JP2002333502A - Antireflection window plate for display cover of portable device having display and portable device - Google Patents

Antireflection window plate for display cover of portable device having display and portable device

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JP2002333502A
JP2002333502A JP2001139661A JP2001139661A JP2002333502A JP 2002333502 A JP2002333502 A JP 2002333502A JP 2001139661 A JP2001139661 A JP 2001139661A JP 2001139661 A JP2001139661 A JP 2001139661A JP 2002333502 A JP2002333502 A JP 2002333502A
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JP
Japan
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layer
display unit
transparent
ionizing radiation
portable device
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Application number
JP2001139661A
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Japanese (ja)
Inventor
Arimichi Ito
有道 伊東
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Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
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Publication date
Application filed by Dai Nippon Printing Co Ltd filed Critical Dai Nippon Printing Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To solve the problem that, when a conventional antireflection material is applied, it takes a long time to form a transparent electrically conductive thin film and a low refractive index layer resuling in low working speed, the corrosion resistance of the transparent electrically conductive thin film is not satisfactory and reflectance in the whole visible light region is not constant. SOLUTION: The problems can be solved by stacking a hard coat layer 5 and an antireflection layer 6 (comprising layers 6a and 6b different from each other in refractive index) in this order on the top surface of a transparent plate 2 having a finely rugged face 3 with protrusions 3a formed at a pitch below the wavelength of light on the undersurface thereof. A patterned layer may be disposed at a proper position, e.g. between the transparent plate 2 and the hard coat layer 5.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、各種の携帯可能な
機器のディスプレイの観察側表面に備えさせるのに適し
た表示部カバー用窓板に関するものである。また、本発
明は、そのような表示部カバー用窓板を備えたディスプ
レイ付きの携帯可能な機器に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a window plate for a display unit cover suitable for being provided on an observation side surface of a display of various portable devices. The present invention also relates to a portable device with a display having such a window for a display unit cover.

【0002】[0002]

【従来の技術】ディスプレイ、即ち表示部を備えた携帯
可能な機器には種々のものがある。例えば、電卓、パソ
コン、携帯用ラベルプリンター、携帯電話、IC録音
機、CDプレーヤー、DVDプレーヤー、MDプレーヤ
ー、もしくはその他の媒体に記録をおこなう音楽プレー
ヤー、ビデオテープレコーダー、ビデオカメラ、もしく
はデジタルカメラ等である。これら以外にも、小型で、
手で持って運搬可能な機器は色々あり、ディスプレイを
備えたものが多種類存在する(例;電気炊飯器、電子ポ
ット)が、本発明では、上記のような情報を記憶した
り、再生したりすること自体が存在価値であるものを対
象とするものとし、また、表示部については、機械的手
段で表示するものは除くものとする。
2. Description of the Related Art There are various types of portable devices having a display, that is, a display unit. For example, a calculator, a personal computer, a portable label printer, a mobile phone, an IC recorder, a CD player, a DVD player, an MD player, or a music player for recording on other media, a video tape recorder, a video camera, or a digital camera. is there. Besides these, it is small,
There are various types of devices that can be carried and held by hand, and there are many types with a display (eg, electric rice cookers, electronic pots). In the present invention, the above information is stored or reproduced. The display unit is intended to be one that has the existence value, and the display unit excludes the display unit using mechanical means.

【0003】これらの携帯可能な機器のディスプレイに
は、自己発光型のものよりも、通常は、バックライト、
もしくはフロントライトにより、照明して視認性を向上
させるタイプのディスプレイが使われており、代表的に
は液晶ディスプレイが使用されている。これらの携帯可
能な機器は、電池を電源としているために、ディスプレ
イの照明に使える電力量の制約があり、上記のバックラ
イト、もしくはフロントライトのいずれの照明方式を採
るにせよ、光を有効に利用する様々な方策が講じられて
いる。
[0003] The displays of these portable devices usually have a backlight,
Alternatively, a display of a type that improves visibility by illuminating with a front light is used, and a liquid crystal display is typically used. These portable devices are limited by the amount of power that can be used to illuminate the display because they use a battery as a power source. Various measures have been taken to use it.

【0004】また、これらのディスプレイは、携帯可能
な機器であるがゆえに、手で不用意に触れたり、他の物
品にぶつけたりすることがあり得るので、透明なカバー
板でディスプレイ部分を覆うのが普通であるが、このカ
バー板においても、光が反射せずに透過する必要があ
る。勿論、カバー板であるから、観察者側の照明や太陽
光等の外光の反射も、ディスプレイの視認性を損なう要
因となるので、考慮を払う必要がある。
[0004] Further, since these displays are portable devices, they may be inadvertently touched by hand or hit against other articles, so that the display portion is covered with a transparent cover plate. However, even in this cover plate, light needs to be transmitted without being reflected. Of course, since the cover plate is used, it is necessary to pay attention to the illumination on the observer side and the reflection of external light such as sunlight, which also impair the visibility of the display.

【0005】従来、このような課題を解消するものとし
て、種々の反射防止策が提案されており、例えば、特開
平9−80205号公報には、透明な基材、ハードコー
ト層、および2層の反射防止用光学薄膜を順に形成した
反射防止部材が記載され、1層目の反射防止用光学薄膜
としては、SnO2、ZnO、In23、もしくはIT
O等が、2層目の反射防止用光学薄膜としては、1層目
の反射防止用光学薄膜よりも屈折率の低いSiO2やM
gF2等が用いられ、ハードコート層による傷付きやす
さの解消、1層目の反射防止用光学薄膜による帯電防
止、および1、2層目の反射防止用光学薄膜による反射
防止を図ることが行なわれるとしている。
Conventionally, various antireflection measures have been proposed to solve such problems. For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-80205 discloses a transparent base material, a hard coat layer, and a two-layer structure. An anti-reflection member in which an anti-reflection optical thin film is formed in order is described, and SnO 2 , ZnO, In 2 O 3 , or IT
O, and examples of the optical thin film for preventing reflection of the second layer, a low SiO 2 and a refractive index than the optical thin film for preventing reflection of the first layer M
gF 2 or the like is used to eliminate the susceptibility to damage by the hard coat layer, to prevent electrification by the first anti-reflection optical thin film, and to prevent reflection by the first and second anti-reflection optical thin films. It is said to be done.

【0006】しかし、上記の構成の反射防止部材におい
ては、1層目および2層目の反射防止用光学薄膜として
は、いずれも、数十nmの厚みが必要であり、スパッタ
法等で薄膜を形成しようとすると、時間がかかる不利が
ある。加えて、ITO等の透明導電性薄膜は、透明性は
優れているものの、耐腐食性が十分でない欠点がある。
さらに、上記の構成の反射防止部材では、人間が眩しい
と感じる可視光領域(波長450nm〜650nm)の
赤色光側および青色光側の反射率が充分均一に低下しな
い、即ち、入射光の波長や入射角度によって反射防止性
が変化するため、可視光全域での反射率低下が実現せ
ず、色が変わったり、眩しさが残る。さらに、取扱い時
に生じる傷や汚れに対する備えが万全ではない。
However, in the antireflection member having the above structure, the first and second antireflection optical thin films each need to have a thickness of several tens of nanometers. Attempting to form it has the disadvantage of being time consuming. In addition, although a transparent conductive thin film such as ITO is excellent in transparency, it has a disadvantage that corrosion resistance is not sufficient.
Furthermore, in the antireflection member having the above-described configuration, the reflectivity on the red light side and the blue light side in the visible light region (wavelength 450 nm to 650 nm) at which humans perceive dazzling does not decrease sufficiently uniformly, that is, the wavelength of incident light and Since the antireflection property changes depending on the incident angle, the reflectance does not decrease in the entire visible light range, and the color changes and glare remains. In addition, there is no thorough preparation for scratches and stains generated during handling.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明におい
ては、上記の従来の反射防止材を適用しようとすると、
透明導電性薄膜および低屈折率層形成に時間がかかり、
加工速度が遅かった点、透明導電性薄膜の耐腐食性が十
分でなかった点、および可視光全域での反射率が一定し
ない点を解消しようとするものである。
Therefore, in the present invention, when the above-mentioned conventional anti-reflection material is applied,
It takes time to form the transparent conductive thin film and low refractive index layer,
An object of the present invention is to solve the problems that the processing speed is slow, the corrosion resistance of the transparent conductive thin film is not sufficient, and that the reflectance in the entire visible light range is not constant.

【0008】[0008]

【課題を解決する手段】例えば、透明アクリル樹脂フィ
ルム等の表面に、光の波長以下のピッチの微細な凹凸パ
ターンを形成した微細凹凸フィルムは、凹凸の底部では
アクリル樹脂がほとんどを占めるから、アクリル樹脂の
光の屈折率そのもの(約1.49)に限りなく近づき、
凹凸の表面側に近づくほど、アクリル樹脂が占める割合
が低下して、代わりに空気の割合が増加するから、屈折
率が低下し、最も外側の表面近傍では空気の屈折率
(1.0)に限りなく近づき、あたかも、光の屈折率が
連続的に変化する層を多数積層したのと同様な効果を持
つ事が知られている。本発明においては、このような特
殊な微細凹凸を利用することにより、上記の課題の解消
を図ろうとするものである。
For example, in a fine uneven film having a fine uneven pattern with a pitch equal to or less than the wavelength of light formed on the surface of a transparent acrylic resin film or the like, the acrylic resin occupies most at the bottom of the uneven surface. Approaching the refractive index of the resin itself (about 1.49) without limit,
The closer to the surface side of the irregularities, the lower the ratio of the acrylic resin and the higher the ratio of air instead. Therefore, the refractive index decreases, and the refractive index of air (1.0) near the outermost surface. It is known that the effect is as close as possible and as if a large number of layers in which the refractive index of light continuously changes were laminated. The present invention intends to solve the above-mentioned problems by utilizing such special fine irregularities.

【0009】第1の発明は、透明板の少なくとも片側
に、光の波長以下のピッチの無数の微細凹凸が形成され
た凹凸面を有することを特徴とする表示部を有する携帯
可能な機器の表示部カバー用反射防止性窓板に関するも
のである。第2の発明は、透明板の片側に、光の波長以
下のピッチの無数の微細凹凸が形成された凹凸面を有す
ることを特徴とする請求項1記載の表示部を有する携帯
可能な機器の表示部カバー用反射防止性窓板に関するも
のである。第3の発明は、第1の発明において、透明板
の両側に、光の波長以下のピッチの無数の微細凹凸が形
成された凹凸面を有することを特徴とする表示部を有す
る携帯可能な機器の表示部カバー用反射防止性窓板に関
するものである。第4の発明は、第1〜第3いずれかの
発明において、前記透明板の片側もしくは両側に模様層
が積層されていることを特徴とする表示部を有する携帯
可能な機器の表示部カバー用反射防止性窓板に関するも
のである。第5の発明は、第1〜第4いずれかの発明に
おいて、前記透明板の片側もしくは両側にハードコート
層が積層されていることを特徴とする表示部を有する携
帯可能な機器の表示部カバー用反射防止性窓板に関する
ものである。第6の発明は、第1〜第5いずれかの発明
において、前記透明板の片側もしくは両側に、互いに屈
折率の異なる複数の薄膜層からなる反射防止層が順に積
層されていることを特徴とする表示部を有する携帯可能
な機器の表示部カバー用反射防止性窓板に関するもので
ある。第7の発明は、第1〜第6いずれかの発明の反射
防止性窓板を表示部上の観察側に有することを特徴とす
る表示部を有する携帯可能な機器に関するものである。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a display of a portable device having a display section, wherein at least one side of a transparent plate has an uneven surface on which a myriad of fine unevennesses having a pitch equal to or less than the wavelength of light are formed. The present invention relates to an antireflection window plate for a unit cover. 2. The portable device having a display unit according to claim 1, wherein the transparent plate has an uneven surface on one side of the transparent plate on which innumerable fine unevenness having a pitch equal to or less than the wavelength of light is formed. The present invention relates to an antireflection window plate for a display unit cover. According to a third aspect, in the first aspect, a portable device having a display portion, characterized in that the transparent plate has, on both sides, an uneven surface on which innumerable fine unevenness with a pitch equal to or less than the wavelength of light is formed. The present invention relates to an antireflection window plate for a display unit cover. A fourth invention is directed to any one of the first to third inventions, wherein a pattern layer is laminated on one or both sides of the transparent plate, for a display unit cover of a portable device having a display unit. The present invention relates to an antireflection window plate. According to a fifth aspect of the present invention, in any one of the first to fourth aspects of the invention, a hard-coat layer is laminated on one or both sides of the transparent plate. The present invention relates to an anti-reflection window plate for use. According to a sixth aspect of the present invention, in any one of the first to fifth aspects, an antireflection layer including a plurality of thin film layers having different refractive indices is sequentially laminated on one or both sides of the transparent plate. The present invention relates to an antireflection window plate for a display unit cover of a portable device having a display unit. A seventh invention relates to a portable device having a display unit, wherein the antireflection window plate according to any one of the first to sixth inventions is provided on an observation side on the display unit.

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】本発明の、表示部を有する携帯可
能な機器の表示部カバー用反射防止性窓板(以下、単
に、窓板と言う。)1は、例えば、図1(a)に示すよ
うに、プラスチックやガラス等の透明板2の基材の表面
に、光の波長以下のピッチの無数の微細凹凸3aaが形
成された凹凸面3(以下、単に凹凸面ということがあ
る。)を有するものであり、図1(a)に示すように、
片面にのみ凹凸面3を有するものと、図1(b)に示す
ように、両面に凹凸面3および3’を有するものとがあ
り得る。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An antireflection window plate (hereinafter simply referred to as a window plate) 1 for a display unit cover of a portable device having a display unit according to the present invention is, for example, shown in FIG. As shown in (1), an uneven surface 3 (hereinafter, may be simply referred to as an uneven surface) in which a myriad of fine unevenness 3aa having a pitch equal to or less than the wavelength of light is formed on the surface of a substrate of a transparent plate 2 such as plastic or glass. ), And as shown in FIG.
One having the uneven surface 3 only on one side, and one having the uneven surfaces 3 and 3 ′ on both surfaces as shown in FIG.

【0011】窓板1は、微細凹凸3aが形成された凹凸
面3を、表示部を有する携帯可能な機器の表示部側に向
けて配置すると、表示部からの光を有効に観察側に透過
させる機能を発揮することができ、また、凹凸面3を観
察側に向けて配置すると、外光の反射を抑制する機能を
発揮することができる。窓板1が両面に微細凹凸3aお
よび3a’が形成された凹凸面3および3’を有してい
れば、両方の機能を発揮することができる。
When the uneven surface 3 on which the fine unevenness 3a is formed faces the display unit side of a portable device having a display unit, the window plate 1 effectively transmits light from the display unit to the observation side. In addition, when the uneven surface 3 is arranged facing the observation side, a function of suppressing reflection of external light can be exhibited. If the window plate 1 has the uneven surfaces 3 and 3 'in which the fine unevenness 3a and 3a' are formed on both surfaces, both functions can be exhibited.

【0012】窓板1は、透明板2自身の表面に、直接
に、微細凹凸3aが形成された凹凸面3を有する構造以
外に、透明層、好ましくは硬化性樹脂の硬化物の層が透
明板2に積層され、それらの層の表面に微細凹凸3aが
形成された凹凸面を有するものであってもよく、後に述
べるように、賦型用型と電離放射線硬化性樹脂組成物を
用いて形成された、透明基材上に微細凹凸3aが形成さ
れた凹凸面3を有する電離放射線硬化性樹脂組成物の硬
化物の層が積層された、言わば、間接的に、凹凸面が形
成されたものであってもよい。
The window plate 1 has a transparent layer, preferably a layer of a cured product of a curable resin, other than a structure having an uneven surface 3 in which fine unevenness 3a is formed directly on the surface of the transparent plate 2 itself. It may be laminated on the plate 2 and have an uneven surface in which fine unevenness 3a is formed on the surface of those layers. As described later, a molding die and an ionizing radiation-curable resin composition are used. The formed layer of the cured product of the ionizing radiation-curable resin composition having the uneven surface 3 in which the fine unevenness 3a was formed on the transparent base material was laminated, in other words, the uneven surface was formed indirectly. It may be something.

【0013】窓板1の両面に凹凸面3および3’を有す
る場合には、一方が透明板2に直接に形成されたもので
あって、他方が、間接的に凹凸面が形成されたもの、即
ち、透明板2とは別の透明層に微細凹凸3aが形成され
たものが透明板2に積層されたものであってもよい。
When the window plate 1 has uneven surfaces 3 and 3 'on both surfaces, one is formed directly on the transparent plate 2 and the other is formed on the transparent plate 2 indirectly. In other words, a structure in which fine irregularities 3 a are formed on a transparent layer different from the transparent plate 2 may be laminated on the transparent plate 2.

【0014】窓板1は、印刷等による模様層4を伴なっ
ていてもよい。模様層4とは、単に意匠的な観点のもの
を指すのに限らず、見た目の形状としては、文字、記
号、線、絵や写真等の単独、もしくは、これらのうちの
任意のものの組み合わせで構成したものであり得る。模
様層4の形成のための印刷は、スクリーン印刷等の公知
の印刷手段や転写、インクジェット等により行なうこと
ができる。模様層4は、窓板1が表示部より大きく形成
されている場合、窓板1の一部を被覆し、表示部のみを
見せるように、表示部の周縁を遮蔽する機能を有するも
のであってもよい。従って、窓板1の周縁を単に枠状に
遮蔽したのみのものも、ここでは模様層5の概念に含め
るものとする。模様層4はまた、機器の名称を示した
り、表示部が表示する内容の項目名を表示する目的で積
層されていてもよい。
The window plate 1 may have a pattern layer 4 formed by printing or the like. The pattern layer 4 is not limited to simply a design point of view, and may have a shape such as a character, a symbol, a line, a picture or a photograph alone, or a combination of any of these. It may be configured. Printing for forming the pattern layer 4 can be performed by known printing means such as screen printing, transfer, ink jet, or the like. When the window plate 1 is formed larger than the display unit, the pattern layer 4 has a function of covering a part of the window plate 1 and shielding the periphery of the display unit so as to show only the display unit. You may. Therefore, a case where the periphery of the window plate 1 is simply shielded in a frame shape is also included in the concept of the pattern layer 5 here. The pattern layer 4 may be laminated for the purpose of indicating the name of the device or displaying the item name of the content displayed on the display unit.

【0015】模様層5が積層される位置、積層される面
のバリエーションとしては、図2(a)に示すように、
片面に微細凹凸3aが形成された凹凸面3を有し、これ
とは反対面に模様層4が積層されたものや、図2(b)
に示すように、両面に微細凹凸3aが形成された凹凸面
3の一方にのみ模様層4が積層されたもの等がある。
As a variation of the position where the pattern layer 5 is laminated and the surface on which the pattern layer 5 is laminated, as shown in FIG.
One having an uneven surface 3 on one side of which fine unevenness 3a is formed, and a pattern layer 4 laminated on the opposite surface, and FIG.
As shown in FIG. 2, there is a structure in which the pattern layer 4 is laminated on only one of the uneven surfaces 3 having the fine unevenness 3a formed on both surfaces.

【0016】必要であれば、図2(a)に示すようなも
のの下面の模様層4に替えて、凹凸面3上に模様層が積
層されていてもよいし、あるいは、上下両面に模様層が
積層されていてもよい。図2(b)に示すものにおいて
も、片面のみではなく、両面に模様層が積層されたもの
であってもよい。模様層5は、窓板1に、後に説明する
ような他の層が加わった場合には、それらの層の上に積
層してあってもよく、模様層5より上の層が透明で、そ
れらの層を介して透視可能であれば、積層構造のいずれ
の間に積層してもよいし、最下面に積層することもあり
得る。勿論、模様層4は最上面に積層してあってもよ
い。
If necessary, a pattern layer may be laminated on the uneven surface 3 in place of the pattern layer 4 on the lower surface as shown in FIG. May be laminated. In FIG. 2B, the pattern layer may be laminated not only on one side but also on both sides. When another layer as described later is added to the window plate 1, the pattern layer 5 may be laminated on those layers. The layer above the pattern layer 5 is transparent, If it is possible to see through these layers, it may be laminated between any of the laminated structures, or may be laminated on the lowermost surface. Of course, the pattern layer 4 may be laminated on the uppermost surface.

【0017】窓板1には、ハードコート層5が積層され
てあってもよく、図3(a)に示すように、片面に微細
凹凸3aが形成された凹凸面3を有し、これとは反対面
にハードコート層5が積層されたものや、図3(b)に
示すように、両面に微細凹凸3a、3a’が形成された
凹凸面3および3’の一方にのみハードコート層5が積
層されたもの等がある。ハードコート層5は、通常、窓
板1の最も表面に積層されていて、窓板1の表面に、物
理的耐久性もしくは化学的耐久性を付与する、もしくは
それらの性状を向上させるものである。
The window plate 1 may have a hard coat layer 5 laminated thereon. As shown in FIG. 3A, the window plate 1 has an uneven surface 3 having fine unevenness 3a formed on one surface. 3B, a hard coat layer 5 is laminated on the opposite surface, or as shown in FIG. 3B, a hard coat layer is formed only on one of the uneven surfaces 3 and 3 'having fine unevenness 3a, 3a' formed on both surfaces. 5 are laminated. The hard coat layer 5 is usually laminated on the outermost surface of the window panel 1, and imparts physical durability or chemical durability to the surface of the window panel 1, or improves the properties thereof. .

【0018】ハードコート層5は、窓板1の外面になる
片側に積層されたものであるのが自然であるが、窓板1
の用途として、が開閉可能な扉に設置されること、もし
くは開閉可能な扉として設置されることが予定されてお
り、これらにおいて、頻繁に開閉を行なうためのもので
あれば、窓板1の両面にハードコート層が積層されたも
のであり得る。ハードコート層5はまた、図1や図2を
引用して説明したような種々のタイプの窓板1の最表面
に積層されたものであってもよい。従って、例えば、図
3(a)もしくは(b)のものにおいて、ハードコート
層5と透明板3との間には、模様層4が介在していても
よい。
It is natural that the hard coat layer 5 is laminated on one side which is the outer surface of the window plate 1.
It is planned to be installed on a door that can be opened or closed, or to be installed as a door that can be opened and closed. A hard coat layer may be laminated on both sides. The hard coat layer 5 may be laminated on the outermost surface of various types of window plates 1 as described with reference to FIGS. 1 and 2. Therefore, for example, in FIG. 3A or 3B, the pattern layer 4 may be interposed between the hard coat layer 5 and the transparent plate 3.

【0019】ハードコート層5は外面の最表面に積層さ
れていることが普通であるが、さらに反射防止層6が積
層された場合があり得る。この場合、反射防止層6の下
層には、微細凹凸3aが形成された凹凸面を有していて
もよいが、有していない方が普通である。具体的な反射
防止層6は、図4中、符号6aおよび6bで示すよう
に、複数の層の積層構造で構成され、好ましくは、積層
構造の各々の層、図4では6aおよび6bの層の光の屈
折率が互いに異なることにより、反射防止性をもたらす
ものである。
Although the hard coat layer 5 is usually laminated on the outermost surface, an antireflection layer 6 may be further laminated. In this case, the lower layer of the anti-reflection layer 6 may have an uneven surface on which the fine unevenness 3a is formed, but generally does not have the uneven surface. The specific anti-reflection layer 6 has a laminated structure of a plurality of layers as shown by reference numerals 6a and 6b in FIG. 4, and preferably includes each layer of the laminated structure, that is, the layers 6a and 6b in FIG. Are different from each other in refractive index to provide anti-reflection properties.

【0020】本発明の窓板1を構成する透明板2として
は、透明性、平滑性を備え、異物の混入のないものが好
ましく、また、加工上および製品の使用上の理由で機械
的強度があるものが好ましい。
As the transparent plate 2 constituting the window plate 1 of the present invention, a transparent plate having transparency and smoothness and free from foreign matter is preferable, and has a mechanical strength for processing and use of the product. Are preferred.

【0021】透明板2の素材として好ましいものは、セ
ルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セ
ルロースアセテートブチレート、ポリエステル、ポリア
ミド、ポリイミド、ポリエーテルスルフォン、ポリスル
フォン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩
化ビニル、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケト
ン、ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネート、もし
くはポリウレタン等の熱可塑性樹脂、もしくはガラスで
ある。
Preferred materials for the transparent plate 2 include cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose acetate butyrate, polyester, polyamide, polyimide, polyethersulfone, polysulfone, polypropylene, polymethylpentene, polyvinyl chloride, and polyvinyl acetal. , Polyether ketone, polymethyl methacrylate, polycarbonate, or a thermoplastic resin such as polyurethane, or glass.

【0022】写真用乳剤を塗布した写真用フィルムの場
合に、よく用いられるポリエステルは機械強度やコーテ
ィング適性の点で好ましい。透明性が高く、光学的に異
方性がなく、かつ低屈折率である点では、セルロースト
リアセテート等が好ましい。透明性と耐熱性を備えた点
ではポリカーボネートが好ましい。
In the case of a photographic film coated with a photographic emulsion, a polyester which is often used is preferred in terms of mechanical strength and coating suitability. Cellulose triacetate and the like are preferable in terms of high transparency, no optical anisotropy, and low refractive index. Polycarbonate is preferred in terms of transparency and heat resistance.

【0023】透明板2の厚みとしては、100μm〜2
mm程度が好ましく、より好ましくは、200μm以上
である。窓板1が種々の層の積層構造からなるときも、
窓板1全体のあつみが上記の数値範囲程度であることが
好ましい。
The thickness of the transparent plate 2 is 100 μm to 2 μm.
mm, more preferably 200 μm or more. Even when the window plate 1 has a laminated structure of various layers,
It is preferable that the thickness of the entire window plate 1 is in the above numerical range.

【0024】上記の透明板2には、その上面、もしくは
上面および下面に形成する層との接着性の向上のため
に、通常、行なわれ得る各種の処理、即ち、コロナ放電
処理、酸化処理等の物理的な処理のほか、アンカー剤
(プライマー剤とも呼ばれる。)の塗布による化学的処
理を予め行なって、アンカー層を形成しておいてもよ
い。
In order to improve the adhesion of the transparent plate 2 to the upper surface or the layers formed on the upper surface and the lower surface, various treatments that can be usually performed, such as corona discharge treatment, oxidation treatment, and the like, are used. In addition to the physical treatment described above, a chemical treatment by applying an anchor agent (also called a primer agent) may be performed in advance to form the anchor layer.

【0025】アンカー層を構成する樹脂としては、ポリ
エステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエチレンイミン
樹脂、ポリブタジエン系樹脂、アクリル樹脂、ポリカー
ボネート樹脂、もしくは塩化ビニル/酢酸ビニル共重合
体等である。これらの樹脂のうち一種もしくは二種以上
を適宜な溶剤に溶解して塗料もしくはインキとしたもの
を塗付もしくは印刷してアンカー層を形成する。このほ
か、アルキルチタネート系のアンカー剤を使用してアン
カー層を形成することもできる。
The resin constituting the anchor layer is a polyester resin, a polyurethane resin, a polyethyleneimine resin, a polybutadiene resin, an acrylic resin, a polycarbonate resin, a vinyl chloride / vinyl acetate copolymer, or the like. One or two or more of these resins are dissolved in an appropriate solvent to form a paint or ink, which is applied or printed to form an anchor layer. In addition, an anchor layer can also be formed using an alkyl titanate-based anchoring agent.

【0026】微細凹凸3aを有する凹凸面3は、最も効
率的には、微細凹凸3aの逆型形状を型面として持つ賦
型用型を用いて形成され、透明板2がガラスであれば、
ガラス板製造時の溶融状態、もしくは一旦製造したガラ
ス板を再度溶融した状態で、賦型用型を押し付けること
により、形成される。透明板2が熱可塑性樹脂で構成さ
れる場合には、凹凸面3は、透明板2の製造時の溶融状
態もしくは液体状態で賦型用型を用いることにより、形
成される。
The uneven surface 3 having the fine unevenness 3a is most efficiently formed by using a molding die having an inverse shape of the fine unevenness 3a as a mold surface.
It is formed by pressing a molding die in a molten state at the time of manufacturing a glass plate or in a state where a glass plate once manufactured is melted again. When the transparent plate 2 is made of a thermoplastic resin, the uneven surface 3 is formed by using a molding die in a molten state or a liquid state when the transparent plate 2 is manufactured.

【0027】あるいは、プラスチックの射出成形やアク
リル樹脂の注型重合等の際に、型の内面に、微細凹凸3
aを形成しておき、溶融樹脂を射出、または、モノマー
もしくはプレポリマーを注入することにより、凹凸面3
を形成することができる。また、これら射出成形やアク
リル樹脂の注型重合の際に、型の内面に、微細凹凸3a
を有するフィルム状物を配置しても、同様な結果を得る
ことができる。
Alternatively, in the case of injection molding of plastic or casting polymerization of acrylic resin, etc., fine irregularities 3 are formed on the inner surface of the mold.
a, the molten resin is injected or a monomer or a prepolymer is injected to form the uneven surface 3.
Can be formed. In addition, during the injection molding or the casting polymerization of the acrylic resin, fine irregularities 3a are formed on the inner surface of the mold.
A similar result can be obtained by arranging a film-like material having

【0028】微細凹凸3aを有する凹凸面3の最も効率
的な形成は、次に説明するように、電離放射線硬化性樹
脂組成物を用いて行なう方法によるもので、透明板2上
に、凹凸面3が、電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物
からなる層の表面に形成された透明層を、積層形成する
か、透明板2とは別の透明基材、例えば、薄い透明フィ
ルムに凹凸面3が形成された透明層が積層されたもの
を、透明板2上に積層形成することによる。積層の際
に、必要に応じて、透明粘着剤層を介して行なうとよ
い。
The most efficient formation of the uneven surface 3 having the fine unevenness 3a is performed by a method using an ionizing radiation-curable resin composition as described below. 3, a transparent layer formed on the surface of a layer made of a cured product of the ionizing radiation-curable resin composition is laminated or formed on a transparent substrate different from the transparent plate 2, for example, a thin transparent film with a rough surface. By laminating a transparent layer on which the transparent layer 3 is formed on the transparent plate 2. In the case of lamination, it is good to carry out via a transparent adhesive layer as needed.

【0029】電離放射線硬化性樹脂組成物としては、凹
凸面3を賦型用型を用いたキャスティング法によって形
成する際の硬化速度が速く、かつ透明層の表面の傷付き
が起きないよう、硬化後に高い耐擦傷性を有するものが
好ましい。電離放射線硬化性樹脂組成物としては、硬化
後の硬度が、JIS K5400で示す鉛筆硬度試験で
「H」以上の硬度を示すものがより好ましい。また、透
明層の光の屈折率は、反射防止性能を発揮するためには
低い方が好ましいが、長期間使用するには、表面の耐久
性、特に耐擦傷性が必要であり、硬度を高くした方が有
利になるため、密度を上げて硬度を高くする必要があ
る。従って、透明層の光の屈折率としては、1.4〜
1.7、より好ましくは、1.6以下である。
As the ionizing radiation-curable resin composition, the curing speed is high when the uneven surface 3 is formed by a casting method using a molding die, and the curing is performed so that the surface of the transparent layer is not damaged. Those having high scratch resistance later are preferred. As the ionizing radiation-curable resin composition, those having a hardness after curing of “H” or more in a pencil hardness test shown in JIS K5400 are more preferable. In addition, the refractive index of light of the transparent layer is preferably low in order to exhibit antireflection performance, but for long-term use, surface durability, particularly abrasion resistance is required, and hardness is high. Therefore, it is necessary to increase the density to increase the hardness. Therefore, the refractive index of light of the transparent layer is 1.4 to
It is 1.7, more preferably 1.6 or less.

【0030】電離放射線硬化性樹脂組成物としては、分
子中に重合性不飽和結合または、エポキシ基を有するプ
レポリマー、オリゴマー、及び/又はモノマーを適宜に
混合したものである。電離放射線とは、電磁波又は荷電
粒子線のうち分子を重合又は架橋し得るエネルギー量子
を有するものを指し、通常は、紫外線又は電子線を用い
る。
The ionizing radiation-curable resin composition is prepared by appropriately mixing a prepolymer, an oligomer and / or a monomer having a polymerizable unsaturated bond or an epoxy group in the molecule. Ionizing radiation refers to electromagnetic waves or charged particle beams having energy quanta that can polymerize or crosslink molecules, and usually use ultraviolet rays or electron beams.

【0031】電離放射線硬化性樹脂組成物中のプレポリ
マー、オリゴマーの例としては、不飽和ジカルボン酸と
多価アルコールの縮合物等の不飽和ポリエステル類、ポ
リエステルメタクリレート、ポリエーテルメタクリレー
ト、ポリオールメタクリレート、メラミンメタクリレー
ト等のメタクリレート類、ポリエステルアクリレート、
エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエ
ーテルアクリレート、ポリオールアクリレート、メラミ
ンアクリレート等のアクリレート、カチオン重合型エポ
キシ化合物が挙げられる。
Examples of prepolymers and oligomers in the ionizing radiation-curable resin composition include unsaturated polyesters such as condensates of unsaturated dicarboxylic acids and polyhydric alcohols, polyester methacrylates, polyether methacrylates, polyol methacrylates, melamines. Methacrylates such as methacrylate, polyester acrylate,
Examples include acrylates such as epoxy acrylate, urethane acrylate, polyether acrylate, polyol acrylate, and melamine acrylate, and cationic polymerization type epoxy compounds.

【0032】電離放射線硬化性樹脂組成物中のモノマー
の例としては、スチレン、α−メチルスチレン等のスチ
レン系モノマー、アクリル酸メチル、アクリル酸−2−
エチルヘキシル、アクリル酸メトキシエチル、アクリル
酸ブトキシエチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸メト
キシブチル、アクリル酸フェニル等のアクリル酸エステ
ル類、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタ
クリル酸プロピル、メタクリル酸メトキシエチル、メタ
クリル酸エトキシメチル、メタクリル酸フェニル、メタ
クリル酸ラウリル等のメタクリル酸エステル類、アクリ
ル酸−2−(N,N−ジエチルアミノ)エチル、アクリ
ル酸−2−(N,N−ジメチルアミノ)エチル、アクリ
ル酸−2−(N,N−ジベンジルアミノ)メチル、アク
リル酸−2−(N,N−ジエチルアミノ)プロピル等の
不飽和置換の置換アミノアルコールエステル類、アクリ
ルアミド、メタクリルアミド等の不飽和カルボン酸アミ
ド、エチレングリコールジアクリレート、プロピレング
リコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジア
クリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレー
ト、トリエチレングリコールジアクリレート等の化合
物、ジプロピレングリコールジアクリレート、エチレン
グリコールジアクリレート、プロピレングリコールジメ
タクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート
等の多官能性化合物、及び/又は分子中に2個以上のチ
オール基を有するポリチオール化合物、例えばトリメチ
ローラプロパントリチオグリコレート、トリメチローラ
プロパントリチオプロピレート、ペンタエリスリトール
テトラチオグリコレート等が挙げられる。
Examples of the monomer in the ionizing radiation-curable resin composition include styrene monomers such as styrene and α-methylstyrene, methyl acrylate, and acrylic acid-2-
Acrylic esters such as ethylhexyl, methoxyethyl acrylate, butoxyethyl acrylate, butyl acrylate, methoxybutyl acrylate, phenyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, methoxyethyl methacrylate, methacrylic acid Methacrylic esters such as ethoxymethyl, phenyl methacrylate and lauryl methacrylate; 2- (N, N-diethylamino) ethyl acrylate; 2- (N, N-dimethylamino) ethyl acrylate; -2 acrylic acid -(N, N-dibenzylamino) methyl, unsaturated substituted substituted alcoholic esters such as 2- (N, N-diethylamino) propyl acrylate, unsaturated carboxylic acid amides such as acrylamide and methacrylamide, ethylene Guri Diacrylate, propylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, and other compounds, dipropylene glycol diacrylate, ethylene glycol diacrylate, propylene glycol dimethacrylate, diethylene glycol Polyfunctional compounds such as dimethacrylate and / or polythiol compounds having two or more thiol groups in the molecule, for example, trimethylolapropanetrithioglycolate, trimethylolapropanetrithiopropylate, pentaerythritol tetrathioglycol Rate and the like.

【0033】通常、電離放射線硬化性樹脂組成物中のモ
ノマーとしては、以上の化合物を必要に応じて、1種若
しくは2種以上を混合して用いるが、電離放射線硬化性
組成物に通常の塗布適性を与えるために、前記のプレポ
リマー又はオリゴマーを5重量%以上、前記モノマー及
び/又はポリチオール化合物を95重量%以下とするの
が好ましい。
Usually, as the monomer in the ionizing radiation-curable resin composition, one or a mixture of two or more of the above compounds is used as necessary. To provide suitability, it is preferred that the prepolymer or oligomer be 5% by weight or more and the monomer and / or polythiol compound be 95% by weight or less.

【0034】電離放射線硬化性樹脂組成物を硬化させた
ときのフレキシビリティーが要求されるときは、モノマ
ー量を減らすか、官能基の数が1又は2のアクリレート
モノマーを使用するとよい。電離放射線硬化性樹脂組成
物を硬化させたときの耐摩耗性、耐熱性、耐溶剤性が要
求されるときは、官能基の数が3つ以上のアクリレート
モノマーを使う等、電離放射線硬化性樹脂組成物の設計
が可能である。
When flexibility is required when the ionizing radiation-curable resin composition is cured, the amount of the monomer may be reduced or an acrylate monomer having one or two functional groups may be used. When abrasion resistance, heat resistance, and solvent resistance are required when the ionizing radiation-curable resin composition is cured, an ionizing radiation-curable resin such as an acrylate monomer having three or more functional groups is used. Composition design is possible.

【0035】ここで、官能基が1のものとして、2−ヒ
ドロキシアクリレート、2−ヘキシルアクリレート、フ
ェノキシエチルアクリレートが挙げられる。官能基が2
のものとして、エチレングリコールジアクリレート、
1,6−ヘキサンジオールジアクリレートが挙げられ
る。官能基が3以上のものとして、トリメチローラプロ
パントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアク
リレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、
ジペンタエリスリトールヘキサアクレリート等が挙げら
れる。
Here, one having one functional group includes 2-hydroxyacrylate, 2-hexyl acrylate and phenoxyethyl acrylate. 2 functional groups
As ethylene glycol diacrylate,
1,6-hexanediol diacrylate is exemplified. As a compound having three or more functional groups, trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate,
And dipentaerythritol hexaacrylate.

【0036】電離放射線硬化性樹脂組成物を硬化させた
ときのフレキシビリティーや表面硬度等の物性を調整す
るため、電離放射線硬化性樹脂組成物に、電離放射線照
射では硬化しない樹脂を添加することもできる。具体的
な樹脂の例としては次のものがある。ポリウレタン樹
脂、セルロース樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリ
エステル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポ
リ酢酸ビニル等の熱可塑性樹脂である。中でも、ポリウ
レタン樹脂、セルロース樹脂、ポリビニルブチラール樹
脂等の添加がフレキシビリティーの向上の点で好まし
い。
In order to adjust physical properties such as flexibility and surface hardness when the ionizing radiation-curable resin composition is cured, a resin that is not cured by ionizing radiation irradiation is added to the ionizing radiation-curable resin composition. Can also. Examples of specific resins include the following. Thermoplastic resins such as polyurethane resin, cellulose resin, polyvinyl butyral resin, polyester resin, acrylic resin, polyvinyl chloride resin, and polyvinyl acetate. Above all, addition of a polyurethane resin, a cellulose resin, a polyvinyl butyral resin or the like is preferable from the viewpoint of improving flexibility.

【0037】電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化が紫外
線照射により行われるときは、光重合開始剤や光重合促
進剤を添加する。光重合開始剤としては、ラジカル重合
性不飽和基を有する樹脂系の場合は、アセトフェノン
類、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイ
ン、ベンゾインメチルエーテル等を単独又は混合して用
いる。また、カチオン重合性官能基を有する樹脂系の場
合は、光重合開始剤として、芳香族ジアゾニウム塩、芳
香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタセロ
ン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等を単独又は
混合物として用いる。光重合開始剤の添加量は、電離放
射線硬化性樹脂組成物100重量部に対し、0.1〜1
0重量部である。
When the ionizing radiation-curable resin composition is cured by ultraviolet irradiation, a photopolymerization initiator or a photopolymerization accelerator is added. As the photopolymerization initiator, in the case of a resin system having a radically polymerizable unsaturated group, acetophenones, benzophenones, thioxanthones, benzoin, benzoin methyl ether or the like is used alone or as a mixture. Further, in the case of a resin having a cationically polymerizable functional group, an aromatic diazonium salt, an aromatic sulfonium salt, an aromatic iodonium salt, a metaceron compound, a benzoinsulfonic acid ester, or the like is used alone or as a mixture as a photopolymerization initiator. . The addition amount of the photopolymerization initiator is 0.1 to 1 with respect to 100 parts by weight of the ionizing radiation-curable resin composition.
0 parts by weight.

【0038】電離放射線硬化性樹脂組成物には、次のよ
うな有機反応性ケイ素化合物を併用してもよい。有機ケ
イ素化合物の1は、一般式RmSi(OR’)nで表せる
もので、RおよびR’は炭素数1〜10のアルキル基を
表し、Rの添え字mとR’の添え字nとは、各々が、m
+n=4の関係を満たす整数である。
The ionizing radiation-curable resin composition may be used in combination with the following organic reactive silicon compound. One of the organosilicon compounds can be represented by the general formula R m Si (OR ′) n , R and R ′ represent an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and the suffix m of R and the suffix n of R ′ Means m
+ N = integer satisfying the relationship of 4.

【0039】具体的には、テトラメトキシシラン、テト
ラエトキシシラン、テトラ−iso−プロポキシシラ
ン、テトラ−n−プロポキシシラン、テトラ−n−ブト
キシシラン、テトラ−sec−ブトキシシラン、テトラ
−tert−ブトキシシラン、テトラペンタエトキシシ
ラン、テトラペンタ−iso−プロポキシシラン、テト
ラペンタ−n−プロポキシシラン、テトラペンタ−n−
ブトキシシラン、テトラペンタ−sec−ブトキシシラ
ン、テトラペンタ−tert−ブトキシシラン、メチル
トリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メ
チルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、
ジメチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、
ジメチルメトキシシラン、ジメチルプロポキシシラン、
ジメチルブトキシシラン、メチルジメトキシシラン、メ
チルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン等
が挙げられる。
Specifically, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetra-iso-propoxysilane, tetra-n-propoxysilane, tetra-n-butoxysilane, tetra-sec-butoxysilane, tetra-tert-butoxysilane , Tetrapentaethoxysilane, tetrapenta-iso-propoxysilane, tetrapenta-n-propoxysilane, tetrapenta-n-
Butoxysilane, tetrapenta-sec-butoxysilane, tetrapenta-tert-butoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltripropoxysilane, methyltributoxysilane, dimethyldimethoxysilane,
Dimethyldiethoxysilane, dimethylethoxysilane,
Dimethylmethoxysilane, dimethylpropoxysilane,
Examples include dimethylbutoxysilane, methyldimethoxysilane, methyldiethoxysilane, hexyltrimethoxysilane, and the like.

【0040】電離放射線硬化性樹脂組成物に併用し得る
有機ケイ素化合物の2は、シランカップリング剤であ
る。具体的には、γ−(2−アミノエチル)アミノプロ
ピルトリメトキシシラン、γ−(2−アミノエチル)ア
ミノプロピルメチルジメトキシシラン、β−(3,4−
エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、
γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリ
ロキシプロピルメトキシシラン、N−β−(N−ビニル
ベンジルアミノエチル)−γ−アミノプロピルメトキシ
シラン・塩酸塩、γ−グリシドキシプロピルトリメトキ
シシラン、アミノシラン、メチルメトキシシラン、ビニ
ルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリ
メトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラ
ン、ヘキサメチルジシラザン、ビニルトリス(β−メト
キシエトキシ)シラン、オクタデシルジメチル[3−
(トリメトキシシリル)プロピル]アンモニウムクロラ
イド、メチルトリクロロシラン、ジメチルジクロロシラ
ン等が挙げられる。
The organosilicon compound 2 which can be used in combination with the ionizing radiation-curable resin composition is a silane coupling agent. Specifically, γ- (2-aminoethyl) aminopropyltrimethoxysilane, γ- (2-aminoethyl) aminopropylmethyldimethoxysilane, β- (3,4-
Epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane,
γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-methacryloxypropylmethoxysilane, N-β- (N-vinylbenzylaminoethyl) -γ-aminopropylmethoxysilane hydrochloride, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, aminosilane , Methylmethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-chloropropyltrimethoxysilane, hexamethyldisilazane, vinyltris (β-methoxyethoxy) silane, octadecyldimethyl [3-
(Trimethoxysilyl) propyl] ammonium chloride, methyltrichlorosilane, dimethyldichlorosilane and the like.

【0041】電離放射線硬化性樹脂組成物に併用し得る
有機ケイ素化合物の3は、電離放射線硬化性ケイ素化合
物である。具体的には、電離放射線の照射によって反応
し架橋する複数の官能基、例えば、重合性二重結合基を
有する分子量5,000以下の有機ケイ素化合物が挙げ
られ、より具体的には、片末端ビニル官能性ポリシラ
ン、両末端ビニル官能性ポリシラン、片末端ビニル官能
ポリシロキサン、両末端ビニル官能ポリシロキサン、又
はこれらの化合物を反応させたビニル官能性ポリシラ
ン、もしくはビニル官能性ポリシロキサン等が挙げられ
る。
The organosilicon compound 3 which can be used in combination with the ionizing radiation-curable resin composition is an ionizing radiation-curable silicon compound. Specific examples include a plurality of functional groups that react and crosslink by irradiation with ionizing radiation, for example, an organosilicon compound having a molecular weight of 5,000 or less and having a polymerizable double bond group, and more specifically, one end. Examples include vinyl-functional polysilanes, vinyl-functional polysilanes at both ends, vinyl-functional polysiloxane at one terminal, vinyl-functional polysiloxane at both terminals, and vinyl-functional polysilane or vinyl-functional polysiloxane obtained by reacting these compounds.

【0042】より具体的には、次のような化合物であ
る。
More specifically, the following compounds are used.

【0043】[0043]

【化1】 Embedded image

【0044】その他、電離放射線硬化性樹脂組成物に併
用し得る有機ケイ素化合物としては、3−(メタ)アク
リロキシプロピルトリメトキシシラン、3−(メタ)ア
クリロキシプロピルメチルジメトキシシラン等の(メ
タ)アクリロキシシラン化合物等が挙げられる。
Other examples of the organosilicon compound that can be used in combination with the ionizing radiation-curable resin composition include (meth) such as 3- (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane and 3- (meth) acryloxypropylmethyldimethoxysilane. Acryloxysilane compounds and the like can be mentioned.

【0045】透明層の上面に形成する光の波長以下のピ
ッチの微細凹凸3aの形状としては、図1や図5(a)
に例示するような、断面の上縁の微細凹凸3aの形状が
正弦曲線のもの以外にも、図5(b)に示すような断面
の頂部が円弧状で、立ち上がり部分が直線状であり、上
へ行くほどすぼまった形状のもの、図5(c)に示すよ
うな三角波状のもの、もしくは図2(d)に示すような
矩形波状のものがあり得る。
The shape of the fine irregularities 3a having a pitch equal to or less than the wavelength of light formed on the upper surface of the transparent layer is shown in FIGS.
In addition to the shape of the fine unevenness 3a at the upper edge of the cross section as exemplified in FIG. 5, the top of the cross section as shown in FIG. There may be a shape having a shape that becomes narrower as going upward, a shape having a triangular wave shape as shown in FIG. 5C, or a shape having a rectangular wave shape as shown in FIG. 2D.

【0046】これらのうちでも、微細凹凸3aの場所に
より深さが変動する、図5(a)、(b)および(c)
のような断面形状のものが好ましく、このような断面形
状のものを使用すると、透明層の厚み方向の位置によ
り、光の屈折率が変化する性質が付与される。
Among these, the depth varies depending on the location of the fine unevenness 3a. FIGS. 5 (a), 5 (b) and 5 (c).
Such a cross-sectional shape is preferable. When such a cross-sectional shape is used, the property that the refractive index of light changes depending on the position in the thickness direction of the transparent layer is provided.

【0047】また、これらのうち、図5(d)に示すも
のは、どの高さの部分でも水平切断面の面積が変わらな
いので、透明層が占める割合が同じであり、波の上の方
と下の方とで光の屈折率が変わらない。ただ、ピッチや
波の幅を決めることにより、一定でかつ所定の値の屈折
率を有する層を形成することができる。このほか、上す
ぼまりでない図5(e)に示すような形状もあり得る
が、賦型用型を用いて製造する際に、離型が難しく、あ
まり好ましくない。
Of these, the one shown in FIG. 5D has the same proportion of the transparent layer because the area of the horizontal cut surface does not change at any height, and the upper part of the wave The refractive index of light does not change between the lower side and the lower side. However, a layer having a constant and predetermined refractive index can be formed by determining the pitch and the width of the wave. In addition, there may be a shape as shown in FIG. 5 (e) which is not upwardly tapered, but it is difficult to release when manufacturing using a molding die, which is not preferable.

【0048】微細凹凸3aの断面形状は、例えば、以上
のようなものであるが、これらの断面形状を持つ透明層
を、微細凹凸3aのある側から観察するとき、微細凹凸
3aの配列としては、図6(a)に斜視図で示すよう
に、凹部に注目すれば、平行な溝3b(凸部に注目すれ
ば平行な仕切り3d)を形成したものや、図6(b)も
しくは(c)に上方から見た図(同心円は等高線を示
す。)で示すように、平面的に並べて配列して形成した
ものとが有り得る。いずれのタイプのものも、反射防止
性を有するが、図6(a)に示すような溝状のタイプの
ものは方向性を有するために、入射光の方向によって反
射率が変わり得る。これに対し、図6(b)もしくは
(c)に示すような二次元に配列した形状のものは方向
性が事実上無く、好ましい。
The cross-sectional shape of the fine irregularities 3a is, for example, as described above. When the transparent layer having these cross-sectional shapes is observed from the side having the fine irregularities 3a, the arrangement of the fine irregularities 3a is as follows. As shown in the perspective view of FIG. 6A, when a concave portion is noticed, a parallel groove 3b (a parallel partition 3d when a convex portion is noticed) is formed, or as shown in FIG. 6B or FIG. ) May be formed by arranging them in a plane as shown in a diagram viewed from above (concentric circles indicate contour lines). Both types have anti-reflection properties, but the groove-type type shown in FIG. 6A has directionality, so that the reflectance can change depending on the direction of incident light. On the other hand, a two-dimensionally arranged shape as shown in FIG. 6B or 6C is preferable because it has virtually no directionality.

【0049】微細凹凸3aの形状自体には種々のものが
あるにせよ、断面形状に表れる凹凸の波のピッチ(=周
期)は、光の波長以下の微細なものである。通常の用途
では、この光とは可視光を指し、従って、「光の波長以
下の微細な」とは、400nm以下を指す。下限は特に
ないが、型の精度を考慮すると50nm以上であること
が好ましい。
Although the shape of the fine unevenness 3a itself is various, the pitch (= period) of the wave of the unevenness appearing in the cross-sectional shape is a minute one less than the wavelength of light. In normal applications, this light refers to visible light, and therefore "fine below the light wavelength" refers to 400 nm or less. Although there is no particular lower limit, it is preferably at least 50 nm in consideration of the accuracy of the mold.

【0050】微細凹凸3aの断面形状の、波の高低差が
大きい方が、反射率が低くなり、反射防止効果があるた
め、高低差は100nm以上であることが好ましい。上
限は特に無いが、通常のピッチである50nm〜400
nmを想定すると、ピッチの値の100%〜200%程
度であることが好ましく、100nm〜500nm程度
である。
The greater the difference in wave height in the cross-sectional shape of the fine irregularities 3a, the lower the reflectance and the effect of preventing reflection. Therefore, the difference in height is preferably 100 nm or more. There is no particular upper limit, but a normal pitch of 50 nm to 400 nm
Assuming nm, it is preferably about 100% to 200% of the pitch value, and is about 100 nm to 500 nm.

【0051】このような微細凹凸3aは、複製用の賦型
用型を準備して複製することが効率的である。賦型用型
を作製するには、まず、適当な基材を型の基材とし、そ
の上に、感光性樹脂を積層したものを準備し、これにレ
ーザー光干渉法により露光を行なう。なお、基材に感光
性樹脂を積層したものとして、レリーフホログラム製造
用として市販されている感光材を利用することができ
る。
It is efficient to prepare and duplicate such fine irregularities 3a by preparing a mold for duplication. In order to produce a shaping mold, first, an appropriate base material is used as a base material of a mold, and a photosensitive resin is laminated on the base material, and this is exposed by a laser light interference method. In addition, as a material obtained by laminating a photosensitive resin on a base material, a commercially available photosensitive material for producing a relief hologram can be used.

【0052】露光は、レーザー光を2ないしそれ以上に
分割して干渉させることによって行ない、ピッチが光の
波長以下の硬化部と未硬化部とを得る。露光後、感光性
樹脂の種類に応じた現像法、ネガ型感光性樹脂であれ
ば、特定の溶剤等による未硬化部分の除去により、現像
を行なって、ピッチが光の波長以下の無数の微細凹凸が
形成された凹凸型面を有する賦型用型の原型を得る。
The exposure is performed by dividing the laser beam into two or more beams and causing interference, thereby obtaining a cured portion and an uncured portion having a pitch equal to or less than the wavelength of the light. After the exposure, the developing method according to the type of the photosensitive resin, if it is a negative photosensitive resin, development is performed by removing the uncured portion with a specific solvent or the like, and the development is performed. A prototype of a molding die having an uneven surface with irregularities is obtained.

【0053】得られた原型は、凹凸を形成しやすくする
ために、比較的分子量の小さい高分子からなっているた
め、溶剤に対する耐久性も不十分であり、また、もろい
ため、この原型を何度も使用して複製を行なうことは好
ましくない。
Since the obtained prototype is made of a polymer having a relatively small molecular weight in order to facilitate the formation of irregularities, it has insufficient durability against a solvent, and is brittle. It is not preferable to use duplicates again.

【0054】そこで、上記で得られた原型にニッケル等
の金属でめっきを行なって剥がし、第1の金属製の型を
形成して、この第1の金属製の型を使用するか、または
第1の金属製の型にめっきを行なって、第2の金属製の
型を幾つか形成し、得られた第2の金属製の型を使用し
て複製を行なう事が好ましく、このようにして得られた
型を使用すると、型の損傷や摩耗の問題を回避すること
ができる。なお、めっきによって得られる、これら金属
製の型を金属製スタンパーと言う。
Then, the prototype obtained above is plated with a metal such as nickel and peeled off to form a first metal mold, and the first metal mold is used or It is preferable to perform plating on the metal mold of No. 1 to form several second metal molds, and to duplicate using the obtained second metal mold. The use of the resulting mold avoids the problem of mold damage and wear. Note that these metal molds obtained by plating are referred to as metal stampers.

【0055】より好ましくは、このようにして得られた
型面の形状をローラ面に形成し、必要に応じて、殖版
(同一版面上に多面付けにすること)した型ローラや型
面の形状をローラの面長方向および円周方向に、連続的
に形成した型ローラを使用すると、連続的な生産に向
く。従って、賦型用の型としては、シート状のもの、板
状のもの、もしくはローラ状のものがあり得る。
More preferably, the shape of the mold surface obtained in this manner is formed on a roller surface, and if necessary, a mold roller or a mold roller (multi-faced on the same plate surface) is used. Use of a mold roller whose shape is continuously formed in the surface length direction and the circumferential direction of the roller is suitable for continuous production. Therefore, the mold for shaping may be a sheet-like mold, a plate-like mold, or a roller-like mold.

【0056】なお、型面の形状を複製する際に、原型と
第2の金属製の型とは同形状であり、原型と第1の金属
製の型とは互いに逆型形状の関係となる。また反射防止
材の微細凹凸の形状と、それを製造するための型上の型
面の微細凹凸の形状とは逆型形状となる。従って、反射
防止材として欲しい形状が得られるよう、必要なら更
に、めっきによる金属型の形成を加えて、微細凹凸の形
状を逆転させるとよい。ただし、微細凹凸の断面形状が
正弦曲線のような場合には、元の型形状と逆型形状の違
いが実質的には無い例外的な場合もある。この明細書に
おける、賦型用型の型面の微細凹凸3aの形状は、上記
のような例外的な場合を除き、反射防止材に、得たい微
細凹凸3aの形状が得られるよう、逆型形状に形成され
ているものとする。
When the shape of the mold surface is duplicated, the original mold and the second metal mold have the same shape, and the original mold and the first metal mold have an inverse mold relationship to each other. . Further, the shape of the fine irregularities of the antireflection material and the shape of the fine irregularities of the mold surface on the mold for manufacturing the antireflection material are reversed. Therefore, in order to obtain a desired shape as an antireflection material, it is preferable to further form a metal mold by plating to reverse the shape of the fine unevenness, if necessary. However, when the cross-sectional shape of the fine unevenness is a sinusoidal curve, there is an exceptional case where there is substantially no difference between the original mold shape and the inverted mold shape. In this specification, the shape of the fine irregularities 3a on the mold surface of the shaping mold is set so that the anti-reflective material can obtain the desired shape of the fine irregularities 3a in the anti-reflective material except for the above-mentioned exceptional cases. It is assumed that it is formed in a shape.

【0057】電離放射線硬化性樹脂組成物を用いて、透
明層の上面に微細凹凸3aからなる凹凸部を形成するに
は、透明基材と、上記したような賦型用型とを準備し、
両者を、液状の電離放射線硬化性樹脂組成物を介して積
層する。この積層の際には、電離放射線硬化性樹脂組成
物を透明基材側に積層してから、賦型用型と積層しても
よいし、逆に、賦型用型に電離放射線硬化性樹脂組成物
を積層してから、透明基材と積層してもよい。あるい
は、透明基材と賦型用型との間に電離放射線硬化性樹脂
組成物を供給しつつ、透明基材と賦型用型とを積層して
もよい。
In order to form an uneven portion composed of fine unevenness 3a on the upper surface of the transparent layer using the ionizing radiation-curable resin composition, a transparent base material and the above-described mold are prepared.
Both are laminated via a liquid ionizing radiation-curable resin composition. In the case of this lamination, the ionizing radiation-curable resin composition may be laminated on the transparent substrate side, and then laminated with the molding die, or conversely, the ionizing radiation-curable resin may be laminated on the molding die. The composition may be laminated before being laminated with the transparent substrate. Alternatively, the transparent substrate and the molding die may be laminated while supplying the ionizing radiation-curable resin composition between the transparent substrate and the molding die.

【0058】積層後、透明基材と賦型用型との間の電離
放射線硬化性樹脂組成物に電離放射線を照射する。電離
放射線が紫外線であるとき、その照射は、透明基材の側
から行なうとよいが、賦型用型が透明であれば、賦型用
型側から行なうこともできる。電離放射線が電子線であ
るときは、電子線の物質への透過性が優れているので、
電子線が透過し得る限り、いずれからの照射でもよい。
After lamination, the ionizing radiation-curable resin composition between the transparent substrate and the mold is irradiated with ionizing radiation. When the ionizing radiation is ultraviolet light, the irradiation is preferably performed from the side of the transparent substrate, but may be performed from the side of the mold if the mold is transparent. When the ionizing radiation is an electron beam, the electron beam has excellent permeability to the substance,
Irradiation from any source may be used as long as the electron beam can be transmitted.

【0059】電離放射線の照射により、電離放射線硬化
性樹脂組成物は硬化して硬化物が生成し、かつ、透明基
材に接着するので、電離放射線の照射の後に、電離放射
線硬化性樹脂組成物の硬化物を透明基材ごと、賦型用型
から離型することにより、透明基材上に透明な電離放射
線硬化性樹脂組成物の硬化物からなり、表面に微細凹凸
が形成された透明層と透明基材とが積層された積層体を
得ることができる。
The irradiation of the ionizing radiation cures the ionizing radiation-curable resin composition to form a cured product and adheres to the transparent substrate. Therefore, after the irradiation of the ionizing radiation, the ionizing radiation-curable resin composition By releasing the cured product from the molding die together with the transparent substrate, a transparent layer comprising a cured product of a transparent ionizing radiation-curable resin composition on the transparent substrate and having fine irregularities formed on the surface And a transparent substrate are laminated.

【0060】上記において、電離放射線の照射は、一回
で済ますのが効率的であるが、賦型用型、電離放射線硬
化性樹脂組成物、および賦型用型の三者を積層したま
ま、長時間、電離放射線の照射を行なうことは、必ずし
も効率的とは言えない。そこで、上記の三者が積層して
いる時間を短縮する目的で、電離放射線の比較的弱い照
射により、予備硬化および予備接着を行ない、その後、
予備硬化および予備接着した電離放射線硬化性樹脂組成
物を、賦型用型より透明基材と共に離型して分離し、分
離した予備硬化および予備接着した電離放射線硬化性樹
脂組成物に対して、電離放射線の比較的強い照射によ
り、電離放射線硬化性樹脂組成物の完全硬化および透明
基材との完全接着を行なうようにすると、賦型用型、電
離放射線硬化性樹脂組成物、および賦型用型の三者を積
層した状態を維持する時間が短時間で済む利点が生じ、
製造効率が向上する。その後の、完全硬化および透明基
材との完全接着のための電離放射線の照射は照射対象物
を走行させつつ、照射ゾーンを長くする等により、処理
速度を落とさなくても長時間の照射が行なえるからであ
る。
In the above, it is efficient that the irradiation of the ionizing radiation is performed only once. However, while the molding die, the ionizing radiation-curable resin composition, and the molding die are laminated, Irradiating with ionizing radiation for a long time is not always efficient. Therefore, for the purpose of shortening the time during which the above three members are laminated, by relatively weak irradiation of ionizing radiation, pre-curing and pre-adhesion are performed.
The pre-cured and pre-bonded ionizing radiation-curable resin composition is separated from the mold for mold release together with the transparent substrate and separated, and for the separated pre-cured and pre-bonded ionizing radiation-curable resin composition, When relatively strong irradiation of ionizing radiation is performed to completely cure the ionizing radiation-curable resin composition and completely adhere to the transparent substrate, a molding die, an ionizing radiation-curable resin composition, and a molding die There is an advantage that the time required to maintain the state in which the three members of the mold are stacked is short,
Manufacturing efficiency is improved. After that, irradiation of ionizing radiation for complete curing and complete adhesion with the transparent substrate can be performed for a long time without reducing the processing speed by extending the irradiation zone while running the irradiation object. This is because that.

【0061】図7は、型ローラを用いて、微細凹凸を有
する凹凸面を連続的に製造する装置10を使用して製造
する様子を示すものである。図7において、透明基材
(透明板2であっても、透明板2とは別の薄いフィルム
等であってもよい。)2aが、図中向かって左側上方よ
り巻き出され、ニップローラ11aと型ローラ12の間
に導かれ、型ローラ12の上側を半周した後、ニップロ
ーラ11bとの間を通過して、向かって右側方向に排出
される。
FIG. 7 shows a state in which a mold roller is used to manufacture an apparatus 10 for continuously manufacturing an uneven surface having fine unevenness. In FIG. 7, a transparent substrate (which may be the transparent plate 2 or a thin film different from the transparent plate 2) 2a is unwound from the upper left side as viewed in the figure, and the nip roller 11a After being guided between the mold rollers 12 and making a half turn around the upper side of the mold rollers 12, the paper passes between the nip rollers 11b and is discharged rightward as viewed.

【0062】型ローラ12は型ローラ12内に矢印で示
す時計回り方向に回転するよう駆動されており、ニップ
ローラ11a、および11bは、型ローラの回転に合わ
せて連れ回り(いずれも回転方向はローラ内に矢印で示
す。)するよう構成されている。また、透明基材2aの
巻き出し側にはブレーキが設置され、排出側に設置され
た巻き上げモータとにより、走行時の張力の調整が可能
である。また、両ニップローラ11a、および11bの
間では、張力が一定に保たれている。
The mold roller 12 is driven so as to rotate in the clockwise direction indicated by an arrow in the mold roller 12, and the nip rollers 11a and 11b rotate together with the rotation of the mold roller. (Indicated by an arrow inside). Further, a brake is installed on the unwinding side of the transparent base material 2a, and the tension during running can be adjusted by a hoisting motor installed on the discharge side. The tension between the nip rollers 11a and 11b is kept constant.

【0063】型ローラ12の真下には、ダイヘッド13
が設置されており、ダイヘッド13は内部に液溜め1
4、上方にスリット15を有し、パイプ16を経由し
て、外部より電離放射線硬化性樹脂組成物17が供給さ
れるよう構成されている。スリット15からは透明基材
2aの走行に合わせて、必要量の電離放射線硬化性樹脂
組成物17が上方に押出され、型ローラ表面に塗付さ
れ、型ローラ12の凹部12a内にも電離放射線硬化性
樹脂組成物17が充填され、ニップローラ11aと型ロ
ーラとの間を通るときに、塗付量が規制される。
Directly below the mold roller 12 is a die head 13.
The die head 13 has a liquid reservoir 1 inside.
4. It has a slit 15 above and is configured to be supplied with an ionizing radiation-curable resin composition 17 from the outside via a pipe 16. A required amount of the ionizing radiation-curable resin composition 17 is extruded upward from the slit 15 in accordance with the travel of the transparent substrate 2a, applied to the surface of the mold roller, and ionized radiation is also applied to the concave portion 12a of the mold roller 12. When the curable resin composition 17 is filled and passes between the nip roller 11a and the mold roller, the application amount is regulated.

【0064】型ローラ12の上方には、電離放射線照射
装置18が設置されており、照射装置18の下を通る際
に電離放射線が照射され、透明基材2a上の電離放射線
硬化性樹脂組成物が架橋硬化し、透明層と透明基材2a
とが接着する。この後、硬化した透明層を透明基材と共
に、離型し、巻き取る。
An ionizing radiation irradiating device 18 is provided above the mold roller 12, and is irradiated with ionizing radiation when passing under the irradiating device 18. The ionizing radiation curable resin composition on the transparent substrate 2 a is provided. Is cross-linked and cured, and the transparent layer and the transparent substrate 2a
And adhere. Thereafter, the cured transparent layer is released together with the transparent substrate and wound up.

【0065】なお、透明基材2aをラミネートするとき
は、型ローラ表面の凹部12aが少なくとも埋まってお
り、埋めた電離放射線硬化性樹脂組成物の露出面に透明
基材フィルムが接していれば足りるが、透明基材2aを
使用しないときは、電離放射線硬化性樹脂組成物が型面
上で連続した皮膜を生成するよう、十分な量の電離放射
線硬化性樹脂組成物を適用するとよい。
When laminating the transparent substrate 2a, it is sufficient that at least the concave portion 12a on the surface of the mold roller is buried and the transparent substrate film is in contact with the exposed surface of the buried ionizing radiation-curable resin composition. However, when the transparent substrate 2a is not used, a sufficient amount of the ionizing radiation-curable resin composition may be applied so that the ionizing radiation-curable resin composition forms a continuous film on the mold surface.

【0066】なお、図示の例では型ローラ12に電離放
射線硬化性樹脂組成物を適用するようにしており、この
方が好ましいが、ラミネート時の気泡の抱き込みを防止
できるのなら、電離放射線硬化性樹脂組成物を、透明基
材2a側に適用した後、型ローラ12に接触させてもよ
いし、あるいは、型ローラ12に透明基材2aが接する
位置に電離放射線硬化性樹脂組成物を供給してもよい。
In the illustrated example, the ionizing radiation-curable resin composition is applied to the mold roller 12. This is preferable. However, if the inclusion of bubbles during lamination can be prevented, the ionizing radiation-curing resin After applying the resin composition to the transparent substrate 2a side, the resin composition may be brought into contact with the mold roller 12, or the ionizing radiation-curable resin composition may be supplied to a position where the transparent substrate 2a contacts the mold roller 12. You may.

【0067】型ローラ12の表面に電離放射線硬化性樹
脂組成物を塗布した後に、必要ならドクタリングを施し
て、塗付量を規制してもよい。上記において、電離放射
線としては、通常、紫外線、もしくは電子線を用いる
が、これら以外であってもよい。また、照射する場所は
上方の一個所に限定することはなく、塗付直後から、ニ
ップローラ11bを通過するまでの任意の位置に所望の
個数の電離放射線照射装置を設置して照射を行なってよ
い。また、型ローラ12の周囲で、充分な場所が確保で
きない場合には、ニップローラ11bを出た後の位置に
更に電離放射線照射装置を設置して照射を行なってもよ
い。
After applying the ionizing radiation-curable resin composition on the surface of the mold roller 12, doctor ring may be applied if necessary to regulate the amount of application. In the above, as the ionizing radiation, ultraviolet rays or electron beams are usually used, but other than these may be used. Further, the irradiation position is not limited to the upper one position, and irradiation may be performed by installing a desired number of ionizing radiation irradiation devices at an arbitrary position immediately after the application and before passing through the nip roller 11b. . If a sufficient space cannot be secured around the mold roller 12, an ionizing radiation irradiating device may be further installed at a position after the nip roller 11b has exited to perform irradiation.

【0068】電離放射線照射により、電離放射線硬化性
樹脂組成物17が硬化するとともに、透明基材フィルム
1との間の接着力が生じるので、その後、透明基材フィ
ルム1ごと剥離することにより、透明基材2a上に硬化
した電離放射線硬化性樹脂組成物からなる透明層が積層
しており、かつ透明層の表面に、型面の微細凹凸の形状
が反映した微細凹凸3aが形成される。
The irradiation of ionizing radiation cures the ionizing radiation-curable resin composition 17 and produces an adhesive force with the transparent substrate film 1. A transparent layer made of the cured ionizing radiation-curable resin composition is laminated on the substrate 2a, and fine irregularities 3a reflecting the shape of the fine irregularities on the mold surface are formed on the surface of the transparent layer.

【0069】なお、透明基材2aを伴なわない透明層に
微細凹凸が直接に形成されたものを得るには、透明基材
2aのラミネートを省いて行なう方法もあるが、透明基
材2aの電離放射線硬化性樹脂組成物を適用する側の表
面に剥離性を与えておき、型面から透明層を剥離すると
同時に透明基材2aを分離してしまうか、あるいは先に
透明基材2aのみ剥離した後に透明層を剥離するか、も
しくは共に剥離後に透明基材2aを剥離することによっ
ても、透明基材2aを伴なわない、透明層に微細凹凸が
直接に形成されたものを得ることができる。ただし、透
明基材2aを工程中に使用した方が、透明層の厚みの規
制がしやすく、空中の塵埃の影響も回避できるので好ま
しい。
Incidentally, in order to obtain a transparent layer having no transparent substrate 2a and fine irregularities directly formed on the transparent layer, there is a method in which lamination of the transparent substrate 2a is omitted. The surface on the side to which the ionizing radiation-curable resin composition is applied is given releasability, and the transparent substrate is separated from the mold surface and the transparent substrate 2a is separated at the same time, or only the transparent substrate 2a is first removed. By peeling the transparent layer after the peeling, or by peeling the transparent substrate 2a after the peeling together, it is possible to obtain a transparent layer without the transparent substrate 2a, in which fine irregularities are directly formed on the transparent layer. . However, it is preferable to use the transparent substrate 2a during the process because the thickness of the transparent layer can be easily regulated and the influence of dust in the air can be avoided.

【0070】本発明の反射防止材は、微細凹凸3aが表
面に露出したままでも、充分効果を発揮するが、不用意
な接触による傷付きや汚染を防止する意味で、透明層よ
りも光の屈折率が低い樹脂組成物からなる層を微細凹凸
3a上に積層しておくことが好ましい。
The antireflection material of the present invention exhibits a sufficient effect even when the fine irregularities 3a are exposed on the surface. However, in order to prevent scratches and contamination due to inadvertent contact, the antireflection material is more effective than the transparent layer. It is preferable that a layer made of a resin composition having a low refractive index is laminated on the fine unevenness 3a.

【0071】微細凹凸3a上に積層する層4を、フッ素
系樹脂もしくはシリコーン系樹脂の素材で形成すると、
いずれも光の屈折率が1.3〜1.4であるため、電離
放射線硬化性樹脂組成物の硬化物からなる透明層の一般
的な屈折率(アクリレート系の樹脂組成物の硬化物であ
り、光の屈折率は1.5以上である。)よりも低いので
好ましく、なお、これら素材の水との接触角が100度
以上あるため、防汚性も有していて好ましい。上記のフ
ッ素系樹脂もしくはシリコーン系樹脂等の使用によっ
て、表面に特別の機能を持たせる必要性が低いときは、
下層の透明層3との接着を考慮して選択したフッ素系樹
脂・シリコーン系樹脂以外の熱可塑性樹脂を代わりに用
いてもよい。
When the layer 4 to be laminated on the fine irregularities 3a is formed of a fluorine resin or silicone resin material,
Since the refractive index of light is 1.3 to 1.4 in all cases, the general refractive index of a transparent layer made of a cured product of an ionizing radiation-curable resin composition (a cured product of an acrylate resin composition. , And the refractive index of light is 1.5 or more.) Since these materials have a contact angle of 100 ° or more with water, they also have antifouling properties and are therefore preferable. When the use of the above-mentioned fluorine-based resin or silicone-based resin, etc., makes it unnecessary to provide a special function to the surface,
A thermoplastic resin other than the fluororesin / silicone resin selected in consideration of adhesion to the lower transparent layer 3 may be used instead.

【0072】これらの素材は、蒸着等の乾式工程、もし
くは通常のコーティングのような湿式工程のいずれによ
って形成してもよい。あるいは、透明層に微細凹凸を与
えるための型面に予め塗付しておき、その上から電離放
射線硬化性樹脂組成物を適用することにより、積層する
方法も採れる。または、上記のフッ素系樹脂もしくはシ
リコーン系樹脂を、透明層を形成するための電離放射線
硬化性樹脂組成物と混合して、透明層を形成する際に、
これらフッ素系樹脂もしくはシリコーン系樹脂をブリー
ドアウトさせることによってよい。
These materials may be formed by either a dry process such as vapor deposition or a wet process such as ordinary coating. Alternatively, a method in which the transparent layer is applied in advance to a mold surface for providing fine irregularities, and an ionizing radiation-curable resin composition is applied thereon, and a method of laminating the transparent layer may be employed. Or, when the above-mentioned fluorine-based resin or silicone-based resin is mixed with an ionizing radiation-curable resin composition for forming a transparent layer to form a transparent layer,
The fluorinated resin or silicone resin may be bleed out.

【0073】ハードコート層5は、微細凹凸3aを有す
る凹凸面3の形成の際に用いたような電離放射線硬化性
樹脂組成物を用いて、公知のコーティング法により、塗
布し、塗布後、紫外線を選択して照射し、塗膜を架橋硬
化させることにより得ることができる。必要に応じ、ハ
ードコート層5には、紫外線による劣化を防止する目的
で、光重合の開始を阻害しない範囲で、紫外線吸収剤を
配合してもよい。ハードコート層5の厚みは、好ましく
は0.5〜30μm、より好ましくは2〜15μmであ
る。ハードコート層5の厚みが薄すぎると、得られる表
面の硬度や耐汚染性等の耐久性が不十分であり、また、
厚すぎると、全体のフレキシブルさを低下させ、また、
硬化に時間がかかる等、生産効率の低下をまねく。
The hard coat layer 5 is applied by a known coating method using the ionizing radiation-curable resin composition used for forming the uneven surface 3 having the fine unevenness 3a, and after the application, the ultraviolet light is applied. And irradiating the film to crosslink and cure the coating film. If necessary, an ultraviolet absorber may be added to the hard coat layer 5 for the purpose of preventing deterioration due to ultraviolet rays as long as the start of photopolymerization is not hindered. The thickness of the hard coat layer 5 is preferably 0.5 to 30 μm, more preferably 2 to 15 μm. If the thickness of the hard coat layer 5 is too thin, the resulting surface has insufficient durability such as hardness and stain resistance, and
Too thick will reduce overall flexibility, and
For example, it takes a long time to cure, leading to a decrease in production efficiency.

【0074】反射防止層6は、例えば、(1)高屈折率
層、および低屈折率層が順に積層されたもの、(2)高
屈折率層、低屈折率層、高屈折率層、および低屈折率層
が順に積層されたもの、もしくは(3)中屈折率層、高
屈折率層、および低屈折率層が順に積層されたもの等で
あるが、これら以外のものであってもよい。
The antireflection layer 6 includes, for example, (1) a high refractive index layer and a low refractive index layer sequentially laminated, (2) a high refractive index layer, a low refractive index layer, a high refractive index layer, and A low refractive index layer is sequentially laminated, or (3) a medium refractive index layer, a high refractive index layer, and a low refractive index layer are sequentially laminated, but other materials may be used. .

【0075】上記(1)および(2)における高屈折率
層、並びに(3)における中屈折率層は、例えば、Zn
O、TiO2、CeO2、Sb25、SnO2、酸化イン
ジウム錫、アンチモンドープの酸化インジウム錫、In
23、Y23、La23、Al23、HfO2、および
ZrO2からなる群より選ばれた素材からなる薄膜、も
しくはこれらの素材からなる超微粒子が分散した樹脂膜
で構成することができる。
The high refractive index layer in (1) and (2) and the medium refractive index layer in (3) are, for example, Zn
O, TiO 2 , CeO 2 , Sb 2 O 5 , SnO 2 , indium tin oxide, antimony-doped indium tin oxide, In
A thin film made of a material selected from the group consisting of 2 O 3 , Y 2 O 3 , La 2 O 3 , Al 2 O 3 , HfO 2 , and ZrO 2 , or a resin film in which ultrafine particles made of these materials are dispersed Can be configured.

【0076】上記(1)、(2)、および(3)におけ
る低屈折率層は、例えば、SiO2からなる薄膜、Si
2ゲル膜、または、フッ素含有の、もしくはフッ素お
よびケイ素含有の紫外線硬化性樹脂組成物の硬化膜で構
成することができる。
The low refractive index layer in (1), (2) and (3) is, for example, a thin film made of SiO 2 ,
It can be composed of an O 2 gel film or a cured film of a fluorine-containing or fluorine- and silicon-containing ultraviolet-curable resin composition.

【0077】上記(3)における高屈折率層は、例え
ば、Fe、Ni、Cr、Ti、Hf、Zn、Zr、M
o、およびTaからなる群より選ばれた金属からなる金
属薄膜、もしくはこれらの金属からなる超微粒子が分散
した樹脂膜で構成することができる。
The high refractive index layer in the above (3) is made of, for example, Fe, Ni, Cr, Ti, Hf, Zn, Zr, M
It can be composed of a metal thin film made of a metal selected from the group consisting of o and Ta, or a resin film in which ultrafine particles made of these metals are dispersed.

【0078】上記の各層は、金属等の薄膜の場合、蒸着
もしくはスパッタにより、また、樹脂を含む場合には、
それらの溶剤溶液等のコーティングにより形成すること
ができる。なお、反射防止層6は、ハードコート層5の
上に積層することが好ましいが、ハードコート層5が無
くても、反射防止機能を発揮することが可能である。た
だし、反射防止層6に、物理的な強度を付与するには、
ハードコート層5の上に反射防止層6を積層することが
好ましい。
Each of the above-mentioned layers is formed by vapor deposition or sputtering in the case of a thin film of metal or the like.
They can be formed by coating with a solvent solution or the like. The antireflection layer 6 is preferably laminated on the hard coat layer 5, but the antireflection function can be exhibited without the hard coat layer 5. However, in order to impart physical strength to the antireflection layer 6,
It is preferable to laminate the antireflection layer 6 on the hard coat layer 5.

【0079】上記の種々の構造の単層、もしくは複数層
の積層体であり得る本発明の窓板1は、必要な形状に打
抜く等して、所定の形状とし、各種の、表示部を有する
携帯可能な機器の表示カバー用として使用することがで
きる。
The window plate 1 of the present invention, which can be a single-layer or a multi-layer laminate of the above-described various structures, is punched into a required shape and formed into a predetermined shape. It can be used for a display cover of a portable device having the same.

【0080】図8は、表示部を備えた携帯電話機の表示
部を窓板1でカバーした様子を示す図で、窓板1は、図
8(b)に示すような所定の形状を有し、矢印で示す方
向の断面形状が、図8(c)に示すような形状を有して
おり、携帯電話機の外側のケースの窓板1を嵌め込むた
めの開孔部に、嵌め込むことを予定しているものであ
る。勿論、窓板1の携帯電話機への固定は、他の種々の
方式によってもよい。
FIG. 8 is a view showing a state in which the display unit of a portable telephone having a display unit is covered with a window plate 1. The window plate 1 has a predetermined shape as shown in FIG. The cross-sectional shape in the direction indicated by the arrow has a shape as shown in FIG. 8 (c), and it is necessary to fit into the opening for fitting the window plate 1 of the outer case of the mobile phone. It is a planned one. Of course, the window plate 1 may be fixed to the portable telephone by other various methods.

【0081】[0081]

【実施例】(実施例1)ガラス基板上に感光性樹脂層を
積層し、レーザー干渉露光装置で、三方向より露光を行
ない、露光後、溶剤現像を行ない、感光性樹脂が硬化し
た樹脂上に、高さが180nm〜350nm、ピッチが
100nm〜350nmの微細凹凸を格子状に無数に配
置した原型を得た。上記原型の型面を内面に装着した金
型を用い、アクリル樹脂を射出して、微細凹凸を片面に
有するアクリル樹脂製の板を得た。
(Example 1) A photosensitive resin layer was laminated on a glass substrate, exposed in three directions by a laser interference exposure apparatus, and after the exposure, solvent development was carried out, and the photosensitive resin was cured. Then, a prototype was obtained in which a large number of fine irregularities having a height of 180 nm to 350 nm and a pitch of 100 nm to 350 nm were arranged in a lattice pattern. Using a mold in which the mold surface of the above-mentioned prototype was mounted on the inner surface, an acrylic resin was injected to obtain an acrylic resin plate having fine irregularities on one surface.

【0082】上記で得られた板の微細凹凸を有していな
い方の面に、表示部の大きさの枠および文字を印刷し、
さらに印刷面を含む全面に、アクリレート系の紫外線硬
化性樹脂を用いて、ハードコート層を形成した。続い
て、ハードコート層上に、CVDスパッタにより、Ti
2、SiO2、およびTO2の薄膜を、いずれも50n
mの厚みで、この順に重ねて形成し、反射防止層とし
た。
On the surface of the plate obtained above that does not have fine irregularities, a frame and characters of the size of the display portion are printed,
Further, a hard coat layer was formed on the entire surface including the printing surface using an acrylate-based ultraviolet curable resin. Subsequently, Ti is deposited on the hard coat layer by CVD sputtering.
O 2 , SiO 2 , and TO 2 thin films were all
The layers were formed in this order with a thickness of m to form an antireflection layer.

【0083】以上により、片面には微細な凹凸、他方の
面には、ハードコート層、TiO2薄膜、SiO2薄膜、
およびTO2薄膜が順に形成された透明板が得られ、分
光光度計により、波長が400nm〜700nmの範囲
で反射率を測定したところ、0.1%〜1%であった。
また、この透明板を、所定の寸法であることを確認し
て、携帯電話機の液晶表示部の外側のケースに表示部の
大きさに形成された開孔部に、微細凹凸を有する側が液
晶表示部側となるよう嵌め込んだところ、電話機の液晶
表示部の表示の際の明るさが、内面側に微細凹凸を有し
ていない場合にくらべて非常に向上した。また、この場
合、部際凹凸が内面向きであるので、摩耗による凹凸の
損傷、ひいては、摩耗による、表示部の明るさの低下が
なかった。
As described above, fine irregularities are formed on one surface, and a hard coat layer, a TiO 2 thin film, a SiO 2 thin film are formed on the other surface.
And a transparent plate on which a TO 2 thin film was formed in order, and the reflectance was measured with a spectrophotometer in a wavelength range of 400 nm to 700 nm, and was 0.1% to 1%.
Also, after confirming that the transparent plate has a predetermined size, the side having fine irregularities is formed on an opening formed in a size of the display unit in a case outside the liquid crystal display unit of the mobile phone. When it was fitted so as to be on the inner side, the brightness at the time of displaying on the liquid crystal display of the telephone was greatly improved as compared with the case where the inner side did not have fine irregularities. Further, in this case, since the irregularity of the part is directed to the inner surface, there is no damage of the irregularity due to abrasion, and there is no reduction in brightness of the display part due to the abrasion.

【0084】[0084]

【発明の効果】請求項1の発明によれば、少なくとも微
細凹凸が形成された凹凸面からの入射光の反射を防止す
ることが可能な、表示部を有する携帯可能な機器の表示
部カバー用反射防止性窓板を提供することができる。請
求項2の発明によれば、片側の、微細凹凸が形成された
凹凸面からの入射光の反射を防止することが可能な、表
示部を有する携帯可能な機器の表示部カバー用反射防止
性窓板を提供することができる。請求項3の発明によれ
ば、両側の、微細凹凸が形成された凹凸面からの入射光
の反射を防止することが可能な、表示部を有する携帯可
能な機器の表示部カバー用反射防止性窓板を提供するこ
とができる。請求項4の発明によれば、請求項1〜請求
項3の発明によれば、請求項1〜3いずれかの発明の効
果に加え、模様層が積層されているので、意匠性の付
与、表示部の周縁の遮蔽、もしくは機器の名称やディス
プレイが表示する内容の項目名の表示等の機能を発揮す
ることが可能な、表示部を有する携帯可能な機器の表示
部カバー用反射防止性窓板を提供することができる。請
求項5の発明によれば、請求項1〜請求項5いずれかの
発明の効果に加え、少なくとも、ハードコート層が積層
された側に物理的性状もしくは化学的性状を付与する
か、もしくは向上させることが可能な、表示部を有する
携帯可能な機器の表示部カバー用反射防止性窓板を提供
することができる。請求項6の発明によれば、請求項1
〜請求項5いずれかの発明の効果に加え、ハードコート
層が積層された側の表面に物理的性状および化学的性状
を付与するか、もしくは向上させることが可能な、表示
部を有する携帯可能な機器の表示部カバー用反射防止性
窓板を提供することができる。請求項7の発明によれ
ば、請求項1〜請求項6いずれかの発明の効果を発揮す
るカバー用反射防止性窓板を表示部に有する携帯可能な
機器を提供することができる。
According to the first aspect of the present invention, it is possible to prevent the reflection of incident light from at least the uneven surface on which the fine unevenness is formed. An anti-reflective window plate can be provided. According to the invention of claim 2, anti-reflection property for a display unit cover of a portable device having a display unit, which can prevent reflection of incident light from one side of the uneven surface on which fine unevenness is formed. Window boards can be provided. According to the third aspect of the present invention, it is possible to prevent reflection of incident light from the uneven surface on which fine unevenness is formed on both sides, and the antireflection property for the display unit cover of a portable device having a display unit. Window boards can be provided. According to the invention of claim 4, according to the invention of claims 1 to 3, in addition to the effect of any one of claims 1 to 3, the design layer is laminated, so that the design is imparted, An anti-reflective window for a display unit cover of a portable device having a display unit, which can exhibit a function of shielding the periphery of the display unit, or displaying a name of the device or an item name of the content displayed on the display. Boards can be provided. According to the fifth aspect of the present invention, in addition to the effects of any one of the first to fifth aspects of the present invention, at least a physical property or a chemical property is imparted to or improved on the side where the hard coat layer is laminated. It is possible to provide an anti-reflection window plate for a display unit cover of a portable device having a display unit, the display unit cover being capable of being operated. According to the invention of claim 6, claim 1
In addition to the effects of any one of claims 5 to 5, a portable device having a display portion capable of imparting or improving physical properties and chemical properties on the surface on which the hard coat layer is laminated is provided. It is possible to provide an antireflection window plate for a display unit cover of a simple device. According to the seventh aspect of the present invention, it is possible to provide a portable device having an antireflection window plate for a cover in a display unit, which exhibits the effects of any one of the first to sixth aspects of the invention.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】窓板の基本的な形状を示す図である。FIG. 1 is a view showing a basic shape of a window plate.

【図2】模様層を伴なった窓板を示す図である。FIG. 2 is a view showing a window plate with a pattern layer.

【図3】ハードコート層を伴なった窓板を示す図であ
る。
FIG. 3 is a view showing a window plate with a hard coat layer.

【図4】ハードコート層上に反射防止層を伴なった例を
示す図である。
FIG. 4 is a view showing an example in which an antireflection layer is provided on a hard coat layer.

【図5】微細凹凸の様々な断面形状を示す図である。FIG. 5 is a view showing various cross-sectional shapes of fine irregularities.

【図6】微細凹凸の配置を示す図である。FIG. 6 is a diagram showing an arrangement of fine irregularities.

【図7】微細凹凸の製造方法を示す図である。FIG. 7 is a diagram showing a method for producing fine irregularities.

【図8】携帯電話機に適用した例を示す図である。FIG. 8 is a diagram showing an example applied to a mobile phone.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 窓板 2 透明板 3 凹凸面(3a;微細凹凸) 4 模様層 5 ハードコート層 6 反射防止層 11 ニップローラ 12 型ローラ 13 ダイヘッド 14 液溜め 15 スリット 16 パイプ 17 電離放射線硬化性樹脂組成物 18 電離放射線照射装置 21 携帯電話機 Reference Signs List 1 window plate 2 transparent plate 3 uneven surface (3a; fine unevenness) 4 pattern layer 5 hard coat layer 6 antireflection layer 11 nip roller 12 type roller 13 die head 14 liquid reservoir 15 slit 16 pipe 17 ionizing radiation curable resin composition 18 ionization Radiation irradiation device 21 Mobile phone

フロントページの続き Fターム(参考) 2H091 FA31X FA37X FC10 FC23 FC25 FC29 GA16 LA12 2K009 AA02 AA12 AA15 BB02 BB14 BB24 BB25 BB28 CC03 CC24 CC42 DD04 DD05 DD15 4F100 AA20D AA21C AK25A AK25B AR00A AR00B AR00C AR00D BA04 BA07 BA10A BA10D DD07A EH66C EH66D GB41 HB31B JB14B JK12B JM02C JM02D JN01A JN06C JN06D JN30 Continued on front page F-term (reference) 2H091 FA31X FA37X FC10 FC23 FC25 FC29 GA16 LA12 2K009 AA02 AA12 AA15 BB02 BB14 BB24 BB25 BB28 CC03 CC24 CC42 DD04 DD05 DD15 4F100 AA20D AA21C AK25A AK25BAR00A00 BA00 AR00A00 BA00 AR00D HB31B JB14B JK12B JM02C JM02D JN01A JN06C JN06D JN30

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 透明板の少なくとも片側に、光の波長以
下のピッチの無数の微細凹凸が形成された凹凸面を有す
ることを特徴とする表示部を有する携帯可能な機器の表
示部カバー用反射防止性窓板。
1. A reflection for a display unit cover of a portable device having a display unit, characterized in that at least one side of a transparent plate has an uneven surface on which innumerable fine unevenness with a pitch equal to or less than the wavelength of light is formed. Preventive window board.
【請求項2】 透明板の片側に、光の波長以下のピッチ
の無数の微細凹凸が形成された凹凸面を有することを特
徴とする請求項1記載の表示部を有する携帯可能な機器
の表示部カバー用反射防止性窓板。
2. The display of a portable device having a display unit according to claim 1, wherein one side of the transparent plate has an uneven surface on which innumerable fine unevenness is formed at a pitch equal to or less than the wavelength of light. Anti-reflective window plate for head cover.
【請求項3】 透明板の両側に、光の波長以下のピッチ
の無数の微細凹凸が形成された凹凸面を有することを特
徴とする請求項1記載の表示部を有する携帯可能な機器
の表示部カバー用反射防止性窓板。
3. The display of a portable device having a display unit according to claim 1, wherein the transparent plate has, on both sides thereof, an uneven surface on which innumerable fine unevennesses having a pitch equal to or less than the wavelength of light are formed. Anti-reflective window plate for head cover.
【請求項4】 前記透明板の片側もしくは両側に模様層
が積層されていることを特徴とする請求項1〜請求項3
いずれか記載の表示部を有する携帯可能な機器の表示部
カバー用反射防止性窓板。
4. A pattern layer is laminated on one side or both sides of the transparent plate.
An antireflection window plate for a display unit cover of a portable device having the display unit according to any one of the above.
【請求項5】 前記透明板の片側もしくは両側にハード
コート層が積層されていることを特徴とする請求項1〜
請求項4いずれか記載の表示部を有する携帯可能な機器
の表示部カバー用反射防止性窓板。
5. A hard coat layer is laminated on one or both sides of the transparent plate.
An antireflective window plate for a display unit cover of a portable device having the display unit according to claim 4.
【請求項6】 前記透明板の片側もしくは両側に、互い
に屈折率の異なる複数の薄膜層からなる反射防止層が順
に積層されていることを特徴とする請求項1〜請求項5
いずれか記載の表示部を有する携帯可能な機器の表示部
カバー用反射防止性窓板。
6. An anti-reflection layer comprising a plurality of thin-film layers having different refractive indices is sequentially laminated on one or both sides of the transparent plate.
An antireflection window plate for a display unit cover of a portable device having the display unit according to any one of the above.
【請求項7】 請求項1〜6いずれか記載の反射防止性
窓板を表示部上の観察側に有することを特徴とする表示
部を有する携帯可能な機器。
7. A portable device having a display unit, comprising the antireflection window plate according to claim 1 on an observation side on the display unit.
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