JP2000148065A - Substrate for electrooptical device, electrooptical device, electronic equipment and projection display device - Google Patents

Substrate for electrooptical device, electrooptical device, electronic equipment and projection display device

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JP2000148065A
JP2000148065A JP10324298A JP32429898A JP2000148065A JP 2000148065 A JP2000148065 A JP 2000148065A JP 10324298 A JP10324298 A JP 10324298A JP 32429898 A JP32429898 A JP 32429898A JP 2000148065 A JP2000148065 A JP 2000148065A
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flop
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electro
flip
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JP10324298A
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Japanese (ja)
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Junichi Nakamura
旬一 中村
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Original Assignee
Seiko Epson Corp
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Publication date
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    • G09GARRANGEMENTS OR CIRCUITS FOR CONTROL OF INDICATING DEVICES USING STATIC MEANS TO PRESENT VARIABLE INFORMATION
    • G09G2300/00Aspects of the constitution of display devices
    • G09G2300/08Active matrix structure, i.e. with use of active elements, inclusive of non-linear two terminal elements, in the pixels together with light emitting or modulating elements
    • G09G2300/0809Several active elements per pixel in active matrix panels
    • G09G2300/0842Several active elements per pixel in active matrix panels forming a memory circuit, e.g. a dynamic memory with one capacitor
    • G09G2300/0857Static memory circuit, e.g. flip-flop

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  • Liquid Crystal (AREA)
  • Control Of Indicators Other Than Cathode Ray Tubes (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a substrate for an electrooptical device of a digital drive system without making to be apparent a write-in order on a display picture, dissolving non-uniformity in the display picture and obtaining high picture quality. SOLUTION: A digital storage circuit M provided respectively corresponding to each pixel has a first latch circuit F1 fetching the digital data Di inputted to a signal electrode Xi and temporarily storing them, and a second latch circuit L2 reading the advanced data D1 stored in a former frame period 1F in the latch circuit F1 in a reading period R2 preceding a writing period W2 of the back frame period 2F, temporarily storing them and statically driving a pixel electrode 14 based on a storage output Q. The write-in order of the data Di stays in the first latch circuit L1, and doesn't extend to the second latch circuit L2. The non-uniformity in the display picture is dissolved, and the high picture quality is obtained. Since the second latch circuit L2 static drives the pixel electrode 14, perfect digital drive is attained.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、反射型液晶パネル
用基板等の電気光学装置用基板に関し、特に、画素がマ
トリクス状に配列された電気光学装置用基板に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electro-optical device substrate such as a reflective liquid crystal panel substrate, and more particularly to an electro-optical device substrate in which pixels are arranged in a matrix.

【0002】[0002]

【関連の技術】本出願人は、1996年10月22日付
出願に係る特願平8−279388号を以て、以下に述
べる液晶パネル用基板,液晶パネル及び投写型表示装置
の構成を開示した。
2. Related Art The applicant of the present invention has disclosed, on Japanese Patent Application No. 8-279388 filed on Oct. 22, 1996, the structures of a liquid crystal panel substrate, a liquid crystal panel and a projection display device described below.

【0003】反射型液晶パネルをライトバルブとして用
いた投写型表示装置(液晶プロジェクタ)は、図5に示
すように、システム光軸L0 に沿って配置した光源部1
10、インテグレータレンズ120、及び偏光変換素子
130から概略構成される偏光照明装置100と、偏光
照明装置100から射出されたS偏光束をS偏光束反射
面201により反射させる偏光ビームスプリッタ200
と、偏光ビームスプリッタ200のS偏光束反射面20
1から反射された光のうち青色光(B)の成分を分離す
るダイクロイックミラー412と、分離された青色光
(B)を変調する反射型液晶ライトバルブ300Bと、
ダイクロイックミラー412によって青色光が分離され
た後の光束のうち赤色光(R)の成分を反射させて分離
するダイクロイックミラー413と、分離された赤色光
(R)を変調する反射型液晶ライトバルブ300Rと、
ダイクロイックミラー413を透過する残りの緑色光
(G)を変調する反射型液晶ライトバルブ300Gと、
3つの反射型液晶ライトバルブ300R,300G,3
00Bにて変調された光を光路逆進させてダイクロイッ
クミラー413,412,偏光ビームスプリッタ200
にて合成し、この合成光をスクリーン600へ投写する
投写レンズからなる投写光学系500とから構成されて
いる。各反射型液晶ライトバルブ300R,300G,
300Bとしては、それぞれ図6の断面図に示すような
反射型液晶パネル30が用いられている。
[0003] The projection display device using a reflection type liquid crystal panel as a light valve (liquid crystal projector), as shown in FIG. 5, the light source unit 1 arranged along a system optical axis L 0
10, a polarization illuminating device 100 schematically including an integrator lens 120 and a polarization conversion element 130, and a polarization beam splitter 200 for reflecting an S-polarized light beam emitted from the polarized light illuminating device 100 by an S-polarized light flux reflecting surface 201.
And the S-polarized light flux reflecting surface 20 of the polarizing beam splitter 200
A dichroic mirror 412 for separating the blue light (B) component of the light reflected from 1, a reflective liquid crystal light valve 300B for modulating the separated blue light (B),
A dichroic mirror 413 that reflects and separates a red light (R) component of the light flux after blue light is separated by the dichroic mirror 412, and a reflective liquid crystal light valve 300R that modulates the separated red light (R). When,
A reflective liquid crystal light valve 300G for modulating the remaining green light (G) transmitted through the dichroic mirror 413;
Three reflective liquid crystal light valves 300R, 300G, 3
The light modulated at 00B is reversed in the optical path to make dichroic mirrors 413, 412 and a polarizing beam splitter 200.
And a projection optical system 500 composed of a projection lens for projecting the combined light onto the screen 600. Each reflective liquid crystal light valve 300R, 300G,
As 300B, a reflective liquid crystal panel 30 as shown in the sectional view of FIG. 6 is used.

【0004】この反射型液晶パネル30は、ガラス又は
セラミック等からなる支持基板32上に接着剤で固着さ
れた反射型液晶パネル用基板31と、この反射型液晶パ
ネル用基板31上をシール材36で枠形状に囲み、間隔
をおいて対向配置した透明導電膜(ITO)からなる対
向電極(共通電極)33を持つ光入射側のガラス基板
(対向基板)35と、反射型液晶パネル用基板31とガ
ラス基板35との間のシール材36で封止された隙間内
において充填された周知のTN(Twisted Nematic )型
液晶又は電圧無印加状態で液晶分子が略垂直配向するS
H(Super Homeotropic )型液晶37とを有している。
The reflective liquid crystal panel 30 includes a reflective liquid crystal panel substrate 31 fixed on a support substrate 32 made of glass, ceramic, or the like with an adhesive, and a sealing material 36 on the reflective liquid crystal panel substrate 31. A glass substrate (opposite substrate) 35 on the light incident side having a counter electrode (common electrode) 33 made of a transparent conductive film (ITO) which is surrounded in a frame shape and is disposed opposite to each other at an interval; and a reflective liquid crystal panel substrate 31 A well-known TN (Twisted Nematic) type liquid crystal filled in a gap sealed by a sealing material 36 between the substrate and the glass substrate 35 or a liquid crystal molecule in which liquid crystal molecules are substantially vertically aligned in a state where no voltage is applied.
And an H (Super Homeotropic) type liquid crystal 37.

【0005】図7はこの反射型液晶パネル30に用いら
れる反射型液晶パネル用基板31の主要回路構成を示
し、図8はその反射型液晶パネル用基板31を拡大した
平面レイアウトを示す。反射型液晶パネル用基板31
は、図6に示す多数の画素電極14がマトリクス状に配
置された矩形の画素領域(表示領域)20と、画素領域
20の左右辺の外側に位置し、ゲート線(走査電極,行
電極)Y0 〜Yn を走査するめのシフトレジスタ及びバ
ッファ回路から成る走査線駆動回路(Yドライバー)2
2(22R,22L)と、画素領域20の上辺の外側に
位置し、データ線(ソース線,信号電極,列電極)X0
〜Xm についてのプリチャージ及びテスト回路23と、
画素領域20の下辺の外側に位置し、データ線X0 〜X
m に画像データに応じた画像信号をサンプリングして供
給する画像信号サンプリング回路24と、走査線駆動回
路22,プリチャージ及びテスト回路23,及び画像信
号サンプリング回路24の外側には前述したシール材3
7が位置決めされる枠形状のシール領域27と、下側端
に沿って配列されており、異方性導電膜(ACF)38
を介してフレキシブルテープ配線39に固着接続される
複数の端子パッド26と、この端子パッド26の列とシ
ール領域27との間に位置し、画像信号サンプリング回
路24のための選択パルスを生成するシフトレジスタ2
1と、そのシフトレジスタ21の両脇に位置し、ガラス
基板35の対向電極33に給電するための中継端子パッ
ド(いわゆる銀点)29R,29Lとから構成されてい
る。
FIG. 7 shows a main circuit configuration of a reflective liquid crystal panel substrate 31 used in the reflective liquid crystal panel 30, and FIG. 8 shows an enlarged plan layout of the reflective liquid crystal panel substrate 31. Reflective liquid crystal panel substrate 31
Is a rectangular pixel area (display area) 20 in which a large number of pixel electrodes 14 shown in FIG. 6 are arranged in a matrix, and a gate line (scanning electrode, row electrode) located outside the left and right sides of the pixel area 20. A scanning line driving circuit (Y driver) 2 including a shift register and a buffer circuit for scanning Y 0 to Y n.
2 (22R, 22L) and the data line (source line, signal electrode, column electrode) X 0 located outside the upper side of the pixel region 20.
A precharge and test circuit 23 for to X m,
The data lines X 0 to X 4 are located outside the lower side of the pixel region 20.
m , an image signal sampling circuit 24 for sampling and supplying an image signal corresponding to the image data, a scanning line driving circuit 22, a precharge and test circuit 23, and the above-described sealing material 3 outside the image signal sampling circuit 24.
7 are arranged along the lower end of the frame-shaped seal region 27 where the positioning is performed, and an anisotropic conductive film (ACF) 38 is arranged.
And a plurality of terminal pads 26 which are fixedly connected to the flexible tape wiring 39 via a line, and which are located between the row of the terminal pads 26 and the sealing region 27 and generate a selection pulse for the image signal sampling circuit 24. Register 2
1 and relay terminal pads (so-called silver dots) 29R and 29L located on both sides of the shift register 21 for supplying power to the counter electrode 33 of the glass substrate 35.

【0006】シフトレジスタ21と画像信号サンプリン
グ回路24はデータ線X1 〜Xm を駆動するための信号
線駆動回路(Xドライバー)40を構成している。この
信号線駆動回路40はデータ線X0 〜Xm に対し1本ず
つ順番にデータ信号を送り込む点順次駆動方式を採用し
ている。なお、総てのデータ線X0 〜Xm に対し一斉に
データ信号を送り込む線順次駆動方式を採用することも
できる。画素(画素電極14)がマトリクス状に配列さ
れた画素領域20は、格子状に配置されたデータ線X0
〜Xm 及びゲート線Y0 〜Yn と、それらの交点部毎に
配置された画素選択用のMOSFET(絶縁ゲート型電
界効果トランジスタ)T(T00〜Tnm)を有している。
各画素のトランジスタTのソースSはデータ線Xに、ゲ
ートGはゲート線に、ドレインDは後述するように画素
電極14及び保持容量Cにそれぞれ接続されている。こ
の反射型液晶パネル用基板31の画素電極14には、対
向基板のガラス基板35との間に充填される液晶37の
液晶セルLCが接続される。
The shift register 21 and the image signal sampling circuit 24 constitute a signal line driving circuit (X driver) 40 for driving the data lines X 1 to X m . The signal line drive circuit 40 employs a sequential drive system point feeds the data signals one by one to the data lines X 0 to X m. It is also possible to employ a line-sequential drive system feeds the simultaneously data signal to all the data lines X 0 to X m. The pixel region 20 in which the pixels (pixel electrodes 14) are arranged in a matrix shape has a data line X 0 arranged in a lattice shape.
And to X m and the gate lines Y 0 to Y n, have their intersection point pixels arranged MOSFET for selecting every (insulated gate field effect transistor) T to (T 00 ~T nm).
The source S of the transistor T of each pixel is connected to the data line X, the gate G is connected to the gate line, and the drain D is connected to the pixel electrode 14 and the storage capacitor C as described later. The pixel electrode 14 of the reflective liquid crystal panel substrate 31 is connected to a liquid crystal cell LC of a liquid crystal 37 filled between the pixel electrode 14 and a glass substrate 35 as an opposite substrate.

【0007】なお、シール領域27の内側に位置する周
辺回路(走査線駆動回路22R,22L,プリチャージ
及びテスト回路23,及び画像信号サンプリング回路2
4)にも、光が入射するのを防止するため、最上層の画
素電極14と同層の遮光膜25(図6参照)が設けられ
ている。
The peripheral circuits (scanning line drive circuits 22R and 22L, precharge and test circuit 23, and image signal sampling circuit 2) located inside the seal area 27
4), a light-shielding film 25 (see FIG. 6) in the same layer as the pixel electrode 14 in the uppermost layer is provided in order to prevent light from entering.

【0008】図9は反射型液晶パネル用基板31の画素
領域20の一部を拡大して示す平面図で、図10は図9
中のA−A′に沿って切断した状態を示す切断図であ
る。図10において、1は単結晶シリコンのP--型半導
体基板(N--型半導体基板でも良い)で、例えば20mm
角の大形サイズである。2はこの半導体基板1のうち素
子(MOSFETなど)形成領域の表面(主面)側に形
成されたP型ウェル領域、3は半導体基板1の素子非形
成領域における素子分離用に形成されたフィールド酸化
膜(いわゆるLOCOS)である。図10に示すP型ウ
ェル領域2は、例えば画素数768×1024というよ
うな多数の画素がマトリクス状に配置された画素領域2
0の共通ウェル領域として形成されており、画素領域2
0以外の周辺回路(走査線駆動回路22R,22L,プ
リチャージ及びテスト回路23,画像信号サンプリング
回路24,及び信号線駆動回路21)を構成する素子を
作り込むための領域のP型ウェル領域とは分離されてい
る。
FIG. 9 is an enlarged plan view showing a part of the pixel region 20 of the reflective liquid crystal panel substrate 31, and FIG.
FIG. 4 is a cutaway view showing a state cut along AA ′ in FIG. In FIG. 10, reference numeral 1 denotes a single crystal silicon P type semiconductor substrate (or an N type semiconductor substrate), for example, 20 mm.
It is a large corner. Reference numeral 2 denotes a P-type well region formed on the surface (main surface) side of an element (e.g., MOSFET) forming region of the semiconductor substrate 1; It is an oxide film (so-called LOCOS). The P-type well region 2 shown in FIG. 10 is a pixel region 2 in which a large number of pixels such as 768 × 1024 pixels are arranged in a matrix.
0, and is formed as a pixel region 2
A P-type well region for forming elements constituting peripheral circuits other than 0 (scanning line driving circuits 22R and 22L, precharge and test circuit 23, image signal sampling circuit 24, and signal line driving circuit 21); Are separated.

【0009】フィールド酸化膜3には1画素毎の区画領
域に2つの開口部が形成されている。一方の開口部の内
側中央にゲート絶縁膜4bを介して形成されたポリシリ
コン又はメタルシリサイド等からなるゲート電極4a
と、このゲート電極4aの両側のP型ウェル領域2の表
面に形成されたN+ 型ソース領域5a,N+ 型ドレイン
領域5bとが画素選択用のNチャネル型MOSFET
(絶縁ゲート型電界効果トランジスタ)Tを構成してい
る。行方向に隣接する複数の画素の各ゲート電極4aは
そのまま画素行方向に延在してゲート線4(図7図示の
Y)を構成している。
In the field oxide film 3, two openings are formed in a partitioned area for each pixel. A gate electrode 4a made of polysilicon or metal silicide formed at the center of the inside of one opening via a gate insulating film 4b.
The N + type source region 5a and the N + type drain region 5b formed on the surface of the P type well region 2 on both sides of the gate electrode 4a are N channel type MOSFETs for pixel selection.
(Insulated gate field effect transistor) T. Each gate electrode 4a of a plurality of pixels adjacent in the row direction extends as it is in the pixel row direction to form a gate line 4 (Y in FIG. 7).

【0010】また、他方の開口部の内側のP型ウェル領
域2の表面に形成された行方向共通のP型容量電極領域
8と、このP型容量電極領域8の上に絶縁膜(誘電膜)
9bを介して形成されたポリシリコン又はメタルシリサ
イド等からなる容量電極9aとが画素選択用トランジス
タTで選択された信号を保持するための保持容量Cを構
成している。
A common P-type capacitor electrode region 8 formed in the row direction on the surface of the P-type well region 2 inside the other opening, and an insulating film (dielectric film) is formed on the P-type capacitor electrode region 8. )
The capacitor electrode 9a made of polysilicon or metal silicide formed via the capacitor 9b constitutes a storage capacitor C for holding a signal selected by the pixel selection transistor T.

【0011】ゲート電極4a及び容量電極9aの上には
第1の層間絶縁膜6が形成され、この絶縁膜6上にはア
ルミニウムを主体とする第1のメタル層が形成されてい
る。
A first interlayer insulating film 6 is formed on gate electrode 4a and capacitor electrode 9a, and a first metal layer mainly composed of aluminum is formed on insulating film 6.

【0012】第1のメタル層には、列方向に延在するデ
ータ線7(図7図示のX),データ線7から櫛歯状に突
出してコンタクトホール6aを介してソース領域4bに
導電接触するソース電極配線7a,コンタクトホール6
bを介してドレイン領域5bに導電接触すると共にコン
タクトホール6cを介して容量電極9aに導電接触する
中継配線10とが含まれる。
In the first metal layer, a data line 7 (X in FIG. 7) extending in the column direction, a protruding comb-like shape from the data line 7, and a conductive contact with a source region 4b through a contact hole 6a. Source electrode wiring 7a, contact hole 6
b, and a relay wiring 10 that makes conductive contact with the drain region 5b through the contact hole 6b and makes conductive contact with the capacitor electrode 9a through the contact hole 6c.

【0013】データ線7,ソース電極配線7a及び中継
配線10を構成する第1のメタル層の上には第2の層間
絶縁膜11が形成され、この第2の層間絶縁膜11上に
はアルミニウムを主体とする第2のメタル層が形成され
ている。この第2のメタル層には画素領域20の一面を
覆う遮光膜12が含まれる。なお、この遮光膜12を構
成する第2のメタル層は、画素領域20の周囲に形成さ
れる周辺回路(走査線駆動回路22R,22L,プリチ
ャージ及びテスト回路23,画像信号サンプリング回路
24,及び信号線駆動回路21)において素子間の接続
用配線として利用される。
A second interlayer insulating film 11 is formed on the first metal layer forming the data line 7, the source electrode wiring 7a and the relay wiring 10, and an aluminum film is formed on the second interlayer insulating film 11. Is formed as a second metal layer. The second metal layer includes a light shielding film 12 covering one surface of the pixel region 20. The second metal layer forming the light-shielding film 12 includes peripheral circuits formed around the pixel region 20 (scanning line drive circuits 22R and 22L, precharge and test circuit 23, image signal sampling circuit 24, and It is used as a wiring for connection between elements in the signal line driving circuit 21).

【0014】遮光膜12の中継配線10の真上に対応す
る位置にはプラグ貫通用開口部12aが開けられてい
る。遮光膜12の上には第3の層間絶縁膜13が形成さ
れ、この第3の層間絶縁膜13の上に略1画素分に対応
した矩形状の反射電極としての画素電極14が形成され
ている。遮光膜12の開口部12aに対応してその内側
に位置するように、第3,第2の層間絶縁膜13,11
を貫通するコンタクトホール16が設けられている。こ
のコンタクトホール16内にはタングステン等の高融点
金属をCVD法により埋め込んだ後、第3の層間絶縁膜
13の上に堆積した高融点金属層と第3の層間絶縁膜1
3の表面側をCMP(化学的機械研磨)法で削り込んで
鏡面様に平坦化する。次いで、例えば低温スパッタ法に
よりアルミニウム層を成膜し、パターニングにより一辺
が15〜20μm程度の矩形状の画素電極(反射電極)
14を形成する。中継配線10とその上層の画素電極1
4とは柱状の接続プラグ(層間導電部)15で電気的に
接続されている。そして、画素電極14の上にはパッシ
ベーション膜17が全面的に形成されている。
An opening 12a for penetrating the plug is formed at a position of the light shielding film 12 just above the relay wiring 10. A third interlayer insulating film 13 is formed on the light-shielding film 12, and a pixel electrode 14 as a rectangular reflective electrode corresponding to substantially one pixel is formed on the third interlayer insulating film 13. I have. The third and second interlayer insulating films 13 and 11 are positioned so as to be located inside the light-shielding film 12 corresponding to the openings 12a.
Is provided. After a high melting point metal such as tungsten is buried in the contact hole 16 by the CVD method, the high melting point metal layer deposited on the third interlayer insulating film 13 and the third interlayer insulating film 1 are formed.
The surface side of No. 3 is cut by a CMP (Chemical Mechanical Polishing) method and flattened like a mirror surface. Next, for example, an aluminum layer is formed by a low-temperature sputtering method, and a rectangular pixel electrode (reflection electrode) having a side of about 15 to 20 μm is formed by patterning.
14 is formed. Relay wiring 10 and pixel electrode 1 above it
4 are electrically connected to each other by a columnar connection plug (interlayer conductive portion) 15. Then, a passivation film 17 is entirely formed on the pixel electrode 14.

【0015】なお、接続プラグ15の形成方法として
は、CMP法で第3の層間絶縁膜13を平坦化した後、
コンタクトホールを開口し、その中にタングステン等の
高融点金属を埋め込む方法もある。
The connection plug 15 is formed by flattening the third interlayer insulating film 13 by a CMP method,
There is also a method in which a contact hole is opened and a high melting point metal such as tungsten is buried therein.

【0016】[0016]

【発明が解決しようとする課題】このような反射型液晶
パネル用基板31の駆動方式は、まず、走査線駆動回路
22がゲート線Y0 を選択し、その選択期間(水平期
間)において、信号線駆動回路40からデータ線X0
m に対し1本ずつ順番に画素選択期間(列選択期間)
ごとデータ信号が送り込まれ、第1列上の画素では保持
容量Cと画素電極14に接続された液晶セルLCに対
し、点順次でデータ信号の書込みが行われる。
The driving method of the reflective liquid crystal panel substrate 31 is as follows. First, the scanning line driving circuit 22 selects the gate line Y 0 , and in the selection period (horizontal period), the signal line is selected. From the line driving circuit 40 to the data lines X 0 to
X pixel selection period one by one to the m (column selection period)
A data signal is sent to each of the pixels on the first column, and a data signal is written to the storage capacitor C and the liquid crystal cell LC connected to the pixel electrode 14 in a dot-sequential manner.

【0017】次に、走査線駆動回路22がゲート線Y1
を選択した選択期間においては、第2行上の画素では保
持容量Cと画素電極14に接続された液晶セルLCに対
し、点順次でデータ信号の書込みが行われる。このよう
して、最後に第(n+1)行上の画素に対するデータ信
号の書込みが行われると、全画素の書込み期間(信号線
駆動回路40側では画像信号の1フレーム転送)が終了
し、その後の全画素表示期間を経た後、次の1フレーム
転送が開始される。
Next, the scanning line driving circuit 22 controls the gate line Y 1
In the selection period where is selected, in the pixels on the second row, data signals are written to the storage capacitor C and the liquid crystal cell LC connected to the pixel electrode 14 in a dot-sequential manner. In this manner, when the data signal is written to the pixel on the (n + 1) -th row at the end, the writing period for all the pixels (one-frame transfer of the image signal on the signal line driving circuit 40 side) ends, and thereafter , The next one-frame transfer is started.

【0018】ところが、次の1フレーム転送が開始され
ると、ゲート線Y0 を選択した選択期間では、第1行第
1列の画素上のデータ信号がリフレッシュされる(書換
えられる)が、第1行上のその他の画素や第2行以下の
画素では前フレームの信号がそのまま残っている。この
ため、書込み期間では前フレームに属する画像と後フレ
ームに属する画像との切り換わる画素が点順次で進行
し、実際はそのまま表示画面に現れているため、表示画
面の不均一が生じている。
However, when the next one frame transfer is started, the data signal on the pixel in the first row and the first column is refreshed (rewritten) in the selection period in which the gate line Y 0 is selected. In the other pixels on one row and the pixels on the second row and below, the signal of the previous frame remains as it is. For this reason, in the writing period, the pixels that switch between the image belonging to the previous frame and the image belonging to the subsequent frame progress dot-sequentially and actually appear as they are on the display screen, resulting in an uneven display screen.

【0019】画素数が比較的少ない表示画面の場合、書
込み期間を短縮できるため、上記の如き表示画面の不均
一はさほど問題とならないが、画素数を増やす程に、全
画素の書込み時間が長くなる分、相反的に全画素表示期
間が短くなり、表示画面の不均一が顕在化し、画質の低
下を招く。勿論、信号線駆動回路40は、点順次方式で
はなく、線順次方式を採用できるが、かかる場合も、全
画素の書込み時間では、前フレームに属する画像と後フ
レームに属する画像との切り替わり画素が線順次で進行
し、そのまま表示画面に現れているため、やはり表示画
面の不均一が生じている。画素数を増やした場合、表示
画面の不均一により画質の低下を招く。
In the case of a display screen having a relatively small number of pixels, the writing period can be shortened, so that the nonuniformity of the display screen as described above does not matter much. However, as the number of pixels increases, the writing time of all pixels increases. As a result, the display period of all pixels is reciprocally shortened, and the non-uniformity of the display screen becomes conspicuous, and the image quality is reduced. Of course, the signal line driving circuit 40 can adopt the line sequential method instead of the dot sequential method, but in such a case, in the writing time of all the pixels, the switching pixel between the image belonging to the previous frame and the image belonging to the subsequent frame is not sufficient. Since the display proceeds in a line-sequential manner and appears on the display screen as it is, the display screen also becomes uneven. When the number of pixels is increased, the image quality is reduced due to unevenness of the display screen.

【0020】このため、高画素数による大画面化又は高
精細化に限界があった。
For this reason, there is a limit in increasing the size of the screen or increasing the definition due to the number of pixels.

【0021】そこで、上記問題点に鑑み、本発明の第1
の課題は、点順次又は線順次の書込み方式を採用して
も、その書込み順次が表示画面に顕在化せず、表示画面
の不均一を解消でき、高画質が得られる電気光学装置用
基板を提供することにある。
In view of the above problems, the first aspect of the present invention
The problem is that even if a dot-sequential or line-sequential writing method is adopted, the writing sequence does not become apparent on the display screen, the unevenness of the display screen can be eliminated, and a substrate for an electro-optical device that can obtain high image quality can be obtained. To provide.

【0022】また、本発明の第2の課題は、液晶(L
C)をはじめ、DMD,FED,PDP,EL,LED
等のディジタル駆動の表示デバイスに好適な電気光学装
置用基板を提供することにある。
A second object of the present invention is to provide a liquid crystal (L)
C), DMD, FED, PDP, EL, LED
It is an object of the present invention to provide a substrate for an electro-optical device suitable for a digitally driven display device such as the one described above.

【0023】[0023]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明の講じた第1の手段は、走査電極と信号電極
のマトリクス交点に対応する画素にそれぞれ画素電極を
備える電気光学装置(例えば,LC,DMD,FED,
PDP,EL,LED等のディジタル駆動型表示デバイ
ス)用基板において、一時記憶保持した先行ディジタル
データ(例えば前フレームのデータ)に基づく画素駆動
動作とその先行ディジタルデータから一定時間後に信号
電極に到来する同一画素の遅行ディジタルデータ(例え
ば後フレームのデータ)に対する一時記憶動作とを同時
並行的に実行するディジタル記憶手段が画素毎にそれぞ
れ対応して設けられて成ることを特徴とする。
According to a first aspect of the present invention, there is provided an electro-optical device having a pixel electrode corresponding to a matrix intersection between a scanning electrode and a signal electrode. , LC, DMD, FED,
In a substrate for a digital drive type display device such as PDP, EL, LED, etc., a pixel drive operation based on temporarily stored preceding digital data (for example, data of a previous frame) and arrives at a signal electrode after a predetermined time from the preceding digital data. Digital storage means for simultaneously and concurrently performing a temporary storage operation on delayed digital data of the same pixel (for example, data of a subsequent frame) is provided for each pixel.

【0024】従来のアクティブ素子回路ではデータを保
持容量に一時記憶するタイミングと当該データで電気光
学材料を画素駆動するタイミングとが一致しているもの
であるが、本発明の電気光学装置用基板によれば、信号
電極からのデータを一時記憶するタイミングと、その一
時記憶データを読み出して画素を駆動するタイミングと
を全画素データが蓄積されるまで積極的に位相シフトさ
せているため、前フレーム期間で全画素のデータを書き
込んで蓄積してから次のフレーム期間で全画素の一斉表
示(静止表示)を実現できる。ここで、一定期間とは、
フルフレーム期間に限らず、カラーシーケンシャル表示
方式(フィールド色順次方式)において、1フルフレー
ム期間にR,G,Bのサブフレーム期間を順に含む場合
は、このサブフレーム期間も一定期間に相当している。
In the conventional active element circuit, the timing for temporarily storing data in the storage capacitor and the timing for driving the electro-optical material with pixels using the data coincide with each other. According to this, the timing for temporarily storing the data from the signal electrodes and the timing for reading out the temporarily stored data and driving the pixels are positively shifted until all the pixel data is accumulated. , The data of all the pixels is written and accumulated, and then the simultaneous display (still display) of all the pixels can be realized in the next frame period. Here, the certain period is
In addition to the full frame period, in a color sequential display system (field color sequential system), when one full frame period includes R, G, and B subframe periods in order, the subframe period also corresponds to a certain period. I have.

【0025】本発明においては、点順次方式又は線順次
方式等の書き込み順次に拘らず、書込み順次が一時記憶
順次までに留まり、画素駆動順次としては顕在化せず、
全画素一斉のフレーム切り換え表示と全画素の表示同時
性を実現できる。これにより、表示画面の不均一を解消
でき、高画質の電気光学装置用基板を提供できる。この
ため、画素数の多少に無関係で、高画質の大画面化又は
高精細化を実現できる。また、表示時間と書込み時間の
長短が1フレーム期間内で相反せず、従前に比し総ての
画素について表示時間を長くできるので、より一層の高
画質化を達成できる。また、一定期間(例えば1フレー
ム期間)に亘り全画素の書き込み動作も実現でき、書込
み期間を長くできる。信号転送速度の低速化による周辺
回路構成の簡素化又は高画素数化を実現できる。しか
も、電気光学装置用基板に外付けする表示データ用のフ
レームメモリが不要となる。
In the present invention, regardless of the writing sequence such as the dot-sequential system or the line-sequential system, the writing sequence is limited to the temporary storage sequence, and does not appear as the pixel driving sequence.
It is possible to realize frame switching display of all pixels simultaneously and display simultaneousness of all pixels. As a result, unevenness of the display screen can be eliminated, and a high quality electro-optical device substrate can be provided. Therefore, regardless of the number of pixels, it is possible to realize a large screen and high definition of high image quality. Further, the display time and the writing time are not inconsistent within one frame period, and the display time can be made longer for all pixels than before, so that higher image quality can be achieved. Further, the writing operation of all pixels can be realized over a certain period (for example, one frame period), and the writing period can be lengthened. It is possible to simplify the peripheral circuit configuration or increase the number of pixels by reducing the signal transfer speed. In addition, there is no need for a frame memory for display data externally attached to the electro-optical device substrate.

【0026】信号電極上の信号がパルス幅変調方式であ
る場合、画素のディジタル駆動を実現できることは言う
迄もないが、本発明では、画素駆動方式がダイナミック
駆動ではなく、一時記憶データに基づくスタティック駆
動となることから、画素駆動信号の減衰が無く、完全デ
ィジタル駆動が可能となる。
When the signal on the signal electrode is of a pulse width modulation type, it is needless to say that digital driving of the pixel can be realized. However, in the present invention, the pixel driving type is not a dynamic driving but a static driving based on temporarily stored data. Since driving is performed, there is no attenuation of the pixel driving signal, and complete digital driving is possible.

【0027】上記第1の手段において、例えば、信号電
極に対して交互的ないし排他的に動作する並列接続の複
数個の記憶セルを有する場合、フレーム切り換えの際、
各記憶セルを切り換える必要があり、常に同一記憶セル
により画素電極をスタティック駆動できない。
In the first means, for example, when there are a plurality of memory cells connected in parallel which operate alternately or exclusively with respect to the signal electrodes,
It is necessary to switch each storage cell, and the pixel electrode cannot always be statically driven by the same storage cell.

【0028】そこで、本発明の講じた第2の手段は、走
査電極と信号電極のマトリクス交点に対応する画素にそ
れぞれ画素電極を備える電気光学装置用基板において、
信号電極に到来するディジタルデータをカスケード接続
した複数の記憶セルに順次シフトしながら一時記憶保持
し、最終段の記憶セルの記憶出力に基づき画素駆動させ
るディジタル記憶手段が、画素毎にそれぞれ対応して設
けられて成ることを特徴とする。
Therefore, a second means adopted by the present invention is to provide an electro-optical device substrate having pixel electrodes at pixels corresponding to matrix intersections of scanning electrodes and signal electrodes, respectively.
Digital storage means for temporarily storing and holding digital data arriving at the signal electrode while sequentially shifting the data to a plurality of cascade-connected storage cells, and driving pixels based on the storage output of the last-stage storage cell, corresponds to each pixel. It is characterized by being provided.

【0029】このようなディジタル記憶手段によれば、
画素電極をスタティック駆動させるする記憶セルが常に
最終段の記憶セルが担うため、完全ディジタル駆動が可
能となる。一般的には、記憶セルは2段で構成すれば充
分であるが、3段以上の記憶セルを設けても構わない。
記憶セルが2段以上の場合、一定期間以上の移相量を持
つ遅延手段が設けられた構成であり、いわば、シフトレ
ジスタないしタップ数が1以上のFIRフィルタに相当
していると言える。
According to such digital storage means,
Since the memory cell for statically driving the pixel electrode always serves as the last-stage memory cell, complete digital driving is possible. In general, it is sufficient to configure the memory cells in two stages, but three or more memory cells may be provided.
When the number of storage cells is two or more, a delay means having a phase shift amount of a certain period or more is provided, and it can be said that it corresponds to a shift register or an FIR filter having one or more taps.

【0030】記憶セルが2段の場合、上記ディジタル記
憶手段は、信号電極に到来するディジタルデータを取り
込んで一時記憶する第1のラッチ手段と、第1のラッチ
手段においてディジタルデータよりも一定時間前に記憶
された先行ディジタルデータを第1のラッチ手段のデー
タ取込み動作前に読み込んで一時記憶すると共にその記
憶出力に基づき画素駆動させる第2のラッチ手段とから
構成することができる。ここに、第2のラッチ手段はス
タティック駆動するところに特徴があり、第1のラッチ
手段はデータ遅延手段として機能するところに特徴があ
る。
In the case where the number of storage cells is two, the digital storage means includes first latch means for fetching digital data arriving at the signal electrode and temporarily storing the digital data; The first latch means reads the preceding digital data before the data fetch operation of the first latch means, temporarily stores the data, and drives the pixel based on the stored output. Here, the second latch means is characterized in that it is driven statically, and the first latch means is characterized in that it functions as data delay means.

【0031】そして、第1のラッチ手段は、ディジタル
データを取り込む第1のデータ選択手段と、第1のデー
タ選択手段で取り込んだデータを一時記憶する第1のフ
リップフロップとを有し、第2のラッチ手段は、第1の
フリップフロップの出力データを取り込む第2のデータ
選択手段と、第2のデータ選択手段で取り込んだデータ
を一時記憶し、その記憶出力が画素電極に電気的に接続
されて成る第2のフリップフロップとを有する。第1の
フリップフロップはデータ遅延手段として機能し、第2
のフリップフロップは画素電極のスタティック駆動手段
として機能する。
The first latch means has first data selection means for taking in digital data, and first flip-flop for temporarily storing data taken in by the first data selection means, and Is temporarily stored with the second data selecting means for taking in the output data of the first flip-flop and the data taken in by the second data selecting means, and the storage output is electrically connected to the pixel electrode. And a second flip-flop. The first flip-flop functions as data delay means,
Function as static driving means for the pixel electrodes.

【0032】データ選択手段は各種の構成が可能であ
る。例えば、第1のデータ選択手段は第1のタイミング
パルスに同期して導通する第1のデータ転送用トランジ
スタ、第1のフリップフロップは第1のタイミングパル
スに同期して記憶動作する第1の同期式フリップフロッ
プ、第2のデータ選択手段は第2のタイミグパルスより
も前に生じる第2のタイミングパルスに同期して導通す
る第2のデータ転送用MOSFET、第2のフリップフ
ロップは第2のタイミングパルスに同期して記憶動作す
る第2の同期式フリップフロップとすることができる。
データ選択手段が1トランジスタで構成でき、素子数の
削減に有効である。
The data selection means can have various configurations. For example, the first data selection means is a first data transfer transistor that is turned on in synchronization with a first timing pulse, and the first flip-flop is a first synchronization transistor that performs a storage operation in synchronization with the first timing pulse. A second flip-flop, a second data selecting means, a second data transfer MOSFET, which is turned on in synchronization with a second timing pulse generated before the second timing pulse, and a second flip-flop, A second synchronous flip-flop that performs a storage operation in synchronization with a pulse can be provided.
The data selection means can be constituted by one transistor, which is effective for reducing the number of elements.

【0033】また、第1のデータ選択手段は第1のタイ
ミングパルスに同期して論理動作する第1の1入力型ゲ
ート素子、第1のフリップフロップは第1のタイミング
パルスに同期して記憶動作する第1の同期式フリップフ
ロップ、第2のデータ選択手段は前記第2のタイミング
パルスに同期して論理動作する第2の1入力型ゲート素
子、第2のフリップフロップは前記第2のタイミングパ
ルスに同期して記憶動作する第2の同期式フリップフロ
ップとすることができる。データ選択手段として1入力
型ゲート素子を用いると2以上のトランジスタを必要と
するが、消費電力の低減,波形整形及びエネルギー増幅
に有効であり、書き込み駆動手段として機能し、記憶動
作の確実化に寄与する。この1入力型ゲート素子として
は、例えば、クロックドインバータでも3ステートバッ
ファでも良い。
The first data selecting means operates as a first one-input type gate element in synchronization with the first timing pulse, and the first flip-flop operates as a memory in synchronization with the first timing pulse. A first synchronous flip-flop, a second data selecting means, a second one-input type gate element that performs a logical operation in synchronization with the second timing pulse, and a second flip-flop, the second timing pulse. And a second synchronous flip-flop that performs a storage operation in synchronization with the second synchronous flip-flop. When a one-input type gate element is used as the data selection means, two or more transistors are required. However, it is effective for reduction of power consumption, waveform shaping, and energy amplification, and functions as a write driving means to ensure storage operation. Contribute. The one-input gate element may be, for example, a clocked inverter or a three-state buffer.

【0034】フリップフロップも各種の構成が可能であ
る。例えば、第1の同期式フリップフロップは、偶数個
のインバータを巡回接続した第1の偶数反転回路と、第
1のタイミングパルスに同期してその初段インバータの
入力と帰還段インバータの出力との電気的接続を一時的
に切り離す第1の記憶保持制御用トランジスタとを有
し、第2の同期式フリップフロップは、偶数個のインバ
ータを巡回接続した第2の偶数反転回路と、第2のタイ
ミングパルスに同期してその初段インバータの入力と帰
還段インバータの出力との電気的接続を一時的に切り離
す第2の記憶保持制御用トランジスタとを有する。
Various configurations are possible for the flip-flop. For example, the first synchronous flip-flop is provided with a first even-numbered inverting circuit in which an even number of inverters are cyclically connected, and an electric signal between an input of the first-stage inverter and an output of the feedback-stage inverter synchronized with the first timing pulse. A first storage hold control transistor for temporarily disconnecting a connection, a second synchronous flip-flop comprises a second even inverting circuit in which an even number of inverters are cyclically connected, and a second timing pulse. And a second memory holding control transistor for temporarily disconnecting the electrical connection between the input of the first-stage inverter and the output of the feedback-stage inverter in synchronization with the first storage inverter.

【0035】偶数反転回路に記憶保持されている論理値
と異なる論理値がデータ選択手段からセットされる際、
偶数反転回路の入力に帰還段インバータの出力が接続さ
れていると、セット論理値と保持論理値が相互干渉し、
不安定状態となる。そこで、セット時には記憶保持制御
用トランジスタで記憶保持を一時的に中断してデータ選
択手段からのデータが優先的にセットできるようにして
ある。このデータセット後は記憶保持制御用トランジス
タがオンとなるため、データの記憶保持が達成される。
When a logical value different from the logical value stored and held in the even number inverting circuit is set from the data selecting means,
If the output of the feedback stage inverter is connected to the input of the even number inverting circuit, the set logical value and the held logical value interfere with each other,
It becomes unstable. Therefore, at the time of setting, the storage holding is temporarily interrupted by the storage holding control transistor so that the data from the data selection means can be set with priority. After this data setting, the storage control transistor is turned on, so that data storage is achieved.

【0036】また、第1の同期式フリップフロップは、
偶数個のインバータを巡回接続した第1の偶数反転回路
であって、その帰還段インバータを第1のタイミングパ
ルスに同期して論理動作を中断するクロックドインバー
タとし、第2の同期式フリップフロップは、偶数個のイ
ンバータを巡回接続した第2の偶数反転回路であって、
その帰還段インバータを第2のタイミングパルスに同期
して論理動作を中断するクロックドインバータとするこ
とができる。かかる場合も、セット時にはクロックドイ
ンバータで記憶保持を一時的に中断してセット優先でデ
ータ選択手段からのデータがセットできる。
Also, the first synchronous flip-flop is
A first even-numbered inverting circuit in which even-numbered inverters are cyclically connected, wherein the feedback-stage inverter is a clocked inverter that interrupts a logical operation in synchronization with a first timing pulse, and a second synchronous flip-flop is A second even-numbered inverting circuit in which even-numbered inverters are cyclically connected,
The feedback stage inverter can be a clocked inverter that interrupts the logic operation in synchronization with the second timing pulse. In such a case as well, at the time of setting, the data holding from the data selecting means can be set with the setting priority by temporarily suspending the storage holding by the clocked inverter.

【0037】なお、偶数反転回路としては、段数を多く
するとバッファ作用も旺盛になるが、通常は、2個のイ
ンバータで構成した二重反転回路で構わない。素子数の
削減を図ることができる。
As the even-numbered inverting circuit, a larger number of stages enhances the buffering effect, but a double inverting circuit composed of two inverters may be used. The number of elements can be reduced.

【0038】そして、本発明の電気光学装置用基板にお
いては、信号電極にディジタルデータを送り込む直並列
変換用シフトレジスタと、走査電極を順次的に選択する
走査電極選択用シフトレジスタと、走査電極選択用シフ
トレジスタからの走査電極駆動波形に基づき上記第1の
タイミングパルスを生成するラッチタイミング手段とを
周辺駆動回路として有して成る。高密度集積化により低
コスト化を図ることができる。
In the electro-optical device substrate of the present invention, a serial-parallel conversion shift register for sending digital data to signal electrodes, a scan electrode selection shift register for sequentially selecting scan electrodes, and a scan electrode selection shift register Latch timing means for generating the first timing pulse based on the scan electrode drive waveform from the shift register for use as a peripheral drive circuit. Cost reduction can be achieved by high-density integration.

【0039】本発明の電気光学装置用基板は、上述した
ディジルタ記憶手段を単結晶半導体基板に作り込んだも
のに限らず、ガラス基板や石英基板等の絶縁性透明基板
に薄膜技術でTFT等を形成したものでも構わない。従
前のアクティブ素子回路に比し、素子数が若干多くなる
ものの、投写型表示装置などでは開口率はさほど問題に
ならないし、素子占有スペースの微細化技術により、透
過型電気光学装置用基板としても充分利用可能である。
The substrate for an electro-optical device according to the present invention is not limited to a substrate in which the above-mentioned digital storage unit is formed in a single crystal semiconductor substrate, but may be formed by forming a TFT or the like by a thin film technique on an insulating transparent substrate such as a glass substrate or a quartz substrate. It may be formed. Although the number of elements is slightly larger than that of the conventional active element circuit, the aperture ratio does not matter much in a projection display device or the like. Fully available.

【0040】電気光学装置用基板とこれに対向する透明
基板とを用い、その間隙に電気光学材料を挟むことによ
り電気光学装置が組立られる。電気光学材料としては、
液晶に限らず、EL(エレクトロルミネッセンス)材料
やDMD(デジタル・ミラー・デバイス)材料などの電
圧駆動型素子の新電気光学材料を用いることができる。
An electro-optical device is assembled by using an electro-optical device substrate and a transparent substrate facing the electro-optical device, and sandwiching an electro-optical material in a gap therebetween. As electro-optic materials,
Not only liquid crystals but also new electro-optical materials for voltage-driven elements such as EL (electroluminescence) materials and DMD (digital mirror device) materials can be used.

【0041】ここで、電気光学装置において電気光学装
置用基板を介して透明基板の対向電極に、又は透明基板
の対向電極に直接、所定期間(例えばフレーム期間)毎
に切り換わる共通電圧を印加するようにした場合、画素
電極の交流駆動が困難なときでも電気光学材料を交流駆
動できる。例えば電気光学材料が液晶の場合などにおい
ては液晶劣化を防止できる。また、画素電極に印加され
る信号の論理振幅を相対的に小さくできるので、ディジ
タル記憶手段の能動素子等を低耐圧素子として形成可能
となり、素子微細化により占有面積の縮小化を実現で
き、開口率の増大により高密度な高精細表示装置を実現
できる。
Here, in the electro-optical device, a common voltage that is switched every predetermined period (for example, a frame period) is applied to the counter electrode of the transparent substrate via the electro-optical device substrate or directly to the counter electrode of the transparent substrate. In this case, the AC driving of the electro-optical material can be performed even when the AC driving of the pixel electrode is difficult. For example, when the electro-optic material is a liquid crystal, liquid crystal deterioration can be prevented. Further, since the logic amplitude of the signal applied to the pixel electrode can be relatively reduced, the active element of the digital storage means can be formed as a low withstand voltage element, and the occupied area can be reduced by miniaturizing the element. By increasing the rate, a high-density high-definition display device can be realized.

【0042】このような電気光学装置は各種電子機器の
表示部に用いると、高画質の表示を得ることができる。
例えば、投写型表示装置のライトバルブに好適である。
When such an electro-optical device is used in a display section of various electronic devices, a high-quality display can be obtained.
For example, it is suitable for a light valve of a projection display device.

【0043】[0043]

【発明の実施の形態】次に、本発明の各実施形態を添付
図面に基づいて説明する。
Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

【0044】〔実施形態1〕図1は本発明の実施形態1
に係る反射型液晶パネルのためのパネル用基板に作り込
んだマトリクス液晶表示素子駆動回路を示す回路図、図
2(A)はマトリクス液晶表示素子駆動回路の画素毎に
設けるディジタル記憶回路を示す回路図、図2(B)は
そのディジタル記憶回路素子回路の動作を説明するため
のタイミング図、図3はマトリクス液晶表示素子駆動回
路の全体的動作を説明するためのタイミング図である。
[Embodiment 1] FIG. 1 shows Embodiment 1 of the present invention.
And FIG. 2A is a circuit diagram showing a digital storage circuit provided for each pixel of the matrix liquid crystal display element driving circuit formed on a panel substrate for a reflection type liquid crystal panel according to the present invention. FIG. 2B is a timing chart for explaining the operation of the digital memory circuit element circuit, and FIG. 3 is a timing chart for explaining the overall operation of the matrix liquid crystal display element driving circuit.

【0045】本例の反射型液晶パネル用基板も、図6,
図8に示す従来のパネル用基板と同様に、大形サイズの
単結晶半導体基板(例えば20mm角)の主面に能動素子を
作り込み、その上に層間絶縁膜と導電層を交互に積み重
ねて成膜し、平面的には主体的な面積を占める画素領域
にマトリクス状に配列された多数の矩形の画素電極(反
射電極)14(図2(A)参照)を有するものである。
The reflection type liquid crystal panel substrate of this embodiment is also shown in FIG.
Similar to the conventional panel substrate shown in FIG. 8, active elements are formed on the main surface of a large-sized single crystal semiconductor substrate (for example, 20 mm square), and an interlayer insulating film and a conductive layer are alternately stacked thereon. It has a large number of rectangular pixel electrodes (reflection electrodes) 14 (see FIG. 2A) which are formed and arranged in a matrix in a pixel region which occupies a main area in plan view.

【0046】図1に示すマトリクス液晶表示素子駆動回
路50は、半導体基板の画素領域の直下に作り込んだマ
トリクス回路51と、シリアル転送で入来する表示ディ
ジタルデータ(DATA)をマトリクス回路51の画素列毎
1本宛の信号電極(X)X0〜Xm に線順次で送り込む
ための直並列変換用シフトレジスタ(信号電極駆動回
路,Xドライバー)52と、マトリクス回路51の画素
毎のディジタル記憶回路M(M00〜Mnm)へ行順次でラ
ッチ制御信号(書き込みタイミング信号)を画素行毎2
本宛の走査電極Y1 (Y10〜Y1n),Y2 (Y20
2n)を介して送り込むための走査電極駆動回路(Yド
ライバー)53と、総ての画素電極14を一斉駆動する
ための第2のタイミングパルス(正相の読み出しクロッ
クパルスRCK (φ3) ,逆相の読み出しクロックパルス
RCK バー(φ4))を伝送する画素行毎2本宛の走査電
極Y3 (Y30〜Y3n),Y4 (Y40〜Y4n)とを有して
いる。ここに、直並列変換用シフトレジスタ52と走査
電極駆動回路53とは中央の画素領域のマトリクス回路
51に対する周辺回路を構成している。
A matrix liquid crystal display element driving circuit 50 shown in FIG. 1 includes a matrix circuit 51 formed immediately below a pixel region of a semiconductor substrate, and display digital data (DATA) received by serial transfer. A serial-parallel conversion shift register (signal electrode drive circuit, X driver) 52 for line-sequentially sending signal electrodes (X) X 0 to X m addressed to one row per column, and digital storage for each pixel of a matrix circuit 51 A latch control signal (write timing signal) is supplied to the circuit M (M 00 to M nm ) in a row-
Scan electrodes Y 1 (Y 10 to Y 1n ) and Y 2 (Y 20 to
Y 2n ), and a second timing pulse (positive-phase read clock pulse RCK (φ3)) for driving all the pixel electrodes 14 at the same time. Phase read clock pulse
Each pixel row transmitting the RCK bar (φ4) has two scanning electrodes Y 3 (Y 30 to Y 3n ) and Y 4 (Y 40 to Y 4n ). Here, the serial-parallel conversion shift register 52 and the scan electrode drive circuit 53 constitute a peripheral circuit for the matrix circuit 51 in the central pixel area.

【0047】直並列変換用シフトレジスタ52は、シリ
アル列の表示ディジタルデータ(DATA=Dm 〜D0 )を
シフトクロックCLX に同期してシフト転送し1水平期間
毎に信号電極X0 〜Xm 上に対応する画素データD0
m を出現させる。走査電極駆動回路53は、走査スタ
ートパルス(フレーム開始パルス)DYをシフトクロック
CLY に同期してシフト転送し1垂直期間毎に画素行上に
行駆動タイミングパルスΦ0 〜Φn を順次的に生成する
走査電極側シフトレジスタ(Yシフトレジスタ)53a
と、行駆動タイミングパルスΦ0 〜Φn と書き込みクロ
ックパルスWCKとに基づいて走査電極Y1 ,Y2 上にそ
れぞれ第1のタイミングパルス(正相のラッチ制御パル
スφ1,逆相のラッチ制御パルスφ2を生成するラッチ
タイミング回路53bとから成る。
The serial-parallel conversion shift register 52, the display digital data (DATA = D m ~D 0) in synchronization with the shift clock CLX shift transferred one horizontal period each to the signal electrode X 0 to X m of the serial column The corresponding pixel data D 0 to
Appear D m . The scan electrode drive circuit 53 supplies a scan start pulse (frame start pulse) DY to a shift clock.
A scan electrode side shift register (Y shift register) 53a which shift-transfers in synchronization with CLY and sequentially generates row drive timing pulses Φ 0 to Φ n on a pixel row every one vertical period.
And a first timing pulse (a positive-phase latch control pulse φ1 and a negative-phase latch control pulse φ1) on scan electrodes Y 1 and Y 2 based on row drive timing pulses Φ 0 to Φ n and write clock pulse WCK. and a latch timing circuit 53b for generating φ2.

【0048】このラッチタイミング回路53bは、各画
素行において対応した行駆動タイミングパルスΦ0 〜Φ
n と書き込みクロックパルスWCK との論理積を正相のラ
ッチ制御パルスφ1として第1の走査電極Y1 上に出力
すると共に、その論理積出力φ1の反転出力を逆相のラ
ッチ制御パルスφ2として第2の走査電極Y2 上に出力
する論理回路G0 〜Gn である。
The latch timing circuit 53b generates row drive timing pulses Φ 0 to Φ corresponding to each pixel row.
The logical product of n and the write clock pulse WCK and outputs as positive phase of the latch control pulse φ1 to the first on the scanning electrode Y 1, the inverted output of the AND output φ1 as a latch control pulse φ2 of opposite phase Logic circuits G 0 to G n that output signals on the two scan electrodes Y 2 .

【0049】マトリクス回路51には、列方向に延在す
る信号電極Xと行方向に延在する走査電極Yのマトリク
ス交点部のぞれぞれにおいて、図2(A)に示すディジ
タル記憶回路M(M00〜Mnm)が作り込まれている。こ
の各ディジタル記憶回路Mは、信号電極Xi に到来する
ディジタルデータDi が入力するデータ入力Dと、対向
基板(図示せず)側の共通電極33との間で液晶37を
挟持する画素電極14に駆動電圧を印加する記憶出力Q
とを備え、先行フレーム期間(例えば奇数フレーム期
間)において信号電極Xi に到来するディジタルデータ
i を取り込んで一時記憶する第1のラッチ回路L1
と、遅行フレーム期間(例えば偶数フレーム期間)にお
いて第1のラッチ回路L1にて一時記憶されたディジタ
ルデータDiを第1のラッチ回路L1のラッチ動作前に
読み込んで一時記憶すると共にその記憶出力Qに出力す
る第2のラッチ回路L2とを有している。なお、図1及
び図2(A)中のVcom は対向基板(図示せず)側の共
通電極33に印加する共通電位である。
The matrix circuit 51 includes a digital storage circuit M shown in FIG. 2A at each matrix intersection of a signal electrode X extending in the column direction and a scanning electrode Y extending in the row direction. (M 00 to M nm ). Each digital storage circuit M includes a data input D of the digital data D i coming to the signal electrode X i is input, the pixel electrodes sandwiching the liquid crystal 37 between the common electrode 33 of the opposite substrate (not shown) side 14, a storage output Q for applying a drive voltage
With the door, the prior frame period (the odd frame period) a first latch circuit for capturing by temporarily storing digital data D i coming to the signal electrode X i in L1
When, the storage output Q with temporarily storing read digital data D i temporarily stored in the first latch circuit L1 in the lagging frame period (e.g., the even frame period) before the latch operation of the first latch circuit L1 And a second latch circuit L2 that outputs the data to the second latch circuit L2. Vcom in FIGS. 1 and 2A is a common potential applied to the common electrode 33 on the counter substrate (not shown).

【0050】第1のラッチ回路L1は、第1の走査電極
1i上の正相のラッチ制御パルスφ1に同期してディジ
タルデータを取り込むNチャネル型の第1のデータ転送
用MOSFET(T1)と、第1のデータ転送用MOS
FET(T1)を通過したデータを第2の走査電極Y2i
上の逆相のラッチ制御パルスφ2の消滅に同期して一時
記憶動作する第1の同期式フリップフロップF1とを有
している。また、第2のラッチ回路L2は、第3の走査
電極Y3i上の正相の読み出しクロックパルスRCK (φ
3)に同期して第1の同期式フリップフロップF1の出
力データを取り込むNチャネル型の第2のデータ転送用
MOSFET(T2)と、第2のデータ転送用MOSF
ET(T2)を通過したデータを第4の走査電極Y4i
の逆相のラッチ制御パルスφ4の消滅に同期して一時記
憶動作し、その記憶出力Qに出力する第2の同期式フリ
ップフロップF2とを有している第1の同期式フリップ
フロップF1は、2個のインバータINV1,INV2
を巡回接続した第1の二重反転回路と、逆相のラッチ制
御パルスφ2に同期してその初段INV1の入力と帰還
段INV2の出力との電気的接続を一時的に切り離すN
チャネル型の第1の記憶保持制御用MOSFET(Q
1)とを有している。第2の同期式フリップフロップF
2は、2個のインバータINV3,INV4を巡回接続
した第2の二重反転回路と、逆相の読み出しタイミング
パルスφ4に同期してその初段インバータINV3の入
力と帰還段インバータINV4の出力との電気的接続を
一時的に切り離す第2の記憶保持制御用MOSFET
(Q2)とを有している。
The first latch circuit L1 includes an N-channel first data transfer MOSFET (T1) for taking in digital data in synchronization with the positive-phase latch control pulse φ1 on the first scan electrode Y1i. , First MOS for data transfer
The data passed through the FET (T1) is transferred to the second scan electrode Y 2i.
And a first synchronous flip-flop F1 that performs a temporary storage operation in synchronization with the disappearance of the above-mentioned latch control pulse φ2 having the opposite phase. The second latch circuit L2, the third scan electrode Y 3i on the positive phase of the read clock pulse RCK (phi
3) an N-channel type second data transfer MOSFET (T2) for taking in the output data of the first synchronous flip-flop F1 in synchronization with 3) and a second data transfer MOSF
A second synchronous flip-flop that temporarily stores data passing through ET (T2) in synchronization with the disappearance of the negative-phase latch control pulse φ4 on the fourth scan electrode Y4i , and outputs the data to its storage output Q F2, the first synchronous flip-flop F1 having two inverters INV1, INV2
, And temporarily disconnects the electrical connection between the input of the first stage INV1 and the output of the feedback stage INV2 in synchronization with the negative-phase latch control pulse φ2.
Channel-type first storage control MOSFET (Q
1). Second synchronous flip-flop F
Reference numeral 2 designates a second double inverting circuit in which two inverters INV3 and INV4 are cyclically connected, and an electrical connection between the input of the first-stage inverter INV3 and the output of the feedback-stage inverter INV4 in synchronization with the read pulse φ4 having the opposite phase. Storage control MOSFET for temporarily disconnecting dynamic connection
(Q2).

【0051】図3に示す如く、奇数フレーム期間1Fに
おいて、フレーム毎切り換わる液晶交流化信号FRが立ち
上がると、その立ち上がりに同期して、第3の走査電極
30〜Y3n上に正相の読み出しタイミングパルスRCK
(φ3)が生成すると共に、第4の走査電極Y40〜Y4n
上に逆相の読み出しタイミングパルスRCK (φ4)が生
成する。交流化信号FRが立ち上がると同時に走査スター
トパルスDYが走査電極側シフトレジタ53aに加わり、
一定間隔で生じるシフトクロックCLY に同期して行駆動
タイミングパルスΦ0 〜Φn が順次的に生成すると共
に、書き込みクロックパルスWCK がシフトクロックCLY
に同期して発生する。このため、画素行の第1の走査電
極Y10〜Y1n上には正相のラッチ制御パルスφ10 〜φ
n (φ1)が生成すると共に、第2の走査電極Y20
2n上には逆相のラッチ制御パルスφ20 〜φ2n (φ
2)が生成する。
[0051] As shown in FIG. 3, in the odd frame period 1F, the liquid crystal alternating signal FR which replaces each cutting frame rises, in synchronism with the rising edge, the positive phase of the on the third scan electrode Y 30 to Y 3n Read timing pulse RCK
(Φ3) is generated, and the fourth scan electrodes Y 40 to Y 4n
A read timing pulse RCK (φ4) having an opposite phase is generated above. At the same time when the AC signal FR rises, the scan start pulse DY is applied to the scan electrode side shift register 53a,
The row drive timing pulses Φ 0 to Φ n are sequentially generated in synchronization with the shift clock CLY generated at regular intervals, and the write clock pulse WCK is generated by the shift clock CLY.
Occurs in synchronization with. Therefore, the first scan electrodes Y 10 to Y positive phase of the latch control pulse .phi.1 0 to [phi] is on 1n pixel row
1 n (φ1) is generated and the second scan electrodes Y 20 to Y 20 .
On Y 2n , latch control pulses φ2 0 to φ2 n
2) is generated.

【0052】従って、第1〜第4の走査電極Yi1〜Yi4
には図2(B)に示す順序でパルスφ1〜φ4が生成さ
れる。先行フレーム期間(例えば奇数フレーム期間)1
Fの書き込み期間W1に第1の走査電極Yi1と第2の走
査電極Yi2上にラッチ制御パルスφ1とφ2が発生する
と、第1の同期式フリップフロップF1において、第1
のデータ転送用MOSFET(T1)がオンすると共
に、第1の記憶保持制御用MOSFET(Q1)がオフ
するため、帰還段インバータINV2の出力は初段イン
バータINV1に帰還せず、第1のデータ転送用MOS
FET(T1)からの先行データD1の論理値が初段イ
ンバータINV1に印加し、その反転論理値が初段イン
バータINV1の出力に現れる。ラッチ制御パルスφ1
とφ2が消滅して書き込み期間W1が終了すると、第1
のデータ転送用MOSFET(T1)がオフすると共
に、第1の記憶保持制御用MOSFET(Q1)がオン
するため、帰還段インバータINV2の出力が初段イン
バータINV1に帰還し、第1の同期式フリップフロッ
プF1の記憶動作が再機能して、第1の同期式フリップ
フロップF1に先行データD1が一時記憶される。
Accordingly, the first to fourth scan electrodes Y i1 to Y i4
Generates pulses φ1 to φ4 in the order shown in FIG. Previous frame period (eg, odd frame period) 1
When the latch control pulses φ1 and φ2 are generated on the first scan electrode Y i1 and the second scan electrode Y i2 during the writing period W1 of F, the first synchronous flip-flop F1 generates the first
The data transfer MOSFET (T1) is turned on and the first memory holding control MOSFET (Q1) is turned off, so that the output of the feedback stage inverter INV2 does not return to the first stage inverter INV1 and the first data transfer MOSFET (T1) is turned off. MOS
The logic value of the preceding data D1 from the FET (T1) is applied to the first-stage inverter INV1, and its inverted logic value appears at the output of the first-stage inverter INV1. Latch control pulse φ1
And φ2 have disappeared and the writing period W1 ends, the first
Since the data transfer MOSFET (T1) is turned off and the first storage holding control MOSFET (Q1) is turned on, the output of the feedback-stage inverter INV2 is fed back to the first-stage inverter INV1, and the first synchronous flip-flop is turned off. The storage operation of F1 functions again, and the preceding data D1 is temporarily stored in the first synchronous flip-flop F1.

【0053】次の遅行フレーム期間(例えば偶数フレー
ム期間)2Fの読み出し期間W1で第3の走査電極Yi3
と第4の走査電極Yi4上に読み出しクロックパルスφ3
とφ4が発生すると、第2の同期式フリップフロップF
2において、第2のデータ転送用MOSFET(T2)
がオンすると共に、第2の記憶保持制御用MOSFET
(Q2)がオフするため、帰還段インバータINV4の
出力は初段インバータINV3に帰還せず、第1の同期
式フリップフロップF1からの先行データD1の反転論
理値が初段インバータINV3に印加し、更にその反転
論理値すなわちデータD1の論理値が初段インバータI
NV3の出力に現れる。読み出しクロックパルスφ3と
φ4が消滅して読み出し期間W1が終了すると、第2の
データ転送用MOSFET(T2)がオフすると共に、
第2の記憶保持制御用MOSFET(Q2)がオンする
ため、帰還段インバータINV4の出力が初段インバー
タINV3に帰還し、第2の同期式フリップフロップF
2の記憶動作が再機能して、先行データD1が第2の同
期式フリップフロップF2に一時記憶されると共にその
記憶出力Qが画素電極14に供給され続ける。その後、
書き込み期間W2に第1の走査電極Yi1と第2の走査電
極Yi2上にラッチ制御パルスφ1とφ2が発生すると、
前述した順序と同様に、第1の同期式フリップフロップ
F1の記憶内容は遅行データD2に書き換えられる。
In the next lagging frame period (eg, even frame period) 2F, the third scanning electrode Y i3 in the reading period W1.
And the read clock pulse φ3 on the fourth scan electrode Y i4.
And φ4 occur, the second synchronous flip-flop F
2, the second MOSFET for data transfer (T2)
Is turned on and the second memory holding control MOSFET
Since (Q2) is turned off, the output of the feedback-stage inverter INV4 does not feed back to the first-stage inverter INV3, and the inverted logical value of the preceding data D1 from the first synchronous flip-flop F1 is applied to the first-stage inverter INV3. The inverted logic value, that is, the logic value of the data D1 is
Appears at the output of NV3. When the read clock pulses φ3 and φ4 disappear and the read period W1 ends, the second data transfer MOSFET (T2) is turned off, and
Since the second storage control MOSFET (Q2) is turned on, the output of the feedback-stage inverter INV4 is fed back to the first-stage inverter INV3, and the second synchronous flip-flop FV is turned on.
The storage operation of No. 2 functions again, the preceding data D1 is temporarily stored in the second synchronous flip-flop F2, and the storage output Q is continuously supplied to the pixel electrode 14. afterwards,
When the latch control pulses φ1 and φ2 are generated on the first scan electrode Y i1 and the second scan electrode Y i2 during the writing period W2,
As in the above-described order, the storage content of the first synchronous flip-flop F1 is rewritten to the delay data D2.

【0054】本例の書込み方式は線順次方式であるが、
その書込み順次は第1の同期式フリップフロップF1に
留まるに過ぎず、第2の同期式フリップフロップF2ま
では書き込み順次が波及することがない。このため、全
画素一斉のフレーム切り換え表示ができ、表示画面の不
均一を解消できる。画素数の多少に無関係で、高画質の
大画面化又は高精細化を実現できる。後フレームの書き
込み動作の間に前フレームの全画素の同時静止表示が実
現できるため、表示時間と書込み時間が1フレーム期間
内で相反せず、従前に比し表示時間の長期化を実現で
き、より一層の高画質化を達成できる。また、書込み期
間も長くできるため、表示データDATAの信号転送速度の
低速化も可能であり、周辺回路構成の簡素化を実現でき
る。しかも、外付けの表示データ用のフレームメモリを
不要化できる。高画素数化も実現できる。
Although the writing method of this example is a line sequential method,
The write sequence stays only in the first synchronous flip-flop F1, and the write sequence does not spread to the second synchronous flip-flop F2. Therefore, frame switching display of all pixels can be performed at the same time, and nonuniformity of the display screen can be eliminated. Irrespective of the number of pixels, it is possible to realize a large screen with high image quality or high definition. Since simultaneous still display of all pixels of the previous frame can be realized during the writing operation of the subsequent frame, the display time and the writing time do not conflict within one frame period, and the display time can be made longer than before, and Even higher image quality can be achieved. In addition, since the writing period can be lengthened, the signal transfer speed of the display data DATA can be reduced, and the peripheral circuit configuration can be simplified. In addition, an external frame memory for display data can be eliminated. A higher pixel count can be realized.

【0055】本例の第2のフリップフロップF2は画素
電極14をスタティック駆動するドライバとして機能し
ている。ダイナミック駆動と異なり、画素駆動信号の減
衰が無く、完全ディジタル駆動が可能となる。
The second flip-flop F2 of this embodiment functions as a driver for statically driving the pixel electrode 14. Unlike dynamic driving, there is no attenuation of the pixel driving signal and complete digital driving becomes possible.

【0056】なお、上記の第1と第2のデータ転送用M
OSFET(T1,T2)は相互排他的にオン/オフ
し、また第1と第2の記憶保持制御用MOSFET(Q
1,Q2)も相互排他的にオン/オフするものである
が、第1と第2のデータ転送用MOSFET(T1,T
2)とを互いに逆導電型とし、また第1と第2の記憶保
持制御用MOSFET(Q1,Q2)も互いに逆導電型
とすることにより、正相パルスと逆相パルスの双方をデ
ィジタル記憶回路Mに送り込む必要がなく、走査電極2
本を削減することができる。
Note that the first and second data transfer M
The OSFETs (T1, T2) are turned on / off mutually exclusively, and the first and second storage holding control MOSFETs (Q
1, Q2) are also turned on / off mutually exclusively, but the first and second data transfer MOSFETs (T1, T2)
2) are of opposite conductivity types, and the first and second storage holding control MOSFETs (Q1, Q2) are also of opposite conductivity types, so that both the positive-phase pulse and the negative-phase pulse are digital storage circuits. M need not be sent to the scanning electrode 2
Books can be reduced.

【0057】〔実施形態2〕図4は別のディジタル記憶
回路を示す回路図である。なお、図4において実施形態
1の構成と同一部分には同一参照符号を付し、その説明
は省略する。
[Embodiment 2] FIG. 4 is a circuit diagram showing another digital storage circuit. In FIG. 4, the same components as those of the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted.

【0058】本例の反射型液晶パネル用基板も、図6,
図8に示す従来のパネル用基板と同様に、大形サイズの
単結晶半導体基板(例えば20mm角)の主面に能動素子や
容量素子を作り込み、その上に層間絶縁膜と導電層を交
互に積み重ねて成膜し、平面的には主体的な面積を占め
る画素領域にマトリクス状に配列された多数の矩形の画
素電極(反射電極)14を有するものである。また、本
例も、実施形態1と同様な直並列変換用シフトレジスタ
52及び走査電極駆動回路53を有しているが、ディジ
タル記憶回路M′の構成が実施形態1のディジタル記憶
回路Mと異なっている。
The substrate for the reflection type liquid crystal panel of this example is also shown in FIG.
Similar to the conventional panel substrate shown in FIG. 8, active elements and capacitive elements are formed on the main surface of a large-sized single crystal semiconductor substrate (for example, 20 mm square), and an interlayer insulating film and a conductive layer are alternately formed thereon. And a large number of rectangular pixel electrodes (reflection electrodes) 14 arranged in a matrix in a pixel region that occupies a main area in plan view. This example also has the same serial-to-parallel conversion shift register 52 and scan electrode drive circuit 53 as in the first embodiment, but the configuration of the digital storage circuit M 'is different from that of the first embodiment. ing.

【0059】ディジタル記憶回路M′は、ディジタル記
憶回路Mと同様に、信号電極Xi に到来するディジタル
データDi が入力するデータ入力Dと共通電極33上の
液晶37を挟持する画素電極14に駆動電圧を印加する
記憶出力Qとを備えており、先行フレーム期間(例えば
奇数フレーム期間)において信号電極Xi に到来するデ
ィジタルデータDi を取り込んで一時記憶する第1のラ
ッチ回路L1′と、後行フレーム期間(例えば偶数フレ
ーム期間)において第1のラッチ回路L1にて一時記憶
されたディジタルデータDi を第1のラッチ回路L1の
ラッチ動作前に読み込んで一時記憶すると共に記憶出力
Qに出力する第2のラッチ回路L2′とを有している。
[0059] The digital storage circuit M ', similar to the digital storage circuit M, the pixel electrode 14 digital data D i is sandwiching liquid crystals 37 on the data input D and the common electrode 33 to enter coming to the signal electrode X i and a storage output Q for applying a driving voltage, and the preceding frame period (the odd frame period) a first latch circuit L1 which takes in temporarily storing digital data D i coming to the signal electrode X i in ' succeeding frame period (e.g., the even frame period) at the output of the first digital data D i temporarily stored in the latch circuit L1 in the storage output Q while Loading temporarily stored before latching operation of the first latch circuit L1 And a second latch circuit L2 '.

【0060】第1のラッチ回路L1′は、ディジタルデ
ータDi を入力とし第1の走査電極Y1i上の正相のラッ
チ制御パルスφ1に同期して論理動作する第1のクロッ
クドインバータK1と、その出力データを第2の走査電
極Y2i上の逆相のラッチ制御パルスφ2の消滅に同期し
て一時記憶動作する第1の同期式フリップフロップF
1′とを有している。また、第2のラッチ回路L2′
は、第1の同期式フリップフロップF1の出力データを
入力とし第3の走査電極Y3i上の正相の読み出しクロッ
クパルスRCK (φ3)に同期して論理動作するのクロッ
クドインバータK2と、その出力データを第4の走査電
極Y4i上の逆相の読み出しクロックパルスRCK バー(φ
4)の消滅に同期して一時記憶動作し、その記憶出力Q
に出力する第2の同期式フリップフロップF2′とを有
している。
The first latch circuit L1 'receives the digital data Di as an input, and performs a logical operation on the first clocked inverter K1 in synchronization with the positive-phase latch control pulse φ1 on the first scan electrode Y1i. And a first synchronous flip-flop F for temporarily storing the output data in synchronization with the disappearance of the opposite-phase latch control pulse φ2 on the second scan electrode Y2i.
1 '. Also, the second latch circuit L2 '
Includes a clocked inverter K2 for logic operation in synchronization with the first output data of the synchronous flip-flop F1 and the input third scan electrodes Y 3i on the positive-phase read clock pulse RCK (.phi.3), the read clock pulse RCK bar opposite phase of output data on the fourth scan electrode Y 4i (phi
4) Temporary storage operation is performed in synchronization with the disappearance of
And a second synchronous flip-flop F2 '.

【0061】第1の同期式フリップフロップF1′は、
2個のインバータINV1,INV2′を巡回接続した
第1の二重反転回路であって、その帰還段インバータI
NV2′が逆相のラッチ制御パルスφ2に同期して論理
動作を中断するクロックドインバータであり、第2の同
期式フリップフロップF2′も、2個のインバータIN
V3,INV4′を巡回接続した第2の二重反転回路で
あって、その帰還段インバータINV4′が逆相の読み
出しクロックパルスφ4に同期して論理動作を中断する
クロックドインバータである。
The first synchronous flip-flop F1 '
A first double inverting circuit in which two inverters INV1 and INV2 'are cyclically connected, and a feedback stage inverter I
NV2 'is a clocked inverter which interrupts the logic operation in synchronization with the opposite-phase latch control pulse φ2, and the second synchronous flip-flop F2' also has two inverters IN
V3, INV4 'is a second double inverting circuit in which the feedback stage inverter INV4' is a clocked inverter which interrupts the logic operation in synchronization with the read clock pulse φ4 having the opposite phase.

【0062】図2(B)に示す如く、先行フレーム期間
(例えば奇数フレーム期間)1Fの書き込み期間W1に
第1の走査電極Yi1と第2の走査電極Yi2上にラッチ制
御パルスφ1とφ2が発生すると、第1の同期式フリッ
プフロップF1′において、第1のクロックドインバー
タK1が論理動作すると共に、帰還段インバータINV
2′が論理動作を中断するため、帰還段インバータIN
V2′の出力は初段インバータINV1に帰還せず、第
1のクロックドインバータK1からの先行データD1の
論理値が初段インバータINV1に印加し、その反転論
理値が初段インバータINV1の出力に現れる。ラッチ
制御パルスφ1とφ2が消滅して書き込み期間W1が終
了すると、第1のクロックドインバータK1が論理動作
を中断すると共に、帰還段インバータINV2′が論理
動作するため、帰還段インバータINV2′の出力が初
段インバータINV1に帰還し、第1の同期式フリップ
フロップF1′の記憶動作が再機能して、第1の同期式
フリップフロップF1′に先行データD1が一時記憶さ
れる。
As shown in FIG. 2B, during the writing period W1 of the preceding frame period (eg, odd frame period) 1F, the latch control pulses φ1 and φ2 are applied on the first scanning electrode Y i1 and the second scanning electrode Y i2. Occurs, in the first synchronous flip-flop F1 ', the first clocked inverter K1 performs a logical operation and the feedback stage inverter INV
2 'interrupts the logic operation, so that the feedback stage inverter IN
The output of V2 'does not feed back to the first-stage inverter INV1, the logical value of the preceding data D1 from the first clocked inverter K1 is applied to the first-stage inverter INV1, and its inverted logical value appears at the output of the first-stage inverter INV1. When the latch control pulses φ1 and φ2 disappear and the writing period W1 ends, the first clocked inverter K1 suspends the logical operation and the feedback stage inverter INV2 ′ performs the logical operation, so that the output of the feedback stage inverter INV2 ′ Is fed back to the first-stage inverter INV1, the storage operation of the first synchronous flip-flop F1 'is re-functioned, and the preceding data D1 is temporarily stored in the first synchronous flip-flop F1'.

【0063】次の遅行フレーム期間(例えば偶数フレー
ム期間)2Fの読み出し期間W1で第3の走査電極Yi3
と第4の走査電極Yi4上に読み出しクロックパルスφ3
とφ4が発生すると、第2の同期式フリップフロップF
2′において、第2のクロックドインバータK1が論理
動作すると共に、帰還段インバータINV4′が論理動
作を中断するため、帰還段インバータINV4′の出力
は初段インバータINV3に帰還せず、第1の同期式フ
リップフロップF1′からの先行データD1の論理値が
初段インバータINV3に印加し、その反転論理値が初
段インバータINV3の出力に現れる。読み出しクロッ
クパルスφ3とφ4が消滅して読み出し期間W1が終了
すると、第2のクロックドインバータK1が論理動作を
中断すると共に、帰還段インバータINV4′が論理動
作するため、帰還段インバータINV4′の出力が初段
インバータINV4に帰還し、第2の同期式フリップフ
ロップF2′の記憶動作が再機能して、先行データD1
が第2の同期式フリップフロップF2′に一時記憶され
ると共にその記憶出力Qが画素電極14に供給され続け
る。その後、書き込み期間W2に第1の走査電極Yi1
第2の走査電極Yi2上にラッチ制御パルスφ1とφ2が
発生すると、前述した順序と同様に、第1の同期式フリ
ップフロップF1′の記憶内容は遅行データD2に書き
換えられる。
In the next lagging frame period (for example, even frame period) 2F, the third scanning electrode Y i3 in the reading period W1.
And the read clock pulse φ3 on the fourth scan electrode Y i4.
And φ4 occur, the second synchronous flip-flop F
In 2 ', since the second clocked inverter K1 performs a logical operation and the feedback-stage inverter INV4' interrupts the logical operation, the output of the feedback-stage inverter INV4 'does not feed back to the first-stage inverter INV3, and the first synchronous operation is performed. The logic value of the preceding data D1 from the formula flip-flop F1 'is applied to the first-stage inverter INV3, and its inverted logic value appears at the output of the first-stage inverter INV3. When the read clock pulses φ3 and φ4 disappear and the read period W1 ends, the logic operation of the second clocked inverter K1 is interrupted, and the output of the feedback stage inverter INV4 ′ is performed because the feedback stage inverter INV4 ′ performs the logic operation. Is fed back to the first-stage inverter INV4, and the storage operation of the second synchronous flip-flop F2 'is re-functioned, and the preceding data D1
Is temporarily stored in the second synchronous flip-flop F2 ', and its storage output Q is continuously supplied to the pixel electrode 14. Thereafter, when the latch control pulses φ1 and φ2 are generated on the first scan electrode Y i1 and the second scan electrode Y i2 during the writing period W2, the first synchronous flip-flop F1 ′ is turned on in the same manner as described above. The stored content is rewritten to the delay data D2.

【0064】なお、本例もまた、実施形態1と同様の作
用効果を奏するものである。
This embodiment also has the same operation and effect as the first embodiment.

【0065】本例のディジタル記憶回路M′では、クロ
ックドインバータを用いているため、電力消費の低減,
波形整形及びエネルギー増幅に有効であり、記憶動作の
確実化に寄与する。なお、クロックドインバータK1,
K2の代わりに、3ステートバッファを用いても良い。
Since the digital storage circuit M 'of this embodiment uses a clocked inverter, the power consumption can be reduced.
It is effective for waveform shaping and energy amplification, and contributes to secure memory operation. Note that the clocked inverters K1,
Instead of K2, a three-state buffer may be used.

【0066】なお、上記実施形態おいて、反射型液晶パ
ネル用基板に対向させて組み立てる透明基板側の対向電
極(共通電極)33は固定電位でも良いが、フレーム毎
に切り換わる比較的高い電圧(液晶交流化信号FR)が印
加されるようにしても良い。
In the above-described embodiment, the counter electrode (common electrode) 33 on the transparent substrate assembled to face the reflective liquid crystal panel substrate may have a fixed potential, but a relatively high voltage (switching for each frame). The liquid crystal alternating signal FR) may be applied.

【0067】対向電極33の共通電位Vcom をフレーム
毎に交番する所謂コモン振りを行うことにより、液晶セ
ルLCの劣化を防止できることは勿論のこと、画素電極
14に印加される信号の論理振幅を相対的に小さくでき
るので、ディジタル記憶回路M(M′)を構成する能動
素子を低耐圧素子として形成可能となる。これにより、
素子微細化により占有面積の縮小化を実現でき、開口率
の増大により高密度な高精細表示装置を実現できる。
By performing a so-called common swing in which the common potential Vcom of the counter electrode 33 is alternated for each frame, it is possible to prevent the deterioration of the liquid crystal cell LC, and it is also possible to relatively reduce the logical amplitude of the signal applied to the pixel electrode 14. Therefore, the active elements constituting the digital storage circuit M (M ') can be formed as low withstand voltage elements. This allows
An occupied area can be reduced by miniaturizing the element, and a high-density, high-definition display device can be realized by increasing the aperture ratio.

【0068】なお、上記の実施形態の液晶パネル基板は
反射型液晶パネルに用いるに好適であるが、その反射型
液晶パネルは前述した液晶プロジェクタのライトバルブ
は勿論のこと、腕時計型電子機器、ワードプロセッサ,
パーソナルコピュータ等の携帯型情報処理機、携帯電話
機の表示部やその他各種の電子機器の表示部に適用する
ことができる。
The liquid crystal panel substrate of the above embodiment is suitable for use in a reflection type liquid crystal panel. The reflection type liquid crystal panel can be used not only for the light valve of the liquid crystal projector described above, but also for a wristwatch type electronic device, a word processor and the like. ,
The present invention can be applied to a portable information processing device such as a personal computer, a display portion of a mobile phone, and a display portion of other various electronic devices.

【0069】また、上記実施形態の液晶パネル基板は半
導体基板の主面にスイッチング素子を作り込んだもので
あるが、半導体基板に限らず、基板としてはガラス基板
や石英基板等の絶縁性基板を用いることができる。スイ
ッチング素子として絶縁性基板上に薄膜トランジスタ
(TFT)などを形成する場合でも、本発明を適用でき
ることは言う迄もない。
Although the liquid crystal panel substrate of the above embodiment has switching elements formed on the main surface of the semiconductor substrate, the present invention is not limited to the semiconductor substrate but may be an insulating substrate such as a glass substrate or a quartz substrate. Can be used. It goes without saying that the present invention can be applied to a case where a thin film transistor (TFT) or the like is formed on an insulating substrate as a switching element.

【0070】更に、本発明は液晶パネル基板に限らず、
他のフラットディスプレイ用基板に適用できるものであ
る。
Further, the present invention is not limited to the liquid crystal panel substrate,
It can be applied to other flat display substrates.

【0071】[0071]

【発明の効果】以上説明したように、本発明は、走査電
極と信号電極のマトリクス交点に対応する画素にそれぞ
れ画素電極を備える電気光学装置用基板において、一時
記憶保持した先行ディジタルデータに基づく画素駆動動
作とその先行信号から一定時間後に信号電極に到来する
同一画素の遅行ディジタルデータに対する一時記憶動作
とを同時並行的に実行するディジタル記憶手段を画素毎
にそれぞれ対応して設けられて成ることを特徴とするも
のであるから、次のような効果を奏する。
As described above, according to the present invention, a pixel based on preceding digital data temporarily stored and held in a substrate for an electro-optical device provided with pixel electrodes at pixels corresponding to matrix intersections of scanning electrodes and signal electrodes, respectively. Digital storage means for simultaneously and concurrently performing the driving operation and the temporary storage operation for the delayed digital data of the same pixel arriving at the signal electrode after a predetermined time from the preceding signal is provided for each pixel. Since it is a feature, the following effects are obtained.

【0072】(1) ディジタルデータの書込み順次が
そのまま画素駆動順次としては顕在化せず、全画素一斉
のフレーム切り換え表示と全画素の表示同時性を実現で
きる。
(1) The digital data writing sequence does not appear as a pixel driving sequence as it is, and frame switching display of all pixels at the same time and display simultaneousness of all pixels can be realized.

【0073】これにより、表示画面の不均一を解消で
き、高画質の電気光学装置用基板を提供できる。このた
め、画素数の多少に無関係で、高画質の大画面化又は高
精細化を実現できる。また、表示時間と書込み時間の長
短が1フレーム期間内に相反せず、従前に比し総ての画
素について表示時間を長くできるので、より一層の高画
質化を達成できる。また、一定期間(例えば1フレーム
期間)に亘り全画素の書き込み動作も実現でき、書込み
期間を長くできる。信号転送速度の低速化による周辺回
路構成の簡素化又は高画素数化を実現できる。しかも、
電気光学装置用基板に外付けする表示データ用のフレー
ムメモリが不要となる。
As a result, unevenness of the display screen can be eliminated, and a high quality electro-optical device substrate can be provided. Therefore, regardless of the number of pixels, it is possible to realize a large screen and high definition of high image quality. Further, the display time and the writing time do not conflict with each other within one frame period, and the display time of all the pixels can be made longer than before, so that higher image quality can be achieved. Further, the writing operation of all pixels can be realized over a certain period (for example, one frame period), and the writing period can be lengthened. It is possible to simplify the peripheral circuit configuration or increase the number of pixels by reducing the signal transfer speed. Moreover,
A frame memory for display data externally attached to the substrate for the electro-optical device becomes unnecessary.

【0074】更に、本発明では、画素駆動方式がダイナ
ミック駆動ではなく、一時記憶データに基づくスタティ
ック駆動となることから、画素駆動信号の減衰が無く、
完全ディジタル駆動が可能となる。
Further, in the present invention, the pixel driving method is not the dynamic driving but the static driving based on the temporarily stored data.
Completely digital drive becomes possible.

【0075】(2) また本発明は、走査電極と信号電
極のマトリクス交点に対応する画素にそれぞれ画素電極
を備える電気光学装置用基板において、信号電極に到来
するディジタルデータをカスケード接続した複数の記憶
セルに順次シフトしながら一時記憶し、最終段の記憶セ
ルの記憶出力に基づき画素駆動させるディジタル記憶手
段が、画素毎にそれぞれ対応して設けられて成ることを
特徴とする。このようなディジタル記憶手段によれば、
画素電極をスタティック駆動させる記憶セルが常に最終
段の記憶セルが担うため、完全ディジタル駆動が可能と
なる。
(2) Further, according to the present invention, in a substrate for an electro-optical device provided with pixel electrodes at pixels corresponding to matrix intersections of scanning electrodes and signal electrodes, a plurality of storages in which digital data arriving at signal electrodes are cascaded. Digital storage means for temporarily storing the data while sequentially shifting the cells and driving the pixels based on the storage output of the last storage cell is provided for each pixel. According to such digital storage means,
Since the storage cell that statically drives the pixel electrode always serves as the last-stage storage cell, complete digital drive is possible.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施形態1に係る反射型液晶パネルの
ためのパネル用基板に作り込んだマトリクス液晶表示素
子駆動回路を示す回路図である。
FIG. 1 is a circuit diagram showing a matrix liquid crystal display element driving circuit built in a panel substrate for a reflective liquid crystal panel according to a first embodiment of the present invention.

【図2】(A)は同マトリクス液晶表示素子駆動回路の
画素毎に設けるディジタル記憶回路を示す回路図、
(B)はそのディジタル記憶回路の動作を説明するため
のタイミング図である。
FIG. 2A is a circuit diagram showing a digital storage circuit provided for each pixel of the matrix liquid crystal display element driving circuit,
FIG. 2B is a timing chart for explaining the operation of the digital storage circuit.

【図3】同マトリクス液晶表示素子駆動回路の全体的動
作を説明するためのタイミング図である。
FIG. 3 is a timing chart for explaining an overall operation of the matrix liquid crystal display element driving circuit.

【図4】本発明の実施形態2に係る別のディジタル記憶
回路を示す回路図である。
FIG. 4 is a circuit diagram showing another digital storage circuit according to Embodiment 2 of the present invention.

【図5】反射型液晶パネルをライトバルブとして用いた
投写型表示装置の一例としてビデオプロジェクタを示す
概略構成図である。
FIG. 5 is a schematic configuration diagram showing a video projector as an example of a projection display device using a reflective liquid crystal panel as a light valve.

【図6】反射型液晶パネルを示す断面図である。FIG. 6 is a sectional view showing a reflection type liquid crystal panel.

【図7】反射型液晶パネルに用いる従来の反射型液晶パ
ネル用基板のアクティブマトリクス液晶表示素子駆動回
路を示す回路図である。
FIG. 7 is a circuit diagram showing an active matrix liquid crystal display element driving circuit of a conventional reflective liquid crystal panel substrate used for a reflective liquid crystal panel.

【図8】図8の反射型液晶パネル用基板を示す平面図で
ある。
FIG. 8 is a plan view showing the reflective liquid crystal panel substrate of FIG. 8;

【図9】図8の反射型液晶パネル用基板の画素領域を示
す部分平面図である。
9 is a partial plan view showing a pixel region of the reflective liquid crystal panel substrate of FIG.

【図10】図9中のA−A′線に沿って切断した状態を
示す切断図である。
FIG. 10 is a sectional view showing a state of being cut along the line AA ′ in FIG. 9;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…P--型半導体基板 2…P型ウェル領域 3…フィールド酸化膜 4…ゲート線 4a…ゲート電極 4b…ゲート絶縁膜 5b…N+ 型ドレイン領域 6…第1の層間絶縁膜 6a,6b,6c…コンタクトホール 7…データ線 7a…ソース電極配線 8…P型容量電極領域 9a…容量電極 9b…絶縁膜(誘電膜) 10…中継配線 11…第2の層間絶縁膜 12…遮光膜 12a…プラグ貫通用開口部 12b…接続用配線 13…第3の層間絶縁膜 14…画素電極 15…接続プラグ(層間導電部) 17…パッシベーション膜 20…画素領域(表示領域) 21…データ線駆動回路(Xドライバー) 22R,22L…走査線駆動回路(Yドライバー) 23…プリチャージ及びテスト回路 24…画像信号サンプリング回路 25…遮光膜 26…入力端子パッド 27…シール領域 29R,29L…中継端子パッド(銀点) 30…反射型液晶パネル 31…反射型液晶パネル用基板 32…支持基板 33…対向電極(共通電極) 35…ガラス基板 37…液晶 38…異方性導電膜(ACF) 39…フレキシブルテープ配線 50…マトリクス液晶表示素子駆動回路 51…マトリクス回路 52…直並列変換用シフトレジスタ(Xドライバー) 53…走査電極駆動回路(Yドライバー) 53a…走査電極側シフトレジスタ 53b…ラッチタイミング回路 100…偏光照明装置 110…光源部 120…インテグレータレンズ 130…偏光変換素子 200…偏光ビームスプリッタ 201…S偏光束反射面 412,413…ダイクロイックミラー 300B,300R,300G…反射型液晶ライトバル
ブ 500…投写光学系 600…スクリーン M,M00〜Mnm,M′…ディジタル記憶回路 L1,L1′…第1のラッチ回路 L2,L2′…第2のラッチ回路 T1…第1のデータ転送用MOSFET T2…第2のデータ転送用MOSFET F1,F1′…第1の同期式フリップフロップ F2,F2′…第2の同期式フリップフロップ INV1〜INV4…CMOSインバータ K1,K2,INV2′,INV4′…クロックドイン
バータ G0 〜Gn …論理回路 φ1,φ10 〜φ1n …正相のラッチ制御パルス φ2,φ20 〜φ2n …逆相のラッチ制御パルス φ3…正相の読み出しクロックパルス φ4…逆相の読み出しクロックパルス Φ0 〜Φn …行駆動タイミングパルス WCK…書き込みタイミングパルス RCK…読み出しタイミングパルス L0 …システム光軸 LC…液晶セル X,Xi ,X0 〜Xm …信号電極 Y…走査電極 Yi1,Y10〜Y1n…第1の走査電極 Yi2,Y20〜Y2n…第2の走査電極 Yi3,Y30〜Y3n…第3の走査電極 Yi4,Y40〜Y4n…第4の走査電極 FR…液晶交流化信号 CLX,CLY…シフトクロック DY…フレーム開始パルス Di …ディジタルデータ Vcom …対向電位(共通電位)。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... P - type semiconductor substrate 2 ... P type well region 3 ... Field oxide film 4 ... Gate line 4a ... Gate electrode 4b ... Gate insulating film 5b ... N + type drain region 6 ... First interlayer insulating film 6a, 6b Reference numeral 6c Contact hole 7 Data line 7a Source electrode wiring 8 P-type capacitance electrode region 9a Capacitance electrode 9b Insulating film (dielectric film) 10 Relay wiring 11 Second interlayer insulating film 12 Light-shielding film 12a ... Plug penetration opening 12b ... Connection wiring 13 ... Third interlayer insulating film 14 ... Pixel electrode 15 ... Connection plug (interlayer conductive part) 17 ... Passivation film 20 ... Pixel area (display area) 21 ... Data line drive circuit (X driver) 22R, 22L scanning line drive circuit (Y driver) 23 precharge and test circuit 24 image signal sampling circuit 25 light shielding film 26 input terminal Sub pad 27 ... Seal area 29R, 29L ... Relay terminal pad (silver point) 30 ... Reflective liquid crystal panel 31 ... Reflective liquid crystal panel substrate 32 ... Support substrate 33 ... Counter electrode (common electrode) 35 ... Glass substrate 37 ... Liquid crystal Reference numeral 38: anisotropic conductive film (ACF) 39: flexible tape wiring 50: matrix liquid crystal display element driving circuit 51: matrix circuit 52: shift register for serial / parallel conversion (X driver) 53: scanning electrode driving circuit (Y driver) 53a ... Scan electrode side shift register 53b Latch timing circuit 100 Polarized illumination device 110 Light source unit 120 Integrator lens 130 Polarization conversion element 200 Polarized beam splitter 201 S-polarized light beam reflecting surface 412, 413 Dichroic mirror 300B, 300R , 300G… Reflective liquid crystal light Lube 500 ... projection system 600 ... screen M, M 00 ~M nm, M '... digital storage circuit L1, L1' ... first latch circuit L2, L2 '... second latch circuit T1 ... first data transfer MOSFET T2: second data transfer MOSFET F1, F1 ': first synchronous flip-flop F2, F2': second synchronous flip-flop INV1-INV4: CMOS inverter K1, K2, INV2 ', INV4' ... clocked inverter G 0 ~G n ... logic φ1, φ1 0 ~φ1 n ... positive phase of the latch control pulse φ2, φ2 0 ~φ2 n ... reversed phase latch control pulse .phi.3 ... positive phase of the read clock pulse .phi.4 ... Read clock pulse in opposite phase Φ 0n ... row drive timing pulse WCK ... write timing pulse RCK ... read timing Pulse L 0 ... system optical axis LC ... liquid crystal cell X, X i, X 0 ~X m ... signal electrodes Y ... scan electrodes Y i1, Y 10 ~Y 1n ... first scan electrodes Y i2, Y 20 ~Y 2n ... Second scan electrode Y i3 , Y 30 to Y 3n . Third scan electrode Y i4 , Y 40 to Y 4n . Fourth scan electrode FR. Liquid crystal alternating signal CLX, CLY... Shift clock DY... Pulse Di : Digital data Vcom : Counter potential (common potential).

Claims (15)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 走査電極と信号電極のマトリクス交点に
対応する画素にそれぞれ画素電極を備える電気光学装置
用基板において、 一時記憶保持した先行ディジタルデータに基づく画素駆
動動作とその先行ディジタルデータから一定時間後に前
記信号電極に到来する同一画素の遅行ディジタルデータ
に対する一時記憶動作とを同時並行的に実行するディジ
タル記憶手段が、画素毎にそれぞれ対応して設けられて
成ることを特徴とする電気光学装置用基板。
1. An electro-optical device substrate comprising a pixel electrode corresponding to a matrix intersection of a scanning electrode and a signal electrode, the pixel driving operation being based on preceding digital data temporarily stored and held for a predetermined time from the preceding digital data. A digital storage means for simultaneously and concurrently performing a temporary storage operation for delayed digital data of the same pixel arriving at the signal electrode later is provided correspondingly for each pixel. substrate.
【請求項2】 走査電極と信号電極のマトリクス交点に
対応する画素にそれぞれ画素電極を備える電気光学装置
用基板において、 前記信号電極に到来するディジタルデータをカスケード
接続した複数の記憶セルに順次シフトしながら一時記憶
保持し、最終段の前記記憶セルの記憶出力に基づき前記
画素駆動させるディジタル記憶手段が、前記画素毎にそ
れぞれ対応して設けられて成ることを特徴とする電気光
学装置用基板。
2. In an electro-optical device substrate provided with a pixel electrode at each pixel corresponding to a matrix intersection of a scan electrode and a signal electrode, digital data arriving at the signal electrode is sequentially shifted to a plurality of cascade-connected storage cells. A substrate for an electro-optical device, wherein digital storage means for temporarily storing and holding the data and driving the pixels based on the storage output of the last storage cell is provided in correspondence with each of the pixels.
【請求項3】 請求項2において、前記ディジタル記憶
手段は、前記信号電極に到来する前記ディジタルデータ
を取り込んで一時記憶する第1のラッチ手段と、前記第
1のラッチ手段において前記ディジタルデータよりも一
定時間前に記憶された先行ディジタルデータを前記第1
のラッチ手段のデータ取込み動作前に読み込んで一時記
憶すると共にその記憶出力に基づき画素駆動させる第2
のラッチ手段と、を少なくとも備えて成ることを特徴と
する電気光学装置用基板。
3. The digital storage device according to claim 2, wherein the digital storage means takes in the digital data arriving at the signal electrode and temporarily stores the digital data, and the first latch means stores the digital data more than the digital data. The preceding digital data stored a fixed time ago is stored in the first
And temporarily stores the data before the data fetch operation of the latch means and drives the pixels based on the stored output.
And a latching means for the electro-optical device.
【請求項4】 請求項3において、前記第1のラッチ手
段は、前記ディジタルデータを取り込む第1のデータ選
択手段と、前記第1のデータ選択手段で取り込んだデー
タを一時記憶する第1のフリップフロップとを有し、前
記第2のラッチ手段は、前記第1のフリップフロップの
出力データを取り込む第2のデータ選択手段と、前記第
2のデータ選択手段で取り込んだデータを一時記憶し、
その記憶出力が前記画素電極に電気的に接続されて成る
第2のフリップフロップとを有することを特徴とする電
気光学装置用基板。
4. The first latch means according to claim 3, wherein said first latch means is a first data selection means for taking in said digital data, and a first flip-flop for temporarily storing data taken in by said first data selection means. A second data selection unit that captures output data of the first flip-flop; and temporarily stores data captured by the second data selection unit;
A second flip-flop whose storage output is electrically connected to the pixel electrode.
【請求項5】 請求項4において、前記第1のデータ選
択手段は第1のタイミングパルスに同期して導通する第
1のデータ転送用トランジスタであり、前記第1のフリ
ップフロップは前記第1のタイミングパルスに同期して
記憶動作する第1の同期式フリップフロップであり、前
記第2のデータ選択手段は前記第2のタイミグパルスよ
りも前に生じる第2のタイミングパルスに同期して導通
する第2のデータ転送用トランジスタであり、前記第2
のフリップフロップは前記第2のタイミングパルスに同
期して記憶動作する第2の同期式フリップフロップであ
ることを特徴とする電気光学装置用基板。
5. The first data selection means according to claim 4, wherein said first data selection means is a first data transfer transistor which is turned on in synchronization with a first timing pulse, and said first flip-flop is said first data transfer means. A first synchronous flip-flop that performs a storage operation in synchronization with a timing pulse, wherein the second data selection unit is turned on in synchronization with a second timing pulse generated before the second timing pulse; 2. The data transfer transistor of claim 2,
Wherein the flip-flop is a second synchronous flip-flop that performs a storage operation in synchronization with the second timing pulse.
【請求項6】 請求項4において、前記第1のデータ選
択手段は前記第1のタイミングパルスに同期して論理動
作する第1の1入力型ゲート素子であり、前記第1のフ
リップフロップは前記第1のタイミングパルスに同期し
て記憶動作する第1の同期式フリップフロップであり、
前記第2のデータ選択手段は前記第2のタイミングパル
スに同期して論理動作する第2の1入力型ゲート素子で
あり、前記第2のフリップフロップは前記第2のタイミ
ングパルスに同期して記憶動作する第2の同期式フリッ
プフロップであることを特徴とする電気光学装置用基
板。
6. The device according to claim 4, wherein the first data selection means is a first one-input type gate element that performs a logical operation in synchronization with the first timing pulse, and wherein the first flip-flop is provided with the first flip-flop. A first synchronous flip-flop that performs a storage operation in synchronization with a first timing pulse;
The second data selection means is a second one-input type gate element that performs logical operation in synchronization with the second timing pulse, and the second flip-flop stores the data in synchronization with the second timing pulse. An electro-optical device substrate, which is a second synchronous flip-flop that operates.
【請求項7】 請求項6において、前記1入力型ゲート
素子はクロックドインバータであることを特徴とする電
気光学装置用基板。
7. The substrate for an electro-optical device according to claim 6, wherein the one-input gate element is a clocked inverter.
【請求項8】 請求項6において、前記1入力型ゲート
素子は3ステートバッファであることを特徴とする電気
光学装置用基板。
8. The substrate for an electro-optical device according to claim 6, wherein said one-input type gate element is a three-state buffer.
【請求項9】 請求項5乃至請求項8のいずれか一項に
おいて、前記第1の同期式フリップフロップは、偶数個
のインバータを巡回接続した第1の偶数反転回路と、前
記第1のタイミングパルスに同期してその初段インバー
タの入力と帰還段インバータの出力との電気的接続を一
時的に切り離す第1の記憶保持制御用トランジスタとを
有し、前記第2の同期式フリップフロップは、偶数個の
インバータを巡回接続した第2の偶数反転回路と、前記
第2のタイミングパルスに同期してその初段インバータ
の入力と帰還段インバータの出力との電気的接続を一時
的に切り離す第2の記憶保持制御用トランジスタとを有
することを特徴とする電気光学装置用基板。
9. The first synchronous flip-flop according to claim 5, wherein the first synchronous flip-flop comprises: a first even-numbered inverting circuit in which even-numbered inverters are cyclically connected; A first memory holding control transistor for temporarily disconnecting an electrical connection between an input of the first-stage inverter and an output of the feedback-stage inverter in synchronization with a pulse; and the second synchronous flip-flop has an even number. A second even number inverting circuit in which the inverters are cyclically connected, and a second memory for temporarily disconnecting an electrical connection between an input of the first-stage inverter and an output of the feedback-stage inverter in synchronization with the second timing pulse. A substrate for an electro-optical device, comprising: a holding control transistor.
【請求項10】 請求項5乃至請求項8のいずれか一項
において、前記第1の同期式フリップフロップは、偶数
個のインバータを巡回接続した第1の偶数反転回路であ
って、その帰還段インバータが前記第1のタイミングパ
ルスに同期して論理動作を中断するクロックドインバー
タであり、前記第2の同期式フリップフロップは、偶数
個のインバータを巡回接続した第2の偶数反転回路であ
って、その帰還段インバータが前記第2のタイミングパ
ルスに同期して論理動作を中断するクロックドインバー
タであることを特徴とする電気光学装置用基板。
10. The first synchronous flip-flop according to claim 5, wherein the first synchronous flip-flop is a first even-numbered inverting circuit in which an even number of inverters are cyclically connected, and the feedback stage thereof is An inverter is a clocked inverter that interrupts a logical operation in synchronization with the first timing pulse, and the second synchronous flip-flop is a second even-numbered inverting circuit in which an even number of inverters are cyclically connected. Wherein the feedback stage inverter is a clocked inverter that interrupts a logic operation in synchronization with the second timing pulse.
【請求項11】 請求項9又は請求項10において、前
記偶数反転回路は2個の前記インバータで構成した二重
反転回路であることを特徴とする電気光学装置用基板。
11. The substrate for an electro-optical device according to claim 9, wherein the even number inverting circuit is a double inverting circuit including two of the inverters.
【請求項12】 請求項1乃至請求項11のいずれか一
項において、前記信号電極に前記ディジタルデータを送
り込む直並列変換用シフトレジスタと、前記走査電極を
順次的に選択する走査電極選択用シフトレジスタと、前
記走査電極選択用シフトレジスタからの走査電極駆動波
形に基づき前記第1のタイミングパルスを生成するラッ
チタイミング手段とを周辺駆動回路として有して成るこ
とを特徴とする電気光学装置用基板。
12. The shift register for serial / parallel conversion according to claim 1, wherein the digital data is sent to the signal electrode, and a shift electrode for sequentially selecting the scan electrode. A substrate for an electro-optical device, comprising: a register; and latch timing means for generating the first timing pulse based on a scan electrode drive waveform from the scan electrode selection shift register as a peripheral drive circuit. .
【請求項13】 請求項1乃至請求項12のいずれか一
項に規定する電気光学装置用基板とこれに対向する透明
基板との間隙に電気光学材料を挟持して成ることを特徴
とする電気光学装置。
13. An electric device comprising an electro-optical material sandwiched in a gap between an electro-optical device substrate defined in claim 1 and a transparent substrate facing the electro-optical device substrate. Optical device.
【請求項14】 請求項13に規定する電気光学装置を
表示部に用いて成ることを特徴とする電子機器。
14. An electronic apparatus comprising the electro-optical device defined in claim 13 for a display unit.
【請求項15】 請求項14に規定する電気光学装置を
ライトバルブに用いて成ることを特徴とする投写型表示
装置。
15. A projection display device comprising the electro-optical device defined in claim 14 for a light valve.
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