JP2003076010A - Original plate of planographic printing plate - Google Patents

Original plate of planographic printing plate

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JP2003076010A
JP2003076010A JP2001266921A JP2001266921A JP2003076010A JP 2003076010 A JP2003076010 A JP 2003076010A JP 2001266921 A JP2001266921 A JP 2001266921A JP 2001266921 A JP2001266921 A JP 2001266921A JP 2003076010 A JP2003076010 A JP 2003076010A
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JP
Japan
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group
printing plate
acid
compound
photosensitive layer
Prior art date
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Pending
Application number
JP2001266921A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kazuto Shimada
和人 嶋田
Tadahiro Sorori
忠弘 曽呂利
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
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Priority to US10/146,465 priority patent/US6759177B2/en
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Priority to US10/796,973 priority patent/US6908727B2/en
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  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an original plate of a planographic printing plate capable of direct recording from digital data of a computer or the like using a heat- mode laser, not requiring heating after imagewise exposure and excellent in sensitivity in recording. SOLUTION: The original plate is characterized in that it is provided with a photosensitive layer capable of recording with a heat-mode laser and comprising (A) a photothermal conversion agent, (B) a compound having a polymerizable unsaturated group and (C) an onium salt having two or more cationic moieties in one molecule on a support. The onium salt (C) functions as a high sensitivity polymerization initiator which generates a radical under light or heat energy. The exposure wavelength of the heat-mode laser used for recording is preferably 760-1,200 nm.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は赤外線レーザで書き
込み可能な平版印刷版原版に関し、詳しくは、記録感度
に優れた平版印刷版を作成し得る平版印刷版原版に関す
る。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to an infrared laser writable lithographic printing plate precursor, and more particularly to a lithographic printing plate precursor capable of producing a lithographic printing plate excellent in recording sensitivity.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年におけるレーザーの発展は目ざまし
く、特に、近赤外線から赤外線領域に発光領域を持つ個
体レーザーや半導体レーザーでは、高出力・小型化が進
んでいる。したがって、コンピュータ等のディジタルデ
ータから直接製版する際の露光光源として、これらのレ
ーザーは非常に有用である。前述の赤外線領域に発光領
域を持つ赤外線レーザーを露光光源として使用する、赤
外線レーザ用ネガ型平版印刷版材料は、赤外線吸収剤
と、光又は熱によりラジカルを発生する重合開始剤と、
重合性化合物とを含む感光層を有する平版印刷版材料で
ある。
2. Description of the Related Art The development of lasers in recent years has been remarkable, and in particular, solid-state lasers and semiconductor lasers having a light emitting region from the near infrared to the infrared region have been advanced in high output and downsizing. Therefore, these lasers are very useful as an exposure light source when directly making a plate from digital data of a computer or the like. Using an infrared laser having a light emitting region in the infrared region as an exposure light source, a negative lithographic printing plate material for infrared laser, an infrared absorber, a polymerization initiator that generates radicals by light or heat,
A lithographic printing plate material having a photosensitive layer containing a polymerizable compound.

【0003】このようなネガ型の画像記録材料として
は、例えば、赤外線吸収剤、酸発生剤、レゾール樹脂及
びノボラック樹脂より成る記録材料がUS5,340,
699号に記載されている。しかしながら、このような
ネガ型の画像記録材料は、画像形成のためにはレーザ露
光後に140〜200℃で50〜120秒程度加熱する
加熱処理が必要であり、このため、露光後の加熱処理に
大掛かりな装置とエネルギーとを必要としていた。
As such a negative type image recording material, for example, a recording material composed of an infrared absorber, an acid generator, a resole resin and a novolac resin is disclosed in US Pat.
699. However, such a negative-type image recording material needs a heat treatment of heating at 140 to 200 ° C. for about 50 to 120 seconds after laser exposure for image formation. It required extensive equipment and energy.

【0004】また、特公平7−103171号には、特
定の構造を有するシアニン色素、ヨードニム塩及びエチ
レン性不飽和二重結合を有する付加重合可能な化合物よ
り成る、画像様露光後の加熱処理を必要としない記録材
料が記載されているが、この画像記録材料は、重合反応
時に空気中の酸素により重合阻害がおこり、感度が不充
分であるという問題があった。さらに、特開平8−10
8621号には、汎用の熱重合開始剤である有機化酸化
物やアゾビスニトリル系化合物と熱重合性樹脂を含む画
像記録媒体が記載されているが、画像記録感度はいずれ
も200mJ/cm2以上であり、感度向上のためには
露光時のプレヒート処理を要するなど、実用的に必要な
高感度化は達成できていないのが現状である。特にヒー
トモードの重合系記録層を用いる場合に、感度を向上さ
せるためには、開始剤の分解温度を低くし、低いエネル
ギーで重合を生起させるようにすればよいが、開始剤と
して単に分解温度の低いものを選択したのでは、安定性
が低下し、非画像部に汚れを発生しやすくなるなどの懸
念が生じる。
Further, Japanese Examined Patent Publication No. 7-103171 discloses a heat treatment after imagewise exposure, which comprises a cyanine dye having a specific structure, an iodonium salt and an addition-polymerizable compound having an ethylenically unsaturated double bond. Although an unnecessary recording material is described, this image recording material has a problem that sensitivity is insufficient because polymerization is inhibited by oxygen in the air during the polymerization reaction. Furthermore, JP-A-8-10
No. 8621 describes an image recording medium containing an organic oxide or an azobisnitrile compound, which is a general-purpose thermal polymerization initiator, and a thermopolymerizable resin, and the image recording sensitivity is 200 mJ / cm 2 in all cases. The above is the current situation in which the practically required high sensitivity cannot be achieved, for example, preheating treatment at the time of exposure is required to improve the sensitivity. In particular, when a heat-mode polymerization-type recording layer is used, in order to improve the sensitivity, the decomposition temperature of the initiator may be lowered and the polymerization may be caused with low energy. If the one with a low value is selected, the stability is lowered, and there is a concern that the non-image portion is likely to be stained.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、赤外線を放射する固体レーザ及び半導体レーザを用
いて記録することにより、コンピューター等のデジタル
データから直接記録可能であり、画像様露光後の加熱処
理を必要とせず、記録時の感度に優れた平版印刷版原版
を得ることにある。
SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, an object of the present invention is to record by using a solid-state laser and a semiconductor laser that emits infrared rays, so that it is possible to record directly from digital data of a computer or the like, and after imagewise exposure. It is to obtain a lithographic printing plate precursor excellent in sensitivity at the time of recording without requiring the heat treatment of.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明者は、ネガ型画像
記録材料の構成成分に着目し、鋭意検討の結果、重合開
始剤として、2価のカチオン構造を有する母核のオニウ
ム塩を用いることで、記録時の高感度化を達成しうるこ
とを見出し、本発明を完成するに至った。即ち、本発明
の平版印刷版原版は、支持体上に、(A)光熱変換剤、
(B)重合性の不飽和基を有する化合物、及び、(C)
一分子中にカチオン部を2個以上有するオニウム塩を含
有し、赤外線レーザーで記録可能な感光層を備えること
を特徴とする。この感光層には、膜性向上などの目的
で、さらに(D)バインダーを含有することが好まし
い。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The inventors of the present invention have paid attention to the constituent components of a negative image recording material, and as a result of intensive studies, as a result, use an onium salt of a mother nucleus having a divalent cation structure as a polymerization initiator. As a result, it was found that high sensitivity at the time of recording can be achieved, and the present invention has been completed. That is, the lithographic printing plate precursor of the present invention comprises:
(B) a compound having a polymerizable unsaturated group, and (C)
It is characterized in that it contains an onium salt having two or more cation moieties in one molecule and is provided with a photosensitive layer recordable by an infrared laser. This photosensitive layer preferably further contains (D) a binder for the purpose of improving film properties.

【0007】本発明の作用は明確ではないが、光又は熱
重合開始剤として、一分子中にカチオン部を2個以上有
するオニウム塩を含有するため、2価以上のカチオン構
造を有する母核を採用することで、オニウム塩上の電子
密度が低くなり、熱的な分解が促進されやすくなるため
高感度化が達成されるものと思われる。また、2価以上
のカチオン部分を有することにより、カチオン部を連結
している部位にラジカル種を発生した場合、架橋剤とし
ての機能をも発現することになり、さらなる高感度化と
架橋構造の形成による耐刷性の向上を図ることができ
る。さらに、光熱変換剤として、電荷を有するシアニン
色素などの色素と組み合わせて用いることで、感光層中
において、色素とオニウム塩とがイオン的に局在化し易
くなり、光熱変換剤とオニウム塩とが局在化すること
で、光熱変換剤より発生した熱によるオニウム塩の分解
がより効率よく行われ、一層の高感度化が実現できるも
のと考えられる。
Although the action of the present invention is not clear, since an onium salt having two or more cation moieties in one molecule is contained as a photo or thermal polymerization initiator, a mother nucleus having a divalent or higher cation structure is formed. By adopting this, the electron density on the onium salt is lowered, and thermal decomposition is likely to be promoted, so that it is considered that high sensitivity is achieved. Further, by having a divalent or higher cation portion, when a radical species is generated at the site connecting the cation portions, it also exerts a function as a cross-linking agent, further increasing the sensitivity and improving the cross-linking structure. It is possible to improve printing durability by forming. Furthermore, by using as a photothermal conversion agent in combination with a dye such as a cyanine dye having a charge, the dye and the onium salt are easily ionically localized in the photosensitive layer, and the photothermal conversion agent and the onium salt are separated. It is considered that the localization makes it possible to more efficiently decompose the onium salt by the heat generated by the photothermal conversion agent and to realize higher sensitivity.

【0008】なお、本発明において「ヒートモード対
応」とは、ヒートモード露光による記録が可能であるこ
とを意味する。本発明におけるヒートモード露光の定義
について詳述する。Hans−Joachim Tim
pe,IS&Ts NIP 15:1999 Inte
rnational Conference on D
igital Printing Technolog
ies.P.209に記載されているように、感光体材
料において光吸収物質(例えば色素)を光励起させ、化
学的或いは物理的変化を経て、画像を形成するその光吸
収物質の光励起から化学的或いは物理的変化までのプロ
セスには大きく分けて二つのモードが存在することが知
られている。1つは光励起された光吸収物質が感光材料
中の他の反応物質と何らかの光化学的相互作用(例え
ば、エネルギー移動、電子移動)をすることで失活し、
その結果として活性化した反応物質が上述の画像形成に
必要な化学的或いは物理変化を引き起こすいわゆるフォ
トンモードであり、もう1つは光励起された光吸収物質
が熱を発生し失活し、その熱を利用して反応物質が上述
の画像形成に必要な化学的或いは物理変化を引き起こす
いわゆるヒートモードである。その他、物質が局所的に
集まった光のエネルギーにより爆発的に飛び散るアブレ
ーションや1分子が多数の光子を一度に吸収する多光子
吸収など特殊なモードもあるがここでは省略する。
In the present invention, "corresponding to heat mode" means that recording by heat mode exposure is possible. The definition of heat mode exposure in the present invention will be described in detail. Hans-Joachim Tim
pe, IS & Ts NIP 15: 1999 Inte
national Conference on D
digital Printing Technology
ies. P. 209, photoexcitation of a light-absorbing substance (for example, a dye) in a photosensitive material, which undergoes a chemical or physical change, resulting in a chemical or physical change from the photoexcitation of the light-absorbing substance forming an image. It is known that there are two modes in the process up to. One is that the photoexcited light-absorbing substance is deactivated by some photochemical interaction (for example, energy transfer, electron transfer) with other reactants in the photosensitive material,
As a result, the activated reaction substance is a so-called photon mode that causes the above-mentioned chemical or physical changes necessary for image formation. Is a so-called heat mode in which the reaction substance causes the chemical or physical change necessary for image formation described above. There are also special modes such as ablation in which substances explode explosively due to the energy of light locally collected, and multiphoton absorption in which one molecule absorbs many photons at a time, but they are omitted here.

【0009】上述の各モードを利用した露光プロセスを
フォトンモード露光及びヒートモード露光と呼ぶ。フォ
トンモード露光とヒートモード露光の技術的な違いは目
的とする反応のエネルギー量に対し露光する数個の光子
のエネルギー量を加算して使用できるかどうかである。
例えばn個の光子を用いて、ある反応を起こすことを考
える。フォトンモード露光では光化学的相互作用を利用
しているため、量子のエネルギー及び運動量保存則の要
請により1光子のエネルギーを足し併せて使用すること
ができない。つまり、何らかの反応を起こすためには
「1光子のエネルギー量≧反応のエネルギー量」の関係
が必要である。一方、ヒートモード露光では光励起後に
熱を発生し、光エネルギーを熱に変換し利用するためエ
ネルギー量の足し併せが可能となる。そのため、「n個
の光子のエネルギー量≧反応のエネルギー量」の関係が
あれが十分となる。但し、このエネルギー量加算には熱
拡散による制約を受ける。即ち、今注目している露光部
分(反応点)から熱拡散により熱が逃げるまでに次の光
励起−失活過程が起こり熱が発生すれば、熱は確実に蓄
積加算し、その部分の温度上昇につながる。しかし、次
の熱の発生が遅い場合には熱が逃げて蓄積されない。つ
まり、ヒートモード露光では同じ全露光エネルギー量で
あっても高エネルギー量の光を短い時間照射した場合と
低エネルギー量の光を長い時間照射した場合とでは結果
が異なり、短時間の方が熱の蓄積に有利になる。
The exposure process utilizing each of the above modes is called photon mode exposure and heat mode exposure. The technical difference between photon mode exposure and heat mode exposure is whether or not the energy amount of several photons to be exposed can be added to the energy amount of the desired reaction.
For example, consider using n photons to cause a certain reaction. Since photon mode exposure utilizes photochemical interaction, one photon energy cannot be added together due to the requirement of quantum energy and momentum conservation law. That is, in order to cause some kind of reaction, the relationship of “one-photon energy amount ≧ reaction energy amount” is necessary. On the other hand, in heat mode exposure, heat is generated after photoexcitation, and light energy is converted into heat and used, so that the energy amounts can be added together. Therefore, the relationship of “energy amount of n photons ≧ energy amount of reaction” is sufficient. However, the addition of this energy amount is restricted by thermal diffusion. That is, if the next photoexcitation-deactivation process occurs and heat is generated before the heat escapes from the exposed portion (reaction point) that is currently being noticed by heat diffusion, the heat is surely accumulated and added, and the temperature of that portion rises. Leads to. However, when the next generation of heat is slow, the heat escapes and is not accumulated. In other words, in heat mode exposure, even if the total exposure energy amount is the same, the results are different when high-energy light is irradiated for a short time and when low-energy light is irradiated for a long time. Will be advantageous to the accumulation of.

【0010】無論、フォトンモード露光では後続反応種
の拡散の影響で似た様な現象が起こる場合もあるが基本
的には、このようなことは起こらない。即ち、感光材料
の特性として見た場合、フォトンモードでは露光パワー
密度(w/cm2)(=単位時間当たりのエネルギー密
度)に対し感光材料の固有感度(画像形成に必要な反応
のためのエネルギー量)は一定となるが、ヒートモード
では露光パワー密度に対し感光材料の固有感度が上昇す
ることになる。従って、実際に画像記録材料として実用
上、必要な生産性を維持できる程度の露光時間を固定す
ると、各モードを比較した場合、フォトンモード露光で
は通常は約0.1mJ/cm2程度の高感度化が達成で
きるもののどんな少ない露光量でも反応が起こるため、
未露光部での低露光カブリの問題が生じ易い。これに対
し、ヒートモード露光ではある一定以上の露光量でない
と反応が起こらず、また感光材料の熱安定性との関係か
ら通常は50mJ/cm2程度が必要となるが、低露光
カブリの問題が回避される。そして、事実上ヒートモー
ド露光では感光材料の版面での露光パワー密度が500
0w/cm2以上が必要であり、好ましくは10000
w/cm2以上が必要となる。但し、ここでは詳しく述
べなかったが5.0×105w/cm2以上の高パワー密
度レーザーを利用するとアブレーションが起こり、光源
を汚す等の問題から好ましくない。
Of course, in the photon mode exposure, a similar phenomenon may occur due to the influence of diffusion of the subsequent reaction species, but basically, such a phenomenon does not occur. In other words, in terms of the characteristics of the light-sensitive material, in the photon mode, the intrinsic sensitivity of the light-sensitive material (energy for reaction necessary for image formation) with respect to the exposure power density (w / cm 2 ) (= energy density per unit time) However, in the heat mode, the intrinsic sensitivity of the photosensitive material increases with the exposure power density. Therefore, when the exposure time is fixed so that the productivity required for practical use as an image recording material is fixed, when comparing each mode, the photon mode exposure usually has a high sensitivity of about 0.1 mJ / cm 2. Can be achieved, but the reaction takes place at any low light exposure,
The problem of low-exposure fog in the unexposed area is likely to occur. On the other hand, in the heat mode exposure, the reaction does not occur unless the exposure amount is a certain amount or more, and about 50 mJ / cm 2 is usually required in relation to the thermal stability of the photosensitive material, but the problem of low exposure fog occurs. Is avoided. In the heat mode exposure, the exposure power density on the plate surface of the photosensitive material is practically 500.
0 w / cm 2 or more is required, preferably 10,000
w / cm 2 or more is required. However, although not described here in detail, it is not preferable to use a high power density laser of 5.0 × 10 5 w / cm 2 or more because ablation occurs and the light source is contaminated.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】以下に、本発明を詳細に説明す
る。まず、本発明の平版印刷版原版の感光層に用いられ
る各成分について述べる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention is described in detail below. First, each component used in the photosensitive layer of the lithographic printing plate precursor according to the invention will be described.

【0012】[(C)一分子中にカチオン部を2個以上
有するオニウム塩]本発明の平版印刷版原版の感光層に
おける特徴的な成分として、(C)一分子中にカチオン
部を2個以上有するオニウム塩(以下、適宜、2価オニ
ウム塩と称する)が挙げられる。本発明において、一分
子中にカチオン部を2個以上有するオニウム塩とは、2
個以上のカチオン部が、共有結合により連結されている
化合物を指す。本発明における2価オニウム塩は、光又
は熱重合性開始剤、即ち、光又は熱エネルギー、或い
は、その双方のエネルギーによりラジカルを発生し、重
合性の不飽和基を有する化合物の重合を開始、促進させ
る機能を有する。本発明に用いられるカチオン部を2個
以上有するオニウム塩としては、ジアゾニウム塩、ヨー
ドニウム塩、スルホニウム塩、アンモニウム塩、ホスホ
ニウム塩が挙げられる。感度の面からジアゾニウム塩、
ヨードニウム塩、スルホニウム塩が好ましく、また、安
定性の面からヨードニウム塩、スルホニウム塩が更に好
ましい。本発明に好適に用いられるヨードニウム塩とし
ては、2価以上のヨードニウム塩であれば、他の物性に
特に問題がない限り、任意に選択して使用することがで
きるが、特開平11−153870号公報、J.Or
g.Chem 57,6810−6814(1992
年)に記載のヨードニウム塩が好ましく、感度の面か
ら、最も好ましくは、下記一般式(I)で表される構造
を有するものが挙げられる。
[(C) Onium salt having two or more cation moieties in one molecule] As a characteristic component in the photosensitive layer of the lithographic printing plate precursor according to the invention, (C) two cation moieties in one molecule. An onium salt having the above (hereinafter, appropriately referred to as a divalent onium salt) can be given. In the present invention, an onium salt having two or more cation moieties in one molecule is 2
It refers to a compound in which one or more cation moieties are linked by a covalent bond. The divalent onium salt in the present invention is a photo- or heat-polymerizable initiator, that is, a radical is generated by the energy of light or heat energy, or both of them, and initiates the polymerization of a compound having a polymerizable unsaturated group, Has the function of promoting. Examples of onium salts having two or more cation moieties used in the present invention include diazonium salts, iodonium salts, sulfonium salts, ammonium salts, and phosphonium salts. From the aspect of sensitivity, diazonium salt,
Iodonium salts and sulfonium salts are preferable, and iodonium salts and sulfonium salts are more preferable from the viewpoint of stability. As the iodonium salt preferably used in the present invention, any divalent or higher valent iodonium salt can be arbitrarily selected and used unless there is a particular problem with other physical properties. JP-A No. 11-153870 Gazette, J. Or
g. Chem 57, 6810-6814 (1992).
Year)), and from the viewpoint of sensitivity, most preferred are those having a structure represented by the following general formula (I).

【0013】[0013]

【化1】 [Chemical 1]

【0014】前記一般式(I)中、Ar1、Ar2は互い
に独立して炭素数6〜18の芳香族炭化水素、又は、窒
素、酸素、硫黄から選択されるヘテロ原子を含む複素環
を表す。これらは置換基を有していてもよく、置換基と
しては、ハロゲン原子、アルコキシ基、シアノ基、カル
ボニル基、アミノ基、アミド基、スルホニル基、アルキ
ル基、アリール基、アルケニル基、水酸基が挙げられ
る。また、R1〜R4は互いに独立して、水素原子、ハロ
ゲン原子、アルコキシ基、シアノ基、カルボニル基、ア
ミノ基、アミド基、スルホニル基、アルキル基、アリー
ル基、アルケニル基、又は、水酸基を表す。X-は1価
のアニオンを表す。
In the general formula (I), Ar 1 and Ar 2 each independently represent an aromatic hydrocarbon having 6 to 18 carbon atoms, or a heterocycle containing a hetero atom selected from nitrogen, oxygen and sulfur. Represent These may have a substituent, and examples of the substituent include a halogen atom, an alkoxy group, a cyano group, a carbonyl group, an amino group, an amide group, a sulfonyl group, an alkyl group, an aryl group, an alkenyl group and a hydroxyl group. To be R 1 to R 4 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, an alkoxy group, a cyano group, a carbonyl group, an amino group, an amide group, a sulfonyl group, an alkyl group, an aryl group, an alkenyl group, or a hydroxyl group. Represent X represents a monovalent anion.

【0015】また、本発明に好適に用いられるスルホニ
ウム塩としては、2価以上のスルホニウム塩であれば、
使用することができるが、特開平11−80118、
J.Org.Chem 1992,57,6810−6
814に記載のスルホニウムが好ましく、感度の面から
最も好ましい例としては下記一般式(II)で表されるも
のが挙げられる。
Further, the sulfonium salt preferably used in the present invention is a divalent or higher valent sulfonium salt,
Although it can be used, JP-A-11-80118,
J. Org. Chem 1992, 57, 6810-6.
The sulfonium described in 814 is preferable, and the most preferable example from the viewpoint of sensitivity is that represented by the following general formula (II).

【0016】[0016]

【化2】 [Chemical 2]

【0017】前記一般式(II)中、Ar3、Ar4、Ar
5、Ar6は互いに独立して炭素数6〜18の芳香族炭化
水素、又は、窒素、酸素、硫黄から選択されるヘテロ原
子を含む複素環を表す。これらは置換基を有していても
よく、置換基としては、ハロゲン原子、アルコキシ基、
シアノ基、カルボニル基、アミノ基、アミド基、スルホ
ニル基、アルキル基、アリール基、アルケニル基、水酸
基が挙げられる。また、R5〜R8は互いに独立して、水
素原子、ハロゲン原子、アルコキシ基、シアノ基、カル
ボニル基、アミノ基、アミド基、スルホニル基、アルキ
ル基、アリール基、アルケニル基、水酸基を表す。X-
は1価のアニオンを表す。
In the general formula (II), Ar 3 , Ar 4 and Ar
5, Ar 6 independently of one another are C 6-18 aromatic hydrocarbon, or represents nitrogen, oxygen, a heterocyclic ring containing a heteroatom selected from sulfur. These may have a substituent, and as the substituent, a halogen atom, an alkoxy group,
Examples thereof include cyano group, carbonyl group, amino group, amide group, sulfonyl group, alkyl group, aryl group, alkenyl group and hydroxyl group. R 5 to R 8 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, an alkoxy group, a cyano group, a carbonyl group, an amino group, an amide group, a sulfonyl group, an alkyl group, an aryl group, an alkenyl group or a hydroxyl group. X -
Represents a monovalent anion.

【0018】本発明のオニウム塩のカウンターアニオン
は1価のアニオンであれば使用することができるが、好
ましくはPF6 -、BF4 -、ClO4 -、スルホン酸アニオ
ン、カルボン酸アニオン、サッカリン共役塩基、ハロゲ
ンアニオンを表し、更に好ましくは感度、安定性の面か
らPF6 -、BF4 -、ClO4 -、スルホン酸アニオン、カ
ルボン酸アニオンであり、最も好ましくはスルホン酸ア
ニオン、カルボン酸アニオンのなかでもCOCOO-
造を有するカルボン酸が好ましい。本発明に係る2価オ
ニウム塩に対する2以上のカウンターアニオンX-は互
いに同じであっても、異なっていてもよい。製造の容易
性の観点からは、同じであることが好ましい。本発明に
おいて、これらのオニウム塩は酸発生剤ではなく、ラジ
カル重合開始剤として機能する。
The counter anion of the onium salt of the present invention can be used as long as a monovalent anion, preferably PF 6 -, BF 4 -, ClO 4 -, a sulfonate anion, carboxylate anion, saccharin conjugate Represents a base or a halogen anion, more preferably PF 6 , BF 4 , ClO 4 , a sulfonate anion, or a carboxylate anion from the viewpoint of sensitivity and stability, and most preferably a sulfonate anion or a carboxylate anion. Of these, a carboxylic acid having a COCOO structure is preferable. Two or more counter anions X for the divalent onium salt according to the present invention may be the same as or different from each other. From the viewpoint of ease of production, the same is preferable. In the present invention, these onium salts function not as an acid generator but as a radical polymerization initiator.

【0019】前記2価のオニウム塩は公知の方法により
合成することができる。例えば、2価のスルホニウム塩
は、Chem.Mater.1990,2,732−7
37に記載の方法で合成することができる。また、2価
のヨードニウム塩は、J.Org.Chem 199
2,57,6810−6814、又は、J.Am.Ch
em.Soc.1990,112,6438−6439
に記載の方法より合成することができる。また、本発明
における2価のオニウム塩として、特開平4−2306
45号公報に記載のヨードニウム塩又はスルホニウム塩
のコポリマーを使用することもできる。
The divalent onium salt can be synthesized by a known method. For example, divalent sulfonium salts are described in Chem. Mater. 1990, 2,732-7
It can be synthesized by the method described in 37. Further, the divalent iodonium salt is described in J. Org. Chem 199
2,57,6810-6814, or J. Am. Ch
em. Soc. 1990, 112, 6438-6439
It can be synthesized by the method described in. Further, as a divalent onium salt in the present invention, JP-A-4-2306
Copolymers of iodonium salts or sulfonium salts described in Japanese Patent No. 45 can also be used.

【0020】以下に、本発明に好適に用いられる(C)
2価のオニウム塩の好ましい具体例を示すが、本発明は
これらに限定されるものではない。なお、以下の2価オ
ニウム塩において〔例示化合物(I−1)〜例示化合物
(I−51)〕はヨードニウム塩系化合物、〔例示化合
物(S−1)〜例示化合物(S−40)〕はスルホニウ
ム塩系化合物である。
The following (C) is preferably used in the present invention.
Preferred specific examples of the divalent onium salt are shown below, but the present invention is not limited thereto. In the following divalent onium salts, [Exemplified Compound (I-1) to Exemplified Compound (I-51)] are iodonium salt compounds, and [Exemplified Compound (S-1) to Exemplified Compound (S-40)] are It is a sulfonium salt-based compound.

【0021】[0021]

【化3】 [Chemical 3]

【0022】[0022]

【化4】 [Chemical 4]

【0023】[0023]

【化5】 [Chemical 5]

【0024】[0024]

【化6】 [Chemical 6]

【0025】[0025]

【化7】 [Chemical 7]

【0026】[0026]

【化8】 [Chemical 8]

【0027】[0027]

【化9】 [Chemical 9]

【0028】[0028]

【化10】 [Chemical 10]

【0029】[0029]

【化11】 [Chemical 11]

【0030】[0030]

【化12】 [Chemical 12]

【0031】[0031]

【化13】 [Chemical 13]

【0032】これらの2価オニウム塩は、1種のみを用
いても良いし、2種以上を併用しても良い。2価オニウ
ム塩の好ましい添加量としては感光層全固形分中1〜4
5重量%、更に好ましくは3〜40重量%、最も好まし
くは5〜30重量%である。添加量が1%以下の場合、
感度が低く、画像形成が困難となる。また、45%以上
の場合、アルカリ現像性が低下する。
These divalent onium salts may be used alone or in combination of two or more. The preferred addition amount of the divalent onium salt is 1 to 4 in the total solid content of the photosensitive layer.
It is 5% by weight, more preferably 3-40% by weight, most preferably 5-30% by weight. If the amount added is less than 1%,
Low sensitivity makes image formation difficult. On the other hand, when it is 45% or more, the alkali developability deteriorates.

【0033】なお、本発明に係る感光層には、上記の
(C)2価オニウム塩に加えて、本発明の効果を損なわ
ない限りにおいて、公知の光又は熱重合開始剤、代表的
には1価のオニウム塩などを併用することもできる。こ
のような重合開始剤としては、先に本発明者らが提案し
た特願2000−132478号明細書段落番号〔00
34〕乃至〔0040〕にII)重合開始剤として記載の
オニウム塩、特開平9−34110号公報、段落番号
〔0063〕乃至〔0064〕に開始剤として記載のオ
ニウム塩をはじめとする各種重合開始剤を用いることが
できる。
In the photosensitive layer according to the present invention, in addition to the above-mentioned (C) divalent onium salt, a known photo- or thermal-polymerization initiator, typically a photo-initiator, as long as the effects of the present invention are not impaired. A monovalent onium salt or the like can also be used in combination. As such a polymerization initiator, paragraph number [00] of Japanese Patent Application No. 2000-132478 proposed by the present inventors has been proposed.
34] to [0040] II) onium salts described as polymerization initiators, and various polymerization initiations including the onium salts described in JP-A-9-34110, paragraphs [0063] to [0064] as initiators. Agents can be used.

【0034】本発明において用いられる重合開始剤は、
極大吸収波長が400nm以下であることが好ましく、
さらに360nm以下であることが好ましい。このよう
に吸収波長を紫外線領域にすることにより、画像記録材
料の取り扱いを白灯下で実施することができる。
The polymerization initiator used in the present invention is
The maximum absorption wavelength is preferably 400 nm or less,
Further, it is preferably 360 nm or less. By thus setting the absorption wavelength in the ultraviolet region, the image recording material can be handled under a white light.

【0035】併用し得る公知の(2価オニウム塩以外
の)重合開始剤は、感光層全固形分に対し0〜30重量
%の割合で添加することができる。添加量は、前記
(C)2価オニウム塩に対して、0〜50重量%程度で
あることが好ましい。
The known (other than divalent onium salt) polymerization initiator that can be used in combination can be added in a proportion of 0 to 30% by weight based on the total solid content of the photosensitive layer. The addition amount is preferably about 0 to 50% by weight with respect to the divalent onium salt (C).

【0036】[(A)光熱変換剤]本発明において、感
光層に含まれる光熱変換剤としては、記録に使用する光
エネルギー照射線を吸収し、熱を発生する物質であれば
特に吸収波長域の制限はなく用いることができる。本発
明において使用される好ましい光熱変換剤は、入手容易
な高出力レーザーへの適合性の観点から波長760nm
から1200nmに吸収極大を有する赤外線吸収性染料
又は顔料である。
[(A) Photothermal Conversion Agent] In the present invention, the photothermal conversion agent contained in the photosensitive layer is a substance which absorbs the light energy irradiation ray used for recording and generates heat, particularly in the absorption wavelength range. It can be used without limitation. The preferred photothermal conversion agent used in the present invention has a wavelength of 760 nm from the viewpoint of compatibility with easily available high-power lasers.
To an infrared absorbing dye or pigment having an absorption maximum at 1200 nm.

【0037】染料としては、市販の染料及び例えば「染
料便覧」(有機合成化学協会編集、昭和45年刊)等の
文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的
には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染
料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシ
アニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メ
チン染料、シアニン染料、スクアリリウム色素、ピリリ
ウム塩、金属チオレート錯体、オキソノール染料、ジイ
モニウム染料、アミニウム染料、クロコニウム染料等の
染料が挙げられる。
As the dye, commercially available dyes and known dyes described in documents such as "Handbook of Dyes" (edited by the Society of Synthetic Organic Chemistry, published in 1970) can be used. Specifically, azo dyes, metal complex salt azo dyes, pyrazolone azo dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinone imine dyes, methine dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, metal thiolate complexes, oxonol dyes. , Dyes such as diimonium dyes, aminium dyes, and croconium dyes.

【0038】好ましい染料としては、例えば、特開昭5
8−125246号、特開昭59−84356号、特開
昭59−202829号、特開昭60−78787号等
に記載されているシアニン染料、特開昭58−1736
96号、特開昭58−181690号、特開昭58−1
94595号等に記載されているメチン染料、特開昭5
8−112793号、特開昭58−224793号、特
開昭59−48187号、特開昭59−73996号、
特開昭60−52940号、特開昭60−63744号
等に記載されているナフトキノン染料、特開昭58−1
12792号等に記載されているスクアリリウム色素、
英国特許434,875号記載のシアニン染料等を挙げ
ることができる。
Preferred dyes include, for example, JP-A-5
Cyanine dyes described in JP-A No. 8-125246, JP-A-59-84356, JP-A-59-202829, JP-A-60-78787, and JP-A-58-1736.
96, JP-A-58-181690, JP-A-58-1
Methine dyes described in Japanese Patent Application No. 94595, JP-A-Sho 5
8-112793, JP-A-58-224793, JP-A-59-48187, JP-A-59-73996,
Naphthoquinone dyes described in JP-A-60-52940, JP-A-60-63744 and the like, JP-A-58-1
Squarylium dyes described in No. 12792,
Examples thereof include cyanine dyes described in British Patent 434,875.

【0039】また、米国特許第5,156,938号記
載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特
許第3,881,924号記載の置換されたアリールベ
ンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−142645
号(米国特許第4,327,169号)記載のトリメチ
ンチアピリリウム塩、特開昭58−181051号、同
58−220143号、同59−41363号、同59
−84248号、同59−84249号、同59−14
6063号、同59−146061号に記載されている
ピリリウム系化合物、特開昭59−216146号記載
のシアニン色素、米国特許第4,283,475号に記
載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平5−13
514号、同5−19702号に開示されているピリリ
ウム化合物も好ましく用いられる。
The near-infrared absorption sensitizer described in US Pat. No. 5,156,938 is also preferably used, and the substituted arylbenzo (thio) described in US Pat. No. 3,881,924 is also used. Pyrylium salt, JP-A-57-142645
Trimethine thiapyrylium salt described in U.S. Pat. No. 4,327,169, JP-A Nos. 58-181051, 58-220143, 59-41363 and 59-11363.
-84248, 59-84249, 59-14
Nos. 6063 and 59-146061, pyranium compounds described in JP-A-59-216146, pentamethine thiopyrylium salts described in U.S. Pat. No. 4,283,475, and the like. Fair 5-13
The pyrylium compounds disclosed in Nos. 514 and 5-19702 are also preferably used.

【0040】また、染料として好ましい別の例として米
国特許第4,756,993号明細書中に式(I)、
(II)として記載されている近赤外吸収染料を挙げるこ
とができる。
Another preferred example of the dye is represented by the formula (I) in US Pat. No. 4,756,993:
The near infrared absorbing dye described as (II) can be mentioned.

【0041】これらの染料のうち特に好ましいものとし
ては、シアニン色素、フタロシアニン染料、オキソノー
ル染料、スクアリリウム色素、ピリリウム塩、チオピリ
リウム染料、ニッケルチオレート錯体が挙げられる。さ
らに、下記一般式(a)〜一般式(e)で示される染料
が光熱変換効率に優れるため好ましく、特に下記一般式
(a)で示されるシアニン色素は、本発明に係る感光層
を構成する組成中で使用した場合に、高い重合活性を与
え、且つ、安定性、経済性に優れるため最も好ましい。
Among these dyes, particularly preferred are cyanine dyes, phthalocyanine dyes, oxonol dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, thiopyrylium dyes, and nickel thiolate complexes. Further, the dyes represented by the following general formulas (a) to (e) are preferable because they have excellent photothermal conversion efficiency, and the cyanine dye represented by the following general formula (a) particularly constitutes the photosensitive layer according to the present invention. It is most preferable because it gives high polymerization activity when used in the composition, and is excellent in stability and economy.

【0042】[0042]

【化14】 [Chemical 14]

【0043】一般式(a)中、X1は、水素原子、ハロ
ゲン原子、−NAr3 2、X2−L1または以下に示す基を
表す。ここで、Ar3は、ハロゲン原子、アルコキシ
基、カルボニル基、スルホニル基、アミド基、水酸基、
又は、アルキル基で置換されていてもよい芳香族基を表
し、X2は酸素原子または、硫黄原子を示し、L1は、炭
素原子数1〜12の炭化水素基、ヘテロ原子を有する芳
香族環、ヘテロ原子を含む炭素原子数1〜12の炭化水
素基を示す。なお、ここでヘテロ原子とは、N、S、
O、ハロゲン原子、Seを示す。
In the general formula (a), X 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, —NAr 3 2 , X 2 —L 1 or a group shown below. Here, Ar 3 is a halogen atom, an alkoxy group, a carbonyl group, a sulfonyl group, an amide group, a hydroxyl group,
Or, represents an aromatic group which may be substituted with an alkyl group, X 2 represents an oxygen atom or a sulfur atom, L 1 represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, or an aromatic group having a hetero atom. A hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms including a ring and a hetero atom is shown. Here, the hetero atom means N, S,
O, a halogen atom and Se are shown.

【0044】[0044]

【化15】 [Chemical 15]

【0045】R1およびR2は、それぞれ独立に、炭素原
子数1〜12の炭化水素基を示す。感光層塗布液の保存
安定性から、R1およびR2は、炭素原子数2個以上の炭
化水素基であることが好ましく、さらに、R1とR2とは
互いに結合し、5員環または6員環を形成していること
が特に好ましい。
R 1 and R 2 each independently represent a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms. From the storage stability of the photosensitive layer coating solution, R 1 and R 2 are preferably hydrocarbon groups having 2 or more carbon atoms, and R 1 and R 2 are bonded to each other to form a 5-membered ring or It is particularly preferable to form a 6-membered ring.

【0046】Ar1、Ar2は、それぞれ同じでも異なっ
ていても良く、置換基を有していても良い芳香族炭化水
素基を示す。好ましい芳香族炭化水素基としては、ベン
ゼン環およびナフタレン環が挙げられる。また、好まし
い置換基としては、炭素原子数12個以下の炭化水素
基、ハロゲン原子、炭素原子数12個以下のアルコキシ
基が挙げられる。Y1、Y2は、それぞれ同じでも異なっ
ていても良く、硫黄原子または炭素原子数12個以下の
ジアルキルメチレン基を示す。R3、R4は、それぞれ同
じでも異なっていても良く、置換基を有していても良い
炭素原子数20個以下の炭化水素基を示す。好ましい置
換基としては、炭素原子数12個以下のアルコキシ基、
カルボキシル基、スルホ基が挙げられる。R5、R6、R
7およびR8は、それぞれ同じでも異なっていても良く、
水素原子または炭素原子数12個以下の炭化水素基を示
す。原料の入手性から、好ましくは水素原子である。ま
た、Za-は、対アニオンを示す。ただし、R1〜R8のい
ずれかにスルホ基が置換されている場合は、Za-は必要
ない。好ましいZa-は、感光層塗布液の保存安定性か
ら、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロ
ボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、
およびスルホン酸イオンであり、特に好ましくは、過塩
素酸イオン、ヘキサフルオロフォスフェートイオン、お
よびアリールスルホン酸イオンである。
Ar 1 and Ar 2, which may be the same or different, each represents an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent. Preferred aromatic hydrocarbon groups include a benzene ring and a naphthalene ring. Examples of preferable substituents include a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms, a halogen atom, and an alkoxy group having 12 or less carbon atoms. Y 1 and Y 2 may be the same or different and each represents a sulfur atom or a dialkylmethylene group having 12 or less carbon atoms. R 3 and R 4, which may be the same or different, each represents a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms, which may have a substituent. As a preferable substituent, an alkoxy group having 12 or less carbon atoms,
Examples thereof include a carboxyl group and a sulfo group. R 5 , R 6 , R
7 and R 8 may be the same or different,
It represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms. From the availability of raw materials, hydrogen atom is preferable. Za - represents a counter anion. However, when any of R 1 to R 8 is substituted with a sulfo group, Za is not necessary. Preferred Za is a halogen ion, a perchlorate ion, a tetrafluoroborate ion, a hexafluorophosphate ion, from the storage stability of the photosensitive layer coating solution.
And a sulfonate ion, particularly preferably a perchlorate ion, a hexafluorophosphate ion, and an arylsulfonate ion.

【0047】本発明において、好適に用いることのでき
る一般式(a)で示されるシアニン色素の具体例として
は、以下に例示するものの他、特願平11−31062
3号明細書の段落番号[0017]〜[0019]、特
願2000−224031号明細書の段落番号[001
2]〜[0038]、特願2000−211147号明
細書の段落番号[0012]〜[0023]に記載され
たものを挙げることができる。一般式(a)で示される
シアニン色素のなかでも、X1が−NAr3 2、で表され
るものが感度の観点から最も好ましい。
In the present invention, specific examples of the cyanine dye represented by the general formula (a) which can be preferably used include those shown below and Japanese Patent Application No. 11-31062.
Paragraph numbers [0017] to [0019] of the specification No. 3 and paragraph number [001] of the specification of Japanese Patent Application No. 2000-224031.
2] to [0038], and those described in paragraph Nos. [0012] to [0023] of Japanese Patent Application No. 2000-211147. Among the cyanine dyes represented by formula (a), those in which X 1 is —NAr 3 2 are most preferable from the viewpoint of sensitivity.

【0048】[0048]

【化16】 [Chemical 16]

【0049】[0049]

【化17】 [Chemical 17]

【0050】[0050]

【化18】 [Chemical 18]

【0051】[0051]

【化19】 [Chemical 19]

【0052】[0052]

【化20】 [Chemical 20]

【0053】前記一般式(b)中、Lは共役炭素原子数
7以上のメチン鎖を表し、該メチン鎖は置換基を有して
いてもよく、置換基が互いに結合して環構造を形成して
いてもよい。Zb+は対カチオンを示す。好ましい対カチ
オンとしては、アンモニウム、ヨードニウム、スルホニ
ウム、ホスホニウム、ピリジニウム、アルカリ金属カチ
オン(Ni+、K+、Li+)などが挙げられる。R9〜R
14及びR15〜R20は互いに独立に水素原子又はハロゲン
原子、シアノ基、アルキル基、アリール基、アルケニル
基、アルキニル基、カルボニル基、チオ基、スルホニル
基、スルフィニル基、オキシ基、又はアミノ基から選択
される置換基、或いは、これらを2つ若しくは3つ組合
せた置換基を表し、互いに結合して環構造を形成してい
てもよい。ここで、前記一般式(b)中、Lが共役炭素
原子数7のメチン鎖を表すもの、及び、R9〜R14及び
15〜R20がすべて水素原子を表すものが入手の容易性
と効果の観点から好ましい。
In the above general formula (b), L represents a methine chain having 7 or more conjugated carbon atoms, and the methine chain may have a substituent, and the substituents are bonded to each other to form a ring structure. You may have. Zb + represents a counter cation. Preferred counter cations include ammonium, iodonium, sulfonium, phosphonium, pyridinium, alkali metal cations (Ni + , K + , Li + ) and the like. R 9 ~ R
14 and R 15 to R 20 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, an alkyl group, an aryl group, an alkenyl group, an alkynyl group, a carbonyl group, a thio group, a sulfonyl group, a sulfinyl group, an oxy group, or an amino group. Represents a substituent selected from the above, or a substituent in which two or three of them are combined, and may be bonded to each other to form a ring structure. Here, in the general formula (b), L represents a methine chain having 7 conjugated carbon atoms, and R 9 to R 14 and R 15 to R 20 all represent hydrogen atoms, which are easily available. It is preferable from the viewpoint of the effect.

【0054】本発明において、好適に用いることのでき
る一般式(b)で示される染料の具体例としては、以下
に例示するものを挙げることができる。
In the present invention, specific examples of the dye represented by formula (b) which can be preferably used include the followings.

【0055】[0055]

【化21】 [Chemical 21]

【0056】[0056]

【化22】 [Chemical formula 22]

【0057】前記一般式(c)中、Y3及びY4は、それ
ぞれ、酸素原子、硫黄原子、セレン原子、又はテルル原
子を表す。Mは、共役炭素数5以上のメチン鎖を表す。
21〜R24及びR25〜R28は、それぞれ同じであっても
異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、シアノ
基、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニ
ル基、カルボニル基、チオ基、スルホニル基、スルフィ
ニル基、オキシ基、又はアミノ基を表す。また、式中Z
a-は対アニオンを表し、前記一般式(1)におけるZa-
と同義である。
In the general formula (c), Y 3 and Y 4 each represent an oxygen atom, a sulfur atom, a selenium atom or a tellurium atom. M represents a methine chain having a conjugated carbon number of 5 or more.
R 21 to R 24 and R 25 to R 28 may be the same or different and each is a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, an alkyl group, an aryl group, an alkenyl group, an alkynyl group, a carbonyl group or a thiol group. Represents a group, a sulfonyl group, a sulfinyl group, an oxy group, or an amino group. Also, in the formula Z
a - represents a counter anion, Za in the general formula (1) -
Is synonymous with.

【0058】本発明において、好適に用いることのでき
る一般式(c)で示される染料の具体例としては、以下
に例示するものを挙げることができる。
Specific examples of the dye represented by the general formula (c) which can be preferably used in the invention include the followings.

【0059】[0059]

【化23】 [Chemical formula 23]

【0060】[0060]

【化24】 [Chemical formula 24]

【0061】前記一般式(d)中、R29ないしR31は各
々独立に、水素原子、アルキル基、またはアリール基を
示す。R33およびR34は各々独立に、アルキル基、置換
オキシ基、またはハロゲン原子を示す。nおよびmは各
々独立に0ないし4の整数を示す。R29とR30、または
31とR32はそれぞれ結合して環を形成してもよく、ま
たR29および/またはR30はR33と、またR31および/
またはR32はR34と結合して環を形成しても良く、さら
に、R33或いはR34が複数存在する場合に、R 33同士あ
るいはR34同士は互いに結合して環を形成してもよい。
2およびX3は各々独立に、水素原子、アルキル基、ま
たはアリール基であり、X2およびX3の少なくとも一方
は水素原子またはアルキル基を示す。Qは置換基を有し
ていてもよいトリメチン基またはペンタメチン基であ
り、2価の有機基とともに環構造を形成してもよい。Z
c-は対アニオンを示し、前記一般式(a)におけるZa-
と同義である。
In the general formula (d), R29Through R31Is each
Independently, a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group
Show. R33And R34Are each independently an alkyl group or a substituent
An oxy group or a halogen atom is shown. n and m are
Each independently represents an integer of 0 to 4. R29And R30, Or
R31And R32May combine with each other to form a ring, or
R29And / or R30Is R33And again R31and/
Or R32Is R34May form a ring by combining with
And R33Or R34If there are multiple 33One another
R is R34They may combine with each other to form a ring.
X2And X3Are each independently a hydrogen atom, an alkyl group, or
Or is an aryl group, X2And X3At least one of
Represents a hydrogen atom or an alkyl group. Q has a substituent
Optionally a trimethine group or a pentamethine group
Or may form a ring structure with a divalent organic group. Z
c-Represents a counter anion, and Za in the general formula (a) is-
Is synonymous with.

【0062】本発明において、好適に用いることのでき
る一般式(d)で示される染料の具体例としては、以下
に例示するものを挙げることができる。
In the present invention, specific examples of the dye represented by formula (d) which can be preferably used include the followings.

【0063】[0063]

【化25】 [Chemical 25]

【0064】[0064]

【化26】 [Chemical formula 26]

【0065】前記一般式(e)中、R35〜R50はそれぞ
れ独立に、置換基を有してもよい水素原子、ハロゲン原
子、シアノ基、アルキル基、アリール基、アルケニル
基、アルキニル基、水酸基、カルボニル基、チオ基、ス
ルホニル基、スルフィニル基、オキシ基、アミノ基、オ
ニウム塩構造を示す。Mは2つの水素原子若しくは金属
原子、ハロメタル基、オキシメタル基を示すが、そこに
含まれる金属原子としては、周期律表のIA、IIA、II
IB、IVB族原子、第一、第二、第三周期の遷移金属、
ランタノイド元素が挙げられ、中でも、銅、マグネシウ
ム、鉄、亜鉛、コバルト、アルミニウム、チタン、バナ
ジウムが好ましい。
In the general formula (e), R 35 to R 50 are each independently a hydrogen atom which may have a substituent, a halogen atom, a cyano group, an alkyl group, an aryl group, an alkenyl group, an alkynyl group, A hydroxyl group, a carbonyl group, a thio group, a sulfonyl group, a sulfinyl group, an oxy group, an amino group, and an onium salt structure are shown. M represents two hydrogen atoms or a metal atom, a halometal group or an oxymetal group, and the metal atom contained therein is IA, IIA or II in the periodic table.
IB, IVB group atoms, first, second and third period transition metals,
Examples of the lanthanoid element include copper, magnesium, iron, zinc, cobalt, aluminum, titanium and vanadium.

【0066】本発明において、好適に用いることのでき
る一般式(e)で示される染料の具体例としては、以下
に例示するものを挙げることができる。
Specific examples of the dye represented by the general formula (e) which can be preferably used in the present invention include the followings.

【0067】[0067]

【化27】 [Chemical 27]

【0068】本発明において光熱変換剤として使用され
る顔料としては、市販の顔料及びカラーインデックス
(C.I.)便覧、「最新顔料便覧」(日本顔料技術協
会編、1977年刊)、「最新顔料応用技術」(CMC
出版、1986年刊)、「印刷インキ技術」CMC出
版、1984年刊)に記載されている顔料が挙げられ
る。
Examples of the pigment used as the light-heat converting agent in the present invention include commercially available pigments and color index (CI) handbooks, "Latest pigment handbook" (edited by Japan Pigment Technology Association, 1977), "Latest Pigment". Applied Technology "(CMC
Published in 1986), "Printing Ink Technology" published by CMC, published in 1984).

【0069】顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔
料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、
青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、
ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性ア
ゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ
顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、
ペリレン及びペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キ
ナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリ
ノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、
アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍
光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用できる。
これらの顔料のうち好ましいものはカーボンブラックで
ある。
The types of pigments include black pigments, yellow pigments, orange pigments, brown pigments, red pigments, purple pigments,
Blue pigment, green pigment, fluorescent pigment, metal powder pigment, etc.
Polymer bound dyes may be mentioned. Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensed azo pigments, chelate azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments,
Perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, isoindolinone pigments, quinophthalone pigments, dyed lake pigments,
Azine pigment, nitroso pigment, nitro pigment, natural pigment, fluorescent pigment, inorganic pigment, carbon black and the like can be used.
Preferred among these pigments is carbon black.

【0070】これら顔料は表面処理をせずに用いてもよ
く、表面処理を施して用いてもよい。表面処理の方法に
は、樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性剤
を付着させる方法、反応性物質(例えば、シランカップ
リング剤、エポキシ化合物、ポリイソシアネート等)を
顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表面
処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」(幸書房)、
「印刷インキ技術」(CMC出版、1984年刊)及び
「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に
記載されている。
These pigments may be used without surface treatment or may be used after surface treatment. The surface treatment method includes a method of surface-coating a resin or wax, a method of attaching a surfactant, a method of binding a reactive substance (for example, a silane coupling agent, an epoxy compound, polyisocyanate, etc.) to the pigment surface, etc. Can be considered. The above surface treatment method is "property and application of metal soap" (Koushobo),
It is described in "Printing Ink Technology" (CMC Publishing, 1984) and "Latest Pigment Application Technology" (CMC Publishing, 1986).

【0071】顔料の粒径は0.01μm〜10μmの範
囲にあることが好ましく、0.05μm〜1μmの範囲
にあることがさらに好ましく、特に0.1μm〜1μm
の範囲にあることが好ましい。顔料の粒径が0.01μ
m未満のときは分散物の画像感光層塗布液中での安定性
の点で好ましくなく、また、10μmを越えると画像感
光層の均一性の点で好ましくない。
The particle size of the pigment is preferably in the range of 0.01 μm to 10 μm, more preferably in the range of 0.05 μm to 1 μm, and particularly preferably 0.1 μm to 1 μm.
It is preferably in the range of. Particle size of pigment is 0.01μ
When it is less than m, it is not preferable from the viewpoint of stability of the dispersion in the coating liquid for the image-sensitive layer, and when it exceeds 10 μm, it is not preferable from the viewpoint of uniformity of the image-sensitive layer.

【0072】顔料を分散する方法としては、インク製造
やトナー製造等に用いられる公知の分散技術が使用でき
る。分散機としては、超音波分散器、サンドミル、アト
ライター、パールミル、スーパーミル、ボールミル、イ
ンペラー、デスパーザー、KDミル、コロイドミル、ダ
イナトロン、3本ロールミル、加圧ニーダー等が挙げら
れる。詳細は、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1
986年刊)に記載されている。
As a method for dispersing the pigment, a known dispersion technique used in ink production, toner production, etc. can be used. Examples of the disperser include an ultrasonic disperser, a sand mill, an attritor, a pearl mill, a super mill, a ball mill, an impeller, a disperser, a KD mill, a colloid mill, a dynatron, a three-roll mill and a pressure kneader. For details, see "Latest Pigment Application Technology" (CMC Publishing, 1
986).

【0073】本発明においては、これらの光熱変換剤は
1種のみを用いてもよく、2種以上を併用することもで
きるが、感度の観点からは、一般式(a)で示される色
素を用いることが好ましく、なかでも、X1が−NAr3
2、で表されるものが最も好ましい。
In the present invention, these photothermal conversion agents may be used alone or in combination of two or more, but from the viewpoint of sensitivity, the dye represented by the general formula (a) is used. It is preferable to use, especially X 1 is —NAr 3
Those represented by 2 are most preferable.

【0074】これらの光熱変換剤は、他の成分と同一の
層に添加してもよいし、別の層を設けそこへ添加しても
よいが、ネガ型平版印刷版原版の感光層を作成(製膜)
した際に、感光層の波長760nm〜1200nmの範
囲における吸収極大での光学濃度が、0.1〜3.0の
間にあることが好ましい。この範囲をはずれた場合、感
度が低くなる傾向がある。光学濃度は前記赤外線吸収剤
の添加量と感光層の厚みとにより決定されるため、所定
の光学濃度は両者の条件を制御することにより得られ
る。感光層の光学濃度は常法により測定することができ
る。測定方法としては、例えば、透明、或いは白色の支
持体上に、乾燥後の塗布量が平版印刷版として必要な範
囲において適宜決定された厚みの感光層を形成し、透過
型の光学濃度計で測定する方法、アルミニウム等の反射
性の支持体上に感光層を形成し、反射濃度を測定する方
法等が挙げられる。
These photothermal conversion agents may be added to the same layer as the other components, or may be added to another layer provided, but the photosensitive layer of the negative lithographic printing plate precursor is prepared. (Film formation)
At this time, the optical density at the absorption maximum in the wavelength range of 760 nm to 1200 nm of the photosensitive layer is preferably in the range of 0.1 to 3.0. If it is out of this range, the sensitivity tends to be low. Since the optical density is determined by the amount of the infrared absorber added and the thickness of the photosensitive layer, the predetermined optical density can be obtained by controlling the conditions of both. The optical density of the photosensitive layer can be measured by a conventional method. As a measuring method, for example, a transparent or white support, a coating amount after drying to form a photosensitive layer having a thickness appropriately determined in the range necessary for a lithographic printing plate, with a transmission type optical densitometer Examples thereof include a measuring method and a method of forming a photosensitive layer on a reflective support such as aluminum and measuring the reflection density.

【0075】[(B)重合性の不飽和基を有する化合
物]本発明に使用される重合性の不飽和基を有する化合
物は、少なくとも一個のエチレン性不飽和二重結合を有
する付加重合性化合物であり、好ましくは、末端エチレ
ン性不飽和結合を少なくとも1個、好ましくは2個以上
有する化合物から選ばれる。この様な化合物群は当該産
業分野において広く知られるものであり、本発明におい
てはこれらを特に限定無く用いることができる。これら
は、例えばモノマー、プレポリマー、すなわち2量体、
3量体およびオリゴマー、またはそれらの混合物ならび
にそれらの共重合体などの化学的形態をもつものを包含
する。モノマーおよびその共重合体の例としては、不飽
和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イ
タコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸な
ど)や、そのエステル類、アミド類があげられ、好まし
くは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物
とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化
合物とのアミド類が用いられる。また、ヒドロキシル基
や、アミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する
不飽和カルボン酸エステル、アミド類と単官能もしくは
多官能イソシアネート類、エポキシ類との付加反応物、
単官能もしくは、多官能のカルボン酸との脱水縮合反応
物等も好適に使用される。
[(B) Compound Having Polymerizable Unsaturated Group] The compound having a polymerizable unsaturated group used in the present invention is an addition polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated double bond. And preferably selected from compounds having at least one, and preferably two or more terminal ethylenically unsaturated bonds. Such a compound group is widely known in the industrial field, and these compounds can be used in the invention without particular limitation. These are, for example, monomers, prepolymers, ie dimers,
Those having chemical forms such as trimers and oligomers, or a mixture thereof and a copolymer thereof are included. Examples of the monomers and copolymers thereof include unsaturated carboxylic acids (for example, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.), and their esters and amides. As the ester, an ester of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyhydric alcohol compound and an amide of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyhydric amine compound are used. Further, a hydroxyl group, an amino group, an unsaturated carboxylic acid ester having a nucleophilic substituent such as a mercapto group, an amide and a monofunctional or polyfunctional isocyanate, an addition reaction product of an epoxy,
A dehydration condensation reaction product with a monofunctional or polyfunctional carboxylic acid is also preferably used.

【0076】また、イソシアナト基や、エポキシ基、等
の親電子性置換基を有する、不飽和カルボン酸エステ
ル、アミド類と単官能もしくは多官能のアルコール類、
アミン類、チオール類との付加反応物、ハロゲン基や、
トシルオキシ基、等の脱離性置換基を有する、不飽和カ
ルボン酸エステル、アミド類と単官能もしくは多官能の
アルコール類、アミン類、チオール類との置換反応物も
好適である。また、別の例として、上記の不飽和カルボ
ン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン、ビニル
エーテル等に置き換えた化合物群を使用する事も可能で
ある。
Further, unsaturated carboxylic acid esters, amides and monofunctional or polyfunctional alcohols having an electrophilic substituent such as an isocyanato group or an epoxy group,
Addition reaction products with amines and thiols, halogen groups,
A substitution reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having a leaving substituent such as a tosyloxy group with a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine, or thiol is also suitable. Further, as another example, it is also possible to use a compound group in which unsaturated phosphonic acid, styrene, vinyl ether or the like is substituted for the above unsaturated carboxylic acid.

【0077】脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カル
ボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アク
リル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレ
ート、トリエチレングリコールジアクリレート、1,3
−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリ
コールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリ
レート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリ
メチロールプロパントリアクリレート、トリメチロール
プロパントリ(アクリロイルオキシプロピル)エーテ
ル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサン
ジオールジアクリレート、1,4−シクロヘキサンジオ
ールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアク
リレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペン
タエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラアクリレー卜、ジペンタエリスリトールジア
クリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレー
ト、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテト
ラアクリレート、ソルビト一ルペンタアクリレート、ソ
ルビトールヘキサアクリレート、トリ(アクリロイルオ
キシエチル)イソシアヌレート、ポリエステルアクリレ
ートオリゴマー等がある。
Specific examples of the monomer of the ester of the aliphatic polyhydric alcohol compound and the unsaturated carboxylic acid include acrylic acid esters such as ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, and 1,3.
-Butanediol diacrylate, tetramethylene glycol diacrylate, propylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane tri (acryloyloxypropyl) ether, trimethylolethane triacrylate, hexanediol diacrylate , 1,4-cyclohexanediol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacryl chloride, dipentaerythritol diacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, sorbitol triacrylate, sorbitol. Tetra acrylate, so Bito one Le pentaacrylate, sorbitol hexaacrylate, tri (acryloyloxyethyl) isocyanurate, polyester acrylate oligomer.

【0078】メタクリル酸エステルとしては、テトラメ
チレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリ
コールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメ
タクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレ
ート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチ
レングリコールジメタクリレート、1,3−ブタンジオ
ールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレ
ート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタ
エリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジ
メタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタク
リレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビト
ールテトラメタクリレート、ビス〔p―(3−メタクリ
ルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル〕ジメ
チルメタン、ビス−〔p−(メタクリルオキシエトキ
シ)フェニル〕ジメチルメタン等がある。
As the methacrylic acid ester, tetramethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, 1,3-butanediol. Dimethacrylate, hexanediol dimethacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol dimethacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, sorbitol trimethacrylate, sorbitol tetramethacrylate, bis [p- (3- Methacryloxy-2-hi Rokishipuropokishi) phenyl] dimethyl methane, bis - [p- (methacryloxyethoxy) phenyl] dimethyl methane.

【0079】イタコン酸エステルとしては、エチレング
リコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタ
コネート、1,3−ブタンジオールジイタコネート、
1,4−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレ
ングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジ
イタコネート、ソルビトールテトライタコネート等があ
る。
As the itaconic acid ester, ethylene glycol diitaconate, propylene glycol diitaconate, 1,3-butanediol diitaconate,
1,4-butanediol diitaconate, tetramethylene glycol diitaconate, pentaerythritol diitaconate, sorbitol tetritaconate and the like.

【0080】クロトン酸エステルとしては、エチレング
リコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジ
クロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、
ソルビトールテトラジクロトネート等がある。イソクロ
トン酸エステルとしては、エチレングリコールジイソク
ロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネー
ト、ソルビトールテトライソクロトネート等がある。
As the crotonic acid ester, ethylene glycol dicrotonate, tetramethylene glycol dicrotonate, pentaerythritol dicrotonate,
Examples include sorbitol tetradicrotonate. Examples of the isocrotonic acid ester include ethylene glycol diisocrotonate, pentaerythritol diisocrotonate, and sorbitol tetraisocrotonate.

【0081】マレイン酸エステルとしては、エチレング
リコールジマレート、トリエチレングリコールジマレー
ト、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテ
トラマレート等がある。
Examples of maleic acid esters include ethylene glycol dimaleate, triethylene glycol dimaleate, pentaerythritol dimaleate and sorbitol tetramaleate.

【0082】その他のエステルの例として、例えば、特
公昭46−27926、特公昭51−47334、特開
昭57−196231記載の脂肪族アルコール系エステ
ル類や、特開昭59−5240、特開昭59−524
1、特開平2−226149記載の芳香族系骨格を有す
るもの、特開平1−165613記載のアミノ基を含有
するもの等も好適に用いられる。さらに、前述のエステ
ルモノマーは混合物としても使用することができる。
Examples of other esters include, for example, JP-B-46-27926, JP-B-51-47334, aliphatic alcohol esters described in JP-A-57-196231, JP-A-59-5240 and JP-A-59-5240. 59-524
1, those having an aromatic skeleton described in JP-A-2-226149, and those containing an amino group described in JP-A-1-165613 are also preferably used. Furthermore, the above-mentioned ester monomers can also be used as a mixture.

【0083】また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カ
ルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチ
レンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリル
アミド、1,6−ヘキサメチレンビス−アクリルアミ
ド、1,6−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、
ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレ
ンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミ
ド等がある。その他の好ましいアミド系モノマーの例と
しては、特公昭54−21726記載のシクロへキシレ
ン構造を有すものをあげる事ができる。
Specific examples of the amide monomer of an aliphatic polyvalent amine compound and an unsaturated carboxylic acid include methylenebis-acrylamide, methylenebis-methacrylamide, 1,6-hexamethylenebis-acrylamide, 1,6- Hexamethylene bis-methacrylamide,
Examples include diethylenetriamine tris acrylamide, xylylene bis acrylamide, and xylylene bis methacrylamide. Examples of other preferable amide-based monomers include those having a cyclohexylene structure described in JP-B No. 54-21726.

【0084】また、イソシアネートと水酸基の付加反応
を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適
であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭4
8−41708号公報中に記載されている1分子に2個
以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化
合物に、下記式で示される水酸基を含有するビニルモノ
マーを付加させた1分子中に2個以上の重合性ビニル基
を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。
Further, urethane type addition-polymerizable compounds produced by addition reaction of isocyanate and hydroxyl group are also suitable, and specific examples thereof include, for example, Japanese Examined Patent Publication No.
Two or more in one molecule obtained by adding a vinyl monomer having a hydroxyl group represented by the following formula to a polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups in one molecule described in JP-A-8-41708. Examples thereof include vinyl urethane compounds containing a polymerizable vinyl group.

【0085】 CH2=C(R)COOCH2CH(R’)OH 前記式中、RおよびR’はHあるいはCH3を示す。CH 2 ═C (R) COOCH 2 CH (R ′) OH In the above formula, R and R ′ represent H or CH 3 .

【0086】また、特開昭51−37193号、特公平
2−32293号、特公平2−16765号に記載され
ているようなウレタンアクリレート類や、特公昭58−
49860号、特公昭56−17654号、特公昭62
−39417、特公昭62−39418号記載のエチレ
ンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適で
ある。
Further, urethane acrylates such as those described in JP-A-51-37193, JP-B-2-32293 and JP-B-2-16765, and JP-B-58-
49860, Japanese Patent Publication No. 56-17654, Japanese Patent Publication No. 62
The urethane compounds having an ethylene oxide skeleton described in JP-B-39417 and JP-B-62-39418 are also suitable.

【0087】さらに、特開昭63−277653,特開
昭63−260909号、特開平1−105238号に
記載される、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有
する付加重合性化合物類を用いることによっては、非常
に感光スピードに優れた感光性組成物を得ることができ
る。
Further, by using addition-polymerizable compounds having an amino structure or a sulfide structure in the molecule described in JP-A-63-277653, JP-A-63-260909 and JP-A-1-105238. Can provide a photosensitive composition having a very high exposure speed.

【0088】その他の例としては、特開昭48−641
83号、特公昭49−43191号、特公昭52−30
490号、各公報に記載されているようなポリエステル
アクリレート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸を
反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリ
レートやメタクリレートをあげることができる。また、
特公昭46−43946号、特公平1−40337号、
特公平1−40336号記載の特定の不飽和化合物や、
特開平2−25493号記載のビニルホスホン酸系化合
物等もあげることができる。また、ある場合には、特開
昭61−22048号記載のペルフルオロアルキル基を
含有する構造が好適に使用される。さらに日本接着協会
誌vol.20、No.7、300〜308ページ(1
984年)に光硬化性モノマーおよびオリゴマーとして
紹介されているものも使用することができる。
Another example is JP-A-48-641.
No. 83, Japanese Patent Publication No. 49-43191, Japanese Patent Publication No. 52-30
Polyfunctional acrylates and methacrylates such as polyester acrylates and epoxy acrylates obtained by reacting an epoxy resin with (meth) acrylic acid as described in Japanese Patent No. 490 and each publication can be given. Also,
JP-B-46-43946, JP-B1-40337,
Specific unsaturated compounds described in JP-B-1-40336,
The vinylphosphonic acid compounds described in JP-A-2-25493 can also be used. In some cases, the structure containing a perfluoroalkyl group described in JP-A-61-22048 is preferably used. Furthermore, the Japan Adhesive Association magazine, vol. 20, No. 7, pages 300-308 (1
Those introduced as photo-curable monomers and oligomers in (984) can also be used.

【0089】これらの、付加重合性化合物について、ど
の様な構造を用いるか、単独で使用するか併用するか、
添加量はどうかといった、使用方法の詳細は、最終的な
感材の性能設計にあわせて、任意に設定できる。例えば
次のような観点から選択される。感光スピードの点では
1分子あたりの不飽和基含量が多い構造が好ましく、多
くの場合、2官能以上が好ましい。また、画像部すなわ
ち硬化膜の強度を高くするためには、3官能以上のもの
が良く、さらに、異なる官能数・異なる重合性基(例え
ばアクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、スチレ
ン系化合物、ビニルエーテル系化合物)のものを併用す
ることで、感光性と、強度を両方を調節する方法も有効
である。大きな分子量の化合物や、疎水性の高い化合物
は感光スピードや、膜強度に優れる反面、現像スピード
や現像液中での析出といった点で好ましく無い場合があ
る。
Regarding these addition-polymerizable compounds, what structure is used, whether they are used alone or in combination,
The details of the usage method, such as the addition amount, can be arbitrarily set according to the performance design of the final photosensitive material. For example, it is selected from the following viewpoints. From the viewpoint of photosensitivity, a structure having a large content of unsaturated groups per molecule is preferable, and in many cases, bifunctional or higher functional groups are preferable. Further, in order to increase the strength of the image portion, that is, the cured film, it is preferable that the functional group has three or more functional groups, and further, different functional numbers and different polymerizable groups (for example, acrylic acid ester, methacrylic acid ester, styrene-based compound, vinyl ether-based compound). A method of controlling both photosensitivity and strength by using a compound) together is also effective. A compound having a large molecular weight or a compound having a high hydrophobicity is excellent in the photosensitizing speed and the film strength, but it may not be preferable in terms of the developing speed and the precipitation in the developing solution.

【0090】また、感光層を構成する組成物中の他の成
分(例えばバインダーポリマー、開始剤、着色剤等)と
の相溶性、分散性に対しても、付加重合化合物の選択・
使用法は重要な要因であり、例えば、低純度化合物の使
用や、2種以上の併用により相溶性を向上させうる事が
ある。また、平版印刷版用原版とする場合、後述の支持
体、オーバーコート層等の密着性を向上せしめる目的で
特定の構造を選択することもあり得る。感光層形成用組
成物(以下、適宜、感光性組成物とも称する)中の付加
重合性化合物の配合比に関しては、多い方が感度的に有
利であるが、多すぎる場合には、好ましくない相分離が
生じたり、感光層形成用組成物の粘着性による製造工程
上の問題(例えば、感材成分の転写、粘着に由来する製
造不良)や、平版印刷版用原版とした場合、現像液から
の析出が生じる等の問題を生じうる。これらの観点か
ら、好ましい配合比は、多くの場合、組成物全成分に対
して5〜80重量%、好ましくは25〜75重量%であ
る。また、これらは単独で用いても2種以上併用しても
よい。そのほか、付加重合性化合物の使用法は、酸素に
対する重合阻害の大小、解像度、かぶり性、屈折率変
化、表面粘着性等の観点から適切な構造、配合、添加量
を任意に選択でき、さらに場合によっては下塗り、上塗
りといった層構成・塗布方法も実施しうる。
In addition, the compatibility with other components (eg, binder polymer, initiator, colorant, etc.) and dispersibility in the composition constituting the photosensitive layer, the selection of addition polymerization compounds.
The usage is an important factor, and for example, the compatibility may be improved by using a low-purity compound or by using two or more kinds in combination. Further, in the case of a lithographic printing plate precursor, a specific structure may be selected for the purpose of improving the adhesion of a support, an overcoat layer and the like, which will be described later. Regarding the compounding ratio of the addition-polymerizable compound in the composition for forming a photosensitive layer (hereinafter, also appropriately referred to as a photosensitive composition), the larger the ratio, the more advantageous in terms of sensitivity. Separation may occur, problems in the manufacturing process due to the tackiness of the composition for forming the photosensitive layer (for example, transfer of the photosensitive material component, manufacturing defects due to tackiness), or when using a lithographic printing plate precursor, Can cause problems such as precipitation of From these viewpoints, the preferable compounding ratio is often 5 to 80% by weight, preferably 25 to 75% by weight, based on all the components of the composition. These may be used alone or in combination of two or more. In addition, the method of using the addition-polymerizable compound, the degree of polymerization inhibition with respect to oxygen, resolution, fogging, refractive index change, surface tackiness, etc., an appropriate structure, formulation, and addition amount can be arbitrarily selected. Depending on the case, a layer constitution / coating method such as undercoating or topcoating can be carried out.

【0091】[(D)バインダー]本発明の平版印刷版
原版においては、感光層中に、膜性向上などの目的で、
感光層にさらにバインダーポリマーを添加することが好
ましい。ここで用いるバインダーとしては、水不溶性且
つアルカリ水溶液可溶性の線状有機高分子重合体が好ま
しい。このような「線状有機高分子重合体」としては、
公知の如何なる重合体をも選択して使用することがっで
きるが、好ましくは水現像あるいは弱アルカリ水現像を
可能とする水あるいは弱アルカリ水可溶性または膨潤性
である線状有機高分子重合体が選択される。線状有機高
分子重合体は、組成物の皮膜形成剤としてだけでなく、
水、弱アルカリ水あるいは有機溶剤現像剤としての用途
に応じて選択使用される。例えば、水可溶性有機高分子
重合体を用いると水現像が可能になる。このような線状
有機高分子重合体としては、側鎖にカルボン酸基を有す
る付加重合体、例えば特開昭59−44615号、特公
昭54−34327号、特公昭58−12577号、特
公昭54−25957号、特開昭54−92723号、
特開昭59−53836号、特開昭59−71048号
に記載されているもの、すなわち、メタクリル酸共重合
体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロト
ン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マ
レイン酸共重合体等がある。また同様に側鎖にカルボン
酸基を有する酸性セルロース誘導体がある。この他に水
酸基を有する付加重合体に環状酸無水物を付加させたも
のなどが有用である。
[(D) Binder] In the lithographic printing plate precursor according to the invention, in the photosensitive layer, for the purpose of improving film property,
It is preferable to add a binder polymer to the photosensitive layer. The binder used here is preferably a linear organic high molecular polymer which is insoluble in water and soluble in an aqueous alkali solution. As such a "linear organic high molecular polymer",
Any known polymer can be selected and used, but a water-soluble or weak alkaline water-soluble or swellable linear organic polymer which enables water development or weak alkaline water development is preferable. To be selected. The linear organic high molecular polymer is not only used as a film forming agent for the composition,
It is selected and used according to the application as water, weak alkaline water or organic solvent developer. For example, when a water-soluble organic polymer is used, water development becomes possible. Examples of such a linear organic high molecular polymer include addition polymers having a carboxylic acid group in the side chain, for example, JP-A-59-44615, JP-B-54-34327, JP-B-58-12577, and JP-B-58. 54-25957, JP-A-54-92723,
Those described in JP-A-59-53836 and JP-A-59-71048, that is, methacrylic acid copolymers, acrylic acid copolymers, itaconic acid copolymers, crotonic acid copolymers, maleic acid Examples thereof include copolymers and partially esterified maleic acid copolymers. Similarly, there is an acidic cellulose derivative having a carboxylic acid group in its side chain. In addition to these, addition polymers having a cyclic acid anhydride to an addition polymer having a hydroxyl group are useful.

【0092】特にこれらの中で〔ベンジル(メタ)アク
リレート/(メタ)アクリル酸/必要に応じてその他の
付加重合性ビニルモノマー〕共重合体および〔アリル
(メタ)アクリレート/(メタ)アクリル酸/必要に応
じてその他の付加重合性ビニルモノマー〕共重合体は、
膜強度、感度、現像性のバランスに優れており、好適で
ある。
In particular, among these, [benzyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid / optionally other addition-polymerizable vinyl monomer] copolymer and [allyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid / Other addition polymerizable vinyl monomer if necessary] copolymer is
It is suitable because it has an excellent balance of film strength, sensitivity, and developability.

【0093】また、特公平7−12004号、特公平7
−120041号、特公平7−120042号、特公平
8−12424号、特開昭63−287944号、特開
昭63−287947号、特開平1−271741号、
特願平10−116232号等に記載される、酸基を含
有するウレタン系バインダーポリマーは、非常に、強度
に優れるので、耐刷性・低露光適性の点で有利である。
また、特開平11−171907記載のアミド基を有す
るバインダーは優れた現像性と膜強度をあわせもち、好
適である。
Further, Japanese Patent Publication No. 7-2004, Japanese Patent Publication No. 7-2004
-120041, Japanese Patent Publication No. 7-120042, Japanese Patent Publication No. 8-12424, Japanese Patent Laid-Open No. 63-287944, Japanese Patent Laid-Open No. 63-287947, Japanese Patent Laid-Open No. 1-271741,
The urethane group binder polymer containing an acid group, which is described in Japanese Patent Application No. 10-116232 and the like, is very excellent in strength and is advantageous in terms of printing durability and suitability for low exposure.
Further, the binder having an amide group described in JP-A No. 11-171907 is suitable because it has both excellent developability and film strength.

【0094】さらにこの他に水溶性線状有機高分子とし
て、ポリビニルピロリドンやポリエチレンオキサイド等
が有用である。また硬化皮膜の強度を上げるためにアル
コール可溶性ナイロンや2,2−ビス−(4−ヒドロキ
シフェニル)―プロパンとエピクロロヒドリンのポリエ
ーテル等も有用である。これらの線状有機高分子重合体
は全組成物中に任意な量を混和させることができる。し
かし90重量%を超える場合には形成される画像強度等
の点で好ましい結果を与えない。好ましくは30〜85
重量%である。また光重合可能なエチレン性不飽和二重
結合を有する化合物と線状有機高分子重合体は、重量比
で1/9〜7/3の範囲とするのが好ましい。
In addition to these, polyvinylpyrrolidone and polyethylene oxide are useful as water-soluble linear organic polymers. In addition, alcohol-soluble nylon and polyether of 2,2-bis- (4-hydroxyphenyl) -propane and epichlorohydrin are also useful for increasing the strength of the cured film. These linear organic high molecular weight polymers can be mixed in any amount in the entire composition. However, when it exceeds 90% by weight, favorable results are not obtained in terms of the strength of the formed image. Preferably 30-85
% By weight. The weight ratio of the compound having a photopolymerizable ethylenically unsaturated double bond to the linear organic polymer is preferably in the range of 1/9 to 7/3.

【0095】本発明に係るバインダーポリマーは実質的
に水に不溶でアルカリ水溶液に可溶なものが用いられ
る。このため、現像液として、環境上好ましくない有機
溶剤を用いないか、もしくは非常に少ない使用量に制限
できる。このようなバインダーポリマーの酸価(ポリマ
ー1gあたりの酸含率を化学等量数で表したもの)と分
子量は画像強度と現像性の観点から適宜選択される。好
ましい酸価は、0.4〜3.0meq/gであり好まし
い分子量は3000から50万の範囲で、より好ましく
は、酸価が0.6〜2.0分子量が1万から30万の範
囲である。
As the binder polymer according to the present invention, one which is substantially insoluble in water and soluble in an alkaline aqueous solution is used. For this reason, it is possible to use no environmentally unfavorable organic solvent as the developer, or to limit the amount to be used to a very small amount. The acid value (the acid content per 1 g of the polymer is represented by a chemical equivalent number) and the molecular weight of such a binder polymer are appropriately selected from the viewpoints of image strength and developability. A preferred acid value is 0.4 to 3.0 meq / g and a preferred molecular weight is in the range of 3,000 to 500,000, and more preferably an acid value of 0.6 to 2.0 is in the range of 10,000 to 300,000. Is.

【0096】[(E)その他の成分]本発明の平版印刷
版原版の感光層には、さらにその用途、製造方法等に適
したその他の成分を適宜添加することができる。以下、
好ましい添加剤に関し例示する。 (E−1)共増感剤 ある種の添加剤(以後、共増感剤という)を用いること
で、感度をさらに向上させる事ができる。これらの作用
機構は、明確ではないが、多くは次のような化学プロセ
スに基づくものと考えられる。即ち、熱重合開始剤によ
り開始される光反応、と、それに引き続く付加重合反応
の過程で生じる様々な中間活性種(ラジカル、カチオ
ン)と、共増感剤が反応し、新たな活性ラジカルを生成
するものと推定される。これらは、大きくは、(a)還
元されて活性ラジカルを生成しうるもの、(b)酸化さ
れて活性ラジカルを生成しうるもの、(c)活性の低い
ラジカルと反応し、より活性の高いラジカルに変換する
か、もしくは連鎖移動剤として作用するもの、に分類で
きるが、個々の化合物がこれらのどれに属するかに関し
ては、通説がない場合も多い。
[(E) Other Components] The photosensitive layer of the lithographic printing plate precursor according to the invention may further contain other components suitable for the intended use, the production method and the like. Less than,
The preferred additives will be exemplified. (E-1) Cosensitizer The sensitivity can be further improved by using a certain additive (hereinafter referred to as a cosensitizer). Although their mechanism of action is not clear, it is thought that most of them are based on the following chemical processes. That is, the co-sensitizer reacts with various intermediate active species (radicals and cations) generated in the process of the photopolymerization initiated by the thermal polymerization initiator and the subsequent addition polymerization reaction to generate a new active radical. It is presumed to do. These are, to a large extent, (a) a substance that can be reduced to generate an active radical, (b) a substance that can be oxidized to generate an active radical, and (c) a radical having a higher activity that reacts with a less active radical. The compound can be classified into a compound that acts as a chain transfer agent or a compound that is converted into a compound, but there is often no consensus as to which of these individual compounds belong.

【0097】(a)還元されて活性ラジカルを生成する
化合物 炭素−ハロゲン結合を有する化合物:還元的に炭素−ハ
ロゲン結合が解裂し、活性ラジカルを発生すると考えら
れる。具体的には、例えば、トリハロメチル−s−トリ
アジン類や、トリハロメチルオキサジアゾール類等が好
適に使用できる。 窒素−窒素結合を有する化合物:還元的に窒素−窒素結
合が解裂し、活性ラジカルを発生すると考えられる。具
体的にはヘキサアリールビイミダゾール類等が好適に使
用される。 酸素一酸素結合を有する化合物:還元的に酸素−酸素結
合が解裂し、活性ラジカルを発生すると考えられる。具
体的には、例えば、有機過酸化物類等が好適に使用され
る。 オニウム化合物:還元的に炭素−ヘテロ結合や、酸素−
窒素結合が解裂し、活性ラジカルを発生すると考えられ
る。具体的には例えば、ジアリールヨードニウム塩類、
トリアリールスルホニウム塩類、N−アルコキシピリジ
ニウム(アジニウム)塩類等が好適に使用される。 フエロセン、鉄アレーン錯体類:還元的に活性ラジカル
を生成しうる。
(A) Compound which is reduced to produce an active radical Compound having a carbon-halogen bond: It is considered that the carbon-halogen bond is reductively cleaved to generate an active radical. Specifically, for example, trihalomethyl-s-triazines and trihalomethyloxadiazoles can be preferably used. Compound having nitrogen-nitrogen bond: It is considered that the nitrogen-nitrogen bond is reductively cleaved to generate an active radical. Specifically, hexaarylbiimidazoles and the like are preferably used. Compound having oxygen-oxygen bond: It is considered that an oxygen-oxygen bond is reductively cleaved to generate an active radical. Specifically, for example, organic peroxides and the like are preferably used. Onium compound: Reductively carbon-hetero bond or oxygen-
It is considered that the nitrogen bond is cleaved to generate an active radical. Specifically, for example, diaryliodonium salts,
Triarylsulfonium salts, N-alkoxypyridinium (azinium) salts and the like are preferably used. Ferrocene, iron arene complexes: An active radical can be reductively generated.

【0098】(b)酸化されて活性ラジカルを生成する
化合物 アルキルアート錯体:酸化的に炭素−ヘテロ結合が解裂
し、活性ラジカルを生成すると考えられる。具体的には
例えば、トリアリールアルキルボレート類が好適に使用
される。 アルキルアミン化合物:酸化により窒素に隣接した炭素
上のC−X結合が解裂し、活性ラジカルを生成するもの
と考えられる。Xとしては、水素原子、カルボキシル
基、トリメチルシリル基、ベンジル基等が好適である。
具体的には、例えば、エタノールアミン類、N−フェニ
ルグリシン類、N−トリメチルシリルメチルアニリン類
等があげられる。 含硫黄、含錫化合物:上述のアミン類の窒素原子を硫黄
原子、錫原子に置き換えたものが、同様の作用により活
性ラジカルを生成しうる。また、S−S結合を有する化
合物もS−S解裂による増感が知られる。
(B) Compound that oxidizes to generate an active radical Alkylate complex: It is considered that an active radical is generated by the oxidative cleavage of a carbon-hetero bond. Specifically, for example, triarylalkyl borates are preferably used. Alkylamine compound: It is considered that the C—X bond on the carbon adjacent to the nitrogen is cleaved by oxidation to generate an active radical. As X, a hydrogen atom, a carboxyl group, a trimethylsilyl group, a benzyl group and the like are preferable.
Specific examples include ethanolamines, N-phenylglycines, N-trimethylsilylmethylanilines, and the like. Sulfur-containing and tin-containing compounds: The above amines in which the nitrogen atom is replaced with a sulfur atom or a tin atom can generate an active radical by the same action. It is also known that a compound having an S-S bond is sensitized by cleavage of S-S.

【0099】α−置換メチルカルボニル化合物:酸化に
より、カルボニル−α炭素間の結合解裂により、活性ラ
ジカルを生成しうる。また、カルボニルをオキシムエー
テルに変換したものも同様の作用を示す。具体的には、
2−アルキル−1−[4−(アルキルチオ)フェニル]
−2−モルフォリノプロノン−1類、並びに、これら
と、ヒドロキシアミン類とを反応したのち、N−OHを
エーテル化したオキシムエーテル類をあげる事ができ
る。 スルフィン酸塩類:還元的に活性ラジカルを生成しう
る。具体的は、アリールスルフィン駿ナトリウム等をあ
げる事ができる。
Α-Substituted methylcarbonyl compound: An active radical can be generated by the cleavage of the carbonyl-α carbon bond by oxidation. Further, the one in which carbonyl is converted to oxime ether also exhibits the same action. In particular,
2-alkyl-1- [4- (alkylthio) phenyl]
Examples thereof include -2-morpholinopronone-1 and oxime ethers obtained by reacting these with hydroxyamines and then etherifying N-OH. Sulfinates: An active radical can be reductively generated. Specific examples thereof include sodium arylsulfin and the like.

【0100】(c)ラジカルと反応し高活性ラジカルに
変換、もしくは連鎖移動剤として作用する化合物:例え
ば、分子内にSH、PH、SiH、GeHを有する化合
物群が用いられる。これらは、低活性のラジカル種に水
素供与して、ラジカルを生成するか、もしくは、酸化さ
れた後、脱プロトンする事によりラジカルを生成しう
る。具体的には、例えば、2−メルカプトベンズイミダ
ゾール類等があげられる。
(C) Compounds that react with radicals to be converted into highly active radicals or act as chain transfer agents: For example, compounds having SH, PH, SiH, and GeH in the molecule are used. These can donate hydrogen to a radical species having low activity to generate a radical, or can generate a radical by deprotonating after being oxidized. Specific examples include 2-mercaptobenzimidazoles.

【0101】これらの共増感剤のより具体的な例は、例
えば、特開平9−236913号公報中に、感度向上を
目的とした添加剤として、多く記載されており、それら
を本発明においても適用することができる。
More specific examples of these co-sensitizers are described, for example, in JP-A-9-236913 as additives for the purpose of improving sensitivity, and they are used in the present invention. Can also be applied.

【0102】(E−2)重合禁止剤 また、本発明においては以上の基本成分の他に感光性組
成物の製造中あるいは保存中において重合可能なエチレ
ン性不飽和二重結合を有する化合物の不要な熱重合を阻
止するために少量の熱重合防止剤を添加することが望ま
しい。適当な熱重合防止剤としてはハイドロキノン、p
−メトキシフェノール、ジ−t−ブチル−p−クレゾー
ル、ピロガロール、t―ブチルカテコール、ベンゾキノ
ン、4,4′−チオビス(3−メチル−6−t−ブチル
フェノール)、2,2′−メチレンビス(4−メチル−
6−t―ブチルフェノール)、N−ニトロソフェニルヒ
ドロキシアミン第一セリウム塩等が挙げられる。熱重合
防止剤の添加量は、全組成物の重量に対して約0.01
重量%〜約5重量%が好ましい。また必要に応じて、酸
素による重合阻害を防止するためにベヘン酸やベヘン酸
アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加して、平版印
刷版用原版とする場合、支持体等への塗布後の乾燥の過
程でその感光層の表面に偏在させてもよい。高級脂肪酸
誘導体の添加量は、全組成物の約0.5重量%〜約10
重量%が好ましい。
(E-2) Polymerization Inhibitor In the present invention, in addition to the above basic components, a compound having an ethylenically unsaturated double bond which is polymerizable during the production or storage of the photosensitive composition is unnecessary. It is desirable to add a small amount of a thermal polymerization inhibitor to prevent such thermal polymerization. Suitable thermal polymerization inhibitors include hydroquinone, p
-Methoxyphenol, di-t-butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone, 4,4'-thiobis (3-methyl-6-t-butylphenol), 2,2'-methylenebis (4- Methyl-
6-t-butylphenol), N-nitrosophenylhydroxyamine primary cerium salt and the like. The amount of the thermal polymerization inhibitor added is about 0.01 based on the weight of the entire composition.
Weight percent to about 5 weight percent is preferred. If necessary, a higher fatty acid derivative such as behenic acid or behenic acid amide is added to prevent polymerization inhibition by oxygen to prepare a lithographic printing plate precursor. It may be unevenly distributed on the surface of the photosensitive layer during the drying process. The amount of the higher fatty acid derivative added is about 0.5% by weight to about 10% by weight of the total composition.
Weight percent is preferred.

【0103】(E−3)着色剤等 さらに、感光層の着色を目的として染料もしくは顔料を
添加してもよい。これにより、印刷版としての、製版後
の視認性や、画像濃度測定機適性といったいわゆる検版
性を向上させる事ができる。着色剤としては、多くの染
料は光重合系感光層の感度の低下を生じるので、着色剤
としては、特に顔料の使用が好ましい。具体例としては
例えばフタロシアニン系顔料、アゾ系顔料、カーボンブ
ラック、酸化チタンなどの顔料、エチルバイオレット、
クリスタルバイオレット、アゾ系染料、アントラキノン
系染料、シアニン系染料などの染料がある。染料および
顔料の添加量は全組成物の約0.5重量%〜約5重量%
が好ましい。
(E-3) Colorant etc. Further, a dye or a pigment may be added for the purpose of coloring the photosensitive layer. This makes it possible to improve the so-called plate inspection property such as the visibility as a printing plate after plate making and the suitability for an image density measuring machine. As a colorant, many dyes cause a decrease in the sensitivity of the photopolymerization type photosensitive layer, so that a pigment is particularly preferably used as the colorant. Specific examples include phthalocyanine pigments, azo pigments, carbon black, pigments such as titanium oxide, ethyl violet,
There are dyes such as crystal violet, azo dyes, anthraquinone dyes, and cyanine dyes. The amount of dye and pigment added is about 0.5% to about 5% by weight of the total composition.
Is preferred.

【0104】(E−4)その他の添加剤 さらに、本発明に係る感光層には、硬化皮膜の物性を改
良するために無機充填剤や、その他可塑剤、感光層表面
のインク着肉性を向上させうる感脂化剤等の公知の添加
剤を加えてもよい。
(E-4) Other Additives Further, in the photosensitive layer according to the present invention, in order to improve the physical properties of the cured film, an inorganic filler, other plasticizer, and ink receptivity on the surface of the photosensitive layer are added. You may add well-known additives, such as an oil sensitizer which can be improved.

【0105】可塑剤としては例えばジオクチルフタレー
ト、ジドデシルフタレート、トリエチレングリコールジ
カプリレート、ジメチルグリコールフタレート、トリク
レジルホスフェート、ジオクチルアジペート、ジブチル
セバケート、トリアセチルグリセリン等があり、結合剤
を使用した場合、エチレン性不飽和二重結合を有する化
合物と結合剤との合計重量に対し10重量%以下添加す
ることができる。
Examples of the plasticizer include dioctyl phthalate, didodecyl phthalate, triethylene glycol dicaprylate, dimethyl glycol phthalate, tricresyl phosphate, dioctyl adipate, dibutyl sebacate, and triacetyl glycerin. In this case, 10% by weight or less can be added to the total weight of the compound having an ethylenically unsaturated double bond and the binder.

【0106】また、後述する膜強度(耐刷性)向上を目
的とした、現像後の加熱・露光の効果を強化するため
の、UV開始剤や、熟架橋剤等の添加もできる。その
他、感光層と支持体との密着性向上や、未露光感光層の
現像除去性を高めるための添加剤、中間層を設ける事を
可能である。例えば、ジアゾニウム構造を有する化合物
や、ホスホン化合物、等、基板と比較的強い相互作用を
有する化合物の添加や下塗りにより、密着性が向上し、
耐刷性を高める事が可能であり、一方ポリアクリル酸
や、ポリスルホン酸のような親水性ポリマーの添加や下
塗りにより、非画像部の現像性が向上し、汚れ性の向上
が可能となる。
Further, for the purpose of improving the film strength (printing durability) described later, a UV initiator, a maturing cross-linking agent or the like may be added to enhance the effect of heating / exposure after development. In addition, it is possible to provide an additive and an intermediate layer for improving the adhesion between the photosensitive layer and the support and for enhancing the removability of the unexposed photosensitive layer by development. For example, a compound having a diazonium structure, a phosphon compound, or the like, by adding a compound having a relatively strong interaction with the substrate or by undercoating, adhesion is improved,
The printing durability can be increased, while the addition of a hydrophilic polymer such as polyacrylic acid or polysulfonic acid or undercoating improves the developability of the non-image area and improves the stain resistance.

【0107】次に本発明の平版印刷版原版において任意
に設けられる他の層について説明する。 [保護層]本発明の平版印刷版原版は、通常、露光を大
気中で行うため、光重合性組成物を用いた感光層の上
に、さらに、保護層を設ける事が好ましい。保護層は、
感光層中で露光により生じる画像形成反応を阻害する大
気中に存在する酸素や塩基性物質等の低分子化合物の感
光層への混入を防止し、大気中での露光を可能とする。
従って、この様な保護層に望まれる特性は、酸素等の低
分子化合物の透過性が低いことであり、さらに、露光に
用いる光の透過性が良好で、感光層との密着性に優れ、
かつ、露光後の現像工程で容易に除去できる事が望まし
い。
Next, other layers optionally provided in the planographic printing plate precursor of the invention will be described. [Protective Layer] Since the lithographic printing plate precursor according to the invention is usually exposed to light in the atmosphere, it is preferable to further provide a protective layer on the photosensitive layer using the photopolymerizable composition. The protective layer is
It prevents exposure of the photosensitive layer to low-molecular compounds such as oxygen and basic substances existing in the atmosphere, which inhibit the image forming reaction caused by exposure in the photosensitive layer, from entering the photosensitive layer.
Therefore, a property desired for such a protective layer is that the low molecular weight compound such as oxygen has low transparency, and further, the transparency of light used for exposure is good, and the adhesiveness to the photosensitive layer is excellent,
Moreover, it is desirable that it can be easily removed in the developing step after exposure.

【0108】このような、保護層に関する工夫が従来よ
りなされており、米国特許第3、458、311号、特
開昭55−49729号に詳しく記載されている。保護
層に使用できる材料としては例えば、比較的、結晶性に
優れた水溶性高分子化合物を用いる事がよく、具体的に
は、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、酸
性セルロース類、ゼラチン、アラビアゴム、ポリアクリ
ル酸などのような水溶性ポリマーが知られていが、これ
らのうち、ポリビニルアルコールを主成分として用いる
事が、酸素遮断性、現像除去性といった基本特性的にも
っとも良好な結果を与える。保護層に使用するポリビニ
ルアルコールは、必要な酸素遮断性と水溶性を有するた
めの、未置換ビニルアルコール単位を含有する限り、一
部がエステル、エーテル、およびアセタールで置換され
ていても良い。また、同様に一部が他の共重合成分を有
していても良い。
Such a device for the protective layer has been heretofore made and described in detail in US Pat. No. 3,458,311 and JP-A-55-49729. As a material that can be used for the protective layer, for example, it is preferable to use a water-soluble polymer compound having relatively excellent crystallinity. Specifically, polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone, acidic celluloses, gelatin, gum arabic, poly Although water-soluble polymers such as acrylic acid are known, the use of polyvinyl alcohol as the main component gives the best results in terms of basic characteristics such as oxygen barrier property and removability by development. The polyvinyl alcohol used for the protective layer may be partially substituted with an ester, an ether, and an acetal as long as it contains an unsubstituted vinyl alcohol unit for having a necessary oxygen barrier property and water solubility. Further, similarly, a part thereof may have other copolymerization component.

【0109】ポリビニルアルコールの具体例としては7
1〜100%加水分解され、分子量が300から240
0の範囲のものをあげる事ができる。具体的には、株式
会社クラレ製のPVA−105、PVA−110、PV
A−117、PVA−117H、PVA−120、PV
A−124、PVA−124H、PVA一CS、PVA
―CST、PVA一HC、PVA−203、PVA−2
04、PVA−205、PVA−210、PVA−21
7、PVA−220、PVA−224、PVA−217
EE、PVA−217E、PVA−220E、PVA−
224E、PVA−405、PVA−420、PVA−
613、L−8等があげられる。
Specific examples of polyvinyl alcohol include 7
1-100% hydrolyzed, molecular weight 300 to 240
The range of 0 can be mentioned. Specifically, PVA-105, PVA-110, PV manufactured by Kuraray Co., Ltd.
A-117, PVA-117H, PVA-120, PV
A-124, PVA-124H, PVA-CS, PVA
-CST, PVA-1HC, PVA-203, PVA-2
04, PVA-205, PVA-210, PVA-21
7, PVA-220, PVA-224, PVA-217
EE, PVA-217E, PVA-220E, PVA-
224E, PVA-405, PVA-420, PVA-
613, L-8 and the like.

【0110】保護層の成分(PVAの選択、添加剤の使
用)、塗布量等は、酸素遮断性・現像除去性の他、カブ
リ性や密着性・耐傷性を考慮して選択される。一般には
使用するPVAの加水分解率が高い程(保護層中の未置
換ビニルアルコール単位含率が高い程)、膜厚が厚い程
酸素遮断性が高くなり、感度の点で有利である。しかし
ながら、極端に酸素遮断性を高めると、製造時・生保存
時に不要な重合反応が生じたり、また画像露光時に、不
要なカブリ、画線の太りが生じたりという問題を生じ
る。また、画像部との密着性や、耐傷性も版の取り扱い
上極めて重要である。即ち、水溶性ポリマーからなる親
水性の層を新油性の重合層に積層すると、接着力不足に
よる膜剥離が発生しやすく、剥離部分が酸素の重合阻害
により膜硬化不良などの欠陥を引き起こす。
The components of the protective layer (selection of PVA, use of additives), the coating amount and the like are selected in consideration of fogging property, adhesion and scratch resistance as well as oxygen barrier property and removability by development. Generally, the higher the hydrolysis rate of PVA used (the higher the content of the unsubstituted vinyl alcohol unit in the protective layer) and the thicker the film thickness, the higher the oxygen barrier property, which is advantageous in terms of sensitivity. However, if the oxygen barrier property is extremely increased, there arises a problem that an unnecessary polymerization reaction occurs during production or raw storage, and unnecessary fog or thickening of image lines occurs during image exposure. Also, the adhesion to the image area and scratch resistance are extremely important in handling the plate. That is, when a hydrophilic layer made of a water-soluble polymer is laminated on a new oily polymer layer, film peeling is likely to occur due to insufficient adhesive force, and the peeled portion causes defects such as poor film curing due to inhibition of oxygen polymerization.

【0111】これに対し、これら2層間の接着性を改す
べく種々の提案がなされている。たとえば米国特許第2
92、501号、米国特許第44、563号には、主に
ポリビニルアルコールからなる親水性ポリマー中に、ア
クリル系エマルジヨンまたは水不溶性ビニルピロリドン
−ビニルアセテート共重合体などを20〜60重量%混
合し、重合層の上に積層することにより、十分な接着性
が得られることが記載されている。本発明における保護
層に対しては、これらの公知の技術をいずれも適用する
事ができる。このような保護層の塗布方法については、
例えば米国特許第3,458,311号、特開昭55−
49729号に詳しく記載されている。
On the other hand, various proposals have been made to improve the adhesiveness between these two layers. For example, US Patent No. 2
92, 501 and U.S. Pat. No. 4,563, 20 to 60% by weight of an acrylic emulsion or a water-insoluble vinylpyrrolidone-vinyl acetate copolymer is mixed in a hydrophilic polymer mainly composed of polyvinyl alcohol. It is described that sufficient adhesion can be obtained by laminating on the polymerized layer. Any of these known techniques can be applied to the protective layer in the present invention. For the coating method of such a protective layer,
For example, U.S. Pat. No. 3,458,311 and JP-A-55-
49729 in detail.

【0112】さらに、保護層に他の機能を付与する事も
できる。例えば、露光に使う波長の光の透過性に優れ、
かつ画像形成寄与しない波長の光を効率良く吸収しう
る、着色剤(水溶性染料等)の添加により、感度低下を
起こすことなく、セーフライト適性をさらに高める事が
できる。
Further, the protective layer may be provided with other functions. For example, it has excellent transmittance of light of the wavelength used for exposure,
Moreover, the addition of a colorant (such as a water-soluble dye) capable of efficiently absorbing light having a wavelength that does not contribute to image formation can further enhance the safelight suitability without lowering the sensitivity.

【0113】[樹脂中間層]本発明の画像記録材料にお
いては、必要に応じて、光重合性の化合物を含む感光層
と支持体の間にアルカリ可溶性高分子からなる樹脂中間
層を設けることができる。露光によりアルカリ現像液へ
の溶解性が低下する赤外線感応層である光重合性の化合
物を含む感光層が、露光面或いはその近傍に設けられる
ことで赤外線レーザに対する感度が良好であるととも
に、支持体と感光層との間にこの樹脂中間層が存在し、
断熱層として機能することで、赤外線レーザの露光によ
り発生した熱が支持体に拡散せず、効率良く使用され、
さらなる高感度化が図れる。また、露光部においては、
アルカリ現像液に対して非浸透性となった感光層がこの
樹脂中間層の保護層として機能するために、現像安定性
が良好になるとともにディスクリミネーションに優れた
画像が形成され、且つ、経時的な安定性も確保されるも
のと考えられ、未露光部においては、未硬化のバインダ
ー成分が速やかに現像液に溶解、分散し、さらには、支
持体に隣接して存在するこの樹脂中間層がアルカリ可溶
性高分子からなるものであるため、現像液に対する溶解
性が良好で、例えば、活性の低下した現像液などを用い
た場合でも、残膜などが発生することなく速やかに溶解
するため、現像性に優れるものと考えられる。
[Resin Intermediate Layer] In the image recording material of the present invention, if necessary, a resin intermediate layer comprising an alkali-soluble polymer may be provided between the photosensitive layer containing the photopolymerizable compound and the support. it can. A photosensitive layer containing a photopolymerizable compound, which is an infrared-sensitive layer whose solubility in an alkali developing solution is reduced by exposure, is provided on or near the exposed surface to have good sensitivity to an infrared laser and a support. This resin intermediate layer is present between the photosensitive layer and
By functioning as a heat insulating layer, the heat generated by the exposure of the infrared laser does not diffuse to the support, and it is used efficiently.
Higher sensitivity can be achieved. In the exposure section,
Since the photosensitive layer which has become impermeable to the alkaline developer functions as a protective layer for the resin intermediate layer, the development stability is improved and an image excellent in discrimination is formed, and It is considered that the stable stability is also secured, and in the unexposed area, the uncured binder component is rapidly dissolved and dispersed in the developing solution, and further, the resin intermediate layer existing adjacent to the support. Since it is composed of an alkali-soluble polymer, it has good solubility in a developing solution, for example, even when using a developing solution having a decreased activity, because it dissolves quickly without a residual film or the like, It is considered to have excellent developability.

【0114】[支持体]本発明の平版印刷版原版に使用
される支持体としては、寸度的に安定な板状物であれば
特に制限はなく、例えば、紙、プラスチック(例えば、
ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等)がラ
ミネートされた紙、金属板(例えば、アルミニウム、亜
鉛、銅等)、プラスチックフィルム(例えば、二酢酸セ
ルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロー
ス、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロ
ース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポ
リスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリ
ビニルアセタール等)等が挙げられる。これらは、樹脂
フィルムや金属板などの単一成分のシートであっても、
2以上の材料の積層体であってもよく、例えば、上記の
ごとき金属がラミネート、若しくは蒸着された紙やプラ
スチックフィルム、異種のプラスチックフィルム同志の
積層シート等が含まれる。
[Support] The support used in the lithographic printing plate precursor of the invention is not particularly limited as long as it is a dimensionally stable plate-like material, and examples thereof include paper and plastic (eg, paper).
Polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.) laminated paper, metal plate (eg, aluminum, zinc, copper, etc.), plastic film (eg, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate, Cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc.) and the like. These are single-component sheets such as resin films and metal plates,
It may be a laminate of two or more materials, and includes, for example, paper or plastic film laminated or vapor-deposited with the metal as described above, a laminated sheet of different plastic films, and the like.

【0115】前記支持体としては、ポリエステルフィル
ム又はアルミニウム板が好ましく、その中でも寸法安定
性がよく、比較的安価であるアルミニウム板は特に好ま
しい。好適なアルミニウム板は、純アルミニウム板及び
アルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合金板
であり、更にアルミニウムがラミネート若しくは蒸着さ
れたプラスチックフィルムでもよい。アルミニウム合金
に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マ
グネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタ
ン等がある。合金中の異元素の含有量は高々10重量%
以下である。本発明において特に好適なアルミニウム
は、純アルミニウムであるが、完全に純粋なアルミニウ
ムは精錬技術上製造が困難であるので、僅かに異元素を
含有するものでもよい。このように本発明に適用される
アルミニウム板は、その組成が特定されるものではな
く、従来より公知公用の素材のアルミニウム板を適宜に
利用することができる。前記アルミニウム板の厚みは、
およそ0.1〜0.6mm程度、好ましくは0.15〜
0.4mm、特に好ましくは0.2〜0.3mmであ
る。
As the support, a polyester film or an aluminum plate is preferable, and among them, an aluminum plate which has good dimensional stability and is relatively inexpensive is particularly preferable. The preferred aluminum plate is a pure aluminum plate or an alloy plate containing aluminum as a main component and a slight amount of a foreign element, and may be a plastic film on which aluminum is laminated or vapor-deposited. The foreign elements contained in the aluminum alloy include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel and titanium. The content of foreign elements in the alloy is at most 10% by weight
It is the following. Aluminum which is particularly preferred in the present invention is pure aluminum, but completely pure aluminum is difficult to produce in terms of refining technology, and thus may contain a slightly different element. As described above, the composition of the aluminum plate applied to the present invention is not specified, and conventionally known and publicly known aluminum plates can be appropriately used. The thickness of the aluminum plate is
About 0.1 to 0.6 mm, preferably 0.15 to
0.4 mm, particularly preferably 0.2 to 0.3 mm.

【0116】アルミニウム板を粗面化するに先立ち、所
望により、表面の圧延油を除去するための例えば界面活
性剤、有機溶剤又はアルカリ水溶液等による脱脂処理が
行われる。アルミニウム板の表面の粗面化処理は、種々
の方法により行われるが、例えば、機械的に粗面化する
方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法及び化学
的に表面を選択溶解させる方法により行われる。機械的
方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト
研磨法、バフ研磨法等の公知の方法を用いることができ
る。また、電気化学的な粗面化法としては塩酸又は硝酸
電解液中で交流又は直流により行う方法がある。また、
特開昭54−63902号公報に開示されているように
両者を組み合わせた方法も利用することができる。この
様に粗面化されたアルミニウム板は、所望により、アル
カリエッチング処理、中和処理を経て、表面の保水性や
耐摩耗性を高めるために陽極酸化処理を施すことができ
る。アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられる電解質
としては、多孔質酸化皮膜を形成する種々の電解質の使
用が可能で、一般的には硫酸、リン酸、蓚酸、クロム酸
或いはそれらの混酸が用いられる。それらの電解質の濃
度は電解質の種類によって適宜決められる。
Prior to roughening the aluminum plate, if desired, a degreasing treatment for removing the rolling oil on the surface is carried out, for example, with a surfactant, an organic solvent or an alkaline aqueous solution. The surface roughening treatment of the aluminum plate is performed by various methods, for example, a method of mechanically roughening the surface, a method of electrochemically melting the surface and a method of selectively melting the surface chemically. It is performed by the method. As the mechanical method, known methods such as a ball polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method and a buff polishing method can be used. Further, as an electrochemical graining method, there is a method of performing alternating current or direct current in a hydrochloric acid or nitric acid electrolytic solution. Also,
A method in which both are combined as disclosed in JP-A-54-63902 can also be used. If desired, the aluminum plate thus roughened may be subjected to an alkali etching treatment and a neutralization treatment, and then subjected to an anodizing treatment in order to enhance the water retention and abrasion resistance of the surface. As the electrolyte used for the anodizing treatment of the aluminum plate, various electrolytes that form a porous oxide film can be used, and generally sulfuric acid, phosphoric acid, oxalic acid, chromic acid or a mixed acid thereof is used. The concentration of these electrolytes is appropriately determined depending on the type of electrolyte.

【0117】陽極酸化の処理条件は、用いる電解質によ
り種々変わるので一概に特定し得ないが、一般的には電
解質の濃度が1〜80重量%溶液、液温は5〜70℃、
電流密度5〜60A/dm2 、電圧1〜100V、電解
時間10秒〜5分の範囲であれば適当である。陽極酸化
皮膜の量は1.0g/m2 以上が好適であるが、より好
ましくは2.0〜6.0g/m2 の範囲である。陽極酸
化被膜が1.0g/m2 未満であると耐刷性が不十分で
あったり、平版印刷版の非画像部に傷が付き易くなっ
て、印刷時に傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷
汚れ」が生じ易くなる。尚、このような陽極酸化処理は
平板印刷版の支持体の印刷に用いる面に施されるが、電
気力線の裏回りにより、裏面にも0.01〜3g/m2
の陽極酸化被膜が形成されるのが一般的である。
The treatment conditions for anodic oxidation cannot be unconditionally specified because they vary depending on the electrolyte used, but generally, the electrolyte concentration is 1 to 80% by weight solution, the liquid temperature is 5 to 70 ° C.
A current density of 5 to 60 A / dm 2 , a voltage of 1 to 100 V, and an electrolysis time of 10 seconds to 5 minutes are suitable. The amount of the anodized film is suitably 1.0 g / m 2 or more, but more preferably in the range of 2.0 to 6.0 g / m 2. When the anodized film is less than 1.0 g / m 2 , printing durability is insufficient, or the non-image area of the lithographic printing plate is easily scratched, and ink adheres to the scratched portion during printing. "Scratch stains" easily occur. Such anodizing treatment is applied to the surface used for printing the support of the lithographic printing plate, but the back surface is also covered with 0.01-3 g / m 2 due to the back of the lines of electric force.
It is general that the anodic oxide coating is formed.

【0118】支持体表面の親水化処理は、上記陽極酸化
処理の後に施されるものであり、従来より知られている
処理法が用いられる。このような親水化処理としては、
米国特許第2,714,066号、同第3,181,4
61号、第3,280,734号及び第3,902,7
34号公報に開示されているようなアルカリ金属珪酸塩
(例えば、珪酸ナトリウム水溶液)法がある。この方法
においては、支持体が珪酸ナトリウム水溶液で浸漬処理
されるか、又は電解処理される。他に特公昭36−22
063号公報に開示されているフッ化ジルコン酸カリウ
ム及び米国特許第3,276,868号、同第4,15
3,461号、同第4,689,272号公報に開示さ
れているようなポリビニルホスホン酸で処理する方法等
が用いられる。
The hydrophilic treatment of the surface of the support is carried out after the above-mentioned anodizing treatment, and a conventionally known treatment method is used. As such a hydrophilic treatment,
US Pat. Nos. 2,714,066 and 3,181,4
No. 61, No. 3,280,734 and No. 3,902,7
There is an alkali metal silicate (eg, sodium silicate aqueous solution) method as disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 34-34. In this method, the support is immersed in an aqueous sodium silicate solution or electrolyzed. In addition, Japanese Patent Publication No. 36-22
063 and potassium fluorozirconate disclosed in U.S. Pat. Nos. 3,276,868 and 4,15.
A method of treating with polyvinylphosphonic acid as disclosed in JP-A-3,461 and JP-A-4,689,272 is used.

【0119】支持体の裏面には、必要に応じてバックコ
ートが設けられる。かかるバックコートとしては、特開
平5−45885号公報記載の有機高分子化合物および
特開平6−35174号公報記載の有機または無機金属
化合物を加水分解および重縮合させて得られる金属酸化
物からなる被覆層が好ましく用いられる。これらの被覆
層のうち、Si(OCH3 4 、Si(OC
2 5 4 、Si(OC3 7 4 、Si(OC
4 9 4 などの珪素のアルコキシ化合物が安価で入手
し易く、それから与られる金属酸化物の被覆層が耐現像
性に優れており特に好ましい。
A back coat is provided on the back surface of the support, if necessary. As such a back coat, a coating composed of a metal oxide obtained by hydrolyzing and polycondensing an organic polymer compound described in JP-A-5-45885 and an organic or inorganic metal compound described in JP-A-6-35174. Layers are preferably used. Among these coating layers, Si (OCH 3 ) 4 , Si (OC)
2 H 5 ) 4 , Si (OC 3 H 7 ) 4 , Si (OC
A silicon alkoxy compound such as 4 H 9 ) 4 is inexpensive and easily available, and a coating layer of a metal oxide provided from it is excellent in development resistance and is particularly preferable.

【0120】[露光]以上のようにして、本発明の平版
印刷版原版を作成することができる。この平版印刷版原
版は、波長760nmから1200nmの赤外線を放射
する固体レーザ及び半導体レーザにより画像露光され
る。画像形成のための走査露光は公知の装置を用いて行
うことができる。露光装置としては、インナードラム方
式、アウタードラム方式、フラットヘッド方式などの装
置を選択して用いることができる。本発明の平版印刷版
原版では、高感度の特定重合開始剤と重合禁止剤との組
合せにより、低エネルギーの露光による所望されない未
露光部の重合反応が抑制されているので、例えば、低消
光比露光プロセスなどにも好適であり、そのようなプロ
セスに適用した場合、その効果が著しい。
[Exposure] The lithographic printing plate precursor of the invention can be prepared as described above. This lithographic printing plate precursor is imagewise exposed by a solid-state laser and a semiconductor laser that emit infrared rays having a wavelength of 760 nm to 1200 nm. Scanning exposure for image formation can be performed using a known device. As the exposure device, an inner drum system, an outer drum system, a flat head system, or the like can be selected and used. In the lithographic printing plate precursor according to the invention, a combination of a high-sensitivity specific polymerization initiator and a polymerization inhibitor suppresses an undesired unexposed portion of the polymerization reaction due to low-energy exposure, and thus, for example, a low extinction ratio. It is also suitable for an exposure process and the like, and when applied to such a process, its effect is remarkable.

【0121】本発明においては、レーザ照射後すぐに現
像処理を行っても良いが、レーザ露光工程と現像工程の
間に加熱処理を行うことが好ましい。加熱処理の条件
は、80℃〜150℃の範囲内で10秒〜5分間行うこ
とが好ましい。この加熱処理により、レーザ照射時、記
録に必要なレーザエネルギーを減少させることができ
る。
In the present invention, the developing treatment may be carried out immediately after the laser irradiation, but it is preferable to carry out the heating treatment between the laser exposure step and the developing step. The heat treatment is preferably performed within the range of 80 ° C. to 150 ° C. for 10 seconds to 5 minutes. This heat treatment can reduce the laser energy required for recording during laser irradiation.

【0122】[現像]本発明の平版印刷版原版は、通
常、赤外線レーザにより画像露光したのち、好ましく
は、水又はアルカリ性水溶液にて現像される。本発明に
おいては、レーザー照射後直ちに現像処理を行ってもよ
いが、レーザー照射工程と現像工程との間に加熱処理工
程を設けることもできる。加熱処理条件は、80℃〜1
50℃の範囲で、10秒〜5分間行うことが好ましい。
この加熱処理により、レーザー照射時、記録に必要なレ
ーザーエネルギーを減少させることができる。現像液と
しては、アルカリ性水溶液が好ましく、好ましいpH領
域としては、pH10.5〜12.5の範囲が挙げら
れ、pHll.0〜12.5の範囲のアルカリ性水溶液
により現像処理することがさらに好ましい。アルカリ性
水溶液としてpH10.5未満のものを用いると非画像
部に汚れが生じやすくなる傾向があり、pH12.5を
超える水溶液により現像処理すると画像部の強度が低下
するおそれがある。
[Development] The lithographic printing plate precursor according to the invention is usually imagewise exposed by an infrared laser and then preferably developed with water or an alkaline aqueous solution. In the present invention, the development treatment may be carried out immediately after the laser irradiation, but a heat treatment step may be provided between the laser irradiation step and the development step. The heat treatment condition is 80 ° C to 1
It is preferable to perform the heating in the range of 50 ° C for 10 seconds to 5 minutes.
This heat treatment can reduce the laser energy required for recording during laser irradiation. The developer is preferably an alkaline aqueous solution, and a preferable pH range is pH 10.5 to 12.5. It is more preferable to perform development processing with an alkaline aqueous solution in the range of 0 to 12.5. When an alkaline aqueous solution having a pH of less than 10.5 is used, the non-image area tends to be contaminated, and when development processing is performed with an aqueous solution having a pH of more than 12.5, the strength of the image area may decrease.

【0123】現像液として、アルカリ性水溶液を用いる
場合、本発明の画像記録材料の現像液及び補充液として
は、従来公知のアルカリ水溶液が使用できる。例えば、
ケイ酸ナトリウム、同カリウム、第3リン酸ナトリウ
ム、同カリウム、同アンモニウム、第2リン酸ナトリウ
ム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸ナトリウム、同
カリウム、同アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、同カ
リウム、同アンモニウム、ほう酸ナトリウム、同カリウ
ム、同アンモニウム、水酸化ナトリウム、同アンモニウ
ム、同カリウム及び同リチウム等の無機アルカリ塩が挙
げられる。また、モノメチルアミン、ジメチルアミン、
トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミ
ン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイ
ソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、n−ブチ
ルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミ
ン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミ
ン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチ
レンジアミン、ピリジン等の有機アルカリ剤も用いられ
る。これらのアルカリ剤は単独又は2種以上を組み合わ
せて用いられる。
When an alkaline aqueous solution is used as the developing solution, a conventionally known alkaline aqueous solution can be used as the developing solution and the replenishing solution for the image recording material of the present invention. For example,
Sodium silicate, potassium, sodium triphosphate, potassium, ammonium, dibasic sodium, potassium, ammonium, sodium carbonate, potassium, ammonium, sodium hydrogencarbonate, potassium, ammonium, Examples thereof include inorganic alkali salts such as sodium borate, potassium borate, ammonium borate, sodium hydroxide, ammonium borate, potassium borate and lithium borate. Also, monomethylamine, dimethylamine,
Trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanolamine, diisopropanolamine, ethyleneimine, ethylenediamine, pyridine, etc. Organic alkaline agents are also used. These alkaline agents may be used alone or in combination of two or more.

【0124】さらに、自動現像機を用いて現像する場合
には、現像液と同じものまたは、現像液よりもアルカリ
強度の高い水溶液(補充液)を現像液に加えることによ
って、長時間現像タンク中の現像液を交換することな
く、多量の平版印刷版原版を処理できることが知られて
いる。本発明においてもこの補充方式が好ましく適用さ
れる。
Further, in the case of developing using an automatic developing machine, the same developer as the developer or an aqueous solution (replenisher) having a higher alkaline strength than the developer is added to the developer so that the developer can be stored in the developer tank for a long time. It is known that a large amount of lithographic printing plate precursor can be processed without changing the developing solution. Also in the present invention, this replenishment system is preferably applied.

【0125】現像液及び補充液には現像性の促進や抑
制、現像カスの分散及び印刷版画像部の親インキ性を高
める目的で必要に応じて種々の界面活性剤や有機溶剤等
を添加できる。現像液中には界面活性剤を1〜20重量
%加えることが好ましく、より好ましくは、3〜10重
量%の範囲である。界面活性剤の添加量が1重量%未満
であると現像性向上効果が充分に得られず、20重量%
を超えて添加すると画像の耐摩耗性など強度が低下する
などの弊害が出やすくなる。好ましい界面活性剤として
は、アニオン系、カチオン系、ノニオン系及び両性界面
活性剤が挙げられる。具体的には、例えば、ラウリルア
ルコールサルフェートのナトリウム塩、ラウリルアルコ
ールサルフェートのアンモニウム塩、オクチルアルコー
ルサルフェートのナトリウム塩、例えば、イソプロピル
ナフタレンスルホン酸のナトリウム塩、イソブチルナフ
タレンスルホン酸のナトリウム塩、ポリオキシエチレン
グリコールモノナフチルエチル硫酸エステルのナトリウ
ム塩、ドデンルベンゼンスルホン酸のナトリウム塩、メ
タニトロベンゼンスルホン酸のナトリウム塩などのよう
なアルキルアリールスルホン酸塩、第2ナトリウムアル
キルサルフェートなどの炭素数8〜22の高級アルコー
ル硫酸エステル類、セチルアルコールリン酸エステルの
ナトリウム塩などの様な脂肪族アルコールリン酸エステ
ル塩類、たとえばC1733CON(CH3)CH2CH2
SO3Naなどのようなアルキルアミドのスルホン酸塩
類、例えば、ナトリウムスルホコハク酸ジオクチルエス
テル、ナトリウムスルホコハク酸ジヘキシルエステルな
どの二塩基性脂肪族エステルのスルホン酸塩類、例え
ば、ラウリルトリメチルアンモニウムクロリド、ラウリ
ルトリメチルアンモニウムメトサルフェートなどのアン
モニウム塩類、例えば、ステアラミドエチルジエチルア
ミン酢酸塩などのアミン塩、例えば、グリセロールの脂
肪酸モノエステル、ペンタエリスリトールの脂肪酸モノ
エステルなどの多価アルコール類、例えば、ポリエチレ
ングリコールモノナフチルエチル、ポリエチレングリコ
ールモノ(ノエルフェノール)エチルなどのポリエチレ
ングリコールエチル類などが含まれる。
If necessary, various surfactants, organic solvents and the like may be added to the developing solution and the replenishing solution for the purpose of accelerating or suppressing the developing property, dispersing the development residue and enhancing the ink affinity of the printing plate image area. . The developer preferably contains 1 to 20% by weight of a surfactant, and more preferably 3 to 10% by weight. If the amount of the surfactant added is less than 1% by weight, the effect of improving the developability cannot be sufficiently obtained, and the amount is 20% by weight.
If it is added in excess, the adverse effects such as deterioration of strength such as abrasion resistance of the image are likely to occur. Preferred surfactants include anionic, cationic, nonionic and amphoteric surfactants. Specifically, for example, sodium salt of lauryl alcohol sulfate, ammonium salt of lauryl alcohol sulfate, sodium salt of octyl alcohol sulfate, for example, sodium salt of isopropylnaphthalenesulfonic acid, sodium salt of isobutylnaphthalenesulfonic acid, polyoxyethylene glycol. Alkyl aryl sulfonates such as sodium salt of mononaphthyl ethyl sulfate, sodium salt of dodenyl benzene sulfonic acid, sodium salt of metanitrobenzene sulfonic acid, etc., and higher alcohols having 8 to 22 carbon atoms such as secondary sodium alkyl sulfate. esters sulfate, fatty alcohol phosphoric acid ester salts such as such as sodium salt of cetyl alcohol phosphate esters, for example C 17 H 33 CON (C 3) CH 2 CH 2
Sulfonates of alkyl amides such as SO 3 Na, for example, dibasic aliphatic ester sulfonates such as sodium sulfosuccinate dioctyl ester, sodium sulfosuccinate dihexyl ester, such as lauryl trimethyl ammonium chloride, lauryl trimethyl ammonium Ammonium salts such as methosulfate, for example, amine salts such as stearamidoethyldiethylamine acetate, for example, polyhydric alcohols such as fatty acid monoester of glycerol and fatty acid monoester of pentaerythritol, for example, polyethylene glycol mononaphthylethyl, polyethylene Polyethylene glycol ethyls such as glycol mono (noelphenol) ethyl are included.

【0126】好ましい有機溶剤としては、水に対する溶
解度が約10重量%以下のものが挙げられ、さらに好ま
しくは水に対する溶解度が5重量%以下のものから選ば
れる。たとえば1−フェニルエタノール、2−フェニル
エタノール、3−フェニルプロパノール、1,4−フェ
ニルブタノール、2,2−フェニルブタノール、1,2
−フェノキシエタノール、2−ベンジルオキシエタノー
ル、o−メトキシベンジルアルコール、m―メトキシベ
ンジルアルコール、p―メトキシベンジルアルコール、
ベンジルアルコール、シクロヘキサノール、2−メチル
シクロヘキサノール、4−メチルシクロヘキサノール及
び3−メチルシクロヘキサノール等を挙げることができ
る。有機溶媒の含有量は、使用時の現像液の総重量に対
して1〜5重量%が好適である。その使用量は界面活性
剤の使用量と密接な関係があり、有機溶媒の量が増すに
つれ、界面活性剤の量は増加させることが好ましい。こ
れは界面活性剤の量が少ない状態で、有機溶媒の量を多
く用いると有機溶媒が溶解せず、従って良好な現像性の
確保が期待できなくなるからである。
Preferred organic solvents include those having a water solubility of about 10% by weight or less, and more preferably those having a water solubility of 5% by weight or less. For example, 1-phenylethanol, 2-phenylethanol, 3-phenylpropanol, 1,4-phenylbutanol, 2,2-phenylbutanol, 1,2
-Phenoxyethanol, 2-benzyloxyethanol, o-methoxybenzyl alcohol, m-methoxybenzyl alcohol, p-methoxybenzyl alcohol,
Examples thereof include benzyl alcohol, cyclohexanol, 2-methylcyclohexanol, 4-methylcyclohexanol and 3-methylcyclohexanol. The content of the organic solvent is preferably 1 to 5% by weight based on the total weight of the developing solution at the time of use. The amount used is closely related to the amount used of the surfactant, and it is preferable to increase the amount of the surfactant as the amount of the organic solvent increases. This is because if a large amount of the organic solvent is used in a state where the amount of the surfactant is small, the organic solvent does not dissolve, so that it is difficult to expect to secure good developability.

【0127】さらに、現像液及び補充液には必要に応じ
て、消泡剤、硬水軟化剤のような添加剤を含有させるこ
ともできる。硬水軟化剤としては、例えば、Na22
7、Na533、Na339、Na24P(NaO
3P)ΡO3Na2、カルゴン(ポリメタリン酸ナトリウ
ム)などのポリリン酸塩、例えば、エチレンジアミンテ
トラ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;ジエチ
レントリアミンペンタ酢酸、そのカリウム塩、ナトリウ
ム塩;トリエチレンテトラミンヘキサ酢酸、そのカリウ
ム塩、そのナトリウム塩;ヒドロキシエチルエチレンジ
アミントリ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;
ニトリロトリ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム
塩;1,2−ジアミノシクロヘキサンテトラ酢酸、その
カリウム塩、そのナトリウム塩、1,3−ジアミノ−2
−プロパノールテトラ酢酸、そのカリウム塩、そのナト
リウム塩などのようなアミノポリカルボン酸類の他、2
−ホスホノブタントリカルボン酸−1,2,4、そのカ
リウム塩、そのナトリウム塩;2−ホスホノブタノント
リカルボン酸−2,3,4、そのカリウム塩、そのナト
リウム塩;1−ホスホノエタントリカルボン酸−1,
2,2、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;1−ヒド
ロキシエタン−1,1−ジホスホン酸、そのカリウム
塩、そのナトリウム塩;アミノトリ(メチレンホスホン
酸)、そのカリウム塩、そのナトリウム塩などのような
有機ホスホン酸類を挙げることができる。このような硬
水軟化剤の最適量は、使用される硬水の硬度およびその
使用量に応じて変化するが、一般的には、使用時の現像
液中に0.01〜5重量%、より好ましくは0.01〜
0.5重量%の範囲で含有させうる。
Further, the developing solution and the replenishing solution may contain additives such as an antifoaming agent and a water softening agent, if necessary. Examples of the water softener include Na 2 P 2 O
7 , Na 5 P 3 O 3 , Na 3 P 3 O 9 , Na 2 O 4 P (NaO
3 P) Ρ O 3 Na 2 , polyphosphonates such as calgon (sodium polymetaphosphate), for example, ethylenediaminetetraacetic acid, its potassium salt, its sodium salt; diethylenetriaminepentaacetic acid, its potassium salt, sodium salt; triethylenetetraminehexaacetic acid , Its potassium salt, its sodium salt; hydroxyethylethylenediaminetriacetic acid, its potassium salt, its sodium salt;
Nitrilotriacetic acid, its potassium salt, its sodium salt; 1,2-diaminocyclohexanetetraacetic acid, its potassium salt, its sodium salt, 1,3-diamino-2
-Aminopolycarboxylic acids such as propanoltetraacetic acid, its potassium salt, its sodium salt, etc., 2
-Phosphonobutane tricarboxylic acid-1,2,4, its potassium salt, its sodium salt; 2-phosphonobutanone tricarboxylic acid-2,3,4, its potassium salt, its sodium salt; 1-phosphonoethane tricarboxylic acid -1,
2,2, its potassium salt, its sodium salt; 1-hydroxyethane-1,1-diphosphonic acid, its potassium salt, its sodium salt; aminotri (methylenephosphonic acid), its potassium salt, its sodium salt, etc. Organic phosphonic acids can be mentioned. The optimum amount of such a water softener varies depending on the hardness of the hard water used and the amount used, but is generally 0.01 to 5% by weight, more preferably in the developer at the time of use. Is 0.01-
It may be contained in the range of 0.5% by weight.

【0128】更に、自動現像機を用いて、該平版印刷版
を現像する場合には、処理量に応じて現像液が疲労して
くるので、補充液または新鮮な現像液を用いて処理能力
を回復させてもよい。この場合、米国特許第4,88
2,246号に記載されている方法で補充することが好
ましい。
Further, when the lithographic printing plate is developed using an automatic processor, the developing solution becomes fatigued depending on the processing amount. Therefore, the replenishing solution or a fresh developing solution is used to improve the processing ability. You may recover. In this case, US Pat. No. 4,88
Replenishment by the method described in 2,246 is preferred.

【0129】このような界面活性剤、有機溶剤及び還元
剤等を含有する現像液としては、例えば、特開昭51−
77401号に記載されている、ベンジルアルコール、
アニオン性界面活性剤、アルカリ剤及び水からなる現像
液組成物、特開昭53−44202号に記載されてい
る、ベンジルアルコール、アニオン性界面活性剤、及び
水溶性亜硫酸塩を含む水性溶液からなる現像液組成物、
特開昭55−155355号に記載されている、水に対
する溶解度が常温において10重量%以下である有機溶
剤、アルカリ剤、及び水を含有する現像液組成物等が挙
げられ、本発明においても好適に使用される。
A developing solution containing such a surfactant, an organic solvent, a reducing agent and the like is described in, for example, JP-A-51-
No. 77401, benzyl alcohol,
A developer composition consisting of an anionic surfactant, an alkaline agent and water, consisting of an aqueous solution containing benzyl alcohol, an anionic surfactant and a water-soluble sulfite described in JP-A-53-44202. Developer composition,
Examples thereof include a developer composition containing an organic solvent having a solubility in water of 10% by weight or less at room temperature, an alkaline agent, and water, which are described in JP-A-55-155355, and are also suitable for the present invention. Used for.

【0130】以上記述した現像液及び補充液を用いて現
像処理された印刷版は、水洗水、界面活性剤等を含有す
るリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂化
液で後処理される。本発明の画像記録材料を印刷版原版
として使用する場合の後処理としては、これらの処理を
種々組み合わせて用いることができる。
The printing plate developed using the above-described developing solution and replenishing solution is post-treated with washing water, a rinsing solution containing a surfactant, a desensitizing solution containing gum arabic and a starch derivative. It When the image recording material of the present invention is used as a printing plate precursor, various combinations of these treatments can be used as a post-treatment.

【0131】近年、製版・印刷業界では製版作業の合理
化及び標準化のため、印刷用版材用の自動現像機が広く
用いられている。この自動現像機は、一般に現像部と後
処理部からなり、印刷用版材を搬送する装置と各処理液
槽とスプレー装置とからなり、露光済みの印刷版を水平
に搬送しながら、ポンプで汲み上げた各処理液をスプレ
ーノズルから吹き付けて現像処理するものである。ま
た、最近は処理液が満たされた処理液槽中に液中ガイド
ロール等によって印刷版原版を浸漬搬送させて処理する
方法も知られている。このような自動処理においては、
各処理液に処理量や稼働時間等に応じて補充液を補充し
ながら処理することができる。また、電気伝導度をセン
サーにて感知し、自動的に補充することもできる。ま
た、実質的に未使用の処理液で処理するいわゆる使い捨
て処理方式も適用できる。
In recent years, automatic developing machines for printing plates have been widely used in the plate making / printing industry in order to rationalize and standardize the plate making work. This automatic developing machine is generally composed of a developing section and a post-processing section, and is composed of a device for conveying a printing plate material, each processing liquid tank, and a spray device. Each of the processing liquids pumped up is sprayed from a spray nozzle for development processing. Further, recently, a method has also been known in which a printing plate precursor is dipped and conveyed by a submerged guide roll or the like into a processing liquid tank filled with the processing liquid for processing. In such automatic processing,
It is possible to carry out the processing while supplementing the replenishing solution to each processing solution according to the processing amount, operating time and the like. Also, the electric conductivity can be detected by a sensor and automatically replenished. Further, a so-called disposable processing method of processing with a substantially unused processing liquid can be applied.

【0132】以上のようにして得られた平版印刷版は所
望により不感脂化ガムを塗布したのち、印刷工程に供す
ることができるが、より一層の高耐刷力の平版印刷版と
したい場合にはバーニング処理が施される。平版印刷版
をバーニングする場合には、バーニング前に特公昭61
−2518号、同55−28062号、特開昭62−3
1859号、同61−159655号の各公報に記載さ
れているような整面液で処理することが好ましい。
The lithographic printing plate obtained as described above can be subjected to a printing step after applying a desensitizing gum if desired, but when a lithographic printing plate having higher printing durability is desired, Is subjected to a burning process. When burning a lithographic printing plate, before printing
No. 2518, No. 55-28062, JP-A-62-3
It is preferable to treat with a surface-adjusting solution as described in JP-A-1859 and JP-A-61-159655.

【0133】その方法としては、該整面液を浸み込ませ
たスポンジや脱脂綿にて、平版印刷版上に塗布するか、
整面液を満たしたバット中に印刷版を浸漬して塗布する
方法や、自動コーターによる塗布等が適用される。ま
た、塗布した後でスキージ又はスキージローラーで、そ
の塗布量を均一にすることは、より好ましい結果を与え
る。整面液の塗布量は一般に0.03〜0.8g/m2
(乾燥重量)が適当である。
As the method, a sponge or absorbent cotton soaked with the surface-adjusting solution may be applied onto the planographic printing plate, or
A method in which the printing plate is dipped in a vat filled with a surface-adjusting solution to be applied, or an application by an automatic coater is applied. Further, making the coating amount uniform with a squeegee or a squeegee roller after coating gives more preferable results. The amount of the surface conditioning solution applied is generally 0.03 to 0.8 g / m 2.
(Dry weight) is suitable.

【0134】整面液が塗布された平版印刷版は必要であ
れば乾燥された後、バーニングプロセッサー(例えば、
富士写真フイルム(株)より販売されているバーニング
プロセッサー:BP−1300)等で高温に加熱され
る。この場合の加熱温度及び時間は、画像を形成してい
る成分の種類にもよるが、180〜300℃の範囲で1
〜20分の範囲が好ましい。
The planographic printing plate coated with the surface-adjusting solution is dried if necessary and then burned with a burning processor (for example,
It is heated to a high temperature with a burning processor: BP-1300) sold by Fuji Photo Film Co., Ltd. The heating temperature and the heating time in this case depend on the kinds of components forming the image, but are within the range of 180 to 300 ° C.
The range of up to 20 minutes is preferred.

【0135】バーニング処理された平版印刷版は、必要
に応じて適宜、水洗、ガム引き等の従来行なわれている
処理を施こすことができるが、水溶性高分子化合物等を
含有する整面液が使用された場合にはガム引きなどのい
わゆる不感脂化処理を省略することができる。
The lithographic printing plate which has been subjected to the burning treatment can be subjected to conventional treatments such as washing with water and gumming, if necessary, but a surface-adjusting solution containing a water-soluble polymer compound or the like. When is used, so-called desensitizing treatment such as gumming can be omitted.

【0136】このような処理によって得られた平版印刷
版はオフセット印刷機等にかけられ、多数枚の印刷に用
いられる。
The lithographic printing plate obtained by such treatment is applied to an offset printing machine or the like and used for printing a large number of sheets.

【0137】[0137]

【実施例】以下、本発明の実施例を説明するが、本発明
はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。
EXAMPLES Examples of the present invention will be described below, but the present invention is not limited to these examples.

【0138】[2価オニウム塩の合成]本発明に使用さ
れるスルホニウム、ヨードニウム母骨格は、特開平11
−80118号、特開平11‐153870号、J.O
rg.Chem 1992,57,6810−681
4、Synthesi 1999 p.1897−18
99、Tetrahedoron 1995,vol5
1.P6229−6239、及び、J.Org.Che
m1978,43,3058に記載の方法により合成す
ることができ、これらを必要に応じ、塩交換してオニウ
ム塩化合物を得た。
[Synthesis of divalent onium salt] The sulfonium and iodonium mother skeletons used in the present invention are described in JP-A-11-1999.
-80118, JP-A-11-153870, J. O
rg. Chem 1992, 57, 6810-681.
4, Synthesi 1999 p. 1897-18
99, Tetrahedoron 1995, vol5
1. P6229-6239, and J. Org. Che
m1978, 43, 3058, and the onium salt compound was obtained by salt exchange according to need.

【0139】(合成例1:例示化合物I−1の合成)
4.4gのヨードソベンゼン(0.02mol)をジク
ロロメタン50mlに溶解させ、室温でトリフルオロメ
タンスルホン酸無水物3.4ml(0.02mol)を
滴下し、5時間撹拌、析出した固体を濾過し、酢酸エチ
ルで洗い、減圧下で乾燥することで例示化合物(I−
1)の2価オニウム塩が45%の収率で得られる。
(Synthesis Example 1: Synthesis of Exemplified Compound I-1)
4.4 g of iodosobenzene (0.02 mol) was dissolved in 50 ml of dichloromethane, 3.4 ml (0.02 mol) of trifluoromethanesulfonic anhydride was added dropwise at room temperature, the mixture was stirred for 5 hours, and the precipitated solid was filtered, By washing with ethyl acetate and drying under reduced pressure, the exemplified compound (I-
The divalent onium salt of 1) is obtained in a yield of 45%.

【0140】(合成例2:例示化合物S−9の合成)合
成例1で得られた例示化合物(I−1)を1.58g
(2mmol)とり、酢酸銅(II)0.018g(0.
1mmol)、ジフェニルスルフィド2.7mlと混合
し、190℃で40分加熱した。その後、室温に冷却
し、酢酸エチル、水で洗浄することにより例示化合物
(S−9)の2価オニウム塩が40%の収率で得られ
た。
(Synthesis Example 2: Synthesis of Exemplified Compound S-9) 1.58 g of Exemplified Compound (I-1) obtained in Synthesis Example 1
(2 mmol), 0.018 g of copper (II) acetate (0.
1 mmol) and 2.7 ml of diphenyl sulfide, and heated at 190 ° C. for 40 minutes. Then, the mixture was cooled to room temperature and washed with ethyl acetate and water to obtain a divalent onium salt of Exemplified Compound (S-9) in a yield of 40%.

【0141】(実施例1〜10) [基板の作製]厚み0.3mmのアルミニウム版(材質
1050)をトリクロロエチレンで洗浄して脱脂した
後、ナイロンブラシと400メッシュのパミス−水懸濁
液を用いこの表面を砂目立て表面のエッチングを行い、
水洗後、更に20%硝酸に20秒間浸漬し、水洗した。
この時の砂目立て表面のエッチング量は約3g/m2
あった。次にこの板を7%硫酸を電解液として電流密度
15A/dm2で3g/m2の直流電極酸化被膜を設けた
後、水洗し、乾燥して基板(A)を作成した。基板
(A)を珪酸ナトリウム2重量%水溶液で25℃で15
秒処理し、水洗して基板(B)を作成した。
(Examples 1 to 10) [Production of substrate] An aluminum plate (material 1050) having a thickness of 0.3 mm was washed with trichlorethylene to degrease it, and then a nylon brush and a 400 mesh pumice-water suspension were used. Etching this surface with a grained surface,
After washing with water, it was further immersed in 20% nitric acid for 20 seconds and washed with water.
At this time, the etching amount of the grained surface was about 3 g / m 2 . Next, this plate was provided with a DC electrode oxide film of 3 g / m 2 at a current density of 15 A / dm 2 using 7% sulfuric acid as an electrolytic solution, washed with water and dried to prepare a substrate (A). Substrate (A) is treated with a 2 wt% sodium silicate aqueous solution at 25 ° C. for 15
It was treated for seconds and washed with water to prepare a substrate (B).

【0142】[中間層の形成]次に下記の手順によりS
G法の液状組成物(ゾル液)を調整した。 <ゾル液組成> ・メタノール 130g ・水 20g ・85重量%リン酸 16g ・テトラエトキシシラン 50g ・3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン 60g 上記の各化合物を混合し、撹拌した。約5分で発熱が認
められた。60分間反応させた後、内容物を別の容器へ
移し、メタノール3000gを加えることにより、ゾル
液を得た。このゾル液をメタノール/エチレングリコー
ル=9/1(重量比)で希釈して、上述の様に作製され
た基板[A]上に、基板上のSiの量が3mg/m2
なるように塗布し、100℃にて1分間乾燥させ、基板
[C]を得た。
[Formation of Intermediate Layer] Next, S is formed by the following procedure.
A liquid composition (sol solution) of Method G was prepared. <Sol liquid composition> -Methanol 130 g-Water 20 g-85 wt% phosphoric acid 16 g-Tetraethoxysilane 50 g-3-methacryloxypropyltrimethoxysilane 60 g The above compounds were mixed and stirred. An exotherm was observed in about 5 minutes. After reacting for 60 minutes, the content was transferred to another container, and 3000 g of methanol was added to obtain a sol liquid. This sol solution is diluted with methanol / ethylene glycol = 9/1 (weight ratio) so that the amount of Si on the substrate [A] manufactured as described above becomes 3 mg / m 2. It was applied and dried at 100 ° C. for 1 minute to obtain a substrate [C].

【0143】[感光層の形成]上述の様に作成された基
板[A]乃至基板[C]のいずれかを支持体とし、その
表面に下記組成の感光層塗布液を塗布し、115℃で1
分乾燥し、1.4g/m2の感光層を形成し、実施例1
〜9の平版印刷版原版を得た。使用する基板、(A)光
熱変換剤、(B)重合性の不飽和基を有する化合物、
(C)2価オニウム塩、及び(D)バインダーは下記表
1に示す通りである。
[Formation of Photosensitive Layer] Any one of the substrates [A] to [C] prepared as described above is used as a support, and the surface thereof is coated with a photosensitive layer coating solution having the following composition. 1
Example 1 was dried to form a photosensitive layer of 1.4 g / m 2.
-9 planographic printing plate precursors were obtained. A substrate to be used, (A) a photothermal conversion agent, (B) a compound having a polymerizable unsaturated group,
The divalent onium salt (C) and the binder (D) are as shown in Table 1 below.

【0144】 (感光層塗布液) ・付加重合性化合物(表1記載の化合物) 1.5g ・バインダー(表1記載の化合物) 2.0g ・光熱変換剤(表1記載の化合物) 0.1g ・2価オニウム塩などの重合開始剤(表1記載の化合物) 0.15g ・フッ素系ノニオン界面活性剤(メガファックF−177P、 大日本インキ化学工業(株)製) 0.02g ・ビクトリアピュアブルーBOHの対アニオンを1−ナフタレン スルホン酸アニオンにした染料 0.04g ・メチルエチルケトン 10g ・メタノール 7g ・2−メトキシ−1−プロパノール 10g[0144] (Photosensitive layer coating liquid) -Addition polymerizable compound (compound shown in Table 1) 1.5 g -Binder (compound shown in Table 1) 2.0 g -Photothermal conversion agent (compounds listed in Table 1) 0.1 g -Polymerization initiator such as divalent onium salt (compound shown in Table 1) 0.15 g -Fluorine-based nonionic surfactant (MegaFac F-177P,                         Dainippon Ink and Chemicals Co., Ltd.) 0.02g ・ The counter anion of Victoria Pure Blue BOH is 1-naphthalene       Dyes with sulfonate anion 0.04g ・ Methyl ethyl ketone 10g ・ Methanol 7g ・ 2-Methoxy-1-propanol 10 g

【0145】[0145]

【化28】 [Chemical 28]

【0146】[0146]

【表1】 [Table 1]

【0147】(表1中の付加重合性化合物) (M−1) ペンタエリスリトールテトラアクリレート (M−2) グリセリンジメタクリレートヘキサメチレンジイソシア
ネートウレタンプレポリマー
(Additionally Polymerizable Compounds in Table 1) (M-1) Pentaerythritol Tetraacrylate (M-2) Glycerin Dimethacrylate Hexamethylene Diisocyanate Urethane Prepolymer

【0148】(表1中のバインダー) (B−1) アリルメタクリレート/メタクリル酸/N−イソプロピ
ルアミド共重合体 (共重合モル比:67/13/20) 酸価(NaOH滴定により実測)1.15meq/g 重合平均分子量13万 (B−2) アリルメタクリレート/メタクリル酸共重合体 (共重合モル比:83/17) 酸価(NaOH滴定により実測)1.55meq/g 重合平均分子量12.5万 (B−3) 下記ジイソシアネートとジオールの縮合物であるポリウ
レタン樹脂 (a)4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート (b)ヘキサメチレンジイソシアネート (c)ポリプロピレングルコール(重量平均分子量:10
00) (d)2,2−ビス(ヒドロキシメチル)プロピオン酸 ((a)/(b)/(c)/(d) 共重合モル比:40/10/1
5/35) 酸価(NaOH滴定により実測)1.05meq/g 重合平均分子量4.5万
(Binders in Table 1) (B-1) Allyl methacrylate / methacrylic acid / N-isopropylamide copolymer (copolymerization molar ratio: 67/13/20) Acid value (measured by NaOH titration) 15 meq / g Polymerization average molecular weight 130,000 (B-2) Allyl methacrylate / methacrylic acid copolymer (copolymerization molar ratio: 83/17) Acid value (measured by NaOH titration) 1.55 meq / g Polymerization average molecular weight 12.5 Polyurethane resin (a) 4,4'-diphenylmethane diisocyanate (b) hexamethylene diisocyanate (c) polypropylene glycol (weight average molecular weight: 10)
00) (d) 2,2-bis (hydroxymethyl) propionic acid ((a) / (b) / (c) / (d) copolymerization molar ratio: 40/10/1
5/35) Acid value (measured by NaOH titration) 1.05 meq / g Polymerization average molecular weight 45,000

【0149】(比較例1、2)比較のため、基板[A]
及び基板[B]上に前記感光層塗布液において(C)2
価オニウム塩に代えて、下記式で表される1価のオニウ
ム塩構造を有する重合開始剤(HI、HS)を添加した
他は表1に示す組成の感光層塗布液を用いて感光層を形
成し、平版印刷版用原版を得た(比較例1、2)。
(Comparative Examples 1 and 2) Substrates [A] for comparison
And (C) 2 in the photosensitive layer coating liquid on the substrate [B]
A photosensitive layer was prepared by using a photosensitive layer coating solution having the composition shown in Table 1 except that a polymerization initiator (HI, HS) having a monovalent onium salt structure represented by the following formula was added in place of the valent onium salt. It was formed to obtain a lithographic printing plate precursor (Comparative Examples 1 and 2).

【0150】[0150]

【化29】 [Chemical 29]

【0151】[露光、現像]得られた平版印刷版用原版
を出力500mW、波長830nm、ビーム径17μm
(l/e2)の半導体レーザを用いて主走査速度5m/秒
にて露光した後、富士フィルム(株)社製DN3C現像
液、DP−4現像液、又は下記組成のD−1現像液及び
リンス液FR−3(1:7)を仕込んだ自動現像機(富
士写真フィルム(株)製:PSプロセッサー900V
R)を用いて現像し、以下の如くして感度の評価を行っ
た。なお、現像処理に際していずれの現像液を用いたか
は前記表1に併記した。
[Exposure and development] The obtained lithographic printing plate precursor was output 500 mW, wavelength 830 nm, beam diameter 17 μm.
After exposure with a (l / e 2 ) semiconductor laser at a main scanning speed of 5 m / sec, DN3C developer, DP-4 developer, or D-1 developer of the following composition manufactured by Fuji Film Co., Ltd. And an automatic processor equipped with rinse liquid FR-3 (1: 7) (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd .: PS processor 900V
R) was used for development, and the sensitivity was evaluated as follows. It should be noted that which developing solution was used in the development treatment is also shown in Table 1 above.

【0152】 (D−1現像液) ・水酸化カリウム 3g ・炭酸水素ナトリウム 1g ・炭酸カリウム 2g ・亜硫酸ナトリウム 1g ・ポリエチレングリコールモノナフチルエーテル 150g ・ジブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム塩 50g ・エチレンジアミン4酢酸4ナトリウム塩 8g ・水 785g[0152] (D-1 developer) ・ Potassium hydroxide 3g ・ Sodium hydrogen carbonate 1g ・ Potassium carbonate 2g ・ Sodium sulfite 1g ・ Polyethylene glycol mononaphthyl ether 150g ・ Dibutylnaphthalenesulfonic acid sodium salt 50g ・ Ethylenediamine tetraacetic acid tetrasodium salt 8g ・ Water 785g

【0153】[平版印刷版原版の評価] (感度の評価)得られた平版印刷版原版を、調製直後
に、波長830〜850nm程度の赤外線を発する半導
体レーザーで露光した。露光後、富士写真フイルム
(株)製現像液DN−3C(1:2の比率で水で希
釈)、或いは富士写真フイルム(株)製現像液DP−4
(1:8の比率で水で希釈)、上記D−1現像液(1:
5の比率で水で希釈)で現像し、水洗した。これらの際
得られた画像の線幅とレーザー出力、光学系でのロス及
び走査速度を基に、記録に必要なエネルギー量を算出し
た。数値が小さいほど高感度であることを表す。これら
の評価結果を表1に併記する。
[Evaluation of lithographic printing plate precursor] (Evaluation of sensitivity) Immediately after preparation, the obtained lithographic printing plate precursor was exposed with a semiconductor laser emitting infrared rays having a wavelength of about 830 to 850 nm. After exposure, developer DN-3C manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. (diluted with water at a ratio of 1: 2) or developer DP-4 manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.
(Diluted with water at a ratio of 1: 8), the above D-1 developer (1:
And diluted with water at a ratio of 5) and washed with water. The amount of energy required for recording was calculated based on the line width of the image obtained at these times, the laser output, the loss in the optical system, and the scanning speed. The smaller the value, the higher the sensitivity. The evaluation results are also shown in Table 1.

【0154】表1の結果より、本発明の平版印刷版用原
版は、高感度であることがわかる。一方、2価のオニウ
ム塩構造を有しない重合開始剤を用いた比較例1、2の
平版印刷版原版は、重合開始剤以外はすべて同じ条件で
得られた実施例1、8と比較して感度が劣っていること
がわかった。
From the results shown in Table 1, it can be seen that the lithographic printing plate precursor according to the invention has high sensitivity. On the other hand, the lithographic printing plate precursors of Comparative Examples 1 and 2 using the polymerization initiator having no divalent onium salt structure were compared with Examples 1 and 8 obtained under the same conditions except for the polymerization initiator. It turned out that the sensitivity was poor.

【0155】得られた平版印刷版原版をCreo社製T
rendsetterにて、ビーム強度9w、ドラム回
転速度150rpmの条件でテストパターンの画像状に
描き込み(露光)を行った。まず、上記の条件で露光し
た平版印刷版原版を、上記D−1現像液(1:5の比率
で水で希釈)及び富士写真フイルム(株)製フィニッシ
ャーFP2W(1:1で希釈したもの)を仕込んだ富士
写真フイルム(株)製PSプロセッサー900Hを用
い、液温を30度に保ち、現像時間12秒で現像した。
得られた平版印刷版は、いずれも、非画像部に汚れを生
じることなく良好な画像が形成された。
The lithographic printing plate precursor thus obtained was used as T
An image of the test pattern was drawn (exposure) with a redsetter under the conditions of a beam intensity of 9 w and a drum rotation speed of 150 rpm. First, the lithographic printing plate precursor exposed under the above conditions was subjected to the above-mentioned D-1 developer (diluted with water at a ratio of 1: 5) and Finisher FP2W manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. (diluted with 1: 1). Using a PS processor 900H manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd., the liquid temperature was kept at 30 ° C. and the development time was 12 seconds.
In each of the obtained lithographic printing plates, a good image was formed without causing stains on the non-image area.

【0156】(実施例11〜20、比較例3、4)前記
実施例1〜10、比較例1、2で得られた平版印刷版原
版の感光層上に、ポリビニルアルコール(ケン化度:9
8モル%、重合度:550)の3重量%水溶液を乾燥後
の塗布量が2g/m2となるように塗布し、100℃で
1分間乾燥して感光層上に保護層を設け、実施例10〜
20及び比較例3、4の平版印刷版原版を得た。得られ
た平版印刷版原版を上記実施例1〜10と同様の条件
で、露光、現像して平版印刷版を製版し、同様に感度を
評価した。結果を上記表1に併記する。
(Examples 11 to 20, Comparative Examples 3 and 4) Polyvinyl alcohol (saponification degree: 9) was formed on the photosensitive layer of the lithographic printing plate precursors obtained in Examples 1 to 10 and Comparative Examples 1 and 2.
A 3% by weight aqueous solution of 8 mol% and a degree of polymerization of 550) was applied so that the coating amount after drying was 2 g / m 2, and dried at 100 ° C. for 1 minute to form a protective layer on the photosensitive layer. Example 10
20 and Comparative Examples 3 and 4 were obtained as planographic printing plate precursors. The lithographic printing plate precursor thus obtained was exposed and developed under the same conditions as in Examples 1 to 10 to prepare a lithographic printing plate, and the sensitivity was evaluated in the same manner. The results are also shown in Table 1 above.

【0157】表1の結果より、感光層の上に保護層を設
けた場合においても、保護層を有しない実施例1〜10
及び比較例1、2と同様の傾向が見られ、本発明の平版
印刷版原版は感度に優れており、保護層を設けたことに
より性能が向上する傾向が見られたが、1価のオニウム
塩構造の重合開始剤を用いた比較例3、4の平版印刷版
原版は、重合開始剤以外はすべて同じ条件で得られた実
施例11、18と比較していずれも感度が劣っていた。
From the results shown in Table 1, even when the protective layer is provided on the photosensitive layer, Examples 1 to 10 having no protective layer are shown.
Also, the same tendency as in Comparative Examples 1 and 2 was observed, and the lithographic printing plate precursor of the present invention was excellent in sensitivity, and it was observed that the performance was improved by providing the protective layer. The lithographic printing plate precursors of Comparative Examples 3 and 4 using the polymerization initiator having a salt structure were inferior in sensitivity to Examples 11 and 18 obtained under the same conditions except for the polymerization initiator.

【0158】(実施例21、22) [樹脂中間層の形成]前記基板〔A〕に下記樹脂中間層
形成用塗布液[II]をワイヤーバーで塗布し、温風式乾
燥装置にて140℃で60秒間乾燥して樹脂中間層を形
成した。乾燥後の塗布量は0.6g/m2であった。 (樹脂中間層用塗布液[II]) ・バインダー〔BN−1〕 2.0g N−(p−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミドと メタクリル酸とメタクリル酸メチルとの共重合モル比: 50/25/25の共重合体、重量平均分子量6万) ・フッ素系ノニオン界面活性剤 0.02g (メガファックF−177P、大日本インキ化学工業(株)製) ・ビクトリアピュアブルー 0.04g ・メチルエチルケトン 10g ・メタノール 7g ・γ−ブチロラトン 10g
(Examples 21 and 22) [Formation of resin intermediate layer] The substrate [A] was coated with the following resin intermediate layer forming coating solution [II] with a wire bar and dried at 140 ° C in a warm air dryer. And dried for 60 seconds to form a resin intermediate layer. The coating amount after drying was 0.6 g / m 2 . (Coating liquid [II] for resin intermediate layer) Binder [BN-1] 2.0 g Copolymer molar ratio of N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide, methacrylic acid and methyl methacrylate: 50/25 / 25 copolymer, weight average molecular weight 60,000) -Fluorine-based nonionic surfactant 0.02 g (Megafuck F-177P, Dainippon Ink and Chemicals, Inc.)-Victoria Pure Blue 0.04 g-Methyl ethyl ketone 10 g- Methanol 7 g-γ-butyrolaton 10 g

【0159】[感光層の形成]前記樹脂中間層の上に、
下記感光層形成用塗布液[III]をワイヤーバーで樹脂
中間層と感光層とを合わせた塗布量が1.3g/m2
なるように塗布し、温風式乾燥装置にて120℃で50
秒間乾燥して感光層を形成し、実施例22の平版印刷版
原版を得た。また、得られた感光層上に、実施例11〜
20と同様にポリビニルアルコール水溶液を塗布して保
護層を形成し、実施例23の平版印刷版原版を得た。 (感光層用塗布液[III]) ・付加重合性化合物〔M−1〕 1.5g ・バインダー〔B−1〕 2.0g ・光熱変換剤〔DX−1〕 0.1g ・2価オニウム塩〔S−9〕 0.15g ・フッ素系ノニオン界面活性剤 0.02g (メガファックF−177P、大日本インキ化学工業(株)製) ・ビクトリアピュアブルー 0.04g ・メチルエチルケトン 20g ・メタノール 2g ・2−メトキシ−1−プロパノール 10g
[Formation of Photosensitive Layer] On the resin intermediate layer,
The following photosensitive layer forming coating solution [III] was applied with a wire bar so that the total coating amount of the resin intermediate layer and the photosensitive layer would be 1.3 g / m 2, and was applied with a warm air dryer at 120 ° C. Fifty
A photosensitive layer was formed by drying for 2 seconds to obtain a lithographic printing plate precursor of Example 22. In addition, on the obtained photosensitive layer, Examples 11 to 11
A polyvinyl alcohol aqueous solution was applied in the same manner as in 20 to form a protective layer, whereby a lithographic printing plate precursor of Example 23 was obtained. (Coating liquid [III] for photosensitive layer) -Addition polymerizable compound [M-1] 1.5 g-Binder [B-1] 2.0 g-Photothermal conversion agent [DX-1] 0.1 g-Divalent onium salt [S-9] 0.15 g-Fluorine-based nonionic surfactant 0.02 g (Megafuck F-177P, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.)-Victoria Pure Blue 0.04 g-Methyl ethyl ketone 20 g-Methanol 2 g-2 -Methoxy-1-propanol 10 g

【0160】得られた各平版印刷版原版を上記実施例1
〜10と同様の条件で、露光、現像して平版印刷版を製
版し、同様に感度を評価した。なお、このときの現像液
は、前記D−1現像液(1:5の比率で水で希釈)を用
いた。評価の結果、実施例22では感度が75mJ/c
2、実施例23では感度が70mJ/cm2であり、本
発明の平版印刷版原版は、樹脂中間層を設けた態様にお
いても感度に優れることが確認された。
Each lithographic printing plate precursor thus obtained was used as in Example 1 above.
Under the same conditions as in No. 10-10, exposure and development were performed to prepare a lithographic printing plate, and the sensitivity was evaluated in the same manner. The developer used at this time was the D-1 developer (diluted with water at a ratio of 1: 5). As a result of the evaluation, in Example 22, the sensitivity was 75 mJ / c.
m 2 , the sensitivity in Example 23 was 70 mJ / cm 2 , and it was confirmed that the lithographic printing plate precursor according to the invention was excellent in sensitivity even in the mode in which the resin intermediate layer was provided.

【0161】[0161]

【発明の効果】本発明のネガ型平版印刷版原版は、赤外
線レーザにより書き込みが可能であり、記録時の感度に
優れるという効果を奏する。
INDUSTRIAL APPLICABILITY The negative lithographic printing plate precursor of the present invention has the effect that it can be written by an infrared laser and is excellent in sensitivity during recording.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H025 AA01 AB03 AC08 AD01 BC32 BC42 BC51 CA48 CC20 FA03 FA10 FA17 2H096 AA07 AA08 BA05 BA16 BA20 EA04 GA08 2H114 AA04 AA22 AA24 BA01 BA10 DA48 DA51 DA52 EA01 EA02 FA06 FA10    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    F term (reference) 2H025 AA01 AB03 AC08 AD01 BC32                       BC42 BC51 CA48 CC20 FA03                       FA10 FA17                 2H096 AA07 AA08 BA05 BA16 BA20                       EA04 GA08                 2H114 AA04 AA22 AA24 BA01 BA10                       DA48 DA51 DA52 EA01 EA02                       FA06 FA10

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 支持体上に、(A)光熱変換剤、(B)
重合性の不飽和基を有する化合物、及び、(C)一分子
中にカチオン部を2個以上有するオニウム塩を含有し、
ヒートモードレーザーで記録可能な感光層を備えること
を特徴とするヒートモード対応平版印刷版原版。
1. A (A) photothermal conversion agent, (B) on a support.
A compound having a polymerizable unsaturated group, and (C) containing an onium salt having two or more cation moieties in one molecule,
A lithographic printing plate precursor for heat mode, comprising a photosensitive layer capable of recording with a heat mode laser.
【請求項2】 前記ヒートモードレーザーの露光波長が
760〜1200nmである請求項1に記載のヒートモ
ード対応平版印刷版原版。
2. The lithographic printing plate precursor for heat mode according to claim 1, wherein the exposure wavelength of the heat mode laser is 760 to 1200 nm.
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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EP1627736A1 (en) 2004-08-18 2006-02-22 Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. Method of manufacturing light sensitive planographic printing plates and method of using the same
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WO2014050435A1 (en) 2012-09-26 2014-04-03 富士フイルム株式会社 Lithographic printing original plate and plate making method

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