DE4219454C2 - Massenflußsensor - Google Patents

Massenflußsensor

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Description

Die Erfindung geht aus von einem Massenflußsensor nach der WO 89/05963. Daraus ist schon ein Massenflußsensor bekannt, bei dem eine dielektrische Membran in einem Rahmen aus einkristallinem Silizium angeordnet ist. Auf der Membran sind Heizelemente und Temperaturmeßelemente angeordnet. Weitere Temperaturmeßelemente sind auf dem Siliziumrahmen angeordnet.
Aus der EP 0 094 497 A1 ist ein Massenflußsensor mit einem Meßchip, der in einem Anströmkanal eines Gehäuses eingebaut ist, bekannt. Weiterhin weist der Meßchip einen dielektrischen Träger an einem Rahmen aus einkristallinem Silizium auf, wobei der Träger als Brücke oder als Zunge ausgebildet ist. Auf diesem Träger ist ein Heizer angeordnet, der durch Leiterbahnen kontaktiert ist.
Aus der DE 29 00 220 C2 ist ein Massenflußsensor mit einem Heißschichtwiderstand in einem Anströmkanal bekannt. Der Anströmkanal weist dabei einen sich verjüngenden Querschnitt auf, wobei der kleinste Querschnitt in Strömungsrichtung nach dem Heißschichtwiderstand angeordnet ist. Durch diese Verjüngung wird eine laminare Strömung im Bereich des Heißschichtwiderstandes erzielt.
In der US 4 829 818 wird ein Gehäuse für einen Massenflußsensor beschrieben. Dieses Gehäuse weist einen Strömungskanal auf, wobei ein Meßchip in eine Vertiefung in der Wand des Strömungskanals eingelassen wird.
Aus der DE 38 44 354 A1 ist ein Massenflußsensor mit einem Gehäuse bekannt. Das Gehäuse weist einen Anströmkanal auf, wobei ein Keramiksubstrat mit einem Meßelement in diesen Anströmkanal hereinragt. Das Keramiksubstrat ist mittels Klebstoff mit dem Gehäuse verbunden. Weiterhin sind Maßnahmen vorgesehen, eine zu starke mechanische Verformung des Keramiksubstrats zu verhindern. Durch diese Maßnahmen wird die Bruchsicherheit des Keramiksubstrats verbessert.
In der US 4 685 331 wird ein Massenflußsensor beschrieben, bei dem ein Kanal durch die Verbindung von zwei Siliziumwafern geschaffen wird. In diesem Kanal sind Brücken aus Siliziumnitrid angeordnet, auf denen Heizelemente gelegen sind.
Der erfindungsgemäße Massenflußsensor mit den Merkmalen des Hauptanspruches hat demgegenüber den Vorteil, daß ein besonders glatt begrenzter Strömungskanal erzielt wird. Durch die Anordnung der Membran und der Bondpads auf verschiedenen Seiten der Dichtlippe wird eine klare Trennung des Meßbereiches vom elektrischen Anschlußbereich erreicht. Insbesondere ermöglicht diese Trennung die Verwendung von Schaltkreisen oder anderen empfindlichen Elementen in unmittelbarer Nähe der Membran, ohne daß diese durch den Medienstrom beeinflußt werden.
Durch die in den Unteransprüchen aufgeführten Maßnahmen sind vorteilhafte Weiterbildungen und Verbesserung des im Hauptanspruch angegebenen Massenflußsensors möglich. Wenn dabei die Dichtlippe auf dem Rahmen aufliegt, so ist der Zusammenbau von Meßchip und Gehäuse besonders einfach. Die mechanische Belastung des Meßchips wird verringert, indem die Dichtlippe einen geringen Spalt zum Rahmen aufweist und dieser Spalt durch Klebstoff verschlossen ist. Durch eine Beschleunigung des Massenflusses im Anströmkanal wird die Ablagerung von Schmutzpartikeln auf dem Meßchip verringert. Weiterhin wird die Ablösung von Wirbeln, die zu einem erhöhten Rauschen führen, unterdrückt und so die Messung verbessert. Besonders einfach wird diese Beschleunigung durch einen sich in Stromrichtung verjüngenden Querschnitt des Anströmkanals erreicht. In einer besonders günstigen Ausführung liegt dabei der kleinste Querschnitt in Strömungsrichtung nach dem Meßchip, da so sichergestellt wird, daß die Luft auch oberhalb des Sensors beschleunigt wird. Durch den bündigen Einbau des Meßchips in eine Wand des Anströmkanals werden Kanten im Strömungskanal vermieden, die zu besonders starker Schmutzablagerung führen. Durch die flächige Verbindung des Rahmens wird ein guter thermischer Kontakt mit dem Gehäuse sichergestellt. Mechanische Verspannungen in der Membran 3 werden verringert, wenn dazu eine flächige Klebung des Rahmens nur auf einer Umfangsseite der Membran erfolgt. Die Anpassung der Gehäusetemperatur an die Temperatur des Medienstromes wird durch einen Kühlkörper verbessert. Zum Schutz der dielektrischen Membran gegen einen plötzlichen Druckanstieg des Medienstromes und thermisch bedingter Ausdehnung des zwischen Meßchip und Gehäuse eingeschlossenen Gases weist das Gehäuse ein Lüftungsloch auf. Um dabei eine Strömung auf der Unterseite der Membran zu vermeiden, sollte der Querschnitt des Lüftungslochs kleiner als die Länge des Lüftungslochs sein.
Ausführungsbeispiele der Erfindung sind anhand der Zeichnungen in der nachfolgenden Beschreibung näher erläutert. Es zeigen
Fig. 1a und Fig. 1b einen Meßchip im Querschnitt und in der Aufsicht,
Fig. 2 eine Aufsicht,
Fig. 3 einen Längsschnitt,
Fig. 4 einen Querschnitt durch ein Aus­ führungsbeispiel des Massenflußsensors und
Fig. 5 einen Querschnitt durch eine weitere Ausgestaltung des Massenflußsensors.
In Fig. 1a ist ein Meßchip 2 im Querschnitt und in Fig. 1b ist ein Meßchip 2 in der Aufsicht dargestellt. Mit 3 ist eine dielektrische Membran in einem Rahmen 4 aus einkristallinem Silizium bezeichnet. Auf der Membran 3 ist ein Heizer 5 und ein Temperaturfühler 6 angeordnet. Auf dem Rahmen 4 ist ein weiterer Referenztemperaturfühler 20 angeordnet. Der Heizer 5, der Temperaturfühler 6 und der Referenztemperaturfühler 20 sind durch Leiterbahnen 7 mit Bondpads 8 verbunden. Durch die Leiterbahnen 7 wird ein elektrischer Kontakt zwischen dem Heizer 5, dem Temperaturfühler 6, dem Referenztemperaturfühler 20 und der Außenwelt hergestellt. Durch Bonden von Drähten auf den Bondpads 8 kann eine elektrische Verbindung zu externen, hier nicht gezeigten Schaltkreisen, hergestellt werden. Die dielektrische Membran 3 besteht beispielsweise aus Siliziumnitrid und/oder Siliziumoxid. Diese Materialien haben ein geringes thermisches Leitvermögen und lassen sich besonders einfach auf der Oberfläche eines Silizium­ wafers erzeugen. Durch Ätzen eines auf der Oberseite mit einem di­ elektrischen Material beschichteten Siliziumwafers wird die frei­ tragende Membran 3 gebildet. Die entsprechenden Ätzmethoden sind dem Fachmann geläufig. Der Heizer 5 besteht aus einem Widerstands­ element, welches durch einen durch die Leiterbahnen 7 geschickten Stromfluß Wärme auf der Membran erzeugt. Das Widerstandselement kann beispielsweise aus einem Metall aber auch aus entsprechend dotiertem Silizium bestehen. Der Temperaturfühler 6 und der Referenz­ temperaturfühler 20 können beispielsweise aus einem Widerstands­ element bestehen, dessen Leitfähigkeit von der Temperatur abhängt. Geeignete Materialien fuhr dieses Widerstandselement sind Metalle oder entsprechend dotiertes Silizium. Fuhr den Temperaturfühler 6 kann auch ein Element verwendet werden, das den Temperaturunter­ schied zwischen der Membran und dem Rahmen über den Seebeck-Effekt nutzt.
Mit diesem Meßchip 2 kann die Größe eines Massenflusses bestimmt werden, wobei die Flußrichtung parallel zur Oberfläche des Meßchips 2 ist. Durch den Heizer 5 wird die Membran 3 auf einer Temperatur gehalten, die größer ist als die Temperatur des Massenflusses. Die vom Massenfluß von der Membran 3 abgeführte Wärme ist abhängig von der Intensität des Massenflusses. Durch Messung der Temperatur der Membran 3 kann so die Intensität des Massenflusses bestimmt werden. Die Messung der Membrantemperatur kann durch den Temperaturfühler 6 oder durch Messung des Widerstandes des Heizers 5 erfolgen. Der Referenztemperaturfühler 20 dient dazu, den Einfluß der Temperatur des vorbeiströmenden Mediums auszuschalten. Dabei wird davon ausge­ gangen, daß der Rahmen 4 auf der Temperatur des vorbeiströmenden Mediums ist. Erfahrungsgemäß ist ein solcher Meßchip sehr empfind­ lich gegen Verschmutzungen der Oberfläche, die beispielsweise durch Schmutzpartikel entstehen können.
In Fig. 2 wird ein Ausführungsbeispiel des Massenflußsensors in der Auf­ sicht gezeigt. Der Meßchip 2 ist in den Anströmkanal 9 des Gehäuses 1 eingebaut. Durch den Pfeil wird die Richtung der Strömung durch den Anströmkanal 9 angedeutet. Bei der Darstellung des Meßchips 2 wurde zur Vereinfachung auf die Darstellung des Temperaturfühlers 6 und des Referenztemperaturfühlers 20 verzichtet. Der auf der Membran 3 angeordnete Heizer 5 ist durch Leiterbahnen 7 mit den Bondpads verbunden. Durch die Bonddrähte 21 ist ein elektrischer Kontakt zu hier nicht gezeigten Schaltkreisen hergestellt. Mit 14 sind schematisch direkt auf dem Meßchip angeordnete Schaltkreise darge­ stellt. Durch diese Schaltkreise 14 kann eine Verarbeitung der Signale des Temperaturfühlers 6 und des Referenztemperaturfühlers 20 und eine Ansteuerung des Heizers 5 vorgenommen werden. Durch die monolithische Integration der Schaltkreise mit dem Meßchip wird letzterer empfindlicher, die Störsicherheit wird erhöht und die Kosten potentiell verringert. Der Querschnitt des Anströmkanals 9 verringert sich entlang der Flußrichtung in der Ebene der Aufsicht. Der geringste Querschnitt ist dabei in Flußrichtung nach dem Meßchip gelegen. Durch diese Maß­ nahme wird die Ablagerung von Schmutzpartikeln auf dem Meßchip 2 verringert. Weiterhin wird die Ablösung von Wirbeln auf der Ober­ fläche des Meßchips unterdrückt, das dadurch verringerte Rauschen verbessert die Meßbarkeit des Sensorsignals. Die Dichtlippe ist in der Aufsicht nach Fig. 2 nicht erkennbar.
In Fig. 3 wird ein Längsschnitt durch den Massenflußsensor nach Fig. 2 entlang der Linie I-I gezeigt. Der Meßchip 2 ist so in das Gehäuse 1 eingebaut, daß die Membran 3 und der Rahmen 4 bündig mit einer Wand 10 des Anströmkanals 9 sind. Der Rahmen 4 ist durch Kleb­ stoff 22 flächig mit dem Gehäuse 1 verklebt. Der Querschnitt des Anströmkanals 9 verjüngt sich auch in der Ebene des Längsschnitts und weist den geringsten Querschnitt in Strömungsrichtung nach dem Meßchip 2 auf. Weiterhin weist das Gehäuse 1 einen Kühlkörper in der Form von Kühlrippen 11 auf. Die Kühlrippen 11 sind mit ihrer Längsseite parallel zum Medienstrom (siehe Pfeil) orientiert.
Durch den bündigen Einbau des Meßchips 2 werden im Anströmkanal 9 Kanten vermieden, an denen sich erfahrungsgemäß besonders viele Schmutzpartikel ansammeln. Da Schmutzpartikel, insbesondere in der Nähe der Membran 3, die Kennlinie des Meßchips verändert, wird durch diese Maßnahme die Langzeitstabilität des Ausgangssignals des Massenflußsensors verbessert. Um den Einfluß der Temperatur des Medienstromes zu verringern, muß der Referenztemperaturfühler 20 annähernd die Temperatur des Medienstromes aufweisen. Zu diesem Zweck ist der Meßchip 2 flächig, d. h. mit einem großen Teil seiner Fläche mit dem Gehäuse verklebt. Durch diese Maßnahme wird ein guter thermischer Kontakt zwischen dem Meßchip und dem Gehäuse 1 sicherge­ stellt. Weiterhin muß der Kühlkörper 11 eine ausreichende Wärmemenge an das umgebene Medium abgegeben um die durch den Heizer 5 verursachte Erwärmung des Rahmens 4 auszugleichen. Dabei sollte auch bei einer Temperaturänderung des Mediums die Temperaturanpassung des Rahmens schnell erfolgen. Das Gehäuse 1 und der Kühlkörper 11 weisen daher eine geringe Masse auf und sind aus Materialien mit einer geringen spezifischen Wärmekapazität gefertigt. Durch eine großes Verhältnis von Oberfläche zu Volumen des Kühlkörpers, beispielsweise durch die Ausgestaltung als Kühlrippen, wird wird eine große Wärmeabgabe an das Medium und eine schnelle Anpassung an eine Änderung der Tempe­ ratur gewährleistet.
In Fig. 4 ist ein Querschnitt durch den Massenflußsensor entlang der Linie II-II von Fig. 2 gezeigt. Das Gehäuse 1 besteht aus einem oberen Teil 24 und einem unteren Teil 25. Der Meßchip 2 ist in unteren Teil 25 des Gehäuses 1 in einer Ausnehmung 26 eingebaut. Der Rahmen 4 ist durch Klebstoff 22 flächig mit dem unteren Teil 25 des Gehäuses 1 verklebt. Der Meßchip 2 weist weiterhin Schaltkreise 14 und einen Bondpad 8 auf. Durch einen Bonddraht 21 ist der Meßchip 2 mit anderen, hier nicht gezeigten, Schaltkreisen verbunden. Weiterhin weist der untere Teil des Gehäuses Kühlrippen 11 auf. Die Unterseite der Membran 3 ist durch ein Lüftungsloch 12 belüftet. Das obere Gehäuseteil 24 weist eine Dichtlippe 13 auf, die durch Kleb­ stoff 23 mit dem Meßchip 2 verbunden ist.
Durch das Lüftungsloch 12 wird ein Druckunterschied zwischen der Ober- und Unterseite der Membran 3 vermieden. Da die Membran 3 sehr dünn ist, um das thermische Leitvermögen der Membran gering zu halten, besteht bei Druckunterschieden die Gefahr, daß die Membran zerstört wird. Dabei ist es jedoch unerwünscht, daß sich in dem von Mem­ bran 3, Rahmen 4 und Gehäuseunterteil 25 gebildeten Hohlraum eine Strömung ausbildet, da es sonst zur Ablagerung von Schmutzpartikeln kommen kann. Der Querschnitt des Lüftungsloches 12 sollte daher kleiner sein als seine Länge.
Durch die Dichtlippe 13 wird die Oberseite des Meßchips 2 in Bereiche unterteilt. Im einen Bereich ist die Membran 3 im An­ strömkanal 9 gelegen. Auf der anderen Seite der Dichtlippe 13 sind die Schaltkreise 14, die Bondpads 8 und Bonddrähte 21 gelegen. Dieser Bereich ist vom Anströmkanal getrennt. Durch diese Maßnahme wird erreicht, daß die Schaltkreise 14, die Bondpads 8 und die Bonddrähte 21 vor störenden Einflüssen des Medienstromes geschützt sind. Die hermetische Trennung zwischen diesen beiden Bereichen wird durch Aufsetzen der Dichtlippe 13 auf den Rahmen 4 oder durch die Ver­ wendung einer Klebstoffschicht 23 zwischen der Dichtlippe 13 und dem Rahmen 4 erreicht.
In Fig. 5 ist eine weitere Ausführung des Massenflußsensors ge­ zeigt, bei der der Meßchip 2 durch den Klebstoff 22 nur auf einer Umfangsseite der Membran 3 mit dem unteren Gehäuseteil 25 verklebt ist, und die Aussparung 26 des unteren Gehäuseteils 25 für den Meßchip 2 etwas größer ist als der Meßchip 2. Durch diese Maßnahmen wird er­ reicht, daß sich der Meßchip 2 bei Erwärmung ausdehnen kann, ohne daß es dabei zu Verspannungen mit dem Gehäuse 1 kommt. Die aus dem oberen Gehäuseteil 24 ausgebildete Dichtlippe 13, die die Membran 3 und die Bonddrähte 21 trennt, ist elastisch und ohne Klebung auf den Meßchip 2 aufgesetzt. Die Abdichtung kann wieder durch eine Klebung verbessert werden. Bei dieser Ausführung des Massenflußsensors weist der untere Gehäuseteil 25 kein Lüftungsloch auf, da ein Druckaus­ gleich zwischen der Oberseite und der Unterseite der Membran 3 durch das von Meßchip 2 und unteren Gehäuseteil 25 gebildeten Lüftungsloch erfolgen kann.

Claims (8)

1. Massenflußsensor
  • - mit einem Meßchip (2), der eine dielektrische Membran, die in einem Rahmen (4) aus einkristallinem Silizium aufgespannt ist, aufweist, wobei auf der Membran mindestens ein Heizwiderstand (5) angeordnet ist und auf dem Rahmen (4) Bondpads (8) für die Kontaktierung des Meßchips (2) gelegen sind,
  • - mit einem Anströmkanal (9), in dessen Wand (10) der Meßchip (2) bündig eingelassen ist, und
  • - mit einer Dichtlippe (13), die auf der Oberseite einen Bereich des Rahmens (4) mit der Membran im Anströmkanal von einem anderen Bereich des Rahmens mit den Bondpads (8) außerhalb des Anströmkanals unterteilt.
2. Massenflußsensor nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Dichtlippe (13) auf dem Rahmen (4) aufliegt.
3. Massenflußsensor nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Dichtlippe (13) einen geringen Spalt zum Rahmen (4) aufweist und dieser Spalt durch Klebstoff verschlossen ist.
4. Massenflußsensor nach Anspruch 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet, daß der Meßchip (2) Schaltkreise (14) aufweist, die auf derselben Seite der Dichtlippe (13) gelegen sind wie die Bondpads (8).
5. Massenflußsensor nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß der Massenfluß durch einen sich in Strömungsrichtung verjüngenden Querschnitt des Anströmkanals (9) beschleunigt wird und daß der kleinste Querschnitt dabei in Strömungsrichtung nach dem Meßchip (2) gelegen ist.
6. Massenflußsensor nach einem der vorhergehenden Anspruche, dadurch gekennzeichnet, daß die Rückseite der Membran (3) belüftet ist.
7. Massenflußsensor nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Belüftung durch ein Lüftungsloch (12) erfolgt, wobei der Querschnitt des Lüftungslochs (12) kleiner ist als die Länge des Lüftungslochs (12).
8. Massenflußsensor nach einem der vorhandenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß der Rahmen (4) nur auf einer Umfangsseite der Membran (3) in der Wand des Anströmkanals verklebt ist.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1997027802A1 (en) * 1996-01-30 1997-08-07 Radi Medical Systems Ab Combined flow, pressure and temperature sensor
WO2010052138A1 (de) 2008-11-06 2010-05-14 Continental Automotive Gmbh Massenstromsensor und kraftfahrzeug mit dem massenstromsensor

Families Citing this family (76)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4426102C2 (de) * 1994-07-22 1997-07-10 Bosch Gmbh Robert Sensorträger für eine Vorrichtung zur Messung der Masse eines strömenden Mediums und Verfahren zum Herstellen eines Sensorträgers
JPH08219838A (ja) * 1995-02-15 1996-08-30 Hitachi Ltd 空気流量測定装置
DE19524634B4 (de) * 1995-07-06 2006-03-30 Robert Bosch Gmbh Vorrichtung zur Messung der Masse eines strömenden Mediums
US5841032A (en) * 1996-02-02 1998-11-24 The United States Of America As Represented By The Administrator National Aeronautics And Space Administration Variable and fixed frequency pulsed phase locked loop
JPH10185641A (ja) * 1996-12-27 1998-07-14 Tokyo Gas Co Ltd センサ、センサ素子支持基板及び基板体
JP3366818B2 (ja) 1997-01-16 2003-01-14 株式会社日立製作所 熱式空気流量計
JPH10221142A (ja) * 1997-02-03 1998-08-21 Omron Corp 半導体フローセンサ
JP3404251B2 (ja) * 1997-04-17 2003-05-06 三菱電機株式会社 流量検出装置
DE19743409A1 (de) * 1997-10-01 1999-04-08 Bosch Gmbh Robert Meßvorrichtung zur Messung der Masse eines strömenden Mediums
DE19744997A1 (de) 1997-10-11 1999-04-15 Bosch Gmbh Robert Vorrichtung zur Messung der Masse eines strömenden Mediums
CN1515877A (zh) * 1997-10-15 2004-07-28 三井金属矿业株式会社 流量传感器、流量计及液体排出机器的排出量控制装置
US6106486A (en) * 1997-12-22 2000-08-22 Radi Medical Systems Ab Guide wire
DE19808249A1 (de) * 1998-02-27 1999-09-02 Pierburg Ag Meßelement und Verfahren zur Herstellung
DE19808248A1 (de) * 1998-02-27 1999-09-02 Pierburg Ag Meßvorrichtung zur Messung der Masse eines strömenden Mediums
US6089103A (en) * 1998-05-06 2000-07-18 Radi Medical Systems Ab Method of flow measurements
KR100770819B1 (ko) * 1998-11-24 2007-10-26 텔레호낙티에볼라게트 엘엠 에릭슨(피유비엘) 통신 시스템에서 불연속 전송을 실행하기 위한 방법 및 시스템
JP3433124B2 (ja) 1998-12-15 2003-08-04 株式会社日立製作所 熱式空気流量センサ
JP3545637B2 (ja) * 1999-03-24 2004-07-21 三菱電機株式会社 感熱式流量センサ
JP3514666B2 (ja) * 1999-06-30 2004-03-31 株式会社日立製作所 熱式空気流量センサ
US6655207B1 (en) 2000-02-16 2003-12-02 Honeywell International Inc. Flow rate module and integrated flow restrictor
JP3712907B2 (ja) * 2000-03-06 2005-11-02 株式会社日立製作所 流量計測装置
DE10035538A1 (de) * 2000-07-21 2002-02-07 Bosch Gmbh Robert Sensor
EP1182432B1 (de) * 2000-08-23 2014-03-19 Sensirion Holding AG Flusssensor mit Gehäuse
US6591674B2 (en) * 2000-12-21 2003-07-15 Honeywell International Inc. System for sensing the motion or pressure of a fluid, the system having dimensions less than 1.5 inches, a metal lead frame with a coefficient of thermal expansion that is less than that of the body, or two rtds and a heat source
US6474154B2 (en) 2001-01-05 2002-11-05 Ngk Spark Plug Co., Ltd. Flow measurement device for measuring flow rate and flow velocity
WO2002055967A1 (de) * 2001-01-10 2002-07-18 Sensirion Ag Mikromechanischer flusssensor mit tensiler beschichtung
US7201046B2 (en) * 2001-02-21 2007-04-10 Hitachi, Ltd. Flowmeter with resistor heater
DE10111840C2 (de) 2001-03-13 2003-06-05 Bosch Gmbh Robert Verfahren zur Vermeidung von Verschmutzungen auf einem Sensorchip und Verwendung eines Zusatzheizers auf einem Sensorchip
JP3829930B2 (ja) * 2001-03-28 2006-10-04 株式会社デンソー 空気流量測定装置
JP4486289B2 (ja) 2001-03-30 2010-06-23 株式会社デンソー フローセンサ及びその製造方法
DE10118781B4 (de) 2001-04-18 2005-04-21 Robert Bosch Gmbh Verfahren zur Vermeidung von Verschmutzungen auf einem Sensorchip und Verwendung einer Potentialfläche auf einem Sensorchip
JP3709373B2 (ja) 2001-12-19 2005-10-26 株式会社日立製作所 流量計測装置
JP4106224B2 (ja) * 2002-03-14 2008-06-25 株式会社デンソー 流量測定装置
EP1396705B1 (de) * 2002-08-27 2016-12-21 Sensirion Holding AG Flussdetektor mit Durchführungen und Verfahren zu dessen Herstellung
CH696006A5 (de) * 2002-12-23 2006-11-15 Sensirion Ag Vorrichtung zur Messung des Flusses eines Gases oder einer Flüssigkeit in einem Nebenkanal.
JP4166705B2 (ja) 2004-01-13 2008-10-15 三菱電機株式会社 空気流量測定装置
US20060116602A1 (en) * 2004-12-01 2006-06-01 Alden Dana A Medical sensing device and system
JP2007024589A (ja) * 2005-07-13 2007-02-01 Hitachi Ltd 気体流量計測装置
EP1760437A1 (de) * 2005-09-06 2007-03-07 Sensirion AG Verfahren zur Herstellung von Detektionsvorrichtungen
DE102006044442A1 (de) * 2006-09-21 2008-03-27 Robert Bosch Gmbh Sensoranordnung mit einem Substrat und mit einem Gehäuse und Verfahren zur Herstellung einer Sensoranordnung
DE202007003027U1 (de) * 2007-03-01 2007-06-21 Sensirion Ag Vorrichtung zur Handhabung von Fluiden mit einem Flußsensor
DE102007057902A1 (de) * 2007-11-29 2009-06-04 Continental Automotive Gmbh Sensormodul und Verfahren zu seiner Herstellung
EP2107347B1 (de) * 2008-04-04 2016-08-31 Sensirion AG Flussdetektor mit Gehäuse
EP2175246B1 (de) * 2008-10-09 2017-07-19 Sensirion AG Verfahren zur Messung eines Parameters einer Fluidzusammensetzung mithilfe eines Flusssensors
DE102008052404B4 (de) 2008-10-21 2014-05-28 Continental Automotive Gmbh Verfahren zum Herstellen einer Massenstromsensorvorrichtung
DE102008052393B3 (de) * 2008-10-21 2010-02-25 Continental Automotive Gmbh Massenstromsensorvorrichtung
EP2204555B1 (de) * 2009-01-02 2011-08-03 Sensirion AG Ammoniakspeichersystem
JP5206429B2 (ja) * 2009-01-09 2013-06-12 株式会社デンソー 流量センサ
EP2224218B1 (de) * 2009-02-25 2018-11-28 Sensirion Automotive Solutions AG Sensor in einer geformten Verpackung und Herstellungsverfahren dafür
US8677818B2 (en) * 2009-03-10 2014-03-25 Sensortechnics GmbH Flow sensing device and packaging thereof
US8397586B2 (en) * 2010-03-22 2013-03-19 Honeywell International Inc. Flow sensor assembly with porous insert
US8113046B2 (en) 2010-03-22 2012-02-14 Honeywell International Inc. Sensor assembly with hydrophobic filter
US8656772B2 (en) 2010-03-22 2014-02-25 Honeywell International Inc. Flow sensor with pressure output signal
US8756990B2 (en) 2010-04-09 2014-06-24 Honeywell International Inc. Molded flow restrictor
DE102010015522B4 (de) * 2010-04-16 2011-09-01 Continental Automotive Gmbh Luftmassenmesser
US20110252882A1 (en) * 2010-04-19 2011-10-20 Honeywell International Inc. Robust sensor with top cap
US9003877B2 (en) 2010-06-15 2015-04-14 Honeywell International Inc. Flow sensor assembly
US8418549B2 (en) * 2011-01-31 2013-04-16 Honeywell International Inc. Flow sensor assembly with integral bypass channel
US20120001273A1 (en) * 2010-07-02 2012-01-05 Siargo Ltd. Micro-package for Micromachining Liquid Flow Sensor Chip
JP5256264B2 (ja) * 2010-09-03 2013-08-07 日立オートモティブシステムズ株式会社 熱式空気流量センサ
US8356514B2 (en) 2011-01-13 2013-01-22 Honeywell International Inc. Sensor with improved thermal stability
US8695417B2 (en) 2011-01-31 2014-04-15 Honeywell International Inc. Flow sensor with enhanced flow range capability
DE102011089897A1 (de) 2011-12-23 2013-06-27 Continental Automotive Gmbh Sensorsystem
JP5648021B2 (ja) 2012-06-29 2015-01-07 日立オートモティブシステムズ株式会社 熱式空気流量センサ
DE102012018383A1 (de) * 2012-09-18 2014-04-10 Sensus Spectrum Llc Wärmesensor
US9052217B2 (en) 2012-11-09 2015-06-09 Honeywell International Inc. Variable scale sensor
CA2899850A1 (en) 2013-02-08 2014-08-14 Provtagaren Ab Enhanced differential thermal mass flow meter assembly and methods for measuring a mass flow using said mass flow meter assembly
DE102014006037A1 (de) * 2013-04-29 2014-10-30 Elmos Semiconductor Ag MEMS Sensor für schwierige Umgebungen und Medien
US9952079B2 (en) 2015-07-15 2018-04-24 Honeywell International Inc. Flow sensor
DE102018208140B3 (de) 2018-05-24 2019-06-13 Continental Automotive Gmbh Pumpenvorrichtung und Verfahren zum Ermitteln eines Kühlmittelmassenstroms durch eine Pumpenvorrichtung einer Brennkraftmaschine
JP6950653B2 (ja) * 2018-09-06 2021-10-13 株式会社デンソー 物理量計測装置及び物理量計測装置の製造方法
US11280649B2 (en) 2019-10-21 2022-03-22 Flusso Limited Sensor assembly
GB2588397A (en) 2019-10-21 2021-04-28 Flusso Ltd Flow sensor assembly
US11959787B2 (en) * 2021-03-02 2024-04-16 Honeywell International Inc. Flow sensing device
CN114594277B (zh) * 2022-03-23 2023-04-14 北京航空航天大学 一种基于旋转热膜设备的测试方法及其应用
US11788874B1 (en) * 2023-05-08 2023-10-17 King Faisal University Self-powered, matched wheatstone bridge flow sensor

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2900220A1 (de) * 1979-01-04 1980-07-17 Bosch Gmbh Robert Vorrichtung zur messung der masse eines stroemenden mediums
EP0094497A1 (de) * 1982-03-31 1983-11-23 Honeywell Inc. Apparat zum Registrieren einer Gasströmung
US4548078A (en) * 1982-09-30 1985-10-22 Honeywell Inc. Integral flow sensor and channel assembly
US4829818A (en) * 1983-12-27 1989-05-16 Honeywell Inc. Flow sensor housing
DE3417305A1 (de) * 1984-05-10 1985-11-14 Robert Bosch Gmbh, 7000 Stuttgart Vorrichtung zur messung der masse eines stroemenden mediums
DE3604202C2 (de) * 1985-02-14 1997-01-09 Nippon Denso Co Direkt beheizte Strömungsmeßvorrichtung
JPS61194317A (ja) * 1985-02-25 1986-08-28 Nippon Soken Inc 直熱型流量センサ
US4685331A (en) * 1985-04-10 1987-08-11 Innovus Thermal mass flowmeter and controller
US4888988A (en) * 1987-12-23 1989-12-26 Siemens-Bendix Automotive Electronics L.P. Silicon based mass airflow sensor and its fabrication method
US4884443A (en) * 1987-12-23 1989-12-05 Siemens-Bendix Automotive Electronics L. P. Control and detection circuitry for mass airflow sensors
DE3844354C2 (de) * 1988-12-30 1995-11-30 Bosch Gmbh Robert Meßvorrichtung zur Messung der Masse eines strömenden Mediums
DE3922489A1 (de) * 1989-07-08 1991-01-17 Bosch Gmbh Robert Luftmessvorrichtung

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1997027802A1 (en) * 1996-01-30 1997-08-07 Radi Medical Systems Ab Combined flow, pressure and temperature sensor
WO2010052138A1 (de) 2008-11-06 2010-05-14 Continental Automotive Gmbh Massenstromsensor und kraftfahrzeug mit dem massenstromsensor
DE102008056198A1 (de) 2008-11-06 2010-05-20 Continental Automotive Gmbh Massenstromsensor und Kraftfahrzeug mit dem Massenstromsensor
DE102008056198B4 (de) * 2008-11-06 2015-02-19 Continental Automotive Gmbh Massenstromsensor und Kraftfahrzeug mit dem Massenstromsensor

Also Published As

Publication number Publication date
JP3302444B2 (ja) 2002-07-15
JPH0650783A (ja) 1994-02-25
US5404753A (en) 1995-04-11
DE4219454A1 (de) 1993-12-16

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