JP2000040586A - Organic el element module - Google Patents

Organic el element module

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JP2000040586A
JP2000040586A JP10221042A JP22104298A JP2000040586A JP 2000040586 A JP2000040586 A JP 2000040586A JP 10221042 A JP10221042 A JP 10221042A JP 22104298 A JP22104298 A JP 22104298A JP 2000040586 A JP2000040586 A JP 2000040586A
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organic
sealing body
sealing
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substrate
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広忠 古川
Osamu Onizuka
理 鬼塚
Hiroshi Yamamoto
洋 山本
Takashi Tanaka
俊 田中
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an organic EL element module of which an organic EL structure is free from damage, for which connection of input and output signals and a electric power source is made intensive or separable, in which complication of a wiring pattern is reduced to the utmost, which is hardly affected by a disturbance and a noise, in which a trouble such as leakage of an adhesive on an electrode is hardly generated, in which adhesive strength is prevented from being deteriorated, and for which airtightness is maintained for a long period. SOLUTION: This organic EL element module has an organic EL structure having one kind or more of an organic layer 12 concerned in at least luminous function between a pair of electrodes 11, 13 formed on a substrate 1, and a sealing means for sealing the organic EL structure. The sealing means has an inside sealing body 3 arranged in the position nearest to the organic EL structure and formed by a hard member, and one or more of a resin outside sealing body 6 arranged outside the inside sealing body 3 and formed to cover at least a joining part between the inside sealing body 3 and the substarte 1.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、発光層に有機材料
を用いた有機EL構造体を有する有機EL素子モジュー
ルに関する。
The present invention relates to an organic EL device module having an organic EL structure using an organic material for a light emitting layer.

【0002】[0002]

【従来の技術】有機エレクトロルミネッセンス素子(有
機EL素子)は、発光材料に有機材料を用いた電荷注入
再結合型のELで、自発光、高輝度、高視野角、低消費
電力、低電圧駆動、高効率等の特徴を有することから種
々の応用が期待されているが、なかでも種々の表示装置
への応用が試みられている。
2. Description of the Related Art An organic electroluminescence element (organic EL element) is a charge injection / recombination type EL using an organic material as a light emitting material, and is self-luminous, has high brightness, has a wide viewing angle, has low power consumption, and has a low voltage drive. Various applications are expected because they have features such as high efficiency and high efficiency. Among them, applications to various display devices have been attempted.

【0003】有機EL素子は、有機物質による発光作用
を利用しているため、この有機物質の分子設計を変更す
ることにより種々の発光色(発光波長)を得られる可能
性を秘めている。しかし、その反面、このような有機物
質は水蒸気、酸素、あるいは封止剤や有機物質自体の放
出するガスなどにより、容易に酸化したり、劣化したり
して発光素子としての機能を損ない易い。
[0003] Since the organic EL element utilizes the light emitting action of an organic substance, there is a possibility that various emission colors (emission wavelengths) can be obtained by changing the molecular design of the organic substance. However, on the other hand, such an organic substance is easily oxidized or deteriorated by water vapor, oxygen, or a gas released from the sealant or the organic substance itself, so that the function as a light emitting element is easily damaged.

【0004】このため、有機EL素子を表示装置などに
応用する場合、様々な使用環境が予想される実用面での
利用を考えると、自発光、高輝度、高視野角、低消費電
力、低電圧駆動、高効率等の諸特性を長期間にわたって
安定して維持しすることが重要である。従って、有機E
L素子が上記のような種々の酸化性、腐食性ガスに晒さ
れるのを有効に防止し、機械的衝撃等からも保護する必
要から従来よりガラス材等の硬質部材を用いた封止が行
われている。
For this reason, when the organic EL element is applied to a display device or the like, considering self-luminance, high brightness, high viewing angle, low power consumption, It is important to maintain various characteristics such as voltage driving and high efficiency stably for a long period of time. Therefore, organic E
Since it is necessary to effectively prevent the L element from being exposed to various oxidizing and corrosive gases as described above and to protect the element from mechanical shocks, sealing using a hard member such as a glass material has conventionally been performed. Have been done.

【0005】図7に、従来の封止構造を有する有機EL
素子モジュールを示す。図示例の有機EL素子モジュー
ルは、基板31上の有機EL構造体32を、ガラスや金
属等の封止板33で覆い、接着剤44で固定している。
ここで、封止板の内側に、水蒸気による有機EL素子3
2の酸化を防止するために、例えば、特開平5−412
81号公報に記載されているような吸湿材を配置する方
法、特開平8−78159号公報に記載されているよう
な不活性液体を充填する方法等が知られているが、上記
図示例では、吸湿剤35をフッ素樹脂系の多孔質薄膜3
6で固定した例を表している。
FIG. 7 shows an organic EL having a conventional sealing structure.
3 shows an element module. In the illustrated organic EL element module, an organic EL structure 32 on a substrate 31 is covered with a sealing plate 33 made of glass, metal, or the like, and is fixed with an adhesive 44.
Here, the organic EL element 3 using water vapor is
In order to prevent the oxidation of No. 2, for example,
No. 81, a method of arranging a hygroscopic material, and a method of filling an inert liquid as described in JP-A-8-78159 are known. , The moisture absorbent 35 and the fluororesin-based porous thin film 3
6 shows an example fixed.

【0006】この他にも、特開平4−267097号公
報に記載されているような、有機EL素子上に薄膜を形
成し、重ねて光硬化型樹脂を塗布するような、2つ以上
の層により封止する方法等のものも知られている。
[0006] In addition, two or more layers described in Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 4-267097, in which a thin film is formed on an organic EL element and a photo-curable resin is applied on top of the thin film. There is also known a method of sealing with a method.

【0007】しかし、これらのいずれのものも、有機E
L素子の封止効果が不十分であり、素子の劣化を抑制す
ることができず、素子寿命を延ばすことが困難であっ
た。
[0007] However, none of these are organic E
The sealing effect of the L element was insufficient, so that deterioration of the element could not be suppressed, and it was difficult to extend the life of the element.

【0008】一方、液晶表示装置(LCD)を中心に、
コンパクトで信頼性の高い表示モジュールへの需要の高
まりから、チップオングラス(COG)、チップサイズ
パッケージ(CSP)技術により、表示装置のガラス基
板上に、直接駆動用回路ないしICを実装することが多
くなってきている。一般に、COG実装、CSP実装さ
れる回路素子ないしICは、ベアチップであり、実装の
後、例えば特開平4−337317号公報に記載されて
いるように熱硬化樹脂等により封止される。
On the other hand, focusing on a liquid crystal display (LCD),
With the growing demand for compact and highly reliable display modules, chip-on-glass (COG) and chip-size package (CSP) technologies can directly mount drive circuits or ICs on glass substrates of display devices. More and more. Generally, circuit elements or ICs to be COG-mounted and CSP-mounted are bare chips, and after mounting, are sealed with a thermosetting resin or the like, for example, as described in JP-A-4-337317.

【0009】図8に、COG実装された液晶表示モジュ
ールの構成例を示す。図示例の液晶表示モジュールは、
基板31上に、一対の電極41,43間に形成配置され
た液晶42を有する液晶表示素子が形成され、さらにこ
の液晶表示素子をガラス封止板33と接着剤34により
封止固定している。そして、この封止板の外側の基板3
1上には、回路素子ないしIC等の回路素子36が固定
用の樹脂36により固定されている。
FIG. 8 shows a configuration example of a liquid crystal display module mounted with COG. The liquid crystal display module in the illustrated example is
A liquid crystal display element having a liquid crystal 42 formed between a pair of electrodes 41 and 43 is formed on a substrate 31, and the liquid crystal display element is sealed and fixed with a glass sealing plate 33 and an adhesive 34. . Then, the substrate 3 outside the sealing plate
A circuit element 36 such as a circuit element or an IC is fixed on the resin 1 by a fixing resin 36.

【0010】一対の電極41,43のいずれかはITO
等の透明電極や、アルミニウム等の金属により形成され
ているが、微細なピッチでの加工が可能である。従っ
て、COG技術、CSP技術により、多端子化が進む表
示装置と駆動用回路ないしICとの接点数を減らし、処
理性を向上させ、信頼性を高めることができる。
One of the pair of electrodes 41 and 43 is made of ITO.
Etc., or a metal such as aluminum, but can be processed at a fine pitch. Accordingly, the number of contacts between the display device and the driving circuit or the IC, which are increasingly multi-terminal, can be reduced by the COG technology and the CSP technology, the processability can be improved, and the reliability can be improved.

【0011】また、今後は有機EL素子モジュールにお
いても、駆動装置をCOG実装、CSP実装して、モジ
ュール化することが考えられるが、主に次のような問題
がある。
[0011] In the future, it is conceivable that the organic EL element module will be modularized by mounting the driving device by COG mounting and CSP mounting. However, there are mainly the following problems.

【0012】(1) 有機EL素子は、熱や有機溶剤、
水蒸気、紫外線等に弱く、これらに暴露されることによ
って劣化する。このため、外部環境からの封止を完全に
行い、有機EL素子の劣化や、寿命の低下を防止する必
要がある。
(1) The organic EL element is formed by heat, organic solvent,
It is susceptible to water vapor, ultraviolet rays, etc. and deteriorates when exposed to these. For this reason, it is necessary to completely perform sealing from the external environment to prevent the deterioration of the organic EL element and the shortening of the life.

【0013】(2) パネルの配線引き回しが複雑とな
り、使用する駆動用回路ないしICのピン配置との兼ね
合いが難しくなる。つまり、駆動用回路ないしICがC
OG実装、CSP実装される基板は、有機EL素子が配
置されるガラスのような透明基板や、有機EL素子を封
止する封止基板であり、これらの基板を多層化できなけ
れば、配線の引き回しが極めて困難になる。
(2) The wiring layout of the panel becomes complicated, and it becomes difficult to balance with the driving circuit or the pin arrangement of the IC to be used. That is, if the driving circuit or IC is C
The substrate on which the OG mounting and the CSP mounting are performed is a transparent substrate such as a glass on which the organic EL element is arranged, or a sealing substrate for sealing the organic EL element. Routing becomes extremely difficult.

【0014】(3) COGモールド材、基板材料等に
膨張率や、収縮率の異なる部材を用いると、両者の間で
温度変化による応力が作用し、剥離が生じたり、封止効
果が低下したりする場合がある。
(3) When members having different expansion rates and contraction rates are used for the COG mold material, the substrate material, and the like, stress due to a temperature change acts between the two, and peeling occurs or the sealing effect is reduced. Or may be.

【0015】(4) モールド材に熱硬化型樹脂を用い
た場合、熱硬化工程での熱が有機EL構造体にダメージ
を与えてしまう場合がある。つまり、有機材料の最低ガ
ラス転移温度が80℃程度である場合、熱硬化性樹脂の
代表的なものでは、その硬化温度が150〜180℃程
度であるため、硬化時に加えられる温度で、有機材料が
破壊されたり、活性を失ったり、一部の機能に障害を生
じたりして、素子に重要なダメージを与える恐れがあ
る。
(4) When a thermosetting resin is used as the molding material, the heat in the thermosetting process may damage the organic EL structure. That is, when the minimum glass transition temperature of the organic material is about 80 ° C., a typical thermosetting resin has a curing temperature of about 150 to 180 ° C. May be destroyed, lose activity, or impair some functions, resulting in significant damage to the device.

【0016】(5) モールド材に光硬化型樹脂を用い
た場合、光硬化工程での収縮が大きいと、内部応力とし
て残存し、剥離が生じたり、封止効果が低下したりする
場合がある。
(5) When a photo-curable resin is used as the molding material, if the photo-curable resin undergoes a large shrinkage in the photo-curing step, it may remain as internal stress, causing peeling or reducing the sealing effect. .

【0017】(6) 駆動用回路ないしICの入力出力
信号、電源電圧の供給に工夫が必要となる。つまり、配
線引き回しの問題から、入出力信号、電源の接続が分散
される場合があり、配線が乱雑になる場合があり、回路
が複雑になったり入出力配線間での干渉、例えば、ノイ
ズ等の影響を受けやすくなってしまう。
(6) It is necessary to devise input and output signals of the driving circuit or the IC and supply of the power supply voltage. That is, due to the problem of wiring routing, the connection of input / output signals and the power supply may be dispersed, the wiring may be cluttered, the circuit may become complicated, or interference between the input / output wiring, for example, noise, etc. Will be more susceptible to

【0018】(7) 封止用接着剤の接着面に種々の配
線パターンが存在し、接着効果が低下すると共に封止効
果が低下し、素子に悪影響を及ぼすことになる。特に、
有機EL素子の封止手段は、一般には、ITO(錫ドー
プ酸化インジウム)等の透明電極や、アルミニウムなど
の金属薄膜上に接着剤を塗布し、封止板を接着・固定し
ている。このような封止方法では、電極上への接着剤の
濡れ性等の問題から接着力が低下し、気密性が低下して
しまうといった問題を有している。
(7) Various wiring patterns are present on the bonding surface of the sealing adhesive, so that the bonding effect is reduced and the sealing effect is reduced, which adversely affects the device. In particular,
As a sealing means for an organic EL element, an adhesive is generally applied onto a transparent electrode such as ITO (tin-doped indium oxide) or a metal thin film such as aluminum to bond and fix a sealing plate. In such a sealing method, there is a problem that the adhesive strength is reduced due to a problem such as wettability of the adhesive on the electrode, and the airtightness is reduced.

【0019】(8) 有機EL素子は電流駆動であるた
め、有機EL素子により発生するノイズが駆動用の回路
ないしIC等を誤動作させ恐れがある。なかでも、有機
EL素子の封止基板上に駆動用の回路ないしICを実装
するCSP実装では、フェースダウン方式を用いる場合
が多く、特にノイズへの対策が必要となる。
(8) Since the organic EL element is driven by current, noise generated by the organic EL element may cause malfunction of a driving circuit or an IC. In particular, in the case of CSP mounting in which a driving circuit or an IC is mounted on a sealing substrate of an organic EL element, a face-down method is often used, and particularly, measures against noise are required.

【0020】[0020]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、十分
な封止効果を維持し、素子の劣化を抑制して素子寿命を
延ばすことが可能な有機EL素子モジュールを実現する
ことである。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide an organic EL device module capable of maintaining a sufficient sealing effect, suppressing deterioration of the device and extending the life of the device.

【0021】また、パネルの配線引き回しを容易とし、
基板上の配線が少なくて済み、しかも、複雑な配線構造
への対応が可能な有機EL素子モジュールを実現するこ
とである。。
Further, the wiring of the panel is facilitated,
An object of the present invention is to realize an organic EL element module that requires less wiring on a substrate and that can cope with a complicated wiring structure. .

【0022】また、モールド材や、基板材料等の膨張率
や、収縮率の相違による応力作用を防止し、剥離や、封
止効果の低下を防止可能な有機EL素子モジュールを実
現することである。
It is another object of the present invention to provide an organic EL element module capable of preventing a stress effect due to a difference in expansion rate and contraction rate of a mold material, a substrate material, and the like, and preventing peeling and a decrease in sealing effect. .

【0023】また、熱硬化工程での熱等により、有機材
料が破壊されたり、活性を失ったり、一部の機能に障害
を生じたりして、有機EL構造体がダメージを受けるこ
とのない有機EL素子モジュールを実現することであ
る。
In addition, the organic EL structure is not damaged by heat or the like in the thermosetting process, the organic material is destroyed, loses its activity, or some of the functions are damaged. That is, to realize an EL element module.

【0024】また、入出力信号、電源の接続を集約、分
離可能で、配線パターンの錯綜が極力少なくて済み、外
乱やノイズの影響を受けにくい有機EL素子モジュール
を実現することである。
It is another object of the present invention to realize an organic EL element module in which connection of input / output signals and a power supply can be integrated and separated, wiring patterns can be minimized, and the influence of disturbance and noise is reduced.

【0025】また、電極上への接着剤の濡れ性等の問題
が生じ難く、接着力の低下を防止し、気密性を長期間保
持可能な有機EL素子モジュールを実現することであ
る。
It is another object of the present invention to provide an organic EL element module which hardly causes problems such as wettability of an adhesive on an electrode, prevents a decrease in adhesive strength, and can maintain airtightness for a long period of time.

【0026】また、光による影響を受け難く、誤動作を
防止しうる有機EL素子モジュールを実現することであ
る。
Another object of the present invention is to realize an organic EL element module which is hardly affected by light and can prevent malfunction.

【0027】また、有機EL素子より発生するノイズ等
の影響を受け難く、駆動用の回路ないしIC等の誤動作
の恐れのない有機EL素子モジュールを実現することで
ある。
It is another object of the present invention to realize an organic EL element module which is hardly affected by noise or the like generated from the organic EL element and which is free from a malfunction of a driving circuit or an IC.

【0028】[0028]

【課題を解決するための手段】すなわち、上記目的は以
下の構成により達成される。 (1) 基板上に形成された一対の電極間に、少なくと
も発光機能に関与する1種以上の有機層を有する有機E
L構造体と、前記有機EL構造体を封止する封止手段と
を有し、前記封止手段は、有機EL構造体に最も近い位
置に配置され、硬質部材により形成されている内部封止
体と、この内部封止体より外側に配置され、かつ少なく
とも内部封止体と基板との接合部を覆うように形成され
た樹脂の外部封止体とを有する有機EL素子モジュー
ル。 (2) 少なくとも前記外部封止体で覆われている基板
上のいずれかには、有機EL構造体を制御・駆動する回
路が形成されている上記(1)の有機EL素子モジュー
ル。 (3) 前記外部封止体の線膨張係数は、内部封止体お
よび基板の線膨張係数の0.1〜10倍である上記
(1)または(2)の有機EL素子モジュール。 (4) 前記外部封止体は、熱硬化性樹脂であり、その
熱硬化温度が、前記有機EL構造体の有機材料のガラス
転移温度のうち、最も低いガラス転移温度に20℃を加
えた温度以下である上記(1)〜(3)のいずれかの有
機EL素子モジュール。 (5) 前記熱硬化性樹脂は、エポキシ系樹脂である上
記(4)の有機EL素子モジュール。 (6) 前記外部封止体は、光硬化性樹脂であり、その
硬化収縮率が10%以下である上記(1)〜(3)のい
ずれかの有機EL素子モジュール。 (7) 前記光硬化性樹脂は、アクリル系またはエポキ
シ系樹脂である上記(6)の有機EL素子モジュール。 (8) 前記外部封止体は、かつ紫外線から赤外線まで
のいずれかの波長の光透過率が20%以下である上記
(1)〜(7)のいずれかの有機EL素子モジュール。 (9) 前記封止手段と基板との間には接続手段を有
し、この接続手段は封止手段内部の回路と外部の回路と
を電気的に接続し、かつ封止手段内部の気密性を保持す
る上記(1)〜(8)のいずれかの有機EL素子モジュ
ール。 (10) 前記封止手段内部には電磁シールドを有する
上記(1)〜(9)のいずれかの有機EL素子モジュー
ル。 (11) 全体の厚みが10mm以下である上記(1)〜
(10)のいずれかの有機EL素子モジュール。
That is, the above object is achieved by the following constitutions. (1) Organic E having at least one or more organic layers involved in at least a light emitting function between a pair of electrodes formed on a substrate
An L-structure, and sealing means for sealing the organic EL structure, wherein the sealing means is disposed at a position closest to the organic EL structure, and is formed by a hard member. An organic EL element module comprising: a body; and an outer sealing body of a resin disposed outside the inner sealing body and formed so as to cover at least a joint between the inner sealing body and the substrate. (2) The organic EL element module according to (1), wherein a circuit for controlling and driving the organic EL structure is formed on at least one of the substrates covered with the external sealing body. (3) The organic EL element module according to the above (1) or (2), wherein a linear expansion coefficient of the outer sealing body is 0.1 to 10 times a linear expansion coefficient of the inner sealing body and the substrate. (4) The external sealing body is a thermosetting resin, and the thermosetting temperature is a temperature obtained by adding 20 ° C. to the lowest glass transition temperature among the glass transition temperatures of the organic materials of the organic EL structure. The following organic EL element module according to any one of the above (1) to (3). (5) The organic EL element module according to (4), wherein the thermosetting resin is an epoxy resin. (6) The organic EL element module according to any one of (1) to (3), wherein the external sealing body is a photocurable resin, and has a curing shrinkage of 10% or less. (7) The organic EL element module according to (6), wherein the photocurable resin is an acrylic or epoxy resin. (8) The organic EL device module according to any one of (1) to (7), wherein the external sealing body has a light transmittance of 20% or less at any wavelength from ultraviolet to infrared. (9) There is a connecting means between the sealing means and the substrate, the connecting means electrically connecting a circuit inside the sealing means and an external circuit, and an airtightness inside the sealing means. The organic EL element module according to any one of the above (1) to (8), wherein (10) The organic EL element module according to any one of (1) to (9), further including an electromagnetic shield inside the sealing means. (11) The above (1) to (10) in which the entire thickness is 10 mm or less.
The organic EL device module according to any one of (10) and (10).

【0029】[0029]

【発明の実施の形態】本発明の有機EL素子モジュール
は、基板上に形成された一対の電極間に、少なくとも発
光機能に関与する1種以上の有機層を有する有機EL構
造体と、前記有機EL構造体を封止する封止手段とを有
し、前記封止手段は、有機EL構造体に最も近い位置に
配置され、硬質部材により形成されている内部封止体
と、この内部封止体より外側に配置され、かつ少なくと
も内部封止体と基板との接合部を覆うように形成された
樹脂の外部封止体とを有する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION An organic EL element module according to the present invention comprises an organic EL structure having at least one or more organic layers involved in a light emitting function between a pair of electrodes formed on a substrate; A sealing means for sealing the EL structure, wherein the sealing means is disposed at a position closest to the organic EL structure and is formed by a hard member; And a resin external sealing member disposed outside the body and formed so as to cover at least a joint between the internal sealing member and the substrate.

【0030】また、前記内部封止手段内には吸湿材や電
磁シールドを有していてもよい。
The internal sealing means may have a moisture absorbing material or an electromagnetic shield.

【0031】封止手段を、有機EL構造体を内包する内
部封止体と、この内部封止体の外部に、少なくとも基板
との接合部を覆うように形成・配置されている外部封止
体とで構成することにより、基板上に実装されている回
路素子のモールドと、有機EL構造体の封止の強化とを
同時に行うことができ、しかも複数の封止体による封止
を行うことで有機EL構造体の封止効果を高め、素子の
劣化を抑制し、素子寿命を飛躍的に向上させることがで
きる。
The sealing means is an internal sealing body containing the organic EL structure, and an external sealing body formed and arranged outside the internal sealing body so as to cover at least a joint with the substrate. With this configuration, it is possible to simultaneously mold the circuit element mounted on the substrate and strengthen the sealing of the organic EL structure, and moreover, by performing sealing with a plurality of sealing bodies. The sealing effect of the organic EL structure can be enhanced, the deterioration of the device can be suppressed, and the life of the device can be significantly improved.

【0032】また、少なくとも前記外部封止体で覆われ
ている基板上のいずれかに、有機EL構造体を制御・駆
動する回路を形成することにより、配線の引き回しが容
易で、入出力信号、電源の接続等を分散することなくコ
ンパクトに集約することができる。
Further, by forming a circuit for controlling and driving the organic EL structure on at least one of the substrates covered with the external encapsulant, wiring can be easily routed and input / output signals, The power supply connection and the like can be compactly integrated without dispersing.

【0033】外部封止体の線膨張係数は、内部封止体お
よび基板の線膨張係数の0.1〜10倍の範囲であり、
好ましくは0.5〜5倍の範囲である。線膨張係数をこ
の範囲とすることにより、内部封止体や基板への接着性
が維持でき、外部封止体が内部封止体や基板面から剥離
したり、両者の界面に隙間が生じたり、外部封止体の応
力により内部封止体と基板との接合部に剥離が生じたり
して封止効果が低下するのを防止できる。
The linear expansion coefficient of the outer sealing body is in the range of 0.1 to 10 times the linear expansion coefficient of the inner sealing body and the substrate.
Preferably it is in the range of 0.5 to 5 times. By setting the coefficient of linear expansion to this range, the adhesiveness to the internal sealing body or the substrate can be maintained, the external sealing body peels off from the internal sealing body or the substrate surface, or a gap occurs at the interface between the two. In addition, it is possible to prevent a decrease in the sealing effect due to separation of the joint between the internal sealing body and the substrate due to stress of the external sealing body.

【0034】外部封止体の材料としては、形成と、配置
を同時に行うことのできる樹脂を用いる。
As the material of the external sealing body, a resin that can be formed and arranged at the same time is used.

【0035】外部封止体が熱硬化性樹脂の場合、熱硬化
工程で有機EL構造体に熱的ダメージを与えないことが
必要である。このため、熱硬化温度は、有機EL構造体
を構成している有機材料のガラス転移温度のうち、最も
低いガラス転移温度に20℃を加えた温度以下、特に最
も低いガラス転移温度に10℃を加えた温度以下、さら
には最も低いガラス転移温度以下であることが好まし
い。
When the external sealing body is a thermosetting resin, it is necessary not to thermally damage the organic EL structure in the thermosetting step. For this reason, the thermosetting temperature is not more than the temperature obtained by adding 20 ° C. to the lowest glass transition temperature among the glass transition temperatures of the organic materials constituting the organic EL structure, and particularly, the lowest glass transition temperature is 10 ° C. It is preferable that the temperature be equal to or lower than the added temperature, and further equal to or lower than the lowest glass transition temperature.

【0036】このような熱硬化性樹脂は、例えばエポキ
シ系樹脂、シリコーン樹脂、フェノール樹脂、ポリイミ
ド樹脂、ポリフェニレンカルファイド、ウレタン樹脂等
が挙げられ、特にエポキシ樹脂等が好ましい。
Examples of such a thermosetting resin include an epoxy resin, a silicone resin, a phenol resin, a polyimide resin, a polyphenylene sulfide, and a urethane resin, and an epoxy resin is particularly preferable.

【0037】また、外部封止体には、有機EL構造体に
熱的ダメージを与える恐れのない光硬化性樹脂を用いて
もよい。この場合その硬化時における収縮率が10%以
下、より好ましくは5%以下であることが好ましい。硬
化時の収縮率を上記範囲とすることにより、樹脂の剥離
や、封止不良等を防止することができる。
Further, a photo-curable resin which does not cause thermal damage to the organic EL structure may be used for the external sealing body. In this case, the shrinkage ratio during curing is preferably 10% or less, more preferably 5% or less. By setting the shrinkage ratio at the time of curing within the above range, peeling of the resin, poor sealing, and the like can be prevented.

【0038】このような光硬化性樹脂としては、アクリ
ル系樹脂、エポキシ系樹脂、エステル系樹脂、ウレタン
系樹脂、メラミン系樹脂、不飽和ポリエステル系樹脂等
が挙げられ、なかでもアクリル系樹脂、エポキシ系樹脂
が好ましい。
Examples of such a photocurable resin include an acrylic resin, an epoxy resin, an ester resin, a urethane resin, a melamine resin, and an unsaturated polyester resin. Based resins are preferred.

【0039】前記外部封止体は、好ましくは紫外線から
赤外線までの間のいずれかの波長の光透過率が20%以
下、より好ましくは10%以下、さらには5%以下であ
る。また、特に赤外域の光線の光透過率が上記範囲以下
であることが重要である。紫外線から赤外線までのいず
れかの光透過率を上記範囲とすることにより、紫外線や
赤外線による影響、特に封止樹脂材、接着剤の劣化や、
熱の影響を少なくすることができる。光透過率を上記範
囲とするために、外部封止体である樹脂材料中に染料
や、顔料を分散させてもよい。
The external sealing body preferably has a light transmittance of 20% or less, more preferably 10% or less, and further preferably 5% or less at any wavelength between ultraviolet rays and infrared rays. In addition, it is particularly important that the light transmittance of light in the infrared region is within the above range. By setting any of the light transmittances from ultraviolet light to infrared light within the above range, the influence of ultraviolet light and infrared light, particularly the sealing resin material, deterioration of the adhesive,
The effect of heat can be reduced. In order to keep the light transmittance in the above range, a dye or a pigment may be dispersed in a resin material as an external sealing body.

【0040】また、封止手段と基板との間には封止手段
内部の回路と外部の回路とを電気的に接続し、かつ封止
手段内部の気密性を保持する接続手段を有することによ
り、封止効果を損なうことなく、封止用接着剤の濡れ性
等の問題が生じ難く、接着力の低下を防止し、気密性を
長期間維持できる。
Further, a connection means for electrically connecting a circuit inside the sealing means and an external circuit and maintaining airtightness inside the sealing means is provided between the sealing means and the substrate. In addition, problems such as wettability of the sealing adhesive hardly occur without impairing the sealing effect, preventing a decrease in adhesive strength and maintaining airtightness for a long period of time.

【0041】さらに、封止手段内部、あるいはその外部
に、吸湿材、電磁シールド等を有することにより、水
分、熱、光等による素子の劣化損傷や、寿命の低下、誤
動作等を防止できる。
Further, by providing a hygroscopic material, an electromagnetic shield or the like inside or outside the sealing means, it is possible to prevent deterioration and damage of the element due to moisture, heat, light, etc., shorten the life, and malfunction.

【0042】また、好ましくは全体の厚みが10mm以
下、特に2〜7mmとすることにより、小型、薄型の有機
EL素子モジュールが実現でき、装置内に組み込んだ場
合でも場所を取らず、省スペース化に寄与できる。
By setting the total thickness to preferably 10 mm or less, particularly 2 to 7 mm, a small and thin organic EL element module can be realized. Can contribute to

【0043】内部封止体の材料としては、有機EL構造
体を収納するための空間を保持できる形状保持性を有
し、適度な剛性を有すると共に、湿気やガスの侵入を防
止できる硬質部材であれば特に限定されるものではない
が、好ましくは平板状、または断面コ字状で内部に有機
EL構造体を収容しうる空間を有するガラスやアルミ
ナ、石英等の硬質部材や、樹脂等の材料が挙げられる。
ガラス材として、例えば、ソーダ石灰ガラス、鉛アルカ
リガラス、ホウケイ酸ガラス、アルミノケイ酸ガラス、
シリカガラス等のガラス組成のものが好ましい。また、
樹脂材としてはアクリル樹脂、塩化ビニル樹脂等を使用
することができる。
The material of the internal sealing body is a hard member having a shape retaining property capable of retaining a space for accommodating the organic EL structure, having an appropriate rigidity, and capable of preventing moisture and gas from entering. It is not particularly limited as long as it is a hard member such as glass, alumina, quartz or the like, preferably having a flat plate shape or a U-shaped cross section and having a space capable of accommodating the organic EL structure therein, or a material such as resin. Is mentioned.
As a glass material, for example, soda-lime glass, lead-alkali glass, borosilicate glass, aluminosilicate glass,
Glass compositions such as silica glass are preferred. Also,
An acrylic resin, a vinyl chloride resin, or the like can be used as the resin material.

【0044】内部封止体の外側に設けられる外部封止体
は1つ(1重)以上であれば幾つ設けてもよい。
The external sealing member provided outside the internal sealing member may be provided in any number as long as it is one (single) or more.

【0045】また、内部封止体にガラス等の平板を用い
る場合には、封止用接着剤と、必要によりスペーサとを
使用するとよい。また、封止材料としては金属であって
もかまわないが、表面に絶縁コーティング、絶縁塗装、
表面処理等を施して、絶縁処理を行う必要がある。封止
体に断面コ字状となる凹部を形成する手段としては、エ
ッチングやサンドブラスト等により、内部封止体の表面
を削ればよい。
When a flat plate made of glass or the like is used for the internal sealing body, it is preferable to use a sealing adhesive and, if necessary, a spacer. In addition, metal may be used as a sealing material, but an insulating coating, an insulating coating,
It is necessary to perform an insulation treatment by performing a surface treatment or the like. As a means for forming a concave portion having a U-shaped cross section in the sealing body, the surface of the internal sealing body may be shaved by etching, sandblasting, or the like.

【0046】内部封止体は、スペーサーを用いて高さを
調整し、所望の高さに保持してもよい。スペーサーの材
料としては、樹脂ビーズ、シリカビーズ、ガラスビー
ズ、ガラスファイバー等が挙げられ、特にガラスビーズ
等が好ましい。スペーサーは、通常、粒径の揃った粒状
物であるが、その形状は特に限定されるものではなく、
スペーサーとしての機能に支障のないものであれば種々
の形状であってもよい。その大きさとしては、円換算の
直径が1〜20μm 、より好ましくは1〜10μm 、特
に2〜8μm が好ましい。このような直径のものは、粒
長100μm 以下程度であることが好ましく、その下限
は特に規制されるものではないが、通常1μm 程度であ
る。
The height of the internal sealing body may be adjusted by using a spacer, and may be maintained at a desired height. Examples of the material of the spacer include resin beads, silica beads, glass beads, and glass fibers, and glass beads are particularly preferable. The spacer is usually a granular material having a uniform particle size, but the shape is not particularly limited,
Various shapes may be used as long as the function as a spacer is not hindered. The size is preferably a circle-converted diameter of 1 to 20 μm, more preferably 1 to 10 μm, and particularly preferably 2 to 8 μm. The particle having such a diameter is preferably about 100 μm or less in grain length, and the lower limit is not particularly limited, but is usually about 1 μm.

【0047】なお、内部封止体に凹部を形成した場合に
は、スペーサーは使用しても、使用しなくてもよい。使
用する場合の好ましい大きさとしては、前記範囲でよい
が、特に2〜8μm の範囲が好ましい。
When a recess is formed in the internal sealing body, the spacer may or may not be used. When used, the preferred size may be in the above range, but particularly preferably in the range of 2 to 8 μm.

【0048】スペーサーは、予め封止用接着剤中に混入
されていても、接着時に混入してもよい。封止用接着剤
中におけるスペーサーの含有量は、好ましくは0.01
〜30wt%、より好ましくは0.1〜5wt%である。
The spacer may be previously mixed into the sealing adhesive or may be mixed during bonding. The content of the spacer in the sealing adhesive is preferably 0.01
-30 wt%, more preferably 0.1-5 wt%.

【0049】接着剤としては、安定した接着強度が保
て、気密性が良好なものであれば特に限定されるもので
はないが、カチオン硬化タイプの紫外線硬化型エポキシ
樹脂接着剤を用いることが好ましい。
The adhesive is not particularly limited as long as it can maintain stable adhesive strength and has good airtightness, but it is preferable to use a cationic curing type ultraviolet curing epoxy resin adhesive. .

【0050】内部封止体には、有機EL構造体を制御・
駆動するための回路が形成されていてもよい。回路を形
成する方法としては、蒸着法等により回路パターンをマ
スク蒸着したり、Cu等の導体層形成後にこれをエッチ
ングして所望のパターンを得る方法などの薄膜プロセス
によるものや、所定のパターンの導体層を厚膜プロセス
にて得る方法などがある。そして、形成された回路パタ
ーン上に必要な回路素子をハンダ付したり、導電性ペー
ストを用いた接着等により装着すればよい。なお、内部
封止体に形成される回路は、有機EL構造体への悪影
響、あるいはその逆に有機EL構造体および内部雰囲気
からの悪影響を避けるため、封止体の外側に形成するこ
とが好ましい。
The organic EL structure is controlled and controlled in the internal sealing body.
A circuit for driving may be formed. As a method of forming a circuit, a circuit pattern is mask-deposited by an evaporation method or the like, or a thin film process such as a method of forming a conductor layer such as Cu and etching it to obtain a desired pattern, or a method of forming a predetermined pattern. There is a method of obtaining a conductor layer by a thick film process. Then, the necessary circuit elements may be mounted on the formed circuit pattern by soldering or by bonding using a conductive paste. Note that the circuit formed in the internal sealing body is preferably formed outside the sealing body in order to avoid an adverse effect on the organic EL structure or conversely, an adverse effect from the organic EL structure and the internal atmosphere. .

【0051】内部封止体に形成される回路パターンは、
封止体表面のみならず、端面(側面)にまで形成する
と、端面に形成されたパターンと基板上のパターンとを
容易に接続することができる。アップルボンド等での接
続を容易にするため、封止板の端面をテーパー状に形成
したり、曲率:R(アール)を持たせてもよい。テーパ
ー角としては60°以下が好ましく、Rは半径0.1mm
以上あればよい。
The circuit pattern formed on the internal sealing body is
By forming not only the surface of the sealing body but also the end surface (side surface), the pattern formed on the end surface and the pattern on the substrate can be easily connected. In order to facilitate connection with an Apple bond or the like, the end surface of the sealing plate may be formed in a tapered shape or may have a curvature of R (R). The taper angle is preferably 60 ° or less, and R is a radius of 0.1 mm.
I just need more.

【0052】回路パターンは、Au、Al、Cuのうち
の少なくとも1種を有することが好ましい。これらの金
属は低抵抗であり、薄膜、厚膜プロセスのいずれによっ
ても容易に所望のパターンに形成することができる。こ
れらの中でもAlが、コストや、安定性の点で好まし
い。
The circuit pattern preferably has at least one of Au, Al and Cu. These metals have low resistance and can be easily formed into a desired pattern by any of thin film and thick film processes. Among them, Al is preferable in terms of cost and stability.

【0053】回路パターンがAuを有する場合、厚膜プ
ロセスにより、Au含有層を単独で形成するか、気相堆
積法により、Au層を有する多層構造とすることが好ま
しい。多層構造とする場合、それぞれ含有する金属がT
i/Ni/Cu/Auであるか、Cr/Ni/Cu/A
uの順に基板上に形成された多層膜であることが好まし
い。Ti,Crは基板との密着性を改善し、Niは金属
層間の拡散を防止し、Cuはパターンの抵抗を低く維持
する効果がある。これらの金属を含有する回路パターン
(導電体層)は、それぞれ1wt%程度以下の不純物を含
有していてもよい。また、回路パターンを厚膜法により
形成する場合、ガラス等の厚膜法に必要な金属以外の物
質を含有していてもよい。
When the circuit pattern has Au, it is preferable to form the Au-containing layer alone by a thick film process or to form a multilayer structure having an Au layer by a vapor deposition method. In the case of a multi-layer structure, the metal contained therein is T
i / Ni / Cu / Au or Cr / Ni / Cu / A
u is preferably a multilayer film formed on the substrate in the order of u. Ti and Cr improve the adhesion to the substrate, Ni prevents diffusion between metal layers, and Cu has the effect of keeping the pattern resistance low. The circuit patterns (conductor layers) containing these metals may each contain about 1% by weight or less of impurities. When the circuit pattern is formed by the thick film method, the circuit pattern may contain a substance other than the metal necessary for the thick film method such as glass.

【0054】回路パターンがAlを有する場合、気相堆
積法によりAl含有層を単独に形成することが好まし
い。
When the circuit pattern has Al, it is preferable to form the Al-containing layer solely by vapor deposition.

【0055】回路パターンがCuを有する場合、メッキ
によりCu含有層を単独で形成するか、気相堆積法によ
り、Cu層を有する多層構造とすることが好ましい。多
層構造とする場合、それぞれ含有する金属がTi/Ni
/Cuであるか、Cr/Ni/Cuの順に基板上に形成
された多層膜であることが好ましい。
When the circuit pattern has Cu, it is preferable to form the Cu-containing layer alone by plating or to form a multilayer structure having a Cu layer by vapor deposition. In the case of a multilayer structure, the metal contained is Ti / Ni
/ Cu or a multilayer film formed on the substrate in the order of Cr / Ni / Cu.

【0056】内部封止体、外部封止体内の基板上に形成
される回路としては、有機EL構造体、つまり有機EL
ディスプレイ本体を駆動するための回路の少なくとも一
部である。また、この回路は、内部封止体の有機EL構
造体と対向する面の反対側、つまり外部に露出する面に
形成される。外部に形成することにより有機EL構造体
と接触したり、これを破壊したりするのを防止でき、内
部ガスによる電子部品への悪影響を防止できる。
The circuit formed on the substrate in the inner sealing body and the outer sealing body is an organic EL structure, that is, an organic EL structure.
It is at least a part of a circuit for driving the display body. This circuit is formed on the opposite side of the surface of the internal sealing body facing the organic EL structure, that is, on the surface exposed to the outside. By forming it outside, it is possible to prevent the organic EL structure from contacting or destroying the organic EL structure, and it is possible to prevent the internal gas from adversely affecting electronic components.

【0057】内部封止体は、湿気の侵入を防ぐために、
接着性樹脂等を用いて接着し密封する。封止ガスは、A
r、He、N2 等の不活性ガス等が好ましい。また、こ
の封止ガスの水分含有量は、100ppm 以下、より好ま
しくは10ppm 以下、特には1ppm 以下であることが好
ましい。この水分含有量に下限値は特にないが、通常
0.1ppm 程度である。
The inner sealing body is provided to prevent moisture from entering.
It is bonded and sealed using an adhesive resin or the like. The sealing gas is A
An inert gas such as r, He, and N 2 is preferable. Further, the moisture content of the sealing gas is preferably 100 ppm or less, more preferably 10 ppm or less, and particularly preferably 1 ppm or less. Although there is no particular lower limit for the water content, it is usually about 0.1 ppm.

【0058】基板としては特に限定されるものではな
く、有機EL素子が積層可能なものであればよいが、通
常、発光した光を取り出す表示面としての機能も有する
ことから、ガラスや石英、樹脂等の透明ないし半透明材
料を用いることが好ましい。また、基板に色フィルター
膜や蛍光性物質を含む色変換膜、あるいは誘電体反射膜
を用いて発光色をコントロールしてもよい。また、発光
した光を取り出す側ではない場合には、基板は透明でも
不透明であってもよく、不透明である場合にはセラミッ
クス等を使用してもよい。
The substrate is not particularly limited as long as the organic EL element can be laminated thereon. Usually, the substrate also has a function as a display surface for taking out emitted light, and is therefore made of glass, quartz or resin. It is preferable to use a transparent or translucent material such as Further, the emission color may be controlled by using a color filter film, a color conversion film containing a fluorescent substance, or a dielectric reflection film on the substrate. When the emitted light is not taken out, the substrate may be transparent or opaque. When the substrate is opaque, ceramics or the like may be used.

【0059】基板の大きさも特に限定されるものではな
いが、好ましくは最大長、特に対角長が10〜350m
m、特に30〜300mmの範囲が好ましい。最大長は1
0mm未満、350mmを超えるものであっても問題ない
が、収納スペースが制限されたり、製造が困難になって
くる。
The size of the substrate is not particularly limited, but preferably has a maximum length, particularly a diagonal length of 10 to 350 m.
m, especially in the range of 30 to 300 mm. Maximum length is 1
There is no problem if the length is less than 0 mm or more than 350 mm, but the storage space is limited or the production becomes difficult.

【0060】接続手段は、内部封止体、外部封止体、好
ましくは外部封止体と基板との間にあって、内部封止
体、外部封止体内部の回路と外部の回路とを電気的に接
続し、かつ内部封止体、外部封止体内部の気密性を保持
するものである。すなわち、この接続手段を有する領域
以外の部分を、電極や配線パターン等の構造物を有しな
い、凹凸の少ない平坦な基板面とすることにより、接着
性が向上し、気密性を確保することができる。このよう
な接続手段としては、コネクタ、端子電極、端子ピン等
が挙げられるが、好ましくはコネクタであり、特に、封
止効果や接着剤との濡れ性を考慮するとガラス等の接着
剤との濡れ性、封止効果に優れた外装部材に、金属導体
を埋め込んだコネクタが好ましい。
The connection means is provided between the inner sealing body and the outer sealing body, preferably between the outer sealing body and the substrate, and electrically connects the circuit inside the inner sealing body and the outer sealing body to the outside circuit. And maintain the airtightness of the inside of the inner sealing body and the outer sealing body. That is, by setting a portion other than the region having the connecting means to a flat substrate surface having no irregularities such as electrodes and wiring patterns and having little unevenness, the adhesiveness is improved, and airtightness can be secured. it can. Examples of such connection means include a connector, a terminal electrode, a terminal pin and the like, but a connector is preferable, and in particular, in consideration of a sealing effect and wettability with an adhesive, wetness with an adhesive such as glass is considered. A connector in which a metal conductor is embedded in an exterior member having excellent sealing properties and sealing effect is preferable.

【0061】内部封止体内部には吸湿材を配置してもよ
い。このような吸湿剤としては、内部封止体内部の雰囲
気下で吸湿効果を発揮しうるものであれば特に限定され
るものではないが、例えば特開平9−148066号公
報に記載されているような、酸化ナトリウム(Na
2O)、酸化カリウム(K2O)、酸化カルシウム(Ca
O)、酸化バリウム(BaO)、酸化マグネシウム(M
gO)、硫酸リチウム(Li2SO4 )、硫酸ナトリウ
ム(Na2SO4 )、硫酸カルシウム(CaSO4 )、
硫酸マグネシウム(MgSO4 )、硫酸コバルト(Co
SO4 )、硫酸ガリウム(Ga2(SO43 )、硫酸
チタン(Ti(SO42 )、硫酸ニッケル(NiSO
4 )、塩化カルシウム(CaCl2 )、塩化マグネシウ
ム(MgCl2)、塩化ストロンチウム(SrCl
2 )、塩化イットリウム(YCl3 )、塩化銅(CuC
2 )、フッ化セシウム(CsF)、フッ化タンタル
(TaF5 )、フッ化ニオブ(NbF5 )、臭化カルシ
ウム(CaBr2 )、臭化セリウム(CeBr3 )、臭
化セレン(SeBr4 )、臭化バナジウム(VBr
2 )、臭化マグネシウム(MgBr2 )、ヨウ化バリウ
ム(BaI2 )、ヨウ化マグネシウム(MgI2 )、過
塩素酸バリウム(Ba(ClO42 )、過塩素酸マグ
ネシウム(Mg(ClO42 )等を挙げることができ
る。
A hygroscopic material may be arranged inside the inner sealing body. Such a hygroscopic agent is not particularly limited as long as it can exert a hygroscopic effect under the atmosphere inside the internal sealing body, and is described in, for example, JP-A-9-148066. Sodium oxide (Na
2 O), potassium oxide (K 2 O), calcium oxide (Ca
O), barium oxide (BaO), magnesium oxide (M
gO), lithium sulfate (Li 2 SO 4 ), sodium sulfate (Na 2 SO 4 ), calcium sulfate (CaSO 4 ),
Magnesium sulfate (MgSO 4 ), cobalt sulfate (Co
SO 4 ), gallium sulfate (Ga 2 (SO 4 ) 3 ), titanium sulfate (Ti (SO 4 ) 2 ), nickel sulfate (NiSO
4 ), calcium chloride (CaCl 2 ), magnesium chloride (MgCl 2 ), strontium chloride (SrCl
2 ), yttrium chloride (YCl 3 ), copper chloride (CuC
l 2 ), cesium fluoride (CsF), tantalum fluoride (TaF 5 ), niobium fluoride (NbF 5 ), calcium bromide (CaBr 2 ), cerium bromide (CeBr 3 ), selenium bromide (SeBr 4 ) , Vanadium bromide (VBr
2), magnesium bromide (MgBr 2), barium iodide (BaI 2), magnesium iodide (MgI 2), barium perchlorate (Ba (ClO 4) 2), magnesium perchlorate (Mg (ClO 4) 2 ) and the like.

【0062】さらに、内部封止体の内外に電磁シールド
を設けてもよい。電磁シールドとしては、従来より電磁
シールド剤として用いられている種々の部材を用いるこ
とができる。具体的には、Al、Ni、Cr、Co、C
u、Zn、Sn、Fe、Ag、Au等の1種または2種
以上の金属薄膜や、フェライト等の各種磁性材料、上記
金属粒子や、炭素粒子などを樹脂中に分散した導電性塗
膜等を挙げることができる。
Further, an electromagnetic shield may be provided inside and outside the internal sealing body. As the electromagnetic shield, various members conventionally used as an electromagnetic shielding agent can be used. Specifically, Al, Ni, Cr, Co, C
one or more metal thin films such as u, Zn, Sn, Fe, Ag, Au, etc., various magnetic materials such as ferrite, the above-mentioned metal particles, conductive coatings in which carbon particles, etc. are dispersed in a resin, etc. Can be mentioned.

【0063】電磁シールドは、直接スパッタ、蒸着、塗
布などにより内部封止体、あるいは外部封止体に形成し
てもよいし、フィルム上に形成されたものを貼り付けて
もよい。これらの薄膜の厚さは、通常、1μm 〜1mm程
度である。
The electromagnetic shield may be formed on the internal sealing body or the external sealing body by direct sputtering, vapor deposition, coating, or the like, or may be formed on a film and adhered thereto. The thickness of these thin films is usually about 1 μm to 1 mm.

【0064】電磁シールドは、有機EL構造体からのノ
イズを外部に漏洩させないようにする場合、駆動用回路
ないしIC等の電子部品を外部ノイズから保護する場合
等、使用目的に合わせて適切な位置に形成するとよい。
The electromagnetic shield is provided at an appropriate position according to the purpose of use, for example, when preventing noise from the organic EL structure from leaking to the outside, or when protecting a driving circuit or an electronic component such as an IC from external noise. It is good to form it.

【0065】次に、図を参照しつつ本発明のよリ具体的
な構成について説明する。図1は本発明の第1の構成例
を示した概略断面図である。図において、本発明の有機
EL素子モジュールは、基板1上に形成されている下部
電極11と、上部電極13とこれらの間にある発光機能
に関与する有機層12とからなる有機EL構造体を有す
る。ここで、通常、下部電極11は、ホール注入電極と
して、ITO等の透明電極により形成され、上部電極
は、電子注入電極として、低仕事関数、低抵抗の金属薄
膜等により形成されているが、用途によりこの逆の構成
であったり、種々の変形、改良が加えられている。ま
た、有機層12は、ホール注入輸送層、発光層、電子注
入輸送層等の発光機能に関与する有機物質を含有する機
能性薄膜により構成されている。
Next, a specific configuration of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic sectional view showing a first configuration example of the present invention. In the figure, an organic EL element module according to the present invention includes an organic EL structure including a lower electrode 11 formed on a substrate 1, an upper electrode 13, and an organic layer 12 interposed between the lower electrode 11 and the light emitting function. Have. Here, usually, the lower electrode 11 is formed by a transparent electrode such as ITO as a hole injection electrode, and the upper electrode is formed by a metal thin film having a low work function and a low resistance as an electron injection electrode. Depending on the application, the configuration is reversed, and various modifications and improvements are made. The organic layer 12 is formed of a functional thin film containing an organic substance involved in a light emitting function, such as a hole injection transport layer, a light emitting layer, and an electron injection transport layer.

【0066】そして、この有機EL構造体を覆うように
内部封止体3が配置され、接着剤4により固定・封止さ
れている。
The internal sealing body 3 is arranged so as to cover the organic EL structure, and is fixed and sealed by the adhesive 4.

【0067】また、前記内部封止体3の外側には、これ
を囲むように、少なくとも内部封止体3と基板1との接
合部(封止用接着剤4や配線パターン11,22等を含
む)を覆うように外部封止体6が形成・配置され、封止
されている。この外部封止体6の内側、つまり内部封止
体3が配置されている側は、空間が形成されないように
なっている。このように、硬質部材と軟質部材により2
重に封止し、しかも内部封止体3と外部封止体6の間に
空間が形成されていないため、両者の間の雰囲気による
影響を受けることもなく、有機EL構造体を水分や、腐
食性ガス等から強力に保護することができ、有機EL構
造体の寿命を飛躍的に向上させることができる。
Further, at the outside of the internal sealing body 3, at least a joint (the sealing adhesive 4, the wiring patterns 11, 22, etc.) between the internal sealing body 3 and the substrate 1 is provided so as to surround the same. ) Is formed and arranged so as to cover (including) and sealed. No space is formed inside the outer sealing body 6, that is, on the side where the inner sealing body 3 is arranged. As described above, the hard member and the soft member
And the space between the inner sealing body 3 and the outer sealing body 6 is not formed, so that the organic EL structure is not affected by the atmosphere between them, The organic EL structure can be strongly protected from corrosive gas and the like, and the life of the organic EL structure can be significantly improved.

【0068】さらに、前記内部封止体3と外部封止体6
とで覆われている基板上には、前記下部電極11と、上
部電極13とに接続されている制御・駆動回路が形成さ
れていて、この回路に制御回路素子ないしIC、駆動回
路素子ないしIC等の回路素子21がCOG実装され、
配置されている。
Further, the inner sealing body 3 and the outer sealing body 6
A control / drive circuit connected to the lower electrode 11 and the upper electrode 13 is formed on the substrate covered with the above. A control circuit element or IC, a drive circuit element or IC And the like are mounted by COG,
Are located.

【0069】このように、基板1上に有機EL構造体を
制御駆動するための回路21,22を形成・配置するこ
とにより、有機EL構造体11,12,13と、これを
制御・駆動する回路21,22とを比較的短い距離で、
効率よく、簡素な回路構成で接続することができ、信頼
性が向上すると共に、部品点数も少なくて済み、装置全
体をコンパクトにすることができる。
As described above, by forming and arranging the circuits 21 and 22 for controlling and driving the organic EL structure on the substrate 1, the organic EL structures 11, 12 and 13 and the organic EL structures are controlled and driven. A relatively short distance between the circuits 21 and 22;
The connection can be efficiently performed with a simple circuit configuration, the reliability can be improved, the number of components can be reduced, and the entire apparatus can be made compact.

【0070】また、前記有機EL構造体を駆動する制御
・駆動回路の少なくとも一部は、接続手段9と接続さ
れ、この接続手段9を介して外部の回路、例えば、ホス
トコンピュータ、主制御装置、リモートコントロールパ
ネル、他のディスプレイ、電源回路等と接続されるよう
になっている。接続手段9は、例えば、ガラス基材(外
装材)に接触端子となる金属片を複数有するコネクター
等により構成され、接着剤との濡れ性が良好で、接着効
果の劣化現象が生じ難く、かつ外部雰囲気の遮断効果の
高いものにより構成されている。これにより、外部封止
体6は接続手段9以外の部分では端子等を有しない平滑
な面で固定され、さらに封止効果が向上することにな
る。
At least a part of the control / drive circuit for driving the organic EL structure is connected to the connection means 9, and external circuits such as a host computer, a main controller, and the like are connected via the connection means 9. It is connected to a remote control panel, another display, a power supply circuit, and the like. The connection means 9 is composed of, for example, a connector or the like having a plurality of metal pieces serving as contact terminals on a glass base material (outer packaging material), has good wettability with an adhesive, is unlikely to cause a deterioration phenomenon of an adhesive effect, and It is made of a material having a high effect of blocking the external atmosphere. As a result, the outer sealing body 6 is fixed on a portion other than the connecting means 9 on a smooth surface having no terminals or the like, and the sealing effect is further improved.

【0071】図2は、本発明の第2の構成例を示す概略
断面図である。この例では、第1の構成例において、内
部封止体3の全体を覆うように形成・配置していた外部
封止体6を、内部封止体3と基板1との接合部を含む側
部にのみ密着(接触)して形成し、かつ、内部封止体3
の内部に吸湿材5を配置したものである。内部封止体3
の上部は、内部封止体3がガラスや金属などの硬質部材
である場合、外部封止体6で覆われなくとも封止効果に
はさほど影響がない。従って、封止効果に重要な内部封
止体3の側部にかけて外部封止体6で覆い上面部の外部
封止体6を省略することで、有機ELモジュールの厚み
を更に薄くすることができる。
FIG. 2 is a schematic sectional view showing a second configuration example of the present invention. In this example, in the first configuration example, the outer sealing body 6 formed and arranged so as to cover the entire inner sealing body 3 is replaced with the side including the joint between the inner sealing body 3 and the substrate 1. Formed in close contact with (contact with) only the portion, and the internal sealing body 3
Is provided with a hygroscopic material 5 inside. Internal sealing body 3
In the case where the inner sealing body 3 is a hard member such as glass or metal, the upper part of the sealing member does not significantly affect the sealing effect even if it is not covered with the outer sealing body 6. Therefore, the thickness of the organic EL module can be further reduced by covering the side of the internal sealing body 3 important for the sealing effect with the external sealing body 6 and omitting the external sealing body 6 on the upper surface. .

【0072】また、内部封止体3内部、つまり有機EL
構造体が配置されている空間側には、吸湿剤5が配置さ
れているので、有機EL構造体が配置されている空間内
の水分を除去し、有機EL構造体の寿命を向上させ、発
光特性の劣化を防止するようになっている。その他の構
成は図1とほぼ同様であり、同一構成要素には同一符号
を付して説明を省略する。
Further, the inside of the internal sealing body 3, ie, the organic EL
Since the moisture absorbent 5 is disposed on the space side where the structure is disposed, moisture in the space where the organic EL structure is disposed is removed, the life of the organic EL structure is improved, and light emission is performed. The characteristic is prevented from deteriorating. Other configurations are almost the same as those in FIG. 1, and the same components are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.

【0073】図3は、本発明の第3の構成例を示す概略
断面図である。この例では、第1の構成例において、基
板1上に実装されていた回路構成素子21の一部21a
を、内部封止体3上にCSP実装したものである。この
ため、内部封止体3上にも回路パターン(導体)22a
が形成され、この導体パターン22aは、内部封止体3
の側部にまで形成されていて、前記基板上の回路22と
接続されるようになっている。この場合、接続には、ハ
ンダ、アップルボンド、異方性導電フィルム、異方性導
電樹脂接着剤等、公知の手段を用いることができる。そ
の他の構成は第1、または第2の構成例と略同様であ
り、同一構成要素には同一符号を付して説明を省略す
る。
FIG. 3 is a schematic sectional view showing a third configuration example of the present invention. In this example, in the first configuration example, a portion 21a of the circuit component 21 mounted on the substrate 1
Is mounted on the internal sealing body 3 by CSP. For this reason, the circuit pattern (conductor) 22 a is also provided on the internal sealing body 3.
Is formed, and the conductor pattern 22a is
And is connected to the circuit 22 on the substrate. In this case, known means such as solder, apple bond, anisotropic conductive film, and anisotropic conductive resin adhesive can be used for connection. Other configurations are substantially the same as those of the first or second configuration example, and the same components are denoted by the same reference numerals and description thereof will be omitted.

【0074】図4は、本発明の第4の構成例を示す概略
断面図である。この例では、第1の構成例において、C
OG実装されていた回路素子21の一部21aを、内部
封止体3上に実装し、さらに、この回路素子21aに対
して、有機EL構造体から生じた電磁波を遮断する電磁
シールド23を形成・配置している。これにより、有機
EL構造体から発生する電磁波が遮断ないし減衰され、
制御用回路素子ないしIC・駆動用回路素子ないしIC
等の回路素子が保護される。従って、内部封止体3上に
実装される回路素子21aは、比較的電磁ノイズに弱い
有機EL構造体を駆動制御する制御IC(LSI)等を
配置するとよい。
FIG. 4 is a schematic sectional view showing a fourth configuration example of the present invention. In this example, in the first configuration example, C
A part 21a of the circuit element 21 mounted by OG is mounted on the internal sealing body 3, and further, an electromagnetic shield 23 for blocking the electromagnetic wave generated from the organic EL structure is formed on the circuit element 21a.・ It is arranged. Thereby, the electromagnetic waves generated from the organic EL structure are blocked or attenuated,
Control circuit element or IC / Drive circuit element or IC
And other circuit elements are protected. Therefore, as the circuit element 21a mounted on the internal sealing body 3, a control IC (LSI) for driving and controlling the organic EL structure which is relatively weak to electromagnetic noise may be disposed.

【0075】電磁シールド23は図示例では内部封止体
3の外部封止体6側の面に形成されているが、有機EL
構造体側に形成してもよい。また、電磁シールド23
と、装置のフレームグランド、あるいは接地端子等と接
続可能な配線構造を有するようにするとシールド効果が
向上する。その他の構成は第1、または第2の構成例と
略同様であり、同一構成要素には同一符号を付して説明
を省略する。
The electromagnetic shield 23 is formed on the surface of the inner sealing body 3 on the side of the outer sealing body 6 in the illustrated example.
It may be formed on the structure side. Also, the electromagnetic shield 23
And a wiring structure connectable to a frame ground or a ground terminal of the device, the shielding effect is improved. Other configurations are substantially the same as those of the first or second configuration example, and the same components are denoted by the same reference numerals and description thereof will be omitted.

【0076】図5は、本発明の第5の構成例を示す概略
断面図である。この例では、第1の構成例において、C
OG実装されていた回路素子21の一部21aを、内部
封止体3上にMCM(Multi Chip Module)実装してい
る。すなわち、内部封止体3上に制御・駆動用電気回路
配線22aを形成し、回路素子21aを配置してMCM
とし高密度実装を実現している。
FIG. 5 is a schematic sectional view showing a fifth configuration example of the present invention. In this example, in the first configuration example, C
A part 21a of the circuit element 21 mounted by OG is mounted on the internal sealing body 3 by MCM (Multi Chip Module). That is, the control / drive electric circuit wiring 22a is formed on the internal sealing body 3, and the
To realize high-density mounting.

【0077】この場合にも上記各構成例における電磁シ
ールドを形成して、電磁波から回路素子21を保護して
もよいし、外部封止体の紫外光から赤外光にかけて、特
に赤外域の光透過率を、10%以下として有機EL構造
体等を光や熱的ストレスから保護してもよい。その他の
構成は第1、または第2の構成例と略同様であり、同一
構成要素には同一符号を付して説明を省略する。
In this case as well, the electromagnetic shield in each of the above configuration examples may be formed to protect the circuit element 21 from electromagnetic waves, or to cover the ultraviolet light to infrared light of the external sealing body, particularly light in the infrared region. The organic EL structure and the like may be protected from light and thermal stress by setting the transmittance to 10% or less. Other configurations are substantially the same as those of the first or second configuration example, and the same components are denoted by the same reference numerals and description thereof will be omitted.

【0078】以上の各構成例では、内部封止体に対し、
これを内包する外部封止体とを1つずつ配置した例を示
したが、外部封止体は複数あってもよく、上記各構成例
の外側にさらに封止体を設けるような構成であってもよ
い。
In each of the above configuration examples, the inner sealing body is
Although an example is shown in which one external sealing body is included and one external sealing body is included therein, a plurality of external sealing bodies may be provided, and a configuration in which a sealing body is further provided outside each of the above configuration examples. You may.

【0079】有機EL構造体(ディスプレイ本体)を駆
動するための回路は、例えば図6に示すように、ディス
プレイに表示するデータや、表示に関するデータを与え
る主制御手段111を有し、この主制御手段111から
与えられる表示データに応じて有機ELディスプレイの
走査電極、データ電極を駆動する信号である走査電極駆
動信号、データ電極駆動信号を送出するディスプレイ制
御手段112を有する。さらにこのディスプレイ制御手
段112と接続され、主制御手段111等から与えられ
る表示データをマトリクスデータ、ビットマップデータ
等に展開するためのデータや、あらかじめ決められた表
示内容のデータ等を格納する表示データ記憶手段113
と、ディスプレイ制御手段112からの走査電極駆動信
号、データ電極駆動信号により、有機EL構造体(有機
ELディスプレイ本体)116の走査電極、データ電極
を駆動する走査電極駆動手段114と、データ電極駆動
手段115とを有する。
The circuit for driving the organic EL structure (display main body) has, for example, as shown in FIG. 6, a main control means 111 for giving data to be displayed on the display and data relating to the display. There is provided a display control means 112 for transmitting a scan electrode drive signal which is a signal for driving the scan electrode and the data electrode of the organic EL display according to the display data given from the means 111 and a data electrode drive signal. Further, it is connected to the display control means 112, and is used for expanding display data provided from the main control means 111 and the like into matrix data, bitmap data, etc., and display data for storing data of predetermined display contents and the like. Storage means 113
Scanning electrode driving means 114 for driving a scanning electrode and a data electrode of an organic EL structure (organic EL display main body) 116 by a scanning electrode driving signal and a data electrode driving signal from a display control means 112; 115.

【0080】主制御手段111は、有機EL構造体11
6に表示させる表示データを与えたり、表示データ記憶
手段113に記憶されている表示データを指定したり、
表示に必要なタイミングや制御データを与えたりする。
この制御手段111は、通常、汎用のマイクロプロセッ
サ(MPU)と、このMPUと接続されている記憶媒体
(ROM、RAM等)上の制御アルゴリズム等により構
成することができる。制御手段11は、CISC、RI
SC、DSP等プロセッサの態様を問わず使用可能であ
り、その他ASIC等論理回路の組み合わせなどにより
構成してもよい。また、この例では主制御手段111は
独立に設けているが、ディスプレイ制御手段112や、
ディスプレイが備え付けられる装置の制御手段等と一体
としてもよい。
The main control means 111 includes the organic EL structure 11
6, display data to be displayed, or designation of display data stored in the display data storage unit 113,
Gives timing and control data necessary for display.
The control means 111 can be generally constituted by a general-purpose microprocessor (MPU) and a control algorithm on a storage medium (ROM, RAM, etc.) connected to the MPU. The control means 11 includes CISC, RI
It can be used irrespective of the mode of the processor such as SC and DSP, and may be configured by a combination of logic circuits such as ASIC. In this example, the main control unit 111 is provided independently, but the display control unit 112,
It may be integrated with the control means of the device provided with the display.

【0081】ディスプレイ制御手段112は、主制御手
段111等から与えられる表示データ等を解析し、必要
により表示データ記憶手段113に格納されているデー
タを検索して、その表示データを有機ELディスプレイ
上の所定の位置に表示させるためのマトリクスデータに
変換する。すなわち、表示する画像(イメージまたはキ
ャラクタ)データが、各マトリクスの交点で与えられる
有機EL素子の画素単位のドットデータとした場合、そ
のドット座標を与える走査電極とデータ電極を駆動する
ような信号を発生する。また、上記のような各フレーム
単位での駆動や、走査電極とデータ電極の駆動比(デュ
ーティ)制御等も行う。
The display control means 112 analyzes display data and the like provided from the main control means 111 and the like, searches data stored in the display data storage means 113 as necessary, and stores the display data on the organic EL display. Is converted into matrix data to be displayed at a predetermined position. That is, when the image (image or character) data to be displayed is dot data in pixel units of the organic EL element given at the intersection of each matrix, a signal for driving the scanning electrode and the data electrode giving the dot coordinates is provided. appear. In addition, driving in units of frames as described above, driving ratio (duty) control between the scanning electrodes and the data electrodes, and the like are also performed.

【0082】ディスプレイ制御手段112は、例えば、
所定の演算機能を有するプロセッサや複合論理回路、前
記プロセッサ等が外部の主制御手段等とのデータの授受
を行うためのバッファ、制御回路へのタイミング信号、
表示タイミング信号や外部記憶手段等への読み出し、書
き込みタイミング信号等を与えるタイミング信号発生回
路(発振回路)、外部の記憶手段から表示データ等の授
受を行う記憶素子制御回路、外部の記憶素子から読み出
したり、外部から与えられ、あるいはこれを加工するこ
とにより得られた表示データを駆動信号として送出する
駆動信号送出回路、外部から与えられる表示機能や表示
させるディスプレイ等に関するデータ、制御コマンド等
を格納する各種レジスタ等により構成することができ
る。
The display control means 112 includes, for example,
A processor or a complex logic circuit having a predetermined arithmetic function, a buffer for the processor or the like to exchange data with an external main control unit or the like, a timing signal to a control circuit,
A timing signal generating circuit (oscillation circuit) for giving a display timing signal and reading / writing to external storage means and a writing timing signal, a storage element control circuit for sending and receiving display data and the like from an external storage means, and reading from an external storage element Or a drive signal transmission circuit for transmitting display data, which is supplied from the outside or obtained by processing the data, as a drive signal, and stores data relating to a display function and a display to be externally supplied, control commands, and the like. It can be composed of various registers and the like.

【0083】表示データ記憶手段113は、外部から与
えられた画像データを、ディスプレイ上にマトリクスデ
ータとして展開するためのデータ(変換テーブル)や、
所定のキャラクタデータやイメージデータをそのままマ
トリクスデータに展開したデータ等が格納され、それぞ
れ必要に応じて格納位置(アドレス)を指定することに
より読み出し(書き込み)が可能なようになっている。
このような、表示データ記憶手段としてはRAM(VR
AM)、ROM等の半導体記憶素子を好ましく挙げるこ
とができるが、これに限定されるものではなく、光や磁
気を応用した記憶媒体を用いてもよい。
The display data storage means 113 stores data (conversion table) for developing image data supplied from the outside as matrix data on a display,
Data in which predetermined character data and image data are directly expanded into matrix data and the like are stored, and can be read (written) by designating a storage position (address) as necessary.
Such a display data storage means is a RAM (VR
AM), and a semiconductor storage element such as a ROM can be preferably mentioned, but the present invention is not limited to this, and a storage medium using light or magnetism may be used.

【0084】走査電極駆動手段114およびデータ電極
駆動手段115はディスプレイ制御手段112から与え
られた走査電極駆動信号、データ電極駆動信号に応じて
走査電極、データ電極を駆動する。有機ELディスプレ
イを構成する有機EL素子は電流駆動により発光する発
光素子である。このため、通常電圧信号として与えられ
る走査電極駆動信号、データ電極駆動信号を所定の電流
値の信号に変換し、これを所定の走査電極、データ電極
に与えることにより駆動する。
The scanning electrode driving means 114 and the data electrode driving means 115 drive the scanning electrode and the data electrode according to the scanning electrode driving signal and the data electrode driving signal given from the display control means 112. The organic EL element constituting the organic EL display is a light emitting element that emits light by current driving. Therefore, the scan electrode drive signal and the data electrode drive signal, which are usually given as voltage signals, are converted into signals of a predetermined current value, and the signals are supplied to predetermined scan electrodes and data electrodes for driving.

【0085】より具体的には、必要な電流容量を有する
電圧−電流変換素子、あるいは増幅素子(電力増幅)等
を用いて、所定位置の走査電極、データ電極を駆動す
る。このような駆動回路として、オープンドレイン、オ
ープンコレクタ回路、トーテムポール接続、プッシュプ
ル接続等が挙げられる。電圧−電流変換素子、あるいは
増幅素子としては、リレー等の有接点デバイスを用いる
ことも考えられるが、動作の高速性、信頼性等を考慮す
ると、トランジスタ、FETおよびこれらと同等の機能
を有する半導体素子が好ましい。これら半導体素子は、
電源側または接地側のいずれかに走査電極、データ電極
を接続する。ここで、電源側、接地側とは直接電源や接
地ラインに接続する場合の他、電流制限抵抗、保護用デ
バイス、レギュレータ等の素子を介して接続する場合も
含まれる。
More specifically, a scanning electrode and a data electrode at a predetermined position are driven by using a voltage-current conversion element having a necessary current capacity or an amplification element (power amplification). Examples of such a driving circuit include an open drain, an open collector circuit, a totem pole connection, a push-pull connection, and the like. A contact device such as a relay may be used as the voltage-current conversion element or the amplifying element. However, in consideration of high-speed operation and reliability, transistors, FETs, and semiconductors having functions equivalent to these are used. Elements are preferred. These semiconductor elements are
The scanning electrode and the data electrode are connected to either the power supply side or the ground side. Here, the power supply side and the ground side include not only a case where the power supply side and the ground side are directly connected to the power supply and the ground line, but also a case where the power supply side and the ground side are connected via elements such as a current limiting resistor, a protection device, and a regulator.

【0086】本発明では上記回路構成要素のうち、特に
ディスプレイ制御手段112、表示データ記憶手段11
3、走査電極駆動手段114およびデータ電極駆動手段
115等を回路素子およびその周辺の回路として内部封
止体と外部封止体との間の部分に形成することが好まし
い。また、その他の回路との接続には、フラットケーブ
ル、FPC(フレキシブルプリント基板)、異方性導電
ゴム、基板用コネクタ等の図示しない外部接続手段を用
いて接続される。この場合、信号線としては、通常、プ
ロセッサ等の制御手段の処理に必要なデータが転送可能
な本数でよく、コネクタやケーブルが小型で済み、線径
が太いケーブル等を使用する必要もなく、信頼性も良好
なものとなる。
In the present invention, among the above-mentioned circuit components, in particular, the display control means 112 and the display data storage means 11
3. It is preferable that the scanning electrode driving means 114 and the data electrode driving means 115 are formed as a circuit element and peripheral circuits in a portion between the internal sealing body and the external sealing body. Connection to other circuits is made using external connection means (not shown) such as a flat cable, an FPC (flexible printed circuit board), anisotropic conductive rubber, and a connector for a board. In this case, the number of signal lines is usually sufficient to transfer data necessary for processing by a control unit such as a processor, and the connectors and cables need to be small, and there is no need to use cables having a large diameter. The reliability is also good.

【0087】上記回路は有機EL構造体(有機ELディ
スプレイ本体)を駆動するための回路構成の一例にすぎ
ず、同等な機能を有するものであれば他の回路構成をと
ることも可能である。また、ディスプレイ制御手段、走
査電極駆動手段およびデータ電極駆動手段等と明確に分
割せずにこれらが渾然一体となった構成であってもよ
い。また、上記例では主に単純マトリクスタイプのディ
スプレイについて説明しているが、TFT等を用いた、
アクティブマトリクスタイプのディスプレイであっても
よい。なお、これらの回路装置は、通常、1種または2
種以上のICおよびその周辺部品として構成されてい
る。
The above circuit is merely an example of a circuit configuration for driving the organic EL structure (organic EL display main body), and other circuit configurations may be employed as long as they have equivalent functions. Further, the display control means, the scan electrode driving means, the data electrode driving means and the like may be completely integrated without being clearly divided. Although the above example mainly describes a simple matrix type display, a TFT or the like is used.
It may be an active matrix type display. Incidentally, these circuit devices are usually one type or two types.
It is configured as more than one kind of IC and its peripheral parts.

【0088】本発明の有機EL構造体は、例えば、基板
上に組以上のマトリクス配置された走査電極(電子注入
電極)およびデータ電極(ホール注入電極)を有し、こ
れらの電極の間に有機層であるホール注入・輸送層、発
光および電子注入輸送層、必要により保護層が積層さ
れ、さらにこの上にガラス等の封止板を配置した構成を
有する。
The organic EL structure of the present invention has, for example, a plurality of scan electrodes (electron injection electrodes) and data electrodes (hole injection electrodes) arranged in a matrix on a substrate. It has a structure in which a hole injection / transport layer, a light emission and electron injection / transport layer, which is a layer, and a protective layer as required, are laminated, and a sealing plate such as glass is disposed thereon.

【0089】封止板上に形成された回路はボールボンド
またはワイヤーボンドにより基板上の回路と電気的に接
続され、それぞれ走査電極(電子注入電極)およびデー
タ電極(ホール注入電極)と接続される。これにより、
封止板上の走査電極駆動手段(回路)およびデータ電極
駆動手段(回路)と、走査電極(電子注入電極)および
データ電極(ホール注入電極)とが接続されることとな
る。
The circuit formed on the sealing plate is electrically connected to the circuit on the substrate by ball bonding or wire bonding, and is connected to a scanning electrode (electron injection electrode) and a data electrode (hole injection electrode), respectively. . This allows
The scanning electrode driving means (circuit) and the data electrode driving means (circuit) on the sealing plate are connected to the scanning electrode (electron injection electrode) and the data electrode (hole injection electrode).

【0090】有機EL構造体は、次のようなものであ
る。発光層は、ホール(正孔)および電子の注入機能、
それらの輸送機能、ホールと電子の再結合により励起子
を生成させる機能を有する。発光層には、比較的電子的
にニュートラルな化合物を用いることが好ましい。
The organic EL structure is as follows. The light emitting layer has a hole (hole) and electron injection function,
They have a transport function and a function of generating excitons by recombination of holes and electrons. It is preferable to use a relatively electronically neutral compound for the light emitting layer.

【0091】ホール注入輸送層は、ホール注入電極から
のホールの注入を容易にする機能、ホールを安定に輸送
する機能および電子を妨げる機能を有するものであり、
電子注入輸送層は、電子注入電極からの電子の注入を容
易にする機能、電子を安定に輸送する機能およびホール
を妨げる機能を有するものである。これらの層は、発光
層に注入されるホールや電子を増大・閉じこめさせ、再
結合領域を最適化させ、発光効率を改善する。
The hole injecting and transporting layer has a function of facilitating the injection of holes from the hole injecting electrode, a function of stably transporting holes, and a function of preventing electrons.
The electron injection transport layer has a function of facilitating injection of electrons from the electron injection electrode, a function of stably transporting electrons, and a function of preventing holes. These layers increase and confine holes and electrons injected into the light emitting layer, optimize the recombination region, and improve luminous efficiency.

【0092】発光層の厚さ、ホール注入輸送層の厚さお
よび電子注入輸送層の厚さは、特に制限されるものでは
なく、形成方法によっても異なるが、通常5〜500nm
程度、特に10〜300nmとすることが好ましい。
The thickness of the light emitting layer, the thickness of the hole injecting and transporting layer, and the thickness of the electron injecting and transporting layer are not particularly limited, and vary depending on the forming method.
It is preferable that the thickness be in the range of 10 to 300 nm.

【0093】ホール注入輸送層の厚さおよび電子注入輸
送層の厚さは、再結合・発光領域の設計によるが、発光
層の厚さと同程度または1/10〜10倍程度とすれば
よい。ホールまたは電子の各々の注入層と輸送層とを分
ける場合は、注入層は1nm以上、輸送層は1nm以上とす
るのが好ましい。このときの注入層、輸送層の厚さの上
限は、通常、注入層で500nm程度、輸送層で500nm
程度である。このような膜厚については、注入輸送層を
2層設けるときも同じである。
The thickness of the hole injecting / transporting layer and the thickness of the electron injecting / transporting layer depend on the design of the recombination / light emitting region, but may be about the same as the thickness of the light emitting layer or about 1/10 to 10 times. When the hole or electron injection layer and the transport layer are separated from each other, it is preferable that the injection layer has a thickness of 1 nm or more and the transport layer has a thickness of 1 nm or more. At this time, the upper limit of the thickness of the injection layer and the transport layer is usually about 500 nm for the injection layer and 500 nm for the transport layer.
It is about. Such a film thickness is the same when two injection / transport layers are provided.

【0094】有機EL素子の発光層には、発光機能を有
する化合物である蛍光性物質を含有させる。このような
蛍光性物質としては、例えば、特開昭63−26469
2号公報に開示されているような化合物、例えばキナク
リドン、ルブレン、スチリル系色素等の化合物から選択
される少なくとも1種が挙げられる。また、トリス(8
−キノリノラト)アルミニウム等の8−キノリノールま
たはその誘導体を配位子とする金属錯体色素などのキノ
リン誘導体、テトラフェニルブタジエン、アントラセ
ン、ペリレン、コロネン、12−フタロペリノン誘導体
等が挙げられる。さらには、特開平8−12066号公
報(特願平6−110569号)に記載のフェニルアン
トラセン誘導体、特開平8−12969号公報(特願平
6−114456号)に記載のテトラアリールエテン誘
導体等を用いることができる。
The light emitting layer of the organic EL device contains a fluorescent substance which is a compound having a light emitting function. Examples of such a fluorescent substance include, for example, JP-A-63-26469.
No. 2 discloses at least one compound selected from compounds such as quinacridone, rubrene, and styryl dyes. Also, Tris (8
Quinolinol derivatives such as metal complex dyes having 8-quinolinol or a derivative thereof as a ligand, such as (quinolinolato) aluminum; tetraphenylbutadiene, anthracene, perylene, coronene, and 12-phthaloperinone derivatives. Further, phenylanthracene derivatives described in JP-A-8-12066 (Japanese Patent Application No. 6-110569), tetraarylethene derivatives described in JP-A-8-12969 (Japanese Patent Application No. 6-114456), and the like are described. Can be used.

【0095】また、それ自体で発光が可能なホスト物質
と組み合わせて使用することが好ましく、ドーパントと
しての使用が好ましい。このような場合の発光層におけ
る化合物の含有量は0.01〜20wt% 、さらには0.
1〜15wt% であることが好ましい。ホスト物質と組み
合わせて使用することによって、ホスト物質の発光波長
特性を変化させることができ、長波長に移行した発光が
可能になるとともに、素子の発光効率や安定性が向上す
る。
Further, it is preferable to use in combination with a host substance capable of emitting light by itself, and it is preferable to use it as a dopant. In such a case, the content of the compound in the light emitting layer is 0.01 to 20% by weight, and more preferably 0.1 to 20% by weight.
It is preferably 1 to 15% by weight. When used in combination with a host substance, the emission wavelength characteristics of the host substance can be changed, light emission shifted to a longer wavelength becomes possible, and the luminous efficiency and stability of the device are improved.

【0096】ホスト物質としては、キノリノラト錯体が
好ましく、さらには8−キノリノールまたはその誘導体
を配位子とするアルミニウム錯体が好ましい。このよう
なアルミニウム錯体としては、特開昭63−26469
2号、特開平3−255190号、特開平5−7073
3号、特開平5−258859号、特開平6−2158
74号等に開示されているものを挙げることができる。
The host substance is preferably a quinolinolato complex, and more preferably an aluminum complex having 8-quinolinol or a derivative thereof as a ligand. Such an aluminum complex is disclosed in JP-A-63-26469.
No. 2, JP-A-3-255190, JP-A-5-7073
3, JP-A-5-258859, JP-A-6-2158
No. 74 and the like.

【0097】具体的には、まず、トリス(8−キノリノ
ラト)アルミニウム、ビス(8−キノリノラト)マグネ
シウム、ビス(ベンゾ{f}−8−キノリノラト)亜
鉛、ビス(2−メチル−8−キノリノラト)アルミニウ
ムオキシド、トリス(8−キノリノラト)インジウム、
トリス(5−メチル−8−キノリノラト)アルミニウ
ム、8−キノリノラトリチウム、トリス(5−クロロ−
8−キノリノラト)ガリウム、ビス(5−クロロ−8−
キノリノラト)カルシウム、5,7−ジクロル−8−キ
ノリノラトアルミニウム、トリス(5,7−ジブロモ−
8−ヒドロキシキノリノラト)アルミニウム、ポリ[亜
鉛(II)−ビス(8−ヒドロキシ−5−キノリニル)メ
タン]等がある。
Specifically, first, tris (8-quinolinolato) aluminum, bis (8-quinolinolato) magnesium, bis (benzo {f} -8-quinolinolato) zinc, bis (2-methyl-8-quinolinolato) aluminum Oxide, tris (8-quinolinolato) indium,
Tris (5-methyl-8-quinolinolato) aluminum, 8-quinolinolatolithium, tris (5-chloro-
8-quinolinolato) gallium, bis (5-chloro-8-
Quinolinolato) calcium, 5,7-dichloro-8-quinolinolatoaluminum, tris (5,7-dibromo-
8-hydroxyquinolinolato) aluminum and poly [zinc (II) -bis (8-hydroxy-5-quinolinyl) methane].

【0098】このほかのホスト物質としては、特開平8
−12600号公報(特願平6−110569号)に記
載のフェニルアントラセン誘導体や、特開平8−129
69号公報(特願平6−114456号)に記載のテト
ラアリールエテン誘導体なども好ましい。
Other host materials are disclosed in
Phenylanthracene derivative described in JP-A-12600 (Japanese Patent Application No. 6-110569) and JP-A-8-129.
Also preferred are the tetraarylethene derivatives described in JP-A-69 (Japanese Patent Application No. 6-114456).

【0099】発光層は電子注入輸送層を兼ねたものであ
ってもよく、このような場合はトリス(8−キノリノラ
ト)アルミニウム等を使用することが好ましい。これら
の蛍光性物質を蒸着すればよい。
The light emitting layer may also serve as an electron injection / transport layer. In such a case, it is preferable to use tris (8-quinolinolato) aluminum or the like. These fluorescent substances may be deposited.

【0100】また、発光層は、必要に応じて、少なくと
も1種のホール注入輸送性化合物と少なくとも1種の電
子注入輸送性化合物との混合層とすることも好ましく、
さらにはこの混合層中にドーパントを含有させることが
好ましい。このような混合層における化合物の含有量
は、0.01〜20wt% 、さらには0.1〜15wt% と
することが好ましい。
The light emitting layer is preferably a mixed layer of at least one kind of hole injecting and transporting compound and at least one kind of electron injecting and transporting compound, if necessary.
Further, it is preferable that a dopant is contained in the mixed layer. The content of the compound in such a mixed layer is preferably 0.01 to 20% by weight, more preferably 0.1 to 15% by weight.

【0101】混合層では、キャリアのホッピング伝導パ
スができるため、各キャリアは極性的に有利な物質中を
移動し、逆の極性のキャリア注入は起こりにくくなるた
め、有機化合物がダメージを受けにくくなり、素子寿命
がのびるという利点がある。また、前述のドーパントを
このような混合層に含有させることにより、混合層自体
のもつ発光波長特性を変化させることができ、発光波長
を長波長に移行させることができるとともに、発光強度
を高め、素子の安定性を向上させることもできる。
In the mixed layer, a carrier hopping conduction path is formed, so that each carrier moves in a substance having a favorable polarity, and injection of a carrier having the opposite polarity is less likely to occur, so that the organic compound is less likely to be damaged. This has the advantage that the element life is extended. Further, by including the above-described dopant in such a mixed layer, the emission wavelength characteristics of the mixed layer itself can be changed, the emission wavelength can be shifted to a longer wavelength, and the emission intensity is increased, The stability of the device can be improved.

【0102】混合層に用いられるホール注入輸送性化合
物および電子注入輸送性化合物は、各々、後述のホール
注入輸送層用の化合物および電子注入輸送層用の化合物
の中から選択すればよい。なかでも、ホール注入輸送層
用の化合物としては、強い蛍光を持ったアミン誘導体、
例えばホール輸送材料であるトリフェニルジアミン誘導
体、さらにはスチリルアミン誘導体、芳香族縮合環を持
つアミン誘導体を用いるのが好ましい。
The hole injecting / transporting compound and the electron injecting / transporting compound used in the mixed layer may be selected from the compounds for the hole injecting / transporting layer and the compounds for the electron injecting / transporting layer described below, respectively. Among them, compounds for the hole injection transport layer include amine derivatives having strong fluorescence,
For example, it is preferable to use a triphenyldiamine derivative which is a hole transport material, a styrylamine derivative, or an amine derivative having an aromatic condensed ring.

【0103】電子注入輸送性の化合物としては、キノリ
ン誘導体、さらには8−キノリノールないしその誘導体
を配位子とする金属錯体、特にトリス(8−キノリノラ
ト)アルミニウム(Alq3 )を用いることが好まし
い。また、上記のフェニルアントラセン誘導体、テトラ
アリールエテン誘導体を用いるのも好ましい。
As the compound capable of injecting and transporting electrons, it is preferable to use a quinoline derivative, furthermore a metal complex having 8-quinolinol or a derivative thereof as a ligand, particularly tris (8-quinolinolato) aluminum (Alq3). It is also preferable to use the above-mentioned phenylanthracene derivatives and tetraarylethene derivatives.

【0104】ホール注入輸送層用の化合物としては、強
い蛍光を持ったアミン誘導体、例えば上記のホール輸送
材料であるトリフェニルジアミン誘導体、さらにはスチ
リルアミン誘導体、芳香族縮合環を持つアミン誘導体を
用いるのが好ましい。
As the compound for the hole injecting and transporting layer, an amine derivative having strong fluorescence, for example, a triphenyldiamine derivative as the above-described hole transporting material, a styrylamine derivative, or an amine derivative having an aromatic condensed ring is used. Is preferred.

【0105】この場合の混合比は、それぞれのキャリア
移動度とキャリア濃度によるが、一般的には、ホール注
入輸送性化合物の化合物/電子注入輸送機能を有する化
合物の重量比が、1/99〜99/1、さらに好ましく
は10/90〜90/10、特に好ましくは20/80
〜80/20程度となるようにすることが好ましい。ま
た、混合層の厚さは、分子層一層に相当する厚み以上
で、有機化合物層の膜厚未満とすることが好ましい。具
体的には1〜85nmとすることが好ましく、さらには5
〜60nm、特には5〜50nmとすることが好ましい。
The mixing ratio in this case depends on the respective carrier mobilities and carrier concentrations. In general, the weight ratio of the compound of the hole injecting / transporting compound / the compound having the electron injecting / transporting function is from 1/99 to less. 99/1, more preferably 10/90 to 90/10, particularly preferably 20/80
It is preferable to set it to about 80/20. The thickness of the mixed layer is preferably equal to or greater than the thickness of one molecular layer and less than the thickness of the organic compound layer. Specifically, the thickness is preferably 1 to 85 nm, more preferably 5 to 85 nm.
6060 nm, particularly preferably 5-50 nm.

【0106】また、混合層の形成方法としては、異なる
蒸着源より蒸発させる共蒸着が好ましいが、蒸気圧(蒸
発温度)が同程度あるいは非常に近い場合には、予め同
じ蒸着ボード内で混合させておき、蒸着することもでき
る。混合層は化合物同士が均一に混合している方が好ま
しいが、場合によっては、化合物が島状に存在するもの
であってもよい。発光層は、一般的には、有機蛍光物質
を蒸着するか、あるいは、樹脂バインダー中に分散させ
てコーティングすることにより、発光層を所定の厚さに
形成する。
As a method for forming a mixed layer, co-evaporation in which evaporation is performed from different evaporation sources is preferable. However, when the vapor pressures (evaporation temperatures) are approximately the same or very close, they are mixed in the same evaporation board in advance. Alternatively, it can be deposited. In the mixed layer, it is preferable that the compounds are uniformly mixed, but in some cases, the compounds may exist in an island shape. The light-emitting layer is generally formed to a predetermined thickness by vapor-depositing an organic fluorescent substance or by dispersing and coating the resin in a resin binder.

【0107】ホール注入輸送層には、例えば、特開昭6
3−295695号公報、特開平2−191694号公
報、特開平3−792号公報、特開平5−234681
号公報、特開平5−239455号公報、特開平5−2
99174号公報、特開平7−126225号公報、特
開平7−126226号公報、特開平8−100172
号公報、EP0650955A1等に記載されている各
種有機化合物を用いることができる。例えば、テトラア
リールベンジシン化合物(トリアリールジアミンないし
トリフェニルジアミン:TPD)、芳香族三級アミン、
ヒドラゾン誘導体、カルバゾール誘導体、トリアゾール
誘導体、イミダゾール誘導体、アミノ基を有するオキサ
ジアゾール誘導体、ポリチオフェン等である。これらの
化合物は、1種のみを用いても、2種以上を併用しても
よい。2種以上を併用するときは、別層にして積層した
り、混合したりすればよい。
The hole injecting and transporting layer is described in, for example,
JP-A-3-295695, JP-A-2-191694, JP-A-3-792, JP-A-5-234681
JP, JP-A-5-239455, JP-A-5-5-2
JP-A-99174, JP-A-7-126225, JP-A-7-126226, JP-A-8-100172
Various organic compounds described in JP-A No. 06509555 A1 and the like can be used. For example, a tetraarylbendicine compound (triaryldiamine or triphenyldiamine: TPD), an aromatic tertiary amine,
Examples include hydrazone derivatives, carbazole derivatives, triazole derivatives, imidazole derivatives, oxadiazole derivatives having an amino group, and polythiophene. These compounds may be used alone or in combination of two or more. When two or more kinds are used in combination, they may be stacked as separate layers or mixed.

【0108】ホール注入輸送層をホール注入層とホール
輸送層とに分けて積層する場合は、ホール注入輸送層用
の化合物のなかから好ましい組合せを選択して用いるこ
とができる。このとき、ホール注入電極(ITO等)側
からイオン化ポテンシャルの小さい化合物の順に積層す
ることが好ましい。また、ホール注入電極表面には薄膜
性の良好な化合物を用いることが好ましい。このような
積層順については、ホール注入輸送層を2層以上設ける
ときも同様である。このような積層順とすることによっ
て、駆動電圧が低下し、電流リークの発生やダークスポ
ットの発生・成長を防ぐことができる。また、素子化す
る場合、蒸着を用いているので1〜10nm程度の薄い膜
も均一かつピンホールフリーとすることができるため、
ホール注入層にイオン化ポテンシャルが小さく、可視部
に吸収をもつような化合物を用いても、発光色の色調変
化や再吸収による効率の低下を防ぐことができる。ホー
ル注入輸送層は、発光層等と同様に上記の化合物を蒸着
することにより形成することができる。
When the hole injecting and transporting layer is divided into a hole injecting layer and a hole transporting layer, a preferable combination can be selected from the compounds for the hole injecting and transporting layer. At this time, it is preferable to laminate the compounds in order from the hole injecting electrode (ITO or the like) with the smallest ionization potential. Further, it is preferable to use a compound having a good thin film property on the surface of the hole injection electrode. Such a stacking order is the same when two or more hole injection transport layers are provided. With such a stacking order, the driving voltage is reduced, and the occurrence of current leakage and the occurrence and growth of dark spots can be prevented. In addition, in the case of forming an element, since a thin film of about 1 to 10 nm can be made uniform and pinhole-free because evaporation is used,
Even if a compound having a small ionization potential and having absorption in the visible region is used for the hole injection layer, it is possible to prevent a change in the color tone of the emission color and a decrease in efficiency due to reabsorption. The hole injecting and transporting layer can be formed by vapor deposition of the above compound in the same manner as the light emitting layer and the like.

【0109】電子注入輸送層には、トリス(8−キノリ
ノラト)アルミニウム(Alq3 )等の8−キノリノー
ルまたはその誘導体を配位子とする有機金属錯体などの
キノリン誘導体、オキサジアゾール誘導体、ペリレン誘
導体、ピリジン誘導体、ピリミジン誘導体、キノキサリ
ン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、ニトロ置換フルオ
レン誘導体等を用いることができる。電子注入輸送層は
発光層を兼ねたものであってもよく、このような場合は
トリス(8−キノリノラト)アルミニウム等を使用する
ことが好ましい。電子注入輸送層の形成は、発光層と同
様に、蒸着等によればよい。
In the electron injecting and transporting layer, quinoline derivatives such as organometallic complexes having 8-quinolinol such as tris (8-quinolinolato) aluminum (Alq3) or derivatives thereof as ligands, oxadiazole derivatives, perylene derivatives, A pyridine derivative, a pyrimidine derivative, a quinoxaline derivative, a diphenylquinone derivative, a nitro-substituted fluorene derivative, or the like can be used. The electron injection / transport layer may also serve as the light emitting layer. In such a case, it is preferable to use tris (8-quinolinolato) aluminum or the like. The electron injecting and transporting layer may be formed by vapor deposition or the like, similarly to the light emitting layer.

【0110】電子注入輸送層を電子注入層と電子輸送層
とに分けて積層する場合には、電子注入輸送層用の化合
物の中から好ましい組み合わせを選択して用いることが
できる。このとき、電子注入電極側から電子親和力の値
の大きい化合物の順に積層することが好ましい。このよ
うな積層順については、電子注入輸送層を2層以上設け
るときも同様である。
In the case where the electron injecting and transporting layer is divided into an electron injecting layer and an electron transporting layer, a preferable combination can be selected from the compounds for the electron injecting and transporting layer. At this time, it is preferable to stack the compounds in descending order of the electron affinity value from the electron injection electrode side. Such a stacking order is the same when two or more electron injection / transport layers are provided.

【0111】ホール注入輸送層、発光層および電子注入
輸送層の形成には、均質な薄膜が形成できることから、
真空蒸着法を用いることが好ましい。真空蒸着法を用い
た場合、アモルファス状態または結晶粒径が0.1μm
以下の均質な薄膜が得られる。結晶粒径が0.1μm を
超えていると、不均一な発光となり、素子の駆動電圧を
高くしなければならなくなり、ホールの注入効率も著し
く低下する。
The hole injecting and transporting layer, the light emitting layer and the electron injecting and transporting layer can be formed because a uniform thin film can be formed.
It is preferable to use a vacuum deposition method. When vacuum deposition is used, the amorphous state or the crystal grain size is 0.1 μm
The following homogeneous thin film is obtained. If the crystal grain size exceeds 0.1 μm, non-uniform light emission occurs, the driving voltage of the device must be increased, and the hole injection efficiency is significantly reduced.

【0112】真空蒸着の条件は特に限定されないが、1
-4Pa以下の真空度とし、蒸着速度は0.01〜1nm/
sec 程度とすることが好ましい。また、真空中で連続し
て各層を形成することが好ましい。真空中で連続して形
成すれば、各層の界面に不純物が吸着することを防げる
ため、高特性が得られる。また、素子の駆動電圧を低く
したり、ダークスポットの発生・成長を抑制したりする
ことができる。
The conditions for vacuum deposition are not particularly limited.
The degree of vacuum is 0 -4 Pa or less, and the deposition rate is 0.01 to 1 nm /
It is preferable to set it to about sec. Further, it is preferable to form each layer continuously in a vacuum. If they are formed continuously in a vacuum, impurities can be prevented from adsorbing at the interface between the layers, so that high characteristics can be obtained. Further, the driving voltage of the element can be reduced, and the occurrence and growth of dark spots can be suppressed.

【0113】これら各層の形成に真空蒸着法を用いる場
合において、1層に複数の化合物を含有させる場合、化
合物を入れた各ボートを個別に温度制御して共蒸着する
ことが好ましい。
In the case where a plurality of compounds are contained in one layer when a vacuum evaporation method is used for forming each of these layers, it is preferable to co-deposit each boat containing the compounds by individually controlling the temperature.

【0114】また、有機EL構造体は上記有機層の他
に、基板および基板上に有機層を挟み込むように形成さ
れた、ホール注入電極、電子注入電極等の機能性薄膜を
有する。
Further, in addition to the organic layer, the organic EL structure has a substrate and a functional thin film such as a hole injection electrode or an electron injection electrode formed so as to sandwich the organic layer on the substrate.

【0115】電子注入電極としては、低仕事関数の物質
が好ましく、例えば、K、Li、Na、Mg、La、C
e、Ca、Sr、Ba、Al、Ag、In、Sn、Z
n、Zr等の金属元素単体、または安定性を向上させる
ためにそれらを含む2成分、3成分の合金系を用いるこ
とが好ましい。合金系としては、例えばAg・Mg(A
g:0.1〜50at%)、Al・Li(Li:0.01
〜12at%)、In・Mg(Mg:50〜80at%)、
Al・Ca(Ca:0.01〜20at%)等が挙げられ
る。なお、電子注入電極は蒸着法やスパッタ法でも形成
することが可能である。
As the electron injection electrode, a substance having a low work function is preferable. For example, K, Li, Na, Mg, La, C
e, Ca, Sr, Ba, Al, Ag, In, Sn, Z
It is preferable to use a single metal element such as n or Zr, or a two-component or three-component alloy system containing them for improving the stability. As an alloy system, for example, Ag · Mg (A
g: 0.1 to 50 at%), Al.Li (Li: 0.01)
1212 at%), In · Mg (Mg: 50 to 80 at%),
Al.Ca (Ca: 0.01 to 20 at%) and the like. Note that the electron injection electrode can also be formed by an evaporation method or a sputtering method.

【0116】電子注入電極薄膜の厚さは、電子注入を十
分行える一定以上の厚さとすれば良く、0.5nm以上、
好ましくは1nm以上、より好ましくは3nm以上とすれば
よい。また、その上限値には特に制限はないが、通常膜
厚は3〜500nm程度とすればよい。電子注入電極の上
には、さらに補助電極ないし保護電極を設けてもよい。
The thickness of the electron injecting electrode thin film may be a certain thickness or more for sufficiently injecting electrons.
The thickness is preferably 1 nm or more, more preferably 3 nm or more. The upper limit is not particularly limited, but the thickness may be generally about 3 to 500 nm. An auxiliary electrode or a protection electrode may be further provided on the electron injection electrode.

【0117】蒸着時の圧力は好ましくは1×10-8〜1
×10-5Torrで、蒸発源の加熱温度は、金属材料であれ
ば100〜1400℃、有機材料であれば100〜50
0℃程度が好ましい。
The pressure during the deposition is preferably 1 × 10 −8 to 1
The heating temperature of the evaporation source is 100 to 1400 ° C. for a metal material and 100 to 50 ° C. for an organic material at × 10 −5 Torr.
About 0 ° C. is preferable.

【0118】ホール注入電極は、発光した光を取り出す
ため、透明ないし半透明な電極が好ましい。透明電極と
しては、ITO(錫ドープ酸化インジウム)、IZO
(亜鉛ドープ酸化インジウム)、ZnO、SnO2 、I
23 等が挙げられるが、好ましくはITO(錫ドー
プ酸化インジウム)、IZO(亜鉛ドープ酸化インジウ
ム)が好ましい。ITOは、通常In2 3 とSnOと
を化学量論組成で含有するが、O量は多少これから偏倚
していてもよい。ホール注入電極は、透明性が必要でな
いときは、不透明の公知の金属材質であってもよい。
The hole injection electrode is preferably a transparent or translucent electrode for extracting emitted light. As the transparent electrode, ITO (tin-doped indium oxide), IZO
(Zinc-doped indium oxide), ZnO, SnO 2 , I
Examples include n 2 O 3 , and preferably ITO (tin-doped indium oxide) and IZO (zinc-doped indium oxide). ITO usually contains In 2 O 3 and SnO in a stoichiometric composition, but the amount of O may slightly deviate from this. When transparency is not required, the hole injection electrode may be made of a known opaque metal material.

【0119】ホール注入電極は、発光波長帯域、通常3
50〜800nm、特に各発光光に対する光透過率が80
%以上、特に90%以上であることが好ましい。発光光
は、通常、ホール注入電極を通って取り出されるため、
その透過率が低くなると、発光層からの発光自体が減衰
され、発光素子として必要な輝度が得られなくなる傾向
がある。ただし、発光光を取り出す側の電極の光透過率
が発光光に対し80%以上であればよい。
The hole injection electrode has an emission wavelength band, usually 3
50-800 nm, especially 80% light transmittance for each emitted light.
%, Particularly preferably 90% or more. The emitted light is usually extracted through the hole injection electrode,
When the transmittance is low, the light emission itself from the light emitting layer is attenuated, and the luminance required for the light emitting element tends not to be obtained. However, the light transmittance of the electrode on the side from which the emitted light is extracted may be 80% or more of the emitted light.

【0120】ホール注入電極の厚さは、ホール注入を十
分行える一定以上の厚さを有すれば良く、好ましくは5
0〜500nm、さらには50〜300nmの範囲が好まし
い。また、その上限は特に制限はないが、あまり厚いと
剥離などの心配が生じる。厚さが薄すぎると、製造時の
膜強度やホール輸送能力、抵抗値の点で問題がある。
The thickness of the hole injecting electrode may be a certain thickness or more which can sufficiently inject holes, and is preferably 5 or more.
The range is preferably from 0 to 500 nm, more preferably from 50 to 300 nm. The upper limit is not particularly limited, but if the thickness is too large, there is a fear of peeling or the like. If the thickness is too small, there is a problem in the film strength at the time of manufacturing, the hole transport ability, and the resistance value.

【0121】このホール注入電極層は蒸着法等によって
も形成できるが、好ましくはスパッタ法、特にパルスD
Cスパッタ法により形成することが好ましい。
The hole injection electrode layer can be formed by a vapor deposition method or the like.
It is preferable to form by the C sputtering method.

【0122】有機EL構造体各層を成膜した後に、Si
X 等の無機材料、テフロン、塩素を含むフッ化炭素重
合体等の有機材料等を用いた保護膜を形成してもよい。
保護膜は透明でも不透明であってもよく、保護膜の厚さ
は50〜1200nm程度とする。保護膜は、前記の反応
性スパッタ法の他に、一般的なスパッタ法、蒸着法、P
ECVD法等により形成すればよい。
After forming each layer of the organic EL structure, the Si
Inorganic materials O X such as Teflon, a protective film may be formed using an organic material such as fluorocarbon polymers containing chlorine.
The protective film may be transparent or opaque, and the thickness of the protective film is about 50 to 1200 nm. The protective film can be formed by a general sputtering method, a vapor deposition method,
It may be formed by an ECVD method or the like.

【0123】基板に色フィルター膜や蛍光性物質を含む
色変換膜、あるいは誘電体反射膜を用いて発光色をコン
トロールしてもよい。
The light emission color may be controlled by using a color filter film, a color conversion film containing a fluorescent substance, or a dielectric reflection film on the substrate.

【0124】有機EL構造体は、直流駆動やパルス駆動
等され、交流駆動することもできる。印加電圧は、通
常、2〜30V 程度である。
The organic EL structure is driven by a direct current or a pulse, and can be driven by an alternating current. The applied voltage is usually about 2 to 30V.

【0125】本発明の有機EL素子モジュールは、ディ
スプレイとしての応用の他、例えばメモり読み出し/書
き込み等に利用される光ピックアップ、光通信の伝送路
中における中継装置、フォトカプラ等、種々の光応用デ
バイスに用いることができる。
The organic EL element module of the present invention can be used not only as a display but also as an optical pickup used for memory read / write, etc., a relay device in an optical communication transmission line, a photocoupler, etc. It can be used for application devices.

【0126】[0126]

【実施例】COG実装が可能なように所定のパターン形
成が施されたガラス基板上に、ITO透明電極(ホール
注入電極)をスパッタ法にて約100nm成膜した。得ら
れたITO薄膜を、フォトリソグラフィーの手法により
パターニング、エッチング処理し、240×320ドッ
ト(画素)のパターンを構成するホール注入電極層を形
成した。
EXAMPLE On a glass substrate on which a predetermined pattern was formed so that COG mounting was possible, an ITO transparent electrode (hole injection electrode) was formed to a thickness of about 100 nm by sputtering. The obtained ITO thin film was patterned and etched by a photolithographic technique to form a hole injection electrode layer constituting a 240 × 320 dot (pixel) pattern.

【0127】ITO透明電極、電極用配線等が形成され
ている基板の表面をUV/O3 洗浄した後、蒸着用のマ
スクを装着し、真空蒸着装置の基板ホルダーに固定し
て、槽内を減圧した。
After the surface of the substrate on which ITO transparent electrodes, electrode wirings, etc. are formed is subjected to UV / O 3 cleaning, a mask for vapor deposition is mounted, and the substrate is fixed to a substrate holder of a vacuum vapor deposition apparatus. The pressure was reduced.

【0128】ポリチオフェンを10nmの厚さに蒸着し、
ホール注入層とし、次いで減圧状態を保ったまま、N,
N’−ジフェニル−N,N’−m−トリル−4,4’−
ジアミノ−1,1’−ビフェニル(以下、TPD)を3
5nmの厚さに蒸着し、ホール輸送層とした。さらに、減
圧を保ったまま、トリス(8−キノリノラト)アルミニ
ウム(以下、Alq3 )を50nmの厚さに蒸着して、電
子注入輸送・発光層とした。
Depositing polythiophene to a thickness of 10 nm;
A hole injecting layer was formed, and then N,
N'-diphenyl-N, N'-m-tolyl-4,4'-
Diamino-1,1'-biphenyl (hereinafter referred to as TPD)
Evaporation was performed to a thickness of 5 nm to form a hole transport layer. Further, while maintaining the reduced pressure, tris (8-quinolinolato) aluminum (hereinafter, Alq3) was deposited to a thickness of 50 nm to form an electron injection transport / light emitting layer.

【0129】次いで減圧を保ったまま、このEL素子構
造体基板を真空蒸着装置からスパッタ装置に移し、スパ
ッタ圧力1.0PaにてAlLi電子注入電極(Li濃
度:7.2at%)を50nmの厚さに成膜した。その際ス
パッタガスにはArを用い、投入電力は100W、ター
ゲットの大きさは4インチ径、基板とターゲットの距離
は90mmとした。さらに、減圧を保ったまま、このEL
素子基板を他のスパッタ装置に移し、Alターゲットを
用いたDCスパッタ法により、Al保護電極を200nm
の厚さに成膜した。前記マスクは、全ての成膜が終了し
た時点で取り外した。
Then, while maintaining the reduced pressure, the EL element structure substrate was transferred from the vacuum evaporation apparatus to the sputtering apparatus, and the AlLi electron injection electrode (Li concentration: 7.2 at%) was formed to a thickness of 50 nm at a sputtering pressure of 1.0 Pa. Then, a film was formed. At that time, Ar was used as a sputtering gas, the input power was 100 W, the size of the target was 4 inches in diameter, and the distance between the substrate and the target was 90 mm. Further, while maintaining the reduced pressure, the EL
The element substrate was transferred to another sputtering apparatus, and the Al protective electrode was set to 200 nm by DC sputtering using an Al target.
Was formed to a thickness of The mask was removed when all film formation was completed.

【0130】内部封止体として、ガラス封止板を貼り合
わせ、更に基板上の所定の領域に、回路素子、つまり有
機EL構造体を駆動するための素子をCOG実装した。
A glass sealing plate was bonded as an internal sealing body, and a circuit element, that is, an element for driving an organic EL structure was mounted on a predetermined area of the substrate by COG.

【0131】次いで、内部封止体および回路素子を覆う
ように、外部封止体としての樹脂材を、約1mmの厚さに
塗布した。このとき、内部封止体のみとしたもの(比較
サンプル1)、内部封止体と外部封止体(エポキシ系樹
脂)の2重封止としたもの(サンプル1)、内部封止体
と外部封止体(エポキシ系樹脂)の2重封止とし、内部
封止体の内部に吸湿剤(ゼオライト)を配置したもの
(サンプル2)、外部封止体に内部封止体および基板の
線膨張係数(双方ともガラスで6×10-6)の約5倍
(3×10-5)の線膨張係数の樹脂(エポキシ系樹脂)
を用いたもの(サンプル3)、外部封止体に内部封止体
および基板の線膨張係数の20倍の線膨張係数の樹脂
(エポキシ系樹脂)を用いたもの(比較サンプル2)、
外部封止体(エポキシ系樹脂)の熱硬化温度が100℃
(有機EL材料の最低ガラス転移温度95℃)としたも
の(サンプル4)、外部封止体(エポキシ系樹脂)の熱
硬化温度が150℃(有機EL材料の最低ガラス転移温
度95℃)としたもの(比較サンプル3)、外部封止体
を光硬化性樹脂(エポキシ系樹脂)とし、その硬化収縮
率が3%としたもの(サンプル5)、外部封止体を光硬
化性樹脂(アクリル系樹脂)とし、その硬化収縮率が1
5%としたもの(比較サンプル4)をそれぞれ作成し
た。
Next, a resin material as an external sealing body was applied to a thickness of about 1 mm so as to cover the internal sealing body and the circuit element. At this time, the case where only the inner sealing body was used (Comparative Sample 1), the case where the inner sealing body and the outer sealing body (epoxy resin) were double-sealed (Sample 1), the inner sealing body and the outer sealing body were used. One in which the sealing body (epoxy resin) is double-sealed and a moisture absorbent (zeolite) is disposed inside the inner sealing body (sample 2), and the outer sealing body is a linear expansion of the inner sealing body and the substrate. Resin (epoxy resin) with a linear expansion coefficient about 5 times (3 × 10 −5 ) of the coefficient (both are 6 × 10 −6 for glass)
(Sample 3), a resin (epoxy resin) having a linear expansion coefficient of 20 times the linear expansion coefficient of the inner sealing body and the substrate as the outer sealing body (Comparative Sample 2),
The thermosetting temperature of the external sealing body (epoxy resin) is 100 ° C
(Sample 4) The thermosetting temperature of the external sealing body (epoxy resin) was 150 ° C (the minimum glass transition temperature of the organic EL material was 95 ° C). Sample (Comparative Sample 3), an external encapsulant made of a photocurable resin (epoxy resin) with a curing shrinkage of 3% (Sample 5), and an external encapsulant made of a photocurable resin (acrylic resin) Resin) and its cure shrinkage is 1
5% (Comparative Sample 4) were prepared.

【0132】得られた各有機EL素子を、温度60℃、
湿度95%の加速条件下、10mA/m2の電流密度で連続
駆動させ、各画素の非発光面積率を観察し、30%を超
えたものを不良と判定して評価した。
Each of the obtained organic EL devices was heated at a temperature of 60 ° C.
Under accelerated conditions of 95% humidity, the device was continuously driven at a current density of 10 mA / m 2 , the non-light-emitting area ratio of each pixel was observed, and those exceeding 30% were judged to be defective and evaluated.

【0133】その結果、比較サンプル1は300時間未
満で、比較サンプル2は200時間未満で、比較サンプ
ル3は初期発光不良で、比較サンプル4は100時間未
満で全ての画素が不良となった。一方、本発明のサンプ
ルは、サンプル1が500時間以上、サンプル2が10
00時間以上、サンプル3が500時間以上、サンプル
4が500時間以上、サンプル5が400時間以上経過
しても不良画素を確認することはできなかった。
As a result, Comparative Sample 1 was less than 300 hours, Comparative Sample 2 was less than 200 hours, Comparative Sample 3 was defective in initial light emission, and Comparative Sample 4 was defective in less than 100 hours. On the other hand, in the sample of the present invention, sample 1 was 500 hours or more, and sample 2 was 10 hours.
A defective pixel could not be confirmed even when 00 hours or more, Sample 3 was 500 hours or more, Sample 4 was 500 hours or more, and Sample 5 was 400 hours or more.

【0134】[0134]

【発明の効果】以上のように本発明によれば、十分な封
止効果を維持し、素子の劣化を抑制して素子寿命を延ば
すことが可能な有機EL素子モジュールを実現すること
ができる。
As described above, according to the present invention, it is possible to realize an organic EL device module capable of maintaining a sufficient sealing effect, suppressing deterioration of the device and extending the life of the device.

【0135】また、パネルの配線引き回しを容易とし、
基板上の配線が少なくて済み、しかも、複雑な配線構造
の形成が可能な有機EL素子モジュールを実現すること
ができる。
Further, the wiring of the panel is facilitated,
An organic EL element module that requires less wiring on the substrate and that can form a complicated wiring structure can be realized.

【0136】また、モールド材や、基板材料等の膨張率
や、収縮率の相違による応力作用を防止し、剥離や、封
止効果の低下を防止可能な有機EL素子モジュールを実
現することができる。
Further, it is possible to realize an organic EL element module capable of preventing a stress effect due to a difference in expansion rate and contraction rate of a mold material, a substrate material, and the like, and preventing peeling and a decrease in sealing effect. .

【0137】また、熱硬化工程での熱等により、有機材
料が破壊されたり、活性を失ったり、一部の機能に障害
を生じたりして、有機EL構造体がダメージを受けるこ
とのない有機EL素子モジュールを実現することができ
る。
The organic EL structure is not damaged due to heat or the like in the heat curing step, the organic material is destroyed, loses its activity, or impairs some functions. An EL element module can be realized.

【0138】また、入出力信号、電源の接続を集約、分
離可能で、配線パターン錯綜が極力少なくて済み、外乱
やノイズの影響を受けにくい有機EL素子モジュールを
実現することができる。
Further, the connection of input / output signals and power supply can be integrated and separated, the wiring pattern can be minimized, and an organic EL element module which is hardly affected by disturbance and noise can be realized.

【0139】また、電極上への接着剤の濡れ性等の問題
が生じ難く、接着力の低下を防止し、気密性を長期間保
持可能な有機EL素子モジュールを実現することができ
る。
Further, it is possible to realize an organic EL element module in which problems such as wettability of the adhesive on the electrode hardly occur, a decrease in adhesive strength can be prevented, and airtightness can be maintained for a long period of time.

【0140】また、有機EL素子より発生するノイズ等
の影響を受け難く、駆動用の回路ないしIC等の誤動作
の恐れのない有機EL素子モジュールを実現することが
できる。
Further, it is possible to realize an organic EL element module which is hardly affected by noise or the like generated by the organic EL element and which is free from a malfunction of a driving circuit or an IC.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の構成例を示した概略断面図であ
る。
FIG. 1 is a schematic sectional view showing a first configuration example of the present invention.

【図2】本発明の第2の構成例を示した概略断面図であ
る。
FIG. 2 is a schematic sectional view showing a second configuration example of the present invention.

【図3】本発明の第3の構成例を示した概略断面図であ
る。
FIG. 3 is a schematic sectional view showing a third configuration example of the present invention.

【図4】本発明の第4の構成例を示した概略断面図であ
る。
FIG. 4 is a schematic sectional view showing a fourth configuration example of the present invention.

【図5】本発明の第5の構成例を示した概略断面図であ
る。
FIG. 5 is a schematic sectional view showing a fifth configuration example of the present invention.

【図6】本発明の有機EL構造体を駆動するための回路
の構成例を示したブロック図である。
FIG. 6 is a block diagram showing a configuration example of a circuit for driving the organic EL structure of the present invention.

【図7】従来の有機EL素子を用いた表示モジュールの
構成例を示した概略断面図である。
FIG. 7 is a schematic sectional view showing a configuration example of a display module using a conventional organic EL element.

【図8】COG実装された液晶表示モジュールの構成例
を示した概略断面図である。
FIG. 8 is a schematic sectional view showing a configuration example of a liquid crystal display module mounted with COG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基板 3 内部封止体 4 封止用接着剤 5 吸湿剤・防湿剤 6 外部封止体 7 封止用接着剤 8 吸湿剤・防湿剤 9 接続手段 11 下部電極 12 有機層 13 上部電極 21 回路素子 22 回路パターン 23 電磁シールド DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate 3 Internal sealing body 4 Sealing adhesive 5 Hygroscopic agent / moisture-proof agent 6 External sealing body 7 Sealing adhesive 8 Hygroscopic agent / moisture-proof agent 9 Connecting means 11 Lower electrode 12 Organic layer 13 Upper electrode 21 Circuit Element 22 Circuit pattern 23 Electromagnetic shield

フロントページの続き (72)発明者 山本 洋 東京都中央区日本橋一丁目13番1号 ティ ーディーケイ株式会社内 (72)発明者 田中 俊 東京都中央区日本橋一丁目13番1号 ティ ーディーケイ株式会社内 Fターム(参考) 3K007 AB00 AB04 AB12 AB13 AB14 BA06 BB00 BB01 BB05 BB06 CA01 CA02 CA05 CB01 DA00 DB03 EB00 FA01 GA00 Continuation of the front page (72) Inventor Hiroshi Yamamoto 1-13-1 Nihonbashi, Chuo-ku, Tokyo Inside TDK Corporation (72) Inventor Shun 1-13-1 Nihonbashi, Chuo-ku, Tokyo Inside TDK Corporation F term (reference) 3K007 AB00 AB04 AB12 AB13 AB14 BA06 BB00 BB01 BB05 BB06 CA01 CA02 CA05 CB01 DA00 DB03 EB00 FA01 GA00

Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板上に形成された一対の電極間に、少
なくとも発光機能に関与する1種以上の有機層を有する
有機EL構造体と、 前記有機EL構造体を封止する封止手段とを有し、 前記封止手段は、有機EL構造体に最も近い位置に配置
され、硬質部材により形成されている内部封止体と、こ
の内部封止体より外側に配置され、かつ少なくとも内部
封止体と基板との接合部を覆うように形成された樹脂の
外部封止体とを有する有機EL素子モジュール。
An organic EL structure having at least one or more organic layers involved in a light emitting function between a pair of electrodes formed on a substrate, and a sealing unit for sealing the organic EL structure. Wherein the sealing means is disposed at a position closest to the organic EL structure and is formed of a hard member, and an inner sealing member is disposed outside the inner sealing member, and at least the inner sealing member is formed. An organic EL element module having a resin external sealing member formed so as to cover a joint between a stationary body and a substrate.
【請求項2】 少なくとも前記外部封止体で覆われてい
る基板上のいずれかには、有機EL構造体を制御・駆動
する回路が形成されている請求項1の有機EL素子モジ
ュール。
2. The organic EL element module according to claim 1, wherein a circuit for controlling and driving the organic EL structure is formed on at least one of the substrates covered with the external sealing body.
【請求項3】 前記外部封止体の線膨張係数は、内部封
止体および基板の線膨張係数の0.1〜10倍である請
求項1または2の有機EL素子モジュール。
3. The organic EL element module according to claim 1, wherein a linear expansion coefficient of the outer sealing body is 0.1 to 10 times a linear expansion coefficient of the inner sealing body and the substrate.
【請求項4】 前記外部封止体は、熱硬化性樹脂であ
り、その熱硬化温度が、前記有機EL構造体の有機材料
のガラス転移温度のうち、最も低いガラス転移温度に2
0℃を加えた温度以下である請求項1〜3のいずれかの
有機EL素子モジュール。
4. The external sealing body is a thermosetting resin, and the thermosetting temperature is set to the lowest glass transition temperature among the glass transition temperatures of the organic materials of the organic EL structure.
The organic EL element module according to claim 1, wherein the temperature is equal to or lower than a temperature obtained by adding 0 ° C. 5.
【請求項5】 前記熱硬化性樹脂は、エポキシ系樹脂で
ある請求項4の有機EL素子モジュール。
5. The organic EL element module according to claim 4, wherein said thermosetting resin is an epoxy resin.
【請求項6】 前記外部封止体は、光硬化性樹脂であ
り、その硬化時における収縮率が10%以下である請求
項1〜3のいずれかの有機EL素子モジュール。
6. The organic EL element module according to claim 1, wherein the external sealing body is a photo-curable resin, and has a shrinkage rate of 10% or less during curing.
【請求項7】 前記光硬化性樹脂は、アクリル系または
エポキシ系樹脂である請求項6の有機EL素子モジュー
ル。
7. The organic EL element module according to claim 6, wherein said photocurable resin is an acrylic or epoxy resin.
【請求項8】 前記外部封止体は、かつ紫外線から赤外
線までのいずれかの波長の光透過率が20%以下である
請求項1〜7のいずれかの有機EL素子モジュール。
8. The organic EL element module according to claim 1, wherein the external sealing body has a light transmittance of 20% or less at any wavelength from ultraviolet to infrared.
【請求項9】 前記封止手段と基板との間には接続手段
を有し、 この接続手段は封止手段内部の回路と外部の回路とを電
気的に接続し、かつ封止手段内部の気密性を保持する請
求項1〜8のいずれかの有機EL素子モジュール。
9. A connecting means between the sealing means and the substrate, the connecting means electrically connecting a circuit inside the sealing means and an external circuit, and connecting the circuit inside the sealing means. The organic EL element module according to any one of claims 1 to 8, which maintains airtightness.
【請求項10】 前記封止手段内部には電磁シールドを
有する請求項1〜9のいずれかの有機EL素子モジュー
ル。
10. The organic EL element module according to claim 1, further comprising an electromagnetic shield inside said sealing means.
【請求項11】 全体の厚みが10mm以下である請求項
1〜10のいずれかの有機EL素子モジュール。
11. The organic EL element module according to claim 1, wherein the total thickness is 10 mm or less.
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