JP2002056908A - Electrical connector and its manufacturing method - Google Patents

Electrical connector and its manufacturing method

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JP2002056908A
JP2002056908A JP2000240241A JP2000240241A JP2002056908A JP 2002056908 A JP2002056908 A JP 2002056908A JP 2000240241 A JP2000240241 A JP 2000240241A JP 2000240241 A JP2000240241 A JP 2000240241A JP 2002056908 A JP2002056908 A JP 2002056908A
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JP
Japan
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electrical connector
circuit board
elastic matrix
electronic circuit
matrix layer
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Japanese (ja)
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Yuichiro Sasaki
勇一郎 佐々木
Fumio Kono
文夫 河野
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Shin Etsu Polymer Co Ltd
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Original Assignee
Shin Etsu Polymer Co Ltd
Shin Etsu Chemical Co Ltd
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  • Coupling Device And Connection With Printed Circuit (AREA)
  • Manufacturing Of Electrical Connectors (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electrical connector, and its manufacturing method, which can be used for an analog circuit, high-frequency circuit, or the like by restraining dispersion through lowering of resistance and can also aim at expanding the range of use. SOLUTION: A plurality of metal connecting plates 8 are buried in a row to the top and bottom width direction of an elastic matrix layer 7 interposed between an electronic circuit board 1 and an electric joint 3 made of liquid crystal module, to be formed and bent in a wave form. At one end of each metal connecting plate 8, a spherical connecting contact 9 contacting an electrode 2 of the electronic circuit board 1 is laser formed, and on the other hand, a spherical connecting contact 9 contacting an electrode 4 of the electric joint 3 is laser formed at the other end, and at each side of the elastic matrix layer 7, an insulating support layer 10 is laminated and bonded through an adhesive 11.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、電子回路基板と液
晶モジュール、電子回路基板と電子回路基板、各種IC
パッケージと電子回路基板等の対向電極を導通するため
に用いられる電気コネクタ、特には圧接型の電気コネク
タ及びその製造方法に関するものである。
The present invention relates to an electronic circuit board and a liquid crystal module, an electronic circuit board and an electronic circuit board, and various ICs.
The present invention relates to an electrical connector used for conducting a package and an opposing electrode such as an electronic circuit board, and more particularly to a press-contact type electrical connector and a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】電子回路基板と液晶モジュール、電子回
路基板と電子回路基板、各種ICパッケージと電子回路
基板との電気的な接続には電気コネクタが用いられてい
る。この種の電気コネクタは、図示しないが、シリコー
ンゴム製の絶縁性ゴムシートとシリコーンゴム製の導電
性ゴムシートとが交互に、かつ平行に多重積層されるこ
とにより形成されている。このような構成の電気コネク
タは、電子回路基板と液晶モジュール等からなる電気接
合物とに挟持され、強く加圧圧縮(圧接)されることによ
り、弾性変形して電子回路基板と電気接合物とを導通す
る。
2. Description of the Related Art An electrical connector is used for electrical connection between an electronic circuit board and a liquid crystal module, between an electronic circuit board and an electronic circuit board, and between various IC packages and an electronic circuit board. Although not shown, this type of electrical connector is formed by alternately and parallelly laying multiple layers of an insulating rubber sheet made of silicone rubber and a conductive rubber sheet made of silicone rubber. An electric connector having such a configuration is sandwiched between an electronic circuit board and an electric joint made of a liquid crystal module or the like, and is strongly pressed and compressed (press-contacted), whereby it is elastically deformed to be electrically connected to the electronic circuit board and the electric joint. Is conducted.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】従来の電気コネクタ
は、以上のようにシリコーンゴムを使用しているが、導
電性ゴムシートの抵抗値が1kΩ以上と高く、抵抗値の
ばらつきも大きいので、低抵抗値で電流が必要とされる
各種回路や低抵抗値で微小電流が必要とされる半導体パ
ッケージの導通には使用することが困難であるという問
題がある。また、導電性ゴムシートの導電性付与剤とし
て、カーボンブラックの使用されることが少なくない
が、カーボンブラックを使用すると、導電部分の体積抵
抗率が0.2Ωcm超と高くなり、圧縮荷重が高くなる
ので、アナログ回路や高周波用回路には到底使用するこ
とができない。
The conventional electrical connector uses silicone rubber as described above. However, since the resistance value of the conductive rubber sheet is as high as 1 kΩ or more and the variation of the resistance value is large, the electrical connector is low. There is a problem that it is difficult to use it for conducting various circuits that require a current with a resistance value or a semiconductor package that requires a small current with a low resistance value. In addition, carbon black is often used as a conductivity imparting agent for the conductive rubber sheet.However, when carbon black is used, the volume resistivity of the conductive portion becomes higher than 0.2 Ωcm, and the compression load is high. Therefore, it cannot be used for analog circuits or high-frequency circuits.

【0004】また、体積抵抗率が0.4Ωcm以下の領
域とするには、カーボンブラックを高充填しなければな
らないので、導電性ゴムシートのゴム硬度が高くなり、
15%の圧縮接続時の応力が15kgf/cm2より大
になるので、圧縮使用には到底適さない。しかも、この
場合には、電流を1mA以上流すと、発熱して50℃以
上の温度になる状態が生じるので、電気コネクタとして
は不適格化するという問題もある。また、導電性付与剤
を金属系のものとした場合であっても、導電性ゴムシー
トのゴム硬度が高くなりやすく、15%の圧縮接続時の
応力が15kgf/cm2より大となるので、圧縮使用
には適さないおそれが少なくない。さらに、電気コネク
タとして導通する厚さが0.5mm以下となり、使用範
囲が大きく限定されてしまうという問題もある。
[0004] Further, in order to obtain a region having a volume resistivity of 0.4 Ωcm or less, a high filling of carbon black is required, so that the rubber hardness of the conductive rubber sheet becomes high,
Since the stress at the time of compression connection of 15% becomes larger than 15 kgf / cm 2 , it is not suitable for compression use. In addition, in this case, when a current of 1 mA or more flows, a state occurs in which the temperature becomes 50 ° C. or more, and thus there is a problem that the electric connector is not suitable. Further, even when the conductivity-imparting agent is a metal-based material, the rubber hardness of the conductive rubber sheet is likely to be high, and the stress at the time of 15% compression connection is larger than 15 kgf / cm 2 . It is not uncommon that compression is not suitable for use. Further, there is a problem that the thickness of conduction as an electrical connector is 0.5 mm or less, and the range of use is greatly limited.

【0005】本発明は、上記に鑑みなされたもので、抵
抗値を低くしてそのばらつきを抑制し、アナログ回路や
高周波用回路等に使用することができ、しかも、使用範
囲の拡大を図ることのできる電気コネクタ及びその製造
方法を提供することを目的としている。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and has a low resistance value to suppress variations thereof, and can be used in analog circuits, high frequency circuits, and the like, and furthermore, can be used in a wider range of use. And a method of manufacturing the same.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明にお
いては、上記課題を達成するため、対向電極を導通する
電気コネクタであって、電子回路基板と電気接合物との
対向電極間に介在する絶縁性のエラスチックマトリック
ス層の厚さ方向に、両末端部が略球形状の、複数の細幅
の略波状の金属接続板を互いに絶縁性を保って設けてな
ることを特徴としている。なお、上記エラスチックマト
リックス層の少なくとも厚さ方向に沿う両側面に、絶縁
性のサポート層を有することが好ましい。
According to the first aspect of the present invention, there is provided an electric connector for conducting an opposing electrode, the electric connector being provided between an opposing electrode of an electronic circuit board and an electric joint. In the thickness direction of the insulating elastic matrix layer, a plurality of narrow and substantially corrugated metal connection plates having substantially spherical shapes at both ends are provided while maintaining insulation from each other. In addition, it is preferable that an insulating support layer is provided on at least both side surfaces along the thickness direction of the elastic matrix layer.

【0007】請求項3記載の発明においては、上記課題
を達成するため、電子回路基板と電気接合物とを導通す
るものの製造方法であって、絶縁性の複数のエラスチッ
ク間に、略波状に湾曲した薄い複数の金属接続板を挟ん
でエラスチックマトリックス層を形成し、このエラスチ
ックマトリックス層から露出した各金属接続板の両末端
部をそれぞれレーザ加工して略球状の接続接点に形成
し、該エラスチックマトリックス層の少なくとも両側面
に、絶縁性のサポート層をそれぞれ接着することを特徴
としている。
According to a third aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a device for electrically connecting an electronic circuit board and an electric joint, the method comprising: An elastic matrix layer is formed with a plurality of thin metal connection plates sandwiched therebetween, and both ends of each metal connection plate exposed from the elastic matrix layer are laser-processed to form substantially spherical connection contacts. An insulating support layer is adhered to at least both side surfaces of the layer.

【0008】ここで、特許請求の範囲における電子回路
基板には、検査回路基板、携帯電話用等のプリント配線
板、高密度フレキシブル基板等の各種回路基板が含まれ
る。電気接合物には、液晶モジュール、表面実装型(Q
FP、BGA、LGA等)等の各種ICパッケージ、各
種回路基板、携帯電話や電子機器用のマイク、スピーカ
等の各種電子部品が含まれる。
Here, the electronic circuit board in the claims includes various circuit boards such as an inspection circuit board, a printed wiring board for mobile phones, and a high-density flexible board. Liquid crystal module, surface mount type (Q
FP, BGA, LGA, etc.) and various electronic components such as various circuit boards, microphones and speakers for mobile phones and electronic devices.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の好
ましい実施形態を説明すると、本実施形態における電気
コネクタは、図1ないし図3に示すように、平坦な電子
回路基板1と電気接合物3との間に介在するエラスチッ
クマトリックス層7の上下厚さ方向に、複数の金属接続
板8を一列に並べて埋設し、各金属接続板8の一端部
に、電子回路基板1の電極2に垂直に接触する球状の接
続接点9をレーザ形成するとともに、各金属接続板8の
他端部には、電気接合物3の電極4に接触する球状の接
続接点9をレーザ形成し、エラスチックマトリックス層
7の両側面には、同形のサポート層10を接着剤11を
介しそれぞれ積層接着するようにしている。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A preferred embodiment of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings. As shown in FIGS. A plurality of metal connecting plates 8 are buried in a row in the vertical thickness direction of the elastic matrix layer 7 interposed between the joints 3, and one end of each metal connecting plate 8 is provided with an electrode 2 of the electronic circuit board 1. The metal connection plate 8 is laser-formed on the other end of each metal connection plate 8, and the spherical connection contact 9 that is in contact with the electrode 4 of the electric joint 3 is formed by laser. Support layers 10 of the same shape are laminated and adhered to both sides of the layer 7 with an adhesive 11 interposed therebetween.

【0010】電子回路基板1は、図1に示すように、例
えばプリント配線板からなり、表面に複数の電極2が並
行に、図では平坦に配列されている。電気接合物3は、
同図に示すように、例えば液晶モジュールからなり、液
晶導光板5を介して下方の電子回路基板1の表面に近接
対向する。この電気接合物3は、ITO電極からなる複
数の電極4を並べ備えている。また、液晶導光板5に
は、電極2・4に連通するガイドホルダ6が縦長に穿孔
され、このガイドホルダ6内に電気コネクタが収納され
る。
As shown in FIG. 1, the electronic circuit board 1 is made of, for example, a printed wiring board, and a plurality of electrodes 2 are arranged on the surface in parallel and flat in the figure. Electric joint 3
As shown in the figure, the liquid crystal module is made of, for example, a liquid crystal module, and is closely opposed to the surface of the lower electronic circuit board 1 via the liquid crystal light guide plate 5. The electrical joint 3 includes a plurality of electrodes 4 composed of ITO electrodes. Further, a guide holder 6 communicating with the electrodes 2 and 4 is formed in the liquid crystal light guide plate 5 to be vertically long, and an electric connector is housed in the guide holder 6.

【0011】エラスチックマトリックス層7は、図1な
いし図3に示すように、電気的な絶縁材料、特に硬化後
に架橋構造を形成する材料を使用して上下方向に長い弾
性の板状に形成される。このエラスチックマトリックス
層7の材料としては、例えばシリコーンゴム、ポリブタ
ジエンゴム、天然ゴム、ポリイソプレンゴム、ウレタン
ゴム、クロロプレンゴム、ポリエステル系ゴム、スチレ
ン・ブタジエン共重合体ゴム、エピクロルヒドリンゴ
ム、あるいはこれらの発泡材料等があげられる。これら
の中でも、硬化物の電気絶縁性、耐熱性、圧縮永久歪み
に優れるシリコーンゴムが好ましく、特に圧縮接続時の
荷重を極力小さくするため、硬化後の硬度が50°H以
下、好ましくは30°〜50°H以下であり、導電部を
保持可能な厚さであれば良いことから、0.1〜0.5
mmのシリコーンゴムシートが最適である。
As shown in FIGS. 1 to 3, the elastic matrix layer 7 is formed in a vertically long elastic plate shape using an electrically insulating material, particularly a material which forms a crosslinked structure after curing. . Examples of the material of the elastic matrix layer 7 include silicone rubber, polybutadiene rubber, natural rubber, polyisoprene rubber, urethane rubber, chloroprene rubber, polyester rubber, styrene / butadiene copolymer rubber, epichlorohydrin rubber, and foamed materials thereof. And the like. Among these, silicone rubber having excellent electrical insulation, heat resistance, and compression set of the cured product is preferable. In particular, the hardness after curing is 50 ° H or less, preferably 30 °, in order to minimize the load during compression connection. 5050 ° H. or less, and any thickness that can hold the conductive portion may be used.
mm silicone rubber sheet is optimal.

【0012】複数の金属接続板8は、図2に示すよう
に、例えば微細ピッチ電極の接続の場合には、0.1m
mピッチで配列され、半導体パッケージの接続の場合、
0.3〜0.5mmピッチで配列される。この複数の金
属接続板8の高さは、高周波の影響を受けないよう、可
能な限り低く短く形成される。具体的には、1.0〜
1.5mmの高さに形成される。
As shown in FIG. 2, the plurality of metal connecting plates 8 are, for example, 0.1 m in the case of connecting fine pitch electrodes.
It is arranged at m pitch, and in case of connection of semiconductor package,
They are arranged at a pitch of 0.3 to 0.5 mm. The height of the plurality of metal connection plates 8 is formed as short and short as possible so as not to be affected by high frequency. Specifically, 1.0 to
It is formed at a height of 1.5 mm.

【0013】金属接続板8は、図1ないし図3に示すよ
うに、エッチング加工が可能な導電性の金属薄板を使用
してエッチング形成される。この金属接続板8の材料と
しては、加工性、導電性、汎用性、コストに優れる銅板
やリン青銅板等の銅合金板、アルミ板、ニッケル板等が
あげられるが、加工性、生産性、コスト等を考慮すると
銅板が最適である。このような金属接続板8は、エッチ
ング後に金メッキされることにより、金属の腐食防止や
接続時の接触抵抗値の低減が図られる。
As shown in FIGS. 1 to 3, the metal connecting plate 8 is formed by etching using a conductive thin metal plate which can be etched. Examples of the material of the metal connection plate 8 include a copper plate and an aluminum plate, a nickel plate, and the like, such as a copper plate and a phosphor bronze plate, which are excellent in workability, conductivity, versatility, and cost. Considering the cost and the like, a copper plate is optimal. Such a metal connection plate 8 is plated with gold after etching, thereby preventing metal corrosion and reducing the contact resistance value at the time of connection.

【0014】金属接続板8の厚さは、加工性、コスト
性、接続時の低圧縮度に配慮すると、0.05〜0.5
mm、特には0.1〜0.3mmが良い。金属接続板8
は、弾性の略波状(正弦波形状)に湾曲形成されるが、ピ
ッチが0.1〜0.5mmの場合には、幅がピッチの半
分に形成され、かつ電気コネクタの必要な幅に形成され
る。金属接続板8の幅は、電子回路基板1と電気接合物
3との導通、接続接点9の形成等を考慮すると、0.1
〜0.5mm、好ましくは0.1〜0.3mmが良い。
The thickness of the metal connecting plate 8 is 0.05 to 0.5 in consideration of workability, cost, and low compression during connection.
mm, particularly 0.1 to 0.3 mm. Metal connection plate 8
Is formed in a substantially elastic wave shape (sinusoidal wave shape), but when the pitch is 0.1 to 0.5 mm, the width is formed to be half of the pitch and the required width of the electrical connector is formed. Is done. The width of the metal connection plate 8 is set to 0.1 in consideration of conduction between the electronic circuit board 1 and the electric joint 3 and formation of the connection contact 9.
0.5 mm, preferably 0.1 mm to 0.3 mm.

【0015】サポート層10は、図1ないし図3に示す
ように、電気的な絶縁材料、特に硬化後に架橋構造を形
成する材料を使用して上下方向に長い弾性の板状に形成
され、電気コネクタの保護や取扱性を向上させたり、電
子回路基板1の電子部品との絶縁性に寄与する。このサ
ポート層10の材料としては、例えばシリコーンゴム、
ポリブタジエンゴム、天然ゴム、ポリイソプレンゴム、
ウレタンゴム、クロロプレンゴム、ポリエステル系ゴ
ム、スチレン・ブタジエン共重合体ゴム、エピクロルヒ
ドリンゴム、あるいはこれらの発泡材料等があげられ
る。これらの中でも、硬化物の電気絶縁性、耐熱性、圧
縮永久歪みに優れるシリコーンゴムが好ましく、特に圧
縮接続時の荷重を極力小さくするため、硬化後の硬度が
15°〜50°H、好ましくは40°〜50°Hで、
0.5〜1.5mmのシリコーンゴムのシートが最適で
ある。
As shown in FIGS. 1 to 3, the support layer 10 is formed in a vertically long elastic plate shape using an electrically insulating material, particularly a material which forms a crosslinked structure after curing. This improves the protection and handleability of the connector, and contributes to the insulation between the electronic circuit board 1 and the electronic components. As a material of the support layer 10, for example, silicone rubber,
Polybutadiene rubber, natural rubber, polyisoprene rubber,
Examples thereof include urethane rubber, chloroprene rubber, polyester rubber, styrene / butadiene copolymer rubber, epichlorohydrin rubber, and foamed materials thereof. Among these, silicone rubber having excellent electrical insulation, heat resistance, and compression set of the cured product is preferable. In particular, in order to minimize the load during compression connection, the hardness after curing is 15 ° to 50 ° H, preferably At 40 ° -50 ° H,
A sheet of silicone rubber of 0.5-1.5 mm is optimal.

【0016】接着剤11は、公知のタイプが適宜使用さ
れるが、室温硬化型、特に付加反応型のシリコーン系が
適切である。
As the adhesive 11, a known type is appropriately used, but a room temperature curing type, particularly an addition reaction type silicone is suitable.

【0017】次に、電気コネクタの製造方法について説
明すると、先ず、導電性の金属薄板をエッチングして複
数の連結片12間に波状の金属接続板8を所定の間隔を
おき並べて架設する(図4(a)参照)。こうして複数の金
属接続板8を架設状態に形成したら、絶縁性の一対のエ
ラスチック13間に、波状に湾曲した複数の金属接続板
8を接着剤11Aを介し挟持させてエラスチックマトリ
ックス層7を形成(図4(b)参照)し、このエラスチック
マトリックス層7の両端面から露出した各金属接続板8
の端部にレーザ光(矢印参照)をそれぞれ照射して球状の
接続接点9を僅かに露出した状態に溶融形成(図4(c)
参照)し、複数の連結片12をそれぞれ除去する。そし
てその後、エラスチックマトリックス層7の両側面に、
絶縁性のサポート層10を接着剤11を介しそれぞれ接
着すれば、電気コネクタを製造することができる(図4
(d)参照)。
Next, a method of manufacturing the electric connector will be described. First, a conductive metal thin plate is etched and a corrugated metal connecting plate 8 is arranged between a plurality of connecting pieces 12 at predetermined intervals (see FIG. 1). 4 (a)). After the plurality of metal connection plates 8 are formed in a bridged state in this manner, the plurality of metal connection plates 8 that are curved in a wavy manner are sandwiched between a pair of insulating elastics 13 via an adhesive 11A to form the elastic matrix layer 7 ( As shown in FIG. 4 (b), each metal connecting plate 8 exposed from both end surfaces of the elastic matrix layer 7 is formed.
Is irradiated with a laser beam (see arrow), and the spherical connection contact 9 is slightly exposed to form a molten state (FIG. 4 (c)).
Then, the plurality of connecting pieces 12 are removed. Then, on both sides of the elastic matrix layer 7,
If the insulating support layers 10 are bonded to each other via the adhesive 11, an electrical connector can be manufactured (FIG. 4).
(d)).

【0018】こうして電気コネクタを得たら、電子回路
基板1と電気接合物3とに電気コネクタを液晶導光板5
を介し挟持させる。そして、電子回路基板1に電気接合
物3を加圧圧縮すれば、電気コネクタの複数の金属接続
板8が弾性変形して電子回路基板1と電気接合物3とを
導通する(図1参照)。
After the electric connector is obtained, the electric connector is connected to the electronic circuit board 1 and the electric joint 3 by the liquid crystal light guide plate 5.
To be pinched. Then, when the electric joint 3 is pressurized and compressed on the electronic circuit board 1, the plurality of metal connection plates 8 of the electric connector are elastically deformed to conduct the electronic circuit board 1 and the electric joint 3 (see FIG. 1). .

【0019】上記構成によれば、金属接続板8を波状に
湾曲してその両端部に球状の接続接点9をそれぞれ溶融
形成するので、金属接続板8の体積抵抗値が0.1Ωc
m以下となり、抵抗値のばらつきも実に小さくなり、低
抵抗値で電流が必要とされる各種回路や低抵抗値で微小
電流が必要とされる半導体パッケージの導通に確実に使
用することができる。また、金属接続板8に100mA
の電流を流しても、温度が50℃以上になることがな
い。また、エラスチックマトリックス層7を15%圧縮
接続しても、応力を5〜10kgf/cm2に抑制する
ことができ、適格な電気コネクタを確実に得ることがで
きる。
According to the above configuration, since the metal connection plate 8 is curved in a wave shape and the spherical connection contacts 9 are formed at both ends by melting, the volume resistance value of the metal connection plate 8 is 0.1Ωc.
m or less, and the variation of the resistance value is also very small, so that it can be reliably used for conducting various circuits that require a low resistance current and a semiconductor package that requires a small current with a low resistance value. In addition, 100 mA is applied to the metal connection plate 8.
, The temperature does not rise above 50 ° C. Further, even if the elastic matrix layer 7 is compression-connected by 15%, the stress can be suppressed to 5 to 10 kgf / cm 2, and a suitable electrical connector can be reliably obtained.

【0020】また、金属接続板8を波状に湾曲するの
で、金属接続板8が弾性作用により座屈することがな
く、しかも、低荷重でも安定した導通が大いに期待でき
る。さらに、金属接続板8の各端部に球状の接続接点9
を形成するので、突出していない平坦な電極2・4で
も、確実な導通を図ることができる。さらにまた、金属
接続板8をエッチング形成するので、金属接続板8の
幅、ピッチ、波形状を自由に変更することが容易とな
る。
Further, since the metal connecting plate 8 is curved in a wavy shape, the metal connecting plate 8 does not buckle due to the elastic action, and stable conduction can be greatly expected even under a low load. Furthermore, spherical connection contacts 9 are provided at each end of the metal connection plate 8.
Is formed, reliable conduction can be achieved even with the flat electrodes 2 and 4 that do not protrude. Furthermore, since the metal connection plate 8 is formed by etching, the width, pitch, and wave shape of the metal connection plate 8 can be easily changed freely.

【0021】次に、図5、図6は本発明の第2の実施形
態を示すもので、この場合には、平坦な電子回路基板1
と半導体パッケージ(PGA)からなる電気接合物3との
間に介在するエラスチックマトリックス層7の上下厚さ
方向に、複数の金属接続板8を一列に並べて埋設し、各
金属接続板8の一端部に、電子回路基板1の電極2に接
触する球状の接続接点9をレーザ形成するとともに、各
金属接続板8の他端部には、電気接合物3の電極4に接
触する球状の接続接点9をレーザ形成し、エラスチック
マトリックス層7を前後方向又は左右方向に複数並設し
て電気コネクタを形成するようにしている。その他の部
分については、上記実施形態と同様であるので説明を省
略する。
FIGS. 5 and 6 show a second embodiment of the present invention. In this case, a flat electronic circuit board 1 is used.
A plurality of metal connection plates 8 are arranged in a line in the vertical thickness direction of the elastic matrix layer 7 interposed between the metal connection plate 3 and the electrical joint 3 made of a semiconductor package (PGA). In addition, a spherical connection contact 9 that contacts the electrode 2 of the electronic circuit board 1 is formed by laser, and the other end of each metal connection plate 8 has a spherical connection contact 9 that contacts the electrode 4 of the electric joint 3. Is formed by laser, and a plurality of elastic matrix layers 7 are arranged in the front-rear direction or the left-right direction to form an electrical connector. The other parts are the same as those in the above-described embodiment, and a description thereof will be omitted.

【0022】本実施形態においても、上記実施形態と同
様の作用効果が期待でき、しかも、サポート層10を省
略することができる。また、表面実装型半導体パッケー
ジの接続の便宜を図ることができる。
In this embodiment, the same operation and effect as those of the above embodiment can be expected, and the support layer 10 can be omitted. Further, it is possible to facilitate the connection of the surface-mounted semiconductor package.

【0023】[0023]

【実施例】以下、本発明に係る電気コネクタ及びその製
造方法の実施例を説明する。 実施例1 先ず、導電性の金属薄板をピッチ0.5mm、幅0.2
mm、長さ1.0mmの条件でエッチングして複数の連
結片12間に660本の金属接続板8を所定の間隔をお
き並べて連架した。金属薄板としては、厚さ0.02m
m、大きさ200mm四方の薄い銅板を用いた。こうし
て複数の金属接続板8を連架したら、絶縁性の一対のエ
ラスチック13間に、波状に湾曲した複数の金属接続板
8を接着加硫してエラスチックマトリックス層7を形成
し、このエラスチックマトリックス層7の両端面から露
出した各金属接続板8の端部に炭酸ガスレーザ光をそれ
ぞれ照射してφ0.2mmの球状の接続接点9を溶融形
成し、複数の連結片12をそれぞれ除去した。各エラス
チック13としては、シリコーン接着剤を塗布した厚さ
0.1mmでゴム硬度40°Hのシリコーンゴムシート
を用いた。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments of the electrical connector according to the present invention and a method for manufacturing the same will be described. Example 1 First, a conductive metal sheet was pitch 0.5 mm and width 0.2.
The metal connection plates 8 were etched under conditions of 1.0 mm and 1.0 mm in length, and 660 metal connection plates 8 were arranged at predetermined intervals between the plurality of connection pieces 12 and connected. 0.02m thick as a thin metal plate
A 200 mm square thin copper plate was used. After the plurality of metal connection plates 8 are connected in this manner, the plurality of metal connection plates 8 having a wavy shape are adhesively vulcanized between a pair of insulating elastic members 13 to form an elastic matrix layer 7. The ends of the metal connection plates 8 exposed from both end surfaces of the metal connection plate 7 were irradiated with carbon dioxide laser light to melt and form spherical connection contacts 9 having a diameter of 0.2 mm, and the plurality of connection pieces 12 were removed. As each of the elastics 13, a silicone rubber sheet coated with a silicone adhesive and having a thickness of 0.1 mm and a rubber hardness of 40 ° H was used.

【0024】そしてその後、エラスチックマトリックス
層7の両側面に絶縁性のサポート層10をそれぞれ接着
加硫し、長さ20mm、高さ1.4mm、厚さ2.4m
mの大きさの電気コネクタを作製した。各サポート層1
0としては、接着剤11であるシリコーン接着剤を塗布
した厚さ1.0mmでゴム硬度50°Hのシリコーンゴ
ムシートを用いた。
Then, an insulating support layer 10 is adhesively vulcanized on both sides of the elastic matrix layer 7 to obtain a length of 20 mm, a height of 1.4 mm and a thickness of 2.4 m.
An electrical connector having a size of m was manufactured. Each support layer 1
As 0, a silicone rubber sheet having a thickness of 1.0 mm and a rubber hardness of 50 ° H to which a silicone adhesive as the adhesive 11 was applied was used.

【0025】こうして電気コネクタを得たら、電子回路
基板1と液晶モジュールからなる電気接合物3とに電気
コネクタを液晶導光板5を介して挟持させ、電子回路基
板1に電気接合物3を加圧圧縮し、電子回路基板1と電
気接合物3とを導通させた。電子回路基板1の複数の電
極2は、0.5mmピッチで配列されている。電気接合
物3の複数の電極4も同様に0.5mmピッチで配列さ
れている。エラスチックマトリックス層7を15%圧縮
接続したところ、圧縮荷重を8kgf/cm2に抑制す
ることができ、電子回路基板1に反りもなく、安定した
導通を確認した。
After the electrical connector is obtained in this manner, the electrical connector is sandwiched between the electronic circuit board 1 and the electrical connector 3 including the liquid crystal module via the liquid crystal light guide plate 5, and the electrical connector 3 is pressed onto the electronic circuit board 1. It compressed and made the electronic circuit board 1 and the electrical joint 3 electrically connected. The plurality of electrodes 2 of the electronic circuit board 1 are arranged at a pitch of 0.5 mm. Similarly, the plurality of electrodes 4 of the electric joint 3 are arranged at a pitch of 0.5 mm. When the elastic matrix layer 7 was compression-connected by 15%, the compression load could be suppressed to 8 kgf / cm 2 , and the electronic circuit board 1 was confirmed to have stable warpage without warpage.

【0026】実施例2 先ず、金属薄板をピッチ0.5mm、幅0.2mm、長
さ1.0mmの条件でエッチングして複数の連結片12
間に660本の金属接続板8を所定の間隔をおき並べて
連架した。金属薄板としては、厚さ0.2mm、大きさ
200mm四方薄い銅板を使用した。複数の金属接続板
8を連架したら、一対のエラスチック13間に、波状に
湾曲した複数の金属接続板8を接着加硫してエラスチッ
クマトリックス層7を形成し、このエラスチックマトリ
ックス層7の両端面から露出した各金属接続板8の端部
に炭酸ガスレーザ光をそれぞれ照射してφ0.2mmの
球状の接続接点9を溶融形成するとともに、複数の連結
片12をそれぞれ除去し、長さ20mm、高さ1.4m
m、厚さ2.4mmの大きさのエラスチックマトリック
ス層7を作製した。
Example 2 First, a thin metal plate was etched under the conditions of a pitch of 0.5 mm, a width of 0.2 mm, and a length of 1.0 mm to form a plurality of connecting pieces 12.
In between, 660 metal connecting plates 8 were arranged at predetermined intervals and connected. As a metal thin plate, a copper plate 0.2 mm thick and 200 mm square was used. After the plurality of metal connection plates 8 are connected, the plurality of corrugated metal connection plates 8 are adhesively vulcanized between a pair of elastics 13 to form an elastic matrix layer 7. Both end surfaces of the elastic matrix layer 7 are formed. A carbon dioxide laser beam is applied to the end of each metal connection plate 8 exposed from the above to melt and form a spherical connection contact 9 having a diameter of 0.2 mm, and a plurality of connection pieces 12 are removed, and a length of 20 mm and a height of 20 mm. 1.4m
An elastic matrix layer 7 having a thickness of m and a thickness of 2.4 mm was produced.

【0027】各エラスチック13としては、シリコーン
接着剤を塗布した厚さ0.15mmでゴム硬度40°H
のシリコーンゴムシートを用いた。そしてその後、エラ
スチックマトリックス層7を前後方向又は左右方向に複
数並設し、高さ1.4mm、大きさ□20mm、接点部
数1600個の電気コネクタを作製した。
Each elastic 13 has a thickness of 0.15 mm coated with a silicone adhesive and a rubber hardness of 40 ° H.
Was used. After that, a plurality of elastic matrix layers 7 were arranged in the front-rear direction or the left-right direction to produce an electrical connector having a height of 1.4 mm, a size of □ 20 mm, and 1600 contacts.

【0028】電気コネクタを得たら、検査回路基板1A
と半導体パッケージ(PGA)からなる電気接合物3とに
電気コネクタを位置決め挟持させ、検査回路基板1Aに
電気接合物3を加圧圧縮し、検査回路基板と電気接合物
3とを導通させた。電気接合物3の電極数は1225個
である。エラスチックマトリックス層7の0%圧縮接続
時から導通が得られ、圧縮荷重を6kgf/cm2にし
たところで完全な導通を確認した。
After obtaining the electrical connector, the inspection circuit board 1A
The electric connector is positioned and sandwiched between the electric circuit 3 and the electric package 3 made of a semiconductor package (PGA), and the electric circuit 3 is pressurized and compressed to the test circuit board 1A to make the test circuit board and the electric circuit 3 conductive. The number of electrodes of the electric junction 3 is 1225. Conduction was obtained from the 0% compression connection of the elastic matrix layer 7, and complete conduction was confirmed when the compression load was set to 6 kgf / cm 2 .

【0029】[0029]

【発明の効果】以上のように請求項1又は3記載の発明
によれば、抵抗値を低くしてそのばらつきを抑制し、ア
ナログ回路や高周波用回路等に使用することができ、し
かも、使用範囲の拡大を図ることができるという効果が
ある。
As described above, according to the first or third aspect of the present invention, the resistance can be reduced to suppress the variation, and can be used for an analog circuit, a high-frequency circuit, and the like. There is an effect that the range can be expanded.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係る電気コネクタの実施形態を示す部
分断面図である。
FIG. 1 is a partial sectional view showing an embodiment of an electric connector according to the present invention.

【図2】本発明に係る電気コネクタ及びその製造方法の
実施形態を示す斜視説明図である。
FIG. 2 is a perspective explanatory view showing an embodiment of an electrical connector and a method of manufacturing the same according to the present invention.

【図3】本発明に係る電気コネクタの実施形態を示す断
面説明図である。
FIG. 3 is an explanatory sectional view showing an embodiment of the electric connector according to the present invention.

【図4】本発明に係る電気コネクタの製造方法の実施形
態を示す断面説明図で、(a)図は金属薄板をエッチング
して連結片間に複数の金属接続板を装架する状態を示す
説明図、(b)図は一対のエラスチック間に、波状の金属
接続板を挟持接着してエラスチックマトリックス層を形
成する状態を示す断面図、(c)図はエラスチックマトリ
ックス層から突出した各金属接続板の端部にレーザ光を
照射して接続接点を形成する状態を示す断面図、(d)図
はエラスチックマトリックス層の両側面にサポート層を
接着する状態を示す断面図である。
FIG. 4 is a sectional explanatory view showing an embodiment of a method for manufacturing an electrical connector according to the present invention, and FIG. 4 (a) shows a state in which a metal thin plate is etched to mount a plurality of metal connecting plates between connecting pieces. FIG. 2B is a cross-sectional view showing a state in which an elastic matrix layer is formed by sandwiching and adhering a corrugated metal connecting plate between a pair of elastics, and FIG. 1C is a sectional view showing each metal connection projecting from the elastic matrix layer. FIG. 4 is a cross-sectional view showing a state in which a connection contact is formed by irradiating an end of the plate with a laser beam, and FIG. 4D is a cross-sectional view showing a state in which a support layer is bonded to both side surfaces of an elastic matrix layer.

【図5】本発明に係る電気コネクタの第2の実施形態を
示す断面説明図である。
FIG. 5 is an explanatory cross-sectional view showing a second embodiment of the electrical connector according to the present invention.

【図6】本発明に係る電気コネクタの第2の実施形態を
示す斜視説明図である。
FIG. 6 is a perspective explanatory view showing a second embodiment of the electric connector according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 電子回路基板 1A 検査回路基板 2 電極(対向電極) 3 電気接合物 4 電極(対向電極) 7 エラスチックマトリックス層 8 金属接続板 9 接続接点 10 サポート層 11 接着剤 11A 接着剤 12 連結片 13 エラスチック DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Electronic circuit board 1A Inspection circuit board 2 Electrode (counter electrode) 3 Electrical joint 4 Electrode (counter electrode) 7 Elastic matrix layer 8 Metal connection board 9 Connection contact 10 Support layer 11 Adhesive 11A Adhesive 12 Connecting piece 13 Elastic

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 5E023 AA04 AA05 AA16 AA18 BB16 BB22 CC02 CC22 CC26 DD26 EE18 FF07 HH06 HH11 HH18 5E051 CA04  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 5E023 AA04 AA05 AA16 AA18 BB16 BB22 CC02 CC22 CC26 DD26 EE18 FF07 HH06 HH11 HH18 5E051 CA04

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 対向電極を導通する電気コネクタであっ
て、電子回路基板と電気接合物との間に介在する絶縁性
のエラスチックマトリックス層の厚さ方向に、両末端部
が略球形状の、複数の細幅の略波状の金属接続板を互い
に絶縁性を保って設けてなることを特徴とする電気コネ
クタ。
1. An electrical connector for conducting a counter electrode, wherein both ends are substantially spherical in the thickness direction of an insulating elastic matrix layer interposed between an electronic circuit board and an electrical joint. An electrical connector comprising a plurality of narrow, substantially corrugated metal connection plates provided with insulation therebetween.
【請求項2】 上記エラスチックマトリックス層の少な
くとも厚さ方向に沿う両側面に、絶縁性のサポート層を
有する請求項1の電気コネクタ。
2. The electrical connector according to claim 1, further comprising an insulating support layer on at least both sides of the elastic matrix layer along the thickness direction.
【請求項3】 電子回路基板と電気接合物とを導通する
電気コネクタの製造方法であって、 絶縁性の複数のエラスチック間に、略波状に湾曲した薄
い複数の金属接続板を挟んでエラスチックマトリックス
層を形成し、このエラスチックマトリックス層から露出
した各金属接続板の両末端部をそれぞれレーザ加工して
略球状の接続接点に形成し、該エラスチックマトリック
ス層の少なくとも両側面に、絶縁性のサポート層をそれ
ぞれ接着することを特徴とする電気コネクタの製造方
法。
3. A method of manufacturing an electrical connector for electrically connecting an electronic circuit board and an electrical joint, comprising: an elastic matrix having a plurality of thin metal connecting plates curved in a substantially wave shape sandwiched between a plurality of insulating elastics. A layer is formed, and both ends of each metal connection plate exposed from the elastic matrix layer are respectively laser-processed to form substantially spherical connection contacts. An insulating support layer is formed on at least both side surfaces of the elastic matrix layer. And a method of manufacturing an electrical connector.
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN100399647C (en) * 2006-04-18 2008-07-02 番禺得意精密电子工业有限公司 Electric connector and manufacturing method thereof
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JP2011522356A (en) * 2008-05-01 2011-07-28 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー Elastic conductive connector
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