JP2003012345A - Method for coloring heat protection glass - Google Patents

Method for coloring heat protection glass

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JP2003012345A
JP2003012345A JP2001193926A JP2001193926A JP2003012345A JP 2003012345 A JP2003012345 A JP 2003012345A JP 2001193926 A JP2001193926 A JP 2001193926A JP 2001193926 A JP2001193926 A JP 2001193926A JP 2003012345 A JP2003012345 A JP 2003012345A
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Hiroyuki Tamon
宏幸 多門
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宏 上村
Kohei Sumino
広平 角野
Tomoko Akai
智子 赤井
Masaru Yamashita
勝 山下
Tetsuo Yazawa
哲夫 矢澤
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To draw a character or a pattern with color on a heat protection glass with good positional precision. SOLUTION: This method for coloring heat protection glass obtained by coating the surface of a plate glass with a thin film laminated of Ag film and a metal oxide film comprises the steps of irradiating a laser light by a laser light irradiating device in scanning manner to melt the heat protection film, then revealing a scattering phenomenon or diffraction phenomenon of a visible light due to microparticles obtained by coagulation or a diffraction grating consisting of the microparticles to develop color.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、熱線遮断ガラスに
レーザ光を照射することで着色し、描画する方法に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for drawing a heat ray-shielding glass by irradiating it with a laser beam for drawing.

【0002】[0002]

【従来の技術】板ガラス表面に、酸化錫膜または酸化亜
鉛膜などの金属酸化物膜と銀膜(Ag膜)とを積層させ
てなる赤外線を反射させる作用のある熱線遮断膜(Lo
w−E膜)が被覆された熱線遮断ガラスは、Low−E
ガラスと通称されている。
2. Description of the Related Art A heat ray blocking film (Lo) having a function of reflecting infrared rays, which is formed by laminating a metal oxide film such as a tin oxide film or a zinc oxide film and a silver film (Ag film) on a surface of a plate glass.
The heat ray-shielding glass coated with w-E film is Low-E.
It is commonly called glass.

【0003】以後、酸化錫膜または酸化亜鉛膜などの金
属酸化物薄膜と、Ag膜とを積層させてなる熱線遮断膜
をLow−E膜と称し、Low−E膜を被覆させてなる
熱線遮断ガラスをLow−Eガラスと称する。
Hereinafter, a heat ray shielding film formed by laminating a metal oxide thin film such as a tin oxide film or a zinc oxide film and an Ag film is referred to as a Low-E film, and a heat ray shielding film formed by covering the Low-E film is cut off. The glass is called Low-E glass.

【0004】通常、Low−E膜は、Ag膜の酸化およ
びマイグレーションなどによる劣化を防ぐため、Ag膜
を、酸化亜鉛または酸化錫などの金属酸化物薄膜で挟み
込んだ3層以上の構成となっており、板ガラスを基体と
しスパッタリング法またはCVD法によって作成され
る。Low−E膜のAg膜層は膜厚10〜20nm程度
であり、極めて薄いので透明があり、酸化亜鉛、酸化錫
などの酸化金属は、100nm程度の薄膜であれば、透
明ある。よって、Low−E膜は、可視光線を透過する
ので、クリアガラスにLow−E膜を被覆したLow−
Eガラスは目視では無色透明である。
Usually, the Low-E film has a structure of three or more layers in which the Ag film is sandwiched between metal oxide thin films such as zinc oxide or tin oxide in order to prevent deterioration due to oxidation and migration of the Ag film. And is formed by a sputtering method or a CVD method using a plate glass as a base. The Ag film layer of the Low-E film has a film thickness of about 10 to 20 nm and is transparent because it is extremely thin, and metal oxides such as zinc oxide and tin oxide are transparent as long as it is a thin film of about 100 nm. Therefore, since the Low-E film transmits visible light, the Low-E film obtained by coating the clear glass with the Low-E film is used.
The E glass is colorless and transparent when visually observed.

【0005】一方、板ガラスなどの透明な対象物にレー
ザ光を照射してレーザマーキングする方法について、特
開平3−124486号公報、特開平4−71792号
公報および特開平11−156568号公報にて開示さ
れている。
On the other hand, a method of irradiating a transparent object such as a plate glass with a laser beam to perform laser marking is disclosed in JP-A-3-124486, JP-A-4-71792 and JP-A-11-156568. It is disclosed.

【0006】特開平3−124486号公報にて、対象
物の内部にレーザ光を集束させて表面に損傷を与えるこ
となく内部にマークするレーザマーキング方法が開示さ
れている。しかしながら、係る公報に記載のレーザマー
キング方法においては、対象物がガラスの場合、レーザ
光を内部に集光させるとクラックが発生し表面まで到達
することがあり、対象物が脆くなるという問題があっ
た。
Japanese Unexamined Patent Publication (Kokai) No. 3-124486 discloses a laser marking method in which laser light is focused on the inside of an object to mark the inside of the object without damaging the surface. However, in the laser marking method described in the publication, when the object is glass, there is a problem that when the laser light is focused inside, a crack may occur and reach the surface, which makes the object fragile. It was

【0007】また、特開平4−71792号公報にて、
透明基板内部に焦点を結ぶようにレーザ光を照射して透
明基板内部を選択的に不透明化することによりマーキン
グする方法が開示されている。しかしながら、かかる公
報に記載のマーキング方法においては、レーザ照射によ
ってガラス内部にマーキングすることが可能であるが、
レーザ光の集光位置を材料の深さ方向に厳密に制御でき
ないため、薄い透明材料のマーキングに適さないという
問題があった。
Further, in Japanese Patent Laid-Open No. 4-71792,
There is disclosed a method of marking by selectively opaqueizing the inside of the transparent substrate by irradiating the inside of the transparent substrate with a laser beam so as to focus. However, in the marking method described in this publication, it is possible to mark the inside of the glass by laser irradiation,
Since the focus position of the laser beam cannot be strictly controlled in the depth direction of the material, there is a problem that it is not suitable for marking a thin transparent material.

【0008】また、特開平11−156568号公報に
て、マーキング対象物を透過する波長域のレーザ光を、
fθレンズを用いて対象物の内部に集光させてマーキン
グする方法が開示されている。しかしながら、係る公報
に記載のマーキング方法においては、マーキングがレー
ザ光を照射したことによる内部のクラックによるので、
マーキング対象は透明材料に制限されるという問題があ
った。
Further, in Japanese Patent Laid-Open No. 11-156568, laser light in a wavelength range which transmits a marking object is
A method of marking by focusing on the inside of an object using an fθ lens is disclosed. However, in the marking method described in the publication, since the marking is due to internal cracks caused by irradiation with laser light,
There is a problem that marking objects are limited to transparent materials.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】特開平2−24222
0号公報、特開平3−124486号公報、特開平4−
71792号公報、または特開平11−156568号
公報に記載の方法は、ガラスなどの透明材料に文字、図
柄などをレーザマーキングする方法であるが、レーザ光
を透明材料内部で集光させて、ガラス内部に発生したク
ラックによる不透明化によってマーキングする方法なの
で、ミクロン(μm)単位の極微細な書き込みが難し
く、また、有彩色の着色ができないという問題があっ
た。
DISCLOSURE OF THE INVENTION Problems to be Solved by the Invention
No. 0, JP-A-3-124486, JP-A-4-124
The method described in Japanese Patent No. 71792 or Japanese Patent Laid-Open No. 11-156568 is a method of laser-marking characters, patterns, etc. on a transparent material such as glass. Since it is a method of marking by opacity due to cracks generated inside, there is a problem that it is difficult to write extremely fine particles in the unit of micron (μm), and chromatic coloring cannot be performed.

【0010】本発明の課題は、熱性遮断ガラスをレーザ
光により着色させることで、微細な描画が行える熱線遮
断ガラスの着色方法を提供することである。
An object of the present invention is to provide a method for coloring a heat-shielding glass which enables fine drawing by coloring the heat-shielding glass with a laser beam.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、ガラス基
体に被覆された熱線遮断膜、いわゆるLow−E膜にレ
ーザ光を照射させる際にレーザー光の照射位置を移動さ
せる、すなわち、レーザ光を走査することで、Low−
E膜を凝集させて微粒子とすることで可視光が散乱して
Low−Eガラスを着色できる、または該微粒子によっ
て形成された回折格子によって、可視光を回折させてL
ow−E膜付きガラスを着色できることがわかった。L
ow−E膜にレーザ光を照射すると、例えば、酸化金属
薄膜である酸化亜鉛薄膜およびAg膜が溶融する。レー
ザ光走査後に、レーザ光走査部である描画ラインをレー
ザ顕微鏡で観察したところ、酸化亜鉛および銀が凝集し
た不定形の微粒子が描画ライン上に生成していた。酸化
亜鉛および銀が凝集した不定形の微粒子は、凝集した銀
により可視光を散乱していると推察される。
The present inventors have moved the irradiation position of laser light when irradiating the heat ray blocking film, so-called Low-E film, coated on a glass substrate with laser light, that is, laser. By scanning the light, Low-
By aggregating the E film into fine particles, visible light can be scattered to color the Low-E glass, or the visible light is diffracted by a diffraction grating formed by the fine particles.
It was found that the glass with the ow-E film can be colored. L
When the ow-E film is irradiated with laser light, for example, the zinc oxide thin film and the Ag film, which are metal oxide thin films, melt. After the laser beam scanning, the drawing line which is the laser beam scanning portion was observed with a laser microscope. As a result, amorphous fine particles in which zinc oxide and silver were aggregated were formed on the drawing line. It is assumed that the amorphous fine particles in which zinc oxide and silver are aggregated scatter visible light due to the aggregated silver.

【0012】本発明に使用するレーザ照射装置により、
Low−E膜面でレーザ光のビーム径を60μmに絞り
込みレーザ光を走査させたところ、幅30μmの筋状の
照射部、すなわち、膜厚、100nmのLow−E膜が
溶融した一本の描画ライン中に微粒子が生成した。ま
た、レーザ光を走査することで、描画ラインの中に該微
粒子が規則性を持って配列し回折格子が形成されて、着
色することがわかった。
With the laser irradiation device used in the present invention,
When the beam diameter of the laser light was narrowed down to 60 μm on the Low-E film surface and the laser light was scanned, a stripe-shaped irradiation portion with a width of 30 μm, that is, a drawing in which the Low-E film with a film thickness of 100 nm was melted Fine particles were generated in the line. It was also found that by scanning with a laser beam, the fine particles are regularly arranged in the drawing line to form a diffraction grating, which causes coloring.

【0013】本発明は、Low−EガラスのLow−E
膜に、レーザ光を走査させて、Low−E膜を一旦溶融
した後に、走査ライン上に凝集して生成した微粒子、ま
たは該微粒子で形成された回折格子が、可視光を散乱ま
たは回折することによって、文字および図柄を描画する
Low−Eガラスの着色方法である。
The present invention relates to Low-E of Low-E glass.
That the film is scanned with laser light to once melt the Low-E film, and then the fine particles generated by aggregating on the scanning line or the diffraction grating formed by the fine particles scatter or diffract visible light. Is a method of coloring Low-E glass for drawing characters and patterns.

【0014】本発明は、板ガラス表面にAg膜と金属酸
化物膜を積層させた薄膜を被覆させてなる熱線遮断ガラ
スに、レーザ光照射装置により、レーザ光を照射して、
熱線遮断膜を溶融させた後、銀および金属酸化物が凝集
して生成した微粒子によって、可視光線の散乱現象を現
出させて着色させることを特徴とする熱線遮断ガラスの
着色方法である。
The present invention irradiates a laser beam to a heat ray-shielding glass obtained by coating a thin film obtained by laminating an Ag film and a metal oxide film on the surface of a plate glass with a laser beam irradiation device,
A method for coloring a heat ray-shielding glass, characterized in that after the heat ray-shielding film is melted, the fine particles produced by aggregating silver and a metal oxide cause a visible light scattering phenomenon to appear and be colored.

【0015】更に、本発明は、板ガラス表面にAg膜と
金属酸化物膜を積層させた薄膜を被覆させてなる熱線遮
断ガラスに、レーザ光照射装置により、レーザ光を走査
しつつ照射して、熱線遮断膜を溶融させた後、銀および
金属酸化物が凝集して生成した微粒子によって回折格子
を形成し、可視光線の回折現象を現出させて着色させる
ことを特徴とする熱線遮断ガラスの着色方法である。
Furthermore, the present invention irradiates a heat ray shielding glass obtained by coating a thin film obtained by laminating an Ag film and a metal oxide film on the surface of a plate glass with a laser light irradiating device while irradiating with laser light while scanning. Coloring of heat ray-shielding glass characterized by forming a diffraction grating by the fine particles generated by aggregating silver and metal oxides after melting the heat ray-shielding film, and causing the visible light diffraction phenomenon to appear and to be colored. Is the way.

【0016】更に、本発明は、前記レーザ光照射装置が
レーザ発振器、光変調器、ガルバノメータミラーおよび
fθレンズからなるレーザ光照射装置であることを特徴
とする上記の熱線遮断ガラスの着色方法である。
Furthermore, the present invention is the above method for coloring heat-ray shielding glass, characterized in that the laser beam irradiation device is a laser beam irradiation device comprising a laser oscillator, a light modulator, a galvanometer mirror and an fθ lens. .

【0017】更に、本発明は、前記レーザ光照射装置が
レーザ発振器、光変調器、リニアトランスレータに搭載
された集光レンズ、対物レンズ、およびガルバノメータ
ミラーからなるレーザ照射装置であることを特徴とする
上記の熱線遮断ガラスの着色方法である。
Furthermore, the present invention is characterized in that the laser light irradiation device is a laser irradiation device including a laser oscillator, an optical modulator, a condenser lens mounted on a linear translator, an objective lens, and a galvanometer mirror. This is a method for coloring the above heat ray-shielding glass.

【0018】更に、本発明は、レーザ発振器が連続レー
ザ発振器またはパルスレーザ発振器であり、用いるレー
ザ光の種類が赤外光、近赤外光または紫外光であること
を特徴とする上記の熱線遮断ガラスの着色方法である。
Further, according to the present invention, the laser oscillator is a continuous laser oscillator or a pulse laser oscillator, and the type of laser light used is infrared light, near infrared light or ultraviolet light. It is a method of coloring glass.

【0019】更に、本発明は、光変調器が音響光学変調
器または電気光学変調器であることを特徴とする上記の
熱線遮断ガラスの着色方法である。
Further, the present invention is the above method for coloring a heat-ray shielding glass, characterized in that the light modulator is an acousto-optic modulator or an electro-optic modulator.

【0020】更に、本発明は、複数のガルバノメータミ
ラーによって、熱線遮断ガラスへのレーザ光の照射位置
を移動させることを特徴とする上記の熱線遮断ガラスの
着色方法である。
Furthermore, the present invention is the above-mentioned method for coloring a heat-ray shielding glass, characterized in that the irradiation position of the laser light on the heat-ray shielding glass is moved by a plurality of galvanometer mirrors.

【0021】更に、本発明は、水平方向または垂直方向
に移動可能なステージによって、熱線遮断ガラスを移動
させることを特徴とする上記のいずれかに記載の熱線遮
断ガラスの着色方法である。
Furthermore, the present invention is the method for coloring a heat ray-shielding glass as described in any one of the above, characterized in that the heat ray-shielding glass is moved by a stage movable in the horizontal or vertical direction.

【0022】更に、本発明は、上記の熱線遮断ガラスの
着色方法によって、文字、図柄が描画されていることを
特徴とする熱線遮断ガラスである。
Further, the present invention is the heat ray-shielding glass characterized in that characters and patterns are drawn by the above-mentioned method of coloring the heat ray-shielding glass.

【0023】更に、本発明は、上記の熱線遮断ガラスの
着色方法によって、全体または一部が着色されている熱
線遮断ガラスである。
Furthermore, the present invention is a heat ray-shielding glass which is wholly or partially colored by the above-mentioned method for coloring a heat ray-shielding glass.

【0024】更に、本発明は、上記の熱線遮断ガラスの
描画または着色された部位を、ガラスの軟化点以上に加
熱することによって消色する方法である。
Further, the present invention is a method of erasing the drawn or colored portion of the above heat ray-shielding glass by heating it to a temperature above the softening point of the glass.

【0025】本発明の熱線遮断ガラスの着色方法に使用
するレーザ照射装置の構成物であるレーザ発振器には、
連続的にレーザ光を発光する連続レーザ発振器、パルス
状にレーザ光を発光するパルスレーザ発振器のどちらを
用いても構わない。
The laser oscillator, which is a component of the laser irradiation device used in the method for coloring the heat-shielding glass of the present invention, comprises:
Either a continuous laser oscillator that emits laser light continuously or a pulsed laser oscillator that emits laser light in a pulsed manner may be used.

【0026】また、用いるレーザ光の種類は、赤外光、
近赤外光、可視光または紫外光が挙げられ、波長100
nm以上、1mm(106nm)以下の光を使用するこ
とができ、例えば、アルゴンイオンレーザ発振器または
UVパルスレーザ発振器を使用することができる。
The type of laser light used is infrared light,
Near-infrared light, visible light or ultraviolet light can be mentioned, and a wavelength of 100
Light having a wavelength of not less than 1 nm and not more than 1 mm (10 6 nm) can be used, and for example, an argon ion laser oscillator or a UV pulse laser oscillator can be used.

【0027】本発明の熱線遮断ガラスの着色方法に使用
するレーザ照射装置の構成物である光変調器は、スイッ
チング素子としての役割を果たす。すなわち、レーザ光
の進行方向を変えるか、遮断と透過を切り替えること
で、加工物に対してレーザ光の照射のON/OFFを正
確に制御するものである。ON/OFFを行うことで、
文字、作画が非連続となり様々な描画に対応できる。光
変調器には、音響光学変調器(以後、AOMと略する)
または電気光学変調器(以後、EOMと略する)のいず
れを用いても構わない。
The optical modulator, which is a component of the laser irradiation apparatus used in the method for coloring the heat ray-shielding glass of the present invention, serves as a switching element. That is, the ON / OFF of the irradiation of the laser beam to the workpiece is accurately controlled by changing the traveling direction of the laser beam or switching between blocking and transmitting. By turning on / off,
Characters and drawings are non-continuous, and various drawing can be supported. The optical modulator is an acousto-optical modulator (hereinafter abbreviated as AOM).
Alternatively, either an electro-optic modulator (hereinafter abbreviated as EOM) may be used.

【0028】AOMは、レーザ光の光路を変える素子で
ある。ONの状態では、無線周波数のRF信号が発信さ
れ、圧電素子、すなわち、トランスデューサに入力さ
れ、超音波に変換されて石英ガラス中に粗密波を発生さ
せる。該粗密波によって、石英ガラス中に形成された回
折格子は、レーザ光を回折させてその光路を変える。一
方、OFFの状態では、RF波は発信されないので、粗
密波による回折格子が形成されず、レーザ光は石英ガラ
ス内を直進する。
The AOM is an element that changes the optical path of laser light. In the ON state, a radio frequency RF signal is emitted, input to a piezoelectric element, that is, a transducer, converted into ultrasonic waves, and compression waves are generated in the quartz glass. A diffraction grating formed in the quartz glass by the compressional wave diffracts the laser light to change its optical path. On the other hand, in the OFF state, since the RF wave is not emitted, the diffraction grating due to the compressional wave is not formed, and the laser light goes straight in the quartz glass.

【0029】EOMは、電気光学素子に電圧を掛け偏光
方向を変えることによって、レーザ光を通過または遮断
させるスイッチング素子である。
The EOM is a switching element that passes or blocks laser light by applying a voltage to the electro-optical element to change the polarization direction.

【0030】本発明の熱線遮断ガラスの着色方法に使用
するレーザ照射装置の構成物であるガルバノメータミラ
ーは、複数のミラー、通常、Xミラー、Yミラーからな
り、ミラーの傾きを変えることによってレーザ光の光軸
を振ることが可能である。Xミラー、Yミラーは、角度
を制御しつつ向きを変え、レーザ光の光軸を振って対象
物であるLow−EガラスのLow−E膜上にレーザ光
を走査する。走査ライン上では、Low−E膜が溶融し
た後、銀および金属酸化物が凝集して生成した微粒子、
または該微粒子によ微細な回折格子を形成することがで
きる。該微粒子または回折格子は、Low−Eガラスへ
の入射光を散乱または回折させて、熱線遮断ガラスを着
色させる。
The galvanometer mirror, which is a component of the laser irradiation apparatus used in the method for coloring the heat ray-shielding glass of the present invention, comprises a plurality of mirrors, usually an X mirror and a Y mirror, and the laser beam is changed by changing the inclination of the mirror. It is possible to shake the optical axis of. The X mirror and the Y mirror change the direction while controlling the angle, and oscillate the optical axis of the laser light to scan the laser light on the Low-E film of the Low-E glass which is the object. On the scanning line, fine particles produced by aggregating silver and metal oxide after the Low-E film was melted,
Alternatively, a fine diffraction grating can be formed by the fine particles. The fine particles or the diffraction grating scatters or diffracts the incident light to the Low-E glass to color the heat ray blocking glass.

【0031】本発明に使用するレーザ照射装置は、レー
ザ光を絞り込み、ガルバノメータミラーによりレーザ光
の光軸を振りつつ、Low−Eガラス上に走査して、L
ow−E膜における1mm間隔の間に数10本以上の線
を書き込むことのできる分解能を有し、かつレーザ光を
1mm/s以上の高速で走査することができるため、回
折格子を書き込むことに好適である。
The laser irradiation device used in the present invention narrows down the laser light, scans it on the Low-E glass while swinging the optical axis of the laser light with a galvanometer mirror,
Since the ow-E film has a resolution capable of writing several tens or more lines within a 1 mm interval and can scan a laser beam at a high speed of 1 mm / s or more, it is suitable for writing a diffraction grating. It is suitable.

【0032】本発明のLow−Eガラスの着色方法によ
れば、Low−E板ガラスに文字または図柄などが描画
できる。例えば、熱線遮断ガラスに、虹色で製造番号、
製造日、メーカー名などの文字情報を容易に書き込むこ
とができる。
According to the method of coloring Low-E glass of the present invention, characters or patterns can be drawn on Low-E plate glass. For example, on the heat shield glass, the serial number in rainbow color,
Character information such as manufacturing date and manufacturer name can be easily written.

【0033】また、レーザ光の照射を用いる本発明の熱
線遮断ガラスの着色方法は、エネルギーロスが少なく実
生産においてタクトタイムが短く経済生産に優れる。
Further, the method for coloring a heat ray-shielding glass of the present invention using laser light irradiation has a small energy loss, a short tact time in actual production, and is excellent in economical production.

【0034】本発明の熱線遮断ガラスの着色方法に使用
するレーザ照射装置の構成物として、fθレンズ、また
は、リニアトランスレータに搭載された集光レンズ(以
後、Zレンズと略する)と対物レンズは、ガルバノメー
タミラーによって円弧状に走査されたレーザ光の焦点位
置を補正する役割を果たす。
As the components of the laser irradiation device used in the method for coloring the heat ray-shielding glass of the present invention, an fθ lens or a condenser lens (hereinafter abbreviated as Z lens) mounted on a linear translator and an objective lens are used. , Plays a role of correcting the focal position of the laser beam scanned in an arc shape by the galvanometer mirror.

【0035】本発明の熱線遮断ガラスの着色方法に使用
するレーザ照射装置の構成物である水平方向または垂直
方向に移動可能なステージ、例えば、照射面に対し水平
方向に移動可能なX−Y軸ステージと垂直方向に移動可
能なZ軸ステージは、高速でレーザ光を走査する際に熱
線遮断ガラスを移動させることにより熱線遮断ガラスの
着色を効率よく行うことができる。また、移動可能なス
テージに取り付けられた熱線遮断ガラスを一定間隔で移
動させた後、静止させて、前述のガルバノメータミラー
によりレーザ光を走査して描画を行うことで、回折格子
をなど間隔で複数描画することができる。
A stage which is a constituent of a laser irradiation device used in the method for coloring a heat-shielding glass of the present invention and which is movable in a horizontal direction or a vertical direction, for example, an X-Y axis movable in a horizontal direction with respect to an irradiation surface. The Z-axis stage that can move in the direction perpendicular to the stage can efficiently color the heat-ray shielding glass by moving the heat-ray shielding glass when scanning the laser light at high speed. In addition, by moving the heat-shielding glass attached to the movable stage at regular intervals and then leaving it stationary, the laser beam is scanned by the galvanometer mirror described above to perform drawing, and thus multiple diffraction gratings are arranged at regular intervals. Can be drawn.

【0036】本発明の熱線遮断ガラスの着色方法によ
り、Low−Eガラスの全面あるいは部分を着色したL
ow−Eガラスは、本発明に用いたレーザ装置を複数用
いることによって得ることが可能である。なお、Low
−E膜にレーザ光を走査してLow−E膜を溶融させて
凝集させ、微粒子を生成したとしても、微粒子はレーザ
光照射部に散在しており、微粒子内において銀が凝集し
ているので、Low−E膜の熱線反射機能は低下する懸
念はあるが、失われることはない。
According to the method of coloring the heat ray-shielding glass of the present invention, the L-E glass is colored on the entire surface or on a part thereof.
The ow-E glass can be obtained by using a plurality of laser devices used in the present invention. In addition, Low
Even if the -E film is scanned with laser light to melt and aggregate the Low-E film to generate fine particles, the fine particles are scattered in the laser light irradiation part, and silver is aggregated in the fine particles. , There is a concern that the heat ray reflection function of the Low-E film may be deteriorated, but it is not lost.

【0037】この様にして得られた着色されたLow−
Eガラスは、軟化点以上に加熱し溶融すると着色部にお
いて、凝集している銀が、ガラスの内部に拡散し、無色
透明に戻るので、リサイクルが容易である。
The colored Low-obtained thus obtained
When the E glass is heated to a softening point or higher and melted, the agglomerated silver diffuses inside the glass in the colored portion and returns to colorless and transparent, which facilitates recycling.

【0038】[0038]

【発明の実施の形態】図1は、レーザ光の焦点位置の制
御にfθレンズを用いた本発明に使用するレーザ照射装
置の一例の説明図である。fθレンズ5は、ガルバノメ
ータミラーによって走査されるレーザ光をターゲット6
に集光する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS FIG. 1 is an explanatory view of an example of a laser irradiation apparatus used in the present invention which uses an fθ lens for controlling the focal position of laser light. The fθ lens 5 targets the laser light scanned by the galvanometer mirror 6
Focus on.

【0039】連続レーザ発振器1であるアルゴンイオン
レーザ発振器1により発光したレーザ光は、スイッチン
グ素子であるAOM2を通過した後、ガルバノメータミ
ラーであるXミラー3およびYミラー4により反射し、
fθレンズ5を透過した後、ターゲット6であるLow
−Eガラス6に照射する。Xミラー3、Yミラー4を制
御しつつ動かして光軸を往復運動させることで、Low
−Eガラス6のLow−E膜を溶解した後に凝集して生
成した微粒子、または該微粒子によって回折格子が形成
される。該微粒子または回折格子は入射光を散乱または
回折させて熱線遮断ガラスを着色する。
The laser light emitted from the argon ion laser oscillator 1 which is the continuous laser oscillator 1 passes through the AOM 2 which is a switching element and is then reflected by the X mirror 3 and the Y mirror 4 which are galvanometer mirrors.
After passing through the fθ lens 5, the target 6 is Low
Irradiate the E glass 6. By moving the X mirror 3 and the Y mirror 4 while controlling them to reciprocate the optical axis,
Fine particles produced by melting and then aggregating the Low-E film of the -E glass 6 or the fine particles form a diffraction grating. The fine particles or diffraction grating scatters or diffracts incident light to color the heat ray-shielding glass.

【0040】該Low−Eガラス6を着色する際に、照
射面に対し水平方向に移動可能なX−Y軸ステージと垂
直方向に移動可能なZ軸ステージからなるXYZ−ステ
ージ7に熱線遮断膜付きガラス基板を搭載し、ステージ
7を移動させることで、着色する部位を移動させる。
When coloring the Low-E glass 6, a heat ray blocking film is formed on the XYZ-stage 7 consisting of an XY axis stage movable horizontally with respect to the irradiation surface and a Z axis stage movable vertically. By mounting the attached glass substrate and moving the stage 7, the portion to be colored is moved.

【0041】コンピュータ10に入力されたデジタルコ
マンドデータは、デジタル・アナログ・コンバータ11
(以後、DACと略する)によってアナログ信号に変換
される。AOMドライバ8は、コンピュータ10から送
信されDAC11によってアナログ信号に変換されたレ
ーザ変調信号を無線周波数の信号、すなわち、RF信号
に変換し、図示しない圧電素子、すなわち、トランスデ
ューサを介して、AOM2の中に超音波を発生させる。
AOM2に入射したレーザ光は、超音波が形成する回折
格子によって回折され、その光路が変化する。その結
果、レーザ光はON/OFFする。一方、コンピュータ
10にデジタルコマンドデータとして入力され、DAC
11によってアナログ信号に変換されたコントロール信
号は、サーボドライバ9に受信されて、サ−ボドライバ
9が、ガルバノメータミラーであるXミラー3およびY
ミラー4の動作を制御し、Low−Eガラス6のLow
−E膜上でレーザ光を走査してLow−E膜を溶解させ
た後、凝集して生成した微粒子、または該微粒子で形成
された回折格子を生成する。なお、レーザ光で熱線遮断
ガラス6に書き込むパターンは、前記デジタルコマンド
データを変更することで、容易に変えられる。
The digital command data input to the computer 10 is transferred to the digital-analog converter 11
(Hereinafter abbreviated as DAC) is converted into an analog signal. The AOM driver 8 converts a laser modulation signal, which is transmitted from the computer 10 and converted into an analog signal by the DAC 11, into a radio frequency signal, that is, an RF signal, and a piezoelectric element, that is, a transducer (not shown) in the AOM 2 To generate ultrasonic waves.
The laser light incident on the AOM 2 is diffracted by the diffraction grating formed by the ultrasonic waves, and its optical path changes. As a result, the laser light is turned on / off. On the other hand, it is input to the computer 10 as digital command data and the DAC
The control signal converted into an analog signal by 11 is received by the servo driver 9, and the servo driver 9 causes the X mirror 3 and the Y mirror which are galvanometer mirrors.
The operation of the mirror 4 is controlled, and the Low-E glass 6 is Low.
After the laser beam is scanned on the -E film to dissolve the Low-E film, fine particles produced by aggregating or a diffraction grating formed by the fine particles are produced. The pattern written on the heat ray blocking glass 6 by the laser light can be easily changed by changing the digital command data.

【0042】図2は、レーザ光の焦点位置の制御にZレ
ンズおよび対物レンズを用いた本発明で使用するレーザ
照射装置の一例の説明図である。Zレンズ12および対
物レンズ13のうち、リニアトランスレータに搭載され
たZレンズ12をリニアトランスレータにより光軸上を
動かすことによって、熱線遮断ガラス6の照射面におけ
るレーザビーム径を制御する。
FIG. 2 is an explanatory view of an example of a laser irradiation apparatus used in the present invention which uses a Z lens and an objective lens for controlling the focal position of laser light. Of the Z lens 12 and the objective lens 13, the Z lens 12 mounted on the linear translator is moved along the optical axis by the linear translator to control the laser beam diameter on the irradiation surface of the heat ray blocking glass 6.

【0043】パルスレーザ発振器1であるUVパルスレ
ーザ発振器1には、通常、AOMまたはEOMからなる
光変調器が通称Qスイッチとして既に組み込まれてい
る。UVパルスレーザ発振器1より発光されたレーザ光
は、Zレンズ12、次いで対物レンズ13を通過した
後、ガルバノメータミラーであるXミラー3およびYミ
ラー4により反射し、その後、ターゲット6であるLo
w−Eガラス6に照射する。XミラーとYミラーは、制
御しつつ動かして光軸を往復運動させることで、Low
−Eガラス6のLow−E膜に微粒子、または該微粒子
で形成された回折格子を形成する。該微粒子または回折
格子は、入射光を散乱または回折させて熱線遮断ガラス
を着色する。
In the UV pulse laser oscillator 1 which is the pulse laser oscillator 1, an optical modulator made of AOM or EOM is usually already incorporated as a so-called Q switch. The laser light emitted from the UV pulse laser oscillator 1 passes through the Z lens 12 and then the objective lens 13, is reflected by the X mirror 3 and the Y mirror 4 which are galvanometer mirrors, and then is the target 6, Lo.
Irradiate the w-E glass 6. The X and Y mirrors are controlled to move to reciprocally move the optical axis, thereby
Fine particles or a diffraction grating formed of the fine particles is formed on the Low-E film of the -E glass 6. The fine particles or diffraction grating scatters or diffracts incident light to color the heat ray blocking glass.

【0044】該熱線遮断ガラス6を着色する際に、照射
面に対し水平方向に移動可能なX−Y軸ステージと垂直
方向に移動可能なZ軸ステージからなるXYZ−ステー
ジ7に熱線遮断膜付きガラス基板を搭載し、ステージ7
を移動させることで、着色する部位を移動させる。
When coloring the heat ray-shielding glass 6, an XYZ-stage 7 consisting of an XY axis stage movable in the horizontal direction and a Z axis stage movable in the vertical direction with respect to the irradiation surface is provided with a heat ray shielding film. Glass substrate mounted, stage 7
The part to be colored is moved by moving.

【0045】コンピュータ10にデジタルコマンドデー
タとして入力され、DAC11によってアナログ信号に
変換されたコントロール信号は、サーボドライバ9に受
信されて、サ−ボドライバ9が、Zレンズ12、ガルバ
ノメータミラーであるXミラー3およびYミラー4の動
作を制御しつつ駆動させ、Low−Eガラス6のLow
−E膜上でレーザ光の照射位置を往復運動させつつ走査
させて回折格子を形成する。なお、熱線遮断ガラス6へ
のレーザ光による書き込み内容は、前記デジタルコマン
ドデータを変更することで、容易に変えられる。
The control signal input to the computer 10 as digital command data and converted into an analog signal by the DAC 11 is received by the servo driver 9, and the servo driver 9 causes the Z lens 12 and the X mirror 3 which is a galvanometer mirror. The Y-mirror 4 is driven while controlling the operation of the Low-E glass 6.
The diffraction grating is formed by reciprocating the irradiation position of the laser light on the -E film while scanning. The contents of writing on the heat-shielding glass 6 by laser light can be easily changed by changing the digital command data.

【0046】本発明の熱線遮断ガラスの着色方法は、従
来の板ガラスのマーキング方法であるレーザの光の集光
部にクラックを生じさせることに比べ、熱線遮断ガラス
にダメージを与えることなく耐久性に優れる。
The method of coloring the heat-shielding glass of the present invention is more durable than the heat-shielding glass without damaging the heat-shielding glass, as compared with the conventional method of marking a plate glass which causes a crack in the laser light condensing portion. Excel.

【0047】本発明を以下の実施例によって詳細に説明
するが、本発明は、以下の実施例によって、限定される
ものではない。
The present invention will be described in detail with reference to the following examples, but the present invention is not limited to the following examples.

【0048】また、レーザ光を薄膜付きガラス上に光軸
を往復運動させて走査して周期構造、すなわち、回折格
子を描画する本発明の方法は、Low−E膜に限らず、
レーザ光を照射することで微細構造が形成できる膜付き
ガラスであれば、回折格子により可視光を散乱または回
折させて、板ガラスを着色させることができる。
Further, the method of the present invention for drawing a periodic structure, that is, a diffraction grating by scanning the laser beam on the glass with a thin film by reciprocating the optical axis is not limited to the Low-E film.
In the case of film-coated glass capable of forming a fine structure by irradiation with laser light, visible light can be scattered or diffracted by the diffraction grating to color the plate glass.

【0049】また本発明に用いるLow−Eガラスは、
Ag膜および金属酸化物薄膜からなるLow−E膜が被
覆されたガラスであり、膜の耐久性および熱線反射性能
向上のために膜構成に窒化金属薄膜などを加えても構わ
ない。
The Low-E glass used in the present invention is
It is a glass coated with a Low-E film composed of an Ag film and a metal oxide thin film, and a metal nitride thin film or the like may be added to the film structure in order to improve the durability of the film and the heat ray reflection performance.

【0050】[0050]

【実施例】図1に示すように、連続レーザ発振器である
アルゴンイオンレーザ発振器1およびAOM2、ガルバ
ノメータミラーであるXミラー3、Yミラー4、fθレ
ンズ5、および照射面に対し水平方向に移動可能なX−
Y軸ステージと垂直方向に移動可能なZ軸ステージから
なるXYZ−ステージ7に付設されたホルダからなり、
ホルダにターゲット6であるLow−Eガラス6が取り
付けられる。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS As shown in FIG. 1, it is possible to move in a horizontal direction with respect to an argon ion laser oscillator 1 and an AOM 2 which are continuous laser oscillators, an X mirror 3 which is a galvanometer mirror, a Y mirror 4, an fθ lens 5 and an irradiation surface. X-
It consists of a holder attached to an XYZ-stage 7 consisting of a Y-axis stage and a Z-axis stage movable in the vertical direction,
The Low-E glass 6 which is the target 6 is attached to the holder.

【0051】図3は、実施例で使用したレーザ照射装置
の説明図である。
FIG. 3 is an explanatory view of the laser irradiation device used in the embodiment.

【0052】アルゴンイオンレーザ発振器1より発振さ
れたレーザ光、すなわち、レーザビーム14は、AOM
2を通過した後、Xミラー3とYミラー4とで反射し、
次いでfθレンズ5を通過し、ホルダに取り付けられた
ターゲット6であるLow−Eガラス6の熱線遮断膜面
に照射した。
The laser beam oscillated from the argon ion laser oscillator 1, that is, the laser beam 14 is the AOM.
After passing 2, it is reflected by the X mirror 3 and the Y mirror 4,
Then, it passed through the fθ lens 5 and was irradiated onto the heat ray blocking film surface of the Low-E glass 6 which is the target 6 attached to the holder.

【0053】該Low−Eガラス6は、板厚5mm、サ
イズ、100mm×100mmの、ソーダライムシリケ
ートガラス基板にスパッタリング法によってlow−E
膜を被覆し、該膜構成が、酸化亜鉛40nm/銀20n
m/酸化亜鉛40nmの、計100nmの膜厚の三層構
造からなるLow−Eガラスを用意した。
The Low-E glass 6 was formed on a soda-lime silicate glass substrate having a plate thickness of 5 mm and a size of 100 mm × 100 mm by a low-E method by a sputtering method.
A film is coated so that the film constitution is 40 nm zinc oxide / 20 n silver
A Low-E glass having a three-layer structure of m / zinc oxide 40 nm and a total film thickness of 100 nm was prepared.

【0054】レーザ光は、出力2.2Wとし、Low−
E膜上にレーザビーム14を集光させた。AOM2によ
るレーザ光のON/OFFと、Xミラー3およびYミラ
ー4の角度制御によって、レーザビーム14の光軸を振
り、100mm/secの走査速度で、Low−E膜上
に走査した。このようにして、10mm×80mmの範
囲に10本/mmの回折格子を描画した。次いで、XY
Z−ステージ7を操作してなど間隔に水平移動させ、そ
の後、静止させることで、10mm×80mmの回折格
子を等間隔で複数、描画することができた。レーザビー
ム14を照射した部位は、反射色が見る角度のよって赤
から紫に着色された。
The laser light output is 2.2 W, and Low-
The laser beam 14 was focused on the E film. The optical axis of the laser beam 14 was swung by ON / OFF of the laser beam by the AOM 2 and the angle control of the X mirror 3 and the Y mirror 4, and the Low-E film was scanned at a scanning speed of 100 mm / sec. In this way, a diffraction grating of 10 lines / mm was drawn in a range of 10 mm × 80 mm. Then XY
By manipulating the Z-stage 7 to move it horizontally at intervals, for example, and then stopping it, a plurality of 10 mm × 80 mm diffraction gratings could be drawn at equal intervals. The part irradiated with the laser beam 14 was colored from red to purple depending on the viewing angle of the reflected color.

【0055】図4は、Low−E膜にレーザ光を走査し
た描画ライン先端部のレーザ顕微鏡写真である。
FIG. 4 is a laser microscope photograph of the leading end of a writing line obtained by scanning the Low-E film with laser light.

【0056】更に、図5は、Low−E膜にレーザ光を
走査した描画ライン中央部のレーザ顕微鏡写真である。
Further, FIG. 5 is a laser microscope photograph of the center portion of the drawing line obtained by scanning the Low-E film with laser light.

【0057】Low−E膜にレーザ光を照射した際の描
画ライン15をレーザ顕微鏡にて観察したところ、図4
および図5に示すように、幅30μmの1本の描画ライ
ンの中に、Low−E膜が溶融した後に凝集したことに
よる、平均のサイズが600nm程度の微粒子16が生
成し、また描画ラインの周縁部にはサイズ3000nm
×1000nm程度の微粒子16’が規則性をもって配
列した微細な周期構造が観察できた。微粒子部は、明る
く観察され、銀が多く含まれ可視光を散乱している。
The drawing line 15 when the low-E film was irradiated with laser light was observed with a laser microscope, and FIG.
As shown in FIG. 5, fine particles 16 with an average size of about 600 nm are generated due to the aggregation of the Low-E film after melting in a single drawing line having a width of 30 μm. Size 3000nm on the periphery
A fine periodic structure in which fine particles 16 'of about 1000 nm were regularly arranged was observed. The fine particle portion is observed brightly, contains a large amount of silver, and scatters visible light.

【0058】[0058]

【発明の効果】本発明の熱線遮断ガラスの着色方法によ
って、板ガラス表面にAg膜と金属酸化物膜を積層させ
た薄膜を被覆させてなる熱線遮断ガラス、すなわち、L
ow−EガラスのLow−E膜の表面にレーザ光のビー
ム径を絞り、光軸を往復運動させつつレーザ光を走査し
て、Low−E膜が溶融した後、凝集析出した微粒子、
または該微粒子からなる回折格子を形成し、可視光を散
乱または回折させた際の干渉によって、レーザ光走査部
を着色させて、Low−Eガラスに文字および図柄を描
画することができる。
According to the method of coloring a heat ray-shielding glass of the present invention, a heat ray-shielding glass obtained by coating the surface of a sheet glass with a thin film obtained by laminating an Ag film and a metal oxide film, that is, L
The beam diameter of the laser light is narrowed to the surface of the Low-E film of the ow-E glass, the laser light is scanned while reciprocating the optical axis, and the Low-E film is melted, and then fine particles aggregated and deposited,
Alternatively, a diffraction grating made of the fine particles may be formed, and the laser light scanning portion may be colored by interference when scattering or diffracting visible light, so that characters and patterns can be drawn on the Low-E glass.

【0059】本発明の用いるレーザ照射装置によって、
文字および図柄などが、精緻に描画できる。また、ステ
ージを等間隔に移動させることにより、文字、図柄など
を等間隔に複数描画することができる。有彩色で着色さ
れた着色部は装飾性が高い。
With the laser irradiation apparatus used in the present invention,
Characters and designs can be drawn with precision. Further, by moving the stage at equal intervals, it is possible to draw a plurality of characters, patterns, etc. at equal intervals. The colored portion colored with a chromatic color is highly decorative.

【0060】本発明の熱線遮断ガラスの着色方法によっ
て着色された熱線遮断ガラス(Low−Eガラス)は、
軟化点以上に加熱し溶融すると着色部の銀がガラス内部
に拡散することで無色透明に戻るので、リサイクルが容
易である。
The heat ray-shielding glass (Low-E glass) colored by the heat ray-shielding glass coloring method of the present invention is
When heated and melted above the softening point, the silver in the colored part diffuses inside the glass and returns to colorless and transparent, which facilitates recycling.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】レーザ光の焦点位置の制御にfθレンズを用い
た本発明で使用するレーザ照射装置の一例の説明図であ
る。
FIG. 1 is an explanatory diagram of an example of a laser irradiation apparatus used in the present invention, which uses an fθ lens for controlling a focus position of laser light.

【図2】レーザビーム光の焦点位置の制御にZレンズお
よび対物レンズを用いた本発明で使用するレーザ照射装
置の一例の説明図である。
FIG. 2 is an explanatory diagram of an example of a laser irradiation apparatus used in the present invention, which uses a Z lens and an objective lens for controlling the focal position of laser beam light.

【図3】実施例で使用したレーザ照射装置の説明図であ
る。
FIG. 3 is an explanatory diagram of a laser irradiation device used in an example.

【図4】Low−E膜にレーザ光を走査した描画ライン
先端部のレーザ顕微鏡写真である。
FIG. 4 is a laser micrograph of a leading end of a drawing line obtained by scanning a Low-E film with laser light.

【図5】Low−E膜にレーザ光を走査した描画ライン
中央部のレーザ顕微鏡写真である。
FIG. 5 is a laser microscope photograph of a central portion of a drawing line in which a Low-E film is scanned with laser light.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1.レーザ発振器 2.音響光学変調器(AOM) 3.Xミラー 4.Yミラー 5.fθレンズ 6.ターゲット(Low−Eガラス) 7.XYZ−ステージ 1. Laser oscillator 2. Acousto-optic modulator (AOM) 3. X mirror 4. Y mirror 5. fθ lens 6. Target (Low-E glass) 7. XYZ-stage

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 西川 晋司 三重県松阪市大口町1510番地 セントラル 硝子株式会社硝子研究所内 (72)発明者 多門 宏幸 三重県松阪市大口町1510番地 セントラル 硝子株式会社硝子研究所内 (72)発明者 上村 宏 三重県松阪市大口町1510番地 セントラル 硝子株式会社硝子研究所内 (72)発明者 角野 広平 大阪府池田市緑丘1丁目8番31号 独立行 政法人産業技術総合研究所 関西センター 内 (72)発明者 赤井 智子 大阪府池田市緑丘1丁目8番31号 独立行 政法人産業技術総合研究所 関西センター 内 (72)発明者 山下 勝 大阪府池田市緑丘1丁目8番31号 独立行 政法人産業技術総合研究所 関西センター 内 (72)発明者 矢澤 哲夫 大阪府池田市緑丘1丁目8番31号 独立行 政法人産業技術総合研究所 関西センター 内 Fターム(参考) 4G059 AA01 AB05 AB11 AC06 AC08 DA01 DB02 EA01 EA02 EB01 EB04 GA02 GA04 GA14    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    (72) Inventor Shinji Nishikawa             Central, 1510 Oguchi-cho, Matsusaka City, Mie Prefecture             Glass Co., Ltd. Glass Research Center (72) Inventor Hiroyuki Tamon             Central, 1510 Oguchi-cho, Matsusaka City, Mie Prefecture             Glass Co., Ltd. Glass Research Center (72) Inventor Hiroshi Uemura             Central, 1510 Oguchi-cho, Matsusaka City, Mie Prefecture             Glass Co., Ltd. Glass Research Center (72) Inventor Kohei Kakuno             1-83-1 Midorigaoka, Ikeda, Osaka Prefecture             AIST Kansai Center             Within (72) Inventor Tomoko Akai             1-83-1 Midorigaoka, Ikeda, Osaka Prefecture             AIST Kansai Center             Within (72) Inventor Masaru Yamashita             1-83-1 Midorigaoka, Ikeda, Osaka Prefecture             AIST Kansai Center             Within (72) Inventor Tetsuo Yazawa             1-83-1 Midorigaoka, Ikeda, Osaka Prefecture             AIST Kansai Center             Within F-term (reference) 4G059 AA01 AB05 AB11 AC06 AC08                       DA01 DB02 EA01 EA02 EB01                       EB04 GA02 GA04 GA14

Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 板ガラス表面にAg膜と金属酸化物膜を
積層させた薄膜を被覆させてなる熱線遮断ガラスに、レ
ーザ光照射装置により、レーザ光を照射して、熱線遮断
膜を溶融させた後、銀および金属酸化物が凝集して生成
した微粒子によって、可視光線の散乱現象を現出させて
着色させることを特徴とする熱線遮断ガラスの着色方
法。
1. A laser beam irradiating device irradiates a laser beam to a heat beam blocking glass obtained by coating a flat glass surface with a thin film obtained by laminating an Ag film and a metal oxide film, thereby melting the heat beam blocking film. Then, a method for coloring a heat ray-shielding glass is characterized in that a fine particle formed by aggregating silver and a metal oxide causes a visible light scattering phenomenon to appear to be colored.
【請求項2】 板ガラス表面にAg膜と金属酸化物膜を
積層させた薄膜を被覆させてなる熱線遮断ガラスに、レ
ーザ光照射装置により、レーザ光を走査しつつ照射し
て、熱線遮断膜を溶融させた後、銀および金属酸化物が
凝集して生成した微粒子によって回折格子を形成し、可
視光線の回折現象を現出させて着色させることを特徴と
する熱線遮断ガラスの着色方法。
2. A heat ray-shielding glass, which is obtained by coating a thin film obtained by laminating an Ag film and a metal oxide film on the surface of a plate glass, is irradiated with a laser beam while scanning with a laser beam irradiating device to form the heat ray-shielding film. A method for coloring heat-shielding glass, which comprises melting and then forming a diffraction grating by fine particles produced by aggregating silver and metal oxides, and causing a diffraction phenomenon of visible light to appear to be colored.
【請求項3】 前記レーザ光照射装置がレーザ発振器、
光変調器、ガルバノメータミラーおよびfθレンズから
なるレーザ光照射装置であることを特徴とする請求項1
または請求項2に記載の熱線遮断ガラスの着色方法。
3. The laser light irradiation device is a laser oscillator,
A laser light irradiation device comprising an optical modulator, a galvanometer mirror, and an fθ lens.
Alternatively, the method for coloring the heat ray-shielding glass according to claim 2.
【請求項4】 前記レーザ光照射装置がレーザ発振器、
光変調器、リニアトランスレータに搭載された集光レン
ズ、対物レンズ、およびガルバノメータミラーからなる
レーザ照射装置であることを特徴とする請求項1または
請求項2に記載の熱線遮断ガラスの着色方法。
4. The laser light irradiation device is a laser oscillator,
The method for coloring a heat ray-shielding glass according to claim 1 or 2, which is a laser irradiation device including a light modulator, a condenser lens mounted on a linear translator, an objective lens, and a galvanometer mirror.
【請求項5】 レーザ発振器が連続レーザ発振器または
パルスレーザ発振器であり、用いるレーザ光の種類が赤
外光、近赤外光または紫外光であることを特徴とする請
求項1乃至請求項4のいずれかに記載の熱線遮断ガラス
の着色方法。
5. The laser oscillator is a continuous laser oscillator or a pulse laser oscillator, and the type of laser light used is infrared light, near infrared light or ultraviolet light. The method for coloring a heat ray-shielding glass according to any one of claims.
【請求項6】 光変調器が音響光学変調器または電気光
学変調器であることを特徴とする請求項1乃至請求項5
のいずれかに記載の熱線遮断ガラスの着色方法。
6. The optical modulator according to claim 1, wherein the optical modulator is an acousto-optic modulator or an electro-optic modulator.
The method for coloring the heat ray-shielding glass according to any one of 1.
【請求項7】 複数のガルバノメータミラーによって、
熱線遮断ガラスへのレーザ光の照射位置を移動させるこ
とを特徴とする請求項1乃至請求項6のいずれかに記載
の熱線遮断ガラスの着色方法。
7. By a plurality of galvanometer mirrors,
The method for coloring a heat ray-shielding glass according to any one of claims 1 to 6, wherein the irradiation position of the laser beam on the heat ray-shielding glass is moved.
【請求項8】 水平方向または垂直方向に移動可能なス
テージによって、熱線遮断ガラスを移動させることを特
徴とする請求項1乃至請求項7のいずれかに記載の熱線
遮断ガラスの着色方法。
8. The method of coloring a heat ray-shielding glass according to claim 1, wherein the heat ray-shielding glass is moved by a stage movable in a horizontal direction or a vertical direction.
【請求項9】 請求項1乃至請求項8のいずれかに記載
の熱線遮断ガラスの着色方法によって、文字、図柄が描
画されていることを特徴とする熱線遮断ガラス。
9. A heat ray-shielding glass, wherein characters and patterns are drawn by the method for coloring the heat ray-shielding glass according to any one of claims 1 to 8.
【請求項10】 請求項1乃至請求項9のいずれかに記
載の熱線遮断ガラスの着色方法によって、全体または一
部が着色されている熱線遮断ガラス。
10. A heat ray-shielding glass which is wholly or partly colored by the method for coloring a heat ray-shielding glass according to any one of claims 1 to 9.
【請求項11】 請求項9または請求項10に記載の熱
線遮断ガラスの描画または着色された部位を、ガラスの
軟化点以上に加熱することによって消色する方法。
11. A method of erasing a drawn or colored portion of the heat ray-shielding glass according to claim 9 or 10 by heating it to a temperature equal to or higher than the softening point of the glass.
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