JP2004281206A - Forming method of getter film - Google Patents

Forming method of getter film Download PDF

Info

Publication number
JP2004281206A
JP2004281206A JP2003070142A JP2003070142A JP2004281206A JP 2004281206 A JP2004281206 A JP 2004281206A JP 2003070142 A JP2003070142 A JP 2003070142A JP 2003070142 A JP2003070142 A JP 2003070142A JP 2004281206 A JP2004281206 A JP 2004281206A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
getter
film
flash
materials
getter film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Abandoned
Application number
JP2003070142A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yoshiyuki Shimada
佳之 嶋田
Tomonori Hoshino
友紀 星野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP2003070142A priority Critical patent/JP2004281206A/en
Publication of JP2004281206A publication Critical patent/JP2004281206A/en
Abandoned legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a forming method of a getter film in which film-thickness distribution of the getter film can be homogenized, in which deterioration of brightness characteristic is prevented, and in which it is possible to manufacture a picture display device to maintain a high performance over a long period of time. <P>SOLUTION: In a vacuum atmosphere, the subject member 11 and a plurality of getter materials 40 countered at this subject member are arranged, getter flash is carried out by heating the getter materials, and the getter films are piled up and formed by the getter flash from respective getter materials in the getter film forming region of the subject member. On that occasion, neighboring getter materials are arranged with a spacing so that among the getter films formed by the getter flash of the respective getter materials, a region of a film thickness of 50±25% or less to the film thickness of the center part of the getter film may be overlapped with the getter film formed by the getter flash of the other getter material, and the getter flash is carried out. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、真空雰囲気中で対象部材にゲッター膜を形成するゲッター膜形成方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、陰極線管(以下、CRTと称する)に代わる次世代の軽量、薄型の表示装置として様々な平面型の画像表示装置が注目されている。例えば、放電現象による蛍光体の発光を利用したプラズマディスプレイ(PDP)や、主として電界による電子放出を利用したフィールド・エミッション・ディスプレイ(以下、FEDと称する)が知られている。
【0003】
これらの画像表示装置は、基本構成として、所定の間隔をおいて対向配置された前面基板および背面基板を備え、これらの基板は周辺部を互いに接合することにより外囲器を構成している。FEDにおいて、前面基板の内面には蛍光体層が形成され、背面基板の内面には、蛍光体を励起する電子放出源である電子放出素子が各画素に対応して配列されている。また、両基板間には、基板間の隙間を維持するため、多数の板状、柱状もしくはビーズ等のスペーサが配置されている。
【0004】
これらの画像表示装置において、前面基板と背面基板間の空間、すなわち真空外囲器内部は、高い真空度に維持されていることが重要となる。真空度が低いと安定した電子放出ができず、画像表示装置の寿命が低下することになる。
【0005】
そこで、長期間に渡って外囲器内を高真空度に維持するため、外囲器内にはガスを吸着するゲッター材が設けられ、重要な役割を果たしている。例えば、動作中にガス放出の生じ易い画像表示領域にゲッター膜を形成する方法として、真空チャンバ内に前面基板及び背面基板を投入し、真空排気した後、前面基板の画像表示領域を覆う領域にゲッター膜を形成し、更に、対向配置された両基板を真空中で封着する方法が提案されている(例えば、特許文献1参照)。
【0006】
【特許文献1】
特開2001−229824号公報
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
このようなゲッター材として蒸発型のゲッター材を使用する場合、10−4Pa程度以下の真空処理装置内でゲッター材を加熱蒸着し外囲器の内面にゲッター膜を成膜している。この際、複数個のゲッター材を用いて外囲器の成膜領域内にゲッター膜を形成する方法が考えられる。しかしながら、複数個のゲッター材を加熱蒸着する際、ゲッター材自身の配列やフラッシュ量、およびゲッター材から成膜領域までの距離の影響により、形成されるゲッターの膜厚が大きく変化してしまう。そのため、成膜領域に形成されたゲッター膜の膜厚が不均一になる恐れがある。そして、ゲッター膜の膜厚が不均一になると、画像表示装置を構成する外囲器内の輝度特性が均一とならず、長時間に渡って高い表示性能を維持することが困難となってしまう。
【0008】
この発明は、以上の点に鑑みなされたもので、その目的は、ゲッター膜の膜厚分布を均一化することができ、輝度特性の劣化を防止し、長期間に渡って高い性能を維持する画像表示装置を製造可能なゲッター膜の形成方法を提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、この発明の態様に係るゲッター膜形成方法は、対象部材上にゲッター膜を形成するゲッター膜形成方法において、真空雰囲気中に上記対象部材とこの対象部材に対向した複数個のゲッター材とを配置し、上記複数個のゲッター材を加熱してゲッターフラッシュを行い、上記対象部材上のゲッター膜形成領域に各ゲッター材からのゲッターフラッシュによりゲッター膜を重ね合わせて形成する。その際、隣合う2つのゲッター材を、各ゲッター材のゲッターフラッシュにより形成されるゲッター膜の内、ゲッター膜中心部の膜厚に対して50±25%以下の膜厚となる領域が他方のゲッター材のゲッタフッラッシュにより形成されるゲッター膜と重なるように間隔を置いて配置し、上記ゲッターフラッシュを行うことを特徴としている。
上記のように構成されたゲッター膜形成方法によれば、複数個のゲッター材を上記間隔を置いて配置した状態でゲッターフラッシュすることにより、ゲッター膜中心部の膜厚に対して50±25%以下の膜厚となる領域同士を重ねて形成し、全域に渡って均一な膜厚を有したゲッター膜を得ることができる。これにより、画像表示装置を構成する外囲器内の輝度特性を均一として、長時間に渡って高い表示性能を維持することが可能な画像表示装置を提供することができる。
【0010】
【発明の実施の形態】
以下図面を参照しながら、この発明の実施の形態に係るゲッター膜形成方法について詳細に説明する。
始めに、ゲッター膜の形成対象となる部材として、例えば、前面基板を備えた画像表示装置について説明する。ここでは、表面伝導型の電子放出素子を備えたFEDを例にとって説明する。
【0011】
図1および図2に示すように、このFEDは、絶縁基板としてそれぞれ矩形状のガラス板からなる前面基板11、および背面基板12を備え、これらの基板は1〜2mmの隙間を置いて対向配置されている。そして、前面基板11および背面基板12は、矩形枠状の側壁13を介して周縁部同士が接合され、内部が真空状態に維持された扁平な矩形状の真空外囲器10を構成している。
【0012】
真空外囲器10の内部には、前面基板11および背面基板12に加わる大気圧荷重を支えるため、複数のスペーサ14が設けられている。スペーサ14としては、板状あるいは柱状のスペーサ等を用いることができる。
【0013】
前面基板11の内面上には、画像表示面として、赤、緑、青の蛍光体層16とマトリクス状の黒色遮光層17とを有した蛍光体スクリーン15が形成されている。これらの蛍光体層16はストライプ状あるいはドット状に形成してもよい。この蛍光体スクリーン15上には、アルミニウム膜等からなるメタルバック20が形成され、更に、メタルバックに重ねてゲッター膜22が形成されている。
【0014】
背面基板12の内面上には、蛍光体スクリーン15の蛍光体層16を励起する電子源として、それぞれ電子ビームを放出する多数の表面伝導型の電子放出素子18が設けられている。これらの電子放出素子18は、画素毎に対応して複数列および複数行に配列されている。各電子放出素子18は、図示しない電子放出部、この電子放出部に電圧を印加する一対の素子電極等で構成されている。また、背面基板12の内面には、電子放出素子18に電位を供給する多数本の配線21がマトリック状に設けられ、その端部は真空外囲器10の外部に引出されている。
【0015】
このようなFEDでは、画像を表示する場合、蛍光体スクリーン15およびメタルバック20にアノード電圧を印加し、電子放出素子18から放出された電子ビームをアノード電圧により加速して蛍光体スクリーンへ衝突させる。これにより、蛍光体スクリーン15の蛍光体層16が励起されて発光し、カラー画像を表示する。
【0016】
次に、上記のように構成されたFEDの製造方法について説明する。特に、前面基板11にゲッター膜22を形成する方法について説明する。
図3に示すように、ゲッター膜形成装置は、真空処理槽により構成された真空チャンバ31と、この真空チャンバ内を真空排気する真空ポンプ32とを備えている。真空チャンバ31内には、前面基板11を支持搬送する第1搬送機構34が配設され、この第1搬送機構により前面基板11が支持されている。また、真空チャンバ31内には、ゲッター材を所定位置に搬送する第2搬送機構36が設けられている。そして、この第2搬送機構36により支持治具38が移動可能に、かつ、高さ調整可能に支持されている。
【0017】
支持治具38上には複数個のゲッター材40が保持され、前面基板11と対向している。ゲッター材40は、支持治具の上面に所定の間隔dを置いて複数列、複数行に配列されている。ゲッター材40としては、例えば、BaAl粉末とNi粉末との熱反応でBaを真空蒸着する反応型ゲッターを用いることができる。また、支持治具38の下面側には、ゲッター材40を加熱する加熱ユニット42が設けられている。加熱ユニット42は、例えば、ゲッター材40を非接触で加熱可能な高周波加熱方式として構成され、高周波コイルおよびこの高周波コイルに高周波を印加する図示しない高周波発生器を備えている。そして、加熱ユニット42は、支持治具38の下面側からこの支持治具を介してゲッター材40を加熱する。なお、支持治具38は、高周波加熱に影響を受けないセラミックまたは硝子等の非誘電材料で形成されている。
【0018】
次に、以上のように構成されたゲッター膜形成装置を用いて前面基板11にゲッター膜を形成する工程について説明する。
まず、ゲッター材40を支持治具38の上面に所定の配列で複数個設置する。複数個のゲッター材40を用いてゲッター膜を形成する場合、形成されるゲッター膜の膜厚分布を決める上で、ゲッター材の配列、フラッシュ量、およびゲッター材から成膜領域までの距離を適切に設定する必要がある。そこで、膜厚分布を決める上で必要となってくる計算式としてCosine則を下記の通り変形し、実験近似値式を求めた。式1及び式2に実験値と近似値の比較結果を示す。
【0019】
Cosine則:t/t0=1/[1+(L/H) 3/2 …式1
近似式 :t/t0=1/[1+(L/H) 5/2 …式2
ここで、L:ゲッター材からの水平距離
H:ゲッター材からゲッター膜形領域(被付着面)までの距離
t:特定箇所に設定した時のゲッター膜厚
t0:最も厚いゲッター膜厚
をそれぞれ示している。
【0020】
上記式1および式2から、1つのゲッター材40のゲッターフラッシュによって形成されるゲッター膜の膜厚分布は、図4に示すように、ゲッター材の中心と対向するゲッター膜形成領域の中心部が最も厚く、中心部から水平方向に離れるに従って薄くなり、ほぼ釣り鐘型となる。実際のゲッター膜は波線で示すような若干幅が狭くなった形状となる。
【0021】
上記の実験結果に基づき、本実施の形態では、各ゲッター材40のゲッターフラッシュによって形成されるゲッター膜の膜厚が薄くなる領域同士が重なるようにゲッター材を配列している。すなわち、図5に示すように、複数個配列されたゲッター材40の内、最も隣接する2つのゲッター材間の間隔dを、各ゲッター材のゲッターフラッシュにより形成されるゲッター膜の内、ゲッター膜中心部Cの膜厚に対して50±25%以下の膜厚となる領域が他方のゲッター材のゲッタフッラッシュにより形成されるゲッター膜と重なる間隔に設定している。
【0022】
上記の間隔dにて複数個のゲッター材40を支持治具38上に設置した状態で、この支持治具を真空チャンバ31内に搬入し、前面基板11と対向する所定のゲッターフラッシュ位置に位置決めする。なお、真空チャンバ31内は予め真空ポンプ32により10−5Pa程度の高真空に維持しておく。また、各ゲッター材40は、予めゲッター材の蒸発温度よりも低い温度、例えば、500℃に加熱し、予め脱ガス処理をしておく。
【0023】
複数個のゲッター材40をゲッターフラッシュ位置に位置決めした後、加熱ユニット42の高周波コイルによりゲッター材をその蒸発温度以上の温度まで順番に加熱しゲッターフラッシュを行う。各ゲッター材40からのゲッターフラッシュにより、形成対象部材としての前面基板11の蛍光面側にゲッター膜を順次真空蒸着し、ゲッター膜を重ね合わせて形成する。図6に示すように、上記工程により、前面基板11のゲッター膜形成領域に対し、全域に渡ってほぼ均一な膜厚分布を有したゲッター膜22を形成することができる。
【0024】
なお、支持治具38は高周波加熱に影響を受けない非誘電材料で形成されていることから、ゲッター材41のみの加熱制御することができる。
ゲッター膜22の形成された前面基板11は、大気に晒されることなく他の真空チャンバに搬送され、真空雰囲気中で背面基板と封着される。これにより、FEDが得られる。
【0025】
上記のように構成されたゲッター膜形成方法によれば、複数個のゲッター材を所定の間隔を置いて配置した状態でゲッターフラッシュすることにより、ゲッター膜中心部の膜厚に対して50±25%以下の膜厚となる領域同士を重ねて形成し、全域に渡って均一な膜厚を有したゲッター膜を得ることができる。同時に、ゲッター膜の膜厚を用意に調整することが可能となる。これにより、画像表示装置を構成する外囲器内の輝度特性を均一として、長時間に渡って高い表示性能を維持することが可能な画像表示装置を提供することができる。
【0026】
なお、この発明は上述した実施の形態に限定されることなく、この発明の範囲内で種々変形可能である。例えば、各構成要素の寸法、ゲッター材料等は上述の実施の形態で示した数値、ゲッター材料に限定されることなく、必要に応じて種々選択可能である。また、ゲッターフラッシュにおけるゲッター材の加熱方式は、上述した高周波加熱に限らず、ゲッター材に通電して加熱する抵抗加熱を用いることもできる。その他、この発明において、ゲッター膜の形成対象部材はFEDの前面基板に限定されることはなく、種々選択可能である。
【0027】
【発明の効果】
以上詳述したように、本発明によれば、ゲッター膜の膜厚分布を均一化することができ、輝度特性の劣化を防止し、長期間に渡って高い性能を維持する画像表示装置を製造可能なゲッター膜の形成方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】画像表示装置の一例としてのFEDを示す斜視図。
【図2】図1の線A−Aに沿った上記FEDの断面図。
【図3】上記FEDの製造に用いるゲッター膜形成装置を示す断面図。
【図4】ゲッター材からの水平距離と膜厚との関係を示す図。
【図5】複数個のゲッター材の配置分布を説明するための図。
【図6】形成されたゲッター膜の膜厚分布を示す図。
【符号の説明】
10…真空外囲器、 11…前面基板、 12…背面基板、
13…側壁、 15…蛍光体スクリーン、 18…電子放出素子、
20…メタルバック、 22…ゲッター膜、 31…真空チャンバ、
40…ゲッター材
[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a getter film forming method for forming a getter film on a target member in a vacuum atmosphere.
[0002]
[Prior art]
2. Description of the Related Art In recent years, various flat-panel image display devices have attracted attention as next-generation lightweight and thin display devices that replace cathode ray tubes (hereinafter, referred to as CRTs). For example, a plasma display (PDP) using light emission of a phosphor due to a discharge phenomenon, and a field emission display (hereinafter, referred to as FED) mainly using electron emission by an electric field are known.
[0003]
These image display devices have, as a basic configuration, a front substrate and a rear substrate that are arranged to face each other at a predetermined interval, and these substrates constitute an envelope by joining peripheral portions of each other. In the FED, a phosphor layer is formed on an inner surface of a front substrate, and electron-emitting devices, which are electron emission sources for exciting the phosphor, are arranged corresponding to each pixel on an inner surface of the rear substrate. Further, between the two substrates, a large number of spacers such as plate-like, columnar, or bead are arranged in order to maintain a gap between the substrates.
[0004]
In these image display devices, it is important that the space between the front substrate and the rear substrate, that is, the inside of the vacuum envelope is maintained at a high degree of vacuum. If the degree of vacuum is low, stable electron emission cannot be performed, and the life of the image display device will be shortened.
[0005]
Therefore, in order to maintain the inside of the envelope at a high degree of vacuum for a long period of time, a getter material for adsorbing gas is provided in the envelope and plays an important role. For example, as a method of forming a getter film in an image display region where gas emission is likely to occur during operation, a front substrate and a rear substrate are put into a vacuum chamber, and after evacuating, a region covering the image display region of the front substrate is formed. There has been proposed a method in which a getter film is formed, and furthermore, both substrates facing each other are sealed in a vacuum (for example, see Patent Document 1).
[0006]
[Patent Document 1]
JP 2001-229824 A
[Problems to be solved by the invention]
When an evaporable getter material is used as such a getter material, the getter material is heated and vapor-deposited in a vacuum processing apparatus of about 10 −4 Pa or less to form a getter film on the inner surface of the envelope. In this case, a method of forming a getter film in a film formation region of the envelope using a plurality of getter materials is conceivable. However, when a plurality of getter materials are heated and vapor-deposited, the thickness of the getter material to be formed greatly changes due to the arrangement of the getter materials themselves, the flash amount, and the distance from the getter material to the film formation region. Therefore, there is a possibility that the thickness of the getter film formed in the film formation region becomes uneven. When the thickness of the getter film becomes non-uniform, the luminance characteristics in the envelope constituting the image display device are not uniform, and it is difficult to maintain high display performance for a long time. .
[0008]
The present invention has been made in view of the above points, and its object is to make the thickness distribution of the getter film uniform, prevent deterioration of the luminance characteristics, and maintain high performance for a long time. It is an object of the present invention to provide a method for forming a getter film capable of manufacturing an image display device.
[0009]
[Means for Solving the Problems]
In order to achieve the above object, a getter film forming method according to an aspect of the present invention includes a getter film forming method for forming a getter film on a target member, the method comprising: The getter material is disposed, the plurality of getter materials are heated to perform getter flash, and a getter film is overlapped on the getter film formation region on the target member by the getter flash from each getter material. At this time, two getter materials that are adjacent to each other are formed such that a region having a thickness of 50 ± 25% or less with respect to the thickness of the central portion of the getter film in the getter film formed by the getter flash of each getter material is formed on the other. It is characterized in that the getter flash is performed by arranging at intervals so as to overlap with a getter film formed by getter flash of a getter material.
According to the getter film forming method configured as described above, the getter flash is performed in a state in which the plurality of getter materials are arranged at the above intervals, so that the thickness of the getter film is 50 ± 25% with respect to the thickness of the central portion of the getter film. Regions having the following film thicknesses are formed so as to overlap each other, and a getter film having a uniform film thickness over the entire region can be obtained. Accordingly, it is possible to provide an image display device capable of maintaining high display performance over a long period of time with uniform luminance characteristics in an envelope constituting the image display device.
[0010]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Hereinafter, a getter film forming method according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
First, an image display device including a front substrate as a member on which a getter film is formed will be described. Here, an FED provided with a surface conduction electron-emitting device will be described as an example.
[0011]
As shown in FIGS. 1 and 2, the FED includes a front substrate 11 and a rear substrate 12 each made of a rectangular glass plate as an insulating substrate, and these substrates are opposed to each other with a gap of 1 to 2 mm. Have been. The front substrate 11 and the rear substrate 12 are joined to each other via a rectangular frame-shaped side wall 13 to form a flat rectangular vacuum envelope 10 whose inside is maintained in a vacuum state. .
[0012]
A plurality of spacers 14 are provided inside the vacuum envelope 10 to support an atmospheric pressure load applied to the front substrate 11 and the rear substrate 12. As the spacer 14, a plate-shaped or columnar spacer or the like can be used.
[0013]
On the inner surface of the front substrate 11, a phosphor screen 15 having a red, green, and blue phosphor layer 16 and a matrix black light shielding layer 17 is formed as an image display surface. These phosphor layers 16 may be formed in a stripe shape or a dot shape. On the phosphor screen 15, a metal back 20 made of an aluminum film or the like is formed, and further, a getter film 22 is formed so as to overlap the metal back.
[0014]
On the inner surface of the rear substrate 12, a large number of surface conduction electron-emitting devices 18 each emitting an electron beam are provided as electron sources for exciting the phosphor layer 16 of the phosphor screen 15. These electron-emitting devices 18 are arranged in a plurality of columns and a plurality of rows corresponding to each pixel. Each of the electron-emitting devices 18 includes an electron-emitting portion (not shown), a pair of device electrodes for applying a voltage to the electron-emitting portion, and the like. In addition, on the inner surface of the back substrate 12, a number of wirings 21 for supplying a potential to the electron-emitting devices 18 are provided in a matrix shape, and the ends thereof are led out of the vacuum envelope 10.
[0015]
In such an FED, when displaying an image, an anode voltage is applied to the phosphor screen 15 and the metal back 20, and the electron beam emitted from the electron-emitting device 18 is accelerated by the anode voltage to collide with the phosphor screen. . Thereby, the phosphor layer 16 of the phosphor screen 15 is excited to emit light, and a color image is displayed.
[0016]
Next, a method of manufacturing the FED configured as described above will be described. In particular, a method for forming the getter film 22 on the front substrate 11 will be described.
As shown in FIG. 3, the getter film forming apparatus includes a vacuum chamber 31 formed by a vacuum processing tank, and a vacuum pump 32 for evacuating the vacuum chamber. A first transfer mechanism 34 for supporting and transferring the front substrate 11 is provided in the vacuum chamber 31, and the front substrate 11 is supported by the first transfer mechanism. In the vacuum chamber 31, a second transfer mechanism 36 for transferring the getter material to a predetermined position is provided. The support jig 38 is supported by the second transport mechanism 36 so as to be movable and height-adjustable.
[0017]
A plurality of getter materials 40 are held on the support jig 38 and face the front substrate 11. The getter members 40 are arranged in a plurality of columns and a plurality of rows at predetermined intervals d on the upper surface of the support jig. As the getter material 40, for example, a reactive getter that vacuum-deposits Ba by a thermal reaction between BaAl 4 powder and Ni powder can be used. A heating unit 42 for heating the getter material 40 is provided on the lower surface side of the support jig 38. The heating unit 42 is configured, for example, as a high-frequency heating system capable of heating the getter material 40 in a non-contact manner, and includes a high-frequency coil and a high-frequency generator (not shown) for applying a high frequency to the high-frequency coil. Then, the heating unit 42 heats the getter material 40 from the lower surface side of the support jig 38 via the support jig. The support jig 38 is formed of a non-dielectric material such as ceramic or glass which is not affected by high-frequency heating.
[0018]
Next, a process of forming a getter film on the front substrate 11 using the getter film forming apparatus configured as described above will be described.
First, a plurality of getter members 40 are provided on the upper surface of the support jig 38 in a predetermined arrangement. When a getter film is formed using a plurality of getter materials 40, the arrangement of the getter material, the flash amount, and the distance from the getter material to the film formation region are appropriately determined in determining the thickness distribution of the formed getter film. Must be set to Therefore, the Cosine rule was modified as a calculation formula necessary for determining the film thickness distribution as follows, and an experimental approximation value formula was obtained. Equations 1 and 2 show the results of comparison between the experimental values and the approximate values.
[0019]
Cosine rule: t / t0 = 1 / [1+ (L / H) 2 ] ( 3/2 ) Equation 1
Approximate expression: t / t0 = 1 / [1+ (L / H) 2 ] ( 5/2 ) Expression 2
Here, L: the horizontal distance from the getter material H: the distance from the getter material to the getter film-shaped region (adhered surface) t: the getter film thickness t0 set at a specific location: the thickest getter film thickness ing.
[0020]
From the above equations 1 and 2, the thickness distribution of the getter film formed by the getter flash of one getter material 40 is such that the center of the getter film formation region facing the center of the getter material, as shown in FIG. Thickest, thinner horizontally away from the center, almost bell-shaped. The actual getter film has a shape with a slightly reduced width as shown by a wavy line.
[0021]
Based on the above experimental results, in the present embodiment, the getter materials are arranged so that regions where the thickness of the getter film formed by the getter flash of each getter material 40 becomes thin overlap with each other. That is, as shown in FIG. 5, the distance d between the two adjacent getter materials among the plurality of getter materials 40 arranged is determined by the getter film formed by the getter flash of each getter material. The region having a thickness of 50 ± 25% or less with respect to the thickness of the central portion C is set to have an interval overlapping with the getter film formed by getter flash of the other getter material.
[0022]
With the plurality of getter materials 40 placed on the support jig 38 at the above-described interval d, the support jig is carried into the vacuum chamber 31 and positioned at a predetermined getter flash position facing the front substrate 11. I do. The inside of the vacuum chamber 31 is previously maintained at a high vacuum of about 10 −5 Pa by the vacuum pump 32. Further, each getter material 40 is previously heated to a temperature lower than the evaporation temperature of the getter material, for example, 500 ° C., and degassed in advance.
[0023]
After the plurality of getter materials 40 are positioned at the getter flash position, the getter materials are sequentially heated by the high frequency coil of the heating unit 42 to a temperature equal to or higher than the evaporation temperature to perform the getter flash. With the getter flash from each getter material 40, a getter film is sequentially vacuum-deposited on the fluorescent surface side of the front substrate 11 as a member to be formed, and the getter films are formed to overlap. As shown in FIG. 6, the getter film 22 having a substantially uniform film thickness distribution over the entire region can be formed in the getter film forming region of the front substrate 11 by the above-described process.
[0024]
Since the support jig 38 is formed of a non-dielectric material that is not affected by high-frequency heating, it is possible to control the heating of only the getter material 41.
The front substrate 11 on which the getter film 22 is formed is transported to another vacuum chamber without being exposed to the atmosphere, and is sealed with the rear substrate in a vacuum atmosphere. Thereby, an FED is obtained.
[0025]
According to the getter film forming method configured as described above, the getter flash is performed in a state where a plurality of getter materials are arranged at predetermined intervals, so that the thickness of the getter film is 50 ± 25 with respect to the thickness of the central portion of the getter film. %, And a getter film having a uniform film thickness over the entire region can be obtained. At the same time, the thickness of the getter film can be easily adjusted. Accordingly, it is possible to provide an image display device capable of maintaining high display performance over a long period of time with uniform luminance characteristics in an envelope constituting the image display device.
[0026]
The present invention is not limited to the above-described embodiment, but can be variously modified within the scope of the present invention. For example, the dimensions of each component, the getter material, and the like are not limited to the numerical values and the getter material described in the above-described embodiment, and can be variously selected as needed. Further, the method of heating the getter material in the getter flash is not limited to the high frequency heating described above, and resistance heating in which electric current is applied to the getter material to heat it can also be used. In addition, in the present invention, the member for forming the getter film is not limited to the front substrate of the FED, and various members can be selected.
[0027]
【The invention's effect】
As described in detail above, according to the present invention, it is possible to manufacture an image display device that can make the thickness distribution of the getter film uniform, prevent deterioration in luminance characteristics, and maintain high performance for a long period of time. A possible method of forming a getter film can be provided.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a perspective view showing an FED as an example of an image display device.
FIG. 2 is a sectional view of the FED taken along line AA in FIG. 1;
FIG. 3 is a sectional view showing a getter film forming apparatus used for manufacturing the FED.
FIG. 4 is a diagram showing a relationship between a horizontal distance from a getter material and a film thickness.
FIG. 5 is a diagram for explaining an arrangement distribution of a plurality of getter materials.
FIG. 6 is a view showing a film thickness distribution of a formed getter film.
[Explanation of symbols]
10: vacuum envelope, 11: front substrate, 12: rear substrate,
13 ... side wall, 15 ... phosphor screen, 18 ... electron-emitting device,
20: metal back, 22: getter film, 31: vacuum chamber,
40 ... getter material

Claims (4)

対象部材上にゲッター膜を形成するゲッター膜形成方法において、
真空雰囲気中に上記対象部材とこの対象部材に対向した複数個のゲッター材とを配置し、
上記複数個のゲッター材を加熱してゲッターフラッシュを行い、上記対象部材上のゲッター膜形成領域に各ゲッター材からのゲッターフラッシュによりゲッター膜を重ね合わせて形成し、
隣合う2つのゲッター材を、各ゲッター材のゲッターフラッシュにより形成されるゲッター膜の内、ゲッター膜中心部の膜厚に対して50±25%以下の膜厚となる領域が他方のゲッター材のゲッタフッラッシュにより形成されるゲッター膜と重なるように間隔を置いて配置し、上記ゲッターフラッシュを行うことを特徴とするゲッター膜形成方法。
In a getter film forming method for forming a getter film on a target member,
Arranging the target member and a plurality of getter materials facing the target member in a vacuum atmosphere,
A getter flash is performed by heating the plurality of getter materials, and a getter film is superimposed and formed by getter flash from each getter material in a getter film forming region on the target member,
Two getter materials that are adjacent to each other are formed such that, of the getter films formed by the getter flash of each getter material, a region having a thickness of 50 ± 25% or less with respect to the thickness of the central portion of the getter film is formed of the other getter material. A getter film forming method, wherein the getter flash is performed by arranging at intervals so as to overlap a getter film formed by getter flash.
上記複数個のゲッター材を順番にゲッターフラッシュすることを特徴とする請求項1に記載のゲッター膜形成方法。2. The method according to claim 1, wherein the plurality of getter materials are sequentially getter-flashed. 上記ゲッター材の少なくとも1つに反応型ゲッター材を用いることを特徴とする請求項1又は2に記載のゲッター膜形成方法。The getter film forming method according to claim 1, wherein a reactive getter material is used as at least one of the getter materials. 蛍光面を有した前面基板とこの前面基板と対向配置されているとともに上記蛍光面を励起する電子源を有した背面基板と、を備えた画像表示装置における上記前面基板上にゲッター膜を形成するゲッター膜形成方法において、
真空雰囲気中に上記前面基板とこの前面基板の蛍光面に対向した複数個のゲッター材とを配置し、
上記複数個のゲッター材を加熱してゲッターフラッシュを行い、上記蛍光面上のゲッター膜形成領域に各ゲッター材からのゲッターフラッシュによりゲッター膜を重ね合わせて形成し、
隣合う2つのゲッター材を、各ゲッター材のゲッターフラッシュにより形成されるゲッター膜の内、ゲッター膜中心部の膜厚に対して50±25%以下の膜厚となる領域が他方のゲッター材のゲッタフッラッシュにより形成されるゲッター膜と重なるように間隔を置いて配置し、上記ゲッターフラッシュを行うことを特徴とするゲッター膜形成方法。
A getter film is formed on the front substrate in an image display device including a front substrate having a phosphor screen and a rear substrate disposed to face the front substrate and having an electron source for exciting the phosphor screen. In the getter film forming method,
Arranging the front substrate and a plurality of getter materials facing the phosphor screen of the front substrate in a vacuum atmosphere,
A getter flash is performed by heating the plurality of getter materials, and a getter film is superimposed and formed by getter flash from each getter material in the getter film formation region on the phosphor screen,
Two getter materials that are adjacent to each other are formed such that, of the getter films formed by the getter flash of each getter material, a region having a thickness of 50 ± 25% or less with respect to the thickness of the central portion of the getter film is formed of the other getter material. A getter film forming method, wherein the getter flash is performed by arranging at intervals so as to overlap a getter film formed by getter flash.
JP2003070142A 2003-03-14 2003-03-14 Forming method of getter film Abandoned JP2004281206A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003070142A JP2004281206A (en) 2003-03-14 2003-03-14 Forming method of getter film

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003070142A JP2004281206A (en) 2003-03-14 2003-03-14 Forming method of getter film

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2004281206A true JP2004281206A (en) 2004-10-07

Family

ID=33286966

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2003070142A Abandoned JP2004281206A (en) 2003-03-14 2003-03-14 Forming method of getter film

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2004281206A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20070080637A1 (en) Image display apparatus and method of manufacturing the image display apparatus
JP2004281206A (en) Forming method of getter film
JP2004362926A (en) Image display device and manufacturing method of same
JP2004071294A (en) Picture display device and its manufacturing method
TWI243392B (en) Image display apparatus
JP2001351521A (en) Manufacturing method and manufacturing device for image display device
JP2004349009A (en) Method of manufacturing image display device, apparatus for manufacture, and image display device manufactured by this method of manufacture
JP2004031276A (en) Manufacturing method of image display device
JP2003123673A (en) Flat display device and its manufacturing method
US20070018176A1 (en) Image display device and method of manufacturing the same
WO2006035713A1 (en) Image display
JP2005353314A (en) Manufacturing method of flat display device, and flat display device
JP2006070351A (en) Vapor deposition system and vapor deposition method
TWI291590B (en) Image display device
JP2008218155A (en) Heating/cooling method of substrate
JP2003229056A (en) Method of manufacturing structure support, structure support, and electron beam device having this structure support
JP2005174636A (en) Manufacturing method of image display device
JP2008210704A (en) Heating and cooling method of substrate
JP2004303458A (en) Image display device
JP2006004810A (en) Method and apparatus of manufacturing flat-surface display device
JP2007234468A (en) Image display device
US20080014824A1 (en) Manufacturing method and manufacturing apparatus for image display device
EP1755143A1 (en) Image display device
JP2008257964A (en) Image display device
US20070093166A1 (en) Image display device and method of manufacturing the same

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Effective date: 20060208

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

A762 Written abandonment of application

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A762

Effective date: 20080227