JP2005099285A - Stacked body of planographic printing original plate - Google Patents

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JP2005099285A JP2003331526A JP2003331526A JP2005099285A JP 2005099285 A JP2005099285 A JP 2005099285A JP 2003331526 A JP2003331526 A JP 2003331526A JP 2003331526 A JP2003331526 A JP 2003331526A JP 2005099285 A JP2005099285 A JP 2005099285A
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Takahiro Goto
孝浩 後藤
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a stacked body of negative planographic printing original plates corresponding to an IR laser and to provide a stacked body of negative planographic printing original plates in which scratches on the surface of a recording layer can be prevented during carrying, exposure and transfer, or the like. <P>SOLUTION: The stacked body of planographic printing original plates is prepared by alternately stacking planographic printing original plates and slip sheets. The planographic printing original plate has a negative recording layer formed on a supporting body, the recording layer containing: (A) a compound which generates a radical by light or heat; (B) a polymer having phenyl group having a vinyl group substituted in the side chain; (C) a monomer having two or more phenyl groups having a vinyl groups substituted; and (D) an IR absorbent. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、平版印刷版原版と合紙とからなる積層体に関し、特に、コンピュータ等のディジタル信号から直接製版できる、所謂、ダイレクト製版用の赤外線レーザ対応平版印刷版原版と、そのネガ型記録層に当接して保護する合紙と、を積層してなる積層体に関する。   The present invention relates to a laminate comprising a lithographic printing plate precursor and a slip sheet, and in particular, a so-called infrared laser-compatible lithographic printing plate precursor for direct plate making that can be directly made from a digital signal from a computer or the like, and its negative recording layer It is related with the laminated body which laminates | stacks the slip sheet which contacts and protects.

近年におけるレーザーの発展は目ざましく、特に、近赤外線から赤外線領域に発光領域を持つ個体レーザーや半導体レーザーでは、高出力・小型化が進んでいる。したがって、コンピュータ等のディジタルデータから直接製版する際の露光光源として、これらのレーザーは非常に有用である。
前述の赤外線領域に発光領域を持つ赤外線レーザーを露光光源として使用する、赤外線レーザ対応ネガ型平版印刷版原版は、赤外線吸収剤、ラジカル発生剤、及び重合性化合物を含有する感光性組成物からなるネガ記録層を有し、光又は熱により発生したラジカルを開始剤として重合反応を生起させて露光部の記録層を硬化させて画像部を形成する、又は、赤外線吸収剤が染料の場合には、赤外線を吸収した染料からの電子移動により発生したラジカルを開始剤として重合反応を生起させて露光部の記録層を硬化させて画像部を形成する、という記録方式を利用している。
In recent years, the development of lasers has been remarkable. In particular, solid lasers and semiconductor lasers having a light emitting region from the near infrared region to the infrared region have been increasing in output and size. Therefore, these lasers are very useful as an exposure light source when making a plate directly from digital data such as a computer.
An infrared laser-compatible negative lithographic printing plate precursor using an infrared laser having a light emitting region in the infrared region as described above comprises a photosensitive composition containing an infrared absorber, a radical generator, and a polymerizable compound. When it has a negative recording layer and a radical generated by light or heat is used as an initiator to cause a polymerization reaction to cure the recording layer of the exposed area to form an image area, or when the infrared absorber is a dye A recording system is used in which a radical is generated by electron transfer from a dye that has absorbed infrared rays to initiate a polymerization reaction to cure the recording layer in the exposed area to form an image area.

また、特開平7−20629号、同平7−271029号公報には、レゾール樹脂、ノボラック樹脂、赤外線吸収剤、及び光酸発生剤の組み合わせからなる感光性の組成物や平版印刷版が開示され、特開平11−212252号、同平11−231535号公報には、特定の重合体、光酸発生剤、及び近赤外増感色素の組み合わせからなる平版印刷版が開示されている。これらの開示されている感光性組成物や平版印刷版は、光酸発生剤より発生した酸を開始剤として硬化反応を生起させて、硬化部(画像部)を形成するという機構を有している。   JP-A-7-20629 and JP-A-7-271029 disclose photosensitive compositions and lithographic printing plates comprising a combination of a resole resin, a novolak resin, an infrared absorber, and a photoacid generator. JP-A-11-212252 and JP-A-11-231535 disclose lithographic printing plates comprising a combination of a specific polymer, a photoacid generator and a near-infrared sensitizing dye. These disclosed photosensitive compositions and lithographic printing plates have a mechanism of forming a cured portion (image portion) by causing a curing reaction using an acid generated from a photoacid generator as an initiator. Yes.

上記したような光重合開始剤或いは光酸発生剤を用いた硬化反応により画像部を形成する感光性組成物に対しては、近赤外領域に充分高い感光性を付与するのは難しく、特に、赤外レーザー光を用いた走査露光に適用するには感光性が不足していた。
また、光重合開始剤或いは光酸発生剤を用いた硬化反応は、露光のみでは不十分な場合が多く、露光後或いは現像処理後に加熱処理して、硬化反応を促進完結させる必要があり、加熱処理は重要な製版工程であった。しかしながら、加熱処理は生産効率を低下させるのみではなく、品質を不安定にする要因を含んでいる。例えば、露光部/未露光部の溶解性の差を一定に保つのは難しく、十分な加熱が行われなければ現像液により露光部までが溶解する場合や、逆に、加熱温度が高すぎる場合には未露光部が部分的に不溶化し、現像が十分に行われない等の問題点があった。
For a photosensitive composition that forms an image area by a curing reaction using a photopolymerization initiator or a photoacid generator as described above, it is difficult to impart sufficiently high photosensitivity in the near-infrared region. However, the photosensitivity was insufficient for application to scanning exposure using infrared laser light.
In addition, the curing reaction using a photopolymerization initiator or a photoacid generator is often insufficient only by exposure, and it is necessary to heat treatment after exposure or development processing to accelerate and complete the curing reaction. Processing was an important plate making process. However, the heat treatment not only lowers the production efficiency but also includes factors that make the quality unstable. For example, it is difficult to keep the difference in solubility between exposed and unexposed areas constant. If sufficient heating is not performed, the exposed area is dissolved by the developer, or conversely, the heating temperature is too high. However, there is a problem that the unexposed portion is partially insolubilized and development is not sufficiently performed.

そこで、これら課題に対し、例えば、特許文献1及び特許文献2においては、近赤外領域に充分高い感光性、即ち、優れた感度を有し、その結果、加熱処理やオーバーコート層を必要としない、走査露光可能な感光性平版印刷版材料が開示されている。この平版印刷版材料により、生産効率低下の防止や、製版処理の安定性が向上したことが開示されている。   Therefore, for these problems, for example, Patent Document 1 and Patent Document 2 have sufficiently high photosensitivity in the near infrared region, that is, excellent sensitivity, and as a result, heat treatment and an overcoat layer are required. A photosensitive lithographic printing plate material capable of scanning exposure is disclosed. It is disclosed that this lithographic printing plate material prevents a reduction in production efficiency and improves the stability of the plate making process.

一方、複数の平版印刷版原版を保存・運搬・搬送するには、該平版印刷版原版を積層させて積層体として行なわれることが多い。しかし、積層体を運搬する際、積層体をCTPセッター露光時に、オートローダにより搬送する際、積層体から各平版印刷版原版を剥離する際に、1つの平版印刷版原版の表面(記録層側の最表層)と、それと隣接する平版印刷版原版の裏面(支持体裏面)と、の間の摩擦が引き金となって、記録層の表面にキズが発生することがある。このように、記録層にキズが発生すると、その箇所から所望されない硬化反応が生起し、その結果、非画像部において汚れが発生するという問題を有していた。特に、記録層の表面を保護するオーバーコート層を有していない平版印刷版原版からなる積層体の場合には、表面に発生したキズによる影響は非常に大きく、画像の品質低下を引き起こす問題となっている。
特開2001−290271号公報 特開2002−278081号公報
On the other hand, in order to store, transport and transport a plurality of lithographic printing plate precursors, the lithographic printing plate precursors are often laminated to form a laminate. However, when the laminate is transported, when the laminate is transported by an autoloader during CTP setter exposure, or when each lithographic printing plate precursor is peeled from the laminate, the surface of one lithographic printing plate precursor (on the recording layer side) Friction between the outermost layer) and the back surface of the lithographic printing plate precursor adjacent to it (back surface of the support) may trigger the surface of the recording layer. As described above, when a scratch is generated in the recording layer, an undesired curing reaction occurs from that portion, and as a result, there is a problem that a stain occurs in a non-image portion. In particular, in the case of a laminate composed of a lithographic printing plate precursor that does not have an overcoat layer that protects the surface of the recording layer, the effect of scratches generated on the surface is very large, and this causes a problem of reducing image quality. It has become.
JP 2001-290271 A JP 2002-278081 A

本発明は、前記諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。
即ち、本発明の目的は、赤外線レーザ対応ネガ型平版印刷版原版の積層体であって、運搬時、露光搬送時等において、記録層の表面にキズが発生することを防止し得る平版印刷版原版積層体を提供することにある。
An object of the present invention is to solve the above problems and achieve the following object.
That is, an object of the present invention is a laminate of a negative lithographic printing plate precursor corresponding to an infrared laser, and capable of preventing scratches on the surface of the recording layer during transportation, exposure transportation, etc. The object is to provide an original laminate.

本発明の上記目的は、下記に示す平版印刷版原版積層体により達成された。
本発明の平版印刷版原版積層体は、支持体上に、(A)光又は熱によりラジカルを発生する化合物、(B)側鎖にビニル基が置換したフェニル基を有する重合体、(C)ビニル基が置換したフェニル基を2個以上有するモノマー、及び(D)赤外線吸収剤を含有するネガ型記録層を設けた平版印刷版原版と、合紙と、を交互に積層してなることを特徴とする平版印刷版原版積層体である。
また、本発明の平版印刷版原版積層体において、前記支持体がアルミニウム支持体であり、該アルミニウム支持体の厚みが0.25mm〜0.55mmであることが好ましい。
The above object of the present invention has been achieved by the lithographic printing plate precursor laminate shown below.
The lithographic printing plate precursor laminate of the present invention comprises, on a support, (A) a compound that generates radicals by light or heat, (B) a polymer having a phenyl group substituted with a vinyl group on the side chain, (C) It is formed by alternately laminating a lithographic printing plate precursor provided with a monomer having two or more phenyl groups substituted with vinyl groups, and (D) a negative recording layer containing an infrared absorber, and a slip sheet. The lithographic printing plate precursor laminate is characterized.
In the planographic printing plate precursor laminate of the present invention, the support is preferably an aluminum support, and the thickness of the aluminum support is preferably 0.25 mm to 0.55 mm.

このように、本発明の平版印刷版原版積層体によれば、上記のようなネガ型記録層を有する平版印刷版原版を積層する場合に、その間に合紙を挿入した構成を有しているため、ネガ型記録層側の最表面と、その最表面に接触する他の平版印刷版原版の支持体裏面(支持体に対し記録層の反対側)と、の間の摩擦が低減されて、最表面を形成しているのが記録層であっても、その表面にキズが発生することを防止することができる。従って、このような平版印刷版原版積層体を構成している平版印刷版原版は、非画像部における汚れのない高品質の画像を形成することが可能である。
また、平版印刷版原版の支持体がアルミニウム支持体であり、該アルミ支持体の厚みが0.25mm〜0.55mmである場合、版胴に装着する印刷時の取り扱い性がよくクニック発生のない高品質な平版印刷版原版を供給することができる。
Thus, according to the planographic printing plate precursor laminate of the present invention, when the planographic printing plate precursor having the negative recording layer as described above is laminated, a slip sheet is inserted between them. Therefore, the friction between the outermost surface on the negative recording layer side and the back surface of the other lithographic printing plate precursor that contacts the outermost surface (the opposite side of the recording layer to the support) is reduced, Even if the outermost surface is the recording layer, it is possible to prevent the surface from being scratched. Therefore, the lithographic printing plate precursor constituting such a lithographic printing plate precursor laminate can form a high-quality image free from stains in the non-image area.
In addition, when the support of the lithographic printing plate precursor is an aluminum support, and the thickness of the aluminum support is 0.25 mm to 0.55 mm, the handling property at the time of printing mounted on the plate cylinder is good and no nick is generated. High quality lithographic printing plate precursor can be supplied.

本発明によれば、赤外線レーザ対応ネガ型平版印刷版原版の積層体であって、運搬時、露光搬送時等において、記録層の表面にキズが発生することを防止し得る平版印刷版原版積層体を提供することができる。   According to the present invention, a laminate of a negative lithographic printing plate precursor corresponding to an infrared laser, and capable of preventing scratches on the surface of the recording layer during transportation, exposure transportation, etc. The body can be provided.

以下、本発明の平版印刷版原版積層体について詳細に説明する。
本発明の平版印刷版原版積層体は、支持体上に、(A)光又は熱によりラジカルを発生する化合物、(B)側鎖にビニル基が置換したフェニル基を有する重合体、(C)ビニル基が置換したフェニル基を2個以上有するモノマー、及び(D)赤外線吸収剤を含有するネガ型記録層を設けた平版印刷版原版(以下、特定平版印刷版原版と称する。)と、合紙と、を交互に積層してなることを特徴とする。
このような平版印刷版原版積層体は、合紙が、ネガ型記録層の表面を保護する機能を有するため、保存、保管、運搬などに適している。
ここで、まず、平版印刷版原版積層体を構成する合紙について説明する。
Hereinafter, the planographic printing plate precursor laminate of the present invention will be described in detail.
The lithographic printing plate precursor laminate of the present invention comprises, on a support, (A) a compound that generates radicals by light or heat, (B) a polymer having a phenyl group substituted with a vinyl group on the side chain, (C) A lithographic printing plate precursor (hereinafter referred to as a specific lithographic printing plate precursor) provided with a monomer having two or more phenyl groups substituted with vinyl groups, and (D) a negative recording layer containing an infrared absorber; It is characterized by being alternately laminated with paper.
Such a planographic printing plate precursor laminate is suitable for storage, storage, transportation and the like because the interleaf has a function of protecting the surface of the negative recording layer.
Here, first, the slip sheet constituting the planographic printing plate precursor laminate will be described.

<合紙>
本発明における合紙は、特定平版印刷版原版のネガ型記録層に対し、保存中の機械的な衝撃や搬送中の無用な衝撃・摩擦を軽減するために、特定平版印刷版原版を積層する際にその間に挿入されるものである。そのため、本発明の平版印刷版原版積層体は、特定平版印刷版原版と合紙とが交互に積層してなる構造を有する。
<Interleaf>
The interleaving paper of the present invention is laminated with a specific lithographic printing plate precursor in order to reduce mechanical impact during storage and unnecessary impact / friction during transportation on the negative recording layer of the specific lithographic printing plate precursor. When it is inserted in between. Therefore, the lithographic printing plate precursor laminate of the present invention has a structure in which specific lithographic printing plate precursors and slip sheets are alternately laminated.

本発明に用いられる合紙には、材料コストを抑制するために、低コストの原料が選択されることが多く、例えば、木材パルプを100%使用した紙や、木材パルプとともに合成パルプを混合使用した紙、及びこれらの表面に低密度又は高密度ポリエチレン層を設けた紙等を使用することができる。特に、合成パルプやポリエチレン層を使用しない紙では材料コストが低くなるので、低コストで合紙を製造することができる。   In order to control material costs, low-cost raw materials are often selected for the slip sheets used in the present invention. For example, paper using 100% wood pulp and synthetic pulp mixed with wood pulp are used. And paper having a low density or high density polyethylene layer on the surface thereof can be used. In particular, a paper that does not use synthetic pulp or a polyethylene layer has a low material cost, so that a slip sheet can be produced at a low cost.

具体的には、漂白クラフトパルプを叩解し、4%の濃度に希釈した紙料にサイズ剤を原紙の質量の0.1%、紙力剤を0.2%になるように加え、更に硫酸アルミニウムをpHが5.0になるまで加えた紙料を用いて抄造した紙であり、その坪量が29〜60g/m2、好ましくは25〜50g/m2(JIS P 8124に規定された測定方法による)で、厚みが42〜80μm、好ましくは45〜55μm、より好ましくは40〜50μm(いずれもJIS P 8118に規定された測定方法による)であり、化学的要件としては、試料20gを細かく切り純水100gに入れ密封110℃10分間加熱後、北川式ガス検知管(20ppm用)にてNH3ガスを測定するNH3ガス検出方法で検出されることがなく、かつ、6mlの蒸留水中に3mlの合紙試料を入れ、その中に1%の硝酸銀溶液を2滴滴下し塩化物の白濁の有無を観察する塩化物検出方法で、白濁が認められることないような合紙が好ましい。更に、機械的、強度的特性についても、合紙として好ましい要件は、上記した充填度や化学的要件と共に下記表1に示したが、これに限定されるものではない。 Specifically, bleached kraft pulp is beaten, and a sizing agent is added to a paper stock diluted to a concentration of 4% so that the weight of the base paper is 0.1% and the paper strength agent is 0.2%. Paper made by using a paper stock to which aluminum is added until the pH reaches 5.0, and has a basis weight of 29 to 60 g / m 2 , preferably 25 to 50 g / m 2 (as defined in JIS P 8124). The thickness is 42 to 80 μm, preferably 45 to 55 μm, more preferably 40 to 50 μm (both are according to the measurement method specified in JIS P 8118). Finely cut into 100 g of pure water, sealed and heated at 110 ° C. for 10 minutes, then detected with the NH 3 gas detection method of measuring NH 3 gas with a Kitagawa gas detector tube (for 20 ppm), and 6 ml of distilled water Underwater Put interleaf samples 3 ml, in chloride detecting method of observing the presence or absence of white turbidity of a 1% silver nitrate solution 2 drops dripped chloride therein, slip sheet as no cloudiness is observed are preferred. Further, regarding the mechanical and strength properties, preferable requirements for the slip sheet are shown in Table 1 below together with the above-described filling degree and chemical requirements, but are not limited thereto.

Figure 2005099285
Figure 2005099285

表1の注記は、下記の通りである。
(注1)1枚のシートの任意の位置の厚みをJIS P 8118に従って測定した最大値
と最小値の差。
(注2)110℃で1時間乾燥させた寸法(A)と、その後20℃65%RHで3時間放
置した寸法(B)とした場合、「伸縮度(率)=(B・A)/A×100」で表
される伸縮率。
(注3)合紙を150mm×150mmのシートに切断し、このシートを温度20℃で湿
度65%RHの環境下で3時間以上放置したのち、同じ環境下で川口電気製作所
製の高感度振動容量型ユニバーサル・エレクトロメーター(MMAI・17及び
P−601)によって体積抵抗値(Rv)を測定し、この体積抵抗値(Rv)と
測定機の電極面積(19.62cm2)の積から合紙厚み(t)を除してρv=
19.62/t×Rvの関係から求めた体積固有抵抗値(ρv)。
(注4)台紙を150mm×150mmのシートに切断し、このシートを温度20℃で湿
度65%RHの環境下で3時間以上放置したのち、同じ環境下で川口電気製作所
製の高感度振動容量型ユニバーサル・エレクトロメーター(MMAII・17及
びP・601)によって表面抵抗値を測定した。この表面抵抗値(Rs)と測定
機の電極面積から算出される係数(18.7)の積からρs=18.7×Rsに
よって求められる表面固有抵抗値(ρs)。
(注5)平版印刷版の画像形成面との静摩擦係数。
(注6)試料20gを細かく切り純水100gに入れ密封110℃10分間加熱後、北川
式ガス検知管(20ppm用)にて測定した値。
(注7)6mlの蒸留水中に3mlの合紙試料を入れ、その中に1%の硝酸銀溶液を2滴
滴下し白濁の有無を目視により判定。
The notes in Table 1 are as follows.
(Note 1) The difference between the maximum value and the minimum value obtained by measuring the thickness at an arbitrary position of one sheet in accordance with JIS P 8118.
(Note 2) When the dimension (A) dried for 1 hour at 110 ° C. and the dimension (B) allowed to stand for 3 hours at 20 ° C. and 65% RH, “stretch degree (rate) = (B · A)” The expansion / contraction rate represented by “/ A × 100”.
(Note 3) The slip sheet is cut into a 150 mm × 150 mm sheet, and this sheet is left at a temperature of 20 ° C. and a humidity of 65% RH for 3 hours or more. The volume resistance value (Rv) is measured by a vibration capacity type universal electrometer (MMAI · 17 and P-601), and the product of the volume resistance value (Rv) and the electrode area (19.62 cm 2 ) of the measuring device is combined. By dividing the paper thickness (t), ρv =
19. Volume resistivity (ρv) obtained from the relationship of 19.62 / t × Rv.
(Note 4) The mount is cut into a 150 mm x 150 mm sheet, and this sheet is left at a temperature of 20 ° C and a humidity of 65% RH for 3 hours or more. The surface resistance value was measured by a capacitive universal electrometer (MMAII · 17 and P · 601). The surface resistivity (ρs) obtained by ρs = 18.7 × Rs from the product of this surface resistance (Rs) and the coefficient (18.7) calculated from the electrode area of the measuring instrument.
(Note 5) Static friction coefficient with the image forming surface of a lithographic printing plate.
(Note 6) Value measured with a Kitagawa gas detector tube (for 20 ppm) after cutting 20 g of sample into 100 g of pure water and heating at 110 ° C. for 10 minutes.
(Note 7) Put 3 ml of slip paper sample in 6 ml of distilled water, drop 2 drops of 1% silver nitrate solution into it, and visually check for cloudiness.

上記した合紙の仕様の中でも、好ましい仕様としては、坪量が30〜60g/m2、平滑度がJIS P 8119に規定されたベックの平滑度測定方法において10〜100秒、水分量がJIS P 8127に規定された含水率測定方法において4〜8%、密度が0.7〜0.9g/cm3である。 Among the specifications of the above-mentioned slip sheets, preferable specifications include a basis weight of 30 to 60 g / m 2 , a smoothness of 10 to 100 seconds in a Beck smoothness measuring method defined in JIS P 8119, and a moisture content of JIS. In the moisture content measuring method specified in P8127, the density is 4 to 8% and the density is 0.7 to 0.9 g / cm 3 .

<合紙に対するネガ型記録層側の最表面の動摩擦係数>
本発明の平版印刷版原版積層体は、滑り性や耐キズ性の観点から、上記の合紙に対するネガ型記録層側の最表面の動摩擦係数が0.2〜0.7であることが好ましい態様となる。かかる動摩擦係数のより好ましい範囲は0.2〜0.5である。
ここで、本発明において、「ネガ型記録層側の最表面」とは、支持体上に、ネガ型記録層のみが設けられた場合であれば、そのネガ型記録層の表面を示し、ネガ型記録層上に任意の上層が設けられている場合ならば、その任意の上層の表面を指す。
<Dynamic friction coefficient of the outermost surface on the negative recording layer side with respect to the slip sheet>
The lithographic printing plate precursor laminate of the present invention preferably has a dynamic friction coefficient of 0.2 to 0.7 on the outermost surface on the negative recording layer side with respect to the slip sheet from the viewpoint of slipperiness and scratch resistance. It becomes an aspect. A more preferable range of the dynamic friction coefficient is 0.2 to 0.5.
Here, in the present invention, the “outermost surface on the negative recording layer side” means the surface of the negative recording layer when only the negative recording layer is provided on the support. When an arbitrary upper layer is provided on the mold recording layer, the surface of the arbitrary upper layer is indicated.

合紙に対するネガ型記録層側の最表面の動摩擦係数を上記の範囲に制御する手段としては、用いる合紙の最表面と当接する表面の物性に対応して、ネガ型記録層側の最表面の潤滑化処理、及び、ネガ型記録層側の最表面を形成する最表面層の組成の調整の少なくともいずれか一方を施すことにより行うことができる。   The means for controlling the dynamic friction coefficient of the outermost surface on the negative recording layer side with respect to the interleaving paper within the above range is as follows: Can be performed by performing at least one of the above-described lubrication treatment and the adjustment of the composition of the outermost surface layer that forms the outermost surface on the negative recording layer side.

動摩擦係数制御手段として具体的には、例えば、ネガ型記録層がネガ型記録層側の最表面を形成する場合、ネガ型記録層の構成成分に、フッ素含有化合物やシラン化合物などのような、記録層の表面エネルギーを低下させることを可能とする化合物を用いる方法がある。このように、ネガ型記録層の構成成分自体により動摩擦係数を制御する方法に用いられる化合物としては、特願2001−288569号明細書に記載されているフッ素系高分子化合物や、特願2001−193251号明細書に記載されている表面配向型赤外線吸収アルカリ可溶性樹脂等が用いられる。特に、これらの化合物は、ネガ型記録層の特性を損なわない範囲において、含有量を調節することにより、容易に動摩擦係数を制御することができる。   Specifically, as the dynamic friction coefficient control means, for example, when the negative recording layer forms the outermost surface on the negative recording layer side, the constituent components of the negative recording layer include fluorine-containing compounds and silane compounds, There is a method using a compound that can reduce the surface energy of the recording layer. As described above, examples of the compound used in the method for controlling the dynamic friction coefficient by the component itself of the negative recording layer include the fluorine-based polymer compounds described in Japanese Patent Application No. 2001-28869, and Japanese Patent Application No. 2001- A surface-oriented infrared absorbing alkali-soluble resin or the like described in 193251 is used. In particular, the dynamic friction coefficient can be easily controlled by adjusting the content of these compounds within a range that does not impair the characteristics of the negative recording layer.

また、ネガ型記録層に他の成分を添加して動摩擦係数を制御してもよい。例えば、フッ素やケイ素原子を含む非イオン性界面活性剤及び両性界面活性剤を用いたり、ワックスなどの従来公知の滑り剤を添加させる方法がある。更に、ネガ型記録層の塗布液に、その表面において配向性を示す長鎖のアルキル基を有する化合物などを添加し、動摩擦係数を制御することもできる。更には、特願2001−97299号明細書に記載されている一般式(1)で表される化合物を添加することでも動摩擦係数を制御することもできる。これらの添加剤は、それぞれの種類の選択と含有量を調節することにより、容易に動摩擦係数を制御することができる。   Further, the dynamic friction coefficient may be controlled by adding other components to the negative recording layer. For example, there are methods using a nonionic surfactant and an amphoteric surfactant containing fluorine or silicon atoms, or adding a conventionally known slip agent such as wax. Furthermore, the coefficient of dynamic friction can be controlled by adding a compound having a long-chain alkyl group exhibiting orientation on the surface of the coating liquid for the negative recording layer. Furthermore, the dynamic friction coefficient can also be controlled by adding a compound represented by the general formula (1) described in Japanese Patent Application No. 2001-97299. The dynamic friction coefficient of these additives can be easily controlled by adjusting the selection and content of each type.

更に、ネガ型記録層の表面粗さを調整することによっても摩擦特性の制御が可能であるため、ネガ型記録層や任意の上層を形成する際の諸条件、形成手段等の調整も有効である。
加えて、ネガ型記録層側の最表面を形成する層、例えば、上述した任意の上層として、上記の動摩擦係数を制御する化合物を含有させた上層や、表面粗さを調整して動摩擦係数を制御された上層を別に設けてもよい。
Furthermore, since the friction characteristics can be controlled by adjusting the surface roughness of the negative recording layer, it is also effective to adjust various conditions and forming means when forming the negative recording layer and any upper layer. is there.
In addition, the layer that forms the outermost surface on the negative recording layer side, for example, the above-described arbitrary upper layer, the upper layer containing the compound that controls the dynamic friction coefficient, or the surface roughness is adjusted to obtain the dynamic friction coefficient. A separate controlled upper layer may be provided.

合紙に対するネガ型記録層側の最表面の動摩擦係数の測定方法は、公知の任意の方法を用いることができるが、特に、JIS P 8147に提示されている方法が簡易でかつ実用的に充分な精度で測定できる。試験の際には、ネガ型記録層側の最表面と、合紙の実際に該ネガ型記録層側の最表面と接する面と、に対して測定を行なう。   Any known method can be used as a method for measuring the dynamic friction coefficient of the outermost surface on the negative recording layer side with respect to the interleaving paper, but in particular, the method presented in JIS P 8147 is simple and practically sufficient. Can be measured with high accuracy. In the test, measurement is performed on the outermost surface on the negative recording layer side and the surface of the slip sheet that is actually in contact with the outermost surface on the negative recording layer side.

<特定平版印刷版原版>
本発明における特定平版印刷版原版は、支持体上に、(A)光又は熱によりラジカルを発生する化合物、(B)側鎖にビニル基が置換したフェニル基を有する重合体、(C)ビニル基が置換したフェニル基を2個以上有するモノマー、及び(D)赤外線吸収剤を含有するネガ型記録層を設けてなる。
以下、本発明における特定平版印刷版原版を構成する各要素について説明する。
<Specific lithographic printing plate precursor>
The specific lithographic printing plate precursor according to the invention comprises, on a support, (A) a compound that generates radicals by light or heat, (B) a polymer having a phenyl group substituted with a vinyl group on the side chain, and (C) vinyl. A negative recording layer containing a monomer having two or more phenyl groups substituted with a group, and (D) an infrared absorber is provided.
Hereinafter, each element constituting the specific planographic printing plate precursor according to the invention will be described.

[ネガ型記録層]
本発明におけるネガ型記録層は、上記の(A)〜(D)の必須成分を含み、下記に示すような画像部形成機構を有する。
即ち、(D)赤外線吸収剤が吸収した赤外線を熱に変換し、この際発生した熱及び/又は光により、(A)光又は熱によりラジカルを発生する化合物からラジカルが発生する。そして、発生したラジカルを開始剤として、(C)ビニル基が置換したフェニル基を2個以上有するモノマーの重合反応が連鎖的に生起し、硬化する。また、本発明においては、バインダーポリマーとして(B)ビニル基が置換したフェニル基を側鎖に有する重合体を用いているため、(A)成分から発生したラジカルによりスチリルラジカルが生成し、スチリルラジカル同士で再結合し、効果的に架橋を行うため、形成された皮膜は疎水的な特性を有し、耐現像性に優れた表面を得られることから優れた特性の硬化皮膜を形成しうるという機能を有している。
[Negative recording layer]
The negative recording layer in the invention contains the essential components (A) to (D) described above and has an image portion forming mechanism as shown below.
That is, (D) infrared rays absorbed by the infrared absorbent are converted into heat, and the generated heat and / or light generates (A) radicals from the compound that generates radicals by light or heat. Then, using the generated radical as an initiator, a polymerization reaction of a monomer having (C) two or more phenyl groups substituted with vinyl groups occurs in a chain and is cured. In the present invention, since (B) a polymer having a phenyl group substituted with a vinyl group in the side chain is used as the binder polymer, a styryl radical is generated by a radical generated from the component (A), and a styryl radical is generated. In order to recombine with each other and effectively crosslink, the formed film has hydrophobic characteristics, and a surface with excellent development resistance can be obtained, so it can form a cured film with excellent characteristics It has a function.

これらのことから、このような(A)〜(D)成分を含む本発明におけるネガ型記録層は、(A)光又は熱によりラジカルを発生する化合物と、(D)赤外線吸収剤と、の組み合わせにより、高感度化を達成することができると共に、大気中の酸素の影響を防止するオーバーコート層を設けなくとも十分に硬化が可能であり、かつ、露光後の加熱処理を行う必要のないことが特徴として挙げられる。
ネガ型記録層に用いられる各成分について以下に述べる。
From these facts, the negative recording layer in the present invention containing such components (A) to (D) comprises (A) a compound that generates radicals by light or heat, and (D) an infrared absorber. The combination can achieve high sensitivity, can be cured sufficiently without providing an overcoat layer that prevents the influence of oxygen in the atmosphere, and does not require heat treatment after exposure. Can be mentioned as a feature.
Each component used in the negative recording layer will be described below.

〔(A)光又は熱によりラジカルを発生する化合物(ラジカル発生剤)〕
本発明に用いられる光又は熱によりラジカルを発生する化合物(以下、適宜、ラジカル発生剤と称する。)とは、光又は熱によりラジカルを発生し得る化合物であれば、如何なる化合物を用いることができる。
ラジカル発生剤としては、例えば、有機ホウ素塩、トリハロアルキル置換された化合物(例えば、トリハロアルキル置換された含窒素複素環化合物として、s−トリアジン化合物及びオキサジアゾール誘導体、トリハロアルキルスルホニル化合物が挙げられる。)、ヘキサアリールビスイミダゾール、チタノセン化合物、ケトオキシム化合物、チオ化合物、有機過酸化物等が挙げられる。
本発明においては、これらのラジカル発生剤の中でも、特に、有機ホウ素塩、トリハロアルキル置換化合物が好ましく用いられる。更に好ましくは、有機ホウ素塩とトリハロアルキル置換化合物を組み合わせて用いることである。
[(A) Compound that generates radicals by light or heat (radical generator)]
As the compound that generates radicals by light or heat used in the present invention (hereinafter, appropriately referred to as a radical generator), any compound that can generate radicals by light or heat can be used. .
Examples of the radical generator include organic boron salts, trihaloalkyl-substituted compounds (for example, trihaloalkyl-substituted nitrogen-containing heterocyclic compounds include s-triazine compounds, oxadiazole derivatives, and trihaloalkylsulfonyl compounds. .), Hexaarylbisimidazole, titanocene compound, ketoxime compound, thio compound, organic peroxide and the like.
In the present invention, among these radical generators, organic boron salts and trihaloalkyl-substituted compounds are particularly preferably used. More preferably, an organic boron salt and a trihaloalkyl-substituted compound are used in combination.

有機ホウ素塩を構成する有機ホウ素アニオンは、下記一般式(1)で表される。   The organoboron anion constituting the organoboron salt is represented by the following general formula (1).

Figure 2005099285
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一般式(1)中、R11、R12、R13及びR14は、各々同じであっても異なっていてもよく、アルキル基、アリール基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、複素環基を表す。これらの内で、R11、R12、R13及びR14の内の一つがアルキル基であり、他の置換基がアリール基である場合が特に好ましい。 In the general formula (1), R 11 , R 12 , R 13, and R 14 may be the same or different, and may be an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, or a cycloalkyl group. Represents a heterocyclic group. Of these, it is particularly preferred that one of R 11 , R 12 , R 13 and R 14 is an alkyl group and the other substituent is an aryl group.

上記の有機ホウ素アニオンは、これと塩を形成するカチオンと同時に存在する。この場合のカチオンとしては、アルカリ金属イオン、オニウムイオン及びカチオン性増感色素が挙げられる。
オニウムイオンとしては、アンモニウムイオン、スルホニウムイオン、ヨードニウムイオン及びホスホニウムイオンが挙げられる。
有機ホウ素塩として、有機ホウ素アニオンとアルカリ金属イオン又はオニウムイオンとの塩を用いる場合には、別に増感色素(本発明においては(D)赤外線吸収剤を指す)を添加することで、色素が吸収する光の波長範囲での感光性を付与することが行われる。また、有機ホウ素塩として、カチオン性増感色素の対アニオンを有機ホウ素アニオンとした塩を用いる場合には、該カチオン性増感色素の吸収波長に応じて感光性が付与される。しかし、後者の場合は、更に、アルカリ金属イオン又はオニウムイオンと有機ホウ素アニオンとの塩を併せて含有するのが好ましい。
The above-mentioned organoboron anion is present simultaneously with the cation that forms a salt with the anion. Examples of the cation in this case include alkali metal ions, onium ions, and cationic sensitizing dyes.
Examples of the onium ions include ammonium ions, sulfonium ions, iodonium ions, and phosphonium ions.
When a salt of an organic boron anion and an alkali metal ion or onium ion is used as the organic boron salt, a dye is added by adding a sensitizing dye (in the present invention, (D) refers to an infrared absorber). It imparts photosensitivity in the wavelength range of light to be absorbed. Further, when a salt having an organic boron anion as a counter anion of a cationic sensitizing dye is used as the organic boron salt, photosensitivity is imparted according to the absorption wavelength of the cationic sensitizing dye. However, in the latter case, it is preferable to further contain a salt of an alkali metal ion or onium ion and an organic boron anion.

本発明に用いられる有機ホウ素塩としては、上記一般式(1)で表される有機ホウ素アニオンを含む塩であり、塩を形成するカチオンとしてはアルカリ金属イオン及びオニウムイオンが好ましく使用される。特に好ましい例は、有機ホウ素アニオンとオニウムイオンとの塩であり、具体的には、テトラアルキルアンモニウム塩等のアンモニウム塩、トリアリールスルホニウム塩等のスルホニウム塩、トリアリールアルキルホスホニウム塩等のホスホニウム塩が挙げられる。
特に好ましい有機ホウ素塩の具体例(BC−1)〜(BC−6)を下記に示す。
The organic boron salt used in the present invention is a salt containing an organic boron anion represented by the above general formula (1), and alkali metal ions and onium ions are preferably used as cations forming the salt. Particularly preferred examples are salts of organic boron anions and onium ions, specifically, ammonium salts such as tetraalkylammonium salts, sulfonium salts such as triarylsulfonium salts, and phosphonium salts such as triarylalkylphosphonium salts. Can be mentioned.
Specific examples (BC-1) to (BC-6) of particularly preferred organic boron salts are shown below.

Figure 2005099285
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Figure 2005099285
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本発明において、他の好ましいラジカル発生剤として、トリハロアルキル置換化合物が挙げられる。トリハロアルキル置換化合物とは、具体的には、トリクロロメチル基、トリブロモメチル基等のトリハロアルキル基を分子内に少なくとも一個以上有する化合物であり、好ましい例としては、該トリハロアルキル基が含窒素複素環基に結合した化合物として、s−トリアジン誘導体及びオキサジアゾール誘導体が挙げられ、或いは、該トリハロアルキル基がスルホニル基を介して芳香族環或いは含窒素複素環に結合したトリハロアルキルスルホニル化合物が挙げられる。   In the present invention, other preferred radical generators include trihaloalkyl-substituted compounds. Specifically, the trihaloalkyl-substituted compound is a compound having at least one trihaloalkyl group such as a trichloromethyl group or a tribromomethyl group in the molecule. As a preferable example, the trihaloalkyl-substituted compound has a nitrogen-containing complex. Examples of the compound bonded to the ring group include s-triazine derivatives and oxadiazole derivatives, or trihaloalkylsulfonyl compounds in which the trihaloalkyl group is bonded to an aromatic ring or a nitrogen-containing heterocycle via a sulfonyl group. It is done.

トリハロアルキル基が含窒素複素環基に結合した化合物の特に好ましい具体例(T−1)〜(T−15)、及び、トリハロアルキルスルホニル化合物の特に好ましい具体例(BS−1)〜(BS−10)を下記に示す。   Particularly preferred specific examples (T-1) to (T-15) of compounds in which a trihaloalkyl group is bonded to a nitrogen-containing heterocyclic group, and particularly preferred specific examples (BS-1) to (BS-) of trihaloalkylsulfonyl compounds. 10) is shown below.

Figure 2005099285
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Figure 2005099285
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Figure 2005099285
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本発明において、他の好ましいラジカル発生剤として、有機過酸化物が挙げられる。有機過酸化物としては、例えば、クメンヒドロペルオキシド、第3ブチルヒドロペルオキシド、ジクロルペルオキシド、ジ第3ブチルペルオキシド、過酸化ベンゾイル、過酸化アセチル、過酸化ラウロイル、及び下記に示す構造を有する化合物等が挙げられる。   In the present invention, other preferable radical generators include organic peroxides. Examples of the organic peroxide include cumene hydroperoxide, tert-butyl hydroperoxide, dichloroperoxide, di-tert-butyl peroxide, benzoyl peroxide, acetyl peroxide, lauroyl peroxide, and compounds having the structure shown below. Is mentioned.

Figure 2005099285
Figure 2005099285

上述したようなラジカル発生剤の含有量は、後述する(B)ビニル基が置換したフェニル基を側鎖に有する重合体に対して、1〜100質量%の範囲で含まれることが好ましく、更には1〜40質量%の範囲で含まれることが好ましい。   The content of the radical generator as described above is preferably included in the range of 1 to 100% by mass with respect to the polymer having (B) a vinyl group-substituted phenyl group in the side chain described below, Is preferably contained in the range of 1 to 40% by mass.

〔(B)ビニル基が置換したフェニル基を側鎖に有する重合体(バインダーポリマー)〕
本発明において、バインダーポリマーとして用いられる、ビニル基が置換したフェニル基を側鎖に有する重合体(以下、適宜、特定重合体と称する。)とは、ビニル基が置換したフェニル基が直接若しくは連結基を介して主鎖と結合したものである。該連結基としては、特に限定されず、任意の基、原子、又はそれらの複合した基が挙げられる。また、前記フェニル基は、当該ビニル基の他に、置換可能な基若しくは原子で置換されていてもよく、かかる置換可能な基若しくは原子としては、具体的には、ハロゲン原子、カルボキシ基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、アミド基、アミノ基、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基などが挙げられる。更に、前記ビニル基は、ハロゲン原子、カルボキシ基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、アミド基、アミノ基、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基等で置換されていてもよい。
上記した、ビニル基が置換したフェニル基を側鎖に有する重合体とは、更に詳細には、下記一般式(2)で表される基を側鎖に有する重合体である。
[(B) Polymer having phenyl group substituted by vinyl group in side chain (binder polymer)]
In the present invention, a polymer having a phenyl group substituted with a vinyl group in a side chain used as a binder polymer (hereinafter, appropriately referred to as a specific polymer) is a phenyl group substituted with a vinyl group directly or linked. It is bonded to the main chain through a group. The linking group is not particularly limited, and includes an arbitrary group, an atom, or a complex group thereof. In addition to the vinyl group, the phenyl group may be substituted with a substitutable group or atom. Specific examples of the substitutable group or atom include a halogen atom, a carboxy group, and a sulfo group. Group, nitro group, cyano group, amide group, amino group, alkyl group, aryl group, alkoxy group, aryloxy group and the like. Furthermore, the vinyl group may be substituted with a halogen atom, a carboxy group, a sulfo group, a nitro group, a cyano group, an amide group, an amino group, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, or the like.
The polymer having a phenyl group substituted with a vinyl group in the side chain is more specifically a polymer having a group represented by the following general formula (2) in the side chain.

Figure 2005099285
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一般式(2)中、Z1は連結基を表し、R1、R2、及びR3は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシ基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、アミド基、アミノ基、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基等を表し、更にこれらの基は、アルキル基、アミノ基、アリール基、アルケニル基、カルボキシ基、スルホ基、ヒドロキシ基等で置換されていてもよい。R4は置換可能な基又は原子を表す。nは0又は1を表し、m1は0〜4の整数を表し、k1は1〜4の整数を表す。 In general formula (2), Z 1 represents a linking group, and R 1 , R 2 , and R 3 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a carboxy group, a sulfo group, a nitro group, a cyano group, or an amide group. Represents an amino group, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, and the like, and these groups are substituted with an alkyl group, an amino group, an aryl group, an alkenyl group, a carboxy group, a sulfo group, a hydroxy group, and the like. It may be. R 4 represents a substitutable group or atom. n represents 0 or 1, m 1 represents an integer of 0 to 4, and k 1 represents an integer of 1 to 4.

一般式(2)で表される基について更に詳細に説明する。Z1で表される連結基としては、酸素原子、硫黄原子、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、−N(R5)−、−C(O)−O−、−C(R6)=N−、−C(O)−、スルホニル基、下記に示す基、及び複素環構造等の単独若しくは2以上が複合した基が挙げられる。ここでR5及びR6は、水素原子、アルキル基、アリール基等を表す。更に、上記した連結基は、更に、アルキル基、アリール基、ハロゲン原子等の置換基を有していてもよい。 The group represented by the general formula (2) will be described in more detail. As the linking group represented by Z 1 , an oxygen atom, a sulfur atom, an alkylene group, an alkenylene group, an arylene group, —N (R 5 ) —, —C (O) —O—, —C (R 6 ) = Examples thereof include N-, -C (O)-, a sulfonyl group, groups shown below, a heterocyclic structure, or a group in which two or more are combined. Here, R 5 and R 6 represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or the like. Furthermore, the above linking group may further have a substituent such as an alkyl group, an aryl group, or a halogen atom.

Figure 2005099285
Figure 2005099285

1で表される連結基を構成する複素環構造としては、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、テトラゾール環、イソオキサゾール環、オキサゾール環、オキサジアゾール環、イソチアゾール環、チアゾール環、チアジアゾール環、チアトリアゾール環、インドール環、インダゾール環、ベンズイミダゾール環、ベンゾトリアゾール環、ベンズオキサゾール環、ベンズチアゾール環、ベンズセレナゾール環、ベンゾチアジアゾール環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、トリアジン環、キノリン環、キノキサリン環等の含窒素複素環、フラン環、チオフェン環等が挙げられ、これらの複素環構造は更に、アルキル基、アミノ基、アリール基、アルケニル基、カルボキシ基、スルホ基、ヒドロキシ基等の置換基を有していてもよい。 The heterocyclic structure constituting the linking group represented by Z 1 includes pyrrole ring, pyrazole ring, imidazole ring, triazole ring, tetrazole ring, isoxazole ring, oxazole ring, oxadiazole ring, isothiazole ring, thiazole ring , Thiadiazole ring, thiatriazole ring, indole ring, indazole ring, benzimidazole ring, benzotriazole ring, benzoxazole ring, benzthiazole ring, benzselenazole ring, benzothiadiazole ring, pyridine ring, pyridazine ring, pyrimidine ring, pyrazine ring , Triazine ring, quinoline ring, quinoxaline ring and the like nitrogen-containing heterocycle, furan ring, thiophene ring, etc., and these heterocyclic structures further include alkyl groups, amino groups, aryl groups, alkenyl groups, carboxy groups, sulfo groups. Group, hydroxy It may have a substituent like.

また、R4で表される置換可能な基又は原子としては、ハロゲン原子、カルボキシ基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、アミド基、アミノ基、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基が挙げられ、更に、これらの基又は原子は、アルキル基、アミノ基、アリール基、アルケニル基、カルボキシ基、スルホ基、ヒドロキシ基等の置換基を有していてもよい。 Examples of the substitutable group or atom represented by R 4 include a halogen atom, a carboxy group, a sulfo group, a nitro group, a cyano group, an amide group, an amino group, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, and an aryloxy group. Furthermore, these groups or atoms may have a substituent such as an alkyl group, an amino group, an aryl group, an alkenyl group, a carboxy group, a sulfo group, or a hydroxy group.

下記一般式(2)で表される基の具体例(K−1)〜(K−20)を以下に示すが、これらの具体例に限定されるものではない。   Specific examples (K-1) to (K-20) of groups represented by the following general formula (2) are shown below, but are not limited to these specific examples.

Figure 2005099285
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Figure 2005099285
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上記一般式(2)で表される基の中でも、下記に示す構造を有するものが好ましい。即ち、一般式(2)におけるR1及びR2が水素原子で、R3が水素原子若しくは炭素数4以下の低級アルキル基(メチル基、エチル基等)であるものが好ましい。更に、Z1で表される連結基としては、複素環構造を含むものが好ましく、k1は1又は2であるものが好ましい。 Among the groups represented by the general formula (2), those having the following structure are preferable. That is, it is preferable that R 1 and R 2 in the general formula (2) are hydrogen atoms and R 3 is a hydrogen atom or a lower alkyl group having 4 or less carbon atoms (such as a methyl group or an ethyl group). Further, the linking group represented by Z 1 preferably includes a heterocyclic structure, and k 1 is preferably 1 or 2.

本発明における特定重合体は、アルカリ性水溶液に可溶性を有することが好ましい態様である。そのため、本発明における特定重合体は、ビニル基が置換したフェニル基(より詳細には、上記一般式(2)で表される基)を有するモノマーに加え、カルボキシル基含有モノマーを共重合成分として含む共重合体であることが特に好ましい。
この場合、共重合体組成におけるビニル基が置換したフェニル基(一般式(2)で表される基)を有するモノマーの割合としては、全組成100質量%中に対して、1質量%以上95質量%以下であることが好ましく、10質量%以上80質量%以下であることがより好ましく、20質量%以上70質量%以下であることが更に好ましい。これ以下の割合では、その導入の効果が認められない場合がある。また、95質量%以上含まれる場合においては、共重合体がアルカリ水溶液に溶解しない場合がある。
更に、共重合体中におけるカルボキシル基含有モノマーの割合は、同じく5質量%以上99質量%以下であることが好ましく、これ以下の割合では共重合体がアルカリ水溶液に溶解しない場合がある。
In a preferred embodiment, the specific polymer in the present invention is soluble in an alkaline aqueous solution. Therefore, the specific polymer in the present invention includes a monomer having a phenyl group substituted by a vinyl group (more specifically, a group represented by the above general formula (2)), and a carboxyl group-containing monomer as a copolymerization component. It is particularly preferable that it is a copolymer.
In this case, the proportion of the monomer having a phenyl group substituted with a vinyl group in the copolymer composition (group represented by the general formula (2)) is 1% by mass or more and 95% by mass with respect to 100% by mass of the total composition. The mass is preferably 10% by mass or less, more preferably 10% by mass or more and 80% by mass or less, and further preferably 20% by mass or more and 70% by mass or less. If the ratio is less than this, the introduction effect may not be recognized. Moreover, when 95 mass% or more is contained, a copolymer may not melt | dissolve in alkaline aqueous solution.
Furthermore, the ratio of the carboxyl group-containing monomer in the copolymer is preferably 5% by mass or more and 99% by mass or less, and the copolymer may not be dissolved in the alkaline aqueous solution at a ratio below this.

共重合成分として用いられるカルボキシル基含有モノマーとしては、アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸−2−カルボキシエチルエステル、メタクリル酸−2−カルボキシエチルエステル、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、マレイン酸モノアルキルエステル、フマル酸モノアルキルエステル、4−カルボキシスチレン等のような例が挙げられる。
また、本発明における特定重合体は、かかる特定共重合体を構成する共重合成分として、側鎖に安息香酸を含有するポリアセタール、カルボキシベンズアルデヒド変性ポリビニルアルコールなどを用いることにより、カルボキシル基を含有させてもよい。
Examples of the carboxyl group-containing monomer used as a copolymerization component include acrylic acid, methacrylic acid, acrylic acid-2-carboxyethyl ester, methacrylic acid-2-carboxyethyl ester, crotonic acid, maleic acid, fumaric acid, monoalkyl maleate Examples include esters, monoalkyl esters of fumaric acid, 4-carboxystyrene and the like.
Further, the specific polymer in the present invention contains a carboxyl group by using polyacetal containing benzoic acid in the side chain, carboxybenzaldehyde-modified polyvinyl alcohol, or the like as a copolymer component constituting the specific copolymer. Also good.

本発明におけるビニル基が置換したフェニル基を側鎖に有する重合体は、カルボキシル基を有するモノマー以外にも共重合体中に他のモノマー成分を導入して多元共重合体としてもよい。こうした場合に、共重合体中に組み込むことができ得るモノマーとしては、例えば、
スチレン、4−メチルスチレン、4−ヒドロキシスチレン、4−アセトキシスチレン、4−カルボキシスチレン、4−アミノスチレン、クロロメチルスチレン、4−メトキシスチレン等のスチレン誘導体;
メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸−2−エチルヘキシル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸ドデシル等のメタクリル酸アルキルエステル類;
メタクリル酸フェニル、メタクリル酸ベンジル等のメタクリル酸アリールエステル或いはメタクリル酸アルキルアリールエステル類;
メタクリル酸−2−ヒドロキシエチル、メタクリル酸−2−ヒドロキシプロピル、メタクリル酸メトキシジエチレングリコールモノエステル、メタクリル酸メトキシポリエチレングリコールモノエステル、メタクリル酸ポリプロピレングリコールモノエステル等のアルキレンオキシ基を有するメタクリル酸エステル類;
メタクリル酸−2−ジメチルアミノエチル、メタクリル酸−2−ジエチルアミノエチル等のアミノ基を含有するメタクリル酸エステル類;
これらのメタクリル酸エステル類に対応するアクリル酸エステル類;
The polymer having a phenyl group substituted with a vinyl group in the side chain in the present invention may be a multi-component copolymer by introducing other monomer components into the copolymer in addition to the monomer having a carboxyl group. In such a case, examples of the monomer that can be incorporated into the copolymer include:
Styrene derivatives such as styrene, 4-methylstyrene, 4-hydroxystyrene, 4-acetoxystyrene, 4-carboxystyrene, 4-aminostyrene, chloromethylstyrene, 4-methoxystyrene;
Alkyl methacrylates such as methyl methacrylate, ethyl methacrylate, butyl methacrylate, hexyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, dodecyl methacrylate;
Methacrylic acid aryl esters or alkyl methacrylate aryl esters such as phenyl methacrylate and benzyl methacrylate;
Methacrylic acid esters having an alkyleneoxy group such as methacrylic acid-2-hydroxyethyl, methacrylic acid-2-hydroxypropyl, methacrylic acid methoxydiethylene glycol monoester, methacrylic acid methoxypolyethylene glycol monoester, methacrylic acid polypropylene glycol monoester;
Methacrylic acid esters containing amino groups such as 2-dimethylaminoethyl methacrylate and 2-diethylaminoethyl methacrylate;
Acrylic esters corresponding to these methacrylic esters;

ビニルホスホン酸等のリン酸基を有するモノマー類;
アリルアミン、ジアリルアミン等のアミノ基を有するモノマー類;
ビニルスルホン酸及びその塩、アリルスルホン酸及びその塩、メタリルスルホン酸及びその塩、スチレンスルホン酸及びその塩、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸及びその塩等のスルホン酸基を有するモノマー類;
4−ビニルピリジン、2−ビニルピリジン、N−ビニルイミダゾール、N−ビニルカルバゾール等の含窒素複素環を有するモノマー類;
4−ビニルベンジルトリメチルアンモニウムクロライド、アクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウムクロライド、メタクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウムクロライド、ジメチルアミノプロピルアクリルアミドのメチルクロライドによる4級化物、N−ビニルイミダゾールのメチルクロライドによる4級化物、4−ビニルベンジルピリジニウムクロライド等の4級アンモニウム塩基を有するモノマー類;
アクリルアミド、メタクリルアミド、ジメチルアクリルアミド、ジエチルアクリルアミド、N−イソプロピルアクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、N−メチロールアクリルアミド、N−メトキシエチルアクリルアミド、4−ヒドロキシフェニルアクリルアミド等のアクリルアミド若しくはメタクリルアミド誘導体;
アクリロニトリル、メタクリロニトリル、酢酸ビニル、クロロ酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、ステアリン酸ビニル、安息香酸ビニル等のビニルエステル類、
メチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル等のビニルエーテル類;
その他、フェニルマレイミド、ヒドロキシフェニルマレイミド、N−ビニルピロリドン、アクリロイルモルホリン、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、塩化ビニル、塩化ビニリデン、アリルアルコール、ビニルトリメトキシシラン、グリシジルメタクリレート等の各種モノマーを、適宜、使用することができる。
Monomers having a phosphate group such as vinylphosphonic acid;
Monomers having an amino group such as allylamine and diallylamine;
Monomers having a sulfonic acid group such as vinyl sulfonic acid and its salt, allyl sulfonic acid and its salt, methallyl sulfonic acid and its salt, styrene sulfonic acid and its salt, 2-acrylamido-2-methylpropane sulfonic acid and its salt Kind;
Monomers having a nitrogen-containing heterocycle such as 4-vinylpyridine, 2-vinylpyridine, N-vinylimidazole, N-vinylcarbazole;
4-vinylbenzyltrimethylammonium chloride, acryloyloxyethyltrimethylammonium chloride, methacryloyloxyethyltrimethylammonium chloride, quaternized product of dimethylaminopropylacrylamide with methyl chloride, quaternized product of N-vinylimidazole with methyl chloride, 4-vinylbenzyl Monomers having a quaternary ammonium base such as pyridinium chloride;
Acrylamide or methacrylamide derivatives such as acrylamide, methacrylamide, dimethylacrylamide, diethylacrylamide, N-isopropylacrylamide, diacetone acrylamide, N-methylolacrylamide, N-methoxyethylacrylamide, 4-hydroxyphenylacrylamide;
Vinyl esters such as acrylonitrile, methacrylonitrile, vinyl acetate, vinyl chloroacetate, vinyl propionate, vinyl butyrate, vinyl stearate, vinyl benzoate,
Vinyl ethers such as methyl vinyl ether and butyl vinyl ether;
In addition, various monomers such as phenylmaleimide, hydroxyphenylmaleimide, N-vinylpyrrolidone, acryloylmorpholine, tetrahydrofurfuryl methacrylate, vinyl chloride, vinylidene chloride, allyl alcohol, vinyltrimethoxysilane, glycidyl methacrylate can be used as appropriate. it can.

これらのモノマーの共重合体中に占める割合としては、先に述べた共重合体組成中における一般式(2)で表される基を有するモノマー及びカルボキシル基含有モノマーの好ましい割合が保たれている限りにおいて任意の割合で導入することができる。   As a ratio of these monomers in the copolymer, a preferable ratio of the monomer having the group represented by the general formula (2) and the carboxyl group-containing monomer in the copolymer composition described above is maintained. As long as it can be introduced at any ratio.

上記のような重合体の分子量については好ましい範囲が存在し、重量平均分子量で1000から100万の範囲であることが好ましく、更に1万から30万の範囲にあることが特に好ましい。   There is a preferred range for the molecular weight of the polymer as described above, and the weight average molecular weight is preferably in the range of 1,000 to 1,000,000, more preferably in the range of 10,000 to 300,000.

本発明に係る一般式(2)で表される基を側鎖に有する重合体の例(P−1)〜(P−13)を下記に示す。構造式中、数字は、共重合体の全組成100質量%中における各繰り返し単位の質量%を表す。   Examples (P-1) to (P-13) of polymers having a group represented by the general formula (2) according to the present invention in the side chain are shown below. In the structural formula, the number represents the mass% of each repeating unit in 100% by mass of the total composition of the copolymer.

Figure 2005099285
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Figure 2005099285
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本発明に使用されるバインダーポリマーとしての(B)特定重合体は、単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
これらバインダーポリマーは、画像部の強度(膜性、膜強度)や画像形成性の観点から、ネガ型記録層の全固形分に対し、10〜90質量%、好ましくは、20〜80質量%の割合で添加される。
また、本発明における(B)特定重合体は、効果を損なわない範囲において、従来公知の他のバインダーポリマーと混合して用いることもできる。
The (B) specific polymer as the binder polymer used in the present invention may be used alone or in combination of two or more.
These binder polymers are 10 to 90% by mass, preferably 20 to 80% by mass, based on the total solid content of the negative recording layer, from the viewpoint of image portion strength (film properties, film strength) and image formability. Added in proportions.
Moreover, the (B) specific polymer in this invention can also be mixed and used for the conventionally well-known other binder polymer in the range which does not impair an effect.

〔(C)ビニル基が置換したフェニル基を2個以上有するモノマー(重合性化合物)〕
本発明において、重合性化合物として用いられる、ビニル基が置換したフェニル基を2個以上有するモノマー(以下、特定モノマーと称する。)は、前述した(A)ラジカル発生剤より発生するラジカルにより生成するスチリルラジカル同士の再結合により効果的に架橋を行うため、高感度で加熱処理を必要としないネガ型記録層を作成することができる。
本発明における特定モノマーは、代表的には、下記一般式(3)で表される化合物である。
[(C) Monomer having two or more phenyl groups substituted with vinyl groups (polymerizable compound)]
In the present invention, a monomer having two or more phenyl groups substituted with vinyl groups (hereinafter referred to as a specific monomer) used as a polymerizable compound is generated by radicals generated from the aforementioned (A) radical generator. Since crosslinking is effectively performed by recombination of styryl radicals, a negative recording layer that is highly sensitive and does not require heat treatment can be produced.
The specific monomer in the present invention is typically a compound represented by the following general formula (3).

Figure 2005099285
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一般式(3)中、Z2は連結基を表し、R21、R22及びR23は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシ基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、アミド基、アミノ基、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基等であり、更にこれらの基は、アルキル基、アミノ基、アリール基、アルケニル基、カルボキシ基、スルホ基、ヒドロキシ基等で置換されていてもよい。R24は置換可能な基又は原子を表す。m2は0〜4の整数を表し、k2は2以上の整数を表す。 In the general formula (3), Z 2 represents a linking group, and R 21 , R 22 and R 23 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a carboxy group, a sulfo group, a nitro group, a cyano group, an amide group, An amino group, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, and the like, and these groups are further substituted with an alkyl group, an amino group, an aryl group, an alkenyl group, a carboxy group, a sulfo group, a hydroxy group, and the like. May be. R 24 represents a substitutable group or atom. m 2 represents an integer of 0 to 4, and k 2 represents an integer of 2 or more.

一般式(3)で表される化合物について更に詳細に説明する。Z2の連結基としては、酸素原子、硫黄原子、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、−N(R5)−、−C(O)−O−、−C(R6)=N−、−C(O)−、スルホニル基、複素環構造、及びベンゼン環構造等の単独若しくは2以上が複合した基が挙げられる。ここでR5及びR6は、水素原子、アルキル基、アリール基等を表す。更に、上記した連結基には、アルキル基、アリール基、ハロゲン原子等の置換基を有していてもよい。 The compound represented by the general formula (3) will be described in more detail. As the linking group for Z 2 , an oxygen atom, a sulfur atom, an alkylene group, an alkenylene group, an arylene group, —N (R 5 ) —, —C (O) —O—, —C (R 6 ) ═N—, Examples include —C (O) —, a sulfonyl group, a heterocyclic structure, a benzene ring structure, or a group in which two or more are combined. Here, R 5 and R 6 represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or the like. Furthermore, the above-described linking group may have a substituent such as an alkyl group, an aryl group, or a halogen atom.

2で表される連結基を構成する複素環構造としては、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、テトラゾール環、イソオキサゾール環、オキサゾール環、オキサジアゾール環、イソチアゾール環、チアゾール環、チアジアゾール環、チアトリアゾール環、インドール環、インダゾール環、ベンズイミダゾール環、ベンゾトリアゾール環、ベンズオキサゾール環、ベンズチアゾール環、ベンズセレナゾール環、ベンゾチアジアゾール環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、トリアジン環、キノリン環、キノキサリン環等の含窒素複素環、フラン環、チオフェン環等が挙げられ、これらの複素環構造は更に、アルキル基、アミノ基、アリール基、アルケニル基、カルボキシ基、スルホ基、ヒドロキシ基等の置換基を有していてもよい。 The heterocyclic structure constituting the linking group represented by Z 2 includes pyrrole ring, pyrazole ring, imidazole ring, triazole ring, tetrazole ring, isoxazole ring, oxazole ring, oxadiazole ring, isothiazole ring, thiazole ring , Thiadiazole ring, thiatriazole ring, indole ring, indazole ring, benzimidazole ring, benzotriazole ring, benzoxazole ring, benzthiazole ring, benzselenazole ring, benzothiadiazole ring, pyridine ring, pyridazine ring, pyrimidine ring, pyrazine ring , Triazine ring, quinoline ring, quinoxaline ring-containing nitrogen-containing heterocycle, furan ring, thiophene ring, etc., and these heterocyclic structures are further alkyl groups, amino groups, aryl groups, alkenyl groups, carboxy groups, sulfo groups. Group, hydroxy It may have a substituent like.

また、R24で表される置換可能な基又は原子としては、ハロゲン原子、カルボキシ基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、アミド基、アミノ基、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基が挙げられ、更に、これらの基又は原子は、アルキル基、アミノ基、アリール基、アルケニル基、カルボキシ基、スルホ基、ヒドロキシ基等の置換基を有していてもよい。 Examples of the substitutable group or atom represented by R 24 include a halogen atom, a carboxy group, a sulfo group, a nitro group, a cyano group, an amide group, an amino group, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, and an aryloxy group. Furthermore, these groups or atoms may have a substituent such as an alkyl group, an amino group, an aryl group, an alkenyl group, a carboxy group, a sulfo group, or a hydroxy group.

上記一般式(3)で表される化合物の中でも、下記に示す構造を有するものが好ましい。即ち、一般式(3)におけるR21及びR22は水素原子で、R23は水素原子若しくは炭素数4以下の低級アルキル基(メチル基、エチル基等)で、k2は2〜10の整数である化合物が好ましい。
以下に一般式(3)で表される化合物の具体例(C−1)〜(C−11)を示すが、これらの具体例に限定されるものではない。
Among the compounds represented by the general formula (3), those having the structure shown below are preferable. That is, R 21 and R 22 in the general formula (3) are hydrogen atoms, R 23 is a hydrogen atom or a lower alkyl group having 4 or less carbon atoms (methyl group, ethyl group, etc.), and k 2 is an integer of 2-10. Is preferred.
Specific examples (C-1) to (C-11) of the compound represented by the general formula (3) are shown below, but are not limited to these specific examples.

Figure 2005099285
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Figure 2005099285
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Figure 2005099285
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本発明に使用される重合性化合物としての(C)特定モノマーは、単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
上記した特定モノマーの添加量は、上述した(B)ビニル基が置換したフェニル基を側鎖に有する重合体(バインダーポリマー)1質量部に対して、0.01質量部から10質量部の範囲で含まれることが好ましく、更に0.05質量部から1質量部の範囲で含まれることが特に好ましい。
また、本発明における(C)特定モノマーは、効果を損なわない範囲において、従来公知の他の重合性化合物と混合して用いることもできる。
The (C) specific monomer as a polymerizable compound used in the present invention may be used alone or in combination of two or more.
The amount of the specific monomer added is in the range of 0.01 to 10 parts by mass with respect to 1 part by mass of the polymer (binder polymer) having the phenyl group substituted with the vinyl group (B) described above in the side chain. It is preferable that it is contained in the range of 0.05 to 1 part by mass.
Moreover, the (C) specific monomer in this invention can also be used by mixing with other conventionally well-known polymerizable compounds in the range which does not impair an effect.

〔(D)赤外線吸収剤〕
本発明に用いられる赤外線吸収剤は、吸収した赤外線を熱に変換する機能及び励起電子を発生する機能を有している。赤外線吸収剤が光を吸収した際、前述した(A)ラジカル発生剤が分解し、ラジカルを発生する。
本発明において使用される赤外線吸収剤は、波長760nmから1200nmに吸収極大を有する染料又は顔料である。
[(D) Infrared absorber]
The infrared absorbent used in the present invention has a function of converting absorbed infrared light into heat and a function of generating excited electrons. When the infrared absorber absorbs light, the radical generator (A) described above is decomposed to generate radicals.
The infrared absorber used in the present invention is a dye or pigment having an absorption maximum at a wavelength of 760 nm to 1200 nm.

染料としては、市販の染料及び例えば「染料便覧」(有機合成化学協会編集、昭和45年刊)等の文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体等の染料が挙げられる。   As the dye, commercially available dyes and known dyes described in documents such as “Dye Handbook” (edited by the Society for Synthetic Organic Chemistry, published in 1970) can be used. Specifically, dyes such as azo dyes, metal complex azo dyes, pyrazolone azo dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinoneimine dyes, methine dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, metal thiolate complexes, etc. Is mentioned.

好ましい染料としては、例えば、特開昭58−125246号、特開昭59−84356号、特開昭59−202829号、特開昭60−78787号等に記載されているシアニン染料、特開昭58−173696号、特開昭58−181690号、特開昭58−194595号等に記載されているメチン染料、特開昭58−112793号、特開昭58−224793号、特開昭59−48187号、特開昭59−73996号、特開昭60−52940号、特開昭60−63744号等に記載されているナフトキノン染料、特開昭58−112792号等に記載されているスクワリリウム色素、英国特許434,875号記載のシアニン染料等を挙げることができる。   Preferred dyes include, for example, cyanine dyes described in JP-A-58-125246, JP-A-59-84356, JP-A-59-202829, JP-A-60-78787, and the like. Methine dyes described in JP-A-58-173696, JP-A-58-181690, JP-A-58-194595, JP-A-58-112793, JP-A-58-224793, JP-A-59- 48187, JP-A-59-73996, JP-A-60-52940, JP-A-60-63744, etc., naphthoquinone dyes, JP-A-58-112792, etc. And cyanine dyes described in British Patent 434,875.

また、米国特許第5,156,938号記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特許第3,881,924号記載の置換されたアリールベンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−142645号(米国特許第4,327,169号)記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭58−181051号、同58−220143号、同59−41363号、同59−84248号、同59−84249号、同59−146063号、同59−146061号に記載されているピリリウム系化合物、特開昭59−216146号記載のシアニン色素、米国特許第4,283,475号に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平5−13514号、同5−19702号に開示されているピリリウム化合物も好ましく用いられる。また、染料として好ましい別の例として、米国特許第4,756,993号明細書中に式(I)、(II)として記載されている近赤外吸収染料を挙げることができる。   Also, a near infrared absorption sensitizer described in US Pat. No. 5,156,938 is preferably used, and a substituted arylbenzo (thio) pyrylium salt described in US Pat. No. 3,881,924, Trimethine thiapyrylium salts described in JP-A-57-142645 (US Pat. No. 4,327,169), JP-A-58-181051, 58-220143, 59-41363, 59-84248 Nos. 59-84249, 59-146063, 59-146061, pyranlium compounds, cyanine dyes described in JP-A-59-216146, US Pat. No. 4,283,475 The pentamethine thiopyrylium salts described above and the pyrylium compounds disclosed in Japanese Patent Publication Nos. 5-13514 and 5-19702 are also preferably used. . Moreover, as another example preferable as a dye, the near-infrared absorptive dye described as the formula (I) and (II) in US Patent 4,756,993 can be mentioned.

好ましく用いられる赤外線吸収剤としての染料の具体例(S−1)〜(S−14)を以下に示すが、これらに限定されるものではない。   Specific examples (S-1) to (S-14) of dyes as infrared absorbers preferably used are shown below, but are not limited thereto.

Figure 2005099285
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Figure 2005099285
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Figure 2005099285
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また、ここで例示した赤外線吸収剤(カチオン性増感色素)の対アニオンを、前述したように、有機ホウ素アニオンに置換した赤外線吸収剤も同様に用いることができる。
これらの染料は、単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
赤外線吸収剤としての染料の含有量は、ネガ型記録層1m2当たり、3〜300mg程度が適当である。好ましくは10〜200mg/m2である。
In addition, as described above, an infrared absorber in which the counter anion of the infrared absorber (cationic sensitizing dye) exemplified here is substituted with an organic boron anion can also be used.
These dyes may be used alone or in combination of two or more.
The content of the dye as the infrared absorber is suitably about 3 to 300 mg per 1 m 2 of the negative recording layer. Preferably it is 10-200 mg / m < 2 >.

本発明において使用される顔料としては、市販の顔料及びカラーインデックス(C.I.)便覧、「最新顔料便覧」(日本顔料技術協会編、1977年刊)、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)、「印刷インキ技術」CMC出版、1984年刊)に記載されている顔料が利用できる。   Examples of the pigment used in the present invention include commercially available pigments and color index (CI) manual, “Latest Pigment Handbook” (edited by Japan Pigment Technology Association, published in 1977), “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1986), “Printing Ink Technology”, CMC Publishing, 1984) can be used.

顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレン及びペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用できる。これらの顔料のうち好ましいものはカーボンブラックである。   Examples of the pigment include black pigments, yellow pigments, orange pigments, brown pigments, red pigments, purple pigments, blue pigments, green pigments, fluorescent pigments, metal powder pigments, and other polymer-bonded dyes. Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensed azo pigments, chelate azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, isoindolinone pigments In addition, quinophthalone pigments, dyed lake pigments, azine pigments, nitroso pigments, nitro pigments, natural pigments, fluorescent pigments, inorganic pigments, carbon black, and the like can be used. Among these pigments, carbon black is preferable.

これら顔料は表面処理をせずに用いてもよく、表面処理を施して用いてもよい。表面処理の方法には、樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性剤を付着させる方法、反応性物質(例えば、シランカップリング剤、エポキシ化合物、ポリイソシアネート等)を顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表面処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」(幸書房)、「印刷インキ技術」(CMC出版、1984年刊)及び「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に記載されている。   These pigments may be used without surface treatment, or may be used after surface treatment. The surface treatment method includes a method of surface coating with a resin or wax, a method of attaching a surfactant, a method of bonding a reactive substance (eg, silane coupling agent, epoxy compound, polyisocyanate, etc.) to the pigment surface, etc. Can be considered. The above-mentioned surface treatment methods are described in “Characteristics and Applications of Metal Soap” (Shobobo), “Printing Ink Technology” (CMC Publishing, 1984) and “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1986). Yes.

顔料の粒径は0.01μm〜10μmの範囲にあることが好ましく、0.05μm〜1μmの範囲にあることが更に好ましく、特に0.1μm〜1μmの範囲にあることが好ましい。この好ましい粒径の範囲において、ネガ型記録層塗布液中における顔料の優れた分散安定性が得られ、また、均一なネガ型記録層が得られる。   The particle size of the pigment is preferably in the range of 0.01 μm to 10 μm, more preferably in the range of 0.05 μm to 1 μm, and particularly preferably in the range of 0.1 μm to 1 μm. Within this preferred particle size range, excellent dispersion stability of the pigment in the negative recording layer coating solution can be obtained, and a uniform negative recording layer can be obtained.

顔料を分散する方法としては、インク製造やトナー製造等に用いられる公知の分散技術が使用できる。分散機としては、超音波分散器、サンドミル、アトライター、パールミル、スーパーミル、ボールミル、インペラー、デスパーザー、KDミル、コロイドミル、ダイナトロン、3本ロールミル、加圧ニーダー等が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に記載されている。   As a method for dispersing the pigment, a known dispersion technique used in ink production, toner production, or the like can be used. Examples of the disperser include an ultrasonic disperser, a sand mill, an attritor, a pearl mill, a super mill, a ball mill, an impeller, a disperser, a KD mill, a colloid mill, a dynatron, a three-roll mill, and a pressure kneader. Details are described in "Latest Pigment Applied Technology" (CMC Publishing, 1986).

これらの赤外線吸収剤としての顔料は、ネガ型記録層中における均一性やネガ型記録層の耐久性の観点から、ネガ型記録層を構成する全固形分に対し0.01〜50質量%、好ましくは0.1〜10質量%、特に好ましくは0.1〜10質量%の割合で添加することができる。   From the viewpoint of uniformity in the negative recording layer and durability of the negative recording layer, the pigment as these infrared absorbers is 0.01 to 50% by mass with respect to the total solid content constituting the negative recording layer, Preferably it is 0.1-10 mass%, Most preferably, it can add in the ratio of 0.1-10 mass%.

本発明における平版印刷版原版のネガ型記録層には、以上の必須成分(A)〜(D)の他に、更にその用途、製造方法等に適したその他の成分を適宜添加することができる。以下、好ましいその他の成分に関し例示する。   In addition to the above essential components (A) to (D), the negative recording layer of the lithographic printing plate precursor according to the invention may further contain other components suitable for its use and production method. . Hereinafter, it illustrates about a preferable other component.

〔重合禁止剤〕
本発明におけるネガ型記録層においては、ネガ型記録層の製造中或いは保存中において、重合可能なエチレン性不飽和二重結合を有する化合物、即ち、(C)特定モノマー(重合性化合物)の不要な熱重合を阻止するために少量の熱重合禁止剤を添加することが望ましい。適当な熱重合禁止剤としてはハイドロキノン、p−メトキシフェノール、ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ピロガロール、t−ブチルカテコール、ベンゾキノン、4,4’−チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、N−ニトロソフェニルヒドロキシアミン第一セリウム塩等が挙げられる。熱重合禁止剤の添加量は、全組成物中の不揮発性成分の質量に対して約0.01質量%〜約5質量%が好ましい。
また必要に応じて、酸素による重合阻害を防止するためにベヘン酸やベヘン酸アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加して、塗布後の乾燥の過程でネガ型記録層の表面に偏在させてもよい。高級脂肪酸誘導体の添加量は、全組成物中の不揮発性成分に対して約0.5質量%〜約10質量%が好ましい。
(Polymerization inhibitor)
In the negative recording layer of the present invention, a compound having a polymerizable ethylenically unsaturated double bond, that is, (C) a specific monomer (polymerizable compound) is unnecessary during the production or storage of the negative recording layer. In order to prevent thermal polymerization, it is desirable to add a small amount of thermal polymerization inhibitor. Suitable thermal polymerization inhibitors include hydroquinone, p-methoxyphenol, di-t-butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone, 4,4'-thiobis (3-methyl-6-t-butylphenol ), 2,2′-methylenebis (4-methyl-6-tert-butylphenol), N-nitrosophenylhydroxyamine primary cerium salt and the like. The addition amount of the thermal polymerization inhibitor is preferably about 0.01% by mass to about 5% by mass with respect to the mass of the nonvolatile components in the entire composition.
In addition, if necessary, a higher fatty acid derivative such as behenic acid or behenamide is added to prevent polymerization inhibition by oxygen, and it is unevenly distributed on the surface of the negative recording layer during the drying process after coating. Also good. The addition amount of the higher fatty acid derivative is preferably about 0.5% by mass to about 10% by mass with respect to the nonvolatile components in the entire composition.

〔着色剤〕
更に、本発明におけるネガ型記録層には、その着色を目的として染料若しくは顔料を添加してもよい。これにより、印刷版としての、製版後の視認性や、画像濃度測定機適性といったいわゆる検版性を向上させることができる。着色剤としては、染料、顔料の使用が好ましい。具体例としては、例えば、フタロシアニン系顔料、アゾ系顔料、カーボンブラック、酸化チタンなどの顔料、エチルバイオレット、クリスタルバイオレット、アゾ系染料、アントラキノン系染料、シアニン系染料などの染料がある。着色剤としての染料及び顔料の添加量は全組成物中の不揮発性成分に対して約0.5質量%〜約5質量%が好ましい。染料の場合、対アニオンとしてハロゲンイオンを含まないものが好ましい。
[Colorant]
Further, a dye or pigment may be added to the negative recording layer in the present invention for the purpose of coloring. Thereby, so-called plate inspection properties such as visibility after plate making and suitability for an image density measuring machine as a printing plate can be improved. As the colorant, it is preferable to use a dye or a pigment. Specific examples include pigments such as phthalocyanine pigments, azo pigments, carbon black and titanium oxide, and dyes such as ethyl violet, crystal violet, azo dyes, anthraquinone dyes, and cyanine dyes. The addition amount of the dye and the pigment as the colorant is preferably about 0.5% by mass to about 5% by mass with respect to the non-volatile components in the entire composition. In the case of dyes, those containing no halogen ions as counter anions are preferred.

〔その他の添加剤〕
本発明における平版印刷版原版のネガ型記録層には更に目的に応じて、ホスフィン、ホスホネート、ホスファイト等の酸素除去剤や還元剤、退色防止剤、界面活性剤、可塑剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、防カビ剤、帯電防止剤やその他種々の特性を付与する添加剤を希釈溶剤等と混合して使用してもよい。
[Other additives]
In the negative recording layer of the lithographic printing plate precursor according to the invention, depending on the purpose, oxygen removing agent and reducing agent such as phosphine, phosphonate, phosphite, fading inhibitor, surfactant, plasticizer, antioxidant, Ultraviolet absorbers, fungicides, antistatic agents, and other additives that impart various characteristics may be mixed with a diluting solvent or the like.

また、硬化皮膜の物性を改良するための無機充填剤や、その他可塑剤、ネガ型記録層表面のインク着肉性を向上させ得る感脂化剤等の公知の添加剤を加えてもよい。
可塑剤としては、例えば、ジオクチルフタレート、ジドデシルフタレート、トリエチレングリコールジカプリレート、ジメチルグリコールフタレート、トリクレジルホスフェート、ジオクチルアジペート、ジブチルセバケート、トリアセチルグリセリン等があり、(B)特定重合体(バインダーポリマー)と(C)特定モノマーとの合計質量に対し、一般的に10質量%以下の範囲で添加することができる。
また、後述する膜強度(耐刷性)向上を目的とした、現像後の加熱・露光の効果を強化するために、UV開始剤や、熱架橋剤等の添加も行うことができる。
Moreover, you may add well-known additives, such as an inorganic filler for improving the physical property of a cured film, other plasticizers, and a fat-sensitizing agent which can improve the ink inking property of the negative type recording layer surface.
Examples of the plasticizer include dioctyl phthalate, didodecyl phthalate, triethylene glycol dicaprylate, dimethyl glycol phthalate, tricresyl phosphate, dioctyl adipate, dibutyl sebacate, triacetyl glycerin, and the like (B) specific polymer It can generally add in the range of 10 mass% or less with respect to the total mass of (binder polymer) and (C) specific monomer.
Further, in order to enhance the effect of heating / exposure after development for the purpose of improving the film strength (printing durability) described later, a UV initiator, a thermal crosslinking agent, or the like can also be added.

更に、重合を促進する目的で、アミンやチオール、ジスルフィド等に代表される重合促進剤や連鎖移動剤等を添加することができる。それらの具体例としては、例えば、N−フェニルグリシン、トリエタノールアミン、N,N−ジエチルアニリンなどが挙げられる。   Furthermore, for the purpose of accelerating the polymerization, a polymerization accelerator represented by amine, thiol, disulfide and the like, a chain transfer agent and the like can be added. Specific examples thereof include N-phenylglycine, triethanolamine, N, N-diethylaniline and the like.

本発明において、ネガ型記録層を塗設する際には、該ネガ型記録層成分を種々の有機溶剤に溶かして、後述する支持体又は中間層(下塗り層)上に塗布される。
ここで使用する溶媒としては、ジオキサン、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサン、酢酸エチル、エチレンジクロライド、テトラヒドロフラン、トルエン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、アセチルアセトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、3−メトキシプロパノール、メトキシメトキシエタノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、3−メトキシプロピルアセテート、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ−ブチロラクトン、乳酸メチル、乳酸エチルなどがある。これらの溶媒は、単独或いは混合して使用することができる。そして、塗布溶液中の固形分の濃度は、2〜50質量%が適当である。
In the present invention, when a negative recording layer is applied, the negative recording layer components are dissolved in various organic solvents and applied onto a support or intermediate layer (undercoat layer) described later.
Solvents used here include dioxane, acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexane, ethyl acetate, ethylene dichloride, tetrahydrofuran, toluene, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl. Ether, acetylacetone, cyclohexanone, diacetone alcohol, ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol ethyl ether acetate, ethylene glycol monoisopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether acetate, 3-methoxypropanol, methoxymethoxyethanol, diethylene glycol monomethyl Ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, 3-methoxypropyl acetate, N, N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, γ-butyrolactone, methyl lactate, Examples include ethyl lactate. These solvents can be used alone or in combination. The solid content in the coating solution is suitably 2 to 50% by mass.

前記ネガ型記録層の被覆量(厚さ)は、主に、ネガ型記録層の感度、現像性、露光膜の強度・耐刷性に影響し得るもので、用途に応じ適宜選択することが望ましい。
本発明の主要な目的である走査露光用平版印刷版原版としては、耐刷性、感度等の観点から、その被覆量は乾燥後の質量で約0.1〜約10g/m2の範囲が適当である。より好ましくは0.5〜5g/m2である。
The coating amount (thickness) of the negative recording layer mainly affects the sensitivity, developability, exposure film strength and printing durability of the negative recording layer, and can be appropriately selected according to the application. desirable.
The lithographic printing plate precursor for scanning exposure, which is the main object of the present invention, has a coating amount in the range of about 0.1 to about 10 g / m 2 in terms of mass after drying from the viewpoint of printing durability, sensitivity, and the like. Is appropriate. More preferably from 0.5 to 5 g / m 2.

(ネガ型記録層の物性)
なお、本発明におけるネガ型記録層の物性としては、pH10〜13.5のアルカリ現像液に対する未露光部の現像速度が80nm/sec以上、かつ、該アルカリ現像液の露光部における浸透速度が100nF/sec以下であることが好ましい。
なお、ここで、pH10〜13.5のアルカリ現像液による現像速度とは、ネガ型記録層の膜厚(m)を現像に要する時間(sec)で除した値であり、アルカリ現像液の浸透速度とは、導電性支持体上に前記ネガ型記録層を製膜し、現像液に浸漬した場合の静電容量(F)の変化速度を示す値である。
以下に、本発明における「アルカリ現像液に対する現像速度」及び「アルカリ現像液の浸透速度」の測定方法について詳細に説明する。
(Physical properties of negative recording layer)
The physical properties of the negative recording layer in the present invention are as follows: the developing speed of the unexposed area with respect to an alkaline developer having a pH of 10 to 13.5 is 80 nm / sec or more, and the penetration speed of the alkaline developer in the exposed area is 100 nF. / Sec or less is preferable.
Here, the development speed with an alkaline developer having a pH of 10 to 13.5 is a value obtained by dividing the film thickness (m) of the negative recording layer by the time (sec) required for development, and the penetration of the alkaline developer. The speed is a value indicating the change speed of the capacitance (F) when the negative recording layer is formed on a conductive support and immersed in a developer.
Hereinafter, a method for measuring “development speed with respect to an alkali developer” and “penetration speed of an alkali developer” in the present invention will be described in detail.

[アルカリ現像液に対する現像速度の測定]
ここで、ネガ型記録層のアルカリ現像液に対する現像速度とは、ネガ型記録層の膜厚(m)を現像に要する時間(sec)で除した値である。
本発明における現像速度の測定方法としては、図1に示すように、アルミニウム支持体上に未露光のネガ型記録層(図1中では感光層と表記)を備えたものをpH10〜13.5の範囲の一定のアルカリ現像液(30℃)中に浸漬し、ネガ型記録層の溶解挙動をDRM干渉波測定装置で調査した。図1に、ネガ型記録層の溶解挙動を測定するためのDRM干渉波測定装置の概略図を示す。本発明においては、640nmの光を用い干渉により膜厚の変化を検出した。現像挙動がネガ型記録層表面からの非膨潤的現像の場合、膜厚は現像時間に対して徐々に薄くなり、その厚みに応じた干渉波が得られる。また、膨潤的溶解(脱膜的溶解)の場合には、膜厚は現像液の浸透により変化するため、きれいな干渉波が得られない。
[Measurement of development speed for alkaline developer]
Here, the developing speed of the negative recording layer with respect to the alkaline developer is a value obtained by dividing the film thickness (m) of the negative recording layer by the time required for development (sec).
As a method for measuring the developing speed in the present invention, as shown in FIG. 1, a sample having an unexposed negative recording layer (indicated as a photosensitive layer in FIG. 1) on an aluminum support has a pH of 10 to 13.5. The film was immersed in a certain alkaline developer (30 ° C.) in the range of 1 to 3, and the dissolution behavior of the negative recording layer was examined with a DRM interference wave measuring apparatus. FIG. 1 shows a schematic diagram of a DRM interference wave measuring apparatus for measuring the dissolution behavior of a negative recording layer. In the present invention, a change in film thickness was detected by interference using light of 640 nm. When the development behavior is non-swelling development from the surface of the negative recording layer, the film thickness gradually decreases with respect to the development time, and an interference wave corresponding to the thickness is obtained. Further, in the case of swelling dissolution (film removal dissolution), the film thickness changes due to the penetration of the developer, so that a clean interference wave cannot be obtained.

この条件において測定を続け、ネガ型記録層が完全に除去され、膜厚が0となるまでの時間(現像完了時間)(s)と、ネガ型記録層の膜厚(μm)より、現像速度を以下の式により求めることができる。この現像速度が大きいものほど、現像液により容易に膜が除去され、現像性が良好であると判定する。
(未露光部の)現像速度=〔ネガ型記録層厚(μm)/記録完了時間(sec)〕
Measurement is continued under these conditions, and the development speed is calculated from the time (s) until the film thickness reaches zero (development completion time) (s) and the film thickness (μm) of the negative recording layer. Can be obtained by the following equation. It is determined that the higher the development speed, the easier the film is removed by the developer and the better the developability.
Development speed (in unexposed area) = [negative recording layer thickness (μm) / recording completion time (sec)]

[アルカリ現像液の浸透速度の測定]
また、アルカリ現像液の浸透速度とは、導電性支持体上に前記ネガ型記録層を製膜し、現像液に浸漬した場合の静電容量(F)の変化速度を示す値である。
本発明における浸透性の目安となる静電容量の測定方法としては、図2に示すように、pH10〜13.5の範囲の一定のアルカリ現像液(28℃)中にアルミニウム支持体上に所定の露光量にて露光を行ない、硬化したネガ型記録層(図2中では記録層と表記)を備えたものを一方の電極として浸漬し、アルミニウム支持体に導線をつなぎ、他方に通常の電極を用いて電圧を印加する方法が挙げられる。電圧を印加後、浸漬時間の経過に従って現像液が支持体とネガ型記録層との界面に浸透し、静電容量が変化する。
[Measurement of penetration rate of alkaline developer]
The permeation rate of the alkaline developer is a value indicating the change rate of the capacitance (F) when the negative recording layer is formed on a conductive support and immersed in the developer.
As shown in FIG. 2, a method for measuring the capacitance, which is a measure of permeability in the present invention, is a predetermined method on an aluminum support in a constant alkaline developer (28 ° C.) in the range of pH 10 to 13.5. Is exposed to an exposure amount of 1, and a hardened negative recording layer (indicated as a recording layer in FIG. 2) is immersed as one electrode, a lead wire is connected to an aluminum support, and the other is a normal electrode The method of applying a voltage using is mentioned. After the voltage is applied, the developer permeates the interface between the support and the negative recording layer as the immersion time elapses, and the capacitance changes.

この静電容量が変化するまでにかかる時間(s)と、ネガ型記録層の膜厚(μm)より以下の式により求めることができる。この浸透速度が小さいものほど、現像液の浸透性が低いと判定する。
(露光部の)現像液浸透速度=
〔ネガ型記録層厚(μm)/静電容量変化が一定になるまでに要する時間(s)〕
From the time (s) required until the capacitance changes and the film thickness (μm) of the negative recording layer, it can be obtained by the following equation. It is determined that the smaller the permeation rate, the lower the permeability of the developer.
Developer penetration rate (of exposed area) =
[Negative recording layer thickness (μm) / Time required for capacitance change to be constant (s)]

本発明におけるネガ型記録層の好ましい物性としては、上記測定によるpH10〜13.5のアルカリ現像液による未露光部の現像速度が、好ましくは80〜400nm/secであり、同様のアルカリ現像液のネガ型記録層に対する浸透速度は90nF/sec以下であることが好ましい。また、上記測定によるpH10〜13.5のアルカリ現像液による未露光部の現像速度が、更に好ましくは90〜200nm/secであり、同様のアルカリ現像液のネガ型記録層に対する浸透速度は80nF/sec以下であることが好ましい。現像速度の上限値、或いは、浸透速度の下限値には、特に制限はないが、両者のバランスを考慮するに、未露光部の現像速度は90〜200nm/secの範囲であることがより好ましく、アルカリ現像液のネガ型記録層に対する浸透速度は80nF/sec以下であることが好ましい。   As a preferable physical property of the negative recording layer in the present invention, the development rate of an unexposed portion with an alkaline developer having a pH of 10 to 13.5 according to the above measurement is preferably 80 to 400 nm / sec. The penetration rate with respect to the negative recording layer is preferably 90 nF / sec or less. Further, the development rate of the unexposed area with an alkaline developer having a pH of 10 to 13.5 as measured above is more preferably 90 to 200 nm / sec, and the penetration rate of the similar alkaline developer into the negative recording layer is 80 nF / It is preferable that it is sec or less. The upper limit of the development speed or the lower limit of the permeation speed is not particularly limited, but considering the balance between the two, the development speed of the unexposed area is more preferably in the range of 90 to 200 nm / sec. The permeation rate of the alkali developer into the negative recording layer is preferably 80 nF / sec or less.

ネガ型記録層の未露光部の現像速度や硬化後のネガ型記録層に対するアルカリ現像液の浸透速度の制御は、常法により行うことができるが、代表的なものとしては、未露光部の現像速度の向上には、親水性の化合物の添加が有用であり、露光部への現像液浸透抑制には、疎水性の化合物の添加する手段が有用である。
本発明において、上述の本発明に係るネガ型記録層を構成する各成分の含有量などを調整することで、ネガ型記録層の現像速度、現像液の浸透速度を上記の好ましい範囲に容易に制御することができる。また、本発明におけるネガ型記録層は、この物性値の範囲とすることが好ましい。
Control of the development speed of the unexposed portion of the negative recording layer and the penetration speed of the alkaline developer into the negative recording layer after curing can be performed by a conventional method. Addition of a hydrophilic compound is useful for improving the developing speed, and means for adding a hydrophobic compound is useful for suppressing the penetration of the developer into the exposed area.
In the present invention, by adjusting the content of each component constituting the negative recording layer according to the present invention described above, the development speed of the negative recording layer and the penetration speed of the developer can be easily within the above preferred ranges. Can be controlled. The negative recording layer in the present invention is preferably in the range of the physical property values.

[支持体]
本発明における平版印刷版原版の支持体としては、従来公知の、平版印刷版原版に使用される親水性支持体を限定無く使用することができる。
使用される支持体は寸度的に安定な板状物であることが好ましく、例えば、紙、プラスチック(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等)がラミネートされた紙、金属板(例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等)、プラスチックフィルム(例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等)、上記の如き金属がラミネート若しくは蒸着された紙若しくはプラスチックフィルム等が含まれ、これらの表面に対し、必要に応じ親水性の付与や、強度向上等の目的で、適切な公知の物理的、化学的処理を施してもよい。
[Support]
As the support for the lithographic printing plate precursor in the invention, a conventionally known hydrophilic support for use in the lithographic printing plate precursor can be used without limitation.
The support used is preferably a dimensionally stable plate, for example, paper, paper laminated with plastic (eg, polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.), metal plate (eg, aluminum, zinc). , Copper, etc.), plastic films (eg, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate, cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc.), Paper or plastic film, etc. on which such metals are laminated or vapor-deposited are included. Appropriately known physical and chemical treatments are applied to these surfaces for the purpose of imparting hydrophilicity and improving strength as necessary. You may give it.

特に、好ましい支持体としては、紙、ポリエステルフィルム又はアルミニウム板が挙げられ、その中でも寸法安定性がよく、比較的安価であり、必要に応じた表面処理により親水性や強度にすぐれた表面を提供できるアルミニウム板は更に好ましい。また、特公昭48−18327号公報に記載されているようなポリエチレンテレフタレートフィルム上にアルミニウムシートが結合された複合体シートも好ましい。   In particular, preferred supports include paper, polyester film or aluminum plate, among which dimensional stability is good, relatively inexpensive, and a surface with excellent hydrophilicity and strength is provided by surface treatment as required. An aluminum plate that can be formed is more preferable. A composite sheet in which an aluminum sheet is bonded on a polyethylene terephthalate film as described in Japanese Patent Publication No. 48-18327 is also preferable.

アルミニウム板とは、寸度的に安定なアルミニウムを主成分とする金属板であり、純アルミニウム板の他、アルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合金板、又はアルミニウム(合金)がラミネート若しくは蒸着されたプラスチックフィルム又は紙の中から選ばれる。以下の説明において、上記に挙げたアルミニウム又はアルミニウム合金からなる支持体をアルミニウム支持体と総称して用いる。前記アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタンなどがあり、合金中の異元素の含有量は10質量%以下である。本発明では純アルミニウム板が好適であるが、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、僅かに異元素を含有するものでもよい。このように本発明に適用されるアルミニウム板は、その組成が特定されるものではなく、従来より公知公用の素材のもの、例えば、JIS A 1050、JIS A 1100、JIS A 3103、JIS A 3005などを適宜利用することができる。   An aluminum plate is a metal plate mainly composed of dimensionally stable aluminum. In addition to a pure aluminum plate, an alloy plate containing aluminum as a main component and containing a trace amount of foreign elements, or aluminum (alloy) is laminated. Or it is chosen from the vapor-deposited plastic film or paper. In the following description, the above-mentioned support made of aluminum or an aluminum alloy is generically used as an aluminum support. Examples of the foreign element contained in the aluminum alloy include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, and titanium. The content of the foreign element in the alloy is 10% by mass or less. In the present invention, a pure aluminum plate is suitable, but since completely pure aluminum is difficult to manufacture in the refining technique, it may contain a slightly different element. Thus, the composition of the aluminum plate applied to the present invention is not specified, and it is a conventionally known material such as JIS A 1050, JIS A 1100, JIS A 3103, JIS A 3005, etc. Can be used as appropriate.

また、本発明に用いられるアルミニウム支持体の厚みは印刷機の大きさ、印刷版の大きさ及びユーザーの希望により適宜変更することができるが、取り扱い性やCTP露光装置内でのジャミングの発生などの観点から、0.25mm〜0.55mmが好ましく、0.3〜0.50mmがより好ましい。
更に、本発明に好適なアルミニウム支持体は、下記に示すような表面形状を有していることが好ましい。
Further, the thickness of the aluminum support used in the present invention can be appropriately changed depending on the size of the printing press, the size of the printing plate, and the user's request. However, handling properties, occurrence of jamming in the CTP exposure apparatus, etc. In view of the above, 0.25 mm to 0.55 mm is preferable, and 0.3 to 0.50 mm is more preferable.
Furthermore, the aluminum support suitable for the present invention preferably has a surface shape as shown below.

<アルミニウム支持体の表面形状>
本発明におけるアルミニウム支持体は、表面形状のファクターである、Ra、ΔS、a45が、それぞれ、下記条件(i)〜(iii)を満たすことをが好ましい。
(i) Ra:0.2〜0.40μm
(ii) ΔS:35〜85%
(iii) a45:25〜55%
ここで、Raは、表面粗さを表す。
ΔSは、近似三点法により求められる実面積Sxと、幾何学的測定面積S0とから、下記式により求められる。
ΔS(%)=(Sx−S0)/S0×100
a45は、波長0.2μm以上2μm以下の成分を抽出して得られる傾斜度45゜以上の部分の面積率を表す。
以下、これらの表面形状について詳細に説明する。
<Surface shape of aluminum support>
The aluminum support in the present invention preferably has Ra, ΔS, and a45, which are surface shape factors, satisfy the following conditions (i) to (iii), respectively.
(I) Ra: 0.2-0.40 μm
(Ii) ΔS: 35 to 85%
(Iii) a45: 25-55%
Here, Ra represents the surface roughness.
ΔS is obtained by the following equation from the actual area S x obtained by the approximate three-point method and the geometric measurement area S 0 .
ΔS (%) = (S x −S 0 ) / S 0 × 100
a45 represents an area ratio of a portion having an inclination of 45 ° or more obtained by extracting a component having a wavelength of 0.2 μm or more and 2 μm or less.
Hereinafter, these surface shapes will be described in detail.

(i)Raは表面粗さを表す。ここで、アルミニウム支持体の表面粗さ(Ra)とは、アルミニウム圧延方向に対し直角方向の中心線平均粗さ(算術平均粗さ)をいい、蝕針計で測定した粗さ曲線から、その中心線の方向に測定長さLの部分を抜き取り、この抜き取り部分の中心線をX軸、それに直交する軸をY軸として、粗さ曲線をY=f(X)で表したとき、下記式で与えられた値をμm単位で表したものである。(Lの決定及び平均粗さの計測はJIS B 0601に従う。)   (I) Ra represents the surface roughness. Here, the surface roughness (Ra) of the aluminum support means the centerline average roughness (arithmetic average roughness) in the direction perpendicular to the aluminum rolling direction. From the roughness curve measured with a stylus meter, When the portion of the measurement length L is extracted in the direction of the center line, the center line of the extracted portion is the X axis, and the axis perpendicular to the X axis is the Y axis, the roughness curve is expressed by Y = f (X). The value given by is expressed in μm. (The determination of L and the measurement of average roughness are in accordance with JIS B 0601.)

Figure 2005099285
Figure 2005099285

一般に保水性を向上させるには、表面粗さを大きくすることが有効であるが、表面粗さを大きくすると局所的に深い凹が生じ易くなり、深い凹部は現像不良の原因となるためポツ残膜が生じやすくなるため、Raは下記に示す範囲であることを要する。
即ち、本発明においては、Raは0.20〜0.40μmの範囲であることが好ましく、より好ましくは0.20〜0.35μmの範囲であり、更に好ましくは0.25〜0.35μmの範囲である。
In general, it is effective to increase the surface roughness in order to improve the water retention. However, if the surface roughness is increased, deep recesses are likely to occur locally. Since a film tends to be formed, Ra needs to be in the range shown below.
That is, in the present invention, Ra is preferably in the range of 0.20 to 0.40 μm, more preferably in the range of 0.20 to 0.35 μm, and still more preferably in the range of 0.25 to 0.35 μm. It is a range.

ΔSは、後に詳述するように、原子間力顕微鏡を用いて支持体表面の50×50μmを512×512点測定して求められる3次元データから、近似三点法により求められる実面積Sxと、幾何学的測定面積(見掛け面積)S0とから、下記式により求められる。
ΔS(%)=(Sx−S0)/S0×100
表面積比ΔSは、幾何学的測定面積S0に対する粗面化処理による実面積Sxの増加の程度を示すファクターである。
As will be described in detail later, ΔS is an actual area S x obtained by an approximate three-point method from three-dimensional data obtained by measuring 512 × 512 points of 50 × 50 μm of the support surface using an atomic force microscope. And the geometric measurement area (apparent area) S 0 is obtained by the following equation.
ΔS (%) = (S x −S 0 ) / S 0 × 100
The surface area ratio ΔS is a factor indicating the degree of increase in the actual area S x by the roughening process with respect to the geometric measurement area S 0 .

ΔSが大きくなると、ネガ型記録層との接触面積が大きくなり、結果として耐刷性を向上させることができるため、ΔSは下記に示す範囲であることをが好ましい。
即ち、本発明においては、ΔSは35〜85%の範囲であることが好ましく、より好ましくは40〜85%の範囲であり、更に好ましくは40〜80%の範囲である。
When ΔS increases, the contact area with the negative recording layer increases, and as a result, the printing durability can be improved. Therefore, ΔS is preferably in the range shown below.
That is, in the present invention, ΔS is preferably in the range of 35 to 85%, more preferably in the range of 40 to 85%, and still more preferably in the range of 40 to 80%.

a45は、後に詳述するように、原子間力顕微鏡を用いて支持体表面の50×50μmを512×512点測定して求められる3次元データから、波長0.2μm以上2μm以下の成分を抽出して得られる傾斜度45゜以上の部分の面積率を表す。
急峻度は、支持体表面の微細な形状のとがり具合を表すファクターである。具体的には、支持体表面の凹凸の中で、一定角度以上の大きさの傾斜を有する面積の実面積に対する割合を表す。
As described in detail later, a45 extracts components having a wavelength of 0.2 μm or more and 2 μm or less from three-dimensional data obtained by measuring 512 × 512 points of 50 × 50 μm of the support surface using an atomic force microscope. Represents the area ratio of the portion having the inclination of 45 ° or more.
The steepness is a factor representing the sharpness of the fine shape of the support surface. Specifically, it represents the ratio of the area having an inclination of a certain angle or more to the actual area in the unevenness of the support surface.

傾斜度45゜以上の斜面の面積率(急峻度)a45は、ネガ型記録層と支持体との密着性を優れたものとし、耐刷性を向上させるためには、より大きくするのが好ましい。一方、非画像部におけるインキの引っ掛かりを抑制し、耐汚れ性を向上させるためには、より小さくするのが好ましい。これらのことから、a45は下記の範囲であることが好ましい。
即ち、本発明においては、a45は25〜55%の範囲であることが好ましく、より好ましくは30〜55%の範囲であり、更に好ましくは30〜50%の範囲である。
The area ratio (steepness) a45 of the slope having an inclination of 45 ° or more is preferably increased in order to improve the adhesion between the negative recording layer and the support and to improve the printing durability. . On the other hand, in order to suppress ink catching in the non-image area and improve stain resistance, it is preferable to make it smaller. For these reasons, a45 is preferably in the following range.
That is, in this invention, it is preferable that a45 is 25 to 55% of range, More preferably, it is 30 to 55% of range, More preferably, it is 30 to 50% of range.

本発明におけるアルミニウム支持体において、ΔS、a45を求める方法は、以下の通りである。   In the aluminum support in the present invention, ΔS and a45 are determined as follows.

(1)原子間力顕微鏡による表面形状の測定
本発明においては、ΔS、a45を求めるために、まず、原子間力顕微鏡(Atomic Force Microscope:AFM)により表面形状を測定し、3次元データを求める。
測定は、例えば、以下の条件で行うことができる。即ち、アルミニウム支持体を1cm角の大きさに切り取って、ピエゾスキャナー上の水平な試料台にセットし、カンチレバーを試料表面にアプローチし、原子間力が働く領域に達したところで、XY方向にスキャンし、その際、試料の凹凸をZ方向のピエゾの変位でとらえる。ピエゾスキャナーは、XY方向について150μm、Z方向について10μm、走査可能なものを使用する。カンチレバーは共振周波数120〜150kHz、バネ定数12〜20N/mのもの(SI−DF20、NANOPROBE社製)を用い、DFMモード(Dynamic Force Mode)で測定する。また、求めた3次元データを最小二乗近似することにより試料のわずかな傾きを補正し基準面を求める。
計測の際は、表面の50×50μmを512×512点測定する。XY方向の分解能は1.9μm、Z方向の分解能は1nm、スキャン速度は60μm/secとする。
(1) Measurement of surface shape by atomic force microscope In the present invention, in order to obtain ΔS and a45, first, the surface shape is measured by an atomic force microscope (AFM) to obtain three-dimensional data. .
The measurement can be performed, for example, under the following conditions. That is, the aluminum support is cut to a size of 1 cm square, set on a horizontal sample stage on a piezo scanner, the cantilever is approached to the sample surface, and when it reaches the region where the atomic force works, it scans in the XY direction. At that time, the unevenness of the sample is captured by the displacement of the piezo in the Z direction. A piezo scanner that can scan 150 μm in the XY direction and 10 μm in the Z direction is used. A cantilever having a resonance frequency of 120 to 150 kHz and a spring constant of 12 to 20 N / m (SI-DF20, manufactured by NANOPROBE) is used for measurement in a DFM mode (Dynamic Force Mode). Further, the reference plane is obtained by correcting the slight inclination of the sample by approximating the obtained three-dimensional data by least squares.
At the time of measurement, the surface of 50 × 50 μm is measured at 512 × 512 points. The resolution in the XY direction is 1.9 μm, the resolution in the Z direction is 1 nm, and the scan speed is 60 μm / sec.

(2)3次元データの補正
ΔSの算出には、上記(1)で求められた3次元データをそのまま用いるが、a45の算出には、上記(1)で求められた3次元データから波長0.2μm以上2μm以下の成分を除去する補正をしたものを用いる。この補正により、平版印刷版原版に用いる支持体のような深い凹凸を有する表面をAFMの探針で走査した場合に、探針が凸部のエッジ部分に当たって跳ねたり、深い凹部の壁面に探針の尖端以外の部分が接触したりして生じるノイズを除去することができる。
補正は、上記(1)で求められた3次元データを高速フーリエ変換をして周波数分布を求め、次いで、波長0.2μm以上2μm以下の成分を除去した後、フーリエ逆変換をすることにより行う。
(2) Correction of three-dimensional data For the calculation of ΔS, the three-dimensional data obtained in the above (1) is used as it is, but for the calculation of a45, the wavelength 0 is calculated from the three-dimensional data obtained in the above (1). Use a correction that removes components of 2 μm to 2 μm. With this correction, when a surface having deep irregularities, such as a support used in a lithographic printing plate precursor, is scanned with an AFM probe, the probe bounces against the edge of the convex portion, or the probe touches the wall surface of the deep concave portion. It is possible to remove noise that occurs when a part other than the tip of the contacted part.
The correction is performed by performing a fast Fourier transform on the three-dimensional data obtained in (1) above to obtain a frequency distribution, removing components having wavelengths of 0.2 μm or more and 2 μm or less, and then performing an inverse Fourier transform. .

(3)各ファクターの算出
・ΔSの算出
上記(1)で求められた3次元データ(f(x,y))を用い、隣り合う3点を抽出し、その3点で形成される微小三角形の面積の総和を求め、実面積Sxとする。表面積比ΔSは、得られた実面積Sxと幾何学的測定面積S0とから、下記式により求められる。S0は幾何学的測定面積であり、S0=Lx×Lyで求められ、本発明においてはLx=Ly=50μmである。
ΔS(%)=(Sx−S0)/S0×100
(3) Calculation of each factor and calculation of ΔS Using the three-dimensional data (f (x, y)) obtained in (1) above, three adjacent points are extracted, and a micro triangle formed by the three points Is obtained as a real area S x . The surface area ratio ΔS is obtained from the obtained actual area S x and the geometric measurement area S 0 according to the following formula. S 0 is a geometric measurement area, which is determined by S 0 = L x × L y , and in the present invention, L x = L y = 50 μm.
ΔS (%) = (S x −S 0 ) / S 0 × 100

・a45の算出
上記(2)で補正して得られた3次元データ(f(x,y))を用い、隣り合う3点を抽出し、その3点で形成される微小三角形と基準面とのなす角を全データについて算出し、傾斜度分布曲線を求め、一方で、該微小三角形の面積の総和を求めて実面積とする。傾斜度分布曲線より、実面積に対する傾斜度45度以上の部分の面積の割合a45を算出する。
Calculation of a45 Using the three-dimensional data (f (x, y)) obtained by correcting in (2) above, three adjacent points are extracted, and a micro triangle formed by the three points and a reference plane Are calculated for all data to obtain a gradient distribution curve, and on the other hand, the sum of the areas of the small triangles is obtained as the actual area. From the gradient distribution curve, the area ratio a45 of the portion having a gradient of 45 degrees or more with respect to the actual area is calculated.

本発明において、上述した表面形状を有するアルミニウム支持体は、後述の表面処理が施されることで作製することができる。
以下、アルミニウム支持体に施される表面処理について説明する。
In this invention, the aluminum support body which has the surface shape mentioned above can be produced by performing the surface treatment mentioned later.
Hereinafter, the surface treatment applied to the aluminum support will be described.

(粗面化処理)
粗面化処理方法は、特開昭56−28893号公報に開示されているような機械的粗面化、化学的エッチング、電解グレインなどがある。更に、塩酸又は硝酸電解液中で電気化学的に粗面化する電気化学的粗面化方法、及び、アルミニウム表面を金属ワイヤーでひっかくワイヤーブラシグレイン法、研磨球と研磨剤でアルミニウム表面を砂目立でするポールグレイン法、ナイロンブラシと研磨剤で表面を粗面化するブラシグレイン法のような機械的粗面化法を用いることができ、上記粗面化方法を単独或いは組み合わせて用いることもできる。
その中でも粗面化に有用に使用される方法は、塩酸又は硝酸電解液中で化学的に粗面化する電気化学的方法であり、適する陽極時電気量は50C/dm2〜400C/dm2の範囲である。更に具体的には、0.1〜50%の塩酸又は硝酸を含む電解液中、温度20〜80℃、時間1秒〜30分、電流密度10A/dm2〜50A/dm2の条件で交流及び/又は直流電解を行うことが好ましい。
(Roughening treatment)
Examples of the roughening treatment method include mechanical roughening, chemical etching, and electrolytic grain as disclosed in JP-A-56-28893. Furthermore, an electrochemical surface roughening method in which the surface is electrochemically roughened in a hydrochloric acid or nitric acid electrolyte solution, a wire brush grain method in which the aluminum surface is scratched with a metal wire, and the aluminum surface is ground with a polishing ball and an abrasive. A mechanical surface roughening method such as a pole grain method, a brush grain method in which the surface is roughened with a nylon brush and an abrasive, can be used, and the above surface roughening methods can be used alone or in combination. it can.
Among them, a method usefully used for roughening is an electrochemical method in which roughening is chemically carried out in hydrochloric acid or nitric acid electrolyte, and a suitable amount of electricity during anode is 50 C / dm 2 to 400 C / dm 2. Range. More specifically, in an electrolytic solution containing 0.1 to 50% hydrochloric acid or nitric acid, the temperature is 20 to 80 ° C., the time is 1 second to 30 minutes, and the current density is 10 A / dm 2 to 50 A / dm 2. It is preferable to perform direct current electrolysis.

このように粗面化処理したアルミニウム支持体は、酸又はアルカリにより化学的にエッチングされてもよい。好適に用いられるエッチング剤は、苛性ソーダ、炭酸ソーダ、アルミン酸ソーダ、メタケイ酸ソーダ、リン酸ソーダ、水酸化カリウム、水酸化リチウム等であり、濃度と温度の好ましい範囲はそれぞれ1〜50%、20〜100℃である。エッチングのあと表面に残留する汚れ(スマット)を除去するために酸洗いが行われる。用いられる酸は硝酸、硫酸、リン酸、クロム酸、フッ酸、ホウフッ化水素酸等が用いられる。
特に電気化学的粗面化処理後のスマット除去処理方法としては、好ましくは特開昭53−12739号公報に記載されているような50〜90℃の温度の15〜65質量%の硫酸と接触させる方法及び特公昭48−28123号公報に記載されているアルカリエッチングする方法が挙げられる。
以上のように処理された後、処理面の表面形状のファクターである、Ra、ΔS、a45が、それぞれ、上記条件(i)〜(iii)を満たしていれば、特に方法条件はこれらに限定されない。
The roughened aluminum support may be chemically etched with acid or alkali. Etching agents suitably used are caustic soda, sodium carbonate, sodium aluminate, sodium metasilicate, sodium phosphate, potassium hydroxide, lithium hydroxide, and the like. Preferred ranges of concentration and temperature are 1 to 50% and 20%, respectively. ~ 100 ° C. Pickling is performed to remove dirt (smut) remaining on the surface after etching. As the acid used, nitric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, chromic acid, hydrofluoric acid, borohydrofluoric acid and the like are used.
In particular, as a method for removing smut after the electrochemical surface roughening treatment, contact with 15 to 65 mass% sulfuric acid at a temperature of 50 to 90 ° C. as described in JP-A-53-12739 is preferable. And the alkali etching method described in Japanese Patent Publication No. 48-28123.
After the treatment as described above, if Ra, ΔS, and a45, which are factors of the surface shape of the treated surface, satisfy the above conditions (i) to (iii), the method conditions are particularly limited to these. Not.

(陽極酸化処理)
以上のようにして処理され酸化物層を形成したアルミニウム支持体には、その後に陽極酸化処理がなされる。
陽極酸化処理は、硫酸、燐酸、シュウ酸若しくは硼酸/硼酸ナトリウムの水溶液が単独若しくは複数種類組み合わせて電解浴の主成分として用いられる。この際、電解液中に少なくともAl合金板、電極、水道水、地下水等に通常含まれる成分は勿論含まれても構わない。更には第2、第3成分が添加されていても構わない。ここでいう第2、3成分とは、例えば、Na、K、Mg、Li、Ca、Ti、Al、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn等の金属のイオンやアンモニウムイオン等に陽イオンや、硝酸イオン、炭酸イオン、塩素イオン、リン酸イオン、フッ素イオン、亜硫酸イオン、チタン酸イオン、ケイ酸イオン、硼酸イオン等の陰イオンが挙げられ、その濃度としては0〜10000ppm程度含まれてもよい。陽極酸化処理の条件は、処理によって作製される陽極酸化皮膜量が0.5〜10.0g/m2、より好ましくは1.0〜5.0g/m2の範囲であり、通常電解液の主成分となる酸の濃度は30〜500g/リットル、処理液温10〜70℃で、電流密度1〜40A/m2の範囲で直流又は交流電解によって処理されることが好ましい。
(Anodizing treatment)
The aluminum support that has been treated as described above to form an oxide layer is then anodized.
In the anodizing treatment, sulfuric acid, phosphoric acid, oxalic acid, or an aqueous solution of boric acid / sodium borate is used as a main component of the electrolytic bath singly or in combination. Under the present circumstances, the component normally contained in at least Al alloy plate, an electrode, tap water, groundwater, etc. may of course be contained in electrolyte solution. Further, the second and third components may be added. Here, the second and third components are, for example, metal ions such as Na, K, Mg, Li, Ca, Ti, Al, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, and Zn, and ammonium ions. Examples include cations, nitrate ions, carbonate ions, chloride ions, phosphate ions, fluorine ions, sulfite ions, titanate ions, silicate ions, borate ions and the like, and the concentration is 0 to 10,000 ppm. May be included. The conditions of the anodizing treatment are such that the amount of the anodized film produced by the treatment is 0.5 to 10.0 g / m 2 , more preferably 1.0 to 5.0 g / m 2 . The concentration of the acid as the main component is preferably 30 to 500 g / liter, the treatment liquid temperature is 10 to 70 ° C., and the treatment is performed by direct current or alternating current electrolysis in the range of a current density of 1 to 40 A / m 2 .

(親水化処理)
前記支持体表面の親水化処理としては、広く公知の方法が適用できる。特に好ましい処理としては、シリケート又はポリビニルホスホン酸等による親水化処理が施される。皮膜はSi又はP元素量として2〜40mg/m2、より好ましくは4〜30mg/m2で形成される。塗布量はケイ光X線分析法により測定できる。
(Hydrophilic treatment)
A widely known method can be applied as the hydrophilic treatment on the surface of the support. As a particularly preferable treatment, a hydrophilic treatment with silicate or polyvinylphosphonic acid is performed. A film | membrane is formed by 2-40 mg / m < 2 > as Si or P element amount, More preferably, it is 4-30 mg / m < 2 >. The coating amount can be measured by fluorescent X-ray analysis.

上記の親水化処理は、アルカリ金属ケイ酸塩、又はポリビニルホスホン酸が1〜30質量%、好ましくは2〜15質量%であり、25℃のpHが10〜13である水溶液に、陽極酸化皮膜が形成されたアルミニウム支持体を、例えば、15〜80℃で0.5〜120秒浸漬することにより実施される。   The hydrophilization treatment is carried out by applying an anodized film to an aqueous solution containing 1 to 30% by mass, preferably 2 to 15% by mass of alkali metal silicate or polyvinylphosphonic acid, and having a pH of 10 to 13 at 25 ° C. This is carried out by immersing the aluminum support on which is formed, for example, at 15 to 80 ° C. for 0.5 to 120 seconds.

前記親水化処理に用いられるアルカリ金属ケイ酸塩としては、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、ケイ酸リチウムなどが使用される。アルカリ金属ケイ酸塩水溶液のpHを高くするために使用される水酸化物としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウムなどがある。なお、上記の処理液にアルカリ土類金属塩若しくは第IVB族金属塩を配合してもよい。アルカリ土類金属塩としては、硝酸カルシウム、硝酸ストロンチウム、硝酸マグネシウム、硝酸バリウムのような硝酸塩や、硫酸塩、塩酸塩、リン酸塩、酢酸塩、シュウ酸塩、ホウ酸塩などの水溶性の塩が挙げられる。第IVB族金属塩としては、四塩化チタン、三塩化チタン、フッ化チタンカリウム、シュウ酸チタンカリウム、硫酸チタン、四ヨウ化チタン、塩化酸化ジルコニウム、二酸化ジルコニウム、オキシ塩化ジルコニウム、四塩化ジルコニウムなどを挙げることができる。   As the alkali metal silicate used for the hydrophilization treatment, sodium silicate, potassium silicate, lithium silicate, or the like is used. Examples of the hydroxide used for increasing the pH of the aqueous alkali metal silicate solution include sodium hydroxide, potassium hydroxide, and lithium hydroxide. In addition, you may mix | blend alkaline-earth metal salt or Group IVB metal salt with said process liquid. Alkaline earth metal salts include nitrates such as calcium nitrate, strontium nitrate, magnesium nitrate, and barium nitrate, and water-soluble substances such as sulfate, hydrochloride, phosphate, acetate, oxalate, and borate. Salt. Group IVB metal salts include titanium tetrachloride, titanium trichloride, potassium fluoride titanium, potassium oxalate, titanium sulfate, titanium tetraiodide, zirconium chloride, zirconium dioxide, zirconium oxychloride, zirconium tetrachloride, etc. Can be mentioned.

アルカリ土類金属塩又は第IVB族金属塩は、単独で使用してもよいし、2種以上組み合わせて使用することもできる。これらの金属塩の好ましい範囲は0.01〜10質量%であり、更に好ましい範囲は0.05〜5.0質量%である。また、米国特許第3,658,662号明細書に記載されているようなシリケート電着も有効である。
更に、特公昭46−27481号、特開昭52−58602号、特開昭52−30503号に開示されているような電解グレインを施した支持体と、上記陽極酸化処理及び親水化処理を組合せた表面処理も有用である。
Alkaline earth metal salts or Group IVB metal salts may be used alone or in combination of two or more. A preferable range of these metal salts is 0.01 to 10% by mass, and a more preferable range is 0.05 to 5.0% by mass. Silicate electrodeposition as described in US Pat. No. 3,658,662 is also effective.
Furthermore, a combination of a support with electrolytic grains as disclosed in JP-B-46-27481, JP-A-52-58602, and JP-A-52-30503 is combined with the above anodizing treatment and hydrophilization treatment. Surface treatment is also useful.

[中間層(下塗り層)]
本発明における平版印刷版原版には、ネガ型記録層と支持体との間の密着性や汚れ性を改善する目的で、中間層(下塗り層)を設けてもよい。このような中間層の具体例としては、特公昭50−7481号、特開昭54−72104号、特開昭59−101651号、特開昭60−149491号、特開昭60−232998号、特開平3−56177号、特開平4−282637号、特開平5−16558号、特開平5−246171号、特開平7−159983号、特開平7−314937号、特開平8−202025号、特開平8−320551号、特開平9−34104号、特開平9−236911号、特開平9−269593号、特開平10−69092号、特開平10−115931号、特開平10−161317号、特開平10−260536号、特開平10−282682号、特開平11−84674号、特願平8−225335号、特願平8−270098号、特願平9−195863号、特願平9−195864号、特願平9−89646号、特願平9−106068号、特願平9−183834号、特願平9−264311号、特願平9−127232号、特願平9−245419号、特願平10−127602号、特願平10−170202号、特願平11−36377号、特願平11−165861号、特願平11−284091号、特願2000−14697号等に記載のものを挙げることができる。
[Intermediate layer (undercoat layer)]
In the lithographic printing plate precursor according to the invention, an intermediate layer (undercoat layer) may be provided for the purpose of improving adhesion between the negative recording layer and the support and soiling. Specific examples of such an intermediate layer include JP-B-50-7481, JP-A-54-72104, JP-A-59-101651, JP-A-60-149491, JP-A-60-232998, JP-A-3-56177, JP-A-4-282737, JP-A-5-16558, JP-A-5-246171, JP-A-7-159983, JP-A-7-314937, JP-A-8-202025, Special Kaihei 8-320551, JP 9-34104, JP 9-236911, JP 9-269593, JP 10-69092, JP 10-115931, JP 10-161317, JP 10-260536, JP-A-10-282682, JP-A-11-84684, Japanese Patent Application No. 8-225335, Japanese Patent Application No. 8-270098, Japanese Patent Application No. 9-195863, Japanese Patent Application No. 9-195864, Japanese Patent Application No. 9-89646, Japanese Patent Application No. 9-106068, Japanese Patent Application No. 9-183834, Japanese Patent Application No. 9-264411, Japanese Patent Application No. 9 -127232, Japanese Patent Application No. 9-245419, Japanese Patent Application No. 10-127602, Japanese Patent Application No. 10-170202, Japanese Patent Application No. 11-36377, Japanese Patent Application No. 11-165661, Japanese Patent Application No. 11-284091 No., Japanese Patent Application No. 2000-14697, and the like.

[バックコート層]
本発明における平版印刷版原版には、支持体の裏面に、必要に応じて、バックコート層が設けられてもよい。かかるバックコート層としては、特開平5−45885号公報記載の有機高分子化合物及び特開平6−35174号公報記載の有機又は無機金属化合物を加水分解及び重縮合させて得られる金属酸化物からなる被覆層が好ましく用いられる。
これらの被覆層のうち、Si(OCH34、Si(OC254、Si(OC374、Si(OC494などの珪素のアルコキシ化合物が安価で入手し易く、それから与られる金属酸化物の被覆層が耐現像性に優れており特に好ましい。
[Back coat layer]
In the lithographic printing plate precursor according to the invention, a backcoat layer may be provided on the back surface of the support, if necessary. Such a back coat layer comprises a metal oxide obtained by hydrolysis and polycondensation of an organic polymer compound described in JP-A-5-45885 and an organic or inorganic metal compound described in JP-A-6-35174. A coating layer is preferably used.
Among these coating layers, silicon alkoxy compounds such as Si (OCH 3 ) 4 , Si (OC 2 H 5 ) 4 , Si (OC 3 H 7 ) 4 , and Si (OC 4 H 9 ) 4 are available at a low price. The coating layer of the metal oxide provided therefrom is particularly preferred because of its excellent development resistance.

<製版>
本発明における平版印刷版原版を製版するために、少なくとも、露光及び現像のプロセスが行われる。
本発明における平版印刷版原版を露光する光源としては、赤外線レーザーが好適なものとして挙げられ、また、紫外線ランプやサーマルヘッドによる熱的な記録も可能である。
中でも、本発明においては、波長750nmから1400nmの赤外線を放射する固体レーザー及び半導体レーザーにより画像露光されることが好ましい。レーザーの出力は100mW以上が好ましく、露光時間を短縮するため、マルチビームレーザデバイスを用いることが好ましい。また、1画素あたりの露光時間は20μ秒以内であることが好ましい。平版印刷版原版に照射されるエネルギーは10〜300mJ/cm2であることが好ましい。露光のエネルギーが低すぎるとネガ型記録層の硬化が十分に進行しない。また、露光のエネルギーが高すぎるとネガ型記録層がレーザーアブレーションされ、画像が損傷することがある。
<Plate making>
In order to make the lithographic printing plate precursor according to the invention, at least an exposure and development process is performed.
As a light source for exposing the lithographic printing plate precursor according to the invention, an infrared laser is preferable, and thermal recording with an ultraviolet lamp or a thermal head is also possible.
In particular, in the present invention, image exposure is preferably performed with a solid-state laser and a semiconductor laser that emit infrared rays having a wavelength of 750 nm to 1400 nm. The laser output is preferably 100 mW or more, and a multi-beam laser device is preferably used to shorten the exposure time. The exposure time per pixel is preferably within 20 μsec. The energy applied to the planographic printing plate precursor is preferably 10 to 300 mJ / cm 2 . If the exposure energy is too low, the curing of the negative recording layer does not proceed sufficiently. If the exposure energy is too high, the negative recording layer may be laser ablated and the image may be damaged.

本発明における露光は光源の光ビームをオーバーラップさせて露光することができる。オーバーラップとは副走査ピッチ幅がビーム径より小さいことをいう。オーバーラップは、例えば、ビーム径をビーム強度の半値幅(FWHM)で表わしたとき、FWHM/副走査ピッチ幅(オーバーラップ係数)で定量的に表現することができる。本発明ではこのオーバーラップ係数が0.1以上であることが好ましい。   The exposure in the present invention can be performed by overlapping the light beams of the light sources. Overlap means that the sub-scanning pitch width is smaller than the beam diameter. The overlap can be expressed quantitatively by FWHM / sub-scanning pitch width (overlap coefficient), for example, when the beam diameter is expressed by the half width (FWHM) of the beam intensity. In the present invention, the overlap coefficient is preferably 0.1 or more.

本発明に使用する露光装置の光源の走査方式は特に限定はなく、円筒外面走査方式、円筒内面走査方式、平面走査方式などを用いることができる。また、光源のチャンネルは単チャンネルでもマルチチャンネルでもよいが、円筒外面方式の場合にはマルチチャンネルが好ましく用いられる。   The scanning method of the light source of the exposure apparatus used in the present invention is not particularly limited, and a cylindrical outer surface scanning method, a cylindrical inner surface scanning method, a planar scanning method, or the like can be used. The channel of the light source may be a single channel or a multi-channel, but in the case of a cylindrical outer surface system, a multi-channel is preferably used.

本発明における平版印刷版原版は、露光された後、現像処理される。かかる現像処理に使用される現像液としては、pH14以下のアルカリ水溶液が特に好ましく、より好ましくはアニオン系界面活性剤を含有するpH8〜12のアルカリ水溶液が使用される。例えば、第三リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、第二リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、ホウ酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、水酸化ナトリウム、同アンモニウム、同カリウム及び同リチウムなどの無機アルカリ剤が挙げられる。また、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、n−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジンなどの有機アルカリ剤も用いられる。これらのアルカリ剤は、単独若しくは2種以上を組み合わせて用いられる。   The lithographic printing plate precursor according to the invention is developed after being exposed. As the developer used in such development processing, an alkaline aqueous solution having a pH of 14 or less is particularly preferred, and an alkaline aqueous solution having a pH of 8 to 12 containing an anionic surfactant is more preferably used. For example, tribasic sodium phosphate, potassium, ammonium, dibasic sodium phosphate, potassium, ammonium, sodium carbonate, potassium, ammonium, sodium bicarbonate, potassium, ammonium, sodium borate, Examples include inorganic alkaline agents such as potassium, ammonium, sodium hydroxide, ammonium, potassium and lithium. Moreover, monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanolamine, diisopropanolamine, Organic alkali agents such as ethyleneimine, ethylenediamine, and pyridine are also used. These alkali agents are used alone or in combination of two or more.

また、本発明における平版印刷版原版の現像処理においては、現像液中にアニオン界面活性剤1〜20質量%加えるが、より好ましくは、3〜10質量%で使用される。少なすぎると現像性が悪化し、多すぎると画像の耐摩耗性などの強度が劣化するなどの弊害が出る。アニオン界面活性剤としては、例えば、ラウリルアルコールサルフェートのナトリウム塩、ラウリルアルコールサルフェートのアンモニウム塩、オクチルアルコールサルフェートのナトリウム塩、例えば、イソプロピルナフタレンスルホン酸のナトリウム塩、イソブチルナフタレンスルホン酸のナトリウム塩、ポリオキシエチレングリコールモノナフチルエーテル硫酸エステルのナトリウム塩、ドデシルベンゼンスルホン酸のナトリウム塩、メタニトロベンゼンスルホン酸のナトリウム塩などのようなアルキルアリールスルホン酸塩、第2ナトリウムアルキルサルフェートなどの炭素数8〜22の高級アルコール硫酸エステル類、セチルアルコールリン酸エステルのナトリウム塩などの様な脂肪族アルコールリン酸エステル塩類、例えば、C1733CON(CH3)CH2CH2SO3Naなどのようなアルキルアミドのスルホン酸塩類、例えば、ナトリウムスルホコハク酸ジオクチルエステル、ナトリウムスルホコハク酸ジヘキシルエステルなどの二塩基性脂肪族エステルのスルホン酸塩類などが含まれる。 In the development processing of the lithographic printing plate precursor according to the invention, 1 to 20% by mass of an anionic surfactant is added to the developer, and more preferably 3 to 10% by mass. If the amount is too small, the developability deteriorates. If the amount is too large, the strength such as the abrasion resistance of the image deteriorates. Anionic surfactants include, for example, sodium salt of lauryl alcohol sulfate, ammonium salt of lauryl alcohol sulfate, sodium salt of octyl alcohol sulfate, such as sodium salt of isopropyl naphthalene sulfonic acid, sodium salt of isobutyl naphthalene sulfonic acid, polyoxy Higher carbon number such as sodium salt of ethylene glycol mononaphthyl ether sulfate ester, sodium salt of dodecylbenzene sulfonic acid, alkylaryl sulfonate such as sodium salt of metanitrobenzene sulfonic acid, secondary sodium alkyl sulfate, etc. Aliphatic alcohol phosphates such as alcohol sulfates, sodium salts of cetyl alcohol phosphates, eg C 17 H 33 CON (CH 3) CH 2 CH 2 SO 3 sulfonates of alkylamides such as Na, for example, sodium sulfosuccinate dioctyl ester, sulfonate of dibasic aliphatic esters such as sodium sulfosuccinate dihexyl ester Salts are included.

また、必要に応じてベンジルアルコール等の水と混合するような有機溶媒を現像液に加えてもよい。有機溶媒としては、水に対する溶解度が約10質量%以下のものが適しており、好ましくは5質量%以下のものから選ばれる。例えば、1−フェニルエタノール、2−フェニルエタノール、3−フェニルプロパノール、1,4−フェニルブタノール、2,2−フェニルブタノール、1,2−フェノキシエタノール、2−ベンジルオキシエタノール、o−メトキシベンジルアルコール、m−メトキシベンジルアルコール、p−メトキシベンジルアルコール、ベンジルアルコール、シクロヘキサノール、2−メチルシクロヘクサノール、4−メチルシクロヘクサノール及び3−メチルシクロヘクサノール等を挙げることができる。有機溶媒の含有量は、使用時の現像液の総質量に対して1〜5質量%が好適である。その使用量は界面活性剤の使用量と密接な関係があり、有機溶媒の量が増すにつれ、アニオン界面活性剤の量は増加させることが好ましい。これはアニオン界面活性剤の量が少ない状態で、有機溶媒の量を多く用いると有機溶媒が溶解せず、従って良好な現像性の確保が期待できなくなるからである。   Moreover, you may add the organic solvent which mixes with water, such as benzyl alcohol, to a developing solution as needed. As the organic solvent, those having a solubility in water of about 10% by mass or less are suitable, and preferably selected from those having 5% by mass or less. For example, 1-phenylethanol, 2-phenylethanol, 3-phenylpropanol, 1,4-phenylbutanol, 2,2-phenylbutanol, 1,2-phenoxyethanol, 2-benzyloxyethanol, o-methoxybenzyl alcohol, m -Methoxybenzyl alcohol, p-methoxybenzyl alcohol, benzyl alcohol, cyclohexanol, 2-methylcyclohexanol, 4-methylcyclohexanol, 3-methylcyclohexanol and the like can be mentioned. The content of the organic solvent is preferably 1 to 5% by mass with respect to the total mass of the developer at the time of use. The amount used is closely related to the amount of surfactant used, and it is preferable to increase the amount of anionic surfactant as the amount of organic solvent increases. This is because when the amount of the organic solvent is large and the amount of the anionic surfactant is small, the organic solvent is not dissolved, so that it is impossible to expect good developability.

また、更に必要に応じ、消泡剤及び硬水軟化剤のような添加剤を含有させることもできる。硬水軟化剤としては、例えば、Na227、Na533、Na339、Na24P(NaO3P)PO3Na2、カルゴン(ポリメタリン酸ナトリウム)などのポリリン酸塩、アミノポリカルボン酸類(例えば、エチレンジアミンテトラ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;ジエチレントリアミンペンタ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;トリエチレンテトラミンヘキサ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;ヒドロキシエチルエチレンジアミントリ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;ニトリロトリ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;1,2−ジアミノシクロヘキサンテトラ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;1,3−ジアミノ−2−プロパノールテトラ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩)、他のポリカルボン酸類(例えば、2−ホスホノブタントリカルボン酸−1,2,4、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;2一ホスホノブタノントリカルボン酸−2,3,4、そのカリウム塩、そのナトリウム塩など)、有機ホスホン酸類(例えば、1−ホスホノエタントリカルボン酸−1,2、2、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;1−ヒドロキシエタン−1,1−ジホスホン酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;アミノトリメチレンホスホン酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩など)を挙げることができる。このような硬水軟化剤の最適量は使用される硬水の硬度及びその使用量に応じて変化するが、一般的には、使用時の現像液中に0.01〜5質量%、より好ましくは0.01〜0.5質量%の範囲で含有させられる。 Furthermore, additives such as an antifoaming agent and a hard water softening agent can be further contained as necessary. Examples of the hard water softener include Na 2 P 2 O 7 , Na 5 P 3 O 3 , Na 3 P 3 O 9 , Na 2 O 4 P (NaO 3 P) PO 3 Na 2 , Calgon (sodium polymetaphosphate) Such as polyphosphates, aminopolycarboxylic acids (eg, ethylenediaminetetraacetic acid, its potassium salt, its sodium salt; diethylenetriaminepentaacetic acid, its potassium salt, its sodium salt; triethylenetetraminehexaacetic acid, its potassium salt, its sodium salt Hydroxyethylethylenediaminetriacetic acid, its potassium salt, its sodium salt; nitrilotriacetic acid, its potassium salt, its sodium salt; 1,2-diaminocyclohexanetetraacetic acid, its potassium salt, its sodium salt; 1,3-diamino-2 -Propanol tetraacetic acid, its potassium salt, Sodium salt), other polycarboxylic acids (for example, 2-phosphonobutanetricarboxylic acid-1,2,4, potassium salt thereof, sodium salt thereof; 2 monophosphonobutanone tricarboxylic acid-2,3,4, Potassium salt, sodium salt thereof, etc., organic phosphonic acids (eg, 1-phosphonoethanetricarboxylic acid-1,2,2, potassium salt, sodium salt thereof; 1-hydroxyethane-1,1-diphosphonic acid, Potassium salt, sodium salt thereof; aminotrimethylenephosphonic acid, potassium salt thereof, sodium salt thereof and the like. The optimum amount of such a hard water softener varies depending on the hardness of the hard water used and the amount used, but is generally 0.01 to 5% by weight, more preferably in the developer at the time of use. It is made to contain in 0.01-0.5 mass%.

更に、自動現像機を用いて、平版印刷版原版を現像する場合には、処理量に応じて現像液が疲労してくるので、補充液又は新鮮な現像液を用いて処理能力を回復させてもよい。この場合、米国特許第4,882,246号に記載されている方法で補充することが好ましい。また、特開昭50−26601号、同58−54341号、特公昭56−39464号、同56−42860号、同57−7427号の各公報に記載されている現像液も好ましい。   Furthermore, when developing a lithographic printing plate precursor using an automatic processor, the developer becomes fatigued according to the amount of processing, so that the processing capacity can be restored using a replenisher or fresh developer. Also good. In this case, it is preferable to replenish by the method described in US Pat. No. 4,882,246. Developers described in JP-A-50-26601, 58-54341, JP-B-56-39464, 56-42860, and 57-7427 are also preferable.

このようにして現像処理された平版印刷版原版は、特開昭54−8002号、同55−115045号、同59−58431号等の各公報に記載されているように、水洗水、界面活性剤等を含有するリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体等を含む不感脂化液で後処理されてもよい。本発明における平版印刷版原版の後処理にはこれらの処理を種々組み合わせて用いることができる。   The lithographic printing plate precursor thus developed is subjected to washing water, surface activity as described in JP-A Nos. 54-8002, 55-11545, 59-58431, and the like. It may be post-treated with a rinsing liquid containing an agent, a desensitizing liquid containing gum arabic, starch derivatives, and the like. In the post-treatment of the lithographic printing plate precursor according to the invention, these treatments can be used in various combinations.

本発明の平版印刷版原版の製版においては、画像強度・耐刷性の向上を目的として、現像後の画像に対し、全面後加熱、若しくは、全面露光を行うことが有効である。
現像後の加熱には非常に強い条件を利用することができるが、十分な画像強化作用が得られ、且つ、支持体や画像部における熱による損傷を抑制するといった観点から、通常は加熱温度が200〜500℃の範囲で実施される。
In the plate making of the lithographic printing plate precursor according to the present invention, it is effective to subject the image after development to full post-heating or full exposure for the purpose of improving image strength and printing durability.
Although extremely strong conditions can be used for heating after development, the heating temperature is usually set from the viewpoint of obtaining a sufficient image strengthening action and suppressing damage to the support and the image area due to heat. It implements in the range of 200-500 degreeC.

以上の処理によって得られた平版印刷版はオフセット印刷機に掛けられ、多数枚の印刷に用いられる。
なお、印刷に供された平版印刷版の汚れは、プレートクリーナーにより除去することができる。印刷時、版上の汚れ除去のため使用するプレートクリーナーとしては、従来より知られているPS版用プレートクリーナーが使用され、例えば、CL−1,CL−2,CP,CN−4,CN,CG−1,PC−1,SR,IC(富士写真フイルム株式会社製)等が挙げられる。
The planographic printing plate obtained by the above processing is loaded on an offset printing machine and used for printing a large number of sheets.
In addition, the stain | pollution | contamination of the lithographic printing plate used for printing can be removed with a plate cleaner. As plate cleaners used for removing stains on the plate during printing, conventionally known plate cleaners for PS plates are used. For example, CL-1, CL-2, CP, CN-4, CN, CG-1, PC-1, SR, IC (made by Fuji Photo Film Co., Ltd.), etc. are mentioned.

以下、本発明を以下の実施例に従って説明するが、本発明の範囲はこれらの実施例に限定されない。
まず、(B)ビニル基が置換したフェニル基を側鎖に有する重合体、及び、(C)ビニル基が置換したフェニル基を2個以上有するモノマーの代表的な化合物の合成例を以下に示す。
EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated according to the following examples, the scope of the present invention is not limited to these examples.
First, synthesis examples of (B) a polymer having a phenyl group substituted with a vinyl group in the side chain and (C) a monomer having two or more phenyl groups substituted with a vinyl group are shown below. .

[合成例1:(B)特定重合体(P−1)の合成例]
ビスムチオール(2,5−ジメルカプト−1,3−4−チアジアゾール)150gを600mlのメタノール中に懸濁させ、冷却しながらトリエチルアミン101gを徐々に添加し、均一な溶液を得た。室温下に保ちながらp−クロロメチルスチレン(セイミケミカル製、CMS−14)を10分に亘り滴下し、更に3時間攪拌を続けた。反応生成物が次第に析出し、攪拌後に氷浴に移し内温を10℃まで冷却した後、吸引濾過により生成物を分離した。メタノールにより洗浄を行い、真空乾燥器内で1昼夜乾燥することで収率75%で下記に示す化合物(モノマー)を得た。
[Synthesis Example 1: (B) Synthesis Example of Specific Polymer (P-1)]
150 g of bismuthiol (2,5-dimercapto-1,3-4-thiadiazole) was suspended in 600 ml of methanol, and 101 g of triethylamine was gradually added while cooling to obtain a uniform solution. While maintaining at room temperature, p-chloromethylstyrene (manufactured by Seimi Chemical Co., CMS-14) was added dropwise over 10 minutes, and stirring was further continued for 3 hours. The reaction product gradually precipitated. After stirring, the reaction product was transferred to an ice bath, the internal temperature was cooled to 10 ° C., and the product was separated by suction filtration. The compound (monomer) shown below was obtained with a yield of 75% by washing with methanol and drying for one day in a vacuum dryer.

Figure 2005099285
Figure 2005099285

上記のモノマー40gを、攪拌機、窒素導入管、温度計、還流冷却管を備えた1リッター4ツ口フラスコ内にとり、メタクリル酸70g及びエタノール200ml、蒸留水50mlを加え、攪拌しながら水浴上でトリエチルアミン110gを添加した。窒素雰囲気下で内温を70℃になるよう加熱し、この温度でアゾビスイソブチロニトリル(AIBN)を1g添加し、重合を開始した。6時間加熱攪拌を行い、その後重合系を室温まで冷却した。一部(を取り出し、希塩酸を加えてpHを3程度に調整し、これを水中にあけることで下記に示す構造の重合体(ポリマー)を得た。   Take 40 g of the above monomer in a 1-liter four-necked flask equipped with a stirrer, nitrogen inlet tube, thermometer, and reflux condenser, add 70 g of methacrylic acid, 200 ml of ethanol and 50 ml of distilled water, and stir on a water bath with stirring. 110 g was added. Under nitrogen atmosphere, the internal temperature was heated to 70 ° C., and 1 g of azobisisobutyronitrile (AIBN) was added at this temperature to initiate polymerization. The mixture was heated and stirred for 6 hours, and then the polymerization system was cooled to room temperature. A part of the sample was taken out, diluted hydrochloric acid was added to adjust the pH to about 3, and this was opened in water to obtain a polymer having the structure shown below.

Figure 2005099285
Figure 2005099285

上記の重合体の一部を取り出した残りの重合体溶液中に、1,4−ジオキサン100g及びp−クロロメチルスチレンを23g加え、室温で更に15時間攪拌を続けた。その後、濃塩酸(35〜37%水溶液)80〜90gを加え、系のpHが4以下になったことを確認後、3リッターの蒸留水中に全体を移した。析出した重合体を濾過により分離し、蒸留水にて洗浄を繰り返した後、真空乾燥器内で1昼夜乾燥した。これにより、収率90%で目的とする(B)特定重合体(P−1)を得た。ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによる分子量測定により、重量平均分子量9万(ポリスチレン換算)の重合体であり、更に、プロトンNMRによる解析により(B)特定重合体(P−1)の構造を支持するものであった。   100 g of 1,4-dioxane and 23 g of p-chloromethylstyrene were added to the remaining polymer solution from which a part of the polymer was taken out, and stirring was further continued at room temperature for 15 hours. Thereafter, 80 to 90 g of concentrated hydrochloric acid (35 to 37% aqueous solution) was added, and after confirming that the pH of the system was 4 or less, the whole was transferred into 3 liters of distilled water. The precipitated polymer was separated by filtration, washed repeatedly with distilled water, and then dried for one day in a vacuum dryer. Thereby, the target (B) specific polymer (P-1) was obtained with a yield of 90%. It is a polymer having a weight average molecular weight of 90,000 (polystyrene conversion) by molecular weight measurement by gel permeation chromatography, and further supports the structure of (B) specific polymer (P-1) by analysis by proton NMR. there were.

[合成例2:(C)特定モノマー(C−5)の合成例]
チオシアヌル酸89gをメタノール1.5リッターに懸濁し、冷却しながら水酸化カリウム84gを溶解した30%水溶液を徐々に加え、均一な溶液を得た。これに、室温下でp−クロロメチルスチレン230gを内温が40℃を越えないよう徐々に滴下した。添加後まもなく生成物が析出してくるが攪拌を続け、3時間攪拌を行った後に吸引濾過により生成物を分離した。メタノールにより洗浄を行い、真空乾燥器内で一昼夜乾燥を行った後、90%の収率で(C)特定モノマー(C−5)を得た。
[Synthesis Example 2: (C) Synthesis Example of Specific Monomer (C-5)]
A thirocyanuric acid 89g was suspended in 1.5 liters of methanol, and a 30% aqueous solution in which 84 g of potassium hydroxide was dissolved was gradually added while cooling to obtain a uniform solution. To this, 230 g of p-chloromethylstyrene was gradually added dropwise at room temperature so that the internal temperature did not exceed 40 ° C. Shortly after the addition, the product precipitated, but the stirring was continued, and after stirring for 3 hours, the product was separated by suction filtration. After washing with methanol and drying all day and night in a vacuum dryer, (C) the specific monomer (C-5) was obtained in a yield of 90%.

(実施例1〜5、比較例1〜4)
[支持体の作成]
下記表3に示される厚さを有し、幅1030mmのJIS A 1050アルミニウム板を用いて、以下に示す表面処理を行った。
(Examples 1-5, Comparative Examples 1-4)
[Create support]
The surface treatment shown below was performed using a JIS A 1050 aluminum plate having a thickness shown in Table 3 below and having a width of 1030 mm.

<表面処理>
表面処理は、以下の(a)〜(f)の各種処理を連続的に行った。なお、各処理及び水洗の後にはニップローラで液切りを行った。
<Surface treatment>
In the surface treatment, the following various treatments (a) to (f) were continuously performed. In addition, after each process and water washing, the liquid was drained with the nip roller.

(a)アルミニウム板を苛性ソーダ濃度26質量%、アルミニウムイオン濃度6.5質量%、温度70℃でエッチング処理を行い、アルミニウム板を5g/m2溶解した。その後水洗を行った。
(b)温度30℃の硝酸濃度1質量%水溶液(アルミニウムイオン0.5質量%含む)で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後水洗した。
(A) The aluminum plate was etched at a caustic soda concentration of 26 mass%, an aluminum ion concentration of 6.5 mass%, and a temperature of 70 ° C. to dissolve the aluminum plate at 5 g / m 2 . Thereafter, it was washed with water.
(B) A desmut treatment by spraying was performed with a 1% by mass aqueous solution of nitric acid having a temperature of 30 ° C. (including 0.5% by mass of aluminum ions), and then washed with water.

(c)60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。この時の電解液は、硝酸1質量%水溶液(アルミニウムイオン0.5質量%、アンモニウムイオン0.007質量%含む)、温度30℃であった。交流電源は電流値がゼロからピークに達するまでの時間TPが2msec、duty比1:1、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電流密度は電流のピーク値で25A/dm2、電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で250C/cm2であった。補助陽極には電源から流れる電流の5%を分流させた。その後水洗を行った。 (C) An electrochemical surface roughening treatment was continuously performed using an alternating voltage of 60 Hz. The electrolytic solution at this time was a 1% by mass aqueous nitric acid solution (including 0.5% by mass aluminum ions and 0.007% by mass ammonium ions) at a temperature of 30 ° C. The AC power source was subjected to an electrochemical surface roughening treatment using a carbon electrode as a counter electrode using a trapezoidal rectangular wave alternating current with a time TP of 2 msec until the current value reached a peak from zero and a duty ratio of 1: 1. Ferrite was used for the auxiliary anode. The current density was 25 A / dm 2 at the peak current value, and the amount of electricity was 250 C / cm 2 in terms of the total amount of electricity when the aluminum plate was the anode. 5% of the current flowing from the power source was shunted to the auxiliary anode. Thereafter, it was washed with water.

(d)アルミニウム板を苛性ソーダ濃度26質量%、アルミニウムイオン濃度6.5質量%でスプレーによるエッチング処理を35℃で行い、アルミニウム板を0.2g/m2溶解し、前段の交流を用いて電気化学的な粗面化を行ったときに生成した水酸化アルミニウムを主体とするスマット成分の除去と、生成したピットのエッジ部分を溶解し、エッジ部分を滑らかにした。その後水洗した。
(e)温度60℃の硫酸濃度25質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後スプレーによる水洗を行った。
(D) The aluminum plate was spray-etched at 35 ° C. with a caustic soda concentration of 26% by mass and an aluminum ion concentration of 6.5% by mass to dissolve the aluminum plate by 0.2 g / m 2 , The removal of the smut component mainly composed of aluminum hydroxide generated during chemical roughening and the edge portion of the generated pit were dissolved to smooth the edge portion. Thereafter, it was washed with water.
(E) A desmut treatment by spraying was performed with a 25% by weight aqueous solution of sulfuric acid having a temperature of 60 ° C. (containing 0.5% by weight of aluminum ions), and then washing with water by spraying.

(f)硫酸濃度170g/リットル(アルミニウムイオンを0.5質量%含む)、温度33℃、電流密度が5(A/dm2)で、50秒間陽極酸化処理を行った。その後水洗を行った。この時の陽極酸化皮膜質量が2.7g/m2であった。 (F) Anodization was performed for 50 seconds at a sulfuric acid concentration of 170 g / liter (containing 0.5 mass% of aluminum ions), a temperature of 33 ° C., and a current density of 5 (A / dm 2 ). Thereafter, it was washed with water. The mass of the anodic oxide film at this time was 2.7 g / m 2 .

このようにして得られたアルミニウム支持体の表面粗さRa、表面積比ΔS、急峻度a45は、それぞれ、Ra=0.27(測定機器;東京精密(株)製サーフコム、蝕針先端径2ミクロンメーター)、ΔS=75%、a45=44%(測定機器;セイコーインスツルメンツ社製SPA300/SPI3800N)であった。   The surface roughness Ra, surface area ratio ΔS, and steepness a45 of the aluminum support thus obtained were Ra = 0.27 (measuring instrument: Surfcom manufactured by Tokyo Seimitsu Co., Ltd., stylus tip diameter 2 microns), respectively. Meter), ΔS = 75%, a45 = 44% (measuring instrument: SPA300 / SPI3800N manufactured by Seiko Instruments Inc.).

[ネガ型記録層の形成]
次に、下記記録層塗布液を調整し、上記の表面処理を施したアルミニウム支持体に、乾燥後の厚みが1.4μmになるように塗布し、70℃の乾燥器内で5分間乾燥を行い、特定平版印刷版原版[CTP−1]〜[CTP−5]を得た。
[Formation of negative recording layer]
Next, the following recording layer coating solution is prepared, applied to the aluminum support subjected to the above surface treatment so that the thickness after drying becomes 1.4 μm, and dried in a dryer at 70 ° C. for 5 minutes. The specific lithographic printing plate precursors [CTP-1] to [CTP-5] were obtained.

<記録層塗布液>
・(A)ラジカル発生剤(BC−6) 2.5質量部
・(B)特定重合体(P−1) 10.0質量部
・(C)特定モノマー(C−5) 3.5質量部
・(D)赤外線吸収剤(S−4) 0.5質量部
・ジオキサン 70.0質量部
・シクロヘキサン 20.0質量部
<Recording layer coating solution>
-(A) Radical generator (BC-6) 2.5 parts by mass-(B) Specific polymer (P-1) 10.0 parts by mass-(C) Specific monomer (C-5) 3.5 parts by mass -(D) Infrared absorber (S-4) 0.5 mass part-Dioxane 70.0 mass part-Cyclohexane 20.0 mass part

なお、上記記録層塗布液に使用した(A)〜(D)の成分は、それぞれ、前述した具体例として記載されているものを指す。   The components (A) to (D) used in the recording layer coating liquid are those described as the specific examples described above.

[平版印刷版原版の感光性(感度)評価]
上記のようにして得られた特定平版印刷版原版[CTP−1]〜[CTP−5]を、水冷式40W赤外線半導体レーザーを搭載したCreo社製Trendsetter3244VXにて、解像度175lpiの50%平網画像を、外面ドラム回転数150rpm、出力を0〜8Wの範囲でlogEで0.15ずつ変化させて露光した。なお、露光は25℃50%RHの条件下で行った。
露光後、メタケイ酸ソーダを6質量%溶解した現像液で、30℃10秒の現像を行った。現像して得られた平版印刷版の平網画像が50%を示す最小露光エネルギーを平版印刷版原版の感度として求めたところ、いずれの特定平版印刷版原版も175mJ/cm2という高い感度を示した。
[Evaluation of photosensitivity (sensitivity) of lithographic printing plate precursor]
Specific lithographic printing plate precursors [CTP-1] to [CTP-5] obtained as described above were subjected to a 50% flat screen image with a resolution of 175 lpi on a Trendsetter 3244VX manufactured by Creo equipped with a water-cooled 40 W infrared semiconductor laser. Was exposed by changing the outer drum rotation speed at 150 rpm and the output in the range of 0 to 8 W by 0.15 logE. The exposure was performed under conditions of 25 ° C. and 50% RH.
After the exposure, development was performed at 30 ° C. for 10 seconds with a developer in which 6% by mass of sodium metasilicate was dissolved. When the minimum exposure energy at which the flat screen image of the lithographic printing plate obtained by development shows 50% was determined as the sensitivity of the lithographic printing plate precursor, all the specific lithographic printing plate precursors showed a high sensitivity of 175 mJ / cm 2. It was.

[合紙の作成]
〔合紙1〕
漂白クラフトパルプを叩解し、4%の濃度に希釈した紙料にロジン系サイズ剤を0.4質量%加え、硫酸アルミニウムをpHが5.0になるまで加えた。この紙料に、でんぷんを主成分とする紙力剤を3.0質量%塗布して抄紙し、ネガ型記録層側の最表面に接する面のベック平滑度60秒、密度0.8g/cm3、水分6.0%、坪量38g/m2の合紙1を作成した。合紙1の仕様の要点を表2に示した。
[Create slip sheet]
[Interleaf 1]
Bleached kraft pulp was beaten and 0.4% by mass of rosin sizing agent was added to the paper stock diluted to a concentration of 4%, and aluminum sulfate was added until the pH reached 5.0. The paper stock was coated with 3.0% by weight of a paper strength agent mainly composed of starch, and paper was made. Beck smoothness of the surface in contact with the outermost surface on the negative recording layer side was 60 seconds, and the density was 0.8 g / cm. 3 and interleaf 1 having a water content of 6.0% and a basis weight of 38 g / m 2 was prepared. The main points of the specifications of the slip sheet 1 are shown in Table 2.

〔合紙2〕
合紙2として、広葉樹系の漂白クラフトパルプ100%の原料から同じサイズ剤と固定剤を用いて抄造した、ネガ型記録層側の最表面に接する面のべック平滑度約500秒、密度0.8g/cm3、水分4.5%、pH5.5、坪量30g/m2の紙を使用した。合紙2の仕様の要点を表2に示した。
[Interleaf 2]
As interleaving paper 2, Beck smoothness of the surface in contact with the outermost surface on the negative recording layer side made from the raw material of 100% hardwood bleached kraft pulp using the same sizing agent and fixing agent, density about 500 seconds, density Paper having 0.8 g / cm 3 , moisture 4.5%, pH 5.5 and basis weight 30 g / m 2 was used. The main points of the specifications of the slip sheet 2 are shown in Table 2.

Figure 2005099285
Figure 2005099285

[平版印刷版原版積層体の作製]
得られた特定平版印刷版原版[CTP−1]〜[CTP−5]と、上記合紙1又は合紙2と、を下記表3に記載のように組み合わせて交互に積層し、実施例1〜5、比較例1〜4における平版印刷版原版積層体を作製した。得られた平版印刷版原版積層体において、合紙に対するネガ型記録層の動摩擦係数を、JIS P 8147に提示されている方法により測定した。その結果を表3に併記する。
[Preparation of lithographic printing plate precursor laminate]
The obtained specific lithographic printing plate precursors [CTP-1] to [CTP-5] and the slip sheet 1 or the slip sheet 2 are combined and stacked alternately as shown in Table 3 below. To 5 and lithographic printing plate precursor laminates in Comparative Examples 1 to 4 were produced. In the obtained lithographic printing plate precursor laminate, the dynamic friction coefficient of the negative recording layer with respect to the interleaf was measured by the method presented in JIS P 8147. The results are also shown in Table 3.

[平版印刷版原版積層体の評価]
(耐キズ性)
作製された積層体を1mの高さに積み上げ、10分間振動させた後、露光及び現像を行い、その際のキズの発生状態を目視にて評価した。評価尺度としては、下記の判定基準が用いられる。なお、露光時の出力を6Wに固定した他は、露光及び現像の条件は上記の通りである。評価結果を表3に示す。
○:キズが見られない
△:かすかにキズが見られる
×:十分にキズがわかる
[Evaluation of lithographic printing plate precursor laminate]
(Scratch resistance)
The prepared laminate was piled up to a height of 1 m, vibrated for 10 minutes, then exposed and developed, and the state of occurrence of scratches was evaluated visually. The following criteria are used as the evaluation scale. The exposure and development conditions are as described above except that the output during exposure is fixed at 6 W. The evaluation results are shown in Table 3.
○: Scratches are not seen △: Slightly scratches are seen ×: Scratches are sufficiently understood

(画像の汚れ性評価)
上記の耐キズ性の評価に供された特定平版印刷版原版を、引続き、ハイデルベルグ(株)製印刷機ハイデルSOR−Mにて、市販の油性インキを用いて印刷した。この際、印刷物の非画像部に汚れが発生するかどうかを目視にて観察し、画像の汚れ性の指標とした。評価結果を表3に示す。
○:汚れが見られない
△:かすかに汚れが見られる
×:十分に汚れがわかる
(Evaluation of dirt on images)
The specific planographic printing plate precursor subjected to the above scratch resistance evaluation was subsequently printed using a commercially available oil-based ink on a Heidelberg printing press Heidel SOR-M. At this time, whether or not the non-image portion of the printed matter was stained was visually observed and used as an index of the stain property of the image. The evaluation results are shown in Table 3.
○: Dirt is not seen △: Dirt is slightly seen ×: Dirt is sufficiently understood

(取り扱い性の評価)
上記の画像の汚れ性の評価時において、特定平版印刷版原版を印刷機に装着する際のクニック(版の折れ曲がり)の発生の頻度を測定し、取り扱い性の指標とした。評価は、下記に示す3段階評価であり、2が実用上の許容下限であり、1は実用上使用不可のレベルである。評価結果を表3に示す。
3:100版装着でクニック発生なし
2:100版装着でクニック発生1回
1:100版装着でクニック発生2回以上
(Evaluation of handleability)
At the time of evaluation of the smearing property of the image, the frequency of occurrence of a nick (folding of the plate) when the specific lithographic printing plate precursor was mounted on a printing machine was measured and used as an index of handling property. The evaluation is a three-stage evaluation shown below, where 2 is a practically acceptable lower limit and 1 is a practically unusable level. The evaluation results are shown in Table 3.
3: No nick generated when the 100th version is installed 2: One nick generated when the 100th version is installed 1: Two or more nicks generated when the 100th version is installed

Figure 2005099285
Figure 2005099285

表3に明らかなように、実施例1〜5における本発明の平版印刷版原版積層体は、耐キズ性、画像汚れ性、及び取り扱い性のいずれにおいても優れていることが判明した。
一方、比較例1は、耐キズ性、画像汚れ、及び取り扱い性のいずれにおいても劣っており実用上問題があるレベルであることがわかった。また、比較例2〜4は、取り扱い性は問題がないものの、耐キズ性、画像汚れが劣っており実用上問題があるレベルであることがわかった。
As is apparent from Table 3, the lithographic printing plate precursor laminates of the present invention in Examples 1 to 5 were found to be excellent in all of scratch resistance, image stain resistance, and handleability.
On the other hand, it was found that Comparative Example 1 was inferior in all of scratch resistance, image stain, and handleability, and had a practical problem. Moreover, although Comparative Examples 2-4 did not have a problem in handleability, it turned out that scratch resistance and image stain | pollution | contamination are inferior and it is a level which has a problem practically.

ネガ型記録層の溶解挙動を測定するためのDRM干渉波測定装置の一例を示す概略構成図である。It is a schematic block diagram which shows an example of the DRM interference wave measuring apparatus for measuring the melt | dissolution behavior of a negative recording layer. 現像液のネガ型記録層への浸透性を評価するのに用いられる静電容量の測定方法の一例を示す概略構成図である。It is a schematic block diagram which shows an example of the measuring method of the electrostatic capacitance used in evaluating the permeability to the negative recording layer of a developing solution.

Claims (2)

支持体上に、(A)光又は熱によりラジカルを発生する化合物、(B)側鎖にビニル基が置換したフェニル基を有する重合体、(C)ビニル基が置換したフェニル基を2個以上有するモノマー、及び(D)赤外線吸収剤を含有するネガ型記録層を設けた平版印刷版原版と、合紙と、を交互に積層してなることを特徴とする平版印刷版原版積層体。   On the support (A) a compound that generates a radical by light or heat, (B) a polymer having a phenyl group substituted with a vinyl group on the side chain, and (C) two or more phenyl groups substituted with a vinyl group A lithographic printing plate precursor laminate comprising: a lithographic printing plate precursor provided with a negative recording layer containing a monomer having (D) an infrared absorber; and an interleaving paper. 前記支持体がアルミニウム支持体であり、該アルミニウム支持体の厚みが0.25mm〜0.55mmであることを特徴とする請求項1に記載の平版印刷版原版積層体。   The lithographic printing plate precursor laminate according to claim 1, wherein the support is an aluminum support, and the thickness of the aluminum support is 0.25 mm to 0.55 mm.
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