WO2023132620A1 - Display comprising color conversion layer and manufacturing method therefor - Google Patents

Display comprising color conversion layer and manufacturing method therefor Download PDF

Info

Publication number
WO2023132620A1
WO2023132620A1 PCT/KR2023/000147 KR2023000147W WO2023132620A1 WO 2023132620 A1 WO2023132620 A1 WO 2023132620A1 KR 2023000147 W KR2023000147 W KR 2023000147W WO 2023132620 A1 WO2023132620 A1 WO 2023132620A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
light
layer
transmitting layer
color filter
disposed
Prior art date
Application number
PCT/KR2023/000147
Other languages
French (fr)
Korean (ko)
Inventor
문일주
국건
김성용
정진우
김호진
Original Assignee
삼성전자 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from KR1020220007179A external-priority patent/KR20230107070A/en
Application filed by 삼성전자 주식회사 filed Critical 삼성전자 주식회사
Publication of WO2023132620A1 publication Critical patent/WO2023132620A1/en

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41JTYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J2/00Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
    • B41J2/005Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
    • B41J2/01Ink jet
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L25/00Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
    • H01L25/03Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes
    • H01L25/04Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers
    • H01L25/075Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L33/00
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/02Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier
    • H01L27/12Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/15Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/30Devices specially adapted for multicolour light emission
    • H10K59/38Devices specially adapted for multicolour light emission comprising colour filters or colour changing media [CCM]
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass

Abstract

According to an embodiment disclosed in the present document, a display comprising a first sub-pixel, a second sub-pixel, and a third sub-pixel, which implement different colors from each other, has: a first color conversion layer arranged on a first substrate to correspond to the first sub-pixel; a first color filter arranged to overlap the first color conversion layer; a second color conversion layer arranged on the first substrate to correspond to the second sub-pixel; a second color filter arranged to overlap the second color conversion layer; a transparent layer arranged on the first substrate to correspond to the third sub-pixel; a third color filter arranged to overlap the transparent layer; a partition wall arranged to surround each of the first color conversion layer, the second color conversion layer, and the transparent layer; a black matrix arranged to overlap the partition wall; and a light-transmitting layer arranged between the first color conversion layer and the first color filter, between the second color conversion layer and the second color filter, and between the transparent layer and the third color filter, wherein the light-transmitting layer is higher in at least one of electrical conductivity and permittivity than at least one of the black matrix, the first color filter, the second color filter, the third color filter, and the partition wall.

Description

색변환층을 포함하는 디스플레이 및 그 제조 방법Display including color conversion layer and manufacturing method thereof
본 문서에서 개시되는 실시예들은 색변환층 형성의 고효율화 및 높은 색 변환 비율을 달성할 있는 디스플레이 및 그 제조 방법에 관한 것이다.Embodiments disclosed in this document relate to a display capable of achieving high efficiency in forming a color conversion layer and a high color conversion ratio, and a manufacturing method thereof.
정보통신 기술과 반도체 기술 등의 눈부신 발전에 힘입어 디스플레이를 포함하는 각종 전자 장치들의 보급과 이용이 급속도로 증가하고 있다. 특히 최근의 전자 장치들은 휴대하고 다니며 통신할 수 있도록 개발되고 있다. Thanks to the remarkable development of information and communication technology and semiconductor technology, the supply and use of various electronic devices including displays are rapidly increasing. In particular, recent electronic devices are being developed to be portable and communicate.
전자 장치의 디스플레이는 광효율을 증가시키고 색재현성을 높이기 위해 양자점을 포함하는 색변환층을 적용하는 경우가 증가되고 있다. Displays of electronic devices are increasingly applying a color conversion layer including quantum dots in order to increase light efficiency and color reproducibility.
색변환층은 노광 공정시 버려지는 소재의 양이 많이 효율성이 낮은 포토리소그래피 공정보다 잉크젯 프린팅 공정으로 형성될 수 있다. 잉크젯 프린팅 공정은 잉크의 흐름을 단속하여 액적(droplet) 형태로 잉크를 토출할 수 있다. 단속적인 잉크 토출 방식에 기인한 불안정성이 높아 원하는 형태(예: 폭 또는/및 높이)로 색변환층을 형성하기 어려울 수 있다. The color conversion layer may be formed by an inkjet printing process rather than a photolithography process, in which a large amount of material is discarded during an exposure process and the efficiency is low. The inkjet printing process may eject ink in the form of droplets by regulating the flow of ink. Instability due to the intermittent ink ejection method is high, and it may be difficult to form the color conversion layer in a desired shape (eg, width or/and height).
또한, 잉크젯 프린팅 공정시, 빠른 속도로 잉크를 토출시켜기 위해 저점도 잉크가 사용될 수 있다. 색변환층에 포함되는 양자점의 함량을 낮추어야 잉크의 점도가 낮아지므로, 색변환층의 색변환 비율이 낮아질 수 있다. Also, in the inkjet printing process, low-viscosity ink may be used to eject ink at a high speed. Since the viscosity of the ink is lowered when the content of the quantum dots included in the color conversion layer is lowered, the color conversion ratio of the color conversion layer may be lowered.
본 문서의 다양한 실시예는 색변환층 형성의 고효율화 및 색변환층의 높은 색 변환 비율을 달성할 있는 디스플레이 및 그 제조 방법을 제공하는 것이다.Various embodiments of the present document provide a display capable of achieving high efficiency in forming a color conversion layer and a high color conversion ratio of the color conversion layer, and a manufacturing method thereof.
본 문서에 개시되는 일 실시 예에 따르면, 서로 다른 색을 구현하는 제1 서브 화소, 제2 서브 화소 및 제3 서브 화소를 포함하는 디스플레이는 상기 제1 서브 화소와 대응되도록 제1 기판 상에 배치되는 제1 색변환층과; 상기 제1 색변환층과 중첩되도록 배치되는 제1 컬러 필터와; 상기 제2 서브 화소와 대응되도록 상기 제1 기판 상에 배치되는 제2 색변환층과; 상기 제2 색변환층과 중첩되도록 배치되는 제2 컬러 필터와; 상기 제3 서브 화소와 대응되도록 상기 제1 기판 상에 배치되는 투명층과; 상기 투명층과 중첩되도록 배치되는 제3 컬러 필터와; 상기 제1 색변환층, 상기 제2 색변환층 및 상기 투명층 각각을 둘러싸도록 배치되는 격벽과; 상기 격벽과 중첩되도록 배치되는 블랙매트릭스와; 상기 제1 색변환층 및 상기 제1 컬러필터 사이와, 상기 제2 색변환층 및 상기 제2 컬러 필터 사이와, 상기 투명층 및 상기 제3 컬러 필터 사이에 배치되는 광투과층을 구비하며, 상기 광투과층은 상기 블랙매트릭스, 상기 제1 컬러 필터, 상기 제2 컬러 필터, 상기 제3 컬러 필터 및 상기 격벽 중 적어도 어느 하나보다, 전기 전도도 및 유전율 중 적어도 어느 하나가 높을 수 있다.According to an embodiment disclosed in this document, a display including a first sub-pixel, a second sub-pixel, and a third sub-pixel implementing different colors is disposed on a first substrate to correspond to the first sub-pixel. a first color conversion layer; a first color filter disposed to overlap the first color conversion layer; a second color conversion layer disposed on the first substrate to correspond to the second sub-pixel; a second color filter disposed to overlap the second color conversion layer; a transparent layer disposed on the first substrate to correspond to the third sub-pixel; a third color filter disposed to overlap the transparent layer; barrier ribs disposed to surround each of the first color conversion layer, the second color conversion layer, and the transparent layer; a black matrix disposed to overlap the barrier rib; a light-transmitting layer disposed between the first color conversion layer and the first color filter, between the second color conversion layer and the second color filter, and between the transparent layer and the third color filter; The light transmission layer may have at least one of electrical conductivity and permittivity higher than at least any one of the black matrix, the first color filter, the second color filter, the third color filter, and the barrier rib.
본 문서에 개시되는 일 실시 예에 따르면, 디스플레이의 제조 방법은 기판 상에 블랙매트릭스를 형성하는 단계와; 상기 블랙매트릭스가 형성된 기판 상에 제1 컬러 필터, 제2 컬러 필터 및 제3 컬러 필터를 순차적으로 형성하는 단계와; 상기 제1 컬러 필터, 상기 제2 컬러 필터 및 상기 제3 컬러 필터가 형성된 기판 상에 광투과층을 형성하는 단계와; 상기 광투과층이 형성된 기판 상에 격벽을 형성하는 단계와; 상기 격벽이 형성된 기판 상에 노즐을 정렬하고, 상기 노즐과 상기 기판이 안착된 스테이지 사이에 전계를 형성하는 단계와; 상기 노즐을 통해 제1 양자점 잉크를 인쇄하여 제1 색변환층을 형성하는 단계와; 상기 노즐을 통해 제2 양자점 잉크를 인쇄하여 제2 색변환층을 형성하는 단계와; 상기 노즐을 통해 투명 잉크를 인쇄하여 투명층을 형성하는 단계를 포함하며, 상기 광투과층은 상기 기판, 상기 제1 컬러 필터, 상기 제2 컬러 필터, 상기 제3 컬러 필터 및 상기 격벽 중 적어도 어느 하나보다, 전기 전도도 및 유전율 중 적어도 어느 하나가 높을 수 있다.According to one embodiment disclosed in this document, a method of manufacturing a display includes forming a black matrix on a substrate; sequentially forming a first color filter, a second color filter, and a third color filter on the substrate on which the black matrix is formed; forming a light-transmitting layer on the substrate on which the first color filter, the second color filter, and the third color filter are formed; forming barrier ribs on the substrate on which the light-transmitting layer is formed; arranging nozzles on the substrate on which the barrier ribs are formed, and forming an electric field between the nozzles and a stage on which the substrate is seated; forming a first color conversion layer by printing a first quantum dot ink through the nozzle; forming a second color conversion layer by printing second quantum dot ink through the nozzle; and forming a transparent layer by printing transparent ink through the nozzle, wherein the light-transmitting layer comprises at least one of the substrate, the first color filter, the second color filter, the third color filter, and the barrier rib. At least one of electrical conductivity and permittivity may be higher than that.
본 문서에 개시되는 실시 예들에 따른 디스플레이는 색변환층 및 투명층의 폭과 높이가 일정하게 형성되므로, 우수한 공정 능력이 가능하여 공정의 고효율화를 구현할 수 있다. Since the width and height of the color conversion layer and the transparent layer are uniformly formed in the display according to the embodiments disclosed in this document, excellent process capability is possible and high process efficiency can be realized.
본 문서에 개시되는 실시 예들에 따른 디스플레이는 색변환층을 양자점 함유량이 높거나 첨가제가 함유된 고점도 잉크로 형성가능하므로, 색변환층의 색변환 비율을 높일 수 있다.In the display according to the embodiments disclosed in this document, since the color conversion layer can be formed of a high-viscosity ink containing a high content of quantum dots or an additive, the color conversion rate of the color conversion layer can be increased.
본 문서에 개시되는 실시 예들에 따른 디스플레이에서, 색변환층 및 투명층은 격벽쪽으로 편향되지 않고 광투과층 상에 인쇄될 수 있다.In the display according to the embodiments disclosed in this document, the color conversion layer and the transparent layer may be printed on the light transmission layer without being deflected toward the barrier rib.
이 외에, 본 문서를 통해 직접적 또는 간접적으로 파악되는 다양한 효과들이 제공될 수 있다.In addition to this, various effects identified directly or indirectly through this document may be provided.
도 1은 다양한 실시 예들에 따른, 네트워크 환경 내의 전자 장치의 블록도이다. 1 is a block diagram of an electronic device in a network environment, according to various embodiments.
도 2는 다양한 실시 예들에 따른, 디스플레이 모듈의 블록도이다. 2 is a block diagram of a display module according to various embodiments.
도 3은 일 실시 예에 따른 디스플레이를 개략적으로 나타낸 도면이다.3 is a diagram schematically illustrating a display according to an exemplary embodiment.
도 4a 및 도 4b는 일 실시 예에 따른 디스플레이의 제조 방법을 설명하기 위한 도면들이다.4A and 4B are diagrams for explaining a method of manufacturing a display according to an exemplary embodiment.
도 5a 내지 도 5c는 일 실시 예에 따른 전기수력학적 방법을 통해 분사되는 잉크의 궤적을 설명하기 위한 도면들이다.5A to 5C are diagrams for explaining a trajectory of ink ejected through an electrohydrodynamic method according to an exemplary embodiment.
도 6은 일 실시 예에 따른 색변환 기판을 나타내는 단면도이다.6 is a cross-sectional view illustrating a color conversion substrate according to an exemplary embodiment.
도 7a 내지 도 7c는 일 실시 예에 따른 색변환 기판의 제조 방법을 설명하기 위한 단면도들이다. 7A to 7C are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a color conversion substrate according to an exemplary embodiment.
도 8a 내지 도 8c는 일 실시 예에 따른 색변환 기판들을 나타내는 단면도이다.8A to 8C are cross-sectional views illustrating color conversion substrates according to an exemplary embodiment.
도 9는 일 실시 예에 따른 색변환 기판을 나타내는 단면도이다.9 is a cross-sectional view illustrating a color conversion substrate according to an exemplary embodiment.
도 10은 일 실시 예에 따른 색변환 기판을 나타내는 단면도이다.10 is a cross-sectional view illustrating a color conversion substrate according to an exemplary embodiment.
도 11은 일 실시 예에 따른 색변환 기판에 포함되는 광변환층의 제1 실시 예를 나타내는 평면도이다.11 is a plan view illustrating a first embodiment of a light conversion layer included in a color conversion substrate according to an embodiment.
도 12는 일 실시 예에 따른 색변환 기판에 포함되는 광변환층의 제2 실시 예를 나타내는 평면도이다.12 is a plan view illustrating a second embodiment of a light conversion layer included in a color conversion substrate according to an embodiment.
도 13은 일 실시 예에 따른 색변환 기판에 포함되는 광변환층의 제3 실시 예를 나타내는 평면도이다. 13 is a plan view illustrating a third embodiment of a light conversion layer included in a color conversion substrate according to an embodiment.
도면의 설명과 관련하여, 동일 또는 유사한 구성요소에 대해서는 동일 또는 유사한 참조 부호가 사용될 수 있다.In connection with the description of the drawings, the same or similar reference numerals may be used for the same or similar elements.
이하, 본 발명의 다양한 실시 예가 첨부된 도면을 참조하여 기재된다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본발명의 실시 예의 다양한 변경(modification), 균등물(equivalent), 및/또는 대체물(alternative)을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. Hereinafter, various embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. However, it should be understood that this is not intended to limit the present invention to the specific embodiments, and includes various modifications, equivalents, and/or alternatives of the embodiments of the present invention.
도 1은, 다양한 실시예들에 따른, 네트워크 환경(100) 내의 전자 장치(101)의 블록도이다. 1 is a block diagram of an electronic device 101 within a network environment 100, according to various embodiments.
도 1을 참조하면, 네트워크 환경(100)에서 전자 장치(101)는 제 1 네트워크(198)(예: 근거리 무선 통신 네트워크)를 통하여 전자 장치(102)와 통신하거나, 또는 제 2 네트워크(199)(예: 원거리 무선 통신 네트워크)를 통하여 전자 장치(104) 또는 서버(108) 중 적어도 하나와 통신할 수 있다. 일실시예에 따르면, 전자 장치(101)는 서버(108)를 통하여 전자 장치(104)와 통신할 수 있다. 일실시예에 따르면, 전자 장치(101)는 프로세서(120), 메모리(130), 입력 모듈(150), 음향 출력 모듈(155), 디스플레이 모듈(160), 오디오 모듈(170), 센서 모듈(176), 인터페이스(177), 연결 단자(178), 햅틱 모듈(179), 카메라 모듈(180), 전력 관리 모듈(188), 배터리(189), 통신 모듈(190), 가입자 식별 모듈(196), 또는 안테나 모듈(197)을 포함할 수 있다. 어떤 실시예에서는, 전자 장치(101)에는, 이 구성요소들 중 적어도 하나(예: 연결 단자(178))가 생략되거나, 하나 이상의 다른 구성요소가 추가될 수 있다. 어떤 실시예에서는, 이 구성요소들 중 일부들(예: 센서 모듈(176), 카메라 모듈(180), 또는 안테나 모듈(197))은 하나의 구성요소(예: 디스플레이 모듈(160))로 통합될 수 있다.Referring to FIG. 1 , in a network environment 100, an electronic device 101 communicates with an electronic device 102 through a first network 198 (eg, a short-range wireless communication network) or through a second network 199. It may communicate with at least one of the electronic device 104 or the server 108 through (eg, a long-distance wireless communication network). According to one embodiment, the electronic device 101 may communicate with the electronic device 104 through the server 108 . According to an embodiment, the electronic device 101 includes a processor 120, a memory 130, an input module 150, an audio output module 155, a display module 160, an audio module 170, a sensor module ( 176), interface 177, connection terminal 178, haptic module 179, camera module 180, power management module 188, battery 189, communication module 190, subscriber identification module 196 , or the antenna module 197 may be included. In some embodiments, in the electronic device 101, at least one of these components (eg, the connection terminal 178) may be omitted or one or more other components may be added. In some embodiments, some of these components (eg, sensor module 176, camera module 180, or antenna module 197) are integrated into a single component (eg, display module 160). It can be.
프로세서(120)는, 예를 들면, 소프트웨어(예: 프로그램(140))를 실행하여 프로세서(120)에 연결된 전자 장치(101)의 적어도 하나의 다른 구성요소(예: 하드웨어 또는 소프트웨어 구성요소)를 제어할 수 있고, 다양한 데이터 처리 또는 연산을 수행할 수 있다. 일실시예에 따르면, 데이터 처리 또는 연산의 적어도 일부로서, 프로세서(120)는 다른 구성요소(예: 센서 모듈(176) 또는 통신 모듈(190))로부터 수신된 명령 또는 데이터를 휘발성 메모리(132)에 저장하고, 휘발성 메모리(132)에 저장된 명령 또는 데이터를 처리하고, 결과 데이터를 비휘발성 메모리(134)에 저장할 수 있다. 일실시예에 따르면, 프로세서(120)는 메인 프로세서(121)(예: 중앙 처리 장치 또는 어플리케이션 프로세서) 또는 이와는 독립적으로 또는 함께 운영 가능한 보조 프로세서(123)(예: 그래픽 처리 장치, 신경망 처리 장치(NPU: neural processing unit), 이미지 시그널 프로세서, 센서 허브 프로세서, 또는 커뮤니케이션 프로세서)를 포함할 수 있다. 예를 들어, 전자 장치(101)가 메인 프로세서(121) 및 보조 프로세서(123)를 포함하는 경우, 보조 프로세서(123)는 메인 프로세서(121)보다 저전력을 사용하거나, 지정된 기능에 특화되도록 설정될 수 있다. 보조 프로세서(123)는 메인 프로세서(121)와 별개로, 또는 그 일부로서 구현될 수 있다.The processor 120, for example, executes software (eg, the program 140) to cause at least one other component (eg, hardware or software component) of the electronic device 101 connected to the processor 120. It can control and perform various data processing or calculations. According to one embodiment, as at least part of data processing or operation, the processor 120 transfers instructions or data received from other components (e.g., sensor module 176 or communication module 190) to volatile memory 132. , processing commands or data stored in the volatile memory 132 , and storing resultant data in the non-volatile memory 134 . According to one embodiment, the processor 120 may include a main processor 121 (eg, a central processing unit or an application processor) or a secondary processor 123 (eg, a graphic processing unit, a neural network processing unit ( NPU: neural processing unit (NPU), image signal processor, sensor hub processor, or communication processor). For example, when the electronic device 101 includes the main processor 121 and the auxiliary processor 123, the auxiliary processor 123 may use less power than the main processor 121 or be set to be specialized for a designated function. can The secondary processor 123 may be implemented separately from or as part of the main processor 121 .
보조 프로세서(123)는, 예를 들면, 메인 프로세서(121)가 인액티브(예: 슬립) 상태에 있는 동안 메인 프로세서(121)를 대신하여, 또는 메인 프로세서(121)가 액티브(예: 어플리케이션 실행) 상태에 있는 동안 메인 프로세서(121)와 함께, 전자 장치(101)의 구성요소들 중 적어도 하나의 구성요소(예: 디스플레이 모듈(160), 센서 모듈(176), 또는 통신 모듈(190))와 관련된 기능 또는 상태들의 적어도 일부를 제어할 수 있다. 일실시예에 따르면, 보조 프로세서(123)(예: 이미지 시그널 프로세서 또는 커뮤니케이션 프로세서)는 기능적으로 관련 있는 다른 구성요소(예: 카메라 모듈(180) 또는 통신 모듈(190))의 일부로서 구현될 수 있다. 일실시예에 따르면, 보조 프로세서(123)(예: 신경망 처리 장치)는 인공지능 모델의 처리에 특화된 하드웨어 구조를 포함할 수 있다. 인공지능 모델은 기계 학습을 통해 생성될 수 있다. 이러한 학습은, 예를 들어, 인공지능 모델이 수행되는 전자 장치(101) 자체에서 수행될 수 있고, 별도의 서버(예: 서버(108))를 통해 수행될 수도 있다. 학습 알고리즘은, 예를 들어, 지도형 학습(supervised learning), 비지도형 학습(unsupervised learning), 준지도형 학습(semi-supervised learning) 또는 강화 학습(reinforcement learning)을 포함할 수 있으나, 전술한 예에 한정되지 않는다. 인공지능 모델은, 복수의 인공 신경망 레이어들을 포함할 수 있다. 인공 신경망은 심층 신경망(DNN: deep neural network), CNN(convolutional neural network), RNN(recurrent neural network), RBM(restricted boltzmann machine), DBN(deep belief network), BRDNN(bidirectional recurrent deep neural network), 심층 Q-네트워크(deep Q-networks) 또는 상기 중 둘 이상의 조합 중 하나일 수 있으나, 전술한 예에 한정되지 않는다. 인공지능 모델은 하드웨어 구조 이외에, 추가적으로 또는 대체적으로, 소프트웨어 구조를 포함할 수 있다. The secondary processor 123 may, for example, take the place of the main processor 121 while the main processor 121 is in an inactive (eg, sleep) state, or the main processor 121 is active (eg, running an application). ) state, together with the main processor 121, at least one of the components of the electronic device 101 (eg, the display module 160, the sensor module 176, or the communication module 190) It is possible to control at least some of the related functions or states. According to one embodiment, the auxiliary processor 123 (eg, image signal processor or communication processor) may be implemented as part of other functionally related components (eg, camera module 180 or communication module 190). there is. According to an embodiment, the auxiliary processor 123 (eg, a neural network processing device) may include a hardware structure specialized for processing an artificial intelligence model. AI models can be created through machine learning. Such learning may be performed, for example, in the electronic device 101 itself where the artificial intelligence model is performed, or may be performed through a separate server (eg, the server 108). The learning algorithm may include, for example, supervised learning, unsupervised learning, semi-supervised learning or reinforcement learning, but in the above example Not limited. The artificial intelligence model may include a plurality of artificial neural network layers. Artificial neural networks include deep neural networks (DNNs), convolutional neural networks (CNNs), recurrent neural networks (RNNs), restricted boltzmann machines (RBMs), deep belief networks (DBNs), bidirectional recurrent deep neural networks (BRDNNs), It may be one of deep Q-networks or a combination of two or more of the foregoing, but is not limited to the foregoing examples. The artificial intelligence model may include, in addition or alternatively, software structures in addition to hardware structures.
메모리(130)는, 전자 장치(101)의 적어도 하나의 구성요소(예: 프로세서(120) 또는 센서 모듈(176))에 의해 사용되는 다양한 데이터를 저장할 수 있다. 데이터는, 예를 들어, 소프트웨어(예: 프로그램(140)) 및, 이와 관련된 명령에 대한 입력 데이터 또는 출력 데이터를 포함할 수 있다. 메모리(130)는, 휘발성 메모리(132) 또는 비휘발성 메모리(134)를 포함할 수 있다. The memory 130 may store various data used by at least one component (eg, the processor 120 or the sensor module 176) of the electronic device 101 . The data may include, for example, input data or output data for software (eg, program 140) and commands related thereto. The memory 130 may include volatile memory 132 or non-volatile memory 134 .
프로그램(140)은 메모리(130)에 소프트웨어로서 저장될 수 있으며, 예를 들면, 운영 체제(142), 미들 웨어(144) 또는 어플리케이션(146)을 포함할 수 있다. The program 140 may be stored as software in the memory 130 and may include, for example, an operating system 142 , middleware 144 , or an application 146 .
입력 모듈(150)은, 전자 장치(101)의 구성요소(예: 프로세서(120))에 사용될 명령 또는 데이터를 전자 장치(101)의 외부(예: 사용자)로부터 수신할 수 있다. 입력 모듈(150)은, 예를 들면, 마이크, 마우스, 키보드, 키(예: 버튼), 또는 디지털 펜(예: 스타일러스 펜)을 포함할 수 있다. The input module 150 may receive a command or data to be used by a component (eg, the processor 120) of the electronic device 101 from the outside of the electronic device 101 (eg, a user). The input module 150 may include, for example, a microphone, a mouse, a keyboard, a key (eg, a button), or a digital pen (eg, a stylus pen).
음향 출력 모듈(155)은 음향 신호를 전자 장치(101)의 외부로 출력할 수 있다. 음향 출력 모듈(155)은, 예를 들면, 스피커 또는 리시버를 포함할 수 있다. 스피커는 멀티미디어 재생 또는 녹음 재생과 같이 일반적인 용도로 사용될 수 있다. 리시버는 착신 전화를 수신하기 위해 사용될 수 있다. 일실시예에 따르면, 리시버는 스피커와 별개로, 또는 그 일부로서 구현될 수 있다.The sound output module 155 may output sound signals to the outside of the electronic device 101 . The sound output module 155 may include, for example, a speaker or a receiver. The speaker can be used for general purposes such as multimedia playback or recording playback. A receiver may be used to receive an incoming call. According to one embodiment, the receiver may be implemented separately from the speaker or as part of it.
디스플레이 모듈(160)은 전자 장치(101)의 외부(예: 사용자)로 정보를 시각적으로 제공할 수 있다. 디스플레이 모듈(160)은, 예를 들면, 디스플레이, 홀로그램 장치, 또는 프로젝터 및 해당 장치를 제어하기 위한 제어 회로를 포함할 수 있다. 일실시예에 따르면, 디스플레이 모듈(160)은 터치를 감지하도록 설정된 터치 센서, 또는 상기 터치에 의해 발생되는 힘의 세기를 측정하도록 설정된 압력 센서를 포함할 수 있다. The display module 160 may visually provide information to the outside of the electronic device 101 (eg, a user). The display module 160 may include, for example, a display, a hologram device, or a projector and a control circuit for controlling the device. According to one embodiment, the display module 160 may include a touch sensor set to detect a touch or a pressure sensor set to measure the intensity of force generated by the touch.
오디오 모듈(170)은 소리를 전기 신호로 변환시키거나, 반대로 전기 신호를 소리로 변환시킬 수 있다. 일실시예에 따르면, 오디오 모듈(170)은, 입력 모듈(150)을 통해 소리를 획득하거나, 음향 출력 모듈(155), 또는 전자 장치(101)와 직접 또는 무선으로 연결된 외부 전자 장치(예: 전자 장치(102))(예: 스피커 또는 헤드폰)를 통해 소리를 출력할 수 있다.The audio module 170 may convert sound into an electrical signal or vice versa. According to one embodiment, the audio module 170 acquires sound through the input module 150, the sound output module 155, or an external electronic device connected directly or wirelessly to the electronic device 101 (eg: Sound may be output through the electronic device 102 (eg, a speaker or a headphone).
센서 모듈(176)은 전자 장치(101)의 작동 상태(예: 전력 또는 온도), 또는 외부의 환경 상태(예: 사용자 상태)를 감지하고, 감지된 상태에 대응하는 전기 신호 또는 데이터 값을 생성할 수 있다. 일 실시 예에 따르면, 센서 모듈(176)은, 예를 들면, 제스처 센서, 자이로 센서, 기압 센서, 마그네틱 센서, 가속도 센서, 그립 센서, 근접 센서, 컬러 센서, IR(infrared) 센서, 생체 센서, 온도 센서, 습도 센서, 또는 조도 센서를 포함할 수 있다. The sensor module 176 detects an operating state (eg, power or temperature) of the electronic device 101 or an external environmental state (eg, a user state), and generates an electrical signal or data value corresponding to the detected state. can do. According to one embodiment, the sensor module 176 may include, for example, a gesture sensor, a gyro sensor, an air pressure sensor, a magnetic sensor, an acceleration sensor, a grip sensor, a proximity sensor, a color sensor, an IR (infrared) sensor, a bio sensor, It may include a temperature sensor, humidity sensor, or light sensor.
인터페이스(177)는 전자 장치(101)가 외부 전자 장치(예: 전자 장치(102))와 직접 또는 무선으로 연결되기 위해 사용될 수 있는 하나 이상의 지정된 프로토콜들을 지원할 수 있다. 일실시예에 따르면, 인터페이스(177)는, 예를 들면, HDMI(high definition multimedia interface), USB(universal serial bus) 인터페이스, SD카드 인터페이스, 또는 오디오 인터페이스를 포함할 수 있다.The interface 177 may support one or more designated protocols that may be used to directly or wirelessly connect the electronic device 101 to an external electronic device (eg, the electronic device 102). According to one embodiment, the interface 177 may include, for example, a high definition multimedia interface (HDMI), a universal serial bus (USB) interface, an SD card interface, or an audio interface.
연결 단자(178)는, 그를 통해서 전자 장치(101)가 외부 전자 장치(예: 전자 장치(102))와 물리적으로 연결될 수 있는 커넥터를 포함할 수 있다. 일실시예에 따르면, 연결 단자(178)는, 예를 들면, HDMI 커넥터, USB 커넥터, SD 카드 커넥터, 또는 오디오 커넥터(예: 헤드폰 커넥터)를 포함할 수 있다.The connection terminal 178 may include a connector through which the electronic device 101 may be physically connected to an external electronic device (eg, the electronic device 102). According to one embodiment, the connection terminal 178 may include, for example, an HDMI connector, a USB connector, an SD card connector, or an audio connector (eg, a headphone connector).
햅틱 모듈(179)은 전기적 신호를 사용자가 촉각 또는 운동 감각을 통해서 인지할 수 있는 기계적인 자극(예: 진동 또는 움직임) 또는 전기적인 자극으로 변환할 수 있다. 일 실시 예에 따르면, 햅틱 모듈(179)은, 예를 들면, 모터, 압전 소자, 또는 전기 자극 장치를 포함할 수 있다.The haptic module 179 may convert electrical signals into mechanical stimuli (eg, vibration or motion) or electrical stimuli that a user may perceive through tactile or kinesthetic senses. According to one embodiment, the haptic module 179 may include, for example, a motor, a piezoelectric element, or an electrical stimulation device.
카메라 모듈(180)은 정지 영상 및 동영상을 촬영할 수 있다. 일실시예에 따르면, 카메라 모듈(180)은 하나 이상의 렌즈들, 이미지 센서들, 이미지 시그널 프로세서들, 또는 플래시들을 포함할 수 있다.The camera module 180 may capture still images and moving images. According to one embodiment, the camera module 180 may include one or more lenses, image sensors, image signal processors, or flashes.
전력 관리 모듈(188)은 전자 장치(101)에 공급되는 전력을 관리할 수 있다. 일실시예에 따르면, 전력 관리 모듈(188)은, 예를 들면, PMIC(power management integrated circuit)의 적어도 일부로서 구현될 수 있다.The power management module 188 may manage power supplied to the electronic device 101 . According to one embodiment, the power management module 188 may be implemented as at least part of a power management integrated circuit (PMIC), for example.
배터리(189)는 전자 장치(101)의 적어도 하나의 구성요소에 전력을 공급할 수 있다. 일실시예에 따르면, 배터리(189)는, 예를 들면, 재충전 불가능한 1차 전지, 재충전 가능한 2차 전지 또는 연료 전지를 포함할 수 있다.The battery 189 may supply power to at least one component of the electronic device 101 . According to one embodiment, the battery 189 may include, for example, a non-rechargeable primary cell, a rechargeable secondary cell, or a fuel cell.
통신 모듈(190)은 전자 장치(101)와 외부 전자 장치(예: 전자 장치(102), 전자 장치(104), 또는 서버(108)) 간의 직접(예: 유선) 통신 채널 또는 무선 통신 채널의 수립, 및 수립된 통신 채널을 통한 통신 수행을 지원할 수 있다. 통신 모듈(190)은 프로세서(120)(예: 어플리케이션 프로세서)와 독립적으로 운영되고, 직접(예: 유선) 통신 또는 무선 통신을 지원하는 하나 이상의 커뮤니케이션 프로세서를 포함할 수 있다. 일실시예에 따르면, 통신 모듈(190)은 무선 통신 모듈(192)(예: 셀룰러 통신 모듈, 근거리 무선 통신 모듈, 또는 GNSS(global navigation satellite system) 통신 모듈) 또는 유선 통신 모듈(194)(예: LAN(local area network) 통신 모듈, 또는 전력선 통신 모듈)을 포함할 수 있다. 이들 통신 모듈 중 해당하는 통신 모듈은 제 1 네트워크(198)(예: 블루투스, WiFi(wireless fidelity) direct 또는 IrDA(infrared data association)와 같은 근거리 통신 네트워크) 또는 제 2 네트워크(199)(예: 레거시 셀룰러 네트워크, 5G 네트워크, 차세대 통신 네트워크, 인터넷, 또는 컴퓨터 네트워크(예: LAN 또는 WAN)와 같은 원거리 통신 네트워크)를 통하여 외부의 전자 장치(104)와 통신할 수 있다. 이런 여러 종류의 통신 모듈들은 하나의 구성요소(예: 단일 칩)로 통합되거나, 또는 서로 별도의 복수의 구성요소들(예: 복수 칩들)로 구현될 수 있다. 무선 통신 모듈(192)은 가입자 식별 모듈(196)에 저장된 가입자 정보(예: 국제 모바일 가입자 식별자(IMSI))를 이용하여 제 1 네트워크(198) 또는 제 2 네트워크(199)와 같은 통신 네트워크 내에서 전자 장치(101)를 확인 또는 인증할 수 있다. The communication module 190 is a direct (eg, wired) communication channel or a wireless communication channel between the electronic device 101 and an external electronic device (eg, the electronic device 102, the electronic device 104, or the server 108). Establishment and communication through the established communication channel may be supported. The communication module 190 may include one or more communication processors that operate independently of the processor 120 (eg, an application processor) and support direct (eg, wired) communication or wireless communication. According to one embodiment, the communication module 190 is a wireless communication module 192 (eg, a cellular communication module, a short-range wireless communication module, or a global navigation satellite system (GNSS) communication module) or a wired communication module 194 (eg, : a local area network (LAN) communication module or a power line communication module). Among these communication modules, a corresponding communication module is a first network 198 (eg, a short-range communication network such as Bluetooth, wireless fidelity (WiFi) direct, or infrared data association (IrDA)) or a second network 199 (eg, legacy It may communicate with the external electronic device 104 through a cellular network, a 5G network, a next-generation communication network, the Internet, or a telecommunications network such as a computer network (eg, a LAN or a WAN). These various types of communication modules may be integrated as one component (eg, a single chip) or implemented as a plurality of separate components (eg, multiple chips). The wireless communication module 192 uses subscriber information (eg, International Mobile Subscriber Identifier (IMSI)) stored in the subscriber identification module 196 within a communication network such as the first network 198 or the second network 199. The electronic device 101 may be identified or authenticated.
무선 통신 모듈(192)은 4G 네트워크 이후의 5G 네트워크 및 차세대 통신 기술, 예를 들어, NR 접속 기술(new radio access technology)을 지원할 수 있다. NR 접속 기술은 고용량 데이터의 고속 전송(eMBB(enhanced mobile broadband)), 단말 전력 최소화와 다수 단말의 접속(mMTC(massive machine type communications)), 또는 고신뢰도와 저지연(URLLC(ultra-reliable and low-latency communications))을 지원할 수 있다. 무선 통신 모듈(192)은, 예를 들어, 높은 데이터 전송률 달성을 위해, 고주파 대역(예: mmWave 대역)을 지원할 수 있다. 무선 통신 모듈(192)은 고주파 대역에서의 성능 확보를 위한 다양한 기술들, 예를 들어, 빔포밍(beamforming), 거대 배열 다중 입출력(massive MIMO(multiple-input and multiple-output)), 전차원 다중입출력(FD-MIMO: full dimensional MIMO), 어레이 안테나(array antenna), 아날로그 빔형성(analog beam-forming), 또는 대규모 안테나(large scale antenna)와 같은 기술들을 지원할 수 있다. 무선 통신 모듈(192)은 전자 장치(101), 외부 전자 장치(예: 전자 장치(104)) 또는 네트워크 시스템(예: 제 2 네트워크(199))에 규정되는 다양한 요구사항을 지원할 수 있다. 일실시예에 따르면, 무선 통신 모듈(192)은 eMBB 실현을 위한 Peak data rate(예: 20Gbps 이상), mMTC 실현을 위한 손실 Coverage(예: 164dB 이하), 또는 URLLC 실현을 위한 U-plane latency(예: 다운링크(DL) 및 업링크(UL) 각각 0.5ms 이하, 또는 라운드 트립 1ms 이하)를 지원할 수 있다.The wireless communication module 192 may support a 5G network after a 4G network and a next-generation communication technology, for example, NR access technology (new radio access technology). NR access technologies include high-speed transmission of high-capacity data (enhanced mobile broadband (eMBB)), minimization of terminal power and access of multiple terminals (massive machine type communications (mMTC)), or high reliability and low latency (ultra-reliable and low latency (URLLC)). -latency communications)) can be supported. The wireless communication module 192 may support a high frequency band (eg, mmWave band) to achieve a high data rate, for example. The wireless communication module 192 uses various technologies for securing performance in a high frequency band, such as beamforming, massive multiple-input and multiple-output (MIMO), and full-dimensional multiplexing. Technologies such as input/output (FD-MIMO: full dimensional MIMO), array antenna, analog beam-forming, or large scale antenna may be supported. The wireless communication module 192 may support various requirements defined for the electronic device 101, an external electronic device (eg, the electronic device 104), or a network system (eg, the second network 199). According to one embodiment, the wireless communication module 192 is a peak data rate for eMBB realization (eg, 20 Gbps or more), a loss coverage for mMTC realization (eg, 164 dB or less), or a U-plane latency for URLLC realization (eg, Example: downlink (DL) and uplink (UL) each of 0.5 ms or less, or round trip 1 ms or less) may be supported.
안테나 모듈(197)은 신호 또는 전력을 외부(예: 외부의 전자 장치)로 송신하거나 외부로부터 수신할 수 있다. 일실시예에 따르면, 안테나 모듈(197)은 서브스트레이트(예: PCB) 위에 형성된 도전체 또는 도전성 패턴으로 이루어진 방사체를 포함하는 안테나를 포함할 수 있다. 일실시예에 따르면, 안테나 모듈(197)은 복수의 안테나들(예: 어레이 안테나)을 포함할 수 있다. 이런 경우, 제 1 네트워크(198) 또는 제 2 네트워크(199)와 같은 통신 네트워크에서 사용되는 통신 방식에 적합한 적어도 하나의 안테나가, 예를 들면, 통신 모듈(190)에 의하여 상기 복수의 안테나들로부터 선택될 수 있다. 신호 또는 전력은 상기 선택된 적어도 하나의 안테나를 통하여 통신 모듈(190)과 외부의 전자 장치 간에 송신되거나 수신될 수 있다. 어떤 실시예에 따르면, 방사체 이외에 다른 부품(예: RFIC(radio frequency integrated circuit))이 추가로 안테나 모듈(197)의 일부로 형성될 수 있다. The antenna module 197 may transmit or receive signals or power to the outside (eg, an external electronic device). According to one embodiment, the antenna module 197 may include an antenna including a radiator formed of a conductor or a conductive pattern formed on a substrate (eg, PCB). According to one embodiment, the antenna module 197 may include a plurality of antennas (eg, an array antenna). In this case, at least one antenna suitable for a communication method used in a communication network such as the first network 198 or the second network 199 is selected from the plurality of antennas by the communication module 190, for example. can be chosen A signal or power may be transmitted or received between the communication module 190 and an external electronic device through the selected at least one antenna. According to some embodiments, other components (eg, a radio frequency integrated circuit (RFIC)) may be additionally formed as a part of the antenna module 197 in addition to the radiator.
다양한 실시예에 따르면, 안테나 모듈(197)은 mmWave 안테나 모듈을 형성할 수 있다. 일실시예에 따르면, mmWave 안테나 모듈은 인쇄 회로 기판, 상기 인쇄 회로 기판의 제 1 면(예: 아래 면)에 또는 그에 인접하여 배치되고 지정된 고주파 대역(예: mmWave 대역)을 지원할 수 있는 RFIC, 및 상기 인쇄 회로 기판의 제 2 면(예: 윗 면 또는 측 면)에 또는 그에 인접하여 배치되고 상기 지정된 고주파 대역의 신호를 송신 또는 수신할 수 있는 복수의 안테나들(예: 어레이 안테나)을 포함할 수 있다.According to various embodiments, the antenna module 197 may form a mmWave antenna module. According to one embodiment, the mmWave antenna module includes a printed circuit board, an RFIC disposed on or adjacent to a first surface (eg, a lower surface) of the printed circuit board and capable of supporting a designated high frequency band (eg, mmWave band); and a plurality of antennas (eg, array antennas) disposed on or adjacent to a second surface (eg, a top surface or a side surface) of the printed circuit board and capable of transmitting or receiving signals of the designated high frequency band. can do.
상기 구성요소들 중 적어도 일부는 주변 기기들간 통신 방식(예: 버스, GPIO(general purpose input and output), SPI(serial peripheral interface), 또는 MIPI(mobile industry processor interface))을 통해 서로 연결되고 신호(예: 명령 또는 데이터)를 상호간에 교환할 수 있다.At least some of the components are connected to each other through a communication method between peripheral devices (eg, a bus, general purpose input and output (GPIO), serial peripheral interface (SPI), or mobile industry processor interface (MIPI)) and signal ( e.g. commands or data) can be exchanged with each other.
일실시예에 따르면, 명령 또는 데이터는 제 2 네트워크(199)에 연결된 서버(108)를 통해서 전자 장치(101)와 외부의 전자 장치(104)간에 송신 또는 수신될 수 있다. 외부의 전자 장치(102, 또는 104) 각각은 전자 장치(101)와 동일한 또는 다른 종류의 장치일 수 있다. 일실시예에 따르면, 전자 장치(101)에서 실행되는 동작들의 전부 또는 일부는 외부의 전자 장치들(102, 104, 또는 108) 중 하나 이상의 외부의 전자 장치들에서 실행될 수 있다. 예를 들면, 전자 장치(101)가 어떤 기능이나 서비스를 자동으로, 또는 사용자 또는 다른 장치로부터의 요청에 반응하여 수행해야 할 경우에, 전자 장치(101)는 기능 또는 서비스를 자체적으로 실행시키는 대신에 또는 추가적으로, 하나 이상의 외부의 전자 장치들에게 그 기능 또는 그 서비스의 적어도 일부를 수행하라고 요청할 수 있다. 상기 요청을 수신한 하나 이상의 외부의 전자 장치들은 요청된 기능 또는 서비스의 적어도 일부, 또는 상기 요청과 관련된 추가 기능 또는 서비스를 실행하고, 그 실행의 결과를 전자 장치(101)로 전달할 수 있다. 전자 장치(101)는 상기 결과를, 그대로 또는 추가적으로 처리하여, 상기 요청에 대한 응답의 적어도 일부로서 제공할 수 있다. 이를 위하여, 예를 들면, 클라우드 컴퓨팅, 분산 컴퓨팅, 모바일 에지 컴퓨팅(MEC: mobile edge computing), 또는 클라이언트-서버 컴퓨팅 기술이 이용될 수 있다. 전자 장치(101)는, 예를 들어, 분산 컴퓨팅 또는 모바일 에지 컴퓨팅을 이용하여 초저지연 서비스를 제공할 수 있다. 다른 실시예에 있어서, 외부의 전자 장치(104)는 IoT(internet of things) 기기를 포함할 수 있다. 서버(108)는 기계 학습 및/또는 신경망을 이용한 지능형 서버일 수 있다. 일실시예에 따르면, 외부의 전자 장치(104) 또는 서버(108)는 제 2 네트워크(199) 내에 포함될 수 있다. 전자 장치(101)는 5G 통신 기술 및 IoT 관련 기술을 기반으로 지능형 서비스(예: 스마트 홈, 스마트 시티, 스마트 카, 또는 헬스 케어)에 적용될 수 있다. According to an embodiment, commands or data may be transmitted or received between the electronic device 101 and the external electronic device 104 through the server 108 connected to the second network 199 . Each of the external electronic devices 102 or 104 may be the same as or different from the electronic device 101 . According to an embodiment, all or part of operations executed in the electronic device 101 may be executed in one or more external electronic devices among the external electronic devices 102 , 104 , or 108 . For example, when the electronic device 101 needs to perform a certain function or service automatically or in response to a request from a user or another device, the electronic device 101 instead of executing the function or service by itself. Alternatively or additionally, one or more external electronic devices may be requested to perform the function or at least part of the service. One or more external electronic devices receiving the request may execute at least a part of the requested function or service or an additional function or service related to the request, and deliver the execution result to the electronic device 101 . The electronic device 101 may provide the result as at least part of a response to the request as it is or additionally processed. To this end, for example, cloud computing, distributed computing, mobile edge computing (MEC), or client-server computing technology may be used. The electronic device 101 may provide an ultra-low latency service using, for example, distributed computing or mobile edge computing. In another embodiment, the external electronic device 104 may include an internet of things (IoT) device. Server 108 may be an intelligent server using machine learning and/or neural networks. According to one embodiment, the external electronic device 104 or server 108 may be included in the second network 199 . The electronic device 101 may be applied to intelligent services (eg, smart home, smart city, smart car, or health care) based on 5G communication technology and IoT-related technology.
도 2는 다양한 실시예들에 따른, 디스플레이 모듈(160)의 블록도(200)이다. 2 is a block diagram 200 of a display module 160, in accordance with various embodiments.
도 2를 참조하면, 디스플레이 모듈(160)은 디스플레이(210), 및 이를 제어하기 위한 디스플레이 드라이버 IC(DDI)(230)를 포함할 수 있다. DDI(230)는 인터페이스 모듈(231), 메모리(233)(예: 버퍼 메모리), 이미지 처리 모듈(235), 또는 맵핑 모듈(237)을 포함할 수 있다. DDI(230)은, 예를 들면, 영상 데이터, 또는 상기 영상 데이터를 제어하기 위한 명령에 대응하는 영상 제어 신호를 포함하는 영상 정보를 인터페이스 모듈(231)을 통해 전자 장치(101)의 다른 구성요소로부터 수신할 수 있다. 예를 들면, 일실시예에 따르면, 영상 정보는 프로세서(120)(예: 메인 프로세서(121)(예: 어플리케이션 프로세서) 또는 메인 프로세서(121)의 기능과 독립적으로 운영되는 보조 프로세서(123)(예: 그래픽 처리 장치)로부터 수신될 수 있다. DDI(230)는 터치 회로(250) 또는 센서 모듈(176) 등과 상기 인터페이스 모듈(231)을 통하여 커뮤니케이션할 수 있다. 또한, DDI(230)는 상기 수신된 영상 정보 중 적어도 일부를 메모리(233)에, 예를 들면, 프레임 단위로 저장할 수 있다. 이미지 처리 모듈(235)은, 예를 들면, 상기 영상 데이터의 적어도 일부를 상기 영상 데이터의 특성 또는 디스플레이(210)의 특성에 적어도 기반하여 전처리 또는 후처리(예: 해상도, 밝기, 또는 크기 조정)를 수행할 수 있다. 맵핑 모듈(237)은 이미지 처리 모듈(135)를 통해 전처리 또는 후처리된 상기 영상 데이터에 대응하는 전압 값 또는 전류 값을 생성할 수 있다. 일실시예에 따르면, 전압 값 또는 전류 값의 생성은 예를 들면, 디스플레이(210)의 화소들의 속성(예: 화소들의 배열(RGB stripe 또는 pentile 구조), 또는 서브 화소들 각각의 크기)에 적어도 일부 기반하여 수행될 수 있다. 디스플레이(210)의 적어도 일부 화소들은, 예를 들면, 상기 전압 값 또는 전류 값에 적어도 일부 기반하여 구동됨으로써 상기 영상 데이터에 대응하는 시각적 정보(예: 텍스트, 이미지, 또는 아이콘)가 디스플레이(210)를 통해 표시될 수 있다.Referring to FIG. 2 , the display module 160 may include a display 210 and a display driver IC (DDI) 230 for controlling the display 210 . The DDI 230 may include an interface module 231 , a memory 233 (eg, a buffer memory), an image processing module 235 , or a mapping module 237 . The DDI 230 transmits, for example, image data or image information including image control signals corresponding to commands for controlling the image data to other components of the electronic device 101 through the interface module 231. can be received from For example, according to one embodiment, the image information is processed by the processor 120 (eg, the main processor 121 (eg, an application processor) or the auxiliary processor 123 (eg, an auxiliary processor 123 that operates independently of the function of the main processor 121). Example: The DDI 230 can communicate with the touch circuit 250 or the sensor module 176 through the interface module 231. In addition, the DDI 230 can communicate with the touch circuit 250 or the sensor module 176, etc. At least a portion of the received image information may be stored in the memory 233, for example, in units of frames, and the image processing module 235 may, for example, convert at least a portion of the image data to characteristics of the image data or Preprocessing or postprocessing (eg, resolution, brightness, or size adjustment) may be performed based on at least the characteristics of the display 210. The mapping module 237 performs preprocessing or postprocessing through the image processing module 135. A voltage value or a current value corresponding to the image data may be generated According to an embodiment, the generation of the voltage value or the current value may be a property of the pixels of the display 210 (eg, an array of pixels). RGB stripe or pentile structure), or the size of each sub-pixel) At least some pixels of the display 210 are based, for example, at least in part on the voltage value or current value By being driven, visual information (eg, text, image, or icon) corresponding to the image data may be displayed through the display 210 .
일실시예에 따르면, 디스플레이 모듈(160)는 터치 회로(250)를 더 포함할 수 있다. 터치 회로(250)는 터치 센서(251) 및 이를 제어하기 위한 터치 센서 IC(253)를 포함할 수 있다. 터치 센서 IC(253)는, 예를 들면, 디스플레이(210)의 특정 위치에 대한 터치 입력 또는 호버링 입력을 감지하기 위해 터치 센서(251)를 제어할 수 있다. 예를 들면, 터치 센서 IC(253)는 디스플레이(210)의 특정 위치에 대한 신호(예: 전압, 광량, 저항, 또는 전하량)의 변화를 측정함으로써 터치 입력 또는 호버링 입력을 감지할 수 있다. 터치 센서 IC(253)는 감지된 터치 입력 또는 호버링 입력에 관한 정보(예: 위치, 면적, 압력, 또는 시간)를 프로세서(120) 에 제공할 수 있다. 일실시예에 따르면, 터치 회로(250)의 적어도 일부(예: 터치 센서 IC(253))는 디스플레이 드라이버 IC(230), 또는 디스플레이(210)의 일부로, 또는 디스플레이 모듈(160)의 외부에 배치된 다른 구성요소(예: 보조 프로세서(123))의 일부로 포함될 수 있다.According to one embodiment, the display module 160 may further include a touch circuit 250 . The touch circuit 250 may include a touch sensor 251 and a touch sensor IC 253 for controlling the touch sensor 251 . The touch sensor IC 253 may control the touch sensor 251 to detect, for example, a touch input or a hovering input to a specific location of the display 210 . For example, the touch sensor IC 253 may detect a touch input or a hovering input by measuring a change in a signal (eg, voltage, light amount, resistance, or charge amount) for a specific position of the display 210 . The touch sensor IC 253 may provide information (eg, location, area, pressure, or time) on the sensed touch input or hovering input to the processor 120 . According to an exemplary embodiment, at least a part of the touch circuit 250 (eg, the touch sensor IC 253) is disposed as a part of the display driver IC 230, the display 210, or outside the display module 160. It may be included as part of other components (eg, the auxiliary processor 123).
일실시예에 따르면, 디스플레이 모듈(160)은 센서 모듈(176)의 적어도 하나의 센서(예: 지문 센서, 홍채 센서, 압력 센서 또는 조도 센서), 또는 이에 대한 제어 회로를 더 포함할 수 있다. 이 경우, 상기 적어도 하나의 센서 또는 이에 대한 제어 회로는 디스플레이 모듈(160)의 일부(예: 디스플레이(210) 또는 DDI(230)) 또는 터치 회로(250)의 일부에 임베디드될 수 있다. 예를 들면, 디스플레이 모듈(160)에 임베디드된 센서 모듈(176)이 생체 센서(예: 지문 센서)를 포함할 경우, 상기 생체 센서는 디스플레이(210)의 일부 영역을 통해 터치 입력과 연관된 생체 정보(예: 지문 이미지)를 획득할 수 있다. 다른 예를 들면, 디스플레이 모듈(160)에 임베디드된 센서 모듈(176)이 압력 센서를 포함할 경우, 상기 압력 센서는 디스플레이(210)의 일부 또는 전체 영역을 통해 터치 입력과 연관된 압력 정보를 획득할 수 있다. 일실시예에 따르면, 터치 센서(251) 또는 센서 모듈(176)은 디스플레이(210)의 화소 레이어의 화소들 사이에, 또는 상기 화소 레이어의 위에 또는 아래에 배치될 수 있다.According to one embodiment, the display module 160 may further include at least one sensor (eg, a fingerprint sensor, an iris sensor, a pressure sensor, or an illumination sensor) of the sensor module 176 or a control circuit for the sensor module 176 . In this case, the at least one sensor or a control circuit thereof may be embedded in a part of the display module 160 (eg, the display 210 or the DDI 230) or a part of the touch circuit 250. For example, when the sensor module 176 embedded in the display module 160 includes a biometric sensor (eg, a fingerprint sensor), the biometric sensor is biometric information associated with a touch input through a partial area of the display 210. (e.g. fingerprint image) can be acquired. For another example, if the sensor module 176 embedded in the display module 160 includes a pressure sensor, the pressure sensor may acquire pressure information associated with a touch input through a part or the entire area of the display 210. can According to an embodiment, the touch sensor 251 or the sensor module 176 may be disposed between pixels of a pixel layer of the display 210 or above or below the pixel layer.
다양한 실시 예에 따른 디스플레이(201)는 바 타입, 폴더블 타입, 롤러블 타입, 슬라이딩 타입, 웨어러블 타입, 태블릿 PC 및/또는 노트북 PC와 같은 전자 장치에 포함될 수 있다. 본 발명의 다양한 실시예에 따른 디스플레이(201)는 상술한 예, 뿐만 아니라 다양한 전자 장치에 포함될 수 있다. The display 201 according to various embodiments may be included in an electronic device such as a bar type, a foldable type, a rollable type, a sliding type, a wearable type, a tablet PC, and/or a notebook PC. The display 201 according to various embodiments of the present invention may be included in various electronic devices as well as the examples described above.
도 3은 본 문서에 개시된 예시적인 실시 예에 따른 디스플레이를 개략적으로 나타낸 단면도이다. 3 is a schematic cross-sectional view of a display according to an exemplary embodiment disclosed herein.
도 3을 참조하면, 디스플레이(210)는 영상을 표시하는 하나의 단위인 화소(PXL)들을 복수개 포함할 수 있다. 도 3에는 편의상 1개의 화소(PXL)만이 예시적으로 도시되어 있다. 화소(PXL)는 서로 다른 색상을 내는 복수의 서브 화소(SP1,SP2,SP3)을 포함할 수 있다. 일 예로, 복수개의 화소들(PXL) 각각은 적색을 구현하는 제1 서브 화소(SP1), 녹색을 구현하는 제2 서브 화소(SP2) 및 청색을 구현하는 제3 서브 화소(SP3)을 포함할 수 있다. 다른 예로, 복수개의 화소들(PXL) 각각은 제1 내지 제3 서브 화소(SP1,SP2,SP3)와, 백색을 발광하는 제4 서브 화소를 포함할 수 있다. 각 서브 화소들(SP1,SP2,SP3)로부터 출사되는 광량 제어를 통해 디스플레이(210)에는 영상이 표시될 수 있다. Referring to FIG. 3 , the display 210 may include a plurality of pixels PXL, which is a unit for displaying an image. For convenience, only one pixel PXL is illustrated in FIG. 3 as an example. The pixel PXL may include a plurality of sub-pixels SP1 , SP2 , and SP3 emitting different colors. For example, each of the plurality of pixels PXL may include a first sub-pixel SP1 implementing red, a second sub-pixel SP2 implementing green, and a third sub-pixel SP3 implementing blue. can As another example, each of the plurality of pixels PXL may include first to third sub-pixels SP1 , SP2 , and SP3 and a fourth sub-pixel emitting white light. An image may be displayed on the display 210 by controlling the amount of light emitted from each of the sub-pixels SP1 , SP2 , and SP3 .
디스플레이(210)는 광원 기판(310)과, 그 광원 기판(310)과 마주보는 색 변환 기판(300)을 포함할 수 있다. 도 3에 도시된 광원 기판(310) 및 색변환 기판(300)은 이격되게 도시되어 있으나, 광원 기판(310) 및 색변환 기판(300)은 합착제를 통해 합착될 수 있다.The display 210 may include a light source substrate 310 and a color conversion substrate 300 facing the light source substrate 310 . Although the light source substrate 310 and the color conversion substrate 300 shown in FIG. 3 are shown spaced apart, the light source substrate 310 and the color conversion substrate 300 may be bonded through a bonding agent.
광원 기판(310)은 영상을 표시하는 데 필요한 광을 생성하여 출사하는 기판일 수 있다. 광원 기판(310)은 후면 기판(311), 발광 소자(light emitting element)(312)와, 발광 소자(312)를 구동하는 화소 회로를 포함할 수 있다. The light source substrate 310 may be a substrate that generates and emits light required to display an image. The light source substrate 310 may include a rear substrate 311 , a light emitting element 312 , and a pixel circuit driving the light emitting element 312 .
후면 기판(311)은 플라스틱 기판 또는 유리 기판일 수 있다. 후면 기판(311)은 플렉서블 특성을 가질 수 있다. 후면 기판(311) 상에는 발광 소자(312) 및 화소 회로가 배치될 수 있다. 발광 소자(312)는 전면 기판(301)에 배치되는 컬러 필터들(320)과 중첩되도록 배치되고, 화소 회로의 적어도 일부는 전면 기판(301)에 배치되는 블랙매트릭스(302)와 중첩되도록 배치될 수 있다.The back substrate 311 may be a plastic substrate or a glass substrate. The back substrate 311 may have a flexible property. A light emitting element 312 and a pixel circuit may be disposed on the rear substrate 311 . The light emitting element 312 is disposed to overlap the color filters 320 disposed on the front substrate 301, and at least a portion of the pixel circuit is disposed to overlap the black matrix 302 disposed on the front substrate 301. can
발광 소자(312)는 유기 발광 소자(Organic Light Emitting Diode), 양자점 발광소자(Quantum dot Light Emitting Diode), 무기물 기반의 마이크로 발광다이오드(Micro LED), 무기물 기반의 나노 발광 다이오드(nano LED) 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 예를 들어, 발광 소자(312)는 마이크로 발광 다이오드일 수 있다. The light emitting device 312 includes at least one of an organic light emitting diode, a quantum dot light emitting diode, an inorganic-based micro LED, and an inorganic-based nano light emitting diode. may contain one. For example, the light emitting device 312 may be a micro light emitting diode.
화소 회로는 복수개의 트랜지스터로 이루어질 수 있다. 예를 들어, 화소 회로는 적어도 하나의 N형 트랜지스터와 적어도 하나의 P형 트랜지스터의 조합으로 이루어진 CMOS회로로 이루어질 수 있다.The pixel circuit may include a plurality of transistors. For example, the pixel circuit may be formed of a CMOS circuit including a combination of at least one N-type transistor and at least one P-type transistor.
색변환 기판(300)은 전면 기판(301), 컬러 필터(320), 격벽(304), 색변환 부재(330), 투명층(333) 및 블랙매트릭스(302)를 포함할 수 있다. The color conversion substrate 300 may include a front substrate 301 , a color filter 320 , a barrier rib 304 , a color conversion member 330 , a transparent layer 333 and a black matrix 302 .
전면 기판(301)은 투광성을 갖는 재질로 형성될 수 있다. 전면 기판(301)은 플라스틱 기판 또는 유리 기판으로 형성될 수 있다. 전면 기판(301)은 플렉서블 특성을 가질 수 있다. 전면 기판(301)의 일면(예: D2 방향을 향하는 면) 상에는 컬러 필터(320), 격벽(304), 색변환 부재(330), 투명층(333) 및 블랙매트릭스(302)가 적층될 수 있다. 전면 기판(301)의 타면(예: D1 방향을 향하는 면)을 통해, 컬러 필터(320)를 통과한 광이 외부로 출사되므로, 디스플레이를 바라보는 뷰어에게 영상이 제공될 수 있다.The front substrate 301 may be formed of a light-transmitting material. The front substrate 301 may be formed of a plastic substrate or a glass substrate. The front substrate 301 may have a flexible property. A color filter 320, a barrier rib 304, a color conversion member 330, a transparent layer 333, and a black matrix 302 may be stacked on one surface of the front substrate 301 (eg, the surface facing the D2 direction). . Since light passing through the color filter 320 is emitted to the outside through the other surface of the front substrate 301 (eg, the surface facing the D1 direction), an image may be provided to a viewer looking at the display.
컬러 필터(320)는 제1 컬러 필터(321), 제2 컬러 필터(322) 및 제3 컬러 필터(323)를 포함할 수 있다. 제1 컬러 필터(321)는 제1 색변환층(331)에서 내는 광과 동일한 색을 구현할 수 있다. 예를 들어, 제1 컬러 필터(321)는 적색 컬러 필터일 수 있다. 제1 컬러 필터(321)는 적색광을 투과시키고, 적색광 이외의 다른 색광을 흡수할 수 있다. 제1 컬러 필터(321)는 제1 색변환층(331)을 통해 입사되는 적색광의 색순도를 높일 수 있다. 제2 컬러 필터(322)는 제2 색변환층(332)에서 내는 광과 동일한 색을 구현할 수 있다. 예를 들어, 제2 컬러 필터(322)는 녹색 컬러 필터일 수 있다. 제2 컬러 필터(322)는 녹색광을 투과시키고, 녹색광 이외의 다른 색광을 흡수할 수 있다. 제2 컬러 필터(322)는 제2 색변환층(332)을 통해 입사되는 녹색광의 색 순도를 높일 수 있다. 제3 컬러 필터(323)는 발광 소자(312)에서 내는 빛과 동일한 색을 구현할 수 있다. 예를 들어, 제3 컬러 필터(323)는 청색 컬러 필터일 수 있다. 제3 컬러 필터(323)는 청색광을 투과시키고, 청색광 이외의 다른 색광을 흡수할 수 있다. 제3 컬러 필터(323)는 투명층(333)을 통해 입사되는 청색광의 색 순도를 높일 수 있다.The color filter 320 may include a first color filter 321 , a second color filter 322 and a third color filter 323 . The first color filter 321 may implement the same color as light emitted from the first color conversion layer 331 . For example, the first color filter 321 may be a red color filter. The first color filter 321 may transmit red light and absorb other color lights other than red light. The first color filter 321 may increase color purity of red light incident through the first color conversion layer 331 . The second color filter 322 may implement the same color as light emitted from the second color conversion layer 332 . For example, the second color filter 322 may be a green color filter. The second color filter 322 may transmit green light and absorb other color lights other than green light. The second color filter 322 may increase color purity of green light incident through the second color conversion layer 332 . The third color filter 323 may implement the same color as light emitted from the light emitting element 312 . For example, the third color filter 323 may be a blue color filter. The third color filter 323 may transmit blue light and absorb color light other than blue light. The third color filter 323 may increase color purity of blue light incident through the transparent layer 333 .
블랙매트릭스(302)는 제1 컬러 필터(321), 제2 컬러 필터(322) 및 제3 컬러 필터(323) 사이에 배치될 수 있다. 블랙매트릭스(302)는 각 서브 화소(SP1,SP2,SP3)의 영역을 구분하므로, 격벽(304)과 중첩될 수 있다. 블랙매트릭스(302)는 금속, 합성 수지, 합성 고무, 카본 계통의 유기 물질과 같은 재질로 형성될 수 있다. 예를 들어, 블랙매트릭스(302)는 크롬(Cr), 크롬산화막(CrOx), 카본 블랙, 또는 이들을 포함하는 이중막으로 구성될 수 있다.The black matrix 302 may be disposed between the first color filter 321 , the second color filter 322 and the third color filter 323 . Since the black matrix 302 divides the areas of each sub-pixel SP1 , SP2 , and SP3 , it may overlap with the barrier rib 304 . The black matrix 302 may be formed of a material such as metal, synthetic resin, synthetic rubber, or a carbon-based organic material. For example, the black matrix 302 may be formed of chromium (Cr), chromium oxide (CrOx), carbon black, or a double layer including these.
색변환부재(330)는 제1 색 변환층(331) 및 제2 색 변환층(332)을 포함할 수 있다. The color conversion member 330 may include a first color conversion layer 331 and a second color conversion layer 332 .
제1 색 변환층(331)은 제1 컬러 필터(321)와 중첩되도록 형성될 수 있다. 제1 색 변환층(331)은 발광 소자(312)와 제1 컬러 필터(321) 사이에 배치될 수 있다. 제 제1 색 변환층(331)은 제1 양자점을 이용하여 발광 소자(312)에서 출사되는 광을 제1 색광으로 변환시킬 수 있다. 예를 들어, 제1 색 변환층(331)은 발광 소자(312)에서 출사되는 청색광을 적색광으로 변환시킬 수 있다. The first color conversion layer 331 may be formed to overlap the first color filter 321 . The first color conversion layer 331 may be disposed between the light emitting element 312 and the first color filter 321 . The first color conversion layer 331 may convert light emitted from the light emitting element 312 into first color light by using first quantum dots. For example, the first color conversion layer 331 may convert blue light emitted from the light emitting element 312 into red light.
제2 색 변환층(332)은 제2 컬러 필터(322)와 중첩되도록 형성될 수 있다. 제2 색 변환층(332)은 발광 소자(312)와 제2 컬러 필터(322) 사이에 배치될 수 있다. 제2 색 변환층(331)은 제2 양자점을 이용하여 발광 소자(312)에서 출사되는 광을 제2 색광으로 변환시킬 수 있다. 예를 들어, 제2 색 변환층(331)은 발광 소자(312)에서 출사되는 청색광을 녹색광으로 변환시킬 수 있다.The second color conversion layer 332 may be formed to overlap the second color filter 322 . The second color conversion layer 332 may be disposed between the light emitting element 312 and the second color filter 322 . The second color conversion layer 331 may convert light emitted from the light emitting element 312 into second color light by using second quantum dots. For example, the second color conversion layer 331 may convert blue light emitted from the light emitting element 312 into green light.
투명층(333)은 제3 컬러 필터(323)와 중첩되도록 형성될 수 있다. 투명층(333)은 발광 소자(312)와 제3 컬러 필터(323) 사이에 배치될 수 있다. 투명층(333)은 발광 소자(312)에서 출사되는 광을 색변환시키지 않고 투과시킬 수 있다. 투명층(333)은 입사광이 그대로 통과하도록 비어있는 형태일 수도 있고, ABS(Acryl-nitrile butadiene styrene), PMMA(Poly methyl methacrylate), PC(Poly carbonate)과 같은 투명한 수지로 이루어질 수도 있다.The transparent layer 333 may be formed to overlap the third color filter 323 . The transparent layer 333 may be disposed between the light emitting element 312 and the third color filter 323 . The transparent layer 333 may transmit light emitted from the light emitting element 312 without color conversion. The transparent layer 333 may have an empty shape to pass incident light as it is, or may be made of a transparent resin such as acrylic-nitrile butadiene styrene (ABS), poly methyl methacrylate (PMMA), or poly carbonate (PC).
격벽(304)은 서로 다른 색을 구현하는 서브 화소들(SP1,SP2,SP3) 사이에서의 광의 이동을 차단할 수 있다. 격벽(304)은 광을 흡수하는 흑색으로 형성될 수 있다. 격벽(304)은 금속, 합성 수지, 합성 고무, 카본 계통의 유기 물질과 같은 재질로 형성될 수 있다. 예를 들어, 격벽(304)은 크롬(Cr), 크롬산화막(CrOx), 카본 블랙, 또는 이들을 포함하는 이중막으로 구성될 수 있다. The barrier rib 304 may block movement of light between the sub-pixels SP1 , SP2 , and SP3 implementing different colors. The barrier rib 304 may be formed of a black color that absorbs light. The barrier rib 304 may be formed of a material such as metal, synthetic resin, synthetic rubber, or a carbon-based organic material. For example, the barrier rib 304 may be formed of chromium (Cr), chromium oxide (CrOx), carbon black, or a double layer including these.
일 실시 예에 따르면, 격벽(304)의 일면(예: 제2 방향(D2)을 향하는 면) 및 격벽(304)의 측면(예: 색변환 부재(330)와 접촉하는 면)과, 컬러 필터(320)의 일면(예: 색 변환 부재(330)와 접촉하는 면)은 표면 처리될 수 있다. 격벽(304)의 측면 및 컬러 필터(320)의 일면은 색변환 부재(330) 및 투명층 각각의 재질인 잉크와 인력을 형성하도록 친수성 처리될 수 있다. 격벽(304)의 일면은 잉크와 척력을 형성하도록 소수성 처리될 수 있다. 격벽(304)의 일면에는 색변환 부재(330) 및 투명층(333)이 형성되지 않으므로, 색변환 부재(330) 및 투명층(333)에 의해, 광원 기판(310)과 색변환 기판(300)의 합착 공정시 과정에서 색변환 부재(330) 및 투명층(333)에 의해 발생되는 불량을 방지할 수 있다. According to an embodiment, one surface of the barrier rib 304 (eg, a surface facing the second direction D2) and a side surface of the barrier 304 (eg, a surface in contact with the color conversion member 330), and a color filter One surface of the 320 (eg, a surface in contact with the color conversion member 330) may be surface treated. A side surface of the barrier rib 304 and one surface of the color filter 320 may be hydrophilic to form an attraction with ink, which is a material of each of the color conversion member 330 and the transparent layer. One surface of the barrier rib 304 may be hydrophobic treated to form ink and repulsive force. Since the color conversion member 330 and the transparent layer 333 are not formed on one surface of the barrier rib 304, the light source substrate 310 and the color conversion substrate 300 are separated by the color conversion member 330 and the transparent layer 333. During the bonding process, defects caused by the color conversion member 330 and the transparent layer 333 may be prevented.
이와 같은, 색변환 기판(300)은 블랙매트릭스(302), 컬러 필터(320) 및 격벽(304)을 순차적으로 형성한 다음, 색변환 부재(330) 및 투명층(333)을 전기수력학적(electrohydrodynamic: EHD) 공정을 통해 형성함으로써 완성될 수 있다. 전기수력학적(EHD) 공정은 잉크젯 공정의 단속적인 잉크 토출 대신 노즐에 인가되는 일정한 공기 압력과 전기장을 이용하여 연속적인 잉크 라인을 형성할 수 있다. 이에 따라, 전기수력학적 공정은 인쇄된 패턴의 폭과 높이가 일정하여 우수한 공정 능력 관리가 가능할 수 있다. 또한, 전기수력학적 공정은 고점도 잉크 사용이 가능하므로 양자점 함유량을 높이거나 잉크 특성을 향상시킬 수 있는 기능성 소재의 첨가가 가능하여 높은 색 변환 비율을 달성할 수 있다. In such a color conversion substrate 300, the black matrix 302, the color filter 320, and the barrier rib 304 are sequentially formed, and then the color conversion member 330 and the transparent layer 333 are electrohydrodynamically formed. : EHD) can be completed by forming through the process. The electrohydrodynamic (EHD) process can form a continuous ink line by using a constant air pressure and an electric field applied to a nozzle instead of intermittent ink ejection in the inkjet process. Accordingly, in the electrohydrodynamic process, since the width and height of the printed pattern are constant, excellent process capability management may be possible. In addition, since the electrohydrodynamic process can use high-viscosity ink, it is possible to increase the content of quantum dots or add a functional material capable of improving ink characteristics, thereby achieving a high color conversion rate.
도 4a 및 도 4b는 본 문서에 개시된 예시적인 실시 예에 따른 색변환 부재(330) 및 투명층(333)의 제조 방법을 설명하기 위한 도면들이다.4A and 4B are diagrams for explaining a method of manufacturing a color conversion member 330 and a transparent layer 333 according to an exemplary embodiment disclosed herein.
도 4a 및 도 4b를 참조하면, 블랙매트릭스(예: 도 3의 블랙매트릭스(302)), 컬러 필터(예: 도 3의 컬러 필터(320)) 및 격벽(304)이 형성된 전면 기판(301)은 스테이지(411) 상에 안착될 수 있다. 노즐(412)은 각 서브 화소(SP1,SP2,SP3)의 가상의 중심선(CL)에 일치하도록 정렬될 수 있다. 노즐(412)은 가상의 중심선(CL)을 따라서 지면에 수직방향으로 이동할 수 있다. 정렬된 노즐(412)에 일정한 압력이 인가됨과 동시에, 노즐(412)과 스테이지(411) 사이에 전계가 형성될 수 있다. 예를 들어, 스테이지(411)에는 부극성 전압(예: 그라운드 전압)이 인가되고, 노즐(412)에는 정극성 전압(예: 그라운드 전압보다 높은 전압)이 인가될 수 있다. 공기 압력과 전계는 일정한 값을 갖도록 제어됨으로써 잉크(402)의 유량을 균일하게 유지할 수 있다. 잉크(402)는 색변환 부재(예: 도 3의 색변환 부재(330)) 및 투명층(예: 도 3의 투명층(333)) 중 어느 하나의 재질로 이용되는 잉크일 수 있다.Referring to FIGS. 4A and 4B , a front substrate 301 having a black matrix (eg, the black matrix 302 of FIG. 3 ), a color filter (eg, the color filter 320 of FIG. 3 ) and a barrier rib 304 are formed thereon. may be seated on the stage 411 . The nozzle 412 may be aligned to coincide with the imaginary center line CL of each of the sub-pixels SP1 , SP2 , and SP3 . The nozzle 412 may move in a direction perpendicular to the ground along an imaginary center line CL. At the same time as a constant pressure is applied to the aligned nozzles 412 , an electric field may be formed between the nozzles 412 and the stage 411 . For example, a negative polarity voltage (eg, ground voltage) may be applied to the stage 411 , and a positive polarity voltage (eg, a voltage higher than the ground voltage) may be applied to the nozzle 412 . Since the air pressure and the electric field are controlled to have constant values, the flow rate of the ink 402 can be maintained uniformly. The ink 402 may be ink used as a material of any one of a color conversion member (eg, the color conversion member 330 of FIG. 3 ) and a transparent layer (eg, the transparent layer 333 of FIG. 3 ).
이에 따라, 노즐(412)로부터의 잉크(402)는 모여 액면이 역삼각형태인 테일러 콘(taylor cone)을 형성할 수 있다. 테이러 콘 형태로 모인 잉크(402)는 연속적인 잉크 라인(stream) 형태로 토출될 수 있다. 이 때, 노즐(402)은 가상의 중심선(CL)을 따라 지면에 수직한 방향으로 이동(또는, 스캔)할 수 있다. 이에 따라, 잉크(402)는 가상의 중심선(CL)을 따라 전면 기판(301) 상에 도포되므로, 전면 기판(301) 상에는 색변환 부재 및 투명층이 형성될 수 있다. Accordingly, the ink 402 from the nozzle 412 may gather and form a Taylor cone having an inverted triangular liquid surface. The ink 402 collected in the form of a tapered cone may be ejected in the form of a continuous ink stream. At this time, the nozzle 402 may move (or scan) in a direction perpendicular to the ground along the imaginary center line CL. Accordingly, since the ink 402 is applied on the front substrate 301 along the imaginary center line CL, the color conversion member and the transparent layer may be formed on the front substrate 301 .
도 5a 내지 도 5c는 본 문서에 개시된 예시적인 실시 예에 따른 전기수력학적 방법을 통해 분사되는 잉크의 궤적을 설명하기 위한 도면들이다. 도 5a 내지 도 5c에서, q0은 각 서브 화소(SP)의 상부 중심에서 전기수력학적 방법을 통해 분사되는 잉크(예: 제1 양자점 잉크, 제2 양자점 잉크 또는/및 투명 잉크)의 일부를 단위 전하로 정의할 수 있다. q1은 측면 구조물(504)(예: 격벽(304))에 대전된 제1 전하로 정의할 수 있다. q2는 전면 기판 상에 배치되는 하부 구조물(501)(예: 컬러 필터(330), 블랙매트릭스(302)) 또는 광투과층(540)에 대전된 제2 전하로 정의할 수 있다. 5A to 5C are diagrams for explaining a trajectory of ink ejected through an electrohydrodynamic method according to an exemplary embodiment disclosed herein. 5A to 5C, q0 is a unit of a portion of ink (eg, first quantum dot ink, second quantum dot ink, or/and transparent ink) ejected through an electrohydrodynamic method from the upper center of each sub-pixel SP. It can be defined as charge. q1 may be defined as a first charge charged on the side structure 504 (eg, the barrier rib 304). q2 may be defined as a second charge charged on the lower structure 501 (eg, the color filter 330 or the black matrix 302) or the light transmission layer 540 disposed on the front substrate.
도 5a 내지 도 5c를 참조하면, 전기수력학적 방법을 통해 분사되는 잉크는 제1 전하(q1) 및 제2 전하(q2)에 의한 전기 인력의 상대적인 힘에 따라 서브 화소(SP)의 중심으로부터 소정 각도(또는, 편향 각도)(θ)만큼 편향될 수 있다. 잉크가 각 서브 화소(SP)의 중심에 위치하도록 분사되면, 측면 구조물(504) 방향으로의 힘은 좌우 상쇄될 수 있다. 잉크가 각 서브 화소(SP)의 중심을 유지하는 것은 어려우므로, 어느 정도 편향을 유발하는 힘을 받을 수 있다. 이 때, 잉크의 무게에 의한 중력과 분사 속도에 의한 운동량은 고려하지 않고 정역학적 전기 인력만을 고려하기로 한다. 측면 구조물(504)과, 하부 구조물(501) 또는 광투과층(540) 각각은 절연 물질이므로, 잉크에 대전된 단위 전하(q0)는 측면 구조물(504) 및 하부 구조물(501) 각각의 유전율에 비례할 수 있다. 단위 전하(q0)와 제1 전하(q1) 사이의 제1 전기적 인력(f1)과, 단위 전하(q0)와 제2 전하(q2) 사이의 제2 전기적 인력(f2)은 수학식 1 및 2와 같이 쿨롱의 법칙으로 표현될 수 있다. 수학식 1 및 2에서, k는 쿨롱 상수일 수 있다. w는 단위 전하(q0)와 제1 전하(q1) 사이의 거리로서, 각 서브 화소(SP)의 중심에서 측면 구조물(504)까지의 거리일 수 있다. t는 단위 전하(q0)와 제2 전하(q2) 사이의 거리로서, 측면 구조물(504)의 두께일 수 있다. Referring to FIGS. 5A to 5C , the ink ejected through the electrohydrodynamic method is predetermined from the center of the sub-pixel SP according to the relative force of electric attraction by the first charge q1 and the second charge q2. It may be deflected by an angle (or deflection angle) θ. When the ink is ejected to be located at the center of each sub-pixel SP, the force in the direction of the side structure 504 can be offset left and right. Since it is difficult for the ink to maintain the center of each sub-pixel (SP), it may receive a force that causes deflection to some extent. At this time, gravity due to the weight of the ink and momentum due to the ejection speed are not considered, and only the static electric attraction will be considered. Since each of the side structure 504 and the lower structure 501 or the light-transmitting layer 540 is an insulating material, the unit charge q0 charged in the ink depends on the dielectric constant of the side structure 504 and the lower structure 501, respectively. can be proportional. The first electric attraction f1 between the unit charge q0 and the first charge q1 and the second electric attraction f2 between the unit charge q0 and the second charge q2 are expressed by Equations 1 and 2 It can be expressed by Coulomb's law as In Equations 1 and 2, k may be a Coulomb constant. w is a distance between the unit charge q0 and the first charge q1, and may be a distance from the center of each sub-pixel SP to the side structure 504. t is the distance between the unit charge q0 and the second charge q2, and may be the thickness of the side structure 504.
Figure PCTKR2023000147-appb-img-000001
Figure PCTKR2023000147-appb-img-000001
Figure PCTKR2023000147-appb-img-000002
Figure PCTKR2023000147-appb-img-000002
편향 각도(θ)는 수학식 3과 같이 제1 전기적 인력(f1) 및 제2 전기적 인력(f2)으로 표현될 수 있다. The deflection angle θ may be expressed as a first electrical attraction f1 and a second electrical attraction f2 as shown in Equation 3.
Figure PCTKR2023000147-appb-img-000003
Figure PCTKR2023000147-appb-img-000003
수학식 3에서, 유전율 비(E)는 측면 구조물(504)의 제1 유전율(ε1)과, 하부 구조물(501) 또는 광투과층(540)의 제2 유전율(ε2)의 비율을 나타내며, 거리 비(R)는 각 서브 화소(SP)의 중심에서 측면 구조물(504)까지의 거리(w)와, 측면 구조물(504)의 두께(t)의 비율을 나타낼 수 있다. 수학식 3에서, 제1 전하(q1)는 측면 구조물(504)의 제1 유전율(ε1)에 비례하고, 제2 전하(q2)는 하부 구조물(501) 또는 광투과층(540)의 제2 유전율(ε2)에 비례할 수 있다. 수학식 3과 같이, 하부 구조물(501) 또는 광투과층(540)의 유전율에 대한 측면 구조물(504)의 유전율의 비(E)는 측면 구조물(504)의 두께에 대한 각 서브 화소(SP)의 중심에서 측면 구조물(504)까지의 거리(w)의 비(R)의 제곱(R2)보다 작을 수 있다.In Equation 3, the permittivity ratio (E) represents the ratio between the first permittivity ε1 of the side structure 504 and the second permittivity ε2 of the lower structure 501 or the light-transmitting layer 540. The ratio R may represent a ratio between a distance w from the center of each sub-pixel SP to the side structure 504 and a thickness t of the side structure 504 . In Equation 3, the first charge q1 is proportional to the first permittivity ε1 of the side structure 504, and the second charge q2 is the second charge q2 of the lower structure 501 or the light-transmitting layer 540. It can be proportional to the permittivity (ε2). As shown in Equation 3, the ratio (E) of the permittivity of the side structure 504 to the permittivity of the lower structure 501 or the light-transmitting layer 540 is the thickness of each sub-pixel (SP) of the side structure 504 It may be smaller than the square of the ratio (R) of the distance (w) from the center of the side structure 504 (R 2 ).
측면 구조물(504)의 내부로 안정되게 잉크가 분사되기 위해서는 편향 각도(θ)는 일정 크기 이하로 제한될 수 있다. 예를 들어, 편향 각도(θ)는 0도(°)보다 크고 45도(°)미만일 수 있다. In order to stably eject ink into the side structure 504 , the deflection angle θ may be limited to a certain size or less. For example, the deflection angle θ may be greater than 0 degrees (°) and less than 45 degrees (°).
일 예로, 제1 전기적 인력(f1)이 제2 전기적 인력(f2)보다 크기가 작을 때, 편향 각도(θ)는 일정 크기 이하로 제한될 수 있다. 다른 예로, 제1 유전율(ε1)이 제2 유전율(ε2)에 비해 크기가 작을 때, 편향 각도(θ)는 일정 크기 이하로 제한될 수 있다. 한편, 디스플레이(예: 도 3의 디스플레이(201))가 고해상도로 갈수록 각 서브 화소(SP)의 폭(또는, 각 서브 화소(SP)의 중심에서 측면 구조물(504)까지의 거리(w))은 측면 구조물(504)의 두께(t)에 비해 작아지므로, 제1 유전율(ε1)은 제2 유전율(ε2)에 비해 크기가 작아져야 하는 관계가 성립될 수 있다.For example, when the first electric attraction f1 is smaller than the second electric attraction f2, the deflection angle θ may be limited to a certain size or less. As another example, when the first permittivity ε1 is smaller than the second permittivity ε2, the deflection angle θ may be limited to a certain size or less. Meanwhile, as the display (eg, the display 201 of FIG. 3) has a higher resolution, the width of each sub-pixel (SP) (or the distance (w) from the center of each sub-pixel (SP) to the side structure 504) Since is smaller than the thickness t of the side structure 504 , a relationship in which the first permittivity ε1 should be smaller than the second permittivity ε2 may be established.
이와 같은 수학식 3을 도 5a 내지 도 5c 및 표 1과 같은 서브 화소의 구조에 적용하여 편향 각도를 설명하기로 한다. The deflection angle will be described by applying Equation 3 to the structure of the sub-pixels shown in FIGS. 5A to 5C and Table 1.
Figure PCTKR2023000147-appb-img-000004
Figure PCTKR2023000147-appb-img-000004
비교예 1 및 비교예 2에서는 도 5a에 도시된 바와 같이 잉크를 분사하기 전, 전면 기판 상에 하부 구조물(501)과 측면 구조물(504)이 형성될 수 있다. 측면 구조물(504)과 하부 구조물(501)의 유전율이 동일한 비교 예 1 및 비교 예2는 각 서브 화소(SP)의 구조(예: 유전율의 비 또는 길이 비)에 의해서 잉크의 편향 각도가 결정될 수 있다. 측면 구조물(504)의 두께(t)보다 각 서브 화소의 중심에서 측면 구조물(504)까지의 거리(w)가 가까울수록 잉크는 측면 구조물(504)를 향해 상대적으로 작은 편향각도로 편향되어 분사될 수 있다. 즉, 길이비가 작을수록 편향 각도는 작아질 수 있다. 예를 들어, 비교예 1과 같이, 하부 구조물(501)과 측면 구조물(504) 각각이 4.0의 유전율을 가지고, 거리 비율(R)이 4이면, 잉크는 3.6도(tan(θ)=1/42)인 편향 각도(θ)로 편향되어 분사될 수 있다.In Comparative Examples 1 and 2, as shown in FIG. 5A , a lower structure 501 and a side structure 504 may be formed on the front substrate before ink is ejected. In Comparative Example 1 and Comparative Example 2, in which the permittivity of the side structure 504 and the lower structure 501 are the same, the ink deflection angle may be determined by the structure (eg, permittivity ratio or length ratio) of each sub-pixel SP. there is. As the distance (w) from the center of each sub-pixel to the side structure 504 is closer than the thickness (t) of the side structure 504, the ink is deflected toward the side structure 504 at a relatively small deflection angle and ejected. can That is, as the length ratio decreases, the deflection angle may decrease. For example, as in Comparative Example 1, when each of the lower structure 501 and the side structure 504 has a permittivity of 4.0 and the distance ratio R is 4, the ink is 3.6 degrees (tan(θ)=1/ 4 2 ) can be deflected and injected at a deflection angle (θ).
실시 예 1 및 실시 예 2에서는 잉크를 분사하기 전, 전면 기판 상에 하부 구조물(501), 광투과층(540) 및 측면 구조물(504)이 형성될 수 있다. 광투과층(540)은 하부 구조물(501)과 유사한 폭 및 유사한 길이를 가지며, 측면 구조물(504)보다 낮은 두께를 가지도록 형성될 수 있다. 하부 구조물(501)과 측면 구조물(504)이 동일한 유전율을 가지고, 광투과층(540)이 측면 구조물(504)보다 높은 유전율을 가질 수 있다. 측면 구조물(504)과 대응되지 않는 영역의 전체 유전율은 광투과층(540)의 유전율에 따라 결정될 수 있다. 측면 구조물(504)과 대응되는 영역의 전체 유전율은 측면 구조물(504)과 광투과층(540)의 두께 비율에 따라 결정될 수 있다. In Examples 1 and 2, the lower structure 501, the light transmission layer 540, and the side structures 504 may be formed on the front substrate before ink is ejected. The light transmission layer 540 may have a similar width and length to that of the lower structure 501 and may have a thickness smaller than that of the side structure 504 . The lower structure 501 and the side structure 504 may have the same permittivity, and the light transmission layer 540 may have a higher permittivity than the side structure 504 . The total permittivity of the region not corresponding to the side structure 504 may be determined according to the permittivity of the light transmission layer 540 . The total permittivity of the region corresponding to the side structure 504 may be determined according to the thickness ratio of the side structure 504 and the light transmission layer 540 .
측면 구조물(504)보다 광투과층(540)의 유전율이 큰 실시 예 1 및 2는 각 서브 화소의 구조뿐만 아니라 유전율에 의해서 잉크의 편향 각도가 결정될 수 있다. 광투과층(540)의 유전율이 측면 구조물의 유전율보다 크므로, 전기적 인력은 측면 구조물보다 광투과층(540)쪽으로 강하게 작용할 수 있다. 잉크는 광투과층(540)쪽으로 강하게 작용하는 전기적 인력에 의해, 가장 작은 각도로 편향되어 인쇄될 수 있다.In Embodiments 1 and 2, in which the permittivity of the light transmission layer 540 is greater than that of the side structure 504, the deflection angle of the ink may be determined by the permittivity as well as the structure of each sub-pixel. Since the permittivity of the light-transmitting layer 540 is greater than the permittivity of the side structures, electrical attraction may act more toward the light-transmitting layer 540 than the side structures. The ink may be deflected at the smallest angle and printed by electric attraction that strongly acts toward the light-transmitting layer 540 .
예를 들어, 하부 구조물(501)과 측면 구조물(504) 각각이 4.0의 유전율을 가지고, 광투과층(540)이 80의 유전율을 가지고, 거리 비율(R)은 4일 수 있다. 측면 구조물(504)과 대응되지 않는 영역의 전체 유전율은 광투과층(540)의 유전율인 80일 수 있다. 측면 구조물과 대응되는 영역의 전체 유전율은 측면 구조물의 두께(예: 10㎛)와 제2 하부 구조물의 두께(예: 1㎛) 비율에 따라서 결정되므로, 제2 하부 구조물의 유전율보다 낮은 약 27(1/ε1=1/(80×1)+1/(4×10))일 수 있다. 유전율의 비율(E)은 측면 구조물(504)과 대응되는 영역의 전체 유전율과, 측면 구조물(504)과 대응되지 않는 영역의 전체 유전율의 비(=27/80)인 0.34일 수 있다. 따라서, 실시 예 2의 잉크는 실시 예 1의 편향 각도보다 작은 약 1.2도(tan(θ)=0.34/42)인 편향 각도(θ)로 편향되어 분사될 수 있다.For example, each of the lower structure 501 and the side structure 504 may have a permittivity of 4.0, the light transmission layer 540 may have a permittivity of 80, and the distance ratio R may be 4. The total permittivity of the region not corresponding to the side structure 504 may be 80, which is the permittivity of the light transmission layer 540 . Since the total permittivity of the region corresponding to the side structure is determined according to the ratio of the thickness of the side structure (eg 10 μm) and the thickness of the second lower structure (eg 1 μm), it is about 27 ( lower than the permittivity of the second lower structure). 1/ε1=1/(80×1)+1/(4×10)). The ratio of permittivity (E) may be 0.34, which is the ratio (=27/80) of the total permittivity of the region corresponding to the side structure 504 and the total permittivity of the region not corresponding to the side structure 504 . Accordingly, the ink of Example 2 can be deflected and ejected at a deflection angle θ that is about 1.2 degrees smaller than the deflection angle of Example 1 (tan(θ)=0.34/4 2 ).
비교예 3 및 비교예 4에서는 잉크를 분사하기 전, 전면 기판 상에 하부 구조물(501), 광투과층(540) 및 측면 구조물(504)이 형성될 수 있다. 광투과층(540)은 격벽(504)과 유사한 폭 및 유사한 길이를 가지고, 측면 구조물(504)과 중첩될 수 있다. 도 5b에 도시된 하부 구조물(501), 광투과층(540) 및 측면 구조물(504) 각각의 유전율 및 두께는 및 도 5c에 도시된 구성 요소와 서로 동일할 수 있다. 하부 구조물(501)보다 측면 구조물(504)과 중첩되는 광투과층(504)의 유전율이 큰 비교예 3 및 4에서는 전기적 인력이 하부 구조물(501)보다 측면 구조물(504)쪽으로 강하게 작용하여 편향 각도가 실시예 1 및 2에 비해 크게 형성될 수 있다. 측면 구조물(504)의 유전율이 하부 구조물(501)의 유전율보다 크더라도, 거리비가 상대적으로 큰 비교예 3은 거리비가 상대적으로 작은 비교예 4에 비해 편향 각도가 작아 잉크의 인쇄가 가능할 수 있다. In Comparative Examples 3 and 4, the lower structure 501, the light transmission layer 540, and the side structures 504 may be formed on the front substrate before ink is ejected. The light transmission layer 540 may have a width similar to that of the barrier rib 504 and a similar length, and may overlap the side structure 504 . Each of the lower structure 501, the light transmission layer 540, and the side structure 504 shown in FIG. 5B may have the same dielectric constant and thickness as those of the components shown in FIG. 5C. In Comparative Examples 3 and 4, where the permittivity of the light-transmitting layer 504 overlapping with the side structure 504 is greater than that of the lower structure 501, the electric attraction acts more strongly toward the side structure 504 than the lower structure 501, resulting in a deflection angle. may be formed larger than in Examples 1 and 2. Even if the permittivity of the side structure 504 is greater than that of the lower structure 501, the deflection angle of Comparative Example 3, in which the distance ratio is relatively high, is smaller than that of Comparative Example 4, where the distance ratio is relatively small, so that ink can be printed.
예를 들어, 측면 구조물(504)과 대응되지 않는 영역의 전체 유전율은 하부 구조물(501)의 유전율인 4이며, 측면 구조물(504)과 대응되는 영역의 전체 유전율은 약 27일 수 있다. 유전율의 비율(E)은 측면 구조물(504)과 대응되는 영역의 전체 유전율과, 측면 구조물(504)과 대응되지 않는 영역의 전체 유전율의 비(=27/4)인 6.8일 수 있다. 따라서, 비교예 3 및 4의 잉크는 실시 예 1 및 실시 예2 보다 큰 약 22.9도 또는 약 64.4의 편향 각도(θ)로 편향되어 분사될 수 있다. 비교예 3 및 4의 잉크는 측면 구조물(504)을 향해 과도하게 편향되어 도포되므로 안정적으로 잉크를 형성할 수 없다. 심한 경우, 잉크는 인접 서브 화소에 도포될 수 있어 혼색이 발생될 수 있다. For example, the total permittivity of the region not corresponding to the side structure 504 may be 4, which is the permittivity of the lower structure 501, and the total permittivity of the region corresponding to the side structure 504 may be about 27. The ratio of permittivity (E) may be 6.8, which is the ratio (=27/4) of the total permittivity of the area corresponding to the side structure 504 and the total permittivity of the area not corresponding to the side structure 504 . Accordingly, the inks of Comparative Examples 3 and 4 could be deflected and ejected at a deflection angle θ of about 22.9 degrees or about 64.4, which is greater than that of Examples 1 and 2. Since the inks of Comparative Examples 3 and 4 are applied with an excessive bias towards the side structures 504, the ink cannot be stably formed. In severe cases, ink may be applied to adjacent sub-pixels, resulting in color mixing.
이와 같이, 측면 구조물(504)쪽으로의 편향 각도가 상대적으로 작아야 잉크를 안정적으로 인쇄할 수 있다. 편향 각도(θ)가 0도(°)보다 크고 45도(°)미만이어야 노즐을 이용한 인쇄 공정을 안정적으로 진행할 수 있다. 예를 들어, 편향 각도(θ)가 0도(°)보다 크고 30도(°) 미만일 때(E/R2<0.58), 측면 구조물에 의해 둘러싸인 충진 공간의 일부 영역(예: 최소 길이가 50㎛미만인 영역) 또는 전 영역(예: 최대 길이가 약 450㎛인 영역)에 안정적으로 잉크를 인쇄할 수 있다.As such, ink can be stably printed only when the angle of deflection toward the side structure 504 is relatively small. When the deflection angle (θ) is greater than 0 degree (°) and less than 45 degree (°), the printing process using the nozzle can be stably performed. For example, when the deflection angle (θ) is greater than 0 degrees (°) and less than 30 degrees (°) (E/R 2 <0.58), some area of the filling space surrounded by side structures (e.g., the minimum length is 50 degrees). It is possible to stably print ink on an area of less than ㎛) or an entire area (eg, an area with a maximum length of about 450 ㎛).
편향 각도가 상대적으로 작도록, 유전율의 비 및 길이의 비가 설정된 색변환 기판(예: 도 3의 색변환 기판(300))에서, 하부 구조물(501) 및 광투과층(540) 중 적어도 어느 하나는 절연 재질 또는 도전 재질로 형성될 수 있다. 예를 들어, 하부 구조물(501) 및 광투과층(540) 중 적어도 어느 하나는 분극 현상이 잘 일어나는 고유전율(예: 20이상의 유전율)의 절연 재질 또는 자유 전자의 수가 많은 도전 재질로 형성될 수 있다. 이에 따라, 하부 구조물(501) 및 광투과층(540) 중 적어도 어느 하나의 일면에는 노즐을 통해 인쇄되는 잉크에 유도된 전하와 반대 극성을 가지는 전하가 원활히 유도될 수 있어 안정적으로 잉크를 인쇄할 수 있다.At least one of the lower structure 501 and the light-transmitting layer 540 in the color conversion substrate (for example, the color conversion substrate 300 of FIG. May be formed of an insulating material or a conductive material. For example, at least one of the lower structure 501 and the light-transmitting layer 540 may be formed of an insulating material having a high permittivity (for example, a permittivity of 20 or more) or a conductive material having a large number of free electrons. there is. Accordingly, on at least one surface of the lower structure 501 and the light-transmitting layer 540, charges having a polarity opposite to that induced in the ink printed through the nozzle can be smoothly induced, so that ink can be stably printed. can
도 6은 본 문서에 개시된 예시적인 실시 예에 따른 색 변환 기판을 개략적으로 나타내는 단면도들이다. 도 7a 내지 도 7c는 색변환 기판의 제조 방법을 설명하기 위한 단면도들이다. 도 6 내지 도 7c는 제조 관점에서 전면 기판이 지면을 향하도록 색 변환 기판을 180도 회전시킨 도면이다.6 is cross-sectional views schematically illustrating a color conversion substrate according to an exemplary embodiment disclosed in this document. 7A to 7C are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a color conversion substrate. 6 to 7c are views in which the color conversion substrate is rotated 180 degrees so that the front substrate faces the ground in terms of manufacturing.
도 6 내지 도 7c을 참조하면, 본 문서에 개시된 색 변환 기판(610)(예: 도 3의 색 변환 기판(210))은 광투과층(640)을 포함할 수 있다. 광투과층(640)은 제조 공정시 광투과층(640)과 전면 기판(301) 사이에 형성되는 복수의 레이어들(예: 컬러 필터(320), 블랙매트릭스(302) 및 평탄화층)의 구조에 상관없이 전기적 특성(예: 전압 분포 또는 전하 분포)을 균일화할 수 있다. 일 예로, 광투과층(640)은 색변환 부재(330) 및 투명층(333)의 제조 공정시, 색변환 부재가 형성되기 전, 블랙매트릭스(302), 컬러 필터(320) 및 격벽(304)이 형성된 전면 기판(301)의 전기적 특성을 균일화할 수 있다.Referring to FIGS. 6 to 7C , a color conversion substrate 610 disclosed in this document (eg, the color conversion substrate 210 of FIG. 3 ) may include a light transmission layer 640 . The light-transmitting layer 640 has a structure of a plurality of layers (eg, a color filter 320, a black matrix 302, and a planarization layer) formed between the light-transmitting layer 640 and the front substrate 301 during the manufacturing process. Regardless, electrical properties (e.g. voltage distribution or charge distribution) can be homogenized. For example, the light-transmitting layer 640 includes the black matrix 302, the color filter 320, and the barrier rib 304 before the color conversion member is formed during the manufacturing process of the color conversion member 330 and the transparent layer 333. The electrical characteristics of the formed front substrate 301 can be made uniform.
광투과층(640)은 광투과층(640)과 전면 기판(301) 사이에 형성되는 복수의 레이어들(예: 컬러 필터, 블랙매트릭스 및 평탄화층) 중 적어도 어느 하나보다 높은 전기전도도 및/또는 높은 유전율을 가질 수 있다. 광투과층(640)은 전면 기판(301)과 대응되는 크기로 전면 기판(301) 상에 배치될 수 있다. 광투과층(640)은 격벽(304) 및 블랙매트릭스(302) 사이에 배치되어 격벽(304)과 중첩될 수 있다. 광투과층(640)은 제1 컬러 필터(321) 및 제1 색변환층(331) 사이와, 제2 컬러 필터(322) 및 제2 색변환층(332) 사이와, 제3 컬러 필터(323) 및 투명층(333) 사이에 배치될 수 있다.The light-transmitting layer 640 has electrical conductivity higher than at least one of a plurality of layers (eg, a color filter, a black matrix, and a planarization layer) formed between the light-transmitting layer 640 and the front substrate 301 and/or It can have a high permittivity. The light transmission layer 640 may be disposed on the front substrate 301 in a size corresponding to that of the front substrate 301 . The light transmission layer 640 may be disposed between the barrier rib 304 and the black matrix 302 and overlap the barrier rib 304 . The light transmission layer 640 is formed between the first color filter 321 and the first color conversion layer 331, between the second color filter 322 and the second color conversion layer 332, and the third color filter ( 323) and the transparent layer 333.
광투과층(640)은 블랙매트릭스(302) 및 컬러 필터(330)를 덮도록 블랙매트릭스(302) 및 컬러 필터(330) 상에 배치될 수 있다. 광투과층(640)은 컬러 필터(330)와 블랙매트릭스(302) 사이의 단차를 평탄화하는 평탄화층의 역할을 겸할 수 있다. 광투과층(640)은 투명 유기 절연 재질(641)에 높은 전기전도도를 가지는 첨가제(642)를 첨가함으로써 형성될 수 있다. 첨가제(642)는 이온성 액체일 수 있다. 이온성 액체는 음이온과 결합되는 양이온을 포함할 수 있다. 이온성 액체는 상온에서 액체 상태로 존재할 수 있으며, 광투과층(640)의 경화 공정시 고화될 수 있다. 양이온은 이미다졸(imidazolium), 암모늄 이온(ammonium) 및 피롤리디늄(pyrrolidinium) 중 적어도 어느 하나로 이루어질 수 있다. 음이온은 Cl-, AlCl4-, PF6-, BF4-, NTf2- 및 DCA- 중 적어도 어느 하나를 포함하는 무기 음이온 또는/및 CH3COO- 및 CH3SO3- 중 적어도 어느 하나를 포함하는 유기 음이온으로 이루어질 수 있다.The light transmission layer 640 may be disposed on the black matrix 302 and the color filters 330 to cover the black matrix 302 and the color filters 330 . The light transmission layer 640 may serve as a planarization layer for flattening a level difference between the color filter 330 and the black matrix 302 . The light transmission layer 640 may be formed by adding an additive 642 having high electrical conductivity to the transparent organic insulating material 641 . Additive 642 may be an ionic liquid. Ionic liquids can contain cations that combine with anions. The ionic liquid may exist in a liquid state at room temperature and may be solidified during a curing process of the light transmission layer 640 . The cation may be formed of at least one of imidazolium, ammonium, and pyrrolidinium. The anion may be an inorganic anion including at least one of Cl-, AlCl4-, PF6-, BF4-, NTf2- and DCA-, or/and an organic anion including at least one of CH3COO- and CH3SO3-.
이온성 액체에 의해 전기전도도가 높아진 광투과층(640)은 자유전자 수가 상대적으로 많아질 수 있다. 광투과층(640) 내의 자유 전자는 색변환 부재(330) 및 투명층(333)의 제조를 위한 전기수력학적(EHD) 공정시 스테이지를 통해 유도된 전하를 광투과층(640)의 일면(예: 제2 방향(D2)을 향하는 면)으로 용이하게 이동시킬 수 있다. 광투과층(640)은 전면 기판(301)의 전면에 형성되므로, 광투과층(640)의 전기적 특성(예: 전압 분포 또는 전하 분포)은 균일화될 수 있다.The light transmission layer 640 whose electrical conductivity is increased by the ionic liquid may have a relatively large number of free electrons. Free electrons in the light-transmitting layer 640 transfer charge induced through a stage during an electrohydrodynamic (EHD) process for manufacturing the color conversion member 330 and the transparent layer 333 to one surface of the light-transmitting layer 640 (eg : The surface facing the second direction D2) can be easily moved. Since the light-transmitting layer 640 is formed on the entire surface of the front substrate 301, electrical characteristics (eg, voltage distribution or charge distribution) of the light-transmitting layer 640 may be uniform.
이와 같은 색변환 기판은 도 7a 내지 도 7c에 도시된 제조 방법을 통해 형성될 수 있다.Such a color conversion substrate may be formed through the manufacturing method shown in FIGS. 7A to 7C.
도 7a에 도시된 바와 같이, 전면 기판(301)의 일면(예: 제2 방향(D2)를 향하는 면) 상에 블랙 매트릭스(302), 제1 컬러 필터(321), 제2 컬러 필터(322) 및 제3 컬러 필터(323)가 순차적으로 형성될 수 있다. 블랙 매트릭스(302), 제1 컬러 필터(321), 제2 컬러 필터(322) 및 제3 컬러 필터(323)가 형성된 전면 기판(301) 상에 첨가제(642)를 포함하는 투명 유기 절연 재질(641)이 전면 도포된 후 경화됨으로써 광투과층(640)이 형성될 수 있다. 광투과층(640)이 형성된 전면 기판(301) 상에 격벽(304)이 형성될 수 있다. 격벽(340)이 형성된 전면 기판(301) 상에 노즐(412)이 정렬될 수 있다. 정렬된 노즐(412)에 일정한 압력이 인가됨과 동시에, 노즐(412)과 스테이지(411) 사이에 전계가 형성될 수 있다. 스테이지(411)에는 부극성 전압이 인가되고, 노즐(412)에는 정극성 전압이 인가될 수 있다. 이에 따라, 노즐(412)을 통해 토출되는 제1 양자점 잉크(402a)는 노즐(412)에 인가된 전압과 동일한 극성을 가지는 전하(예: 양전하)로 대전될 수 있다. 스테이지(411)와 가까운 광투과층(640)의 타면(예: 제1 방향(D1)을 향하는 면)에는 스테이지(411))에 인가된 전압과 동일한 극성을 가지는 양전하가 유도되고, 스테이지(411)와 먼 광투과층(640)의 일면에는 스테이지(411))에 인가된 전압과 반대 극성을 가지는 음전하가 유도될 수 있다. 광투과층(640)의 일면에 유도된 음전하와 제1 양자점 잉크(402a)에 유도된 양전하 사이에는 전기적 인력이 발생될 수 있다. 전기적 인력에 의해 제1 양자점 잉크(402a)는 제1 컬러 필터(321)들 상에 제1 컬러 필터(321)들을 따라서 인쇄된 후 경화됨으로써 제1 색변환층(331)이 형성될 수 있다. As shown in FIG. 7A , a black matrix 302, a first color filter 321, and a second color filter 322 are formed on one side of the front substrate 301 (eg, the side facing the second direction D2). ) and the third color filter 323 may be sequentially formed. A transparent organic insulating material including an additive 642 on the front substrate 301 on which the black matrix 302, the first color filter 321, the second color filter 322, and the third color filter 323 are formed ( 641) may be coated on the entire surface and then cured to form the light transmission layer 640. A barrier rib 304 may be formed on the front substrate 301 on which the light transmission layer 640 is formed. A nozzle 412 may be aligned on the front substrate 301 on which the barrier rib 340 is formed. At the same time as a constant pressure is applied to the aligned nozzles 412 , an electric field may be formed between the nozzles 412 and the stage 411 . A negative voltage may be applied to the stage 411 and a positive voltage may be applied to the nozzle 412 . Accordingly, the first quantum dot ink 402a discharged through the nozzle 412 may be charged with electric charges (eg, positive charges) having the same polarity as the voltage applied to the nozzle 412 . Positive charges having the same polarity as the voltage applied to the stage 411 are induced on the other surface of the light-transmitting layer 640 close to the stage 411 (eg, the surface facing the first direction D1), and the stage 411 ), negative charges having opposite polarity to the voltage applied to the stage 411) may be induced on one surface of the light-transmitting layer 640 . An electrical attraction may be generated between the negative charges induced on one surface of the light-transmitting layer 640 and the positive charges induced in the first quantum dot ink 402a. The first quantum dot ink 402a may be printed on the first color filters 321 along the first color filters 321 by electrical attraction and then cured to form the first color conversion layer 331 .
제1 색변환층(331)이 형성된 전면 기판(301) 상에 도 7b에 도시된 바와 같이 노즐(412)이 정렬될 수 있다. 정렬된 노즐(412)에 일정한 압력이 인가됨과 동시에, 노즐(412)과 스테이지(411) 사이에 전계가 형성될 수 있다. 스테이지(411)에는 부극성 전압이 인가되고, 노즐(412)에는 정극성 전압이 인가될 수 있다. 이에 따라, 노즐(412)을 통해 분사되는 제2 양자점 잉크(402b)는 노즐(412)에 인가된 전압과 동일한 극성을 가지는 전하(예: 양전하)로 대전될 수 있다. 스테이지(411)와 가까운 광투과층(640)의 타면(예: 제1 방향(D1)을 향하는 면)에는 양전하가 유도되고, 스테이지(411)와 먼 광투과층(640)의 일면에는 음전하가 유도될 수 있다. 광투과층(640)의 일면에 유도된 음전하와 제2 양자점 잉크(402b)에 유도된 양전하 사이에는 전기적 인력이 발생될 수 있다. 전기적 인력에 의해 제2 양자점 잉크(402b)는 제2 컬러 필터들(322) 상에 제2 컬러 필터들(322)을 따라서 인쇄된 후 경화됨으로써 제2 색변환층(332)이 형성될 수 있다.A nozzle 412 may be aligned on the front substrate 301 on which the first color conversion layer 331 is formed, as shown in FIG. 7B . At the same time as a constant pressure is applied to the aligned nozzles 412 , an electric field may be formed between the nozzles 412 and the stage 411 . A negative voltage may be applied to the stage 411 and a positive voltage may be applied to the nozzle 412 . Accordingly, the second quantum dot ink 402b ejected through the nozzle 412 may be charged with electric charges (eg, positive charges) having the same polarity as the voltage applied to the nozzle 412 . Positive charges are induced on the other surface of the light-transmitting layer 640 closer to the stage 411 (eg, the surface facing the first direction D1), and negative charges are induced on one surface of the light-transmitting layer 640 farther from the stage 411. can be induced. Electrical attraction may be generated between the negative charges induced on one surface of the light-transmitting layer 640 and the positive charges induced on the second quantum dot ink 402b. The second quantum dot ink 402b is printed on the second color filters 322 along the second color filters 322 by electrical attraction and then cured to form the second color conversion layer 332. .
제2 색변환층(332)이 형성된 전면 기판(301) 상에 도 7c에 도시된 바와 같이 노즐(412)이 정렬될 수 있다. 정렬된 노즐(412)에 일정한 압력이 인가됨과 동시에, 노즐(412)과 스테이지(411) 사이에 전계가 형성될 수 있다. 스테이지(411)에는 부극성 전압이 인가되고, 노즐(412)에는 정극성 전압이 인가될 수 있다. 이에 따라, 노즐(412)을 통해 분사되는 투명 잉크(402c)는 노즐(412)에 인가된 전압과 동일한 극성을 가지는 전하(예: 양전하)로 대전될 수 있다. 스테이지(411)와 가까운 광투과층(640)의 타면(예: 제1 방향(D1)을 향하는 면)에는 양전하가 유도되고, 스테이지(411)와 먼 광투과층(640)의 일면에는 음전하가 유도될 수 있다. 광투과층(640)의 일면에 유도된 음전하와 투명 잉크(402c)에 유도된 양전하 사이에는 전기적 인력이 발생될 수 있다. 전기적 인력에 의해 투명 잉크(402c)는 제3 컬러 필터들(323) 상에 제3 컬러 필터들(323)을 따라서 인쇄된 후 경화됨으로써 투명층(333)이 형성될 수 있다.A nozzle 412 may be aligned on the front substrate 301 on which the second color conversion layer 332 is formed, as shown in FIG. 7C . At the same time as a constant pressure is applied to the aligned nozzles 412 , an electric field may be formed between the nozzles 412 and the stage 411 . A negative voltage may be applied to the stage 411 and a positive voltage may be applied to the nozzle 412 . Accordingly, the transparent ink 402c ejected through the nozzle 412 may be charged with an electric charge (eg, positive charge) having the same polarity as the voltage applied to the nozzle 412 . Positive charges are induced on the other surface of the light-transmitting layer 640 closer to the stage 411 (eg, the surface facing the first direction D1), and negative charges are induced on one surface of the light-transmitting layer 640 farther from the stage 411. can be induced. An electrical attraction may be generated between the negative charges induced on one surface of the light-transmitting layer 640 and the positive charges induced on the transparent ink 402c. The transparent ink 402c may be printed on the third color filters 323 along the third color filters 323 by electrical attraction and then cured to form the transparent layer 333 .
도 8a 내지 도 8c는 본 문서에 개시된 예시적인 실시 예에 따른 색 변환 기판(810)을 개략적으로 나타내는 단면도들이다. 도 8a 내지 도 8c는 제조 관점에서 전면 기판(301)이 지면을 향하도록 색 변환 기판(810)을 180도 회전시킨 도면이다.8A to 8C are cross-sectional views schematically illustrating a color conversion substrate 810 according to an exemplary embodiment disclosed herein. 8A to 8C are views in which the color conversion substrate 810 is rotated 180 degrees so that the front substrate 301 faces the ground in terms of manufacturing.
도 8a 내지 도 8c를 참조하면, 본 문서에 개시된 색 변환 기판(810)(예: 도 3의 색 변환 기판(210))은 높은 전기전도도를 가지는 광투과층(740)을 포함할 수 있다. 전기전도도가 높은 광투과층(740)은 자유전자 수가 상대적으로 많아질 수 있다. 광투과층(740) 내의 자유 전자는 색변환 부재(330) 및 투명층(333)의 제조를 위한 전기수력학적(EHD) 공정시 스테이지를 통해 유도된 전하를 광투과층(740)의 일면(예: 제2 방향(D2)을 향하는 면)으로 용이하게 이동시킬 수 있다. 광투과층(740)은 전면 기판(301)의 전면에 형성되므로, 광투과층(740)의 전기적 특성(예: 전압 분포 또는 전하 분포)은 균일화될 수 있다. 광투과층(740)은 제조 공정시 광투과층(740)과 전면 기판(301) 사이에 형성되는 복수의 레이어들(예: 컬러 필터(320), 블랙매트릭스(302) 및 평탄화층)의 구조에 상관없이 전기적 특성(예: 전압 분포 또는 전하 분포)을 균일화할 수 있다. 일 예로, 광투과층(740)은 색변환 부재(330) 및 투명층(333)이 형성되기 전의 전면 기판의 전기적 특성을 균일화할 수 있다. 광투과층(740)은 색변환 부재(330) 및 투명층(333)의 제조 공정시, 블랙매트릭스(302), 컬러 필터(320), 격벽(304), 평탄화층(730) 중 적어도 어느 하나가 형성된 전면 기판(301)의 전기적 특성을 균일화할 수 있다.Referring to FIGS. 8A to 8C , a color conversion substrate 810 disclosed in this document (eg, the color conversion substrate 210 of FIG. 3 ) may include a light transmission layer 740 having high electrical conductivity. The light transmission layer 740 having high electrical conductivity may have a relatively large number of free electrons. Free electrons in the light-transmitting layer 740 transfer charges induced through a stage during an electrohydrodynamic (EHD) process for manufacturing the color conversion member 330 and the transparent layer 333 to one surface of the light-transmitting layer 740 (eg : The surface facing the second direction D2) can be easily moved. Since the light-transmitting layer 740 is formed on the entire surface of the front substrate 301, electrical characteristics (eg, voltage distribution or charge distribution) of the light-transmitting layer 740 may be uniform. The light-transmitting layer 740 has a structure of a plurality of layers (eg, a color filter 320, a black matrix 302, and a planarization layer) formed between the light-transmitting layer 740 and the front substrate 301 during a manufacturing process. Regardless, electrical properties (e.g. voltage distribution or charge distribution) can be homogenized. For example, the light transmission layer 740 may uniform the electrical characteristics of the front substrate before the color conversion member 330 and the transparent layer 333 are formed. In the manufacturing process of the color conversion member 330 and the transparent layer 333, at least one of the black matrix 302, the color filter 320, the barrier rib 304, and the planarization layer 730 is formed in the light transmission layer 740. Electrical characteristics of the formed front substrate 301 may be uniform.
광투과층(740)은 색변환 부재(330)와 전면 기판(301) 사이에 형성되는 복수의 레이어들(예: 컬러 필터, 블랙매트릭스 및 평탄화층) 중 적어도 어느 하나보다 높은 전기전도도를 가질 수 있다. 광투과층(740)은 블랙매트릭스(302) 및 격벽(304) 사이에 배치될 수 있다. 광투과층(640)은 제1 컬러 필터(321) 및 제1 색변환층(331) 사이와, 제2 컬러 필터(322) 및 제2 색변환층(332) 사이와, 제3 컬러 필터(323) 및 투명층(333) 사이에 배치될 수 있다.The light transmission layer 740 may have electrical conductivity higher than at least one of a plurality of layers (eg, a color filter, a black matrix, and a planarization layer) formed between the color conversion member 330 and the front substrate 301. there is. The light transmission layer 740 may be disposed between the black matrix 302 and the barrier rib 304 . The light transmission layer 640 is formed between the first color filter 321 and the first color conversion layer 331, between the second color filter 322 and the second color conversion layer 332, and the third color filter ( 323) and the transparent layer 333.
광투과층(740)은 컬러 필터(320) 및 블랙매트릭스(302) 중 적어도 어느 하나보다 얇은 두께로 형성될 수 있다. 광투과층(740)은 투명 전도성 재질 및 불투명 전도성 재질 중 적어도 어느 하나로 형성될 수 있다. 투명 전도성 재질의 광투과층(740)은 인듐틴옥사이드(ITO; indium tin oxide), 인듐징크옥사이드(IZO; indium zinc oxide), 징크옥사이드(ZnO; zinc oxide), 인듐옥사이드(In2O3; indium oxide), 인듐갈륨옥사이드(IGO; indium gallium oxide) 및 알루미늄징크옥사이드(AZO; aluminum zinc oxide)를 포함하는 그룹에서 선택된 적어도 하나 이상을 포함할 수 있다. 불투명 전도성 재질의 광투과층(740)은 Al, Cr, Ag 및 Pt를 포함하는 그룹에서 선택된 적어도 하나 이상으로 포함할 수 있다. 불투명 도전성 재질로 이루어진 광투과층(740)은 광학적인 휘도 감소가 무시될 만한 두께로 형성될 수 있다. 예를 들어, 불투명 도전성 재질로 이루어진 광투과층(740)은 수백Å 내지 수천Å의 두께로 형성될 수 있다. 불투명 도전성 재질로 이루어진 광투과층(740)은 광을 투과시킬 수 있으므로, 광투과층(740)에 의해 휘도가 감소되는 것을 방지할 수 있다. The light transmission layer 740 may be formed to a thickness thinner than at least one of the color filter 320 and the black matrix 302 . The light transmission layer 740 may be formed of at least one of a transparent conductive material and an opaque conductive material. The light transmission layer 740 made of a transparent conductive material includes indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), zinc oxide (ZnO), and indium oxide (In2O3). , indium gallium oxide (IGO) and aluminum zinc oxide (AZO). The light-transmitting layer 740 made of an opaque conductive material may include at least one selected from the group consisting of Al, Cr, Ag, and Pt. The light-transmitting layer 740 made of an opaque conductive material may be formed to a thickness such that optical luminance reduction is negligible. For example, the light transmission layer 740 made of an opaque conductive material may be formed to a thickness of several hundred Å to several thousand Å. Since the light-transmitting layer 740 made of an opaque conductive material can transmit light, it is possible to prevent luminance from being reduced by the light-transmitting layer 740 .
일 예로, 광투과층(740)은 도 8a에 도시된 바와 같이 컬러 필터(320) 및 블랙매트릭스(302)와 직접 접촉하도록 형성될 수 있다. 도 8a에 도시된 색변환 기판(810)은 전면 기판(301) 상에 블랙매트릭스(302), 컬러 필터(320), 광투과층(740) 및 격벽(304)이 순차적으로 형성된 다음, 전기수력학적(EHD) 공정을 통해 제1 색변환층(331), 제2 색변환층(332) 및 투명층(333)이 순차적으로 형성됨으로써 완성될 수 있다. For example, the light transmission layer 740 may be formed to directly contact the color filter 320 and the black matrix 302 as shown in FIG. 8A . In the color conversion substrate 810 shown in FIG. 8A, a black matrix 302, a color filter 320, a light transmission layer 740, and a partition wall 304 are sequentially formed on a front substrate 301, and then electrohydraulic power is applied. The first color conversion layer 331, the second color conversion layer 332, and the transparent layer 333 may be sequentially formed through an EHD process, thereby completing the process.
다른 예로, 광투과층(740)은 도 8b에 도시된 바와 같이, 컬러 필터(320) 및 블랙매트릭스(302)를 덮도록 배치되는 평탄화층(730)의 일면(예: 제2 방향(D2)을 향하는 면) 상에 배치될 수 있다. 광투과층(740)의 타면(예: 제1 방향(D1)을 향하는 면)은 평탄화층(730)과 접촉할 수 있다. 도 8b에 도시된 색변환 기판(810)은 전면 기판(301) 상에 블랙매트릭스(302), 컬러 필터(320), 평탄화층(730), 광투과층(740) 및 격벽(304)이 순차적으로 형성된 다음, 전기수력학적(EHD) 공정을 통해 제1 색변환층(331), 제2 색변환층(332) 및 투명층(333)이 순차적으로 형성됨으로써 완성될 수 있다. As another example, as shown in FIG. 8B , the light transmission layer 740 is one surface (eg, in the second direction D2) of the planarization layer 730 disposed to cover the color filter 320 and the black matrix 302. side) can be placed on it. The other surface (eg, the surface facing the first direction D1 ) of the light transmission layer 740 may contact the planarization layer 730 . In the color conversion substrate 810 shown in FIG. 8B, a black matrix 302, a color filter 320, a planarization layer 730, a light transmission layer 740, and a barrier rib 304 are sequentially formed on a front substrate 301. After being formed, the first color conversion layer 331, the second color conversion layer 332, and the transparent layer 333 are sequentially formed through an electrohydrodynamic (EHD) process, thereby completing the process.
일 실시 예에 따르면, 도 8a 및 도 8b에 도시된 제1 색변환층(331), 제2 색변환층(332) 및 투명층(333) 중 적어도 어느 하나는 전기수력학적(EHD) 공정을 통해 형성될 수 있다. 전기수력학적 공정시, 광투과층(740)의 일면에는 양전하 및 음전하 중 어느 하나가 균일하게 유도되며, 노즐을 통해 분사되는 잉크에는 양전하 및 음전하 중 나머지 하나가 유도될 수 있다. 예를 들어, 광투과층(740)의 일면에는 스테이지(예: 도 4a의 스테이지(411))에 인가된 전압과 동일한 전하(예: 음전하)가 균일하게 유도될 수 있다. 노즐을 통해 분사되는 잉크에는 노즐에 인가된 전압과 동일한 전하(예: 양전하)가 유도될 수 있다. 이에 따라, 광투과층(740)의 일면과 잉크에는 서로 다른 전하가 유도되므로, 광투과층(740)의 일면과 잉크 사이에는 전기적 인력이 발생될 수 있다. 전기적 인력에 의해 잉크는 전면 기판(301)을 향해 인쇄된 후 경화될 수 있다.According to an embodiment, at least one of the first color conversion layer 331, the second color conversion layer 332, and the transparent layer 333 shown in FIGS. 8A and 8B is formed through an electrohydrodynamic (EHD) process. can be formed During the electrohydrodynamic process, one of positive and negative charges may be uniformly induced on one surface of the light-transmitting layer 740, and the other of positive and negative charges may be induced in the ink ejected through the nozzle. For example, an electric charge (eg, negative charge) equal to a voltage applied to a stage (eg, the stage 411 of FIG. 4A ) may be uniformly induced on one surface of the light-transmitting layer 740 . An electric charge equal to the voltage applied to the nozzle (eg, positive charge) may be induced in the ink ejected through the nozzle. Accordingly, since different charges are induced between one surface of the light-transmitting layer 740 and the ink, an electrical attraction may be generated between the ink and one surface of the light-transmitting layer 740 . The ink may be printed toward the front substrate 301 by electrical attraction and then cured.
또 다른 예로, 광투과층(740)은 도 8c에 도시된 바와 같이, 컬러 필터(320) 및 블랙매트릭스(302)를 덮도록 배치될 수 있다. 광투과층(740)은 컬러 필터(320) 및 블랙매트릭스(302) 각각과 평탄화층(730) 사이에 배치될 수 있다. 광투과층(740)의 일면(예: 제2 방향(D2)을 향하는 면)은 평탄화층(730)과 접촉할 수 있다. 도 8c에 도시된 색변환 기판(810)은 전면 기판(301) 상에 블랙매트릭스(302), 컬러 필터(320), 광투과층(740), 평탄화층(730) 및 격벽(304)이 순차적으로 형성된 다음, 전기수력학적(EHD) 공정을 통해 제1 색변환층(331), 제2 색변환층(332) 및 투명층(333)이 순차적으로 형성됨으로써 완성될 수 있다. As another example, the light transmission layer 740 may be disposed to cover the color filter 320 and the black matrix 302 as shown in FIG. 8C . The light transmission layer 740 may be disposed between each of the color filter 320 and the black matrix 302 and the planarization layer 730 . One surface (eg, a surface facing the second direction D2 ) of the light transmission layer 740 may contact the planarization layer 730 . In the color conversion substrate 810 shown in FIG. 8C, a black matrix 302, a color filter 320, a light transmission layer 740, a planarization layer 730, and a barrier rib 304 are sequentially formed on a front substrate 301. After being formed, the first color conversion layer 331, the second color conversion layer 332, and the transparent layer 333 are sequentially formed through an electrohydrodynamic (EHD) process, thereby completing the process.
전기수력학적 공정시, 광투과층(740)의 일면에는 스테이지(예: 도 4a의 스테이지(411))에 인가된 전압과 동일한 전하(예: 음전하)가 균일하게 유도되며, 노즐을 통해 분사되는 양자점 잉크에는 노즐에 인가된 전압과 동일한 전하(예: 양전하)가 유도될 수 있다. 광투과층(740)의 일면에 유도된 음전하 의해, 평탄화층(730) 내의 쌍극자들이 일정한 방향으로 배열되는 분극 현상이 발생할 수 있다. 분극 현상에 의해 평탄화층(730)의 양전하와 음전하가 평탄화층의 일면 및 타면으로 대칭되게 배치될 수 있다. 평탄화층(730)의 일면에는 음전하가 유도되고, 평탄화층(730)의 타면에는 양전하가 유도될 수 있다. 이에 따라, 평탄화층(740)의 일면에 유도된 음전하와, 잉크에 유도된 양전하 사이에는 전기적 인력이 발생될 수 있다. 전기적 인력에 의해 잉크는 전면 기판(301)을 향해 인쇄된 후 경화될 수 있다. During the electrohydrodynamic process, an electric charge (eg, negative charge) equal to the voltage applied to the stage (eg, the stage 411 of FIG. 4A) is uniformly induced on one surface of the light-transmitting layer 740, and is injected through a nozzle. A charge equal to the voltage applied to the nozzle (eg positive charge) may be induced in the quantum dot ink. A polarization phenomenon in which dipoles in the planarization layer 730 are aligned in a certain direction may occur due to negative charges induced on one surface of the light-transmitting layer 740 . Due to the polarization phenomenon, positive and negative charges of the planarization layer 730 may be symmetrically arranged on one surface and the other surface of the planarization layer. Negative charges may be induced on one surface of the planarization layer 730 and positive charges may be induced on the other surface of the planarization layer 730 . Accordingly, an electrical attraction may be generated between the negative charges induced on one surface of the planarization layer 740 and the positive charges induced in the ink. The ink may be printed toward the front substrate 301 by electrical attraction and then cured.
도 9는 본 문서에 개시된 예시적인 실시 예에 따른 색 변환 기판(910)을 개략적으로 나타내는 단면도들이다. 도 9는 제조 관점에서 전면 기판(301)이 지면을 향하도록 색 변환 기판(910)을 180도 회전시킨 도면이다.9 is cross-sectional views schematically illustrating a color conversion substrate 910 according to an exemplary embodiment disclosed herein. FIG. 9 is a view in which the color conversion substrate 910 is rotated 180 degrees so that the front substrate 301 faces the ground from a manufacturing point of view.
도 9를 참조하면, 본 문서에 개시된 색 변환 기판(910)은 복층 구조로 이루어진 광투과층(840)을 포함할 수 있다. 예를 들어, 광투과층(840)은 제1 광투과층(841) 및 제2 광투과층(842)을 포함할 수 있다. 제1 광투과층(841) 및 제2 광투과층(842) 중 적어도 어느 하나는 높은 전기전도도 또는 고유전율을 가질 수 있다. 광투과층(840)은 색변환 부재(330) 및 투명층(333)의 제조 공정시, 블랙매트릭스(302), 컬러 필터(320) 및 격벽(304) 중 적어도 어느 하나가 형성된 전면 기판(301)의 전기적 특성을 균일화할 수 있다.Referring to FIG. 9 , the color conversion substrate 910 disclosed in this document may include a light transmission layer 840 having a multi-layer structure. For example, the light-transmitting layer 840 may include a first light-transmitting layer 841 and a second light-transmitting layer 842 . At least one of the first light-transmitting layer 841 and the second light-transmitting layer 842 may have high electrical conductivity or high permittivity. The light transmission layer 840 is a front substrate 301 on which at least one of the black matrix 302, the color filter 320, and the barrier rib 304 is formed during the manufacturing process of the color conversion member 330 and the transparent layer 333. It is possible to homogenize the electrical characteristics of
제1 광투과층(841) 및 제2 광투과층(842)은 컬러 필터(320) 및 블랙매트릭스(302) 각각과, 격벽(304) 사이에 배치될 수 있다. 일 예로, 제1 광투과층(841)는 제2 광투과층(842) 상에 형성되어 격벽(304)과 접촉할 수 있다. 다른 예로, 제2 광투과층(842)은 제1 광투과층(841) 상에 형성되어 격벽(304)과 접촉할 수 있다.The first light-transmitting layer 841 and the second light-transmitting layer 842 may be disposed between the color filter 320 and the black matrix 302 , respectively, and the barrier rib 304 . For example, the first light-transmitting layer 841 may be formed on the second light-transmitting layer 842 and contact the barrier rib 304 . As another example, the second light-transmitting layer 842 may be formed on the first light-transmitting layer 841 and contact the barrier rib 304 .
제1 광투과층(841)은 컬러 필터(320)와 블랙매트릭스(302) 사이의 단차를 평탄화하는 평탄화층의 역할을 겸할 수 있다. 제1 광투과층(841)은 투명 유기 절연 재질(641)에 높은 전기전도도를 가지는 첨가제(642)를 첨가함으로써 형성될 수 있다. 첨가제(642)는 이온성 액체일 수 있다. 이온성 액체는 음이온과 결합되는 양이온을 포함할 수 있다. 이온성 액체는 상온에서 액체 상태로 존재할 수 있으며, 제1 광투과층(841)의 경화 공정시 고화될 수 있다. 양이온은 이미다졸(imidazolium), 암모늄 이온(ammonium) 및 피롤리디늄(pyrrolidinium) 중 적어도 어느 하나로 이루어질 수 있다. 음이온은 Cl-, AlCl4-, PF6-, BF4-, NTf2- 및 DCA- 중 적어도 어느 하나를 포함하는 무기 음이온 또는/및 CH3COO- 및 CH3SO3- 중 적어도 어느 하나를 포함하는 유기 음이온으로 이루어질 수 있다.The first light-transmitting layer 841 may serve as a planarization layer for flattening a level difference between the color filter 320 and the black matrix 302 . The first light-transmitting layer 841 may be formed by adding an additive 642 having high electrical conductivity to the transparent organic insulating material 641 . Additive 642 may be an ionic liquid. Ionic liquids can contain cations that combine with anions. The ionic liquid may exist in a liquid state at room temperature, and may be solidified during a curing process of the first light transmission layer 841 . The cation may be formed of at least one of imidazolium, ammonium, and pyrrolidinium. The anion may be an inorganic anion including at least one of Cl-, AlCl4-, PF6-, BF4-, NTf2- and DCA-, or/and an organic anion including at least one of CH3COO- and CH3SO3-.
제2 광투과층(842)은 제1 광투과층(841), 컬러 필터(320) 및 블랙매트릭스(302) 중 적어도 어느 하나보다 얇은 두께로 형성되며, 높은 전기전도도를 가지는 전도성 재질로 형성될 수 있다. 제2 광투과층(842)은 인듐 틴 옥사이드(indium tin oxide: ITO)와 같은 투명 전도성 재질로 형성되거나, 제2 광투과층(842)은 Al, Cr, Ag 및 Pt 중 적어도 어느 하나를 포함하는 불투명 전도성 재질로 형성될 수 있다. 불투명 도전성 재질로 이루어진 제2 광투과층(842)은 광학적인 휘도 감소가 무시될 만한 두께로 형성될 수 있다. 예를 들어, 불투명 도전성 재질로 이루어진 제2 광투과층(842)은 수백Å 내지 수천Å의 두께로 형성될 수 있다. 불투명 도전성 재질로 이루어진 제2 광투과층(842)은 광을 투과시킬 수 있으므로, 제2 광투과층(842)에 의해 휘도가 감소되는 것을 방지할 수 있다.The second light-transmitting layer 842 may be formed of a conductive material having a thickness thinner than at least any one of the first light-transmitting layer 841, the color filter 320, and the black matrix 302, and having high electrical conductivity. can The second light-transmitting layer 842 is formed of a transparent conductive material such as indium tin oxide (ITO), or includes at least one of Al, Cr, Ag, and Pt. It may be formed of an opaque conductive material that The second light-transmitting layer 842 made of an opaque conductive material may be formed to a thickness such that optical luminance reduction is negligible. For example, the second light transmission layer 842 made of an opaque conductive material may be formed to a thickness of several hundred Å to several thousand Å. Since the second light-transmitting layer 842 made of an opaque conductive material can transmit light, it is possible to prevent luminance from being reduced by the second light-transmitting layer 842 .
다른 예로, 제1 광투과층(841)은 투명 전도성 재질 또는 불투명 전도성 재질로 형성되고, 제2 광투과층(842)은 이온성 액체를 포함하는 투명 유기 절연 재질로 형성될 수 있다.As another example, the first light-transmitting layer 841 may be formed of a transparent conductive material or an opaque conductive material, and the second light-transmitting layer 842 may be formed of a transparent organic insulating material containing an ionic liquid.
도 10 내지 도 13은 본 문서에 개시된 예시적인 실시 예에 따른 색 변환 기판(1010)을 개략적으로 나타내는 도면들이다. 도 10은 제조 관점에서 전면 기판(301)이 지면을 향하도록 색 변환 기판1010)을 180도 회전시킨 도면이다.10 to 13 are diagrams schematically illustrating a color conversion substrate 1010 according to an exemplary embodiment disclosed in this document. FIG. 10 is a view in which the color conversion substrate 1010 is rotated 180 degrees so that the front substrate 301 faces the ground in terms of manufacturing.
도 10 내지 도 13를 참조하면, 본 문서에 개시된 색 변환 기판(1010)은 노즐을 이용한 제조 공정시 전면 기판(301)을 향하는 방향으로 강한 전기적 인력을 형성할 수 있는 광투과층(940)을 포함할 수 있다. 광투과층(940)은 각 서브 화소(SP1,SP2,SP3)(또는, 각 컬러 필터(320))의 중앙 영역에 배치될 수 있다. 광투과층(940)은 색변환 부재(330) 및 투명층(333)의 제조 공정시, 격벽(304)을 향하는 방향보다 전면 기판(301)을 향하는 방향(예: 제1 방향(D1))으로 강한 전기적 인력을 형성할 수 있는 10 to 13, the color conversion substrate 1010 disclosed in this document includes a light-transmitting layer 940 capable of forming strong electrical attraction toward the front substrate 301 during a manufacturing process using a nozzle. can include The light transmission layer 940 may be disposed in a central region of each of the sub-pixels SP1 , SP2 , and SP3 (or each color filter 320 ). During the manufacturing process of the color conversion member 330 and the transparent layer 333, the light transmission layer 940 is formed in a direction toward the front substrate 301 (eg, in the first direction D1) rather than toward the barrier rib 304. capable of forming a strong electrical attraction
광투과층(940)은 제1 광투과층(941), 제2 광투과층(942) 및 제3 광투과층(943)을 포함할 수 있다. 제1 광투과층(941), 제2 광투과층(942) 및 제3 광투과층(943)은 서로 동일 크기로 형성되거나 서로 다른 크기로 형성될 수 있다.The light-transmitting layer 940 may include a first light-transmitting layer 941 , a second light-transmitting layer 942 , and a third light-transmitting layer 943 . The first light-transmitting layer 941 , the second light-transmitting layer 942 , and the third light-transmitting layer 943 may have the same size or different sizes.
제1 광투과층(941), 제2 광투과층(942) 및 제3 광투과층(943) 중 적어도 어느 하나는 격벽(304)보다 전기 전도도가 높거나, 격벽(304)보다 유전율이 높은 재질로 형성될 수 있다. 일 예로, 제1 광투과층(941), 제2 광투과층(942) 및 제3 광투과층(943) 중 적어도 어느 하나는 인듐 틴 옥사이드(indium tin oxide: ITO)와 같은 투명 전도성 재질로 형성되거나, 불투명 전도성 재질로 형성될 수 있다. 불투명 전도성 재질은 Al, Cr, Ag 및 Pt 중 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다. 불투명 도전성 재질로 형성되는 광투과층(940)은 광학적인 휘도 감소가 무시될 만한 두께로 형성될 수 있다. 예를 들어, 불투명 도전성 재질 로 형성되는 광투과층(940)은 수백Å 내지 수천Å의 두께로 형성될 수 있다. 다른 예로, 제1 광투과층(941), 제2 광투과층(942) 및 제3 광투과층(943) 중 적어도 어느 하나는 아크릴 또는 에폭시 기반의 감광성 유기 절연 재질로 형성되거나 유전율을 높이는 첨가제를 포함하는 유기 절연 재질일 수 있다. 제1 광투과층(941), 제2 광투과층(942) 및 제3 광투과층(943)은 서로 동일 재질로 형성되거나, 적어도 어느 하나가 나머지와 다른 재질로 형성될 수 있다. At least one of the first light-transmitting layer 941, the second light-transmitting layer 942, and the third light-transmitting layer 943 has a higher electrical conductivity than the barrier rib 304 or a higher dielectric constant than the barrier rib 304. material can be formed. For example, at least one of the first light-transmitting layer 941, the second light-transmitting layer 942, and the third light-transmitting layer 943 is made of a transparent conductive material such as indium tin oxide (ITO). or may be formed of an opaque conductive material. The opaque conductive material may include at least one of Al, Cr, Ag, and Pt. The light-transmitting layer 940 formed of an opaque conductive material may be formed to a thickness such that optical luminance reduction is negligible. For example, the light transmission layer 940 formed of an opaque conductive material may be formed to a thickness of several hundred Å to several thousand Å. As another example, at least one of the first light-transmitting layer 941, the second light-transmitting layer 942, and the third light-transmitting layer 943 is formed of an acrylic or epoxy-based photosensitive organic insulating material or an additive that increases dielectric constant. It may be an organic insulating material containing. The first light-transmitting layer 941, the second light-transmitting layer 942, and the third light-transmitting layer 943 may be formed of the same material, or at least one of them may be formed of a material different from the others.
제1 광투과층(941)은 제1 서브 화소(SP1)(또는, 제1 컬러 필터(321))의 중앙 영역에 배치될 수 있다. 제1 광투과층(941)은 제1 서브 화소(SP1)의 가상의 중심선을 따라 형성될 수 있다. 가상의 중심선은 제1 색변환층(331)을 둘러싸는 격벽(304)의 일측면(예: 제3 방향(D3)을 향하는 면)과, 일측면의 반대면인 격벽(304)의 타측면 사이의 한가운데를 따라 형성될 수 있다. 제1 광투과층(941)을 사이에 두고 격벽(304)의 일측면 및 타측면은 서로 마주볼 수 있다. 격벽(304)의 일측면 및 격벽(304)의 타측면 각각과 제1 광투과층(941) 간의 이격거리는 동일하거나 유사할 수 있다. The first light-transmitting layer 941 may be disposed in a central area of the first sub-pixel SP1 (or the first color filter 321). The first light-transmitting layer 941 may be formed along an imaginary center line of the first sub-pixel SP1. The imaginary center line is one side of the barrier rib 304 surrounding the first color conversion layer 331 (eg, a side facing the third direction D3) and the other side of the barrier rib 304 that is opposite to the one side. It can be formed along the middle between. One side and the other side of the barrier rib 304 may face each other with the first light transmitting layer 941 interposed therebetween. The separation distance between one side surface of the barrier rib 304 and the other side surface of the barrier rib 304 and the first light transmission layer 941 may be the same or similar.
제1 광투과층(941)은 제1 컬러 필터(321) 및 제1 색변환층(331) 사이에 배치될 수 있다. 제1 광투과층(941)은 제1 컬러 필터(321) 및 제1 색변환층(331) 각각의 일부와 중첩되고, 제1 컬러 필터(321) 및 제1 색변환층(331) 각각의 나머지 일부와 비중첩될 수 있다. 제1 광투과층(941)의 일면은 제1 색변환층(331)의 타면의 일부와 접촉하고, 제1 광투과층(941)의 타면은 제1 컬러필터(321)의 일면의 일부와 접촉할 수 있다. The first light transmission layer 941 may be disposed between the first color filter 321 and the first color conversion layer 331 . The first light transmission layer 941 overlaps a portion of each of the first color filter 321 and the first color conversion layer 331, and each of the first color filter 321 and the first color conversion layer 331 May be non-overlapping with some of the others. One surface of the first light-transmitting layer 941 is in contact with a part of the other surface of the first color conversion layer 331, and the other surface of the first light-transmitting layer 941 is in contact with a part of one surface of the first color filter 321. can contact
제2 광투과층(942)은 제2 서브 화소(SP2) (또는, 제2 컬러 필터(322))의 중앙에 배치될 수 있다. 제2 광투과층(942)은 제2 서브 화소(SP2)의 가상의 중심선을 따라 형성될 수 있다. 가상의 중심선은 제2 색변환층(332)을 둘러싸는 격벽(304)의 일측면(예: 제3 방향(D3)을 향하는 면)과, 일측면의 반대면인 격벽(304)의 타측면 사이의 한가운데를 따라 형성될 수 있다. 제2 광투과층(942)을 사이에 두고 격벽(304)의 일측면 및 타측면은 서로 마주볼 수 있다. 격벽(304)의 일측면 및 격벽(304)의 타측면 각각과, 제2 광투과층(942) 간의 이격거리는 동일하거나 유사할 수 있다. The second light transmission layer 942 may be disposed at the center of the second sub-pixel SP2 (or the second color filter 322). The second light transmission layer 942 may be formed along an imaginary center line of the second sub-pixel SP2. The imaginary center line is one side of the barrier rib 304 surrounding the second color conversion layer 332 (eg, the side facing the third direction D3) and the other side of the barrier rib 304 that is opposite to the one side. It can be formed along the middle between. One side and the other side of the barrier rib 304 may face each other with the second light transmitting layer 942 interposed therebetween. The separation distance between one side surface of the barrier rib 304 and the other side surface of the barrier rib 304 and the second light transmission layer 942 may be the same or similar.
제2 광투과층(942)은 제2 컬러 필터(322) 및 제2 색변환층(332) 사이에 배치될 수 있다. 제2 광투과층(942)은 제2 컬러 필터(322) 및 제2 색변환층(332) 각각의 일부와 중첩되고, 제2 컬러 필터(322) 및 제2 색변환층(332) 각각의 나머지 일부와 비중첩될 수 있다. 제2 광투과층(942)의 일면은 제2 색변환층(332)의 타면의 일부와 접촉하고, 제2 광투과층(942)의 타면은 제2 컬러필터(322)의 일면의 일부와 접촉할 수 있다. The second light transmission layer 942 may be disposed between the second color filter 322 and the second color conversion layer 332 . The second light transmission layer 942 overlaps a portion of each of the second color filter 322 and the second color conversion layer 332, and each of the second color filter 322 and the second color conversion layer 332 May be non-overlapping with some of the others. One surface of the second light-transmitting layer 942 is in contact with a part of the other surface of the second color conversion layer 332, and the other surface of the second light-transmitting layer 942 is in contact with a part of one surface of the second color filter 322. can contact
제3 광투과층(943)은 제3 서브 화소(SP3)(또는, 제3 컬러 필터(323))의 중앙에 배치될 수 있다. 제3 광투과층(943)은 제3 서브 화소(SP3)의 가상의 중심선을 따라 형성될 수 있다. 가상의 중심선은 제3 색변환층(333)을 둘러싸는 격벽(304)의 일측면(예: 제3 방향(D3)을 향하는 면)과, 일측면의 반대면인 격벽(304)의 타측면 사이의 한가운데를 따라 형성될 수 있다. 제3 광투과층(943)을 사이에 두고 격벽(304)의 일측면 및 타측면은 서로 마주볼 수 있다. 격벽(304)의 일측면 및 격벽(304)의 타측면 각각과, 제3 광투과층(943) 간의 이격거리는 동일하거나 유사할 수 있다.The third light transmission layer 943 may be disposed at the center of the third sub-pixel SP3 (or the third color filter 323). The third light-transmitting layer 943 may be formed along an imaginary center line of the third sub-pixel SP3. The imaginary center line is one side of the barrier rib 304 surrounding the third color conversion layer 333 (eg, the side facing the third direction D3) and the other side of the barrier rib 304 that is opposite to the one side. It can be formed along the middle between. One side and the other side of the barrier rib 304 may face each other with the third light transmitting layer 943 interposed therebetween. A separation distance between one side surface of the barrier rib 304 and the other side surface of the barrier rib 304 and the third light transmitting layer 943 may be the same or similar.
제3 광투과층(943)은 제3 컬러 필터(323) 및 투명층(333) 사이에 배치될 수 있다. 제3 광투과층(943)은 제3 컬러 필터(323) 및 투명층(333) 각각의 일부와 중첩되고, 제3 컬러 필터(323) 및 투명층(333) 각각의 나머지 일부와 비중첩될 수 있다. 제3 광투과층(943)은 투명층(333)의 타면의 일부와 접촉하고, 제3 광투과층(943)의 타면은 제3 컬러필터(323)의 일면의 일부와 접촉할 수 있다.The third light transmission layer 943 may be disposed between the third color filter 323 and the transparent layer 333 . The third light transmission layer 943 may overlap a portion of each of the third color filter 323 and the transparent layer 333, and may not overlap a portion of each of the third color filter 323 and the transparent layer 333. . The third light-transmitting layer 943 may contact a portion of the other surface of the transparent layer 333 , and the other surface of the third light-transmitting layer 943 may contact a portion of one surface of the third color filter 323 .
일 실시 예에 따르면, 제1 광투과층(941), 제2 광투과층(942) 및 제3 광투과층(943) 중 적어도 어느 하나는 도 11에 도시된 바와 같이 도트 형태(또는, 점선 형태)로 형성될 수 있다. 예를 들어, 제1 광투과층(941)은 제1 서브 화소들(SP1)마다 적어도 1개씩 형성되며, 제2 광투과층(942)은 제2 서브 화소들(SP2)마다 적어도 1개씩 형성되며, 제3 광투과층(943)은 제3 서브 화소들(SP3)마다 적어도 1개씩 형성될 수 있다.According to an embodiment, at least one of the first light-transmitting layer 941, the second light-transmitting layer 942, and the third light-transmitting layer 943 has a dot shape (or dotted line) as shown in FIG. form) can be formed. For example, at least one first light-transmitting layer 941 is formed in each of the first sub-pixels SP1, and at least one second light-transmitting layer 942 is formed in each of the second sub-pixels SP2. At least one third light-transmitting layer 943 may be formed for each of the third sub-pixels SP3.
인접한 제1 광투과층(941)들 사이에는 격벽(304)이 배치될 수 있다. 인접한 제1 광투과층(941)들은 격벽(304)을 사이에 두고 서로 이격되게 형성될 수 있다. 제1 광투과층(941)은 제1 컬러 필터들(321) 사이에 위치하는 격벽(304)과 비중첩될 수 있다. 제1 광투과층(941)은 제2 컬러 필터(322) 및 제3 컬러 필터(323) 각각과 제1 컬러 필터(321) 사이에 위치하는 격벽(304)과 비중첩될 수 있다. 제1 광투과층(941)은 격벽(304)에 의해 둘러싸인 제1 서브 화소(SP1)의 중앙 영역을 가로지르도록 형성될 수 있다. 제1 광투과층(941)은 제1 서브 화소(SP1)의 폭 방향(예: 제3 방향(D3))보다 긴 제1 서브 화소(SP1)의 길이 방향(예: 제4 방향(D4))을 따라서 제1 서브 화소(SP1)의 중앙 영역을 가로지르도록 형성될 수 있다. A barrier rib 304 may be disposed between adjacent first light-transmitting layers 941 . Adjacent first light-transmitting layers 941 may be spaced apart from each other with the barrier rib 304 interposed therebetween. The first light transmission layer 941 may not overlap the barrier rib 304 positioned between the first color filters 321 . The first light transmission layer 941 may not overlap the barrier rib 304 positioned between each of the second color filter 322 and the third color filter 323 and the first color filter 321 . The first light-transmitting layer 941 may be formed to cross the central region of the first sub-pixel SP1 surrounded by the barrier rib 304 . The first light-transmitting layer 941 extends in the length direction (eg, the fourth direction D4) of the first sub-pixel SP1 longer than the width direction (eg, the third direction D3) of the first sub-pixel SP1. ) along the central region of the first sub-pixel SP1.
인접한 제2 광투과층(942)들 사이에는 격벽(304)이 배치될 수 있다. 인접한 제2 광투과층(942)들은 격벽(304)을 사이에 두고 서로 이격되게 형성될 수 있다. 제2 광투과층(942)은 제2 컬러 필터들(322) 사이에 위치하는 격벽(304)과 비중첩될 수 있다. 제2 광투과층(942)은 제1 컬러 필터(321) 및 제3 컬러 필터(323) 각각과, 제2 컬러 필터(322) 사이에 위치하는 격벽(304)과 비중첩될 수 있다. 제2 광투과층(942)은 격벽(304)에 의해 둘러싸인 제2 서브 화소(SP2)의 중앙 영역을 가로지르도록 형성될 수 있다. 제2 광투과층(942)은 제2 서브 화소(SP2)의 폭 방향(예: 제3 방향(D3))보다 긴 제2 서브 화소(SP2)의 길이 방향(예: 제4 방향(D4))을 따라서 제2 서브 화소(SP2)의 중앙 영역을 가로지르도록 형성될 수 있다.A barrier rib 304 may be disposed between adjacent second light-transmitting layers 942 . Adjacent second light transmission layers 942 may be spaced apart from each other with the barrier rib 304 interposed therebetween. The second light transmission layer 942 may not overlap the barrier rib 304 positioned between the second color filters 322 . The second light transmission layer 942 may not overlap the barrier rib 304 positioned between each of the first color filter 321 and the third color filter 323 and the second color filter 322 . The second light-transmitting layer 942 may be formed to cross the central region of the second sub-pixel SP2 surrounded by the barrier rib 304 . The second light transmission layer 942 extends in the length direction (eg, the fourth direction D4) of the second sub-pixel SP2 longer than the width direction (eg, the third direction D3) of the second sub-pixel SP2. ) may be formed to cross the central area of the second sub-pixel SP2.
인접한 제3 광투과층(943)들 사이에는 격벽(304)이 배치될 수 있다. 인접한 제3 광투과층(943)들은 격벽(304)을 사이에 두고 서로 이격되게 형성될 수 있다. 제3 광투과층(943)은 제3 컬러 필터들(323) 사이에 위치하는 격벽(304)과 중첩될 수 있다. 제3 광투과층(943)은 제1 컬러 필터(321) 및 제2 컬러 필터(322) 각각과, 제3 컬러 필터(323) 사이에 위치하는 격벽(304)과 비중첩될 수 있다. 제3 광투과층(943)은 격벽(304)에 의해 둘러싸인 제3 서브 화소(SP3)의 중앙 영역을 가로지르도록 형성될 수 있다. 제3 광투과층(943)은 제3 서브 화소(SP3)의 폭 방향(예: 제3 방향(D3))보다 긴 제2 서브 화소(SP2)의 길이 방향(예: 제4 방향(D4))을 따라서 제3 서브 화소(SP3)의 중앙 영역을 가로지르도록 형성될 수 있다.A barrier rib 304 may be disposed between adjacent third light-transmitting layers 943 . Adjacent third light-transmitting layers 943 may be spaced apart from each other with the barrier rib 304 interposed therebetween. The third light transmission layer 943 may overlap the barrier rib 304 positioned between the third color filters 323 . The third light transmission layer 943 may not overlap each of the first color filter 321 and the second color filter 322 and the barrier rib 304 positioned between the third color filter 323 . The third light-transmitting layer 943 may be formed to cross the central region of the third sub-pixel SP3 surrounded by the barrier rib 304 . The third light transmission layer 943 extends in the length direction (eg, the fourth direction D4) of the second sub-pixel SP2 longer than the width direction (eg, the third direction D3) of the third sub-pixel SP3. ) along the central region of the third sub-pixel SP3.
다른 실시 예에 따르면, 광투과층(940)은 도 12 및 도 13에 도시된 바와 같이 동일 색을 구현하는 복수개의 서브 화소들(또는 컬러 필터들(320))을 따라서 스트라이프(stripe) 형태로 형성될 수 있다. 제1 광투과층(941)은 일렬로 배치된 복수개의 제1 서브 화소들(SP1)을 따라서 스트라이프 형태로 형성될 수 있다. 제1 광투과층(941)은 제1 서브 화소(SP1)의 폭 방향(예: 제3 방향(D3))보다 긴 제1 서브 화소(SP1)의 길이 방향(예: 제4 방향(D4))을 따라서 제1 서브 화소들(SP1)의 중앙 영역을 가로지르도록 형성될 수 있다. 제1 광투과층(941)은 동일 색을 구현하는 제1 컬러 필터들(321) 사이에 위치하는 격벽(304)과 중첩될 수 있다. 제1 광투과층(941)은 제2 컬러 필터(322) 및 제3 컬러 필터(323) 각각과, 제1 컬러 필터(321) 사이에 위치하는 격벽(304)과 비중첩될 수 있다.According to another embodiment, the light transmission layer 940 has a stripe shape along a plurality of sub-pixels (or color filters 320) implementing the same color, as shown in FIGS. 12 and 13 . can be formed The first light-transmitting layer 941 may be formed in a stripe shape along the plurality of first sub-pixels SP1 arranged in a row. The first light-transmitting layer 941 extends in the length direction (eg, the fourth direction D4) of the first sub-pixel SP1 longer than the width direction (eg, the third direction D3) of the first sub-pixel SP1. ) may be formed to cross the central area of the first sub-pixels SP1. The first light transmission layer 941 may overlap the barrier rib 304 positioned between the first color filters 321 implementing the same color. The first light transmission layer 941 may not overlap each of the second color filter 322 and the third color filter 323 and the barrier rib 304 positioned between the first color filter 321 .
제2 광투과층(942)은 일렬로 배치된 복수개의 제2 서브 화소들(SP2)을 따라서 스트라이프 형태로 형성될 수 있다. 제2 광투과층(942)은 제2 서브 화소(SP2)의 폭 방향(예: 제3 방향(D3))보다 긴 제2 서브 화소(SP2)의 길이 방향(예: 제4 방향(D4))을 따라서 제2 서브 화소들(SP2)의 중앙 영역을 가로지르도록 형성될 수 있다. 제2 광투과층(942)은 동일 색을 구현하는 제2 컬러 필터들(322) 사이에 위치하는 격벽(304)과 중첩될 수 있다. 제2 광투과층(942)은 제1 컬러 필터(321) 및 제3 컬러 필터(323) 각각과, 제2 컬러 필터(322) 사이에 위치하는 격벽(304)과 비중첩될 수 있다.The second light-transmitting layer 942 may be formed in a stripe shape along the plurality of second sub-pixels SP2 arranged in a row. The second light transmission layer 942 extends in the length direction (eg, the fourth direction D4) of the second sub-pixel SP2 longer than the width direction (eg, the third direction D3) of the second sub-pixel SP2. ) may be formed to cross the central area of the second sub-pixels SP2. The second light transmission layer 942 may overlap the barrier rib 304 positioned between the second color filters 322 implementing the same color. The second light transmission layer 942 may not overlap the barrier rib 304 positioned between each of the first color filter 321 and the third color filter 323 and the second color filter 322 .
제3 광투과층(943)은 일렬로 배치된 복수개의 제3 서브 화소들(SP3)을 따라서 스트라이프 형태로 형성될 수 있다. 제3 광투과층(943)은 제3 서브 화소(SP3)의 폭 방향(예: 제3 방향(D3))보다 긴 제3 서브 화소(SP3)의 길이 방향(예: 제4 방향(D4))을 따라서 제3 서브 화소들(SP3)의 중앙 영역을 가로지르도록 형성될 수 있다. 제3 광투과층(942)은 동일 색을 구현하는 제3 컬러 필터들(323) 사이에 위치하는 격벽(304)과 중첩될 수 있다. 제3 광투과층(943)은 제1 컬러 필터(321) 및 제2 컬러 필터(322) 각각과, 제3 컬러 필터(323) 사이에 위치하는 격벽(304)과 비중첩될 수 있다.The third light-transmitting layer 943 may be formed in a stripe shape along the plurality of third sub-pixels SP3 arranged in a row. The third light transmission layer 943 extends in the length direction (eg, the fourth direction D4) of the third sub-pixel SP3 longer than the width direction (eg, the third direction D3) of the third sub-pixel SP3. ) may be formed to cross the central area of the third sub-pixels SP3. The third light transmission layer 942 may overlap the barrier rib 304 positioned between the third color filters 323 implementing the same color. The third light transmission layer 943 may not overlap each of the first color filter 321 and the second color filter 322 and the barrier rib 304 positioned between the third color filter 323 .
일 예로, 스트라이프 형태로 형성되는 광투과층(940)들은 도 12에 도시된 바와 같이 각각 독립적으로 형성되어 인접한 광투과층(940)과 분리될 수 있다. 제1 광투과층(941)들 각각은 인접한 제2 광투과층(942) 및 제3 광투과층(943)과 연결되지 않고 독립되게 형성될 수 있다. 제2 광투과층(942)들은 인접한 제1 광투과층(941) 및 제3 광투과층(943)과 연결되지 않고 독립되게 형성될 수 있다. 제3 광투과층(943)들은 인접한 제1 광투과층(941) 및 제2 광투과층(942)과 연결되지 않고 독립되게 형성될 수 있다. For example, the light-transmitting layers 940 formed in a stripe shape may be independently formed and separated from adjacent light-transmitting layers 940 as shown in FIG. 12 . Each of the first light-transmitting layers 941 may be formed independently without being connected to the adjacent second light-transmitting layer 942 and third light-transmitting layer 943 . The second light-transmitting layers 942 may be formed independently without being connected to the adjacent first light-transmitting layer 941 and third light-transmitting layer 943 . The third light-transmitting layers 943 may be formed independently without being connected to the adjacent first and second light-transmitting layers 941 and 942 .
다른 예로, 스트라이프 형태로 형성되는 광투과층(940)들은 도 13에 도시된 바와 같이 제1 연결 라인(951) 및 제2 연결 라인(952) 중 적어도 어느 하나를 통해 서로 연결될 수 있다. 제1 연결 라인(951) 및 제2 연결 라인(952) 중 적어도 어느 하나는 제1 광투과층(941), 제2 광투과층(942) 및 제3 광투과층(943) 각각의 폭 방향(예: 제3 방향(D3))과 나란한 방향으로 신장될 수 있다. 제1 광투과층(941), 제2 광투과층(942) 및 제3 광투과층(943) 각각의 일단은 제1 연결 라인(951)을 통해 서로 연결될 수 있다. 제1 광투과층(941), 제2 광투과층(942) 및 제3 광투과층(943) 각각의 타단은 제2 연결 라인(952)을 통해 서로 연결될 수 있다. 제1 연결 라인(951) 및 제2 연결 라인(952) 중 적어도 어느 하나는 제1 광투과층(941), 제2 광투과층(942) 및 제3 광투과층(943) 중 적어도 어느 하나와 동일 재질로 형성될 수 있다. 예를 들어, 제1 광투과층(941), 제2 광투과층(942), 제3 광투과층(943), 제1 연결 라인(951) 및 제2 연결 라인(952)은 서로 동일 재질로 형성되어 일체형 구조로 형성될 수 있다.As another example, the light transmitting layers 940 formed in a stripe shape may be connected to each other through at least one of a first connection line 951 and a second connection line 952 as shown in FIG. 13 . At least one of the first connection line 951 and the second connection line 952 is in the width direction of each of the first light transmission layer 941 , the second light transmission layer 942 , and the third light transmission layer 943 . (eg, the third direction (D3)) and may be stretched in parallel. One ends of each of the first light-transmitting layer 941 , the second light-transmitting layer 942 , and the third light-transmitting layer 943 may be connected to each other through a first connection line 951 . The other ends of each of the first light-transmitting layer 941 , the second light-transmitting layer 942 , and the third light-transmitting layer 943 may be connected to each other through a second connection line 952 . At least one of the first connection line 951 and the second connection line 952 is at least one of the first light transmission layer 941 , the second light transmission layer 942 , and the third light transmission layer 943 . It can be made of the same material as For example, the first light-transmitting layer 941, the second light-transmitting layer 942, the third light-transmitting layer 943, the first connection line 951, and the second connection line 952 are made of the same material. It can be formed as an integral structure.
일 예로, 제1 연결 라인(951) 및 제2 연결 라인(952)은 아크릴 또는 에폭시 기반의 감광성 유기 절연 재질로 형성되거나 유전율을 높이는 첨가제를 포함하는 유기 절연 재질일 수 있다. 다른 예로, 제1 연결 라인(951) 및 제2 연결 라인(952)은 인듐 틴 옥사이드(indium tin oxide: ITO)와 같은 투명 전도성 재질로 형성되거나, Al, Cr, Ag 및 Pt 중 적어도 어느 하나를 포함하는 불투명 전도성 재질로 형성될 수 있다. 불투명 도전성 재질로 형성되는 제1 연결 라인(951) 및 제2 연결 라인(952)은 제1 광투과층(941), 제2 광투과층(942) 및 제3 광투과층(943) 중 적어도 어느 하나와 동일 두께로 형성되거나 두꺼운 두께로 형성될 수 있다. 제1 광투과층(941), 제2 광투과층(942) 및 제3 광투과층(943) 중 적어도 어느 하나보다 두꺼운 두께로 형성되는 제1 연결 라인(951) 및 제2 연결 라인(952)은 서브 화소들(SP1,SP2,SP3)이 배치되지 않는 베젤 영역에 위치할 수 있다.For example, the first connection line 951 and the second connection line 952 may be formed of an acrylic or epoxy-based photosensitive organic insulating material, or may be an organic insulating material containing an additive to increase dielectric constant. As another example, the first connection line 951 and the second connection line 952 are formed of a transparent conductive material such as indium tin oxide (ITO) or at least one of Al, Cr, Ag, and Pt. It may be formed of an opaque conductive material including The first connection line 951 and the second connection line 952 formed of an opaque conductive material are at least one of the first light-transmitting layer 941, the second light-transmitting layer 942, and the third light-transmitting layer 943. It may be formed with the same thickness as any one or formed with a thick thickness. The first connection line 951 and the second connection line 952 formed to a thickness greater than at least any one of the first light transmission layer 941, the second light transmission layer 942, and the third light transmission layer 943. ) may be located in a bezel area where the sub-pixels SP1 , SP2 , and SP3 are not disposed.
다양한 실시 예에 따르면, 색변환 기판(예: 도 3의 색변환 기판(300), 도 6의 색변환 기판(610), 도 8a 내지 도 8c의 색변환 기판(810), 도 9의 색변환 기판(910) 및 도 10의 색변환 기판(1010))의 제조 완료 후 또는 색 변환 부재(330)의 제조 완료 후, 색 변환 기판에 포함된 각각의 층(layer)은 전하를 띄지 않을 수 있다.According to various embodiments, a color conversion substrate (e.g., the color conversion substrate 300 of FIG. 3, the color conversion substrate 610 of FIG. 6, the color conversion substrate 810 of FIGS. 8A to 8C, and the color conversion substrate 810 of FIG. 9) After the substrate 910 and the color conversion substrate 1010 of FIG. 10 are manufactured or the color conversion member 330 is manufactured, each layer included in the color conversion substrate may not be charged. .
본 문서의 일 실시 예에 따르면, 서로 다른 색을 구현하는 제1 서브 화소, 제2 서브 화소 및 제3 서브 화소를 포함하는 디스플레이는 상기 제1 서브 화소와 대응되도록 제1 기판 상에 배치되는 제1 색변환층과; 상기 제1 색변환층과 중첩되도록 배치되는 제1 컬러 필터와; 상기 제2 서브 화소와 대응되도록 상기 제1 기판 상에 배치되는 제2 색변환층과; 상기 제2 색변환층과 중첩되도록 배치되는 제2 컬러 필터와; 상기 제3 서브 화소와 대응되도록 상기 제1 기판 상에 배치되는 투명층과; 상기 투명층과 중첩되도록 배치되는 제3 컬러 필터와; 상기 제1 색변환층, 상기 제2 색변환층 및 상기 투명층 각각을 둘러싸도록 배치되는 격벽과; 상기 격벽과 중첩되도록 배치되는 블랙매트릭스와; 상기 제1 색변환층 및 상기 제1 컬러필터 사이와, 상기 제2 색변환층 및 상기 제2 컬러 필터 사이와, 상기 투명층 및 상기 제3 컬러 필터 사이에 배치되는 광투과층을 구비하며, 상기 광투과층은 상기 블랙매트릭스, 상기 제1 컬러 필터, 상기 제2 컬러 필터, 상기 제3 컬러 필터 및 상기 격벽 중 적어도 어느 하나보다, 전기 전도도 및 유전율 중 적어도 어느 하나가 높을 수 있다.According to an embodiment of the present document, a display including a first sub-pixel, a second sub-pixel, and a third sub-pixel implementing different colors is disposed on a first substrate to correspond to the first sub-pixel. 1 color conversion layer; a first color filter disposed to overlap the first color conversion layer; a second color conversion layer disposed on the first substrate to correspond to the second sub-pixel; a second color filter disposed to overlap the second color conversion layer; a transparent layer disposed on the first substrate to correspond to the third sub-pixel; a third color filter disposed to overlap the transparent layer; barrier ribs disposed to surround each of the first color conversion layer, the second color conversion layer, and the transparent layer; a black matrix disposed to overlap the barrier rib; a light-transmitting layer disposed between the first color conversion layer and the first color filter, between the second color conversion layer and the second color filter, and between the transparent layer and the third color filter; The light transmission layer may have at least one of electrical conductivity and permittivity higher than at least any one of the black matrix, the first color filter, the second color filter, the third color filter, and the barrier rib.
본 문서의 일 실시 예에 따르면, 상기 광투과층은 상기 격벽과 중첩되며, 상기 제1 기판과 대응되는 크기로 상기 제1 기판 상에 배치될 수 있다.According to one embodiment of the present document, the light transmission layer overlaps the barrier rib and may be disposed on the first substrate in a size corresponding to that of the first substrate.
본 문서의 일 실시 예에 따르면, 상기 광투과층은 투명 도전 재질 및 불투명 도전 재질 중 적어도 어느 하나로 형성될 수 있다.According to one embodiment of the present document, the light transmission layer may be formed of at least one of a transparent conductive material and an opaque conductive material.
본 문서의 일 실시 예에 따르면, 상기 광투과층은 상기 제1 컬러 필터, 상기 제2 컬러 필터 및 상기 제3 컬러 필터 중 어느 하나보다 두께가 얇을 수 있다.According to one embodiment of the present document, the light transmission layer may have a thickness thinner than any one of the first color filter, the second color filter, and the third color filter.
본 문서의 일 실시 예에 따르면, 상기 디스플레이는 상기 제1 컬러 필터, 상기 제2 컬러 필터, 상기 제3 컬러 필터들 및 상기 블랙매트릭스를 덮도록 배치되는 평탄화층을 더 포함하며, 상기 평탄화층은 상기 광투과층의 일면과 접촉하거나, 상기 일면의 반대면인 상기 광투과층의 타면과 접촉할 수 있다.According to one embodiment of the present document, the display further includes a planarization layer disposed to cover the first color filter, the second color filter, the third color filters, and the black matrix, the planarization layer comprising: It may contact one surface of the light-transmitting layer or contact the other surface of the light-transmitting layer, which is a surface opposite to the one surface.
본 문서의 일 실시 예에 따르면, 상기 광투과층은 상기 제1 컬러 필터, 상기 제2 컬러 필터, 상기 제3 컬러 필터들 및 상기 블랙매트릭스를 덮도록 배치되며, 상기 광투과층은 이온성 액체를 포함하는 유기 절연 재질로 형성될 수 있다.According to an embodiment of the present document, the light-transmitting layer is disposed to cover the first color filter, the second color filter, the third color filters, and the black matrix, and the light-transmitting layer is an ionic liquid. It may be formed of an organic insulating material containing.
본 문서의 일 실시 예에 따르면, 상기 광투과층은 상기 기판 상에 배치되는 제1 광투과층과; 상기 제1 광투과층 상에 배치되는 제2 광투과층을 포함하며, 상기 제1 광투과층 및 상기 제2 광투과층 중 어느 하나는 투명 도전 재질 및 불투명 도전 재질 중 적어도 어느 하나의 도전 재질 및 이온성 액체를 포함하는 유기 절연 재질 중 어느 한 재질로 형성되며, 상기 제1 광투과층 및 상기 제2 광투과층 중 나머지 하나는 투명 도전 재질 및 불투명 도전 재질 중 적어도 어느 하나의 도전 재질 및 이온성 액체를 포함하는 유기 절연 재질 중 나머지 한 재질로 형성될 수 있다.According to an embodiment of the present document, the light-transmitting layer may include a first light-transmitting layer disposed on the substrate; It includes a second light-transmitting layer disposed on the first light-transmitting layer, and any one of the first light-transmitting layer and the second light-transmitting layer is a conductive material of at least one of a transparent conductive material and an opaque conductive material. and an organic insulating material containing an ionic liquid, and the other one of the first light-transmitting layer and the second light-transmitting layer is at least one conductive material selected from a transparent conductive material and an opaque conductive material. It may be formed of the other one of organic insulating materials including an ionic liquid.
본 문서의 일 실시 예에 따르면, 상기 광투과층은 복수개의 상기 제1 컬러 필터들 중 적어도 어느 하나의 일부에 배치되는 제1 광투과층과; 복수개의 상기 제2 컬러 필터들 중 적어도 어느 하나의 일부에 배치되는 제2 광투과층과; 복수개의 상기 제3 컬러 필터들 중 적어도 어느 하나의 일부에 배치되는 제3 광투과층을 포함할 수 있다.According to one embodiment of the present document, the light-transmitting layer may include a first light-transmitting layer disposed on a part of at least one of the plurality of first color filters; a second light transmission layer disposed on a part of at least one of the plurality of second color filters; A third light-transmitting layer disposed on a portion of at least one of the plurality of third color filters may be included.
본 문서의 일 실시 예에 따르면, 상기 제1 광투과층, 상기 제2 광투과층 및 제3 광투과층 중 적어도 어느 하나는 투명 도전 재질 및 불투명 도전 재질 중 적어도 어느 하나의 도전 재질로 형성되거나, 이온성 액체를 포함하는 유기 절연 재질로 형성될 수 있다.According to an embodiment of the present document, at least one of the first light-transmitting layer, the second light-transmitting layer, and the third light-transmitting layer is formed of at least one conductive material of a transparent conductive material and an opaque conductive material, or , It may be formed of an organic insulating material containing an ionic liquid.
본 문서의 일 실시 예에 따르면, 상기 제1 광투과층은 상기 제1 컬러 필터들의 중앙 영역 상에 배치되며, 상기 제1 컬러 필터들 사이에 배치되는 상기 격벽과 비중첩되며, 상기 제2 광투과층은 상기 제2 컬러 필터들의 중앙 영역 상에 배치되며, 상기 제2 컬러 필터들 사이에 배치되는 상기 격벽과 비중첩되며, 상기 제3 광투과층은 상기 제3 컬러 필터들의 중앙 영역 상에 배치되며, 상기 제3 컬러 필터들 사이에 배치되는 상기 격벽과 비중첩될 수 있다.According to one embodiment of the present document, the first light-transmitting layer is disposed on a central region of the first color filters, does not overlap with the barrier rib disposed between the first color filters, and the second light-transmitting layer The transmission layer is disposed on the central region of the second color filters and does not overlap with the barrier rib disposed between the second color filters, and the third light transmission layer is disposed on the central region of the third color filters. and may not overlap with the barrier rib disposed between the third color filters.
본 문서의 일 실시 예에 따르면, 상기 제1 광투과층은 일렬로 배치된 상기 제1 컬러 필터들의 중앙을 따라서 스트라이프 형태로 형성되며, 상기 제2 광투과층은 일렬로 배치된 상기 제2 컬러 필터들의 중앙을 따라서 스트라이프 형태로 형성되며, 상기 제3 광투과층은 일렬로 배치된 상기 제3 컬러 필터들의 중앙을 따라서 스트라이프 형태로 형성될 수 있다.According to one embodiment of the present document, the first light-transmitting layer is formed in a stripe shape along the center of the first color filters arranged in a row, and the second light-transmitting layer is formed in a stripe shape along the center of the first color filters arranged in a row. It may be formed in a stripe shape along the center of the filters, and the third light transmission layer may be formed in a stripe shape along the center of the third color filters arranged in a row.
본 문서의 일 실시 예에 따르면, 상기 제1 광투과층은 상기 제1 컬러 필터들 사이에 배치되는 상기 격벽과 중첩되며, 상기 제2 광투과층은 상기 제2 컬러 필터들 사이에 배치되는 상기 격벽과 중첩되며, 상기 제3 광투과층은 상기 제3 컬러 필터들 사이에 배치되는 상기 격벽과 중첩될 수 있다.According to one embodiment of the present document, the first light-transmitting layer overlaps the barrier rib disposed between the first color filters, and the second light-transmitting layer disposed between the second color filters. It overlaps the barrier rib, and the third light transmission layer may overlap the barrier rib disposed between the third color filters.
본 문서의 일 실시 예에 따르면, 상기 제1 광투과층, 상기 제2 광투과층 및 상기 제3 광투과층은 서로 독립적으로 형성될 수 있다.According to one embodiment of the present document, the first light-transmitting layer, the second light-transmitting layer, and the third light-transmitting layer may be formed independently of each other.
본 문서의 일 실시 예에 따르면, 상기 디스플레이는 상기 제1 광투과층, 상기 제2 광투과층 및 상기 제3 광투과층을 연결하는 연결 라인을 더 포함할 수 있다.According to one embodiment of the present document, the display may further include a connection line connecting the first light-transmitting layer, the second light-transmitting layer, and the third light-transmitting layer.
본 문서의 일 실시 예에 따르면, 상기 광투과층의 유전율에 대한 상기 격벽의 유전율의 제1 비는, 상기 격벽의 두께에 대한 상기 제1 서브 화소, 제2 서브 화소 및 제3 서브 화소 중 적어도 어느 하나의 중심으로부터 상기 격벽까지의 거리의 제2 비의 제곱보다 크기가 작을 수 있다.According to an embodiment of the present document, a first ratio of the permittivity of the barrier rib to the permittivity of the light-transmitting layer is at least one of the first sub-pixel, the second sub-pixel, and the third sub-pixel with respect to the thickness of the barrier rib. The size may be smaller than the square of the second ratio of the distance from any one center to the barrier rib.
본 문서의 일 실시 예에 따르면, 디스플레이의 제조 방법은 기판 상에 블랙매트릭스를 형성하는 단계와; 상기 블랙매트릭스가 형성된 기판 상에 제1 컬러 필터, 제2 컬러 필터 및 제3 컬러 필터를 순차적으로 형성하는 단계와; 상기 제1 컬러 필터, 상기 제2 컬러 필터 및 상기 제3 컬러 필터가 형성된 기판 상에 광투과층을 형성하는 단계와; 상기 광투과층이 형성된 기판 상에 격벽을 형성하는 단계와; 상기 격벽이 형성된 기판 상에 노즐을 정렬하고, 상기 노즐과 상기 기판이 안착된 스테이지 사이에 전계를 형성하는 단계와; 상기 노즐을 통해 제1 양자점 잉크를 인쇄하여 제1 색변환층을 형성하는 단계와; 상기 노즐을 통해 제2 양자점 잉크를 인쇄하여 제2 색변환층을 형성하는 단계와; 상기 노즐을 통해 투명 잉크를 인쇄하여 투명층을 형성하는 단계를 포함하며, 상기 광투과층은 상기 기판, 상기 제1 컬러 필터, 상기 제2 컬러 필터, 상기 제3 컬러 필터 및 상기 격벽 중 적어도 어느 하나보다, 전기 전도도 및 유전율 중 적어도 어느 하나가 높을 수 있다.According to one embodiment of the present document, a method of manufacturing a display includes forming a black matrix on a substrate; sequentially forming a first color filter, a second color filter, and a third color filter on the substrate on which the black matrix is formed; forming a light-transmitting layer on the substrate on which the first color filter, the second color filter, and the third color filter are formed; forming barrier ribs on the substrate on which the light-transmitting layer is formed; arranging nozzles on the substrate on which the barrier ribs are formed, and forming an electric field between the nozzles and a stage on which the substrate is seated; forming a first color conversion layer by printing a first quantum dot ink through the nozzle; forming a second color conversion layer by printing second quantum dot ink through the nozzle; and forming a transparent layer by printing transparent ink through the nozzle, wherein the light-transmitting layer comprises at least one of the substrate, the first color filter, the second color filter, the third color filter, and the barrier rib. At least one of electrical conductivity and permittivity may be higher than that.
본 문서의 일 실시 예에 따르면, 상기 광투과층은 상기 격벽과 중첩되며, 상기 제1 기판과 대응되는 크기로 상기 제1 기판 상에 배치될 수 있다.According to one embodiment of the present document, the light transmission layer overlaps the barrier rib and may be disposed on the first substrate in a size corresponding to that of the first substrate.
본 문서의 일 실시 예에 따르면, 상기 광투과층은 복수개의 상기 제1 컬러 필터들 중 적어도 어느 하나의 일부에 배치되는 제1 광투과층과; 복수개의 상기 제2 컬러 필터들 중 적어도 어느 하나의 일부에 배치되는 제2 광투과층과; 복수개의 상기 제3 컬러 필터들 중 적어도 어느 하나의 일부에 배치되는 제3 광투과층을 포함할 수 있다.According to one embodiment of the present document, the light-transmitting layer may include a first light-transmitting layer disposed on a part of at least one of the plurality of first color filters; a second light transmission layer disposed on a part of at least one of the plurality of second color filters; A third light-transmitting layer disposed on a portion of at least one of the plurality of third color filters may be included.
본 문서의 일 실시 예에 따르면, 상기 제1 광투과층, 상기 제2 광투과층 및 제3 광투과층 중 적어도 어느 하나는 투명 도전 재질 및 불투명 도전 재질 중 적어도 어느 하나의 도전 재질로 형성되거나, 이온성 액체를 포함하는 유기 절연 재질로 형성될 수 있다.According to an embodiment of the present document, at least one of the first light-transmitting layer, the second light-transmitting layer, and the third light-transmitting layer is formed of at least one conductive material of a transparent conductive material and an opaque conductive material, or , It may be formed of an organic insulating material containing an ionic liquid.
본 문서의 다양한 실시 예들 및 이에 사용된 용어들은 본 문서에 기재된 기술을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 해당 실시 예의 다양한 변경, 균등물, 및/또는 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 도면의 설명과 관련하여, 유사한 구성요소에 대해서는 유사한 참조 부호가 사용될 수 있다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함할 수 있다. 본 문서에서, "A 또는 B", "A 및/또는 B 중 적어도 하나", "A, B 또는 C" 또는 "A, B 및/또는 C 중 적어도 하나" 등의 표현은 함께 나열된 항목들의 모든 가능한 조합을 포함할 수 있다. "제1," "제2," "첫째," 또는 "둘째,"등의 표현들은 해당 구성요소들을, 순서 또는 중요도에 상관없이 수식할 수 있고, 한 구성요소를 다른 구성요소와 구분하기 위해 사용될 뿐 해당 구성요소들을 한정하지 않는다. 어떤(예: 제1) 구성요소가 다른(예: 제2) 구성요소에 "(기능적으로 또는 통신적으로)연결되어" 있다거나 "접속되어" 있다고 언급된 때에는, 상기 어떤 구성요소가 상기 다른 구성요소에 직접적으로 연결되거나, 다른 구성요소(예: 제 3 구성요소)를 통하여 연결될 수 있다.Various embodiments of this document and terms used therein are not intended to limit the technology described in this document to a specific embodiment, and should be understood to include various modifications, equivalents, and/or substitutes of the embodiments. In connection with the description of the drawings, like reference numerals may be used for like elements. Singular expressions may include plural expressions unless the context clearly dictates otherwise. In this document, expressions such as "A or B", "at least one of A and/or B", "A, B or C" or "at least one of A, B and/or C" refer to all of the items listed together. Possible combinations may be included. Expressions such as "first," "second," "first," or "second," may modify the corresponding components regardless of order or importance, and are used to distinguish one component from another. It is used only and does not limit the corresponding components. When a (e.g., first) element is referred to as being "(functionally or communicatively) connected" or "connected" to another (e.g., second) element, that element refers to the other (e.g., second) element. It may be directly connected to the component or connected through another component (eg, a third component).
본 문서에서, "~하도록 설정된(adapted to or configured to)"은 상황에 따라, 예를 들면, 하드웨어적 또는 소프트웨어적으로 "~에 적합한," "~하는 능력을 가지는," "~하도록 변경된," "~하도록 만들어진," "~를 할 수 있는," 또는 "~하도록 설계된"과 상호 호환적으로(interchangeably) 사용될 수 있다. 어떤 상황에서는, "~하도록 구성된 장치"라는 표현은, 그 장치가 다른 장치 또는 부품들과 함께 "~할 수 있는" 것을 의미할 수 있다. 예를 들면, 문구 "A, B, 및 C를 수행하도록 설정된 (또는 구성된) 프로세서"는 해당 동작들을 수행하기 위한 전용 프로세서(예: 임베디드 프로세서), 또는 메모리 장치(예: 메모리)에 저장된 하나 이상의 프로그램들을 실행함으로써, 해당 동작들을 수행할 수 있는 범용 프로세서(예: CPU 또는 AP)를 의미할 수 있다. In this document, "adapted to or configured to" means "adapted to or configured to" depending on the situation, for example, hardware or software "adapted to," "having the ability to," "changed to," ""made to," "capable of," or "designed to" can be used interchangeably. In some contexts, the expression "device configured to" can mean that the device is "capable of" in conjunction with other devices or components. For example, the phrase “a processor configured (or configured) to perform A, B, and C” may include a dedicated processor (eg, embedded processor), or one or more stored in a memory device (eg, memory) to perform the operations. By executing programs, it may mean a general-purpose processor (eg, CPU or AP) capable of performing corresponding operations.
본 문서에서 사용된 용어 "모듈"은 하드웨어, 소프트웨어 또는 펌웨어(firmware)로 구성된 유닛(unit)을 포함하며, 예를 들면, 로직, 논리 블록, 부품, 또는 회로 등의 용어와 상호 호환적으로 사용될 수 있다. "모듈"은, 일체로 구성된 부품 또는 하나 또는 그 이상의 기능을 수행하는 최소 단위 또는 그 일부가 될 수 있다. "모듈"은 기계적으로 또는 전자적으로 구현될 수 있으며, 예를 들면, 어떤 동작들을 수행하는, 알려졌거나 앞으로 개발될, ASIC(application-specific integrated circuit) 칩, FPGAs(field-programmable gate arrays), 또는 프로그램 가능 논리 장치를 포함할 수 있다.The term "module" used in this document includes a unit composed of hardware, software, or firmware, and may be used interchangeably with terms such as logic, logic blocks, parts, or circuits, for example. can A “module” may be an integrally constructed component or a minimal unit or part thereof that performs one or more functions. A "module" may be implemented mechanically or electronically, for example, a known or future developed application-specific integrated circuit (ASIC) chip, field-programmable gate arrays (FPGAs), or A programmable logic device may be included.
다양한 실시 예들에 따른 장치(예: 모듈들 또는 그 기능들) 또는 방법(예: 동작들)의 적어도 일부는 프로그램 모듈의 형태로 컴퓨터로 판독 가능한 저장 매체(예: 메모리)에 저장된 명령어로 구현될 수 있다. 상기 명령어가 프로세서(예: 프로세서)에 의해 실행될 경우, 프로세서가 상기 명령어에 해당하는 기능을 수행할 수 있다. 컴퓨터로 판독 가능한 기록 매체는, 하드디스크, 플로피디스크, 마그네틱 매체(예: 자기테이프), 광기록 매체(예: CD-ROM, DVD, 자기-광 매체(예: 플롭티컬 디스크), 내장 메모리 등을 포함할 수 있다. 명령어는 컴파일러에 의해 만들어지는 코드 또는 인터프리터에 의해 실행될 수 있는 코드를 포함할 수 있다.At least some of devices (eg, modules or functions thereof) or methods (eg, operations) according to various embodiments may be implemented as instructions stored in a computer-readable storage medium (eg, memory) in the form of program modules. can When the command is executed by a processor (eg, a processor), the processor may perform a function corresponding to the command. Computer-readable recording media include hard disks, floppy disks, magnetic media (e.g. magnetic tape), optical recording media (e.g. CD-ROM, DVD, magneto-optical media (e.g. floptical disks), built-in memory, etc.) The instruction may include code generated by a compiler or code executable by an interpreter.
다양한 실시 예들에 따른 구성 요소(예: 모듈 또는 프로그램 모듈) 각각은 단수 또는 복수의 개체로 구성될 수 있으며, 전술한 해당 서브 구성 요소들 중 일부 서브 구성 요소가 생략되거나, 또는 다른 서브 구성 요소를 더 포함할 수 있다. 대체적으로 또는 추가적으로, 일부 구성 요소들(예: 모듈 또는 프로그램 모듈)은 하나의 개체로 통합되어, 통합되기 이전의 각각의 해당 구성 요소에 의해 수행되는 기능을 동일 또는 유사하게 수행할 수 있다. 다양한 실시 예들에 따른 모듈, 프로그램 모듈 또는 다른 구성 요소에 의해 수행되는 동작들은 순차적, 병렬적, 반복적 또는 휴리스틱(heuristic)하게 실행되거나, 적어도 일부 동작이 다른 순서로 실행되거나, 생략되거나, 또는 다른 동작이 추가될 수 있다.Each component (eg, module or program module) according to various embodiments may be composed of a single object or a plurality of entities, and some sub-components among the aforementioned corresponding sub-components may be omitted, or other sub-components may be used. can include more. Alternatively or additionally, some components (eg, modules or program modules) may be integrated into one entity and perform the same or similar functions performed by each corresponding component prior to integration. Operations performed by modules, program modules, or other components according to various embodiments are executed sequentially, in parallel, repetitively, or heuristically, or at least some operations are executed in a different order, omitted, or other operations. this may be added.

Claims (15)

  1. 서로 다른 색을 구현하는 제1 서브 화소, 제2 서브 화소 및 제3 서브 화소를 포함하는 디스플레이에 있어서,In a display including a first sub-pixel, a second sub-pixel, and a third sub-pixel implementing different colors,
    상기 제1 서브 화소와 대응되도록 제1 기판 상에 배치되는 제1 색변환층과;a first color conversion layer disposed on a first substrate to correspond to the first sub-pixel;
    상기 제1 색변환층과 중첩되도록 배치되는 제1 컬러 필터와;a first color filter disposed to overlap the first color conversion layer;
    상기 제2 서브 화소와 대응되도록 상기 제1 기판 상에 배치되는 제2 색변환층과;a second color conversion layer disposed on the first substrate to correspond to the second sub-pixel;
    상기 제2 색변환층과 중첩되도록 배치되는 제2 컬러 필터와;a second color filter disposed to overlap the second color conversion layer;
    상기 제3 서브 화소와 대응되도록 상기 제1 기판 상에 배치되는 투명층과;a transparent layer disposed on the first substrate to correspond to the third sub-pixel;
    상기 투명층과 중첩되도록 배치되는 제3 컬러 필터와;a third color filter disposed to overlap the transparent layer;
    상기 제1 색변환층, 상기 제2 색변환층 및 상기 투명층 각각을 둘러싸도록 배치되는 격벽과;barrier ribs disposed to surround each of the first color conversion layer, the second color conversion layer, and the transparent layer;
    상기 격벽과 중첩되도록 배치되는 블랙매트릭스와;a black matrix disposed to overlap the barrier rib;
    상기 제1 색변환층 및 상기 제1 컬러필터 사이와, 상기 제2 색변환층 및 상기 제2 컬러 필터 사이와, 상기 투명층 및 상기 제3 컬러 필터 사이에 배치되는 광투과층을 구비하며,a light-transmitting layer disposed between the first color conversion layer and the first color filter, between the second color conversion layer and the second color filter, and between the transparent layer and the third color filter;
    상기 광투과층은 상기 블랙매트릭스, 상기 제1 컬러 필터, 상기 제2 컬러 필터, 상기 제3 컬러 필터 및 상기 격벽 중 적어도 어느 하나보다, 전기 전도도 및 유전율 중 적어도 어느 하나가 높은 디스플레이.The light-transmitting layer has at least one of electrical conductivity and dielectric constant higher than at least any one of the black matrix, the first color filter, the second color filter, the third color filter, and the barrier rib.
  2. 제 1 항에 있어서,According to claim 1,
    상기 광투과층은 상기 격벽과 중첩되며, 상기 제1 기판과 대응되는 크기로 상기 제1 기판 상에 배치되는 디스플레이.The light-transmitting layer overlaps the barrier rib and is disposed on the first substrate in a size corresponding to that of the first substrate.
  3. 제 1 항에 있어서,According to claim 1,
    상기 광투과층은 투명 도전 재질 및 불투명 도전 재질 중 적어도 어느 하나로 형성되는 디스플레이.The light-transmitting layer is formed of at least one of a transparent conductive material and an opaque conductive material.
  4. 제 3 항에 있어서,According to claim 3,
    상기 광투과층은 상기 제1 컬러 필터, 상기 제2 컬러 필터 및 상기 제3 컬러 필터 중 어느 하나보다 두께가 얇은 디스플레이.The light-transmitting layer is thinner than any one of the first color filter, the second color filter, and the third color filter.
  5. 제 4 항에 있어서,According to claim 4,
    상기 제1 컬러 필터, 상기 제2 컬러 필터, 상기 제3 컬러 필터들 및 상기 블랙매트릭스를 덮도록 배치되는 평탄화층을 더 포함하며,a planarization layer disposed to cover the first color filter, the second color filter, the third color filter, and the black matrix;
    상기 평탄화층은 상기 광투과층의 일면과 접촉하거나, 상기 일면의 반대면인 상기 광투과층의 타면과 접촉하는 디스플레이.The flattening layer is in contact with one surface of the light-transmitting layer or in contact with the other surface of the light-transmitting layer, which is a surface opposite to the one surface.
  6. 제 1 항에 있어서,According to claim 1,
    상기 광투과층은 상기 제1 컬러 필터, 상기 제2 컬러 필터, 상기 제3 컬러 필터들 및 상기 블랙매트릭스를 덮도록 배치되며,the light transmission layer is disposed to cover the first color filter, the second color filter, the third color filter and the black matrix;
    상기 광투과층은 이온성 액체를 포함하는 유기 절연 재질로 형성되는 디스플레이.The light-transmitting layer is a display formed of an organic insulating material containing an ionic liquid.
  7. 제 1 항에 있어서,According to claim 1,
    상기 광투과층은The light-transmitting layer is
    상기 기판 상에 배치되는 제1 광투과층과;a first light transmission layer disposed on the substrate;
    상기 제1 광투과층 상에 배치되는 제2 광투과층을 포함하며,A second light-transmitting layer disposed on the first light-transmitting layer;
    상기 제1 광투과층 및 상기 제2 광투과층 중 어느 하나는 투명 도전 재질 및 불투명 도전 재질 중 적어도 어느 하나의 도전 재질 및 이온성 액체를 포함하는 유기 절연 재질 중 어느 한 재질로 형성되며,Any one of the first light-transmitting layer and the second light-transmitting layer is formed of at least one conductive material of a transparent conductive material and an opaque conductive material and any one of an organic insulating material containing an ionic liquid,
    상기 제1 광투과층 및 상기 제2 광투과층 중 나머지 하나는 투명 도전 재질 및 불투명 도전 재질 중 적어도 어느 하나의 도전 재질 및 이온성 액체를 포함하는 유기 절연 재질 중 나머지 한 재질로 형성되는 디스플레이.The other one of the first light-transmitting layer and the second light-transmitting layer is formed of at least one conductive material of a transparent conductive material and an opaque conductive material and the other of an organic insulating material containing an ionic liquid.
  8. 제 1 항에 있어서,According to claim 1,
    상기 광투과층은 The light-transmitting layer is
    복수개의 상기 제1 컬러 필터들 중 적어도 어느 하나의 일부에 배치되는 제1 광투과층과;a first light-transmitting layer disposed on a part of at least one of the plurality of first color filters;
    복수개의 상기 제2 컬러 필터들 중 적어도 어느 하나의 일부에 배치되는 제2 광투과층과;a second light transmission layer disposed on a part of at least one of the plurality of second color filters;
    복수개의 상기 제3 컬러 필터들 중 적어도 어느 하나의 일부에 배치되는 제3 광투과층을 포함하는 디스플레이.A display comprising a third light transmission layer disposed on a part of at least one of the plurality of third color filters.
  9. 제 8 항에 있어서,According to claim 8,
    상기 제1 광투과층, 상기 제2 광투과층 및 제3 광투과층 중 적어도 어느 하나는At least one of the first light-transmitting layer, the second light-transmitting layer, and the third light-transmitting layer
    투명 도전 재질 및 불투명 도전 재질 중 적어도 어느 하나의 도전 재질로 형성되거나, 이온성 액체를 포함하는 유기 절연 재질로 형성되는 디스플레이.A display formed of at least one of a transparent conductive material and an opaque conductive material, or formed of an organic insulating material containing an ionic liquid.
  10. 제 8 항에 있어서,According to claim 8,
    상기 제1 광투과층은 상기 제1 컬러 필터들의 중앙 영역 상에 배치되며, 상기 제1 컬러 필터들 사이에 배치되는 상기 격벽과 비중첩되며,the first light-transmitting layer is disposed on a central region of the first color filters and does not overlap with the barrier rib disposed between the first color filters;
    상기 제2 광투과층은 상기 제2 컬러 필터들의 중앙 영역 상에 배치되며, 상기 제2 컬러 필터들 사이에 배치되는 상기 격벽과 비중첩되며,the second light-transmitting layer is disposed on a central region of the second color filters and does not overlap with the barrier rib disposed between the second color filters;
    상기 제3 광투과층은 상기 제3 컬러 필터들의 중앙 영역 상에 배치되며, 상기 제3 컬러 필터들 사이에 배치되는 상기 격벽과 비중첩되는 디스플레이.The third light-transmitting layer is disposed on a central region of the third color filters and does not overlap with the barrier rib disposed between the third color filters.
  11. 제 8 항에 있어서,According to claim 8,
    상기 제1 광투과층은 일렬로 배치된 상기 제1 컬러 필터들의 중앙을 따라서 스트라이프 형태로 형성되며,The first light-transmitting layer is formed in a stripe shape along the center of the first color filters arranged in a row;
    상기 제2 광투과층은 일렬로 배치된 상기 제2 컬러 필터들의 중앙을 따라서 스트라이프 형태로 형성되며,The second light-transmitting layer is formed in a stripe shape along the center of the second color filters arranged in a row;
    상기 제3 광투과층은 일렬로 배치된 상기 제3 컬러 필터들의 중앙을 따라서 스트라이프 형태로 형성되는 디스플레이.The third light-transmitting layer is formed in a stripe shape along the center of the third color filters arranged in a row.
  12. 제 11 항에 있어서,According to claim 11,
    상기 제1 광투과층은 상기 제1 컬러 필터들 사이에 배치되는 상기 격벽과 중첩되며,The first light-transmitting layer overlaps the barrier rib disposed between the first color filters;
    상기 제2 광투과층은 상기 제2 컬러 필터들 사이에 배치되는 상기 격벽과 중첩되며,the second light-transmitting layer overlaps the barrier rib disposed between the second color filters;
    상기 제3 광투과층은 상기 제3 컬러 필터들 사이에 배치되는 상기 격벽과 중첩되는 디스플레이.The third light-transmitting layer overlaps the barrier rib disposed between the third color filters.
  13. 제 8 항에 있어서,According to claim 8,
    상기 제1 광투과층, 상기 제2 광투과층 및 상기 제3 광투과층은 서로 독립적으로 형성되는 디스플레이.The first light-transmitting layer, the second light-transmitting layer, and the third light-transmitting layer are formed independently of each other.
  14. 제 8 항에 있어서,According to claim 8,
    상기 제1 광투과층, 상기 제2 광투과층 및 상기 제3 광투과층을 연결하는 연결 라인을 더 포함하는 디스플레이.The display further comprises a connection line connecting the first light-transmitting layer, the second light-transmitting layer and the third light-transmitting layer.
  15. 제 1 항에 있어서,According to claim 1,
    상기 광투과층의 유전율에 대한 상기 격벽의 유전율의 제1 비는, A first ratio of the permittivity of the barrier rib to the permittivity of the light-transmitting layer,
    상기 격벽의 두께에 대한 상기 제1 서브 화소, 제2 서브 화소 및 제3 서브 화소 중 적어도 어느 하나의 중심으로부터 상기 격벽까지의 거리의 제2 비의 제곱보다 크기가 작은 디스플레이.The display of claim 1 , wherein the size is smaller than the square of a second ratio of a distance from a center of at least one of the first sub-pixel, the second sub-pixel, and the third sub-pixel to the thickness of the barrier rib to the barrier rib.
PCT/KR2023/000147 2022-01-07 2023-01-04 Display comprising color conversion layer and manufacturing method therefor WO2023132620A1 (en)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR20220002663 2022-01-07
KR10-2022-0002663 2022-01-07
KR10-2022-0007179 2022-01-18
KR1020220007179A KR20230107070A (en) 2022-01-07 2022-01-18 Display including color conversion layer and method for fabricationg the same

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2023132620A1 true WO2023132620A1 (en) 2023-07-13

Family

ID=87073901

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/KR2023/000147 WO2023132620A1 (en) 2022-01-07 2023-01-04 Display comprising color conversion layer and manufacturing method therefor

Country Status (1)

Country Link
WO (1) WO2023132620A1 (en)

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009251499A (en) * 2008-04-10 2009-10-29 Fuji Electric Holdings Co Ltd Method of manufacturing color conversion filter
KR20180036840A (en) * 2016-09-30 2018-04-10 엘지디스플레이 주식회사 Organic emitting light display device
KR20190118224A (en) * 2018-04-09 2019-10-18 삼성디스플레이 주식회사 Color conversion substrate and display device including the same
KR20200031750A (en) * 2018-09-14 2020-03-25 삼성디스플레이 주식회사 Color filter and display device including the same
KR20210142031A (en) * 2020-05-14 2021-11-24 삼성디스플레이 주식회사 Display apparatus

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009251499A (en) * 2008-04-10 2009-10-29 Fuji Electric Holdings Co Ltd Method of manufacturing color conversion filter
KR20180036840A (en) * 2016-09-30 2018-04-10 엘지디스플레이 주식회사 Organic emitting light display device
KR20190118224A (en) * 2018-04-09 2019-10-18 삼성디스플레이 주식회사 Color conversion substrate and display device including the same
KR20200031750A (en) * 2018-09-14 2020-03-25 삼성디스플레이 주식회사 Color filter and display device including the same
KR20210142031A (en) * 2020-05-14 2021-11-24 삼성디스플레이 주식회사 Display apparatus

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2022035236A1 (en) Electronic device comprising display with variable display area and control method
WO2022085915A1 (en) Electronic apparatus comprising display
WO2023132620A1 (en) Display comprising color conversion layer and manufacturing method therefor
US20230402435A1 (en) Micro-light-emitting diode display apparatus and method of manufacturing the same
WO2022182123A1 (en) Electronic device including optical sensor embedded in display
WO2023085784A1 (en) Electronic apparatus comprising flexible display and sliding structure
WO2022197076A1 (en) Electronic device and method for correcting typographical errors
US20220293669A1 (en) Display apparatus and method of manufacturing the same
US11672144B2 (en) Display device
KR20230107070A (en) Display including color conversion layer and method for fabricationg the same
WO2024053902A1 (en) Display panel comprising light control material, and electronic device
WO2023017967A1 (en) Electronic device comprising display
WO2023128364A1 (en) Display panel for under display camera (udc), and electronic device comprising same
WO2023017999A1 (en) Electronic device comprising display
WO2022255789A1 (en) Electronic device comprising touch screen and operating method therefor
WO2023033365A1 (en) Electronic device comprising display and method for operating same
WO2023027356A1 (en) Electronic device and electronic device control method
WO2022265269A1 (en) Electronic device and method for predicting and compensating for residual image on display
WO2024096365A1 (en) Display including structure for reducing damage and electronic device comprising same
WO2023085826A1 (en) Electronic device for generating image and method thereof
WO2023136436A1 (en) Electronic device comprising display panel
US11436861B2 (en) Display device
WO2023058874A1 (en) Method for providing image and electronic device supporting same
WO2022225253A1 (en) Electronic device comprising display, and operation method therefor
WO2022065814A1 (en) Electronic device comprising display module

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 23737368

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1