WO2025150243A1 - インダクタおよびインダクタの製造方法 - Google Patents

インダクタおよびインダクタの製造方法

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Definitions

  • This disclosure relates to an inductor and a method for manufacturing an inductor.
  • Patent Document 1 discloses a coil component in which a spiral coil part covered with a magnetic part is in direct contact with the magnetic part, the magnetic part being mainly composed of magnetic alloy particles and not containing a glass component, and an oxide film of the magnetic alloy particles is present on the surface of each magnetic alloy particle. It also discloses that the oxide film contains at least Fe3O4 , which belongs to the magnetic material, and Fe2O3 and Cr2O3 , which belong to the non-magnetic material.
  • the coil component described in Patent Document 1 contains Cr, a non-magnetic component, as an oxide film between the magnetic alloy particles, so further improvement of the magnetic properties was required. More specifically, it was discovered that the magnetic properties of the inductor can be improved by improving the concentration of the non-magnetic component in the oxide film.
  • the present disclosure aims to provide an inductor with improved magnetic properties and a method for manufacturing an inductor.
  • the inductor according to the present disclosure comprises: An element body including a plurality of metal magnetic powders; A coil provided within the element body,
  • the metal magnetic powder includes metal magnetic particles containing Fe and an oxide coating containing an oxidizable material that is more easily oxidized than Fe,
  • an intergranular layer region a region where the distance between the surface of a first metal magnetic particle and the surface of a second metal magnetic particle adjacent to the first metal magnetic particle becomes small
  • a region where the distance becomes large is defined as a non-intergranular layer region
  • the concentration of the easily oxidizable material in the non-intergranular layer region is higher than the concentration of the easily oxidizable material in the intergranular layer region.
  • a method for manufacturing an inductor according to the present disclosure includes: A method of manufacturing the inductor described above, comprising the steps of: a preparation step of preparing a magnetic material constituting an element body by adding the easily oxidizable material to the metal magnetic particles; a pressurizing step of pressurizing a precursor body formed using the magnetic material, thereby distributing the easily oxidizable material more in the non-intergranular layer region than in the intergranular layer region; and a heat treatment step of heating the magnetic material to form an oxide film containing the easily oxidizable material on the surface of the metal magnetic particles.
  • This disclosure provides an inductor with improved magnetic properties and a method for manufacturing an inductor.
  • FIG. 1 is a perspective view of an inductor of the present disclosure.
  • FIG. 2 is an exploded perspective view of one embodiment of an inductor of the present disclosure.
  • FIG. 3 is a cross-sectional view showing one field of view at the center of the cut surface, taken through the center of the element body and the winding axis of the coil in FIG. 1 and perpendicular to the mounting surface and end surfaces of the element body.
  • FIG. 4 is an enlarged cross-sectional view of the area enclosed by the dashed line in FIG.
  • FIG. 5A is a graph showing the concentration distributions of Si, Fe, and Zn in the intergranular layer region.
  • FIG. 5B is a graph showing the concentration distributions of Si, Fe, and Zn in the non-intergranular layer region.
  • FIG. 5C is a graph showing the concentration distributions of Si, Fe and Zn at other positions in the non-intergranular layer region.
  • FIG. 6 is a manufacturing flow illustrating the manufacturing process of the inductor of the present disclosure.
  • FIG. 7 is an element mapping image of the inductor of the comparative example.
  • FIG. 8 is an element mapping image of the inductor of the example.
  • FIG. 9 is a graph showing the change in magnetic permeability before and after the heat treatment.
  • FIG. 10 is a table showing the changes in magnetic permeability in the comparative example and examples 1 to 4 on which the graph in FIG. 9 is based.
  • inductor of the present disclosure is described below. Note that the present disclosure is not limited to the configurations below, and may be modified as appropriate without departing from the spirit of the present disclosure. In addition, a combination of multiple individual preferred configurations described below also constitutes the present disclosure.
  • the inductor disclosed herein is used, for example, in a DC-DC converter.
  • the inductor disclosed herein can also be used for purposes other than DC-DC converters.
  • the inductor of the present disclosure will be described with reference to Figures 1 to 5C.
  • the inductor of the present disclosure comprises an element body 10 including a plurality of magnetic metal powder particles MP (see Figure 3), and a coil provided within the element body 10.
  • the base body 10 shown in FIG. 1 has a first main surface 11 and a second main surface 12 that face the height direction T, a first end surface 13 and a second end surface 14 that are perpendicular to the height direction T and face the length direction L, and a first side surface 15 and a second side surface 16 that face the width direction W that is perpendicular to the length direction L and the height direction T.
  • the first main surface 11 of the base body 10 corresponds to the mounting surface (bottom surface) of the base body 10.
  • the second main surface 12 may also be the mounting surface of the base body 10.
  • the base body 10 includes a coil formed by stacking multiple coil conductors CD.
  • two coils a first coil and a second coil
  • the first coil is formed by the coil conductors CD of base body layers G4 and G5
  • the second coil is formed by the coil conductors CD of base body layers G2 and G3.
  • the inductor 1 of the first embodiment is not limited to this example, and for example, three or more coils may be arranged along the stacking direction.
  • a coil array may be formed by arranging multiple coils side by side inside the base body 10 in a direction intersecting the stacking direction (L direction in FIG. 1).
  • an external electrode E is provided on the mounting surface (first main surface 11) of the element body 10.
  • the external electrode E includes a first external electrode E1 and a second external electrode E2 connected to the respective ends of the first coil, and a third external electrode E3 and a fourth external electrode E4 connected to the respective ends of the second coil. Note that two external electrodes are provided for each coil. Therefore, if the number of coils is three, the number of external electrodes may be six.
  • Through-hole conductors TH are used to connect the coil (coil conductor CD) to the external electrode E. That is, the first through-hole conductor TH1 to the fourth through-hole conductor TH4 are provided in correspondence with the first external electrode E1 to the fourth external electrode E4. The first through-hole conductor TH1 to the fourth through-hole conductor TH4 are also provided extending along the stacking direction.
  • the magnetic layer ML of each of the base layers G1 to G8 is provided with metal magnetic powder MP (see FIG. 3) made of a magnetic material.
  • the metal magnetic powder MP includes metal magnetic particles DP, an oxide film OL, and a resin.
  • the average particle size of the metal magnetic powder MP may be preferably 0.2 ⁇ m or more and 20 ⁇ m or less, more preferably 0.2 ⁇ m or more and 15 ⁇ m or less, and even more preferably 1 ⁇ m or more and 6 ⁇ m or less.
  • the average particle size of the metal magnetic powder MP can be measured by the following procedure.
  • the inductor sample is cut to obtain a sample cross section.
  • the sample cross section is obtained by cutting through the center of the element body and the winding axis of the coil so as to be perpendicular to the mounting surface and end surface of the element body.
  • the sample cross section may be made flat by ion milling or the like.
  • three arbitrary points in the center of the cut surface, which corresponds to the center of the element body 10 are photographed by SEM (magnification of about 1000 times) and composition analysis is performed by EDX.
  • SEM magnification of about 1000 times
  • the average value of the obtained circle equivalent diameters for the confirmed metal magnetic powder MP is taken as the average particle size of the metal magnetic particles.
  • the average particle size in this specification may mean the average particle size D50 (particle size equivalent to 50% cumulative percentage based on volume).
  • the metal magnetic particles DP contain at least Fe (iron). More specifically, they may be particles or alloy particles containing Fe and Si. Examples of the metal magnetic particles DP may be Fe-Si alloys, Fe-Si-Cr (chromium) alloys, Fe-Si-Al (aluminum) alloys, Fe-Si-B (boron)-P (phosphorus)-Cu (copper)-C (carbon) alloys, Fe-Si-B-Nb (niobium)-Cu alloys, etc. The metal magnetic particles DP may also contain impurities such as Cr, Mn (manganese), Cu, Ni (nickel), P, S (sulfur) or Co (cobalt) that are not intended in the manufacturing process.
  • impurities such as Cr, Mn (manganese), Cu, Ni (nickel), P, S (sulfur) or Co (cobalt) that are not intended in the manufacturing process.
  • the metal magnetic particles DP may also be contained in the magnetic paste, as will be described in detail in the explanation of the manufacturing method.
  • the magnetic paste may contain an easily oxidizable material (e.g., any one of Zn (zinc), Zr (zirconium), Al (aluminum), Ti (titanium), Mg (magnesium), Cr (chromium), and Mo (molybdenum)) that is more easily oxidized than Fe.
  • the easily oxidizable material can be attached to the surface of the metal magnetic particles DP, and the easily oxidizable material on the surface of the metal magnetic particles DP is preferentially oxidized, so that the oxide of the easily oxidizable material remains on the surface of the metal magnetic particles DP, and the oxidation of the Fe element contained in the metal magnetic particles is reduced.
  • the resin component contained in the magnetic paste may disappear or remain due to the heat treatment of the element body.
  • the material of the easily oxidizable material that is more easily oxidized than Fe is selected to be different from the material contained in the metal magnetic particles DP, for example, if the material of the metal magnetic particles DP is an Fe-Si-Cr alloy, the easily oxidizable material is selected to be a material other than Si or Cr.
  • the surfaces of the metal magnetic particles DP are covered with an insulating coating.
  • insulating refers to a volume resistivity of 1 M ⁇ cm or more. If the surfaces of the metal magnetic particles DP are covered with an insulating coating, the insulation between the metal magnetic particles DP can be increased.
  • a specific example of the insulating coating is an oxide coating OL, as shown in FIG. 3. Note that a configuration in which an insulating material is provided outside the oxide coating OL, that is, the metal magnetic particles DP and the oxide coating OL may be coated with an insulating material not shown, may also be used.
  • the thickness of the oxide film OL can be measured, for example, by photographing a cross section obtained by polishing an inductor sample with a scanning electron microscope (SEM) or a transmission electron microscope (TEM), and measuring the thickness of the oxide film OL covering the surface of the metal magnetic particles DP from the obtained SEM image.
  • the thickness of the oxide film OL is measured by photographing any three points in the center of the cut surface cut perpendicular to the mounting surface and end surface of the element through the center of the element and the winding axis of the coil. In each field of view, the thickness of the oxide film OL is measured at three arbitrary points in the center.
  • the thickness of the oxide film OL can be determined by averaging these nine points (three arbitrary points in the center of the cut surface) x (three arbitrary points in the center of each field of view).
  • Suitable easily oxidizable materials may include at least one selected from the group consisting of Zr, Al, Ti, Mg, Cr, and Mo. More specifically, a metal with a greater ionization tendency than Fe may be used. When such a material is used as the easily oxidizable material, the easily oxidizable material is oxidized preferentially over the metal magnetic powder, thereby reducing the oxidation of the metal magnetic particles DP that contain Fe.
  • the base body 10 which is formed by stacking the above-mentioned base body layers G1 to G8, may be impregnated with resin after heat treatment of the base body 10, so that the resin is present between adjacent metal magnetic powders MP bonded with an insulating coating.
  • the resin impregnated after heat treatment of the base body 10 may be one or more resins selected from the group consisting of epoxy resin, phenolic resin, polyester resin, polyimide resin, polyolefin resin, silicone resin, acrylic resin, polyvinyl butyral resin, cellulose resin, alkyd resin, etc.
  • a cut surface is obtained by cutting the element through the center of the element and the winding axis of the coil perpendicular to the mounting surface and end surface of the element, and photographing three arbitrary points in the center of the cut surface, and it can be seen that in each field of view, there are areas around the multiple metal magnetic powders MP, indicated by dots, where resin impregnated in the element and voids are present, as shown in Figure 3.
  • image analysis software for example, image analysis software WinROOF2021 (manufactured by Mitani Shoji Co., Ltd.) is used to select from the multiple metal magnetic powders MP those in which the distance between the center points of gravity of two metal magnetic particles DP is 100 nm or less, thereby identifying one metal magnetic particle DP and the other metal magnetic particle DP adjacent to that metal magnetic particle DP. Then, as shown in FIG.
  • the region where the distance between the surface of one metal magnetic particle DP and the surface of the other metal magnetic particle DP adjacent to the metal magnetic particle DP becomes small is defined as the intergranular layer region R1
  • the region where the distance between the surface of one metal magnetic particle DP and the surface of the other metal magnetic particle DP adjacent to the metal magnetic particle DP becomes large is defined as the non-intergranular layer region R2
  • the concentration of the easily oxidizable material in the non-intergranular layer region R2 is higher than the concentration of the easily oxidizable material in the intergranular layer region R1.
  • the "intergranular layer region” refers to the region between two particles that are opposed between the two virtual lines L2, as shown in FIG. 4, in which the line segment connecting the centroids of adjacent particles is defined as the virtual line L1, and virtual lines L2 of ⁇ 10° are drawn on both sides of the virtual line L1 as the center of the centroid of the metal magnetic particle.
  • the maximum distance between the two particles is, for example, 50 nm or less.
  • the virtual lines L1 and L2 can be drawn using image analysis software (for example, image analysis software WinROOF2021 (manufactured by Mitani Shoji Co., Ltd.)) when determining the circle-equivalent diameter of the above-mentioned metal magnetic powder MP.
  • the "non-intergranular layer region” in this specification refers to a region other than the intergranular layer region, in which the interparticle distance is greater than that of the intergranular layer region.
  • the "concentration of the easily oxidizable material" in this specification can be measured by the procedure described below.
  • a cut surface is created by cutting the element body 10 in the thickness direction along the length of the element body 10 at a position passing through the coil winding axis from the mounting surface (first main surface 11) side of the element body 10.
  • TEM photography magnification of about 600,000 times
  • Quantitative analysis is performed at the identified position using EDX.
  • composition analysis is performed by line analysis so as to straddle the outer edge of the metal magnetic particle DP, and the maximum concentration value of the concentration of the easily oxidizable material in the obtained composition analysis graph is measured.
  • concentration of the easily oxidizable material in the intergranular layer region is measured at two locations inside the virtual line L1 and the virtual line L2 and equally spaced from the virtual line L1, and the average value of the maximum concentration values is taken as the concentration of the easily oxidizable material in the intergranular layer region.
  • the "concentration of the easily oxidizable material in the non-intergranular layer region” is measured at two equally spaced locations, one outside one virtual line L2 and the other outside the other virtual line L2, and the average of the maximum concentration values is taken as the concentration of the easily oxidizable material in the non-intergranular layer region.
  • the details of the analysis will be described in detail in the [Example] below, but the line analysis results for the intergranular layer region R1 are as shown in FIG. 5A, and the line analysis results for the non-intergranular layer region R2 are as shown in FIG. 5B and FIG. 5C.
  • the "concentration of the easily oxidizable material” in this specification does not include O (oxygen), C (carbon), or other impurities.
  • the line analysis results show that the concentration of the easily oxidizable material in the non-intergranular layer region R2 (maximum value of the Zn concentration in FIG. 5B or FIG. 5C) is higher than the concentration of the easily oxidizable material in the intergranular layer region R1 (maximum value of the Zn concentration in FIG. 5A).
  • One reason for this line analysis result is thought to be that in the pressurizing step of the "Inductor Manufacturing Method" described below, the magnetic material is pressurized, pushing the easily oxidizable material in the intergranular layer region R1 toward the non-intergranular layer region R2, resulting in such a concentration of the easily oxidizable material.
  • the concentration of the easily oxidizable material in the non-intergranular layer region R2 is relatively high at 5 atom% or more and 30 atom% or less, so that the easily oxidizable material is preferentially oxidized over Fe, and it is possible to reduce the oxidation of Fe.
  • the method for manufacturing an inductor according to the present disclosure includes a preparation step, a pressurizing step, and a heat treatment step. As will be described later, the method may also include an optional degreasing step.
  • the magnetic material (magnetic paste) constituting the magnetic layers ML of the element layers G1 to G8 described with reference to FIG. 2 and the conductor paste constituting the coil conductor CD are prepared.
  • a metal powder such as an Fe-Si alloy or an Fe-Si-Cr alloy with a cumulative 50% particle diameter by volume, D50, is prepared between 2 ⁇ m and 20 ⁇ m.
  • An easily oxidizable material that oxidizes more easily than Fe for example, Zn particles: 0.5 wt% or more
  • a binder such as cellulose or polyvinyl butyral (PVB) and a solvent such as a mixture of terpineol and butyl diglycol acetate (BCA) are added, and the mixture is kneaded to make a magnetic paste.
  • a paste containing Ag as a conductive material is prepared.
  • the above evaluation results of the inductor confirmed that the maximum Zn concentration in the non-intergranular layer region R2 was higher than the maximum Zn concentration in the intergranular layer region R1. Therefore, in the non-intergranular layer region R2, oxidizable materials that are more easily oxidized than Fe are oxidized preferentially over Fe, making it possible to reduce the oxidation of Fe compared to conventional inductors. Furthermore, in the intergranular layer region R1, the concentration of oxidizable materials is low, making it possible to reduce nonmagnetic components and improve the magnetic properties compared to conventional inductors.

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Abstract

磁気特性が向上されたインダクタおよびインダクタの製造方法を提供する。本開示のインダクタ１は、複数の金属磁性粉ＭＰを備える素体１０と、素体１０内に設けられたコイルと、を備え、金属磁性粉ＭＰは、Ｆｅを含む金属磁性粒子ＤＰと、Ｆｅよりも酸化しやすい易酸化材料を含む酸化被膜ＯＬと、を備えており、第１の金属磁性粒子ＤＰの表面と金属磁性粒子ＤＰに隣接する第２の金属磁性粒子ＤＰの表面との間の距離が小さくなる領域を粒間層領域Ｒ１とし、前記距離が大きくなる領域を非粒間層領域Ｒ２としたときに、非粒間層領域Ｒ２の易酸化材料の濃度は、粒間層領域Ｒ１の前記易酸化材料の濃度よりも高い。

Description

インダクタおよびインダクタの製造方法
　本開示は、インダクタおよびインダクタの製造方法に関する。
　特許文献１には、磁性体部によって覆われた螺旋状のコイル部が磁性体部と直接接触するタイプのコイル部品において、磁性体部は磁性合金粒子群をその主体とし、且つ、ガラス成分を含んでおらず、磁性合金粒子それぞれの表面には磁性合金粒子の酸化物膜が存在しているコイル部品が開示されている。また、酸化物膜には、磁性体に属するＦｅ３Ｏ４と、非磁性体に属するＦｅ２Ｏ３及びＣｒ２Ｏ３を少なくとも含む点が開示されている。
特開２０１２－１６４９５８号公報
　特許文献１に記載のコイル部品は、磁性合金粒子同士の間に酸化物膜として非磁性成分であるＣｒを含むため、磁気特性に更なる改善を要していた。より具体的には、酸化物膜内の非磁性成分の濃度態様を改善することにより、インダクタの磁気特性が良好となる知見が得られた。
　したがって、本開示は、磁気特性が向上されたインダクタおよびインダクタの製造方法を提供することを目的とする。
　本開示に係るインダクタは、
　複数の金属磁性粉を備える素体と、
　前記素体内に設けられたコイルと、を備え、
　前記金属磁性粉は、Ｆｅを含む金属磁性粒子と、Ｆｅよりも酸化しやすい易酸化材料を含む酸化被膜と、を備えており、
　第１の金属磁性粒子の表面と前記第１の金属磁性粒子に隣接する第２の金属磁性粒子の表面との間の距離が小さくなる領域を粒間層領域とし、前記距離が大きくなる領域を非粒間層領域としたときに、前記非粒間層領域の前記易酸化材料の濃度は、前記粒間層領域の前記易酸化材料の濃度よりも高い。
　本開示に係るインダクタの製造方法は、
　上述のインダクタを製造する方法であって、
　前記金属磁性粒子に、前記易酸化材料を添加して素体を構成する磁性材料を準備する準備工程と、
　前記磁性材料を用いて形成した素体前駆体を加圧することによって、前記易酸化材料を前記粒間層領域よりも前記非粒間層領域に多く分布させる加圧工程と、
　前記磁性材料を加熱して前記金属磁性粒子表面に前記易酸化材料を含む酸化被膜を形成する熱処理工程と、を備える。
　本開示によれば、磁気特性が向上されたインダクタおよびインダクタの製造方法を提供することができる。
図１は、本開示のインダクタの斜視図である。 図２は、本開示のインダクタの一実施形態の分解斜視図である。 図３は、図１の素体の中心部およびコイルの巻回軸を通って素体の実装面と端面に直交する様に切断し、切断面の中央部の１視野を示す断面図である。 図４は、図３の破線で区画された領域を拡大した断面図である。 図５Ａは、粒間層領域におけるＳｉ、ＦｅおよびＺｎの濃度分布を示すグラフである。 図５Ｂは、非粒間層領域におけるＳｉ、ＦｅおよびＺｎの濃度分布を示すグラフである。 図５Ｃは、非粒間層領域における他の位置でのＳｉ、ＦｅおよびＺｎの濃度分布を示すグラフである。 図６は、本開示のインダクタの製造工程を説明する製造フローである。 図７は、比較例のインダクタに対する元素マッピング画像である。 図８は、実施例のインダクタに対する元素マッピング画像である。 図９は、熱処理前後の透磁率の変化を示すグラフである。 図１０は、図９のグラフの基となった比較例および実施例１～４の透磁率の変化を示す表である。
　以下、本開示のインダクタについて説明する。なお、本開示は、以下の構成に限定されるものではなく、本開示の要旨を逸脱しない範囲において適宜変更されてもよい。また、以下において記載する個々の好ましい構成を複数組み合わせたものもまた本開示である。
　本開示のインダクタは、例えば、ＤＣ－ＤＣコンバータに用いられる。また、本開示のインダクタは、ＤＣ－ＤＣコンバータ以外の用途にも適用可能である。
　本明細書中、要素間の関係性を示す用語（例えば、「平行」、「直交」等）及び要素の形状を示す用語は、文字どおりの厳密な態様のみを意味するだけではなく、実質的に同等な範囲、例えば、数％程度の差異を含む範囲も意味する。なお、本明細書では、素体を構成する磁性層およびコイル導体が積層される方向を「積層方向」とする。
　また、本明細書の説明において、方向または向きなどに関する言及は、単に説明の便宜のためであり、特に明示的な説明がされない限り、本開示の範囲を限定することは意図されていない。例えば、「外（または外側、外部もしくは外周）」、「内（または内側、内部もしくは内周）」などの相対的な用語、ならびに、それらの派生用語などは、記載された如くまたは図示される如くの方向に言及すると解すべきである。つまり、特段の明示的な説明がされない限り、特定の方向・向き・形態などにのみ発明が限定されることを要するものではない。また、「設けられ」、「接続され」などの用語、ならびにそれらの派生用語もまた同様であり、特段の明示的な説明がされない限り、直接的な態様に限らず、介在物などの他要素が介在する態様であってよい。
　以下に示す図面は模式図であり、その寸法、縦横比の縮尺等は実際の製品と異なる場合がある。
＜本開示のインダクタ＞
　本開示のインダクタについて図１～図５Ｃを参照しながら説明する。本開示のインダクタは、複数の金属磁性粉ＭＰ（図３参照）を備える素体１０と、素体１０内に設けられたコイルと、を備えている。
　素体１０は、例えば、六面を有する直方体形状又は略直方体形状である（図１参照）。素体１０は、角部及び稜線部に丸みが付けられていてもよい。角部は、素体１０の三面が交わる部分であり、稜線部は、素体１０の二面が交わる部分である。
　図１には、インダクタ１及び素体１０における長さ方向、幅方向、高さ方向を、それぞれＬ方向、Ｗ方向、Ｔ方向として示している。長さ方向Ｌと幅方向Ｗと高さ方向Ｔとは互いに直交する。インダクタ１の実装面は、例えば、長さ方向Ｌと幅方向Ｗに平行な面（ＬＷ面）である。
　図１に示す素体１０は、高さ方向Ｔに相対する第１主面１１及び第２主面１２と、高さ方向Ｔに直交し長さ方向Ｌに相対する第１端面１３及び第２端面１４と、長さ方向Ｌ及び高さ方向Ｔに直交する幅方向Ｗに相対する第１側面１５及び第２側面１６とを有する。図１に示す例では、素体１０の第１主面１１が素体１０の実装面（底面）に相当する。なお、第２主面１２が素体１０の実装面であってもよい。
　素体１０は、磁性層ＭＬおよびコイル導体ＣＤ（図２参照）が形成された素体層を積層方向（例えば高さ方向Ｔ）に複数積層された積層構造を有している。本実施形態では、図２に示すように素体層Ｇ１～Ｇ８を積層させることによって素体１０を構成している。そして、複数のコイル導体ＣＤが積層されることによってコイルが構成されている。コイル導体ＣＤの積層によってコイルを構成することで、導線を巻回した巻線タイプのコイルよりも小型化することができる。なお、素体１０が有する積層構造の各層の境界は消失している。また、各素体層Ｇ１～Ｇ８は、同一のパターンを複数積層して構成されていてよい。
　素体１０内には、複数のコイル導体ＣＤを積層して構成されたコイルが設けられている。図２に示す例では、素体１０内に２つのコイル（第１コイルおよび第２コイル）が積層方向に沿って設けられている。より具体的には、素体層Ｇ４および素体層Ｇ５のコイル導体ＣＤによって第１コイルが構成されており、素体層Ｇ２および素体層Ｇ３のコイル導体ＣＤによって第２コイルが構成されている。なお、第１実施形態のインダクタ１は、この例に限定されず、例えば、３以上のコイルが積層方向に沿って設けられていてもよい。また、素体１０の内部であって、積層方向と交差する方向（図１のＬ方向）にコイルを複数並設してコイルアレイを構成してもよい。
　素体１０の実装面（第１主面１１）には、外部電極Ｅが設けられている。図２に示す例では、外部電極Ｅは、第１コイルの端部それぞれと接続される第１外部電極Ｅ１、第２外部電極Ｅ２と、第２コイルの端部それぞれと接続される第３外部電極Ｅ３、第４外部電極Ｅ４と、を備えている。なお、外部電極の数は１つのコイルに応じて２個の外部電極が設けられる。そのため、仮にコイルの数を３つとした場合は、外部電極の数を６つとしてよい。
　コイル（コイル導体ＣＤ）と外部電極Ｅとの接続は、スルーホール導体ＴＨが用いられている。つまり、第１外部電極Ｅ１～第４外部電極Ｅ４と対応して、第１スルーホール導体ＴＨ１～第４スルーホール導体ＴＨ４が設けられている。また、第１スルーホール導体ＴＨ１～第４スルーホール導体ＴＨ４は、積層方向に沿って延設されている。
　各素体層Ｇ１～Ｇ８の磁性層ＭＬは、磁性材料で構成される金属磁性粉ＭＰ（図３参照）を備えている。金属磁性粉ＭＰは、金属磁性粒子ＤＰと、酸化被膜ＯＬと、樹脂を含む。
　金属磁性粉ＭＰの平均粒径は、好ましくは０．２μｍ以上２０μｍ以下、より好ましくは０．２μｍ以上１５μｍ以下、さらに好ましくは１μｍ以上６μｍ以下であってよい。
　金属磁性粉ＭＰの平均粒径は、以下に説明する手順で測定することができる。インダクタの試料を切断して試料断面を得る。具体的には、素体の中心部およびコイルの巻回軸を通って素体の実装面と端面に直交する様に切断して試料断面を得る。なお、試料断面は、イオンミリング等によってフラットな面としてよい。得られた断面について、素体１０の中央部にあたる切断面の中央部の任意の３箇所をＳＥＭによる撮影（約１０００倍の倍率）およびＥＤＸによる組成分析を行う。ＥＤＸによる組成分析結果より撮影視野におけるＦｅの位置を確認することによって、ＳＥＭ画像中の金属磁性粉ＭＰの位置を特定することができる。そして、確認された金属磁性粉ＭＰに対し、得られた円相当径の平均値を金属磁性粒子の平均粒径とする。なお、本明細書でいう平均粒径とは、平均粒径Ｄ５０（体積基準の累積百分率５０％相当粒径）を意味してよい。
　金属磁性粒子ＤＰは、少なくともＦｅ（鉄）を含んでいる。より具体的には、ＦｅおよびＳｉを含む粒子又は合金粒子であってよい。金属磁性粒子ＤＰの一例として、Ｆｅ－Ｓｉ系合金、Ｆｅ－Ｓｉ－Ｃｒ（クロム）系合金、Ｆｅ－Ｓｉ－Ａｌ（アルミニウム）系合金、Ｆｅ－Ｓｉ－Ｂ（ホウ素）－Ｐ（リン）－Ｃｕ（銅）－Ｃ（炭素）系合金、Ｆｅ－Ｓｉ－Ｂ－Ｎｂ（ニオブ）－Ｃｕ系合金等であってよい。また、金属磁性粒子ＤＰには、製造上意図しないＣｒ、Ｍｎ（マンガン）、Ｃｕ、Ｎｉ（ニッケル）、Ｐ、Ｓ（硫黄）またはＣｏ（コバルト）等の不純物を含んでいてもよい。また、金属磁性粒子ＤＰは、製造方法の説明にて詳述するが、磁性ペーストに含有されてよい。磁性ペーストには、Ｆｅよりも酸化し易い易酸化材料（例えば、Ｚｎ（亜鉛）、Ｚｒ（ジルコニウム）、Ａｌ（アルミニウム）、Ｔｉ（チタン）、Ｍｇ（マグネシウム）、Ｃｒ（クロム）、Ｍｏ（モリブデン）のいずれか）が含まれていてもよい。磁性ペーストに易酸化材料を含ませることにより、易酸化材料を金属磁性粒子ＤＰ表面に纏わりつかせることができ、金属磁性粒子ＤＰ表面の易酸化材料が優先的に酸化して金属磁性粒子ＤＰ表面に易酸化材料の酸化物が残存し、金属磁性粒子に含まれるＦｅ元素の酸化が低減される。これにより、Ｆｅ元素の酸化による透磁率の低下を抑えてインダクタ１の透磁率をより高めることができる。なお、磁性ペーストに含有される樹脂成分は、素体の熱処理によって消失していてもよいし、残存していてもよい。また、Ｆｅよりも酸化し易い易酸化材料の材質は、例えば、金属磁性粒子ＤＰの材質がＦｅ－Ｓｉ－Ｃｒ系合金の場合、易酸化材料はＳｉやＣｒ以外の材料が選択されるといった様に、金属磁性粒子ＤＰに含有している材質と異なる材質のものが選択される。
　上述の金属磁性粒子ＤＰの表面は、絶縁被膜で覆われている。本明細書でいう「絶縁性」とは、体積抵抗率が１ＭΩｃｍ以上であることを意図している。金属磁性粒子ＤＰの表面が絶縁被膜で覆われていると、金属磁性粒子ＤＰ間の絶縁性を高くすることができる。絶縁被膜の具体例として、図３に示すとおり、酸化被膜ＯＬである。なお、酸化被膜ＯＬよりも外側に絶縁性材料が設けられている構成、つまり、不図示の絶縁性材料によって金属磁性粒子ＤＰおよび酸化被膜ＯＬが被覆されていてもよい。
　酸化被膜ＯＬは、金属磁性粒子ＤＰに含まれるＦｅよりも酸化しやすい元素の酸化によって生成される被膜である。つまり、酸化被膜ＯＬには、上述のＦｅよりも酸化しやすい易酸化材料の酸化物及び金属磁性粒子ＤＰに由来する原料の酸化物を含んでいてもよい。本明細書で云う「Ｆｅよりも酸化しやすい易酸化材料」とは、Ｆｅよりもイオン化傾向が大きい材料を意図している。酸化被膜ＯＬの厚みは、好ましくは１ｎｍ以上１００ｎｍ以下、より好ましくは１ｎｍ以上５０ｎｍ以下、さらに好ましくは１ｎｍ以上２０ｎｍ以下であってよい。酸化被膜ＯＬの厚みは、例えば、インダクタの試料を研磨することで得られた断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）または透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）で撮影し、得られたＳＥＭ画像から、金属磁性粒子ＤＰの表面を覆う酸化被膜ＯＬの厚みを測定することができる。なお、酸化被膜ＯＬの厚みは、素体の中心部およびコイルの巻回軸を通って素体の実装面と端面に直交する様に切断した切断面の中央部の任意の３箇所を撮影する。各視野において、それぞれ中央部の任意の３箇所にて酸化被膜ＯＬの厚みを測定する。これら、（切断面の中央部の任意の３箇所）×（各視野の中央部の任意の３箇所）＝９箇所の平均によって酸化被膜ＯＬの厚みとしてよい。
　好適な易酸化材料としては、Ｚｒ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｍｇ、ＣｒおよびＭｏから成る群から選択される少なくとも一種を含んでよい。より具体的には、Ｆｅよりもイオン化傾向の大きい金属を用いてよい。易酸化材料をこのような材料とすると、金属磁性粉よりも易酸化材料が優先的に酸化されるため、Ｆｅを含む金属磁性粒子ＤＰの酸化を低減することができる。
　樹脂は、素体１０の強度を高めるため、上述の素体層Ｇ１～Ｇ８を積層して構成される素体１０の熱処理後に素体１０を樹脂含浸することによって、隣接して絶縁被膜で結合された金属磁性粉ＭＰ間に存在させてもよい。素体１０の熱処理後に含浸される樹脂は、一例として、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリエステル樹脂、ポリイミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、セルロース樹脂及びアルキド樹脂等からなる群より選択される１種以上の樹脂が用いられても良い。
　本実施形態のインダクタ１において、素体の中心部およびコイルの巻回軸を通って素体の実装面と端面に直交する様に切断して切断面を得、切断面の中央部の任意の３箇所を撮影すると、各視野において図３に示すように、複数の金属磁性粉ＭＰの周囲にドットで示された素体に含浸された樹脂や空隙が存在している領域があることが分かる。ここで画像解析ソフト（例えば、画像解析ソフトウェアWinROOF2021（三谷商事株式会社製））を用いて複数の金属磁性粉ＭＰのうち、２つの金属磁性粒子ＤＰの重心点間の距離が１００ｎｍ以下のものを選択することにより一方の金属磁性粒子ＤＰと当該金属磁性粒子ＤＰに隣接する他方の金属磁性粒子ＤＰを特定する。そして、図４に示すように、一方の金属磁性粒子ＤＰと他方の金属磁性粒子ＤＰの間で観察して、一方の金属磁性粒子ＤＰの表面と当該金属磁性粒子ＤＰに隣接する他方の金属磁性粒子ＤＰの表面の距離が小さくなる領域を粒間層領域Ｒ１とし、一方の金属磁性粒子ＤＰの表面と当該金属磁性粒子ＤＰに隣接する他方の金属磁性粒子ＤＰの表面の距離が大きくなる領域を非粒間層領域Ｒ２としたときに、非粒間層領域Ｒ２の易酸化材料の濃度は、粒間層領域Ｒ１の易酸化材料の濃度よりも高くなっている。本明細書の「粒間層領域」とは、図４に示すように、隣接する粒子同士の重心点を結んだ線分を仮想線Ｌ１とし、仮想線Ｌ１を基準として両側に金属磁性粒子の重心点を中心に±１０°の仮想線Ｌ２を引き、２つの仮想線Ｌ２間で対向している２つの粒子間の領域を意図している。図４では、２つの粒子間の最大の距離は例えば５０ｎｍ以下となっている。ここで、仮想線Ｌ１，Ｌ２は、上述の金属磁性粉ＭＰの円相当径を求める際に画像解析ソフト（例えば、画像解析ソフトウェアWinROOF2021（三谷商事株式会社製））を用いて線引きすることができる。また、本明細書の「非粒間層領域」は、粒間層領域以外の領域であって、粒子間距離が粒間層領域よりも大きな領域を意図している。 
　また、本明細書の「易酸化材料の濃度」は、以下に説明する手順で測定することができる。素体１０の実装面（第１主面１１）側からコイルの巻軸を通る位置で素体１０の長さ方向に沿って素体１０の厚み方向に切断した切断面を作成する。この切断面において、コイルの巻軸部分で金属磁性粉ＭＰが撮影視野に入るようにＴＥＭによる撮影（約６０万倍の倍率）を行い金属磁性粉ＭＰの場所を特定する。当該特定された位置において、ＥＤＸを用いて定量分析を行う。ＥＤＸを用いた定量分析は、金属磁性粒子ＤＰの外縁を跨ぐようにライン分析による組成分析を行い、得られた組成分析のグラフにおける易酸化材料の濃度の最大濃度値を測定する。なお、「粒間層領域における易酸化材料の濃度」は、仮想線Ｌ１と、仮想線Ｌ２よりも内側で且つ、仮想線Ｌ１から等間隔で離れた２か所を測定し、各最大濃度値の平均値を粒間層領域における易酸化材料の濃度とする。また、「非粒間層領域における易酸化材料の濃度」は、一方の仮想線Ｌ２よりも外側と、他方の仮想線Ｌ２よりも外側でそれぞれ等間隔に離れた２か所を測定し、各最大濃度値の平均値を非粒間層領域における易酸化材料の濃度とする。分析の詳細は後の［実施例］にて詳述するが、粒間層領域Ｒ１におけるライン分析結果は、図５Ａに示すとおりであり、非粒間層領域Ｒ２におけるライン分析結果は、図５Ｂおよび図５Ｃに示すとおりである。なお、本明細書における「易酸化材料の濃度」において、濃度中にＯ（酸素）、Ｃ（炭素）、その他不純物は含まない。
　ライン分析結果によれば、非粒間層領域Ｒ２の易酸化材料の濃度（図５Ｂまたは図５ＣにおけるＺｎの濃度の最大値）は、粒間層領域Ｒ１の易酸化材料の濃度（図５ＡにおけるＺｎの濃度の最大値）よりも高くなっていることを把握することができる。このようなライン分析結果となる一因として、後述する「インダクタの製造方法」の加圧工程において、磁性材料が加圧されることにより粒間層領域Ｒ１の易酸化材料が非粒間層領域Ｒ２に向かって押し出されるため、このような易酸化材料の濃度が生じていると考えられる。
　本実施形態のインダクタ１において、非粒間層領域Ｒ２の易酸化材料の濃度が粒間層領域Ｒ１の易酸化材料の濃度よりも高くなっている。これにより、非粒間層領域Ｒ２では、Ｆｅよりも酸化しやすい易酸化材料がＦｅよりも優先的に酸化されるため、Ｆｅの酸化の低減を図ることができる。また、粒間層領域Ｒ１では、易酸化材料の濃度が低いため、非磁性成分が低減されて磁気特性の向上を図ることができる。
　好適な粒間層領域の範囲として、一方の金属磁性粒子ＤＰと金属磁性粒子ＤＰに隣接する他方の金属磁性粒子ＤＰとの間の距離が少なくとも２０ｎｍ以上１００ｎｍ以下であってよい。金属磁性粒子ＤＰ同士の距離が２０ｎｍ以上１００ｎｍ以下であれば適切な磁気特性を担保しつつ、金属磁性粉ＭＰ同士の絶縁を適切に図ることができる。
　また、好適な非粒間層領域Ｒ２において、酸化被膜ＯＬの表面粗さが１０ｎｍ以上７０ｎｍ以下であってよい。本明細書でいう「表面粗さ」とは、ＪＩＳ  Ｂ０６０１：１９９４で定義される十点平均粗さを意図している。なお、表面粗さを測定する測定位置は、非粒間層領域Ｒ２において、易酸化材料の濃度を測定した２か所間の表面粗さを測定し、十点平均粗さを算出している。数μｍオーダーの金属磁性粉ＭＰに対し、酸化被膜ＯＬの表面粗さが１０ｎｍ以上７０ｎｍ以下とすると、酸化被膜ＯＬによって適切に金属磁性粒子ＤＰを覆うことができ、機械的強度を高めることができる。
　また、本開示の易酸化材料の好適な濃度について、粒間層領域Ｒ１の易酸化材料の濃度（濃度の最大値）は、０．６ａｔｏｍ％以下であり、非粒間層領域Ｒ２の易酸化材料の濃度（濃度の最大値）は、５ａｔｏｍ％以上３０ａｔｏｍ％以下であってよい。このような濃度であれば、粒間層領域Ｒ１では、易酸化材料の濃度が０．６ａｔｏｍ％以下と比較的濃度が低いため、非磁性成分を低減して磁気特性の向上を図ることができる。また、非粒間層領域Ｒ２では、易酸化材料の濃度が５ａｔｏｍ％以上３０ａｔｏｍ％以下と比較的濃度が高いため、易酸化材料がＦｅよりも優先的に酸化され、Ｆｅの酸化の低減を図ることができる。
＜本開示のインダクタの製造方法＞
　次に、本開示のインダクタの製造方法について図６を参照しながら説明する。本開示のインダクタの製造方法は、準備工程と、加圧工程と、熱処理工程と、を備えている。なお、後述するとおり、任意付加的に脱脂工程を備えていてもよい。
－準備工程－
　まず、図２で説明した素体層Ｇ１～Ｇ８の磁性層ＭＬを構成する磁性材料（磁性ペースト）、コイル導体ＣＤを構成する導体ペーストを準備する。
　磁性ペーストの作製方法の一例として、体積基準での累積５０％粒子径であるＤ５０が２μｍ以上、２０μｍ以下のＦｅ－Ｓｉ合金又はＦｅ－Ｓｉ－Ｃｒ合金などの金属粉末を準備する。この金属粉末に、Ｆｅよりも酸化しやすい易酸化材料（一例として、Ｚｎ粒子：０．５ｗｔ％以上）を添加し、結合剤としてセルロース又はポリビニルブチラール（ＰＶＢ）など、溶剤としてターピネオール及びブチルジグリコールアセテート（ＢＣＡ）の混合物などを含有させ、混錬することで磁性ペーストを作製する。
　金属磁性体として、Ｆｅ－Ｓｉ合金を用いる場合、Ｓｉの含有量は２．０ａｔｏｍ％以上、８．０ａｔｏｍ％以下であることが好ましい。金属磁性粉末として、Ｆｅ－Ｓｉ－Ｃｒ合金を用いる場合、Ｓｉの含有量は２．０ａｔｏｍ％以上、８．０ａｔｏｍ％以下であることが好ましい。また、金属磁性粉末として、Ｆｅ－Ｓｉ－Ｃｒ合金を用いる場合、Ｃｒの含有量は０．２ａｔｏｍ％以上、６．０ａｔｏｍ％以下であることが好ましい。
　導体ペーストとしては、例えば、導電材料としてＡｇを含むペーストを準備する。
　上述の磁性ペーストおよび導体ペーストを使用し、スクリーン印刷等によって図２に示す素体層Ｇ１～Ｇ８を準備および積層する。
－加圧工程－
　素体層Ｇ１～Ｇ８を積層した後に、素体層Ｇ１～Ｇ８を加圧する。磁性材料および易酸化材料の加圧によって、易酸化材料は、金属磁性粒子同士の距離が１００ｎｍ以下となる粒間層領域Ｒ１よりも、金属磁性粒子同士の距離が１００ｎｍ以上となる非粒間層領域Ｒ２に多く分布する。当該加圧は、３００ＭＰａ以上の圧力で行うことにより、易酸化材料の濃度を所望の濃度とすることができる。
　好適な加圧工程の態様として、加圧工程は、後述する熱処理工程の温度よりも低い温度で加熱しながら行ってよい。具体的には、７０℃程度の温度で加熱しながら加圧することによって、易酸化材料の濃度を所望の濃度とすることができる。
－脱脂工程（任意付加的工程）－
　好適なインダクタの製造方法の製造工程として、脱脂工程を備えていてよい。脱脂工程は、磁性ペーストおよび導電性ペーストに含まれるバインダーを取り除く工程である。一例として３００℃以上５００℃以下程度の温度で脱脂する。これにより、磁性ペーストおよび導電性ペーストに含まれるバインダーが取り除かれる。
・熱処理工程
　脱脂工程後に熱処理を行う。熱処理温度は、コイル導体が焼結する程度の温度であり、例えば、７００℃以上９００℃以下程度としてよい。本開示の熱処理工程は、空気雰囲気中で熱処理してもよいし、低酸素濃度雰囲気中で熱処理してもよい。
　さらに、素体の強度を高めるために素体に樹脂を含浸して硬化を行ってもよい。素体に含浸される樹脂は、エポキシ樹脂が用いられるが、フェノール樹脂、ポリエステル樹脂、ポリイミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、セルロース樹脂及びアルキド樹脂等からなる群より選択される１種以上の樹脂が用いられても良い。上記工程を経ることにより、本開示のインダクタの素体が形成される。
　その後、形成された素体に対し、コイル導体と電気的に接続されている外部電極を形成する。外部電極は、素体１０の実装面（第１主面１１）のスルーホール導体が露出している位置に電解めっきによって形成する。めっきの材料はＣｕめっきであってよい。その他にＮｉ－Ｓｎ、Ｎｉ－Ａｕ、Ｎｉ－Ｃｕおよび／またはＣｕ－Ｎｉ－Ａｕ等が挙げられるがこれに限定されるものではない。外部電極形成後に素子個片化カットを行って、本実施形態のインダクタを製造することができる。
　以上のとおり、本実施形態で説明したインダクタの製造方法によれば、非粒間層領域の易酸化材料の濃度が粒間層領域の易酸化材料の濃度よりも高いインダクタを製造することができる。
　本開示の軟磁性金属粉に関する実証試験について詳述する。具体的には、下記の実施例および比較例に記載のインダクタを製造した。
－実施例のインダクタの説明－
　体積基準での累積５０％粒子径であるＤ５０が２μｍ以上、２０μｍ以下のＦｅ－Ｓｉ合金の金属粉末を準備し、磁性ペースト中にＦｅよりも酸化しやすい易酸化材料としてＺｎを添加し、磁性材料を準備した。なお、Ｚｎの添加量は、Ｆｅ－Ｓｉ合金の金属粉末に対し、０．５％とした。
　本開示のインダクタの製造方法の準備工程で説明したとおり、導体ペースト準備し、図２に示す素体層Ｇ１～Ｇ８を形成した。そして、素体層Ｇ１～Ｇ８を積層して形成した素体前駆体を加熱しながら加圧した。その後、脱脂工程、熱処理工程を経て、実施例のインダクタを製造した。
－比較例のインダクタの説明－
　比較例のインダクタは、易酸化材料としてのＺｎを添加していない点を除き、実施例のインダクタと同様に製造した。
－インダクタの評価（その１）－
　製造したインダクタに対し、「易酸化材料の濃度」を評価した。
　まず、粒間層領域Ｒ１に対し、金属磁性粒子ＤＰの外縁を跨ぐようにＥＤＸ（Noran社製、system 7）による組成分析を行った。組成分析は、上述したとおり、（切断面の中央部の任意の３箇所）×（各視野の中央部の任意の３箇所）＝９箇所について測定した。一例として、図４に示すラインＡ１に沿った組成分布のグラフを図５Ａに示す。図５Ａに示すグラフにおいて、横軸は、ライン分析における測定位置、縦軸は、元素量に対応している。なお、図５Ａのグラフにおいて、金属磁性粒子ＤＰ由来元素の酸化物であるＳｉのピーク濃度値の位置Ｐ１、Ｐ２が、互いに隣接する金属磁性粒子ＤＰの外縁近傍に対応する位置である。そして、２つのＳｉのピーク濃度値の位置Ｐ１，Ｐ２の間の領域は、粒間層領域Ｒ１に対応する。図５Ａにおけるグラフによれば、粒間層領域Ｒ１内のＺｎの濃度の最大値は、０．４ａｔｏｍ％であった。なお、易酸化材料の濃度の最大値は、上述の９箇所の測定の平均値としている。
　次に、非粒間層領域Ｒ２に対し、金属磁性粒子ＤＰの外縁を跨ぐようにＥＤＸ（Noran社製、system 7）による組成分析を行った。一例として、図４に示すラインＡ２およびＡ３に沿った組成分布のグラフをそれぞれ、図５Ｂおよび図５Ｃに示す。図５Ｂおよび図５Ｃに示すグラフにおいて、横軸は、ライン分析における測定位置、縦軸は、元素量に対応している。なお、図５Ｂおよび図５Ｃのグラフにおいて、金属磁性粒子ＤＰ由来元素の酸化物であるＳｉのピーク濃度値の位置Ｐ３，Ｐ４が、金属磁性粒子ＤＰの外縁近傍に対応する位置である。そして、位置Ｐ３，Ｐ４よりも横軸の正方向側が非粒間層領域Ｒ２に対応する位置である。図５Ｂは途中までの測定結果であるが、非粒間層領域Ｒ２の端から端まで分析した結果、非粒間層領域Ｒ２内のＺｎの濃度の最大値は、２２．８ａｔｏｍ％であり、図５Ｃは途中までの測定結果であるが、非粒間層領域Ｒ２の端から端まで分析した結果、非粒間層領域Ｒ２内のＺｎの濃度の最大値は、２２．０ａｔｏｍ％であった。
－インダクタの評価（その２）－
　実施例のインダクタおよび比較例のインダクタに対し、ＥＤＸによるＦｅ（鉄）の組成分析およびＯ（酸素）の組成分析を行った。図７は、比較例のインダクタに対する測定箇所のＳＥＭ画像、並びに、ＦｅおよびＯの元素マッピング画像を示し、図８は実施例のインダクタに対する測定箇所のＳＥＭ画像、並びに、ＦｅおよびＯの元素マッピング画像を示している。
　図７に示す比較例のインダクタのＦｅの元素マッピング画像によれば、金属磁性粒子ＤＰの外縁部分よりも外側の酸化皮膜部分に、うっすらとＦｅ成分が存在しているとともに、Ｏも存在していることを確認できるため、当該部分は、Ｆｅの酸化が生じていることを理解できる。一方で、図８に示す実施例のインダクタのＦｅの元素マッピング画像によれば、金属磁性粒子ＤＰの外縁部分が、図７と比較して、くっきりとＦｅ成分が存在し、金属磁性粒子ＤＰの外縁部分の外側の酸化皮膜部分にＦｅ成分の存在がほとんど確認できないことから、比較例のインダクタよりもＦｅの酸化が低減していることを理解できる。
－インダクタの評価（その３）－
　インダクタの評価として、比較例および実施例の透磁率を測定した。透磁率の測定は、インピーダンスアナライザ（キーサイト社製　４９９１Ａ）を使用して、試料の透磁率を測定した。ここで、実施例のインダクタは、ＺｎＯの添加量を０．２ｗｔ％～０．５ｗｔ％まで変えたサンプルを準備した。つまり、実施例１では、ＺｎＯの添加量を０．２ｗｔ％とし、実施例２では、ＺｎＯの添加量を０．３ｗｔ％とし、実施例３では、ＺｎＯの添加量を０．４ｗｔ％とし、実施例４では、ＺｎＯの添加量を０．５ｗｔ％とした。そして、本評価では、コイル導体焼結前の状態（熱処理前）のインダクタの透磁率と、コイル導体焼結後の状態（熱処理後）のインダクタの透磁率と、を測定し、その変化率についてグラフ化した。透磁率の変化率のグラフを図９に示し、当該グラフの基となったデータを図１０に示す。なお、インピーダンスアナライザは、１ＭＨｚでの測定ができればよく、キーサイト社製であれば４９９１Ｂや４９９０Ａ、４２９４Ａを用いることができる。
　図９および図１０に示す評価結果によれば、比較例のインダクタは、熱処理前後でインダクタの透磁率に変化が無かったが、実施例１～４のインダクタは、熱処理前後でインダクタの透磁率に大幅な向上が見られた。
　以上、インダクタの評価結果によれば、非粒間層領域Ｒ２のＺｎの濃度の最大値は、粒間層領域Ｒ１のＺｎの濃度の最大値よりも高い結果を確認できた。従って、非粒間層領域Ｒ２では、Ｆｅよりも酸化しやすい易酸化材料がＦｅよりも優先的に酸化されるため、従来のインダクタと比較してＦｅの酸化の低減を図ることができた。また、粒間層領域Ｒ１では、易酸化材料の濃度が低いため、非磁性成分を低減して従来のインダクタと比較して磁気特性の向上を図ることができた。
　なお、今回開示した実施態様は、すべての点で例示であって、限定的な解釈の根拠となるものではない。したがって、本開示の技術的範囲は、上記した実施態様のみによって解釈されるものではなく、特許請求の範囲の記載に基づいて画定される。また、本開示の技術的範囲には、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれる。
　本開示のインダクタおよびインダクタの製造方法の態様は、以下のとおりである。
＜１＞複数の金属磁性粉を備える素体と、
　前記素体内に設けられたコイルと、を備え、
　前記金属磁性粉は、Ｆｅを含む金属磁性粒子と、Ｆｅよりも酸化しやすい易酸化材料を含む酸化被膜と、を備えており、
　第１の金属磁性粒子の表面と前記第１の金属磁性粒子に隣接する第２の金属磁性粒子との間の距離が小さくなる領域を粒間層領域とし、前記距離が大きくなる領域を非粒間層領域としたときに、前記非粒間層領域の前記易酸化材料の濃度は、前記粒間層領域の前記易酸化材料の濃度よりも高い、インダクタ。
＜２＞前記易酸化材料は、Ｚｎ、Ｚｒ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｍｇ、ＣｒおよびＭｏから成る群から選択される少なくとも一種を含む、＜１＞に記載のインダクタ。
＜３＞前記粒間層領域の易酸化材料の濃度は、０．６ａｔｏｍ％以下であり、
　前記非粒間層領域の易酸化材料の濃度は、５ａｔｏｍ％以上３０ａｔｏｍ％以下である、＜１＞または＜２＞に記載のインダクタ。
＜４＞前記粒間層領域は、前記距離が２０ｎｍ以上１００ｎｍ以下である、＜１＞～＜３＞のいずれか１つに記載のインダクタ。
＜５＞前記非粒間層領域に有する前記酸化被膜の表面粗さが１０ｎｍ以上７０ｎｍ以下である、＜１＞～＜４＞のいずれか１つに記載のインダクタ。
＜６＞前記金属磁性粒子の平均粒径は、１μｍ以上６μｍ以下である、＜１＞～＜５＞のいずれか１つに記載のインダクタ。
＜７＞＜１＞～＜６＞のいずれか１つに記載のインダクタを製造する方法であって、
　前記金属磁性粒子に、前記易酸化材料を添加して素体を構成する磁性材料を準備する準備工程と、
　前記磁性材料を用いて形成した素体前駆体を加圧することによって、前記易酸化材料を前記粒間層領域よりも前記非近接領域に多く分布させる加圧工程と、
　前記磁性材料を加熱して前記金属磁性粒子表面に前記易酸化材料を含む酸化被膜を形成する熱処理工程と、を備える、インダクタの製造方法。
＜８＞前記加圧工程は、前記熱処理工程の温度よりも低い温度で加熱しながら行われる、＜７＞に記載のインダクタの製造方法。
　本開示のインダクタおよびインダクタの製造方法は、磁気特性が向上された電子部品として好適に用いることができる。
１　インダクタ
１０　素体
１１　第１主面
１２　第２主面
１３　第１端面
１４　第２端面
１５　第１側面
１６　第２側面
ＭＰ　金属磁性粉
ＤＰ　金属磁性粒子
ＯＬ　酸化被膜
Ｃ　コイル
ＣＤ　コイル導体
Ｅ　外部電極
Ｅ１～Ｅ４　第１外部電極～第４外部電極
Ｇ１～Ｇ８　素体層
ＭＬ　磁性層
ＴＨ　スルーホール導体
ＴＨ１～ＴＨ４　第１スルーホール導体～第４スルーホール導体
Ｒ１　粒間層領域
Ｒ２　非粒間層領域

Claims (8)

  1. 　複数の金属磁性粉を備える素体と、
    　前記素体内に設けられたコイルと、を備え、
    　前記金属磁性粉は、Ｆｅを含む金属磁性粒子と、Ｆｅよりも酸化しやすい易酸化材料を含む酸化被膜と、を備えており、
    　第１の金属磁性粒子の表面と前記第１の金属磁性粒子に隣接する第２の金属磁性粒子の表面との間の距離が小さくなる領域を粒間層領域とし、前記距離が大きくなる領域を非粒間層領域としたときに、前記非粒間層領域の前記易酸化材料の濃度は、前記粒間層領域の前記易酸化材料の濃度よりも高い、インダクタ。
  2. 　前記易酸化材料は、Ｚｎ、Ｚｒ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｍｇ、ＣｒおよびＭｏから成る群から選択される少なくとも一種を含む、請求項１に記載のインダクタ。
  3. 　前記粒間層領域の易酸化材料の濃度は、０．６ａｔｏｍ％以下であり、
    　前記非粒間層領域の易酸化材料の濃度は、５ａｔｏｍ％以上３０ａｔｏｍ％以下である、請求項１または２に記載のインダクタ。
  4. 　前記粒間層領域は、前記距離が２０ｎｍ以上１００ｎｍ以下である、請求項１～３のいずれか１項に記載のインダクタ。
  5. 　前記非粒間層領域に有する前記酸化被膜の表面粗さが１０ｎｍ以上７０ｎｍ以下である、請求項１～４のいずれか１項に記載のインダクタ。
  6. 　前記金属磁性粉の平均粒径は、１μｍ以上６μｍ以下である、請求項１～５のいずれか１項に記載のインダクタ。
  7. 　請求項１～６のいずれか１項に記載のインダクタを製造する方法であって、
    　前記金属磁性粒子に、前記易酸化材料を添加して素体を構成する磁性材料を準備する準備工程と、
    　前記磁性材料を用いて形成した素体前駆体を加圧することによって、前記易酸化材料を前記粒間層領域よりも前記非近接領域に多く分布させる加圧工程と、
    　前記磁性材料を加熱して前記金属磁性粒子表面に前記易酸化材料を含む酸化被膜を形成する熱処理工程と、を備える、インダクタの製造方法。
  8. 　前記加圧工程は、前記熱処理工程の温度よりも低い温度で加熱しながら行われる、請求項７に記載のインダクタの製造方法。
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