WO2023166781A1 - Photocurable resin composition, cured object, three-dimensional shaped object, and method for producing casting mold - Google Patents

Photocurable resin composition, cured object, three-dimensional shaped object, and method for producing casting mold Download PDF

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Abstract

The present invention provides a photocurable resin composition characterized by comprising a photopolymerization initiator (A) and a polyfunctional (meth)acrylate (B), wherein the amount of the photopolymerization initiator (A) is in the range of 10-30 parts by mass, excluding 10 parts by mass, per 100 parts by mass of the polyfunctional (meth)acrylate (B). The photopolymerization initiator (A) may at least comprise a first photopolymerization initiator (A-1), which has at least one maximal-absorption wavelength in a wavelength range of 350 nm and longer, and a second photopolymerization initiator (A-2), which has no maximal-absorption wavelength in the wavelength range of 350 nm and longer and has a maximal-absorption wavelength in a wavelength range below 350 nm. A three-dimensional shaped object comprising a cured object obtained by curing the photocurable resin composition has a high hardness and is excellent in terms of eliminability by high-temperature heating, shaping accuracy, and casting property.

Description

光硬化性樹脂組成物、硬化物、立体造形物、及び鋳型の製造方法Photocurable resin composition, cured product, three-dimensional object, and method for producing mold
 本発明は、光硬化性樹脂組成物、硬化物、立体造形物、及び鋳型の製造方法に関する。 The present invention relates to a method for producing a photocurable resin composition, a cured product, a three-dimensional model, and a mold.
 金属材料の成形品を製造する際に、一般的に機械加工や鋳造などの方法が用いられている。その中でも、鋳造法は、複雑な形状を有する金属部品や金属製品を製造することができる。
前記鋳造法としては、ワックスや樹脂で鋳造物の原型モデルを作成、埋没材に埋没し、埋没材が硬化した後、原型モデル及び埋没材を加熱することにより、原型モデルを溶融、分解あるいは焼成除去することで埋没材内に空隙を形成し、この空隙を鋳型として溶融した金属を注入し鋳造するロストワックス法等が知られている。これらロストワックス法は、宝飾や歯科技工の分野で用いられている。
Methods such as machining and casting are generally used to manufacture molded articles of metal materials. Among them, the casting method can produce metal parts and metal products with complex shapes.
As the casting method, a prototype model of the casting is created with wax or resin, embedded in the investment material, and after the investment material hardens, the prototype model and the investment material are heated to melt, decompose or bake the prototype model. A lost-wax method or the like is known, in which voids are formed in the investment material by removing it, and a molten metal is injected and cast using the voids as a mold. These lost-wax methods are used in the fields of jewelry and dental technology.
近年、ロストワックス法の原型モデルを、3Dプリンタを用いて光硬化性樹脂組成物で形成することが提案されている(特許文献1)。 In recent years, it has been proposed to form a prototype model of the lost wax method with a photocurable resin composition using a 3D printer (Patent Document 1).
特開2018-048312号公報JP 2018-048312 A
しかしながら、従来の光硬化性樹脂組成物は、光照射時の硬化速度が遅く造形しにくい、又は硬化速度が速すぎることから、少量の露光でも硬化するため扱いにくく、且つ造形精度が低下する等の問題があった。
さらに、その組成物で形成された原型モデルは、硬度が低いため形状維持できない、高温加熱時の消失性が不十分で、埋没材内にスス等の残渣が残り鋳造品の表面が劣化する、あるいは原型モデルと埋没材の膨張率の違いから埋没材にクラックや割れが生じるといった問題が存在した。
However, conventional photocurable resin compositions have a slow curing speed during light irradiation and are difficult to shape, or the curing speed is too fast, so they are difficult to handle because they cure even with a small amount of light exposure, and the molding accuracy decreases. there was a problem.
In addition, the prototype model formed from the composition cannot maintain its shape due to its low hardness, and the extinguishing property is insufficient when heated at high temperatures, leaving residues such as soot in the investment material and degrading the surface of the casting. Alternatively, there was a problem that cracks and splits occurred in the investment material due to the difference in expansion rate between the prototype model and the investment material.
本発明は、造形精度に優れた光硬化性樹脂組成物、及び硬度が高く、高温加熱時の消失性、及び鋳造性に優れた造形物を提供することを課題とする。 An object of the present invention is to provide a photocurable resin composition excellent in modeling accuracy, and a modeled article having high hardness, erasability when heated at high temperature, and excellent castability.
本明細書において「鋳造性に優れる」とは、本発明の造形物を原型モデルとして用いて鋳型を製造した場合に、鋳型外部及び内部にひび割れや亀裂がなく、鋳型内部に立体造形物の残渣、煤がなく、鋳型への立体造形物の転写性が良好である状態をいう。 As used herein, the term "excellent castability" means that when a mold is produced using the model of the present invention as a prototype model, there are no cracks or cracks on the outside and inside of the mold, and the residue of the three-dimensional model inside the mold. , refers to a state in which there is no soot and the transferability of the three-dimensional object to the mold is good.
これらの問題に対し、本発明者らは光重合開始剤(A)及び多官能(メタ)アクリレート(B)を含有し、光重合開始剤(A)の含有量が、多官能(メタ)アクリレート(B)100質量部に対して10質量部超~30質量部の範囲であることを特徴とする光硬化性樹脂組成物は硬化速度が適度に速く造形精度に優れ、その樹脂組成物を硬化させて得られる造形物は、硬度が高く、高温加熱時の消失性、及び鋳造性に優れることを見出し、本発明を完成させた。 For these problems, the present inventors contain a photopolymerization initiator (A) and a polyfunctional (meth)acrylate (B), and the content of the photopolymerization initiator (A) is a polyfunctional (meth)acrylate (B) The photocurable resin composition, which is characterized by being in the range of more than 10 parts by mass to 30 parts by mass with respect to 100 parts by mass, has a moderately fast curing speed and excellent modeling accuracy, and the resin composition can be cured. The inventors have found that the molded article obtained by heating has high hardness and is excellent in erasability when heated to high temperature and castability, and completed the present invention.
すなわち、本発明は以下の態様を包含するものである。
(1)光重合開始剤(A)及び多官能(メタ)アクリレート(B)を含有し、
前記光重合開始剤(A)の含有量が、多官能(メタ)アクリレート(B)100質量部に対して10質量部超~30質量部の範囲であることを特徴とする光硬化性樹脂組成物。
(2)前記光重合開始剤(A)は、350nm以上の波長範囲に少なくとも1つの極大吸収波長を有する第1の光重合開始剤(A-1)、及び350nm以上の波長範囲に極大吸収波長を有さず、350nm未満の波長範囲に極大吸収波長を有する第2の光重合開始剤(A-2)を少なくとも含有する(1)に記載の光硬化性樹脂組成物。
(3)前記第1の光重合開始剤(A-1)は、アシルホスフィンオキシド、ビスアシルホスフィンオキシド、チタノセン化合物、O-アシルオキシム化合物、及びチオキサントン化合物からなる群より選択される少なくとも1種である請求項2に記載の光硬化性樹脂組成物。
(4)前記第2の光重合開始剤(A-2)は、アルキルフェノン化合物、α-ジケトン化合物、及びヨ-ドニウム塩からなる群より選択される少なくとも1種である(2)又は(3)に記載の光硬化性樹脂組成物。
(5)前記第1の光重合開始剤(A-1)に対する前記第2の光重合開始剤(A-2)の配合割合[(A-1)/(A-2)]は1/100~8/10の範囲である(2)~(4)のいずれかに記載の光硬化性樹脂組成物。
(6)前記多官能(メタ)アクリレート(B)は、分子中にポリオキシアルキレン基を構造中に有する化合物を少なくとも含有する(1)~(5)のいずれかに記載の光硬化性樹脂組成物。
(7)前記多官能(メタ)アクリレート(B)は、分子中にポリオキシアルキレン基及びビスフェノール構造を有する化合物(B-1)を少なくとも含有し、
 前記化合物(B-1)は、
 下記式(I):
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
で表され、Rは水素原子又はメチル基を示し、同一分子中の複数のRは同一でも異なっていてもよく、m及びnはそれぞれ独立に1以上の整数を示し、m+nが2~40である、変性ビスフェノ-ルAジ(メタ)アクリレートである(6)に記載の光硬化性樹脂組成物。
(8)前記多官能(メタ)アクリレート(B)は、分子内に1つ以上の(メタ)アクリロイル基を有する化合物(B-2)をさらに含有する(6)又は(7)に記載の光硬化性樹脂組成物。
(9)前記多官能(メタ)アクリレート(B)100質量部中の前記化合物(B-1)の配合量は、40~90質量部である(9)に記載の光硬化性樹脂組成物。
(10)非金属有機顔料(C)をさらに含有する(1)~(9)のいずれかに記載の光硬化性樹脂組成物。
(11)立体光造形用の(1)~(10)のいずれかに記載の光硬化性樹脂組成物。
(12)(1)~(11)のいずれかに記載の光硬化性樹脂組成物を光硬化させた硬化物。
(13)(12)に記載の硬化物からなる立体造形物。
(14)(13)に記載の立体造形物を埋没材で一部または全部埋没させる工程(1)、
前記埋没材を硬化または固化させる工程(2)、
前記立体造形物を溶融除去、分解除去、及び/または焼却除去させる工程(3)を有することを特徴とする鋳型の製造方法。
(15)(14)に記載の製造方法で得られた鋳型に金属材料を流し込み、前記金属材料を固化させる工程(4)を有することを特徴とする金属鋳造物の製造方法。
That is, the present invention includes the following aspects.
(1) containing a photopolymerization initiator (A) and a polyfunctional (meth)acrylate (B),
A photocurable resin composition, wherein the content of the photopolymerization initiator (A) is in the range of more than 10 parts by mass to 30 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polyfunctional (meth)acrylate (B). thing.
(2) The photopolymerization initiator (A) includes a first photopolymerization initiator (A-1) having at least one maximum absorption wavelength in a wavelength range of 350 nm or more, and a maximum absorption wavelength in a wavelength range of 350 nm or more. The photocurable resin composition according to (1), which contains at least a second photopolymerization initiator (A-2) having a maximum absorption wavelength in a wavelength range of less than 350 nm.
(3) The first photopolymerization initiator (A-1) is at least one selected from the group consisting of acylphosphine oxides, bisacylphosphine oxides, titanocene compounds, O-acyloxime compounds, and thioxanthone compounds. The photocurable resin composition according to claim 2.
(4) The second photopolymerization initiator (A-2) is at least one selected from the group consisting of alkylphenone compounds, α-diketone compounds, and iodonium salts (2) or (3) ) The photocurable resin composition described in ).
(5) The mixing ratio [(A-1)/(A-2)] of the second photopolymerization initiator (A-2) to the first photopolymerization initiator (A-1) is 1/100. The photocurable resin composition according to any one of (2) to (4), which is in the range of to 8/10.
(6) The photocurable resin composition according to any one of (1) to (5), wherein the polyfunctional (meth)acrylate (B) contains at least a compound having a polyoxyalkylene group in the molecule in its structure. thing.
(7) The polyfunctional (meth)acrylate (B) contains at least a compound (B-1) having a polyoxyalkylene group and a bisphenol structure in the molecule,
The compound (B-1) is
Formula (I) below:
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
wherein R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, multiple R 1s in the same molecule may be the same or different, m and n each independently represents an integer of 1 or more, and m+n is 2 to 40, the photocurable resin composition according to (6), which is a modified bisphenol A di(meth)acrylate.
(8) The light according to (6) or (7), wherein the polyfunctional (meth)acrylate (B) further contains a compound (B-2) having one or more (meth)acryloyl groups in the molecule. A curable resin composition.
(9) The photocurable resin composition according to (9), wherein the amount of the compound (B-1) in 100 parts by mass of the polyfunctional (meth)acrylate (B) is 40 to 90 parts by mass.
(10) The photocurable resin composition according to any one of (1) to (9), further containing a nonmetallic organic pigment (C).
(11) The photocurable resin composition according to any one of (1) to (10) for stereolithography.
(12) A cured product obtained by photocuring the photocurable resin composition according to any one of (1) to (11).
(13) A three-dimensional object made of the cured product according to (12).
(14) Step (1) of partially or wholly burying the three-dimensional object according to (13) with an investment material;
a step (2) of curing or solidifying the investment material;
A method for manufacturing a casting mold, comprising a step (3) of melting, removing, and/or incinerating the three-dimensional object.
(15) A method for producing a metal casting, comprising the step (4) of pouring a metallic material into the mold obtained by the production method described in (14) and solidifying the metallic material.
 本発明によれば、造形精度に優れた光硬化性樹脂組成物、及び硬度が高く、高温加熱時の消失性、鋳造性に優れる造形物を提供することができる。したがって、鋳型作成時においては、原型モデルの造形がしやすく、原型モデルの形状を維持でき、原型モデル加熱時の残渣が低減され、鋳型にクラックや割れが発生するのを防ぐことができる。 According to the present invention, it is possible to provide a photocurable resin composition with excellent modeling accuracy, and a modeled article with high hardness, erasability when heated at high temperatures, and excellent castability. Therefore, when the mold is created, the prototype model can be easily molded, the shape of the prototype model can be maintained, the residue when the prototype model is heated is reduced, and the mold can be prevented from cracking or cracking.
 以下、本発明のいくつかの実施形態について詳細に説明する。ただし、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。なお、以後本明細書における質量%は光硬化性樹脂組成物全体を100質量%とした場合の割合を意味する。
 本発明において、「(メタ)アクリレート」とは、アクリレートとメタクリレートの一方又は両方をいい、「(メタ)アクリロイル基」とは、アクリロイル基とメタクリロイル基の一方又は両方をいう。
Several embodiments of the invention are described in detail below. However, the present invention is not limited to the following embodiments. In addition, mass % in this specification means the ratio when the whole photocurable resin composition is made into 100 mass % henceforth.
In the present invention, "(meth)acrylate" refers to one or both of acrylate and methacrylate, and "(meth)acryloyl group" refers to one or both of acryloyl group and methacryloyl group.
[(A)成分]
 本発明において用いる光重合開始剤(A)(本明細書では、単に(A)成分ともいう)としては、紫外線や電子線等の照射によりラジカル、カチオン、或いはアニオンを発生する化学種、又はこれらの混合物であればよく、本発明の効果が得られる範囲において特に制限されるものではない。
[(A) Component]
The photopolymerization initiator (A) used in the present invention (also simply referred to as component (A) in this specification) includes chemical species that generate radicals, cations, or anions upon irradiation with ultraviolet rays, electron beams, or the like, or and is not particularly limited as long as the effects of the present invention can be obtained.
 さらに、本発明における光重合開始剤(A)の含有量は、多官能(メタ)アクリレート(B)100質量部に対して3~50質量部の範囲であることが好ましく、5~40質量部の範囲であることが好ましく、10質量部超、30質量部以下の範囲であることが最も好ましい。これらの範囲とすることで、硬化速度を適度に速めることで造形精度を向上させ、高温加熱時の膨張を抑制しつつ、消失性を向上できる。したがって、立体造形し易く、鋳型形成時のクラックや割れを防ぎ、スス残りを少なくでき、鋳造性に優れる。 Furthermore, the content of the photopolymerization initiator (A) in the present invention is preferably in the range of 3 to 50 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the polyfunctional (meth)acrylate (B), and 5 to 40 parts by weight. and most preferably in the range of more than 10 parts by mass and 30 parts by mass or less. When the content is within these ranges, it is possible to improve molding accuracy by appropriately increasing the curing rate, suppress expansion during high-temperature heating, and improve vanishability. Therefore, it is easy to three-dimensionally shape, prevents cracks and cracks during mold formation, can reduce soot residue, and is excellent in castability.
 本発明においては、光重合開始剤(A)が、350nm以上の波長範囲に少なくとも1つの極大吸収波長を有する第1の光重合開始剤(A-1)を含有することが好ましい。そうすることで、紫外線(特に350~450nm付近の波長光)照射時に(メタ)アクリレート化合物との反応性に優れ、硬化速度が速まり造形精度が良好となる。したがって、三次元立体造形し易くなる。 In the present invention, the photopolymerization initiator (A) preferably contains a first photopolymerization initiator (A-1) having at least one maximum absorption wavelength in the wavelength range of 350 nm or longer. By doing so, it has excellent reactivity with the (meth)acrylate compound when irradiated with ultraviolet light (particularly light having a wavelength of about 350 to 450 nm), accelerates the curing speed, and improves molding accuracy. Therefore, three-dimensional modeling becomes easier.
 前記第1の光重合開始剤(A-1)としては、アシルホスフィンオキシド、ビスアシルホスフィンオキシド、チタノセン化合物、O-アシルオキシム化合物、及びチオキサントン化合物からなる群より選択される少なくとも1種であることが好ましく、具体的には、2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、ビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキシド、ビス(2,4-シクロペンタジエニル)ビス[2,6-ジフルオロ-3-(1-ピリル)フェニル]チタン(IV)、1-[4-(フェニルチオ)フェニル]オクタン-1,2-ジオン=2-(O-ベンゾイルオキシム)、2,4-ジエチルチオキサントン等が挙げられる。これらの中でも、(メタ)アクリレート化合物との反応性に優れ、分子量が大きく複雑な構造を有する化合物や、分子内に金属原子を含む化合物と比べて燃成時のスス残りを減らせることから、リン化合物が好ましく、具体的には、2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、ビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキシドが好ましい。また、これらの化合物は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 The first photopolymerization initiator (A-1) is at least one selected from the group consisting of acylphosphine oxides, bisacylphosphine oxides, titanocene compounds, O-acyloxime compounds, and thioxanthone compounds. are preferred, and specifically, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)phenylphosphine oxide, bis(2,4-cyclopentadienyl)bis[2, 6-difluoro-3-(1-pyryl)phenyl]titanium (IV), 1-[4-(phenylthio)phenyl]octane-1,2-dione=2-(O-benzoyloxime), 2,4-diethyl thioxanthone and the like. Among these, it has excellent reactivity with (meth)acrylate compounds and can reduce soot residue during combustion compared to compounds with large molecular weights and complex structures and compounds containing metal atoms in the molecule. Phosphorus compounds are preferred, and specifically 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide and bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)phenylphosphine oxide are preferred. In addition, these compounds can be used alone or in combination of two or more.
 光重合開始剤(A)は、350nm以上の波長範囲に極大吸収波長を有さず、350nm未満の波長範囲に極大吸収波長を有する第2の光重合開始剤(A-2)をさらに含有することが好ましい。
 第2の光重合開始剤(A-2)は、紫外線(特に350~450nm付近の波長光)照射後にも未反応のまま造形物に多く残存する。そのため、造形物を加熱した際にラジカル、カチオン或いはアニオンを発生させ、未反応の(メタ)アクリレート化合物と反応して一部硬化が進む可能性が考えられる。したがって、第2の光重合開始剤(A-2)を配合することで、高温加熱時の膨張が抑制でき、鋳型作成時には鋳型にクラックや割れが発生するのを防ぐことができる。すなわち、鋳造性に優れる。
The photopolymerization initiator (A) does not have a maximum absorption wavelength in a wavelength range of 350 nm or more, and further contains a second photopolymerization initiator (A-2) having a maximum absorption wavelength in a wavelength range of less than 350 nm. is preferred.
A large amount of the second photopolymerization initiator (A-2) remains unreacted in the shaped article even after irradiation with ultraviolet rays (especially light with a wavelength of around 350 to 450 nm). Therefore, it is conceivable that when the modeled object is heated, radicals, cations, or anions are generated and react with the unreacted (meth)acrylate compound to partially cure the modeled object. Therefore, by blending the second photopolymerization initiator (A-2), it is possible to suppress the expansion during heating at high temperature, and to prevent the occurrence of cracks and cracks in the mold during mold preparation. That is, it is excellent in castability.
 前記第2の光重合開始剤(A-2)としては、アルキルフェノン化合物、α-ジケトン化合物、及びヨ-ドニウム塩からなる群より選択される少なくとも1種であることが好ましく、具体的には、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン、1-[4-(2-ヒドロキシエトキシ)フェニル]-2-ヒドロキシ-2-メチル-1-プロパン-1-オン、2,2-ジメトキシ-2-フェニルアセトフェノン、2-ヒドロキシ-1-(4-(4-(2-ヒドロキシ-2-メチルプロピニル)ベンジル)フェニル)-2-メチルプロパン-1-オン、2-メチル-1-[4-(メチルチオ)フェニル]-2-モルフォリノプロパン-1-オン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-(4-モルホリノフェニル)-1-ブタノン、2-ジメチルアミノ-2-(4-メチルベンジル)-1-(4-モルフォリン-4-イル-フェニル)-ブタン-1-オン、ベンゾイルギ酸メチル、ビス(2-フェニル-2-オキソ酢酸)オキシビスエチレン、市販品のヨ-ドニウム塩(例えば、商品名「Omnicat250」、IGM社製)等が挙げられる。これらの中でも入手容易性及び高温加熱時の消失性向上の観点から、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2-メチル-1-[4-(メチルチオ)フェニル]-2-モルフォリノプロパン-1-オン、2,2-ジメトキシ-2-フェニルアセトフェノンがより好ましい。また、これらの化合物は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 The second photopolymerization initiator (A-2) is preferably at least one selected from the group consisting of alkylphenone compounds, α-diketone compounds, and iodonium salts. , 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1-[4-(2-hydroxyethoxy)phenyl]-2-hydroxy-2-methyl-1-propane -1-one, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2-hydroxy-1-(4-(4-(2-hydroxy-2-methylpropynyl)benzyl)phenyl)-2-methylpropane-1- one, 2-methyl-1-[4-(methylthio)phenyl]-2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)-1-butanone, 2 -dimethylamino-2-(4-methylbenzyl)-1-(4-morpholin-4-yl-phenyl)-butan-1-one, methyl benzoylformate, bis(2-phenyl-2-oxoacetate)oxy Bisethylene, commercially available iodonium salts (eg, trade name "Omnicat 250", manufactured by IGM), and the like. Among these, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, 2-methyl-1-[4-(methylthio)phenyl]-2-morpholinopropan-1-one, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone is more preferred. In addition, these compounds can be used alone or in combination of two or more.
 以上より、第1の光重合開始剤(A-1)の添加は硬化速度を速め、第2の光重合開始剤(A-2)の添加は高温加熱時の造形物の膨張を抑制できる。さらに第1の光重合開始剤(A-1)及び第2の光重合開始剤(A-2)は高温加熱時の消失性向上にも寄与する。
 一方、第1の光重合開始剤(A-1)の配合量が多すぎる場合、硬化速度が過剰に速まることにより造形精度が低下する等の問題も発生する。
 したがって、硬化速度を適度に調整し造形精度を向上させつつ、高温加熱時の消失性を向上させ、膨張を抑制できることから、前記第1の光重合開始剤(A-1)に対する前記第2の光重合開始剤(A-2)の配合割合[(A-1)/(A-2)]は1/100~1/1の範囲であることが好ましく、1/100~9/10であることがより好ましく、1/100~8/10の範囲であることが特に好ましい。
As described above, the addition of the first photopolymerization initiator (A-1) can increase the curing speed, and the addition of the second photopolymerization initiator (A-2) can suppress the expansion of the modeled product when heated to a high temperature. Furthermore, the first photopolymerization initiator (A-1) and the second photopolymerization initiator (A-2) also contribute to the improvement of disappearance during high-temperature heating.
On the other hand, if the blending amount of the first photopolymerization initiator (A-1) is too large, problems such as deterioration in modeling accuracy due to excessive acceleration of the curing speed may occur.
Therefore, while moderately adjusting the curing speed to improve the modeling accuracy, it is possible to improve the disappearance during high-temperature heating and suppress the expansion, so the second photopolymerization initiator (A-1). The mixing ratio [(A-1)/(A-2)] of the photopolymerization initiator (A-2) is preferably in the range of 1/100 to 1/1, and is 1/100 to 9/10. is more preferred, and a range of 1/100 to 8/10 is particularly preferred.
[(B)成分]
本発明の組成物は、多官能(メタ)アクリレート(B)(本明細書では、単に(B)成分ともいう)をさらに含有する。高い反応速度及び造形精度が得られ易く、三次元光造形し易い観点から、(B)成分はアクリロイル基を有することが好ましい。一方、メタクリロイル基は、アクリロイル基に比べて炭素-炭素二重結合のα位の立体障害が大きく、ポリマーの解重合が起こり易く、高温加熱時の消失性が高いという点では、(B)成分はメタクリロイル基を有することが好ましい。
[(B) Component]
The composition of the present invention further contains a polyfunctional (meth)acrylate (B) (also referred to herein simply as component (B)). It is preferable that the component (B) has an acryloyl group from the viewpoint of easy obtaining of high reaction speed and modeling accuracy and easy three-dimensional stereolithography. On the other hand, the methacryloyl group has greater steric hindrance at the α-position of the carbon-carbon double bond than the acryloyl group, so depolymerization of the polymer is likely to occur, and the disappearance of the component (B) is high when heated at high temperatures. preferably has a methacryloyl group.
(B)成分として具体的には、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、グリセリンのプロピレンオキシド変性トリ(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシ-3-アクリロイロキシプロピル(メタ)アクリレート、トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌル酸ジ(メタ)アクリレート、3,9-ビス[1,1-ジメチル-2-(メタ)アクリロイルオキシエチル]-2,4,8,10-テトラオキソスピロ[5.5]ウンデカン、ジオキサングリコールジ(メタ)アクリレート、(EO)或いは(PO)変性ビスフェノ-ルAジ(メタ)アクリレート、(EO)或いは(PO)変性ビスフェノ-ルEジ(メタ)アクリレート、(EO)或いは(PO)変性ビスフェノ-ルFジ(メタ)アクリレート、(EO)或いは(PO)変性ビスビスフェノ-ルSジ(メタ)アクリレート、(EO)或いは(PO)変性4,4‘-オキシジビスフェノ-ルジ(メタ)アクリレート等の2官能(メタ)アクリレート; Specific examples of component (B) include neopentylglycol hydroxypivalate di(meth)acrylate, propylene oxide-modified tri(meth)acrylate of glycerin, 2-hydroxy-3-acryloyloxypropyl (meth)acrylate, tris( hydroxyethyl)isocyanuric acid di(meth)acrylate, 3,9-bis[1,1-dimethyl-2-(meth)acryloyloxyethyl]-2,4,8,10-tetraoxospiro[5.5]undecane , dioxane glycol di(meth)acrylate, (EO) or (PO) modified bisphenol A di(meth)acrylate, (EO) or (PO) modified bisphenol E di(meth)acrylate, (EO) or ( PO) modified bisphenol F di(meth)acrylate, (EO) or (PO) modified bisphenol S di(meth)acrylate, (EO) or (PO) modified 4,4'-oxydibisphenol di Bifunctional (meth)acrylate such as (meth)acrylate;
EO変性グリセロールトリ(メタ)アクリレート、PO変性グリセロールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリト-ルトリ(メタ)アクリレート、EO変性リン酸トリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、HPA変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、(EO)或いは(PO)変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリト-ルトリ(メタ)アクリレート、トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート等の3官能(メタ)アクリレート; EO-modified glycerol tri(meth)acrylate, PO-modified glycerol tri(meth)acrylate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, EO-modified phosphate tri(meth)acrylate, trimethylolpropane tri(meth)acrylate, caprolactone-modified tri Methylolpropane tri(meth)acrylate, HPA-modified trimethylolpropane tri(meth)acrylate, (EO) or (PO)-modified trimethylolpropane tri(meth)acrylate, alkyl-modified dipentaerythritol tri(meth)acrylate, tris (acryloxyethyl) trifunctional (meth)acrylates such as isocyanurate;
ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリト-ルエトキシテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリト-ルテトラ(メタ)アクリレート等の4官能(メタ)アクリレート; Tetrafunctional (meth)acrylates such as ditrimethylolpropane tetra(meth)acrylate, pentaerythritol-ethoxytetra(meth)acrylate, pentaerythritol-letetra(meth)acrylate;
ジペンタエリスリト-ルヒドロキシペンタ(メタ)アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリト-ルペンタ(メタ)アクリレート等の5官能(メタ)アクリレート; Pentafunctional (meth)acrylates such as dipentaerythritol hydroxypenta(meth)acrylate and alkyl-modified dipentaerythritol penta(meth)acrylate;
ジペンタエリスリト-ルヘキサ(メタ)アクリレート等の6官能(メタ)アクリレートを用いることができる。これらは単独で用いてもよく、また、硬化性や粘度等を調節するために適宜混合して用いてもよい。 A hexafunctional (meth)acrylate such as dipentaerythritol hexa(meth)acrylate can be used. These may be used alone, or may be used by appropriately mixing them in order to adjust curability, viscosity and the like.
(B)成分は、形成される立体造形物を高温加熱した際に分解が起こりやすく、水や二酸化炭素を発生させスス残りを少なくできることから、分子中に酸素原子が複数含まれている化合物を含有することが好ましい。中でも、ポリオキシアルキレン基を構造中に有する化合物を含有することが好ましい。 Component (B) is likely to decompose when the formed three-dimensional object is heated to a high temperature, and can generate water and carbon dioxide to reduce soot residue. It is preferable to contain. Among them, it is preferable to contain a compound having a polyoxyalkylene group in its structure.
(B)成分は、分子中にポリオキシアルキレン基及びビスフェノール構造を有する化合物(B-1)を含有することが特に好ましい。ビスフェノール構造を有することで硬化速度が速まり、造形精度が向上し、三次元立体造形し易くなる。 Component (B) particularly preferably contains a compound (B-1) having a polyoxyalkylene group and a bisphenol structure in the molecule. Having a bisphenol structure accelerates the curing speed, improves modeling accuracy, and facilitates three-dimensional modeling.
 本発明に用いる前記化合物(B-1)として、具体的には、
 下記式(I):
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
で表され、Rは水素原子又はメチル基を示し、同一分子中の複数のRは同一でも異なっていてもよく、m及びnはそれぞれ独立に1以上の整数を示す。
Specifically, the compound (B-1) used in the present invention is
Formula (I) below:
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
wherein R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, multiple R 1s in the same molecule may be the same or different, and m and n each independently represents an integer of 1 or more.
 前記化合物(B-1)において、式(I)におけるm+n(変性量)が2以上であると、焼成時のスス残りを低減できる。同様の観点から、m+nは4以上、又は6以上であってもよい。さらに、m+nは40以下であればよく、30以下であることが好ましい。そうすることで、m+nが40を超える場合に比べて、形成される立体造形物の強靭性及び強度が向上する。
 また多官能(メタ)アクリレート(B)が、m+nの異なる式(I)の変性ビスフェノ-ルAジ(メタ)アクリレートを複数種含む場合、それらの平均が2~40であればよい。
In the compound (B-1), when m+n (modified amount) in the formula (I) is 2 or more, soot residue during firing can be reduced. From a similar point of view, m+n may be 4 or more, or 6 or more. Further, m+n should be 40 or less, preferably 30 or less. By doing so, compared with the case where m+n exceeds 40, the toughness and strength of the formed three-dimensional object are improved.
Further, when the polyfunctional (meth)acrylate (B) contains a plurality of modified bisphenol A di(meth)acrylates of formula (I) with different m+n, the average thereof should be 2-40.
 式(I)で表される化合物(B-1)が、分子内にメタクリロイル基を有する場合は、アクリロイル基を有する場合に比べて焼成時のスス残りが少なくできる。一方、スス残りの低減よりも硬化速度及び造形精度の向上を優先する場合には、アクリロイル基を有する化合物(B-1)を使用しても構わない。 When the compound (B-1) represented by the formula (I) has a methacryloyl group in the molecule, soot residue during firing can be reduced compared to the case of having an acryloyl group. On the other hand, the compound (B-1) having an acryloyl group may be used when the improvement of the curing speed and molding accuracy is given priority over the reduction of soot residue.
 本発明で用いる化合物(B-1)としては、例えば市販品としてMIRAMER M240、MIRAMER M241、MIRAMER M244、MIRAMER M249、MIRAMER M2100、MIRAMER M2101、MIRAMER M2200、MIRAMER M2300、MIRAMER M2301(いずれも製品名。Miwon Specialty Chemical社製)等の名称で販売される紫外線硬化樹脂を用いることができる。 As the compound (B-1) used in the present invention, for example, commercially available products MIRAMER M240, MIRAMER M241, MIRAMER M244, MIRAMER M249, MIRAMER M2100, MIRAMER M2101, MIRAMER M2200, MIRAMER M2300, MIRAMER M2301 (all product names: Miwon UV curable resin sold under the name of Specialty Chemical Co.) can be used.
 多官能(メタ)アクリレート(B)は、本発明の効果が得られる範囲において、化合物(B-1)以外の光重合性成分を含有しても構わない。例えば、分子内に1つ以上の(メタ)アクリロイル基を有する化合物(B-2)をさらに含有しても構わない。 The polyfunctional (meth)acrylate (B) may contain a photopolymerizable component other than the compound (B-1) as long as the effects of the present invention can be obtained. For example, it may further contain a compound (B-2) having one or more (meth)acryloyl groups in the molecule.
 本発明で使用する化合物(B-2)は、焼成時の残渣を減らせることから、水素原子、炭素原子、酸素原子のみを含有する化合物であることが好ましく、アルコールと(メタ)アクリル酸が脱水縮合して得られる(メタ)アクリレート化合物であることが特に好ましい。
 化合物(B-2)としては、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、1,3-プロピレングリコール、1,2-プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、1,3-ブタンジオール、2,3-ブタンジオール、1,4-ブタンジオール、1,6-ヘキサンジオール、1,8-オクタンジオール、1,9-ノナンジオール、1,10-デカンジオール、2,2,4-トリメチル-1,3-ペンタンジオール、3-メチル-1,5-ペンタンジオール、シクロヘキサンジメチロール、1,4-シクロヘキサンジオール、トリシクロデカンジメチロール等のアルコールと(メタ)アクリル酸の反応生成物が使用できる。これら化合物は単独で用いることも2種以上を併用することもできる。中でも、立体造形物の硬度向上の観点から、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート又はポリプロピレングリコールのジ(メタ)アクリレートが好ましく、焼成時のスス残り低減の観点からネオペンチルグリコールジメタクリレート又はポリプロピレングリコールのジメタクリレートがより好ましい。
The compound (B-2) used in the present invention is preferably a compound containing only a hydrogen atom, a carbon atom, and an oxygen atom because it can reduce the residue at the time of baking, and alcohol and (meth)acrylic acid are A (meth)acrylate compound obtained by dehydration condensation is particularly preferred.
Examples of the compound (B-2) include polyethylene glycol, polypropylene glycol, polytetramethylene glycol, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, 1,3-propylene glycol, 1,2-propylene glycol, dipropylene glycol and tripropylene glycol. , neopentyl glycol, 1,3-butanediol, 2,3-butanediol, 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, 1,8-octanediol, 1,9-nonanediol, 1,10 - with alcohols such as decanediol, 2,2,4-trimethyl-1,3-pentanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, cyclohexanedimethylol, 1,4-cyclohexanediol, and tricyclodecanedimethylol; Reaction products of (meth)acrylic acid can be used. These compounds can be used alone or in combination of two or more. Among them, from the viewpoint of improving the hardness of the three-dimensional object, neopentyl glycol di (meth) acrylate or polypropylene glycol di (meth) acrylate is preferable, and from the viewpoint of reducing soot residue during baking, neopentyl glycol dimethacrylate or polypropylene glycol. Dimethacrylate is more preferred.
 本発明で用いる化合物(B-2)としては、例えば市販品としてMIRAMER M213、MIRAMER M220、MIRAMER M221、MIRAMER M222、MIRAMER M231、MIRAMER M232、MIRAMER M233、MIRAMER M235、MIRAMER M270、MIRAMER M280、MIRAMER M281、MIRAMER M282、MIRAMER M283、MIRAMER M284、MIRAMER M286、MIRAMER M2040、MIRAMER M2053(いずれも製品名。Miwon Specialty Chemical社製)、NKエステル A-200、NKエステル A-400、NKエステル A-600、NKエステル A-1000、NKエステル APG-100、NKエステル APG-200、NKエステル APG-400、NKエステル APG-700、NKエステル APMG-65、NKエステル 2G、NKエステル 3G、NKエステル 4G、NKエステル 9G、NKエステル 14G、NKエステル 23G、NKエステル 3PG、NKエステル 9PG(いずれも製品名。新中村化学工業社製)の名称で販売される化合物を用いることができる。 Examples of the compound (B-2) used in the present invention include commercially available products MIRAMER M213, MIRAMER M220, MIRAMER M221, MIRAMER M222, MIRAMER M231, MIRAMER M232, MIRAMER M233, MIRAMER M235, MIRAMER M270, MIRAMER M280, MIRAMER M281, MIRAMER M282, MIRAMER M283, MIRAMER M284, MIRAMER M286, MIRAMER M2040, MIRAMER M2053 (both product names. Miwon Specialty Chemical), NK Ester A-200, NK Ester A-400, NK Ester A-600, NK Ester A-1000, NK ester APG-100, NK ester APG-200, NK ester APG-400, NK ester APG-700, NK ester APMG-65, NK ester 2G, NK ester 3G, NK ester 4G, NK ester 9G, Compounds sold under the names of NK Ester 14G, NK Ester 23G, NK Ester 3PG, and NK Ester 9PG (all product names; manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) can be used.
 本発明における多官能(メタ)アクリレート(B)が、化合物(B-1)及び化合物(B-2)の両方を含有する場合、化合物(B-1)の配合量は、多官能(メタ)アクリレート(B)100質量部に対して、10質量部以上99質量部以下の範囲であることが好ましく、25質量部以上95質量部以下の範囲であることがより好ましく、40質量部以上90質量部以下の範囲であることが特に好ましい。これら範囲とすることで、硬化速度が適度に速まることで造形精度が向上し、焼成時の残渣が減少する。
 化合物(B-2)の配合量は、多官能(メタ)アクリレート(B)100質量部に対して、5質量部以上80質量部以下の範囲であることが好ましく、8質量部以上65質量部以下の範囲であることがより好ましく、10質量部以上50質量部以下の範囲であることが特に好ましい。これらの範囲とすることで、硬化物の硬度が高まる。
When the polyfunctional (meth)acrylate (B) in the present invention contains both the compound (B-1) and the compound (B-2), the compounding amount of the compound (B-1) is the polyfunctional (meth) With respect to 100 parts by mass of acrylate (B), it is preferably in the range of 10 parts by mass or more and 99 parts by mass or less, more preferably in the range of 25 parts by mass or more and 95 parts by mass or less, and 40 parts by mass or more and 90 parts by mass. Part or less is particularly preferred. Within these ranges, the curing speed is moderately increased, thereby improving the modeling accuracy and reducing the residue during baking.
The compounding amount of the compound (B-2) is preferably in the range of 5 parts by mass or more and 80 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the polyfunctional (meth)acrylate (B), and 8 parts by mass or more and 65 parts by mass. The following range is more preferable, and the range of 10 parts by mass or more and 50 parts by mass or less is particularly preferable. By setting it as these ranges, the hardness of hardened|cured material increases.
 前記光硬化性樹脂組成物の製造方法としては、特に制限されず、どのような方法で製造してもよい。 The method for producing the photocurable resin composition is not particularly limited, and any method may be used.
 本発明の光硬化性樹脂組成物は、必要に応じて、光増感剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、重合禁止剤、シリコン系添加剤、フッ素系添加剤、シランカップリング剤、リン酸エステル化合物、有機フィラー、無機フィラー、レオロジ-コントロール剤、脱泡剤、着色剤等の各種添加剤を含有することもできる。 The photocurable resin composition of the present invention may optionally contain a photosensitizer, an ultraviolet absorber, an antioxidant, a polymerization inhibitor, a silicon-based additive, a fluorine-based additive, a silane coupling agent, and phosphoric acid. Various additives such as ester compounds, organic fillers, inorganic fillers, rheology control agents, defoaming agents and colorants may also be contained.
 前記光増感剤としては、例えば、脂肪族アミン、芳香族アミン等のアミン化合物、o-トリルチオ尿素等の尿素化合物、ナトリウムジエチルジチオホスフェート、s-ベンジルイソチウロニウム-p-トルエンスルホネ-ト等の硫黄化合物などが挙げられる。 Examples of the photosensitizer include amine compounds such as aliphatic amines and aromatic amines, urea compounds such as o-tolylthiourea, sodium diethyldithiophosphate, and s-benzylisothiuronium-p-toluenesulfonate. and sulfur compounds such as
 前記紫外線吸収剤としては、例えば、2-[4-{(2-ヒドロキシ-3-ドデシルオキシプロピル)オキシ}-2-ヒドロキシフェニル]-4,6-ビス(2,4-ジメチルフェニル)-1,3,5-トリアジン、2-[4-{(2-ヒドロキシ-3-トリデシルオキシプロピル)オキシ}-2-ヒドロキシフェニル]-4,6-ビス(2,4-ジメチルフェニル)-1,3,5-トリアジン等のトリアジン誘導体、2-(2’-キサンテンカルボキシ-5’-メチルフェニル)ベンゾトリアゾ-ル、2-(2’-o-ニトロベンジロキシ-5’-メチルフェニル)ベンゾトリアゾ-ル、2-キサンテンカルボキシ-4-ドデシロキシベンゾフェノン、2-o-ニトロベンジロキシ-4-ドデシロキシベンゾフェノン等が挙げられる。これらの紫外線吸収剤は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 Examples of the ultraviolet absorber include 2-[4-{(2-hydroxy-3-dodecyloxypropyl)oxy}-2-hydroxyphenyl]-4,6-bis(2,4-dimethylphenyl)-1 , 3,5-triazine, 2-[4-{(2-hydroxy-3-tridecyloxypropyl)oxy}-2-hydroxyphenyl]-4,6-bis(2,4-dimethylphenyl)-1, Triazine derivatives such as 3,5-triazine, 2-(2'-xanthenecarboxy-5'-methylphenyl)benzotriazole, 2-(2'-o-nitrobenzyloxy-5'-methylphenyl)benzotriazole , 2-xanthenecarboxy-4-dodecyloxybenzophenone, 2-o-nitrobenzyloxy-4-dodecyloxybenzophenone, and the like. These ultraviolet absorbers can be used alone or in combination of two or more.
 前記酸化防止剤としては、例えば、ヒンダ-ドフェノ-ル系酸化防止剤、ヒンダ-ドアミン系酸化防止剤、有機硫黄系酸化防止剤、リン酸エステル系酸化防止剤等が挙げられる。これらの酸化防止剤は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 Examples of the antioxidants include hindered phenol-based antioxidants, hindered amine-based antioxidants, organic sulfur-based antioxidants, and phosphate-based antioxidants. These antioxidants can be used alone or in combination of two or more.
 前記重合禁止剤としては、例えば、ハイドロキノン、メトキノン、ジ-t-ブチルハイドロキノン、p-メトキシフェノ-ル、ブチルヒドロキシトルエン、ニトロソアミン塩等が挙げられる。 Examples of the polymerization inhibitor include hydroquinone, methoquinone, di-t-butylhydroquinone, p-methoxyphenol, butylhydroxytoluene, and nitrosamine salts.
 前記シリコン系添加剤としては、例えば、ジメチルポリシロキサン、メチルフェニルポリシロキサン、環状ジメチルポリシロキサン、メチルハイドロゲンポリシロキサン、ポリエ-テル変性ジメチルポリシロキサン共重合体、ポリエステル変性ジメチルポリシロキサン共重合体、フッ素変性ジメチルポリシロキサン共重合体、アミノ変性ジメチルポリシロキサン共重合体等のアルキル基やフェニル基を有するポリオールガノシロキサン、ポリエ-テル変性アクリル基を有するポリジメチルシロキサン、ポリエステル変性アクリル基を有するポリジメチルシロキサンなどが挙げられる。これらのシリコン系添加剤は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 Examples of the silicon-based additive include dimethylpolysiloxane, methylphenylpolysiloxane, cyclic dimethylpolysiloxane, methylhydrogenpolysiloxane, polyether-modified dimethylpolysiloxane copolymer, polyester-modified dimethylpolysiloxane copolymer, and fluorine. Modified dimethylpolysiloxane copolymer, polyorganosiloxane having an alkyl group or a phenyl group such as an amino-modified dimethylpolysiloxane copolymer, polydimethylsiloxane having a polyether-modified acrylic group, polydimethylsiloxane having a polyester-modified acrylic group etc. These silicon additives can be used alone or in combination of two or more.
 前記フッ素系添加剤としては、例えば、DIC株式会社製「メガフェース」シリーズ等が挙げられる。これらのフッ素系添加剤は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 Examples of the fluorine-based additive include the "Megaface" series manufactured by DIC Corporation. These fluorine-based additives can be used alone or in combination of two or more.
 前記シランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリクロールシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、2-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、p-スチリルトリメトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3-アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、N-2-(アミノエチル)-3-アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N-2-(アミノエチル)-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-2-(アミノエチル)-3-アミノプロピルトリエトキシシラン、3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリエトキシシラン、3-トリエトキシシリル-N-(1,3-ジメチル・ブチリデン)プロピルアミン、N-フェニル-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-(ビニルベンジル)-2-アミノエチル-3-アミノプロピルトリメトキシシランの塩酸塩、特殊アミノシラン、3-ウレイドプロピルトリエトキシシラン、3-クロロプロピルトリメトキシシラン、3-メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、3-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、ビス(トリエトキシシリルプロピル)テトラスルフィド、3-イソシアネ-トプロピルトリエトキシシラン、アリルトリクロロシラン、アリルトリエトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、ジエトキシメチルビニルシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(2-メトキシエトキシ)シラン等のビニル系のシランカップリング剤; Examples of the silane coupling agent include vinyltrichlorosilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, 2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, p-styryltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxy Propylmethyldiethoxysilane, 3-methacryloxypropyltriethoxysilane, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, N-2-(aminoethyl)-3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-2-(aminoethyl)- 3-aminopropyltrimethoxysilane, N-2-(aminoethyl)-3-aminopropyltriethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-triethoxysilyl-N-( 1,3-dimethylbutylidene)propylamine, N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, hydrochloride of N-(vinylbenzyl)-2-aminoethyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, special aminosilane, 3 -ureidopropyltriethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, bis(triethoxysilylpropyl)tetrasulfide, 3-isocyanate-topropyltriethoxysilane , allyltrichlorosilane, allyltriethoxysilane, allyltrimethoxysilane, diethoxymethylvinylsilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris(2-methoxyethoxy)silane and other vinyl-based silane coupling agents;
 ジエトキシ(グリシジルオキシプロピル)メチルシラン、2-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン等のエポキシ系のシランカップリング剤; Diethoxy(glycidyloxypropyl)methylsilane, 2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, 3-glycidoxypropyl epoxy-based silane coupling agents such as triethoxysilane;
 p-スチリルトリメトキシシラン等のスチレン系のシランカップリング剤; a styrene-based silane coupling agent such as p-styryltrimethoxysilane;
 3-メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3-アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン等の(メタ)アクリロキシ系のシランカップリング剤; (Meta) such as 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldiethoxysilane, 3-methacryloxypropyltriethoxysilane, etc. acryloxy-based silane coupling agent;
 N-(2-アミノエチル)-3-アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N-(2-アミノエチル)-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-(2-アミノエチル)-3-アミノプロピルトリエトキシシラン、3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリエトキシシラン、3-トリエトキシシリル-N-(1,3-ジメチル-ブチリデン)プロピルアミン、N-フェニル-3-アミノプロピルトリメトキシシラン等のアミノ系のシランカップリング剤; N-(2-aminoethyl)-3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-(2-aminoethyl)-3-aminopropyltrimethoxysilane, N-(2-aminoethyl)-3-aminopropyltriethoxysilane , 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-triethoxysilyl-N-(1,3-dimethyl-butylidene)propylamine, N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, etc. amino-based silane coupling agent;
 3-ウレイドプロピルトリエトキシシラン等のウレイド系のシランカップリング剤; ureido-based silane coupling agents such as 3-ureidopropyltriethoxysilane;
 3-クロロプロピルトリメトキシシラン等のクロロプロピル系のシランカップリング剤; Chloropropyl-based silane coupling agents such as 3-chloropropyltrimethoxysilane;
 3-メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、3-メルカプトプロピルトリメトキンシラン等のメルカプト系のシランカップリング剤; Mercapto-based silane coupling agents such as 3-mercaptopropylmethyldimethoxysilane and 3-mercaptopropyltrimethoquinsilane;
 ビス(トリエトキシシリルプロピル)テトラスルファイド等のスルフィド系のシランカップリング剤; sulfide-based silane coupling agents such as bis(triethoxysilylpropyl) tetrasulfide;
 3-イソシアネ-トプロピルトリエトキシシラン等のイソシアネ-ト系のシランカップリング剤などが挙げられる。これらのシランカップリング剤は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 Examples include isocyanate-based silane coupling agents such as 3-isocyanate-propyltriethoxysilane. These silane coupling agents can be used alone or in combination of two or more.
 前記リン酸エステル化合物としては、例えば、分子構造中に(メタ)アクリロイル基を有するものが挙げられ、市販品としては、例えば、日本化薬株式会社製「カヤマ-PM-2」、「カヤマ-PM-21」、共栄社化学株式会社製「ライトエステルP-1M」、「ライトエステルP-2M」、「ライトアクリレートP-1A(N)」、SOLVAY社製「SIPOMER PAM 100」、「SIPOMER PAM 200」、「SIPOMER PAM 300」、「SIPOMER PAM 4000」、大阪有機化学工業社製「ビスコ-ト#3PA」、「ビスコ-ト#3PMA」、第一工業製薬社製「ニュ-フロンティア S-23A」;分子構造中にアリルエ-テル基を有するリン酸エステル化合物であるSOLVAY社製「SIPOMER PAM 5000」等が挙げられる。 Examples of the phosphate ester compound include those having a (meth)acryloyl group in the molecular structure. Commercially available products include "Kayama-PM-2" and "Kayama- PM-21", "Light Ester P-1M", "Light Ester P-2M", "Light Acrylate P-1A (N)" manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd., "SIPOMER PAM 100" and "SIPOMER PAM 200" manufactured by SOLVAY , "Sipomer PAM 300", "Sipomer PAM 4000", "Viscoat #3PA" and "Viscoat #3PMA" manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd., "New Frontier S-23A" manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd. ; ``SIPOMER PAM 5000'' manufactured by SOLVAY, which is a phosphoric acid ester compound having an allyl ether group in the molecular structure, and the like.
 前記有機フィラーとしては、例えば、セルロ-ス、リグニン、及びセルロ-スナノファイバ-等の植物由来の溶剤不溶性物質、ポリメタクリル酸メチルビーズ、ポリカーボネートビーズ、ポリスチレンビーズ、ポリアクリルスチレンビーズ、シリコ-ンビーズ、ガラスビーズ、アクリルビーズ、ベンゾグアナミン系樹脂ビーズ、メラミン系樹脂ビーズ、ポリオレフィン系樹脂ビーズ、ポリエステル系樹脂ビーズ、ポリアミド樹脂ビーズ、ポリイミド系樹脂ビーズ、ポリフッ化エチレン樹脂ビーズ、ポリエチレン樹脂ビーズ等の有機ビーズなどが挙げられる。これらの有機フィラーは、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 Examples of the organic filler include plant-derived solvent-insoluble substances such as cellulose, lignin, and cellulose nanofibers, polymethyl methacrylate beads, polycarbonate beads, polystyrene beads, polyacrylstyrene beads, silicone beads, Organic beads such as glass beads, acrylic beads, benzoguanamine resin beads, melamine resin beads, polyolefin resin beads, polyester resin beads, polyamide resin beads, polyimide resin beads, polyethylene fluoride resin beads, polyethylene resin beads, etc. mentioned. These organic fillers can be used alone or in combination of two or more.
 前記無機フィラーとしては、例えば、シリカ、アルミナ、ジルコニア、チタニア、チタン酸バリウム、三酸化アンチモン等の無機微粒子などが挙げられる。これらの無機フィラーは、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。また、前記無機機微粒子の平均粒径は、95~250nmの範囲であることが好ましく、特に100~180nmの範囲であることがより好ましい。 Examples of the inorganic filler include inorganic fine particles such as silica, alumina, zirconia, titania, barium titanate, and antimony trioxide. These inorganic fillers can be used alone or in combination of two or more. In addition, the average particle size of the inorganic fine particles is preferably in the range of 95 to 250 nm, and more preferably in the range of 100 to 180 nm.
 前記無機微粒子を含有する場合には、分散補助剤を用いることができる。前記分散補助剤としては、例えば、イソプロピルアシッドホスフェート、トリイソデシルホスファイト、エチレンオキサイド変性リン酸ジメタクリレート等のリン酸エステル化合物等が挙げられる。これらの分散補助剤は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。また、前記分散補助剤の市販品としては、例えば、日本化薬株式会社製「カヤマ-PM-21」、「カヤマ-PM-2」、共栄社化学株式会社製「ライトエステルP-2M」等が挙げられる。 When the inorganic fine particles are contained, a dispersing aid can be used. Examples of the dispersing aid include phosphate ester compounds such as isopropyl acid phosphate, triisodecyl phosphite, and ethylene oxide-modified phosphate dimethacrylate. These dispersing aids can be used alone or in combination of two or more. Further, commercially available products of the dispersing aid include, for example, Nippon Kayaku Co., Ltd. "Kayama-PM-21", "Kayama-PM-2", Kyoeisha Chemical Co., Ltd. "Light Ester P-2M" and the like. mentioned.
 前記レオロジ-コントロール剤としては、例えば、楠本化成株式会社製「ディスパロン6900」等のアマイド・ワックス類;ビッグ・ケミー社製「BYK410」等の尿素系レオロジーコントロール剤類;楠本化成株式会社製「ディスパロン4200」等のポリエチレン・ワックス;イ-ストマン・ケミーカル・プロダクツ社製「CAB-381-2」、「CAB 32101」等のセルロース・アセテート・ブチレートなどが挙げられる。 Examples of the rheology-control agents include amide waxes such as "Disparon 6900" manufactured by Kusumoto Kasei Co., Ltd.; urea-based rheology control agents such as "BYK410" manufactured by Big Chemie; 4200" and other polyethylene waxes; and cellulose acetate butyrates such as "CAB-381-2" and "CAB 32101" manufactured by Eastman Chemical Products.
 前記脱泡剤としては、例えば、フッ素或いは、硅素原子を含んだオリゴマー、または高級脂肪酸、アクリル重合体等のオリゴマー等が挙げられる。 Examples of the defoaming agent include oligomers containing fluorine or silicon atoms, or oligomers such as higher fatty acids and acrylic polymers.
 前記着色剤としては、例えば、顔料、染料等が挙げられる。 Examples of the coloring agent include pigments and dyes.
 前記顔料としては、公知慣用の無機顔料や有機顔料を使用することができる。 As the pigment, a known and commonly used inorganic pigment or organic pigment can be used.
 前記無機顔料としては、例えば、酸化チタン、アンチモンレッド、ベンガラ、カドミウムレッド、カドミウムイエロ-、コバルトブル-、紺青、群青、カ-ボンブラック、黒鉛等が挙げられる。 Examples of the inorganic pigments include titanium oxide, antimony red, red iron oxide, cadmium red, cadmium yellow, cobalt blue, Prussian blue, ultramarine blue, carbon black, and graphite.
 前記有機顔料としては、例えば、キナクリドン顔料、キナクリドンキノン顔料、ジオキサジン顔料、フタロシアニン顔料、アントラピリミジン顔料、アンサンスロン顔料、インダンスロン顔料、フラバンスロン顔料、ペリレン顔料、ジケトピロロピロール顔料、ペリノン顔料、キノフタロン顔料、アントラキノン顔料、チオインジゴ顔料、ベンツイミダゾロン顔料、アゾ顔料等が挙げられる。これらの顔料は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 Examples of the organic pigments include quinacridone pigments, quinacridonequinone pigments, dioxazine pigments, phthalocyanine pigments, anthrapyrimidine pigments, anthanthrone pigments, indanthrone pigments, flavanthrone pigments, perylene pigments, diketopyrrolopyrrole pigments, perinone pigments, Examples include quinophthalone pigments, anthraquinone pigments, thioindigo pigments, benzimidazolone pigments, and azo pigments. These pigments can be used alone or in combination of two or more.
 前記染料としては、例えば、モノアゾ・ジスアゾ等のアゾ染料、金属錯塩染料、ナフト-ル染料、アントラキノン染料、インジゴ染料、カ-ボニウム染料、キノイミン染料、シアニン染料、キノリン染料、ニトロ染料、ニトロソ染料、ベンゾキノン染料、ナフトキノン染料、ナフタルイミド染料、ペリノン染料、フタロシアニン染料、トリアリルメタン系染料等が挙げられる。これらの染料は、単独で用いることも2種以上を併用することもできる。 Examples of the dyes include azo dyes such as monoazo and disazo, metal complex dyes, naphthol dyes, anthraquinone dyes, indigo dyes, carbonium dyes, quinoimine dyes, cyanine dyes, quinoline dyes, nitro dyes, nitroso dyes, Examples include benzoquinone dyes, naphthoquinone dyes, naphthalimide dyes, perinone dyes, phthalocyanine dyes, and triallylmethane dyes. These dyes can be used alone or in combination of two or more.
 上述の着色剤の中でも、焼成時の残渣を減らす観点から、非金属有機顔料(C)(以下、単に(C)成分ともいう)であることがより好ましい。具体的には、キナクリドン顔料、キナクリドンキノン顔料、ジオキサジン顔料、アゾ顔料等が特に好ましい。 Among the above-mentioned colorants, the non-metallic organic pigment (C) (hereinafter also simply referred to as the (C) component) is more preferable from the viewpoint of reducing residue during firing. Specifically, quinacridone pigments, quinacridonequinone pigments, dioxazine pigments, azo pigments and the like are particularly preferred.
 本発明の組成物における着色剤の含有量は、(B)成分100質量部に対して0.001~5質量部の範囲であることが好ましく、0.001~1質量部の範囲であることがさらに好ましく、0.001~0.5質量部の範囲であることが特に好ましい。これらの範囲とすることで、視認性を高めつつ、造形物の焼成時の残渣の生成を抑制できる。 The content of the colorant in the composition of the present invention is preferably in the range of 0.001 to 5 parts by mass, more preferably in the range of 0.001 to 1 part by mass, per 100 parts by mass of component (B). is more preferable, and the range of 0.001 to 0.5 parts by mass is particularly preferable. By setting it to these ranges, it is possible to suppress the generation of residue during baking of the shaped article while improving the visibility.
 本発明の硬化物は、前記光硬化性樹脂組成物を硬化してなるものである。 The cured product of the present invention is obtained by curing the photocurable resin composition.
 本発明の硬化物は、前記光硬化性樹脂組成物に、紫外線を照射することで得ることができ、紫外線による硬化反応を効率よく行うため、窒素ガス等の不活性ガス雰囲気下で照射してもよく、空気雰囲気下で照射してもよい。 The cured product of the present invention can be obtained by irradiating the photocurable resin composition with ultraviolet rays, and in order to efficiently perform the curing reaction by ultraviolet rays, irradiation is performed in an inert gas atmosphere such as nitrogen gas. Alternatively, irradiation may be performed in an air atmosphere.
 紫外線発生源としては、実用性、経済性の面から紫外線ランプが一般的に用いられている。具体的には、低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、キセノンランプ、ガリウムランプ、メタルハライドランプ、太陽光、LED等が挙げられる。これらの中でも、長時間に渡り、安定した照度が得られることから、LEDを光源とすることが好ましい。 UV lamps are generally used as the source of UV light from the standpoint of practicality and economy. Specific examples include low-pressure mercury lamps, high-pressure mercury lamps, ultra-high-pressure mercury lamps, xenon lamps, gallium lamps, metal halide lamps, sunlight, and LEDs. Among these, it is preferable to use an LED as a light source because stable illuminance can be obtained over a long period of time.
 前記紫外線の波長は、本発明の光硬化性樹脂組成物を硬化出来る波長であれば特に限定されるものではなく、1~450nmの範囲で適宜選択することができる。 The wavelength of the ultraviolet rays is not particularly limited as long as it can cure the photocurable resin composition of the present invention, and can be appropriately selected within the range of 1 to 450 nm.
 なお、前記紫外線の照射は、一段階で行ってもよいし、二段階以上に分けて行ってもよい。 The ultraviolet irradiation may be performed in one step or in two or more steps.
 本発明の立体造形物は、公知の光学的立体造形法により作成することができる。 The three-dimensional object of the present invention can be produced by a known optical three-dimensional modeling method.
 前記光学的立体造形法としては、例えば、ステレオリソグラフィ-(SLA)方式、デジタルライトプロセッシング(DLP)方式、液晶ディスプレイ方式(LCD)方式、インクジェット方式が挙げられる。 Examples of the optical stereolithography method include the stereolithography (SLA) method, the digital light processing (DLP) method, the liquid crystal display method (LCD) method, and the inkjet method.
 前記ステレオリソグラフィ-(SLA)方式とは、液状の光硬化性樹脂組成物の槽に紫外線を点で照射し、造形ステ-ジを移動させながら一層ずつ硬化して立体造形を行う方式である。 The stereolithography (SLA) method is a method in which a tank of liquid photocurable resin composition is irradiated with ultraviolet rays at points, and solidification is performed layer by layer while the modeling stage is moved to perform three-dimensional modeling.
 前記デジタルライトプロセッシング(DLP)方式、液晶ディスプレイ方式(LCD)方式とは、液状の紫外線硬化性樹脂組成物の槽に紫外線を面で照射し、造形ステ-ジを移動させながら一層ずつ硬化して立体造形を行う方式である。 In the digital light processing (DLP) method and the liquid crystal display method (LCD) method, a tank of a liquid ultraviolet curable resin composition is irradiated with ultraviolet rays from the surface, and the molding stage is moved to cure layer by layer. This is a method for three-dimensional modeling.
 前記インクジェット光造形法とは、光硬化性樹脂組成物の微小液滴を、ノズルから所定の形状パタ-ンを描画するよう吐出してから、紫外線を照射して硬化薄膜を形成する方法である。 The inkjet stereolithography method is a method in which fine droplets of a photocurable resin composition are discharged from a nozzle so as to draw a predetermined shape pattern, and then irradiated with ultraviolet rays to form a cured thin film. .
 これらの光学的立体造形法のなかでも、面による高速造形が可能なことからDLP方式が好ましい。 Among these optical stereolithography methods, the DLP method is preferable because it enables high-speed modeling using surfaces.
 前記DLP方式の立体造形方法としては、DLP方式の光造形システムを用いた方法であれば特に制限されないが、その造形条件としては、立体造形物の造形精度が良好となることから、光造形の積層ピッチが0.01~0.2mmの範囲であり、照射波長が350~410nmの範囲であり、光強度が0.5~50mW/cmの範囲であり、1層当たりの積算光量が1~100mJ/cmの範囲であることを要し、なかでも、より一層立体造形物の造形精度が良好となることから、光造形の積層ピッチが、0.02~0.1mmの範囲であり、照射波長が、380~410nmの範囲であり、光強度が、5~15mW/cmの範囲であり、1層当たりの積算光量が、5~80mJ/cmの範囲であることが好ましい。 The DLP stereolithography method is not particularly limited as long as it is a method using a DLP stereolithography system. The layer pitch is in the range of 0.01 to 0.2 mm, the irradiation wavelength is in the range of 350 to 410 nm, the light intensity is in the range of 0.5 to 50 mW/cm 2 , and the integrated light amount per layer is 1. ~100 mJ/cm 2 , and above all, the layering pitch of stereolithography is in the range of 0.02 to 0.1 mm because the molding accuracy of the three-dimensional object is further improved. Preferably, the irradiation wavelength is in the range of 380 to 410 nm, the light intensity is in the range of 5 to 15 mW/cm 2 , and the integrated light amount per layer is in the range of 5 to 80 mJ/cm 2 .
 本発明の立体造形物は、優れた鋳造性を有することから、前記立体造形物の焼成時の残存率が、窒素雰囲気下、400℃の条件において62%以下であることが好ましく、57%以下であることがより好ましく、50%以下であることが特に好ましい。なお、本発明において、焼成時の残存率は、熱重量示差熱測定(TG-DTA)での[(400℃における重量)/(25℃における初期重量)]で算出した値である。 Since the three-dimensional shaped article of the present invention has excellent castability, the residual rate of the three-dimensional shaped article when fired is preferably 62% or less at 400 ° C. in a nitrogen atmosphere, and preferably 57% or less. is more preferable, and 50% or less is particularly preferable. In the present invention, the residual rate after firing is a value calculated by [(weight at 400° C.)/(initial weight at 25° C.)] in thermogravimetric differential thermal measurement (TG-DTA).
 本発明の立体造形物は、例えば、歯科材料、自動車部品、航空・宇宙関連部品、電気電子部品、建材、インテリア、宝飾、医療材料等に用いることができる。 The three-dimensional object of the present invention can be used, for example, in dental materials, automotive parts, aerospace-related parts, electrical and electronic parts, building materials, interiors, jewelry, medical materials, and the like.
 前記医療材料としては、例えば、歯科治療用のサ-ジカルガイド、仮歯、ブリッジ、歯列矯正器具等の歯科用の硬質レジン材料が挙げられる。 Examples of the medical materials include dental hard resin materials such as surgical guides for dental treatment, temporary teeth, bridges, and orthodontic appliances.
 また、本発明の立体造形物は、優れた硬度及び鋳造性を有することから、前記立体造形物を用いた鋳型の製造にも好適である。 In addition, since the three-dimensionally shaped article of the present invention has excellent hardness and castability, it is also suitable for manufacturing a mold using the three-dimensionally shaped article.
 前記鋳型の製造方法としては、例えば、本発明の立体造形物を埋没材で一部または全部を埋没させる工程(1)、前記埋没材を硬化または固化させる工程(2)、前記立体造形物を、溶融除去、分解除去、及び/または焼却除去させる工程(3)を有する方法等が挙げられる。 As the method for producing the mold, for example, the step (1) of partially or entirely embedding the three-dimensional object of the present invention with an investment material, the step (2) of curing or solidifying the investment material, and the three-dimensional object , a method having a step (3) of removing by melting, removing by decomposition, and/or removing by incineration.
 前記埋没材としては、例えば、石膏系埋没材、リン酸塩系埋没材等が挙げられ、前記石膏系埋没材としては、例えば、シリカ埋没材、石英埋没材、クリストバライト埋没材等が挙げられる。 Examples of the investment material include gypsum-based investment materials and phosphate-based investment materials. Examples of the gypsum-based investment materials include silica investment materials, quartz investment materials, and cristobalite investment materials.
 前記工程(1)としては、本発明の立体造形物を埋没材で一部または全部を埋没させる工程である。この際、前記埋没材は、適量の水と練和させることが好ましい。混水比が多すぎると硬化時間が長くなり、少なすぎると流動性が悪くなり埋没材の流し込みが困難となる。また、前記立体造形物に界面活性剤を塗布すると埋没材が良く濡れてなじむため、鋳造物の表面に粗が出にくくなり好ましい。さらに、前記立体造形物を埋没する際は、鋳造物表面に気泡が付着しないように埋没することが好ましい。 The step (1) is a step of partially or wholly burying the three-dimensional object of the present invention with an investment material. At this time, the investment material is preferably mixed with an appropriate amount of water. If the mixing water ratio is too high, the hardening time will be long, and if it is too low, the fluidity will be poor and it will be difficult to pour the investment material. In addition, when the surface active agent is applied to the three-dimensionally shaped article, the investment material is well wetted and blended, so that the surface of the casting is less likely to be roughened, which is preferable. Furthermore, when burying the three-dimensional object, it is preferable to bury the object so that air bubbles do not adhere to the surface of the casting.
 前記工程(2)としては、前記埋没材を硬化または固化させる工程である。前記埋没材として、石膏系埋没材を用いる場合、埋没材を固化させる温度は、200~400℃の範囲が好ましく、立体造形物を埋没後10~60分程度静置して固化させることが好ましい。 The step (2) is a step of curing or solidifying the investment material. When a gypsum-based investment material is used as the investment material, the temperature for solidifying the investment material is preferably in the range of 200 to 400 ° C. It is preferable to solidify by standing still for about 10 to 60 minutes after burying the three-dimensional object. .
 前記工程(3)としては、前記立体造形物を、溶融除去、分解除去、及び/または焼却除去させる工程である。前記立体造形物を焼却除去する場合、焼成温度は、400~1000℃の範囲が好ましく、600~800℃の範囲がより好ましい。 The step (3) is a step of removing by melting, removing by decomposition, and/or by incinerating the three-dimensional object. When the three-dimensional object is removed by burning, the burning temperature is preferably in the range of 400 to 1000°C, more preferably in the range of 600 to 800°C.
 また、前記工程(1)~(3)を経て得られた鋳型に、金属材料を流し込み、前記金属材料を固化させて(工程(4))金属鋳造物を得ることができる。これにより、前記立体造形物の原型に対応する金属鋳造物を製造することが可能となる。 In addition, a metal casting can be obtained by pouring a metal material into the mold obtained through the steps (1) to (3) and solidifying the metal material (step (4)). Thereby, it becomes possible to manufacture a metal casting corresponding to the prototype of the three-dimensional object.
 以下、実施例を挙げて本発明についてさらに具体的に説明する。ただし、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。(以下、各成分の量に関して記載される「部」は、「質量部」を意味する。) Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the present invention is not limited to these examples. (Hereafter, "parts" described with respect to the amount of each component means "parts by mass.")
(実施例1)
攪拌機を備えた容器に、ビスフェノ-ルAエチレンオキサイド変性(10モル付加)ジメタクリレート80質量部と、ネオペンチルグリコールジメタクリレート20質量部と、2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド(IGM社製の商品名「Omnirad 819」)2質量部と、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(IGM社製の商品名「Omnirad 184」)10質量部を配合し、液温度60℃に制御しながら1時間攪拌混合し、均一に溶解することで、光硬化性樹脂組成物(1)を得た。
(Example 1)
In a vessel equipped with a stirrer, 80 parts by mass of bisphenol A ethylene oxide-modified (10 mol addition) dimethacrylate, 20 parts by mass of neopentyl glycol dimethacrylate, and 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide (IGM) and 10 parts by mass of 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone (trade name “Omnirad 184” manufactured by IGM) were blended and stirred for 1 hour while controlling the liquid temperature to 60°C. By mixing and uniformly dissolving, a photocurable resin composition (1) was obtained.
(実施例2~14、比較例1~5)
 表1~3に示した組成に変更した以外は、実施例1と同様にして光硬化性樹脂組成物(2)~(14)、(R1)~(R5)を得た。
(Examples 2 to 14, Comparative Examples 1 to 5)
Photocurable resin compositions (2) to (14) and (R1) to (R5) were obtained in the same manner as in Example 1, except that the compositions were changed to those shown in Tables 1 to 3.
 上記調整した光硬化性樹脂組成物(1)~(14)、(R1)~(R5)について以下の工程で立体造形物のサンプルを作成し、各試験を行った。 For the photocurable resin compositions (1) to (14) and (R1) to (R5) prepared above, three-dimensional object samples were prepared in the following steps and each test was performed.
(サンプルの作成)
 光硬化性樹脂組成物(1)~(14)、(R1)~(R5)それぞれについて、面露光方式(DLP)の光造形システム(ASIGA社製「MAX」)を用いて、各評価ごとに所定の形状の立体造形物を形成した。
 光造形の積層ピッチは0.05~0.1mm、照射波長400~410nm、照度8mW/cm、光照射時間は1層当たり0.5~7秒とした。上記各条件で形成された立体造形物を、エタノ-ル中で超音波洗浄した。続いて高圧水銀ランプを用いて、立体造形物の表面及び裏面に積算光量が1000~2000mJ/cmになるように光照射して、後硬化させてサンプルを作成した。
(Creation of sample)
For each of the photocurable resin compositions (1) to (14) and (R1) to (R5), a surface exposure method (DLP) stereolithography system ("MAX" manufactured by ASIGA) was used for each evaluation. A three-dimensional object having a predetermined shape was formed.
The lamination pitch of stereolithography was 0.05 to 0.1 mm, the irradiation wavelength was 400 to 410 nm, the illuminance was 8 mW/cm 2 , and the light irradiation time was 0.5 to 7 seconds per layer. The three-dimensional object formed under each of the above conditions was ultrasonically cleaned in ethanol. Subsequently, using a high-pressure mercury lamp, the front and back surfaces of the three-dimensional object were irradiated with light so that the cumulative amount of light was 1000 to 2000 mJ/cm 2 , and post-cured to prepare a sample.
[硬さ(ショア-D硬度)の評価方法]
 JIS K 6253-3:2012「加硫ゴム及び熱可塑性ゴム-硬さの求め方-第3部:デュロメ-タ硬さ」に記載された測定方法に準じて、サンプルの硬度(タイプDデュロメータ、GS-720R)の測定を行った。上記で得られたサンプル(形状は5mm×5mm×3mmの直方体)を用いて、3mmの厚み方向に同じ形状のサンプルを2つ積み重ねて厚み約6mmとして測定した。ただし、試験片に異物の混入したもの、気泡のあるもの、およびキズのあるものは用いなかった。下記の基準に基づいて評価し、〇のものを合格とする。
(評価基準)
〇(ショア-D硬度が60以上)
×(ショア-D硬度が60未満)
[Hardness (Shore-D hardness) evaluation method]
JIS K 6253-3: 2012 "Vulcanized rubber and thermoplastic rubber-Determination of hardness-Part 3: Durometer hardness" according to the measurement method described in the hardness of the sample (type D durometer, GS-720R) was measured. Using the sample obtained above (having a rectangular parallelepiped shape of 5 mm×5 mm×3 mm), two samples having the same shape were stacked in the thickness direction of 3 mm to measure the thickness of about 6 mm. However, test pieces containing foreign matter, air bubbles, and scratches were not used. Evaluate based on the following criteria, and pass with 〇.
(Evaluation criteria)
〇 (Shore-D hardness of 60 or more)
× (Shore-D hardness less than 60)
[焼成時の立体造形物の残存率測定方法]
 上記作成したサンプル(形状は5mm×5mm×3mmの直方体)を5~6mg片に粉砕したものを試験片とし、示差熱熱重量同時測定装置(TG-DTA:メトラ-トレド社製TGA/DSC1)を用い、窒素雰囲気下で25℃から600℃まで10℃/分で昇温させた時の質量を測定し、400℃における残存率を[(400℃における重量)/(25℃における初期重量)]から算出した。この値が小さいほど高温加熱時の消失性に優れるものとし、下記の基準に基づいて評価し、A又はBのものを合格とする。
(評価基準)
A:(残存率が57%未満)
B:(残存率が57%超以上、62%以下)
C:(残存率が62%超以上)
[Method for measuring residual ratio of three-dimensionally shaped object at the time of firing]
The sample prepared above (the shape is a rectangular parallelepiped of 5 mm × 5 mm × 3 mm) was pulverized into 5 to 6 mg pieces as a test piece, and a differential thermogravimetric simultaneous measurement device (TG-DTA: TGA / DSC1 manufactured by Metra-Toledo). was used to measure the mass when the temperature was raised from 25 ° C. to 600 ° C. at 10 ° C./min under a nitrogen atmosphere, and the residual rate at 400 ° C. was [(weight at 400 ° C.) / (initial weight at 25 ° C.) ]. The smaller this value, the better the erasability when heated to a high temperature.
(Evaluation criteria)
A: (Residual rate is less than 57%)
B: (remaining rate is more than 57% and 62% or less)
C: (Residual rate is over 62%)
[造形精度の測定方法]  
 光硬化性樹脂組成物(1)~(14)、(R1)~(R5)それぞれについて、面露光方式(DLP)の光造形システム(ASIGA社製「MAX」)を用いて、形状は、縦5mm×横5mm×厚み1.5mmのシート状となるよう立体造形物を形成した。
 光造形の、積層ピッチは0.05mm、照射波長400~410nm、照度8mW/cm、光照射時間は1層当たり6秒とした。形成された立体造形物を、エタノ-ル中で超音波洗浄した。続いて高圧水銀ランプを用いて、立体造形物の表面及び裏面に積算光量が1000~2000mJ/cmになるように光照射し、後硬化させ、造形精度測定用サンプルを作成した。
 得られた造形精度測定用サンプルの厚みをマイクロメーターにて計測した。厚みが1.5mmに近いほど造形精度に優れるものとし、下記の基準に基づいて評価し、A又はBのものを合格とする。
(評価基準)
A(厚み(1.5mm)の寸法誤差が0.1mm未満)
B(厚み(1.5mm)の寸法誤差が0.1mm以上0.15mm未満)
C(厚み(1.5mm)の寸法誤差が0.15mm以上)
[Measuring method of modeling accuracy]
For each of the photocurable resin compositions (1) to (14) and (R1) to (R5), a surface exposure method (DLP) stereolithography system (“MAX” manufactured by ASIGA) was used to form a vertical shape. A three-dimensional object was formed so as to have a sheet shape of 5 mm×5 mm wide×1.5 mm thick.
In the stereolithography, the layer pitch was 0.05 mm, the irradiation wavelength was 400 to 410 nm, the illuminance was 8 mW/cm 2 , and the light irradiation time was 6 seconds per layer. The formed three-dimensional object was ultrasonically cleaned in ethanol. Subsequently, using a high-pressure mercury lamp, the front and back surfaces of the three-dimensional object were irradiated with light so that the cumulative amount of light was 1000 to 2000 mJ/cm 2 , and post-cured to prepare a sample for modeling accuracy measurement.
The thickness of the obtained sample for molding precision measurement was measured with a micrometer. The closer the thickness is to 1.5 mm, the better the modeling accuracy.
(Evaluation criteria)
A (Dimensional error of thickness (1.5 mm) is less than 0.1 mm)
B (Dimensional error of thickness (1.5 mm) is 0.1 mm or more and less than 0.15 mm)
C (Dimensional error of thickness (1.5 mm) is 0.15 mm or more)
[鋳造性の評価方法]
 クリストバライト埋没材(吉野石膏販売株式会社、サクラクイック30)と水を質量比100:33で混合した埋没材を用いて、上記で得られたサンプル(形状は図1:直径15mmの半球、直径15mmの球、直径15mmのリングを直径5mmの円柱で接続したもの、全長42.5mm)を埋没させ、25℃で30分間静置し埋没材を固化させた。次いで、700℃に加熱した電気炉で1時間加熱し、前記サンプルを焼却することで鋳型を作成した。この際の鋳造性を、目視にて下記の基準に従い評価した。なお、鋳型の内部においては、鋳型を切断し、目視にて、ひび、亀裂の有無、立体造形物の残渣、煤の有無、鋳型への立体造形物の転写性の良・不良を判断したものであり、〇を合格とした。
(評価基準)
 ○:鋳型外部及び内部にひび割れや亀裂がなく、鋳型内部に立体造形物の残渣、煤がなく、鋳型への立体造形物の転写性が良好である。
 ×:鋳型外部のひび割れや亀裂、鋳型内部の立体造形物の残渣、煤残り、鋳型への立体造形物の転写不良の少なくとも1つを生じており、鋳型として使用不可である。
(図1)
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000004
[Castability evaluation method]
Using the investment material obtained by mixing cristobalite investment material (Yoshino Gypsum Sales Co., Ltd., Sakura Quick 30) and water at a mass ratio of 100: 33, the sample obtained above (the shape is Fig. 1: Hemisphere with a diameter of 15 mm, a diameter of 15 mm sphere, a ring with a diameter of 15 mm connected by a cylinder with a diameter of 5 mm, total length 42.5 mm) was buried and left at 25 ° C. for 30 minutes to solidify the investment material. Then, the sample was incinerated by heating in an electric furnace heated to 700° C. for 1 hour to prepare a mold. Castability at this time was visually evaluated according to the following criteria. In addition, inside the mold, the mold is cut and visually inspected for cracks, cracks, residue of the three-dimensional model, presence of soot, and whether the transferability of the three-dimensional model to the mold is good or bad. , and 0 was passed.
(Evaluation criteria)
◯: There are no cracks or fissures on the outside or inside of the mold, no residue of the three-dimensional object and no soot inside the mold, and the transferability of the three-dimensional object to the mold is good.
x: At least one of cracks and fissures outside the mold, residue of the three-dimensional object inside the mold, soot residue, and poor transfer of the three-dimensional object to the mold occurs, and the mold cannot be used as a mold.
(Fig. 1)
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000004
 上記各試験の評価結果を表1~3に記載する。 The evaluation results of each of the above tests are shown in Tables 1-3.
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000005
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000005
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000006
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000006
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000007
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000007
 表1~3における略語は下記の通りである。
Omnirad819:ビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキシド、IGM社製、商品名「Omnirad819」、極大吸収波長:237nm、380nm
OmniradTPO:2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、IGM社製、商品名「OmniradTPO」、極大吸収波長:275nm、379nm
Omnirad184:1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、IGM社製、商品名「Omnirad184」、極大吸収波長:243nm、331nm
Omnirad907:2-メチル-1-[4-(メチルチオ)フェニル]-2-モルフォリノプロパン-1-オン、IGM社製、商品名「Omnirad907」、極大吸収波長:230nm、303nm
Omnirad651:2,2-ジメトキシ-2-フェニルアセトフェノン、IGM社製、商品名「Omnirad651」、極大吸収波長:252nm、325nm
化合物1:ビスフェノ-ルAエチレンオキサイド変性(10モル付加)ジメタクリレート、Miwon Specialty Chemical社製、商品名「Miramer M2101」
化合物2:ビスフェノ-ルAエチレンオキサイド変性(4モル付加)ジメタクリレート、Miwon Specialty Chemical社製、商品名「Miramer M241」
化合物3:ビスフェノ-ルAエチレンオキサイド変性(30モル付加)ジメタクリレート、Miwon Specialty Chemical社製、商品名「Miramer M2301」
化合物4:ネオペンチルグリコールジメタクリレート、Miwon Specialty Chemical社製、商品名「Miramer M213」
化合物5:ポリプロピレングリコールジメタクリレート、新中村化学社製、商品名「NKエステル 9PG」
P.R.122:Pigment Red 122、DIC社製、商品名「FASTOGEN(登録商標)SUPER MAGENTA R」
Abbreviations in Tables 1-3 are as follows.
Omnirad819: Bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)phenylphosphine oxide, manufactured by IGM, trade name "Omnirad819", maximum absorption wavelength: 237 nm, 380 nm
OmniradTPO: 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, manufactured by IGM, trade name "OmniradTPO", maximum absorption wavelength: 275 nm, 379 nm
Omnirad184: 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, manufactured by IGM, trade name "Omnirad184", maximum absorption wavelength: 243 nm, 331 nm
Omnirad907: 2-methyl-1-[4-(methylthio)phenyl]-2-morpholinopropan-1-one, manufactured by IGM, trade name "Omnirad907", maximum absorption wavelength: 230 nm, 303 nm
Omnirad651: 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, manufactured by IGM, trade name "Omnirad651", maximum absorption wavelength: 252 nm, 325 nm
Compound 1: Bisphenol A ethylene oxide-modified (10 mol addition) dimethacrylate, manufactured by Miwon Specialty Chemical, trade name "Miramer M2101"
Compound 2: Bisphenol A ethylene oxide-modified (4 mol addition) dimethacrylate, manufactured by Miwon Specialty Chemical, trade name "Miramer M241"
Compound 3: Bisphenol A ethylene oxide-modified (30 mol addition) dimethacrylate, manufactured by Miwon Specialty Chemical, trade name "Miramer M2301"
Compound 4: Neopentyl glycol dimethacrylate, manufactured by Miwon Specialty Chemical, trade name "Miramer M213"
Compound 5: Polypropylene glycol dimethacrylate, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., trade name "NK Ester 9PG"
P. R. 122: Pigment Red 122, manufactured by DIC, trade name "FASTOGEN (registered trademark) SUPER MAGENTA R"
 表1~3に示されるように、実施例1~14の光硬化性樹脂組成物は良好な造形精度を示し、立体造形物は、高硬度、及び高温加熱時における優れた消失性を示しつつ、鋳造性が良好となることが確認できた。
 一方、光重合開始剤(A)を、(B)成分100質量部に対して、10質量部以下の割合で含有した比較例1~4から形成した立体造形物では、高温加熱時の消失性及び鋳造性が劣ることが確認できた。さらに、光重合開始剤(A)を、(B)成分100質量部に対して、30量部以上の割合で含有した比較例5を使用した立体造形物では硬度が低下し、鋳造性が悪化することが分かった。
As shown in Tables 1 to 3, the photocurable resin compositions of Examples 1 to 14 show good modeling accuracy, and the three-dimensional objects exhibit high hardness and excellent erasability when heated at high temperatures. , it was confirmed that the castability was improved.
On the other hand, the photopolymerization initiator (A), with respect to 100 parts by mass of the component (B), in the three-dimensional shaped objects formed from Comparative Examples 1 to 4 in a proportion of 10 parts by mass or less, disappearance during high-temperature heating And it was confirmed that the castability was inferior. Furthermore, the photopolymerization initiator (A), with respect to 100 parts by mass of the component (B), in the three-dimensional object using Comparative Example 5 containing 30 parts by weight or more, the hardness is lowered, the castability is deteriorated. I found out to do.

Claims (15)

  1.  光重合開始剤(A)及び多官能(メタ)アクリレート(B)を含有し、
    前記光重合開始剤(A)の含有量が、多官能(メタ)アクリレート(B)100質量部に対して10質量部超~30質量部の範囲であることを特徴とする光硬化性樹脂組成物。
    Containing a photopolymerization initiator (A) and a polyfunctional (meth)acrylate (B),
    A photocurable resin composition, wherein the content of the photopolymerization initiator (A) is in the range of more than 10 parts by mass to 30 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polyfunctional (meth)acrylate (B). thing.
  2. 前記光重合開始剤(A)は、350nm以上の波長範囲に少なくとも1つの極大吸収波長を有する第1の光重合開始剤(A-1)、及び350nm以上の波長範囲に極大吸収波長を有さず、350nm未満の波長範囲に極大吸収波長を有する第2の光重合開始剤(A-2)を少なくとも含有する請求項1に記載の光硬化性樹脂組成物。 The photopolymerization initiator (A) includes a first photopolymerization initiator (A-1) having at least one maximum absorption wavelength in a wavelength range of 350 nm or more, and a first photopolymerization initiator (A-1) having a maximum absorption wavelength in a wavelength range of 350 nm or more. 2. The photocurable resin composition according to claim 1, which contains at least a second photopolymerization initiator (A-2) having a maximum absorption wavelength in a wavelength range of less than 350 nm.
  3. 前記第1の光重合開始剤(A-1)は、アシルホスフィンオキシド、ビスアシルホスフィンオキシド、チタノセン化合物、O-アシルオキシム化合物、及びチオキサントン化合物からなる群より選択される少なくとも1種である請求項2に記載の光硬化性樹脂組成物。 The first photopolymerization initiator (A-1) is at least one selected from the group consisting of acylphosphine oxides, bisacylphosphine oxides, titanocene compounds, O-acyloxime compounds, and thioxanthone compounds. 2. The photocurable resin composition according to 2.
  4. 前記第2の光重合開始剤(A-2)は、アルキルフェノン化合物、α-ジケトン化合物、及びヨ-ドニウム塩からなる群より選択される少なくとも1種である請求項2に記載の光硬化性樹脂組成物。 Photocurable according to claim 2, wherein the second photopolymerization initiator (A-2) is at least one selected from the group consisting of alkylphenone compounds, α-diketone compounds, and iodonium salts. Resin composition.
  5.  前記第1の光重合開始剤(A-1)に対する前記第2の光重合開始剤(A-2)の配合割合[(A-1)/(A-2)]は1/100~8/10の範囲である請求項2に記載の光硬化性樹脂組成物。 The mixing ratio [(A-1)/(A-2)] of the second photopolymerization initiator (A-2) to the first photopolymerization initiator (A-1) is 1/100 to 8/ 3. The photocurable resin composition according to claim 2, which is in the range of 10.
  6.  前記多官能(メタ)アクリレート(B)は、分子中にポリオキシアルキレン基を構造中に有する化合物を少なくとも含有する請求項1に記載の光硬化性樹脂組成物。 The photocurable resin composition according to claim 1, wherein the polyfunctional (meth)acrylate (B) contains at least a compound having a polyoxyalkylene group in its structure.
  7.  前記多官能(メタ)アクリレート(B)は、分子中にポリオキシアルキレン基及びビスフェノール構造を有する化合物(B-1)を少なくとも含有し、
     前記化合物(B-1)は、
     下記式(I):
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
    で表され、Rは水素原子又はメチル基を示し、同一分子中の複数のRは同一でも異なっていてもよく、m及びnはそれぞれ独立に1以上の整数を示し、m+nが2~40である、変性ビスフェノ-ルAジ(メタ)アクリレートである請求項6に記載の光硬化性樹脂組成物。
    The polyfunctional (meth)acrylate (B) contains at least a compound (B-1) having a polyoxyalkylene group and a bisphenol structure in the molecule,
    The compound (B-1) is
    Formula (I) below:
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
    wherein R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, multiple R 1s in the same molecule may be the same or different, m and n each independently represents an integer of 1 or more, and m+n is 2 to 40, the photocurable resin composition according to claim 6, which is a modified bisphenol A di(meth)acrylate.
  8.  前記多官能(メタ)アクリレート(B)は、分子内に1つ以上の(メタ)アクリロイル基を有する化合物(B-2)をさらに含有する請求項6に記載の光硬化性樹脂組成物。 The photocurable resin composition according to claim 6, wherein the polyfunctional (meth)acrylate (B) further contains a compound (B-2) having one or more (meth)acryloyl groups in the molecule.
  9.  前記多官能(メタ)アクリレート(B)100質量部中の前記化合物(B-1)の配合量は、40~90質量部である請求項8に記載の光硬化性樹脂組成物。 The photocurable resin composition according to claim 8, wherein the compound (B-1) is compounded in an amount of 40 to 90 parts by mass in 100 parts by mass of the polyfunctional (meth)acrylate (B).
  10.  非金属有機顔料(C)をさらに含有する請求項1に記載の光硬化性樹脂組成物。 The photocurable resin composition according to claim 1, which further contains a nonmetallic organic pigment (C).
  11.  立体光造形用の請求項1~10のいずれか一項に記載の光硬化性樹脂組成物。 The photocurable resin composition according to any one of claims 1 to 10 for stereolithography.
  12.  請求項1~10のいずれか一項に記載の光硬化性樹脂組成物を光硬化させた硬化物。 A cured product obtained by photocuring the photocurable resin composition according to any one of claims 1 to 10.
  13.  請求項12に記載の硬化物からなる立体造形物。 A three-dimensional object made of the cured product according to claim 12.
  14.  請求項13に記載の立体造形物を埋没材で一部または全部埋没させる工程(1)、
    前記埋没材を硬化または固化させる工程(2)、
    前記立体造形物を溶融除去、分解除去、及び/または焼却除去させる工程(3)を有することを特徴とする鋳型の製造方法。
    Step (1) of partially or completely embedding the three-dimensional object according to claim 13 with an investment material;
    a step (2) of curing or solidifying the investment material;
    A method for manufacturing a casting mold, comprising a step (3) of melting, removing, and/or incinerating the three-dimensional object.
  15.  請求項14に記載の製造方法で得られた鋳型に金属材料を流し込み、前記金属材料を固化させる工程(4)を有することを特徴とする金属鋳造物の製造方法。 A method for producing a metal casting, comprising a step (4) of pouring a metallic material into the mold obtained by the production method according to claim 14 and solidifying the metallic material.
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