JP2002373597A - Shadow mask structural body - Google Patents

Shadow mask structural body

Info

Publication number
JP2002373597A
JP2002373597A JP2001182769A JP2001182769A JP2002373597A JP 2002373597 A JP2002373597 A JP 2002373597A JP 2001182769 A JP2001182769 A JP 2001182769A JP 2001182769 A JP2001182769 A JP 2001182769A JP 2002373597 A JP2002373597 A JP 2002373597A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
shadow mask
frame
linear expansion
pair
shadow
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001182769A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hideo Suzuki
秀生 鈴木
Takao Matsunami
隆夫 松浪
Toshibumi Nakatani
俊文 中谷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP2001182769A priority Critical patent/JP2002373597A/en
Publication of JP2002373597A publication Critical patent/JP2002373597A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Electrodes For Cathode-Ray Tubes (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent tension reduction and wrinkle on a shadow mask in a thermal process by relaxing heat creep phenomenon of the mask in heat treatment. SOLUTION: This body is constituted of respective materials in which the coefficient of linear expansion of the longer axis support body 1 is not less than 10×10<-6> , the coefficient of linear expansion of the shorter axis support body 2 is not less than 10×10<-6> , and the coefficient of linear expansion of the shadow mask 4 is not more than 5×10<-6> , and plural slits 10 and grooves 12 are installed at this shadow mask 4 at the adhering part of the frame 3 and the shadow mask 4.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はテレビジョン、コン
ピュータディスプレイ等に使用されるシャドウマスク構
体に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a shadow mask structure used for televisions, computer displays, and the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般にカラー陰極線管は、電子銃から射
出される電子ビームを色選別するためのシャドウマスク
と、これを保持するフレームから構成されるシャドウマ
スク構体を有している。
2. Description of the Related Art Generally, a color cathode ray tube has a shadow mask for selecting colors of an electron beam emitted from an electron gun, and a shadow mask structure composed of a frame for holding the shadow mask.

【0003】シャドウマスク構体の種類としては、多数
の矩形や円形、楕円形などの開孔を有している平板部材
を、所定の曲面形状にプレスして形成しフレームに溶接
したプレスマスク(図5a)、同様の開孔を有している
平板部材に長軸・短軸の二次元方向に張力を印加した状
態でフレームに架張溶接した二次元テンションマスク
(図5b)、また同様の多数の開孔を有している平板部
材に、短軸あるいは長軸方向いずれか一次元方向のみの
張力を印加した状態でフレームに架張溶接した一次元テ
ンションマスク(図5c)、あるいは、多数の金属細条
からなる部材に、張力を印加してフレームに架張溶接し
たアパーチャグリル(特開平4−163830号公報参
照)などが知られている。
[0003] As a type of the shadow mask structure, a flat plate member having a large number of openings such as rectangles, circles, and ellipses is formed into a predetermined curved shape by pressing, and is welded to a frame. 5a), a two-dimensional tension mask (FIG. 5b) stretch-welded to a frame in a state where tension is applied in two-dimensional directions of a long axis and a short axis to a flat plate member having a similar opening, and a similar number. A one-dimensional tension mask (FIG. 5c) stretch-welded to a frame in a state in which tension is applied in only one dimension in either the short axis or the long axis direction to a flat plate member having an opening of FIG. There is known an aperture grill (see Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-163830) in which a tension is applied to a member made of a metal strip and stretch-welded to a frame.

【0004】以下、従来例として、一次元テンションマ
スクについて、添付図面に基づいて説明する。
Hereinafter, a one-dimensional tension mask will be described as a conventional example with reference to the accompanying drawings.

【0005】一次元テンションマスクのシャドウマスク
構体を、図6に示す。シャドウマスク構体5は、所定間
隔をもって互いに平行に配置した一対の長軸支持体1
と、その一対の長軸支持体1の端部に取り付けられた略
コの字状をなす短軸支持体2からなるフレーム3と、一
対の長軸支持体1に所定間隔、所要の張力で架張固定さ
れたシャドウマスク4から構成される。
FIG. 6 shows a shadow mask structure of a one-dimensional tension mask. The shadow mask structure 5 includes a pair of long axis supports 1 arranged in parallel with each other at a predetermined interval.
And a frame 3 composed of a substantially U-shaped short shaft support 2 attached to the ends of the pair of long shaft supports 1 and a pair of the long shaft supports 1 at a predetermined interval and a required tension. It is composed of a shadow mask 4 which is stretched and fixed.

【0006】このシャドウマスク構体5は、例えばフレ
ーム3を加圧変形させた状態で、シャドウマスク4を溶
接固定し、溶接固定後にフレーム3の加圧を解除してシ
ャドウマスク4を架張し、さらにその後、表面を黒化処
理するために450〜470℃程度の高温で熱処理をし
て製造される。さらに、陰極線管として完成するまでに
は440〜470℃程度の高温でのフリットシール工程
と、350〜370℃程度の高温での真空排気工程が有
る。
In the shadow mask structure 5, for example, in a state where the frame 3 is deformed under pressure, the shadow mask 4 is fixed by welding, and after the welding is fixed, the pressure of the frame 3 is released and the shadow mask 4 is stretched. After that, heat treatment is performed at a high temperature of about 450 to 470 ° C. to blacken the surface. Further, there are a frit sealing step at a high temperature of about 440 to 470 ° C. and a vacuum evacuation step at a high temperature of about 350 to 370 ° C. until the cathode ray tube is completed.

【0007】上述のシャドウマスク構体5の構成におい
て、シャドウマスク4を架張後、高い温度で黒化処理す
る際、フレーム3の熱膨張によりシャドウマスク4が伸
ばされ、塑性変形や熱クリープ現象が発生し、シャドウ
マスク4にしわが発生する問題があった。
In the above-described structure of the shadow mask structure 5, when the blackening process is performed at a high temperature after the shadow mask 4 is stretched, the shadow mask 4 is stretched due to the thermal expansion of the frame 3, and plastic deformation and thermal creep phenomenon occur. This causes the shadow mask 4 to be wrinkled.

【0008】この塑性変形や熱クリープ現象は、その後
の工程であるパネルとファンネルをシールするフリット
シール工程の熱処理(440〜470℃程度)において
も発生する可能性がある。
The plastic deformation and the thermal creep phenomenon may also occur in the subsequent heat treatment (about 440 to 470 ° C.) of the frit sealing step of sealing the panel and the funnel.

【0009】そこで、従来の一次元テンションマスクに
おいては、高温での熱処理中においてフレーム3とシャ
ドウマスク4の温度差が発生しないような熱処理を行っ
たり、フレーム3とシャドウマスク4は同じ材料、また
は、ほぼ同等の熱膨張係数を有する材料を用いるような
工夫を行っている。
Therefore, in the conventional one-dimensional tension mask, heat treatment is performed so that a temperature difference between the frame 3 and the shadow mask 4 does not occur during the heat treatment at a high temperature, or the frame 3 and the shadow mask 4 are made of the same material or In order to use a material having substantially the same coefficient of thermal expansion, the invention has been devised.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、フレー
ムはテンションを引加したシャドウマスク4を支持する
必要があるため、剛性を確保するためにシャドウマスク
に比べて大きな質量を持ち、熱容量も大きくなっている
ため、熱処理の冷却過程においては、シャドウマスクの
方が先に冷えやすい。さらに、シャドウマスクの材料と
して、フレームに比べて小さな線膨張の材料を用いた場
合は、さらにシャドウマスクに塑性変形や熱クリープ現
象が発生し、しわが発生しやすくなる。
However, since the frame needs to support the shadow mask 4 to which tension is applied, the frame has a larger mass and a larger heat capacity than the shadow mask in order to secure rigidity. Therefore, in the cooling process of the heat treatment, the shadow mask is easier to cool first. Further, when a material having a smaller linear expansion than that of the frame is used as a material for the shadow mask, plastic deformation and thermal creep phenomenon further occur in the shadow mask, and wrinkles are likely to occur.

【0011】本発明は、上述の点に鑑み、熱処理中のシ
ャドウマスクの熱クリープ現象を緩和させることによ
り、熱プロセス中でのマスクの張力低下やしわの発生を
防止するためのものである。
SUMMARY OF THE INVENTION In view of the foregoing, the present invention is to alleviate the thermal creep phenomenon of a shadow mask during a heat treatment, thereby preventing a reduction in mask tension and a generation of wrinkles during a thermal process.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に本発明は、互いに相対向する一対の長軸支持体とこの
一対の長軸支持体間に設けられた一対の短軸支持体とか
らなるフレームと、このフレームに架張保持されている
シャドウマスクとを有し、前記フレームと前記シャドウ
マスクの固着部分のシャドウマスク側に複数の剛性調整
部を設けたものである。
In order to achieve this object, the present invention provides a pair of long shaft supports opposed to each other and a pair of short shaft supports provided between the pair of long shaft supports. And a shadow mask stretched and held by the frame, and a plurality of rigidity adjusting portions are provided on a shadow mask side of a fixed portion of the frame and the shadow mask.

【0013】これらの構成により、フレームとマスクに
おいて異なる熱膨張の材料を用いた場合において、熱処
理中のシャドウマスクの塑性変形や熱クリープ現象を緩
和させ、熱プロセス中でのマスクの張力低下や、しわの
発生を防止することができるものである。
With these configurations, when materials having different thermal expansions are used for the frame and the mask, the plastic deformation and the thermal creep phenomenon of the shadow mask during the heat treatment are alleviated, and the tension of the mask is reduced during the thermal process. It is possible to prevent the occurrence of wrinkles.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】以下に、図面を用いて本発明を具
体的に説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be specifically described below with reference to the drawings.

【0015】図1は、本発明の第1の実施の形態に係る
シャドウマスク構体の斜視図であり、シャドウマスク構
体5は、互いに相対向する一対の線膨張係数が10×1
-6以上の材料で構成された長軸支持体1と、この一対
の長軸支持体1間に設けられた一対の線膨張係数が10
×10-6以上の材料で構成された短軸支持体2とからな
るフレーム3と、一方向に引張力が印加された状態で、
フレーム3に架張保持されている線膨張係数が5×10
-6以下の材料のシャドウマスク4により構成されてお
り、シャドウマスク4には、フレーム3との固着部分に
おいて、複数のスリット10を設けている。シャドウマ
スク4を、フレーム3との固着部分において分断するこ
とにより、フレーム3がシャドウマスク4よりも熱膨張
した場合でも、スリット10によりシャドウマスク4に
大きな力が作用することはなく、シャドウマスク4に塑
性変形や熱クリープが発生することはない。
FIG. 1 is a perspective view of a shadow mask structure according to a first embodiment of the present invention. A shadow mask structure 5 has a pair of opposing linear expansion coefficients of 10 × 1.
A long axis support 1 made of a material having a linear expansion coefficient of 10-6 or more and a pair of linear expansion coefficients
A frame 3 comprising a short axis support 2 made of a material of × 10 -6 or more, and a state where a tensile force is applied in one direction,
The coefficient of linear expansion held on the frame 3 is 5 × 10
The shadow mask 4 has a plurality of slits 10 at a portion where the shadow mask 4 is fixed to the frame 3. By dividing the shadow mask 4 at a portion where the shadow mask 4 is fixed to the frame 3, even when the frame 3 expands more thermally than the shadow mask 4, a large force does not act on the shadow mask 4 by the slit 10. No plastic deformation or thermal creep occurs.

【0016】図2は、シャドウマスク4とフレーム3と
の固着部分の拡大図であり、スリット10の長さは50
mm以上で、スリット10のピッチは10mm以下であ
ることが望ましい。スリット10の長さが小さく、スリ
ット10のピッチが大きくなるとスリット10の先端に
おいて応力の集中が発生し、シャドウマスク4が局部的
に変形することがあるからである。
FIG. 2 is an enlarged view of a portion where the shadow mask 4 and the frame 3 are fixed, and the length of the slit 10 is 50.
mm and the pitch of the slits 10 is desirably 10 mm or less. This is because if the length of the slit 10 is small and the pitch of the slit 10 is large, stress concentration occurs at the tip of the slit 10, and the shadow mask 4 may be locally deformed.

【0017】図3は、本発明の第2の実施の形態に係る
シャドウマスク構体の斜視図であり、互いに相対向する
一対の線膨張係数が10×10-6以上の材料で構成され
た長軸支持体1と、この一対の長軸支持体1間に設けら
れた一対の線膨張係数が10×10-6以上の材料で構成
された短軸支持体2とからなるフレーム3と、一方向に
引張力が印加された状態で前記フレーム3に架張保持さ
れている線膨張係数が5×10-6以下の材料のシャドウ
マスク4により構成されており、シャドウマスク4に
は、フレーム3との固着部分11において、剛性調整部
を設けている。図4は、剛性調整部の一例を示し、ハー
フエッチングにて溝12を設けている。シャドウマスク
4に剛性を低下させた部分である剛性調整部を設けるこ
とにより、フレーム3がシャドウマスク4よりも熱膨張
したとき、マスクの剛性調整部の剛性低下部分だけに塑
性変形や熱クリープが発生し、マスク全体としてはテン
ションを保持しており、しわが発生することはない。
FIG. 3 is a perspective view of a shadow mask structure according to a second embodiment of the present invention, and a pair of opposed masks each having a linear expansion coefficient of 10 × 10 -6 or more. A frame 3 comprising a shaft support 1 and a pair of short shaft supports 2 provided between the pair of long shaft supports 1 and made of a material having a linear expansion coefficient of 10 × 10 −6 or more; A shadow mask 4 made of a material having a coefficient of linear expansion of 5 × 10 −6 or less, which is stretched and held on the frame 3 in a state where a tensile force is applied in the direction. And a rigidity adjusting portion is provided at the fixed portion 11. FIG. 4 shows an example of the rigidity adjusting section, in which a groove 12 is provided by half etching. By providing the shadow mask 4 with a rigidity adjusting portion that is a portion having reduced rigidity, when the frame 3 expands more thermally than the shadow mask 4, plastic deformation and thermal creep occur only in the rigidity decreasing portion of the rigidity adjusting portion of the mask. Occurs, and the entire mask retains tension, and no wrinkles occur.

【0018】なお、剛性調整部として溝を設けていた
が、切り欠き等貫通した穴でもよい。
Although a groove is provided as a rigidity adjusting portion, a through hole such as a notch may be used.

【0019】[0019]

【発明の効果】以上のように本発明によれば、互いに相
対向する一対の長軸支持体とこの一対の長軸支持体間に
設けられた一対の短軸支持体とからなるフレームと、こ
のフレームに架張保持されているシャドウマスクとを有
し、前記フレームと前記シャドウマスクの固着部分のシ
ャドウマスク側に複数の剛性調整部を設けたもので、熱
処理中のシャドウマスクの塑性変形や熱クリープ現象を
緩和させることにより、熱プロセス中でのマスクの張力
低下や、しわの発生を防止することができる。
As described above, according to the present invention, there is provided a frame comprising a pair of long shaft supports opposed to each other and a pair of short shaft supports provided between the pair of long shaft supports. This frame has a shadow mask stretched and held, and a plurality of rigidity adjusting portions are provided on the shadow mask side of a fixed portion of the frame and the shadow mask, and a plastic deformation of the shadow mask during heat treatment and By alleviating the thermal creep phenomenon, it is possible to prevent a decrease in the tension of the mask and the occurrence of wrinkles during the thermal process.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施の形態に係るシャドウマス
ク構体の斜視図
FIG. 1 is a perspective view of a shadow mask structure according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第1の実施の形態に係るシャドウマス
ク構体の部分拡大図
FIG. 2 is a partially enlarged view of the shadow mask structure according to the first embodiment of the present invention.

【図3】本発明の第2の実施の形態に係るシャドウマス
ク構体の斜視図
FIG. 3 is a perspective view of a shadow mask structure according to a second embodiment of the present invention.

【図4】本発明の第2の実施の形態に係るシャドウマス
ク構体の部分拡大図
FIG. 4 is a partially enlarged view of a shadow mask structure according to a second embodiment of the present invention.

【図5】従来のシャドウマスク構体の斜視図FIG. 5 is a perspective view of a conventional shadow mask structure.

【図6】従来のシャドウマスク構体のフレーム構造を示
す斜視図
FIG. 6 is a perspective view showing a frame structure of a conventional shadow mask structure.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 長軸支持体 2 短軸支持体 3 フレーム 4 シャドウマスク 5 シャドウマスク構体 10 スリット 12 溝 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Long axis support 2 Short axis support 3 Frame 4 Shadow mask 5 Shadow mask structure 10 Slit 12 Groove

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 中谷 俊文 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Fターム(参考) 5C031 EE01 EE08 EE11 EH04 EH06 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Toshifumi Nakatani 1006 Kazuma Kadoma, Osaka Prefecture Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. F term (reference) 5C031 EE01 EE08 EE11 EH04 EH06

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 互いに相対向する一対の長軸支持体とこ
の一対の長軸支持体間に設けられた一対の短軸支持体と
からなるフレームと、このフレームに架張保持されてい
るシャドウマスクとを有し、前記フレームと前記シャド
ウマスクの固着部分のシャドウマスク側に複数の剛性調
整部を設けたことを特徴とするシャドウマスク構体。
1. A frame comprising a pair of long shaft supports opposed to each other and a pair of short shaft supports provided between the pair of long shaft supports, and a shadow stretched and held by the frame. A shadow mask structure, comprising: a mask; and a plurality of rigidity adjusting portions provided on a shadow mask side of a fixed portion of the frame and the shadow mask.
【請求項2】 フレームの線膨張係数がシャドウマスク
より大であることを特徴とする請求項1に記載のシャド
ウマスク構体。
2. The shadow mask structure according to claim 1, wherein the linear expansion coefficient of the frame is larger than that of the shadow mask.
【請求項3】 剛性調整部がスリット形状であることを
特徴とする請求項1、2のいずれかに記載のシャドウマ
スク構体。
3. The shadow mask structure according to claim 1, wherein the rigidity adjusting section has a slit shape.
【請求項4】 長軸支持体と短軸支持体の線膨張係数が
10×10-6以上、シャドウマスクの線膨張係数が5×
10-6以下、スリットの長さが50mm以上、このスリ
ットのピッチが10mm以下であることを特徴とする請
求項3に記載のシャドウマスク構体。
4. A long-axis support and a short-axis support having a linear expansion coefficient of 10 × 10 −6 or more, and a shadow mask having a linear expansion coefficient of 5 × 10 6.
10 -6, the length of the slit is at least 50mm, shadow mask structure according to claim 3, the pitch of the slit is equal to or is 10mm or less.
【請求項5】 剛性調整部が溝形状であることを特徴と
する請求項1、2のいずれかに記載のシャドウマスク構
体。
5. The shadow mask structure according to claim 1, wherein the rigidity adjusting portion has a groove shape.
JP2001182769A 2001-06-18 2001-06-18 Shadow mask structural body Pending JP2002373597A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001182769A JP2002373597A (en) 2001-06-18 2001-06-18 Shadow mask structural body

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001182769A JP2002373597A (en) 2001-06-18 2001-06-18 Shadow mask structural body

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2002373597A true JP2002373597A (en) 2002-12-26

Family

ID=19022800

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001182769A Pending JP2002373597A (en) 2001-06-18 2001-06-18 Shadow mask structural body

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2002373597A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6084342A (en) Color picture tube having a tensioned mask-support frame assembly
JP2002373597A (en) Shadow mask structural body
EP1356491B1 (en) Compliant tension mask assembly
JP2001210230A (en) Method for manufacturing color selection electrode body
US6731055B2 (en) Color picture tube having a low expansion tension mask attached to a higher expansion frame
JP3704156B2 (en) Method for applying preload to CRT tension mask material
JPS62252031A (en) Manufacture of color selection device for cathode-ray tube
JP2001176420A (en) Color cathode-ray tube
JP2003109499A (en) Manufacturing method for color cathode-ray tube
JP2966415B2 (en) Shadow mask structure
JP3361742B2 (en) Color cathode ray tube
JPH0850861A (en) Color cathode ray tube
JP3060643B2 (en) Color picture tube
JP3030010B2 (en) Shadow mask for cathode ray tube
JPH07296738A (en) Color cathode-ray tube
JPH0850860A (en) Color cathode ray tube
KR20020000902A (en) shadowmask-frame assembly for effecting uniform tension on a shadowmask in a color cathode ray tube
US6930445B2 (en) Compliant tension mask assembly
JPH06349416A (en) Color selecting electrode and manufacture thereof
KR20020000233A (en) shadow mask-frame assembly for a cathode ray tube
JP2001135225A (en) Manufacturing method of color-discriminating electrodes, and color cathode-ray tube using them
JP2002203490A (en) Color cathode-ray tube
JPH0636699A (en) Color cathode ray tube
JP2003151459A (en) Method for manufacturing color cathode ray tube
JP2000082415A (en) Color picture tube