WO2023006277A1 - Passivierungsvorrichtung, filtersystem, vorrichtung zur additiven herstellung dreidimensionaler objekte, verfahren zum passivieren und verfahren zum filtern - Google Patents

Passivierungsvorrichtung, filtersystem, vorrichtung zur additiven herstellung dreidimensionaler objekte, verfahren zum passivieren und verfahren zum filtern Download PDF

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WO2023006277A1
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WO
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filter
fluid
passivation
filter residue
chamber
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PCT/EP2022/064732
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Ulrich Kleinhans
Philip STRÖBEL
Fatime Imetovska
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Eos Gmbh Electro Optical Systems
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    • B01D46/0084—Filters or filtering processes specially modified for separating dispersed particles from gases or vapours provided with safety means
    • B01D46/0091—Including arrangements for environmental or personal protection
    • B01D46/0093—Including arrangements for environmental or personal protection against fire or explosion
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    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
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    • B22F2999/00—Aspects linked to processes or compositions used in powder metallurgy

Definitions

  • the present invention relates to a passivation device, a filter system comprising such a passivation device, a device for the additive manufacture of three-dimensional objects comprising such a filter system, a passivation method a filter residue occurring in a filter device and a method for filtering a process gas.
  • Devices and methods for the additive manufacturing of three-dimensional objects are used, for example, in methods referred to as “rapid prototyping", “rapid tooling” and “additive manufacturing”.
  • rapid prototyping "rapid tooling” and “additive manufacturing”.
  • An example of such a process is known under the name “selective laser sintering" or "selective laser melting”.
  • a layer of a build-up material is repeatedly applied and the build-up material in each layer is selectively solidified by selectively irradiating the cross-section of the object to be produced in this layer with a laser beam, for example by exposing the build-up material at these locations to the beam provided by the laser beam Energy is partially or completely melted and the melt then solidifies on cooling. Further details are described in EP 2978589 B1, for example.
  • a process gas atmosphere is often maintained in the process chamber in which the building material is selectively treated by means of radiation.
  • the process gas atmosphere is usually an inert gas atmosphere (also referred to as a "protective gas atmosphere"), since some construction materials, especially if they contain metal, tend to oxidize at the high temperatures that occur, which prevents the formation of objects or at least the formation of objects with the desired material structure would prevent.
  • an inert gas atmosphere also referred to as a "protective gas atmosphere”
  • some construction materials especially if they contain metal, tend to oxidize at the high temperatures that occur, which prevents the formation of objects or at least the formation of objects with the desired material structure would prevent.
  • titanium could start burning uncontrollably in the presence of oxygen.
  • a flow of process gas is passed over the construction level, ie the surface of a construction material layer to be solidified.
  • part of the building material is often vaporized as a result of the irradiation, which leads to the formation of condensates after the vapors formed have resolidified.
  • part of the construction material is often stirred up during the process.
  • spatter can form during the process. These are often solidified droplets of the melt of the building material with a diameter of between 20 and 300 ⁇ m, for example. For example, when the laser beam pierces, spatter is thrown out of the resulting melt or the melt pool. Such spatter can also contaminate the process gas. Because of the condensates and/or the build-up material whirled up and/or the spatter and/or other impurities in the form of particles or droplets carried along by the process gas, it is necessary to free the process gas from these undesired ones. This is particularly the case when the process gas is circulated, i.e.
  • US 2014/0287080 describes how a closed gas flow circuit is provided for this purpose, with which a gas flow is guided through the process chamber of a selective laser melting device, with two filter devices being arranged in the gas flow circuit, each having a filter element.
  • DE 102014207160 A1 describes a cyclical cleaning of a filter element of a circulating air filter device by means of a gas pressure surge.
  • metal-containing or metallic structural materials e.g. titanium or titanium alloys
  • the particles tend to react with oxidative materials at high temperatures, with the reaction rate increasing at high temperatures.
  • Metal condensate can self-ignite spontaneously at room temperature and in contact with atmospheric oxygen, so it is usually pyrophoric.
  • the amount of additive particles is selected in such a way that the mixture of these particles with dust that has been introduced does not represent a combustible mixture, at least until an upper filling level of a dust container is reached.
  • Calcium carbonate particles and silicon dioxide particles are mentioned as additive particles in connection with aluminum dust.
  • additional particles in addition to their provision and their costs, it is also accepted that the upper filling level will be reached more quickly, so that the dust container has to be emptied more often.
  • the additive particles can also be referred to as "filter aid”.
  • DE 102017207415 A1 describes the treatment of particles separated by a filter element in a separate treatment chamber outside the filter chamber. The formation of superficial oxide layers on the particles by adding oxygen to the treatment chamber in which the particles are located is described.
  • the object of the present invention is to provide an alternative or improved passivation device or an alternative or improved filter system or an alternative or improved device for the additive production of three-dimensional objects or an alternative or improved method for passivating a filter residue occurring in a filter device or a to provide an alternative or improved method for filtering a process gas.
  • This object is achieved by the passivation device according to claim 1, the filter system according to claim 11, the device for the additive manufacturing of three-dimensional objects according to claim 19, the system for the additive manufacturing of three-dimensional objects according to claim 20, the method according to claim 21 and the method according to claim 26
  • Further developments of the invention are specified in the dependent claims. The methods can also be further developed by the features of the devices listed in the following description and in the dependent claims.
  • the passivation device according to the invention is a passivation device for passivating a filter residue occurring in a filter device.
  • the passivation device according to the invention comprises an outlet region which can be directly or indirectly coupled or is coupled to the filter device and which is designed to receive filter residue from the filter device.
  • the passivation device according to the invention also includes a fluid supply for supplying a fluid flow from a fluid, which can include a passivating agent, into the outlet area.
  • the passivation device according to the invention also includes a fluid discharge for discharging the fluid flow and the filter residue from the outlet area.
  • the passivation device according to the invention also comprises an energy supply device for applying energy to the fluid flow and/or the filter residue.
  • the passivation device optionally comprises a passivation agent supply for adding a passivation agent to the fluid flow.
  • the passivation device according to the invention is designed and/or controllable to bring about a chemical reaction between the filter residue and the passivation agent at least partially in the entrained flow.
  • the filter device can be or is coupled directly and/or indirectly to the outlet area.
  • the term "indirect coupling” is used when an intermediate chamber, a connecting line, a pipe or the like is provided between the filter device and the outlet area.
  • An intermediate chamber or a connecting line is a chamber or line that is arranged between the filter device and the outlet area, so that filter residue, for example, has to pass through the intermediate chamber or connecting line in order to get from the filter device into the outlet area.
  • directly docking occurs when an intermediate chamber and connecting conduit are absent.
  • the filter device is preferably detachably coupled or can be coupled to the outlet area. This means that the components coupled to one another can be separated again.
  • the area mentioned is therefore referred to as the "exit area” because it is the area of the passivation device into which the filter residue exiting the filter device first reaches before it is conveyed further with the fluid flow through the fluid discharge.
  • energy e.g. in the form of thermal energy
  • a reaction between the filter residue and the passivation agent is accelerated or brought about, for example.
  • chemical reactions often run faster at elevated temperatures or the activation energy barrier can often be overcome by elevated temperatures, so that the chemical reaction only begins when energy is applied.
  • mass transport e.g. passivating agent supply
  • the reaction rate can increase exponentially with temperature, for example.
  • a liquid for example an oil (e.g. silicone oil), can be used, which wets the filter residue and thus protects it from unwanted oxygen ingress.
  • a liquid can, for example, be added to the filter residue in the waste container.
  • the filter residue is usually indirectly energized when energy is added to the fluid flow and vice versa.
  • relatively rapid thermal equilibration occurs between the particles of filter cake and the fluid of the fluid stream with which the particles are in contact, particularly in the case of small particles.
  • the passivation device is designed and/or controllable to bring about a chemical reaction between the filter residue and the passivation agent at least partially in the entrained flow.
  • the term "partly” means that the chemical reaction not only has to take place in the entrained flow, but can also take place in part when the filter residue and the passivating agent are not yet or no longer in the state of an entrained flow.
  • the chemical reaction can continue at least to a certain extent after the filter residue has been transported by the fluid flow, i.e. in an entrained flow, to a catchment.
  • the chemical reaction does not have to be complete, i.e. the filter residue does not have to be completely chemically converted by the passivating agent.
  • the particles of the filter residue form a superficial passivation layer as a result of the chemical reaction.
  • a passivation layer can serve, for example, as a protective layer and prevent the particles from being oxidized when they come into contact with oxygen.
  • an oxide layer produced in a targeted manner by means of passivation can prevent titanium particles from reacting unintentionally when they come into contact with oxygen or air.
  • An entrained flow is understood to mean a two-phase flow of a fluid and a particulate solid, i.e. a flowing aerosol.
  • the contact between the fluid and the solid and the movement can, for example, enable an intensive and rapid mass and/or heat exchange.
  • the desired chemical reaction can in turn be accelerated or made possible in the first place.
  • the use of a fluid stream is therefore provided for three purposes in a combined manner: First, the fluid stream serves to convey the filter residue from the outlet area, where it emerges from the filter device, through the conveying line. This allows the filter residue to be transported to a collection point, e.g. a waste container. Secondly, the fluid flow serves to generate an entrained flow, which accelerates the chemical reaction for passivation, for example. Thus, the filter residue can be removed from the delivery line in a passivated state, for example exit.
  • the passivating agent is contained within the fluid stream. This can, for example, simplify the passivation and thus the passivation device compared to a separate addition of passivating agent. Intensive mixing in the entrained flow can also be particularly advantageous, for example, if a solid powder, for example lime powder and/or silicon dioxide powder (quartz powder) and/or glass powder, is used as an inerting agent in addition to the passivating agent in order to increase the combustibility and/or flammability of the filter residue to reduce.
  • a solid powder for example lime powder and/or silicon dioxide powder (quartz powder) and/or glass powder
  • glass powder proves to be advantageous because it melts at lower temperatures than, for example, quartz powder, so that even at relatively low temperatures the filter residues can be at least partially covered with glass melt or solidified glass melt, which can lead to a reduction in the risk of fire .
  • the filter residue can, for example, be mechanically stressed by the entrained flow, for example by the particles of the filter residue colliding with one another and/or against a wall and/or against particles of an inerting agent. As a result, it may be possible, for example, for the filter residue particles to at least partially break up into smaller particles. In particular, in this way, for example, agglomerates of relatively weakly bonded primary particles can be broken up.
  • broken agglomerates can, for example, be easier to passivate than unbroken agglomerates.
  • inerting agents with sharp-edged particles can be well suited for this.
  • a more effective passivation of the filter residue can be achieved by the invention, for example, and the risk of waste igniting itself can be reduced or completely eliminated. This can, for example, enable the waste or the container containing the waste to be removed safely.
  • the promotion in the entrained flow can lead to homogenization and compaction of the waste produced, consisting of filter residue and optionally filter aid come, whereby, for example, the service life of a container for the waste can be reduced.
  • the fluid discharge of the passivation device according to the invention is preferably designed as a conveying line.
  • the conveying line preferably has an inner diameter of at least 2 mm and/or at most 60 mm, at least in one area.
  • the conveying line more preferably has an inner diameter of at least 10 mm and/or at most 50 mm, even more preferably at least 20 mm and/or at most 40 mm.
  • the conveying line has the mentioned inner diameter at least in a region of its length, but in particular along its entire length.
  • the fluid discharge of the passivation device according to the invention is preferably designed as a conveying line.
  • the conveying line preferably has a length and an inside diameter averaged over the length for which the ratio of length to average inside diameter is at least 30:1.
  • the length of the delivery line is defined as the length of the delivery line between its first end, which is connected to the outlet area and at which the fluid stream enters, and its second end, at which the fluid stream exits and which is connected, for example, to a collector (see below) is connected, understood.
  • the inner diameter averaged over the length is understood to mean the average inner diameter, i.e. the inner diameter arithmetically averaged over the entire length of the delivery line. For example, if the inside diameter is constant over the entire length of the delivery line, e.g.
  • the delivery line is a cylindrical tube, this constant inside diameter is equal to the average inside diameter.
  • the inner diameter is understood in the context of this invention as the diameter of a circular area that has the same surface area as the clear cross-section of the conveying line.
  • the fire protection behavior and/or the explosion protection behavior of the passivation device can be improved, for example, since the risk of an unintentional fire or an unintentional explosion from one area of the passivation device propagating through the conveyor line to another area of the passivation device is reduced becomes.
  • the delivery line has a diameter that is sufficient for effective delivery.
  • the maximum gap width (MESG) for a specific gas mixture is a measure that is determined in a standardized procedure (international standard IEC (International Electrotechnical Commission) 60079-1).
  • the maximum width a 25 mm long gap in a container of the gas can have so that ignition is still prevented (EN (European standard) 60079-20-1) is determined. This measure is not directly applicable to the present invention.
  • the standard geometry of a 25 mm long gap does not correspond to the typical geometry of the cross-section of the conveying line.
  • the fire and ignition properties of the fluid conveyed through the conveying line depend on the composition of the fluid and above all on the nature (chemical composition, surface area, particle size, etc.) and the concentration of the filter residue conveyed by the conveying fluid.
  • the principle underlying the dimension of the limit gap width is applicable to the present invention. It states that a relatively small cross-section of a line makes it difficult or impossible to ignite out of the line, into the line and through the line.
  • a conveyor line can be provided, for example, which corresponds to an entrained flow long enough for effective passivation and with which the advantageous fire protection behavior and/or explosion protection behavior described above can be implemented is.
  • the fluid discharge of the passivation device according to the invention is preferably designed as a conveying line.
  • the passivation device is preferably designed and/or controllable in such a way that a dwell time of the filter residue in the delivery line of at least 0.1 s, more preferably at least 0.15 s, even more preferably at least 0.
  • the dwell time in the conveying line is the time that a filter residue particle requires on average to be transported from the beginning to the end of the conveying line, in particular along the entire route in the entrained flow. This gives the filter residue, for example, sufficient time for the application of energy and the chemical reaction, preferably without making the delivery line unnecessarily long.
  • the passivation device is preferably designed to convey the filter residue exclusively by means of the fluid flow. This means that, for example, an additional mechanical conveyor device such as a screw conveyor can be dispensed with.
  • the passivation device is preferably designed to convey the fluid flow at least in the area of the outlet area and the fluid discharge without the influence of a turbomachine and without the influence of a piston machine.
  • a turbomachine is a machine for conveying a fluid by means of rotor blades, vanes, vanes or other driven components. Due to the fact that the conveyance in this area, in which the fluid flow is loaded with filter residue, takes place without such a machine, the maintenance effort or the susceptibility to failure of the passivation device can be reduced, for example because devices with driven components are particularly sensitive to contamination with solids.
  • the conveyance of the filter residue in the fluid discharge is preferably independent of gravity.
  • the fluid discharge can be oriented as desired in space, which is accompanied by improved flexibility in the construction of the passivation device, so that the passivation device can be arranged in a more space-saving manner, for example.
  • the energy supply device is preferably a heating device, in particular a heating device which is designed to heat the fluid flow while it flows through the heating device.
  • a heating device for example, energy can be provided in a form with which the passivation reaction can be accelerated or initiated in an effective manner, since chemical reactions often take place more quickly at elevated temperatures or the activation energy barrier can often be overcome by elevated temperatures.
  • the energy supply device is arranged such that the fluid stream is heated to a predefined minimum target temperature before it enters the exit region.
  • the filter residue can already be charged with energy when it comes into contact with the fluid flow, so that the reaction is accelerated or initiated at an early stage and thus the longest possible reaction time and/or the highest possible conversion are achieved.
  • the energy supply device is preferably designed and arranged to supply energy to at least one element selected from the group consisting of fluid supply, outlet region and fluid discharge in order to apply energy to the fluid flow.
  • the energy supply device can be arranged, for example, at a point on the passivation device at which it effectively introduces energy for accelerating or initiating the desired chemical reaction.
  • the fluid supply preferably includes a nozzle, which is designed and/or arranged in such a way that the fluid flow conducted through the nozzle is accelerated in such a way that a suction pressure for conveying the filter residue out of the filter device and a fluid optionally located in the filter device into the outlet area are generated , wherein the filter residue is conveyed with the fluid flow through the fluid discharge from the outlet area, wherein the nozzle is more preferably designed as an ejector nozzle or Venturi nozzle and/or wherein the nozzle is more preferably designed, a speed and/or a diameter of the material passing through the nozzle set fluid flow.
  • a suction nozzle can, for example, effectively transport the filter residue from the filter device into the passivation device.
  • an ejector nozzle can provide this suction effect.
  • an ejector is a jet pump in which the pumping effect is generated by the flow of your flow of pumping fluid (also known as "driving medium"), so that another medium (also known as "suction medium”) is sucked in and pumped.
  • the filter residue is included in the suction medium or is sucked out of the first collection area together with the suction medium in the form of a fluid.
  • the media are preferably mixed, so that a corresponding mixture is conveyed through the conveying line.
  • the present invention is not limited to the use of an ejector, which will become clear from the following description of exemplary embodiments without an ejector.
  • the filter residue it is possible, for example, for the filter residue to reach the outlet area under the effect of gravity and to be caught there by a fluid flow and transported further, with the fluid flow being generated by a fan, for example.
  • the use of an ejector has proven to be advantageous in many cases, for example because in the ejector or downstream of the ejector an effective breaking up of Filter residue particles can be done without requiring a separate device such as a cross-sectional constriction in the delivery line is required.
  • the delivery line preferably includes a check valve.
  • the delivery line can be shut off in a fluid-tight manner when a collector connected to one end of the delivery line is uncoupled, so that no material can escape from the passivation device or enter the passivation device.
  • the shut-off valve is more preferably arranged in the region of the end of the delivery line which is connected or can be connected to a catchment.
  • the delivery line is preferably designed as a rigid line, more preferably as a metal tube, even more preferably a metal tube with a wall thickness of at least 0.5 mm, more preferably at least 1 mm, even more preferably at least 2 mm, particularly preferably at least 5 mm .
  • a rigid line in particular a rigid line made of a metallic material such as a metal tube, can provide sufficient stability.
  • a metal pipe can be sufficiently pressure-resistant.
  • the delivery line is preferably thermally insulated.
  • the filter residue and the fluid in the delivery line can be kept at an elevated temperature, which can be desirable, for example, if the filter residue is to react chemically with the fluid because an elevated temperature accelerates the chemical reaction (e.g. oxidation with the fluid contained oxygen).
  • the passivation device preferably comprises a catch for collecting passivated filter residue, the catch being in fluid connection with the outlet area via the delivery line without check valve or the delivery line when the check valve is open. For example, passivated filter residue can be collected in a catchment area for subsequent treatment or disposal.
  • a catch is a container.
  • the passivation device preferably comprises a passivation agent supply for supplying the passivation agent.
  • the fluid that initially forms the fluid flow can be taken from a fluid reservoir that does not contain the passivating agent.
  • a commercially available compressed gas bottle filled with inert gas e.g. argon or nitrogen
  • Such a fluid can be mixed with the passivating agent by the later addition via the passivating agent feed. It is further preferred if the amount of passivating agent added per unit of time is adjustable and/or controllable.
  • the passivating agent feed is in particular designed and arranged to feed passivating agent to at least one element selected from the group consisting of fluid feed, outlet region and fluid discharge.
  • the passivating agent can be supplied at the point in the passivating device at which the passivating agent is required for the desired chemical reaction.
  • the passivating agent is preferably an oxidizing agent which is suitable for at least partially oxidizing the filter residue. In this way, for example, filter residues that contain a metal can be passivated and an unwanted later reaction with oxygen (e.g. air) can be avoided.
  • the oxidizing agent more preferably comprises oxygen, even more preferably the oxidizing agent is oxygen, with the passivating agent being supplied in particular in the form of a mixture of oxygen and an inert gas, in particular argon.
  • oxygen for example, an oxidizing agent can be used with which filter residues that tend to react spontaneously with air can be passivated.
  • Oxygen means in particular O 2 understood.
  • ozone is also possible.
  • oxidizing agents which contain oxygen in a different form for example peroxides such as hydrogen peroxide.
  • the use of oxidizing agents that are not based on oxygen is possible within the scope of the present invention. Chlorine or a chlorine-based oxidizing agent is conceivable.
  • an inert substance e.g. inert fluid, inert gas, etc.
  • inert fluid inert gas, etc.
  • nitrogen and/or argon can serve as the inert fluid (an inert gas in the specific case).
  • the passivation device preferably also comprises a fluid reservoir containing a fluid, in particular a pressurized gas reservoir containing a pressurized gas, the fluid supply providing a fluid connection between the fluid reservoir and the outlet area, and the fluid contained in the fluid reservoir at least partially including the passivating agent and/or wherein the passivating agent is at least partially fed into the fluid supply and/or the fluid discharge and/or the outlet area by a passivating agent feed from a passivating agent reservoir and/or in the form of air from the atmosphere.
  • a fluid reservoir containing a fluid in particular a pressurized gas reservoir containing a pressurized gas
  • the fluid supply providing a fluid connection between the fluid reservoir and the outlet area
  • the fluid contained in the fluid reservoir at least partially including the passivating agent and/or wherein the passivating agent is at least partially fed into the fluid supply and/or the fluid discharge and/or the outlet area by a passivating agent feed from a passivating agent reservoir and/or in the form of air from the atmosphere.
  • the fluid supply and the fluid reservoir and optionally the passivating agent reservoir are designed or adjusted or controllable, so that in the outlet area or an area of the fluid discharge the fluid flow is a gas flow made of a mixture of inert gas, in particular argon, and O 2 is present with an adjustable O 2 salary and/or with an O 2 content in a range of at least 0.01% by volume, more preferably at least 0.1% by volume, even more preferably at least 1% by volume and/or at most up to 20.8% by volume, more preferably at most 10% by volume, more preferably at most 5% by volume and/or with an O 2 - Content below the limiting oxygen concentration, more preferably at least 1%, even more preferably at least 2%, most preferably at least 3% below the limiting oxygen concentration.
  • the oxygen content can be adjusted so that effective oxidation can take place while still ensuring the safety of the passivation device.
  • concentration ranges given can provide a suitably reactive atmosphere in many cases.
  • the limiting oxygen concentration is the maximum oxygen concentration of an oxygen-containing gas mixture, an oxygen-containing aerosol, etc., at which an explosion does not occur.
  • the risk of explosion can be reduced or completely eliminated by falling below the limit oxygen concentration.
  • An explosion inside the filter device is undesirable for safety reasons.
  • controlled oxidation with oxygen can be carried out under safe conditions.
  • the risk of explosion can be reduced even in the event of a fault.
  • the fluid supply is preferably connected to the filter chamber in such a way that at least part of the filtered process gas is conveyed into the outlet area, with the fluid supply more preferably comprising a turbomachine, in particular a blower.
  • filtered process gas i.e. clean gas
  • filtered process gas can, for example, be used as the fluid for generating the fluid flow, so that the provision of an additional fluid can be dispensed with or the need for additional fluid is reduced.
  • the conveying line preferably comprises at least one locally limited cross-sectional constriction, with an inner cross-sectional area of the conveying line in the region of the cross-sectional constriction being reduced by at least 25%, even more preferably at least 50%, particularly preferably at least 75% compared to an inner cross-sectional area upstream of the cross-sectional constriction.
  • Such a narrowing of the cross section can, for example, lead to a local acceleration of the fluid flow and thereby to additional mechanical stress on the filter residue. As a result, can e.g. breaking up filter residue particles into smaller particles.
  • the filter system according to the invention is a filter system which comprises: a) at least one filter device, each comprising aa) at least one filter chamber, bb) at least one filter element arranged in the filter chamber and cc) optionally a collection chamber coupled to the filter chamber, which preferably can be separated from the filter chamber in a fluid-tight manner by a shut-off device, and b) at least one passivation device according to the invention which is directly or indirectly coupled to the at least one filter device or is connected to the at least one filter device by a transport device for transporting the filter residue.
  • Such a system can be used, for example, to filter a process gas, in particular the process gas of a device for additively manufacturing three-dimensional objects, and to passivate the filter residues that occur in the process.
  • filtering a process gas means that the process gas, which is cleaned of impurities that are not gaseous, is cleaned by at least partially separating off these impurities.
  • Process gas is also commonly referred to as "raw gas” before filtering, while process gas is also commonly referred to as "clean gas” after filtering.
  • a passivation device of the system is preferably assigned to a plurality of filter devices. As a result, for example, the capacity of the passivation device can be optimally utilized.
  • a passivation device can, for example, be better utilized if it takes care of the passivation of the filter residue from several filter devices.
  • a filter device can comprise a plurality of filter chambers, in each of which at least one filter element is arranged. Several filter chambers of a filter device can be connected in parallel.
  • a passivation device can be associated with a filter device having one or more filter chambers.
  • a passivation device can also be associated with a plurality of filter devices, each with one or more filter chambers.
  • a filter device can be used for filtering the process gas of a number of devices for the additive production of three-dimensional objects.
  • the filter device can have a plurality of filter chambers, with one filter chamber being able to be assigned to each device for the additive production of three-dimensional objects at a time.
  • the number of filter chambers is more preferably greater than the number of devices for the additive manufacturing of three-dimensional objects, so that for example at a certain point in time only some of the filter chambers are filtering process gas, while for the other part a cleaning of the at least one filter element and/or or the passivation of the filter residue can be carried out.
  • An example of such an overall system for the additive production of three-dimensional objects could consist, for example, of three devices for the additive production of three-dimensional objects, a filter device with four filter chambers and a passivation device. Furthermore, several filter devices, each with at least one filter chamber, can be used for filtering the process gas of several devices for the additive manufacturing of three-dimensional objects, wherein a filter device can be assigned to each device for the additive manufacturing of three-dimensional objects at a time.
  • the number of filter devices is more preferably greater than the number of devices for the additive manufacturing of three-dimensional objects, so that, for example, at a certain point in time only some of the filter devices are currently filtering process gas, while for the other part a cleaning of the at least one filter element and/or or the passivation of the filter residue can be carried out.
  • a An example of such an overall system for the additive production of three-dimensional objects could consist, for example, of three devices for the additive production of three-dimensional objects, four filter devices and a passivation device.
  • the filter chamber preferably has a collection area, with the collection area being arranged below the at least one filter element in the operating position.
  • the collection area has a wall that tapers downwards and opens into a filter chamber outlet that is connected to the passivation device or the collection chamber.
  • a conveying device for conveying filter residue is preferably provided at least in a partial area of the collection area, in particular in a partial area with a lower inclination to the vertical relative to other partial areas, with the conveying device more preferably being a solid fluidization device, in particular a Fluidizing plate, and / or one or more gas nozzles for introducing gas pulses.
  • a solids fluidization device can ensure, for example, that filter residue that remains on the wall of the filter chamber slides down or is conveyed down.
  • the filter chamber in particular the collection area, is preferably designed in such a way that the passivation device and a collection chamber optionally included in the filter device can be arranged at least partially below the filter chamber in the operating position, with a collector optionally included in the passivation device being able to be arranged at least partially below the filter chamber is.
  • a space-saving arrangement can thereby be possible, for example.
  • the filter system preferably comprises an application device for applying a filter aid, in particular a powdered filter aid, to the at least one filter element.
  • Filter residues can be rendered inert by using a filter aid.
  • the use of a filter aid can also be used in addition to the use of a passivating agent such as an oxidizing agent (e.g. O 2 ) be provided.
  • the use of a filter aid can be particularly effective, for example, in combination with the entrained flow according to the invention, for example because good mixing of filter residue and filter aid can be possible as a result of the recirculation.
  • the function of the filter aid is, according to one non-limiting theory, to provide thermal ballast and/or to spatially separate the filter residue particles to slow or moderate a chemical reaction of the filter residue.
  • the filter aid preferably includes a filling level sensor for measuring a quantity of filter residue detached from the at least one filter element in the filter chamber, in particular in the collection area and/or in the optional collection chamber.
  • the filter system comprises precisely one filter device, with the passivation device being coupled directly or indirectly to the filter chamber or to the optional collection chamber.
  • the entire filter residue to be passivated which is in a Filter device accumulates, are treated in a passivation device available only for this purpose.
  • Such a filter system can form an overall system together with a device for the additive production of three-dimensional objects or together with several such devices.
  • the filter device can be used to filter the process gas of one or more devices for the additive manufacturing of three-dimensional objects.
  • the filter system comprises at least two filter devices and a transport device for transporting the filter residue from the at least two filter devices to the passivation device, with the transport device more preferably being a suction device.
  • the transport device more preferably being a suction device.
  • the number of passivation devices required can be reduced, for example when operating a plurality of filter devices.
  • Such a filter system can form an overall system together with a device for the additive production of three-dimensional objects or together with several such devices.
  • the at least two filter devices can each be used to filter the process gas of one or more devices for additively manufacturing three-dimensional objects. It is also possible for a number of filter devices to be used at the same time to filter the process gas of a device for additively manufacturing three-dimensional objects.
  • the filter system comprises at least two filter devices, with the passivation device being coupled directly or indirectly to one of the filter devices, and a transport device for transporting the filter residue from at least one other of the filter devices to the passivation device, with the transport device preferably being a suction device.
  • the number of passivation devices required can be reduced, for example when operating a plurality of filter devices.
  • Such a filter system can form an overall system together with a device for the additive production of three-dimensional objects or together with several such devices.
  • the at least two filter devices can be assigned to a specific Time each serving the filtering of the process gas one or more devices for the additive manufacturing of three-dimensional objects.
  • the filter system comprises at least two filter devices and a transport device for transporting the filter residue from at least one of the filter devices into the collection chamber of at least one further filter device, with the transport device preferably being a suction device.
  • the number of passivation devices required can be reduced, for example when operating a plurality of filter devices.
  • Such a filter system can form an overall system together with a device for the additive production of three-dimensional objects or together with several such devices.
  • the at least two filter devices can each be used to filter the process gas of one or more devices for additively manufacturing three-dimensional objects. It is also possible for a number of filter devices to be used at the same time to filter the process gas of a device for additively manufacturing three-dimensional objects.
  • the at least two filter devices are preferably assigned or can be assigned to different devices for the additive production of three-dimensional objects (e.g. different systems for selective laser sintering). As a result, the number of passivation devices required can be reduced, for example when operating a plurality of additive manufacturing devices.
  • a filter system according to the invention can also include more than one passivation device.
  • the device according to the invention for the additive manufacturing of three-dimensional objects comprises: - a process chamber in which the additive manufacturing takes place, - a process gas conveying device for conveying a process gas flowing through the process chamber from a process chamber inlet to a process chamber outlet, the process gas conveying device being designed to convey between the process chamber inlet and the process chamber outlet, preferably at least partially in circulation, - a filter system according to the invention.
  • the at least one filter chamber is arranged in such a way that the process gas emerging from the process chamber is filtered by the at least one filter element.
  • the device according to the invention for additive manufacturing makes it possible to provide a device, for example, during operation of which the above-described advantageous properties of the filter system according to the invention or the passivation device according to the invention can be implemented.
  • the passivation device according to the invention and the filter system according to the invention can be constructed in such a way that a conventional device for additive manufacturing can be retrofitted with a process chamber and a process gas conveying device. If the conventional device for additive manufacturing has a filter device, this can be exchanged for retrofitting, for example with the filter system according to the invention.
  • the passivation device according to the invention can be supplemented. Alternatively, for example, the missing components can also be retrofitted.
  • the system according to the invention for the additive manufacturing of three-dimensional objects comprises at least two devices for the additive manufacturing of three-dimensional objects, the devices each having a process chamber, in which the additive manufacturing takes place, and a process gas conveying device for conveying a process gas flowing through the process chamber from a process chamber inlet to a process chamber outlet, wherein the process gas conveying device is designed in each case to bring about the conveying between the process chamber inlet and the process chamber outlet preferably at least partially in a circuit.
  • the system according to the invention for the additive production of three-dimensional objects also includes a filter system according to the invention with at least two filter devices.
  • a system for additive manufacturing of three-dimensional objects in which the number of passivation devices required is relatively small, in particular fewer than the number of devices for the system for additive manufacturing of three-dimensional objects.
  • one of the at least two filter devices can preferably be assigned or assigned to each device for additive manufacturing. More preferably, the number of filter devices in the system is greater, in particular by 1, than the number of additive manufacturing devices.
  • An example of a system according to the invention for the additive production of three-dimensional objects could, for example, comprise three devices for the additive production of three-dimensional objects, four filter devices, each with a filter chamber, and a passivation device.
  • a system according to the invention for the additive production of three-dimensional objects can, for example, also comprise more than one passivation device.
  • the method according to the invention for passivating a filter residue occurring in at least one filter device comprises the steps: - feeding filter residue emerging from the at least one filter device into an outlet area, in particular by suction, - feeding a fluid stream into the outlet area, - removing the fluid stream loaded with the filter residue from the exit area, - Applying energy to the fluid flow, in particular heating the fluid flow, wherein the application of energy to the fluid flow before the supply and/or during the supply of the fluid flow into the outlet area and/or in the outlet area and/or during the discharge and/or after the discharge of the fluid flow from the outlet area takes place.
  • a fluid flow consisting of a fluid that includes a passivating agent is used as the fluid flow.
  • a passivating agent is added to the fluid flow.
  • the filter residue is at least partially passivated in the entrained flow by a chemical reaction with the passivating agent.
  • the fluid stream loaded with the filter residue preferably falls below either the lower explosion limit, preferably at most 0.9 times, more preferably at most 0.8 times the lower explosion limit being reached.
  • the fluid stream loaded with the filter residue preferably exceeds the upper explosion limit, preferably at least 1.1 times, more preferably at least 1.2 times the upper explosion limit being reached. Explosion limits are the limits of the so-called explosion range.
  • the lower explosion limit or the upper explosion limit is the lower or upper limit of the concentration (e.g. mole fraction) of a combustible substance in a mixture of gases, vapours, mists and/or dusts in which a flame that is independent of the ignition source develops after ignition can no longer reproduce independently. If the mixture either falls below the lower explosion limit or exceeds the upper explosion limit, there is no explosive mixture. As a result, for example, by reducing the risk of explosion, safety can be improved when carrying out the method according to the invention for passivation or the operation of a device used for this purpose.
  • the passivation preferably results in at least 75%, more preferably at least 85%, even more preferably at least 95% complete chemical conversion of the filter residue particles.
  • a passivation layer e.g. B. an oxide layer formed on the filter residue particles, the passivation layer having a layer thickness of at least 0.5 nm, preferably at least 0.75 nm, more preferably at least 1 nm and/or at most 10 nm, preferably at most 5 nm, more preferably at most 2 nm.
  • the fluid stream is preferably fed into the outlet area in such a way that a suction pressure is generated in the outlet area, preferably through a nozzle, with the filter residue and any fluid optionally located in the at least one filter device being sucked into the outlet area from the at least one filter device by the suction pressure, and wherein the filter residue is conveyed with the fluid flow through the fluid discharge from the outlet area, with more preferably a speed and/or a diameter of the fluid flow passing through the nozzle being adjusted.
  • Such suction can, for example, effectively transport the filter residue out of the filter device into the passivation device.
  • an ejector nozzle can provide this suction effect.
  • the amount of filter residue that is sucked in per unit of time can be adjusted, for example.
  • the fluid flow is preferably adjusted and/or controlled in such a way that particle agglomerates occurring in the filter residue are broken up, in particular in such a way that the filter residue is in the form of particles with a secondary particle diameter after breaking up which is a maximum of 100 times, more preferably a maximum of 50 times , even more preferably at most 10 times, particularly preferably at most 5 times the primary particle diameter and/or a secondary particle diameter of at most 200 ⁇ m, preferably at most 100 ⁇ m.
  • the breaking up preferably takes place directly or indirectly through the action of the fluid flow, i.e.
  • particle agglomerates are broken up into the primary particles or into agglomerates of a few primary particles. Such a break-up can, for example, promote passivation by a chemical reaction and/or mixing with an inerting agent (e.g. lime powder).
  • an inerting agent e.g. lime powder
  • metal condensates in particular have a very high specific surface area (e.g.
  • the transport of oxygen into the interior of agglomerates is severely impeded, for example Knudsen diffusion could occur.
  • the obstruction of the oxygen transport slows down the reaction. Breaking up the agglomerates, according to the non-limiting theory, exposes the surface better or makes the surface more accessible and thus increases the reaction rate.
  • the particle size or the particle diameter is preferably understood as meaning the d50 value.
  • the d50 value can be used for particles of the construction material and for condensate particles or those contained in them primary particles contained can be determined, for example, by means of laser diffraction according to the established and standardized methods (e.g. according to ISO 13320 or ASTM B822). Alternatively, a determination is possible, for example, using dynamic image analysis (e.g. according to the ISO 13322-2 standard).
  • the size of agglomerates can also be given in the form of a d50 value.
  • a certain d50 value means that 50% of the particles have a smaller diameter than the stated value.
  • Suitable methods for determining the d50 value of agglomerates are, for example, transmission electron microscopy (TEM) and scanning electron microscopy (SEM), the images obtained thereby being subjected to a suitable image evaluation to determine the d50 value. If the conveyor has a nozzle such as an ejector nozzle or a venturi nozzle, it may be possible for the breakup to occur in the nozzle or downstream of the nozzle.
  • Such a nozzle can therefore, in addition to its function in conveying the filter residue, have the function, among other things, of ensuring that the filter residue particles are comminuted. If no such nozzle is used, or if additional fracturing is desired, a reduction in the cross-section of the delivery line can be provided.
  • the fluid is preferably discharged through the fluid discharge from the outlet area into a catchment. In this way, for example, the filter residue can be transported to a collection point and stored there until further processing or disposal.
  • the chemical reaction preferably takes place in the outlet area and/or during the discharge, i.e. while the filter residue is being transported through the conveying line.
  • a fluid flow used for the purpose of transporting the filter residue into or out of the outlet area can be used to generate the entrained flow provided for the chemical passivation reaction, without a new generation of a corresponding fluid flow being necessary.
  • the method according to the invention for filtering a process gas, in particular a process gas of a device for the additive manufacturing of three-dimensional objects comprises the following steps: - optionally coating at least one filter element with a filter aid, in particular with a powdered filter aid, - passing the process gas through the at least one filter element for filtering out of particles from the process gas, - cleaning the filter element or cleaning at least part of two or more than two filter elements from the filter residue formed from particles filtered out and the optional filter aid, - optionally collecting the filter residue and - passivating the filter residue according to the passivation method according to the invention .
  • a process gas When carrying out the method for filtering a process gas, a process gas can be cleaned and the resulting filter residue can be passivated, for example, with the advantages of the method for passivation described above being able to be realized.
  • At least two filter elements are preferably used to carry out the method for filtering a process gas, with the cleaning of the filter elements taking place at different times, with a waiting time being observed between two successive cleanings and with the passivation step being carried out at least partially during the waiting time. As a result, for example, the portions of the filter residue produced by a cleaning process can be reduced, while the continuous filtering of the process gas can still be maintained over a longer period of time.
  • the at least two filter elements are preferably arranged in different filter chambers.
  • Figure 1 is a schematic, partially sectioned view of a passivation device according to a first embodiment of the invention coupled to a filter device.
  • Figure 2 is a schematic sectional view of a detail of the passivation device according to the first embodiment.
  • Figure 3 is a schematic, partially sectioned view of a passivation device according to a second embodiment of the invention coupled to a filter device.
  • Fig. 4 is a schematic view, partly in section, of a filter system according to another embodiment of the invention.
  • Fig. 5 is a schematic view, partly in section, of a filter system according to another embodiment of the invention.
  • Fig. 6 is a schematic view, partly in section, of a filter system according to another embodiment of the invention.
  • Fig. 7 is a schematic view, partly in section, of a filter system according to another embodiment of the invention.
  • Fig. 8 is a schematic view, partly in section, of a filter system according to another embodiment of the invention.
  • Fig. 9 is a schematic view, partly in section, of an apparatus for the additive manufacturing of three-dimensional objects according to further embodiments of the invention.
  • Fig. 10 is a schematic representation of the method for passivating a filter residue according to a further embodiment of the invention.
  • Figure 11 is a graph showing the heating of various particles in a gaseous atmosphere as a function of time.
  • FIG. 12 is a schematic representation of the method for filtering a process gas according to a further embodiment of the invention.
  • the passivation device 1 according to the first embodiment is shown in FIG. 1 in a possible operating position. In this case, the passivation device 1 is coupled to a filter device 10 .
  • the passivation device 1 corresponds to the area of FIG. 1 framed with dashed lines. 1 thus shows a filter system 100 according to the invention overall.
  • the filter system 100 and the filter device 10 will be discussed in detail further below.
  • the filter device 10 is also shown in a possible operating position in FIG.
  • the process gas can be, for example, the process gas of a device for the additive production of three-dimensional objects, such as a system for selective laser sintering.
  • the solids that are entrained by the process gas can therefore be solids that can be released into the process gas in such a device, in particular condensate particles and/or whirled-up build-up material formed from vaporized build-up material. These solids are using the Filter device at least partially separated from the process gas (raw gas) and then form the filter residue.
  • the passivation device 1 comprises an outlet region 3 which can be coupled or is coupled to the filter device 10 . A situation is shown in FIG. 1 in which the outlet area 3 is coupled to the filter device 10 . The outlet area 3 is designed to receive filter residue from the filter device 10 .
  • the passivation device 1 also includes a fluid supply 4 for supplying a fluid stream into the outlet area 3.
  • the fluid stream consists of a fluid which includes a passivating agent.
  • the fluid consists of a mixture of an inert fluid and the passivating agent, which is also fluid.
  • it can be a mixture of an inert gas gas with which the filter residue reacts chemically for passivation.
  • the chemical reaction is preferably an oxidation reaction, more preferably an oxidation reaction with oxygen.
  • a mixture of oxygen and an inert gas such as argon or nitrogen
  • the fluid can, for example, be taken from a fluid reservoir 90 that is provided, e.g.
  • a fluid connection 91 is provided between the fluid supply 4 and the fluid reservoir 90 for this purpose.
  • a compressed gas cylinder with an optional reducing valve is usually suitable for providing the fluid in the quantity and pressure required for a longer period of operation.
  • a pressurized gas cylinder another container suitable for storing the fluid can be used as the fluid reservoir 90, with a device for increasing or decreasing the fluid pressure and/or a device for adjusting and/or regulating the fluid pressure being provided in addition to the container if necessary can.
  • the fluid can be taken from a plurality of fluid reservoirs 90 .
  • the inert fluid can be taken from a fluid reservoir and the passivating agent can be taken from another fluid reservoir, with the inert fluid and the passivating agent being mixed.
  • oxygen is provided as the passivating agent, it can also be used in the form of air from the ambient atmosphere, optionally after compression and/or filtering.
  • the ambient atmosphere is understood as a fluid reservoir for the passivating agent.
  • a fluid reservoir it is also possible for a fluid reservoir to contain a mixture of an inert fluid and the passivating agent and for further passivating agents to be added from another fluid reservoir, at least if required.
  • the amount of fluid that enters the outlet area 3 per unit of time can preferably be adjusted and/or regulated by a regulating device (not shown in FIG. 1).
  • the direction of flow of the fluid flow through the fluid supply 4 is symbolized by the arrow 43 in FIG.
  • the passivation device 1 optionally includes a passivating agent feed (not shown in FIG.
  • the conveying line 5 is optionally thermally insulated, i.e. at least one section of the conveying line is optionally provided with an insulating device, for example an insulating jacket.
  • the fluid discharge 5 includes a check valve, with which the fluid discharge 5 can be blocked for fluid passage.
  • the fluid supply 4 includes a nozzle 41 through which the fluid flow enters the outlet area 3 . When the fluid stream flows through the nozzle 41 into the outlet area 3, the fluid is accelerated through the nozzle 41. As a result, a suction pressure is generated in the outlet area 3 , through which the filter residue and any fluid present in the filter device 10 are sucked in and thus sucked into the outlet area 3 .
  • the filter residue sucked out of the filter device 10 and any residue from the filter device 10 are ejected from the outlet area 3 through the ejection area 51 .
  • This embodiment of the outlet area 3 with such a nozzle 41, which generates an intake pressure, is often referred to as an "ejector".
  • Alternative terms are, for example, “jet pump”, “propellant pump” and “jet pump”.
  • Such a nozzle 41 of an ejector is often referred to as “ejector nozzle” or “driving nozzle”.
  • 2 is a detailed view showing a specific example of the outlet area 3, the fluid supply 4 designed as a nozzle 41 and the ejection area 51 according to the first exemplary embodiment, which are components of the ejector, in a schematic sectional view.
  • the passivation device 1 comprises an energy supply device 70 for applying energy to the fluid flow and/or the passivation agent and/or the filter residue.
  • the energy supply device 70 is preferably a heating device. According to the first exemplary embodiment, the energy supply device 70 is designed and arranged to introduce energy into the region of the fluid supply. The positioning of the energy supply device 70 shown in FIG.
  • the energy supply device 70 is preferably a heating device, in particular a continuous-flow heater, i.e. a heating device which heats the fluid stream as it flows through the heating device or the section of the line in which the heating device is fitted.
  • the passivation device 1 includes a collector 80 which is in fluid communication with the outlet region 3 via the fluid discharge 5 if the fluid discharge does not have a check valve or an existing check valve is open.
  • a collector 80 preferably has a filter 81 through which the fluid entering the collector 80 as a fluid flow can escape.
  • the flow of the escaping fluid is symbolized by the arrow 82 in FIG.
  • a filling level sensor 83 is preferably arranged in the area of such a collector 80, with which the filling level of the collector 80 can be monitored, in particular in order to determine the point in time at which the collector 80 must be emptied or replaced by an empty collector.
  • the passivation device 1 is designed and/or controllable to bring about a chemical reaction between the filter residue and the passivation agent at least partially in the entrained flow. Firstly, this means that filter residue is sucked in by the ejector effect and conveyed together with the fluid flow in the entrained flow state. Secondly, this means that the passivation device provides a fluid stream which contains a suitable passivating agent and whose composition enables a chemical reaction. Furthermore, energy is applied by means of an energy supply device, as a result of which the reaction is started and/or accelerated, for example.
  • the passivation device 1 comprises at least one sensor (not shown in FIG. 1) that detects a pressure and/or a temperature and/or a chemical composition.
  • the at least one sensor can be arranged, for example, in such a way that it determines the properties of the fluid in the delivery line 5 .
  • the at least one sensor can also be arranged in the outlet area 3 and/or in the fluid feed 4 and/or in the optional collector 80 .
  • the temperature is preferably measured at least in the outlet area 3 or at the adjoining end of the conveyor line 5 and in the area of the end of the conveyor line 5 opposite the outlet area 3, for example around the entrained flow and the temperature conditions advantageous for passivation in the entire entrained flow area, i.e. in the delivery line 5.
  • a sensor can be used, for example, to monitor whether the properties of the fluid flow that are suitable for the operation of the ejector and for the formation of an entrained flow are present.
  • a sensor can also be used, for example, to monitor whether suitable conditions (e.g. in terms of passivating agent concentration, temperature and/or pressure). Controlled by signals emitted by such a sensor, for example, the temperature, the pressure and the amount of a passivating agent can be regulated in the region of the filter device in which a chemical reaction is desired.
  • the delivery line 5 includes at least one cross-sectional constriction. This will be discussed in more detail in connection with the second exemplary embodiment. Second embodiment The passivation device 1 according to the second embodiment is shown in FIG. The components and properties of the passivation device 1 according to the second embodiment, which correspond to those of the passivation device 1 according to the first embodiment, will not be described separately below.
  • the passivation device 1 of the first and second exemplary embodiment are also denoted by the same reference symbols. All those components and properties of the filter device 1 that are described as optional features for the first embodiment also represent optional features for the second embodiment.
  • the passivation device 1 according to the second embodiment differs from the passivation device 1 according to the first embodiment in particular in Configuration of the outlet area and the fluid supply. According to the second exemplary embodiment, no ejector for sucking in the filter residue from the filter device 10 is provided.
  • the gravity acting on the filter residue located in the filter device 10 means that this in the exit region 3' and is conveyed through the conveying line 5 by means of the fluid flow entering through the fluid supply 4' into the exit region 3'.
  • the outlet area 3′ is designed, for example, as a chamber to which the fluid supply 4′ and the delivery line 5 are connected, so that the fluid flow can be guided through the chamber.
  • the chamber can be connected or is connected directly or indirectly via a pipe, a line, etc. to an outlet opening through which the filter residue can escape from the filter device 10 .
  • the delivery line 5 includes a cross-sectional constriction 511.
  • the cross-sectional constriction 511 can be seen in the enlargement shown in the lower area of FIG.
  • the cross-sectional constriction 511 is arranged at a distance from the outlet region 3' in FIG.
  • the cross-sectional constriction 511 can also be arranged at a different point in the conveying line 5, for example closer to the outlet area 3', in particular at a position adjacent to the outlet area 3'.
  • the delivery line 5 can also have several cross-sectional constrictions. The fluid flowing through the delivery line 5 is accelerated by the cross-sectional constriction 511 . As a result, particle agglomerates contained in the filter residue can break up, for example. This is symbolized in the enlargement shown in FIG.
  • third exemplary embodiment The passivation device 1 according to the third exemplary embodiment is not shown in the drawing figures. Apart from the exit area, fluid supply and fluid discharge, the third exemplary embodiment corresponds to the first exemplary embodiment. The components and Properties of the passivation device 1 according to the third exemplary embodiment which correspond to those of the passivation device 1 according to the first exemplary embodiment are not described separately below. With regard to the similarities, reference is made to the above description of the first exemplary embodiment. The following description is limited to the differences.
  • the outlet area, the fluid supply and the fluid discharge are in the form of a Venturi nozzle or as components a Venturi nozzle formed.
  • the suction of filter residue from the filter device 10 thus takes place, unlike in the first exemplary embodiment, not by means of an ejector but by means of a Venturi nozzle.
  • other devices are used instead of or in addition to an ejector or a venturi nozzle in order to cause filter residue to be sucked into the fluid flow.
  • the passivation device 1 according to the various exemplary embodiments can thus have one energy supply device or multiple energy supply devices. Further exemplary embodiments of the passivation device 1 according to the invention result, for example, from the fact that instead of a passivating agent feed for feeding the passivating agent into the fluid feed 4, 4' or in addition to such a passivating agent feed, a passivating agent feed for feeding the passivating agent into the outlet area 3, 3' is provided.
  • Further exemplary embodiments of the passivation device 1 according to the invention result, for example, from the fact that instead of a passivating agent feed for feeding the passivating agent into the fluid feed 4, 4′ and/or the outlet region 3, 3′ or in addition to such a passivating agent feed, a passivating agent feed for feeding the passivating agent into the fluid discharge 5 is provided. Further exemplary embodiments of the passivation device 1 according to the invention result, for example, from the fact that the at least one cross-sectional constriction 511 of the conveying line described specifically in connection with the second exemplary embodiment as an optional feature is implemented in the passivating device 1 of another exemplary embodiment.
  • Embodiments of the filter system according to the invention include a passivation device 1 according to one of the embodiments described above and a filter device 10, wherein the Passivation device 1 coupled to the filter device or can be coupled.
  • the filter system 100 according to a first group of exemplary embodiments is shown in FIGS. With regard to the passivation device 1 (area surrounded by a dashed line), reference is made to the above description of the individual exemplary embodiments.
  • the passivation device 1, the filter device 10 and the filter system 100 as a whole are shown in FIGS. 1 and 3 as well as in FIGS. 4 to 9 in a possible operating position.
  • the passivation device 1 is coupled to a filter device 10 and arranged in such a way that the passivation of filter residue is possible.
  • the filter device 10 is arranged such that, on the one hand, a process gas (raw gas) can be filtered by means of the filter device 10 and thereby cleaned of solids carried along in the process gas, and on the other hand, filter residue can exit the filter device 10 and enter the passivation device 1.
  • the filter system 100 includes a filter device 1.
  • the filter device 1 includes a filter chamber 11 formed by a filter chamber wall 12, in which at least one filter element 20 is arranged. In FIGS. 1 and 3, six filter elements 20 arranged in the filter chamber 11 are shown as an example.
  • the filter chamber 11 has a process gas inlet (not shown in Figures 1 and 3) and a process gas outlet (not shown in Figures 1 and 3), the process gas inlet, the process gas outlet and the at least one filter element 20 being arranged in such a way that a process gas , which enters the filter chamber 10 via the process gas inlet and leaves the filter chamber again via the process gas outlet, is filtered by means of the at least one filter element 20 .
  • the process gas inlet and the process gas outlet can be openings in the filter chamber wall 12 to which corresponding process gas lines are connected. By filtering the process gas, the solids carried along by the process gas are at least partially separated by being held back by the at least one filter element 20 .
  • the held back Solids remain at least initially on the at least one filter element 20 .
  • the retained solids are also commonly referred to as "filter residue".
  • An area inside the filter chamber 10, which is arranged below the at least one filter element 20, is designed to receive filter residue which is detached from or detaches from the at least one filter element. This means that this filter residue falls within this range in the simplest case.
  • the area is preferably a collection area 13 in which a certain amount of filter residue can be collected before it enters the passivation device 1 .
  • the detachment can take place, for example, through the action of gravity.
  • an optional detachment device (not shown in FIGS. 1 and 3) can be provided.
  • the detachment device can be designed, for example, to detach the filter residue adhering to the at least one filter element 20 by means of the action of gas. It is preferred to interrupt the filtering of the process gas from time to time and to direct a gas through the at least one filter element in the direction opposite to the direction of flow of the process gas during its filtering. In order to remove filter residue, the gas is preferably passed through the at least one filter element 20 in an intermittent manner.
  • detachment is not limited to the procedure described above, but can also take place in other ways, for example by blowing off, sweeping, scraping off, shaking off, etc. A combination of several detachment techniques is also possible.
  • the fluid supply 4, 4' of the passivation device 1 is connected to an external fluid source, so that fluid can be fed from outside the filter system 100 into the fluid supply 4, 4'.
  • the fluid passing through the Fluid supply 4, 4′ is supplied to the outlet area 3, 3 can, for example, be taken from a provided fluid reservoir 90 (e.g. compressed gas reservoir in the form of a compressed gas bottle or the like), as already mentioned in connection with the above description of the passivation device.
  • a fluid connection 91 is provided between the fluid supply 4 and the fluid reservoir 90 for this purpose.
  • the lower area of the filter chamber or the collection area 13 preferably has a wall that tapers downwards and an outlet through which the filter residue can exit from the filter chamber 10 .
  • a collection area 13 is shown in FIGS.
  • a conveyor device 14 is provided in the collection area, which causes or supports the movement of the filter residue in the direction of the outlet, especially when the slope of the collection chamber wall is relatively flat, so that the filter residue may not reliably move by gravity in the direction of the outlet.
  • the conveying device can, for example, comprise a fluidizing plate provided in the wall.
  • the filter device 10 has a collection chamber 15 which is arranged between the filter chamber 11 and the passivation device 1 and in which the filter residue can be collected.
  • the individual components of the system 100 are preferably designed and arranged in such a way that the passivation device and an optional collection chamber 15 are arranged at least partially below the filter chamber in a space-saving manner, as is shown in FIGS. Furthermore, the individual components of the system 100 are preferably designed and arranged in such a way that an optional collection device 80 and an optional collection chamber 15 are arranged at least partially below the filter chamber in a space-saving manner, as is shown in FIGS.
  • the filter device 1 comprises at least one sensor that detects a pressure and/or a temperature and/or a chemical composition.
  • FIGS. 1 and 3 are an example of an oxygen sensor 151, a Temperature sensor 152 and a pressure sensor 153 are shown, with which the oxygen concentration, the temperature and the pressure in the collection chamber 15 can be detected.
  • These sensors 151, 152, 153 can be used, for example, to record measured values with which conclusions can be drawn about the risk of ignition of the filter residue in the collection area 15 and the possible need for countermeasures such as a supply of inert gas.
  • such sensors can be arranged, for example, in such a way that they record measured values for the interior of the filter chamber 11 .
  • the filter device 1 optionally includes at least one fill level sensor (not shown in FIGS.
  • FIGS. 1 and FIGS. 2 Further exemplary embodiments of the filter system 100 according to the invention result, for example, from modifications to the exemplary embodiments described above.
  • at least part of the fluid that is supplied to the outlet region 3, 3 through the fluid supply 4, 4' is removed from a point on the clean gas side of the process gas circuit.
  • the fluid can be taken from a buffer store, which provides fluid for cleaning the at least one filter element 20 by means of a compressed gas blast.
  • the fluid stored in the buffer store can, for example, already have the pressure required to operate the filter system, so that an additional compression device can be dispensed with.
  • the filter system 100 according to the further exemplary embodiments is shown as an example in FIGS.
  • the exemplary embodiments illustrated therein are modifications of the exemplary embodiments illustrated in FIGS.
  • the filter system 100 includes a line 92 through which clean gas is removed from the filter chamber 11 and fed into the fluid supply 4, 4'.
  • a fluid delivery device 93 is provided, which delivers the clean gas from the filter chamber 11 into the fluid supply 4, 4'.
  • the fluid delivery device 93 can be a blower or a compressor, for example.
  • a passivating agent feed 6 is shown in FIGS. 4 and 5, through which passivating agent (for example oxygen) is fed into the line 92 .
  • the passivating agent feed 6 is connected, for example, to a passivating agent reservoir (not shown in FIGS. 4 and 5).
  • the passivating agent can also be fed in at another point, for example in the area of the fluid feed 4, 4' of the outlet area 3, 3', the fluid discharge 5.
  • Several passivating agent feeds can also be provided in order to feed passivating agent at different points.
  • a passivating agent feed can also be dispensed with if the process gas already contains a passivating agent.
  • the process gas contains oxygen, which leads to an effective oxidation of particles contained in the filter residue due to the supply of energy in the passivation device.
  • the process gas could have an oxygen content of less than 1.3% by volume, for example. Oxygen levels in the low percentage range, tenths or less may be partially acceptable for the additive manufacturing process.
  • the filter system 100 corresponds to the exemplary embodiments described above with the difference that it comprises at least two filter devices 10 .
  • it includes a transport device 200, which transports the filter residue from the individual filter devices 10 into the passivation device 1, for example via lines 201.
  • the transport device 200 is, for example, a suction device.
  • Such a filter system 100 is shown in FIG. 6 as an example with two filter devices 10-1 and 10-2.
  • the filter system 100 can also include more than two filter devices.
  • the at least two filter devices are preferably assigned to different devices for the additive production of three-dimensional objects (e.g.
  • the filter system 100 corresponds to the exemplary embodiments described above, it likewise comprising at least two filter devices 10 .
  • the passivation device 1 is coupled directly or indirectly to at least one of the filter devices, as has already been described above.
  • the filter system 100 includes a transport device 200, which transports the filter residue from the individual filter devices 10, which are not directly or indirectly coupled to the passivation device 1, into the passivation device 1, for example via lines 201.
  • the transport device 200 is, for example, a suction device.
  • Such a filter system 100 is shown in FIG. 7 as an example with two filter devices 10-1 and 10-2.
  • the filter system 100 can also include more than two filter devices.
  • the at least two filter devices are preferably assigned to different devices for the additive production of three-dimensional objects (e.g. different systems for selective laser melting or laser powderbed fusion).
  • the filter system 100 corresponds to the exemplary embodiments described above, it likewise comprising at least two filter devices 10 .
  • the passivation device 1 is coupled directly or indirectly to at least one of the filter devices, as has already been described above.
  • the filter system includes 100 a transport device 200, which transports the filter residue from the individual filter devices 10, which are not directly or indirectly coupled to the passivation device 1, into the collection chamber or the filter chamber of at least one filter chamber 10, which is directly or indirectly coupled to the passivation device 1, for example via lines 201.
  • the transport device 200 is, for example, a suction device.
  • Such a filter system 100 is shown in FIG. 8 as an example with two filter devices 10-1 and 10-2.
  • the filter system 100 can also include more than two filter devices.
  • the at least two filter devices are preferably assigned to different devices for the additive manufacturing of three-dimensional objects (e.g. different systems for selective laser melting).
  • a suction device that serves as a transport device 200 in the aforementioned sense can be implemented, for example, by arranging a blower at the outlet of a filter device or a line connected to the outlet of a filter device or the outlets of a plurality of filter devices.
  • pneumatic conveying is possible, for example by means of an ejector instead of a blower.
  • a filter residue conveyor is provided in the area of the outlet of the filter device 10, through which the filter residue reaches the outlet area 3, 3', in order to transport the filter residue into the outlet area 3, 3' to effect or to force.
  • a filter residue conveyor can be particularly advantageous in the exemplary embodiments in which no suction pressure or no high suction pressure is generated by the conveyor device.
  • a laser sintering system with a process chamber and a process gas conveying device can be equipped with the filter system 100 according to the invention according to one of the above exemplary embodiments, so that the filter device 10 and the passivation device 1 represent part of the device for additive manufacturing of three-dimensional objects.
  • the device shown as an example in FIG. 9 is a laser sintering or laser melting device 101.
  • To build up an object 102 it contains a process chamber 103 with a chamber wall 104 .
  • a working plane 107 is defined by the upper opening of the container 105 , with the area of the working plane 107 lying within the opening, which can be used to construct the object 102 , being referred to as the construction field 108 .
  • a carrier 110 Arranged in the container 105 is a carrier 110 that can be moved in a vertical direction V and to which a base plate 111 is attached, which closes off the container 105 at the bottom and thus forms its bottom.
  • the base plate 111 may be a plate formed separately from the bracket 110 and fixed to the bracket 110 or may be formed integrally with the bracket 110 .
  • a construction platform 112 can also be attached to the base plate 111 as a construction base, on which the object 102 is built. However, the object 102 can also be built on the base plate 111 itself, which then serves as a building base.
  • the laser sintering device 101 also contains a storage container 114 for an electromagnetic Radiation-solidifiable powdered construction material 115 and a coater 116 movable in a horizontal direction H for applying the construction material 115 within the construction field 108.
  • the coater 116 preferably extends transversely to its direction of movement over the entire area to be coated.
  • a radiant heater 117 is optionally arranged in the process chamber 103 and is used to heat the build-up material 115 applied.
  • An infrared radiator for example, can be provided as the radiant heater 117 .
  • the laser sintering device 101 also contains an exposure device 120 with a laser 121, which generates a laser beam 122, which is deflected via a deflection device 123 and through a focusing device 124 via a coupling window 125, which is attached to the upper side of the process chamber 103 in the chamber wall 104 the working plane 107 is focused. Furthermore, the laser sintering device 101 contains a control unit 129, via which the individual components of the device 101 are controlled in a coordinated manner for carrying out the construction process. Alternatively, the control unit can also be fitted partially or entirely outside the device. The control unit may include a CPU whose operation is controlled by a computer program (software).
  • the computer program can be stored separately from the device on a storage medium from which it can be loaded into the device, in particular into the control unit.
  • the carrier 110 is first lowered by a height which corresponds to the desired layer thickness.
  • the coater 116 first travels to the storage container 114 and takes from it a quantity of the building material 115 sufficient for applying a layer. Then it drives over the construction field 108, applies powdered construction material 115 there to the construction base or a previously existing powder layer and pulls it out to form a powder layer.
  • the application takes place at least over the entire cross section of the object 102 to be produced, preferably over the entire construction field 108, ie the area delimited by the container wall 106.
  • the powdered construction material 115 is heated to a working temperature by means of a radiant heater 117 .
  • the cross section of the object to be produced 102 is scanned by the laser beam 122, so that the powdered construction material 115 at the Places is solidified that correspond to the cross section of the object 102 to be manufactured.
  • the powder grains are partially or completely melted at these points by means of the energy introduced by the radiation, so that after cooling they are connected to one another as solid bodies.
  • the process gas conveying device 136 which is a blower, for example, serves to convey a process gas flowing through the process chamber 103 from a process chamber inlet 132 to a process chamber outlet 134 .
  • the flow of the process gas through the process chamber 103 is shown schematically in FIG.
  • the process gas is preferably at least partially circulated, which means that at least part of the process gas flowing through the process chamber outlet 134 is returned to the process chamber 103 through the process chamber inlet 132 after it has been filtered by the filter device 10 of the filter system 100.
  • Such a process gas circuit is shown in FIG. 9, the direction of flow being symbolized by arrows.
  • the process chamber 103 is connected to the filter system 100 in such a way that process gas exiting the process chamber 103 through the process chamber outlet 134 is routed into a process gas inlet 100 - 1 of the filter device 10 .
  • a line 135 is provided for this purpose, for example. If the process gas is circulated, a process gas outlet 100 - 2 of the filter device 10 is also connected to the process chamber inlet 132 .
  • a line 135 is provided for this purpose, for example.
  • a process gas conveying device 136 can be provided, for example, between the process gas outlet 100-2 and the process chamber inlet 132 and/or between the process chamber outlet 134 and the process gas inlet 100-1.
  • the process gas delivery device 136 is preferably located between the process gas outlet 100 - 2 of the filter device 10 and the process chamber inlet 132 arranged because the process gas delivery device 136 promotes clean gas in this case, which reduces the risk of contamination of the process gas delivery device 136.
  • This arrangement of the process gas delivery device 136 is shown in FIG. 9 .
  • the process chamber 103 and filter chamber 11 can be connected to one another in such a way that the process chamber outlet 134 is directly connected to the process gas inlet 100-1 of the filter device 10 and/or that the process chamber inlet 132 is directly connected to the process gas outlet 100-2 of the filter device 10 is connected.
  • Process gas is also commonly referred to as “raw gas” before filtering, while process gas is also commonly referred to as “clean gas” after filtering. This means that raw gas flows during operation from the process chamber outlet 134 into the process gas inlet 100-1 of the filter device.
  • process gas is also commonly referred to as “clean gas” after filtering.
  • the exemplary embodiments of the device for additive manufacturing have been described using a selective laser sintering or laser melting device, they are not restricted to selective laser sintering or laser melting. It can be applied to any method for generatively producing a three-dimensional object by applying and selectively solidifying a building material in layers.
  • the imagesetter can, for example, include one or more gas or solid-state lasers or any other type of laser such as laser diodes, in particular VCSEL (Vertical Cavity Surface Emitting Laser) or VECSEL (Vertical External Cavity Surface Emitting Laser), or a line of these lasers.
  • laser diodes in particular VCSEL (Vertical Cavity Surface Emitting Laser) or VECSEL (Vertical External Cavity Surface Emitting Laser), or a line of these lasers.
  • any device with which energy can be selectively applied to a layer of the building material as wave or particle radiation can be used as an exposure device.
  • a laser another light source, an electron beam or any other energy or radiation source that is suitable for solidifying the building material can be used, for example.
  • deflecting a beam exposure with a movable line exposer can also be used.
  • the invention can be used.
  • Various types of powder can be used as the building material, in particular metal powder, plastic powder, ceramic powder, sand, filled or mixed powders.
  • the method for passivation according to the invention (hereinafter also referred to as “passivation method”) is carried out, for example.
  • Filter residue exiting a filter device 10 is fed to an exit area 3, 3' (step A). This is preferably done by sucking it out of the filter device, for example by means of an ejector.
  • a fluid stream is fed into the outlet area 3, 3' (step B). As a result, the fluid flow is loaded with the filter residue.
  • the fluid flow picks up the filter residue and transports it in the direction of flow.
  • the fluid flow entrains the filter residue with it.
  • the fluid stream loaded with the filter residue is discharged from the outlet area 3, 3' (step C).
  • the feeding of the filter residue into the outlet area 3, 3 'and the loading of the fluid flow with the filter residue is preferably carried out in that the Filter residue sucked off as a result of the fluid flow and is thereby included in the fluid flow.
  • the feeding of the filter residue into the outlet area 3, 3', the loading of the fluid flow with the filter residue and the discharge from the outlet area 3, 3' are preferably carried out by using an ejector.
  • the fluid flow is first fed into the ejector as a driving medium.
  • Step D The fluid stream loaded with the filter residue is subsequently ejected from the ejector.
  • the fluid stream is energized as part of the passivation process (Step D). Energizing can take place: (a) upstream of the exit area, i.e. before the fluid flow is fed into the exit area 3,3', for example in the fluid feed 4, 4', (b) at the point where the fluid flow enters the exit area 3,3', i.e.
  • step D can occur anywhere before, after, and during the sequence of steps A through C.
  • step A a fluid stream composed of a fluid that includes a passivating agent is used as the fluid stream.
  • the passivating agent is added to the fluid in a further step (step E), i.e. the fluid flow is mixed with the passivating agent.
  • the fluid contains passivating agent from the outset, but further passivating agent is added to it in the course of the passivation process.
  • Step E can - if it is carried out - take place: (i) upstream of the outlet area, i.e.
  • the passivating agent before the fluid flow is fed into the outlet area 3,3', for example by feeding the passivating agent into the fluid feed 4, 4', (ii) at Place where the fluid flow enters the exit area 3,3', i.e. during the feeding of the fluid flow into the exit area 3,3', (iii) in the exit area 3,3', e.g. by feeding the passivating agent into the exit area 3,3 ', (iv) at the point where the fluid flow exits the exit area 3,3', i.e. during the discharge of the fluid flow from the exit area 3,3', (v) downstream of the exit area, i.e. after the fluid flow has been discharged from the Outlet area 3,3', for example by feeding the passivating agent into the conveying line 5.
  • the fluid can also be mixed with the passivating agent simultaneously or at different times or at several points n, i.e. any combination of the above options (i) to (v) is possible.
  • the filter residue is at least partially passivated in the entrained flow by a chemical reaction with the passivating agent (step F). "Partial passivation" is used when only part of the particles in the filter residue react chemically with the passivating agent and/or when only part of the material of the particles which is passivated and which is basically reactive to the passivating agent is chemically converted.
  • An oxidizing agent that is suitable for at least partially oxidizing the filter residue is preferably used as a passivating agent, more preferably included the passivating agent is oxygen, more preferably the passivating agent is oxygen.
  • the fluid forming the fluid stream is an inert gas, for example nitrogen and/or argon, containing O 2 contains or with O 2 is transferred.
  • the mixing can be done, for example, by adding pure oxygen gas or a mixture containing oxygen gas (e.g. air).
  • the amount of O is preferred 2 , with which the fluid stream is added, adjustable and/or at least 0.01% by volume, and/or at most 20.8% by volume.
  • An exemplary embodiment of the method is shown graphically in FIG.
  • the fluid flow is displaced (step E) before the fluid flow is fed into the outlet region 3, 3' (step B).
  • energy is applied after the fluid stream mixed with the filter residue has left the outlet region 3, 3'.
  • the chemical reaction for passivation is initiated by the application of energy.
  • Steps A, B, C are shown as steps carried out one after the other, because they can have this sequence for a specific quantity of filter residue and the part of the fluid flow that transports this filter residue.
  • the passivation process is preferably carried out continuously, so that at least over a certain period of time fluid is continuously fed into the outlet area 3,3' and removed from it, and during which filter residue is fed into the fluid flow.
  • the energy is supplied exclusively or predominantly to either the fluid or the filter residue by means of the energy supply device, it will happen after the supply or after the encounter of fluid and filter residue to an equilibration of the energy, which takes place very quickly, for example in the range of less than a second or in the range of at most a few milliseconds, particularly in the case of small filter residue particles.
  • This can be the case, for example, when the fluid stream is first charged with energy before it reaches the outlet area and thus before it comes into contact with the filter residue.
  • the speed of the equilibration depends, among other things, on the flow speed of the fluid stream, its temperature and the particle diameter.
  • an ejector as described above for the first embodiment, is supplied with argon via the fluid supply in the form of a delivery line with a circular cross-section and an internal diameter of 4 mm at a pressure of 2 bar in front of the ejector (ejector -admission pressure), a temperature of 250 °C and a flow rate of 3.8 L/s. Particles with different particle diameters get into the fluid flow in the ejector.
  • Equation 1 The first term of the sum on the right side of Equation 1 describes the particle temperature change based on convection and conduction.
  • the second term describes the particle temperature change based on thermal radiation.
  • Fig. 11 A diagram is shown in Fig. 11, which shows the course of T p as a function of time t for different particle diameters dp. The time for which the particles are in contact with the fluid before they leave the conveying line 5 again can be relatively short in some cases.
  • the fluid flow can be set and/or controlled in such a way that particle agglomerates occurring in the filter residue are at least partially broken up.
  • This effect can be achieved, for example, as an additional effect of using an ejector or a Venturi nozzle to suck in the filter residue from the filter device 10, since there is a strong flow in an ejector or a Venturi nozzle and often also downstream of it, which often breaking up of agglomerates.
  • the fluid flow loaded with the filter residue can alternatively or additionally be guided through a cross-sectional constriction 511 of the fluid line 5 .
  • the optional breaking up takes place in particular in such a way that the particles of the filter residue are either in the form of primary particles or in the form of smaller agglomerates after the breaking up.
  • comminution to a secondary particle diameter of 100 ⁇ m or less are considered advantageous for the most effective heating possible.
  • the value can also be higher, for example 200 ⁇ m.
  • Equations (1) to (4) above can be used, for example, to estimate whether particles of different diameters are heated up quickly enough.
  • the required length of the conveying line can be estimated. According to this estimate, for example, to heat up particles with a diameter of 100 ⁇ m from room temperature to at least approximately 250° C., a time of around 250 ms is required. If the particles are then given 100 ms for the chemical reaction at the temperature reached, the desired residence time in the conveying line is 350 ms. If the average flow velocity is 10 m/s, a length of the conveying line of 3.5 m can be estimated.
  • the method according to the invention for filtering a process gas (hereinafter also referred to as “filter method”) is carried out, for example.
  • At least one filter element can optionally be coated with a filter aid (optional step I).
  • a process gas is passed through at least one filter element 20 arranged in a filter chamber 11 of the filter device 10, the process gas being filtered, i.e. being at least partially cleaned of entrained solids (step II).
  • the process gas is admitted into the filter chamber 11 via a process gas inlet and the filter chamber is discharged again via a process gas outlet, taking its way via the at least one filter element 20 or, in the case of several filter elements, via at least one of them.
  • the process gas can in particular be the process gas of a device for the additive production of three-dimensional objects such as a system for selective laser sintering/melting.
  • the solids that have been filtered out remain at least initially on the at least one filter element 20 .
  • the retained solids are also commonly referred to as "filter residue".
  • the filter element is cleaned, or in the case of several filter elements, at least part of it is cleaned (step III).
  • the filter residue either detaches itself from the at least one filter element 20 and the at least one filter element is cleaned as a result. Or the filter residue is removed by a suitable measure and the at least one filter element is cleaned in this way.
  • a blast of compressed gas can be passed through the at least one filter element 20 from time to time, the direction of flow of which is opposite to the direction in which the process gas flows through the at least one filter element for filtering.
  • the detachment can also be carried out by blowing off, sweeping away, scraping off, shaking off etc.
  • a combination of several techniques for detachment is also possible.
  • the filtering of the process gas is optionally interrupted while the filter residue is being removed.
  • filtering of the process gas can be continued if the stripping technique used allows.
  • Another possibility is that several filter elements 20 are provided and the filtering of the process gas is continued with some of the filter elements 20 while another part is cleaned.
  • step IV The filter residue which has become detached from at least one filter element or which has been detached from this is optionally collected. This can be done, for example, by means of a collection chamber into which the filter residue is introduced and in which it remains until it is subjected to the passivation process.
  • the filter residue is subjected to the passivation process according to the invention (step V).
  • An exemplary embodiment of the filtering method is shown graphically in FIG. 12, with step D corresponding to the implementation of the passivation method as shown in FIG.

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Abstract

Passivierungsvorrichtung (1) zur Passivierung eines in einer Filtervorrichtung (10) auftretenden Filterrückstands. Die Passivierungsvorrichtung (1) umfasst einen Austrittsbereich (3, 3') zum Aufnehmen von Filterrückstand aus der Filtervorrichtung (10), eine Fluidzuführung (4, 4') zum Zuführen eines Fluidstroms aus einem Fluid, welches ein Passivierungsmittel umfassen kann, in den Austrittsbereich (3, 3'), eine Fluidabführung (5) zum Abführen des Fluidstroms und des Filterrückstands aus dem Austrittsbereich (3, 3') und eine Energiezufuhrvorrichtung (70, 70', 70'') zum Beaufschlagen des Fluidstroms und/oder des Filterrückstands mit Energie. Die Passivierungsvorrichtung (1) ist ausgebildet und/oder steuerbar, eine chemische Reaktion zwischen dem Filterrückstand und dem Passivierungsmittel zumindest teilweise im Flugstrom zu bewirken. Ferner umfasst die Passivierungsvorrichtung optional eine Passivierungsmittelzuführung zum Versetzen des Fluidstroms mit einem Passivierungsmittel.

Description

Passivierungsvorrichtung, Filtersystem, Vorrichtung zur additiven Herstellung dreidimensionaler Objekte, Verfahren zum Passivieren und Verfahren zum Filtern Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf eine Passivierungsvorrichtung, ein Filtersystem umfassend eine solche Passivierungsvorrichtung, eine Vorrichtung zur additiven Herstellung dreidimensionaler Objekte umfassend ein solches Filtersystem, ein Verfahren zum Passivieren eines in einer Filtervorrichtung auftretenden Filterrückstands und ein Verfahren zum Filtern eines Prozessgases. Vorrichtungen und Verfahren zur additiven Herstellung dreidimensionaler Objekte werden beispielsweise bei Verfahren verwendet, die als "Rapid Prototping", "Rapid Tooling" und "Additive Manufacturing" bezeichnet werden. Ein Beispiel eines solchen Verfahrens ist unter dem Namen "selektives Lasersintern" oder "selektives Laserschmelzen" bekannt. Hierbei wird wiederholt eine Schicht eines in der Regel pulverförmigen Aufbaumaterials aufgebracht und das Aufbaumaterial in jeder Schicht durch selektives Bestrahlen von dem Querschnitt des herzustellenden Objekts in dieser Schicht entsprechenden Stellen mit einem Laserstrahl selektiv verfestigt, beispielsweise indem das Aufbaumaterial an diesen Stellen durch die vom Laserstrahl bereitgestellte Energie teilweise oder vollständig geschmolzen wird und die Schmelze anschließend beim Abkühlen erstarrt. Weitere Details sind beispielweise in EP 2978589 B1 beschrieben. Während des Herstellungsvorgangs wird oftmals in der Prozesskammer, in der das Aufbaumaterial selektiv mittels Strahlung behandelt wird, eine Prozessgasatmosphäre aufrechterhalten. Bei der Prozessgasatmosphäre handelt es sich in der Regel eine Inertgasatmosphäre (auch als "Schutzgasatmosphäre" bezeichnet), da manche Aufbaumaterialien, insbesondere wenn diese metallhaltig sind, bei den auftretenden hohen Temperaturen zur Oxidation neigen, was die Ausbildung von Objekten verhindern oder zumindest die Ausbildung von Objekten mit wunschgemäßem Materialgefüge verhindern würde. Beispielsweise könnte Titan anfangen, bei Anwesenheit von Sauerstoff unkontrolliert zu brennen. In der Regel wird dabei ein Prozessgasstrom über die Bauebene, also die Oberfläche einer zu verfestigenden Aufbaumaterialschicht, geleitet. Während des Prozesses wird infolge des Bestrahlens häufig ein Teil des Aufbaumaterials verdampft, was nach der Wiederverfestigung der entstandenen Dämpfe zur Ausbildung von Kondensaten führt. Ferner wird während des Prozesses häufig ein Teil des Aufbaumaterials aufgewirbelt. Darüber hinaus können sich während des Prozesses Spratzer bilden. Dabei handelt es sich häufig um erstarrte Tropfen der Schmelze des Aufbaumaterials mit einem Durchmesser zwischen beispielsweise 20 und 300 µm. Spratzer werden beispielsweise bei einem Einstechen des Laserstrahls aus der entstehenden Schmelze bzw. dem Schmelzbad herausgeschleudert. Auch solche Spratzer können das Prozessgas verunreinigen. Wegen der Kondensate und/oder des aufgewirbelten Aufbaumaterials und/oder der Spratzer und/oder anderer vom Prozessgas mitgeführter Verunreinigungen in Form von Partikeln oder Tröpfchen ist es erforderlich, das Prozessgas von diesen unerwünschten zu befreien. Dies ist besonders dann der Fall, wenn das Prozessgas im Kreislauf geführt wird, d.h. wenn es nach seinem Austreten aus der Prozesskammer und nach seiner Filterung wieder in die Prozesskammer eingeleitet werden soll. Ein derartiger Gaskreislauf wird gelegentlich auch als "Umwälzung" oder "Umluft" bezeichnet, letzteres selbst wenn es sich bei dem Prozessgas nicht um Luft handelt. Häufig handelt es sich bei diesen unerwünschten Verunreinigungen um Kondensatpartikel, die aus dem Metalldampf bei Abkühlung auskondensieren und in der Regel einer Primärpartikelgröße von beispielsweise 20 nm bis 50 nm aufweisen und welche zu größeren Agglomeraten zusammengeschlossen sein können, und/oder um pulverförmiges Aufbaumaterial mit Partikelgrößen zwischen beispielsweise 1 und 50 µm. In US 2014/0287080 ist beschrieben, dass zu diesem Zweck ein geschlossener Gasströmungskreis bereitgestellt wird, mit dem eine Gasströmung durch die Prozesskammer einer selektiven Laserschmelzvorrichtung geleitet wird, wobei in dem Gasströmungskreis zwei Filtereinrichtungen angeordnet sind, die jeweils ein Filterelement aufweisen. In DE 102014207160 A1 wird eine zyklische Abreinigung eines Filterelements einer Umluftfiltereinrichtung mittels eines Gasdruckstoßes beschrieben. Insbesondere bei Verwendung metallhaltiger bzw. metallischer Aufbaumaterialen (z.B. Titan oder Titanlegierungen) neigen die Partikel unter hohen Temperaturen zu einer Reaktion mit oxidativen Materialen, wobei die Reaktionsrate bei hohen Temperaturen erhöht ist. Metallkondensat kann sich dabei bei Raumtemperatur und Luftsauerstoffkontakt spontan selbst entzünden, ist also in der Regel pyrophor. Hierdurch kann es gerade im Bereich von Filterelementen, an denen sich die in dem Prozessgas mitgeführten Partikel ansammeln, zu unkontrollierten Filterbränden oder Staubexplosionen kommen. Dieses Risiko besteht verstärkt, wenn bei einem Wechsel des Filterelements Sauerstoff spontan (d.h. zu schnell und/oder in zu großer Menge) an das Filterelement gelangt. Wenn beispielsweise die Filterkammer schnell geöffnet wird, kann plötzlich so viel Sauerstoff in der Filterkammer vorhanden sein, dass der Filterrückstand oxidiert wird und die dabei frei werdende Reaktionswärme die Geschwindigkeit der Oxidation weiter steigert. In solchen Fällen kann es geschehen, dass die Reaktion unkontrolliert verläuft und ein Brand (Filterbrand) entsteht. EP 1527807 A1 beschreibt zum Abscheiden von Staubbestandteilen aus einem explosionsfähigen Staub-Luft-Gemisch eine Inertisierung durch Verwendung von Additiv-Partikeln als Inertisierungsmittel, mit denen die eingesetzten Filterplatten beladen werden. Die Menge der Additiv-Partikel wird dabei so gewählt, dass die Mischung aus diesen Partikeln mit einem eingetragenen Staub zumindest bis zum Erreichen eines oberen Füllstandes eines Staubbehälters möglichst kein brennbares Gemisch darstellt. Als Additiv-Partikel werden in Verbindung mit Aluminium-Staub Calciumcarbonat-Partikel und Siliziumdioxid-Partikel genannt. Durch die Verwendung zusätzlicher Partikel wird neben deren Bereitstellung und deren Kosten aber auch ein schnelleres Erreichen des oberen Füllstandes in Kauf genommen, so dass der Staubbehälter öfter entleert werden muss. Die Additiv-Partikel können auch als "Filterhilfsstoff" bezeichnet werden. In DE 102017207415 A1 ist die Behandlung von Partikeln, die von einem Filterelement abgetrennten wurden, in einer separaten Behandlungskammer außerhalb der Filterkammer beschrieben. Dabei ist die Ausbildung oberflächlicher Oxidschichten auf den Partikeln durch Zugabe von Sauerstoff in die Behandlungskammer, in der sich die Partikel befinden, beschrieben. Die Aufgabe der vorliegenden Erfindung besteht darin, eine alternative oder verbesserte Passivierungsvorrichtung bzw. ein alternatives oder verbessertes Filtersystem bzw. eine alternative oder verbesserte Vorrichtung zur additiven Herstellung dreidimensionaler Objekte bzw. ein alternatives oder verbessertes Verfahren zum Passivieren eines in einer Filtervorrichtung auftretenden Filterrückstands bzw. ein alternatives oder verbessertes Verfahren zum Filtern eines Prozessgases bereitzustellen. Diese Aufgabe wird gelöst durch die Passivierungsvorrichtung gemäß Anspruch 1, das Filtersystem gemäß Anspruch 11, die Vorrichtung zur additiven Herstellung dreidimensionaler Objekte gemäß Anspruch 19, das System zur additiven Herstellung dreidimensionaler Objekte gemäß Anspruch 20, das Verfahren gemäß Anspruch 21 und das Verfahren gemäß Anspruch 26. Weiterbildungen der Erfindung sind in den Unteransprüchen angegeben. Dabei können die Verfahren auch durch die in der nachfolgenden Beschreibung und in den Unteransprüchen angeführten Merkmale der Vorrichtungen weitergebildet sein. Umgekehrt können die Vorrichtungen auch durch die in der nachfolgenden Beschreibung und in den Unteransprüchen angeführten Merkmale des Verfahrens weitergebildet sein. Ferner können die in der nachfolgenden Beschreibung und in den Unteransprüchen zu einem unabhängigen Anspruch angeführten Merkmale auch zur Weiterbildung der Gegenstände der weiteren unabhängigen Ansprüche genutzt werden. Bei der erfindungsgemäßen Passivierungsvorrichtung handelt es sich um eine Passivierungsvorrichtung zur Passivierung eines in einer Filtervorrichtung auftretenden Filterrückstands. Die erfindungsgemäße Passivierungsvorrichtung umfasst einen an die Filtervorrichtung direkt oder indirekt ankoppelbaren oder angekoppelten Austrittsbereich, der ausgebildet ist, Filterrückstand aus der Filtervorrichtung aufzunehmen. Die erfindungsgemäße Passivierungsvorrichtung umfasst ferner eine Fluidzuführung zum Zuführen eines Fluidstroms aus einem Fluid, welches ein Passivierungsmittel umfassen kann, in den Austrittsbereich. Die erfindungsgemäße Passivierungsvorrichtung umfasst ferner eine Fluidabführung zum Abführen des Fluidstroms und des Filterrückstands aus dem Austrittsbereich. Die erfindungsgemäße Passivierungsvorrichtung umfasst ferner eine Energiezufuhrvorrichtung zum Beaufschlagen des Fluidstroms und/oder des Filterrückstands mit Energie. Ferner umfasst die Passivierungsvorrichtung optional eine Passivierungsmittelzuführung zum Versetzen des Fluidstroms mit einem Passivierungsmittel. Die erfindungsgemäße Passivierungsvorrichtung ist ausgebildet und/oder steuerbar, eine chemische Reaktion zwischen dem Filterrückstand und dem Passivierungsmittel zumindest teilweise im Flugstrom zu bewirken. Erfindungsgemäß ist die Filtervorrichtung an den Austrittsbereich direkt und/oder indirekt ankoppelbar oder angekoppelt. In diesem Zusammenhang wird von einem "indirekten Ankoppeln" gesprochen, wenn zwischen Filtervorrichtung und Austrittsbereich eine Zwischenkammer, eine Verbindungsleitung, ein Rohr o.ä. vorgesehen ist. Eine Zwischenkammer oder eine Verbindungsleitung ist eine Kammer bzw. Leitung, die zwischen der Filtervorrichtung und dem Austrittsbereich angeordnet ist, sodass beispielsweise Filterrückstand durch die Zwischenkammer bzw. Verbindungsleitung hindurchtreten muss, um von der Filtervorrichtung in den Austrittsbereich zu gelangen. Ein "direktes Ankoppeln" liegt umgekehrt vor, wenn eine Zwischenkammer und eine Verbindungsleitung fehlen. Dabei ist die Filtervorrichtung an den Austrittsbereich bevorzugt lösbar angekoppelt oder ankoppelbar. Das heißt, die aneinander gekoppelten Komponenten können wieder getrennt werden. Der genannte Bereich wird deshalb als "Austrittsbereich" bezeichnet, weil es sich um den Bereich der Passivierungsvorrichtung handelt, in welchen der aus der Filtervorrichtung austretende Filterrückstand zunächst gelangt, bevor er mit dem Fluidstrom weiter durch die Fluidabführung gefördert wird. Durch das erfindungsgemäße Beaufschlagen des Fluidstroms und/oder des Filterrückstands mit Energie, z.B. in Form von Wärmeenergie, wird beispielsweise eine Reaktion zwischen dem Filterrückstand und dem Passivierungsmittel beschleunigt oder bewirkt. Beispielsweise laufen chemische Reaktionen bei erhöhten Temperaturen häufig schneller ab bzw. kann durch erhöhte Temperaturen häufig die Aktivierungsenergiebarriere überwunden werden, sodass die chemische Reaktion durch die Beaufschlagung mit Energie überhaupt erst beginnt. Insbesondere in Fällen, in denen der Stofftransport (z.B. Passivierungsmittelzufuhr) nicht der limitierende Faktor ist, kann die Reaktionsgeschwindigkeit mit der Temperatur beispielsweise exponentiell ansteigen. Alternativ oder zusätzlich zu einem chemisch reaktiven Passivierungsmittel wie beispielsweise einem Oxidationsmittel können auch auf andere Weise wirksame Stoffe zur Verminderung des Brandrisikos eingesetzt werden. Auf die Verwendung von Filterhilfsstoffen wird nachfolgend detailliert eingegangen. Zusätzlich oder alternativ kann beispielsweise eine Flüssigkeit, beispielsweise ein Öl (z.B. Siliconöl), eingesetzt werden, welche den Filterrückstand benetzt und so vor ungewolltem Sauerstoffzutritt schützt. Eine derartige Flüssigkeit kann beispielsweise dem Filterrückstand im Abfallbehälter zugegeben werden. In diesem Zusammenhang ist zu erwähnen, dass der Filterrückstand in der Regel indirekt mit Energie beaufschlagt wird, wenn dem Fluidstrom Energie zugeführt wird, und umgekehrt. Beispielsweise findet zwischen den Teilchen des Filterrückstands und dem Fluid des Fluidstroms, mit dem die Teilchen in Kontakt sind, eine relativ rasche thermische Äquilibrierung statt, insbesondere im Fall kleiner Teilchen. Das bedeutet beispielsweise, dass der Filterrückstand vom Fluidstrom erwärmt wird, wenn nur der Fluidstrom aktiv erwärmt wird, beispielsweise indem die Erwärmung vor dem Eintritt des Fluidstroms in den Austrittsbereich stattfindet. Die erfindungsgemäße Passivierungsvorrichtung ist ausgebildet und/oder steuerbar, eine chemische Reaktion zwischen dem Filterrückstand und dem Passivierungsmittel zumindest teilweise im Flugstrom zu bewirken. Dabei bedeutet der Begriff "teilweise", dass die chemische Reaktion nicht nur im Flugstrom stattfinden muss, sondern zum Teil auch dann stattfinden kann, wenn sich der Filterrückstand und das Passivierungsmittel noch nicht oder nicht mehr im Zustand eines Flugstroms befinden. Beispielsweise kann die chemische Reaktion zumindest in einem gewissen Maß weiterlaufen, nachdem der Filterrückstand mittels des Fluidstroms, d.h. im Flugstrom, in einen Auffang transportiert worden ist. Ferner muss die chemische Reaktion nicht vollständig verlaufen, d.h. der Filterrückstand muss durch das Passivierungsmittel nicht vollständig chemisch umgesetzt werden. Beispielsweise kann es ausreichend sein, wenn die Partikel des Filterrückstands durch die chemische Reaktion eine oberflächliche Passivierungsschicht ausbilden. Eine derartige Passivierungsschicht kann beispielsweise als Schutzschicht dienen und verhindern, dass die Partikel bei Kontakt mit Sauerstoff oxidiert werden. Beispielsweise kann durch eine mittels der Passivierung gezielt erzeugte Oxidschicht verhindert werden, dass Titanpartikel bei Kontakt mit Sauerstoff bzw. Luft ungewollt reagieren. Als Flugstrom wird eine Zweiphasenströmung aus einem Fluid und einem teilchenförmigen Feststoff, d.h. ein strömendes Aerosol, verstanden. Der Kontakt zwischen dem Fluid und dem Feststoff und die Bewegung können beispielsweise einen intensiven und schnellen Stoff- oder/oder Wärmeaustausch ermöglichen. Dadurch kann beispielsweise wiederum die erwünschte chemische Reaktion beschleunigt oder überhaupt erst ermöglicht werden. Erfindungsgemäß ist somit die Verwendung eines Fluidstroms zu drei Zwecken in kombinierter Weise vorgesehen: Erstens dient der Fluidstrom dem Fördern des Filterrückstands vom Austrittsbereich, an dem er aus der Filtervorrichtung austritt, durch die Förderleitung. Dadurch kann der Filterrückstand beispielsweise in einen Auffang, z.B. einen Abfallbehälter, transportiert werden. Zweitens dient der Fluidstrom der Erzeugung eines Flugstroms, durch den beispielsweise die chemische Reaktion zur Passivierung beschleunigt wird. Somit kann der Filterrückstand beispielsweise in einem passivierten Zustand aus der Förderleitung austreten. Drittens ist das Passivierungsmittel im Fluidstrom enthalten. Dies kann beispielsweise die Passivierung und damit die Passivierungsvorrichtung im Vergleich zu einer separaten Passivierungsmittelzugabe, vereinfachen. Die intensive Durchmischung im Flugstrom kann beispielsweise auch dann besonders vorteilhaft sein, wenn zusätzlich zum Passivierungsmittel ein Feststoffpulver, beispielsweise Kalkpulver und/oder Siliciumdioxidpulver (Quarzpulver) und/oder Glaspulver als Inertisierungsmittel, verwendet wird, um die Brennbarkeit und/oder die Entflammbarkeit des Filterrückstands zu reduzieren. Glaspulver erweist sich in einigen Fällen deshalb als vorteilhaft, weil es bei niedrigeren Temperaturen schmilzt als beispielsweise Quarzpulver, sodass bereits bei relativ niedrigen Temperaturen eine zumindest teilweise Bedeckung der Filterrückstände mit Glasschmelze bzw. erstarrter Glasschmelze erreicht werden kann, was zu einer Senkung des Brandrisikos führen kann. Durch den Flugstrom kann der Filterrückstand beispielsweise mechanisch beansprucht werden, etwa indem die Teilchen des Filterrückstands aneinander und/oder gegen eine Wand und/oder gegen Teilchen eines Inertisierungsmittels stoßen. Infolgedessen kann es beispielsweise möglich sein, dass die Filterrückstandteilchen zumindest teilweise in kleinere Teilchen aufbrechen. Insbesondere lassen sich auf diese Weise beispielsweise Agglomerate aus relativ schwach aneinander gebundenen Primärteilchen aufbrechen. Aufgebrochene Agglomerate können beispielsweise einfacher passivierbar sein als nicht aufgebrochene Agglomerate. Insbesondere Inertisierungsmittel mit scharfkantigen Partikeln können dazu gut geeignet sein. Insgesamt kann durch die Erfindung beispielsweise eine effektivere Passivierung des Filterrückstands erzielt und dadurch die Gefahr, dass sich Abfall selbst entzündet, verringert oder gänzlich ausgeschaltet werden. Damit kann beispielsweise eine sichere Entnahme des Abfalls bzw. des den Abfall enthaltenden Behälters ermöglicht werden. Zudem kann es durch die Förderung im Flugstrom zu einer Homogenisierung und Verdichtung des anfallenden Abfalls bestehend aus Filterrückstand und gegebenenfalls Filterhilfsstoff kommen, wodurch beispielsweise die Standzeit eines Behälters für den Abfall verringert werden kann. Bevorzugt ist die Fluidabführung der erfindungsgemäßen Passivierungsvorrichtung als Förderleitung ausgebildet. Dabei weist die Förderleitung bevorzugt zumindest in einem Bereich einen Innendurchmesser von mindestens 2 mm und/oder höchstens 60 mm auf. Mehr bevorzugt weist die Förderleitung einen Innendurchmesser von mindestens 10 mm und/oder höchstens 50 mm, noch mehr bevorzugt mindestens 20 mm und/oder höchstens 40 mm auf. Die Förderleitung weist die genannten Innendurchmesser zumindest in einem Bereich ihrer Länge, insbesondere jedoch entlang ihrer gesamten Länge auf. Bevorzugt ist die Fluidabführung der erfindungsgemäßen Passivierungsvorrichtung als Förderleitung ausgebildet. Alternativ oder zusätzlich zu den genannten bevorzugten Mindest- und Höchstwerten des Innendurchmessers weist die Förderleitung bevorzugt eine Länge und einen über die Länge gemittelten Innendurchmesser auf, für die das Verhältnis von Länge zu gemitteltem Innendurchmesser mindestens 30:1 beträgt. Mehr bevorzugt beträgt dieses Verhältnis mindestens 50:1, noch mehr bevorzugt mindestens 70:1, besonders bevorzugt mindestens 100:1. Unter der Länge der Förderleitung wird im Kontext dieser Erfindung die Länge der Förderleitung zwischen ihrem ersten Ende, das mit dem Austrittsbereich verbunden ist und an dem der Fluidstrom eintritt, und ihrem zweiten Ende, an dem der Fluidstrom austritt und das beispielsweise mit einem Auffang (siehe unten) verbunden ist, verstanden. Unter dem über die Länge gemittelten Innendurchmesser wird im Kontext dieser Erfindung der durchschnittliche d.h. der über die gesamte Länge der Förderleitung arithmetisch gemittelte Innendurchmesser verstanden. Wenn beispielsweise der Innendurchmesser über die gesamte Länge der Förderleitung konstant ist, z.B. weil es sich bei der Förderleitung um ein zylindrisches Rohr handelt, ist dieser konstante Innendurchmesser gleich dem gemittelten Innendurchmesser. Wenn es sich bei der Förderleitung um eine Förderleitung mit einem nicht kreisförmigen lichten Querschnitt handelt, wird im Kontext dieser Erfindung unter dem Innendurchmesser der Durchmesser einer Kreisfläche verstanden, die denselben Flächeninhalt aufweist wie der lichte Querschnitt der Förderleitung. Mit dem erfindungsgemäßen Innendurchmesser der Förderleitung kann beispielsweise das Brandschutzverhalten und/oder das Explosionsschutzverhalten der Passivierungsvorrichtung verbessert werden, da die Gefahr, dass sich ein unbeabsichtigter Brand oder eine unbeabsichtigte Explosion aus einem Bereich der Passivierungsvorrichtung durch die Förderleitung in einen anderen Bereich der Passivierungsvorrichtung fortpflanzt, verringert wird. Dabei weist die Förderleitung gleichzeitig einen für eine effektive Förderung ausreichenden Durchmesser auf. Auf diese Weise kann beispielsweise verhindert werden, dass ein unbeabsichtigter Filterbrand in einer angekoppelten Filtervorrichtung durch die Förderleitung durchschlägt und sich so ausbreitet. Das dahinterliegende Prinzip ähnelt dem Prinzip der Grenzspaltweite. Bei der Grenzspaltweite (MESG) für ein bestimmtes Gasgemisch handelt es sich um ein Maß, dass in einem normierten Verfahren (internationaler Standard IEC (International Electrotechnical Commission) 60079-1) bestimmt wird. Ermittelt wird dabei, welche maximale Breite ein 25 mm langer Spalt in einem Behälter des Gases aufweisen darf, damit ein Hinauszünden noch verhindert wird (EN (Europäische Norm) 60079-20-1). Dieses Maß ist auf die vorliegende Erfindung nicht unmittelbar anwendbar. Einerseits entspricht die normgemäße Geometrie eines 25 mm langen Spalts nicht der typischen Geometrie des Querschnitts der Förderleitung. Andererseits sind die Brand- und Zündeigenschaften des durch die Förderleitung geförderten Fluids von der Zusammensetzung des Fluids und vor allem von der Beschaffenheit (chemische Zusammensetzung, Oberfläche, Partikelgröße etc.) und der Konzentration des vom Förderfluid geförderten Filterrückstands abhängig. Das dem Maß der Grenzspaltweite zugrundeliegende Prinzip ist jedoch auf die vorliegende Erfindung anwendbar. Es besagt, dass ein relativ kleiner Querschnitt einer Leitung das Hinauszünden aus der Leitung, das Hineinzünden in die Leitung und das Hindurchzünden durch die Leitung erschwert oder gänzlich verunmöglicht. Mit dem erfindungsgemäßen Verhältnis zwischen der Länge der Förderleitung und dem über die Länge der Förderleitung gemittelten Innendurchmesser der Förderleitung kann beispielsweise eine Förderleitung bereitgestellt werden, die einem für eine effektive Passivierung ausreichend langen Flugstrom entspricht und mit der das oben beschriebene vorteilhafte Brandschutzverhalten und/oder Explosionsschutzverhalten realisierbar ist. Bevorzugt ist die Fluidabführung der erfindungsgemäßen Passivierungsvorrichtung als Förderleitung ausgebildet. Alternativ oder zusätzlich zu den genannten bevorzugten Dimensionen der Förderleitung ist die Passivierungsvorrichtung bevorzugt so ausgebildet und/oder steuerbar, dass eine Verweilzeit des Filterrückstands in der Förderleitung von mindestens 0,1 s, mehr bevorzugt mindestens 0,15 s, noch mehr bevorzugt mindestens 0,2 s und/oder höchstens 0,5 s, mehr bevorzugt höchstens 0,4 s, noch mehr bevorzugt höchstens 0,3 s beträgt. Die Verweilzeit in der Förderleitung ist dabei die Zeit, die ein Filterrückstandspartikel im Mittel benötigt, um vom Anfang bis zum Ende der Förderleitung transportiert zu werden, insbesondere entlang der gesamten Strecke im Flugstrom. Dadurch wird dem Filterrückstand beispielsweise ausreichend Zeit für die Beaufschlagung mit Energie und die chemische Reaktion gegeben, vorzugsweise ohne die Förderleitung unnötig lang auszubilden. Bevorzugt ist die Passivierungsvorrichtung ausgebildet, den Filterrückstand ausschließlich mittels des Fluidstroms zu fördern. Dadurch kann beispielsweise auf eine zusätzliche mechanische Fördervorrichtung wie z.B. eine Förderschnecke verzichtet werden. Bevorzugt ist die Passivierungsvorrichtung ausgebildet, den Fluidstrom zumindest im Bereich des Austrittsbereichs und der Fluidabführung ohne Einwirkung einer Strömungsmaschine sowie ohne Einwirkung einer Kolbenmaschine zu fördern. Eine Strömungsmaschine ist dabei eine Maschine zum Fördern eines Fluids mittels Rotorblättern, Flügeln, Schaufeln oder anderen angetriebenen Bauteilen. Dadurch, dass die Förderung in diesem Bereich, in dem der Fluidstrom mit Filterrückstand beladen ist, ohne eine derartige Maschine erfolgt, kann beispielsweise der Wartungsaufwand oder die Störanfälligkeit der Passivierungsvorrichtung reduziert werden, da insbesondere Vorrichtungen mit angetriebenen Bauteilen gegenüber Verschmutzungen mit Feststoffen empfindlich sind. Bevorzugt ist die Förderung des Filterrückstands in der Fluidabführung schwerkraftunabhängig. Dadurch kann beispielsweise die Fluidabführung beliebig im Raum ausgerichtet sein, was mit einer verbesserten Flexibilität bei der Konstruktion der Passivierungsvorrichtung einhergeht, sodass die Passivierungsvorrichtung beispielsweise platzsparender angeordnet werden kann. Bevorzugt ist die Energiezufuhrvorrichtung eine Heizvorrichtung, insbesondere eine Heizvorrichtung, die ausgebildet ist, den Fluidstrom zu erwärmen, während er die Heizvorrichtung durchströmt. Durch die Verwendung einer Heizvorrichtung kann beispielsweise eine Energie in einer Form bereitgestellt werden, mit der sich die Passivierungsreaktion in effektiver Weise beschleunigen bzw. initiieren lässt, da chemische Reaktionen bei erhöhten Temperaturen häufig schneller ablaufen bzw. durch erhöhte Temperaturen häufig die Aktivierungsenergiebarriere überwunden werden kann. Bevorzugt ist die Energiezufuhrvorrichtung so angeordnet, dass der Fluidstrom auf eine vordefinierte Mindestzieltemperatur geheizt wird, bevor er in den Austrittsbereich eintritt. Dadurch kann beispielsweise der Filterrückstand bereits dann mit Energie beaufschlagt werden, wenn er mit dem Fluidstrom in Kontakt tritt, sodass eine Beschleunigung bzw. Initiierung der Reaktion bereits zu einem frühen Zeitpunkt und dadurch eine möglichst lange Reaktionszeit und/oder ein möglichst hoher Umsatz erreicht werden. Bevorzugt ist die Energiezufuhrvorrichtung ausgebildet und angeordnet, mindestens einem aus der Gruppe bestehend aus Fluidzuführung, Austrittsbereich und Fluidabführung ausgewählten Element Energie zuzuführen, um den Fluidstrom mit Energie zu beaufschlagen. Dadurch kann die Energiezufuhrvorrichtung beispielsweise an einer Stelle der Passivierungsvorrichtung angeordnet sein, an der sie effektiv Energie zum Beschleunigen bzw. Initiieren der gewünschten chemischen Reaktion einbringt. Bevorzugt umfasst die Fluidzuführung eine Düse, die so ausgebildet und/oder angeordnet ist, dass der durch die Düse geleitete Fluidstrom derart beschleunigt wird, dass ein Ansaugdruck zum Fördern des Filterrückstands aus der Filtervorrichtung und eines optional in der Filtervorrichtung befindlichen Fluids in den Austrittsbereich erzeugt werden, wobei der Filterrückstand mit dem Fluidstrom durch die Fluidabführung aus dem Austrittsbereich gefördert wird, wobei mehr bevorzugt die Düse als Ejektordüse oder Venturidüse ausgebildet ist und/oder wobei mehr bevorzugt die Düse ausgebildet ist, eine Geschwindigkeit und/oder einen Durchmesser des durch die Düse hindurchtretenden Fluidstroms einzustellen. Durch eine derartige Ansaug-Düse kann beispielsweise der Filterrückstand auf effektive Weise aus der Filtervorrichtung in die Passivierungsvorrichtung transportiert werden. Beispielsweise eine Ejektordüse kann dabei diese Ansaugwirkung bereitstellen. Durch eine Einstellung der Geschwindigkeit des Fluidstroms und/oder des Durchmessers des Fluidstroms kann beispielsweise die Menge an Filterrückstand, der pro Zeiteinheit angesaugt wird, eingestellt werden. Als Ejektor wird insbesondere eine Strahlpumpe bezeichnet, in der die Pumpwirkung durch die Strömung deines Stroms aus Förderfluid (auch als "Treibmedium" bezeichnet) erzeugt wird, sodass ein anderes Medium (auch als "Saugmedium" bezeichnet) angesaugt und gefördert wird. Der Filterrückstand ist dabei im Saugmedium umfasst bzw. wird gemeinsam mit dem Saugmedium in Form eines Fluids aus dem ersten Sammelbereich angesaugt. Im Austrittsbereich kommt es bevorzugt zu einer Durchmischung der Medien, sodass ein entsprechendes Gemisch durch die Förderleitung gefördert wird. Die vorliegende Erfindung ist nicht auf die Verwendung eines Ejektors beschränkt, was die nachfolgende Beschreibung von Ausführungsbeispielen ohne Ejektor verdeutlichen wird. In diesen Ausführungsbeispielen ist es beispielsweise möglich, dass der Filterrückstand durch Einwirkung der Schwerkraft in den Austrittsbereich gelangt und dort von einer Fluidströmung erfasst und weitertransportiert wird, wobei der Fluidstrom beispielsweise von einem Gebläse erzeugt wird. Die Verwendung eines Ejektors hat sich in vielen Fällen als vorteilhaft erwiesen, beispielsweise weil im Ejektor oder stromabwärts des Ejektors ein effektives Aufbrechen von Filterrückstandteilchen erfolgen kann, ohne dass dazu eine gesonderte Vorrichtung wie eine Querschnittsverengung in der Förderleitung erforderlich ist. Bevorzugt umfasst die Förderleitung ein Sperrventil. Dadurch kann beispielsweise die Förderleitung fluiddicht abgesperrt werden, wenn ein an ein Ende der Förderleitung angeschlossener Auffang abgekoppelt wird, sodass dann kein Material aus der Passivierungsvorrichtung austreten bzw. in die Passivierungsvorrichtung eintreten kann. Mehr bevorzugt ist das Sperrventil im Bereich des Endes der Förderleitung, welches mit einem Auffang verbunden oder verbindbar ist, angeordnet. Bevorzugt ist die Förderleitung als eine starre Leitung ausgeführt ist, mehr bevorzugt als ein Metallrohr, noch mehr bevorzugt ein Metallrohr mit einer Wandstärke von mindestens 0,5 mm, mehr bevorzugt mindestens 1 mm, noch mehr bevorzugt mindestens 2 mm, besonders bevorzugt mindestens 5 mm. Beispielsweise kann eine starre Leitung, insbesondere eine starre Leitung aus einem metallischen Werkstoff wie beispielsweise ein Metallrohr, ausreichende Stabilität bereitstellen. Beispielsweise kann ein Metallrohr ausreichend druckfest sein. Bevorzugt ist die Förderleitung thermisch isoliert. Beispielsweise können dadurch der Filterrückstand und das Fluid in der Förderleitung auf erhöhter Temperatur gehalten werden, was beispielsweise dann wünschenswert sein kann, wenn der Filterrückstand mit dem Fluid chemisch reagieren soll, weil eine erhöhte Temperatur zu einer Beschleunigung der chemischen Reaktion (z.B. Oxidation mit im Fluid enthaltenem Sauerstoff) führen kann. Bevorzugt umfasst die Passivierungsvorrichtung einen Auffang zum Sammeln von passiviertem Filterrückstand, wobei der Auffang über die sperrventilfreie Förderleitung oder die Förderleitung bei geöffnetem Sperrventil mit dem Austrittsbereich in Fluidverbindung steht. In einem Auffang kann beispielsweise passivierter Filterrückstand gesammelt werden, um ihn anschließend weiterzubehandeln oder zu entsorgen. Es ist aber auch denkbar, dass die chemische Reaktion zur Passivierung im Auffang zumindest eine gewisse Zeit lang weiterläuft. Im einfachsten Fall handelt es sich bei einem Auffang um einen Behälter. Bevorzugt umfasst die Passivierungsvorrichtung eine Passivierungsmittelzuführung zu Zuführen des Passivierungsmittels. Dadurch kann beispielsweise das Fluid, welches den Fluidstrom zunächst bildet, einem Fluidreservoir entnommen werden, welches das Passivierungsmittel nicht enthält. Beispielsweise kann zu diesem Zweck eine handelsübliche Druckgasflasche mit Inertgasfüllung (z.B. Argon oder Stickstoff) verwendet werden. Durch die spätere Zugabe über die Passivierungsmittelzuführung lässt sich ein derartiges Fluid mit dem Passivierungsmittel versetzen. Dabei ist es weiter bevorzugt, wenn die pro Zeiteinheit zugesetzte Menge an Passivierungsmittel einstellbar und/oder steuerbar ist. Die Passivierungsmittelzuführung ist dabei insbesondere ausgebildet und angeordnet, mindestens einem aus der Gruppe bestehend aus Fluidzuführung, Austrittsbereich und Fluidabführung ausgewählten Element Passivierungsmittel zuzuführen. Dadurch kann beispielsweise die Zuführung des Passivierungsmittels an der Stelle der Passivierungsvorrichtung erfolgen, an der das Passivierungsmittel für die gewünschte chemische Reaktion benötigt wird. Bevorzugt handelt es sich bei dem Passivierungsmittel um ein Oxidationsmittel, das geeignet ist, den Filterrückstand zumindest teilweise zu oxidieren. Dadurch können beispielsweise Filterrückstände, die ein Metall umfassen, passiviert und eine ungewollte spätere Reaktion mit Sauerstoff (z.B. Luft) vermieden werden. Mehr bevorzugt umfasst das Oxidationsmittel Sauerstoff, noch mehr bevorzugt handelt es sich bei dem Oxidationsmittel um Sauerstoff ist, wobei besonders das Passivierungsmittel insbesondere in Form eines Gemischs aus Sauerstoff und einem Inertgas, insbesondere Argon, zugeführt wird. Durch die Verwendung von Sauerstoff kann beispielsweise ein Oxidationsmittel zum Einsatz kommen, mit welchem Filterrückstände, die zu einer spontanen Reaktion mit Luft neigen, passiviert werden können. Unter Sauerstoff wird dabei insbesondere O2 verstanden. Aber auch der Einsatz von Ozon ist möglich. Ferner ist der Einsatz von Oxidationsmittel möglich, die Sauerstoff in anderer Form enthalten, beispielsweise Peroxide wie etwa Wasserstoffperoxid. Darüber hinaus ist im Rahmen der vorliegenden Erfindung die Verwendung von Oxidationsmitteln möglich, die nicht auf Sauerstoff basieren. Denkbar ist etwa Chlor oder ein chlorbasiertes Oxidationsmittel. Aber auch beispielsweise Wasser kann gegenüber entsprechend unedlen Metallen als Oxidationsmittel wirken. Unter einem inerten Stoff (z.B. inertes Fluid, Inertgas etc.) wird im Kontext der vorliegenden Erfindung ein Stoff verstanden, der bei den relevanten Bedingungen keine oder zumindest keine maßgebliche Reaktion mit dem Filterrückstand eingeht. Beispielsweise können Stickstoff und/oder Argon als inertes Fluid (im konkreten Fall ein Inertgas) dienen. Bevorzugt umfasst die Passivierungsvorrichtung ferner ein Fluidreservoir enthaltend ein Fluid, insbesondere einen Druckgasspeicher enthaltend ein unter Überdruck stehendes Gas, wobei die Fluidzuführung eine Fluidverbindung zwischen dem Fluidreservoir und dem Austrittsbereich bereitstellt, und wobei das im Fluidreservoir enthaltene Fluid das Passivierungsmittel zumindest teilweise umfasst und/oder wobei das Passivierungsmittel zumindest teilweise durch eine Passivierungsmittelzuführung aus einem Passivierungsmittelreservoir und/oder in Form von Luft aus der Atmosphäre in die Fluidzuführung und/oder die Fluidabführung und/oder den Austrittsbereich eingespeist wird. Dadurch kann beispielsweise eine zum Betrieb der Passivierungsvorrichtung erforderliche Versorgung mit einem Fluid sichergestellt werden. Weiter bevorzugt sind die Fluidzuführung und das Fluidreservoir sowie optional das Passivierungsmittelreservoir dabei ausgebildet bzw. eingestellt oder steuerbar, sodass im Austrittsbereich oder einem Bereich der Fluidabführung als Fluidstrom ein Gasstrom aus einem Gemisch aus Inertgas, insbesondere Argon, und O2 vorliegt mit einem einstellbaren O2-Gehalt und/oder mit einem O2-Gehalt in einem Bereich von mindestens 0,01 Vol.-%, mehr bevorzugt mindestens 0,1 Vol.-%, noch mehr bevorzugt mindestens 1 Vol.-% und/oder höchstens bis 20,8 Vol.-%, mehr bevorzugt höchstens 10 Vol.-%, noch mehr bevorzugt höchstens 5 Vol.-% und/oder mit einem O2-Gehalt unterhalb der Sauerstoffgrenzkonzentration, mehr bevorzugt mindestens 1%, noch mehr bevorzugt mindestens 2%, insbesondere bevorzugt mindestens 3% unterhalb der Sauerstoffgrenzkonzentration. Durch eine Einstellbarkeit und/oder Steuerbarkeit kann beispielsweise der Sauerstoffgehalt so justiert werden, dass eine effektive Oxidation erfolgen kann und die Sicherheit der Passivierungsvorrichtung dennoch gewährleistet ist. Die angegebenen Konzentrationsbereiche können beispielsweise eine in vielen Fällen geeignet reaktive Atmosphäre bereitstellen. Als Sauerstoffgrenzkonzentration wird jene maximale Sauerstoffkonzentration eines sauerstoffhaltigen Gasgemischs, eines sauerstoffhaltigen Aerosols etc. bezeichnet, bei der eine Explosion nicht auftritt. In anderen Worten kann die Explosionsgefahr durch eine Unterschreitung der Sauerstoffgrenzkonzentration verringert oder gänzlich ausgeschaltet werden. Eine Explosion im Inneren der Filtervorrichtung ist aus Sicherheitsgründen unerwünscht. Somit kann durch das Unterschreiten der Sauerstoffgrenzkonzentration beispielsweise die kontrollierte Oxidation mit Sauerstoff unter sicheren Bedingungen durchgeführt werden. Ferner kann beispielsweise die Explosionsgefahr selbst im Störungsfall verringert werden. Bevorzugt ist die Fluidzuführung so mit der Filterkammer verbunden, dass zumindest ein Teil des gefilterten Prozessgases in den Austrittsbereich gefördert wird, wobei mehr bevorzugt die Fluidzuführung eine Strömungsmaschine, insbesondere ein Gebläse, umfasst. Durch das Fördern von gefiltertem Prozessgas, d.h. Reingas, in den Austrittsbereich, kann beispielsweise gefiltertes Prozessgas als Fluid zum Erzeugen des Fluidstroms verwendet werden, sodass auf die Bereitstellung eines zusätzlichen Fluids verzichtet werden kann oder der Bedarf an zusätzlichem Fluid verringert ist. Bevorzugt umfasst die Förderleitung mindestens eine lokal begrenzte Querschnittsverengung, wobei mehr bevorzugt eine Innenquerschnittsfläche der Förderleitung im Bereich der Querschnittsverengung um mindestens 25%, noch mehr bevorzugt mindestens 50%, besonders bevorzugt mindestens 75% gegenüber einer Innenquerschnittsfläche stromaufwärts der Querschnittsverengung vermindert ist. Durch eine derartige Querschnittverengung kann es beispielsweise zu einer lokalen Beschleunigung der Fluidströmung und dadurch zu einer zusätzlichen mechanischen Beanspruchung des Filterrückstands kommen. Infolgedessen kann beispielsweise ein Aufbrechen von Filterrückstandteilchen in kleinere Teilchen verstärkt werden. Bei dem erfindungsgemäßen Filtersystem handelt es sich um ein Filtersystem, welches umfasst: a) mindestens eine Filtervorrichtung, jeweils umfassend aa) mindestens eine Filterkammer, bb) mindestens ein in der Filterkammer angeordnetes Filterelement und cc) optional eine an die Filterkammer gekoppelte Sammelkammer, welche vorzugsweise von der Filterkammer durch eine Absperrvorrichtung fluiddicht abtrennbar ist, und b) mindestens eine an die mindestens eine Filtervorrichtung direkt oder indirekt angekoppelte oder eine mit der mindestens einen Filtervorrichtung durch eine Transportvorrichtung zum Transportieren des Filterrückstands verbundene erfindungsgemäße Passivierungsvorrichtung. Mittels eines derartigen Systems kann beispielsweise sowohl die Filterung eines Prozessgases, insbesondere des Prozessgases einer Vorrichtung zur additiven Herstellung dreidimensionaler Objekte, durchgeführt als auch die Passivierung von dabei anfallenden Filterrückständen durchgeführt werden. Dabei bedeutet "Filtern eines Prozessgases", dass das Prozessgas, welches mit Verunreinigungen, welche nicht gasförmig sind, gereinigt wird, indem diese Verunreinigungen zumindest teilweise abgetrennt werden. Prozessgas wird vor dem Filtern allgemein auch als "Rohgas" bezeichnet, während Prozessgas nach dem Filtern allgemein auch als "Reingas" bezeichnet wird. Bevorzugt ist eine Passivierungsvorrichtung des Systems mehreren Filtervorrichtungen zugeordnet. Dadurch kann beispielsweise die Kapazität der Passivierungsvorrichtung optimal ausgenutzt werden. Häufig ist nämlich in Fällen, in denen genau einer Filtervorrichtung genau eine Passivierungsvorrichtung zugeordnet ist, diese Passivierungsvorrichtung seltener bzw. kürzer in Betrieb als die Filtervorrichtung. In solchen Fällen kann eine Passivierungsvorrichtung beispielsweise besser ausgenutzt werden, wenn sie für die Passivierung des Filterrückstands aus mehreren Filtervorrichtungen sorgt. Allgemein kann eine Filtervorrichtung mehrere Filterkammern umfassen, in denen jeweils mindestens ein Filterelement angeordnet ist. Mehrere Filterkammern einer Filtervorrichtung können dabei parallel geschaltet sein. Eine Passivierungsvorrichtung kann einer Filtervorrichtung mit einer oder mehreren Filterkammern zugeordnet sein. Eine Passivierungsvorrichtung kann auch mehreren Filtervorrichtungen mit jeweils einer oder mehreren Filterkammern zugeordnet sein. Ferner kann eine Filtervorrichtung für die Filterung des Prozessgases mehrerer Vorrichtungen zur additiven Herstellung dreidimensionaler Objekte dienen. Beispielsweise kann die Filtervorrichtung mehrere Filterkammern aufweisen, wobei zu einem Zeitpunkt jeder Vorrichtung zur additiven Herstellung dreidimensionaler Objekte eine Filterkammer zugeordnet sein kann. In diesem Fall ist die Anzahl der Filterkammern mehr bevorzugt größer als die Zahl der Vorrichtungen zur additiven Herstellung dreidimensionaler Objekte, sodass beispielsweise zu einem bestimmten Zeitpunkt nur ein Teil der Filterkammern gerade Prozessgas filtert, während für den anderen Teil eine Abreinigung des mindestens einen Filterelements und/oder die Passivierung des Filterrückstands vorgenommen werden kann. Ein Beispiel für ein derartiges Gesamtsystem zur additiven Herstellung dreidimensionaler Objekte könnte beispielsweise aus drei Vorrichtungen zur additiven Herstellung dreidimensionaler Objekte, einer Filtervorrichtung mit vier Filterkammern und einer Passivierungsvorrichtung bestehen. Ferner kann für die Filterung des Prozessgases mehrerer Vorrichtungen zur additiven Herstellung dreidimensionaler Objekte auch mehrere Filtervorrichtungen mit jeweils mindestens einer Filterkammer dienen, wobei zu einem Zeitpunkt jeder Vorrichtung zur additiven Herstellung dreidimensionaler Objekte eine Filtervorrichtung zugeordnet sein kann. In diesem Fall ist die Anzahl der Filtervorrichtungen mehr bevorzugt größer als die Zahl der Vorrichtungen zur additiven Herstellung dreidimensionaler Objekte, sodass beispielsweise zu einem bestimmten Zeitpunkt nur ein Teil der Filtervorrichtungen gerade Prozessgas filtert, während für den anderen Teil eine Abreinigung des mindestens einen Filterelements und/oder die Passivierung des Filterrückstands vorgenommen werden kann. Ein Beispiel für ein derartiges Gesamtsystem zur additiven Herstellung dreidimensionaler Objekte könnte beispielsweise aus drei Vorrichtungen zur additiven Herstellung dreidimensionaler Objekte, vier Filtervorrichtungen und einer Passivierungsvorrichtung bestehen. Bevorzugt weist die Filterkammer einen Sammelbereich auf, wobei der Sammelbereich in Betriebsstellung unterhalb des mindestens einen Filterelements angeordnet ist. Mehr bevorzugt weist der Sammelbereich eine sich nach unten hin verjüngende Wandung auf und mündet in einem mit der Passivierungsvorrichtung bzw. der Sammelkammer verbundenen Filterkammerausgang. Alternativ oder zusätzlich zu der Verjüngung der Wandung ist bevorzugt zumindest in einem Teilbereich des Sammelbereichs, insbesondere in einem Teilbereich mit einer relativ zu anderen Teilbereichen geringeren Neigung zur Vertikalen, eine Fördervorrichtung zum Fördern von Filterrückstand vorgesehen, wobei mehr bevorzugt die Fördervorrichtung eine Feststofffluidisierungsvorrichtung, insbesondere eine Fluidisierplatte, und/oder eine oder mehrere Gasdüsen zum Einbringen von Gasstößen umfasst. Durch eine Anordnung des Sammelbereichs unterhalb des mindestens einen Filterelements kann beispielsweise der abgereinigte Filterrückstand in den Sammelbereich fallen. Durch die genannte Verjüngung kann beispielsweise ein effektives Sammeln und einfaches Entnehmen des gesammelten Filterrückstands an der am tiefsten liegenden Stelle der Filterkammer erfolgen. Eine Feststofffluidisierungsvorrichtung kann beispielsweise dafür sorgen, dass Filterrückstand, der an der Wandung der Filterkammer liegen bleibt, nach unten rutscht bzw. nach unten gefördert wird. Bevorzugt ist die Filterkammer, insbesondere der Sammelbereich, so ausgebildet ist, dass die Passivierungsvorrichtung und eine von der Filtervorrichtung optional umfasste Sammelkammer in Betriebsstellung zumindest teilweise unterhalb der Filterkammer anordenbar sind, wobei weiter bevorzugt ein von der Passivierungsvorrichtung optional umfasster Auffang zumindest teilweise unterhalb der Filterkammer anordenbar ist. Dadurch kann beispielsweise eine platzsparende Anordnung möglich sein. Bevorzugt umfasst das Filtersystem eine Aufbringvorrichtung zum Aufbringen eines Filterhilfsstoffs, insbesondere eines pulverförmigen Filterhilfsstoffs, auf das mindestens eine Filterelement. Durch die Verwendung eines Filterhilfsstoffs können Filterrückstände inertisiert werden. Dabei kann die Verwendung eines Filterhilfsstoffs auch zusätzlich zur Verwendung eines Passivierungsmittels wie beispielsweise eines Oxidationsmittels (z.B. O2) vorgesehen sein. Die Verwendung eines Filterhilfsstoffs kann beispielsweise in Kombination mit dem erfindungsgemäßen Flugstrom besonders effektiv sein, beispielsweise da durch die Rezirkulation eine gute Durchmischung von Filterrückstand und Filterhilfsstoff möglich sein kann. Die Funktion des Filterhilfsstoffs besteht nach einer nicht einschränkenden Theorie darin, einen thermischen Ballast bereitzustellen und/oder die Filterrückstandspartikel räumlich voneinander zu trennen, um eine chemische Reaktion des Filterrückstands zu bremsen bzw. zu moderieren. Glasmehl kann beispielsweise aufschmelzen und die Schmelzenthlpie entzieht zusätzlich Wärme. Kalk kann sich beispielsweise bei ca.800°C endotherm zersetzen. Diese Zersetzung nimmt Wärme auf. Eine weitere Funktion des Filterhilfsstoffs besteht nach einer nicht einschränkenden Theorie darin, die Filtrierung zu verbessern, beispielsweise in dem Sinn, dass die Filter seltener gereinigt werden müssen. Der Filterhilfsstoff könnte beispielsweise eine Trennschicht zwischen Filter und Filtrat (Filterkuchen) ausbilden, wobei er dazu nach einer Abreinigung aufgebracht werden sollte. Bevorzugt umfasst das Filtersystem einen Füllstandsensor zum Messen einer Menge an vom mindestens einen Filterelement abgelöstem Filterrückstand in der Filterkammer, insbesondere im Sammelbereich und/oder in der optionalen Sammelkammer. Mittels des Füllstandsensor kann beispielsweise festgestellt werden, ob die erfindungsgemäße Passivierung von Filterrückstand aktuell durchzuführen bzw. zu beschleunigen oder zu verlangsamen ist. In bevorzugten Ausführungsbeispielen umfasst das Filtersystem genau eine Filtervorrichtung, wobei die Passivierungsvorrichtung direkt oder indirekt an die Filterkammer oder an die optionale Sammelkammer gekoppelt ist. Dadurch kann beispielsweise der gesamte zu passivierende Filterrückstand, der in einer Filtervorrichtung anfällt, in einer nur für diesen Zweck bereitstehenden Passivierungsvorrichtung behandelt werden. Ein derartiges Filtersystem kann gemeinsam mit einer Vorrichtung zum additiven Herstellen dreidimensionaler Objekte oder gemeinsam mit mehreren solchen Vorrichtungen ein Gesamtsystem bilden. Die Filtervorrichtung kann zu einem bestimmten Zeitpunkt jeweils der Filterung des Prozessgases einer oder mehrerer Vorrichtungen zum additiven Herstellen dreidimensionaler Objekte dienen. In anderen bevorzugten Ausführungsbeispielen umfasst das Filtersystem mindestens zwei Filtervorrichtungen und eine Transportvorrichtung zum Transportieren des Filterrückstands aus den mindestens zwei Filtervorrichtungen zur Passivierungsvorrichtung, wobei weiter bevorzugt die Transportvorrichtung eine Saugvorrichtung ist. Dadurch kann beispielsweise beim Betrieb mehrerer Filtervorrichtungen die Anzahl der benötigten Passivierungsvorrichtungen reduziert werden. Ein derartiges Filtersystem kann gemeinsam mit einer Vorrichtung zum additiven Herstellen dreidimensionaler Objekte oder gemeinsam mit mehreren solchen Vorrichtungen ein Gesamtsystem bilden. Die mindestens zwei Filtervorrichtungen können zu einem bestimmten Zeitpunkt jeweils der Filterung des Prozessgases einer oder mehrerer Vorrichtungen zum additiven Herstellen dreidimensionaler Objekte dienen. Es ist auch möglich, dass zum Filtern des Prozessgases einer Vorrichtung zum additiven Herstellen dreidimensionaler Objekte zum selben Zeitpunkt mehrere Filtervorrichtungen eingesetzt werden. In anderen bevorzugten Ausführungsbeispielen umfasst das Filtersystem mindestens zwei Filtervorrichtungen, wobei die Passivierungsvorrichtung an eine der Filtervorrichtungen direkt oder indirekt angekoppelt ist, und eine Transportvorrichtung zum Transportieren des Filterrückstands aus mindestens einer weiteren der Filtervorrichtungen zur Passivierungsvorrichtung, wobei bevorzugt die Transportvorrichtung eine Saugvorrichtung ist. Dadurch kann beispielsweise beim Betrieb mehrerer Filtervorrichtungen die Anzahl der benötigten Passivierungsvorrichtungen reduziert werden. Ein derartiges Filtersystem kann gemeinsam mit einer Vorrichtung zum additiven Herstellen dreidimensionaler Objekte oder gemeinsam mit mehreren solchen Vorrichtungen ein Gesamtsystem bilden. Die mindestens zwei Filtervorrichtungen können zu einem bestimmten Zeitpunkt jeweils der Filterung des Prozessgases einer oder mehrerer Vorrichtungen zum additiven Herstellen dreidimensionaler Objekte dienen. Es ist auch möglich, dass zum Filtern des Prozessgases einer Vorrichtung zum additiven Herstellen dreidimensionaler Objekte zum selben Zeitpunkt mehrere Filtervorrichtungen eingesetzt werden. In anderen bevorzugten Ausführungsbeispielen umfasst das Filtersystem mindestens zwei Filtervorrichtungen und eine Transportvorrichtung zum Transportieren des Filterrückstands aus mindestens einer der Filtervorrichtungen in die Sammelkammer mindestens einer weiteren Filtervorrichtung, wobei bevorzugt die Transportvorrichtung eine Saugvorrichtung ist. Dadurch kann beispielsweise beim Betrieb mehrerer Filtervorrichtungen die Anzahl der benötigten Passivierungsvorrichtungen reduziert werden. Ein derartiges Filtersystem kann gemeinsam mit einer Vorrichtung zum additiven Herstellen dreidimensionaler Objekte oder gemeinsam mit mehreren solchen Vorrichtungen ein Gesamtsystem bilden. Die mindestens zwei Filtervorrichtungen können zu einem bestimmten Zeitpunkt jeweils der Filterung des Prozessgases einer oder mehrerer Vorrichtungen zum additiven Herstellen dreidimensionaler Objekte dienen. Es ist auch möglich, dass zum Filtern des Prozessgases einer Vorrichtung zum additiven Herstellen dreidimensionaler Objekte zum selben Zeitpunkt mehrere Filtervorrichtungen eingesetzt werden. In den vorstehend beschriebenen Ausführungsbeispielen mit mindestens zwei Filtervorrichtungen sind die mindestens zwei Filtervorrichtungen bevorzugt unterschiedlichen Vorrichtungen zur additiven Herstellung dreidimensionaler Objekte (z.B. unterschiedlichen Anlagen zum selektiven Lasersintern) zugeordnet bzw. zuordenbar. Dadurch kann beispielsweise beim Betrieb mehrerer additiver Herstellungsvorrichtungen die Anzahl der benötigten Passivierungsvorrichtungen reduziert werden. Allgemein kann ein erfindungsgemäßes Filtersystem auch mehr als eine Passivierungsvorrichtung umfassen. Die erfindungsgemäße Vorrichtung zur additiven Herstellung von dreidimensionalen Objekten umfasst: - eine Prozesskammer, in der die additive Herstellung erfolgt, - eine Prozessgasfördervorrichtung zum Fördern eines die Prozesskammer von einem Prozesskammereingang zu einem Prozesskammerausgang durchströmenden Prozessgases, wobei die Prozessgasfördervorrichtung ausgebildet ist, das Fördern zwischen dem Prozesskammereingang und dem Prozesskammerausgang bevorzugt zumindest teilweise im Kreislauf zu bewirken, - ein erfindungsgemäßes Filtersystem. Dabei ist die mindestens eine Filterkammer jeweils so angeordnet, dass das aus der Prozesskammer austretende Prozessgas durch das mindestens eine Filterelement gefiltert wird. Durch die erfindungsgemäße Vorrichtung zur additiven Herstellung kann beispielsweise eine Vorrichtung bereitgestellt werden, bei deren Betrieb beispielsweise die vorstehend beschriebenen vorteilhaften Eigenschaften des erfindungsgemäßen Filtersystems bzw. der erfindungsgemäßen Passivierungsvorrichtung realisiert werden können. Die erfindungsgemäße Passivierungsvorrichtung und das erfindungsgemäße Filtersystem können so aufgebaut sein, dass damit eine konventionelle Vorrichtung zur additiven Herstellung mit einer Prozesskammer und einer Prozessgasfördervorrichtung nachgerüstet werden kann. Wenn die konventionelle Vorrichtung zur additiven Herstellung über eine Filtervorrichtung verfügt, kann diese zum Nachrüsten beispielsweise durch das erfindungsgemäße Filtersystem ausgetauscht werden. Alternativ kann beispielsweise die erfindungsgemäße Passivierungsvorrichtung ergänzt werden. Alternativ können beispielsweise auch die fehlenden Komponenten nachgerüstet werden. Das erfindungsgemäße System zur additiven Herstellung von dreidimensionalen Objekten umfasst mindestens zwei Vorrichtungen zur additiven Herstellung von dreidimensionalen Objekten, wobei die Vorrichtungen jeweils eine Prozesskammer, in der die additive Herstellung erfolgt, und eine Prozessgasfördervorrichtung zum Fördern eines die Prozesskammer von einem Prozesskammereingang zu einem Prozesskammerausgang durchströmenden Prozessgases umfassen, wobei die Prozessgasfördervorrichtung jeweils ausgebildet ist, das Fördern zwischen dem Prozesskammereingang und dem Prozesskammerausgang bevorzugt zumindest teilweise im Kreislauf zu bewirken. Das erfindungsgemäße System zur additiven Herstellung von dreidimensionalen Objekten umfasst ferner ein erfindungsgemäßes Filtersystem mit mindestens zwei Filtervorrichtungen. Dadurch kann beispielsweise ein System zur additiven Herstellung von dreidimensionalen Objekten bereitgestellt werden, in dem die Zahl der benötigten Passivierungsvorrichtungen relativ gering ist, insbesondere geringer als die Zahl der Vorrichtungen zur System zur additiven Herstellung von dreidimensionalen Objekten. Dabei ist bevorzugt jeder Vorrichtung zur additiven Herstellung eine der mindestens zwei Filtervorrichtungen zuordenbar oder zugeordnet. Mehr bevorzugt ist die Anzahl der Filtervorrichtungen im System größer, insbesondere um 1 größer, als die Anzahl der Vorrichtungen zur additiven Herstellung. Ein Beispiel für ein erfindungsgemäße System zur additiven Herstellung von dreidimensionalen Objekten könnte beispielsweise drei Vorrichtungen zur additiven Herstellung dreidimensionaler Objekte, vier Filtervorrichtungen mit jeweils einer Filterkammer und eine Passivierungsvorrichtung umfassen. Ein erfindungsgemäßes System zur additiven Herstellung von dreidimensionalen Objekten kann beispielsweise auch mehr als eine Passivierungsvorrichtung umfassen. Das erfindungsgemäße Verfahren zum Passivieren eines in mindestens einer Filtervorrichtung auftretenden Filterrückstands umfasst die Schritte: - Zuführen von aus der mindestens einen Filtervorrichtung austretendem Filterrückstand in einen Austrittsbereich, insbesondere durch Absaugen, - Zuführen eines Fluidstroms in den Austrittsbereich, - Abführen des mit dem Filterrückstand beladenen Fluidstroms aus dem Austrittsbereich, - Beaufschlagen des Fluidstroms mit Energie, insbesondere Erwärmen des Fluidstroms, wobei das Beaufschlagen des Fluidstroms mit Energie vor dem Zuführen und/oder während des Zuführens des Fluidstroms in den Austrittsbereich und/oder im Austrittsbereich und/oder während des Abführens und/oder nach dem Abführen des Fluidstroms aus dem Austrittsbereich erfolgt Dabei wird als Fluidstrom ein Fluidstrom aus einem Fluid, das ein Passivierungsmittel umfasst, eingesetzt. Alternativ oder zusätzlich wird der Fluidstrom mit einem Passivierungsmittel versetzt. Im Zuge des Verfahrens wird der Filterrückstand durch eine chemische Reaktion mit dem Passivierungsmittel zumindest teilweise im Flugstrom passiviert wird. Bevorzugt unterschreitet der mit dem Filterrückstand beladene Fluidstrom dabei entweder die untere Explosionsgrenze, wobei bevorzugt höchstens die 0,9-fache, mehr bevorzugt höchstens die 0,8-fache untere Explosionsgrenze erreicht wird. Oder der mit dem Filterrückstand beladene Fluidstrom überschreitet dabei bevorzugt die obere Explosionsgrenze, wobei bevorzugt mindestens die 1,1-fache, mehr bevorzugt mindestens die 1,2-fache obere Explosionsgrenze erreicht wird. Explosionsgrenzen sind Grenzen des sogenannten Explosionsbereiches. Die untere Explosionsgrenze bzw. die obere Explosionsgrenze sind der untere bzw. obere Grenzwert der Konzentration (z.B. Stoffmengenanteil) eines brennbaren Stoffes in einem Gemisch von Gasen, Dämpfen, Nebeln und/oder Stäuben, in dem sich nach dem Zünden eine von der Zündquelle unabhängige Flamme gerade nicht mehr selbstständig fortpflanzen kann. Indem entweder die untere Explosionsgrenze unterschritten oder die obere Explosionsgrenze überschritten wird, liegt kein explosionsfähiges Gemisch vor. Dadurch kann beispielsweise durch Verminderung der Explosionsgefahr die Sicherheit bei der Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens zum Passivieren bzw. der Betrieb einer dazu dienenden Vorrichtung verbessert werden. Bevorzugt erfolgt durch das Passivieren eine zu mindestens 75%, mehr bevorzugt zu mindestens 85%, noch mehr bevorzugt zu mindestens 95% vollständige chemische Umsetzung der Filterrückstandspartikel. Alternativ wird durch die Passivierung beispielsweise eine Passivierungsschicht, z. B. eine Oxidschicht, auf den Filterrückstandpartikeln gebildet, wobei die Passivierungsschicht eine Schichtdicke von mindestens 0,5 nm, bevorzugt mindestens 0,75 nm, mehr bevorzugt mindestens 1 nm und/oder höchstens 10 nm, bevorzugt höchstens 5 nm, mehr bevorzugt höchstens 2 nm aufweist. Bevorzugt wird der Fluidstrom so in den Austrittsbereich zugeführt, dass im Austrittsbereich ein Ansaugdruck erzeugt wird, vorzugsweise durch eine Düse, wobei durch den Ansaugdruck der Filterrückstand und ein optional in der mindestens einen Filtervorrichtung befindliches Fluid in den Austrittsbereich aus der mindestens einen Filtervorrichtung gesaugt werden, und wobei der Filterrückstand mit dem Fluidstrom durch die Fluidabführung aus dem Austrittsbereich gefördert wird, wobei mehr bevorzugt eine Geschwindigkeit und/oder ein Durchmesser des durch die Düse hindurchtretenden Fluidstroms eingestellt werden. Durch eine derartige Ansaugung kann beispielsweise der Filterrückstand auf effektive Weise aus der Filtervorrichtung in die Passivierungsvorrichtung transportiert werden. Beispielsweise eine Ejektordüse kann dabei diese Ansaugwirkung bereitstellen. Durch eine Einstellung der Geschwindigkeit des Fluidstroms und/oder des Durchmessers des Fluidstroms kann beispielsweise die Menge an Filterrückstand, der pro Zeiteinheit angesaugt wird, eingestellt werden. Bevorzugt wird der Fluidstrom so eingestellt und/oder gesteuert, dass im Filterrückstand auftretende Partikelagglomerate aufgebrochen werden, insbesondere so, dass der Filterrückstand nach dem Aufbrechen in Form von Partikeln mit einem Sekundärpartikeldurchmesser vorliegt, der einem maximal 100-fachen, mehr bevorzugt maximal 50-fachen, noch mehr bevorzugt maximal 10-fachen, insbesondere bevorzugt maximal 5-fachen Primärpartikeldurchmesser und/oder einem Sekundärpartikeldurchmesser von maximal 200 µm, bevorzugt maximal 100 µm entspricht. Bevorzugt erfolgt das Aufbrechen dabei unmittelbar oder mittelbar durch die Einwirkung des Fluidstroms, d.h. insbesondere durch das Aufeinandertreffen der Partikelagglomerate und des Fluidstroms und/oder durch Stöße zwischen den Partikelagglomeraten untereinander und/oder durch Stöße zwischen den Partikelagglomeraten und anderen Teilchen (z.B. Filterhilfsstoffteilchen) und/oder durch Stöße der Partikelagglomerate gegen einen Bestandteil der Passivierungsvorrichtung, z.B. eine Wand. Es ist dabei insbesondere bevorzugt, dass Partikelagglomerate in die Primärteilchen oder in Agglomerate aus wenigen Primärteilchen aufgebrochen werden. Durch ein derartiges Aufbrechen kann beispielsweise eine Passivierung durch eine chemische Reaktion und/oder die Vermischung mit einem Inertisierungsmittel (z.B. Kalkpulver) gefördert werden. Nach einer nicht einschränkenden Theorie haben insbesondere Metallkondensate aufgrund der kleinen Primärpartikel eine sehr hohe spezifische Oberfläche (z.B. 20 m²/g oder noch mehr). Je größer die spezifische Oberfläche ist, desto schneller kann eine Reaktion in der Regel stattfinden, sofern die Oberfläche für das Reagens wie etwa Sauerstoff als Oxidationsmittel zugänglich ist. Die Agglomerate – gebildet aus kleinen, insbesondere sphärischen Primärteilchen – haben kleine Zwischenräume, die im Bereich der mittleren freien Weglänge des Sauerstoffs (68 nm bei 20°C) ist. Somit ist der Sauerstofftransport ins Innere von Agglomeraten stark behindert, beispielsweise könnte eine Knudsen-Diffusion gegeben sein. Die Behinderung des Sauerstofftransports bremst die Reaktion. Ein Aufbrechen der Agglomerate setzt nach der nicht einschränkenden Theorie die Oberfläche besser frei bzw. führt dazu, dass die Oberfläche zugänglicher ist und erhöht damit die Reaktionsrate. Sauerstoff muss entsprechend dieser Theorie nach dem Aufbrechen von Agglomeraten lediglich durch die Grenzschicht der Primärpartikel diffundieren und nicht zusätzlich durch die engen verwundenen Zwischenräume der Agglomerate. Im Kontext der vorliegenden Erfindung wird unter der Partikelgröße oder dem Partikeldurchmesser bevorzugt der d50-Wert verstanden. Der d50-Wert kann dabei für Partikel des Aufbaumaterials und für Kondensatpartikel bzw. die darin enthaltenen Primärpartikel beispielsweise mittels Laserbeugung nach den etablierten und standardisierten Verfahren (z.B. nach ISO 13320 oder ASTM B822) bestimmt werden. Alternativ ist eine Bestimmung beispielsweise mittels mit dynamischer Bildanalyse (z.B. nach dem Standard ISO 13322-2) möglich. Die Größe von Agglomeraten kann ebenfalls in Form eines d50-Werts angegeben werden. Ein bestimmter d50-Wert bedeutet, dass 50% der Teilchen einen kleineren Durchmesser als den angegebenen Wert haben. Geeignete Methoden für die Bestimmung des d50-Werts von Agglomeraten sind beispielsweise Transmissionselektronenmikroskopie (TEM) und Rasterelekronenmikroskopie (REM), wobei die dadurch erhaltenen Aufnahmen zur Ermittlung des d50-Werts einer geeigneten Bildauswertung unterzogen werden. Wenn die Fördervorrichtung über eine Düse wie beispielsweise eine Ejektordüse oder eine Venturidüse verfügt, kann es möglich sein, dass das Aufbrechen in der Düse oder stromabwärts der Düse erfolgt. Eine solche Düse kann daher neben ihrer Funktion beim Fördern des Filterrückstands unter anderem die Funktion aufweisen, für eine Zerkleinerung der Filterrückstandpartikel zu sorgen. Wenn keine derartige Düse verwendet wird oder wenn ein zusätzliches Aufbrechen erwünscht ist, kann eine Querschnittsverengung der Förderleitung vorgesehen sein. Bevorzugt wird das Fluid durch die Fluidabführung aus dem Austrittsbereich in einen Auffang abgeführt. Dadurch kann beispielsweise der Filterrückstand in einen Auffang transportiert und darin bis zur Weiterverarbeitung oder Entsorgung gespeichert werden. Bevorzugt erfolgt die chemische Reaktion im Austrittsbereich und/oder während des Abführens, d.h. während der Filterrückstand durch die Förderleitung transportiert wird. Dadurch kann beispielsweise ein zum Zweck des Transports des Filterrückstands in bzw. aus dem Austrittsbereich verwendeter Fluidstrom zur Erzeugung des für die chemische Passivierungsreaktion vorgesehenen Flugstroms verwendet werden, ohne dass eine neuerliche Erzeugung einer entsprechenden Fluidströmung erforderlich ist. Das erfindungsgemäße Verfahren zum Filtern eines Prozessgases, insbesondere eines Prozessgases einer Vorrichtung zur additiven Herstellung dreidimensionaler Objekte, umfasst folgende Schritte: - optional Beschichten mindestens eines Filterelements mit einem Filterhilfsstoff, insbesondere mit einem pulverförmigen Filterhilfsstoff, - Hindurchleiten des Prozessgases durch das mindestens eine Filterelement zum Herausfiltern von Partikeln aus dem Prozessgas, - Abreinigen des Filterelements oder Abreinigen zumindest eines Teils von zwei oder mehr als zwei Filterelementen von dem aus herausgefilterten Partikeln und dem optionalen Filterhilfsstoff gebildeten Filterrückstand, - optional Sammeln des Filterrückstands und - Passivieren des Filterrückstands nach dem erfindungsgemäßen Verfahren zum Passivieren. Bei der Durchführung des Verfahrens zum Filtern eines Prozessgases, können beispielsweise ein Prozessgas gereinigt und der anfallende Filterrückstand passiviert werden, wobei die vorstehend beschriebenen Vorteile des Verfahrens zum Passivieren realisiert werden können. Bevorzugt werden zur Durchführung des Verfahrens zum Filtern eines Prozessgases mindestens zwei Filterelemente verwendet, wobei die Abreinigung der Filterelemente zu unterschiedlichen Zeitpunkten erfolgt, wobei zwischen zwei aufeinanderfolgenden Abreinigungen eine Wartezeit eingehalten wird und wobei während der Wartezeit der Schritt des Passivierens zumindest teilweise durchgeführt wird. Dadurch können beispielsweise die Portionen des durch einen Abreinigungsprozess anfallenden Filterrückstands verkleinert werden, wobei dennoch die kontinuierliche Filterung des Prozessgases über einen längeren Zeitraum aufrechterhalten werden kann. Dabei sind die mindestens zwei Filterelemente bevorzugt in unterschiedlichen Filterkammern angeordnet. Weiter bevorzugt werden die Abreinigungen für verschiedene Filterkammern zu verschiedenen Zeitpunkten durchgeführt. Weitere Merkmale und Zweckmäßigkeiten der Erfindung ergeben sich aus der Beschreibung von Ausführungsbeispielen anhand der beigefügten Zeichnungen. Fig.1 ist eine schematische, teilweise im Schnitt dargestellte Ansicht einer Passivierungsvorrichtung gemäß einem ersten Ausführungsbeispiel der Erfindung, die an eine Filtervorrichtung angekoppelt ist. Fig.2 ist eine schematische im Schnitt dargestellte Ansicht eines Details der Passivierungsvorrichtung gemäß dem ersten Ausführungsbeispiel. Fig.3 ist eine schematische, teilweise im Schnitt dargestellte Ansicht einer Passivierungsvorrichtung gemäß einem zweiten Ausführungsbeispiel der Erfindung, die an eine Filtervorrichtung angekoppelt ist. Fig.4 ist eine schematische, teilweise im Schnitt dargestellte Ansicht eines Filtersystems gemäß einem weiteren Ausführungsbeispiel der Erfindung. Fig.5 ist eine schematische, teilweise im Schnitt dargestellte Ansicht eines Filtersystems gemäß einem weiteren Ausführungsbeispiel der Erfindung. Fig.6 ist eine schematische, teilweise im Schnitt dargestellte Ansicht eines Filtersystems gemäß einem weiteren Ausführungsbeispiel der Erfindung. Fig.7 ist eine schematische, teilweise im Schnitt dargestellte Ansicht eines Filtersystems gemäß einem weiteren Ausführungsbeispiel der Erfindung. Fig.8 ist eine schematische, teilweise im Schnitt dargestellte Ansicht eines Filtersystems gemäß einem weiteren Ausführungsbeispiel der Erfindung. Fig.9 ist eine schematische, teilweise im Schnitt dargestellte Ansicht einer Vorrichtung zur additiven Herstellung dreidimensionaler Objekte gemäß weiterer Ausführungsbeispiele der Erfindung. Fig.10 ist eine schematische Darstellung des Verfahrens zum Passivieren eines Filterrückstands gemäß einem weiteren Ausführungsbeispiel der Erfindung. Fig.11 ist ein Diagramm, in dem die Erwärmung von verschiedenen Partikeln in einer Gasatmosphäre als Funktion der Zeit dargestellt ist. Fig.12 ist eine schematische Darstellung des Verfahrens zum Filtern eines Prozessgases gemäß einem weiteren Ausführungsbeispiel der Erfindung. Erstes Ausführungsbeispiel Die Passivierungsvorrichtung 1 gemäß dem ersten Ausführungsbeispiel ist in Fig.1 in einer möglichen Betriebsposition dargestellt. Dabei ist die Passivierungsvorrichtung 1 an eine Filtervorrichtung 10 angekoppelt. Die Passivierungsvorrichtung 1 entspricht dabei dem mit gestrichelten Linien eingerahmten Bereich der Fig.1. Fig.1 zeigt damit insgesamt ein erfindungsgemäßes Filtersystem 100. Auf das Filtersystem 100 und auf die Filtervorrichtung 10 wird weiter unten im Detail eingegangen. Auch die Filtervorrichtung 10 ist in Fig.1 in einer möglichen Betriebsposition dargestellt. Das heißt, sie ist so angeordnet, dass einerseits mittels der Filtervorrichtung 10 ein Prozessgas gefiltert und dadurch von im Prozessgas mitgeführten Feststoffen gereinigt werden kann, und dass andererseits Filterrückstand aus der Filtervorrichtung 10 austreten und in die Passivierungsvorrichtung 1 eintreten kann. In der nachfolgenden Beschreibung verwendete Lage- und Richtungsbezeichnungen wie etwa "unten"/"oben", "unterhalb"/"oberhalb", "nach unten"/"nach oben" etc. beziehen sich dabei auf die dargestellte Betriebsposition. Bei dem Prozessgas kann es sich, wie erwähnt, beispielsweise um das Prozessgas einer Vorrichtung zur additiven Herstellung dreidimensionaler Objekte wie etwa einer Anlage zum selektiven Lasersintern handeln. Bei den Feststoffen, die vom Prozessgas mitgeführt werden, kann es sich daher um solche Feststoffe handeln, die in einer derartigen Vorrichtung an das Prozessgas abgegeben werden können, insbesondere aus verdampftem Aufbaumaterial entstandene Kondensatpartikel und/oder aufgewirbeltes Aufbaumaterial. Diese Feststoffe werden mittels der Filtervorrichtung zumindest teilweise vom Prozessgas (Rohgas) abgetrennt und bilden dann den Filterrückstand. Die Passivierungsvorrichtung 1 umfasst einen Austrittsbereich 3, der an die Filtervorrichtung 10 ankoppelbar oder angekoppelt ist. In Fig.1 ist eine Situation dargestellt, in der der Austrittsbereich 3 an die Filtervorrichtung 10 angekoppelt ist. Der Austrittsbereich 3 ist ausgebildet, Filterrückstand aus der Filtervorrichtung 10 aufzunehmen. Die Passivierungsvorrichtung 1 umfasst ferner eine Fluidzuführung 4 zum Zuführen eines Fluidstroms in den Austrittsbereich 3. Der Fluidstrom besteht aus einem Fluid, welches ein Passivierungsmittel umfasst. Beispielsweise besteht das Fluid aus einem Gemisch aus einem inerten Fluid und dem ebenfalls fluiden Passivierungsmittel. Insbesondere kann es sich um ein Gemisch aus einem Inertgas Gas, mit welchem der Filterrückstand zur Passivierung chemisch reagiert, handeln. Bevorzugt ist die chemische Reaktion dabei eine Oxidationsreaktion, mehr bevorzugt eine Oxidationsreaktion mit Sauerstoff. Um eine teilweise Oxidation des Filterrückstands mit Sauerstoff zu bewirken, kann als Fluid beispielsweise ein Gemisch aus Sauerstoff und einem Inertgas (etwa Argon oder Stickstoff) verwendet werden. Das Fluid kann beispielsweise einem bereitgestellten Fluidreservoir 90, z.B. einem Druckgasspeicher in Form einer Druckgasflasche oder dergleichen, entnommen werden. Zu diesem Zweck ist zwischen der Fluidzuführung 4 und dem Fluidreservoir 90 eine Fluidverbindung 91 vorgesehen. Eine Druckgasflasche mit optionalem Reduzierventil ist in der Regel geeignet, um das Fluid in der für eine längere Betriebsdauer benötigten Menge und mit dem benötigten Druck bereitzustellen. Anstelle einer Druckgasflasche kann ein anderes Behältnis, das zum Speichern des Fluids geeignet ist, als Fluidreservoir 90 verwendet werden, wobei erforderlichenfalls zusätzlich zum Behältnis eine Vorrichtung zum Erhöhen oder Erniedrigen des Fluiddrucks und/oder eine Vorrichtung zum Einstellen und/oder Regeln des Fluiddrucks vorgesehen sein kann. Alternativ kann das Fluid mehreren Fluidreservoiren 90 entnommen werden. Beispielsweise kann dabei das inerte Fluid einem Fluidreservoir und das Passivierungsmittel einem anderen Fluidreservoir entnommen werden, wobei das inerte Fluid und das Passivierungsmittel gemischt werden. Wenn als Passivierungsmittel Sauerstoff vorgesehen ist, kann dieser auch in Form von Luft aus der Umgebungsatmosphäre, optional nach einer Verdichtung und/oder einer Filterung, verwendet werden. In diesem Fall wird die Umgebungsatmosphäre als Fluidreservoir für das Passivierungsmittel verstanden. Weiter ist es möglich, dass in einem Fluidreservoir ein Gemisch aus einem inerten Fluid und dem Passivierungsmittel enthalten ist und aus einem anderen Fluidreservoir zumindest im Bedarfsfall weiteres Passivierungsmittel zugegeben werden kann. Die Menge des Fluids, das pro Zeiteinheit in den Austrittsbereich 3 eintritt, kann bevorzugt durch eine Reguliervorrichtung (in Fig.1 nicht dargestellt) eingestellt und/oder geregelt werden. Die Strömungsrichtung des Fluidstroms durch die Fluidzuführung 4 ist in Fig.1 durch den Pfeil 43 symbolisiert. Die Passivierungsvorrichtung 1 umfasst optional eine Passivierungsmittelzuführung (in Fig.1 nicht dargestellt), durch die das Passivierungsmittel beispielsweise in die Fluidzuführung und/oder die Fluidverbindung 91 zwischen Fluidzuführung und einem Fluidreservoir 90 eingespeist wird. Die Passivierungsvorrichtung 1 umfasst eine Fluidabführung 5 zum Abführen des Fluidstroms und des Filterrückstands aus dem Austrittsbereich 3. Die Fluidabführung 5 ist als Förderleitung 5 ausgebildet. Der Innendurchmesser der Förderleitung 5 bzw. das Verhältnis zwischen Länge der Förderleitung und ihrem Innendurchmesser weist dabei die obenstehend genannten Werte auf. Die Strömungsrichtung des der Strömung aus dem Fluidstrom und dem Filterrückstand durch die Fluidabführung 5 ist in Fig.1 durch die Pfeile 53 symbolisiert. Bevorzugt ist die Förderleitung 5 zumindest abschnittsweise als starre Leitung ausgeführt, mehr bevorzugt umfasst sie ein Metallrohr, insbesondere ein Metallrohr mit einer Wandstärke von mindestens 2 mm. Optional ist die Förderleitung 5 thermisch isoliert, d.h. zumindest ein Abschnitt der Förderleitung ist optional mit einer Isoliervorrichtung, beispielsweise einem Isoliermantel, versehen. Optional umfasst die Fluidabführung 5 ein Sperrventil, mit dem die Fluidabführung 5 für einen Fluiddurchtritt gesperrt werden kann. Gemäß dem ersten Ausführungsbeispiel umfasst die Fluidzuführung 4 eine Düse 41, durch die der Fluidstrom in den Austrittsbereich 3 eintritt. Wenn der Fluidstrom durch die Düse 41 in den Austrittsbereich 3 strömt, wird das Fluid durch die Düse 41 beschleunigt. Dadurch wird im Austrittsbereich 3 ein Ansaugdruck erzeugt, durch den Filterrückstand und gegebenenfalls in der Filtervorrichtung 10 befindliches Fluid angesaugt und so in den Austrittsbereich 3 gesaugt werden. Der aus der Filtervorrichtung 10 angesaugte Filterrückstand und das gegebenenfalls aus der Filtervorrichtung 10 werden durch den Ausstoßbereich 51 aus dem Austrittsbereich 3 ausgestoßen. Diese Ausgestaltung des Austrittsbereichs 3 mit einer derartigen Düse 41, die einen Ansaugdruck erzeugt, wird häufig als "Ejektor" bezeichnet. Alternative Begriffe sind beispielsweise "Strahlpumpe", "Treibmittelpumpe" und "Jetpumpe". Eine derartige Düse 41 eines Ejektors wird häufig als "Ejektordüse" oder "Treibdüse" bezeichnet. Fig.2 ist eine Detailansicht, die ein konkretes Beispiel des Austrittsbereichs 3, der als Düse 41 ausgebildeten Fluidzuführung 4 und des Ausstoßbereichs 51 gemäß dem ersten Ausführungsbeispiel, die Bestandteile des Ejektors sind, schematisch im Schnitt zeigt. Die Strömung des durch die Düse 41 einströmenden Fluidstroms ist darin durch den Pfeil 44 symbolisiert. Das Ansaugen von Filterrückstand und gegebenenfalls Fluid aus der Filtervorrichtung 10 in den Austrittsbereich 3 und das Fördern des angesaugten Filterrückstands und gegebenenfalls des angesaugten Fluids gemeinsam mit dem Fluidstrom durch den Ausstoßbereich 51 und weiter durch die Fluidabführung 5 ist durch den Pfeil 54 symbolisiert. Die Passivierungsvorrichtung 1 umfasst eine Energiezufuhrvorrichtung 70 zum Beaufschlagen der Fluidströmung und/oder des Passivierungsmittels und/oder des Filterrückstands mit Energie. Bevorzugt handelt es sich bei der Energiezufuhrvorrichtung 70 um eine Heizvorrichtung. Gemäß dem ersten Ausführungsbeispiel ist die Energiezufuhrvorrichtung 70 ausgebildet und angeordnet, Energie in den Bereich der Fluidzuführung einzubringen. Die in Fig.1 gezeigte Positionierung der Energiezufuhrvorrichtung 70 nahe am Austrittsbereich 3 ist lediglich beispielhaft. Sie kann vom Austrittsbereich auch weiter beabstandet sein. Zusätzlich zur der genannten Energiezufuhrvorrichtung 70 kann optional mindestens eine weitere Energiezufuhrvorrichtung 70', 70'' vorgesehen sein, beispielsweise im Bereich des Austrittsbereichs 3 und/oder im Bereich der Förderleitung. Diese möglichen Anordnungen sind in Fig.1 dargestellt. Bevorzugt handelt es sich bei der Energiezufuhrvorrichtung 70 um eine Heizvorrichtung, insbesondere um einen Durchlauferhitzer, d.h. eine Heizvorrichtung, die den Fluidstrom erwärmt, während er die Heizvorrichtung bzw. den Abschnitt der Leitung, in dem die Heizvorrichtung angebracht ist, durchströmt. Optional umfasst die Passivierungsvorrichtung 1 einen Auffang 80, welcher über die Fluidabführung 5 mit dem Austrittsbereich 3 in Fluidverbindung steht, falls die Fluidabführung kein Sperrventil aufweist oder ein vorhandenes Sperrventil geöffnet ist. Durch die Fluidverbindung kann die Fluidströmung mit dem Filterrückstand aus dem Austrittsbereich in den Auffang gefördert und im Auffang gesammelt werden. Der Filterrückstand kann in der Folge gemeinsam mit dem Auffang entsorgt, im Auffang einer weiteren Behandlung unterzogen oder zwecks Entsorgung bzw. weiterer Behandlung dem Auffang entnommen werden. Ein derartiger Auffang 80 verfügt bevorzugt über ein Filter 81, durch die das als Fluidströmung in den Auffang 80 eintretende Fluid entweichen kann. Die Strömung des entweichenden Fluids ist in Fig.1 durch den Pfeil 82 symbolisiert. Im Bereich eines derartigen Auffangs 80 ist bevorzugt ein Füllstandsensor 83 angeordnet, mit dem der Füllstand des Auffangs 80 überwacht werden kann, insbesondere um den Zeitpunkt festzustellen, zu dem der Auffang 80 entleert oder durch einen leeren Auffang ersetzt werden muss. Die Passivierungsvorrichtung 1 ist ausgebildet und/oder steuerbar, eine chemische Reaktion zwischen dem Filterrückstand und dem Passivierungsmittel zumindest teilweise im Flugstrom zu bewirken. Dies bedeutet erstens, dass durch die Ejektorwirkung Filterrückstand angesaugt und gemeinsam mit dem Fluidstrom im Zustand des Flugstroms gefördert wird. Dies bedeutet zweitens, dass die Passivierungsvorrichtung einen Fluidstrom bereitstellt, der ein geeignetes Passivierungsmittel enthält und dessen Zusammensetzung eine chemische Reaktion ermöglicht. Ferner erfolgt mittels einer Energiezufuhrvorrichtung eine Beaufschlagung mit Energie, wodurch beispielsweise die Reaktion gestartet und/oder beschleunigt wird. Optional umfasst die Passivierungsvorrichtung 1 mindestens einen einen Druck und/oder eine Temperatur und/oder eine chemische Zusammensetzung erfassenden Sensor (in Fig.1 nicht dargestellt). Der mindestens eine Sensor kann beispielsweise so angeordnet sein, dass der die Eigenschaften des Fluids in der Förderleitung 5 bestimmt. Alternativ oder zusätzlich kann der mindestens eine Sensor auch im Austrittsbereich 3 und/oder in der Fluidzuführung 4 und/oder im optionalen Auffang 80 angeordnet sein. Bevorzugt wird zumindest im Austrittsbereich 3 bzw. an dem daran anschließenden Ende der Förderleitung 5 und im Bereich des dem Austrittsbereich 3 gegenüberliegenden Ende der Förderleitung 5 jeweils die Temperatur gemessen, beispielsweise um den Flugstrom und die für eine Passivierung vorteilhaften Temperaturbedingungen im gesamten Flugstrom-Bereich, d.h. in der Förderleitung 5, zu überwachen. Durch einen Sensor kann beispielsweise überwacht werden, ob die für den Betrieb des Ejektors und für die Ausbildung eines Flugstroms geeigneten Eigenschaften der Fluidströmung vorliegen. Durch einen Sensor kann alternativ oder zusätzlich beispielsweise auch überwacht werden, ob für eine gewünschte chemische Reaktion zwischen dem Passivierungsmittel und dem Filterrückstand geeignete Bedingen (z.B. hinsichtlich Passivierungsmittelkonzentration, Temperatur und/oder Druck) vorliegen. Gesteuert durch von einem derartigen Sensor ausgegebene Signale können beispielsweise die Temperatur, der Druck und die Menge eines Passivierungsmittels in dem Bereich der Filtervorrichtung, in dem eine chemische Reaktion erwünscht ist, geregelt werden. Optional umfasst die Förderleitung 5 mindestens eine Querschnittsverengung. Darauf wird im Zusammenhang mit dem zweiten Ausführungsbeispiel näher eingegangen. Zweites Ausführungsbeispiel Die Passivierungsvorrichtung 1 gemäß dem zweiten Ausführungsbeispiel ist in Fig.3 dargestellt. Die Bestandteile und Eigenschaften der Passivierungsvorrichtung 1 gemäß dem zweiten Ausführungsbeispiel, die denjenigen der Passivierungsvorrichtung 1 gemäß dem ersten Ausführungsbeispiel entsprechen, werden nachfolgend nicht gesondert beschrieben. Hinsichtlich der Gemeinsamkeiten wird auf die obenstehende Beschreibung zum ersten Ausführungsbeispiel verwiesen. Die nachfolgende Beschreibung ist auf die Unterschiede beschränkt. Einander entsprechende Komponenten der Passivierungsvorrichtung 1 des ersten und des zweiten Ausführungsbeispiels werden zudem mit gleichen Bezugszeichen bezeichnet. Alle diejenigen Bestandteile und Eigenschaften der Filtervorrichtung 1, die für das erste Ausführungsbeispiel als optionale Merkmale beschrieben sind, stellen auch für das zweite Ausführungsbeispiel optionale Merkmale dar. Die Passivierungsvorrichtung 1 gemäß dem zweiten Ausführungsbeispiel unterscheidet sich von der Passivierungsvorrichtung 1 gemäß dem ersten Ausführungsbeispiel insbesondere in der Ausgestaltung des Austrittsbereichs und der Fluidzuführung. Gemäß dem zweiten Ausführungsbeispiel ist kein Ejektor zum Ansaugen des Filterrückstands aus der Filtervorrichtung 10 vorgesehen. Gemäß dem zweiten Ausführungsbeispiel führt die auf den in der Filtervorrichtung 10 befindlichen Filterrückstand wirkende Schwerkraft dazu, dass dieser in den Austrittsbereich 3' gelangt und mittels der durch die Fluidzuführung 4' in den Austrittsbereich 3' eintretende Fluidströmung durch die Förderleitung 5 gefördert wird. Der Austrittsbereich 3' ist beispielsweise als Kammer ausgebildet, mit der die Fluidzuführung 4' und die Förderleitung 5 verbunden sind, sodass die Fluidströmung durch die Kammer hindurchgeführt werden kann. Die Kammer ist direkt oder indirekt über ein Rohr, eine Leitung, etc. mit einer Austrittsöffnung, durch die Filterrückstand aus der Filtervorrichtung 10 austreten kann, verbindbar oder verbunden. Optional umfasst die Förderleitung 5 eine Querschnittsverengung 511. Die Querschnittsverengung 511 ist in die im unteren Bereich der Fig.3 dargestellte Vergrößerung des mit gestrichelter Linie eingekreisten Abschnitts der Förderleitung 5 zu erkennen. Die Querschnittsverengung 511 ist in Fig.3 vom Austrittsbereich 3' beabstandet angeordnet. Die Querschnittsverengung 511 kann jedoch auch an anderer Stelle der Förderleitung 5 angeordnet sein, beispielsweise näher am Austrittsbereich 3', insbesondere an einer dem Austrittsbereich 3' benachbarten Position. Die Förderleitung 5 kann auch mehrere Querschnittsverengungen aufweisen. Durch die Querschnittsverengung 511 wird das durch die Förderleitung 5 strömende Fluid beschleunigt. Dadurch kann es beispielsweise zu einem Aufbrechen von Partikelagglomeraten, die im Filterrückstand enthalten sind, kommen. Dies ist in der in Fig.3 dargestellten Vergrößerung dadurch symbolisiert, dass in der Förderleitung 5 stromaufwärts der Querschnittsverengung 511 größere Feststoffteilchen eingezeichnet sind als stromabwärts der Querschnittsverengung 511. Drittes Ausführungsbeispiel Die Passivierungsvorrichtung 1 gemäß dem dritten Ausführungsbeispiel ist in den Zeichnungsfiguren nicht dargestellt. Abgesehen vom Austrittsbereich, Fluidzuführung und der Fluidabführung entspricht das dritte Ausführungsbeispiel dem ersten Ausführungsbeispiel. Die Bestandteile und Eigenschaften der Passivierungsvorrichtung 1 gemäß dem dritten Ausführungsbeispiel, die denjenigen der Passivierungsvorrichtung 1 gemäß dem ersten Ausführungsbeispiel entsprechen, werden nachfolgend nicht gesondert beschrieben. Hinsichtlich der Gemeinsamkeiten wird auf die obenstehende Beschreibung zum ersten Ausführungsbeispiel verwiesen. Die nachfolgende Beschreibung ist auf die Unterschiede beschränkt. Alle diejenigen Bestandteile und Eigenschaften der Filtervorrichtung 1, die für das erste Ausführungsbeispiel als optionale Merkmale beschrieben sind, stellen auch für das dritte Ausführungsbeispiel optionale Merkmale dar. Gemäß dem dritten Ausführungsbeispiel sind der Austrittsbereich, die Fluidzuführung und die Fluidabführung als Venturi-Düse oder als Bestandteile einer Venturi-Düse ausgebildet. Die Ansaugung von Filterrückstand aus der Filtervorrichtung 10 erfolgt somit anders als im ersten Ausführungsbeispiel nicht mittels eines Ejektors sondern mittels einer Venturi-Düse. In weiteren Ausführungsbeispielen werden anstelle oder zusätzlich zu einem Ejektor bzw. einer Venturi-Düse andere Vorrichtungen verwendet, um eine Ansaugung von Filterrückstand in die Fluidströmung zu bewirken. Weitere Ausführungsbeispiele der erfindungsgemäßen Passivierungsvorrichtung Weitere Ausführungsbeispiele der erfindungsgemäßen Passivierungsvorrichtung 1 ergeben sich beispielsweise dadurch, dass anstelle der Energiezufuhrvorrichtung 70 der vorstehend beschriebenen Ausführungsbeispiele oder zusätzlich zu einer solchen Energiezufuhrvorrichtung 70 eine Energiezufuhrvorrichtung 70' vorgesehen ist, die ausgebildet und angeordnet ist, Energie in den Bereich der Fluidabführung 5 einzubringen. Die Energiezufuhrvorrichtung 70', die in den vorstehend beschriebenen Ausführungsbeispielen optional ist, ist in den Figuren 1 und 2 eingezeichnet. Weitere Ausführungsbeispiele der erfindungsgemäßen Passivierungsvorrichtung 1 ergeben sich beispielsweise dadurch, dass anstelle der Energiezufuhrvorrichtung 70, 70' der vorstehend beschriebenen Ausführungsbeispiele oder zusätzlich zu einer solchen Energiezufuhrvorrichtung 70, 70' eine Energiezufuhrvorrichtung 70'' vorgesehen ist, die ausgebildet und angeordnet ist, Energie in den Bereich des Austrittsbereichs 3, 3' einzubringen. Die Energiezufuhrvorrichtung 70'', die in den vorstehend beschriebenen Ausführungsbeispielen optional ist, ist in den Figuren 1 und 2 eingezeichnet. Die Passivierungsvorrichtung 1 gemäß den verschiedenen Ausführungsbeispielen kann somit über eine Energiezufuhrvorrichtung oder mehrere Energiezufuhrvorrichtungen verfügen. Weitere Ausführungsbeispiele der erfindungsgemäßen Passivierungsvorrichtung 1 ergeben sich beispielsweise dadurch, dass anstelle einer Passivierungsmittelzuführung zum Einspeisen des Passivierungsmittels in die Fluidzuführung 4, 4' oder zusätzlich zu einer derartigen Passivierungsmittelzuführung eine Passivierungsmittelzuführung zum Einspeisen des Passivierungsmittels in den Austrittsbereich 3, 3' vorgesehen ist. Weitere Ausführungsbeispiele der erfindungsgemäßen Passivierungsvorrichtung 1 ergeben sich beispielsweise dadurch, dass anstelle einer Passivierungsmittelzuführung zum Einspeisen des Passivierungsmittels in die Fluidzuführung 4, 4' und/oder des Austrittsbereichs 3, 3' oder zusätzlich zu einer derartigen Passivierungsmittelzuführung eine Passivierungsmittelzuführung zum Einspeisen des Passivierungsmittels in die Fluidabführung 5 vorgesehen ist. Weitere Ausführungsbeispiele der erfindungsgemäßen Passivierungsvorrichtung 1 ergeben sich beispielsweise dadurch, dass die konkret im Zusammenhang mit dem zweiten Ausführungsbeispiel als optionales Merkmal beschriebene mindestens eine Querschnittsverengung 511 der Förderleitung in der Passivierungsvorrichtung 1 eines anderen Ausführungsbeispiels implementiert wird. Ausführungsbeispiele des erfindungsgemäßen Filtersystems Ausführungsbeispiele des erfindungsgemäßen Filtersystems 100 umfassen eine Passivierungsvorrichtung 1 gemäß einem der vorstehend beschriebenen Ausführungsbeispielen sowie eine Filtervorrichtung 10, wobei die Passivierungsvorrichtung 1 an die Filtervorrichtung angekoppelt oder ankoppelbar ist. Das Filtersystem 100 gemäß einer ersten Gruppe von Ausführungsbeispielen ist in den Figuren 1 und 3 dargestellt. Bezüglich der Passivierungsvorrichtung 1 (mit gestrichelter Linie umrandeter Bereich) wird auf die vorstehende Beschreibung der einzelnen Ausführungsbeispiele verwiesen. Die Passivierungsvorrichtung 1, die Filtervorrichtung 10 und das Filtersystem 100 insgesamt sind in den Figuren 1 und 3 sowie auch in den Figuren 4 bis 9 in einer möglichen Betriebsposition dargestellt. Dabei ist die Passivierungsvorrichtung 1 an eine Filtervorrichtung 10 angekoppelt und so angeordnet, dass die Passivierung von Filterrückstand möglich ist. Die Filtervorrichtung 10 ist so angeordnet, dass einerseits mittels der Filtervorrichtung 10 ein Prozessgas (Rohgas) gefiltert und dadurch von im Prozessgas mitgeführten Feststoffen gereinigt werden kann, und dass andererseits Filterrückstand aus der Filtervorrichtung 10 austreten und in die Passivierungsvorrichtung 1 eintreten kann. Zusätzlich zur Passivierungsvorrichtung 1 umfasst das Filtersystem 100 eine Filtervorrichtung 1. Die Filtervorrichtung 1 umfasst eine von einer Filterkammerwandung 12 gebildete Filterkammer 11, in der mindestens ein Filterelement 20 angeordnet ist. In den Figuren 1 und 3 sind beispielhaft sechs in der Filterkammer 11 angeordnete Filterelemente 20 dargestellt. Die Filterkammer 11 weist einen Prozessgaseinlass (in den Figuren 1 und 3 nicht dargestellt) und einen Prozessgasauslass (in den Figuren 1 und 3 nicht dargestellt) auf, wobei der Prozessgaseinlass, der Prozessgasauslass und das mindestens eine Filterelement 20 so angeordnet sind, dass ein Prozessgas, das über den Prozessgaseinlass in die Filterkammer 10 eintritt und über den Prozessgasauslass die Filterkammer wieder verlässt, mittels des mindestens einen Filterelements 20 gefiltert wird. Beispielsweise kann es sich bei dem Prozessgaseinlass und dem Prozessgasauslass um Öffnungen in der Filterkammerwandung 12 handeln, an die entsprechende Prozessgasleitungen angeschlossen sind. Durch das Filtern des Prozessgases werden die vom Prozessgas mitgeführten Feststoffe zumindest teilweise abgetrennt, indem sie vom mindestens einen Filterelement 20 zurückgehalten werden. Die zurückgehaltenen Feststoffe bleiben zumindest vorerst am mindestens einen Filterelement 20 zurück. Die zurückgehaltenen Feststoffe werden allgemein auch als "Filterrückstand" bezeichnet. Ein Bereich im Inneren der Filterkammer 10, der unterhalb des mindestens einen Filterelements 20 angeordnet ist, ist ausgebildet, Filterrückstand, der vom mindestens einen Filterelement abgelöst wird oder sich von diesem ablöst, aufzunehmen. Das heißt, dass dieser Filterrückstand im einfachsten Fall in diesen Bereich fällt. Bei dem Bereich handelt es sich bevorzugt um einen Sammelbereich 13, in dem eine bestimmte Menge Filterrückstand gesammelt werden kann, bevor er in die Passivierungsvorrichtung 1 eintritt. Das Ablösen kann dabei beispielsweise durch Einwirkung der Schwerkraft erfolgen. Um das Ablösen zu bewirken oder zu forcieren, kann eine optionale Ablösevorrichtung (in den Figuren 1 und 3 nicht dargestellt) vorgesehen sein. Die Ablösevorrichtung kann beispielsweise ausgebildet sein, den am mindestens einen Filterelement 20 anhaftenden Filterrückstand mittels Einwirkung von Gas abzulösen. Dabei ist es bevorzugt, das Filtern des Prozessgases von Zeit zu Zeit zu unterbrechen und ein Gas in der Richtung durch das mindestens eine Filterelement zu leiten, die der Strömungsrichtung des Prozessgases während seiner Filterung entgegengesetzt ist. Zum Ablösen von Filterrückstand wird das Gas bevorzugt stoßartig durch das mindestens eine Filterelement 20 geleitet. Das Ablösen ist jedoch nicht auf die vorstehend beschriebene Vorgehensweise beschränkt, sondern kann auch auf andere Weise erfolgen, beispielsweise durch Abblasen, Abkehren, Abkratzen, Abschütteln etc. Auch eine Kombination mehrerer Techniken zum Ablösen ist möglich. Wenn es die verwendete Technik zum Ablösen zulässt, kann das Filtern des Prozessgases mittels eines Filterelements 20 fortgesetzt werden, während Filterrückstand von demselben abgelöst wird. Wenn mehrere Filterelemente 20 vorgesehen sind, kann das Ablösen von Filterrückstand von zwei verschiedenen Filterelementen 20 gleichzeitig oder hintereinander durchgeführt werden. Die Fluidzuführung 4, 4' der Passivierungsvorrichtung 1 ist mit einer externen Fluidquelle verbunden, sodass Fluid von außerhalb des Filtersystems 100 in die Fluidzuführung 4, 4' eingespeist werden kann. Das Fluid, das durch die Fluidzuführung 4, 4' dem Austrittsbereich 3, 3 zugeführt wird, kann beispielsweise einem bereitgestellten Fluidreservoir 90 (z.B. Druckgasspeicher in Form einer Druckgasflasche oder dergleichen) entnommen werden, wie bereits im Zusammenhang mit der obenstehenden Beschreibung der Passivierungsvorrichtung erwähnt. Zu diesem Zweck ist zwischen der Fluidzuführung 4 und dem Fluidreservoir 90 eine Fluidverbindung 91 vorgesehen. Bevorzugt weist der der untere Bereich der Filterkammer bzw. der Sammelbereich 13 eine sich nach unten hin verjüngende Wandung und einen Ausgang, durch die Filterrückstand aus der Filterkammer 10 austreten kann, auf. Ein derartiger Sammelbereich 13 ist in den Figuren 1 und 3 dargestellt. Optional ist im Sammelbereich eine Fördervorrichtung 14 vorgesehen, die die Bewegung des Filterrückstands in Richtung des Ausgangs bewirkt oder unterstützt, insbesondere wenn die Neigung der Sammelkammerwandung relativ flach ist, sodass sich der Filterrückstand unter Umständen nicht zuverlässig mittels der Schwerkraft in Richtung des Ausgangs bewegt. Die Fördervorrichtung kann beispielsweise eine in der Wandung vorgesehene Fluidisierplatte umfassen sein. Optional weist die Filtervorrichtung 10 eine Sammelkammer 15 auf, die zwischen der Filterkammer 11 und der Passivierungsvorrichtung 1 angeordnet ist und in der Filterrückstand gesammelt werden kann. Bevorzugt sind die einzelnen Komponenten des Systems 100 so ausgebildet und angeordnet, dass die Passivierungsvorrichtung und eine optionale Sammelkammer 15 in platzsparender Weise zumindest teilweise unterhalb der Filterkammer angeordnet sind, wie dies in den Figuren 1 und 3 dargestellt ist. Bevorzugt sind ferner die einzelnen Komponenten des Systems 100 so ausgebildet und angeordnet, dass ein optionaler Auffang 80 Passivierungsvorrichtung und eine optionale Sammelkammer 15 in platzsparender Weise zumindest teilweise unterhalb der Filterkammer angeordnet ist, wie dies in den Figuren 1 und 3 dargestellt ist. Optional umfasst die Filtervorrichtung 1 mindestens einen einen Druck und/oder eine Temperatur und/oder eine chemische Zusammensetzung erfassenden Sensor. In den Figuren 1 und 3 sind beispielhaft ein Sauerstoffsensor 151, ein Temperatursensor 152 und ein Drucksensor 153 dargestellt, mit denen die Sauerstoffkonzentration, die Temperatur und der Druck in der Sammelkammer 15 erfasst werden können. Durch diese Sensoren 151, 152, 153 können beispielsweise Messwerte erfasst werden, mit denen Rückschlüsse auf die Entzündungsgefahr des Filterrückstands im Sammelbereich 15 und die etwaige Notwendigkeit von Gegenmaßnahmen wie beispielsweise eine Inertgaszufuhr gezogen werden können. Alternativ können derartige Sensoren beispielsweise so angeordnet sein, dass sie Messwerte für das Innere der Filterkammer 11 erfassen. Optional umfasst die Filtervorrichtung 1 mindestens einen Füllstandsensor (in den Figuren 1 und 3 nicht dargestellt), mit denen der Füllstand des Filterrückstands in der Filterkammer 11 und/oder in der optionalen Sammelkammer 15 gemessen werden können. Weitere Ausführungsbeispiele des erfindungsgemäßen Filtersystems Weitere Ausführungsbeispiele des erfindungsgemäßen Filtersystems 100 ergeben sich beispielsweise durch Modifikationen der vorstehend beschriebenen Ausführungsbeispiele. In weiteren Ausführungsbeispielen wird zumindest ein Teil des Fluids, das durch die Fluidzuführung 4, 4' dem Austrittsbereich 3, 3 zugeführt wird, der Filterkammer 11 entnommen. Dabei handelt es sich bei dem der Filterkammer 11 entnommenen und in die Fluidzuführung 4, 4' eingespeisten Fluid um Reingas, d.h. um Prozessgas, das bereits mittels des mindestens einen Filterelements 20 gefiltert worden ist. Im Übrigen entsprechen diese weiteren Ausführungsbeispiele den obenstehend beschriebenen Ausführungsbeispielen. Weitere Ausführungsbeispiele des erfindungsgemäßen Filtersystems 100 ergeben sich beispielsweise durch Modifikationen der vorstehend beschriebenen Ausführungsbeispiele. In weiteren Ausführungsbeispielen wird zumindest ein Teil des Fluids, das durch die Fluidzuführung 4, 4' dem Austrittsbereich 3, 3 zugeführt wird, einer Stelle der Reingasseite des Prozessgaskreislaufs entnommen. Beispielsweise kann das Fluid einem Pufferspeicher entnommen werden, welcher Fluid für die Abreinigung des mindestens einen Filterelements 20 durch einen Druckgasstoß bereitstellt. Dabei kann das im Pufferspeicher vorrätige Fluid beispielsweise bereits den zum Betrieb des Filtersystems erforderlichen Druck aufweisen, sodass auf eine zusätzliche Verdichtungsvorrichtung verzichtet werden kann. Das Filtersystem 100 gemäß den weiteren Ausführungsbeispielen ist exemplarisch in den Figuren 4 und 5 dargestellt. Die darin dargestellten Ausführungsbeispiele sind Modifikationen der in den Figuren 1 und 3 dargestellten Ausführungsbeispiele. Das Filtersystem 100 umfasst eine Leitung 92, durch die Reingas aus der Filterkammer 11 entnommen und in die Fluidzuführung 4, 4' eingespeist wird. Dazu ist eine Fluidfördervorrichtung 93 vorgesehen, welche das Reingas aus der Filterkammer 11 in die Fluidzuführung 4, 4' fördert. Bei der Fluidfördervorrichtung 93 kann es sich beispielsweise um ein Gebläse oder einen Verdichter handeln. In den Figuren 4 und 5 ist eine Passivierungsmittelzuführung 6 eingezeichnet, durch welche Passivierungsmittel (beispielsweise Sauerstoff) in die Leitung 92 eingespeist wird. Die Passivierungsmittelzuführung 6 ist beispielsweise mit einem Passivierungsmittelreservoir (in den Figuren 4 und 5 nicht dargestellt) verbunden. Die Einspeisung von Passivierungsmittel kann wie obenstehend beschrieben auch an anderer Stelle erfolgen, beispielsweise im Bereich der Fluidzuführung 4, 4' des Austrittsbereichs 3, 3', der Fluidabführung 5. Es können auch mehrere Passivierungsmittelzuführungen vorgesehen sein, um an verschiedenen Stellen Passivierungsmittel zuzuführen. Auf eine Passivierungsmittelzuführung kann auch verzichtet werden, wenn im Prozessgas bereits Passivierungsmittel enthalten ist. Beispielsweise ist es möglich, dass im Prozessgas Sauerstoff enthalten ist, der durch eine Energiezufuhr in der Passivierungsvorrichtung zu einer effektiven Oxidation von im Filterrückstand umfassten Partikeln führt. In der Praxis könnte das Prozessgas beispielsweise einen Sauerstoffgehalt von unter 1,3 vol.-% aufweisen. Ein Sauerstoffgehalt im niedrigen Prozentbereich, im Zehntelbereich oder darunter kann teilweise für den additiven Herstellungsprozess akzeptabel sein. Ein derartiger Sauerstoffgehalt kann jedoch teilweise für eine Passivierung ausreichend sein, insbesondere wenn die Passivierung durch eine Beaufschlagung mit Energie und/oder ein Aufbrechen von Agglomeraten verbessert wird. Das Filtersystem 100 gemäß weiterer Ausführungsbeispiele entspricht den obenstehend beschriebenen Ausführungsbeispielen mit dem Unterschied, dass es mindestens zwei Filtervorrichtungen 10 umfasst. Zusätzlich umfasst es eine Transportvorrichtung 200, die den Filterrückstand aus den einzelnen Filtervorrichtungen 10 in die Passivierungsvorrichtung 1 transportiert, beispielsweise über Leitungen 201. Bei der Transportvorrichtung 200 handelt es sich beispielsweise um eine Saugvorrichtung. Ein derartiges Filtersystem 100 ist in Fig.6 beispielhaft mit zwei Filtervorrichtungen 10-1 und 10-2 dargestellt. Das Filtersystem 100 kann auch mehr als zwei Filtervorrichtungen umfassen. Die mindestens zwei Filtervorrichtungen sind bevorzugt unterschiedlichen Vorrichtungen zur additiven Herstellung dreidimensionaler Objekte (z.B. unterschiedlichen Anlagen zum selektiven Laserschmelzen bzw. Laser Powderbed Fusion) zugeordnet. Das Filtersystem 100 gemäß weiterer Ausführungsbeispiele entspricht den obenstehend beschriebenen Ausführungsbeispielen wobei es ebenfalls mindestens zwei Filtervorrichtungen 10 umfasst. Die Passivierungsvorrichtung 1 ist dabei an mindestens eine der Filtervorrichtungen direkt oder indirekt angekoppelt, wie dies obenstehend bereits beschrieben wurde. Zusätzlich umfasst das Filtersystem 100 eine Transportvorrichtung 200, die den Filterrückstand aus den einzelnen Filtervorrichtungen 10, die nicht direkt oder indirekt an die Passivierungsvorrichtung 1 gekoppelt sind, in die Passivierungsvorrichtung 1 transportiert, beispielsweise über Leitungen 201. Bei der Transportvorrichtung 200 handelt es sich beispielsweise um eine Saugvorrichtung. Ein derartiges Filtersystem 100 ist in Fig.7 beispielhaft mit zwei Filtervorrichtungen 10-1 und 10-2 dargestellt. Das Filtersystem 100 kann auch mehr als zwei Filtervorrichtungen umfassen. Die mindestens zwei Filtervorrichtungen sind bevorzugt unterschiedlichen Vorrichtungen zur additiven Herstellung dreidimensionaler Objekte (z.B. unterschiedlichen Anlagen zum selektiven Laserschmelzen bzw. Laser Powderbed Fusion) zugeordnet. Das Filtersystem 100 gemäß weiterer Ausführungsbeispiele entspricht den obenstehend beschriebenen Ausführungsbeispielen wobei es ebenfalls mindestens zwei Filtervorrichtungen 10 umfasst. Die Passivierungsvorrichtung 1 ist dabei an mindestens eine der Filtervorrichtungen direkt oder indirekt angekoppelt, wie dies obenstehend bereits beschrieben wurde. Zusätzlich umfasst das Filtersystem 100 eine Transportvorrichtung 200, die den Filterrückstand aus den einzelnen Filtervorrichtungen 10, die nicht direkt oder indirekt an die Passivierungsvorrichtung 1 gekoppelt sind, in die Sammelkammer oder die Filterkammer mindestens einer Filterkammer 10, die an die Passivierungsvorrichtung 1 direkt oder indirekt gekoppelt ist, transportiert, beispielsweise über Leitungen 201. Bei der Transportvorrichtung 200 handelt es sich beispielsweise um eine Saugvorrichtung. Ein derartiges Filtersystem 100 ist in Fig.8 beispielhaft mit zwei Filtervorrichtungen 10-1 und 10-2 dargestellt. Das Filtersystem 100 kann auch mehr als zwei Filtervorrichtungen umfassen. Die mindestens zwei Filtervorrichtungen sind bevorzugt unterschiedlichen Vorrichtungen zur additiven Herstellung dreidimensionaler Objekte (z.B. unterschiedlichen Anlagen zum selektiven Laserschmelzen) zugeordnet. Eine Saugvorrichtung, die als Transportvorrichtung 200 im vorgenannten Sinn dient, kann beispielsweise dadurch realisiert werden, dass ein Gebläse am Ausgang einer Filtervorrichtung oder einer mit dem Ausgang einer Filtervorrichtung oder den Ausgängen mehrerer Filtervorrichtungen verbundenen Leitung angeordnet ist. Alternativ oder zusätzlich ist eine pneumatische Förderung möglich, beispielsweise mittels eines Ejektors anstelle eines Gebläses. Weitere Ausführungsbeispiele der erfindungsgemäßen Filtersystems 100 ergeben sich beispielsweise dadurch, dass in den vorstehend beschriebenen Ausführungsbeispielen im Bereich des Ausgangs der Filtervorrichtung 10, durch den Filterrückstand in den Austrittsbereich 3, 3' gelangt, ein Filterrückstandförderer vorgesehen ist, um den Transport des Filterrückstands in den Austrittsbereich 3, 3' zu bewirken oder zu forcieren. Ein Filterrückstandförderer kann dabei insbesondere in den Ausführungsbeispielen vorteilhaft sein, in denen von der Fördervorrichtung kein oder kein hoher Ansaugdruck erzeugt wird. Ausführungsbeispiele der erfindungsgemäßen Vorrichtung zur additiven Herstellung dreidimensionaler Objekte Ausführungsbeispiele der erfindungsgemäßen Vorrichtung zur additiven Herstellung dreidimensionaler Objekte handelt es sich ergeben sich indem eine Vorrichtung zur additiven Herstellung (z.B. eine Lasersinteranlage) mit einer Prozesskammer und einer Prozessgasfördervorrichtung mit dem erfindungsgemäßen Filtersystem 100 gemäß einem der obenstehenden Ausführungsbeispiele ausgestattet werden, sodass die Filtervorrichtung 10 und die Passivierungsvorrichtung 1 einen Teil der Vorrichtung zur additiven Herstellung dreidimensionaler Objekte darstellt. Die in Fig.9 beispielhaft dargestellte Vorrichtung gemäß einem Ausführungsbeispiel ist eine Lasersinter- oder Laserschmelzvorrichtung 101. Zum Aufbauen eines Objekts 102 enthält sie eine Prozesskammer 103 mit einer Kammerwandung 104. In der Prozesskammer 103 ist ein nach oben offener Behälter 105 mit einer Behälterwandung 106 angeordnet. Durch die obere Öffnung des Behälters 105 ist eine Arbeitsebene 107 definiert, wobei der innerhalb der Öffnung liegende Bereich der Arbeitsebene 107, der zum Aufbau des Objekts 102 verwendet werden kann, als Baufeld 108 bezeichnet wird. In dem Behälter 105 ist ein in einer vertikalen Richtung V bewegbarer Träger 110 angeordnet, an dem eine Grundplatte 111 angebracht ist, die den Behälter 105 nach unten abschließt und damit dessen Boden bildet. Die Grundplatte 111 kann eine getrennt von dem Träger 110 gebildete Platte sein, die an dem Träger 110 befestigt ist, oder sie kann integral mit dem Träger 110 gebildet sein. Je nach verwendetem Pulver und Prozess kann auf der Grundplatte 111 noch eine Bauplattform 112 als Bauunterlage angebracht sein, auf der das Objekt 102 aufgebaut wird. Das Objekt 102 kann aber auch auf der Grundplatte 111 selber aufgebaut werden, die dann als Bauunterlage dient. In Fig.9 ist das in dem Behälter 105 auf der Bauplattform 112 zu bildende Objekt 102 unterhalb der Arbeitsebene 107 in einem Zwischenzustand dargestellt mit mehreren verfestigten Schichten, umgeben von unverfestigt gebliebenem Aufbaumaterial 113. Die Lasersintervorrichtung 101 enthält weiter einen Vorratsbehälter 114 für ein durch elektromagnetische Strahlung verfestigbares pulverförmiges Aufbaumaterial 115 und einen in einer horizontalen Richtung H bewegbaren Beschichter 116 zum Aufbringen des Aufbaumaterials 115 innerhalb des Baufelds 108. Vorzugsweise erstreckt sich der Beschichter 116 quer zu seiner Bewegungsrichtung über den ganzen zu beschichtenden Bereich. Optional ist in der Prozesskammer 103 eine Strahlungsheizung 117 angeordnet, die zum Beheizen des aufgebrachten Aufbaumaterials 115 dient. Als Strahlungsheizung 117 kann beispielsweise ein Infrarotstrahler vorgesehen sein. Die Lasersintervorrichtung 101 enthält ferner eine Belichtungsvorrichtung 120 mit einem Laser 121, der einen Laserstrahl 122 erzeugt, der über eine Umlenkvorrichtung 123 umgelenkt und durch eine Fokussiervorrichtung 124 über ein Einkoppelfenster 125, das an der Oberseite der Prozesskammer 103 in der Kammerwandung 104 angebracht ist, auf die Arbeitsebene 107 fokussiert wird. Weiter enthält die Lasersintervorrichtung 101 eine Steuereinheit 129, über die die einzelnen Bestandteile der Vorrichtung 101 in koordinierter Weise zum Durchführen des Bauprozesses gesteuert werden. Alternativ kann die Steuereinheit auch teilweise oder ganz außerhalb der Vorrichtung angebracht sein. Die Steuereinheit kann eine CPU enthalten, deren Betrieb durch ein Computerprogramm (Software) gesteuert wird. Das Computerprogramm kann getrennt von der Vorrichtung auf einem Speichermedium gespeichert sein, von dem aus es in die Vorrichtung, insbesondere in die Steuereinheit geladen werden kann. Im Betrieb wird zum Aufbringen einer Pulverschicht zunächst der Träger 110 um eine Höhe abgesenkt, die der gewünschten Schichtdicke entspricht. Der Beschichter 116 fährt zunächst zu dem Vorratsbehälter 114 und nimmt aus ihm eine zum Aufbringen einer Schicht ausreichende Menge des Aufbaumaterials 115 auf. Dann fährt er über das Baufeld 108, bringt dort pulverförmiges Aufbaumaterials 115 auf die Bauunterlage oder eine bereits vorher vorhandene Pulverschicht auf und zieht es zu einer Pulverschicht aus. Das Aufbringen erfolgt zumindest über den gesamten Querschnitt des herzustellenden Objekts 102, vorzugsweise über das gesamte Baufeld 108, also den durch die Behälterwandung 106 begrenzten Bereich. Optional wird das pulverförmige Aufbaumaterial 115 mittels einer Strahlungsheizung 117 auf eine Arbeitstemperatur aufgeheizt. Anschließend wird der Querschnitt des herzustellenden Objekts 102 von dem Laserstrahl 122 abgetastet, sodass das pulverförmige Aufbaumaterial 115 an den Stellen verfestigt wird, die dem Querschnitt des herzustellenden Objekts 102 entsprechen. Dabei werden die Pulverkörner an diesen Stellen mittels der durch die Strahlung eingebrachten Energie teilweise oder vollständig aufgeschmolzen, so dass sie nach einer Abkühlung miteinander verbunden als Festkörper vorliegen. Diese Schritte werden solange wiederholt, bis das Objekt 102 fertiggestellt ist und der Prozesskammer 103 entnommen werden kann. Es können auch mehrere dreidimensionale Objekte 102 gleichzeitig auf die beschriebene Weise hergestellt werden. In der Prozesskammer 103 erfolgt die additive Herstellung. Die Prozessgasfördervorrichtung 136, bei der es sich beispielsweise um ein Gebläse handelt, dient zum Fördern eines die Prozesskammer 103 von einem Prozesskammereingang 132 zu einem Prozesskammerausgang 134 durchströmenden Prozessgases. Die Strömung des Prozessgases durch die Prozesskammer 103 ist in Fig.9 schematisch eingezeichnet und mit dem Bezugszeichen 133 versehen. Bevorzugt wird das Prozessgas dabei zumindest teilweise im Kreislauf geführt, das heißt dass zumindest ein Teil des durch den Prozesskammerausgang 134 strömenden Prozessgases nach dessen Filterung durch die Filtervorrichtung 10 des Filtersystems 100 der Prozesskammer 103 durch den Prozesskammereingang 132 wieder zugeführt wird. In Fig.9 ist ein derartiger Prozessgaskreislauf dargestellt, wobei die Strömungsrichtung durch Pfeile symbolisiert ist. Die Prozesskammer 103 ist so mit dem Filtersystem 100 verbunden, dass aus der Prozesskammer 103 durch den Prozesskammerausgang 134 austretendes Prozessgas in einen Prozessgaseinlass 100-1 der Filtervorrichtung 10 geleitet wird. Dazu ist beispielsweise eine Leitung 135 vorgesehen. Im Fall einer Kreislaufführung des Prozessgases ist ferner ein Prozessgasauslass 100-2 der Filtervorrichtung 10 mit dem Prozesskammereingang 132 verbunden. Dazu ist beispielsweise eine Leitung 135 vorgesehen. Eine Prozessgasfördervorrichtung 136 kann beispielsweise zwischen Prozessgasauslass 100-2 und dem Prozesskammereingang 132 und/oder zwischen Prozesskammerausgang 134 und dem Prozessgaseinlass 100-1 vorgesehen sein. Bevorzugt ist die Prozessgasfördervorrichtung 136 zwischen dem Prozessgasauslass 100-2 der Filtervorrichtung 10 und dem Prozesskammereingang 132 angeordnet, weil die Prozessgasfördervorrichtung 136 in diesem Fall Reingas fördert, was die Gefahr von Verschmutzungen der Prozessgasfördervorrichtung 136 reduziert. Diese Anordnung der Prozessgasfördervorrichtung 136 ist in Fig. 9 dargestellt. Alternativ zur beschrieben Leitung 135 oder eines Abschnitts derselben können Prozesskammer 103 und Filterkammer 11 so miteinander verbunden sein, dass der Prozesskammerausgang 134 direkt mit dem Prozessgaseinlass 100-1 der Filtervorrichtung 10 und/oder dass der Prozesskammereingang 132 direkt mit dem Prozessgasauslass 100-2 der Filtervorrichtung 10 verbunden ist. Prozessgas wird vor dem Filtern allgemein auch als "Rohgas" bezeichnet, während Prozessgas nach dem Filtern allgemein auch als "Reingas" bezeichnet wird. Das heißt Rohgas strömt im Betrieb aus dem Prozesskammerausgang 134 in den Prozessgaseinlass 100-1 der Filtervorrichtung. Auch wenn die Ausführungsbeispiele der Vorrichtung zur additiven Herstellung anhand einer Selektiven Lasersinter- bzw. Laserschmelzvorrichtung beschrieben wurden, sind sie nicht auf das Selektive Lasersintern oder Laserschmelzen eingeschränkt. Sie kann auf beliebige Verfahren zum generativen Herstellen eines dreidimensionalen Objekts durch schichtweises Aufbringen und selektives Verfestigen eines Aufbaumaterials angewendet werden. Der Belichter kann beispielsweise einen oder mehrere Gas- oder Festkörperlaser oder jede andere Art von Laser wie z.B. Laserdioden, insbesondere VCSEL (Vertical Cavity Surface Emitting Laser) oder VECSEL (Vertical External Cavity Surface Emitting Laser), oder eine Zeile dieser Laser umfassen. Allgemein kann als Belichter jede Einrichtung verwendet werden, mit der Energie als Wellen- oder Teilchenstrahlung selektiv auf eine Schicht des Aufbaumaterials aufgebracht werden kann. Anstelle eines Lasers können beispielsweise eine andere Lichtquelle, ein Elektronenstrahl oder jede andere Energie- bzw. Strahlenquelle verwendet werden, die geeignet ist, das Aufbaumaterial zu verfestigen. Statt des Ablenkens eines Strahls kann auch das Belichten mit einem verfahrbaren Zeilenbelichter angewendet werden. Auch auf das selektive Maskensintern, bei dem eine ausgedehnte Lichtquelle und eine Maske verwendet werden, oder auf das High-Speed-Sintern (HSS), bei dem auf dem Aufbaumaterial selektiv ein Material aufgebracht wird, das die Strahlungsabsorption an den entsprechenden Stellen erhöht (Absorptions- sintern) oder verringert (Inhibitionssintern), und dann unselektiv großflächig oder mit einem verfahrbaren Zeilenbelichter belichtet wird, kann die Erfindung angewendet werden. Als Aufbaumaterial können verschiedene Arten von Pulver verwendet werden, insbesondere Metallpulver, Kunststoffpulver, Keramikpulver, Sand, gefüllte oder gemischte Pulver. Bevorzugt ist die Verwendung der erfindungsgemäßen Vorrichtung zur Additiven Herstellung mit Metallpulver als Aufbaumaterial, insbesondere mit einem Metallpulver, das zur Bildung von Kondensaten neigt, wie beispielsweise Titanpulver bzw. titanhaltiges Pulver. Im Betrieb der erfindungsgemäßen Passivierungsvorrichtung 1 gemäß einem der vorstehend beschriebenen Ausführungsbeispiele wird beispielsweise das erfindungsgemäße Verfahren zum Passivieren (nachfolgend auch als "Passivierungsverfahren" bezeichnet) durchgeführt. Filterrückstand, der aus einer Filtervorrichtung 10 austritt, wird einem Austrittsbereich 3, 3' zugeführt (Schritt A). Dies erfolgt bevorzugt durch Absaugen aus der Filtervorrichtung, beispielsweise mittels eines Ejektors. Ein Fluidstrom wird in den Austrittsbereich 3, 3' zugeführt (Schritt B). Infolgedessen wird der Fluidstrom mit dem Filterrückstand beladen. Das heißt, der Fluidstrom erfasst den Filterrückstand und transportiert ihn in Strömungsrichtung. In anderen Worten reißt der Fluidstrom den Filterrückstand mit sich mit. Der mit dem Filterrückstand beladene Fluidstrom wird aus dem Austrittsbereich 3, 3' abgeführt (Schritt C). Das Zuführen des Filterrückstands in den Austrittsbereich 3, 3' und das Beladen des Fluidstroms mit dem Filterrückstand erfolgt in bevorzugter Weise dadurch, dass der Filterrückstand infolge der Fluidströmung abgesaugt und dadurch im Fluidstrom aufgenommen wird. Das Zuführen des Filterrückstands in den Austrittsbereich 3, 3', das Beladen des Fluidstroms mit dem Filterrückstand und das Abführen aus dem Austrittsbereich 3, 3' erfolgt in bevorzugter Weise durch die Verwendung eines Ejektors. Dabei wird der Fluidstrom zunächst als Treibmedium in den Ejektor eingespeist. Dadurch entsteht eine auf die Filtervorrichtung 10 gerichtete Ansaugwirkung, durch die Filterrückstand angesaugt und in den Ejektor eintritt. Der Bereich des Ejektors, in den der Filterrückstand eintritt, ist daher der Austrittsbereich 3. Der mit dem Filterrückstand beladene Fluidstrom wird in der Folge aus dem Ejektor ausgestoßen. Der Fluidstrom wird im Zuge des Passivierungsverfahrens mit Energie beaufschlagt (Schritt D). Das Beaufschlagen mit Energie kann erfolgen: (a) stromaufwärts des Austrittsbereichs, d.h. vor dem Zuführen des Fluidstroms in den Austrittsbereich 3,3', beispielsweise in der Fluidzuführung 4, 4', (b) am Ort, an dem der Fluidstrom in den Austrittsbereich 3,3' eintritt, d.h. während des Zuführens des Fluidstrom in den Austrittsbereich 3,3', (c) im Austrittsbereich 3,3', d.h. während der Fluidstrom gerade den Austrittsbereich 3,3' passiert, (d) am Ort, an dem der Fluidstrom aus dem Austrittsbereich 3,3' austritt, d.h. während des Abführens des Fluidstrom aus dem Austrittsbereich 3,3', (e) stromabwärts des Austrittsbereichs, d.h. nach dem Abführen des Fluidstroms aus dem Austrittsbereich 3,3', beispielsweise in der Förderleitung 5. Das Beaufschlagen mit Energie kann auch gleichzeitig oder zu verschiedenen Zeitpunkten bzw. an mehreren Stellen erfolgen, d.h. es ist jede Kombination der obengenannten Möglichkeiten (a) bis (e) möglich. In anderen Worten kann der Schritt D an beliebiger Stelle vor, nach und während der Sequenz der Schritte A bis C erfolgen. Das Beaufschlagen mit Energie erfolgt bevorzugt durch Erwärmen. Als Fluidstrom wird entweder in Schritt A ein Fluidstrom aus einem Fluid verwendet, welches ein Passivierungsmittel umfasst. Oder das Passivierungsmittel wird in einem weiteren Schritt (Schritt E) dem Fluid zugesetzt, d.h. der Fluidstrom wird mit dem Passivierungsmittel versetzt. Es ist auch möglich, dass das Fluid von vornherein Passivierungsmittel enthält, ihm jedoch im Zuge des Passivierungsverfahrens weiteres Passivierungsmittel zugesetzt wird. Der Schritt E kann - wenn er durchgeführt wird - erfolgen: (i) stromaufwärts des Austrittsbereichs, d.h. vor dem Zuführen des Fluidstroms in den Austrittsbereich 3,3', beispielsweise durch Einspeisen des Passivierungsmittels in die Fluidzuführung 4, 4', (ii) am Ort, an dem der Fluidstrom in den Austrittsbereich 3,3' eintritt, d.h. während des Zuführens des Fluidstrom in den Austrittsbereich 3,3', (iii) im Austrittsbereich 3,3', beispielsweise durch Einspeisen des Passivierungsmittels in den Austrittsbereich 3,3', (iv) am Ort, an dem der Fluidstrom aus dem Austrittsbereich 3,3' austritt, d.h. während des Abführens des Fluidstrom aus dem Austrittsbereich 3,3', (v) stromabwärts des Austrittsbereichs, d.h. nach dem Abführen des Fluidstroms aus dem Austrittsbereich 3,3', beispielsweise durch Einspeisen des Passivierungsmittels in die Förderleitung 5. Das Versetzen des Fluids mit dem Passivierungsmittel kann auch gleichzeitig oder zu verschiedenen Zeitpunkten bzw. an mehreren Stellen erfolgen, d.h. es ist jede Kombination der obengenannten Möglichkeiten (i) bis (v) möglich. Der Filterrückstand wird durch eine chemische Reaktion mit dem Passivierungsmittel zumindest teilweise im Flugstrom passiviert (Schritt F). Von einer "teilweisen Passivierung" wird dabei gesprochen, wenn nur ein Teil der Partikel des Filterrückstands chemisch mit dem Passivierungsmittel reagiert und/oder wenn nur ein Teil des gegenüber dem Passivierungsmittel grundsätzlich reaktionsfähigen Materials der Partikel, die passiviert werden, chemisch umgesetzt wird. Bevorzugt wird ein Oxidationsmittel, das geeignet ist, den Filterrückstand zumindest teilweise zu oxidieren, als Passivierungsmittel verwendet, mehr bevorzugt umfasst das Passivierungsmittel Sauerstoff, noch mehr bevorzugt ist das Passivierungsmittel Sauerstoff. Insbesondere handelt es sich bei dem den Fluidstrom bildenden Fluid um ein Inertgas, beispielsweise Stickstoff und/oder Argon, das O2 enthält oder mit O2 versetzt wird. Das Versetzen kann beispielsweise durch Zugabe von reinem Sauerstoffgas oder einem sauerstoffgashaltigen Gemisch (z.B. Luft) erfolgen. Bevorzugt ist die Menge an O2, mit der der Fluidstrom versetzt wird, einstellbar und/oder mindestens 0,01 Vol.-%, und/oder höchstens 20,8 Vol.-%. Dabei hat es sich in vielen Fällen aus Gründen der Brand- und Explosionssicherheit als günstig erwiesen, den O2-Gehalt so einzustellen, dass er unterhalb der Sauerstoffgrenzkonzentration liegt, bevorzugt mindestens 1%, mehr bevorzugt mindestens 2%, noch mehr bevorzugt mindestens 3% unterhalb der Sauerstoffgrenzkonzentration. In Fig.10 ist ein Ausführungsbeispiel des Verfahrens grafisch dargestellt. In diesem Ausführungsbeispiel erfolgt ein Versetzen des Fluidstroms (Schritt E), bevor der Fluidstrom in den Austrittsbereich 3, 3' zugeführt wird (Schritt B). In diesem Ausführungsbeispiel erfolgt ein Beaufschlagen mit Energie, nachdem der mit dem Filterrückstand versetzte Fluidstrom den Austrittsbereich 3, 3' verlassen hat. In diesem Ausführungsbeispiel wird die chemische Reaktion zur Passivierung durch die Beaufschlagung mit Energie initiiert. Die Schritte A, B, C sind dabei als nacheinander durchgeführte Schritte eingezeichnet, weil die für einen bestimmte Menge Filterrückstand und den Teil des Fluidstroms, der diesen Filterrückstand transportiert, diese Reihenfolge haben können. Bevorzugt wird das Passivierungsverfahren jedoch kontinuierlich durchgeführt, sodass zumindest über einen gewissen Zeitraum fortwährend Fluid in den Austrittsbereich 3,3' zugeführt sowie aus diesem abgeführt wird und währenddessen Filterrückstand in den Fluidstrom eingespeist wird. Im Zuge der Durchführung des Passivierungsverfahrens konnte zumindest in einigen Fällen folgende Beobachtung gemacht werden: Wenn die Energie mittels der Energiezufuhrvorrichtung ausschließlich oder vorwiegend entweder dem Fluid oder dem Filterrückstand zugeführt wird, kommt es nach der Zufuhr bzw. nach dem Zusammentreffen von Fluid und Filterrückstand zu einer Äquilibrierung der Energie, die insbesondere im Fall kleiner Filterrückstandpartikel sehr rasch, beispielsweise im Bereich von unter einer Sekunde oder im Bereich von höchstens einigen Millisekunden erfolgt. Dies kann beispielsweise der Fall sein, wenn zunächst der Fluidstrom mit Energie beaufschlagt wird, bevor er in den Austrittsbereich gelangt und somit bevor er in Kontakt mit dem Filterrückstand tritt. Die Geschwindigkeit der Äquilibrierung ist unter anderem von der Strömungsgeschwindigkeit des Fluidstroms, von dessen Temperatur und vom Partikeldurchmesser abhängig. Dies wird anhand eines Beispiels illustriert, in dem ein Ejektor, wie er oben für das erste Ausführungsbeispiel beschrieben ist, über die Fluidzuführung in Form einer Förderleitung mit kreisförmigen Querschnitt und 4 mm Innendurchmesser mit Argon bei einem vor dem Ejektor herrschenden Druck von 2 bar (Ejektor-Vordruck), einer Temperatur von 250 °C und einer Durchflussmenge von 3,8 L/s gespeist wird. Im Ejektor gelangen Partikel mit verschiedenen Partikeldurchmesser in den Fluidstrom. Die Temperatur der Partikel Tp kann dabei durch Messung ermittelt oder anhand folgender Gleichungen (1) bis (4) berechnet werden. Dies ist in "ANSYS Fluent Theory Guide", Release 15.0, November 2013 beschrieben. Der Zeitpunkt t = 0 ist dabei der Zeitpunkt, in dem die Partikel mit dem Fluidstrom in Kontakt treten. Die Temperatur T∞ ist dabei die Temperatur des Fluids (K). Ferner symbolisieren die Variablen folgende Größen: mp – Masse eines Partikels (kg) cp – Wärmekapazität eines Partikels (J kg–1 K–1) Ap – Oberfläche des Partikels (m2) h – konvektiver Wärmeübergangskoeffizient (W m–2 K–1) εp – Emissionsgrad (Emissivität) des Partikels (dimensionslos) σ – Stefan-Boltzmann-Konstante (5,67 x 10–8 W m–2 K–4) θR = (G/4σ)1/4 – Strahlungstemperatur (K), wobei G die einfallende Strahlung (W/m2) ist (1) Berechnung
Figure imgf000060_0003
gewählt, sodass sich ergibt: (2)
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Dabei gilt:
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(4) Gleichung 1 basiert auf einer Wärmebilanz am Partikel mit der Annahme, dass die Partikeltemperatur über den Radius konstant ist. Diese Annahme kann man mit der Biot-Zahl (Bi<0,1) prüfen und ist zumindest für kleinere Partikel, die vorliegend relevant sind, in der Regel gegeben. Der erste Term der Summe auf der rechten Seite der Gleichung 1 beschreibt die Partikeltemperaturänderung auf Basis von Konvektion und Wärmeleitung. Der zweite Term beschreibt die Partikeltemperaturänderung auf Basis von Wärmestrahlung. In Fig.11 ist ein Diagramm dargestellt, welches den Verlauf von Tp als Funktion der Zeit t für verschiedene Partikeldurchmesser dp zeigt. Die Zeit, welche die Partikel mit dem Fluid in Kontakt stehen, bis sie die Förderleitung 5 wieder verlassen, kann in manchen Fällen relativ kurz sein. Beispielsweise kann sie bei den obenstehend genannten Bedingungen (Ejektor wird über Förderleitung mit 4 mm Innendurchmesser mit Argon bei 2 bar, 250 °C und 3,8 L/s gespeist) 10 ms oder weniger betragen, wenn die Förderleitung die Länge von 1 m aufweist. Aus dem Diagramm in Fig.11 ist ersichtlich, dass in diesem Fall nur relativ kleine Partikel effektiv während des Förderns in der Förderleitung mit Energie beaufschlagt werden und das Aufbrechen von Partikelaggregaten in kleinere Partikel häufig eine ausreichende Passivierung ermöglicht bzw. eine besonders effektive Passivierung ergibt. Es lässt sich daher das Aufbrechen von Agglomeraten als bevorzugter optionaler weiterer Schritt des Passivierungsverfahrens auffassen. Dazu kann beispielsweise der Fluidstrom so eingestellt und/oder gesteuert wird, dass im Filterrückstand auftretende Partikelagglomerate zumindest teilweise aufgebrochen werden. Dieser Effekt kann sich beispielsweise als zusätzlicher Effekt der Verwendung eines Ejektors oder einer Venturi-Düse zum Ansaugen des Filterrückstands aus der Filtervorrichtung 10 erzielen, da in einem Ejektor bzw. einer Venturi-Düse sowie häufig auch stromabwärts davon eine kräftige Strömung herrscht, welche häufig zum Aufbrechen von Agglomeraten führt. Um das Aufbrechen von Agglomeraten zu fördern, kann der mit dem Filterrückstand beladene Fluidstrom alternativ oder zusätzlich durch eine Querschnittsverengung 511 der Fluidleitung 5 geführt werden. Im Einklang mit den obenstehend im Zusammenhang mit Fig.11 diskutierten Resultaten erfolgt das optionale Aufbrechen insbesondere so, dass die Partikel des Filterrückstands nach dem Aufbrechen entweder in Form von Primärteilchen oder in Form kleinerer Agglomerate vorliegen. Darunter werden insbesondere Agglomerate mit einem Sekundärpartikeldurchmesser entsprechend dem maximal 100-fachen, bevorzugt maximal 50-fachen, mehr bevorzugt maximal 10-fachen, insbesondere bevorzugt maximal 5-fachen Primärpartikeldurchmessers verstanden. Alternativ werden darunter insbesondere Agglomerate mit einem Sekundärpartikeldurchmesser von maximal 200 µm, bevorzugt maximal 100 µm, mehr bevorzugt maximal 40 µm, noch mehr bevorzugt maximal 20 µm verstanden. Im beschriebenen Beispiel kann beispielsweise ein Zerkleinern auf einen Sekundärpartikeldurchmesser von 100 µm oder weniger für eine möglichst effektive Erwärmung als vorteilhaft erachtet werden. Im Fall anderer Materialien oder Fluidstrom-Bedingungen kann der Wert auch höher liegen, beispielsweise bei 200 µm. Mit den obenstehenden Gleichungen (1) bis (4) kann beispielsweise abgeschätzt werden, ob Partikel verschiedenen Durchmessers schnell genug aufgeheizt werden. Zudem kann beispielsweise bei bekannter Partikelgröße die nötige Länge der Förderleitung abschätzt werden. Um beispielsweise Partikel mit einem Durchmesser von 100 µm von Raumtemperatur auf zumindest annähernd 250 °C aufzuheizen bedarf es nach dieser Abschätzung einer Zeit von etwa 250 ms. Wenn den Partikeln anschließend bei der erreichten Temperatur 100 ms Zeit für die chemische Reaktion gegeben werden sollen, ergibt sich eine gewünschte Verweilzeit von 350 ms in der Förderleitung. Falls die mittlere Strömungsgeschwindigkeit 10 m/s beträgt, kann eine Länge der Förderleitung von 3,5 m abgeschätzt werden. Im Betrieb des erfindungsgemäßen Filtersystems 100 gemäß einem der vorstehend beschriebenen Ausführungsbeispiele wird beispielsweise das erfindungsgemäße Verfahren zum Filtern eines Prozessgases (nachfolgend auch als "Filterverfahren" bezeichnet) durchgeführt. Mindestens ein Filterelement kann optional mit einem Filterhilfsstoff beschichtet werden (optionaler Schritt I). Ein Prozessgas wird durch mindestens ein in einer Filterkammer 11 der Filtervorrichtung 10 angeordnetes Filterelement 20 geleitet, wobei das Prozessgas gefiltert, d.h. von mitgeführten Feststoffen zumindest teilweise gereinigt wird (Schritt II). Dazu wird das Prozessgas über einen Prozessgaseinlass in die Filterkammer 11 eingelassen und über einen Prozessgasauslass die Filterkammer wieder ausgelassen, wobei es seinen Weg über das mindestens eine Filterelement 20 nimmt, bzw. bei mehreren Filterelementen über mindestens eines davon. Bei dem Prozessgas kann es insbesondere um das Prozessgas einer Vorrichtung zur additiven Herstellung dreidimensionaler Objekte wie etwa einer Anlage zum selektiven Lasersintern/-schmelzen handeln. Die herausgefilterten Feststoffe bleiben zumindest vorerst am mindestens einen Filterelement 20 zurück. Die zurückgehaltenen Feststoffe werden allgemein auch als "Filterrückstand" bezeichnet. Das Filterelement wird abgereinigt, bzw. wird im Fall mehrerer Filterelemente zumindest ein Teil davon abgereinigt (Schritt III). Der Filterrückstand löst sich entweder von selbst vom mindestens einen Filterelement 20 ab und das mindestens eine Filterelement wird dadurch abgereinigt. Oder der Filterrückstand wird durch eine geeignete Maßnahme abgelöst und das mindestens eine Filterelement wird auf diese Weise abgereinigt. Zum Ablösen kann beispielsweise von Zeit zu Zeit ein Druckgasstoß durch das mindestens eine Filterelement 20 geleitet werden, dessen Strömungsrichtung der Richtung entgegengesetzt ist, in der das Prozessgas zum Filtern durch das mindestens eine Filterelement strömt. Die Ablösung kann auch durch Abblasen, Abkehren, Abkratzen, Abschütteln etc. erfolgen. Auch eine Kombination mehrerer Techniken zum Ablösen ist möglich. Das Filtern des Prozessgases wird optional während des Ablösens des Filterrückstands unterbrochen. Alternativ kann das Filtern des Prozessgases fortgesetzt werden, wenn dies die verwendete Technik zum Ablösen zulässt. Eine weitere Möglichkeit besteht darin, dass mehrere Filterelemente 20 vorgesehen sind und das Filtern des Prozessgases mit einem Teil der Filterelemente 20 fortgesetzt wird, während ein anderer Teil abgereinigt wird. Zudem ist es möglich, dass mehrere Filterkammern 11 bzw. mehrere Filtervorrichtungen 10 vorgesehen sind, sodass das Filtern mit einem Teil der Filterkammern bzw. der Filtervorrichtungen fortgesetzt werden kann, während in einem anderen Teil der Filterkammern 11 bzw. der Filtervorrichtungen 10 eine Abreinigung stattfindet. Der Filterrückstand, welcher sich vom mindestens einen Filterelement abgelöst hat oder welcher von diesem abgelöst wurde, wird optional gesammelt (Schritt IV). Dies kann beispielsweise mittels einer Sammelkammer erfolgen, in die der Filterrückstand eingebracht wird und in der er verweilt, bis er dem Passivierungsverfahren unterzogen wird. Der Filterrückstand wird dem erfindungsgemäßen Passivierungsverfahren unterzogen (Schritt V). In Fig.12 ist ein Ausführungsbeispiel des Filterverfahrens grafisch dargestellt, wobei der Schritt D der Durchführung des Passivierungsverfahrens wie in Fig.10 dargestellt entspricht.

Claims

PATENTANSPRÜCHE 1. Passivierungsvorrichtung (1) zur Passivierung eines in einer Filtervorrichtung (10) auftretenden Filterrückstands, umfassend - einen an die Filtervorrichtung (1) direkt oder indirekt ankoppelbaren oder angekoppelten Austrittsbereich (3, 3'), der ausgebildet ist, Filterrückstand aus der Filtervorrichtung (10) aufzunehmen, - eine Fluidzuführung (4, 4') zum Zuführen eines Fluidstroms aus einem Fluid, welches ein Passivierungsmittel umfassen kann, in den Austrittsbereich (3, 3'), - eine Fluidabführung (5) zum Abführen des Fluidstroms und des Filterrückstands aus dem Austrittsbereich (3, 3') und - eine Energiezufuhrvorrichtung (70, 70', 70'') zum Beaufschlagen des Fluidstroms und/oder des Filterrückstands mit Energie, - optional eine Passivierungsmittelzuführung (6) zum Versetzen des Fluidstroms mit einem Passivierungsmittel, wobei die Passivierungsvorrichtung (1) ausgebildet und/oder steuerbar ist, eine chemische Reaktion zwischen dem Filterrückstand und dem Passivierungsmittel zumindest teilweise im Flugstrom zu bewirken. 2. Passivierungsvorrichtung (1) gemäß Anspruch 1, wobei die Fluidabführung (5) als Förderleitung ausgebildet ist, wobei die Förderleitung zumindest in einem Bereich und insbesondere entlang der gesamten Länge einen Innendurchmesser von mindestens 2 mm, bevorzugt mindestens 10 mm, mehr bevorzugt mindestens 20 mm und/oder höchstens 60 mm, bevorzugt höchstens 50 mm, mehr bevorzugt höchstens 40 mm aufweist, und wobei jeweils im Fall eines nicht kreisförmigen Querschnitts der Förderleitung der Durchmesser eines flächengleichen kreisförmigen Querschnitts als Innendurchmesser gilt, und/oder wobei die Fluidabführung (5) als Förderleitung ausgebildet ist, wobei das Verhältnis zwischen der Länge der Förderleitung und dem über die Länge der Förderleitung gemittelten Innendurchmesser der Förderleitung mindestens 30:1, bevorzugt mindestens 50:1, mehr bevorzugt mindestens 70:1, besonders bevorzugt mindestens 100:1 beträgt, und wobei im Fall eines nicht kreisförmigen Querschnitts der Förderleitung der Durchmesser eines flächengleichen kreisförmigen Querschnitts als Innendurchmesser gilt, und/oder wobei die Fluidabführung (5) als Förderleitung ausgebildet ist, und wobei die Passivierungsvorrichtung so ausgebildet und/oder steuerbar ist, dass eine Verweilzeit des Filterrückstands in der Förderleitung von mindestens 0,1 s, bevorzugt mindestens 0,15 s, mehr bevorzugt mindestens 0,
2 s und/oder höchstens 0,5 s, bevorzugt höchstens 0,4 s, mehr bevorzugt höchstens 0,3 s beträgt. 3. Passivierungsvorrichtung (1) gemäß einem der Ansprüche 1 bis 2, wobei die Energiezufuhrvorrichtung (70, 70', 70'') eine Heizvorrichtung, insbesondere eine Heizvorrichtung, die ausgebildet ist, den Fluidstrom zu erwärmen, während er die Heizvorrichtung durchströmt, umfasst, und/oder wobei die Energiezufuhrvorrichtung (70, 70', 70'') so angeordnet ist, dass der Fluidstrom auf eine vordefinierte Mindestzieltemperatur geheizt wird, bevor er in den Austrittsbereich (3, 3') eintritt, und/oder wobei die Energiezufuhrvorrichtung (70, 70', 70'') ausgebildet und angeordnet ist, mindestens einem aus der Gruppe bestehend aus Fluidzuführung (4, 4'), Austrittsbereich (3,
3') und Fluidabführung (5) ausgewählten Element Energie zuzuführen, um den Fluidstrom mit Energie zu beaufschlagen.
4. Passivierungsvorrichtung (1) gemäß einem der Ansprüche 1 bis 3, wobei die Fluidzuführung (4) eine Düse (41) umfasst, die so ausgebildet und/oder angeordnet ist, dass der durch die Düse (41) geleitete Fluidstrom derart beschleunigt wird, dass ein Ansaugdruck zum Fördern des Filterrückstands aus der Filtervorrichtung (10) und eines optional in der Filtervorrichtung (10) befindlichen Fluids in den Austrittsbereich (3) erzeugt werden, und wobei der Filterrückstand mit dem Fluidstrom durch die Fluidabführung (5) aus dem Austrittsbereich (3) gefördert wird, wobei bevorzugt die Düse (41) als Ejektordüse oder Venturidüse ausgebildet ist und/oder wobei bevorzugt die Düse (41) ausgebildet ist, eine Geschwindigkeit und/oder einen Durchmesser des durch die Düse (41) hindurchtretenden Fluidstroms einzustellen.
5. Passivierungsvorrichtung (1) gemäß einem der Ansprüche 1 bis 4, wobei die Förderleitung (5) ein Sperrventil umfasst, und/oder wobei die Förderleitung (5) als eine starre Leitung ausgeführt ist, bevorzugt als ein Metallrohr, mehr bevorzugt ein Metallrohr mit einer Wandstärke von mindestens 0,5 mm, bevorzugt mindestens 1 mm, mehr bevorzugt mindestens 2 mm, besonders bevorzugt mindestens 5 mm, und/oder wobei die Leitung thermisch isoliert ist.
6. Passivierungsvorrichtung (1) gemäß Anspruch 5, wobei die Passivierungsvorrichtung (1) einen Auffang (80) zum Sammeln von passiviertem Filterrückstand aufweist und der Auffang (80) über die sperrventilfreie Förderleitung (5) oder die Förderleitung (5) bei geöffnetem Sperrventil mit dem Austrittsbereich (3, 3') in Fluidverbindung steht.
7. Passivierungsvorrichtung (1) gemäß einem der Ansprüche 1 bis 6, weiter umfassend eine Passivierungsmittelzuführung (6) zu Zuführen des Passivierungsmittels, wobei die Passivierungsmittelzuführung (6) ausgebildet und angeordnet ist, mindestens einem aus der Gruppe bestehend aus Fluidzuführung (4, 4'), Austrittsbereich (3, 3') und Fluidabführung (5) ausgewählten Element Passivierungsmittel zuzuführen, und/oder wobei das Passivierungsmittel ein Oxidationsmittel ist, das geeignet ist, den Filterrückstand zumindest teilweise zu oxidieren, wobei das Oxidationsmittel bevorzugt Sauerstoff umfasst, mehr bevorzugt Sauerstoff ist, wobei besonders bevorzugt das Passivierungsmittel in Form eines Gemischs aus Sauerstoff und einem Inertgas, insbesondere Argon, zugeführt wird.
8. Passivierungsvorrichtung (1) gemäß einem der Ansprüche 1 bis 7, ferner umfassend ein Fluidreservoir (90) enthaltend ein Fluid, insbesondere einen Druckgasspeicher enthaltend ein unter Überdruck stehendes Gas, wobei die Fluidzuführung (4, 4') eine Fluidverbindung (91) zwischen dem Fluidreservoir (90) und dem Austrittsbereich (3, 3') bereitstellt, und wobei das im Fluidreservoir (90) enthaltene Fluid das Passivierungsmittel zumindest teilweise umfasst und/oder wobei das Passivierungsmittel zumindest teilweise durch eine Passivierungsmittelzuführung (6) aus einem Passivierungsmittelreservoir und/oder in Form von Luft aus der Atmosphäre in die Fluidzuführung (4, 4') und/oder die Fluidabführung (5) und/oder den Austrittsbereich (3, 3') eingespeist wird.
9. Passivierungsvorrichtung (1) gemäß Anspruch 8, wobei die Fluidzuführung (4, 4') und das Fluidreservoir (90) sowie optional das Passivierungsmittelreservoir ausgebildet sind bzw. eingestellt oder steuerbar sind, sodass im Austrittsbereich (3, 3') oder einem Bereich der Fluidabführung (5) als Fluidstrom ein Gasstrom aus einem Gemisch aus Inertgas, insbesondere Argon, und O2 mit einem einstellbaren O2-Gehalt und/oder mit einem O2-Gehalt in einem Bereich von mindestens 0,01 Vol.-%, bevorzugt mindestens 0,1 Vol.-%, mehr bevorzugt mindestens 1 Vol.-% und/oder höchstens 20,8 Vol.-%, bevorzugt höchstens 10 Vol.- %, mehr bevorzugt höchstens 5 Vol.-% und/oder mit einem O2-Gehalt unterhalb der Sauerstoffgrenzkonzentration, bevorzugt mindestens 1%, mehr bevorzugt mindestens 2%, noch mehr bevorzugt mindestens 3% unterhalb der Sauerstoffgrenzkonzentration vorliegt.
10. Passivierungsvorrichtung (1) gemäß einem der Ansprüche 1 bis 9, wobei die Fluidzuführung (4, 4') so mit der Filterkammer (10) verbunden ist, dass zumindest ein Teil des gefilterten Prozessgases in den Austrittsbereich (3, 3') gefördert wird, wobei bevorzugt die Fluidzuführung (4, 4') eine Strömungsmaschine, insbesondere ein Gebläse umfasst.
11. Filtersystem (100), umfassend - mindestens eine Filtervorrichtung (10), jeweils umfassend eine Filterkammer (11), mindestens ein in der Filterkammer (11) angeordnetes Filterelement (20) und optional eine an die Filterkammer (11) gekoppelte Sammelkammer (15), welche vorzugsweise von der Filterkammer (11) durch eine Absperrvorrichtung fluiddicht abtrennbar ist, und - eine an die mindestens eine Filtervorrichtung (10) direkt oder indirekt angekoppelte oder eine mit der mindestens einen Filtervorrichtung (10) durch eine Transportvorrichtung (200) zum Transportieren des Filterrückstands verbundene Passivierungsvorrichtung (1) gemäß einem der Ansprüche 1 bis 10.
12. Filtersystem (100) gemäß Anspruch 11, wobei die Filterkammer (11) einen Sammelbereich (13) aufweist, wobei der Sammelbereich (13) in Betriebsstellung unterhalb des mindestens einen Filterelements (20) angeordnet ist, wobei bevorzugt der Sammelbereich (13) eine sich nach unten hin verjüngende Wandung aufweist und in einem mit der Passivierungsvorrichtung (1) bzw. der Sammelkammer (15) verbundenen Filterkammerausgang mündet, und/oder wobei bevorzugt zumindest in einem Teilbereich des Sammelbereichs (13), insbesondere in einem Teilbereich mit einer relativ zu anderen Teilbereichen geringeren Neigung zur Vertikalen, eine Fördervorrichtung zum Fördern von Filterrückstand vorgesehen ist, wobei mehr bevorzugt die Fördervorrichtung eine Feststofffluidisierungsvorrichtung, insbesondere eine Fluidisierplatte, und/oder eine oder mehrere Gasdüsen zum Einbringen von Gasstößen umfasst.
13. Filtersystem (100) gemäß einem der Ansprüche 11 bis 12, wobei die Filterkammer (11), insbesondere der Sammelbereich (13), so ausgebildet ist, dass die Passivierungsvorrichtung (1) und eine von der Filtervorrichtung (10) optional umfasste Sammelkammer (15) in Betriebsstellung zumindest teilweise unterhalb der Filterkammer (11) anordenbar sind, wobei vorzugsweise ein von der Passivierungsvorrichtung (1) optional umfasster Auffang (80) zumindest teilweise unterhalb der Filterkammer (11) anordenbar ist.
14. Filtersystem (100) gemäß einem der Ansprüche 11 bis 13, ferner umfassend eine Aufbringvorrichtung zum Aufbringen eines Filterhilfsstoffs, insbesondere eines pulverförmigen Filterhilfsstoffs, auf das mindestens eine Filterelement (20) und/oder ferner umfassend einen Füllstandsensor zum Messen einer Menge an vom mindestens einen Filterelement (20) abgelöstem Filterrückstand in der Filterkammer (11), insbesondere im Sammelbereich (13) und/oder in der optionalen Sammelkammer (15).
15. Filtersystem (100) gemäß einem der Ansprüche 11 bis 14, wobei das Filtersystem (100) genau eine Filtervorrichtung umfasst, wobei die Passivierungsvorrichtung (1) bevorzugt direkt oder indirekt an die Filterkammer (11) oder an die optionale Sammelkammer (15) gekoppelt ist.
16. Filtersystem (100) gemäß einem der Ansprüche 11 bis 14, umfassend mindestens zwei Filtervorrichtungen (10-1, 10-2) und eine Transportvorrichtung (200) zum Transportieren des Filterrückstands aus den mindestens zwei Filtervorrichtungen (10-1, 10-2) zur Passivierungsvorrichtung (1), wobei bevorzugt die Transportvorrichtung (200) eine Saugvorrichtung, insbesondere eine Ejektor-Saugvorrichtung, ist.
17. Filtersystem (100) gemäß einem der Ansprüche 11 bis 14, umfassend mindestens zwei Filtervorrichtungen (10-1, 10-2), wobei die Passivierungsvorrichtung (1) an eine der Filtervorrichtungen (10-1, 10-2) direkt oder indirekt angekoppelt ist, und eine Transportvorrichtung (200) zum Transportieren des Filterrückstands aus mindestens einer weiteren der Filtervorrichtungen (10-2 bzw.10-1) zur Passivierungsvorrichtung (1), wobei bevorzugt die Transportvorrichtung (200) eine Saugvorrichtung, insbesondere eine Ejektor-Saugvorrichtung, ist.
18. Filtersystem (100) gemäß einem der Ansprüche 11 bis 14, umfassend mindestens zwei Filtervorrichtungen (10-1, 10-2) und eine Transportvorrichtung (200) zum Transportieren des Filterrückstands aus mindestens einer der Filtervorrichtungen (10-1, 10-2) in die Sammelkammer mindestens einer weiteren Filtervorrichtung (10-2 bzw.10-1), wobei bevorzugt die Transportvorrichtung (200) eine Saugvorrichtung, insbesondere eine Ejektor-Saugvorrichtung, ist.
19. Vorrichtung (101) zur additiven Herstellung von dreidimensionalen Objekten (102) umfassend - eine Prozesskammer (103), in der die additive Herstellung erfolgt, - eine Prozessgasfördervorrichtung (136) zum Fördern eines die Prozesskammer (103) von einem Prozesskammereingang (132) zu einem Prozesskammerausgang (134) durchströmenden Prozessgases, wobei die Prozessgasfördervorrichtung (136) ausgebildet ist, das Fördern zwischen dem Prozesskammereingang (132) und dem Prozesskammerausgang (134) bevorzugt zumindest teilweise im Kreislauf zu bewirken, - ein Filtersystem (100) gemäß einem der Ansprüche 10 bis 18, wobei die mindestens eine Filterkammer (10) jeweils so angeordnet ist, dass das aus der Prozesskammer (103) austretende Prozessgas durch das mindestens eine Filterelement (20) gefiltert wird.
20. System zur additiven Herstellung von dreidimensionalen Objekten umfassend - mindestens zwei Vorrichtungen zur additiven Herstellung von dreidimensionalen Objekten, wobei die Vorrichtungen jeweils eine Prozesskammer, in der die additive Herstellung erfolgt, und eine Prozessgasfördervorrichtung zum Fördern eines die Prozesskammer von einem Prozesskammereingang zu einem Prozesskammerausgang durchströmenden Prozessgases umfassen, wobei die Prozessgasfördervorrichtung jeweils ausgebildet ist, das Fördern zwischen dem Prozesskammereingang und dem Prozesskammerausgang bevorzugt zumindest teilweise im Kreislauf zu bewirken, - ein Filtersystem gemäß einem der Ansprüche 16 bis 18, wobei bevorzugt jeder Vorrichtung zur additiven Herstellung eine der mindestens zwei Filtervorrichtungen zugeordnet oder zuordenbar ist.
21. Verfahren zum Passivieren eines in mindestens einer Filtervorrichtung (10) auftretenden Filterrückstands, umfassend die Schritte - Zuführen von aus der mindestens einen Filtervorrichtung (10) austretendem Filterrückstand in einen Austrittsbereich (3, 3'), insbesondere durch Absaugen, - Zuführen eines Fluidstroms in den Austrittsbereich (3, 3'), - Abführen des mit dem Filterrückstand beladenen Fluidstroms aus dem Austrittsbereich (3, 3'), - Beaufschlagen des Fluidstroms mit Energie, insbesondere Erwärmen des Fluidstroms, wobei das Beaufschlagen des Fluidstroms mit Energie vor dem Zuführen und/oder während des Zuführens des Fluidstroms in den Austrittsbereich und/oder im Austrittsbereich und/oder während des Abführens und/oder nach dem Abführen des Fluidstroms aus dem Austrittsbereich erfolgt, wobei als Fluidstrom ein Fluidstrom aus einem Fluid, das ein Passivierungsmittel umfasst, eingesetzt wird und/oder der Fluidstrom mit einem Passivierungsmittel versetzt wird, wobei der Filterrückstand durch eine chemische Reaktion mit dem Passivierungsmittel zumindest teilweise im Flugstrom passiviert wird.
22. Verfahren gemäß Anspruch 21, wobei der mit dem Filterrückstand beladene Fluidstrom die untere Explosionsgrenze unterschreitet, wobei bevorzugt höchstens die 0,9-fache, mehr bevorzugt höchstens die 0,8-fache untere Explosionsgrenze erreicht wird, oder der mit dem Filterrückstand beladene Fluidstrom die obere Explosionsgrenze überschreitet, wobei bevorzugt mindestens die 1,1-fache, mehr bevorzugt mindestens die 1,2-fache obere Explosionsgrenze erreicht wird.
23. Verfahren gemäß einem der Ansprüche 21 bis 22, wobei der Fluidstrom so in den Austrittsbereich (3) zugeführt wird, dass im Austrittsbereich (3) ein Ansaugdruck erzeugt wird, vorzugsweise durch eine Düse (41), wobei durch den Ansaugdruck der Filterrückstand und ein optional in der mindestens einen Filtervorrichtung befindliches Fluid in den Austrittsbereich (3) aus der mindestens einen Filtervorrichtung gesaugt werden, und wobei der Filterrückstand mit dem Fluidstrom durch eine Fluidabführung (5) aus dem Austrittsbereich (3) gefördert wird, wobei bevorzugt eine Geschwindigkeit und/oder ein Durchmesser des durch die Düse (41) hindurchtretenden Fluidstroms eingestellt werden.
24. Verfahren gemäß einem der Ansprüche 21 bis 23, wobei der Fluidstrom so eingestellt und/oder gesteuert wird, dass im Filterrückstand auftretende Partikelagglomerate aufgebrochen werden, insbesondere so, dass der Filterrückstand nach dem Aufbrechen in Form von Partikeln mit einem Sekundärpartikeldurchmesser vorliegt, der einem maximal 100-fachen, bevorzugt maximal 50-fachen, mehr bevorzugt maximal 10-fachen, insbesondere bevorzugt maximal 5-fachen Primärpartikeldurchmesser und/oder einem Sekundärpartikeldurchmesser von maximal 200 µm, bevorzugt maximal 100 µm entspricht, wobei bevorzugt das Aufbrechen durch eine Einwirkung des Fluidstroms, insbesondere das Aufeinandertreffen der Partikelagglomerate und des Fluidstroms erfolgt, und/oder wobei bevorzugt das Aufbrechen der Partikelagglomerate unmittelbar stromabwärts der Düse (41) erfolgt und/oder wobei bevorzugt das Aufbrechen der Partikelagglomerate in einer Querschnittsverengung (511) einer Förderleitung (5) erfolgt.
25. Verfahren gemäß einem der Ansprüche 21 bis 24, wobei das Fluid durch die Fluidabführung (5) aus dem Austrittsbereich (3, 3') in einen Auffang (80) abgeführt wird und/oder wobei die chemische Reaktion im Austrittsbereich (3, 3') und/oder während des Abführens erfolgt.
26. Verfahren zum Filtern eines Prozessgases, insbesondere eines Prozessgases einer Vorrichtung (101) zur additiven Herstellung dreidimensionaler Objekte, umfassend die Schritte - optional Beschichten mindestens eines Filterelements (20) mit einem Filterhilfsstoff, insbesondere mit einem pulverförmigen Filterhilfsstoff, - Hindurchleiten des Prozessgases durch das mindestens eine Filterelement (20) zum Herausfiltern von Partikeln aus dem Prozessgas, - Abreinigen des Filterelements (20) oder Abreinigen zumindest eines Teils von zwei oder mehr als zwei Filterelementen (20) von dem aus herausgefilterten Partikeln und dem optionalen Filterhilfsstoff gebildeten Filterrückstand, - optional Sammeln des Filterrückstands und - Passivieren des Filterrückstands nach einem Verfahren gemäß einem der Ansprüche 21 bis 25.
27. Verfahren gemäß Anspruch 26, wobei mindestens zwei Filterelemente (20), die bevorzugt in unterschiedlichen Filterkammern angeordnet sind, verwendet werden, wobei die Abreinigung der einzelnen der mindestens zwei Filterelemente (20) zu unterschiedlichen Zeitpunkten erfolgt, wobei zwischen zwei aufeinanderfolgenden Abreinigungen eine Wartezeit eingehalten wird und wobei während der Wartezeit der Schritt des Passivierens zumindest teilweise durchgeführt wird, wobei vorzugsweise die einzelnen Filterelemente (20) in einer vorbestimmten Reihenfolge nacheinander abgereinigt werden.
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