DE3123752C2 - - Google Patents
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- DE3123752C2 DE3123752C2 DE3123752A DE3123752A DE3123752C2 DE 3123752 C2 DE3123752 C2 DE 3123752C2 DE 3123752 A DE3123752 A DE 3123752A DE 3123752 A DE3123752 A DE 3123752A DE 3123752 C2 DE3123752 C2 DE 3123752C2
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- sulfonic acid
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/022—Quinonediazides
- G03F7/0226—Quinonediazides characterised by the non-macromolecular additives
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- Materials For Photolithography (AREA)
Description
Die Erfindung betrifft ein lichtempfindliches Kopiermaterial
mit einer 1,2-Naphthochinondiazidverbindung als
lichtempfindlichem Bestandteil.
Es ist bekannt, o-Chinondiazidverbindungen als lichtempfindliche
Komponenten von positiv arbeitenden lichtempfindlichen
Materialien zu verwenden. Solche Materialien
enthalten im allgemeinen nicht nur eine o-Chinondiazidverbindung,
sondern auch ein alkalilösliches Harz, z. B.
ein Phenol-Formaldehydharz, und vorzugsweise weitere Zusätze,
z. B. Farbstoffe und Weichmacher.
Diese Harze und Zusätze neigen jedoch dazu, mit dem
Diazid um die bei der Belichtung einwirkende ultraviolette
Strahlung zu konkurrieren und wesentliche Mengen
dieser Strahlung zu absorbieren. Das Resultat ist
ein Gemisch mit insgesamt reduzierter Lichtempfindlichkeit.
Aus der DE-OS 26 57 922 (= US-PS 41 15 128) ist es bekannt,
derartigen Gemischen zur Steigerung der Lichtempfindlichkeit
ein cyclisches Säureanhydrid, vorzugsweise
Phthalsäureanhydrid, zuzusetzen.
In der DE-AS 14 47 977 werden lichtempfindliche Gemische
beschrieben, die eine o-Chinondiazidverbindung und ein
Phenolharz enthalten und nach dem Erwärmen eine Schicht
bilden, die mit einem gesättigten Halogenchlorwasserstoff,
einer Diazoverbindung, einem Eisenchlorid oder
einem Alkalibichromat sensibilisiert wird.
Die mit den lichtempfindlichen Verbindungen des Standes
der Technik erreichte Wirkung ist zwar schon beträchtlich,
doch besteht noch immer ein Bedürfnis, die Lichtempfindlichkeit
weiter zu steigern.
Aufgabe der Erfindung war es daher, ein lichtempfindliches
Gemisch bereitzustellen, dessen Lichtempfindlichkeit
im Vergleich zu Gemischen des Standes der Technik
weiter erhöht ist.
Gelöst wird die Aufgabe durch ein lichtempfindliches
Gemisch, enthaltend ein 1,2-Naphthochinondiazid, ein
wasserunlösliches, in wäßrig-alkalischen Lösungen lösliches
Bindemittel und ein Phthalsäureanhydrid, das dadurch
gekennzeichnet ist, daß es eine aromatische Sulfonsäure
enthält.
Erfindungsgemäß wird ferner ein lichtempfindliches
Material, z. B. eine Druckplatte, ein Fotoresistmaterial
oder eine Farbprüffolie, vorgeschlagen, das aus einem
Träger und einer auf mindestens einer Seite des Trägers
aufgebrachten Schicht aus dem oben genannten lichtempfindlichen
Gemisch besteht.
Als aromatische Sulfonsäuren werden bevorzugt substituierte
oder unsubstituierte Benzolsulfonsäuren verwendet.
Als Substituenten kommen insbesondere Alkylgruppen, Halogenatome
und Alkoxygruppen in Betracht. Toluolsulfonsäuren,
vor allem p-Toluolsulfonsäure, werden besonders
bevorzugt.
Die erfindungsgemäß verwendete 1,2-Naphthochinondiazidverbindung
kann aus einer großen Zahl von Verbindungen
verschiedenartiger Strukturen mit mindestens einer 1,2-
Naphthochinondiazidgruppe ausgewählt werden. Geeignete
1,2-Naphthochinondiazidverbindungen sind in "Light-
Sensitive Systems" von J. Kosar, Verlag John Wiley &
Sons, Inc., Seiten 339-362, beschrieben. Bevorzugt werden
insbesondere Ester aromatischer Polyhydroxyverbindungen
mit 1,2-Naphthochinondiazidsulfonsäuren. Als
Naphthochinondiazidsulfonsäuren werden die 1,2-Naphthochinon-
2-diazid-5-sulfonsäure und -4-sulfonsäure, insbesondere
die -5-sulfonsäure, bevorzugt.
Beispiele solcher aromatischer 1,2-Napthochinondiazidsulfonsäureester
sind:
der Naphthochinon-(1,2)-diazid-(2)-5-sulfonsäureester des 2,2′-Dihydroxy-diphenyls, der Naphthochinon-(1,2)-diazid- (2)-5-sulfonsäureester des 2,3,4-Trihydroxybenzophenons, der Naphthochinon-(1,2)-diazid-(2)-5-sulfonsäureester des 2,7-Dihydroxy-naphthalins und der Ester aus einem Phenol- Formaldehydharz und Naphthochinon-(1,2)-diazid-(2)-5-sulfonsäure. Der in der US-PS 36 35 709 beschriebene Naphthochinon-(1,2)-diazid-(2)-5-sulfonsäureester der durch Polykondensation von Aceton und Pyroglallol erhaltenen Polyhydroxyverbindung und die in der US-PS 30 46 118 beschriebenen Chinondiazide können mit Vorteil verwendet werden.
der Naphthochinon-(1,2)-diazid-(2)-5-sulfonsäureester des 2,2′-Dihydroxy-diphenyls, der Naphthochinon-(1,2)-diazid- (2)-5-sulfonsäureester des 2,3,4-Trihydroxybenzophenons, der Naphthochinon-(1,2)-diazid-(2)-5-sulfonsäureester des 2,7-Dihydroxy-naphthalins und der Ester aus einem Phenol- Formaldehydharz und Naphthochinon-(1,2)-diazid-(2)-5-sulfonsäure. Der in der US-PS 36 35 709 beschriebene Naphthochinon-(1,2)-diazid-(2)-5-sulfonsäureester der durch Polykondensation von Aceton und Pyroglallol erhaltenen Polyhydroxyverbindung und die in der US-PS 30 46 118 beschriebenen Chinondiazide können mit Vorteil verwendet werden.
Das erfindungsgemäße Gemisch enthält ferner ein alkalilösliches
Harz, z. B. ein Phenolharz, Kresolharz, ein
Mischpolymerisat aus Styrol und Maleinsäureanhydrid oder
Schellack.
Falls gewünscht, können dem Gemisch verschiedene organische
oder anorganische Zusätze in geeigneter Menge
zugesetzt werden. Zum Anfärben der daraus hergestellten
Schicht können Farbstoffe, wie Kristallviolett (C.I.
42 555) und Ölblau (C.I. 77 450) oder Pigmente, wie
Phthalocyaninblau (C.I. 74 160), zugesetzt und zur Verbesserung
der mechanischen Festigkeit der Schicht Füllstoffe
oder Weichmacher, z. B. Titandioxid, Dimethylphthalat
und Tone, einverleibt werden.
Zur praktischen Anwendung wird das erfindungsgemäße
Gemisch in einem geeigneten Lösungsmittel gelöst und dann
auf einen Schichtträger aufgetragen. Geeignete Lösungsmittel
sind Ethylenglykolmonoalkylether, z. B. Ethylenglykolmonomethylether
und Ethylenglykolmonoethylether, sowie
deren Essigsäureester. Ketone, wie Methylethylketon,
Methylisobutylketon und Cyclohexanon; Butylacetat,
Dioxan, Pyridin und Dimethylformamid.
Geeignete Träger sind Metallplatten, z. B. Platten aus
Aluminium oder Aluminiumlegierungen, Zink und Kupfer,
sowie Nitrocellulose-, Cellulosediacetat-, Cellulosetriacetat-,
Cellulosebutyrat-, Celluloseacetatbutyrat-,
Polyethylenterephthalat-, Polystyrol-, Polycarbonat-,
Polyethylen und Polypropylenfolien, Papier, mit Polyethylen
oder Polystyrol kaschierte Papiere und Glasplatten.
Insbesondere dort, wo das erfindungsgemäße
lichtempfindliche Kopiermaterial als lichtempfindliche
Flachdruckplatte Verwendung findet, soll die Oberfläche
des Trägers hydrophil sein. In diesem Fall werden am
besten Aluminiumplatten als Träger genommen, die vorzugsweise
durch Aufrauhen oder anodische Oxydation oberflächenbehandelt
worden sind. Geeignet sind weiterhin
Aluminiumplatten, die nach dem Sandstrahlen mit einer
wäßrigen Lösung aus Natriumsilikat behandelt worden
sind, wie es in der US-PS 27 14 066 beschrieben ist,
sowie besonders Aluminiumplatten, die zunächst einer
anodischen Oxydationsbehandlung und dann einer Behandlung
mit einer wäßrigen Lösung aus einem Alkalisilikat
unterzogen worden sind, wie es in der US-PS 31 81 461
beschrieben ist. Die erwähnte anodische Oxydationsbehandlung
wird zum Beispiel so ausgeführt, daß in einem
Elektrolyten aus einer Lösung einer anorganischen Säure,
wie Phosphorsäure, Chromsäure, Schwefelsäure oder Borsäure,
oder einer organischen Säure, wie Oxalsäure oder
Sulfaminsäure, elektrischer Strom durch eine als Anode
geschaltete Aluminiumplatte geleitet wird.
Das lichtempfindliche Kopiermaterial nach dieser Erfindung
wird mit aktinischer Strahlung, z. B. der Strahlung
einer Quecksilberlampe, Xenonlampe oder Kohlenbogenlampe,
belichtet und anschließend entwickelt. Die Belichtungszeit
und Belichtungsintensität können variieren, eine
geeignete Belichtungszeit liegt im allgemeinen im Bereich
von etwa 5 Sekunden bis 5 Minuten, vorzugsweise von etwa
5 Sekunden bis 1 Minute.
Geeignete Entwickler sind alkalische Lösungen, wie sie
als Entwickler für eine lichtempfindliche Schicht aus
einer o-Chinondiazidverbindung bekannt sind, z. B.
wäßrige Lösungen anorganischer Alkalien, wie Natriumhydroxid,
Kaliumhydroxid, Natriumsilikat, Kaliumsilikat,
Natriumtriphosphat, Kaliumtriphosphat, Natriumcarbonat
oder Kaliumcarbonat, oder von organischen Basen, wie
Monoethanolamin, Diethanolamin, Propanolamin und
Morpholin. Eine geeignete Konzentration der Entwicklerlösung
an alkalischer Verbindung kann etwa 1 bis 20
Gew.-%, vorzugsweise 2 bis 15 Gew.-%, betragen. Gegebenenfalls
können diesen wäßrigen Lösungen organische
Lösemittel und oberflächenaktive Mittel zugesetzt werden.
Falls durch die Verwendung mehrlagiger organischer Beschichtungen
die Benetzung und das Eindringen des Entwicklers
geringer sind als Benetzung und Eindringen bei
einer nur aus o-Chinondiazid bestehenden lichtempfindlichen
Schicht, ist es wünschenswert, ein organisches
Lösemittel, z. B. n-Propylalkohol, oder ein Netzmittel,
wie Natriumlaurylsulfat, in entsprechender Menge
zuzusetzen.
Die Lichtempfindlichkeit des erfindungsgemäßen Gemisches
wird durch den Zusatz einer aromatischen Sulfonsäure,
insbesondere von p-Toluolsulfonsäure, gesteigert. Diese
Bestandteile verbessern die Verträglichkeit des Phthalsäureanhydrids
mit der Beschichtungsmasse und tragen dazu
bei, nach dem Entwickeln verbleibende Rückstände oder
Trübungen zu beseitigen, die sich ergeben, wenn höhere
Konzentrationen an Phthalsäureanhydrid ohne Zusatz von
Sulfonsäure verwendet werden.
Bevorzugte Anteile der Komponenten in dem erfindungsgemäßen
Gemisch, in Gewichtsprozent der trockenen
Bestandteile des Gemischs, sind wie folgt:
Naphthochinondiazid|30-50% | |
Phthalsäureanhydrid | 6-50% |
alkalilösliche Harze | 0,5-10% |
Farbstoffe | 0-40% |
aromatische Sulfonsäure | 0,5-10% |
Wenn dieses Gemisch zur Herstellung eines fotografischen
Materials auf einen Träger aufgetragen wird, wird es vorzugsweise
in einem Trockenschichtgewicht zwischen 50 mg
und 1 g pro Quadratmeter Trägermaterial aufgebracht.
Besonders bevorzugt liegt die Auftragsmenge zwischen 300
und 600 mg/m².
Mit den folgenden Beispielen soll die Erfindung näher erläutert
werden. Alle Angaben über Teile, Prozente,
Verhältniswerte usw. sind auf das Gewicht bezogen.
Die folgenden Bestandteile wurden in ein Lösemittelgemisch
aus Ethylenglykolmonomethylether und Methylethylketon
gegeben:
Ester aus 1 Mol 2,3,4-Trihydroxybenzophenon und 3 Mol Naphthochinon-(1,2)-diazid-(2)-5-sulfonsäure|1359,4 g | |
Kresol-Formaldehyd-Novolak | 25,0 g |
Orasolgelb 3 GLG (C.I. Solvent Yellow 48) | 79,8 g |
Orasolschwarz RL (C.I. Solvent Black 29) | 636,0 g |
Mit diesem Gemisch wurde eine transparente Polyesterfolie
beschichtet, und die Lösemittel wurden anschließend durch
Verdampfen entfernt, so daß auf der Folie eine Schicht
von 400 mg/m² entstand. Das so hergestellte fotografische
Material wurde dann in einem Berkey-Ascor-Belichtungsgerät
durch einen 21-stufigen Stauffer-Belichtungskeil in
bekannter Weise belichtet. Danach wurde das belichtete
Material in 2%iger Trinatriumphosphatlösung entwickelt.
Für eine zufriedenstellende Belichtung des Stufenkeils
wurden 40 Berkey-Ascor-Belichtungseinheiten benötigt.
Dieses Ziel war erreicht, wenn nach dem Entwickeln die
Stufe 2 des Keils frei war und die Stufe 3 einen Grauton
zeigte.
Das Verfahren von Beispiel 1 wurde wiederholt, mit der
Ausnahme, daß die zugegebenen Bestandteile durch 800 g
Phthalsäureanhydrid ergänzt wurden. Es wurde festgestellt,
daß nur 20 Berkey-Ascor-Belichtungseinheiten
erforderlich waren, um den Stufenkeil so zu belichten,
daß die Stufe 2 frei und die Stufe 3 grau war.
Zur Herstellung der folgenden drei Gemische wurden in
einem Lösemittelgemisch aus Ethylenglykolmonomethylether
und Methylethylketon die folgenden Bestandteile gelöst
(alle Angaben in Gewichtsteilen):
Diese Gemische wurden auf transparente Polyesterfolien
aufgetragen und die Lösemittel durch Verdampfen entfernt,
so daß sich Schichten von 400 mg/m² auf den Folien ergaben.
Die so hergestellten fotografischen Materialien
wurden dann in einem Berkey-Ascor-Belichtungsgerät durch
einen 21stufigen Stauffer-Belichtungsteil in bekannter
Weise belichtet. Darauf folgte die Entwicklung des belichteten
Materials in verdünnter Alkalilösung. Anschließend
wurde jeweils die Anzahl der für eine
zufriedenstellende Belichtung des Stufenkeils erforderlichen
Berkey-Ascor-Belichtungseinheiten ermittelt.
Eine zufriedenstellende Belichtung war erreicht, wenn
nach dem Entwickeln die Stufe 2 auf dem Keil frei war und
die Stufe 3 einen Grauton zeigte. Es wurde festgestellt,
daß zur Herstellung eines ausreichend belichteten
Materials Probe B eine um 50% geringere Belichtung
erforderte als Vergleichsprobe A, daß jedoch Probe C
bereits mit 66,7% weniger Belichtung als Vergleichsprobe
A ein gut belichtetes Material lieferte.
Claims (6)
1. Lichtempfindliches Gemisch mit einem 1,2-Naphthochinondiazid,
einem wasserunlöslichen, in wäßrig-alkalischen
Lösungen löslichen Bindemittel und Phthalsäureanhydrid,
dadurch gekennzeichnet, daß es eine aromatische
Sulfonsäure enthält.
2. Lichtempfindliches Gemisch nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß die aromatische Sulfonsäure eine substituierte
Benzolsulfonsäure ist.
3. Lichtempfindliches Gemisch nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß das Bindemittel ein Phenolharz ist.
4. Lichtempfindliches Gemisch nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß es ferner einen Farbstoff enthält.
5. Lichtempfindliches Gemisch nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß es 30-50 Gew.-% Napthochinondiazid,
0,5-10 Gew.-% Bindemittel, 6-50 Gew.-% Phthalsäureanhydrid
und 0,5-10 Gew.-% aromatische Sulfonsäure
enthält.
6. Lichtempfindliches Material aus einem Schichtträger
und einer lichtempfindlichen Schicht, gekennzeichnet
durch eine lichtempfindliche Schicht nach einem der
Ansprüche 1 bis 5.
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