WO2020184898A1 - 마스크 및 이를 포함하는 피부 관리 기기 - Google Patents

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WO2020184898A1
WO2020184898A1 PCT/KR2020/003108 KR2020003108W WO2020184898A1 WO 2020184898 A1 WO2020184898 A1 WO 2020184898A1 KR 2020003108 W KR2020003108 W KR 2020003108W WO 2020184898 A1 WO2020184898 A1 WO 2020184898A1
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disposed
substrate
wiring
mask
base layer
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최용재
이규린
금도희
홍범선
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엘지이노텍 주식회사
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Definitions

  • the embodiment relates to a mask and a skin care device.
  • Human skin may be contaminated or injured depending on external factors such as environmental pollution, ultraviolet rays, and stress, and wrinkles may occur due to internal factors such as aging and hormonal changes.
  • various devices for skin treatment, beauty, and anti-aging have been developed.
  • devices capable of applying thermal energy to the skin such as devices capable of improving skin elasticity by applying infrared energy, have been developed.
  • devices using sound waves or light rays have been developed in order to effectively inject cosmetics or drugs into the skin.
  • a device capable of forming a path through which cosmetics or drugs are injected into the skin by using sonophoresis and laser pollination are being developed.
  • devices capable of effectively injecting cosmetics or drugs into the skin by using electric propulsion are being developed.
  • a device that can effectively inject ionic substances contained in cosmetics or drugs into the skin by using electrical propulsion such as iontophoresis, electroporation, and electroosmosis.
  • electrical propulsion such as iontophoresis, electroporation, and electroosmosis.
  • the above-described devices may be provided in the form of a patch detachable to the skin, and are attached to a specific skin area to care or treat the skin of the attached area.
  • the above-described devices may be provided in the form of a stick including a skin and a contact portion, and the user moves and operates a skin area requiring care or treatment while holding the device.
  • the devices have a problem in that it is difficult to effectively adhere to curved skin surfaces such as both cheeks and nose.
  • the size of the contact portion is limited, it is difficult to care or treat the entire skin area at the same time, and it is difficult to evenly care the entire area.
  • functions such as light energy, microcurrent, and vibration, there is an inconvenience of having to change the device according to the function.
  • the devices have a problem in that it is difficult to effectively contact the curved skin surface such as both cheeks and nose. In detail, it may be difficult to effectively contact the user's skin due to the material and variable characteristics of the device. Accordingly, the device may be operated in a state that is not completely in close contact with the user's skin, and may be separated from the user's skin due to the user's movement or vibration of the device during the operation.
  • the embodiment is intended to provide a mask having variability and improved reliability.
  • the embodiment is to provide a mask capable of uniformly providing light energy, vibration, and microcurrent to the user's skin.
  • the embodiment is to provide a mask capable of selectively providing light energy, vibration, and microcurrent to a user's skin using a single device.
  • the embodiment is to provide a mask that can effectively contact the user's skin.
  • the embodiment is to provide a mask capable of providing uniform vibration to the user's skin.
  • the embodiment is to provide a mask that can check whether the user's skin is in close contact.
  • the mask according to the embodiment includes a first substrate, a first wiring disposed on the first substrate, a plurality of piezoelectric elements disposed on the first wiring, a second wiring disposed on the piezoelectric element, and the second wiring A second substrate disposed on the first substrate, a third wire disposed on the first substrate and electrically insulated from the first wire, and a plurality of light emitting diodes disposed between the first and second substrates and disposed on the third wire A device, wherein the plurality of light emitting devices are disposed on a region overlapping a region between the plurality of piezoelectric elements in a vertical direction.
  • a skin care device includes a body having one side open and including an accommodation space inside the open area, and the above-described mask disposed in the open area and connected to the body.
  • the mask according to the embodiment may be changed according to the shape of the user's curved skin by a substrate having a variable material, a first base layer, a second base layer, or the like. Accordingly, the mask can effectively contact the user's skin.
  • the mask according to the embodiment may include a plurality of piezoelectric elements spaced apart from each other, and the piezoelectric elements may be disposed at different intervals according to the curved shape of the skin. Accordingly, vibration of a uniform intensity can be provided to the entire skin of a user who uses the mask.
  • the mask according to the embodiment may include a light emitting device that provides light energy to the user's skin.
  • the light-emitting device may be disposed in a region not overlapping with the piezoelectric device to prevent loss of light energy by the piezoelectric device.
  • the mask according to the embodiment may include the piezoelectric element and an electrode layer disposed on the light emitting element.
  • the electrode layer can effectively inject cosmetics or drugs by changing the electrical environment of the user's skin.
  • the electrode layer is formed with a line width of about 550 ⁇ m or less and a thickness of about 350 ⁇ m or less on the piezoelectric element and the light emitting element to minimize interference with the piezoelectric element and the light emitting element, and the piezoelectric element by the electrode layer Vibration of the device and loss of light from the light emitting device can be prevented.
  • the light emitting device, the piezoelectric device, and the electrode layer may operate simultaneously. That is, a user can receive functions such as vibration, iontophoresis, and infrared rays at a time using one mask.
  • the mask according to the embodiment includes a plurality of piezoelectric elements disposed over the entire area of the mask, and the piezoelectric elements may generate vibrations over the entire area of the mask.
  • the plurality of piezoelectric elements may be disposed at different intervals according to the curved shape of the skin. Accordingly, vibration of a uniform intensity can be provided to the entire skin of a user who uses the mask.
  • the mask according to the embodiment may include a sensing unit, and the sensing unit may detect whether or not the mask is in close contact with the skin.
  • the mask includes a control unit connected to the detection unit, and the control unit may detect whether the mask and the skin are in close contact based on a change in a capacitance value sensed through the detection unit. Accordingly, the mask according to the embodiment may provide information on whether or not to be separated from the skin to the user, and the user may effectively care for the skin based on this information.
  • FIG. 1 is a front view of a mask according to a first embodiment.
  • FIG. 2 is an exploded perspective view of area A1 of FIG. 1.
  • FIG. 3 is a top view of area A1 of FIG. 1.
  • FIG. 4 is a top view in which the third electrode is omitted from FIG. 3.
  • FIG. 5 is a cross-sectional view showing a cross-section A-A' of FIG. 3.
  • FIG. 6 is an enlarged view of area A2 of FIG. 5.
  • FIG. 7 is another exploded perspective view of area A1 of FIG. 1.
  • FIG. 8 is a cross-sectional view of the mask of FIG. 7.
  • FIG. 9 is another cross-sectional view of the mask of FIG. 7.
  • FIG. 10 is a front view of a mask according to the second embodiment.
  • FIG. 11 is an exploded perspective view of area A3 of FIG. 10.
  • FIG. 12 is a top view of area A3 of FIG. 10.
  • FIG. 13 is another top view of area A3 in FIG. 10.
  • FIG. 14 is a cross-sectional view illustrating a cross section taken along line B-B' of FIG. 10.
  • 16 and 17 are diagrams illustrating a change in capacitance of a sensing unit according to whether or not the mask and the skin contact according to the second embodiment.
  • FIG. 18 is a diagram illustrating that the mask according to the second exemplary embodiment includes a plurality of sensing units.
  • FIG. 19 is a diagram illustrating an example in which an indicator is disposed on a mask according to an embodiment.
  • 20 and 21 are views showing an example in which a protrusion is disposed on a mask according to an embodiment.
  • 22 is a diagram illustrating a user wearing a mask according to an embodiment.
  • FIG. 23 is a diagram illustrating a skin care device to which a mask is applied according to an embodiment.
  • first, second, A, B, (a), and (b) may be used in describing the constituent elements of the embodiment of the present invention. These terms are only for distinguishing the component from other components, and are not limited to the nature, order, or order of the component by the term. And, when a component is described as being'connected','coupled' or'connected' to another component, the component is not only directly connected, coupled or connected to the other component, but also the component and The case of being'connected','coupled', or'connected' due to another element between the other elements may also be included.
  • top (top) or bottom (bottom) when it is described as being formed or disposed on the “top (top) or bottom (bottom)” of each component, the top (top) or bottom (bottom) is one as well as when the two components are in direct contact with each other. It also includes a case in which the above other component is formed or disposed between the two components.
  • upper (upper) or lower (lower) when expressed as "upper (upper) or lower (lower)", the meaning of not only an upward direction but also a downward direction based on one component may be included.
  • the first direction may refer to the x-axis direction shown in the drawings, and the second direction may be a different direction from the first direction.
  • the second direction may mean a y-axis direction shown in the drawing in a direction perpendicular to the first direction.
  • the horizontal direction may mean first and second directions
  • the vertical direction may mean a direction perpendicular to at least one of the first and second directions.
  • the horizontal direction may mean the x-axis and y-axis directions of the drawing
  • the vertical direction may be a direction perpendicular to the x-axis and y-axis directions in the z-axis direction of the drawing.
  • FIG. 1 is a front view of a mask according to a first embodiment
  • FIG. 2 is an exploded perspective view of area A1 of FIG. 1.
  • FIG. 3 is a top view of the area A1 in the mask according to the embodiment
  • FIG. 4 is a top view in which the third electrode is omitted from FIG. 3.
  • FIG. 5 is a cross-sectional view showing a cross-section A-A' of FIG. 3, and
  • FIG. 6 is an enlarged view of area A2 of FIG. 5.
  • the mask 1000 is provided in a predetermined size to cover the user's face and may have a predetermined elasticity in order to closely contact the user's face.
  • the mask 1000 includes one surface in contact with the user's skin and the other surface opposite to the one surface, and one surface of the mask 1000 is made of a material that is harmless to the human body, so that it may be harmless even if it is in contact with the user's skin for a long time. have.
  • the mask 1000 may include at least one of an opening 1010 and a cutout 1020.
  • the opening 1010 may be formed in a portion corresponding to the user's eyes or mouth.
  • the opening 1010 is a region penetrating through one surface and the other surface of the mask 1000, and when the user wears the mask 1000, the user's eyes and mouth may be inserted into the opening 1010, and the The area excluding the opening 1010 may be in close contact with the user's face.
  • the cutting portion 1020 may be formed in a portion corresponding to a relatively curved ball line, a chin, etc. to improve adhesion between the mask 1000 and the skin.
  • the cutting part 1020 may have a form in which one surface and the other surface of the mask 1000 are partially cut.
  • a region of the mask 1000 excluding the opening 1010 according to the embodiment includes the first substrate 110, the first wiring 210, the piezoelectric element 300, the second wiring 220, and the second substrate 120. ), the light emitting device 400 and the electrode layer 600 may be included.
  • the first substrate 110 is transparent and may include a material in consideration of moisture barrier properties and thermal stability.
  • the first substrate 110 may include a material that has flexibility and varies according to the shape of the user's curved skin.
  • the first substrate 110 may include a resin material such as polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), and polyimide (PI).
  • PET polyethylene terephthalate
  • PEN polyethylene naphthalate
  • PI polyimide
  • the first substrate 110 may be provided in the form of a film.
  • the first substrate 110 may have a thickness of about 0.5 ⁇ m to about 5 ⁇ m or less.
  • the thickness of the first substrate 110 is less than about 0.5 ⁇ m, the components disposed on the first substrate 110, for example, the first substrate 110 overlapped with the components by the weight of the piezoelectric element 300 1 There may be a problem that the area of the substrate 110 is struck. Accordingly, reliability of the first substrate 110 may be deteriorated, and a problem of alignment of components disposed on the first substrate 110 may occur.
  • the thickness of the first substrate 110 exceeds about 5 ⁇ m, the total thickness of the mask 1000 may be increased.
  • the first substrate 110 may have a thickness of about 0.5 ⁇ m to about 3 ⁇ m.
  • the thickness of the first substrate 110 satisfies the above-described range, reliability and alignment characteristics can be maintained and can be efficiently varied in a shape corresponding to the user's skin, and the total thickness and weight of the mask 1000 May decrease.
  • a first wiring 210 may be disposed on the first substrate 110.
  • the first wiring 210 may include a conductive material.
  • the first wiring 210 is aluminum (Al), copper (Cu), silver (Ag), gold (Au), chromium (Cr), nickel (Ni), molimden (Mo), titanium (Ti ) And at least one of the alloys thereof.
  • the first wiring 210 may include a non-metal such as carbon.
  • the first wiring 210 may be disposed on one surface of the first substrate 110 facing the user's skin.
  • the first wiring 210 may directly contact one surface of the first substrate 110 and may extend in a first direction.
  • the first wiring 210 may be formed on one surface of the first substrate 110 by a process such as deposition or printing.
  • the first wiring 210 may include a plurality of first sub-wirings 211 disposed on the first substrate 110.
  • the plurality of first sub-wires 211 extend in a first direction and may be disposed to be spaced apart from each other in a second direction different from the first direction.
  • the plurality of first sub-wires 211 may be electrically connected to each other.
  • the second direction is a direction different from the first direction and may be a vertical direction, for example, but is not limited thereto.
  • the thickness of the first sub-wire 211 may be about 2 ⁇ m to about 50 ⁇ m. In detail, the thickness of the first sub-wire 211 may be about 2 ⁇ m to about 40 ⁇ m. When the thickness of the first sub-wiring 211 is less than about 2 ⁇ m, electrical characteristics may be degraded, and it may be difficult to form uniformly. In addition, when the thickness of the first sub-wiring 211 exceeds about 50 ⁇ m, the total thickness of the mask 1000 may increase, and the manufacturing time of the first wire 210 may increase. In addition, the first sub-wiring 211 is too thick to deteriorate the stretchable property. Preferably, the thickness of the first sub-wire 211 may be about 5 ⁇ m to about 35 ⁇ m or less in consideration of stretchable characteristics, reliability, and process efficiency in the horizontal direction.
  • a line width of the first sub-wire 211 may be greater than a thickness of the first sub-wire 211.
  • the line width of the first sub-wire 211 may be about 50 ⁇ m to about 500 ⁇ m.
  • the line width of the first sub-wire 211 may be about 100 ⁇ m to about 450 ⁇ m.
  • the line width of the first sub-wire 211 may be about 100 ⁇ m to about 400 ⁇ m in consideration of stretchable characteristics.
  • the first wiring 210 may have various shapes. For example, when viewed in a plan view, each of the plurality of first sub-wires 211 may have a linear shape extending in the first direction. Alternatively, when viewed in a plan view, each of the plurality of first sub-wires 211 may have a curved shape extending in the first direction. For example, each of the plurality of first sub-wires 211 may be provided in a form in which a wavy pattern is repeated. In this case, the first sub-wire 211 may have a curvature pattern of about 3R to about 20R (mm). Accordingly, when the mask 1000 is stretched or contracted in one direction, the first wiring 210 may have a stretchable characteristic and may not be cut off.
  • the first sub-wiring 211 may have a curvature pattern of about 5R to about 15R (mm). Accordingly, the first wiring 210 may have improved stretchable characteristics, thereby improving reliability. In addition, the first wiring 210 may have an elongation of about 10% to about 50%. Alternatively, when viewed in a plan view, each of the plurality of first sub-wires 211 may have a shape in which a pattern in which a straight line and a curve extending in the first direction are mixed is repeated.
  • the first sub-wire 211 located in a region overlapping a relatively curved region of the user's face may be provided in a curved shape, and a region overlapping the relatively planar region
  • the first sub-wire 211 located at may be provided in a straight line. Accordingly, when the mask 1000 is attached to the user's face, a problem in which the first wiring 210 is damaged due to the deformation of the mask 1000 may be solved.
  • the first sub-wiring 211 is provided in a form in which straight lines and curves are alternately arranged to reduce the amount of the first wires 210 disposed on the first substrate 110, and You can improve the resizable characteristics.
  • a piezoelectric element 300 may be disposed on the first substrate 110.
  • the piezoelectric element 300 may be disposed on the first wiring 210 and electrically connected to the first wiring 210.
  • the piezoelectric device 300 may include a ceramic material.
  • the piezoelectric element 300 includes ZnO, AlN, LiNbO 4 , lead antimony stannate, lead magnesium tantalate, lead nickel tantalate, and titanate ( titanates), tungstates, zirconates, or lead zirconate titanate [Pb(Zr x Ti 1-x )O 3 (PZT)], lead lanthanum zirconate titanate (PLZT), lead niobium Zirconate titanate (PNZT), BaTiO 3 , SrTiO 3 , lead magnesium niobate, lead nickel niobate, lead manganese niobate, lead zinc niobate, lead including lead titanate, barium, bismuth, or
  • a plurality of piezoelectric elements 300 may be disposed on the first wiring 210.
  • a plurality of piezoelectric elements 300 may be disposed to be spaced apart from each other on the first sub-wire 211.
  • a plurality of piezoelectric elements 300 may be disposed on one first sub-wire 211, and the plurality of piezoelectric elements 300 may be spaced apart at equal intervals on the first sub-wire 211. I can.
  • the piezoelectric element 300 disposed on one first sub-wire 211 may or may not overlap with the piezoelectric element 300 disposed on the closest first sub-wire 211 in the second direction. have.
  • some of the piezoelectric elements 300 may be spaced at equal intervals, and the remaining piezoelectric elements 300 may not be disposed at equal intervals.
  • the spacing between the piezoelectric elements 300 may not be arranged at equal intervals. That is, the spacing between the piezoelectric elements 300 may be relatively narrow or large depending on the degree of curvature of the skin surface. Accordingly, the mask 1000 according to the embodiment may effectively provide vibration even to curved skin.
  • the piezoelectric element 300 may be disposed on the entire area of the mask 1000 at predetermined intervals, and vibration may be evenly generated in the entire area of the mask 1000.
  • the piezoelectric element 300 may overlap with the first sub-wire 211.
  • a lower surface of the piezoelectric element 300 may overlap the first sub-wire 211 in a vertical direction.
  • the piezoelectric element 300 may generate vibration by an applied current.
  • the piezoelectric element 300 may generate ultrasonic vibrations by an applied current.
  • the piezoelectric element 300 may generate ultrasonic vibrations of about 1 MHz or less.
  • the piezoelectric element 300 may generate ultrasonic vibrations of about 10 kHz to about 1 MHz.
  • the piezoelectric element 300 may generate ultrasonic vibrations of about 100 KHz to about 800 KHz.
  • the ultrasonic vibration generated by the piezoelectric element 300 vibrates in the direction of one surface of the mask 1000 and is transmitted to the user's skin, thereby massaging the user's skin.
  • the thickness of the piezoelectric element 300 may be about 1500 ⁇ m or less. In detail, the thickness of the piezoelectric element 300 may be about 1200 ⁇ m or less. Preferably, the thickness of the piezoelectric element 300 may be about 1000 ⁇ m or less. It is preferable that the thickness of the piezoelectric element 300 satisfies the above-described range in consideration of the overall thickness and variable characteristics of the mask 1000.
  • the piezoelectric element 300 may have various shapes.
  • the piezoelectric element 300 may have a polygonal column shape in which lower and upper surfaces are polygonal, and the lower and upper surfaces may have a circular column shape.
  • the piezoelectric element 400 may have one of a lower surface and an upper surface of a polygon and the other surface may have a columnar shape.
  • an area of at least one of a lower surface and an upper surface of the piezoelectric element 300 may be about 100 mm 2 or less.
  • the piezoelectric element 300 may have various pillar shapes, and the intensity of ultrasonic vibration generated according to the pillar shape, and the oscillation direction of the vibration may be controlled.
  • the intensity of vibration transmitted to the user's skin may be adjusted according to the size, arrangement interval, and arrangement density of the piezoelectric element 300.
  • the piezoelectric element 300 may generate various waves.
  • the piezoelectric element 300 may generate at least one wave of a horizontal wave in which a direction in which the wave travels and a vibration direction of the medium are perpendicular, and a longitudinal wave in which the direction in which the wave travels and the vibration direction of the medium are the same.
  • the piezoelectric element 300 may resonate multiple times.
  • the piezoelectric element 300 may include at least one via hole, and may resonate multiple times by the formed via hole.
  • the upper area of the via hole may be about 10% to about 45% of the upper surface area of the piezoelectric element 300 for multiple resonance.
  • the number of multiple resonance frequency domains may correspond to the number of via holes. That is, the piezoelectric element 300 may emit wavelengths in various frequency ranges as the number of via holes increases within a set number range of via holes.
  • a second substrate 120 may be disposed on the piezoelectric element 300.
  • the second substrate 120 is transparent and may include a material in consideration of moisture barrier properties and thermal stability.
  • the second substrate 120 may include a material that has flexibility and is variable according to the shape of the user's curved skin.
  • the second substrate 120 may include a resin material such as polyethylene terephthalate (PET), polyethylene natpalate (PEN), and polyimide (PI).
  • PET polyethylene terephthalate
  • PEN polyethylene natpalate
  • PI polyimide
  • the second substrate 120 may be provided in the form of a film.
  • the second substrate 120 may be made of the same material as the first substrate 110 and may have the same shape.
  • the second substrate 120 may have a thickness of about 0.5 ⁇ m to about 5 ⁇ m.
  • the thickness of the second substrate 120 is less than about 0.5 ⁇ m, components disposed on the second substrate 120, for example, the second substrate 120 overlapping the components by the weight of the piezoelectric element 300 2 There may be a problem in that the area of the substrate 120 is struck. Accordingly, the reliability of the second substrate 120 may be deteriorated, and an alignment problem may occur between components disposed on the second substrate 120.
  • the thickness of the second substrate 120 exceeds about 5 ⁇ m, the total thickness of the mask 1000 may be increased.
  • the second substrate 120 may have a thickness of about 0.5 ⁇ m to about 3 ⁇ m.
  • the second substrate 120 may have the same thickness as the first substrate 110.
  • a second wiring 220 may be disposed on the second substrate 120.
  • the second wiring 220 may include a conductive material.
  • the second wiring 220 is aluminum (Al), copper (Cu), silver (Ag), gold (Au), chromium (Cr), nickel (Ni), molimdenum (Mo), titanium (Ti ) And at least one of the alloys thereof.
  • the second wiring 220 may include a non-metal such as carbon.
  • the second wiring 220 may include the same material as the first wiring 210.
  • the second wiring 220 may be disposed on one surface of the second substrate 120 facing the piezoelectric element 300. That is, the second wiring 220 may be disposed on one surface opposite to the other surface of the second substrate 120 facing the user's skin.
  • the second wiring 220 may directly contact one surface of the second substrate 120 and may extend in a different direction from the first wiring 210.
  • the second wiring 220 may extend in a second direction perpendicular to the first direction in which the first wiring 210 extends.
  • the second wiring 220 may be formed on one surface of the second substrate 120 by a process such as deposition or printing.
  • the second wiring 220 may include a plurality of second sub-wirings 221 disposed on the second substrate 120.
  • the plurality of second sub-wires 221 may extend in the second direction and may be spaced apart from each other in the first direction.
  • the plurality of second sub-wires 221 may be electrically connected to each other.
  • the second sub-wiring 221 may overlap the piezoelectric element 300.
  • the second sub-wire 221 may overlap the upper surface of the piezoelectric element 300 in a vertical direction.
  • the first wiring 210 and the second wiring 220 may be disposed to cross each other.
  • the first sub-wire 211 and the second sub-wire 221 may be disposed to cross each other in a mesh shape, and between the sub-wires 211 and 221 An open area OA in which the electrodes 210 and 220 are not disposed may be formed.
  • the thickness of the second sub-wire 221 may be about 2 ⁇ m to about 50 ⁇ m. In detail, the thickness of the second sub-wire 221 may be about 2 ⁇ m to about 40 ⁇ m. When the thickness of the second sub-wiring 221 is less than about 2 ⁇ m, electrical characteristics may be deteriorated, and it may be difficult to form uniformly. In addition, when the thickness of the second sub-wire 221 exceeds about 50 ⁇ m, the total thickness of the mask 1000 may increase, and the manufacturing time of the second wire 220 may increase. In addition, the thickness of the second sub-wiring 221 is too thick, so that stretchable characteristics may be deteriorated.
  • the thickness of the second sub-wire 221 may be about 30 ⁇ m or less in consideration of stretchable characteristics in the horizontal direction, reliability, and process efficiency.
  • the thickness of the second sub-wire 221 is provided equal to the thickness of the first sub-wire 211, so that process efficiency may be improved.
  • a line width of the second sub-wire 221 may be greater than a thickness of the second sub-wire 221.
  • the line width of the second sub-wire 221 may be about 50 ⁇ m to about 500 ⁇ m.
  • the line width of the second sub-wire 221 may be about 100 ⁇ m to about 450 ⁇ m.
  • the line width of the second sub-wire 221 may be about 100 ⁇ m to about 400 ⁇ m in consideration of stretchable characteristics.
  • the line width of the second sub-wire 221 is provided equal to the line width of the first sub-wire 211, so that process efficiency can be improved.
  • the second wiring 220 may have various shapes. For example, when viewed in a plan view, each of the plurality of second sub-wires 221 may have a linear shape extending in the second direction. Alternatively, when viewed in a plan view, each of the plurality of second sub-wires 221 may have a curved shape extending in the second direction. For example, each of the plurality of second sub-wires 221 may be provided in a form in which a wavy pattern is repeated. In this case, the second sub-wiring 221 may have a curvature pattern of about 3R to about 20R (mm). Accordingly, when the mask 1000 is stretched or contracted in one direction, the second wiring 220 may have a stretchable characteristic and may not be cut off.
  • the second sub-wiring 221 may have a curvature pattern of about 5R to about 15R (mm). Accordingly, the second wiring 220 may have improved stretchable characteristics, thereby improving reliability. In addition, the second wiring 220 may have an elongation of about 10% to about 50%. Alternatively, when viewed in a plan view, each of the plurality of second sub-wires 221 may have a shape in which a pattern in which a straight line and a curve extending in the second direction are mixed is repeated.
  • the second sub-wire 221 located in an area overlapping a relatively curved area of the user's face may be provided in a curved shape, and an area overlapping the relatively flat area
  • the second sub-wire 221 located at may be provided in a straight line. Accordingly, when the mask 1000 is attached to the user's face, a problem in which the second wiring 220 is damaged due to the deformation of the mask 1000 may be solved.
  • the second sub-wire 221 is provided in a form in which straight lines and curves are alternately arranged, so that the amount of the first wire 210 disposed on the second substrate 120 can be reduced, and You can improve the resizable characteristics.
  • the second wiring 220 has the same shape as the first wiring 210 in consideration of the stretchable characteristic of the mask 1000. It is preferable that the first wiring 210 and the second wiring 220 disposed in the same area have the same shape.
  • the second wiring 220 may extend on the second substrate 120 in the same direction as the first wiring 210. That is, the second wiring 220 may extend in the same first direction as the first wiring 210.
  • the mask 1000 may include a first base layer 510.
  • the first base layer 510 may be disposed under the first substrate 110.
  • the first base layer 510 may be disposed on the other surface opposite to one surface of the first substrate 110.
  • the first base layer 510 may be disposed in direct contact with the other surface of the first substrate 110.
  • the first base layer 510 may include a material harmless to the human body.
  • the first base layer 510 may include a soft and elastic material.
  • the first base layer 510 is polyvinyl chloride to which silicone, thermoplastic resin, thermoplastic silicone resin, thermoplastic elastomer, polyurethane elastomer, ethylene vinyl acetate (EVA), harmless plasticizer and stabilizer are added ( PVC) may include at least one material.
  • the first base layer 510 may be relatively light and may include a silicone elastomer having a predetermined elasticity and may minimize irritation upon contact with the user's skin.
  • the first base layer 510 may be disposed to cover the entire area of the other surface of the first substrate 110. That is, when viewed in a plan view, a plan area of the first base layer 510 may correspond to an area of the other surface of the first base layer 110. In addition, a plan area of the first base layer 510 may be larger than an area of the other surface of the first substrate 110. Accordingly, the first base layer 510 may be disposed to surround the side surface of the first substrate 110. The first base layer 510 may prevent the other surface of the first substrate 110 from being exposed to the outside. In addition, the first base layer 510 may reflect the wavelength emitted from the piezoelectric element 300 in the direction of one surface of the mask 1000. That is, the first base layer 510 may be a reflective layer.
  • the thickness of the first base layer 510 may be about 50 ⁇ m to about 1 mm.
  • the thickness of the first base layer 510 is relatively thin, so that the first base layer 110 cannot be effectively protected.
  • the thickness of the first base layer 510 exceeds about 1 mm, the thickness of the entire mask 1000 may be increased, and the piezoelectric element 300 is discharged in the direction of the first substrate 110 Most of the wavelengths passed through the first base layer 510 and reflected by the first base layer 510 may be less reflected in the direction of one surface of the mask 1000.
  • the required thickness of the second base layer 520 to be described later may be increased for reflection in the direction of one side of the mask 1000, and the region of the wavelength generated by the piezoelectric element 300 is high for reflection. It may not be suitable for use in the mask 1000. Therefore, it is preferable that the thickness of the first base layer 510 satisfies the above-described range in order to prevent the above problems. More preferably, the thickness of the first base layer 510 may be about 100 ⁇ m to about 700 ⁇ m. That is, it is preferable that the first base layer 510 has a thickness ranging from about 100 ⁇ m to about 700 ⁇ m in consideration of reliability, reflective properties, and the thickness and weight of the mask 1000 to be manufactured.
  • the first base layer 510 may have pores or the like formed therein in order to effectively reflect the wavelength generated by the piezoelectric element 300.
  • one surface of the first base layer 510 facing the piezoelectric element 300 may include at least one groove concave from the one surface toward the other surface opposite to the one surface. The groove may be disposed at a position overlapping the piezoelectric element 300 in a vertical direction, and is filled with air to reflect the wavelength of the piezoelectric element 300 upward, for example, toward the second substrate. I can make it.
  • the mask 1000 may include a second base layer 520.
  • the second base layer 520 may be disposed on the second substrate 120.
  • the second base layer 520 may be disposed on the other surface opposite to the one surface of the second substrate 120.
  • the second base layer 520 may be disposed in direct contact with the other surface of the second substrate 120.
  • the second base layer 520 is a portion that faces the user's skin and can contact the skin, and may include a material harmless to the human body.
  • the second base layer 520 may include a soft and elastic material.
  • the first base layer 510 is polyvinyl chloride to which silicone, thermoplastic resin, thermoplastic silicone resin, thermoplastic elastomer, polyurethane elastomer, ethylene vinyl acetate (EVA), harmless plasticizer and stabilizer are added ( PVC) may include at least one material.
  • the second base layer 520 is relatively light, can minimize irritation upon contact with the user's skin, and may include a silicone elastomer having a predetermined elasticity. That is, the second base layer 520 may be made of the same material as the first base layer 510.
  • the second base layer 520 may be disposed to cover the entire area of the other surface of the second substrate 120. That is, when viewed in a plan view, a plan area of the second base layer 520 may correspond to an area of the other surface of the second substrate 120. In addition, a plan area of the second base layer 520 may be larger than an area of the other surface of the second base layer 120. Accordingly, the second base layer 520 may be disposed surrounding the side surface of the second substrate 120. The second base layer 520 may prevent the other surface of the second substrate 120 from being exposed to the outside. In addition, the second base layer 520 may pass the wavelength emitted from the piezoelectric element 300 in the direction of one surface of the mask 1000 and transmit it to the user's skin.
  • the second base layer 520 may be a transmission layer.
  • the thickness of the second base layer 520 may vary according to an impedance of the second base layer 520 and a driving frequency of the piezoelectric element 300. For example, when the driving frequency of the piezoelectric element 300 is about 1 MHz or less, the thickness of the second base layer 520 may be about 50 ⁇ m to about 1 mm. When the thickness of the second base layer 520 is less than about 50 ⁇ m, the thickness of the second base layer 520 is relatively thin, so that the second base layer 120 cannot be effectively protected. In addition, when the thickness of the second base layer 520 exceeds about 1 mm, the thickness of the entire mask 1000 may increase.
  • the thickness of the second base layer 520 satisfies the above-described range in order to effectively pass the wavelength emitted from the piezoelectric element 300.
  • the thickness of the second base layer 520 may have a thickness ranging from about 100 ⁇ m to about 700 ⁇ m in consideration of reliability, transmission characteristics, and thickness and weight of the mask 1000 to be manufactured.
  • the thickness of the second base layer 520 may be greater than or equal to the thickness of the first base layer 510 within the above-described range. Accordingly, a wavelength emitted from the piezoelectric device 300 toward the second base material 120 may be prevented or minimized from being reflected on the second base layer 520. Accordingly, the wavelength emitted from the piezoelectric element 300 may pass through the second substrate 120 and the second base layer 520 and be effectively transmitted to the user's skin.
  • the mask 1000 may include a light emitting device 400.
  • the light emitting device 400 may be disposed on the first substrate 110.
  • the light emitting device 400 may be disposed between the first substrate 110 and the second substrate 120.
  • the light emitting device 400 may be disposed between a plurality of piezoelectric devices 300. That is, the light emitting device 400 may be disposed in a region vertically overlapping with an open region OA between the sub-wires 211 and 221 of the first and second wires 210 and 220.
  • the light emitting device 400 may be disposed on a third wire 230 disposed on one surface of the first substrate 110 and may be electrically connected to the third wire 230.
  • the third wiring 230 may include a conductive material.
  • the third wiring 230 is aluminum (Al), copper (Cu), silver (Ag), gold (Au), chromium (Cr), nickel (Ni), molimdenum (Mo), titanium (Ti ) And at least one of the alloys thereof.
  • the third wiring 230 may include a non-metal such as carbon.
  • the third wiring 230 may include a plurality of third sub-wirings 231 disposed on the first substrate 110.
  • the plurality of third sub-wires 231 may be electrically connected.
  • the third wiring 230 may be electrically insulated from the first wiring 210.
  • the plurality of third sub-wires 231 may be insulated from the first sub-wires 211 disposed on the first substrate 110.
  • the third wiring 230 may be electrically insulated from the second wiring 220.
  • the third sub-wires 231 may be insulated from the second sub-wires 221.
  • a plurality of light emitting devices 400 may be disposed on the third wiring 230.
  • the plurality of light emitting devices 400 may be disposed to be spaced apart from each other on the third sub-wire 231.
  • a plurality of light emitting devices 400 may be disposed on one third sub-wire 231 at equal intervals.
  • the light emitting device 400 may emit light in a direction of one surface of the mask 1000. That is, the light emitting device 400 may emit light in the direction of the user's skin.
  • the light emitting device 400 may emit light in at least one wavelength region of visible light and infrared light.
  • the light emitting device 400 may emit light in a visible light region of about 380 nm to about 700 nm.
  • the light-emitting device 400 may be a light-emitting device having the greatest intensity of light in a wavelength range of about 600 nm to about 700 nm in the emitted light. That is, the light-emitting device 400 may be a light-emitting device that emits red light. Accordingly, red light can be irradiated onto the skin of the user wearing the mask 1000, and inflammatory diseases such as acne on the user's skin can be effectively treated.
  • the light emitting device 400 may emit light in an infrared region of about 700 nm to about 1500 nm.
  • the light-emitting device 400 may be a light-emitting device having the greatest intensity of light in a wavelength region of about 800 nm to 900 nm in the emitted light. That is, the light emitting device 400 may be a light emitting device emitting near infrared rays. Accordingly, infrared light can be irradiated to the skin of the user wearing the mask 1000, the user's pore expansion, skin disinfection and treatment effects can be expected, and skin aging can be prevented and treated. In addition, the infrared light can improve the blood circulation of the user's face and increase the absorption of cosmetics or drugs applied to the user's face.
  • the light emitting device 400 may include at least one of a visible light emitting device and an infrared light emitting device.
  • the light emitting devices may be arranged regularly.
  • the light-emitting device 400 may be provided in a form in which visible light-emitting devices and infrared light-emitting devices are alternately disposed. Accordingly, red light and near-infrared light may be evenly incident on the entire area of the wearer's face.
  • the visible light emitting device and the infrared light emitting device may be disposed at different ratios.
  • a visible light emitting device may be disposed at a higher ratio than an infrared light emitting device.
  • an infrared light emitting device may be disposed at a higher ratio than a visible light emitting device in an area of the mask 1000 that overlaps an area where wrinkles are likely to occur, such as a forehead or an eye area. Accordingly, the user can effectively manage the facial skin through the mask 1000.
  • the second substrate 120 may include a through hole (not shown) formed in a region corresponding to the light emitting device 400.
  • the through hole may be a hole penetrating through one surface and the other surface of the second substrate 120.
  • the horizontal width of the through hole may be greater than or equal to the horizontal width of the light emitting device.
  • the embodiment is not limited thereto, and the width of the through hole may vary according to the directivity angle of the light emitting device 400. That is, as the second substrate 120 includes the through hole, it is possible to minimize the loss of light emitted from the light emitting device 400 by the second substrate 120 and incident on the user's skin. The amount of light can be maximized.
  • the mask 1000 may include a first protective layer 551.
  • the first protective layer 551 may be disposed between the first substrate 110 and the second substrate 120.
  • the first protective layer 551 may be disposed in direct contact with one surface of the first substrate 110 and one surface of the second substrate 120.
  • the first protective layer 551 may include a material having softness and elasticity.
  • the first protective layer 551 is a polyvinyl chloride to which silicone, a thermoplastic resin, a thermoplastic silicone resin, a thermoplastic elastomer, a polyurethane elastomer, an ethylene vinyl acetate (EVA), a harmless plasticizer and a stabilizer are added ( PVC) may include at least one material.
  • the first protective layer 551 is relatively light and can minimize irritation upon contact with the user's skin, and it may be preferable to include a silicone elastomer having a predetermined elasticity.
  • the first protective layer 551 may be disposed between the first substrate 110 and the second substrate 120 to protect the piezoelectric element 300 and the light emitting element 400.
  • the first protective layer 551 may be disposed surrounding the piezoelectric element 300 and the light emitting element 400 in a region between the substrates 110 and 120 to protect the components.
  • the first protective layer 551 may be connected to the first base layer 510 and the second base layer 520. That is, the first base layer 510, the second base layer 520, and the first protective layer 551 may be integrally formed to be physically connected, and may support a component disposed therein.
  • the piezoelectric element 300 may include a first electrode 310 disposed on a lower surface.
  • the first electrode 310 may be disposed in an area of about 80% or more of the total area of the lower surface of the piezoelectric element 300 in consideration of electrical characteristics.
  • the first electrode 310 may be disposed in an area of about 90% of the total area of the lower surface of the piezoelectric element 300.
  • the first electrode 310 may be disposed on the entire lower surface of the piezoelectric element 300.
  • the ratio occupied by the first electrode 310 satisfies the above-described range.
  • the first electrode 310 may include a conductive material.
  • the first electrode 310 may include a metal material.
  • the first electrode 310 is aluminum (Al), copper (Cu), silver (Ag), gold (Au), chromium (Cr), nickel (Ni), molimdenum (Mo), titanium (Ti) And it may include at least one metal of these alloys.
  • the first electrode 310 may be disposed facing the first wiring 210 and may be electrically connected to the first wiring 210.
  • a first bonding layer 251 may be disposed between the first electrode 310 and the first wiring 210, and the first electrode 310 and the first bonding layer 251
  • the first wiring 210 may be physically and electrically connected.
  • the overlapping ratio between the first bonding layer 251 and the first wiring 210 may be about 20% or more in consideration of physical and electrical connection characteristics.
  • the first bonding layer 251 includes aluminum (Al), copper (Cu), silver (Ag), gold (Au), chromium (Cr), nickel (Ni), molimeden (Mo), titanium (Ti), and It may include at least one metal among these alloys.
  • the first bonding layer 251 may be disposed between the first electrode 310 and the first wiring 210 to serve as a conductive adhesive.
  • the first bonding layer 251 may be applied in the form of a paste on the first wiring 210, and a piezoelectric structure including the first electrode 310 on the first bonding layer 251
  • the device 300 may be disposed. Accordingly, the piezoelectric element 300 may be physically and electrically connected to the first wiring 210.
  • the piezoelectric element 300 may include a second electrode 320 disposed on an upper surface.
  • the second electrode 320 may be disposed in an area of about 80% or more of the total area of the upper surface of the piezoelectric element 300 in consideration of electrical characteristics.
  • the second electrode 320 may be disposed in an area of about 90% of the total area of the upper surface of the piezoelectric element 300.
  • the second electrode 320 may be disposed on the entire lower surface of the piezoelectric element 300.
  • the ratio occupied by the second electrode 320 satisfies the above-described range.
  • the second electrode 320 may include a conductive material.
  • the second electrode 320 may include a metal material.
  • the second electrode 320 is aluminum (Al), copper (Cu), silver (Ag), gold (Au), chromium (Cr), nickel (Ni), molimdenum (Mo), titanium (Ti) And it may include at least one metal of these alloys.
  • the second electrode 320 may be disposed facing the second wiring 220 and may be electrically connected to the second wiring 220.
  • a second bonding layer 252 may be disposed between the second electrode 320 and the second wiring 220, and the second electrode 320 and the second bonding layer 252
  • the second wiring 220 may be physically and electrically connected.
  • the overlapping ratio between the second bonding layer 252 and the second wiring 220 may be about 20% or more in consideration of physical and electrical connection characteristics.
  • the second bonding layer 251 includes aluminum (Al), copper (Cu), silver (Ag), gold (Au), chromium (Cr), nickel (Ni), molimeden (Mo), titanium (Ti), and It may include at least one metal among these alloys.
  • the second bonding layer 252 may be disposed between the second electrode 320 and the second wiring 220 to serve as a conductive adhesive.
  • the second bonding layer 252 may be applied in the form of a paste on the second wiring 220, and a piezoelectric structure including the second electrode 320 on the second bonding layer 252
  • the device 300 may be disposed. Accordingly, the piezoelectric element 300 may be physically and electrically connected to the second wiring 220, and the first substrate 110 and the second substrate 120 may be spaced apart from each other at a predetermined interval. I can.
  • the variability of the mask 1000 may be improved.
  • the thickness of the first bonding layer 251 may be different from the thickness of the second bonding layer 252.
  • the thickness of the first bonding layer 251 may be thicker than the thickness of the second bonding layer 252. Accordingly, a wavelength emitted from the piezoelectric device 300 toward the first substrate 110 may be reflected by the first bonding layer 251 and may move toward the second substrate 120.
  • the mask 1000 may further include a third bonding layer (not shown).
  • the third bonding layer may be disposed on the other surface of the first substrate 110. That is, the third bonding layer may be disposed between the other surface of the first substrate 110 and the first base layer 510. Accordingly, a wavelength emitted from the piezoelectric device 300 toward the first substrate 110 may be reflected by the third bonding unit and may move toward the second substrate 120. Accordingly, it is possible to minimize the loss of wavelength emitted from the piezoelectric element 300.
  • the first protective layer 551 may be filled in the space between the first substrate 110 and the second substrate 120. Accordingly, the first protective layer 551 may be disposed to surround the piezoelectric element 300 and the light emitting element 400, and the piezoelectric element 300, the light emitting element 400, and the first wiring It is possible to prevent the 210 and the second wiring 220 from being directly exposed to the external environment.
  • the mask 1000 may include an electrode layer 600.
  • the electrode layer 600 may be disposed on the second base layer 520.
  • the electrode layer 600 may be disposed on one surface of the second base layer 520 facing the user's skin.
  • the electrode layer 600 may overlap at least one of the piezoelectric element 300 and the light emitting element 400 based on a vertical direction.
  • the electrode layer 600 may include a conductive material.
  • the electrode layer 600 includes aluminum (Al), copper (Cu), silver (Ag), gold (Au), chromium (Cr), nickel (Ni), molimdenum (Mo), titanium (Ti), and It may include at least one metal among these alloys.
  • the electrode layer 600 may include a plurality of sub-electrodes 601.
  • the plurality of sub-electrodes 601 may cross over the second base layer 520 in a mesh shape and are electrically connected to each other.
  • the electrode layer 600 may change the electrical environment of the skin by forming a potential difference in the user's skin.
  • the electrode layer 600 may allow a minute electric current to flow through the user's skin to infiltrate the ionic material included in the cosmetics or drugs located between the mask 1000 and the skin into the user's skin. That is, cosmetics or drugs may penetrate into the user's skin by the electric repulsion force formed by the electrode layer 600.
  • the line width of the electrode layer 600 may be about 550 ⁇ m or less.
  • the thickness of the electrode layer 600 may be about 350 ⁇ m or less.
  • the line width and thickness of the electrode layer 600 are larger than the above-described range, light emitted from the light emitting device 400 may be reflected by the electrode layer 600 and re-incident into the mask 1000.
  • the wave generated in the piezoelectric element 300 may not effectively move in the direction of one surface of the mask 1000 by the electrode layer 600. Accordingly, it may be preferable that the line width and thickness of the electrode layer 600 satisfy the above-described range.
  • each of the line width and thickness of the electrode layer 600 is about reliability, light efficiency of the light emitting device 400, movement of the wave emitted from the piezoelectric device 300, and iontophoresis characteristics. It may be more preferable to be 500 ⁇ m, or less than about 300 ⁇ m.
  • a plurality of protrusions may be further disposed on one surface of the second base layer 520.
  • the protrusion may be disposed on the outermost surface of the mask 1000 in contact with the user's skin.
  • the protrusions may be disposed in the form of a plurality of points spaced apart from each other on one surface of the second base layer 520, and may be disposed in the form of a line connected to each other.
  • the protrusion is disposed to be spaced apart from the electrode layer 600 and may include a material harmless to the human body.
  • the protrusion may form a predetermined space between one surface of the second base layer 520 and the user's skin when the user wears the mask 1000.
  • the protrusion may serve as a partition wall preventing cosmetics or drugs from escaping from the mask 1000. Accordingly, the user can effectively inject cosmetics or drugs into the skin using the mask 1000.
  • FIG. 7 is another exploded perspective view of area A1 of FIG. 1, and FIG. 8 is a cross-sectional view of the mask of FIG. 7. 9 is another cross-sectional view of the mask of FIG. 7.
  • the mask 1000 according to the exemplary embodiment may have a multilayer structure, and the light emitting device 400 and the piezoelectric device 300 may be disposed on different layers.
  • the light emitting device 400 may be disposed on the other surface of the second substrate 120.
  • a third wiring 230 may be disposed on the other surface of the second substrate 120, and the light emitting device 400 may be disposed on the third wiring 230.
  • the light emitting device 400 is a region vertically overlapping with an open region OA between the sub-wires 211 and 221 of the first and second wires 210 and 220 on the second substrate 120 Can be placed on top.
  • the first protective layer 551 may be disposed between the first substrate 110 and the second substrate 120.
  • the first protective layer 551 may be disposed between the first substrate 110 and the second substrate 120 to surround the piezoelectric element 300.
  • the first protective layer 551 is spaced apart from the light emitting device 400 and may prevent the piezoelectric device 300, the first wiring 210, and the second wiring 220 from being exposed to an external environment.
  • the second base layer 520 may be disposed on the second substrate 120.
  • the second base layer 520 may be disposed on the other surface of the second substrate 120.
  • the second base layer 520 may be disposed on the second substrate 120 to surround the light emitting device 400.
  • the second base layer 520 may prevent the light emitting device 400 and the third wiring 230 from being exposed to an external environment.
  • the second base layer 520 may have a height corresponding to the light emitting device 400.
  • the second base layer 520 may be thicker than or equal to the thickness of the first base layer 510 in order to effectively pass the wavelength emitted from the piezoelectric element 300 in the direction of one surface of the mask 1000. have. Accordingly, the wave generated from the piezoelectric element 300 can effectively move in the direction of one surface of the mask 1000, and the light emitted from the light emitting element 400 is in the direction of the electrode layer 600, for example, the user's skin direction. Can be released. In addition, as the light emitting device 400 is disposed closer to one surface of the second base layer 520, the light emitted from the light emitting device 400 is prevented from being lost inside the mask 1000, and Can be minimized.
  • the second base layer 520 may be connected to the first protective layer 551 and the first protective layer 551. That is, the first base layer 510, the second base layer 520, and the first protective layer 551 may be integrally formed to be physically connected, and may support a component disposed therein.
  • the mask 1000 may have a multilayer structure, a third substrate 130 disposed on the second substrate 120, and disposed on the third substrate 130
  • the second protective layer 552 may be included.
  • the third substrate 130 is transparent and may include a material in consideration of moisture barrier properties and thermal stability.
  • the third substrate 130 may include a material that has flexibility and is variable according to the shape of the curved user's skin.
  • the third substrate 130 may include a resin material such as polyethylene terephthalate (PET), polyethylene natpalate (PEN), and polyimide (PI).
  • PET polyethylene terephthalate
  • PEN polyethylene natpalate
  • PI polyimide
  • the third substrate 130 may be provided in the form of a film.
  • the third substrate 130 may be made of the same material as the first substrate 110 and the second substrate 120, and may have the same shape.
  • a second base layer 520 may be disposed under the third substrate 130. That is, the second base layer 520 may be disposed between the second substrate 120 and the third substrate 130. The second base layer 520 may perform a role of physically connecting the second substrate 120 and the third substrate 130. In addition, the second base layer 520 has a thickness thicker than the first base layer 510 in order to effectively pass the wavelength emitted from the piezoelectric element 300 in the direction of one surface of the mask 1000, or They can have the same thickness.
  • the light emitting device 400 may be disposed on the third substrate 130.
  • a third wiring 230 may be disposed on one surface of the third substrate 130 facing the user's skin, and the light emitting device 400 may be disposed on the third wiring 230 .
  • a second protective layer 552 may be disposed on the third substrate 130.
  • the second protective layer 552 may be disposed on one surface of the third substrate 130.
  • the third substrate 130 may include a material harmless to the human body.
  • the second protective layer 552 may include a soft and elastic material.
  • the second protective layer 552 is polyvinyl chloride (polyvinyl chloride) to which silicone, thermoplastic resin, thermoplastic silicone resin, thermoplastic elastomer, polyurethane elastomer, ethylene vinyl acetate (EVA), a harmless plasticizer and a stabilizer are added ( PVC) may include at least one material.
  • the second protective layer 552 is relatively light, can minimize irritation when it comes into contact with the user's skin, and may include a silicone elastomer having a predetermined elasticity. That is, the second protective layer 552 is made of the same material as the second base layer 520, the first base layer 510, and the first protective layer 551, so that the piezoelectric element 300 The wavelength emitted from can be effectively passed through.
  • the second protective layer 552 may be disposed on the third substrate 130 to surround the light emitting device 400.
  • the second protective layer 552 may have a thickness corresponding to the light emitting device 400.
  • the second protective layer 552 is provided with a thickness corresponding to the second base layer 520 so that the wave generated in the piezoelectric element 300 can effectively move.
  • the second protective layer 552 may prevent the light emitting device 400 and the third wiring 230 from being exposed to an external environment.
  • the electrode layer 600 may be disposed on the second protective layer 552.
  • the electrode layer 600 may be disposed on the outermost layer of the mask 1000.
  • the electrode layer 600 may be disposed on one surface of the second protective layer 552 facing the user's skin.
  • the electrode layer 600 may overlap at least one of the piezoelectric element 300 and the light emitting element 400 in a vertical direction.
  • the second protective layer 552 may be connected to the first base layer 510, the second base layer 520, and the first protective layer 551. That is, the second protective layer 552 is formed integrally with the first base layer 510, the second base layer 520, and the first protective layer 551 to be physically connected and disposed therein. Can support the configuration.
  • the wave generated from the piezoelectric element 300 can effectively move in the direction of one surface of the mask 1000, and the light emitted from the light emitting element 400 is in the direction of the electrode layer 600, for example, the user's skin direction. Can be released.
  • the light emitting device 400 is disposed closer to one surface of the second base layer 520, the light emitted from the light emitting device 400 is prevented from being lost inside the mask 1000, and Can be minimized.
  • the gap between the light emitting device 400 and the piezoelectric device 300 is sufficiently separated by the third substrate 130 and the second base layer 520, the piezoelectric device 300 It is possible to minimize the effect of the heat emitted from the light emitting device 400. Accordingly, the mask 1000 according to the embodiment may have improved reliability.
  • FIG. 10 is a front view of a mask according to the second embodiment, and FIG. 11 is an exploded perspective view of area A3 in FIG. 10.
  • FIG. 12 is a top view of the area A3 of FIG. 10, and FIG. 13 is another top view of the area A3 of FIG. 10.
  • FIG. 14 is a cross-sectional view showing a cross-section B-B' of FIG. 12, and FIG. 15 is an enlarged view of area A4 of FIG. 14.
  • the mask 1000A according to the second exemplary embodiment is provided in a predetermined size to cover the user's face, and may have a predetermined elasticity in order to be in close contact with the user's face.
  • Mask 1000A Mask 1000A
  • the mask 1000A may include at least one of an opening 1010 and a cutout 1020.
  • the opening 1010 may be formed in a portion corresponding to the user's eyes or mouth.
  • the cutting portion 1020 may be formed in a portion corresponding to the relatively curved both ball lines, chins, etc. in order to improve adhesion between the mask 1000A and the skin.
  • the first substrate 110, the first wiring 210, the piezoelectric element 300, the second wiring 220, and the second substrate are regions excluding the opening 1010.
  • 120, a first base layer 510, a second base layer 520, and a sensing unit 700 may be included.
  • the first substrate 110 is transparent and may include a material in consideration of moisture barrier properties and thermal stability.
  • the first substrate 110 may include a material that has flexibility and varies according to the shape of the user's curved skin.
  • the first substrate 110 may include a resin material such as polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), and polyimide (PI).
  • PET polyethylene terephthalate
  • PEN polyethylene naphthalate
  • PI polyimide
  • the first substrate 110 may be provided in the form of a film.
  • the first substrate 110 may have a thickness of about 0.5 ⁇ m to about 5 ⁇ m or less.
  • the thickness of the first substrate 110 is less than about 0.5 ⁇ m, the components disposed on the first substrate 110, for example, the first substrate 110 overlapped with the components by the weight of the piezoelectric element 300 1 There may be a problem that the area of the substrate 110 is struck. Accordingly, reliability of the first substrate 110 may be deteriorated, and a problem of alignment of components disposed on the first substrate 110 may occur.
  • the thickness of the first substrate 110 exceeds about 5 ⁇ m, the total thickness of the mask 1000A may be increased.
  • the first substrate 110 may have a thickness of about 0.5 ⁇ m to about 3 ⁇ m.
  • the thickness of the first substrate 110 satisfies the above-described range, reliability and alignment characteristics can be maintained and can be efficiently varied in a shape corresponding to the user's skin, and the total thickness and weight of the mask 1000A May decrease.
  • a first wiring 210 may be disposed on the first substrate 110.
  • the first wiring 210 may be electrically connected to the piezoelectric element 300.
  • the first wiring 210 may include a conductive material.
  • the first wiring 210 is aluminum (Al), copper (Cu), silver (Ag), gold (Au), chromium (Cr), nickel (Ni), molimden (Mo), titanium (Ti ) And at least one of the alloys thereof.
  • the first wiring 210 may include a non-metal such as carbon.
  • the first wiring 210 may be disposed on one surface of the first substrate 110 facing the user's skin.
  • the first wiring 210 may directly contact one surface of the first substrate 110 and may extend in a first direction.
  • the first wiring 210 may be formed on one surface of the first substrate 110 by a process such as deposition or printing.
  • the first wiring 210 may include a plurality of first sub-wirings 211 disposed on the first substrate 110.
  • the plurality of first sub-wires 211 extend in a first direction and may be disposed to be spaced apart from each other in a second direction different from the first direction.
  • the plurality of first sub-wires 211 may be electrically connected to each other.
  • the second direction is a direction different from the first direction and may be a vertical direction, for example, but is not limited thereto.
  • the thickness of the first sub-wire 211 may be about 2 ⁇ m to about 50 ⁇ m. In detail, the thickness of the first sub-wire 211 may be about 2 ⁇ m to about 40 ⁇ m. When the thickness of the first sub-wiring 211 is less than about 2 ⁇ m, electrical characteristics may be degraded, and it may be difficult to form uniformly. In addition, when the thickness of the first sub-wiring 211 exceeds about 50 ⁇ m, the total thickness of the mask 1000A may increase, and the manufacturing time of the first wire 210 may increase. In addition, the first sub-wiring 211 is too thick to deteriorate the stretchable property. Preferably, the thickness of the first sub-wire 211 may be about 5 ⁇ m to about 35 ⁇ m or less in consideration of stretchable characteristics, reliability, and process efficiency in the horizontal direction.
  • a line width of the first sub-wire 211 may be greater than a thickness of the first sub-wire 211.
  • the line width of the first sub-wire 211 may be about 50 ⁇ m to about 500 ⁇ m.
  • the line width of the first sub-wire 211 may be about 100 ⁇ m to about 450 ⁇ m.
  • the line width of the first sub-wire 211 may be about 100 ⁇ m to about 400 ⁇ m in consideration of stretchable characteristics.
  • the first wiring 210 may have various shapes.
  • each of the plurality of first sub-wires 211 may have a linear shape extending in the first direction as shown in FIG. 12.
  • each of the plurality of first sub-wires 211 may have a curved shape extending in the first direction as shown in FIG. 13.
  • each of the plurality of first sub-wires 211 may be provided in a form in which a wavy pattern is repeated. In this case, the first sub-wire 211 may have a curvature pattern of about 3R to about 20R (mm).
  • the first wiring 210 when the mask 1000A is stretched or contracted in one direction, the first wiring 210 has a stretchable characteristic and may not be cut off.
  • the first sub-wiring 211 may have a curvature pattern of about 5R to about 15R (mm). Accordingly, the first wiring 210 may have improved stretchable characteristics, thereby improving reliability.
  • first wiring 210 may have an elongation of about 10% to about 50%.
  • each of the plurality of first sub-wires 211 may have a shape in which a pattern in which straight lines and curves extending in the first direction are mixed is repeated.
  • the first sub-wire 211 located in a region overlapping a relatively curved region of the user's face may be provided in a curved shape, and may be provided in a region overlapping a relatively flat region.
  • the positioned first sub-wire 211 may be provided in a straight line.
  • the mask 1000A when the mask 1000A is attached to the user's face, a problem in which the first wiring 210 is damaged due to the deformation of the mask 1000A can be solved.
  • the first sub-wire 211 is provided in a form in which a straight line and a curved line are mixed, it is possible to maintain electrical characteristics and at the same time reduce the ratio occupied by the first wire 210, thereby reducing overall manufacturing cost. .
  • a piezoelectric element 300 may be disposed on the first substrate 110.
  • the piezoelectric element 300 may be disposed on the first wiring 210 and electrically connected to the first wiring 210.
  • the piezoelectric device 300 may include a ceramic material.
  • the piezoelectric element 300 includes ZnO, AlN, LiNbO 4 , lead antimony stannate, lead magnesium tantalate, lead nickel tantalate, and titanate ( titanates), tungstates, zirconates, or lead zirconate titanate [Pb(Zr x Ti 1-x )O 3 (PZT)], lead lanthanum zirconate titanate (PLZT), lead niobium Zirconate titanate (PNZT), BaTiO 3 , SrTiO 3 , lead magnesium niobate, lead nickel niobate, lead manganese niobate, lead zinc niobate, lead including lead titanate, barium, bismuth, or
  • a plurality of piezoelectric elements 300 may be disposed on the first wiring 210.
  • a plurality of piezoelectric elements 300 may be disposed to be spaced apart from each other on the first sub-wire 211.
  • a plurality of piezoelectric elements 300 may be disposed on one first sub-wire 211, and the plurality of piezoelectric elements 300 may be spaced apart at equal intervals on the first sub-wire 211.
  • the piezoelectric element 300 disposed on one first sub-wire 211 is a piezoelectric element 300 disposed on the first sub-wire 211 closest to the one first sub-wire 211 And may or may not overlap in the second direction.
  • some of the piezoelectric elements 300 may be spaced at equal intervals, and the remaining piezoelectric elements 300 may not be disposed at equal intervals.
  • the spacing between the piezoelectric elements 300 may not be arranged at equal intervals. That is, the spacing between the piezoelectric elements 300 may be relatively narrow or large depending on the degree of curvature of the skin surface. Accordingly, the mask 1000A according to the embodiment may effectively provide vibration even to curved skin.
  • the piezoelectric element 300 may be disposed on the entire area of the mask 1000A at predetermined intervals, and vibration may be evenly generated in the entire area of the mask 1000A.
  • the piezoelectric element 300 may overlap with the first sub-wire 211.
  • a lower surface of the piezoelectric element 300 may overlap the first sub-wire 211 in a vertical direction.
  • the piezoelectric element 300 may generate vibration by an applied current.
  • the piezoelectric element 300 may generate ultrasonic vibrations by an applied current.
  • the piezoelectric element 300 may generate ultrasonic vibrations of about 1 MHz or less.
  • the piezoelectric element 300 may generate ultrasonic vibrations of about 10 kHz to about 1 MHz.
  • the piezoelectric element 300 may generate ultrasonic vibrations of about 100 KHz to about 800 KHz.
  • the ultrasonic vibration generated by the piezoelectric element 300 vibrates in the direction of one surface of the mask 1000A and is transmitted to the user's skin, thereby massaging the user's skin.
  • the thickness of the piezoelectric element 300 may be about 1500 ⁇ m or less. In detail, the thickness of the piezoelectric element 300 may be about 1200 ⁇ m or less. Preferably, the thickness of the piezoelectric element 300 may be about 1000 ⁇ m or less. It is preferable that the thickness of the piezoelectric element 300 satisfies the above-described range in consideration of the overall thickness and variable characteristics of the mask 1000A.
  • the piezoelectric element 300 may have various shapes.
  • the piezoelectric element 300 may have a polygonal column shape in which lower and upper surfaces are polygonal, and the lower and upper surfaces may have a circular column shape.
  • the piezoelectric element 300 may have a polygonal one of a lower surface and an upper surface, and the other surface may have a pillar shape.
  • an area of at least one of a lower surface and an upper surface of the piezoelectric element 300 may be about 100 mm 2 or less.
  • the piezoelectric element 300 may have various pillar shapes, and the intensity of ultrasonic vibration generated according to the pillar shape, and the oscillation direction of the vibration may be controlled.
  • the intensity of vibration transmitted to the user's skin may be adjusted according to the size, arrangement interval, and arrangement density of the piezoelectric element 300.
  • the piezoelectric element 300 may generate various waves.
  • the piezoelectric element 300 may generate at least one wave of a horizontal wave in which a direction in which the wave travels and a vibration direction of the medium are perpendicular, and a longitudinal wave in which the direction in which the wave travels and the vibration direction of the medium are the same.
  • the piezoelectric element 300 may resonate multiple times.
  • the piezoelectric element 300 may include at least one via hole, and may resonate multiple times by the formed via hole.
  • the upper area of the via hole may be about 10% to about 45% of the upper surface area of the piezoelectric element 300 for multiple resonance.
  • the number of multiple resonance frequency domains may correspond to the number of via holes. That is, the piezoelectric element 300 may emit wavelengths in various frequency ranges as the number of via holes increases within a set number range of via holes.
  • a second substrate 120 may be disposed on the piezoelectric element 300.
  • the second substrate 120 is transparent and may include a material in consideration of moisture barrier properties and thermal stability.
  • the second substrate 120 may include a material that has flexibility and is variable according to the shape of the user's curved skin.
  • the second substrate 120 may include a resin material such as polyethylene terephthalate (PET), polyethylene natpalate (PEN), and polyimide (PI).
  • PET polyethylene terephthalate
  • PEN polyethylene natpalate
  • PI polyimide
  • the second substrate 120 may be provided in the form of a film.
  • the second substrate 120 may be made of the same material as the first substrate 110 and may have the same shape.
  • the second substrate 120 may have a thickness of about 0.5 ⁇ m to about 5 ⁇ m.
  • the thickness of the second substrate 120 is less than about 0.5 ⁇ m, components disposed on the second substrate 120, for example, the second substrate 120 overlapping the components by the weight of the piezoelectric element 300 2 There may be a problem in that the area of the substrate 120 is struck. Accordingly, the reliability of the second substrate 120 may be deteriorated, and an alignment problem may occur between components disposed on the second substrate 120.
  • the thickness of the second substrate 120 exceeds about 5 ⁇ m, the total thickness of the mask 1000A may be increased.
  • the second substrate 120 may have a thickness of about 0.5 ⁇ m to about 3 ⁇ m.
  • the second substrate 120 may have the same thickness as the first substrate 110.
  • a second wiring 220 may be disposed on the second substrate 120.
  • the second wiring 220 may be electrically connected to the piezoelectric element 300.
  • the second wiring 220 may include a conductive material.
  • the second wiring 220 is aluminum (Al), copper (Cu), silver (Ag), gold (Au), chromium (Cr), nickel (Ni), molimdenum (Mo), titanium (Ti ) And at least one of the alloys thereof.
  • the second wiring 220 may include a non-metal such as carbon.
  • the second wiring 220 may include the same material as the first wiring 210.
  • the second wiring 220 may be disposed on one surface of the second substrate 120 facing the piezoelectric element 300. That is, the second wiring 220 may be disposed on one surface opposite to the other surface of the second substrate 120 facing the user's skin.
  • the second wiring 220 may directly contact one surface of the second substrate 120 and may extend in a different direction from the first wiring 210. For example, the second wiring 220 may extend in the second direction different from the first direction in which the first wiring 210 extends.
  • the second wiring 220 may be formed on one surface of the second substrate 120 by a process such as deposition or printing.
  • the second wiring 220 may include a plurality of second sub-wirings 221 disposed on the second substrate 120.
  • the plurality of second sub-wires 221 may extend in the second direction and may be spaced apart from each other in the first direction.
  • the plurality of second sub-wires 221 may be electrically connected to each other.
  • the second sub-wiring 222 may overlap the piezoelectric element 300.
  • the second sub-wiring 222 may overlap the upper surface of the piezoelectric element 300 in a vertical direction.
  • the first wiring 210 and the second wiring 220 may be disposed to cross each other.
  • the first sub-wire 211 and the second sub-wire 221 may be disposed to cross each other in a mesh shape, and the sub-wires 211 and 221 ), an open area OA in which the wires 210 and 220 are not disposed may be formed.
  • the thickness of the second sub-wire 221 may be about 2 ⁇ m to about 50 ⁇ m. In detail, the thickness of the second sub-wire 221 may be about 2 ⁇ m to about 40 ⁇ m. When the thickness of the second sub-wiring 221 is less than about 2 ⁇ m, electrical characteristics may be deteriorated, and it may be difficult to form uniformly. In addition, when the thickness of the second sub-wire 221 exceeds about 50 ⁇ m, the total thickness of the mask 1000A may increase, and the manufacturing time of the second wire 220 may increase. In addition, the thickness of the second sub-wiring 221 is too thick, so that stretchable characteristics may be deteriorated.
  • the thickness of the second sub-wire 221 may be about 30 ⁇ m or less in consideration of stretchable characteristics in the horizontal direction, reliability, and process efficiency.
  • the thickness of the second sub-wire 221 is provided equal to the thickness of the first sub-wire 211, so that process efficiency may be improved.
  • a line width of the second sub-wire 221 may be greater than a thickness of the second sub-wire 221.
  • the line width of the second sub-wire 221 may be about 50 ⁇ m to about 500 ⁇ m or less.
  • the line width of the second sub-wire 221 may be about 100 ⁇ m to about 450 ⁇ m.
  • the line width of the second sub-wire 221 may be about 100 ⁇ m to about 400 ⁇ m in consideration of stretchable characteristics.
  • the line width of the second sub-wire 221 is provided equal to the line width of the first sub-wire 211, so that process efficiency can be improved.
  • the second wiring 220 may have various shapes.
  • each of the plurality of second sub-wires 221 may have a linear shape extending in the second direction as shown in FIG. 12.
  • each of the plurality of second sub-wires 221 may have a curved shape extending in the second direction as shown in FIG. 13.
  • each of the plurality of second sub-wires 221 may be provided in a form in which a wavy pattern is repeated.
  • the second sub-wiring 221 may have a curvature pattern of about 3R to about 20R (mm).
  • the second wiring 220 may have stretchable characteristics and may not be cut off.
  • the second sub-wiring 221 may have a curvature pattern of about 5R to about 15R (mm). Accordingly, the second wiring 220 may have improved stretchable characteristics, thereby improving reliability.
  • each of the plurality of second sub-wires 221 may have a shape in which a pattern in which straight lines and curves extending in the second direction are mixed is repeated.
  • the second sub-wire 221 located in a region overlapping a relatively curved region of the user's face may be provided in a curved shape, and may be provided in a region overlapping a relatively flat region.
  • the positioned second sub-wire 221 may be provided in a straight line.
  • the second sub-wire 221 is provided in a form in which a straight line and a curved line are mixed, it is possible to maintain electrical characteristics and reduce a ratio occupied by the second wire 220, thereby reducing overall manufacturing cost.
  • the second wiring 220 has the same shape as the first wiring 210 in consideration of the stretchable characteristic of the mask 1000A. That is, it is preferable that the first wiring 210 and the second wiring 220 disposed in the same area in the mask 1000A have the same shape.
  • the second wiring 220 may extend on the second substrate 120 in the same direction as the first wiring 210. That is, the second wiring 220 may extend in the same first direction as the first wiring 210.
  • the mask 1000A may include a second base layer 520.
  • the second base layer 520 may be disposed on the second substrate 120.
  • the second base layer 520 may be disposed on the other surface opposite to the one surface of the second substrate 120.
  • the first base layer 510 may be disposed in direct contact with the other surface of the second substrate 120.
  • the second base layer 520 is a portion that faces the user's skin and can contact the skin, and may include a material harmless to the human body.
  • the second base layer 520 may include a soft and elastic material.
  • the first base layer 510 is a polyvinyl chloride ( PVC) may include at least one material.
  • the second base layer 520 may be relatively light and may include a silicone elastomer having a predetermined elasticity and may minimize irritation upon contact with the user's skin.
  • the second base layer 520 may be disposed to cover the entire area of the other surface of the second substrate 120. That is, when viewed in a plan view, a plan area of the second base layer 520 may correspond to an area of the other surface of the second substrate 120. In addition, a plan area of the second base layer 520 may be larger than an area of the other surface of the second base layer 120. Accordingly, the second base layer 520 may be disposed surrounding the side surface of the second substrate 120. The second base layer 520 may prevent the other surface of the second substrate 120 from being exposed to the outside.
  • the second base layer 520 may pass the wavelength emitted from the piezoelectric element 300 in the direction of one surface of the mask 1000A and transmit it to the user's skin. That is, the second base layer 520 may be a transmission layer.
  • the thickness of the second base layer 520 may vary according to an impedance of the second base layer 520 and a driving frequency of the piezoelectric element 300. For example, when the driving frequency of the piezoelectric element 300 is about 1 MHz or less, the thickness of the second base layer 520 may be about 50 ⁇ m to about 1 mm. When the thickness of the second base layer 520 is less than about 50 ⁇ m, the thickness of the second base layer 520 is relatively thin, so that the second base layer 120 cannot be effectively protected.
  • the thickness of the second base layer 520 exceeds about 1 mm, the thickness of the entire mask 1000A may increase. It is preferable that the thickness of the second base layer 520 satisfies the above-described range in order to effectively pass the wavelength emitted from the piezoelectric element 300. Preferably, the thickness of the second base layer 520 may have a thickness ranging from about 100 ⁇ m to about 700 ⁇ m in consideration of reliability, transmission characteristics, and thickness and weight of the manufactured mask 1000A.
  • the mask 1000A may include a first base layer 510.
  • the first base layer 510 may be disposed under the first substrate 110.
  • the first base layer 510 may be disposed on the other surface opposite to one surface of the first substrate 110.
  • the first base layer 510 may be disposed in direct contact with the other surface of the first substrate 110.
  • the first base layer 510 may include a material harmless to the human body.
  • the first base layer 510 may include a soft and elastic material.
  • the first base layer 510 is polyvinyl chloride to which silicone, thermoplastic resin, thermoplastic silicone resin, thermoplastic elastomer, polyurethane elastomer, ethylene vinyl acetate (EVA), harmless plasticizer and stabilizer are added ( PVC) may include at least one material.
  • the first base layer 510 is relatively light, can minimize irritation upon contact with the user's skin, and may include a silicone elastomer having a predetermined elasticity.
  • the first base layer 510 may be made of the same material as the second base layer 520.
  • the first base layer 510 may be disposed to cover the entire area of the other surface of the first substrate 110. That is, when viewed in a plan view, a plan area of the first base layer 510 may correspond to an area of the other surface of the first base layer 110. In addition, a plan area of the first base layer 510 may be larger than an area of the other surface of the first substrate 110. Accordingly, the first base layer 510 may be disposed to surround the side surface of the first substrate 110. The first base layer 510 may prevent the other surface of the first substrate 110 from being exposed to the outside.
  • the first base layer 510 may reflect the wavelength emitted from the piezoelectric element 300 in the direction of one surface of the mask 1000A. That is, the first base layer 51 may be a reflective layer. To this end, the thickness of the first base layer 510 may be smaller than or equal to the thickness of the second base layer 520. In detail, the thickness of the first base layer 510 is the second base layer in order to reflect the wavelength emitted from the piezoelectric device 300 toward the first base layer 110 to the first base layer 510 It may be thinner or equal to the thickness of 520.
  • the thickness of the first base layer 510 may be about 50 ⁇ m to about 1 mm. When the thickness of the first base layer 510 is less than about 50 ⁇ m, the thickness of the first base layer 510 is relatively thin, so that the first base layer 110 cannot be effectively protected. In addition, when the thickness of the first base layer 510 exceeds about 1 mm, the thickness of the entire mask 1000A may increase, and the piezoelectric element 300 is discharged toward the first substrate 110 Most of the wavelengths passed through the first base layer 510 and reflected by the first base layer 510 may be less reflected in the direction of one surface of the mask 1000A.
  • the required thickness of the second base layer 520 may be increased for reflection in the direction of one surface of the mask 1000A, and the wavelength range generated by the piezoelectric element 300 for reflection is high, so that the mask May not be suitable for use in (1000A). Therefore, it is preferable that the thickness of the first base layer 510 satisfies the above-described range in order to prevent the above problems. More preferably, the thickness of the first base layer 510 may be about 100 ⁇ m to about 700 ⁇ m. That is, it is preferable that the first base layer 510 has a thickness ranging from about 100 ⁇ m to about 700 ⁇ m in consideration of reliability, reflective properties, and the thickness and weight of the manufactured mask 1000A.
  • the first base layer 510 may have pores or the like formed therein in order to effectively reflect the wavelength generated by the piezoelectric element 300.
  • one surface of the first base layer 510 facing the piezoelectric element 300 may include at least one groove concave from the one surface toward the other surface opposite to the one surface. The groove may be disposed at a position overlapping the piezoelectric element 300 in a vertical direction, and is filled with air to reflect the wavelength of the piezoelectric element 300 upward, for example, toward the second substrate. I can make it.
  • the wavelength emitted from the piezoelectric element 300 can be transmitted by the user through the second substrate 120 and the second base layer 520, and emitted toward the first substrate 110.
  • the wavelength may be reflected by the first base layer 510 and effectively transmitted to the user's skin.
  • the mask 1000A may include at least one sensing unit 700.
  • the sensing unit 700 may be disposed between the first substrate 110 and the second substrate 120.
  • the sensing unit 700 may overlap the open area OA in a vertical direction. That is, the sensing unit 700 may be disposed in a region that does not overlap with the first wiring 210 and the second wiring 220 based on a vertical direction.
  • the sensing unit 700 may be disposed in a region that does not overlap with the piezoelectric element 300 based on a vertical direction.
  • the sensing unit 700 may include a conductive material.
  • the sensing unit 700 may include a metal material.
  • the sensing unit 700 includes aluminum (Al), copper (Cu), silver (Ag), gold (Au), chromium (Cr), nickel (Ni), molimeden (Mo), titanium (Ti), and It may include at least one metal among these alloys.
  • the sensing unit 700 may include a metal oxide.
  • the sensing unit 700 includes indium tin oxide, indium zinc oxide, copper oxide, tin oxide, zinc oxide, and titanium oxide. It may contain metal oxides such as (titanium oxide).
  • the sensing unit 700 may include a nanowire, a photosensitive nanowire film, a carbon nanotube (CNT), graphene, a conductive polymer, or a mixture thereof.
  • the sensing unit 700 may have a flexible characteristic as it includes the above-described material.
  • the sensing unit 700 may include a metal material.
  • the sensing unit 700 is made of the same material as the first wiring 210 and/or the second wiring 220 so that the first wiring 210 and/or the second wiring 220 Can be formed together when forming.
  • the sensing unit 700 may include a first sensing electrode 710 and a second sensing electrode 720 spaced apart from each other.
  • the first sensing electrode 710 may be disposed on the first substrate 110.
  • the first sensing electrode 710 may be disposed on one surface of the first substrate 110 facing the user's skin.
  • the first sensing electrode 710 may be disposed in direct contact with one surface of the first substrate 110.
  • the first sensing electrode 710 may be disposed on the same plane as the first wire 210, and may extend in a different direction from the first wire 210.
  • the first sub-wire 211 may extend in the first direction
  • the first sensing electrode 710 may extend in the second direction different from the first direction.
  • the first sensing electrode 710 may be connected to the first wiring 210.
  • the first sensing electrode 710 may be electrically connected to the first wire 210 by a first wire 215 extending from the first sub-wire 211.
  • the first wiring 215 may extend from the first wiring 210 to the open area OA to be physically and electrically connected to the first sensing electrode 710.
  • the first wiring 215 may be formed simultaneously with the first wiring 210 in the process of forming the first wiring 210. Accordingly, the first wiring 215 may include the same material as the first wiring 210. In addition, the first wiring 215 may have the same line width and thickness as the first sub-wiring 211.
  • the first wiring 215 may be formed at the same time as the first sensing electrode 710 in the process of forming the first sensing electrode 710, and the same material as the first sensing electrode 710 It may include.
  • the first wiring 215 may be formed together in a process of simultaneously forming the first wiring 210 and the first sensing electrode 710.
  • the first wiring 215, the first wiring 210 and the first sensing electrode 710 may include the same material.
  • the first wiring 210, the first sensing electrode 710 and the first wiring 215 may have the same thickness.
  • the second sensing electrode 720 may be disposed on the second substrate 120.
  • the second sensing electrode 720 may be disposed on one surface of the second substrate 120 facing the piezoelectric element 300.
  • the second sensing electrode 720 may be disposed in direct contact with one surface of the second substrate 120.
  • the second sensing electrode 720 may be disposed on the same plane as the second wire 220, and may extend in a different direction from the second wire 220.
  • the second sub-wire 221 may extend in the second direction
  • the second sensing electrode 720 may extend in the first direction different from the second direction.
  • the second sensing electrode 720 may be connected to the second wiring 220.
  • the second sensing electrode 720 may be electrically connected to the second wire 220 by a second wire 225 extending from the second sub-wire 221.
  • the second wire 225 may extend from the second wire 220 to the open area OA to be physically and electrically connected to the second sensing electrode 720.
  • the second wiring 225 may be formed simultaneously with the second wiring 220 in the process of forming the second wiring 220. Accordingly, the second wiring 225 may include the same material as the second wiring 220. In addition, the second wiring 225 may have the same line width and thickness as the second sub-wiring 221.
  • the second wiring 225 may be formed at the same time as the second sensing electrode 720 in the process of forming the second sensing electrode 720, and the same material as the second sensing electrode 720 It may include.
  • the second wiring 225 may be formed together in a process of simultaneously forming the second wiring 220 and the second sensing electrode 720.
  • the second wiring 225, the second wiring 220, and the second sensing electrode 720 may include the same material.
  • the second wiring 220, the second sensing electrode 720, and the second wiring 225 may have the same thickness.
  • the first sensing electrode 710 and the second sensing electrode 720 may be disposed in the same open area OA.
  • the first sensing electrode 710 and the second sensing electrode 720 may not overlap in a vertical direction within the open area OA. That is, as shown in FIG. 5, the first sensing electrode 710 and the second sensing electrode 720 may be horizontally spaced apart in the open area OA.
  • the horizontal distance d1 between the first sensing electrode 710 and the second sensing electrode 720 may be several hundred ⁇ m or less.
  • the first sensing electrode 710 and the second sensing electrode 720 may have various shapes.
  • a planar shape of the first sensing electrode 710 and the second sensing electrode 720 may have at least one of a shape including a circle, a polygon, a straight line, and a curve.
  • the first sensing electrode 710 and the second sensing electrode 720 may have the same planar shape.
  • the first sensing electrode 710 and the second sensing electrode 720 may have the same plane area. Accordingly, a change in capacitance between the first sensing electrode 710 and the second sensing electrode 720 can be effectively detected.
  • the mask 1000A may include a control unit (not shown).
  • the control unit may be connected to the first wiring 210, the second wiring 220 and the sensing unit 700.
  • the controller may operate the piezoelectric element 300 by applying a current to the first wiring 210 and the second wiring 220 according to an input signal.
  • the control unit may detect a change in the capacitance value through the sensing unit 700.
  • the controller may detect a change in a capacitance value between the first sensing electrode 710 and the second sensing electrode 720.
  • the mask 1000A may sense a change in a capacitance value in real time in a process of generating vibration by applying a current to the piezoelectric element 300.
  • the controller may generate vibration by applying a signal defined as a first mode, and may sense a change in capacitance by applying a signal defined as another second mode.
  • the controller may apply current to the first wiring 210 and the second wiring 220. Accordingly, vibration may occur in the piezoelectric element 300.
  • the controller may apply current to the first sensing electrode 710 and the second sensing electrode 720. Accordingly, the sensing unit 700 may detect a change in the capacitance value.
  • the control unit may control an operation order of the first and second modes.
  • the controller may apply a signal to the wires 210 and 220 and the sensing unit 700 in the order of "first mode-second mode", and the mask 1000A is It can operate in the order of occurrence-capacitance change detection.
  • the controller may control the operation time of the first and second modes.
  • the first mode may operate for a first time to generate vibration.
  • the second mode may operate for a second time shorter than the first time to detect a change in capacitance value.
  • the second time is a very short time that cannot be detected by a human, and may be a time sufficient to detect a change in capacitance. That is, the mask 1000A may operate in the first mode for a set period of time and detect a change in capacitance for a short period of time that is difficult for a user to experience. Subsequently, the mask 1000A may operate in the first mode again. That is, when the mask 1000A is operated, the user may recognize that vibration is continuously provided to the skin, and at the same time, the mask 1000A may periodically detect whether or not the mask 1000A contacts the skin.
  • the mask 1000A may include a first protective layer 551.
  • the first protective layer 551 may be disposed between the first substrate 110 and the second substrate 120.
  • the first protective layer 551 may be disposed in direct contact with one surface of the first substrate 110 and one surface of the second substrate 120.
  • the first protective layer 551 may include a material having softness and elasticity.
  • the first protective layer 551 is a polyvinyl chloride to which silicone, a thermoplastic resin, a thermoplastic silicone resin, a thermoplastic elastomer, a polyurethane elastomer, an ethylene vinyl acetate (EVA), a harmless plasticizer and a stabilizer are added ( PVC) may include at least one material.
  • the first protective layer 551 is relatively light and can minimize irritation upon contact with the user's skin, and it may be preferable to include a silicone elastomer having a predetermined elasticity.
  • the first protective layer 551 may be disposed between the first substrate 110 and the second substrate 120 to protect the piezoelectric element 300 and the sensing unit 700.
  • the first protective layer 551 may be disposed between the substrates 110 and 120 to surround the piezoelectric element 300 and the sensing unit 700 to protect the components.
  • the first protective layer 551 may be connected to the first base layer 510 and the second base layer 520. That is, the first base layer 510, the second base layer 520, and the first protective layer 551 may be integrally formed to be physically connected, and may support a component disposed therein.
  • the piezoelectric element 300 may include a first electrode 310 disposed on a lower surface.
  • the first electrode 310 may be disposed in an area of about 80% or more of the total area of the lower surface of the piezoelectric element 300 in consideration of electrical characteristics.
  • the first electrode 310 may be disposed in an area of about 90% of the total area of the lower surface of the piezoelectric element 300.
  • the first electrode 310 may be disposed on the entire lower surface of the piezoelectric element 300.
  • the ratio occupied by the first electrode 310 satisfies the above-described range.
  • the first electrode 310 may include a conductive material.
  • the first electrode 310 may include a metal material.
  • the first electrode 310 is aluminum (Al), copper (Cu), silver (Ag), gold (Au), chromium (Cr), nickel (Ni), molimdenum (Mo), titanium (Ti) And it may include at least one metal of these alloys.
  • the first electrode 310 may be disposed facing the first wiring 210 and may be electrically connected to the first wiring 210.
  • a first bonding layer 251 may be disposed between the first electrode 310 and the first wiring 210, and the first electrode 310 and the first bonding layer 251
  • the first wiring 210 may be physically and electrically connected.
  • the overlapping ratio between the first bonding layer 251 and the first wiring 210 may be about 20% or more in consideration of physical and electrical connection characteristics.
  • the first bonding layer 251 includes aluminum (Al), copper (Cu), silver (Ag), gold (Au), chromium (Cr), nickel (Ni), molimeden (Mo), titanium (Ti), and It may include at least one metal among these alloys.
  • the first bonding layer 251 may be disposed between the first electrode 310 and the first wiring 210 to serve as a conductive adhesive.
  • the first bonding layer 251 may be applied in the form of a paste on the first wiring 210, and a piezoelectric structure including the first electrode 310 on the first bonding layer 251
  • the device 300 may be disposed. Accordingly, the piezoelectric element 300 may be physically and electrically connected to the first wiring 210.
  • the piezoelectric element 300 may include a second electrode 320 disposed on an upper surface.
  • the second electrode 320 may be disposed in an area of about 80% or more of the total area of the upper surface of the piezoelectric element 300 in consideration of electrical characteristics.
  • the second electrode 320 may be disposed in an area of about 90% of the total area of the upper surface of the piezoelectric element 300.
  • the second electrode 320 may be disposed on the entire lower surface of the piezoelectric element 300.
  • the ratio occupied by the second electrode 320 satisfies the above-described range.
  • the second electrode 320 may include a conductive material.
  • the second electrode 320 may include a metal material.
  • the second electrode 320 is aluminum (Al), copper (Cu), silver (Ag), gold (Au), chromium (Cr), nickel (Ni), molimdenum (Mo), titanium (Ti) And it may include at least one metal of these alloys.
  • the second electrode 320 may be disposed facing the second wiring 220 and may be electrically connected to the second wiring 220.
  • a second bonding layer 252 may be disposed between the second electrode 320 and the second wiring 220, and the second electrode 320 and the second bonding layer 252
  • the second wiring 220 may be physically and electrically connected.
  • the overlapping ratio between the second bonding layer 252 and the second wiring 220 may be about 20% or more in consideration of physical and electrical connection characteristics.
  • the second bonding layer 251 includes aluminum (Al), copper (Cu), silver (Ag), gold (Au), chromium (Cr), nickel (Ni), molimeden (Mo), titanium (Ti), and It may include at least one metal among these alloys.
  • the second bonding layer 252 may be disposed between the second electrode 320 and the second wiring 220 to serve as a conductive adhesive.
  • the second bonding layer 252 may be applied in the form of a paste on the second wiring 220, and including the second electrode pad 310 on the second bonding layer 252
  • the piezoelectric element 300 may be disposed. Accordingly, the piezoelectric element 300 may be physically and electrically connected to the second wiring 220, and the first substrate 110 and the second substrate 120 may be spaced apart from each other at a predetermined interval. I can.
  • the variability of the mask 1000A may be improved.
  • the thickness of the first bonding layer 251 may be different from the thickness of the second bonding layer 252.
  • the thickness of the first bonding layer 251 may be thicker than the thickness of the second bonding layer 252. Accordingly, a wavelength emitted from the piezoelectric device 300 toward the first substrate 110 may be reflected by the first bonding layer 251 and may move toward the second substrate 120.
  • the mask 1000A may further include a third bonding layer (not shown).
  • the third bonding layer may be disposed on the other surface of the first substrate 110. That is, the third bonding layer may be disposed between the other surface of the first substrate 110 and the first base layer 510. Accordingly, a wavelength emitted from the piezoelectric device 300 toward the first substrate 110 may be reflected by the third bonding unit and may move toward the second substrate 120. Accordingly, it is possible to minimize the loss of wavelength emitted from the piezoelectric element 300.
  • the first protective layer 551 may be filled in the space between the first substrate 110 and the second substrate 120. Accordingly, the first protective layer 551 may be disposed to surround the piezoelectric element 300, the first wiring 210, the second wiring 220, and the sensing unit 700, and the configuration It can prevent the inhalation from being exposed to the outside.
  • FIG. 16 and 17 are diagrams illustrating a change in capacitance of a sensing unit according to whether or not the mask and the skin contact according to the second embodiment.
  • FIG. 18 is a diagram illustrating that the mask according to the second embodiment includes a plurality of sensing units.
  • the mask 1000A may contact the user's skin 50.
  • the mask 1000A may directly contact the user's skin 50, and as shown in the drawing, a cosmetic or a drug 60 is disposed between the mask 1000A and the skin 50 Can be contacted directly or indirectly.
  • the mask 1000A may directly or indirectly contact the user's skin 50.
  • the capacitance value of the sensing unit 700 may change.
  • the capacitance value of the sensing unit 700 may be changed by the current flowing through the user's skin.
  • the controller may recognize a change in capacitance of the sensing unit 700 to recognize that the mask 1000A is in contact with the user's skin 50.
  • the mask 1000A according to the embodiment may be spaced apart from the user's skin 50.
  • the capacitance value of the sensing unit 700 may not change. Accordingly, the control unit may recognize that the mask 1000A and the user's skin 50 are separated from each other.
  • the mask 1000A may include a plurality of sensing units 700.
  • the sensing unit 700 may be provided at a position overlapping with a relatively curved area of the user's face.
  • the sensing unit 700 may be disposed at a position corresponding to a relatively curved area such as both cheeks, forehead, and chin. That is, the sensing unit 700 may be disposed on a region where the mask 1000A is difficult to contact due to the curved skin surface to detect whether the mask 1000A and the skin 50 are in close contact with each other.
  • FIG. 19 is a diagram illustrating an example in which an indicator is disposed on a mask according to an embodiment.
  • the mask 1000 may include an indicator 810.
  • the indicator 810 may include at least one of members such as an LED, a display, a buzzer, etc. that can transmit information to a user, such as visually or aurally.
  • the indicator 810 may be disposed outside the mask 1000 to display an operation state of the mask 1000.
  • the indicator 810 may provide information about the start of the operation of the mask 1000, information notifying that the operation is in progress, and information about the completion of the operation through auditory information generated from a buzzer.
  • the indicator 810 may display an operation state according to the light emission color of the LED.
  • the indicator may display information on an operating frequency domain through the display.
  • the indicator 810 may provide information on whether or not the mask 1000 and the skin 50 are in close contact with each other.
  • the mask 1000 may include the sensing unit 700 as in the second embodiment described above. Accordingly, the mask 1000 may detect a change in capacitance between the first sensing electrode 710 and the second sensing electrode 720.
  • the indicator 810 provides the forehead of the mask 1000 to the user through visual or auditory information. It can signal that the part is not tight. Accordingly, the indicator 810 may provide information so that the mask 1000 and the user's skin contact effectively.
  • 20 and 21 are views showing an example in which a protrusion is disposed on a mask according to an embodiment.
  • the mask 1000A may include a protrusion 820 disposed on an outer surface.
  • the protrusion 820 may be disposed on one surface of the second base layer 520 facing the user's skin.
  • the protrusion 820 may include a material harmless to the human body and may be disposed to protrude from one surface of the second base layer 520 toward the user's skin.
  • the protrusions 820 may be disposed in the form of a plurality of points spaced apart from each other on one surface of the second base layer 520.
  • the protrusions 820 may be disposed in the form of a plurality of straight lines or curved lines spaced apart from each other on one surface of the second base layer 520.
  • the protrusion 820 may be disposed on one surface of the second base layer 520 in a single spiral shape.
  • the protrusion 820 may be applied to the mask 1000 according to the first embodiment described above.
  • the protrusion 820 may be disposed on one surface of the second base layer 520 in the mask 1000 of FIG. 5.
  • the protrusion 820 may be spaced apart from the electrode layer 600.
  • the protrusion 820 may be disposed in a region between the electrode layers 600.
  • the protrusion 820 may form a predetermined space between the masks 1000A and 1000 and the user's skin. Accordingly, cosmetics or drugs between the masks 1000A and 1000 and the skin due to the pressure generated when the masks 1000A and 1000 are worn and/or the vibration generated by the piezoelectric element 300 are applied to the mask 1000A , 1000) can be prevented from being pushed out to the edge area. That is, the protrusion 820 may serve as a partition wall preventing cosmetics or drugs from escaping from the masks 1000A and 1000. Therefore, the user can effectively inject cosmetics or drugs into the skin by using the masks 1000A and 1000.
  • FIG. 22 is a diagram illustrating a user wearing a mask according to an embodiment
  • FIG. 23 is a diagram illustrating a skin care device to which the mask according to the embodiment is applied.
  • the user may wear the mask 1000 according to the first embodiment or the mask 1000A according to the second embodiment.
  • the masks 1000 and 1000A may include the above-described opening 1010, and a user may secure a view through the opening 1010.
  • the masks 1000 and 1000A may include the above-described cutting portion 1020, and the masks 1000 and 1000A can be effectively in close contact with the curved skin by the cutting portion 1020.
  • one surface of the second base layer 520 may directly contact the user's skin.
  • drugs or cosmetics are disposed between the second bath layer 520 and the user's skin, so that the base layer 520 may directly or indirectly contact the user's skin.
  • the masks 1000 and 1000A may operate by receiving power through an external power connected to the masks 1000 and 1000A.
  • the masks 1000 and 1000A may be operated by receiving power through a power supply unit (not shown) disposed outside the mask 1000, for example, on a lower surface of the first base layer 510.
  • the masks 1000 and 1000A may be applied to the skin care device 1 and operated.
  • the skin care device 1 may include a body 10 that is open on one side and includes an accommodation space 11 therein.
  • the body 10 is light and may include a material capable of preventing damage from external impact or contact.
  • the main body 10 may have improved reliability from an external environment, including plastic and ceramic materials, and may protect the masks 1000 and 1000A disposed inside the accommodation space 11.
  • the main body 10 may include a viewing part 13 formed at a position corresponding to the user's eyes. The viewing part 13 is formed in a region corresponding to the opening 1010 of the masks 1000 and 1000A, and a user can secure an external view through the viewing part 13.
  • the masks 1000 and 1000A may be disposed in the receiving space 11 of the body 10.
  • the masks 1000 and 1000A may be disposed between the body 10 and the user's skin.
  • the first base layer 510 of the masks 1000 and 1000A may be disposed to face the receiving space 11 of the body 10
  • the second base layer of the masks 1000 and 1000A ( 520 may be disposed to face the user's skin.
  • the masks 1000 and 1000A may be coupled to the body 10.
  • the masks 1000 and 1000A may be fixed to a set position in the accommodation space 11 by a fastening member (not shown), and may have a structure that is detachable from the main body 10.
  • the masks 1000 and 1000A may be supplied with power through a power supply unit (not shown) disposed outside the mask 1000, for example, on a lower surface of the first base layer 510.
  • the masks 1000 and 1000A may be connected to the body 10 to receive power through a power supply unit (not shown) disposed on the body 10.
  • the masks 1000 and 1000A may include a deformable member (not shown) disposed on a lower surface of the first base layer 510.
  • the deformable member may directly contact the first base layer 510 and may be disposed facing the receiving space 11 of the main body 10. That is, the deformable member may be disposed between the body 10 and the first base layer 510 of the masks 1000 and 1000A.
  • the deformable member may include a material whose shape is changed by external pressure.
  • the deformable member may include a material such as an air gap or a sponge, but is not limited thereto, and may include various materials whose shape is changed by external pressure. Accordingly, when the user wears the skin care device 1, the deformable member may be deformed into a shape corresponding to the shape of the user's face. Accordingly, the masks 1000 and 1000A can be effectively brought into close contact with the user's skin. In addition, when a plurality of users wear the skin care device 1, it is deformed to correspond to each face shape, so that the user's skin and the masks 1000 and 1000A can be effectively in close contact with each other.

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Abstract

실시예에 따른 마스크는 제 1 기재, 상기 제 1 기재 상에 배치되는 제 1 배선, 상기 제 1 배선 상에 배치되는 복수의 압전소자, 상기 압전소자 상에 배치되는 제 2 배선, 상기 제 2 배선 상에 배치되는 제 2 기재, 상기 제 1 기재 상에 배치되며 상기 제 1 배선과 전기적으로 절연된 제 3 배선 및 제 1 및 제 2 기재 사이에 배치되며 상기 제 3 배선 상에 배치되는 복수의 발광소자를 포함하고, 상기 복수의 발광소자는 상기 복수의 압전소자들의 사이 영역과 수직 방향으로 중첩되는 영역 상에 배치된다.

Description

마스크 및 이를 포함하는 피부 관리 기기
실시예는 마스크 및 피부 관리 기기에 관한 것이다.
인간의 피부는 환경오염, 자외선, 스트레스 등의 외적 요인에 따라 오염되거나 다칠 수 있고, 노화 및 호르몬 변화 등의 내적 요인에 의해 주름이 생길 수 있다. 최근 피부에 대한 관심이 높아지면서 피부 치료, 미용 및 안티에이징에 대한 다양한 기기가 개발되고 있다. 자세하게, 피부에 열에너지를 인가할 수 있는 기기, 예컨대 적외선 에너지를 인가하여 피부의 탄력을 개선할 수 있는 기기가 개발되고 있다. 또한, 피부에 화장품 또는 약물을 효과적으로 주입하기 위해 위해 음파 또는 광선을 이용한 기기가 개발되고 있다. 예를 들어, 소노포레시스(sonophoresis) 및 레이저폴레션(iaserporation)를 이용하여 피부에 화장품 또는 약물이 주입되는 경로를 형성할 수 있는 기기가 개발되고 있다. 또한, 피부에 전기적 추진력을 이용하여 화장품 또는 약물을 효과적으로 주입할 수 있는 기기가 개발되고 있다. 예를 들어, 이온토포레시스(iontophoresis), 일렉트로포레이션(electroporation), 일렉트로오스모시스(electroosmosis) 등의 전기적 추진력을 이용하여 화장품 또는 약물에 포함된 이온성 물질을 피부 내부에 효과적으로 주입할 수 있는 기기가 개발되고 있다. 즉, 피부에 광에너지, 미세 전류, 진동 등을 제공하여 사용자의 피부를 케어 또는 치료할 수 있는 다양한 기기가 개발되고 있다.
일반적으로 상술한 기기들은 피부에 탈부착 가능한 패치(patch) 형태로 제공될 수 있고, 특정 피부 영역에 부착되어 부착된 영역의 피부를 케어 또는 치료한다. 또한, 상술한 기기들은 피부와 접촉부를 포함하는 스틱 형태로 제공될 수 있고, 사용자가 상기 기기를 파지한 상태로 케어 또는 치료가 필요한 피부 영역을 움직이며 동작한다. 이때, 상기 기기들은 양 볼, 코 등과 같이 굴곡진 피부 표면과 효과적으로 밀착하기 어려운 문제점이 있다. 또한, 상기 접촉부의 크기가 제한적이기 때문에 피부 전체 영역을 동시에 케어 또는 치료하기 어려운 문제점이 있고, 전체 영역을 고르게 케어하기 어려운 문제점이 있다. 또한, 사용자가 광 에너지, 미세 전류, 진동 등의 기능을 이용 시, 상기 기능에 따라 기기를 변경해야 하는 불편함이 있다.
또한, 상기 기기들은 양 볼, 코 등과 같이 굴곡진 피부 표면과 효과적으로 밀착하기 어려운 문제점이 있다. 자세하게, 상기 기기의 재질, 가변 특성 등에 의해 사용자의 피부와 효과적으로 밀착하기 어려울 수 있다. 이에 따라, 상기 기기는 사용자의 피부와 완전히 밀착하기 않은 상태에서 동작할 수 있고, 동작하는 과정에 사용자의 움직임, 기기의 진동에 의해 사용자의 피부와 이격될 수 있다.
이때, 사용자는 상기 기기와 피부 사이의 밀착 여부를 확인하기 어려운 문제점이 있으며, 이로 인해 상기 기기를 통한 케어 효과를 효과적으로 얻기 어려운 문제점이 있다.
따라서, 상술한 문제점을 해결할 수 있는 새로운 마스크가 요구된다.
실시예는 가변성을 가지고 향상된 신뢰성을 가지는 마스크를 제공하고자 한다.
또한, 실시예는 사용자의 피부에 광 에너지, 진동 및 미세 전류를 균일하게 제공할 수 있는 마스크를 제공하고자 한다.
또한, 실시예는 하나의 기기를 이용하여 사용자의 피부에 광 에너지, 진동 및 미세전류를 선택적으로 제공할 수 있는 마스크를 제공하고자 한다.
또한, 실시예는 사용자의 피부와 효과적으로 밀착할 수 있는 마스크를 제공하고자 한다.
또한, 실시예는 사용자의 피부에 균일한 진동을 제공할 수 있는 마스크를 제공하고자 한다.
또한, 실시예는 사용자의 피부와 밀착 여부를 확인할 수 있는 마스크를 제공하고자 한다.
실시예에 따른 마스크는 제 1 기재, 상기 제 1 기재 상에 배치되는 제 1 배선, 상기 제 1 배선 상에 배치되는 복수의 압전소자, 상기 압전소자 상에 배치되는 제 2 배선, 상기 제 2 배선 상에 배치되는 제 2 기재, 상기 제 1 기재 상에 배치되며 상기 제 1 배선과 전기적으로 절연된 제 3 배선 및 제 1 및 제 2 기재 사이에 배치되며 상기 제 3 배선 상에 배치되는 복수의 발광소자를 포함하고, 상기 복수의 발광소자는 상기 복수의 압전소자들의 사이 영역과 수직 방향으로 중첩되는 영역 상에 배치된다.
또한, 실시예에 따른 피부 관리 기기는 일측이 오픈되고 상기 오픈된 영역 내부에 수용 공간을 포함하는 본체 및 상기 오픈 영역 내에 배치되며 상기 본체와 연결되는 상술한 마스크를 포함한다.
실시예에 따른 마스크는 가변성 재질을 가지는 기재, 제 1 베이스층, 제 2 베이스층 등에 의해 사용자의 굴곡진 피부 형태에 따라 가변될 수 있다. 이에 따라, 상기 마스크는 사용자의 피부와 효과적으로 밀착할 수 있다.
또한, 실시예에 따른 마스크는 서로 이격되는 복수의 압전소자를 포함할 수 있고, 상기 압전소자는 피부의 굴곡진 형태에 따라 서로 상이한 간격으로 배치될 수 있다. 이에 따라, 상기 마스크를 사용하는 사용자의 피부 전체에 균일한 세기의 진동을 제공할 수 있다.
또한, 실시예에 따른 마스크는 사용자의 피부에 광 에너지를 제공하는 발광소자를 포함할 수 있다. 이때, 상기 발광소자는 상기 압전소자와 중첩되지 않는 영역에 배치되어 압전소자에 의해 광 에너지가 손실되는 것을 방지할 수 있다.
또한, 실시예에 따른 마스크는 상기 압전소자 및 상기 발광소자 상에 배치되는 전극층을 포함할 수 있다. 상기 전극층은 사용자의 피부의 전기적 환경을 변화시켜 화장품 또는 약물을 효과적으로 주입할 수 있다. 또한, 상기 전극층 상기 압전소자 및 상기 발광소자 상에서 약 550㎛ 이하의 선폭 및 약 350㎛ 이하의 두께로 형성되어 상기 압전소자, 상기 발광소자와의 간섭을 최소화할 수 있고, 상기 전극층에 의해 상기 압전소자의 진동 및 상기 발광소자의 광이 손실되는 것을 방지할 수 있다.
또한, 실시예에 따른 마스크는 상기 발광소자, 상기 압전소자 및 상기 전극층이 동시에 동작할 수 있다. 즉, 사용자는 하나의 마스크를 이용하여 진동, 이온토포레시스, 적외선 등의 기능을 한번에 제공받을 수 있다.
또한, 실시예에 따른 마스크는 상기 마스크의 전체 영역에 배치되는 복수의 압전소자를 포함하며, 상기 압전소자는 상기 마스크의 전체 영역에 진동을 발생할 수 있다. 또한, 상기 복수의 압전소자는 피부의 굴곡진 형태에 따라 서로 상이한 간격으로 배치될 수 있다. 이에 따라, 상기 마스크를 사용하는 사용자의 피부 전체에 균일한 세기의 진동을 제공할 수 있다.
또한, 실시예에 따른 마스크는 감지부를 포함할 수 있고, 상기 감지부에 의해 마스크와 피부 사이의 밀착 여부를 감지할 수 있다. 자세하게, 상기 마스크는 상기 감지부와 연결되는 제어부를 포함하고, 상기 제어부는 상기 감지부를 통해 감지되는 정전 용량 값의 변화를 바탕으로 상기 마스크와 피부의 밀착 여부를 감지할 수 있다. 이에 따라, 실시예에 따른 마스크는 피부와의 이격 여부에 대한 정보를 사용자에게 제공할 수 있고, 사용자는 이에 대한 정보를 바탕으로 피부를 효과적으로 케어할 수 있다.
도 1은 제 1 실시예에 따른 마스크의 정면도이다.
도 2는 도 1의 A1 영역의 분해 사시도이다.
도 3은 도 1의 A1 영역의 상면도이다.
도 4는 도 3에서 제 3 전극을 생략한 상면도이다.
도 5는 도 3의 A-A' 단면을 도시한 단면도이다.
도 6는 도 5의 A2 영역의 확대도이다.
도 7은 도 1의 A1 영역의 다른 분해 사시도이다.
도 8은 도 7의 마스크의 단면도이다.
도 9은 도 7의 마스크의 다른 단면도이다.
도 10은 제 2 실시예에 따른 마스크의 정면도이다.
도 11은 도 10의 A3 영역의 분해 사시도이다.
도 12는 도 10의 A3 영역의 상면도이다.
도 13는 도 10의 A3 영역의 다른 상면도이다.
도 14는 도 10의 B-B' 단면을 도시한 단면도이다.
도 15은 도 14의 A4 영역의 확대도이다.
도 16 및 도 17은 제 2 실시예에 따른 마스크와 피부의 접촉 여부에 따른 감지부의 정전 용량 변화를 표현한 도면이다.
도 18은 제 2 실시예에 따른 마스크가 복수의 감지부를 포함하는 것을 도시한 도면이다.
도 19는 실시예에 따른 마스크에 인디케이터가 배치된 예를 도시한 도면이다.
도 20 및 도 21은 실시예에 따른 마스크에 돌기가 배치된 예를 도시한 도면이다.
도 22는 실시예에 따른 마스크를 착용한 사용자를 도시한 도면이다.
도 23은 실시예에 따른 마스크가 적용된 피부 관리 기기를 도시한 도면이다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명한다.
다만, 본 발명의 기술 사상은 설명되는 일부 실시 예에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있고, 본 발명의 기술 사상 범위 내에서라면, 실시 예들간 그 구성 요소들 중 하나 이상을 선택적으로 결합, 치환하여 사용할 수 있다.
또한, 본 발명의 실시예에서 사용되는 용어(기술 및 과학적 용어를 포함)는, 명백하게 특별히 정의되어 기술되지 않는 한, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 일반적으로 이해될 수 있는 의미로 해석될 수 있으며, 사전에 정의된 용어와 같이 일반적으로 사용되는 용어들은 관련 기술의 문맥상의 의미를 고려하여 그 의미를 해석할 수 있을 것이다.
또한, 본 발명의 실시예에서 사용된 용어는 실시예들을 설명하기 위한 것이며 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다. 본 명세서에서, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 복수형도 포함할 수 있고, "A 및(와) B, C중 적어도 하나(또는 한 개 이상)"로 기재되는 경우 A, B, C로 조합할 수 있는 모든 조합 중 하나 이상을 포함할 수 있다.
또한, 본 발명의 실시 예의 구성 요소를 설명하는 데 있어서, 제1, 제2, A, B, (a), (b) 등의 용어를 사용할 수 있다. 이러한 용어는 그 구성 요소를 다른 구성 요소와 구별하기 위한 것일 뿐, 그 용어에 의해 해당 구성 요소의 본질이나 차례 또는 순서 등으로 한정되지 않는다. 그리고, 어떤 구성 요소가 다른 구성요소에 '연결', '결합' 또는 '접속'된다고 기재된 경우, 그 구성 요소는 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결, 결합 또는 접속되는 경우뿐만 아니라, 그 구성 요소와 그 다른 구성요소 사이에 있는 또 다른 구성 요소로 인해 '연결', '결합' 또는 '접속＇되는 경우도 포함할 수 있다.
또한, 각 구성 요소의 " 상(위) 또는 하(아래)"에 형성 또는 배치되는 것으로 기재되는 경우, 상(위) 또는 하(아래)는 두 개의 구성 요소들이 서로 직접 접촉되는 경우뿐만 아니라 하나 이상의 또 다른 구성 요소가 두 개의 구성 요소들 사이에 형성 또는 배치되는 경우도 포함한다. 또한 "상(위) 또는 하(아래)"으로 표현되는 경우 하나의 구성 요소를 기준으로 위쪽 방향뿐만 아니라 아래쪽 방향의 의미도 포함할 수 있다.
또한, 발명의 실시예에 대한 설명을 하기 앞서 제 1 방향은 도면에 도시된 x축 방향을 의미할 수 있고, 제 2 방향은 상기 제 1 방향과 다른 방향일 수 있다. 일례로, 상기 제 2 방향은 상기 제 1 방향과 수직인 방향으로 도면에 도시된 y축 방향을 의미할 수 있다. 또한, 수평 방향은 제 1 및 제 2 방향을 의미할 수 있고, 수직 방향은 상기 제 1 및 제 2 방향 중 적어도 한 방향과 수직인 방향을 의미할 수 있다. 예를 들어, 상기 수평 방향은 도면의 x축 및 y축 방향을 의미할 수 있고, 수직 방향은 도면의 z축 방향으로 상기 x축 및 y축 방향과 수직인 방향일 수 있다.
<제 1 실시예>
도 1은 제 1 실시예에 따른 마스크의 정면도이고, 도 2는 도 1의 A1 영역의 분해 사시도이다. 또한, 도 3은 실시예에 따른 마스크에서 A1 영역의 상면도이고, 도 4는 도 3에서 제 3 전극을 생략한 상면도이다. 또한, 도 5는 도 3의 A-A' 단면을 도시한 단면도이고, 도 6는 도 5의 A2 영역의 확대도이다.
도 1 내지 도 6을 참조하면, 실시예에 따른 마스크(1000)는 사용자의 얼굴을 커버할 수 있는 소정의 크기로 제공되며 사용자의 얼굴과 밀착하기 위해 소정의 탄성을 가질 수 있다. 상기 마스크(1000)는 사용자의 피부와 접촉하는 일면 및 상기 일면과 반대되는 타면을 포함하며, 상기 마스크(1000)의 일면은 인체에 무해한 재질로 제공되어 사용자의 피부와 장시간 접촉하여도 무해할 수 있다.
상기 마스크(1000)는 개구부(1010) 및 절단부(1020) 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 자세하게, 상기 개구부(1010)는 사용자의 눈, 입 등과 대응되는 부위에 형성될 수 있다. 상기 개구부(1010)는 상기 마스크(1000)의 일면 및 타면을 관통하는 영역으로 사용자가 상기 마스크(1000)를 착용할 경우 사용자의 눈, 입 등은 상기 개구부(1010)에 삽입될 수 있고, 상기 개구부(1010)를 제외한 영역은 사용자의 얼굴과 밀착할 수 있다. 또한, 상기 절단부(1020)는 상기 마스크(1000)와 피부와의 밀착력을 향상시키기 위해 상대적으로 굴곡진 양쪽 볼 라인, 턱 등과 대응되는 부위에 형성될 수 있다. 상기 절단부(1020)는 상기 마스크(1000)의 일면 및 타면이 부분적으로 절단된 형태를 가질 수 있다.
실시예에 따른 마스크(1000) 중 상기 개구부(1010)를 제외한 영역은 제 1 기재(110), 제 1 배선(210), 압전소자(300), 제 2 배선(220), 제 2 기재(120), 발광소자(400) 및 전극층(600)을 포함할 수 있다.
상기 제 1 기재(110)는 투명하며 수분 차단성, 열적 안정성 등을 고려한 재질을 포함할 수 있다. 또한, 상기 제 1 기재(110)는 유연성을 가지며 굴곡진 사용자의 피부 형상에 따라 가변되는 재질을 포함할 수 있다. 일례로, 상기 제 1 기재(110)는 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN), 및 폴리이미드(PI) 등의 수지 재질을 포함할 수 있다. 상기 제 1 기재(110)는 필름 형태로 제공될 수 있다.
상기 제 1 기재(110)는 약 0.5㎛ 내지 약 5㎛ 이하의 두께를 가질 수 있다. 상기 제 1 기재(110)의 두께가 약 0.5㎛ 미만인 경우, 상기 제 1 기재(110) 상에 배치되는 구성들, 예컨대, 압전소자(300) 등의 무게에 의해 상기 구성들과 중첩되는 상기 제 1 기재(110)의 영역이 쳐지는 문제점이 발생할 수 있다. 이에 따라, 상기 제 1 기재(110)의 신뢰성이 저하될 수 있고, 상기 제 1 기재(110) 상에 배치되는 구성들의 얼라인(align) 문제가 발생할 수 있다. 또한, 상기 제 1 기재(110)의 두께가 약 5㎛를 초과하는 경우, 상기 마스크(1000)의 전체 두께가 증가될 수 있다. 이에 따라, 상기 마스크(1000)가 사용자의 피부 형상에 따라 효율적으로 가변하지 못하여 사용자의 피부와 효과적으로 밀착하지 못하는 문제점이 있다. 바람직하게, 상기 제 1 기재(110)는 약 0.5㎛ 내지 약 3㎛의 두께를 가질 수 있다. 상기 제 1 기재(110)의 두께가 상술한 범위를 만족할 경우, 신뢰성 및 얼라인 특성을 유지하며 사용자의 피부와 대응되는 형태로 효율적으로 가변할 수 있고, 상기 마스크(1000)의 전체 두께 및 무게가 감소할 수 있다.
상기 제 1 기재(110) 상에는 제 1 배선(210)이 배치될 수 있다. 상기 제 1 배선(210)은 전도성 재질을 포함할 수 있다. 일례로, 상기 제 1 배선(210)은 알루미늄(Al), 구리(Cu), 은(Ag), 금(Au), 크롬(Cr), 니켈(Ni), 몰리므덴(Mo), 티타늄(Ti) 및 이들의 합금 중 적어도 하나의 금속을 포함할 수 있다. 또한, 상기 제 1 배선(210)은 카본(carbon) 등과 같은 비금속을 포함할 수 있다.
상기 제 1 배선(210)은 사용자의 피부와 마주하는 상기 제 1 기재(110)의 일면 상에 배치될 수 있다. 상기 제 1 배선(210)은 상기 제 1 기재(110)의 일면과 직접 접촉하며 제 1 방향으로 연장할 수 있다. 상기 제 1 배선(210)은 상기 제 1 기재(110)의 일면 상에 증착, 인쇄 등의 공정으로 형성될 수 있다.
상기 제 1 배선(210)은 상기 제 1 기재(110) 상에 배치되는 복수의 제 1 서브 배선(211)들을 포함할 수 있다. 상기 복수의 제 1 서브 배선(211)들은 제 1 방향으로 연장하며 상기 제 1 방향과 다른 제 2 방향으로 서로 이격하여 배치될 수 있다. 상기 복수의 제 1 서브 배선(211)들은 서로 전기적으로 연결될 수 있다. 여기서 제 2 방향은 상기 제 1 방향과 다른 방향이며 일례로 수직인 방향일 수 있으나 이에 대해 제한하지 않는다.
상기 제 1 서브 배선(211)의 두께는 약 2㎛ 내지 약 50㎛ 일 수 있다. 자세하게, 상기 제 1 서브 배선(211)의 두께는 약 2㎛ 내지 약 40㎛일 수 있다. 상기 제 1 서브 배선(211)의 두께가 약 2㎛ 미만인 경우 전기적 특성이 저하될 수 있고, 균일하게 형성하기 어려울 수 있다. 또한, 상기 제 1 서브 배선(211)의 두께가 약 50㎛를 초과할 경우 상기 마스크(1000)의 전체 두께가 증가할 수 있고, 상기 제 1 배선(210)의 제조 시간이 증가할 수 있다. 또한, 상기 제 1 서브 배선(211)의 두께가 너무 두꺼워 스트레쳐블 특성이 저하될 수 있다. 바람직하게, 상기 제 1 서브 배선(211)의 두께는 수평 방향으로의 스트레쳐블 특성, 신뢰성 및 공정 효율을 고려하여 약 5㎛ 내지 약 35㎛ 이하일 수 있다.
또한, 상기 제 1 서브 배선(211)의 선폭은 상기 제 1 서브 배선(211)의 두께보다 클 수 있다. 예를 들어, 상기 제 1 서브 배선(211)의 선폭은 약 50㎛ 내지 약 500㎛일 수 있다. 자세하게, 상기 제 1 서브 배선(211)의 선폭은 약 100㎛ 내지 약 450㎛일 수 있다. 상기 제 1 서브 배선(211)의 선폭이 약 50㎛ 미만인 경우 신뢰성에 저하될 수 있고, 상기 제 1 서브 배선(211)의 선폭이 약 500㎛를 초과할 경우 연신율이 저하되어 스트레쳐블 특성이 저하될 수 있다. 바람직하게 상기 제 1 서브 배선(211)의 선폭은 스트레쳐블 특성을 고려하여 약 100㎛ 내지 약 400㎛일 수 있다.
상기 제 1 배선(210)은 다양한 형상을 가질 수 있다. 예를 들어, 평면에서 보았을 때 상기 복수의 제 1 서브 배선(211)들 각각은 상기 제 1 방향으로 연장하는 직선 형태를 가질 수 있다. 이와 다르게, 평면에서 보았을 때 상기 복수의 제 1 서브 배선(211)들 각각은 상기 제 1 방향으로 연장하는 곡선 형태를 가질 수 있다. 예를 들어, 상기 복수의 제 1 서브 배선(211)들 각각은 구불거리는 패턴이 반복되는 형태로 제공될 수 있다. 이때, 상기 제 1 서브 배선(211)은 약 3R 내지 약 20R(mm)의 곡률 패턴을 가질 수 있다. 이에 따라, 상기 마스크(1000)가 일 방향으로 연신되거나 수축할 경우, 상기 제 1 배선(210)은 스트레쳐블(stretchable) 특성을 가지며 끊어지지 않을 수 있다. 바람직하게, 상기 제 1 서브 배선(211)은 약 5R 내지 약 15R(mm)의 곡률 패턴을 가질 수 있다. 이에 따라, 상기 제 1 배선(210)은 보다 향상된 스트레쳐블 특성을 가질 수 있어 신뢰성을 향상시킬 수 있다. 또한, 상기 제 1 배선(210)은 약 10% 내지 약 50%의 연신율을 가질 수 있다. 이와 또 다르게, 평면에서 보았을 때, 상기 복수의 제 1 서브 배선(211)들 각각은 상기 제 1 방향으로 연장하는 직선 및 곡선이 혼재된 패턴이 반복되는 형태를 가질 수 있다. 예를 들어, 평면에서 보았을 때, 사용자의 얼굴 중 상대적으로 굴곡진 영역과 중첩되는 영역에 위치한 상기 제 1 서브 배선(211)은 곡선 형태로 제공될 수 있고, 상대적으로 평면인 영역과 중첩되는 영역에 위치한 상기 제 1 서브 배선(211)은 직선 형태로 제공될 수 있다. 이에 따라, 상기 마스크(1000)를 사용자의 얼굴에 부착할 경우, 상기 마스크(1000)의 변형에 의해 상기 제 1 배선(210)이 파손되는 문제를 해결할 수 있다. 또한, 상기 제 1 서브 배선(211)은 직선 및 곡선이 교대로 배치되는 형태로 제공되어 상기 제 1 기재(110) 상에 배치된 상기 제 1 배선(210)의 양을 감소시킬 수 있고, 스트레쳐블 특성을 향상시킬 수 있다.
상기 제 1 기재(110) 상에는 압전소자(300)가 배치될 수 있다. 자세하게, 상기 압전소자(300)는 상기 제 1 배선(210) 상에 배치되어 상기 제 1 배선(210)과 전기적으로 연결될 수 있다. 상기 압전소자(300)는 세라믹 재질을 포함할 수 있다. 일례로, 상기 압전소자(300)는 ZnO, AlN, LiNbO4, 납 안티몬 주석산염(lead antimony stannate), 납 마그네슘 탄탈산염(lead magnesium tantalate), 납 니켈 탄탈산염(lead nickel tantalate), 티탄산염(titanates), 텅스텐산염(tungstates), 지르콘산염(zirconates), 또는 납 지르콘산염 티탄산염[Pb(ZrxTi1-x)O3(PZT)], 납 란탄 지르콘산염 티탄산염(PLZT), 납 니오브 지르콘산염 티탄산염(PNZT), BaTiO3, SrTiO3, 납 마그네슘 니오브산염, 납 니켈 니오브산염, 납 망간 니오브산염, 납 아연 니오브산염, 납 티탄산염을 포함하는 납, 바륨, 비스무스, 또는 스트론튬의 니오브산염(niobates) 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.
상기 압전소자(300)는 상기 제 1 배선(210) 상에 복수개가 배치될 수 있다. 자세하게, 복수의 압전소자(300)는 상기 제 1 서브 배선(211) 상에서 서로 이격되어 배치될 수 있다. 예를 들어, 하나의 제 1 서브 배선(211) 상에는 복수개의 압전소자(300)가 배치될 수 있고, 상기 복수의 압전소자(300)는 상기 제 1 서브 배선(211) 상에서 등간격으로 이격될 수 있다. 또한, 하나의 제 1 서브 배선(211) 상에 배치된 압전소자(300)는 최인접한 제 1 서브 배선(211) 상에 배치된 압전소자(300)와 제 2 방향으로 중첩되거나 중첩되지 않을 수 있다. 또한, 일부 압전소자(300) 사이의 간격은 등간격으로 배치될 수 있고, 나머지 압전소자(300)는 등간격으로 배치되지 않을 수 있다. 예를 들어, 사용자의 얼굴 표면 중 상대적으로 평평한 영역과 중첩되는 영역에서는 상기 압전소자(300) 사이의 간격이 등간격으로 배치될 수 있다. 그러나, 상대적으로 굴곡진 피부 영역과 중첩되는 영역에서는 상기 압전소자(300) 사이의 간격이 등간격으로 배치되지 않을 수 있다. 즉, 피부 표면의 굴곡진 정도에 따라 상기 압전소자(300) 사이의 간격이 상대적으로 좁거나 클 수 있다. 이에 따라, 실시예에 따른 마스크(1000)는 굴곡진 피부에도 효과적으로 진동을 제공할 수 있다. 또한, 상기 압전소자(300)는 상기 마스크(1000)의 전체 영역 상에 소정의 간격으로 배치될 수 있고, 상기 마스크(1000)의 전체 영역에 진동을 고르게 발생할 수 있다.
상기 압전소자(300)는 상기 제 1 서브 배선(211)과 중첩될 수 있다. 자세하게, 상기 압전소자(300)의 하면은 상기 제 1 서브 배선(211)과 수직 방향으로 중첩될 수 있다.
상기 압전소자(300)는 인가된 전류에 의해 진동을 발생할 수 있다. 예를 들어, 상기 압전소자(300)는 인가된 전류에 의해 초음파 진동을 발생할 수 있다. 자세하게, 상기 압전소자(300)는 약 1MHz 이하의 초음파 진동을 발생할 수 있다. 더 자세하게, 상기 압전소자(300)는 약 10KHz 내지 약 1MHz의 초음파 진동을 발생할 수 있다. 더 자세하게, 상기 압전소자(300)는 약 100KHz 내지 약 800KHz의 초음파 진동을 발생할 수 있다. 상기 압전소자(300)에서 발생한 초음파 진동은 상기 마스크(1000)의 일면 방향으로 진동하여 사용자의 피부에 전달되며 사용자의 피부를 마사지할 수 있다.
상기 압전소자(300)의 두께는 약 1500㎛ 이하일 수 있다. 자세하게, 상기 압전소자(300)의 두께는 약 1200㎛ 이하일 수 있다. 바람직하게 상기 압전소자(300)의 두께는 약 1000㎛ 이하일 수 있다. 상기 압전소자(300)의 두께는 상기 마스크(1000)의 전체 두께 및 가변 특성을 고려하여 상술한 범위를 만족하는 것이 바람직하다.
상기 압전소자(300)는 다양한 형상을 가질 수 있다. 예를 들어, 상기 압전소자(300)는 하면 및 상면이 다각형인 다각 기둥 형상을 가질 수 있고, 하면 및 상면이 원인 원 기둥 형상을 가질 수 있다. 또한, 상기 압전소자(400)는 하면 및 상면 중 하나의 면이 다각형이고 나머지 면이 원인 기둥 형상을 가질 수 있다. 일례로, 상기 압전소자(300)의 하면 및 상면 중 적어도 하나의 면적은 약 100mm2 이하일 수 있다.
상술한 바와 같이 상기 압전소자(300)는 다양한 기둥 형상을 가질 수 있고, 상기 기둥 형상에 따라 발생하는 초음파 진동의 강도, 진동의 발진 방향 등을 제어할 수 있다. 또한, 상기 압전소자(300)의 크기, 배치 간격, 배치 밀도 등에 따라 사용자의 피부에 전달하는 진동의 강도를 조절할 수 있다.
상기 압전소자(300)는 다양한 파동을 발생할 수 있다. 일례로, 상기 압전소자(300)는 파동이 나아가는 방향과 매질의 진동 방향이 수직인 횡파 및 파동이 나아가는 방향과 매질의 진동 방향이 같은 종파 중 적어도 하나의 파동을 발생할 수 있다. 또한, 상기 압전소자(300)는 다중 공진할 수 있다. 예를 들어, 상기 압전소자(300)는 적어도 하나의 비아홀을 포함할 수 있고, 형성된 상기 비아홀에 의해 다중 공진할 수 있다. 이때, 상기 비아홀의 상부 면적은 다중 공진을 위해 상기 압전소자(300)의 상면 면적의 약 10% 내지 약 45%일 수 있다. 또한, 상기 압전소자(300)가 상기 비아홀에 의해 다중 공진할 경우, 다중 공진 주파수 영역의 수는 상기 비아홀의 개수와 대응될 수 있다. 즉, 상기 압전소자(300)는 설정된 비아홀의 개수 범위에서 상기 비아홀의 개수가 많을수록 다양한 주파수 영역의 파장을 방출할 수 있다.
상기 압전소자(300) 상에는 제 2 기재(120)가 배치될 수 있다. 상기 제 2 기재(120)는 투명하며 수분 차단성, 열적 안정성 등을 고려한 재질을 포함할 수 있다. 또한, 상기 제 2 기재(120)는 유연성을 가지며 굴곡진 사용자의 피부 형상에 따라 가변되는 재질을 포함할 수 있다. 일례로, 상기 제 2 기재(120)는 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리에틸렌나트팔레이트(PEN), 및 폴리이미드(PI) 등의 수지 재질을 포함할 수 있다. 상기 제 2 기재(120)는 필름 형태로 제공될 수 있다. 상기 제 2 기재(120)는 상기 제 1 기재(110)와 동일한 재질로 제공될 수 있고, 동일한 형태를 가질 수 있다.
상기 제 2 기재(120)는 약 0.5㎛ 내지 약 5㎛의 두께를 가질 수 있다. 상기 제 2 기재(120)의 두께가 약 0.5㎛ 미만인 경우, 상기 제 2 기재(120) 상에 배치되는 구성들, 예컨대, 압전소자(300) 등의 무게에 의해 상기 구성들과 중첩되는 상기 제 2 기재(120)의 영역이 쳐지는 문제점이 발생할 수 있다. 이에 따라, 상기 제 2 기재(120)의 신뢰성이 저하될 수 있고, 상기 제 2 기재(120) 상에 배치되는 구성들의 얼라인(align) 문제가 발생할 수 있다. 또한, 상기 제 2 기재(120)의 두께가 약 5㎛를 초과하는 경우, 상기 마스크(1000)의 전체 두께가 증가될 수 있다. 이에 따라, 상기 마스크(1000)가 사용자의 피부 형상에 따라 효율적으로 가변하지 못하여 사용자의 피부와 효과적으로 밀착하지 못하는 문제점이 있다. 바람직하게, 상기 제 2 기재(120)는 약 0.5㎛ 내지 약 3㎛의 두께를 가질 수 있다. 상기 제 2 기재(120)의 두께가 상술한 범위를 만족할 경우, 신뢰성 및 얼라인 특성을 유지하며 사용자의 피부와 대응되는 형태로 효율적으로 가변할 수 있고, 상기 마스크(1000)의 전체 두께 및 무게가 감소할 수 있다. 상기 제 2 기재(120)는 상기 제 1 기재(110)와 동일한 두께를 가질 수 있다.
상기 제 2 기재(120) 상에는 제 2 배선(220)이 배치될 수 있다. 상기 제 2 배선(220)은 전도성 재질을 포함할 수 있다. 일례로, 상기 제 2 배선(220)은 알루미늄(Al), 구리(Cu), 은(Ag), 금(Au), 크롬(Cr), 니켈(Ni), 몰리므덴(Mo), 티타늄(Ti) 및 이들의 합금 중 적어도 하나의 금속을 포함할 수 있다. 또한, 상기 제 2 배선(220)은 카본(carbon) 등과 같은 비금속을 포함할 수 있다. 상기 제 2 배선(220)은 상기 제 1 배선(210)과 동일한 재질을 포함할 수 있다.
상기 제 2 배선(220)은 상기 압전소자(300)와 마주하는 상기 제 2 기재(120)의 일면 상에 배치될 수 있다. 즉, 상기 제 2 배선(220)은 사용자의 피부와 마주하는 상기 제 2 기재(120)의 타면과 반대되는 일면 상에 배치될 수 있다. 상기 제 2 배선(220)은 상기 제 2 기재(120)의 일면과 직접 접촉하며 상기 제 1 배선(210)과 다른 방향으로 연장할 수 있다. 예를 들어, 상기 제 2 배선(220)은 상기 제 1 배선(210)이 연장하는 상기 제 1 방향과 수직인 제 2 방향으로 연장할 수 있다. 상기 제 2 배선(220)은 상기 제 2 기재(120)의 일면 상에 증착, 인쇄 등의 공정으로 형성될 수 있다.
상기 제 2 배선(220)은 상기 제 2 기재(120) 상에 배치되는 복수의 제 2 서브 배선(221)들을 포함할 수 있다. 상기 복수의 제 2 서브 배선(221)들은 상기 제 2 방향으로 연장하며 상기 제 1 방향으로 서로 이격하여 배치될 수 있다. 상기 복수의 제 2 서브 배선(221)들은 서로 전기적으로 연결될 수 있다.
상기 제 2 서브 배선(221)은 상기 압전소자(300)와 중첩될 수 있다. 자세하게, 상기 제 2 서브 배선(221)은 상기 압전소자(300)의 상면과 수직 방향으로 중첩될 수 있다.
상기 제 1 배선(210) 및 상기 제 2 배선(220)은 서로 교차하며 배치될 수 있다. 자세하게, 평면에서 보았을 때 상기 제 1 서브 배선(211) 및 상기 제 2 서브 배선(221)은 메쉬(mesh) 형상으로 서로 교차하며 배치될 수 있고, 상기 서브 배선들(211, 221) 사이에는 상기 전극들(210, 220)이 배치되지 않은 오픈 영역(OA)이 형성될 수 있다.
상기 제 2 서브 배선(221)의 두께는 약 2㎛ 내지 약 50㎛일 수 있다. 자세하게, 상기 제 2 서브 배선(221)의 두께는 약 2㎛ 내지 약 40㎛일 수 있다. 상기 제 2 서브 배선(221)의 두께가 약 2㎛ 미만인 경우 전기적 특성이 저하될 수 있고, 균일하게 형성하기 어려울 수 있다. 또한, 상기 제 2 서브 배선(221)의 두께가 약 50㎛를 초과할 경우 상기 마스크(1000)의 전체 두께가 증가할 수 있고, 상기 제 2 배선(220)의 제조 시간이 증가할 수 있다. 또한, 상기 제 2 서브 배선(221)의 두께가 너무 두꺼워 스트레쳐블 특성이 저하될 수 있다. 바람직하게, 상기 제 2 서브 배선(221)의 두께는 수평 방향으로의 스트레쳐블 특성, 신뢰성 및 공정 효율을 고려하여 약 30㎛ 이하일 수 있다. 상기 제 2 서브 배선(221)의 두께는 상기 제 1 서브 배선(211)의 두께와 동일하게 제공되어 공정 효율을 향상시킬 수 있다.
또한, 상기 제 2 서브 배선(221)의 선폭은 상기 제 2 서브 배선(221)의 두께보다 클 수 있다. 예를 들어, 상기 제 2 서브 배선(221)의 선폭은 약 50㎛ 내지 약 500㎛일 수 있다. 자세하게, 상기 제 2 서브 배선(221)의 선폭은 약 100㎛ 내지 약 450㎛일 수 있다. 상기 제 2 서브 배선(221)의 선폭이 약 50㎛ 미만인 경우 신뢰성에 저하될 수 있고, 상기 제 2 서브 배선(221)의 선폭이 약 500㎛를 초과할 경우 연신율이 저하되어 스트레쳐블 특성이 저하될 수 있다. 바람직하게 상기 제 2 서브 배선(221)의 선폭은 스트레쳐블 특성을 고려하여 약 100㎛ 내지 약 400㎛일 수 있다. 상기 제 2 서브 배선(221)의 선폭은 상기 제 1 서브 배선(211)의 선폭과 동일하게 제공되어 공정 효율을 향상시킬 수 있다.
상기 제 2 배선(220)은 다양한 형상을 가질 수 있다. 예를 들어, 평면에서 보았을 때 상기 복수의 제 2 서브 배선(221)들 각각은 상기 제2 방향으로 연장하는 직선 형태를 가질 수 있다. 이와 다르게, 평면에서 보았을 때 상기 복수의 제 2 서브 배선(221)들 각각은 상기 제 2 방향으로 연장하는 곡선 형태를 가질 수 있다. 예를 들어, 상기 복수의 제 2 서브 배선(221)들 각각은 구불거리는 패턴이 반복되는 형태로 제공될 수 있다. 이때, 상기 제 2 서브 배선(221)은 약 3R 내지 약 20R(mm)의 곡률 패턴을 가질 수 있다. 이에 따라, 상기 마스크(1000)가 일 방향으로 연신되거나 수축할 경우, 상기 제 2 배선(220)은 스트레쳐블(stretchable) 특성을 가지며 끊어지지 않을 수 있다. 바람직하게, 상기 제 2 서브 배선(221)은 약 5R 내지 약 15R(mm)의 곡률 패턴을 가질 수 있다. 이에 따라, 상기 제 2 배선(220)은 보다 향상된 스트레쳐블 특성을 가질 수 있어 신뢰성을 향상시킬 수 있다. 또한, 상기 제 2 배선(220)은 약 10% 내지 약 50%의 연신율을 가질 수 있다. 이와 또 다르게, 평면에서 보았을 때, 상기 복수의 제 2 서브 배선(221)들 각각은 상기 제 2 방향으로 연장하는 직선 및 곡선이 혼재된 패턴이 반복되는 형태를 가질 수 있다. 예를 들어, 평면에서 보았을 때, 사용자의 얼굴 중 상대적으로 굴곡진 영역과 중첩되는 영역에 위치한 상기 제 2 서브 배선(221)은 곡선 형태로 제공될 수 있고, 상대적으로 평면인 영역과 중첩되는 영역에 위치한 상기 제 2 서브 배선(221)은 직선 형태로 제공될 수 있다. 이에 따라, 상기 마스크(1000)를 사용자의 얼굴에 부착할 경우, 상기 마스크(1000)의 변형에 의해 상기 제 2 배선(220)이 파손되는 문제를 해결할 수 있다. 또한, 상기 제 2 서브 배선(221)은 직선 및 곡선이 교대로 배치되는 형태로 제공되어 상기 제 2 기재(120) 상에 배치된 상기 제 1 배선(210)의 양을 감소시킬 수 있고, 스트레쳐블 특성을 향상시킬 수 있다. 이때, 상기 제 2 배선(220)은 상기 마스크(1000)의 스트레쳐블 특성을 고려하여 상기 제 1 배선(210)과 동일한 형태를 가지는 것이 바람직하다. 동일한 영역에 배치된 상기 제 1 배선(210) 및 상기 제 2 배선(220)은 서로 동일한 형태를 가지는 것이 바람직하다.
또한, 도면에는 도시하지 않았으나, 상기 제 2 배선(220)은 상기 제 2 기재(120) 상에서 상기 제 1 배선(210)과 동일한 방향으로 연장할 수 있다. 즉, 상기 제 2 배선(220)은 상기 제 1 배선(210)과 동일한 제 1 방향으로 연장할 수 있다.
실시예에 따른 마스크(1000)는 제 1 베이스층(510)을 포함할 수 있다. 상기 제 1 베이스층(510)은 상기 제 1 기재(110)의 하부에 배치될 수 있다. 상기 제 1 베이스층(510)은 상기 제 1 기재(110)의 일면과 반대되는 타면 상에 배치될 수 있다. 상기 제 1 베이스층(510)은 상기 제 1 기재(110)의 타면과 직접 접촉하며 배치될 수 있다.
상기 제 1 베이스층(510)은 인체에 무해한 재질을 포함할 수 있다. 또한, 상기 제 1 베이스층(510)은 연질이면서 탄성을 가지는 재질을 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 제 1 베이스층(510)은 실리콘, 열가소성 수지, 열가소성 실리콘 수지, 열가소성 탄성중합체, 폴리우레탄 탄성중합체, 에틸렌 비닐아세테이트(EVA), 무해성 가소제 및 안정제가 첨가된 폴리염화비닐(PVC) 재질 중 적어도 하나의 재질을 포함할 수 있다. 바람직하게, 상기 제 1 베이스층(510)은 비교적 가볍고 사용자의 피부와 접촉 시 자극을 최소화할 수 있고 소정의 탄성을 가지는 실리콘 탄성중합체를 포함할 수 있다.
상기 제 1 베이스층(510)은 상기 제 1 기재(110)의 타면 전체 영역을 덮으며 배치될 수 있다. 즉, 평면에서 보았을 때 상기 제 1 베이스층(510)의 평면적은 상기 제 1 기재(110)의 타면 면적과 대응될 수 있다. 또한, 상기 제 1 베이스층(510)의 평면적은 상기 제 1 기재(110)의 타면 면적보다 클 수 있다. 이에 따라, 상기 제 1 베이스층(510)은 상기 제 1 기재(110)의 측면을 감싸며 배치될 수 있다. 상기 제 1 베이스층(510)은 상기 제 1 기재(110)의 타면이 외부에 노출되는 것을 방지할 수 있다. 또한, 상기 제 1 베이스층(510)은 상기 압전소자(300)에서 방출된 파장을 상기 마스크(1000)의 일면 방향으로 반사시킬 수 있다. 즉, 상기 제 1 베이스층(510)은 반사층일 수 있다. 이를 위해, 상기 제 1 베이스층(510)의 두께는 약 50㎛ 내지 약 1mm 일 수 있다. 상기 제 1 베이스층(510)의 두께가 약 50㎛ 미만인 경우, 상기 제 1 베이스층(510)의 두께가 상대적으로 얇아 상기 제 1 기재(110)를 효과적으로 보호할 수 없다. 또한, 상기 제 1 베이스층(510)의 두께가 약 1mm를 초과할 경우, 전체 마스크(1000)의 두께가 증가할 수 있고, 상기 압전소자(300)에서 상기 제 1 기재(110) 방향으로 방출된 파장의 대부분이 상기 제 1 베이스층(510)을 통과하여 상기 제 1 베이스층(510)에 반사되어 상기 마스크(1000)의 일면 방향으로 반사되는 양이 적을 수 있다. 또한, 상기 마스크(1000)의 일면 방향으로의 반사를 위해 후술할 제 2 베이스층(520)의 요구 두께가 증가할 수 있고, 반사를 위해 상기 압전소자(300)에서 발생하는 파장의 영역대가 높아 마스크(1000)에 사용하기 적절하지 않을 수 있다. 따라서, 상기 제 1 베이스층(510)의 두께는 상기와 같은 문제를 방지하기 위해 상술한 범위를 만족하는 것이 바람직하다. 보다 바람직하게, 상기 제 1 베이스층(510)의 두께는 약 100㎛ 내지 약 700㎛ 일 수 있다. 즉, 상기 제 1 베이스층(510)은 신뢰성, 반사 특성, 제조되는 마스크(1000)의 두께 및 무게 등을 고려하여 약 100㎛ 내지 약 700㎛의 두께 범위를 가지는 것이 바람직하다. 또한, 상기 제 1 베이스층(510)은 상기 압전소자(300)에서 발생하는 파장을 효과적으로 반사시키기 위해 내부에 기공 등이 형성될 수 있다. 또한, 상기 압전소자(300)와 마주하는 상기 제 1 베이스층(510)의 일면에는 상기 일면으로부터 상기 일면과 반대되는 타면 방향으로 오목한 적어도 하나의 홈을 포함할 수 있다. 상기 홈은 상기 압전소자(300)와 수직 방향으로 중첩되는 위치에 배치될 수 있고, 에어(air) 등이 충진되어 상기 압전소자(300)의 파장을 상부 방향, 예컨대 상기 제 2 기재 방향으로 반사시킬 수 있다.
실시예에 따른 마스크(1000)는 제 2 베이스층(520)을 포함할 수 있다. 상기 제 2 베이스층(520)는 상기 제 2 기재(120) 상에 배치될 수 있다. 상기 제 2 베이스층(520)은 상기 제 2 기재(120)의 일면과 반대되는 타면 상에 배치될 수 있다. 상기 제 2 베이스층(520)은 상기 제 2 기재(120)의 타면과 직접 접촉하며 배치될 수 있다.
상기 제 2 베이스층(520)은 사용자의 피부와 마주하며 상기 피부와 접할 수 있는 부분으로 인체에 무해한 재질을 포함할 수 있다. 또한, 상기 제 2 베이스층(520)은 연질이면서 탄성을 가지는 재질을 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 제 1 베이스층(510)은 실리콘, 열가소성 수지, 열가소성 실리콘 수지, 열가소성 탄성중합체, 폴리우레탄 탄성중합체, 에틸렌 비닐아세테이트(EVA), 무해성 가소제 및 안정제가 첨가된 폴리염화비닐(PVC) 재질 중 적어도 하나의 재질을 포함할 수 있다. 바람직하게, 상기 제 2 베이스층(520)은 비교적 가볍고 사용자의 피부와 접촉 시 자극을 최소화할 수 있고 소정의 탄성을 가지는 실리콘 탄성중합체를 포함할 수 있다. 즉, 상기 제 2 베이스층(520)은 상기 제 1 베이스층(510)과 동일한 재질로 제공될 수 있다.
상기 제 2 베이스층(520)은 상기 제 2 기재(120)의 타면 전체 영역을 덮으며 배치될 수 있다. 즉, 평면에서 보았을 때 상기 제 2 베이스층(520)의 평면적은 상기 제 2 기재(120)의 타면 면적과 대응될 수 있다. 또한, 상기 제 2 베이스층(520)의 평면적은 상기 제 2 기재(120)의 타면 면적보다 클 수 있다. 이에 따라, 상기 제 2 베이스층(520)은 상기 제 2 기재(120)의 측면을 감싸며 배치될 수 있다. 상기 제 2 베이스층(520)은 상기 제 2 기재(120)의 타면이 외부에 노출되는 것을 방지할 수 있다. 또한, 상기 제 2 베이스층(520)은 상기 압전소자(300)에서 방출된 파장을 상기 마스크(1000)의 일면 방향으로 통과시켜 사용자의 피부에 전달할 수 있다. 즉, 상기 제 2 베이스층(520)은 투과층일 수 있다. 상기 제 2 베이스층(520)의 두께는 상기 제 2 베이스층(520)의 임피던스(impedance)와 상기 압전소자(300)의 구동 주파수에 따라 변화할 수 있다. 일례로, 상기 압전소자(300)의 구동 주파수가 약 1MHz 이하일 경우, 상기 제 2 베이스층(520)의 두께는 약 50㎛ 내지 약 1mm 일 수 있다. 상기 제 2 베이스층(520)의 두께가 약 50㎛ 미만인 경우, 상기 제 2 베이스층(520)의 두께가 상대적으로 얇아 상기 제 2 기재(120)를 효과적으로 보호할 수 없다. 또한, 상기 제 2 베이스층(520)의 두께가 약 1mm를 초과할 경우, 전체 마스크(1000)의 두께가 증가할 수 있다. 상기 제 2 베이스층(520)의 두께는 상기 압전소자(300)에서 방출된 파장을 효과적으로 통과시키기 위해 상술한 범위를 만족하는 것이 바람직하다. 바람직하게 상기 제 2 베이스층(520)의 두께는 신뢰성, 투과 특성, 제조되는 마스크(1000)의 두께 및 무게 등을 고려하여 약 100㎛ 내지 약 700㎛의 두께 범위를 가질 수 있다. 또한, 상기 제 2 베이스층(520)의 두께는 상술한 범위 내에서 상기 제 1 베이스층(510)의 두께보다 두껍거나 같을 수 있다. 이에 따라, 상기 압전소자(300)에서 상기 제 2 기재(120) 방향으로 방출된 파장은 상기 제 2 베이스층(520)에 반사되는 것을 방지 또는 최소화할 수 있다. 따라서, 상기 압전소자(300)에서 방출된 파장은 상기 제 2 기재(120) 및 상기 제 2 베이스층(520)을 통과하여 사용자의 피부에 효과적으로 전달될 수 있다.
실시예에 따른 마스크(1000)는 발광소자(400)를 포함할 수 있다. 상기 발광소자(400)는 상기 제 1 기재(110) 상에 배치될 수 있다. 상기 발광소자(400)는 상기 제 1 기재(110) 및 상기 제 2 기재(120) 사이에 배치될 수 있다. 자세하게, 상기 발광소자(400)는 복수의 압전소자(300) 사이에 배치될 수 있다. 즉, 상기 발광소자(400)는 상기 제 1 및 제 2 배선(210, 220)의 서브 배선들(211, 221) 사이의 오픈 영역(OA)과 수직 방향으로 중첩되는 영역에 배치될 수 있다.
상기 발광소자(400)는 상기 제 1 기재(110)의 일면 상에 배치된 제 3 배선(230) 상에 배치될 수 있며 상기 제 3 배선(230)과 전기적으로 연결될 수 있다. 상기 제 3 배선(230)은 전도성 재질을 포함할 수 있다. 일례로, 상기 제 3 배선(230)은 알루미늄(Al), 구리(Cu), 은(Ag), 금(Au), 크롬(Cr), 니켈(Ni), 몰리므덴(Mo), 티타늄(Ti) 및 이들의 합금 중 적어도 하나의 금속을 포함할 수 있다. 또한, 상기 제 3 배선(230)은 카본(carbon) 등과 같은 비금속을 포함할 수 있다.
상기 제 3 배선(230)은 상기 제 1 기재(110) 상에 배치되는 복수의 제 3 서브 배선(231)들을 포함할 수 있다. 상기 복수의 제 3 서브 배선(231)들은 전기적으로 연결될 수 있다. 또한, 상기 제 3 배선(230)은 상기 제 1 배선(210)과 전기적으로 절연될 수 있다. 자세하게, 상기 복수의 제 3 서브 배선(231)들은 상기 제 1 기재(110) 상에 배치되는 제 1 서브 배선(211)들과 절연될 수 있다. 또한, 상기 제 3 배선(230)은 상기 제 2 배선(220)과 전기적으로 절연될 수 있다. 자세하게, 상기 제 3 서브 배선(231)들은 상기 제 2 서브 배선(221)과 절연될 수 있다.
상기 발광소자(400)는 상기 제 3 배선(230) 상에 복수개가 배치될 수 있다. 자세하게, 상기 복수의 발광소자(400)는 상기 제 3 서브 배선(231) 상에서 서로 이격되어 배치될 수 있다. 예를 들어, 하나의 제 3 서브 배선(231) 상에는 복수의 발광소자(400)가 등간격으로 배치될 수 있다.
상기 발광소자(400)는 상기 마스크(1000)의 일면 방향으로 광을 발광할 수 있다. 즉, 상기 발광소자(400)는 사용자의 피부 방향으로 광을 발광할 수 있다.
상기 발광소자(400)는 가시광선 및 적외선 중 적어도 하나의 파장 영역의 광을 발광할 수 있다. 예를 들어, 상기 발광소자(400)는 약 380nm 내지 약 700nm 영역의 가시광 영역대의 광을 발광할 수 있다. 자세하게, 상기 발광소자(400)는 방출하는 광에서 약 600nm 내지 약 700nm 파장 영역의 광의 세기가 가장 큰 발광소자일 수 있다. 즉, 상기 발광소자(400)는 적색광을 발광하는 발광소자일 수 있다. 이에 따라, 상기 마스크(1000)를 착용한 사용자의 피부에 적색광을 조사할 수 있고, 사용자 피부의 여드름 등의 염증성 질환을 효과적으로 치료할 수 있다. 또한, 상기 발광소자(400)는 약 700nm 내지 약 1500nm 대역의 적외선 영역의 광을 발광할 수 있다. 자세하게, 상기 발광소자(400)는 방출하는 광에서 약 800nm 내지 900nm 파장 영역의 광의 세기가 가장 큰 발광소자일 수 있다. 즉, 상기 발광소자(400)는 근적외선을 발광하는 발광소자일 수 있다. 이에 따라, 상기 마스크(1000)를 착용한 사용자의 피부에 적외선광을 조사할 수 있고, 사용자의 모공 확장, 피부 소독 및 치료 효과를 기대할 수 있으며, 피부 노화를 예방 및 치료할 수 있다. 또한, 상기 적외선 광에 의해 사용자의 얼굴 혈액순환을 개선할 수 있고, 사용자의 얼굴에 도포된 화장품 또는 약물의 흡수력을 높일 수 있다.
상술한 바와 같이 상기 발광소자(400)는 가시광선 발광소자 및 적외선 발광소자 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 이때, 실시예에 따른 발광소자(400)가 가시광선 발광소자 및 적외선 발광소자를 모두 포함할 경우, 상기 발광소자들은 규칙적으로 배치될 수 있다. 일례로, 상기 발광소자(400)는 가시광선 발광소자 및 적외선 발광소자가 교대로 배치되는 형태로 제공될 수 있다. 이에 따라, 착용자의 얼굴 전체 영역에 적색광 및 근적외선광이 고르게 입사될 수 있다.
이와 다르게, 상기 가시광선 발광소자와 상기 적외선 발광소자는 상이한 비율로 배치될 수 있다. 일례로, 여드름 등의 염증성 질환이 발생하기 쉬운 영역과 중첩되는 상기 마스크(1000)의 영역에는 가시광선 발광소자가 적외선 발광소자보다 높은 비율로 배치될 수 있다. 또한, 주름이 발생하기 쉬운 이마, 눈가 등의 영역과 중첩되는 상기 마스크(1000)의 영역에는 적외선 발광소자가 가시광선 발광소자보다 높은 비율로 배치될 수 있다. 이에 따라, 사용자는 상기 마스크(1000)를 통해 얼굴 피부를 효과적으로 관리할 수 있다.
또한, 도면에는 도시하지 않았으나, 상기 제 2 기재(120)는 상기 발광소자(400)와 대응되는 영역 상에 형성되는 관통홀(미도시)을 포함할 수 있다. 상기 관통홀은 상기 제 2 기재(120)의 일면 및 타면을 관통하는 홀일 수 있다. 상기 관통홀의 수평 방향 폭은 상기 발광소자의 수평 방향 폭보다 크거나 같을 수 있다. 그러나 실시예는 이에 제한하지 않으며 상기 관통홀의 폭은 상기 발광소자(400)의 지향각에 따라 변화할 수 있다. 즉, 상기 제 2 기재(120)가 상기 관통홀을 포함함에 따라 상기 발광소자(400)에서 방출된 광이 상기 제 2 기재(120)에 의해 손실되는 것을 최소화할 수 있고 사용자의 피부에 입사되는 광의 양을 극대화할 수 있다.
실시예에 따른 마스크(1000)는 제 1 보호층(551)을 포함할 수 있다. 상기 제 1 보호층(551)은 상기 제 1 기재(110) 및 상기 제 2 기재(120) 사이에 배치될 수 있다. 상기 제 1 보호층(551)은 상기 제 1 기재(110)의 일면 및 상기 제 2 기재(120)의 일면과 직접 접촉하며 배치될 수 있다.
상기 제 1 보호층(551)은 연질이며 탄성을 가지는 재질을 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 제 1 보호층(551)은 실리콘, 열가소성 수지, 열가소성 실리콘 수지, 열가소성 탄성중합체, 폴리우레탄 탄성중합체, 에틸렌 비닐아세테이트(EVA), 무해성 가소제 및 안정제가 첨가된 폴리염화비닐(PVC) 재질 중 적어도 하나의 재질을 포함할 수 있다. 이 중에서 상기 제 1 보호층(551)은 비교적 가볍고 사용자의 피부와 접촉 시 자극을 최소화할 수 있으며, 소정의 탄성을 가지는 실리콘 탄성중합체를 포함하는 것이 바람직할 수 있다.
상기 제 1 보호층(551)은 상기 제 1 기재(110) 및 상기 제 2 기재(120) 사이에 배치되어 상기 압전소자(300) 및 상기 발광소자(400)를 보호할 수 있다. 자세하게, 상기 제 1 보호층(551)은 상기 기재들(110, 120) 사이 영역에서 상기 압전소자(300) 및 상기 발광소자(400)를 감싸며 배치되어 상기 구성들을 보호할 수 있다. 또한, 상기 제 1 보호층(551)은 상기 제 1 베이스층(510) 및 상기 제 2 베이스층(520)과 연결될 수 있다. 즉, 상기 제 1 베이스층(510), 상기 제 2 베이스층(520) 및 상기 제 1 보호층(551)는 일체로 형성되어 물리적으로 연결될 수 있고, 내부에 배치된 구성을 지지할 수 있다.
이에 대해 보다 상세히 설명하면, 상기 압전소자(300)는 하면 상에 배치되는 제 1 전극(310)을 포함할 수 있다. 상기 제 1 전극(310)은 전기적 특성을 고려하여 상기 압전소자(300)의 하면 전체 면적의 약 80% 이상의 면적으로 배치될 수 있다. 상기 자세하게, 제 1 전극(310)은 상기 압전소자(300)의 하면 전체 면적의 약 90%의 면적으로 배치될 수 있다. 또한, 상기 제 1 전극(310)은 상기 압전소자(300)의 하면 전체 영역 상에 배치될 수 있다. 그러나, 전극 형성 공정에서 전체 영역을 덮으며 형성하기 어려운 문제점이 있어 상기 제 1 전극(310)이 차지하는 비율은 상술한 범위를 만족하는 것이 바람직할 수 있다.
상기 제 1 전극(310)은 전도성 재질을 포함할 수 있다. 일례로, 상기 제 1 전극(310)은 금속 재질을 포함할 수 있다. 자세하게, 상기 제 1 전극(310)은 알루미늄(Al), 구리(Cu), 은(Ag), 금(Au), 크롬(Cr), 니켈(Ni), 몰리므덴(Mo), 티타늄(Ti) 및 이들의 합금 중 적어도 하나의 금속을 포함할 수 있다.
상기 제 1 전극(310)은 상기 제 1 배선(210)과 마주하며 배치되고, 상기 제 1 배선(210)과 전기적으로 연결될 수 있다. 자세하게, 상기 제 1 전극(310) 및 상기 제 1 배선(210) 사이에는 제 1 본딩층(251)이 배치될 수 있고, 상기 제 1 본딩층(251)에 의해 상기 제 1 전극(310) 및 상기 제 1 배선(210)은 물리적, 전기적으로 연결될 수 있다. 이때, 상기 제 1 본딩층(251)과 상기 제 1 배선(210)의 오버래핑 비율은 물리적, 전기적 연결 특성을 고려하여 약 20% 이상일 수 있다.
상기 제 1 본딩층(251)은 알루미늄(Al), 구리(Cu), 은(Ag), 금(Au), 크롬(Cr), 니켈(Ni), 몰리므덴(Mo), 티타늄(Ti) 및 이들의 합금 중 적어도 하나의 금속을 포함할 수 있다. 상기 제 1 본딩층(251)은 상기 제 1 전극(310) 및 상기 제 1 배선(210) 사이에 배치되어 전도성 접착제 역할을 수행할 수 있다. 일례로, 상기 제 1 본딩층(251)은 상기 제 1 배선(210) 상에 페이스트 형태로 도포될 수 있고, 상기 제 1 본딩층(251) 상에 상기 제 1 전극(310)을 포함하는 압전소자(300)가 배치될 수 있다. 이에 따라, 상기 압전소자(300)는 상기 제 1 배선(210)과 물리적 및 전기적으로 연결될 수 있다.
또한, 상기 압전소자(300)는 상면 상에 배치되는 제 2 전극(320)을 포함할 수 있다. 상기 제 2 전극(320)은 전기적 특성을 고려하여 상기 압전소자(300)의 상면 전체 면적의 약 80% 이상의 면적으로 배치될 수 있다. 상기 자세하게, 제 2 전극(320)은 상기 압전소자(300)의 상면 전체 면적의 약 90%의 면적으로 배치될 수 있다. 또한, 상기 제 2 전극(320)은 상기 압전소자(300)의 하면 전체 영역 상에 배치될 수 있다. 그러나, 전극 형성 공정에서 전체 영역을 덮으며 형성하기 어려운 문제점이 있어 상기 제 2 전극(320)이 차지하는 비율은 상술한 범위를 만족하는 것이 바람직할 수 있다.
상기 제 2 전극(320)은 전도성 재질을 포함할 수 있다. 일례로, 상기 제 2 전극(320)은 금속 재질을 포함할 수 있다. 자세하게, 상기 제 2 전극(320)은 알루미늄(Al), 구리(Cu), 은(Ag), 금(Au), 크롬(Cr), 니켈(Ni), 몰리므덴(Mo), 티타늄(Ti) 및 이들의 합금 중 적어도 하나의 금속을 포함할 수 있다.
상기 제 2 전극(320)은 상기 제 2 배선(220)과 마주하며 배치되고, 상기 제 2 배선(220)과 전기적으로 연결될 수 있다. 자세하게, 상기 제 2 전극(320) 및 상기 제 2 배선(220) 사이에는 제 2 본딩층(252)이 배치될 수 있고, 상기 제 2 본딩층(252)에 의해 상기 제 2 전극(320) 및 상기 제 2 배선(220)은 물리적, 전기적으로 연결될 수 있다. 이때, 상기 제 2 본딩층(252)과 상기 제 2 배선(220)의 오버래핑 비율은 물리적, 전기적 연결 특성을 고려하여 약 20% 이상일 수 있다.
상기 제 2 본딩층(251)은 알루미늄(Al), 구리(Cu), 은(Ag), 금(Au), 크롬(Cr), 니켈(Ni), 몰리므덴(Mo), 티타늄(Ti) 및 이들의 합금 중 적어도 하나의 금속을 포함할 수 있다. 상기 제 2 본딩층(252)은 상기 제 2 전극(320) 및 상기 제 2 배선(220) 사이에 배치되어 전도성 접착제 역할을 수행할 수 있다. 일례로, 상기 제 2 본딩층(252)은 상기 제 2 배선(220) 상에 페이스트 형태로 도포될 수 있고, 상기 제 2 본딩층(252) 상에 상기 제 2 전극(320)을 포함하는 압전소자(300)가 배치될 수 있다. 이에 따라, 상기 압전소자(300)는 상기 제 2 배선(220)과 물리적 및 전기적으로 연결될 수 있고, 상기 제 1 기재(110) 및 상기 제 2 기재(120)는 소정의 간격으로 이격되어 배치될 수 있다.
상기 제 1 본딩층(251)의 두께는 상기 제 2 본딩층(252)의 두께와 동일하게 제공되어 상기 마스크(1000)의 가변성을 향상시킬 수 있다. 또한, 상기 제 1 본딩층(251)의 두께는 상기 제 2 본딩층(252)의 두께와 상이할 수 있다. 자세하게, 상기 제 1 본딩층(251)의 두께는 상기 제 2 본딩층(252)의 두께보다 두꺼울 수 있다. 이에 따라, 상기 압전소자(300)에서 상기 제 1 기재(110) 방향으로 방출된 파장은 상기 제 1 본딩층(251)에 반사되어 상기 제 2 기재(120) 방향으로 이동할 수 있다.
또한, 상기 마스크(1000)는 제 3 본딩층(미도시)을 더 포함할 수 있다. 상기 제 3 본딩층은 상기 제 1 기재(110)의 타면 상에 배치될 수 있다. 즉, 상기 제 3 본딩층은 상기 제 1 기재(110)의 타면 및 상기 제 1 베이스층(510) 사이에 배치될 수 있다. 이에 따라, 상기 압전소자(300)에서 상기 제 1 기재(110) 방향으로 방출된 파장은 상기 제 3 본딩부에 반사되어 상기 제 2 기재(120) 방향으로 이동할 수 있다. 따라서, 상기 압전소자(300)에서 방출된 파장의 손실을 최소화할 수 있다.
이후, 상술한 바와 같이 상기 제 1 기재(110) 및 상기 제 2 기재(120) 사이 공간에는 상기 제 1 보호층(551)이 충진될 수 있다. 이에 따라, 상기 제 1 보호층(551)은 상기 압전소자(300) 및 상기 발광소자(400)를 감싸며 배치될 수 있고, 상기 압전소자(300), 상기 발광소자(400), 상기 제 1 배선(210) 및 상기 제 2 배선(220)이 외부 환경에 직접적으로 노출되는 것을 방지할 수 있다.
실시예에 따른 마스크(1000)는 전극층(600)을 포함할 수 있다 상기 전극층(600)은 상기 제 2 베이스층(520) 상에 배치될 수 있다. 자세하게, 상기 전극층(600)은 상기 사용자의 피부와 마주하는 상기 제 2 베이스층(520)의 일면 상에 배치될 수 있다. 상기 전극층(600)은 수직 방향을 기준으로 상기 압전소자(300) 및 상기 발광소자(400) 중 적어도 하나와 중첩될 수 있다.
상기 전극층(600)은 전도성 재질을 포함할 수 있다. 일례로, 상기 전극층(600)은 알루미늄(Al), 구리(Cu), 은(Ag), 금(Au), 크롬(Cr), 니켈(Ni), 몰리므덴(Mo), 티타늄(Ti) 및 이들의 합금 중 적어도 하나의 금속을 포함할 수 있다.
상기 전극층(600)은 복수의 서브 전극(601)들을 포함할 수 있다. 상기 복수의 서브 전극(601)은 상기 제 2 베이스층(520) 상에서 메쉬 형태로 교차하며 전기적으로 서로 연결될 수 있다.
상기 전극층(600)은 사용자의 피부에 전위차를 형성하여 피부의 전기적 환경을 변화시킬 수 있다. 자세하게, 상기 전극층(600)은 사용자의 피부에 미세한 전류를 흐르게 하여 상기 마스크(1000)와 피부 사이에 위치한 화장품 또는 약물에 포함된 이온성 물질을 사용자의 피부로 침투시킬 수 있다. 즉, 상기 전극층(600)에 의해 형성된 전기 반발력에 의해 화장품 또는 약물은 사용자의 피부로 침투될 수 있다.
이를 위해, 상기 전극층(600)의 선폭은 약 550㎛ 이하일 수 있다. 또한, 상기 전극층(600)의 두께는 약 350㎛ 이하일 수 있다. 상기 전극층(600)의 선폭 및 두께가 상술한 범위보다 클 경우, 상기 발광소자(400)에서 방출된 광이 상기 전극층(600)에 반사되어 상기 마스크(1000) 내부로 재입사될 수 있다. 또한, 상기 압전소자(300)에서 발생한 파동이 상기 전극층(600)에 의해 상기 마스크(1000)의 일면 방향으로 효과적으로 이동하지 못할 수 있다. 따라서, 상기 전극층(600)의 선폭 및 두께는 상술한 범위를 만족하는 것이 바람직할 수 있다. 나아가, 상기 전극층(600)의 선폭 및 두께 각각은 신뢰성, 상기 발광소자(400)의 광 효율, 상기 압전소자(300)에서 방출한 파동의 이동 및 이온토포레시스(Iontophoresis) 특성을 고려하여 약 500㎛, 약 300㎛ 이하인 것이 보다 바람직할 수 있다.
또한, 도면에는 도시하지 않았으나 상기 제 2 베이스층(520)의 일면 상에는 복수의 돌기(미도시)가 더 배치될 수 있다. 상기 돌기는 사용자의 피부와 접하는 상기 마스크(1000)의 최외측면에 배치될 수 있다. 상기 돌기는 상기 제 2 베이스층(520)의 일면 상에서 서로 이격되는 복수의 점 형태로 배치될 수 있고, 서로 연결되는 선 형태로 배치될 수 있다. 상기 돌기는 상기 전극층(600)과 이격되어 배치되며 인체에 무해한 재질을 포함할 수 있다. 상기 돌기는 사용자가 상기 마스크(1000)를 착용할 때, 상기 제 2 베이스층(520)의 일면과 사용자의 피부 사이에 소정의 공간을 형성할 수 있다. 이에 따라, 상기 마스크(1000)를 착용시 발생하는 압력 및/또는 상기 압전소자(300)에서 발생하는 진동에 의해 상기 마스크(1000)와 피부 사이의 화장품 또는 약물이 상기 마스크(1000)의 가장자리 영역으로 밀려나가는 것을 방지할 수 있다. 즉, 상기 돌기는 화장품 또는 약물이 상기 마스크(1000)로부터 벗어나는 것을 방지하는 격벽 역할을 수행할 수 있다. 따라서, 사용자는 상기 마스크(1000)를 이용하여 피부에 화장품 또는 약물을 효과적으로 주입할 수 있다.
도 7은 도 1의 A1 영역의 다른 분해 사시도이고, 도 8은 도 7의 마스크의 단면도이다. 또한, 도 9은 도 7의 마스크의 다른 단면도이다.
도 7 내지 도 9에 대한 설명에서는 도 1 내지 도 6의 마스크와 동일 유사한 구성에 대해서는 설명을 생략하고 동일 유사한 구성에 대해서는 동일한 도면 부호를 부여한다.
도 7 및 도 8을 참조하면, 실시예에 따른 마스크(1000)는 다층 구조를 가질 수 있고, 상기 발광소자(400) 및 상기 압전소자(300)는 서로 다른 층에 배치될 수 있다. 상기 발광소자(400)는 상기 제 2 기재(120)의 타면 상에 배치될 수 있다. 자세하게, 상기 제 2 기재(120)의 타면 상에 제 3 배선(230)이 배치될 수 있고, 상기 발광소자(400)는 상기 제 3 배선(230) 상에 배치될 수 있다. 상기 발광소자(400)는 상기 제 2 기재(120) 상에서 상기 제 1 및 제 2 배선(210, 220)의 서브 배선들(211, 221) 사이의 오픈 영역(OA)과 수직 방향으로 중첩되는 영역 상에 배치될 수 있다.
상기 제 1 보호층(551)은 상기 제 1 기재(110) 및 상기 제 2 기재(120) 사이에 배치될 수 있다. 상기 제 1 보호층(551)은 상기 제 1 기재(110) 및 상기 제 2 기재(120) 사이에 배치되어 상기 압전소자(300)를 감싸며 배치될 수 있다. 상기 제 1 보호층(551)은 상기 발광소자(400)와 이격되며 상기 압전소자(300), 제 1 배선(210) 및 제 2 배선(220)이 외부 환경에 노출되는 것을 방지할 수 있다.
상기 제 2 베이스층(520)은 상기 제 2 기재(120) 상에 배치될 수 있다. 상기 제 2 베이스층(520)은 상기 제 2 기재(120)의 타면 상에 배치될 수 있다. 상기 제 2 베이스층(520)은 상기 제 2 기재(120) 상에서 상기 발광소자(400)를 감싸며 배치될 수 있다. 상기 제 2 베이스층(520)은 상기 발광소자(400), 상기 제 3 배선(230)이 외부 환경에 노출되는 것을 방지할 수 있다.
상기 제 2 베이스층(520)은 상기 발광소자(400)와 대응되는 높이를 가질 수 있다. 또한, 상기 제 2 베이스층(520)은 상기 압전소자(300)에서 방출된 파장을 상기 마스크(1000)의 일면 방향으로 효과적으로 통과시키기 위해 상기 제 1 베이스층(510)의 두께보다 두껍거나 같을 수 있다. 이에 따라, 상기 압전소자(300)에서 발생한 파동은 상기 마스크(1000)의 일면 방향으로 효과적으로 이동할 수 있고, 상기 발광소자(400)에서 방출된 광은 상기 전극층(600) 방향, 예컨대 사용자의 피부 방향으로 방출될 수 있다. 또한, 상기 발광소자(400)가 상기 제 2 베이스층(520)의 일면과 보다 인접하게 배치됨에 따라, 상기 발광소자(400)에서 방출되는 광이 상기 마스크(1000) 내부에서 손실되는 것을 방지 및 최소화할 수 있다.
상기 제 2 베이스층(520)은 상기 제 1 보호층(551) 및 상기 제 1 보호층(551) 과 연결될 수 있다. 즉, 상기 제 1 베이스층(510), 상기 제 2 베이스층(520) 및 상기 제 1 보호층(551)는 일체로 형성되어 물리적으로 연결될 수 있고, 내부에 배치된 구성을 지지할 수 있다.
도 9를 참조하면, 실시예에 따른 마스크(1000)는 다층 구조를 가질 수 있고, 상기 제 2 기재(120) 상에 배치되는 제 3 기재(130), 상기 제 3 기재(130) 상에 배치되는 제 2 보호층(552)을 포함할 수 있다.
상기 제 3 기재(130)는 투명하며 수분 차단성, 열적 안정성 등을 고려한 재질을 포함할 수 있다. 또한, 상기 제 3 기재(130)는 유연성을 가지며 굴곡진 사용자의 피부 형상에 따라 가변되는 재질을 포함할 수 있다. 일례로, 상기 제 3 기재(130)는 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리에틸렌나트팔레이트(PEN), 및 폴리이미드(PI) 등의 수지 재질을 포함할 수 있다. 상기 제 3 기재(130)는 필름 형태로 제공될 수 있다. 상기 제 3 기재(130)는 상기 제 1 기재(110) 및 상기 제 2 기재(120)와 동일한 재질로 제공될 수 있고, 동일한 형태를 가질 수 있다.
상기 제 3 기재(130) 하부에는 제 2 베이스층(520)이 배치될 수 있다. 즉, 상기 제 2 베이스층(520)은 상기 제 2 기재(120) 및 상기 제 3 기재(130) 사이에 배치될 수 있다. 상기 제 2 베이스층(520)은 상기 제 2 기재(120) 및 상기 제 3 기재(130)를 물리적으로 연결하는 역할을 수행할 수 있다. 또한, 상기 제 2 베이스층(520)은 상기 압전소자(300)에서 방출된 파장을 상기 마스크(1000)의 일면 방향으로 효과적으로 통과시키기 위해 상기 제 1 베이스층(510)보다 두꺼운 두께를 가지거나, 같은 두께를 가질 수 있다.
상기 발광소자(400)는 상기 제 3 기재(130) 상에 배치될 수 있다. 자세하게, 사용자의 피부와 마주하는 상기 제 3 기재(130)의 일면 상에는 제 3 배선(230)이 배치될 수 있고, 상기 발광소자(400)는 상기 제 3 배선(230) 상에 배치될 수 있다.
상기 제 3 기재(130) 상에는 제 2 보호층(552)이 배치될 수 있다. 상기 제 2 보호층(552)은 상기 제 3 기재(130)의 일면 상에 배치될 수 있다. 상기 제 3 기재(130)는 인체에 무해한 재질을 포함할 수 있다. 상기 제 2 보호층(552)은 연질이면서 탄성을 가지는 재질을 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 제 2 보호층(552)은 실리콘, 열가소성 수지, 열가소성 실리콘 수지, 열가소성 탄성중합체, 폴리우레탄 탄성중합체, 에틸렌 비닐아세테이트(EVA), 무해성 가소제 및 안정제가 첨가된 폴리염화비닐(PVC) 재질 중 적어도 하나의 재질을 포함할 수 있다. 바람직하게, 상기 제 2 보호층(552)은 비교적 가볍고 사용자의 피부와 접촉 시 자극을 최소화할 수 있고 소정의 탄성을 가지는 실리콘 탄성중합체를 포함할 수 있다. 즉, 상기 제 2 보호층(552)은 상기 제 2 베이스층(520), 상기 제 1 베이스층(510) 및 상기 제 1 보호층(551)과 동일한 재질로 제공되어, 상기 압전소자(300)에서 방출된 파장을 효과적으로 통과시킬 수 있다.
상기 제 2 보호층(552)은 상기 제 3 기재(130) 상에서 상기 발광소자(400)를 감싸며 배치될 수 있다. 상기 제 2 보호층(552)은 상기 발광소자(400)와 대응되는 두께를 가질 수 있다. 또한, 상기 제 2 보호층(552)은 상기 제 2 베이스층(520)과 대응되는 두께로 제공되어 상기 압전소자(300)에서 발생한 파동이 효과적으로 이동할 수 있다. 상기 제 2 보호층(552)은 상기 발광소자(400) 및 상기 제 3 배선(230)이 외부 환경에 노출되는 것을 방지할 수 있다.
또한, 상기 제 2 보호층(552) 상에는 상기 전극층(600)이 배치될 수 있다. 상기 전극층(600)은 상기 마스크(1000)의 최외층에 배치될 수 있다. 자세하게, 상기 전극층(600)은 사용자의 피부와 마주하는 상기 제 2 보호층(552)의 일면 상에 배치될 수 있다. 상기 전극층(600)은 상기 압전소자(300) 및 상기 발광소자(400) 중 적어도 하나와 수직 방향으로 중첩될 수 있다.
또한, 상기 제 2 보호층(552)은 상기 제 1 베이스층(510), 상기 제 2 베이스층(520), 상기 제 1 보호층(551)과 연결될 수 있다. 즉, 상기 제 2 보호층(552)은 상기 제 1 베이스층(510), 상기 제 2 베이스층(520), 상기 제 1 보호층(551)과 일체로 형성되어 물리적으로 연결될 수 있고 내부에 배치된 구성을 지지할 수 있다.
이에 따라, 상기 압전소자(300)에서 발생한 파동은 상기 마스크(1000)의 일면 방향으로 효과적으로 이동할 수 있고, 상기 발광소자(400)에서 방출된 광은 상기 전극층(600) 방향, 예컨대 사용자의 피부 방향으로 방출될 수 있다. 또한, 상기 발광소자(400)가 상기 제 2 베이스층(520)의 일면과 보다 인접하게 배치됨에 따라, 상기 발광소자(400)에서 방출되는 광이 상기 마스크(1000) 내부에서 손실되는 것을 방지 및 최소화할 수 있다. 또한, 상기 발광소자(400)와 상기 압전소자(300) 사이의 간격이 상기 제 3 기재(130), 상기 제 2 베이스층(520) 등에 의해 충분히 이격됨에 따라, 상기 압전소자(300)는 상기 발광소자(400)에서 방출된 열에 의한 영향을 최소화할 수 있다. 이에 따라, 실시예에 따른 마스크(1000)는 보다 향상된 신뢰성을 가질 수 있다.
<제 2 실시예>
도 10은 제 2 실시예에 따른 마스크의 정면도이고, 도 11은 도 10의 A3 영역의 분해 사시도이다. 또한, 도 12는 도 10의 A3 영역의 상면도이고, 도 13은 도 10의 A3 영역의 다른 상면도이다. 또한, 도 14는 도 12의 B-B' 단면을 도시한 단면도이고, 도 15는 도 14의 A4 영역의 확대도이다.
도 10 내지 도 15에 대한 설명에서는 상술한 제 1 실시예의 마스크와 동일 유사한 구성에 대해서는 동일한 도면 부호를 부여하며, 동일 유사한 구성은 제 1 실시예를 참조하여 상기 제 2 실시예에 선택적으로 적용할 수 있다.
도 10 내지 도 15를 참조하면, 제 2 실시예에 따른 마스크(1000A)는 사용자의 얼굴을 커버할 수 있는 소정의 크기로 제공되며 사용자의 얼굴과 밀착하기 위해 소정의 탄성을 가질 수 있다. 마스크(1000A)마스크(1000A)상기 마스크(1000A)는 개구부(1010) 및 절단부(1020) 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 자세하게, 상기 개구부(1010)는 사용자의 눈, 입 등과 대응되는 부위에 형성될 수 있다. 또한, 상기 절단부(1020)는 상기 마스크(1000A)와 피부와의 밀착력을 향상시키기 위해 상대적으로 굴곡진 양쪽 볼 라인, 턱 등과 대응되는 부위에 형성될 수 있다.
제 2 실시예에 따른 마스크(1000A)에서 상기 개구부(1010)를 제외한 영역은 제 1 기재(110), 제 1 배선(210), 압전소자(300), 제 2 배선(220), 제 2 기재(120), 제 1 베이스층(510), 제 2 베이스층(520) 및 감지부(700)를 포함할 수 있다.
상기 제 1 기재(110)는 투명하며 수분 차단성, 열적 안정성 등을 고려한 재질을 포함할 수 있다. 또한, 상기 제 1 기재(110)는 유연성을 가지며 굴곡진 사용자의 피부 형상에 따라 가변되는 재질을 포함할 수 있다. 일례로, 상기 제 1 기재(110)는 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN), 및 폴리이미드(PI) 등의 수지 재질을 포함할 수 있다. 상기 제 1 기재(110)는 필름 형태로 제공될 수 있다.
상기 제 1 기재(110)는 약 0.5㎛ 내지 약 5㎛ 이하의 두께를 가질 수 있다. 상기 제 1 기재(110)의 두께가 약 0.5㎛ 미만인 경우, 상기 제 1 기재(110) 상에 배치되는 구성들, 예컨대, 압전소자(300) 등의 무게에 의해 상기 구성들과 중첩되는 상기 제 1 기재(110)의 영역이 쳐지는 문제점이 발생할 수 있다. 이에 따라, 상기 제 1 기재(110)의 신뢰성이 저하될 수 있고, 상기 제 1 기재(110) 상에 배치되는 구성들의 얼라인(align) 문제가 발생할 수 있다. 또한, 상기 제 1 기재(110)의 두께가 약 5㎛를 초과하는 경우, 상기 마스크(1000A)의 전체 두께가 증가될 수 있다. 이에 따라, 상기 마스크(1000A)가 사용자의 피부 형상에 따라 효율적으로 가변하지 못하여 사용자의 피부와 효과적으로 밀착하지 못하는 문제점이 있다. 바람직하게, 상기 제 1 기재(110)는 약 0.5㎛ 내지 약 3㎛의 두께를 가질 수 있다. 상기 제 1 기재(110)의 두께가 상술한 범위를 만족할 경우, 신뢰성 및 얼라인 특성을 유지하며 사용자의 피부와 대응되는 형태로 효율적으로 가변할 수 있고, 상기 마스크(1000A)의 전체 두께 및 무게가 감소할 수 있다.
상기 제 1 기재(110) 상에는 제 1 배선(210)이 배치될 수 있다. 상기 제 1 배선(210)은 상기 압전소자(300)와 전기적으로 연결될 수 있다. 상기 제 1 배선(210)은 전도성 재질을 포함할 수 있다. 일례로, 상기 제 1 배선(210)은 알루미늄(Al), 구리(Cu), 은(Ag), 금(Au), 크롬(Cr), 니켈(Ni), 몰리므덴(Mo), 티타늄(Ti) 및 이들의 합금 중 적어도 하나의 금속을 포함할 수 있다. 또한, 상기 제 1 배선(210)은 카본(carbon) 등과 같은 비금속을 포함할 수 있다.
상기 제 1 배선(210)은 사용자의 피부와 마주하는 상기 제 1 기재(110)의 일면 상에 배치될 수 있다. 상기 제 1 배선(210)은 상기 제 1 기재(110)의 일면과 직접 접촉하며 제 1 방향으로 연장할 수 있다. 상기 제 1 배선(210)은 상기 제 1 기재(110)의 일면 상에 증착, 인쇄 등의 공정으로 형성될 수 있다.
상기 제 1 배선(210)은 상기 제 1 기재(110) 상에 배치되는 복수의 제 1 서브 배선(211)들을 포함할 수 있다. 상기 복수의 제 1 서브 배선(211)들은 제 1 방향으로 연장하며 상기 제 1 방향과 다른 제 2 방향으로 서로 이격하여 배치될 수 있다. 상기 복수의 제 1 서브 배선(211)들은 서로 전기적으로 연결될 수 있다. 여기서 제 2 방향은 상기 제 1 방향과 다른 방향이며 일례로 수직인 방향일 수 있으나 이에 대해 제한하지 않는다.
상기 제 1 서브 배선(211)의 두께는 약 2㎛ 내지 약 50㎛ 일 수 있다. 자세하게, 상기 제 1 서브 배선(211)의 두께는 약 2㎛ 내지 약 40㎛일 수 있다. 상기 제 1 서브 배선(211)의 두께가 약 2㎛ 미만인 경우 전기적 특성이 저하될 수 있고, 균일하게 형성하기 어려울 수 있다. 또한, 상기 제 1 서브 배선(211)의 두께가 약 50㎛를 초과할 경우 상기 마스크(1000A)의 전체 두께가 증가할 수 있고, 상기 제 1 배선(210)의 제조 시간이 증가할 수 있다. 또한, 상기 제 1 서브 배선(211)의 두께가 너무 두꺼워 스트레쳐블 특성이 저하될 수 있다. 바람직하게, 상기 제 1 서브 배선(211)의 두께는 수평 방향으로의 스트레쳐블 특성, 신뢰성 및 공정 효율을 고려하여 약 5㎛ 내지 약 35㎛ 이하일 수 있다.
또한, 상기 제 1 서브 배선(211)의 선폭은 상기 제 1 서브 배선(211)의 두께보다 클 수 있다. 제 1 서브 배선(211)의 선폭은 약 50㎛ 내지 약 500㎛일 수 있다. 자세하게, 상기 제 1 서브 배선(211)의 선폭은 약 100㎛ 내지 약 450㎛일 수 있다. 상기 제 1 서브 배선(211)의 선폭이 약 50㎛ 미만인 경우 신뢰성에 저하될 수 있고, 상기 제 1 서브 배선(211)의 선폭이 약 500㎛를 초과할 경우 연신율이 저하되어 스트레쳐블 특성이 저하될 수 있다. 바람직하게 상기 제 1 서브 배선(211)의 선폭은 스트레쳐블 특성을 고려하여 약 100㎛ 내지 약 400㎛일 수 있다.
상기 제 1 배선(210)은 다양한 형상을 가질 수 있다. 예를 들어, 평면에서 보았을 때 상기 복수의 제 1 서브 배선(211)들 각각은 도 12와 같이 상기 제 1 방향으로 연장하는 직선 형태를 가질 수 있다. 이와 다르게, 평면에서 보았을 때 상기 복수의 제 1 서브 배선(211)들 각각은 도 13과 같이 상기 제 1 방향으로 연장하는 곡선 형태를 가질 수 있다. 예를 들어, 상기 복수의 제 1 서브 배선(211)들 각각은 구불거리는 패턴이 반복되는 형태로 제공될 수 있다. 이때, 상기 제 1 서브 배선(211)은 약 3R 내지 약 20R(mm)의 곡률 패턴을 가질 수 있다. 이에 따라, 상기 마스크(1000A)가 일 방향으로 연신되거나 수축할 경우, 상기 제 1 배선(210)은 스트레쳐블(stretchable) 특성을 가지며 끊어지지 않을 수 있다. 바람직하게, 상기 제 1 서브 배선(211)은 약 5R 내지 약 15R(mm)의 곡률 패턴을 가질 수 있다. 이에 따라, 상기 제 1 배선(210)은 보다 향상된 스트레쳐블 특성을 가질 수 있어 신뢰성을 향상시킬 수 있다.
또한, 상기 제 1 배선(210)은 약 10% 내지 약 50%의 연신율을 가질 수 있다. 이와 또 다르게, 도면에는 도시하지 않았으나 평면에서 보았을 때, 상기 복수의 제 1 서브 배선(211)들 각각은 상기 제 1 방향으로 연장하는 직선 및 곡선이 혼재된 패턴이 반복되는 형태를 가질 수 있다. 예를 들어, 평면에서 보았을 때, 사용자의 얼굴 중 상대적으로 굴곡진 영역과 중첩되는 영역에 위치한 상기 제 1 서브 배선(211)은 곡선 형태로 제공될 수 있고, 상대적으로 평평한 영역과 중첩되는 영역에 위치한 상기 제 1 서브 배선(211)은 직선 형태로 제공될 수 있다. 이에 따라, 상기 마스크(1000A)를 사용자의 얼굴에 부착할 경우, 상기 마스크(1000A)의 변형에 의해 상기 제 1 배선(210)이 파손되는 문제를 해결할 수 있다. 또한, 상기 제 1 서브 배선(211)은 직선 및 곡선이 혼재된 형태로 제공되어 전기적 특성을 유지함과 동시에 상기 제 1 배선(210)이 차지하는 비율을 감소시킬 수 있어 전체적인 제조 비용을 감소할 수 있다.
상기 제 1 기재(110) 상에는 압전소자(300)가 배치될 수 있다. 자세하게, 상기 압전소자(300)는 상기 제 1 배선(210) 상에 배치되어 상기 제 1 배선(210)과 전기적으로 연결될 수 있다. 상기 압전소자(300)는 세라믹 재질을 포함할 수 있다. 일례로, 상기 압전소자(300)는 ZnO, AlN, LiNbO4, 납 안티몬 주석산염(lead antimony stannate), 납 마그네슘 탄탈산염(lead magnesium tantalate), 납 니켈 탄탈산염(lead nickel tantalate), 티탄산염(titanates), 텅스텐산염(tungstates), 지르콘산염(zirconates), 또는 납 지르콘산염 티탄산염[Pb(ZrxTi1-x)O3(PZT)], 납 란탄 지르콘산염 티탄산염(PLZT), 납 니오브 지르콘산염 티탄산염(PNZT), BaTiO3, SrTiO3, 납 마그네슘 니오브산염, 납 니켈 니오브산염, 납 망간 니오브산염, 납 아연 니오브산염, 납 티탄산염을 포함하는 납, 바륨, 비스무스, 또는 스트론튬의 니오브산염(niobates) 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.
상기 압전소자(300)는 상기 제 1 배선(210) 상에 복수개가 배치될 수 있다. 자세하게, 복수의 압전소자(300)는 상기 제 1 서브 배선(211) 상에서 서로 이격되어 배치될 수 있다. 예를 들어, 하나의 제 1 서브 배선(211) 상에는 복수개의 압전소자(300)가 배치될 수 있고, 상기 복수의 압전소자(300)는 상기 제 1 서브 배선(211) 상에서 등간격으로 이격될 수 있다. 또한, 하나의 제 1 서브 배선(211) 상에 배치된 압전소자(300)는 상기 하나의 제 1 서브 배선(211)과 최인접한 제 1 서브 배선(211) 상에 배치된 압전소자(300)와 제 2 방향으로 중첩되거나 중첩되지 않을 수 있다. 또한, 일부 압전소자(300) 사이의 간격은 등간격으로 배치될 수 있고, 나머지 압전소자(300)는 등간격으로 배치되지 않을 수 있다. 예를 들어, 사용자의 얼굴 표면 중 상대적으로 평평한 영역과 중첩되는 영역에서는 상기 압전소자(300) 사이의 간격이 등간격으로 배치될 수 있다. 그러나, 상대적으로 굴곡진 피부 영역과 중첩되는 영역에서는 상기 압전소자(300) 사이의 간격이 등간격으로 배치되지 않을 수 있다. 즉, 피부 표면의 굴곡진 정도에 따라 상기 압전소자(300) 사이의 간격이 상대적으로 좁거나 클 수 있다. 이에 따라, 실시예에 따른 마스크(1000A)는 굴곡진 피부에도 효과적으로 진동을 제공할 수 있다. 또한, 상기 압전소자(300)는 상기 마스크(1000A)의 전체 영역 상에 소정의 간격으로 배치될 수 있고, 상기 마스크(1000A)의 전체 영역에 진동을 고르게 발생할 수 있다.
상기 압전소자(300)는 상기 제 1 서브 배선(211)과 중첩될 수 있다. 자세하게, 상기 압전소자(300)의 하면은 상기 제 1 서브 배선(211)과 수직 방향으로 중첩될 수 있다.
상기 압전소자(300)는 인가된 전류에 의해 진동을 발생할 수 있다. 예를 들어, 상기 압전소자(300)는 인가된 전류에 의해 초음파 진동을 발생할 수 있다. 자세하게, 상기 압전소자(300)는 약 1MHz 이하의 초음파 진동을 발생할 수 있다. 더 자세하게, 상기 압전소자(300)는 약 10KHz 내지 약 1MHz의 초음파 진동을 발생할 수 있다. 더 자세하게, 상기 압전소자(300)는 약 100KHz 내지 약 800KHz의 초음파 진동을 발생할 수 있다. 상기 압전소자(300)에서 발생한 초음파 진동은 상기 마스크(1000A)의 일면 방향으로 진동하여 사용자의 피부에 전달되며 사용자의 피부를 마사지할 수 있다.
상기 압전소자(300)의 두께는 약 1500㎛ 이하일 수 있다. 자세하게, 상기 압전소자(300)의 두께는 약 1200㎛ 이하일 수 있다. 바람직하게 상기 압전소자(300)의 두께는 약 1000㎛ 이하일 수 있다. 상기 압전소자(300)의 두께는 상기 마스크(1000A)의 전체 두께 및 가변 특성을 고려하여 상술한 범위를 만족하는 것이 바람직하다.
상기 압전소자(300)는 다양한 형상을 가질 수 있다. 예를 들어, 상기 압전소자(300)는 하면 및 상면이 다각형인 다각 기둥 형상을 가질 수 있고, 하면 및 상면이 원인 원 기둥 형상을 가질 수 있다. 또한, 상기 압전소자(300)는 하면 및 상면 중 하나의 면이 다각형이고 나머지 면이 원인 기둥 형상을 가질 수 있다. 일례로, 상기 압전소자(300)의 하면 및 상면 중 적어도 하나의 면적은 약 100mm2 이하일 수 있다.
상술한 바와 같이 상기 압전소자(300)는 다양한 기둥 형상을 가질 수 있고, 상기 기둥 형상에 따라 발생하는 초음파 진동의 강도, 진동의 발진 방향 등을 제어할 수 있다. 또한, 상기 압전소자(300)의 크기, 배치 간격, 배치 밀도 등에 따라 사용자의 피부에 전달하는 진동의 강도를 조절할 수 있다.
상기 압전소자(300)는 다양한 파동을 발생할 수 있다. 일례로, 상기 압전소자(300)는 파동이 나아가는 방향과 매질의 진동 방향이 수직인 횡파 및 파동이 나아가는 방향과 매질의 진동 방향이 같은 종파 중 적어도 하나의 파동을 발생할 수 있다. 또한, 상기 압전소자(300)는 다중 공진할 수 있다. 예를 들어, 상기 압전소자(300)는 적어도 하나의 비아홀을 포함할 수 있고, 형성된 상기 비아홀에 의해 다중 공진할 수 있다. 이때, 상기 비아홀의 상부 면적은 다중 공진을 위해 상기 압전소자(300)의 상면 면적의 약 10% 내지 약 45%일 수 있다. 또한, 상기 압전소자(300)가 상기 비아홀에 의해 다중 공진할 경우, 다중 공진 주파수 영역의 수는 상기 비아홀의 개수와 대응될 수 있다. 즉, 상기 압전소자(300)는 설정된 비아홀의 개수 범위에서 상기 비아홀의 개수가 많을수록 다양한 주파수 영역의 파장을 방출할 수 있다.
상기 압전소자(300) 상에는 제 2 기재(120)가 배치될 수 있다. 상기 제 2 기재(120)는 투명하며 수분 차단성, 열적 안정성 등을 고려한 재질을 포함할 수 있다. 또한, 상기 제 2 기재(120)는 유연성을 가지며 굴곡진 사용자의 피부 형상에 따라 가변되는 재질을 포함할 수 있다. 일례로, 상기 제 2 기재(120)는 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리에틸렌나트팔레이트(PEN), 및 폴리이미드(PI) 등의 수지 재질을 포함할 수 있다. 상기 제 2 기재(120)는 필름 형태로 제공될 수 있다. 상기 제 2 기재(120)는 상기 제 1 기재(110)와 동일한 재질로 제공될 수 있고, 동일한 형태를 가질 수 있다.
상기 제 2 기재(120)는 약 0.5㎛ 내지 약 5㎛의 두께를 가질 수 있다. 상기 제 2 기재(120)의 두께가 약 0.5㎛ 미만인 경우, 상기 제 2 기재(120) 상에 배치되는 구성들, 예컨대, 압전소자(300) 등의 무게에 의해 상기 구성들과 중첩되는 상기 제 2 기재(120)의 영역이 쳐지는 문제점이 발생할 수 있다. 이에 따라, 상기 제 2 기재(120)의 신뢰성이 저하될 수 있고, 상기 제 2 기재(120) 상에 배치되는 구성들의 얼라인(align) 문제가 발생할 수 있다. 또한, 상기 제 2 기재(120)의 두께가 약 5㎛를 초과하는 경우, 상기 마스크(1000A)의 전체 두께가 증가될 수 있다. 이에 따라, 상기 마스크(1000A)가 사용자의 피부 형상에 따라 효율적으로 가변하지 못하여 사용자의 피부와 효과적으로 밀착하지 못하는 문제점이 있다. 바람직하게, 상기 제 2 기재(120)는 약 0.5㎛ 내지 약 3㎛의 두께를 가질 수 있다. 상기 제 2 기재(120)의 두께가 상술한 범위를 만족할 경우, 신뢰성 및 얼라인 특성을 유지하며 사용자의 피부와 대응되는 형태로 효율적으로 가변할 수 있고, 상기 마스크(1000A)의 전체 두께 및 무게가 감소할 수 있다. 상기 제 2 기재(120)는 상기 제 1 기재(110)와 동일한 두께를 가질 수 있다.
상기 제 2 기재(120) 상에는 제 2 배선(220)이 배치될 수 있다. 상기 제 2 배선(220)은 상기 압전소자(300)와 전기적으로 연결될 수 있다. 상기 제 2 배선(220)은 전도성 재질을 포함할 수 있다. 일례로, 상기 제 2 배선(220)은 알루미늄(Al), 구리(Cu), 은(Ag), 금(Au), 크롬(Cr), 니켈(Ni), 몰리므덴(Mo), 티타늄(Ti) 및 이들의 합금 중 적어도 하나의 금속을 포함할 수 있다. 또한, 상기 제 2 배선(220)은 카본(carbon) 등과 같은 비금속을 포함할 수 있다. 상기 제 2 배선(220)은 상기 제 1 배선(210)과 동일한 재질을 포함할 수 있다.
상기 제 2 배선(220)은 상기 압전소자(300)와 마주하는 상기 제 2 기재(120)의 일면 상에 배치될 수 있다. 즉, 상기 제 2 배선(220)은 사용자의 피부와 마주하는 상기 제 2 기재(120)의 타면과 반대되는 일면 상에 배치될 수 있다. 상기 제 2 배선(220)은 상기 제 2 기재(120)의 일면과 직접 접촉하며 상기 제 1 배선(210)과 다른 방향으로 연장할 수 있다. 예를 들어, 상기 제 2 배선(220)은 상기 제 1 배선(210)이 연장하는 상기 제 1 방향과 다른 상기 제 2 방향으로 연장할 수 있다. 상기 제 2 배선(220)은 상기 제 2 기재(120)의 일면 상에 증착, 인쇄 등의 공정으로 형성될 수 있다.
상기 제 2 배선(220)은 상기 제 2 기재(120) 상에 배치되는 복수의 제 2 서브 배선(221)들을 포함할 수 있다. 상기 복수의 제 2 서브 배선(221)들은 상기 제 2 방향으로 연장하며 상기 제 1 방향으로 서로 이격하여 배치될 수 있다. 상기 복수의 제 2 서브 배선(221)들은 서로 전기적으로 연결될 수 있다.
상기 제 2 서브 배선(222)은 상기 압전소자(300)와 중첩될 수 있다. 자세하게, 상기 제 2 서브 배선(222)은 상기 압전소자(300)의 상면과 수직 방향으로 중첩될 수 있다.
상기 제 1 배선(210) 및 상기 제 2 배선(220)은 서로 교차하며 배치될 수 있다. 자세하게, 도 12와 같이 평면에서 보았을 때, 제 1 서브 배선(211) 및 상기 제 2 서브 배선(221)은 메쉬(mesh) 형상으로 서로 교차하며 배치될 수 있고, 상기 서브 배선들(211, 221) 사이에는 상기 배선들(210, 220)이 배치되지 않은 오픈 영역(OA)이 형성될 수 있다.
상기 제 2 서브 배선(221)의 두께는 약 2㎛ 내지 약 50㎛일 수 있다. 자세하게, 상기 제 2 서브 배선(221)의 두께는 약 2㎛ 내지 약 40㎛일 수 있다. 상기 제 2 서브 배선(221)의 두께가 약 2㎛ 미만인 경우 전기적 특성이 저하될 수 있고, 균일하게 형성하기 어려울 수 있다. 또한, 상기 제 2 서브 배선(221)의 두께가 약 50㎛를 초과할 경우 상기 마스크(1000A)의 전체 두께가 증가할 수 있고, 상기 제 2 배선(220)의 제조 시간이 증가할 수 있다. 또한, 상기 제 2 서브 배선(221)의 두께가 너무 두꺼워 스트레쳐블 특성이 저하될 수 있다. 바람직하게, 상기 제 2 서브 배선(221)의 두께는 수평 방향으로의 스트레쳐블 특성, 신뢰성 및 공정 효율을 고려하여 약 30㎛ 이하일 수 있다. 상기 제 2 서브 배선(221)의 두께는 상기 제 1 서브 배선(211)의 두께와 동일하게 제공되어 공정 효율을 향상시킬 수 있다.
또한, 상기 제 2 서브 배선(221)의 선폭은 상기 제 2 서브 배선(221)의 두께보다 클 수 있다. 예를 들어, 상기 제 2 서브 배선(221)의 선폭은 약 50㎛ 내지 약 500㎛ 이하일 수 있다. 자세하게, 상기 제 2 서브 배선(221)의 선폭은 약 100㎛ 내지 약 450㎛일 수 있다. 상기 제 2 서브 전극(221)의 선폭이 약 50㎛ 미만인 경우 신뢰성에 저하될 수 있고, 상기 제 2 서브 배선(221)의 선폭이 약 500㎛를 초과할 경우 연신율이 저하되어 스트레쳐블 특성이 저하될 수 있다. 바람직하게 상기 제 2 서브 배선(221)의 선폭은 스트레쳐블 특성을 고려하여 약 100㎛ 내지 약 400㎛일 수 있다. 상기 제 2 서브 배선(221)의 선폭은 상기 제 1 서브 배선(211)의 선폭과 동일하게 제공되어 공정 효율을 향상시킬 수 있다.
상기 제 2 배선(220)은 다양한 형상을 가질 수 있다. 예를 들어, 평면에서 보았을 때 상기 복수의 제 2 서브 배선(221)들 각각은 도 12와 같이 상기 제2 방향으로 연장하는 직선 형태를 가질 수 있다. 이와 다르게, 평면에서 보았을 때 상기 복수의 제 2 서브 배선(221)들 각각은 도 13과 같이 상기 제 2 방향으로 연장하는 곡선 형태를 가질 수 있다. 예를 들어, 상기 복수의 제 2 서브 배선(221)들 각각은 구불거리는 패턴이 반복되는 형태로 제공될 수 있다. 이때, 상기 제 2 서브 배선(221)은 약 3R 내지 약 20R(mm)의 곡률 패턴을 가질 수 있다. 이에 따라, 상기 마스크(1000A)가 일 방향으로 연신되거나 수축할 경우, 상기 제 2 배선(220)은 스트레쳐블(stretchable) 특성을 가지며 끊어지지 않을 수 있다. 바람직하게, 상기 제 2 서브 배선(221)은 약 5R 내지 약 15R(mm)의 곡률 패턴을 가질 수 있다. 이에 따라, 상기 제 2 배선(220)은 보다 향상된 스트레쳐블 특성을 가질 수 있어 신뢰성을 향상시킬 수 있다.
또한, 상기 제 2 배선(220)은 약 10% 내지 약 50%의 연신율을 가질 수 있다. 이와 또 다르게, 도면에는 도시하지 않았으나 평면에서 보았을 때, 상기 복수의 제 2 서브 배선(221)들 각각은 상기 제 2 방향으로 연장하는 직선 및 곡선이 혼재된 패턴이 반복되는 형태를 가질 수 있다. 예를 들어, 평면에서 보았을 때, 사용자의 얼굴 중 상대적으로 굴곡진 영역과 중첩되는 영역에 위치한 상기 제 2 서브 배선(221)은 곡선 형태로 제공될 수 있고, 상대적으로 평평한 영역과 중첩되는 영역에 위치한 상기 제 2 서브 배선(221)은 직선 형태로 제공될 수 있다. 이에 따라, 상기 마스크(1000A)를 사용자의 얼굴에 부착할 경우, 상기 마스크(1000A)의 변형에 의해 상기 제 2 배선(220)이 파손되는 문제를 해결할 수 있다. 또한, 상기 제 2 서브 배선(221)은 직선 및 곡선이 혼재된 형태로 제공되어 전기적 특성을 유지함과 동시에 상기 제 2 배선(220)이 차지하는 비율을 감소시킬 수 있어 전체적인 제조 비용을 감소할 수 있다.
상기 제 2 배선(220)은 상기 마스크(1000A)의 스트레쳐블 특성을 고려하여 상기 제 1 배선(210)과 동일한 형태를 가지는 것이 바람직하다. 즉, 상기 마스크(1000A)에서 동일한 영역에 배치된 상기 제 1 배선(210) 및 상기 제 2 배선(220)은 서로 동일한 형태를 가지는 것이 바람직하다.
또한, 도면에는 도시하지 않았으나, 상기 제 2 배선(220)은 상기 제 2 기재(120) 상에서 상기 제 1 배선(210)과 동일한 방향으로 연장할 수 있다. 즉, 상기 제 2 배선(220)은 상기 제 1 배선(210)과 동일한 제 1 방향으로 연장할 수 있다.
실시예에 따른 마스크(1000A)는 제 2 베이스층(520)를 포함할 수 있다. 상기 제 2 베이스층(520)는 상기 제 2 기재(120) 상에 배치될 수 있다. 상기 제 2 베이스층(520)는 상기 제 2 기재(120)의 일면과 반대되는 타면 상에 배치될 수 있다. 상기 제 1 베이스층(510)는 상기 제 2 기재(120)의 타면과 직접 접촉하며 배치될 수 있다.
상기 제 2 베이스층(520)는 사용자의 피부와 마주하며 상기 피부와 접할 수 있는 부분으로 인체에 무해한 재질을 포함할 수 있다. 또한, 상기 제 2 베이스층(520)는 연질이면서 탄성을 가지는 재질을 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 제 1 베이스층(510)는 실리콘, 열가소성 수지, 열가소성 실리콘 수지, 열가소성 탄성중합체, 폴리우레탄 탄성중합체, 에틸렌 비닐아세테이트(EVA), 무해성 가소제 및 안정제가 첨가된 폴리염화비닐(PVC) 재질 중 적어도 하나의 재질을 포함할 수 있다. 바람직하게, 상기 제 2 베이스층(520)는 비교적 가볍고 사용자의 피부와 접촉 시 자극을 최소화할 수 있고 소정의 탄성을 가지는 실리콘 탄성중합체를 포함할 수 있다.
상기 제 2 베이스층(520)는 상기 제 2 기재(120)의 타면 전체 영역을 덮으며 배치될 수 있다. 즉, 평면에서 보았을 때 상기 제 2 베이스층(520)의 평면적은 상기 제 2 기재(120)의 타면 면적과 대응될 수 있다. 또한, 상기 제 2 베이스층(520)의 평면적은 상기 제 2 기재(120)의 타면 면적보다 클 수 있다. 이에 따라, 상기 제 2 베이스층(520)은 상기 제 2 기재(120)의 측면을 감싸며 배치될 수 있다. 상기 제 2 베이스층(520)는 상기 제 2 기재(120)의 타면이 외부에 노출되는 것을 방지할 수 있다.
또한, 상기 제 2 베이스층(520)는 상기 압전소자(300)에서 방출된 파장을 상기 마스크(1000A)의 일면 방향으로 통과시켜 사용자의 피부에 전달할 수 있다. 즉, 상기 제 2 베이스층(520)은 투과층일 수 있다. 이를 위해, 상기 제 2 베이스층(520)의 두께는 상기 제 2 베이스층(520)의 임피던스(impedance)와 상기 압전소자(300)의 구동 주파수에 따라 변화할 수 있다. 일례로, 상기 압전소자(300)의 구동 주파수가 약 1MHz 이하일 경우, 상기 제 2 베이스층(520)의 두께는 약 50㎛ 내지 약 1mm 일 수 있다. 상기 제 2 베이스층(520)의 두께가 약 50㎛ 미만인 경우, 상기 제 2 베이스층(520)의 두께가 상대적으로 얇아 상기 제 2 기재(120)를 효과적으로 보호할 수 없다. 또한, 상기 제 2 베이스층(520)의 두께가 약 1mm를 초과할 경우, 전체 마스크(1000A)의 두께가 증가할 수 있다. 상기 제 2 베이스층(520)의 두께는 상기 압전소자(300)에서 방출된 파장을 효과적으로 통과시키기 위해 상술한 범위를 만족하는 것이 바람직하다. 바람직하게 상기 제 2 베이스층(520)의 두께는 신뢰성, 투과 특성, 제조되는 마스크(1000A)의 두께 및 무게 등을 고려하여 약 100㎛ 내지 약 700㎛의 두께 범위를 가질 수 있다.
실시예에 따른 마스크(1000A)는 제 1 베이스층(510)를 포함할 수 있다. 상기 제 1 베이스층(510)는 상기 제 1 기재(110)의 하부에 배치될 수 있다. 상기 제 1 베이스층(510)는 상기 제 1 기재(110)의 일면과 반대되는 타면 상에 배치될 수 있다. 상기 제 1 베이스층(510)는 상기 제 1 기재(110)의 타면과 직접 접촉하며 배치될 수 있다.
상기 제 1 베이스층(510)는 인체에 무해한 재질을 포함할 수 있다. 또한, 상기 제 1 베이스층(510)는 연질이면서 탄성을 가지는 재질을 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 제 1 베이스층(510)는 실리콘, 열가소성 수지, 열가소성 실리콘 수지, 열가소성 탄성중합체, 폴리우레탄 탄성중합체, 에틸렌 비닐아세테이트(EVA), 무해성 가소제 및 안정제가 첨가된 폴리염화비닐(PVC) 재질 중 적어도 하나의 재질을 포함할 수 있다. 바람직하게, 상기 제 1 베이스층(510)는 비교적 가볍고 사용자의 피부와 접촉 시 자극을 최소화할 수 있고 소정의 탄성을 가지는 실리콘 탄성중합체를 포함할 수 있다. 상기 제 1 베이스층(510)는 상기 제 2 베이스층(520)와 동일한 재질로 제공될 수 있다.
상기 제 1 베이스층(510)는 상기 제 1 기재(110)의 타면 전체 영역을 덮으며 배치될 수 있다. 즉, 평면에서 보았을 때 상기 제 1 베이스층(510)의 평면적은 상기 제 1 기재(110)의 타면 면적과 대응될 수 있다. 또한, 상기 제 1 베이스층(510)의 평면적은 상기 제 1 기재(110)의 타면 면적보다 클 수 있다. 이에 따라, 상기 제 1 베이스층(510)은 상기 제 1 기재(110)의 측면을 감싸며 배치될 수 있다. 상기 제 1 베이스층(510)는 상기 제 1 기재(110)의 타면이 외부에 노출되는 것을 방지할 수 있다.
또한, 상기 제 1 베이스층(510)는 상기 압전소자(300)에서 방출된 파장을 상기 마스크(1000A)의 일면 방향으로 반사시킬 수 있다. 즉, 상기 제 1 베이스층(51)은 반사층일 수 있다. 이를 위해 상기 제 1 베이스층(510)의 두께는 상기 제 2 베이스층(520)의 두께보다 얇거나 같을 수 있다. 자세하게, 상기 압전소자(300)에서 상기 제 1 기재(110) 방향으로 방출된 파장이 상기 제 1 베이스층(510)에 반사되기 위해 상기 제 1 베이스층(510)의 두께는 상기 제 2 베이스층(520)의 두께보다 얇거나 같을 수 있다.
상기 제 1 베이스층(510)의 두께는 약 50㎛ 내지 약 1mm 일 수 있다. 상기 제 1 베이스층(510)의 두께가 약 50㎛ 미만인 경우, 상기 제 1 베이스층(510)의 두께가 상대적으로 얇아 상기 제 1 기재(110)를 효과적으로 보호할 수 없다. 또한, 상기 제 1 베이스층(510)의 두께가 약 1mm를 초과할 경우, 전체 마스크(1000A)의 두께가 증가할 수 있고, 상기 압전소자(300)에서 상기 제 1 기재(110) 방향으로 방출된 파장의 대부분이 상기 제 1 베이스층(510)를 통과하여 상기 제 1 베이스층(510)에 반사되어 상기 마스크(1000A)의 일면 방향으로 반사되는 양이 적을 수 있다. 또한, 상기 마스크(1000A)의 일면 방향으로의 반사를 위해 상기 제 2 베이스층(520)의 요구 두께가 증가할 수 있고, 반사를 위해 상기 압전소자(300)에서 발생하는 파장의 영역대가 높아 마스크(1000A)에 사용하기 적절하지 않을 수 있다. 따라서, 상기 제 1 베이스층(510)의 두께는 상기와 같은 문제를 방지하기 위해 상술한 범위를 만족하는 것이 바람직하다. 보다 바람직하게, 상기 제 1 베이스층(510)의 두께는 약 100㎛ 내지 약 700㎛ 일 수 있다. 즉, 상기 제 1 베이스층(510)는 신뢰성, 반사 특성, 제조되는 마스크(1000A)의 두께 및 무게 등을 고려하여 약 100㎛ 내지 약 700㎛의 두께 범위를 가지는 것이 바람직하다.
또한, 상기 제 1 베이스층(510)는 상기 압전소자(300)에서 발생하는 파장을 효과적으로 반사시키기 위해 내부에 기공 등이 형성될 수 있다. 또한, 상기 압전소자(300)와 마주하는 상기 제 1 베이스층(510)의 일면에는 상기 일면으로부터 상기 일면과 반대되는 타면 방향으로 오목한 적어도 하나의 홈을 포함할 수 있다. 상기 홈은 상기 압전소자(300)와 수직 방향으로 중첩되는 위치에 배치될 수 있고, 에어(air) 등이 충진되어 상기 압전소자(300)의 파장을 상부 방향, 예컨대 상기 제 2 기재 방향으로 반사시킬 수 있다.
이에 따라, 상기 압전소자(300)에서 방출된 파장은 상기 제 2 기재(120) 및 상기 제 2 베이스층(520)를 통해 사용자의 전달될 수 있고, 상기 제 1 기재(110) 방향으로 방출된 파장은 상기 제 1 베이스층(510)에 반사되어 사용자의 피부에 효과적으로 전달될 수 있다.
실시예에 따른 마스크(1000A)는 적어도 하나의 감지부(700)를 포함할 수 있다. 상기 감지부(700)는 상기 제 1 기재(110) 및 상기 제 2 기재(120) 사이에 배치될 수 있다. 상기 감지부(700)는 상기 오픈 영역(OA)과 수직 방향으로 중첩될 수 있다. 즉, 상기 감지부(700)는 수직 방향을 기준으로 상기 제 1 배선(210) 및 상기 제 2 배선(220)과 중첩되지 않는 영역에 배치될 수 있다. 또한, 상기 감지부(700)는 수직 방향을 기준으로 상기 압전소자(300)와 중첩되지 않는 영역에 배치될 수 있다.
상기 감지부(700)는 전도성 재질을 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 감지부(700)는 금속 재질을 포함할 수 있다. 자세하게, 상기 감지부(700)는 알루미늄(Al), 구리(Cu), 은(Ag), 금(Au), 크롬(Cr), 니켈(Ni), 몰리므덴(Mo), 티타늄(Ti) 및 이들의 합금 중 적어도 하나의 금속을 포함할 수 있다. 또한, 상기 감지부(700)는 금속 산화물을 포함할 수 있다. 자세하게, 상기 감지부(700)는 인듐 주석 산화물(indium tin oxide), 인듐 아연 산화물(indium zinc oxide), 구리 산화물(copper oxide), 주석 산화물(tin oxide), 아연 산화물(zinc oxide), 티타늄 산화물(titanium oxide) 등의 금속 산화물을 포함할 수 있다. 또한, 상기 감지부(700)는 나노와이어, 감광성 나노와이어 필름, 탄소나노튜브(CNT), 그래핀(graphene), 전도성 폴리머 또는 이들의 혼합물을 포함할 수 있다. 상기 감지부(700)는 상술한 재질을 포함함에 따라 플렉서블한 특징을 가질 수 있다. 바람직하게, 상기 감지부(700)는 금속 재질을 포함할 수 있다. 일례로, 상기 감지부(700)는 상기 제 1 배선(210) 및/또는 상기 제 2 배선(220)과 동일한 재질로 제공되어 상기 제 1 배선(210) 및/또는 상기 제 2 배선(220) 형성 시 함께 형성될 수 있다.
상기 감지부(700)는 서로 이격되는 제 1 감지 전극(710) 및 제 2 감지 전극(720)을 포함할 수 있다.
상기 제 1 감지 전극(710)은 상기 제 1 기재(110) 상에 배치될 수 있다. 상기 제 1 감지 전극(710)은 상기 사용자의 피부와 마주하는 상기 제 1 기재(110)의 일면 상에 배치될 수 있다. 상기 제 1 감지 전극(710)은 상기 제 1 기재(110)의 일면과 직접 접촉하며 배치될 수 있다. 상기 제 1 감지 전극(710)은 상기 제 1 배선(210)과 동일 평면 상에 배치될 수 있고, 상기 제 1 배선(210)과 다른 방향으로 연장할 수 있다. 예를 들어, 상기 제 1 서브 배선(211)은 상기 제 1 방향으로 연장할 수 있고, 상기 제 1 감지 전극(710)은 상기 제 1 방향과 다른 상기 제 2 방향으로 연장할 수 있다.
상기 제 1 감지 전극(710)은 상기 제 1 배선(210)과 연결될 수 있다. 자세하게, 상기 제 1 감지 전극(710)은 상기 제 1 서브 배선(211)에서 연장하는 제 1 배선(215)에 의해 상기 제 1 배선(210)과 전기적으로 연결될 수 있다. 자세하게, 상기 제 1 배선(215)은 상기 제 1 배선(210)으로부터 상기 오픈 영역(OA)으로 연장하여 상기 제 1 감지 전극(710)과 물리적, 전기적으로 연결될 수 있다.
상기 제 1 배선(215)은 상기 제 1 배선(210)을 형성하는 과정에 상기 제 1 배선(210)와 동시에 형성될 수 있다. 이에 따라, 상기 제 1 배선(215)은 상기 제 1 배선(210)과 동일한 재질을 포함할 수 있다. 또한, 상기 제 1 배선(215)은 상기 제 1 서브 배선(211)과 동일한 선폭 및 두께를 가질 수 있다.
이와 다르게, 상기 제 1 배선(215)은 상기 제 1 감지 전극(710)을 형성하는 과정에 상기 제 1 감지 전극(710)과 동시에 형성될 수 있고, 상기 제 1 감지 전극(710)과 동일한 재질을 포함할 수 있다.
이와 또 다르게, 상기 제 1 배선(215)은 상기 제 1 배선(210) 및 상기 제 1 감지 전극(710)을 동시에 형성하는 과정에서 함께 형성될 수 있다. 이 경우, 상기 제 1 배선(215), 상기 제 1 배선(210) 및 상기 제 1 감지 전극(710)은 서로 동일한 재질을 포함할 수 있다. 또한, 상기 제 1 배선(210), 상기 제 1 감지 전극(710) 및 상기 제 1 배선(215)은 동일한 두께를 가질 수 있다.
상기 제 2 감지 전극(720)은 상기 제 2 기재(120) 상에 배치될 수 있다. 상기 제 2 감지 전극(720)은 상기 압전소자(300)와 마주하는 상기 제 2 기재(120)의 일면 상에 배치될 수 있다. 상기 제 2 감지 전극(720)은 상기 제 2 기재(120)의 일면과 직접 접촉하며 배치될 수 있다. 상기 제 2 감지 전극(720)은 상기 제 2 배선(220)과 동일 평면 상에 배치될 수 있고, 상기 제 2 배선(220)과 다른 방향으로 연장할 수 있다. 예를 들어, 상기 제 2 서브 배선(221)은 상기 제 2 방향으로 연장할 수 있고, 상기 제 2 감지 전극(720)은 상기 제 2 방향과 다른 상기 제 1 방향으로 연장할 수 있다.
상기 제 2 감지 전극(720)은 상기 제 2 배선(220)과 연결될 수 있다. 자세하게, 상기 제 2 감지 전극(720)은 상기 제 2 서브 배선(221)에서 연장하는 제 2 배선(225)에 의해 상기 제 2 배선(220)과 전기적으로 연결될 수 있다. 자세하게, 상기 제 2 배선(225)은 상기 제 2 배선(220)으로부터 상기 오픈 영역(OA)으로 연장하여 상기 제 2 감지 전극(720)과 물리적, 전기적으로 연결될 수 있다.
상기 제 2 배선(225)은 상기 제 2 배선(220)을 형성하는 과정에 상기 제 2 배선(220)와 동시에 형성될 수 있다. 이에 따라, 상기 제 2 배선(225)은 상기 제 2 배선(220)과 동일한 재질을 포함할 수 있다. 또한, 상기 제 2 배선(225)은 상기 제 2 서브 배선(221)과 동일한 선폭 및 두께를 가질 수 있다.
이와 다르게, 상기 제 2 배선(225)은 상기 제 2 감지 전극(720)을 형성하는 과정에 상기 제 2 감지 전극(720)과 동시에 형성될 수 있고, 상기 제 2 감지 전극(720)과 동일한 재질을 포함할 수 있다.
이와 또 다르게, 상기 제 2 배선(225)은 상기 제 2 배선(220) 및 상기 제 2 감지 전극(720)을 동시에 형성하는 과정에서 함께 형성될 수 있다. 이 경우, 상기 제 2 배선(225), 상기 제 2 배선(220) 및 상기 제 2 감지 전극(720)은 서로 동일한 재질을 포함할 수 있다. 또한, 상기 제 2 배선(220), 상기 제 2 감지 전극(720) 및 상기 제 2 배선(225)은 동일한 두께를 가질 수 있다.
상기 제 1 감지 전극(710) 및 상기 제 2 감지 전극(720)은 동일한 오픈 영역(OA) 내에 배치될 수 있다. 또한, 상기 오픈 영역(OA) 내에서 상기 제 1 감지 전극(710) 및 상기 제 2 감지 전극(720)은 수직 방향으로 중첩되지 않을 수 있다. 즉, 도 5와 같이 상기 제 1 감지 전극(710) 및 상기 제 2 감지 전극(720)은 상기 오픈 영역(OA) 내에서 수평 방향으로 이격될 수 있다. 상기 제 1 감지 전극(710) 및 상기 제 2 감지 전극(720) 사이의 수평 방향 간격(d1)은 수백 ㎛ 이하일 수 있다.
상기 제 1 감지 전극(710) 및 상기 제 2 감지 전극(720)은 다양한 형상을 가질 수 있다. 예를 들어, 상기 제 1 감지 전극(710) 및 상기 제 2 감지 전극(720)의 평면 형상은 원, 다각형, 직선 및 곡선을 포함하는 형상 중 적어도 하나의 평면 형상을 가질 수 있다. 상기 제 1 감지 전극(710) 및 상기 제 2 감지 전극(720)은 동일한 평면 형상을 가질 수 있다. 또한, 상기 제 1 감지 전극(710) 및 상기 제 2 감지 전극(720)은 동일한 평면 면적을 가질 수 있다. 이에 따라 상기 제 1 감지 전극(710) 및 상기 제 2 감지 전극(720) 사이의 정전 용량 변화를 효과적으로 감지할 수 있다.
실시예에 따른 마스크(1000A)는 제어부(미도시)를 포함할 수 있다. 상기 제어부는 상기 제 1 배선(210), 상기 제 2 배선(220) 및 상기 감지부(700)와 연결될 수 있다. 상기 제어부는 입력된 신호에 의해 상기 제 1 배선(210) 및 상기 제 2 배선(220)에 전류를 인가하여 상기 압전소자(300)를 동작시킬 수 있다. 또한, 상기 제어부는 상기 감지부(700)를 통해 정전 용량 값의 변화를 감지할 수 있다. 자세하게, 상기 제어부는 상기 제 1 감지 전극(710) 및 상기 제 2 감지 전극(720) 사이의 정전 용량 값의 변화를 감지할 수 있다.
상기 마스크(1000A)는 상기 압전소자(300)에 전류를 인가하여 진동을 발생시키는 과정에 정전 용량 값의 변화를 실시간으로 감지할 수 있다.
예를 들어, 상기 제어부는 제 1 모드로 정의되는 신호를 인가하여 진동을 발생시킬 수 있고, 다른 제 2 모드 정의되는 신호를 인가하여 정전 용량 변화를 감지할 수 있다.
자세하게, 상기 마스크(1000A)가 제 1 모드로 동작할 경우 상기 제어부는 상기 제 1 배선(210) 및 상기 제 2 배선(220)에 전류를 인가할 수 있다. 이에 따라, 상기 압전소자(300)에서 진동이 발생할 수 있다. 또한, 상기 마스크(1000A)가 제 2 모드로 동작할 경우 상기 제어부는 상기 제 1 감지 전극(710) 및 상기 제 2 감지 전극(720)에 전류를 인가할 수 있다. 이에 따라, 상기 감지부(700)는 정전 용량 값의 변화를 감지할 수 있다.
상기 제어부는 상기 제 1 및 제 2 모드의 동작 순서를 제어할 수 있다. 예를 들어, 상기 제어부는 "제 1 모드-제 2 모드"의 순서로 상기 배선들(210, 220), 상기 감지부(700)에 신호를 인가할 수 있고, 상기 마스크(1000A)는 "진동 발생-정전 용량 변화 감지"순서로 동작할 수 있다.
또한, 상기 제어부는 상기 제 1 및 제 2 모드의 동작 시간을 제어할 수 있다. 예를 들어, 상기 제 1 모드는 제 1 시간 동안 동작하여 진동을 발생할 수 있다. 또한, 상기 제 2 모드는 상기 제 1 시간보다 짧은 제 2 시간 동안 동작하여 정전 용량 값의 변화를 감지할 수 있다. 여기서, 상기 제 2 시간은 인간이 감지할 수 없는 아주 짧은 시간으로 정전 용량 변화를 감지하기엔 충분한 시간일 수 있다. 즉, 상기 마스크(1000A)는 설정된 시간 동안 제 1 모드로 동작하고, 사용자가 체감하기 어려운 짧은 시간 동안 정전 용량 변화를 감지할 수 있다. 이어서 상기 마스크(1000A)는 다시 제 1 모드로 동작할 수 있다. 즉, 사용자는 상기 마스크(1000A)가 동작할 경우 피부에 진동이 지속적으로 제공되는 것으로 인지할 수 있고, 이와 동시에 상기 마스크(1000A)는 주기적으로 피부와의 접촉 여부를 감지할 수 있다.
실시예에 따른 마스크(1000A)는 제 1 보호층(551)을 포함할 수 있다. 상기 제 1 보호층(551)은 상기 제 1 기재(110) 및 상기 제 2 기재(120) 사이에 배치될 수 있다. 상기 제 1 보호층(551)은 상기 제 1 기재(110)의 일면 및 상기 제 2 기재(120)의 일면과 직접 접촉하며 배치될 수 있다.
상기 제 1 보호층(551)은 연질이며 탄성을 가지는 재질을 포함할 수 있다. 예를 들어, 상기 제 1 보호층(551)은 실리콘, 열가소성 수지, 열가소성 실리콘 수지, 열가소성 탄성중합체, 폴리우레탄 탄성중합체, 에틸렌 비닐아세테이트(EVA), 무해성 가소제 및 안정제가 첨가된 폴리염화비닐(PVC) 재질 중 적어도 하나의 재질을 포함할 수 있다. 이 중에서 상기 제 1 보호층(551)은 비교적 가볍고 사용자의 피부와 접촉 시 자극을 최소화할 수 있으며, 소정의 탄성을 가지는 실리콘 탄성중합체를 포함하는 것이 바람직할 수 있다.
상기 제 1 보호층(551)은 상기 제 1 기재(110) 및 상기 제 2 기재(120) 사이에 배치되어 상기 압전소자(300) 및 상기 감지부(700)를 보호할 수 있다. 자세하게, 상기 제 1 보호층(551)은 상기 기재들(110, 120) 사이에서 상기 압전소자(300) 및 상기 감지부(700)를 감싸며 배치되어 상기 구성들을 보호할 수 있다. 또한, 상기 제 1 보호층(551)은 상기 제 1 베이스층(510) 및 상기 제 2 베이스층(520)과 연결될 수 있다. 즉, 상기 제 1 베이스층(510), 상기 제 2 베이스층(520) 및 상기 제 1 보호층(551)는 일체로 형성되어 물리적으로 연결될 수 있고, 내부에 배치된 구성을 지지할 수 있다.
이에 대해 보다 상세히 설명하면, 상기 압전소자(300)는 하면 상에 배치되는 제 1 전극(310)을 포함할 수 있다. 상기 제 1 전극(310)은 전기적 특성을 고려하여 상기 압전소자(300)의 하면 전체 면적의 약 80% 이상의 면적으로 배치될 수 있다. 상기 자세하게, 제 1 전극(310)은 상기 압전소자(300)의 하면 전체 면적의 약 90%의 면적으로 배치될 수 있다. 또한, 상기 제 1 전극(310)은 상기 압전소자(300)의 하면 전체 영역 상에 배치될 수 있다. 그러나, 전극 형성 공정에서 전체 영역을 덮으며 형성하기 어려운 문제점이 있어 상기 제 1 전극(310)이 차지하는 비율은 상술한 범위를 만족하는 것이 바람직할 수 있다.
상기 제 1 전극(310)은 전도성 재질을 포함할 수 있다. 일례로, 상기 제 1 전극(310)은 금속 재질을 포함할 수 있다. 자세하게, 상기 제 1 전극(310)은 알루미늄(Al), 구리(Cu), 은(Ag), 금(Au), 크롬(Cr), 니켈(Ni), 몰리므덴(Mo), 티타늄(Ti) 및 이들의 합금 중 적어도 하나의 금속을 포함할 수 있다.
상기 제 1 전극(310)은 상기 제 1 배선(210)과 마주하며 배치되고, 상기 제 1 배선(210)과 전기적으로 연결될 수 있다. 자세하게, 상기 제 1 전극(310) 및 상기 제 1 배선(210) 사이에는 제 1 본딩층(251)이 배치될 수 있고, 상기 제 1 본딩층(251)에 의해 상기 제 1 전극(310) 및 상기 제 1 배선(210)은 물리적, 전기적으로 연결될 수 있다. 이때, 상기 제 1 본딩층(251)과 상기 제 1 배선(210)의 오버래핑 비율은 물리적, 전기적 연결 특성을 고려하여 약 20% 이상일 수 있다.
상기 제 1 본딩층(251)은 알루미늄(Al), 구리(Cu), 은(Ag), 금(Au), 크롬(Cr), 니켈(Ni), 몰리므덴(Mo), 티타늄(Ti) 및 이들의 합금 중 적어도 하나의 금속을 포함할 수 있다. 상기 제 1 본딩층(251)은 상기 제 1 전극(310) 및 상기 제 1 배선(210) 사이에 배치되어 전도성 접착제 역할을 수행할 수 있다. 일례로, 상기 제 1 본딩층(251)은 상기 제 1 배선(210) 상에 페이스트 형태로 도포될 수 있고, 상기 제 1 본딩층(251) 상에 상기 제 1 전극(310)을 포함하는 압전소자(300)가 배치될 수 있다. 이에 따라, 상기 압전소자(300)는 상기 제 1 배선(210)과 물리적 및 전기적으로 연결될 수 있다.
또한, 상기 압전소자(300)는 상면 상에 배치되는 제 2 전극(320)을 포함할 수 있다. 상기 제 2 전극(320)은 전기적 특성을 고려하여 상기 압전소자(300)의 상면 전체 면적의 약 80% 이상의 면적으로 배치될 수 있다. 상기 자세하게, 제 2 전극(320)은 상기 압전소자(300)의 상면 전체 면적의 약 90%의 면적으로 배치될 수 있다. 또한, 상기 제 2 전극(320)은 상기 압전소자(300)의 하면 전체 영역 상에 배치될 수 있다. 그러나, 전극 형성 공정에서 전체 영역을 덮으며 형성하기 어려운 문제점이 있어 상기 제 2 전극(320)이 차지하는 비율은 상술한 범위를 만족하는 것이 바람직할 수 있다.
상기 제 2 전극(320)은 전도성 재질을 포함할 수 있다. 일례로, 상기 제 2 전극(320)은 금속 재질을 포함할 수 있다. 자세하게, 상기 제 2 전극(320)은 알루미늄(Al), 구리(Cu), 은(Ag), 금(Au), 크롬(Cr), 니켈(Ni), 몰리므덴(Mo), 티타늄(Ti) 및 이들의 합금 중 적어도 하나의 금속을 포함할 수 있다.
상기 제 2 전극(320)은 상기 제 2 배선(220)과 마주하며 배치되고, 상기 제 2 배선(220)과 전기적으로 연결될 수 있다. 자세하게, 상기 제 2 전극(320) 및 상기 제 2 배선(220) 사이에는 제 2 본딩층(252)이 배치될 수 있고, 상기 제 2 본딩층(252)에 의해 상기 제 2 전극(320) 및 상기 제 2 배선(220)은 물리적, 전기적으로 연결될 수 있다. 이때, 상기 제 2 본딩층(252)과 상기 제 2 배선(220)의 오버래핑 비율은 물리적, 전기적 연결 특성을 고려하여 약 20% 이상일 수 있다.
상기 제 2 본딩층(251)은 알루미늄(Al), 구리(Cu), 은(Ag), 금(Au), 크롬(Cr), 니켈(Ni), 몰리므덴(Mo), 티타늄(Ti) 및 이들의 합금 중 적어도 하나의 금속을 포함할 수 있다. 상기 제 2 본딩층(252)은 상기 제 2 전극(320) 및 상기 제 2 배선(220) 사이에 배치되어 전도성 접착제 역할을 수행할 수 있다. 일례로, 상기 제 2 본딩층(252)은 상기 제 2 배선(220) 상에 페이스트 형태로 도포될 수 있고, 상기 제 2 본딩층(252) 상에 상기 제 2 전극패드(310)를 포함하는 압전소자(300)가 배치될 수 있다. 이에 따라, 상기 압전소자(300)는 상기 제 2 배선(220)과 물리적 및 전기적으로 연결될 수 있고, 상기 제 1 기재(110) 및 상기 제 2 기재(120)는 소정의 간격으로 이격되어 배치될 수 있다.
상기 제 1 본딩층(251)의 두께는 상기 제 2 본딩층(252)의 두께와 동일하게 제공되어 상기 마스크(1000A)의 가변성을 향상시킬 수 있다. 또한, 상기 제 1 본딩층(251)의 두께는 상기 제 2 본딩층(252)의 두께와 상이할 수 있다. 자세하게, 상기 제 1 본딩층(251)의 두께는 상기 제 2 본딩층(252)의 두께보다 두꺼울 수 있다. 이에 따라, 상기 압전소자(300)에서 상기 제 1 기재(110) 방향으로 방출된 파장은 상기 제 1 본딩층(251)에 반사되어 상기 제 2 기재(120) 방향으로 이동할 수 있다.
또한, 상기 마스크(1000A)는 제 3 본딩층(미도시)을 더 포함할 수 있다. 상기 제 3 본딩층은 상기 제 1 기재(110)의 타면 상에 배치될 수 있다. 즉, 상기 제 3 본딩층은 상기 제 1 기재(110)의 타면 및 상기 제 1 베이스층(510) 사이에 배치될 수 있다. 이에 따라, 상기 압전소자(300)에서 상기 제 1 기재(110) 방향으로 방출된 파장은 상기 제 3 본딩부에 반사되어 상기 제 2 기재(120) 방향으로 이동할 수 있다. 따라서, 상기 압전소자(300)에서 방출된 파장의 손실을 최소화할 수 있다.
이후, 상술한 바와 같이 상기 제 1 기재(110) 및 상기 제 2 기재(120) 사이 공간에는 상기 제 1 보호층(551)이 충진될 수 있다. 이에 따라, 상기 제 1 보호층(551)은 상기 압전소자(300), 상기 제 1 배선(210), 상기 제 2 배선(220) 및 상기 감지부(700)를 감싸며 배치될 수 있고, 상기 구성들이가 외부에 노출되는 것을 방지할 수 있다.
도 16 및 도 17은 제 2 실시예에 따른 마스크와 피부의 접촉 여부에 따른 감지부의 정전 용량 변화를 표현한 도면이다. 또한, 도 18은 제 2 실시예에 따른 마스크가 복수의 감지부를 포함하는 것을 도시한 도면이다.
도 16 내지 도 18을 참조하면, 실시예에 따른 마스크(1000A)는 사용자의 피부(50)와 접촉할 수 있다. 예를 들어, 상기 마스크(1000A)는 사용자의 피부(50)와 직접 접촉할 수 있고, 도면에 도시된 바와 같이 상기 마스크(1000A)와 상기 피부(50) 사이에 화장품 또는 약물(60)이 배치되어 직간접적으로 접촉할 수 있다.
도 16을 참조하면, 실시예에 따른 마스크(1000A)는 사용자의 피부(50)와 직간접적으로 접촉할 수 있다. 이 경우, 상기 감지부(700)의 정전 용량 값이 변화할 수 있다. 자세하게, 사용자의 피부에 흐르는 전류에 의해 상기 감지부(700)의 정전 용량 값이 변화할 수 있다. 예를 들어, 상기 마스크(1000A)와 사용자의 피부(50)가 접할 경우, 상기 제 1 감지 전극(710)과 상기 피부(50), 상기 제 2 감지 전극(720)과 상기 피부(50), 상기 제 1 감지 전극(710) 및 상기 제 2 감지 전극(720) 사이에 정전 용량이 나뉘어 형성될 수 있다. 이에 따라, 상기 제어부는 상기 감지부(700)의 정전 용량 변화를 인지하여 상기 마스크(1000A)와 사용자의 피부(50)가 접하고 있는 상태임을 인지할 수 있다.
또한, 도 17을 참조하면, 실시예에 따른 마스크(1000A)는 사용자의 피부(50)와 이격될 수 있다. 이 경우, 상기 감지부(700)의 정전 용량 값이 변화하지 않을 수 있다. 이에 따라, 상기 제어부는 상기 마스크(1000A)와 사용자의 피부(50)가 이격된 상태임을 인지할 수 있다.
도 18을 참조하면, 상기 마스크(1000A)는 복수 개의 감지부(700)를 포함할 수 있다. 자세하게, 상기 감지부(700)는 사용자의 얼굴 중 상대적으로 굴곡진 영역과 중첩되는 위치에 제공될 수 있다. 일례로, 상기 감지부(700)는 양 볼, 이마, 턱 등과 같이 상대적으로 굴곡진 영역과 대응되는 위치에 배치될 수 있다. 즉, 상기 감지부(700)는 굴곡진 피부 표면에 의해 상기 마스크(1000A)가 밀착하기 어려운 영역 상에 배치되어 상기 마스크(1000A)와 피부(50) 사이의 밀착 여부를 감지할 수 있다.
도 19는 실시예에 따른 마스크에 인디케이터가 배치된 예를 도시한 도면이다.
도 19를 참조하면, 실시예에 따른 마스크(1000)는 인디케이터(810)를 포함할 수 있다. 상기 인디케이터(810)는 LED, 디스플레이, 버저(buzzer) 등과 같이 시각적, 청각적 등 사용자에게 정보를 전달할 수 있는 부재 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.
상기 인디케이터(810)는 상기 마스크(1000)의 외측에 배치되어 상기 마스크(1000)의 동작 상태를 표시할 수 있다. 일례로, 상기 인디케이터(810)는 버저(buzzer)로부터 발생한 청각적 정보를 통해 상기 마스크(1000)의 동작 시작에 대한 정보, 동작 중임을 알리는 정보, 동작 완료에 대한 정보를 제공할 수 있다. 또한, 상기 인디케이터(810)는 LED의 발광 색상에 따라 동작 상태를 표시할 수 있다. 또한, 상기 인디케이터는 상기 디스플레이를 통해 동작중인 주파수 영역대에 대한 정보를 표시할 수 있다.
또한, 상기 인디케이터(810)는 상기 마스크(1000)와 피부(50) 사이의 밀착 여부에 대한 정보를 제공할 수 있다. 자세하게, 상기 마스크(1000)는 상술한 제 2 실시예와 같이 감지부(700)를 포함할 수 있다. 이에 따라, 상기 마스크(1000)는 상기 제 1 감지 전극(710) 및 상기 제 2 감지 전극(720) 사이의 정전 용량 변화를 감지할 수 있다. 일례로, 이마와 대응되는 영역 상에 배치된 감지부(700)가 정전 용량 값의 변화를 감지하지 못할 경우, 상기 인디케이터(810)는 시각적 또는 청각적 정보를 통해 사용자에게 마스크(1000)의 이마 부분이 밀착되지 않음을 알릴 수 있다. 이에 따라, 상기 인디케이터(810)는 상기 마스크(1000)와 사용자의 피부가 효과적으로 접촉하도록 정보를 제공할 수 있다.
도 20 및 도 21은 실시예에 따른 마스크에 돌기가 배치된 예를 도시한 도면이다.
도 20 및 도 21을 참조하면, 상기 마스크(1000A)는 외측면 상에 배치되는 돌기(820)를 포함할 수 있다. 자세하게, 상기 돌기(820)는 사용자의 피부와 마주하는 상기 제 2 베이스층(520)의 일면 상에 배치될 수 있다.
상기 돌기(820)는 인체에 무해한 재질을 포함하며 상기 제 2 베이스층(520)의 일면으로부터 사용자의 피부 방향으로 돌출된 형태로 배치될 수 있다. 상기 돌기(820)는 상기 제 2 베이스층(520)의 일면 상에 서로 이격되는 복수의 점 형태로 배치될 수 있다. 또한, 상기 돌기(820)는 상기 제 2 베이스층(520)의 일면 상에 서로 이격된 복수의 직선 또는 곡선 형태로 배치될 수 있다. 또한, 상기 돌기(820)는 상기 제 2 베이스층(520)의 일면 상에 하나의 나선 형태로 배치될 수 있다.
또한, 상기 돌기(820)는 상술한 제 1 실시예에 따른 마스크(1000)에 적용될 수 있다. 예를 들어, 도면에는 도시하지 않았으나 상기 돌기(820)는 도 5의 마스크(1000)에서 상기 제 2 베이스층(520)의 일면 상에 배치될 수 있다. 이 경우, 상기 돌기(820)는 상기 전극층(600)과 이격될 수 있다. 상기 돌기(820)는 상기 전극층(600) 사이 영역에 배치될 수 있다.
상기 돌기(820)는 사용자가 상기 마스크(1000A, 1000)를 착용할 때, 상기 마스크(1000A, 1000)와 사용자의 피부 사이에 소정의 공간을 형성할 수 있다. 이에 따라, 상기 마스크(1000A, 1000)를 착용 시 발생하는 압력 및/또는 상기 압전소자(300)에서 발생하는 진동에 의해 상기 마스크(1000A, 1000)와 피부 사이의 화장품 또는 약물이 상기 마스크(1000A, 1000)의 가장자리 영역으로 밀려나가는 것을 방지할 수 있다. 즉, 상기 돌기(820)는 화장품 또는 약물이 상기 마스크(1000A, 1000)로부터 벗어나는 것을 방지하는 격벽 역할을 수행할 수 있다. 따라서, 사용자는 상기 마스크(1000A, 1000)를 이용하여 피부에 화장품 또는 약물을 효과적으로 주입할 수 있다.
도 22는 실시예에 따른 마스크를 착용한 사용자를 도시한 도면이고, 도 23은 실시예에 따른 마스크가 적용된 피부 관리 기기를 도시한 도면이다.
도 22를 참조하면, 사용자는 제 1 실시예에 따른 마스크(1000) 또는 제 2 실시예에 따른 마스크(1000A)를 착용할 수 있다. 상기 마스크(1000, 1000A)는 상술한 개구부(1010)를 포함할 수 있고 사용자는 상기 개구부(1010)를 통해 시야를 확보할 수 있다. 또한, 상기 마스크(1000, 1000A)는 상술한 절단부(1020)를 포함할 수 있고, 상기 절단부(1020)에 의해 상기 마스크(1000, 1000A)는 굴곡진 피부와 효과적으로 밀착할 수 있다. 이때, 상기 제 2 베이스층(520)의 일면은 사용자의 피부와 직접 접촉할 수 있다. 또한, 상기 제 2 베스층(520)과 사용자의 피부 사이에는 약물 또는 화장품이 배치되어 상기 베이스층(520)은 사용자의 피부와 직간접적으로 접촉할 수 있다.
상기 마스크(1000, 1000A)는 상기 마스크(1000, 1000A)와 연결된 외부 전원을 통해 전원을 공급받아 동작할 수 있다. 또한, 상기 마스크(1000, 1000A)는 상기 마스크(1000)의 외측, 예컨대 상기 제 1 베이스층(510)의 하면 상에 배치된 전원부(미도시)를 통해 전원을 공급받아 동작할 수 있다.
또한, 도 23을 참조하면, 상기 마스크(1000, 1000A)는 피부 관리 기기(1)에 적용되어 동작할 수 있다. 자세하게, 도 23을 참조하면 상기 피부 관리 기기(1)는 일측이 오픈되며 내부에 수용 공간(11)을 포함하는 본체(10)를 포함할 수 있다.
상기 본체(10)는 가벼우며 외부의 충격이나 접촉 등으로부터 파손되는 것을 방지할 수 있는 재질을 포함할 수 있다. 일례로, 상기 본체(10)는 플라스틱, 세라믹 재질을 포함하여 외부 환경으로부터 향상된 신뢰성을 가질 수 있고, 상기 수용 공간(11) 내부에 배치되는 상기 마스크(1000, 1000A)를 보호할 수 있다. 또한, 상기 본체(10)는 사용자의 눈과 대응되는 위치에 형성되는 시야부(13)를 포함할 수 있다. 상기 시야부(13)는 상기 마스크(1000, 1000A)의 개구부(1010)와 대응되는 영역에 형성되며 사용자는 상기 시야부(13)를 통해 외부 시야를 확보할 수 있다.
상기 마스크(1000, 1000A)는 상기 본체(10)의 수용 공간(11) 내에 배치될 수 있다. 상기 마스크(1000, 1000A)는 상기 본체(10)와 사용자의 피부 사이에 배치될 수 있다. 자세하게, 상기 마스크(1000, 1000A)의 제 1 베이스층(510)는 상기 본체(10)의 수용 공간(11)과 마주하게 배치될 수 있고, 상기 마스크(1000, 1000A)의 제 2 베이스층(520)는 사용자의 피부와 마주하도록 배치될 수 있다.
상기 마스크(1000, 1000A)는 상기 본체(10)와 결합할 수 있다. 일례로, 상기 마스크(1000, 1000A)는 체결 부재(미도시)에 의해 상기 수용 공간(11) 내에서 설정된 위치에 고정될 수 있고, 상기 본체(10)로부터 착탈착 가능한 구조를 가질 수 있다.
상기 마스크(1000, 1000A)는 상기 마스크(1000)의 외측, 예컨대 상기 제 1 베이스층(510)의 하면 상에 배치된 전원부(미도시)를 통해 전원을 공급받을 수 있다. 이와 다르게, 상기 마스크(1000, 1000A)는 상기 본체(10)와 연결되어 상기 본체(10)에 배치된 전원부(미도시)를 통해 전원을 공급받을 수 있다.
상기 마스크(1000, 1000A)는 상기 제 1 베이스층(510) 하면에 배치되는 변형 부재(미도시)를 포함할 수 있다. 상기 변형 부재는 상기 제 1 베이스층(510)와 직접 접촉할 수 있고, 상기 본체(10)의 수용 공간(11)과 마주하며 배치될 수 있다. 즉, 상기 본체(10)와 상기 마스크(1000, 1000A)의 제 1 베이스층(510) 사이에는 상기 변형 부재가 배치될 수 있다.
상기 변형 부재는 외부 압력에 의해 형태가 변화하는 재질을 포함할 수 있다. 일례로, 상기 변형 부재는 에어갭(air gap) 또는 스펀지 등의 재질을 포함할 수 있으나 이에 제한되지 않으며 외부 압력에 의해 형태가 변하는 다양한 재질을 포함할 수 있다. 이에 따라, 사용자가 상기 피부 관리 기기(1)를 착용할 경우, 상기 변형 부재는 사용자의 얼굴 형태와 대응되는 형태로 변형할 수 있다. 따라서, 상기 마스크(1000, 1000A)와 사용자의 피부가 효과적으로 밀착할 수 있다. 또한, 복수의 사용자가 상기 피부 관리 기기(1)를 착용할 경우, 각각의 얼굴 형태와 대응되도록 변형하여 사용자의 피부와 상기 마스크(1000, 1000A)가 효과적으로 밀착할 수 있다.
이상에서 실시예들에 설명된 특징, 구조, 효과 등은 본 발명의 적어도 하나의 실시예에 포함되며, 반드시 하나의 실시예에만 한정되는 것은 아니다. 나아가, 각 실시예에서 예시된 특징, 구조, 효과 등은 실시예들이 속하는 분야의 통상의 지식을 가지는 자에 의해 다른 실시예들에 대해서도 조합 또는 변형되어 실시 가능하다. 따라서 이러한 조합과 변형에 관계된 내용들은 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.
또한, 이상에서 실시예를 중심으로 설명하였으나 이는 단지 예시일 뿐 본 발명을 한정하는 것이 아니며, 본 발명이 속하는 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 본 실시예의 본질적인 특성을 벗어나지 않는 범위에서 이상에 예시되지 않은 여러 가지의 변형과 응용이 가능함을 알 수 있을 것이다. 예를 들어, 실시예에 구체적으로 나타난 각 구성 요소는 변형하여 실시할 수 있는 것이다. 그리고 이러한 변형과 응용에 관계된 차이점들은 첨부된 청구 범위에서 규정하는 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.

Claims (13)

  1. 제 1 기재;
    상기 제 1 기재 상에 배치되는 제 1 배선;
    상기 제 1 배선 상에 배치되는 복수의 압전소자;
    상기 압전소자 상에 배치되는 제 2 배선;
    상기 제 2 배선 상에 배치되는 제 2 기재;
    상기 제 1 기재 상에 배치되며 상기 제 1 배선과 전기적으로 절연된 제 3 배선; 및
    제 1 및 제 2 기재 사이에 배치되며 상기 제 3 배선 상에 배치되는 복수의 발광소자를 포함하고,
    상기 복수의 발광소자는 상기 복수의 압전소자들의 사이 영역과 수직 방향으로 중첩되는 영역 상에 배치되는 마스크.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 2 베이스층 상에 배치되는 전극층을 포함하고,
    상기 전극층은 수직 방향을 기준으로 상기 압전소자 및 상기 발광소자 중 적어도 하나와 중첩되고,
    상기 전극층의 선폭은 550㎛이하이고 두께는 350㎛ 이하인 마스크.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 베이스층은, 상기 제 2 베이스층과 동일한 재질을 포함하며 상기 제 2 베이스층보다 얇거나 같은 두께를 가지는 마스크.
  4. 제 3 항에 있어서,
    상기 복수의 발광소자는 상기 제 1 및 제 2 기재 사이에 배치되는 마스크.
  5. 제 4 항에 있어서,
    상기 제 2 기재는 상기 복수의 발광소자 각각과 대응되는 복수의 관통홀을 포함하는 마스크.
  6. 제 4 항에 있어서,
    상기 제 1 및 제 2 기재 사이에 배치되는 제 1 보호층을 포함하고,
    상기 제 1 보호층은 상기 압전소자 및 상기 발광소자를 감싸며 배치되는 마스크.
  7. 제 3 항에 있어서,
    상기 복수의 발광소자는 상기 제 2 기재 상에 배치되는 마스크.
  8. 제 7 항에 있어서,
    상기 제 2 기재 상에 배치되는 제 3 기재;
    상기 제 1 및 제 2 기재 사이에 배치되는 제 1 보호층; 및
    상기 제 3 기재 상에 배치되는 제 2 보호층을 포함하고,
    상기 제 2 베이스층은 상기 제 2 및 제 3 기재 사이에 배치되고,
    상기 발광소자는 상기 제 3 기재 상에 배치되고,
    상기 제 2 보호층 상에는 전극층이 배치되고,
    상기 전극층은 수직 방향을 기준으로 상기 압전소자 및 상기 발광소자 중 적어도 하나와 중첩되는 마스크.
  9. 제 8 항에 있어서,
    상기 제 1 및 제 2 보호층은 상기 제 1 베이스층 및 상기 제 2 베이스층과 동일한 재질을 포함하는 마스크.
  10. 제 8 항에 있어서,
    상기 제 2 보호층은 상기 발광소자를 감싸며 배치되고 상기 제 2 베이스층과 대응되는 두께를 가지는 마스크.
  11. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 기재 및 상기 제 2 기재 사이에 배치되는 감지부를 포함하고,
    상기 감지부는,
    상기 제 1 배선과 연결되는 제 1 감지 전극; 및
    상기 제 2 배선과 연결되는 제 2 감지 전극을 포함하고,
    수직 방향을 기준으로 상기 제 1 및 제 2 감지 전극은 서로 중첩되지 않는 마스크.
  12. 제 11 항에 있어서,
    수직 방향을 기준으로 상기 감지부는 상기 압전소자와 중첩되지 않는 마스크.
  13. 일측이 오픈되고 상기 오픈된 영역 내부에 수용 공간을 포함하는 본체; 및
    상기 오픈 영역 내에 배치되며 상기 본체와 연결되는 마스크를 포함하고,
    상기 마스크는 제 1 항 내지 제 12 항 중 어느 한 항에 따른 마스크인 피부 관리 기기.
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