WO2023214811A1 - 치수 파라미터들에 기초한 패턴 생성 방법 및 장치 - Google Patents

치수 파라미터들에 기초한 패턴 생성 방법 및 장치 Download PDF

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WO2023214811A1
WO2023214811A1 PCT/KR2023/006082 KR2023006082W WO2023214811A1 WO 2023214811 A1 WO2023214811 A1 WO 2023214811A1 KR 2023006082 W KR2023006082 W KR 2023006082W WO 2023214811 A1 WO2023214811 A1 WO 2023214811A1
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WO
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line
length
pattern
width
neck
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PCT/KR2023/006082
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English (en)
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안홍현
피비가타
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(주)클로버추얼패션
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    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A41—WEARING APPAREL
    • A41H—APPLIANCES OR METHODS FOR MAKING CLOTHES, e.g. FOR DRESS-MAKING OR FOR TAILORING, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • A41H3/00—Patterns for cutting-out; Methods of drafting or marking-out such patterns, e.g. on the cloth
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/048—Interaction techniques based on graphical user interfaces [GUI]
    • G06F3/0484—Interaction techniques based on graphical user interfaces [GUI] for the control of specific functions or operations, e.g. selecting or manipulating an object, an image or a displayed text element, setting a parameter value or selecting a range
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
    • G06T11/00—2D [Two Dimensional] image generation
    • G06T11/20—Drawing from basic elements, e.g. lines or circles
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
    • G06T19/00—Manipulating 3D models or images for computer graphics

Definitions

  • the embodiments below relate to methods and devices for creating patterns based on dimensional parameters.
  • a pattern block may refer to a pattern produced to match an existing clothing style. Pattern blocks can be commonly used to efficiently build new clothing styles while minimizing the need for pattern modifications and modifications. However, creating a pattern block library containing multiple pattern blocks may require a lot of time and resources.
  • a method of generating a pattern based on the dimensional parameters of a costume includes dimensional parameters - the dimensional parameters include pattern hem length, pattern height, across shoulder length, and shoulder slope length. , receiving - comprising at least one of Neck Depth, Neck Opening, Across Length, Across Chest Length, and Armhole Length; Generating a first line corresponding to the pattern hem based on the pattern hem length; generating a second line perpendicular to the first line based on the pattern height; Starting from the end point of the second line, generating a neck line based on at least one of shoulder width, shoulder slope length, neck depth, and neck width; And it may include generating a sleeve line based on at least one of armhole length, width length, and chest width length.
  • the pattern height may include at least one of the High Point Shoulder (HPS) length and the center height.
  • HPS High Point Shoulder
  • the step of creating a neck line includes, when the second line is created based on the high point shoulder length, moving a first distance based on the neck width in a first direction, and moving the neck line a first distance based on the neck depth in a second direction. creating the center point of the neck line at a position moved by a second distance; and generating a neck line based on the center point.
  • the step of generating the neck line includes, when the second line is created based on the center height, moving a first distance based on the neck width in the first direction, and performing a second line based on the neck depth in the second direction. Creating an end point of the neck line in contact with the shoulder line at a position moved by the distance; and generating a neck line based on the end point.
  • the width of the body may vary based on the distance from the high point shoulder.
  • the step of creating a sleeve line includes starting from the end point of the neck line and creating a third line corresponding to the shoulder slope line; and starting from the end point of the third line, creating a sleeve line based on at least one of the armhole length, width length, and chest width length.
  • the step of creating a sleeve line starts from the end point of the third line, moves a distance determined based on the shoulder width and chest width in the first direction, and then moves the shoulder width and chest width in the second direction. Creating an end point of the sleeve line at a distance moved by a distance determined based on the width of the body and the armhole length; and generating a sleeve line based on the endpoint.
  • the pattern creation method is to determine the distance from the armhole to the opposite armhole based on the length of the received line and the pattern height when the chest width is received as the length of a line located a certain distance away from the armhole. estimating step; verifying the estimated distance based on the armhole length; and re-estimating the distance from the armhole to the opposite armhole according to the verification result, or determining the estimated distance as the chest width.
  • the pattern generation method may further include the step of adjusting the curvature of the line of the pattern - the line of the pattern includes at least one of a neck line and a sleeve line - using at least one control point.
  • adjusting the curvature may include checking whether an angular constraint is satisfied using at least one control point.
  • the angle constraint condition may include a constraint condition such that a straight line created when at least one control point enters one end point of a line of the pattern and an outline meeting the end point of the line of the pattern are orthogonal to each other.
  • the pattern generating method may further include the step of adjusting the length of the line of the pattern - the line of the pattern includes at least one of a neck line and a sleeve line - using at least one control point.
  • adjusting the length may include checking whether a length constraint is satisfied using at least one control point.
  • the length restriction condition may include a restriction condition such that the length of at least a portion of another pattern combined with the pattern is the same as the length of the line of the pattern.
  • a method of generating a pattern based on dimensional parameters of a garment includes receiving dimensional parameters, wherein the dimensional parameters include at least one of a sleeve hem length, a sleeve length, a cap height, a bicep width, and a cap width. step; generating a fourth line based on the sleeve hem length; generating a fifth line perpendicular to the fourth line based on the sleeve length; And starting from the end point of the fifth line, generating a cap line based on at least one of cap height and bicep width.
  • the step of generating the cap line starts from the end point of the fifth line, moves a distance determined based on the bicep width in the first direction, and moves the position a distance determined based on the cap height in the second direction. determining as the endpoint of the cap line; and generating a cap line based on the endpoint.
  • the pattern generation method may further include checking whether length constraints for the length of the sleeve line and the length of the cap line are met.
  • the simulation device includes a processor, and the processor includes dimensional parameters - the dimensional parameters include pattern hem length, pattern height, shoulder width, shoulder slope length, neck depth, neck width, width, width of the chest. and at least one of an armhole length, generating a first line corresponding to the pattern hem based on the pattern hem length, and generating a second line perpendicular to the first line based on the pattern height; Starting at the endpoint of the second line, create a neck line based on at least one of the shoulder width, shoulder slope length, neck depth, and neck width, and a sleeve based on at least one of the armhole length, width of the body, and chest width. Lines can be created.
  • the simulation device includes a processor, the processor configured to receive dimensional parameters, wherein the dimensional parameters include at least one of a sleeve hem length, a sleeve length, a cap height, a bicep width, and a cap width, Create a fourth line based on the hem length, create a fifth line perpendicular to the fourth line based on the sleeve length, and starting from the endpoint of the fifth line, based on at least one of the cap height and the bicep width.
  • Cap lines can be created.
  • the pattern creation method allows users to easily and quickly create a pattern block library containing a plurality of pattern blocks.
  • patterns can be created by inputting only some of the dimension parameters among the numerous dimensions used in clothing design, so even beginners can easily use the clothing simulation program. , you can design clothes.
  • FIG. 1 is a flowchart illustrating a method for generating a pattern based on dimensional parameters according to an embodiment.
  • Figure 2 is a flowchart for explaining a method for generating a pattern corresponding to a first pattern block according to an embodiment.
  • FIG. 3 is a diagram for explaining dimensional parameters corresponding to a first pattern block according to an embodiment.
  • Figures 4A and 4B are diagrams for explaining the process of creating a neck line according to one embodiment.
  • Figures 5A and 5B are diagrams for explaining the process of creating a sleeve line according to an embodiment.
  • Figure 6 is a diagram for explaining a method of calculating the distance between armholes according to one embodiment.
  • Figure 7 is a flowchart illustrating a method for generating a pattern corresponding to a second pattern block according to an embodiment.
  • FIG. 8 is a diagram for explaining dimensional parameters corresponding to a second pattern block according to an embodiment.
  • Figure 9 is a diagram for explaining a process for generating a cap line according to an embodiment.
  • FIG. 10 is a diagram illustrating a user interface through which dimensional parameters corresponding to a first pattern block can be input, according to an embodiment.
  • Figure 11 is a block diagram for explaining a simulation device according to various embodiments.
  • first or second may be used to describe various components, but these terms should be understood only for the purpose of distinguishing one component from another component.
  • a first component may be named a second component, and similarly, the second component may also be named a first component.
  • FIG. 1 is a flowchart illustrating a method for generating a pattern based on dimensional parameters according to an embodiment.
  • the simulation device 1100 may receive dimensional parameters (110).
  • the dimension parameter may include multiple garment dimensions. Dimensional parameters may include details of the garment. Additionally, the dimensional parameters may be values listed in the Garment Specification Sheet or Measurement Table.
  • the simulation device 1100 may determine the positions of points that serve as standards for pattern creation based on dimensional parameters.
  • Dimensional parameters may refer to garment dimensions. Therefore, the simulation device 1100 can create a point at a position moved by a distance determined based on the clothing dimensions, and can also create a line by connecting the points.
  • Dimensional parameters may vary depending on the pattern block.
  • the dimension parameters are pattern hem length, pattern height, shoulder width, shoulder slope length, neck depth, neck width, width, chest width (e.g. It may include at least one of a length corresponding to half of the chest circumference) and an armhole length.
  • the above-described dimension parameters are only examples, and some dimension parameters may be omitted or other dimension parameters may be added.
  • the dimensional parameters may include at least one of sleeve hem length, sleeve length, cap height, bicep width, and cap width. In this way, dimensional parameters may vary depending on the pattern block.
  • Pattern blocks can exist not only for T-shirts, but also for patterns of other clothing such as pants and skirts.
  • the simulation device 1100 may generate a pattern (130) by creating a straight line or curve connecting points whose positions have been determined.
  • the simulation device 1100 may generate a plurality of lines based on the positions of points determined based on dimensional parameters.
  • the simulation device 1100 may generate a pattern by determining at least some of the plurality of lines as outlines of the pattern. At this time, the line can be a straight line, a curve, or a combination of these.
  • the simulation device 1100 may generate a pattern through steps 110, 120, and 130, and steps 110, 120, and 130 may vary depending on the pattern block. there is. A specific pattern generation method according to a pattern block will be described in detail later with reference to the drawings.
  • Figure 2 is a flowchart for explaining a method for generating a pattern corresponding to a first pattern block according to an embodiment.
  • the first pattern block may be a t-shirt front pattern.
  • the simulation device 1100 has dimensional parameters - the dimensional parameters include pattern hem length, pattern height, across shoulder length, shoulder slope length, and neck depth. , including at least one of neck width (Neck Opening), Across Length, Across Chest Length, and Armhole Length - can be received (210).
  • the simulation device 1100 may receive input of dimension parameters from the user through the user interface shown in FIG. 10 .
  • the pattern hem length may include, for example, a hem sweep. Sweep can refer to the hem circumference or hem length of a skirt, dress, coat, or jacket. When described with reference to FIG. 3 , the length of the pattern bottom may correspond to the length of the line 310.
  • Pattern height can refer to the length starting from the hem of the pattern to the center of the high point shoulder or neck line of the pattern. 3 , if the distance from the bottom of the pattern to the high point shoulder of the pattern is the pattern height, the pattern height may correspond to the length of the line 320. High Point Shoulder (HPS) length can refer to the distance starting from the hem of the pattern to the high point shoulder of the pattern. For another example, if the pattern height is the length from the bottom of the pattern to the center of the neck line, the pattern height may correspond to the length of the line 321. Center height may refer to the length starting from the hem of the pattern to the center of the neck line.
  • HPS High Point Shoulder
  • Shoulder width may refer to the horizontal length from the left shoulder to the tip of the right shoulder. If explained with reference to FIG. 3, the shoulder width may correspond to the length of the line 340.
  • the shoulder slope length may be a length related to the shoulder slope line.
  • shoulder slope length may mean shoulder slope height.
  • the shoulder slope length may correspond to the length of the line 350 .
  • the shoulder slope length may be the shoulder slope height.
  • Neck depth may refer to the distance between the center of the neck line and line 330 of FIG. 3. Referring to Figure 3, the neck depth may correspond to the length of the line 331.
  • Neck width may mean the horizontal distance from the end point of the left neck line to the end point of the right neck line. If explained with reference to FIG. 3, the neck width may correspond to the length of the line 330.
  • Product length may refer to the length connecting one point on the left sleeve line and one point on the right sleeve line.
  • the width may be Across Front length
  • the width may be Across Back length.
  • the simulation device 1100 may generate a pattern using at least one of the lengths of the line 360, the line 361, and the line 362.
  • the chest width may be a length determined based on the distance between the left armhole and the right armhole. If explained with reference to FIG. 3, the chest width may be one of the lengths of line 370 and line 371.
  • the simulation device 1100 may generate a pattern using at least one of the lengths of the line 370 and the line 371.
  • Line 371 may be a line located 1 inch below the armhole.
  • Armhole length may refer to the length of a straight line connecting both end points of one sleeve line. When described with reference to FIG. 3, the armhole length may correspond to the length of the line 380.
  • the simulation device 1100 may generate (220) a first line that is the hem of the pattern based on the length of the hem of the pattern.
  • the first line generated by the simulation device 1100 may correspond to the line 310.
  • the simulation device 1100 may generate (230) a second line perpendicular to the first line based on the pattern height.
  • the second line may correspond to at least one of the line 320 and the line 321 .
  • the simulation device 1100 starts from the end point of the second line and generates (240) a neck line based on at least one of shoulder width, shoulder slope length, neck depth, and neck width. You can. The specific process of creating the neck line will be described later with reference to FIGS. 4A and 4B.
  • the simulation device 1100 may generate a sleeve line (250) based on at least one of the armhole length, width of the body, and length of the chest. The specific process of creating the sleeve line will be described in detail later with reference to FIGS. 5A and 5B.
  • FIG. 3 is a diagram for explaining dimensional parameters corresponding to a first pattern block according to an embodiment.
  • Figures 4a and 4b are diagrams for explaining the process of creating a neck line according to one embodiment.
  • the simulation device 1100 may generate a neck line starting from the end point of the second line.
  • the simulation device 1100 creates a point at a certain distance away from the end point of the second line using at least one of the shoulder width, shoulder slope length, neck depth, and neck width, and connects the points to create a neck width. Lines can be created.
  • the simulation device 1100 may determine the positions of points for creating the neck line starting from the end point 440 of the second line.
  • the second line may be created based on the high point shoulder length.
  • the simulation device 1100 moves in the first direction by a first distance 472 based on the neck width, and moves the center point 430 of the neck line to a position moved by a second distance 471 based on the neck depth in the second direction. can be created.
  • the first direction may be understood as one of the two directions of the x-axis
  • the second direction may be understood as one of the two directions of the y-axis. Movement in the first direction and movement in the second direction may be performed regardless of order.
  • the simulation device 1100 may generate a neck line by connecting the center point 430 and the end point 440 of the second line.
  • the neck line may be straight, curved, or a combination thereof.
  • the first distance may be, for example, the neck width multiplied by a coefficient. At this time, the coefficient may be a value between 0 and 1.
  • the second distance may be, for example, the throat depth multiplied by a coefficient. At this time, the coefficient may be a value between 0 and 1, and may have a range with 0 as the lower limit and a value exceeding the lower limit (e.g., a value greater than 1) as the upper limit.
  • the simulation device 1100 may start from the center point 430 of the neck line and determine the positions of points for generating the neck line.
  • the second line may be created based on the center height.
  • the simulation device 1100 moves a first distance 450 based on the neck width in the first direction, and moves the shoulder line to a position moved a second distance 451 based on the neck depth in the second direction.
  • the end point 410 of the neck line in contact with can be created.
  • the simulation device 1100 may create a neck line by connecting the end point 410 of the second line and the center point 430 of the neck line.
  • the neck line may be straight, curved, or a combination thereof.
  • the simulation device 1100 may adjust the curvature of the line of the pattern using at least one control point (411, 431).
  • the line of the pattern may include at least one of a neck line and a sleeve line.
  • the simulation device 1100 may check whether an angular constraint is satisfied by using at least one control point to control the curvature of the line of the pattern.
  • the angle constraint condition may include a constraint condition such that a straight line created when at least one control point enters one end point of a line of the pattern and an outline meeting the end point of the line of the pattern are orthogonal to each other.
  • the angle constraint condition is a restriction that the straight line entering from the control point 411 to the end point 410 of the neck line and the outline (e.g., shoulder slope line) meeting the end point 410 of the neck line meet at a right angle.
  • Conditions may be included.
  • the angle constraint condition is that a straight line entering from the control point 431 to the center point 430 of the neck line and the second line 321, which has the center point 430 of the neck line as one end point, meet at a right angle. Constraints that allow it to be used may be included.
  • the simulation device 1100 is a straight line that can be created by at least one control point entering one end point of a line of the pattern (e.g., a tangent that the control point can create on the line of the pattern) and the end point of the line of the pattern. It can be determined whether the angle constraint condition that ensures that the outlines that meet and are orthogonal to each other is satisfied.
  • the simulation device 1100 can satisfy the angle limitation condition by adjusting the positions of the control points 411 and 431.
  • the simulation device 1100 may adjust the positions of the control points 411 and 431 by receiving an input regarding the movement of the control points 411 and 431 from the user. Through this, the simulation device 1100 can output as a simulation result a result in which the neck line is naturally connected in a situation where the front T-shirt pattern and the back pattern of the T-shirt are combined.
  • the simulation device 1100 may adjust the curvature and length of the curve including the control point in response to adjusting the position of the control point.
  • the simulation device 1100 may adjust the length of the pattern line using at least one control point to satisfy a length constraint.
  • the line of the pattern may include at least one of a neck line and a sleeve line.
  • the length restriction condition may include a restriction condition such that the length of at least a portion of another pattern combined with the pattern is the same as the length of the line of the pattern.
  • a restriction condition such that the length of at least a portion of another pattern combined with the pattern is the same as the length of the line of the pattern.
  • the simulation device 1100 can adjust at least one of the lengths of the sleeve line and the cap line using the adjustment point so that the length of the sleeve line and the length of the cap line are the same.
  • Figures 5a and 5b are diagrams for explaining the process of creating a sleeve line according to an embodiment.
  • the simulation device 1100 may generate a sleeve line starting from the end point 570 of the neck line.
  • the simulation device 1100 may start from the end point 570 of the neck line and generate a third line 520 corresponding to the shoulder slope line.
  • the simulation device 1100 starts from the end point 510 of the third line, a line 380 corresponding to the armhole length, lines 360, 361, and 362 corresponding to the width of the body, and the length of the chest width.
  • a sleeve line can be created based on at least one of the corresponding lines 370 and 371.
  • the simulation device 1100 starts from the end point 570 of the neck line and determines the line 330 corresponding to the neck width and the line 340 corresponding to the shoulder width in the first direction.
  • the end point 510 of the third line is moved by a distance 571 and moved by a distance 572 determined based on the line 350 corresponding to the neck depth 231 and the shoulder slope height in the second direction (e.g. , armhole) can be created.
  • the distance 571 may be a value obtained by subtracting the length of the line 330 corresponding to the neck width from the length of the line 340 corresponding to the shoulder width and dividing it by 2.
  • the distance 572 may be the neck depth 231 minus the length of the line 350 corresponding to the shoulder slope height.
  • the simulation device 1100 may generate a point at a position moved from the end point 510 of the third line by an amount equal to the calculated value multiplied by a certain coefficient.
  • the length of the lines 360, 361, and 362 corresponding to the width of the body may vary based on the distance from the high point shoulder (eg, the end point 570 of the neck line).
  • the width of the body is the length of a line (e.g., the length of a line segment) perpendicular to the line 320 (or line 321) with one point on the left sleeve line and one point on the right sleeve line as both end points, The sleeve line is curved. Accordingly, the width of the body of the present disclosure may vary based on the distance from the high point shoulder.
  • the length of the line 360 corresponding to the width of the body may be the length of a line located at a distance of 4 inches from the high point shoulder and perpendicular to the line 320 (or line 321).
  • the length of line 361 may be the length of a line located at a distance of 5 inches from the high point shoulder and perpendicular to line 320 (or line 321).
  • the length of line 362 may be the length of a line located at a distance of 6 inches from the high point shoulder and perpendicular to line 320 (or line 321).
  • the simulation device 1100 may generate a sleeve line using at least one of the lines 360, 361, and 362 corresponding to the length of the sleeve.
  • the simulation device 1100 starts from the end point 510 of the third line and moves in the first direction to the line 340 corresponding to the shoulder width length and the lines 370 and 371 corresponding to the chest width length. After moving by the distance 590 determined based on the line 340 corresponding to the shoulder width, the lines 370, 371 corresponding to the chest width, and the line 380 corresponding to the armhole length in the second direction.
  • the end point of the sleeve line can be created at a distance moved by the distance 591 determined based on it.
  • the distance 591 may be a value obtained by subtracting the length of the line 340 corresponding to the shoulder width from the length of the line 370 corresponding to the chest width and dividing it by 2.
  • the distance 590 may be the square root of the square of the distance 591 minus the square of the length of the line 380 corresponding to the armhole length.
  • the simulation device 1100 may create the end point 530 of the sleeve line at a location distant from the end point 510 of the third line by a value equal to the calculated value multiplied by the coefficient.
  • the simulation device 1100 may create a sleeve line by connecting the end point 530 of the sleeve line and the end point 510 of the third line.
  • the simulation device 1100 creates the armhole 530 and the armhole ( 540), the length of the line 370 corresponding to the chest width, which is the distance between them, can be calculated.
  • the armhole 530 and armhole 540 in FIG. 5A refer to one end point of the armhole, and the length of the shortest line segment between each end point is referred to as the distance between the armhole 530 and the armhole 540.
  • the line 371 corresponding to the chest width may be a line located a certain distance away from the armhole 530.
  • the line 371 corresponding to the chest width may be a line located 1 inch below the armhole 530 and perpendicular to the line 320 (or line 321).
  • the simulation device 1100 may determine the position of the end point 530 of the slab line using the length of the line 370 corresponding to the calculated chest width.
  • the simulation device 1100 may adjust the curvature of the line of the pattern using at least one control point 511 or 531 to satisfy the angle limitation condition.
  • the line of the pattern may include at least one of a neck line and a sleeve line.
  • the angle constraint condition may include a constraint condition such that a straight line entering from the control point 511 to the end point 510 of the third line and the third line 520 meet at a right angle.
  • the angle constraint condition may include a constraint condition such that a straight line entering from the control point 531 to the end point 530 of the sleeve line and the line 560 meet at a right angle.
  • the simulation device 1100 can satisfy the angle limitation condition by adjusting the positions of the control points 511 and 531.
  • the simulation device 1100 may adjust the positions of the control points 511 and 531 by receiving an input regarding the movement of the control points 511 and 531 from the user. Through this, the simulation device 1100 can output as a simulation result a result in which the sleeve line is naturally connected in a situation where the T-shirt front pattern and the T-shirt back pattern are combined.
  • Figure 6 is a diagram for explaining a method of calculating the distance between armholes according to one embodiment.
  • the simulation device 1100 estimates the length of the line 370, which is the distance between armholes, based on the length of the line 371. You can.
  • the length of the estimated line 370 may be the length of the chest width.
  • the simulation device 1100 may estimate the distance of the line 370 based on the length of the line 371 and the pattern height.
  • the simulation device 1100 may verify the distance of the line 370 estimated based on the armhole length.
  • the simulation device 1100 may re-estimate the length of the line 370 according to the verification result, or determine the estimated distance of the line 370 as the chest width.
  • the simulation device 1100 may not be able to calculate the distance 590 and the distance 591. Accordingly, since the simulation device 1100 does not have information about the distance 590 and the distance 591, it may not be able to determine the position of the point 530 necessary for creating the sleeve line.
  • the simulation device 1100 can estimate the distance 610 from the bottom of the pattern to the line 371 within a certain range.
  • the distance 610 may be the median value.
  • the simulation device 1100 can calculate the distance from the bottom of the pattern to the line 370. This may be because the lines 370 and 371 are separated by a certain distance. For example, line 370 and line 371 may be separated by 1 inch.
  • the simulation device 1100 may estimate the length of the line 370 based on the distance 610 and the length of the line 371.
  • the simulation device 1100 may calculate the distance 590 and the distance 591 based on the estimated length of the line 370.
  • the simulation device 1100 may calculate the length of the line 380 corresponding to the armhole length based on the distance 590 and the distance 591.
  • the simulation device 1100 may determine whether to recalculate the length of the line 370 based on the difference between the armhole length included in the received dimension parameter and the calculated armhole length (length of the line 380). For example, if the difference between the armhole length included in the dimension parameter and the calculated armhole length (length of line 380) is within the allowable range, the simulation device 1100 divides the estimated length of line 370 into the armhole and armhole length. It can be determined by the distance between them.
  • the simulation device 1100 adjusts the distance 610 from the bottom of the pattern to the line 371 to the readjusted range (e.g., if the certain range is [l, pattern height], the readjusted range is [ After determining [median value + C, pattern height]), the length of the line 370 can be estimated again. If the difference is below a certain standard, the simulation device 1100 adjusts the distance 610 from the bottom of the pattern to the line 371 to the readjusted range (e.g., if the certain range is [1, pattern height], the readjusted range is [ 1, median - C]), the length of the line 370 can be estimated again.
  • C can be any number. This method may use binary search.
  • Figure 7 is a flowchart illustrating a method for generating a pattern corresponding to a second pattern block according to an embodiment.
  • the simulation device 1100 may receive different dimensional parameters depending on the pattern block.
  • the second pattern block may be a sleeve pattern, and there may be dimensional parameters corresponding to the sleeve pattern.
  • the simulation device 1100 may receive 710 dimensional parameters, the dimensional parameters including at least one of sleeve hem length, sleeve length, cap height, bicep width, and cap width.
  • the sleeve hem length may refer to the hem length of the sleeve and may correspond to the length of line 810 in FIG. 8.
  • Sleeve length may refer to the length from the hem of the sleeve to the center point of the cap, and may correspond to the length of line 820 in FIG. 8.
  • the cap height may refer to the length from the line 850 indicating the width of the biceps to the center point of the cap, and may correspond to the line 830 in FIG. 8.
  • the bicep width may refer to the circumference length of the sleeve surrounding a person's arm, and may correspond to lines 850 and 851 in FIG. 8.
  • the cap width may refer to the length of a straight line connecting one point of the cap line and a point on the opposite side, and may correspond to line 840 in FIG. 8.
  • the simulation device 1100 may generate a fourth line (720) based on the length of the hem of the sleeve.
  • the simulation device 1100 may generate (730) a fifth line perpendicular to the fourth line based on the sleeve length.
  • the simulation device 1100 may start from the end point of the fifth line and generate a cap line (Cap Line) based on at least one of the cap height and the bicep width (740).
  • FIG. 8 is a diagram for explaining dimensional parameters corresponding to a second pattern block according to an embodiment.
  • Figure 9 is a diagram for explaining a process for generating a cap line according to an embodiment.
  • the simulation device 1100 may generate the fourth line 810 based on the length of the hem of the sleeve.
  • the simulation device 1100 may generate a fifth line 820 perpendicular to the fourth line 810 based on the sleeve length.
  • the fifth line 820 may refer to the fourth line 810 and a line that intersects perpendicularly at the center point of the fourth line 810.
  • the simulation device 1100 starts from the end point 910 of the fifth line, moves a distance determined based on the bicep width in the first direction, and moves a distance determined based on the cap height in the second direction.
  • a location can be determined as the endpoint 930 of the cap line.
  • the simulation device 1100 may move a distance corresponding to half the width of the biceps in the first direction and determine a position moved by the height of the cap in the second direction as the end point 930 of the cap line.
  • the simulation device 1100 may generate a line 840 having the received cap width.
  • the simulation device 1100 may generate a cap line by connecting the end point of the line 840, the end point 930 of the cap line, and the end point 910 of the fifth line.
  • the simulation device 1100 may receive the length of the line 851 rather than the length of the line 850 while receiving the dimensional parameters. In this case, the simulation device 1100 may estimate the length of the line 850 based on the length of the line 851.
  • the method for estimating the length of the line 850 may be the same or similar to that described above in FIG. 6 . This means that the simulation device 1100 estimates the distance between the line 810 and the line 851 within a certain range based on the fact that the line 850 and the line 851 are separated by a certain distance (e.g., 1 inch), and finally, the line 851 is This may be a process for calculating the length of (810).
  • the simulation device 1100 may use the control points 911 and 931 to satisfy the angle constraint condition and the length constraint condition in the same or similar manner as the first pattern block.
  • the simulation device 1100 may adjust the position of the control point 910 so that the straight line entering the control point 910 from the control point 911 and the line 830 are perpendicular.
  • the simulation device 1100 positions the control point 951 so that the straight line entering the control point 930 from the control point 931 and the line 950 are perpendicular to the angle limit condition. can be adjusted.
  • the simulation device 1100 can also adjust the length of the cap line by adjusting the control point, so it can also satisfy the length restriction condition.
  • the simulation device 1100 may adjust the positions of the control points 911 and 931 to match the length of the sleeve line of the first pattern block and the length of the cap line of the second pattern block.
  • FIG. 10 is a diagram illustrating a user interface through which dimensional parameters corresponding to a first pattern block can be input, according to an embodiment.
  • (Neck Drop) (1072), neck width (Neck Opening) (1073), center height (1074), side seam (1075), width (1076), and armhole length (1077) are shown.
  • the above-described configuration is only an example, and some configurations may be omitted or other configurations may be added to the user interface.
  • the simulation device 1100 may receive a selection input for a T-shirt 1011 from the pattern block major category 1010. In this case, the simulation device 1100 may output a pattern block subcategory 1030 object related to the T-shirt 1011 on the screen. Pattern blocks related to the T-shirt 1011 may include basic, basic+, raglan, knit (ribbing), etc. When the simulation device 1100 receives a selection input for basic, the simulation device 1100 may output a pattern block corresponding to the T-shirt basic to the pattern block shape 1050 area.
  • the simulation device 1100 may receive user input of a plurality of dimension parameters through the dimension parameter 1070 area.
  • the area corresponding to the selected dimension parameter may be displayed to be identified from other areas in the pattern block shape 1050.
  • the color, transparency, etc. of other parts of the pattern block may vary.
  • the simulation device 1100 may receive them and generate a pattern.
  • the simulation device 1100 may receive dimension parameters and generate a point list and point type list based on the dimension parameters and pattern information.
  • a point may mean a point necessary to create a pattern.
  • a point list may refer to a set of points required to create a pattern.
  • Point type may refer to the type of points needed to create a pattern.
  • the point type may correspond to a type indicating which points are needed to create the corresponding pattern.
  • the point type list may mean a set of types of points required to create a pattern.
  • the simulation device 1100 can automatically generate a pattern corresponding to the automatically input dimensions based on dimension parameters and pattern information.
  • the pattern information may include information determined based on at least one of the pattern type, half complete, and symmetry type.
  • the type of pattern may refer to the type of pattern being created. For example, if the pattern is a top pattern, the type of pattern may include a top pattern, a top pattern, a sleeve pattern, a neck line pattern, etc. Whether to half or not may refer to whether the received numerical parameter is a numerical parameter for an area corresponding to half of the pattern.
  • the simulation device 1100 may generate half of the pattern.
  • the simulation device 1100 can create a pattern by duplicating the symmetrical pattern or expanding it to a symmetrical pattern using half of the pattern. This may be determined depending on whether to display only half of the pattern to be generated in the user interface provided by the simulation device 1100 (eg, depending on whether half is selected).
  • the symmetrical type may mean the symmetrical type of the pattern, and the simulation device 1100 may generate the symmetrical pattern in an unfolded state based on the symmetry line.
  • Figure 11 is a block diagram for explaining a simulation device according to various embodiments.
  • the simulation device 1100 may be a server.
  • the simulation device 1100 according to another embodiment may be a user terminal (eg, mobile device, desktop, laptop, personal computer, etc.).
  • the simulation device 1100 may include a user interface 1110, a processor 1130, a display 1150, and a memory 1170.
  • User interface 1110, processor 1130, display 1150, and memory 1170 may be connected to each other through a communication bus 1105.
  • User interface 1110 receives user input for each of the dimensional parameters.
  • Display 1150 displays simulation results generated by processor 1130.
  • the simulation device 1100 may output the user interface shown in FIG. 10.
  • the memory 1170 may store the generated simulation results. In addition, the memory 1170 can store various information generated during the processing of the processor 1130 described above. In addition, the memory 1170 can store various data and programs. Memory 1170 may include volatile memory or non-volatile memory. The memory 1170 may be equipped with a high-capacity storage medium such as a hard disk to store various data.
  • the processor 1130 may perform at least one method or an algorithm corresponding to at least one method described above with reference to FIGS. 1 to 10 .
  • the processor 1130 may be a data processing device implemented in hardware that has a circuit with a physical structure for executing desired operations.
  • the intended operations may include code or instructions included in the program.
  • the processor 1130 may be comprised of, for example, a Central Processing Unit (CPU), a Graphics Processing Unit (GPU), or a Neural Network Processing Unit (NPU).
  • CPU Central Processing Unit
  • GPU Graphics Processing Unit
  • NPU Neural Network Processing Unit
  • the simulation device 1100 implemented in hardware may include a microprocessor, a central processing unit, a processor core, a multi-core processor, and a multiprocessor ( multiprocessor), ASIC (Application-Specific Integrated Circuit), and FPGA (Field Programmable Gate Array).
  • the processor 1130 can execute a program and control the simulation device 1100.
  • Program code executed by the processor 1130 may be stored in the memory 1170.
  • the method according to the embodiment may be implemented in the form of program instructions that can be executed through various computer means and recorded on a computer-readable medium.
  • the computer-readable medium may include program instructions, data files, data structures, etc., singly or in combination.
  • Program instructions recorded on the medium may be specially designed and configured for the embodiment or may be known and available to those skilled in the art of computer software.
  • Examples of computer-readable recording media include magnetic media such as hard disks, floppy disks, and magnetic tapes, optical media such as CD-ROMs and DVDs, and magnetic media such as floptical disks.
  • program instructions include machine language code, such as that produced by a compiler, as well as high-level language code that can be executed by a computer using an interpreter, etc.
  • the hardware devices described above may be configured to operate as one or more software modules to perform the operations of the embodiments, and vice versa.
  • Software may include a computer program, code, instructions, or a combination of one or more of these, which may configure a processing unit to operate as desired, or may be processed independently or collectively. You can command the device.
  • Software and/or data may be used on any type of machine, component, physical device, virtual equipment, computer storage medium or device to be interpreted by or to provide instructions or data to a processing device. It can be embodied permanently or temporarily.
  • Software may be distributed over networked computer systems and stored or executed in a distributed manner.
  • Software and data may be stored on one or more computer-readable recording media.

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Abstract

일 실시예에 따르면 패턴 생성 방법은 치수 파라미터들을 수신하는 단계; 치수 파라미터들에 기초하여 패턴 생성의 기준이 되는 점들의 위치를 결정하는 단계; 및 위치가 결정된 점들을 연결하는 직선 또는 곡선을 생성함으로써 패턴을 생성하는 단계를 포함할 수 있다.

Description

치수 파라미터들에 기초한 패턴 생성 방법 및 장치
아래 실시예들은 치수 파라미터들에 기초한 패턴 생성 방법 및 장치들에 관한 것이다.
새로운 의상을 쉽게 디자인하기 위하여 많은 기업이나 개인들은 복수의 패턴 블록들(Pattern Blocks)을 포함하는 패턴 블록 라이브러리(Pattern Block Library)를 보유하고 있다. 패턴 블록은 기존에 제작된 의복 스타일에 맞게 제작된 패턴을 의미할 수 있다. 패턴 블록은 패턴 수정 및 수정의 필요성을 최소화하면서 새로운 의상 스타일을 효율적으로 구축하는 데 일반적으로 사용될 수 있다. 하지만 복수의 패턴 블록들을 포함하는 패턴 블록 라이브러리를 생성하는 일은 많은 시간과 자원이 필요할 수 있다.
이러한 패턴 블록 라이브러리 생성을 원활하게 하기 위하여, 디자이너(Designer)나 테크니컬 디자이너(Technical Designer)로 하여금 패턴 블록 생성 과정을 쉽게 만들 필요가 존재할 수 있다.
전술한 배경기술은 발명자가 본원의 개시 내용을 도출하는 과정에서 보유하거나 습득한 것으로서, 반드시 본 출원 전에 일반 공중에 공개된 공지기술이라고 할 수는 없다.
일 실시예에 따르면 의상의 치수 파라미터에 기초하여 패턴을 생성하는 방법은 치수 파라미터들- 치수 파라미터들은 패턴 밑단(Hem) 길이, 패턴 높이, 어깨 품(Across Shoulder) 길이, 어깨 경사(Shoulder Slope) 길이, 목 깊이(Neck Depth), 목 너비(Neck Opening), 품(Across) 길이, 가슴 품(Across Chest) 길이 및 암홀(Armhole) 길이 중 적어도 하나를 포함하는-을 수신하는 단계; 패턴 밑단(Hem) 길이에 기초하여 패턴 밑단에 대응하는 제1 선을 생성하는 단계; 패턴 높이에 기초하여 제1 선에 수직인 제2 선을 생성하는 단계; 제2 선의 끝점에서 시작하여, 어깨 품 길이, 어깨 경사 길이, 목 깊이 및 목 너비 중 적어도 하나에 기초하여 목 라인(Neck Line)을 생성하는 단계; 및 암홀 길이, 품 길이 및 가슴 품 길이 중 적어도 하나에 기초하여 슬리브 라인(Sleeve Line)을 생성하는 단계를 포함할 수 있다.
일 실시예에 따르면 패턴 높이는 하이 포인트 숄더(High Point Shoulder, HPS) 길이 및 중심(Center) 높이 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.
일 실시예에 따르면 목 라인을 생성하는 단계는 제2 선이 하이 포인트 숄더 길이에 기초하여 생성된 경우, 제1 방향으로 목 너비에 기초한 제1 거리만큼 이동하고, 제2 방향으로 목 깊이에 기초한 제2 거리만큼 이동한 위치에 목 라인의 중심점을 생성하는 단계; 및 중심점을 기초로 목 라인을 생성하는 단계를 포함할 수 있다.
일 실시예에 따르면 목 라인을 생성하는 단계는 제2 선이 중심 높이에 기초하여 생성된 경우, 제1 방향으로 목 너비에 기초한 제1 거리만큼 이동하고, 제2 방향으로 목 깊이에 기초한 제2 거리만큼 이동한 위치에 어깨 라인과 접하는 목 라인의 끝점을 생성하는 단계; 및 끝점을 기초로 목 라인을 생성하는 단계를 포함할 수 있다.
일 실시예에 따르면 품 길이는 하이 포인트 숄더로부터 떨어진 거리에 기초하여 달라질 수 있다.
일 실시예에 따르면 슬리브 라인을 생성하는 단계는, 목 라인의 끝점에서 시작하여, 어깨 경사 선에 대응하는 제3 선을 생성하는 단계; 및 제3선의 끝점에서 시작하여, 암홀 길이, 품 길이 및 가슴 품 길이 중 적어도 하나에 기초하여 슬리브 라인을 생성하는 단계를 포함할 수 있다.
일 실시예에 따르면 슬리브 라인을 생성하는 단계는 제3선의 끝점에서 시작하여, 제1 방향으로 어깨 품 길이 및 가슴 품 길이에 기초하여 결정된 거리만큼 이동한 후, 제2 방향으로 어깨 품 길이, 가슴 품 길이 및 암홀 길이에 기초하여 결정된 거리만큼 이동한 거리에 슬리브 라인의 끝점을 생성하는 단계; 및 끝점에 기초하여 슬리브 라인을 생성하는 단계를 포함할 수 있다.
일 실시예에 따르면 패턴 생성 방법은 가슴 품 길이가 암홀로부터 일정 거리 떨어진 곳에 위치한 선의 길이로 수신된 경우, 상기 수신된 선의 길이 및 상기 패턴 높이에 기초하여 상기 암홀로부터 반대편 암홀까지의 거리를 추정하는 단계; 상기 암홀 길이에 기초하여 상기 추정된 거리를 검증하는 단계; 및 상기 검증 결과에 따라 상기 암홀로부터 상기 반대편 암홀까지의 거리를 재 추정하거나, 상기 추정된 거리를 상기 가슴 품 길이로 결정하는 단계를 더 포함할 수 있다.
일 실시예에 따르면 패턴 생성 방법은 적어도 하나의 조절점을 이용하여 패턴의 라인- 패턴의 라인은 목 라인 및 슬리브 라인 중 적어도 하나를 포함하는-의 곡률을 조절하는 단계를 더 포함할 수 있다.
일 실시예에 따르면 곡률을 조절하는 단계는, 기 적어도 하나의 조절점을 이용하여 각도 제한조건(angular constraint)의 충족 여부를 확인하는 단계를 포함할 수 있다.
일 실시예에 따르면 각도 제한조건은 적어도 하나의 조절점이 패턴의 라인의 일 끝점으로 진입하여 생성되는 직선과 패턴의 라인의 끝점과 만나는 외곽선이 서로 직교하도록 하는 제한조건을 포함할 수 있다.
일 실시예에 따르면 패턴 생성 방법은 적어도 하나의 조절점을 이용하여 패턴의 라인- 패턴의 라인은 목 라인 및 슬리브 라인 중 적어도 하나를 포함하는-의 길이를 조절하는 단계를 더 포함할 수 있다.
일 실시예에 따르면 길이를 조절하는 단계는, 적어도 하나의 조절점을 이용하여 길이 제한조건(Length Constraint)의 충족 여부를 확인하는 단계를 포함할 수 있다.
일 실시예에 따르면 길이 제한조건은 패턴과 결합되는 다른 패턴의 적어도 일부의 길이와 패턴의 라인의 길이를 동일하도록 하는 제한조건을 포함할 수 있다.
일 실시예에 따르면 의상의 치수 파라미터에 기초하여 패턴을 생성하는 방법은 치수 파라미터들- 치수 파라미터들은 소매 밑단 길이, 소매 길이, 캡 높이, 이두 폭 및 캡 너비 중 적어도 하나를 포함하는-을 수신하는 단계; 소매 밑단 길이에 기초하여 제4 선을 생성하는 단계; 소매 길이에 기초하여 제4 선에 수직인 제5 선을 생성하는 단계; 및 제5 선의 끝점에서 시작하여, 캡 높이 및 이두 폭 중 적어도 하나에 기초하여 캡 라인(Cap Line)을 생성하는 단계를 포함할 수 있다.
일 실시예에 따르면 캡 라인을 생성하는 단계는 제5 선의 끝점에서 시작하여, 제1 방향으로 이두 폭에 기초하여 결정된 거리만큼 이동하고, 제2 방향으로 캡 높이에 기초하여 결정된 거리만큼 이동한 위치를 캡 라인의 끝점으로 결정하는 단계; 및 끝점에 기초하여 캡 라인을 생성하는 단계를 포함할 수 있다.
일 실시예에 따르면 패턴 생성 방법은 슬리브 라인의 길이 및 캡 라인의 길이에 대한 길이 제한조건의 충족여부를 확인하는 단계를 더 포함할 수 있다.
다른 일 실시예에 따르면 시뮬레이션 장치는 프로세서를 포함하고, 프로세서는 치수 파라미터들- 치수 파라미터들은 패턴 밑단 길이, 패턴 높이, 어깨 품 길이, 어깨 경사 길이, 목 깊이, 목 너비, 품 길이, 가슴 품 길이 및 암홀 길이 중 적어도 하나를 포함하는-을 수신하고, 패턴 밑단 길이에 기초하여 패턴 밑단에 대응하는 제1 선을 생성하고, 패턴 높이에 기초하여 제1 선에 수직인 제2 선을 생성하고, 제2 선의 끝점에서 시작하여, 어깨 품 길이, 어깨 경사 길이, 목 깊이 및 목 너비 중 적어도 하나에 기초하여 목 라인을 생성하고, 그리고 암홀 길이, 품 길이 및 가슴 품 길이 중 적어도 하나에 기초하여 슬리브 라인을 생성할 수 있다.
다른 일 실시예에 따르면 시뮬레이션 장치는 프로세서를 포함하고, 프로세서는 치수 파라미터들- 치수 파라미터들은 소매 밑단 길이, 소매 길이, 캡 높이, 이두 폭 및 캡 너비 중 적어도 하나를 포함하는-을 수신하고, 소매 밑단 길이에 기초하여 제4 선을 생성하고, 소매 길이에 기초하여 제4 선에 수직인 제5 선을 생성하고, 그리고 제5 선의 끝점에서 시작하여, 캡 높이 및 이두 폭 중 적어도 하나에 기초하여 캡 라인을 생성할 수 있다.
일 측에 따르면, 패턴 생성 방법으로 인하여, 사용자들이 쉽고 빠르게 복수의 패턴 블록들을 포함하는 패턴 블록 라이브러리를 생성할 수 있다.
일 측에 따르면, 패턴 블록 라이브러리에 포함된 패턴 블록들을 이용하여, 의상 디자인에 사용되는 수많은 치수들 중 일부의 치수 파라미터만을 입력하여 패턴을 생성할 수 있으므로, 초보자들도 쉽게 의상 시뮬레이션 프로그램을 이용하여, 의상 디자인을 할 수 있다.
도 1은 일 실시예에 치수 파라미터에 기초하여 패턴 생성 방법을 설명하기 위한 순서도이다.
도2는 일 실시예에 따른 제1 패턴 블록에 대응하는 패턴 생성 방법을 설명하기 위한 순서도이다.
도 3은 일 실시예에 따른 제1 패턴 블록에 대응하는 치수 파라미터를 설명하기 위한 도면이다.
도 4a내지4b는 일 실시예에 따른 목 라인이 생성되는 과정을 설명하기 위한 도면이다.
도 5a내지5b는 일 실시예에 따른 슬리브 라인이 생성되는 과정을 설명하기 위한 도면이다.
도 6은 일 실시예에 따른 암홀과 암홀 사이 거리를 산출하는 방법을 설명하기 위한 도면이다.
도7은 일 실시예에 따른 제2 패턴 블록에 대응하는 패턴 생성 방법을 설명하기 위한 순서도이다.
도 8은 일 실시예에 따른 제2 패턴 블록에 대응하는 치수 파라미터를 설명하기 위한 도면이다.
도 9는 일 실시예에 따른 캡 라인이 생성되는 과정을 설명하기 위한 도면이다.
도 10은 일 실시예에 따른 제1 패턴 블록에 대응하는 치수 파라미터를 입력할 수 있는 사용자 인터페이스를 설명하기 위한 도면이다.
도 11은 다양한 실시예에 따른 시뮬레이션 장치를 설명하기 위한 블록도이다.
본 명세서에서 개시되어 있는 특정한 구조적 또는 기능적 설명들은 단지 기술적 개념에 따른 실시예들을 설명하기 위한 목적으로 예시된 것으로서, 실시예들은 다양한 다른 형태로 실시될 수 있으며 본 명세서에 설명된 실시예들에 한정되지 않는다.
제1 또는 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 이런 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 이해되어야 한다. 예를 들어 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소는 제1 구성요소로도 명명될 수 있다.
어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "연결되어" 있다거나 "접속되어" 있다고 언급된 때에는, 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결되어 있거나 또는 접속되어 있을 수도 있지만, 중간에 다른 구성요소가 존재할 수도 있다고 이해되어야 할 것이다. 반면에, 어떤 구성요소가 다른 구성요소에 "직접 연결되어" 있다거나 "직접 접속되어" 있다고 언급된 때에는, 중간에 다른 구성요소가 존재하지 않는 것으로 이해되어야 할 것이다. 구성요소들 간의 관계를 설명하는 표현들, 예를 들어 "~간에"와 "바로~간에" 또는 "~에 이웃하는"과 "~에 직접 이웃하는" 등도 마찬가지로 해석되어야 한다.
단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 명세서에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 설시된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함으로 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 해당 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가진다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥상 가지는 의미와 일치하는 의미를 갖는 것으로 해석되어야 하며, 본 명세서에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.
이하, 실시예들을 첨부된 도면을 참조하여 상세하게 설명한다. 각 도면에 제시된 동일한 참조 부호는 동일한 부재를 나타낸다.
도 1은 일 실시예에 치수 파라미터에 기초하여 패턴 생성 방법을 설명하기 위한 순서도이다.
일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치(1100)는 치수 파라미터들을 수신(110)할 수 있다. 치수 파라미터는 복수의 의상 치수들을 포함할 수 있다. 치수 파라미터들은 의상의 세부 사항을 포함할 수 있다. 또한 치수 파라미터들은 의상 사양 시트(Garment Specification Sheet) 또는 치수 테이블(Measurement Table)에 기재된 값일 수 있다.
일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치(1100)는 치수 파라미터들에 기초하여 패턴 생성의 기준이 되는 점들의 위치를 결정할 수 있다. 치수 파라미터들은 의상 치수들을 의미할 수 있다. 따라서 시뮬레이션 장치(1100)는 의상 치수에 기초하여 결정된 거리만큼 이동한 위치에 점을 생성할 수 있고, 점과 점 사이를 연결함으로써 선을 생성할 수도 있다.
치수 파라미터들은 패턴 블록에 따라 달라질 수 있다. 예를 들어 패턴 블록이 티셔츠 몸통 전면(또는 후면) 패턴인 경우, 치수 파라미터들은 패턴 밑단 길이, 패턴 높이, 어깨 품 길이, 어깨 경사 길이, 목 깊이, 목 너비, 품 길이, 가슴 품 길이(예: 가슴 둘레의 절반에 해당하는 길이) 및 암홀 길이 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 전술한 치수 파라미터들은 예시일 뿐이며, 일부 치수 파라미터는 생략되거나 다른 치수 파라미터가 추가될 수도 있다. 다른 예를 들어, 패턴 블록이 티셔츠 소매 패턴인 경우, 치수 파라미터들은 소매 밑단 길이, 소매 길이, 캡 높이, 이두 폭 및 캡 너비 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 이처럼 패턴 블록에 따라 치수 파라미터들이 달라질 수 있다. 패턴 블록은 티셔츠 뿐만 아니라, 바지, 치마 등 다른 의상의 패턴에 대해서 존재할 수 있다.
일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치(1100)는 위치가 결정된 점들을 연결하는 직선 또는 곡선을 생성함으로써 패턴을 생성(130)할 수 있다. 시뮬레이션 장치(1100)는 치수 파라미터에 기초하여 결정된 점들의 위치에 기초하여 복수의 선들을 생성할 수 있다. 시뮬레이션 장치(1100)는 복수의 선들 중 적어도 일부를 패턴의 외곽선으로 결정하여 패턴을 생성할 수 있다. 이 때 선은 직선, 곡선 또는 이들의 조합이 될 수 있다.
시뮬레이션 장치(1100)는 단계(110), 단계(120) 및 단계(130)을 통해 패턴을 생성할 수 있으며, 단계(110), 단계(120) 및 단계(130)는 패턴 블록에 따라 달라질 수 있다. 패턴 블록에 따른 구체적인 패턴 생성 방법은 이하의 도면들을 참조하여 구체적으로 후술된다.
도2는 일 실시예에 따른 제1 패턴 블록에 대응하는 패턴 생성 방법을 설명하기 위한 순서도이다.
제한이 아닌 예로서, 제1 패턴 블록은 티셔츠 전면 패턴일 수 있다.
일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치(1100)는 치수 파라미터들- 치수 파라미터들은 패턴 밑단(Hem) 길이, 패턴 높이, 어깨 품(Across Shoulder) 길이, 어깨 경사(Shoulder Slope) 길이, 목 깊이(Neck Depth), 목 너비(Neck Opening), 품(Across) 길이, 가슴 품(Across Chest) 길이 및 암홀(Armhole) 길이 중 적어도 하나를 포함하는-을 수신(210)할 수 있다. 시뮬레이션 장치(1100)는 도 10에 도시된 사용자 인터페이스를 통해 사용자로부터 치수 파라미터들을 입력 받을 수 있다.
패턴 밑단 길이는 예를 들어, 밑단(Hem) 스윕(Sweep)을 포함할 수 있다. 스윕은 스커트, 드레스, 코트 또는 재킷의 밑단 둘레 또는 밑단 길이를 의미할 수 있다. 도 3을 참조하여 설명하면, 패턴 밑단 길이는 선(310)의 길이와 대응될 수 있다.
패턴 높이는 패턴 밑단에서 시작하여 패턴의 하이 포인트 숄더 또는 목 라인의 중심까지의 길이를 의미할 수 있다. 도 3을 참조하여 설명하면 패턴 밑단에서 시작하여 패턴의 하이 포인트 숄더까지의 거리가 패턴 높이인 경우, 패턴 높이는 선(320)의 길이와 대응될 수 있다. 하이 포인트 숄더(High Point Shoulder, HPS) 길이는 패턴 밑단에서 시작하여 패턴의 하이 포인트 숄더까지의 거리를 의미할 수 있다. 다른 예를 들어, 패턴 밑단에서 시작하여 목 라인의 중심까지의 길이가 패턴 높이인 경우, 패턴 높이는 선(321)의 길이와 대응될 수 있다. 중심(Center) 높이는 패턴 밑단에서 시작하여 목 라인의 중심까지의 길이를 의미할 수 있다.
어깨 품 길이는 좌측 어깨에서 우측 어깨 끝까지의 수평 길이를 의미할 수 있다. 도 3을 참조하여 설명하면 어깨 품 길이는 선(340)의 길이와 대응할 수 있다.
어깨 경사 길이는 어깨 경사 라인과 관련된 길이일 수 있다. 예를 들어, 어깨 경사 길이는 어깨 경사 높이를 의미할 수 있다. 도 3을 참조하여 설명하면, 어깨 경사 길이는 선(350)의 길이에 대응할 수 있다. 이 경우, 어깨 경사 길이는 어깨 경사 높이일 수 있다.
목 깊이는 목 라인 중심과 도 3의 선(330) 사이 거리를 의미할 수 있다. 도 3을 참조하면, 목 깊이는 선(331)의 길이에 대응할 수 있다.
목 너비는 좌측 목 라인의 끝점에서 우측 목 라인의 끝점까지의 수평 거리를 의미할 수 있다. 도 3을 참조하여 설명하면, 목 너비를 선(330)의 길이와 대응할 수 있다.
품 길이는 좌측 슬리브 라인 상의 한 점과 우측 슬리브 라인 상의 한 점을 연결한 길이를 의미할 수 있다. 예를 들어, 패턴 블록이 티셔츠 전면 패턴인 경우, 품 길이는 전면 품(Across Front) 길이일 수 있고, 패턴 블록이 티셔츠 후면 패턴인 경우, 품은 후면 품(Across Back) 길이일 수 있다. 도 3을 참조하여 설명하면, 품 길이는 선(360), 선(361), 및 선(362)의 길이 중 적어도 하나에 대응할 수 있다. 일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치(1100)는 선(360), 선(361), 및 선(362)의 길이 중 적어도 하나를 사용하여 패턴을 생성할 수 있다.
가슴 품 길이는 좌측 암홀과 우측 암홀 사이 거리에 기초하여 결정된 길이일 수 있다. 도 3을 참조하여 설명하면, 가슴 품 길이는 선(370) 및 선(371)의 길이 중 하나일 수 있다. 일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치(1100)는 선(370) 및 선(371)의 길이 중 적어도 하나를 사용하여 패턴을 생성할 수 있다. 선(371)은 암홀로부터 1inch 아래에 위치하는 선일 수 있다.
암홀 길이는 일 슬리브 라인의 양 끝점을 직선으로 연결한 길이를 의미할 수 있다. 도 3를 참조하여 설명하면 암홀 길이는 선(380) 길이에 대응될 수 있다.
일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치(1100)는 패턴 밑단(Hem) 길이에 기초하여 패턴 밑단인 제1 선을 생성(220)할 수 있다. 도 3을 참조하여 설명하면, 시뮬레이션 장치(1100)가 생성한 제1 선은 선(310)과 대응할 수 있다.
일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치(1100)는 패턴 높이에 기초하여 제1 선에 수직인 제2 선을 생성(230)할 수 있다. 도 3을 참조하여 설명하면, 제2 선은 선(320) 및 선(321) 중 적어도 하나에 대응할 수 있다.
일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치(1100)는 제2 선의 끝점에서 시작하여, 어깨 품 길이, 어깨 경사 길이, 목 깊이 및 목 너비 중 적어도 하나에 기초하여 목 라인(Neck Line)을 생성(240)할 수 있다. 목 라인이 생성되는 구체적인 과정은 도 4a 및 도 4b를 참조하여 후술된다.
일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치(1100)는 암홀 길이, 품 길이 및 가슴 품 길이 중 적어도 하나에 기초하여 슬리브 라인을 생성(250)할 수 있다. 슬리브 라인이 생성되는 구체적인 과정은 도 5a및 도 5b를 참조하여 구체적으로 후술된다.
도 3은 일 실시예에 따른 제1 패턴 블록에 대응하는 치수 파라미터를 설명하기 위한 도면이다.
제1 패턴 블록에 대응하는 치수 파라미터는 도 2에서 전술하였으므로 본 도면에서는 구체적인 설명을 생략하도록 한다.
도 4a 및 도 4b는 일 실시예에 따른 목 라인이 생성되는 과정을 설명하기 위한 도면이다.
일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치(1100)는 제2 선의 끝점에서 시작하여 목 라인을 생성할 수 있다. 시뮬레이션 장치(1100)는 어깨 품 길이, 어깨 경사 길이, 목 깊이, 및 목 너비 중 적어도 하나를 이용하여, 제2 선의 끝점으로부터 일정 거리 떨어진 위치에 점을 생성하고, 점과 점 사이를 연결함으로써 목 라인을 생성할 수 있다.
제2 선이 선(320)인 경우, 시뮬레이션 장치(1100)는 제2 선의 끝점(440)에서 시작하여 목 라인을 생성하기 위한 점들의 위치를 결정할 수 있다. 제2 선이 선(320)인 경우는 제2 선이 하이 포인트 숄더 길이에 기초하여 생성된 경우일 수 있다. 시뮬레이션 장치(1100)는 제1 방향으로 목 너비에 기초한 제1 거리(472)만큼 이동하고, 제2 방향으로 목 깊이에 기초한 제2 거리(471)만큼 이동한 위치에 목 라인의 중심점(430)을 생성할 수 있다. 이하에서, 제1 방향은 x축의 양 방향 중 일 방향으로 이해될 수 있고, 제2 방향은 y축의 양 방향 중 일 방향으로 이해될 수 있다. 제1 방향으로의 이동과 제2 방향으로의 이동은 순서와 관계없이 수행될 수 있다. 일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치(1100)는 중심점(430)과 제2 선의 끝점(440)을 연결함으로써 목 라인을 생성할 수 있다. 목 라인은 직선, 곡선, 또는 이들의 조합일 수 있다.
제1 거리는 예를 들어, 목 너비에 계수를 곱한 값일 수 있다. 이 때, 계수는 0과 1 사이 값일 수 있다. 제2 거리는, 예를 들어, 목 깊이에 계수를 곱한 값일 수 있다. 이 때, 계수는 0과 1 사이 값일 수 있으며 0을 하한으로 하여 하한을 초과하는 값(예: 1이상의 값)을 상한으로 정한 범위를 가질 수 있다.
제2 선이 선(321)인 경우, 시뮬레이션 장치(1100)는 목 라인의 중심점(430)에서 시작하여, 목 라인을 생성하기 위한 점들의 위치를 결정할 수 있다. 제2 선이 선(321)인 경우는 제2 선이 중심 높이에 기초하여 생성된 경우일 수 있다. 일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치(1100)는 제1 방향으로 목 너비에 기초한 제1 거리(450)만큼 이동하고, 제2 방향으로 목 깊이에 기초한 제2 거리(451)만큼 이동한 위치에 어깨 라인과 접하는 목 라인의 끝점(410)을 생성할 수 있다. 시뮬레이션 장치(1100)는 제2 선의 끝점(410)과 목 라인의 중심점(430)을 연결하여 목 라인을 생성할 수 있다. 목 라인은 직선, 곡선 또는 이들의 조합일 수 있다.
일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치(1100)는 적어도 하나의 조절점(411, 431)을 이용하여 패턴의 라인의 곡률을 조절할 수 있다. 패턴의 라인은 목 라인 및 슬리브 라인 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 시뮬레이션 장치(1100)는 패턴의 라인의 곡률을 조절하기 위하여, 적어도 하나의 조절점을 이용하여 각도 제한조건(angular constraint)의 충족 여부를 확인할 수 있다. 각도 제한조건은 적어도 하나의 조절점이 패턴의 라인의 일 끝점으로 진입하여 생성되는 직선과 패턴의 라인의 끝점과 만나는 외곽선이 서로 직교하도록 하는 제한조건을 포함할 수 있다. 예를 들어, 각도 제한조건은 조절점(411)에서 목 라인의 끝점(410)으로 진입하는 직선과 목 라인의 끝점(410)과 만나는 외곽선(예, 어깨 경사 선)이 직각으로 만나도록 하는 제한조건을 포함할 수 있다. 다른 예를 들어, 각도 제한조건은 조절점(431)에서 목 라인의 중심점(430)으로 진입하는 직선과 목 라인의 중심점(430)을 하나의 끝점으로 하는 제2 선(321)이 직각으로 만나도록 하는 제한조건을 포함할 수 있다. 구체적으로, 시뮬레이션 장치(1100)는 적어도 하나의 조절점이 패턴의 라인의 일 끝점으로 진입하여 생성할 수 있는 직선(예: 해당 조절점이 패턴의 라인 상에서 생성할 수 있는 접선)과 패턴의 라인의 끝점과 만나는 외곽선이 서로 직교하도록 하는 각도 제한조건을 충족하는지 여부를 판단할 수 있다.
시뮬레이션 장치(1100)는 조절점(411, 431)의 위치를 조절함으로써 각도 제한 조건을 충족시킬 수 있다. 다른 예를 들어, 시뮬레이션 장치(1100)는 사용자로부터 조절점(411, 431) 위치 이동에 관한 입력을 수신하여 조절점(411, 431)의 위치를 조절할 수 있다. 이를 통해, 시뮬레이션 장치(1100)는, 티셔츠 전면 패턴과 티셔츠 후면 패턴이 결합되는 상황에서, 목 라인이 자연스럽게 연결된 결과를 시뮬레이션 결과로서 출력할 수 있다.
실시예에 따르면, 시뮬레이션 장치(1100)는 조절점의 위치 조절에 대응하여 조절점이 포함된 곡선의 곡률과 그 길이를 조절할 수 있다. 시뮬레이션 장치(1100)는 길이 제한조건(Length Constraint)을 충족시키기 위한 적어도 하나의 조절점을 이용하여 패턴의 라인의 길이를 조절할 수 있다. 패턴의 라인은 목 라인 및 슬리브 라인 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.
실시예에 따른 길이 제한조건은 패턴과 결합되는 다른 패턴의 적어도 일부의 길이와 패턴의 라인의 길이를 동일하도록 하는 제한조건을 포함할 수 있다. 예를 들어, 제1 패턴 블록(예, 티셔츠 몸통 패턴)과 제2 패턴 블록(소매 패턴)이 결합되는 경우, 제1 패턴 블록의 슬리브 라인과 제2 패턴 블록의 캡 라인이 결합되는 관계에 있을 수 있다. 이 경우, 슬리브 라인의 길이와 캡 라인의 길이는 동일할 필요가 있다. 따라서, 시뮬레이션 장치(1100)는 조절점을 이용하여 슬리브 라인 및 캡 라인의 길이 중 적어도 하나를 조절하여, 슬리브 라인의 길이와 캡 라인의 길이가 동일하도록 조절할 수 있다.
도 5a 및 도 5b는 일 실시예에 따른 슬리브 라인이 생성되는 과정을 설명하기 위한 도면이다.
일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치(1100)는 목 라인의 끝점(570)에서 시작하여 슬리브 라인을 생성할 수 있다. 시뮬레이션 장치(1100)는 목 라인의 끝점(570)에서 시작하여, 어깨 경사(Shoulder Slope) 선에 대응하는 제3선(520)을 생성할 수 있다. 일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치(1100)는 제3 선의 끝점(510)에서 시작하여, 암홀 길이에 대응하는 선(380), 품 길이에 대응하는 선들(360, 361, 362), 및 가슴 품 길이에 대응하는 선들(370, 371) 중 적어도 하나에 기초하여 슬리브 라인을 생성할 수 있다.
일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치(1100)는 목 라인의 끝점(570)에서 시작하여, 제1 방향으로 목 너비에 대응하는 선(330) 및 어깨 품 길이에 대응하는 선(340)에 기초하여 결정된 거리(571)만큼 이동하고, 제2 방향으로 목 깊이(231) 및 어깨 경사 높이에 대응하는 선(350)에 기초하여 결정된 거리(572)만큼 이동한 위치에 제3 선의 끝점(510)(예, 암홀)을 생성할 수 있다. 예를 들어, 거리(571)는 어깨 품 길이에 대응하는 선(340)의 길이에서 목 너비에 대응하는 선(330)의 길이를 뺀 값을 2로 나눈 결과 값일 수 있다. 예를 들어, 거리(572)는 목 깊이(231)에서 어깨 경사 높이에 대응하는 선(350)의 길이를 뺀 값일 수 있다. 시뮬레이션 장치(1100)는 산출된 값에 일정 계수를 곱한 값만큼 제3 선의 끝점(510)으로부터 이동한 위치에 점을 생성할 수 있다.
품 길이에 대응하는 선들(360, 361, 362)의 길이는 하이 포인트 숄더(예, 목 라인의 끝점(570))로부터 떨어진 거리에 기초하여 달라질 수 있다. 품 길이는 좌측 슬리브 라인 상의 한 점과 우측 슬리브 라인 상의 한 점을 양 끝점으로 하면서 선(320)(또는 선(321))과 직교하는 선의 길이(예: 선분(line segment)의 길이)이고, 슬리브 라인은 곡선이다. 이에 따라, 본 개시의 품 길이는 하이 포인트 숄더로부터 떨어진 거리에 기초하여 달라질 수 있다. 예를 들어, 품 길이에 대응하는 선(360)의 길이는 하이 포인트 숄더로부터 4inch 떨어진 거리에 위치하면서 선(320)(또는 선(321))과 직교하는 선의 길이일 수 있다. 다른 예를 들어, 선(361)의 길이는 하이 포인트 숄더로부터 5inch 떨어진 거리에 위치하면서 선(320)(또는 선(321))과 직교하는 선의 길이일 수 있다. 또 다른 예를 들어, 선(362)의 길이는 하이 포인트 숄더로부터 6inch 떨어진 거리에 위치하면서 선(320)(또는 선(321))과 직교하는 선의 길이일 수 있다. 시뮬레이션 장치(1100)는 품 길이에 대응하는 선들(360, 361, 362) 중 적어도 하나를 이용하여 슬리브 라인을 생성할 수 있다.
일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치(1100)는 제3선의 끝점(510)에서 시작하여, 제1 방향으로 어깨 품 길이에 대응하는 선(340) 및 가슴 품 길이에 대응하는 선들(370, 371)에 기초하여 결정된 거리(590)만큼 이동한 후, 제2 방향으로 어깨 품 길이에 대응하는 선(340), 가슴 품 길이에 대응하는 선들(370, 371) 및 암홀 길이에 대응하는 선(380)에 기초하여 결정된 거리(591)만큼 이동한 거리에 슬리브 라인의 끝점을 생성할 수 있다. 예를 들어, 거리(591)는 가슴 품 길이에 대응하는 선(370)의 길이에서 어깨 품 길이에 대응하는 선(340)의 길이를 뺀 후 2로 나눈 값일 수 있다. 예를 들어, 거리(590)은 암홀 길이에 대응하는 선(380)의 길이의 제곱에서 거리(591)의 제곱을 뺀 값의 제곱근일 수 있다. 시뮬레이션 장치(1100)는 산출된 값에서 계수를 곱한 값만큼 제3 선의 끝점(510)에서 떨어진 위치에 슬리브 라인의 끝점(530)을 생성할 수 있다. 일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치(1100)는 슬리브 라인의 끝점(530)과 제3 선의 끝점(510)을 연결함으로써 슬리브 라인을 생성할 수 있다.
수신된 치수 파라미터에 가슴 품 길이에 대응하는 선(371)의 길이가 포함된 경우, 시뮬레이션 장치(1100)는 가슴 품 길이에 대응하는 선(371)의 길이에 기초하여 암홀(530)과 암홀(540) 사이 거리인 가슴 품 길이에 대응하는 선(370)의 길이를 산출할 수 있다. 도 5a에서의 암홀(530)과 암홀(540)은 편의 상 암홀의 일 끝점을 의미하며, 각 끝점 간 최단 선분 길이를 암홀(530)과 암홀(540) 사이 거리로 지칭한다. 가슴 품 길이에 대응하는 선(371)은 암홀(530)로부터 일정 거리만큼 떨어진 곳에 위치한 선일 수 있다. 예를 들어, 가슴 품 길이에 대응하는 선(371)은 암홀(530)로부터 1inch 아래에 위치하면서 선(320)(또는 선(321))과 직교하는 선일 수 있다. 시뮬레이션 장치(1100)는 산출된 가슴 품 길이에 대응하는 선(370)의 길이를 이용하여, 슬라브 라인의 끝점(530)의 위치를 결정할 수 있다.
일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치(1100)는 각도 제한조건을 충족시키기 위한 적어도 하나의 조절점(511, 531)을 이용하여 패턴의 라인의 곡률을 조절할 수 있다. 패턴의 라인은 목 라인 및 슬리브 라인 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 예를 들어, 각도 제한조건은 조절점(511)에서 제3 선의 끝점(510)으로 진입하는 직선과 제3 선(520)이 직각으로 만나도록 하는 제한조건을 포함할 수 있다. 다른 예를 들어, 각도 제한조건은 조절점(531)에서 슬리브 라인의 끝점(530)으로 진입하는 직선과 선(560)이 직각으로 만나도록 하는 제한조건을 포함할 수 있다.
시뮬레이션 장치(1100)는 조절점(511, 531)의 위치를 조절함으로써 각도 제한 조건을 충족시킬 수 있다. 다른 예를 들어, 시뮬레이션 장치(1100)는 사용자로부터 조절점(511, 531) 위치 이동에 관한 입력을 수신하여 조절점(511, 531)의 위치를 조절할 수 있다. 이를 통해, 시뮬레이션 장치(1100)는, 티셔츠 전면 패턴과 티셔츠 후면 패턴이 결합되는 상황에서, 슬리브 라인이 자연스럽게 연결된 결과를 시뮬레이션 결과로서 출력할 수 있다.
도 6은 일 실시예에 따른 암홀과 암홀 사이 거리를 산출하는 방법을 설명하기 위한 도면이다.
가슴 품 길이는 선(370)의 길이로 특정되는 것이 정확하나, 암홀로부터 일정 거리(예: 1인치) 떨어진 곳에 위치한 선(371)의 길이로 가슴 품 길이가 수신되는 경우가 존재할 수 있다. 시뮬레이션 장치(1100)가 선(371)의 길이를 치수 파라미터로 수신한 경우, 시뮬레이션 장치(1100)는 선(371)의 길이에 기초하여 암홀과 암홀 사이 거리인 선(370)의 길이를 추정할 수 있다. 추정된 선(370)의 길이는 가슴 품 길이가 될 수 있다.
이하에서는 가슴 품 길이에 대응하는 선(370)의 길이를 추정하는 방법이 구체적으로 서술된다. 시뮬레이션 장치(1100)는 선(371)의 길이 및 패턴 높이에 기초하여 선(370)의 거리를 추정할 수 있다. 시뮬레이션 장치(1100)는 암홀 길이에 기초하여 추정된 선(370)의 거리를 검증할 수 있다. 시뮬레이션 장치(1100)는 검증 결과에 따라 선(370)의 길이를 재 추정하거나, 추정된 선(370)의 거리를 가슴 품 길이로 결정할 수 있다.
보다 구체적으로, 선(371)의 길이를 수신한 경우, 시뮬레이션 장치(1100)는 거리(590) 및 거리(591)를 산출하지 못할 수 있다. 따라서, 시뮬레이션 장치(1100)는 거리(590) 및 거리(591)에 대한 정보가 없으므로, 슬리브 라인 생성을 위하여 필요한 점(530)의 위치를 결정하지 못할 수 있다.
따라서, 시뮬레이션 장치(1100)는 패턴 밑단에서 선(371)까지의 거리(610)를 일정 범위에서 추정할 수 있다. 예를 들어, 거리(610)는 중앙값(Median Value)일 수 있다. 패턴 밑단에서 선(371)까지의 거리(610)가 중앙값인 경우, 시뮬레이션 장치(1100)는 패턴 밑단에서 선(370)까지의 거리를 산출할 수 있다. 이는 선(370)과 선(371)이 일정 거리만큼 떨어져 있기 때문일 수 있다. 예를 들어, 선(370)과 선(371)은 1 inch 만큼 떨어져 있을 수 있다. 시뮬레이션 장치(1100)는 거리(610)와 선(371)의 길이에 기초하여 선(370)의 길이를 추정할 수 있다. 시뮬레이션 장치(1100)는 추정된 선(370)의 길이에 기초하여 거리(590) 및 거리(591)를 산출할 수 있다. 시뮬레이션 장치(1100)는 거리(590) 및 거리(591)에 기초하여 암홀 길이에 대응하는 선(380)의 길이를 산출할 수 있다. 시뮬레이션 장치(1100)는 수신된 치수 파라미터에 포함된 암홀 길이와 산출된 암홀 길이(선(380)의 길이)의 차이에 기초하여, 선(370)의 길이를 다시 산출할지 여부를 결정할 수 있다. 예를 들어, 치수 파라미터에 포함된 암홀 길이와 산출된 암홀 길이(선(380)의 길이)의 차이가 허용 범위 이내이면, 시뮬레이션 장치(1100)는 추정된 선(370)의 길이를 암홀과 암홀 사이 거리로 결정할 수 있다. 차이가 일정 기준보다 크면, 시뮬레이션 장치(1100)는 패턴 밑단에서 선(371)까지의 거리(610)를 재조정된 범위(예, 일정 범위가 [l, 패턴 높이]인 경우, 재조정된 범위는 [중앙값+C, 패턴 높이])에서 결정한 후, 다시 선(370)의 길이를 추정할 수 있다. 차이가 일정 기준 이하이면, 시뮬레이션 장치(1100)는 패턴 밑단에서 선(371)까지의 거리(610)를 재조정된 범위(예, 일정 범위가 [1, 패턴 높이]인 경우, 재조정된 범위는 [1, 중앙값-C])에서 결정한 후, 다시 선(370)의 길이를 추정할 수 있다. C는 임의의 숫자일 수 있다. 이와 같은 방식은 이진 탐색(Binary Search)을 이용한 것일 수 있다.
도7은 일 실시예에 따른 제2 패턴 블록에 대응하는 패턴 생성 방법을 설명하기 위한 순서도이다.
일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치(1100)는 패턴 블록에 따라 다른 치수 파라미터들을 수신할 수 있다. 예를 들어, 제2 패턴 블록은 소매 패턴일 수 있고, 소매 패턴에 대응하는 치수 파라미터들이 존재할 수 있다.
일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치(1100)는 치수 파라미터들-치수 파라미터들은 소매 밑단 길이, 소매 길이, 캡 높이, 이두 폭 및 캡 너비 중 적어도 하나를 포함하는-을 수신(710)할 수 있다.
소매 밑단 길이는 소매의 밑단 길이를 의미할 수 있으며, 도 8의 선(810)의 길이와 대응될 수 있다.
소매 길이는 소매의 밑단으로부터 캡의 중심점까지의 길이를 의미할 수 있으며, 도 8의 선(820)의 길이와 대응될 수 있다.
캡 높이는 이두 폭을 나타내는 선(850)으로부터 캡의 중심점까지의 길이를 의미할 수 있으며, 도 8의 선(830)과 대응될 수 있다.
이두 폭은 사람의 팔을 감싸는 소매의 둘레 길이를 의미할 수 있으며, 도 8의 선(850, 851)과 대응될 수 있다.
캡 너비는 캡 라인의 한 점과 반대편 한 점을 연결한 직선의 길이를 의미할 수 있으며, 도 8의 선(840)과 대응될 수 있다.
일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치(1100)는 소매 밑단 길이에 기초하여 제4 선을 생성(720)할 수 있다.
일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치(1100)는 소매 길이에 기초하여 제4 선에 수직인 제5 선을 생성(730)할 수 있다.
일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치(1100)는 제5 선의 끝점에서 시작하여, 캡 높이 및 이두 폭 중 적어도 하나에 기초하여 캡 라인(Cap Line)을 생성(740)할 수 있다.
캡 라인을 생성하는 방법은 도 9를 참조하여 구체적으로 후술된다.
도 8은 일 실시예에 따른 제2 패턴 블록에 대응하는 치수 파라미터를 설명하기 위한 도면이다.
제2 패턴 블록에 대응하는 치수 파라미터는 도 7에서 전술하였으므로 본 도면에서 구체적인 설명은 생략하도록 한다.
도 9는 일 실시예에 따른 캡 라인이 생성되는 과정을 설명하기 위한 도면이다.
일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치(1100)는 소매 밑단 길이에 기초하여 제4 선(810)을 생성할 수 있다.
일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치(1100)는 소매 길이에 기초하여 제4 선(810)에 수직인 제5 선(820)을 생성할 수 있다. 제5 선(820)은 제4 선(810)과 제4 선(810) 중심점에서 수직으로 교차하는 선을 의미할 수 있다.
일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치(1100)는 제5 선의 끝점(910)에서 시작하여, 제1 방향으로 이두 폭에 기초하여 결정된 거리만큼 이동하고, 제2 방향으로 캡 높이에 기초하여 결정된 거리만큼 이동한 위치를 캡 라인의 끝점(930)으로 결정할 수 있다. 예를 들어, 시뮬레이션 장치(1100)는 제1 방향으로 이두 폭의 절반에 해당하는 거리만큼 이동하고, 제2 방향으로 캡 높이만큼 이동한 위치를 캡 라인의 끝점(930)으로 결정할 수 있다. 또한 시뮬레이션 장치(1100)는 수신된 캡 너비를 가지는 선(840)을 생성할 수 있다. 시뮬레이션 장치(1100)는 선(840)의 끝점, 캡 라인의 끝점(930) 및 제5 선의 끝점(910)을 연결함으로써, 캡 라인을 생성할 수 있다.
시뮬레이션 장치(1100)는 치수 파라미터를 수신하면서, 선(850)의 길이가 아닌 선(851)의 길이를 수신할 수 있다. 이 경우, 시뮬레이션 장치(1100)는 선(851)의 길이에 기초하여 선(850)의 길이를 추정할 수 있다. 선(850)의 길이를 추정하는 방법은 도 6에서 전술한 것과 동일 또는 유사한 방법이 사용될 수 있다. 이는 시뮬레이션 장치(1100)가 선(850)과 선(851)이 일정 거리(예, 1inch)만큼 떨어져 있는 것을 통해 선(810)과 선(851) 사이 거리를 일정 범위에서 추정하여, 최종적으로 선(810)의 길이를 산출하는 프로세스일 수 있다.
일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치(1100)는 조절점(911, 931)을 이용하여 제1 패턴 블록과 동일 또는 유사한 방식으로, 각도 제한조건 및 길이 제한조건을 충족시킬 수 있다.
시뮬레이션 장치(1100)는 각도 제한조건을 충족시키기 위하여, 조절점(911)에서 조절점(910)으로 진입하는 직선과 선(830)이 수직이 되도록 조절점(910)의 위치를 조절할 수 있다. 다른 예를 들어, 시뮬레이션 장치(1100)는 각도 제한조건을 충족시키기 위하여, 조절점(931)에서 조절점(930)으로 진입하는 직선과 선(950)이 수직이 되도록 조절점(951)의 위치를 조절할 수 있다.
시뮬레이션 장치(1100)는 조절점을 조절함으로써 캡 라인의 길이도 조절할 수 있으므로, 길이 제한조건을 충족시킬 수도 있다. 시뮬레이션 장치(1100)는 제1 패턴 블록의 슬리브 라인의 길이와 제2 패턴 블록의 캡 라인의 길이를 일치시키기 위하여 조절점(911, 931)의 위치를 조절할 수 있다.
도 10은 일 실시예에 따른 제1 패턴 블록에 대응하는 치수 파라미터를 입력할 수 있는 사용자 인터페이스를 설명하기 위한 도면이다.
도 10에서는 패턴 블록 대분류(1010), 티셔츠 패턴 블록(1011), 패턴 블록 소분류(1030), 패턴 블록 형상(1050), 치수 파라미터(1070), 어깨 재봉(Shoulder Seam) 길이(1071), 목 깊이(Neck Drop)(1072), 목 너비(Neck Opening)(1073), 중심 높이(1074), 옆면 재봉선(1075), 폭(1076) 및 암홀 길이(1077)가 도시되어 있다. 전술한 구성은 예시일 뿐이며, 사용자 인터페이스에서 일부 구성을 생략되거나 다른 구성이 추가될 수도 있다.
패턴 블록 대분류(1010)에서는 티셔츠, 셔츠, 바지, 스커트, 드레스, 자켓, 코드가 도시되어 있다. 도 10에 기재된 사항은 예시일 뿐이며, 일부 구성이 추가되거나 생략될 수도 있다. 시뮬레이션 장치(1100)는 패턴 블록 대분류(1010)에서 티셔츠(1011)에 대한 선택 입력을 수신할 수 있다. 이 경우, 시뮬레이션 장치(1100)는 티셔츠(1011)와 관련된 패턴 블록 소분류(1030) 오브젝트를 화면에 출력할 수 있다. 티셔츠(1011)와 관련된 패턴 블록은 베이직, 베이직+, 라글란, 니트(ribbing) 등이 존재할 수 있다. 시뮬레이션 장치(1100)가 베이직에 대한 선택 입력을 수신하는 경우, 시뮬레이션 장치(1100)는 티셔츠 베이직에 해당하는 패턴 블록을 패턴 블록 형상(1050) 영역에 출력할 수 있다.
일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치(1100)는 복수의 치수 파라미터들을 치수 파라미터(1070) 영역을 통해 사용자 입력을 수신할 수 있다. 치수 파라미터(1070) 영역에 존재하는 치수 파라미터를 선택하는 경우, 선택된 치수 파라미터에 대응하는 영역이 패턴 블록 형상(1050)에서 다른 부위와 식별되도록 표시될 수 있다. 예를 들어, 패턴 블록의 다른 부위와 색상, 투명도 등이 달라질 수 있다.
일 실시예에 따른 사용자가 치수 파라미터를 도 10에 도시된 사용자 인터페이스를 통해 입력하면, 시뮬레이션 장치(1100)는 이를 수신하여, 패턴을 생성할 수 있다.
시뮬레이션 장치(1100)는 치수 파라미터를 수신하여, 치수 파라미터와 패턴 정보에 기초하여 포인트 리스트(point list)와 포인트 타입 리스트(point type list)를 생성할 수 있다. 포인트는 패턴을 생성하기 위하여 필요한 점을 의미할 수 있다. 따라서, 포인트 리스트는 패턴을 생성하기 위하여 필요한 점들의 집합을 의미할 수 있다. 포인트 타입은 패턴을 생성하기 위하여 필요한 점들의 타입을 의미할 수 있다. 즉, 포인트 타입은 해당 패턴을 생성하기 위하여 필요한 점이 어떠한 점인지 나타내는 타입에 대응할 수 있다. 이에 따라, 포인트 타입 리스트는 패턴을 생성하기 위하여 필요한 점들의 타입의 집합을 의미할 수 있다. 시뮬레이션 장치(1100)는 치수 파라미터와 패턴 정보에 기초하여 자동적으로 입력된 치수에 대응하는 패턴을 자동적으로 생성할 수 있다. 본 개시의 실시예에서는 상의 패턴을 구성하는 패턴들에 대한 예시를 설명하나, 본 개시의 시뮬레이션 장치(1100)는 이에 제한되지 않으며 하의 패턴, 스커트 패턴, 아웃웨어 패턴 등 의상을 제작하기 위한 모든 패턴을 자동적으로 생성할 수 있다. 패턴 정보는 패턴의 유형, 절반 여부(Half complete) 및 대칭 유형(Symmetry Type) 중 적어도 하나에 기초하여 결정된 정보를 포함할 수 있다. 패턴의 유형은 생성되는 패턴의 유형을 의미할 수 있다. 예를 들어, 패턴이 상의 패턴인 경우, 패턴의 유형은 상의 앞판 패턴, 상의 뒷판 패턴, 슬리브 패턴, 넥 라인 패턴 등을 포함할 수 있다. 절반 여부는 수신된 수치 파라미터가 패턴의 절반에 해당하는 영역에 대한 수치 파라미터인지 여부에 대한 것일 수 있다. 예를 들어, 패턴의 치수 파라미터들을 기초로 절반 여부가 확인된 경우, 시뮬레이션 장치(1100)는 패턴의 절반을 생성할 수 있다. 이 경우, 시뮬레이션 장치(1100)는 패턴의 절반을 이용하여 대칭 패턴을 복제 또는 대칭 패턴까지 펼쳐진 상태로 패턴을 생성할 수 있다. 이는 시뮬레이션 장치(1100)가 제공하는 사용자 인터페이스에 생성될 패턴을 절반만으로 표시할지 여부를 선택하는지에 따라(예: 절반 여부를 선택하는지에 따라) 결정될 수 있다. 대칭 유형은 패턴의 대칭 유형 의미할 수 있고, 시뮬레이션 장치(1100)는 대칭 유형인 패턴을 대칭선을 기준으로 펼쳐진(unfolded) 상태로 패턴을 생성할 수 있다.
도 11은 다양한 실시예에 따른 시뮬레이션 장치를 설명하기 위한 블록도이다.
일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치(1100)는 서버일 수 있다. 다른 일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치(1100)는 사용자 단말(예, 모바일 장치, 데스크탑, 랩탑, 개인용 컴퓨터 등)일 수 있다. 도11을 참조하면, 일 실시예에 따른 시뮬레이션 장치(1100)는 사용자 인터페이스(1110), 프로세서(1130), 디스플레이(1150), 및 메모리(1170)를 포함할 수 있다. 사용자 인터페이스(1110), 프로세서(1130), 디스플레이(1150), 및 메모리(1170)는 통신 버스(1105)를 통해 서로 연결될 수 있다.
사용자 인터페이스(1110)는 치수 파라미터들 각각에 대한 사용자 입력을 수신한다.
디스플레이(1150)는 프로세서(1130)에 의해 생성된 시뮬레이션 결과를 표시한다. 시뮬레이션 장치(1100)는 도 10에 도시된 사용자 인터페이스를 출력할 수 있다.
메모리(1170)는 생성된 시뮬레이션 결과를 저장할 수 있다. 이 밖에도, 메모리(1170)는 상술한 프로세서(1130)의 처리 과정에서 생성되는 다양한 정보들을 저장할 수 있다. 이 밖에도, 메모리(1170)는 각종 데이터와 프로그램 등을 저장할 수 있다. 메모리(1170)는 휘발성 메모리 또는 비휘발성 메모리를 포함할 수 있다. 메모리(1170)는 하드 디스크 등과 같은 대용량 저장 매체를 구비하여 각종 데이터를 저장할 수 있다.
또한, 프로세서(1130)는 도 1 내지 도10를 통해 전술한 적어도 하나의 방법 또는 적어도 하나의 방법에 대응되는 알고리즘을 수행할 수 있다. 프로세서(1130)는 목적하는 동작들(desired operations)을 실행시키기 위한 물리적인 구조를 갖는 회로를 가지는 하드웨어로 구현된 데이터 처리 장치일 수 있다. 예를 들어, 목적하는 동작들은 프로그램에 포함된 코드(code) 또는 인스트럭션들(instructions)을 포함할 수 있다. 프로세서(1130)는 예를 들어, CPU(Central Processing Unit), GPU(Graphics Processing Unit), 또는 NPU(Neural network Processing Unit)으로 구성될 수 있다. 예를 들어, 하드웨어로 구현된 시뮬레이션 장치(1100)는 마이크로프로세서(microprocessor), 중앙 처리 장치(central processing unit), 프로세서 코어(processor core), 멀티-코어 프로세서(multi-core processor), 멀티프로세서(multiprocessor), ASIC(Application-Specific Integrated Circuit), FPGA(Field Programmable Gate Array)를 포함할 수 있다.
프로세서(1130)는 프로그램을 실행하고, 시뮬레이션 장치(1100)를 제어할 수 있다. 프로세서(1130)에 의하여 실행되는 프로그램 코드는 메모리(1170)에 저장될 수 있다.
실시예에 따른 방법은 다양한 컴퓨터 수단을 통하여 수행될 수 있는 프로그램 명령 형태로 구현되어 컴퓨터 판독 가능 매체에 기록될 수 있다. 상기 컴퓨터 판독 가능 매체는 프로그램 명령, 데이터 파일, 데이터 구조 등을 단독으로 또는 조합하여 포함할 수 있다. 상기 매체에 기록되는 프로그램 명령은 실시예를 위하여 특별히 설계되고 구성된 것들이거나 컴퓨터 소프트웨어 당업자에게 공지되어 사용 가능한 것일 수도 있다. 컴퓨터 판독 가능 기록 매체의 예에는 하드 디스크, 플로피 디스크 및 자기 테이프와 같은 자기 매체(magnetic media), CD-ROM, DVD와 같은 광기록 매체(optical media), 플롭티컬 디스크(floptical disk)와 같은 자기-광 매체(magneto-optical media), 및 롬(ROM), 램(RAM), 플래시 메모리 등과 같은 프로그램 명령을 저장하고 수행하도록 특별히 구성된 하드웨어 장치가 포함된다. 프로그램 명령의 예에는 컴파일러에 의해 만들어지는 것과 같은 기계어 코드뿐만 아니라 인터프리터 등을 사용해서 컴퓨터에 의해서 실행될 수 있는 고급 언어 코드를 포함한다. 상기된 하드웨어 장치는 실시예의 동작을 수행하기 위해 하나 이상의 소프트웨어 모듈로서 작동하도록 구성될 수 있으며, 그 역도 마찬가지이다.
소프트웨어는 컴퓨터 프로그램(computer program), 코드(code), 명령(instruction), 또는 이들 중 하나 이상의 조합을 포함할 수 있으며, 원하는 대로 동작하도록 처리 장치를 구성하거나 독립적으로 또는 결합적으로(collectively) 처리 장치를 명령할 수 있다. 소프트웨어 및/또는 데이터는, 처리 장치에 의하여 해석되거나 처리 장치에 명령 또는 데이터를 제공하기 위하여, 어떤 유형의 기계, 구성요소(component), 물리적 장치, 가상 장치(virtual equipment), 컴퓨터 저장 매체 또는 장치에 영구적으로, 또는 일시적으로 구체화(embody)될 수 있다. 소프트웨어는 네트워크로 연결된 컴퓨터 시스템 상에 분산되어서, 분산된 방법으로 저장되거나 실행될 수도 있다. 소프트웨어 및 데이터는 하나 이상의 컴퓨터 판독 가능 기록 매체에 저장될 수 있다.
이상과 같이 실시예들이 비록 한정된 도면에 의해 설명되었으나, 해당 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 상기를 기초로 다양한 기술적 수정 및 변형을 적용할 수 있다. 예를 들어, 설명된 기술들이 설명된 방법과 다른 순서로 수행되거나, 및/또는 설명된 시스템, 구조, 장치, 회로 등의 구성요소들이 설명된 방법과 다른 형태로 결합 또는 조합되거나, 다른 구성요소 또는 균등물에 의하여 대치되거나 치환되더라도 적절한 결과가 달성될 수 있다.
그러므로, 다른 구현들, 다른 실시예들 및 특허청구범위와 균등한 것들도 후술하는 청구범위의 범위에 속한다.

Claims (18)

  1. 의상(garment)의 치수(measurement) 파라미터에 기초하여 패턴을 생성하는 방법에 있어서,
    치수 파라미터들-상기 치수 파라미터들은 패턴 밑단(Hem) 길이, 패턴 높이, 어깨 품(Across Shoulder) 길이, 어깨 경사(Shoulder Slope) 길이, 목 깊이(Neck Depth), 목 너비(Neck Opening), 품(Across) 길이, 가슴 품(Across Chest) 길이 및 암홀(Armhole) 길이 중 적어도 하나를 포함하는-을 수신하는 단계;
    상기 패턴 밑단(Hem) 길이에 기초하여 패턴 밑단에 대응하는 제1 선을 생성하는 단계;
    상기 패턴 높이에 기초하여 상기 제1 선에 수직인 제2 선을 생성하는 단계;
    상기 제2 선의 끝점에서 시작하여, 상기 어깨 품 길이, 상기 어깨 경사 길이, 상기 목 깊이 및 상기 목 너비 중 적어도 하나에 기초하여 목 라인(Neck Line)을 생성하는 단계; 및
    상기 암홀 길이, 상기 품 길이 및 상기 가슴 품 길이 중 적어도 하나에 기초하여 슬리브 라인(Sleeve Line)을 생성하는 단계;
    를 포함하는,
    패턴 생성 방법.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 패턴 높이는
    하이 포인트 숄더(High Point Shoulder, HPS) 길이 및 중심(Center) 높이 중 적어도 하나를 포함하는,
    패턴 생성 방법.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 목 라인을 생성하는 단계는
    상기 제2 선이 하이 포인트 숄더 길이에 기초하여 생성된 경우, 제1 방향으로 목 너비에 기초한 제1 거리만큼 이동하고, 제2 방향으로 목 깊이에 기초한 제2 거리만큼 이동한 위치에 목 라인의 중심점을 생성하는 단계; 및
    상기 중심점을 기초로 상기 목 라인을 생성하는 단계;
    를 포함하는,
    패턴 생성 방법.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 목 라인을 생성하는 단계는
    상기 제2 선이 중심 높이에 기초하여 생성된 경우, 제1 방향으로 목 너비에 기초한 제1 거리만큼 이동하고, 제2 방향으로 목 깊이에 기초한 제2 거리만큼 이동한 위치에 어깨 라인과 접하는 목 라인의 끝점을 생성하는 단계; 및
    상기 끝점을 기초로 상기 목 라인을 생성하는 단계;
    를 포함하는,
    패턴 생성 방법.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 품 길이는
    하이 포인트 숄더로부터 떨어진 거리에 기초하여 달라지는,
    패턴 생성 방법.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 슬리브 라인을 생성하는 단계는,
    상기 목 라인의 끝점에서 시작하여, 어깨 경사 선에 대응하는 제3 선을 생성하는 단계; 및
    상기 제3선의 끝점에서 시작하여, 상기 암홀 길이, 상기 품 길이 및 상기 가슴 품 길이 중 적어도 하나에 기초하여 슬리브 라인을 생성하는 단계;
    를 포함하는,
    패턴 생성 방법.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 슬리브 라인을 생성하는 단계는
    상기 제3선의 끝점에서 시작하여, 제1 방향으로 상기 어깨 품 길이 및 상기 가슴 품 길이에 기초하여 결정된 거리만큼 이동한 후, 제2 방향으로 상기 어깨 품 길이, 상기 가슴 품 길이 및 상기 암홀 길이에 기초하여 결정된 거리만큼 이동한 거리에 상기 슬리브 라인의 끝점을 생성하는 단계; 및
    상기 끝점에 기초하여 슬리브 라인을 생성하는 단계;
    를 포함하는,
    패턴 생성 방법.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 가슴 품 길이가 암홀로부터 일정 거리 떨어진 곳에 위치한 선의 길이로 수신된 경우,
    상기 수신된 선의 길이 및 상기 패턴 높이에 기초하여 상기 암홀로부터 반대편 암홀까지의 거리를 추정하는 단계;
    상기 암홀 길이에 기초하여 상기 추정된 거리를 검증하는 단계; 및
    상기 검증 결과에 따라 상기 암홀로부터 상기 반대편 암홀까지의 거리를 재 추정하거나, 상기 추정된 거리를 상기 가슴 품 길이로 결정하는 단계;
    를 더 포함하는,
    패턴 생성 방법.
  9. 제1항에 있어서,
    적어도 하나의 조절점을 이용하여 패턴의 라인-상기 패턴의 라인은 상기 목 라인 및 상기 슬리브 라인 중 적어도 하나를 포함하는-의 곡률을 조절하는 단계
    를 더 포함하는
    패턴 생성 방법.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 곡률을 조절하는 단계는,
    상기 적어도 하나의 조절점을 이용하여 각도 제한조건(angular constraint)의 충족 여부를 확인하는 단계를 포함하고,
    상기 각도 제한조건은
    상기 적어도 하나의 조절점이 상기 패턴의 라인의 일 끝점으로 진입하여 생성되는 직선과 상기 패턴의 라인의 끝점과 만나는 외곽선이 서로 직교하도록 하는 제한조건을 포함하는,
    패턴 생성 방법.
  11. 제1항에 있어서,
    적어도 하나의 조절점을 이용하여 패턴의 라인-상기 패턴의 라인은 상기 목 라인 및 상기 슬리브 라인 중 적어도 하나를 포함하는-의 길이를 조절하는 단계
    를 더 포함하는
    패턴 생성 방법.
  12. 제11항에 있어서,
    상기 길이를 조절하는 단계는,
    상기 적어도 하나의 조절점을 이용하여 길이 제한조건(Length Constraint)의 충족 여부를 확인하는 단계를 포함하고,
    상기 길이 제한조건은
    상기 패턴과 결합되는 다른 패턴의 적어도 일부의 길이와 상기 패턴의 라인의 길이를 동일하도록 하는 제한조건을 포함하는,
    패턴 생성 방법.
  13. 의상의 치수 파라미터에 기초하여 패턴을 생성하는 방법에 있어서,
    치수 파라미터들-상기 치수 파라미터들은 소매 밑단 길이, 소매 길이, 캡 높이, 이두 폭 및 캡 너비 중 적어도 하나를 포함하는-을 수신하는 단계;
    상기 소매 밑단 길이에 기초하여 제4 선을 생성하는 단계;
    상기 소매 길이에 기초하여 상기 제4 선에 수직인 제5 선을 생성하는 단계; 및
    상기 제5 선의 끝점에서 시작하여, 상기 캡 높이 및 상기 이두 폭 중 적어도 하나에 기초하여 캡 라인(Cap Line)을 생성하는 단계;
    를 포함하는,
    패턴 생성 방법.
  14. 제13항에 있어서,
    상기 캡 라인을 생성하는 단계는
    상기 제5 선의 끝점에서 시작하여, 제1 방향으로 상기 이두 폭에 기초하여 결정된 거리만큼 이동하고, 제2 방향으로 상기 캡 높이에 기초하여 결정된 거리만큼 이동한 위치를 상기 캡 라인의 끝점으로 결정하는 단계; 및
    상기 끝점에 기초하여 캡 라인을 생성하는 단계;
    를 포함하는,
    패턴 생성 방법.
  15. 제13항에 있어서,
    슬리브 라인의 길이 및 상기 캡 라인의 길이에 대한 길이 제한조건의 충족 여부를 확인하는 단계
    를 더 포함하는,
    패턴 생성 방법.
  16. 하드웨어와 결합되어 제1항 내지 제15항 중 어느 하나의 항의 방법을 실행시키기 위하여 컴퓨터 판독 가능한 기록매체에 저장된 컴퓨터 프로그램.
  17. 패턴 생성을 위한 시뮬레이션 장치는
    사용자 인터페이스;
    메모리; 및
    프로세서;
    를 포함하고,
    상기 프로세서는
    치수 파라미터들-상기 치수 파라미터들은 패턴 밑단 길이, 패턴 높이, 어깨 품 길이, 어깨 경사 길이, 목 깊이, 목 너비, 품 길이, 가슴 품 길이 및 암홀 길이 중 적어도 하나를 포함하는-을 수신하고,
    상기 패턴 밑단 길이에 기초하여 패턴 밑단에 대응하는 제1 선을 생성하고,
    상기 패턴 높이에 기초하여 상기 제1 선에 수직인 제2 선을 생성하고,
    상기 제2 선의 끝점에서 시작하여, 상기 어깨 품 길이, 상기 어깨 경사 길이, 상기 목 깊이 및 상기 목 너비 중 적어도 하나에 기초하여 목 라인을 생성하고, 그리고
    상기 암홀 길이, 상기 품 길이 및 상기 가슴 품 길이 중 적어도 하나에 기초하여 슬리브 라인을 생성하는,
    시뮬레이션 장치.
  18. 패턴 생성을 위한 시뮬레이션 장치는
    사용자 인터페이스;
    메모리; 및
    프로세서;
    를 포함하고,
    상기 프로세서는
    치수 파라미터들-상기 치수 파라미터들은 소매 밑단 길이, 소매 길이, 캡 높이, 이두 폭 및 캡 너비 중 적어도 하나를 포함하는-을 수신하고,
    상기 소매 밑단 길이에 기초하여 제4 선을 생성하고,
    상기 소매 길이에 기초하여 상기 제4 선에 수직인 제5 선을 생성하고, 그리고
    상기 제5 선의 끝점에서 시작하여, 상기 캡 높이 및 상기 이두 폭 중 적어도 하나에 기초하여 캡 라인을 생성하는,
    시뮬레이션 장치.
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