WO2023228935A1

WO2023228935A1 - 除草剤組成物及び雑草防除方法

Info

Publication number: WO2023228935A1
Application number: PCT/JP2023/019092
Authority: WO
Inventors: 義伸神; 舞衣鳥海
Original assignee: Sumitomo Chemical Co Ltd
Current assignee: Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority date: 2022-05-25
Filing date: 2023-05-23
Publication date: 2023-11-30
Anticipated expiration: 2024-11-25
Also published as: US20250318528A1

Abstract

雑草に対する優れた防除効果を有する除草剤組成物を提供する。式（Ｉ）で表される１以上のウラシル化合物と、Ｂ－１～Ｂ－１２からなる除草剤化合物Ｂ群からなる群より選ばれる１以上の化合物とを含有する除草剤組成物が提供される。

Description

除草剤組成物及び雑草防除方法

　本発明は、除草剤組成物及び雑草防除方法に関する。

　現在、数多くの除草剤が販売され、使用されている。また、雑草の防除を目的として多数のＰＰＯ阻害型除草剤が用いられ、かかるＰＰＯ阻害型除草剤の有効成分として、例えば、除草活性を有するウラシル化合物が知られている。

米国特許第６４０３５３４号明細書

　本発明は、雑草に対する優れた防除効果を有する除草剤組成物及び雑草防除方法を提供することを課題とする。

　本発明者らは、下記式（Ｉ）で表される１以上のウラシル化合物と、特定の化合物とを併用することにより、雑草に対して優れた防除効果が発揮されることを見出した。
　本発明は、以下の態様を含む。

［１］　下記式（Ｉ）
［式中、
　Ｒ^１は水素原子、メチル基又はエチル基を表し、
　Ｒ^２は炭素数が１～３のアルキル基を表し、
　Ｒ^３は水素原子又は炭素数が１～３のアルキル基を表し、
　Ｒ^２とＲ^３とが互いに結合してＣ２－３アルキレン鎖を形成していてもよい。］
で表される１以上のウラシル化合物と、除草剤化合物Ｂ群より選ばれる１以上の化合物とを含有し、
　前記除草剤化合物Ｂ群は、以下のＢ－１～Ｂ－１２：
　Ｂ－１　アセト乳酸合成酵素阻害剤；
　Ｂ－２　アセチルＣｏＡカルボキシラーゼ阻害剤；
　Ｂ－３　プロトポルフィリノーゲンＩＸオキシダーゼ阻害剤；
　Ｂ－４　４－ヒドロフェニルピルビン酸ジオキシゲナーゼ阻害剤；
　Ｂ－５　フィトエンデサチュラーゼ阻害剤；
　Ｂ－６　光化学系ＩＩ阻害剤；
　Ｂ－７　超長鎖脂肪酸合成阻害剤；
　Ｂ－８　微小管形成阻害剤；
　Ｂ－９　オーキシン系除草剤；
　Ｂ－１０　エノールピルビルシキミ酸３－リン酸合成酵素阻害剤；
　Ｂ－１１　グルタミン合成酵素阻害剤；
　Ｂ－１２　その他の除草剤；
（それらの農業上許容される塩、又は誘導体を含む）
からなる群である、除草剤組成物。
［２］　前記Ｂ－１が、
　ピリチオバック、ピリチオバックナトリウム塩、ピリミノバック、ピリミノバックメチル、ビスピリバック、ビスピリバックナトリウム塩、ピリベンゾキシム、ピリミスルファン、ピリフタリド、トリアファモン、アミドスルフロン、アジムスルフロン、ベンスルフロン、ベンスルフロンメチル、クロリムロン、クロリムロンエチル、シクロスルファムロン、エトキシスルフロン、フラザスルフロン、フルセトスルフロン、フルピルスルフロン、フルピルスルフロンメチルナトリウム、ホラムスルフロン、ハロスルフロン、ハロスルフロンメチル、イマゾスルフロン、メトスルフロン、メトスルフロンメチル、メタゾスルフロン、ニコスルフロン、オルトスルファムロン、オキサスルフロン、プリミスルフロン、プリミスルフロンメチル、プロピリスルフロン、ピラゾスルフロン、ピラゾスルフロンエチル、リムスルフロン、スルホメツロン、スルホメツロンメチル、スルホスルフロン、トリフロキシスルフロン、トリフロキシスルフロンナトリウム塩、クロルスルフロン、シノスルフロン、エタメトスルフロン、エタメトスルフロンメチル、ヨードスルフロン、ヨードスルフロンメチルナトリウム、イオフェンスルフロン、イオフェンスルフロンナトリウム、メソスルフロン、メソスルフロンメチル、プロスルフロン、チフェンスルフロン、チフェンスルフロンメチル、トリアスルフロン、トリベヌロン、トリベヌロンメチル、トリフルスルフロン、トリフルスルフロンメチル、トリトスルフロン、ベンカルバゾン、フルカルバゾン、フルカルバゾンナトリウム塩、プロポキシカルバゾン、プロポキシカルバゾンナトリウム塩、チエンカルバゾン、チエンカルバゾンメチル、クロランスラム、クロランスラムメチル、ジクロスラム、フロラスラム、フルメツラム、メトスラム、ペノキススラム、ピロキシスラム、イマザメタベンズ、イマザメタベンズメチル、イマザモックス、イマザモックスアンモニウム塩、イマザピック、イマザピックアンモニウム塩、イマザピル、イマザピルイソプロピルアンモニウム塩、イマザキン、イマザキンアンモニウム塩、イマゼタピル、及びイマゼタピルアンモニウム塩
（それらの農業上許容される塩、又は誘導体を含む）
からなる群であり、
　前記Ｂ－２が、
　クロジナホップ、クロジナホッププロパルギル、シハロホップ、シハロホップブチル、ジクロホップ、ジクロホップメチル、フェノキサプロップ、フェノキサプロップエチル、フェノキサプロップＰ、フェノキサプロップＰエチル、フルアジホップ、フルアジホップブチル、フルアジホップＰ、フルアジホップＰブチル、ハロキシホップ、ハロキシホップエトチル、ハロキシホップメチル、ハロキシホップＰ、ハロキシホップＰエトチル、ハロキシホップＰメチル、メタミホップ、プロパキザホップ、キザロホップ、キザロホップテフリル、キザロホップエチル、キザロホップＰ、キザロホップＰテフリル、キザロホップＰエチル、アロキシジム、ブトロキシジム、クレトジム、シクロキシジム、プロホキシジム、セトキシジム、テプラロキシジム、トラルコキシジム、及びピノキサデン
（それらの農業上許容される塩、又は誘導体を含む）
からなる群であり、
　前記Ｂ－３が、
　アザフェニジン、ベンズフェンジゾン、オキサジアゾン、オキサジアルギル、カルフェントラゾン、カルフェントラゾンエチル、サフルフェナシル、シニドン、シニドンエチル、スルフェントラゾン、ピラクロニル、シクロピラニル、ピラフルフェン、ピラフルフェンエチル、ブタフェナシル、フルアゾレート、フルチアセット、フルチアセットメチル、フルフェンピル、フルフェンピルエチル、フルミクロラック、フルミクロラックペンチル、フルミオキサジン、ペントキサゾン、オキシフルオルフェン、アシフルオルフェン、アシフルオルフェンナトリウム塩、クロメトキシニル、クロロニトロフェン、ニトロフェン、ビフェノックス、クロメトキシフェン、エトキシフェンチル、フルオログリコフェン、フルオログリコフェンエチル、ホメサフェン、ホメサフェンナトリウム、ハロサフェン、ラクトフェン、チアフェナシル、トリフルジモキサジン、チジアジミン、プロフルアゾール、及びエピリフェナシル
（それらの農業上許容される塩、又は誘導体を含む）
からなる群であり、
　前記Ｂ－４が、
　ベンゾビシクロン、ビシクロピロン、メソトリオン、スルコトリオン、テフリルトリオン、テンボトリオン、イソキサクロルトール、イソキサフルトール、ベンゾフェナップ、ピラスルホトール、ピラゾリネート、ピラゾキシフェン、フェンキノトリオン、トプラメゾン、トルピラレート、ランコトリオン、ランコトリオンナトリウム塩、２－メチル－Ｎ－（５－メチル－１，３，４－オキサジアゾール－２－イル）－３－（メタンスルホニル）－４－（トリフルオロメチル）ベンズアミド（ＣＡＳ登録番号：１４００９０４－５０－８）、２－クロロ－Ｎ－（１－メチル－１Ｈ－テトラゾール－５－イル）－３－（メチルチオ）－４－（トリフルオロメチル）ベンズアミド（ＣＡＳ登録番号：１３６１１３９－７１－０）、４－（４－フルオロフェニル）－６－［（２－ヒドロキシ－６－オキソ－１－シクロヘキセン－１－イル）カルボニル］－２－メチル－１，２，４－トリアジン－３，５（２Ｈ，４Ｈ）－ジオン（ＣＡＳ登録番号：１３５３８７０－３４－４）、及び３－［（イソプロピルスルホニル）メチル］－Ｎ－（５－メチル－１，３，４－オキサジアゾール－２－イル）－５－（トリフルオロメチル）－１，２，４－トリアゾロ［４，３－ａ］ピリジン－８－カルボキサミド（ＣＡＳ登録番号：１９９４３４８－７２－９）
（それらの農業上許容される塩、又は誘導体を含む）
からなる群であり、
　前記Ｂ－５が、
　ジフルフェニカン、ピコリナフェン、ベフルブタミド、ノルフルラゾン、フルリドン、フルロクロリドン、及びフルルタモン
（それらの農業上許容される塩、又は誘導体を含む）
からなる群であり、
　前記Ｂ－６が、
　アイオキシニル、アイオキシニルオクタノエート、ベンタゾン、ピリダフォル、ピリデート、ブロモフェノキシム、ブロモキシニル、ブロモキシニルオクタノエート、クロルブロムロン、クロロトルロン、クロロクスロン、ジメフロン、ジウロン、エチジムロン、フェニュロン、リニュロン、フルオメツロン、イソプロツロン、イソウロン、テブチウロン、アズロン、メタベンズチアズロン、ネブロン、ペンタノクロール、プロパニル、メトブロムロン、メトキスロン、モノリニュロン、シデゥロン、シマジン、アトラジン、デスメトリン、プロパジン、シアナジン、アメトリン、シメトリン、ジメタメトリン、プロメトン、プロメトリン、テルブメトン、テルブチラジン、テルブトリン、トリエタジン、ヘキサジノン、メタミトロン、メトリブジン、アミカルバゾン、ブロマシル、レナシル、ターバシル、クロリダゾン、デスメジファム、及びフェンメディファム
（それらの農業上許容される塩、又は誘導体を含む）
からなる群であり、
　前記Ｂ－７が、
　プロパクロール、メタザクロール、アラクロール、アセトクロール、アリドクロール、ジメタクロール、メトラクロール、Ｓ－メトラクロール、ブタクロール、プレチラクロール、プロピソクロール、テニルクロール、インダノファン、カフェンストロール、フェントラザミド、ジフェナミド、ジメテナミド、ジメテナミドＰ、ジメピペレート、メフェナセット、ピロキサスルホン、フェノキサスルホン、ナプロアニリド、ナプロパミド、ナプロパミドＭ、ペトキサミド、アニロホス、ピペロホス、フルフェナセット、ジメスルファゼット、及びイプフェンカルバゾン
（それらの農業上許容される塩、又は誘導体を含む）
からなる群であり、
　前記Ｂ－８が、
　トリフルラリン、ペンディメタリン、エタルフルラリン、ベンフルラリン、オリザリン、プロジアミン、ブタミホス、ジチオピル、チアゾピル、アミプロホスメチル、カルベタミド、クロルタールジメチル、ブトルアリン、ジニトラミン、プロファム、プロピザミド、及びテブタム
（それらの農業上許容される塩、又は誘導体を含む）
からなる群であり、
　前記Ｂ－９が、
　２，３，６－ＴＢＡ及びその塩又はエステル（ジメチルアンモニウム、リチウム塩、カリウム塩、ナトリウム塩）、２，４－Ｄ及びその塩又はエステル（コリン塩、テトラブチルアンモニウム塩、ビプロアミン、ドボキシル、２－エチルヘキシル、３－ブトキシプロピル、アンモニウム、ブトチル、ブチル、ジエチルアンモニウム、ジメチルアンモニウム、ジオールアミン塩、ドデシルアンモニウム、エチル、ヘプチルアンモニウム、イソブチル、イソオクチル、イソプロピル、イソプロピルアンモニウム、リチウム塩、メプチル、メチル、オクチル、ペンチル、プロピル、ナトリウム塩、テフリル、テトラデシルアンモニウム、トリエチルアンモニウム、トリス（２－ヒドロキシプロピル）アンモニウム、及びトロールアミン塩）、２，４－ＤＢ及びその塩又はエステル（コリン塩、ビプロアミン、ブチル、ジメチルアンモニウム、イソオクチル、カリウム塩、及びナトリウム塩）、ＭＣＰＡ及びその塩又はエステル（コリン塩、ビプロアミン、エテキシル、ブトチル、ブチル、ジメチルアンモニウム、ジオールアミン塩、エチル、イソブチル、イソオクチル、イソプロピル、メチル、オールアミン塩、ナトリウム塩、及びトロールアミン塩）、ＭＣＰＢ及びその塩又はエステル（コリン塩、ビプロアミン、エチル、メチル、及びナトリウム塩）、メコプロップ及びその塩又はエステル（コリン塩、ビプロアミン、２－エチルヘキシル、ジメチルアンモニウム、ジオールアミン塩、エタジル、イソオクチル、メチル、カリウム塩、ナトリウム塩、及びトロールアミン塩）、メコプロップＰ及びその塩又はエステル（コリン塩、２－エチルヘキシル、ジメチルアンモニウム、イソブチル、及びカリウム塩及び）、ジクロルプロップ及びその塩又はエステル（コリン塩、ビプロアミン、エテキシル、ブトチル、ジメチルアンモニウム、エチルアンモニウム、イソクチル、メチル、カリウム塩、及びナトリウム塩）、ジクロルプロップＰ及びその塩又はエステル（コリン塩、ビプロアミン、エテキシル、及びジメチルアンモニウム）、ジカンバ及びその塩又はエステル（コリン塩、ビプロアミン、トロールアミン塩、ジグリコールアミン塩、ジメチルアンモニウム、ジオールアミン塩、イソプロピルアンモニウム、メチル、オールアミン塩、カリウム塩、ナトリウム塩、及びテトラブチルアンモニウム塩）、トリクロピル及びその塩又はエステル（ブトチル、エチル、及びトリエチルアンモニウム）、フルロキシピル及びその塩又はエステル（メプチル、及びブトメチル）、ピクロラム及びその塩（カリウム塩、トリス（２－ヒドロキシプロピル）アンモニウム塩、及びコリン塩）、キンクロラック、キンメラック、アミノピラリド及びその塩（コリン塩、カリウム塩、及びトリプロミン）、クロピラリド及びその塩（コリン塩、メチル、オールアミン塩、カリウム塩、トリス（２－ヒドロキシプロピル）アンモニウム、及びトリエチルアンモニウム塩）、クロメプロップ、アミノシクロピラクロール及びその塩（メチル、カリウム塩）、ハラウキシフェン、ハラウキシフェンメチル、フロルピラウキシフェン、フロルピラウキシフェンベンジル、ベナゾリンエチル、クロランベン、４－アミノ－３－クロロ－５－フルオロ－６－（７－フルオロ－１Ｈ－インドール－６－イル）ピリジン－２－カルボン酸、及び４－アミノ－３－クロロ－５－フルオロ－６－（７－フルオロ－１Ｈ－インドール－６－イル）ピリジン－２－カルボン酸シアノメチルエステル
（それらの農業上許容される塩、又は誘導体を含む）
からなる群であり、
　前記Ｂ－１０が、
　グリホサート、グリホサートコリン塩、グリホサートイソプロピルアンモニウム、グリホサートビプロアミン、グリホサートトリメシウム、グリホサートアンモニウム塩、グリホサートジアンモニウム塩、グリホサートジメチルアンモニウム塩、グリホサートモノエタノールアミン塩、グリホサートナトリウム塩、グリホサートカリウム塩、及びグリホサートグアニジン塩
（それらの農業上許容される塩、又は誘導体を含む）
からなる群であり、
　前記Ｂ－１１が、
　グルホシネート、グルホシネートアンモニウム塩、グルホシネートＰ、グルホシネートＰナトリウム塩、グルホシネートＰアンモニウム塩、及びビアラホス
（それらの農業上許容される塩、又は誘導体を含む）
からなる群であり、
　前記Ｂ－１２が、
　アクロニフェン、イソキサベン、ジクロベニル、タクストミンＡ、メチオゾリン、ジアレート、ブチレート、トリアレート、クロルプロファム、アシュラム、フェニソファム、ベンチオカーブ、モリネート、エスプロカルブ、ピリブチカルブ、プロスルホカルブ、オルベンカルブ、ＥＰＴＣ、ジメピペレート、スエップ、ジフェノクスロン、メチルダイムロン、ブロモブチド、ダイムロン、クミルロン、ジフルフェンゾピル、ジフルフェンゾピルナトリウム塩、ナプタラム、エトベンザニド、トリジファン、アミトロール、クロマゾン、ビクスロゾン、マレイン酸ヒドラジド、オキサジクロメホン、シンメチリン、ベンフレセート、ＡＣＮ、ダラポン、クロルチアミド、フルポキサム、ベンスリド、パラコート、パラコートジクロリド、ジクワット、ジクワットジブロミド、ＭＳＭＡ、インダジフラム、トリアジフラム、テトフルピロリメット、ジノセブ、ジノテルブ、ＤＮＯＣ、シクロエート、エトフメセート、フルプロパネート、ペブレート、ＴＣＡ、ＴＣＡアンモニウム、ＴＣＡカルシウム、ＴＣＡエタジル、ＴＣＡマグネシウム、ＴＣＡナトリウム、チオカルバジル、バーナレート、シクロピリモレート、ダゾメット、ジフェンゾコート、ジフェンゾコートメチルスルファート、ＤＳＭＡ、フランプロップＭ、フルレノール、ホサミン、メタム、オレイン酸、ペラルゴン酸、（２Ｒ，４Ｒ）－４－（｛［（５Ｓ）－３－（３，５－ジフルオロフェニル）－５－ビニル－４，５－ジヒドロイソオキサゾール－５－イル］カルボニル｝アミノ）テトラヒドロフラン－２－カルボン酸メチルエステル、（２Ｓ，４Ｓ）－４－（｛［（５Ｒ）－３－（３，５－ジフルオロフェニル）－５－ビニル－４，５－ジヒドロイソオキサゾール－５－イル］カルボニル｝アミノ）テトラヒドロフラン－２－カルボン酸メチルエステル、イカフォリンメチル（ＣＡＳ登録番号：２７４９９９８－２１－６）、１－｛２－クロロ－６－［（５－クロロピリミジン－２－イル）オキシ］フェニル｝－４，４，４－トリフルオロブタン－１－オン（ＣＡＳ登録番号：２０５２２９７－９７－７）、及びリミソキサフェン（ＣＡＳ登録番号：１８０１８６２－０２－１）
（それらの農業上許容される塩、又は誘導体を含む）
からなる群である、［１］に記載の除草剤組成物。
［３］　前記Ｂ－１が、
　ピリチオバック、ピリチオバックナトリウム塩、クロリムロンエチル、ホラムスルフロン、ハロスルフロンメチル、ニコスルフロン、プリミスルフロンメチル、リムスルフロン、トリフロキシスルフロンナトリウム塩、クロルスルフロン、ヨードスルフロンメチルナトリウム、イオフェンスルフロンナトリウム、メソスルフロンメチル、プロスルフロン、チフェンスルフロンメチル、トリベヌロンメチル、チエンカルバゾンメチル、クロランスラムメチル、フルメツラム、イマザメタベンズメチル、イマザモックスアンモニウム塩、イマザピックアンモニウム塩、イマザピルイソプロピルアンモニウム塩、イマザキンアンモニウム塩、及びイマゼタピルアンモニウム塩
（それらの農業上許容される塩、又は誘導体を含む）
からなる群である、［１］又は［２］に記載の除草剤組成物。
［４］　前記Ｂ－２が、
　フェノキサプロップエチル、フェノキサプロップＰエチル、フルアジホップブチル、フルアジホップＰブチル、キザロホップエチル、キザロホップＰエチル、クレトジム、及びセトキシジム
（それらの農業上許容される塩、又は誘導体を含む）
からなる群である、［１］～［３］のいずれかに記載の除草剤組成物。
［５］　前記Ｂ－３が、
　カルフェントラゾンエチル、サフルフェナシル、スルフェントラゾン、ピラフルフェンエチル、フルチアセットメチル、フルフェンピルエチル、フルミクロラックペンチル、フルミオキサジン、オキシフルオルフェン、アシフルオルフェンナトリウム塩、ホメサフェンナトリウム、ラクトフェン、チアフェナシル、トリフルジモキサジン、及びエピリフェナシル
（それらの農業上許容される塩、又は誘導体を含む）
からなる群である、［１］～［４］のいずれかに記載の除草剤組成物。
［６］　前記Ｂ－４が、
　ビシクロピロン、メソトリオン、テンボトリオン、イソキサフルトール、フェンキノトリオン、トプラメゾン、トルピラレート、ランコトリオンナトリウム塩、２－メチル－Ｎ－（５－メチル－１，３，４－オキサジアゾール－２－イル）－３－（メタンスルホニル）－４－（トリフルオロメチル）ベンズアミド（ＣＡＳ登録番号：１４００９０４－５０－８）、２－クロロ－Ｎ－（１－メチル－１Ｈ－テトラゾール－５－イル）－３－（メチルチオ）－４－（トリフルオロメチル）ベンズアミド（ＣＡＳ登録番号：１３６１１３９－７１－０）、及び４－（４－フルオロフェニル）－６－［（２－ヒドロキシ－６－オキソ－１－シクロヘキセン－１－イル）カルボニル］－２－メチル－１，２，４－トリアジン－３，５（２Ｈ，４Ｈ）－ジオン（ＣＡＳ登録番号：１３５３８７０－３４－４）
（それらの農業上許容される塩、又は誘導体を含む）
からなる群である、［１］～［５］のいずれかに記載の除草剤組成物。
［７］　前記Ｂ－５が、
　ノルフルラゾン及びフルリドン
（それらの農業上許容される誘導体を含む）
からなる群である、［１］～［６］のいずれかに記載の除草剤組成物。
［８］　前記Ｂ－６が、
　ベンタゾン、ブロモキシニルオクタノエート、ジウロン、リニュロン、フルオメツロン、シマジン、アトラジン、アメトリン、プロメトリン、及びメトリブジン
（それらの農業上許容される塩、又は誘導体を含む）
からなる群である、［１］～［７］のいずれかに記載の除草剤組成物。
［９］　前記Ｂ－７が、
　アラクロール、アセトクロール、メトラクロール、Ｓメトラクロール、ジメテナミド、ジメテナミドＰ、ピロキサスルホン、及びフルフェナセット
（それらの農業上許容される誘導体を含む）
からなる群である、［１］～［８］のいずれかに記載の除草剤組成物。
［１０］　前記Ｂ－８が、
　トリフルラリン、ペンディメタリン、及びエタルフルラリン
（それらの農業上許容される誘導体を含む）
からなる群である、［１］～［９］のいずれかに記載の除草剤組成物。
［１１］　前記Ｂ－９が、
　２，４－Ｄ、２，４－Ｄコリン塩、２，４－ＤＢ、ジカンバ、ジカンバビプロアミン、ジカンバジグリコールアミン塩、フルロキシピル、フルロキシピルメプチル、クロピラリドオールアミン塩、クロピラリドカリウム塩、クロピラリドトリエチルアンモニウム塩、ハラウキシフェン、ハラウキシフェンメチル、フロルピラウキシフェン、及びフロルピラウキシフェンベンジル
（それらの農業上許容される塩、又は誘導体を含む）
からなる群である、［１］～［１０］のいずれかに記載の除草剤組成物。
［１２］　前記Ｂ－１０が、
　グリホサート、グリホサートイソプロピルアンモニウム、グリホサートアンモニウム塩、グリホサートジメチルアミン塩、グリホサートモノエタノールアミン塩、グリホサートカリウム塩、及びグリホサートグアニジン塩
（それらの農業上許容される塩、又は誘導体を含む）
からなる群である、［１］～［１１］のいずれかに記載の除草剤組成物。
［１３］　前記Ｂ－１１が、
　グルホシネート、グルホシネートアンモニウム塩、グルホシネートＰ、及びグルホシネートＰナトリウム塩
（それらの農業上許容される塩、又は誘導体を含む）
からなる群である、［１］～［１２］のいずれかに記載の除草剤組成物。
［１４］　前記Ｂ－１２が、
　ＥＰＴＣ、ジフルフェンゾピル、ジフルフェンゾピルナトリウム塩、クロマゾン、ビクスロゾン、シンメチリン、ＭＳＭＡ、パラコート、パラコートジクロリド、ジクワット、ジクワットジブロミド、テトフルピロリメット、及びリミソキサフェン
（それらの農業上許容される塩、又は誘導体を含む）
からなる群である、［１］～［１３］のいずれかに記載の除草剤組成物。
［１５］　担体をさらに含有する、［１］～［１４］のいずれかに記載の除草剤組成物。
［１６］　下記式（Ｉ）
［式中、
　Ｒ^１は水素原子、メチル基又はエチル基を表し、
　Ｒ^２は炭素数が１～３のアルキル基を表し、
　Ｒ^３は水素原子又は炭素数が１～３のアルキル基を表し、
　Ｒ^２とＲ^３とが互いに結合してＣ２－３アルキレン鎖を形成していてもよい。］
で表される１以上のウラシル化合物と、除草剤化合物Ｂ群より選ばれる１以上の化合物とを、雑草が発生している又は発生する場所に、同時又は順次処理する工程を有し、
　前記除草剤化合物Ｂ群は、以下のＢ－１～Ｂ－１２：
　Ｂ－１　アセト乳酸合成酵素阻害剤；
　Ｂ－２　アセチルＣｏＡカルボキシラーゼ阻害剤；
　Ｂ－３　プロトポルフィリノーゲンＩＸオキシダーゼ阻害剤；
　Ｂ－４　４－ヒドロフェニルピルビン酸ジオキシゲナーゼ阻害剤；
　Ｂ－５　フィトエンデサチュラーゼ阻害剤；
　Ｂ－６　光化学系ＩＩ阻害剤；
　Ｂ－７　超長鎖脂肪酸合成阻害剤；
　Ｂ－８　微小管形成阻害剤；
　Ｂ－９　オーキシン系除草剤；
　Ｂ－１０　エノールピルビルシキミ酸３－リン酸合成酵素阻害剤；
　Ｂ－１１　グルタミン合成酵素阻害剤；
　Ｂ－１２　その他の除草剤；
（それらの農業上許容される塩、又は誘導体を含む）
からなる群である、雑草の防除方法。
［１７］　前記ウラシル化合物と、前記除草剤化合物Ｂ群より選ばれる１以上の化合物との処理量の比が重量比で１：１０＾１５から１０＾１５：１である、［１６］に記載の雑草の防除方法。
［１８］　雑草が発生している又は発生する場所が作物畑である、［１６］又は［１７］に記載の雑草の防除方法。
［１９］　雑草を防除するための、［１］～［１５］のいずれかに記載の除草剤組成物の使用。

　本発明により、高い効果で雑草を防除することが可能になる。

　本発明の除草剤組成物（以下、本発明組成物と記す）は、上記式（Ｉ）で表される１以上のウラシル化合物（以下、化合物（Ｉ）と記す）と、除草剤化合物Ｂ群より選ばれる１以上の化合物（以下、化合物（Ｂ）と記す）とを含有する。本発明組成物は、薬害軽減剤Ｃ群より選ばれる１以上の化合物（以下、化合物（Ｃ）と記す）をさらに含有することができる。

　本発明の雑草の防除方法（以下、本発明方法と記す）は、１以上の化合物（Ｉ）と、１以上の化合物（Ｂ）と、必要に応じて化合物（Ｃ）とを、雑草が発生している又は発生する場所に、同時処理する工程又は順次処理する工程を有する。同時処理の場合、本発明組成物を処理する。順次処理の場合、化合物（Ｉ）と、化合物（Ｂ）とを処理する順番は特に限定されない。順次処理において化合物（Ｃ）を用いる場合、化合物（Ｉ）と、化合物（Ｂ）と、化合物（Ｃ）とを処理する順番は特に限定されない。

　本発明方法では、作物畑、野菜畑、樹園地又は非農耕地等において、化合物（Ｉ）と、化合物（Ｂ）と、必要に応じて化合物（Ｃ）とを、雑草が発生している又は発生する場所に処理する。作物畑においては作物種子を播種する前、播種と同時、及び／又は播種した後に、化合物（Ｉ）と、化合物（Ｂ）と、必要に応じて化合物（Ｃ）とを処理してもよい。

　本発明組成物は、雑草を防除するために使用される。本発明組成物を処理する方法としては、例えば、本発明組成物を栽培地の土壌に散布する方法及び本発明組成物を発生した雑草に散布する方法が挙げられる。本発明組成物の散布は、通常、本発明組成物と水とを混合して得られる散布液を、散布機を用いて散布することにより行われる。散布液量は特に限定されないものの、通常、５０～１０００Ｌ／ｈａ、好ましくは１００～５００Ｌ／ｈａ、より好ましくは１４０～３００Ｌ／ｈａである。

　化合物（Ｉ）と、化合物（Ｂ）（化合物（Ｃ）を用いる場合には化合物（Ｂ）及び化合物（Ｃ）の合計）との処理量は、化合物（Ｉ）と、化合物（Ｂ）（化合物（Ｃ）を用いる場合には化合物（Ｂ）及び化合物（Ｃ）の合計）との総量として、通常１００００ｍ^２あたり１～１００００ｇ、好ましくは１００００ｍ^２あたり２～５０００ｇ、より好ましくは１００００ｍ^２あたり５～２０００ｇである。

　なお、本発明方法において、化合物（Ｉ）と、化合物（Ｂ）と、必要に応じて化合物（Ｃ）と、アジュバントとを併用してもよい。
　アジュバントの種類は、特に限定されないが、Ａｇｒｉ－Ｄｅｘ、ＭＳＯ等のオイル系アジュバント（パラフィン系炭化水素、ナフテン系炭化水素、芳香族炭化水素などの鉱物油、又は植物油（ダイズ油やナタネ油）をエステル化したＭｅｔｈｙｌａｔｅｄ　Ｓｅｅｄ　Ｏｉｌ）であれば散布液中に０．２５％、０．５％、１％、２％、３％、４％、５％又は６％（ｖｏｌｕｍｅ／ｖｏｌｕｍｅ）、Ｉｎｄｕｃｅ等のノニオン系アジュバント（ポリオキシアルキレンアルキルエーテル、ポリオキシアルキレン脂肪酸エステル、アルキルアリールアルコキシレート、又はアルキルアリールポリオキシアルキレングリコール）であれば、散布液中に０．０５％、０．１％、０．２５％、又は０．５％（ｖｏｌｕｍｅ／ｖｏｌｕｍｅ）を混用することが望ましい。それ以外に、グラミンＳ等のアニオン系（置換スルホン酸塩）、Ｇｅｎａｍｉｎ　Ｔ　２００ＢＭ等のカチオン系（ポリオキシエチレンアミン）、Ｓｉｌｗｅｔ　Ｌ７７等の有機シリコーン系が挙げられる。さらには、Ｉｎｔａｃｔ（ポリエチレングリコール）等のドリフト軽減剤を混用してもよい。

　化合物（Ｉ）と、化合物（Ｂ）と、必要に応じて化合物（Ｃ）とを処理する際に調製される散布液のｐＨや硬度は特に限定されないが、通常ｐＨ５～９の範囲であり、硬度は通常アメリカ硬度で０～５００ｐｐｍの範囲である。
　化合物（Ｉ）と、化合物（Ｂ）と、必要に応じて化合物（Ｃ）とを処理する時間帯は特に限定されないが、通常午前５時～午後９時の範囲であり、施用する場所における光量子束密度は通常１０～２５００マイクロモル／平米／秒であり、施用する場所における気温は通常セ氏０～３５度であり、風速は通常３ＭＰＨ以下である。
　化合物（Ｉ）と、化合物（Ｂ）と、必要に応じて化合物（Ｃ）とを施用する際の散布圧は特に限定されないが、通常３０～１２０ＰＳＩ、好ましくは４０～８０ＰＳＩである。

　化合物（Ｉ）は、下記式（Ｉ）
で表されるウラシル化合物である。本発明組成物は、化合物（Ｉ）を１種又は２種以上含有する。

　式（Ｉ）中、Ｒ^１は水素原子、メチル基又はエチル基を表し、Ｒ^２は炭素数が１～３のアルキル基を表し、Ｒ^３は水素原子又は炭素数が１～３のアルキル基を表す。Ｒ^２とＲ^３とが互いに結合してＣ２－３アルキレン鎖を形成していてもよい。Ｃ２－３アルキレン鎖とは、－（ＣＨ_２）_２－又は－（ＣＨ_２）_３－を意味する。

　Ｒ^２とＲ^３とが互いに異なる基であるとき、Ｒ^２及びＲ^３が結合する炭素は不斉中心となる。この場合、化合物（Ｉ）は、いずれか一方のエナンチオマーであってもよいし、２種のエナンチオマーの混合物であってよい。該混合物は、ラセミ混合物であってもよい。

　化合物（Ｉ）としては、表１に示される化合物が挙げられる。表１中、Ｍｅはメチル基を表し、Ｅｔはエチル基を表し、Ｐｒはプロピル基を表す。－（ＣＨ_２）_２－は、Ｒ^２とＲ^３とが互いに結合して－（ＣＨ_２）_２－を形成していることを表す。－（ＣＨ_２）_３－は、Ｒ^２とＲ^３とが互いに結合して－（ＣＨ_２）_３－を形成していることを表す。

　Ｒ^１は、好ましくは、メチル基又はエチル基である。Ｒ^２は、好ましくは、メチル基又はエチル基である。Ｒ^３は、好ましくは、水素原子又はメチル基である。Ｒ^２とＲ^３とが互いに結合してＣ２－３アルキレン鎖を形成していることも好ましい。

　化合物（Ｉ）は、好ましくは、化合物（Ｉ－１５）～化合物（Ｉ－４２）からなる群より選ばれる１以上の化合物を含み、より好ましくは、化合物（Ｉ－１５）～化合物（Ｉ－１７）、化合物（Ｉ－１９）～化合物（Ｉ－２１）、化合物（Ｉ－２７）～化合物（Ｉ－３１）、化合物（Ｉ－３３）～化合物（Ｉ－３５）、化合物（Ｉ－４１）及び化合物（Ｉ－４２）からなる群より選ばれる１以上の化合物を含み、さらに好ましくは、化合物（Ｉ－１５）、化合物（Ｉ－２９）、化合物（Ｉ－３０）、化合物（Ｉ－３３）及び化合物（Ｉ－４１）からなる群より選ばれる１以上の化合物を含む。

　化合物（Ｉ）は、米国特許第６４０３５３４号明細書に記載の方法に準じて製造することができる。

　化合物（Ｂ）は、除草剤化合物Ｂ群より選ばれる化合物である。本発明組成物は、化合物（Ｂ）を１種又は２種以上含有する。１以上の化合物（Ｉ）と１以上の化合物（Ｂ）とを含有する本発明組成物によれば、雑草に対して優れた防除効果を発揮することが可能となる。

　除草剤化合物Ｂ群は、下記Ｂ－１～Ｂ－１２からなる群である。下記Ｂ－１～Ｂ－１２の阻害剤又は除草剤は、該阻害剤又は該除草剤の農業上許容される塩又は誘導体を含む。
　Ｂ－１　アセト乳酸合成酵素阻害剤
　Ｂ－２　アセチルＣｏＡカルボキシラーゼ阻害剤
　Ｂ－３　プロトポルフィリノーゲンＩＸオキシダーゼ阻害剤
　Ｂ－４　４－ヒドロフェニルピルビン酸ジオキシゲナーゼ阻害剤
　Ｂ－５　フィトエンデサチュラーゼ阻害剤
　Ｂ－６　光化学系ＩＩ阻害剤
　Ｂ－７　超長鎖脂肪酸合成阻害剤
　Ｂ－８　微小管形成阻害剤
　Ｂ－９　オーキシン系除草剤
　Ｂ－１０　エノールピルビルシキミ酸３－リン酸合成酵素阻害剤
　Ｂ－１１　グルタミン合成酵素阻害剤
　Ｂ－１２　その他の除草剤

　Ｂ－１は、好ましくは、ピリチオバック、ピリチオバックナトリウム塩、ピリミノバック、ピリミノバックメチル、ビスピリバック、ビスピリバックナトリウム塩、ピリベンゾキシム、ピリミスルファン、ピリフタリド、トリアファモン、アミドスルフロン、アジムスルフロン、ベンスルフロン、ベンスルフロンメチル、クロリムロン、クロリムロンエチル、シクロスルファムロン、エトキシスルフロン、フラザスルフロン、フルセトスルフロン、フルピルスルフロン、フルピルスルフロンメチルナトリウム、ホラムスルフロン、ハロスルフロン、ハロスルフロンメチル、イマゾスルフロン、メトスルフロン、メトスルフロンメチル、メタゾスルフロン、ニコスルフロン、オルトスルファムロン、オキサスルフロン、プリミスルフロン、プリミスルフロンメチル、プロピリスルフロン、ピラゾスルフロン、ピラゾスルフロンエチル、リムスルフロン、スルホメツロン、スルホメツロンメチル、スルホスルフロン、トリフロキシスルフロン、トリフロキシスルフロンナトリウム塩、クロルスルフロン、シノスルフロン、エタメトスルフロン、エタメトスルフロンメチル、ヨードスルフロン、ヨードスルフロンメチルナトリウム、イオフェンスルフロン、イオフェンスルフロンナトリウム、メソスルフロン、メソスルフロンメチル、プロスルフロン、チフェンスルフロン、チフェンスルフロンメチル、トリアスルフロン、トリベヌロン、トリベヌロンメチル、トリフルスルフロン、トリフルスルフロンメチル、トリトスルフロン、ベンカルバゾン、フルカルバゾン、フルカルバゾンナトリウム塩、プロポキシカルバゾン、プロポキシカルバゾンナトリウム塩、チエンカルバゾン、チエンカルバゾンメチル、クロランスラム、クロランスラムメチル、ジクロスラム、フロラスラム、フルメツラム、メトスラム、ペノキススラム、ピロキシスラム、イマザメタベンズ、イマザメタベンズメチル、イマザモックス、イマザモックスアンモニウム塩、イマザピック、イマザピックアンモニウム塩、イマザピル、イマザピルイソプロピルアンモニウム塩、イマザキン、イマザキンアンモニウム塩、イマゼタピル、及びイマゼタピルアンモニウム塩、並びにこれらの農業上許容される塩又は誘導体からなる群であり、より好ましくは、ピリチオバック、ピリチオバックナトリウム塩、クロリムロンエチル、ホラムスルフロン、ハロスルフロンメチル、ニコスルフロン、プリミスルフロンメチル、リムスルフロン、トリフロキシスルフロンナトリウム塩、クロルスルフロン、ヨードスルフロンメチルナトリウム、イオフェンスルフロンナトリウム、メソスルフロンメチル、プロスルフロン、チフェンスルフロンメチル、トリベヌロンメチル、チエンカルバゾンメチル、クロランスラムメチル、フルメツラム、イマザメタベンズメチル、イマザモックスアンモニウム塩、イマザピックアンモニウム塩、イマザピルイソプロピルアンモニウム塩、イマザキンアンモニウム塩、及びイマゼタピルアンモニウム塩、並びにこれらの農業上許容される塩又は誘導体からなる群である。

　Ｂ－２は、好ましくは、クロジナホップ、クロジナホッププロパルギル、シハロホップ、シハロホップブチル、ジクロホップ、ジクロホップメチル、フェノキサプロップ、フェノキサプロップエチル、フェノキサプロップＰ、フェノキサプロップＰエチル、フルアジホップ、フルアジホップブチル、フルアジホップＰ、フルアジホップＰブチル、ハロキシホップ、ハロキシホップエトチル、ハロキシホップメチル、ハロキシホップＰ、ハロキシホップＰエトチル、ハロキシホップＰメチル、メタミホップ、プロパキザホップ、キザロホップ、キザロホップテフリル、キザロホップエチル、キザロホップＰ、キザロホップＰテフリル、キザロホップＰエチル、アロキシジム、ブトロキシジム、クレトジム、シクロキシジム、プロホキシジム、セトキシジム、テプラロキシジム、トラルコキシジム、及びピノキサデン、並びにこれらの農業上許容される塩又は誘導体からなる群であり、より好ましくは、フェノキサプロップエチル、フェノキサプロップＰエチル、フルアジホップブチル、フルアジホップＰブチル、キザロホップエチル、キザロホップＰエチル、クレトジム、及びセトキシジム、並びにこれらの農業上許容される塩又は誘導体からなる群である。

　Ｂ－３は、好ましくは、アザフェニジン、ベンズフェンジゾン、オキサジアゾン、オキサジアルギル、カルフェントラゾン、カルフェントラゾンエチル、サフルフェナシル、シニドン、シニドンエチル、スルフェントラゾン、ピラクロニル、シクロピラニル、ピラフルフェン、ピラフルフェンエチル、ブタフェナシル、フルアゾレート、フルチアセット、フルチアセットメチル、フルフェンピル、フルフェンピルエチル、フルミクロラック、フルミクロラックペンチル、フルミオキサジン、ペントキサゾン、オキシフルオルフェン、アシフルオルフェン、アシフルオルフェンナトリウム塩、クロメトキシニル、クロロニトロフェン、ニトロフェン、ビフェノックス、クロメトキシフェン、エトキシフェンチル、フルオログリコフェン、フルオログリコフェンエチル、ホメサフェン、ホメサフェンナトリウム、ハロサフェン、ラクトフェン、チアフェナシル、トリフルジモキサジン、チジアジミン、プロフルアゾール、及びエピリフェナシル、並びにこれらの農業上許容される塩又は誘導体からなる群であり、より好ましくは、カルフェントラゾンエチル、サフルフェナシル、スルフェントラゾン、ピラフルフェンエチル、フルチアセットメチル、フルフェンピルエチル、フルミクロラックペンチル、フルミオキサジン、オキシフルオルフェン、アシフルオルフェンナトリウム塩、ホメサフェンナトリウム、ラクトフェン、チアフェナシル、トリフルジモキサジン、及びエピリフェナシル、並びにこれらの農業上許容される塩又は誘導体からなる群である。

　Ｂ－４は、好ましくは、ベンゾビシクロン、ビシクロピロン、メソトリオン、スルコトリオン、テフリルトリオン、テンボトリオン、イソキサクロルトール、イソキサフルトール、ベンゾフェナップ、ピラスルホトール、ピラゾリネート、ピラゾキシフェン、フェンキノトリオン、トプラメゾン、トルピラレート、ランコトリオン、ランコトリオンナトリウム塩、２－メチル－Ｎ－（５－メチル－１，３，４－オキサジアゾール－２－イル）－３－（メタンスルホニル）－４－（トリフルオロメチル）ベンズアミド（ＣＡＳ登録番号：１４００９０４－５０－８）、２－クロロ－Ｎ－（１－メチル－１Ｈ－テトラゾール－５－イル）－３－（メチルチオ）－４－（トリフルオロメチル）ベンズアミド（ＣＡＳ登録番号：１３６１１３９－７１－０）、４－（４－フルオロフェニル）－６－［（２－ヒドロキシ－６－オキソ－１－シクロヘキセン－１－イル）カルボニル］－２－メチル－１，２，４－トリアジン－３，５（２Ｈ，４Ｈ）－ジオン（ＣＡＳ登録番号：１３５３８７０－３４－４）、及び３－［（イソプロピルスルホニル）メチル］－Ｎ－（５－メチル－１，３，４－オキサジアゾール－２－イル）－５－（トリフルオロメチル）－１，２，４－トリアゾロ［４，３－ａ］ピリジン－８－カルボキサミド（ＣＡＳ登録番号：１９９４３４８－７２－９）、並びにこれらの農業上許容される塩又は誘導体からなる群であり、より好ましくは、ビシクロピロン、メソトリオン、テンボトリオン、イソキサフルトール、フェンキノトリオン、トプラメゾン、トルピラレート、ランコトリオンナトリウム塩、２－メチル－Ｎ－（５－メチル－１，３，４－オキサジアゾール－２－イル）－３－（メタンスルホニル）－４－（トリフルオロメチル）ベンズアミド（ＣＡＳ登録番号：１４００９０４－５０－８）、２－クロロ－Ｎ－（１－メチル－１Ｈ－テトラゾール－５－イル）－３－（メチルチオ）－４－（トリフルオロメチル）ベンズアミド（ＣＡＳ登録番号：１３６１１３９－７１－０）、及び４－（４－フルオロフェニル）－６－［（２－ヒドロキシ－６－オキソ－１－シクロヘキセン－１－イル）カルボニル］－２－メチル－１，２，４－トリアジン－３，５（２Ｈ，４Ｈ）－ジオン（ＣＡＳ登録番号：１３５３８７０－３４－４）、並びにこれらの農業上許容される塩又は誘導体からなる群である。

　Ｂ－５は、好ましくは、ジフルフェニカン、ピコリナフェン、ベフルブタミド、ノルフルラゾン、フルリドン、フルロクロリドン、及びフルルタモン、並びにこれらの農業上許容される塩又は誘導体からなる群であり、より好ましくは、ノルフルラゾン及びフルリドン、並びにこれらの農業上許容される塩又は誘導体からなる群である。

　Ｂ－６は、好ましくは、アイオキシニル、アイオキシニルオクタノエート、ベンタゾン、ピリダフォル、ピリデート、ブロモフェノキシム、ブロモキシニル、ブロモキシニルオクタノエート、クロルブロムロン、クロロトルロン、クロロクスロン、ジメフロン、ジウロン、エチジムロン、フェニュロン、リニュロン、フルオメツロン、イソプロツロン、イソウロン、テブチウロン、アズロン、メタベンズチアズロン、ネブロン、ペンタノクロール、プロパニル、メトブロムロン、メトキスロン、モノリニュロン、シデゥロン、シマジン、アトラジン、デスメトリン、プロパジン、シアナジン、アメトリン、シメトリン、ジメタメトリン、プロメトン、プロメトリン、テルブメトン、テルブチラジン、テルブトリン、トリエタジン、ヘキサジノン、メタミトロン、メトリブジン、アミカルバゾン、ブロマシル、レナシル、ターバシル、クロリダゾン、デスメジファム、及びフェンメディファム、並びにこれらの農業上許容される塩又は誘導体からなる群であり、より好ましくは、ベンタゾン、ブロモキシニルオクタノエート、ジウロン、リニュロン、フルオメツロン、シマジン、アトラジン、アメトリン、プロメトリン、及びメトリブジン、並びにこれらの農業上許容される塩又は誘導体からなる群である。

　Ｂ－７は、好ましくは、プロパクロール、メタザクロール、アラクロール、アセトクロール、アリドクロール、ジメタクロール、メトラクロール、Ｓ－メトラクロール、ブタクロール、プレチラクロール、プロピソクロール、テニルクロール、インダノファン、カフェンストロール、フェントラザミド、ジフェナミド、ジメテナミド、ジメテナミドＰ、ジメピペレート、メフェナセット、ピロキサスルホン、フェノキサスルホン、ナプロアニリド、ナプロパミド、ナプロパミドＭ、ペトキサミド、アニロホス、ピペロホス、フルフェナセット、ジメスルファゼット、及びイプフェンカルバゾン、並びにこれらの農業上許容される塩又は誘導体からなる群であり、より好ましくは、アラクロール、アセトクロール、メトラクロール、Ｓメトラクロール、ジメテナミド、ジメテナミドＰ、ピロキサスルホン、及びフルフェナセット、並びにこれらの農業上許容される塩又は誘導体からなる群である。

　Ｂ－８は、好ましくは、トリフルラリン、ペンディメタリン、エタルフルラリン、ベンフルラリン、オリザリン、プロジアミン、ブタミホス、ジチオピル、チアゾピル、アミプロホスメチル、カルベタミド、クロルタールジメチル、ブトルアリン、ジニトラミン、プロファム、プロピザミド、及びテブタム、並びにこれらの農業上許容される塩又は誘導体からなる群であり、より好ましくは、トリフルラリン、ペンディメタリン、及びエタルフルラリン、並びにこれらの農業上許容される塩又は誘導体からなる群である。

　Ｂ－９は、好ましくは、２，３，６－ＴＢＡ及びその塩又はエステル（ジメチルアンモニウム、リチウム塩、カリウム塩、ナトリウム塩）、２，４－Ｄ及びその塩又はエステル（コリン塩、テトラブチルアンモニウム塩、ビプロアミン、ドボキシル、２－エチルヘキシル、３－ブトキシプロピル、アンモニウム、ブトチル、ブチル、ジエチルアンモニウム、ジメチルアンモニウム、ジオールアミン塩、ドデシルアンモニウム、エチル、ヘプチルアンモニウム、イソブチル、イソオクチル、イソプロピル、イソプロピルアンモニウム、リチウム塩、メプチル、メチル、オクチル、ペンチル、プロピル、ナトリウム塩、テフリル、テトラデシルアンモニウム、トリエチルアンモニウム、トリス（２－ヒドロキシプロピル）アンモニウム、及びトロールアミン塩）、２，４－ＤＢ及びその塩又はエステル（コリン塩、ビプロアミン、ブチル、ジメチルアンモニウム、イソオクチル、カリウム塩、及びナトリウム塩）、ＭＣＰＡ及びその塩又はエステル（コリン塩、ビプロアミン、エテキシル、ブトチル、ブチル、ジメチルアンモニウム、ジオールアミン塩、エチル、イソブチル、イソオクチル、イソプロピル、メチル、オールアミン塩、ナトリウム塩、及びトロールアミン塩）、ＭＣＰＢ及びその塩又はエステル（コリン塩、ビプロアミン、エチル、メチル、及びナトリウム塩）、メコプロップ及びその塩又はエステル（コリン塩、ビプロアミン、２－エチルヘキシル、ジメチルアンモニウム、ジオールアミン塩、エタジル、イソオクチル、メチル、カリウム塩、ナトリウム塩、及びトロールアミン塩）、メコプロップＰ及びその塩又はエステル（コリン塩、２－エチルヘキシル、ジメチルアンモニウム、イソブチル、及びカリウム塩及び）、ジクロルプロップ及びその塩又はエステル（コリン塩、ビプロアミン、エテキシル、ブトチル、ジメチルアンモニウム、エチルアンモニウム、イソクチル、メチル、カリウム塩、及びナトリウム塩）、ジクロルプロップＰ及びその塩又はエステル（コリン塩、ビプロアミン、エテキシル、及びジメチルアンモニウム）、ジカンバ及びその塩又はエステル（コリン塩、ビプロアミン、トロールアミン塩、ジグリコールアミン塩、ジメチルアンモニウム、ジオールアミン塩、イソプロピルアンモニウム、メチル、オールアミン塩、カリウム塩、ナトリウム塩、及びテトラブチルアンモニウム塩）、トリクロピル及びその塩又はエステル（ブトチル、エチル、及びトリエチルアンモニウム）、フルロキシピル及びその塩又はエステル（メプチル、及びブトメチル）、ピクロラム及びその塩（カリウム塩、トリス（２－ヒドロキシプロピル）アンモニウム塩、及びコリン塩）、キンクロラック、キンメラック、アミノピラリド及びその塩（コリン塩、カリウム塩、及びトリプロミン）、クロピラリド及びその塩（コリン塩、メチル、オールアミン塩、カリウム塩、トリス（２－ヒドロキシプロピル）アンモニウム、及びトリエチルアンモニウム塩）、クロメプロップ、アミノシクロピラクロール及びその塩（メチル、カリウム塩）、ハラウキシフェン、ハラウキシフェンメチル、フロルピラウキシフェン、フロルピラウキシフェンベンジル、ベナゾリンエチル、クロランベン、４－アミノ－３－クロロ－５－フルオロ－６－（７－フルオロ－１Ｈ－インドール－６－イル）ピリジン－２－カルボン酸、及び４－アミノ－３－クロロ－５－フルオロ－６－（７－フルオロ－１Ｈ－インドール－６－イル）ピリジン－２－カルボン酸シアノメチルエステル、並びにこれらの農業上許容される塩又は誘導体からなる群であり、より好ましくは、２，４－Ｄ、２，４－Ｄコリン塩、２，４－ＤＢ、ジカンバ、ジカンバビプロアミン、ジカンバジグリコールアミン塩、フルロキシピル、フルロキシピルメプチル、クロピラリドオールアミン塩、クロピラリドカリウム塩、クロピラリドトリエチルアンモニウム塩、ハラウキシフェン、ハラウキシフェンメチル、フロルピラウキシフェン、及びフロルピラウキシフェンベンジル、並びにこれらの農業上許容される塩又は誘導体からなる群である。

　Ｂ－１０は、好ましくは、グリホサート、グリホサートコリン塩、グリホサートイソプロピルアンモニウム、グリホサートビプロアミン、グリホサートトリメシウム、グリホサートアンモニウム塩、グリホサートジアンモニウム塩、グリホサートジメチルアンモニウム塩、グリホサートモノエタノールアミン塩、グリホサートナトリウム塩、グリホサートカリウム塩、及びグリホサートグアニジン塩、並びにこれらの農業上許容される塩又は誘導体からなる群であり、より好ましくは、グリホサート、グリホサートイソプロピルアンモニウム、グリホサートアンモニウム塩、グリホサートジメチルアミン塩、グリホサートモノエタノールアミン塩、グリホサートカリウム塩、及びグリホサートグアニジン塩、並びにこれらの農業上許容される塩又は誘導体からなる群である。

　Ｂ－１１は、好ましくは、グルホシネート、グルホシネートアンモニウム塩、グルホシネートＰ、グルホシネートＰナトリウム塩、グルホシネートＰアンモニウム塩、及びビアラホス、並びにこれらの農業上許容される塩又は誘導体からなる群であり、より好ましくは、グルホシネート、グルホシネートアンモニウム塩、グルホシネートＰ、及びグルホシネートＰナトリウム塩、並びにこれらの農業上許容される塩又は誘導体からなる群である。

　Ｂ－１２は、好ましくは、アクロニフェン、イソキサベン、ジクロベニル、タクストミンＡ、メチオゾリン、ジアレート、ブチレート、トリアレート、クロルプロファム、アシュラム、フェニソファム、ベンチオカーブ、モリネート、エスプロカルブ、ピリブチカルブ、プロスルホカルブ、オルベンカルブ、ＥＰＴＣ、ジメピペレート、スエップ、ジフェノクスロン、メチルダイムロン、ブロモブチド、ダイムロン、クミルロン、ジフルフェンゾピル、ジフルフェンゾピルナトリウム塩、ナプタラム、エトベンザニド、トリジファン、アミトロール、クロマゾン、ビクスロゾン、マレイン酸ヒドラジド、オキサジクロメホン、シンメチリン、ベンフレセート、ＡＣＮ、ダラポン、クロルチアミド、フルポキサム、ベンスリド、パラコート、パラコートジクロリド、ジクワット、ジクワットジブロミド、ＭＳＭＡ、インダジフラム、トリアジフラム、テトフルピロリメット、ジノセブ、ジノテルブ、ＤＮＯＣ、シクロエート、エトフメセート、フルプロパネート、ペブレート、ＴＣＡ、ＴＣＡアンモニウム、ＴＣＡカルシウム、ＴＣＡエタジル、ＴＣＡマグネシウム、ＴＣＡナトリウム、チオカルバジル、バーナレート、シクロピリモレート、ダゾメット、ジフェンゾコート、ジフェンゾコートメチルスルファート、ＤＳＭＡ、フランプロップＭ、フルレノール、ホサミン、メタム、オレイン酸、ペラルゴン酸、（２Ｒ，４Ｒ）－４－（｛［（５Ｓ）－３－（３，５－ジフルオロフェニル）－５－ビニル－４，５－ジヒドロイソオキサゾール－５－イル］カルボニル｝アミノ）テトラヒドロフラン－２－カルボン酸メチルエステル、（２Ｓ，４Ｓ）－４－（｛［（５Ｒ）－３－（３，５－ジフルオロフェニル）－５－ビニル－４，５－ジヒドロイソオキサゾール－５－イル］カルボニル｝アミノ）テトラヒドロフラン－２－カルボン酸メチルエステル、イカフォリンメチル（ＣＡＳ登録番号：２７４９９９８－２１－６）、１－｛２－クロロ－６－［（５－クロロピリミジン－２－イル）オキシ］フェニル｝－４，４，４－トリフルオロブタン－１－オン（ＣＡＳ登録番号：２０５２２９７－９７－７）、及びリミソキサフェン（ＣＡＳ登録番号：１８０１８６２－０２－１）、並びにこれらの農業上許容される塩又は誘導体からなる群であり、より好ましくは、ＥＰＴＣ、ジフルフェンゾピル、ジフルフェンゾピルナトリウム塩、クロマゾン、ビクスロゾン、シンメチリン、ＭＳＭＡ、パラコート、パラコートジクロリド、ジクワット、ジクワットジブロミド、テトフルピロリメット、及びリミソキサフェン、並びにこれらの農業上許容される塩又は誘導体からなる群である。

　本発明組成物は、薬害軽減剤Ｃ群より選ばれる１以上の化合物（化合物（Ｃ））をさらに含有することができる。

　薬害軽減剤Ｃ群は、好ましくは、アリドクロール、ベノキサコール、クロキントセット、クロキントセットメキシル、シオメトリニル、シプロスルファミド、ジクロルミド、ジシクロノン、ジエトレート、ジメピペラート、ジスルホトン、ダイムロン、フェンクロラゾール、フェンクロラゾールエチル、フェンクロリム、フルラゾール、フルキソフェニム、フリラゾール、ヘキシム、イソキサジフェン、イソキサジフェンエチル、メコプロップ、メフェンピル、メフェンピルエチル、メフェンピルジエチル、メフェナート、メトカミフェン、オキサベトリニル、１，８－ナフタル酸無水物、１，８－オクタメチレンジアミン、ＡＤ－６７（4-(dichloroacetyl)-1-oxa-4-azaspiro [4.5] decane）、Ｒ－２９１４８（3-(dichloroacetyl)-2,2,5-trimethyl-1,3-oxazolidine）、ＣＬ－３０４４１５（4-carboxy-3,4-dihydro-2H-1-benzopyran-4-acetic acid）、ＣＳＢ（1-bromo-4-[(chloromethyl)sulfonyl]benzene）、ＤＫＡ－２４（2,2-dichloro-N-[2-oxo-2-(2-propenylamino)ethyl]-N-(2-propenyl)acetamide）、ＭＧ１９１（2-(dichloromethyl)-2-methyl-1,3-dioxolane）、ＭＧ－８３８（2-propenyl 1-oxa-4-azaspiro[4.5]decane-4-carbodithioate）、ＰＰＧ－１２９２（2,2-dichloro-N-(1,3-dioxan-2-ylmethyl)-N-(2-propenyl)acetamide）、Ｒ－２８７２５（3-(dichloroacetyl)-2,2-dimethyl-1,3-oxazolidine）、ＴＩ－３５（1-(dichloroacetyl)azepane）、及びＮ－（２－メトキシベンゾイル）－４－［（メチルアミノカルボニル）アミノ］ベンゼンスルホン－アミド、並びにこれらの農業上許容される塩又は誘導体からなる群であり、より好ましくは、ベノキサコール、シプロスルファミド、及びイソキサジフェンエチル、並びにこれらの農業上許容される塩又は誘導体からなる群である。

　本発明組成物は、担体をさらに含有することができる。例えば、本発明組成物は、化合物（Ｉ）と化合物（Ｂ）と任意で用いられる化合物（Ｃ）とが、固体担体及び液体担体等の担体と混合され、必要に応じて界面活性剤等の製剤用補助剤が添加されて調製された製剤である。かかる製剤の好ましい剤型は、水性懸濁製剤（suspension concentrate）、油系懸濁製剤（oil dispersion）、水和剤（wettable powder）、顆粒水和剤（water dispersible granule）、粒剤（granule）、水系エマルション（emulsion, oil-in-water）、油系エマルション（emulsion, water-in-oil）及び乳剤（emulsifiable concentrate）である。本発明組成物は、他の除草剤を有効成分とする製剤と混用してもよい。また、本発明組成物は、有効成分として化合物（Ｉ）を単独で含有する製剤と、有効成分として化合物（Ｂ）及び任意で用いられる化合物（Ｃ）を含有する製剤との組合せであってもよい。

　本発明組成物における化合物（Ｉ）、化合物（Ｂ）及び化合物（Ｃ）の合計含有量は、通常０．０１～９０重量％、好ましくは１～８０重量％の範囲である。

　以下、化合物（Ｂ）が塩である場合（例えばグリホサートカリウム塩）、その重量は酸当量で表す。本発明組成物における化合物（Ｉ）と化合物（Ｂ）（化合物（Ｃ）を含有する場合には化合物（Ｂ）及び化合物（Ｃ）の合計）との混合割合は、通常、重量比で１：１０＾１５～１０＾１５：１の範囲である。

　本発明方法における化合物（Ｉ）と化合物（Ｂ）（化合物（Ｃ）を含有する場合には化合物（Ｂ）及び化合物（Ｃ）の合計）との処理量の割合は、通常、重量比で１：１０＾１５～１０＾１５：１の範囲である。

　本発明組成物及び本発明方法における化合物（Ｉ）と化合物（Ｂ）（化合物（Ｃ）を含有する場合には化合物（Ｂ）及び化合物（Ｃ）の合計）との混合割合又は処理量の割合の好ましい例としては、重量比でおよそ１：１０＾１５、１：１０＾１４、１：１０＾１３、１：１０＾１２、１：１０＾１１、１：１０＾１０、１：１０＾９、１：１０＾８、１：１０＾７、１：１０＾６、１：１０＾５、１：１００００、１：９０００、１：８０００、１：７０００、１：６０００、１：５０００、１：４０００、１：３０００、１：２０００、１：１０００、１：９００、１：８００、１：７００、１：６００、１：５００、１：４００、１：３５０、１：３００、１：２５０、１：２００、１：１５０、１：１００、１：９０、１：８０、１：７０、１：６０、１：５０、１：４０、１：３０、１：２０、１：１９、１：１８、１：１７、１：１６、１：１５、１：１４、１：１３、１：１２、１：１１、１：１０、１：９、１：８、１：７、１：６、１：５、２：９、１：４、２：７、３：１０、１：３、３：８、２：５、３：７、４：９、１：２、５：９、４：７、３：５、２：３、５：７、３：４、７：９、４：５、５：６、６：７、７：８、８：９、１：１、９：８、８：７、７：６、６：５、５：４、９：７、４：３、７：５、３：２、５：３、７：４、９：５、２：１、９：４、７：３、５：２、８：３、３：１、１０：３、７：２、４：１、９：２、５：１、６：１、７：１、８：１、９：１、１０：１、１１：１、１２：１、１３：１、１４：１、１５：１、１６：１、１７：１、１８：１、１９：１、２０：１、３０：１、４０：１、５０：１、６０：１、７０：１、８０：１、９０：１、１００：１、１５０：１、２００：１、２５０：１、３００：１、４００：１、５００：１、６００：１、７００：１、８００：１、９００：１、１０００：１、２０００：１、３０００：１、４０００：１、５０００：１、６０００：１、７０００：１、８０００：１、９０００：１、１００００：１、１０＾５：１、１０＾６：１、１０＾７：１、１０＾８：１、１０＾９：１、１０＾１０：１、１０＾１１：１、１０＾１２：１、１０＾１３：１、１０＾１４：１及び１０＾１５：１が挙げられる。

　本明細書におけるおよそとは、指定した比率に対し重量比で１０％増減した比率の範囲を含む。例えば、およそ１：２であれば、１：１．８～１：２．２の範囲を含む。

　本発明組成物及び本発明方法における化合物（Ｉ）と化合物（Ｂ）との特に好ましい組合せと重量比の範囲の例を以下に挙げるが、これらに限定されるものではない。

　化合物（Ｉ）及びピリチオバックの組合せ　（１：０．１～１：２０）
　化合物（Ｉ）及びピリチオバックナトリウム塩の組合せ　（１：０．１～１：２０）
　化合物（Ｉ）及びクロリムロンエチルの組合せ　（１：０．１～１：２０）
　化合物（Ｉ）及びホラムスルフロンの組合せ　（１：０．１～１：２０）
　化合物（Ｉ）及びハロスルフロンメチルの組合せ　（１：０．１～１：２０）
　化合物（Ｉ）及びニコスルフロンの組合せ　（１：０．１～１：２０）
　化合物（Ｉ）及びプリミスルフロンメチルの組合せ　（１：０．１～１：２０）
　化合物（Ｉ）及びリムスルフロンの組合せ　（１：０．１～１：２０）
　化合物（Ｉ）及びトリフロキシスルフロンナトリウム塩の組合せ　（１：０．１～１：２０）
　化合物（Ｉ）及びクロルスルフロンの組合せ　（１：０．１～１：２０）
　化合物（Ｉ）及びヨードスルフロンメチルナトリウムの組合せ　（１：０．１～１：２０）
　化合物（Ｉ）及びイオフェンスルフロンナトリウムの組合せ　（１：０．１～１：２０）
　化合物（Ｉ）及びメソスルフロンメチルの組合せ　（１：０．１～１：２０）
　化合物（Ｉ）及びプロスルフロンの組合せ　（１：０．１～１：２０）
　化合物（Ｉ）及びチフェンスルフロンメチルの組合せ　（１：０．１～１：２０）
　化合物（Ｉ）及びトリベヌロンメチルの組合せ　（１：０．１～１：２０）
　化合物（Ｉ）及びチエンカルバゾンメチルの組合せ　（１：０．１～１：２０）
　化合物（Ｉ）及びクロランスラムメチルの組合せ　（１：０．１～１：２０）
　化合物（Ｉ）及びフルメツラムの組合せ　（１：０．１～１：２０）
　化合物（Ｉ）及びイマザメタベンズメチルの組合せ　（１：０．１～１：２０）
　化合物（Ｉ）及びイマザモックスアンモニウム塩の組合せ　（１：０．１～１：２０）
　化合物（Ｉ）及びイマザピックアンモニウム塩の組合せ　（１：０．１～１：２０）
　化合物（Ｉ）及びイマザピルイソプロピルアンモニウム塩の組合せ　（１：０．１～１：２０）
　化合物（Ｉ）及びイマザキンアンモニウム塩の組合せ　（１：０．１～１：２０）
　化合物（Ｉ）及びイマゼタピルアンモニウム塩の組合せ　（１：０．１～１：２０）

　化合物（Ｉ）及びフェノキサプロップエチルの組合せ　（１：０．１～１：２０）
　化合物（Ｉ）及びフェノキサプロップＰエチルの組合せ　（１：０．１～１：２０）
　化合物（Ｉ）及びフルアジホップブチルの組合せ　（１：０．１～１：２０）
　化合物（Ｉ）及びフルアジホップＰブチルの組合せ　（１：０．１～１：２０）
　化合物（Ｉ）及びキザロホップエチルの組合せ　（１：０．１～１：２０）
　化合物（Ｉ）及びキザロホップＰエチルの組合せ　（１：０．１～１：２０）
　化合物（Ｉ）及びクレトジムの組合せ　（１：０．１～１：２０）
　化合物（Ｉ）及びセトキシジムの組合せ　（１：０．１～１：２０）

　化合物（Ｉ）及びカルフェントラゾンエチルの組合せ　（１：０．１～１：２０）
　化合物（Ｉ）及びサフルフェナシルの組合せ　（１：０．１～１：２０）
　化合物（Ｉ）及びスルフェントラゾンの組合せ　（１：０．１～１：３０）
　化合物（Ｉ）及びピラフルフェンエチルの組合せ　（１：０．１～１：３０）
　化合物（Ｉ）及びフルチアセットメチルの組合せ　（１：０．１～１：２０）
　化合物（Ｉ）及びフルフェンピルエチルの組合せ　（１：０．１～１：２０）
　化合物（Ｉ）及びフルミクロラックペンチルの組合せ　（１：０．１～１：２０）
　化合物（Ｉ）及びフルミオキサジンの組合せ　（１：０．１～１：２０）
　化合物（Ｉ）及びオキシフルオルフェンの組合せ　（１：０．１～１：３０）
　化合物（Ｉ）及びアシフルオルフェンナトリウム塩の組合せ　（１：０．１～１：３０）
　化合物（Ｉ）及びホメサフェンナトリウムの組合せ　（１：０．１～１：３０）
　化合物（Ｉ）及びラクトフェンの組合せ　（１：０．１～１：３０）
　化合物（Ｉ）及びチアフェナシルの組合せ　（１：０．１～１：２０）
　化合物（Ｉ）及びトリフルジモキサジンの組合せ　（１：０．１～１：２０）
　化合物（Ｉ）及びエピリフェナシルの組合せ　（１：０．１～１：２０）

　化合物（Ｉ）及びビシクロピロンの組合せ　（１：０．１～１：２０）
　化合物（Ｉ）及びメソトリオンの組合せ　（１：０．１～１：２０）
　化合物（Ｉ）及びテンボトリオンの組合せ　（１：０．１～１：２０）
　化合物（Ｉ）及びイソキサフルトールの組合せ　（１：０．１～１：２０）
　化合物（Ｉ）及びフェンキノトリオン組合せ　（１：０．１～１：２０）
　化合物（Ｉ）及びトプラメゾンの組合せ　（１：０．１～１：２０）
　化合物（Ｉ）及びトルピラレートの組合せ　（１：０．１～１：２０）
　化合物（Ｉ）及びランコトリオンナトリウム塩の組合せ　（１：０．１～１：２０）
　化合物（Ｉ）及び２－メチル－Ｎ－（５－メチル－１，３，４－オキサジアゾール－２－イル）－３－（メタンスルホニル）－４－（トリフルオロメチル）ベンズアミド（ＣＡＳ登録番号：１４００９０４－５０－８）の組合せ　（１：０．１～１：２０）
　化合物（Ｉ）及び２－クロロ－Ｎ－（１－メチル－１Ｈ－テトラゾール－５－イル）－３－（メチルチオ）－４－（トリフルオロメチル）ベンズアミド（ＣＡＳ登録番号：１３６１１３９－７１－０）の組合せ　（１：０．１～１：２０）
　化合物（Ｉ）及び４－（４－フルオロフェニル）－６－［（２－ヒドロキシ－６－オキソ－１－シクロヘキセン－１－イル）カルボニル］－２－メチル－１，２，４－トリアジン－３，５（２Ｈ，４Ｈ）－ジオン（ＣＡＳ登録番号：１３５３８７０－３４－４）の組合せ　（１：０．１～１：２０）

　化合物（Ｉ）及びノルフルラゾンの組合せ　（１：０．１～１：２０）
　化合物（Ｉ）及びフルリドンの組合せ　（１：０．１～１：２０）

　化合物（Ｉ）及びベンタゾンの組合せ　（１：１～１：５０）
　化合物（Ｉ）及びブロモキシニルオクタノエートの組合せ　（１：１～１：５０）
　化合物（Ｉ）及びジウロンの組合せ　（１：１～１：５０）
　化合物（Ｉ）及びリニュロンの組合せ　（１：１～１：５０）
　化合物（Ｉ）及びフルオメツロンの組合せ　（１：１～１：５０）
　化合物（Ｉ）及びシマジンの組合せ　（１：１～１：５０）
　化合物（Ｉ）及びアトラジンの組合せ　（１：１～１：５０）
　化合物（Ｉ）及びアメトリンの組合せ　（１：１～１：５０）
　化合物（Ｉ）及びプロメトリンの組合せ　（１：１～１：５０）
　化合物（Ｉ）及びメトリブジンの組合せ　（１：１～１：５０）

　化合物（Ｉ）及びアラクロールの組合せ　（１：１～１：５０）
　化合物（Ｉ）及びアセトクロールの組合せ　（１：１～１：５０）
　化合物（Ｉ）及びメトラクロールの組合せ　（１：１～１：５０）
　化合物（Ｉ）及びＳメトラクロールの組合せ　（１：１～１：５０）
　化合物（Ｉ）及びジメテナミドの組合せ　（１：１～１：５０）
　化合物（Ｉ）及びジメテナミドＰの組合せ　（１：１～１：５０）
　化合物（Ｉ）及びピロキサスルホンの組合せ　（１：０．１～１：２０）
　化合物（Ｉ）及びフルフェナセットの組合せ　（１：０．１～１：２０）

　化合物（Ｉ）及びトリフルラリンの組合せ　（１：１～１：５０）
　化合物（Ｉ）及びペンディメタリンの組合せ　（１：１～１：５０）
　化合物（Ｉ）及びエタルフルラリンの組合せ　（１：１～１：５０）

　化合物（Ｉ）及び２，４－Ｄジメチルアミン塩の組合せ　（１：１～１：５０）
　化合物（Ｉ）及び２，４－Ｄコリン塩の組合せ　（１：１～１：５０）
　化合物（Ｉ）及び２，４－Ｄ　２－エチルヘキシルの組合せ　（１：１～１：５０）
　化合物（Ｉ）及びジカンバの組合せ　（１：１～１：５０）
　化合物（Ｉ）及びジカンバビプロアミンの組合せ　（１：１～１：５０）
　化合物（Ｉ）及びジカンバジグリコールアミン塩　（１：１～１：５０）
　化合物（Ｉ）及びフルロキシピルの組合せ　（１：１～１：５０）
　化合物（Ｉ）及びフルロキシピルメプチルの組合せ　（１：１～１：５０）
　化合物（Ｉ）及びクロピラリドオールアミン塩の組合せ　（１：１～１：５０）
　化合物（Ｉ）及びクロピラリドカリウム塩の組合せ　（１：１～１：５０）
　化合物（Ｉ）及びクロピラリドトリエチルアンモニウム塩の組合せ　（１：１～１：５０）
　化合物（Ｉ）及びハラウキシフェンの組合せ　（１：０．１～１：２０）
　化合物（Ｉ）及びハラウキシフェンメチルの組合せ　（１：０．１～１：２０）
　化合物（Ｉ）及びフロルピラウキシフェンの組合せ　（１：０．１～１：２０）
　化合物（Ｉ）及びフロルピラウキシフェンベンジルの組合せ　（１：０．１～１：２０）

　化合物（Ｉ）及びグリホサートの組合せ　（１：１～１：５０）
　化合物（Ｉ）及びグリホサートイソプロピルアンモニウムの組合せ　（１：１～１：５０）
　化合物（Ｉ）及びグリホサートアンモニウム塩の組合せ　（１：１～１：５０）
　化合物（Ｉ）及びグリホサートジメチルアミン塩の組合せ　（１：１～１：５０）
　化合物（Ｉ）及びグリホサートモノエタノールアミン塩の組合せ　（１：１～１：５０）
　化合物（Ｉ）及びグリホサートカリウム塩の組合せ　（１：１～１：５０）
　化合物（Ｉ）及びグリホサートグアニジン塩の組合せ　（１：１～１：５０）

　化合物（Ｉ）及びグルホシネートの組合せ　（１：１～１：５０）
　化合物（Ｉ）及びグルホシネートアンモニウム塩の組合せ　（１：１～１：５０）
　化合物（Ｉ）及びグルホシネートＰの組合せ　（１：１～１：５０）
　化合物（Ｉ）及びグルホシネートＰナトリウム塩の組合せ　（１：１～１：５０）

　化合物（Ｉ）及びＥＰＴＣの組合せ　（１：１～１：５０）
　化合物（Ｉ）及びジフルフェンゾピルの組合せ　（１：１～１：５０）
　化合物（Ｉ）及びジフルフェンゾピルナトリウム塩の組合せ　（１：１～１：５０）
　化合物（Ｉ）及びクロマゾンの組合せ　（１：１～１：５０）
　化合物（Ｉ）及びビクスロゾンの組合せ　（１：１～１：５０）
　化合物（Ｉ）及びテトフルピロリメットの組合せ　（１：１～１：５０）
　化合物（Ｉ）及びリミソキサフェンの組合せ　（１：１～１：５０）
　化合物（Ｉ）及びシンメチリンの組合せ　（１：１～１：５０）
　化合物（Ｉ）及びＭＳＭＡの組合せ　（１：１～１：５０）
　化合物（Ｉ）及びパラコートの組合せ　（１：１～１：５０）
　化合物（Ｉ）及びパラコートジクロリドの組合せ　（１：１～１：５０）
　化合物（Ｉ）及びジクワットの組合せ　（１：１～１：５０）
　化合物（Ｉ）及びジクワットジブロミドの組合せ　（１：１～１：５０）

　本発明組成物及び本発明方法における化合物（Ｉ）と化合物（Ｃ）との混合割合又は処理量の割合は、好ましくは、１：０．１～１：２０である。

　本発明組成物は、広範囲の雑草に対し、化合物（Ｉ）と化合物（Ｂ）とを各々単独で用いたときの除草効果から想定されるよりも相乗的な除草効果を発揮し、通常の耕起栽培、不耕起栽培が行われる作物畑、野菜畑、樹園地又は非農耕地において、効果的に広範囲の雑草を防除することができる。

　本発明方法は、広範囲の雑草に対し、化合物（Ｉ）と化合物（Ｂ）とを各々単独で用いたときの除草効果から想定されるよりも相乗的な除草効果を発揮し、通常の耕起栽培、不耕起栽培が行われる作物畑、野菜畑、樹園地又は非農耕地において、効果的に広範囲の雑草を防除することができる。

　殺虫剤化合物、殺線虫剤化合物及び殺菌剤化合物等からなる群より選ばれる１以上の化合物が処理されている作物種子の、播種前に、播種と同時に、及び／又は播種後に、本発明組成物を、又は、化合物（Ｉ）と化合物（Ｂ）と必要に応じて化合物（Ｃ）とを該作物種子を播種した圃場又は播種する予定の圃場に処理してもよい。

　本発明組成物は他の農薬活性化合物と組み合わせて使用してもよい。本発明組成物と組み合わせて使用される殺虫剤化合物、殺線虫剤化合物及び殺菌剤化合物としては、ネオニコチノイド系化合物、ジアミド系化合物、カーバメート系化合物、有機リン系化合物、生物系殺線虫剤化合物、その他の殺虫剤化合物及び殺線虫剤化合物、並びにアゾール系化合物、ストロビルリン系化合物、メタラキシル系化合物、ＳＤＨＩ化合物、その他の殺菌剤化合物及び植物生長調節剤が挙げられる。

　本発明における作物畑としては、ピーナッツ畑、ダイズ（無限伸育型、有限伸育型、半有限伸育型）畑、トウモロコシ（馬歯種、硬粒種、軟粒種、爆裂種、糯種、甘味種、フィールドコーン）畑、コムギ（パンコムギ（硬質、軟質、中質、赤コムギ、白コムギ）、マカロニコムギ、スペルトコムギ、クラブコムギ、それぞれの秋播き型、春播き型）畑、オオムギ（二条オオムギ（＝ビールムギ）、六条オオムギ、ハダカムギ、もち麦、それぞれの秋播き型、春播き型）畑等の食用作物畑、ソルガム畑、エンバク畑等の飼料作物畑、ワタ（アップランド種、ピマ種）畑、ナタネ畑、カノーラ（秋播き型、春播き型）畑等の工芸作物畑、サトウキビ畑、サトウダイコン等の糖料作物畑を挙げることができる。

　本発明における野菜畑としては、ナス科野菜（ナス、トマト、ピーマン、トウガラシ、ジャガイモ等）を栽培する畑、ウリ科野菜（キュウリ、カボチャ、ズッキーニ、スイカ、メロン等）を栽培する畑、アブラナ科野菜（ダイコン、カブ、セイヨウワサビ、コールラビ、ハクサイ、キャベツ、カラシナ、ブロッコリー、カリフラワー等）を栽培する畑、キク科野菜（ゴボウ、シュンギク、アーティチョーク、レタス等）を栽培する畑、ユリ科野菜（ネギ、タマネギ、ニンニク、アスパラガス）を栽培する畑、セリ科野菜（ニンジン、パセリ、セロリ、アメリカボウフウ等）を栽培する畑、アカザ科野菜（ホウレンソウ、フダンソウ等）を栽培する畑、シソ科野菜（シソ、ミント、バジル、ラベンダー）を栽培する畑、イチゴ畑、サツマイモ畑、ヤマノイモ畑、サトイモ畑等を挙げることができる。

　本発明における樹園地としては、果樹園、茶園、桑園、コーヒー園、バナナ園、ヤシ園、花木園、花木畑、苗木畑、養樹場、林地、庭園等を挙げることができる。本発明における果樹としては、仁果類（リンゴ、セイヨウナシ、ニホンナシ、カリン、マルメロ等）、核果類（モモ、スモモ、ネクタリン、ウメ、オウトウ、アンズ、プルーン等）、カンキツ類（ウンシュウミカン、オレンジ、レモン、ライム、グレープフルーツ等）、堅果類（クリ、クルミ、ハシバミ、アーモンド、ピスタチオ、カシューナッツ、マカダミアナッツ等）、液果類（ブドウ、ブルーベリー、クランベリー、ブラックベリー、ラズベリー等）、カキ、オリーブ、ビワ等を挙げることができる。

　本発明における非農耕地としては、運動場、空き地、線路端、公園、駐車場、道路端、河川敷、送電線下、宅地、工場敷地等を挙げることができる。

　本発明における作物畑で栽培される作物は、一般的に作物として栽培される品種であれば限定されない。

　前記した品種の植物とは、自然交配で作出しうる植物、突然変異により発生しうる植物、Ｆ１ハイブリッド植物、トランスジェニック植物（遺伝子組換え植物とも言う）であってもよい。これらの植物は、一般に、除草剤に対する耐性の付与、害虫に対する毒性物質の蓄積、病害に対する感性抑制、収量ポテンシャルの増加、生物的及び非生物的ストレス因子に対する抵抗性の向上、物質の蓄積、保存性や加工性の向上等の特性を有する。

　Ｆ１ハイブリッド植物とは、２つの異なった系統の品種を交配して得られる一代雑種であり、一般に、両親のどちらよりも優れた形質を持つ雑種強勢の特性を有する植物である。トランスジェニック植物とは、微生物等の他の生物から外来遺伝子を導入することにより得られ、自然環境下における交雑育種、突然変異誘発又は自然組換えによっては容易に取得することが出来ないような特性を有する植物である。

　上記の植物を作出するための技術としては、例えば、従来型の品種改良技術；遺伝子組換え技術；ゲノム育種技術；新育種技術（new breeding techniques）；ゲノム編集技術が挙げられる。従来型の品種改良技術とは、すなわち突然変異や交配により望ましい性質を有する植物を得る技術である。遺伝子組換え技術とは、ある生物（例えば、微生物）から目的とする遺伝子（ＤＮＡ）を取り出し、別のターゲット生物のゲノムに導入することで、その生物に新しい性質を付与する技術、及び植物に存在する他の遺伝子をサイレントすることによって、新しい又は改良された特性を付与するアンチセンス技術又はＲＮＡ干渉技術である。ゲノム育種技術とは、ゲノム情報を用いて育種を効率化するための技術であり、ＤＮＡマーカー（ゲノムマーカー又は遺伝子マーカーとも呼ぶ）育種技術及びゲノミックセレクションを含む。例えば、ＤＮＡマーカー育種は、特定の有用形質遺伝子のゲノム上の存在位置の目印となるＤＮＡ配列であるＤＮＡマーカーを用いて、多数の交配後代から目的の有用形質遺伝子を持つ後代を選抜する方法である。交配後代を幼植物の時にＤＮＡマーカーを用いて解析することで、育種に要する時間を効果的に短縮することができる特徴を持つ。
　また、ゲノミックセレクションは、事前に入手した表現型とゲノム情報から予測式を作成し、予測式とゲノム情報から表現型の評価を行わずに特性を予測する手法であり、育種の効率化に寄与しうる技術である。新育種技術（new breeding techniques）とは、分子生物学的な手法を組み合わせた品種改良（育種）技術の総称である。例えば、シスジェネシス／イントラジェネシス、オリゴヌクレオチド指向型突然変異導入、ＲＮＡ依存性ＤＮＡメチル化、ゲノム編集、ＧＭ台木又は穂木への接ぎ木、逆育種、アグロインフィルトレーション、種子生産技術（Seed Production Technology, SPT）などの技術がある。ゲノム編集技術とは、配列特異的に遺伝情報を変換する技術であり、塩基配列の欠失、アミノ酸配列の置換、外来遺伝子の導入等が可能である。例えば、そのツールとして、配列特異的なＤＮＡ切断が可能なジンクフィンガーヌクレアーゼ（Zinc-Finger、ZFN）、ターレン（TALEN）、クリスパー・キャスナイン（CRISPR/Cas9）、クリスパー・シーピーエフ１（CRISPR/Cpf1）、メガヌクレアーゼ（Meganuclease）や、前述のツールを改変して作成されたCAS9ニッカーゼやTarget-AID等の配列特異的なゲノム修飾技術がある。

　前記した植物としては、例えば、国際アグリバイオ事業団（INTERNATINAL SERVICE for the ACQUISITION of AGRI－BIOTECH APPLICATIONS, ISAAA）の電子情報サイト中（http://www.isaaa.org/）の遺伝子組換え作物の登録データベース（GM APPROVAL DATABASE）に収載された植物が挙げられる。より具体的には、除草剤耐性植物、害虫抵抗性植物、病害耐性植物、生産物（例えば、デンプン、アミノ酸、脂肪酸など）の品質（例えば、含有量増減あるいは組成の変化）改変植物、稔性形質改変植物、非生物的ストレス耐性植物、又は、生長や収量に関する形質の改変植物がある。

　遺伝子組換え技術により除草剤耐性を付与された植物には、イソキサフルトール、メソトリオン等の４－ヒドロキシフェニルピルビン酸ジオキシゲナーゼ（以後ＨＰＰＤと略する）阻害剤、イマゼタピルを含むイミダゾリノン系除草剤及びチフェンスルフロンメチルを含むスルホニルウレア系除草剤等のアセト乳酸合成酵素（以後ＡＬＳと略する）阻害剤、グリホサート等の５－エノールピルビルシキミ酸－３－リン酸シンターゼ（以後ＥＰＳＰと略する）阻害剤、グルホシネート等のグルタミン合成酵素阻害剤、２，４－Ｄ、ジカンバ等のオーキシン型除草剤、ブロモキシニルを含むオキシニル系除草剤に対する耐性が遺伝子組換え技術により付与された植物も含まれる。好ましい除草剤耐性トランスジェニック植物は、コムギ、オオムギ、ライムギ、エンバクなどの穀物類、カノーラ、ソルガム、ダイズ、イネ、ナタネ、テンサイ、サトウキビ、グレープ、レンズマネ、ヒマワリ、アルファルファ、仁果類、核果類、コーヒー、チャ、ストロベリー、シバ、トマト、ポテト、キュウリ、レタスなどの野菜類、より好ましくは、コムギ、オオムギ、ライムギ、エンバクなどの穀物類、ダイズ、イネ、Ｖｉｎｅ、トマト、ポテト、仁果類である。

　以下に、具体的な除草剤耐性植物について示す。
　グリホサート除草剤耐性植物；アグロバクテリウム・トメファシエンスＣＰ４株（Agrobacterium tumefaciens strain CP4）由来のグリホサート耐性型EPSPS遺伝子（CP4 epsps）、バチルス・リケニフォミス（Bacillus licheniformis）由来のグリホサート代謝酵素（グリホサートＮ－アセチルトランスフェアーゼ）遺伝子をシャッフリング技術によって代謝活性を強化したグリホサート代謝酵素遺伝子（gat4601、gat4621）、オクロバクテリウムアンスロピＬＢＡＡ株（Ochrobacterum anthropi strain LBAA）由来のグリホサート代謝酵素（グリホサートオキシダーゼ遺伝子、goxv247）、又は、トウモロコシ由来のグリホサート耐性変異を有するＥＰＳＰＳ遺伝子（mepsps、2mepsps）を１つ以上導入することにより得られる。主な植物は、アルファルファ（Medicago sativa）、アルゼンチンカノーラ（Brassica napus）、コットン（Gossypium hirsutum L.）、クリーピングベントグラス（Agrostis stolonifera）、トウモロコシ（Zea mays L.）、ポリッシュカノーラ（Brassica rapa）、ポテト（Solanum tuberosum L.）、ダイズ（Glycine max L.）、テンサイ（Beta vulgaris）、コムギ（Triticum aestivum）が挙げられる。いくつかのグリホサート耐性のトランスジェニック植物は市販されている。例えば、アグロバクテリウム菌由来のグリホサート耐性型ＥＰＳＰＳを発現する遺伝子組換え植物は「Roundup Ready（登録商標）」を含む商標名で、シャッフリング技術によって代謝活性を強化したバチルス菌由来のグリホサート代謝酵素を発現する遺伝子組換え植物は「Optimum（登録商標）GAT（商標）」、「Optimum（登録商標）Gly canola」等の商標名で、トウモロコシ由来のグリホサート耐性変異を有するＥＰＳＰＳを発現する遺伝子組換え植物は「GlyTol（商標）」の商標名で販売されている。

　グリホシネート除草剤耐性植物；ストレプトマイセス・ヒグロスコピクス（Streptomyces hygroscopicus）由来のグルホシネート代謝酵素であるホスフィノスリシン　Ｎ－アセチルトランスフェラーゼ（Phosphinothricin N-acetyltransferase、PAT）遺伝子（bar）、ストレプトマイセス・ビリドクロモゲネス（Streptomyes viridochromogenes）由来のグルホシネート代謝酵素であるホスフィノトリシンＮ－アセチルトランスフェラーゼ（PAT）酵素遺伝子（pat）、又は、ストレプトマイセス・ビリドクロモゲネスＴｕ４９４株（Streptomyes viridochromogenes strain Tu494）由来の合成されたｐａｔ遺伝子（pat syn）を１つ以上導入することにより得られる。主な植物は、アルゼンチンカノーラ（Brassica napus）、チコリ（Cichorium intybus）、コットン（Gossypium hirsutum L.）、トウモロコシ（Zea mays L.）、ポリッシュカノーラ（Brassica rapa）、イネ（Oryza sativa L.）、ダイズ（Glycine max L.）、テンサイ（Beta vulgaris）が挙げられる。いくつかのグルホシネート耐性の遺伝子組換え植物は市販されている。ストレプトマイセス・ヒグロスコピクス由来のグルホシネート代謝酵素（bar）及びストレプトマイセス・ビリドクロモゲネス（Streptomyes viridochromogenes）由来の遺伝子組換え植物は「LibertyLink（商標）」、「InVigor(商標)」、「WideStrike（商標）」を含む商標名で販売されている。

　オキシニル系除草剤（例えばブロモキシニル）耐性植物；クレブシエラ・ニューモニエ亜種オゼネ（Klebsiella pneumoniae subsp． Ozaenae）由来のオキシニル系除草剤（例えばブロモキシニル）代謝酵素であるニトリラーゼ遺伝子（bxn）を導入したオキシニル系除草剤、例えばブロモキシニル耐性のトランスジェニック植物がある。主な植物は、アルゼンチンカノーラ（Brassica napus）、コットン（Gossypium hirsutum L.）、タバコ（Nicotiana tabacum L.）が挙げられ、「Navigator（商標）canola」、又は、「BXN（商標）」を含む商標名で販売されている。

　ＡＬＳ阻害剤耐性植物；選抜マーカーとしてタバコ（Nicotiana tabacum）由来のＡＬＳ阻害剤耐性のＡＬＳ遺伝子（surB）を導入したカーネーション（Dianthus caryophyllus）「Moondust(商標)」、「Moonshadow(商標)」、「Moonshade(商標)」、「Moonlite(商標)」、「Moonaqua(商標)」、「Moonvista(商標)」、「Moonique(商標)」、「Moonpearl(商標)」、「Moonberry(商標)」、「Moonvelvet(商標)」；シロイズナズナ（Arabidopsis thaliana）由来のＡＬＳ阻害剤耐性のＡＬＳ遺伝子（als）を導入したアマ（Linum usitatissumum L.）「CDC Triffid Flax」；トウモロコシ由来のＡＬＳ阻害剤耐性のＡＬＳ遺伝子（zm-hra）を導入したスルホニルウレア系及びイミダゾリノン系除草剤に耐性を有するトウモロコシ（Zea mays L.）「Optimum(商標) GAT(商標)」；シロイヌナズナ由来のＡＬＳ阻害剤耐性型ＡＬＳ遺伝子（csr1-2）を導入したイミダゾリノン系除草剤に耐性を有するダイズ「Cultivance」；ダイズ（Glycine max）由来のＡＬＳ阻害剤耐性型ＡＬＳ遺伝子（gm-hra）を導入したスルホニルウレア系除草剤に耐性を有するダイズ「Treus（商標）」、「Plenish（商標）」及び「Optimum GAT（商標）」の商標名で販売されている。また、タバコ（Nicotiana tabacum cv. Xanthi）由来のＡＬＳ阻害剤耐性のＡＬＳ遺伝子（S4-HrA）を導入したコットンがある。

　ＨＰＰＤ阻害剤耐性植物；エンバク（Avena sativa）由来のメソトリオンに耐性のＨＰＰＤ遺伝子（avhppd-03）及びストレプトマイセス・ビリドクロモゲネス（Streptomyes viridochromogenes）由来のグルホシネート代謝酵素であるホスフィノトリシンＮ－アセチルトランスフェラーゼ（PAT）酵素遺伝子（pat）を共に導入したダイズが「Herbicide-tolerant Soybean line」の商標名で販売されている。

　２，４－Ｄ耐性植物；スフィンゴビウム・ハービシドボランス（Sphingobium herbicidovorans）由来の２，４－Ｄ代謝酵素であるアリルオキシアルカノエートジオキゲナーゼ（aryloxyalkanoate dioxygenase）遺伝子（aad-1）を導入したトウモロコシが、Enlist(商標)Maizeの商標名で販売されている。デルフチア・アシドボランス（Delftia acidovorans）由来の２，４－Ｄ代謝酵素であるアリルオキシアルカノエートジオキゲナーゼ遺伝子（aad-12）を導入したダイズ及びコットンがあり、「Enlist（商標）Soybean」の商標名で販売されている。

　ジカンバ耐性植物；ステノトロホモナス・マルトフィリアＤＩ－６株（Stenotrophomonas maltophilia strain DI-6）由来のジカンバ代謝酵素であるジカンバモノオキシゲナーゼ（Dicamba monooxygenase）遺伝子（dmo）を導入したダイズ、コットンがある。上記遺伝子と同時に、アグロバクテリウム・トメファシエンス菌ＣＰ４株（Agrobacterium tumefaciens strain CP4）由来のグリホサート耐性型ＥＰＳＰＳ遺伝子（CP4 epsps）を導入したダイズ（Glycine max L.）が「Genuity (登録商標)Roundup Ready(商標) 2 Xtend(商標)」として販売されている。

　除草剤耐性が付与された市販されているトランスジェニック植物の例は、グリホサート耐性を有するトウモロコシ「Roundup Ready Corn」、「Roundup Ready 2」、「Agrisure GT」、「Agrisure GT/CB/LL」、「Agrisure GT/RW」、「Agrisure 3000GT」、「YieldGard VT Rootworm/RR2」及び「YieldGard VT Triple」；グリホサート耐性を有するダイズ「Roundup Ready Soybean」及び「Optimum GAT」；グリホサート耐性を有するコットン「Roundup Ready Cootton」、「Roundup Ready Flex」；グリホサート耐性を有するカノーラ「Roundup Ready Canola」；グリホサート耐性を有するアルファルファ「Roundup Ready Alfalfa」、グリホサート耐性を有するイネ「Roundup Ready Rice」；グルホシネート耐性を有するトウモロコシ「Roundup Ready 2」、「Liberty Link」、「Herculex 1」、「Herculex RW」、「Herculex Xtra」、「Agrisure GT/CB/LL」、「Agrisure CB/LL/RW」及び「Bt10」；グルホシネート耐性を有するコットン「FiberMax Liberty Link」；グルホシネート耐性を有するイネ「Liberty Link Rice」；グルホシネート耐性を有するカノーラ「in Vigor」；ブロモキシニル耐性を有するコットン「BXN」；ブロモキシニル耐性を有するカノーラ「Navigator」、「Compass」である。除草剤に関して改変されたさらなる植物が広く知られており、例としてはグリホサート耐性を有するアルファルファ、リンゴ、オオムギ、ユーカリ、アマ、ブドウ、ヒラマメ、ナタネ、エンドウマメ、ジャガイモ、イネ、テンサイ、ヒマワリ、タバコ、トマト、シバクサ及びコムギ（例えば、US5188642、US4940835、US5633435、US5804425、US5627061を参照）；ジカンバ耐性を有するマメ、コットン、ダイズ、エンドウマメ、ジャガイモ、ヒマワリ、トマト、タバコ、トウモロコシ、ソルガム及びサトウキビ（例えば、WO2008051633、US7105724及びUS5670454を参照）；グルホシネート耐性を有するダイズ、テンサイ、ジャガイモ、トマト及びタバコ（例えば、US6376754、US5646024、US5561236を参照）；２，４－Ｄ耐性を有するコットン、ペッパー類、リンゴ、トマト、ヒマワリ、タバコ、ジャガイモ、トウモロコシ、キュウリ、コムギ、ダイズ、ソルガム及び雑穀類（例えば、US6153401, US6100446、WO2005107437、US5608147及び US5670454を参照)；ＡＬＳ阻害剤（例えば、スルホニルウレア系除草剤、及びイミダゾリノン系除草剤）耐性を有するカノーラ、トウモロコシ、ヒエ（millet）、オオムギ、コットン、カラシナ、レタス、レンズマメ、メロン、アワ、オートムギ、ナタ、ジャガイモ、イネ、ライムギ、ソルガム、ダイズ、テンサイ、ヒマワリ、タバコ、トマト及びコムギ（例えば、US5013659、WO2006060634、US4761373、US5304732、US6211438、US6211439及びUS6222100を参照）、特にイミダゾリノン系除草剤に耐性を有するイネが知られており、アセト乳酸合成遺伝子（acetohydroxyacid synthase gene）に特定の変異（例えば、S653N、S654K、A122T、S653(At)N, S654(At)K, A122(At)Tを有するイネ等が知られている（例えば、US2003/0217381、WO200520673参照）；ＨＰＰＤ阻害剤（例えば、イソキサフルトールなどのイソキサゾール系除草剤、スルコトリオン及びメソトリオンなどのトリケトン系除草剤、ピラゾリネートなどのピラゾール系除草剤及びイソキサフルトールの分解産物のジケトニトリル）に対して耐性があるオオムギ、サトウキビ、イネ、トウモロコシ、タバコ、ダイズ、コットン、ナタネ、テンサイ、コムギ及びジャガイモ（例えば、WO2004/055191、WO199638567、WO1997049816及びUS6791014を参照）。

　古典的、又は、ゲノム育種技術により除草剤耐性が付与された植物は、例えば、イマゼタピル及びイマザモックス等のイミダゾリノン系ＡＬＳ阻害剤耐性を有するイネ「Clearfield Rice」、コムギ「Clearfield Wheat」、ヒマワリ「Clearfield Sunflower」、レンズマメ「Clearfield lentils」及びカノーラ「Clearfield canola」（BASF製品）；チフェンスルフロンメチル等のスルホニルウレア系ＡＬＳ阻害剤耐性を有するダイズ「STS soybean」；トリオンオキシム系、アリールオキシフェノキシプロピオン酸系除草剤などのアセチルＣｏＡカルボキシラーゼ阻害剤耐性を有するセトキシジム耐性トウモロコシ「SR corn」、「Poast Protected(登録商標) corn」；例えば、トリベヌロン等のスルホニルウレア系除草剤耐性を有するヒマワリ「ExpressSun(登録商標)」；キザロホップ等のアセチルＣｏＡカルボキシラーゼ阻害剤耐性を有するイネ「Provisia（商標）Rice」；ＰＳＩＩ阻害剤耐性を有するカノーラ「Triazine Tolerant Canola」がある。

　ゲノム編集技術により除草剤耐性が付与された植物として、迅速な品種開発技術（Rapid Trait Development System 、RTDS（登録商標））を用いたスルホニルウレア系除草剤耐性を有するカノーラ「SU Canola（登録商標）」が挙げられる。RTDS（登録商標）とは、ゲノム編集技術のオリゴヌクレオチド指向型突然変異導入に該当し、Gene Repair Oligonucleotide（GRON）すなわち、ＤＮＡとＲＮＡのキメラオリゴヌクレオチドを介して、植物中のＤＮＡを切断することなく変異を導入することが出来る技術である。また、ジンクフィンガーヌクレアーゼを用いて内因性遺伝子ＩＰＫ１を欠失させることで除草剤耐性及びフィチン酸含有量が低減したトウモロコシ（例えば、Nature 459, 437-441 2009年参照）；クリスパー・キャスナインを用いてコメに除草剤耐性を付与した例などが挙げられる（例えば、Rice, 7, 5 2014年参照）。

　本発明における、特定のＰＰＯ阻害剤に耐性の作物としては、当該ＰＰＯ阻害剤との親和性が低下したＰＰＯの産生能が遺伝子組換え技術によって付与された作物、及びシトクロムＰ４５０モノオキシゲナーゼによる当該ＰＰＯ阻害剤の解毒・分解能が遺伝子組換え技術によって付与された作物が挙げられる。また、特定のＰＰＯ阻害剤に耐性の作物は、当該ＰＰＯ阻害剤との親和性が低下したＰＰＯの産生能と、シトクロムＰ４５０モノオキシゲナーゼによる当該PPO阻害剤の解毒・分解能との両方が、遺伝子組換え技術によって付与された作物であってもよい。これらの耐性作物は、例えば、WO2011085221、WO2012080975、WO2014030090、WO2015022640、WO2015022636、WO2015022639、WO2015092706、WO2016203377、WO2017198859、WO2018019860、WO2018022777、WO2017112589、WO2017087672、WO2017039969、WO2017023778、WO2018022777、WO2019118726などの特許文献や、非特許文献（Pest Management Science, 61, 2005, 277-285）に記載されている。

　新育種技術により除草剤耐性を付与する技術として、接ぎ木を利用した品種改良技術が挙げられ、ＧＭ台木が有する性質を穂木に与える例として、グリホサート耐性を有するRoundup Ready（登録商標）ダイズを台木として用いて、非トランスジェニックダイズ穂木にグリホサート耐性を付与した例が挙げられる（Weed Technology 27:412-416 2013年参照）。

　前記した植物には、遺伝子組換え技術、古典的育種技術、ゲノム育種技術、新育種技術又はゲノム編集技術等を用い、先に述べたような非生物的ストレス耐性、病害耐性、除草剤耐性、害虫抵抗性、生長や収量形質、栄養取り込み、生産物の品質、稔性形質等を２種以上付与された系統、及び同類又は異なる性質を有する植物同士を掛け合わせることにより親系統が有する２種以上の性質が付与された系統も含まれる。

　２つ以上の除草剤に耐性を付与された市販の植物は、例えば、グリホサート及びグルホシネートに耐性を有するコットン「GlyTol（商標）LibertyLink（商標）」、「GlyTol(商標) LibertyLink（商標）」；グリホサート耐性及びグルホシネート耐性を有するトウモロコシ「Roundup Ready（商標）LibertyLink（商標）Maize」；グルホシネート耐性及び２，４－Ｄ耐性を有するダイズ「Enlist（商標）Soybean」;グリホサート耐性及びジカンバ耐性を有するダイズ「Genuity（登録商標）Roundup Ready（商標）2 Xtend（商標）」；グリホサート耐性及びＡＬＳ阻害剤耐性を有するトウモロコシ及びダイズ「OptimumGAT（商標）」;グリホサート、グルホシネート及び２，４－Ｄの３つの除草剤に耐性である遺伝子組換えダイズ「Enlist E3(商標)」及び「Enlist(商標)Roundup Ready 2 Yield（登録商標）;グリホサート、２，４－Ｄ及びアリルオキシフェノキシプロピオン酸系（FOPs）除草剤に耐性である遺伝子組換えトウモロコシ「Enlist(商標)Roundup Ready(登録商標)Corn 2」；グリホサート、２，４－Ｄ及びアリルオキシフェノキシプロピオン酸系（FOPs）除草剤に耐性である遺伝子組換えトウモロコシ「Enlist(商標)Roundup Ready(登録商標)Corn 2」；ジカンバ、グリホサート及びグルホシネートに耐性である遺伝子組換えコットン「Bollgard II(登録商標)XtendFlex(商標)Cotton」；グリホサート、グルホシネート及び２，４－Ｄの３つの除草剤に耐性である遺伝子組換えコットン「Enlist(商標)Cotton」がある。その他に、グルホシネートと２，４－Ｄ耐性を有するコットン、グルホシネートとジカンバの両方に耐性を有するコットン、グリホサートと２，４－Ｄの両方に耐性を有するトウモロコシ、グリホサートとＨＰＰＤ除草剤の両方に耐性を示すダイズ、グリホサート、グルホシネート、２，４－Ｄ、アリルオキシフェノキシプロピオン酸系（FOPs）除草剤、シクロヘキサジオン系（DIMs）系除草剤に耐性である遺伝子組換えトウモロコシも開発されている。

　除草剤耐性及び害虫抵抗性を付与された市販の植物は、例えば、グリホサート耐性とコーンボーラーに対する抵抗性とを有するトウモロコシ「YieldGard Roundup Ready」及び「YieldGard Roundup Ready 2」；グルホシネート耐性とコーンボーラー抵抗性とを有するトウモロコシ「Agrisure CB/LL」；グリホサート耐性とコーンルートワーム抵抗性とを有するトウモロコシ「Yield Gard VT Root worm/RR2」；グリホサート耐性とコーンルートワーム及びコーンボーラーに対する抵抗性とを有するトウモロコシ「Yield Gard VT Triple」；グルホシネート耐性と鱗翅目害虫抵抗性(Cry1F)（例えば、ウエスタンビーンカットワーム、コーンボーラー、ブラックカットワーム及びフォールアーミーワームに対する抵抗性）とを有するトウモロコシ「Herculex I」；グリホサート耐性とコーンルートワーム抵抗性とを有するトウモロコシ「YieldGard Corn Rootworm/Roundup Ready 2」；グルホシネート耐性と鞘翅目害虫抵抗性(Cry3A)（例えば、ウエスタンコーンルートワーム、ノーザンコーンルートワーム及びメキシカンコーンルートワームに対する抵抗性）とを有するトウモロコシ「Agrisure GT/RW」；グルホシネート耐性と鞘翅目害虫抵抗性(Cry34/35Ab1)（例えば、ウエスタンコーンルートワーム、ノーザンコーンルートワーム及びメキシカンコーンルートワームに対する抵抗性）とを有するトウモロコシ「Herculex RW」；グリホサート耐性とコーンルートワーム抵抗性とを有するトウモロコシ「Yield Gard VT Root worm/RR2」；ジカンバ耐性、グリホサート耐性、グリホシネート耐性及び鱗翅目害虫抵抗性（例えば、ボールワーム類及びタバコバッドワーム、アーミーワーム類などに対する抵抗性）を有するコットン「Bollgard 3(登録商標)XtendFlex(登録商標)」がある。

　本発明方法において化合物（Ｉ）、化合物（Ｂ）、及び必要に応じて用いられる化合物（Ｃ）の施用に使用されるノズルは、フラットファンノズルであってもよいし、ドリフト軽減ノズルであってもよい。フラットファンノズルとしては、Teejet社のTeejt110シリーズ、XR Teejet110シリーズなどがある。これらは通常の散布圧、一般的には３０～１２０ＰＳＩで、ノズルから吐出される液滴の体積中位径が通常４３０ミクロン未満である。ドリフト軽減ノズルとは、フラットファンノズルと比較してドリフトが軽減されているノズルであり、エアインダクション（air induction）ノズル又はプレオリフィス（pre－orifice）ノズルと呼ばれているノズルである。ドリフト軽減ノズルから吐出される液滴の体積中位径は通常４３０ミクロン以上である。

　エアインダクションノズルは、ノズルの入口（薬液導入部）と出口（薬液吐出部）との間に空気導入部を有し、薬液に空気を混入させることにより空気で満たされた液滴を形成するノズルである。エアインダクションノズルとしては、Green Leaf Technology社のTDXL11003-D、TDXL11004-D1、TDXL11005-D1、TDXL11006-D、Teejet社のTTI110025、TTI11003、TTI11004、TTI11005、TTI11006、TTI11008、Pentair社のULD120-041、ULD120-051、ULD120-061などが挙げられる。特に望ましくは、TTI11004である。

　プレオリフィスノズルは、ノズルの入口（薬液導入部）が、計量口（metering orifice）となっており、これがノズル内に流入する流量を制限し、ノズル内の圧力を低下させることによって大きな液滴を形成するノズルである。これによれば吐出時に導入前と比べおよそ圧力が半減する。プレオリフィスノズルとしては、Wilger社のDR110-10、UR110-05、UR110-06、UR110-08、UR110-10、Teejet社の1/4TTJ08 Turf Jet、1/4TTJ04 Turf Jetなどが挙げられる。

　本発明方法において化合物（Ｉ）、化合物（Ｂ）、及び必要に応じて用いられる化合物（Ｃ）の施用に使用される散布機はドリフト軽減技術（drift reduction technology: DRT）として、米国環境保護庁（ＥＰＡ）の認定を有するフード付き散布機であってもよい。DRT認定を有するフード付き散布機としては、Willmar Fabrication LLC社のREDBALL 642、REDBALL 642E、REDBALL SPK645、REDBALL 645、REDBALL 645T、REDBALL SP645、REDBALL ATV642などが挙げられる。　

　化合物（Ｉ）と化合物（Ｂ）と必要に応じて化合物（Ｃ）とを作物畑に処理する場合、作物種子の播種前に、化合物（Ｉ）と化合物（Ｂ）と必要に応じて化合物（Ｃ）とを処理してもよく、作物種子の播種と同時、及び／又は播種後に、化合物（Ｉ）と化合物（Ｂ）と必要に応じて化合物（Ｃ）とを処理してもよい。
　すなわち、化合物（Ｉ）と化合物（Ｂ）と必要に応じて用いられる化合物（Ｃ）との処理回数は、作物種子の播種前、播種と同時、もしくは播種後に１回であるか、播種前を除く２回、播種と同時を除く２回、もしくは播種後を除く２回であるか、又は、播種前、播種と同時、及び播種後の全てのタイミングにおいて処理する３回である。

　作物種子の播種前に化合物（Ｉ）と化合物（Ｂ）と必要に応じて化合物（Ｃ）とを処理する場合は、播種５０日前～播種直前、好ましくは播種３０日前～播種直前、より好ましくは播種２０日前～播種直前、さらに好ましくは播種１０日前～播種直前の間に化合物（Ｉ）と化合物（Ｂ）と必要に応じて化合物（Ｃ）とが処理される。
　作物種子の播種後に化合物（Ｉ）と化合物（Ｂ）と必要に応じて化合物（Ｃ）とを処理する場合は、通常播種直後～開花前の間に化合物（Ｉ）と化合物（Ｂ）と必要に応じて化合物（Ｃ）とが処理される。より好ましい処理時期は、播種直後～出芽前の間、又は作物の本葉１～６葉期の間である。
　作物種子の播種と同時に化合物（Ｉ）と化合物（Ｂ）と必要に応じて化合物（Ｃ）とを処理する場合とは、播種機と散布機が一体化している場合である。

　雑草に対する処理時期としては、生育する雑草に対して処理する茎葉処理、及び雑草が生育する虞のある場所に処理する土壌処理がある。雑草が生育する場所が、同時に雑草が生育する虞のある場所である場合には、茎葉処理兼土壌処理を行ってもよい。雑草に対する処理時期は、前記作物に対する処理時期とは独立であり、例えば作物の播種前に、雑草に対する茎葉処理を行うこともあるし、作物の生育中に、雑草に対する土壌処理を行うこともある。雑草に対する処理は、土地に対して一様に面的に処理してもよいし、スポット処理であってもよい。

　本発明方法において、スポット処理とは、除草剤を一様に面的処理することと相対する概念であり、雑草が生育している場所、又は、雑草が生育する虞のある場所に選択的に除草剤を散布する処理を意味する。「場所に処理する」とは、雑草が生育していれば雑草又は土壌に処理することを意味し、生育する虞のある場所においては土壌に処理することを意味する。飛散や蒸散等によって雑草が生育していない場所又は雑草が生育する虞のない場所に化合物（Ｉ）と化合物（Ｂ）と必要に応じて化合物（Ｃ）とが多少散布される場合についても、一様な面的処理でなければ、スポット処理に含まれる。また、作物のひと続きの栽培地において、雑草が生育している場所又は雑草が生育する虞のある場所のすべてが選択的に処理された場合のみをスポット処理とみなすのではない。すなわち、栽培地の一部が面的処理される場合、或いは、雑草が生育している場所又は雑草が生育する虞のある場所の一部が化合物（Ｉ）と化合物（Ｂ）と必要に応じて化合物（Ｃ）とによる処理をされない場合であっても、作物のひと続きの栽培地においてスポット処理された場所が存在すれば、スポット処理に含まれる。スポット処理は、作物をよけながら実施してもよく、また、作物の位置とは無関係に雑草の位置のみを基準に実施してもよい。

　スポット処理の方法として、以下に具体例を挙げる。作物の栽培地において、散布者が歩行しながら、或いは、散布者が地上を走行する装置又は飛行装置に乗って、ハンドヘルドノズル又はロボットアームノズルを用いて目視で化合物（Ｉ）と化合物（Ｂ）と必要に応じて化合物（Ｃ）とを散布することによりスポット処理を行ってもよい。さらには、事前に雑草が生育している又は生育する虞のある場所をマッピングし、マップ情報に基づいて化合物（Ｉ）と化合物（Ｂ）と必要に応じて化合物（Ｃ）とを散布することによりスポット処理を行ってもよい。マップ情報に基づく散布においては、前記方法に加え、散布機の走行又は飛行中に、ブーム上のノズル又はロボットアームノズルを、散布機の位置情報（ＧＰＳ等によって得られる）と当該マップ情報に基づき自動又は手動で開閉させるなどして、スポット処理を行ってもよい。当該マップ情報は有人又は無人の飛行物体等で撮影した画像情報に基づいて作成してもよく、地上を歩行する観察者、地上を走行する装置に乗用する観察者、或いは飛行装置に乗った観察者が目視で作成してもよい。さらには、走行又は飛行する散布機が、雑草が生育している場所又は生育する虞のある場所を検知する機能を備え、リアルタイムマッピングをしながら前記ブーム又はロボットアーム等によりスポット処理を行ってもよい。かかる技術は、特許文献（例えば、WO2018001893、WO2018036909）や、非特許文献（例えば、Crop Protection 26, 270-277、Weed Technology 17, 711-717、Applied Engineering in Agriculture. 30, 143-152）に記載されている。これら技術は、精密農業、スマート農業、又はデジタル農業などと呼ばれる新興農業の一形態であり、前記スポット処理によって発生する一様でない散布様式は、当該新興農業における用語としてＶＲＡ（Variable Rate Application）とも呼ばれる。また、走行する散布機が、生育する雑草を検知しながらリアルタイムにスポット処理を行う技術は、「See & Spray」や「OSST (Optical Spot Spray Technology)」として知られる。

　雑草が生育する虞のある場所は、当該雑草が、過去の生育時期において植生パッチを形成していた事実に基づいて推定してもよいし、埋土種子の分布から推定してもよい。埋土種子の分布は土壌サンプリングによって調査してもよいし、リモートセンシングによって推定してもよい。

　本発明組成物又は本発明方法により防除し得る雑草としては、具体的には次の雑草が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
　イラクサ科雑草（Urticaceae）：ヒメイラクサ（Urtica urens）
　タデ科雑草（Polygonaceae）：ソバカズラ（Polygonum convolvulus）、サナエタデ（Polygonum lapathifolium）、アメリカサナエタデ（Polygonum pensylvanicum）、ハルタデ（Polygonum persicaria）、イヌタデ（Polygonum longisetum）、ミチヤナギ（Polygonum aviculare）、ハイミチヤナギ（Polygonum arenastrum）、イタドリ（Polygonum cuspidatum）、ギシギシ（Rumex japonicus）、ナガバギシギシ（Rumex crispus）、エゾノギシギシ（Rumex obtusifolius）、スイバ（Rumex acetosa）
　スベリヒユ科雑草（Portulacaceae）：スベリヒユ（Portulaca oleracea）
　ナデシコ科雑草（Caryophyllaceae）：ハコベ（Stellaria media）、ウシハコベ（Stellaria aquatica）、ミミナグサ（Cerastium holosteoides）、オランダミミナグサ（Cerastium glomeratum）、オオツメクサ（Spergula arvensis）、マンテマ（Silene gallica）
　ザクロソウ科雑草（Molluginaceae）：クルマバザクロウソウ（Mollugo verticillata）
　アカザ科雑草（Chenopodiaceae）：シロザ（Chenopodium album）、ケアリタソウ（Chenopodium ambrosioides）、ホウキギ（Kochia scoparia）、ノハラヒジキ（Salsola kali）、アトリプレックス属（Atriplex spp.）

　ヒユ科雑草（Amaranthaceae）：アオゲイトウ（Amaranthus retroflexus）、ホナガイヌビユ（Amaranthus viridis）、イヌビユ（Amaranthus lividus）、ハリビユ（Amaranthus spinosus）、ホナガアオゲイトウ（Amaranthus hybridus）、オオホナガアオゲイトウ（Amaranthus palmeri）、ホソアオゲイトウ（Amaranthus patulus）、ウォーターヘンプ（Amaranthus tuberculatus = Amaranthus rudis = Amaranthus tamariscinus)、アメリカビユ（Amaranthus blitoides）、ハイビユ（Amaranthus deflexus）、アマランサス　クイテンシス（Amaranthus quitensis）、ナガエツルノゲイトウ（Alternanthera philoxeroides）、ツルゲイトウ（Alternanthera sessilis）、サングイナリア（Alternanthera tenella）
　ケシ科雑草（Papaveraceae）：ヒナゲシ（Papaver rhoeas）、ナガミヒナゲシ（Papaver dubium）、アザミゲシ（Argemone mexicana）
　アブラナ科雑草（Brassicaceae）：セイヨウノダイコン（Raphanus raphanistrum）、ラディッシュ（Raphanus sativus）、ノハラガラシ（Sinapis arvensis）、ナズナ（Capsella bursa-pastoris）、セイヨウカラシナ（Brassica juncea）、セイヨウアブラナ（Brassica napus）、ヒメクジラグサ（Descurainia pinnata）、スカシタゴボウ（Rorippa islandica）、キレハイヌガラシ（Rorippa sylvestris）、グンバイナズナ（Thlaspi arvense）、ミヤガラシ（Myagrum rugosum）、マメグンバイナズナ（Lepidium virginicum）、カラクサナズナ（Coronopus didymus）
　フウチョウソウ科雑草（Capparaceae）：クレオメ　アフィニス（Cleome affinis)

　マメ科雑草（Fabaceae）：クサネム（Aeschynomene indica）、ジグザグジョイントベッチ（Aeschynomene rudis）、アメリカツノクサネム（Sesbania exaltata）、エビスグサ（Cassia obtusifolia）、ハブソウ（Cassia occidentalis）、ジュズハギ（Desmodium tortuosum）、ノハラハギ（Desmodium adscendens）、イリノイヌスビトハギ（Desmodium illinoense）、シロツメクサ（Trifolium repens）、クズ（Pueraria lobata）、カラスノエンドウ（Vicia angustifolia）、タヌキコマツナギ（Indigofera hirsuta）、インディゴフェラ　トルキシレンシス（Indigofera truxillensis）、野生ササゲ（Vigna sinensis）
　カタバミ科雑草（Oxalidaceae）：カタバミ（Oxalis corniculata）、オッタチカタバミ（Oxalis stricta）、オキザリス　オキシプテラ（Oxalis oxyptera）
　フウロソウ科雑草（Geraniaceae）：アメリカフウロ（Geranium carolinense）、オランダフウロ（Erodium cicutarium）
　トウダイグサ科雑草（Euphorbiaceae）：トウダイグサ（Euphorbia helioscopia）、オオニシキソウ（Euphorbia maculata）、コニシキソウ（Euphorbia humistrata）、ハギクソウ（Euphorbia esula）、ショウジョウソウ（Euphorbia heterophylla）、ヒソップリーフサンドマット（Euphorbia brasiliensis）、エノキグサ（Acalypha australis）、トロピッククロトン（Croton glandulosus）、ロブドクロトン（Croton lobatus）、ブラジルコミカンソウ（Phyllanthus corcovadensis）、トウゴマ（Ricinus communis）

　アオイ科雑草（Malvaceae）：イチビ（Abutilon theophrasti）、キンゴジカ（Sida rhombifolia）、マルバキンゴジカ（Sida cordifolia）、アメリカキンゴジカ（Sida spinosa）、シダ　グラジオビ（Sida glaziovii）、シダ　サンタレムネンシス（Sida santaremnensis）、ギンセンカ（Hibiscus trionum）、ニシキアオイ（Anoda cristata）、エノキアオイ（Malvastrum coromandelianum）
　アカバナ科雑草（Onagraceae）：チョウジタデ（Ludwigia epilobioides）、キダチグンバイ（Ludwigia octovalvis）、ヒレタゴボウ（Ludwigia decurrens）、メマツヨイグサ（Oenothera biennis）、コマツヨイグサ（Oenothera laciniata）
　アオギリ科雑草（Sterculiaceae）：コバンバノキ（Waltheria indica）
　スミレ科雑草（Violaceae）：マキバスミレ（Viola arvensis）、ワイルドパンジー（Viola tricolor）
　ウリ科雑草（Cucurbitaceae）：アレチウリ（Sicyos angulatus）、ワイルドキューカンバー（Echinocystis lobata）、野生ニガウリ（Momordica charantia）
　ミソハギ科雑草（Lythraceae）：ヒメミソハギ（Ammannia multiflora）、ナンゴクヒメミソハギ（Ammannia auriculata）、ホソバヒメミソハギ（Ammannia coccinea）、エゾミソハギ（Lythrum salicaria）、キカシグサ（Rotala indica）
　ミゾハコベ科雑草（Elatinaceae）：ミゾハコベ（Elatine triandra）、カリフォルニアウォーターウォート（Elatine californica）

　セリ科雑草（Apiaceae）：セリ（Oenanthe javanica）、ノラニンジン（Daucus carota）、ドクニンジン（Conium maculatum）
　ウコギ科雑草（Araliaceae）：チドメグサ（Hydrocotyle sibthorpioides）、ブラジルチドメグサ（Hydrocotyle ranunculoides）
　マツモ科雑草（Ceratophyllaceae）：マツモ（Ceratophyllum demersum）
　ハゴロモモ科雑草（Cabombaceae）：ハゴロモモ（Cabomba caroliniana）
　アリノトウグサ科雑草（Haloragaceae）：オオフサモ（Myriophyllum aquaticum）、フサモ（Myriophyllum verticillatum）、ウォーターミルフォイル類（Myriophyllum spicatum、Myriophyllum heterophyllum等）
　ムクロジ科雑草（Sapindaceae）：フウセンカズラ（Cardiospermum halicacabum）
　サクラソウ科雑草（Primulaceae）：アカバナルリハコベ（Anagallis arvensis）
　ガガイモ科雑草（Asclepiadaceae）：オオトウワタ（Asclepias syriaca）、ハニーヴァインミルクウィード（Ampelamus albidus）
　アカネ科雑草（Rubiaceae）：キャッチウィードベッドストロー（Galium aparine）、ヤエムグラ（Galium spurium var. echinospermon）、ヒロハフタバムグラ（Spermacoce latifolia）、ブラジルハシカグサモドキ（Richardia brasiliensis）、ウィングドファルスボタンウィード（Borreria alata）

　ヒルガオ科雑草（Convolvulaceae）：アサガオ（Ipomoea nil）、アメリカアサガオ（Ipomoea hederacea）、マルバアサガオ（Ipomoea purpurea）、マルバアメリカアサガオ（Ipomoea hederacea var. integriuscula）、マメアサガオ（Ipomoea lacunosa）、ホシアサガオ（Ipomoea triloba）、ノアサガオ（Ipomoea acuminata）、ツタノハルコウ（Ipomoea hederifolia）、マルバルコウ（Ipomoea coccinea）、ルコウソウ（Ipomoea quamoclit）、イポモエア　グランディフォリア（Ipomoea grandifolia）、イポモエア　アリストロチアフォリア（Ipomoea aristolochiaefolia）、モミジバヒルガオ（Ipomoea cairica）、セイヨウヒルガオ（Convolvulus arvensis）、コヒルガオ（Calystegia hederacea）、ヒルガオ（Calystegia japonica）、ツタノハヒルガオ（Merremia hederacea）、ヘアリーウッドローズ（Merremia aegyptia）、ロードサイドウッドローズ（Merremia cissoides）、オキナアサガオ（Jacquemontia tamnifolia）
　ムラサキ科雑草（Boraginaceae）：ワスレナグサ（Myosotis arvensis）
　シソ科雑草（Lamiaceae）：ヒメオドリコソウ（Lamium purpureum）、ホトケノザ（Lamium amplexicaule）、タマザキメハジキ（Leonotis nepetaefolia）、ニオイニガクサ（Hyptis suaveolens）、ヒプティス　ロファンタ（Hyptis lophanta）、メハジキ（Leonurus sibiricus）、ヤブチョロギ（Stachys arvensis）

　ナス科雑草（Solanaceae）：ヨウシュウチョウセンアサガオ（Datura stramonium）、イヌホオズキ（Solanum nigrum）、テリミノイヌホオズキ（Solanum americanum）、アメリカイヌホオズキ（Solanum ptycanthum）、ケイヌホオズキ（Solanum sarrachoides）、トマトダマシ（Solanum rostratum）、キンギンナスビ（Solanum aculeatissimum）、ワイルドトマト（Solanum sisymbriifolium）、ワルナスビ（Solanum carolinense）、センナリホオズキ（Physalis angulata）、スムーズグランドチェリー（Physalis subglabrata）、オオセンナリ（Nicandra physalodes）
　ゴマノハグサ科雑草（Scrophulariaceae）：フラサバソウ（Veronica hederaefolia）、オオイヌノフグリ（Veronica persica）、タチイヌノフグリ（Veronica arvensis）、アゼナ（Lindernia procumbens）、アメリカアゼナ（Lindernia dubia）、アゼトウガラシ（Lindernia angustifolia）、ウキアゼナ（Bacopa rotundifolia）、アブノメ（Dopatrium junceum）、オオアブノメ（Gratiola japonica）
　オオバコ科雑草（Plantaginaceae）：オオバコ（Plantago asiatica）、ヘラオオバコ（Plantago lanceolata）、セイヨウオオバコ（Plantago major）、ミズハコベ（Callitriche palustris）

　キク科雑草（Asteraceae）：オナモミ（Xanthium pensylvanicum）、オオオナモミ（Xanthium occidentale）、イガオナモミ（Xanthium italicum）、野生ヒマワリ（Helianthus annuus）、カミツレ（Matricaria chamomilla）、イヌカミツレ（Matricaria perforata）、コーンマリーゴールド（Chrysanthemum segetum）、オロシャギク（Matricaria matricarioides）、ヨモギ（Artemisia princeps）、オウシュウヨモギ（Artemisia vulgaris）、チャイニーズマグウォート（Artemisia verlotorum）、セイタカアワダチソウ（Solidago altissima）、セイヨウタンポポ（Taraxacum officinale）、ハキダメギク（Galinsoga ciliata）、コゴメギク（Galinsoga parviflora）、ノボロギク（Senecio vulgaris）、セネシオ　ブラジリエンシス（Senecio brasiliensis）、セネシオ　グリセバチ（Senecio grisebachii）、アレチノギク（Conyza bonariensis）、オオアレチノギク（Conyza smatrensis）、ヒメムカシヨモギ（Conyza canadensis）、ブタクサ（Ambrosia artemisiifolia）、クワモドキ（Ambrosia trifida）、タウコギ（Bidens tripartita）、コセンダングサ（Bidens pilosa）、アメリカセンダングサ（Bidens frondosa）、ビーデンス　スバルテルナンス（Bidens subalternans）、セイヨウトゲアザミ（Cirsium arvense）、アメリカオニアザミ（Cirsium vulgare）、マリアアザミ（Silybum marianum）、マスクチッスル（Carduus nutans）、トゲチシャ（Lactuca serriola）、ノゲシ（Sonchus oleraceus）、オニノゲシ（Sonchus asper）、ビーチクリーピングオックスアイ（Wedelia glauca）、パーフォリエートブラックフット（Melampodium perfoliatum）、ウスベニニガナ（Emilia sonchifolia）、シオザキソウ（Tagetes minuta）、パラクレス（Blainvillea latifolia)、コトブキギク（Tridax procumbens）、イェルバ　ポロサ（Porophyllum ruderale）、パラグアイ　スターバー（Acanthospermum australe）、ブリストリー　スターバー（Acanthospermum hispidum）、フウセンガズラ（Cardiospermum halicacabum）、カッコウアザミ（Ageratum conyzoides）、コモンボーンセット（Eupatorium perfoliatum）、ダンドボロギク（Erechtites hieracifolia）、アメリカンエバーラスティング（Gamochaeta spicata）、ウラジロチチコグサ（Gnaphalium spicatum）、ジャゲリア　ヒトラ（Jaegeria hirta）、ゴマギク（Parthenium hysterophorus）、メナモミ（Siegesbeckia orientalis）、メリケントキンソウ（Soliva sessilis）、タカサブロウ（Eclipta prostrata）、アメリカタカサブロウ（Eclipta alba）、トキンソウ（Centipeda minima）

　オモダカ科雑草（Alismataceae）：ウリカワ（Sagittaria pygmaea）、オモダカ（Sagittaria trifolia）、セイヨウオモダカ（Sagittaria sagittifolia）、タイリンオモダカ（Sagittaria montevidensis）、アギナシ（Sagittaria aginashi）、ヘラオモダカ（Alisma canaliculatum）、サジオモダカ（Alisma plantago-aquatica）
　キバナオモダカ科雑草（Limnocharitaceae）：キバナオモダカ（Limnocharis flava）
　トチカガミ科雑草（Hydrocharitaceae）：フロッグビット（Limnobium spongia）、クロモ（Hydrilla verticillata）、コモンウォーターニンフ（Najas guadalupensis）
　サトイモ科雑草（Araceae）：ボタンウキクサ（Pistia stratiotes）
　ウキクサ科雑草（Lemnaceae）：アオウキクサ（Lemna aoukikusa、 Lemna paucicostata、 Lemna aequinoctialis）、ウキクサ（Spirodela polyrhiza）、ミジンコウキクサ属（Wolffia spp.）
　ヒルムシロ科雑草（Potamogetonaceae）：ヒルムシロ（Potamogeton distinctus）、ポンドウィード類（Potamogeton crispus、Potamogeton illinoensis、Stuckenia pectinata等）
　ユリ科雑草（Liliaceae）：ワイルドオニオン（Allium canadense）、ワイルドガーリック（Allium vineale）、ノビル（Allium macrostemon）
　ミズアオイ科雑草（Pontederiaceae）：ホテイアオイ（Eichhornia crassipes）、アメリカコナギ（Heteranthera limosa）、ミズアオイ（Monochoria korsakowii）、コナギ（Monochoria vaginalis）
　ツユクサ科雑草（Commelinaceae）：ツユクサ（Commelina communis）、マルバツユクサ（Commelina benghalensis）、エレクトデイフラワー（Commelina erecta）、イボクサ（Murdannia keisak）

　イネ科雑草（Poaceae）：イヌビエ（Echinochloa crus-galli）、タイヌビエ（Echinochloa oryzicola）、ヒメタイヌビエ（Echinochloa crus-galli var. formosensis）、レイトウォーターグラス（Echinochloa oryzoides）、コヒメビエ（Echinochloa colona）、ガルフコックスパー（Echinochloa crus-pavonis）、エノコログサ（Setaria viridis）、アキノエノコログサ（Setaria faberi）、キンエノコロ（Setaria glauca）、アメリカエノコログサ（Setaria geniculata）、メヒシバ（Digitaria ciliaris）、ラージクラブグラス（Digitaria sanguinalis）、ジャマイカンクラブグラス（Digitaria horizontalis）、ススキメヒシバ（Digitaria insularis）、オヒシバ（Eleusine indica）、スズメノカタビラ（Poa annua）、オオスズメノカタビラ（Poa trivialis）、ナガハグサ（Poa pratensis）、スズメノテッポウ（Alopecurus aequalis）、ブラックグラス（Alopecurus myosuroides）、カラスムギ（Avena fatua）、セイバンモロコシ（Sorghum halepense）、シャターケーン（Sorghum vulgare）、シバムギ（Agropyron repens）、ネズミムギ（Lolium multiflorum）、ホソムギ（Lolium perenne）、ボウムギ（Lolium rigidum）、イヌムギ（Bromus catharticus）、アレチノチャヒキ（Bromus sterilis）、スズメノチャヒキ（Bromus japonicus）、カラスノチャヒキ（Bromus secalinus）、ウマノチャヒキ（Bromus tectorum）、ホソノゲムギ（Hordeum jubatum）、ヤギムギ（Aegilops cylindrica）、クサヨシ（Phalaris arundinacea）、ヒメカナリークサヨシ（Phalaris minor）、シルキーベントグラス（Apera spica-venti）、オオクサキビ（Panicum dichotomiflorum）、テキサスパニカム（Panicum texanum）、ギネアキビ（Panicum maximum）、メリケンニクキビ（Brachiaria platyphylla）、ルジグラス（Brachiaria ruziziensis）、アレクサンダーグラス（Brachiaria plantaginea）、スリナムグラス（Brachiaria decumbens）、パリセードグラス（Brachiaria brizantha）、コロンビアグラス（Brachiaria humidicola）、シンクリノイガ（Cenchrus echinatus）、ヒメクリノイガ（Cenchrus pauciflorus）、ナルコビエ（Eriochloa villosa）、ペニセタム（Pennisetum setosum）、アフリカヒゲシバ（Chloris gayana）、オヒゲシバ（Chloris virgata）、オオニワホコリ（Eragrostis pilosa）、ルビーガヤ（Rhynchelytrum repens）、タツノツメガヤ（Dactyloctenium aegyptium）、タイワンアイアシ（Ischaemum rugosum）、チゴザサ（Isachne globosa）、野生イネ（Oryza sativa）、アメリカスズメノヒエ（Paspalum notatum）、コースタルサンドパスパルム（Paspalum maritimum）、キシュウスズメノヒエ（Paspalum distichum）、キクユグラス（Pennisetum clandestinum）、ホソバチカラシバ（Pennisetum setosum）、ツノアイアシ（Rottboellia cochinchinensis）、アゼガヤ（Leptochloa chinensis）、オニアゼガヤ（Leptochloa fascicularis）、イトアゼガヤ（Leptochloa filiformis）、アマゾンスプラングルトップ（Leptochloa panicoides）、アシカキ（Leersia japonica）、サヤヌカグサ（Leersia sayanuka）、エゾノサヤヌカグサ（Leersia oryzoides）、ウキガヤ（Glyceria leptorrhiza）、ムツオレグサ（Glyceria acutiflora）、ドジョウツナギ（Glyceria maxima）、コヌカグサ（Agrostis gigantea）、ハイコヌカグサ（Agrostis stolonifera）、ギョウギシバ（Cynodon dactylon）、カモガヤ（Dactylis glomerata）、ムカデシバ（Eremochloa ophiuroides）、オニウシノケグサ（Festuca arundinacea）、オオウシノケグサ（Festuca rubra）、チガヤ（Imperata cylindrica）、ススキ（Miscanthus sinensis）、スイッチグラス（Panicum virgatum）、ノシバ（Zoysia japonica）

　カヤツリグサ科雑草（Cyperaceae）：カヤツリグサ（Cyperus microiria）、コゴメガヤツリ（Cyperus iria）、クグガヤツリ（Cyperus compressus）、タマガヤツリ（Cyperus difformis）、ヒナガヤツリ（Cyperus flaccidus）、アゼガヤツリ（Cyperus globosus）、アオガヤツリ（Cyperus nipponicus）、キンガヤツリ（Cyperus odoratus）、ミズガヤツリ（Cyperus serotinus）、ハマスゲ（Cyperus rotundus）、キハマスゲ（Cyperus esculentus）、ヒメクグ（Kyllinga gracillima）、アイダクグ（Kyllinga brevifolia）、ヒデリコ（Fimbristylis miliacea）、テンツキ（Fimbristylis dichotoma）、マツバイ（Eleocharis acicularis）、クログワイ（Eleocharis kuroguwai）、ホタルイ（Schoenoplectiella hotarui）、イヌホタルイ（Schoenoplectiella juncoides）、タイワンヤマイ（Schoenoplectiella wallichii）、ヒメカンガレイ（Schoenoplectiella mucronatus）、カンガレイ（Schoenoplectiella triangulatus）、シズイ（Schoenoplectiella nipponicus）、サンカクイ（Schoenoplectiella triqueter）、コウキヤガラ（Bolboschoenus koshevnikovii）、ウキヤガラ（Bolboschoenus fluviatilis）
　トクサ科雑草（Equisetaceae）：スギナ（Equisetum arvense）、イヌスギナ（Equisetum palustre）
　サンショウモ科雑草（Salviniaceae）：サンショウモ（Salvinia natans）
　アカウキクサ科雑草（Azollaceae）：オオアカウキクサ（Azolla japonica）、アカウキクサ（Azolla pinnata）
　デンジソウ科雑草（Marsileaceae）：デンジソウ（Marsilea quadrifolia）
　その他：糸状藻類（Pithophora、Cladophora）、蘚類、苔類、ツノゴケ類、シアノバクテリア、シダ類、永年性作物（仁果類、石果類、液果類、堅果類、カンキツ類、ホップ、ブドウ等）の吸枝（sucker）。

　上記の雑草について、種内の変異は特に限定されない。すなわち、特定の除草剤への感受性が低下（抵抗性を示す、とも言う）したものも含まれる。感受性の低下は、標的部位における突然変異（作用点変異）によるものであってもよいし、作用点変異でない要因（非作用点変異）によるものであってもよい。作用点変異は、タンパク質のアミノ酸配列に対応する核酸配列部分（open reading frame）の変異により、標的部位であるタンパク質にアミノ酸置換が生じたもの、及びプロモーター領域におけるサプレッサー配列の欠失、エンハンサー配列の増幅、又は遺伝子のコピー数の増加等の変異により、標的部位のタンパク質が過剰発現しているものを含む。
　非作用点変異による感受性低下の要因としては代謝増強、吸収不全、移行不全、系外排出などがある。代謝増強の要因の例としては、シトクロムＰ４５０モノオキシゲナーゼ、アリールアシルアミダーゼ、エステラーゼ、グルタチオンＳトランスフェラーゼといった代謝酵素の活性が高まったものが挙げられる。系外排出としてはＡＢＣトランスポーターによる液胞への輸送が挙げられる。
　除草剤抵抗性雑草の例としては下記が挙げられる。
　グリホサート抵抗性：
　作用点変異による雑草の感受性低下の事例として、ＥＰＳＰＳ遺伝子において以下のいずれか、または複数のアミノ酸置換を起こす変異がある雑草が挙げられる。Thr102Ile、Pro106Ser、Pro106Ala、Pro106Leu、Pro106Thr。特に、Thr102Ile及びPro106Serを併せ持つもの、ならびに、Thr102Ile及びPro106Thrを併せ持つものが挙げられる。これらの作用点変異を有するグリホサート抵抗性のオヒシバ、ネズミムギ、ボウムギ、ホソムギ、Bidens subalternansなどが有効に防除される。同様に作用点変異によるグリホサート抵抗性の事例としては、EPSPS遺伝子のコピー数が増加したものがある（PNAS, 2018 115 (13) 3332-3337）。本発明により、EPSPS遺伝子のコピー数が増加したグリホサート抵抗性のオオホナガアオゲイトウ、ウォーターヘンプ、ホウキギなどが有効に防除される。非作用点変異による雑草の感受性低下の事例として、ABCトランスポーターが関与したグリホサート抵抗性のヒメムカシヨモギ、オオアレチノギク、アレチノギクなどが挙げられるが、本発明によりこれらが有効に防除される。さらに非作用点変異として、アルドケト還元酵素の発現が上昇することで、グリホサートに対して感受性が低下したコヒメビエが知られる（Plant Physiology 181, 1519-1534）が、本発明により有効に防除される。
　ALS阻害型除草剤抵抗性：
　作用点変異による雑草の感受性低下の事例として、ALS遺伝子において以下のいずれか、または複数のアミノ酸置換を起こす変異がある雑草が挙げられる。Ala122Thr、Ala122Val、Ala122Tyr、Pro197Ser、Pro197His、Pro197Thr、Pro197Arg、Pro197Leu、Pro197Gln、Pro197Ala、Pro197Ile、Ala205Val、Ala205Phe、Asp376Glu、Asp376Gln、Asp376Asn、Arg377His、Trp574Leu、Trp574Gly、Trp574Met、Ser653Thr、Ser653Asn、Ser635Ile、Gly654Glu、Gly645Asp。本発明により、これらの作用点変異を有するALS阻害剤抵抗性のアオゲイトウ、ホナガアオゲイトウ、オオホナガアオゲイトウ、ウォーターヘンプ、ホウキギなどが有効に防除される。非作用点変異による雑草の感受性低下の事例として、CYPまたはGSTが関与してALS阻害剤に抵抗性となった雑草が挙げられるが、本発明によりこれらが有効に防除される。それらの例として、CYP81A10やCYP81A1v1が過剰発現したボウムギ、CYP81A12やCYP81A21が過剰発現したタイヌビエ、GSTF1やGSTU2が過剰発現したノスズメノテッポウが知られている。
　ACCase阻害剤抵抗性：
　作用点変異による雑草の感受性低下の事例として、ACCase遺伝子において以下のいずれか、または複数のアミノ酸置換を起こす変異がある雑草が挙げられる。Ile1781Leu、Ile1781Val，Ile1781Thr、Trp1999Cys、Trp1999Leu、Ala2004Val、Trp2027Cys、Ile2041Asn、Ile2041Val、Asp2078Gly、Asp2078Glu、Cys2088Arg、Gly2096Ala、Gly2096Ser。本発明により、これらの作用点変異を有するACCase抵抗性雑草が有効に防除される。非作用点変異による雑草の感受性低下の事例として、CYPまたはGSTが関与してACCase阻害剤に抵抗性となった雑草が挙げられるが、本発明によりこれらが有効に防除される。それらの例として、CYP81A10やCYP81A1v1が過剰発現したボウムギ、CYP81A12やCYP81A21が過剰発現したタイヌビエ、GSTF1やGSTU2が過剰発現したノスズメノテッポウが知られている。
　PPO阻害剤抵抗性：
　作用点変異による雑草の感受性低下の事例として、PPO遺伝子において以下のいずれか、または複数のアミノ酸置換を起こす変異がある雑草が挙げられ、これらの変異はカルフェントラゾンエチル、ホメサフェンやラクトフェンの抵抗性変異としてとして知られるか、抵抗性変異となると予測される。Arg128Leu、Arg128Met、Arg128Gly、Arg128His、Arg128Ala、Arg128Cys、Arg128Glu、Arg128Ile、Arg128Lys、Arg128Asn、Arg128Gln、Arg128Ser、Arg128Thr、Arg128Val、Arg128Tyr、Gly210欠損、Ala210欠損、Gly210Thr、Ala210Thr、Gly211欠損、Gly114Glu、Ser149Ile、Gly399Ala（アミノ酸番号はいずれもオオホナガアオゲイトウ（Amaranthus palmeri）のPPO2の配列で標準化）。通常、雑草のPPO遺伝子にはPPO1遺伝子とPPO2遺伝子が存在するが、前記変異はPPO1遺伝子、PPO2遺伝子のいずれにあってもよいし、双方にあってもよい。好ましくはPPO2遺伝子に変異を有する場合である。例えばArg128Metとは、128番目のアミノ酸に変異があることを意味する。ブタクサのPPO2遺伝子では、当該変異は98番目に相当し（Weed Science 60, 335-344）、Arg98Leuという表記が知られるが、このArg98は、本明細書におけるArg128と同意である。本発明の防除対象となる雑草のPPO遺伝子において、Arg128Met及びArg128Glyはオオホナガアオゲイトウで知られ（Pest Management Science 73, 1559-1563）、さらにArg128GlyはウォーターヘンプのPPO2で知られ（Pest Management Science, 2019; 75: 3235-3244）、Arg128IleとArg128LysはウォーターヘンプのPPO2で知られ（Pest Management Science, 2019; 75: 3235-3244）、Arg128HisはボウムギのPPO2でArg132Hisとして知られ（WSSA annual meeting, 2018）、Gly114Glu、Ser149Ile、及びGly399AlaはオオホナガアオゲイトウのPPO2で知られ（Frontiers in Plant Science 10, Article 568）、Ala210ThrはオヒシバのPPO1でAla212Thrとして知られる（Pest Management Science, doi: 10.1002/ps.5703）。本発明により、これらの作用点変異を有するPPO阻害剤抵抗性雑草が有効に防除されるが、防除されるPPO阻害剤抵抗性雑草はこれらに限定されない。すなわち、PPO1またはPPO2にArg128Leu、Arg128Met、Arg128Gly、Arg128His、Arg128Ala、Arg128Cys、Arg128Glu、Arg128Ile、Arg128Lys、Arg128Asn、Arg128Gln、Arg128Ser、Arg128Thr、Arg128Val、Arg128Tyr、Gly210欠損、Ala210欠損、Gly210Thr、Ala210Thr、Gly211欠損、Gly114Glu、Ser149IleまたはGly399Alaの変異を有するオオホナガアオゲイトウのみならず、例えば、同変異を有するウォーターヘンプ、同変異を有するブタクサ、同変異を有するショウジョウソウなどが有効に防除される。非作用点変異による雑草の感受性低下の事例として、CYPまたはGSTが関与してPPO阻害剤に抵抗性となったウォーターヘンプやオオホナガアオゲイトウとして、カルフェントラゾンエチルに抵抗性となったウォーターヘンプ等が知られる（PLOS ONE, doi: 10.1371/journal.pone.0215431）が、本発明によりこれらが有効に防除される。
　オーキシン系除草剤抵抗性：
　作用点変異の事例として、AUX/IAA遺伝子のデグロン領域においてGly-Asnを起こす変異が挙げられる。本発明により、この変異を有するホウキギ、オオホナガアオゲイトウやウォーターヘンプが有効に防除される。非作用点変異の事例として、CYPの関与が示唆されるジカンバ抵抗性ホナガアオゲイトウや、2,4-D抵抗性ウォーターヘンプが知られるが、本発明によりこれらが有効に防除される。GSTが関与する非作用点変異の場合も同様である。
　HPPD阻害剤抵抗性：
　非作用点変異による雑草の感受性低下の事例として、CYPまたはGSTが関与してHPPD阻害剤に抵抗性となったウォーターヘンプやオオホナガアオゲイトウなどが挙げられるが、本発明によりこれらが有効に防除される。それらの例として、CYP72A219、CYP81BやCYP81E8が過剰発現したオオホナガアオゲイトウが知られている。
　光化学系II阻害剤抵抗性：
　作用点変異による雑草の感受性低下の事例として、psbA遺伝子において以下のいずれかまたは複数のアミノ酸置換を起こす変異がある雑草が挙げられる。Val219Ile、Ser264Gly、Ser264Ala、Phe274Val。本発明により、これらの作用点変異を有する光化学系II阻害剤抵抗性のオオホナガアオゲイトウやウォーターヘンプが有効に防除される。非作用点変異による雑草の感受性低下の事例として、CYP、GST、またはAAAが関与して光化学系II阻害剤に抵抗性のオオホナガアオゲイトウやウォーターヘンプなどが挙げられるが、本発明によりこれらが有効に防除される。それらの例として、CYP71R4が過剰発現したボウムギが知られている。
　グルタミン酸合成酵素阻害剤抵抗性：
　作用点変異による雑草の感受性低下の事例として、グルタミン合成酵素遺伝子においてAsp171Asnのアミノ酸置換を起こす変異がある雑草が挙げられる。本発明により、この変異を有するグルタミン合成酵素阻害剤抵抗性のオオホナガアオゲイトウやウォーターヘンプなどが有効に防除される。非作用点変異による雑草の感受性低下の事例として、CYPまたはGSTが関与してグルホシネート抵抗性となったオオホナガアオゲイトウやウォーターヘンプなどが挙げられるが、本発明によりこれらが有効に防除される。それらの例として、CYP72A219、CYP81BやCYP81E8が過剰発現したオオホナガアオゲイトウが知られている。
　抵抗性雑草が、上記の群のうち2つ以上の群（任意に選ばれる2群、任意に選ばれる3群、任意に選ばれる4群、任意に選ばれる5群、任意に選ばれる6群、7群、8群）への抵抗性を「併せ持つ」（スタックした）抵抗性雑草であっても有効に防除される。スタックした抵抗性雑草の例として、光化学系II阻害剤、HPPD阻害剤、2,4-D、PPO阻害剤、ALS阻害剤及びグリホサートのすべてに抵抗性のウォーターヘンプが知られるが、これも有効に防除される。上記のスタックは、作用点変異の組み合わせによっていても、非作用点変異の組み合わせによっていてもよく、作用変異と非作用点変異の組み合わせによっていてもよい。

　本発明における作物の栽培では、一般的な作物栽培における植物栄養学的管理を行うことができる。施肥体系はPrecision Agricultureに基づくものであってもよいし、慣行の均一なものでもよい。また、窒素固定細菌や菌根菌を種子処理と併用して接種することもできる。

　以下、実施例により本発明を説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。

参考製造例１
　１－｛２－クロロ－４－フルオロ－５－［３－メチル－２，６－ジオキソ－４－（トリフルオロメチル）－１，２，３，６－テトラヒドロピリミジン－１－イル］フェノキシ｝シクロプロパンカルボン酸０．３０ｇ、２－ブロモプロピオン酸メチル０．１５ｇ、炭酸水素ナトリウム０．０８ｇ、及びＤＭＦ３ｍＬの混合物を５０℃で５時間撹拌した。得られた混合物に水及び飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、メチルｔｅｒｔ－ブチルエーテル（以下、ＭＴＢＥと記す）で抽出した。得られた有機層を水及び飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：ＭＴＢＥ＝１：１）で精製して、下記式で表される化合物（Ｉ－１５）を０．３１ｇ得た。
化合物（Ｉ－１５）：^１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）　δ：７．２９（０．５Ｈ、ｄ）、７．２７（０．５Ｈ、ｄ）、７．２０（０．５Ｈ、ｄ）、７．１２（０．５Ｈ、ｄ）、６．３４（０．５Ｈ、ｓ）、６．３２（０．５Ｈ、ｓ）、５．１０（０．５Ｈ、ｑ）、５．０９（０．５Ｈ、ｑ）、３．６９（１．５Ｈ、ｓ）、３．６８（１．５Ｈ、ｓ）、３．５５（１．５Ｈ、ｄ）、３．５３（１．５Ｈ、ｄ）、１．７５－１．６０（２Ｈ、ｍ）、１．５１－１．３７（２Ｈ、ｍ）、１．４３（３Ｈ、ｄ）

参考製造例２
　１－｛２－クロロ－４－フルオロ－５－［３－メチル－２，６－ジオキソ－４－（トリフルオロメチル）－１，２，３，６－テトラヒドロピリミジン－１－イル］フェノキシ｝シクロプロパンカルボン酸クロリド０．３１ｇ、乳酸エチル０．１０ｇ、トリエチルアミン０．１１ｇ、及びクロロホルム３ｍＬの混合物を室温で１２時間撹拌した。得られた混合物に水を加え、ＭＴＢＥで抽出した。得られた有機層を水及び飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：ＭＴＢＥ＝１：１）で精製して、下記式で表される化合物（Ｉ－２９）を０．２６ｇ得た。
化合物（Ｉ－２９）：^１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）　δ：７．２９（０．５Ｈ、ｄ）、７．２７（０．５Ｈ、ｄ）、７．２２（０．５Ｈ、ｄ）、７．１４（０．５Ｈ、ｄ）、６．３４（０．５Ｈ、ｓ）、６．３１（０．５Ｈ、ｓ）、５．０７（０．５Ｈ、ｑ）、５．０６（０．５Ｈ、ｑ）、４．１４（１Ｈ、ｄｑ）、４．１３（１Ｈ、ｄｑ）、３．５５（１．５Ｈ、ｄ）、３．５３（１．５Ｈ、ｄ）、１．７６－１．５９（２Ｈ、ｍ）、１．５１－１．３６（２Ｈ、ｍ）、１．４３（３Ｈ、ｄ）、１．２４（３Ｈ、ｔ）

参考製造例３
　参考製造例１に記載の方法等に準じて製造した２－｛｛１－｛２－クロロ－４－フルオロ－５－［３－メチル－２，６－ジオキソ－４－（トリフルオロメチル）－１，２，３，６－テトラヒドロピリミジン－１－イル］フェノキシ｝シクロプロパンカルボニル｝オキシ｝プロピオン酸ｔｅｒｔ－ブチル２０ｍｇ、トリフルオロ酢酸０．５ｍＬ、及びクロロホルム０．５ｍＬの混合物を室温で５時間撹拌した。得られた混合物にトルエン２ｍＬを加えた後、減圧下で濃縮して、下記式で表される化合物（Ｉ－１）を１６ｍｇ得た。

化合物（Ｉ－１）：^１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）　δ：７．３２（０．５Ｈ、ｄ）、７．２９（０．５Ｈ、ｄ）、７．０７（０．５Ｈ、ｄ）、７．０４（０．５Ｈ、ｄ）、６．３４（０．５Ｈ、ｓ）、６．３１（０．５Ｈ、ｓ）、５．１８（０．５Ｈ、ｑ）、５．１７（０．５Ｈ、ｑ）、３．５６（１．５Ｈ、ｄ）、３．５５（１．５Ｈ、ｄ）、１．７５－１．６０（２Ｈ、ｍ）、１．５８－１．５０（１Ｈ、ｍ）、１．４８（３Ｈ、ｄ）、１．４５－１．３７（１Ｈ、ｍ）

参考製造例４
　参考製造例１、参考製造例２、又は参考製造例３に記載の方法等に準じて製造した下記化合物及びそれらの物性値を以下に示す。
　式（Ｉ）
で示される化合物において、Ｒ^１、Ｒ^２、及びＲ^３が下記表２に記載のいずれかの組合せである化合物。

　表２中、Ｍｅはメチル基を表し、Ｅｔはエチル基を表す。－（ＣＨ_２）_２－は、Ｒ^２とＲ^３とが互いに結合して－（ＣＨ_２）_２－を形成していることを表す。

化合物（Ｉ－３０）：^１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）　δ：７．２９（１Ｈ、ｄ）、７．１２（１Ｈ、ｄ）、６．３４（１Ｈ、ｓ）、４．１２（２Ｈ、ｑ）、３．５４（３Ｈ、ｄ）、１．６３－１．６０（２Ｈ、ｍ）、１．５１（３Ｈ、ｓ）、１．４９（３Ｈ、ｓ）、１．４５－１．３５（２Ｈ、ｍ）、１．２２（３Ｈ、ｔ）

化合物（Ｉ－３３）：^１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）　δ：７．２９（０．５Ｈ、ｄ）、７．２７（０．５Ｈ、ｄ）、７．２２（０．５Ｈ、ｄ）、７．１５（０．５Ｈ、ｄ）、６．３３（０．５Ｈ、ｓ）、６．３１（０．５Ｈ、ｓ）、４．９３（０．５Ｈ、ｔ）、４．９２（０．５Ｈ、ｔ）、４．１４（１Ｈ、ｄｑ）、４．１３（１Ｈ、ｄｑ）、３．５５（１．５Ｈ、ｄ）、３．５２（１．５Ｈ、ｄ）、１．７７－１．５９（２Ｈ、ｍ）、１．５０－１．３５（２Ｈ、ｍ）、１．３４－１．１９（２Ｈ、ｍ）、１．２４（３Ｈ、ｔ）、０．８２（１．５Ｈ、ｔ）、０．８１（１．５Ｈ、ｔ）

化合物（Ｉ－４１）：^１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）　δ：７．２８（１Ｈ、ｄ）、７．１４（１Ｈ、ｄ）、６．３３（１Ｈ、ｓ）、４．１０（２Ｈ、ｑ）、３．５５（３Ｈ、ｄ）、１．６９－１．６４（２Ｈ、ｍ）、１．５１－１．４１（４Ｈ、ｍ）、１．３０－１．２４（２Ｈ、ｍ）、１．２０（３Ｈ、ｔ）

　以下の実施例で示す除草効果及び作物に対する薬害の評価基準を示す。
　　［除草効果及び作物に対する薬害］
　除草効果の評価は、調査時の供試雑草の出芽又は生育の状態が無処理のそれと比較して違いが全くないか、ほとんど違いがないものを「０」とし、供試雑草が完全枯死又は出芽若しくは生育が完全に抑制されているものを「１００」として、０～１００に区分する。
　作物に対する薬害の評価は、薬害がほとんど認められない場合は「無害」、軽度の薬害が認められる場合は「小」、中程度の薬害が認められる場合は「中」、強度の薬害が認められる場合は「大」で示される。

実施例１
　プラスチックポットに雑草（オオホナガアオゲイトウ、ウォーターヘンプ、ブタクサ、オオブタクサ、ヒメムカシヨモギ、シロザ、ホウキギ、イヌビエ及びアキノエノコログサ）を播種する。同日、化合物（Ｉ－１５）の処理量が２５、５０、１００又は２００ｇ／ｈａ、ＺＩＤＵＡ（ピロキサスルホン８５％顆粒水和剤、ＢＡＳＦ社製）の処理量が７０、１４０又は２８０ｇ／ｈａ（１、２又は４オンス／エーカー）となるように調製した化合物（Ｉ－１５）及びピロキサスルホンを含有する散布液を土壌表面に散布液量が２００Ｌ／ｈａとなるように処理する。その後温室で雑草を栽培し、７日後にダイズを播種し、さらに１４日後に雑草への効果とダイズへの薬害を調査する。各々の化合物の単用に比して相乗的雑草防除効果が確認される。

実施例２
　プラスチックポットに雑草（オオホナガアオゲイトウ、ウォーターヘンプ、ブタクサ、オオブタクサ、ヒメムカシヨモギ、シロザ、ホウキギ、イヌビエ及びアキノエノコログサ）とダイズを播種する。同日、化合物（Ｉ－１５）の処理量が２５、５０、１００又は２００ｇ／ｈａ、Ｓｈａｒｐｅｎ（サフルフェナシル２９．７％水和剤、ＢＡＳＦ社製）の処理量が７３ｍＬ／ｈａ（１液量オンス／エーカー）となるように調製した化合物（Ｉ－１５）及びサフルフェナシルを含有する散布液を土壌表面に散布液量が２００Ｌ／ｈａとなるように処理する。その後温室で雑草及びダイズを栽培し、２１日後に雑草への効果とダイズへの薬害を調査する。各々の化合物の単用に比して相乗的雑草防除効果が確認される。

実施例３
　プラスチックポットに雑草（オオホナガアオゲイトウ、ウォーターヘンプ、ブタクサ、オオブタクサ、ヒメムカシヨモギ、シロザ、ホウキギ、イヌビエ及びアキノエノコログサ）とダイズを播種する。同日、化合物（Ｉ－１５）の処理量が２５、５０、１００又は２００ｇ／ｈａ、Ｖａｌｏｒ　ＳＸ（フルミオキサジン５１％水和剤、Ｖａｌｅｎｔ社製）の処理量が１４０ｇ／ｈａ（２オンス／エーカー）となるように調製した化合物（Ｉ－１５）及びフルミオキサジンを含有する散布液を土壌表面に散布液量が２００Ｌ／ｈａとなるように処理する。その後温室で雑草及びダイズを栽培し、２１日後に雑草への効果とダイズへの薬害を調査する。各々の化合物の単用に比して相乗的雑草防除効果が確認される。

実施例４－６
　実施例１－３のダイズを、トウモロコシ又はワタに替えて同様に実施する。各々の化合物の単用に比して相乗的雑草防除効果が確認される。

実施例７
　プラスチックポットに、雑草（オオホナガアオゲイトウ、ウォーターヘンプ、ブタクサ、オオブタクサ、ヒメムカシヨモギ、シロザ、ホウキギ、イヌビエ及びアキノエノコログサ）を播種する。その後温室で雑草を栽培し、播種２１日後に、化合物（Ｉ－１５）の処理量が２５、５０、１００又は２００ｇ／ｈａ、ＲｏｕｎｄｕｐＷｅａｔｈｅｒＭａｘ（グリホサートカリウム塩６６０ｇ／Ｌ、Ｍｏｎｓａｎｔｏ社製）の処理量が２．３３８Ｌ／ｈａ（３２液量オンス／エーカー）となるように調製した化合物（Ｉ－１５）及びグリホサートカリウム塩を含有する散布液を散布液量が２００Ｌ／ｈａとなるように茎葉処理する。さらに温室で雑草を栽培し、処理７日後及び１４日後に雑草への効果を調査する。各々の化合物の単用に比して相乗的雑草防除効果が確認される。

実施例８
　プラスチックポットに雑草（オオホナガアオゲイトウ、ウォーターヘンプ、ブタクサ、オオブタクサ、ヒメムカシヨモギ、シロザ、ホウキギ、イヌビエ及びアキノエノコログサ）を播種する。同日、化合物（Ｉ－１５）の処理量が２５、５０、１００または２００ｇ／ｈａとなるように調製した化合物（Ｉ－１５）を含有する散布液を土壌表面に散布液量が２００Ｌ／ｈａとなるように処理する。その後温室で雑草を栽培し、７日後にダイズを播種し、ＺＩＤＵＡ（ピロキサスルホン８５％顆粒水和剤、ＢＡＳＦ社製）の処理量が７０、１４０または２８０ｇ／ｈａ（１、２または４オンス／エーカー）となるように調製したピロキサスルホンを含有する散布液を散布液量が２００Ｌ／ｈａとなるように処理する。さらに１４日後に雑草への効果とダイズへの薬害を調査する。各々の化合物の単用に比して相乗的雑草防除効果が確認される。

実施例９
　プラスチックポットに雑草（オオホナガアオゲイトウ、ウォーターヘンプ、ブタクサ、オオブタクサ、ヒメムカシヨモギ、シロザ、ホウキギ、イヌビエ及びアキノエノコログサ）を播種する。同日、化合物（Ｉ－１５）の処理量が２５、５０、１００または２００ｇ／ｈａとなるように調製した化合物（Ｉ－１５）を含有する散布液を土壌表面に散布液量が２００Ｌ／ｈａとなるように処理する。その後温室で雑草を栽培し、７日後にダイズを播種し、Ｓｈａｒｐｅｎ（サフルフェナシル２９．７％水和剤、ＢＡＳＦ社製）の処理量が７３ｍＬ／ｈａ（１液量オンス／エーカー）となるように調製したサフルフェナシルを含有する散布液を散布液量が２００Ｌ／ｈａとなるように処理する。さらに１４日後に雑草への効果とダイズへの薬害を調査する。各々の化合物の単用に比して相乗的雑草防除効果が確認される。

実施例１０
　プラスチックポットに雑草（オオホナガアオゲイトウ、ウォーターヘンプ、ブタクサ、オオブタクサ、ヒメムカシヨモギ、シロザ、ホウキギ、イヌビエ及びアキノエノコログサ）を播種する。同日、化合物（Ｉ－１５）の処理量が２５、５０、１００または２００ｇ／ｈａとなるように調製した化合物（Ｉ－１５）を含有する散布液を土壌表面に散布液量が２００Ｌ／ｈａとなるように処理する。その後温室で雑草を栽培し、７日後にダイズを播種し、Ｖａｌｏｒ　ＳＸ（フルミオキサジン５１％水和剤、Ｖａｌｅｎｔ社製）の処理量が１４０ｇ／ｈａ（２オンス／エーカー）となるように調製したフルミオキサジンを含有する散布液を散布液量が２００Ｌ／ｈａとなるように処理する。さらに１４日後に雑草への効果とダイズへの薬害を調査する。各々の化合物の単用に比して相乗的雑草防除効果が確認される。

実施例１１－１３
　実施例８－１０の各々の試験において、化合物（Ｉ－１５）にさらにＲｏｕｎｄｕｐＰｏｗｅｒＭａｘ（グリホサートカリウム塩６６０ｇ／Ｌ、Ｍｏｎｓａｎｔｏ社製）を処理量が２．３３８Ｌ／ｈａ（３２液量オンス／エーカー、グリホサートカリウム塩として１５４３ｇ／ｈａ）となるよう加用して、同様に実施する。各々の化合物の単用に比して相乗的雑草防除効果が確認される。

実施例１４
　プラスチックポットに雑草（オオホナガアオゲイトウ、ウォーターヘンプ、ブタクサ、オオブタクサ、ヒメムカシヨモギ、シロザ、ホウキギ、イヌビエ及びアキノエノコログサ）を播種する。同日、化合物（Ｉ－１５）の処理量が２５、５０、１００または２００ｇ／ｈａとなるように調製した化合物（Ｉ－１５）を含有する散布液を土壌表面に散布液量が２００Ｌ／ｈａとなるように処理する。その後温室で雑草を栽培し、７日後にダイズを播種し、さらに播種１４日後にＲｏｕｎｄｕｐＷｅａｔｈｅｒＭａｘ（グリホサートカリウム塩６６０ｇ／Ｌ、Ｍｏｎｓａｎｔｏ社製）の処理量が２．３３８Ｌ／ｈａ（３２液量オンス／エーカー）となるように調製したグリホサートカリウム塩を含有する散布液を散布液量が２００Ｌ／ｈａとなるように処理する。さらに１４日後（播種２８日後）に雑草への効果とダイズへの薬害を調査する。各々の化合物の単用に比して相乗的雑草防除効果が確認される。

実施例１５
　実施例１４の化合物（Ｉ－１５）の処理に、さらにＲｏｕｎｄｕｐＰｏｗｅｒＭａｘ（グリホサートカリウム塩６６０ｇ／Ｌ、Ｍｏｎｓａｎｔｏ社製）を処理量が２．３３８Ｌ／ｈａ（３２液量オンス／エーカー、グリホサートカリウム塩として１５４３ｇ／ｈａ）となるよう加用して、同様に実施する。各々の化合物の単用に比して相乗的雑草防除効果が確認される。

実施例１６－２３
　実施例８－１５のダイズを、トウモロコシまたはワタに替えて同様に実施する。

実施例２４－４６
　実施例１－２３の化合物（Ｉ－１５）を化合物（Ｉ－２９）に替えて同様に実施する。各々の化合物の単用に比して相乗的雑草防除効果が確認される。

実施例４７－６９
　実施例１－２３の化合物（Ｉ－１５）を化合物（Ｉ－３０）に替えて同様に実施する。各々の化合物の単用に比して相乗的雑草防除効果が確認される。

実施例７０－９２
　実施例１－２３の化合物（Ｉ－１５）を化合物（Ｉ－３３）に替えて同様に実施する。
各々の化合物の単用に比して相乗的雑草防除効果が確認される。

実施例９３－１１５
　実施例１－２３の化合物（Ｉ－１５）を化合物（Ｉ－４１）に替えて同様に実施する。各々の化合物の単用に比して相乗的雑草防除効果が確認される。

実施例１１６－２３０
　実施例１－１１５における作物をＲｏｕｎｄｕｐＲｅａｄｙ２Ｘｔｅｎｄ形質を有する作物に替えて同様に実施する。各々の化合物の単用に比して相乗的雑草防除効果が確認される。

実施例２３１－３４５
　実施例１－１１５における作物を、遺伝子組換えにより作出された、ＲｏｕｎｄｕｐＲｅａｄｙ２Ｘｔｅｎｄ形質と、処理されるＰＰＯ阻害剤への親和性が、作物に内在するＰＰＯよりも低下した外来ＰＰＯを有することによるＰＰＯ阻害剤耐性形質とを両有する作物に替えて同様に実施する。各々の化合物の単用に比して相乗的雑草防除効果が確認される。

実施例３４６
　化合物（Ｉ－１５）　５５ｍｇ、Emulsogen TS290（ポリオキシエチレントリスチリルフェニルエーテル、Clariant社製）　７６．５ｍｇ、及びPhenylsulfonat CAL（ドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム７０％及びｉｓｏ－ブタノール３０％の混合物、Clariant社製）　７６．５ｍｇを、Solvesso 200ND（芳香族炭化水素、Exxon Mobile社製）に溶解し合計１ｍｌとした乳剤（以下、製剤（Ｉ－１５）と呼ぶ）を製造した。
　プラスチックポットに土壌を詰めイヌビエ及びネズミムギを播種し、温室で育成した。その後温室で雑草を栽培し、播種１７日後に、化合物（Ｉ－１５）の処理量が２０ｇ／ｈａ、Ｒｏｕｎｄｕｐ　ＰｏｗｅｒＭａｘ（グリホサートカリウム塩６６０ｇ／Ｌ、Ｍｏｎｓａｎｔｏ社製）の処理量がグリホサート酸当量として１２６２ｇ／ｈａ（Ｒｏｕｎｄｕｐ　ＰｏｗｅｒＭａｘとして２．３３８Ｌ／ｈａ（３２液量オンス／エーカー））となるように調製した、製剤（Ｉ－１５）及び／又はＲｏｕｎｄｕｐ　ＰｏｗｅｒＭａｘを含有する散布液を、散布液量が２１８Ｌ／ｈａとなるように散布機を用い上記ポットの上方から均一に散布した。その後温室で４日間育成し、除草効果を評価した。
　それぞれの単用の除草効果（Ａ又はＢの値）の結果から、コルビーの式（（期待値）＝１００－（１００－Ａ）×（１００－Ｂ）／１００）により、混合した場合の除草効果の期待値を求めた。
　結果を表３に示す。

実施例３４７
　実施例３４６と同様に製剤（Ｉ－１５）を製造した。
　プラスチックポットに土壌を詰めイヌビエ及びネズミムギを播種し、温室で育成した。その後温室で雑草を栽培し、播種１７日後に、化合物（Ｉ－１５）の処理量が２０ｇ／ｈａ、Ｘｔｅｎｄｉｍａｘ（ジカンバジグリコールアミン塩３５０ｇ／Ｌ、Ｍｏｎｓａｎｔｏ社製）の処理量がジカンバ酸当量として５６０ｇ／ｈａ（Ｘｔｅｎｄｉｍａｘとして１．６０８Ｌ／ｈａ（２２．０液量オンス／エーカー））となるように調製した、製剤（Ｉ－１５）及び／又はＸｔｅｎｄｉｍａｘを含有する散布液を、散布液量が２１８Ｌ／ｈａとなるように散布機を用い上記ポットの上方から均一に散布した。その後温室で４日間育成し、除草効果を評価した。
　それぞれの単用の除草効果（Ａ又はＢの値）の結果から、コルビーの式（（期待値）＝１００－（１００－Ａ）×（１００－Ｂ）／１００）により、混合した場合の除草効果の期待値を求めた。
　結果を表４に示す。

実施例３４８
　化合物（Ｉ－４１）　５５ｍｇ、Emulsogen TS290（ポリオキシエチレントリスチリルフェニルエーテル、Clariant社製）　７６．５ｍｇ、及びPhenylsulfonat CAL（ドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム７０％及びｉｓｏ－ブタノール３０％の混合物、Clariant社製）　７６．５ｍｇを、Solvesso 200ND（芳香族炭化水素、Exxon Mobile社製）に溶解し合計１ｍｌとした乳剤（以下、製剤（Ｉ－４１）と呼ぶ）を製造した。
　プラスチックポットに土壌を詰めイヌビエ及びネズミムギを播種し、温室で育成した。その後温室で雑草を栽培し、播種１７日後に、化合物（Ｉ－４１）の処理量が２０ｇ／ｈａ、Ｌｉｂｅｒｔｙ（グルホシネートアンモニウム塩２８０ｇ／Ｌ、Ｂａｙｅｒ社製）の処理量がグルホシネートアンモニウム塩として５９４ｇ／ｈａ（Ｌｉｂｅｒｔｙとして２．１２Ｌ／ｈａ（２９．０液量オンス／エーカー））となるように調製した、製剤（Ｉ－４１）及び／又はＬｉｂｅｒｔｙを含有する散布液を、散布液量が２１８Ｌ／ｈａとなるように散布機を用い上記ポットの上方から均一に散布した。その後温室で４日間育成し、除草効果を評価した。
　それぞれの単用の除草効果（Ａ又はＢの値）の結果から、コルビーの式（（期待値）＝１００－（１００－Ａ）×（１００－Ｂ）／１００）により、混合した場合の除草効果の期待値を求めた。
　結果を表５に示す。

実施例３４９
　実施例３４８と同様に製剤（Ｉ－４１）を製造した。
　プラスチックポットに土壌を詰めイヌビエ及びネズミムギを播種し、温室で育成した。その後温室で雑草を栽培し、播種２１日後に、化合物（Ｉ－４１）の処理量が２０ｇ／ｈａ、ＥｎｌｉｓｔＯｎｅ（２，４－Ｄコリン塩　６７０ｇ／Ｌ、Ｄｏｗ　ＡｇｒｏＳｃｉｅｎｃｅｓ社製）の処理量が２，４－Ｄ酸当量として７９８ｇ／ｈａ（ＥｎｌｉｓｔＯｎｅとして１．７５４Ｌ／ｈａ（２４液量オンス／エーカー））となるように調製した、製剤（Ｉ－４１）及び／又はＥｎｌｉｓｔＯｎｅを含有する散布液を、散布液量が２１８Ｌ／ｈａとなるように散布機を用い上記ポットの上方から均一に散布した。その後温室で４日間育成し、除草効果を評価した。
　それぞれの単用の除草効果（Ａ又はＢの値）の結果から、コルビーの式（（期待値）＝１００－（１００－Ａ）×（１００－Ｂ）／１００）により、混合した場合の除草効果の期待値を求めた。
　結果を表６に示す。

　本発明組成物及び本発明方法は、雑草を効率的に防除するために利用できる。

Claims

　下記式（Ｉ）
［式中、
　Ｒ^１は水素原子、メチル基又はエチル基を表し、
　Ｒ^２は炭素数が１～３のアルキル基を表し、
　Ｒ^３は水素原子又は炭素数が１～３のアルキル基を表し、
　Ｒ^２とＲ^３とが互いに結合してＣ２－３アルキレン鎖を形成していてもよい。］
で表される１以上のウラシル化合物と、除草剤化合物Ｂ群より選ばれる１以上の化合物とを含有し、
　前記除草剤化合物Ｂ群は、以下のＢ－１～Ｂ－１２：
　Ｂ－１　アセト乳酸合成酵素阻害剤；
　Ｂ－２　アセチルＣｏＡカルボキシラーゼ阻害剤；
　Ｂ－３　プロトポルフィリノーゲンＩＸオキシダーゼ阻害剤；
　Ｂ－４　４－ヒドロフェニルピルビン酸ジオキシゲナーゼ阻害剤；
　Ｂ－５　フィトエンデサチュラーゼ阻害剤；
　Ｂ－６　光化学系ＩＩ阻害剤；
　Ｂ－７　超長鎖脂肪酸合成阻害剤；
　Ｂ－８　微小管形成阻害剤；
　Ｂ－９　オーキシン系除草剤；
　Ｂ－１０　エノールピルビルシキミ酸３－リン酸合成酵素阻害剤；
　Ｂ－１１　グルタミン合成酵素阻害剤；
　Ｂ－１２　その他の除草剤；
（それらの農業上許容される塩、又は誘導体を含む）
からなる群である、除草剤組成物。
　前記Ｂ－１が、
　ピリチオバック、ピリチオバックナトリウム塩、ピリミノバック、ピリミノバックメチル、ビスピリバック、ビスピリバックナトリウム塩、ピリベンゾキシム、ピリミスルファン、ピリフタリド、トリアファモン、アミドスルフロン、アジムスルフロン、ベンスルフロン、ベンスルフロンメチル、クロリムロン、クロリムロンエチル、シクロスルファムロン、エトキシスルフロン、フラザスルフロン、フルセトスルフロン、フルピルスルフロン、フルピルスルフロンメチルナトリウム、ホラムスルフロン、ハロスルフロン、ハロスルフロンメチル、イマゾスルフロン、メトスルフロン、メトスルフロンメチル、メタゾスルフロン、ニコスルフロン、オルトスルファムロン、オキサスルフロン、プリミスルフロン、プリミスルフロンメチル、プロピリスルフロン、ピラゾスルフロン、ピラゾスルフロンエチル、リムスルフロン、スルホメツロン、スルホメツロンメチル、スルホスルフロン、トリフロキシスルフロン、トリフロキシスルフロンナトリウム塩、クロルスルフロン、シノスルフロン、エタメトスルフロン、エタメトスルフロンメチル、ヨードスルフロン、ヨードスルフロンメチルナトリウム、イオフェンスルフロン、イオフェンスルフロンナトリウム、メソスルフロン、メソスルフロンメチル、プロスルフロン、チフェンスルフロン、チフェンスルフロンメチル、トリアスルフロン、トリベヌロン、トリベヌロンメチル、トリフルスルフロン、トリフルスルフロンメチル、トリトスルフロン、ベンカルバゾン、フルカルバゾン、フルカルバゾンナトリウム塩、プロポキシカルバゾン、プロポキシカルバゾンナトリウム塩、チエンカルバゾン、チエンカルバゾンメチル、クロランスラム、クロランスラムメチル、ジクロスラム、フロラスラム、フルメツラム、メトスラム、ペノキススラム、ピロキシスラム、イマザメタベンズ、イマザメタベンズメチル、イマザモックス、イマザモックスアンモニウム塩、イマザピック、イマザピックアンモニウム塩、イマザピル、イマザピルイソプロピルアンモニウム塩、イマザキン、イマザキンアンモニウム塩、イマゼタピル、及びイマゼタピルアンモニウム塩
（それらの農業上許容される塩、又は誘導体を含む）
からなる群であり、
　前記Ｂ－２が、
　クロジナホップ、クロジナホッププロパルギル、シハロホップ、シハロホップブチル、ジクロホップ、ジクロホップメチル、フェノキサプロップ、フェノキサプロップエチル、フェノキサプロップＰ、フェノキサプロップＰエチル、フルアジホップ、フルアジホップブチル、フルアジホップＰ、フルアジホップＰブチル、ハロキシホップ、ハロキシホップエトチル、ハロキシホップメチル、ハロキシホップＰ、ハロキシホップＰエトチル、ハロキシホップＰメチル、メタミホップ、プロパキザホップ、キザロホップ、キザロホップテフリル、キザロホップエチル、キザロホップＰ、キザロホップＰテフリル、キザロホップＰエチル、アロキシジム、ブトロキシジム、クレトジム、シクロキシジム、プロホキシジム、セトキシジム、テプラロキシジム、トラルコキシジム、及びピノキサデン
（それらの農業上許容される塩、又は誘導体を含む）
からなる群であり、
　前記Ｂ－３が、
　アザフェニジン、ベンズフェンジゾン、オキサジアゾン、オキサジアルギル、カルフェントラゾン、カルフェントラゾンエチル、サフルフェナシル、シニドン、シニドンエチル、スルフェントラゾン、ピラクロニル、シクロピラニル、ピラフルフェン、ピラフルフェンエチル、ブタフェナシル、フルアゾレート、フルチアセット、フルチアセットメチル、フルフェンピル、フルフェンピルエチル、フルミクロラック、フルミクロラックペンチル、フルミオキサジン、ペントキサゾン、オキシフルオルフェン、アシフルオルフェン、アシフルオルフェンナトリウム塩、クロメトキシニル、クロロニトロフェン、ニトロフェン、ビフェノックス、クロメトキシフェン、エトキシフェンチル、フルオログリコフェン、フルオログリコフェンエチル、ホメサフェン、ホメサフェンナトリウム、ハロサフェン、ラクトフェン、チアフェナシル、トリフルジモキサジン、チジアジミン、プロフルアゾール、及びエピリフェナシル
（それらの農業上許容される塩、又は誘導体を含む）
からなる群であり、
　前記Ｂ－４が、
　ベンゾビシクロン、ビシクロピロン、メソトリオン、スルコトリオン、テフリルトリオン、テンボトリオン、イソキサクロルトール、イソキサフルトール、ベンゾフェナップ、ピラスルホトール、ピラゾリネート、ピラゾキシフェン、フェンキノトリオン、トプラメゾン、トルピラレート、ランコトリオン、ランコトリオンナトリウム塩、２－メチル－Ｎ－（５－メチル－１，３，４－オキサジアゾール－２－イル）－３－（メタンスルホニル）－４－（トリフルオロメチル）ベンズアミド（ＣＡＳ登録番号：１４００９０４－５０－８）、２－クロロ－Ｎ－（１－メチル－１Ｈ－テトラゾール－５－イル）－３－（メチルチオ）－４－（トリフルオロメチル）ベンズアミド（ＣＡＳ登録番号：１３６１１３９－７１－０）、４－（４－フルオロフェニル）－６－［（２－ヒドロキシ－６－オキソ－１－シクロヘキセン－１－イル）カルボニル］－２－メチル－１，２，４－トリアジン－３，５（２Ｈ，４Ｈ）－ジオン（ＣＡＳ登録番号：１３５３８７０－３４－４）、及び３－［（イソプロピルスルホニル）メチル］－Ｎ－（５－メチル－１，３，４－オキサジアゾール－２－イル）－５－（トリフルオロメチル）－１，２，４－トリアゾロ［４，３－ａ］ピリジン－８－カルボキサミド（ＣＡＳ登録番号：１９９４３４８－７２－９）
（それらの農業上許容される塩、又は誘導体を含む）
からなる群であり、
　前記Ｂ－５が、
　ジフルフェニカン、ピコリナフェン、ベフルブタミド、ノルフルラゾン、フルリドン、フルロクロリドン、及びフルルタモン
（それらの農業上許容される塩、又は誘導体を含む）
からなる群であり、
　前記Ｂ－６が、
　アイオキシニル、アイオキシニルオクタノエート、ベンタゾン、ピリダフォル、ピリデート、ブロモフェノキシム、ブロモキシニル、ブロモキシニルオクタノエート、クロルブロムロン、クロロトルロン、クロロクスロン、ジメフロン、ジウロン、エチジムロン、フェニュロン、リニュロン、フルオメツロン、イソプロツロン、イソウロン、テブチウロン、アズロン、メタベンズチアズロン、ネブロン、ペンタノクロール、プロパニル、メトブロムロン、メトキスロン、モノリニュロン、シデゥロン、シマジン、アトラジン、デスメトリン、プロパジン、シアナジン、アメトリン、シメトリン、ジメタメトリン、プロメトン、プロメトリン、テルブメトン、テルブチラジン、テルブトリン、トリエタジン、ヘキサジノン、メタミトロン、メトリブジン、アミカルバゾン、ブロマシル、レナシル、ターバシル、クロリダゾン、デスメジファム、及びフェンメディファム
（それらの農業上許容される塩、又は誘導体を含む）
からなる群であり、
　前記Ｂ－７が、
　プロパクロール、メタザクロール、アラクロール、アセトクロール、アリドクロール、ジメタクロール、メトラクロール、Ｓ－メトラクロール、ブタクロール、プレチラクロール、プロピソクロール、テニルクロール、インダノファン、カフェンストロール、フェントラザミド、ジフェナミド、ジメテナミド、ジメテナミドＰ、ジメピペレート、メフェナセット、ピロキサスルホン、フェノキサスルホン、ナプロアニリド、ナプロパミド、ナプロパミドＭ、ペトキサミド、アニロホス、ピペロホス、フルフェナセット、ジメスルファゼット、及びイプフェンカルバゾン
（それらの農業上許容される塩、又は誘導体を含む）
からなる群であり、
　前記Ｂ－８が、
　トリフルラリン、ペンディメタリン、エタルフルラリン、ベンフルラリン、オリザリン、プロジアミン、ブタミホス、ジチオピル、チアゾピル、アミプロホスメチル、カルベタミド、クロルタールジメチル、ブトルアリン、ジニトラミン、プロファム、プロピザミド、及びテブタム
（それらの農業上許容される塩、又は誘導体を含む）
からなる群であり、
　前記Ｂ－９が、
　２，３，６－ＴＢＡ及びその塩又はエステル（ジメチルアンモニウム、リチウム塩、カリウム塩、ナトリウム塩）、２，４－Ｄ及びその塩又はエステル（コリン塩、テトラブチルアンモニウム塩、ビプロアミン、ドボキシル、２－エチルヘキシル、３－ブトキシプロピル、アンモニウム、ブトチル、ブチル、ジエチルアンモニウム、ジメチルアンモニウム、ジオールアミン塩、ドデシルアンモニウム、エチル、ヘプチルアンモニウム、イソブチル、イソオクチル、イソプロピル、イソプロピルアンモニウム、リチウム塩、メプチル、メチル、オクチル、ペンチル、プロピル、ナトリウム塩、テフリル、テトラデシルアンモニウム、トリエチルアンモニウム、トリス（２－ヒドロキシプロピル）アンモニウム、及びトロールアミン塩）、２，４－ＤＢ及びその塩又はエステル（コリン塩、ビプロアミン、ブチル、ジメチルアンモニウム、イソオクチル、カリウム塩、及びナトリウム塩）、ＭＣＰＡ及びその塩又はエステル（コリン塩、ビプロアミン、エテキシル、ブトチル、ブチル、ジメチルアンモニウム、ジオールアミン塩、エチル、イソブチル、イソオクチル、イソプロピル、メチル、オールアミン塩、ナトリウム塩、及びトロールアミン塩）、ＭＣＰＢ及びその塩又はエステル（コリン塩、ビプロアミン、エチル、メチル、及びナトリウム塩）、メコプロップ及びその塩又はエステル（コリン塩、ビプロアミン、２－エチルヘキシル、ジメチルアンモニウム、ジオールアミン塩、エタジル、イソオクチル、メチル、カリウム塩、ナトリウム塩、及びトロールアミン塩）、メコプロップＰ及びその塩又はエステル（コリン塩、２－エチルヘキシル、ジメチルアンモニウム、イソブチル、及びカリウム塩及び）、ジクロルプロップ及びその塩又はエステル（コリン塩、ビプロアミン、エテキシル、ブトチル、ジメチルアンモニウム、エチルアンモニウム、イソクチル、メチル、カリウム塩、及びナトリウム塩）、ジクロルプロップＰ及びその塩又はエステル（コリン塩、ビプロアミン、エテキシル、及びジメチルアンモニウム）、ジカンバ及びその塩又はエステル（コリン塩、ビプロアミン、トロールアミン塩、ジグリコールアミン塩、ジメチルアンモニウム、ジオールアミン塩、イソプロピルアンモニウム、メチル、オールアミン塩、カリウム塩、ナトリウム塩、及びテトラブチルアンモニウム塩）、トリクロピル及びその塩又はエステル（ブトチル、エチル、及びトリエチルアンモニウム）、フルロキシピル及びその塩又はエステル（メプチル、及びブトメチル）、ピクロラム及びその塩（カリウム塩、トリス（２－ヒドロキシプロピル）アンモニウム塩、及びコリン塩）、キンクロラック、キンメラック、アミノピラリド及びその塩（コリン塩、カリウム塩、及びトリプロミン）、クロピラリド及びその塩（コリン塩、メチル、オールアミン塩、カリウム塩、トリス（２－ヒドロキシプロピル）アンモニウム、及びトリエチルアンモニウム塩）、クロメプロップ、アミノシクロピラクロール及びその塩（メチル、カリウム塩）、ハラウキシフェン、ハラウキシフェンメチル、フロルピラウキシフェン、フロルピラウキシフェンベンジル、ベナゾリンエチル、クロランベン、４－アミノ－３－クロロ－５－フルオロ－６－（７－フルオロ－１Ｈ－インドール－６－イル）ピリジン－２－カルボン酸、及び４－アミノ－３－クロロ－５－フルオロ－６－（７－フルオロ－１Ｈ－インドール－６－イル）ピリジン－２－カルボン酸シアノメチルエステル
（それらの農業上許容される塩、又は誘導体を含む）
からなる群であり、
　前記Ｂ－１０が、
　グリホサート、グリホサートコリン塩、グリホサートイソプロピルアンモニウム、グリホサートビプロアミン、グリホサートトリメシウム、グリホサートアンモニウム塩、グリホサートジアンモニウム塩、グリホサートジメチルアンモニウム塩、グリホサートモノエタノールアミン塩、グリホサートナトリウム塩、グリホサートカリウム塩、及びグリホサートグアニジン塩
（それらの農業上許容される塩、又は誘導体を含む）
からなる群であり、
　前記Ｂ－１１が、
　グルホシネート、グルホシネートアンモニウム塩、グルホシネートＰ、グルホシネートＰナトリウム塩、グルホシネートＰアンモニウム塩、及びビアラホス
（それらの農業上許容される塩、又は誘導体を含む）
からなる群であり、
　前記Ｂ－１２が、
　アクロニフェン、イソキサベン、ジクロベニル、タクストミンＡ、メチオゾリン、ジアレート、ブチレート、トリアレート、クロルプロファム、アシュラム、フェニソファム、ベンチオカーブ、モリネート、エスプロカルブ、ピリブチカルブ、プロスルホカルブ、オルベンカルブ、ＥＰＴＣ、ジメピペレート、スエップ、ジフェノクスロン、メチルダイムロン、ブロモブチド、ダイムロン、クミルロン、ジフルフェンゾピル、ジフルフェンゾピルナトリウム塩、ナプタラム、エトベンザニド、トリジファン、アミトロール、クロマゾン、ビクスロゾン、マレイン酸ヒドラジド、オキサジクロメホン、シンメチリン、ベンフレセート、ＡＣＮ、ダラポン、クロルチアミド、フルポキサム、ベンスリド、パラコート、パラコートジクロリド、ジクワット、ジクワットジブロミド、ＭＳＭＡ、インダジフラム、トリアジフラム、テトフルピロリメット、ジノセブ、ジノテルブ、ＤＮＯＣ、シクロエート、エトフメセート、フルプロパネート、ペブレート、ＴＣＡ、ＴＣＡアンモニウム、ＴＣＡカルシウム、ＴＣＡエタジル、ＴＣＡマグネシウム、ＴＣＡナトリウム、チオカルバジル、バーナレート、シクロピリモレート、ダゾメット、ジフェンゾコート、ジフェンゾコートメチルスルファート、ＤＳＭＡ、フランプロップＭ、フルレノール、ホサミン、メタム、オレイン酸、ペラルゴン酸、（２Ｒ，４Ｒ）－４－（｛［（５Ｓ）－３－（３，５－ジフルオロフェニル）－５－ビニル－４，５－ジヒドロイソオキサゾール－５－イル］カルボニル｝アミノ）テトラヒドロフラン－２－カルボン酸メチルエステル、（２Ｓ，４Ｓ）－４－（｛［（５Ｒ）－３－（３，５－ジフルオロフェニル）－５－ビニル－４，５－ジヒドロイソオキサゾール－５－イル］カルボニル｝アミノ）テトラヒドロフラン－２－カルボン酸メチルエステル、イカフォリンメチル（ＣＡＳ登録番号：２７４９９９８－２１－６）、１－｛２－クロロ－６－［（５－クロロピリミジン－２－イル）オキシ］フェニル｝－４，４，４－トリフルオロブタン－１－オン（ＣＡＳ登録番号：２０５２２９７－９７－７）、及びリミソキサフェン（ＣＡＳ登録番号：１８０１８６２－０２－１）
（それらの農業上許容される塩、又は誘導体を含む）
からなる群である、請求項１に記載の除草剤組成物。
　前記Ｂ－１が、
　ピリチオバック、ピリチオバックナトリウム塩、クロリムロンエチル、ホラムスルフロン、ハロスルフロンメチル、ニコスルフロン、プリミスルフロンメチル、リムスルフロン、トリフロキシスルフロンナトリウム塩、クロルスルフロン、ヨードスルフロンメチルナトリウム、イオフェンスルフロンナトリウム、メソスルフロンメチル、プロスルフロン、チフェンスルフロンメチル、トリベヌロンメチル、チエンカルバゾンメチル、クロランスラムメチル、フルメツラム、イマザメタベンズメチル、イマザモックスアンモニウム塩、イマザピックアンモニウム塩、イマザピルイソプロピルアンモニウム塩、イマザキンアンモニウム塩、及びイマゼタピルアンモニウム塩
（それらの農業上許容される塩、又は誘導体を含む）
からなる群である、請求項１に記載の除草剤組成物。
　前記Ｂ－２が、
　フェノキサプロップエチル、フェノキサプロップＰエチル、フルアジホップブチル、フルアジホップＰブチル、キザロホップエチル、キザロホップＰエチル、クレトジム、及びセトキシジム
（それらの農業上許容される塩、又は誘導体を含む）
からなる群である、請求項１に記載の除草剤組成物。
　前記Ｂ－３が、
　カルフェントラゾンエチル、サフルフェナシル、スルフェントラゾン、ピラフルフェンエチル、フルチアセットメチル、フルフェンピルエチル、フルミクロラックペンチル、フルミオキサジン、オキシフルオルフェン、アシフルオルフェンナトリウム塩、ホメサフェンナトリウム、ラクトフェン、チアフェナシル、トリフルジモキサジン、及びエピリフェナシル
（それらの農業上許容される塩、又は誘導体を含む）
からなる群である、請求項１に記載の除草剤組成物。
　前記Ｂ－４が、
　ビシクロピロン、メソトリオン、テンボトリオン、イソキサフルトール、フェンキノトリオン、トプラメゾン、トルピラレート、ランコトリオンナトリウム塩、２－メチル－Ｎ－（５－メチル－１，３，４－オキサジアゾール－２－イル）－３－（メタンスルホニル）－４－（トリフルオロメチル）ベンズアミド（ＣＡＳ登録番号：１４００９０４－５０－８）、２－クロロ－Ｎ－（１－メチル－１Ｈ－テトラゾール－５－イル）－３－（メチルチオ）－４－（トリフルオロメチル）ベンズアミド（ＣＡＳ登録番号：１３６１１３９－７１－０）、及び４－（４－フルオロフェニル）－６－［（２－ヒドロキシ－６－オキソ－１－シクロヘキセン－１－イル）カルボニル］－２－メチル－１，２，４－トリアジン－３，５（２Ｈ，４Ｈ）－ジオン（ＣＡＳ登録番号：１３５３８７０－３４－４）
（それらの農業上許容される塩、又は誘導体を含む）
からなる群である、請求項１に記載の除草剤組成物。
　前記Ｂ－５が、
　ノルフルラゾン及びフルリドン
（それらの農業上許容される誘導体を含む）
からなる群である、請求項１に記載の除草剤組成物。
　前記Ｂ－６が、
　ベンタゾン、ブロモキシニルオクタノエート、ジウロン、リニュロン、フルオメツロン、シマジン、アトラジン、アメトリン、プロメトリン、及びメトリブジン
（それらの農業上許容される塩、又は誘導体を含む）
からなる群である、請求項１に記載の除草剤組成物。
　前記Ｂ－７が、
　アラクロール、アセトクロール、メトラクロール、Ｓメトラクロール、ジメテナミド、ジメテナミドＰ、ピロキサスルホン、及びフルフェナセット
（それらの農業上許容される誘導体を含む）
からなる群である、請求項１に記載の除草剤組成物。
　前記Ｂ－８が、
　トリフルラリン、ペンディメタリン、及びエタルフルラリン
（それらの農業上許容される誘導体を含む）
からなる群である、請求項１に記載の除草剤組成物。
　前記Ｂ－９が、
　２，４－Ｄ、２，４－Ｄコリン塩、２，４－ＤＢ、ジカンバ、ジカンバビプロアミン、ジカンバジグリコールアミン塩、フルロキシピル、フルロキシピルメプチル、クロピラリドオールアミン塩、クロピラリドカリウム塩、クロピラリドトリエチルアンモニウム塩、ハラウキシフェン、ハラウキシフェンメチル、フロルピラウキシフェン、及びフロルピラウキシフェンベンジル
（それらの農業上許容される塩、又は誘導体を含む）
からなる群である、請求項１に記載の除草剤組成物。
　前記Ｂ－１０が、
　グリホサート、グリホサートイソプロピルアンモニウム、グリホサートアンモニウム塩、グリホサートジメチルアミン塩、グリホサートモノエタノールアミン塩、グリホサートカリウム塩、及びグリホサートグアニジン塩
（それらの農業上許容される塩、又は誘導体を含む）
からなる群である、請求項１に記載の除草剤組成物。
　前記Ｂ－１１が、
　グルホシネート、グルホシネートアンモニウム塩、グルホシネートＰ、及びグルホシネートＰナトリウム塩
（それらの農業上許容される塩、又は誘導体を含む）
からなる群である、請求項１に記載の除草剤組成物。
　前記Ｂ－１２が、
　ＥＰＴＣ、ジフルフェンゾピル、ジフルフェンゾピルナトリウム塩、クロマゾン、ビクスロゾン、シンメチリン、ＭＳＭＡ、パラコート、パラコートジクロリド、ジクワット、ジクワットジブロミド、テトフルピロリメット、及びリミソキサフェン
（それらの農業上許容される塩、又は誘導体を含む）
からなる群である、請求項１に記載の除草剤組成物。
　担体をさらに含有する、請求項１に記載の除草剤組成物。
　下記式（Ｉ）
［式中、
　Ｒ^１は水素原子、メチル基又はエチル基を表し、
　Ｒ^２は炭素数が１～３のアルキル基を表し、
　Ｒ^３は水素原子又は炭素数が１～３のアルキル基を表し、
　Ｒ^２とＲ^３とが互いに結合してＣ２－３アルキレン鎖を形成していてもよい。］
で表される１以上のウラシル化合物と、除草剤化合物Ｂ群からなる群より選ばれる１以上の化合物とを、雑草が発生している又は発生する場所に、同時又は順次処理する工程を有し、
　前記除草剤化合物Ｂ群は、以下のＢ－１～Ｂ－１２：
　Ｂ－１　アセト乳酸合成酵素阻害剤；
　Ｂ－２　アセチルＣｏＡカルボキシラーゼ阻害剤；
　Ｂ－３　プロトポルフィリノーゲンＩＸオキシダーゼ阻害剤；
　Ｂ－４　４－ヒドロフェニルピルビン酸ジオキシゲナーゼ阻害剤；
　Ｂ－５　フィトエンデサチュラーゼ阻害剤；
　Ｂ－６　光化学系ＩＩ阻害剤；
　Ｂ－７　超長鎖脂肪酸合成阻害剤；
　Ｂ－８　微小管形成阻害剤；
　Ｂ－９　オーキシン系除草剤；
　Ｂ－１０　エノールピルビルシキミ酸３－リン酸合成酵素阻害剤；
　Ｂ－１１　グルタミン合成酵素阻害剤；
　Ｂ－１２　その他の除草剤；
（それらの農業上許容される塩、又は誘導体を含む）
からなる群である、雑草の防除方法。
　前記ウラシル化合物と、前記除草剤化合物Ｂ群より選ばれる１以上の化合物との処理量の比が重量比で１：１０＾１５から１０＾１５：１である、請求項１６に記載の雑草の防除方法。
　雑草が発生している又は発生する場所が作物畑である、請求項１６又は１７に記載の雑草の防除方法。
　雑草を防除するための、請求項１～１５のいずれか１項に記載の除草剤組成物の使用。