WO2024075535A1 - レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物及び高分子化合物 - Google Patents

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物及び高分子化合物 Download PDF

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一生 鈴木
晃也 藤野
諒大 小林
哲也 松下
カンティン グエン
哲郎 藤波
星児 轟
庸平 安達
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東京応化工業株式会社
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    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/039—Macromolecular compounds which are photodegradable, e.g. positive electron resists

Definitions

  • the present invention relates to a resist composition, a method of forming a resist pattern, a compound, and a polymer compound.
  • a typical method for miniaturization is to use shorter wavelengths (higher energy) of exposure light sources.
  • Resist materials are required to have lithography properties such as sensitivity to these exposure light sources and resolution capable of reproducing patterns with fine dimensions.
  • a chemically amplified resist composition that contains a base component whose solubility in a developer changes due to the action of acid, and an acid generator component that generates acid upon exposure, has been used so far.
  • a resin having a plurality of structural units is used as the base component in order to improve lithography properties and the like.
  • the behavior of the acid generated from an acid generator component upon exposure is considered to be one factor that greatly affects the lithography properties.
  • a wide variety of acid generators have been proposed for use in chemically amplified resist compositions, including, for example, onium salt-based acid generators such as iodonium salts and sulfonium salts, oxime sulfonate-based acid generators, diazomethane-based acid generators, nitrobenzylsulfonate-based acid generators, iminosulfonate-based acid generators, and disulfone-based acid generators.
  • onium salt-based acid generators such as iodonium salts and sulfonium salts
  • oxime sulfonate-based acid generators such as iodonium salts and sulfonium salts
  • diazomethane-based acid generators diazomethane-based acid generators
  • nitrobenzylsulfonate-based acid generators such as nitrobenzylsulfonate-based acid generators
  • iminosulfonate-based acid generators such as iminos
  • Patent Document 1 discloses a resist composition that contains a resin having a structural unit that includes an acid-dissociable group of a specific structure, a sulfonium salt, and a photodegradable base having an anion moiety and a cation moiety of a specific structure.
  • the present invention has been made in consideration of the above circumstances, and aims to provide a resist composition that achieves even higher sensitivity and improves lithography properties such as reduced roughness, a method for forming a resist pattern using the resist composition, a polymeric compound useful for the resist composition, and a compound that can be used to synthesize the polymeric compound.
  • a first aspect of the present invention is a resist composition that generates acid upon exposure, and whose solubility in a developer changes due to the action of the acid, the resist composition containing a resin component (A1) whose solubility in a developer changes due to the action of an acid, the resin component (A1) having a structural unit (a0) derived from a compound represented by the following general formula (a0-m):
  • R Ar1 and R Ar2 are each independently an aromatic group which may have a substituent.
  • R Ar1 -L 11 - is R Ar1 -O-, R Ar1 -S-, R Ar1 -NH-, R Ar1 -Ak-, R Ar1 -C( ⁇ O)-O-, R Ar1 -C( ⁇ O)-NH-, R Ar1 -O-C( ⁇ O)-, R Ar1 -NH-C( ⁇ O)-, R Ar1 -Ak -O-, R Ar1 -Ak-NH-, R Ar1 -O-C( ⁇ O)-Ak- or R Ar1 - (when L 11 is a single bond).
  • R Ar1 -L 12 - is R Ar1 -Ak-, R Ar1 -C( ⁇ O)-O-Ak-, R Ar1 -C( ⁇ O)-NH-Ak-, R Ar1 -O-C( ⁇ O)-Ak-, R Ar1 -NH-C( ⁇ O)-Ak-, R Ar1 -O-C( ⁇ O)- or R Ar1 - (when L 12 is a single bond).
  • R Ar1 -L 13 - is R Ar1 -O-, R Ar1 -S-, R Ar1 -NH-, R Ar1 -Ak-, R Ar1 -O-Ak- or R Ar1 - (when L 13 is a single bond).
  • R Ar2 -L 14 - is R Ar2 -Ak-, R Ar2 -C( ⁇ O)-O-Ak-, R Ar2 -C( ⁇ O)-NH-Ak-, R Ar2 -O-C( ⁇ O)-Ak-, R Ar2 -NH-C( ⁇ O)-Ak-, R Ar2 -O-C( ⁇ O)- or R Ar2 - (when L 14 is a single bond).
  • R Ar2 -L 15 - is R Ar2 -O-, R Ar2 -S-, R Ar2 -NH-, R Ar2 -Ak-, R Ar2 -O-Ak- or R Ar2 - (when L 15 is a single bond).
  • q is 0 or 1.
  • R 01 and R 02 are each independently an iodized alkyl group, an iodine atom, or a hydrogen atom.
  • j1 and j2 are each independently an integer of 0 to 5. However, when q is 0, R 02 is an iodized alkyl group or an iodine atom, and j2 is an integer of 1 to 5.
  • k1 and k2 are each independently 0 or 1. However, when q is 0, k2 is 1. When q is 1, k1+k2 is 1. M m+ is an onium cation having a valence of m. m is an integer of 1 or more.]
  • the second aspect of the present invention is a method for forming a resist pattern, comprising the steps of forming a resist film on a support using the resist composition according to the first aspect, exposing the resist film to light, and developing the exposed resist film to form a resist pattern.
  • the third aspect of the present invention is a compound represented by the following general formula (a0-m):
  • R Ar1 and R Ar2 are each independently an aromatic group which may have a substituent.
  • R Ar1 -L 11 - is R Ar1 -O-, R Ar1 -S-, R Ar1 -NH-, R Ar1 -Ak-, R Ar1 -C( ⁇ O)-O-, R Ar1 -C( ⁇ O)-NH-, R Ar1 -O-C( ⁇ O)-, R Ar1 -NH-C( ⁇ O)-, R Ar1 -Ak -O-, R Ar1 -Ak-NH-, R Ar1 -O-C( ⁇ O)-Ak- or R Ar1 - (when L 11 is a single bond).
  • R Ar1 -L 12 - is R Ar1 -Ak-, R Ar1 -C( ⁇ O)-O-Ak-, R Ar1 -C( ⁇ O)-NH-Ak-, R Ar1 -O-C( ⁇ O)-Ak-, R Ar1 -NH-C( ⁇ O)-Ak-, R Ar1 -O-C( ⁇ O)- or R Ar1 - (when L 12 is a single bond).
  • R Ar1 -L 13 - is R Ar1 -O-, R Ar1 -S-, R Ar1 -NH-, R Ar1 -Ak-, R Ar1 -O-Ak- or R Ar1 - (when L 13 is a single bond).
  • R Ar2 -L 14 - is R Ar2 -Ak-, R Ar2 -C( ⁇ O)-O-Ak-, R Ar2 -C( ⁇ O)-NH-Ak-, R Ar2 -O-C( ⁇ O)-Ak-, R Ar2 -NH-C( ⁇ O)-Ak-, R Ar2 -O-C( ⁇ O)- or R Ar2 - (when L 14 is a single bond).
  • R Ar2 -L 15 - is R Ar2 -O-, R Ar2 -S-, R Ar2 -NH-, R Ar2 -Ak-, R Ar2 -O-Ak- or R Ar2 - (when L 15 is a single bond).
  • q is 0 or 1.
  • R 01 and R 02 are each independently an iodized alkyl group, an iodine atom, or a hydrogen atom.
  • j1 and j2 are each independently an integer of 0 to 5. However, when q is 0, R 02 is an iodized alkyl group or an iodine atom, and j2 is an integer of 1 to 5.
  • k1 and k2 are each independently 0 or 1. However, when q is 0, k2 is 1. When q is 1, k1+k2 is 1. M m+ is an onium cation having a valence of m. m is an integer of 1 or more.]
  • the fourth aspect of the present invention is a polymeric compound characterized by having a structural unit derived from the compound according to the third aspect.
  • the present invention can provide a resist composition that achieves even higher sensitivity and has improved lithography properties such as reduced roughness, a method for forming a resist pattern using the resist composition, a polymeric compound useful for the resist composition, and a compound that can be used to synthesize the polymeric compound.
  • alkyl group includes linear, branched and cyclic monovalent saturated hydrocarbon groups. The same applies to the alkyl group in an alkoxy group.
  • alkylene group includes linear, branched and cyclic divalent saturated hydrocarbon groups.
  • halogen atom includes a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
  • structural unit refers to a monomer unit that constitutes a polymeric compound (resin, polymer, copolymer).
  • the phrase "may have a substituent” includes both the case where a hydrogen atom (--H) is replaced with a monovalent group and the case where a methylene group (--CH 2 -) is replaced with a divalent group.
  • exposure is intended to include any concept including irradiation with radiation.
  • acid-decomposable group refers to a group having acid decomposability in which at least a part of the bonds in the structure of the acid-decomposable group can be cleaved by the action of an acid.
  • acid-decomposable groups whose polarity increases under the action of an acid include groups that are decomposed by the action of an acid to generate a polar group.
  • the polar group include a carboxy group, a hydroxyl group, an amino group, and a sulfo group (-SO 3 H).
  • the acid-decomposable group include groups in which the polar group is protected with an acid-dissociable group (for example, a group in which the hydrogen atom of an OH-containing polar group is protected with an acid-dissociable group).
  • acid dissociable group refers to both (i) a group having acid dissociability in which the bond between the acid dissociable group and an atom adjacent to the acid dissociable group can be cleaved by the action of an acid, and (ii) a group in which a part of the bond is cleaved by the action of an acid and then a decarboxylation reaction occurs, thereby cleaving the bond between the acid dissociable group and an atom adjacent to the acid dissociable group.
  • the acid dissociable group constituting the acid decomposable group must be a group with lower polarity than the polar group generated by dissociation of the acid dissociable group, and thus, when the acid dissociable group is dissociated by the action of acid, a polar group with higher polarity than the acid dissociable group is generated, and the polarity increases.As a result, the polarity of the entire (A1) component increases.By increasing the polarity, the solubility in the developer changes relatively, and when the developer is an alkaline developer, the solubility increases, and when the developer is an organic developer, the solubility decreases.
  • the “base material component” is an organic compound that has film-forming ability.
  • Organic compounds used as base material components are broadly divided into non-polymers and polymers.
  • Non-polymers usually have a molecular weight of 500 or more and less than 4000 (hereinafter referred to as “low molecular weight compounds”).
  • “resin,” “polymeric compound,” or “polymer” refers to a polymer with a molecular weight of 1000 or more. The molecular weight of the polymer is determined by the weight average molecular weight calculated in terms of polystyrene by GPC (gel permeation chromatography).
  • derived structural unit refers to a structural unit formed by cleavage of a multiple bond between carbon atoms, for example, an ethylenic double bond.
  • the hydrogen atom bonded to the carbon atom at the ⁇ -position may be substituted with a substituent.
  • the substituent (R ⁇ x ) substituting the hydrogen atom bonded to the carbon atom at the ⁇ -position is an atom or group other than a hydrogen atom.
  • an itaconic acid diester in which the substituent (R ⁇ x ) is substituted with a substituent containing an ester bond
  • an ⁇ -hydroxyacrylic ester in which the substituent (R ⁇ x ) is substituted with a hydroxyalkyl group or a group in which the hydroxyl group is modified.
  • the carbon atom at the ⁇ -position of an acrylic acid ester refers to the carbon atom to which the carbonyl group of acrylic acid is bonded, unless otherwise specified.
  • an acrylic ester in which the hydrogen atom bonded to the carbon atom at the ⁇ -position is substituted with a substituent will sometimes be referred to as an ⁇ -substituted acrylic ester.
  • derivative refers to a concept including compounds in which the hydrogen atom at the ⁇ -position of the target compound is replaced with another substituent such as an alkyl group or a halogenated alkyl group, as well as derivatives thereof.
  • examples of such derivatives include compounds in which the hydrogen atom of the hydroxyl group of a target compound, which may have the hydrogen atom at the ⁇ -position replaced with a substituent, is replaced with an organic group; compounds in which the hydrogen atom at the ⁇ -position of the target compound, which may have the hydrogen atom at the ⁇ -position replaced with a substituent, is bonded to a substituent other than a hydroxyl group, and the like.
  • the ⁇ -position refers to the first carbon atom adjacent to the functional group, unless otherwise specified.
  • the substituent that substitutes the hydrogen atom at the ⁇ -position of the hydroxystyrene may be the same as R ⁇ x , such as an alkyl group or a halogenated alkyl group.
  • the resist composition of this embodiment generates an acid upon exposure, and the solubility of the resist composition in a developer changes due to the action of the acid.
  • the resist composition contains a base component (A) (hereinafter also referred to as "component (A)”) whose solubility in a developer changes under the action of an acid.
  • component (A) contains a resin component that generates an acid upon exposure and whose solubility in a developer changes under the action of the acid.
  • the component (A) When a resist film is formed using the resist composition of this embodiment and selectively exposed to light, at least the component (A) generates an acid in the exposed areas of the resist film, and the action of the acid changes the solubility of the component (A) in the developer, whereas the solubility of the component (A) in the developer does not change in the unexposed areas of the resist film, resulting in a difference in solubility in the developer between the exposed and unexposed areas of the resist film.
  • the resist film when the resist film is developed, if the resist composition is a positive type, the exposed areas of the resist film are dissolved and removed to form a positive type resist pattern, and if the resist composition is a negative type, the unexposed areas of the resist film are dissolved and removed to form a negative type resist pattern.
  • the resist composition of this embodiment may be a positive resist composition or a negative resist composition.
  • the resist composition of this embodiment may be for an alkaline development process in which an alkaline developer is used for the development treatment during resist pattern formation, or may be for a solvent development process in which a developer containing an organic solvent (organic developer) is used for the development treatment.
  • the component (A) contains a resin component (A1) (hereinafter also referred to as “component (A1)”) whose solubility in a developer changes under the action of an acid.
  • component (A1) a resin component (hereinafter also referred to as “component (A1)”
  • the polarity of the base component changes between before and after exposure, making it possible to obtain good development contrast not only in an alkali development process but also in a solvent development process.
  • the component (A) at least one of another polymer compound and a low molecular weight compound may be used in combination with the component (A1).
  • the component (A) may use either a single type, or a combination of two or more types.
  • the component (A1) is a resin component whose solubility in a developer changes under the action of an acid.
  • the component (A1) has a structural unit (a0) derived from a compound represented by general formula (a0-m) described later.
  • the component (A1) may contain other structural units, in addition to the structural unit (a0), as necessary.
  • the structural unit (a0) is a structural unit derived from a compound represented by general formula (a0-m) shown below.
  • the structural unit (a0) acts as a quencher (acid diffusion control agent) that traps the acid generated by exposure.
  • the structural unit (a0) also functions as a photodecomposable base that decomposes upon exposure and loses its acid diffusion controllability. Therefore, by having the structural unit (a0) in the (A1) component, the contrast between the exposed and unexposed areas of the resist film can be further improved when forming a resist pattern.
  • R Ar1 and R Ar2 are each independently an aromatic group which may have a substituent.
  • R Ar1 -L 11 - is R Ar1 -O-, R Ar1 -S-, R Ar1 -NH-, R Ar1 -Ak-, R Ar1 -C( ⁇ O)-O-, R Ar1 -C( ⁇ O)-NH-, R Ar1 -O-C( ⁇ O)-, R Ar1 -NH-C( ⁇ O)-, R Ar1 -Ak -O-, R Ar1 -Ak-NH-, R Ar1 -O-C( ⁇ O)-Ak- or R Ar1 - (when L 11 is a single bond).
  • R Ar1 -L 12 - is R Ar1 -Ak-, R Ar1 -C( ⁇ O)-O-Ak-, R Ar1 -C( ⁇ O)-NH-Ak-, R Ar1 -O-C( ⁇ O)-Ak-, R Ar1 -NH-C( ⁇ O)-Ak-, R Ar1 -O-C( ⁇ O)- or R Ar1 - (when L 12 is a single bond).
  • R Ar1 -L 13 - is R Ar1 -O-, R Ar1 -S-, R Ar1 -NH-, R Ar1 -Ak-, R Ar1 -O-Ak- or R Ar1 - (when L 13 is a single bond).
  • R Ar2 -L 14 - is R Ar2 -Ak-, R Ar2 -C( ⁇ O)-O-Ak-, R Ar2 -C( ⁇ O)-NH-Ak-, R Ar2 -O-C( ⁇ O)-Ak-, R Ar2 -NH-C( ⁇ O)-Ak-, R Ar2 -O-C( ⁇ O)- or R Ar2 - (when L 14 is a single bond).
  • R Ar2 -L 15 - is R Ar2 -O-, R Ar2 -S-, R Ar2 -NH-, R Ar2 -Ak-, R Ar2 -O-Ak- or R Ar2 - (when L 15 is a single bond).
  • q is 0 or 1.
  • R 01 and R 02 are each independently an iodized alkyl group, an iodine atom, or a hydrogen atom.
  • j1 and j2 are each independently an integer of 0 to 5. However, when q is 0, R 02 is an iodized alkyl group or an iodine atom, and j2 is an integer of 1 to 5.
  • k1 and k2 are each independently 0 or 1. However, when q is 0, k2 is 1. When q is 1, k1+k2 is 1. M m+ is an onium cation having a valence of m. m is an integer of 1 or more.]
  • the "polymerizable group” refers to a group that enables a compound having a polymerizable group to be polymerized by radical polymerization or the like, and refers to, for example, a group that contains a multiple bond between carbon atoms, such as an ethylenic double bond.
  • Examples of the polymerizable group include a vinyl group, an allyl group, an acryloyl group, a methacryloyl group, a fluorovinyl group, a difluorovinyl group, a trifluorovinyl group, a difluorotrifluoromethylvinyl group, a trifluoroallyl group, a perfluoroallyl group, a trifluoromethylacryloyl group, a nonylfluorobutylacryloyl group, a vinyl ether group, a fluorine-containing vinyl ether group, an allyl ether group, a fluorine-containing allyl ether group, a styryl group, a vinyl naphthyl group, a fluorine-containing styryl group, a fluorine-containing vinyl naphthyl group, a norbornyl group, a fluorine-containing norbornyl group, and a silyl group.
  • the polymerizable group-containing group may be a group composed only of a polymerizable group, or may be a group composed of a polymerizable group and a group other than the polymerizable group.
  • the group other than the polymerizable group include a divalent hydrocarbon group which may have a substituent, and a divalent linking group containing a hetero atom.
  • R X11 , R X12 and R X13 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or a halogenated alkyl group having 1 to 5 carbon atoms
  • Ya x0 represents a single bond or a divalent linking group.
  • the divalent linking group in Ya x0 include a divalent hydrocarbon group which may have a substituent, and a divalent linking group containing a hetero atom.
  • W is preferably a polymerizable group-containing group represented by the following general formula (a0-w):
  • R 0 represents an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, a halogenated alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or a hydrogen atom.
  • the alkyl group having 1 to 5 carbon atoms for R 0 in formula (a0-w) is preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms. Specific examples thereof include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a tert-butyl group, a pentyl group, an isopentyl group, and a neopentyl group.
  • the halogenated alkyl group having 1 to 5 carbon atoms in R0 is a group in which some or all of the hydrogen atoms in the alkyl group having 1 to 5 carbon atoms are substituted with halogen atoms.
  • a fluorine atom is particularly preferable.
  • R0 is preferably a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or a fluorinated alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and from the viewpoint of industrial availability, a hydrogen atom, a methyl group, or a trifluoromethyl group is more preferable, and a hydrogen atom or a methyl group is even more preferable.
  • the aromatic group in R Ar1 may be a group in which two or more hydrogen atoms have been removed from an aromatic hydrocarbon ring, or a group in which two or more hydrogen atoms have been removed from an aromatic heterocycle in which one or more carbon atoms constituting the aromatic hydrocarbon ring have been substituted with heteroatoms, and may be monocyclic or polycyclic.
  • the heteroatom include a nitrogen atom and a sulfur atom.
  • the aromatic group preferably has 5 to 30 carbon atoms, more preferably 5 to 20 carbon atoms, further preferably 6 to 15 carbon atoms, and particularly preferably 6 to 12 carbon atoms, but does not include the number of carbon atoms in the substituents.
  • aromatic hydrocarbon ring examples include benzene, naphthalene, anthracene, phenanthrene, etc.
  • aromatic heterocycle examples include azoles such as pyrrole, diazole, triazole, etc.; thiazole, etc.
  • the aromatic group for R Ar1 is preferably a group obtained by removing two or more hydrogen atoms from benzene, a group obtained by removing two or more hydrogen atoms from naphthalene, or a group obtained by removing two or more hydrogen atoms from azole, more preferably a group obtained by removing two or more hydrogen atoms from benzene or a group obtained by removing two or more hydrogen atoms from naphthalene, and even more preferably a group obtained by removing two or more hydrogen atoms from benzene.
  • the aromatic group in R Ar2 may be a group in which one or more hydrogen atoms have been removed from an aromatic hydrocarbon ring, or a group in which one or more hydrogen atoms have been removed from an aromatic heterocycle in which one or more carbon atoms constituting the aromatic hydrocarbon ring have been substituted with heteroatoms, and may be monocyclic or polycyclic.
  • the heteroatom include a nitrogen atom and a sulfur atom.
  • the aromatic group preferably has 5 to 30 carbon atoms, more preferably 5 to 20 carbon atoms, further preferably 6 to 15 carbon atoms, and particularly preferably 6 to 12 carbon atoms, but does not include the number of carbon atoms in the substituents.
  • aromatic hydrocarbon ring examples include benzene, naphthalene, anthracene, phenanthrene, etc.
  • aromatic heterocycle examples include azoles such as pyrrole, diazole, triazole, etc.; thiazole, etc.
  • the aromatic group for R Ar2 is preferably a group obtained by removing two or more hydrogen atoms from benzene, a group obtained by removing two or more hydrogen atoms from naphthalene, or a group obtained by removing two or more hydrogen atoms from azole, and more preferably a group obtained by removing two or more hydrogen atoms from benzene, a group obtained by removing two or more hydrogen atoms from pyrrole, or a group obtained by removing two or more hydrogen atoms from diazole.
  • Suitable examples of the substituent that the aromatic group in R 1 Ar1 and R 2 Ar2 may have include a hydroxy group, an alkoxy group, an alkyl group, and an amino group, from the viewpoint of improving the sensitivity to an exposure light source.
  • the alkylene group in Ak may be linear or branched, and preferably has 1 to 10 carbon atoms, more preferably has 1 to 6 carbon atoms, even more preferably has 1 to 4 carbon atoms, particularly preferably has 1 to 3 carbon atoms, and most preferably has 1 carbon atom.
  • the fluorinated alkylene group in Ak is a group in which some or all of the hydrogen atoms of the alkylene group in Ak have been substituted with fluorine atoms.
  • R Ar1 -L 12 - is preferably R Ar1 - (when L 12 is a single bond).
  • R Ar2 -L 14 - is preferably R Ar2 - (when L 14 is a single bond).
  • R Ar1 -L 13 - is preferably one selected from the group consisting of R Ar1 - (when L 13 is a single bond), R Ar1 -Ak-, R Ar1 -NH-, and R Ar1 -O-Ak-, and R Ar1 -Ak- is more preferable.
  • R Ar2 -L 15 - is preferably R Ar2 - (when L 15 is a single bond).
  • the iodized alkyl group for R 01 and R 02 includes an iodized alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, preferably an iodized alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, more preferably an iodized methyl group or an iodized ethyl group.
  • R 01 and R 02 are preferably an iodine atom or a hydrogen atom.
  • j1 is preferably 1, 2 or 3, and more preferably 1 or 2.
  • j2 is preferably an integer of 1 to 4, and more preferably 2, 3 or 4.
  • R02 is an iodized alkyl group or an iodine atom, preferably an iodine atom, and j2 is preferably an integer of 1 to 4, more preferably 2, 3 or 4.
  • the number of iodine atoms contained in R01 and R02 is 1 or more, preferably 1 to 6, and more preferably 1 to 4.
  • Preferred structural unit (a0) includes, for example, structural unit (a01), structural unit (a02), structural unit (a03), and structural unit (a04) described below.
  • the structural unit (a01) is a structural unit derived from a compound represented by the general formula (a0-m) above, in which W is a polymerizable group-containing group represented by the general formula (a0-w) above, q is 1, k1 is 1, k2 is 0, R02 is an iodized alkyl group or an iodine atom, j2 is an integer of 1 to 5, and L10 in the general formula (a0-w) is a single bond.
  • the structural unit (a01) is a structural unit derived from a compound represented by the following general formula (a01-m):
  • R 0 is the same as R 0 in the formula (a0-w).
  • R Ar1 and R Ar2 , R Ar1 -L 11 -, R Ar1 -L 12 -, R Ar1 -L 13 -, R Ar2 -L 14 -, R 01 and j1 are the same as R Ar1 and R Ar2 , R Ar1 -L 11 -, R Ar1-L 12 -, R Ar1 - L 13 -, R Ar2 -L 14 -, R 01 and j1 in the formula (a0-m).
  • R 021 is an iodized alkyl group or an iodine atom.
  • j21 is an integer of 1 to 5.
  • M m+ is an onium cation having a valence of m.
  • m is an integer of 1 or more.
  • examples of the iodized alkyl group for R 021 include iodized alkyl groups having 1 to 5 carbon atoms, preferably iodized alkyl groups having 1 to 3 carbon atoms, and more preferably iodized methyl groups and iodized ethyl groups.
  • R 021 is preferably an iodine atom.
  • j21 is preferably an integer of 1 to 4, and more preferably 2, 3, or 4.
  • the anion portion of the compound represented by general formula (a01-m) is preferably at least one selected from the group consisting of the anions represented by the above chemical formulas (a0-an-501) to (a0-an-520).
  • the structural unit (a02) is a structural unit derived from a compound represented by the general formula (a0-m) above, in which W is a polymerizable group-containing group represented by the general formula (a0-w) above, q is 1, k1 is 0, k2 is 1, R02 is an iodized alkyl group or an iodine atom, j2 is an integer of 1 to 5, and L10 in the general formula (a0-w) is a single bond.
  • the structural unit (a02) is a structural unit derived from a compound represented by the following general formula (a02-m):
  • R 0 is the same as R 0 in the formula (a0-w).
  • R Ar1 and R Ar2 , R Ar1 -L 11 -, R Ar1 -L 12 -, R Ar2 -L 14 -, R Ar2 -L 15 -, R 01 , R 02 , j1, and j2 are the same as R Ar1 and R Ar2 , R Ar1 -L 11 -, R Ar1 -L 12 -, R Ar2 -L 14 -, R Ar2 -L 15 -, R 01 , R 02 , j1, and j2 in the formula (a0-m).
  • M m+ is an onium cation having a valence of m.
  • m is an integer of 1 or more.
  • j2 is an integer of 1 to 5
  • the anion portion of the compound represented by general formula (a02-m) is preferably at least one selected from the group consisting of anions represented by each of the chemical formulas (a0-an-401) to (a0-an-429), more preferably at least one selected from the group consisting of anions represented by each of the chemical formulas (a0-an-401) to (a0-an-426), (a0-an-428), and (a0-an-429), and particularly preferably at least one selected from the group consisting of anions represented by each of the chemical formulas (a0-an-401) to (a0-an-426).
  • the structural unit (a03) is a structural unit derived from a compound represented by the general formula (a0-m) above, in which W is a polymerizable group-containing group represented by the general formula (a0-w) above, q is 0, k2 is 1, R02 is an iodized alkyl group or an iodine atom, j2 is an integer of 1 to 5, and L10 in the general formula (a0-w) is a single bond.
  • the structural unit (a03) is a structural unit derived from a compound represented by the following general formula (a03-m):
  • R 0 is the same as R 0 in the formula (a0-w).
  • R Ar2 , R Ar2 -L 14 -, and R Ar2 -L 15 - are the same as R Ar2 , R Ar2 -L 14 -, and R Ar2 -L 15 - in the formula (a0-m).
  • R 023 is an iodized alkyl group or an iodine atom.
  • j23 is an integer of 1 to 5.
  • M m+ is an onium cation having a valence of m.
  • m is an integer of 1 or more.
  • examples of the iodized alkyl group for R 023 include iodized alkyl groups having 1 to 5 carbon atoms, preferably iodized alkyl groups having 1 to 3 carbon atoms, and more preferably iodized methyl group and iodized ethyl group.
  • R 023 is preferably an iodine atom.
  • j23 is preferably an integer of 1 to 4, and more preferably 2, 3 or 4.
  • an anion in which R 023 in the formula is an iodine atom is more preferable.
  • the anion portion of the compound represented by general formula (a03-m) is preferably at least one selected from the group consisting of the anions represented by each of the chemical formulas (a0-an-301) to (a0-an-326), and more preferably at least one selected from the group consisting of the anions represented by each of the chemical formulas (a0-an-301) to (a0-an-323).
  • the structural unit (a04) is a structural unit derived from a compound represented by the general formula (a0-m) above, in which W is a polymerizable group-containing group represented by the general formula (a0-w), q is 0, k2 is 1, R 02 is an iodized alkyl group or an iodine atom, j2 is an integer from 1 to 5, and -L 10 -* in the general formula (a0-w) is -C( ⁇ O)-O-* or -C( ⁇ O)-NH-* [wherein * represents a bond bonded to R Ar2 in the general formula (a0-m)]. That is, the structural unit (a04) is a structural unit derived from a compound represented by the following general formula (a04-m):
  • R 0 is the same as R 0 in the above formula (a0-w).
  • -L 104 - is -C( ⁇ O)-O- or -C( ⁇ O)-NH-.
  • R Ar1 and R Ar2 , R Ar1 - L11- , R Ar1- L12- , R Ar1 - L13- , R Ar2 - L14- , R Ar2 - L15- , R 01 , R 02 , j1, j2, k1, k2, and q are the same as R Ar1 and R Ar2 , R Ar1- L11- , R Ar1 - L12- , R Ar1 - L13- , R Ar2 - L14- , R Ar2 - L15- , R 01 , R 02 , j1, j2, k1, k2, and q in formula (a0-m).
  • M m+ is an onium cation having a valence of m.
  • m is
  • R 0 is the same as R 0 in the formula (a0-w).
  • -L 104 - is -C( ⁇ O)-O- or -C( ⁇ O)-NH-.
  • R Ar2 , R Ar2 -L 14 -, and R Ar2 -L 15 - are the same as R Ar2 , R Ar2 -L 14 -, and R Ar2 -L 15 - in the formula ( a0 -m).
  • R 024 is an iodized alkyl group or an iodine atom.
  • j24 is an integer of 1 to 5.
  • M m+ is an onium cation having a valence of m.
  • m is an integer of 1 or more.
  • examples of the iodized alkyl group for R 024 include iodized alkyl groups having 1 to 5 carbon atoms, preferably iodized alkyl groups having 1 to 3 carbon atoms, and more preferably iodized methyl group or iodized ethyl group.
  • R 024 is preferably an iodine atom.
  • j24 is preferably an integer of 1 to 4, and more preferably 2, 3 or 4.
  • j2 is an integer of 1 to 5
  • the anion portion of the compound represented by general formula (a04-m) is preferably at least one selected from the group consisting of the anions represented by the above chemical formulas (a0-an-101) to (a0-an-153), (a0-an-201) to (a0-an-229), and more preferably at least one selected from the group consisting of the anions represented by the above chemical formulas (a0-an-101) to (a0-an-146), (a0-an-201) to (a0-an-226).
  • M m+ represents an onium cation having a valence of m, where m is an integer of 1 or more.
  • the onium cation in Mm + includes a sulfonium cation, an iodonium cation, and an ammonium cation, and is preferably a sulfonium cation or an iodonium cation.
  • Preferred examples of the cation moiety ((M m+ ) 1/m ) include onium cations represented by the following general formulas (ca-1) to (ca-3).
  • R 201 to R 207 each independently represent an aryl group, an alkyl group or an alkenyl group which may have a substituent.
  • R 201 to R 203 and R 206 to R 207 may be bonded to each other to form a ring together with the sulfur atom in the formula.
  • R 208 to R 209 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.
  • R 210 is an aryl group which may have a substituent, an alkyl group which may have a substituent, an alkenyl group which may have a substituent, or an -SO 2 - containing cyclic group which may have a substituent.
  • the aryl group for R 201 to R 207 can be an unsubstituted aryl group having 6 to 20 carbon atoms, and a phenyl group or a naphthyl group is preferable.
  • the alkyl group for R 201 to R 207 is preferably a chain or cyclic alkyl group having 1 to 30 carbon atoms.
  • the alkenyl group for R 201 to R 207 preferably has 2 to 10 carbon atoms.
  • R 201 to R 207 and R 210 may have include an alkyl group, a halogen atom, a halogenated alkyl group, a carbonyl group, a cyano group, an amino group, an aryl group, and groups represented by the following general formulas (ca-r-1) to (ca-r-7), respectively.
  • R'201 each independently represents a hydrogen atom, a cyclic group which may have a substituent, a chain-like alkyl group which may have a substituent, or a chain-like alkenyl group which may have a substituent.
  • the cyclic group is preferably a cyclic hydrocarbon group, and the cyclic hydrocarbon group may be an aromatic hydrocarbon group or an aliphatic hydrocarbon group.
  • the aliphatic hydrocarbon group means a hydrocarbon group that does not have aromaticity.
  • the aliphatic hydrocarbon group may be saturated or unsaturated, and is usually preferably saturated.
  • the aromatic hydrocarbon group in R'201 is a hydrocarbon group having an aromatic ring.
  • the aromatic hydrocarbon group preferably has 3 to 30 carbon atoms, more preferably 5 to 30 carbon atoms, even more preferably 5 to 20 carbon atoms, particularly preferably 6 to 15 carbon atoms, and most preferably 6 to 10 carbon atoms. However, this number of carbon atoms does not include the number of carbon atoms in the substituent.
  • Specific examples of the aromatic ring contained in the aromatic hydrocarbon group in R'201 include benzene, fluorene, naphthalene, anthracene, phenanthrene, biphenyl, and aromatic heterocycles in which some of the carbon atoms constituting these aromatic rings are substituted with heteroatoms.
  • heteroatom in the aromatic heterocycle examples include an oxygen atom, a sulfur atom, and a nitrogen atom.
  • Specific examples of the aromatic hydrocarbon group for R'201 include a group in which one hydrogen atom has been removed from the aromatic ring (aryl group: for example, a phenyl group, a naphthyl group, etc.), a group in which one hydrogen atom of the aromatic ring has been substituted with an alkylene group (for example, an arylalkyl group such as a benzyl group, a phenethyl group, a 1-naphthylmethyl group, a 2-naphthylmethyl group, a 1-naphthylethyl group, a 2-naphthylethyl group, etc.).
  • the alkylene group (the alkyl chain in the arylalkyl group) preferably has 1 to 4 carbon atoms, more preferably 1 to 2 carbon atoms, and particularly preferably 1 carbon
  • the cyclic aliphatic hydrocarbon group for R'201 includes an aliphatic hydrocarbon group containing a ring in the structure.
  • Examples of the aliphatic hydrocarbon group containing a ring in its structure include alicyclic hydrocarbon groups (groups in which one hydrogen atom has been removed from an aliphatic hydrocarbon ring), groups in which an alicyclic hydrocarbon group is bonded to the end of a straight-chain or branched-chain aliphatic hydrocarbon group, and groups in which an alicyclic hydrocarbon group is present in the middle of a straight-chain or branched-chain aliphatic hydrocarbon group.
  • the alicyclic hydrocarbon group preferably has 3 to 20 carbon atoms, and more preferably has 3 to 12 carbon atoms.
  • the alicyclic hydrocarbon group may be a polycyclic group or a monocyclic group.
  • the monocyclic alicyclic hydrocarbon group is preferably a group obtained by removing one or more hydrogen atoms from a monocycloalkane.
  • the monocycloalkane preferably has 3 to 6 carbon atoms, and specific examples thereof include cyclopentane and cyclohexane.
  • the polycyclic alicyclic hydrocarbon group is preferably a group obtained by removing one or more hydrogen atoms from a polycycloalkane, and the polycycloalkane preferably has 7 to 30 carbon atoms.
  • the polycycloalkane is more preferably a polycycloalkane having a polycyclic skeleton of a bridged ring system such as adamantane, norbornane, isobornane, tricyclodecane, or tetracyclododecane; or a polycycloalkane having a polycyclic skeleton of a condensed ring system such as a cyclic group having a steroid skeleton.
  • the cyclic aliphatic hydrocarbon group for R'201 is preferably a group in which one or more hydrogen atoms have been removed from a monocycloalkane or polycycloalkane, more preferably a group in which one hydrogen atom has been removed from a polycycloalkane, particularly preferably an adamantyl group or a norbornyl group, and most preferably an adamantyl group.
  • the linear or branched aliphatic hydrocarbon group which may be bonded to the alicyclic hydrocarbon group preferably has 1 to 10 carbon atoms, more preferably 1 to 6 carbon atoms, still more preferably 1 to 4 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 3 carbon atoms.
  • a straight-chain alkylene group is preferable, and specific examples thereof include a methylene group [-CH 2 -], an ethylene group [-(CH 2 ) 2 -], a trimethylene group [-(CH 2 ) 3 -], a tetramethylene group [-(CH 2 ) 4 -], a pentamethylene group [-(CH 2 ) 5 -], etc.
  • the branched aliphatic hydrocarbon group is preferably a branched alkylene group, and specific examples thereof include alkylmethylene groups such as -CH( CH3 )-, -CH( CH2CH3 )-, -C( CH3 ) 2- , -C(CH3)(CH2CH3)-, -C(CH3)(CH2CH2CH3)-, and -C(CH2CH3 ) 2- ; alkylethylene groups such as -CH ( CH3 ) CH2- , -CH( CH3 )CH( CH3 ) - , -C( CH3 ) 2CH2- , -CH ( CH2CH3 ) CH2- , and -C( CH2CH3 ) 2 - CH2- ; and alkyl alkylene groups such as alkyl trimethylene groups such as -CH (CH 3 )CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH(CH 3 )CH 2 CH 2 -, etc.
  • the cyclic hydrocarbon group in R'201 may contain a heteroatom, such as a heterocycle, etc.
  • a heteroatom such as a heterocycle, etc.
  • lactone-containing cyclic groups include lactone-containing cyclic groups, -SO 2 -containing cyclic groups, and other heterocyclic groups represented by the following chemical formulas (r-hr-1) to (r-hr-16), respectively.
  • Examples of the substituent in the cyclic group of R'201 include an alkyl group, an alkoxy group, a halogen atom, a halogenated alkyl group, a hydroxyl group, a carbonyl group, and a nitro group.
  • the alkyl group as the substituent is preferably an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and most preferably a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an n-butyl group or a tert-butyl group.
  • the alkoxy group as a substituent is preferably an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, more preferably a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, an iso-propoxy group, an n-butoxy group, or a tert-butoxy group, and most preferably a methoxy group or an ethoxy group.
  • a fluorine atom is preferred.
  • halogenated alkyl group as a substituent examples include alkyl groups having 1 to 5 carbon atoms, such as methyl, ethyl, propyl, n-butyl, and tert-butyl groups, in which some or all of the hydrogen atoms have been substituted with the above-mentioned halogen atoms.
  • the carbonyl group as a substituent is a group that substitutes a methylene group (-CH 2 -) that constitutes a cyclic hydrocarbon group.
  • a chain alkyl group which may have a substituent may be either linear or branched.
  • the linear alkyl group preferably has 1 to 20 carbon atoms, more preferably has 1 to 15 carbon atoms, and most preferably has 1 to 10 carbon atoms.
  • the branched alkyl group preferably has 3 to 20 carbon atoms, more preferably has 3 to 15 carbon atoms, and most preferably has 3 to 10 carbon atoms.
  • Specific examples include a 1-methylethyl group, a 1-methylpropyl group, a 2-methylpropyl group, a 1-methylbutyl group, a 2-methylbutyl group, a 3-methylbutyl group, a 1-ethylbutyl group, a 2-ethylbutyl group, a 1-methylpentyl group, a 2-methylpentyl group, a 3-methylpentyl group, and a 4-methylpentyl group.
  • a chain alkenyl group which may have a substituent may be either linear or branched, and preferably has 2 to 10 carbon atoms, more preferably 2 to 5 carbon atoms, further preferably 2 to 4 carbon atoms, and particularly preferably 3 carbon atoms.
  • Examples of linear alkenyl groups include vinyl groups, propenyl groups (allyl groups), and butenyl groups.
  • Examples of branched alkenyl groups include 1-methylvinyl groups, 2-methylvinyl groups, 1-methylpropenyl groups, and 2-methylpropenyl groups. Of the above chain alkenyl groups, linear alkenyl groups are preferred, vinyl groups and propenyl groups are more preferred, and vinyl groups are particularly preferred.
  • Examples of the substituent in the chain alkyl or alkenyl group of R'201 include an alkoxy group, a halogen atom, a halogenated alkyl group, a hydroxyl group, a carbonyl group, a nitro group, an amino group, and the cyclic groups in R'201 described above.
  • the optionally substituted cyclic group, the optionally substituted chain alkyl group, or the optionally substituted chain alkenyl group for R'201 also includes the same as the acid dissociable group represented by formula (a1-r-2) described later as the optionally substituted cyclic group or the optionally substituted chain alkyl group.
  • R'201 is preferably a cyclic group which may have a substituent, and more preferably a cyclic hydrocarbon group which may have a substituent. More specifically, for example, a phenyl group, a naphthyl group, a group in which one or more hydrogen atoms have been removed from a polycycloalkane, a lactone-containing cyclic group, an -SO2- containing cyclic group, etc. are preferred.
  • R 201 to R 203 and R 206 to R 207 when bonded to each other to form a ring together with the sulfur atom in the formula, they may be bonded via a heteroatom such as a sulfur atom, an oxygen atom or a nitrogen atom, or a functional group such as a carbonyl group, -SO-, -SO 2 -, -SO 3 -, -COO-, -CONH- or -N(R N )- (wherein R N is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms).
  • a heteroatom such as a sulfur atom, an oxygen atom or a nitrogen atom
  • a functional group such as a carbonyl group, -SO-, -SO 2 -, -SO 3 -, -COO-, -CONH- or -N(R N )- (wherein R N is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms).
  • one ring containing the sulfur atom in the ring skeleton in the formula is preferably a 3- to 10-membered ring including the sulfur atom, and particularly preferably a 5- to 7-membered ring.
  • the ring formed include a thiophene ring, a thiazole ring, a benzothiophene ring, a dibenzothiophene ring, a 9H-thioxanthene ring, a thioxanthone ring, a thianthrene ring, a phenoxathiin ring, a tetrahydrothiophenium ring, and a tetrahydrothiopyranium ring.
  • R 208 to R 209 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and when they represent an alkyl group, they may be bonded to each other to form a ring.
  • R 210 is an aryl group which may have a substituent, an alkyl group which may have a substituent, an alkenyl group which may have a substituent, or an --SO 2 -- containing cyclic group which may have a substituent.
  • the aryl group for R 210 includes unsubstituted aryl groups having 6 to 20 carbon atoms, and is preferably a phenyl group or a naphthyl group.
  • the alkyl group for R 210 is preferably a chain or cyclic alkyl group having 1 to 30 carbon atoms.
  • the alkenyl group for R 210 preferably has 2 to 10 carbon atoms.
  • a “—SO 2 — containing polycyclic group” is preferable.
  • Suitable cations represented by the formula (ca-1) include the cations represented by the following chemical formulas (ca-1-1) to (ca-1-75).
  • g1, g2, and g3 each represent a repeating number, where g1 is an integer of 1 to 5, g2 is an integer of 0 to 20, and g3 is an integer of 0 to 20.
  • R′′ 201 is a hydrogen atom or a substituent, and the substituent is the same as those exemplified as the substituent that R 201 to R 207 and R 210 to R 212 may have.
  • Suitable cations represented by the formula (ca-2) include diphenyliodonium cation, bis(4-tert-butylphenyl)iodonium cation, etc.
  • Suitable cations represented by the formula (ca-3) include the cations represented by the following formulas (ca-3-1) to (ca-3-6).
  • examples of the cationic portion (M m+ ) 1/m ) include organic ammonium cations represented by the following general formula (ca-4).
  • R 1 to R 4 are each independently a hydrocarbon group which may have a substituent. Alternatively, at least two of R 1 to R 4 may be bonded to each other to form an alicyclic structure together with the nitrogen atom in the formula.
  • the hydrocarbon groups in R 1 to R 4 are each independently preferably a hydrocarbon group having 1 to 15 carbon atoms, and more preferably a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms.
  • the total number of carbon atoms in the hydrocarbon groups in R 1 to R 4 is preferably 1 to 20, more preferably 3 to 18, and even more preferably 4 to 15.
  • the hydrocarbon group for each of R 1 to R 4 includes a linear or branched alkyl group, or a cyclic hydrocarbon group.
  • the linear or branched alkyl group is preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and more preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.
  • the cyclic hydrocarbon group may be an alicyclic hydrocarbon group or an aromatic hydrocarbon group.
  • the alicyclic hydrocarbon group is preferably a group in which one hydrogen atom has been removed from a monocycloalkane.
  • the monocycloalkane preferably has 3 to 6 carbon atoms, specifically, cyclopentane, cyclohexane, etc.
  • the aromatic hydrocarbon group is preferably a phenyl group or a benzyl group.
  • Examples of the substituent that the hydrocarbon group in R 1 to R 4 may have include an alkoxy group, a hydroxyl group, an oxo group ( ⁇ O), and an amino group.
  • Suitable cations represented by the formula (ca-4) include the cations represented by the following chemical formulas (ca-4-1) to (ca-4-4).
  • M m+ is preferably an m-valent sulfonium cation, and more preferably a cation represented by the above formula (ca-1). From the viewpoint of increasing sensitivity, M m+ is preferably an m-valent onium cation having a fluorine atom. As this M m+ , a cation represented by the following formula (ca-1-1) is preferable.
  • Rf 201 to Rf 203 each independently represent an aryl group which may have a substituent, an alkyl group which may have a substituent, or an alkenyl group which may have a substituent.
  • Rf 201 to Rf 203 may be bonded to each other to form a ring together with the sulfur atom in the formula. However, at least one of Rf 201 to Rf 203 contains at least one fluorine atom.
  • Rf 201 to Rf 203 in the formula (ca-1-1) are the same as R 201 to R 203 in the formula (ca-1), respectively. However, at least one of Rf 201 to Rf 203 contains at least one fluorine atom. It is preferable that the cation represented by the formula (ca-1-1) contains three or more fluorine atoms. Any one of Rf 201 to Rf 203 may have three or more fluorine atoms, and the total number of fluorine atoms contained in Rf 201 to Rf 203 may be three or more.
  • the structural unit (a0) it is preferable to use at least one selected from the group consisting of the aforementioned structural units (a01), (a02), (a03), and (a04), it is more preferable to use at least one selected from the group consisting of the structural units (a01), (a02), and (a03), it is even more preferable to use at least one selected from the group consisting of the structural units (a01) and (a02), and it is particularly preferable to use at least one selected from the group consisting of the structural unit (a01).
  • the cation moiety of these structural units (a01) to (a04) is preferably an m-valent sulfonium cation.
  • the structural unit (a0) contained in the component (A1) may be of one type, or two or more types.
  • the content of the structural unit (a0) in the component (A1) is preferably 1 to 50 mol %, more preferably 1 to 40 mol %, even more preferably 2 to 20 mol %, and particularly preferably 2 to 10 mol %, based on the total amount (100 mol %) of all structural units constituting the component (A1).
  • the proportion of the structural unit (a0) is at least as large as the lower limit of the aforementioned preferred range, the sensitivity is further improved.
  • the proportion of the structural unit (a0) is at most the upper limit of the aforementioned preferred range, the lithography properties such as reduced roughness are further improved.
  • the component (A1) may include other structural units, in addition to the structural unit (a0) described above, as necessary.
  • Examples of other structural units include a structural unit (a1) containing an acid-decomposable group whose polarity increases by the action of acid; a structural unit (a10) represented by general formula (a10-1) described below; a structural unit (a5) that generates acid upon exposure to light (excluding those that fall under the structural unit (a0)); a structural unit (a2) containing a lactone-containing cyclic group; and a structural unit (a8) derived from a compound represented by general formula (a8-1) described below.
  • the structural unit (a1) is a structural unit that contains an acid-decomposable group whose polarity increases when acted upon by an acid.
  • Examples of the acid-decomposable group include a group in which a polar group is protected with an acid-dissociable group (for example, a group in which the hydrogen atom of an OH-containing polar group is protected with an acid-dissociable group).
  • Examples of the acid-dissociable group include those that have been proposed as acid-dissociable groups in base resins for chemically amplified resist compositions.
  • Acetal-type acid-dissociable group Among the polar groups, examples of the acid dissociable group protecting a carboxy group or a hydroxyl group include an acid dissociable group represented by the following general formula (a1-r-1) (hereinafter sometimes referred to as an “acetal-type acid dissociable group”).
  • Ra' 1 and Ra' 2 are a hydrogen atom or an alkyl group.
  • Ra' 3 is a hydrocarbon group, and Ra' 3 may be bonded to either Ra' 1 or Ra' 2 to form a ring.
  • At least one of Ra'1 and Ra'2 is preferably a hydrogen atom, and more preferably both are hydrogen atoms.
  • the alkyl group is preferably an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.
  • Specific examples of preferred alkyl groups include linear or branched alkyl groups. More specific examples include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, tert-butyl, pentyl, isopentyl, and neopentyl groups, with methyl and ethyl groups being more preferred, and methyl being particularly preferred.
  • the hydrocarbon group for Ra'3 includes a linear or branched alkyl group, or a cyclic hydrocarbon group.
  • the linear alkyl group preferably has 1 to 5 carbon atoms, more preferably 1 to 4 carbon atoms, and even more preferably 1 or 2 carbon atoms.
  • Specific examples include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an n-butyl group, and an n-pentyl group. Of these, a methyl group, an ethyl group, or an n-butyl group is preferable, and a methyl group or an ethyl group is more preferable.
  • the branched alkyl group preferably has 3 to 10 carbon atoms, and more preferably has 3 to 5 carbon atoms. Specific examples include an isopropyl group, an isobutyl group, a tert-butyl group, an isopentyl group, a neopentyl group, a 1,1-diethylpropyl group, and a 2,2-dimethylbutyl group, with an isopropyl group being preferred.
  • the hydrocarbon group may be an alicyclic hydrocarbon group or an aromatic hydrocarbon group, and may be a polycyclic group or a monocyclic group.
  • the monocyclic alicyclic hydrocarbon group is preferably a group in which one hydrogen atom has been removed from a monocycloalkane.
  • the monocycloalkane preferably has 3 to 6 carbon atoms, and specific examples thereof include cyclopentane and cyclohexane.
  • the alicyclic hydrocarbon group that is a polycyclic group is preferably a group in which one hydrogen atom has been removed from a polycycloalkane, and the polycycloalkane preferably has 7 to 12 carbon atoms, and specific examples thereof include adamantane, norbornane, isobornane, tricyclodecane, and tetracyclododecane.
  • the aromatic hydrocarbon group of Ra'3 is an aromatic hydrocarbon group
  • the aromatic hydrocarbon group is a hydrocarbon group having at least one aromatic ring.
  • the aromatic ring is not particularly limited as long as it is a cyclic conjugated system having 4n+2 ⁇ electrons, and may be monocyclic or polycyclic.
  • the aromatic ring preferably has 5 to 30 carbon atoms, more preferably 5 to 20 carbon atoms, further preferably 6 to 15 carbon atoms, and particularly preferably 6 to 12 carbon atoms.
  • aromatic ring examples include aromatic hydrocarbon rings such as benzene, naphthalene, anthracene, and phenanthrene; and aromatic heterocycles in which a part of the carbon atoms constituting the aromatic hydrocarbon ring is replaced with a heteroatom.
  • heteroatom in the aromatic heterocycle examples include an oxygen atom, a sulfur atom, and a nitrogen atom.
  • aromatic heterocycle include a pyridine ring and a thiophene ring.
  • aromatic hydrocarbon group in Ra'3 include a group in which one hydrogen atom has been removed from the aromatic hydrocarbon ring or aromatic heterocycle (aryl group or heteroaryl group); a group in which one hydrogen atom has been removed from an aromatic compound containing two or more aromatic rings (e.g., biphenyl, fluorene, etc.); and a group in which one hydrogen atom of the aromatic hydrocarbon ring or aromatic heterocycle has been substituted with an alkylene group (e.g., arylalkyl groups such as benzyl group, phenethyl group, 1-naphthylmethyl group, 2-naphthylmethyl group, 1-naphthylethyl group, 2-naphthylethyl group, etc.).
  • the alkylene group bonded to the aromatic hydrocarbon ring or aromatic heterocycle preferably has 1 to 4 carbon atoms, more preferably has 1 to 2 carbon atoms, and particularly preferably has 1 carbon atom.
  • the cyclic hydrocarbon group for Ra'3 may have a substituent.
  • substituents include -R P1 , -R P2 -O-R P1 , -R P2 -CO-R P1 , -R P2 -CO-OR P1 , -R P2 -O-CO- R P1 , -R P2 -OH, -R P2 -CN or -R P2 -COOH (hereinafter these substituents are collectively referred to as "Ra x5 ").
  • R P1 is a monovalent linear saturated hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, a monovalent aliphatic cyclic saturated hydrocarbon group having 3 to 20 carbon atoms, or a monovalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 30 carbon atoms.
  • R P2 is a single bond, a divalent linear saturated hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, a divalent aliphatic cyclic saturated hydrocarbon group having 3 to 20 carbon atoms, or a divalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 30 carbon atoms.
  • the hydrogen atoms of the linear saturated hydrocarbon group, the aliphatic cyclic saturated hydrocarbon group, and the aromatic hydrocarbon group of R P1 and R P2 may be substituted with fluorine atoms.
  • the aliphatic cyclic hydrocarbon group may have one or more of the above-mentioned substituents alone, or may have one or more of each of the above-mentioned substituents.
  • Examples of the monovalent chain saturated hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, an octyl group, and a decyl group.
  • Examples of the monovalent aliphatic cyclic saturated hydrocarbon group having 3 to 20 carbon atoms include monocyclic aliphatic saturated hydrocarbon groups such as a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, a cyclooctyl group, a cyclodecyl group, and a cyclododecyl group; and polycyclic aliphatic saturated hydrocarbon groups such as a bicyclo[2.2.2]octanyl group, a tricyclo[5.2.1.02,6]decanyl group, a tricyclo[3.3.1.13,7]decanyl group, a tetracyclo[6.2.1.13,6.02,7]dodecanyl group, and an adamantyl group.
  • monocyclic aliphatic saturated hydrocarbon groups such as a cyclopropyl group,
  • Examples of the monovalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 30 carbon atoms include groups in which one hydrogen atom has been removed from an aromatic hydrocarbon ring such as benzene, biphenyl, fluorene, naphthalene, anthracene, and phenanthrene.
  • the cyclic group is preferably a 4- to 7-membered ring, more preferably a 4- to 6-membered ring.
  • Specific examples of the cyclic group include a tetrahydropyranyl group and a tetrahydrofuranyl group.
  • Tertiary alkyl ester type acid-dissociable group examples of the acid-dissociable group that protects the carboxy group include acid-dissociable groups represented by the following general formula (a1-r-2).
  • acid-dissociable groups represented by the following formula (a1-r-2) those constituted by an alkyl group may be referred to as "tertiary alkyl ester-type acid-dissociable groups" hereinafter for the sake of convenience.
  • Ra' 4 to Ra' 6 are each a hydrocarbon group, and Ra' 5 and Ra' 6 may be bonded to each other to form a ring.
  • Examples of the hydrocarbon group for Ra'4 include a linear or branched alkyl group, a linear or cyclic alkenyl group, a linear alkynyl group, or a cyclic hydrocarbon group.
  • Examples of the linear or branched alkyl group and cyclic hydrocarbon group (monocyclic alicyclic hydrocarbon group, polycyclic alicyclic hydrocarbon group, and aromatic hydrocarbon group) in Ra'4 are the same as those for Ra'3 .
  • the chain or cyclic alkenyl group for Ra'4 is preferably an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms.
  • Examples of the hydrocarbon group for Ra' 5 and Ra' 6 include the same as those for Ra' 3 above.
  • Ra'5 and Ra'6 are bonded to each other to form a ring
  • suitable examples of such a ring include a group represented by the following general formula (a1-r2-1), a group represented by the following general formula (a1-r2-2), and a group represented by the following general formula (a1-r2-3).
  • suitable examples include groups represented by the following general formula (a1-r2-4).
  • Ra' 10 represents a linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, some of which may be substituted with a halogen atom or a heteroatom-containing group.
  • Ra' 11 represents a group which forms an aliphatic cyclic group together with the carbon atom to which Ra' 10 is bonded.
  • Ya represents a carbon atom.
  • Xa represents a group which forms a cyclic hydrocarbon group together with Ya. Some or all of the hydrogen atoms in this cyclic hydrocarbon group may be substituted.
  • Ra 101 to Ra 103 are each independently a hydrogen atom, a monovalent linear saturated hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, or a monovalent aliphatic cyclic saturated hydrocarbon group having 3 to 20 carbon atoms. Some or all of the hydrogen atoms in this linear saturated hydrocarbon group and aliphatic cyclic saturated hydrocarbon group may be substituted. Two or more of Ra 101 to Ra 103 may be bonded to each other to form a cyclic structure.
  • Yaa is a carbon atom.
  • Xaa is a group forming an aliphatic cyclic group together with Yaa.
  • Ra 104 is an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent.
  • Ra' 12 and Ra' 13 are each independently a monovalent chain saturated hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms. Some or all of the hydrogen atoms in this chain saturated hydrocarbon group may be substituted.
  • Ra' 14 is a hydrocarbon group which may have a substituent. * indicates a bond (the same applies below).]
  • Ra' 10 is a linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms which may be partially substituted with a halogen atom or a heteroatom-containing group.
  • the linear alkyl group for Ra' 10 has 1 to 12 carbon atoms, preferably 1 to 10 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 5 carbon atoms.
  • Examples of the branched alkyl group in Ra'10 include the same as those in Ra'3 .
  • the alkyl group in Ra' 10 may be partially substituted with a halogen atom or a heteroatom-containing group.
  • some of the hydrogen atoms constituting the alkyl group may be substituted with a halogen atom or a heteroatom-containing group.
  • some of the carbon atoms (e.g., methylene groups) constituting the alkyl group may be substituted with a heteroatom-containing group.
  • the heteroatom include an oxygen atom, a sulfur atom, and a nitrogen atom.
  • Ra' 11 (the alicyclic group formed together with the carbon atom to which Ra' 10 is bonded) is preferably the group exemplified as the monocyclic or polycyclic alicyclic hydrocarbon group (alicyclic hydrocarbon group) for Ra' 3 in formula (a1-r-1).
  • a monocyclic alicyclic hydrocarbon group is preferred, and specifically, a cyclopentyl group or a cyclohexyl group is more preferred.
  • examples of the cyclic hydrocarbon group formed by Xa together with Ya include groups in which one or more hydrogen atoms have been further removed from the cyclic monovalent hydrocarbon group (alicyclic hydrocarbon group) in Ra'3 in formula (a1-r-1).
  • the cyclic hydrocarbon group formed by Xa together with Ya may have a substituent. Examples of the substituent include the same substituents as those which the cyclic hydrocarbon group in Ra'3 may have.
  • examples of the monovalent chain saturated hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms for Ra 101 to Ra 103 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, an octyl group, and a decyl group.
  • Examples of the monovalent aliphatic cyclic saturated hydrocarbon group having 3 to 20 carbon atoms in Ra 101 to Ra 103 include monocyclic aliphatic saturated hydrocarbon groups such as a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, a cyclooctyl group, a cyclodecyl group, and a cyclododecyl group; and polycyclic aliphatic saturated hydrocarbon groups such as a bicyclo[2.2.2]octanyl group, a tricyclo[5.2.1.02,6]decanyl group, a tricyclo[3.3.1.13,7]decanyl group, a tetracyclo[6.2.1.13,6.02,7]dodecanyl group, and an adamantyl group.
  • monocyclic aliphatic saturated hydrocarbon groups such as a cycl
  • Ra 101 to Ra 103 are preferably a hydrogen atom or a monovalent linear saturated hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom, a methyl group, or an ethyl group, and particularly preferably a hydrogen atom.
  • Examples of the substituent that the chain saturated hydrocarbon group or the alicyclic saturated hydrocarbon group represented by the above Ra 101 to Ra 103 may have include the same groups as the above Ra x5 .
  • Examples of groups containing a carbon-carbon double bond formed by two or more of Ra 101 to Ra 103 bonding to each other to form a cyclic structure include a cyclopentenyl group, a cyclohexenyl group, a methylcyclopentenyl group, a methylcyclohexenyl group, a cyclopentylidene-ethenyl group, a cyclohexylidene-ethenyl group, etc.
  • a cyclopentenyl group, a cyclohexenyl group, and a cyclopentylidene-ethenyl group are preferred.
  • the aliphatic cyclic group formed by Xaa together with Yaa is preferably the same as the groups exemplified as the monocyclic or polycyclic alicyclic hydrocarbon group for Ra'3 in formula (a1-r-1).
  • examples of the aromatic hydrocarbon group for Ra 104 include groups in which one or more hydrogen atoms have been removed from an aromatic hydrocarbon ring having 5 to 30 carbon atoms.
  • Ra 104 is preferably a group in which one or more hydrogen atoms have been removed from an aromatic hydrocarbon ring having 6 to 15 carbon atoms, more preferably a group in which one or more hydrogen atoms have been removed from benzene, naphthalene, anthracene, or phenanthrene, even more preferably a group in which one or more hydrogen atoms have been removed from benzene, naphthalene, or anthracene, particularly preferably a group in which one or more hydrogen atoms have been removed from benzene or naphthalene, and most preferably a group in which one or more hydrogen atoms have been removed from benzene.
  • Examples of the substituent that Ra 104 in formula (a1-r2-3) may have include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a hydroxyl group, a carboxyl group, a halogen atom, an alkoxy group (such as a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, or a butoxy group), an alkyloxycarbonyl group, and the like.
  • Ra' 12 and Ra' 13 are each independently a monovalent chain saturated hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms.
  • Examples of the monovalent chain saturated hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms in Ra' 12 and Ra' 13 include the same monovalent chain saturated hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms in the above Ra 101 to Ra 103.
  • Some or all of the hydrogen atoms in this chain saturated hydrocarbon group may be substituted.
  • Ra' 12 and Ra' 13 are preferably an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, further preferably a methyl group or an ethyl group, and particularly preferably a methyl group.
  • examples of the substituent include the same groups as those for the above Ra -x5 .
  • Ra' 14 is a hydrocarbon group which may have a substituent.
  • Examples of the hydrocarbon group in Ra' 14 include a linear or branched alkyl group, and a cyclic hydrocarbon group.
  • the linear alkyl group for Ra' 14 preferably has 1 to 5 carbon atoms, more preferably 1 to 4 carbon atoms, and even more preferably 1 or 2.
  • Specific examples include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an n-butyl group, and an n-pentyl group. Of these, a methyl group, an ethyl group, or an n-butyl group is preferable, and a methyl group or an ethyl group is more preferable.
  • the branched alkyl group for Ra' 14 preferably has 3 to 10 carbon atoms, and more preferably has 3 to 5 carbon atoms. Specific examples include an isopropyl group, an isobutyl group, a tert-butyl group, an isopentyl group, a neopentyl group, a 1,1-diethylpropyl group, and a 2,2-dimethylbutyl group, and is preferably an isopropyl group.
  • the hydrocarbon group may be an alicyclic hydrocarbon group or an aromatic hydrocarbon group, and may be a polycyclic group or a monocyclic group.
  • the monocyclic alicyclic hydrocarbon group is preferably a group in which one hydrogen atom has been removed from a monocycloalkane.
  • the monocycloalkane preferably has 3 to 6 carbon atoms, and specific examples thereof include cyclopentane and cyclohexane.
  • the alicyclic hydrocarbon group that is a polycyclic group is preferably a group in which one hydrogen atom has been removed from a polycycloalkane, and the polycycloalkane preferably has 7 to 12 carbon atoms, and specific examples thereof include adamantane, norbornane, isobornane, tricyclodecane, and tetracyclododecane.
  • Ra' 14 examples include the same as the aromatic hydrocarbon group for Ra 104.
  • Ra' 14 is preferably a group in which one or more hydrogen atoms have been removed from an aromatic hydrocarbon ring having 6 to 15 carbon atoms, more preferably a group in which one or more hydrogen atoms have been removed from benzene, naphthalene, anthracene or phenanthrene, still more preferably a group in which one or more hydrogen atoms have been removed from benzene, naphthalene or anthracene, particularly preferably a group in which one or more hydrogen atoms have been removed from naphthalene or anthracene, and most preferably a group in which one or more hydrogen atoms have been removed from naphthalene.
  • substituent which Ra' 14 may have include the same substituents as those which Ra 104 may have.
  • Ra' 14 in formula (a1-r2-4) is a naphthyl group
  • the position at which it bonds to the tertiary carbon atom in formula (a1-r2-4) may be either the 1st or 2nd position of the naphthyl group.
  • Ra' 14 in formula (a1-r2-4) is an anthryl group
  • the position at which it bonds to the tertiary carbon atom in formula (a1-r2-4) may be any one of the 1-position, 2-position or 9-position of the anthryl group.
  • Tertiary alkyloxycarbonyl acid dissociating group Among the polar groups, examples of the acid dissociable group that protects the hydroxyl group include acid dissociable groups represented by the following general formula (a1-r-3) (hereinafter, for convenience, may be referred to as “tertiary alkyloxycarbonyl acid dissociable group”).
  • Ra' 7 to Ra' 9 each represent an alkyl group.
  • Ra' 7 to Ra' 9 are each preferably an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and more preferably an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms.
  • the total number of carbon atoms in each alkyl group is preferably 3 to 7, more preferably 3 to 5, and most preferably 3 or 4.
  • Secondary alkyl ester type acid-dissociable group Among the above polar groups, examples of the acid-dissociable group that protects the carboxy group include acid-dissociable groups represented by the following general formula (a1-r-4).
  • Ra'10 is a hydrocarbon group.
  • Ra'11a and Ra'11b are each independently a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group.
  • Ra'12 is a hydrogen atom or a hydrocarbon group.
  • Ra'10 and Ra'11a or Ra'11b may be bonded to each other to form a ring.
  • Ra'11a or Ra'11b and Ra'12 may be bonded to each other to form a ring.
  • examples of the hydrocarbon group in Ra'10 and Ra'12 include the same as those in Ra'3 above.
  • examples of the alkyl group in Ra'11a and Ra'11b include the same as the alkyl group in Ra'1 .
  • the hydrocarbon groups in Ra'10 and Ra'12 and the alkyl groups in Ra'11a and Ra'11b may have a substituent. Examples of the substituent include the above-mentioned Rax5 .
  • Ra'10 and Ra'11a or Ra'11b may be bonded to each other to form a ring.
  • the ring may be a polycyclic or monocyclic ring, an alicyclic or aromatic ring.
  • the alicyclic and aromatic rings may contain heteroatoms.
  • the ring formed by Ra'10 and Ra'11a or Ra'11b bonding to each other is preferably a monocycloalkene, a ring in which a part of the carbon atoms of a monocycloalkene is substituted with a heteroatom (oxygen atom, sulfur atom, etc.), or a monocycloalkadiene, more preferably a cycloalkene having 3 to 6 carbon atoms, and more preferably cyclopentene or cyclohexene.
  • the ring formed by bonding Ra'10 and Ra'11a or Ra'11b to each other may be a condensed ring.
  • Specific examples of the condensed ring include indan.
  • the ring formed by bonding Ra'10 and Ra'11a or Ra'11b together may have a substituent.
  • substituents include the above-mentioned Rax5 .
  • Ra'11a or Ra'11b and Ra'12 may be bonded to each other to form a ring, and examples of such a ring include the same as the ring formed by Ra'10 and Ra'11a or Ra'11b being bonded to each other.
  • the structural unit (a1) is preferably a structural unit derived from an acrylate ester in which the hydrogen atom bonded to the carbon atom at the ⁇ -position may be substituted with a substituent.
  • Preferred specific examples of the structural unit (a1) include structural units represented by general formula (a1-1) or (a1-2) shown below.
  • R is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or a halogenated alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.
  • Va 1 is a divalent hydrocarbon group which may have an ether bond.
  • n a1 is an integer of 0 to 2.
  • Ra 1 is an acid dissociable group represented by the above general formula (a1-r-1), (a1-r-2) or (a1-r-4).
  • Wa 1 is n a2 +1 valent hydrocarbon group
  • n a2 is an integer of 1 to 3
  • Ra 2 is an acid dissociable group represented by the above general formula (a1-r-1) or (a1-r-3).
  • the alkyl group having 1 to 5 carbon atoms represented by R is preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and specific examples thereof include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a tert-butyl group, a pentyl group, an isopentyl group, and a neopentyl group.
  • the halogenated alkyl group having 1 to 5 carbon atoms is a group in which some or all of the hydrogen atoms of the alkyl group having 1 to 5 carbon atoms are substituted with halogen atoms.
  • a fluorine atom is particularly preferable.
  • R is preferably a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or a fluorinated alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and from the viewpoint of industrial availability, a hydrogen atom or a methyl group is most preferred.
  • the divalent hydrocarbon group for Va1 may be an aliphatic hydrocarbon group or an aromatic hydrocarbon group.
  • the aliphatic hydrocarbon group as the divalent hydrocarbon group in Va1 may be saturated or unsaturated, and is usually preferably saturated. More specifically, the aliphatic hydrocarbon group may be a straight-chain or branched-chain aliphatic hydrocarbon group, or an aliphatic hydrocarbon group containing a ring in the structure.
  • the linear aliphatic hydrocarbon group preferably contains 1 to 10 carbon atoms, more preferably 1 to 6 carbon atoms, even more preferably 1 to 4 carbon atoms, and most preferably 1 to 3 carbon atoms.
  • a straight-chain alkylene group is preferable, and specific examples thereof include a methylene group [-CH 2 -], an ethylene group [-(CH 2 ) 2 -], a trimethylene group [-(CH 2 ) 3 -], a tetramethylene group [-(CH 2 ) 4 -], a pentamethylene group [-(CH 2 ) 5 -], etc.
  • the branched aliphatic hydrocarbon group preferably has 2 to 10 carbon atoms, more preferably has 3 to 6 carbon atoms, even more preferably has 3 or 4 carbon atoms, and most preferably has 3 carbon atoms.
  • the branched aliphatic hydrocarbon group is preferably a branched alkylene group, and specific examples thereof include alkylmethylene groups such as -CH( CH3 )-, -CH( CH2CH3 )-, -C( CH3 ) 2- , -C(CH3)(CH2CH3)-, -C(CH3)(CH2CH2CH3)-, and -C(CH2CH3 ) 2- ; alkylethylene groups such as -CH ( CH3 ) CH2- , -CH( CH3 )CH( CH3 ) - , -C( CH3 ) 2CH2- , -CH ( CH2CH3 ) CH2- , and -C( CH2CH3 ) 2 - CH2- ;
  • Examples of the aliphatic hydrocarbon group containing a ring in the structure include an alicyclic hydrocarbon group (a group in which two hydrogen atoms have been removed from an aliphatic hydrocarbon ring), a group in which an alicyclic hydrocarbon group is bonded to the end of a linear or branched aliphatic hydrocarbon group, a group in which an alicyclic hydrocarbon group is interposed in the middle of a linear or branched aliphatic hydrocarbon group, etc.
  • Examples of the linear or branched aliphatic hydrocarbon group include the same as the linear aliphatic hydrocarbon group or the branched aliphatic hydrocarbon group.
  • the alicyclic hydrocarbon group preferably has 3 to 20 carbon atoms, and more preferably has 3 to 12 carbon atoms.
  • the alicyclic hydrocarbon group may be polycyclic or monocyclic.
  • the monocyclic alicyclic hydrocarbon group is preferably a group in which two hydrogen atoms have been removed from a monocycloalkane.
  • the monocycloalkane preferably has 3 to 6 carbon atoms, and specific examples thereof include cyclopentane and cyclohexane.
  • the polycyclic alicyclic hydrocarbon group is preferably a group in which two hydrogen atoms have been removed from a polycycloalkane, and the polycycloalkane preferably has 7 to 12 carbon atoms, and specific examples thereof include adamantane, norbornane, isobornane, tricyclodecane, and tetracyclododecane.
  • the aromatic hydrocarbon group as the divalent hydrocarbon group in Va1 is a hydrocarbon group having an aromatic ring.
  • the aromatic hydrocarbon group preferably has 3 to 30 carbon atoms, more preferably 5 to 30, even more preferably 5 to 20, particularly preferably 6 to 15, and most preferably 6 to 12. However, this number of carbon atoms does not include the number of carbon atoms in the substituents.
  • Specific examples of the aromatic ring contained in the aromatic hydrocarbon group include aromatic hydrocarbon rings such as benzene, biphenyl, fluorene, naphthalene, anthracene, and phenanthrene; aromatic heterocycles in which a part of the carbon atoms constituting the aromatic hydrocarbon ring is substituted with a heteroatom, etc.
  • heteroatom in the aromatic heterocycle examples include an oxygen atom, a sulfur atom, and a nitrogen atom.
  • aromatic hydrocarbon group examples include a group in which two hydrogen atoms have been removed from the aromatic hydrocarbon ring (arylene group); a group in which one hydrogen atom of a group in which one hydrogen atom has been removed from the aromatic hydrocarbon ring (aryl group) has been substituted with an alkylene group (for example, a group in which one hydrogen atom has been further removed from the aryl group in an arylalkyl group such as a benzyl group, a phenethyl group, a 1-naphthylmethyl group, a 2-naphthylmethyl group, a 1-naphthylethyl group, or a 2-naphthylethyl group).
  • the number of carbon atoms in the alkylene group is preferably 1 to 4, more preferably 1
  • Ra 1 is an acid-dissociable group represented by the above general formula (a1-r-1), (a1-r-2) or (a1-r-4).
  • the n a2 +1 valent hydrocarbon group in Wa 1 may be an aliphatic hydrocarbon group or an aromatic hydrocarbon group.
  • the aliphatic hydrocarbon group means a hydrocarbon group that does not have aromaticity, and may be saturated or unsaturated, and is usually preferably saturated.
  • Examples of the aliphatic hydrocarbon group include linear or branched aliphatic hydrocarbon groups, aliphatic hydrocarbon groups containing a ring in the structure, and groups that combine linear or branched aliphatic hydrocarbon groups with aliphatic hydrocarbon groups containing a ring in the structure.
  • the n a2 +1 valency is preferably divalent to tetravalent, and more preferably divalent or trivalent.
  • Ra2 is an acid-dissociable group represented by the above general formula (a1-r-1) or (a1-r-3).
  • R ⁇ represents a hydrogen atom, a methyl group, or a trifluoromethyl group.
  • the structural unit (a1) contained in the component (A1) may be of one type, or two or more types.
  • a structural unit represented by the above formula (a1-1) is more preferable, since this makes it easier to improve properties in electron beam or EUV lithography.
  • Ra 1 ′′ is an acid-dissociable group represented by general formula (a1-r2-1), (a1-r2-2), (a1-r2-3) or (a1-r2-4). * represents a bond.
  • R, Va1 and n a1 are the same as R, Va1 and n a1 in the formula (a1-1).
  • the acid dissociable group represented by formula (a1-r2-1), (a1-r2-2), (a1-r2-3) or (a1-r2-4) is as described above.
  • it is preferable to select an acid dissociable group that is a cyclic group since it is suitable for use with EB or EUV and can enhance the reactivity, and the acid dissociable group represented by formula (a1-r2-1) or the acid dissociable group represented by formula (a1-r2-2) is more preferable, and the acid dissociable group represented by formula (a1-r2-1) is even more preferable.
  • the proportion of the structural unit (a1) in the component (A1) is preferably 25 to 70 mol %, more preferably 35 to 65 mol %, and even more preferably 45 to 60 mol %, based on the total (100 mol %) of all structural units constituting the component (A1).
  • lithography properties such as sensitivity, resolution, and uniformity of pattern dimensions are improved.
  • the proportion is at most the upper limit of the aforementioned preferred range, a balance with other structural units can be achieved, resulting in various favorable lithography properties.
  • Structural unit (a10) The structural unit (a10) is a structural unit represented by general formula (a10-1) shown below.
  • R is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or a halogenated alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.
  • Ya x1 is a single bond or a divalent linking group.
  • Wa x1 is an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent.
  • n ax1 is an integer of 1 or more.
  • R is preferably a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or a fluorinated alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and from the viewpoint of industrial availability, a hydrogen atom or a methyl group is particularly preferred.
  • Ya x1 represents a single bond or a divalent linking group.
  • the divalent linking group for Ya x1 is not particularly limited, but suitable examples include a divalent hydrocarbon group which may have a substituent, and a divalent linking group containing a hetero atom.
  • Wa x1 represents an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent.
  • the aromatic hydrocarbon group in Wa x1 may be a group in which (n ax1 +1) hydrogen atoms have been removed from an aromatic ring which may have a substituent.
  • the aromatic ring here is not particularly limited as long as it is a cyclic conjugated system having 4n+2 ⁇ electrons.
  • the aromatic ring preferably has 5 to 30 carbon atoms, more preferably 5 to 20 carbon atoms, even more preferably 6 to 15 carbon atoms, and particularly preferably 6 to 12 carbon atoms.
  • aromatic ring examples include aromatic hydrocarbon rings such as benzene, naphthalene, anthracene, and phenanthrene; and aromatic heterocycles in which a part of the carbon atoms constituting the aromatic hydrocarbon ring is substituted with a heteroatom.
  • heteroatom in the aromatic heterocycle examples include an oxygen atom, a sulfur atom, and a nitrogen atom.
  • aromatic heterocycle include a pyridine ring and a thiophene ring.
  • examples of the aromatic hydrocarbon group in Wa x1 include groups in which (n ax1 +1) hydrogen atoms have been removed from an aromatic compound containing an aromatic ring which may have two or more substituents (e.g., biphenyl, fluorene, etc.).
  • Wa x1 is preferably a group in which (n ax1 +1) hydrogen atoms have been removed from benzene, naphthalene, anthracene or biphenyl, more preferably a group in which (n ax1 +1) hydrogen atoms have been removed from benzene or naphthalene, and even more preferably a group in which (n ax1 +1) hydrogen atoms have been removed from benzene.
  • the aromatic hydrocarbon group in Wa x1 may or may not have a substituent.
  • the substituent include an alkyl group, an alkoxy group, a halogen atom, and a halogenated alkyl group.
  • Examples of the alkyl group, alkoxy group, halogen atom, and halogenated alkyl group as the substituent include the same as those exemplified as the substituent in the cyclic group of R' 201.
  • the substituent is preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, more preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, further preferably an ethyl group or a methyl group, and particularly preferably a methyl group. It is preferable that the aromatic hydrocarbon group in Wa x1 does not have a substituent.
  • n ax1 represents an integer of 1 or more, preferably an integer of 1 to 10, more preferably an integer of 1 to 5, still more preferably 1, 2 or 3, and particularly preferably 1 or 2.
  • R ⁇ represents a hydrogen atom, a methyl group, or a trifluoromethyl group.
  • the structural unit (a10) contained in the component (A1) may be of one type, or two or more types.
  • the proportion of the structural unit (a10) in the component (A1) is preferably 40 to 95 mol %, more preferably 15 to 50 mol %, even more preferably 20 to 45 mol %, and particularly preferably 25 to 40 mol %, based on the total (100 mol %) of all structural units constituting the component (A1).
  • Structural unit (a5) is a structural unit that generates acid upon exposure (excluding those that correspond to the structural unit (a0)), and any known structural unit can be used. By including the structural unit (a5), the acid generated upon exposure tends to be uniformly distributed within the resist film. Suitable examples of the structural unit (a5) include structural units represented by general formula (a5-1) shown below.
  • R m is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, a halogenated alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, a halogen atom, or a hydrogen atom.
  • La 1 is a divalent linking group or a single bond.
  • Ra 050 is a divalent hydrocarbon group which may have a substituent.
  • La 0 is a divalent linking group.
  • Ya 0 is a divalent linking group which may have a hetero atom, or a single bond.
  • Ra 051 and Ra 052 are each independently a hydrogen atom, a fluorine atom, or a fluorinated alkyl group.
  • n0 is an integer of 1 to 4.
  • m is an integer of 1 or more, and M' m+ is an m-valent onium cation.
  • R m represents an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, a halogenated alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, a halogen atom or a hydrogen atom.
  • the alkyl group having 1 to 5 carbon atoms for R m is preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and specific examples thereof include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a tert-butyl group, a pentyl group, an isopentyl group, and a neopentyl group.
  • the halogenated alkyl group having 1 to 5 carbon atoms is a group in which some or all of the hydrogen atoms of the alkyl group having 1 to 5 carbon atoms are substituted with halogen atoms.
  • halogen atom examples include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, etc.
  • a fluorine atom is particularly preferred.
  • R m is preferably a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or a fluorinated alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and is most preferably a hydrogen atom or a methyl group in terms of industrial availability.
  • La1 is a divalent linking group or a single bond.
  • the divalent linking group for La 1 is not particularly limited, and preferred examples thereof include a divalent hydrocarbon group which may have a substituent and a divalent linking group containing a hetero atom, which are the same as the divalent hydrocarbon group which may have a substituent and the divalent linking group containing a hetero atom exemplified as the divalent linking group for Ya x1 above, respectively.
  • Ra 050 represents a divalent hydrocarbon group which may have a substituent.
  • the divalent hydrocarbon group for Ra 050 may be an aliphatic hydrocarbon group or an aromatic hydrocarbon group.
  • the aliphatic hydrocarbon group means a hydrocarbon group having no aromaticity.
  • the aliphatic hydrocarbon group may be saturated or unsaturated, and is usually preferably saturated.
  • Examples of the aliphatic hydrocarbon group include linear or branched aliphatic hydrocarbon groups, and aliphatic hydrocarbon groups containing a ring in the structure.
  • the straight-chain aliphatic hydrocarbon group preferably has 1 to 10 carbon atoms, more preferably 1 to 6 carbon atoms, even more preferably 1 to 4 carbon atoms, and most preferably 1 to 3 carbon atoms.
  • a straight-chain alkylene group is preferable, and specific examples thereof include a methylene group [-CH 2 -], an ethylene group [-(CH 2 ) 2 -], a trimethylene group [-(CH 2 ) 3 -], a tetramethylene group [-(CH 2 ) 4 -], a pentamethylene group [-(CH 2 ) 5 -], etc.
  • the branched aliphatic hydrocarbon group preferably contains 2 to 10 carbon atoms, more preferably 3 to 6 carbon atoms, even more preferably 3 or 4 carbon atoms, and most preferably 3 carbon atoms.
  • the branched aliphatic hydrocarbon group is preferably a branched alkylene group, and specific examples thereof include alkylmethylene groups such as -CH( CH3 )-, -CH( CH2CH3 )-, -C( CH3 ) 2- , -C(CH3)(CH2CH3)-, -C(CH3)(CH2CH2CH3)-, and -C(CH2CH3 ) 2- ; alkylethylene groups such as -CH ( CH3 ) CH2- , -CH( CH3 )CH( CH3 ) - , -C( CH3 ) 2CH2- , -CH ( CH2CH3 ) CH2- , and -C( CH2CH3 ) 2 - CH2- ; and alky
  • the linear or branched aliphatic hydrocarbon group may or may not have a substituent.
  • substituents include a fluorine atom, a fluorinated alkyl group having 1 to 5 carbon atoms and substituted with a fluorine atom, and a carbonyl group.
  • Aliphatic hydrocarbon groups containing a ring in the structure examples include cyclic aliphatic hydrocarbon groups (groups obtained by removing two hydrogen atoms from an aliphatic hydrocarbon ring) which may contain a substituent containing a heteroatom in the ring structure, groups in which the cyclic aliphatic hydrocarbon group is bonded to the end of a linear or branched aliphatic hydrocarbon group, groups in which the cyclic aliphatic hydrocarbon group is interposed in the middle of a linear or branched aliphatic hydrocarbon group, etc.
  • Examples of the linear or branched aliphatic hydrocarbon group include the same as those described above.
  • the cyclic aliphatic hydrocarbon group preferably has 3 to 20 carbon atoms, and more preferably has 3 to 12 carbon atoms.
  • the cyclic aliphatic hydrocarbon group may be a polycyclic group or a monocyclic group.
  • the monocyclic alicyclic hydrocarbon group is preferably a group obtained by removing two hydrogen atoms from a monocycloalkane.
  • the monocycloalkane preferably has 3 to 6 carbon atoms, and specific examples thereof include cyclopentane and cyclohexane.
  • the polycyclic alicyclic hydrocarbon group is preferably a group obtained by removing two hydrogen atoms from a polycycloalkane, and the polycycloalkane preferably has 7 to 12 carbon atoms, and specific examples thereof include adamantane, norbornane, isobornane, tricyclodecane, and tetracyclododecane.
  • the cyclic aliphatic hydrocarbon group may or may not have a substituent, which may include an alkyl group, an alkoxy group, a halogen atom, a halogenated alkyl group, a hydroxyl group, a carbonyl group, etc.
  • the alkyl group as the substituent is preferably an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and most preferably a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an n-butyl group, or a tert-butyl group.
  • the alkoxy group as the substituent is preferably an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, more preferably a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, an iso-propoxy group, an n-butoxy group, or a tert-butoxy group, and most preferably a methoxy group or an ethoxy group.
  • the halogen atom as the substituent include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom, with a fluorine atom being preferred.
  • halogenated alkyl group examples include groups in which some or all of the hydrogen atoms of the alkyl group are substituted with the halogen atoms.
  • some of the carbon atoms constituting the ring structure may be substituted with a substituent containing a hetero atom.
  • the aromatic hydrocarbon group is a hydrocarbon group having at least one aromatic ring.
  • the aromatic ring is not particularly limited as long as it is a cyclic conjugated system having 4n+2 ⁇ electrons, and may be monocyclic or polycyclic.
  • the number of carbon atoms in the aromatic ring is preferably 5 to 30, more preferably 5 to 20, even more preferably 6 to 15, and particularly preferably 6 to 12. However, the number of carbon atoms does not include the number of carbon atoms in the substituent.
  • aromatic ring examples include aromatic hydrocarbon rings such as benzene, naphthalene, anthracene, and phenanthrene; and aromatic heterocycles in which a part of the carbon atoms constituting the aromatic hydrocarbon ring is substituted with a heteroatom.
  • heteroatom in the aromatic heterocycle examples include an oxygen atom, a sulfur atom, and a nitrogen atom.
  • aromatic heterocycle include a pyridine ring and a thiophene ring.
  • aromatic hydrocarbon group examples include a group (arylene group or heteroarylene group) in which two hydrogen atoms have been removed from the aromatic hydrocarbon ring or aromatic heterocycle; a group in which two hydrogen atoms have been removed from an aromatic compound containing two or more aromatic rings (e.g., biphenyl, fluorene, etc.); a group in which one hydrogen atom of a group (aryl group or heteroaryl group) in which one hydrogen atom has been removed from the aromatic hydrocarbon ring or aromatic heterocycle is substituted with an alkylene group (e.g., a group in which one hydrogen atom has been further removed from the aryl group in an arylalkyl group such as a benzyl group, a phenethyl group, a 1-naphthylmethyl group, a 2-naphthylmethyl group, a 1-naphthylethyl group, or a 2-naphthylethyl group).
  • the number of carbon
  • the aromatic hydrocarbon group may have a hydrogen atom substituted with a substituent.
  • a hydrogen atom bonded to an aromatic ring in the aromatic hydrocarbon group may be substituted with a substituent.
  • the substituent include an alkyl group, an alkoxy group, a halogen atom, a halogenated alkyl group, and a hydroxyl group.
  • the alkyl group as the substituent is preferably an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and most preferably a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an n-butyl group, or a tert-butyl group.
  • the alkoxy group, halogen atom and halogenated alkyl group as the substituent include those exemplified as the substituent substituting a hydrogen atom of the cyclic aliphatic hydrocarbon group.
  • Ra 050 is preferably an aliphatic hydrocarbon group containing a ring in its structure, more preferably a cyclic aliphatic hydrocarbon group which may contain a substituent containing a hetero atom in the ring structure, and further preferably an alicyclic hydrocarbon group which is a polycyclic group or a monocyclic group and may have a substituent.
  • La 0 is a divalent linking group.
  • a sulfonyl group (-SO 2 -) may be further linked to this combination.
  • Examples of such divalent linking groups include linking groups represented by the following general formulae (L-al-1) to (L-al-8), respectively.
  • L-al-1 to (L-al-8) it is V' 101 in the following general formulae (L-al-1) to (L-al-8) that bonds to Ra 050 in the above formula (a5-1).
  • V' 101 is a single bond or an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms
  • V' 102 is a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms.
  • the divalent saturated hydrocarbon group for V' 102 is preferably an alkylene group having 1 to 30 carbon atoms, more preferably an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, and even more preferably an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms.
  • the alkylene group in V'101 and V'102 may be a linear alkylene group or a branched alkylene group, with a linear alkylene group being preferred.
  • Specific examples of the alkylene group in V' 101 and V' 102 include a methylene group [-CH 2 -]; alkylmethylene groups such as -CH(CH 3 )-, -CH(CH 2 CH 3 )-, -C(CH 3 ) 2 -, -C(CH 3 )(CH 2 CH 3 )-, -C(CH 3 )(CH 2 CH 2 CH 3 )-, and -C(CH 2 CH 3 ) 2 -; an ethylene group [-CH 2 CH 2 -]; alkylethylene groups such as -CH(CH 3 )CH 2 -, -CH(CH 3 )CH(CH 3 )-, -C(CH 3 ) 2 CH 2 -, and -CH(CH 2 CH 3 )CH 2 -; a trim
  • some of the methylene groups in the alkylene group in V'101 or V'102 may be substituted with a divalent aliphatic cyclic group having 5 to 10 carbon atoms.
  • the aliphatic cyclic group is preferably a divalent group obtained by further removing one hydrogen atom from the cyclic aliphatic hydrocarbon group (monocyclic aliphatic hydrocarbon group, polycyclic aliphatic hydrocarbon group) of Ra'3 in formula (a1-r-1), and more preferably a cyclohexylene group, a 1,5-adamantylene group or a 2,6-adamantylene group.
  • La 0 is preferably a divalent linking group containing an ester bond or a divalent linking group containing an ether bond, more preferably a linking group represented by each of the above formulas (L-al-1) to (L-al-5) and (L-al-8), and further preferably a linking group represented by (L-al-3) or (L-al-8).
  • Ya 0 is a divalent linking group which may have a heteroatom, or a single bond.
  • the divalent linking group for Ya 0 is not particularly limited, but suitable examples include a divalent hydrocarbon group which may have a substituent, and a divalent linking group containing a hetero atom.
  • the divalent hydrocarbon group which may have a substituent and the divalent linking group containing a hetero atom for Ya 0 are the same as the divalent hydrocarbon group which may have a substituent and the divalent linking group containing a hetero atom exemplified as the divalent linking group for Ya x1 above.
  • Ya 0 is preferably a linear or branched alkylene group or a single bond, and more preferably a single bond.
  • Ra 051 and Ra 052 each independently represent a hydrogen atom, a fluorine atom or a fluorinated alkyl group.
  • the fluorinated alkyl group in Ra 051 and Ra 052 is preferably a linear or branched fluorinated alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, more preferably a trifluoromethyl group.
  • n0 is an integer from 1 to 4, preferably 1, 2 or 3.
  • M'm + represents an onium cation having a valence of m.
  • M'm + is preferably a sulfonium cation or an iodonium cation.
  • m is an integer of 1 or more.
  • Preferred examples of the cation moiety ((M'm + ) 1/m ) include the organic cations represented by the above general formulas (ca-1) to (ca-3). Among these, the cation moiety (( M'm+ ) 1/m ) is more preferably the organic cation represented by the above general formula (ca-1).
  • R ⁇ represents a hydrogen atom, a methyl group or a trifluoromethyl group
  • m and M′ m+ are the same as m and M′ m+ in the above general formula (a5-1).
  • the structural unit (a5) contained in the component (A1) may be of one type, or two or more types.
  • the proportion of the structural unit (a5) in the component (A1) is preferably 5 to 25 mol %, more preferably 10 to 20 mol %, and even more preferably 15 to 20 mol %, based on the total (100 mol %) of all structural units constituting the component (A1).
  • the proportion of the structural unit (a5) is at least as large as the lower limit of the aforementioned preferred range, sensitivity can be further improved, while when it is at most the upper limit of the aforementioned preferred range, a balance with other structural units can be easily achieved.
  • the component (A1) may have a structural unit (a2) that contains a lactone-containing cyclic group (provided that this does not correspond to the structural unit (a1)).
  • the lactone-containing cyclic group of the structural unit (a2) is effective in improving the adhesion of the resist film to the substrate when the component (A1) is used to form a resist film.
  • the structural unit (a2) has the effects of, for example, appropriately adjusting the acid diffusion length, improving the adhesion of the resist film to the substrate, and appropriately adjusting the solubility during development, thereby improving the lithography properties, etc.
  • the lactone ring is counted as the first ring, and when there is only a lactone ring, it is called a monocyclic group, and when there is further contained another ring structure, it is called a polycyclic group regardless of the structure.
  • the lactone-containing cyclic group may be a monocyclic group or a polycyclic group.
  • the lactone-containing cyclic group in the structural unit (a2) is not particularly limited and any suitable group can be used. Specific examples include the groups represented by the following general formulae (a2-r-1) to (a2-r-7).
  • R" is a hydrogen atom, an alkyl group or a lactone-containing cyclic group;
  • A" is an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms which may contain an oxygen atom (-O-) or a sulfur atom (-S-), an oxygen atom or a sulfur atom, n' is an integer of 0 to 2, and m' is 0 or 1.
  • * represents a bond (the same applies hereinafter).
  • the alkyl group in Ra'21 is preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
  • the alkyl group is preferably linear or branched. Specific examples include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a tert-butyl group, a pentyl group, an isopentyl group, a neopentyl group, and a hexyl group. Of these, a methyl group or an ethyl group is preferred, and a methyl group is particularly preferred.
  • the alkoxy group in Ra' 21 is preferably an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms.
  • the alkoxy group is preferably linear or branched. Specific examples include groups in which the alkyl groups listed above as the alkyl groups in Ra' 21 are linked to an oxygen atom (-O-).
  • the halogen atom in Ra'21 is preferably a fluorine atom.
  • the halogenated alkyl group in Ra' 21 may be a group in which some or all of the hydrogen atoms in the alkyl group in Ra' 21 have been substituted with the halogen atoms.
  • a fluorinated alkyl group is preferable, and a perfluoroalkyl group is particularly preferable.
  • R" is both a hydrogen atom, an alkyl group, or a lactone-containing cyclic group.
  • the alkyl group for R′′ may be linear, branched, or cyclic, and preferably has 1 to 15 carbon atoms.
  • R′′ is a linear or branched alkyl group, it preferably has 1 to 10 carbon atoms, more preferably 1 to 5 carbon atoms, and is particularly preferably a methyl group or an ethyl group.
  • R" is a cyclic alkyl group, it preferably has 3 to 15 carbon atoms, more preferably 4 to 12 carbon atoms, and most preferably 5 to 10 carbon atoms.
  • Specific examples include groups in which one or more hydrogen atoms have been removed from a monocycloalkane which may or may not be substituted with a fluorine atom or a fluorinated alkyl group; and groups in which one or more hydrogen atoms have been removed from a polycycloalkane such as a bicycloalkane, tricycloalkane, or tetracycloalkane.
  • More specific examples include groups in which one or more hydrogen atoms have been removed from a monocycloalkane such as cyclopentane or cyclohexane; and groups in which one or more hydrogen atoms have been removed from a polycycloalkane such as adamantane, norbornane, isobornane, tricyclodecane, or tetracyclododecane.
  • Examples of the lactone-containing cyclic group for R′′ include the same groups as those represented by the general formulae (a2-r-1) to (a2-r-7).
  • the hydroxyalkyl group in Ra' 21 preferably has 1 to 6 carbon atoms, and specific examples include the alkyl group in Ra' 21 in which at least one hydrogen atom has been substituted with a hydroxyl group.
  • Ra'21 each independently represents a hydrogen atom or a cyano group.
  • the alkylene group having 1 to 5 carbon atoms in A" is preferably a straight-chain or branched-chain alkylene group, such as a methylene group, an ethylene group, an n-propylene group or an isopropylene group.
  • the alkylene group contains an oxygen atom or a sulfur atom
  • specific examples thereof include groups in which -O- or -S- is present at the terminal or between the carbon atoms of the alkylene group, such as -O-CH 2 -, -CH 2 -O-CH 2 -, -S-CH 2 - and -CH 2 -S-CH 2 -.
  • A" is preferably an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms or -O-, more preferably an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, and most preferably a methylene group.
  • the structural unit (a2) is preferably a structural unit derived from an acrylate ester in which the hydrogen atom bonded to the carbon atom at the ⁇ -position may be substituted with a substituent.
  • the structural unit (a2) is preferably a structural unit represented by general formula (a2-1) shown below.
  • R is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or a halogenated alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.
  • Ya 21 is a single bond or a divalent linking group.
  • La 21 is -O-, -COO-, -CON(R')-, -OCO-, -CONHCO-, or -CONHCS-, and R' represents a hydrogen atom or a methyl group.
  • Ra 21 is a lactone-containing cyclic group.
  • R is preferably a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or a fluorinated alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and from the viewpoint of industrial availability, a hydrogen atom or a methyl group is particularly preferred.
  • the divalent linking group for Ya 21 is not particularly limited, but suitable examples include a divalent hydrocarbon group which may have a substituent, and a divalent linking group containing a hetero atom.
  • Ya 21 is preferably a single bond, an ester bond [--C(.dbd.O)--O--], an ether bond (--O--), a linear or branched alkylene group, or a combination thereof.
  • Ya 21 is a single bond, and La 21 is --COO-- or --OCO--.
  • Ra 21 is a lactone-containing cyclic group.
  • Suitable examples of the lactone-containing cyclic group for Ra 21 include the groups represented by the above-mentioned general formulae (a2-r-1) to (a2-r-7), respectively.
  • the structural unit (a2) contained in the component (A1) may be of one type, or two or more types.
  • the proportion of the structural unit (a2) is preferably 1 to 20 mol %, more preferably 1 to 15 mol %, and even more preferably 1 to 10 mol %, based on the total (100 mol %) of all structural units constituting the component (A1).
  • the proportion of the structural unit (a2) is at least as large as the lower limit of the aforementioned preferred range, the effects achieved by including the structural unit (a2) can be fully obtained due to the effects described above.
  • the proportion of the structural unit (a2) is at most the upper limit, a balance with other structural units can be achieved, and various lithography properties become favorable.
  • Structural unit (a8) The structural unit (a8) is a structural unit derived from a compound represented by general formula (a8-1) shown below.
  • W2 is a polymerizable group-containing group.
  • Yax2 is a single bond or a (n ax2 +1)-valent linking group.
  • Yax2 and W2 may form a condensed ring.
  • R1 is a fluorinated alkyl group having 1 to 12 carbon atoms.
  • R2 is an organic group having 1 to 12 carbon atoms which may have a fluorine atom or a hydrogen atom.
  • R2 and Yax2 may be bonded to each other to form a ring structure.
  • n ax2 is an integer of 1 to 3.
  • the "polymerizable group" in the polymerizable group-containing group of W2 is a group that enables a compound having a polymerizable group to be polymerized by radical polymerization or the like, and is, for example, a group that contains a multiple bond between carbon atoms, such as an ethylenic double bond.
  • the polymerizable group-containing group may be a group composed only of a polymerizable group, or may be a group composed of a polymerizable group and a group other than the polymerizable group.
  • the group other than the polymerizable group include a divalent hydrocarbon group which may have a substituent, and a divalent linking group containing a hetero atom.
  • R X11 , R X12 and R X13 each represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or a halogenated alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and Ya x0 represents a single bond or a divalent linking group.
  • Examples of the fused ring formed by Ya x2 and W2 include a fused ring formed by the polymerizable group at the W2 site and Ya x2 , and a fused ring formed by Ya x2 and a group other than the polymerizable group at the W2 site.
  • the fused ring formed by Ya x2 and W 2 may have a substituent.
  • R ⁇ represents a hydrogen atom, a methyl group, or a trifluoromethyl group.
  • the structural unit (a8) contained in the component (A1) may be of one type, or two or more types.
  • the proportion of the structural unit (a8) is preferably 1 to 20 mol %, more preferably 1 to 15 mol %, and even more preferably 1 to 10 mol %, based on the total (100 mol %) of all structural units constituting the component (A1).
  • the resist composition may contain one type of component (A1) alone or two or more types in combination.
  • the component (A1) used in this embodiment is a polymeric compound having a structural unit (a0), and preferably includes a polymeric compound having a repeating structure of structural units (a0), (a1), and (a10), and a polymeric compound having a repeating structure of structural units (a0), (a1), (a10), and (a5).
  • the content of the structural unit (a0) in the component (A1) is preferably 1 to 50 mol %, more preferably 1 to 40 mol %, even more preferably 2 to 20 mol %, and particularly preferably 2 to 10 mol %, based on the total amount (100 mol %) of all structural units constituting the component (A1).
  • the content of the structural unit (a1) in the component (A1) is preferably 25 to 70 mol %, more preferably 35 to 65 mol %, and even more preferably 45 to 60 mol %, based on the total (100 mol %) of all structural units constituting the component (A1).
  • the content of the structural unit (a10) in the component (A1) is preferably 40 to 95 mol %, more preferably 15 to 50 mol %, even more preferably 20 to 45 mol %, and particularly preferably 25 to 40 mol %, based on the total (100 mol %) of all structural units constituting the component (A1).
  • the content of the structural unit (a5) in the component (A1) is preferably 5 to 25 mol %, more preferably 10 to 20 mol %, and even more preferably 15 to 20 mol %, based on the total (100 mol %) of all structural units constituting the component (A1).
  • the component (A1) can be produced by dissolving monomers from which each structural unit is derived in a polymerization solvent, and then adding a radical polymerization initiator such as azobisisobutyronitrile (AIBN) or dimethyl azobisisobutyrate (e.g., V-601), and polymerizing the resulting mixture.
  • a radical polymerization initiator such as azobisisobutyronitrile (AIBN) or dimethyl azobisisobutyrate (e.g., V-601)
  • AIBN azobisisobutyronitrile
  • V-601 dimethyl azobisisobutyrate
  • the component (A1) can be produced by dissolving a monomer that derives the structural unit (a0) and a monomer that derives the structural unit (a10) in a polymerization solvent, adding the above-mentioned radical polymerization initiator to the solution, polymerizing the result, and then carrying out a deprotection reaction.
  • a chain transfer agent such as HS-CH 2 -CH 2 -CH 2 -C(CF 3 ) 2 -OH may be used in combination to introduce a -C(CF 3 ) 2 -OH group to the end.
  • a copolymer having a hydroxyalkyl group in which some of the hydrogen atoms of the alkyl group have been substituted with fluorine atoms introduced in this manner is effective in reducing development defects and LER (line edge roughness: non-uniform unevenness of the line sidewalls).
  • the weight average molecular weight (Mw) of the component (A1) (based on polystyrene equivalent by gel permeation chromatography (GPC)) is not particularly limited, but is preferably 1,000 to 40,000, more preferably 2,000 to 20,000, and even more preferably 5,000 to 15,000.
  • Mw of the component (A1) is no more than the preferred upper limit of this range, the compound has sufficient solubility in a resist solvent for use as a resist, and when it is no less than the preferred lower limit of this range, the compound has good dry etching resistance and good cross-sectional shape of the resist pattern.
  • the molecular weight dispersity (Mw/Mn) of the component (A1) is not particularly limited, but is preferably from 1.0 to 4.0, more preferably from 1.0 to 3.0, and particularly preferably from 1.0 to 2.0, where Mn represents the number average molecular weight.
  • the resist composition of this embodiment may also use, as the component (A), a base component (A2) (hereafter referred to as the component (A2)) that does not fall under the category of the component (A1) above and whose solubility in a developer changes under the action of an acid.
  • a base component (A2) hereafter referred to as the component (A2)
  • the component (A2) may be any compound selected from the many compounds conventionally known as base components for chemically amplified resist compositions.
  • the component (A2) may be a polymeric compound or a low molecular weight compound, and may be a combination of two or more of these.
  • the proportion of component (A1) in component (A) is preferably 25% by mass or more, more preferably 50% by mass or more, even more preferably 75% by mass or more, and may be 100% by mass, based on the total mass of component (A). If the proportion is 25% by mass or more, a resist pattern that is excellent in various lithography properties, such as high sensitivity, resolution, and reduced pattern roughness, is easily formed.
  • the amount of the component (A) in the resist composition of this embodiment may be adjusted depending on factors such as the thickness of the resist film to be formed.
  • the content of the component (A1) in the resist composition may be, for example, from 0.5 to 10 mass %, or from 1 to 5 mass %.
  • the resist composition of this embodiment may further contain other components in addition to the above-mentioned component (A).
  • other components include the following components (B), (D), (E), (F), and (S).
  • the resist composition of this embodiment may further contain an acid generator component (B) that generates an acid upon exposure.
  • an acid generator component (B) that generates an acid upon exposure.
  • Such acid generators include onium salt-based acid generators such as iodonium salts and sulfonium salts, oxime sulfonate-based acid generators, diazomethane-based acid generators such as bisalkyl- or bisarylsulfonyl diazomethanes and poly(bissulfonyl) diazomethanes, nitrobenzylsulfonate-based acid generators, iminosulfonate-based acid generators, and disulfone-based acid generators.
  • onium salt-based acid generators such as iodonium salts and sulfonium salts
  • oxime sulfonate-based acid generators such as bisalkyl- or bisarylsulfonyl diazomethanes and poly(bissulfonyl) diazomethanes
  • nitrobenzylsulfonate-based acid generators iminosulfonate-based acid generators
  • onium salt acid generators examples include a compound represented by the following general formula (b-1) (hereinafter also referred to as “component (b-1)”), a compound represented by general formula (b-2) (hereinafter also referred to as “component (b-2)”), or a compound represented by general formula (b-3) (hereinafter also referred to as “component (b-3)”).
  • R 101 and R 104 to R 108 are each independently a cyclic group which may have a substituent, a chain alkyl group which may have a substituent, or a chain alkenyl group which may have a substituent.
  • R 104 and R 105 may be bonded to each other to form a ring structure.
  • R 102 is a fluorinated alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or a fluorine atom.
  • Y 101 is a divalent linking group containing an oxygen atom or a single bond.
  • V 101 to V 103 are each independently a single bond, an alkylene group, or a fluorinated alkylene group.
  • L 101 to L 102 are each independently a single bond or an oxygen atom.
  • L 103 to L 105 are each independently a single bond, -CO-, or -SO 2 -.
  • m is an integer of 1 or more, and M' m+ is an m-valent onium cation
  • R 101 represents a cyclic group which may have a substituent, a chain alkyl group which may have a substituent, or a chain alkenyl group which may have a substituent.
  • the cyclic group is preferably a cyclic hydrocarbon group, and the cyclic hydrocarbon group may be an aromatic hydrocarbon group or an aliphatic hydrocarbon group.
  • An aliphatic hydrocarbon group means a hydrocarbon group that does not have aromaticity.
  • the aliphatic hydrocarbon group is preferably saturated.
  • the aromatic hydrocarbon group for R 101 is a hydrocarbon group having an aromatic ring.
  • the number of carbon atoms in the aromatic hydrocarbon group is preferably 3 to 30, more preferably 5 to 30, even more preferably 5 to 20, particularly preferably 6 to 15, and most preferably 6 to 10. However, this number of carbon atoms does not include the number of carbon atoms in the substituent.
  • Specific examples of the aromatic ring contained in the aromatic hydrocarbon group in R 101 include benzene, fluorene, naphthalene, anthracene, phenanthrene, biphenyl, and aromatic heterocycles in which a part of the carbon atoms constituting these aromatic rings are substituted with heteroatoms, etc.
  • heteroatom in the aromatic heterocycle examples include an oxygen atom, a sulfur atom, and a nitrogen atom.
  • Specific examples of the aromatic hydrocarbon group for R 101 include a group in which one hydrogen atom has been removed from the aromatic ring (aryl group: for example, a phenyl group, a naphthyl group, etc.), a group in which one hydrogen atom of the aromatic ring has been substituted with an alkylene group (for example, a benzyl group, a phenethyl group, a 1-naphthylmethyl group, etc.), etc.
  • the number of carbon atoms in the alkylene group is preferably 1 to 4, more preferably 1 to 2, and particularly preferably 1.
  • the cyclic aliphatic hydrocarbon group for R 101 includes an aliphatic hydrocarbon group containing a ring in the structure.
  • Examples of the aliphatic hydrocarbon group containing a ring in its structure include alicyclic hydrocarbon groups (groups in which one hydrogen atom has been removed from an aliphatic hydrocarbon ring), groups in which an alicyclic hydrocarbon group is bonded to the end of a straight-chain or branched-chain aliphatic hydrocarbon group, and groups in which an alicyclic hydrocarbon group is present in the middle of a straight-chain or branched-chain aliphatic hydrocarbon group.
  • the alicyclic hydrocarbon group preferably has 3 to 20 carbon atoms, and more preferably has 3 to 12 carbon atoms.
  • the alicyclic hydrocarbon group may be a polycyclic group or a monocyclic group.
  • the monocyclic alicyclic hydrocarbon group is preferably a group obtained by removing one or more hydrogen atoms from a monocycloalkane.
  • the monocycloalkane preferably has 3 to 6 carbon atoms, and specific examples thereof include cyclopentane and cyclohexane.
  • the polycyclic alicyclic hydrocarbon group is preferably a group obtained by removing one or more hydrogen atoms from a polycycloalkane, and the polycycloalkane preferably has 7 to 30 carbon atoms.
  • the polycycloalkane is more preferably a polycycloalkane having a polycyclic skeleton of a bridged ring system such as adamantane, norbornane, isobornane, tricyclodecane, or tetracyclododecane; or a polycycloalkane having a polycyclic skeleton of a condensed ring system such as a cyclic group having a steroid skeleton.
  • the cyclic aliphatic hydrocarbon group for R 101 is preferably a group in which one or more hydrogen atoms have been removed from a monocycloalkane or polycycloalkane, more preferably a group in which one hydrogen atom has been removed from a polycycloalkane, further preferably an adamantyl group or a norbornyl group, and particularly preferably an adamantyl group.
  • the linear aliphatic hydrocarbon group which may be bonded to the alicyclic hydrocarbon group preferably has 1 to 10 carbon atoms, more preferably 1 to 6, even more preferably 1 to 4, and most preferably 1 to 3.
  • linear alkylene groups are preferred, and specific examples thereof include a methylene group [-CH 2 -], an ethylene group [-(CH 2 ) 2 -], a trimethylene group [-(CH 2 ) 3 -], a tetramethylene group [-(CH 2 ) 4 -], a pentamethylene group [-(CH 2 ) 5 -], and the like.
  • the branched aliphatic hydrocarbon group which may be bonded to the alicyclic hydrocarbon group preferably has 2 to 10 carbon atoms, more preferably 3 to 6 carbon atoms, even more preferably 3 or 4 carbon atoms, and most preferably 3 carbon atoms.
  • a branched alkylene group is preferable, and specific examples thereof include alkylmethylene groups such as -CH( CH3 )-, -CH( CH2CH3 )-, -C( CH3 ) 2- , -C(CH3)(CH2CH3)-, -C(CH3)(CH2CH2CH3)-, and -C(CH2CH3 ) 2- ; alkylethylene groups such as -CH ( CH3 ) CH2- , -CH ( CH3 ) CH( CH3 )-, -C( CH3 ) 2CH2- , -CH ( CH2CH3 ) CH2- , and -C( CH2CH3 ) 2 - CH2- ; and alkyl alkylene groups such as alkyl trimethylene groups such as -CH (CH 3 )CH 2 CH 2 CH 2 -, -CH 2 CH(CH 3 )CH 2 CH 2 -, etc.
  • the cyclic hydrocarbon group in R 101 may contain a heteroatom, such as a heterocycle.
  • a heteroatom such as a heterocycle.
  • Specific examples include the lactone-containing cyclic groups represented by the above general formulae (a2-r-1) to (a2-r-7), the -SO 2 -containing cyclic groups represented by the following general formulae (b5-r-1) to (b5-r-4), and the heterocyclic groups represented by the above chemical formulae (r-hr-1) to (r-hr-16).
  • * represents a bond bonded to Y 101 in formula (b-1).
  • R is a hydrogen atom, an alkyl group, a lactone-containing cyclic group or an -SO 2 - containing cyclic group;
  • B" is an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms which may contain an oxygen atom or a sulfur atom, an oxygen atom or a sulfur atom, and n' is an integer of 0 to 2. * represents a bond.
  • Rb' 51 , B", and n' in the general formulae (b5-r-1) to (b5-r-4) are the same as Ra' 21 , A", and n' in the general formulae (a2-r-1) to (a2-r-7), respectively.
  • Examples of the substituent in the cyclic group of R 101 include an alkyl group, an alkoxy group, a halogen atom, a halogenated alkyl group, a hydroxyl group, a carbonyl group, and a nitro group.
  • the alkyl group as the substituent is preferably an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.
  • the alkoxy group as a substituent is preferably an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, more preferably a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, an iso-propoxy group, an n-butoxy group, or a tert-butoxy group, and most preferably a methoxy group or an ethoxy group.
  • halogen atom as a substituent, a fluorine atom, a bromine atom or an iodine atom is preferred.
  • halogenated alkyl group as a substituent include alkyl groups having 1 to 5 carbon atoms, such as methyl, ethyl, propyl, n-butyl, and tert-butyl groups, in which some or all of the hydrogen atoms have been substituted with the above-mentioned halogen atoms.
  • the carbonyl group as a substituent is a group that substitutes a methylene group (-CH 2 -) that constitutes a cyclic hydrocarbon group.
  • the cyclic hydrocarbon group in R 101 may be a fused ring group containing a fused ring in which an aliphatic hydrocarbon ring and an aromatic ring are fused.
  • the fused ring include a polycycloalkane having a polycyclic skeleton of a bridged ring system to which one or more aromatic rings are fused.
  • Specific examples of the bridged ring polycycloalkane include bicycloalkanes such as bicyclo[2.2.1]heptane (norbornane) and bicyclo[2.2.2]octane.
  • the fused ring group is preferably a group containing a fused ring in which two or three aromatic rings are fused to a bicycloalkane, and more preferably a group containing a fused ring in which two or three aromatic rings are fused to a bicyclo[2.2.2]octane.
  • Specific examples of the fused ring group in R 101 include those represented by the following formulae (r-br-1) to (r-br-2). In the formulae, * represents a bond bonded to Y 101 in formula (b-1).
  • Examples of the substituent that the fused cyclic group for R 101 may have include an alkyl group, an alkoxy group, a halogen atom, a halogenated alkyl group, a hydroxyl group, a carbonyl group, a nitro group, an aromatic hydrocarbon group, and an alicyclic hydrocarbon group.
  • Examples of the alkyl group, alkoxy group, halogen atom and halogenated alkyl group as the substituent of the condensed cyclic group include the same as those exemplified as the substituent of the cyclic group in R 101 above.
  • aromatic hydrocarbon group as the substituent of the fused ring group
  • aryl group for example, a phenyl group, a naphthyl group, etc.
  • an alkylene group for example, an arylalkyl group such as a benzyl group, a phenethyl group, a 1-naphthylmethyl group, a 2-naphthylmethyl group, a 1-naphthylethyl group, a 2-naphthylethyl group, etc.
  • heterocyclic groups represented by the above chemical formulas (r-hr-1) to (r-hr-6), respectively.
  • Examples of the alicyclic hydrocarbon group as a substituent of the fused cyclic group include groups in which one hydrogen atom has been removed from a monocycloalkane, such as cyclopentane or cyclohexane; groups in which one hydrogen atom has been removed from a polycycloalkane, such as adamantane, norbornane, isobornane, tricyclodecane or tetracyclododecane; lactone-containing cyclic groups represented by each of the general formulae (a2-r-1) to (a2-r-7); —SO 2 -containing cyclic groups represented by each of the general formulae (b5-r-1) to (b5-r-4); and heterocyclic groups represented by each of the formulae (r-hr-7) to (r-hr-16).
  • a monocycloalkane such as cyclopentane or cyclohexane
  • a chain alkyl group which may have a substituent may be either linear or branched.
  • the linear alkyl group preferably has 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 15 carbon atoms, and most preferably 1 to 10 carbon atoms.
  • the branched alkyl group preferably has 3 to 20 carbon atoms, more preferably 3 to 15 carbon atoms, and most preferably 3 to 10 carbon atoms.
  • Specific examples include a 1-methylethyl group, a 1-methylpropyl group, a 2-methylpropyl group, a 1-methylbutyl group, a 2-methylbutyl group, a 3-methylbutyl group, a 1-ethylbutyl group, a 2-ethylbutyl group, a 1-methylpentyl group, a 2-methylpentyl group, a 3-methylpentyl group, and a 4-methylpentyl group.
  • a chain alkenyl group which may have a substituent may be either linear or branched, and preferably has 2 to 10 carbon atoms, more preferably 2 to 5, even more preferably 2 to 4, and particularly preferably 3.
  • Examples of linear alkenyl groups include vinyl groups, propenyl groups (allyl groups), and butenyl groups.
  • Examples of branched alkenyl groups include 1-methylvinyl groups, 2-methylvinyl groups, 1-methylpropenyl groups, and 2-methylpropenyl groups. Of the above chain alkenyl groups, linear alkenyl groups are preferred, vinyl groups and propenyl groups are more preferred, and vinyl groups are particularly preferred.
  • Examples of the substituent in the chain alkyl or alkenyl group of R 101 include an alkoxy group, a halogen atom, a halogenated alkyl group, a hydroxyl group, a carbonyl group, a nitro group, an amino group, and the cyclic groups in R 101 above.
  • R 101 is preferably a cyclic group which may have a substituent, and more preferably a cyclic hydrocarbon group which may have a substituent.
  • the cyclic hydrocarbon group is preferably a phenyl group, a naphthyl group, a group in which one or more hydrogen atoms have been removed from a polycycloalkane; a lactone-containing cyclic group represented by each of the general formulas (a2-r-1) to (a2-r-7); or an —SO 2 —-containing cyclic group represented by each of the general formulas (b5-r-1) to (b5-r-4), more preferably a group in which one or more hydrogen atoms have been removed from a polycycloalkane, and even more preferably an adamantyl group.
  • Y 101 is a single bond or a divalent linking group containing an oxygen atom.
  • Y 101 may contain an atom other than an oxygen atom.
  • the atom other than an oxygen atom include a carbon atom, a hydrogen atom, a sulfur atom, and a nitrogen atom.
  • the divalent linking group containing an oxygen atom include the linking groups represented by the above general formulae (y-al-1) to (y-al-8).
  • the group that is bonded to R 101 in the above formula (b-1) is V' 101 in the general formulae (y-al-1) to (y-al-8).
  • Y 101 is preferably a divalent linking group containing an ester bond or a divalent linking group containing an ether bond, and more preferably a linking group represented by each of the above formulas (y-al-1) to (y-al-6).
  • V 101 is a single bond, an alkylene group, or a fluorinated alkylene group.
  • the alkylene group or fluorinated alkylene group in V 101 preferably has 1 to 4 carbon atoms.
  • V 101 is preferably a single bond or a linear alkylene group having 1 to 4 carbon atoms.
  • Y 101 and V 101 in formula (b-1) are not simultaneously single bonds.
  • R 102 is a fluorine atom or a fluorinated alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.
  • R 102 is preferably a fluorine atom or a perfluoroalkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and more preferably a fluorine atom.
  • anion moiety represented by formula (b-1) include, for example, when Y 101 is a single bond, fluorinated alkylsulfonate anions such as trifluoromethanesulfonate anion and perfluorobutanesulfonate anion; and, when Y 101 is a divalent linking group containing an oxygen atom, anions represented by any of the following formulas (an-1) to (an-3) are included.
  • R" 101 is an aliphatic cyclic group which may have a substituent, a monovalent heterocyclic group represented by each of the above chemical formulas (r-hr-1) to (r-hr-6), a fused cyclic group represented by the above formula (r-br-1) or (r-br-2), a chain-like alkyl group which may have a substituent, or an aromatic cyclic group which may have a substituent.
  • R" 102 is an aliphatic cyclic group which may have a substituent, a fused cyclic group represented by the above formula (r-br-1) or (r-br-2), a lactone-containing cyclic group represented by each of the above general formulas (a2-r-1), (a2-r-3) to (a2-r-7), or an -SO 2 - containing cyclic group represented by each of the above general formulas (b5-r-1) to (b5-r-4).
  • R" 103 is an aromatic cyclic group which may have a substituent, an aliphatic cyclic group which may have a substituent, or a chain-like alkenyl group which may have a substituent.
  • V" 101 is a single bond, an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, or a fluorinated alkylene group having 1 to 4 carbon atoms.
  • R 102 is a fluorine atom or a fluorinated alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.
  • Each v" is independently an integer of 0 to 3
  • each q" is independently an integer of 0 to 20, and n" is 0 or 1.
  • the aliphatic cyclic groups which may have a substituent of R" 101 , R" 102 and R" 103 are preferably the groups exemplified as the cyclic aliphatic hydrocarbon group in R 101 in formula (b-1) above.
  • substituents include the same as the substituents which may substitute the cyclic aliphatic hydrocarbon group in R 101 in formula (b-1) above.
  • the aromatic cyclic group which may have a substituent in R" 101 and R" 103 is preferably a group exemplified as the aromatic hydrocarbon group in the cyclic hydrocarbon group in R101 in the above formula (b-1).
  • substituents include the same as the substituent which may substitute the aromatic hydrocarbon group in R101 in the above formula (b-1).
  • the chain alkyl group which may have a substituent in R′′ 101 is preferably a group exemplified as the chain alkyl group in R 101 in the above formula (b-1).
  • the chain alkenyl group which may have a substituent in R′′ 103 is preferably a group exemplified as the chain alkenyl group in R 101 in the above formula (b-1).
  • the alkylene group and fluorinated alkylene group in V" 101 preferably have 1 to 3 carbon atoms, and more preferably have 1 or 2 carbon atoms.
  • Specific examples of V" 101 include -CH2- , -( CH2 ) 2- , -CFH-, -CH2CFH- , -CH( CF3 )-, and the like.
  • the anion moiety represented by formula (b-1) is preferably an anion moiety represented by formula (an-1).
  • the anion moiety represented by formula (an-1) is preferably an aromatic cyclic group which may have a substituent, and more preferably an optionally substituted phenyl group.
  • the substituent include a hydroxy group, an alkyl group, or a halogen atom.
  • the halogen atom is preferably a bromine atom or an iodine atom, and more preferably an iodine atom.
  • R 104 and R 105 each independently represent a cyclic group which may have a substituent, a chain-like alkyl group which may have a substituent, or a chain-like alkenyl group which may have a substituent, and examples of these include the same as R 101 in formula (b-1). However, R 104 and R 105 may be bonded to each other to form a ring. R 104 and R 105 are preferably a chain alkyl group which may have a substituent, and more preferably a linear or branched alkyl group, or a linear or branched fluorinated alkyl group.
  • the number of carbon atoms in the chain-like alkyl group is preferably 1 to 10, more preferably 1 to 7, and even more preferably 1 to 3.
  • the number of carbon atoms in the chain-like alkyl group of R 104 and R 105 is preferably as small as possible within the above range of the number of carbon atoms, for reasons such as good solubility in a resist solvent.
  • the more hydrogen atoms substituted with fluorine atoms the stronger the acid strength becomes, and the more the transparency to high-energy light and electron beams of 250 nm or less is improved, which is preferable.
  • the ratio of fluorine atoms in the chain-like alkyl group i.e., the fluorination rate, is preferably 70 to 100%, more preferably 90 to 100%, and most preferably a perfluoroalkyl group in which all hydrogen atoms are substituted with fluorine atoms.
  • V 102 and V 103 each independently represent a single bond, an alkylene group, or a fluorinated alkylene group, and examples of V 101 in formula (b-1) include the same as those described above.
  • L 101 and L 102 each independently represent a single bond or an oxygen atom.
  • R to R each independently represent a cyclic group which may have a substituent, a chain-like alkyl group which may have a substituent, or a chain-like alkenyl group which may have a substituent, and examples of these include the same as R 101 in formula (b-1).
  • L 103 to L 105 each independently represent a single bond, —CO— or —SO 2 —.
  • M'm+ represents an m-valent onium cation, of which sulfonium cation and iodonium cation are preferred.
  • m is an integer of 1 or more.
  • Preferred cationic moieties include the onium cations represented by the above general formulae (ca-1) to (ca-3).
  • the cationic moiety the cation represented by the above general formula (ca-1) is more preferred, and the cations represented by the above formulae (ca-1-1) to (ca-1-75) are even more preferred.
  • the component (B) may be used as a single type, or as a combination of two or more types. Since the component (A1) has the structural unit (a0), the resist composition of this embodiment does not necessarily need to contain the component (B). Of the above, component (b-1) is preferred as component (B).
  • the amount of the component (B) in the resist composition is preferably 0 to 30 parts by mass, more preferably 0 to 20 parts by mass, and even more preferably 0 to 10 parts by mass, per 100 parts by mass of the component (A1). It is preferable that the content of the component (B) falls within this preferred range because when the respective components of the resist composition are dissolved in an organic solvent, a homogeneous solution is easily obtained and the storage stability of the resist composition is improved.
  • the resist composition of this embodiment preferably further contains, in addition to the component (A), a base component (hereinafter also referred to as “component (D)”) that traps acid generated upon exposure (i.e., controls the diffusion of acid).
  • component (D) acts as a quencher (acid diffusion controller) that traps acid generated in the resist composition upon exposure.
  • Examples of the (D) component include a photodegradable base (D1) (hereinafter referred to as “component (D1)”) that decomposes upon exposure and loses its acid diffusion controllability, and a nitrogen-containing organic compound (D2) (hereinafter referred to as “component (D2)”) that does not fall under the category of component (D1).
  • the photodegradable base (component (D1)) is preferred because it is likely to improve the uniformity of the pattern dimensions and the roughness reduction. In addition, by including component (D1), it is likely to improve both the characteristics of high sensitivity and the suppression of the occurrence of coating defects.
  • the compound exemplified as component (D1) described later may be used as the above-mentioned acid generator component (component (B)) depending on the combination with other compounds.
  • the component (D1) is not particularly limited as long as it decomposes upon exposure to light and loses its acid diffusion controllability, and is preferably one or more compounds selected from the group consisting of a compound represented by the following general formula (d1-1) (hereinafter referred to as "component (d1-1)”), a compound represented by the following general formula (d1-2) (hereinafter referred to as “component (d1-2)”), and a compound represented by the following general formula (d1-3) (hereinafter referred to as "component (d1-3)”):
  • component (d1-1) to (d1-3) do not act as quenchers in the exposed areas of the resist film because they decompose and lose their acid diffusion control ability (basicity), but act as quenchers in the unexposed areas of the resist film.
  • Rd 1 to Rd 4 are a cyclic group which may have a substituent, a chain alkyl group which may have a substituent, or a chain alkenyl group which may have a substituent.
  • Rd 2 in formula (d1-2) a fluorine atom is not bonded to the carbon atom adjacent to the S atom.
  • Yd 1 is a single bond or a divalent linking group.
  • m is an integer of 1 or more, and each M m+ is independently an m-valent onium cation.
  • Rd 1 represents a cyclic group which may have a substituent, a chain alkyl group which may have a substituent, or a chain alkenyl group which may have a substituent, and examples of these groups include the same as those for R' 201 described above.
  • Rd 1 is preferably an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent, an aliphatic cyclic group which may have a substituent, or a chain-like alkyl group which may have a substituent.
  • substituents which these groups may have include a hydroxyl group, an oxo group, an alkyl group, an aryl group, a fluorine atom, a fluorinated alkyl group, a lactone-containing cyclic group represented by each of the above general formulas (a2-r-1) to (a2-r-7), an ether bond, an ester bond, or a combination thereof.
  • an ether bond or an ester bond is contained as a substituent, it may be via an alkylene group, and in this case, the substituent is preferably a linking group represented by each of the above formulas (y-al-1) to (y-al-6).
  • Suitable examples of the aromatic hydrocarbon group include a phenyl group, a naphthyl group, and a polycyclic structure containing a bicyclooctane skeleton (a polycyclic structure consisting of a bicyclooctane skeleton and another ring structure).
  • the aliphatic cyclic group is more preferably a group in which one or more hydrogen atoms have been removed from a polycycloalkane such as adamantane, norbornane, isobornane, tricyclodecane, or tetracyclododecane.
  • the chain alkyl group preferably has 1 to 10 carbon atoms.
  • chain alkyl group examples include linear alkyl groups such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, an octyl group, a nonyl group, and a decyl group; and branched alkyl groups such as a 1-methylethyl group, a 1-methylpropyl group, a 2-methylpropyl group, a 1-methylbutyl group, a 2-methylbutyl group, a 3-methylbutyl group, a 1-ethylbutyl group, a 2-ethylbutyl group, a 1-methylpentyl group, a 2-methylpentyl group, a 3-methylpentyl group, and a 4-methylpentyl group.
  • linear alkyl groups such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group,
  • the chain-like alkyl group is a fluorinated alkyl group having a fluorine atom or a fluorinated alkyl group as a substituent
  • the number of carbon atoms in the fluorinated alkyl group is preferably 1 to 11, more preferably 1 to 8, and even more preferably 1 to 4.
  • the fluorinated alkyl group may contain atoms other than fluorine atoms. Examples of atoms other than fluorine atoms include oxygen atoms, sulfur atoms, and nitrogen atoms.
  • M m+ represents an onium cation having a valence of m.
  • Suitable examples of the onium cation of M m+ include the same cations as those represented by the general formulas (ca-1) to (ca-3), respectively.
  • the cation represented by the general formula (ca-1) is more preferable, and the cations represented by the general formulas (ca-1-1) to (ca-1-75), respectively, are even more preferable.
  • the component (d1-1) may be used alone or in combination of two or more.
  • Rd2 represents a cyclic group which may have a substituent, a chain alkyl group which may have a substituent, or a chain alkenyl group which may have a substituent
  • examples of R'201 include the same as those described above for R'201 .
  • the carbon atom adjacent to the S atom does not have a fluorine atom bonded thereto (is not substituted with fluorine), whereby the anion of the component (d1-2) becomes an appropriately weak acid anion, and the quenching ability of the component (D) is improved.
  • Rd2 is preferably a chain alkyl group which may have a substituent or an aliphatic cyclic group which may have a substituent, and more preferably an aliphatic cyclic group which may have a substituent.
  • the chain alkyl group preferably has 1 to 10 carbon atoms, and more preferably has 3 to 10 carbon atoms.
  • the aliphatic cyclic group is preferably a group (which may have a substituent) in which one or more hydrogen atoms have been removed from adamantane, norbornane, isobornane, tricyclodecane, tetracyclododecane, or the like; or a group in which one or more hydrogen atoms have been removed from camphor.
  • the hydrocarbon group of Rd2 may have a substituent, and examples of the substituent include the same as the substituents that may be possessed by the hydrocarbon group (aromatic hydrocarbon group, aliphatic cyclic group, chain alkyl group) in Rd1 of the above formula (d1-1).
  • M m+ represents an onium cation having a valence of m and is the same as M m+ in formula (d1-1).
  • the component (d1-2) may be used alone or in combination of two or more.
  • Rd 3 is a cyclic group which may have a substituent, a chain alkyl group which may have a substituent, or a chain alkenyl group which may have a substituent, and examples thereof include the same as those of R' 201 , and is preferably a cyclic group, chain alkyl group, or chain alkenyl group containing a fluorine atom.
  • a fluorinated alkyl group is preferable, and the same as the fluorinated alkyl group of Rd 1 is more preferable.
  • Rd4 represents a cyclic group which may have a substituent, a chain alkyl group which may have a substituent, or a chain alkenyl group which may have a substituent
  • examples of R'201 include the same as those described above.
  • an alkyl group, an alkoxy group, an alkenyl group, or a cyclic group, which may have a substituent is preferable.
  • the alkyl group in Rd 4 is preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and specific examples thereof include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a tert-butyl group, a pentyl group, an isopentyl group, a neopentyl group, etc.
  • a portion of the hydrogen atoms of the alkyl group in Rd 4 may be substituted with a hydroxyl group, a cyano group, etc.
  • the alkoxy group in Rd 4 is preferably an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, and specific examples of the alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms include a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, an iso-propoxy group, an n-butoxy group, and a tert-butoxy group. Of these, a methoxy group and an ethoxy group are preferred.
  • the alkenyl group in Rd4 may be the same as the alkenyl group in R'201 , and preferably a vinyl group, a propenyl group (allyl group), a 1-methylpropenyl group, or a 2-methylpropenyl group. These groups may further have an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or a halogenated alkyl group having 1 to 5 carbon atoms as a substituent.
  • the cyclic group in Rd 4 may be the same as the cyclic group in R' 201 , and is preferably an alicyclic group in which one or more hydrogen atoms have been removed from a cycloalkane such as cyclopentane, cyclohexane, adamantane, norbornane, isobornane, tricyclodecane, or tetracyclododecane, or an aromatic group such as a phenyl group or naphthyl group.
  • a cycloalkane such as cyclopentane, cyclohexane, adamantane, norbornane, isobornane, tricyclodecane, or tetracyclododecane
  • an aromatic group such as a phenyl group or naphthyl group.
  • Rd 4 is an alicyclic group
  • the resist composition dissolves well in an organic solvent, resulting in good lithography properties.
  • Yd1 represents a single bond or a divalent linking group.
  • the divalent linking group for Yd 1 is not particularly limited, and examples thereof include a divalent hydrocarbon group which may have a substituent (an aliphatic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group), a divalent linking group containing a hetero atom, etc. These include the same as the divalent hydrocarbon group which may have a substituent and the divalent linking group containing a hetero atom mentioned in the description of the divalent linking group for Ya x1 in the above formula (a10-1).
  • Yd1 is preferably a carbonyl group, an ester bond, an amide bond, an alkylene group, or a combination thereof.
  • the alkylene group is more preferably a linear or branched alkylene group, and further preferably a methylene group or an ethylene group.
  • M m+ represents an onium cation having a valence of m and is the same as M m+ in formula (d1-1).
  • the component (d1-3) may be used alone or in combination of two or more.
  • the component (D1) may be any one of the above components (d1-1) to (d1-3), or a combination of two or more of them.
  • the component (D1) preferably includes the component (d1-1) above.
  • the amount of the component (D1) in the resist composition is preferably 0.5 to 15 parts by mass, more preferably 1 to 10 parts by mass, and even more preferably 2 to 9 parts by mass, relative to 100 parts by mass of the component (A1).
  • the amount of the component (D1) is at least as large as the preferred lower limit, particularly good lithography properties and resist pattern shape are likely to be obtained, while when the amount is no more than the upper limit, good sensitivity can be maintained and excellent throughput is also achieved.
  • component (d1-1) in the entire component (D) contained in the resist composition of this embodiment is preferably 50% by mass or more, more preferably 70% by mass or more, and even more preferably 90% by mass or more, and component (D) may consist only of compound component (d1-1).
  • Production method of component (D1) The method for producing the components (d1-1) and (d1-2) is not particularly limited, and they can be produced by known methods.
  • the method for producing the component (d1-3) is not particularly limited, and it can be produced, for example, in the same manner as the method described in US 2012-0149916.
  • the component (D) may contain a nitrogen-containing organic compound component (hereinafter referred to as “component (D2)”) that does not fall under the category of the above-mentioned component (D1).
  • component (D2) is not particularly limited as long as it acts as an acid diffusion controller and does not fall under the category of component (D1), and any known component may be used.
  • aliphatic amines are preferred, and among these, secondary aliphatic amines and tertiary aliphatic amines are more preferred.
  • Aliphatic amines are amines that have one or more aliphatic groups, preferably having 1 to 12 carbon atoms.
  • aliphatic amines include amines in which at least one of the hydrogen atoms of ammonia NH3 is substituted with an alkyl group or hydroxyalkyl group having 12 or less carbon atoms (alkylamines or alkyl alcohol amines), or cyclic amines.
  • alkylamines and alkyl alcohol amines include monoalkylamines such as n-hexylamine, n-heptylamine, n-octylamine, n-nonylamine, and n-decylamine; dialkylamines such as diethylamine, di-n-propylamine, di-n-heptylamine, di-n-octylamine, and dicyclohexylamine; trialkylamines such as trimethylamine, triethylamine, tri-n-propylamine, tri-n-butylamine, tri-n-pentylamine, tri-n-hexylamine, tri-n-heptylamine, tri-n-octylamine, tri-n-nonylamine, tri-n-decylamine, and tri-n-dodecylamine; and alkyl alcohol amines such as diethanolamine, triethanolamine, diis
  • cyclic amines include heterocyclic compounds containing a nitrogen atom as a heteroatom.
  • the heterocyclic compounds may be monocyclic (aliphatic monocyclic amines) or polycyclic (aliphatic polycyclic amines). Specific examples of the aliphatic monocyclic amine include piperidine and piperazine.
  • the aliphatic polycyclic amine is preferably one having 6 to 10 carbon atoms, and specific examples thereof include 1,5-diazabicyclo[4.3.0]-5-nonene, 1,8-diazabicyclo[5.4.0]-7-undecene, hexamethylenetetramine, and 1,4-diazabicyclo[2.2.2]octane.
  • aliphatic amines include tris(2-methoxymethoxyethyl)amine, tris ⁇ 2-(2-methoxyethoxy)ethyl ⁇ amine, tris ⁇ 2-(2-methoxyethoxymethoxy)ethyl ⁇ amine, tris ⁇ 2-(1-methoxyethoxy)ethyl ⁇ amine, tris ⁇ 2-(1-ethoxyethoxy)ethyl ⁇ amine, tris ⁇ 2-(1-ethoxypropoxy)ethyl ⁇ amine, tris[2- ⁇ 2-(2-hydroxyethoxy)ethoxy ⁇ ethyl]amine, triethanolamine triacetate, etc., with triethanolamine triacetate being preferred.
  • aromatic amine may be used as the component (D2).
  • aromatic amines include 4-dimethylaminopyridine, pyrrole, indole, pyrazole, imidazole or derivatives thereof, tribenzylamine, 2,6-diisopropylaniline, N-tert-butoxycarbonylpyrrolidine, 2,6-di-tert-butylpyridine, and 2,6-di-tert-butylpyridine.
  • component (D2) is preferably an alkylamine, more preferably a trialkylamine having 6 to 30 carbon atoms.
  • the component (D2) may be used alone or in combination of two or more types.
  • the amount of the component (D2) in the resist composition is preferably 0.01 to 5 parts by mass, more preferably 0.1 to 5 parts by mass, and even more preferably 0.5 to 5 parts by mass, relative to 100 parts by mass of the component (A1).
  • the amount of the component (D2) is at least as large as the preferred lower limit, particularly good lithography properties and resist pattern shape are likely to be obtained, while when the amount is no more than the upper limit, good sensitivity can be maintained and excellent throughput is also achieved.
  • the resist composition of this embodiment may contain, as an optional component, at least one compound (E) selected from the group consisting of organic carboxylic acids, and phosphorus oxoacids and derivatives thereof (hereafter referred to as "component (E)").
  • component (E) phosphorus oxoacids and derivatives thereof
  • the organic carboxylic acid include acetic acid, malonic acid, citric acid, malic acid, succinic acid, benzoic acid, and salicylic acid, and among these, salicylic acid is preferred.
  • phosphorus oxoacids include phosphoric acid, phosphonic acid, and phosphinic acid, with phosphonic acid being particularly preferred.
  • the component (E) may use either a single type, or a combination of two or more types.
  • the amount of the component (E) per 100 parts by mass of the component (A1) is preferably 0.01 to 5 parts by mass, and more preferably 0.05 to 3 parts by mass.
  • the resist composition of this embodiment may contain a fluorine additive component (hereafter referred to as "component (F)") as a hydrophobic resin.
  • component (F) is used to impart water repellency to the resist film, and when used as a resin separate from the component (A1), it is possible to improve lithography properties.
  • component (F) for example, the fluorine-containing polymeric compounds described in JP-A-2010-002870, JP-A-2010-032994, JP-A-2010-277043, JP-A-2011-13569, and JP-A-2011-128226 can be used.
  • the component (F) may be a polymer having a structural unit (f1) represented by the following general formula (f1-1).
  • the polymer is preferably a polymer (homopolymer) consisting only of the structural unit (f1) represented by the following formula (f1-1); a copolymer of the structural unit (f1) and the structural unit (a1); or a copolymer of the structural unit (f1), a structural unit derived from acrylic acid or methacrylic acid, and the structural unit (a1), and more preferably a copolymer of the structural unit (f1) and the structural unit (a1).
  • the structural unit (a1) copolymerized with the structural unit (f1) is preferably a structural unit derived from 1-ethyl-1-cyclooctyl (meth)acrylate or a structural unit derived from 1-methyl-1-adamantyl (meth)acrylate, and more preferably a structural unit derived from 1-ethyl-1-cyclooctyl (meth)acrylate.
  • R is the same as above, Rf 102 and Rf 103 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or a halogenated alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and Rf 102 and Rf 103 may be the same or different.
  • nf 1 is an integer of 0 to 5
  • Rf 101 is an organic group containing a fluorine atom.
  • R bonded to the carbon atom at the ⁇ -position is the same as defined above.
  • R is preferably a hydrogen atom or a methyl group.
  • the halogen atom of Rf 102 and Rf 103 is preferably a fluorine atom.
  • the alkyl group having 1 to 5 carbon atoms of Rf 102 and Rf 103 may be the same as the alkyl group having 1 to 5 carbon atoms of R, and a methyl group or an ethyl group is preferable.
  • halogenated alkyl group having 1 to 5 carbon atoms of Rf 102 and Rf 103 include groups in which part or all of the hydrogen atoms of an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms are substituted with halogen atoms.
  • the halogen atom is preferably a fluorine atom.
  • Rf 102 and Rf 103 are preferably a hydrogen atom, a fluorine atom, or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom, a fluorine atom, a methyl group, or an ethyl group, and even more preferably a hydrogen atom.
  • nf 1 represents an integer of 0 to 5, preferably an integer of 0 to 3, and more preferably 1 or 2.
  • Rf 101 is an organic group containing a fluorine atom, and is preferably a hydrocarbon group containing a fluorine atom.
  • the fluorine atom-containing hydrocarbon group may be linear, branched, or cyclic and preferably has 1 to 20 carbon atoms, more preferably has 1 to 15 carbon atoms, and particularly preferably has 1 to 10 carbon atoms.
  • preferably 25% or more of the hydrogen atoms in the hydrocarbon group are fluorinated, more preferably 50% or more, and particularly preferably 60% or more are fluorinated, as this enhances the hydrophobicity of the resist film during immersion exposure.
  • Rf 101 is more preferably a fluorinated hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, with a trifluoromethyl group, -CH 2 -CF 3 , -CH 2 -CF 2 -CF 3 , -CH(CF 3 ) 2 , -CH 2 -CH 2 -CF 3 , and -CH 2 -CH 2 -CF 2 -CF 2 -CF 3 being particularly preferred.
  • the weight average molecular weight (Mw) of component (F) (based on polystyrene equivalent measured by gel permeation chromatography) is preferably from 1,000 to 50,000, more preferably from 5,000 to 40,000, and most preferably from 10,000 to 30,000. When it is below the upper limit of this range, the compound has sufficient solubility in a resist solvent for use as a resist, and when it is above the lower limit of this range, the resist film has good water repellency.
  • the molecular weight dispersity (Mw/Mn) of the component (F) is preferably from 1.0 to 5.0, more preferably from 1.0 to 3.0, and most preferably from 1.0 to 2.5.
  • the component (F) may use either a single type, or a combination of two or more types.
  • the amount of the component (F) per 100 parts by mass of the component (A1) is preferably 0.5 to 10 parts by mass, and more preferably 1 to 10 parts by mass.
  • the resist composition of this embodiment can be produced by dissolving the resist materials in an organic solvent component (hereafter referred to as “component (S)”).
  • component (S) may be used alone or as a mixed solvent of two or more different types.
  • PGMEA, PGME, ⁇ -butyrolactone, EL, and cyclohexanone are preferred.
  • a mixed solvent of PGMEA and a polar solvent is also preferred.
  • the blending ratio (mass ratio) may be appropriately determined taking into consideration the compatibility between PGMEA and the polar solvent, etc.
  • a mixed solvent of at least one selected from PGMEA and EL and ⁇ -butyrolactone is also preferred.
  • the mixing ratio of the former to the latter is preferably 70:30 to 95:5 by mass.
  • the amount of the component (S) used is used so that the solids concentration of the resist composition falls within the range of 0.1 to 20 mass %, preferably 0.2 to 15 mass %, and more preferably 0.5 to 5 mass %.
  • impurities and the like may be removed using a polyimide porous film, a polyamideimide porous film, or the like.
  • the resist composition may be filtered using a filter made of a polyimide porous film, a filter made of a polyamideimide porous film, or a filter made of a polyimide porous film and a polyamideimide porous film.
  • the polyimide porous film and the polyamideimide porous film include those described in JP 2016-155121 A.
  • the resist composition of this embodiment described above uses a polymeric compound having monomer units composed of a polymerizable group-containing group, an anion containing an iodine atom and a carboxylate group, and an onium cation as a base resin, which is a substrate component.
  • the polymer compound, which is the base resin contains iodine atoms, so that the light absorption against exposure is enhanced.
  • the anion portion containing a carboxylate group is introduced as a repeating unit into the base resin, so that the portion exerting the quenching effect is easily dispersed uniformly in the resist film. It is considered that the resist composition of this embodiment can achieve further high sensitivity and improve lithography properties such as reduced roughness due to the synergistic action of such actions.
  • a method for forming a resist pattern according to the second aspect of the present invention is a method comprising the steps of forming a resist film on a support using the resist composition according to the first aspect of the present invention, exposing the resist film to light, and developing the exposed resist film to form a resist pattern.
  • One embodiment of the resist pattern forming method is, for example, a resist pattern forming method carried out as follows.
  • the resist composition of the above-described embodiment is applied onto a support using a spinner or the like, and then baked (post-applied bake (PAB)) at a temperature of, for example, 80 to 150° C. for 40 to 120 seconds, preferably 60 to 90 seconds, to form a resist film.
  • the resist film is subjected to selective exposure using an exposure apparatus such as an electron beam lithography apparatus or an EUV exposure apparatus, either through a mask (mask pattern) on which a predetermined pattern is formed, or through lithography by direct irradiation with an electron beam without using a mask pattern.
  • baking post-exposure baking (PEB)
  • PEB post-exposure baking
  • the resist film is developed using an alkaline developer in the case of an alkaline development process, or a developer containing an organic solvent (organic developer) in the case of a solvent development process.
  • a rinse process is preferably carried out.
  • the rinse process is preferably a water rinse using pure water, and in the case of a solvent development process, a rinse liquid containing an organic solvent is preferably used.
  • a treatment may be carried out in which the developer or rinsing liquid adhering to the pattern is removed by using a supercritical fluid. After the development or rinsing treatment, the resist is dried. In some cases, a baking treatment (post-baking) may be performed after the development treatment.
  • the support is not particularly limited, and conventionally known materials can be used, such as substrates for electronic components and substrates on which a predetermined wiring pattern is formed. More specifically, examples include silicon wafers, substrates made of metals such as copper, chromium, iron, and aluminum, and glass substrates. Materials that can be used for the wiring pattern include, for example, copper, aluminum, nickel, and gold.
  • the wavelength used for exposure is not particularly limited, and radiation such as ArF excimer laser, KrF excimer laser, F2 excimer laser, EUV (extreme ultraviolet), VUV (vacuum ultraviolet), EB (electron beam), X-rays, and soft X-rays can be used.
  • the method of forming a resist pattern of this embodiment is useful for exposing the resist film to EUV (extreme ultraviolet) or EB (electron beam) in the step of exposing the resist film.
  • the exposure method for the resist film may be a normal exposure method (dry exposure) performed in air or an inert gas such as nitrogen, or may be liquid immersion exposure (liquid immersion lithography).
  • Immersion exposure is an exposure method in which the space between the resist film and the lowest lens of the exposure tool is filled with a solvent (immersion medium) that has a refractive index greater than that of air, and exposure (immersion exposure) is then performed in that state.
  • the immersion medium is preferably a solvent having a refractive index greater than that of air and less than that of the resist film to be exposed, and examples of such a solvent include water, a fluorine-based inert liquid, a silicon-based solvent, and a hydrocarbon-based solvent.
  • water is preferably used as the liquid immersion medium.
  • the alkaline developer used in the development treatment in the alkaline development process may be, for example, a 0.1 to 10% by weight aqueous solution of tetramethylammonium hydroxide (TMAH).
  • TMAH tetramethylammonium hydroxide
  • the organic solvent contained in the organic developer used in the development treatment in the solvent development process may be any organic solvent capable of dissolving the component (A1) (the component (A1) before exposure), and may be appropriately selected from known organic solvents.
  • Specific examples of the organic solvent include polar solvents such as ketone solvents, ester solvents, alcohol solvents, nitrile solvents, amide solvents, and ether solvents, and hydrocarbon solvents.
  • ester-based solvents include methyl acetate, butyl acetate, ethyl acetate, isopropyl acetate, pentyl acetate, isopentyl acetate, amyl acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monobutyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, ethyl-3-ethoxypropionate, 3-methoxybutyl acetate, 3-methyl-3-methoxybutyl acetate, methyl formate, ethyl formate, butyl formate, propyl formate, ethyl lactate, butyl lactate, propyl lactate, butyl butanoate, methyl 2-hydroxyisobutyrate, isoamyl acetate, isobutyl isobutyrate, and butyl propionate.
  • nitrile solvents examples include acetonitrile, propionitrile, valeronitrile, butyronitrile, etc.
  • additives can be added to the organic developer as necessary.
  • additives include surfactants.
  • surfactants There are no particular limitations on the surfactants, but examples of surfactants that can be used include ionic or non-ionic fluorine-based and/or silicon-based surfactants.
  • the development process can be carried out by a known development method, such as a method of immersing the support in a developer for a certain period of time (dip method), a method of piling up the developer on the surface of the support by surface tension and leaving it still for a certain period of time (paddle method), a method of spraying the developer on the surface of the support (spray method), or a method of continuously applying developer while scanning a developer application nozzle at a constant speed onto a support rotating at a constant speed (dynamic dispense method).
  • a known development method such as a method of immersing the support in a developer for a certain period of time (dip method), a method of piling up the developer on the surface of the support by surface tension and leaving it still for a certain period of time (paddle method), a method of spraying the developer on the surface of the support (spray method), or a method of continuously applying developer while scanning a developer application nozzle at a constant speed onto a support rotating at a constant speed (dynamic
  • the organic solvent contained in the rinse solution used in the rinsing treatment after the development treatment in the solvent development process can be appropriately selected from the organic solvents listed above as the organic solvents used in the organic developer, which do not easily dissolve the resist pattern.
  • at least one solvent selected from the group consisting of hydrocarbon solvents, ketone solvents, ester solvents, alcohol solvents, amide solvents, and ether solvents is used. These organic solvents may be used alone or in combination of two or more thereof, and may be used in combination with other organic solvents or water.
  • the rinse treatment (cleaning treatment) using a rinse solution can be carried out by a known rinse method.
  • the rinse treatment method include a method in which the rinse solution is continuously applied onto a support rotating at a constant speed (spin coating method), a method in which the support is immersed in the rinse solution for a certain period of time (dip method), and a method in which the rinse solution is sprayed onto the surface of the support (spray method).
  • the resist pattern forming method of this embodiment described above uses the resist composition described above, which allows for high sensitivity and the formation of a resist pattern with good lithography properties such as reduced roughness.
  • the resist composition of the above-mentioned embodiment and the various materials used in the pattern formation method of the above-mentioned embodiment preferably do not contain impurities such as metals, metal salts containing halogens, acids, alkalis, and components containing sulfur atoms or phosphorus atoms.
  • impurities containing metal atoms include Na, K, Ca, Fe, Cu, Mn, Mg, Al, Cr, Ni, Zn, Ag, Sn, Pb, Li, and salts thereof.
  • the content of impurities contained in these materials is preferably 200 ppb or less, more preferably 1 ppb or less, even more preferably 100 ppt (parts per trillion) or less, particularly preferably 10 ppt or less, and most preferably substantially free of impurities (below the detection limit of the measuring device).
  • the compound according to the third aspect of the present invention is a compound represented by the following general formula (a0-m) (hereinafter also referred to as “compound (a0-m)").
  • R Ar1 and R Ar2 are each independently an aromatic group which may have a substituent.
  • R Ar1 -L 11 - is R Ar1 -O-, R Ar1 -S-, R Ar1 -NH-, R Ar1 -Ak-, R Ar1 -C( ⁇ O)-O-, R Ar1 -C( ⁇ O)-NH-, R Ar1 -O-C( ⁇ O)-, R Ar1 -NH-C( ⁇ O)-, R Ar1 -Ak -O-, R Ar1 -Ak-NH-, R Ar1 -O-C( ⁇ O)-Ak- or R Ar1 - (when L 11 is a single bond).
  • R Ar1 -L 12 - is R Ar1 -Ak-, R Ar1 -C( ⁇ O)-O-Ak-, R Ar1 -C( ⁇ O)-NH-Ak-, R Ar1 -O-C( ⁇ O)-Ak-, R Ar1 -NH-C( ⁇ O)-Ak-, R Ar1 -O-C( ⁇ O)- or R Ar1 - (when L 12 is a single bond).
  • R Ar1 -L 13 - is R Ar1 -O-, R Ar1 -S-, R Ar1 -NH-, R Ar1 -Ak-, R Ar1 -O-Ak- or R Ar1 - (when L 13 is a single bond).
  • R Ar2 -L 14 - is R Ar2 -Ak-, R Ar2 -C( ⁇ O)-O-Ak-, R Ar2 -C( ⁇ O)-NH-Ak-, R Ar2 -O-C( ⁇ O)-Ak-, R Ar2 -NH-C( ⁇ O)-Ak-, R Ar2 -O-C( ⁇ O)- or R Ar2 - (when L 14 is a single bond).
  • R Ar2 -L 15 - is R Ar2 -O-, R Ar2 -S-, R Ar2 -NH-, R Ar2 -Ak-, R Ar2 -O-Ak- or R Ar2 - (when L 15 is a single bond).
  • q is 0 or 1.
  • R 01 and R 02 are each independently an iodized alkyl group, an iodine atom, or a hydrogen atom.
  • j1 and j2 are each independently an integer of 0 to 5. However, when q is 0, R 02 is an iodized alkyl group or an iodine atom, and j2 is an integer of 1 to 5.
  • k1 and k2 are each independently 0 or 1. However, when q is 0, k2 is 1. When q is 1, k1+k2 is 1. M m+ is an onium cation having a valence of m. m is an integer of 1 or more.]
  • W in the general formula (a0-m) is preferably a polymerizable group-containing group represented by the following general formula (a0-w).
  • R 0 represents an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, a halogenated alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or a hydrogen atom.
  • Suitable examples of the compound (a0-m) include a compound represented by the general formula (a0-m) in which W is a polymerizable group-containing group represented by the general formula (a0-w), q is 1, k1 is 1, k2 is 0, R 02 is an iodized alkyl group or an iodine atom, j2 is an integer of 1 to 5, and L 10 in the general formula (a0-w) is a single bond, i.e., a compound represented by the general formula (a01-m).
  • the compound (a0-m) is preferably a compound in which, in general formula (a0-m), W is a polymerizable group-containing group represented by general formula (a0-w), q is 1, k1 is 0, k2 is 1, and L 10 in general formula (a0-w) is a single bond, i.e., a compound represented by general formula (a02-m). More preferably, R 02 is an iodized alkyl group or an iodine atom, and j2 is an integer of 1 to 5.
  • preferred examples of the compound (a0-m) include a compound in which, in general formula (a0-m), W is a polymerizable group-containing group represented by general formula (a0-w), q is 0, k2 is 1, R 02 is an iodized alkyl group or an iodine atom, j2 is an integer of 1 to 5, and L 10 in general formula (a0-w) is a single bond, i.e., a compound represented by general formula (a03-m).
  • preferred examples of the compound (a0-m) include a compound represented by the general formula (a0-m), in which W is a polymerizable group-containing group represented by the general formula (a0-w), q is 0, k2 is 1, R 02 is an iodized alkyl group or an iodine atom, j2 is an integer from 1 to 5, and -L 10 -* in the general formula (a0-w) is -C( ⁇ O)-O-* or -C( ⁇ O)-NH-* [wherein * represents a bond bonding to R Ar2 in the general formula (a0-m)], i.e., a compound represented by the general formula (a04′′-m).
  • the above-mentioned preferred compounds are further preferably those in which M m+ in the general formula (a0-m) is an m-valent sulfonium cation.
  • the compound (a0-m) of this embodiment can be produced by appropriately combining known methods.
  • the compound represented by the above general formula (a01-m) can be produced, for example, by esterifying and hydrolyzing a phenol having a polymerizable group and a tertiary alkyl ester group with an aromatic carboxylic acid substituted with an iodine atom, and then performing salt exchange with a desired onium salt, as shown in [Synthesis Example 1: Synthesis of compound (a0-m1)] described later.
  • the compound represented by the above general formula (a02-m) can be produced, for example, by esterifying and hydrolyzing an aromatic carboxylic acid having a polymerizable group with a phenol substituted with an iodine atom and a tertiary alkyl ester group, and then salt-exchanging it into the desired onium salt, as shown in [Synthesis Example 2: Synthesis of compound (a0-m2)] described below.
  • the compound represented by the above general formula (a03-m) can be produced, for example, by reacting (etherifying) a phenol having a polymerizable group and an iodine atom with an alkylating agent (ethyl bromoacetate, etc.) in the presence of a base, and then salt-exchanging it to the desired onium salt, as shown in [Synthesis Example 3: Synthesis of compound (a0-m3)] described below.
  • an alkylating agent ethyl bromoacetate, etc.
  • the compound represented by the above general formula (a04-m) or (a04′′-m) can be produced, for example, by acylation (esterification) of an acylating agent (methacrylic acid chloride) with an aromatic carboxylic acid substituted with a hydroxyl group (—OH) and an iodine atom in the presence of a base, and then salt exchange with a desired onium salt, as shown in [Synthesis Example 4: Synthesis of compound (a0-m4)] described later.
  • an acylating agent methacrylic acid chloride
  • an aromatic carboxylic acid substituted with a hydroxyl group (—OH) and an iodine atom in the presence of a base
  • salt exchange with a desired onium salt as shown in [Synthesis Example 4: Synthesis of compound (a0-m4)] described later.
  • the compound represented by the above general formula (a04-m) or (a04"-m) can be produced, for example, by acylation (amidation) of an acylating agent (methacrylic acid chloride) with an aromatic carboxylic acid substituted with an amino group ( -NH2 ) and an iodine atom in the presence of a base, followed by salt exchange with a desired onium salt, as shown in [Synthesis Example 4: Synthesis of compound (a0-m4)] described later.
  • an acylating agent methacrylic acid chloride
  • an aromatic carboxylic acid substituted with an amino group ( -NH2 ) and an iodine atom in the presence of a base
  • salt exchange with a desired onium salt as shown in [Synthesis Example 4: Synthesis of compound (a0-m4)] described later.
  • the compound (a0-m) in the reaction mixture may be isolated and purified.
  • a conventionally known method can be used, for example, concentration, solvent extraction, distillation, crystallization, recrystallization, chromatography, etc., which can be used alone or in combination of two or more of these.
  • the structure of the compound obtained as described above can be confirmed by general organic analysis methods such as 1H -nuclear magnetic resonance (NMR) spectroscopy, 13C -NMR spectroscopy, 19F -NMR spectroscopy, infrared absorption (IR) spectroscopy, mass spectrometry (MS), elemental analysis, and X-ray crystal diffraction.
  • NMR nuclear magnetic resonance
  • IR infrared absorption
  • MS mass spectrometry
  • the compound of this embodiment can be used as a raw material monomer for a polymer compound according to the fourth aspect described below.
  • a fourth aspect of the present invention is a polymeric compound having a structural unit derived from the compound according to the third aspect of the present invention described above.
  • the structural unit derived from the compound related to the third aspect is a structural unit derived from the compound represented by the above general formula (a0-m), and is the same as the above-mentioned structural unit (a0).
  • the polymer compound related to the fourth aspect is similar to the explanation of the component (A1) above.
  • the polymer compound related to the fourth aspect that is, the structural unit (structural unit (a0)) derived from the compound represented by general formula (a0-m), can be used as a base component of the resist composition related to the first aspect.
  • a polymer compound having such a structural unit (a0), the above-mentioned structural unit (a10), and the above-mentioned structural unit (a1) is particularly useful as a resist material for lithography involving exposure to EUV or EB.
  • a polymer compound having such a structural unit (a0), the above-mentioned structural unit (a10), the above-mentioned structural unit (a1), and the above-mentioned structural unit (a5) is particularly useful as a resist material for lithography involving exposure to EUV or EB.
  • the target polymer compound (A1-13) was obtained in the same manner as in the above [Synthesis of polymer compound (A1-1)], except that the compound (a0-m13) was used instead of the compound (a0-m1), and the following compound (a5-m2) was used instead of the compound (a5-m1).
  • the weight average molecular weight (Mw) and molecular weight dispersity (Mw/Mn) of the resulting polymer compounds (A1-1) to (A1-14) were determined by GPC measurement (converted into standard polystyrene).
  • the copolymerization composition ratios (proportions (molar ratios) of the respective structural units in the structural formulas) of the polymeric compounds (A1-1) to (A1-14) were determined by carbon-13 nuclear magnetic resonance spectroscopy (600 MHz 13 C-NMR).
  • Polymer compound (A1-3): weight average molecular weight (Mw) 10,400, molecular weight dispersity (Mw/Mn) 1.61, l/m/n/o 30/50/15/5.
  • Polymer compound (A1-6): weight average molecular weight (Mw) 10,000, molecular weight dispersity (Mw/Mn) 1.50, l/m/n/o 30/50/15/5.
  • Polymer compound (A1-12): weight average molecular weight (Mw) 10,200, molecular weight dispersity (Mw/Mn) 1.57, l/m/n/o 30/50/15/5.
  • Polymer compound (A1-13): weight average molecular weight (Mw) 9,700, molecular weight dispersity (Mw/Mn) 1.60, l/m/n/o 30/50/15/5.
  • Polymer compound (A1-14): weight average molecular weight (Mw) 9,800, molecular weight dispersity (Mw/Mn) 1.55, l/m/o 35/58/7.
  • (A)-18 The following polymer compound (A2-4).
  • Weight average molecular weight (Mw): 10,000, molecular weight dispersity (Mw/Mn): 1.59, l/m/o 35/58/7.
  • the weight average molecular weight (Mw) is a weight average molecular weight calculated based on standard polystyrene by GPC measurement.
  • the copolymer composition ratio (the ratio (molar ratio) of each structural unit in the structural formula) is determined by 13 C-NMR. Ta.
  • (B)-1 An acid generator comprising the following compound (B-1).
  • (D)-1 An acid diffusion controller consisting of the following compound (D1-1).
  • a line and space resist pattern (LS pattern) was formed by the resist pattern forming method described below, and the sensitivity and line width roughness (LWR) were evaluated.
  • Step of forming a resist film Each resist composition of the examples was applied using a spinner onto an 8-inch silicon substrate that had been treated with hexamethyldisilazane (HMDS), and the substrate was pre-baked (PAB) on a hot plate at a temperature of 110° C. for 60 seconds, followed by drying to form a resist film with a thickness of 50 nm.
  • HMDS hexamethyldisilazane
  • Step of exposing the resist film Next, the resist film was subjected to drawing (exposure) using an electron beam lithography system JEOL JBX-9300FS (manufactured by JEOL Ltd.) at an acceleration voltage of 100 kV (beam current 100 pA, scan step 4 nm) to form a 1:1 line and space pattern (hereinafter referred to as LS pattern) with a target size of a line width of 50 nm (pitch width 100 nm). Thereafter, a post-exposure bake (PEB) treatment was carried out at 100° C. for 60 seconds.
  • PEB post-exposure bake
  • Step of developing the exposed resist film Next, using a developing device (Clean Track ACT8, manufactured by Tokyo Electron Limited), a 2.38 mass % tetramethylammonium hydroxide (TMAH) aqueous solution "NMD-3" (trade name, manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.) was dropped from an LD-nozzle onto the resist film at 23°C, and alkaline development was performed for 60 seconds. Thereafter, the substrate was rinsed with pure water for 15 seconds. As a result, in each example, a 1:1 LS pattern with a line width of 50 nm (pitch width of 100 nm) was formed.
  • TMAH tetramethylammonium hydroxide

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Abstract

本発明は、一般式（ａ０－ｍ）で表される化合物から誘導される構成単位を有する高分子化合物、をベース樹脂としたレジスト組成物を採用する。式中、Ｗは重合性基含有基；ＲＡｒ１及びＲＡｒ２は芳香族基；Ｒ０１及びＲ０２は、ヨウ素化アルキル基、ヨウ素原子又は水素原子；Ｌ１１～Ｌ１５は連結基；ｑは、０又は１；ｑが０の場合、Ｒ０２は、ヨウ素化アルキル基又はヨウ素原子であり、ｊ２は１～５の整数；ｑが１の場合、Ｒ０１及びＲ０２に含まれるヨウ素原子は１個以上；ｋ１及びｋ２は、０又は１である。ｑが０の場合、ｋ２は１；ｑが１の場合、ｋ１＋ｋ２は１である。Ｍｍ＋は、ｍ価のオニウムカチオン。かかるレジスト組成物によれば、レジストパターンを形成する際、更なる高感度化が図れ、ラフネス低減等のリソグラフィー特性が向上したパターンを形成できる。

Description

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物及び高分子化合物
　本発明は、レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物及び高分子化合物に関する。
　本願は、２０２２年１０月５日に日本に出願された、特願２０２２－１６０７０９号に基づき優先権主張し、その内容をここに援用する。
　近年、半導体素子や液晶表示素子の製造においては、リソグラフィー技術の進歩により急速にパターンの微細化が進んでいる。微細化の手法としては、一般に、露光光源の短波長化（高エネルギー化）が行われている。
　レジスト材料には、これらの露光光源に対する感度、微細な寸法のパターンを再現できる解像性等のリソグラフィー特性が求められる。
　このような要求を満たすレジスト材料として、従来、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分と、露光により酸を発生する酸発生剤成分と、を含有する化学増幅型レジスト組成物が用いられている。
　化学増幅型レジスト組成物においては、一般的に、リソグラフィー特性等の向上のために、前記基材成分として、複数の構成単位を有する樹脂が用いられている。
　また、レジストパターンの形成においては、露光により酸発生剤成分から発生する酸の挙動がリソグラフィー特性に大きな影響を与える一要素とされる。
　化学増幅型レジスト組成物において使用される酸発生剤としては、これまで多種多様なものが提案されている。例えば、ヨードニウム塩やスルホニウム塩などのオニウム塩系酸発生剤、オキシムスルホネート系酸発生剤、ジアゾメタン系酸発生剤、ニトロベンジルスルホネート系酸発生剤、イミノスルホネート系酸発生剤、ジスルホン系酸発生剤などが知られている。
　また、レジスト材料としては、従来、酸発生剤成分とともに、露光により該酸発生剤成分から発生する酸の拡散を制御する酸拡散制御剤を併用する化学増幅型レジスト組成物が提案されている。
　例えば、特許文献１には、特定構造の酸解離性基を含む構成単位を有する樹脂と、スルホニウム塩と、特定構造のアニオン部及びカチオン部を有する光崩壊性塩基と、を含有するレジスト組成物が開示されている。
特開２０２０－０９１３１２号公報
　リソグラフィー技術のさらなる進歩、レジストパターンの微細化がますます進むなか、例えばＥＵＶ（極端紫外線）又はＥＢ（電子線）によるリソグラフィーでは、数十ｎｍの微細なパターン形成が目標とされる。このようにパターン寸法が小さくなるほど、露光光源に対して高い感度、及びラフネス低減等のリソグラフィー特性が要求される。
　しかしながら、特許文献１に記載されているような従来のレジスト組成物においては、感度とリソグラフィー特性との両立の点で、更なる向上が必要である。
　本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであって、更なる高感度化が図れ、ラフネス低減等のリソグラフィー特性が向上したレジスト組成物、当該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法、当該レジスト組成物に有用な高分子化合物、及び当該高分子化合物の合成に利用可能な化合物を提供することを課題とする。
　上記の課題を解決するために、本発明は以下の構成を採用した。
　すなわち、本発明の第１の態様は、露光により酸を発生し、かつ、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化するレジスト組成物であって、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する樹脂成分（Ａ１）を含有し、前記樹脂成分（Ａ１）は、下記一般式（ａ０－ｍ）で表される化合物から誘導される構成単位（ａ０）を有することを特徴とする、レジスト組成物である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
 ［式中、Ｗは、重合性基含有基である。ＲＡｒ１及びＲＡｒ２は、それぞれ独立に、置換基を有してもよい芳香族基である。ＲＡｒ１－Ｌ１１－は、ＲＡｒ１－Ｏ－、ＲＡｒ１－Ｓ－、ＲＡｒ１－ＮＨ－、ＲＡｒ１－Ａｋ－、ＲＡｒ１－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、ＲＡｒ１－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＨ－、ＲＡｒ１－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、ＲＡｒ１－ＮＨ－Ｃ（＝Ｏ）－、ＲＡｒ１－Ａｋ－Ｏ－、ＲＡｒ１－Ａｋ－ＮＨ－、ＲＡｒ１－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ａｋ－又はＲＡｒ１－（Ｌ１１が単結合の場合）である。Ａｋは、アルキレン基又はフッ素化アルキレン基である（以下同じ）。ＲＡｒ１－Ｌ１２－は、ＲＡｒ１－Ａｋ－、ＲＡｒ１－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－Ａｋ－、ＲＡｒ１－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＨ－Ａｋ－、ＲＡｒ１－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ａｋ－、ＲＡｒ１－ＮＨ－Ｃ（＝Ｏ）－Ａｋ－、ＲＡｒ１－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－又はＲＡｒ１－（Ｌ１２が単結合の場合）である。ＲＡｒ１－Ｌ１３－は、ＲＡｒ１－Ｏ－、ＲＡｒ１－Ｓ－、ＲＡｒ１－ＮＨ－、ＲＡｒ１－Ａｋ－、ＲＡｒ１－Ｏ－Ａｋ－又はＲＡｒ１－（Ｌ１３が単結合の場合）である。ＲＡｒ２－Ｌ１４－は、ＲＡｒ２－Ａｋ－、ＲＡｒ２－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－Ａｋ－、ＲＡｒ２－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＨ－Ａｋ－、ＲＡｒ２－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ａｋ－、ＲＡｒ２－ＮＨ－Ｃ（＝Ｏ）－Ａｋ－、ＲＡｒ２－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－又はＲＡｒ２－（Ｌ１４が単結合の場合）である。ＲＡｒ２－Ｌ１５－は、ＲＡｒ２－Ｏ－、ＲＡｒ２－Ｓ－、ＲＡｒ２－ＮＨ－、ＲＡｒ２－Ａｋ－、ＲＡｒ２－Ｏ－Ａｋ－又はＲＡｒ２－（Ｌ１５が単結合の場合）である。ｑは、０又は１である。Ｒ０１及びＲ０２は、それぞれ独立に、ヨウ素化アルキル基、ヨウ素原子又は水素原子である。ｊ１及びｊ２は、それぞれ独立に、０～５の整数である。但し、ｑが０の場合、Ｒ０２はヨウ素化アルキル基又はヨウ素原子であり、ｊ２は１～５の整数である。ｑが１の場合、Ｒ０１及びＲ０２に含まれるヨウ素原子の個数は１個以上である。ｋ１及びｋ２は、それぞれ独立に、０又は１である。但し、ｑが０の場合、ｋ２は、１である。ｑが１の場合、ｋ１＋ｋ２は、１である。Ｍｍ＋は、ｍ価のオニウムカチオンである。ｍは１以上の整数である。］
　本発明の第２の態様は、支持体上に、前記第１の態様に係るレジスト組成物を用いてレジスト膜を形成する工程、前記レジスト膜を露光する工程、及び前記露光後のレジスト膜を現像してレジストパターンを形成する工程を有することを特徴とする、レジストパターン形成方法である。
　本発明の第３の態様は、下記一般式（ａ０－ｍ）で表されることを特徴とする、化合物である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
 ［式中、Ｗは、重合性基含有基である。ＲＡｒ１及びＲＡｒ２は、それぞれ独立に、置換基を有してもよい芳香族基である。ＲＡｒ１－Ｌ１１－は、ＲＡｒ１－Ｏ－、ＲＡｒ１－Ｓ－、ＲＡｒ１－ＮＨ－、ＲＡｒ１－Ａｋ－、ＲＡｒ１－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、ＲＡｒ１－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＨ－、ＲＡｒ１－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、ＲＡｒ１－ＮＨ－Ｃ（＝Ｏ）－、ＲＡｒ１－Ａｋ－Ｏ－、ＲＡｒ１－Ａｋ－ＮＨ－、ＲＡｒ１－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ａｋ－又はＲＡｒ１－（Ｌ１１が単結合の場合）である。Ａｋは、アルキレン基又はフッ素化アルキレン基である（以下同じ）。ＲＡｒ１－Ｌ１２－は、ＲＡｒ１－Ａｋ－、ＲＡｒ１－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－Ａｋ－、ＲＡｒ１－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＨ－Ａｋ－、ＲＡｒ１－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ａｋ－、ＲＡｒ１－ＮＨ－Ｃ（＝Ｏ）－Ａｋ－、ＲＡｒ１－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－又はＲＡｒ１－（Ｌ１２が単結合の場合）である。ＲＡｒ１－Ｌ１３－は、ＲＡｒ１－Ｏ－、ＲＡｒ１－Ｓ－、ＲＡｒ１－ＮＨ－、ＲＡｒ１－Ａｋ－、ＲＡｒ１－Ｏ－Ａｋ－又はＲＡｒ１－（Ｌ１３が単結合の場合）である。ＲＡｒ２－Ｌ１４－は、ＲＡｒ２－Ａｋ－、ＲＡｒ２－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－Ａｋ－、ＲＡｒ２－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＨ－Ａｋ－、ＲＡｒ２－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ａｋ－、ＲＡｒ２－ＮＨ－Ｃ（＝Ｏ）－Ａｋ－、ＲＡｒ２－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－又はＲＡｒ２－（Ｌ１４が単結合の場合）である。ＲＡｒ２－Ｌ１５－は、ＲＡｒ２－Ｏ－、ＲＡｒ２－Ｓ－、ＲＡｒ２－ＮＨ－、ＲＡｒ２－Ａｋ－、ＲＡｒ２－Ｏ－Ａｋ－又はＲＡｒ２－（Ｌ１５が単結合の場合）である。ｑは、０又は１である。Ｒ０１及びＲ０２は、それぞれ独立に、ヨウ素化アルキル基、ヨウ素原子又は水素原子である。ｊ１及びｊ２は、それぞれ独立に、０～５の整数である。但し、ｑが０の場合、Ｒ０２はヨウ素化アルキル基又はヨウ素原子であり、ｊ２は１～５の整数である。ｑが１の場合、Ｒ０１及びＲ０２に含まれるヨウ素原子の個数は１個以上である。ｋ１及びｋ２は、それぞれ独立に、０又は１である。但し、ｑが０の場合、ｋ２は、１である。ｑが１の場合、ｋ１＋ｋ２は、１である。Ｍｍ＋は、ｍ価のオニウムカチオンである。ｍは１以上の整数である。］
　本発明の第４の態様は、前記第３の態様に係る化合物から誘導される構成単位を有することを特徴とする、高分子化合物である。
　本発明によれば、更なる高感度化が図れ、ラフネス低減等のリソグラフィー特性が向上したレジスト組成物、当該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法、当該レジスト組成物に有用な高分子化合物、及び当該高分子化合物の合成に利用可能な化合物を提供することができる。
　本明細書及び本特許請求の範囲において、「脂肪族」とは、芳香族に対する相対的な概念であって、芳香族性を持たない基、化合物等を意味するものと定義する。
　「アルキル基」は、特に断りがない限り、直鎖状、分岐鎖状及び環状の１価の飽和炭化水素基を包含するものとする。アルコキシ基中のアルキル基も同様である。
　「アルキレン基」は、特に断りがない限り、直鎖状、分岐鎖状及び環状の２価の飽和炭化水素基を包含するものとする。
　「ハロゲン原子」は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
　「構成単位」とは、高分子化合物（樹脂、重合体、共重合体）を構成するモノマー単位（単量体単位）を意味する。
　「置換基を有してもよい」と記載する場合、水素原子（－Ｈ）を１価の基で置換する場合と、メチレン基（－ＣＨ２－）を２価の基で置換する場合との両方を含む。
　「露光」は、放射線の照射全般を含む概念とする。
　「酸分解性基」は、酸の作用により、当該酸分解性基の構造中の少なくとも一部の結合が開裂し得る酸分解性を有する基である。
　酸の作用により極性が増大する酸分解性基としては、例えば、酸の作用により分解して極性基を生じる基が挙げられる。
　極性基としては、例えばカルボキシ基、水酸基、アミノ基、スルホ基（－ＳＯ３Ｈ）等が挙げられる。
　酸分解性基としてより具体的には、前記極性基が酸解離性基で保護された基（例えばＯＨ含有極性基の水素原子を、酸解離性基で保護した基）が挙げられる。
　「酸解離性基」とは、（ｉ）酸の作用により、当該酸解離性基と該酸解離性基に隣接する原子との間の結合が開裂し得る酸解離性を有する基、又は、（ｉｉ）酸の作用により一部の結合が開裂した後、さらに脱炭酸反応が生じることにより、当該酸解離性基と該酸解離性基に隣接する原子との間の結合が開裂し得る基、の双方をいう。
　酸分解性基を構成する酸解離性基は、当該酸解離性基の解離により生成する極性基よりも極性の低い基であることが必要で、これにより、酸の作用により該酸解離性基が解離した際に、該酸解離性基よりも極性の高い極性基が生じて極性が増大する。その結果、（Ａ１）成分全体の極性が増大する。極性が増大することにより、相対的に、現像液に対する溶解性が変化し、現像液がアルカリ現像液の場合には溶解性が増大し、現像液が有機系現像液の場合には溶解性が減少する。
　「基材成分」とは、膜形成能を有する有機化合物である。基材成分として用いられる有機化合物は、非重合体と重合体とに大別される。非重合体としては、通常、分子量が５００以上４０００未満のものが用いられる（以下「低分子化合物」という）。以下「樹脂」、「高分子化合物」又は「ポリマー」という場合は、分子量が１０００以上の重合体を示す。重合体の分子量としては、ＧＰＣ（ゲルパーミエーションクロマトグラフィー）によるポリスチレン換算の重量平均分子量を用いるものとする。
　「誘導される構成単位」とは、炭素原子間の多重結合、例えば、エチレン性二重結合が開裂して構成される構成単位を意味する。
　「アクリル酸エステル」は、α位の炭素原子に結合した水素原子が置換基で置換されていてもよい。該α位の炭素原子に結合した水素原子を置換する置換基（Ｒαｘ）は、水素原子以外の原子又は基である。また、置換基（Ｒαｘ）がエステル結合を含む置換基で置換されたイタコン酸ジエステルや、置換基（Ｒαｘ）がヒドロキシアルキル基やその水酸基を修飾した基で置換されたαヒドロキシアクリルエステルも含むものとする。なお、アクリル酸エステルのα位の炭素原子とは、特に断りがない限り、アクリル酸のカルボニル基が結合している炭素原子のことである。
　以下、α位の炭素原子に結合した水素原子が置換基で置換されたアクリル酸エステルを、α置換アクリル酸エステルということがある。
　「誘導体」とは、対象化合物のα位の水素原子がアルキル基、ハロゲン化アルキル基等の他の置換基に置換されたもの、並びにそれらの誘導体を含む概念とする。それらの誘導体としては、α位の水素原子が置換基に置換されていてもよい対象化合物の水酸基の水素原子を有機基で置換したもの；α位の水素原子が置換基に置換されていてもよい対象化合物に、水酸基以外の置換基が結合したもの等が挙げられる。なお、α位とは、特に断りがない限り、官能基と隣接した１番目の炭素原子のことをいう。
　ヒドロキシスチレンのα位の水素原子を置換する置換基としては、Ｒαｘと同様のものが挙げられ、例えばアルキル基、ハロゲン化アルキル基等が挙げられる。
　本明細書及び本特許請求の範囲において、化学式で表される構造によっては、不斉炭素が存在し、エナンチオ異性体（ｅｎａｎｔｉｏｍｅｒ）やジアステレオ異性体（ｄｉａｓｔｅｒｅｏｍｅｒ）が存在し得るものがある。その場合は一つの化学式でそれら異性体を代表して表す。それらの異性体は単独で用いてもよいし、混合物として用いてもよい。
（レジスト組成物）
　本実施形態のレジスト組成物は、露光により酸を発生し、かつ、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化するものである。
　かかるレジスト組成物は、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）（以下「（Ａ）成分」ともいう）を含有する。本実施形態のレジスト組成物においては、（Ａ）成分が、露光により酸を発生し、かつ、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する樹脂成分を含む。
　本実施形態のレジスト組成物を用いてレジスト膜を形成し、該レジスト膜に対して選択的露光を行うと、該レジスト膜の露光部では、少なくとも（Ａ）成分から酸が発生し、該酸の作用により、（Ａ）成分の現像液に対する溶解性が変化する一方で、該レジスト膜の未露光部では、（Ａ）成分の現像液に対する溶解性が変化しないため、該レジスト膜の露光部と未露光部との間で現像液に対する溶解性の差が生じる。そのため、該レジスト膜を現像すると、該レジスト組成物がポジ型の場合は、レジスト膜露光部が溶解除去されてポジ型のレジストパターンが形成され、該レジスト組成物がネガ型の場合は、レジスト膜未露光部が溶解除去されてネガ型のレジストパターンが形成される。
　本実施形態のレジスト組成物は、ポジ型レジスト組成物であってもよく、ネガ型レジスト組成物であってもよい。また、本実施形態のレジスト組成物は、レジストパターン形成時の現像処理に、アルカリ現像液を用いるアルカリ現像プロセス用であってもよく、該現像処理に、有機溶剤を含む現像液（有機系現像液）を用いる溶剤現像プロセス用であってもよい。
＜基材成分（Ａ）＞
　本実施形態のレジスト組成物において、（Ａ）成分は、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する樹脂成分（Ａ１）（以下「（Ａ１）成分」ともいう）を含む。
　（Ａ１）成分を用いることにより、露光前後で基材成分の極性が変化するため、アルカリ現像プロセスだけでなく、溶剤現像プロセスにおいても、良好な現像コントラストを得ることができる。
　（Ａ）成分としては、該（Ａ１）成分とともに、他の高分子化合物及び低分子化合物の少なくとも一方を併用してもよい。
　本実施形態のレジスト組成物において、（Ａ）成分は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
・樹脂成分（Ａ１）について
　（Ａ１）成分は、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する樹脂成分である。（Ａ１）成分は、後述の一般式（ａ０－ｍ）で表される化合物から誘導される構成単位（ａ０）を有する。
　（Ａ１）成分は、構成単位（ａ０）に加え、必要に応じてその他構成単位を有するものでもよい。
　≪構成単位（ａ０）≫
　構成単位（ａ０）は、下記一般式（ａ０－ｍ）で表される化合物から誘導される構成単位である。
　構成単位（ａ０）は、レジスト組成物において、露光により発生する酸をトラップするクエンチャー（酸拡散制御剤）として作用する。また、構成単位（ａ０）は、露光により分解して酸拡散制御性を失う光崩壊性塩基として機能する。そのため、（Ａ１）成分が構成単位（ａ０）を有することにより、レジストパターンを形成する際に、レジスト膜の露光部と未露光部とのコントラストをより向上させることができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
 ［式中、Ｗは、重合性基含有基である。ＲＡｒ１及びＲＡｒ２は、それぞれ独立に、置換基を有してもよい芳香族基である。ＲＡｒ１－Ｌ１１－は、ＲＡｒ１－Ｏ－、ＲＡｒ１－Ｓ－、ＲＡｒ１－ＮＨ－、ＲＡｒ１－Ａｋ－、ＲＡｒ１－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、ＲＡｒ１－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＨ－、ＲＡｒ１－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、ＲＡｒ１－ＮＨ－Ｃ（＝Ｏ）－、ＲＡｒ１－Ａｋ－Ｏ－、ＲＡｒ１－Ａｋ－ＮＨ－、ＲＡｒ１－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ａｋ－又はＲＡｒ１－（Ｌ１１が単結合の場合）である。Ａｋは、アルキレン基又はフッ素化アルキレン基である（以下同じ）。ＲＡｒ１－Ｌ１２－は、ＲＡｒ１－Ａｋ－、ＲＡｒ１－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－Ａｋ－、ＲＡｒ１－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＨ－Ａｋ－、ＲＡｒ１－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ａｋ－、ＲＡｒ１－ＮＨ－Ｃ（＝Ｏ）－Ａｋ－、ＲＡｒ１－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－又はＲＡｒ１－（Ｌ１２が単結合の場合）である。ＲＡｒ１－Ｌ１３－は、ＲＡｒ１－Ｏ－、ＲＡｒ１－Ｓ－、ＲＡｒ１－ＮＨ－、ＲＡｒ１－Ａｋ－、ＲＡｒ１－Ｏ－Ａｋ－又はＲＡｒ１－（Ｌ１３が単結合の場合）である。ＲＡｒ２－Ｌ１４－は、ＲＡｒ２－Ａｋ－、ＲＡｒ２－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－Ａｋ－、ＲＡｒ２－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＨ－Ａｋ－、ＲＡｒ２－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ａｋ－、ＲＡｒ２－ＮＨ－Ｃ（＝Ｏ）－Ａｋ－、ＲＡｒ２－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－又はＲＡｒ２－（Ｌ１４が単結合の場合）である。ＲＡｒ２－Ｌ１５－は、ＲＡｒ２－Ｏ－、ＲＡｒ２－Ｓ－、ＲＡｒ２－ＮＨ－、ＲＡｒ２－Ａｋ－、ＲＡｒ２－Ｏ－Ａｋ－又はＲＡｒ２－（Ｌ１５が単結合の場合）である。ｑは、０又は１である。Ｒ０１及びＲ０２は、それぞれ独立に、ヨウ素化アルキル基、ヨウ素原子又は水素原子である。ｊ１及びｊ２は、それぞれ独立に、０～５の整数である。但し、ｑが０の場合、Ｒ０２はヨウ素化アルキル基又はヨウ素原子であり、ｊ２は１～５の整数である。ｑが１の場合、Ｒ０１及びＲ０２に含まれるヨウ素原子の個数は１個以上である。ｋ１及びｋ２は、それぞれ独立に、０又は１である。但し、ｑが０の場合、ｋ２は、１である。ｑが１の場合、ｋ１＋ｋ２は、１である。Ｍｍ＋は、ｍ価のオニウムカチオンである。ｍは１以上の整数である。］
［アニオン部］
　前記式（ａ０－ｍ）中、Ｗにおける重合性基含有基について、「重合性基」とは、重合性基を有する化合物がラジカル重合等により重合することを可能とする基であり、例えばエチレン性二重結合などの炭素原子間の多重結合を含む基をいう。
　重合性基としては、例えば、ビニル基、アリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、フルオロビニル基、ジフルオロビニル基、トリフルオロビニル基、ジフルオロトリフルオロメチルビニル基、トリフルオロアリル基、パーフルオロアリル基、トリフルオロメチルアクリロイル基、ノニルフルオロブチルアクリロイル基、ビニルエーテル基、含フッ素ビニルエーテル基、アリルエーテル基、含フッ素アリルエーテル基、スチリル基、ビニルナフチル基、含フッ素スチリル基、含フッ素ビニルナフチル基、ノルボルニル基、含フッ素ノルボルニル基、シリル基等が挙げられる。
　重合性基含有基は、重合性基のみから構成される基でもよく、重合性基と該重合性基以外の他の基とから構成される基でもよい。重合性基以外の他の基としては、置換基を有してもよい２価の炭化水素基、ヘテロ原子を含む２価の連結基等が挙げられる。
　重合性基含有基としては、例えば、式：Ｃ（ＲＸ１１）（ＲＸ１２）＝Ｃ（ＲＸ１３）－Ｙａｘ０－で表される基が好適に挙げられる。前記式中、ＲＸ１１、ＲＸ１２及びＲＸ１３は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数１～５のアルキル基又は炭素原子数１～５のハロゲン化アルキル基を表し、Ｙａｘ０は、単結合または２価の連結基を表す。Ｙａｘ０における２価の連結基としては、置換基を有してもよい２価の炭化水素基、ヘテロ原子を含む２価の連結基等が挙げられる。Ｙａｘ０における２価の連結基としては、エステル結合（－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－）、オキシカルボニル基（－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－）、エーテル結合（－Ｏ－）、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＨ－、－ＮＨ－Ｃ（＝Ｏ）－、直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキレン基、又はこれらの組合せが挙げられる。
　前記式（ａ０－ｍ）中のＷは、下記一般式（ａ０－ｗ）で表される重合性基含有基であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
 ［式中、Ｒ０は、炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数１～５のハロゲン化アルキル基又は水素原子である。－Ｌ１０－＊は、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－＊、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＨ－＊、又は－＊（Ｌ１０が単結合の場合）である。＊は、前記一般式（ａ０－ｍ）中のＲＡｒ１に結合する結合手、又はｑ＝０の場合にはＲＡｒ２に結合する結合手であることを表す。］
　前記式（ａ０－ｗ）中のＲ０における炭素原子数１～５のアルキル基は、炭素原子数１～５の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が好ましく、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基等が挙げられる。
　Ｒ０における炭素原子数１～５のハロゲン化アルキル基は、前記炭素原子数１～５のアルキル基の水素原子の一部又は全部がハロゲン原子で置換された基である。該ハロゲン原子としては、特にフッ素原子が好ましい。
　Ｒ０としては、水素原子、炭素原子数１～５のアルキル基又は炭素原子数１～５のフッ素化アルキル基が好ましく、工業上の入手の容易さから、水素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基がより好ましく、水素原子又はメチル基がさらに好ましい。
　前記式（ａ０－ｍ）中、ＲＡｒ１における芳香族基は、芳香族炭化水素環から水素原子２個以上を除いた基でもよいし、芳香族炭化水素環を構成する１つ以上の炭素原子がヘテロ原子に置換した芳香族複素環から水素原子２個以上を除いた基でもよいし、単環式でもよいし、多環式でもよい。ヘテロ原子としては、窒素原子、硫黄原子等が挙げられる。
　芳香族基の炭素原子数は、５～３０であることが好ましく、炭素原子数５～２０がより好ましく、炭素原子数６～１５がさらに好ましく、炭素原子数６～１２が特に好ましい。ただし、該炭素原子数には、置換基における炭素原子数を含まないものとする。
　芳香族炭化水素環としては、ベンゼン、ナフタレン、アントラセン、フェナントレン等が挙げられる。芳香族複素環としては、ピロール、ジアゾール、トリアゾール等のアゾール；チアゾール等が挙げられる。
　ＲＡｒ１における芳香族基は、ベンゼンから水素原子２個以上を除いた基、ナフタレンから水素原子２個以上を除いた基、アゾールから水素原子２個以上を除いた基が好ましく、ベンゼンから水素原子２個以上を除いた基、ナフタレンから水素原子２個以上を除いた基がより好ましく、ベンゼンから水素原子２個以上を除いた基がさらに好ましい。
　前記式（ａ０－ｍ）中、ＲＡｒ２における芳香族基は、芳香族炭化水素環から水素原子１個以上を除いた基でもよいし、芳香族炭化水素環を構成する１つ以上の炭素原子がヘテロ原子に置換した芳香族複素環から水素原子１個以上を除いた基でもよいし、単環式でもよいし、多環式でもよい。ヘテロ原子としては、窒素原子、硫黄原子等が挙げられる。
　芳香族基の炭素原子数は、５～３０であることが好ましく、炭素原子数５～２０がより好ましく、炭素原子数６～１５がさらに好ましく、炭素原子数６～１２が特に好ましい。ただし、該炭素原子数には、置換基における炭素原子数を含まないものとする。
　芳香族炭化水素環としては、ベンゼン、ナフタレン、アントラセン、フェナントレン等が挙げられる。芳香族複素環としては、ピロール、ジアゾール、トリアゾール等のアゾール；チアゾール等が挙げられる。
　ＲＡｒ２における芳香族基は、ベンゼンから水素原子２個以上を除いた基、ナフタレンから水素原子２個以上を除いた基、アゾールから水素原子２個以上を除いた基が好ましく、ベンゼンから水素原子２個以上を除いた基、ピロールから水素原子２個以上を除いた基、ジアゾールから水素原子２個以上を除いた基がより好ましい。
　ＲＡｒ１及びＲＡｒ２における芳香族基が有してもよい置換基としては、露光光源に対する感度向上の点から、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アルキル基、アミノ基が好適に挙げられる。
　前記式（ａ０－ｍ）中、ＲＡｒ１－Ｌ１１－について、Ａｋにおけるアルキレン基は、直鎖状でもよいし分岐鎖状でもよく、炭素原子数１～１０であることが好ましく、炭素原子数１～６がより好ましく、炭素原子数１～４がさらに好ましく、炭素原子数１～３が特に好ましく、炭素原子数１が最も好ましい。Ａｋにおけるフッ素化アルキレン基は、前記のＡｋにおけるアルキレン基の水素原子の一部又は全部がフッ素原子で置換した基である。
　ＲＡｒ１－Ｌ１１－としては、ＲＡｒ１－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、ＲＡｒ１－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、ＲＡｒ１－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＨ－、ＲＡｒ１－Ａｋ－Ｏ－、ＲＡｒ１－Ａｋ－ＮＨ－、ＲＡｒ１－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ａｋ－からなる群より選択されるものが好ましい。
　前記式（ａ０－ｍ）中、ＲＡｒ１－Ｌ１２－について、Ａｋにおけるアルキレン基、フッ素化アルキレン基の説明は、ＲＡｒ１－Ｌ１１－におけるＡｋと同様である。
　ＲＡｒ１－Ｌ１２－としては、ＲＡｒ１－（Ｌ１２が単結合の場合）が好ましい。
　前記式（ａ０－ｍ）中、ＲＡｒ２－Ｌ１４－について、Ａｋにおけるアルキレン基、フッ素化アルキレン基の説明は、ＲＡｒ１－Ｌ１１－におけるＡｋと同様である。
　ＲＡｒ２－Ｌ１４－としては、ＲＡｒ２－（Ｌ１４が単結合の場合）が好ましい。
　　前記式（ａ０－ｍ）中、ＲＡｒ１－Ｌ１３－について、Ａｋにおけるアルキレン基、フッ素化アルキレン基の説明は、ＲＡｒ１－Ｌ１１－におけるＡｋと同様である。
　ＲＡｒ１－Ｌ１３－としては、ＲＡｒ１－（Ｌ１３が単結合の場合）、ＲＡｒ１－Ａｋ－、ＲＡｒ１－ＮＨ－、ＲＡｒ１－Ｏ－Ａｋ－からなる群より選択されるものが好ましく、ＲＡｒ１－Ａｋ－がより好ましい。
　前記式（ａ０－ｍ）中、ＲＡｒ２－Ｌ１５－について、Ａｋにおけるアルキレン基、フッ素化アルキレン基の説明は、ＲＡｒ１－Ｌ１１－におけるＡｋと同様である。
　ＲＡｒ２－Ｌ１５－としては、ＲＡｒ２－（Ｌ１５が単結合の場合）が好ましい。
　前記式（ａ０－ｍ）中、Ｒ０１及びＲ０２におけるヨウ素化アルキル基としては、炭素原子数１～５のヨウ素化アルキル基が挙げられ、炭素原子数１～３のヨウ素化アルキル基が好ましく、ヨウ素化メチル基、ヨウ素化エチル基がより好ましい。Ｒ０１及びＲ０２としては、ヨウ素原子又は水素原子が好ましい。
　前記式（ａ０－ｍ）中、ｊ１は、１、２又は３が好ましく、１又は２がより好ましい。
　ｊ２は、１～４の整数であることが好ましく、２、３又は４がより好ましい。
　但し、ｑが０の場合、Ｒ０２は、ヨウ素化アルキル基又はヨウ素原子であり、ヨウ素原子であることが好ましく、ｊ２は１～４の整数であることが好ましく、２、３又は４がより好ましい。ｑが１の場合、Ｒ０１及びＲ０２に含まれるヨウ素原子の個数は１個以上であり、１～６個であることが好ましく、１～４個であることがより好ましい。
　好ましい構成単位（ａ０）は、例えば、後述の構成単位（ａ０１）、構成単位（ａ０２）、構成単位（ａ０３）、構成単位（ａ０４）が挙げられる。
・構成単位（ａ０１）について
　構成単位（ａ０１）は、前記一般式（ａ０－ｍ）において、Ｗが前記一般式（ａ０－ｗ）で表される重合性基含有基であり、ｑが１であり、ｋ１が１であり、ｋ２が０であり、Ｒ０２がヨウ素化アルキル基又はヨウ素原子であり、ｊ２が１～５の整数であり、前記一般式（ａ０－ｗ）中のＬ１０が単結合である化合物から誘導される構成単位である。すなわち、構成単位（ａ０１）は、下記一般式（ａ０１－ｍ）で表される化合物から誘導される構成単位である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
 ［式中、Ｒ０は、前記式（ａ０－ｗ）中のＲ０と同じである。ＲＡｒ１及びＲＡｒ２、ＲＡｒ１－Ｌ１１－、ＲＡｒ１－Ｌ１２－、ＲＡｒ１－Ｌ１３－、ＲＡｒ２－Ｌ１４－、Ｒ０１、ｊ１は、前記式（ａ０－ｍ）中のＲＡｒ１及びＲＡｒ２、ＲＡｒ１－Ｌ１１－、ＲＡｒ１－Ｌ１２－、ＲＡｒ１－Ｌ１３－、ＲＡｒ２－Ｌ１４－、Ｒ０１、ｊ１と同じである。Ｒ０２１は、ヨウ素化アルキル基又はヨウ素原子である。ｊ２１は、１～５の整数である。Ｍｍ＋は、ｍ価のオニウムカチオンである。ｍは１以上の整数である。］
　前記式（ａ０１－ｍ）中、Ｒ０２１におけるヨウ素化アルキル基としては、炭素原子数１～５のヨウ素化アルキル基が挙げられ、炭素原子数１～３のヨウ素化アルキル基が好ましく、ヨウ素化メチル基、ヨウ素化エチル基がより好ましい。Ｒ０２１としては、ヨウ素原子が好ましい。ｊ２１は、１～４の整数であることが好ましく、２、３又は４がより好ましい。
　以下に、一般式（ａ０１－ｍ）で表される化合物のアニオン部の好ましい具体例を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
　一般式（ａ０１－ｍ）で表される化合物のアニオン部は、前記の化学式（ａ０－ａｎ－５０１）～（ａ０－ａｎ－５２０）でそれぞれ表されるアニオンからなる群より選択される少なくとも一種が好ましい。
・構成単位（ａ０２）について
　構成単位（ａ０２）は、前記一般式（ａ０－ｍ）において、Ｗが前記一般式（ａ０－ｗ）で表される重合性基含有基であり、ｑが１であり、ｋ１が０であり、ｋ２が１であり、Ｒ０２がヨウ素化アルキル基又はヨウ素原子であり、ｊ２が１～５の整数であり、前記一般式（ａ０－ｗ）中のＬ１０が単結合である化合物から誘導される構成単位である。すなわち、構成単位（ａ０２）は、下記一般式（ａ０２－ｍ）で表される化合物から誘導される構成単位である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
 ［式中、Ｒ０は、前記式（ａ０－ｗ）中のＲ０と同じである。ＲＡｒ１及びＲＡｒ２、ＲＡｒ１－Ｌ１１－、ＲＡｒ１－Ｌ１２－、ＲＡｒ２－Ｌ１４－、ＲＡｒ２－Ｌ１５－、Ｒ０１、Ｒ０２、ｊ１、ｊ２は、前記式（ａ０－ｍ）中のＲＡｒ１及びＲＡｒ２、ＲＡｒ１－Ｌ１１－、ＲＡｒ１－Ｌ１２－、ＲＡｒ２－Ｌ１４－、ＲＡｒ２－Ｌ１５－、Ｒ０１、Ｒ０２、ｊ１、ｊ２と同じである。Ｍｍ＋は、ｍ価のオニウムカチオンである。ｍは１以上の整数である。］
　以下に、一般式（ａ０２－ｍ）で表される化合物のアニオン部の好ましい具体例を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
　一般式（ａ０２－ｍ）で表される化合物のアニオン部においては、ｊ２が１～５の整数であり、Ｒ０２２がヨウ素化アルキル基又はヨウ素原子であることがより好ましく、この中でも、さらに式中のｊ１＝０である場合のアニオンが特に好ましい。
　一般式（ａ０２－ｍ）で表される化合物のアニオン部は、前記の化学式（ａ０－ａｎ－４０１）～（ａ０－ａｎ－４２９）でそれぞれ表されるアニオンからなる群より選択される少なくとも一種が好ましく、前記の化学式（ａ０－ａｎ－４０１）～（ａ０－ａｎ－４２６）、（ａ０－ａｎ－４２８）、（ａ０－ａｎ－４２９）でそれぞれ表されるアニオンからなる群より選択される少なくとも一種がより好ましく、前記の化学式（ａ０－ａｎ－４０１）～（ａ０－ａｎ－４２６）でそれぞれ表されるアニオンからなる群より選択される少なくとも一種が特に好ましい。
・構成単位（ａ０３）について
　構成単位（ａ０３）は、前記一般式（ａ０－ｍ）において、Ｗが前記一般式（ａ０－ｗ）で表される重合性基含有基であり、ｑが０であり、ｋ２が１であり、Ｒ０２がヨウ素化アルキル基又はヨウ素原子であり、ｊ２が１～５の整数であり、前記一般式（ａ０－ｗ）中のＬ１０が単結合である化合物から誘導される構成単位である。すなわち、構成単位（ａ０３）は、下記一般式（ａ０３－ｍ）で表される化合物から誘導される構成単位である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
 ［式中、Ｒ０は、前記式（ａ０－ｗ）中のＲ０と同じである。ＲＡｒ２、ＲＡｒ２－Ｌ１４－、ＲＡｒ２－Ｌ１５－は、前記式（ａ０－ｍ）中のＲＡｒ２、ＲＡｒ２－Ｌ１４－、ＲＡｒ２－Ｌ１５－と同じである。Ｒ０２３は、ヨウ素化アルキル基又はヨウ素原子である。ｊ２３は、１～５の整数である。Ｍｍ＋は、ｍ価のオニウムカチオンである。ｍは１以上の整数である。］
　前記式（ａ０３－ｍ）中、Ｒ０２３におけるヨウ素化アルキル基としては、炭素原子数１～５のヨウ素化アルキル基が挙げられ、炭素原子数１～３のヨウ素化アルキル基が好ましく、ヨウ素化メチル基、ヨウ素化エチル基がより好ましい。Ｒ０２３としては、ヨウ素原子が好ましい。ｊ２３は、１～４の整数であることが好ましく、２、３又は４がより好ましい。
　以下に、一般式（ａ０３－ｍ）で表される化合物のアニオン部の好ましい具体例を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
　一般式（ａ０３－ｍ）で表される化合物のアニオン部においては、式中のＲ０２３がヨウ素原子である場合のアニオンがより好ましい。
　一般式（ａ０３－ｍ）で表される化合物のアニオン部は、前記の化学式（ａ０－ａｎ－３０１）～（ａ０－ａｎ－３２６）でそれぞれ表されるアニオンからなる群より選択される少なくとも一種が好ましく、前記の化学式（ａ０－ａｎ－３０１）～（ａ０－ａｎ－３２３）でそれぞれ表されるアニオンからなる群より選択される少なくとも一種がより好ましい。
・構成単位（ａ０４）について
　構成単位（ａ０４）は、前記一般式（ａ０－ｍ）において、Ｗが前記一般式（ａ０－ｗ）で表される重合性基含有基であり、ｑが０であり、ｋ２が１であり、Ｒ０２がヨウ素化アルキル基又はヨウ素原子であり、ｊ２が１～５の整数であり、前記一般式（ａ０－ｗ）中の－Ｌ１０－＊が、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－＊、又は－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＨ－＊［ここでの＊は、前記一般式（ａ０－ｍ）中のＲＡｒ２に結合する結合手であることを表す。］である化合物から誘導される構成単位である。すなわち、構成単位（ａ０４）は、下記一般式（ａ０４－ｍ）で表される化合物から誘導される構成単位である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
 ［式中、Ｒ０は、前記式（ａ０－ｗ）中のＲ０と同じである。－Ｌ１０４－が、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－又は－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＨ－である。ＲＡｒ１及びＲＡｒ２、ＲＡｒ１－Ｌ１１－、ＲＡｒ１－Ｌ１２－、ＲＡｒ１－Ｌ１３－、ＲＡｒ２－Ｌ１４－、ＲＡｒ２－Ｌ１５－、Ｒ０１、Ｒ０２、ｊ１、ｊ２、ｋ１及びｋ２、ｑは、前記式（ａ０－ｍ）中のＲＡｒ１及びＲＡｒ２、ＲＡｒ１－Ｌ１１－、ＲＡｒ１－Ｌ１２－、ＲＡｒ１－Ｌ１３－、ＲＡｒ２－Ｌ１４－、ＲＡｒ２－Ｌ１５－、Ｒ０１、Ｒ０２、ｊ１、ｊ２、ｋ１及びｋ２、ｑと同じである。Ｍｍ＋は、ｍ価のオニウムカチオンである。ｍは１以上の整数である。］
　構成単位（ａ０４）としては、なかでも、一般式（ａ０４－ｍ）中のｑ＝０である場合のアニオン、すなわち、下記一般式（ａ０４”－ｍ）で表される化合物から誘導される構成単位であることがより好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
 ［式中、Ｒ０は、前記式（ａ０－ｗ）中のＲ０と同じである。－Ｌ１０４－は、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－又は－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＨ－である。ＲＡｒ２、ＲＡｒ２－Ｌ１４－、ＲＡｒ２－Ｌ１５－は、前記式（ａ０－ｍ）中のＲＡｒ２、ＲＡｒ２－Ｌ１４－、ＲＡｒ２－Ｌ１５－と同じである。Ｒ０２４は、ヨウ素化アルキル基又はヨウ素原子である。ｊ２４は、１～５の整数である。Ｍｍ＋は、ｍ価のオニウムカチオンである。ｍは１以上の整数である。］
　前記式（ａ０４”－ｍ）中、Ｒ０２４におけるヨウ素化アルキル基としては、炭素原子数１～５のヨウ素化アルキル基が挙げられ、炭素原子数１～３のヨウ素化アルキル基が好ましく、ヨウ素化メチル基、ヨウ素化エチル基がより好ましい。Ｒ０２４としては、ヨウ素原子が好ましい。ｊ２４は、１～４の整数であることが好ましく、２、３又は４がより好ましい。
　以下に、一般式（ａ０４－ｍ）で表される化合物のアニオン部の好ましい具体例を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000026
　一般式（ａ０４－ｍ）で表される化合物のアニオン部においては、ｊ２が１～５の整数であり、Ｒ０２２がヨウ素化アルキル基又はヨウ素原子であることがより好ましく、この中でも、さらに式中のｊ１＝０である場合のアニオンが好ましく、その中でも、ｑ＝０である場合のアニオンが特に好ましい。
　一般式（ａ０４－ｍ）で表される化合物のアニオン部は、前記の化学式（ａ０－ａｎ－１０１）～（ａ０－ａｎ－１５３）、（ａ０－ａｎ－２０１）～（ａ０－ａｎ－２２９）でそれぞれ表されるアニオンからなる群より選択される少なくとも一種が好ましく、前記の化学式（ａ０－ａｎ－１０１）～（ａ０－ａｎ－１４６）、（ａ０－ａｎ－２０１）～（ａ０－ａｎ－２２６）でそれぞれ表されるアニオンからなる群より選択される少なくとも一種がより好ましい。
［カチオン部］
　前記式（ａ０－ｍ）中、Ｍｍ＋は、ｍ価のオニウムカチオンである。ｍは１以上の整数である。
　Ｍｍ＋におけるオニウムカチオンとしては、スルホニウムカチオン、ヨードニウムカチオン、アンモニウムカチオンが挙げられ、スルホニウムカチオン、ヨードニウムカチオンが好ましい。
　好ましいカチオン部（（Ｍｍ＋）１／ｍ）としては、下記の一般式（ｃａ－１）～（ｃａ－３）でそれぞれ表されるオニウムカチオンが挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000027
 ［式中、Ｒ２０１～Ｒ２０７は、それぞれ独立に置換基を有してもよいアリール基、アルキル基またはアルケニル基を表す。Ｒ２０１～Ｒ２０３、Ｒ２０６～Ｒ２０７は、相互に結合して式中のイオウ原子と共に環を形成してもよい。Ｒ２０８～Ｒ２０９は、それぞれ独立に水素原子または炭素原子数１～５のアルキル基を表す。Ｒ２１０は、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアルケニル基、又は置換基を有してもよい－ＳＯ２－含有環式基である。Ｌ２０１は、－Ｃ（＝Ｏ）－または－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－を表す。］
　上記の一般式（ｃａ－１）～（ｃａ－３）中、Ｒ２０１～Ｒ２０７におけるアリール基としては、炭素原子数６～２０の無置換のアリール基が挙げられ、フェニル基、ナフチル基が好ましい。
　Ｒ２０１～Ｒ２０７におけるアルキル基としては、鎖状又は環状のアルキル基であって、炭素原子数１～３０のものが好ましい。
　Ｒ２０１～Ｒ２０７におけるアルケニル基としては、炭素原子数が２～１０であることが好ましい。
　Ｒ２０１～Ｒ２０７、およびＲ２１０が有していてもよい置換基としては、例えば、アルキル基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、カルボニル基、シアノ基、アミノ基、アリール基、下記の一般式（ｃａ－ｒ－１）～（ｃａ－ｒ－７）でそれぞれ表される基等が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000028
 ［式中、Ｒ’２０１は、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有してもよい環式基、置換基を有してもよい鎖状のアルキル基、又は置換基を有してもよい鎖状のアルケニル基である。］
　置換基を有してもよい環式基：
　該環式基は、環状の炭化水素基であることが好ましく、該環状の炭化水素基は、芳香族炭化水素基であってもよく、脂肪族炭化水素基であってもよい。脂肪族炭化水素基は、芳香族性を持たない炭化水素基を意味する。また、脂肪族炭化水素基は、飽和であってもよく、不飽和であってもよく、通常は飽和であることが好ましい。
　Ｒ’２０１における芳香族炭化水素基は、芳香環を有する炭化水素基である。該芳香族炭化水素基の炭素原子数は３～３０であることが好ましく、炭素原子数５～３０がより好ましく、炭素原子数５～２０がさらに好ましく、炭素原子数６～１５が特に好ましく、炭素原子数６～１０が最も好ましい。ただし、該炭素原子数には、置換基における炭素原子数を含まないものとする。
　Ｒ’２０１における芳香族炭化水素基が有する芳香環として具体的には、ベンゼン、フルオレン、ナフタレン、アントラセン、フェナントレン、ビフェニル、又はこれらの芳香環を構成する炭素原子の一部がヘテロ原子で置換された芳香族複素環などが挙げられる。芳香族複素環におけるヘテロ原子としては、酸素原子、硫黄原子、窒素原子等が挙げられる。
　Ｒ’２０１における芳香族炭化水素基として具体的には、前記芳香環から水素原子を１つ除いた基（アリール基：例えばフェニル基、ナフチル基など）、前記芳香環の水素原子の１つがアルキレン基で置換された基（例えばベンジル基、フェネチル基、１－ナフチルメチル基、２－ナフチルメチル基、１－ナフチルエチル基、２－ナフチルエチル基等のアリールアルキル基など）等が挙げられる。前記アルキレン基（アリールアルキル基中のアルキル鎖）の炭素原子数は、１～４であることが好ましく、炭素原子数１～２がより好ましく、炭素原子数１が特に好ましい。
　Ｒ’２０１における環状の脂肪族炭化水素基は、構造中に環を含む脂肪族炭化水素基が挙げられる。
　この構造中に環を含む脂肪族炭化水素基としては、脂環式炭化水素基（脂肪族炭化水素環から水素原子を１個除いた基）、脂環式炭化水素基が直鎖状または分岐鎖状の脂肪族炭化水素基の末端に結合した基、脂環式炭化水素基が直鎖状または分岐鎖状の脂肪族炭化水素基の途中に介在する基などが挙げられる。
　前記脂環式炭化水素基は、炭素原子数が３～２０であることが好ましく、３～１２であることがより好ましい。
　前記脂環式炭化水素基は、多環式基であってもよく、単環式基であってもよい。単環式の脂環式炭化水素基としては、モノシクロアルカンから１個以上の水素原子を除いた基が好ましい。該モノシクロアルカンとしては、炭素原子数３～６のものが好ましく、具体的にはシクロペンタン、シクロヘキサン等が挙げられる。多環式の脂環式炭化水素基としては、ポリシクロアルカンから１個以上の水素原子を除いた基が好ましく、該ポリシクロアルカンとしては、炭素原子数７～３０のものが好ましい。中でも、該ポリシクロアルカンとしては、アダマンタン、ノルボルナン、イソボルナン、トリシクロデカン、テトラシクロドデカン等の架橋環系の多環式骨格を有するポリシクロアルカン；ステロイド骨格を有する環式基等の縮合環系の多環式骨格を有するポリシクロアルカンがより好ましい。
　なかでも、Ｒ’２０１における環状の脂肪族炭化水素基としては、モノシクロアルカンまたはポリシクロアルカンから水素原子を１つ以上除いた基が好ましく、ポリシクロアルカンから水素原子を１つ除いた基がより好ましく、アダマンチル基、ノルボルニル基が特に好ましく、アダマンチル基が最も好ましい。
　脂環式炭化水素基に結合してもよい、直鎖状または分岐鎖状の脂肪族炭化水素基は、炭素原子数が１～１０であることが好ましく、炭素原子数１～６がより好ましく、炭素原子数１～４がさらに好ましく、炭素原子数１～３が特に好ましい。
　直鎖状の脂肪族炭化水素基としては、直鎖状のアルキレン基が好ましく、具体的には、メチレン基［－ＣＨ２－］、エチレン基［－（ＣＨ２）２－］、トリメチレン基［－（ＣＨ２）３－］、テトラメチレン基［－（ＣＨ２）４－］、ペンタメチレン基［－（ＣＨ２）５－］等が挙げられる。
　分岐鎖状の脂肪族炭化水素基としては、分岐鎖状のアルキレン基が好ましく、具体的には、－ＣＨ（ＣＨ３）－、－ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ３）－、－Ｃ（ＣＨ３）２－、－Ｃ（ＣＨ３）（ＣＨ２ＣＨ３）－、－Ｃ（ＣＨ３）（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３）－、－Ｃ（ＣＨ２ＣＨ３）２－等のアルキルメチレン基；－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２－、－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ（ＣＨ３）－、－Ｃ（ＣＨ３）２ＣＨ２－、－ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ３）ＣＨ２－、－Ｃ（ＣＨ２ＣＨ３）２－ＣＨ２－等のアルキルエチレン基；－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２－等のアルキルトリメチレン基；－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ２－等のアルキルテトラメチレン基などのアルキルアルキレン基等が挙げられる。アルキルアルキレン基におけるアルキル基としては、炭素原子数１～５の直鎖状のアルキル基が好ましい。
　また、Ｒ’２０１における環状の炭化水素基は、複素環等のようにヘテロ原子を含んでもよい。例えば、ラクトン含有環式基、－ＳＯ２－含有環式基、その他下記の化学式（ｒ－ｈｒ－１）～（ｒ－ｈｒ－１６）でそれぞれ表される複素環式基が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000029
　Ｒ’２０１の環式基における置換基としては、たとえば、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、水酸基、カルボニル基、ニトロ基等が挙げられる。
　置換基としてのアルキル基としては、炭素原子数１～５のアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基、ｎ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基が最も好ましい。
　置換基としてのアルコキシ基としては、炭素原子数１～５のアルコキシ基が好ましく、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロポキシ基、ｉｓｏ－プロポキシ基、ｎ－ブトキシ基、ｔｅｒｔ－ブトキシ基がより好ましく、メトキシ基、エトキシ基が最も好ましい。
　置換基としてのハロゲン原子としては、フッ素原子が好ましい。
　置換基としてのハロゲン化アルキル基としては、炭素原子数１～５のアルキル基、たとえばメチル基、エチル基、プロピル基、ｎ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基等の水素原子の一部または全部が前記ハロゲン原子で置換された基が挙げられる。
　置換基としてのカルボニル基は、環状の炭化水素基を構成するメチレン基（－ＣＨ２－）を置換する基である。
　置換基を有してもよい鎖状のアルキル基：
　Ｒ’２０１の鎖状のアルキル基としては、直鎖状又は分岐鎖状のいずれでもよい。
　直鎖状のアルキル基としては、炭素原子数が１～２０であることが好ましく、炭素原子数１～１５であることがより好ましく、炭素原子数１～１０が最も好ましい。
　分岐鎖状のアルキル基としては、炭素原子数が３～２０であることが好ましく、炭素原子数３～１５であることがより好ましく、炭素原子数３～１０が最も好ましい。具体的には、例えば、１－メチルエチル基、１－メチルプロピル基、２－メチルプロピル基、１－メチルブチル基、２－メチルブチル基、３－メチルブチル基、１－エチルブチル基、２－エチルブチル基、１－メチルペンチル基、２－メチルペンチル基、３－メチルペンチル基、４－メチルペンチル基などが挙げられる。
　置換基を有してもよい鎖状のアルケニル基：
　Ｒ’２０１の鎖状のアルケニル基としては、直鎖状又は分岐鎖状のいずれでもよく、炭素原子数が２～１０であることが好ましく、炭素原子数２～５がより好ましく、炭素原子数２～４がさらに好ましく、炭素原子数３が特に好ましい。直鎖状のアルケニル基としては、例えば、ビニル基、プロペニル基（アリル基）、ブテニル基などが挙げられる。分岐鎖状のアルケニル基としては、例えば、１－メチルビニル基、２－メチルビニル基、１－メチルプロペニル基、２－メチルプロペニル基などが挙げられる。
　鎖状のアルケニル基としては、上記の中でも、直鎖状のアルケニル基が好ましく、ビニル基、プロペニル基がより好ましく、ビニル基が特に好ましい。
　Ｒ’２０１の鎖状のアルキル基またはアルケニル基における置換基としては、たとえば、アルコキシ基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、水酸基、カルボニル基、ニトロ基、アミノ基、上記Ｒ’２０１における環式基等が挙げられる。
　Ｒ’２０１の置換基を有してもよい環式基、置換基を有してもよい鎖状のアルキル基、又は置換基を有してもよい鎖状のアルケニル基は、上述したものの他、置換基を有してもよい環式基又は置換基を有してもよい鎖状のアルキル基として、後述の式（ａ１－ｒ－２）で表される酸解離性基と同様のものも挙げられる。
　なかでも、Ｒ’２０１は、置換基を有してもよい環式基が好ましく、置換基を有してもよい環状の炭化水素基であることがより好ましい。より具体的には、例えば、フェニル基、ナフチル基、ポリシクロアルカンから１個以上の水素原子を除いた基；ラクトン含有環式基；－ＳＯ２－含有環式基などが好ましい。
　上記の一般式（ｃａ－１）～（ｃａ－３）中、Ｒ２０１～Ｒ２０３、Ｒ２０６～Ｒ２０７は、相互に結合して式中のイオウ原子と共に環を形成する場合、硫黄原子、酸素原子、窒素原子等のヘテロ原子や、カルボニル基、－ＳＯ－、－ＳＯ２－、－ＳＯ３－、－ＣＯＯ－、－ＣＯＮＨ－または－Ｎ（ＲＮ）－（該ＲＮは炭素原子数１～５のアルキル基である。）等の官能基を介して結合してもよい。形成される環としては、式中のイオウ原子をその環骨格に含む１つの環が、イオウ原子を含めて、３～１０員環であることが好ましく、５～７員環であることが特に好ましい。形成される環の具体例としては、例えばチオフェン環、チアゾール環、ベンゾチオフェン環、ジベンゾチオフェン環、９Ｈ－チオキサンテン環、チオキサントン環、チアントレン環、フェノキサチイン環、テトラヒドロチオフェニウム環、テトラヒドロチオピラニウム環等が挙げられる。
　Ｒ２０８～Ｒ２０９は、それぞれ独立に、水素原子または炭素原子数１～５のアルキル基を表し、水素原子又は炭素原子数１～３のアルキル基が好ましく、アルキル基となる場合、相互に結合して環を形成してもよい。
　Ｒ２１０は、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアルケニル基、又は置換基を有してもよい－ＳＯ２－含有環式基である。
　Ｒ２１０におけるアリール基としては、炭素原子数６～２０の無置換のアリール基が挙げられ、フェニル基、ナフチル基が好ましい。
　Ｒ２１０におけるアルキル基としては、鎖状又は環状のアルキル基であって、炭素原子数１～３０のものが好ましい。
　Ｒ２１０におけるアルケニル基としては、炭素原子数が２～１０であることが好ましい。
　Ｒ２１０における、置換基を有してもよい－ＳＯ２－含有環式基としては、「－ＳＯ２－含有多環式基」が好ましい。
　前記式（ｃａ－１）で表される好適なカチオンとして具体的には、下記の化学式（ｃａ－１－１）～（ｃａ－１－７５）でそれぞれ表されるカチオンが挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000030
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000031
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000032
 ［式中、ｇ１、ｇ２、ｇ３は繰返し数を示し、ｇ１は１～５の整数であり、ｇ２は０～２０の整数であり、ｇ３は０～２０の整数である。］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000033
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000034
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000035
 ［式中、Ｒ”２０１は水素原子又は置換基であって、該置換基としては前記Ｒ２０１～Ｒ２０７、およびＲ２１０～Ｒ２１２が有していてもよい置換基として挙げたものと同様である。］
　前記式（ｃａ－２）で表される好適なカチオンとして具体的には、ジフェニルヨードニウムカチオン、ビス（４－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）ヨードニウムカチオン等が挙げられる。
　前記式（ｃａ－３）で表される好適なカチオンとして具体的には、下記式（ｃａ－３－１）～（ｃａ－３－６）でそれぞれ表されるカチオンが挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000036
　また、カチオン部（（Ｍｍ＋）１／ｍ）としては、下記の一般式（ｃａ－４）で表される有機アンモニウムカチオンが挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000037
 ［式中、Ｒ１～Ｒ４は、それぞれ独立に、置換基を有してもよい炭化水素基である。あるいは、Ｒ１～Ｒ４のうち少なくとも２つが相互に結合して、式中の窒素原子と共に脂環構造を形成してもよい。］
　前記一般式（ｃａ－４）中、Ｒ１～Ｒ４における炭化水素基としては、それぞれ独立に、炭素原子数１～１５の炭化水素基が好ましく、炭素原子数１～１０の炭化水素基がより好ましい。また、Ｒ１～Ｒ４における炭化水素基の炭素原子数の合計は、１～２０であることが好ましく、３～１８であることがより好ましく、４～１５であることがさらに好ましい。
　Ｒ１～Ｒ４のそれぞれにおける炭化水素基としては、直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又は環状の炭化水素基が挙げられる。
　該直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基としては、炭素原子数１～１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基であることが好ましく、炭素原子数１～５の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基であることがより好ましい。
　該環状の炭化水素基としては、脂環式炭化水素基でも芳香族炭化水素基でもよい。
　脂環式炭化水素基としては、モノシクロアルカンから１個の水素原子を除いた基が好ましい。該モノシクロアルカンとしては、炭素原子数３～６のものが好ましく、具体的にはシクロペンタン、シクロヘキサン等が挙げられる。芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ベンジル基が好ましい。
　Ｒ１～Ｒ４における炭化水素基が有してもよい置換基としては、アルコキシ基、水酸基、オキソ基（＝Ｏ）、アミノ基等が挙げられる。
　前記式（ｃａ－４）で表される好適なカチオンとして具体的には、下記の化学式（ｃａ－４－１）～（ｃａ－４－４）でそれぞれ表されるカチオンが挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000038
　上記の中でも、Ｍｍ＋としては、ｍ価のスルホニウムカチオンが好ましく、前記式（ｃａ－１）で表されるカチオンがより好ましい。
　また、Ｍｍ＋としては、高感度化の観点から、フッ素原子を有するｍ価のオニウムカチオンが好ましい。このＭｍ＋としては、下記式（ｃａ－１－１）で表されるカチオンが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000039
 ［式中、Ｒｆ２０１～Ｒｆ２０３は、それぞれ独立に、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルキル基、または置換基を有してもよいアルケニル基を表す。Ｒｆ２０１～Ｒｆ２０３は、相互に結合して式中のイオウ原子と共に環を形成してもよい。ただし、Ｒｆ２０１～Ｒｆ２０３の少なくとも１つは、少なくとも１個のフッ素原子を含む。］
　前記式（ｃａ－１－１）中のＲｆ２０１～Ｒｆ２０３は、前記式（ｃａ－１）中のＲ２０１～Ｒ２０３とそれぞれ同様である。ただし、Ｒｆ２０１～Ｒｆ２０３の少なくとも１つは、少なくとも１個のフッ素原子を含む。式（ｃａ－１－１）で表されるカチオンは、３つ以上のフッ素原子を含むことが好ましい。Ｒｆ２０１～Ｒｆ２０３のいずれか１つが３つ以上のフッ素原子を有してもよく、Ｒｆ２０１～Ｒｆ２０３が含むフッ素原子の合計が３つ以上であってもよい。
　構成単位（ａ０）としては、上述した構成単位（ａ０１）、構成単位（ａ０２）、構成単位（ａ０３）及び構成単位（ａ０４）からなる群より選択される少なくとも一種を用いることが好ましく、構成単位（ａ０１）、構成単位（ａ０２）及び構成単位（ａ０３）からなる群より選択される少なくとも一種を用いることがより好ましく、構成単位（ａ０１）及び構成単位（ａ０２）からなる群より選択される少なくとも一種を用いることがさらに好ましく、構成単位（ａ０１）からなる群より選択される少なくとも一種を用いることが特に好ましい。
　これら構成単位（ａ０１）～（ａ０４）のカチオン部は、ｍ価のスルホニウムカチオンであることが好ましい。
　構成単位（ａ０）の具体例を以下に挙げるが、これらに限定されない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000040
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000041
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000042
　（Ａ１）成分が有する構成単位（ａ０）は、１種でもよく２種以上でもよい。
　（Ａ１）成分中の構成単位（ａ０）の含有割合は、（Ａ１）成分を構成する全構成単位の総量（１００モル％）に対して、１～５０モル％が好ましく、１～４０モル％がより好ましく、２～２０モル％がさらに好ましく、２～１０モル％が特に好ましい。
　構成単位（ａ０）の割合が、前記の好ましい範囲の下限値以上であると、感度がより向上する。構成単位（ａ０）の割合が、前記好ましい範囲の上限値以下であると、ラフネス低減等のリソグラフィー特性がより向上する。
　≪その他構成単位≫
　（Ａ１）成分は、上述した構成単位（ａ０）に加え、必要に応じてその他構成単位を有してもよい。
　その他構成単位としては、例えば、酸の作用により極性が増大する酸分解性基を含む構成単位（ａ１）；後述の一般式（ａ１０－１）で表される構成単位（ａ１０）；露光により酸を発生する構成単位（ａ５）（但し、構成単位（ａ０）に該当するものを除く）；ラクトン含有環式基を含む構成単位（ａ２）；後述の一般式（ａ８－１）で表される化合物から誘導される構成単位（ａ８）などが挙げられる。
　構成単位（ａ１）について：
　構成単位（ａ１）は、酸の作用により極性が増大する酸分解性基を含む構成単位である。
　酸分解性基としては、極性基が酸解離性基で保護された基（例えば、ＯＨ含有極性基の水素原子を、酸解離性基で保護した基）が挙げられる。
　酸解離性基としては、これまで、化学増幅型レジスト組成物用のベース樹脂の酸解離性基として提案されているものが挙げられる。
　化学増幅型レジスト組成物用のベース樹脂の酸解離性基として提案されているものとして具体的には、以下に説明する「アセタール型酸解離性基」、「第３級アルキルエステル型酸解離性基」、「第３級アルキルオキシカルボニル酸解離性基」、「第２級アルキルエステル型酸解離性基」が挙げられる。
　アセタール型酸解離性基：
　前記極性基のうちカルボキシ基または水酸基を保護する酸解離性基としては、例えば、下記一般式（ａ１－ｒ－１）で表される酸解離性基（以下「アセタール型酸解離性基」ということがある。）が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000043
 ［式中、Ｒａ’１、Ｒａ’２は水素原子またはアルキル基である。Ｒａ’３は炭化水素基であって、Ｒａ’３は、Ｒａ’１、Ｒａ’２のいずれかと結合して環を形成してもよい。］
　式（ａ１－ｒ－１）中、Ｒａ’１及びＲａ’２のうち、少なくとも一方が水素原子であることが好ましく、両方が水素原子であることがより好ましい。
　Ｒａ’１又はＲａ’２がアルキル基である場合、該アルキル基としては、炭素原子数１～５のアルキル基が好ましい。具体的には、直鎖状または分岐鎖状のアルキル基が好ましく挙げられる。より具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基などが挙げられ、メチル基またはエチル基がより好ましく、メチル基が特に好ましい。
　式（ａ１－ｒ－１）中、Ｒａ’３の炭化水素基としては、直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキル基、又は環状の炭化水素基が挙げられる。
　該直鎖状のアルキル基は、炭素原子数が１～５であることが好ましく、炭素原子数が１～４がより好ましく、炭素原子数１または２がさらに好ましい。具体的には、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｎ－ペンチル基等が挙げられる。これらの中でも、メチル基、エチル基またはｎ－ブチル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。
　該分岐鎖状のアルキル基は、炭素原子数が３～１０であることが好ましく、炭素原子数３～５がより好ましい。具体的には、イソプロピル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、１，１－ジエチルプロピル基、２，２－ジメチルブチル基等が挙げられ、イソプロピル基であることが好ましい。
　Ｒａ’３が環状の炭化水素基となる場合、該炭化水素基は、脂環式炭化水素基でも芳香族炭化水素基でもよく、また、多環式基でも単環式基でもよい。
　単環式基である脂環式炭化水素基としては、モノシクロアルカンから１個の水素原子を除いた基が好ましい。該モノシクロアルカンとしては、炭素原子数３～６のものが好ましく、具体的にはシクロペンタン、シクロヘキサン等が挙げられる。
　多環式基である脂環式炭化水素基としては、ポリシクロアルカンから１個の水素原子を除いた基が好ましく、該ポリシクロアルカンとしては、炭素原子数７～１２のものが好ましく、具体的にはアダマンタン、ノルボルナン、イソボルナン、トリシクロデカン、テトラシクロドデカン等が挙げられる。
　Ｒａ’３の環状の炭化水素基が芳香族炭化水素基となる場合、該芳香族炭化水素基は、芳香環を少なくとも１つ有する炭化水素基である。
　この芳香環は、４ｎ＋２個のπ電子をもつ環状共役系であれば特に限定されず、単環式でも多環式でもよい。芳香環の炭素原子数は５～３０であることが好ましく、炭素原子数５～２０がより好ましく、炭素原子数６～１５がさらに好ましく、炭素原子数６～１２が特に好ましい。
　芳香環として具体的には、ベンゼン、ナフタレン、アントラセン、フェナントレン等の芳香族炭化水素環；前記芳香族炭化水素環を構成する炭素原子の一部がヘテロ原子で置換された芳香族複素環等が挙げられる。芳香族複素環におけるヘテロ原子としては、酸素原子、硫黄原子、窒素原子等が挙げられる。芳香族複素環として具体的には、ピリジン環、チオフェン環等が挙げられる。
　Ｒａ’３における芳香族炭化水素基として具体的には、前記芳香族炭化水素環または芳香族複素環から水素原子を１つ除いた基（アリール基またはヘテロアリール基）；２以上の芳香環を含む芳香族化合物（例えばビフェニル、フルオレン等）から水素原子を１つ除いた基；前記芳香族炭化水素環または芳香族複素環の水素原子の１つがアルキレン基で置換された基（例えば、ベンジル基、フェネチル基、１－ナフチルメチル基、２－ナフチルメチル基、１－ナフチルエチル基、２－ナフチルエチル基等のアリールアルキル基など）等が挙げられる。前記芳香族炭化水素環または芳香族複素環に結合するアルキレン基の炭素原子数は、１～４であることが好ましく、炭素原子数１～２であることがより好ましく、炭素原子数１であることが特に好ましい。
　Ｒａ’３における環状の炭化水素基は、置換基を有してもよい。この置換基としては、例えば、－ＲＰ１、－ＲＰ２－Ｏ－ＲＰ１、－ＲＰ２－ＣＯ－ＲＰ１、－ＲＰ２－ＣＯ－ＯＲＰ１、－ＲＰ２－Ｏ－ＣＯ－ＲＰ１、－ＲＰ２－ＯＨ、－ＲＰ２－ＣＮ又は－ＲＰ２－ＣＯＯＨ（以下これらの置換基をまとめて「Ｒａｘ５」ともいう。）等が挙げられる。
　ここで、ＲＰ１は、炭素原子数１～１０の１価の鎖状飽和炭化水素基、炭素原子数３～２０の１価の脂肪族環状飽和炭化水素基又は炭素原子数６～３０の１価の芳香族炭化水素基である。また、ＲＰ２は、単結合、炭素原子数１～１０の２価の鎖状飽和炭化水素基、炭素原子数３～２０の２価の脂肪族環状飽和炭化水素基又は炭素原子数６～３０の２価の芳香族炭化水素基である。但し、ＲＰ１及びＲＰ２の鎖状飽和炭化水素基、脂肪族環状飽和炭化水素基及び芳香族炭化水素基の有する水素原子の一部又は全部はフッ素原子で置換されていてもよい。上記脂肪族環状炭化水素基は、上記置換基を１種単独で１つ以上有していてもよいし、上記置換基のうち複数種を各１つ以上有していてもよい。
　炭素原子数１～１０の１価の鎖状飽和炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基等が挙げられる。
　炭素原子数３～２０の１価の脂肪族環状飽和炭化水素基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロデシル基、シクロドデシル基等の単環式脂肪族飽和炭化水素基；ビシクロ［２．２．２］オクタニル基、トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカニル基、トリシクロ［３．３．１．１３，７］デカニル基、テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］ドデカニル基、アダマンチル基等の多環式脂肪族飽和炭化水素基が挙げられる。
　炭素原子数６～３０の１価の芳香族炭化水素基としては、例えば、ベンゼン、ビフェニル、フルオレン、ナフタレン、アントラセン、フェナントレン等の芳香族炭化水素環から水素原子１個を除いた基が挙げられる。
　Ｒａ’３が、Ｒａ’１、Ｒａ’２のいずれかと結合して環を形成する場合、該環式基としては、４～７員環が好ましく、４～６員環がより好ましい。該環式基の具体例としては、テトラヒドロピラニル基、テトラヒドロフラニル基等が挙げられる。
　第３級アルキルエステル型酸解離性基：
　上記極性基のうち、カルボキシ基を保護する酸解離性基としては、例えば、下記一般式（ａ１－ｒ－２）で表される酸解離性基が挙げられる。
　なお、下記式（ａ１－ｒ－２）で表される酸解離性基のうち、アルキル基により構成されるものを、以下、便宜上「第３級アルキルエステル型酸解離性基」ということがある。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000044
 ［式中、Ｒａ’４～Ｒａ’６はそれぞれ炭化水素基であって、Ｒａ’５、Ｒａ’６は互いに結合して環を形成してもよい。］
　Ｒａ’４の炭化水素基としては、直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキル基、鎖状もしくは環状のアルケニル基、鎖状のアルキニル基、又は、環状の炭化水素基が挙げられる。
　Ｒａ’４における直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキル基、環状の炭化水素基（単環式基である脂環式炭化水素基、多環式基である脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基）は、前記Ｒａ’３と同様のものが挙げられる。
　Ｒａ’４における鎖状もしくは環状のアルケニル基は、炭素原子数２～１０のアルケニル基が好ましい。
　Ｒａ’５、Ｒａ’６の炭化水素基としては、前記Ｒａ’３と同様のものが挙げられる。
　Ｒａ’５とＲａ’６とが互いに結合して環を形成する場合、下記一般式（ａ１－ｒ２－１）で表される基、下記一般式（ａ１－ｒ２－２）で表される基、下記一般式（ａ１－ｒ２－３）で表される基が好適に挙げられる。
　一方、Ｒａ’４～Ｒａ’６が互いに結合せず、独立した炭化水素基である場合、下記一般式（ａ１－ｒ２－４）で表される基が好適に挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000045
 ［式（ａ１－ｒ２－１）中、Ｒａ’１０は、一部がハロゲン原子又はヘテロ原子含有基で置換されていてもよい直鎖状又は分岐鎖状の炭素原子数１～１２のアルキル基を示す。Ｒａ’１１はＲａ’１０が結合した炭素原子と共に脂肪族環式基を形成する基を示す。式（ａ１－ｒ２－２）中、Ｙａは炭素原子である。Ｘａは、Ｙａと共に環状の炭化水素基を形成する基である。この環状の炭化水素基が有する水素原子の一部又は全部は置換されていてもよい。Ｒａ１０１～Ｒａ１０３は、それぞれ独立して、水素原子、炭素原子数１～１０の１価の鎖状飽和炭化水素基又は炭素原子数３～２０の１価の脂肪族環状飽和炭化水素基である。この鎖状飽和炭化水素基及び脂肪族環状飽和炭化水素基が有する水素原子の一部又は全部は置換されていてもよい。Ｒａ１０１～Ｒａ１０３の２つ以上が互いに結合して環状構造を形成していてもよい。式（ａ１－ｒ２－３）中、Ｙａａは炭素原子である。Ｘａａは、Ｙａａと共に脂肪族環式基を形成する基である。Ｒａ１０４は、置換基を有してもよい芳香族炭化水素基である。式（ａ１－ｒ２－４）中、Ｒａ’１２及びＲａ’１３は、それぞれ独立に、炭素原子数１～１０の１価の鎖状飽和炭化水素基である。この鎖状飽和炭化水素基が有する水素原子の一部又は全部は置換されていてもよい。Ｒａ’１４は、置換基を有してもよい炭化水素基である。＊は結合手を示す（以下、同様）。］
　上記の式（ａ１－ｒ２－１）中、Ｒａ’１０は、一部がハロゲン原子もしくはヘテロ原子含有基で置換されていてもよい直鎖状もしくは分岐鎖状の炭素原子数１～１２のアルキル基である。
　Ｒａ’１０における、直鎖状のアルキル基としては、炭素原子数１～１２であり、炭素原子数１～１０が好ましく、炭素原子数１～５が特に好ましい。
　Ｒａ’１０における、分岐鎖状のアルキル基としては、前記Ｒａ’３と同様のものが挙げられる。
　Ｒａ’１０におけるアルキル基は、一部がハロゲン原子もしくはヘテロ原子含有基で置換されていてもよい。例えば、アルキル基を構成する水素原子の一部が、ハロゲン原子又はヘテロ原子含有基で置換されていてもよい。また、アルキル基を構成する炭素原子（メチレン基など）の一部が、ヘテロ原子含有基で置換されていてもよい。
　ここでいうヘテロ原子としては、酸素原子、硫黄原子、窒素原子が挙げられる。ヘテロ原子含有基としては、（－Ｏ－）、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｃ（＝Ｏ）－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＨ－、－ＮＨ－、－Ｓ－、－Ｓ（＝Ｏ）２－、－Ｓ（＝Ｏ）２－Ｏ－等が挙げられる。
　式（ａ１－ｒ２－１）中、Ｒａ’１１（Ｒａ’１０が結合した炭素原子と共に形成する脂肪族環式基）は、式（ａ１－ｒ－１）におけるＲａ’３の単環式基又は多環式基である脂環式炭化水素基（脂環式炭化水素基）として挙げた基が好ましい。その中でも、単環式の脂環式炭化水素基が好ましく、具体的には、シクロペンチル基、シクロヘキシル基がより好ましい。
　式（ａ１－ｒ２－２）中、ＸａがＹａと共に形成する環状の炭化水素基としては、前記式（ａ１－ｒ－１）中のＲａ’３における環状の１価の炭化水素基（脂環式炭化水素基）から水素原子１個以上をさらに除いた基が挙げられる。
　ＸａがＹａと共に形成する環状の炭化水素基は、置換基を有してもよい。この置換基としては、上記Ｒａ’３における環状の炭化水素基が有していてもよい置換基と同様のものが挙げられる。
　式（ａ１－ｒ２－２）中、Ｒａ１０１～Ｒａ１０３における、炭素原子数１～１０の１価の鎖状飽和炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基等が挙げられる。
　Ｒａ１０１～Ｒａ１０３における、炭素原子数３～２０の１価の脂肪族環状飽和炭化水素基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロデシル基、シクロドデシル基等の単環式脂肪族飽和炭化水素基；ビシクロ［２．２．２］オクタニル基、トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカニル基、トリシクロ［３．３．１．１３，７］デカニル基、テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］ドデカニル基、アダマンチル基等の多環式脂肪族飽和炭化水素基等が挙げられる。
　Ｒａ１０１～Ｒａ１０３は、中でも、合成容易性の観点から、水素原子、炭素原子数１～１０の１価の鎖状飽和炭化水素基が好ましく、その中でも、水素原子、メチル基、エチル基がより好ましく、水素原子が特に好ましい。
　上記Ｒａ１０１～Ｒａ１０３で表される鎖状飽和炭化水素基、又は脂肪族環状飽和炭化水素基が有する置換基としては、例えば、上述のＲａｘ５と同様の基が挙げられる。
　Ｒａ１０１～Ｒａ１０３の２つ以上が互いに結合して環状構造を形成することにより生じる炭素－炭素二重結合を含む基としては、例えば、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基、メチルシクロペンテニル基、メチルシクロヘキセニル基、シクロペンチリデンエテニル基、シクロへキシリデンエテニル基等が挙げられる。これらの中でも、合成容易性の観点から、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基、シクロペンチリデンエテニル基が好ましい。
　式（ａ１－ｒ２－３）中、ＸａａがＹａａと共に形成する脂肪族環式基は、式（ａ１－ｒ－１）におけるＲａ’３の単環式基又は多環式基である脂環式炭化水素基として挙げた基が好ましい。
　式（ａ１－ｒ２－３）中、Ｒａ１０４における芳香族炭化水素基としては、炭素原子数５～３０の芳香族炭化水素環から水素原子１個以上を除いた基が挙げられる。中でも、Ｒａ１０４は、炭素原子数６～１５の芳香族炭化水素環から水素原子１個以上を除いた基が好ましく、ベンゼン、ナフタレン、アントラセン又はフェナントレンから水素原子１個以上を除いた基がより好ましく、ベンゼン、ナフタレン又はアントラセンから水素原子１個以上を除いた基がさらに好ましく、ベンゼン又はナフタレンから水素原子１個以上を除いた基が特に好ましく、ベンゼンから水素原子１個以上を除いた基が最も好ましい。
　式（ａ１－ｒ２－３）中のＲａ１０４が有していてもよい置換基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、ハロゲン原子、アルコキシ基（メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等）、アルキルオキシカルボニル基等が挙げられる。
　式（ａ１－ｒ２－４）中、Ｒａ’１２及びＲａ’１３は、それぞれ独立に、炭素原子数１～１０の１価の鎖状飽和炭化水素基である。Ｒａ’１２及びＲａ’１３における、炭素原子数１～１０の１価の鎖状飽和炭化水素基としては、上記のＲａ１０１～Ｒａ１０３における、炭素原子数１～１０の１価の鎖状飽和炭化水素基と同様のものが挙げられる。この鎖状飽和炭化水素基が有する水素原子の一部又は全部は置換されていてもよい。
　Ｒａ’１２及びＲａ’１３は、中でも、炭素原子数１～５のアルキル基が好ましく、炭素原子数１～５のアルキル基がより好ましく、メチル基、エチル基がさらに好ましく、メチル基が特に好ましい。
　上記Ｒａ’１２及びＲａ’１３で表される鎖状飽和炭化水素基が置換されている場合、その置換基としては、例えば、上述のＲａｘ５と同様の基が挙げられる。
　式（ａ１－ｒ２－４）中、Ｒａ’１４は、置換基を有してもよい炭化水素基である。Ｒａ’１４における炭化水素基としては、直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキル基、又は環状の炭化水素基が挙げられる。
　Ｒａ’１４における直鎖状のアルキル基は、炭素原子数が１～５であることが好ましく、１～４がより好ましく、１又は２がさらに好ましい。具体的には、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｎ－ペンチル基等が挙げられる。これらの中でも、メチル基、エチル基又はｎ－ブチル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましい。
　Ｒａ’１４における分岐鎖状のアルキル基は、炭素原子数が３～１０であることが好ましく、３～５がより好ましい。具体的には、イソプロピル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、１，１－ジエチルプロピル基、２，２－ジメチルブチル基等が挙げられ、イソプロピル基であることが好ましい。
　Ｒａ’１４が環状の炭化水素基となる場合、該炭化水素基は、脂環式炭化水素基でも芳香族炭化水素基でもよく、また、多環式基でも単環式基でもよい。
　単環式基である脂環式炭化水素基としては、モノシクロアルカンから１個の水素原子を除いた基が好ましい。該モノシクロアルカンとしては、炭素原子数３～６のものが好ましく、具体的にはシクロペンタン、シクロヘキサン等が挙げられる。
　多環式基である脂環式炭化水素基としては、ポリシクロアルカンから１個の水素原子を除いた基が好ましく、該ポリシクロアルカンとしては、炭素原子数７～１２のものが好ましく、具体的にはアダマンタン、ノルボルナン、イソボルナン、トリシクロデカン、テトラシクロドデカン等が挙げられる。
　Ｒａ’１４における芳香族炭化水素基としては、Ｒａ１０４における芳香族炭化水素基と同様のものが挙げられる。中でも、Ｒａ’１４は、炭素原子数６～１５の芳香族炭化水素環から水素原子１個以上を除いた基が好ましく、ベンゼン、ナフタレン、アントラセン又はフェナントレンから水素原子１個以上を除いた基がより好ましく、ベンゼン、ナフタレン又はアントラセンから水素原子１個以上を除いた基がさらに好ましく、ナフタレン又はアントラセンから水素原子１個以上を除いた基が特に好ましく、ナフタレンから水素原子１個以上を除いた基が最も好ましい。
　Ｒａ’１４が有していてもよい置換基としては、Ｒａ１０４が有していてもよい置換基と同様のものが挙げられる。
　式（ａ１－ｒ２－４）中のＲａ’１４がナフチル基である場合、前記式（ａ１－ｒ２－４）における第３級炭素原子と結合する位置は、ナフチル基の１位又は２位のいずれであってもよい。
　式（ａ１－ｒ２－４）中のＲａ’１４がアントリル基である場合、前記式（ａ１－ｒ２－４）における第３級炭素原子と結合する位置は、アントリル基の１位、２位又は９位のいずれであってもよい。
　前記式（ａ１－ｒ２－１）で表される基の具体例を以下に挙げる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000046
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000047
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000048
　前記式（ａ１－ｒ２－２）で表される基の具体例を以下に挙げる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000049
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000050
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000051
　前記式（ａ１－ｒ２－３）で表される基の具体例を以下に挙げる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000052
　前記式（ａ１－ｒ２－４）で表される基の具体例を以下に挙げる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000053
　第３級アルキルオキシカルボニル酸解離性基：
　前記極性基のうち水酸基を保護する酸解離性基としては、例えば、下記一般式（ａ１－ｒ－３）で表される酸解離性基（以下便宜上「第３級アルキルオキシカルボニル酸解離性基」ということがある）が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000054
 ［式中、Ｒａ’７～Ｒａ’９はそれぞれアルキル基である。］
　式（ａ１－ｒ－３）中、Ｒａ’７～Ｒａ’９は、それぞれ炭素原子数１～５のアルキル基が好ましく、炭素原子数１～３のアルキル基がより好ましい。
　また、各アルキル基の合計の炭素原子数は、３～７であることが好ましく、炭素原子数３～５であることがより好ましく、炭素原子数３～４であることが最も好ましい。
　第２級アルキルエステル型酸解離性基：
　上記極性基のうち、カルボキシ基を保護する酸解離性基としては、例えば、下記一般式（ａ１－ｒ－４）で表される酸解離性基が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000055
 ［式中、Ｒａ’１０は、炭化水素基である。Ｒａ’１１ａ及びＲａ’１１ｂは、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又はアルキル基である。Ｒａ’１２は、水素原子又は炭化水素基である。Ｒａ’１０とＲａ’１１ａ又はＲａ’１１ｂとは、互いに結合して環を形成してもよい。Ｒａ’１１ａ又はＲａ’１１ｂと、Ｒａ’１２とは、互いに結合して環を形成してもよい。］
　式中、Ｒａ’１０及びＲａ’１２における炭化水素基としては、前記Ｒａ’３と同様のものが挙げられる。
　式中、Ｒａ’１１ａ及びＲａ’１１ｂにおけるアルキル基としては、前記Ｒａ’１におけるアルキル基と同様のものが挙げられる。
　式中、Ｒａ’１０及びＲａ’１２における炭化水素基、並びに、Ｒａ’１１ａ及びＲａ’１１ｂにおけるアルキル基は置換基を有してもよい。この置換基としては、例えば、上述したＲａｘ５等が挙げられる。
　Ｒａ’１０とＲａ’１１ａ又はＲａ’１１ｂとは、互いに結合して環を形成してもよい。該環は、多環であっても、単環であってもよく、脂環であっても、芳香環であってもよい。
　該脂環及び芳香環は、ヘテロ原子を含むものでもよい。
　Ｒａ’１０とＲａ’１１ａ又はＲａ’１１ｂとが、互いに結合して形成する環としては、上記の中でも、モノシクロアルケン、モノシクロアルケンの炭素原子の一部がヘテロ原子（酸素原子、硫黄原子等）で置換された環、モノシクロアルカジエンが好ましく、炭素数３～６のシクロアルケンが好ましく、シクロペンテン又はシクロヘキセンが好ましい。
　Ｒａ’１０とＲａ’１１ａ又はＲａ’１１ｂとが、互いに結合して形成する環は、縮合環であってもよい。該縮合環として、具体的には、インダン等が挙げられる。
　Ｒａ’１０とＲａ’１１ａ又はＲａ’１１ｂとが、互いに結合して形成する環は、置換基を有してもよい。この置換基としては、例えば、上述したＲａｘ５等が挙げられる。
　Ｒａ’１１ａ又はＲａ’１１ｂと、Ｒａ’１２とは、互いに結合して環を形成してもよく、該環としては、Ｒａ’１０とＲａ’１１ａ又はＲａ’１１ｂとが、互いに結合して形成する環と同様のものが挙げられる。
　前記式（ａ１－ｒ－４）で表される基の具体例を以下に挙げる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000056
　構成単位（ａ１）としては、α位の炭素原子に結合した水素原子が置換基で置換されていてもよいアクリル酸エステルから誘導される構成単位、アクリルアミドから誘導される構成単位、ヒドロキシスチレン若しくはヒドロキシスチレン誘導体から誘導される構成単位の水酸基における水素原子の少なくとも一部が前記酸分解性基を含む置換基により保護された構成単位、ビニル安息香酸若しくはビニル安息香酸誘導体から誘導される構成単位の－Ｃ（＝Ｏ）－ＯＨにおける水素原子の少なくとも一部が前記酸分解性基を含む置換基により保護された構成単位等が挙げられる。
　構成単位（ａ１）としては、上記のなかでも、α位の炭素原子に結合した水素原子が置換基で置換されていてもよいアクリル酸エステルから誘導される構成単位が好ましい。
　かかる構成単位（ａ１）の好ましい具体例としては、下記一般式（ａ１－１）又は（ａ１－２）で表される構成単位が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000057
 ［式中、Ｒは、水素原子、炭素原子数１～５のアルキル基又は炭素原子数１～５のハロゲン化アルキル基である。Ｖａ１は、エーテル結合を有していてもよい２価の炭化水素基である。ｎａ１は、０～２の整数である。Ｒａ１は、上記の一般式（ａ１－ｒ－１）、（ａ１－ｒ－２）又は（ａ１－ｒ－４）で表される酸解離性基である。Ｗａ１はｎａ２＋１価の炭化水素基であり、ｎａ２は１～３の整数であり、Ｒａ２は上記の一般式（ａ１－ｒ－１）又は（ａ１－ｒ－３）で表される酸解離性基である。］
　前記式（ａ１－１）中、Ｒの炭素原子数１～５のアルキル基は、炭素原子数１～５の直鎖状または分岐鎖状のアルキル基が好ましく、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基等が挙げられる。炭素原子数１～５のハロゲン化アルキル基は、前記炭素原子数１～５のアルキル基の水素原子の一部または全部がハロゲン原子で置換された基である。該ハロゲン原子としては、特にフッ素原子が好ましい。
　Ｒとしては、水素原子、炭素原子数１～５のアルキル基又は炭素原子数１～５のフッ素化アルキル基が好ましく、工業上の入手の容易さから、水素原子又はメチル基が最も好ましい。
　前記式（ａ１－１）中、Ｖａ１における２価の炭化水素基は、脂肪族炭化水素基であってもよく、芳香族炭化水素基であってもよい。
　Ｖａ１における２価の炭化水素基としての脂肪族炭化水素基は、飽和であってもよく、不飽和であってもよく、通常は飽和であることが好ましい。
　該脂肪族炭化水素基として、より具体的には、直鎖状もしくは分岐鎖状の脂肪族炭化水素基、又は、構造中に環を含む脂肪族炭化水素基等が挙げられる。
　前記直鎖状の脂肪族炭化水素基は、炭素原子数が１～１０であることが好ましく、炭素原子数１～６がより好ましく、炭素原子数１～４がさらに好ましく、炭素原子数１～３が最も好ましい。
　直鎖状の脂肪族炭化水素基としては、直鎖状のアルキレン基が好ましく、具体的には、メチレン基［－ＣＨ２－］、エチレン基［－（ＣＨ２）２－］、トリメチレン基［－（ＣＨ２）３－］、テトラメチレン基［－（ＣＨ２）４－］、ペンタメチレン基［－（ＣＨ２）５－］等が挙げられる。
　前記分岐鎖状の脂肪族炭化水素基は、炭素原子数が２～１０であることが好ましく、炭素原子数３～６がより好ましく、炭素原子数３又は４がさらに好ましく、炭素原子数３が最も好ましい。
　分岐鎖状の脂肪族炭化水素基としては、分岐鎖状のアルキレン基が好ましく、具体的には、－ＣＨ（ＣＨ３）－、－ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ３）－、－Ｃ（ＣＨ３）２－、－Ｃ（ＣＨ３）（ＣＨ２ＣＨ３）－、－Ｃ（ＣＨ３）（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３）－、－Ｃ（ＣＨ２ＣＨ３）２－等のアルキルメチレン基；－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２－、－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ（ＣＨ３）－、－Ｃ（ＣＨ３）２ＣＨ２－、－ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ３）ＣＨ２－、－Ｃ（ＣＨ２ＣＨ３）２－ＣＨ２－等のアルキルエチレン基；－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２－等のアルキルトリメチレン基；－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ２－等のアルキルテトラメチレン基などのアルキルアルキレン基等が挙げられる。アルキルアルキレン基におけるアルキル基としては、炭素原子数１～５の直鎖状のアルキル基が好ましい。
　前記構造中に環を含む脂肪族炭化水素基としては、脂環式炭化水素基（脂肪族炭化水素環から水素原子を２個除いた基）、脂環式炭化水素基が直鎖状または分岐鎖状の脂肪族炭化水素基の末端に結合した基、脂環式炭化水素基が直鎖状または分岐鎖状の脂肪族炭化水素基の途中に介在する基などが挙げられる。前記直鎖状または分岐鎖状の脂肪族炭化水素基としては、前記直鎖状の脂肪族炭化水素基または前記分岐鎖状の脂肪族炭化水素基と同様のものが挙げられる。
　前記脂環式炭化水素基は、炭素原子数が３～２０であることが好ましく、炭素原子数３～１２であることがより好ましい。
　前記脂環式炭化水素基は、多環式であってもよく、単環式であってもよい。単環式の脂環式炭化水素基としては、モノシクロアルカンから２個の水素原子を除いた基が好ましい。該モノシクロアルカンとしては炭素原子数３～６のものが好ましく、具体的にはシクロペンタン、シクロヘキサン等が挙げられる。多環式の脂環式炭化水素基としては、ポリシクロアルカンから２個の水素原子を除いた基が好ましく、該ポリシクロアルカンとしては炭素原子数７～１２のものが好ましく、具体的にはアダマンタン、ノルボルナン、イソボルナン、トリシクロデカン、テトラシクロドデカン等が挙げられる。
　Ｖａ１における２価の炭化水素基としての芳香族炭化水素基は、芳香環を有する炭化水素基である。
　かかる芳香族炭化水素基は、炭素原子数が３～３０であることが好ましく、５～３０であることがより好ましく、５～２０がさらに好ましく、６～１５が特に好ましく、６～１２が最も好ましい。ただし、該炭素原子数には、置換基における炭素原子数を含まないものとする。
　芳香族炭化水素基が有する芳香環として具体的には、ベンゼン、ビフェニル、フルオレン、ナフタレン、アントラセン、フェナントレン等の芳香族炭化水素環；前記芳香族炭化水素環を構成する炭素原子の一部がヘテロ原子で置換された芳香族複素環等が挙げられる。芳香族複素環におけるヘテロ原子としては、酸素原子、硫黄原子、窒素原子等が挙げられる。
　該芳香族炭化水素基として具体的には、前記芳香族炭化水素環から水素原子を２つ除いた基（アリーレン基）；前記芳香族炭化水素環から水素原子を１つ除いた基（アリール基）の水素原子の１つがアルキレン基で置換された基（例えば、ベンジル基、フェネチル基、１－ナフチルメチル基、２－ナフチルメチル基、１－ナフチルエチル基、２－ナフチルエチル基等のアリールアルキル基におけるアリール基から水素原子をさらに１つ除いた基）等が挙げられる。前記アルキレン基（アリールアルキル基中のアルキル鎖）の炭素原子数は、１～４であることが好ましく、１～２であることがより好ましく、１であることが特に好ましい。
　前記式（ａ１－１）中、Ｒａ１は、上記の一般式（ａ１－ｒ－１）、（ａ１－ｒ－２）又は（ａ１－ｒ－４）で表される酸解離性基である。
　前記式（ａ１－２）中、Ｗａ１におけるｎａ２＋１価の炭化水素基は、脂肪族炭化水素基であってもよく、芳香族炭化水素基であってもよい。該脂肪族炭化水素基は、芳香族性を持たない炭化水素基を意味し、飽和であってもよく、不飽和であってもよく、通常は飽和であることが好ましい。前記脂肪族炭化水素基としては、直鎖状または分岐鎖状の脂肪族炭化水素基、構造中に環を含む脂肪族炭化水素基、或いは直鎖状または分岐鎖状の脂肪族炭化水素基と構造中に環を含む脂肪族炭化水素基とを組み合わせた基が挙げられる。
　前記ｎａ２＋１価は、２～４価が好ましく、２又は３価がより好ましい。
　前記式（ａ１－２）中、Ｒａ２は、上記の一般式（ａ１－ｒ－１）又は（ａ１－ｒ－３）で表される酸解離性基である。
　以下に構成単位（ａ１）の具体例を示す。以下の各式中、Ｒαは、水素原子、メチル基またはトリフルオロメチル基を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000058
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000059
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000060
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000061
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000062
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000063
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000064
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000065
　（Ａ１）成分が有する構成単位（ａ１）は、１種でもよく２種以上でもよい。
　構成単位（ａ１）としては、電子線やＥＵＶによるリソグラフィーでの特性をより高められやすいことから、前記式（ａ１－１）で表される構成単位がより好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000066
 ［式中、Ｒａ１”は、一般式（ａ１－ｒ２－１）、（ａ１－ｒ２－２）、（ａ１－ｒ２－３）又は（ａ１－ｒ２－４）で表される酸解離性基である。＊は結合手を示す。］
　前記式（ａ１－１－１）中、Ｒ、Ｖａ１及びｎａ１は、前記式（ａ１－１）中のＲ、Ｖａ１及びｎａ１と同様である。
　一般式（ａ１－ｒ２－１）、（ａ１－ｒ２－２）、（ａ１－ｒ２－３）又は（ａ１－ｒ２－４）で表される酸解離性基についての説明は、上述の通りである。中でも、ＥＢ用又はＥＵＶ用において反応性を高められて好適なことから、酸解離性基が環式基であるものを選択することが好ましく、一般式（ａ１－ｒ２－１）で表される酸解離性基、一般式（ａ１－ｒ２－２）で表される酸解離性基がより好ましく、一般式（ａ１－ｒ２－１）で表される酸解離性基がさらに好ましい。
　（Ａ１）成分中の構成単位（ａ１）の割合は、該（Ａ１）成分を構成する全構成単位の合計（１００モル％）に対して、２５～７０モル％が好ましく、３５～６５モル％がより好ましく、４５～６０モル％がさらに好ましい。
　構成単位（ａ１）の割合を、前記の好ましい範囲の下限値以上とすることによって、感度、解像性、パターン寸法の均一性等のリソグラフィー特性が向上する。一方、前記の好ましい範囲の上限値以下であると、他の構成単位とのバランスを取ることができ、種々のリソグラフィー特性が良好となる。
　構成単位（ａ１０）：
　構成単位（ａ１０）は、下記一般式（ａ１０－１）で表される構成単位である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000067
 ［式中、Ｒは、水素原子、炭素原子数１～５のアルキル基又は炭素原子数１～５のハロゲン化アルキル基である。Ｙａｘ１は、単結合又は２価の連結基である。Ｗａｘ１は、置換基を有してもよい芳香族炭化水素基である。ｎａｘ１は、１以上の整数である。］
　前記式（ａ１０－１）中、Ｒとしては、水素原子、炭素原子数１～５のアルキル基又は炭素原子数１～５のフッ素化アルキル基が好ましく、工業上の入手の容易さから、水素原子又はメチル基が特に好ましい。
　前記式（ａ１０－１）中、Ｙａｘ１は、単結合又は２価の連結基である。
　Ｙａｘ１における２価の連結基としては、特に限定されないが、置換基を有してもよい２価の炭化水素基、ヘテロ原子を含む２価の連結基等が好適なものとして挙げられる。
　Ｙａｘ１としては、単結合、エステル結合［－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－］、エーテル結合（－Ｏ－）、直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキレン基、又はこれらの組合せが好ましく、単結合、エステル結合［－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－］がより好ましい。
　前記式（ａ１０－１）中、Ｗａｘ１は、置換基を有してもよい芳香族炭化水素基である。
　Ｗａｘ１における芳香族炭化水素基としては、置換基を有してもよい芳香環から（ｎａｘ１＋１）個の水素原子を除いた基が挙げられる。ここでの芳香環は、４ｎ＋２個のπ電子をもつ環状共役系であれば特に限定されない。芳香環の炭素原子数は５～３０であることが好ましく、炭素原子数５～２０がより好ましく、炭素原子数６～１５がさらに好ましく、炭素原子数６～１２が特に好ましい。該芳香環として具体的には、ベンゼン、ナフタレン、アントラセン、フェナントレン等の芳香族炭化水素環；前記芳香族炭化水素環を構成する炭素原子の一部がヘテロ原子で置換された芳香族複素環等が挙げられる。芳香族複素環におけるヘテロ原子としては、酸素原子、硫黄原子、窒素原子等が挙げられる。芳香族複素環として具体的には、ピリジン環、チオフェン環等が挙げられる。
　また、Ｗａｘ１における芳香族炭化水素基としては、２以上の置換基を有してもよい芳香環を含む芳香族化合物（例えばビフェニル、フルオレン等）から（ｎａｘ１＋１）個の水素原子を除いた基も挙げられる。
　上記の中でも、Ｗａｘ１としては、ベンゼン、ナフタレン、アントラセンまたはビフェニルから（ｎａｘ１＋１）個の水素原子を除いた基が好ましく、ベンゼン又はナフタレンから（ｎａｘ１＋１）個の水素原子を除いた基がより好ましく、ベンゼンから（ｎａｘ１＋１）個の水素原子を除いた基がさらに好ましい。
　Ｗａｘ１における芳香族炭化水素基は、置換基を有してもよく、有していなくてもよい。前記置換基としては、例えば、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基等が挙げられる。前記置換基としてのアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基としては、Ｒ’２０１の環式基における置換基として挙げたものと同様のものが挙げられる。前記置換基は、炭素原子数１～５の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基が好ましく、炭素原子数１～３の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基がより好ましく、エチル基又はメチル基がさらに好ましく、メチル基が特に好ましい。Ｗａｘ１における芳香族炭化水素基は、置換基を有していないことが好ましい。
　前記式（ａ１０－１）中、ｎａｘ１は、１以上の整数であり、１～１０の整数が好ましく、１～５の整数がより好ましく、１、２又は３がさらに好ましく、１又は２が特に好ましい。
　以下に、前記式（ａ１０－１）で表される構成単位（ａ１０）の具体例を示す。
　以下の各式中、Ｒαは、水素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000068
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000069
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000070
　（Ａ１）成分が有する構成単位（ａ１０）は、１種でもよく２種以上でもよい。
　（Ａ１）成分が構成単位（ａ１０）を有する場合、（Ａ１）成分中の構成単位（ａ１０）の割合は、（Ａ１）成分を構成する全構成単位の合計（１００モル％）に対して、４０～９５モル％が好ましく、１５～５０モル％がより好ましく、２０～４５モル％がさらに好ましく、２５～４０モル％が特に好ましい。
　構成単位（ａ１０）の割合を、前記の好ましい範囲の下限値以上とすることにより、感度がより高められやすくなる。一方、上限値以下とすることにより、他の構成単位とのバランスをとりやすくなる。
　構成単位（ａ５）：
　本実施形態において、構成単位（ａ５）は、露光により酸を発生する構成単位（但し、構成単位（ａ０）に該当するものを除く）であり、公知のものを用いることができる。構成単位（ａ５）を有することにより、露光によって発生する酸が、レジスト膜内で、均一に分布しやすくなる。
　構成単位（ａ５）としては、例えば、下記一般式（ａ５－１）で表される構成単位が好適に挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000071
 ［式中、Ｒｍは、炭素数１～５のアルキル基、炭素数１～５のハロゲン化アルキル基、ハロゲン原子又は水素原子である。Ｌａ１は、２価の連結基又は単結合である。Ｒａ０５０は、置換基を有してもよい２価の炭化水素基である。Ｌａ０は、２価の連結基である。Ｙａ０は、ヘテロ原子を有してもよい２価の連結基、又は単結合である。Ｒａ０５１及びＲａ０５２は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子又はフッ素化アルキル基である。ｎ０は、１～４の整数である。ｍは１以上の整数であって、Ｍ’ｍ＋は、ｍ価のオニウムカチオンである。］
｛アニオン部｝
　前記式（ａ５－１）中、Ｒｍは、炭素数１～５のアルキル基、炭素数１～５のハロゲン化アルキル基、ハロゲン原子又は水素原子である。
　Ｒｍの炭素数１～５のアルキル基は、炭素数１～５の直鎖状または分岐鎖状のアルキル基が好ましく、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基等が挙げられる。
　炭素数１～５のハロゲン化アルキル基は、前記炭素数１～５のアルキル基の水素原子の一部または全部がハロゲン原子で置換された基である。
　ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。ハロゲン化アルキル基におけるハロゲン原子としては、特にフッ素原子が好ましい。
　Ｒｍとしては、水素原子、炭素数１～５のアルキル基又は炭素数１～５のフッ素化アルキル基が好ましく、工業上の入手の容易さから、水素原子又はメチル基が最も好ましい。
　前記式（ａ５－１）中、Ｌａ１は、２価の連結基又は単結合である。
　Ｌａ１における２価の連結基としては、特に限定されないが、置換基を有してもよい２価の炭化水素基、及びヘテロ原子を含む２価の連結基が好適なものとして挙げられ、それぞれ、上記Ｙａｘ１における２価の連結基として例示した、置換基を有してもよい２価の炭化水素基、ヘテロ原子を含む２価の連結基と同様である。
　上記の中でも、Ｌａ１としては、エステル結合［－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－］、エーテル結合（－Ｏ－）、直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキレン基、芳香族炭化水素基又はこれらの組合せ、あるいは単結合であることが好ましい。これらの中でも、Ｌａ１としては、エステル結合［－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－］、単結合であることがより好ましく、エステル結合［－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－］であることがさらに好ましい。
　前記式（ａ５－１）中、Ｒａ０５０は、置換基を有してもよい２価の炭化水素基である。
　Ｒａ０５０における２価の炭化水素基は、脂肪族炭化水素基であってもよく、芳香族炭化水素基であってもよい。
・・Ｒａ０５０における脂肪族炭化水素基
　該脂肪族炭化水素基は、芳香族性を持たない炭化水素基を意味する。該脂肪族炭化水素基は、飽和であってもよく不飽和であってもよく、通常は飽和であることが好ましい。
　前記脂肪族炭化水素基としては、直鎖状若しくは分岐鎖状の脂肪族炭化水素基、又は構造中に環を含む脂肪族炭化水素基等が挙げられる。
・・・直鎖状若しくは分岐鎖状の脂肪族炭化水素基
　該直鎖状の脂肪族炭化水素基は、炭素原子数が１～１０であることが好ましく、炭素原子数１～６がより好ましく、炭素原子数１～４がさらに好ましく、炭素原子数１～３が最も好ましい。
　直鎖状の脂肪族炭化水素基としては、直鎖状のアルキレン基が好ましく、具体的には、メチレン基［－ＣＨ２－］、エチレン基［－（ＣＨ２）２－］、トリメチレン基［－（ＣＨ２）３－］、テトラメチレン基［－（ＣＨ２）４－］、ペンタメチレン基［－（ＣＨ２）５－］等が挙げられる。
　該分岐鎖状の脂肪族炭化水素基は、炭素原子数が２～１０であることが好ましく、炭素原子数３～６がより好ましく、炭素原子数３又は４がさらに好ましく、炭素原子数３が最も好ましい。
　分岐鎖状の脂肪族炭化水素基としては、分岐鎖状のアルキレン基が好ましく、具体的には、－ＣＨ（ＣＨ３）－、－ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ３）－、－Ｃ（ＣＨ３）２－、－Ｃ（ＣＨ３）（ＣＨ２ＣＨ３）－、－Ｃ（ＣＨ３）（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３）－、－Ｃ（ＣＨ２ＣＨ３）２－等のアルキルメチレン基；－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２－、－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ（ＣＨ３）－、－Ｃ（ＣＨ３）２ＣＨ２－、－ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ３）ＣＨ２－、－Ｃ（ＣＨ２ＣＨ３）２－ＣＨ２－等のアルキルエチレン基；－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２－等のアルキルトリメチレン基；－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ２－等のアルキルテトラメチレン基などのアルキルアルキレン基等が挙げられる。アルキルアルキレン基におけるアルキル基としては、炭素原子数１～５の直鎖状のアルキル基が好ましい。
　前記の直鎖状又は分岐鎖状の脂肪族炭化水素基は、置換基を有してもよく、有していなくてもよい。該置換基としては、フッ素原子、フッ素原子で置換された炭素原子数１～５のフッ素化アルキル基、カルボニル基等が挙げられる。
・・・構造中に環を含む脂肪族炭化水素基
　該構造中に環を含む脂肪族炭化水素基としては、環構造中にヘテロ原子を含む置換基を含んでもよい環状の脂肪族炭化水素基（脂肪族炭化水素環から水素原子２個を除いた基）、前記環状の脂肪族炭化水素基が直鎖状又は分岐鎖状の脂肪族炭化水素基の末端に結合した基、前記環状の脂肪族炭化水素基が直鎖状又は分岐鎖状の脂肪族炭化水素基の途中に介在する基などが挙げられる。前記の直鎖状又は分岐鎖状の脂肪族炭化水素基としては前記と同様のものが挙げられる。
　環状の脂肪族炭化水素基は、炭素原子数が３～２０であることが好ましく、炭素原子数３～１２であることがより好ましい。
　環状の脂肪族炭化水素基は、多環式基であってもよく、単環式基であってもよい。単環式の脂環式炭化水素基としては、モノシクロアルカンから２個の水素原子を除いた基が好ましい。該モノシクロアルカンとしては、炭素原子数３～６のものが好ましく、具体的にはシクロペンタン、シクロヘキサン等が挙げられる。多環式の脂環式炭化水素基としては、ポリシクロアルカンから２個の水素原子を除いた基が好ましく、該ポリシクロアルカンとしては、炭素原子数７～１２のものが好ましく、具体的にはアダマンタン、ノルボルナン、イソボルナン、トリシクロデカン、テトラシクロドデカン等が挙げられる。
　環状の脂肪族炭化水素基は、置換基を有してもよいし、有していなくてもよい。該置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、水酸基、カルボニル基等が挙げられる。
　前記置換基としてのアルキル基としては、炭素原子数１～５のアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基、ｎ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基であることが最も好ましい。
　前記置換基としてのアルコキシ基としては、炭素原子数１～５のアルコキシ基が好ましく、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロポキシ基、ｉｓｏ－プロポキシ基、ｎ－ブトキシ基、ｔｅｒｔ－ブトキシ基がより好ましく、メトキシ基、エトキシ基が最も好ましい。
　前記置換基としてのハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられ、フッ素原子が好ましい。
　前記置換基としてのハロゲン化アルキル基としては、前記アルキル基の水素原子の一部又は全部が前記ハロゲン原子で置換された基が挙げられる。
　環状の脂肪族炭化水素基は、その環構造を構成する炭素原子の一部がヘテロ原子を含む置換基で置換されてもよい。該ヘテロ原子を含む置換基としては、－Ｏ－、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｓ（＝Ｏ）２－、－Ｓ（＝Ｏ）２－Ｏ－が好ましい。
・・Ｒａ０５０における芳香族炭化水素基
　該芳香族炭化水素基は、芳香環を少なくとも１つ有する炭化水素基である。
　この芳香環は、４ｎ＋２個のπ電子をもつ環状共役系であれば特に限定されず、単環式でも多環式でもよい。芳香環の炭素原子数は５～３０であることが好ましく、炭素原子数５～２０がより好ましく、炭素原子数６～１５がさらに好ましく、炭素原子数６～１２が特に好ましい。ただし、該炭素原子数には、置換基における炭素原子数を含まないものとする。芳香環として具体的には、ベンゼン、ナフタレン、アントラセン、フェナントレン等の芳香族炭化水素環；前記芳香族炭化水素環を構成する炭素原子の一部がヘテロ原子で置換された芳香族複素環等が挙げられる。芳香族複素環におけるヘテロ原子としては、酸素原子、硫黄原子、窒素原子等が挙げられる。芳香族複素環として具体的には、ピリジン環、チオフェン環等が挙げられる。
　芳香族炭化水素基として具体的には、前記芳香族炭化水素環又は芳香族複素環から水素原子２つを除いた基（アリーレン基又はヘテロアリーレン基）；２以上の芳香環を含む芳香族化合物（例えばビフェニル、フルオレン等）から水素原子２つを除いた基；前記芳香族炭化水素環又は芳香族複素環から水素原子１つを除いた基（アリール基又はヘテロアリール基）の水素原子の１つがアルキレン基で置換された基（例えば、ベンジル基、フェネチル基、１－ナフチルメチル基、２－ナフチルメチル基、１－ナフチルエチル基、２－ナフチルエチル基等のアリールアルキル基におけるアリール基から水素原子をさらに１つ除いた基）等が挙げられる。前記のアリール基又はヘテロアリール基に結合するアルキレン基の炭素原子数は、１～４であることが好ましく、炭素原子数１～２であることがより好ましく、炭素原子数１であることが特に好ましい。
　前記芳香族炭化水素基は、当該芳香族炭化水素基が有する水素原子が置換基で置換されていてもよい。例えば、当該芳香族炭化水素基中の芳香環に結合した水素原子が置換基で置換されていてもよい。該置換基としては、例えば、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、水酸基等が挙げられる。
　前記置換基としてのアルキル基としては、炭素原子数１～５のアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基、ｎ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基であることが最も好ましい。
　前記置換基としてのアルコキシ基、ハロゲン原子及びハロゲン化アルキル基としては、前記環状の脂肪族炭化水素基が有する水素原子を置換する置換基として例示したものが挙げられる。
　上記の中でも、Ｒａ０５０は、構造中に環を含む脂肪族炭化水素基が好ましく、環構造中にヘテロ原子を含む置換基を含んでもよい環状の脂肪族炭化水素基がより好ましく、多環式基又は単環式基である、置換基を有してもよい脂環式炭化水素基がさらに好ましい。
　前記式（ａ５－１）中、Ｌａ０は、２価の連結基である。
　Ｌａ０における２価の連結基としては、酸素原子（エーテル結合：－Ｏ－）、エステル結合（－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－）、オキシカルボニル基（－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－）、アミド結合（－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＨ－）、カルボニル基（－Ｃ（＝Ｏ）－）、カーボネート結合（－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－）等の非炭化水素系の酸素原子含有連結基；該非炭化水素系の酸素原子含有連結基とアルキレン基との組み合わせ等が挙げられる。この組み合わせに、さらにスルホニル基（－ＳＯ２－）が連結されていてもよい。
　かかる２価の連結基としては、例えば下記一般式（Ｌ－ａｌ－１）～（Ｌ－ａｌ－８）でそれぞれ表される連結基が挙げられる。なお、下記一般式（Ｌ－ａｌ－１）～（Ｌ－ａｌ－８）において、上記式（ａ５－１）中のＲａ０５０と結合するのが、下記一般式（Ｌ－ａｌ－１）～（Ｌ－ａｌ－８）中のＶ’１０１である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000072
［式中、Ｖ’１０１は単結合または炭素原子数１～５のアルキレン基であり、Ｖ’１０２は炭素原子数１～３０の２価の飽和炭化水素基である。］
　Ｖ’１０２における２価の飽和炭化水素基は、炭素原子数１～３０のアルキレン基であることが好ましく、炭素原子数１～１０のアルキレン基であることがより好ましく、炭素原子数１～５のアルキレン基であることがさらに好ましい。
　Ｖ’１０１およびＶ’１０２におけるアルキレン基としては、直鎖状のアルキレン基でもよく分岐鎖状のアルキレン基でもよく、直鎖状のアルキレン基が好ましい。
　Ｖ’１０１およびＶ’１０２におけるアルキレン基として、具体的には、メチレン基［－ＣＨ２－］；－ＣＨ（ＣＨ３）－、－ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ３）－、－Ｃ（ＣＨ３）２－、－Ｃ（ＣＨ３）（ＣＨ２ＣＨ３）－、－Ｃ（ＣＨ３）（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３）－、－Ｃ（ＣＨ２ＣＨ３）２－等のアルキルメチレン基；エチレン基［－ＣＨ２ＣＨ２－］；－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２－、－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ（ＣＨ３）－、－Ｃ（ＣＨ３）２ＣＨ２－、－ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ３）ＣＨ２－等のアルキルエチレン基；トリメチレン基（ｎ－プロピレン基）［－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－］；－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２－等のアルキルトリメチレン基；テトラメチレン基［－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－］；－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ２－等のアルキルテトラメチレン基；ペンタメチレン基［－ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－］等が挙げられる。
　また、Ｖ’１０１又はＶ’１０２における前記アルキレン基における一部のメチレン基が、炭素原子数５～１０の２価の脂肪族環式基で置換されていてもよい。当該脂肪族環式基は、前記式（ａ１－ｒ－１）中のＲａ’３の環状の脂肪族炭化水素基（単環式の脂肪族炭化水素基、多環式の脂肪族炭化水素基）から水素原子をさらに１つ除いた２価の基が好ましく、シクロへキシレン基、１，５－アダマンチレン基または２，６－アダマンチレン基がより好ましい。
　Ｌａ０としては、エステル結合を含む２価の連結基、またはエーテル結合を含む２価の連結基が好ましく、上記式（Ｌ－ａｌ－１）～（Ｌ－ａｌ－５）、（Ｌ－ａｌ－８）でそれぞれ表される連結基がより好ましく、（Ｌ－ａｌ－３）又は（Ｌ－ａｌ－８）で表される連結基が更に好ましい。
　前記式（ａ５－１）中、Ｙａ０は、ヘテロ原子を有してもよい２価の連結基、又は単結合である。
　Ｙａ０における２価の連結基としては、特に限定されないが、置換基を有してもよい２価の炭化水素基、ヘテロ原子を含む２価の連結基等が好適に挙げられる。
　Ｙａ０における、置換基を有してもよい２価の炭化水素基、ヘテロ原子を含む２価の連結基については、上記Ｙａｘ１における２価の連結基として例示した、置換基を有してもよい２価の炭化水素基、ヘテロ原子を含む２価の連結基と同様である。
　上記の中でも、Ｙａ０としては、直鎖若しくは分岐鎖状のアルキレン基、又は単結合が好ましく、単結合がより好ましい。
　前記式（ａ５－１）中、Ｒａ０５１及びＲａ０５２は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子又はフッ素化アルキル基である。
　Ｒａ０５１及びＲａ０５２におけるフッ素化アルキル基としては、それぞれ、炭素数１～５の直鎖状若しくは分岐鎖状のフッ素化アルキル基が好ましく、トリフルオロメチル基がより好ましい。
　前記式（ａ５－１）中、ＳＯ３ －に隣接する炭素原子に結合するＲａ０５１及びＲａ０５２のうち、少なくとも一方はフッ素原子であることが、酸強度の観点から好ましい。
　前記式（ａ５－１）中、ｎ０は、１～４の整数であり、１、２又は３が好ましい。
｛カチオン部｝
　前記式（ａ５－１）中、Ｍ’ｍ＋は、ｍ価のオニウムカチオンを表す。この中でも、Ｍ’ｍ＋は、スルホニウムカチオン、ヨードニウムカチオンが好ましい。ｍは、１以上の整数である。
　好ましいカチオン部（（Ｍ’ｍ＋）１／ｍ）としては、上述の一般式（ｃａ－１）～（ｃａ－３）でそれぞれ表される有機カチオンが挙げられる。これらの中でも、カチオン部（（Ｍ’ｍ＋）１／ｍ）としては、上記の一般式（ｃａ－１）で表される有機カチオンがより好ましい。
　以下に、構成単位（ａ５）の好ましい具体例を示す。
　以下の式中、Ｒαは、水素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基を示す。ｍ及びＭ’ｍ＋は、上記一般式（ａ５－１）中のｍ及びＭ’ｍ＋と同様である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000073
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000074
　（Ａ１）成分が有する構成単位（ａ５）は、１種でもよく２種以上でもよい。
　（Ａ１）成分が構成単位（ａ５）を有する場合、（Ａ１）成分中の構成単位（ａ５）の割合は、（Ａ１）成分を構成する全構成単位の合計（１００モル％）に対して、５～２５モル％が好ましく、１０～２０モル％がより好ましく、１５～２０モル％がさらに好ましい。
　構成単位（ａ５）の割合が、前記の好ましい範囲の下限値以上であることにより、感度がより高められやすくなる。一方、前記の好ましい範囲の上限値以下であることにより、他の構成単位とのバランスをとりやすくなる。
　構成単位（ａ２）：
　（Ａ１）成分は、ラクトン含有環式基を含む構成単位（ａ２）（但し、構成単位（ａ１）に該当するものを除く）を有してもよい。
　構成単位（ａ２）のラクトン含有環式基は、（Ａ１）成分をレジスト膜の形成に用いた場合に、レジスト膜の基板への密着性を高める上で有効である。また、構成単位（ａ２）を有することで、例えば酸拡散長を適切に調整する、レジスト膜の基板への密着性を高める、現像時の溶解性を適切に調整する等の効果により、リソグラフィー特性等が良好となる。
　「ラクトン含有環式基」とは、その環骨格中に－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－を含む環（ラクトン環）を含有する環式基を示す。ラクトン環をひとつ目の環として数え、ラクトン環のみの場合は単環式基、さらに他の環構造を有する場合は、その構造に関わらず多環式基と称する。ラクトン含有環式基は、単環式基であってもよく、多環式基であってもよい。
　構成単位（ａ２）におけるラクトン含有環式基としては、特に限定されることなく任意のものが使用可能である。具体的には、下記一般式（ａ２－ｒ－１）～（ａ２－ｒ－７）でそれぞれ表される基が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000075
 ［式中、Ｒａ’２１はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、水酸基、－ＣＯＯＲ”、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ”、ヒドロキシアルキル基またはシアノ基であり；Ｒ”は水素原子、アルキル基、又は、ラクトン含有環式基であり；Ａ”は酸素原子（－Ｏ－）もしくは硫黄原子（－Ｓ－）を含んでいてもよい炭素原子数１～５のアルキレン基、酸素原子または硫黄原子であり、ｎ’は０～２の整数であり、ｍ’は０または１である。＊は結合手を示す（以下、同様）。］
　前記一般式（ａ２－ｒ－１）～（ａ２－ｒ－７）中、Ｒａ’２１におけるアルキル基としては、炭素原子数１～６のアルキル基が好ましい。該アルキル基は、直鎖状または分岐鎖状であることが好ましい。具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基等が挙げられる。これらの中でも、メチル基またはエチル基が好ましく、メチル基が特に好ましい。
　Ｒａ’２１におけるアルコキシ基としては、炭素原子数１～６のアルコキシ基が好ましい。該アルコキシ基は、直鎖状または分岐鎖状であることが好ましい。具体的には、前記Ｒａ’２１におけるアルキル基として挙げたアルキル基と酸素原子（－Ｏ－）とが連結した基が挙げられる。
　Ｒａ’２１におけるハロゲン原子としては、フッ素原子が好ましい。
　Ｒａ’２１におけるハロゲン化アルキル基としては、前記Ｒａ’２１におけるアルキル基の水素原子の一部または全部が前記ハロゲン原子で置換された基が挙げられる。該ハロゲン化アルキル基としては、フッ素化アルキル基が好ましく、特にパーフルオロアルキル基が好ましい。
　Ｒａ’２１における－ＣＯＯＲ”、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ”において、Ｒ”はいずれも水素原子、アルキル基、又は、ラクトン含有環式基である。
　Ｒ”におけるアルキル基としては、直鎖状、分岐鎖状、環状のいずれでもよく、炭素原子数は１～１５が好ましい。
　Ｒ”が直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキル基の場合は、炭素原子数１～１０であることが好ましく、炭素原子数１～５であることがさらに好ましく、メチル基またはエチル基であることが特に好ましい。
　Ｒ”が環状のアルキル基の場合は、炭素原子数３～１５であることが好ましく、炭素原子数４～１２であることがさらに好ましく、炭素原子数５～１０が最も好ましい。具体的には、フッ素原子またはフッ素化アルキル基で置換されていてもよいし、されていなくてもよいモノシクロアルカンから１個以上の水素原子を除いた基；ビシクロアルカン、トリシクロアルカン、テトラシクロアルカンなどのポリシクロアルカンから１個以上の水素原子を除いた基などを例示できる。より具体的には、シクロペンタン、シクロヘキサン等のモノシクロアルカンから１個以上の水素原子を除いた基；アダマンタン、ノルボルナン、イソボルナン、トリシクロデカン、テトラシクロドデカンなどのポリシクロアルカンから１個以上の水素原子を除いた基などが挙げられる。
　Ｒ”におけるラクトン含有環式基としては、前記一般式（ａ２－ｒ－１）～（ａ２－ｒ－７）でそれぞれ表される基と同様のものが挙げられる。
　Ｒａ’２１におけるヒドロキシアルキル基としては、炭素原子数が１～６であるものが好ましく、具体的には、前記Ｒａ’２１におけるアルキル基の水素原子の少なくとも１つが水酸基で置換された基が挙げられる。
　Ｒａ’２１としては、上記の中でも、それぞれ独立に水素原子又はシアノ基であることが好ましい。
　前記一般式（ａ２－ｒ－２）、（ａ２－ｒ－３）、（ａ２－ｒ－５）中、Ａ”における炭素原子数１～５のアルキレン基としては、直鎖状または分岐鎖状のアルキレン基が好ましく、メチレン基、エチレン基、ｎ－プロピレン基、イソプロピレン基等が挙げられる。該アルキレン基が酸素原子または硫黄原子を含む場合、その具体例としては、前記アルキレン基の末端または炭素原子間に－Ｏ－または－Ｓ－が介在する基が挙げられ、例えば、－Ｏ－ＣＨ２－、－ＣＨ２－Ｏ－ＣＨ２－、－Ｓ－ＣＨ２－、－ＣＨ２－Ｓ－ＣＨ２－等が挙げられる。Ａ”としては、炭素原子数１～５のアルキレン基または－Ｏ－が好ましく、炭素原子数１～５のアルキレン基がより好ましく、メチレン基が最も好ましい。
　以下に、一般式（ａ２－ｒ－１）～（ａ２－ｒ－７）でそれぞれ表される基の具体例を挙げる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000076
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000077
　構成単位（ａ２）としては、なかでも、α位の炭素原子に結合した水素原子が置換基で置換されていてもよいアクリル酸エステルから誘導される構成単位が好ましい。
　かかる構成単位（ａ２）は、下記一般式（ａ２－１）で表される構成単位であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000078
 ［式中、Ｒは水素原子、炭素原子数１～５のアルキル基又は炭素原子数１～５のハロゲン化アルキル基である。Ｙａ２１は単結合または２価の連結基である。Ｌａ２１は－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＣＯＮ（Ｒ’）－、－ＯＣＯ－、－ＣＯＮＨＣＯ－又は－ＣＯＮＨＣＳ－であり、Ｒ’は水素原子またはメチル基を示す。ただしＬａ２１が－Ｏ－の場合、Ｙａ２１は－ＣＯ－にはならない。Ｒａ２１はラクトン含有環式基である。］
　前記式（ａ２－１）中、Ｒとしては、水素原子、炭素原子数１～５のアルキル基又は炭素原子数１～５のフッ素化アルキル基が好ましく、工業上の入手の容易さから、水素原子又はメチル基が特に好ましい。
　前記式（ａ２－１）中、Ｙａ２１における２価の連結基としては、特に限定されないが、置換基を有してもよい２価の炭化水素基、ヘテロ原子を含む２価の連結基等が好適に挙げられる。
　Ｙａ２１としては、単結合、エステル結合［－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－］、エーテル結合（－Ｏ－）、直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキレン基、又はこれらの組合せであることが好ましい。
　前記式（ａ２－１）中、Ｙａ２１は、単結合であり、Ｌａ２１は、－ＣＯＯ－、又は、－ＯＣＯ－であることが好ましい。
　前記式（ａ２－１）中、Ｒａ２１は、ラクトン含有環式基である。
　Ｒａ２１におけるラクトン含有環式基としてはそれぞれ、前述した一般式（ａ２－ｒ－１）～（ａ２－ｒ－７）でそれぞれ表される基が好適に挙げられる。
　（Ａ１）成分が有する構成単位（ａ２）は、１種でもよく２種以上でもよい。
　（Ａ１）成分が構成単位（ａ２）を有する場合、構成単位（ａ２）の割合は、当該（Ａ１）成分を構成する全構成単位の合計（１００モル％）に対して、１～２０モル％であることが好ましく、１～１５モル％であることがより好ましく、１～１０モル％であることがさらに好ましい。
　構成単位（ａ２）の割合を、前記の好ましい範囲の下限値以上とすると、前述した効果によって、構成単位（ａ２）を含有させることによる効果が充分に得られ、上限値以下であると、他の構成単位とのバランスを取ることができ、種々のリソグラフィー特性が良好となる。
　構成単位（ａ８）：
　構成単位（ａ８）は、下記一般式（ａ８－１）で表される化合物から誘導される構成単位である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000079
 ［式中、Ｗ２は、重合性基含有基である。Ｙａｘ２は、単結合又は（ｎａｘ２＋１）価の連結基である。Ｙａｘ２とＷ２とは縮合環を形成していてもよい。Ｒ１は炭素原子数１～１２のフッ素化アルキル基である。Ｒ２はフッ素原子を有してもよい炭素原子数１～１２の有機基又は水素原子である。Ｒ２及びＹａｘ２は、相互に結合して環構造を形成していてもよい。ｎａｘ２は、１～３の整数である。］
　Ｗ２の重合性基含有基における「重合性基」とは、重合性基を有する化合物がラジカル重合等により重合することを可能とする基であり、例えばエチレン性二重結合などの炭素原子間の多重結合を含む基をいう。
　重合性基含有基としては、重合性基のみから構成される基でもよいし、重合性基と該重合性基以外の他の基とから構成される基でもよい。該重合性基以外の他の基としては、置換基を有してもよい２価の炭化水素基、ヘテロ原子を含む２価の連結基等が挙げられる。
　重合性基含有基としては、例えば、化学式：Ｃ（ＲＸ１１）（ＲＸ１２）＝Ｃ（ＲＸ１３）－Ｙａｘ０－で表される基が好適に挙げられる。
　この化学式中、ＲＸ１１、ＲＸ１２及びＲＸ１３は、それぞれ、水素原子、炭素原子数１～５のアルキル基又は炭素原子数１～５のハロゲン化アルキル基であり、Ｙａｘ０は、単結合または２価の連結基である。
　Ｙａｘ２とＷ２とが形成する縮合環としては、Ｗ２部位の重合性基とＹａｘ２とが形成する縮合環、Ｗ２部位の重合性基以外の他の基とＹａｘ２とが形成する縮合環が挙げられる。
　Ｙａｘ２とＷ２とが形成する縮合環は、置換基を有してもよい。
　以下に、構成単位（ａ８）の具体例を示す。
　下記の式中、Ｒαは、水素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000080
　（Ａ１）成分が有する構成単位（ａ８）は、１種でもよく２種以上でもよい。
　（Ａ１）成分が構成単位（ａ８）を有する場合、構成単位（ａ８）の割合は、当該（Ａ１）成分を構成する全構成単位の合計（１００モル％）に対して、１～２０モル％であることが好ましく、１～１５モル％であることがより好ましく、１～１０モル％であることがさらに好ましい。
　レジスト組成物が含有する（Ａ１）成分は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
　本実施形態で用いる（Ａ１）成分は、構成単位（ａ０）を有する高分子化合物であり、好ましくは、構成単位（ａ０）と構成単位（ａ１）と構成単位（ａ１０）との繰り返し構造を有する高分子化合物、構成単位（ａ０）と構成単位（ａ１）と構成単位（ａ１０）とと構成単位（ａ５）との繰り返し構造を有する高分子化合物が挙げられる。
　（Ａ１）成分中の構成単位（ａ０）の含有割合は、（Ａ１）成分を構成する全構成単位の総量（１００モル％）に対して、１～５０モル％が好ましく、１～４０モル％がより好ましく、２～２０モル％がさらに好ましく、２～１０モル％が特に好ましい。
　（Ａ１）成分中の構成単位（ａ１）の含有割合は、該（Ａ１）成分を構成する全構成単位の合計（１００モル％）に対して、２５～７０モル％が好ましく、３５～６５モル％がより好ましく、４５～６０モル％がさらに好ましい。
　（Ａ１）成分が構成単位（ａ１０）を有する場合、（Ａ１）成分中の構成単位（ａ１０）の含有割合は、（Ａ１）成分を構成する全構成単位の合計（１００モル％）に対して、４０～９５モル％が好ましく、１５～５０モル％がより好ましく、２０～４５モル％がさらに好ましく、２５～４０モル％が特に好ましい。
　（Ａ１）成分が構成単位（ａ５）を有する場合、（Ａ１）成分中の構成単位（ａ５）の含有割合は、（Ａ１）成分を構成する全構成単位の合計（１００モル％）に対して、５～２５モル％が好ましく、１０～２０モル％がより好ましく、１５～２０モル％がさらに好ましい。
　かかる（Ａ１）成分は、各構成単位を誘導するモノマーを重合溶媒に溶解し、ここに、例えばアゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）、アゾビスイソ酪酸ジメチル（例えばＶ－６０１など）等のラジカル重合開始剤を加えて重合することにより製造することができる。
　例えば、かかる（Ａ１）成分は、構成単位（ａ０）を誘導するモノマーと、構成単位（ａ１０）を誘導するモノマーと、を重合溶媒に溶解し、ここに、上記のようなラジカル重合開始剤を加えて重合し、その後、脱保護反応を行うことにより製造することができる。
　なお、重合の際に、例えば、ＨＳ－ＣＨ２－ＣＨ２－ＣＨ２－Ｃ（ＣＦ３）２－ＯＨのような連鎖移動剤を併用して用いることにより、末端に－Ｃ（ＣＦ３）２－ＯＨ基を導入してもよい。このように、アルキル基の水素原子の一部がフッ素原子で置換されたヒドロキシアルキル基が導入された共重合体は、現像欠陥の低減やＬＥＲ（ラインエッジラフネス：ライン側壁の不均一な凹凸）の低減に有効である。
　（Ａ１）成分の重量平均分子量（Ｍｗ）（ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によるポリスチレン換算基準）は、特に限定されるものではなく、１０００～４００００が好ましく、２０００～２００００がより好ましく、５０００～１５０００がさらに好ましい。
　（Ａ１）成分のＭｗがこの範囲の好ましい上限値以下であると、レジストとして用いるのに充分なレジスト溶剤への溶解性があり、この範囲の好ましい下限値以上であると、耐ドライエッチング性やレジストパターン断面形状が良好である。
　（Ａ１）成分の分子量分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）は、特に限定されず、１．０～４．０が好ましく、１．０～３．０がより好ましく、１．０～２．０が特に好ましい。なお、Ｍｎは数平均分子量を示す。
・（Ａ２）成分について
　本実施形態のレジスト組成物は、（Ａ）成分として、前記（Ａ１）成分に該当しない、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（以下「（Ａ２）成分」という。）を併用してもよい。
　（Ａ２）成分としては、特に限定されず、化学増幅型レジスト組成物用の基材成分として従来から知られている多数のものから任意に選択して用いればよい。
　（Ａ２）成分は、高分子化合物又は低分子化合物の１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
　（Ａ）成分中の（Ａ１）成分の割合は、（Ａ）成分の総質量に対し、２５質量％以上が好ましく、５０質量％以上がより好ましく、７５質量％以上がさらに好ましく、１００質量％であってもよい。該割合が２５質量％以上であると、高感度化や解像性、パターンのラフネス低減などの種々のリソグラフィー特性に優れたレジストパターンが形成されやすくなる。
　本実施形態のレジスト組成物中、（Ａ）成分の含有量は、形成しようとするレジスト膜厚等に応じて調整すればよい。
　一例として、レジスト組成物に占める（Ａ１）成分の含有量は、例えば０．５～１０質量％でもよいし、１～５質量％でもよい。
＜その他成分＞
　本実施形態のレジスト組成物は、上述した（Ａ）成分に加え、その他成分をさらに含有してもよい。その他成分としては、例えば以下に示す（Ｂ）成分、（Ｄ）成分、（Ｅ）成分、（Ｆ）成分、（Ｓ）成分などが挙げられる。
　≪（Ｂ）成分：酸発生剤成分≫
　本実施形態のレジスト組成物は、さらに、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有してもよい。
　（Ｂ）成分としては、特に限定されず、これまで化学増幅型レジスト組成物用の酸発生剤として提案されているものを用いることができる。
　このような酸発生剤としては、ヨードニウム塩やスルホニウム塩などのオニウム塩系酸発生剤、オキシムスルホネート系酸発生剤；ビスアルキル又はビスアリールスルホニルジアゾメタン類、ポリ（ビススルホニル）ジアゾメタン類などのジアゾメタン系酸発生剤；ニトロベンジルスルホネート系酸発生剤、イミノスルホネート系酸発生剤、ジスルホン系酸発生剤など多種のものが挙げられる。
　オニウム塩系酸発生剤としては、例えば、下記の一般式（ｂ－１）で表される化合物（以下「（ｂ－１）成分」ともいう）、一般式（ｂ－２）で表される化合物（以下「（ｂ－２）成分」ともいう）又は一般式（ｂ－３）で表される化合物（以下「（ｂ－３）成分」ともいう）が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000081
 ［式中、Ｒ１０１及びＲ１０４～Ｒ１０８は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい環式基、置換基を有していてもよい鎖状のアルキル基、又は置換基を有していてもよい鎖状のアルケニル基である。Ｒ１０４とＲ１０５とは相互に結合して環構造を形成していてもよい。Ｒ１０２は、炭素原子数１～５のフッ素化アルキル基又はフッ素原子である。Ｙ１０１は、酸素原子を含む２価の連結基又は単結合である。Ｖ１０１～Ｖ１０３は、それぞれ独立に、単結合、アルキレン基又はフッ素化アルキレン基である。Ｌ１０１～Ｌ１０２は、それぞれ独立に、単結合又は酸素原子である。Ｌ１０３～Ｌ１０５は、それぞれ独立に、単結合、－ＣＯ－又は－ＳＯ２－である。ｍは１以上の整数であって、Ｍ’ｍ＋はｍ価のオニウムカチオンである。］
　｛アニオン部｝
　・（ｂ－１）成分におけるアニオン
　式（ｂ－１）中、Ｒ１０１は、置換基を有してもよい環式基、置換基を有してもよい鎖状のアルキル基、又は置換基を有してもよい鎖状のアルケニル基である。
　置換基を有してもよい環式基：
　該環式基は、環状の炭化水素基であることが好ましく、該環状の炭化水素基は、芳香族炭化水素基であってもよく、脂肪族炭化水素基であってもよい。脂肪族炭化水素基は、芳香族性を持たない炭化水素基を意味する。また、脂肪族炭化水素基は、飽和であることが好ましい。
　Ｒ１０１における芳香族炭化水素基は、芳香環を有する炭化水素基である。該芳香族炭化水素基の炭素原子数は３～３０であることが好ましく、５～３０であることがより好ましく、５～２０がさらに好ましく、６～１５が特に好ましく、６～１０が最も好ましい。但し、該炭素原子数には、置換基における炭素原子数を含まないものとする。
　Ｒ１０１における芳香族炭化水素基が有する芳香環として具体的には、ベンゼン、フルオレン、ナフタレン、アントラセン、フェナントレン、ビフェニル、又はこれらの芳香環を構成する炭素原子の一部がヘテロ原子で置換された芳香族複素環などが挙げられる。芳香族複素環におけるヘテロ原子としては、酸素原子、硫黄原子、窒素原子等が挙げられる。
　Ｒ１０１における芳香族炭化水素基として具体的には、前記芳香環から水素原子を１つ除いた基（アリール基：例えば、フェニル基、ナフチル基など）、前記芳香環の水素原子の１つがアルキレン基で置換された基（例えば、ベンジル基、フェネチル基、１－ナフチルメチル基など）等が挙げられる。前記アルキレン基（アリールアルキル基中のアルキル鎖）の炭素原子数は、１～４であることが好ましく、１～２であることがより好ましく、１であることが特に好ましい。
　Ｒ１０１における環状の脂肪族炭化水素基は、構造中に環を含む脂肪族炭化水素基が挙げられる。
　この構造中に環を含む脂肪族炭化水素基としては、脂環式炭化水素基（脂肪族炭化水素環から水素原子を１個除いた基）、脂環式炭化水素基が直鎖状または分岐鎖状の脂肪族炭化水素基の末端に結合した基、脂環式炭化水素基が直鎖状または分岐鎖状の脂肪族炭化水素基の途中に介在する基などが挙げられる。
　前記脂環式炭化水素基は、炭素原子数が３～２０であることが好ましく、３～１２であることがより好ましい。
　前記脂環式炭化水素基は、多環式基であってもよく、単環式基であってもよい。単環式の脂環式炭化水素基としては、モノシクロアルカンから１個以上の水素原子を除いた基が好ましい。該モノシクロアルカンとしては、炭素原子数３～６のものが好ましく、具体的にはシクロペンタン、シクロヘキサン等が挙げられる。多環式の脂環式炭化水素基としては、ポリシクロアルカンから１個以上の水素原子を除いた基が好ましく、該ポリシクロアルカンとしては、炭素原子数７～３０のものが好ましい。中でも、該ポリシクロアルカンとしては、アダマンタン、ノルボルナン、イソボルナン、トリシクロデカン、テトラシクロドデカン等の架橋環系の多環式骨格を有するポリシクロアルカン；ステロイド骨格を有する環式基等の縮合環系の多環式骨格を有するポリシクロアルカンがより好ましい。
　なかでも、Ｒ１０１における環状の脂肪族炭化水素基としては、モノシクロアルカンまたはポリシクロアルカンから水素原子を１つ以上除いた基が好ましく、ポリシクロアルカンから水素原子を１つ除いた基がより好ましく、アダマンチル基、ノルボルニル基がさらに好ましく、アダマンチル基が特に好ましい。
　脂環式炭化水素基に結合してもよい、直鎖状の脂肪族炭化水素基は、炭素原子数が１～１０であることが好ましく、１～６がより好ましく、１～４がさらに好ましく、１～３が最も好ましい。直鎖状の脂肪族炭化水素基としては、直鎖状のアルキレン基が好ましく、具体的には、メチレン基［－ＣＨ２－］、エチレン基［－（ＣＨ２）２－］、トリメチレン基［－（ＣＨ２）３－］、テトラメチレン基［－（ＣＨ２）４－］、ペンタメチレン基［－（ＣＨ２）５－］等が挙げられる。
　脂環式炭化水素基に結合してもよい、分岐鎖状の脂肪族炭化水素基は、炭素原子数が２～１０であることが好ましく、３～６がより好ましく、３又は４がさらに好ましく、３が最も好ましい。分岐鎖状の脂肪族炭化水素基としては、分岐鎖状のアルキレン基が好ましく、具体的には、－ＣＨ（ＣＨ３）－、－ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ３）－、－Ｃ（ＣＨ３）２－、－Ｃ（ＣＨ３）（ＣＨ２ＣＨ３）－、－Ｃ（ＣＨ３）（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３）－、－Ｃ（ＣＨ２ＣＨ３）２－等のアルキルメチレン基；－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２－、－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ（ＣＨ３）－、－Ｃ（ＣＨ３）２ＣＨ２－、－ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ３）ＣＨ２－、－Ｃ（ＣＨ２ＣＨ３）２－ＣＨ２－等のアルキルエチレン基；－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２－等のアルキルトリメチレン基；－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２－、－ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ２－等のアルキルテトラメチレン基などのアルキルアルキレン基等が挙げられる。アルキルアルキレン基におけるアルキル基としては、炭素原子数１～５の直鎖状のアルキル基が好ましい。
　また、Ｒ１０１における環状の炭化水素基は、複素環等のようにヘテロ原子を含んでもよい。具体的には、前記一般式（ａ２－ｒ－１）～（ａ２－ｒ－７）でそれぞれ表されるラクトン含有環式基、下記一般式（ｂ５－ｒ－１）～（ｂ５－ｒ－４）でそれぞれ表される－ＳＯ２－含有環式基、その他上記の化学式（ｒ－ｈｒ－１）～（ｒ－ｈｒ－１６）でそれぞれ表される複素環式基が挙げられる。
　式中＊は、式（ｂ－１）中のＹ１０１に結合する結合手を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000082
 ［式中、Ｒｂ’５１はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、水酸基、－ＣＯＯＲ”、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ”、ヒドロキシアルキル基またはシアノ基であり；Ｒ”は水素原子、アルキル基、ラクトン含有環式基、又は、－ＳＯ２－含有環式基であり；Ｂ”は酸素原子もしくは硫黄原子を含んでいてもよい炭素原子数１～５のアルキレン基、酸素原子または硫黄原子であり、ｎ’は０～２の整数である。＊は結合手を示す。］
　前記一般式（ｂ５－ｒ－１）～（ｂ５－ｒ－４）中のＲｂ’５１、Ｂ”、及びｎ’は、上述の一般式（ａ２－ｒ－１）～（ａ２－ｒ－７）中のＲａ’２１、Ａ”、及びｎ’とそれぞれ同様である。
　下記に一般式（ｂ５－ｒ－１）～（ｂ５－ｒ－４）でそれぞれ表される基の具体例を挙げる。式中の「Ａｃ」は、アセチル基を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000083
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000084
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000085
　Ｒ１０１の環式基における置換基としては、例えば、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、水酸基、カルボニル基、ニトロ基等が挙げられる。
　置換基としてのアルキル基としては、炭素原子数１～５のアルキル基が好ましい。
　置換基としてのアルコキシ基としては、炭素原子数１～５のアルコキシ基が好ましく、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロポキシ基、ｉｓｏ－プロポキシ基、ｎ－ブトキシ基、ｔｅｒｔ－ブトキシ基がより好ましく、メトキシ基、エトキシ基が最も好ましい。
　置換基としてのハロゲン原子としては、フッ素原子、臭素原子、ヨウ素原子が好ましい。
　置換基としてのハロゲン化アルキル基としては、炭素原子数１～５のアルキル基、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ｎ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基等の水素原子の一部または全部が前記ハロゲン原子で置換された基が挙げられる。
　置換基としてのカルボニル基は、環状の炭化水素基を構成するメチレン基（－ＣＨ２－）を置換する基である。
　Ｒ１０１における環状の炭化水素基は、脂肪族炭化水素環と芳香環とが縮合した縮合環を含む縮合環式基であってもよい。前記縮合環としては、例えば、架橋環系の多環式骨格を有するポリシクロアルカンに、１個以上の芳香環が縮合したもの等が挙げられる。前記架橋環系ポリシクロアルカンの具体例としては、ビシクロ［２．２．１］ヘプタン（ノルボルナン）、ビシクロ［２．２．２］オクタン等のビシクロアルカンが挙げられる。前記縮合環式としては、ビシクロアルカンに２個又は３個の芳香環が縮合した縮合環を含む基が好ましく、ビシクロ［２．２．２］オクタンに２個又は３個の芳香環が縮合した縮合環を含む基がより好ましい。Ｒ１０１における縮合環式基の具体例としては、下記式（ｒ－ｂｒ－１）～（ｒ－ｂｒ－２）で表されるが挙げられる。式中＊は、式（ｂ－１）中のＹ１０１に結合する結合手を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000086
　Ｒ１０１における縮合環式基が有していてもよい置換基としては、例えば、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、水酸基、カルボニル基、ニトロ基、芳香族炭化水素基、脂環式炭化水素基等が挙げられる。
　前記縮合環式基の置換基としてのアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基は、上記Ｒ１０１における環式基の置換基として挙げたものと同様のものが挙げられる。
　前記縮合環式基の置換基としての芳香族炭化水素基としては、芳香環から水素原子を１つ除いた基（アリール基：例えば、フェニル基、ナフチル基など）、前記芳香環の水素原子の１つがアルキレン基で置換された基（例えば、ベンジル基、フェネチル基、１－ナフチルメチル基、２－ナフチルメチル基、１－ナフチルエチル基、２－ナフチルエチル基等のアリールアルキル基など）、上記の化学式（ｒ－ｈｒ－１）～（ｒ－ｈｒ－６）でそれぞれ表される複素環式基等が挙げられる。
　前記縮合環式基の置換基としての脂環式炭化水素基としては、シクロペンタン、シクロヘキサン等のモノシクロアルカンから１個の水素原子を除いた基；アダマンタン、ノルボルナン、イソボルナン、トリシクロデカン、テトラシクロドデカン等のポリシクロアルカンから１個の水素原子を除いた基；前記一般式（ａ２－ｒ－１）～（ａ２－ｒ－７）でそれぞれ表されるラクトン含有環式基；前記一般式（ｂ５－ｒ－１）～（ｂ５－ｒ－４）でそれぞれ表される－ＳＯ２－含有環式基；前記式（ｒ－ｈｒ－７）～（ｒ－ｈｒ－１６）でそれぞれ表される複素環式基等が挙げられる。
　置換基を有してもよい鎖状のアルキル基：
　Ｒ１０１の鎖状のアルキル基としては、直鎖状又は分岐鎖状のいずれでもよい。
　直鎖状のアルキル基としては、炭素原子数が１～２０であることが好ましく、１～１５であることがより好ましく、１～１０が最も好ましい。
　分岐鎖状のアルキル基としては、炭素原子数が３～２０であることが好ましく、３～１５であることがより好ましく、３～１０が最も好ましい。具体的には、例えば、１－メチルエチル基、１－メチルプロピル基、２－メチルプロピル基、１－メチルブチル基、２－メチルブチル基、３－メチルブチル基、１－エチルブチル基、２－エチルブチル基、１－メチルペンチル基、２－メチルペンチル基、３－メチルペンチル基、４－メチルペンチル基などが挙げられる。
　置換基を有してもよい鎖状のアルケニル基：
　Ｒ１０１の鎖状のアルケニル基としては、直鎖状又は分岐鎖状のいずれでもよく、炭素原子数が２～１０であることが好ましく、２～５がより好ましく、２～４がさらに好ましく、３が特に好ましい。直鎖状のアルケニル基としては、例えば、ビニル基、プロペニル基（アリル基）、ブテニル基などが挙げられる。分岐鎖状のアルケニル基としては、例えば、１－メチルビニル基、２－メチルビニル基、１－メチルプロペニル基、２－メチルプロペニル基などが挙げられる。
　鎖状のアルケニル基としては、上記の中でも、直鎖状のアルケニル基が好ましく、ビニル基、プロペニル基がより好ましく、ビニル基が特に好ましい。
　Ｒ１０１の鎖状のアルキル基またはアルケニル基における置換基としては、例えば、アルコキシ基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、水酸基、カルボニル基、ニトロ基、アミノ基、上記Ｒ１０１における環式基等が挙げられる。
　上記の中でも、Ｒ１０１は、置換基を有してもよい環式基が好ましく、置換基を有してもよい環状の炭化水素基であることがより好ましい。
　環状の炭化水素基として、より具体的には、フェニル基、ナフチル基、ポリシクロアルカンから１個以上の水素原子を除いた基；前記一般式（ａ２－ｒ－１）～（ａ２－ｒ－７）でそれぞれ表されるラクトン含有環式基；前記一般式（ｂ５－ｒ－１）～（ｂ５－ｒ－４）でそれぞれ表される－ＳＯ２－含有環式基が好ましく、ポリシクロアルカンから１個以上の水素原子を除いた基がより好ましく、アダマンチル基がさらに好ましい。
　式（ｂ－１）中、Ｙ１０１は、単結合または酸素原子を含む２価の連結基である。
　Ｙ１０１が酸素原子を含む２価の連結基である場合、該Ｙ１０１は、酸素原子以外の原子を含有してもよい。酸素原子以外の原子としては、例えば炭素原子、水素原子、硫黄原子、窒素原子等が挙げられる。
　酸素原子を含む２価の連結基としては、例えば、上記の一般式（ｙ－ａｌ－１）～（ｙ－ａｌ－８）でそれぞれ表される連結基が挙げられる。なお、一般式（ｙ－ａｌ－１）～（ｙ－ａｌ－８）において、上記式（ｂ－１）中のＲ１０１と結合するのが、一般式（ｙ－ａｌ－１）～（ｙ－ａｌ－８）中のＶ’１０１である。
　Ｙ１０１としては、エステル結合を含む２価の連結基、またはエーテル結合を含む２価の連結基が好ましく、上記式（ｙ－ａｌ－１）～（ｙ－ａｌ－６）でそれぞれ表される連結基がより好ましい。
　式（ｂ－１）中、Ｖ１０１は、単結合、アルキレン基又はフッ素化アルキレン基である。Ｖ１０１におけるアルキレン基、フッ素化アルキレン基は、炭素原子数１～４であることが好ましい。なかでも、Ｖ１０１は、単結合、又は炭素原子数１～４の直鎖状のアルキレン基であることが好ましい。
　ただし、式（ｂ－１）中のＹ１０１及びＶ１０１は、同時に単結合になることはない。
　式（ｂ－１）中、Ｒ１０２は、フッ素原子又は炭素原子数１～５のフッ素化アルキル基である。Ｒ１０２は、フッ素原子または炭素原子数１～５のパーフルオロアルキル基であることが好ましく、フッ素原子であることがより好ましい。
　前記式（ｂ－１）で表されるアニオン部の具体例としては、例えば、Ｙ１０１が単結合となる場合、トリフルオロメタンスルホネートアニオンやパーフルオロブタンスルホネートアニオン等のフッ素化アルキルスルホネートアニオンが挙げられ；Ｙ１０１が酸素原子を含む２価の連結基である場合、下記式（ａｎ－１）～（ａｎ－３）のいずれかで表されるアニオンが挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000087
 ［式中、Ｒ”１０１は、置換基を有してもよい脂肪族環式基、上記の化学式（ｒ－ｈｒ－１）～（ｒ－ｈｒ－６）でそれぞれ表される１価の複素環式基、前記式（ｒ－ｂｒ－１）若しくは（ｒ－ｂｒ－２）で表される縮合環式基、置換基を有してもよい鎖状のアルキル基、又は置換基を有してもよい芳香族環式基である。Ｒ”１０２は、置換基を有してもよい脂肪族環式基、前記式（ｒ－ｂｒ－１）又（ｒ－ｂｒ－２）で表される縮合環式基、前記一般式（ａ２－ｒ－１）、（ａ２－ｒ－３）～（ａ２－ｒ－７）でそれぞれ表されるラクトン含有環式基、又は前記一般式（ｂ５－ｒ－１）～（ｂ５－ｒ－４）でそれぞれ表される－ＳＯ２－含有環式基である。Ｒ”１０３は、置換基を有してもよい芳香族環式基、置換基を有してもよい脂肪族環式基、又は置換基を有してもよい鎖状のアルケニル基である。Ｖ”１０１は、単結合、炭素原子数１～４のアルキレン基、又は炭素原子数１～４のフッ素化アルキレン基である。Ｒ１０２は、フッ素原子又は炭素原子数１～５のフッ素化アルキル基である。ｖ”はそれぞれ独立に０～３の整数であり、ｑ”はそれぞれ独立に０～２０の整数であり、ｎ”は０または１である。］
　Ｒ”１０１、Ｒ”１０２およびＲ”１０３の置換基を有してもよい脂肪族環式基は、前記式（ｂ－１）中のＲ１０１における環状の脂肪族炭化水素基として例示した基であることが好ましい。前記置換基としては、前記式（ｂ－１）中のＲ１０１における環状の脂肪族炭化水素基を置換してもよい置換基と同様のものが挙げられる。
　Ｒ”１０１及びＲ”１０３における置換基を有してもよい芳香族環式基は、前記式（ｂ－１）中のＲ１０１における環状の炭化水素基における芳香族炭化水素基として例示した基であることが好ましい。前記置換基としては、前記式（ｂ－１）中のＲ１０１における該芳香族炭化水素基を置換してもよい置換基と同様のものが挙げられる。
　Ｒ”１０１における置換基を有してもよい鎖状のアルキル基は、前記式（ｂ－１）中のＲ１０１における鎖状のアルキル基として例示した基であることが好ましい。
　Ｒ”１０３における置換基を有してもよい鎖状のアルケニル基は、前記式（ｂ－１）中のＲ１０１における鎖状のアルケニル基として例示した基であることが好ましい。
　Ｖ”１０１におけるアルキレン基及びフッ素化アルキレン基は、炭素原子数１～３が好ましく、炭素原子数１又は２がより好ましい。Ｖ”１０１の具体例としては、例えば、－ＣＨ２－、－（ＣＨ２）２－、－ＣＦＨ－、－ＣＨ２ＣＦＨ－、－ＣＨ（ＣＦ３）－等が挙げられる。
　前記式（ｂ－１）で表されるアニオン部としては、前記式（ａｎ－１）で表されるアニオン部が好ましい。中でも、前記（ａｎ－１）中のＲ”１０１が、置換基を有してもよい芳香族環式基であるものが好ましく、置換基を有してもよいフェニル基であるものがより好ましい。前記置換基としては、例えば、ヒドロキシ基、アルキル基、又はハロゲン原子が挙げられる。前記ハロゲン原子としては、臭素原子、又はヨウ素原子が好ましく、ヨウ素原子がより好ましい。
　・（ｂ－２）成分におけるアニオン
　式（ｂ－２）中、Ｒ１０４、Ｒ１０５は、それぞれ独立に、置換基を有してもよい環式基、置換基を有してもよい鎖状のアルキル基、または置換基を有してもよい鎖状のアルケニル基であり、それぞれ、式（ｂ－１）中のＲ１０１と同様のものが挙げられる。ただし、Ｒ１０４、Ｒ１０５は、相互に結合して環を形成していてもよい。
　Ｒ１０４、Ｒ１０５は、置換基を有してもよい鎖状のアルキル基が好ましく、直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又は直鎖状若しくは分岐鎖状のフッ素化アルキル基であることがより好ましい。
　該鎖状のアルキル基の炭素原子数は、１～１０であることが好ましく、より好ましくは炭素原子数１～７、さらに好ましくは炭素原子数１～３である。Ｒ１０４、Ｒ１０５の鎖状のアルキル基の炭素原子数は、上記炭素原子数の範囲内において、レジスト用溶剤への溶解性も良好である等の理由により、小さいほど好ましい。また、Ｒ１０４、Ｒ１０５の鎖状のアルキル基においては、フッ素原子で置換されている水素原子の数が多いほど、酸の強度が強くなり、また、２５０ｎｍ以下の高エネルギー光や電子線に対する透明性が向上するため好ましい。前記鎖状のアルキル基中のフッ素原子の割合、すなわちフッ素化率は、好ましくは７０～１００％、さらに好ましくは９０～１００％であり、最も好ましくは、全ての水素原子がフッ素原子で置換されたパーフルオロアルキル基である。
　式（ｂ－２）中、Ｖ１０２、Ｖ１０３は、それぞれ独立に、単結合、アルキレン基、またはフッ素化アルキレン基であり、それぞれ、式（ｂ－１）中のＶ１０１と同様のものが挙げられる。
　式（ｂ－２）中、Ｌ１０１、Ｌ１０２は、それぞれ独立に単結合又は酸素原子である。
　・（ｂ－３）成分におけるアニオン
　式（ｂ－３）中、Ｒ１０６～Ｒ１０８は、それぞれ独立に、置換基を有してもよい環式基、置換基を有してもよい鎖状のアルキル基、又は置換基を有してもよい鎖状のアルケニル基であり、それぞれ、式（ｂ－１）中のＲ１０１と同様のものが挙げられる。
　式（ｂ－３）中、Ｌ１０３～Ｌ１０５は、それぞれ独立に、単結合、－ＣＯ－又は－ＳＯ２－である。
　｛カチオン部｝
　前記の式（ｂ－１）、式（ｂ－２）、式（ｂ－３）中、Ｍ’ｍ＋は、ｍ価のオニウムカチオンを表す。この中でも、スルホニウムカチオン、ヨードニウムカチオンが好ましい。
　ｍは、１以上の整数である。
　好ましいカチオン部（（Ｍ’ｍ＋）１／ｍ）としては、上記一般式（ｃａ－１）～（ｃａ－３）でそれぞれ表されるオニウムカチオンが挙げられる。カチオン部としては、前記一般式（ｃａ－１）で表されるカチオンがより好ましく、前記式（ｃａ－１－１）～（ｃａ－１－７５）でそれぞれ表されるカチオンがさらに好ましい。
　本実施形態のレジスト組成物において、（Ｂ）成分は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。本実施形態のレジスト組成物においては、上記（Ａ１）成分が構成単位（ａ０）を有するため、（Ｂ）成分を含有しなくてもよい。
　上記の中でも、（Ｂ）成分としては、（ｂ－１）成分が好ましい。
　レジスト組成物における（Ｂ）成分の含有量は、（Ａ１）成分１００質量部に対して、０～３０質量部が好ましく、０～２０質量部がより好ましく、０～１０質量部がさらに好ましい。
　（Ｂ）成分の含有量を、前記の好ましい範囲とすることで、レジスト組成物の各成分を有機溶剤に溶解した際、均一な溶液が得られやすく、レジスト組成物としての保存安定性が良好となるため好ましい。
　≪塩基成分（Ｄ）≫
　本実施形態のレジスト組成物は、（Ａ）成分に加えて、さらに、露光により発生する酸をトラップ（すなわち、酸の拡散を制御）する塩基成分（以下「（Ｄ）成分」ともいう）を含有することが好ましい。（Ｄ）成分は、レジスト組成物において露光により発生する酸をトラップするクエンチャー（酸拡散制御剤）として作用するものである。
　（Ｄ）成分としては、例えば、露光により分解して酸拡散制御性を失う光崩壊性塩基（Ｄ１）（以下「（Ｄ１）成分」という。）、該（Ｄ１）成分に該当しない含窒素有機化合物（Ｄ２）（以下「（Ｄ２）成分」という。）等が挙げられる。これらの中でも、パターン寸法の均一性、ラフネス低減性を高められやすいことから、光崩壊性塩基（（Ｄ１）成分）が好ましい。また、（Ｄ１）成分を含有させることで、高感度化、塗布欠陥の発生の抑制の特性をいずれも高めやすくなる。後述の（Ｄ１）成分として例示される化合物は、他の化合物との組み合わせによっては、上述の酸発生剤成分（（Ｂ）成分）として用いられる場合がある。
　・（Ｄ１）成分について
　（Ｄ１）成分を含有するレジスト組成物とすることで、レジストパターンを形成する際に、レジスト膜の露光部と未露光部とのコントラストをより向上させることができる。
　（Ｄ１）成分としては、露光により分解して酸拡散制御性を失うものであれば特に限定されず、下記一般式（ｄ１－１）で表される化合物（以下「（ｄ１－１）成分」という。）、下記一般式（ｄ１－２）で表される化合物（以下「（ｄ１－２）成分」という。）及び下記一般式（ｄ１－３）で表される化合物（以下「（ｄ１－３）成分」という。）からなる群より選ばれる１種以上の化合物が好ましい。
　（ｄ１－１）～（ｄ１－３）成分は、レジスト膜の露光部においては分解して酸拡散制御性（塩基性）を失うためクエンチャーとして作用せず、レジスト膜の未露光部においてクエンチャーとして作用する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000088
 ［式中、Ｒｄ１～Ｒｄ４は置換基を有してもよい環式基、置換基を有してもよい鎖状のアルキル基、又は置換基を有してもよい鎖状のアルケニル基である。但し、式（ｄ１－２）中のＲｄ２における、Ｓ原子に隣接する炭素原子にはフッ素原子は結合していないものとする。Ｙｄ１は単結合又は２価の連結基である。ｍは１以上の整数であって、Ｍｍ＋はそれぞれ独立にｍ価のオニウムカチオンである。］
　｛（ｄ１－１）成分｝
　・・アニオン部
　式（ｄ１－１）中、Ｒｄ１は、置換基を有してもよい環式基、置換基を有してもよい鎖状のアルキル基、又は置換基を有してもよい鎖状のアルケニル基であり、それぞれ前記Ｒ’２０１と同様のものが挙げられる。
　これらのなかでも、Ｒｄ１としては、置換基を有してもよい芳香族炭化水素基、置換基を有してもよい脂肪族環式基、又は置換基を有してもよい鎖状のアルキル基が好ましい。これらの基が有していてもよい置換基としては、水酸基、オキソ基、アルキル基、アリール基、フッ素原子、フッ素化アルキル基、上記一般式（ａ２－ｒ－１）～（ａ２－ｒ－７）でそれぞれ表されるラクトン含有環式基、エーテル結合、エステル結合、またはこれらの組み合わせが挙げられる。エーテル結合やエステル結合を置換基として含む場合、アルキレン基を介していてもよく、この場合の置換基としては、上記式（ｙ－ａｌ－１）～（ｙ－ａｌ－６）でそれぞれ表される連結基が好ましい。なお、Ｒｄ１における芳香族炭化水素基、脂肪族環式基、又は鎖状のアルキル基が、置換基として、上記一般式（ｙ－ａｌ－１）～（ｙ－ａｌ－８）でそれぞれ表される連結基を有する場合、上記一般式（ｙ－ａｌ－１）～（ｙ－ａｌ－８）において、式（ｄ３－１）中のＲｄ１における芳香族炭化水素基、脂肪族環式基、又は鎖状のアルキル基を構成する炭素原子に結合するのが、上記一般式（ｙ－ａｌ－１）～（ｙ－ａｌ－８）中のＶ’１０１である。
　前記芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、ビシクロオクタン骨格を含む多環構造（ビシクロオクタン骨格とこれ以外の環構造とからなる多環構造）が好適に挙げられる。
　前記脂肪族環式基としては、アダマンタン、ノルボルナン、イソボルナン、トリシクロデカン、テトラシクロドデカン等のポリシクロアルカンから１個以上の水素原子を除いた基であることがより好ましい。
　前記鎖状のアルキル基としては、炭素原子数が１～１０であることが好ましく、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基等の直鎖状のアルキル基；１－メチルエチル基、１－メチルプロピル基、２－メチルプロピル基、１－メチルブチル基、２－メチルブチル基、３－メチルブチル基、１－エチルブチル基、２－エチルブチル基、１－メチルペンチル基、２－メチルペンチル基、３－メチルペンチル基、４－メチルペンチル基等の分岐鎖状のアルキル基が挙げられる。
　前記鎖状のアルキル基が置換基としてフッ素原子又はフッ素化アルキル基を有するフッ素化アルキル基である場合、フッ素化アルキル基の炭素原子数は、１～１１が好ましく、１～８がより好ましく、１～４がさらに好ましい。該フッ素化アルキル基は、フッ素原子以外の原子を含有してもよい。フッ素原子以外の原子としては、例えば酸素原子、硫黄原子、窒素原子等が挙げられる。
　以下に（ｄ１－１）成分のアニオン部の好ましい具体例を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000089
　・・カチオン部
　式（ｄ１－１）中、Ｍｍ＋は、ｍ価のオニウムカチオンである。
　Ｍｍ＋のオニウムカチオンとしては、前記一般式（ｃａ－１）～（ｃａ－３）でそれぞれ表されるカチオンと同様のものが好適に挙げられ、前記一般式（ｃａ－１）で表されるカチオンがより好ましく、前記式（ｃａ－１－１）～（ｃａ－１－７５）でそれぞれ表されるカチオンがさらに好ましい。
　（ｄ１－１）成分は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
　｛（ｄ１－２）成分｝
　・・アニオン部
　式（ｄ１－２）中、Ｒｄ２は、置換基を有してもよい環式基、置換基を有してもよい鎖状のアルキル基、又は置換基を有してもよい鎖状のアルケニル基であり、前記Ｒ’２０１と同様のものが挙げられる。
　但し、Ｒｄ２における、Ｓ原子に隣接する炭素原子にはフッ素原子は結合していない（フッ素置換されていない）ものとする。これにより、（ｄ１－２）成分のアニオンが適度な弱酸アニオンとなり、（Ｄ）成分としてのクエンチング能が向上する。
　Ｒｄ２としては、置換基を有してもよい鎖状のアルキル基、又は置換基を有してもよい脂肪族環式基であることが好ましく、置換基を有してもよい脂肪族環式基であることがより好ましい。
　該鎖状のアルキル基としては、炭素原子数１～１０であることが好ましく、３～１０であることがより好ましい。
　該脂肪族環式基としては、アダマンタン、ノルボルナン、イソボルナン、トリシクロデカン、テトラシクロドデカン等から１個以上の水素原子を除いた基（置換基を有してもよい）；カンファーから１個以上の水素原子を除いた基であることがより好ましい。
　Ｒｄ２の炭化水素基は、置換基を有していてもよく、該置換基としては、前記式（ｄ１－１）のＲｄ１における炭化水素基（芳香族炭化水素基、脂肪族環式基、鎖状のアルキル基）が有していてもよい置換基と同様のものが挙げられる。
　以下に（ｄ１－２）成分のアニオン部の好ましい具体例を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000090
　・・カチオン部
　式（ｄ１－２）中、Ｍｍ＋は、ｍ価のオニウムカチオンであり、前記式（ｄ１－１）中のＭｍ＋と同様である。
　（ｄ１－２）成分は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
　｛（ｄ１－３）成分｝
　・・アニオン部
　式（ｄ１－３）中、Ｒｄ３は置換基を有してもよい環式基、置換基を有してもよい鎖状のアルキル基、又は置換基を有してもよい鎖状のアルケニル基であり、前記Ｒ’２０１と同様のものが挙げられ、フッ素原子を含む環式基、鎖状のアルキル基、又は鎖状のアルケニル基であることが好ましい。中でも、フッ素化アルキル基が好ましく、前記Ｒｄ１のフッ素化アルキル基と同様のものがより好ましい。
　式（ｄ１－３）中、Ｒｄ４は、置換基を有してもよい環式基、置換基を有してもよい鎖状のアルキル基、又は置換基を有してもよい鎖状のアルケニル基であり、前記Ｒ’２０１と同様のものが挙げられる。
　なかでも、置換基を有してもよいアルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、環式基であることが好ましい。
　Ｒｄ４におけるアルキル基は、炭素原子数１～５の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が好ましく、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基等が挙げられる。Ｒｄ４のアルキル基の水素原子の一部が水酸基、シアノ基等で置換されていてもよい。
　Ｒｄ４におけるアルコキシ基は、炭素原子数１～５のアルコキシ基が好ましく、炭素原子数１～５のアルコキシ基として具体的には、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロポキシ基、ｉｓｏ－プロポキシ基、ｎ－ブトキシ基、ｔｅｒｔ－ブトキシ基が挙げられる。なかでも、メトキシ基、エトキシ基が好ましい。
　Ｒｄ４におけるアルケニル基は、前記Ｒ’２０１におけるアルケニル基と同様のものが挙げられ、ビニル基、プロペニル基（アリル基）、１－メチルプロペニル基、２－メチルプロペニル基が好ましい。これらの基はさらに置換基として、炭素原子数１～５のアルキル基又は炭素原子数１～５のハロゲン化アルキル基を有していてもよい。
　Ｒｄ４における環式基は、前記Ｒ’２０１における環式基と同様のものが挙げられ、シクロペンタン、シクロヘキサン、アダマンタン、ノルボルナン、イソボルナン、トリシクロデカン、テトラシクロドデカン等のシクロアルカンから１個以上の水素原子を除いた脂環式基、又は、フェニル基、ナフチル基等の芳香族基が好ましい。Ｒｄ４が脂環式基である場合、レジスト組成物が有機溶剤に良好に溶解することにより、リソグラフィー特性が良好となる。また、Ｒｄ４が芳香族基である場合、ＥＵＶ等を露光光源とするリソグラフィーにおいて、該レジスト組成物が光吸収効率に優れ、感度やリソグラフィー特性が良好となる。
　式（ｄ１－３）中、Ｙｄ１は、単結合または２価の連結基である。
　Ｙｄ１における２価の連結基としては、特に限定されないが、置換基を有してもよい２価の炭化水素基（脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基）、ヘテロ原子を含む２価の連結基等が挙げられる。これらはそれぞれ、上記式（ａ１０－１）中のＹａｘ１における２価の連結基についての説明のなかで挙げた、置換基を有してもよい２価の炭化水素基、ヘテロ原子を含む２価の連結基と同様のものが挙げられる。
　Ｙｄ１としては、カルボニル基、エステル結合、アミド結合、アルキレン基又はこれらの組み合わせであることが好ましい。アルキレン基としては、直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基であることがより好ましく、メチレン基又はエチレン基であることがさらに好ましい。
　以下に（ｄ１－３）成分のアニオン部の好ましい具体例を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000091
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000092
　・・カチオン部
　式（ｄ１－３）中、Ｍｍ＋は、ｍ価のオニウムカチオンであり、前記式（ｄ１－１）中のＭｍ＋と同様である。
　（ｄ１－３）成分は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
　（Ｄ１）成分は、上記（ｄ１－１）～（ｄ１－３）成分のいずれか１種のみを用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
　本実施形態のレジスト組成物において、（Ｄ１）成分は、上記（ｄ１－１）成分を含むことが好ましい。
　レジスト組成物が（Ｄ１）成分を含有する場合、レジスト組成物中の（Ｄ１）成分の含有量は、（Ａ１）成分１００質量部に対して、０．５～１５質量部が好ましく、１～１０質量部がより好ましく、２～９質量部がさらに好ましい。
　（Ｄ１）成分の含有量が好ましい下限値以上であると、特に良好なリソグラフィー特性及びレジストパターン形状が得られやすい。一方、上限値以下であると、感度を良好に維持でき、スループットにも優れる。
　本実施形態のレジスト組成物が含有する（Ｄ）成分全体のうち、（ｄ１－１）成分の含有量は、５０質量％以上であることが好ましく、７０質量％以上であることがより好ましく、９０質量％以上であることがさらに好ましく、（Ｄ）成分は化合物（ｄ１－１）成分のみからなるものであってもよい。
　（Ｄ１）成分の製造方法：
　前記の（ｄ１－１）成分、（ｄ１－２）成分の製造方法は、特に限定されず、公知の方法により製造することができる。
　また、（ｄ１－３）成分の製造方法は、特に限定されず、例えば、ＵＳ２０１２－０１４９９１６号公報に記載の方法と同様にして製造される。
　・（Ｄ２）成分について
　（Ｄ）成分としては、上記の（Ｄ１）成分に該当しない含窒素有機化合物成分（以下「（Ｄ２）成分」という。）を含有してもよい。
　（Ｄ２）成分としては、酸拡散制御剤として作用するもので、かつ、（Ｄ１）成分に該当しないものであれば特に限定されず、公知のものから任意に用いればよい。なかでも、脂肪族アミンが好ましく、この中でも特に第２級脂肪族アミンや第３級脂肪族アミンがより好ましい。
　脂肪族アミンとは、１つ以上の脂肪族基を有するアミンであり、該脂肪族基は炭素原子数が１～１２であることが好ましい。
　脂肪族アミンとしては、アンモニアＮＨ３の水素原子の少なくとも１つを、炭素原子数１２以下のアルキル基もしくはヒドロキシアルキル基で置換したアミン（アルキルアミンもしくはアルキルアルコールアミン）又は環式アミンが挙げられる。
　アルキルアミンおよびアルキルアルコールアミンの具体例としては、ｎ－ヘキシルアミン、ｎ－ヘプチルアミン、ｎ－オクチルアミン、ｎ－ノニルアミン、ｎ－デシルアミン等のモノアルキルアミン；ジエチルアミン、ジ－ｎ－プロピルアミン、ジ－ｎ－ヘプチルアミン、ジ－ｎ－オクチルアミン、ジシクロヘキシルアミン等のジアルキルアミン；トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリ－ｎ－プロピルアミン、トリ－ｎ－ブチルアミン、トリ－ｎ－ペンチルアミン、トリ－ｎ－ヘキシルアミン、トリ－ｎ－ヘプチルアミン、トリ－ｎ－オクチルアミン、トリ－ｎ－ノニルアミン、トリ－ｎ－デシルアミン、トリ－ｎ－ドデシルアミン等のトリアルキルアミン；ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、ジイソプロパノールアミン、トリイソプロパノールアミン、ジ－ｎ－オクタノールアミン、トリ－ｎ－オクタノールアミン等のアルキルアルコールアミンが挙げられる。これらの中でも、炭素原子数６～３０のトリアルキルアミンがさらに好ましく、トリ－ｎ－ペンチルアミン又はトリ－ｎ－オクチルアミンが特に好ましい。
　環式アミンとしては、例えば、ヘテロ原子として窒素原子を含む複素環化合物が挙げられる。該複素環化合物としては、単環式のもの（脂肪族単環式アミン）であっても多環式のもの（脂肪族多環式アミン）であってもよい。
　脂肪族単環式アミンとして、具体的には、ピペリジン、ピペラジン等が挙げられる。
　脂肪族多環式アミンとしては、炭素原子数が６～１０のものが好ましく、具体的には、１，５－ジアザビシクロ［４．３．０］－５－ノネン、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］－７－ウンデセン、ヘキサメチレンテトラミン、１，４－ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン等が挙げられる。
　その他の脂肪族アミンとしては、トリス（２－メトキシメトキシエチル）アミン、トリス｛２－（２－メトキシエトキシ）エチル｝アミン、トリス｛２－（２－メトキシエトキシメトキシ）エチル｝アミン、トリス｛２－（１－メトキシエトキシ）エチル｝アミン、トリス｛２－（１－エトキシエトキシ）エチル｝アミン、トリス｛２－（１－エトキシプロポキシ）エチル｝アミン、トリス［２－｛２－（２－ヒドロキシエトキシ）エトキシ｝エチル］アミン、トリエタノールアミントリアセテート等が挙げられ、トリエタノールアミントリアセテートが好ましい。
　また、（Ｄ２）成分としては、芳香族アミンを用いてもよい。
　芳香族アミンとしては、４－ジメチルアミノピリジン、ピロール、インドール、ピラゾール、イミダゾールまたはこれらの誘導体、トリベンジルアミン、２，６－ジイソプロピルアニリン、Ｎ－ｔｅｒｔ－ブトキシカルボニルピロリジン、２，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルピリジン、２，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルピリジン等が挙げられる。
　上記の中でも、（Ｄ２）成分は、アルキルアミンであることが好ましく、炭素原子数６～３０のトリアルキルアミンがより好ましい。
　（Ｄ２）成分は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
　レジスト組成物が（Ｄ２）成分を含有する場合、レジスト組成物中、（Ｄ２）成分の含有量は、（Ａ１）成分１００質量部に対して、０．０１～５質量部が好ましく、０．１～５質量部がより好ましく、０．５～５質量部がさらに好ましい。
　（Ｄ２）成分の含有量が好ましい下限値以上であると、特に良好なリソグラフィー特性及びレジストパターン形状が得られやすい。一方、上限値以下であると、感度を良好に維持でき、スループットにも優れる。
　≪有機カルボン酸、並びにリンのオキソ酸及びその誘導体からなる群より選択される少なくとも１種の化合物（Ｅ）≫
　本実施形態のレジスト組成物には、感度劣化の防止や、レジストパターン形状、引き置き経時安定性等の向上の目的で、任意の成分として、有機カルボン酸、並びにリンのオキソ酸及びその誘導体からなる群より選択される少なくとも１種の化合物（Ｅ）（以下「（Ｅ）成分」という）を含有させることができる。
　有機カルボン酸として、具体的には、酢酸、マロン酸、クエン酸、リンゴ酸、コハク酸、安息香酸、サリチル酸等が挙げられ、その中でも、サリチル酸が好ましい。
　リンのオキソ酸としては、リン酸、ホスホン酸、ホスフィン酸等が挙げられ、これらの中でも特にホスホン酸が好ましい。
　本実施形態のレジスト組成物において、（Ｅ）成分は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
　レジスト組成物が（Ｅ）成分を含有する場合、（Ｅ）成分の含有量は、（Ａ１）成分１００質量部に対して、０．０１～５質量部が好ましく、０．０５～３質量部がより好ましい。上記範囲とすることにより、リソグラフィー特性がより向上する。
　≪フッ素添加剤成分（Ｆ）≫
　本実施形態のレジスト組成物は、疎水性樹脂としてフッ素添加剤成分（以下「（Ｆ）成分」という）を含有してもよい。（Ｆ）成分は、レジスト膜に撥水性を付与するために使用され、（Ａ１）成分とは別の樹脂として用いられることで、リソグラフィー特性を向上させることができる。
　（Ｆ）成分としては、例えば、特開２０１０－００２８７０号公報、特開２０１０－０３２９９４号公報、特開２０１０－２７７０４３号公報、特開２０１１－１３５６９号公報、特開２０１１－１２８２２６号公報に記載の含フッ素高分子化合物を用いることができる。
　（Ｆ）成分としてより具体的には、下記一般式（ｆ１－１）で表される構成単位（ｆ１）を有する重合体が挙げられる。この重合体としては、下記式（ｆ１－１）で表される構成単位（ｆ１）のみからなる重合体（ホモポリマー）；該構成単位（ｆ１）と前記構成単位（ａ１）との共重合体；該構成単位（ｆ１）とアクリル酸又はメタクリル酸から誘導される構成単位と前記構成単位（ａ１）との共重合体であることが好ましく、該構成単位（ｆ１）と前記構成単位（ａ１）との共重合体であることがより好ましい。ここで、該構成単位（ｆ１）と共重合される前記構成単位（ａ１）としては、１－エチル－１－シクロオクチル（メタ）アクリレートから誘導される構成単位、１－メチル－１－アダマンチル（メタ）アクリレートから誘導される構成単位が好ましく、１－エチル－１－シクロオクチル（メタ）アクリレートから誘導される構成単位がより好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000093
 ［式中、Ｒは前記と同様であり、Ｒｆ１０２およびＲｆ１０３はそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１～５のアルキル基又は炭素原子数１～５のハロゲン化アルキル基を表し、Ｒｆ１０２およびＲｆ１０３は同じであっても異なっていてもよい。ｎｆ１は０～５の整数であり、Ｒｆ１０１はフッ素原子を含む有機基である。］
　式（ｆ１－１）中、α位の炭素原子に結合したＲは、前記と同様である。Ｒとしては、水素原子またはメチル基が好ましい。
　式（ｆ１－１）中、Ｒｆ１０２およびＲｆ１０３のハロゲン原子としては、フッ素原子が好ましい。Ｒｆ１０２およびＲｆ１０３の炭素原子数１～５のアルキル基としては、上記Ｒの炭素原子数１～５のアルキル基と同様のものが挙げられ、メチル基またはエチル基が好ましい。Ｒｆ１０２およびＲｆ１０３の炭素原子数１～５のハロゲン化アルキル基として、具体的には、炭素原子数１～５のアルキル基の水素原子の一部または全部が、ハロゲン原子で置換された基が挙げられる。該ハロゲン原子としては、フッ素原子が好ましい。なかでもＲｆ１０２およびＲｆ１０３としては、水素原子、フッ素原子、又は炭素原子数１～５のアルキル基が好ましく、水素原子、フッ素原子、メチル基、またはエチル基がより好ましく、水素原子がさらに好ましい。
　式（ｆ１－１）中、ｎｆ１は０～５の整数であり、０～３の整数が好ましく、１又は２であることがより好ましい。
　式（ｆ１－１）中、Ｒｆ１０１は、フッ素原子を含む有機基であり、フッ素原子を含む炭化水素基であることが好ましい。
　フッ素原子を含む炭化水素基としては、直鎖状、分岐鎖状または環状のいずれであってもよく、炭素原子数は１～２０であることが好ましく、炭素原子数１～１５であることがより好ましく、炭素原子数１～１０が特に好ましい。
　また、フッ素原子を含む炭化水素基は、当該炭化水素基における水素原子の２５％以上がフッ素化されていることが好ましく、５０％以上がフッ素化されていることがより好ましく、６０％以上がフッ素化されていることが、浸漬露光時のレジスト膜の疎水性が高まることから特に好ましい。
　なかでも、Ｒｆ１０１としては、炭素原子数１～６のフッ素化炭化水素基がより好ましく、トリフルオロメチル基、－ＣＨ２－ＣＦ３、－ＣＨ２－ＣＦ２－ＣＦ３、－ＣＨ（ＣＦ３）２、－ＣＨ２－ＣＨ２－ＣＦ３、－ＣＨ２－ＣＨ２－ＣＦ２－ＣＦ２－ＣＦ２－ＣＦ３が特に好ましい。
　（Ｆ）成分の重量平均分子量（Ｍｗ）（ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるポリスチレン換算基準）は、１０００～５００００が好ましく、５０００～４００００がより好ましく、１００００～３００００が最も好ましい。この範囲の上限値以下であると、レジストとして用いるのにレジスト用溶剤への充分な溶解性があり、この範囲の下限値以上であると、レジスト膜の撥水性が良好である。
　（Ｆ）成分の分子量分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）は、１．０～５．０が好ましく、１．０～３．０がより好ましく、１．０～２．５が最も好ましい。
　本実施形態のレジスト組成物において、（Ｆ）成分は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
　レジスト組成物が（Ｆ）成分を含有する場合、（Ｆ）成分の含有量は、（Ａ１）成分１００質量部に対して、０．５～１０質量部であることが好ましく、１～１０質量部であることがより好ましい。
　≪有機溶剤成分（Ｓ）≫
　本実施形態のレジスト組成物は、レジスト材料を有機溶剤成分（以下「（Ｓ）成分」という）に溶解させて製造することができる。
　本実施形態のレジスト組成物において、（Ｓ）成分は、１種単独で用いてもよく、２種以上の混合溶剤として用いてもよい。なかでも、ＰＧＭＥＡ、ＰＧＭＥ、γ－ブチロラクトン、ＥＬ、シクロヘキサノンが好ましい。
　また、（Ｓ）成分としては、ＰＧＭＥＡと極性溶剤とを混合した混合溶剤も好ましい。その配合比（質量比）は、ＰＧＭＥＡと極性溶剤との相溶性等を考慮して適宜決定すればよい。
　（Ｓ）成分としては、ＰＧＭＥＡ及びＥＬの中から選ばれる少なくとも１種とγ－ブチロラクトンとの混合溶剤も好ましい。この場合、混合割合としては、前者と後者との質量比が、好ましくは７０：３０～９５：５とされる。
　（Ｓ）成分の使用量は、特に限定されず、基板等に塗布可能な濃度で、塗布膜厚に応じて適宜設定される。一般的にはレジスト組成物の固形分濃度が０．１～２０質量％、好ましくは０．２～１５質量％、より好ましくは０．５～５質量％の範囲内となるように（Ｓ）成分は用いられる。
　本実施形態のレジスト組成物は、上記レジスト材料を（Ｓ）成分に溶解させた後、ポリイミド多孔質膜、ポリアミドイミド多孔質膜等を用いて、不純物等の除去を行ってもよい。例えば、ポリイミド多孔質膜からなるフィルター、ポリアミドイミド多孔質膜からなるフィルター、ポリイミド多孔質膜及びポリアミドイミド多孔質膜からなるフィルター等を用いて、レジスト組成物の濾過を行ってもよい。前記ポリイミド多孔質膜及び前記ポリアミドイミド多孔質膜としては、例えば、特開２０１６－１５５１２１号公報に記載のもの等が例示される。
　以上説明した本実施形態のレジスト組成物は、重合性基含有基とヨウ素原子とカルボキシレート基とを含むアニオン、及びオニウムカチオンからなるモノマー単位を有する高分子化合物を、基材成分であるベース樹脂としている。
　ベース樹脂である当該高分子化合物は、ヨウ素原子を含むため、露光に対する光吸収性が高められる。また、カルボキシレート基を含むアニオン部が、ベース樹脂に、繰り返し単位として導入されているため、クエンチャ効果を奏する部位が、レジスト膜中に均一に分散しやすい。このような作用が相乗的に働くことで、本実施形態のレジスト組成物によれば、更なる高感度化が図れ、ラフネス低減等のリソグラフィー特性が向上する、と考えられる。
（レジストパターン形成方法）
　本発明の第２の態様に係るレジストパターン形成方法は、支持体上に、上述した本発明の第１の態様に係るレジスト組成物を用いてレジスト膜を形成する工程、前記レジスト膜を露光する工程、及び前記露光後のレジスト膜を現像してレジストパターンを形成する工程を有する方法である。
　かかるレジストパターン形成方法の一実施形態としては、例えば以下のようにして行うレジストパターン形成方法が挙げられる。
　まず、上述した実施形態のレジスト組成物を、支持体上にスピンナー等で塗布し、ベーク（ポストアプライベーク（ＰＡＢ））処理を、例えば８０～１５０℃の温度条件にて４０～１２０秒間、好ましくは６０～９０秒間施してレジスト膜を形成する。
　次に、該レジスト膜に対し、例えば電子線描画装置、ＥＵＶ露光装置等の露光装置を用いて、所定のパターンが形成されたマスク（マスクパターン）を介した露光またはマスクパターンを介さない電子線の直接照射による描画等による選択的露光を行う。
　その後、ベーク（ポストエクスポージャーベーク（ＰＥＢ））処理を、例えば８０～１５０℃の温度条件にて４０～１２０秒間、好ましくは６０～９０秒間施す。
　次に、前記レジスト膜を現像処理する。現像処理は、アルカリ現像プロセスの場合は、アルカリ現像液を用い、溶剤現像プロセスの場合は、有機溶剤を含有する現像液（有機系現像液）を用いて行う。
　現像処理後、好ましくはリンス処理を行う。リンス処理は、アルカリ現像プロセスの場合は、純水を用いた水リンスが好ましく、溶剤現像プロセスの場合は、有機溶剤を含有するリンス液を用いることが好ましい。
　溶剤現像プロセスの場合、前記現像処理またはリンス処理の後に、パターン上に付着している現像液またはリンス液を、超臨界流体により除去する処理を行ってもよい。
　現像処理後またはリンス処理後、乾燥を行う。また、場合によっては、上記現像処理後にベーク処理（ポストベーク）を行ってもよい。
　支持体としては、特に限定されず、従来公知のものを用いることができ、例えば、電子部品用の基板や、これに所定の配線パターンが形成されたもの等が挙げられる。より具体的には、シリコンウェーハ、銅、クロム、鉄、アルミニウム等の金属製の基板や、ガラス基板等が挙げられる。配線パターンの材料としては、例えば銅、アルミニウム、ニッケル、金等が使用可能である。
　露光に用いる波長は、特に限定されず、ＡｒＦエキシマレーザー、ＫｒＦエキシマレーザー、Ｆ２エキシマレーザー、ＥＵＶ（極端紫外線）、ＶＵＶ（真空紫外線）、ＥＢ（電子線）、Ｘ線、軟Ｘ線等の放射線を用いて行うことができる。
　本実施形態のレジストパターン形成方法は、前記のレジスト膜を露光する工程において、前記レジスト膜に、ＥＵＶ（極端紫外線）又はＥＢ（電子線）を露光する形態に有用な方法である。
　レジスト膜の露光方法は、空気や窒素等の不活性ガス中で行う通常の露光（ドライ露光）であってもよく、液浸露光（Ｌｉｑｕｉｄ　Ｉｍｍｅｒｓｉｏｎ　Ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ）であってもよい。
　液浸露光は、予めレジスト膜と露光装置の最下位置のレンズ間を、空気の屈折率よりも大きい屈折率を有する溶媒（液浸媒体）で満たし、その状態で露光（浸漬露光）を行う露光方法である。
　液浸媒体としては、空気の屈折率よりも大きく、かつ、露光されるレジスト膜の屈折率よりも小さい屈折率を有する溶媒が好ましく、例えば、水、フッ素系不活性液体、シリコン系溶剤、炭化水素系溶剤等が挙げられる。
　液浸媒体としては、水が好ましく用いられる。
　アルカリ現像プロセスで現像処理に用いるアルカリ現像液としては、例えば０．１～１０質量％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド（ＴＭＡＨ）水溶液が挙げられる。
　溶剤現像プロセスで現像処理に用いる有機系現像液が含有する有機溶剤としては、（Ａ１）成分（露光前の（Ａ１）成分）を溶解し得るものであればよく、公知の有機溶剤の中から適宜選択できる。具体的には、ケトン系溶剤、エステル系溶剤、アルコール系溶剤、ニトリル系溶剤、アミド系溶剤、エーテル系溶剤等の極性溶剤、炭化水素系溶剤等が挙げられる。
　エステル系溶剤としては、例えば、酢酸メチル、酢酸ブチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ペンチル、酢酸イソペンチル、酢酸アミル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチル－３－エトキシプロピオネート、３－メトキシブチルアセテート、３－メチル－３－メトキシブチルアセテート、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸ブチル、蟻酸プロピル、乳酸エチル、乳酸ブチル、乳酸プロピル、ブタン酸ブチル、２－ヒドロキシイソ酪酸メチル、酢酸イソアミル、イソ酪酸イソブチル、及び、プロピオン酸ブチルが挙げられる。
　ニトリル系溶剤としては、例えば、アセトニトリル、プロピオニトリル、バレロニトリル、ブチロニトリル等が挙げられる。
　有機系現像液には、必要に応じて公知の添加剤を配合できる。該添加剤としては、例えば界面活性剤が挙げられる。界面活性剤としては、特に限定されないが、例えばイオン性や非イオン性のフッ素系及び／又はシリコン系界面活性剤等を用いることができる。
　現像処理は、公知の現像方法により実施することが可能であり、例えば現像液中に支持体を一定時間浸漬する方法（ディップ法）、支持体表面に現像液を表面張力によって盛り上げて一定時間静止する方法（パドル法）、支持体表面に現像液を噴霧する方法（スプレー法）、一定速度で回転している支持体上に一定速度で現像液塗出ノズルをスキャンしながら現像液を塗出し続ける方法（ダイナミックディスペンス法）等が挙げられる。
　溶剤現像プロセスで現像処理後のリンス処理に用いるリンス液が含有する有機溶剤としては、例えば前記有機系現像液に用いる有機溶剤として挙げた有機溶剤のうち、レジストパターンを溶解しにくいものを適宜選択して使用できる。通常、炭化水素系溶剤、ケトン系溶剤、エステル系溶剤、アルコール系溶剤、アミド系溶剤およびエーテル系溶剤から選択される少なくとも１種類の溶剤を使用する。
　これらの有機溶剤は、いずれか１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。また、上記以外の有機溶剤や水と混合して用いてもよい。
　リンス液を用いたリンス処理（洗浄処理）は、公知のリンス方法により実施できる。該リンス処理の方法としては、例えば一定速度で回転している支持体上にリンス液を塗出し続ける方法（回転塗布法）、リンス液中に支持体を一定時間浸漬する方法（ディップ法）、支持体表面にリンス液を噴霧する方法（スプレー法）等が挙げられる。
　以上説明した本実施形態のレジストパターン形成方法によれば、上述したレジスト組成物が用いられているため、高感度化が図れ、ラフネス低減等のリソグラフィー特性が良好なレジストパターンを形成することができる。
　上述した実施形態のレジスト組成物、及び、上述した実施形態のパターン形成方法において使用される各種材料（例えば、レジスト溶剤、現像液、リンス液、反射防止膜形成用組成物、トップコート形成用組成物など）は、金属、ハロゲンを含む金属塩、酸、アルカリ、硫黄原子又はリン原子を含む成分等の不純物を含まないことが好ましい。ここで、金属原子を含む不純物としては、Ｎａ、Ｋ、Ｃａ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｍｎ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｌｉ、またはこれらの塩などを挙げることができる。これら材料に含まれる不純物の含有量としては、２００ｐｐｂ以下が好ましく、１ｐｐｂ以下がより好ましく、１００ｐｐｔ（ｐａｒｔｓ　ｐｅｒ　ｔｒｉｌｌｉｏｎ）以下がさらに好ましく、１０ｐｐｔ以下が特に好ましく、実質的に含まないこと（測定装置の検出限界以下であること）が最も好ましい。
（化合物）
　本発明の第３の態様に係る化合物は、下記一般式（ａ０－ｍ）で表される化合物（以下「化合物（ａ０－ｍ）」ともいう）である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000094
 ［式中、Ｗは、重合性基含有基である。ＲＡｒ１及びＲＡｒ２は、それぞれ独立に、置換基を有してもよい芳香族基である。ＲＡｒ１－Ｌ１１－は、ＲＡｒ１－Ｏ－、ＲＡｒ１－Ｓ－、ＲＡｒ１－ＮＨ－、ＲＡｒ１－Ａｋ－、ＲＡｒ１－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、ＲＡｒ１－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＨ－、ＲＡｒ１－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、ＲＡｒ１－ＮＨ－Ｃ（＝Ｏ）－、ＲＡｒ１－Ａｋ－Ｏ－、ＲＡｒ１－Ａｋ－ＮＨ－、ＲＡｒ１－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ａｋ－又はＲＡｒ１－（Ｌ１１が単結合の場合）である。Ａｋは、アルキレン基又はフッ素化アルキレン基である（以下同じ）。ＲＡｒ１－Ｌ１２－は、ＲＡｒ１－Ａｋ－、ＲＡｒ１－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－Ａｋ－、ＲＡｒ１－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＨ－Ａｋ－、ＲＡｒ１－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ａｋ－、ＲＡｒ１－ＮＨ－Ｃ（＝Ｏ）－Ａｋ－、ＲＡｒ１－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－又はＲＡｒ１－（Ｌ１２が単結合の場合）である。ＲＡｒ１－Ｌ１３－は、ＲＡｒ１－Ｏ－、ＲＡｒ１－Ｓ－、ＲＡｒ１－ＮＨ－、ＲＡｒ１－Ａｋ－、ＲＡｒ１－Ｏ－Ａｋ－又はＲＡｒ１－（Ｌ１３が単結合の場合）である。ＲＡｒ２－Ｌ１４－は、ＲＡｒ２－Ａｋ－、ＲＡｒ２－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－Ａｋ－、ＲＡｒ２－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＨ－Ａｋ－、ＲＡｒ２－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ａｋ－、ＲＡｒ２－ＮＨ－Ｃ（＝Ｏ）－Ａｋ－、ＲＡｒ２－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－又はＲＡｒ２－（Ｌ１４が単結合の場合）である。ＲＡｒ２－Ｌ１５－は、ＲＡｒ２－Ｏ－、ＲＡｒ２－Ｓ－、ＲＡｒ２－ＮＨ－、ＲＡｒ２－Ａｋ－、ＲＡｒ２－Ｏ－Ａｋ－又はＲＡｒ２－（Ｌ１５が単結合の場合）である。ｑは、０又は１である。Ｒ０１及びＲ０２は、それぞれ独立に、ヨウ素化アルキル基、ヨウ素原子又は水素原子である。ｊ１及びｊ２は、それぞれ独立に、０～５の整数である。但し、ｑが０の場合、Ｒ０２はヨウ素化アルキル基又はヨウ素原子であり、ｊ２は１～５の整数である。ｑが１の場合、Ｒ０１及びＲ０２に含まれるヨウ素原子の個数は１個以上である。ｋ１及びｋ２は、それぞれ独立に、０又は１である。但し、ｑが０の場合、ｋ２は、１である。ｑが１の場合、ｋ１＋ｋ２は、１である。Ｍｍ＋は、ｍ価のオニウムカチオンである。ｍは１以上の整数である。］
　一般式（ａ０－ｍ）で表される化合物（化合物（ａ０－ｍ））についての説明は、上述の≪構成単位（ａ０）≫の中で記載した、一般式（ａ０－ｍ）で表される化合物に関する説明と同じである。
　前記化合物（ａ０－ｍ）としては、前記一般式（ａ０－ｍ）中のＷが、下記一般式（ａ０－ｗ）で表される重合性基含有基であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000095
 ［式中、Ｒ０は、炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数１～５のハロゲン化アルキル基又は水素原子である。－Ｌ１０－＊は、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－＊、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＨ－＊、又は－＊（Ｌ１０が単結合の場合）である。＊は、前記一般式（ａ０－ｍ）中のＲＡｒ１に結合する結合手、又はｑ＝０の場合にはＲＡｒ２に結合する結合手であることを表す。］
　前記化合物（ａ０－ｍ）としては、前記一般式（ａ０－ｍ）において、Ｗが前記一般式（ａ０－ｗ）で表される重合性基含有基であり、ｑが１であり、ｋ１が１であり、ｋ２が０であり、Ｒ０２がヨウ素化アルキル基又はヨウ素原子であり、ｊ２が１～５の整数であり、前記一般式（ａ０－ｗ）中のＬ１０が単結合である化合物、すなわち、上記一般式（ａ０１－ｍ）で表される化合物、が好適に挙げられる。
　あるいは、前記化合物（ａ０－ｍ）としては、前記一般式（ａ０－ｍ）において、Ｗが前記一般式（ａ０－ｗ）で表される重合性基含有基であり、ｑが１であり、ｋ１が０であり、ｋ２が１であり、前記一般式（ａ０－ｗ）中のＬ１０が単結合である化合物、すなわち、上記一般式（ａ０２－ｍ）で表される化合物、が好適に挙げられる。より好ましくは、さらに、Ｒ０２がヨウ素化アルキル基又はヨウ素原子であり、ｊ２が１～５の整数である。
　あるいは、前記化合物（ａ０－ｍ）としては、前記一般式（ａ０－ｍ）において、Ｗが前記一般式（ａ０－ｗ）で表される重合性基含有基であり、ｑが０であり、ｋ２が１であり、Ｒ０２がヨウ素化アルキル基又はヨウ素原子であり、ｊ２が１～５の整数であり、前記一般式（ａ０－ｗ）中のＬ１０が単結合である化合物、すなわち、上記一般式（ａ０３－ｍ）で表される化合物、が好適に挙げられる。
　あるいは、前記化合物（ａ０－ｍ）としては、前記一般式（ａ０－ｍ）において、Ｗが前記一般式（ａ０－ｗ）で表される重合性基含有基であり、ｑが０であり、ｋ２が１であり、Ｒ０２がヨウ素化アルキル基又はヨウ素原子であり、ｊ２が１～５の整数であり、前記一般式（ａ０－ｗ）中の－Ｌ１０－＊が、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－＊、又は－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＨ－＊［ここでの＊は、前記一般式（ａ０－ｍ）中のＲＡｒ２に結合する結合手であることを表す。］である化合物、すなわち、上記一般式（ａ０４”－ｍ）で表される化合物、が好適に挙げられる。
　上記で好適に挙げられる化合物は、さらに、前記一般式（ａ０－ｍ）中のＭｍ＋が、ｍ価のスルホニウムカチオンであるものが好ましい。
　以下に、化合物（ａ０－ｍ）の具体例を挙げるが、これらに限定されない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000096
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000097
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000098
［化合物（ａ０－ｍ）の製造方法］
　本実施形態の化合物（ａ０－ｍ）は、公知の方法を適宜組み合わせることにより製造することができる。
　上記一般式（ａ０１－ｍ）で表される化合物は、後述の［合成例１：化合物（ａ０－ｍ１）の合成］で示すように、例えば、重合性基及び第三級アルキルエステル基を有するフェノール類と、ヨウ素原子が置換した芳香族カルボン酸とをエステル化、加水分解させて、その後、所望のオニウム塩に塩交換することにより製造できる。
　上記一般式（ａ０２－ｍ）で表される化合物は、後述の［合成例２：化合物（ａ０－ｍ２）の合成］で示すように、例えば、重合性基を有する芳香族カルボン酸と、ヨウ素原子及び第三級アルキルエステル基が置換したフェノール類とをエステル化、加水分解させて、その後、所望のオニウム塩に塩交換することにより製造できる。
　上記一般式（ａ０３－ｍ）で表される化合物は、後述の［合成例３：化合物（ａ０－ｍ３）の合成］で示すように、例えば、塩基存在下で、重合性基及びヨウ素原子を有するフェノール類と、アルキル化剤（ブロモ酢酸エチル等）とを反応（エーテル化）させて、その後、所望のオニウム塩に塩交換することにより製造できる。
　上記一般式（ａ０４－ｍ）又は（ａ０４”－ｍ）で表される化合物は、後述の［合成例４：化合物（ａ０－ｍ４）の合成］で示すように、例えば、塩基存在下で、アシル化剤（メタクリル酸クロリド）と、ヒドロキシ基（－ＯＨ）及びヨウ素原子が置換した芳香族カルボン酸とをアシル化（エステル化）させて、その後、所望のオニウム塩に塩交換することにより製造できる。
　あるいは、上記一般式（ａ０４－ｍ）又は（ａ０４”－ｍ）で表される化合物は、後述の［合成例４：化合物（ａ０－ｍ４）の合成］で示すように、例えば、塩基存在下で、アシル化剤（メタクリル酸クロリド）と、アミノ基（－ＮＨ２）及びヨウ素原子が置換した芳香族カルボン酸とをアシル化（アミド化）させて、その後、所望のオニウム塩に塩交換することにより製造できる。
　各反応の終了後、反応液中の化合物（ａ０－ｍ）を単離、精製してもよい。
　単離、精製には、従来公知の方法が利用でき、例えば濃縮、溶媒抽出、蒸留、結晶化、再結晶、クロマトグラフィー等をいずれか単独で、又はこれらの２種以上を組み合わせて用いることができる。
　上記のようにして得られた化合物の構造は、１Ｈ－核磁気共鳴（ＮＭＲ）スペクトル法、１３Ｃ－ＮＭＲスペクトル法、１９Ｆ－ＮＭＲスペクトル法、赤外線吸収（ＩＲ）スペクトル法、質量分析（ＭＳ）法、元素分析法、Ｘ線結晶回折法等の一般的な有機分析法により確認できる。
　本実施形態の化合物は、後述する第４の態様に係る高分子化合物の原料モノマーとして利用可能である。
（高分子化合物）
　本発明の第４の態様は、上述した本発明の第３の態様に係る化合物から誘導される構成単位を有する、高分子化合物である。
　第３の態様に係る化合物から誘導される構成単位は、上述の一般式（ａ０－ｍ）で表される化合物から誘導される構成単位であり、上述した構成単位（ａ０）と同じである。
　第４の態様に係る高分子化合物については、上述した（Ａ１）成分についての説明と同様である。
　第４の態様に係る高分子化合物、すなわち、一般式（ａ０－ｍ）で表される化合物から誘導される構成単位（構成単位（ａ０））は、第１の態様に係るレジスト組成物の基材成分として利用可能である。また、かかる構成単位（ａ０）と、上述の構成単位（ａ１０）と、上述の構成単位（ａ１）とを有する高分子化合物は、特にＥＵＶ又はＥＢを露光するリソグラフィー用のレジスト材料として有用なものである。あるいは、かかる構成単位（ａ０）と、上述の構成単位（ａ１０）と、上述の構成単位（ａ１）と、上述の構成単位（ａ５）とを有する高分子化合物は、特にＥＵＶ又はＥＢを露光するリソグラフィー用のレジスト材料として有用なものである。
　以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの例によって限定されるものではない。
＜化合物の合成例＞
　［合成例１：化合物（ａ０－ｍ１）の合成］
　４－ヒドロキシ－３－ｔｅｒｔ－ブトキシカルボニルスチレン１００ｇと、２，３，５－トリヨード安息香酸２５０ｇと、ジメチルアミノピリジン５．６ｇとをジクロロメタン８００ｇに溶解し、その溶液に氷冷下でＮ，Ｎ’－ジイソプロピルカルボジイミド（ＤＩＣ）６８．８ｇを滴下した。室温で４時間撹拌した後、反応液をろ過した。ろ液にトリフルオロ酢酸（ＴＦＡ）２０７ｇを加え、室温で２４時間撹拌した。溶媒を留去し、残渣にメタノール２００ｇを加えた。その溶液をｔ－メチルブチルエーテル８００ｇに滴下し、析出した結晶をろ過、乾燥することで、化合物（ａ０－ｍ１ｐｒｅ）２０５ｇを得た。
　化合物（ａ０－ｍ１ｐｒｅ）１００ｇをメチルイソブチルケトン８００ｇに溶解し、４０％ベンジルトリメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液７１．２ｇと、超純水６００ｇとを加えた。室温で２時間撹拌後、水層を除去し、有機層を超純水６００ｇで３回洗浄した。その後、有機層から溶媒を留去することで、化合物（ａ０－ｍ１）１１０ｇを得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000099
　得られた化合物（ａ０－ｍ１）について、ＮＭＲ測定を行い、以下の結果よりその構造を同定した。
　１Ｈ－ＮＭＲ（ＤＭＳＯ－ｄ６，４００ＭＨｚ）：δ（ｐｐｍ）＝８．３０（ｓ,Ａｒ－Ｈ,２Ｈ）,７．６０－７．５０（ｍ,Ａｒ－Ｈ,７Ｈ）,７．０７（ｓ,Ａｒ－Ｈ,１Ｈ）,６．７０（ｔ,－ＣＨ＝,１Ｈ）,５．７２（ｄ,＝ＣＨ２,１Ｈ）,５．１８（ｄ,＝ＣＨ２,１Ｈ）,４．６０－４．５０（ｓ,－ＣＨ２－,２Ｈ）,３．０４（ｓ,ＣＨ３,９Ｈ）
　［合成例２：化合物（ａ０－ｍ２）の合成］
　４－ビニル安息香酸１００ｇと、２,４－ジヨード－５－ｔｅｒｔ－ブトキシカルボニルフェノール３３１ｇと、ジメチルアミノピリジン８．３ｇとをジクロロメタン８００ｇに溶解し、その溶液に氷冷下でＮ，Ｎ’－ジイソプロピルカルボジイミド（ＤＩＣ）１０２ｇを滴下した。室温で４時間撹拌した後、反応液をろ過した。ろ液にトリフルオロ酢酸（ＴＦＡ）３０８ｇを加え、室温で２４時間撹拌した。溶媒を留去し、残渣にメタノール２００ｇを加えた。その溶液をｔ－メチルブチルエーテル８００ｇに滴下し、析出した結晶をろ過、乾燥することで、化合物（ａ０－ｍ２ｐｒｅ）２５２ｇを得た。
　化合物（ａ０－ｍ２ｐｒｅ）１００ｇをメチルイソブチルケトン８００ｇに溶解し、４０％ベンジルトリメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液８８．４ｇと、超純水６００ｇとを加えた。室温で２時間撹拌後、水層を除去し、有機層を超純水６００ｇで３回洗浄した。その後、有機層から溶媒を留去することで、化合物（ａ０－ｍ２）１２２ｇを得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000100
　得られた化合物（ａ０－ｍ２）について、ＮＭＲ測定を行い、以下の結果よりその構造を同定した。
　１Ｈ－ＮＭＲ（ＤＭＳＯ－ｄ６，４００ＭＨｚ）：δ（ｐｐｍ）＝８．１０（ｄ,Ａｒ－Ｈ,２Ｈ）,７．８５－７．７０（ｍ,Ａｒ－Ｈ,４Ｈ）,７．６０－７．５０（ｍ,Ａｒ－Ｈ,５Ｈ）,６．７０（ｔ,－ＣＨ＝,１Ｈ）,５．７１（ｄ,＝ＣＨ２,１Ｈ）,５．１９（ｄ,＝ＣＨ２,１Ｈ）,４．６０－４．５０（ｓ,－ＣＨ２－,２Ｈ）,３．０５（ｓ,ＣＨ３,９Ｈ）
　［合成例３：化合物（ａ０－ｍ３）の合成］
　４－エテニル－２，６－ジヨードフェノール１００ｇと、ブロモ酢酸エチル５３．９ｇと、炭酸カリウム（Ｋ２ＣＯ３）５５．７ｇと、４－メトキシフェノール（メトキノン）０．１ｇとをＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）６００ｇに溶解し、６０℃で６時間撹拌した。続いて、４０％ベンジルトリメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液３３７ｇを加え、室温で２時間撹拌した。次に、溶液を超純水１２００ｇに滴下し、析出した固体をろ過した。
　残渣をメチルイソブチルケトン４００ｇに溶解し、有機層を１０％ベンジルトリメチルアンモニウムクロライド水溶液５００ｇで１回、超純水４００ｇで３回洗浄した。その後、有機層から溶媒を留去することで、化合物（ａ０－ｍ３）１０９ｇを得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000101
　得られた化合物（ａ０－ｍ３）について、ＮＭＲ測定を行い、以下の結果よりその構造を同定した。
　１Ｈ－ＮＭＲ（ＤＭＳＯ－ｄ６，４００ＭＨｚ）：δ（ｐｐｍ）＝７．８５（ｓ,Ａｒ－Ｈ,２Ｈ）,７．６１－７．４９（ｍ,Ａｒ－Ｈ,５Ｈ）,６．５５（ｔ,－ＣＨ＝,１Ｈ）,５．７２（ｄ,＝ＣＨ２,１Ｈ）,５．１５（ｄ,＝ＣＨ２,１Ｈ）,４．７０（ｓ,－ＣＨ２－，２Ｈ）,４．６１－４．５２（ｓ,－ＣＨ２－,２Ｈ）,３．０４（ｓ,ＣＨ３,９Ｈ）
　［合成例４：化合物（ａ０－ｍ４）の合成］
　３，５－ジヨードサリチル酸１００ｇをジクロロメタン６００ｇに溶解し、トリエチルアミン（ＴＥＡ）３４．５ｇを加え、氷冷下でメタクリル酸クロライド２６．８ｇを滴下した。室温で２時間撹拌した後、１％ＨＣｌ水溶液６００ｇで２回、超純水６００ｇで３回洗浄した。その後、有機層から溶媒を留去することで、化合物（ａ０－ｍ４ｐｒｅ）１０６ｇを得た。
　化合物（ａ０－ｍ４ｐｒｅ）１００ｇをメチルイソブチルケトン６００ｇに溶解し、４０％ベンジルトリメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液１００ｇと、超純水６００ｇとを加えた。室温で２時間撹拌後、水層を除去し、有機層を超純水６００ｇで３回洗浄した。その後、有機層から溶媒を留去することで、化合物（ａ０－ｍ４）１１９ｇを得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000102
　得られた化合物（ａ０－ｍ４）について、ＮＭＲ測定を行い、以下の結果よりその構造を同定した。
　１Ｈ－ＮＭＲ（ＤＭＳＯ－ｄ６，４００ＭＨｚ）：δ（ｐｐｍ）＝７．８０（ｄ,Ａｒ－Ｈ,２Ｈ）,７．６０－７．５０（ｍ,Ａｒ－Ｈ,５Ｈ）,６．００（ｓ,＝ＣＨ２,１Ｈ）,５．６２（ｓ,＝ＣＨ２,１Ｈ）,４．５９－４．５０（ｓ,－ＣＨ２－,２Ｈ）,３．０４（ｓ,ＣＨ３,９Ｈ）,１．８２（ｓ,ＣＨ３，３Ｈ）
　［合成例５：化合物（ａ０－ｍ５）の合成］
　化合物（ａ０－ｍ１）１００ｇをジクロロメタン８００ｇに溶解し、化合物（Ｃ－１）５１．３ｇと、超純水８００ｇとを加え、室温で１時間撹拌した。水層を除去した後、有機層を超純水８００ｇで３回洗浄した。有機層から溶媒を留去することで、化合物（ａ０－ｍ５）１０５ｇを得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000103
　得られた化合物（ａ０－ｍ５）について、ＮＭＲ測定を行い、以下の結果よりその構造を同定した。
　１Ｈ－ＮＭＲ（ＤＭＳＯ－ｄ６，４００ＭＨｚ）：δ（ｐｐｍ）＝８．３０（ｓ,Ａｒ－Ｈ,２Ｈ）,８．００－７．７５（ｍ,Ａｒ－Ｈ,１１Ｈ）,７．５８（ｓ,Ａｒ－Ｈ,２Ｈ）,７．０７（ｓ,Ａｒ－Ｈ,１Ｈ）,６．７０（ｔ,－ＣＨ＝,１Ｈ）,５．７２（ｄ,＝ＣＨ２,１Ｈ）,５．１８（ｄ,＝ＣＨ２,１Ｈ）
　［合成例６：化合物（ａ０－ｍ６）の合成］
　化合物（ａ０－ｍ１）に代えて、前記化合物（ａ０－ｍ２）を用いたこと以外は、前記合成例５と同様の方法で、目的の化合物（ａ０－ｍ６）を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000104
　得られた化合物（ａ０－ｍ６）について、ＮＭＲ測定を行い、以下の結果よりその構造を同定した。
　１Ｈ－ＮＭＲ（ＤＭＳＯ－ｄ６，４００ＭＨｚ）：δ（ｐｐｍ）＝８．１２（ｄ,Ａｒ－Ｈ,２Ｈ）,８．００－７．７０（ｍ,Ａｒ－Ｈ,１５Ｈ）,６．７０（ｔ,－ＣＨ＝,１Ｈ）,５．７１（ｄ,＝ＣＨ２,１Ｈ）,５．１９（ｄ,＝ＣＨ２，１Ｈ）
　［合成例７：化合物（ａ０－ｍ７）の合成］
　化合物（ａ０－ｍ１）に代えて、前記化合物（ａ０－ｍ３）を用いたこと以外は、前記合成例５と同様の方法で、目的の化合物（ａ０－ｍ７）を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000105
　得られた化合物（ａ０－ｍ７）について、ＮＭＲ測定を行い、以下の結果よりその構造を同定した。
　１Ｈ－ＮＭＲ（ＤＭＳＯ－ｄ６，４００ＭＨｚ）：δ（ｐｐｍ）＝８．００－７．７５（ｍ,Ａｒ－Ｈ,１３Ｈ）,６．５５（ｔ,－ＣＨ＝,１Ｈ）,５．７２（ｄ,＝ＣＨ２,１Ｈ）,５．１５（ｄ,＝ＣＨ２,１Ｈ）,４．７０（ｓ,－ＣＨ２－，２Ｈ）
　［合成例８：化合物（ａ０－ｍ８）の合成］
　化合物（ａ０－ｍ１）に代えて、前記化合物（ａ０－ｍ４）を用いたこと以外は、前記合成例５と同様の方法で、目的の化合物（ａ０－ｍ８）を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000106
　得られた化合物（ａ０－ｍ８）について、ＮＭＲ測定を行い、以下の結果よりその構造を同定した。
　１Ｈ－ＮＭＲ（ＤＭＳＯ－ｄ６，４００ＭＨｚ）：δ（ｐｐｍ）＝８．０２－７．７０（ｄ,Ａｒ－Ｈ,１３Ｈ）,６．００（ｓ,＝ＣＨ２,１Ｈ）,５．６２（ｓ,＝ＣＨ２,１Ｈ）,１．８０（ｓ,ＣＨ３,３Ｈ）
　［合成例９：化合物（ａ０－ｍ９）の合成］
　２，３，５－トリヨード安息香酸に代えて、下記化合物（ａ０－ｍ９－１）を用いたこと以外は、前記合成例５と同様の方法で、目的の化合物（ａ０－ｍ９）を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000107
　得られた化合物（ａ０－ｍ９）について、ＮＭＲ測定を行い、以下の結果よりその構造を同定した。
　１Ｈ－ＮＭＲ（ＤＭＳＯ－ｄ６，４００ＭＨｚ）：δ（ｐｐｍ）＝８．００－７．７５（ｍ,Ａｒ－Ｈ,１１Ｈ）,７．６０（ｓ,Ａｒ－Ｈ,２Ｈ）,７．０５（ｓ,Ａｒ－Ｈ,１Ｈ）,４．７８（ｔ,－ＣＨ＝,１Ｈ）,５．７０（ｄ,＝ＣＨ２,１Ｈ）,５．１８（ｄ,＝ＣＨ２,１Ｈ）,４．７８（ｓ,－ＣＨ２－,２Ｈ）
　［合成例１０：化合物（ａ０－ｍ１０）の合成］
　４－エテニル－２，６－ジヨードフェノールに代えて下記化合物（ａ０－ｍ１０－１）、ブロモ酢酸エチルに代えて下記化合物（ａ０－ｍ１０－２）をそれぞれ用いたこと以外は、前記合成例７と同様の方法で、目的の化合物（ａ０－ｍ１０）を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000108
　得られた化合物（ａ０－ｍ１０）について、ＮＭＲ測定を行い、以下の結果よりその構造を同定した。
　１Ｈ－ＮＭＲ（ＤＭＳＯ－ｄ６，４００ＭＨｚ）：δ（ｐｐｍ）＝８．１０－７．７０（ｍ,Ａｒ－Ｈ,１６Ｈ）,６．７４（ｔ,－ＣＨ＝,１Ｈ）,５．７０（ｄ,＝ＣＨ２,１Ｈ）,５．２０（ｄ,＝ＣＨ２,１Ｈ）,４．９１（ｓ,－ＣＨ２－,２Ｈ）
　［合成例１１：化合物（ａ０－ｍ１１）の合成］
　ブロモ酢酸エチルに代えて、下記化合物（ａ０－ｍ１１－１）を用いたこと以外は、前記合成例７と同様の方法で、目的の化合物（ａ０－ｍ１１）を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000109
　得られた化合物（ａ０－ｍ１１）について、ＮＭＲ測定を行い、以下の結果よりその構造を同定した。
　１Ｈ－ＮＭＲ（ＤＭＳＯ－ｄ６，４００ＭＨｚ）：δ（ｐｐｍ）＝８．０３－７．７２（ｍ,Ａｒ－Ｈ,１３Ｈ）,６．５４（ｔ,－ＣＨ＝,１Ｈ）,５．７０（ｄ,＝ＣＨ２,１Ｈ）,５．１５（ｄ,＝ＣＨ２,１Ｈ）
　［合成例１２：化合物（ａ０－ｍ１２）の合成］
　３，５－ジヨードサリチル酸に代えて、下記化合物（ａ０－ｍ１２－１）を用いたこと以外は、前記合成例８と同様の方法で、目的の化合物（ａ０－ｍ１２）を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000110
　得られた化合物（ａ０－ｍ１２）について、ＮＭＲ測定を行い、以下の結果よりその構造を同定した。
　１Ｈ－ＮＭＲ（ＤＭＳＯ－ｄ６，４００ＭＨｚ）：δ（ｐｐｍ）＝８．００－７．７１（ｄ,Ａｒ－Ｈ,１３Ｈ）,６．０１（ｓ,＝ＣＨ２,１Ｈ）,５．６２（ｓ,＝ＣＨ２,１Ｈ）,１．８０（ｓ,ＣＨ３,３Ｈ）
　［合成例１３：化合物（ａ０－ｍ１３）の合成］
　化合物（ａ０－ｍ１）１００ｇをジクロロメタン８００ｇに溶解し、化合物（Ｃ－２）４１．３ｇと、超純水８００ｇとを加え、室温で１時間撹拌した。水層を除去した後、有機層を超純水８００ｇで３回洗浄した。有機層から溶媒を留去することで、目的の化合物（ａ０－ｍ１３）９７ｇを得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000111
　得られた化合物（ａ０－ｍ１３）について、ＮＭＲ測定を行い、以下の結果よりその構造を同定した。
　１Ｈ－ＮＭＲ（ＤＭＳＯ－ｄ６，４００ＭＨｚ）：δ（ｐｐｍ）＝８．３０（ｓ,Ａｒ－Ｈ,２Ｈ）,７．５８（ｓ,Ａｒ－Ｈ,２Ｈ）,７．４９－７．３５（ｍ,Ａｒ－Ｈ,１５Ｈ）,７．０７（ｓ,Ａｒ－Ｈ,１Ｈ）,６．７０（ｔ,－ＣＨ＝,１Ｈ）,５．７２（ｄ,＝ＣＨ２,１Ｈ）,５．１８（ｄ,＝ＣＨ２,１Ｈ）
＜高分子化合物の合成例＞
　［高分子化合物（Ａ１－１）の合成］
　化合物（ａ１０－ｍ１ｐｒｅ）１０．０ｇと、化合物（ａ１－ｍ１）１６．２ｇと、化合物（ａ５－ｍ１）２０．５ｇと、化合物（ａ０－ｍ１）６．９ｇと、重合開始剤としてアゾビス（イソ酪酸）ジメチル（Ｖ－６０１）１２．６ｇとを、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）１００ｇに溶解させ、窒素雰囲気下で７０℃にて５時間撹拌した。その後、反応液を室温まで冷却した。
　次いで、得られた重合液に、酢酸３．０ｇと、メタノール６０ｇとを加え、３０℃で８時間脱保護反応を行った。
　反応終了後、得られた反応液をメタノールと水との混合溶媒１２００ｇに沈殿させ、洗浄した。得られた白色固形物をろ過し、一晩減圧乾燥することで、目的の高分子化合物（Ａ１－１）を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000112
　［高分子化合物（Ａ１－２）～（Ａ１－１２）の合成］
　化合物（ａ０－ｍ１）に代えて、化合物（ａ０－ｍ２）～化合物（ａ０－ｍ１２）をそれぞれ用いたこと以外は、前記［高分子化合物（Ａ１－１）の合成］と同様の方法で、目的の高分子化合物（Ａ１－２）～（Ａ１－１２）を得た。
　得られた高分子化合物（Ａ１－２）～（Ａ１－１２）の構造を以下に示した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000113
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000114
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000115
　［高分子化合物（Ａ１－１３）の合成］
　化合物（ａ０－ｍ１）に代えて前記化合物（ａ０－ｍ１３）、化合物（ａ５－ｍ１）に代えて下記化合物（ａ５－ｍ２）をそれぞれ用いたこと以外は、前記［高分子化合物（Ａ１－１）の合成］と同様の方法で、目的の高分子化合物（Ａ１－１３）を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000116
　［高分子化合物（Ａ１－１４）の合成］
　化合物（ａ１０－ｍ１ｐｒｅ）１０．０ｇと、化合物（ａ１－ｍ１）１６．１ｇと、化合物（ａ０－ｍ５）１０．２ｇと、重合開始剤としてアゾビス（イソ酪酸）ジメチル（Ｖ－６０１）１０．９ｇとを、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）７０ｇに溶解させ、窒素雰囲気下で７０℃にて５時間撹拌した。その後、反応液を室温まで冷却した。
　次いで、得られた重合液に、酢酸３．０ｇと、メタノール６０ｇとを加え、３０℃で８時間脱保護反応を行った。
　反応終了後、得られた反応液をメタノールと水との混合溶媒１２００ｇに沈殿させ、洗浄した。得られた白色固形物をろ過し、一晩減圧乾燥することで、目的の高分子化合物（Ａ１－１４）を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000117
　得られた高分子化合物（Ａ１－１）～（Ａ１－１４）の重量平均分子量（Ｍｗ）及び分子量分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）を、ＧＰＣ測定（標準ポリスチレン換算）により求めた。
　高分子化合物（Ａ１－１）～（Ａ１－１４）の共重合組成比（構造式中の各構成単位の割合（モル比））を、カーボン１３核磁気共鳴スペクトル（６００ＭＨｚ＿１３Ｃ－ＮＭＲ）により求めた。
　高分子化合物（Ａ１－１）：重量平均分子量（Ｍｗ）１０１００、分子量分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）１．６０、ｌ／ｍ／ｎ／ｏ＝３０／５０／１５／５。
　高分子化合物（Ａ１－２）：重量平均分子量（Ｍｗ）９９００、分子量分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）１．５８、ｌ／ｍ／ｎ／ｏ＝３０／５０／１５／５。
　高分子化合物（Ａ１－３）：重量平均分子量（Ｍｗ）１０４００、分子量分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）１．６１、ｌ／ｍ／ｎ／ｏ＝３０／５０／１５／５。
　高分子化合物（Ａ１－４）：重量平均分子量（Ｍｗ）９８００、分子量分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）１．５６、ｌ／ｍ／ｎ／ｏ＝３０／５０／１５／５。
　高分子化合物（Ａ１－５）：重量平均分子量（Ｍｗ）９６００、分子量分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）１．５４、ｌ／ｍ／ｎ／ｏ＝３０／５０／１５／５。
　高分子化合物（Ａ１－６）：重量平均分子量（Ｍｗ）１００００、分子量分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）１．５０、ｌ／ｍ／ｎ／ｏ＝３０／５０／１５／５。
　高分子化合物（Ａ１－７）：重量平均分子量（Ｍｗ）１０３００、分子量分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）１．５２、ｌ／ｍ／ｎ／ｏ＝３０／５０／１５／５。
　高分子化合物（Ａ１－８）：重量平均分子量（Ｍｗ）９７００、分子量分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）１．５１、ｌ／ｍ／ｎ／ｏ＝３０／５０／１５／５。
　高分子化合物（Ａ１－９）：重量平均分子量（Ｍｗ）９５００、分子量分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）１．５５、ｌ／ｍ／ｎ／ｏ＝３０／５０／１５／５。
　高分子化合物（Ａ１－１０）：重量平均分子量（Ｍｗ）１０１００、分子量分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）１．５９、ｌ／ｍ／ｎ／ｏ＝３０／５０／１５／５。
　高分子化合物（Ａ１－１１）：重量平均分子量（Ｍｗ）９９００、分子量分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）１．５８、ｌ／ｍ／ｎ／ｏ＝３０／５０／１５／５。
　高分子化合物（Ａ１－１２）：重量平均分子量（Ｍｗ）１０２００、分子量分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）１．５７、ｌ／ｍ／ｎ／ｏ＝３０／５０／１５／５。
　高分子化合物（Ａ１－１３）：重量平均分子量（Ｍｗ）９７００、分子量分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）１．６０、ｌ／ｍ／ｎ／ｏ＝３０／５０／１５／５。
　高分子化合物（Ａ１－１４）：重量平均分子量（Ｍｗ）９８００、分子量分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）１．５５、ｌ／ｍ／ｏ＝３５／５８／７。
＜レジスト組成物の調製＞
（実施例１～１４、比較例１～４）
　表１に示す各成分を混合して溶解し、各例のレジスト組成物をそれぞれ調製した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000118
　表１中、各略号はそれぞれ以下の意味を有する。［　］内の数値は配合量（質量部；固形分換算）である。
　（Ａ）－１～（Ａ）－１４：前記の高分子化合物（Ａ１－１）～（Ａ１－１４）。
　（Ａ）－１５：下記高分子化合物（Ａ２－１）。重量平均分子量（Ｍｗ）９８００、分子量分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）１．５４、ｌ／ｍ／ｎ／ｏ＝３０／５０／１５／５。
　（Ａ）－１６：下記高分子化合物（Ａ２－２）。重量平均分子量（Ｍｗ）９６００、分子量分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）１．４８、ｌ／ｍ／ｎ＝３５／５０／１５。
　（Ａ）－１７：下記高分子化合物（Ａ２－３）。重量平均分子量（Ｍｗ）９３００、分子量分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）１．５６、ｌ／ｍ／ｎ／ｏ＝３０／５０／１５／５。
　（Ａ）－１８：下記高分子化合物（Ａ２－４）。重量平均分子量（Ｍｗ）１００００、分子量分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）１．５９、ｌ／ｍ／ｏ＝３５／５８／７。
　重量平均分子量（Ｍｗ）は、ＧＰＣ測定により求めた標準ポリスチレン換算の重量平均分子量である。共重合組成比（構造式中の各構成単位の割合（モル比））は、１３Ｃ－ＮＭＲにより求めた。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000119
　（Ｂ）－１：下記の化合物（Ｂ－１）からなる酸発生剤。
　（Ｄ）－１：下記の化合物（Ｄ１－１）からなる酸拡散制御剤。
　（Ｓ）－１：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート／プロピレングリコールモノメチルエーテル＝６０／４０（質量比）の混合溶剤。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000120
＜評価＞
　以下に示すレジストパターン形成方法により、ラインアンドスペースのレジストパターン（ＬＳパターン）を形成し、感度、ラインワイズラフネス（ＬＷＲ）について評価を行った。
　≪レジストパターンの形成≫
　レジスト膜を形成する工程：
　ヘキサメチルジシラザン（ＨＭＤＳ）処理を施した８インチシリコン基板上に、各例のレジスト組成物をそれぞれ、スピンナーを用いて塗布し、ホットプレート上で、温度１１０℃で６０秒間のプレベーク（ＰＡＢ）処理を行い、乾燥することにより、膜厚５０ｎｍのレジスト膜を形成した。
　レジスト膜を露光する工程：
　次に、前記レジスト膜に対し、電子線描画装置ＪＥＯＬ　ＪＢＸ－９３００ＦＳ（日本電子株式会社製）を用い、加速電圧１００ｋＶ（Ｂｅａｍ　ｃｕｒｒｅｎｔ　１００ｐＡ，Ｓｃａｎ　ｓｔｅｐ　４ｎｍ）にて、ターゲットサイズを、ライン幅５０ｎｍ（ピッチ幅１００ｎｍ）の１：１ラインアンドスペースパターン（以下ＬＳパターンと表記）とする描画（露光）を行った。
　その後、１００℃で６０秒間の露光後加熱（ＰＥＢ）処理を行った。
　露光後のレジスト膜を現像する工程：
　次いで、現像装置（クリーントラックＡＣＴ８、東京エレクトロン株式会社製）を用いて、前記レジスト膜に対し、２３℃にて２．３８質量％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド（ＴＭＡＨ）水溶液「ＮＭＤ－３」（商品名、東京応化工業株式会社製）をＬＤ－ｎｏｚｚｌｅから滴下して、６０秒間のアルカリ現像を行った。
　その後、純水を用いて１５秒間水リンスを行った。
　その結果、いずれの例においても、ライン幅５０ｎｍ（ピッチ幅１００ｎｍ）の１：１ＬＳパターンがそれぞれ形成された。
　［最適露光量（Ｅｏｐ）の評価］
　上記≪レジストパターンの形成≫において、前記ＬＳパターンが形成される際の最適露光量Ｅｏｐ（μＣ／ｃｍ２）を求めた。これを「Ｅｏｐ（μＣ／ｃｍ２）」として表２に示した。
　［ラインワイズラフネス（ＬＷＲ）の評価］
　上記≪レジストパターンの形成≫によって形成されたＬＳパターンにおいて、測長ＳＥＭ（走査型電子顕微鏡、加速電圧３００Ｖ、商品名：Ｓ－９３８０、日立ハイテクノロジーズ社製）により、スペース幅を、スペースの長手方向に４００箇所測定した。その測定結果から標準偏差（ｓ）の３倍値（３ｓ）を求め、４００箇所の３ｓについて平均した値を、ＬＷＲを示す尺度として算出した。これを「ＬＷＲ（ｎｍ）」として表２に示した。
　この３ｓの値が小さいほど、その線幅のラフネスが小さく、より均一な幅のＬＳパターンが得られたことを意味する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000121
　表２に示す結果から、実施例１～１４のレジスト組成物は、比較例１～４のレジスト組成物と比較して、感度が高められ、かつＬＳパターンにおける線幅のラフネスがより低減されていることが確認できる。
　以上、本発明の好ましい実施例を説明したが、本発明はこれら実施例に限定されることはない。本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、構成の付加、省略、置換、およびその他の変更が可能である。本発明は前述した説明によって限定されることはなく、添付の請求の範囲によってのみ限定される。

Claims (24)

  1. 　露光により酸を発生し、かつ、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化するレジスト組成物であって、
    　酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する樹脂成分（Ａ１）を含有し、
    　前記樹脂成分（Ａ１）は、下記一般式（ａ０－ｍ）で表される化合物から誘導される構成単位（ａ０）を有する、レジスト組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
     ［式中、Ｗは、重合性基含有基である。ＲＡｒ１及びＲＡｒ２は、それぞれ独立に、置換基を有してもよい芳香族基である。ＲＡｒ１－Ｌ１１－は、ＲＡｒ１－Ｏ－、ＲＡｒ１－Ｓ－、ＲＡｒ１－ＮＨ－、ＲＡｒ１－Ａｋ－、ＲＡｒ１－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、ＲＡｒ１－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＨ－、ＲＡｒ１－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、ＲＡｒ１－ＮＨ－Ｃ（＝Ｏ）－、ＲＡｒ１－Ａｋ－Ｏ－、ＲＡｒ１－Ａｋ－ＮＨ－、ＲＡｒ１－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ａｋ－又はＲＡｒ１－（Ｌ１１が単結合の場合）である。Ａｋは、アルキレン基又はフッ素化アルキレン基である（以下同じ）。ＲＡｒ１－Ｌ１２－は、ＲＡｒ１－Ａｋ－、ＲＡｒ１－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－Ａｋ－、ＲＡｒ１－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＨ－Ａｋ－、ＲＡｒ１－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ａｋ－、ＲＡｒ１－ＮＨ－Ｃ（＝Ｏ）－Ａｋ－、ＲＡｒ１－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－又はＲＡｒ１－（Ｌ１２が単結合の場合）である。ＲＡｒ１－Ｌ１３－は、ＲＡｒ１－Ｏ－、ＲＡｒ１－Ｓ－、ＲＡｒ１－ＮＨ－、ＲＡｒ１－Ａｋ－、ＲＡｒ１－Ｏ－Ａｋ－又はＲＡｒ１－（Ｌ１３が単結合の場合）である。ＲＡｒ２－Ｌ１４－は、ＲＡｒ２－Ａｋ－、ＲＡｒ２－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－Ａｋ－、ＲＡｒ２－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＨ－Ａｋ－、ＲＡｒ２－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ａｋ－、ＲＡｒ２－ＮＨ－Ｃ（＝Ｏ）－Ａｋ－、ＲＡｒ２－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－又はＲＡｒ２－（Ｌ１４が単結合の場合）である。ＲＡｒ２－Ｌ１５－は、ＲＡｒ２－Ｏ－、ＲＡｒ２－Ｓ－、ＲＡｒ２－ＮＨ－、ＲＡｒ２－Ａｋ－、ＲＡｒ２－Ｏ－Ａｋ－又はＲＡｒ２－（Ｌ１５が単結合の場合）である。ｑは、０又は１である。Ｒ０１及びＲ０２は、それぞれ独立に、ヨウ素化アルキル基、ヨウ素原子又は水素原子である。ｊ１及びｊ２は、それぞれ独立に、０～５の整数である。但し、ｑが０の場合、Ｒ０２はヨウ素化アルキル基又はヨウ素原子であり、ｊ２は１～５の整数である。ｑが１の場合、Ｒ０１及びＲ０２に含まれるヨウ素原子の個数は１個以上である。ｋ１及びｋ２は、それぞれ独立に、０又は１である。但し、ｑが０の場合、ｋ２は、１である。ｑが１の場合、ｋ１＋ｋ２は、１である。Ｍｍ＋は、ｍ価のオニウムカチオンである。ｍは１以上の整数である。］
  2. 　前記一般式（ａ０－ｍ）中のＷが、下記一般式（ａ０－ｗ）で表される重合性基含有基である、請求項１に記載のレジスト組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
     ［式中、Ｒ０は、炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数１～５のハロゲン化アルキル基又は水素原子である。－Ｌ１０－＊は、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－＊、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＨ－＊、又は－＊（Ｌ１０が単結合の場合）である。＊は、前記一般式（ａ０－ｍ）中のＲＡｒ１に結合する結合手、又はｑ＝０の場合にはＲＡｒ２に結合する結合手であることを表す。］
  3. 　前記一般式（ａ０－ｍ）中のＷが、前記一般式（ａ０－ｗ）で表される重合性基含有基であり、
    　ｑが１であり、
    　ｋ１が１であり、ｋ２が０であり、
    　Ｒ０２がヨウ素化アルキル基又はヨウ素原子であり、ｊ２が１～５の整数であり、
    　前記一般式（ａ０－ｗ）中のＬ１０が単結合である、請求項２に記載のレジスト組成物。
  4. 　さらに、前記一般式（ａ０－ｍ）中のＭｍ＋が、ｍ価のスルホニウムカチオンである、請求項３に記載のレジスト組成物。
  5. 　前記一般式（ａ０－ｍ）中のＷが、前記一般式（ａ０－ｗ）で表される重合性基含有基であり、
    　ｑが１であり、
    　ｋ１が０であり、ｋ２が１であり、
    　Ｒ０２がヨウ素化アルキル基又はヨウ素原子であり、ｊ２が１～５の整数であり、
    　前記一般式（ａ０－ｗ）中のＬ１０が単結合である、請求項２に記載のレジスト組成物。
  6. 　さらに、前記一般式（ａ０－ｍ）中のＭｍ＋が、ｍ価のスルホニウムカチオンである、請求項５に記載のレジスト組成物。
  7. 　前記一般式（ａ０－ｍ）中のＷが、前記一般式（ａ０－ｗ）で表される重合性基含有基であり、
    　ｑが０であり、
    　ｋ２が１であり、
    　Ｒ０２がヨウ素化アルキル基又はヨウ素原子であり、ｊ２が１～５の整数であり、
    　前記一般式（ａ０－ｗ）中のＬ１０が単結合である、請求項２に記載のレジスト組成物。
  8. 　さらに、前記一般式（ａ０－ｍ）中のＭｍ＋が、ｍ価のスルホニウムカチオンである、請求項７に記載のレジスト組成物。
  9. 　前記一般式（ａ０－ｍ）中のＷが、前記一般式（ａ０－ｗ）で表される重合性基含有基であり、
    　ｑが０であり、
    　ｋ２が１であり、
    　Ｒ０２がヨウ素化アルキル基又はヨウ素原子であり、ｊ２が１～５の整数であり、
    　前記一般式（ａ０－ｗ）中の－Ｌ１０－＊が、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－＊、又は－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＨ－＊［ここでの＊は、前記一般式（ａ０－ｍ）中のＲＡｒ２に結合する結合手であることを表す。］である、請求項２に記載のレジスト組成物。
  10. 　さらに、前記一般式（ａ０－ｍ）中のＭｍ＋が、ｍ価のスルホニウムカチオンである、請求項９に記載のレジスト組成物。
  11. 　前記構成単位（ａ０）の含有割合は、前記樹脂成分（Ａ１）を構成する全構成単位の総量（１００モル％）に対して１～５０モル％である、請求項１に記載のレジスト組成物。
  12. 　支持体上に、請求項１～１１のいずれか一項に記載のレジスト組成物を用いてレジスト膜を形成する工程、前記レジスト膜を露光する工程、及び前記露光後のレジスト膜を現像してレジストパターンを形成する工程を有する、レジストパターン形成方法。
  13. 　前記のレジスト膜を露光する工程において、前記レジスト膜に、ＥＵＶ（極端紫外線）又はＥＢ（電子線）を露光する、請求項１２に記載のレジストパターン形成方法。
  14. 　下記一般式（ａ０－ｍ）で表される化合物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
     ［式中、Ｗは、重合性基含有基である。ＲＡｒ１及びＲＡｒ２は、それぞれ独立に、置換基を有してもよい芳香族基である。ＲＡｒ１－Ｌ１１－は、ＲＡｒ１－Ｏ－、ＲＡｒ１－Ｓ－、ＲＡｒ１－ＮＨ－、ＲＡｒ１－Ａｋ－、ＲＡｒ１－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－、ＲＡｒ１－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＨ－、ＲＡｒ１－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－、ＲＡｒ１－ＮＨ－Ｃ（＝Ｏ）－、ＲＡｒ１－Ａｋ－Ｏ－、ＲＡｒ１－Ａｋ－ＮＨ－、ＲＡｒ１－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ａｋ－又はＲＡｒ１－（Ｌ１１が単結合の場合）である。Ａｋは、アルキレン基又はフッ素化アルキレン基である（以下同じ）。ＲＡｒ１－Ｌ１２－は、ＲＡｒ１－Ａｋ－、ＲＡｒ１－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－Ａｋ－、ＲＡｒ１－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＨ－Ａｋ－、ＲＡｒ１－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ａｋ－、ＲＡｒ１－ＮＨ－Ｃ（＝Ｏ）－Ａｋ－、ＲＡｒ１－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－又はＲＡｒ１－（Ｌ１２が単結合の場合）である。ＲＡｒ１－Ｌ１３－は、ＲＡｒ１－Ｏ－、ＲＡｒ１－Ｓ－、ＲＡｒ１－ＮＨ－、ＲＡｒ１－Ａｋ－、ＲＡｒ１－Ｏ－Ａｋ－又はＲＡｒ１－（Ｌ１３が単結合の場合）である。ＲＡｒ２－Ｌ１４－は、ＲＡｒ２－Ａｋ－、ＲＡｒ２－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－Ａｋ－、ＲＡｒ２－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＨ－Ａｋ－、ＲＡｒ２－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ａｋ－、ＲＡｒ２－ＮＨ－Ｃ（＝Ｏ）－Ａｋ－、ＲＡｒ２－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－又はＲＡｒ２－（Ｌ１４が単結合の場合）である。ＲＡｒ２－Ｌ１５－は、ＲＡｒ２－Ｏ－、ＲＡｒ２－Ｓ－、ＲＡｒ２－ＮＨ－、ＲＡｒ２－Ａｋ－、ＲＡｒ２－Ｏ－Ａｋ－又はＲＡｒ２－（Ｌ１５が単結合の場合）である。ｑは、０又は１である。Ｒ０１及びＲ０２は、それぞれ独立に、ヨウ素化アルキル基、ヨウ素原子又は水素原子である。ｊ１及びｊ２は、それぞれ独立に、０～５の整数である。但し、ｑが０の場合、Ｒ０２はヨウ素化アルキル基又はヨウ素原子であり、ｊ２は１～５の整数である。ｑが１の場合、Ｒ０１及びＲ０２に含まれるヨウ素原子の個数は１個以上である。ｋ１及びｋ２は、それぞれ独立に、０又は１である。但し、ｑが０の場合、ｋ２は、１である。ｑが１の場合、ｋ１＋ｋ２は、１である。Ｍｍ＋は、ｍ価のオニウムカチオンである。ｍは１以上の整数である。］
  15. 　前記一般式（ａ０－ｍ）中のＷが、下記一般式（ａ０－ｗ）で表される重合性基含有基である、請求項１４に記載の化合物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
     ［式中、Ｒ０は、炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数１～５のハロゲン化アルキル基又は水素原子である。－Ｌ１０－＊は、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－＊、－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＨ－＊、又は－＊（Ｌ１０が単結合の場合）である。＊は、前記一般式（ａ０－ｍ）中のＲＡｒ１に結合する結合手、又はｑ＝０の場合にはＲＡｒ２に結合する結合手であることを表す。］
  16. 　前記一般式（ａ０－ｍ）中のＷが、前記一般式（ａ０－ｗ）で表される重合性基含有基であり、
    　ｑが１であり、
    　ｋ１が１であり、ｋ２が０であり、
    　Ｒ０２がヨウ素化アルキル基又はヨウ素原子であり、ｊ２が１～５の整数であり、
    　前記一般式（ａ０－ｗ）中のＬ１０が単結合である、請求項１５に記載の化合物。
  17. 　さらに、前記一般式（ａ０－ｍ）中のＭｍ＋が、ｍ価のスルホニウムカチオンである、請求項１６に記載の化合物。
  18. 　前記一般式（ａ０－ｍ）中のＷが、前記一般式（ａ０－ｗ）で表される重合性基含有基であり、
    　ｑが１であり、
    　ｋ１が０であり、ｋ２が１であり、
    　Ｒ０２がヨウ素化アルキル基又はヨウ素原子であり、ｊ２が１～５の整数であり、
    　前記一般式（ａ０－ｗ）中のＬ１０が単結合である、請求項１５に記載の化合物。
  19. 　さらに、前記一般式（ａ０－ｍ）中のＭｍ＋が、ｍ価のスルホニウムカチオンである、請求項１８に記載の化合物。
  20. 　前記一般式（ａ０－ｍ）中のＷが、前記一般式（ａ０－ｗ）で表される重合性基含有基であり、
    　ｑが０であり、
    　ｋ２が１であり、
    　Ｒ０２がヨウ素化アルキル基又はヨウ素原子であり、ｊ２が１～５の整数であり、
    　前記一般式（ａ０－ｗ）中のＬ１０が単結合である、請求項１５に記載の化合物。
  21. 　さらに、前記一般式（ａ０－ｍ）中のＭｍ＋が、ｍ価のスルホニウムカチオンである、請求項２０に記載の化合物。
  22. 　前記一般式（ａ０－ｍ）中のＷが、前記一般式（ａ０－ｗ）で表される重合性基含有基であり、
    　ｑが０であり、
    　ｋ２が１であり、
    　Ｒ０２がヨウ素化アルキル基又はヨウ素原子であり、ｊ２が１～５の整数であり、
    　前記一般式（ａ０－ｗ）中の－Ｌ１０－＊が、－Ｃ（＝Ｏ）－Ｏ－＊、又は－Ｃ（＝Ｏ）－ＮＨ－＊［ここでの＊は、前記一般式（ａ０－ｍ）中のＲＡｒ２に結合する結合手であることを表す。］である、請求項１５に記載の化合物。
  23. 　さらに、前記一般式（ａ０－ｍ）中のＭｍ＋が、ｍ価のスルホニウムカチオンである、請求項２２に記載の化合物。
  24. 　請求項１４～２３のいずれか一項に記載の化合物から誘導される構成単位を有する、高分子化合物。
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