WO2021206386A1 - Antenna insertion electrode structure and image display device comprising same - Google Patents

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Abstract

Embodiments of the present invention provide an antenna insertion electrode structure and an image display device comprising same. An antenna insertion electrode structure comprises: a base layer; first sensing electrodes and second sensing electrodes disposed on different layers with the base layer interposed therebetween; and an antenna pattern including a radiation electrode disposed on the same layer as the second sensing electrodes and disposed between the second sensing electrodes that are neighboring each other.

Description

안테나 삽입 전극 구조체 및 이를 포함하는 화상 표시 장치Antenna insertion electrode structure and image display device including same
본 발명은 안테나 삽입 전극 구조체 및 이를 포함하는 화상 표시 장치에 관한 것이다. 보다 상세하게는, 안테나 패턴 및 센싱 전극을 포함하는 안테나 삽입 전극 구조체 및 이를 포함하는 화상 표시 장치에 관한 것이다.The present invention relates to an antenna insertion electrode structure and an image display device including the same. More particularly, it relates to an antenna insertion electrode structure including an antenna pattern and a sensing electrode, and an image display device including the same.
최근, 화상 표시 장치와 함께 터치 센서가 결합되어 화상 표시 장치 에 나타난 지시 내용을 사람의 손 또는 물체로 선택하여 사용자의 명령을 입력가능한 전자 기기들이 예를 들면, 스마트 폰, 태블릿 PC 형태 등과 같은 다양한 형태로 개발되고 있다.Recently, as a touch sensor is combined with an image display device, electronic devices capable of inputting a user's command by selecting the instruction displayed on the image display device with a human hand or an object have been developed in various ways, such as, for example, in the form of a smart phone or a tablet PC. form is being developed.
또한, 상기 화상 표시 장치가 스마트 폰과 같은 통신 기기와 결합되고 있다. 예를 들면, 3G 내지 5G 범위 또는 그 이상의 고주파 혹은 초고주파 통신 구현을 위한 안테나가 상기 화상 표시 장치에 실장될 수 있다.In addition, the image display device is combined with a communication device such as a smart phone. For example, an antenna for realizing high-frequency or ultra-high frequency communication in the range of 3G to 5G or higher may be mounted on the image display device.
상술한 바와 같이, 터치 센서 및 안테나가 하나의 화상 표시 장치 내에 실장되는 경우, 터치 센싱 전극들과 안테나의 방사 패턴이 함께 분포할 수 있다. 이에 따라, 안테나의 방사 패턴에 의해 터치 센싱 감도가 저하될 수 있다. 또한, 터치 센싱 전극들에 의해 안테나의 방사 특성이 교란될 수도 있다.As described above, when the touch sensor and the antenna are mounted in one image display device, the radiation patterns of the touch sensing electrodes and the antenna may be distributed together. Accordingly, the touch sensing sensitivity may be reduced due to the radiation pattern of the antenna. In addition, radiation characteristics of the antenna may be disturbed by the touch sensing electrodes.
따라서, 터치 센싱 및 안테나 방사 특성의 상호 독립성을 유지하면서 전극들을 효율적으로 배치하기 위한 설계가 필요하다. Therefore, there is a need for a design for efficiently disposing electrodes while maintaining mutual independence of touch sensing and antenna radiation characteristics.
예를 들면, 한국공개특허 제2014-0092366호에서와 같이 최근 다양한 화상 표시 장치에 터치 센서가 결합된 터치 스크린 패널이 개발되고 있다. 한국공개특허 제2013-0095451호는 디스플레이 패널에 일체화된 안테나를 개시하고 있다. 그러나, 안테나 및 터치 센서를 함께 효율적으로 배치시킨 화상 표시 장치를 개시하고 있지 않다.For example, as in Korean Patent Application Laid-Open No. 2014-0092366, a touch screen panel in which a touch sensor is coupled to various image display devices has recently been developed. Korean Patent Application Laid-Open No. 2013-0095451 discloses an antenna integrated into a display panel. However, an image display device in which an antenna and a touch sensor are efficiently disposed together is not disclosed.
본 발명의 일 과제는 향상된 방사 특성 및 센싱 신뢰성을 갖는 안테나 삽입 전극 구조체를 제공하는 것이다.One object of the present invention is to provide an antenna insertion electrode structure having improved radiation characteristics and sensing reliability.
본 발명의 일 과제는 향상된 방사 특성 및 센싱 신뢰성을 갖는 안테나 삽입 전극 구조체를 포함하는 화상 표시 장치를 제공하는 것이다.An object of the present invention is to provide an image display device including an antenna insertion electrode structure having improved radiation characteristics and sensing reliability.
1. 기재층; 상기 기재층을 사이에 두고 서로 다른 층에 배치되는 제1 센싱 전극들 및 제2 센싱 전극들; 및 상기 제2 센싱 전극들과 동일 층에 배치되며, 이웃하는 상기 제2 센싱 전극들 사이에 배치되는 방사 패턴을 포함하는 안테나 패턴을 포함하는, 안테나 삽입 전극 구조체.1. base layer; first sensing electrodes and second sensing electrodes disposed on different layers with the base layer interposed therebetween; and an antenna pattern disposed on the same layer as the second sensing electrodes and including a radiation pattern disposed between the neighboring second sensing electrodes.
2. 위 1에 있어서, 상기 제1 센싱 전극들은 상기 기재층의 상면에 평행한 제1 방향으로 연장하며, 상기 제2 센싱 전극들은 상기 기재층의 상면에 평행하고 상기 제1 방향과 수직한 제2 방향으로 연장하는, 안테나 삽입 전극 구조체.2. The method of 1 above, wherein the first sensing electrodes extend in a first direction parallel to the upper surface of the base layer, and the second sensing electrodes are parallel to the upper surface of the base layer and perpendicular to the first direction. An antenna insertion electrode structure extending in two directions.
3. 위 2에 있어서, 상기 방사 전극의 중심 라인은 상기 제1 방향을 따라 상기 제2 센싱 전극들 중 어느 하나의 제2 센싱 전극과 겹쳐지는, 안테나 삽입 전극 구조체.3. The antenna insertion electrode structure according to the above 2, wherein the center line of the radiation electrode overlaps with any one of the second sensing electrodes of the second sensing electrodes along the first direction.
4. 위 3에 있어서, 상기 제2 센싱 전극들 중 상기 방사 패턴의 상기 중심 라인과 상기 제2 방향으로 겹쳐지는 상기 제2 센싱 전극은 이웃하는 제2 센싱 전극들보다 짧은 길이를 갖는, 안테나 삽입 전극 구조체.4. The antenna insertion of the above 3, wherein the second sensing electrode overlapping the center line of the radiation pattern and the second direction among the second sensing electrodes has a shorter length than neighboring second sensing electrodes electrode structure.
5. 위 1에 있어서, 상기 기재층 상에서 상기 제2 센싱 전극들 및 상기 방사 패턴 주변에 배열된 더미 패턴들을 더 포함하는, 안테나 삽입 전극 구조체.5. The antenna insertion electrode structure of the above 1, further comprising dummy patterns arranged around the second sensing electrodes and the radiation pattern on the base layer.
6. 위 5에 있어서, 상기 더미 패턴들은 상기 방사 패턴 주변에 배치되는 안테나 더미 패턴을 포함하며, 상기 안테나 더미 패턴은 상기 제2 센싱 전극들 주변의 더미 패턴과 다른 형상을 갖는, 안테나 삽입 전극 구조체.6. The antenna insertion electrode structure according to the above 5, wherein the dummy patterns include an antenna dummy pattern disposed around the radiation pattern, and the antenna dummy pattern has a different shape from the dummy pattern around the second sensing electrodes. .
7. 위 1에 있어서, 상기 제1 센싱 전극들 중 두께 방향으로 상기 방사 패턴과 중첩되는 제1 센싱 전극은 상기 방사 패턴이 투영되는 위치에 형성된 개구부를 포함하는, 안테나 삽입 전극 구조체.7. The antenna insertion electrode structure according to the above 1, wherein the first sensing electrode overlapping the radiation pattern in the thickness direction among the first sensing electrodes includes an opening formed at a position where the radiation pattern is projected.
8. 위 1에 있어서, 상기 제1 센싱 전극들은 평면 방향에서 상기 제2 센싱 전극들과 중첩되는 위치에 형성된 슬릿들을 포함하는, 안테나 삽입 전극 구조체.8. The antenna insertion electrode structure of the above 1, wherein the first sensing electrodes include slits formed at positions overlapping the second sensing electrodes in a planar direction.
9. 위 1에 있어서, 상기 제1 센싱 전극들의 선폭은 상기 제2 센싱 전극들의 선폭보다 큰, 안테나 삽입 전극 구조체.9. The antenna insertion electrode structure of the above 1, wherein the line widths of the first sensing electrodes are greater than the line widths of the second sensing electrodes.
10. 위 1에 있어서, 상기 제1 센싱 전극들과 연결되는 제1 트레이스 및 상기 제2 센싱 전극들과 연결되는 제2 트레이스를 더 포함하는, 안테나 삽입 전극 구조체.10. The antenna insertion electrode structure according to the above 1, further comprising a first trace connected to the first sensing electrodes and a second trace connected to the second sensing electrodes.
11. 위 10에 있어서, 상기 제1 센싱 전극들 및 상기 제2 센싱 전극들은 투명 도전성 산화물을 포함하는, 안테나 삽입 전극 구조체.11. The antenna insertion electrode structure according to the above 10, wherein the first sensing electrodes and the second sensing electrodes include a transparent conductive oxide.
12. 위 11에 있어서, 상기 제2 트레이스는 상기 기재층으로부터 순차적으로 적층된 투명 도전성 산화물 패턴 및 금속 패턴을 포함하는, 안테나 삽입 전극 구조체.12. The antenna insertion electrode structure of the above 11, wherein the second trace includes a transparent conductive oxide pattern and a metal pattern sequentially stacked from the base layer.
13. 위 12에 있어서, 상기 안테나 패턴은 상기 제2 트레이스의 상기 금속 패턴과 동일한 금속 또는 합금을 포함하는, 안테나 삽입 전극 구조체.13. The antenna insertion electrode structure according to the above 12, wherein the antenna pattern includes the same metal or alloy as the metal pattern of the second trace.
14. 위 10에 있어서, 상기 안테나 패턴은 상기 방사 패턴의 일단과 연결된 전송 선로 및 상기 전송 선로의 말단과 연결된 신호 패드를 더 포함하고, 상기 신호 패드는 상기 기재층의 주변 영역에서 상기 제2 트레이스와 겹치지 않도록 배치되는, 안테나 삽입 전극 구조체.14. The method of 10 above, wherein the antenna pattern further includes a transmission line connected to one end of the radiation pattern and a signal pad connected to an end of the transmission line, wherein the signal pad is the second trace in the peripheral region of the base layer. The antenna insertion electrode structure, which is disposed so as not to overlap with.
15. 표시 패널; 및 상기 표시 패널 상에 적층된 상술한 실시예들의 안테나 삽입 전극 구조체를 포함하는, 화상 표시 장치.15. Display panel; and an antenna insertion electrode structure of the above-described embodiments stacked on the display panel.
16. 위 15에 있어서, 상기 표시 패널 및 상기 안테나 삽입 전극 구조체 사이에 배치된 편광층을 더 포함하는, 화상 표시 장치.16. The image display device according to 15 above, further comprising a polarization layer disposed between the display panel and the antenna insertion electrode structure.
본 발명의 실시예들에 따르는 안테나 삽입 전극 구조체에 있어서, 안테나 패턴을 제1 센싱 전극 및 제2 센싱 전극 중 어느 하나와 동일한 층에 배치시킬 수 있다. 따라서, 박형의 전극 적층 구조를 활용하여 터치 센서에서의 터치 센싱 구동/안테나 방사 구동의 상호 간섭을 억제하면서 상호 독립성을 증진시킬 수 있다. In the antenna insertion electrode structure according to embodiments of the present invention, the antenna pattern may be disposed on the same layer as any one of the first sensing electrode and the second sensing electrode. Therefore, it is possible to enhance mutual independence while suppressing mutual interference between touch sensing driving/antenna radiation driving in the touch sensor by utilizing the thin electrode stacked structure.
일부 실시예들에 따르면, 안테나 패턴과 함께 배치되는 제2 센싱 전극의 선폭을 상대적으로 감소시킬 수 있다. 이에 따라 안테나 패턴의 삽입을 위한 공간을 충분히 확보하여 방사 독립성을 향상시키고, 제1 센싱 전극의 선폭은 상대적으로 증가시켜 터치 센싱을 위한 정전 용량 생성을 충분히 확보할 수 있다.According to some embodiments, the line width of the second sensing electrode disposed together with the antenna pattern may be relatively reduced. Accordingly, it is possible to sufficiently secure a space for insertion of the antenna pattern to improve radiation independence, and to increase the line width of the first sensing electrode relatively to ensure sufficient generation of capacitance for touch sensing.
일부 실시예들에 있어서, 안테나 패턴 및 제2 센싱 전극 주변에는 더미 패턴들을 형성하고, 제1 센싱 전극 내에는 안테나 패턴과 중첩되는 개구부를 형성할 수 있다. 이에 따라, 안테나 패턴에 의한 전극 시인을 감소시키면서 안테나 방사/터치 센싱의 상호 간섭을 보다 효과적을 방지할 수 있다.In some embodiments, dummy patterns may be formed around the antenna pattern and the second sensing electrode, and an opening overlapping the antenna pattern may be formed in the first sensing electrode. Accordingly, it is possible to more effectively prevent mutual interference of antenna radiation/touch sensing while reducing electrode visibility due to the antenna pattern.
도 1 내지 도 4는 예시적인 실시예들에 따른 안테나 삽입 전극 구조체를 설명하기 위한 개략적인 단면도들이다.1 to 4 are schematic cross-sectional views for explaining an antenna insertion electrode structure according to exemplary embodiments.
도 5 및 도 6은 예시적인 실시예들에 따른 안테나 삽입 전극 구조체의 센싱 전극 배열을 설명하기 위한 개략적인 평면도들이다.5 and 6 are schematic plan views for explaining a sensing electrode arrangement of an antenna insertion electrode structure according to exemplary embodiments.
도 7 및 도 8은 예시적인 실시예들에 따른 안테나 삽입 전극 구조체를 설명하기 위한 개략적인 평면도들이다.7 and 8 are schematic plan views for explaining an antenna insertion electrode structure according to exemplary embodiments.
도 9는 일부 예시적인 실시예들에 따른 안테나 삽입 전극 구조체를 설명하기 위한 개략적인 평면도이다.9 is a schematic plan view for explaining an antenna insertion electrode structure according to some exemplary embodiments.
도 10 및 도 11은 각각 예시적인 실시예들에 따른 안테나 삽입 전극 구조체를 포함하는 디스플레이 장치를 설명하기 위한 개략적인 단면도 및 평면도이다.10 and 11 are schematic cross-sectional views and plan views, respectively, for explaining a display device including an antenna insertion electrode structure according to example embodiments.
본 발명의 실시예들은 안테나 패턴 및 센싱 전극이 함께 포함된 안테나 삽입 전극 구조체가 제공된다. 또한, 상기 안테나 삽입 전극 구조체를 포함하는 화상 표시 장치를 제공한다.Embodiments of the present invention provide an antenna insertion electrode structure including an antenna pattern and a sensing electrode together. In addition, there is provided an image display device including the antenna insertion electrode structure.
이하 도면을 참고하여, 본 발명의 실시예들을 보다 구체적으로 설명하도록 한다. 다만, 본 명세서에 첨부되는 다음의 도면들은 본 발명의 바람직한 실시예를 예시하는 것이며, 전술한 발명의 내용과 함께 본 발명의 기술사상을 더욱 이해시키는 역할을 하는 것이므로, 본 발명은 그러한 도면에 기재된 사항에만 한정되어 해석되어서는 아니된다.Hereinafter, with reference to the drawings, embodiments of the present invention will be described in more detail. However, the following drawings attached to the present specification illustrate preferred embodiments of the present invention, and serve to further understand the technical spirit of the present invention together with the above-described content of the present invention, so the present invention is described in such drawings It should not be construed as being limited only to the matters.
이하 도면들에서, 기재층(100)의 상면에 평행하며 서로 수직하게 교차하는 두 방향을 제1 방향 및 제2 방향으로 지칭한다. 예를 들면, 상기 제1 방향은 안테나 삽입 전극 구조체 또는 화상 표시 장치의 너비 방향에 해당될 수 있다. 상기 제2 방향은 안테나 삽입 전극 구조체 또는 화상 표시 장치의 길이 방향에 해당될 수 있다.In the drawings below, two directions parallel to the upper surface of the base layer 100 and perpendicular to each other are referred to as a first direction and a second direction. For example, the first direction may correspond to the width direction of the antenna insertion electrode structure or the image display device. The second direction may correspond to the length direction of the antenna insertion electrode structure or the image display device.
본 출원에 사용된 용어 "제1", "제2", "상면", "저면" 등의 용어는 절대적인 위치를 지정하는 것이 아니라, 서로 다른 위치, 구성을 구분하기 위한 상대적인 의미로 사용된다.The terms "first", "second", "top", "bottom" and the like used in this application do not designate absolute positions, but are used as relative meanings for distinguishing different positions and configurations.
도 1 내지 도 4는 예시적인 실시예들에 따른 안테나 삽입 전극 구조체를 설명하기 위한 개략적인 단면도들이다.1 to 4 are schematic cross-sectional views for explaining an antenna insertion electrode structure according to exemplary embodiments.
도 1을 참조하면, 안테나 삽입 전극 구조체는 기재층(100), 기재층(100)의 상면 상에 형성된 제2 센싱 전극(130) 및 안테나 패턴(150), 및 기재층(100)의 저면 상에 형성된 제1 센싱 전극(110)을 포함할 수 있다. Referring to FIG. 1 , the antenna insertion electrode structure is formed on the base layer 100 , the second sensing electrode 130 and the antenna pattern 150 formed on the upper surface of the base layer 100 , and on the lower surface of the base layer 100 . It may include a first sensing electrode 110 formed on the .
기재층(100)은 센싱 전극들(110, 130) 및 안테나 패턴(150) 형성을 위한 지지층 또는 필름 타입 기재를 포괄하는 의미로 사용된다. 예를 들면, 기재층(100)은 터치 센서에 통상적으로 사용되는 필름 소재가 특별한 제한 없이 사용될 수 있으며, 예를 들면, 글래스, 고분자 및/또는 무기 절연 물질을 포함할 수 있다. 상기 고분자의 예로서, 환형올레핀중합체(COP), 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리아크릴레이트(PAR), 폴리에테르이미드(PEI), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN), 폴리페닐렌설파이드(PPS), 폴리알릴레이트(polyallylate), 폴리이미드(PI), 셀룰로오스 아세테이트 프로피오네이트(CAP), 폴리에테르술폰(PES), 셀룰로오스 트리아세테이트(TAC), 폴리카보네이트(PC), 환형올레핀공중합체(COC), 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA) 등을 들 수 있다. 상기 무기 절연 물질의 예로서, 실리콘 산화물, 실리콘 질화물, 실리콘 산질화물, 금속 산화물 등을 들 수 있다.The substrate layer 100 is used to encompass a support layer or a film-type substrate for forming the sensing electrodes 110 and 130 and the antenna pattern 150 . For example, the base layer 100 may be a film material commonly used for a touch sensor without any particular limitation, and may include, for example, glass, a polymer, and/or an inorganic insulating material. Examples of the polymer include cyclic olefin polymer (COP), polyethylene terephthalate (PET), polyacrylate (PAR), polyetherimide (PEI), polyethylene naphthalate (PEN), polyphenylene sulfide (PPS), poly Allylate (polyallylate), polyimide (PI), cellulose acetate propionate (CAP), polyethersulfone (PES), cellulose triacetate (TAC), polycarbonate (PC), cyclic olefin copolymer (COC), poly Methyl methacrylate (PMMA), etc. are mentioned. Examples of the inorganic insulating material include silicon oxide, silicon nitride, silicon oxynitride, and metal oxide.
기재층(100)은 안테나 패턴(150)의 유전층으로 제공될 수 있다. 바람직하게는, 기재층(100)의 유전율은 약 1.5 내지 12 범위로 조절될 수 있다. 상기 유전율이 약 12를 초과하는 경우, 구동 주파수가 지나치게 감소하여, 원하는 고주파 혹은 초고주파 대역에서의 구동이 구현되지 않을 수 있다.The base layer 100 may serve as a dielectric layer of the antenna pattern 150 . Preferably, the dielectric constant of the base layer 100 may be adjusted in the range of about 1.5 to 12. When the permittivity exceeds about 12, the driving frequency is excessively reduced, so that driving in a desired high frequency or very high frequency band may not be realized.
제1 센싱 전극(110) 및 제2 센싱 전극(130)은 기재층(100)을 사이에 두고 서로 수직 방향으로 이격되며, 다른 층 혹은 다른 레벨에 위치할 수 있다. 예시적인 실시예들에 따르면, 제1 및 제2 센싱 전극들(110, 130)에 의해 생성되는 상호 정전 용량(Mutual Capacitance)을 통해 터치 센싱이 구현될 수 있다.The first sensing electrode 110 and the second sensing electrode 130 are vertically spaced apart from each other with the base layer 100 interposed therebetween, and may be located in different layers or at different levels. According to example embodiments, touch sensing may be implemented through mutual capacitance generated by the first and second sensing electrodes 110 and 130 .
제1 센싱 전극(110)은 기재층(100)의 저면 상에 배치되며, 제2 센싱 전극(130)은 기재층(100)의 상면 상에 배치될 수 있다. The first sensing electrode 110 may be disposed on the bottom surface of the base layer 100 , and the second sensing electrode 130 may be disposed on the top surface of the base layer 100 .
센싱 전극들(110, 130)은 예를 들면, 인듐주석산화물(ITO), 인듐아연산화물(IZO), 아연산화물(ZnO), 인듐아연주석산화물(IZTO), 카드뮴주석산화물(CTO) 등과 같은 투명 도전성 산화물을 포함할 수도 있다.The sensing electrodes 110 and 130 are transparent such as, for example, indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), zinc oxide (ZnO), indium zinc tin oxide (IZTO), cadmium tin oxide (CTO), or the like. It may contain a conductive oxide.
일부 실시예들에 있어서, 센싱 전극들(110, 130)은 은(Ag), 금(Au), 구리(Cu), 알루미늄(Al), 백금(Pt), 팔라듐(Pd), 크롬(Cr), 티타늄(Ti), 텅스텐(W), 니오븀(Nb), 탄탈륨(Ta), 바나듐(V), 철(Fe), 망간(Mn), 코발트(Co), 니켈(Ni), 아연(Zn), 몰리브덴(Mo), 주석(Sn), 칼슘(Ca) 등과 같은 금속 또는 이들의 합금(예를 들면, 은-팔라듐-구리(APC) 또는 구리-칼슘(CuCa))을 포함할 수 있다. 이들은 단독으로 혹은 2 이상이 조합되어 사용될 수 있다.In some embodiments, the sensing electrodes 110 and 130 may include silver (Ag), gold (Au), copper (Cu), aluminum (Al), platinum (Pt), palladium (Pd), or chromium (Cr). , titanium (Ti), tungsten (W), niobium (Nb), tantalum (Ta), vanadium (V), iron (Fe), manganese (Mn), cobalt (Co), nickel (Ni), zinc (Zn) , molybdenum (Mo), tin (Sn), calcium (Ca), etc. or an alloy thereof (eg, silver-palladium-copper (APC) or copper-calcium (CuCa)). These may be used alone or in combination of two or more.
일부 실시예들에 있어서, 센싱 전극들(110, 130)은 투명도전성 산화물 층, 및 금속 혹은 합금층의 적층 구조를 포함할 수 있다. 예를 들면, 센싱 전극들(110, 130)은 투명 도전성 산화물 층-금속층의 2층 구조, 투명 도전성 산화물 층-금속층-투명 도전성 산화물 층의 3층 구조 등을 가질 수도 있다. 이 경우, 상기 금속층에 의해 플렉시블 특성이 향상되면서, 저항을 낮추어 신호 전달 속도가 향상될 수 있으며, 상기 투명 도전성 산화물 층에 의해 내부식성, 투명성이 향상될 수 있다.In some embodiments, the sensing electrodes 110 and 130 may include a stacked structure of a transparent conductive oxide layer and a metal or alloy layer. For example, the sensing electrodes 110 and 130 may have a two-layer structure of a transparent conductive oxide layer-metal layer, a three-layer structure of a transparent conductive oxide layer-metal layer-transparent conductive oxide layer, or the like. In this case, while the flexible characteristic is improved by the metal layer, the signal transmission speed may be improved by lowering the resistance, and corrosion resistance and transparency may be improved by the transparent conductive oxide layer.
바람직한 일 실시예에 있어서, 센싱 전극들(110, 130)은 투명성 향상을 위해 상기 투명 도전성 산화물 층으로 형성될 수 있다.In a preferred embodiment, the sensing electrodes 110 and 130 may be formed of the transparent conductive oxide layer to improve transparency.
일부 실시예들에 있어서, 센싱 전극들(110), 130)은 예를 들면 상술한 금속 또는 합금을 포함하는 메쉬 구조를 가질 수도 있다.In some embodiments, the sensing electrodes 110 and 130 may have a mesh structure including, for example, the above-described metal or alloy.
안테나 패턴(150)은 제1 센싱 전극(110) 또는 제2 센싱 전극(130)과 동일 층 또는 동일 레벨에 위치할 수 있다. 예시적인 실시예들에 따르면, 안테나 패턴(150)은 상부 센싱 전극에 해당되는 제2 센싱 전극(130)과 함께 기재층(100)의 상면 상에 배치될 수 있다.The antenna pattern 150 may be located on the same layer or on the same level as the first sensing electrode 110 or the second sensing electrode 130 . According to example embodiments, the antenna pattern 150 may be disposed on the upper surface of the base layer 100 together with the second sensing electrode 130 corresponding to the upper sensing electrode.
예를 들면, 제2 센싱 전극(130)은 사용자의 터치면 또는 화상 표시 장치의 표시 면에 보다 인접할 수 있다. 이 경우, 안테나 패턴(150) 역시 상기 터치 면 또는 표시 면에 인접하여 용이하게 원하는 주파수 대역에서의 방사 특성을 구현할 수 있다. 또한, 전극 구조들에 의한 차폐로부터 상대적으로 자유롭게 안테나 패턴(150)의 방사 특성이 구현될 수 있다.For example, the second sensing electrode 130 may be closer to the touch surface of the user or the display surface of the image display device. In this case, the antenna pattern 150 may also be adjacent to the touch surface or the display surface to easily implement radiation characteristics in a desired frequency band. In addition, radiation characteristics of the antenna pattern 150 may be implemented relatively freely from shielding by the electrode structures.
안테나 패턴(150)은 고주파 또는 초고주파 통신 구현(예를 들면, 3G, 4G, 5G 통신 등)이 가능하도록 형성될 수 있다. 안테나 패턴(150) 구조 및 구성에 대해서는 도 7을 참조로 보다 상세히 후술한다.The antenna pattern 150 may be formed to enable high-frequency or ultra-high frequency communication (eg, 3G, 4G, 5G communication, etc.). The structure and configuration of the antenna pattern 150 will be described later in more detail with reference to FIG. 7 .
안테나 패턴(150)은 저저항 또는 미세 선폭의 패터닝을 고려하여 상술한 금속 또는 합금(예를 들면, APC 또는 CuCa)을 포함할 수 있다. The antenna pattern 150 may include the aforementioned metal or alloy (eg, APC or CuCa) in consideration of low resistance or fine line width patterning.
안테나 패턴(150)은 상술한 투명 도전성 산화물을 포함할 수 있다. 안테나 패턴(150)은 투명 도전성 산화물층 및 금속층의 복층 구조(예를 들면, 투명 도전성 산화물층-금속층 구조, 투명 도전성 산화물층-금속층-투명 도전성 산화물층 구조)를 포함할 수도 있다.The antenna pattern 150 may include the above-described transparent conductive oxide. The antenna pattern 150 may include a multilayer structure of a transparent conductive oxide layer and a metal layer (eg, a transparent conductive oxide layer-metal layer structure, a transparent conductive oxide layer-metal layer-transparent conductive oxide layer structure).
일 실시예에 있어서, 안테나 패턴(150)은 메쉬 구조를 포함할 수 있다.In an embodiment, the antenna pattern 150 may include a mesh structure.
제1 센싱 전극(110) 각각에는 제1 트레이스(120)가 연결될 수 있다. 제1 트레이스(120)는 제1 센싱 전극(110)과 함께 기재층(100)의 저면 상에 배치될 수 있다.A first trace 120 may be connected to each of the first sensing electrodes 110 . The first trace 120 may be disposed on the bottom surface of the base layer 100 together with the first sensing electrode 110 .
일부 실시예들에 있어서, 제1 트레이스(120)는 제1 투명 도전성 산화물 패턴(115) 및 제1 금속 패턴(117)을 포함할 수 있다. 제1 투명 도전성 산화물 패턴(115) 및 제1 금속 패턴(117)은 기재층(100)의 상기 저면으로부터 순차적으로 적층될 수 있다.In some embodiments, the first trace 120 may include a first transparent conductive oxide pattern 115 and a first metal pattern 117 . The first transparent conductive oxide pattern 115 and the first metal pattern 117 may be sequentially stacked from the bottom surface of the base layer 100 .
예를 들면, 제1 투명 도전성 산화물 패턴(115)은 제1 센싱 전극(110)과 동일한 물질을 포함하며, 실질적으로 동일한 식각 공정을 통해 제1 센싱 전극(110)과 함께 패터닝될 수 있다.For example, the first transparent conductive oxide pattern 115 may include the same material as the first sensing electrode 110 and may be patterned together with the first sensing electrode 110 through substantially the same etching process.
제1 금속 패턴(117)은 제1 투명 도전성 산화물 패턴(115) 상에 적층되어 제1 트레이스(120)를 통한 신호 전달 저항을 감소시킬 수 있다. 제1 금속 패턴(117)은 상술한 금속 또는 합금을 포함할 수 있다.The first metal pattern 117 may be stacked on the first transparent conductive oxide pattern 115 to reduce a signal transmission resistance through the first trace 120 . The first metal pattern 117 may include the aforementioned metal or alloy.
제2 센싱 전극(130) 각각에는 제2 트레이스(140)가 연결될 수 있다. 제2 트레이스(140)는 제2 센싱 전극(130)과 함께 기재층(100)의 상면 상에 배치될 수 있다.A second trace 140 may be connected to each of the second sensing electrodes 130 . The second trace 140 may be disposed on the upper surface of the base layer 100 together with the second sensing electrode 130 .
일부 실시예들에 있어서, 제2 트레이스(140)는 제2 투명 도전성 산화물 패턴(135) 및 제2 금속 패턴(137)을 포함할 수 있다. 제2 투명 도전성 산화물 패턴(135) 및 제2 금속 패턴(137)은 기재층(100)의 상기 상면으로부터 순차적으로 적층될 수 있다.In some embodiments, the second trace 140 may include a second transparent conductive oxide pattern 135 and a second metal pattern 137 . The second transparent conductive oxide pattern 135 and the second metal pattern 137 may be sequentially stacked from the upper surface of the base layer 100 .
예를 들면, 제2 투명 도전성 산화물 패턴(135)은 제2 센싱 전극(130)과 동일한 물질을 포함하며, 실질적으로 동일한 식각 공정을 통해 제2 센싱 전극(130)과 함께 패터닝될 수 있다.For example, the second transparent conductive oxide pattern 135 may include the same material as the second sensing electrode 130 , and may be patterned together with the second sensing electrode 130 through substantially the same etching process.
제2 금속 패턴(137)은 제2 투명 도전성 산화물 패턴(135) 상에 적층되어 제2 트레이스(140)를 통한 신호 전달 저항을 감소시킬 수 있다. 제2 금속 패턴(137)은 상술한 금속 또는 합금을 포함할 수 있다.The second metal pattern 137 may be stacked on the second transparent conductive oxide pattern 135 to reduce a signal transmission resistance through the second trace 140 . The second metal pattern 137 may include the aforementioned metal or alloy.
일부 실시예들에 있어서, 안테나 패턴(150)은 제2 금속 패턴(137)과 실질적으로 동일한 금속 또는 합금을 포함할 수 있다. 예를 들면, 제2 금속 패턴(137)을 형성할 때, 안테나 패턴(150)도 함께 실질적으로 동일한 식각 공정을 통해 형성될 수 있다.In some embodiments, the antenna pattern 150 may include substantially the same metal or alloy as the second metal pattern 137 . For example, when the second metal pattern 137 is formed, the antenna pattern 150 may also be formed through substantially the same etching process.
도 2를 참조하면, 안테나 패턴(150)은 상술한 바와 같이 투명 도전성 산화물 층(152) 및 금속층(154)의 복층 구조를 포함할 수도 있다. 투명 도전성 산화물 층(152) 및 금속층(154)은 기재층(100)의 상면으로부터 순차적으로 적층될 수 있다.Referring to FIG. 2 , the antenna pattern 150 may include a multilayer structure of the transparent conductive oxide layer 152 and the metal layer 154 as described above. The transparent conductive oxide layer 152 and the metal layer 154 may be sequentially stacked from the top surface of the base layer 100 .
일부 실시예들에 있어서, 안테나 패턴(150)의 투명 도전성 산화물 층(152)은 제2 센싱 전극(130) 및 제2 트레이스(140)의 제2 투명 도전성 산화물 패턴(135)과 실질적으로 동일한 물질을 포함하며, 실질적으로 동일한 식각 공정을 통해 형성될 수 있다.In some embodiments, the transparent conductive oxide layer 152 of the antenna pattern 150 is made of substantially the same material as the second transparent conductive oxide pattern 135 of the second sensing electrode 130 and the second trace 140 . and may be formed through substantially the same etching process.
안테나 패턴(150)의 금속층(154)은 제2 트레이스(140)의 제2 금속 패턴(137)과 실질적으로 동일한 금속 또는 합금을 포함하며, 실질적으로 동일한 식각 공정을 통해 형성될 수 있다.The metal layer 154 of the antenna pattern 150 includes substantially the same metal or alloy as the second metal pattern 137 of the second trace 140 , and may be formed through substantially the same etching process.
안테나 패턴(150)은 상술한 바와 같이 투명 도전성 산화물 층(152) 및 금속층(154)의 복층 구조를 포함함에 따라, 저저항을 갖는 금속층(154)을 통해 충분한 방사 특성을 확보하면서, 투명성을 함께 향상시킬 수 있다. 또한, 투명 도전성 산화물 층(152)이 함께 포함되어, 제2 센싱 전극(130) 대비 안테나 패턴(150)이 시각적으로 인식되는 것을 감소 또는 방지할 수 있다.As described above, the antenna pattern 150 includes a multi-layer structure of the transparent conductive oxide layer 152 and the metal layer 154, ensuring sufficient radiation characteristics through the metal layer 154 having a low resistance, while maintaining transparency together. can be improved In addition, since the transparent conductive oxide layer 152 is included, it is possible to reduce or prevent the antenna pattern 150 from being visually recognized as compared to the second sensing electrode 130 .
도 3을 참조하면, 제2 센싱 전극(130) 및 제2 트레이스(140)는 기재층(100)의 저면 상에 배치되고, 제1 센싱 전극(110) 및 제1 트레이스(120)는 기재층(100)의 상면 상에 배치될 수도 있다. 안테나 패턴(150)은 제2 센싱 전극(130)과 함께 기재층(100)의 상기 저면 상에 배치될 수 있다.Referring to FIG. 3 , the second sensing electrode 130 and the second trace 140 are disposed on the bottom surface of the base layer 100 , and the first sensing electrode 110 and the first trace 120 are the base layer. It may be disposed on the upper surface of (100). The antenna pattern 150 may be disposed on the bottom surface of the base layer 100 together with the second sensing electrode 130 .
도 4를 참조하면, 제1 센싱 전극(110) 및 제2 센싱 전극(130)은 서로 다른 기재층 상에 형성될 수도 있다.Referring to FIG. 4 , the first sensing electrode 110 and the second sensing electrode 130 may be formed on different substrate layers.
예를 들면, 제1 센싱 전극(110)은 및 제1 트레이스(120)는 제1 기재층(100a)의 상면 상에 배치되며, 제2 센싱 전극(130) 및 제2 트레이스(140)는 제2 기재층(100b)의 상면 상에 배치될 수 있다.For example, the first sensing electrode 110 and the first trace 120 are disposed on the upper surface of the first base layer 100a, and the second sensing electrode 130 and the second trace 140 are 2 It may be disposed on the upper surface of the base layer (100b).
각각 제1 센싱 전극(110) 및 제2 센싱 전극(130)이 형성된 제1 기재층(100a) 및 제2 기재층(100b)은 점접착층(50)을 통해 서로 결합될 수 있다. 이 경우, 제1 센싱 전극(110)은 점접착층(50) 내에 실질적으로 매립될 수 있다.The first base layer 100a and the second base layer 100b on which the first sensing electrode 110 and the second sensing electrode 130 are formed, respectively, may be coupled to each other through the adhesive layer 50 . In this case, the first sensing electrode 110 may be substantially buried in the adhesive layer 50 .
안테나 패턴(150)은 도 4에 도시된 바와 같이, 제2 기재층(100b)의 상면 상에 배치될 수 있다. 일 실시예에 있어서, 안테나 패턴(150)은 제1 센싱 전극(110)과 함께 제1 기재층(100a)의 상면 상에 배치될 수도 있다.The antenna pattern 150 may be disposed on the upper surface of the second base layer 100b, as shown in FIG. 4 . In an embodiment, the antenna pattern 150 may be disposed on the upper surface of the first base layer 100a together with the first sensing electrode 110 .
상술한 예시적인 실시예들에 따르면, 안테나 패턴(150)을 제1 센싱 전극(110) 및 제2 센싱 전극(130) 중 어느 하나와 동일한 층에 배치시킬 수 있다. 따라서, 터치 센서에서의 터치 센싱 구동/안테나 방사 구동의 상호 간섭을 억제하면서 상호 독립성을 증진시킬 수 있다. 또한, 안테나 패턴(150)을 터치 센서의 센싱 전극과 동일 층에 결합시킴에 따라 추가적인 안테나 공간 할당 없이 박형의 안테나 삽입 전극 구조체를 수득할 수 있다.According to the above-described exemplary embodiments, the antenna pattern 150 may be disposed on the same layer as any one of the first sensing electrode 110 and the second sensing electrode 130 . Accordingly, mutual independence can be enhanced while suppressing mutual interference between touch sensing driving/antenna radiation driving in the touch sensor. In addition, as the antenna pattern 150 is coupled to the same layer as the sensing electrode of the touch sensor, a thin antenna insertion electrode structure can be obtained without additional antenna space allocation.
도 5 및 도 6은 예시적인 실시예들에 따른 안테나 삽입 전극 구조체를 센싱 전극 배열을 설명하기 위한 개략적인 평면도들이다.5 and 6 are schematic plan views for explaining an electrode arrangement for sensing an antenna insertion electrode structure according to exemplary embodiments.
도 5를 참조하면, 제1 센싱 전극(110)은 제1 방향으로 연장하며, 복수의 제1 센싱 전극들(110)이 제2 방향을 따라 배열될 수 있다. 제2 센싱 전극(130)은 제1 센싱 전극(110)의 상층부에서 상기 제2 방향을 따라 연장할 수 있다. 또한, 복수의 제2 센싱 전극들(130)이 상기 제1 방향을 따라 배열될 수 있다.Referring to FIG. 5 , the first sensing electrode 110 may extend in a first direction, and a plurality of first sensing electrodes 110 may be arranged along the second direction. The second sensing electrode 130 may extend along the second direction from the upper layer of the first sensing electrode 110 . Also, a plurality of second sensing electrodes 130 may be arranged along the first direction.
예시적인 실시예들에 따르면, 제1 센싱 전극(110)의 선폭(예를 들면, 상기 제2 방향으로의 너비)은 제2 센싱 전극(130)의 선폭(예를 들면, 상기 제1 방향으로의 너비)보다 클 수 있다. 상술한 바와 같이, 안테나 패턴(150)을 제2 센싱 전극(130)과 함께 배치시킬 수 있다. According to example embodiments, the line width (eg, in the second direction) of the first sensing electrode 110 is the line width (eg, in the first direction) of the second sensing electrode 130 . width) can be greater than As described above, the antenna pattern 150 may be disposed together with the second sensing electrode 130 .
이 경우, 제2 센싱 전극(130)의 선폭을 감소시켜, 안테나 패턴(150)의 삽입을 위한 공간을 충분히 확보할 수 있다. 또한, 제1 센싱 전극(110)의 선폭은 상대적으로 증가시켜, 터치 센싱을 위한 정전 용량 생성을 충분히 확보할 수 있다.In this case, by reducing the line width of the second sensing electrode 130 , it is possible to sufficiently secure a space for insertion of the antenna pattern 150 . In addition, the line width of the first sensing electrode 110 is relatively increased, so that it is possible to sufficiently ensure the generation of capacitance for touch sensing.
일부 실시예들에 있어서, 제1 센싱 전극(110) 각각으로부터 하나의 제1 트레이스(120)가 연결되며, 복수의 제2 센싱 전극들(130)이 제2 트레이스(140)에 의해 커플링되어 실질적으로 하나의 채널을 형성할 수 있다. 예를 들면, 2개의 제2 센싱 전극들(130)이 제2 트레이스(140)를 통해 커플링될 수 있다. In some embodiments, one first trace 120 is connected from each of the first sensing electrodes 110 , and a plurality of second sensing electrodes 130 are coupled by the second trace 140 . Substantially one channel may be formed. For example, two second sensing electrodes 130 may be coupled through the second trace 140 .
이에 따라, 상대적으로 선폭이 큰 제1 센싱 전극(110)과의 스캔/구동 신호 매칭을 제2 센싱 전극들(130)의 커플링을 통해 증진시킬 수 있다.Accordingly, scan/drive signal matching with the first sensing electrode 110 having a relatively large line width may be improved through coupling of the second sensing electrodes 130 .
도 6을 참조하면, 제1 센싱 전극(110) 및 제2 센싱 전극(130) 중 적어도 하나는 지그재그 라인 혹은 물결 라인 형상을 가질 수도 있다. 예를 들면, 상대적으로 선폭이 작은 제2 센싱 전극(130)은 지그재그 라인 혹은 물결 라인 형상을 가질 수 있다.Referring to FIG. 6 , at least one of the first sensing electrode 110 and the second sensing electrode 130 may have a zigzag line or a wavy line shape. For example, the second sensing electrode 130 having a relatively small line width may have a zigzag line or a wavy line shape.
제2 센싱 전극(130)의 형상은 안테나 패턴(150) 삽입 공간을 고려하여 적절히 변경될 수 있다.The shape of the second sensing electrode 130 may be appropriately changed in consideration of the antenna pattern 150 insertion space.
도 7 및 도 8은 예시적인 실시예들에 따른 안테나 삽입 전극 구조체를 설명하기 위한 개략적인 평면도들이다.7 and 8 are schematic plan views for explaining an antenna insertion electrode structure according to exemplary embodiments.
도 7을 참조하면, 안테나 패턴(150)은 방사 패턴(160) 및 전송 선로(162)를 포함할 수 있다. 방사 패턴(160)은 예를 들면, 마름모 형상 또는 다이아몬드 형상과 같은 다각형 형상을 가질 수 있다. 전송 선로(162)는 방사 패턴(160)의 일단으로부터 연장될 수 있다. Referring to FIG. 7 , the antenna pattern 150 may include a radiation pattern 160 and a transmission line 162 . The radiation pattern 160 may have, for example, a polygonal shape such as a rhombus shape or a diamond shape. The transmission line 162 may extend from one end of the radiation pattern 160 .
일부 실시예들에 있어서, 전송 선로(162)의 말단에는 신호 패드(164)가 연결될 수 있다. 신호 패드(164)는 전송 선로(162)와 실질적으로 일체로 연결된 단일 부재일 수 있다.In some embodiments, a signal pad 164 may be connected to an end of the transmission line 162 . The signal pad 164 may be a single member substantially integrally connected to the transmission line 162 .
신호 패드(164) 주변에는 그라운드 패드(166)가 배치될 수도 있다. 예를 들면, 신호 패드(164)를 사이에 두고 한 쌍의 그라운드 패드들(166)이 서로 마주보도록 배치될 수 있다. 그라운드 패드(166)는 전송 선로(162) 및 신호 패드(164)와는 전기적, 물리적으로 분리될 수 있다.A ground pad 166 may be disposed around the signal pad 164 . For example, a pair of ground pads 166 may be disposed to face each other with the signal pad 164 interposed therebetween. The ground pad 166 may be electrically and physically separated from the transmission line 162 and the signal pad 164 .
상술한 바와 같이, 안테나 패턴(150)은 제2 센싱 전극(130)과 함께 기재층(100)의 상면 상에 배치될 수 있다. 예시적인 실시예들에 따르면, 안테나 패턴(150)의 방사 패턴(160)은 이웃하는 제2 센싱 전극들(130) 사이에 배치될 수 있다.As described above, the antenna pattern 150 may be disposed on the upper surface of the base layer 100 together with the second sensing electrode 130 . According to example embodiments, the radiation pattern 160 of the antenna pattern 150 may be disposed between the adjacent second sensing electrodes 130 .
일부 실시예들에 있어서, 안테나 패턴(150)이 삽입됨에 따라 상기 제2 방향을 따라 방사 패턴(160)과 겹쳐지는 제2 센싱 전극(130)은 인접하는 다른 제2 센싱 전극(130)보다 짧은 길이를 가질 수 있다. 예를 들면, 센싱 전극들(110, 130)이 배열되는 활성 영역 또는 센싱 영역에서 방사 패턴(160)이 삽입된 길이에 상응하도록 하나의 제2 센싱 전극(130)(예를 들면, 절단된 제2 센싱 전극)의 길이만을 감소시킬 수 있다.In some embodiments, as the antenna pattern 150 is inserted, the second sensing electrode 130 overlapping the radiation pattern 160 in the second direction is shorter than other adjacent second sensing electrodes 130 . can have a length. For example, one second sensing electrode 130 (eg, the cut first sensing electrode 130 ) corresponds to the length into which the radiation pattern 160 is inserted in the active region or the sensing region in which the sensing electrodes 110 and 130 are arranged. Only the length of 2 sensing electrodes) can be reduced.
따라서, 안테나 패턴(150) 삽입에 의한 센싱 감도 저하를 최소화하면서 안테나 방사 구동 특성을 확보할 수 있다.Accordingly, it is possible to secure antenna radiation driving characteristics while minimizing a decrease in sensing sensitivity due to insertion of the antenna pattern 150 .
일부 실시예들에 있어서, 방사 패턴(160)의 중심 라인(예를 들면, 전송 선로(162)로부터 연장되는 가상의 중심선)은 절단된 제2 센싱 전극(130)과 상기 제2 방향으로 겹쳐질 수 있다.In some embodiments, the center line of the radiation pattern 160 (eg, a virtual center line extending from the transmission line 162 ) overlaps the cut second sensing electrode 130 in the second direction. can
이에 따라, 방사 패턴(160)의 삽입에 따라 절단되는 제2 센싱 전극(130)의 개수를 감소시키면서, 제2 센싱 전극(130)에 의해 발생하는 전계로부터의 안테나 방사 교란을 실질적으로 억제 또는 회피할 수 있다.Accordingly, while reducing the number of the second sensing electrodes 130 cut according to the insertion of the radiation pattern 160 , the antenna radiation disturbance from the electric field generated by the second sensing electrode 130 is substantially suppressed or avoided. can do.
일부 실시예들에 있어서, 기재층(100)의 상면 상에는 제2 센싱 전극들(130) 및 안테나 패턴(150)과 함께 더미 패턴들(170)이 분포할 수 있다. 더미 패턴들(170)은 제2 센싱 전극들(130) 및 안테나 패턴(150) 주변에 배열되며, 제2 센싱 전극들(130) 및 안테나 패턴(150)과는 전기적, 물리적으로 분리될 수 있다.In some embodiments, dummy patterns 170 may be distributed along with the second sensing electrodes 130 and the antenna pattern 150 on the upper surface of the base layer 100 . The dummy patterns 170 are arranged around the second sensing electrodes 130 and the antenna pattern 150 , and may be electrically and physically separated from the second sensing electrodes 130 and the antenna pattern 150 . .
더미 패턴들(170) 각각은 섬(island) 형상 혹은 타일 형상을 가질 수 있다. 더미 패턴들(170)은 제2 센싱 전극(130)과 실질적으로 동일한 물질을 포함하며, 예를 들면 ITO, IZO와 같은 투명 도전성 산화물을 포함할 수 있다.Each of the dummy patterns 170 may have an island shape or a tile shape. The dummy patterns 170 may include substantially the same material as the second sensing electrode 130 , and may include, for example, a transparent conductive oxide such as ITO or IZO.
더미 패턴들(170) 중 일부는 안테나 패턴(150) 주변에 배열된 안테나 더미 패턴(175)으로 제공될 수 있다. 안테나 더미 패턴(175)은 방사 패턴(160)의 테두리를 따라 배열되며, 더미 패턴(170)과는 다른 형상을 가질 수 있다.Some of the dummy patterns 170 may be provided as antenna dummy patterns 175 arranged around the antenna pattern 150 . The antenna dummy pattern 175 is arranged along the edge of the radiation pattern 160 , and may have a shape different from that of the dummy pattern 170 .
제2 센싱 전극들(130) 및 안테나 패턴(150) 주변에 더미 패턴들(170)이 배열됨에 따라, 기재층(100)의 상면에서의 도전 패턴 분포의 영역별 편차가 감소될 수 있다. 따라서, 기재층(100) 위로의 광학적 균일도가 증진되어 전극 시인 현상을 감소시킬 수 있다.As the dummy patterns 170 are arranged around the second sensing electrodes 130 and the antenna pattern 150 , the regional deviation of the conductive pattern distribution on the upper surface of the base layer 100 may be reduced. Accordingly, the optical uniformity over the base layer 100 may be improved to reduce the electrode visibility phenomenon.
도 8을 참조하면, 제1 센싱 전극들(110) 중 안테나 패턴(150)과 두께 방향으로 중첩되는 제1 센싱 전극(110)은 내부에 개구부(112)를 포함할 수 있다. 개구부(112)는 평면 방향에서 안테나 패턴(150)과 중첩되도록 형성될 수 있다.Referring to FIG. 8 , the first sensing electrode 110 overlapping the antenna pattern 150 in the thickness direction among the first sensing electrodes 110 may include an opening 112 therein. The opening 112 may be formed to overlap the antenna pattern 150 in a planar direction.
제1 센싱 전극(110) 중 안테나 패턴(150)과 겹쳐지는 부분을 제거함으로써, 제1 센싱 전극(110)에 의한 안테나 패턴(150)의 방사 교란을 억제할 수 있다. By removing a portion of the first sensing electrode 110 that overlaps with the antenna pattern 150 , radiation disturbance of the antenna pattern 150 by the first sensing electrode 110 may be suppressed.
일부 실시예들에 있어서, 제1 센싱 전극(110)은 제2 센싱 전극(130)과 평면 방향에서 중첩되는 위치에 형성된 슬릿(114)을 포함할 수 있다. In some embodiments, the first sensing electrode 110 may include a slit 114 formed at a position overlapping the second sensing electrode 130 in a planar direction.
예를 들면, 슬릿들(114)은 상기 제2 방향을 따라 반복적으로 형성되어 슬릿 열이 형성될 수 있다. 또한, 복수의 상기 슬릿 열들이 제2 센싱 전극들(130)과 각각 중첩되도록 상기 제1 방향을 따라 배열될 수 있다.For example, the slits 114 may be repeatedly formed along the second direction to form a slit row. In addition, the plurality of slit columns may be arranged along the first direction to overlap the second sensing electrodes 130 , respectively.
제2 센싱 전극(130) 및 안테나 패턴(150)과 겹쳐지는 위치에 각각 슬릿(114) 및 개구부(112)를 형성하여, 수직 방향으로 도전층의 중첩에 따른 투과율 저하, 반사율 증가를 방지할 수 있다. 이에 따라, 안테나 삽입 전극 구조체의 전체적인 투과율을 향상시키면서, 전극 시인 현상을 억제할 수 있다.By forming the slits 114 and the openings 112 at positions overlapping the second sensing electrode 130 and the antenna pattern 150, respectively, it is possible to prevent a decrease in transmittance and an increase in reflectance due to the overlapping of the conductive layers in the vertical direction. have. Accordingly, it is possible to suppress the electrode visibility phenomenon while improving the overall transmittance of the antenna insertion electrode structure.
도 9는 일부 예시적인 실시예들에 따른 안테나 삽입 전극 구조체를 설명하기 위한 개략적인 평면도이다.9 is a schematic plan view for explaining an antenna insertion electrode structure according to some exemplary embodiments.
도 9를 참조하면, 방사 패턴(160)은 메쉬 구조를 포함할 수 있다. 예를 들면, 방사 패턴(160)이 금속 층을 포함하는 경우 상기 메쉬 구조를 채용하여 안테나 패턴(150) 삽입에 따른 투과율 저하를 억제할 수 있다.Referring to FIG. 9 , the radiation pattern 160 may include a mesh structure. For example, when the radiation pattern 160 includes a metal layer, a decrease in transmittance due to insertion of the antenna pattern 150 may be suppressed by employing the mesh structure.
일부 실시예들에 있어서, 전송 선로(162) 역시 상기 메쉬 구조를 포함하며, 방사 패턴(160)과 실질적으로 일체로 연결될 수 있다.In some embodiments, the transmission line 162 also includes the mesh structure and may be substantially integrally connected to the radiation pattern 160 .
방사 패턴(160) 주변에는 더미 메쉬 패턴(177)이 형성될 수 있다. 더미 메쉬 패턴(177)을 통해 방사 패턴(160) 주변의 도전 라인 분포의 균일성을 증진하여 방사 패턴(160)의 시인을 억제할 수 있다.A dummy mesh pattern 177 may be formed around the radiation pattern 160 . Through the dummy mesh pattern 177 , the uniformity of the distribution of conductive lines around the radiation pattern 160 may be improved, thereby suppressing visibility of the radiation pattern 160 .
예를 들면, 방사 패턴(160) 주변에는 더미 메쉬 패턴(177)이 배치되며, 더미 메쉬 패턴(177)의 외곽에는 상술한 더미 패턴(170)이 분포할 수 있다.For example, the dummy mesh pattern 177 may be disposed around the radiation pattern 160 , and the dummy pattern 170 may be distributed outside the dummy mesh pattern 177 .
일부 실시예들에 있어서, 신호 패드(164) 및 그라운드 패턴(166)는 급전 저항 감소 및 노이즈 차폐 효율성 등을 위해 속이 찬(solid) 금속 패턴 구조를 가질 수 있다. 예를 들면, 신호 패드(164) 및 그라운드 패드(166)는 기재층(100)의 제2 센싱 전극(130)이 배치되지 않은 주변 영역에 배치될 수 있다.In some embodiments, the signal pad 164 and the ground pattern 166 may have a solid metal pattern structure for reducing power supply resistance and for noise shielding efficiency. For example, the signal pad 164 and the ground pad 166 may be disposed in a peripheral area of the base layer 100 in which the second sensing electrode 130 is not disposed.
도 10 및 도 11은 각각 예시적인 실시예들에 따른 안테나 삽입 전극 구조체를 포함하는 디스플레이 장치를 설명하기 위한 개략적인 단면도 및 평면도이다.10 and 11 are schematic cross-sectional views and plan views, respectively, for explaining a display device including an antenna insertion electrode structure according to example embodiments.
도 10을 참조하면, 상기 화상 표시 장치는 표시 패널(360) 및 표시 패널(360) 상에 적층된 상술한 예시적인 실시예들에 따르는 안테나 삽입 전극 구조체(200)를 포함할 수 있다.Referring to FIG. 10 , the image display apparatus may include a display panel 360 and the antenna insertion electrode structure 200 stacked on the display panel 360 according to the above-described exemplary embodiments.
표시 패널(360)은 패널 기판(300) 상에 배치된 표시 구조물 및 인캡슐레이션 층(350)을 포함할 수 있다. 상기 표시 구조물은 화소 전극(310), 화소 정의막(320), 표시층(330), 대향 전극(340) 등을 포함할 수 있다.The display panel 360 may include a display structure and an encapsulation layer 350 disposed on the panel substrate 300 . The display structure may include a pixel electrode 310 , a pixel defining layer 320 , a display layer 330 , a counter electrode 340 , and the like.
패널 기판(300) 상에는 박막 트랜지스터(TFT)를 포함하는 화소 회로가 형성되며, 상기 화소 회로를 덮는 절연막이 형성될 수 있다. 화소 전극(310)은 상기 절연막 상에서 예를 들면 TFT의 드레인 전극과 전기적으로 연결될 수 있다.A pixel circuit including a thin film transistor (TFT) may be formed on the panel substrate 300 , and an insulating layer covering the pixel circuit may be formed. The pixel electrode 310 may be electrically connected to, for example, a drain electrode of a TFT on the insulating layer.
화소 정의막(320)은 상기 절연막 상에 형성되어 화소 전극(310)을 노출시켜 화소 영역을 정의할 수 있다. 화소 전극(310) 상에는 표시층(330)이 형성되며, 표시층(330)은 예를 들면, 액정층 또는 유기 발광층을 포함할 수 있다.The pixel defining layer 320 may be formed on the insulating layer to expose the pixel electrode 310 to define a pixel area. A display layer 330 is formed on the pixel electrode 310 , and the display layer 330 may include, for example, a liquid crystal layer or an organic light emitting layer.
화소 정의막(320) 및 표시층(330) 상에는 대향 전극(340)이 배치될 수 있다. 대향 전극(340)은 예를 들면, 화상 표시 장치의 공통 전극 또는 캐소드로 제공될 수 있다. 대향 전극(340) 상에 표시 패널(360) 보호를 위한 인캡슐레이션 층(350)이 적층될 수 있다.A counter electrode 340 may be disposed on the pixel defining layer 320 and the display layer 330 . The counter electrode 340 may be provided as a common electrode or a cathode of the image display device. An encapsulation layer 350 for protecting the display panel 360 may be stacked on the opposite electrode 340 .
일부 실시예들에 있어서, 표시 패널(360) 및 안테나 삽입 전극 구조체(200)는 점접착층(260)을 통해 결합될 수도 있다. In some embodiments, the display panel 360 and the antenna insertion electrode structure 200 may be coupled through the adhesive layer 260 .
일부 실시예들에 있어서, 안테나 삽입 전극 구조체(200)는 인캡슐레이션 층(350) 상에 직접 적층 또는 형성될 수 있다. 이 경우, 점접착층(260)은 생략될 수도 있다.In some embodiments, the antenna insertion electrode structure 200 may be directly laminated or formed on the encapsulation layer 350 . In this case, the adhesive layer 260 may be omitted.
안테나 삽입 전극 구조체(200) 상에는 편광층(210) 및 윈도우 기판(230)이 순차적으로 적층될 수 있다.A polarization layer 210 and a window substrate 230 may be sequentially stacked on the antenna insertion electrode structure 200 .
편광층(210)은 코팅형 편광자 또는 편광판을 포함할 수 있다. 상기 코팅형 편광자는 중합성 액정 화합물 및 이색성 염료를 포함하는 액정 코팅층을 포할 수 있다. 이 경우, 편광층(210)은 상기 액정 코팅층에 배향성을 부여하기 위한 배향막을 더 포함할 수 있다The polarizing layer 210 may include a coated polarizer or a polarizing plate. The coating-type polarizer may include a liquid crystal coating layer including a polymerizable liquid crystal compound and a dichroic dye. In this case, the polarizing layer 210 may further include an alignment layer for imparting alignment to the liquid crystal coating layer.
예를 들면, 상기 편광판은 폴리비닐알코올계 편광자 및 상기 폴리비닐알코올계 편광자의 적어도 일면에 부착된 보호필름을 포함할 수 있다.For example, the polarizing plate may include a polyvinyl alcohol-based polarizer and a protective film attached to at least one surface of the polyvinyl alcohol-based polarizer.
편광층(210)은 윈도우 기판(230)의 상기 일면과 직접 접합되거나, 제1 점접착층(220)을 통해 부착될 수도 있다. 편광층(210)은 제2 점접착층(220)을 통해 안테나 삽입 전극 구조체(200)와 접합될 수 있다.The polarization layer 210 may be directly bonded to the one surface of the window substrate 230 or may be attached through the first adhesive layer 220 . The polarization layer 210 may be bonded to the antenna insertion electrode structure 200 through the second adhesive layer 220 .
윈도우 기판(230)은 예를 들면 하드 코팅 필름 또는 글래스 기판(예를 들면, 초박형 글래스(Ultra-Thin Glass: UTG)를 포함하며, 일 실시예에 있어서, 윈도우 기판(230)의 일면의 주변부 상에 차광 패턴(235)이 형성될 수 있다. 차광 패턴(235)은 예를 들면 컬러 인쇄 패턴을 포함할 수 있으며, 단층 또는 복층 구조를 가질 수 있다. 차광 패턴(235)에 의해 화상 표시 장치의 베젤부 혹은 비표시 영역이 정의될 수 있다.The window substrate 230 includes, for example, a hard coating film or a glass substrate (eg, ultra-thin glass (UTG)), and in one embodiment, on the periphery of one side of the window substrate 230 . A light blocking pattern 235 may be formed in the light blocking pattern 235. The light blocking pattern 235 may include, for example, a color printing pattern, and may have a single-layer or multi-layer structure. A bezel part or a non-display area may be defined.
도 10에 도시된 바와 같이, 사용자의 시인측으로부터 윈도우 기판(230), 편광층(210) 및 안테나 삽입 전극 구조체(200) 순으로 배치될 수 있다. 이 경우, 안테나 삽입 전극 구조체(200)의 센싱 전극들(110, 130) 및 안테나 패턴들(150)이 편광층(210) 아래에 배치되므로 전극 시인 현상을 보다 효과적으로 방지할 수 있다. As shown in FIG. 10 , the window substrate 230 , the polarization layer 210 , and the antenna insertion electrode structure 200 may be sequentially disposed from the user's viewing side. In this case, since the sensing electrodes 110 and 130 and the antenna patterns 150 of the antenna insertion electrode structure 200 are disposed under the polarization layer 210, the electrode visibility phenomenon can be more effectively prevented.
일 실시예에 있어서, 사용자의 시인측으로부터 윈도우 기판(230), 안테나 삽입 전극 구조체 (200) 및 편광층(210) 순으로 배치될 수도 있다. 이 경우, 안테나 패턴(150) 및 센싱 전극들(110, 130)이 표시면 또는 터치면에 보다 인접하므로, 방사 게인 및 센싱 감도가 증진될 수 있다.In an embodiment, the window substrate 230 , the antenna insertion electrode structure 200 , and the polarization layer 210 may be disposed in the order from the user's viewing side. In this case, since the antenna pattern 150 and the sensing electrodes 110 and 130 are more adjacent to the display surface or the touch surface, radiation gain and sensing sensitivity may be improved.
상술한, 윈도우 기판(230), 편광층(210) 및 안테나 삽입 전극 구조체(200)가 일체의 단위로 결합되어 윈도우 적층체(250)가 정의될 수도 있다.The above-described window substrate 230 , the polarization layer 210 , and the antenna insertion electrode structure 200 may be combined as an integral unit to define the window stack 250 .
도 11을 참조하면, 상기 화상 표시 장치 또는 안테나 삽입 전극 구조체(200)의 기재층(100)은 표시 영역(DA) 및 주변 영역(PA)을 포함할 수 있다. 표시 영역(DA)은 안테나 삽입 전극 구조체(200)의 센싱 전극들(110, 130)이 배치되며 터치 센싱이 실질적으로 입력/인식되는 활성 영역에 대응될 수 있다.Referring to FIG. 11 , the base layer 100 of the image display device or the antenna insertion electrode structure 200 may include a display area DA and a peripheral area PA. The display area DA may correspond to an active area in which the sensing electrodes 110 and 130 of the antenna insertion electrode structure 200 are disposed and touch sensing is substantially input/recognized.
표시 영역(DA) 상에는 센싱 전극들(110, 130) 및 안테나 패턴(150)이 배치될 수 있다. 주변 영역(PA) 상에는 트레이스들(120, 140)이 배치될 수 있다. 주변 영역(PA) 상에는 안테나 패턴(150)의 신호 패드(164) 및 그라운드 패드(166)도 배치될 수 있다.The sensing electrodes 110 and 130 and the antenna pattern 150 may be disposed on the display area DA. Traces 120 and 140 may be disposed on the peripheral area PA. A signal pad 164 and a ground pad 166 of the antenna pattern 150 may also be disposed on the peripheral area PA.
일부 실시예들에 있어서, 트레이스들(120, 140)은 상기 화상 표시 장치 또는 안테나 삽입 전극 구조체(200)의 일단부(예를 들면, 길이 방향으로의 일단부)로 연장되어 상기 일단부 상에서 트레이스들(120, 140)의 말단부들이 터치 센서 구동 집적 회로(IC) 칩(420)과 전기적으로 연결될 수 있다.In some embodiments, the traces 120 and 140 extend to one end (eg, one end in the longitudinal direction) of the image display device or the antenna insertion electrode structure 200 and are traced on the one end. Distal ends of the electrodes 120 and 140 may be electrically connected to the touch sensor driving integrated circuit (IC) chip 420 .
예를 들면, 트레이스들(120, 140)의 말단부들 상에 제1 연성 인쇄 회로 기판(410)이 본딩되고, 제1 연성 인쇄 회로 기판(410) 상에 터치 센서 구동 집적 회로 칩(420)이 실장될 수 있다. For example, a first flexible printed circuit board 410 is bonded on distal ends of the traces 120 and 140 , and a touch sensor driving integrated circuit chip 420 is formed on the first flexible printed circuit board 410 . can be mounted.
터치 센서 구동 집적 회로 칩(420)은 제1 연성 인쇄 회로 기판(410) 상에 직접 표면 실장될 수 있다. 이와는 달리, 제1 연성 인쇄 회로 기판(410) 및 터치 센서 구동 집적 회로 칩(420) 사이에 리지드 인쇄 회로 기판이 추가적으로 배치될 수도 있다.The touch sensor driving integrated circuit chip 420 may be directly surface mounted on the first flexible printed circuit board 410 . Alternatively, a rigid printed circuit board may be additionally disposed between the first flexible printed circuit board 410 and the touch sensor driving integrated circuit chip 420 .
일부 실시예들에 있어서, 안테나 패턴들(150)에 급전 및 구동 신호를 인가하는 안테나 구동 IC 칩(440)은 기재층(100) 상기 일단부에 대향하는 타단부에 인접하도록 배치될 수 있다. 예를 들면, 안테나 패턴(150)의 방사 패턴들은 표시 영역(DA) 중 상기 타단부에 인접한 단부 영역(A1) 및/또는 측부 영역(A2)에 배치될 수 있다. In some embodiments, the antenna driving IC chip 440 for applying power and driving signals to the antenna patterns 150 may be disposed adjacent to the other end opposite to the one end of the base layer 100 . For example, the radiation patterns of the antenna pattern 150 may be disposed in the end area A1 and/or the side area A2 adjacent to the other end of the display area DA.
안테나 패턴(150)의 신호 패드(164) 및 그라운드 패드(166)는 단부 영역(A1) 및/또는 측부 영역(A2)에 인접한 주변 영역(PA) 부분에 배치될 수 있다. 일부 실시예들에 있어서, 신호 패드(164) 및 그라운드 패드(166)는 주변 영역(PA) 상에 배치되는 가드 라인(예를 들면, 터치 센서 그라운드 라인)의 일부를 패터닝하여 형성될 수 있다.The signal pad 164 and the ground pad 166 of the antenna pattern 150 may be disposed in the peripheral area PA adjacent to the end area A1 and/or the side area A2 . In some embodiments, the signal pad 164 and the ground pad 166 may be formed by patterning a portion of a guard line (eg, a touch sensor ground line) disposed on the peripheral area PA.
예를 들면, 상기 타단부 상에 안테나 패턴(150)에 포함된 신호 패드(164)와 본딩되는 제2 연성 인쇄 회로 기판(430)이 배치되고, 제2 연성 인쇄 회로 기판(430) 상에 안테나 구동 IC 칩(440)이 실장될 수 있다. For example, a second flexible printed circuit board 430 bonded to the signal pad 164 included in the antenna pattern 150 is disposed on the other end, and the antenna is disposed on the second flexible printed circuit board 430 . A driving IC chip 440 may be mounted.
안테나 구동 IC 칩(440)은 제2 연성 인쇄 회로 기판(430) 상에 직접 표면 실장될 수 있다. 이와는 달리, 제2 연성 인쇄 회로 기판(430) 및 안테나 구동 IC 칩(440) 사이에 리지드 인쇄 회로 기판이 추가적으로 배치될 수도 있다.The antenna driving IC chip 440 may be directly surface mounted on the second flexible printed circuit board 430 . Alternatively, a rigid printed circuit board may be additionally disposed between the second flexible printed circuit board 430 and the antenna driving IC chip 440 .
상술한 바와 같이, 화상 표시 장치 또는 기재층(100)의 영역을 분할하여 터치 센싱 및 안테나 방사의 상호 독립성이 향상되도록 회로 연결을 설계할 수 있다.As described above, the circuit connection may be designed to improve the mutual independence of touch sensing and antenna radiation by dividing the region of the image display device or the base layer 100 .

Claims (16)

  1. 기재층;base layer;
    상기 기재층을 사이에 두고 서로 다른 층에 배치되는 제1 센싱 전극들 및 제2 센싱 전극들; 및first sensing electrodes and second sensing electrodes disposed on different layers with the base layer interposed therebetween; and
    상기 제2 센싱 전극들과 동일 층에 배치되며, 이웃하는 상기 제2 센싱 전극들 사이에 배치되는 방사 패턴을 포함하는 안테나 패턴을 포함하는, 안테나 삽입 전극 구조체.An antenna insertion electrode structure disposed on the same layer as the second sensing electrodes and including an antenna pattern including a radiation pattern disposed between the neighboring second sensing electrodes.
  2. 청구항 1에 있어서, 상기 제1 센싱 전극들은 상기 기재층의 상면에 평행한 제1 방향으로 연장하며, 상기 제2 센싱 전극들은 상기 기재층의 상면에 평행하고 상기 제1 방향과 수직한 제2 방향으로 연장하는, 안테나 삽입 전극 구조체.The method according to claim 1, wherein the first sensing electrodes extend in a first direction parallel to the upper surface of the base layer, the second sensing electrodes are parallel to the upper surface of the base layer and in a second direction perpendicular to the first direction Extending to, the antenna insertion electrode structure.
  3. 청구항 2에 있어서, 상기 방사 패턴의 중심 라인은 상기 제2 방향을 따라 상기 제2 센싱 전극들 중 어느 하나의 제2 센싱 전극과 겹쳐지는, 안테나 삽입 전극 구조체.The antenna insertion electrode structure according to claim 2, wherein a center line of the radiation pattern overlaps one of the second sensing electrodes of the second sensing electrodes in the second direction.
  4. 청구항 3에 있어서, 상기 제2 센싱 전극들 중 상기 방사 패턴의 상기 중심 라인과 상기 제2 방향으로 겹쳐지는 상기 제2 센싱 전극은 이웃하는 제2 센싱 전극들보다 짧은 길이를 갖는, 안테나 삽입 전극 구조체.The antenna insertion electrode structure of claim 3, wherein the second sensing electrode overlapping the center line of the radiation pattern and the second direction among the second sensing electrodes has a shorter length than neighboring second sensing electrodes. .
  5. 청구항 1에 있어서, 상기 기재층 상에서 상기 제2 센싱 전극들 및 상기 방사 패턴 주변에 배열된 더미 패턴들을 더 포함하는, 안테나 삽입 전극 구조체.The antenna insertion electrode structure according to claim 1, further comprising dummy patterns arranged around the second sensing electrodes and the radiation pattern on the base layer.
  6. 청구항 5에 있어서, 상기 더미 패턴들은 상기 방사 패턴 주변에 배치되는 안테나 더미 패턴을 포함하며, 상기 안테나 더미 패턴은 상기 제2 센싱 전극들 주변의 더미 패턴과 다른 형상을 갖는, 안테나 삽입 전극 구조체.The antenna insertion electrode structure of claim 5 , wherein the dummy patterns include an antenna dummy pattern disposed around the radiation pattern, and the antenna dummy pattern has a different shape from a dummy pattern around the second sensing electrodes.
  7. 청구항 1에 있어서, 상기 제1 센싱 전극들 중 두께 방향으로 상기 방사 패턴과 중첩되는 제1 센싱 전극은 평면 방향에서 상기 방사 패턴이 투영되는 위치에 형성된 개구부를 포함하는, 안테나 삽입 전극 구조체.The antenna insertion electrode structure of claim 1 , wherein a first sensing electrode overlapping the radiation pattern in a thickness direction among the first sensing electrodes includes an opening formed at a position where the radiation pattern is projected in a planar direction.
  8. 청구항 1에 있어서, 상기 제1 센싱 전극들은 평면 방향에서 상기 제2 센싱 전극들과 중첩되는 위치에 형성된 슬릿들을 포함하는, 안테나 삽입 전극 구조체.The antenna insertion electrode structure of claim 1 , wherein the first sensing electrodes include slits formed at positions overlapping the second sensing electrodes in a planar direction.
  9. 청구항 1에 있어서, 상기 제1 센싱 전극들의 선폭은 상기 제2 센싱 전극들의 선폭보다 큰, 안테나 삽입 전극 구조체.The antenna insertion electrode structure of claim 1, wherein the line widths of the first sensing electrodes are greater than the line widths of the second sensing electrodes.
  10. 청구항 1에 있어서, 상기 제1 센싱 전극들과 연결되는 제1 트레이스 및 상기 제2 센싱 전극들과 연결되는 제2 트레이스를 더 포함하는, 안테나 삽입 전극 구조체.The antenna insertion electrode structure of claim 1, further comprising a first trace connected to the first sensing electrodes and a second trace connected to the second sensing electrodes.
  11. 청구항 10에 있어서, 상기 제1 센싱 전극들 및 상기 제2 센싱 전극들은 투명 도전성 산화물을 포함하는, 안테나 삽입 전극 구조체.The antenna insertion electrode structure of claim 10 , wherein the first sensing electrodes and the second sensing electrodes include a transparent conductive oxide.
  12. 청구항 11에 있어서, 상기 제2 트레이스는 상기 기재층으로부터 순차적으로 적층된 투명 도전성 산화물 패턴 및 금속 패턴을 포함하는, 안테나 삽입 전극 구조체.The antenna insertion electrode structure of claim 11 , wherein the second trace comprises a transparent conductive oxide pattern and a metal pattern sequentially stacked from the base layer.
  13. 청구항 12에 있어서, 상기 안테나 패턴은 상기 제2 트레이스의 상기 금속 패턴과 동일한 금속 또는 합금을 포함하는, 안테나 삽입 전극 구조체.The antenna insertion electrode structure of claim 12 , wherein the antenna pattern includes the same metal or alloy as the metal pattern of the second trace.
  14. 청구항 10에 있어서, 상기 안테나 패턴은 상기 방사 패턴의 일단과 연결된 전송 선로 및 상기 전송 선로의 말단과 연결된 신호 패드를 더 포함하고,The method according to claim 10, wherein the antenna pattern further comprises a transmission line connected to one end of the radiation pattern and a signal pad connected to the end of the transmission line,
    상기 신호 패드는 상기 기재층의 주변 영역에서 상기 제2 트레이스와 겹치지 않도록 배치되는, 안테나 삽입 전극 구조체.The signal pad is disposed so as not to overlap the second trace in the peripheral region of the base layer, the antenna insertion electrode structure.
  15. 표시 패널; 및display panel; and
    상기 표시 패널 상에 적층된 청구항 1의 안테나 삽입 전극 구조체를 포함하는, 화상 표시 장치.An image display device comprising the antenna insertion electrode structure of claim 1 laminated on the display panel.
  16. 청구항 15에 있어서, 상기 표시 패널 및 상기 안테나 삽입 전극 구조체 사이에 배치된 편광층을 더 포함하는, 화상 표시 장치.The image display device of claim 15 , further comprising a polarization layer disposed between the display panel and the antenna insertion electrode structure.
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