DE3218992C2 - - Google Patents

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DE3218992C2 DE19823218992 DE3218992A DE3218992C2 DE 3218992 C2 DE3218992 C2 DE 3218992C2 DE 19823218992 DE19823218992 DE 19823218992 DE 3218992 A DE3218992 A DE 3218992A DE 3218992 C2 DE3218992 C2 DE 3218992C2
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Description

Die Erfindung betrifft einen monolithisch integrierten Schaltkreis mit auf einem Chip integrierten Teilschaltungen, bei dem die Verknüpfung mindestens zweier Teilschaltungen nach Herstellung der Teilschaltungen änderbar ist.The invention relates to a monolithically integrated Circuit with subcircuits integrated on a chip, where the linkage of at least two Subcircuits after the subcircuits have been manufactured is changeable.

Bei der Herstellung von monolithisch integrierten Schaltungen ist bei festliegender Fertigungstechnik das elektrische Verhalten der Schaltungen durch die Strukturen der Fotomasken eindeutig festgelegt.In the manufacture of monolithically integrated Circuits is with fixed manufacturing technology the electrical behavior of the circuits by the Structures of the photo masks clearly defined.

Die Funktion der Schaltung ist nachträglich nur eingeschränkt zu beeinflussen. Eine solche Änderung der Funktion ist aber aus verschiedenen Gründen wünschenswert, so z. B. zur Funktionsverbesserung (beispielsweise zum Abgleich), zur Ausbeuteverbesserung (Verwendung von Redundanzschaltungen) und zur Verringerung der Typenvielfalt.The function of the circuit is only limited afterwards to influence. Such a change in Function is desirable for several reasons, so z. B. to improve functionality (for example for comparison), to improve the yield (use of redundancy circuits) and to reduce the Variety of types.

Als integrierte Schaltkreise, die die Möglichkeit unterschiedlicher Verknüpfung von Teilschaltungen bieten, sind die sogenannten Gate-Arrays bekannt, bei denen vorgegebene Gatterstrukturen aufweisende Teilschaltkreise durch Änderungen der sie verbindenen metallischen Leiterbahnen je nach Wunsch des Kunden miteinander verknüpft werden können. Diese Verknüpfung muß jedoch beim Halbleiterhersteller erfolgen und kann nicht vom Kunden selbst durchgeführt werden. As integrated circuits, the possibility of different Offer connection of subcircuits, the so-called gate arrays are known in which Sub-circuits having predetermined gate structures by changing the metallic connecting them Conductor tracks linked together as required by the customer can be. However, this link must at the semiconductor manufacturer and can not from Customers are carried out themselves.  

Ferner ist es bekannt zum Programmieren eines PROM′s (Programmable Read Only Memory) und zum Ersatz defekter Speicherteile in dynamischen RAM′s (Random Access Memory), d. h. zum Ersatz einer fehlerhaften Adresse durch eine redundante Adresse, das Schmelzen von Fusible Links zu verwenden. Die Anwendung entsprechender Fusible Links ist z. B. aus W. Söll u. J.-H. Kirchner, Digitale Speicher, Vogel-Verlag, Würzburg, 1978, Seiten 156 bis 159, bekannt. Fusible Links in MOS- Schaltungen benötigen aber Zusatzschaltungen und Zusatzanordnungen wie Treiber, Schutzringe, Fenster in der Passivierungsschicht und Stromzuführungen, die chipflächenaufwendig sind, und weisen ferner ein Zuverlässigkeitsrisiko auf, da beispielsweise die mit dem Wegschmelzen verbundene Verdampfung von Metall nachteilige Auswirkungen haben kann und derartige Speicher beim Hersteller nicht vollständig prüfbar sind.It is also known for programming a PROM (Programmable Read Only Memory) and to replace defective ones Memory parts in dynamic RAM’s (Random Access Memory), d. H. to replace a faulty address through a redundant address, the melting of Use fusible links. The application of appropriate Fusible links is e.g. B. from W. Söll u. J.-H. Kirchner, Digital memory, Vogel publishing house, Würzburg, 1978, Pages 156 to 159. Fusible links in MOS However, circuits require additional circuits and additional arrangements like drivers, guard rings, windows in the passivation layer and power supply lines are chip-intensive and also have a reliability risk because, for example, the one with evaporation of metal associated with melting away can have adverse effects and such memory cannot be fully tested by the manufacturer.

Eine nachträgliche Funktionsbeeinflussung einer integrierten Schaltung ist auch durch die softwaremäßige Festlegung eines Mikroprozessors, der als Programmspeicher einen EPROM (Erasable PROM)- oder EEPROM (Electrically Erasable PROM) -Technik ausgeführten Speicher aufweist, durch Beschreibung seines Programmspeichers möglich. Nachteilig sind aber in vielen Anwendungen die gegenüber Hardwareverdrahtung geringere Verarbeitungsgeschwindigkeit und die für kleine Systeme hohen Kosten eines Prozessors.A subsequent function influencing an integrated Circuit is also through the software Definition of a microprocessor that acts as a program memory an EPROM (Erasable PROM) - or EEPROM (Electrically Erasable PROM) technology executed memory has, by description of its program memory possible. However, they are disadvantageous in many applications the lower processing speed compared to hardware wiring and those high for small systems Processor costs.

Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, hier Abhilfe zu schaffen und eine monolithisch integrierte Schaltung vorzusehen, deren elektrische Funktion auch nach Produktfertigstellung noch hardwaremäßig definiert und bleibend beeinflußt werden kann. The object of the present invention is to remedy this to create and a monolithically integrated Provide circuit whose electrical function too defined in terms of hardware after product completion and can be permanently influenced.  

Diese Aufgabe wird bei einem integrierten Schaltkreis der eingangs genannten Art erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß mindestens eine EEPROM-Zelle vorgesehen ist, in Abhängigkeit von deren Programmierzustand unterschiedliche Teilschaltungen mittels einer Schaltungsanordnung miteinander verknüpft werden. Auf diese Weise gelingt es, monolithisch integrierte Schaltungen so auszuführen, daß ihre elektrische Funktion über die Hardware auch nach der Fertigstellung des Produktes noch bleibend veränderbar ist, da die Veränderung der Hardwareeigenschaften dadurch erreicht wird, daß einzelne Teilschaltungen der integrierten Schaltungen durch Verwendung von EEPROM-Zellen in der Weise miteinander verknüpft sind, daß durch Löschen oder Schreiben der EEPROM′s nachträglich Teilschaltungen zu- oder abgeschaltet werden. Diese Änderung kann beispielsweise beim Testen durchgeführt werden und entspricht einer hardwaremäßigen Programmierung von Schaltungseigenschaften bzw. -funktionen.This task is done with an integrated circuit of the type mentioned in the invention solved in that at least one EEPROM cell is provided depending on their programming status different subcircuits using a Circuit arrangement are linked together. On this way it succeeds monolithically integrated Execute circuits so that their electrical function about the hardware even after completion of the product can still be changed because the This changes the hardware properties is that individual subcircuits of the integrated Circuits by using EEPROM cells in the Are linked together by deletion or writing the EEPROM's subsequently subcircuits be switched on or off. This change can for example during testing and corresponds to a hardware programming of Circuit properties or functions.

Unter EEPROM-Zellen im Sinne der Erfindung werden alle Speicherzellen verstanden, die elektrisch programmierbar und elektrisch löschbar sind.EEPROM cells in the sense of the invention include all Understand memory cells that are electrically programmable and are electrically erasable.

Als EEPROM-Speicherzellen, die mit der integrierten Schaltung in der Weise verknüpft sind, daß ihre Programmierzustand die Arbeitsweise der Schaltung bleibend verändert, können z. B. EEPROM-Zellen vom Floating-Gate- Type verwendet werden, wie sie aus Electronics, 28. Februar 1980, Seiten 113 bis 117, bekannt sind. Die Datenerhaltung entsprechender Speicherzellen ist mit 10 oder 100 Jahren länger als die voraussichtliche Produktlebensdauer des integrierten Schaltkreises, so daß eine entsprechende Technik zur Realisierung erfindungsgemäßer Schaltungen besonders geeignet ist. As EEPROM memory cells with the integrated Circuit are linked in such a way that their programming state the operation of the circuit remains changed, z. B. EEPROM cells from floating gate Type as used in Electronics, February 28, 1980, pages 113 to 117, are known. The data retention of corresponding memory cells is at 10 or 100 years longer than the expected Product life of the integrated circuit, see above that a corresponding technique for realizing the invention Circuits is particularly suitable.  

Mit Hilfe der EEPROM-Zellen können ganz allein auf einem Chip Schaltungsteile nachträglich, d. h. nach der Herstellung der integrierten Schaltung, hinzu- oder abgeschaltet werden. Die erfindungsgemäße Ausführung einer Schaltung ist besonders einfach, wenn die integrierte Schaltung im Rahmen ihrer Funktion sowieso einen EEPROM-Speicher benötigt und zusätzliche Prozeßschritte nicht erforderlich sind. Andererseits sind auch die gegenüber standardmäßiger MOS-Technik bei EEPROM′s notwendigen zusätzlichen Prozeßschritte in vielen Anwendungsfällen wirtschaftlich vertretbar.With the help of the EEPROM cells can afterwards all alone on a chip circuit parts, d. H. after making the integrated Circuit, be switched on or off. The invention Execution of a circuit is special easy if the integrated circuit as part of their Function anyway requires an EEPROM memory and additional process steps are not required. On the other hand, they are also more standard MOS technology at EEPROM’s necessary additional process steps economical in many applications justifiable.

Herstellbar sind dann integrierte Schaltkreise, die beispielsweise beim Testen durch Programmieren der EEPROM-Zellen an spezielle Kundenwünsche oder Kundenspezifikationen angepaßt werden, etwa zur Invertierung von Signalpegeln oder zur Kodierung, wie z. B. durch Einprogrammierung von Adressen.Integrated circuits can then be produced, which for example when testing by programming the EEPROM cells to special customer requests or customer specifications be adjusted, for example for inversion of signal levels or for coding, such as. B. by Programming of addresses.

Im allgemeinen Fall werden auf dem Chip implementierte Teilschaltungen durch freie Programmierung der EEPROM- Zellen auf gewünschte Weise miteinander verknüpft, wobei im Gegensatz zu Gate-Arrays die gewünschte Verknüpfung vom Kunden selbst durchgeführt werden kann.In the general case are implemented on the chip Subcircuits through free programming of the EEPROM Cells linked to each other in the desired way, where in contrast to gate arrays, the desired link can be carried out by the customer himself.

Die erfindungsgemäß eingesetzten EEPROM-Zellen können schließlich zum Abgleich analoger Funktionen benutzt werden. Der Abgleich selbst ist einerseits digital, z. B. über das Zuschalten von Widerständen, und andererseits analog, z. B. über die kontrollierte Verschiebung der Einsatzspannung in einer EEPROM-Zelle, realisierbar. Die kontrollierte Verschiebung der Einsatzspannung von EEPROM-Speicherzellen mittels Zeitsteuerung ist in der DE-OS 28 28 855 beschrieben. The EEPROM cells used according to the invention can finally used to compare analog functions will. The comparison itself is digital on the one hand, e.g. B. on the connection of resistors, and on the other hand analog, e.g. B. on the controlled shift the threshold voltage in an EEPROM cell. The controlled shift of the threshold voltage from EEPROM memory cells by means of time control is in the DE-OS 28 28 855 described.  

Es liegt im Rahmen der Erfindung, daß als Teilschaltungen ein Speicherfeld und mindestens eine redundante, in der Anzahl der Speicherzellen einem Teilbereich des Speicherfeldes entsprechende Speicherzellenanordnung vorgesehen ist, und daß ein als EEPROM-Speicher ausgeführter Fehleradreßspeicher vorgesehen ist, in Abhängigkeit von dessen Programmierzustand der Speicherzugriff vom Speicherfeld auf die redundante Speicherzellenanordnung umschaltbar ist.It is within the scope of the invention that as subcircuits a memory field and at least one redundant, in the number of memory cells a subrange of Memory array corresponding memory cell arrangement is provided, and that one designed as an EEPROM memory Error address memory is provided depending from its programming state the memory access from the memory field to the redundant memory cell arrangement is switchable.

Ein entsprechender Schaltkreis ist vorteilhafterweise so ausgeführt, daß ein über einen Dekodierer ansteuerbares Speicherfeld vorgesehen ist, daß ein als EEPROM ausgeführter Fehleradreßspeicher vorgesehen ist, in dem die Adresse eines für sich adressierbaren Speicherbereiches des Speicherfeldes abspeicherbar ist, daß ein Adreßregister, in dem die aktuelle Speicheradresse zwischenspeicherbar ist und das mit dem Dekodierer und dem Fehleradreßspeicher verbunden ist, vorgesehen ist, daß eine redundante Speicherzellenanordnung vorgesehen ist, deren Speicherzellenanzahl einem für sich adressierbaren Speicherbereich des Speicherfeldes entspricht, daß ein Komparator vorgesehen ist, dessen erster Eingang mit dem Adreßregister und dessen zweiter Eingang mit dem Fehleradreßspeicher verbunden ist und dessen Ausgang mit der redundanten Speicherzellenanordnung verbunden ist und daß eine Sperreinrichtung vorgesehen ist, mittels derer in Abhängigkeit vom Ausgangssignal des Komparators der Zugriff auf das Speicherfeld sperrbar ist.A corresponding circuit is advantageous so designed that a controllable via a decoder Memory field is provided that a as EEPROM executed error address memory is provided in which is the address of an addressable memory area the memory field can be stored in that an address register in which the current memory address is cacheable and that with the decoder and the error address memory is connected, is provided, that a redundant memory cell arrangement is provided whose number of memory cells is addressable per se Corresponds to the memory area of the memory field, that a comparator is provided, the first input with the address register and its second input is connected to the error address memory and its Output with the redundant memory cell arrangement is connected and that a locking device is provided by means of which depending on the output signal access to the memory field can be blocked by the comparator is.

Die Erfindung wird im folgenden anhand der Figuren näher erläutert.The invention is described below with reference to the figures explained in more detail.

Es zeigtIt shows

Fig. 1 das Schaltbild einer Schaltungsanordnung die in Abhängigkeit vom programmierten Zustand einer EEPROM-Zelle zwei Teilschaltungen alternativ mit einer dritten Teilschaltung verbindet, Fig. 1 is a circuit diagram of a circuit arrangement which connects, depending on the programmed state of an EEPROM cell has two sub-circuits, alternatively, with a third sub-circuit,

Fig. 2 ein Blockschaltbild eines Ausführungsbeispiels zur Umdekodierung defekter Speicherbereiche in EEPROM′s auf redundante Speicherzellen und Fig. 2 is a block diagram of an embodiment for re-decoding defective memory areas in EEPROM's to redundant memory cells and

Fig. 3 das Schaltbild einer Anordnung nach Fig. 2. Fig. 3 is a circuit diagram of an arrangement according to FIG. 2.

In den Figuren sind gleiche Elemente mit gleichen Bezugszeichen bezeichnet.In the figures, the same elements have the same reference symbols designated.

Die Fig. 1 zeigt das Schaltbild einer Schaltungsanordnung, die in Abhängigkeit vom programmierten Zustand einer EEPROM-Zelle zwei Teilschaltungen T 2 und T 3 alternativ mit einer dritten Teilschaltung T 1 verbindet, wobei die EEPROM-Zelle mit ihren Peripherieschaltungen aus Gründen der Übersichtlichkeit nicht dargestellt ist. Die Teilschaltung T 2 ist über ein Transfergate 2 mit der dritten Teilschaltung T 1 verbunden, während die Teilschaltung T 3 über ein Transfergate 4 mit der dritten Teilschaltung T 1 verbunden ist. Der programmierte Zustand der EEPROM-Zelle, d. h. entweder eine "1" oder eine "0", liegt am Punkt 1 und damit einerseits direkt am Steuergate des Transfergates 2 und andererseits über den Inverter 3 invertiert am Steuergate des Transfergates 4 an. Somit ist am Vorliegen einer "1" am Punkt 1 das Transfergate 2 durchgeschaltet und somit die Teilschaltung T 2 durchgeschaltet und somit die Teilschaltung T 2 mit der Teilschaltung T 1 verbunden, während das Transfergate 4 sperrt. Bei Vorliegen einer "0" am Punkt 1 ist dagegen das Transfergate 2 gesperrt und das über den Inverter 3 angesteuerte Transfergate 4 offen, so daß die Teilschaltung T 3 mit der Teilschaltung T 1 verbunden ist. Mit einer entsprechenden einfachen Schaltungsanordnung sind also durch Programmieren eines EEPROM′s unterschiedliche Teilschaltungen miteinander verbindbar. Fig. 1 shows the diagram of a circuit arrangement which alternatively connects depending on the programmed state of an EEPROM cell has two sub-circuits T 2 and T 3 with a third circuit section T 1, wherein the EEPROM cell with its peripheral circuits for reasons of clarity not shown is. The sub-circuit T 2 is connected to the third sub-circuit T 1 via a transfer gate 2 , while the sub-circuit T 3 is connected to the third sub-circuit T 1 via a transfer gate 4 . The programmed state of the EEPROM cell, ie either a "1" or a "0", is at point 1 and thus on the one hand directly at the control gate of the transfer gate 2 and on the other hand inverted at the control gate of the transfer gate 4 via the inverter 3 . Thus, in the presence of a "1" at point 1, the transfer gate 2 is switched through and thus the subcircuit T 2 is switched through and thus the subcircuit T 2 is connected to the subcircuit T 1 while the transfer gate 4 is blocking. In contrast, if there is a "0" at point 1 , the transfer gate 2 is blocked and the transfer gate 4 controlled via the inverter 3 is open, so that the subcircuit T 3 is connected to the subcircuit T 1 . With a corresponding simple circuit arrangement, different subcircuits can thus be connected to one another by programming an EEPROM.

Die Fig. 2 zeigt ein Blockschaltbild eines Ausführungsbeispiels zur Umdekodierung eines defekten Speicherbereiches des Speichers S auf redundante Speicherzellen E. Das aktive Speicherfeld des z. B in EEPROM-Technik ausgeführten Speichers S ist z. B. wortweise adressierbar, wobei n Adreßbits für 2 n Speicheradressen erforderlich sind (z. B. n = 11 für einen 16 kbit-Speicher mit 8 Bit je Wort). Ein Speicherwort mit wenigstens einer defekten Speicherzelle des Speichers S soll nun durch ein redundantes, im Ersatzspeicher E abgespeichertes Speicherwort ersetzbar sein, d. h. im dargestellten Ausführungsbeispiel ist nur eine redundante Speicherzelle E vorgesehen. Zu diesem Zweck weist die Anordnung nach Fig. 2 ein Adreßregister A auf, in dem die aktuelle, zur Adressierung des Speichers S benötigte Speicheradresse zwischenspeicherbar ist. FIG. 2 shows a block diagram of an exemplary embodiment for redecoding a defective memory area of the memory S to redundant memory cells E. The active memory field of the z. B executed in EEPROM technology S is z. B. addressable by word, whereby n address bits are required for 2 n memory addresses (e.g. n = 11 for a 16 kbit memory with 8 bits per word). A memory word with at least one defective memory cell in the memory S should now be replaceable by a redundant memory word stored in the spare memory E , ie only one redundant memory cell E is provided in the exemplary embodiment shown. For this purpose, the arrangement according to FIG. 2 has an address register A in which the current memory address required for addressing the memory S can be buffered.

Das Adreßregister A ist mit dem Zeilendekodierer D des Speichers S verbunden. Weitere zum Speicherfeld S gehörende Peripherieschaltungen wie Spaltendekodierer, Ein- und Ausgabeschaltung etc. sind in der Fig. 2 aus Gründen der Übersichtlichkeit nicht dargestellt und ebenso wie der Zeilendekodierer (Wortdekoder) D in an sich bekannter Weise ausführbar (vergleiche z. B. W. Söll und J.-H. Kirchner, Digitale Speicher, Vogel-Verlag- Würzburg, 1978, Seiten 128 bis 131 und Seiten 152, 153). Der als 1- aus 2 n -Dekodierer arbeitende Zeilendekodierer D kann wie z. B. aus A. Reiß, H. Liedl, W. Spichall, Integrierte Digitalbausteine, Siemens AG, Berlin-München, 1970, Seite 235, 236 bekannt, als NOR-Dekodierer ausgeführt sein. The address register A is connected to the row decoder D of the memory S. Other peripheral circuits belonging to the memory field S, such as column decoders, input and output circuits etc., are not shown in FIG. 2 for reasons of clarity and, like the row decoder (word decoder) D, can be carried out in a manner known per se (compare, for example, BW Söll and J . -H. Kirchner, Digitale Speicher, Vogel-Verlag-Würzburg, 1978, pages 128 to 131 and pages 152, 153). The line decoder D working as a 1 out of 2 n decoder can, for. B. from A. Reiss, H. Liedl, W. Spichall, Integrated Digital Modules, Siemens AG, Berlin-Munich, 1970, page 235, 236, can be designed as a NOR decoder.

Zur Speicherung der beim Testen des Speicherfeldes S ermittelten Adreßinformation des fehlerhaften Speicherwortes des Speichers S ist ein Fehleradreßspeicher F, der EEPROM-Zellen aufweist und mit einer Ansteuerschaltung 5 verbunden ist, die in an sich bekannter Weise arbeitet und mit der Programmierspannung U pp zur Programmierung der EEPROM-Zellen verbunden ist, vorgesehen.To store the address information of the defective memory word of the memory S determined during the testing of the memory field S is a error address memory F which has EEPROM cells and is connected to a control circuit 5 which works in a manner known per se and with the programming voltage U pp for programming the EEPROM cells is connected, provided.

Der Inhalt des Adreßregisters A ist einerseits über die Leitung 6 dem Fehleradreßspeicher F und andererseits dem ersten Eingang eines Komparators K über die Leitung 7 zuführbar. Der zweite Eingang des Komparators K wird über die, vom Fehleradreßspeicher F kommende Leitung 8 beaufschlagt. Das Ausgangssignal KA des Komparators K, der als handelsüblicher Komparator in der Weise arbeitet, daß er bei Koinzidenz seiner an den Eingängen anliegenden Signale als Ausgangssignal KA eine "1" ausgangsseitig abgibt, beaufschlagt zum einen den Ersatzspeicher E und zum anderen eine Sperreinrichtung Sp. Die Sperreinrichtung Sp beaufschlagt den Zeilendekodierer D beziehungsweise das Speicherfeld S in der Weise, daß sie in Abhängigkeit des Ausgangssignals KA des Komparators K den Zugriff auf das Speicherfeld S sperrt.The contents of the address register A can be fed to the fault address memory F via the line 6 and to the first input of a comparator K via the line 7 . The second input of the comparator K is applied via the line 8 coming from the fault address memory F. The output signal KA of the comparator K , which works as a commercial comparator in such a way that it outputs a "1" on the output side as the output signal KA when its signals applied to the inputs coincide, acts on the one hand on the spare memory E and on the other hand a blocking device Sp . The blocking device Sp acts on the row decoder D or the memory field S in such a way that it blocks access to the memory field S as a function of the output signal KA of the comparator K.

Die Schaltung nach Fig. 2 arbeitet wie folgt: Jede im Adreßregister A stehende Adreßinformation wird im Komparator K mit der im Fehleradreßspeicher F beim Testen des Speicherfeldes S abgespeicherten Adresse des fehlerhaften Speicherbereiches des Speichers S verglichen. Erkennt der Komparator K bei Adreßdatengleichheit die fehlerhafte Speicherzeile, so wird über das Ausgangssignal KA des Komparators K (KA = "1") sowohl die Ersatzzeile, die den fehlerhaften Speicherbereich des Speichers S ersetzt, also der Ersatzspeicher E, angewählt, als auch das reguläre Speicherfeld S über die Sperreinrichtung Sp gesperrt. . The circuit of Figure 2 operates as follows: Each standing in the address register A address information is compared in the comparator K with the number stored in Fehleradreßspeicher F during testing of the memory array S address of the defective memory area of the memory S. If the comparator K detects the faulty memory line in the case of address data equality, the output signal KA of the comparator K (KA = "1") is used to select both the replacement line which replaces the faulty memory area of the memory S , that is to say the replacement memory E , and the regular one Storage field S locked via the locking device Sp .

Das Schaltbild einer erfindungsgemäßen, dem Blockschaltbild der Fig. 2 entsprechend arbeitenden Anordnung zeigt die Fig. 3. Das Speicherfeld S ist für 2 n Adressen ausgelegt, der Zeilendekodierer D als 1- aus 2 n -NOR-Dekodierer ausgeführt. Das Adreßregister A weist n Speicherzellen auf, wobei aus Gründen der Übersichtlichkeit nur die Speicherzelle 9 für das erste Bit A 1 und die Speicherzelle 10 für das n-te Bit dargestellt sind.The circuit diagram of the present invention, the block diagram of Fig. 2 according to operating arrangement is shown in Fig. 3. The memory array S is designed for 2 n addresses, the row decoder D designed as 1- 2 n -NOR decoder. The address register A has n memory cells, where only the memory cell 9 for the first bit A 1 and the memory cell 10 are shown for the n th bit, for reasons of clarity.

Der Komparator K ist in der Weise ausgeführt, daß für ein Bit, z. B. das erste Bit A 1 des Adreßregisters A, ein UND-Gatter 15 und zwei NOR-Gatter 13 und 14 vorgesehen sind. Das Adreßbit A 1 beaufschlagt je einen Eingang des UND-Gatters 15 und des NOR-Gatters 13, während die vom Fehleradreßspeicher F kommende Leitung 8 den zweiten Eingang des Gatters 15 und des Gatters 13 beaufschlagt. Die Ausgänge der Gatter 13 und 15 beaufschlagen das NOR-Gatter 14, dessen Ausgang mit einem Eingang des Vielfach-NOR-Gatters 16, an dessen Ausgang das Signal KA entnehmbar ist, beaufschlagt. Die weiteren Komparatorzellen sind entsprechend ausgeführt, in der Fig. 3 ist aus Gründen der Übersichtlichkeit nur noch die n-te Komparatorzelle dargestellt.The comparator K is designed in such a way that for one bit, e.g. B. the first bit A 1 of the address register A , an AND gate 15 and two NOR gates 13 and 14 are provided. The address bit A 1 acts on one input of the AND gate 15 and one of the NOR gate 13 , while the line 8 coming from the fault address memory F acts on the second input of the gate 15 and the gate 13 . The outputs of the gates 13 and 15 act on the NOR gate 14 , the output of which has an input of the multiple NOR gate 16 at the output of which the signal KA can be obtained. The other comparator cells are designed accordingly; in FIG. 3 only the nth comparator cell is shown for reasons of clarity.

Die Sperreinrichtung Sp besteht aus zwei ODER-Gattern 11 und 12, wobei je ein Eingang der Gatter 11 und 12 vom Ausgangssignal KA des Komparatos K beaufschlagt wird. Der zweite Eingang des Gaters 11 ist mit dem Adreßbit A 1 beaufschlagbar, während der zweite Eingang des Gatters 12 mit dem komplementären Adreßbit beaufschlagbar ist. Der Zeilendekodierer D wird dann eingangsseitig anstelle des Adreßbits A 1 vom dem Ausgang des Gatters 11 entnehmbaren Signal A 1′ und anstelle des komplementären Adreßbits vom dem Ausgang des Gatters 12 entnehmbaren Signal A 1′′ beaufschlagt. Die weiteren Speicherzellen des Adreßregisters A sind, wie bei Speicherzelle 10 gezeigt, über die Bits An und führende Leitungen mit dem Zeilendekodierer D verbunden.The blocking device Sp consists of two OR gates 11 and 12 , one input of the gates 11 and 12 each being acted upon by the output signal KA of the comparator K. Address bit A 1 can be applied to the second input of gate 11 , while the complementary address bit can be applied to the second input of gate 12 . The row decoder D is then applied to the input side instead of the address bit A 1 from the output of the gate 11 signal A 1 ' and instead of the complementary address bit from the output of the gate 12 signal A 1'' applied. The further memory cells of the address register A are, as shown in the memory cell 10 , connected to the row decoder D via the bits An and leading lines.

Der nicht flüchtige elektrisch umprogrammierbare Fehleradreßspeicher F weist n + 1 Speicherzellen E 1 bis E n + 1 und die dazugehörigen Ansteuerschaltungen auf. Der Fehleradreßspeicher F ist vorteilhafterweise als EEPROM-Speicher vom n-Kanal-Silikon-Gate-Typ mit Floating- Gate und Tunnelprogrammierung ausgeführt, wie er beispielsweise in der Zeitschrift Electonics, 28. Februar 1980, Seiten 113 bis 117, beschrieben ist. In den ersten n EEPROM-Zellen E 1 bis En ist die beim Testen ermittelte Adreßinformation des fehlerhaften Speicherwortes abspeicherbar. Aus Gründen der Übersichtlichkeit ist wiederum nur die erste Zelle E 1 und die n-te Zelle En dargestellt. Jede im Adreßregister A stehende Adreßinformation wird im Komparator K mit der im Fehleradreßspeicher F gespeicherten Fehleradresse verglichen. Erkennt der Komparator bei Adreßdatengleichheit die fehlerhafte Speicherzeile, so wird über das Ausgangssignal KA des Komparators K (KA = "1") der Ersatzspeicher E, in dem die fehlerhafte Speicherzeile abgespeichert ist, angewählt. Ferner werden über das Signal KA, beispielsweise wie in der Fig. 3 dargestellt, für das Adreßbit A 1 beide Eingangsleitungen A 1′ und A 1′′ des Zeilendekoders D auf "1" geschaltet. Da alle Zeilenleitungen eine "0" führen, ist auf diese Weise die Zeilenanwahl im als NOR-Dekodierer ausgeführten Dekodierer D unterbunden und somit das Speicherfeld S gesperrt, so daß die Daten aus dem Ersatzspeicher E und nicht aus der defekten Speicherzeile des Speichers S ausgelesen werden. The non-volatile, electrically reprogrammable error address memory F has n + 1 memory cells E 1 to E n + 1 and the associated control circuits. The error address memory F is advantageously designed as an EEPROM memory of the n- channel silicon gate type with a floating gate and tunnel programming, as described, for example, in the magazine Electonics, February 28, 1980, pages 113 to 117. In the first n EEPROM cells E 1 to En , the address information of the faulty memory word determined during testing can be stored. For reasons of clarity, only the first cell E 1 and the nth cell En are shown. Each address information in the address register A is compared in the comparator K with the error address stored in the error address memory F. If the comparator detects the faulty memory line in the case of address data equality, the output memory KA of the comparator K (KA = "1") is used to select the spare memory E in which the faulty memory line is stored. Furthermore, both input lines A 1 ' and A 1''of the row decoder D are switched to "1" via the signal KA , for example as shown in FIG. 3, for the address bit A 1 . Since all row lines have a "0", the row selection in the decoder D designed as a NOR decoder is prevented in this way and the memory field S is thus blocked, so that the data are read from the spare memory E and not from the defective memory row of the memory S. .

Das Löschen einer EEPROM-Floating-Gate-Zelle (z. B. E 1) wird auf bekannte Weise, wie z. B. in der oben genannten Literaturstelle "Elektronics" beschrieben, dadurch erreicht, daß Elektronen aus dem Substrat in das floatende Speichergate 20 hineintunneln. Durch das negativ aufgeladene Floatinggate 20 ist der Speichertransistor E 1 beim Auslesen gesperrt, am Ausgang 22 erscheint eine "1".The erasing of an EEPROM floating gate cell (e.g. E 1 ) is carried out in a known manner, e.g. B. in the above-mentioned literature "Electronics", achieved by tunneling electrons from the substrate into the floating memory gate 20 . Due to the negatively charged floating gate 20 , the memory transistor E 1 is blocked during reading, a "1" appears at the output 22 .

Zu Beginn der Umdekodierung wird der Fehleradreßspeicher in einen definierten "1"-Ausgangszustand gelöscht. Der Löschvorgang wird für alle n + 1 EEPROM-Zellen E 1 bis E n + 1 gleichzeitig durchgeführt. Das Tunnelfenster der Zellen befindet sich auf der Seite der Drain-Elektrode 22 des Speichertransistors. Für das Umprogrammieren, Löschen wie Schreiben, ist der Potentialunterschied zwischen dem Steuergate 21 und der Drain-Elektrode 22 des Speichertransistors entscheidend. Beim Löschen liegt die gemeinsame Gateleitung 24 aller Speicherzellen über den Transistor T 0 auf der Programmierspannung U pp , z. B. auf etwa 20 V. Mit dieser Spannung sind alle Speichertransistoren E 1 bis E n + 1 leitend und nehmen den durch die als Lastelemente wirkenden Transistoren T₁₁ bis T n + 1, die über den Transistor T 6 mit der Versorgungsspannung V DD verbunden sind, fließenden Strom auf. Die Drain-Elektrode 22 der Speicherzellen liegen, da die Source-Elektroden 23 mit Masse verbunden sind, auf 0 V und der zum Löschen erforderliche Spannungsunterschied an beiden Seiten des Tunnelfensters ist gegeben.At the beginning of the decoding, the error address memory is deleted into a defined "1" starting state. The erasing process is carried out simultaneously for all n + 1 EEPROM cells E 1 to E n + 1 . The tunnel window of the cells is on the side of the drain electrode 22 of the memory transistor. The potential difference between the control gate 21 and the drain electrode 22 of the memory transistor is decisive for reprogramming, erasing and writing. When erased, the common gate line 24 of all memory cells via the transistor T 0 is at the programming voltage U pp , for. B. to about 20 V. With this voltage, all memory transistors E 1 to E n + 1 are conductive and take the transistors T ₁₁ to T n + 1 acting as load elements, which are connected via transistor T 6 to the supply voltage V DD are flowing current. Since the source electrodes 23 are connected to ground, the drain electrode 22 of the memory cells is at 0 V and the voltage difference on both sides of the tunnel window required for erasing is given.

Zum Beschreiben der Speicherzellen E 1 bis E n + 1 in den "0"-Zustand tunneln Elektronen aus dem floatenden Gate 20 (zurück) in das Substrat. Die Speicherzellen verändern sich durch die positive Ladung am Floatinggate 20 in Richtung auf den leitenden Zustand. Während des Schreibens liegt die Gate-Leitung 24 aller Zellen über die Transistoren T 8 und T 9 auf der Spannung O V und die Speicherzellen sind aufgrund der vorhergehenden Löschung sicher gesperrt. Da nur während des Schreibens die Transistoren T 21 bis T 2 n leiten, hängt die Spannung an der Drain-Elektrode 22 der Speichertransistoren von der Information A 1 bis An im Adreßregister A ab. Ist ein Adreß-Bit im Zustand "0", so ist der zugehörige Transistor T 31 bis T 3 n gesperrt. Die Drainelektrode 22 der Speichertransistoren floatet über die Transistoren T₁₁ bis T 1n + 1 und der Transistor T 4 auf etwa 20 V hoch. Die Spannungsdifferenz durch das Tunnelfenster liegt gegeben und der Schreibvorgang der Zelle in den "0"-Zustand findet statt. Ist die an den Bitleitungen A 1 bis An anliegende Adreßinformation jedoch "1", so wird z. B. im Falle des Bits A 1 über den Transistor T 31 und den Transistor T 21 die Drainelektrode 22 der Speicherzelle E 1 auf niedrige Spannung gelegt. Eine Schreibspannung ist nicht effektiv, die Zeile bleibt gelöscht im "1"-Zustand.To write the memory cells E 1 to E n + 1 into the “0” state, electrons tunnel (back) into the substrate from the floating gate 20 . The memory cells change due to the positive charge on the floating gate 20 in the direction of the conductive state. During writing, the gate line 24 of all cells is at the voltage OV via the transistors T 8 and T 9 and the memory cells are securely blocked due to the previous erasure. Since the transistors T 21 to T 2 n conduct only during writing, the voltage at the drain electrode 22 of the memory transistors depends on the information A 1 to An in the address register A. If an address bit is in the "0" state, the associated transistor T 31 to T 3 n is blocked. The drain electrode 22 of the memory transistors floats through the transistors T ₁₁ to T 1 n + 1 and the transistor T 4 to about 20 V. The voltage difference through the tunnel window is given and the writing process of the cell to the "0" state takes place. However, if the address information present on the bit lines A 1 to An is "1", z. B. in the case of bit A 1 via transistor T 31 and transistor T 21, the drain electrode 22 of the memory cell E 1 is connected to a low voltage. A write voltage is not effective, the line remains erased in the "1" state.

Nach dem Schreiben ist also logische Übereinstimmung zwischen der Information im Adreßregister A und der Information im Fehleradreßspeicher F hergestellt, d. h. die Adresse des beim Testen als fehlerhaft festgestellten Speicherwortes des Speicherwortes S ist im Fehleradreßspeicher F abgespeichert. Immer, wenn im Verlauf der späteren Speicherbenutzung diese Adresse anliegt, wird also über den Komparator K die Umdekodierung vorgenommen und nicht die fehlerhafte Speicherzeile des Speicherfeldes S, sonders die im Ersatzspeicher E abgespeicherte Information ausgelesen.After writing, there is therefore a logical correspondence between the information in the address register A and the information in the error address memory F , ie the address of the memory word S found during testing as incorrect is stored in the error address memory F. Whenever this address is present during the later use of the memory, the re-decoding is carried out via the comparator K and not the faulty memory line of the memory field S , but in particular the information stored in the spare memory E is read out.

Der Fehleradreßspeicher F arbeitet insgesamt in drei Betriebszuständen: Löschen, Schreiben und Auslesen, wobei Löschen und Schreiben nur je ein einziges Mal vorgenommen wird. Zur Steuerung sind also wenigstens zwei Bit Steuerinformation erforderlich. Zur Vermeidung unerwünschter Fehlprogrammierung des Fehleradreßspeichers F, beispielsweise beim Einschalten des EEPROM-Speichers, wird die Programmierspannung U pp von etwa 20 V vorteilhafterweise selbst als eine Steuerinformation benutzt, die nur beim Löschen oder Schreiben im "High"-Zustand liegen darf, beim Auslesen jedoch "0" sein muß. Die hohe Spannung wird über den Transistor T 0 bzw. T 4 an die Speicherzellen E 1 bis E n + 1 herangeführt, die Enhancement-Transistoren T 5 bzw. T 6 sind gesperrt. Für U pp = 0 sind während des Auslesens dagegen die Enhancemant-Transistoren T 0 und T 4 gesperrt. Die Auslesespannung von etwa 5 V am Gate 21 der Speicherzellen wird über den Transistor T 5, der Drain-Strom dagegen über den Transistor T 6 aus der 5 Volt-Betriebsspannungsquelle V DD geliefert.The error address memory F operates in three operating states: delete, write and read out, whereby delete and write are only carried out once. At least two bits of control information are therefore required for control. In order to avoid undesired incorrect programming of the fault address memory F , for example when the EEPROM memory is switched on, the programming voltage U pp of approximately 20 V is itself advantageously used as control information which may only be in the "high" state when deleting or writing, but when reading out Must be "0". The high voltage is applied to the memory cells E 1 to E n + 1 via the transistor T 0 and T 4 , the enhancement transistors T 5 and T 6 are blocked. For U pp = 0, however, the enhancer transistors T 0 and T 4 are blocked during the readout. The readout voltage of approximately 5 V at the gate 21 of the memory cells is supplied via the transistor T 5 , the drain current, however, via the transistor T 6 from the 5 volt operating voltage source V DD .

Die zweite Steuerinformation S / (Schreiben/Löschen) entscheidet, ob gelöscht wird (S / = "0") oder geschrieben werden soll (S / = "1") und hat während des Auslesens keinen Einfluß.The second control information S / (write / delete) decides whether to delete (S / = "0") or to write (S / = "1") and has no influence during the readout.

Wird die Umkodierung der fehlerhaften Speicheradresse während der Scheibenmessung, d. h. zu einem Zeitpunkt, zu dem die einzelnen Chips, auf denen eine Anordnung nach Fig. 3 integriert ist, noch nicht aus dem Scheibenverband getrennt sind, durchgeführt, so wird die Programmierspannung U pp zweckmäßigerweise über einen eigenen Anschlußkontaktflecken (Pad) P zugeführt, der bei der späteren Chipmontage nicht kontaktiert (gebondet) wird. Damit ist eine nachträgliche Fehlprogrammierung ausgeschlossen. Die Spannung U pp bleibt dann über den Depletion-Transistor T 7 immer auf 0 V. Da der Zustand der Leitung S / für U pp gleich 0 V ohne Einfluß ist, kann diese Leitung ohne Risiko einer Fehlfunktion mit der Steuerung des aktiven EEPROM-Betriebes (Speicherfeld S) verknüpft werden. If the recoding of the defective memory address is carried out during the slice measurement, ie at a point in time at which the individual chips on which an arrangement according to FIG. 3 is integrated have not yet been separated from the slice assembly, the programming voltage U pp is expediently exceeded its own connection pad (pad) P which is not contacted (bonded) during the later chip assembly. Subsequent incorrect programming is therefore excluded. The voltage U pp then always remains at 0 V via the depletion transistor T 7. Since the state of the line S / for U pp is 0 V without influence, this line can operate without risk of malfunction with the control of the active EEPROM operation (Storage field S) .

Die überzählige Speicherzelle E n + 1 des Fehleradreßspeichers F, deren Drainelektrode ebenfalls einen Eingang des Vielfach-NOR-Gatters 16 des Komparators K beaufschlagt, dient zur Sperrung des Ausgangs des Komparators K, wenn das redundante Speicherwort des Ersatzspeichers E nicht verwendet wird (keine fehlerhafte Speicherzeile im Speicherfeld S). Das Löschen des Fehlerspeichers F in den "1"-Zustand erfolgt gleich zu Beginn der Scheibenmessung und der Komparator K wird gesperrt, er bleibt dann gesperrt, wenn wegen Fehlerfreiheit des regulären Speicherfeldes S ein Schreibvorgang nicht erfolgt.The surplus memory cell E n + 1 of the fault address memory F , the drain electrode of which also acts on an input of the multiple NOR gate 16 of the comparator K , serves to block the output of the comparator K when the redundant memory word of the spare memory E is not used (no faulty Memory line in memory field S) . The erasing of the error memory F in the "1" state takes place right at the start of the slice measurement and the comparator K is locked, it remains locked if a write operation does not take place because the regular memory field S is free from errors.

Die Ansteuereinrichtung für den Fehleradreßspeicher F muß nicht mit Speicherfeld S und Fehleradreßspeicher F auf einem Chip integriert werden, sie kann auch extern vorgesehen sein und bei der Scheibenmessung zur Ansteuerung verwendet werden.The control device for the fault address memory F does not have to be integrated with the memory field S and the fault address memory F on a chip; it can also be provided externally and used for control purposes in the disk measurement.

Claims (3)

1. Monolithisch integrierter Schaltkreis mit auf einem Chip integrierten Teilschaltungen, bei dem die Verknüpfung mindestens zweier Teilschaltungen nach Herstellung der Teilschaltungen änderbar ist, dadurch gekennzeichnet, daß mindestens eine EEPROM-Zelle (E 1) vorgesehen ist, in Abhängigkeit von deren Programmierzustand unterschiedliche Teilschaltungen (T 2, T 3) mittels einer Schaltungsanordnung (2, 3, 4) miteinander verknüpft werden.1. Monolithically integrated circuit with subcircuits integrated on a chip, in which the linkage of at least two subcircuits can be changed after the subcircuits have been produced, characterized in that at least one EEPROM cell (E 1 ) is provided, depending on its programming state, different subcircuits ( T 2 , T 3 ) are linked to one another by means of a circuit arrangement ( 2, 3, 4 ). 2. Schaltkreis nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß als Teilschaltungen (T 1, T 2, T 3) ein Speicherfeld (S) und mindestens eine redundante, in der Anzahl der Speicherzellen einem Teilbereich des Speicherfeldes (S) entsprechende Speicherzellenanordnung (E) vorgesehen ist, und daß ein als EEPROM-Speicher ausgeführter Fehleradreßspeicher (F) vorgesehen ist, in Abhängigkeit von dessen Programmierzustand der Speicherzugriff vom Speicherfeld (S) auf die redundante Speicherzellenanordnung (E) umgeschaltet wird.2. Circuit according to claim 1, characterized in that as subcircuits (T 1 , T 2 , T 3 ) a memory field (S) and at least one redundant memory cell arrangement (E) corresponding to a number of memory cells (S) in the number of memory cells is provided, and that an error address memory (F) designed as an EEPROM memory is provided, depending on its programming state, the memory access is switched from the memory field (S) to the redundant memory cell arrangement (E) . 3. Schaltkreis nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß ein über einen Dekodierer (D) ansteuerbares Speicherfeld (S) vorgesehen ist, daß ein als EEPROM ausgeführter Fehleradreßspeicher (F) vorgesehen ist, in dem die Adresse eines für sich adressierbaren Speicherbereiches des Speicherfeldes (S) abspeicherbar ist,
Daß ein Adreßregister (A), in dem die aktuelle Speicheradresse zwischenspeicherbar ist und das mit dem Dekodierer (D) und dem Fehleradreßspeicher (F) verbunden ist, vorgesehen ist,
daß eine redundante Speicherzellenanordnung (E) vorgesehen ist, deren Speicherzellenanzahl einem für sich adressierbaren Speicherbereich des Speicherfeldes (S) entspricht,
daß ein Komparator (K) vorgesehen ist, dessen erster Eingang mit dem Adreßregister (A) und dessen zweiter Eingang mit dem Fehleradreßspeicher (F) verbunden ist und dessen Ausgang (KA) mit der redundanten Speicherzellenanordnung (E) verbunden ist und
daß eine Sperreinrichtung (Sp) vorgesehen ist, mittels derer in Abhängigkeit vom Ausgangssignal (KA) des Komparators (K) der Zugriff auf das Speicherfeld (S) gesperrt wird.
3. A circuit according to claim 1 or 2, characterized in that a controllable via a decoder (D) memory field (S) is provided, that an error address memory (F) designed as an EEPROM is provided, in which the address of an addressable memory area of the Storage field (S) can be stored,
That an address register (A) , in which the current memory address can be buffered and which is connected to the decoder (D) and the error address memory (F) , is provided,
that a redundant memory cell arrangement (E) is provided, the number of memory cells of which corresponds to an addressable memory area of the memory field (S) ,
that a comparator (K) is provided, the first input of which is connected to the address register (A) and the second input of which is connected to the fault address memory (F) and whose output (KA) is connected to the redundant memory cell arrangement (E) and
that a blocking device (Sp) is provided, by means of which access to the memory field (S) is blocked as a function of the output signal (KA) of the comparator (K) .
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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DE19844944C1 (en) * 1998-09-30 2000-02-10 Siemens Ag Integrated circuit with configuration group
DE10126567A1 (en) * 2001-05-31 2002-12-05 Infineon Technologies Ag Integrated circuit used in memory circuits in silicon technology

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2605687B2 (en) * 1986-04-17 1997-04-30 三菱電機株式会社 Semiconductor device
JPH01280923A (en) * 1988-05-07 1989-11-13 Mitsubishi Electric Corp Semiconductor integrated circuit device

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19844944C1 (en) * 1998-09-30 2000-02-10 Siemens Ag Integrated circuit with configuration group
US6160732A (en) * 1998-09-30 2000-12-12 Siemens Aktiengesellschaft Integrated circuit with a configuration assembly
DE10126567A1 (en) * 2001-05-31 2002-12-05 Infineon Technologies Ag Integrated circuit used in memory circuits in silicon technology
DE10126567B4 (en) * 2001-05-31 2006-01-05 Infineon Technologies Ag Integrated circuit

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