JP2001074647A - Sensor plate - Google Patents

Sensor plate

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JP2001074647A
JP2001074647A JP25269499A JP25269499A JP2001074647A JP 2001074647 A JP2001074647 A JP 2001074647A JP 25269499 A JP25269499 A JP 25269499A JP 25269499 A JP25269499 A JP 25269499A JP 2001074647 A JP2001074647 A JP 2001074647A
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JP
Japan
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optical waveguide
light
sensor plate
sample
sample holding
Prior art date
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JP25269499A
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Japanese (ja)
Inventor
Mitsuhiro Negami
光弘 根上
Muneaki Nakamura
宗昭 中村
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Suzuki Motor Corp
Original Assignee
Suzuki Motor Corp
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Publication date
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Withdrawn legal-status Critical Current

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a sensor plate that can easily retain a specimen material and has improved sensitivity. SOLUTION: The sensor plate is provided with a plate-shaped optical waveguide 3 where light entering from a specific side end face is transmitted while repeating total reflection, a specimen material retention part 7 for retaining the liquid-like specimen material at a specific position on the upper surface of the optical waveguide 3, and a hydrophobic film 5 for covering the upper surface of the optical waveguide 3 excluding the specimen material retention part 7, where the specimen material retention part 7 is set to specific length along the propagation direction of light.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、センサプレートに
係り、特に、光導波路に検体を接触させて光を照射し、
その光を分析することにより検体の定量を行うセンサプ
レートに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a sensor plate.
The present invention relates to a sensor plate for quantifying a sample by analyzing the light.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、生物化学分析の分野におい
て、検体中の極めて微量なタンパク質を検出する方法と
して、免疫法(immunoassay )が一般的に多く使われてい
る。この免疫法は、いわゆる抗原(検出しようとするタ
ンパク質)と抗体(抗原を用いて作られた抗体)との特
異的な免疫反応により、検体内の所定の抗原濃度を定量
するものである。この免疫法は、複数種類の抗原が混在
する検体であっても、検出しようとする抗原を単離する
ことなく測定することができる。この点が、化学的測定
法あるいは物理的測定法と異なる。
2. Description of the Related Art Conventionally, in the field of biochemical analysis, immunoassay has been widely used as a method for detecting an extremely small amount of protein in a specimen. In this immunization method, a predetermined antigen concentration in a specimen is quantified by a specific immune reaction between an antigen (a protein to be detected) and an antibody (an antibody produced using the antigen). This immunization method can measure even a specimen in which a plurality of types of antigens are mixed without isolating the antigen to be detected. This is different from the chemical measurement method or the physical measurement method.

【0003】また、免疫法の中には、下記のような種々
の手法がある。
[0003] Among the immunization methods, there are various methods as described below.

【0004】 ・radio immunoassay :RIA法(ラジオイムノアッセ
イ) ・enzyme immunoassay:EIA法(酵素免疫法) ・fluoro immunoassay:FIA法(蛍光免疫法)
[0004] radio immunoassay: RIA (radioimmunoassay) [enzyme immunoassay: EIA (enzyme immunoassay)] fluoroimmunassay: FIA (fluorescence immunoassay)

【0005】RIA法は、アイソトープを用いる必要が
あるため、最近ではあまり使われていない。また、EI
A法は、簡易に免疫反応を測定できるため現在広く使わ
れている。更に、FIA法は、高感度、高精度な測定法
という位置づけである。EIA法のうち、抗体測定のた
めに固相を用いる方法を、特にELISA(Enzyme link
e dimmunosorbent assay)法と呼び、更にELISAに
は以下の2つの手法がある。
[0005] The RIA method has recently been rarely used because it requires the use of isotopes. Also, EI
The method A is widely used at present because the immune reaction can be easily measured. Furthermore, the FIA method is positioned as a highly sensitive and highly accurate measurement method. Among the EIA methods, a method using a solid phase for antibody measurement is particularly described in ELISA (Enzyme link).
This method is referred to as an “ed immunosorbent assay”, and the ELISA includes the following two methods.

【0006】 a.間接法 :固相に抗原を用いる方法 b.抗体捕獲法:固相に抗IgM抗体を用いる方法A. Indirect method: a method using an antigen as a solid phase b. Antibody capture method: a method using an anti-IgM antibody as a solid phase

【0007】上記ELISA法は、特定の病原体に対す
る抗体の定量、アレルゲン(allergen)に対する抗体の
定量、およびモノクローナル抗体のスクリーニングに使
われている。ELISA法に用いられる測定キットは、
一般的には96個の凹部が形成されたマイクロプレート
を用い、このマイクロプレート上で免疫反応測定が行わ
れる。従って、大量の検体を同時に測定することがで
き、近年、多くの自動化された免疫反応測定装置が市場
に出回っている。
[0007] The above-mentioned ELISA method is used for quantification of an antibody against a specific pathogen, quantification of an antibody against an allergen, and screening of a monoclonal antibody. The measurement kit used for the ELISA method includes:
Generally, a microplate in which 96 concave portions are formed is used, and an immunoreaction measurement is performed on this microplate. Therefore, a large number of samples can be measured at the same time, and in recent years, many automated immune reaction measuring devices have been on the market.

【0008】ELISA法用の測定キットとしては、多
くの試薬メーカから種々の試薬が提供されている。例え
ば、tPAがあるが、これは血液中の血液凝固および血
栓に関わるフィブリンを溶かす方向に間接的に働く酵素
である。また、PAI−1は、tPAを抑制し、血液凝
固や血栓を造る方向に働く酵素である。
[0008] Many reagent manufacturers provide various reagents as assay kits for the ELISA method. For example, there is tPA, an enzyme that acts indirectly in the direction of dissolving fibrin involved in blood coagulation and thrombus in blood. PAI-1 is an enzyme that suppresses tPA and acts in the direction of blood coagulation and thrombus formation.

【0009】ところで、免疫反応測定装置に用いられる
センサとして、いわゆるSPRセンサが知られている。
このSPRセンサとは、表面プラズモン共鳴現象を用い
たセンサであり、以下の原理で測定される。即ち、50
nm程度の厚さを有する金属薄膜(金若しくは銀等)を
高屈折率のプリズムの底面に蒸着する。そして、プリズ
ム側から金属薄膜に向けて臨界角以上の角度で所定の光
を入射させる。金属薄膜は、50nm程度では半透明で
あるので、プリズム側から入射した光は金属薄膜を透過
して、プリズムと反対側の金属薄膜の表面に到達し、プ
リズムと反対側の金属薄膜の表面にエバネッセント場を
発生する。
Incidentally, a so-called SPR sensor is known as a sensor used in an immune reaction measuring device.
This SPR sensor is a sensor using the surface plasmon resonance phenomenon, and is measured based on the following principle. That is, 50
A thin metal film (such as gold or silver) having a thickness of about nm is deposited on the bottom surface of the prism having a high refractive index. Then, predetermined light is incident from the prism side toward the metal thin film at an angle equal to or greater than the critical angle. Since the metal thin film is translucent at about 50 nm, the light incident from the prism side passes through the metal thin film, reaches the surface of the metal thin film on the side opposite to the prism, and reaches the surface of the metal thin film on the side opposite to the prism. Generate an evanescent field.

【0010】光の入射角を調整することにより、エバネ
ッセント場の波数と表面プラズモン共鳴の波数を一致さ
せて、金属薄膜の表面に表面プラズモン共鳴を励起でき
る。この場合、表面プラズモン共鳴の波数は、金属薄膜
の誘電率と金属薄膜から見てプリズムと反対側の表面に
固定された検体との屈折率に依存している。従って、検
体の屈折率及び誘電率を調べることができる。このよう
に、光学系と検体とが金属薄膜を境にして相互に反対側
に位置していることにより、センサとして構築しやす
い。
By adjusting the incident angle of the light, the wave number of the evanescent field and the wave number of the surface plasmon resonance can be matched, and the surface plasmon resonance can be excited on the surface of the metal thin film. In this case, the wave number of the surface plasmon resonance depends on the dielectric constant of the metal thin film and the refractive index of the specimen fixed to the surface opposite to the prism when viewed from the metal thin film. Therefore, the refractive index and the dielectric constant of the specimen can be checked. As described above, since the optical system and the sample are located on opposite sides of the metal thin film as a boundary, it is easy to construct a sensor.

【0011】上記原理を応用して、光ファイバを用いた
免疫反応測定装置用のSPRセンサが開発されている(B
IACORE社製−商品名:BIACORE Probe)。この光ファイバ
を用いたSPRセンサでは、先ず、光ファイバの先端部
外周面のクラッド(clad)が除去され、光ファイバの先端
の端面をきれいにカットするか若しくは磨いた上で、こ
の端面に銀がコーティングされる。また、この光ファイ
バの先端部外周面に金属薄膜(金若しくは銀等)がコー
ティングされる。さらに、光ファイバの先端部外周面の
金属薄膜を誘電体膜で覆い、この誘電体膜上に免疫反応
測定に用いる抗体が固定される。また、光ファイバの他
端部側には所定の光源が配設されており、光ファイバ内
に光を導入できるようになっている。
By applying the above principle, an SPR sensor for an immune reaction measuring device using an optical fiber has been developed (B.
Manufactured by IACORE-trade name: BIACORE Probe). In the SPR sensor using this optical fiber, first, the clad on the outer peripheral surface of the distal end portion of the optical fiber is removed, and the end surface of the distal end of the optical fiber is cut or polished. Coated. In addition, a metal thin film (such as gold or silver) is coated on the outer peripheral surface of the tip of the optical fiber. Further, the metal thin film on the outer peripheral surface of the distal end of the optical fiber is covered with a dielectric film, and the antibody used for the immunological reaction measurement is fixed on the dielectric film. A predetermined light source is provided on the other end side of the optical fiber so that light can be introduced into the optical fiber.

【0012】このように構成されたSPRセンサの免疫
反応測定手法について説明する。先ず、光ファイバ内に
導入された光は、光ファイバの先端部で特定の波長の光
が表面プラズモン共鳴を励起する。この表面プラズモン
共鳴を励起する光の波長は、誘電体膜と抗体の屈折率に
よって変化する。表面プラズモン共鳴を生じさせた波長
の光の強度は減衰する。このため、免疫反応前に最も減
衰する光の波長と免疫反応後に最も減衰する光の波長と
を比較することにより、免疫反応を測定することができ
る。また、光ファイバを用いたものの他、プリズムを用
いたSPRセンサも開発されている。
A method for measuring an immune reaction of the SPR sensor having the above-described configuration will be described. First, as for light introduced into the optical fiber, light of a specific wavelength excites surface plasmon resonance at the tip of the optical fiber. The wavelength of the light that excites the surface plasmon resonance changes depending on the refractive indices of the dielectric film and the antibody. The intensity of light having a wavelength that causes surface plasmon resonance is attenuated. Therefore, the immune response can be measured by comparing the wavelength of the light that attenuates the most before the immune reaction with the wavelength of the light that attenuates the most after the immune reaction. In addition, SPR sensors using prisms have been developed in addition to those using optical fibers.

【0013】また、異なる形式のSPRセンサに用いら
れるセンサプレートとして、透明基板とこの透明基板上
に金属薄膜を形成するものが開示されている(特開平1
1−64213号)。このセンサプレート(上記公報で
はサンプルプレートという)は、透明基板の全面に金属
薄膜を形成すると共に、この金属薄膜の表面に結合反応
膜を形成し、更にこの結合反応膜を取り囲むように疎水
性膜を形成するものである。実際にこのセンサプレート
を用いて免疫反応測定を行う場合には、検体を結合反応
膜に接触させ、透明基板側からこの結合反応膜に一回光
を照射して、反射した光の波長分布等を測定して検体の
定量をおこなう。
Further, as a sensor plate used for a different type of SPR sensor, there is disclosed a sensor plate in which a transparent substrate and a metal thin film are formed on the transparent substrate (Japanese Patent Application Laid-Open No. HEI 1-1990).
No. 1-64213). The sensor plate (referred to as a sample plate in the above-mentioned publication) has a metal thin film formed on the entire surface of a transparent substrate, a binding reaction film formed on the surface of the metal thin film, and a hydrophobic film surrounding the binding reaction film. Is formed. When an immunoreaction measurement is actually performed using this sensor plate, the sample is brought into contact with the binding reaction film, the binding reaction film is irradiated once with light from the transparent substrate side, and the wavelength distribution of reflected light, etc. Is measured to determine the amount of the sample.

【0014】[0014]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記各
従来例には以下のような不都合があった。即ち、光ファ
イバでSPRセンサを構成する場合には、その光ファイ
バのコアの先端部外周面に、金属薄膜(例えばAuを蒸
着)を形成する必要がある。しかし、光ファイバ自体は
微細なものであるため、適切に金属薄膜を形成すること
ができない、という不都合を生じていた。
However, each of the above-mentioned prior arts has the following disadvantages. That is, when an SPR sensor is configured by an optical fiber, it is necessary to form a metal thin film (for example, Au is vapor-deposited) on the outer peripheral surface of the tip of the core of the optical fiber. However, since the optical fiber itself is fine, there has been an inconvenience that a metal thin film cannot be appropriately formed.

【0015】また、実際に免疫反応測定を行う場合に
は、金属薄膜の表面に抗体を固定する必要があるが、上
記したように、光ファイバのコアの先端部は微細で且つ
円筒形であるため、抗体を固定するのが困難である、と
いう不都合を生じていた。
[0015] When an immunological reaction is actually measured, it is necessary to immobilize the antibody on the surface of the metal thin film. As described above, the tip of the core of the optical fiber is fine and cylindrical. As a result, it is difficult to immobilize the antibody.

【0016】また、特開平11−64213号に開示さ
れたセンサプレートでは、結合反応膜に対する1回の光
の反射によって定量を行うので、免疫反応測定における
感度を高めることができない、という不都合を生じてい
た。また、仮に透明基板内で光が全反射を繰り返すよう
にセンサプレートを形成した場合でも、金属薄膜が全面
にわたって形成されているので、結合反応膜に対応する
領域以外の金属薄膜でも表面プラズモン共鳴が生じて、
測定精度を低下させてしまう。
Further, in the sensor plate disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. H11-64213, since the quantification is performed by one-time reflection of the light on the binding reaction film, there is an inconvenience that the sensitivity in the immunoreaction measurement cannot be increased. I was Also, even if the sensor plate is formed such that light is repeatedly reflected in the transparent substrate, the surface plasmon resonance is also generated in the metal thin film other than the region corresponding to the coupling reaction film because the metal thin film is formed over the entire surface. Arose,
Measurement accuracy is reduced.

【0017】更に、従来のセンサプレートの構造として
は、板状のコアを二枚のクラッド部材で挟み込む構造の
ものがあったが、これではコアの表面の研磨の他にクラ
ッドの研磨やクラッドとコアとの接合工程が必要にな
り、製造コストが削減できない。
Further, as a structure of a conventional sensor plate, there has been a structure in which a plate-shaped core is sandwiched between two clad members. In this case, in addition to polishing the surface of the core, polishing of the clad or cladding may be performed. A bonding step with the core is required, and the manufacturing cost cannot be reduced.

【0018】[0018]

【発明の目的】本発明は、かかる従来例の有する不都合
を改善し、検体の保持が容易で且つ感度の良好なセンサ
プレートを提供することを、その目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to improve the disadvantages of the prior art and to provide a sensor plate which can easily hold a sample and has good sensitivity.

【0019】[0019]

【課題を解決するための手段】上記した目的を達成する
ために本発明は、所定の側端面から入射した光が全反射
を繰り返して透過する板状の光導波路と、この光導波路
の上面の所定位置で液状の検体を保持する検体保持部
と、この検体保持部を除いて光導波路の上面を被覆する
疎水性膜とを備え、検体保持部を光の伝搬方向に沿って
所定長さとする、という構成を採っている。
SUMMARY OF THE INVENTION In order to achieve the above-mentioned object, the present invention provides a plate-shaped optical waveguide through which light incident from a predetermined side end face is repeatedly reflected and transmitted, and an upper surface of the optical waveguide. A specimen holding unit that holds a liquid sample at a predetermined position, and a hydrophobic film that covers the upper surface of the optical waveguide except for the sample holding unit, and has a predetermined length along the light propagation direction. , Is adopted.

【0020】以上のように構成されたことにより、液状
の検体の測定を行う場合には、検体保持部に検体を充填
する。このとき、検体保持部は疎水性膜で囲まれている
ので、検体は検体保持部から流れ出すことなく留まる。
この状態で、光導波路の側端面から光を照射すると、光
が全反射を繰り返しながら伝搬する。光が検体保持部で
反射する場合には、検体の特性に応じて反射光の特性が
変化する。この反射光の特性の変化を分析することによ
り、検体による光導波路の変化を知ることができる。
With the above configuration, when measuring a liquid sample, the sample is filled in the sample holding unit. At this time, since the sample holding unit is surrounded by the hydrophobic film, the sample stays without flowing out of the sample holding unit.
In this state, when light is irradiated from the side end surface of the optical waveguide, the light propagates while repeating total reflection. When light is reflected by the sample holding unit, the characteristics of the reflected light change according to the characteristics of the sample. By analyzing the change in the characteristic of the reflected light, the change in the optical waveguide due to the sample can be known.

【0021】[0021]

【発明の実施の形態】[第1の実施形態] [全体概要]図1に基づいて第1の実施形態を説明す
る。このセンサプレート1は、光が透過する板状の光導
波路3と、この光導波路3の上面を被覆する疎水性膜5
を主要構成要素としている。そして、光導波路3の上面
の一部には、検体保持部7が形成されている。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS [First Embodiment] [Overall Overview] A first embodiment will be described with reference to FIG. The sensor plate 1 includes a plate-shaped optical waveguide 3 through which light passes, and a hydrophobic film 5 covering the upper surface of the optical waveguide 3.
Is the main component. The specimen holding part 7 is formed on a part of the upper surface of the optical waveguide 3.

【0022】[光導波路]光導波路3は、透明な材料か
ら構成されるものであり、例えばガラスや透明プラステ
ィックが用いられる。本実施形態の光導波路3は、一枚
の板状となっており、一方の側端面3aから光が入射さ
れるようになっている。そして、この一方の端面3a及
びこの端面3aに対向する他方の端面3bは光が通過し
やすいように、表面が滑らかに研磨されている。
[Optical Waveguide] The optical waveguide 3 is made of a transparent material, for example, glass or transparent plastic. The optical waveguide 3 of the present embodiment has a single plate shape, and light is incident from one side end surface 3a. The surface of the one end surface 3a and the other end surface 3b opposed to the end surface 3a are smoothly polished so that light can easily pass therethrough.

【0023】また、光導波路3の上下両面も滑らかに研
磨されている。これは、光導波路3に入射した光が光導
波路3の上下両面で全反射し、一方の端面3aから他方
の端面3bに向かって適切に伝搬されるようにするため
である。即ち、光が入射されて例えば光導波路3の上面
で全反射し、この反射した光が光導波路3の下面で全反
射する。これを繰り返すことにより、光が伝搬される。
ここで、光導波路3の屈折率は後述する疎水性膜5及び
空気よりも大きくなるように材質を選択する。
The upper and lower surfaces of the optical waveguide 3 are also polished smoothly. This is so that the light incident on the optical waveguide 3 is totally reflected on the upper and lower surfaces of the optical waveguide 3 and is appropriately propagated from one end face 3a to the other end face 3b. That is, light enters and is totally reflected on, for example, the upper surface of the optical waveguide 3, and the reflected light is totally reflected on the lower surface of the optical waveguide 3. By repeating this, light is propagated.
Here, the material is selected so that the refractive index of the optical waveguide 3 is larger than that of a hydrophobic film 5 and air, which will be described later.

【0024】[疎水性膜]光導波路3の上面には疎水性
膜5が被覆されている。この疎水性膜5の材質はフッ素
樹脂等が用いられている。ここで、図1においては疎水
性膜5は所定の厚さを有しているが、実際には光導波路
3と比較して厚さは薄いものである。図1では、説明の
便宜上、疎水性膜5の厚さを強調して表現している。
[Hydrophobic film] The upper surface of the optical waveguide 3 is covered with a hydrophobic film 5. The material of the hydrophobic film 5 is a fluororesin or the like. Here, in FIG. 1, the hydrophobic film 5 has a predetermined thickness, but is actually thinner than the optical waveguide 3. In FIG. 1, for convenience of description, the thickness of the hydrophobic film 5 is exaggerated.

【0025】疎水性膜5の材質としては種々のものが考
えられる。例えば、PTFE(PolyTetra Fluoro Ethyle
ne),FEP(Fluorinated Ethylene Propylene Copolym
er),PFA(Tetra Fluoro Ethylene-PerFluoro Alkylv
inyl ether Copolymer)若しくはETFE(Ethylene Tet
ra Fluoro Ethylene)などを用いることができる。ま
た、疎水性膜5の形成方法には種々のものが考えられ
る。例えば、スピンコート法,ディップコート法,ロー
ルコート法若しくは真空蒸着法等を用いることができ
る。
Various materials can be considered as the material of the hydrophobic film 5. For example, PTFE (PolyTetra Fluoro Ethyle
ne), FEP (Fluorinated Ethylene Propylene Copolym)
er), PFA (Tetra Fluoro Ethylene-PerFluoro Alkylv
inyl ether Copolymer) or ETFE (Ethylene Tet)
ra Fluoro Ethylene) can be used. Various methods are conceivable for forming the hydrophobic film 5. For example, a spin coating method, a dip coating method, a roll coating method, a vacuum evaporation method, or the like can be used.

【0026】また、疎水性膜5の厚さは、特に限定され
るものではないが、定量したい検体(サンプル)の粘度
や表面張力に応じて適宜選択する。例えば、粘度が大き
い検体や表面張力が大きい検体を用いる場合には、厚さ
の薄い疎水性膜であってもよい。一方、粘度や表面張力
が小さな検体を用いる場合には、厚い疎水性膜を形成す
ることが望ましい。
The thickness of the hydrophobic film 5 is not particularly limited, but is appropriately selected according to the viscosity and surface tension of the sample (sample) to be quantified. For example, when a sample having a large viscosity or a sample having a large surface tension is used, a hydrophobic film having a small thickness may be used. On the other hand, when using a specimen having a small viscosity or surface tension, it is desirable to form a thick hydrophobic film.

【0027】[検体保持部]また、疎水性膜5の略中央
部には疎水性膜5が形成されていない検体保持部7が形
成されている。この検体保持部7は、平面形状が長方形
であり、光が入射する側の一方の端面3aからこれに対
向する他方の端面3bに向かって形成されている。尚、
検体保持部7の形状は一例であり、楕円状やその他の形
状であってもよい。図1(B)は、センサプレート1の
側方断面図である。この図に示すように、一方の端面3
aから入射した光は、光導波路3の上下面を全反射を繰
り返しながら伝搬し、上記した検体保持部7の部分で反
射しながら透過して他方の端面3bから出射される。こ
のとき、検体保持部7は光の伝搬方向に沿って長く形成
されており、具体的には光導波路の厚さ及び全反射の臨
界角の基づいて、光が検体保持部7で複数回反射するた
めに十分な長さとしている。このため、光の減衰(プラ
ズモン波とエバネッセント波の共鳴)が繰り返され、測
定の感度が向上する。
[Sample Holder] A sample holder 7 on which the hydrophobic film 5 is not formed is formed substantially at the center of the hydrophobic film 5. The sample holder 7 has a rectangular planar shape, and is formed from one end face 3a on the light incident side to the other end face 3b opposed thereto. still,
The shape of the sample holding unit 7 is an example, and may be an elliptical shape or another shape. FIG. 1B is a side sectional view of the sensor plate 1. As shown in this figure, one end face 3
The light incident from a propagates through the upper and lower surfaces of the optical waveguide 3 while repeating total reflection, is transmitted while being reflected by the above-described specimen holding unit 7, and is emitted from the other end surface 3b. At this time, the sample holding unit 7 is formed to be long along the light propagation direction. Specifically, the light is reflected multiple times by the sample holding unit 7 based on the thickness of the optical waveguide and the critical angle of total reflection. It is long enough to Therefore, light attenuation (resonance of the plasmon wave and the evanescent wave) is repeated, and the measurement sensitivity is improved.

【0028】図1(C)は、センサプレート1の検体保
持部7に、定量したい検体9を充填した状態を示す断面
図である。検体保持部7は疎水性膜5によって囲まれて
いるために、検体9を充填しても検体保持部7から溢れ
にくくなっている。
FIG. 1C is a cross-sectional view showing a state in which the sample holding portion 7 of the sensor plate 1 is filled with the sample 9 to be quantified. Since the sample holding unit 7 is surrounded by the hydrophobic film 5, even if the sample 9 is filled, the sample holding unit 7 does not easily overflow from the sample holding unit 7.

【0029】[検体の測定]次に、図2に基づいて、実
際の検体9の測定について説明する。図2(A)は、光
導波路3の下方を空気中に開放したままの状態を示す断
面図である。このような状態で入射した光が全反射をし
て伝搬されるためには、以下のような条件を満たすこと
が必要である。即ち、光導波路3の屈折率をn1,疎水
性膜5の屈折率をn2,空気の屈折率n3とすると、n
1>n2 且つ n1>n3を満たす必要がある。ま
た、センサプレート1を固定台10に載せて用いる場合
に、固定台10の屈折率をn4とすると、n1>n2
且つ n1>n4という条件を満たす必要がある。その
ほか、光導波路3を固定台10にマッチングオイルを介
して載せる場合には、マッチングオイルの屈折率が光導
波路3の屈折率n1より小さくなるようにする必要があ
る。
[Measurement of Sample] Next, the actual measurement of the sample 9 will be described with reference to FIG. FIG. 2A is a cross-sectional view showing a state where the lower part of the optical waveguide 3 is left open to the air. In order for light incident in such a state to be propagated by total reflection, the following conditions must be satisfied. That is, if the refractive index of the optical waveguide 3 is n1, the refractive index of the hydrophobic film 5 is n2, and the refractive index of air is n3, n
It is necessary to satisfy 1> n2 and n1> n3. Further, when the sensor plate 1 is used by being mounted on the fixed base 10, if the refractive index of the fixed base 10 is n4, n1> n2
In addition, the condition of n1> n4 must be satisfied. In addition, when the optical waveguide 3 is mounted on the fixed base 10 via the matching oil, the refractive index of the matching oil needs to be smaller than the refractive index n1 of the optical waveguide 3.

【0030】実際の測定に当たっては、センサプレート
1の一方の端面3a側から測定用の光を照射する。光を
照射する光源としては、図示しないハロゲンランプや発
光ダイオード(LED)などを用いる。そして、光導波
路3に入射した光は、光導波路3と検体9とが接触して
いる部分でも反射する。このとき、検体9の特性として
反射光の特性が変化(プラズモン波とエバネッセント波
の共鳴により生じるスペクトル変化)する場合に、この
変化を分析することによって検体9の特性を知ることが
できる。但し、予め、基準となる基準検体(図示略)に
よって反射特性を調べておき、実際に測定した検体の結
果と比較する必要がある。
In actual measurement, light for measurement is irradiated from one end face 3a of the sensor plate 1. As a light source for irradiating light, a halogen lamp, a light emitting diode (LED) or the like (not shown) is used. Then, the light incident on the optical waveguide 3 is also reflected at a portion where the optical waveguide 3 and the specimen 9 are in contact. At this time, when the characteristic of the reflected light changes as the characteristic of the specimen 9 (spectral change caused by the resonance of the plasmon wave and the evanescent wave), the characteristic of the specimen 9 can be known by analyzing the change. However, it is necessary to check the reflection characteristics in advance by using a reference sample (not shown) as a reference, and to compare the result with the actually measured result of the sample.

【0031】また、以上は光導波路3内を光が通過する
場合について説明した。しかしながら本発明はこれに限
定されるものではなく、例えば光導波路3の他方の端面
に反射ミラーとして機能する反射膜(図示略)を形成す
るようにしても良い。このように、反射膜を形成する場
合には、一方の端面3aから他方の端面3bに伝わる時
と、逆に他方の端面3bから一方の端面3aに伝わる時
に、共に検体保持部7の領域で光が全反射するので、感
度が向上することとなる。
The case where light passes through the optical waveguide 3 has been described above. However, the present invention is not limited to this. For example, a reflection film (not shown) functioning as a reflection mirror may be formed on the other end surface of the optical waveguide 3. As described above, when the reflective film is formed, when the light is transmitted from one end surface 3a to the other end surface 3b, and when the light is transmitted from the other end surface 3b to the one end surface 3a, the reflection film is formed in the region of the sample holding unit 7. Since the light is totally reflected, the sensitivity is improved.

【0032】[第2の実施形態]次に、図3に基づいて
第2の実施形態について説明する。尚、第1の実施形態
と同じ構成要素については同一の符号を用いて説明す
る。第3の実施形態以降についても同様とする。当該実
施形態は第1の実施形態と基本的な構成要素を共通にし
ている。但し、本実施形態の特徴は、光導波路3の下面
に下方被覆面5aが形成されている点である。このよう
に、光導波路3の下面に下方被覆面5aを形成するの
は、光導波路3の下面から不要な光が混入して、測定精
度が低下するのを防止するためである。
[Second Embodiment] Next, a second embodiment will be described with reference to FIG. The same components as those in the first embodiment will be described using the same reference numerals. The same applies to the third and subsequent embodiments. This embodiment shares basic components with the first embodiment. However, a feature of this embodiment is that a lower covering surface 5a is formed on the lower surface of the optical waveguide 3. The reason why the lower coating surface 5a is formed on the lower surface of the optical waveguide 3 is to prevent unnecessary light from being mixed from the lower surface of the optical waveguide 3 and lowering the measurement accuracy.

【0033】下方被覆面5aの材質としては種々のもの
が考えられるが、上記した疎水性膜5と同じものを用い
てもよい。即ち、PTFE(Poly Tetra Fluoro Ethylen
e),FEP(Fluorinated Ethylene Propylene Copolyme
r),PFA(Tetra Fluoro Ethylene-PerFluoro Alkylvi
nyl ether Copolymer)若しくはETFE(Ethylene Tetr
a Fluoro Ethylene)などを用いることができる。また、
形成方法としても、スピンコート法,ディップコート
法,ロールコート法若しくは真空蒸着法等を用いること
ができる。また、下方被覆膜5aの厚さも疎水性膜5と
同様に特に限定されるものではない。
Although various materials can be considered as the material of the lower covering surface 5a, the same material as the above-mentioned hydrophobic film 5 may be used. That is, PTFE (Poly Tetra Fluoro Ethylen
e), FEP (Fluorinated Ethylene Propylene Copolyme)
r), PFA (Tetra Fluoro Ethylene-PerFluoro Alkylvi)
nyl ether Copolymer) or ETFE (Ethylene Tetr)
a Fluoro Ethylene) can be used. Also,
As a forming method, a spin coating method, a dip coating method, a roll coating method, a vacuum evaporation method, or the like can be used. Also, the thickness of the lower coating film 5a is not particularly limited as in the case of the hydrophobic film 5.

【0034】下方被覆膜5aに要求される屈折率につい
ては、疎水性膜5と同様に光導波路3の屈折率n1より
も小さいことが条件となる。
The refractive index required for the lower coating film 5a is required to be smaller than the refractive index n1 of the optical waveguide 3 as in the case of the hydrophobic film 5.

【0035】[第3の実施形態]次に、図4に基づいて
第3の実施形態について説明する。本実施形態は第1の
実施形態と基本的な構成要素を共通としている。しかし
ながら、当該実施形態では、検体保持部7に対応する領
域の光導波路3の表面に金属薄膜6が形成されている点
が異なる。この金属薄膜6は、センサプレート31を例
えば免疫反応測定用のSPRセンサとして用いるために
形成するものである。実際には、金属薄膜6の上に更に
誘電体膜8が形成されて、この誘電体膜8に更に抗原
(若しくは抗体)等が固定される。
[Third Embodiment] Next, a third embodiment will be described with reference to FIG. This embodiment has the same basic components as the first embodiment. However, the present embodiment is different in that the metal thin film 6 is formed on the surface of the optical waveguide 3 in a region corresponding to the specimen holding unit 7. The metal thin film 6 is formed to use the sensor plate 31 as, for example, an SPR sensor for measuring an immune reaction. Actually, a dielectric film 8 is further formed on the metal thin film 6, and an antigen (or an antibody) or the like is further fixed on the dielectric film 8.

【0036】金属薄膜6の材質としては、一般にAu等
が用いられるが、特にAuに限定されるものではない。
金属薄膜6の形成には、真空蒸着法やスパッタ法等が用
いられる。尚、本実施形態では、光導波路3の上に疎水
性膜5を形成した後に、検体保持部7に金属薄膜6を形
成するものを説明したが、本発明はこれに限定されるも
のではない。即ち、光導波路3の検体保持部7に対応す
る位置に予め金属薄膜6を形成し、しかる後に疎水性膜
5を形成するようにしてもよい。
The material of the metal thin film 6 is generally Au or the like, but is not particularly limited to Au.
For forming the metal thin film 6, a vacuum deposition method, a sputtering method, or the like is used. In the present embodiment, the case where the metal thin film 6 is formed on the sample holding unit 7 after forming the hydrophobic film 5 on the optical waveguide 3 has been described, but the present invention is not limited to this. . That is, the metal thin film 6 may be formed in advance on the optical waveguide 3 at a position corresponding to the sample holding unit 7, and then the hydrophobic film 5 may be formed.

【0037】このように光導波路3の表面に金属薄膜6
を形成した場合には、表面プラズモン共鳴現象が生じ
る。即ち、光導波路3の一方の端面3aから光が入射す
ると、金属薄膜6の部分で特定の波長の光が表面プラズ
モン共鳴を生じさせる。これによって、この波長の光の
強度が減衰する。この特定波長の光の減衰は、金属薄膜
6の領域に光が複数回反射することにより顕著となる。
他方の端面3b側では出射する光の波長分布を測定す
る。そして、入射する光の波長分布と出射する光の波長
分布の差を調べることで、光強度が減衰した波長を特定
できる。これによって、センサプレート31をSPRセ
ンサとして用い、免疫反応等の測定をすることが可能と
なる。
As described above, the metal thin film 6 is formed on the surface of the optical waveguide 3.
Is formed, a surface plasmon resonance phenomenon occurs. That is, when light enters from one end face 3 a of the optical waveguide 3, light of a specific wavelength causes surface plasmon resonance in the metal thin film 6. This attenuates the intensity of light of this wavelength. The attenuation of the light of the specific wavelength becomes remarkable when the light is reflected to the region of the metal thin film 6 a plurality of times.
On the other end face 3b side, the wavelength distribution of the emitted light is measured. Then, by examining the difference between the wavelength distribution of the incident light and the wavelength distribution of the emitted light, it is possible to identify the wavelength at which the light intensity has attenuated. This makes it possible to use the sensor plate 31 as an SPR sensor to measure an immune reaction or the like.

【0038】[第4の実施形態]次に、図5に基づいて
第4の実施形態について説明する。本実施形態は、第3
の実施形態と基本的な構成要素を共通にしている。しか
しながら、本実施形態では、金属薄膜46を光導波路3
の上面全体に形成している点が異なる。即ち、センサプ
レート41を製造する場合に、予め光導波路3の上面全
体に金属薄膜46を形成する。全体に金属薄膜46を形
成する場合には、マスキング等の前処理が不要であるの
で、製造工程が簡略化される。
[Fourth Embodiment] Next, a fourth embodiment will be described with reference to FIG. In the present embodiment, the third
This embodiment has the same basic components as those of the first embodiment. However, in the present embodiment, the metal thin film 46 is
In that it is formed over the entire upper surface. That is, when the sensor plate 41 is manufactured, the metal thin film 46 is formed on the entire upper surface of the optical waveguide 3 in advance. In the case where the metal thin film 46 is formed on the whole, a pretreatment such as masking is not required, so that the manufacturing process is simplified.

【0039】そして、金属薄膜46の表面に疎水性膜5
を形成する。これによって、検体保持部7には金属薄膜
46が露出することとなり、検体保持部7に露出してい
る金属薄膜46上に誘電体膜8を形成することで、SP
Rセンサとしてのセンサプレート41を構成することが
できる。尚、当該実施形態のように、金属薄膜46を全
体に形成する場合には、検体9と触れていない部分(一
方の端部3a及び他方の端部3bの近傍)で表面プラズ
モン共鳴現象が生じてしまう場合が考えられる。この部
分で表面プラズモン共鳴現象が生じると、正しく検体の
定量をすることができなくなる場合も考えられる。従っ
て、このような問題を解決するために、検体保持部7を
光の伝搬方向に沿ってできるだけ長く形成し、検体9と
触れていない部分で全反射が生じないようにすることが
望ましい。
The hydrophobic film 5 is formed on the surface of the metal thin film 46.
To form As a result, the metal thin film 46 is exposed on the sample holding unit 7, and the SP is formed by forming the dielectric film 8 on the metal thin film 46 exposed on the sample holding unit 7.
A sensor plate 41 as an R sensor can be configured. When the metal thin film 46 is entirely formed as in this embodiment, a surface plasmon resonance phenomenon occurs in a portion not in contact with the sample 9 (near one end 3a and the other end 3b). Can be considered. If the surface plasmon resonance phenomenon occurs in this part, it may be impossible to correctly quantify the specimen. Therefore, in order to solve such a problem, it is desirable that the specimen holding unit 7 is formed as long as possible along the light propagation direction so that total reflection does not occur in a part not touching the specimen 9.

【0040】[第5の実施形態]次に、図6に基づいて
第5の実施形態について説明する。本実施形態は、第4
の実施形態と基本的な構成要素を共通にしている。しか
し、本実施形態では、光導波路3の下面の全面に下方被
覆膜5aが形成されている点が異なる。このように、光
導波路3の下面に下方被覆膜5aを形成すると、光導波
路3の下面から不要な光が混入せず、測定の精度を高く
維持することができる。
[Fifth Embodiment] Next, a fifth embodiment will be described with reference to FIG. In the present embodiment, the fourth
This embodiment has the same basic components as those of the first embodiment. However, the present embodiment is different in that the lower coating film 5a is formed on the entire lower surface of the optical waveguide 3. As described above, when the lower coating film 5a is formed on the lower surface of the optical waveguide 3, unnecessary light is not mixed from the lower surface of the optical waveguide 3, and the measurement accuracy can be maintained at a high level.

【0041】[第6の実施形態]次に、図7に基づいて
第6の実施形態について説明する。本実施形態は、第1
の実施形態と基本的な構成要素を共通としている。しか
しながら、本実施形態では、検体保持部67が複数個形
成されている点に特徴を有している。具体的に説明する
と、当該実施形態では、光が伝搬される方向と直角な方
向に沿って、8カ所の検体保持部67が平行に形成され
ている。図7の各検体保持部67の大きさは第1の実施
形態と同様であるが、必要に応じて幅を広くしたりして
もよい。幅を広くすると、光が反射する面積が増大し、
感度が向上することも考えられるからである。また、検
体保持部67の個数についても一例であり、2個以上7
個以下であってもよいし、9個以上であっても良い。
[Sixth Embodiment] Next, a sixth embodiment will be described with reference to FIG. In the present embodiment, the first
This embodiment has the same basic components as those of the first embodiment. However, the present embodiment is characterized in that a plurality of sample holding units 67 are formed. More specifically, in this embodiment, eight sample holding units 67 are formed in parallel along a direction perpendicular to the direction in which light propagates. Although the size of each sample holding unit 67 in FIG. 7 is the same as that of the first embodiment, the width may be increased as necessary. Increasing the width increases the area where light reflects,
This is because sensitivity may be improved. Further, the number of the sample holding units 67 is also an example.
The number may be less than or equal to nine, or nine or more.

【0042】実際に検体9の測定をする場合には、次の
ように行われる。例えば、光を照射する光源及び光を受
光する受光部が1組の場合には、それぞれ特定箇所の検
体保持部に対応させて光源及び受光部を位置決めし、そ
の検体保持部67に充填されている検体9について測定
を行う。1回目の測定が終了した場合には、続いて隣接
する検体保持部67に対応する位置に光源及び受光部を
位置決めする。そして測定を行う。これを繰り返して全
ての検体保持部67について測定を行う。これにより、
多項目・他検体の測定を迅速に行うことが可能となる。
The actual measurement of the sample 9 is performed as follows. For example, when the light source that irradiates light and the light receiving unit that receives light are one set, the light source and the light receiving unit are positioned corresponding to the sample holding unit at a specific location, and the sample holding unit 67 is filled. The measurement is performed on the sample 9 that is present. When the first measurement is completed, the light source and the light receiving unit are subsequently positioned at positions corresponding to the adjacent sample holding unit 67. Then, measurement is performed. By repeating this, the measurement is performed for all the sample holding units 67. This allows
It is possible to quickly measure many items and other samples.

【0043】また、光源及び受光部を移動させるのでは
なく、センサプレート61を移動させるようにしてもよ
い。即ち、光源及び受光部を固定しておき、センサプレ
ート61を移動台(図示略)に載せる。そして、上記し
たと同様に、各検体保持部67に対応させてセンサプレ
ート61を移動させる。このように、センサプレート6
1を移動させる場合には、光学的な位置決めの精度が要
求される光源や受光部が固定されるので、全体として、
光学系の位置決め精度の向上が望める。
The sensor plate 61 may be moved instead of moving the light source and the light receiving section. That is, the light source and the light receiving unit are fixed, and the sensor plate 61 is placed on a movable table (not shown). Then, in the same manner as described above, the sensor plate 61 is moved so as to correspond to each sample holding section 67. Thus, the sensor plate 6
When moving 1, the light source and the light receiving unit that require optical positioning accuracy are fixed.
An improvement in the positioning accuracy of the optical system can be expected.

【0044】そのほか、光源及び受光部を検体保持部6
7の個数と同数設け、それぞれ各光源を順に1つづつ点
灯させることにより、各検体保持部67毎に検体9の測
定をすることができる。このように、複数の光源を設け
る場合には、配置の自由度を確保するために、LEDな
どの小型の光源を用いる。また、消費電力も小さい等の
利点も有しているからである。但し、光ファイバ等を用
いて光源の光をセンサプレート61に伝搬する場合に
は、光源の位置決め自由度は向上するので、小さな光源
を用いなくても良い。
In addition, the light source and the light receiving unit are connected to the sample holding unit 6.
The number of samples 9 can be measured for each sample holding unit 67 by providing the same number as the number 7 and turning on each light source one by one in order. As described above, when a plurality of light sources are provided, a small light source such as an LED is used to secure a degree of freedom in arrangement. It is also because it has advantages such as low power consumption. However, when the light from the light source is transmitted to the sensor plate 61 using an optical fiber or the like, the degree of freedom in positioning the light source is improved, so that a small light source need not be used.

【0045】[第7の実施形態]次に、図8に基づいて
第7の実施形態について説明する。本実施形態は、第6
の実施形態と基本的な構成要素を共通にしている。しか
し、本実施形態では、光導波路63の下面の全面に下方
被覆膜65aが形成されている点が異なる。このよう
に、光導波路63の下面に下方被覆膜65aを形成する
と、光導波路53の下面から不要な光が混入せず、測定
の精度を高く維持することができる。
[Seventh Embodiment] Next, a seventh embodiment will be described with reference to FIG. In the present embodiment, the sixth
This embodiment has the same basic components as those of the first embodiment. However, the present embodiment is different in that a lower coating film 65a is formed on the entire lower surface of the optical waveguide 63. As described above, when the lower coating film 65a is formed on the lower surface of the optical waveguide 63, unnecessary light does not enter from the lower surface of the optical waveguide 53, and the measurement accuracy can be maintained high.

【0046】また、各検体保持部67における光導波路
63上に金属薄膜(図示略)を形成することにより、こ
のセンサプレート71をSPRセンサとして用いること
ができる。また、検体保持部67が複数個あるセンサプ
レート71によって免疫反応測定を行う場合には、各検
体保持部67に同じ検体9を充填して免疫反応測定をし
ても良いし、各検体保持部67毎に異なる検体を充填し
て免疫反応測定を行ってもよい。更には、各検体保持部
67に異なる抗原(若しくは抗体)を固定し、同一の検
体に対する多項目の免疫反応測定をするようにしてもよ
い。
Further, by forming a metal thin film (not shown) on the optical waveguide 63 in each sample holding section 67, the sensor plate 71 can be used as an SPR sensor. When an immunoreaction measurement is performed using the sensor plate 71 having a plurality of sample holding units 67, the same sample 9 may be filled in each of the sample holding units 67 and the immunoreaction measurement may be performed. A different sample may be filled every 67 and the immunological reaction may be measured. Further, different antigens (or antibodies) may be immobilized on each sample holding section 67, and multiple items of immune reaction measurement for the same sample may be performed.

【0047】[0047]

【発明の効果】本発明は以上のように構成され機能する
ので、これによると、センサプレート上に特別な凹部等
を加工すること無く検体を保持することができる。ま
た、検体保持部が所定の長さを有しているため、検体が
光導波路と接触している部分を複数回反射することとな
り、測定の精度を向上させることができる。
Since the present invention is constructed and functions as described above, according to this, it is possible to hold a specimen without processing a special recess or the like on the sensor plate. Further, since the sample holding portion has a predetermined length, the portion where the sample is in contact with the optical waveguide is reflected a plurality of times, and the accuracy of measurement can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施形態にかかるセンサプレー
トを示す図であり、図1(A)は斜視図を示し、図1
(B)は側方断面図を示し、図1(C)は図1(B)に
検体を充填した状態を示す側方断面図である。
FIG. 1 is a view showing a sensor plate according to a first embodiment of the present invention, and FIG. 1 (A) is a perspective view, and FIG.
FIG. 1B is a side sectional view, and FIG. 1C is a side sectional view showing a state in which the sample is filled in FIG. 1B.

【図2】図1に開示したセンサプレートで測定をする場
合を示す断面図であり、図2(A)は光導波路の下が空
気の場合を示し、図2(B)は光導波路の下が固定台の
場合を示す。
2A and 2B are cross-sectional views illustrating a case where measurement is performed with the sensor plate disclosed in FIG. 1; FIG. 2A illustrates a case where air is below the optical waveguide; FIG. Shows the case where is a fixed base.

【図3】本発明の第2の実施形態にかかるセンサプレー
トを示す図であり、図3(A)は斜視図を示し、図3
(B)は側方断面図を示し、図3(C)は図3(B)に
検体を充填した状態を示す側方断面図である。
FIG. 3 is a view showing a sensor plate according to a second embodiment of the present invention, and FIG. 3 (A) is a perspective view, and FIG.
FIG. 3B is a side sectional view, and FIG. 3C is a side sectional view showing a state in which the sample is filled in FIG. 3B.

【図4】本発明の第3の実施形態にかかるセンサプレー
トを示す図であり、図4(A)は斜視図を示し、図4
(B)は側方断面図を示し、図4(C)は図4(B)に
検体を充填した状態を示す側方断面図である。
FIG. 4 is a view showing a sensor plate according to a third embodiment of the present invention. FIG. 4 (A) is a perspective view, and FIG.
4B is a side sectional view, and FIG. 4C is a side sectional view showing a state in which the sample is filled in FIG. 4B.

【図5】本発明の第4の実施形態にかかるセンサプレー
トを示す図であり、図5(A)は斜視図を示し、図5
(B)は側方断面図を示し、図5(C)は図5(B)に
検体を充填した状態を示す側方断面図である。
FIG. 5 is a view showing a sensor plate according to a fourth embodiment of the present invention, and FIG. 5 (A) is a perspective view, and FIG.
FIG. 5B is a side sectional view, and FIG. 5C is a side sectional view showing a state in which the sample is filled in FIG. 5B.

【図6】本発明の第5の実施形態にかかるセンサプレー
トを示す図であり、図6(A)は斜視図を示し、図6
(B)は側方断面図を示し、図6(C)は図6(B)に
検体を充填した状態を示す側方断面図である。
FIG. 6 is a view showing a sensor plate according to a fifth embodiment of the present invention. FIG. 6 (A) is a perspective view, and FIG.
FIG. 6B is a side sectional view, and FIG. 6C is a side sectional view showing a state in which the sample is filled in FIG. 6B.

【図7】本発明の第6の実施形態にかかるセンサプレー
トを示す図であり、図7(A)は斜視図を示し、図7
(B)は検体を充填した場合の正面断面図を示し、図7
(C)は検体を充填した場合の側方断面図である。
FIG. 7 is a view showing a sensor plate according to a sixth embodiment of the present invention, and FIG. 7 (A) is a perspective view, and FIG.
FIG. 7B shows a front sectional view when the sample is filled, and FIG.
(C) is a side sectional view when the sample is filled.

【図8】本発明の第7の実施形態にかかるセンサプレー
トを示す図であり、図8(A)は斜視図を示し、図8
(B)は検体を充填した場合の正面断面図を示し、図8
(C)は検体を充填した場合の側方断面図である。
FIG. 8 is a view showing a sensor plate according to a seventh embodiment of the present invention, and FIG. 8 (A) is a perspective view, and FIG.
(B) shows a front sectional view when the sample is filled, and FIG.
(C) is a side sectional view when the sample is filled.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 センサプレート 3 光導波路 5 疎水性膜 6 金属薄膜 7 検体保持部 9 検体 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Sensor plate 3 Optical waveguide 5 Hydrophobic film 6 Metal thin film 7 Sample holding part 9 Sample

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 所定の側端面から入射した光が全反射を
繰り返して透過する板状の光導波路と、この光導波路の
上面の所定位置で液状の検体を保持する検体保持部と、
この検体保持部を除いて光導波路の上面を被覆する疎水
性膜とを備え、 前記検体保持部を前記光の伝搬方向に沿って所定長さと
することを特徴としたセンサプレート。
1. A plate-shaped optical waveguide through which light incident from a predetermined side end surface is repeatedly reflected and transmitted, and a sample holding portion for holding a liquid sample at a predetermined position on an upper surface of the optical waveguide;
A sensor plate, comprising: a hydrophobic film that covers an upper surface of the optical waveguide except for the sample holding unit; and wherein the sample holding unit has a predetermined length along the light propagation direction.
【請求項2】 前記検体保持部の長さを、入射した光が
検体保持部の領域内で少なくとも二回反射する長さとす
ることを特徴とした請求項1記載のセンサプレート。
2. The sensor plate according to claim 1, wherein the length of the sample holding unit is set to a length at which incident light is reflected at least twice in a region of the sample holding unit.
【請求項3】 前記光導波路の下面を被覆する下方被覆
膜を備えたことを特徴とする請求項1又は2記載のセン
サプレート。
3. The sensor plate according to claim 1, further comprising a lower coating film that covers a lower surface of the optical waveguide.
【請求項4】 前記検体保持部に対応する領域に所定の
金属薄膜を備えたことを特徴とする請求項1,2又は3
記載のセンサプレート。
4. The apparatus according to claim 1, wherein a predetermined metal thin film is provided in an area corresponding to said sample holding section.
The sensor plate as described.
【請求項5】 前記光導波路と疎水性膜との相互間の全
面に所定の金属薄膜を形成したことを特徴とした1,2
又は3記載のセンサプレート。
5. A method according to claim 1, wherein a predetermined metal thin film is formed on the entire surface between the optical waveguide and the hydrophobic film.
Or the sensor plate according to 3.
【請求項6】 前記検体保持部を少なくとも2つ形成し
たことを特徴とする請求項1,2,3,4又は5記載の
センサプレート。
6. The sensor plate according to claim 1, wherein at least two sample holding portions are formed.
【請求項7】 前記疎水性膜をフッ素樹脂で形成するこ
とを特徴とした請求項1,2,3,4,5又は6記載の
センサプレート。
7. The sensor plate according to claim 1, wherein said hydrophobic film is formed of a fluororesin.
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Cited By (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002139418A (en) * 2000-11-01 2002-05-17 Nikon Corp Microwell plate and fluorescence detector with the same
JP2003215029A (en) * 2002-01-23 2003-07-30 Japan Science & Technology Corp Apparatus for measuring surface plasmon resonance, and apparatus for measuring surface plasmon resonance and optical absorption spectrum
JP2003279475A (en) * 2002-03-25 2003-10-02 Japan Science & Technology Corp Surface plasmon resonance sensor
EP1363119A1 (en) * 2001-12-26 2003-11-19 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Information measuring device
JP2004163402A (en) * 2002-06-14 2004-06-10 Stiftung Fuer Diagnostische Forschung Cuvette for reader device for assaying substance using evanescent field method
WO2006046745A1 (en) * 2004-10-29 2006-05-04 Canon Kabushiki Kaisha Sensor for analyzing or identifying property of object, sensing apparatus using same, and sensing method
JP2008527334A (en) * 2004-12-30 2008-07-24 コーニング インコーポレイテッド Label-free detection of unpurified samples
US7492447B2 (en) 2002-10-30 2009-02-17 Atago Co., Ltd. Refractometer
JP2009058483A (en) * 2007-09-03 2009-03-19 Hitachi Chem Co Ltd Method and sensor for detecting substance adsorption
JP2011064702A (en) * 2004-08-02 2011-03-31 Furukawa Electric Co Ltd:The Specimen optical information recognizing device and method of recognizing the same
JP2011095159A (en) * 2009-10-30 2011-05-12 Toshiba Corp Optical sensor chip and method of manufacturing the same
WO2011157767A1 (en) * 2010-06-17 2011-12-22 Optisense B.V. Integrated optical waveguide evanescent field sensor
EP2400289A1 (en) * 2010-06-17 2011-12-28 Optisense B.V. Integrated optical waveguide evanescent field sensor
WO2016046934A1 (en) * 2014-09-25 2016-03-31 オリンパス株式会社 Substrate for observing raman scattering light
JP2017021050A (en) * 2006-12-12 2017-01-26 コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェKoninklijke Philips N.V. Microelectronic sensor device, reader device, and detection method
JP2018205258A (en) * 2017-06-09 2018-12-27 株式会社シバサキ Bacterium detection device

Cited By (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002139418A (en) * 2000-11-01 2002-05-17 Nikon Corp Microwell plate and fluorescence detector with the same
EP1363119A1 (en) * 2001-12-26 2003-11-19 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Information measuring device
EP1363119A4 (en) * 2001-12-26 2004-05-26 Matsushita Electric Ind Co Ltd Information measuring device
JP2003215029A (en) * 2002-01-23 2003-07-30 Japan Science & Technology Corp Apparatus for measuring surface plasmon resonance, and apparatus for measuring surface plasmon resonance and optical absorption spectrum
JP2003279475A (en) * 2002-03-25 2003-10-02 Japan Science & Technology Corp Surface plasmon resonance sensor
JP2004163402A (en) * 2002-06-14 2004-06-10 Stiftung Fuer Diagnostische Forschung Cuvette for reader device for assaying substance using evanescent field method
US7492447B2 (en) 2002-10-30 2009-02-17 Atago Co., Ltd. Refractometer
JP2011064702A (en) * 2004-08-02 2011-03-31 Furukawa Electric Co Ltd:The Specimen optical information recognizing device and method of recognizing the same
WO2006046745A1 (en) * 2004-10-29 2006-05-04 Canon Kabushiki Kaisha Sensor for analyzing or identifying property of object, sensing apparatus using same, and sensing method
US7682567B2 (en) 2004-10-29 2010-03-23 Canon Kabushiki Kaisha Sensor for analyzing or identifying property of object, sensing apparatus using same, and sensing method
JP2008527334A (en) * 2004-12-30 2008-07-24 コーニング インコーポレイテッド Label-free detection of unpurified samples
JP2017021050A (en) * 2006-12-12 2017-01-26 コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェKoninklijke Philips N.V. Microelectronic sensor device, reader device, and detection method
JP2009058483A (en) * 2007-09-03 2009-03-19 Hitachi Chem Co Ltd Method and sensor for detecting substance adsorption
JP2011095159A (en) * 2009-10-30 2011-05-12 Toshiba Corp Optical sensor chip and method of manufacturing the same
WO2011157767A1 (en) * 2010-06-17 2011-12-22 Optisense B.V. Integrated optical waveguide evanescent field sensor
EP2400289A1 (en) * 2010-06-17 2011-12-28 Optisense B.V. Integrated optical waveguide evanescent field sensor
CN103003685A (en) * 2010-06-17 2013-03-27 光学感觉有限公司 Integrated optical waveguide evanescent field sensor
WO2016046934A1 (en) * 2014-09-25 2016-03-31 オリンパス株式会社 Substrate for observing raman scattering light
JP2018205258A (en) * 2017-06-09 2018-12-27 株式会社シバサキ Bacterium detection device

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