WO2025239199A1 - 吸収層付透明基材およびその製造方法、並びに車両用透明部品 - Google Patents

吸収層付透明基材およびその製造方法、並びに車両用透明部品

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WO2025239199A1
WO2025239199A1 PCT/JP2025/016290 JP2025016290W WO2025239199A1 WO 2025239199 A1 WO2025239199 A1 WO 2025239199A1 JP 2025016290 W JP2025016290 W JP 2025016290W WO 2025239199 A1 WO2025239199 A1 WO 2025239199A1
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transparent substrate
layer
absorbing layer
main surface
absorbent layer
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PCT/JP2025/016290
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English (en)
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洋平 橋本
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AGC Inc
Original Assignee
Asahi Glass Co Ltd
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Publication date
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    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11—Anti-reflection coatings
    • G02B1/113—Anti-reflection coatings using inorganic layer materials only
    • G02B1/115—Multilayers
    • G—PHYSICS
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    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/18—Coatings for keeping optical surfaces clean, e.g. hydrophobic or photo-catalytic films
    • G—PHYSICS
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    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G02B5/22—Absorbing filters

Definitions

  • the present invention relates to a transparent substrate with an absorbent layer, a method for manufacturing the same, and a transparent vehicle part.
  • image display devices have increasingly been used in various devices such as navigation systems and speedometers installed in vehicles.
  • the cover materials for such image display devices are required to have characteristics that reduce the reflection of external light and prevent a decrease in image visibility due to external light being reflected on the screen.
  • One known method for preventing such a decrease in image visibility is to have visible light absorbed in a layer separate from the transparent substrate of the cover material.
  • Patent Document 1 describes an invention related to a light-shielding plate comprising a glass plate, a visible light/infrared light opaque film, an infrared light transmissive film, and a light-absorbing film.
  • a transparent substrate having a first main surface and a second main surface; an absorbing layer disposed in contact with the first main surface of the transparent substrate; and a printing layer disposed on the second main surface of the transparent substrate; a transparent substrate with an absorbing layer, wherein the absorbing layer comprises a matrix material containing a polycondensate of a hydrolyzable silane compound and color pigment particles dispersed in the matrix material, and the outermost surface on the absorbing layer side has a pencil hardness of 4H or more, a luminous transmittance of 10 to 85%, and a surface resistivity of 10 11 to 10 15 ⁇ / ⁇ .
  • a transparent part for a vehicle comprising: a transparent substrate having a first main surface and a second main surface; and an absorbing layer disposed in contact with the first main surface of the transparent substrate, wherein the second main surface of the transparent substrate is attached to the viewing side of an image display device;
  • the absorbing layer comprises a matrix material containing a polycondensate of a hydrolyzable silane compound and color pigment particles dispersed in the matrix material;
  • the outermost surface on the absorbing layer side has a pencil hardness of 4H or more, a luminous transmittance of 10 to 85%, and a surface resistivity of 10 11 to 10 15 ⁇ / ⁇ .
  • a method for producing a transparent substrate with an absorbing layer according to any one of [1] to [10], A method for manufacturing a transparent substrate with an absorbent layer, comprising: an absorbent layer forming step of forming the absorbent layer on the first main surface of the transparent substrate; and a printing step of forming the printed layer on the second main surface of the transparent substrate.
  • the absorbing layer is formed by forming a precursor layer on the first main surface of the transparent substrate using a composition for forming an absorbing layer, the composition including a precursor of a matrix material, the color pigment particles, and a liquid medium, and curing the obtained precursor layer.
  • the precursor layer is formed by an electrostatic coating method.
  • the present invention provides a transparent substrate with an absorbing layer that has an absorbing layer that absorbs visible light and has excellent insulation properties and scratch resistance.
  • the present invention also provides a transparent vehicle component that includes a transparent substrate with an absorbing layer.
  • the present invention also provides a transparent vehicle component that includes a transparent substrate with an absorbing layer that provides excellent in-plane display image uniformity and aesthetic appearance.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing an example of the configuration of a transparent substrate with an absorbing layer.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing another example of the configuration of the transparent substrate with an absorbing layer.
  • FIG. 3 is a cross-sectional view schematically showing another example of the configuration of the transparent substrate with an absorbing layer.
  • FIG. 4 is a cross-sectional view schematically showing another example of the transparent substrate included in the transparent substrate with an absorbing layer.
  • FIG. 5 is a cross-sectional view that schematically shows an example of the configuration of a transparent part for a vehicle.
  • each component may be a single substance corresponding to the component, or two or more substances may be used in combination.
  • the content of the component refers to the total content of the substances used in combination, unless otherwise specified.
  • a combination of two or more preferred aspects is a more preferred aspect.
  • visible light means light in the wavelength range of 400 to 700 nm.
  • near-infrared light means light in the wavelength range of 900 to 1000 nm.
  • transparent means that the average transmittance of visible light is 10% or more.
  • the transparent substrate with an absorbent layer comprises a transparent substrate having a first main surface and a second main surface, an absorbent layer disposed in contact with the first main surface of the transparent substrate, and a printed layer disposed on the second main surface of the transparent substrate.
  • the absorbent layer comprises a matrix material containing a polycondensate of a hydrolyzable silane compound and color pigment particles dispersed in the matrix material, and the outermost surface on the absorbent layer side has a pencil hardness of 4H or more, a luminous transmittance of 10 to 85%, and a surface resistivity of 10 to 10 ⁇ / ⁇ .
  • the transparent substrate with an absorption layer has the effects of having an absorption layer that absorbs visible light, having insulating properties that make it applicable as a cover member for a touch panel, and having excellent scratch resistance are not clear, but the inventor speculates as follows.
  • the present inventors in order to facilitate visible light absorption, have fabricated a cover member using a layer containing a visible light-absorbing colorant instead of the light-absorbing antireflection film of a light-shielding plate having a glass plate, an anti-glare layer, and a dielectric multilayer film, as specifically shown in Figure 2 of Patent Document 1, and an antifouling layer.
  • a layer containing a visible light-absorbing colorant instead of the light-absorbing antireflection film of a light-shielding plate having a glass plate, an anti-glare layer, and a dielectric multilayer film, as specifically shown in Figure 2 of Patent Document 1, and an antifouling layer.
  • the surface insulation and scratch resistance may not meet the standards currently required.
  • the absorbing layer of the cover member has a laminated structure of a silicon nitride layer and a nitride layer, and is provided on the surface of the substrate via another layer (an anti-glare layer).
  • the absorbing layer which is composed of color pigment particles dispersed in a matrix material, is in contact with one main surface of the transparent substrate, thereby improving the scratch resistance of the transparent substrate with an absorbing layer.
  • the absorbing layer contains a polycondensate of a hydrolyzable silane compound as the matrix material, which is presumably responsible for the excellent insulation and scratch resistance of the transparent substrate with an absorbing layer that fully meets market demands.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing an example of the configuration of a transparent substrate with an absorbing layer according to this embodiment.
  • the transparent substrate 1 with an absorbent layer shown in Fig. 1 includes a printed layer 10, a transparent substrate 20, and an absorbent layer 30.
  • the transparent substrate 20 has a first main surface 20A and a second main surface 20B facing each other, the absorbent layer 30 is disposed in contact with the first main surface 20A, and the printed layer 10 is disposed on the peripheral portion of the second main surface 20B.
  • the main surface of the absorbent layer 30 opposite to the main surface in contact with the transparent substrate 20 is the outermost surface 1A on the absorbent layer side, and this outermost surface 1A on the absorbent layer side satisfies the above-mentioned requirements for pencil hardness and surface resistivity.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing another example of the configuration of the transparent substrate with an absorbing layer according to this embodiment.
  • the transparent substrate 2 with an absorbent layer shown in FIG. 2 includes a printed layer 10 , a transparent substrate 20 , an absorbent layer 30 , and an antifouling layer 40 .
  • an antifouling layer 40 is provided on the surface of the absorbent layer 30.
  • the main surface of the antifouling layer 40 opposite to the main surface in contact with the absorbent layer 30 is the outermost surface 2A on the absorbent layer side, and this outermost surface 2A on the absorbent layer side satisfies the above-mentioned requirements for pencil hardness and surface resistivity.
  • the other configuration of the transparent substrate 2 with an absorbent layer is the same as that of the transparent substrate 1 with an absorbent layer, and therefore the description thereof will be omitted.
  • FIG. 3 is a cross-sectional view schematically showing another example of the configuration of the transparent substrate with an absorbing layer according to this embodiment.
  • the transparent substrate 3 with an absorbing layer shown in FIG. 3 includes a printed layer 10 , a transparent substrate 20 , an absorbing layer 30 , an anti-reflection layer 50 , and an anti-fouling layer 40 .
  • an antireflection layer 50 is provided on the surface of the absorbing layer 30, and an antifouling layer 40 is provided on the surface of the antireflection layer 50.
  • the main surface of the antifouling layer 40 opposite to the main surface in contact with the antireflection layer 50 is the outermost surface 3A on the absorbing layer side, and this outermost surface 3A on the absorbing layer side satisfies the above-mentioned requirements for pencil hardness and surface resistivity.
  • the other configuration of the transparent substrate with an absorbent layer 3 is the same as that of the transparent substrate with an absorbent layer 1 and the transparent substrate with an absorbent layer 2, and therefore description thereof will be omitted.
  • the outermost surface on the absorption layer side of the transparent substrate with an absorption layer refers to the main surface on the air interface side (the main surface opposite the main surface on the transparent substrate side) of the layer located on the outer side, farthest from the transparent substrate, among the layers arranged on the first main surface side of the transparent substrate.
  • the outermost surface on the absorbent layer side has a pencil hardness of 4H or more.
  • the pencil hardness of the outermost surface on the absorbing layer side of the absorbing layer-attached transparent substrate is measured based on the pencil hardness test specified in JIS K 5600 (1999).
  • the pencil hardness of the outermost surface on the absorbent layer side is preferably 6H or more, and may be 9H or less.
  • the desired pencil hardness of the outermost surface on the absorbing layer side can be achieved, for example, by adjusting the type and content of the matrix material contained in the absorbing layer placed in contact with the transparent substrate.
  • the absorbing layer contains a polycondensate of a hydrolyzable silane compound, described below, as the matrix material, thereby improving the pencil hardness of the outermost surface on the absorbing layer side.
  • the surface resistivity of the outermost surface on the absorbent layer side is 10 11 to 10 15 ⁇ / ⁇ .
  • the surface resistivity of the outermost surface on the absorbing layer side is measured based on the test method specified in JIS K 6271-6 (2008).
  • the surface resistivity of the outermost surface on the absorption layer side is preferably 10 12 to 10 15 ⁇ / ⁇ , in order to obtain better performance when the transparent substrate with an absorption layer is applied to an image display device equipped with a capacitive touch panel.
  • the surface resistivity of the outermost surface on the absorption layer side can be adjusted, for example, by the type and content of the matrix material and color pigment particles contained in the absorption layer placed in contact with the transparent substrate.
  • the luminous transmittance of the absorbing layer-attached transparent substrate is 10 to 85%, preferably 30 to 80%, and more preferably 40 to 80%.
  • the luminous transmittance (unit: %) of the transparent substrate with an absorbing layer is measured using a spectrophotometer by the method specified in JIS Z 8701 (1999). A specific method for measuring the luminous transmittance is described in the examples described later.
  • the luminous transmittance of the transparent substrate with an absorbing layer can be adjusted, for example, by the type and content of color pigment particles contained in the absorbing layer, and the thickness of the absorbing layer.
  • each of the members included in the transparent substrate with an absorbent layer according to this embodiment will be described in detail.
  • transparent base material As the transparent substrate, a transparent substrate that transmits visible light can be used. “Transparent” means that the average transmittance of visible light in the wavelength region of 400 to 700 nm is 10% or more, as described above.
  • the average transmittance of visible light through the transparent substrate is preferably 80% or more, and more preferably 90% or more.
  • the average transmittance of visible light through the transparent substrate is measured using an integrating sphere.
  • materials constituting the transparent substrate include glass, resin, and combinations thereof (composite materials, laminated materials, etc.), with glass being preferred. Examples of glass include soda lime glass, borosilicate glass, aluminosilicate glass, and alkali-free glass.
  • the resin include polyethylene terephthalate, polycarbonate, triacetyl cellulose, and polymethyl methacrylate.
  • the transparent substrate may be in the form of, for example, a rigid plate or a flexible film, with a rigid plate being preferred.
  • the first main surface of the transparent substrate (the surface on which the absorbing layer is disposed) may be smooth or may have irregularities. From the viewpoint of obtaining desired optical properties by providing the absorbing layer, a smooth surface is preferred.
  • the shape of the transparent substrate may be flat or may have a curved surface.
  • the entire substrate may be curved, or the substrate may be composed of curved and flat portions.
  • various devices televisions, personal computers, smartphones, car navigation systems, etc.
  • image display devices have appeared in which the display surface of the image display device is curved.
  • a transparent substrate with an absorbing layer, which has a curved shape, is useful as an optical component for such image display devices.
  • Figure 4 shows an example of a transparent substrate having a curved portion and a flat portion.
  • the bent transparent substrate 21 shown in Figure 4 has a flat portion 27, an inclined portion 28, and a bent portion 29 disposed between the flat portion 27 and the inclined portion 28.
  • the flat portion 27 and the inclined portion 28 have flat shapes, and the bent portion 29 has a curved surface.
  • the inclination angle ⁇ is the angle between the flat portion 27 and the inclined portion 28.
  • the bent transparent substrate 21 also has a first major surface 21A and a second major surface 21B facing each other.
  • the "curved surface" in the shape of the transparent substrate means a region where the first radius of curvature R1 is 10,000 mm or less.
  • the first radius of curvature R1 is defined as follows: Among the tangent directions at an arbitrary point P on a certain region on the principal surface of the transparent substrate, a tangent direction selected so as to satisfy the following condition is defined as the X-axis, a tangent direction perpendicular to the X-axis is defined as the Y-axis, and a normal direction to the principal surface is defined as the Z-axis.
  • the X-axis is a tangent direction perpendicular to the Z-axis in a plane that passes through the point P and includes the Z-axis and in which the radius of curvature of the principal surface is smallest.
  • the first radius of curvature R1 is defined by defining at least one of those directions as the X-axis.
  • the transparent substrate is preferably a glass substrate.
  • the glass substrate can be produced, for example, by charging desired glass raw materials into a melting furnace, heating and melting them, fining them, and then supplying them to a molding device to form the molten glass, followed by slow cooling.
  • a glass substrate formed by a method such as a float method, a fusion method, or a down-draw method can be used.
  • the thickness of the transparent substrate can be selected appropriately depending on the application.
  • a glass substrate is used as the transparent substrate, its thickness is preferably 0.1 to 5 mm, and more preferably 0.2 to 2.5 mm.
  • the first main surface of the glass substrate be tempered. Tempering improves the strength of the glass, making it possible, for example, to reduce the thickness while maintaining the strength.
  • An absorbing layer may be formed on an untempered glass substrate, and then tempered.
  • the absorbent layer is disposed in contact with the first main surface of the transparent substrate, and contains a matrix material and color pigment particles dispersed in the matrix material.
  • the absorption layer may be disposed over the entire surface of the first main surface of the transparent substrate, or may be disposed over a partial region of the first main surface of the transparent substrate, as long as there is a region where the absorption layer is disposed in contact with the first main surface of the transparent substrate.
  • the matrix material is a component containing color pigment particles dispersed inside the absorbing layer, and contains a polycondensate of a hydrolyzable silane compound, which provides excellent scratch resistance to the transparent substrate with the absorbing layer.
  • hydrolyzable silane compounds include compounds having at least a silicon atom and a hydrolyzable group bonded to the silicon atom (hereinafter also referred to as "silane compound A”), hydrolysates of silane compound A, partial hydrolyzed condensates thereof, and silazanes.
  • silane compound A hydrolysates of silane compound A, partial hydrolyzed condensates thereof, and silazanes.
  • hydrolyzable group refers to a group that can be converted into an OH group bonded to a silicon atom by hydrolysis.
  • Examples of the hydrolyzable group include an alkoxy group, an acyloxy group, a ketoxime group, an alkenyloxy group, an amino group, an aminoxy group, an amide group, an isocyanate group, and a halogen atom. From the viewpoint of the balance between the stability of the silane compound A and the ease of hydrolysis, an alkoxy group, an isocyanate group, or a halogen atom (particularly a chlorine atom) is preferred, and an alkoxy group is more preferred.
  • the alkoxy group includes an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, preferably an alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms, and more preferably a methoxy group or an ethoxy group.
  • the polycondensation products of the hydrolyzable silane compounds have a crosslinked structure and often contain residual hydrolyzable groups in some parts, making them difficult to represent by a chemical structural formula.
  • the silane compound A examples include a silane compound A1 having a hydrocarbon group and a hydrolyzable group bonded to a silicon atom, and a silane compound A2 having four hydrolyzable groups bonded to a silicon atom.
  • the hydrocarbon group bonded to the silicon atom may be a monovalent hydrocarbon group bonded to one silicon atom, or a divalent hydrocarbon group bonded to two silicon atoms.
  • the monovalent hydrocarbon group include an alkyl group, an alkenyl group, and an aryl group, with an alkyl group being preferred.
  • the divalent hydrocarbon group examples include an alkylene group, an alkenylene group, and an arylene group, with an alkylene group being preferred.
  • the number of carbon atoms in the hydrocarbon group is preferably 1 to 5, and more preferably 1 to 3.
  • the hydrocarbon group may have a linking group selected from —O—, —S—, —CO—, and —NR— (wherein R is a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group) between carbon atoms.
  • R is a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group
  • the number of hydrocarbon groups bonded to the silicon atom is, for example, 1 to 3, preferably 1 or 2
  • the number of hydrolyzable groups bonded to the silicon atom is, for example, 1 to 3, preferably 2 or 3.
  • silane compound A1 examples include alkoxysilanes having an alkyl group (methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, ethyltriethoxysilane, etc.), alkoxysilanes having a vinyl group (vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, etc.), alkoxysilanes having an epoxy group (2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, etc.), and alkoxysilanes having an acryloyloxy group (3-acryloyloxypropyltrimethoxysilane, etc.).
  • silane compound A2 examples include tetraalkoxysilanes (tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrapropoxysilane, tetrabutoxysilane, etc.), alkoxysilanes having a perfluoropolyether group (perfluoropolyethertriethoxysilane, etc.), and alkoxysilanes having a perfluoroalkyl group (perfluoroethyltriethoxysilane, etc.).
  • the matrix material is preferably a polycondensate of a hydrolyzable silane compound selected from the group consisting of silane compound A, a hydrolyzate of silane compound A, and a partial hydrolyzed condensate thereof.
  • the silane compound A contains both the silane compound A1 and the silane compound A2.
  • the ratio of silane compound A1 to the total of silane compound A1 and silane compound A2 is preferably 60% by mass or more and less than 100% by mass, more preferably 80% by mass or more and less than 100% by mass.
  • the content of the matrix material in the absorbent layer is preferably 50 to 95% by mass, more preferably 80 to 95% by mass, based on the total mass of the absorbent layer.
  • the composition of the matrix material contained in the absorption layer can be calculated from thermal desorption spectroscopy (TDS) or nuclear magnetic resonance spectroscopy (NMR), and the content of the matrix material can be calculated from NMR.
  • the color pigment particles are pigment particles that absorb at least a portion of visible light.
  • the color pigment particles may be inorganic pigment particles or organic pigment particles.
  • the color pigment particles may be black pigment particles or a mixture of color pigment particles of different colors. However, black pigment particles are preferred in that the luminous transmittance of the transparent substrate with an absorbing layer and the a * and b * values of the transmitted color under a D65 light source can be easily adjusted to desired ranges.
  • black pigment particles include inorganic pigment particles such as titanium oxynitride (titanium black), carbon black, titanium carbon, iron oxide, titanium oxide-based black pigment particles, and graphite, as well as black organic pigment particles.
  • the color pigment particles are preferably particles of one or more selected from the group consisting of titanium oxynitride, carbon black, and organic pigments, and titanium oxynitride is more preferred.
  • organic pigment particles that transmit near-infrared rays.
  • the average particle size of the color pigment particles is preferably from 50 to 1,000 nm, more preferably from 50 to 300 nm.
  • the average particle diameter of the color pigment particles is the number-average particle diameter, and can be determined by observing a cross section of the transparent substrate with an absorbing layer along the thickness direction using a scanning electron microscope (SEM) or a transmission electron microscope (TEM).
  • SEM scanning electron microscope
  • TEM transmission electron microscope
  • the number-average particle diameter of the color pigment particles is directly measured at a magnification of 50,000 to 200,000 times, and 30 color pigment particles that appear in the obtained observation image are randomly selected and the arithmetic mean of the equivalent-circle diameters of the selected color pigment particles is calculated to determine the average particle diameter.
  • the diameter of the sphere is measured and used as the number-average particle diameter. If the color pigment particles are not spherical, the longest diameter (hereinafter referred to as the "major axis diameter”) and the longest diameter in the direction perpendicular to the major axis diameter (hereinafter referred to as the "minor axis diameter”) are measured, and the number-average particle diameter is calculated by averaging the major axis diameter and the minor axis diameter.
  • the average particle size may be a catalog value of the color pigment particles.
  • the color pigment particles may be used alone or in combination of two or more kinds.
  • the content of the color pigment particles is preferably 1 to 50% by mass relative to the total mass of the absorbing layer.
  • the content of the color pigment particles is 1% by mass or more relative to the total mass of the absorbing layer, the transparent substrate with an absorbing layer can be colored to a desired color.
  • the content of the color pigment particles is 50% by mass or less relative to the total mass of the absorbing layer, it becomes easy to adjust the pencil hardness of the outermost surface on the absorbing layer side to 4H or more, and the film density of the absorbing layer can be ensured.
  • the content of the color pigment particles is more preferably 3 to 40% by mass, and particularly preferably 5 to 30% by mass, relative to the total mass of the absorbing layer.
  • the type of color pigment particles contained in the absorbing layer can be identified by analyzing the elements that make up the color pigment particles using an FE-EPMA (field emission electron probe microanalyzer) on a cross section of the absorbing layer (a surface perpendicular to the outermost surface of the absorbing layer).
  • the content of color pigment particles contained in the absorbing layer can also be determined, for example, by mechanically or chemically peeling the absorbing layer, measuring the total mass of the absorbing layer, and then measuring the concentration of the color pigment contained in the peeled absorbing layer using X-ray photoelectron spectroscopy (XPS). Note that if the manufacturing method of the transparent substrate with an absorbing layer is known, this can also be determined from the raw materials.
  • the absorbing layer may contain particles other than color pigment particles.
  • the other particles include metal oxide particles, metal particles, and resin particles.
  • Metal oxide particle materials include silicon oxide, aluminum oxide and zirconium oxide.
  • Materials for the metal particles include metals (Ag, Ru, etc.) and alloys (AgPd, RuAu, etc.).
  • Materials for the resin particles include acrylic resin, polystyrene, and melamine resin.
  • the other particles may have any shape, for example, a scale-like, spherical, plate-like, rod-like, or needle-like shape.
  • the absorbing layer may be configured to contain no particles other than color pigment particles.
  • the absorbent layer "does not contain other particles” means that the content of other particles contained in the absorbent layer is less than 1% by mass, preferably less than 0.5% by mass, and more preferably less than 0.1% by mass, based on the total mass of the absorbent layer.
  • the thickness of the absorbing layer is preferably 0.05 to 1.00 ⁇ m, more preferably 0.05 to 0.30 ⁇ m.
  • the thickness of the absorbing layer is equal to or greater than the lower limit, it becomes easier to impart the ability to absorb visible light.
  • the thickness of the absorbing layer is equal to or less than the upper limit, it is excellent in terms of scratch resistance and transmitted color.
  • the thickness of the absorbing layer can be determined by cutting the absorbing layer along the thickness direction at five arbitrarily selected points in the in-plane direction, observing the obtained cross sections at a magnification of 30,000 times using a scanning electron microscope (SEM), measuring the thickness from the interface between the transparent substrate and the absorbing layer to the surface of the absorbing layer, and calculating the arithmetic mean value of the obtained measured values.
  • the thickness of the absorbing layer can be adjusted, for example, by changing the amount of the absorbing layer-forming composition applied to the surface of the transparent substrate when forming the absorbing layer.
  • the transparent substrate with an absorbent layer includes a printed layer.
  • the printed layer is provided, for example, for the purpose of improving the visibility and aesthetics of the display, and has the function of concealing wiring circuits arranged near the periphery of the image display device, the adhesive portion between the housing of the image display device and the transparent substrate with an absorbent layer, etc.
  • the printed layer may be provided along the entire periphery of the second main surface of the transparent substrate (the main surface opposite to the first main surface with which the absorbent layer is arranged in contact), or may be provided on a part of the periphery.
  • the periphery refers to a band-shaped region having a predetermined width extending from the periphery toward the center.
  • the printed layer is preferably formed in a desired color depending on the purpose, for example, with a width that can conceal the wiring circuit or adhesive portion.
  • the printed layer is formed, for example, by printing with ink.
  • the printing layer may be made up of a plurality of laminated layers, or may be made up of a single layer.
  • inks examples include inorganic inks containing fired ceramics, and organic inks containing coloring materials such as dyes or pigments and organic resins.
  • ceramics contained in black inorganic inks used to form black printing layers include oxides such as chromium oxide and iron oxide, carbides such as chromium carbide and tungsten carbide, carbon black, and mica.
  • the black printed layer can be obtained by, for example, melting an inorganic ink made of the above ceramics and silica, printing the desired pattern, and then drying it.
  • Such inorganic ink is formed by a melting and drying process and is generally used exclusively for glass.
  • the transparent substrate with an absorbing layer may further include layers other than the transparent substrate, the absorbing layer, and the printed layer, such as an anti-reflection layer and an anti-fouling layer.
  • the transparent substrate with an absorbing layer may further include an antireflection layer, and preferably includes an antireflection layer.
  • the antireflection layer is usually provided on the surface of the absorbing layer and has the function of suppressing the reflection of incident light on the transparent substrate and making the reflected image unclear.
  • the antireflection layer is preferably a laminated film of layers with different refractive indices, and more preferably, for example, a laminated film of a high refractive index layer having a refractive index of 1.9 or more at a wavelength of 550 nm and a low refractive index layer having a refractive index of 1.6 or less at a wavelength of 550 nm.
  • the high refractive index layer and the low refractive index layer may each include one layer, or may each include two or more layers.
  • the high refractive index layer and the low refractive index layer each include two or more layers, a form in which the high refractive index layer and the low refractive index layer are alternately laminated is preferred.
  • the antireflection layer includes metal oxides and metal nitrides, and can be appropriately selected taking into consideration the required level of low reflectivity, productivity, and the like.
  • the high refractive index layer can be preferably made of one or more materials selected from niobium oxide (Nb 2 O 5 ), titanium oxide (TiO 2 ), zirconium oxide (ZrO 2 ), tantalum oxide (Ta 2 O 5 ), and silicon nitride (Si 3 N 4 ).
  • the low refractive index layer can be preferably made of one or more materials selected from silicon oxide (SiO 2 ), a material containing a mixed oxide of Si and Sn, a material containing a mixed oxide of Si and Zr, and a material containing a mixed oxide of Si and Al.
  • the high refractive index layer be a layer made of one material selected from niobium oxide, tantalum oxide, and silicon nitride, and the low refractive index layer be a layer made of silicon oxide.
  • the transparent substrate with an absorbent layer preferably further comprises an antifouling layer.
  • the antifouling layer is a layer that has the effect of suppressing adhesion of organic or inorganic substances to the surface of the transparent substrate with an absorbent layer, and has the effect of making it easy to remove the adhesion by cleaning such as wiping, even if organic or inorganic substances do adhere to the surface.
  • the antifouling layer is preferably disposed on the surface of the absorbing layer when the absorbing layer-equipped transparent substrate does not include an antireflection layer, and is preferably disposed on the surface of the antireflection layer when the absorbing layer-equipped transparent substrate includes an antireflection layer.
  • the antifouling layer is preferably disposed on the outermost surface of the absorbing layer-equipped transparent substrate on the absorbing layer side.
  • the anti-fouling layer can be, for example, a known layer that has water- and oil-repellent properties and can impart anti-fouling properties to the transparent substrate with an absorbent layer.
  • the anti-fouling layer preferably comprises a fluorine-containing organosilicon compound coating obtained by curing a fluorine-containing organosilicon compound through a hydrolysis and condensation reaction, or a polydimethylsilicone organosilicon compound coating obtained by curing an organosilicon compound having a polydimethylsilicone chain through a hydrolysis and condensation reaction.
  • the thickness of the anti-fouling layer is preferably 2 to 30 nm, and more preferably 3 to 15 nm. If the thickness of the anti-fouling layer is 2 nm or more, the anti-fouling layer will have superior abrasion resistance in addition to its anti-fouling properties. Furthermore, if the thickness of the anti-fouling layer is 30 nm or less, the optical properties such as haze of the transparent substrate with an absorbent layer and provided with the anti-fouling layer will be superior.
  • the transparent substrate with an absorbent layer has the anti-glare properties described below, the anti-glare properties of the transparent substrate with an absorbent layer and provided with the anti-fouling layer can also be ensured if the thickness of the anti-fouling layer is 30 nm or less.
  • the outermost surface on the absorbent layer side preferably has an uneven shape.
  • the arithmetic mean roughness Ra of the outermost surface on the absorbent layer side is preferably 0.01 to 0.60 ⁇ m, more preferably 0.01 to 0.50 ⁇ m, in terms of achieving a good balance of scratch resistance, antiglare properties, and haze.
  • the arithmetic mean roughness Ra is the average absolute deviation from a reference surface in a roughness curve included in a reference length taken on the reference surface.
  • the arithmetic mean roughness Ra is measured using a surface roughness measuring instrument (for example, "SURFCOM (registered trademark) 1500SD3-12" manufactured by Tokyo Seimitsu Co., Ltd.) in accordance with the method specified in JIS B 0601-2001.
  • the shapes of the antireflection layer and the antifouling layer follow the shape of the main surface (viewing-side surface) of the absorbent layer opposite to the main surface that contacts the transparent substrate, so the uneven shape of the outermost surface on the absorbent layer side of the absorbent layer-equipped transparent substrate is substantially the same as the uneven shape of the viewing-side surface of the absorbent layer. Therefore, the arithmetic mean roughness Ra of the outermost surface on the absorbent layer side of the absorbent layer-equipped transparent substrate can be adjusted to a desired range by adjusting the uneven shape of the absorbent layer.
  • the 60° specular gloss (Gloss) of the outermost surface on the absorbent layer side is preferably 130% or less, more preferably 115% or less, in terms of more excellent antiglare properties.
  • the 60° specular gloss of the outermost surface on the absorbent layer side is preferably 15% or more in terms of keeping haze low.
  • the 60° specular gloss of the outermost surface on the absorbing layer side can be measured using a gloss meter (for example, GM-268A manufactured by Konica Minolta).
  • the 60° specular gloss of the outermost surface on the absorbent layer side can be adjusted, for example, by changing the coating conditions, such as spray coating and electrostatic coating, in the step of forming the precursor layer of the absorbent layer described below, and the conveying speed of the target transparent substrate.
  • the transparent substrate with an absorbent layer preferably has a deviation in the in-plane direction of the absorbance represented by the following formula (A) of 0 to 10% at any point, more preferably 0 to 5%, and even more preferably 0 to 2%.
  • A a deviation in the in-plane direction of the absorbance represented by the following formula (A) of 0 to 10% at any point, more preferably 0 to 5%, and even more preferably 0 to 2%.
  • the deviation of the absorptance in the in-plane direction means the difference between the maximum and minimum values of the absorptance measured in the plane when the back surface state is the same.
  • the deviation of the absorptance in the in-plane direction can be obtained by measuring the luminous transmittance and luminous reflectance at five arbitrarily selected points on the transparent substrate with an absorbing layer, calculating the absorptance from the measured luminous transmittance and luminous reflectance using formula (A), and calculating the deviation of the obtained values at the five points.
  • T luminous transmittance
  • R luminous reflectance
  • the luminous reflectance of the transparent substrate with an absorbing layer is measured using a spectrophotometer by the method specified in JIS Z 8701 (1999). A specific method for measuring the luminous reflectance is described in the examples described later.
  • the transparent substrate with an absorbing layer preferably has an a * value of 5.0 or less (more preferably 3.0 or less, even more preferably 2.0 or less) and a b * value of 5.0 or less (more preferably 3.0 or less, even more preferably 2.0 or less) in transmitted color under a D65 light source.
  • a * value and b * value in transmitted color under a D65 light source are within the above ranges, the displayed color output from the display device is not impaired, and the uniformity and aesthetic appearance of the displayed image within the plane can be improved.
  • the a * value and b * value are the color coordinate a* and color coordinate b * of the transmitted color in the L * a * b * color system when light from a D65 light source is irradiated onto the transparent substrate with an absorbing layer and transmitted light is measured, and are measured using a spectrophotometer by the method specified in JIS Z 8729 (2004).
  • the a * and b * values of the transparent substrate with an absorbing layer can be adjusted, for example, by the type and content of the matrix material and color pigment particles contained in the absorbing layer.
  • the transparent substrate with an absorbing layer preferably has a region (hereinafter also referred to as a "near-infrared transmission region") in which the average transmittance of light with a wavelength of 900 to 1000 nm (hereinafter also referred to as a "near-infrared transmittance”) is 70% or more.
  • the transparent substrate with an absorbing layer having a near-infrared transmission region can be suitably used as a cover member for a device incorporating a device that irradiates and/or detects near-infrared rays.
  • the near-infrared transmitting region may be a partial region within the surface of the transparent substrate with an absorbing layer, or may be the entire surface.
  • the near-infrared transmittance of the near-infrared transmitting region is preferably from 70 to 100%, more preferably from 80 to 100%.
  • the near-infrared transmittance (unit: %) is measured using, for example, a flat substrate transmittance/reflectance measuring unit (product name: LV-RTM) manufactured by Lambda Vision Co., Ltd. A specific method for measuring the near-infrared transmittance is described in the examples below.
  • the near-infrared transmitting region can be formed, for example, by selecting organic pigment particles having high near-infrared transmittance as the color pigment particles contained in the absorbing layer.
  • the near-infrared transmittance of the near-infrared transmitting region can be adjusted, for example, by the content of the organic pigment particles and the thickness of the absorbing layer.
  • a method for producing a transparent substrate with an absorbent layer includes a method of obtaining a transparent substrate with an absorbent layer by performing an absorbent layer forming step of forming an absorbent layer on a first main surface of the transparent substrate and a printing step of forming a printing layer on a second main surface of the transparent substrate.
  • the absorbent layer forming step and the printing step may be performed in any order. That is, the absorbent layer may be formed before the printing layer is formed, or the printing layer may be formed before the absorbent layer is formed.
  • An example of the absorption layer forming process for forming an absorption layer on the first main surface of the transparent substrate is a method in which a precursor layer is formed on the first main surface of the transparent substrate using a composition for forming an absorption layer containing a precursor of a matrix material, color pigment particles, and a liquid medium, and the obtained precursor layer is cured to form the absorption layer.
  • a precursor layer is formed on the first main surface of the transparent substrate using a composition for forming an absorption layer containing a precursor of a matrix material, color pigment particles, and a liquid medium, and the obtained precursor layer is cured to form the absorption layer.
  • the precursor of the matrix material contained in the composition for forming an absorbent layer include the above-mentioned hydrolyzable silane compound.
  • the precursor layer is heated to polycondense the hydrolyzable silane compound, thereby obtaining an absorbent layer containing a polycondensate of the hydrolyzable silane compound and color pigment particles.
  • hydrolyzable silane compound and color pigment particles contained in the absorber layer-forming composition are as already described.
  • the composition for forming the absorption layer preferably contains a liquid medium.
  • the liquid medium functions as a solvent or dispersion medium that dissolves or disperses the silane compound, and as a dispersion medium that disperses color pigment particles.
  • One type of liquid medium may be used alone, or two or more types may be used in combination.
  • the liquid medium preferably contains a low-boiling liquid medium having a boiling point of 160° C. or less.
  • the boiling point of the low-boiling-point liquid medium is preferably 50 to 150°C, more preferably 55 to 140°C.
  • the absorbent layer-forming composition may contain a high-boiling-point liquid medium having a boiling point of more than 160°C.
  • Examples of the low-boiling liquid medium include water and low-boiling organic solvents having a boiling point of 160° C. or less.
  • Examples of low-boiling organic solvents include alcohols (methanol, ethanol, isopropyl alcohol, n-butyl alcohol, isobutyl alcohol, 1-pentanol, etc.), ketones (acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, etc.), ethers (tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, etc.), cellosolves (methyl cellosolve, ethyl cellosolve, etc.), esters (methyl acetate, ethyl acetate, etc.), and glycol ethers (ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, etc.).
  • the composition for forming the absorbent layer contains at least water unless the liquid medium is replaced after the hydrolysis.
  • the absorbent layer-forming composition preferably contains water and the low-boiling organic solvent.
  • the content of the liquid medium in the absorbent layer-forming composition is an amount that corresponds to the solid content concentration of the absorbent layer-forming composition.
  • the solid content of the absorbent layer-forming composition is preferably 0.5 to 20% by mass, more preferably 1 to 15% by mass, based on the total mass of the absorbent layer-forming composition. If the solid content is equal to or greater than the lower limit of the above range, the amount of liquid of the coating composition can be reduced. If the solid content is equal to or less than the upper limit of the above range, the thickness uniformity of the absorbent layer is improved.
  • the absorber layer-forming composition preferably contains a catalyst component for promoting the hydrolysis and condensation reaction of the silane compound.
  • the catalyst component may be an acid or an alkali.
  • acids that can be used as catalysts include inorganic acids such as nitric acid, sulfuric acid, and hydrochloric acid, and organic acids such as formic acid, acetic acid, oxalic acid, monochloroacetic acid, dichloroacetic acid, and trichloroacetic acid.
  • Examples of the alkali used as a catalyst include ammonia, sodium hydroxide, potassium hydroxide, etc. In terms of long-term storage stability of the hydrolysis condensation product, acids are preferred.
  • the content of the catalyst component is preferably 0.01 to 3% by mass based on the total mass of the absorbent layer-forming composition.
  • the composition for forming the absorption layer may contain additives.
  • additives include ultraviolet absorbers, infrared reflectors, infrared absorbers, anti-reflection agents, surfactants for improving leveling, and metal compounds for improving durability.
  • the composition for forming the absorbing layer can be prepared by mixing the above-mentioned components used to form the absorbing layer.
  • it can be prepared by preparing a solution or dispersion in which a silane compound or the like is dissolved or dispersed in a liquid medium, and then mixing this with a dispersion of colored pigment particles and, if necessary, additional liquid medium.
  • Methods for forming a precursor layer on the first main surface of the transparent substrate include spin coating, dip coating, casting, slit coating, spray coating, and electrostatic coating, with electrostatic coating being preferred.
  • An example of the electrostatic coating method is a method in which, using an electrostatic coating device equipped with an electrostatic gun having a rotary atomizing head, an absorbent layer-forming composition is supplied to the rotary atomizing head, the centrifugal force generated by rotating the rotary atomizing head causes the absorbent layer-forming composition to form liquid filaments from the edge of the rotary atomizing head, the liquid filaments are atomized by applying a voltage, and the droplets generated by the atomization are sprayed onto the first main surface of the transparent substrate by air, thereby forming a precursor layer.
  • electrostatic coating method is a method utilizing the electrospray phenomenon in which an absorbent layer-forming composition supplied from a syringe to the tip of a nozzle is discharged while applying a voltage of several thousand volts, thereby generating fine droplets of the absorbent layer-forming composition due to electrostatic repulsion, and the charged droplets are attached to the first main surface of the transparent substrate by electrostatic force.
  • Electrostatic coating using this method can be performed using an electrostatic coating device (for example, a Micro Mist Coater manufactured by Nagase Techno Engineering Co., Ltd.).
  • the latter of the above electrostatic coating methods compared to the former method, charges the droplets and promotes atomization, thereby suppressing unevenness on the viewing-side surface of the absorbent layer and reducing the arithmetic mean roughness Ra of the outermost surface on the absorbent layer side. Furthermore, the thickness of the absorbent layer formed becomes more uniform in the in-plane direction, thereby further reducing the deviation in luminous transmittance in the in-plane direction. Furthermore, the latter method reduces the haze of the absorbent layer-attached transparent substrate compared to the former method. These effects are particularly pronounced in a transparent substrate with an absorbent layer that has a curved surface.
  • the precursor layer formed on the first main surface of the transparent substrate can be cured, for example, by heat treatment.
  • heat treating the precursor layer the liquid medium contained in the precursor layer is vaporized and removed from the precursor layer, and the hydrolyzable groups of the hydrolyzable silane compound undergo a polycondensation reaction and are cured, thereby forming an absorbing layer containing a polycondensate of the hydrolyzable silane compound and color pigment particles.
  • the heating temperature is preferably 30°C or higher, more preferably 100 to 750°C, and even more preferably 150 to 550°C.
  • the print layer can be formed by printing ink on the surface of the second main surface of the transparent substrate.
  • the ink used to form the print layer is as already explained. Examples of printing methods include bar coating, reverse coating, gravure coating, die coating, roll coating, screen printing, and inkjet printing. Screen printing is preferred because it is easy to print and can be printed on various substrates in a desired size.
  • An anti-reflection layer is usually formed on the surface of the absorbing layer.
  • methods for depositing each layer constituting the antireflection layer include vacuum deposition, ion beam assisted deposition, ion plating, sputtering, and plasma CVD.
  • sputtering is preferred because it can form dense, highly durable films.
  • pulse sputtering, AC sputtering, and digital sputtering are particularly preferred.
  • the antifouling layer is usually formed on the surface of the absorbing layer or the surface of the antireflection layer.
  • Methods for forming the antifouling layer include, for example, when the antifouling layer is made of a fluorine-containing organosilicon compound coating, a method in which a composition containing a silane coupling agent is applied to the surface of the absorbing layer or the antireflection layer to form a coating film, and then a heat treatment is performed as necessary, and a vacuum deposition method in which a fluorine-containing organosilicon compound is vapor-deposited on the surface of the absorbing layer or the antireflection layer, and then a heat treatment is performed as necessary.
  • silane coupling agent examples include a silane coupling agent having a fluoroalkyl group such as a perfluoroalkyl group or a fluoroalkyl group containing a perfluoro(polyoxyalkylene) chain.
  • Methods for forming the coating film include spin coating, dip coating, casting, slit coating, and spray coating.
  • a cleaning treatment may be performed before or after the formation of each layer to ensure the cleanliness of the main surface.
  • cleaning treatments include immersing the object to be cleaned in a basic cleaning solution for a predetermined period of time, and then rinsing the cleaning solution with water or an organic solvent.
  • Examples of applications of the transparent substrate with an absorption layer of the present invention include transparent parts for vehicles (headlight covers, side mirrors, front transparent substrates, side transparent substrates, rear transparent substrates, covers for car navigation systems, covers for instrument panels (cluster), etc.), meters, architectural windows, show windows, displays (notebook computers, monitors, LCDs, PDPs, ELDs, CRTs, PDAs, etc.), LCD color filters, touch panel substrates, pickup lenses, optical lenses, eyeglass lenses, camera parts, video parts, CCD cover substrates, optical fiber end faces, projector parts, copier parts, transparent substrates for solar cells (cover members, etc.), mobile phone windows, backlight unit parts (light guide plates, cold cathode tubes, etc.), backlight unit part liquid crystal brightness enhancement films (prisms, semi-transparent films, etc.), liquid crystal brightness enhancement films, organic EL light-emitting element parts, inorganic EL light-emitting element parts, phosphor
  • the transparent substrate with an absorbent layer according to the present embodiment is suitably used as a cover member for an in-vehicle image display device such as a car navigation system or an instrument panel, etc. Furthermore, since the transparent substrate with an absorbent layer of the present invention has excellent insulating properties, it is suitably used as a cover member for a touch panel of a car navigation system or the like.
  • the transparent substrate with an absorbing layer is mounted in an in-vehicle image display device, it is disposed so that the outermost surface on the absorbing layer side faces the interior of the vehicle, that is, faces passengers such as the driver.
  • the transparent substrate with an absorption layer having the near-infrared transmitting region is useful for components such as in-vehicle image display devices, interior panels, and body panels, which are equipped with a device for irradiating and/or detecting near-infrared rays.
  • the image display device preferably includes the transparent substrate with an absorbing layer of the present invention as a cover member for the display surface.
  • an image display device with excellent visibility can be obtained.
  • Image display devices include liquid crystal displays (LCDs), LED displays, and organic EL displays.
  • a transparent part for a vehicle according to a second embodiment of the present invention is a transparent part for a vehicle comprising a transparent substrate having a first main surface and a second main surface, and an absorbing layer arranged in contact with the first main surface of the transparent substrate, wherein the second main surface of the transparent substrate is attached to the viewing side of the image display device, the absorbing layer comprises a matrix material containing a polycondensate of a hydrolyzable silane compound and color pigment particles dispersed in the matrix material, the outermost surface on the absorbing layer side has a pencil hardness of 4H or more, a luminous transmittance of 10 to 85%, and a surface resistivity of 10 11 to 10 15 ⁇ / ⁇ .
  • FIG. 5 is a cross-sectional view that schematically shows an example of the configuration of a transparent part for a vehicle according to this embodiment.
  • the vehicle transparent part 4 shown in Fig. 5 includes a transparent substrate 20 and an absorbing layer 30.
  • the transparent substrate 20 has a first main surface 20A and a second main surface 20B that face each other, and the absorbing layer 30 is disposed in contact with the first main surface 20A.
  • the second main surface 20B of the transparent substrate 20 is bonded to the viewing side of the image display device 60 by a transparent adhesive (OCA) layer (not shown).
  • OCA transparent adhesive
  • the main surface of the absorbent layer 30 opposite to the main surface in contact with the transparent substrate 20 is the outermost surface 4A on the absorbent layer side, and this outermost surface 4A on the absorbent layer side satisfies the above-mentioned pencil hardness requirements and surface resistivity requirements.
  • the transparent part for a vehicle is not limited to the form shown in FIG.
  • the vehicle transparent part may include an antifouling layer or an antireflection layer on the surface of the absorbing layer.
  • the vehicle transparent part may also include an antifouling layer on the outermost surface on the absorbing layer side.
  • the vehicle transparent part may also include a printing layer disposed between the second main surface of the absorbing layer and the image display device.
  • the transparent substrate, the absorbing layer, and other components in the vehicle transparent part according to this embodiment, as well as the physical properties of the vehicle transparent part, including their respective preferred aspects, are the same as those of the transparent substrate with an absorbing layer according to the first embodiment.
  • the transparent part for a vehicle according to this embodiment is suitably used as a cover member for an in-vehicle image display device such as a car navigation system or an instrument panel.
  • Example 1 [Preparation of transparent substrate]
  • a transparent substrate a flat rectangular glass substrate having a length of 100 mm, a width of 100 mm, and a thickness of 1.3 mm was prepared.
  • a print layer was formed on one half of one surface (100 mm long x 50 mm wide) of the transparent substrate by screen printing using black ink (manufactured by Teikoku Ink Mfg. Co., Ltd., product name: GLS-HF).
  • Metal oxide layer (1) Mo—Nb—O layer (thickness 14 nm)
  • Metal oxide layer (2) SiO 2 layer (thickness 35 nm)
  • Metal oxide layer (3) Mo—Nb—O layer (thickness 120 nm)
  • Metal oxide layer (4) SiO 2 layer (thickness 90 nm)
  • the pressure was kept at 0.3 Pa, and pulse sputtering was performed using a target made of sintered niobium and molybdenum mixed in a weight ratio of 80:20 under conditions of a frequency of 20 kHz, a power density of 4.0 W/cm 2 , and a reverse pulse width of 5 ⁇ sec to form a metal oxide layer (1) on one main surface of the transparent substrate.
  • pulse sputtering was performed using a silicon target under the conditions of a pressure of 0.3 Pa, a frequency of 20 kHz, a power density of 3.8 W/cm 2 , and a reverse pulse width of 5 ⁇ sec, to form a metal oxide layer (2).
  • a mixed gas of argon gas and 10% by volume of oxygen gas was introduced into the chamber while maintaining the pressure at 0.3 Pa.
  • pulse sputtering was performed under conditions of a frequency of 20 kHz, a power density of 4.0 W/cm 2 , and a reverse pulse width of 5 ⁇ sec to form a metal oxide layer (3).
  • pulse sputtering was carried out using a silicon target under the conditions of a pressure of 0.3 Pa, a frequency of 20 kHz, a power density of 3.8 W/cm 2 , and a reverse pulse width of 5 ⁇ sec, to form a metal oxide layer (4).
  • Example 2 The laminated transparent substrate of Example 2 was produced in the same manner as in Example 1, except that in the deposition of the metal oxide layers (1) and (3), a mixed gas of argon gas and 10 volume % oxygen gas was introduced into the chamber while the pressure was kept at 0.3 Pa, and a target prepared by mixing and sintering niobium and molybdenum in a weight ratio of 50:50 was used.
  • Example 3 [Preparation of Coating Liquid 3 (Absorbent Layer-Forming Composition)] While 42.43 g of denatured ethanol was being stirred, 12.27 g of a nitric acid-based binder solution and 6.30 g of a water-soluble acrylic resin microparticle dispersion ("Eposter (registered trademark) MX-030W" manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.) were added, and further 15.0 g of diacetone alcohol and 24.0 g of 2-butanol were added to prepare a water-soluble acrylic resin composition with a solids concentration of 0.8991 mass%.
  • Eposter registered trademark
  • 2-butanol 2-butanol
  • pigment particles P-1 carbon black, product name “9777BLACK”, average particle diameter 120 nm, manufactured by Tokushiki Corporation
  • pigment particles P-1 were prepared as color pigment particles. While stirring the water-soluble acrylic resin composition using a magnetic stirrer, the pigment particles P-1 were added so that the content of the pigment particles P-1 relative to the total solid content of the coating liquid (represented as "solid ratio after curing” in Table 2) was 40 mass %, and the mixed liquid was mixed at 60°C for 60 minutes, thereby obtaining coating liquid 3.
  • Example 4 Transparent substrates with an absorbing layer of Examples 4 and 5 were produced in the same manner as in Example 3, except that the composition of Coating Liquid 3 was changed to prepare Coating Liquid 4 and Coating Liquid 5 so that the content of pigment particles P-1 relative to the total solid content of the coating liquid would be the value shown in Table 2.
  • Example 6 [Preparation of Coating Liquid 6 (Absorbent Layer-Forming Composition)] An alcohol mixture (manufactured by Japan Alcohol Sales Co., Ltd., trade name "Solmix (registered trademark) AP-11", industrial ethanol; a mixture of 85% by mass of ethanol, 10% by mass of isopropyl alcohol, and 5% by mass of methanol) was used as the main solvent.
  • Solmix registered trademark
  • AP-11 industrial ethanol
  • industrial ethanol a mixture of 85% by mass of ethanol, 10% by mass of isopropyl alcohol, and 5% by mass of methanol
  • TEOS tetraethoxysilane
  • MTES methyltriethoxysilane
  • P-1 pigment particles
  • An absorbing layer was formed on one surface of the transparent substrate in the same manner as in Example 3 using the coating liquid 6 (composition for forming an absorbing layer) prepared above. After coating, the glass substrate was baked in air at 300° C. for 60 minutes to form an absorbing layer.
  • Example 7 The composition of Coating Liquid 6 was changed so that the content of Pigment P-1 relative to the total solid content would be the value shown in Table 2, and Coating Liquid 7 was prepared. An absorbing layer-attached transparent substrate of Example 7 was produced in the same manner as in Example 6, except that Coating Liquid 7 was used instead of Coating Liquid 6.
  • Example 8 When preparing the coating liquid (composition for forming an absorbing layer), a pigment dispersion containing 30% by mass of pigment particles P-2 (manufactured by TOKUSHIKI CORPORATION, titanium black, product name "9517TB", average particle diameter 70 nm) was used instead of the pigment dispersion containing 30% by mass of pigment particles P-1, and the composition of the coating liquid was changed so that the content of pigment particles P-2 relative to the total solid content would be the value shown in Table 2, thereby preparing coating liquid 8.
  • An absorbing layer-attached transparent substrate of Example 8 was produced in the same manner as in Example 6, except that Coating Liquid 8 was used instead of Coating Liquid 6.
  • Example 9 The composition of Coating Liquid 8 was changed so that the content of Pigment P-2 relative to the total solid content would be the value shown in Table 2, and Coating Liquid 9 was prepared.
  • An absorbing layer-attached transparent substrate of Example 9 was produced in the same manner as in Example 8, except that Coating Liquid 9 was used instead of Coating Liquid 8.
  • Coating liquid 10 composition for forming an absorbing layer
  • a pigment dispersion containing 16% by mass of pigment particles P-3 manufactured by TOKUSHIKI CORPORATION, near-infrared transparent organic pigment, product name "IRBK-0002", average particle diameter 210 nm
  • the main solvent, TEOS solution, MTES solution, pigment dispersion, and nitric acid were mixed in the following ratios.
  • An absorbing layer-attached transparent substrate of Example 10 was produced in the same manner as in Example 6, except that Coating Liquid 10 was used instead of Coating Liquid 6.
  • Example 11 The composition of Coating Liquid 10 was changed so that the content of Pigment P-3 relative to the total solid content of the coating liquid would be the value shown in Table 2, and Coating Liquid 11 was prepared.
  • An absorbing layer-attached transparent substrate of Example 11 was produced in the same manner as in Example 10, except that Coating Liquid 11 was used instead of Coating Liquid 10.
  • Example 12 The composition of Coating Liquid 10 was changed so that the content of Pigment P-3 relative to the total solid content of the coating liquid would be the value shown in Table 2, and Coating Liquid 12 was prepared.
  • An absorbing layer-attached transparent substrate of Example 12 was produced in the same manner as in Example 10, except that Coating Liquid 12 was used instead of Coating Liquid 10.
  • Example 13 The composition of Coating Liquid 10 was changed so that the content of Pigment P-3 relative to the total solid content of the coating liquid would be the value shown in Table 2, and Coating Liquid 13 was prepared.
  • An absorbing layer-attached transparent substrate of Example 13 was produced in the same manner as in Example 10, except that Coating Liquid 13 was used instead of Coating Liquid 10.
  • Example 14 The composition of Coating Liquid 10 was changed so that the content of Pigment P-3 relative to the total solid content of the coating liquid would be the value shown in Table 2, and Coating Liquid 14 was prepared.
  • the transparent substrate with an absorbent layer of Example 14 was produced in the same manner as in Example 6, except that the coating liquid 14 was used instead of the coating liquid 10, and the absorbent layer was formed by the electrostatic method 2 shown below instead of the electrostatic method 1.
  • An absorbing layer was formed on one surface of the transparent substrate by electrostatic coating using coating liquid 14 (composition for forming an absorbing layer).
  • an electrostatic coating device liquid electrostatic coater, manufactured by Asahi Sunac Corporation
  • the electrostatic coating gun used was a rotary atomization automatic electrostatic gun (Sunbell ESA120, manufactured by Asahi Sunac Corporation, cup diameter 70 mm).
  • a stainless steel base was used to place the substrate on in order to release the electric charge.
  • the temperature in the coating booth of the electrostatic coating device was adjusted to within a range of 23 ⁇ 1° C., and the humidity was adjusted to within a range of 52% ⁇ 3%.
  • the cleaned glass substrate was placed on a base on a chain conveyor of an electrostatic coating device with its long side perpendicular to the conveying direction.
  • the glass substrate placed on the base was conveyed at a constant speed by the chain conveyor while passing under an electrostatic coating gun spraying the coating liquid, thereby coating the glass substrate with the coating liquid and forming a precursor layer.
  • the number of passes was one.
  • the coated surface was side B of the glass substrate, i.e., the surface that came into contact with molten tin during the production of the glass substrate by the float method.
  • the glass substrate having the precursor layer was baked in air at 300° C. for 60 minutes to form an absorbing layer, thereby obtaining a transparent substrate with an absorbing layer.
  • the coating conditions when the coating liquid was electrostatically applied were as follows:
  • Cup rotation speed (rotation speed of the rotary atomizing head): 35 krpm Voltage applied to electrostatic coating gun: 60 kV Gun height: 285 mm Number of guns: 1 ⁇ Liquid volume: 20g/min Shave air: 175L/min Conveying speed: 2.0 m/min
  • the gun height refers to the distance from the bottom of the bell cup of the electrostatic coating gun to the substrate.
  • the bottom of the bell cup is the front end of the rotary atomizing head in the spray direction of the coating liquid.
  • Example 15 to 17 An absorbing layer-attached transparent substrate of Example 15 was produced in the same manner as in Example 14, except that Coating Liquid 13 was used instead of Coating Liquid 14. Furthermore, transparent substrates with an absorbing layer of Examples 16 and 17 were produced in the same manner as in Examples 14 and 15, except that, when forming the absorbing layer, the conveying speed of the glass substrate passing under the electrostatic coating gun spraying the coating liquid was adjusted so that the average thickness of the absorbing layer would be the value shown in Table 2.
  • Example 18 to 32 [Formation of Antireflection Layer] Laminated transparent substrates and transparent substrates with an absorbing layer of Examples 18 to 32, which had a printing layer, transparent substrate, absorbing layer, antireflection layer, and antifouling layer in this order, were produced in the same manner as in Examples 3 to 17, except that an absorbing layer and a printing layer were each formed on the surface of the transparent substrate, and then a plurality of metal oxide layers were formed on the surface of the absorbing layer by sputtering as described below to form an antireflection layer, and an antifouling layer was formed on the surface of the formed antireflection layer.
  • each metal oxide layer In forming each metal oxide layer, the materials shown in Table 1 below were used, and the film formation conditions were adjusted to obtain the thickness shown in Table 1 below.
  • the first layer was disposed on the antifouling layer side, and the fourth layer was disposed on the absorbing layer side.
  • Sputtering was carried out at a pressure of 0.3 Pa, a frequency of 20 kHz, a deposition power of 3.8 W/cm 2 , and a reverse pulse width of 5 ⁇ sec while introducing a mixed gas of argon gas and 10% by volume of oxygen gas into the chamber.
  • the thickness of the metal oxide layer was measured by monitoring with a quartz oscillator.
  • ⁇ Surface resistivity> For each of the transparent substrates with an absorbent layer, the surface resistivity (unit: ⁇ / ⁇ ) of the outermost surface on the absorbent layer side was measured using a resistivity measuring meter (manufactured by Mitsubishi Chemical Analytech Co., Ltd., device name: Hiresta (registered trademark) UP (MCP-HT450 type)). Specifically, a probe was placed on the center of the outermost surface on the absorbent layer side of the transparent substrate with an absorbent layer, and a current of 10 V was applied for 10 seconds, and the surface resistivity was measured.
  • a resistivity measuring meter manufactured by Mitsubishi Chemical Analytech Co., Ltd., device name: Hiresta (registered trademark) UP (MCP-HT450 type)
  • ⁇ Arithmetic mean roughness Ra> For each of the transparent substrates with an absorbent layer, the arithmetic mean roughness Ra (unit: ⁇ m) of the outermost surface on the absorbent layer side was measured using a surface roughness measuring instrument ("SURFCOM 1500SD3-12") manufactured by Tokyo Seimitsu Co., Ltd., in accordance with the method specified in JIS B 0601 (2001).
  • SURFCOM 1500SD3-12 surface roughness measuring instrument
  • the 60° specular gloss (Gloss) of the outermost surface on the absorbing layer side was measured using a glossmeter (product name "GM-268A") manufactured by Konica Minolta, Inc., by the method described in JIS Z8741:1997 (ISO2813:1994), without eliminating reflection from the back surface (the surface opposite to the side on which the absorbing layer was formed).
  • the luminous transmittance (unit: %) of each absorbing layer-attached transparent substrate was measured by the method specified in JIS Z 8701 (1999). Specifically, the spectral transmittance was measured in an area of the absorbing layer-attached transparent substrate where no printed layer was formed using a flat substrate transmittance/reflectance measuring unit (product name: LV-RTM) manufactured by Lambda Vision Co., Ltd., and the luminous transmittance (stimulus value Y specified in JIS Z 8701 (1999)) was calculated. A D65 light source was used to calculate the luminous transmittance and luminous reflectance.
  • the luminous reflectance (unit: %) of each absorbing layer-equipped transparent substrate was measured by the method specified in JIS Z 8701 (1999). Specifically, the spectral reflectance of the surface of the absorbing layer-equipped transparent substrate on which the absorbing layer was provided was measured in SCI mode using a spectrophotometer (manufactured by Konica Minolta, model: CM-2600d), and the luminous reflectance (reflection stimulus value Y specified in JIS Z8701) was calculated from the reflectance. At that time, the back surface was painted black in order to cancel out reflection from the surface on which the absorbing layer was not provided. The calculation was performed using a D65 light source.
  • the near-infrared transmittance (unit: %) in the area where the printing layer of each transparent substrate with an absorption layer was not formed was measured as the average transmittance of light in the wavelength range of 900 to 1000 nm using a flat substrate transmittance/reflectance measuring unit (product name: LV-RTM) manufactured by Lambda Vision Co., Ltd.
  • the transmission haze is the proportion (percentage) of transmitted light that deviates by 0.044 rad (2.5°) or more from the incident light due to forward scattering, among transmitted light that passes through the transparent substrate with an absorbent layer from the transparent substrate toward the absorbent layer.
  • the transmission haze is measured in accordance with JIS K 7136:2000 (ISO 14782:1999).
  • the transmission haze in the area where the printing layer was not formed of each transparent substrate with an absorbing layer was measured using a haze meter (manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd., model: HZ-V3) in accordance with JIS K 7136:2000 (ISO 14782:1999).
  • ⁇ Adhesion> The adhesion between the absorbing layer and the transparent substrate of each of the transparent substrates with an absorbing layer was measured by the following method. A linear cut was made on the outermost surface of the absorbent layer side (surface of the anti-fouling layer) of the sample of transparent substrate with absorbent layer obtained in each example, using a cutter (3M's "Scotch High Purity Titanium Coat S Type"), with a depth reaching all the way to the transparent substrate. A MAX Clean Wiper (manufactured by MCC Corporation) was attached to the surface of a flat metal indenter with a bottom surface of 10 mm x 10 mm to prepare a friction element.
  • This friction element was attached to an abrasion tester ("PA-300A” manufactured by Daiei Scientific Instruments Manufacturing Co., Ltd.) and a rubbing test was performed. Specifically, the friction element and the sample were attached to the abrasion tester so that the bottom surface of the friction element was in contact with the location where the cut was formed on the outermost surface on the absorbent layer side of the sample, and a weight was placed on the friction element so that the load on the friction element was 1.03 kgf. The friction element was then slid back and forth 120 times under the conditions of 20 mm in one direction and 1 reciprocation/sec. After the test, the outermost surface of the absorbent layer side of the sample was visually inspected, and the adhesion was evaluated according to the following criteria.
  • PA-300A manufactured by Daiei Scientific Instruments Manufacturing Co., Ltd.
  • Table 2 shows the configuration of each transparent substrate with an absorbing layer and the results of the above evaluation tests.
  • the "Solid ratio after curing [mass %]" column for "Color pigment particles” indicates the content (unit: mass %) of color pigment particles relative to the total solid content of the coating liquid used to form the absorbing layer.
  • the transparent substrates with an absorbent layer of the present invention of Examples 6 to 9, 11 to 15, 21 to 24, and 26 to 30 have a surface resistivity of 10 11 to 10 15 ⁇ / ⁇ on the outermost surface on the absorbent layer side, exhibiting excellent insulation, and a pencil hardness of 4H or more, exhibiting excellent scratch resistance.
  • the transparent substrates with an absorbent layer of the present invention have a luminous transmittance of 10 to 85%, exhibiting appropriate visible light absorption performance suitable for use as cover members for image display devices.
  • the transparent substrates with an absorbent layer of Examples 3 to 5, 10, 16 to 20, 25, and 31 to 32 the pencil hardness of the outermost surface on the absorbent layer side was 3H or less, and it was confirmed that the scratch resistance was insufficient.
  • the surface resistivity was less than 10 10 ⁇ / ⁇ , and the insulation property was insufficient. Furthermore, the adhesion was also insufficient.
  • Scaly silica particles (Sun Green Rum SFS HN150, manufactured by AGC Si-Tech Co., Ltd.) were crushed and dispersed in water to prepare a silica particle dispersion containing 5% by mass of scaly silica particles.
  • the above evaluation test was carried out on the transparent substrate with an absorbing layer of Example 33, the luminous transmittance of the transparent substrate with an absorbing layer of Example 33 was 95%, and the visible light absorption performance was insufficient.
  • Example 34 A transparent substrate (a flat rectangular glass substrate measuring 100 mm long x 100 mm wide x 1.3 mm thick) similar to that used in Example 1 was bent to prepare a bent transparent substrate 21 as shown in Fig. 4.
  • the bent transparent substrate 21 had a flat portion 27, an inclined portion 28 (another flat portion having a different angle) inclined at an inclination angle ⁇ (°) with respect to the flat portion 27, and a bent portion 29 disposed between the flat portion 27 and the inclined portion 28.
  • Example 34 In the same manner as in Example 2, a printed layer was formed on one surface of a curved transparent substrate 21 having a flat portion 27 and an inclined portion 28, corresponding to the second main surface 21B, and a metal oxide layer and an anti-fouling layer were formed in that order on the other surface, corresponding to the first main surface 21A, to produce a laminated transparent substrate of Example 34 having a printed layer, a curved transparent substrate, a metal oxide layer (corresponding to an absorption layer), and an anti-fouling layer in that order.
  • Example 34 bent transparent substrates were prepared in which the inclination angle ⁇ , which is the angle between the flat portion and the inclined portion, was 6°, 12°, 24°, 32°, 40°, 45°, and 60°, and laminated transparent substrates were manufactured using each bent transparent substrate.
  • ⁇ which is the angle between the flat portion and the inclined portion
  • Example 35 In the same manner as in Example 12, an absorbent layer was formed on one surface of a curved transparent substrate 21 having a flat portion 27 and an inclined portion 28, corresponding to the first main surface 21A, a printed layer was formed on the other surface corresponding to the second main surface 21B, and an anti-fouling layer was formed on the outermost surface of the absorbent layer, thereby producing a transparent substrate with an absorbent layer of Example 35 having a printed layer, curved transparent substrate, absorbent layer, and anti-fouling layer in this order.
  • the thicknesses of the absorbing layer were measured by monitoring with the above-described quartz crystal oscillator at inclined portions where the inclination angles ⁇ were 6°, 12°, 24°, 32°, 40°, 45°, and 60°, and the deviation [%] from the thickness of the absorbing layer at the flat portion was calculated.
  • the transparent substrate with an absorbent layer obtained in Example 35 was cut along the thickness direction at five arbitrarily selected points in the in-plane direction of the inclined portion where the inclination angles ⁇ were 6°, 12°, 24°, 32°, 40°, 45°, and 60°.
  • the obtained cross sections were observed using a scanning electron microscope (SEM) at a magnification of 30,000 times, and the thickness from the interface between the bent transparent substrate and the absorbent layer to the surface of the absorbent layer was measured.
  • the arithmetic mean value calculated from the obtained measurements was defined as the thickness of the absorbent layer in the inclined portion, and the deviation [%] from the thickness of the absorbent layer in the flat portion obtained in the same manner was calculated.
  • the absorbance was measured at five randomly selected points within the plane of the inclined portion, and the difference between the maximum and minimum values calculated from the five-point measurement values was calculated.
  • the difference between the calculated maximum and minimum absorbance values was taken as the deviation of the absorbance in the in-plane direction of the inclined portion.
  • Table 3 The measurement results are shown in Table 3.
  • Table 3 shows the measurement results for the thickness deviation of the absorbing layer, the absorbance, and the deviation of the absorbance at each tilt angle for the transparent substrates with absorbing layers of Examples 34 and 35.
  • the absorbing layer-attached transparent substrate of Example 35 has uniform in-plane visible light absorption performance.
  • the absorbing layer-attached transparent substrate of Example 35 can provide a display image with excellent in-plane uniformity and aesthetic appearance even when, for example, at least a part of the transparent substrate has a curved shape or when at least a part of the outermost surface of the absorbing layer-attached transparent substrate has curvature.

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Abstract

本発明の吸収層付透明基材は、第１主面および第２主面を有する透明基材と、上記透明基材の上記第１主面に接して配置されている吸収層と、上記透明基材の上記第２主面に配置されている印刷層と、を備え、上記吸収層が、加水分解性シラン化合物の重縮合物を含むマトリックス材料と、上記マトリックス材料に分散した着色顔料粒子とを含み、上記吸収層側の最表面の鉛筆硬度が４Ｈ以上であり、視感透過率が１０～８５％であり、かつ、上記吸収層側の最表面の表面抵抗率が１０１１～１０１５Ω／□である。

Description

吸収層付透明基材およびその製造方法、並びに車両用透明部品
　本発明は、吸収層付透明基材およびその製造方法、並びに車両用透明部品に関する。
　近年、車両等に搭載されるナビゲーションシステムやスピードメータ等の各種機器に画像表示装置が用いられる機会が増えている。かかる画像表示装置のカバー部材の特性として、安全性や外観向上の観点から、外光の反射を低減することや、画面への外光の映りこみによる画像の視認性低下を防ぐことが求められている。このような画像の視認性の低下を防止する手段として、カバー部材の透明基材とは異なる層に可視光を吸収させる技術が知られている。
　特許文献１には、ガラス板と、可視光・赤外線非透過膜と、赤外線透過膜と、光吸収性膜と、を備える遮光プレートに関する発明が記載されている。
日本国特開２０１７－１９４４８９号公報
　画像表示装置のカバー部材において、使用者の目的および志向に応じて、可視光の吸収性能の調整を容易にすることが求められている。この観点から、本発明者は、特許文献１において具体的に記載されている態様等を参照しながら、可視光を吸収する着色材を含む吸収層を利用したカバー部材の各種特性について検討したところ、外光の反射等を低減できる一方で、画像表示装置等のカバー部材として有用な特性が低下する場合があることが確認された。特に、可視光を吸収する吸収層付透明基材における絶縁性および耐傷性について改善の余地があることが見出された。
　そこで、本発明は、可視光を吸収する吸収層を備え、かつ、絶縁性および耐傷性に優れる吸収層付透明基材の提供を課題とする。また、本発明は、吸収層付透明基材を備える車両用透明部品の提供を課題とする。さらに、本発明は、面内における表示画像の均質性および美観に優れる吸収層付透明基材を備える車両用透明部品の提供を課題とする。
　本発明者は、鋭意検討した結果、以下の構成により上記課題を解決できることを見出した。
　〔１〕
　第１主面および第２主面を有する透明基材と、上記透明基材の上記第１主面に接して配置されている吸収層と、上記透明基材の上記第２主面に配置されている印刷層と、を備え、
　上記吸収層が、加水分解性シラン化合物の重縮合物を含むマトリックス材料と、上記マトリックス材料に分散した着色顔料粒子とを含み、上記吸収層側の最表面の鉛筆硬度が４Ｈ以上であり、視感透過率が１０～８５％であり、かつ、上記吸収層側の最表面の表面抵抗率が１０１１～１０１５Ω／□である、吸収層付透明基材。
　〔２〕
　Ｄ６５光源下の透過色でのａ＊値が５．０以下であり、かつ、ｂ＊値が５．０以下である、〔１〕に記載の吸収層付透明基材。
　〔３〕
　上記着色顔料粒子が、酸窒化チタン、カーボンブラックおよび有機顔料からなる群より選ばれる１つ以上の粒子である、〔１〕または〔２〕に記載の吸収層付透明基材。
　〔４〕
　上記着色顔料粒子の平均粒子径が、５０～１０００ｎｍである、〔１〕～〔３〕のいずれかに記載の吸収層付透明基材。
　〔５〕
　上記吸収層の厚みが、０．０５～１．００μｍである、〔１〕～〔４〕のいずれかに記載の吸収層付透明基材。
　〔６〕
　上記着色顔料粒子の含有量が、上記吸収層の全質量に対して１～５０質量％である、〔１〕～〔５〕のいずれかに記載の吸収層付透明基材。
　〔７〕
　上記吸収層側の最表面の算術平均粗さＲａが０．０１～０．６０μｍである、〔１〕～〔６〕のいずれかに記載の吸収層付透明基材。
　〔８〕
　上記吸収層の表面に配置されている反射防止層を更に備える、〔１〕～〔７〕のいずれかに記載の吸収層付透明基材。
　〔９〕
　上記吸収層側の最表面に配置されている防汚層を更に備える、〔１〕～〔８〕のいずれかに記載の吸収層付透明基材。
　〔１０〕
　上記吸収層付透明基材が、波長９００～１０００ｎｍの光の平均透過率が７０％以上である領域を有する、〔１〕～〔９〕のいずれかに記載の吸収層付透明基材。
　〔１１〕
　〔１〕～〔１０〕のいずれかに記載の吸収層付透明基材を備える、車両用透明部品。
　〔１２〕
　第１主面および第２主面を有する透明基材と、上記透明基材の上記第１主面に接して配置されている吸収層とを備える、車両用透明部品であって、上記透明基材の上記第２主面が、画像表示装置の視認側に貼合されており、上記吸収層が、加水分解性シラン化合物の重縮合物を含むマトリックス材料と、上記マトリックス材料に分散した着色顔料粒子を含み、上記吸収層側の最表面の鉛筆硬度が４Ｈ以上であり、視感透過率が１０～８５％であり、かつ、上記吸収層側の最表面の表面抵抗率が１０１１～１０１５Ω／□である、車両用透明部品。
　〔１３〕
　〔１〕～〔１０〕のいずれかに記載の吸収層付透明基材の製造方法であって、
　上記透明基材の上記第１主面に上記吸収層を形成する吸収層形成工程と、上記透明基材の上記第２主面に上記印刷層を形成する印刷工程とを含む、吸収層付透明基材の製造方法。
　〔１４〕
　上記吸収層は、マトリックス材料の前駆体、上記着色顔料粒子および液状媒体を含む吸収層形成用組成物を用いて、上記透明基材の上記第１主面に前駆体層を形成し、得られた上記前駆体層を硬化することにより形成される、〔１３〕に記載の吸収層付透明基材の製造方法。
　〔１５〕
　上記前駆体層は、静電塗装法により形成される、〔１４〕に記載の吸収層付透明基材の製造方法。
　本発明によれば、可視光を吸収する吸収層を備え、かつ、絶縁性および耐傷性に優れる吸収層付透明基材を提供できる。また、本発明によれば、吸収層付透明基材を備える車両用透明部品を提供できる。さらに、本発明によれば、面内における表示画像の均質性および美観に優れる吸収層付透明基材を備える車両用透明部品を提供できる。
図１は、吸収層付透明基材の構成の一例を概略的に示す断面図である。 図２は、吸収層付透明基材の構成の他の例を概略的に示す断面図である。 図３は、吸収層付透明基材の構成の他の例を概略的に示す断面図である。 図４は、吸収層付透明基材が有する透明基材の他の例を概略的に示す断面図である。 図５は、車両用透明部品の構成の一例を概略的に示す断面図である。
　以下に添付図面を参照して、本発明の好適な実施形態を詳細に説明する。なお、この実施形態により本発明が限定されるものではなく、また、実施形態が複数ある場合には、各実施形態を組み合わせて構成するものも含むものである。以下の実施形態には、本発明の範囲を逸脱しない範囲で種々の変形および置換を加えることができる。
　本明細書における用語の意味は以下の通りである。
　「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。本明細書に段階的に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値または下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値または下限値に置き換えてもよい。また、本明細書に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値または下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。
　本明細書において、各成分は、各成分に該当する物質を１種単独で用いても、２種以上を併用してもよい。ここで、各成分について２種以上の物質を併用する場合、その成分についての含有量とは、特段の断りが無い限り、併用した物質の合計の含有量を指す。
　本明細書において、２以上の好ましい態様の組み合わせは、より好ましい態様である。
　本明細書において、可視光とは、４００～７００ｎｍの波長領域の光を意味する。
　本明細書において、近赤外線とは、９００～１０００ｎｍの波長領域の光を意味する。
　本明細書において、透明とは、可視光の平均透過率が１０％以上であることを意味する。
＜第１実施形態＞
　本発明の第１実施形態に係る吸収層付透明基材は、第１主面および第２主面を有する透明基材と、透明基材の第１主面に接して配置されている吸収層と、透明基材の第２主面に配置されている印刷層と、を備える。吸収層は、加水分解性シラン化合物の重縮合物を含むマトリックス材料と、マトリックス材料に分散した着色顔料粒子とを含み、吸収層側の最表面の鉛筆硬度が４Ｈ以上であり、視感透過率が１０～８５％であり、かつ、吸収層側の最表面の表面抵抗率が１０１１～１０１５Ω／□である、吸収層付透明基材である。
　本実施形態に係る吸収層付透明基材が、可視光を吸収する吸収層を備え、タッチパネルのカバー部材として適用可能な絶縁性を有し、かつ、耐傷性に優れるという効果を奏する理由の詳細は明らかではないが、本発明者は以下のように推測している。
　本発明者は、可視光の吸収性能を容易にする観点から、特許文献１の図２に具体的に示されているガラス板、アンチグレア層、誘電体多層膜からなる光吸収性反射防止膜、および、防汚層を有する遮光プレートにおいて、上記の光吸収性反射防止膜に代えて可視光を吸収する着色材を含む層を用いてカバー部材を作製したところ、表面の絶縁性および耐傷性が近年要求される水準を満たさない場合があることを知見した。これは、上記のカバー部材では、吸収層が窒化ケイ素層と、窒化物層との積層構造であることに加え、他の層（アンチグレア層）を介して基材の表面に設けられているためであると推測される。それに対して、本実施形態の吸収層付透明基材では、着色顔料粒子がマトリックス材料に分散されてなる吸収層が透明基材の一方の主面に接していることから、吸収層付透明基材の耐傷性が向上し、更に、吸収層がマトリックス材料として加水分解性シラン化合物の重縮合物を含むことにより、優れた絶縁性および耐傷性を有し、市場の要求を十分満たす吸収層付透明基材を得ることができたものと推測される。
　以下、図面を参照しながら、本実施形態に係る吸収層付透明基材について説明する。
　図１は、本実施形態に係る吸収層付透明基材の構成の一例を概略的に示す断面図である。
　図１に示す吸収層付透明基材１は、印刷層１０と、透明基材２０と、吸収層３０とを備える。透明基材２０は互いに対向する第１主面２０Ａと第２主面２０Ｂを有し、吸収層３０は第１主面２０Ａに接して配置され、印刷層１０は第２主面２０Ｂの周縁部に配置されている。
　吸収層付透明基材１においては、吸収層３０の透明基材２０に接する主面と対向する主面が、吸収層側の最表面１Ａであり、この吸収層側の最表面１Ａが、上記の鉛筆硬度の要件および表面抵抗率の要件を満たしている。
　図２は、本実施形態に係る吸収層付透明基材の構成の他の例を概略的に示す断面図である。
　図２に示す吸収層付透明基材２は、印刷層１０と、透明基材２０と、吸収層３０と、防汚層４０とを備える。
　吸収層付透明基材２においては、吸収層３０の表面に防汚層４０が設けられている。吸収層付透明基材２においては、防汚層４０の吸収層３０に接する主面と対向する主面が、吸収層側の最表面２Ａであり、この吸収層側の最表面２Ａが、上記の鉛筆硬度の要件および表面抵抗率の要件を満たしている。
　吸収層付透明基材２における上記以外の構成については、吸収層付透明基材１と共通するため説明を省略する。
　図３は、本実施形態に係る吸収層付透明基材の構成の他の例を概略的に示す断面図である。
　図３に示す吸収層付透明基材３は、印刷層１０と、透明基材２０と、吸収層３０と、反射防止層５０と、防汚層４０とを備える。
　吸収層付透明基材３においては、吸収層３０の表面に反射防止層５０が設けられ、反射防止層５０の表面に防汚層４０が設けられている。吸収層付透明基材３においては、防汚層４０の反射防止層５０に接する主面と対向する主面が、吸収層側の最表面３Ａであり、この吸収層側の最表面３Ａが、上記の鉛筆硬度の要件および表面抵抗率の要件を満たしている。
　吸収層付透明基材３における上記以外の構成については、吸収層付透明基材１および吸収層付透明基材２と共通するため説明を省略する。
　図示するように、吸収層付透明基材の吸収層側の最表面は、透明基材の第１主面側に配置されている層のうち、透明基材から最も離れた外側に位置する層の、空気界面側の主面（透明基材側の主面と対向する主面）を意味する。
（鉛筆硬度）
　本実施形態に係る吸収層付透明基材において、吸収層側の最表面の鉛筆硬度は４Ｈ以上である。
　吸収層付透明基材の吸収層側の最表面の鉛筆硬度は、ＪＩＳ　Ｋ　５６００（１９９９年）に規定される鉛筆硬度試験に基づいて測定される。
　耐久性がより優れる点で、吸収層側の最表面の鉛筆硬度は、６Ｈ以上が好ましい。また、吸収層側の最表面の鉛筆硬度は、９Ｈ以下であってよい。
　吸収層側の最表面の鉛筆硬度は、例えば透明基材に接して配置される吸収層に含まれるマトリックス材料の種類および含有量を調整することにより、希望の値を実現できる。本実施形態においては、吸収層がマトリックス材料として後述する加水分解性シラン化合物の重縮合物を含むため、吸収層側の最表面の鉛筆硬度が向上する。
（表面抵抗率）
　本実施形態に係る吸収層付透明基材においては、吸収層側の最表面の表面抵抗率が１０１１～１０１５Ω／□である。
　吸収層側の最表面の表面抵抗率は、ＪＩＳ　Ｋ　６２７１－６（２００８年）に規定される試験方法に基づいて測定される。
　吸収層付透明基材を静電容量式タッチパネルを備える画像表示装置に適用した際の性能がより優れる点で、吸収層側の最表面の表面抵抗率は、１０１２～１０１５Ω／□が好ましい。
　吸収層側の最表面の表面抵抗率は、例えば透明基材に接して配置される吸収層に含まれるマトリックス材料および着色顔料粒子の種類および含有量により調整できる。
（視感透過率）
　吸収層付透明基材の視感透過率は、１０～８５％であり、３０～８０％が好ましく、４０～８０％がより好ましい。吸収層付透明基材の視感透過率が上記範囲にあると、適度な可視光吸収性能を有するため、画像表示装置のカバー部材として用いた場合に、外光からの反射光を抑制し、表示画像のコントラストを向上させることができる。
　吸収層付透明基材の視感透過率（単位：％）は、分光測色計を用いて、ＪＩＳ　Ｚ　８７０１（１９９９年）に規定される方法により、測定される。具体的な視感透過率の測定方法は、後述する実施例に記載されている。
　吸収層付透明基材の視感透過率は、例えば、吸収層に含まれる着色顔料粒子の種類および含有量、並びに、吸収層の厚みにより調整できる。
　以下、本実施形態に係る吸収層付透明基材が備える各部材について、それぞれ詳述する。
（透明基材）
　透明基材としては、可視光を透過する透明な基材が使用できる。透明とは、上述のように４００～７００ｎｍの波長領域の可視光の平均透過率が１０％以上であることを意味する。透明基材の可視光の平均透過率は８０％以上が好ましく、９０％以上がより好ましい。透明基材の可視光の平均透過率は、積分球を用いて測定される。
　透明基材を構成する材料としては、例えば、ガラス、樹脂、および、それらの組み合わせ（複合材料、積層材料等）が挙げられ、ガラスが好ましい。
　ガラスとしては、例えばソーダライムガラス、ホウケイ酸ガラス、アルミノシリケートガラスおよび無アルカリガラスが挙げられる。
　樹脂としては、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、トリアセチルセルロースおよびポリメタクリル酸メチルが挙げられる。
　透明基材の形態としては、例えば、剛性を有する板状、および、柔軟性を有するフィルム状が挙げられ、剛性を有する板状が好ましい。
　透明基材における第１主面（吸収層が配置される表面）は、平滑でもよく、凹凸を有してもよい。吸収層を設けることにより所望の光学特性が得られる観点からは、平滑が好ましい。
　透明基材の形状は、平坦な形状であっても、曲面を有する形状であってもよい。透明基材が曲面を有する場合、全体が曲面で構成されてもよく、曲面である部分と平坦である部分とから構成されてもよい。最近では、画像表示装置を備える各種機器（テレビ、パーソナルコンピュータ、スマートフォン、カーナビゲーション等）において、画像表示装置の表示面が曲面とされたものが登場している。透明基材が曲面を有する形状である吸収層付透明基材は、このような画像表示装置用の光学部品として有用である。
　図４に、曲面である部分と平坦である部分とを有する透明基材の例を示す。図４に示す屈曲透明基材２１は、平坦部２７と、傾斜部２８と、平坦部２７および傾斜部２８の間に配置されている屈曲部２９と、を有する。平坦部２７および傾斜部２８は平坦な形状であり、屈曲部２９は曲面を有する。傾斜角度θは、平坦部２７と傾斜部２８とのなす角度である。また、屈曲透明基材２１は、互いに対向する第１主面２１Ａおよび第２主面２１Ｂを有する。
　なお、透明基材の形状における「曲面」とは、第１曲率半径Ｒ１が１００００ｍｍ以下である領域を意味する。
　第１曲率半径Ｒ１は、以下のように定められる。透明基材の主面におけるある領域上の任意の点Ｐにおける接線方向のうち、以下の条件を満たすよう選ばれる接線方向をＸ軸とし、Ｘ軸に直交する接線方向をＹ軸とし、主面の法線方向をＺ軸とする。Ｘ軸は、上記点Ｐを通りＺ軸を含む平面のうち主面の曲率半径が最小となる平面において、Ｚ軸と直交する接線方向である。第１曲率半径Ｒ１が最小となる方向が複数ある場合、それらのうち少なくとも一つの方向をＸ軸として、第１曲率半径Ｒ１が定められる。
　透明基材の形状については、国際公開第２０２２／０７０６１１号の記載を参照でき、この記載は本明細書に組み込まれる。
　透明基材としては、ガラス基材が好ましい。
　ガラス基材は、例えば、所望のガラス原料を溶融炉に投入し、加熱溶融し清澄した後、成形装置に供給して溶融ガラスを成形し、徐冷することにより製造できる。ガラス基材としては、例えば、フロート法、フュージョン法およびダウンドロー法等の方法により成形されたガラス基材が使用できる。
　透明基材の厚みは、用途に応じて適宜選択できる。透明基材としてガラス基材を用いる場合、その厚みは０．１～５ｍｍが好ましく、０．２～２．５ｍｍがより好ましい。
　透明基材としてガラス基材を用いる場合、ガラス基材の第１主面に強化処理がなされていることが好ましい。強化処理でガラスの強度が向上し、例えば強度を維持しながら厚みを削減できる。未強化ガラス基材上に吸収層を形成し、その後、強化処理をしてもよい。
（吸収層）
　本実施形態に係る吸収層付透明基材において、吸収層は、透明基材の第１主面に接して配置されており、マトリックス材料と、マトリックス材料に分散した着色顔料粒子とを含む。
　吸収層は、透明基材の第１主面に接して配置されている領域が存在する限り、透明基材の第１主面の全面にわたって配置されていてもよく、透明基材の第１主面の一部の領域に配置されていてもよい。
－マトリックス材料－
　マトリックス材料は、吸収層の内部において着色顔料粒子を分散した状態で含む成分であり、加水分解性シラン化合物の重縮合物を含む。これにより、吸収層付透明基材の耐傷性が優れたものとなる。
　加水分解性シラン化合物としては、例えば、ケイ素原子とケイ素原子に結合する加水分解性基とを少なくとも有する化合物（以下、「シラン化合物Ａ」とも記載する。）、シラン化合物Ａの加水分解物、それらの部分加水分解縮合物、および、シラザンが挙げられる。
　ここで、「加水分解性基」とは、加水分解によって、ケイ素原子に結合するＯＨ基に変換し得る基を意味する。加水分解性基としては、アルコキシ基、アシロキシ基、ケトオキシム基、アルケニルオキシ基、アミノ基、アミノキシ基、アミド基、イソシアネート基およびハロゲン原子が挙げられ、シラン化合物Ａの安定性と加水分解のしやすさとのバランスの点から、アルコキシ基、イソシアネート基またはハロゲン原子（特に塩素原子）が好ましく、アルコキシ基がより好ましい。
　アルコキシ基としては、炭素数１～５のアルコキシ基が挙げられ、炭素数１～３のアルコキシ基が好ましく、メトキシ基またはエトキシ基がより好ましい。
　なお、上記加水分解性シラン化合物の重縮合物は、架橋構造を有するとともに、一部に残存した加水分解性基を含むことが多いため、化学構造式で表すことは困難である。
　シラン化合物Ａとしては、例えば、ケイ素原子に結合する炭化水素基および加水分解性基を有するシラン化合物Ａ１、並びに、ケイ素原子に結合する４つの加水分解性基を有するシラン化合物Ａ２が挙げられる。
　シラン化合物Ａ１において、ケイ素原子に結合する炭化水素基は、１つのケイ素原子に結合する１価の炭化水素基であってもよく、２つのケイ素原子に結合する２価の炭化水素基であってもよい。１価の炭化水素基としては、アルキル基、アルケニル基およびアリール基が挙げられ、アルキル基が好ましい。２価の炭化水素基としては、アルキレン基、アルケニレン基およびアリーレン基が挙げられ、アルキレン基が好ましい。
　炭化水素基の炭素数は、１～５が好ましく、１～３がより好ましい。炭化水素基は、炭素原子間に－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－および－ＮＲ－（ただしＲは水素原子または１価の炭化水素基である。）から選ばれる連結基を有していてもよい。
　シラン化合物Ａ１において、ケイ素原子に結合する炭化水素基の数は、例えば１～３であり、１または２が好ましく、ケイ素原子に結合する加水分解性基の数は、例えば１～３であり、２または３が好ましい。
　シラン化合物Ａ１の具体例としては、アルキル基を有するアルコキシシラン（メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリエトキシシラン等）、ビニル基を有するアルコキシシラン（ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン等）、エポキシ基を有するアルコキシシラン（２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリエトキシシラン等）、並びに、アクリロイルオキシ基を有するアルコキシシラン（３－アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン等）が挙げられる。
　シラン化合物Ａ２の具体例としては、テトラアルコキシシラン（テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシラン等）、パーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン（パーフルオロポリエーテルトリエトキシシラン等）、パーフルオロアルキル基を有するアルコキシシラン（パーフルオロエチルトリエトキシシラン等）等が挙げられる。
　マトリックス材料としては、シラン化合物Ａ、シラン化合物Ａの加水分解物、および、それらの部分加水分解縮合物からなる群より選択される加水分解性シラン化合物の重縮合物が好ましい。
　中でも、シラン化合物Ａがシラン化合物Ａ１およびシラン化合物Ａ２の両者を含むことがより好ましい。
　シラン化合物Ａがシラン化合物Ａ１およびシラン化合物Ａ２の両者を含む場合、シラン化合物Ａ１およびシラン化合物Ａ２の合計に対するシラン化合物Ａ１の比率は、質量比で、６０質量％以上１００質量％未満が好ましく、８０質量％以上１００質量％未満がより好ましい。
　吸収層に含まれるマトリックス材料の含有量は、吸収層の全質量に対して５０～９５質量％が好ましく、８０～９５質量％がより好ましい。
　吸収層に含まれるマトリックス材料の組成は、昇温脱離ガス分析法（ＴＤＳ）または核磁気共鳴分光法（ＮＭＲ）から、マトリックス材料の含有量はＮＭＲから算出できる。
－着色顔料粒子－
　着色顔料粒子は、可視光の少なくとも一部を吸収する顔料粒子である。着色顔料粒子は、無機顔料粒子であってもよく、有機顔料粒子であってもよい。また、着色顔料粒子は、黒色顔料粒子であってもよく、色が異なる複数の着色顔料粒子の混合物であってもよいが、吸収層付透明基材の視感透過率やＤ６５光源下の透過色でのａ＊値、ｂ＊値を所望の範囲に調整しやすい点で、黒色顔料粒子が好ましい。
　黒色の顔料粒子としては、例えば、酸窒化チタン（チタンブラック）、カーボンブラック、チタンカーボン、酸化鉄、酸化チタン系黒色顔料粒子および黒鉛等の無機顔料粒子、並びに、黒色の有機顔料粒子が挙げられる。
　中でも、着色顔料粒子は、酸窒化チタン、カーボンブラックおよび有機顔料からなる群より選ばれる１つ以上の粒子であることが好ましく、酸窒化チタンがより好ましい。
　また、後述する近赤外線透過領域を有する吸収層付透明基材に用いる着色顔料粒子としては、近赤外線を透過する有機顔料粒子を用いることが好ましい。
　着色顔料粒子の平均粒子径は、５０～１０００ｎｍが好ましく、５０～３００ｎｍがより好ましい。
　着色顔料粒子の平均粒子径は、数平均粒子径であり、吸収層付透明基材の厚み方向に沿った断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）または透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）を用いて観察することで求めることができる。拡大倍率を５０，０００～２００，０００倍とし、着色顔料粒子の数平均粒子径を直接測定し、得られる観察画像に現れる着色顔料粒子を任意に３０個選択し、選択された着色顔料粒子の円相当径の算術平均値を算出することにより、平均粒子径を求めることができる。ここで、着色顔料粒子が真球の場合、真球の直径を測定し、数平均粒子径とする。着色顔料粒子が真球でない場合、最も長い径（以下、「長軸径」という）及び長軸径と直交する方向において最も長い径（以下、「短軸径」という）を測定し、長軸径と短軸径を平均した二軸平均径を数平均粒子径とする。
　なお、吸収層付透明基材の製造方法が分かる場合は、上記平均粒子径は、着色顔料粒子のカタログ値であってもよい。
　着色顔料粒子は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
　着色顔料粒子の含有量は、吸収層の全質量に対して１～５０質量％が好ましい。着色顔料粒子の含有量が、吸収層の全質量に対して１質量％以上であることで、吸収層付透明基材を所望の色に着色できる。一方、着色顔料粒子の含有量が、吸収層の全質量に対して５０質量％以下であることで、吸収層側の最表面の鉛筆硬度を４Ｈ以上に調整しやすくなり、また、吸収層の膜密度を確保できる。着色顔料粒子の含有量は、吸収層の全質量に対して３～４０質量％がより好ましく、５～３０質量％が特に好ましい。
　吸収層に含まれる着色顔料粒子の種類は、吸収層の断面（吸収層の最表面と垂直な面）に対してＦＥ－ＥＰＭＡ（電界放出型電子線マイクロアナライザ）により、着色顔料粒子を構成する元素を分析することで同定できる。また、吸収層に含まれる着色顔料粒子の含有量は、例えば吸収層を機械的または化学的に剥離し、吸収層の全体質量を測定した後、剥離した吸収層に含まれる着色顔料濃度をＸ線光電子分光法（ＸＰＳ）を用いて測定できる。なお、吸収層付透明基材の製造方法が分かる場合は、原材料から求めてもよい。
　吸収層は、着色顔料粒子以外の他の粒子を含んでいてもよい。
　上記他の粒子としては、金属酸化物粒子、金属粒子および樹脂粒子が挙げられる。
　金属酸化物粒子の材料としては、酸化ケイ素、酸化アルミニウムおよび酸化ジルコニウムが挙げられる。
　金属粒子の材料としては、金属（Ａｇ、Ｒｕ等）および合金（ＡｇＰｄ、ＲｕＡｕ等）が挙げられる。
　樹脂粒子の材料としては、アクリル樹脂、ポリスチレンおよびメラニン樹脂が挙げられる。
　他の粒子の形状はいずれの形状であってもよく、例えば、鱗片状、球状、板状、棒状および針状が挙げられる。
　吸収層は、着色顔料粒子以外の他の粒子を含まない構成であってもよい。
　吸収層が「他の粒子を含まない」とは、吸収層に含まれる他の粒子の含有量が、吸収層の全質量に対して、１質量％未満であることを意味する。他の粒子の含有量は、吸収層の全質量に対して、０．５質量％未満が好ましく、０．１質量％未満がより好ましい。
　吸収層の厚みは、０．０５～１．００μｍが好ましく、０．０５～０．３０μｍがより好ましい。吸収層の厚みが上記下限値以上であると可視光の吸収性能の付与がし易くなる。また、吸収層の厚みが上記上限値以下であると、耐傷性および透過色味の点で優れる。
　吸収層の厚みは、面内方向において任意に選択した５点において、厚み方向に沿って吸収層を切断し、得られた断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて３万倍の倍率で観察し、透明基材と吸収層の界面から吸収層の表面までの厚みを測定し、得られた測定値の算術平均値を算出することにより、求められる。
　吸収層の厚みは、例えば、吸収層を形成する際に透明基材の表面に塗布する吸収層形成用組成物の量によって調整できる。
（印刷層）
　本実施形態に係る吸収層付透明基材は、印刷層を備える。
　印刷層は、例えば、表示の視認性と美観を高める目的で設けられ、画像表示装置の外周近傍に配置された配線回路、画像表示装置の筺体と吸収層付透明基材との接着部等を隠ぺいする機能を有する。印刷層は、透明基材の第２主面（吸収層が接して配置されている第１主面と対向する主面）の周縁部の全周にわたって設けられてもよく、周縁部の一部に設けられてもよい。ここで、周縁部とは、外周から中央部に向かって、所定の幅を有する帯状領域を意味する。
　印刷層は、例えば、上記配線回路または接着部を隠ぺい可能な幅で、目的に応じて所望の色で形成されることが好ましい。印刷層は、例えば、インクを用いて印刷することで形成される。
　印刷層は複数の層を積層した複層からなってもよく、単一の層からなってもよい。
　インクとしては、例えば、セラミックス焼成体等を含む無機系インク、染料または顔料のような色材および有機樹脂を含む有機系インクが挙げられる。例えば、黒色の印刷層の形成に用いられる黒色の無機系インクに含有されるセラミックスとしては、酸化クロムおよび酸化鉄等の酸化物、炭化クロムおよび炭化タングステン等の炭化物、カーボンブラック、並びに、雲母が挙げられる。
　黒色の印刷層は、例えば、上記セラミックスとシリカからなる無機系インクを溶融し、所望のパターンで印刷した後、乾燥することにより得られる。このような無機系インクは、溶融および乾燥工程により形成され、一般にガラス専用インクとして用いられている。
（他の層）
　吸収層付透明基材は、透明基材、吸収層および印刷層以外の他の層を更に備えていてもよい。他の層としては、例えば、反射防止層および防汚層が挙げられる。
－反射防止層－
　吸収層付透明基材は、反射防止層を更に備えていてもよく、反射防止層を更に備えることが好ましい。
　反射防止層は、通常、吸収層の表面に備えられ、透明基材への入射光の反射自体を抑え、反射像を不鮮明にする機能を有する層である。
　反射防止層としては、屈折率の異なる層の積層膜であることが好ましく、例えば、波長５５０ｎｍでの屈折率が１．９以上の高屈折率層と、波長５５０ｎｍでの屈折率が１．６以下の低屈折率層との積層膜であることがより好ましい。高屈折率層と低屈折率層とは、それぞれ１層ずつ含む形態でよいが、それぞれ２層以上含む構成でもよい。高屈折率層と低屈折率層とをそれぞれ２層以上含む場合には、高屈折率層と低屈折率層とを交互に積層した形態が好ましい。
　反射防止層を構成する材料としては、金属酸化物および金属窒化物が挙げられ、要求される低反射性の程度および生産性等を考慮して適宜選択できる。
　高屈折率層を構成する材料としては、酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）、酸化チタン（ＴｉＯ２）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）、酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５）および窒化ケイ素（Ｓｉ３Ｎ４）から選択された１種以上を好ましく使用できる。
　低屈折率層を構成する材料としては、酸化ケイ素（ＳｉＯ２）、ＳｉとＳｎとの混合酸化物を含む材料、ＳｉとＺｒとの混合酸化物を含む材料、および、ＳｉとＡｌとの混合酸化物を含む材料から選択された１種以上を好ましく使用できる。
　生産性および屈折率の観点から、高屈折率層が酸化ニオブ、酸化タンタルおよび窒化ケイ素から選択される１種からなる層であり、低屈折率層が酸化ケイ素からなる層であることが好ましい。
－防汚層－
　吸収層付透明基材は、防汚層を更に備えることが好ましい。
　防汚層は、吸収層付透明基材表面への有機物や無機物の付着を抑制する効果や、有機物や無機物が付着した場合においても、ふき取り等のクリーニングにより付着物が容易に除去できる効果をもたらす層である。
　防汚層は、吸収層付透明基材が反射防止層を備えない場合は吸収層の表面に配置されていることが好ましく、吸収層付透明基材が反射防止層を備える場合は反射防止層の表面に配置されていることが好ましい。また、防汚層は、吸収層付透明基材の吸収層側の最表面に配置されていることが好ましい。
　防汚層としては、例えば、撥水・撥油性を有し、吸収層付透明基材に防汚性を付与できる公知の層が使用できる。防汚層としては、含フッ素有機ケイ素化合物を加水分解縮合反応により硬化させて得られる含フッ素有機ケイ素化合物被膜、または、ポリジメチルシリコーン鎖を有する有機ケイ素化合物を加水分解縮合反応により硬化させて得られる含ポリジメチルシリコーン有機ケイ素化合物被膜からなることが好ましい。
　防汚層の厚みは、防汚層が含フッ素有機ケイ素化合物被膜からなる場合、２～３０ｎｍが好ましく、３～１５ｎｍがより好ましい。防汚層の厚みが２ｎｍ以上であれば、防汚性に加えて、防汚層の耐擦り性がより優れる。また、防汚層の厚みが３０ｎｍ以下であれば、防汚層を備える吸収層付透明基材のヘイズ等の光学特性がより優れる。また、吸収層付透明基材が後述する防眩性を備える場合、防汚層の厚みが３０ｎｍ以下であれば、防汚層を備える吸収層付透明基材の防眩性も確保できる。
（吸収層付透明基材の他の特性）
－算術平均粗さＲａ－
　吸収層付透明基材において、吸収層側の最表面は凹凸形状を有することが好ましい。吸収層側の最表面が凹凸形状を有することで、吸収層付透明基材に防眩性を付与できる。吸収層側の最表面の算術平均粗さＲａは、耐傷性、防眩性およびヘイズがいずれもバランスよく優れる点で、０．０１～０．６０μｍが好ましく、０．０１～０．５０μｍがより好ましい。
　算術平均粗さＲａは、基準面上にとった基準長さに含まれる粗さ曲線において、基準面からの絶対値偏差を平均した値である。算術平均粗さＲａは、表面粗さ測定機（例えば、株式会社東京精密製「ＳＵＲＦＣＯＭ（登録商標）１５００ＳＤ３－１２」等）を用いてＪＩＳ　Ｂ　０６０１－２００１に規定されている方法に従って測定される。
　本実施形態に係る吸収層付透明基材において、反射防止層および防汚層の形状は吸収層の透明基材に接する主面と対向する主面（視認側表面）の形状に追従するため、吸収層付透明基材の吸収層側の最表面の凹凸形状は、吸収層の視認側表面の凹凸形状とほぼ同様である。したがって、吸収層付透明基材の吸収層側の最表面の算術平均粗さＲａは、吸収層の凹凸形状を調整することで所望の範囲とすることができる。
－鏡面光沢度－
　吸収層付透明基材において、吸収層側の最表面の６０°鏡面光沢度（Ｇｌｏｓｓ）は、防眩性がより優れる点で、１３０％以下が好ましく、１１５％以下がより好ましい。また、ヘイズ（Ｈａｚｅ）が低く抑えられる点で、吸収層側の最表面の６０°鏡面光沢度は１５％以上が好ましい。
　吸収層側の最表面の６０°鏡面光沢度は、光沢計（例えば、コニカミノルタ社製　ＧＭ－２６８Ａ）を用いて測定できる。
　また、吸収層側の最表面の６０°鏡面光沢度は、例えば、後述する吸収層の前駆体層の形成工程におけるスプレーコート法および静電塗装法等の塗装条件、並びに、対象とする透明基材の搬送速度を変えることより調整できる。
　吸収層付透明基材は、以下式（Ａ）で表される吸収率の面内方向における偏差がどの点においても０～１０％であることが好ましく、０～５％であることがより好ましく、０～２％であることが更に好ましい。
　吸収率の偏差が上記範囲にあると、面内における可視光の吸収性能がより均質であることから、表示画像の均質性および美観性がより優れる。特に、透明基材が曲面を有する吸収層付透明基材において、面内方向における吸収率の偏差が上記範囲にあることが好ましい。
　面内方向における吸収率の偏差とは、背面状態が同一の状態の面内で測定した吸収率の最大値と最小値の差を意味する。面内方向における吸収率の偏差は、吸収層付透明基材において任意に選択される５点において視感透過率および視感反射率を測定し、測定された視感透過率および視感反射率から式（Ａ）により吸収率を算出し、得られた５点の値の偏差を算出することにより、求められる。
吸収率（％）＝１００（％）－Ｔ（％）－Ｒ（％）　　・・・式（Ａ）
　Ｔ：視感透過率
　Ｒ：視感反射率
　吸収層付透明基材の視感反射率は、分光測色計を用いて、ＪＩＳ　Ｚ　８７０１（１９９９年）に規定される方法により、測定される。具体的な視感反射率の測定方法は、後述する実施例に記載されている。
－透過色のａ＊値およびｂ＊値－
　吸収層付透明基材は、Ｄ６５光源下の透過色でのａ＊値が５．０以下（より好ましくは３．０以下、更に好ましくは２．０以下）であり、かつ、ｂ＊値が５．０以下（より好ましくは３．０以下、更に好ましくは２．０以下）であることが好ましい。Ｄ６５光源下の透過色でのａ＊値およびｂ＊値が上記範囲であると、表示装置から出力される表示の色を損なわないため、面内における表示画像の均質性および美観を向上できる。
　上記ａ＊値およびｂ＊値は、Ｄ６５光源の光を照射して吸収層付透明基材の透過光を測定した際のＬ＊ａ＊ｂ＊表色系における透過色の色座標ａ＊および色座標ｂ＊であり、分光測色計を用いて、ＪＩＳ　Ｚ　８７２９（２００４年）に規定される方法で測定される。
　吸収層付透明基材の上記ａ＊値およびｂ＊値は、例えば、吸収層に含まれるマトリックス材料および着色顔料粒子の種類および含有量により調整できる。
－近赤外線透過率－
　吸収層付透明基材は、波長９００～１０００ｎｍの光の平均透過率（以下、「近赤外線透過率」とも記載する。）が７０％以上である領域（以下、「近赤外線透過領域」とも記載する。）を有することが好ましい。吸収層付透明基材が近赤外線透過領域を有することにより、近赤外線を照射および／または検知する機器を組み込んだ装置のカバー部材として好適に利用できる。
　近赤外線透過領域は、吸収層付透明基材の面内における一部の領域であってよく、全面であってもよい。
　近赤外線透過領域の近赤外線透過率は、７０～１００％が好ましく、８０～１００％がより好ましい。
　吸収層付透明基材において、近赤外線透過率（単位：％）は、例えば株式会社ラムダビジョン製の平面基板透過率／反射率計測ユニット（商品名：ＬＶ－ＲＴＭ）を用いて、測定される。具体的な近赤外線透過率の測定方法は、後述する実施例に記載されている。
　吸収層付透明基材において、近赤外線透過領域は、例えば、吸収層に含まれる着色顔料粒子として近赤外線透過率が高い有機顔料粒子を選択することにより形成できる。また、近赤外線透過領域の近赤外線透過率は、例えば、上記有機顔料粒子の含有量および吸収層の厚みにより調整できる。
＜吸収層付透明基材の製造方法＞
　本実施形態に係る吸収層付透明基材の製造方法としては、透明基材の第１主面に吸収層を形成する吸収層形成工程と、透明基材の第２主面に印刷層を形成する印刷工程とを行い、吸収層付透明基材を得る方法が挙げられる。
　上記製造方法において、吸収層形成工程および印刷工程の順序はいずれであってもよい。すなわち、吸収層を形成した後に印刷層を形成してもよく、印刷層を形成した後に吸収層を形成してもよい。
（吸収層形成工程）
　透明基材の第１主面に吸収層を形成する吸収層形成工程としては、例えば、マトリックス材料の前駆体、着色顔料粒子、および、液状媒体を含む吸収層形成用組成物を用いて、透明基材の第１主面に前駆体層を形成し、得られた前駆体層を硬化することにより吸収層を形成する方法が挙げられる。
　吸収層形成用組成物に含まれるマトリックス材料の前駆体としては、例えば、上記加水分解性シラン化合物が挙げられる。吸収層形成用組成物が加水分解性シラン化合物を含む場合、上記前駆体層を加熱することにより加水分解性シラン化合物を重縮合し、加水分解性シラン化合物の重縮合物と着色顔料粒子とを含む吸収層が得られる。
　吸収層形成用組成物に含まれる加水分解性シラン化合物および着色顔料粒子については、好ましい態様も含めて、それぞれ既に説明した通りである。
　吸収層形成用組成物は液状媒体を含むことが好ましい。液状媒体は、シラン化合物を溶解または分散する溶媒または分散媒としての機能と、着色顔料粒子を分散する分散媒としての機能を有する。液状媒体は１種を単独で用いてもよく２種以上を組み合わせて用いてもよい。
　液状媒体は、沸点１６０℃以下の低沸点液状媒体を含むことが好ましい。低沸点液状媒体を含む吸収層形成用組成物を用いることにより、後述する静電塗装法による吸収層の形成がより容易になる。
　低沸点液状媒体の沸点は、５０～１５０℃が好ましく、５５～１４０℃がより好ましい。沸点の下限がかかる範囲であることで、吸収層形成用組成物の液滴が濡れ広がりやすく均一な吸収層を形成しやすい。また沸点の上限がかかる範囲であることで、吸収層の凹凸形状が得られやすい。
　吸収層形成用組成物は、沸点が１６０℃超の高沸点液状媒体を含んでいてもよい。
　低沸点液状媒体としては、水、および、沸点１６０℃以下の低沸点有機溶剤が挙げられる。
　低沸点有機溶剤としては、アルコール類（メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ｎ－ブチルアルコール、イソブチルアルコール、１－ペンタノール等）、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等）、エーテル類（テトラヒドロフラン、１，４－ジオキサン等）、セロソルブ類（メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等）、エステル類（酢酸メチル、酢酸エチル等）、並びに、グリコールエーテル類（エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル等）が挙げられる。
　シラン化合物の加水分解には水を要するため、加水分解後に液状媒体の置換を行わない限り、吸収層形成用組成物は少なくとも水を含む。
　吸収層形成用組成物は、水と、上記低沸点有機溶剤とを含むことが好ましい。
　吸収層形成用組成物に含まれる液状媒体の含有量は、吸収層形成用組成物の固形分濃度に応じた量である。
　吸収層形成用組成物の固形分濃度は、吸収層形成用組成物の全質量に対して、０．５～２０質量％が好ましく、１～１５質量％がより好ましい。固形分濃度が上記範囲の下限値以上であれば、塗料組成物の液量を少なくできる。固形分濃度が上記範囲の上限値以下であれば、吸収層の厚みの均一性が向上する。
　吸収層形成用組成物は、シラン化合物の加水分解縮合反応を進めるための触媒成分を含むことが好ましい。
　触媒成分としては、酸またはアルカリが挙げられる。
　触媒として使用される酸としては、例えば、硝酸、硫酸および塩酸等の無機酸、並びに、ギ酸、酢酸、シュウ酸、モノクロル酢酸、ジクロル酢酸およびトリクロル酢酸等の有機酸が挙げられる。
　触媒として使用されるアルカリとしては、アンモニア、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が挙げられる。加水分解縮合物の長期保存性の点では、酸が好ましい。
　触媒成分の含有量は、吸収層形成用組成物の全質量に対して０．０１～３質量％が好ましい。
　吸収層形成用組成物は、上記成分に加えて、添加剤を含んでいてもよい。添加剤としては、例えば、紫外線吸収剤、赤外線反射剤、赤外線吸収剤、反射防止剤、レベリング性向上のための界面活性剤、および、耐久性向上のための金属化合物が挙げられる。
　吸収層形成用組成物は、吸収層の形成に用いる上記成分を混合することにより調製できる。例えば、シラン化合物等が液状媒体に溶解または分散している溶液または分散液を調製し、これに、着色顔料粒子の分散液と、必要に応じて追加の液状媒体とを混合することにより調製できる。
　透明基材の第１主面に前駆体層を形成する方法としては、スピンコート法、ディップコート法、キャスト法、スリットコート法、スプレーコート法、および、静電塗装法が挙げられ、静電塗装法が好ましい。
　静電塗装法の一例としては、例えば、回転霧化頭を有する静電ガンを備える静電塗装装置を用いて、吸収層形成用組成物を回転霧化頭に供給し、回転霧化頭を回転駆動させる遠心力により回転霧化頭のエッジより吸収層形成用組成物を液糸化し、電圧印加により液糸を霧化し、霧化により発生した液滴をエアーにより透明基材の第１主面に吹き付けることにより前駆体層を形成する方法が挙げられる。
　静電塗装法の他の例としては、シリンジからノズルの先端部に供給した吸収層形成用組成物を数千ボルトの電圧を印加しながら吐出することによって、静電気力の反発により吸収層形成用組成物の細かい液滴を生成し、帯電した液滴を静電気力により透明基材の第１主面に付着させる、エレクトロスプレー現象を利用する方法が挙げられる。この方法による静電塗装は、静電塗布装置（例えば、ナガセテクノエンジニアリング株式会社製マイクロミストコーター）により実施できる。
　上記静電塗装法のうち後者の方法は、前者の方法に比較して、液滴が帯電し微粒化が進むため、吸収層の視認側表面の凹凸を抑制し、吸収層側の最表面の算術平均粗さＲａを小さくすることができる。また、形成される吸収層の厚みが面内方向においてより均一になり、面内方向における視感透過率の偏差をより小さくすることができる。さらに、後者の方法は、前者の方法に比較して、吸収層付透明基材のヘイズが低く抑えられる。特に、透明基材が曲面を有する吸収層付透明基材において、これらの作用は顕著である。
　透明基材の第１主面に形成された前駆体層を硬化する方法としては、例えば、加熱処理が挙げられる。前駆体層を加熱処理することにより、前駆体層に含まれる液状媒体が気化して前駆体層から除去されるとともに、加水分解性シラン化合物の加水分解性基が重縮合反応して硬化することにより、加水分解性シラン化合物の重縮合物と着色顔料粒子とを含む吸収層が形成される。
　加熱温度は、３０℃以上が好ましく、１００～７５０℃がより好ましく、１５０～５５０℃が更に好ましい。
（印刷工程）
　印刷層は、透明基材の第２主面の表面にインクを印刷することで形成できる。
　印刷層の形成に用いるインクについては、既に説明した通りである。
　印刷法としては、例えば、バーコート法、リバースコート法、グラビアコート法、ダイコート法、ロールコート法、スクリーン法、および、インクジェット法が挙げられる。簡便に印刷できるうえ、種々の基材に所望のサイズで印刷できるため、スクリーン印刷法が好ましい。
　吸収層付透明基材が他の機能層を更に備える場合における他の機能層の形成方法について説明する。
（反射防止層の形成）
　反射防止層は、通常、吸収層の表面に形成される。
　反射防止層を構成する各層を成膜する方法としては、例えば、真空蒸着法、イオンビームアシスト蒸着法、イオンプレート法、スパッタリング法、および、プラズマＣＶＤ法が挙げられる。
　これらの成膜方法のなかで、緻密で耐久性の高い膜を形成できる点でスパッタリング法が好ましい。スパッタリング法としては、特に、パルススパッタリング法、ＡＣスパッタリング法、または、デジタルスパッタリング法が好ましい。
（防汚層の形成）
　防汚層は、通常、吸収層の表面、または、反射防止層の表面に形成される。
　防汚層を形成する方法としては、例えば、防汚層が含フッ素有機ケイ素化合物被膜からなる場合、吸収層または反射防止層の表面に、シランカップリング剤を含む組成物を塗布して塗膜を形成した後、必要に応じて加熱処理する方法、並びに、吸収層または反射防止層の表面に、含フッ素有機ケイ素化合物を気相蒸着後、必要に応じて加熱処理する真空蒸着法が挙げられる。
　上記シランカップリング剤としては、パーフルオロアルキル基；パーフルオロ（ポリオキシアルキレン）鎖を含むフルオロアルキル基等のフルオロアルキル基を有するシランカップリング剤が挙げられる。また、上記の塗膜を形成する方法としては、スピンコート法、ディップコート法、キャスト法、スリットコート法およびスプレーコート法が挙げられる。
　吸収層付透明基材の製造方法において、各層の形成前または形成後に、主面の清浄性を担保するために洗浄処理を行ってもよい。洗浄処理としては、例えば、塩基性の洗浄液に洗浄対象を所定時間浸漬したのち、水または有機溶媒で洗浄液を洗い流す方法が挙げられる。
＜吸収層付透明基材の用途＞
　本発明の吸収層付透明基材の用途としては、車両用透明部品（ヘッドライトカバー、サイドミラー、フロント透明基板、サイド透明基板、リア透明基板、カーナビゲーション用カバー、インスツルメントパネル（クラスター）用カバー等）、メータ、建築窓、ショーウインドウ、ディスプレイ（ノート型パソコン、モニタ、ＬＣＤ、ＰＤＰ、ＥＬＤ、ＣＲＴ、ＰＤＡ等）、ＬＣＤカラーフィルタ、タッチパネル用基板、ピックアップレンズ、光学レンズ、眼鏡レンズ、カメラ部品、ビデオ部品、ＣＣＤ用カバー基板、光ファイバ端面、プロジェクタ部品、複写機部品、太陽電池用透明基板（カバー部材等）、携帯電話窓、バックライトユニット部品（導光板、冷陰極管等）、バックライトユニット部品液晶輝度向上フィルム（プリズム、半透過フィルム等）、液晶輝度向上フィルム、有機ＥＬ発光素子部品、無機ＥＬ発光素子部品、蛍光体発光素子部品、光学フィルタ、光学部品の端面、照明ランプ、照明器具のカバー、増幅レーザ光源、反射防止フィルム、偏光フィルム、並びに、農業用フィルムが挙げられる。
　中でも、本実施形態に係る吸収層付透明基材は、カーナビゲーションおよびインスツルメントパネル等の車載用画像表示装置のカバー部材として好適に用いられる。また、本発明の吸収層付透明基材は絶縁性に優れるため、カーナビゲーション等のタッチパネル用カバー部材として好適に用いられる。
　吸収層付透明基材が車載用画像表示装置に搭載される場合、吸収層側の最表面が車室内、すなわちドライバー等の乗員に面するように配置される。
　また、上記近赤外線透過領域を有する吸収層付透明基材は、近赤外線を照射および／または検知する装置を備える、車載用画像表示装置、車室内パネルおよび車体パネル等の部材に有用である。
＜画像表示装置＞
　画像表示装置は、ディスプレイ表面のカバー部材として、本発明の吸収層付透明基材を備えることが好ましい。本発明に係る吸収層付透明基材を備えることで、視認性に優れた画像表示装置が得られる。
　画像表示装置としては、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、ＬＥＤディスプレイおよび有機ＥＬディスプレイが挙げられる。
＜第２実施形態＞
　本発明の第２実施形態に係る車両用透明部品は、第１主面および第２主面を有する透明基材と、透明基材の第１主面に接して配置されている吸収層とを備える、車両用透明部品であって、透明基材の第２主面が、画像表示装置の視認側に貼合されており、吸収層が、加水分解性シラン化合物の重縮合物を含むマトリックス材料と、マトリックス材料に分散した着色顔料粒子を含み、吸収層側の最表面の鉛筆硬度が４Ｈ以上であり、視感透過率が１０～８５％であり、かつ、吸収層側の最表面の表面抵抗率が１０１１～１０１５Ω／□である、車両用透明部品である。
　図５は、本実施形態に係る車両用透明部品の構成の一例を概略的に示す断面図である。
　図５に示す車両用透明部品４は、透明基材２０と、吸収層３０とを備える。透明基材２０は互いに対向する第１主面２０Ａと第２主面２０Ｂを有し、吸収層３０は第１主面２０Ａに接して配置されている。また、透明基材２０の第２主面２０Ｂは、図示しない透明な粘着剤（ＯＣＡ）の層により、画像表示装置６０の視認側に貼合されている。
　車両用透明部品４においては、吸収層３０の透明基材２０に接する主面と対向する主面が、吸収層側の最表面４Ａであり、この吸収層側の最表面４Ａが、上記の鉛筆硬度の要件および表面抵抗率の要件を満たしている。
　本実施形態に係る車両用透明部品は、図５に示す態様に制限されない。
　例えば、車両用透明部品は、吸収層の表面に防汚層または反射防止層を備えていてもよい。また、車両用透明部品は、吸収層側の最表面に防汚層を備えていてもよい。更には、車両用透明部品は、吸収層の第２主面と画像表示装置との間に配置された印刷層を備えていてもよい。
　本実施形態に係る車両用透明部品における透明基材および吸収層等の各部材並びに車両用透明部品の物性等については、それぞれの好ましい態様も含めて、第１実施形態に係る吸収層付透明基材と同様である。
　本実施形態に係る車両用透明部品は、カーナビゲーションおよびインスツルメントパネル等の車載用画像表示装置のカバー部材として好適に用いられる。
　以下、実施例により本発明を詳細に説明する。ただし、本発明は、以下の実施例に限定されない。例６～例９、例１１～例１５、例２１～例２４、例２６～例３０および例３５は実施例であり、例１～例５、例１０、例１６～例２０、例２５および例３１～例３４は比較例である。
［例１］
〔透明基材の準備〕
　透明基材として、縦１００ｍｍ×横１００ｍｍ×厚み１．３ｍｍの平らな矩形状ガラス基板を準備した。
〔印刷層の形成〕
　上記透明基材の一方の表面の半面（縦１００ｍｍ×横５０ｍｍ）に、スクリーン印刷によって黒印刷を施し、印刷層を形成した。スクリーン印刷には、黒色インク（帝国インキ製造株式会社製、商品名：ＧＬＳ－ＨＦ）を用いた。
〔金属酸化物層の形成〕
　透明基材の印刷層が形成されていない他方の表面に、スパッタリングにより以下の金属酸化物層（１）～（４）を形成した。
・金属酸化物層（１）：Ｍｏ－Ｎｂ－Ｏ層（厚み１４ｎｍ）
・金属酸化物層（２）：ＳｉＯ２層（厚み３５ｎｍ）
・金属酸化物層（３）：Ｍｏ－Ｎｂ－Ｏ層（厚み１２０ｎｍ）
・金属酸化物層（４）：ＳｉＯ２層（厚み９０ｎｍ）
　まず、アルゴンガスに３９体積％の酸素ガスを混合した混合ガスを導入しながら、圧力を０．３Ｐａに保ち、ニオブとモリブデンとを重量比で８０：２０の割合で混合して焼結したターゲットを用いて、周波数２０ｋＨｚ、電力密度４．０Ｗ／ｃｍ２、反転パルス幅５μｓｅｃの条件でパルススパッタリングを行い、透明基材の一方の主面に金属酸化物層（１）を成膜した。
　次いで、アルゴンガスに４０体積％の酸素ガスを混合した混合ガスを導入しながら、シリコンターゲットを用いて、圧力０．３Ｐａ、周波数２０ｋＨｚ、電力密度３．８Ｗ／ｃｍ２、反転パルス幅５μｓｅｃの条件でパルススパッタリングを行い、金属酸化物層（２）を成膜した。
　次いで、アルゴンガスに１０体積％の酸素ガスを混合した混合ガスをチャンバ内に導入しながら、圧力を０．３Ｐａに保ち、ニオブとモリブデンを重量比で８０：２０の割合で混合して焼結したターゲットを用いて、周波数２０ｋＨｚ、電力密度４．０Ｗ／ｃｍ２、反転パルス幅５μｓｅｃの条件でパルススパッタリングを行い、金属酸化物層（３）を成膜した。
　続いて、アルゴンガスに３９体積％の酸素ガスを混合した混合ガスを導入しながら、シリコンターゲットを用いて、圧力０．３Ｐａ、周波数２０ｋＨｚ、電力密度３．８Ｗ／ｃｍ２、反転パルス幅５μｓｅｃの条件でパルススパッタリングを行い、金属酸化物層（４）を成膜した。
　なお、金属酸化物層の厚みは、水晶振動子によるモニタリングにより測定した。
　ＸＰＳによる分析の結果、金属酸化物層（１）と金属酸化物層（３）のＭｏ－Ｎｂ－Ｏ層中のＭｏとＮｂの組成比は、Ｍｏ：Ｎｂ＝８０：２０（質量％）であることが分かった。また、これらのＭｏ－Ｎｂ－Ｏ層の５５０ｎｍの屈折率は２．１、消衰係数は０．０４であった。
〔防汚層の形成〕
　最後に、スプレー法により含フッ素有機化合物（ＡＧＣ社製、Ａｆｌｕｉｄ（登録商標）　Ｓ５５０）を金属酸化物層（４）上に成膜した。防汚層の目標厚みは、４ｎｍとした。
　これにより、印刷層、透明基材、金属酸化物層（吸収層に相当）および防汚層をこの順に有する例１の積層透明基材が得られた。
［例２］
　金属酸化物層（１）および（３）の成膜において、アルゴンガスに１０体積％の酸素ガスを混合した混合ガスをチャンバ内に導入しながら、圧力を０．３Ｐａに保ち、ニオブとモリブデンを重量比で５０：５０の割合で混合して焼結したターゲットを用いたこと以外は、例１と同様にして、例２の積層透明基材を製造した。
［例３］
〔コート液３（吸収層形成用組成物）の調製〕
　変性エタノールの４２．４３ｇを攪拌しながら、これに、硝酸系バインダ溶液の１２．２７ｇ、水溶性アクリル樹脂微粒子分散液（株式会社日本触媒製「エポスター（登録商標）ＭＸ－０３０Ｗ」）の６．３０ｇを加え、更に、ジアセトンアルコールの１５．０ｇ、２－ブタノールの２４．０ｇを加え、固形分濃度が０．８９９１質量％の水溶性アクリル樹脂組成物を調製した。
　また、着色顔料粒子として、顔料粒子Ｐ－１（株式会社トクシキ製、カーボンブラック、商品名「９７７７ＢＬＡＣＫ」、平均粒子径１２０ｎｍ）を準備した。
　上記水溶性アクリル樹脂組成物をマグネチックスターラーを用いて攪拌しながら、コート液の全固形分に対する顔料粒子Ｐ－１の含有量（表２において「硬化後固形比率」と表記）が４０質量％となるように顔料粒子Ｐ－１を添加し、混合液を６０℃にて６０分間混合することにより、コート液３を得た。
〔吸収層の形成（静電１）〕
　透明基材の一方の表面に、コート液３を用いて静電塗布装置（マイクロミストコーター、ナガセテクノエンジニアリング株式会社製）により吸収層を形成した。塗布条件は以下のとおりとした。
・液供給　：　シリンジ
・ノズル高さ　：　３０ｍｍ
・電圧値　：　１３ｋＶ
・搬送速度　：　３３ｍｍ／ｓｅｃ
〔印刷層の形成〕
　例１の印刷層の形成と同様にして、上記透明基材の吸収層が形成されていない他方の表面に印刷層を形成した。
〔防汚層の形成〕
　例１の防汚層の形成と同様にして、上記透明基材の吸収層の最表面に防汚層を形成した。
　これにより、印刷層、透明基材、吸収層および防汚層をこの順に有する例３の吸収層付透明基材が得られた。
［例４、例５］
　コート液の全固形分に対する顔料粒子Ｐ－１の含有量が表２に示す値になるようにコート液３の組成を変更してコート液４およびコート液５を調製したこと以外は、例３と同様にして、例４および例５の吸収層付透明基材をそれぞれ製造した。
［例６］
〔コート液６（吸収層形成用組成物）の調製〕
　主溶剤としてアルコール混合液（日本アルコール販売株式会社製、商品名「ソルミックス（登録商標）ＡＰ－１１」、工業用エタノール；エタノール８５質量％、イソプロピルアルコール１０質量％、メタノール５質量％の混合物）を用いた。
　上記主溶剤をマグネチックスターラーを用いて攪拌しながら、上記主溶剤に、テトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）を２８．８質量％含むＴＥＯＳ溶液、メチルトリエトキシシラン（ＭＴＥＳ）を３３．７質量％含むＭＴＥＳ溶液、顔料粒子Ｐ－１を３０質量％含む顔料分散液、および、２０質量％硝酸を、以下の比率で添加し、混合液を６０℃にて６０分間混合することにより、コート液６（吸収層形成用組成物）を調製した。
（コート液６の組成）
――――――――――――――――――――――――
・主溶剤（ＡＰ－１１）　　　　７７．６質量％
・ＴＥＯＳ溶液　　　　　　　　　３．９質量％
・ＭＴＥＳ溶液　　　　　　　　１３．３質量％
・顔料分散液　　　　　　　　　　４．７質量％
・硝酸　　　　　　　　　　　　　０．５質量％
――――――――――――――――――――――――
〔吸収層の形成〕
　透明基材の一方の表面に、上記で調製したコート液６（吸収層形成用組成物）を用いて、例３と同様にして吸収層を形成した。
　塗布後のガラス基板を、大気中、３００℃で６０分間焼成して吸収層を形成した。
〔印刷層の形成〕
　例１の印刷層の形成と同様にして、上記透明基材の吸収層が形成されていない他方の表面に印刷層を形成した。
〔防汚層の形成〕
　例１の防汚層の形成と同様にして、上記透明基材の吸収層の最表面に防汚層を形成した。
　これにより、印刷層、透明基材、吸収層および防汚層をこの順に有する例６の吸収層付透明基材が得られた。
［例７］
　全固形分に対する顔料粒子Ｐ－１の含有量が表２に示す値になるようにコート液６の組成を変更し、コート液７を調製した。
　コート液６に代えてコート液７を用いたこと以外は、例６と同様にして、例７の吸収層付透明基材を製造した。
（コート液７の組成）
――――――――――――――――――――――――
・主溶剤（ＡＰ－１１）　　　　７７．８質量％
・ＴＥＯＳ溶液　　　　　　　　　４．２質量％
・ＭＴＥＳ溶液　　　　　　　　１４．４質量％
・顔料分散液　　　　　　　　　　３．０質量％
・硝酸　　　　　　　　　　　　　０．５質量％
――――――――――――――――――――――――
［例８］
　コート液（吸収層形成用組成物）を調製する際、顔料粒子Ｐ－１を３０質量％含む顔料分散液に代えて、顔料粒子Ｐ－２（株式会社トクシキ製、チタンブラック、商品名「９５１７ＴＢ」、平均粒子径７０ｎｍ）を３０質量％含む顔料分散液を用い、全固形分に対する顔料粒子Ｐ－２の含有量が表２に示す値になるようにコート液の組成を変更し、コート液８を調製した。
　コート液６に代えてコート液８を用いたこと以外は、例６と同様にして、例８の吸収層付透明基材を製造した。
（コート液８の組成）
――――――――――――――――――――――――
・主溶剤（ＡＰ－１１）　　　　７７．３質量％
・ＴＥＯＳ溶液　　　　　　　　　２．９質量％
・ＭＴＥＳ溶液　　　　　　　　１０．０質量％
・顔料分散液　　　　　　　　　　９．３質量％
・硝酸　　　　　　　　　　　　　０．５質量％
――――――――――――――――――――――――
［例９］
　全固形分に対する顔料粒子Ｐ－２の含有量が表２に示す値になるようにコート液８の組成を変更し、コート液９を調製した。
　コート液８に代えてコート液９を用いたこと以外は、例８と同様にして、例９の吸収層付透明基材を製造した。
（コート液９の組成）
――――――――――――――――――――――――
・主溶剤（ＡＰ－１１）　　　　７７．８質量％
・ＴＥＯＳ溶液　　　　　　　　　４．２質量％
・ＭＴＥＳ溶液　　　　　　　　１４．４質量％
・顔料分散液　　　　　　　　　　３．０質量％
・硝酸　　　　　　　　　　　　　０．５質量％
――――――――――――――――――――――――
［例１０］
　顔料粒子Ｐ－１を３０質量％含む顔料分散液に代えて、顔料粒子Ｐ－３（株式会社トクシキ製、近赤外線透過性有機顔料、商品名「ＩＲＢＫ－０００２」、平均粒子径２１０ｎｍ）を１６質量％含む顔料分散液を用いたこと、並びに、以下の比率で主溶剤、ＴＥＯＳ溶液、ＭＴＥＳ溶液、顔料分散液および硝酸を混合したこと以外は、例６のコート液の調製と同様にして、コート液１０（吸収層形成用組成物）を調製した。
　コート液６に代えてコート液１０を用いたこと以外は、例６と同様にして、例１０の吸収層付透明基材を製造した。
（コート液１０の組成）
――――――――――――――――――――――――
・主溶剤（ＡＰ－１１）　　　　６４．６質量％
・ＴＥＯＳ溶液　　　　　　　　　１．９質量％
・ＭＴＥＳ溶液　　　　　　　　　６．６質量％
・顔料分散液　　　　　　　　　２６．３質量％
・硝酸　　　　　　　　　　　　　０．５質量％
――――――――――――――――――――――――
［例１１］
　コート液の全固形分に対する顔料粒子Ｐ－３の含有量が表２に示す値になるようにコート液１０の組成を変更し、コート液１１を調製した。
　コート液１０に代えてコート液１１を用いたこと以外は、例１０と同様にして、例１１の吸収層付透明基材を製造した。
（コート液１１の組成）
――――――――――――――――――――――――
・主溶剤（ＡＰ－１１）　　　　６６．９質量％
・ＴＥＯＳ溶液　　　　　　　　　２．４質量％
・ＭＴＥＳ溶液　　　　　　　　　８．３質量％
・顔料分散液　　　　　　　　　２１．９質量％
・硝酸　　　　　　　　　　　　　０．５質量％
――――――――――――――――――――――――
［例１２］
　コート液の全固形分に対する顔料粒子Ｐ－３の含有量が表２に示す値になるようにコート液１０の組成を変更し、コート液１２を調製した。
　コート液１０に代えてコート液１２を用いたこと以外は、例１０と同様にして、例１２の吸収層付透明基材を製造した。
（コート液１２の組成）
――――――――――――――――――――――――
・主溶剤（ＡＰ－１１）　　　　７３．６質量％
・ＴＥＯＳ溶液　　　　　　　　　３．９質量％
・ＭＴＥＳ溶液　　　　　　　　１３．３質量％
・顔料分散液　　　　　　　　　　８．８質量％
・硝酸　　　　　　　　　　　　　０．５質量％
――――――――――――――――――――――――
［例１３］
　コート液の全固形分に対する顔料粒子Ｐ－３の含有量が表２に示す値になるようにコート液１０の組成を変更し、コート液１３を調製した。
　コート液１０に代えてコート液１３を用いたこと以外は、例１０と同様にして、例１３の吸収層付透明基材を製造した。
（コート液１３の組成）
――――――――――――――――――――――――
・主溶剤（ＡＰ－１１）　　　　７６．９質量％
・ＴＥＯＳ溶液　　　　　　　　　４．６質量％
・ＭＴＥＳ溶液　　　　　　　　１５．８質量％
・顔料分散液　　　　　　　　　　２．２質量％
・硝酸　　　　　　　　　　　　　０．５質量％
――――――――――――――――――――――――
［例１４］
　コート液の全固形分に対する顔料粒子Ｐ－３の含有量が表２に示す値になるようにコート液１０の組成を変更し、コート液１４を調製した。
　コート液１０に代えてコート液１４を用いたこと、および、静電１に代えて以下に示す静電２の方法で吸収層を形成したこと以外は、例６と同様にして、例１４の吸収層付透明基材を製造した。
（コート液１４の組成）
――――――――――――――――――――――――
・主溶剤（ＡＰ－１１）　　　　７５．１質量％
・ＴＥＯＳ溶液　　　　　　　　　４．２質量％
・ＭＴＥＳ溶液　　　　　　　　１４．４質量％
・顔料分散液　　　　　　　　　　５．７質量％
・硝酸　　　　　　　　　　　　　０．５質量％
――――――――――――――――――――――――
〔吸収層の形成（静電２）〕
　透明基材の一方の表面に、コート液１４（吸収層形成用組成物）を用いて静電塗装法により吸収層を形成した。
　まず、静電塗装ガンを備える静電塗装装置（液体静電コーター、旭サナック株式会社製）を用意した。静電塗装ガンとしては、回転霧化式自動静電ガン（旭サナック株式会社製、サンベルＥＳＡ１２０、カップ径７０ｍｍ）を用いた。電荷を逃がすために、基板を置く台座はステンレス製のものを用いた。
　静電塗装装置のコーティングブース内の温度を２３±１℃の範囲内、湿度を５２％±３％の範囲内に調節した。
　静電塗装装置のチェーンコンベア上の台座に、洗浄済みの上記ガラス基板を、長辺が搬送方向と直角となるように置いた。台座に乗せたガラス基板をチェーンコンベアで等速搬送しながら、コート液を噴霧している静電塗装ガンの下を通過させることでガラス基板にコート液を塗装して前駆体層を形成した。本実施では通過回数は１回であった。なお、塗装面はガラス基板のＢ面、すなわち、フロート法によるガラス基板の製造時に溶融スズに接した面とした。
　前駆体層を有するガラス基板を、大気中、３００℃で６０分間焼成して吸収層を形成し、吸収層付透明基材を得た。
　コート液を静電塗装した際の塗装条件は、以下の通りである。
（塗装条件）
・カップ回転数（回転霧化頭の回転速度）：３５ｋｒｐｍ
・静電塗装ガンに印加した電圧：６０ｋＶ
・ガン高さ：２８５ｍｍ
・ガンの数：１
・液量：２０ｇ／ｍｉｎ
・シェーブエア：１７５Ｌ／ｍｉｎ
・搬送速度：２．０ｍ／ｍｉｎ
　ガン高さは、静電塗装ガンのベルカップ下端から基板までの距離を示す。ベルカップ下端は、コート液の噴霧方向における回転霧化頭の前端である。
［例１５～例１７］
　コート液１４に代えてコート液１３を用いたこと以外は、例１４と同様にして、例１５の吸収層付透明基材を製造した。
　また、吸収層を形成する際、吸収層の平均厚みが表２に示す値になるように、コート液を噴霧している静電塗装ガンの下を通過させるガラス基板の搬送速度を調整したこと以外は、例１４および例１５と同様にして、例１６および例１７の吸収層付透明基材をそれぞれ製造した。
［例１８～例３２］
〔反射防止層の形成〕
　透明基材の表面に吸収層および印刷層をそれぞれ形成した後、吸収層の表面に下記のスパッタリングにより複数の金属酸化物層を製膜して反射防止層を形成したこと、および、形成された反射防止層の表面に防汚層を形成したこと以外は、例３～例１７と同様にして、印刷層、透明基材、吸収層、反射防止層および防汚層をこの順に有する例１８～例３２の積層透明基材および吸収層付透明基材をそれぞれ製造した。
　各金属酸化物層の製膜においては、下記表１に示す材料を用いて、下記表１に示す厚みになるよう、製膜条件を調整した。なお、第１層は防汚層側に配置されており、第４層は吸収層側に配置されている。
　スパッタリングは、アルゴンガスに１０体積％の酸素ガスを混合した混合ガスをチャンバ内に導入しながら、圧力０．３Ｐａ、周波数２０ｋＨｚ、製膜パワー３．８Ｗ／ｃｍ２、反転パルス幅５μｓｅｃで実施した。なお、金属酸化物層の厚みは、水晶振動子によるモニタリングにより測定した。
〔評価試験〕
　上記により製造した各吸収層付透明基材について、下記に示す各試験を実施した。
　なお、各例で得られた吸収層付透明基材における吸収層側の最表面とは、防汚層の空気界面側の主面である。
＜表面抵抗率＞
　各吸収層付透明基材において、吸収層側の最表面の表面抵抗率（単位：Ω／□）を、抵抗率測定計（株式会社三菱化学アナリテック製、装置名：ハイレスタ（登録商標）ＵＰ（ＭＣＰ－ＨＴ４５０型））を用いて測定した。具体的には、吸収層付透明基材の吸収層側の最表面の中央部にプローブをあて、１０Ｖで１０秒間通電した際の表面抵抗率を測定した。
＜鉛筆硬度＞
　各吸収層付透明基材において、吸収層側の最表面の鉛筆硬度を、ＪＩＳ　Ｋ　５６００（１９９９年）に規定される鉛筆硬度試験に基づいて測定した。
＜算術平均粗さＲａ＞
　各吸収層付透明基材において、吸収層側の最表面の算術平均粗さＲａ（単位：μｍ）を、株式会社東京精密製の表面粗さ測定機（「ＳＵＲＦＣＯＭ　１５００ＳＤ３－１２」）を用いて、ＪＩＳ　Ｂ　０６０１（２００１年）に規定される方法により、測定した。
＜６０°鏡面光沢度（Ｇｌｏｓｓ）＞
　各吸収層付透明基材において、吸収層側の最表面の６０°鏡面光沢度（Ｇｌｏｓｓ）を、コニカミノルタ株式会社製の光沢計（商品名「ＧＭ－２６８Ａ」）を用い、ＪＩＳ　Ｚ８７４１：１９９７（ＩＳＯ２８１３：１９９４）に記載された方法によって、裏面（吸収層が形成された側とは反対側の面）反射を消さずに測定した。
＜視感透過率＞
　各吸収層付透明基材の視感透過率（単位：％）を、ＪＩＳ　Ｚ　８７０１（１９９９年）に規定される方法により、測定した。具体的には、株式会社ラムダビジョン製の平面基板透過率／反射率計測ユニット（商品名：ＬＶ－ＲＴＭ）を用いて吸収層付透明基材の印刷層が形成されていない領域における分光透過率を測定し、計算により視感透過率（ＪＩＳ　Ｚ　８７０１（１９９９年）に規定されている刺激値Ｙ）を求めた。視感透過率および視感反射率の計算にはＤ６５光源を用いた。
＜視感反射率＞
　各吸収層付透明基材の視感反射率（単位：％）を、ＪＩＳ　Ｚ　８７０１（１９９９年）に規定される方法により、測定した。具体的には、分光測色計（コニカミノルタ製、形式：ＣＭ－２６００ｄ）により、吸収層付透明基材の吸収層を備える側の面の分光反射率をＳＣＩモードで測定し、その反射率から、計算により視感反射率（ＪＩＳ　Ｚ８７０１において規定されている反射の刺激値Ｙ）を求めた。その際、吸収層を備えない側の面からの反射を打ち消すために、裏面を黒色に塗って測定した。なお、光源はＤ６５光源として計算した。
＜吸収率＞
　各吸収層付透明基材の吸収率（単位：％）を、以下式（Ａ）により求めた。
吸収率（％）＝１００（％）－Ｔ（％）－Ｒ（％）　　・・・式（Ａ）
　Ｔ：視感透過率
　Ｒ：視感反射率
＜透過色＞
　各吸収層付透明基材において、上記の分光透過率の測定により得られた透過スペクトルから、ＪＩＳ　Ｚ　８７２９（２００４年）に規定されている色座標ａ＊およびｂ＊を求めた。光源はＤ６５光源を用いた。
＜近赤外線透過率＞
　各吸収層付透明基材の印刷層が形成されていない領域における近赤外線透過率（単位：％）を、株式会社ラムダビジョン製の平面基板透過率／反射率計測ユニット（商品名：ＬＶ－ＲＴＭ）を用いて９００～１０００ｎｍの波長領域の光の平均透過率として測定した。
＜透過ヘイズ＞
　透過ヘイズは、吸収層付透明基材を透明基材から吸収層に向けて透過する透過光のうち、前方散乱によって入射光から０．０４４ｒａｄ（２．５°）以上それた透過光の割合（百分率）である。透過ヘイズは、ＪＩＳ　Ｋ　７１３６：２０００（ＩＳＯ　１４７８２：１９９９）に準拠して測定される。
　各吸収層付透明基材の印刷層が形成されていない領域における透過ヘイズを、ヘイズメーター（スガ試験機株式会社製、型式：ＨＺ－Ｖ３）を用いてＪＩＳ　Ｋ　７１３６：２０００（ＩＳＯ　１４７８２：１９９９）に準拠して測定した。
＜密着性＞
　各吸収層付透明基材の吸収層と透明基材との密着性を、以下の方法により測定した。
　各例で得られた吸収層付透明基材のサンプルの吸収層側の最表面（防汚層の表面）に、透明基材まで届く深さの直線状の切れ目をカッター（３Ｍ社製「Ｓｃｏｔｃｈ高純度チタンコートＳ型」）を用いて形成した。
　底面が１０ｍｍ×１０ｍｍである平面金属圧子の表面に、ＭＡＸクリーンワイパー（株式会社ＭＣＣ製）を装着して、摩擦子を作製した。この摩擦子を摩耗試験機（株式会社大栄科学精器製作所製「ＰＡ－３００Ａ」）に装着して擦り試験を行った。具体的には、摩擦子の底面が上記サンプルの吸収層側の最表面の上記切れ目が形成された箇所に接触するように、摩擦子およびサンプルを摩耗試験機に取り付け、摩擦子への荷重が１．０３ｋｇｆになるように重りを載せ、片道２０ｍｍ、１往復／ｓｅｃの条件で１２０回往復摺動した。
　試験後のサンプルにおける吸収層側の最表面の外観を目視で観察し、下記の基準により密着性を評価した。
（評価基準）
　０：吸収層側の最表面に剥がれが全く観察されなかった。
　１：吸収層側の最表面に線状の剥がれが観察された。
　２：吸収層側の最表面に大きな面状の剥がれが観察された。
　表２に、各吸収層付透明基材の構成、および、上記評価試験の結果をそれぞれ示す。
　表中、「着色顔料粒子」の「硬化後固形比率［質量％］」欄は、吸収層の形成に用いたコート液の全固形分に対する着色顔料粒子の含有量（単位：質量％）を示す。
　上記表に示すように、例６～例９、例１１～例１５、例２１～例２４および例２６～例３０の本発明の吸収層付透明基材は、吸収層側の最表面の表面抵抗率が１０１１～１０１５Ω／□であり、絶縁性に優れており、かつ、鉛筆硬度が４Ｈ以上であり、耐傷性に優れていることから、本発明の課題を解決できることが確認された。また、上記本発明の吸収層付透明基材は、視感透過率が１０～８５％であり、画像表示装置のカバー部材として用いるのに好適な適度な可視光吸収性能を有することが確認された。さらに、静電１により吸収層を形成した例６～例９、例１１～例１３、例２１～例２４および例２６～例２８の吸収層付透明基材は、透過ヘイズが低く抑えられていることが確認された。
　それに対して、例３～例５、例１０、例１６～例２０、例２５および例３１～例３２の吸収層付透明基材では、吸収層側の最表面の鉛筆硬度が３Ｈ以下であり、耐傷性が不十分であることが確認された。また、例１および例２の積層透明基材では、表面抵抗率が１０１０Ω／□未満であり、絶縁性が不十分であった。また、密着性も不十分であった。
［例３３］
　鱗片状シリカ粒子（サンラブリーＬＦＳ　ＨＮ１５０、ＡＧＣエスアイテック株式会社製）を解砕し、水中に分散させて、鱗片状シリカ粒子の含有量が５質量％であるシリカ粒子分散液を調製した。
　コート液（吸収層形成用組成物）を調製する際、顔料粒子Ｐ－１を３０質量％含む顔料分散液に代えて、上記シリカ粒子分散液を用いたこと、以下の比率で主溶剤、ＴＥＯＳ溶液、ＭＴＥＳ溶液、シリカ粒子分散液および硝酸を混合してコート液３３（吸収層形成用組成物）を調製したこと以外は、例６と同様にして、吸収層が着色顔料粒子を含まない例３３の吸収層付透明基材を製造した。
　例３３の吸収層付透明基材に対して上記評価試験を行ったところ、例３３の吸収層付透明基材では、視感透過率が９５％であり、可視光の吸収性能が不十分であった。
（コート液３３の組成）
――――――――――――――――――――――――
・主溶剤（ＡＰ－１１）　　　　７３．５質量％
・ＴＥＯＳ溶液　　　　　　　　　３．９質量％
・ＭＴＥＳ溶液　　　　　　　　１３．３質量％
・シリカ粒子分散液　　　　　　　８．８質量％
・硝酸　　　　　　　　　　　　　０．５質量％
――――――――――――――――――――――――
［例３４］
　例１で用いたものと同様の透明基材（縦１００ｍｍ×横１００ｍｍ×厚み１．３ｍｍの平らな矩形状ガラス基板）を屈曲させて、図４に示すような屈曲透明基材２１を準備した。屈曲透明基材２１は、平坦部２７と、平坦部２７に対して傾斜角度θ（°）で傾斜している傾斜部２８（角度の異なる他の平坦部）と、平坦部２７および傾斜部２８の間に配置されている屈曲部２９と、を有していた。
　平坦部２７および傾斜部２８を有する屈曲透明基材２１に対し、例２と同様にして、第２主面２１Ｂに相当する一方の表面に印刷層を形成し、第１主面２１Ａに相当する他方の表面に、金属酸化物層および防汚層をこの順に成膜して、印刷層、屈曲透明基材、金属酸化物層（吸収層に相当）および防汚層をこの順に有する例３４の積層透明基材を製造した。
　なお、例３４として、平坦部と傾斜部とのなす角度である傾斜角度θが６°、１２°、２４°、３２°、４０°、４５°および６０°である屈曲透明基材を準備し、各屈曲透明基材を用いて積層透明基材を製造した。
［例３５］
　平坦部２７および傾斜部２８を有する屈曲透明基材２１に対し、例１２と同様にして、第１主面２１Ａに相当する一方の表面に吸収層を形成し、第２主面２１Ｂに相当する他方の表面に印刷層を形成し、吸収層の最表面に防汚層を形成して、印刷層、屈曲透明基材、吸収層および防汚層をこの順に有する例３５の吸収層付透明基材を製造した。
＜吸収層の厚みの偏差＞
　例３４で得られた積層透明基材に対し、傾斜角度θが６°、１２°、２４°、３２°、４０°、４５°および６０°である傾斜部において、上記した水晶振動子によるモニタリングにより吸収層の厚みを測定し、平坦部における吸収層の厚みとの偏差［％］を算出した。
　例３５で得られた吸収層付透明基材に対し、傾斜角度θが６°、１２°、２４°、３２°、４０°、４５°および６０°である傾斜部の面内方向の任意に選択した５点において厚み方向に沿って切断した。得られた断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて３万倍の倍率で観察し、屈曲透明基材と吸収層の界面から吸収層の表面までの厚みを測定した。得られた測定値から算出した算術平均値を、傾斜部における吸収層の厚みとし、同様の方法で求めた平坦部における吸収層の厚みとの偏差［％］を算出した。
＜吸収率の偏差＞
　例３４で得られた積層透明基材および例３５で得られた吸収層付透明基材に対し、背面状態が同一の状態の平坦部の面内において、上記の方法により、視感透過率および視感反射率を測定し、上記式（Ａ）により平坦部（傾斜角度θ＝０°）の吸収率（単位：％）を算出した。
　また、平坦部の面内のうち任意に選択した５点において吸収率を測定し、５点の測定値から最大値と最小値との差を算出し、算出された吸収率の最大値と最小値との差を、平坦部（傾斜角度θ＝０°）の面内方向における吸収率の偏差とした。
　上記と同様に、例３４で得られた積層透明基材および例３５で得られた吸収層付透明基材につき、傾斜角度θが６°、１２°、２４°、３２°、４０°、４５°および６０°である傾斜部の吸収率（単位：％）を求めた。また、傾斜部の面内のうち任意に選択した５点において吸収率を測定し、５点の測定値から最大値と最小値との差を算出し、算出された吸収率の最大値と最小値の差を、傾斜部の面内方向における吸収率の偏差とした。測定結果を表３に示す。
　表３に、例３４および例３５の吸収層付透明基材の吸収層の厚みの偏差、吸収率および各傾斜角度での吸収率の偏差の測定結果を示す。
　表３に示すとおり、例３４の吸収層付透明基材においては、傾斜角度θが０°のとき、吸収層の厚みの偏差が０．０％であったのに対し、傾斜角度θを６°、１２°、２４°、３２°、４０°、４５°、６０°と上昇させるにともない、吸収層の厚みの偏差が１７．７％まで増加した。また、傾斜角度θが０°のとき、吸収率が３４．４％であったのに対し、傾斜角度θを６°、１２°、２４°、３２°、４０°、４５°、６０°と上昇させるにともない、吸収率が２６．５％まで低下した。さらに、傾斜角度θが０°のときの吸収率の偏差が０．０％であったのに対し、傾斜角度θを６°、１２°、２４°、３２°、４０°、４５°、６０°と上昇させるにともない、吸収率の偏差が２３．０％まで増加した。
　これに対し、例３５の吸収層付透明基材においては、傾斜角度θが０°の場合、また、傾斜角度を６°から６０°まで変更したいずれの場合においても、吸収層の厚みの偏差が０．０％に保たれており、また、吸収率が一定に保たれており、さらに、吸収率の偏差も０．０％に保たれていた。
　このことから、例３５の吸収層付透明基材は面内において可視光の吸収性能が均質であることがわかる。したがって、例３５の吸収層付透明基材は、例えば透明基材の少なくとも一部が曲面を有する形状である場合、或いは、吸収層付透明基材の最表面の少なくとも一部が曲率を有する場合であっても、面内における均質性および美観性に優れた表示画像が得られると考えられる。
　本発明を特定の態様を参照して詳細に説明したが、本発明の精神と範囲を離れることなく様々な変更および修正が可能であることは、当業者にとって明らかである。
　本出願は、２０２４年５月１６日付で出願された日本特許出願（特願２０２４－０８００５１）に基づいており、その全体が引用により援用される。
１，２，３　　吸収層付透明基材
１Ａ，２Ａ，３Ａ，４Ａ　　吸収層側最表面
４　　車両用透明部品
１０　　　印刷層
２０　　透明基材
２０Ａ，２１Ａ　　第１主面
２０Ｂ，２１Ｂ　　第２主面
２１　　屈曲透明基材
２７　　平坦部
２８　　傾斜部
２９　　屈曲部
３０　　吸収層
４０　　防汚層
５０　　反射防止層
６０　　画像表示装置

Claims (15)

  1. 　第１主面および第２主面を有する透明基材と、前記透明基材の前記第１主面に接して配置されている吸収層と、前記透明基材の前記第２主面に配置されている印刷層と、を備え、
    　前記吸収層が、加水分解性シラン化合物の重縮合物を含むマトリックス材料と、前記マトリックス材料に分散した着色顔料粒子とを含み、
    　前記吸収層側の最表面の鉛筆硬度が４Ｈ以上であり、視感透過率が１０～８５％であり、かつ、前記吸収層側の最表面の表面抵抗率が１０１１～１０１５Ω／□である、吸収層付透明基材。
  2. 　Ｄ６５光源下の透過色でのａ＊値が５．０以下であり、かつ、ｂ＊値が５．０以下である、請求項１に記載の吸収層付透明基材。
  3. 　前記着色顔料粒子が、酸窒化チタン、カーボンブラックおよび有機顔料からなる群より選ばれる１つ以上の粒子である、請求項１または２に記載の吸収層付透明基材。
  4. 　前記着色顔料粒子の平均粒子径が、５０～１０００ｎｍである、請求項１または２に記載の吸収層付透明基材。
  5. 　前記吸収層の厚みが、０．０５～１．００μｍである、請求項１または２に記載の吸収層付透明基材。
  6. 　前記着色顔料粒子の含有量が、前記吸収層の全質量に対して１～５０質量％である、請求項１または２に記載の吸収層付透明基材。
  7. 　前記吸収層側の最表面の算術平均粗さＲａが０．０１～０．６０μｍである、請求項１または２に記載の吸収層付透明基材。
  8. 　前記吸収層の表面に配置されている反射防止層を更に備える、請求項１または２に記載の吸収層付透明基材。
  9. 　前記吸収層側の最表面に配置されている防汚層を更に備える、請求項１または２に記載の吸収層付透明基材。
  10. 　前記吸収層付透明基材が、波長９００～１０００ｎｍの光の平均透過率が７０％以上である領域を有する、請求項１または２に記載の吸収層付透明基材。
  11. 　請求項１または２に記載の吸収層付透明基材を備える、車両用透明部品。
  12. 　第１主面および第２主面を有する透明基材と、前記透明基材の前記第１主面に接して配置されている吸収層とを備える、車両用透明部品であって、
    　前記透明基材の前記第２主面が、画像表示装置の視認側に貼合されており、
    　前記吸収層が、加水分解性シラン化合物の重縮合物を含むマトリックス材料と、前記マトリックス材料に分散した着色顔料粒子を含み、
    　前記吸収層側の最表面の鉛筆硬度が４Ｈ以上であり、視感透過率が１０～８５％であり、かつ、前記吸収層側の最表面の表面抵抗率が１０１１～１０１５Ω／□である、車両用透明部品。
  13. 　請求項１または２に記載の吸収層付透明基材の製造方法であって、
    　前記透明基材の前記第１主面に前記吸収層を形成する吸収層形成工程と、前記透明基材の前記第２主面に前記印刷層を形成する印刷工程とを含む、吸収層付透明基材の製造方法。
  14. 　前記吸収層は、マトリックス材料の前駆体、前記着色顔料粒子および液状媒体を含む吸収層形成用組成物を用いて、前記透明基材の前記第１主面に前駆体層を形成し、得られた前記前駆体層を硬化することにより形成される、請求項１３に記載の吸収層付透明基材の製造方法。
  15. 　前記前駆体層は、静電塗装法により形成される、請求項１４に記載の吸収層付透明基材の製造方法。
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