this cleaning, a cleaning liquid such as an organic solvent or an alkaline detergent generally used for panel cleaning can be used. As a result, the uncured adhesive 15c overflowing to the active surface of the element substrate 20 is removed, and the cured adhesive filled in the gap between the adjacent element substrates 20r and 20s remains. As described above, each element substrate 20 is fixed onto the support substrate 10.

一方、図5(a)に示すように、素子基板20の能動面21において画素電極(不図示)を取り囲むように、あらかじめ隔壁構造体(バンク)221が形成されている。なお、支持基板10上に各素子基板20を固着した後に、素子基板20の能動面21に隔壁構造体221を形成してもよい。特に、隣接する素子基板20r、20sの接合部における接着剤15bの上端面が、素子基板20の能動面21より低くなって凹部が形成された場合に、隔壁構造体221の形成と同時にその形成材料を凹部に充填すれば、余分な工程を付加することなく接合部を平坦化することができる。   On the other hand, as shown in FIG. 5A, a partition wall structure (bank) 221 is formed in advance so as to surround a pixel electrode (not shown) on the active surface 21 of the element substrate 20. The partition structure 221 may be formed on the active surface 21 of the element substrate 20 after the element substrates 20 are fixed on the support substrate 10. In particular, when the recess is formed when the upper end surface of the adhesive 15b at the joint between the adjacent element substrates 20r and 20s is lower than the active surface 21 of the element substrate 20, the formation is simultaneously performed with the formation of the partition wall structure 221. If the concave portion is filled with the material, the joint portion can be flattened without adding an extra step.

この隔壁構造体221の開口部221aの内側における画素電極の表面に、正孔注入/輸送層70および有機発光層60を順次形成する。各層の形成には、液滴吐出法を利用することが望ましい。液滴吐出法では、機能層の形成材料を含む微少量の液滴を、液滴吐出ヘッドから隔壁構造体221の開口部221aに対して選択的に吐出し、乾燥・焼成することにより機能層を成膜する。このように、液滴吐出ヘッドを移動させながら各画素に順次機能層を吐出形成して行くので、基板を大型化した場合でも液滴吐出ヘッドの移動範囲を変更するだけで対応することができる。このため、接合後の大型基板に対して、効率良く機能層を形成することが出来る。   A hole injection / transport layer 70 and an organic light emitting layer 60 are sequentially formed on the surface of the pixel electrode inside the opening 221a of the partition wall structure 221. It is desirable to use a droplet discharge method for forming each layer. In the droplet discharge method, a minute amount of droplets containing the functional layer forming material is selectively discharged from the droplet discharge head to the opening 221a of the partition wall structure 221 and dried and fired to thereby function the functional layer. Is deposited. As described above, the functional layer is sequentially ejected and formed on each pixel while moving the droplet ejection head, so that even when the substrate is enlarged, it is possible to cope with it by changing the moving range of the droplet ejection head. . For this reason, a functional layer can be efficiently formed with respect to the large sized board | substrate after joining.

ところで、液滴吐出法において、吐出する液体の着弾の精度を高めるためには、液滴吐出ヘッドと素子基板との間隔を非常に狭くする必要がある。ここで、素子基板20の能動面21から硬化した接着剤15bが突出していると、その接着剤15bに対して移動中の液滴吐出ヘッドが衝突し、液滴吐出法を用いた機能層の形成が採用出来なくなる。
しかしながら、本実施形態では、硬化後の接着剤15bが素子基板20の能動面21から突出していないので、移動中の液滴吐出ヘッドが接着剤15bと衝突することはない。これにより、液滴吐出法を用いて各層を正確に形成することができる。この場合、硬化後の接着剤15bの上端面は、素子基板20の能動面21の高さ以下に配置されていればよい。
By the way, in the droplet discharge method, in order to improve the accuracy of the landing of the liquid to be discharged, it is necessary to make the interval between the droplet discharge head and the element substrate very narrow. Here, when the hardened adhesive 15b protrudes from the active surface 21 of the element substrate 20, the moving liquid drop ejection head collides with the adhesive 15b, and the functional layer using the liquid drop ejection method is formed. Formation cannot be adopted.
However, in the present embodiment, since the cured adhesive 15b does not protrude from the active surface 21 of the element substrate 20, the moving liquid droplet ejection head does not collide with the adhesive 15b. Accordingly, each layer can be accurately formed using a droplet discharge method. In this case, the upper end surface of the cured adhesive 15 b may be disposed below the height of the active surface 21 of the element substrate 20.

さらに、整列配置された素子基板群の能動面全体に陰極50を形成する。陰極50の形成には、真空蒸着法、スパッタ法等を用いることが可能である。この陰極50は、隣接する素子基板20r、20sの隙間に配設された接着剤15bの上端面にも形成され、有機EL装置全体の共通電極として機能する。ここで、接着剤15bの上端面は、各素子基板20の能動面21と略同一平面となるので、両者の間に段差が形成されることはない。したがって、陰極50を段切れなく連続して形成することができる。これにより、隣接する素子基板20r、20sに形成された陰極50r、50sを相互に導通させることが可能になり、有機EL装置の共通電極として機能させることができる。   Further, the cathode 50 is formed on the entire active surface of the arrayed element substrate group. For the formation of the cathode 50, a vacuum deposition method, a sputtering method, or the like can be used. The cathode 50 is also formed on the upper end surface of the adhesive 15b disposed in the gap between the adjacent element substrates 20r and 20s, and functions as a common electrode for the entire organic EL device. Here, since the upper end surface of the adhesive 15b is substantially flush with the active surface 21 of each element substrate 20, no step is formed between them. Therefore, the cathode 50 can be formed continuously without disconnection. Accordingly, the cathodes 50r and 50s formed on the adjacent element substrates 20r and 20s can be electrically connected to each other, and can function as a common electrode of the organic EL device.

次に、図5(b)に示すように、接着層33を形成して封止基板30を装着する。具体的には、陰極50の表面に液状の光硬化型樹脂を塗布し、その上方に封止基板30を配置した後に、透明な封止基板30の上方から光を照射して接着層33を硬化させ、封止基板30を接着する。この封止基板30および接着層33により、外部からの水分等の浸入を防止することが可能になり、有機EL素子200を保護することができる。
以上により、本実施形態の有機EL装置1が完成する。
Next, as shown in FIG. 5B, an adhesive layer 33 is formed and the sealing substrate 30 is mounted. Specifically, after applying a liquid photocurable resin on the surface of the cathode 50 and disposing the sealing substrate 30 thereon, light is irradiated from above the transparent sealing substrate 30 to form the adhesive layer 33. Curing is performed and the sealing substrate 30 is bonded. The sealing substrate 30 and the adhesive layer 33 can prevent moisture and the like from entering from the outside, and can protect the organic EL element 200.
Thus, the organic EL device 1 according to this embodiment is completed.

以上に詳述したように、本実施形態の有機EL装置の製造方法では、複数の素子基板の側面同士を嫌気性接着剤によって接着する工程を有する構成とした。この構成によれば、隣接する素子基板の隙間に配置された接着剤の硬化速度に比べて、各素子基板の能動面に溢れ出した接着剤の硬化速度が、空気との接触により遅くなる。したがって、硬化した接着剤が素子基板の能動面から突出して配置されることはない。これにより、各素子基板の能動面に機能層を段切れなく連続して形成することが可能になる。また、液滴吐出法によって機能層を形成する場合に、液滴吐出ヘッドが硬化後の接着剤と衝突するのを防止することができる。   As described in detail above, the method of manufacturing the organic EL device according to this embodiment has a configuration including a step of bonding the side surfaces of a plurality of element substrates with an anaerobic adhesive. According to this configuration, the curing rate of the adhesive overflowing on the active surface of each element substrate is slower due to contact with air than the curing rate of the adhesive disposed in the gap between adjacent element substrates. Therefore, the cured adhesive is not disposed so as to protrude from the active surface of the element substrate. This makes it possible to continuously form functional layers on the active surface of each element substrate without disconnection. Further, when the functional layer is formed by the droplet discharge method, the droplet discharge head can be prevented from colliding with the cured adhesive.

また、本実施形態の有機EL装置の製造方法では、各素子基板の能動面を洗浄して未硬化の嫌気性接着剤を除去する工程を有する構成とした。この構成によれば、余剰の嫌気性接着剤を基板洗浄により簡単に除去することができる。これにより、各素子基板の能動面に保護シートを装着しなくても能動面を保護することが可能になる。また、余分な工程を付加すること無く、接合部において接着剤の段差がない大型基板を作製することが可能となり、有機EL装置の製造コストを低減することができる。   Moreover, in the manufacturing method of the organic EL device of this embodiment, the active surface of each element substrate is washed to remove the uncured anaerobic adhesive. According to this configuration, excess anaerobic adhesive can be easily removed by substrate cleaning. This makes it possible to protect the active surface without attaching a protective sheet to the active surface of each element substrate. In addition, it is possible to manufacture a large substrate without an adhesive step at the joint without adding an extra step, and the manufacturing cost of the organic EL device can be reduced.

[電子機器]
図6は、本発明に係る電子機器の一構成例である薄型大画面テレビ1200の斜視構成図である。同図に示す薄型大画面テレビ1200は、上記実施形態の有機EL装置からなる表示部1201と、筐体1202と、スピーカ等の音声出力部1203とを主体として構成されている。そして、この薄型大画面テレビでは、上記実施形態の有機EL装置により表示部の信頼性に優れたものとなっている。
本発明に係る有機EL装置は、図6に示すテレビの表示部のみならず、種々の電子機器の表示部に適用することができ、例えば、携帯用電子機器、パーソナルコンピュータ等の表示部に好適に用いることができる。
[Electronics]
FIG. 6 is a perspective configuration diagram of a thin large-screen television 1200 that is one configuration example of the electronic apparatus according to the invention. A thin large-screen television 1200 shown in the figure is mainly configured by a display unit 1201 including the organic EL device of the above-described embodiment, a housing 1202, and an audio output unit 1203 such as a speaker. In this thin large-screen television, the organic EL device of the above embodiment has excellent display unit reliability.
The organic EL device according to the present invention can be applied not only to the display unit of the television shown in FIG. 6 but also to the display unit of various electronic devices. For example, the organic EL device is suitable for display units of portable electronic devices, personal computers, and the like. Can be used.

実施形態に係る有機EL装置の回路構成図である。1 is a circuit configuration diagram of an organic EL device according to an embodiment. 実施形態に係る有機EL装置の平面構成図である。It is a plane lineblock diagram of an organic EL device concerning an embodiment. 実施形態に係る有機EL装置の断面構成図である。It is a section lineblock diagram of an organic EL device concerning an embodiment. 実施形態に係る有機EL装置の製造方法の工程図である。It is process drawing of the manufacturing method of the organic electroluminescent apparatus which concerns on embodiment. 実施形態に係る有機EL装置の製造方法の工程図である。It is process drawing of the manufacturing method of the organic electroluminescent apparatus which concerns on embodiment. 薄型大画面テレビの斜視構成図である。It is a perspective view of a thin large screen television. 各素子基板を支持基板に接着する工程の説明図である。It is explanatory drawing of the process of adhere | attaching each element board | substrate on a support substrate. タイリングによって製造された有機EL装置の断面構成図である。It is a section lineblock diagram of an organic EL device manufactured by tiling.

符号の説明Explanation of symbols

10‥支持基板 15、15b‥接着剤 18‥光 20‥素子基板 21‥能動面   DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Support substrate 15, 15b ... Adhesive 18 ... Light 20 ... Element substrate 21 ... Active surface

Claims (7)

有機EL素子を形成すべき複数の素子基板の側面同士を接着して、大型の有機EL装置を製造する方法であって、
前記各素子基板の側面同士を、嫌気性接着剤によって接着する工程を有することを特徴とする有機EL装置の製造方法。
A method of manufacturing a large organic EL device by bonding side surfaces of a plurality of element substrates on which an organic EL element is to be formed,
A method for manufacturing an organic EL device, comprising a step of bonding side surfaces of each element substrate with an anaerobic adhesive.
前記接着工程の後に、前記各素子基板を洗浄して未硬化の前記嫌気性接着剤を除去する工程を有することを特徴とする請求項1に記載の有機EL装置の製造方法。   2. The method of manufacturing an organic EL device according to claim 1, further comprising a step of cleaning each element substrate and removing the uncured anaerobic adhesive after the bonding step. 前記接着剤および前記素子基板は、可視光透過性を有する材料によって構成され、
前記接着剤の屈折率は、前記素子基板の屈折率と略同等であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の有機EL装置の製造方法。
The adhesive and the element substrate are made of a material having visible light permeability,
The method of manufacturing an organic EL device according to claim 1, wherein a refractive index of the adhesive is substantially equal to a refractive index of the element substrate.
前記接着工程の後に、前記各素子基板の能動面に液滴吐出法により機能層を形成する工程を有することを特徴とする請求項1ないし請求項3のいずれかに記載の有機EL装置の製造方法。   4. The method of manufacturing an organic EL device according to claim 1, further comprising a step of forming a functional layer on an active surface of each element substrate by a droplet discharge method after the bonding step. Method. 前記接着工程の後に、前記各素子基板の能動面に前記有機EL素子の共通電極を形成することを特徴とする請求項1ないし請求項4のいずれかに記載の有機EL装置の製造方法。   5. The method of manufacturing an organic EL device according to claim 1, wherein a common electrode of the organic EL element is formed on an active surface of each element substrate after the bonding step. 請求項1ないし請求項5のいずれかに記載の有機EL装置の製造方法を使用して製造したことを特徴とする有機EL装置。   An organic EL device manufactured using the method for manufacturing an organic EL device according to claim 1. 請求項6の有機EL装置を備えたことを特徴とする電子機器。   An electronic apparatus comprising the organic EL device according to claim 6.
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