WO2020241750A1 - Base material with water repellent oil repellent layer - Google Patents

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豊和 遠田
健二 石関
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Abstract

The present invention provides a base material with a water repellent oil repellent layer, which comprises a water repellent oil repellent layer having excellent fingerprint removal properties. A base material with a water repellent oil repellent layer according to the present invention comprises a base material and a water repellent oil repellent layer that is arranged on the main surface of the base material and contains a condensation product of a fluorine-containing compound; the amount of excess fluorine in the water repellent oil repellent layer as calculated by a predetermined method is 2 or more.

Description

撥水撥油層付き基材Base material with water and oil repellent layer
 本発明は、撥水撥油層付き基材に関する。 The present invention relates to a base material with a water- and oil-repellent layer.
 含フッ素化合物は、高い潤滑性、撥水撥油性等を示すため、表面処理剤に好適に用いられる。表面処理剤によって基材の表面に撥水撥油性を付与すると、基材の表面の汚れを拭き取りやすくなり、汚れの除去性が向上する。上記含フッ素化合物の中でも、フルオロアルキレン鎖の途中にエーテル結合(-O-)が存在するポリ(オキシフルオロアルキレン)鎖を有する含フッ素エーテル化合物は、柔軟性に優れる化合物であり、特に油脂等の汚れの除去性に優れる。
 たとえば、特許文献1には、ポリ(オキシフルオロアルキレン)鎖を有する含フッ素エーテル化合物を用いて撥水撥油層を形成した後、基材上に余剰に付着している含フッ素化合物やこれを由来とする成分を除去するために、有機溶媒によって撥水撥油層を拭き取ることが開示されている。
Fluorine-containing compounds are preferably used as surface treatment agents because they exhibit high lubricity, water and oil repellency, and the like. When water and oil repellency is imparted to the surface of the base material by the surface treatment agent, it becomes easy to wipe off the dirt on the surface of the base material, and the dirt removal property is improved. Among the above-mentioned fluorine-containing compounds, the fluorine-containing ether compound having a poly (oxyfluoroalkylene) chain in which an ether bond (—O—) is present in the middle of the fluoroalkylene chain is a compound having excellent flexibility, and particularly, such as fats and oils. Excellent in removing dirt.
For example, Patent Document 1 describes a fluorine-containing compound that is excessively adhered to a base material after forming a water-repellent oil-repellent layer using a fluorine-containing ether compound having a poly (oxyfluoroalkylene) chain, or derived from the fluorine-containing compound. It is disclosed that the water- and oil-repellent layer is wiped off with an organic solvent in order to remove the components.
特開2018-193548号公報JP-A-2018-193548
 近年、含フッ素化合物を用いて形成された撥水撥油層に対する要求性能が高くなっており、たとえば、撥水撥油層が指で触れる面を構成する部材に適用される場合には、表面に付着した指紋を拭き取りによって容易に除去できる性能(指紋除去性)に優れる撥水撥油層が求められる。
 本発明者らが特許文献1に記載の撥水撥油層を評価したところ、指紋除去性に改良の余地があることを知見した。
In recent years, the required performance for a water-repellent oil-repellent layer formed by using a fluorine-containing compound has been increased. For example, when the water-repellent oil-repellent layer is applied to a member constituting a surface to be touched by a finger, it adheres to the surface. A water- and oil-repellent layer having excellent performance (fingerprint removal property) that can be easily removed by wiping off the fingerprints is required.
When the present inventors evaluated the water-repellent and oil-repellent layer described in Patent Document 1, they found that there was room for improvement in fingerprint removability.
 そこで、本発明は、指紋除去性に優れた撥水撥油層を有する撥水撥油層付き基材の提供を課題とする。 Therefore, an object of the present invention is to provide a base material with a water-repellent oil-repellent layer having a water-repellent oil-repellent layer having excellent fingerprint removing properties.
 本発明者らは、上記課題について鋭意検討した結果、基材と、基材の主表面に配置された含フッ素化合物の縮合物を含む撥水撥油層と、を有する撥水撥油層付き基材において、所定の方法にしたがって算出されるフッ素量余剰分が2以上である撥水撥油層を用いれば、撥水撥油層の指紋除去性に優れることを見出し、本発明に至った。 As a result of diligent studies on the above problems, the present inventors have made a base material with a water-repellent oil-repellent layer having a base material and a water-repellent oil-repellent layer containing a condensate of a fluorine-containing compound arranged on the main surface of the base material. In the present invention, it has been found that if a water-repellent oil-repellent layer having a surplus fluorine amount of 2 or more calculated according to a predetermined method is used, the water-repellent oil-repellent layer is excellent in fingerprint removal property, and the present invention has been made.
 すなわち、発明者らは、以下の構成により上記課題が解決できることを見出した。
[1]基材と、前記基材の主表面に配置された含フッ素化合物の縮合物を含む撥水撥油層と、を有する撥水撥油層付き基材であって、下記方法で算出される前記撥水撥油層のフッ素量余剰分が2以上であることを特徴とする、撥水撥油層付き基材。
(フッ素量余剰分の算出方法)
 蛍光X線分析装置(リガク社製、ZSX100e)を用い、測定径:30mm、測定線:F-Kα、フィルタ:OUT、スリット:標準、分光結晶:RX35(リガク社製)、検出器:PC、PHA:100-300、ピーク角度:38.794deg.(20sec)、B.G.角度:43.000deg.(10sec)の条件で測定される、前記撥水撥油層付き基材の前記撥水撥油層中のフッ素原子強度F1と、前記撥水撥油層付き基材の前記撥水撥油層の表面を、アサヒクリン(登録商標)AE-3000(AGC社製)で湿潤させたキムワイプ(登録商標)で100回拭いた後の前記撥水撥油層付き基材の前記撥水撥油層中のフッ素原子強度F2から、下式(I)によりフッ素量余剰分を算出する。
 フッ素量余剰分=(F1-F2)/F2×100   (I)
That is, the inventors have found that the above problem can be solved by the following configuration.
[1] A base material with a water-repellent oil-repellent layer having a base material and a water-repellent oil-repellent layer containing a condensate of a fluorine-containing compound arranged on the main surface of the base material, which is calculated by the following method. A base material with a water-repellent oil-repellent layer, characterized in that the excess amount of fluorine in the water-repellent oil-repellent layer is 2 or more.
(Calculation method for excess fluorine)
Using a fluorescent X-ray analyzer (Rigaku, ZSX100e), measurement diameter: 30 mm, measurement line: FKα, filter: OUT, slit: standard, spectroscopic crystal: RX35 (Rigaku), detector: PC, PHA: 100-300, peak angle: 38.794 deg. (20 sec), B.I. G. Angle: 43.000 deg. The fluorine atomic strength F1 in the water-repellent oil-repellent layer of the base material with the water-repellent oil-repellent layer and the surface of the water-repellent oil-repellent layer of the base material with the water-repellent oil-repellent layer measured under the condition of (10 sec). Fluorine atomic strength F2 in the water-repellent oil-repellent layer of the base material with the water-repellent oil-repellent layer after wiping 100 times with Kimwipe (registered trademark) moistened with Asahiclean (registered trademark) AE-3000 (manufactured by AGC). Therefore, the excess fluorine amount is calculated by the following formula (I).
Fluorine surplus = (F1-F2) / F2 × 100 (I)
[2]前記フッ素量余剰分が5以上である、[1]の撥水撥油層付き基材。
[3]前記フッ素量余剰分が400以下である、[1]または[2]の撥水撥油層付き基材。
[4]前記フッ素量余剰分が200以下である、[1]または[2]の撥水撥油層付き基材。
[5]前記含フッ素化合物が、ポリ(オキシフルオロアルキレン)鎖と、反応性シリル基とを有する、[1]~[4]のいずれかの撥水撥油層付き基材。
[6]前記含フッ素化合物が、反応性シリル基を2以上有する、[5]の撥水撥油層付き基材。
[7]前記含フッ素化合物が、前記ポリ(オキシフルオロアルキレン)鎖の両末端側に前記反応性シリル基を有する、[6]の撥水撥油層付き基材。
[2] The base material with a water-repellent oil-repellent layer according to [1], wherein the excess amount of fluorine is 5 or more.
[3] The base material with a water-repellent oil-repellent layer according to [1] or [2], wherein the excess amount of fluorine is 400 or less.
[4] The base material with a water-repellent oil-repellent layer according to [1] or [2], wherein the excess amount of fluorine is 200 or less.
[5] The substrate with a water-repellent oil-repellent layer according to any one of [1] to [4], wherein the fluorine-containing compound has a poly (oxyfluoroalkylene) chain and a reactive silyl group.
[6] The base material with a water- and oil-repellent layer according to [5], wherein the fluorine-containing compound has two or more reactive silyl groups.
[7] The base material with a water-repellent oil-repellent layer according to [6], wherein the fluorine-containing compound has the reactive silyl groups on both terminal sides of the poly (oxyfluoroalkylene) chain.
[8]前記ポリ(オキシフルオロアルキレン)鎖の両末端側に前記反応性シリル基が位置する前記化合物が、式(3-2)で表される化合物である、[7]の撥水撥油層付き基材。
  [L3-n(R)Si-]k212-(OX)-Y11[-Si(R)3-ng2  (3-2)
 ただし、式(3-2)において、
 Xは、1個以上のフッ素原子を有するフルオロアルキレン基であり、
 mは、2以上の整数であり、
 Y11は、(g2+1)価の連結基であり、
 Y12は、(k2+1)価の連結基であり、
 Rは、1価の炭化水素基であり、
 Lは、加水分解性基または水酸基であり、
 nは、0~2の整数であり、
 g2は、1以上の整数であり、
 k2は、1以上の整数である。
[8] The water- and oil-repellent layer of [7], wherein the compound in which the reactive silyl group is located on both terminal sides of the poly (oxyfluoroalkylene) chain is a compound represented by the formula (3-2). With base material.
[L 3-n (R) n Si-] k2 Y 12 - (OX) m -Y 11 [-Si (R) n L 3-n] g2 (3-2)
However, in equation (3-2),
X is a fluoroalkylene group having one or more fluorine atoms.
m is an integer greater than or equal to 2
Y 11 is a linking group of (g2 + 1) valence,
Y 12 is a linking group of (k2 + 1) valence,
R is a monovalent hydrocarbon group and
L is a hydrolyzable group or a hydroxyl group,
n is an integer of 0 to 2 and
g2 is an integer greater than or equal to 1 and
k2 is an integer of 1 or more.
[9]前記含フッ素化合物が、前記ポリ(オキシフルオロアルキレン)鎖の片末端側に前記反応性シリル基2以上を有する、[6]の撥水撥油層付き基材。
[10]前記含フッ素化合物の数平均分子量(Mn)が、1,000~20,000である、[1]~[9]のいずれかの撥水撥油層付き基材。
[11]前記含フッ素化合物の縮合物が、ポリ(オキシフルオロアルキレン)鎖の両末端側に反応性シリル基を有する化合物とポリ(オキシフルオロアルキレン)鎖の片末端側のみに反応性シリル基を有する含フッ素化合物とを含む混合物の縮合物である、[5]の撥水撥油層付き基材。
[12]前記ポリ(オキシフルオロアルキレン)鎖の片末端側のみに反応性シリル基を有する含フッ素化合物が、2以上の反応性シリル基を有する含フッ素化合物である、[11]の撥水撥油層付き基材。
[9] The base material with a water-repellent oil-repellent layer according to [6], wherein the fluorine-containing compound has two or more reactive silyl groups on one end side of the poly (oxyfluoroalkylene) chain.
[10] The base material with a water-repellent oil-repellent layer according to any one of [1] to [9], wherein the number average molecular weight (Mn) of the fluorine-containing compound is 1,000 to 20,000.
[11] The condensate of the fluorine-containing compound has a compound having a reactive silyl group on both terminal sides of the poly (oxyfluoroalkylene) chain and a reactive silyl group on only one terminal side of the poly (oxyfluoroalkylene) chain. The base material with a water-repellent and oil-repellent layer according to [5], which is a condensate of a mixture containing a fluorine-containing compound having.
[12] The water-repellent repellency of [11], wherein the fluorine-containing compound having a reactive silyl group only on one terminal side of the poly (oxyfluoroalkylene) chain is a fluorine-containing compound having two or more reactive silyl groups. Base material with oil layer.
 本発明によれば、指紋除去性に優れた撥水撥油層を有する撥水撥油層付き基材を提供できる。 According to the present invention, it is possible to provide a base material with a water-repellent oil-repellent layer having a water-repellent oil-repellent layer having excellent fingerprint removing properties.
 本明細書において、式(1)で表される繰り返し単位を単位(1)と記す。他の式で表される繰り返し単位も同様に記す。式(2)で表される基を基(2)と記す。他の式で表される基も同様に記す。式(3)で表される化合物を化合物(3)と記す。他の式で表される化合物も同様に記す。
 本明細書において、「アルキレン基がA基を有していてもよい」という場合、アルキレン基は、アルキレン基中の炭素-炭素原子間にA基を有していてもよいし、アルキレン基-A基-のように末端にA基を有していてもよい。
In the present specification, the repeating unit represented by the formula (1) is referred to as a unit (1). Repeat units expressed by other formulas are also described in the same manner. The group represented by the formula (2) is referred to as the group (2). The groups represented by other formulas are also described in the same manner. The compound represented by the formula (3) is referred to as compound (3). Compounds represented by other formulas are also described in the same manner.
In the present specification, when "the alkylene group may have an A group", the alkylene group may have an A group between carbon atoms in the alkylene group, or the alkylene group-. It may have an A group at the end, such as A group.
 本発明における用語の意味は以下の通りである。
 「2価のオルガノポリシロキサン残基」とは、下式で表される基である。下式におけるRは、アルキル基(好ましくは炭素数1~10のもの)、または、フェニル基である。また、g1は、1以上の整数であり、1~9であるのが好ましく、1~4であるのが特に好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
The meanings of the terms in the present invention are as follows.
The "divalent organopolysiloxane residue" is a group represented by the following formula. R x in the following formula is an alkyl group (preferably one having 1 to 10 carbon atoms) or a phenyl group. Further, g1 is an integer of 1 or more, preferably 1 to 9, and particularly preferably 1 to 4.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
 「シルフェニレン骨格基」とは、-Si(RPhSi(R-(ただし、Phはフェニレン基であり、Rは1価の有機基である。)で表される基である。Rとしては、アルキル基(好ましくは炭素数1~10のもの)が好ましい。
 「ジアルキルシリレン基」は、-Si(R-(ただし、Rはアルキル基(好ましくは炭素数1~10のもの)である。)で表される基である。
 化合物の「数平均分子量」は、H-NMRおよび19F-NMRによって、末端基を基準にしてオキシフルオロアルキレン基の数(平均値)を求めることによって算出される。 
The “silphenylene skeleton group” is a group represented by −Si (R y ) 2 PhSi (R y ) 2- (where Ph is a phenylene group and R y is a monovalent organic group). Is. As R y , an alkyl group (preferably one having 1 to 10 carbon atoms) is preferable.
A "dialkylsilylene group" is a group represented by -Si (R z ) 2- (where R z is an alkyl group (preferably one having 1 to 10 carbon atoms)).
The "number average molecular weight" of a compound is calculated by determining the number (mean value) of oxyfluoroalkylene groups with respect to the terminal groups by 1 H-NMR and 19 F-NMR.
[撥水撥油層付き基材]
 本発明の撥水撥油層付き基材は、基材と、上記基材の主表面に配置された含フッ素化合物の縮合物を含む撥水撥油層と、を有する撥水撥油層付き基材であって、後述の方法で算出される上記撥水撥油層のフッ素量余剰分が2以上である。
 以下の説明において、基材のうち他の物品や人の手指を接触させて使用することがある、および/または、操作時に人の手指で持つことがある、主たる表面であって撥水撥油層が配置された表面を「主表面」という。主表面は平面に限定されない。
[Base material with water and oil repellent layer]
The base material with a water-repellent oil-repellent layer of the present invention is a base material with a water-repellent oil-repellent layer having a base material and a water-repellent oil-repellent layer containing a condensate of a fluorine-containing compound arranged on the main surface of the base material. Therefore, the excess amount of fluorine in the water-repellent oil-repellent layer calculated by the method described later is 2 or more.
In the following description, a water- and oil-repellent layer that is the main surface of the base material that may be used in contact with other articles or human fingers and / or may be held by human fingers during operation. The surface on which is placed is called the "main surface". The main surface is not limited to a flat surface.
 本発明の撥水撥油層付き基材は、撥水撥油層の指紋除去性に優れる。この理由の詳細は明らかになっていないが、以下の理由によると推測される。
 含フッ素化合物を用いて撥水撥油層の形成した場合、含フッ素化合物を由来とする基材と結合していない成分(たとえば、未反応の含フッ素化合物や含フッ素化合物の縮合物。以下、「余剰成分」ともいう。)等が撥水撥油層に存在することがある。従来、余剰成分が撥水撥油層の性能を低下させると考えられていたので、撥水撥油層を有機溶媒等で充分に洗浄して、余剰成分を除去していた。
 しかしながら、本発明者らは、余剰成分がある程度存在していれば(すなわち、フッ素量余剰分が2以上であること)、撥水撥油層の指紋除去性がより向上することを見出した。
The base material with a water- and oil-repellent layer of the present invention is excellent in fingerprint removal of the water- and oil-repellent layer. The details of this reason have not been clarified, but it is presumed to be due to the following reasons.
When a water- and oil-repellent layer is formed using a fluorine-containing compound, a component that is not bonded to a substrate derived from the fluorine-containing compound (for example, an unreacted fluorine-containing compound or a condensate of a fluorine-containing compound. Hereinafter, " (Also referred to as "surplus component") and the like may be present in the water- and oil-repellent layer. Conventionally, it has been considered that the surplus component deteriorates the performance of the water-repellent oil-repellent layer. Therefore, the water-repellent oil-repellent layer is sufficiently washed with an organic solvent or the like to remove the surplus component.
However, the present inventors have found that the fingerprint removability of the water-repellent oil-repellent layer is further improved if the surplus component is present to some extent (that is, the fluorine amount surplus is 2 or more).
(基材)
 基材は、他の物品(たとえば、スタイラス)や人の手指を接触させて使用することがある基材、操作時に人の手指で持つことがある基材、および/または、他の物品(たとえば、載置台)の上に置くことがある基材であって、撥水撥油性の付与が求められている基材であれば特に限定されない。基材の材料の具体例としては、金属、樹脂、ガラス、サファイア、セラミック、石、および、これらの複合材料が挙げられる。ガラスは化学強化されていてもよい。
 基材としては、タッチパネル用基材およびディスプレイ基材が好ましく、タッチパネル用基材が特に好ましい。タッチパネル用基材は、透光性を有するのが好ましい。「透光性を有する」とは、JIS R3106:1998(ISO 9050:1990)に準じた垂直入射型可視光透過率が25%以上であるのを意味する。タッチパネル用基材の材料としては、ガラスおよび透明樹脂が好ましい。
 また基材としては、建材、装飾建材、インテリア、輸送機器(たとえば、自動車)、看板・掲示、飲用器・食器、水槽、観賞用器具(たとえば、額、箱)、実験器具、家具、アート・スポーツ・ゲームに使用する、ガラスまたは樹脂フィルム、および、携帯電話(たとえば、スマートフォン)、携帯情報端末、ゲーム機、リモコン等の機器における外装部分(表示部を除く)に使用する、ガラスシートまたは樹脂フィルム、も好ましい。
(Base material)
The substrate may be another article (eg, a stylus) or a substrate that may be used in contact with a human finger, a substrate that may be held by a human finger during operation, and / or another article (eg, a stylus). , A base material that may be placed on a mounting table) and is not particularly limited as long as it is a base material that is required to be provided with water and oil repellency. Specific examples of the material of the base material include metal, resin, glass, sapphire, ceramic, stone, and composite materials thereof. The glass may be chemically strengthened.
As the base material, a touch panel base material and a display base material are preferable, and a touch panel base material is particularly preferable. The base material for the touch panel preferably has translucency. “Having translucency” means that the vertically incident visible light transmittance according to JIS R3106: 1998 (ISO 9050: 1990) is 25% or more. Glass and transparent resin are preferable as the material of the base material for the touch panel.
The base materials include building materials, decorative building materials, interiors, transportation equipment (for example, automobiles), signs / notices, drinkers / tableware, water tanks, ornamental equipment (for example, forehead, boxes), laboratory equipment, furniture, art / Glass or resin film used for sports games, and glass sheet or resin used for exterior parts (excluding display parts) of devices such as mobile phones (for example, smartphones), mobile information terminals, game machines, and remote controls. Films are also preferred.
 撥水撥油層は、基材の主表面上に直接形成されてもよいし、基材の主表面に形成された他の膜を介して基材上に形成されてもよい。上記他の膜の具体例としては、国際公開第2011/016458号の段落0089~0095に記載の化合物やSiO等で基材を下地処理して、基材の主表面に形成される下地膜が挙げられる。 The water- and oil-repellent layer may be formed directly on the main surface of the base material, or may be formed on the base material via another film formed on the main surface of the base material. As a specific example of the above other film, a base film formed on the main surface of the base material by subjecting the base material with the compound described in paragraphs 0008 to 0905 of International Publication No. 2011/016458, SiO 2 or the like. Can be mentioned.
(撥水撥油層)
 下記方法で算出される撥水撥油層のフッ素量余剰分は、2以上であり、撥水撥油層の指紋除去性がより優れる点で、10以上であるのが好ましく、20以上であるのが特に好ましい。
 撥水撥油層のフッ素量余剰分の上限としては、400以下が好ましく、300以下がより好ましく、200以下がさらに好ましく、150以下が特に好ましい。フッ素量余剰分の上限が400以下であれば、撥水撥油層の透明性が高くなるので、撥水撥油層の外観が優れる。
 撥水撥油層におけるフッ素量余剰分は、撥水撥油層を形成する際の成膜条件(たとえば、ウェットコーティング法における乾燥条件、ドライコーティング法における蒸着条件、ウェットコーティング法およびドライコーティング法における加熱、加湿、光照射等の後処理条件、含フッ素化合物の塗布量)や、撥水撥油層の洗浄条件(たとえば、洗浄に使用する有機溶媒の種類、有機溶媒で湿潤させた布による拭き取り回数、布による拭き取り時の圧力)によって調節できる。
(Water and oil repellent layer)
The excess fluorine content of the water-repellent oil-repellent layer calculated by the following method is 2 or more, and is preferably 10 or more, preferably 20 or more, in that the fingerprint-removing property of the water-repellent oil-repellent layer is more excellent. Especially preferable.
The upper limit of the excess amount of fluorine in the water- and oil-repellent layer is preferably 400 or less, more preferably 300 or less, further preferably 200 or less, and particularly preferably 150 or less. When the upper limit of the excess fluorine amount is 400 or less, the transparency of the water-repellent oil-repellent layer becomes high, so that the appearance of the water-repellent oil-repellent layer is excellent.
The excess amount of fluorine in the water-repellent oil-repellent layer is determined by the film forming conditions (for example, drying conditions in the wet coating method, vapor deposition conditions in the dry coating method, heating in the wet coating method and the dry coating method) when forming the water-repellent oil-repellent layer. Post-treatment conditions such as humidification and light irradiation, application amount of fluorine-containing compound), cleaning conditions of water- and oil-repellent layer (for example, type of organic solvent used for cleaning, number of wipes with cloth moistened with organic solvent, cloth It can be adjusted by the pressure when wiping with.
 撥水撥油層におけるフッ素量余剰分の算出方法は、次の通りである。
 蛍光X線分析装置(リガク社製、ZSX100e)を用い、測定径:30mm、測定線:F-Kα、フィルタ:OUT、スリット:標準、分光結晶:RX35(リガク社製)、検出器:PC、PHA:100-300、ピーク角度:38.794deg.(20sec)、B.G.角度:43.000deg.(10sec)の条件で測定される、撥水撥油層付き基材の撥水撥油層中のフッ素原子強度F1と、撥水撥油層付き基材の撥水撥油層の表面を、アサヒクリン(登録商標)AE-3000(AGC社製)で湿潤させたキムワイプ(登録商標)で100回拭いた後の撥水撥油層付き基材の撥水撥油層中のフッ素原子強度F2から、下式(I)によりフッ素量余剰分を算出する。
 フッ素量余剰分=(F1-F2)/F2×100   (I)
The method for calculating the excess amount of fluorine in the water- and oil-repellent layer is as follows.
Using a fluorescent X-ray analyzer (Rigaku, ZSX100e), measurement diameter: 30 mm, measurement line: FKα, filter: OUT, slit: standard, spectroscopic crystal: RX35 (Rigaku), detector: PC, PHA: 100-300, peak angle: 38.794 deg. (20 sec), B.I. G. Angle: 43.000 deg. The fluorine atomic strength F1 in the water-repellent oil-repellent layer of the base material with the water-repellent oil-repellent layer and the surface of the water-repellent oil-repellent layer of the base material with the water-repellent oil-repellent layer measured under the condition of (10 sec) are registered with Asahiclean. From the fluorine atomic strength F2 in the water-repellent oil-repellent layer of the base material with the water-repellent oil-repellent layer after wiping 100 times with Kimwipe (registered trademark) moistened with AE-3000 (manufactured by AGC), the following formula (I) ) To calculate the excess fluorine amount.
Fluorine surplus = (F1-F2) / F2 × 100 (I)
 アサヒクリン(登録商標)AE-3000(AGC社製)は、1,1,2,2-テトラフルオロエチル-2,2,2-トリフルオロエチルエーテル(CFCHOCFCFH、フッ素系有機溶媒)である。
 キムワイプ(登録商標)はパルプ紙であり、キムワイプ(登録商標)S-200(日本製紙クレシア社製)を用いるのが好ましい。
Asahiclean (registered trademark) AE-3000 (manufactured by AGC) is 1,1,2,2-tetrafluoroethyl-2,2,2-trifluoroethyl ether (CF 3 CH 2 OCF 2 CF 2 H, fluorine). System organic solvent).
Kimwipe (registered trademark) is pulp paper, and it is preferable to use Kimwipe (registered trademark) S-200 (manufactured by Nippon Paper Crecia).
 キムワイプを溶媒で膨潤する手順の具体例としては、AE-3000中にキムワイプを3分間浸漬させた後、キムワイプを取り出する方法が挙げられる。
 フッ素量余剰分の算出方法において、撥水撥油層を拭く操作は、キムワイプに0.98~490Nの範囲の荷重をかけて実施するのが好ましく、キムワイプに9.8~98Nの範囲の荷重をかけて実施するのがより好ましく、キムワイプに20~98Nの範囲の荷重をかけて実施するのが特に好ましい。
 フッ素量余剰分の算出方法において、撥水撥油層の拭く操作は、湿度60%RH、室温(23℃)の環境下で実施するのが好ましい。
Specific examples of the procedure for swelling the Kimwipe with a solvent include a method in which the Kimwipe is immersed in AE-3000 for 3 minutes and then the Kimwipe is taken out.
In the method for calculating the excess fluorine amount, the operation of wiping the water-repellent oil-repellent layer is preferably carried out by applying a load in the range of 0.98 to 490N to the Kimwipe, and applying a load in the range of 9.8 to 98N to the Kimwipe. It is more preferable to carry out by applying a load in the range of 20 to 98N to the Kimwipe.
In the method for calculating the excess fluorine amount, the operation of wiping the water-repellent oil-repellent layer is preferably performed in an environment of a humidity of 60% RH and a room temperature (23 ° C.).
 フッ素量余剰分の算出方法において、撥水撥油層を拭いた後、撥水撥油層を充分に乾燥させて、撥水撥油層付き基材を室温(23℃)に戻した後に、フッ素原子強度F2を測定するのが好ましい。
 撥水撥油層の乾燥は、撥水撥油層に付着したフッ素系有機溶媒が充分に蒸発する条件で実施すればよい。具体的には、乾燥温度は、60~200℃(好ましくは150℃)が好ましく、乾燥時間は、20~120分(好ましくは45分)が好ましい。
In the method for calculating the excess amount of fluorine, after wiping the water- and oil-repellent layer, the water- and oil-repellent layer is sufficiently dried, and the base material with the water- and oil-repellent layer is returned to room temperature (23 ° C.), and then the fluorine atom strength It is preferable to measure F2.
The water- and oil-repellent layer may be dried under the condition that the fluorine-based organic solvent adhering to the water- and oil-repellent layer is sufficiently evaporated. Specifically, the drying temperature is preferably 60 to 200 ° C. (preferably 150 ° C.), and the drying time is preferably 20 to 120 minutes (preferably 45 minutes).
 フッ素原子強度F1およびフッ素原子強度F2の測定は、湿度60%RH、室温(23℃)の環境下で実施するのが好ましい。 The fluorine atomic strength F1 and the fluorine atomic strength F2 are preferably measured in an environment with a humidity of 60% RH and a room temperature (23 ° C.).
<含フッ素化合物>
 撥水撥油層は、含フッ素化合物の縮合物を含む。含フッ素化合物は、2種以上を併用してもよい。
 含フッ素化合物は、縮合可能な基を有していれば特に限定されないが、撥水撥油層の指紋除去性および撥水撥油性がより優れる点で、ポリ(オキシフルオロアルキレン)鎖と反応性シリル基とを有する化合物であるのが好ましい。
 なかでも、撥水撥油層の形成には、撥水撥油層の指紋除去性がより優れる点で、反応シリル基を複数有し、ポリ(オキシフルオロアルキレン)鎖の両末端側に反応性シリル基が位置する含フッ素化合物(たとえば、後述の式(3-2)で表される化合物)を用いるのが好ましく、ポリ(オキシフルオロアルキレン)鎖の両末端側に反応性シリル基が位置する化合物(たとえば、後述の式(3-2)で表される化合物)と、ポリ(オキシフルオロアルキレン)鎖の片末端側のみに反応性シリル基が位置する含フッ素化合物(たとえば、後述の式(3-1)で表される化合物)と、を含む含フッ素化合物の混合物を用いるのが特に好ましい。
<Fluorine-containing compound>
The water- and oil-repellent layer contains a condensate of a fluorine-containing compound. Two or more kinds of fluorine-containing compounds may be used in combination.
The fluorine-containing compound is not particularly limited as long as it has a condensable group, but the poly (oxyfluoroalkylene) chain and the reactive silyl in that the water-repellent oil-repellent layer has better fingerprint-removing property and water-repellent oil-repellent property. It is preferably a compound having a group.
Among them, in the formation of the water-repellent oil-repellent layer, the water-repellent oil-repellent layer has a plurality of reactive silyl groups in that the fingerprint-removing property of the water-repellent oil-repellent layer is more excellent. It is preferable to use a fluorine-containing compound in which is located (for example, a compound represented by the formula (3-2) described later), and a compound in which reactive silyl groups are located on both terminal sides of a poly (oxyfluoroalkylene) chain (for example, For example, a compound represented by the formula (3-2) described later) and a fluorine-containing compound in which a reactive silyl group is located only on one terminal side of the poly (oxyfluoroalkylene) chain (for example, the compound represented by the formula (3-2) described later). It is particularly preferable to use a mixture of the compound represented by 1) and the fluorine-containing compound containing.
 反応性シリル基とは、加水分解性シリル基およびシラノール基(Si-OH)を意味する。加水分解性シリル基の具体例としては、後述の式(2)で表される基のLが加水分解性基である基が挙げられる。
 加水分解性シリル基は、加水分解反応によりSi-OHで表されるシラノール基となる。シラノール基は、さらにシラノール基間で脱水縮合反応してSi-O-Si結合を形成する。また、シラノール基は、基材や下地層に含まれ得るシラノール基と脱水縮合反応してSi-O-Si結合を形成できる。すなわち、反応性シリル基を有する含フッ素化合物を撥水撥油層の形成に用いた場合、撥水撥油層は、含フッ素化合物の反応性シリル基の一部または全部が加水分解反応および脱水縮合反応した縮合物を含む。
The reactive silyl group means a hydrolyzable silyl group and a silanol group (Si—OH). Specific examples of the hydrolyzable silyl group include a group in which L of the group represented by the formula (2) described later is a hydrolyzable group.
The hydrolyzable silyl group becomes a silanol group represented by Si-OH by the hydrolysis reaction. The silanol groups further undergo a dehydration condensation reaction between the silanol groups to form a Si—O—Si bond. Further, the silanol group can form a Si—O—Si bond by a dehydration condensation reaction with a silanol group that can be contained in the base material or the base layer. That is, when a fluorine-containing compound having a reactive silyl group is used for forming a water-repellent oil-repellent layer, a part or all of the reactive silyl group of the fluorine-containing compound is hydrolyzed and dehydrated and condensed in the water-repellent oil-repellent layer. Contains the condensate.
 ポリ(オキシフルオロアルキレン)鎖は、下式(1)で表される単位を複数含む。
 (OX)  (1)
The poly (oxyfluoroalkylene) chain contains a plurality of units represented by the following formula (1).
(OX) (1)
 Xは、1個以上のフッ素原子を有するフルオロアルキレン基である。
 フルオロアルキレン基の炭素数は、撥水撥油層の耐候性および耐食性がより優れる点から、1~6が好ましく、2~4が特に好ましい。
 フルオロアルキレン基は、直鎖状、分岐鎖状および環状のいずれであってもよい。
 フルオロアルキレン基におけるフッ素原子の数としては、撥水撥油層の耐食性がより優れる点から、炭素原子の数の1~2倍が好ましく、1.7~2倍が特に好ましい。
 フルオロアルキレン基としては、フルオロアルキレン基中のすべての水素原子がフッ素原子に置換された基(ペルフルオロアルキレン基)が好ましい。
X is a fluoroalkylene group having one or more fluorine atoms.
The number of carbon atoms of the fluoroalkylene group is preferably 1 to 6 and particularly preferably 2 to 4 from the viewpoint of more excellent weather resistance and corrosion resistance of the water- and oil-repellent layer.
The fluoroalkylene group may be linear, branched or cyclic.
The number of fluorine atoms in the fluoroalkylene group is preferably 1 to 2 times the number of carbon atoms, and particularly preferably 1.7 to 2 times, from the viewpoint of more excellent corrosion resistance of the water- and oil-repellent layer.
As the fluoroalkylene group, a group in which all hydrogen atoms in the fluoroalkylene group are substituted with fluorine atoms (perfluoroalkylene group) is preferable.
 (OX)の具体例としては、-OCHF-、-OCFCHF-、-OCHFCF-、-OCFCH-、-OCHCF-、-OCFCFCHF-、-OCHFCFCF-、-OCFCFCH-、-OCHCFCF-、-OCFCFCFCH-、-OCHCFCFCF-、-OCFCFCFCFCH-、-OCHCFCFCFCF-、-OCFCFCFCFCFCH-、-OCHCFCFCFCFCF-、-OCF-、-OCFCF-、-OCFCFCF-、-OCF(CF)CF-、-OCFCFCFCF-、-OCF(CF)CFCF-、-OCFCFCFCFCF-、-OCFCFCFCFCFCF-、-O-cycloC-、-O-cycloC-、-O-cycloC10-が挙げられる。
 ここで、-cycloC-は、ペルフルオロシクロブタンジイル基を意味し、その具体例としては、ペルフルオロシクロブタン-1,2-ジイル基が挙げられる。-cycloC-は、ペルフルオロシクロペンタンジイル基を意味し、その具体例としては、ペルフルオロシクロペンタン-1,3-ジイル基が挙げられる。-cycloC10-は、ペルフルオロシクロヘキサンジイル基を意味し、その具体例としては、ペルフルオロシクロヘキサン-1,4-ジイル基が挙げられる。
Specific examples of the (OX) is, -OCHF -, - OCF 2 CHF -, - OCHFCF 2 -, - OCF 2 CH 2 -, - OCH 2 CF 2 -, - OCF 2 CF 2 CHF -, - OCHFCF 2 CF 2- , -OCF 2 CF 2 CH 2- , -OCH 2 CF 2 CF 2- , -OCF 2 CF 2 CF 2 CH 2- , -OCH 2 CF 2 CF 2 CF 2- , -OCF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CH 2- , -OCH 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2- , -OCF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CH 2- , -OCH 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 -,- OCF 2- , -OCF 2 CF 2- , -OCF 2 CF 2 CF 2- , -OCF (CF 3 ) CF 2- , -OCF 2 CF 2 CF 2 CF 2- , -OCF (CF 3 ) CF 2 CF 2 -, - OCF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 -, - OCF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 -, - O-cycloC 4 F 6 -, - O-cycloC 5 F 8 -, - O-cycloC 6 F 10- can be mentioned.
Here, -cycloC 4 F 6- means a perfluorocyclobutane diyl group, and specific examples thereof include a perfluorocyclobutane-1,2-diyl group. -CycloC 5 F 8 - means a perfluoro cyclopentane-diyl group, and specific examples thereof include perfluoro cyclopentane-1,3-diyl group. -CycloC 6 F 10- means a perfluorocyclohexanediyl group, and specific examples thereof include a perfluorocyclohexane-1,4-diyl group.
 (OX)の繰り返し数mは、2以上の整数であり、2~200の整数がより好ましく、5~150の整数がさらに好ましく、5~100の整数が特に好ましく、10~50の整数が最も好ましい。
 (OX)は、2種以上の(OX)を含んでいてもよい。
 2種以上の(OX)の結合順序は限定されず、ランダム、交互、ブロックに配置されてもよい。
 2種以上の(OX)を含むとは、含フッ素化合物中において、炭素数の異なる2種以上の(OX)が存在すること、水素原子数が異なる2種以上の(OX)が存在すること、水素原子の位置が異なる2種以上の(OX)が存在すること、および、炭素数が同一であっても側鎖の有無や側鎖の種類(側鎖の数や側鎖の炭素数等)が異なる2種以上の(OX)が存在することをいう。
 2種以上の(OX)の配置については、たとえば、{(OCFm21(OCFCFm22}で表される構造は、m21個の(OCF)とm22個の(OCFCF)とがランダムに配置されていることを表す。また、(OCFCF-OCFCFCFCFm25で表される構造は、m25個の(OCFCF)とm25個の(OCFCFCFCF)とが交互に配置されていることを表す。
The number of repetitions m of (OX) is an integer of 2 or more, an integer of 2 to 200 is more preferable, an integer of 5 to 150 is further preferable, an integer of 5 to 100 is particularly preferable, and an integer of 10 to 50 is the most preferable. preferable.
(OX) m may contain two or more kinds of (OX).
The binding order of two or more types of (OX) is not limited, and may be arranged randomly, alternately, or in blocks.
Including two or more kinds of (OX) means that two or more kinds of (OX) having different carbon atoms are present in the fluorine-containing compound, and two or more kinds of (OX) having different hydrogen atom numbers are present. , There are two or more types of (OX) with different hydrogen atom positions, and even if the number of carbon atoms is the same, the presence or absence of side chains and the type of side chains (number of side chains, number of carbons in side chains, etc.) ) Is different, which means that there are two or more types of (OX).
The arrangement of two or more (OX), for example, {(OCF 2) m21 ( OCF 2 CF 2) m22} structure represented by the, m21 amino (OCF 2) and m22 amino (OCF 2 CF 2 ) and means that they are randomly arranged. Further, the structure represented by (OCF 2 CF 2 -OCF 2 CF 2 CF 2 CF 2) m25 is a m25 amino (OCF 2 CF 2) and m25 amino (OCF 2 CF 2 CF 2 CF 2) Indicates that they are arranged alternately.
 (OX)としては、[(OCHma(2-ma)m11・(OCmb(4-mb)m12・(OCmc(6-mc)m13・(OCmd(8-md)m14・(OCme(10-me)m15・(OCmf(12-mf)m16・(O-cycloCmg(6-mg)m17・(O-cycloCmh(8-mh)m18・(O-cycloCmi(10-mi)m19]が好ましい。ここで、-cycloCmg(6-mg)は、フルオロシクロブタン-ジイル基を表し、フルオロシクロブタン-1,2-ジイル基が好ましい。-cycloCmh(8-mh)は、フルオロシクロペンタンジイル基を表し、フルオロシクロペンタン-1,3-ジイル基が好ましい。-cycloCmi(10-mi)は、フルオロシクロヘキサンジイル基を表し、フルオロシクロヘキサン-1,4-ジイル基が好ましい。
 maは0または1であり、mbは0~3の整数であり、mcは0~5の整数であり、mdは0~7の整数であり、meは0~9の整数であり、mfは0~11の整数であり、mgは0~5の整数であり、mhは0~7の整数であり、miは0~9の整数である。
 m11、m12、m13、m14、m15、m16、m17、m18およびm19は、それぞれ独立に、0以上の整数であり、100以下が好ましい。
 m11+m12+m13+m14+m15+m16+m17+m18+m19は2以上の整数であり、2~200の整数がより好ましく、5~150の整数がより好ましく、5~100の整数がさらに好ましく、10~50の整数が特に好ましい。
 なかでも、m12は2以上の整数が好ましく、2~200の整数が特に好ましい。
 また、Cmc(6-mc)、Cmd(8-md)、Cme(10-me)およびCmf(12-mf)は、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよく、撥水撥油層の耐摩擦性がより優れる点から直鎖状が好ましい。
(OX) m is [(OCH ma F (2-ma) ) m11・ (OC 2 H mb F (4-mb) ) m12・ (OC 3 H mc F (6-mc) ) m13・ (OC) 4 H md F (8-md) ) m14・ (OC 5 H me F (10-me) ) m15・ (OC 6 H mf F (12-mf) ) m16・ (O-cycloC 4 H mg F (6) -Mg) ) m17 · (O-cycloC 5 H mh F (8-mh) ) m18 · (O-cycloC 6 H mi F (10-mi) ) m19 ] is preferable. Here, -cycloC 4 H mg F (6- mg) represents a fluorocyclobutane-diyl group, and a fluorocyclobutane-1,2-diyl group is preferable. -CycloC 5 H mh F (8-mh) represents a fluorocyclopentane diyl group, preferably a fluorocyclopentane-1,3-diyl group. -CycloC 6 H mi F (10-mi) represents a fluorocyclohexanediyl group, preferably a fluorocyclohexane-1,4-diyl group.
ma is 0 or 1, mb is an integer of 0 to 3, mc is an integer of 0 to 5, md is an integer of 0 to 7, me is an integer of 0 to 9, and mf is an integer of 0 to 9. It is an integer of 0 to 11, mg is an integer of 0 to 5, mh is an integer of 0 to 7, and mi is an integer of 0 to 9.
m11, m12, m13, m14, m15, m16, m17, m18 and m19 are each independently an integer of 0 or more, preferably 100 or less.
m11 + m12 + m13 + m14 + m15 + m16 + m17 + m18 + m19 are integers of 2 or more, preferably an integer of 2 to 200, more preferably an integer of 5 to 150, further preferably an integer of 5 to 100, and particularly preferably an integer of 10 to 50.
Among them, m12 is preferably an integer of 2 or more, and particularly preferably an integer of 2 to 200.
In addition, C 3 H mc F (6-mc) , C 4 H md F (8-md) , C 5 H me F (10-me) and C 6 H mf F (12-mf) are linear. However, it may have a branched chain shape, and a linear shape is preferable from the viewpoint of more excellent friction resistance of the water-repellent oil-repellent layer.
 なお、上記式は単位の種類とその数を表すものであり、単位の配列を表すものではない。すなわち、m11~m19は単位の数を表すものであり、たとえば、(OCHma(2-ma)m11は、(OCHma(2-ma))単位がm11個連続したブロックを表すものではない。同様に、(OCHma(2-ma))~(O-cycloCmi(10-mi))の記載順は、その記載順にそれらが配列していることを表すものではない。
 上記式において、m11~m19の2以上が0でない場合(すなわち、(OX)が2種以上の単位から構成されている場合)、異なる単位の配列は、ランダム配列、交互配列、ブロック配列およびそれら配列の組合せのいずれであってもよい。
 さらに、上記各単位も、また、その単位が2以上含まれている場合、それらの単位は異なっていてもよい。たとえば、m11が2以上の場合、複数の(OCHma(2-ma))は同一であっても異なっていてもよい。
The above equation represents the type of unit and its number, and does not represent an array of units. That is, m11 to m19 represent the number of units, for example, (OCH ma F (2-ma) ) m11 represents a block in which (OCH ma F (2-ma) ) units are m11 consecutive. is not. Similarly, the description order of (OCH ma F (2-ma) ) to (O-cycloC 6 H mi F (10-mi) ) does not indicate that they are arranged in the description order.
In the above equation, when 2 or more of m11 to m19 are not 0 (that is, when (OX) m is composed of two or more units), the sequences of different units are random sequences, alternating sequences, block sequences and It may be any combination of these sequences.
Further, each of the above units may also be different if the unit includes two or more units. For example, when m11 is 2 or more, a plurality of (OCH ma F (2-ma) ) may be the same or different.
 (OX)は、下記の構造を有するものが好ましい。
 {(OCFm21(OCFCFm22}、
 (OCFCFm23
 (OCFCFCFm24
 (OCFCF-OCFCFCFCFm25
 (OCFCFCFCFCFm26(OCFm27
 (OCFCFCFCFCFm26(OCFCFm27
 (OCFCFCFCFCFCFm26(OCFm27
 (OCFCFCFCFCFCFm26(OCFCFm27
 (OCFCFCFCFCF-OCFm28
 (OCFCFCFCFCF-OCFCFm28
 (OCFCFCFCFCFCF-OCFm28
 (OCFCFCFCFCFCF-OCFCFm28
 (OCF-OCFCFCFCFCFm28
 (OCF-OCFCFCFCFCFCFm28
 (OCFCF-OCFCFCFCFCFm28
 (OCFCF-OCFCFCFCFCFCFm28
 ただし、m21は1以上の整数であり、m22は1以上の整数であり、m21+m22は2~500の整数であり、m23およびm24はそれぞれ独立に、2~500の整数であり、m25は、1~250の整数であり、m26およびm27はそれぞれ独立に、1以上の整数であり、m26+m27は、2~500の整数であり、m28は、1~250の整数である。
(OX) m preferably has the following structure.
{(OCF 2) m21 (OCF 2 CF 2) m22},
(OCF 2 CF 2 ) m23 ,
(OCF 2 CF 2 CF 2 ) m24 ,
(OCF 2 CF 2 -OCF 2 CF 2 CF 2 CF 2) m25,
(OCF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 ) m26 (OCF 2 ) m27 ,
(OCF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 ) m26 (OCF 2 CF 2 ) m27 ,
(OCF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 ) m26 (OCF 2 ) m27 ,
(OCF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 ) m26 (OCF 2 CF 2 ) m27 ,
(OCF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 -OCF 2) m28,
(OCF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 -OCF 2 CF 2) m28,
(OCF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 -OCF 2) m28,
(OCF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 -OCF 2 CF 2) m28,
(OCF 2 -OCF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2) m28,
(OCF 2 -OCF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2) m28,
(OCF 2 CF 2 -OCF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2) m28,
(OCF 2 CF 2 -OCF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2) m28.
However, m21 is an integer of 1 or more, m22 is an integer of 1 or more, m21 + m22 is an integer of 2 to 500, m23 and m24 are independently integers of 2 to 500, and m25 is 1 It is an integer of ~ 250, m26 and m27 are each independently an integer of 1 or more, m26 + m27 is an integer of 2 to 500, and m28 is an integer of 1 to 250.
 (OX)は、化合物(1)を製造しやすい点から、下記の構造であるのがより好ましい。
 {(OCFm21(OCFCFm22}、
 (OCFCFCFm24
 (OCFCF{(OCFm21(OCFCFm22-2}、
 (OCFCF-OCFCFCFCFm25-1OCFCF
 (OCFCFCFCFCF-OCFm28
 (OCFCFCFCFCFCF-OCFm28
 (OCFCF-OCFCFCFCFCFm28-1OCFCF
 (OCFCF-OCFCFCFCFCFCFm28-1OCFCF
 ただし、m22-2、m25-1およびm28-1については、1以上の整数となるように、m22、m25およびm28の数が選択される。
 これらの中でも、撥水撥油層の耐摩擦性および指紋除去性がより優れる点から、(OX)は、{(OCFm21(OCFCFm22}であるのが好ましい。
 {(OCFm21(OCFCFm22}において、m22/m21は、撥水撥油層の耐摩擦性および指紋除去性がより優れる点から、0.1~10が好ましく、0.2~5.0がより好ましく、0.2~2.0がさらに好ましく、0.2~1.5が特に好ましく、0.2~0.85が最も好ましい。
(OX) m is more preferably having the following structure from the viewpoint that compound (1) can be easily produced.
{(OCF 2) m21 (OCF 2 CF 2) m22},
(OCF 2 CF 2 CF 2 ) m24 ,
(OCF 2 CF 2) 2 { (OCF 2) m21 (OCF 2 CF 2) m22-2},
(OCF 2 CF 2 -OCF 2 CF 2 CF 2 CF 2) m25-1 OCF 2 CF 2,
(OCF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 -OCF 2) m28,
(OCF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 -OCF 2) m28,
(OCF 2 CF 2 -OCF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2) m28-1 OCF 2 CF 2,
(OCF 2 CF 2 -OCF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2) m28-1 OCF 2 CF 2.
However, for m22-2, m25-1 and m28-1, the numbers of m22, m25 and m28 are selected so as to be an integer of 1 or more.
Among these, from the viewpoint of abrasion resistance and fingerprint removal of water- and oil-repellent layer is more excellent, (OX) m is, {(OCF 2) m21 ( OCF 2 CF 2) m22} a is preferably.
In {(OCF 2) m21 (OCF 2 CF 2) m22}, m22 / m21 from that abrasion resistance and fingerprint removal of water- and oil-repellent layer is more excellent, preferably 0.1 to 10, 0.2 ~ 5.0 is more preferable, 0.2 to 2.0 is further preferable, 0.2 to 1.5 is particularly preferable, and 0.2 to 0.85 is most preferable.
 (OX)の数平均分子量(Mn)は、1,000~20,000が好ましく、1,500~18,000がより好ましく、2,000~14,000が特に好ましい。
 Mnが1,000以上であれば、含フッ素化合物の分子鎖の流動性およびフッ素含有量が高くなるので、撥水撥油層の指紋除去性がより優れる。
The number average molecular weight (Mn) of (OX) m is preferably 1,000 to 20,000, more preferably 1,500 to 18,000, and particularly preferably 2,000 to 14,000.
When Mn is 1,000 or more, the fluidity of the molecular chain of the fluorine-containing compound and the fluorine content are high, so that the fingerprint removing property of the water- and oil-repellent layer is more excellent.
 反応性シリル基は、下式(2)で表される基が好ましい。
 -Si(R)3-n  (2)
The reactive silyl group is preferably a group represented by the following formula (2).
-Si (R) n L 3-n (2)
 含フッ素化合物が反応性シリル基(好ましくは、基(2))を有する場合、反応性シリル基の数は、1個以上が好ましく、撥水撥油層の耐摩擦性がより優れる点で、2個以上がより好ましく、4個以上がさらに好ましく、6個以上が特に好ましい。
 含フッ素化合物が反応性シリル基(好ましくは、基(2))を有する場合、反応性シリル基の数の上限としては、含フッ素化合物のフッ素含有量が高くなって指紋除去性がより優れる点で、25個が好ましく、18個がより好ましく、12個が特に好ましい。
 反応性シリル基が1分子中に複数ある場合、複数ある反応性シリル基は、同じであっても異なっていてもよい。原料の入手容易性や含フッ素化合物の製造容易性の点からは、互いに同じであることが好ましい。
When the fluorine-containing compound has a reactive silyl group (preferably group (2)), the number of reactive silyl groups is preferably one or more, and the water- and oil-repellent layer has more excellent abrasion resistance. More preferably, 4 or more are more preferable, and 6 or more are particularly preferable.
When the fluorine-containing compound has a reactive silyl group (preferably group (2)), the upper limit of the number of reactive silyl groups is that the fluorine content of the fluorine-containing compound is high and the fingerprint removability is more excellent. Therefore, 25 pieces are preferable, 18 pieces are more preferable, and 12 pieces are particularly preferable.
When there are a plurality of reactive silyl groups in one molecule, the plurality of reactive silyl groups may be the same or different. From the viewpoint of easy availability of raw materials and easy production of fluorine-containing compounds, they are preferably the same.
 Rは、1価の炭化水素基であり、1価の飽和炭化水素基が好ましい。Rの炭素数は、1~6が好ましく、1~3がより好ましく、1~2が特に好ましい。 R is a monovalent hydrocarbon group, preferably a monovalent saturated hydrocarbon group. The carbon number of R is preferably 1 to 6, more preferably 1 to 3, and particularly preferably 1 to 2.
 Lは、加水分解性基または水酸基である。
 Lの加水分解性基は、加水分解反応により水酸基となる基である。すなわち、Si-Lで表される加水分解性を有するシリル基は、加水分解反応によりSi-OHで表されるシラノール基となる。シラノール基は、さらにシラノール基間で反応してSi-O-Si結合を形成する。また、シラノール基は、下地層に含まれる酸化物に由来するシラノール基と脱水縮合反応して、Si-O-Si結合を形成できる。
L is a hydrolyzable group or a hydroxyl group.
The hydrolyzable group of L is a group that becomes a hydroxyl group by a hydrolyzing reaction. That is, the hydrolyzable silyl group represented by Si-L becomes a silanol group represented by Si-OH by the hydrolysis reaction. The silanol groups further react between the silanol groups to form a Si—O—Si bond. Further, the silanol group can form a Si—O—Si bond by undergoing a dehydration condensation reaction with a silanol group derived from an oxide contained in the underlying layer.
 Lの具体例としては、アルコキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子、アシル基、アシルオキシ基、イソシアナート基(-NCO)が挙げられる。アルコキシ基としては、炭素数1~4のアルコキシ基が好ましい。ハロゲン原子としては、塩素原子が好ましい。アシル基としては、炭素数1~6のアシル基が好ましい。アシルオキシ基としては、炭素数1~6のアシルオキシ基が好ましい。
 Lとしては、含フッ素化合物の製造がより容易である点から、炭素数1~4のアルコキシ基およびハロゲン原子が好ましい。Lとしては、塗布時のアウトガスが少なく、含フッ素化合物の保存安定性がより優れる点から、炭素数1~4のアルコキシ基が好ましく、含フッ素化合物の長期の保存安定性が必要な場合にはエトキシ基が特に好ましく、塗布後の反応時間を短時間とする場合にはメトキシ基が特に好ましい。
Specific examples of L include an alkoxy group, an aryloxy group, a halogen atom, an acyl group, an acyloxy group, and an isocyanate group (-NCO). As the alkoxy group, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms is preferable. As the halogen atom, a chlorine atom is preferable. As the acyl group, an acyl group having 1 to 6 carbon atoms is preferable. As the acyloxy group, an acyloxy group having 1 to 6 carbon atoms is preferable.
As L, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms and a halogen atom are preferable from the viewpoint that the fluorine-containing compound can be more easily produced. As L, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms is preferable because there is little outgassing during coating and the storage stability of the fluorine-containing compound is more excellent, and when long-term storage stability of the fluorine-containing compound is required, The ethoxy group is particularly preferable, and the methoxy group is particularly preferable when the reaction time after coating is short.
 nは、0~2の整数である。
 nは、0または1であるのが好ましく、0であるのが特に好ましい。Lが複数存在することによって、撥水撥油層の基材への密着性がより強固になる。
 nが1以下である場合、1分子中に存在する複数のLは同じであっても異なっていてもよい。原料の入手容易性や含フッ素化合物の製造容易性の点からは、複数のLは同じであることが好ましい。nが2である場合、1分子中に存在する複数のRは同じであっても異なっていてもよい。原料の入手容易性や含フッ素化合物の製造容易性の点からは、複数のRは同じであることが好ましい。
n is an integer of 0 to 2.
n is preferably 0 or 1, and particularly preferably 0. The presence of a plurality of L makes the adhesion of the water-repellent oil-repellent layer to the base material stronger.
When n is 1 or less, the plurality of Ls present in one molecule may be the same or different. From the viewpoint of easy availability of raw materials and ease of production of fluorine-containing compounds, it is preferable that a plurality of L's are the same. When n is 2, the plurality of Rs present in one molecule may be the same or different. From the viewpoint of easy availability of raw materials and easy production of fluorine-containing compounds, it is preferable that a plurality of R's are the same.
 含フッ素化合物は、撥水撥油層の撥水撥油性および指紋除去性により優れる点で、下式(3)で表される化合物が好ましい。
 [A-(OX)-][-Si(R)3-n  (3)
The fluorine-containing compound is preferably a compound represented by the following formula (3) in that it is more excellent in water and oil repellency and fingerprint removing property of the water and oil repellent layer.
[A- (OX) m- ] j Y 1 [-Si (R) n L 3-n ] g (3)
 Aは、ペルフルオロアルキル基または-Y[-Si(R)3-nである。
 ペルフルオロアルキル基中の炭素数は、撥水撥油層の耐摩擦性がより優れる点から、1~20が好ましく、1~10がより好ましく、1~6がさらに好ましく、1~3が特に好ましい。
 ペルフルオロアルキル基は、直鎖状、分岐鎖状および環状のいずれであってもよい。
 ただし、Aが-Y[-Si(R)3-nである場合、jは1である。
A is a perfluoroalkyl group or -Y 2 [-Si (R) n L 3-n ] k .
The number of carbon atoms in the perfluoroalkyl group is preferably 1 to 20, more preferably 1 to 10, further preferably 1 to 6, particularly preferably 1 to 3, from the viewpoint of more excellent abrasion resistance of the water- and oil-repellent layer.
The perfluoroalkyl group may be linear, branched or cyclic.
However, when A is −Y 2 [−Si (R) n L 3-n ] k , j is 1.
 ペルフルオロアルキル基としては、CF-、CFCF-、CFCFCF-、CFCFCFCF-、CFCFCFCFCF-、CFCFCFCFCFCF-、CFCF(CF)-等が挙げられる。
 ペルフルオロアルキル基としては、撥水撥油層の撥水撥油性がより優れる点から、CF-、CFCF-、CFCFCF-が好ましい。
Perfluoroalkyl groups include CF 3- , CF 3 CF 2- , CF 3 CF 2 CF 2- , CF 3 CF 2 CF 2 CF 2- , CF 3 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2- , CF 3 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2- , CF 3 CF (CF 3 )-etc.
As the perfluoroalkyl group, CF 3- , CF 3 CF 2- , and CF 3 CF 2 CF 2 --are preferable because the water- and oil-repellent layer has more excellent water- and oil-repellent properties.
 Yは、(k+1)価の連結基である。
 Yとしては、本発明の効果を損なわない基であればよく、たとえば、エーテル性酸素原子または2価のオルガノポリシロキサン残基を有していてもよいアルキレン基、炭素原子、窒素原子、ケイ素原子、2~8価のオルガノポリシロキサン残基、および、後述する式(3-1A)、式(3-1B)、式(3-1A-1)~(3-1A-6)からSi(R)3-nを除いた基が挙げられる。
 また、Yは、後述する基(g2-1)~基(g2-14)であってもよい。
Y 2 is a (k + 1) valence linking group.
Y 2 may be a group that does not impair the effects of the present invention. For example, an alkylene group, a carbon atom, a nitrogen atom, or silicon which may have an ethereal oxygen atom or a divalent organopolysiloxane residue. Atomic, 2- to 8-valent organopolysiloxane residues, and formulas (3-1A), formulas (3-1B), formulas (3-1A-1) to (3-1A-6) described later to Si ( R) Groups excluding n L 3-n can be mentioned.
Further, Y 2 may be a group (g2-1) to a group (g2-14) described later.
 R、L、n、Xおよびmの定義は、上述の通りである。 The definitions of R, L, n, X and m are as described above.
 Yは、(j+g)価の連結基である。
 Yは、本発明の効果を損なわない基であればよく、たとえば、エーテル性酸素原子または2価のオルガノポリシロキサン残基を有していてもよいアルキレン基、炭素原子、窒素原子、ケイ素原子、2~8価のオルガノポリシロキサン残基、および、後述する式(3-1A)、式(3-1B)、式(3-1A-1)~(3-1A-6)からSi(R)3-nを除いた基が挙げられる。
 また、Yは、後述する基(g2-1)~基(g2-14)であってもよい。
Y 1 is a (j + g) valence linking group.
Y 1 may be a group that does not impair the effects of the present invention, for example, an alkylene group, a carbon atom, a nitrogen atom, or a silicon atom which may have an ethereal oxygen atom or a divalent organopolysiloxane residue. 2,8-valent organopolysiloxane residues, and Si (R) from formulas (3-1A), formulas (3-1B), formulas (3-1A-1) to (3-1A-6) described later. ) Groups excluding n L 3-n can be mentioned.
Further, Y 1 may be a group (g2-1) to a group (g2-14) described later.
 jは、1以上の整数である。撥水撥油層の撥水撥油性がより優れる点から、jとしては1~6であるのが好ましく、さらに化合物(1)を製造しやすい点から、1であるのが特に好ましい。
 gは、1以上の整数である。撥水撥油層の耐摩擦性がより優れる点からは、gとしては、1~15が好ましく、1~6がより好ましく、2~4がさらに好ましく、2または3であるのが特に好ましい。一方で、撥水撥油層の指紋除去性がより優れる点からは、gとしては、1~3が好ましく、1または2であるのがより好ましく、1が特に好ましい。
 kは、1以上の整数である。撥水撥油層の耐摩擦性がより優れる点からは、kとしては、1~15が好ましく、1~6がより好ましく、2~4がさらに好ましく、2または3であるのが特に好ましい。一方で、撥水撥油層の指紋除去性がより優れる点からは、kとしては、1~3が好ましく、1または2であるのがより好ましく、1が特に好ましい。
 撥水撥油層の耐摩擦性がより優れる点からは、k+gは、2~25が好ましく、4~18がより好ましく、6~12が特に好ましい。一方で、撥水撥油層の指紋除去性がより優れる点からは、k+gは、1~6が好ましく、1~4がより好ましく、2が特に好ましい。
j is an integer of 1 or more. The j is preferably 1 to 6 from the viewpoint of more excellent water and oil repellency of the water and oil repellent layer, and is particularly preferably 1 from the viewpoint of easily producing the compound (1).
g is an integer of 1 or more. From the viewpoint of more excellent abrasion resistance of the water- and oil-repellent layer, g is preferably 1 to 15, more preferably 1 to 6, further preferably 2 to 4, and particularly preferably 2 or 3. On the other hand, from the viewpoint of more excellent fingerprint removing property of the water-repellent and oil-repellent layer, g is preferably 1 to 3, more preferably 1 or 2, and particularly preferably 1.
k is an integer of 1 or more. From the viewpoint of more excellent abrasion resistance of the water- and oil-repellent layer, k is preferably 1 to 15, more preferably 1 to 6, further preferably 2 to 4, and particularly preferably 2 or 3. On the other hand, from the viewpoint of more excellent fingerprint removing property of the water-repellent and oil-repellent layer, k is preferably 1 to 3, more preferably 1 or 2, and particularly preferably 1.
From the viewpoint of more excellent abrasion resistance of the water- and oil-repellent layer, k + g is preferably 2 to 25, more preferably 4 to 18, and particularly preferably 6 to 12. On the other hand, k + g is preferably 1 to 6, more preferably 1 to 4, and particularly preferably 2 from the viewpoint of more excellent fingerprint removing property of the water and oil repellent layer.
 化合物(3)が[-Si(R)3-n]を複数有する場合、複数の[-Si(R)3-n]は同一であっても異なっていてもよい。 When the compound (3) has a plurality of [-Si (R) n L 3 -n], a plurality of [-Si (R) n L 3 -n] may or may not be the same.
 化合物(3)としては、撥水撥油層の耐摩擦性および指紋除去性がより優れる点から、下式(3-1)で表される化合物および下式(3-2)で表される化合物が好ましく、下式(3-2)で表される化合物が特に好ましい。
 [Rf1-(OX)-]j110[-Si(R)3-ng1  (3-1)
 [L3-n(R)Si-]k212-(OX)-Y11[-Si(R)3-ng2  (3-2)
 式(3-1)中、X、L、R、m、nの定義は、式(3)中の各基の定義と同義である。Y10は、(j1+g1)価の連結基であり、その具体例は式(3)中のYと同じである。Rf1は、ペルフルオロアルキル基であり、ペルフルオロアルキル基の好適態様および具体例は上述の通りである。j1およびg1はそれぞれ、式(3)中のjおよびgの定義と同義である。
 式(3-2)中、X、L、R、m、nの定義は、式(3)中の各基の定義と同義である。Y11は、(g2+1)価の連結基であり、その具体例は(3)中のYと同じである。Y12は、(k2+1)価の連結基であり、その具体例は式(3)中のYと同じである。k2およびg2はそれぞれ、式(3)におけるkおよびgの定義と同義である。
 化合物(3-1)が[Rf1-(OX)-]を複数有する場合、複数の[Rf1-(OX)-]は同一であっても異なっていてもよい。化合物(3-1)および化合物(3-2)が[-Si(R)3-n]を複数有する場合、複数の[-Si(R)3-n]は同一であっても異なっていてもよい。
The compound (3) includes a compound represented by the following formula (3-1) and a compound represented by the following formula (3-2) from the viewpoint of being more excellent in abrasion resistance and fingerprint removing property of the water- and oil-repellent layer. Is preferable, and the compound represented by the following formula (3-2) is particularly preferable.
[R f1- (OX) m- ] j1 Y 10 [-Si (R) n L 3-n ] g1 (3-1)
[L 3-n (R) n Si-] k2 Y 12 - (OX) m -Y 11 [-Si (R) n L 3-n] g2 (3-2)
The definitions of X, L, R, m, and n in the formula (3-1) are synonymous with the definitions of each group in the formula (3). Y 10 is a linking group having a (j1 + g1) valence, and a specific example thereof is the same as Y 1 in the formula (3). R f1 is a perfluoroalkyl group, and preferred embodiments and specific examples of the perfluoroalkyl group are as described above. j1 and g1 are synonymous with the definitions of j and g in equation (3), respectively.
The definitions of X, L, R, m, and n in the formula (3-2) are synonymous with the definitions of each group in the formula (3). Y 11 is a linking group having a (g2 + 1) valence, and a specific example thereof is the same as that of Y 1 in (3). Y 12 is a linking group having a (k2 + 1) valence, and a specific example thereof is the same as Y 2 in the formula (3). k2 and g2 are synonymous with the definitions of k and g in equation (3), respectively.
If having a plurality of a plurality of compound (3-1) is [R f1 - - (OX) m] [R f1 - (OX) m -] may or may not be the same. When the compounds (3-1) and the compound (3-2) has a plurality of [-Si (R) n L 3 -n], a plurality of [-Si (R) n L 3 -n] are the same May be different.
 式(3-1)における-Y10[-Si(R)3-ng1で表される基、ならびに、式(3-2)における-Y11[-Si(R)3-ng2で表される基および-Y12[-Si(R)3-nk2で表される基はそれぞれ、基(3-1A)または基(3-1B)が好ましい。
 -Q-X31(-Q-Si(R)3-n(-R31  (3-1A)
 -Q-[CHC(R32)(-Q-Si(R)3-n)]-R33  (3-1B)
 なお、式(3-1A)および式(3-1B)中、R、L、および、nの定義は、上述した通りである。
-Y 10 [-Si (R) n L 3-n ] in the formula (3-1) The group represented by g1 and -Y 11 [-Si (R) n L 3 ) in the formula (3-2). -N ] The group represented by g2 and the group represented by -Y 12 [-Si (R) n L 3-n ] k2 are preferably groups (3-1A) or groups (3-1B), respectively.
-Q a -X 31 (-Q b -Si (R) n L 3-n ) h (-R 31 ) i (3-1A)
-Q c- [CH 2 C (R 32 ) (-Q d - Si (R) n L 3-n )] y- R 33 (3-1B)
The definitions of R, L, and n in the formulas (3-1A) and (3-1B) are as described above.
 Qは、単結合または2価の連結基である。
 2価の連結基としては、たとえば、2価の炭化水素基、2価の複素環基、-O-、-S-、-SO-、-N(R)-、-C(O)-、-Si(R-および、これらを2種以上組み合わせた基が挙げられる。
 上記2価の炭化水素基としては、2価の飽和炭化水素基、2価の芳香族炭化水素基、アルケニレン基、アルキニレン基であってもよい。2価の飽和炭化水素基は、直鎖状、分岐鎖状または環状であってもよく、たとえば、アルキレン基が挙げられる。その炭素数は、1~20が好ましい。また、2価の芳香族炭化水素基としては、炭素数5~20のものが好ましく、たとえば、フェニレン基が挙げられる。それ以外にも、炭素数2~20のアルケニレン基、炭素数2~20のアルキニレン基であってもよい。
 上記Rは、アルキル基(好ましくは炭素数1~10)、または、フェニル基である。上記Rは、水素原子またはアルキル基(好ましくは炭素数1~10)である。
 なお、上記これらを2種以上組み合わせた基としては、たとえば、-OC(O)-、-C(O)O-、-C(O)N(R)-、-N(R)C(O)-、-N(R)C(O)N(R)-、-N(R)C(O)O-、-OC(O)N(R)-、-SON(R)-、-N(R)SO-、-C(O)N(R)-を有するアルキレン基、-N(R)C(O)-を有するアルキレン基、エーテル性酸素原子を有するアルキレン基、-OC(O)-を有するアルキレン基、-C(O)O-を有するアルキレン基、-SON(R)-を有するアルキレン基、アルキレン基-Si(R-フェニレン基-Si(Rが挙げられる。
Q a is a single bond or divalent linking group.
Examples of the divalent linking group include a divalent hydrocarbon group, a divalent heterocyclic group, -O-, -S-, -SO 2- , -N (R d )-, and -C (O). -, -Si ( Ra ) 2-, and groups in which two or more of these are combined can be mentioned.
The divalent hydrocarbon group may be a divalent saturated hydrocarbon group, a divalent aromatic hydrocarbon group, an alkenylene group, or an alkynylene group. The divalent saturated hydrocarbon group may be linear, branched or cyclic, and examples thereof include an alkylene group. The carbon number is preferably 1 to 20. The divalent aromatic hydrocarbon group preferably has 5 to 20 carbon atoms, and examples thereof include a phenylene group. In addition, it may be an alkenylene group having 2 to 20 carbon atoms or an alquinylene group having 2 to 20 carbon atoms.
The Ra is an alkyl group (preferably 1 to 10 carbon atoms) or a phenyl group. The R d is a hydrogen atom or an alkyl group (preferably having 1 to 10 carbon atoms).
Examples of the group in which two or more of these are combined include -OC (O)-, -C (O) O-, -C (O) N (R d )-, and -N (R d ) C. (O)-, -N (R d ) C (O) N (R d )-, -N (R d ) C (O) O-, -OC (O) N (R d )-, -SO 2 N (R d )-, -N (R d ) SO 2- , -C (O) N (R d )-having alkylene group, -N (R d ) C (O) -having alkylene group, ether An alkylene group having a sex oxygen atom, an alkylene group having -OC (O)-, an alkylene group having -C (O) O-, an alkylene group having -SO 2 N (R d )-, and an alkylene group -Si ( Ra ) 2 -phenylene group-Si ( Ra ) 2 can be mentioned.
 X31は、単結合、アルキレン基、炭素原子、窒素原子、ケイ素原子または2~8価のオルガノポリシロキサン残基である。
 なお、上記アルキレン基は、-O-、シルフェニレン骨格基、2価のオルガノポリシロキサン残基またはジアルキルシリレン基を有していてもよい。アルキレン基は、-O-、シルフェニレン骨格基、2価のオルガノポリシロキサン残基およびジアルキルシリレン基からなる群から選択される基を複数有していてもよい。
 X31で表されるアルキレン基の炭素数は、1~20が好ましく、1~10が特に好ましい。
 2~8価のオルガノポリシロキサン残基としては、2価のオルガノポリシロキサン残基、および、後述する(w+1)価のオルガノポリシロキサン残基が挙げられる。
X 31 is a single bond, an alkylene group, a carbon atom, a nitrogen atom, a silicon atom or a 2- to 8-valent organopolysiloxane residue.
The alkylene group may have an —O—, a silphenylene skeleton group, a divalent organopolysiloxane residue or a dialkylsilylene group. The alkylene group may have a plurality of groups selected from the group consisting of —O—, a silphenylene skeleton group, a divalent organopolysiloxane residue and a dialkylsilylene group.
The carbon number of the alkylene group represented by X 31 is preferably 1 to 20, and particularly preferably 1 to 10.
Examples of the divalent to 8-valent organopolysiloxane residue include a divalent organopolysiloxane residue and a (w + 1) -valent organopolysiloxane residue described later.
 Qは、単結合または2価の連結基である。
 2価の連結基の定義は、上述したQで説明した定義と同義である。
Q b is a single bond or divalent linking group.
Definition of the divalent linking group are the same as those defined as described in the above-described Q a.
 R31は、水酸基またはアルキル基である。
 アルキル基の炭素数は、1~5が好ましく、1~3がより好ましく、1が特に好ましい。
R 31 is a hydroxyl group or an alkyl group.
The number of carbon atoms of the alkyl group is preferably 1 to 5, more preferably 1 to 3, and particularly preferably 1.
 X31が単結合またはアルキレン基の場合、hは1、iは0であり、
 X31が窒素原子の場合、hは1~2の整数であり、iは0~1の整数であり、h+i=2を満たし、
 X31が炭素原子またはケイ素原子の場合、hは1~3の整数であり、iは0~2の整数であり、h+i=3を満たし、
 X31が2~8価のオルガノポリシロキサン残基の場合、hは1~7の整数であり、iは0~6の整数であり、h+i=1~7を満たす。
 (-Q-Si(R)3-n)が2個以上ある場合は、2個以上の(-Q-Si(R)3-n)は、同一であっても異なっていてもよい。R31が2個以上ある場合は、2個以上の(-R31)は、同一であっても異なっていてもよい。
When X 31 is a single bond or an alkylene group, h is 1 and i is 0.
When X 31 is a nitrogen atom, h is an integer of 1 to 2, i is an integer of 0 to 1, and h + i = 2 is satisfied.
When X 31 is a carbon atom or a silicon atom, h is an integer of 1 to 3, i is an integer of 0 to 2, and h + i = 3 is satisfied.
When X 31 is a 2- to 8-valent organopolysiloxane residue, h is an integer of 1 to 7, i is an integer of 0 to 6, and h + i = 1 to 7 is satisfied.
If (-Q b -Si (R) n L 3-n) is two or more, two or more (-Q b -Si (R) n L 3-n) are be the same or different May be. If R 31 is two or more, two or more (-R 31) may be be the same or different.
 Qは、単結合または2価の連結基である。
 2価の連結基の定義は、上述したQで説明した定義と同義である。
 エーテル性酸素原子を有していてもよいアルキレン基の炭素数は、1~10が好ましく、2~6が特に好ましい。
Q c is a single bond or divalent linking group.
Definition of the divalent linking group are the same as those defined as described in the above-described Q a.
The carbon number of the alkylene group which may have an etheric oxygen atom is preferably 1 to 10, and particularly preferably 2 to 6.
 R32は、水素原子または炭素数1~10のアルキル基であり、化合物を製造しやすい点から、水素原子であるのが好ましい。
 アルキル基としては、メチル基が好ましい。
R 32 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and is preferably a hydrogen atom from the viewpoint of easy production of a compound.
As the alkyl group, a methyl group is preferable.
 Qは、単結合またはアルキレン基である。アルキレン基の炭素数は、1~10が好ましく、1~6が特に好ましい。化合物を製造しやすい点から、Qは、単結合または-CH-であるのが好ましい。 Q d is a single bond or an alkylene group. The alkylene group preferably has 1 to 10 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 6 carbon atoms. From the viewpoint of easy production of a compound, Q d is preferably a single bond or -CH 2- .
 R33は、水素原子またはハロゲン原子であり、化合物を製造しやすい点から、水素原子であるのが好ましい。 R 33 is a hydrogen atom or a halogen atom, and is preferably a hydrogen atom from the viewpoint of easy production of a compound.
 yは、1~10の整数であり、1~6の整数であるのが好ましい。
 2個以上の[CHC(R32)(-Q-Si(R)3-n)]は、同一であっても異なっていてもよい。
y is an integer of 1 to 10, preferably an integer of 1 to 6.
Two or more [CH 2 C (R 32 ) (−Q d − Si (R) n L 3-n )] may be the same or different.
 基(3-1A)としては、基(3-1A-1)~(3-1A-6)が好ましい。
 -(X32s1-Qb1-SiR3-n  (3-1A-1)
 -(X33s2-Qa2-N[-Qb2-Si(R)n33-n  (3-1A-2)
 -Qa3-G(R)[-Qb3-Si(R)3-n  (3-1A-3)
 -[Qs4-Qa4-(O)t4-C[-(O)u4-Qb4-Si(R)3-n3-w1(-R31w1  (3-1A-4)
 -Qa5-Si[-Qb5-Si(R)3-n  (3-1A-5)
 -[Q-Qa6-Z[-Qb6-Si(R)3-nw2  (3-1A-6)
 なお、式(3-1A-1)~(3-1A-6)中、R、L、および、nの定義は、上述した通りである。
As the group (3-1A), the groups (3-1A-1) to (3-1A-6) are preferable.
-(X 32 ) s1- Q b1 - SiR n L 3-n (3-1A-1)
-(X 33 ) s2- Q a2- N [-Q b2 - Si (R) n3 L 3-n ] 2 (3-1A-2)
-Q a3 -G (R g ) [-Q b3 - Si (R) n L 3-n ] 2 (3-1A-3)
-[Q e ] s4- Q a4- (O) t4- C [-(O) u4- Q b4- Si (R) n L 3-n ] 3-w1 (-R 31 ) w1 (3-1A-) 4)
-Q a5- Si [-Q b5 - Si (R) n L 3-n ] 3 (3-1A-5)
-[Q e ] v -Q a6- Z a [-Q b6 - Si (R) n L 3-n ] w2 (3-1A-6)
The definitions of R, L, and n in the formulas (3-1A-1) to (3-1A-6) are as described above.
 基(3-1A-1)において、X32は、-O-、-C(O)O-、-SON(R)-、-N(R)SO-、-N(R)C(O)-、または、-C(O)N(R)-である(ただし、式中のNはQb1に結合する)。
 Rの定義は、上述した通りである。
 s1は、0または1である。
In the group (3-1A-1), X 32 is -O-, -C (O) O-, -SO 2 N (R d )-, -N (R d ) SO 2- , -N (R). d ) C (O)-or-C (O) N (R d )-(where N in the equation binds to Q b1 ).
The definition of R d is as described above.
s1 is 0 or 1.
 Qb1は、アルキレン基である。なお、アルキレン基は、-O-、シルフェニレン骨格基、2価のオルガノポリシロキサン残基またはジアルキルシリレン基を有していてもよい。アルキレン基は、-O-、シルフェニレン骨格基、2価のオルガノポリシロキサン残基およびジアルキルシリレン基からなる群から選択される基を複数有していてもよい。
 なお、アルキレン基が-O-、シルフェニレン骨格基、2価のオルガノポリシロキサン残基またはジアルキルシリレン基を有する場合、炭素原子-炭素原子間にこれらの基を有することが好ましい。
 Qb1で表されるアルキレン基の炭素数は、1~10が好ましく、2~6が特に好ましい。
Q b1 is an alkylene group. The alkylene group may have an —O—, a silphenylene skeleton group, a divalent organopolysiloxane residue or a dialkylsilylene group. The alkylene group may have a plurality of groups selected from the group consisting of —O—, a silphenylene skeleton group, a divalent organopolysiloxane residue and a dialkylsilylene group.
When the alkylene group has an —O—, silphenylene skeleton group, a divalent organopolysiloxane residue or a dialkylsilylene group, it is preferable to have these groups between carbon atoms.
The carbon number of the alkylene group represented by Q b1 is preferably 1 to 10, and particularly preferably 2 to 6.
 Qb1としては、s1が0の場合は、-CHOCHCHCH-、-CHOCHCHOCHCHCH-、-CHCH-、-CHCHCH-、-CHOCHCHCHSi(CHOSi(CHCHCH-が好ましい。(X32s1が-O-の場合は、-CHCHCH-、-CHCHOCHCHCH-が好ましい。(X32s1が-C(O)N(R)-の場合は、炭素数2~6のアルキレン基が好ましい(ただし、式中のNはQb1に結合する)。Qb1がこれらの基であると化合物が製造しやすい。 As for Q b1 , when s1 is 0, -CH 2 OCH 2 CH 2 CH 2- , -CH 2 OCH 2 CH 2 OCH 2 CH 2 CH 2- , -CH 2 CH 2- , -CH 2 CH 2 CH 2- , -CH 2 OCH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 CH 2 CH 2 --is preferable. (X 32 ) When s1 is −O−, −CH 2 CH 2 CH 2 − and −CH 2 CH 2 OCH 2 CH 2 CH 2 − are preferable. (X 32 ) When s1 is −C (O) N (R d ) −, an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms is preferable (however, N in the formula is bonded to Q b1 ). If Q b1 is these groups, the compound can be easily produced.
 基(3-1A-1)の具体例としては、以下の基が挙げられる。下記式中、*は、(OX)との結合位置を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
Specific examples of the group (3-1A-1) include the following groups. In the following formula, * represents the bonding position with (OX) m .
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
 基(3-1A-2)において、X33は、-O-、-NH-、-C(O)O-、-SON(R)-、-N(R)SO-、-N(R)C(O)-、または、-C(O)N(R)-である。
 Rの定義は、上述した通りである。
In the group (3-1A-2), X 33 is, -O -, - NH -, - C (O) O -, - SO 2 N (R d) -, - N (R d) SO 2 -, -N (R d ) C (O)-or-C (O) N (R d )-.
The definition of R d is as described above.
 Qa2は、単結合、アルキレン基、-C(O)-、または、炭素数2以上のアルキレン基の炭素原子-炭素原子間にエーテル性酸素原子、-C(O)-、-C(O)O-、-OC(O)-、もしくは-NH-を有する基である。
 Qa2で表されるアルキレン基の炭素数は、1~10が好ましく、1~6が特に好ましい。
 Qa2で表される炭素数2以上のアルキレン基の炭素原子-炭素原子間にエーテル性酸素原子、-C(O)-、-C(O)O-、-OC(O)-、-C(O)N(R)-、-N(R)C(O)-、-N(R)C(O)N(R)-、-N(R)C(O)O-、-OC(O)N(R)-、-SON(R)-、-N(R)SO-、-C(O)N(R)-、または-NH-を有する基の炭素数は、2~10が好ましく、2~6が特に好ましい。
Q a2 is a single bond, an alkylene group, -C (O)-, or an ethereal oxygen atom between carbon atoms of an alkylene group having 2 or more carbon atoms, -C (O)-, and -C (O). ) A group having O-, -OC (O)-, or -NH-.
The carbon number of the alkylene group represented by Q a2 is preferably 1 to 10, and particularly preferably 1 to 6.
Ethereal oxygen atom, -C (O)-, -C (O) O-, -OC (O)-, -C between carbon atom and carbon atom of alkylene group having 2 or more carbon atoms represented by Qa2 (O) N (R d )-, -N (R d ) C (O)-, -N (R d ) C (O) N (R d )-, -N (R d ) C (O) O -, -OC (O) N (R d )-, -SO 2 N (R d )-, -N (R d ) SO 2- , -C (O) N (R d )-, or -NH- The number of carbon atoms of the group having is preferably 2 to 10, and particularly preferably 2 to 6.
 Qa2としては、化合物を製造しやすい点から、-CH-、-CHCH-、-CHCHCH-、-CHOCHCH-、-CHNHCHCH-、-CHOC(O)CHCH-、-C(O)-が好ましい。 The Q a2, from the viewpoint of easily producing the compound, -CH 2 -, - CH 2 CH 2 -, - CH 2 CH 2 CH 2 -, - CH 2 OCH 2 CH 2 -, - CH 2 NHCH 2 CH 2 -, -CH 2 OC (O) CH 2 CH 2- , -C (O)-is preferable.
 s2は、0または1(ただし、Qa2が単結合の場合は0である。)である。化合物を製造しやすい点から、0が好ましい。 s2 is 0 or 1 (where Q a2 is 0 when it is a single bond). 0 is preferable from the viewpoint that the compound can be easily produced.
 Qb2は、アルキレン基、または、炭素数2以上のアルキレン基の炭素原子-炭素原子間に、2価のオルガノポリシロキサン残基、エーテル性酸素原子もしくは-NH-を有する基である。
 Qb2で表されるアルキレン基の炭素数は、1~10が好ましく、2~6が特に好ましい。
 Qb2で表される炭素数2以上のアルキレン基の炭素原子-炭素原子間に、2価のオルガノポリシロキサン残基、エーテル性酸素原子または-NH-を有する基の炭素数は、2~10が好ましく、2~6が特に好ましい。
Q b2 is a group having a divalent organopolysiloxane residue, an etheric oxygen atom or -NH- between carbon atoms of an alkylene group or an alkylene group having 2 or more carbon atoms.
The carbon number of the alkylene group represented by Q b2 is preferably 1 to 10, and particularly preferably 2 to 6.
The carbon number of a group having a divalent organopolysiloxane residue, an etheric oxygen atom or -NH- between carbon atoms of an alkylene group having 2 or more carbon atoms represented by Q b2 is 2 to 10. Is preferable, and 2 to 6 are particularly preferable.
 Qb2としては、化合物を製造しやすい点から、-CHCHCH-、-CHCHOCHCHCH-が好ましい(ただし、右側がSiに結合する。)。 As Q b2 , -CH 2 CH 2 CH 2- and -CH 2 CH 2 OCH 2 CH 2 CH 2- are preferable from the viewpoint of easy production of a compound (however, the right side binds to Si).
 2個の[-Qb2-Si(R)3-n]は、同一であっても異なっていてもよい。 The two [-Q b2- Si (R) n L 3-n ] may be the same or different.
 基(3-1A-2)の具体例としては、以下の基が挙げられる。下記式中、*は、(OX)との結合位置を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
Specific examples of the group (3-1A-2) include the following groups. In the following formula, * represents the bonding position with (OX) m .
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
 基(3-1A-3)において、Qa3は、単結合、または、エーテル性酸素原子を有していてもよいアルキレン基であり、化合物を製造しやすい点から、単結合が好ましい。
 エーテル性酸素原子を有していてもよいアルキレン基の炭素数は、1~10が好ましく、2~6が特に好ましい。
In the group (3-1A-3), Q a3 is a single bond or an alkylene group which may have an ethereal oxygen atom, and a single bond is preferable from the viewpoint of easy production of a compound.
The number of carbon atoms of the alkylene group which may have an etheric oxygen atom is preferably 1 to 10, and particularly preferably 2 to 6.
 Gは、炭素原子またはケイ素原子である。
 Rは、水酸基またはアルキル基である。Rで表されるアルキル基の炭素数は、1~4が好ましい。
 G(R)としては、化合物を製造しやすい点から、C(OH)またはSi(Rga)(ただし、Rgaはアルキル基である。アルキル基の炭素数は1~10が好ましく、メチル基が特に好ましい。)が好ましい。
G is a carbon atom or a silicon atom.
R g is a hydroxyl group or an alkyl group. The number of carbon atoms of the alkyl group represented by R g is preferably 1 to 4.
As G (R g ), C (OH) or Si (R ga ) (however, R ga is an alkyl group. The alkyl group preferably has 1 to 10 carbon atoms, preferably methyl, from the viewpoint of easy production of a compound. The group is particularly preferable.) Is preferable.
 Qb3は、アルキレン基、または、炭素数2以上のアルキレン基の炭素原子-炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは2価のオルガノポリシロキサン残基を有する基である。
 Qb3で表されるアルキレン基の炭素数は、1~10が好ましく、2~6が特に好ましい。
 Qb3で表される炭素数2以上のアルキレン基の炭素原子-炭素原子間にエーテル性酸素原子または2価のオルガノポリシロキサン残基を有する基の炭素数は、2~10が好ましく、2~6が特に好ましい。
 Qb3としては、化合物を製造しやすい点から、-CHCH-、-CHCHCH-、-CHCHCHCHCHCHCHCH-が好ましい。
Q b3 is an alkylene group or a group having an ethereal oxygen atom or a divalent organopolysiloxane residue between carbon atoms of an alkylene group having 2 or more carbon atoms.
The carbon number of the alkylene group represented by Q b3 is preferably 1 to 10, and particularly preferably 2 to 6.
The carbon number of the group having an ethereal oxygen atom or a divalent organopolysiloxane residue between carbon atoms of the alkylene group having 2 or more carbon atoms represented by Q b3 is preferably 2 to 10, and 2 to 10 6 is particularly preferable.
The Q b3, from the viewpoint of easily producing the compound, -CH 2 CH 2 -, - CH 2 CH 2 CH 2 -, - CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 - is preferred.
 2個の[-Qb3-Si(R)3-n]は、同一であっても異なっていてもよい。 The two [-Q b3- Si (R) n L 3-n ] may be the same or different.
 基(3-1A-3)の具体例としては、以下の基が挙げられる。下記式中、*は、(OX)との結合位置を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
Specific examples of the group (3-1A-3) include the following groups. In the following formula, * represents the bonding position with (OX) m .
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
 基(3-1A-4)において、Qは、-C(O)O-、-SON(R)-、-N(R)SO-、-N(R)C(O)-、または、-C(O)N(R)-である。
 R31の定義は、上述した通りである。
 s4は、0または1である。
 Qa4は、単結合、または、エーテル性酸素原子を有していてもよいアルキレン基である。
 エーテル性酸素原子を有していてもよいアルキレン基の炭素数は、1~10が好ましく、2~6が特に好ましい。
 t4は、0または1(ただし、Qa4が単結合の場合は0である。)である。
 -Qa4-(O)t4-としては、化合物を製造しやすい点から、s4が0の場合は、単結合、-CHO-、-CHOCH-、-CHOCHCHO-、-CHOCHCHOCH-、-CHOCHCHCHCHOCH-が好ましく(ただし、左側が(OX)に結合する。)、s4が1の場合は、単結合、-CH-、-CHCH-が好ましい。
In the group (3-1A-4), Q e is -C (O) O-, -SO 2 N (R d )-, -N (R d ) SO 2- , -N (R d ) C ( O)-or-C (O) N (R d )-.
The definition of R 31 is as described above.
s4 is 0 or 1.
Q a4 is an alkylene group which may have a single bond or an ethereal oxygen atom.
The carbon number of the alkylene group which may have an etheric oxygen atom is preferably 1 to 10, and particularly preferably 2 to 6.
t4 is 0 or 1 (where Q a4 is 0 when it is a single bond).
As for -Q a4- (O) t4- , when s4 is 0, it is a single bond, -CH 2 O-, -CH 2 OCH 2- , -CH 2 OCH 2 CH 2 because it is easy to produce a compound. O-, -CH 2 OCH 2 CH 2 OCH 2- , -CH 2 OCH 2 CH 2 CH 2 CH 2 OCH 2- is preferable (however, the left side is bonded to (OX) m ), and s4 is 1. Is preferably a single bond, -CH 2- , -CH 2 CH 2- .
 Qb4は、アルキレン基であり、上記アルキレン基は-O-、-C(O)N(R)-(Rの定義は、上述した通りである。)、シルフェニレン骨格基、2価のオルガノポリシロキサン残基またはジアルキルシリレン基を有していてもよい。
 なお、アルキレン基が-O-またはシルフェニレン骨格基を有する場合、炭素原子-炭素原子間に-O-またはシルフェニレン骨格基を有することが好ましい。また、アルキレン基が-C(O)N(R)-、ジアルキルシリレン基または2価のオルガノポリシロキサン残基を有する場合、炭素原子-炭素原子間または(O)u4と結合する側の末端にこれらの基を有することが好ましい。
 Qb4で表されるアルキレン基の炭素数は、1~10が好ましく、2~6が特に好ましい。
Q b4 is an alkylene group, and the alkylene group is -O-, -C (O) N (R d )-(the definition of R d is as described above), a silphenylene skeleton group, and a divalent group. It may have an organopolysiloxane residue or a dialkylsilylene group.
When the alkylene group has an —O— or silphenylene skeleton group, it is preferable to have an —O— or silphenylene skeleton group between carbon atoms. When the alkylene group has a -C (O) N (R d )-, dialkylsilylene group or a divalent organopolysiloxane residue, it is between carbon atoms or the end on the side that binds to (O) u4. It is preferable to have these groups in.
The carbon number of the alkylene group represented by Q b4 is preferably 1 to 10, and particularly preferably 2 to 6.
 u4は、0または1である。
 -(O)u4-Qb4-としては、化合物を製造しやすい点から、-CHCH-、-CHCHCH-、-CHOCHCHCH-、-CHOCHCHCHCHCH-、-OCHCHCH-、-OSi(CHCHCHCH-、-OSi(CHOSi(CHCHCHCH-、-CHCHCHSi(CHPhSi(CHCHCH-が好ましい(ただし、右側がSiに結合する。)。
u4 is 0 or 1.
- (O) u4 -Q b4 - as it is from the viewpoint of easily producing the compound, -CH 2 CH 2 -, - CH 2 CH 2 CH 2 -, - CH 2 OCH 2 CH 2 CH 2 -, - CH 2 OCH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2- , -OCH 2 CH 2 CH 2- , -OSi (CH 3 ) 2 CH 2 CH 2 CH 2- , -OSi (CH 3 ) 2 OSi (CH 3 ) 2 CH 2 CH 2 CH 2- , -CH 2 CH 2 CH 2 Si (CH 3 ) 2 PhSi (CH 3 ) 2 CH 2 CH 2 --is preferable (however, the right side is bonded to Si).
 w1は、0~2の整数であり、0または1が好ましく、0が特に好ましい。
 [-(O)u4-Qb4-Si(R)3-n]が2個以上ある場合は、2個以上の[-(O)u4-Qb4-Si(R)3-n]は、同一であっても異なっていてもよい。
 R31が2個以上ある場合は、2個以上の(-R31)は、同一であっても異なっていてもよい。
w1 is an integer of 0 to 2, preferably 0 or 1, and particularly preferably 0.
[- (O) u4 -Q b4 -Si (R) n L 3-n] if there are two or more, two or more [- (O) u4 -Q b4 -Si (R) n L 3- n ] may be the same or different.
If R 31 is two or more, two or more (-R 31) may be be the same or different.
 基(3-1A-4)の具体例としては、以下の基が挙げられる。下記式中、*は、(OX)との結合位置を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
Specific examples of the group (3-1A-4) include the following groups. In the following formula, * represents the bonding position with (OX) m .
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
 基(3-1A-5)において、Qa5は、エーテル性酸素原子を有していてもよいアルキレン基である。
 エーテル性酸素原子を有していてもよいアルキレン基の炭素数は、1~10が好ましく、2~6が特に好ましい。
 Qa5としては、化合物を製造しやすい点から、-CHOCHCHCH-、-CHOCHCHOCHCHCH-、-CHCH-、-CHCHCH-が好ましい(ただし、右側がSiに結合する。)。
In the group (3-1A-5), Q a5 is an alkylene group which may have an etheric oxygen atom.
The carbon number of the alkylene group which may have an etheric oxygen atom is preferably 1 to 10, and particularly preferably 2 to 6.
The Q a5, from the viewpoint of easily producing the compound, -CH 2 OCH 2 CH 2 CH 2 -, - CH 2 OCH 2 CH 2 OCH 2 CH 2 CH 2 -, - CH 2 CH 2 -, - CH 2 CH 2 CH 2- is preferable (however, the right side is bonded to Si).
 Qb5は、アルキレン基、または、炭素数2以上のアルキレン基の炭素原子-炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは2価のオルガノポリシロキサン残基を有する基である。
 Qb5で表されるアルキレン基の炭素数は、1~10が好ましく、2~6が特に好ましい。
 Qb5で表される炭素数2以上のアルキレン基の炭素原子-炭素原子間にエーテル性酸素原子または2価のオルガノポリシロキサン残基を有する基の炭素数は、2~10が好ましく、2~6が特に好ましい。
 Qb5としては、化合物を製造しやすい点から、-CHCHCH-、-CHCHOCHCHCH-が好ましい(ただし、右側がSi(R)3-nに結合する。)。
Q b5 is an alkylene group or a group having an ethereal oxygen atom or a divalent organopolysiloxane residue between carbon atoms of an alkylene group having 2 or more carbon atoms.
The carbon number of the alkylene group represented by Q b5 is preferably 1 to 10, and particularly preferably 2 to 6.
The carbon number of the group having an ethereal oxygen atom or a divalent organopolysiloxane residue between carbon atoms of the alkylene group having 2 or more carbon atoms represented by Q b5 is preferably 2 to 10, and 2 to 10 is preferable. 6 is particularly preferable.
As Q b5 , -CH 2 CH 2 CH 2- and -CH 2 CH 2 OCH 2 CH 2 CH 2- are preferable from the viewpoint of easy production of a compound (however, the right side is Si (R) n L 3-n. Combine with.).
 3個の[-Qb5-Si(R)3-n]は、同一であっても異なっていてもよい。 The three [-Q b5- Si (R) n L 3-n ] may be the same or different.
 基(3-1A-5)の具体例としては、以下の基が挙げられる。下記式中、*は、(OX)との結合位置を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
Specific examples of the group (3-1A-5) include the following groups. In the following formula, * represents the bonding position with (OX) m .
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
 基(3-1A-6)中のQの定義は、上述の基(3-1A-4)において定義した通りである。
 vは、0または1である。
The definition of Q e in the group (3-1A-6) is as defined in the group (3-1A-4) described above.
v is 0 or 1.
 Qa6は、エーテル性酸素原子を有していてもよいアルキレン基である。
 エーテル性酸素原子を有していてもよいアルキレン基の炭素数は、1~10が好ましく、2~6が特に好ましい。
 Qa6としては、化合物を製造しやすい点から、-CHOCHCHCH-、-CHOCHCHOCHCHCH-、-CHCH-、-CHCHCH-が好ましい(ただし、右側がZに結合する。)。
Q a6 is an alkylene group which may have an ethereal oxygen atom.
The carbon number of the alkylene group which may have an etheric oxygen atom is preferably 1 to 10, and particularly preferably 2 to 6.
The Q a6, from the viewpoint of easily producing the compound, -CH 2 OCH 2 CH 2 CH 2 -, - CH 2 OCH 2 CH 2 OCH 2 CH 2 CH 2 -, - CH 2 CH 2 -, - CH 2 CH 2 CH 2 - is preferred (but the right side is attached to Z a.).
 Zは、(w+1)価のオルガノポリシロキサン残基である。
 w2は、2~7の整数である。
 (w2+1)価のオルガノポリシロキサン残基としては、下記の基が挙げられる。ただし、下式におけるRは、上述の通りである。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
Z a is a (w + 1) -valent organopolysiloxane residue.
w2 is an integer of 2 to 7.
Examples of the (w2 + 1) -valent organopolysiloxane residue include the following groups. However, Ra in the following equation is as described above.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
 Qb6は、アルキレン基、または、炭素数2以上のアルキレン基の炭素原子-炭素原子間にエーテル性酸素原子もしくは2価のオルガノポリシロキサン残基を有する基である。
 Qb6で表されるアルキレン基の炭素数は、1~10が好ましく、2~6が特に好ましい。
 Qb6で表される炭素数2以上のアルキレン基の炭素原子-炭素原子間にエーテル性酸素原子または2価のオルガノポリシロキサン残基を有する基の炭素数は、2~10が好ましく、2~6が特に好ましい。
 Qb6としては、化合物を製造しやすい点から、-CHCH-、-CHCHCH-が好ましい。
 w2個の[-Qb6-Si(R)n33-n]は、同一であっても異なっていてもよい。
Q b6 is an alkylene group or a group having an ethereal oxygen atom or a divalent organopolysiloxane residue between carbon atoms of an alkylene group having 2 or more carbon atoms.
The carbon number of the alkylene group represented by Q b6 is preferably 1 to 10, and particularly preferably 2 to 6.
The carbon number of the group having an ethereal oxygen atom or a divalent organopolysiloxane residue between carbon atoms of the alkylene group having 2 or more carbon atoms represented by Q b6 is preferably 2 to 10 and 2 to 10 6 is particularly preferable.
As Q b6 , -CH 2 CH 2- and -CH 2 CH 2 CH 2- are preferable from the viewpoint of easy production of a compound.
The w2 [-Q b6- Si (R) n3 L 3-n ] may be the same or different.
 式(3-1)におけるY10は、基(g2-1)(ただし、j1=d1+d3、g1=d2+d4である。)、基(g2-2)(ただし、j1=e1、g1=e2である。)、基(g2-3)(ただし、j1=1、g1=2である。)、基(g2-4)(ただし、j1=h1、g1=h2である。)、基(g2-5)(ただし、j1=i1、g1=i2である。)、基(g2-6)(ただし、j1=1、g1=1である。)、または、基(g2-7)(ただし、j1=1、g1=i3である。)であってもよい。
 また、式(3-2)におけるY11およびY12はそれぞれ独立に、基(g2-1)(ただし、g2=d2+d4、k2=d2+d4である。)、基(g2-2)(ただし、g2=e2、k2=e2である。)、基(g2-3)(ただし、g2=2、k2=2である。)、基(g2-4)(ただし、g2=h2、k2=h2である。)、基(g2-5)(ただし、g2=i2、k2=i2である。)、基(g2-6(ただし、g2=1、k2=1である。)、または、基(g2-7)(ただし、g2=i3、k2=i3である。)であってもよい。
Y 10 in the formula (3-1) is a group (g2-1) (where j1 = d1 + d3, g1 = d2 + d4), a group (g2-2) (where j1 = e1, g1 = e2). ), Group (g2-3) (where j1 = 1, g1 = 2), group (g2-4) (where j1 = h1, g1 = h2), group (g2-5) ) (However, j1 = i1, g1 = i2), group (g2-6) (where j1 = 1, g1 = 1), or group (g2-7) (where j1 = 1, g1 = i3).
Further, Y 11 and Y 12 in the formula (3-2) are independently groups (g2-1) (where g2 = d2 + d4, k2 = d2 + d4) and groups (g2-2) (where g2). = E2, k2 = e2), group (g2-3) (where g2 = 2, k2 = 2), group (g2-4) (where g2 = h2, k2 = h2). ), Group (g2-5) (where g2 = i2, k2 = i2), group (g2-6 (where g2 = 1, k2 = 1), or group (g2-) 7) (However, g2 = i3 and k2 = i3) may be used.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
 (-A-Q12-)e1C(Re24-e1-e2(-Q22-)e2  (g2-2)
 -A-Q13-N(-Q23-)  (g2-3)
 (-A-Q14-)h1(-Q24-)h2  (g2-4)
 (-A-Q15-)i1Si(Re34-i1-i2(-Q25-)i2  (g2-5)
 -A-Q26-  (g2-6)
 -A-Q12-CH(-Q22-)-Si(Re33-i3(-Q25-)i3  (g2-7)
(-A 1 -Q 12 -) e1 C (R e2) 4-e1-e2 (-Q 22 -) e2 (g2-2)
-A 1 -Q 13 -N (-Q 23 -) 2 (g2-3)
(-A 1 -Q 14 -) h1 Z 1 (-Q 24 -) h2 (g2-4)
(-A 1 -Q 15 -) i1 Si (R e3) 4-i1-i2 (-Q 25 -) i2 (g2-5)
-A 1 -Q 26 - (g2-6)
-A 1 -Q 12 -CH (-Q 22 -) - Si (R e3) 3-i3 (-Q 25 -) i3 (g2-7)
 ただし、式(g2-1)~(g2-7)においては、A側が(OX)に接続し、Q22、Q23、Q24、Q25またはQ26側が[-Si(R)3-n]に接続する。
 Aは、単結合、-C(O)NR-、-C(O)-、-OC(O)O-、-NHC(O)O-、-NHC(O)NR-、-O-または-SONR-である。
 Q11は、単結合、-O-、アルキレン基、または炭素数2以上のアルキレン基の炭素-炭素原子間に-C(O)NR-、-C(O)-、-NR-または-O-を有する基である。
 Q12は、単結合、アルキレン基、または炭素数2以上のアルキレン基の炭素-炭素原子間に-C(O)NR-、-C(O)-、-NR-または-O-を有する基であり、Y10、Y11またはY12がQ12を2以上有する場合、2以上のQ12は同一であっても異なっていてもよい。
 Q13は、単結合(ただし、Aは-C(O)-である。)、アルキレン基、炭素数2以上のアルキレン基の炭素-炭素原子間に-C(O)NR-、-C(O)-、-NR-または-O-を有する基、またはアルキレン基のN側の末端に-C(O)-を有する基である。
 Q14は、Q14が結合するZにおける原子が炭素原子の場合、Q12であり、Q14が結合するZにおける原子が窒素原子の場合、Q13であり、Y10、Y11またはY12がQ14を2以上有する場合、2以上のQ14は同一であっても異なっていてもよい。
 Q15は、アルキレン基、または炭素数2以上のアルキレン基の炭素-炭素原子間に-C(O)NR-、-C(O)-、-NR-または-O-を有する基であり、Y10、Y11またはY12がQ15を2以上有する場合、2以上のQ15は同一であっても異なっていてもよい。
 Q22は、アルキレン基、炭素数2以上のアルキレン基の炭素-炭素原子間に-C(O)NR-、-C(O)-、-NR-または-O-を有する基、アルキレン基のSiに接続しない側の末端に-C(O)NR-、-C(O)-、-NR-または-O-を有する基、または炭素数2以上のアルキレン基の炭素-炭素原子間に-C(O)NR-、-C(O)-、-NR-または-O-を有しかつSiに接続しない側の末端に-C(O)NR-、-C(O)-、-NR-または-O-を有する基であり、Y10、Y11またはY12がQ22を2以上有する場合、2以上のQ22は同一であっても異なっていてもよい。
 Q23は、アルキレン基、または炭素数2以上のアルキレン基の炭素-炭素原子間に-C(O)NR-、-C(O)-、-NR-または-O-を有する基であり、2個のQ23は同一であっても異なっていてもよい。
 Q24は、Q24が結合するZにおける原子が炭素原子の場合、Q22であり、Q24が結合するZにおける原子が窒素原子の場合、Q23であり、Y10、Y11またはY12がQ24を2以上有する場合、2以上のQ24は同一であっても異なっていてもよい。
 Q25は、アルキレン基、または炭素数2以上のアルキレン基の炭素-炭素原子間に-C(O)NR-、-C(O)-、-NR-または-O-を有する基であり、Y10、Y11またはY12がQ25を2以上有する場合、2以上のQ25は同一であっても異なっていてもよい。
 Q26は、アルキレン基、または炭素数2以上のアルキレン基の炭素-炭素原子間に-C(O)NR-、-C(O)-、-NR-または-O-を有する基である。
 Zは、Q14が直接結合する炭素原子または窒素原子を有しかつQ24が直接結合する炭素原子または窒素原子を有するh1+h2価の環構造を有する基である。
 Re1は、水素原子またはアルキル基であり、Y10、Y11またはY12がRe1を2以上有する場合、2以上のRe1は同一であっても異なっていてもよい。
 Re2は、水素原子、水酸基、アルキル基またはアシルオキシ基である。
 Re3は、アルキル基である。Rは、水素原子、炭素数1~6のアルキル基またはフェニル基である。
However, in the formula (g2-1) ~ (g2-7), connected to the A 1 side is (OX) m, Q 22, Q 23, Q 24, Q 25 or Q 26 side is [-Si (R) n Connect to [L 3-n ].
A 1 is a single bond, -C (O) NR 6- , -C (O)-, -OC (O) O-, -NHC (O) O-, -NHC (O) NR 6- , -O -Or-SO 2 NR 6- .
Q 11 represents a single bond, -O-, carbon of an alkylene group or an alkylene group having 2 or more carbon, - -C between carbon atoms (O) NR 6 -, - C (O) -, - NR 6 - or It is a group having —O—.
Q 12 represents a single bond, the carbon of the alkylene group or an alkylene group having 2 or more carbon, - -C between carbon atoms (O) NR 6 -, - C (O) -, - NR 6 - or -O- and a group having, Y 10, if Y 11 or Y 12 has a Q 12 2 or more, two or more Q 12 may be different even in the same.
Q 13 represents a single bond (provided that, A 1 is -C (O) -.), The carbon of the alkylene group, having two or more alkylene groups having a carbon - -C between carbon atoms (O) NR 6 -, - A group having C (O)-, -NR 6- or -O-, or a group having -C (O)-at the N-side end of an alkylene group.
Q 14 is Q 12 if the atom in Z 1 to which Q 14 is bonded is a carbon atom, and Q 13 if the atom in Z 1 to which Q 14 is bonded is a nitrogen atom, Y 10 , Y 11 or When Y 12 has two or more Q 14s , the two or more Q 14s may be the same or different.
Q 15, the carbon of the alkylene group or an alkylene group having 2 or more carbon, - -C between carbon atoms (O) NR 6 -, - C (O) -, - NR 6 - or -O- a group having a There, Y 10, if Y 11 or Y 12 has a Q 15 2 or more, two or more Q 15 may be different even in the same.
Q 22 represents an alkylene group, a carbon number of 2 or more alkylene group having a carbon - -C between carbon atoms (O) NR 6 -, - C (O) -, - NR 6 - or a group having -O-, alkylene A group having -C (O) NR 6- , -C (O)-, -NR 6- or -O- at the end of the group not connected to Si, or a carbon-carbon of an alkylene group having 2 or more carbon atoms. -C between atoms (O) NR 6 -, - C (O) -, - NR 6 - or -O- and having and -C to the end on the side not connected to the Si (O) NR 6 -, - C (O) -, - NR 6 - or a group having -O-, if Y 10, Y 11 or Y 12 has a Q 22 2 or more, two or more Q 22 is optionally substituted by one or more identical May be good.
Q 23, the carbon of the alkylene group or an alkylene group having 2 or more carbon, - -C between carbon atoms (O) NR 6 -, - C (O) -, - NR 6 - or -O- a group having a There, the two of Q 23 may be the same or different.
Q 24 is Q 22 if the atom in Z 1 to which Q 24 is bonded is a carbon atom, and Q 23 if the atom in Z 1 to which Q 24 is bonded is a nitrogen atom, Y 10 , Y 11 or When Y 12 has two or more Q 24s , the two or more Q 24s may be the same or different.
Q 25, the carbon of the alkylene group or an alkylene group having 2 or more carbon, - -C between carbon atoms (O) NR 6 -, - C (O) -, - NR 6 - or -O- a group having a There, Y 10, if Y 11 or Y 12 has a Q 25 2 or more, two or more Q 25 may be different even in the same.
Q 26, the carbon of the alkylene group or an alkylene group having 2 or more carbon, - -C between carbon atoms (O) NR 6 -, - C (O) -, - NR 6 - or -O- a group having a is there.
Z 1 is a group having an h1 + h2 valent ring structure having a carbon atom or nitrogen atom to which Q 14 is directly bonded and a carbon atom or nitrogen atom to which Q 24 is directly bonded.
R e1 is a hydrogen atom or an alkyl group, and when Y 10 , Y 11 or Y 12 has two or more Re 1 , the two or more R e 1s may be the same or different.
Re2 is a hydrogen atom, a hydroxyl group, an alkyl group or an acyloxy group.
Re3 is an alkyl group. R 6 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a phenyl group.
 d1は、0~3の整数であり、1または2であるのが好ましい。d2は、0~3の整数であり、1または2であるのが好ましい。d1+d2は、1~3の整数である。
 d3は、0~3の整数であり、0または1であるのが好ましい。d4は、0~3の整数であり、2または3であるのが好ましい。d3+d4は、1~3の整数である。
 d1+d3は、Y10においては1~5の整数であり、1または2であるのが好ましく、Y11およびY12においては1である。
 d2+d4は、Y10においては1~5の整数であり、4または5であるのが好ましく、Y11およびY12においては3~5の整数であり、4または5であるのが好ましい。
 e1+e2は、3または4である。e1は、Y10においては1~3の整数であり、1または2であるのが好ましく、Y11およびY12においては1である。e2は、Y10においては1~3の整数であり、2または3であるのが好ましく、Y11およびY12においては2または3である。
 h1は、Y10においては1以上の整数であり、1または2であるのが好ましく、Y11およびY12においては1である。h2は、1以上の整数であり、2または3であるのが好ましい。
 i1+i2は、3または4である。i1は、Y10においては1~3の整数であり、1または2であるのが好ましく、Y11およびY12においては1である。i2は、Y10においては1~3の整数であり、2または3であるのが好ましく、Y11およびY12においては2または3である。
 i3は、2または3である。
d1 is an integer of 0 to 3, preferably 1 or 2. d2 is an integer of 0 to 3, preferably 1 or 2. d1 + d2 is an integer of 1 to 3.
d3 is an integer of 0 to 3, preferably 0 or 1. d4 is an integer of 0 to 3, preferably 2 or 3. d3 + d4 is an integer of 1 to 3.
d1 + d3, in Y 10 represents an integer of 1 to 5, preferably 1 or 2, is 1 in the Y 11 and Y 12.
d2 + d4, in Y 10 represents an integer of 1 to 5, is preferably 4 or 5, in Y 11 and Y 12 represents an integer of 3-5, is preferably 4 or 5.
e1 + e2 is 3 or 4. e1, in Y 10 represents an integer of 1 to 3, 1 or and even preferably at 2, is a 1 in the Y 11 and Y 12. e2, in Y 10 represents an integer of 1 to 3, is preferably 2 or 3, in Y 11 and Y 12 is 2 or 3.
h1, in Y 10 represents an integer of 1 or more, 1 or and even preferably at 2, it is a 1 in the Y 11 and Y 12. h2 is an integer of 1 or more, preferably 2 or 3.
i1 + i2 is 3 or 4. i1, in Y 10 represents an integer of 1 to 3, 1 or and even preferably at 2, is a 1 in the Y 11 and Y 12. i2, in Y 10 represents an integer of 1 to 3, is preferably 2 or 3, in Y 11 and Y 12 is 2 or 3.
i3 is 2 or 3.
 Q11、Q12、Q13、Q14、Q15、Q22、Q23、Q24、Q25およびQ26のアルキレン基の炭素数は、化合物(3-1)および化合物(3-2)を製造しやすい点、および撥水撥油層の耐摩擦性、耐光性および耐薬品性がさらに優れる点から、1~10が好ましく、1~6がより好ましく、1~4が特に好ましい。ただし、炭素-炭素原子間に特定の結合を有する場合のアルキレン基の炭素数の下限値は2である。 Q 11, Q 12, Q 13 , Q 14, Q 15, Q 22, Q 23, Q 24, carbon atoms in the alkylene group of Q 25 and Q 26, the compound (3-1) and the compound (3-2) 1 to 10 is preferable, 1 to 6 is more preferable, and 1 to 4 is particularly preferable, because it is easy to manufacture the compound and the water and oil repellent layer is further excellent in abrasion resistance, light resistance and chemical resistance. However, the lower limit of the number of carbon atoms of the alkylene group when a specific bond is formed between carbon atoms is 2.
 Zにおける環構造としては、上述した環構造が挙げられ、好ましい形態も同様である。なお、Zにおける環構造にはQ14やQ24が直接結合するため、環構造にたとえばアルキレン基が連結して、そのアルキレン基にQ14やQ24が連結することはない。 Examples of the ring structure in Z 1 include the above-mentioned ring structure, and the preferred form is also the same. Since Q 14 and Q 24 are directly bonded to the ring structure in Z 1 , for example, an alkylene group is linked to the ring structure, and Q 14 and Q 24 are not linked to the alkylene group.
 Re1、Re2またはRe3のアルキル基の炭素数は、化合物(3-1)および化合物(3-2)を製造しやすい点から、1~6が好ましく、1~3がより好ましく、1~2が特に好ましい。
 Re2のアシルオキシ基のアルキル基部分の炭素数は、化合物(1)を製造しやすい点から、1~6が好ましく、1~3がより好ましく、1~2が特に好ましい。
 h1は、化合物(3-1)および化合物(3-2)を製造しやすい点、ならびに、撥水撥油層の耐摩擦性がさらに優れる点から、1~6が好ましく、1~4がより好ましく、1または2がさらに好ましく、1が特に好ましい。
 h2としては、化合物(3-1)および化合物(3-2)を製造しやすい点、ならびに、撥水撥油層の耐摩擦性がさらに優れる点から、2~6が好ましく、2~4がより好ましく、2または3が特に好ましい。
The number of carbon atoms of the alkyl group of R e1 , Re 2 or Re 3 is preferably 1 to 6 and more preferably 1 to 3 from the viewpoint of easy production of compound (3-1) and compound (3-2). ~ 2 is particularly preferable.
The number of carbon atoms in the alkyl group portion of the acyloxy group of Re 2 is preferably 1 to 6, more preferably 1 to 3, and particularly preferably 1 to 2 from the viewpoint of easy production of the compound (1).
h1 is preferably 1 to 6 and more preferably 1 to 4 because it is easy to produce the compound (3-1) and the compound (3-2) and the abrasion resistance of the water- and oil-repellent layer is further excellent. 1 or 2 is more preferable, and 1 is particularly preferable.
As h2, 2 to 6 are preferable, and 2 to 4 are more preferable because the compound (3-1) and the compound (3-2) can be easily produced and the friction resistance of the water- and oil-repellent layer is further excellent. Preferably, 2 or 3 is particularly preferred.
 Y10の他の形態としては、基(g2-8)(ただし、j1=d1+d3、g1=d2×k3+d4×k3である。)、基(g2-9)(ただし、j1=e1、g1=e2×k3である。)、基(g2-10)(ただし、j1=1、g1=2×k3である。)、基(g2-11)(ただし、j1=h1、g1=h2×k3である。)、基(g2-12)(ただし、j1=i1、g1=i2×k3である。)、基(g2-13)(ただし、j1=1、g1=k3である。)、または基(g2-14)(ただし、j1=1、g1=i3×k3である。)が挙げられる。
 Y11およびY12の他の形態としては、基(g2-8)(ただし、k2=d2×k3、g2=d4×k3である。)、基(g2-9)(ただし、k2=e2×k3、g2=e2×k3である。)、基(g2-10)(ただし、k2=2×k3、g2=2×k3である。)、基(g2-11)(ただし、k2=h2×k3、g2=h2×k3である。)、基(g2-12)(ただし、k2=i2×k3、g2=i2×k3である。)、基(g2-13)(ただし、k2=k3、g2=k3である。)、または基(g2-14)(ただし、k2=i3×k3、g2=i3×k3である。)が挙げられる。
Other forms of Y 10, group (g2-8) (provided that j1 = d1 + d3, g1 = d2 × k3 + d4 × k3.), Group (g2-9) (however, j1 = e1, g1 = e2 × k3), group (g2-10) (where j1 = 1, g1 = 2 × k3), group (g2-11) (where j1 = h1, g1 = h2 × k3). ), Group (g2-12) (where j1 = i1, g1 = i2 × k3), group (g2-13) (where j1 = 1, g1 = k3), or group (. g2-14) (where j1 = 1, g1 = i3 × k3) can be mentioned.
Other forms of Y 11 and Y 12 include groups (g2-8) (where k2 = d2 × k3, g2 = d4 × k3), groups (g2-9) (where k2 = e2 ×). k3, g2 = e2 × k3), group (g2-10) (where k2 = 2 × k3, g2 = 2 × k3), group (g2-11) (where k2 = h2 × k3, g2 = h2 × k3), group (g2-12) (where k2 = i2 × k3, g2 = i2 × k3), group (g2-13) (where k2 = k3, g2 = k3), or a group (g2-14) (where k2 = i3 × k3, g2 = i3 × k3).
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
 (-A-Q12-)e1C(Re24-e1-e2(-Q22-Ge2  (g2-9)
 -A-Q13-N(-Q23-G  (g2-10)
 (-A-Q14-)h1(-Q24-Gh2  (g2-11)
 (-A-Q15-)i1Si(Re34-i1-i2(-Q25-Gi2  (g2-12)
 -A-Q26-G  (g2-13)
 -A-Q12-CH(-Q22-G)-Si(Re33-i3(-Q25-Gi3  (g2-14)
(-A 1 -Q 12 -) e1 C (R e2) 4-e1-e2 (-Q 22 -G 1) e2 (g2-9)
-A 1- Q 13- N (-Q 23- G 1 ) 2 (g2-10)
(-A 1 -Q 14 -) h1 Z 1 (-Q 24 -G 1) h2 (g2-11)
(-A 1 -Q 15 -) i1 Si (R e3) 4-i1-i2 (-Q 25 -G 1) i2 (g2-12)
-A 1- Q 26- G 1 (g2-13)
-A 1- Q 12- CH (-Q 22- G 1 ) -Si (R e3 ) 3-i3 (-Q 25- G 1 ) i3 (g2-14)
 ただし、式(g2-8)~(g2-14)においては、A側が(OX)に接続し、G側が[-Si(R)3-n]に接続する。Gは、基(g3)であり、Y10、Y11またはY12が有する2以上のGは同一であっても異なっていてもよい。G以外の符号は、式(g2-1)~(g2-7)における符号と同じである。
 -Si(R3-k3(-Q-)k3  (g3)
 ただし、式(g3)においては、Si側がQ22、Q23、Q24、Q25およびQ26に接続し、Q側が[-Si(R)3-n]に接続する。Rは、アルキル基である。Qは、アルキレン基、炭素数2以上のアルキレン基の炭素-炭素原子間に-C(O)NR-、-C(O)-、-NR-もしくは-O-を有する基、または-(OSi(R-O-であり、2以上のQは同一であっても異なっていてもよい。k3は、2または3である。Rは、水素原子、炭素数1~6のアルキル基またはフェニル基である。Rは、アルキル基、フェニル基またはアルコキシ基であり、2個のRは同一であっても異なっていてもよい。pは、0~5の整数であり、pが2以上の場合、2以上の(OSi(R)は同一であっても異なっていてもよい。
However, in the formula (g2-8) ~ (g2-14), connected to the A 1 side is (OX) m, connected to the G 1 side is [-Si (R) n L 3 -n]. G 1 is a group (g3), Y 10, Y 11 or Y 12 2 or more in G 1 with the can may be the same or different. The codes other than G 1 are the same as the codes in the formulas (g2-1) to (g2-7).
-Si (R 8 ) 3-k3 (-Q 3- ) k3 (g3)
However, in the equation (g3), the Si side is connected to Q 22 , Q 23 , Q 24 , Q 25 and Q 26 , and the Q 3 side is connected to [-Si (R) n L 3-n ]. R 8 is an alkyl group. Q 3 are carbon atoms in the alkylene group, having two or more alkylene groups having a carbon - -C between carbon atoms (O) NR 6 -, - C (O) -, - NR 6 - or a group having -O- or, - (OSi (R 9) 2 ) is a p -O-, 2 or more Q 3 are may be the same or different. k3 is 2 or 3. R 6 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a phenyl group. R 9 is an alkyl group, a phenyl group or an alkoxy group, and the two R 9s may be the same or different. p is an integer of 0 to 5, and when p is 2 or more, 2 or more (OSI (R 9 ) 2 ) may be the same or different.
 Qのアルキレン基の炭素数は、化合物(3-1)および化合物(3-2)を製造しやすい点、ならびに、撥水撥油層の耐摩擦性、耐光性および耐薬品性がさらに優れる点から、1~10が好ましく、1~6がより好ましく、1~4が特に好ましい。ただし、炭素-炭素原子間に特定の結合を有する場合のアルキレン基の炭素数の下限値は2である。
 Rのアルキル基の炭素数は、化合物(3-1)および化合物(3-2)を製造しやすい点から、1~6が好ましく、1~3がより好ましく、1~2が特に好ましい。
 Rのアルキル基の炭素数は、化合物(3-1)および化合物(3-2)を製造しやすい点から、1~6が好ましく、1~3がより好ましく、1~2が特に好ましい。
 Rのアルコキシ基の炭素数は、化合物(3-1)および化合物(3-2)の保存安定性に優れる点から、1~6が好ましく、1~3がより好ましく、1~2が特に好ましい。
 pは、0または1が好ましい。
The alkylene group of Q 3 are the compounds (3-1) and the compound (3-2) prepared easily point a, as well as abrasion resistance of the water-repellent oil-repellent layer, further excellent point light resistance and chemical resistance Therefore, 1 to 10 is preferable, 1 to 6 is more preferable, and 1 to 4 is particularly preferable. However, the lower limit of the number of carbon atoms of the alkylene group when a specific bond is formed between carbon atoms is 2.
The number of carbon atoms of the alkyl group of R 8 is preferably 1 to 6, more preferably 1 to 3, and particularly preferably 1 to 2 from the viewpoint that the compound (3-1) and the compound (3-2) can be easily produced.
The number of carbon atoms of the alkyl group of R 9 is preferably 1 to 6, more preferably 1 to 3, and particularly preferably 1 to 2 from the viewpoint that the compound (3-1) and the compound (3-2) can be easily produced.
The number of carbon atoms of the alkoxy group of R 9 is preferably 1 to 6, more preferably 1 to 3, and particularly preferably 1 to 2, from the viewpoint of excellent storage stability of the compound (3-1) and the compound (3-2). preferable.
p is preferably 0 or 1.
 化合物(3-1)および化合物(3-2)としては、たとえば、下式の化合物が挙げられる。下式の化合物は、工業的に製造しやすく、取扱いやすく、撥水撥油層の撥水撥油性、耐摩擦性、指紋除去性、潤滑性、耐薬品性、耐光性および耐薬品性がさらに優れ、なかでも耐光性が特に優れる点から好ましい。下式の化合物におけるRおよびQはそれぞれ、上述した式(3-1)における[Rf1-(OX)-]および式(3-2)における-(OX)-と同様であり、好ましい形態も同様である。 Examples of the compound (3-1) and the compound (3-2) include the compounds of the following formulas. The compound of the following formula is industrially easy to manufacture and handle, and the water and oil repellent layer has further excellent water and oil repellency, abrasion resistance, fingerprint removal, lubricity, chemical resistance, light resistance and chemical resistance. Of these, it is preferable because it has particularly excellent light resistance. Each R f and Q f in the formula of the compound, in the formula (3-1) described above [R f1 - (OX) m -] and in the formula (3-2) - (OX) m - is the same as The same applies to the preferred form.
 Y10が基(g2-1)である化合物(3-1)としては、たとえば、下式の化合物が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
Examples of the compound (3-1) in which Y 10 is a group (g2-1) include the compound of the following formula.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
 Y10が基(g2-2)である化合物(3-1)としては、たとえば、下式の化合物が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
Examples of the compound (3-1) having Y 10 as a group (g2-2) include the compounds of the following formulas.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
 Y10が基(g2-3)である化合物(3-1)としては、たとえば、下式の化合物が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
Examples of the compound (3-1) having Y 10 as a group (g2-3) include the compounds of the following formulas.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
 Y10が基(g2-4)である化合物(3-1)としては、たとえば、下式の化合物が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
Examples of the compound (3-1) having Y 10 as a group (g2-4) include the compounds of the following formulas.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
 Y10が基(g2-5)である化合物(3-1)としては、たとえば、下式の化合物が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
Examples of the compound (3-1) having Y 10 as a group (g2-5) include the compounds of the following formulas.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
 Y10が基(g2-6)である化合物(3-1)としては、たとえば、下式の化合物が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
Examples of the compound (3-1) having Y 10 as a group (g2-6) include the compounds of the following formulas.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
 Y10が基(g2-7)である化合物(3-1)としては、たとえば、下式の化合物が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
Examples of the compound (3-1) in which Y 10 is a group (g2-7) include the compound of the following formula.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
 Y10が基(g2-8)である化合物(3-1)としては、たとえば、下式の化合物が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
Examples of the compound (3-1) having Y 10 as a group (g2-8) include the compounds of the following formulas.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
 Y10が基(g2-9)である化合物(3-1)としては、たとえば、下式の化合物が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
Examples of the compound (3-1) having Y 10 as a group (g2-9) include the compounds of the following formulas.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
 Y10が基(g2-10)である化合物(3-1)としては、たとえば、下式の化合物が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
Examples of the compound (3-1) in which Y 10 is a group (g2-10) include the compound of the following formula.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
 Y10が基(g2-11)である化合物(3-1)としては、たとえば、下式の化合物が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
Examples of the compound (3-1) having Y 10 as a group (g2-11) include the compounds of the following formulas.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
 Y10が基(g2-12)である化合物(3-1)としては、たとえば、下式の化合物が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
Examples of the compound (3-1) in which Y 10 is a group (g2-12) include the compound of the following formula.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
 Y10が基(g2-13)である化合物(3-1)としては、たとえば、下式の化合物が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
Examples of the compound (3-1) having Y 10 as a group (g2-13) include the compounds of the following formulas.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
 Y10が基(g2-14)である化合物(3-1)としては、たとえば、下式の化合物が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024
Examples of the compound (3-1) in which Y 10 is a group (g2-14) include the compounds of the following formulas.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024
 Y11およびY12が基(g2-1)である化合物(3-2)としては、たとえば、下式の化合物が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
Examples of the compound (3-2) having Y 11 and Y 12 as a group (g2-1) include the compounds of the following formulas.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
 Y11およびY12が基(g2-2)である化合物(3-2)としては、たとえば、下式の化合物が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000026
Examples of the compound (3-2) having Y 11 and Y 12 as a group (g2-2) include the compounds of the following formulas.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000026
 Y11およびY12が基(g2-3)である化合物(3-2)としては、たとえば、下式の化合物が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000027
Examples of the compound (3-2) having Y 11 and Y 12 as a group (g2-3) include the compounds of the following formulas.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000027
 Y11およびY12が基(g2-4)である化合物(3-2)としては、たとえば、下式の化合物が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000028
Examples of the compound (3-2) having Y 11 and Y 12 as a group (g2-4) include the compounds of the following formulas.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000028
 Y11およびY12が基(g2-5)である化合物(3-2)としては、たとえば、下式の化合物が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000029
Examples of the compound (3-2) having Y 11 and Y 12 as a group (g2-5) include the compounds of the following formulas.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000029
 Y11およびY12が基(g2-6)である化合物(3-2)としては、たとえば、下式の化合物が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000030
Examples of the compound (3-2) having Y 11 and Y 12 as a group (g2-6) include the compounds of the following formulas.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000030
 Y11およびY12が基(g2-7)である化合物(3-2)としては、たとえば、下式の化合物が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000031
Examples of the compound (3-2) having Y 11 and Y 12 as a group (g2-7) include the compounds of the following formulas.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000031
 Y11およびY12が基(g2-9)である化合物(3-2)としては、たとえば、下式の化合物が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000032
Examples of the compound (3-2) having Y 11 and Y 12 as a group (g2-9) include the compounds of the following formulas.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000032
 含フッ素化合物の具体例としては、たとえば、下記の文献に記載のものが挙げられる。 特開平11-029585号公報に記載のパーフルオロポリエーテル変性アミノシラン。
 特許第2874715号公報に記載のケイ素含有有機含フッ素ポリマー。
 特開2000-144097号公報に記載の有機ケイ素化合物。
 特開2000-327772号公報に記載のパーフルオロポリエーテル変性アミノシラン。
 特表2002-506887号公報に記載のフッ素化シロキサン。
 特表2008-534696号公報に記載の有機シリコーン化合物。
 特許第4138936号公報に記載のフッ素化変性水素含有重合体。
 米国特許出願公開第2010/0129672号明細書、国際公開第2014/126064号、特開2014-070163号公報に記載の化合物。
 国際公開第2011/060047号、国際公開第2011/059430号に記載のオルガノシリコン化合物。
 国際公開第2012/064649号に記載の含フッ素オルガノシラン化合物。
 特開2012-72272号公報に記載のフルオロオキシアルキレン基含有ポリマー。
 国際公開第2013/042732号、国際公開第2013/121984号、国際公開第2013/121985号、国際公開第2013/121986号、国際公開第2014/163004号、特開2014-080473号公報、国際公開第2015/087902号、国際公開第2017/038830号、国際公開第2017/038832号、国際公開第2017/187775号に記載の含フッ素エーテル化合物。
 特開2014-218639号公報、国際公開第2017/022437号、国際公開第2018/079743号、国際公開第2018/143433号に記載のパーフルオロ(ポリ)エーテル含有シラン化合物。
 特開2015-199906号公報、特開2016-204656号公報、特開2016-210854号公報、特開2016-222859号公報に記載のフルオロポリエーテル基含有ポリマー変性シラン。
 国際公開第2018/216630号、国際公開第2019/039226号、国際公開第2019/039341号、国際公開第2019/039186号、国際公開第2019/044479号、特開2019-44158号公報、特願2017-251611に記載の含フッ素エーテル化合物。
Specific examples of the fluorine-containing compound include those described in the following documents. Perfluoropolyether-modified aminosilane described in JP-A-11-209585.
The silicon-containing organic fluoropolymer described in Japanese Patent No. 2874715.
The organosilicon compound described in JP-A-2000-144097.
Perfluoropolyether-modified aminosilane described in JP-A-2000-327772.
Fluorinated siloxane described in JP-A-2002-506887.
The organic silicone compound described in JP-A-2008-534696.
The fluorinated modified hydrogen-containing polymer described in Japanese Patent No. 4138936.
Compounds described in US Patent Application Publication No. 2010/0129672, International Publication No. 2014/1260664, and JP-A-2014-0701163.
The organosilicon compound according to International Publication No. 2011/060047 and International Publication No. 2011/059430.
Fluorine-containing organosilane compound according to International Publication No. 2012/0646949.
Fluoroxyalkylene group-containing polymer described in JP-A-2012-722272.
International Publication No. 2013/042732, International Publication No. 2013/121984, International Publication No. 2013/121985, International Publication No. 2013/121986, International Publication No. 2014/163004, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2014-080473, International Publication No. Fluorine-containing ether compounds according to No. 2015/087902, International Publication No. 2017/038830, International Publication No. 2017/038832, International Publication No. 2017/187775.
Perfluoro (poly) ether-containing silane compounds according to JP-A-2014-218369, International Publication No. 2017/022437, International Publication No. 2018/079743, International Publication No. 2018/143433.
Fluoropolyether group-containing polymer-modified silanes described in JP-A-2015-199906, JP-A-2016-204656, JP-A-2016-210854, and JP-A-2016-222859.
International Publication No. 2018/216630, International Publication No. 2019/039226, International Publication No. 2019/039341, International Publication No. 2019/039186, International Publication No. 2019/0444479, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2019-44158, Japanese Patent Application No. Fluorine-containing ether compound according to 2017-251611.
 含フッ素化合物の数平均分子量(Mn)は、1,000~20,000であるのが好ましく、2,000~18,000であるのがより好ましく、3000~1,5000であるのが特に好ましい。
 Mnが1,000以上であれば、含フッ素化合物の分子鎖の流動性およびフッ素含有量が高くなるので、含フッ素化合物の指紋除去性がより優れる。Mnが20,000以下であれば、粘性を適切な範囲内に調節しやすく、また溶解性が向上するので、成膜時のハンドリング性が優れる。
The number average molecular weight (Mn) of the fluorine-containing compound is preferably 1,000 to 20,000, more preferably 2,000 to 18,000, and particularly preferably 3,000 to 1,5,000. ..
When Mn is 1,000 or more, the fluidity and fluorine content of the molecular chain of the fluorine-containing compound are high, so that the fingerprint-removing property of the fluorine-containing compound is more excellent. When Mn is 20,000 or less, the viscosity can be easily adjusted within an appropriate range and the solubility is improved, so that the handleability at the time of film formation is excellent.
[撥水撥油層付き基材の製造方法]
 本発明の撥水撥油層付き基材は、上述の含フッ素化合物を用いて形成してもよいし、上述の含フッ素化合物と液状媒体とを含む組成物を用いて形成してもよい。
 以下においては、本発明の撥水撥油層付き基材の製造方法の一例として、含フッ素化合物または含フッ素化合物と液状媒体とを含む組成物を用いて、基材の主表面に撥水撥油層を形成する方法を説明する。撥水撥油層は、含フッ素化合物を用いたドライコーティング、および、含フッ素化合物と液状媒体とを含む組成物を用いたウェットコーティングのいずれの製造条件でも形成できる。
[Manufacturing method of base material with water- and oil-repellent layer]
The base material with a water- and oil-repellent layer of the present invention may be formed by using the above-mentioned fluorine-containing compound, or may be formed by using a composition containing the above-mentioned fluorine-containing compound and a liquid medium.
In the following, as an example of the method for producing a base material with a water-repellent oil-repellent layer of the present invention, a fluorine-containing compound or a composition containing a fluorine-containing compound and a liquid medium is used on the main surface of the base material. The method of forming the above will be described. The water- and oil-repellent layer can be formed under any of the production conditions of a dry coating using a fluorine-containing compound and a wet coating using a composition containing the fluorine-containing compound and a liquid medium.
 組成物に含まれる液状媒体の具体例としては、水、有機溶媒が挙げられる。有機溶媒の具体例としては、フッ素系有機溶媒および非フッ素系有機溶媒が挙げられる。
 有機溶媒は、1種単独で用いても2種以上を併用してもよい。
Specific examples of the liquid medium contained in the composition include water and an organic solvent. Specific examples of the organic solvent include a fluorinated organic solvent and a non-fluorinated organic solvent.
The organic solvent may be used alone or in combination of two or more.
 フッ素系有機溶媒の具体例としては、フッ素化アルカン、フッ素化芳香族化合物、フルオロアルキルエーテル、フッ素化アルキルアミン、フルオロアルコールが挙げられる。
 フッ素化アルカンは、炭素数4~8の化合物が好ましく、たとえば、C13H(AC-2000:製品名、AGC社製)、C13(AC-6000:製品名、AGC社製)、CCHFCHFCF(バートレル:製品名、デュポン社製)が挙げられる。
 フッ素化芳香族化合物の具体例としては、ヘキサフルオロベンゼン、トリフルオロメチルベンゼン、ペルフルオロトルエン、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン、1,4-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼンが挙げられる。
 フルオロアルキルエーテルは、炭素数4~12の化合物が好ましく、たとえば、CFCHOCFCFH(AE-3000:製品名、AGC社製)、COCH(ノベック-7100:製品名、3M社製)、COC(ノベック-7200:製品名、3M社製)、CCF(OCH)C(ノベック-7300:製品名、3M社製)が挙げられる。
 フッ素化アルキルアミンの具体例としては、ペルフルオロトリプロピルアミン、ペルフルオロトリブチルアミンが挙げられる。
 フルオロアルコールの具体例としては、2,2,3,3-テトラフルオロプロパノール、2,2,2-トリフルオロエタノール、ヘキサフルオロイソプロパノールが挙げられる。
Specific examples of the fluorinated organic solvent include fluorinated alkanes, fluorinated aromatic compounds, fluoroalkyl ethers, fluorinated alkylamines, and fluoroalcohols.
The fluorinated alkane is preferably a compound having 4 to 8 carbon atoms, for example, C 6 F 13 H (AC-2000: product name, manufactured by AGC Inc.), C 6 F 13 C 2 H 5 (AC-6000: product name). , AGC), C 2 F 5 CHFCHFCF 3 (Bertrel: product name, manufactured by DuPont).
Specific examples of the fluorinated aromatic compound include hexafluorobenzene, trifluoromethylbenzene, perfluorotoluene, 1,3-bis (trifluoromethyl) benzene, and 1,4-bis (trifluoromethyl) benzene.
The fluoroalkyl ether is preferably a compound having 4 to 12 carbon atoms, for example, CF 3 CH 2 OCF 2 CF 2 H (AE-3000: product name, manufactured by AGC), C 4 F 9 OCH 3 (Novec-7100:). Product name, C 4 F 9 OC 2 H 5 (Novec-7200: Product name, manufactured by 3M), C 2 F 5 CF (OCH 3 ) C 3 F 7 (Novec-7300: Product name, (Made by 3M).
Specific examples of the fluorinated alkylamine include perfluorotripropylamine and perfluorotributylamine.
Specific examples of the fluoroalcohol include 2,2,3,3-tetrafluoropropanol, 2,2,2-trifluoroethanol, and hexafluoroisopropanol.
 非フッ素系有機溶媒としては、水素原子および炭素原子のみからなる化合物、および、水素原子、炭素原子および酸素原子のみからなる化合物が好ましく、具体的には、炭化水素系有機溶媒、ケトン系有機溶媒、エーテル系有機溶媒、エステル系有機溶媒、アルコール系有機溶媒が挙げられる。
 炭化水素系有機溶媒の具体例としては、ヘキサン、へプタン、シクロヘキサンが挙げられる。
 ケトン系有機溶媒の具体例としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンが挙げられる。
 エーテル系有機溶媒の具体例としては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、テトラエチレングリコールジメチルエーテルが挙げられる。
 エステル系有機溶媒の具体例としては、酢酸エチル、酢酸ブチルが挙げられる。
 アルコール系有機溶媒の具体例としては、イソプロピルアルコールが挙げられる。
As the non-fluorine-based organic solvent, a compound consisting of only hydrogen atoms and carbon atoms and a compound consisting of only hydrogen atoms, carbon atoms and oxygen atoms are preferable, and specifically, a hydrocarbon-based organic solvent and a ketone-based organic solvent are used. , Ether-based organic solvent, ester-based organic solvent, alcohol-based organic solvent can be mentioned.
Specific examples of the hydrocarbon-based organic solvent include hexane, heptane, and cyclohexane.
Specific examples of the ketone-based organic solvent include acetone, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone.
Specific examples of the ether-based organic solvent include diethyl ether, tetrahydrofuran, and tetraethylene glycol dimethyl ether.
Specific examples of the ester-based organic solvent include ethyl acetate and butyl acetate.
Specific examples of the alcohol-based organic solvent include isopropyl alcohol.
 組成物中の含フッ素化合物の含有量は、組成物の全質量に対して、0.01~50.00質量%が好ましく、1.0~30.00質量%が特に好ましい。
 組成物中の液状媒体の含有量は、組成物の全質量に対して、50.00~99.99質量%が好ましく、70.00~99.00質量%が特に好ましい。
The content of the fluorine-containing compound in the composition is preferably 0.01 to 50.00% by mass, particularly preferably 1.0 to 30.00% by mass, based on the total mass of the composition.
The content of the liquid medium in the composition is preferably 50.00 to 99.99% by mass, particularly preferably 70.00 to 99.00% by mass, based on the total mass of the composition.
 本発明の撥水撥油層付き基材は、たとえば、下記の方法で製造できる。
 ・含フッ素化合物を用いたドライコーティング法によって基材の主表面を処理して、基材の主表面に撥水撥油層が形成された撥水撥油層付き基材を得る方法。
 ・ウェットコーティング法によって組成物を基材の主表面に塗布し、乾燥させて、基材の主表面に撥水撥油層が形成された撥水撥油層付き基材を得る方法。
The base material with a water- and oil-repellent layer of the present invention can be produced, for example, by the following method.
-A method of treating the main surface of a base material by a dry coating method using a fluorine-containing compound to obtain a base material with a water-repellent oil-repellent layer having a water-repellent oil-repellent layer formed on the main surface of the base material.
-A method in which a composition is applied to the main surface of a base material by a wet coating method and dried to obtain a base material having a water-repellent oil-repellent layer on the main surface of the base material.
 ドライコーティング法の具体例としては、真空蒸着法、CVD法、スパッタリング法が挙げられる。これらの中でも、含フッ素化合物の分解を抑える点、および、装置の簡便さの点から、真空蒸着法が好適である。真空蒸着時には、鉄や鋼等の金属多孔体に含フッ素化合物を担持させたペレット状物質、または組成物を含浸し、乾燥させて得たペレット状物質を使用してもよい。 Specific examples of the dry coating method include a vacuum deposition method, a CVD method, and a sputtering method. Among these, the vacuum vapor deposition method is preferable from the viewpoint of suppressing the decomposition of the fluorine-containing compound and the simplicity of the apparatus. At the time of vacuum deposition, a pellet-like substance in which a fluorine-containing compound is supported on a metal porous body such as iron or steel, or a pellet-like substance obtained by impregnating a composition and drying it may be used.
 ウェットコーティング法の具体例としては、スピンコート法、ワイプコート法、スプレーコート法、スキージーコート法、ディップコート法、ダイコート法、インクジェット法、フローコート法、ロールコート法、キャスト法、ラングミュア・ブロジェット法、グラビアコート法が挙げられる。 Specific examples of the wet coating method include spin coating method, wipe coating method, spray coating method, squeegee coating method, dip coating method, die coating method, inkjet method, flow coating method, roll coating method, casting method, Langmuir Brodget. The method and the gravure coat method can be mentioned.
 組成物をウェットコーティングした後の乾燥温度は、20~200℃が好ましく、80~160℃が特に好ましい。 The drying temperature after wet coating the composition is preferably 20 to 200 ° C, particularly preferably 80 to 160 ° C.
 本発明の撥水撥油層付き基材の製造方法において、撥水撥油層の形成後、撥水撥油層の表面を溶媒によって洗浄してもよい。ただし、洗浄は、撥水撥油層のフッ素量余剰分が2以上となる条件で実施する必要があり、撥水撥油層のフッ素量余剰分が400以下となる条件で実施するのが好ましい。
 上記洗浄の方法の具体例としては、撥水撥油層の表面に溶媒をかけ流す方法、および、溶媒で湿潤した紙や布等の繊維構造体で撥水撥油層の表面を払拭する方法が挙げられる。なかでも、撥水撥油層のフッ素量余剰分を上述の範囲に調節することが容易となる点で、溶媒で湿潤した繊維構造体で撥水撥油層の表面を払拭する方法が好ましい。
 溶媒で湿潤した繊維構造体による撥水撥油層の表面の払拭においては、たとえば、払拭回数、払拭時に繊維構造体にかける荷重、溶媒の種類等の条件を調節すれば、撥水撥油層のフッ素量余剰分を上述の範囲に設定できる。
In the method for producing a base material with a water / oil repellent layer of the present invention, the surface of the water / oil repellent layer may be washed with a solvent after the water / oil repellent layer is formed. However, the cleaning needs to be carried out under the condition that the excess fluorine amount of the water-repellent oil-repellent layer is 2 or more, and is preferably carried out under the condition that the excess fluorine amount of the water-repellent oil-repellent layer is 400 or less.
Specific examples of the above-mentioned cleaning method include a method of pouring a solvent on the surface of the water-repellent oil-repellent layer and a method of wiping the surface of the water-repellent oil-repellent layer with a fiber structure such as paper or cloth moistened with the solvent. Be done. Among them, a method of wiping the surface of the water-repellent oil-repellent layer with a fiber structure moistened with a solvent is preferable in that the excess fluorine amount of the water-repellent oil-repellent layer can be easily adjusted to the above range.
In wiping the surface of the water-repellent oil-repellent layer with a fiber structure moistened with a solvent, for example, if conditions such as the number of wiping times, the load applied to the fiber structure at the time of wiping, and the type of solvent are adjusted, the fluorine of the water-repellent oil-repellent layer The amount surplus can be set in the above range.
 洗浄に用いる溶媒としては、余剰成分の除去量を調節しやすい点で、有機溶媒が好ましい。 As the solvent used for cleaning, an organic solvent is preferable because the amount of excess components removed can be easily adjusted.
 撥水撥油層の耐摩擦性を向上させるために、必要に応じて、含フッ素化合物と基材または下地層との反応を促進するための操作を行ってもよい。該操作としては、加熱、加湿、光照射等が挙げられる。たとえば、水分を有する大気中で撥水撥油層が形成された撥水撥油層付き基材を加熱して、反応性シリル基のシラノール基への加水分解反応、シラノール基の縮合反応によるシロキサン結合の生成、基材または下地層の表面のシラノール基と含フッ素化合物のシラノール基との縮合反応等の反応を促進できる。 In order to improve the friction resistance of the water- and oil-repellent layer, an operation for promoting the reaction between the fluorine-containing compound and the base material or the base layer may be performed, if necessary. Examples of the operation include heating, humidification, and light irradiation. For example, by heating a base material with a water-repellent oil-repellent layer on which a water-repellent oil-repellent layer is formed in a moist atmosphere, a hydrolysis reaction of a reactive silyl group to a silanol group and a siloxane bond by a condensation reaction of a silanol group are formed. Reactions such as formation, condensation reaction of silanol groups on the surface of the base material or the base layer and silanol groups of the fluorine-containing compound can be promoted.
 上記手順によって形成される撥水撥油層には、含フッ素化合物の加水分解反応および縮合反応を介して得られる化合物が含まれている。 The water- and oil-repellent layer formed by the above procedure contains a compound obtained through a hydrolysis reaction and a condensation reaction of a fluorine-containing compound.
 以下、例を挙げて本発明を詳細に説明する。例1-2~例1-4、例1-6~例1-8、例1-10~例1-15、例2-2~例2-4、例2-6~例2-9、例2-11~例2-13、例2-15は実施例であり、例1-1、例1-5、例1-9、例2-1、例2-5、例2-10および例2-14は比較例である。ただし本発明はこれらの例に限定されない。 Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to an example. Example 1-2 to Example 1-4, Example 1-6 to Example 1-8, Example 1-10 to Example 1-15, Example 2-2 to Example 2-4, Example 2-6 to Example 2-9, Examples 2-11 to 2-13 and 2-15 are examples, and Examples 1-1, 1-5, 1-9, 2-1 and 2-5, 2-10 and Example 2-14 is a comparative example. However, the present invention is not limited to these examples.
[物性および評価]
(数平均分子量)
 含フッ素化合物の数平均分子量は、H-NMRおよび19F-NMRによって、末端基を基準にしてオキシペルフルオロアルキレン基の数(平均値)を求めることによって算出した。末端基は、たとえば式(3)中のAまたはSi(R)3-nである。
[Physical properties and evaluation]
(Number average molecular weight)
The number average molecular weight of the fluorine-containing compound was calculated by determining the number (mean value) of oxyperfluoroalkylene groups with reference to the terminal groups by 1 H-NMR and 19 F-NMR. The terminal group is, for example, A or Si (R) n L 3-n in the formula (3).
(フッ素量余剰分)
 上述のフッ素量余剰分の算出方法にしたがって、撥水撥油層のフッ素量余剰分を算出した。
 なお、フッ素原子強度F1の測定は、湿度60%RH、室温23℃の環境下で実施した。
 また、撥水撥油層付き基材を拭く操作には、アサヒクリン AE-3000(AGC社製)中にキムワイプS-200(日本製紙クレシア社製)を3分間浸漬させることで湿潤させたキムワイプを用いた。撥水撥油層を拭く操作は、湿潤させたキムワイプを取り付けた往復式トラバース試験機(ケイエヌテー社製)を用いて、圧力:29N、速度:320cm/分で50回往復(すなわち、100回払拭)して実施した。なお、湿潤させたキムワイプは10回往復ごとに新しいものに交換した。
(Excess fluorine amount)
The fluorine amount surplus of the water-repellent oil-repellent layer was calculated according to the above-mentioned method for calculating the fluorine amount surplus.
The fluorine atomic strength F1 was measured in an environment with a humidity of 60% RH and a room temperature of 23 ° C.
For the operation of wiping the base material with a water-repellent oil-repellent layer, a Kimwipe moistened by immersing Kimwipe S-200 (manufactured by Nippon Paper Crecia) in Asahi Clean AE-3000 (manufactured by AGC) for 3 minutes. Using. To wipe the water- and oil-repellent layer, use a reciprocating traverse tester (manufactured by KNT) equipped with a moistened Kimwipe, and reciprocate 50 times at a pressure of 29 N and a speed of 320 cm / min (that is, wipe 100 times). And carried out. The moistened Kimwipe was replaced with a new one every 10 round trips.
(指紋除去性)
 人工指紋液(オレイン酸とスクアレンとからなる液)を、シリコンゴム栓の平坦面に付着させた後、余分な油分を不織布(旭化成社製、ベンコット(登録商標)M-3)にて拭き取ることによって、指紋のスタンプを準備した。該指紋スタンプを撥水撥油層上に乗せ、荷重:9.8Nにて10秒間押しつけた。指紋が付着した箇所のヘーズをヘーズメータにて測定し、初期値とした。指紋が付着した箇所について、ベンコット M-3を取り付けた往復式トラバース試験機(ケイエヌテー社製)を用い、荷重:2.0Nにて拭き取りを行った。拭き取り一往復毎にヘーズの値を測定し、ヘーズが初期値から10%以下になる拭き取り回数を測定した。拭き取り回数が少ないほど指紋汚れを容易に除去でき、指紋除去性に優れる。評価基準は下記のとおりであり、D以上の評価であれば実用上使用できる。
 A:拭き取り回数が3回以下。
 B:拭き取り回数が4~5回。
 C:拭き取り回数が6~7回。
 D:拭き取り回数が8~10回。
 E:拭き取り回数が11回以上。
(Fingerprint removal)
After adhering an artificial fingerprint liquid (a liquid consisting of oleic acid and squalene) to the flat surface of a silicone rubber stopper, wipe off excess oil with a non-woven fabric (Bencot (registered trademark) M-3 manufactured by Asahi Kasei Corporation). Prepared a fingerprint stamp. The fingerprint stamp was placed on a water-repellent and oil-repellent layer and pressed at a load of 9.8 N for 10 seconds. The haze at the place where the fingerprint was attached was measured with a haze meter and used as the initial value. The fingerprints were wiped off at a load of 2.0 N using a reciprocating traverse tester (manufactured by KNT) equipped with Bencot M-3. The value of haze was measured for each round trip of wiping, and the number of times of wiping that haze became 10% or less from the initial value was measured. The smaller the number of wipes, the easier it is to remove fingerprint stains, and the better the fingerprint removal property. The evaluation criteria are as follows, and any evaluation of D or higher can be used practically.
A: The number of wipes is 3 or less.
B: The number of wipes is 4 to 5 times.
C: The number of wipes is 6 to 7 times.
D: The number of wipes is 8 to 10 times.
E: The number of wipes is 11 or more.
(外観)
 撥水撥油層のヘーズをヘーズメータ(東洋精機社製)にて測定した。ヘーズが小さいほど含フッ素化合物が均一に塗布できており、外観に優れる。評価基準は下記のとおりである。
 ◎(優):ヘーズが0.1%未満。
 ○(良):ヘーズが0.1%以上0.5%未満。
 △(可):ヘーズが0.5%以上1.0%未満。
 ×(不可):ヘーズが1.0%以上。
(appearance)
The haze of the water- and oil-repellent layer was measured with a haze meter (manufactured by Toyo Seiki Co., Ltd.). The smaller the haze, the more uniformly the fluorine-containing compound can be applied, and the better the appearance. The evaluation criteria are as follows.
◎ (excellent): Haze is less than 0.1%.
○ (Good): Haze is 0.1% or more and less than 0.5%.
Δ (possible): Haze is 0.5% or more and less than 1.0%.
× (impossible): Haze is 1.0% or more.
[化合物(3-2A)]
 フルオロリンク(登録商標)S10(ソルベイ社製)を化合物(3-2A)として用いた。 (CHCH2O)Si-C-NHC(O)-CF-{(OCF(OC}-OCFC(O)NH-C-Si(OCH2CH  (3-2A)
 数平均分子量(Mn):1,600、p=5.5、q=5.5
[Compound (3-2A)]
Fluorolink® S10 (manufactured by Solvay) was used as compound (3-2A). (CH 3 CH 2 O) 3 Si-C 3 H 6- NHC (O) -CF 2 -{(OCF 2 ) q (OC 4 F 8 ) p } -OCF 2 C (O) NH-C 3 H 6 -Si (OCH 2 CH 3 ) 3 (3-2A)
Number average molecular weight (Mn): 1,600, p = 5.5, q = 5.5
[化合物(3-2B)]
 特開2015-199906号公報の実施例4にしたがい、化合物(3-2B)を得た。なお、以下の化学式における-[OCFp1-[OCq1-は、p1個の(OCF)とq1個の(OC)とを有するランダム配列鎖を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000033
[Compound (3-2B)]
Compound (3-2B) was obtained according to Example 4 of JP-A-2015-199906. In the following chemical formula,-[OCF 2 ] p1- [OC 4 F 8 ] q1- represents a random sequence chain having p1 (OCF 2 ) and q1 (OC 4 F 8 ).
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000033
 上記式(3-2B)において、p1:q1≒47:53、p1+q1≒43であり、化合物(3-2B)の数平均分子量(Mn)は4,800である。 In the above formula (3-2B), p1: q1 ≈ 47: 53, p1 + q1 ≈ 43, and the number average molecular weight (Mn) of the compound (3-2B) is 4,800.
[化合物(3-2C)]
 特開2015-037541号公報の段落0048に記載の化合物を化合物(3-2C)として用いた。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000034
[Compound (3-2C)]
The compound described in paragraph 0048 of JP-A-2015-037541 was used as the compound (3-2C).
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000034
 上記式(3-2C)において、p1/q1=1.0、p1+q1≒45であり、化合物(3-2C)の数平均分子量(Mn)は5,400である。 In the above formula (3-2C), p1 / q1 = 1.0, p1 + q1≈45, and the number average molecular weight (Mn) of the compound (3-2C) is 5,400.
[混合物(M1):(化合物(3-1A)と化合物(3-2D)との混合物)]
 下記化合物(3-1A)と下記化合物(3-2D)を含む混合物(M1)を以下の手順にて合成した。
[Mixture (M1): (Mixture of compound (3-1A) and compound (3-2D))]
A mixture (M1) containing the following compound (3-1A) and the following compound (3-2D) was synthesized by the following procedure.
(合成例D-1)
 国際公開第2013-121984号の実施例の例1-1に記載の方法にしたがって化合物(D-1)を得た。
 CF2=CFO-CF2CF2CF2CH2OH  (D-1)
(Synthesis Example D-1)
Compound (D-1) was obtained according to the method described in Example 1-1 of Examples of WO 2013-121984.
CF 2 = CFO-CF 2 CF 2 CF 2 CH 2 OH (D-1)
(合成例D-2)
 200mLのナスフラスコに、HO-CH2CF2CF2CH2-OHの16.2g、炭酸カリウムの13.8gを入れ、120℃で攪拌し、化合物(D-1)の278gを加えて120℃で2時間攪拌した。25℃に戻し、AC-2000(製品名、AGC社製、C613H)および塩酸をそれぞれ50g入れ、分液し、有機相を濃縮した。得られた反応粗液をカラムクロマトグラフィにて精製し、化合物(D-2)の117.7g(収率40%)を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000035
(Synthesis Example D-2)
In a 200 mL eggplant flask, 16.2 g of HO-CH 2 CF 2 CF 2 CH 2- OH and 13.8 g of potassium carbonate were placed, stirred at 120 ° C., and 278 g of compound (D-1) was added to 120. The mixture was stirred at ° C. for 2 hours. The temperature was returned to 25 ° C., 50 g each of AC-2000 (product name, manufactured by AGC, C 6 F 13 H) and hydrochloric acid was added, and the liquid was separated to concentrate the organic phase. The obtained crude reaction solution was purified by column chromatography to obtain 117.7 g (yield 40%) of compound (D-2).
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000035
 化合物(D-2)のNMRスペクトル;
 1H-NMR(300.4MHz、溶媒:CDCl3、基準:テトラメチルシラン(TMS)) δ(ppm):6.0(12H)、4.6(20H)、4.2(4H)、4.1(4H)。
 19F-NMR(282.7MHz、溶媒:CDCl3、基準:CFCl3) δ(ppm):-85(24F)、-90(24F)、-120(20F)、-122(4F)、-123(4F)、-126(24F)、-144(12F)
 単位数m+nの平均値:10。
NMR spectrum of compound (D-2);
1 1 H-NMR (300.4 MHz, solvent: CDCl 3 , reference: tetramethylsilane (TMS)) δ (ppm): 6.0 (12H), 4.6 (20H), 4.2 (4H), 4 .1 (4H).
19 F-NMR (282.7 MHz, solvent: CDCl 3 , reference: CFCl 3 ) δ (ppm): -85 (24F), -90 (24F), -120 (20F), -122 (4F), -123 (4F), -126 (24F), -144 (12F)
Average value of the number of units m + n: 10.
(合成例D-3)
 還流冷却器を接続した50mLのナスフラスコに、合成例D-2で得た化合物(D-2)の20g、フッ化ナトリウムの粉末2.4g、AC-2000の20g、CF3CF2CF2OCF(CF3)COFの18.8gを加えた。窒素雰囲気下、50℃で24時間攪拌した。室温に冷却した後、加圧ろ過機でフッ化ナトリウム粉末を除去した後、過剰のCF3CF2CF2OCF(CF3)COFとAC-2000を減圧留去し、化合物(D-3)の24g(収率100%)を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000036
(Synthesis Example D-3)
In a 50 mL eggplant flask connected to a reflux condenser, 20 g of the compound (D-2) obtained in Synthesis Example D-2, 2.4 g of sodium fluoride powder, 20 g of AC-2000, CF 3 CF 2 CF 2 18.8 g of OCF (CF 3 ) COF was added. The mixture was stirred at 50 ° C. for 24 hours under a nitrogen atmosphere. After cooling to room temperature, the sodium fluoride powder was removed with a pressure filter, and excess CF 3 CF 2 CF 2 OCF (CF 3 ) COF and AC-2000 were distilled off under reduced pressure to compound (D-3). 24 g (yield 100%) was obtained.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000036
 化合物(D-3)のNMRスペクトル;
 1H-NMR(300.4MHz、溶媒:CDCl3、基準:テトラメチルシラン(TMS)) δ(ppm):6.0(12H)、5.0(4H)、4.6(20H)、4.2(4H)。
 19F-NMR(282.7MHz、溶媒:CDCl3、基準:CFCl3) δ(ppm):-79(4F)、-81(6F)、-82(6F)、-85(24F)、-90(24F)、-119(4F)、-120(20F)、-122(4F)、-126(24F)、-129(4F)、-131(2F)、-144(12F)。
 単位数m+nの平均値:10。
NMR spectrum of compound (D-3);
1 1 H-NMR (300.4 MHz, solvent: CDCl 3 , reference: tetramethylsilane (TMS)) δ (ppm): 6.0 (12H), 5.0 (4H), 4.6 (20H), 4 .2 (4H).
19 F-NMR (282.7 MHz, solvent: CDCl 3 , reference: CFCl 3 ) δ (ppm): -79 (4F), -81 (6F), -82 (6F), -85 (24F), -90 (24F), -119 (4F), -120 (20F), -122 (4F), -126 (24F), -129 (4F), -131 (2F), -144 (12F).
Average value of the number of units m + n: 10.
(合成例D-4)
 500mLのニッケル製反応器に、ClCF2CFClCF2OCF2CF2Cl(以下、「CFE-419」と記す。)の250mLを入れ、窒素ガスをバブリングした。酸素ガス濃度が充分に下がった後、窒素ガスで希釈された20体積%のフッ素ガスを1時間バブリングした。合成例D-3で得た化合物(D-3)のCFE-419溶液(濃度:10質量%、化合物D-3:24g)を6時間かけて投入した。フッ素ガスの導入速度(mol/時間)と化合物D-3中の水素原子の導入速度(mol/時間)との比は2:1になるように制御した。化合物D-3の投入が終わった後、ベンゼンのCFE-419溶液(濃度:0.1質量%、ベンゼン:0.1g)を断続的に投入した。ベンゼンの投入が終わった後、フッ素ガスを1時間バブリングし、最後に窒素ガスで反応器内を充分に置換した。溶媒を留去し、化合物(D-4)の25.3g(収率90%)を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000037
(Synthesis Example D-4)
250 mL of ClCF 2 CFClCF 2 OCF 2 CF 2 Cl (hereinafter referred to as "CFE-419") was placed in a 500 mL nickel reactor, and nitrogen gas was bubbled. After the oxygen gas concentration was sufficiently lowered, 20% by volume of fluorine gas diluted with nitrogen gas was bubbled for 1 hour. A CFE-419 solution (concentration: 10% by mass, compound D-3: 24 g) of the compound (D-3) obtained in Synthesis Example D-3 was added over 6 hours. The ratio of the introduction rate of fluorine gas (mol / hour) to the introduction rate of hydrogen atoms in compound D-3 (mol / hour) was controlled to be 2: 1. After the addition of compound D-3 was completed, a CFE-419 solution of benzene (concentration: 0.1% by mass, benzene: 0.1 g) was added intermittently. After the addition of benzene was completed, the fluorine gas was bubbled for 1 hour, and finally the inside of the reactor was sufficiently replaced with nitrogen gas. The solvent was distilled off to obtain 25.3 g (yield 90%) of compound (D-4).
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000037
 化合物(D-4)のNMRスペクトル;
 19F-NMR(282.7MHz、溶媒:CDCl3、基準:CFCl3) δ(ppm):-79(4F)、-81(6F)、-82(6F)、-83(48F)、-87(44F)、-124(48F)、-129(4F)、-131(2F)。
 単位数lの平均値:11。
NMR spectrum of compound (D-4);
19 F-NMR (282.7 MHz, solvent: CDCl 3 , reference: CFCl 3 ) δ (ppm): -79 (4F), -81 (6F), -82 (6F), -83 (48F), -87 (44F),-124 (48F), -129 (4F), -131 (2F).
Average value of the number of units l: 11.
(合成例D-5)
 50mLのナスフラスコに、合成例D-4で得た化合物(D-4)の25.3g、フッ化ナトリウムの2.2g、AC-2000の25mLを入れ、氷浴中で撹拌した。メタノールの1.7gを入れ、25℃で1時間撹拌した。ろ過した後、ろ液をカラムクロマトグラフィにて精製した。化合物(D-5)の15g(収率80%)を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000038
(Synthesis Example D-5)
In a 50 mL eggplant flask, 25.3 g of the compound (D-4) obtained in Synthesis Example D-4, 2.2 g of sodium fluoride, and 25 mL of AC-2000 were placed and stirred in an ice bath. 1.7 g of methanol was added and stirred at 25 ° C. for 1 hour. After filtration, the filtrate was purified by column chromatography. 15 g (yield 80%) of compound (D-5) was obtained.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000038
 化合物(D-5)のNMRスペクトル;
 1H-NMR(300.4MHz、溶媒:CDCl3、基準:テトラメチルシラン(TMS)) δ(ppm):4.2(6H)。
 19F-NMR(282.7MHz、溶媒:CDCl3、基準:CFCl3) δ(ppm):-83(44F)、-87(44F)、-119(4F)、-124(44F)。
 単位数lの平均値:11。
NMR spectrum of compound (D-5);
1 1 H-NMR (300.4 MHz, solvent: CDCl 3 , reference: tetramethylsilane (TMS)) δ (ppm): 4.2 (6H).
19 F-NMR (282.7 MHz, solvent: CDCl 3 , reference: CFCl 3 ) δ (ppm): -83 (44F), -87 (44F), 119 (4F), -124 (44F).
Average value of the number of units l: 11.
(合成例D-6)
 50mLのナスフラスコに、合成例D-5で得た化合物(D-5)の15g、H2NCH2C(CH2CH=CH23の3.2g、AC-2000の15mLを入れ、0℃で24時間撹拌した。反応粗液をカラムクロマトグラフィにて精製し、目的物が含まれる留分3種にわけた。そのうち化合物(D-6)は合わせて11.2g(収率70%)を得た。3種のそれぞれの留分を(C4-6a)、(C4-6b)、(C4-6c)を得た。
 留分(C4-6a)~(C4-6c)には、化合物(D-6)および化合物(D-7)が含まれていた。そして、留分(C4-6a)を用いて19F-NMRによって、比(CF3/CF2)を求めた。なお、比におけるCF3は、化合物(D-7)の一方の末端にある-CF3基(式中の点線枠内の-CF3基)のモル数を意味し、19F-NMRでは-85~-87ppmに観測される。また、比におけるCF2は、化合物(D-7)の一方の末端近傍にある-CF2-基(式中の点線枠内の-CF2-基)と、化合物(D-6)の両末端の近傍にある-CF2-基(式中の点線枠内の-CF2-基)と、の合計モル数を意味し、19F-NMRでは-120ppmに観測される。
 留分(C4-6a)におけるCF3/CF2=0.11
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000039
(Synthesis Example D-6)
In a 50 mL eggplant flask, 15 g of the compound (D-5) obtained in Synthesis Example D-5, 3.2 g of H 2 NCH 2 C (CH 2 CH = CH 2 ) 3 , and 15 mL of AC-2000 were placed. The mixture was stirred at 0 ° C. for 24 hours. The crude reaction solution was purified by column chromatography and separated into three fractions containing the desired product. A total of 11.2 g (yield 70%) of compound (D-6) was obtained. Fractions of each of the three types were obtained as (C4-6a), (C4-6b) and (C4-6c).
The fractions (C4-6a) to (C4-6c) contained compound (D-6) and compound (D-7). Then, the ratio (CF 3 / CF 2 ) was determined by 19 F-NMR using a fraction (C4-6a). Incidentally, CF 3 in a ratio means the number of moles of the compound (D-7) While a -CF 3 group at the end of the (a -CF 3 group within the dotted line frame in the formula), the 19 F-NMR - It is observed at 85-87 ppm. Further, CF 2 in a ratio, the compound (D-7) at one end near the -CF 2 - group (-CF 2 within the dotted line frame in the formula - group) and both compounds (D-6) -CF 2 in the vicinity of the end - group (-CF 2 within the dotted line frame in the formula - group) and means the total number of moles of, is observed -120ppm in 19 F-NMR.
CF 3 / CF 2 = 0.11 in the fraction (C4-6a)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000039
 化合物(D-6)のNMRスペクトル;
 1H-NMR(300.4MHz、溶媒:CDCl3、基準:テトラメチルシラン(TMS)) δ(ppm):6.1(6H)、5.2(12H)、3.4(4H)、2.1(12H)。
 19F-NMR(282.7MHz、溶媒:CDCl3、基準:CFCl3) δ(ppm):-83(44F)、-87(44F)、-120(4F)、-124(44F)。
 単位数lの平均値:11。
NMR spectrum of compound (D-6);
1 1 H-NMR (300.4 MHz, solvent: CDCl 3 , reference: tetramethylsilane (TMS)) δ (ppm): 6.1 (6H), 5.2 (12H), 3.4 (4H), 2 .1 (12H).
19 F-NMR (282.7 MHz, solvent: CDCl 3 , reference: CFCl 3 ) δ (ppm): -83 (44F), -87 (44F), -120 (4F), -124 (44F).
Average value of the number of units l: 11.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000040
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000040
(合成例D-7)
 50mLのナスフラスコに、合成例D-6で得た留分(C4-6a)の1g、トリメトキシシランの0.21g、アニリンの0.001g、AC-6000の1.0g、白金/1,3-ジビニル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン錯体の0.0033gを入れ、25℃で一晩攪拌した。溶媒等を減圧留去し、混合物(M1)の1.2g(収率100%)を得た。
 なお、混合物(M1)には、化合物(3-1A)および化合物(3-2D)が含まれていた。
 混合物(M1)を用いて、19F-NMRによって合成例D-6と同様の手法で比(CF3/CF2)を求めた。式中の点線枠内の基は、19F-NMRの測定対象とした基である。
 混合物(M1)におけるCF3/CF2=0.11
(Synthesis Example D-7)
In a 50 mL eggplant flask, 1 g of the distillate (C4-6a) obtained in Synthesis Example D-6, 0.21 g of trimethoxysilane, 0.001 g of aniline, 1.0 g of AC-6000, platinum / 1, 0.0033 g of 3-divinyl-1,1,3,3-tetramethyldisiloxane complex was added, and the mixture was stirred at 25 ° C. overnight. The solvent and the like were distilled off under reduced pressure to obtain 1.2 g (yield 100%) of the mixture (M1).
The mixture (M1) contained compound (3-1A) and compound (3-2D).
Using the mixture (M1), the ratio (CF 3 / CF 2 ) was determined by 19 F-NMR in the same manner as in Synthesis Example D-6. The groups in the dotted frame in the formula are the groups to be measured by 19 F-NMR.
CF 3 / CF 2 = 0.11 in the mixture (M1)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000041
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000041
 化合物(3-2D)のNMRスペクトル;
 1H-NMR(300.4MHz、溶媒:CDCl3、基準:テトラメチルシラン(TMS)) δ(ppm):3.6(54H)、3.4(4H)、1.3(24H)、0.9(12H)。
 19F-NMR(282.7MHz、溶媒:CDCl3、基準:CFCl3) δ(ppm):-83(44F)、-87(44F)、-120(4F)、-124(44F)。
 単位数m+nの平均値:11。
NMR spectrum of compound (3-2D);
1 1 H-NMR (300.4 MHz, solvent: CDCl 3 , reference: tetramethylsilane (TMS)) δ (ppm): 3.6 (54H), 3.4 (4H), 1.3 (24H), 0 .9 (12H).
19 F-NMR (282.7 MHz, solvent: CDCl 3 , reference: CFCl 3 ) δ (ppm): -83 (44F), -87 (44F), -120 (4F), -124 (44F).
Average value of the number of units m + n: 11.
[化合物(3-2D)]
 化合物(3-2D)は、上記のようにして得られた混合物(M1)において、化合物(3-1A)と化合物(3-2D)とを分子蒸留により分離して得た。
[Compound (3-2D)]
The compound (3-2D) was obtained by separating the compound (3-1A) and the compound (3-2D) by molecular distillation in the mixture (M1) obtained as described above.
[合成例E1]
(合成例E1-1)
 国際公開第2013-121984号の実施例の例1-1に記載の方法にしたがって化合物(X1-1)を得た。
 CF=CFO-CFCFCFCHOH  (X1-1)
[Synthesis Example E1]
(Synthesis Example E1-1)
Compound (X1-1) was obtained according to the method described in Example 1-1 of Examples of WO 2013-121984.
CF 2 = CFO-CF 2 CF 2 CF 2 CH 2 OH (X1-1)
(合成例E1-2)
 100mLのステンレス製反応器に、合成例E1-1で得た化合物(X1-1)の10gを入れ、175℃で200時間攪拌した。得られた有機相を濃縮し、化合物(X1-2)の6gを得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000042
(Synthesis Example E1-2)
10 g of the compound (X1-1) obtained in Synthesis Example E1-1 was placed in a 100 mL stainless steel reactor, and the mixture was stirred at 175 ° C. for 200 hours. The obtained organic phase was concentrated to give 6 g of compound (X1-2).
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000042
 化合物(X1-2)のNMRスペクトル;
 H-NMR(300.4MHz、溶媒:CDCl、基準:テトラメチルシラン(TMS)) δ(ppm):4.1(4H)。
 19F-NMR(282.7MHz、溶媒:CDCl、基準:CFCl) δ(ppm):-80(2F)、-85(2F)、-123(4F)、-126(4F)、-128(2F)、-131(2F)、-137(1F)、-139(1F)
NMR spectrum of compound (X1-2);
1 1 H-NMR (300.4 MHz, solvent: CDCl 3 , reference: tetramethylsilane (TMS)) δ (ppm): 4.1 (4H).
19 F-NMR (282.7 MHz, solvent: CDCl 3 , reference: CFCl 3 ) δ (ppm): -80 (2F), -85 (2F), -123 (4F), -126 (4F), -128 (2F), -131 (2F), -137 (1F), -139 (1F)
(合成例E1-3)
 200mLのナスフラスコに、合成例E1-2で得た化合物(X1-2)の5g、炭酸カリウムの1.2gを入れ、120℃で攪拌し、化合物(X1-1)を25g加えて120℃で2時間攪拌した。25℃に戻し、AC-2000(製品名、AGC社製、C13H)および塩酸をそれぞれ30g入れ、分液し、有機相を濃縮した。得られた反応粗液をカラムクロマトグラフィにて精製し、化合物(X1-3)の21gを得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000043
(Synthesis Example E1-3)
In a 200 mL eggplant flask, 5 g of the compound (X1-2) obtained in Synthesis Example E1-2 and 1.2 g of potassium carbonate were placed, stirred at 120 ° C., and 25 g of the compound (X1-1) was added to 120 ° C. Was stirred for 2 hours. Back to 25 ℃, AC-2000 (product name, AGC Corp., C 6 F 13 H) and hydrochloric acid were placed 30g each, were separated, the organic phase was concentrated. The obtained crude reaction solution was purified by column chromatography to obtain 21 g of compound (X1-3).
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000043
 化合物(X1-3)のNMRスペクトル;
 H-NMR(300.4MHz、溶媒:CDCl、基準:テトラメチルシラン(TMS)) δ(ppm):6.0(10H)、4.6(20H)、4.1(4H)。
 19F-NMR(282.7MHz、溶媒:CDCl、基準:CFCl) δ(ppm):-80(2F)、-85(22F)、-91(20F)、-120(20F)、-123(4F)、-126(24F)、-128(2F)、-131(2F)、-137(1F)、-139(1F)、-144(10F)
 単位数m+nの平均値:10。
NMR spectrum of compound (X1-3);
1 1 H-NMR (300.4 MHz, solvent: CDCl 3 , reference: tetramethylsilane (TMS)) δ (ppm): 6.0 (10H), 4.6 (20H), 4.1 (4H).
19 F-NMR (282.7 MHz, solvent: CDCl 3 , reference: CFCl 3 ) δ (ppm): -80 (2F), -85 (22F), -91 (20F), -120 (20F), -123 (4F), -126 (24F), -128 (2F), -131 (2F), -137 (1F), -139 (1F), -144 (10F)
Average value of the number of units m + n: 10.
(合成例E1-4)
 還流冷却器を接続した50mLのナスフラスコに、合成例E1-3で得た化合物(X1-3)の20g、フッ化ナトリウムの粉末7.1g、AC-2000の20g、CFCFCFOCF(CF)COFの20gを加えた。窒素雰囲気下、50℃で24時間攪拌した。室温に冷却した後、加圧ろ過機でフッ化ナトリウム粉末を除去した後、過剰のCFCFCFOCF(CF)COFとAC-2000を減圧留去し、化合物(X1-4)の24gを得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000044
(Synthesis Example E1-4)
In a 50 mL eggplant flask connected to a reflux condenser, 20 g of the compound (X1-3) obtained in Synthesis Example E1-3, 7.1 g of sodium fluoride powder, 20 g of AC-2000, CF 3 CF 2 CF 2 20 g of OFF (CF 3 ) COF was added. The mixture was stirred at 50 ° C. for 24 hours under a nitrogen atmosphere. After cooling to room temperature, sodium fluoride powder was removed with a pressure filter, and excess CF 3 CF 2 CF 2 OCF (CF 3 ) COF and AC-2000 were distilled off under reduced pressure to compound (X1-4). 24 g of was obtained.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000044
 化合物(X1-4)のNMRスペクトル;
 H-NMR(300.4MHz、溶媒:CDCl、基準:テトラメチルシラン(TMS)) δ(ppm):6.0(10H)、5.0(4H)、4.6(20H)。
 19F-NMR(282.7MHz、溶媒:CDCl、基準:CFCl) δ(ppm):-79(4F)、-80(2F)、-81(6F)、-82(6F)、-85(22F)、-91(20F)、-119(4F)、-120(20F)、-126(24F)、-128(2F)、-129(4F)、-131(2F)、-131(2F)、-137(1F)、-139(1F)、-144(10F)。
 単位数m+nの平均値:10。
NMR spectrum of compound (X1-4);
1 1 H-NMR (300.4 MHz, solvent: CDCl 3 , reference: tetramethylsilane (TMS)) δ (ppm): 6.0 (10H), 5.0 (4H), 4.6 (20H).
19 F-NMR (282.7 MHz, solvent: CDCl 3 , reference: CFCl 3 ) δ (ppm): -79 (4F), -80 (2F), -81 (6F), -82 (6F), -85 (22F), -91 (20F), -119 (4F), -120 (20F), -126 (24F), -128 (2F), -129 (4F), -131 (2F), -131 (2F) ), -137 (1F), -139 (1F), -144 (10F).
Average value of the number of units m + n: 10.
(合成例E1-5)
 500mLのニッケル製反応器に、CFE-419の250mLを入れ、窒素ガスをバブリングした。酸素ガス濃度が充分に下がった後、窒素ガスで希釈された20体積%のフッ素ガスを1時間バブリングした。合成例E1-4で得た化合物(X1-4)のCFE-419溶液(濃度:10%、化合物(X1-4):20g)を3時間かけて投入した。フッ素ガスの導入速度(mol/時間)と化合物(X1-4)中の水素原子の導入速度(mol/時間)との比は2:1になるように制御した。化合物(X1-4)の投入が終わった後、ベンゼンのCFE-419溶液(濃度:0.1%、ベンゼン:0.1g)を断続的に投入した。ベンゼンの投入が終わった後、フッ素ガスを1時間バブリングし、最後に窒素ガスで反応器内を充分に置換した。溶媒を留去し、化合物(X1-5)を主成分とする混合物の21gを得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000045
(Synthesis Example E1-5)
250 mL of CFE-419 was placed in a 500 mL nickel reactor and nitrogen gas was bubbled. After the oxygen gas concentration was sufficiently lowered, 20% by volume of fluorine gas diluted with nitrogen gas was bubbled for 1 hour. A CFE-419 solution (concentration: 10%, compound (X1-4): 20 g) of the compound (X1-4) obtained in Synthesis Example E1-4 was added over 3 hours. The ratio of the introduction rate of fluorine gas (mol / hour) to the introduction rate of hydrogen atoms in the compound (X1-4) (mol / hour) was controlled to be 2: 1. After the addition of the compound (X1-4) was completed, a CFE-419 solution of benzene (concentration: 0.1%, benzene: 0.1 g) was added intermittently. After the addition of benzene was completed, the fluorine gas was bubbled for 1 hour, and finally the inside of the reactor was sufficiently replaced with nitrogen gas. The solvent was distilled off to obtain 21 g of a mixture containing the compound (X1-5) as a main component.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000045
 化合物(X1-5)のNMRスペクトル;
 19F-NMR(282.7MHz、溶媒:CDCl、基準:CFCl) δ(ppm):-79(4F)、-80(2F)、-81(6F)、-82(6F)、-83(46F)、-87(40F)、-124(48F)、-128(2F)、-129(4F)、-131(2F)、-131(2F)、-137(1F)、-139(1F)。
 単位数m+nの平均値:10。
NMR spectrum of compound (X1-5);
19 F-NMR (282.7 MHz, solvent: CDCl 3 , reference: CFCl 3 ) δ (ppm): -79 (4F), -80 (2F), -81 (6F), -82 (6F), -83 (46F), -87 (40F), -124 (48F), -128 (2F), -129 (4F), -131 (2F), -131 (2F), -137 (1F), -139 (1F) ).
Average value of the number of units m + n: 10.
(合成例E1-6)
 50mLのナスフラスコに、合成例E1-5で得た化合物(X1-5)を主成分とする混合物の20g、フッ化ナトリウムの1.8g、AC-2000の20mLを入れ、氷浴中で撹拌した。メタノールの1.4gを入れ、25℃で1時間撹拌した。ろ過した後、ろ液をカラムクロマトグラフィにて精製した。化合物(X1-6)を主成分とする混合物の14gを得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000046
(Synthesis Example E1-6)
In a 50 mL eggplant flask, 20 g of a mixture containing the compound (X1-5) obtained in Synthesis Example E1-5 as a main component, 1.8 g of sodium fluoride, and 20 mL of AC-2000 were placed and stirred in an ice bath. did. 1.4 g of methanol was added, and the mixture was stirred at 25 ° C. for 1 hour. After filtration, the filtrate was purified by column chromatography. 14 g of a mixture containing the compound (X1-6) as a main component was obtained.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000046
 化合物(X1-6)のNMRスペクトル;
 H-NMR(300.4MHz、溶媒:CDCl、基準:テトラメチルシラン(TMS)) δ(ppm):4.2(6H)。
 19F-NMR(282.7MHz、溶媒:CDCl、基準:CFCl) δ(ppm):-80(2F)、-83(42F)、-87(40F)、-119(4F)、-124(44F)、-128(2F)、-131(2F)、-137(1F)、-139(1F)。
 単位数m+nの平均値:10。
NMR spectrum of compound (X1-6);
1 1 H-NMR (300.4 MHz, solvent: CDCl 3 , reference: tetramethylsilane (TMS)) δ (ppm): 4.2 (6H).
19 F-NMR (282.7 MHz, solvent: CDCl 3 , reference: CFCl 3 ) δ (ppm): -80 (2F), -83 (42F), -87 (40F), -119 (4F), -124 (44F), -128 (2F), -131 (2F), -137 (1F), -139 (1F).
Average value of the number of units m + n: 10.
(合成例E1-7)
 50mLのナスフラスコに、合成例E1-6で得た化合物(X1-6)を主成分とする混合物の12g、HNCHCH(CHCH=CHの1.1g、AC-2000の12mLを入れ、0℃で24時間撹拌した。反応粗液をカラムクロマトグラフィにて精製し、目的物が含まれる留分3種にわけた。そのうち化合物(X1-7)は合わせて9g得た。3種のそれぞれの留分を(C1-7a)、(C1-7b)、(C1-7c)とし、(C1-7c)の留分の一部をさらにカラムクロマトグラフィにて精製し(C1-7d)を得た。
 留分(C1-7a)~(C1-7d)には、化合物(X1-7)および化合物(X1-8)が含まれていた。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000047
(Synthesis Example E1-7)
In a 50 mL eggplant flask, 12 g of a mixture containing the compound (X1-6) obtained in Synthesis Example E1-6 as a main component, 1.1 g of H 2 NCH 2 CH (CH 2 CH = CH 2 ) 2 , AC- 12 mL of 2000 was added and stirred at 0 ° C. for 24 hours. The crude reaction solution was purified by column chromatography and separated into three fractions containing the desired product. A total of 9 g of the compound (X1-7) was obtained. Fractions of each of the three types were designated as (C1-7a), (C1-7b), and (C1-7c), and a part of the fraction of (C1-7c) was further purified by column chromatography (C1-7d). ) Was obtained.
The fractions (C1-7a) to (C1-7d) contained compound (X1-7) and compound (X1-8).
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000047
(合成例E1-8)
 50mLのナスフラスコに、合成例E1-7で得た留分(C1-7a)の1g、トリメトキシシランの0.21g、アニリンの0.001g、AC-6000(製品名、AGC社製、C13)の1.0g、白金/1,3-ジビニル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン錯体の0.0033gを入れ、25℃で一晩攪拌した。溶媒等を減圧留去し、化合物(2-B)を含む混合物(M2)の1.2gを得た。
 なお混合物(M2)には、化合物(1-B)および化合物(2-B)が含まれていた。そして、各留分を用いて19F-NMRによって、比(CF/CF)を求めた。比におけるCFは、化合物(1-B)の一方の末端にある-CF基(式中の点線枠内の-CF基)のモル数を意味し、19F-NMRでは-85~-87ppmに観測される。また、比におけるCFは、化合物(1-B)の一方の末端近傍にある-CF-基(式中の点線枠内の-CF-基)と、化合物(2-B)の両末端の近傍にある-CF-基(式中の点線枠内の-CF-基)と、の合計モル数を意味し、19F-NMRでは-120ppmに観測される。
 混合物(M2)におけるCF/CF=0.17
 なお、化合物(2-B)における単位数m+nの平均値は10。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000048
(Synthesis Example E1-8)
In a 50 mL eggplant flask, 1 g of the distillate (C1-7a) obtained in Synthesis Example E1-7, 0.21 g of trimethoxysilane, 0.001 g of aniline, AC-6000 (product name, manufactured by AGC, C). 1.0 g of 6 F 13 C 2 H 5 ) and 0.0033 g of platinum / 1,3-divinyl-1,1,3,3-tetramethyldisiloxane complex were added, and the mixture was stirred at 25 ° C. overnight. The solvent and the like were distilled off under reduced pressure to obtain 1.2 g of a mixture (M2) containing the compound (2-B).
The mixture (M2) contained compound (1-B) and compound (2-B). Then, the ratio (CF 3 / CF 2 ) was determined by 19 F-NMR using each fraction. CF 3 in a ratio means the number of moles of the compound (1-B) -CF 3 group at one end of the (-CF 3 group within the dotted line frame in the formula), the 19 F-NMR -85 ~ Observed at -87 ppm. Further, CF 2 in the ratio, compound (1-B) one end vicinity in -CF 2 the - group (-CF 2 within the dotted line frame in the formula - group) and both compounds (2-B) -CF 2 in the vicinity of the end - group (-CF 2 within the dotted line frame in the formula - group) and means the total number of moles of, is observed -120ppm in 19 F-NMR.
CF 3 / CF 2 = 0.17 in the mixture (M2)
The average value of the number of units m + n in compound (2-B) is 10.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000048
[合成例F]
 国際公開第2009-008380号の実施例の例2に記載の方法にしたがって化合物(3-1B)を得た。単位数nの平均値:7。
 CFO-[CFCFO]CFC(O)NH(CHSi(OCH  (3-1B)
[Synthesis Example F]
Compound (3-1B) was obtained according to the method described in Example 2 of Examples of WO 2009-008380. Average value of the number of units n: 7.
CF 3 O- [CF 2 CF 2 O] n CF 2 C (O) NH (CH 2 ) 3 Si (OCH 3 ) 3 (3-1B)
[合成例G]
 国際公開第2017-038832号の実施例の例3-4に記載の方法にしたがって化合物(3-1C)を得た。単位数nの平均値:13。
 CFO-[CFCFO-CFCFCFCFO]CFCF-O-CFCFCFCHN[(CHSi(OCH  (3-1C)
[Synthesis Example G]
Compound (3-1C) was obtained according to the method described in Example 3-4 of Examples of WO 2017-038832. Average value of the number of units n: 13.
CF 3 O- [CF 2 CF 2 O-CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 O] n CF 2 CF 2- O-CF 2 CF 2 CF 2 CH 2 N [(CH 2 ) 3 Si (OCH 3 ) 3 ] 2 (3-1C)
[例1-1]
 化合物(3-2A)と、有機溶媒としてノベック7200(製品名、3M社製、COC、沸点76℃)とを混合して、例1-1の組成物(固形分濃度:10質量%)を得た。
 得られた組成物の0.5gを真空蒸着装置(ULVAC社製、VTR-350M)内のモリブデン性ボートに充填し、真空蒸着装置内を1×10-3Pa以下に排気した。組成物を配置したボートを昇温速度10℃/分以下の速度で加熱し、水晶発振式膜厚計による蒸着速度が1nm/秒を超えた時点でシャッターを開けて基材(化学強化ガラス)の表面への成膜を開始した。膜厚が50nmとなった時点でシャッターを閉じるよう設定し、基材表面への成膜を終了した。
 組成物中の化合物が堆積した基材を、200℃で30分間加熱処理して、含フッ素化合物の縮合物を含む膜が基材上に形成された膜付き基材を得た。
 その後、AE-3000(AGC社製)で湿潤させたキムワイプS-200にて、含フッ素化合物の縮合物を含む膜の表面を50回払拭した後、150℃で45分乾燥処理して、例1-1の撥水撥油層付き基材を得た。
 得られた撥水撥油層付き基材を用いて、各種物性の測定および評価を行った。結果を表1に示す。
[Example 1-1]
Compound (3-2A) and Novec 7200 (product name, manufactured by 3M, C 4 F 9 OC 2 H 5 , boiling point 76 ° C.) as an organic solvent are mixed to prepare the composition (solid content) of Example 1-1. Concentration: 10% by mass) was obtained.
0.5 g of the obtained composition was filled in a molybdenum-based boat in a vacuum vapor deposition apparatus (VTR-350M, manufactured by ULVAC), and the inside of the vacuum vapor deposition apparatus was exhausted to 1 × 10 -3 Pa or less. The boat on which the composition is placed is heated at a heating rate of 10 ° C./min or less, and when the vapor deposition rate by the crystal oscillation type film thickness meter exceeds 1 nm / sec, the shutter is opened and the base material (chemically tempered glass) is opened. The film formation on the surface of the The shutter was set to close when the film thickness reached 50 nm, and the film formation on the surface of the substrate was completed.
The base material on which the compound in the composition was deposited was heat-treated at 200 ° C. for 30 minutes to obtain a base material with a film in which a film containing a condensate of a fluorine-containing compound was formed on the base material.
Then, the surface of the film containing the condensate of the fluorine-containing compound was wiped 50 times with Kim Wipe S-200 moistened with AE-3000 (manufactured by AGC), and then dried at 150 ° C. for 45 minutes. A substrate with a water- and oil-repellent layer of 1-1 was obtained.
Various physical properties were measured and evaluated using the obtained base material with a water- and oil-repellent layer. The results are shown in Table 1.
[例1-2~例1-17]
 含フッ素化合物の種類、キムワイプS-200の湿潤に使用した有機溶媒(表中、湿潤と表記した。なお、IPAはイソプロピルアルコールを意味する。)、および、含フッ素化合物の縮合物を含む膜の払拭回数を表1に記載されているように変更した以外は、例1-1と同様にして、例1-2~例1-17の撥水撥油層付き基材を得た。
 得られた撥水撥油層付き基材を用いて、各種物性の測定および評価を行った。結果を表1に示す。
[Example 1-2 to Example 1-17]
The type of fluorine-containing compound, the organic solvent used for wetting Kim Wipe S-200 (indicated as wet in the table. IPA means isopropyl alcohol), and the film containing the condensate of the fluorine-containing compound. Substrate with water-repellent and oil-repellent layer of Examples 1-2 to 1-17 was obtained in the same manner as in Example 1-1 except that the number of wiping times was changed as shown in Table 1.
Various physical properties were measured and evaluated using the obtained base material with a water- and oil-repellent layer. The results are shown in Table 1.
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000049
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000049
[例2-1]
 化合物(3-2A)と、有機溶媒としてノベック7200とを混合して、例2-1の組成物(固形分濃度:20質量%)を得た。
 得られた組成物に基材(化学強化ガラス)をディッピングし、30分間放置後、基材を引き上げた(ディップコート法)。塗膜を200℃で30分間乾燥させて、含フッ素化合物の縮合物を含む膜が基材上に形成された膜付き基材を得た。
 その後、AE-3000(AGC社製)で湿潤させたキムワイプS-200にて、含フッ素化合物の縮合物を含む膜を50回払拭した後、150℃で45分乾燥処理して、例2-1の撥水撥油層付き基材を得た。
 得られた撥水撥油層付き基材を用いて、各種物性の測定および評価を行った。結果を表2に示す。
[Example 2-1]
Compound (3-2A) and Novec 7200 as an organic solvent were mixed to obtain the composition of Example 2-1 (solid content concentration: 20% by mass).
A base material (chemically tempered glass) was dipped in the obtained composition, left for 30 minutes, and then the base material was pulled up (dip coating method). The coating film was dried at 200 ° C. for 30 minutes to obtain a substrate with a film in which a film containing a condensate of a fluorine-containing compound was formed on the substrate.
Then, the film containing the condensate of the fluorine-containing compound was wiped 50 times with Kim Wipe S-200 moistened with AE-3000 (manufactured by AGC), and then dried at 150 ° C. for 45 minutes. Example 2- A substrate with a water- and oil-repellent layer of 1 was obtained.
Various physical properties were measured and evaluated using the obtained base material with a water- and oil-repellent layer. The results are shown in Table 2.
[例2-2~例2-20]
 含フッ素化合物の種類、含フッ素化合物の縮合物を含む膜の払拭に使用した有機溶媒、および、含フッ素化合物の縮合物を含む膜の払拭回数を表2に記載されているように変更した以外は、例2-1と同様にして、例2-2~例2-20の撥水撥油層付き基材を得た。
 得られた撥水撥油層付き基材を用いて、各種物性の測定および評価を行った。結果を表2に示す。
[Example 2-2 to Example 2-20]
Other than changing the type of fluorine-containing compound, the organic solvent used to wipe the film containing the condensate of the fluorine-containing compound, and the number of times the film containing the condensate of the fluorine-containing compound was wiped as shown in Table 2. Obtained the base material with the water- and oil-repellent layer of Examples 2-2 to 2-20 in the same manner as in Example 2-1.
Various physical properties were measured and evaluated using the obtained base material with a water- and oil-repellent layer. The results are shown in Table 2.
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000050
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000050
 表1および表2に示す通り、フッ素量余剰分が2以上の撥水撥油層を有する撥水撥油層付き基材を用いれば、指紋除去性に優れることが確認できた(例1-2~例1-4、例1-6~例1-8、例1-10~例1-15、例1-17、例2-2~例2-4、例2-6~例2-9、例2-11~例2-14、例2-16~例2-20)。
 なお、例1-1~例1-17および例2-1~例2-20において、フッ素量余剰分を求めた後の基材について、さらにAE-3000を用いて10回往復の払拭を行ったが、F2の値に変化は見られなかった。
As shown in Tables 1 and 2, it was confirmed that the fingerprint removing property was excellent when a base material with a water-repellent oil-repellent layer having a water-repellent oil-repellent layer having an excess fluorine amount of 2 or more was used (Examples 1-2 to 2). Example 1-4, Example 1-6 to Example 1-8, Example 1-10 to Example 1-15, Example 1-17, Example 2-2 to Example 2-4, Example 2-6 to Example 2-9, Examples 2-11 to 2-14, Examples 2-16 to 2-20).
In addition, in Example 1-1 to Example 1-17 and Example 2-1 to Example 2-20, the base material after determining the excess amount of fluorine was further wiped back and forth 10 times using AE-3000. However, there was no change in the value of F2.
 本発明の撥水撥油層付き基材は、撥水撥油性の付与が求められている各種の用途に用いることができる。たとえば、タッチパネル等の表示入力装置;透明なガラス製または透明なプラスチック製部材、メガネ用等のレンズ、キッチン用防汚部材;電子機器、熱交換器、電池等の撥水防湿部材や防汚部材;トイレタリー用防汚部材;導通しながら撥液が必要な部材;熱交換機の撥水・防水・滑水用部材;振動ふるいやシリンダ内部等の表面低摩擦用部材等に用いることができる。より具体的な使用例としては、ディスプレイの前面保護板、反射防止板、偏光板、アンチグレア板、またはそれらの表面に反射防止膜処理を施したもの、携帯電話(たとえば、スマートフォン)、携帯情報端末、ゲーム機、リモコン等の機器のタッチパネルシートやタッチパネルディスプレイ等の人の指または手のひらで画面上の操作を行う表示入力装置を有する各種機器(たとえば、表示部等に使用するガラスまたはフィルム、ならびに、表示部以外の外装部分に使用するガラスまたはフィルム)が挙げられる。上記以外にも、トイレ、風呂、洗面所、キッチン等の水周りの装飾建材;配線板用防水部材;熱交換機の撥水・防水・滑水用部材;太陽電池の撥水部材;プリント配線板の防水・撥水用部材;電子機器筐体や電子部品用の防水・撥水用部材;送電線の絶縁性向上用部材;各種フィルタの防水・撥水用部材;電波吸収材や吸音材の防水用部材;風呂、厨房機器、トイレタリー用の防汚部材;振動ふるいやシリンダ内部等の表面低摩擦用部材;機械部品、真空機器部品、ベアリング部品、自動車等の輸送機器用部品;工具等の表面保護用部材が挙げられる。
 なお、2019年05月31日に出願された日本特許出願2019-102320号の明細書、特許請求の範囲および要約書の全内容をここに引用し、本発明の明細書の開示として、取り入れるものである。
The base material with a water-repellent oil-repellent layer of the present invention can be used for various applications in which water-repellent and oil-repellent properties are required. For example, display input devices such as touch panels; transparent glass or transparent plastic members, lenses for glasses, antifouling members for kitchens; water- and moisture-proof members and antifouling members for electronic devices, heat exchangers, batteries, etc. Antifouling member for toiletry; member that requires liquid repellency while conducting; water-repellent / waterproof / water-sliding member of heat exchanger; can be used for vibration sieve, surface low friction member such as inside a cylinder, and the like. More specific examples of use include a display front protective plate, an antireflection plate, a polarizing plate, an antiglare plate, or an antiglare coating on the surface thereof, a mobile phone (for example, a smartphone), or a personal digital assistant. , Game machines, devices such as remote controls, touch panel sheets, touch panel displays, and other devices that have display input devices that operate on the screen with human fingers or palms (for example, glass or film used for display units, etc., and Glass or film used for the exterior part other than the display part). In addition to the above, decorative building materials around water such as toilets, baths, washrooms, kitchens; waterproof members for wiring boards; water-repellent / waterproof / sliding members for heat exchangers; water-repellent members for solar cells; printed wiring boards Waterproof / water-repellent material; Waterproof / water-repellent material for electronic device housings and electronic parts; Waterproof / water-repellent material for power transmission lines; Waterproof / water-repellent material for various filters; Radio absorbers and sound absorbing materials Waterproofing members; Antifouling members for baths, kitchen equipment, toiletries; Surface low friction members such as vibrating sieves and cylinders; Mechanical parts, vacuum equipment parts, bearing parts, transportation equipment parts such as automobiles; Tools, etc. Examples include surface protection members.
The entire contents of the specification, claims and abstract of Japanese Patent Application No. 2019-102320 filed on May 31, 2019 are cited here and incorporated as disclosure of the specification of the present invention. Is.

Claims (12)

  1.  基材と、前記基材の主表面に配置された含フッ素化合物の縮合物を含む撥水撥油層と、を有する撥水撥油層付き基材であって、
     下記方法で算出される前記撥水撥油層のフッ素量余剰分が2以上であることを特徴とする、撥水撥油層付き基材。
    (フッ素量余剰分の算出方法)
     蛍光X線分析装置(リガク社製、ZSX100e)を用い、測定径:30mm、測定線:F-Kα、フィルタ:OUT、スリット:標準、分光結晶:RX35(リガク社製)、検出器:PC、PHA:100-300、ピーク角度:38.794deg.(20sec)、B.G.角度:43.000deg.(10sec)の条件で測定される、前記撥水撥油層付き基材の前記撥水撥油層中のフッ素原子強度F1と、前記撥水撥油層付き基材の前記撥水撥油層の表面を、アサヒクリン(登録商標)AE-3000(AGC社製)で湿潤させたキムワイプ(登録商標)で100回拭いた後の前記撥水撥油層付き基材の前記撥水撥油層中のフッ素原子強度F2から、下式(I)によりフッ素量余剰分を算出する。
     フッ素量余剰分=(F1-F2)/F2×100   (I)
    A base material with a water- and oil-repellent layer having a base material and a water- and oil-repellent layer containing a condensate of a fluorine-containing compound arranged on the main surface of the base material.
    A base material with a water-repellent oil-repellent layer, wherein the excess fluorine amount of the water-repellent oil-repellent layer calculated by the following method is 2 or more.
    (Calculation method for excess fluorine)
    Using a fluorescent X-ray analyzer (Rigaku, ZSX100e), measurement diameter: 30 mm, measurement line: FKα, filter: OUT, slit: standard, spectroscopic crystal: RX35 (Rigaku), detector: PC, PHA: 100-300, peak angle: 38.794 deg. (20 sec), B.I. G. Angle: 43.000 deg. The fluorine atomic strength F1 in the water-repellent oil-repellent layer of the base material with the water-repellent oil-repellent layer and the surface of the water-repellent oil-repellent layer of the base material with the water-repellent oil-repellent layer measured under the condition of (10 sec). Fluorine atomic strength F2 in the water-repellent oil-repellent layer of the base material with the water-repellent oil-repellent layer after wiping 100 times with Kimwipe (registered trademark) moistened with Asahiclean (registered trademark) AE-3000 (manufactured by AGC). Therefore, the excess fluorine amount is calculated by the following formula (I).
    Fluorine surplus = (F1-F2) / F2 × 100 (I)
  2.  前記フッ素量余剰分が5以上である、請求項1に記載の撥水撥油層付き基材。 The base material with a water-repellent oil-repellent layer according to claim 1, wherein the excess amount of fluorine is 5 or more.
  3.  前記フッ素量余剰分が400以下である、請求項1または2に記載の撥水撥油層付き基材。 The base material with a water-repellent oil-repellent layer according to claim 1 or 2, wherein the excess amount of fluorine is 400 or less.
  4.  前記フッ素量余剰分が200以下である、請求項1または2に記載の撥水撥油層付き基材。 The base material with a water-repellent oil-repellent layer according to claim 1 or 2, wherein the excess amount of fluorine is 200 or less.
  5.  前記含フッ素化合物が、ポリ(オキシフルオロアルキレン)鎖と、反応性シリル基とを有する、請求項1~4のいずれか1項に記載の撥水撥油層付き基材。 The base material with a water-repellent oil-repellent layer according to any one of claims 1 to 4, wherein the fluorine-containing compound has a poly (oxyfluoroalkylene) chain and a reactive silyl group.
  6.  前記含フッ素化合物が、反応性シリル基を2以上有する、請求項5に記載の撥水撥油層付き基材。 The base material with a water-repellent oil-repellent layer according to claim 5, wherein the fluorine-containing compound has two or more reactive silyl groups.
  7.  前記含フッ素化合物が、前記ポリ(オキシフルオロアルキレン)鎖の両末端側に前記反応性シリル基を有する、請求項6に記載の撥水撥油層付き基材。 The base material with a water-repellent oil-repellent layer according to claim 6, wherein the fluorine-containing compound has the reactive silyl groups on both terminal sides of the poly (oxyfluoroalkylene) chain.
  8.  前記ポリ(オキシフルオロアルキレン)鎖の両末端側に前記反応性シリル基が位置する前記化合物が、式(3-2)で表される化合物である、請求項7に記載の撥水撥油層付き基材。
      [L3-n(R)Si-]k212-(OX)-Y11[-Si(R)3-ng2  (3-2)
     ただし、式(3-2)において、
     Xは、1個以上のフッ素原子を有するフルオロアルキレン基であり、
     mは、2以上の整数であり、
     Y11は、(g2+1)価の連結基であり、
     Y12は、(k2+1)価の連結基であり、
     Rは、1価の炭化水素基であり、
     Lは、加水分解性基または水酸基であり、
     nは、0~2の整数であり、
     g2は、1以上の整数であり、
     k2は、1以上の整数である。
    The water- and oil-repellent layer according to claim 7, wherein the compound in which the reactive silyl group is located on both end sides of the poly (oxyfluoroalkylene) chain is a compound represented by the formula (3-2). Base material.
    [L 3-n (R) n Si-] k2 Y 12 - (OX) m -Y 11 [-Si (R) n L 3-n] g2 (3-2)
    However, in equation (3-2),
    X is a fluoroalkylene group having one or more fluorine atoms.
    m is an integer greater than or equal to 2
    Y 11 is a (g2 + 1) valence linking group.
    Y 12 is a linking group of (k2 + 1) valence,
    R is a monovalent hydrocarbon group and
    L is a hydrolyzable group or a hydroxyl group,
    n is an integer of 0 to 2 and
    g2 is an integer greater than or equal to 1 and
    k2 is an integer of 1 or more.
  9.  前記含フッ素化合物が、前記ポリ(オキシフルオロアルキレン)鎖の片末端側に前記反応性シリル基2以上を有する、請求項6に記載の撥水撥油層付き基材。 The base material with a water-repellent oil-repellent layer according to claim 6, wherein the fluorine-containing compound has two or more reactive silyl groups on one end side of the poly (oxyfluoroalkylene) chain.
  10.  前記含フッ素化合物の数平均分子量(Mn)が、1,000~20,000である、請求項1~9のいずれか1項に記載の撥水撥油層付き基材。 The base material with a water-repellent oil-repellent layer according to any one of claims 1 to 9, wherein the number average molecular weight (Mn) of the fluorine-containing compound is 1,000 to 20,000.
  11.  前記含フッ素化合物の縮合物が、ポリ(オキシフルオロアルキレン)鎖の両末端側に反応性シリル基を有する化合物とポリ(オキシフルオロアルキレン)鎖の片末端側のみに反応性シリル基を有する含フッ素化合物とを含む混合物の縮合物である、請求項5に記載の撥水撥油層付き基材。 The condensate of the fluorine-containing compound has a compound having a reactive silyl group on both terminal sides of the poly (oxyfluoroalkylene) chain and a fluorine-containing compound having a reactive silyl group on only one terminal side of the poly (oxyfluoroalkylene) chain. The base material with a water- and oil-repellent layer according to claim 5, which is a condensate of a mixture containing a compound.
  12.  前記ポリ(オキシフルオロアルキレン)鎖の片末端側のみに反応性シリル基を有する含フッ素化合物が、2以上の反応性シリル基を有する含フッ素化合物である、請求項11に記載の撥水撥油層付き基材。 The water- and oil-repellent layer according to claim 11, wherein the fluorine-containing compound having a reactive silyl group only on one terminal side of the poly (oxyfluoroalkylene) chain is a fluorine-containing compound having two or more reactive silyl groups. With base material.
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