JP2001133966A - Negative type image recording material - Google Patents

Negative type image recording material

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JP2001133966A
JP2001133966A JP31623599A JP31623599A JP2001133966A JP 2001133966 A JP2001133966 A JP 2001133966A JP 31623599 A JP31623599 A JP 31623599A JP 31623599 A JP31623599 A JP 31623599A JP 2001133966 A JP2001133966 A JP 2001133966A
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JP
Japan
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acid
treatment
recording material
image recording
image
Prior art date
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JP31623599A
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Japanese (ja)
Inventor
Keitaro Aoshima
桂太郎 青島
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a negative type image recording material capable of direct recording from digital data with an IR emitting laser and capable of forming a clear image without carrying out heat treatment in image formation. SOLUTION: The negative type image recording material capable of recording by irradiation with IR contains (A) an IR absorber, (B) an N-nitrosamine compound, (C) a radical polymerizable compound and (D) a binder polymer. The N-nitrosamine compound is represented by formula I, wherein R11 is a hydrocarbon group; R12 is an oxygen anion or a hydrocarbon group, when R12 is an oxygen anion, a hydrogen cation, an ammonium cation, a tetraalkylammonium cation or a metal cation may be used as a counter cation; and X11 is a single bond, -CO-, -SO2- or -COO-.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は平版印刷用版材やカ
ラープルーフ、フォトレジスト及びカラーフィルターと
して使用できる画像記録材料に関するものである。特に
コンピュータ等のデジタル信号に基づいて赤外線レーザ
を走査することにより直接製版できる、いわゆるダイレ
クト製版可能な平版印刷用版材として使用可能な画像記
録材料に関する。
The present invention relates to a lithographic printing plate material, a color proof, an image recording material which can be used as a photoresist and a color filter. In particular, the present invention relates to an image recording material that can be directly made by scanning an infrared laser based on a digital signal from a computer or the like and that can be used as a so-called direct plate making lithographic printing plate material.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、コンピュータのデジタルデータか
ら直接製版するシステムとしては、電子写真法による
もの、青色又は緑色を発光するレーザを用い露光する
光重合系によるもの、銀塩を感光性樹脂上に積層した
もの、銀塩拡散転写法によるもの等が提案されてい
る。
2. Description of the Related Art Heretofore, as a system for directly making a plate from digital data of a computer, an electrophotographic system, a photopolymerization system for exposing with a laser emitting blue or green light, and a silver salt on a photosensitive resin are known. Laminated ones, silver salt diffusion transfer methods, and the like have been proposed.

【0003】しかしながら、の電子写真法を用いるも
のは、帯電、露光、現像等画像形成のプロセスが煩雑で
あり、装置が複雑で大がかりなものになる。また、の
光重合系によるものでは、青色や緑色の光に対して高感
度な版材を使用するため、明室での取扱いが難しくな
る。、の方法では銀塩を使用するため現像等の処理
が煩雑になる、処理廃液中に銀が含まれる等の欠点があ
る。
However, in the case of using the electrophotographic method, the processes of image formation such as charging, exposure, and development are complicated, and the apparatus is complicated and large. In the case of the photopolymerization system, since a plate material having high sensitivity to blue or green light is used, handling in a bright room becomes difficult. The methods (1) and (2) have drawbacks in that processing such as development becomes complicated because silver salts are used, and silver is contained in the processing waste liquid.

【0004】一方、近年におけるレーザの発展は目ざま
しく、特に波長760nmから1200nmの赤外線を
放射する固体レーザ及び半導体レーザは、高出力かつ小
型のものが容易に入手できるようになっている。コンピ
ュータ等のデジタルデータから直接製版する際の記録光
源として、これらのレーザは非常に有用である。しか
し、実用上有用な多くの感光性記録材料は、感光波長が
760nm以下の可視光域であるため、これらの赤外線
レーザでは画像記録できない。このため、赤外線レーザ
で記録可能な材料が望まれている。
On the other hand, the development of lasers in recent years has been remarkable, and in particular, solid-state lasers and semiconductor lasers that emit infrared light having a wavelength of 760 nm to 1200 nm have become easily available with high output and small size. These lasers are very useful as a recording light source when making a plate directly from digital data of a computer or the like. However, many photosensitive recording materials that are practically useful have a photosensitive wavelength in the visible light range of 760 nm or less, and therefore cannot record images with these infrared lasers. Therefore, a material that can be recorded by an infrared laser is desired.

【0005】このような赤外線レーザにて記録可能な画
像記録材料として、US4、708、925号に記載さ
れている、オニウム塩、フェノール樹脂及び分光増感剤
より成る記録材料がある。この画像記録材料は、オニウ
ム塩とフェノール樹脂により発現する現像液に対する溶
解抑止効果を利用したポジ型の画像記録材料であり、本
発明のようなネガ型ではない。一方、ネガ型の画像記録
材料としては、赤外線吸収剤、酸発生剤、レゾール樹脂
及びノボラック樹脂より成る記録材料がUS5,34
0,699号に記載されている。しかしながら、このよ
うなネガ型の画像記録材料は、画像形成のためにはレー
ザ露光後に加熱処理が必要であり、このため、露光後の
加熱処理を必要としないネガ型の画像記録材料が所望さ
れていた。露光後の加熱処理を必要としないネガ型の記
録材料としては、例えば、特開平8−108621号公
報に記載されている、支持体上に、光熱変換物質、熱重
合性樹脂及び熱重合開始剤を含有する熱重合性記録層を
有する画像記録媒体が挙げられる。しかしながら、この
ような画像記録媒体では、感度が不足しており、十分な
感度を得るためには、露光と同時に加熱することが必要
であった。
As an image recording material recordable by such an infrared laser, there is a recording material comprising an onium salt, a phenol resin and a spectral sensitizer described in US Pat. No. 4,708,925. This image recording material is a positive type image recording material utilizing the effect of suppressing dissolution in a developer, which is exhibited by an onium salt and a phenol resin, and is not a negative type as in the present invention. On the other hand, as a negative type image recording material, a recording material comprising an infrared absorber, an acid generator, a resol resin and a novolak resin is disclosed in US Pat.
0,699. However, such a negative-type image recording material requires heat treatment after laser exposure for image formation, and therefore, a negative-type image recording material that does not require heat treatment after exposure is desired. I was Examples of negative recording materials that do not require heat treatment after exposure include, for example, a photothermal conversion substance, a thermopolymerizable resin, and a thermopolymerization initiator on a support described in JP-A-8-108621. And an image recording medium having a thermopolymerizable recording layer containing However, such an image recording medium lacks sensitivity, and it is necessary to heat simultaneously with exposure in order to obtain sufficient sensitivity.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、赤外線を放射する固体レーザ及び半導体レーザを用
いて記録することにより、コンピューター等のデジタル
データから直接記録可能であり、画像形成時の加熱処理
を行わなくても、鮮明な画像を形成しうるネガ型画像記
録材料を提供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to record directly using digital data from a computer or the like by recording using a solid-state laser or a semiconductor laser that emits infrared light. An object of the present invention is to provide a negative type image recording material capable of forming a clear image without performing a heat treatment.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明者は、ネガ型画像
記録材料の構成成分に着目し、鋭意検討の結果、N−ニ
トロソアミン構造を有する化合物をラジカル重合開始剤
として用いることにより、上記目的が達成できることを
見出し、本発明を完成するに至った。即ち、本発明のネ
ガ型画像記録材料は、(A)赤外線吸収剤と、(B)N
−ニトロソアミン系化合物と、(C)ラジカル重合性化
合物と、(D)バインダーポリマーを含有することを特
徴とする。
Means for Solving the Problems The present inventor paid attention to the constituent components of the negative type image recording material, and as a result of intensive studies, as a result, using a compound having an N-nitrosamine structure as a radical polymerization initiator, gave the above object. Have been achieved, and the present invention has been completed. That is, the negative-type image recording material of the present invention comprises (A) an infrared absorber and (B) N
-A nitrosamine-based compound, (C) a radical polymerizable compound, and (D) a binder polymer.

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in detail.

【0009】[(B)N−ニトロソアミン系化合物]本
発明においては、ラジカル重合開始剤として、N−ニト
ロソアミン系化合物を用いることが特徴であり、本発明
特有の成分であるN−ニトロソアミン系化合物について
はじめに説明する。本発明において好適に用いられるN
−ニトロソアミン系化合物としては、下記一般式(I)
で示される化合物が挙げられる。
[(B) N-Nitrosamine Compound] The present invention is characterized in that an N-nitrosamine compound is used as a radical polymerization initiator. First, a description will be given. N preferably used in the present invention
As the nitrosamine-based compound, the following general formula (I)
The compound shown by these is mentioned.

【0010】[0010]

【化1】 Embedded image

【0011】式中、R11は、置換基を有していても良い
炭素原子数20個以下の炭化水素基を示す。好ましい置
換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、ヒドロキシル
基、炭素原子数12個以下のアルコキシ基、炭素原子数
12個以下のアリールオキシ基、または炭素原子数12
個以下のカルバモイル基等が挙げられる。R12は、酸素
アニオンまたは置換基を有していても良い炭素原子数2
0個以下の炭化水素基を示す。好ましい置換基として
は、ハロゲン原子、ニトロ基、ヒドロキシル基、炭素原
子数12個以下のアルコキシ基、炭素原子数12個以下
のアリールオキシ基、または炭素原子数12個以下のカ
ルバモイル基等が挙げられる。R12が酸素アニオンであ
る場合は、対カチオンとして、水素カチオン、アンモニ
ウムカチオン、テトラアルキルアンモニウムカチオンお
よび金属カチオンを用いることができる。X11は、単結
合または−CO−基、−SO2−基、−COO−基を示
す。通常、N−ニトロソアミンとはX11が単結合であっ
て、R12が炭化水素基である化合物を指すが、本発明に
おいては、X11が−CO−基、−SO2−基、−COO
−基である化合物等を含め前記一般式(I)で示される
化合物はすべて、N−ニトロソアミン系化合物に包含さ
れるものとする。
In the formula, R 11 represents a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. Preferred substituents include a halogen atom, a nitro group, a hydroxyl group, an alkoxy group having 12 or less carbon atoms, an aryloxy group having 12 or less carbon atoms, or a 12-carbon atom.
Or less carbamoyl groups. R 12 is an oxygen anion or an optionally substituted carbon atom having 2 carbon atoms.
Indicates 0 or less hydrocarbon groups. Preferred substituents include a halogen atom, a nitro group, a hydroxyl group, an alkoxy group having 12 or less carbon atoms, an aryloxy group having 12 or less carbon atoms, and a carbamoyl group having 12 or less carbon atoms. . When R 12 is an oxygen anion, a hydrogen cation, an ammonium cation, a tetraalkylammonium cation, and a metal cation can be used as counter cations. X 11 represents a single bond, a —CO— group, a —SO 2 — group, or a —COO— group. Usually, N-nitrosamine refers to a compound in which X 11 is a single bond and R 12 is a hydrocarbon group. In the present invention, X 11 is a —CO— group, a —SO 2 — group, a —COO group.
All the compounds represented by the general formula (I), including the compounds that are -groups, are included in the N-nitrosamine-based compounds.

【0012】本発明において、好適に用いることのでき
る一般式(I)で示される化合物としては、例えば、N
−ニトロソジメチルアミン、N−ニトロソジエチルアミ
ン、N−ニトロソジエタノールアミン、N−ニトロソ−
tert−ブチルエチルアミン、N−ニトロソジ−n−
ブチルアミン、N−ニトロソ−n−ブチル−4−ブタノ
ールアミン、1−ニトロソピロリジン、N−ニトロソモ
ルフォリン、N−ニトロソ−N−メチルアニリン、N−
ニトロソ−N−メチル−p−トルエンスルホンアミド、
N−ニトロソ−N−メチルウレタン、N−ニトロソジフ
ェニルアミン、N−ニトロソ−N−フェニルヒドロキシ
ルアミンのアンモニウム塩、N−ニトロソ−N−フェニ
ルヒドロキシルアミンのアルミニウム塩、N−ニトロソ
−N−(1−ナフチル)ヒドロキルアミンのアンモニウ
ム塩等が挙げられる。
In the present invention, the compound represented by the general formula (I) which can be suitably used includes, for example, N
-Nitrosodimethylamine, N-nitrosodiethylamine, N-nitrosodiethanolamine, N-nitroso-
tert-butylethylamine, N-nitrosodi-n-
Butylamine, N-nitroso-n-butyl-4-butanolamine, 1-nitrosopyrrolidine, N-nitrosomorpholine, N-nitroso-N-methylaniline, N-
Nitroso-N-methyl-p-toluenesulfonamide,
N-nitroso-N-methylurethane, N-nitrosodiphenylamine, ammonium salt of N-nitroso-N-phenylhydroxylamine, aluminum salt of N-nitroso-N-phenylhydroxylamine, N-nitroso-N- (1-naphthyl ) Ammonium salts of hydroxylamine.

【0013】これらのN−ニトロソアミン系化合物は、
画像記録材料全固形分に対し0.1〜50重量%、好ま
しくは0.5〜30重量%、特に好ましくは1〜20重
量%の割合で画像記録材料中に添加することができる。
添加量が0.1重量%未満であると感度が低くなり、ま
た50重量%を越えると印刷時非画像部に汚れが発生す
る。これらのN−ニトロソアミン系化合物は、1種のみ
を用いても良いし、2種以上を併用しても良い。また、
これらのN−ニトロソアミン系化合物は他の成分と同一
の層に添加してもよいし、別の層を設けそこへ添加して
もよい。本発明においては、このN−ニトロソアミン系
化合物をラジカル重合開始剤として用いるが、本発明の
画像記録材料中には、さらに、ジアゾニウム塩やヨード
ニウム塩等の公知のラジカル重合開始剤を本発明の効果
を損なわない限りにおいて併用することができる。
These N-nitrosamine compounds are
It can be added to the image recording material at a ratio of 0.1 to 50% by weight, preferably 0.5 to 30% by weight, particularly preferably 1 to 20% by weight based on the total solid content of the image recording material.
If the amount is less than 0.1% by weight, the sensitivity is lowered, and if it exceeds 50% by weight, the non-image area is stained during printing. These N-nitrosamine compounds may be used alone or in combination of two or more. Also,
These N-nitrosamine-based compounds may be added to the same layer as other components, or another layer may be provided and added thereto. In the present invention, the N-nitrosamine-based compound is used as a radical polymerization initiator. In the image recording material of the present invention, a known radical polymerization initiator such as a diazonium salt or an iodonium salt may be used. Can be used together as long as is not impaired.

【0014】これらのN−ニトロソアミンは、従来はラ
ジカル重合の禁止剤として用いられてきたものであるた
め、本発明のように画像記録材料において、記録層の硬
化のためのラジカル重合の開始剤として用いることがで
きることは、驚くべきことである。
Since these N-nitrosamines have conventionally been used as inhibitors of radical polymerization, they are used as initiators of radical polymerization for curing the recording layer in image recording materials as in the present invention. What can be used is surprising.

【0015】[(A)赤外線吸収剤]本発明の目的は、
赤外線を発するレーザで画像記録することである。この
ためには、赤外線吸収剤を用いることが必須である。赤
外線吸収剤は、吸収した赤外線を熱に変換する機能を有
している。この際発生した熱により、ラジカル重合開始
剤である(B)N−ニトロソアミン系化合物が分解し、
ラジカルを発生し、このラジカルにより、赤外線レーザ
露光部において(C)ラジカル重合性化合物が重合、硬
化し画像を形成する。本発明において使用される赤外線
吸収剤は、波長760nmから1200nmに吸収極大
を有する染料又は顔料である。
[(A) Infrared ray absorbing agent]
Image recording with a laser that emits infrared light. To this end, it is essential to use an infrared absorber. The infrared absorbent has a function of converting the absorbed infrared light into heat. Due to the heat generated at this time, the radical polymerization initiator (B) N-nitrosamine-based compound is decomposed,
Radicals are generated, and the radicals polymerize and cure the (C) radically polymerizable compound in the infrared laser exposure portion to form an image. The infrared absorber used in the present invention is a dye or pigment having an absorption maximum at a wavelength of 760 nm to 1200 nm.

【0016】染料としては、市販の染料及び例えば「染
料便覧」(有機合成化学協会編集、昭和45年刊)等の
文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的
には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染
料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシ
アニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メ
チン染料、シアニン染料、スクワリリウム色素、ピリリ
ウム塩、金属チオレート錯体等の染料が挙げられる。
As the dye, commercially available dyes and known dyes described in literatures such as “Dye Handbook” (edited by the Society of Synthetic Organic Chemistry, published in 1970) can be used. Specifically, dyes such as azo dyes, metal complex salt azo dyes, pyrazolone azo dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinone imine dyes, methine dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, and metal thiolate complexes Is mentioned.

【0017】好ましい染料としては、例えば、特開昭5
8−125246号、特開昭59−84356号、特開
昭59−202829号、特開昭60−78787号等
に記載されているシアニン染料、特開昭58−1736
96号、特開昭58−181690号、特開昭58−1
94595号等に記載されているメチン染料、特開昭5
8−112793号、特開昭58−224793号、特
開昭59−48187号、特開昭59−73996号、
特開昭60−52940号、特開昭60−63744号
等に記載されているナフトキノン染料、特開昭58−1
12792号等に記載されているスクワリリウム色素、
英国特許434,875号記載のシアニン染料等を挙げ
ることができる。
Preferred dyes include, for example, those described in
Cyanine dyes described in JP-A-8-125246, JP-A-59-84356, JP-A-59-202829, JP-A-60-78787, etc .;
No. 96, JP-A-58-181690, JP-A-58-1
No. 94595, etc., methine dyes described in
8-112793, JP-A-58-224793, JP-A-59-48187, JP-A-59-73996,
Naphthoquinone dyes described in JP-A-60-52940 and JP-A-60-63744;
Squarylium dyes described in No. 12792, etc.,
Cyanine dyes described in British Patent 434,875 and the like can be mentioned.

【0018】また、米国特許第5,156,938号記
載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特
許第3,881,924号記載の置換されたアリールベ
ンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−142645
号(米国特許第4,327,169号)記載のトリメチ
ンチアピリリウム塩、特開昭58−181051号、同
58−220143号、同59−41363号、同59
−84248号、同59−84249号、同59−14
6063号、同59−146061号に記載されている
ピリリウム系化合物、特開昭59−216146号記載
のシアニン色素、米国特許第4,283,475号に記
載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平5−13
514号、同5−19702号に開示されているピリリ
ウム化合物も好ましく用いられる。
Further, a near infrared absorption sensitizer described in US Pat. No. 5,156,938 is preferably used, and a substituted arylbenzo (thio) described in US Pat. No. 3,881,924 is also used. Pyrylium salt, JP-A-57-142645
No. (U.S. Pat. No. 4,327,169) described in JP-A-58-181051, JP-A-58-220143, JP-A-59-41363, and JP-A-59-41363.
Nos. -84248, 59-84249, 59-14
Nos. 6063 and 59-146061, pyranyl compounds, cyanine dyes described in JP-A-59-216146, pentamethinethiopyrylium salts described in U.S. Pat. No. 4,283,475, and the like. Fairness 5-13
Pyrylium compounds disclosed in JP-A-514 and JP-A-5-19702 are also preferably used.

【0019】また、染料として好ましい別の例として米
国特許第4,756,993号明細書中に式(I)、
(II)として記載されている近赤外吸収染料を挙げるこ
とができる。
Further, as another preferred example of the dye, US Pat. No. 4,756,993 discloses a compound represented by the formula (I):
Near-infrared absorbing dyes described as (II) can be mentioned.

【0020】これらの染料のうち特に好ましいものとし
ては、シアニン色素、スクワリリウム色素、ピリリウム
塩、ニッケルチオレート錯体が挙げられる。さらに、シ
アニン色素が好ましく、特に下記一般式(II)で示され
るシアニン色素が最も好ましい。
Among these dyes, particularly preferred are cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, and nickel thiolate complexes. Further, a cyanine dye is preferable, and a cyanine dye represented by the following general formula (II) is most preferable.

【0021】[0021]

【化2】 Embedded image

【0022】一般式(II)中、X1は、ハロゲン原子、
またはX2−L1を示す。ここで、X2は酸素原子また
は、硫黄原子を示し、L1は、炭素原子数1〜12の炭
化水素基を示す。R1およびR2は、それぞれ独立に、炭
素原子数1〜12の炭化水素基を示す。記録層塗布液の
保存安定性から、R1およびR2は、炭素原子数2個以上
の炭化水素基であることが好ましく、さらに、R1とR2
とは互いに結合し、5員環または6員環を形成している
ことが特に好ましい。Ar1、Ar2は、それぞれ同じで
も異なっていても良く、置換基を有していても良い芳香
族炭化水素基を示す。好ましい芳香族炭化水素基として
は、ベンゼン環およびナフタレン環が挙げられる。ま
た、好ましい置換基としては、炭素原子数12個以下の
炭化水素基、ハロゲン原子、炭素原子数12個以下のア
ルコキシ基が挙げられる。Y1、Y2は、それぞれ同じで
も異なっていても良く、硫黄原子または炭素原子数12
個以下のジアルキルメチレン基を示す。R3、R4は、そ
れぞれ同じでも異なっていても良く、置換基を有してい
ても良い炭素原子数20個以下の炭化水素基を示す。好
ましい置換基としては、炭素原子数12個以下のアルコ
キシ基、カルボキシル基、スルホ基が挙げられる。
5、R6、R7およびR8は、それぞれ同じでも異なって
いても良く、水素原子または炭素原子数12個以下の炭
化水素基を示す。原料の入手性から、好ましくは水素原
子である。また、Z1-は、対アニオンを示す。ただし、
1〜R8のいずれかにスルホ基が置換されている場合
は、Z1-は必要ない。好ましいZ1-は、記録層塗布液の
保存安定性から、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、テ
トラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェ
ートイオン、およびスルホン酸イオンであり、特に好ま
しくは、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロフォスフェー
トイオン、およびアリールスルホン酸イオンである。
In the general formula (II), X 1 is a halogen atom,
Or an X 2 -L 1. Here, X 2 represents an oxygen atom or a sulfur atom, and L 1 represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms. R 1 and R 2 each independently represent a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms. The storage stability of the recording layer coating liquid, R 1 and R 2 are preferably a hydrocarbon group having two or more carbon atoms, further, R 1 and R 2
And particularly preferably combine with each other to form a 5- or 6-membered ring. Ar 1 and Ar 2 may be the same or different and each represents an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent. Preferred aromatic hydrocarbon groups include a benzene ring and a naphthalene ring. Preferred examples of the substituent include a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms, a halogen atom, and an alkoxy group having 12 or less carbon atoms. Y 1 and Y 2 may be the same or different and each have a sulfur atom or 12 carbon atoms.
Represents up to dialkylmethylene groups. R 3 and R 4 may be the same or different, and represent a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. Preferred substituents include an alkoxy group having 12 or less carbon atoms, a carboxyl group, and a sulfo group.
R 5 , R 6 , R 7 and R 8 may be the same or different and each represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms. From the viewpoint of availability of raw materials, a hydrogen atom is preferable. Z 1- represents a counter anion. However,
When any of R 1 to R 8 is substituted with a sulfo group, Z 1- is not required. Preferred Z 1− is a halogen ion, a perchlorate ion, a tetrafluoroborate ion, a hexafluorophosphate ion, and a sulfonate ion from the storage stability of the recording layer coating solution, and particularly preferably a perchlorate ion. Hexafluorophosphate ion and arylsulfonate ion.

【0023】本発明において、好適に用いることのでき
る一般式(II)で示されるシアニン色素の具体例([I
R−1]〜[IR−12])を以下に挙げるが、本発明
はこれらに制限されるものではない。
In the present invention, specific examples of the cyanine dye represented by formula (II) ([I
R-1] to [IR-12]) are shown below, but the present invention is not limited thereto.

【0024】[0024]

【化3】 Embedded image

【0025】[0025]

【化4】 Embedded image

【0026】[0026]

【化5】 Embedded image

【0027】本発明において赤外線吸収剤に使用される
顔料としては、市販の顔料及びカラーインデックス
(C.I.)便覧、「最新顔料便覧」(日本顔料技術協
会編、1977年刊)、「最新顔料応用技術」(CMC
出版、1986年刊)、「印刷インキ技術」CMC出
版、1984年刊)に記載されている顔料が利用でき
る。
As the pigment used in the infrared absorber in the present invention, commercially available pigments and Color Index (CI) Handbook, "Latest Pigment Handbook" (edited by Japan Pigment Technical Association, 1977), "Latest Pigment" Application Technology ”(CMC
Publishing, 1986) and "Printing Ink Technology", CMC Publishing, 1984) can be used.

【0028】顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔
料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、
青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、
ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性ア
ゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ
顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、
ペリレン及びペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キ
ナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリ
ノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、
アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍
光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用できる。
これらの顔料のうち好ましいものはカーボンブラックで
ある。
The types of pigments include black pigment, yellow pigment, orange pigment, brown pigment, red pigment, purple pigment,
Blue pigment, green pigment, fluorescent pigment, metal powder pigment, etc.
Polymer-bound dyes. Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensation azo pigments, chelate azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments,
Perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, isoindolinone pigments, quinophthalone pigments, dyeing lake pigments,
Azine pigments, nitroso pigments, nitro pigments, natural pigments, fluorescent pigments, inorganic pigments, carbon black and the like can be used.
Preferred among these pigments is carbon black.

【0029】これら顔料は表面処理をせずに用いてもよ
く、表面処理を施して用いてもよい。表面処理の方法に
は、樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性剤
を付着させる方法、反応性物質(例えば、シランカップ
リング剤、エポキシ化合物、ポリイソシアネート等)を
顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表面
処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」(幸書房)、
「印刷インキ技術」(CMC出版、1984年刊)及び
「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に
記載されている。
These pigments may be used without surface treatment or may be used after surface treatment. Examples of the surface treatment include a method of surface coating a resin or wax, a method of attaching a surfactant, and a method of bonding a reactive substance (eg, a silane coupling agent, an epoxy compound, a polyisocyanate, etc.) to the pigment surface. Can be considered. The above surface treatment methods are described in "Properties and Applications of Metallic Soap" (Koshobo),
It is described in "Printing Ink Technology" (CMC Publishing, 1984) and "Latest Pigment Application Technology" (CMC Publishing, 1986).

【0030】顔料の粒径は0.01μm〜10μmの範
囲にあることが好ましく、0.05μm〜1μmの範囲
にあることがさらに好ましく、特に0.1μm〜1μm
の範囲にあることが好ましい。顔料の粒径が0.01μ
m未満のときは分散物の画像記録層塗布液中での安定性
の点で好ましくなく、また、10μmを越えると画像記
録層の均一性の点で好ましくない。
The particle size of the pigment is preferably in the range of 0.01 μm to 10 μm, more preferably in the range of 0.05 μm to 1 μm, and particularly preferably in the range of 0.1 μm to 1 μm.
Is preferably within the range. Pigment particle size 0.01μ
When it is less than m, the dispersion is not preferable in terms of stability in the coating solution for the image recording layer, and when it exceeds 10 μm, it is not preferable in terms of uniformity of the image recording layer.

【0031】顔料を分散する方法としては、インク製造
やトナー製造等に用いられる公知の分散技術が使用でき
る。分散機としては、超音波分散器、サンドミル、アト
ライター、パールミル、スーパーミル、ボールミル、イ
ンペラー、デスパーザー、KDミル、コロイドミル、ダ
イナトロン、3本ロールミル、加圧ニーダー等が挙げら
れる。詳細は、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1
986年刊)に記載されている。
As a method for dispersing the pigment, a known dispersion technique used in the production of ink or toner can be used. Examples of the disperser include an ultrasonic disperser, a sand mill, an attritor, a pearl mill, a super mill, a ball mill, an impeller, a disperser, a KD mill, a colloid mill, a dynatron, a three-roll mill, and a pressure kneader. For details, refer to “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1
986).

【0032】これらの赤外線吸収剤は、画像記録材料全
固形分に対し0.01〜50重量%、好ましくは0.1
〜20重量%、特に好ましくは1〜10重量%の割合で
画像記録材料中に添加することができる。添加量が0.
01重量%未満であると感度が低くなり、また50重量
%を越えると印刷時非画像部に汚れが発生する。また、
赤外線吸収剤を用いて記録材料を作成した際、赤外線領
域における吸収極大での光学濃度が、0.1〜3.0の
間にあることが好ましい。この範囲をはずれた場合、感
度が低くなる。光学濃度は前記赤外線吸収剤の添加量と
記録層の厚みとにより決定されるため、所定の光学濃度
は両者の条件を制御することにより得られる。記録層の
光学濃度は常法により測定することができる。測定方法
としては、例えば、透明、或いは白色の支持体上に、乾
燥後の塗布量が平版印刷版として必要な範囲において適
宜決定された厚みの記録層を形成し、透過型の光学濃度
計で測定する方法、アルミニウム等の反射性の支持体上
に記録層を形成し、反射濃度を測定する方法等が挙げら
れる。これらの赤外線吸収剤は、1種のみを用いても良
いし、2種以上を併用しても良い。また、これらの赤外
線吸収剤は他の成分と同一の層に添加してもよいし、別
の層を設けてそこへ添加してもよい。
These infrared absorbers are used in an amount of 0.01 to 50% by weight, preferably 0.1% by weight, based on the total solid content of the image recording material.
It can be added to the image recording material at a ratio of from 20 to 20% by weight, particularly preferably from 1 to 10% by weight. The amount added is 0.
If the amount is less than 01% by weight, the sensitivity will be low, and if it exceeds 50% by weight, the non-image portion will be stained during printing. Also,
When a recording material is prepared using an infrared absorbing agent, the optical density at the absorption maximum in the infrared region is preferably between 0.1 and 3.0. Outside of this range, the sensitivity will be low. Since the optical density is determined by the amount of the infrared absorbing agent added and the thickness of the recording layer, a predetermined optical density can be obtained by controlling both conditions. The optical density of the recording layer can be measured by a conventional method. As a measuring method, for example, on a transparent or white support, a coating layer after drying is formed to a recording layer having a thickness appropriately determined in a range necessary for a lithographic printing plate, and a transmission type optical densitometer is used. Examples include a method of measuring, a method of forming a recording layer on a reflective support such as aluminum, and measuring a reflection density. These infrared absorbers may be used alone or in combination of two or more. In addition, these infrared absorbers may be added to the same layer as other components, or may be added to another layer provided.

【0033】[(C)ラジカル重合性化合物]本発明に
使用されるラジカル重合性化合物は、少なくとも一個の
エチレン性不飽和二重結合を有するラジカル重合性化合
物であり、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも1
個、好ましくは2個以上有する化合物から選ばれる。こ
の様な化合物群は当該産業分野において広く知られるも
のであり、本発明においてはこれらを特に限定無く用い
る事ができる。これらは、例えばモノマー、プレポリマ
ー、すなわち2量体、3量体およびオリゴマー、または
それらの混合物ならびにそれらの共重合体などの化学的
形態をもつ。モノマーおよびその共重合体の例として
は、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリ
ル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレ
イン酸など)や、そのエステル類、アミド類があげら
れ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコ
ール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多
価アミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒド
ロキシル基や、アミノ基、メルカプト基等の求核性置換
基を有する不飽和カルボン酸エステル、アミド類と単官
能もしくは多官能イソシアネート類、エポキシ類との付
加反応物、単官能もしくは、多官能のカルボン酸との脱
水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアナ
ート基やエポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和
カルボン酸エステルまたはアミド類と、単官能もしくは
多官能のアルコール類、アミン類およびチオール類との
付加反応物、さらに、ハロゲン基やトシルオキシ基等の
脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステルまたは
アミド類と、単官能もしくは多官能のアルコール類、ア
ミン類およびチオール類との置換反応物も好適である。
また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わり
に、不飽和ホスホン酸、スチレン等に置き換えた化合物
群を使用する事も可能である。
[(C) Radical polymerizable compound] The radical polymerizable compound used in the present invention is a radical polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated double bond, and has a terminal ethylenically unsaturated bond. At least one
, Preferably two or more compounds. Such compounds are widely known in the industrial field, and they can be used in the invention without any particular limitation. These have chemical forms such as, for example, monomers, prepolymers, ie, dimers, trimers and oligomers, or mixtures thereof and copolymers thereof. Examples of monomers and copolymers thereof include unsaturated carboxylic acids (eg, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.) and esters and amides thereof, and are preferred. As the ester, an ester of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyhydric alcohol compound and an amide of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyamine compound are used. Further, an unsaturated carboxylic acid ester having a nucleophilic substituent such as a hydroxyl group, an amino group or a mercapto group, an addition reaction product of an amide with a monofunctional or polyfunctional isocyanate, an epoxy, a monofunctional or A dehydration-condensation reaction product with a functional carboxylic acid is also preferably used. Further, an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having an electrophilic substituent such as an isocyanate group or an epoxy group with a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol, and further, halogen A substitution reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having a leaving group such as a group or a tosyloxy group with a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol is also suitable.
As another example, it is also possible to use a group of compounds in which the above unsaturated carboxylic acid is replaced with unsaturated phosphonic acid, styrene or the like.

【0034】脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カル
ボン酸とのエステルであるラジカル重合性化合物の具体
例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリ
コールジアクリレート、トリエチレングリコールジアク
リレート、1,3−ブタンジオールジアクリレート、テ
トラメチレングリコールジアクリレート、プロピレング
リコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジア
クリレート、トリメチロールプロパントリアクリレー
ト、トリメチロールプロパントリ(アクリロイルオキシ
プロピル)エーテル、トリメチロールエタントリアクリ
レート、ヘキサンジオールジアクリレート、1,4−シ
クロヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレン
グリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジア
クリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、
ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエ
リスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトール
ヘキサアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、
ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタ
アクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリ
(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、ポリ
エステルアクリレートオリゴマー等がある。
Specific examples of the radical polymerizable compound which is an ester of an aliphatic polyhydric alcohol compound and an unsaturated carboxylic acid include acrylates such as ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, and 1,3-butane. Diol diacrylate, tetramethylene glycol diacrylate, propylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane tri (acryloyloxypropyl) ether, trimethylolethane triacrylate, hexanediol diacrylate, , 4-cyclohexanediol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, pentaerythritol diacrylate, penta Risuri toll triacrylate,
Pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol diacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, sorbitol triacrylate,
Examples include sorbitol tetraacrylate, sorbitol pentaacrylate, sorbitol hexaacrylate, tri (acryloyloxyethyl) isocyanurate, and polyester acrylate oligomer.

【0035】メタクリル酸エステルとしては、テトラメ
チレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリ
コールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメ
タクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレ
ート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチ
レングリコールジメタクリレート、1,3−ブタンジオ
ールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレ
ート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタ
エリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジ
メタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタク
リレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビト
ールテトラメタクリレート、ビス〔p−(3−メタクリ
ルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル〕ジメ
チルメタン、ビス−〔p−(メタクリルオキシエトキ
シ)フェニル〕ジメチルメタン等がある。
Examples of methacrylic acid esters include tetramethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, and 1,3-butanediol. Dimethacrylate, hexanediol dimethacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol dimethacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, sorbitol trimethacrylate, sorbitol tetramethacrylate, bis [p- (3- Methacryloxy-2-hi Rokishipuropokishi) phenyl] dimethyl methane, bis - [p- (methacryloxyethoxy) phenyl] dimethyl methane.

【0036】イタコン酸エステルとしては、エチレング
リコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタ
コネート、1,3−ブタンジオールジイタコネート、
1,4−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレ
ングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジ
イタコネート、ソルビトールテトライタコネート等があ
る。
Examples of itaconic acid esters include ethylene glycol diitaconate, propylene glycol diitaconate, 1,3-butanediol diitaconate,
There are 1,4-butanediol diitaconate, tetramethylene glycol diitaconate, pentaerythritol diitaconate, sorbitol tetritaconate and the like.

【0037】クロトン酸エステルとしては、エチレング
リコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジ
クロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、
ソルビトールテトラジクロトネート等がある。
As the crotonic acid ester, ethylene glycol dicrotonate, tetramethylene glycol dicrotonate, pentaerythritol dicrotonate,
Sorbitol tetradicrotonate and the like.

【0038】イソクロトン酸エステルとしては、エチレ
ングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトー
ルジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロト
ネート等がある。
Examples of the isocrotonic acid ester include ethylene glycol diisocrotonate, pentaerythritol diisocrotonate, and sorbitol tetraisocrotonate.

【0039】マレイン酸エステルとしては、エチレング
リコールジマレート、トリエチレングリコールジマレー
ト、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテ
トラマレート等がある。
Examples of the maleic acid ester include ethylene glycol dimaleate, triethylene glycol dimaleate, pentaerythritol dimaleate, and sorbitol tetramaleate.

【0040】その他のエステルの例として、例えば、特
公昭46−27926、特公昭51−47334、特開
昭57−196231記載の脂肪族アルコール系エステ
ル類や、特開昭59−5240、特開昭59−524
1、特開平2−226149記載の芳香族系骨格を有す
るもの、特開平1−165613記載のアミノ基を含有
するもの等も好適に用いられる。
Examples of other esters include aliphatic alcohol esters described in JP-B-46-27926, JP-B-51-47334 and JP-A-57-196231, and JP-A-59-5240 and JP-A-59-5240. 59-524
1, those having an aromatic skeleton described in JP-A-2-226149 and those containing an amino group described in JP-A-1-165613 are also preferably used.

【0041】また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カ
ルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチ
レンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリル
アミド、1,6−ヘキサメチレンビス−アクリルアミ
ド、1,6−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、
ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレ
ンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミ
ド等がある。
Specific examples of the amide monomer of the aliphatic polyamine compound and the unsaturated carboxylic acid include methylene bis-acrylamide, methylene bis-methacrylamide, 1,6-hexamethylene bis-acrylamide, 1,6- Hexamethylene bis-methacrylamide,
Examples include diethylenetriaminetrisacrylamide, xylylenebisacrylamide, xylylenebismethacrylamide, and the like.

【0042】その他の好ましいアミド系モノマーの例と
しては、特公昭54−21726号公報記載のシクロへ
キシレン構造を有すものをあげる事ができる。
Examples of other preferred amide-based monomers include those having a cyclohexylene structure described in JP-B-54-21726.

【0043】また、イソシアネートと水酸基の付加反応
を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適
であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭4
8−41708号公報中に記載されている1分子に2個
以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化
合物に、下記式(III)で示される水酸基を含有するビ
ニルモノマーを付加させた1分子中に2個以上の重合性
ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられ
る。
A urethane-based addition-polymerizable compound produced by an addition reaction between an isocyanate and a hydroxyl group is also suitable.
JP-A-8-41708 discloses a polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups in one molecule and a hydroxyl-containing vinyl monomer represented by the following formula (III) added to one molecule. And vinyl urethane compounds containing at least two polymerizable vinyl groups.

【0044】一般式(III) CH2=C(R41)COOCH2CH(R42)OH (ただし、R41およびR42は、HまたはCH3を示
す。)
Formula (III) CH 2 C (R 41 ) COOCH 2 CH (R 42 ) OH (where R 41 and R 42 represent H or CH 3 )

【0045】また、特開昭51−37193号、特公平
2−32293号、特公平2−16765号に記載され
ているようなウレタンアクリレート類や、特公昭58−
49860号、特公昭56−17654号、特公昭62
−39417、特公昭62−39418号記載のエチレ
ンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適で
ある。
Also, urethane acrylates described in JP-A-51-37193, JP-B-2-32293, JP-B-2-16765, and JP-B-58-167.
No. 49860, No. 56-17654, No. 62
Urethane compounds having an ethylene oxide skeleton described in JP-B-39417 and JP-B-62-39418 are also suitable.

【0046】さらに、特開昭63−277653,特開
昭63−260909号、特開平1−105238号に
記載される、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有
するラジカル重合性化合物類を用いても良い。
Further, radical polymerizable compounds having an amino structure or a sulfide structure in the molecule described in JP-A-63-277563, JP-A-63-260909 and JP-A-1-105238 may be used. good.

【0047】その他の例としては、特開昭48−641
83号、特公昭49−43191号、特公昭52−30
490号、各公報に記載されているようなポリエステル
アクリレート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸を
反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリ
レートやメタクリレートをあげることができる。また、
特公昭46−43946号、特公平1−40337号、
特公平1−40336号記載の特定の不飽和化合物や、
特開平2−25493号記載のビニルホスホン酸系化合
物等もあげることができる。また、ある場合には、特開
昭61−22048号記載のペルフルオロアルキル基を
含有する構造が好適に使用される。さらに日本接着協会
誌 vol. 20、No. 7、300〜308ページ(198
4年)に光硬化性モノマーおよびオリゴマーとして紹介
されているものも使用することができる。
Another example is disclosed in JP-A-48-641.
No. 83, JP-B-49-43191, JP-B-52-30
No. 490, polyfunctional acrylates and methacrylates such as polyester acrylates and epoxy acrylates obtained by reacting an epoxy resin with (meth) acrylic acid as described in each publication. Also,
JP-B-46-43946, JP-B-1-40337,
Specific unsaturated compounds described in JP-B-1-40336,
Vinyl phosphonic acid compounds described in JP-A-2-25493 can also be mentioned. In some cases, a structure containing a perfluoroalkyl group described in JP-A-61-22048 is preferably used. Furthermore, Japan Adhesion Association Journal vol. 20, No. 7, pages 300-308 (198
(4 years) as photocurable monomers and oligomers can also be used.

【0048】これらのラジカル重合性化合物について、
どの様な構造を用いるか、単独で使用するか併用する
か、添加量はどうかといった、使用方法の詳細は、最終
的な記録材料の性能設計にあわせて、任意に設定でき
る。例えば次のような観点から選択される。感度の点で
は1分子あたりの不飽和基含量が多い構造が好ましく、
多くの場合、2官能以上がこのましい。また、画像部す
なわち硬化膜の強度を高くするためには、3官能以上の
ものが良く、さらに、異なる官能数・異なる重合性基
(例えばアクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、
スチレン系化合物)のものを併用することで、感光性と
強度の両方を調節する方法も有効である。大きな分子量
の化合物や、疎水性の高い化合物は感度や膜強度に優れ
る反面、現像スピードや現像液中での析出といった点で
好ましく無い場合がある。また、感光層中の他の成分
(例えばバインダーポリマー、開始剤、着色剤等)との
相溶性、分散性に対しても、ラジカル重合化合物の選択
・使用法は重要な要因であり、例えば、低純度化合物の
使用や、2種以上の併用により相溶性を向上させうる事
がある。また、支持体、オーバーコート層等の密着性を
向上せしめる目的で特定の構造を選択することもあり得
る。画像記録層中のラジカル重合性化合物の配合比に関
しては、多い方が感度的に有利であるが、多すぎる場合
には、好ましく無い相分離が生じたり、画像記録層の粘
着性による製造工程上の問題(例えば、記録層成分の転
写、粘着に由来する製造不良)や、現像液からの析出が
生じる等の問題を生じうる。これらの観点から、好まし
い配合比は、多くの場合、組成物全成分に対して5〜8
0重量%、好ましくは20〜75重量%である。また、
これらは単独で用いても2種以上併用してもよい。その
ほか、ラジカル重合性化合物の使用法は、酸素に対する
重合阻害の大小、解像度、かぶり性、屈折率変化、表面
粘着性等の観点から適切な構造、配合、添加量を任意に
選択でき、さらに場合によっては下塗り、上塗りといっ
た層構成・塗布方法も実施しうる。
With respect to these radically polymerizable compounds,
Details of the method of use, such as what kind of structure is used, whether it is used alone or in combination, and how much is added, can be arbitrarily set in accordance with the final performance design of the recording material. For example, it is selected from the following viewpoints. In terms of sensitivity, a structure having a large content of unsaturated groups per molecule is preferable,
In many cases, more than one function is preferred. Further, in order to increase the strength of the image area, that is, the cured film, those having three or more functional groups are preferable, and further, different functional numbers and different polymerizable groups (for example, acrylic ester, methacrylic ester,
It is also effective to control both the photosensitivity and the strength by using a styrene compound in combination. A compound having a large molecular weight or a compound having high hydrophobicity is excellent in sensitivity and film strength, but may not be preferable in terms of development speed and precipitation in a developer. In addition, the selection and use of the radical polymer compound is also an important factor for the compatibility and dispersibility with other components (for example, a binder polymer, an initiator, a colorant, and the like) in the photosensitive layer. The compatibility may be improved by using a low-purity compound or by using two or more compounds in combination. In addition, a specific structure may be selected for the purpose of improving the adhesion of the support, the overcoat layer, and the like. Regarding the compounding ratio of the radical polymerizable compound in the image recording layer, a higher ratio is advantageous in sensitivity, but if the ratio is too large, undesired phase separation occurs or the production process due to the stickiness of the image recording layer. (For example, poor production resulting from transfer of recording layer components and adhesion) and problems such as precipitation from a developer. From these viewpoints, the preferred compounding ratio is often 5 to 8 based on all components of the composition.
0% by weight, preferably 20-75% by weight. Also,
These may be used alone or in combination of two or more. In addition, the method of using the radical polymerizable compound can be arbitrarily selected from the viewpoint of the degree of inhibition of polymerization with respect to oxygen, resolution, fogging, refractive index change, surface tackiness, etc. Depending on the case, a layer structure and a coating method such as undercoating and overcoating may be performed.

【0049】[(D)バインダーポリマー]本発明にお
いては、さらにバインダーポリマーを使用する。バイン
ダーとしては線状有機ポリマーを用いることが好まし
い。このような「線状有機ポリマー」としては、どれを
使用しても構わない。好ましくは水現像あるいは弱アル
カリ水現像を可能とするために、水あるいは弱アルカリ
水可溶性または膨潤性である線状有機ポリマーが選択さ
れる。線状有機ポリマーは、画像記録材料の皮膜形成剤
としてだけでなく、水、弱アルカリ水あるいは有機溶剤
現像剤としての用途に応じて選択使用される。例えば、
水可溶性有機ポリマーを用いると水現像が可能になる。
このような線状有機ポリマーとしては、側鎖にカルボン
酸基を有するラジカル重合体、例えば特開昭59−44
615号、特公昭54−34327号、特公昭58−1
2577号、特公昭54−25957号、特開昭54−
92723号、特開昭59−53836号、特開昭59
−71048号に記載されているもの、すなわち、メタ
クリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共
重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部
分エステル化マレイン酸共重合体等がある。また同様に
側鎖にカルボン酸基を有する酸性セルロース誘導体があ
る。この他に水酸基を有する重合体に環状酸無水物を付
加させたものなどが有用である。
[(D) Binder polymer] In the present invention, a binder polymer is further used. It is preferable to use a linear organic polymer as the binder. Any of such “linear organic polymers” may be used. Preferably, a linear organic polymer which is soluble or swellable in water or weakly alkaline water is selected to enable development with water or weakly alkaline water. The linear organic polymer is selected and used not only as a film forming agent of an image recording material but also as a developer for water, weakly alkaline water or an organic solvent. For example,
Use of a water-soluble organic polymer enables water development.
Examples of such a linear organic polymer include a radical polymer having a carboxylic acid group in a side chain, for example, JP-A-59-44.
No. 615, JP-B-54-34327, JP-B-58-1
2577, JP-B-54-25957, JP-A-54-1979
No. 92723, JP-A-59-53836, JP-A-59-53836
No. 71048, that is, methacrylic acid copolymer, acrylic acid copolymer, itaconic acid copolymer, crotonic acid copolymer, maleic acid copolymer, partially esterified maleic acid copolymer Etc. Similarly, there is an acidic cellulose derivative having a carboxylic acid group in the side chain. In addition, a polymer obtained by adding a cyclic acid anhydride to a polymer having a hydroxyl group is useful.

【0050】特にこれらの中で、ベンジル基またはアリ
ル基と、カルボキシル基を側鎖に有する(メタ)アクリ
ル樹脂が、膜強度、感度、現像性のバランスに優れてお
り、好適である。
Among these, a (meth) acrylic resin having a benzyl group or an allyl group and a carboxyl group in the side chain is particularly preferred because it has an excellent balance of film strength, sensitivity and developability.

【0051】また、特公平7−12004号、特公平7
−120041号、特公平7−120042号、特公平
8−12424号、特開昭63−287944号、特開
昭63−287947号、特開平1−271741号、
特願平10−116232号等に記載される酸基を含有
するウレタン系バインダーポリマーは、非常に、強度に
優れるので、耐刷性・低露光適性の点で有利である。
In addition, Japanese Patent Publication No. 7-12004,
JP-A-120041, JP-B-7-120042, JP-B-8-12424, JP-A-63-287944, JP-A-63-287947, JP-A-1-271174,
The urethane-based binder polymer containing an acid group described in Japanese Patent Application No. 10-116232 is very excellent in strength, and therefore is advantageous in terms of printing durability and low exposure suitability.

【0052】さらにこの他に水溶性線状有機ポリマーと
して、ポリビニルピロリドンやポリエチレンオキサイド
等が有用である。また硬化皮膜の強度を上げるためにア
ルコール可溶性ナイロンや2,2−ビス−(4−ヒドロ
キシフェニル)−プロパンとエピクロロヒドリンのポリ
エーテル等も有用である。
Further, as the water-soluble linear organic polymer, polyvinyl pyrrolidone, polyethylene oxide and the like are useful. In order to increase the strength of the cured film, alcohol-soluble nylon, polyether of 2,2-bis- (4-hydroxyphenyl) -propane and epichlorohydrin, and the like are also useful.

【0053】本発明で使用されるポリマーの重量平均分
子量については好ましくは5000以上であり、さらに
好ましくは1万〜30万の範囲であり、数平均分子量に
ついては好ましくは1000以上であり、さらに好まし
くは2000〜25万の範囲である。多分散度(重量平
均分子量/数平均分子量)は1以上が好ましく、さらに
好ましくは1.1〜10の範囲である。
The weight average molecular weight of the polymer used in the present invention is preferably at least 5,000, more preferably 10,000 to 300,000, and the number average molecular weight is preferably at least 1,000, more preferably Is in the range of 2000 to 250,000. The polydispersity (weight average molecular weight / number average molecular weight) is preferably 1 or more, and more preferably in the range of 1.1 to 10.

【0054】これらのポリマーは、ランダムポリマー、
ブロックポリマー、グラフトポリマー等いずれでもよい
が、ランダムポリマーであることが好ましい。
These polymers are random polymers,
Any of a block polymer and a graft polymer may be used, but a random polymer is preferable.

【0055】本発明で使用されるポリマーは従来公知の
方法により合成できる。合成する際に用いられる溶媒と
しては、例えば、テトラヒドロフラン、エチレンジクロ
リド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、アセト
ン、メタノール、エタノール、エチレングリコールモノ
メチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテ
ル、2−メトキシエチルアセテート、ジエチレングリコ
ールジメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノー
ル、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、N,N−
ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミ
ド、トルエン、酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、
ジメチルスルホキシド、水等が挙げられる。これらの溶
媒は単独で又は2種以上混合して用いられる。
The polymer used in the present invention can be synthesized by a conventionally known method. As a solvent used in the synthesis, for example, tetrahydrofuran, ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, acetone, methanol, ethanol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, 2-methoxyethyl acetate, diethylene glycol dimethyl ether, 1-methoxy -2-propanol, 1-methoxy-2-propyl acetate, N, N-
Dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, toluene, ethyl acetate, methyl lactate, ethyl lactate,
Dimethyl sulfoxide, water and the like. These solvents are used alone or in combination of two or more.

【0056】本発明で使用されるポリマーを合成する際
に用いられるラジカル重合開始剤としては、アゾ系開始
剤、過酸化物開始剤等公知の化合物が使用できる。
As the radical polymerization initiator used when synthesizing the polymer used in the present invention, known compounds such as an azo initiator and a peroxide initiator can be used.

【0057】本発明で使用されるバインダーポリマーは
単独で用いても混合して用いてもよい。これらポリマー
は、画像記録材料全固形分に対し20〜95重量%、好
ましくは30〜90重量%の割合で画像記録材料中に添
加される。添加量が20重量%未満の場合は、画像形成
した際、画像部の強度が不足する。また添加量が95重
量%を越える場合は、画像形成されない。またラジカル
重合可能なエチレン性不飽和二重結合を有する化合物と
線状有機ポリマーは、重量比で1/9〜7/3の範囲と
するのが好ましい。
The binder polymer used in the present invention may be used alone or as a mixture. These polymers are added to the image recording material in a proportion of 20 to 95% by weight, preferably 30 to 90% by weight, based on the total solid content of the image recording material. When the addition amount is less than 20% by weight, the strength of the image portion is insufficient when an image is formed. When the amount exceeds 95% by weight, no image is formed. The weight ratio of the radical polymerizable compound having an ethylenically unsaturated double bond and the linear organic polymer is preferably in the range of 1/9 to 7/3.

【0058】[その他の成分]本発明では、さらに必要
に応じてこれら以外に種々の化合物を添加してもよい。
例えば、可視光域に大きな吸収を持つ染料を画像の着色
剤として使用することができる。具体的には、オイルイ
エロー#101、オイルイエロー#103、オイルピン
ク#312、オイルグリーンBG、オイルブルーBO
S、オイルブルー#603、オイルブラックBY、オイ
ルブラックBS、オイルブラックT−505(以上オリ
エント化学工業(株)製)、ビクトリアピュアブルー、
クリスタルバイオレット(CI42555)、メチルバ
イオレット(CI42535)、エチルバイオレット、
ローダミンB(CI145170B)、マラカイトグリ
ーン(CI42000)、メチレンブルー(CI520
15)等、及び特開昭62−293247号に記載され
ている染料を挙げることができる。また、フタロシアニ
ン系顔料、アゾ系顔料、カーボンブラック、酸化チタン
などの顔料も好適に用いることができる。
[Other Components] In the present invention, various compounds other than these may be further added, if necessary.
For example, a dye having a large absorption in the visible light region can be used as a colorant for an image. Specifically, Oil Yellow # 101, Oil Yellow # 103, Oil Pink # 312, Oil Green BG, Oil Blue BO
S, Oil Blue # 603, Oil Black BY, Oil Black BS, Oil Black T-505 (all manufactured by Orient Chemical Industries, Ltd.), Victoria Pure Blue,
Crystal violet (CI42555), methyl violet (CI42535), ethyl violet,
Rhodamine B (CI145170B), malachite green (CI42000), methylene blue (CI520
15) and the dyes described in JP-A-62-293247. Also, pigments such as phthalocyanine pigments, azo pigments, carbon black, and titanium oxide can be suitably used.

【0059】これらの着色剤は、画像形成後、画像部と
非画像部の区別がつきやすいので、添加する方が好まし
い。なお、添加量は、画像記録材料全固形分に対し、
0.01〜10重量%の割合である。
It is preferable to add these colorants since the image area and the non-image area can be easily distinguished after image formation. The addition amount is based on the total solid content of the image recording material.
The ratio is 0.01 to 10% by weight.

【0060】また、本発明においては、必要に応じて、
酸素による重合阻害を防止するためにベヘン酸やベヘン
酸アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加して、塗布
後の乾燥の過程で感光層の表面に偏在させてもよい。高
級脂肪酸誘導体の添加量は、全組成物の約0.1重量%
〜約10重量%が好ましい。
In the present invention, if necessary,
In order to prevent polymerization inhibition by oxygen, a higher fatty acid derivative such as behenic acid or behenic acid amide may be added so as to be unevenly distributed on the surface of the photosensitive layer during drying after coating. The amount of the higher fatty acid derivative added is about 0.1% by weight of the total composition.
~ 10% by weight is preferred.

【0061】また、本発明における画像記録材料中に
は、現像条件に対する処理の安定性を広げるため、特開
昭62−251740号や特開平3−208514号に
記載されているような非イオン界面活性剤、特開昭59
−121044号、特開平4−13149号に記載され
ているような両性界面活性剤を添加することができる。
The image recording material of the present invention contains a nonionic interface as described in JP-A-62-251740 and JP-A-3-208514 in order to increase the stability of processing under development conditions. Activator, JP-A-59
An amphoteric surfactant as described in JP-A-121044 and JP-A-4-13149 can be added.

【0062】非イオン界面活性剤の具体例としては、ソ
ルビタントリステアレート、ソルビタンモノパルミテー
ト、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセ
リド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等が
挙げられる。
Specific examples of the nonionic surfactant include sorbitan tristearate, sorbitan monopalmitate, sorbitan triolate, monoglyceride stearate, and polyoxyethylene nonyl phenyl ether.

【0063】両性界面活性剤の具体例としては、アルキ
ルジ(アミノエチル)グリシン、アルキルポリアミノエ
チルグリシン塩酸塩、2−アルキル−N−カルボキシエ
チル−N−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイ
ン、N−テトラデシル−N,N−ベタイン型(例えば、
商品名アモーゲンK、第一工業(株)製)等が挙げられ
る。
Specific examples of the amphoteric surfactant include alkyl di (aminoethyl) glycine, alkyl polyaminoethyl glycine hydrochloride, 2-alkyl-N-carboxyethyl-N-hydroxyethylimidazolinium betaine, N-tetradecyl-N , N-betaine type (for example,
(Trade name: Amogen K, manufactured by Dai-ichi Kogyo Co., Ltd.).

【0064】上記非イオン界面活性剤及び両性界面活性
剤の画像記録材料中に占める割合は、0.05〜15重
量%が好ましく、より好ましくは0.1〜5重量%であ
る。
The proportion of the nonionic surfactant and amphoteric surfactant in the image recording material is preferably 0.05 to 15% by weight, more preferably 0.1 to 5% by weight.

【0065】さらに、本発明の画像記録材料中には、必
要に応じ、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤が加
えられる。例えば、ポリエチレングリコール、クエン酸
トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フ
タル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリク
レジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、オレ
イン酸テトラヒドロフルフリル等が用いられる。
Further, a plasticizer is added to the image recording material of the present invention, if necessary, in order to impart flexibility to the coating film. For example, polyethylene glycol, tributyl citrate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, dihexyl phthalate, dioctyl phthalate, tricresyl phosphate, tributyl phosphate, trioctyl phosphate, tetrahydrofurfuryl oleate, and the like are used.

【0066】本発明の画像記録材料では、通常上記各成
分を溶媒に溶かして、適当な支持体上に塗布する。ここ
で使用する溶媒としては、エチレンジクロライド、シク
ロヘキサノン、メチルエチルケトン、メタノール、エタ
ノール、プロパノール、エチレングリコールモノメチル
エーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、2−メト
キシエチルアセテート、1−メトキシ−2−プロピルア
セテート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチ
ル、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチル
ホルムアミド、テトラメチルウレア、N−メチルピロリ
ドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチル
ラクトン、トルエン、水等を挙げることができるがこれ
に限定されるものではない。これらの溶媒は単独又は混
合して使用される。溶媒中の上記成分(添加剤を含む全
固形分)の濃度は、好ましくは1〜50重量%である。
In the image recording material of the present invention, each of the above-mentioned components is usually dissolved in a solvent and coated on a suitable support. As the solvent used herein, ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol monomethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 2-methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2-propyl acetate, dimethoxy Ethane, methyl lactate, ethyl lactate, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, tetramethylurea, N-methylpyrrolidone, dimethylsulfoxide, sulfolane, γ-butyllactone, toluene, water and the like. However, the present invention is not limited to this. These solvents are used alone or as a mixture. The concentration of the above components (total solids including additives) in the solvent is preferably 1 to 50% by weight.

【0067】また塗布、乾燥後に得られる支持体上の塗
布量(固形分)は、用途によって異なるが、平版印刷用
版材についていえば一般的に0.5〜5.0g/m2
好ましい。塗布する方法としては、種々の方法を用いる
ことができるが、例えば、バーコーター塗布、回転塗
布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エア
ーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げるこ
とができる。塗布量が少なくなるにつれて、見かけの感
度は大になるが、画像記録膜の皮膜特性は低下する。
The amount of coating (solid content) on the support obtained after coating and drying varies depending on the application, but generally about 0.5 to 5.0 g / m 2 for lithographic printing plates. . Various methods can be used as the method of coating, and examples thereof include bar coater coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating, and roll coating. As the coating amount decreases, the apparent sensitivity increases, but the film characteristics of the image recording film deteriorate.

【0068】本発明における画像記録材料には、塗布性
を良化するための界面活性剤、例えば、特開昭62−1
70950号に記載されているようなフッ素系界面活性
剤を添加することができる。好ましい添加量は、全画像
記録材料固形分中0.01〜1重量%、さらに好ましく
は0.05〜0.5重量%である。
In the image recording material of the present invention, a surfactant for improving coating properties, for example, JP-A-62-1
No. 70950 can be added. The preferable addition amount is 0.01 to 1% by weight, more preferably 0.05 to 0.5% by weight, based on the total solid content of the image recording material.

【0069】[支持体]本発明の画像記録材料は好適な
支持体状に塗布して観光層を形成することで、平版印刷
版原版として使用しうる。本発明の画像記録材料を塗布
可能な支持体としては、寸度的に安定な板状物であり、
例えば、紙、プラスチック(例えば、ポリエチレン、ポ
リプロピレン、ポリスチレン等)がラミネートされた
紙、金属板(例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等)、プ
ラスチックフィルム(例えば、二酢酸セルロース、三酢
酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロー
ス、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレ
ンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリ
プロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール
等)、上記の如き金属がラミネート若しくは蒸着された
紙又はプラスチックフィルム等が挙げられる。好ましい
支持体としては、ポリエステルフィルム又はアルミニウ
ム板が挙げられる。
[Support] The image recording material of the present invention can be used as a lithographic printing plate precursor by forming a sightseeing layer by coating it on a suitable support. The support to which the image recording material of the present invention can be applied is a dimensionally stable plate-like material,
For example, paper, paper laminated with plastic (eg, polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.), metal plate (eg, aluminum, zinc, copper, etc.), plastic film (eg, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate) Cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate, cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc.), and paper or plastic films on which the above-mentioned metals are laminated or vapor-deposited. Preferred supports include a polyester film or an aluminum plate.

【0070】本発明の画像記録材料を平版印刷版として
使用する場合、支持体としては軽量で表面処理性、加工
性、耐食性に優れたアルミニウム板を使用することが好
ましい。この目的に供されるアルミニウム材質として
は、JIS 1050材、JIS 1100材、JIS
1070材、Al−Mg系合金、Al−Mn系合金、
Al−Mn−Mg系合金、Al−Zr系合金。Al−M
g−Si系合金などが使用される。
When the image recording material of the present invention is used as a lithographic printing plate, it is preferable to use a lightweight aluminum plate having excellent surface treatment properties, workability and corrosion resistance as a support. Aluminum materials used for this purpose include JIS 1050 material, JIS 1100 material, JIS
1070 material, Al-Mg based alloy, Al-Mn based alloy,
Al-Mn-Mg based alloy, Al-Zr based alloy. Al-M
A g-Si alloy or the like is used.

【0071】支持体に使用しうるアルミニウム材質に関
する公知技術を以下に列挙する。 (1)JIS 1050材に関しては、下記の技術が開示
されている。特開昭59−153861号、特開昭61
−51395、特開昭62−146694、特開昭60
−215725、特開昭60−215726、特開昭6
0−215727、特開昭60−215728、特開昭
61−272357、特開昭58−11759、特開昭
58−42493、特開昭58−221254、特開昭
62−148295、特開平4−254545、特開平
4−165041、特公平3−68939、特開平3−
234594、特公平1−47545、特開昭62−1
40894号公報など。また、特公平1−35910、
特公昭55−28874等も知られている。
Known techniques relating to aluminum materials that can be used for the support are listed below. (1) The following technology is disclosed for JIS 1050 material. JP-A No. 59-153861, JP-A No. 61-38661
-51395, JP-A-62-1146694, JP-A-60-160
215725, JP-A-60-215726, JP-A-6-215726
JP-A-215727, JP-A-60-215728, JP-A-61-272357, JP-A-58-11759, JP-A-58-42493, JP-A-58-221254, JP-A-62-148295, JP-A-Hei. 254545, Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-165041, Japanese Patent Publication No. 3-68939, Japanese Patent Application Laid-Open
234594, Japanese Patent Publication No. 47475 / JP-A-62-1
No. 40894, and the like. In addition, Japanese Patent Publication 1-35910,
Japanese Patent Publication No. 55-28874 is also known.

【0072】(2)JIS 1070材に関しては、下記
の技術が開示されている。特開平7−81264、特開
平7−305133、特開平8−49034、特開平8
−73974、特開平8−108659、特開平8−9
2679号など。
(2) The following techniques are disclosed for JIS 1070 materials. JP-A-7-81264, JP-A-7-305133, JP-A-8-49034, JP-A-8-49034
-73974, JP-A-8-108559, JP-A-8-9
No. 2679.

【0073】(3)Al−Mg系合金に関しては、下記の
技術が開示されている。特公昭62−5080、特公昭
63−60823、特公平3−61753、特開昭60
−203496、特開昭60−203497、特公平3
−11635、特開昭61−274993、特開昭62
−23794、特開昭63−47347、特開昭63−
47348、特開昭63−47349、特開昭64−6
1293、特開昭63−135294、特開昭63−8
7288、特公平4−73392、特公平7−1008
44、特開昭62−149856、特公平4−7339
4、特開昭62−181191、特公平5−7653
0、特開昭63−30294、特公平6−37116号
など。また、特開平2−215599、特開昭61−2
01747等も知られている。
(3) With respect to Al-Mg based alloys, the following techniques are disclosed. JP-B-62-5080, JP-B-63-60823, JP-B-3-61753, JP-A-60-60
-203496, JP-A-60-203497, Tokuhei 3
-11635, JP-A-61-274993, JP-A-61-27499
-23794, JP-A-63-47347, JP-A-63-473-
47348, JP-A-63-47349, JP-A-64-6
1293, JP-A-63-135294, JP-A-63-8
7288, Tokuhei 4-73392, Tokuhei 7-1008
44, JP-A-62-149856, JP-B-4-7339
4, JP-A-62-181191, Japanese Patent Publication 5-7653
0, JP-A-63-30294 and JP-B-6-37116. Further, JP-A-2-215599, JP-A-61-2
01747 and the like are also known.

【0074】(4)Al−Mn系合金に関しては、下記の
技術が開示されている。特開昭60−230951、特
開平1−306288、特開平2−293189号な
ど。また、特公昭54−42284、特公平4−192
90、特公平4−19291、特公平4−19292、
特開昭61−35995、特開昭64−51992、U
S5009722、US5028276、特開平4−2
26394等も知られている。
(4) With respect to Al-Mn alloys, the following techniques are disclosed. JP-A-60-230951, JP-A-1-306288, JP-A-2-293189, and the like. In addition, Japanese Patent Publication 54-42284, Japanese Patent Publication 4-192
90, Japanese Patent Publication 4-19291, Japanese Patent Publication 4-19292,
JP-A-61-35995, JP-A-64-51992, U
S5009722, US5028276, JP-A-4-24-2
26394 and the like are also known.

【0075】(5)Al−Mn−Mg系合金に関しては、
下記の技術が開示されている。特開昭62−8614
3、特開平3−222796。また、特公昭63−60
824。特開昭60−63346、特開昭60−633
47、EP223737、特開平1−283350、U
S4818300、BR1222777等が知られてい
る。
(5) Regarding the Al—Mn—Mg alloy,
The following technology is disclosed. JP-A-62-2614
3, JP-A-3-222796. Also, JP-B 63-60
824. JP-A-60-63346, JP-A-60-633
47, EP 223737, JP-A-1-283350, U
S4818300 and BR1222777 are known.

【0076】(6)Al−Zr系合金に関して、下記の技
術が知られている。特公昭63−15978、特開昭6
1−51395。また、特開昭63−143234、特
開昭63−143235等も知られている。
(6) The following techniques are known for Al-Zr alloys. JP-B-63-15978; JP-A-6-15978
1-51395. Further, JP-A-63-143234 and JP-A-63-143235 are also known.

【0077】(7)Al−Mg−Si系合金に関しては、
BR1421710等が知られている。
(7) Regarding the Al—Mg—Si alloy,
BR14221710 and the like are known.

【0078】また、支持体用アルミニウム板の製造方法
としては、下記の内容が使用できる。前述のような含有
成分及び、合金成分割合のアルミニウム合金溶湯を常法
に従い清浄化処理を施し、鋳造する。清浄化処理には、
溶湯中の水素などの不要なガスを除去するために、フラ
ックス処理、Arガス、Clガス等を使った脱ガス処理
や、セラミックチューブフィルタ、セラミックフォーム
フィルタ、等のいわゆるリジッドメディアフィルター
や、アルミナフレーク、アルミナボール等を濾材とする
フィルタや、グラスクロスフィルター等を使ったフィル
タリング。あるいは、脱ガスとフィルタリングを組み合
わせた処理が行われる。これらの清浄化処理は、溶湯中
の、非金属介在物、酸化物等の異物による欠陥、溶湯に
とけ込んだガスによる欠陥を防ぐために、実施されるこ
とが望ましい。
The following contents can be used as a method for producing an aluminum plate for a support. The aluminum alloy melt having the above-mentioned content components and alloy component ratios is subjected to a cleaning treatment and cast according to a conventional method. For the cleaning process,
In order to remove unnecessary gases such as hydrogen in the molten metal, flux treatment, degassing treatment using Ar gas, Cl gas, etc., so-called rigid media filters such as ceramic tube filters and ceramic foam filters, and alumina flakes , Filter using alumina ball, etc. as filter medium, or filtering using glass cloth filter. Alternatively, a process combining degassing and filtering is performed. These cleaning treatments are desirably performed in order to prevent defects due to foreign substances such as nonmetallic inclusions and oxides in the molten metal and defects due to gas dissolved in the molten metal.

【0079】溶湯のフィルタリングに関しては、特開平
6−57342、特開平3−162530、特開平5−
140659、特開平4−231425、特開平4−2
76031、特開平5−311261、特開平6−13
6466等が知られている。
Regarding the filtering of the molten metal, Japanese Patent Application Laid-Open Nos. Hei 6-57342, Hei 3-162530, Hei 5
140659, JP-A-4-231425, JP-A-4-2
76031, JP-A-5-311261, JP-A-6-13
6466 and the like are known.

【0080】溶湯の脱ガスに関しては、特開平5−51
659、特開平5−51660、実開平5−4914
8、特開平7−40017などが知られている。
Regarding the degassing of molten metal, see Japanese Unexamined Patent Publication No. 5-51
659, JP-A-5-51660, JP-A-5-4914
8, JP-A-7-40017 and the like are known.

【0081】以上のように、清浄化処理を施された溶湯
を使って、鋳造を行う。鋳造方法に関しては、DC鋳造
法に代表される、固定鋳型を用いる方法と、連続鋳造法
に代表される、駆動鋳型を用いる方法がある。DC鋳造
法を用いた場合、冷却速度は、1〜300℃/秒の範囲
で凝固される。1℃/秒未満であると、粗大な金属間化
合物が多数形成される。
As described above, casting is performed using the molten metal subjected to the cleaning treatment. Regarding the casting method, there are a method using a fixed mold typified by a DC casting method and a method using a driving mold typified by a continuous casting method. When the DC casting method is used, the solidification is performed at a cooling rate of 1 to 300 ° C./sec. When the temperature is less than 1 ° C./sec, a large number of coarse intermetallic compounds are formed.

【0082】連続鋳造法には、ハンター法、3C法に代
表される、冷却ロールを用いた方法、ハズレー法、アル
スイスキャスターII型に代表される冷却ベルト、冷却ブ
ロックを用いた方法が、工業的に行われている。連続鋳
造法を用いた場合の冷却速度は、100〜1000℃/
秒の範囲で凝固される。一般的に、DC鋳造法に比べ
て、冷却速度が速いため、アルミマトリックスに対す
る、合金成分の固溶度を高くできる特徴が有る。連続鋳
造法に関しては、本願発明者らによって、特開平3−7
9798、特開平5−201166、特開平5−156
414、特開平6−262203、特開平6−1229
49、特開平6−210406、特開平6−26230
8等が開示されている。
The continuous casting method includes a method using a cooling roll, represented by the Hunter method and the 3C method, a Hadley method, a method using a cooling belt represented by the Al Swiss Caster II type, and a method using a cooling block. It is being done. The cooling rate when using the continuous casting method is 100 to 1000 ° C. /
Coagulated in seconds. Generally, since the cooling rate is higher than that of the DC casting method, the alloy has a feature that the solid solubility of the alloy component in the aluminum matrix can be increased. Regarding the continuous casting method, the inventors of the present invention disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 3-7 / 1990.
9798, JP-A-5-201166, JP-A-5-156
414, JP-A-6-262203, JP-A-6-1229
49, JP-A-6-210406, JP-A-6-26230
8 etc. are disclosed.

【0083】DC鋳造を行った場合、板厚300〜80
0mmの鋳塊が製造できる。その鋳塊は、常法に従い、
面削を行われ、表層の1〜30mm。望ましくは、1〜
10mmを切削される。その後、必要に応じて、均熱化
処理を行われる。均熱化処理を行う場合、金属間化合物
が粗大化してしまわないように、450〜620℃で1
時間以上、48時間以下の熱処理が施される。1時間よ
り短い場合は、均熱化処理の効果が不十分となる。次い
で、熱間圧延、冷間圧延を行って、アルミニウム圧延板
とする。熱間圧延の開始温度としては、350〜500
℃の範囲とする。冷間圧延の前、または後、またはその
途中において中間焼鈍処理を施しても良い。この場合の
中間焼鈍条件は、バッチ式焼鈍炉を用いて280℃〜6
00℃で2〜20時間。望ましくは、350〜500℃
で2〜10時間加熱する方法や、連続焼鈍炉を用いて4
00〜600℃で360秒以下、望ましくは、450〜
550℃で120秒以下の加熱処理が採用できる。連続
焼鈍炉を使って、10℃/秒以上の昇温速度で加熱する
と、結晶組織を細かくすることもできる。
When DC casting is performed, the thickness is 300 to 80.
A 0 mm ingot can be manufactured. The ingot, according to the usual method,
Facing is performed and the surface layer is 1 to 30 mm. Preferably, 1 to
10 mm is cut. Thereafter, if necessary, a soaking process is performed. In the case of performing the soaking treatment, 1 to 450 ° C. to 620 ° C. is used to prevent the intermetallic compound from becoming coarse.
The heat treatment is performed for at least 48 hours. When the time is shorter than 1 hour, the effect of the soaking treatment becomes insufficient. Next, hot rolling and cold rolling are performed to obtain a rolled aluminum plate. The starting temperature of hot rolling is 350 to 500
It is in the range of ° C. Intermediate annealing treatment may be performed before, after, or during the cold rolling. The intermediate annealing conditions in this case are set to 280 ° C. to 6 ° C. using a batch annealing furnace.
2 hours to 20 hours at 00C. Desirably, 350 to 500 ° C
Heating for 2 to 10 hours or using a continuous annealing furnace for 4 hours.
360 seconds or less at 00 to 600 ° C., desirably 450 to
Heat treatment at 550 ° C. for 120 seconds or less can be employed. Heating at a rate of 10 ° C./sec or higher using a continuous annealing furnace can also make the crystal structure fine.

【0084】以上の工程によって、所定の厚さ0.1〜
0.5mmに仕上げられたAl板は平面性を改善するた
めに、ローラレベラ、テンションレベラ等の矯正装置に
よって、平面性を改善しても良い。平面性の改善は、板
をシート状にカットした後に行っても良いが、生産性を
向上させるためには、連続したコイルの状態で、平面性
改善を行うことが望ましい。また、板巾を所定の巾に加
工するため、スリッタラインを通すことが通常行われ
る。スリッタによって切られた板の端面は、スリッタ刃
に切られるときに、せん断面と破断面の片方、あるいは
両方が生じる。
According to the above steps, a predetermined thickness of 0.1 to 0.1
The flatness of the Al plate finished to 0.5 mm may be improved by a straightening device such as a roller leveler or a tension leveler in order to improve the flatness. The flatness may be improved after the plate is cut into a sheet, but it is desirable to improve the flatness in a continuous coil state in order to improve productivity. Further, in order to process the board width to a predetermined width, a slitter line is usually passed. The end face of the plate cut by the slitter has one or both of a shear surface and a fracture surface when cut by a slitter blade.

【0085】板の厚みの精度は、コイル全長にわたっ
て、±10μm以内、望ましくは±6μm以内が良い。
また、幅方向の板厚差は6μm以内、望ましくは3μm
以内がよい。また、板幅の精度は、±1.0mm以内、
望ましくは±0.5mm以内が望ましい。Al板の表面
粗度は、圧延ロールの表面粗さの影響を受けやすいが、
最終的に中心線表面粗さ(Ra)で、Ra=0.1〜
1.0μm程度に仕上げるのがよい。Raが大きすぎる
と、平版印刷版用としての粗面化処理、感光層塗布をし
たとき、Alのもともとの粗さすなわち、圧延ロールに
よって転写された粗い圧延条痕が感光層の上から見える
ため、外観上好ましくない。Ra=0.1μm以下の粗
さは、圧延ロールの表面を過度に低粗度に仕上げる必要
が有るため、工業的に望ましくない。
The accuracy of the thickness of the plate is preferably within ± 10 μm, preferably within ± 6 μm over the entire length of the coil.
The thickness difference in the width direction is within 6 μm, preferably 3 μm.
Within is good. Also, the accuracy of the board width is within ± 1.0mm,
Preferably, it is within ± 0.5 mm. The surface roughness of the Al plate is easily affected by the surface roughness of the rolling roll,
Finally, the center line surface roughness (Ra) is Ra = 0.1 to
It is preferable to finish to about 1.0 μm. If Ra is too large, the original roughness of Al, that is, the rough rolling streaks transferred by the rolling rolls can be seen from above the photosensitive layer when the surface is roughened for a lithographic printing plate and the photosensitive layer is applied. Is not preferable in appearance. Roughness of Ra = 0.1 μm or less is industrially undesirable because the surface of the rolling roll needs to be finished to an excessively low roughness.

【0086】また、Al板同士の摩擦によるキズの発生
を防止するために、Al板の表面に、薄い油膜をもうけ
ても良い。油膜には、必要に応じて、揮発性のものや、
不揮発性のものが適宜用いられる。油量が多すぎると、
製造ライン中でスリップ故障が発生するが、油量が皆無
だとコイル輸送中にキズが発生する不具合が生じるの
で、油量は3mg/m2以上で100mg/m2以下、望
ましい上限は50mg/m2以下、更に望ましくは10
mg/m2以下が良い。冷間圧延に関しては、特開平6
−210308等が開示されている。
Further, a thin oil film may be formed on the surface of the Al plate in order to prevent scratches due to friction between the Al plates. Oil slicks may be volatile,
A non-volatile one is appropriately used. If there is too much oil,
A slip failure occurs in the production line, but if there is no oil amount, a defect occurs during transportation of the coil. Therefore, the oil amount is 3 mg / m 2 or more and 100 mg / m 2 or less, and a desirable upper limit is 50 mg / m 2. m 2 or less, more preferably 10
mg / m 2 or less is good. Regarding cold rolling,
-210308 and the like are disclosed.

【0087】連続鋳造を行った場合、例えば、ハンター
法等の冷却ロールを用いると板厚1〜10mmの鋳造板
を直接連続鋳造圧延でき、熱間圧延の工程を省略できる
メリットが得られる。また、ハズレー法等の冷却ロール
を用いると、板厚10〜50mmの鋳造板が鋳造でき、
一般的に、鋳造直後に熱間圧延ロールを配置し連続的に
圧延することで、板厚1〜10mmの連続鋳造圧延板が
得られる。これらの連続鋳造圧延板は、DC鋳造の場合
に説明したのと同じように、冷間圧延、中間焼鈍、平面
性改善、スリット等の工程を経て0.1〜0.5mmの
板厚に仕上げられる。連続鋳造法を用いた場合の中間焼
鈍条件、冷間圧延条件については、特開平6−2205
93、特開平6−210308、特開平7−5411
1、特開平8−92709等が開示されている。
In the case of performing continuous casting, for example, using a cooling roll such as a Hunter method, a cast plate having a thickness of 1 to 10 mm can be directly continuously cast and rolled, and there is an advantage that the step of hot rolling can be omitted. In addition, when a cooling roll such as the Hasley method is used, a cast plate having a plate thickness of 10 to 50 mm can be cast,
In general, a hot-rolled roll is arranged immediately after casting and continuously rolled to obtain a continuously cast rolled plate having a thickness of 1 to 10 mm. These continuous cast rolled sheets are finished to a thickness of 0.1 to 0.5 mm through the steps of cold rolling, intermediate annealing, improvement of flatness, slits, etc., as described in the case of DC casting. Can be Regarding the intermediate annealing condition and the cold rolling condition when the continuous casting method is used, refer to JP-A-6-2205.
93, JP-A-6-210308, JP-A-7-5541
1, JP-A-8-92709 and the like are disclosed.

【0088】上記方法で製造したアルミニウム板は表面
に粗面化処理等の表面処理を行い、感光層を塗布して平
版印刷板とすることが出来る。粗面化処理には、機械的
粗面化、化学的粗面化、電気化学的粗面化が単独又は組
み合わせて行われる。また、表面のキズ付き難さを確保
するための陽極酸化処理を行ったり、親水性を増すため
の処理を行うことも好ましい。
The aluminum plate manufactured by the above method can be subjected to a surface treatment such as a surface roughening treatment, and a photosensitive layer can be applied to obtain a lithographic printing plate. In the surface roughening treatment, mechanical surface roughening, chemical surface roughening, and electrochemical surface roughening are performed alone or in combination. Further, it is also preferable to perform an anodic oxidation treatment for securing the surface with difficulty in scratching or a treatment for increasing the hydrophilicity.

【0089】以下に支持体として用いるアルミニウム板
の表面処理を説明する。アルミニウム板を粗面化するに
先立ち、必要に応じ、表面の圧延油を除去するための例
えば界面活性剤、有機溶剤またはアルカリ性水溶液など
による脱脂処理が行われてもよい。アルカリの場合、次
いで酸性溶液で中和、スマット除去などの処理を行って
もよい。
The surface treatment of an aluminum plate used as a support will be described below. Prior to roughening the aluminum plate, if necessary, a degreasing treatment with, for example, a surfactant, an organic solvent, or an alkaline aqueous solution for removing rolling oil on the surface may be performed. In the case of alkali, treatment such as neutralization and removal of smut may be performed with an acidic solution.

【0090】次いで支持体と感光層の密着性を良好に
し、かつ非画像部に保水性を与えるため、支持体の表面
を粗面化する、いわゆる、砂目立て処理がなされてい
る。この砂目立て処理法の具体的手段としては、サンド
ブラスト、ボールグレイン、ワイヤーグレイン、ナイロ
ンブラシと研磨材/水スラリーによるブラシグレイン、
研磨材/水スラリーを表面に高圧で吹き付けるホーニン
ググレインなどによる機械的砂目立て方法があり、また
アルカリまたは酸あるいはそれらの混合物からなるエッ
チング剤で表面を粗面化処理する化学的砂目立て方法が
ある。また英国特許第896,563号公報、特開昭5
3−67507号公報、特開昭54−146234号公
報及び特公昭48−28123号公報に記載されている
電気化学的砂目立て方法、または特開昭53−1232
04号公報、特開昭54−63902号公報に記載され
ている機械的砂目立て方法と電気化学的砂目立て方法と
を組み合わせた方法、特開昭56−55261号公報に
記載されている機械的砂目立て方法と鉱酸のアルミニウ
ム塩の飽和水溶液による化学的砂目立て方法とを組み合
わせた方法も知られている。また上記支持体材料に、粒
状体を接着剤またはその効果を有する方法で接着させて
表面を粗面化する方法や、微細な凹凸を有する連続帯や
ロールを支持体材料に圧着させて凹凸を転写することに
よって粗面を形成させてもよい。
Next, in order to improve the adhesion between the support and the photosensitive layer and to impart water retention to the non-image area, a so-called graining treatment is performed to roughen the surface of the support. Specific means of the graining method include sand blast, ball grain, wire grain, brush grain using a nylon brush and an abrasive / water slurry,
There is a mechanical graining method using a honing grain or the like in which an abrasive / water slurry is sprayed onto the surface at a high pressure, and a chemical graining method in which the surface is roughened with an etching agent composed of an alkali, an acid, or a mixture thereof. . In addition, British Patent No. 896,563,
JP-A-3-67507, JP-A-54-146234 and JP-B-48-28123 describe the method of electrochemical graining, or JP-A-53-1232.
No. 04, JP-A-54-63902 and a combination of the mechanical graining method and the electrochemical graining method described in JP-A-56-55261. A method is also known in which a graining method is combined with a chemical graining method using a saturated aqueous solution of an aluminum salt of a mineral acid. Also, a method of bonding the granular material to the support material with an adhesive or a method having the effect thereof to roughen the surface, or a continuous band or roll having fine unevenness is pressed against the support material to remove the unevenness. A rough surface may be formed by transferring.

【0091】これらのような粗面化方法は複数を組み合
わせて行ってもよく、その順序、繰り返し数などは任意
に選択することができる。複数の粗面化処理を組み合わ
せる場合、その間に、続いて行う粗面化処理を均一に行
えるようにするために酸またはアルカリ水溶液による化
学的処理を行うことができる。上記、酸またはアルカリ
水溶液の具体例としては、例えば弗酸、弗化ジルコン
酸、りん酸、硫酸、塩酸、硝酸などの酸および水酸化ナ
トリウム、珪酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、などのア
ルカリ水溶液が挙げられる。これらの酸またはアルカリ
水溶液はそれぞれ一種または二種以上を混合して使用す
ることができる。化学的処理はこれらの酸またはアルカ
リの0.05〜40重量%水溶液を用い、40℃〜10
0℃の液温において5〜300秒処理するのが一般的で
ある。
A plurality of such surface roughening methods may be performed in combination, and the order, the number of repetitions, and the like can be arbitrarily selected. When a plurality of surface roughening treatments are combined, a chemical treatment with an acid or alkali aqueous solution can be performed during that time to make the subsequent surface roughening treatment uniform. Specific examples of the above-mentioned acid or alkali aqueous solution include, for example, acids such as hydrofluoric acid, fluorinated zirconic acid, phosphoric acid, sulfuric acid, hydrochloric acid, and nitric acid, and alkali aqueous solutions such as sodium hydroxide, sodium silicate, and sodium carbonate. . These acid or alkali aqueous solutions can be used alone or in combination of two or more. For the chemical treatment, a 0.05 to 40% by weight aqueous solution of these acids or alkalis is used.
In general, the treatment is performed at a liquid temperature of 0 ° C. for 5 to 300 seconds.

【0092】前述のような粗面化処理すなわち砂目立て
処理して得られた支持体の表面には、スマットが生成し
ているので、このスマットを除去するために適宜水洗あ
るいはアルカリエッチング等の処理を行うことが一般的
に好ましい。このような処理としては、例えば特公昭4
8−28123号公報に記載されているアルカリエッチ
ング法や特開昭53−12739号公報に記載されてい
る硫酸デスマット法等の処理方法が挙げられる。
Since a smut is formed on the surface of the support obtained by the above-mentioned surface roughening treatment, ie, graining treatment, a treatment such as washing with water or alkali etching is appropriately performed to remove the smut. Is generally preferred. Examples of such processing include, for example,
Examples thereof include a treatment method such as an alkali etching method described in JP-A-8-28123 and a desmutting sulfate method described in JP-A-53-12739.

【0093】本発明に用いられるアルミニウム支持体の
場合には、前述のような前処理を施した後、通常、耐摩
耗性、耐薬品性、保水性を向上させるために、陽極酸化
によって支持体に酸化皮膜を形成させる。
In the case of the aluminum support used in the present invention, after the pretreatment as described above, the support is usually anodized to improve abrasion resistance, chemical resistance and water retention. To form an oxide film.

【0094】アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられ
る電解質としては多孔質酸化皮膜を形成するものならば
いかなるものでも使用することができ、一般には硫酸、
リン酸、蓚酸、クロム酸あるいはこれらの混酸が用いら
れる。それらの電解質の濃度は電解質の種類によって適
宜決められる。陽極酸化の処理条件は用いる電解質によ
り種々変わるので一概に特定し得ないが、一般的には電
解質の濃度が1〜80%溶液、液温は5〜70℃、電流
密度5〜60A/dm2、電圧1〜100V、電解時間
10秒〜5分の範囲にあれば適当である。陽極酸化皮膜
の量は1.0g/m2以上が好適であるが、より好まし
くは2.0〜6.0g/m2の範囲である。陽極酸化皮
膜が1.0g/m2未満であると耐刷性が不十分であっ
たり、平版印刷版の非画像部に傷が付き易くなって、印
刷時に傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷汚れ」
が生じ易くなる。
As the electrolyte used for the anodic oxidation treatment of the aluminum plate, any electrolyte can be used as long as it forms a porous oxide film.
Phosphoric acid, oxalic acid, chromic acid or a mixed acid thereof is used. The concentration of these electrolytes is appropriately determined depending on the type of the electrolyte. Anodizing treatment conditions vary depending on the electrolyte used, and thus cannot be specified unconditionally. However, in general, the concentration of the electrolyte is 1 to 80% solution, the liquid temperature is 5 to 70 ° C., and the current density is 5 to 60 A / dm 2. It is appropriate that the voltage is in the range of 1 to 100 V and the electrolysis time is in the range of 10 seconds to 5 minutes. The amount of the anodized film is suitably 1.0 g / m 2 or more, but more preferably in the range of 2.0 to 6.0 g / m 2. When the anodic oxide film is less than 1.0 g / m 2 , the printing durability is insufficient or the non-image area of the lithographic printing plate is easily damaged, and the ink adheres to the damaged area during printing. "Scratch dirt"
Tends to occur.

【0095】尚、このような陽極酸化処理は平版印刷版
の支持体の印刷に用いる面に施されるが、電気力線の裏
回りにより、裏面にも0.01〜3g/m2の陽極酸化
皮膜が形成されるのが一般的である。また、アルカリ水
溶液(例えば数%の苛性ソーダ水溶液)や、熔融塩中で
の陽極酸化処理や、例えばホウ酸アンモン水溶液を用い
た無孔性陽極酸化皮膜を形成させる陽極酸化処理なども
行うことができる。
[0095] Although such anodizing treatment is performed on a surface used for printing of the support of the lithographic printing plate, the back around the electric lines of force, on the back surface of 0.01 to 3 g / m 2 anode Generally, an oxide film is formed. Further, an anodic oxidation treatment in an alkaline aqueous solution (for example, a caustic soda aqueous solution of several%) or a molten salt, or an anodic oxidation treatment for forming a non-porous anodic oxide film using, for example, an ammonium borate aqueous solution can be performed. .

【0096】陽極酸化処理を行う前に、特開平4−14
8991号や特開平4−97896号に記載されている
水和酸化皮膜生成を行ってもよく、また、特開昭63−
56497号や特開昭63−67295号に記載されて
いる金属珪酸塩溶液中での処理、水和酸化皮膜生成処理
や、特開昭56−144195号に記載されている化成
皮膜生成処理などを行うこともできる。
Before performing the anodic oxidation treatment, refer to
Alternatively, a hydrated oxide film described in JP-A-8991 or JP-A-4-97896 may be formed.
No. 56497 and JP-A-63-67295, a treatment in a metal silicate solution, a hydrated oxide film forming treatment, and a chemical conversion film forming treatment described in JP-A-56-144195. You can do it too.

【0097】本発明のアルミニウム支持体は陽極酸化処
理後に有機酸またはその塩による処理または、感光層塗
布の下塗り層として用いることができる。有機酸または
その塩としては、有機カルボン酸、有機ホスホン酸、有
機スルホン酸またはその塩等が挙げられるが、好ましく
は有機カルボン酸またはその塩である。有機カルボン酸
としては、蟻酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、ラウリン
酸、パルミチン酸、ステアリン酸等の脂肪族モノカルボ
ン酸類;オレイン酸、リノール酸等の不飽和脂肪族モノ
カルボン酸類;蓚酸、コハク酸、アジピン酸、マレイン
酸等の脂肪族ジカルボン酸類;乳酸、グルコン酸、リン
ゴ酸、酒石酸、クエン酸等のオキシカルボン酸類;安息
香酸、マンデル酸、サリチル酸、フタル酸等の芳香族カ
ルボン酸類およびIa、IIb、IIIb、IVa、VIbおよびVIII
族の金属塩およびアンモニウム塩が挙げられる。上記有
機カルボン酸塩のうち好ましいのは蟻酸、酢酸、酪酸、
プロピオン酸、ラウリン酸、オレイン酸、コハク酸およ
び安息香酸の上記金属塩およびアンモニウム塩である。
これらの化合物は単独でも2種以上組み合わせて用いて
もよい。
The aluminum support of the present invention can be treated with an organic acid or a salt thereof after anodic oxidation treatment, or used as an undercoat layer for coating a photosensitive layer. Examples of the organic acid or a salt thereof include an organic carboxylic acid, an organic phosphonic acid, an organic sulfonic acid or a salt thereof, and preferably an organic carboxylic acid or a salt thereof. Examples of the organic carboxylic acids include aliphatic monocarboxylic acids such as formic acid, acetic acid, propionic acid, butyric acid, lauric acid, palmitic acid and stearic acid; unsaturated aliphatic monocarboxylic acids such as oleic acid and linoleic acid; oxalic acid and succinic acid Aliphatic dicarboxylic acids such as adipic acid and maleic acid; oxycarboxylic acids such as lactic acid, gluconic acid, malic acid, tartaric acid and citric acid; aromatic carboxylic acids such as benzoic acid, mandelic acid, salicylic acid and phthalic acid; IIb, IIIb, IVa, VIb and VIII
Group metal salts and ammonium salts. Preferred among the organic carboxylate salts are formic acid, acetic acid, butyric acid,
The above-mentioned metal salts and ammonium salts of propionic acid, lauric acid, oleic acid, succinic acid and benzoic acid.
These compounds may be used alone or in combination of two or more.

【0098】これらの化合物は水、アルコールに0.0
01〜10重量%、特に0.01〜1.0重量%の濃度
となるよう溶解されるのが好ましく、処理条件としては
25〜95℃、好ましくは50〜95℃の温度範囲、p
Hは1〜13、好ましくは2〜10、10秒〜20分、
好ましくは10秒〜3分間支持体を浸漬するか、処理液
を支持体に塗布する。
These compounds are used in water and alcohol in 0.0
It is preferably dissolved in a concentration of from 0.01 to 10% by weight, particularly from 0.01 to 1.0% by weight. The processing conditions include a temperature range of 25 to 95 ° C, preferably 50 to 95 ° C.
H is 1 to 13, preferably 2 to 10, 10 seconds to 20 minutes,
Preferably, the support is immersed for 10 seconds to 3 minutes, or the treatment liquid is applied to the support.

【0099】また、さらに陽極酸化処理後、以下のよう
な化合物溶液による処理や、これらの化合物を、感光層
塗布の下塗り層として用いることができる。好適に用い
られる化合物としては、例えば、置換基を有してもよい
フェニルホスホン酸、ナフチルホスホン酸、アルキルホ
スホン酸、グリセロホスホン酸、メチレンジホスホン酸
およびエチレンジホスホン酸などの有機ホスホン酸、置
換基を有してもよいフェニルリン酸、ナフチルリン酸、
アルキルリン酸およびグリセロリン酸などの有機リン
酸、置換基を有してもよいフェニルホスフィン酸、ナフ
チルホスフィン酸、アルキルホスフィン酸およびグリセ
ロホスフィン酸などの有機ホスフィン酸、グリシン、β
−アラニン、バリン、セリン、スレオニン、アスパラギ
ン酸、グルタミン酸、アルギニン、リジン、トリプトフ
ァン、パラヒドロキシフェニルグリシン、ジヒドロキシ
エチルグリシン、アントラニル酸等のアミノ酸;スルフ
ァミン酸、シクロヘキシルスルファミン酸等のアミノス
ルホン酸;1−アミノメチルホスホン酸、1−ジメチル
アミノエチルホスホン酸、2−アミノエチルホスホン
酸、2−アミノプロピルホスホン酸、4−アミノフェニ
ルホスホン酸、1−アミノエタン−1,1−ジホスホン
酸、1−アミノ−1−フェニルメタン−1,1−ジホス
ホン酸、1−ジメチルアミノエタン−1,1−ジホスホ
ン酸、1−ジメチルアミノブタン−1,1−ジホスホン
酸、エチレンジアミンテトラメチレンホスホン酸等のア
ミノホスホン酸等の化合物が挙げられる。
Further, after the anodic oxidation treatment, the following treatment with a compound solution or these compounds can be used as an undercoat layer for coating the photosensitive layer. Suitable compounds include, for example, optionally substituted phenylphosphonic acid, naphthylphosphonic acid, alkylphosphonic acid, glycerophosphonic acid, organic phosphonic acids such as methylenediphosphonic acid and ethylenediphosphonic acid, substituted Phenyl phosphate, naphthyl phosphate, which may have a group,
Organic phosphoric acids such as alkyl phosphoric acid and glycerophosphoric acid, organic phosphinic acids such as optionally substituted phenylphosphinic acid, naphthylphosphinic acid, alkylphosphinic acid and glycerophosphinic acid, glycine, β
-Amino acids such as alanine, valine, serine, threonine, aspartic acid, glutamic acid, arginine, lysine, tryptophan, parahydroxyphenylglycine, dihydroxyethylglycine, and anthranilic acid; aminosulfonic acids such as sulfamic acid and cyclohexylsulfamic acid; 1-amino acid Methylphosphonic acid, 1-dimethylaminoethylphosphonic acid, 2-aminoethylphosphonic acid, 2-aminopropylphosphonic acid, 4-aminophenylphosphonic acid, 1-aminoethane-1,1-diphosphonic acid, 1-amino-1-phenyl Aminophosphonic acids such as methane-1,1-diphosphonic acid, 1-dimethylaminoethane-1,1-diphosphonic acid, 1-dimethylaminobutane-1,1-diphosphonic acid, and ethylenediaminetetramethylenephosphonic acid; Compounds, and the like.

【0100】また、塩酸、硫酸、硝酸、スルホン酸(メ
タンスルホン酸等)または蓚酸と、アルカリ金属、アン
モニア、低級アルカノールアミン(トリエタノールアミ
ン等)、低級アルキルアミン(トリエチルアミン等)等
との塩も好適に使用することができる。
Further, salts of hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, sulfonic acid (such as methanesulfonic acid) or oxalic acid with alkali metals, ammonia, lower alkanolamines (such as triethanolamine), lower alkylamines (such as triethylamine), etc. It can be suitably used.

【0101】ポリアクリルアミド、ポリビニルアルコー
ル、ポリビニルピロリドン、ポリエチレンイミンおよび
その鉱酸塩、ポリ(メタ)アクリル酸およびその金属
塩、ポリスチレンスルホン酸およびその金属塩、(メ
タ)アクリル酸アルキルエステルと2−アクリルアミド
−2−メチル−1−プロパンスルホン酸およびその金属
塩、塩化トリアルキルアンモニムメチルスチレンのポリ
マーおよびその(メタ)アクリル酸とのコポリマー、ポ
リビニルホスホン酸等の水溶性ポリマーも好適に使用す
ることができる。
Polyacrylamide, polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone, polyethyleneimine and its mineral salts, poly (meth) acrylic acid and its metal salts, polystyrenesulfonic acid and its metal salts, alkyl (meth) acrylate and 2-acrylamide Water-soluble polymers such as 2-methyl-1-propanesulfonic acid and metal salts thereof, polymers of trialkylammonium methylstyrene styrene and copolymers thereof with (meth) acrylic acid, and polyvinylphosphonic acid can also be suitably used. it can.

【0102】さらに可溶性デンプン、カルボキシメチル
セルロース、デキストリン、ヒドロキシエチルセルロー
ス、アラビアガム、グアーガム、アルギン酸ソーダ、ゼ
ラチン、グルコース、ソルビトールなども好適に使用す
ることができる。これらの化合物は単独でも2種以上を
組み合わせて用いてもよい。
Further, soluble starch, carboxymethylcellulose, dextrin, hydroxyethylcellulose, gum arabic, guar gum, sodium alginate, gelatin, glucose, sorbitol and the like can also be suitably used. These compounds may be used alone or in combination of two or more.

【0103】処理の場合、これらの化合物は水及び/又
はメチルアルコールに0.001〜10重量%、特に
0.01〜1.0重量%の濃度となるよう溶解されるの
が好ましく、処理条件としては25〜95℃、好ましく
は50〜95℃の温度範囲、pHは1〜13、好ましく
は2〜10、10秒〜20分、好ましくは10秒〜3分
間支持体を浸漬する。
In the case of treatment, these compounds are preferably dissolved in water and / or methyl alcohol at a concentration of 0.001 to 10% by weight, particularly 0.01 to 1.0% by weight. The support is immersed in a temperature range of 25 to 95 ° C, preferably 50 to 95 ° C, and the pH is 1 to 13, preferably 2 to 10, 10 seconds to 20 minutes, and preferably 10 seconds to 3 minutes.

【0104】感光層塗布の下塗り層として用いる場合
は、同様に水及び/又はメチルアルコールに0.001
〜10重量%、特に0.01〜1.0重量%の濃度とな
るように溶解され、必要に応じて、アンモニア、トリエ
チルアミン、水酸化カリウムなどの塩基性物質や、塩
酸、リン酸などの酸性物質によりpHを調節し、pH1
〜12の範囲で使用することもできる。また、感光性平
版印刷版の調子再現性改良のために黄色系染料を添加す
ることもできる。有機下塗層の乾燥後の被覆量は、2〜
200mg/m2が適当であり、好ましくは5〜100
mg/m2である。上記の被覆量が2mg/m2未満であ
ると汚れ防止等の本来の目的に十分な効果が得られな
い。また、200mg/m2を越えると硬化により形成
された画像の強度が低下する。
When used as an undercoat layer for coating the photosensitive layer, water and / or methyl alcohol may be added in the same manner as above.
10 to 10% by weight, particularly 0.01 to 1.0% by weight, and dissolved as necessary. Basic substances such as ammonia, triethylamine and potassium hydroxide, and acidic substances such as hydrochloric acid and phosphoric acid The pH is adjusted by the substance,
It can also be used in the range of ~ 12. Further, a yellow dye can be added for improving the tone reproducibility of the photosensitive lithographic printing plate. The coating amount of the organic undercoat layer after drying is 2 to
200 mg / m 2 is suitable, preferably 5 to 100 mg / m 2.
mg / m 2 . If the above-mentioned coating amount is less than 2 mg / m 2 , a sufficient effect for the original purpose such as prevention of stain cannot be obtained. On the other hand, if it exceeds 200 mg / m 2 , the strength of an image formed by curing is reduced.

【0105】なお支持体と感光層との密着性を高めるた
めの中間層を設けてもよい。密着性の向上のためには、
一般に中間層は、ジアゾ樹脂や、例えばアルミニウムに
吸着するリン酸化合物等からなっている。中間層の厚さ
は任意であり、露光した時に、上層の感光層と均一な結
合形成反応を行い得る厚みでなければならない。通常、
乾燥固体で約1〜100mg/m2の塗布割合がよく、
5〜40mg/m2が特に良好である。中間層中におけ
るジアゾ樹脂の使用割合は、30〜100%、好ましく
は60〜100%である。
An intermediate layer for improving the adhesion between the support and the photosensitive layer may be provided. To improve adhesion,
Generally, the intermediate layer is made of a diazo resin or a phosphoric acid compound adsorbed on aluminum, for example. The thickness of the intermediate layer is arbitrary, and must be such a thickness that a uniform bond-forming reaction with the upper photosensitive layer can be performed when exposed. Normal,
The dry solid has a good coating ratio of about 1 to 100 mg / m 2 ,
5-40 mg / m 2 are particularly good. The usage ratio of the diazo resin in the intermediate layer is 30 to 100%, preferably 60 to 100%.

【0106】以上のような処理及び下塗り層付与の前
に、陽極酸化処理された支持体は、水洗処理されたあ
と、現像液への陽極酸化皮膜の溶解抑制、感光層成分の
残膜抑制、陽極酸化皮膜強度向上、陽極酸化皮膜の親水
性向上、感光層との密着性向上等を目的に、以下のよう
な処理を行うことができる。
Before the above-described treatment and the application of the undercoat layer, the support subjected to the anodic oxidation treatment is washed with water, and thereafter, the dissolution of the anodic oxide film in the developing solution, the suppression of the remaining film of the photosensitive layer components, The following treatments can be performed for the purpose of improving the strength of the anodic oxide film, improving the hydrophilicity of the anodic oxide film, and improving the adhesion to the photosensitive layer.

【0107】そのひとつとしては、陽極酸化皮膜をアル
カリ金属の珪酸塩水溶液と接触させて処理するシリケー
ト処理があげられる。この場合、アルカリ金属珪酸塩の
濃度は0.1〜30重量%、好ましくは0.5〜15重
量%であり、25℃でのpHが10〜13.5である水
溶液に5〜80℃、好ましくは10〜70℃、より好ま
しくは15〜50℃で0.5〜120秒間接触させる。
接触させる方法は、浸せきでもスプレーによる吹き付け
でも、いかなる方法によってもかまわない。アルカリ金
属珪酸塩水溶液はpHが10より低いと液はゲル化し、
13.5より高いと陽極酸化皮膜が溶解されてしまう。
One of them is a silicate treatment in which the anodic oxide film is brought into contact with an aqueous solution of an alkali metal silicate to carry out the treatment. In this case, the concentration of the alkali metal silicate is 0.1 to 30% by weight, preferably 0.5 to 15% by weight, and the pH at 25 ° C is 10 to 13.5 in an aqueous solution at 5 to 80 ° C. The contact is preferably performed at 10 to 70 ° C, more preferably 15 to 50 ° C for 0.5 to 120 seconds.
The contacting method may be any method such as dipping or spraying. When the pH of the aqueous alkali metal silicate solution is lower than 10, the solution gels,
If it is higher than 13.5, the anodic oxide film will be dissolved.

【0108】本発明に用いられるアルカリ金属珪酸塩
は、珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、珪酸リチウムなど
が使用される。アルカリ金属珪酸塩水溶液のpH調整に
使用される水酸化物としては、水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム、水酸化リチウムなどがある。なお、上記処
理液にはアルカリ土類金属塩もしくは第IVb族金属塩を
配合してもよい。アルカリ土類金属塩としては、硝酸カ
ルシウム、硝酸ストロンチウム、硝酸マグネシウム、硝
酸バリウムのような硝酸塩や、硫酸塩、塩酸塩、リン酸
塩、酢酸塩、シュウ酸塩、ほウ酸塩などの水溶性塩が挙
げられる。第IVB族金属塩としては、四塩化チタン、三
塩化チタン、フッ化チタンカリウム、シュウ酸チタンカ
リウム、硫酸チタン、四ヨウ化チタン、塩化酸化ジルコ
ニウムなどが挙げられる。アルカリ土類金属もしくは第
IVb族金属塩は単独または2種以上組み合わせて使用す
る事ができる。これらの金属塩の好ましい範囲は、0.
01〜10重量%であり、更に好ましくは0.05〜
5.0重量%である。
As the alkali metal silicate used in the present invention, sodium silicate, potassium silicate, lithium silicate and the like are used. Hydroxides used for adjusting the pH of the aqueous alkali metal silicate solution include sodium hydroxide, potassium hydroxide, and lithium hydroxide. The treatment liquid may contain an alkaline earth metal salt or a Group IVb metal salt. Alkaline earth metal salts include nitrates such as calcium nitrate, strontium nitrate, magnesium nitrate, and barium nitrate, and water-soluble salts such as sulfate, hydrochloride, phosphate, acetate, oxalate, and borate. Salts. Group IVB metal salts include titanium tetrachloride, titanium trichloride, potassium titanium fluoride, titanium potassium oxalate, titanium sulfate, titanium tetraiodide, zirconium chloride, and the like. Alkaline earth metal or No.
Group IVb metal salts can be used alone or in combination of two or more. The preferred range of these metal salts is 0.1.
01 to 10% by weight, more preferably 0.05 to 10% by weight.
5.0% by weight.

【0109】他には、各種封孔処理もあげられ、一般的
に陽極酸化皮膜の封孔処理方法として知られている、水
蒸気封孔、沸騰水(熱水)封孔、金属塩封孔(クロム酸
塩/重クロム酸塩封孔、酢酸ニッケル封孔など)、油脂
含浸封孔、合成樹脂封孔、低温封孔(赤血塩やアルカリ
土類塩などによる)などを用いる事ができるが、印刷版
用支持体としての性能(感光層との密着性や親水性)、
高速処理、低コスト、低公害性等の面から水蒸気封孔が
比較的好ましい。その方法としては、たとえば特開平4
−176690号公報にも開示されている加圧または常
圧の水蒸気を連続または非連続的に、相対湿度70%以
上・蒸気温度95℃以上で2秒〜180秒程度陽極酸化
皮膜に接触させる方法などが挙げられる。他の封孔処理
法としては、支持体を80〜100℃程度の熱水または
アルカリ水溶液に浸漬または吹き付け処理する方法や、
これに代えるか或いは引き続き、亜硝酸溶液で浸漬また
は吹き付け処理することができる。亜硝酸塩の例として
は、周期律表のIa、IIa 、IIb 、IIIb、IVb 、IVa 、VI
a、VIIa、VIII族の金属の亜硝酸塩またはアンモニウム
塩、ななわち亜硝酸アンモニウムが挙げられ、その金属
塩としては、例えばLiO2、NaNO2、KNO2、M
g(NO22、Ca(NO22、Zn(NO32、Al
(NO23、Zr(NO24、Sn(NO23、Cr
(NO23、Co(NO22、Mn(NO22、Ni
(NO22等が好ましく、特にアルカリ金属亜硝酸塩が
好ましい。亜硝酸塩は2種以併用することもできる。
In addition, various sealing treatments can be mentioned, and steam sealing, boiling water (hot water) sealing, metal salt sealing (generally known as a method for sealing an anodic oxide film) are also available. Chromate / dichromate seal, nickel acetate seal, etc.), oil impregnated seal, synthetic resin seal, low temperature seal (by red blood salt or alkaline earth salt, etc.) can be used. , Performance as a support for a printing plate (adhesion to the photosensitive layer and hydrophilicity),
From the viewpoints of high-speed processing, low cost, and low pollution, steam sealing is relatively preferred. As the method, for example,
No. 176690 discloses a method for continuously or discontinuously applying pressurized or normal pressure steam to a anodic oxide film at a relative humidity of 70% or more and a steam temperature of 95 ° C. or more for about 2 to 180 seconds. And the like. As another sealing treatment method, a method of immersing or spraying the support in hot water or an aqueous alkali solution at about 80 to 100 ° C.,
Alternatively or subsequently, it can be dipped or sprayed with a nitrous acid solution. Examples of nitrites include Ia, IIa, IIb, IIIb, IVb, IVa, VIa of the periodic table.
a, VIIa, and VIII metal nitrites or ammonium salts, ie, ammonium nitrite, such as LiO 2 , NaNO 2 , KNO 2 , M
g (NO 2 ) 2 , Ca (NO 2 ) 2 , Zn (NO 3 ) 2 , Al
(NO 2 ) 3 , Zr (NO 2 ) 4 , Sn (NO 2 ) 3 , Cr
(NO 2 ) 3 , Co (NO 2 ) 2 , Mn (NO 2 ) 2 , Ni
(NO 2 ) 2 and the like are preferable, and alkali metal nitrite is particularly preferable. Two or more nitrites can be used in combination.

【0110】処理条件は、支持体の状態及びアルカリ金
属の種類により異なるので一義的には決定できないが、
例えば亜硝酸ナトリウムを用いた場合には、濃度は一般
的には0.001〜10重量%、より好ましくは0.0
1〜2重量%、浴温度は一般的には室温から約100℃
前後、より好ましくは60〜90℃、処理時間は一般的
には15〜300秒、より好ましくは10〜180秒の
それぞれの範囲から選択すればよい。亜硝酸水溶液のp
Hは8.0〜11.0に調製されていることが好まし
く、8.5〜9.5に調製されていることが特に好まし
い。亜硝酸水溶液のpHを上記の範囲に調製するには、
例えばアルカリ緩衝液等を用いて好適に調製することが
できる。該アルカリ緩衝液としては、限定はされないが
例えば炭酸水素ナトリウムと水酸化ナトリウムの混合水
溶液、炭酸ナトリウムと水酸化ナトリウムの混合水溶
液、炭酸ナトリウムと炭酸水素ナトリウムの混合水溶
液、塩化ナトリウムと水酸化ナトリウムの混合水溶液、
塩酸と炭酸ナトリウムの混合水溶液、四ホウ酸ナトリウ
ムと水酸化ナトリウムの混合水溶液等を好適に用いるこ
とができる。また、上記アルカリ緩衝液はナトリウム以
外のアルカリ金属塩、例えばカリウム塩等も用いること
ができる。
The processing conditions cannot be uniquely determined because they vary depending on the state of the support and the type of alkali metal.
For example, when sodium nitrite is used, the concentration is generally 0.001 to 10% by weight, more preferably 0.01 to 10% by weight.
1-2% by weight, bath temperature generally from room temperature to about 100 ° C
Before and after, more preferably at 60 to 90 ° C., and the treatment time may be generally selected from the respective ranges of 15 to 300 seconds, more preferably 10 to 180 seconds. Nitrous acid aqueous solution
H is preferably adjusted to 8.0 to 11.0, and particularly preferably adjusted to 8.5 to 9.5. To adjust the pH of the nitrous acid aqueous solution to the above range,
For example, it can be suitably prepared using an alkaline buffer or the like. Examples of the alkaline buffer include, but are not limited to, a mixed aqueous solution of sodium hydrogen carbonate and sodium hydroxide, a mixed aqueous solution of sodium carbonate and sodium hydroxide, a mixed aqueous solution of sodium carbonate and sodium hydrogen carbonate, and a mixed aqueous solution of sodium chloride and sodium hydroxide. Mixed aqueous solution,
A mixed aqueous solution of hydrochloric acid and sodium carbonate, a mixed aqueous solution of sodium tetraborate and sodium hydroxide, and the like can be suitably used. Further, as the alkaline buffer, an alkali metal salt other than sodium, for example, a potassium salt can be used.

【0111】以上のような、シリケート処理または封孔
処理を施したあと、感光層との密着性をアップさせるた
めに特開平5−278362号公報に開示されている酸
性水溶液処理と親水性下塗りを行うことや、特開平4−
282637号公報や特開平7−314937号明細書
に開示されている有機層を設けてもよい。
After performing the silicate treatment or the sealing treatment as described above, in order to improve the adhesion to the photosensitive layer, an acidic aqueous solution treatment and a hydrophilic undercoat disclosed in JP-A-5-278362 are applied. And Japanese Patent Application Laid-Open
An organic layer disclosed in Japanese Patent No. 282637 or JP-A-7-314937 may be provided.

【0112】支持体表面に以上のような処理或いは、下
塗りなどが施された後、支持体の裏面には、必要に応じ
てバックコートが設けられる。かかるバックコートとし
ては特開平5−45885号公報記載の有機高分子化合
物および特開平6−35174号記載の有機または無機
金属化合物を加水分解および重縮合させて得られる金属
酸化物からなる被覆層が好ましく用いられる。これらの
被覆層のうち、Si(OCH34 、Si(OC
254、Si(OC374、Si(OC494など
の珪素のアルコキシ化合物が安価で入手し易く、それか
ら得られる金属酸化物の被覆層が耐現像液に優れており
特に好ましい。
After the above-described treatment or undercoating is applied to the surface of the support, a back coat is provided on the back surface of the support as necessary. As such a back coat, a coating layer comprising a metal oxide obtained by hydrolysis and polycondensation of an organic polymer compound described in JP-A-5-45885 and an organic or inorganic metal compound described in JP-A-6-35174 is used. It is preferably used. Among these coating layers, Si (OCH 3 ) 4 , Si (OC
2 H 5) 4, Si ( OC 3 H 7) 4, Si (OC 4 H 9) is easily available and inexpensive alkoxy compounds of silicon such as 4, the coating layer of the obtained therefrom metal oxide in developing solution Excellent and particularly preferred.

【0113】平版印刷版用支持体として好ましい特性と
しては、中心線平均粗さで0.10〜1.2μmであ
る。0.10μmより低いと感光層と密着性が低下し、
著しい耐刷の低下を生じてしまう。1.2μmより大き
い場合、印刷時の汚れ性が悪化してしまう。さらに支持
体の色濃度としては、反射濃度値として0.15〜0.
65であり、0.15より白い場合、画像露光時のハレ
ーションが強すぎ画像形成に支障をきたしてしまい、
0.65より黒い場合、現像後の検版作業において画像
が見難くく、著しく検版性が悪いものとなってしまう。
The preferred characteristics of the lithographic printing plate support are 0.10 to 1.2 μm in center line average roughness. If it is less than 0.10 μm, the adhesion to the photosensitive layer is reduced,
Significant reduction in printing durability occurs. If it is larger than 1.2 μm, the stain on printing will be deteriorated. Further, the color density of the support is 0.15 to 0.5 as a reflection density value.
65, and when it is whiter than 0.15, the halation at the time of image exposure is too strong and hinders image formation.
When it is darker than 0.65, the image is difficult to see in the plate inspection work after development, and the plate inspection property is extremely poor.

【0114】以上のようにして、本発明の画像記録材料
を用いた平版印刷用版材を作成することができる。この
平版印刷用版材は、赤外線レーザで記録できる。また、
紫外線ランプやサーマルヘッドによる熱的な記録も可能
である。本発明においては、波長760nmから120
0nmの赤外線を放射する固体レーザ及び半導体レーザ
により画像露光されることが好ましい。レーザの出力は
100mW以上が好ましく、露光時間を短縮するため、
マルチビームレーザデバイスを用いることが好ましい。
また、1画素あたりの露光時間は20μ秒以内であるこ
とが好ましい。記録材料に照射されるエネルギーは10
〜300mJ/cm2であることが好ましい。
As described above, a planographic printing plate using the image recording material of the present invention can be prepared. This lithographic printing plate can be recorded with an infrared laser. Also,
Thermal recording with an ultraviolet lamp or a thermal head is also possible. In the present invention, the wavelength from 760 nm to 120
It is preferable that the image is exposed by a solid-state laser and a semiconductor laser that emit 0-nm infrared light. The output of the laser is preferably 100 mW or more, and in order to shorten the exposure time,
Preferably, a multi-beam laser device is used.
Further, the exposure time per pixel is preferably within 20 μsec. The energy applied to the recording material is 10
It is preferably ~300mJ / cm 2.

【0115】赤外線レーザにより露光した後、本発明の
画像記録材料は、好ましくは、水又はアルカリ性水溶液
にて現像される。
After exposure with an infrared laser, the image recording material of the present invention is preferably developed with water or an aqueous alkaline solution.

【0116】現像液として、アルカリ性水溶液を用いる
場合、本発明の画像記録材料の現像液及び補充液として
は、従来公知のアルカリ水溶液が使用できる。例えば、
ケイ酸ナトリウム、同カリウム、第3リン酸ナトリウ
ム、同カリウム、同アンモニウム、第2リン酸ナトリウ
ム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸ナトリウム、同
カリウム、同アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、同カ
リウム、同アンモニウム、ほう酸ナトリウム、同カリウ
ム、同アンモニウム、水酸化ナトリウム、同アンモニウ
ム、同カリウム及び同リチウム等の無機アルカリ塩が挙
げられる。また、モノメチルアミン、ジメチルアミン、
トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミ
ン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイ
ソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、n−ブチ
ルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミ
ン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミ
ン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチ
レンジアミン、ピリジン等の有機アルカリ剤も用いられ
る。これらのアルカリ剤は単独又は2種以上を組み合わ
せて用いられる。
When an alkaline aqueous solution is used as a developer, a conventionally known alkaline aqueous solution can be used as a developer and a replenisher for the image recording material of the present invention. For example,
Sodium silicate, potassium, tribasic sodium, potassium, ammonium, dibasic sodium phosphate, potassium, ammonium, sodium carbonate, potassium, ammonium, sodium bicarbonate, potassium, ammonium, Inorganic alkali salts such as sodium borate, potassium, ammonium, sodium hydroxide, ammonium, potassium and lithium. Also, monomethylamine, dimethylamine,
Trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanolamine, diisopropanolamine, ethyleneimine, ethylenediamine, pyridine, etc. Organic alkaline agents are also used. These alkali agents are used alone or in combination of two or more.

【0117】さらに、自動現像機を用いて現像する場合
には、現像液と同じものまたは、現像液よりもアルカリ
強度の高い水溶液(補充液)を現像液に加えることによ
って、長時間現像タンク中の現像液を交換することな
く、多量の平版印刷用版材を処理できることが知られて
いる。本発明においてもこの補充方式が好ましく適用さ
れる。
Further, when developing using an automatic developing machine, the same solution as the developing solution or an aqueous solution having a higher alkali strength than the developing solution (replenishing solution) is added to the developing solution to allow the developing tank to be maintained for a long time. It is known that a large amount of lithographic printing plate material can be processed without replacing the developer. This replenishment system is also preferably applied in the present invention.

【0118】現像液及び補充液には現像性の促進や抑
制、現像カスの分散及び印刷版画像部の親インキ性を高
める目的で必要に応じて種々の界面活性剤や有機溶剤等
を添加できる。好ましい界面活性剤としては、アニオン
系、カチオン系、ノニオン系及び両性界面活性剤が挙げ
られる。好ましい有機溶剤としてはベンジルアルコール
等が挙げられる。また、ポリエチレングリコール若しく
はその誘導体、又はポリプロピレングリコール若しくは
その誘導体等の添加も好ましい。また、アラビット、ソ
ルビット、マンニット等の非還元糖を添加することもで
きる。
Various surfactants, organic solvents and the like can be added to the developing solution and the replenishing solution, if necessary, for the purpose of accelerating or suppressing the developing property, dispersing the developing residue and improving the ink affinity of the printing plate image area. . Preferred surfactants include anionic, cationic, nonionic and amphoteric surfactants. Preferred organic solvents include benzyl alcohol and the like. It is also preferable to add polyethylene glycol or a derivative thereof, or polypropylene glycol or a derivative thereof. Further, non-reducing sugars such as arabit, sorbit, and mannitol can also be added.

【0119】さらに、現像液及び補充液には必要に応じ
て、ハイドロキノン、レゾルシン、亜硫酸または亜硫酸
水素酸のナトリウム塩およびカリウム塩等の無機塩系還
元剤、さらに有機カルボン酸、消泡剤、硬水軟化剤を加
えることもできる。
Further, the developing solution and the replenisher may contain, if necessary, an inorganic salt-based reducing agent such as hydroquinone, resorcin, sodium or potassium sulfite or bisulfite, an organic carboxylic acid, an antifoaming agent, and hard water. Softeners can also be added.

【0120】このような界面活性剤、有機溶剤及び還元
剤等を含有する現像液としては、例えば、特開昭51−
77401号に記載されている、ベンジルアルコール、
アニオン性界面活性剤、アルカリ剤及び水からなる現像
液組成物、特開昭53−44202号に記載されてい
る、ベンジルアルコール、アニオン性界面活性剤、及び
水溶性亜硫酸塩を含む水性溶液からなる現像液組成物、
特開昭55ー155355号に記載されている、水に対
する溶解度が常温において10重量%以下である有機溶
剤、アルカリ剤、及び水を含有する現像液組成物等が挙
げられ、本発明においても好適に使用される。
Examples of such a developer containing a surfactant, an organic solvent, a reducing agent and the like include, for example, those described in
Benzyl alcohol described in No. 77401,
A developer composition comprising an anionic surfactant, an alkali agent and water, comprising an aqueous solution containing benzyl alcohol, an anionic surfactant, and a water-soluble sulfite as described in JP-A-53-44202; Developer composition,
Examples thereof include a developer composition containing an organic solvent, an alkali agent, and water having a solubility in water of 10% by weight or less at room temperature described in JP-A-55-155355. Used for

【0121】以上記述した現像液及び補充液を用いて現
像処理された印刷版は、水洗水、界面活性剤等を含有す
るリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂化
液で後処理される。本発明の画像記録材料を印刷用版材
として使用する場合の後処理としては、これらの処理を
種々組み合わせて用いることができる。
The printing plate developed using the above-described developing solution and replenisher is post-treated with washing water, a rinsing solution containing a surfactant and the like, and a desensitizing solution containing gum arabic and a starch derivative. You. As the post-processing when the image recording material of the present invention is used as a printing plate material, these processings can be used in various combinations.

【0122】近年、製版・印刷業界では製版作業の合理
化及び標準化のため、印刷用版材用の自動現像機が広く
用いられている。この自動現像機は、一般に現像部と後
処理部からなり、印刷用版材を搬送する装置と各処理液
槽とスプレー装置とからなり、露光済みの印刷版を水平
に搬送しながら、ポンプで汲み上げた各処理液をスプレ
ーノズルから吹き付けて現像処理するものである。ま
た、最近は処理液が満たされた処理液槽中に液中ガイド
ロール等によって印刷用版材を浸漬搬送させて処理する
方法も知られている。このような自動処理においては、
各処理液に処理量や稼働時間等に応じて補充液を補充し
ながら処理することができる。また、電気伝導度をセン
サーにて感知し、自動的に補充することもできる。ま
た、実質的に未使用の処理液で処理するいわゆる使い捨
て処理方式も適用できる。
In recent years, in the plate making / printing industry, automatic developing machines for printing plate materials have been widely used in order to rationalize and standardize plate making operations. This automatic developing machine generally includes a developing section and a post-processing section, and includes a device for transporting a printing plate material, each processing solution tank, and a spray device. The developing process is performed by spraying each pumped processing liquid from a spray nozzle. Recently, a method is also known in which a printing plate material is immersed and conveyed by a submerged guide roll or the like into a processing liquid tank filled with a processing liquid to perform processing. In such automatic processing,
Processing can be performed while replenishing each processing solution with a replenisher according to the processing amount, operating time, and the like. In addition, the electric conductivity can be detected by a sensor and replenished automatically. Further, a so-called disposable processing method in which processing is performed with a substantially unused processing liquid can also be applied.

【0123】以上のようにして得られた平版印刷版は所
望により不感脂化ガムを塗布したのち、印刷工程に供す
ることができるが、より一層の高耐刷力の平版印刷版と
したい場合にはバーニング処理が施される。
The lithographic printing plate obtained as described above can be subjected to a printing step after applying a desensitizing gum as required, but when the lithographic printing plate is desired to have a higher printing durability, Is subjected to a burning process.

【0124】平版印刷版をバーニングする場合には、バ
ーニング前に特公昭61−2518号、同55−280
62号、特開昭62−31859号、同61−1596
55号の各公報に記載されているような整面液で処理す
ることが好ましい。
When burning a lithographic printing plate, prior to burning, JP-B Nos. 61-2518 and 55-280.
No. 62, JP-A-62-131859 and JP-A-61-1596.
It is preferable to treat with a surface-regulating liquid as described in each of the publications No. 55.

【0125】その方法としては、該整面液を浸み込ませ
たスポンジや脱脂綿にて、平版印刷版上に塗布するか、
整面液を満たしたバット中に印刷版を浸漬して塗布する
方法や、自動コーターによる塗布等が適用される。ま
た、塗布した後でスキージ又はスキージローラーで、そ
の塗布量を均一にすることは、より好ましい結果を与え
る。整面液の塗布量は一般に0.03〜0.8g/m2
(乾燥重量)が適当である。
[0125] As a method for this, a sponge or absorbent cotton impregnated with the surface conditioning liquid is applied onto a lithographic printing plate,
A method in which a printing plate is immersed in a vat filled with a surface conditioning liquid to apply the printing plate, an application using an automatic coater, or the like is applied. Further, it is preferable to make the application amount uniform with a squeegee or a squeegee roller after the application. The application amount of the surface conditioning liquid is generally 0.03 to 0.8 g / m 2.
(Dry weight) is appropriate.

【0126】整面液が塗布された平版印刷版は必要であ
れば乾燥された後、バーニングプロセッサー(例えば、
富士写真フイルム(株)より販売されているバーニング
プロセッサー:BP−1300)等で高温に加熱され
る。この場合の加熱温度及び時間は、画像を形成してい
る成分の種類にもよるが、180〜300℃の範囲で1
〜20分の範囲が好ましい。
The lithographic printing plate to which the surface conditioning liquid has been applied is dried, if necessary, and then burned by a burning processor (for example,
It is heated to a high temperature by a burning processor (BP-1300) sold by Fuji Photo Film Co., Ltd. The heating temperature and time in this case depend on the type of the component forming the image, but may be 1 to 180 ° C. to 300 ° C.
A range of up to 20 minutes is preferred.

【0127】バーニング処理された平版印刷版は、必要
に応じて適宜、水洗、ガム引き等の従来行なわれている
処理を施こすことができるが、水溶性高分子化合物等を
含有する整面液が使用された場合にはガム引きなどのい
わゆる不感脂化処理を省略することができる。
The burned lithographic printing plate can be subjected to conventional treatments such as washing with water and gumming if necessary. However, a surface conditioning solution containing a water-soluble polymer compound or the like can be used. When is used, so-called desensitizing treatment such as gumming can be omitted.

【0128】このような処理によって得られた平版印刷
版はオフセット印刷機等にかけられ、多数枚の印刷に用
いられる。
The lithographic printing plate obtained by such a process is set on an offset printing machine or the like, and used for printing a large number of sheets.

【0129】[0129]

【実施例】以下、実施例により、本発明を詳細に説明す
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。 (実施例1、2) [支持体の作成]99.5%以上のアルミニウムと、F
e 0.30%、Si 0.10%、Ti0.02%、C
u 0.013%を含むJIS A1050合金の溶湯を
清浄化処理を施し、鋳造した。清浄化処理には、溶湯中
の水素などの不要なガスを除去するために脱ガス処理
し、セラミックチューブフィルタ処理をおこなった。鋳
造法はDC鋳造法で行った。凝固した板厚500mmの
鋳塊を表面から10mm面削し、金属間化合物が粗大化
してしまわないように550℃で10時間均質化処理を
行った。 次いで、400℃で熱間圧延し、連続焼鈍炉
中で500℃60秒中間焼鈍した後、冷間圧延を行っ
て、板圧0.30mmのアルミニウム圧延板とした。圧
延ロールの粗さを制御することにより、冷間圧延後の中
心線平均表面粗さRaを0.2μmに制御した。その
後、平面性を向上させるためにテンションレベラーにか
けた。
The present invention will be described in detail with reference to the following examples, but the present invention is not limited to these examples. (Examples 1 and 2) [Preparation of support] 99.5% or more of aluminum and F
e 0.30%, Si 0.10%, Ti 0.02%, C
u A molten metal of JIS A1050 alloy containing 0.013% was subjected to cleaning treatment and cast. In the cleaning treatment, a degassing treatment was performed to remove unnecessary gases such as hydrogen in the molten metal, and a ceramic tube filter treatment was performed. The casting was performed by DC casting. The solidified ingot having a thickness of 500 mm was chamfered from the surface by 10 mm, and homogenized at 550 ° C. for 10 hours to prevent the intermetallic compound from becoming coarse. Next, after hot rolling at 400 ° C. and intermediate annealing in a continuous annealing furnace at 500 ° C. for 60 seconds, cold rolling was performed to obtain a rolled aluminum sheet having a sheet pressure of 0.30 mm. The center line average surface roughness Ra after cold rolling was controlled to 0.2 μm by controlling the roughness of the rolling roll. Then, it was subjected to a tension leveler to improve the flatness.

【0130】次に平版印刷版支持体とするための表面処
理を行った。まず、アルミニウム板表面の圧延油を除去
するため10%アルミン酸ソーダ水溶液で50℃30秒
間脱脂処理を行い、30%硫酸水溶液で50℃30秒間
中和、スマット除去処理を行った。
Next, a surface treatment for forming a lithographic printing plate support was performed. First, in order to remove the rolling oil on the surface of the aluminum plate, a degreasing treatment was performed with a 10% aqueous sodium aluminate solution at 50 ° C. for 30 seconds, and a 30% sulfuric acid aqueous solution was neutralized at 50 ° C. for 30 seconds and a smut removal treatment was performed.

【0131】次いで支持体と感光層の密着性を良好に
し、かつ非画像部に保水性を与えるため、支持体の表面
を粗面化する、いわゆる、砂目立て処理を行った。1%
の硝酸と0.5%の硝酸アルミを含有する水溶液を45
℃に保ち、アルミウェブを水溶液中に流しながら、間接
給電セルにより電流密度20A/dm2、デューティー
比1:1の交番波形でアノード側電気量240C/dm
2を与えることで電解砂目立てを行った。その後10%
アルミン酸ソーダ水溶液で50℃30秒間エッチング処
理を行い、30%%硫酸水溶液で50℃30秒間中和、
スマット除去処理を行った。
Next, in order to improve the adhesion between the support and the photosensitive layer and to impart water retention to the non-image area, a so-called graining treatment for roughening the surface of the support was performed. 1%
Aqueous solution containing 0.5% nitric acid and 0.5% aluminum nitrate
° C while flowing an aluminum web in an aqueous solution, the anode-side electricity quantity 240 C / dm 2 with an alternating waveform having a current density of 20 A / dm 2 and a duty ratio of 1: 1 by an indirect feeding cell.
Electrolytic graining was performed by giving 2 . Then 10%
Perform an etching treatment with a sodium aluminate aqueous solution at 50 ° C for 30 seconds, and neutralize with a 30% aqueous sulfuric acid solution at 50 ° C for 30 seconds.
Smut removal processing was performed.

【0132】さらに耐摩耗性、耐薬品性、保水性を向上
させるために、陽極酸化によって支持体に酸化皮膜を形
成させた。電解質として硫酸20%水溶液を35℃で用
い、アルミウェブを電解質中に通搬しながら、間接給電
セルにより14A/dm2の直流で電解処理を行うこと
で2.5g/m2の陽極酸化皮膜を作成した。
To further improve abrasion resistance, chemical resistance and water retention, an oxide film was formed on the support by anodic oxidation. An anodic oxide film of 2.5 g / m 2 is obtained by performing an electrolytic treatment with a direct current of 14 A / dm 2 by an indirect power supply cell while carrying an aluminum web through the electrolyte using a 20% aqueous solution of sulfuric acid at 35 ° C. as an electrolyte. It was created.

【0133】この後印刷版非画像部としての親水性を確
保するため、シリケート処理を行った。処理は3号珪酸
ソーダ1.5%水溶液を70℃に保ちアルミウェブの接
触時間が15秒となるよう通搬し、さらに水洗した。S
iの付着量は10mg/m2であった。以上により作成
した支持体のRa(中心線表面粗さ)は0.25μmで
あった。
Thereafter, a silicate treatment was performed to ensure hydrophilicity as a non-image portion of the printing plate. For the treatment, a 1.5% aqueous solution of sodium silicate No. 3 was maintained at 70 ° C., passed through the aluminum web so that the contact time was 15 seconds, and further washed with water. S
The attached amount of i was 10 mg / m 2 . Ra (center line surface roughness) of the support thus prepared was 0.25 μm.

【0134】[下塗り]次に、このアルミニウム支持体
に下記下塗り液をワイヤーバーにて塗布し、温風式乾燥
装置を用いて90℃で30秒間乾燥した。乾燥後の被服
量は10mg/m2であった。
[Undercoat] Next, the following undercoat solution was applied to the aluminum support with a wire bar, and dried at 90 ° C. for 30 seconds using a hot air drier. The coating amount after drying was 10 mg / m 2 .

【0135】 <下塗り液> ・エチルメタクリレートと2−アクリルアミド−2−メチル−1− プロパンスルホン酸ナトリウム塩のモル比75:15の共重合体 0.1g ・2−アミノエチルホスホン酸 0.1g ・メタノール 50g ・イオン交換水 50g<Undercoat liquid> 0.1 g of a copolymer of ethyl methacrylate and 2-acrylamido-2-methyl-1-propanesulfonic acid sodium salt in a molar ratio of 75:15 0.1 g 2-aminoethylphosphonic acid 0.1 g 50 g of methanol 50 g of ion exchange water

【0136】[感光層]次に、下記溶液[P]を調整
し、この溶液を、上記の下塗り済みのアルミニウム板に
ワイヤーバーを用いて塗布し、温風式乾燥装置にて11
5℃で45秒間乾燥してネガ型平版印刷用版材[P−
1]、[P−2]を得た。乾燥後の被覆量は1.3g/
m2であった。この際用いたN−ニトロソアミン系化合
物を表1に示す。
[Photosensitive layer] Next, the following solution [P] was prepared, and this solution was applied to the above-mentioned primed aluminum plate using a wire bar, and then heated in a hot-air drying apparatus.
After drying at 5 ° C for 45 seconds, a negative type lithographic printing plate [P-
1] and [P-2]. The coating amount after drying is 1.3 g /
m2. Table 1 shows the N-nitrosamine compounds used at this time.

【0137】 <溶液[P]> ・赤外線吸収剤[IR−1] 0.10g ・N−ニトロソアミン系化合物(表1に記載の化合物) 0.30g ・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 1.00g ・アリルメタクリレートとメタクリル酸の モル比80:20の共重合体 (重量平均分子量12万) 1.00g ・ビクトリアピュアブルーのナフタレンスルホン酸塩 0.04g ・ベヘン酸アミド 0.05g ・フッ素系界面活性剤 0.01g (メガファックF−176、大日本インキ化学工業(株)製) ・メチルエチルケトン 9.0g ・メタノール 10.0g ・1−メトキシ−2−プロパノール 8.0g<Solution [P]> ・ Infrared absorber [IR-1] 0.10 g ・ N-nitrosamine-based compound (compound shown in Table 1) 0.30 g ・ Dipentaerythritol hexaacrylate 1.00 g ・ Allyl methacrylate Copolymer with methacrylic acid in a molar ratio of 80:20 (weight average molecular weight 120,000) 1.00 g ・ Victoria pure blue naphthalene sulfonate 0.04 g ・ Behenic acid amide 0.05 g ・ Fluorine surfactant 0.0 01 g (MegaFac F-176, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) 9.0 g of methyl ethyl ketone 10.0 g of methanol 8.0 g of 1-methoxy-2-propanol

【0138】[0138]

【表1】 [Table 1]

【0139】[露光]得られたネガ型平版印刷用版材
[P−1]、[P−2]を、水冷式40W赤外線半導体
レーザを搭載したCreo社製Trendsetter
3244VFSにて、出力9W、外面ドラム回転数21
0rpm、版面エネルギー100mJ/cm2、解像度
2400dpiの条件で露光した。
[Exposure] The obtained negative type lithographic printing plate materials [P-1] and [P-2] were used as a Trendsetter manufactured by Creo Corporation equipped with a water-cooled 40 W infrared semiconductor laser.
At 3244VFS, output 9W, outer drum rotation speed 21
Exposure was performed under the conditions of 0 rpm, plate surface energy 100 mJ / cm 2 , and resolution 2400 dpi.

【0140】[現像処理]露光後、富士写真フイルム
(株)製自動現像機スタブロン900Nを用い現像処理
した。現像液は、仕込み液、補充液ともに富士写真フイ
ルム(株)製DN−3Cの1:2水希釈液を用いた。現
像浴の温度は30℃とした。また、フィニッシャーは、
富士写真フイルム(株)製FN−6の1:1水希釈液を
用いた。
[Development processing] After exposure, development processing was carried out using an automatic developing machine Stablon 900N manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. As a developing solution, a 1: 2 aqueous solution of DN-3C manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. was used for both the charging solution and the replenishing solution. The temperature of the developing bath was 30 ° C. Also, the finisher
A 1: 1 aqueous dilution of FN-6 manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. was used.

【0141】[画像形成性の評価]以上の操作を行った
後、画像が形成されたかどうかを目視にて評価したとこ
ろ、N−ニトロソアミン系化合物を用いた[P−1]、
N−ニトロソアミン系化合物と公知のラジカル重合開始
剤とを併用した[P−2]のいずれも、鮮明な画像が得
られていた。
[Evaluation of Image Formability] After performing the above operations, it was visually evaluated whether or not an image was formed. [P-1] using an N-nitrosamine-based compound was evaluated.
Clear images were obtained with any of [P-2] using the N-nitrosamine compound and a known radical polymerization initiator in combination.

【0142】(比較例1)実施例1、2で用いた溶液
[P]において、N−ニトロソアミン系化合物を除いた
以外は、実施例1、2と同様にして塗布乾燥し、平版印
刷用版材[Q−1]を得た。得られた平版印刷用版材
[Q−1]を実施例1、2と同様にして、露光、現像処
理し、画像が形成されたかどうかを目視にて確認した
が、支持体上に何も残っておらず、まったく画像形成さ
れなかった。
(Comparative Example 1) A lithographic printing plate was prepared in the same manner as in Examples 1 and 2, except that the N-nitrosamine compound was omitted from the solution [P] used in Examples 1 and 2. Material [Q-1] was obtained. The obtained lithographic printing plate material [Q-1] was exposed and developed in the same manner as in Examples 1 and 2, and whether or not an image was formed was visually checked. No image remained and no image was formed.

【0143】(比較例2)実施例1、2で用いた溶液
[P]において、ラジカル重合開始剤として、N−ニト
ロソアミン系化合物に代えて、特開平8−108621
号に記載のベンゾイルパーオキサイドを用いた以外は、
実施例1、2と同様にして塗布乾燥し、平版印刷用版材
[Q−2]を得た。得られた平版印刷用版材[Q−2]
を実施例1、2と同様にして、露光、現像処理し、画像
が形成されたかどうかを目視にて確認したが、支持体上
に何も残っておらず、まったく画像形成されなかった。
このように、従来公知のラジカル重合開始剤のみを用い
た場合には、加熱処理を行わないで現像処理したとこ
ろ、画像形成されなかった。
Comparative Example 2 In the solution [P] used in Examples 1 and 2, the radical polymerization initiator was replaced with an N-nitrosamine-based compound.
Except for using the benzoyl peroxide described in No.
Coating and drying were performed in the same manner as in Examples 1 and 2 to obtain a lithographic printing plate material [Q-2]. The obtained planographic printing plate material [Q-2]
Was exposed and developed in the same manner as in Examples 1 and 2, and it was visually confirmed whether or not an image was formed. However, nothing was left on the support, and no image was formed.
As described above, when only the conventionally known radical polymerization initiator was used, the image was not formed when the developing treatment was performed without performing the heat treatment.

【0144】(実施例3〜6)実施例1、2で作成した
下塗り済みのアルミ支持体に、下記溶液[R]を調整
し、ワイヤーバーを用いて塗布し、温風式乾燥装置にて
115℃で45秒間乾燥してネガ型平版印刷用版材[R
−1]〜[R−4]を得た。乾燥後の被覆量は1.3g
/m2であった。この際用いたN−ニトロソアミン系化
合物を表2に示す。
(Examples 3 to 6) The following solution [R] was prepared on the undercoated aluminum support prepared in Examples 1 and 2, and was applied using a wire bar, and was heated with a hot-air dryer. After drying at 115 ° C. for 45 seconds, a negative type lithographic printing plate material [R
-1] to [R-4] were obtained. 1.3 g of coating after drying
/ M 2 . Table 2 shows the N-nitrosamine compounds used at this time.

【0145】 <溶液[R]> ・赤外線吸収剤[IR−6] 0.10g ・N−ニトロソアミン系化合物(表2に記載の化合物) 0.30g ・下記構造の多官能モノマー 1.00g ・4,4‘−ジフェニルメタンジイソシアネートと ヘキサメチレンジイソシアネートと テトラエチレングリコールと 2,2−ビス(ヒドロキシメチル)プロピオン酸の モル比30:20:30:20の付加重合体 (重量平均分子量6万) 1.00g ・ビクトリアピュアブルーのナフタレンスルホン酸塩 0.04g ・ステアリン酸 0.05g ・フッ素系界面活性剤 0.01g (メガファックF−176、大日本インキ化学工業(株)製) ・メチルエチルケトン 5.0g ・メタノール 10.0g ・1−メトキシ−2−プロパノール 8.0g ・乳酸メチル 2.0g ・γ−ブチロラクトン 2.0g<Solution [R]> ・ Infrared absorber [IR-6] 0.10 g ・ N-nitrosamine-based compound (compound shown in Table 2) 0.30 g ・ Polyfunctional monomer having the following structure 1.00 g ・ 4 1,4'-diphenylmethane diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, tetraethylene glycol and 2,2-bis (hydroxymethyl) propionic acid in a molar ratio of 30: 20: 30: 20 (weight average molecular weight: 60,000) 1.00 g・ Naphthalene sulfonate of Victoria Pure Blue 0.04 g ・ Stearic acid 0.05 g ・ Fluorine surfactant 0.01 g (MegaFac F-176, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) ・ Methyl ethyl ketone 5.0 g ・Methanol 10.0 g ・ 1-Methoxy-2-propanol 8.0 g ・ Methyl lactate 2.0 g ・ γ-butyrolactone 2.0 g

【0146】[0146]

【化6】 Embedded image

【0147】[0147]

【表2】 [Table 2]

【0148】[露光]得られたネガ型平版印刷用版材
[R−1]〜[R−4]を、マルチチャンネルレーザヘ
ッドを搭載した富士写真フイルム(株)製Luxel
T−9000CTPにて、ビーム1本当たりの出力25
0mW、外面ドラム回転数800rpm、解像度240
0dpiの条件で露光した。
[Exposure] The obtained negative type lithographic printing plate materials [R-1] to [R-4] were subjected to Luxel manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. equipped with a multi-channel laser head.
25 output per beam at T-9000CTP
0 mW, external drum rotation speed 800 rpm, resolution 240
Exposure was performed under the condition of 0 dpi.

【0149】露光後、実施例1、2と同様にして現像処
理を行い、画像が形成されたかどうかを目視にて評価し
た。N−ニトロソアミン系化合物を用いた[R−1]〜
[R−4]のいずれも、鮮明な画像が得られていた。
After the exposure, development processing was performed in the same manner as in Examples 1 and 2, and whether or not an image was formed was visually evaluated. [R-1]-using N-nitrosamine type compound
In all of [R-4], clear images were obtained.

【0150】(比較例3)実施例3〜6で用いた溶液
[R]において、N−ニトロソアミン系化合物を除いた
以外は、実施例3〜6と同様にして塗布乾燥し、平版印
刷用版材[S−1]を得た。得られた平版印刷用版材
[S−1]を実施例3〜6と同様にして、露光、現像処
理し、画像が形成されたかどうかを目視にて確認した
が、支持体上に何も残っておらず、まったく画像形成さ
れなかった。
Comparative Example 3 A lithographic printing plate was coated and dried in the same manner as in Examples 3 to 6, except that the N-nitrosamine compound was omitted from the solution [R] used in Examples 3 to 6. Material [S-1] was obtained. The obtained lithographic printing plate material [S-1] was exposed and developed in the same manner as in Examples 3 to 6, and it was visually confirmed whether or not an image was formed. No image remained and no image was formed.

【0151】(比較例4)実施例3〜6で用いた溶液
[R]において、ラジカル重合開始剤として、N−ニト
ロソアミン系化合物に代えて、特開平8−108621
号に記載のベンゾイルパーオキサイドを用いた以外は、
実施例3〜6と同様にして塗布乾燥し、平版印刷用版材
[S−2]を得た。得られた平版印刷用版材[S−2]
を実施例3〜6と同様にして、露光、現像処理し、画像
が形成されたかどうかを目視にて確認したが、支持体上
に何も残っておらず、まったく画像形成されなかった。
このように、従来公知のラジカル重合開始剤のみを用い
た場合には、加熱処理を行わないで現像処理したとこ
ろ、画像形成されなかった。
(Comparative Example 4) In the solution [R] used in Examples 3 to 6, instead of the N-nitrosamine-based compound as the radical polymerization initiator, JP-A-8-108621 was used.
Except for using the benzoyl peroxide described in No.
Coating and drying were performed in the same manner as in Examples 3 to 6 to obtain a lithographic printing plate material [S-2]. The obtained planographic printing plate [S-2]
Was exposed and developed in the same manner as in Examples 3 to 6, and whether or not an image was formed was visually checked. However, nothing was left on the support, and no image was formed.
As described above, when only the conventionally known radical polymerization initiator was used, the image was not formed when the developing treatment was performed without performing the heat treatment.

【0152】[0152]

【発明の効果】本発明は、赤外線を放射する固体レーザ
及び半導体レーザを用いて記録することにより、コンピ
ューター等のデジタルデータから直接記録可能であり、
画像形成時の加熱処理を行わなくても、鮮明な画像を形
成しうるネガ型画像記録材料を提供することができる。
According to the present invention, it is possible to directly record digital data from a computer or the like by recording using a solid-state laser and a semiconductor laser that emit infrared light.
It is possible to provide a negative image recording material capable of forming a clear image without performing a heat treatment at the time of image formation.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H025 AA01 AB03 AB09 AB13 AC08 AD01 BC13 BC31 CA22 CB00 CC11 CC20 FA10 FA17 2H114 AA04 AA23 BA01 BA10 DA03 DA21 DA32 DA34 DA41 DA43 DA52 DA53 DA58 DA60 EA01 EA02  ────────────────────────────────────────────────── ─── Continued on front page F term (reference) 2H025 AA01 AB03 AB09 AB13 AC08 AD01 BC13 BC31 CA22 CB00 CC11 CC20 FA10 FA17 2H114 AA04 AA23 BA01 BA10 DA03 DA21 DA32 DA34 DA41 DA43 DA52 DA53 DA58 DA60 EA01 EA02

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 (A)赤外線吸収剤と、(B)N−ニト
ロソアミン系化合物と、(C)ラジカル重合性化合物
と、(D)バインダーポリマーを含有することを特徴と
する赤外線の照射により記録可能なネガ型画像記録材
料。
1. An infrared ray recording comprising (A) an infrared absorber, (B) an N-nitrosamine-based compound, (C) a radical polymerizable compound, and (D) a binder polymer. Possible negative type image recording material.
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