WO2019054402A1 - Compound and organic semiconductor material containing same - Google Patents

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俊輔 丹波
家 裕隆
安蘇 芳雄
一剛 萩谷
光 田中
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国立大学法人大阪大学
東洋紡株式会社
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Abstract

Provided is a tetrazolopyridine compound useful as an organic semiconductor material. A compound according to the present invention is characterized by being represented by any one of formulae (1)-(3). In formulae (1)-(3), Y1 and Y2, each independently represent a 5-membered heterocyclic ring containing at least one -SO2- as a constituent element of the ring.

Description

化合物、及びこれを含む有機半導体材料Compound, and organic semiconductor material containing the same
 本発明は、テトラゾロピリジン化合物に関する。詳細には、有機半導体材料に用いることができる新規なテトラゾロピリジン化合物に関する。 The present invention relates to tetrazolopyridine compounds. In particular, it relates to novel tetrazolopyridine compounds that can be used for organic semiconductor materials.
 テトラゾロピリジン化合物は、医薬中間体として知られている。例えば、特許文献1では、6-クロロニコチン酸クロリドを原料としてグリシジル基を有するテトラゾロピリジン化合物を合成している。また非特許文献1では、種々の置換基を有するテトラゾロピリジン化合物が提案されている。 Tetrazolopyridine compounds are known as pharmaceutical intermediates. For example, in Patent Document 1, a tetrazolopyridine compound having a glycidyl group is synthesized using 6-chloronicotinic acid chloride as a raw material. Further, Non-Patent Document 1 proposes a tetrazolopyridine compound having various substituents.
特表2001-526282号公報Japanese Patent Publication 2001-526282
 しかしながら、上記のテトラゾロピリジン化合物を有機半導体材料に用いた場合の効果は知られていなかった。 However, the effect of using the above tetrazolopyridine compound for the organic semiconductor material has not been known.
 本発明者らは、前記課題を解決するために鋭意研究を重ねた結果、テトラゾロピリジン化合物の中でも、環の構成要素として-SO2-を少なくとも1個含む5員の複素環と縮環した化合物は、LUMO準位を低くでき有機半導体材料として有用であることを見出して、本発明を完成した。 As a result of repeated studies to solve the above-mentioned problems, the present inventors condensed a 5-membered heterocyclic ring containing at least one —SO 2 — as a ring constituent among tetrazolopyridine compounds. The compound was found to be low in LUMO level and useful as an organic semiconductor material, and completed the present invention.
 即ち、本発明の化合物は、下記式(1)~(3)のいずれかで表されることを特徴とする。下記式(1)~(3)中、Y1及びY2は、それぞれ独立に、環の構成要素として-SO2-を少なくとも1個含む5員の複素環を表す。 That is, the compound of the present invention is characterized by being represented by any one of the following formulas (1) to (3). In the following formulas (1) to (3), each of Y 1 and Y 2 independently represents a 5-membered heterocyclic ring containing at least one —SO 2 — as a ring component.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
 Y1及びY2は、それぞれ独立に、下記式(Y1)または(Y2)で表される複素環であることが好ましい。下記式(Y1)または(Y2)中、R1は、ハロゲン原子、脂肪族炭化水素基、アルコキシ基、又はハロゲン化アルキル基を表す。p1は0~2の整数、p2は0~1の整数、p3は0~3の整数を表す。*a、*bの一方が式(1)~(3)における*1であり、他方が*2である。 Y 1 and Y 2 are preferably each independently a heterocycle represented by the following formula (Y1) or (Y2). In the following formula (Y1) or (Y2), R 1 represents a halogen atom, an aliphatic hydrocarbon group, an alkoxy group, or a halogenated alkyl group. p1 is an integer of 0 to 2, p2 is an integer of 0 to 1, and p3 is an integer of 0 to 3. One of * a and * b is * 1 in the formulas (1) to (3), and the other is * 2.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
 下記式(I)、(IIA)、(IIB)、(IIC)及び(IID)のいずれかで表される構造単位を有する化合物も本発明の範囲に包含される。下記式(I)、(IIA)、(IIB)、(IIC)及び(IID)中、Y1、Y2、Y11及びY12は、それぞれ独立に、環の構成要素として-SO2-を少なくとも1個含む5員の複素環を表す。Dは、結合手を表す。 Compounds having structural units represented by any of the following formulas (I), (IIA), (IIB), (IIC) and (IID) are also included in the scope of the present invention. In the following formulas (I), (IIA), (IIB), (IIC) and (IID), Y 1 , Y 2 , Y 11 and Y 12 are each independently -SO 2- as a ring component It represents a 5-membered heterocycle containing at least one. D represents a bond.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
 前記化合物(I)、(IIA)、(IIB)、(IIC)及び(IID)のいずれかで表される構造単位を有する化合物は、下記式(I-1)及び(II-1A)~(II-1J)のいずれかで表される化合物であることが好ましい。下記式(I-1)及び(II-1A)~(II-1J)中、Y1、Y2、Y11及びY12は、それぞれ独立に、環の構成要素として-SO2-を少なくとも1個含む5員の複素環を表す。A1は、置換基を有していてもよい芳香族環を表す。n1及びn2は、それぞれ独立に、1以上の整数を表す。R3はそれぞれ独立に、水素原子、又はアルキル基を表す。 The compounds having a structural unit represented by any one of the compounds (I), (IIA), (IIB), (IIC) and (IID) can be represented by the following formulas (I-1) and (II-1A) It is preferable that it is a compound represented by any of II-1J). In the following formulas (I-1) and (II-1A) to (II-1J), Y 1 , Y 2 , Y 11 and Y 12 are each independently at least one of —SO 2 — as a ring component It represents a 5-membered heterocyclic ring containing one. A 1 represents an aromatic ring which may have a substituent. n1 and n2 each independently represent an integer of 1 or more. Each R 3 independently represents a hydrogen atom or an alkyl group.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
 本発明には、式(I)で表される構造単位と、1種又は2種以上のドナー性ユニットとを有する高分子化合物も含まれる。式(I)中、Y11及びY12は、それぞれ独立に、環の構成要素として-SO2-を少なくとも1個含む5員の複素環を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
The present invention also includes polymer compounds having a structural unit represented by formula (I) and one or more types of donor units. In formula (I), Y 11 and Y 12 each independently represent a 5-membered heterocyclic ring containing at least one —SO 2 — as a ring component.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
 前記ドナー性ユニットは、式(Dn-1)~(Dn-15)のいずれかで表される構造単位であることが好ましい。下記式(Dn-1)~(Dn-15)中、R30は、それぞれ独立に、脂肪族炭化水素基を表す。R31は、水素原子又は脂肪族炭化水素基を表す。*は結合手を表す。 The donor unit is preferably a structural unit represented by any one of formulas (Dn-1) to (Dn-15). In the following formulas (Dn-1) to (Dn-15), each R 30 independently represents an aliphatic hydrocarbon group. R 31 represents a hydrogen atom or an aliphatic hydrocarbon group. * Represents a bond.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
 前記化合物又は高分子化合物を含む有機半導体材料及び該有機半導体材料を含む有機電子デバイスも本発明の技術的範囲に包含される。 An organic semiconductor material containing the compound or the polymer compound and an organic electronic device containing the organic semiconductor material are also included in the technical scope of the present invention.
 本発明の化合物は、環の構成要素として-SO2-を少なくとも1個含む5員の複素環と縮環したテトラゾロピリジン化合物であるため、LUMO準位を低くでき、有機半導体材料として有用である。 Since the compound of the present invention is a tetrazolopyridine compound which is condensed with a 5-membered heterocyclic ring containing at least one —SO 2 — as a ring constituent, the LUMO level can be lowered and it is useful as an organic semiconductor material is there.
 以下、本発明について説明する。なお、以下「式(x)で表される化合物」を、単に「化合物(x)」という場合がある。また本発明の化合物には、その互変異性体やそれらの塩も含まれ、以下に例示する各成分及び官能基は、それぞれ単独で、或いは組み合わせて使用できる。 Hereinafter, the present invention will be described. In the following, “the compound represented by the formula (x)” may be simply referred to as “the compound (x)”. The compounds of the present invention also include their tautomers and salts thereof, and the components and functional groups exemplified below can be used alone or in combination.
 1.化合物
 本発明の化合物は、下記式(1)、(2)又は(3)で表される。下記式(1)~(3)中、Y1及びY2は、それぞれ独立に、環の構成要素として-SO2-を少なくとも1個含む5員の複素環を表す。
1. Compound The compound of the present invention is represented by the following formula (1), (2) or (3). In the following formulas (1) to (3), each of Y 1 and Y 2 independently represents a 5-membered heterocyclic ring containing at least one —SO 2 — as a ring component.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
 Y1又はY2で表される複素環としては、下記式で表される複素環が挙げられる。 Examples of the heterocycle represented by Y 1 or Y 2 include heterocycles represented by the following formula.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
 中でも、ジオキソチオフェン環、ジオキソチアゾール環が好ましい。 Among them, dioxothiophene ring and dioxothiazole ring are preferable.
 Y1又はY2で表される複素環は、置換基を有していなくともよく、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子;脂肪族炭化水素基;アルコキシ基;及びハロゲン化アルキル基から選ばれる1種以上で置換されていることも好ましい。 The hetero ring represented by Y 1 or Y 2 may not have a substituent, and is a halogen atom such as a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom; an aliphatic hydrocarbon group; an alkoxy group; It is also preferable that it is substituted by at least one selected from a substituted alkyl group.
 (ハロゲン原子)
 前記ハロゲン原子としては、臭素原子、ヨウ素原子が好ましく、臭素原子が特に好ましい。
(Halogen atom)
As said halogen atom, a bromine atom and an iodine atom are preferable, and a bromine atom is especially preferable.
 (脂肪族炭化水素基)
 前記脂肪族炭化水素基は、鎖状であってもよく、環状であってもよい。鎖状の場合は、直鎖状又は分岐鎖状のいずれであってもよい。
(Aliphatic hydrocarbon group)
The aliphatic hydrocarbon group may be linear or cyclic. When it is chained, it may be linear or branched.
 前記鎖状脂肪族炭化水素基は、アルキル基;或いはアルケニル基、アルキニル基等の鎖状不飽和脂肪族炭化水素基のいずれであってもよく、アルキル基であることがより好ましい。 The chain aliphatic hydrocarbon group may be any of an alkyl group or a chain unsaturated aliphatic hydrocarbon group such as an alkenyl group and an alkynyl group, and is more preferably an alkyl group.
 前記鎖状脂肪族炭化水素基の炭素数は1~30が好ましく、より好ましくは1~24、さらに好ましくは1~20である。 The carbon number of the chain aliphatic hydrocarbon group is preferably 1 to 30, more preferably 1 to 24, and still more preferably 1 to 20.
 前記アルキル基としては、直鎖状又は分岐鎖状アルキル基のいずれでもよく、具体的には、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基、n-ヘプチル基、n-オクチル基、1-n-ブチルブチル基、1-n-プロピルペンチル基、1-エチルヘキシル基、2-エチルヘキシル基、3-エチルヘキシル基、4-エチルヘキシル基、1-メチルヘプチル基、2-メチルヘプチル基、6-メチルヘプチル基、2,4,4-トリメチルペンチル基、2,5-ジメチルヘキシル基、n-ノニル基、1-n-プロピルヘキシル基、2-n-プロピルヘキシル基、1-エチルヘプチル基、2-エチルヘプチル基、1-メチルオクチル基、2-メチルオクチル基、6-メチルオクチル基、2,3,3,4-テトラメチルペンチル基、3,5,5-トリメチルヘキシル基、n-デシル基、1-n-ペンチルペンチル基、1-n-ブチルヘキシル基、2-n-ブチルヘキシル基、1-n-プロピルヘプチル基、1-エチルオクチル基、2-エチルオクチル基、1-メチルノニル基、2-メチルノニル基、3,7-ジメチルオクチル基、n-ウンデシル基、1-n-ブチルヘプチル基、2-n-ブチルヘプチル基、1-n-プロピルオクチル基、2-n-プロピルオクチル基、1-エチルノニル基、2-エチルノニル基、n-ドデシル基、1-n-ペンチルヘプチル基、2-n-ペンチルヘプチル基、1-n-ブチルオクチル基、2-n-ブチルオクチル基、1-n-プロピルノニル基、2-n-プロピルノニル基、n-トリデシル基、1-n-ペンチルオクチル基、2-n-ペンチルオクチル基、1-n-ブチルノニル基、2-n-ブチルノニル基、1-メチルデシル基、2-メチルデシル基、n-テトラデシル基、1-n-ヘプチルヘプチル基、1-n-ヘキシルオクチル基、2-n-ヘキシルオクチル基、1-n-ペンチルノニル基、2-n-ペンチルノニル基、n-ペンタデシル基、1-n-ヘプチルオクチル基、1-n-ヘキシルノニル基、2-n-ヘキシルノニル基、n-ヘキサデシル基、2-ヘキシルデシル基、1-n-オクチルオクチル基、1-n-ヘプチルノニル基、2-n-ヘプチルノニル基、n-ヘプタデシル基、1-n-オクチルノニル基、n-オクタデシル基、1-n-ノニルノニル基、n-ノナデシル基、n-エイコシル基、2-オクチルドデシル基、n-ヘンエイコシル基、n-ドコシル基、n-トリコシル基、n-テトラコシル基、2-デシルテトラデシル基等が挙げられる。 The alkyl group may be any of linear or branched alkyl group, and specifically, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, n-pentyl group, n -Hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, 1-n-butylbutyl group, 1-n-propylpentyl group, 1-ethylhexyl group, 2-ethylhexyl group, 3-ethylhexyl group, 4-ethylhexyl group, 1 -Methylheptyl group, 2-methylheptyl group, 6-methylheptyl group, 2,4,4-trimethylpentyl group, 2,5-dimethylhexyl group, n-nonyl group, 1-n-propylhexyl group, 2- n-propyl hexyl group, 1-ethyl heptyl group, 2-ethyl heptyl group, 1-methyl octyl group, 2-methyl octyl group, 6-methyl octyl group, 2, , 3,4-tetramethylpentyl group, 3,5,5-trimethylhexyl group, n-decyl group, 1-n-pentylpentyl group, 1-n-butylhexyl group, 2-n-butylhexyl group, 1 -N-propylheptyl group, 1-ethyloctyl group, 2-ethyloctyl group, 1-methylnonyl group, 2-methylnonyl group, 3,7-dimethyloctyl group, n-undecyl group, 1-n-butylheptyl group, 2-n-butyl heptyl group, 1-n-propyl octyl group, 2-n-propyl octyl group, 1-ethyl nonyl group, 2-ethyl nonyl group, n-dodecyl group, 1-n-pentyl heptyl group, 2-n -Pentylheptyl group, 1-n-butyloctyl group, 2-n-butyloctyl group, 1-n-propylnonyl group, 2-n-propylnonyl group, n-tridecyl group, 1 n-Pentyloctyl, 2-n-Pentyloctyl, 1-n-butylnonyl, 2-n-butylnonyl, 1-methyldecyl, 2-methyldecyl, n-tetradecyl, 1-n-heptylheptyl 1-n-hexyloctyl group, 2-n-hexyloctyl group, 1-n-pentylnonyl group, 2-n-pentylnonyl group, n-pentadecyl group, 1-n-heptyloctyl group, 1-n- Hexylnonyl group, 2-n-hexylnonyl group, n-hexadecyl group, 2-hexyldecyl group, 1-n-octyloctyl group, 1-n-heptylnonyl group, 2-n-heptylnonyl group, n-heptadecyl group, 1-n-octyl nonyl group, n-octadecyl group, 1-n-nonyl nonyl group, n-nonadecyl group, n-eicosyl group, 2-octyl dodecyl group And n-heneicosyl group, n-docosyl group, n-tricosyl group, n-tetracosyl group, 2-decyltetradecyl group and the like.
 前記環状脂肪族炭化水素基(脂環式炭化水素基)は、単環、多環のいずれであってもよい。 The cyclic aliphatic hydrocarbon group (alicyclic hydrocarbon group) may be monocyclic or polycyclic.
 前記脂環式炭化水素基は、シクロアルキル基、或いはシクロアルケニル基、シクロアルキニル基等の不飽和脂環式炭化水素基のいずれであってもよく、シクロアルキル基であることが好ましい。 The alicyclic hydrocarbon group may be any of a cycloalkyl group or an unsaturated alicyclic hydrocarbon group such as a cycloalkenyl group and a cycloalkynyl group, and is preferably a cycloalkyl group.
 前記脂環式炭化水素基の炭素数は3~20が好ましく、より好ましくは3~14である。 The carbon number of the alicyclic hydrocarbon group is preferably 3 to 20, and more preferably 3 to 14.
 前記脂環式炭化水素基としては、具体的には、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロノニル基等の単環式のシクロアルキル基;ビシクロヘキシル基、ビシクロヘプチル基、ビシクロオクチル基等の多環式のシクロアルキル基等が挙げられる。 Specific examples of the alicyclic hydrocarbon group include monocyclic cycloalkyl groups such as cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, cycloheptyl group, cyclooctyl group, cyclononyl group and the like; bicyclohexyl And a polycyclic cycloalkyl group such as a bicycloheptyl group and a bicyclooctyl group.
 (アルコキシ基)
 前記アルコキシ基としては、前記アルキル基に-O-が結合した基が挙げられる。
(Alkoxy group)
Examples of the alkoxy group include groups in which -O- is bonded to the alkyl group.
 前記アルコキシ基の炭素数は1~30が好ましく、より好ましくは1~24である。 The carbon number of the alkoxy group is preferably 1 to 30, and more preferably 1 to 24.
 (ハロゲン化アルキル基)
 前記ハロゲン化アルキル基としては、前記アルキル基の水素原子がフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子(特に好ましくはフッ素原子)で置換された基が挙げられる。
(Halogenated alkyl group)
As said halogenated alkyl group, the group by which the hydrogen atom of the said alkyl group was substituted by halogen atoms (especially preferably a fluorine atom), such as a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom, is mentioned.
 前記ハロゲン化アルキル基の炭素数は1~30が好ましく、より好ましくは1~10、さらに好ましくは1~4である。 The carbon number of the halogenated alkyl group is preferably 1 to 30, more preferably 1 to 10, and still more preferably 1 to 4.
 前記ハロゲン化アルキル基としては、具体的には、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、ノナフルオロブチル基等のペルフルオロアルキル基等が挙げられ、トリフルオロメチル基が特に好ましい。 Specific examples of the halogenated alkyl group include perfluoroalkyl groups such as trifluoromethyl group, pentafluoroethyl group, heptafluoropropyl group, nonafluorobutyl group and the like, and a trifluoromethyl group is particularly preferable.
 上記置換基の置換数は、Y1又はY2で表される各複素環につき0、1または2であることが好ましく、0または1であることが特に好ましい。 The number of substituents of the above-mentioned substituent is preferably 0, 1 or 2 for each heterocycle represented by Y 1 or Y 2 , and particularly preferably 0 or 1.
 Y1又はY2で表される複素環としては、具体的には、下記式で表される環が好ましい。下記式(Y1)または(Y2)中、R1は、ハロゲン原子、脂肪族炭化水素基、アルコキシ基、又はハロゲン化アルキル基を表す。p1は0~2の整数、p2は0~1の整数を表す。*a、*bの一方が式(1)~(3)における*1であり、他方が*2である。 Specifically as a heterocyclic ring represented by Y 1 or Y 2 , a ring represented by the following formula is preferable. In the following formula (Y1) or (Y2), R 1 represents a halogen atom, an aliphatic hydrocarbon group, an alkoxy group, or a halogenated alkyl group. p1 is an integer of 0 to 2, and p2 is an integer of 0 to 1. One of * a and * b is * 1 in the formulas (1) to (3), and the other is * 2.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
 (ハロゲン原子)
 前記R1で表されるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられ、臭素原子、ヨウ素原子が好ましい。
(Halogen atom)
The halogen atom represented by R 1, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, a bromine atom, an iodine atom.
 (脂肪族炭化水素基)
 前記R1で表される脂肪族炭化水素基の炭素数は1~30が好ましく、より好ましくは1~24、さらに好ましくは1~20である。
(Aliphatic hydrocarbon group)
The carbon number of the aliphatic hydrocarbon group represented by R 1 is preferably 1 to 30, more preferably 1 to 24, and still more preferably 1 to 20.
 前記R1で表される脂肪族炭化水素基としては、Y1又はY2で表される複素環を置換していてもよい脂肪族炭化水素基と同様の基が挙げられる。 Examples of the aliphatic hydrocarbon group represented by R 1 include the same groups as the aliphatic hydrocarbon group which may substitute the heterocycle represented by Y 1 or Y 2 .
 (アルコキシ基)
 前記R1で表されるアルコキシ基の炭素数は1~30が好ましく、より好ましくは1~24、さらに好ましくは1~20である。
(Alkoxy group)
The carbon number of the alkoxy group represented by R 1 is preferably 1 to 30, more preferably 1 to 24, and still more preferably 1 to 20.
 前記R1で表されるアルコキシ基としては、Y1又はY2で表される複素環を置換していてもよいアルコキシ基と同様の基が挙げられる。 Examples of the alkoxy group represented by R 1 include the same groups as the alkoxy group which may substitute the heterocycle represented by Y 1 or Y 2 .
 (ハロゲン化アルキル基)
 前記R1で表されるハロゲン化アルキル基の炭素数は1~30が好ましく、より好ましくは1~10、さらに好ましくは1~4である。
(Halogenated alkyl group)
The carbon number of the halogenated alkyl group represented by R 1 is preferably 1 to 30, more preferably 1 to 10, and still more preferably 1 to 4.
 前記R1で表されるハロゲン化アルキル基としては、具体的には、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、ノナフルオロブチル基等のペルフルオロアルキル基等が挙げられ、トリフルオロメチル基が特に好ましい。 Specific examples of the halogenated alkyl group represented by R 1 include perfluoroalkyl groups such as trifluoromethyl group, pentafluoroethyl group, heptafluoropropyl group and nonafluorobutyl group, etc. Methyl is particularly preferred.
 化合物(1)について詳細に説明する。 The compound (1) will be described in detail.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
 式(1)中、Y1及びY2は、下記式(Y1-1)、(Y1-2)、(Y2-1)、または(Y2-2)で表される複素環が好ましい。下記式中、R1、p1、p2は上記と同義であり、*1及び*2は、上記式(1)中の*1又は*2に対応する。 In formula (1), Y 1 and Y 2 are preferably a heterocycle represented by the following formula (Y1-1), (Y1-2), (Y2-1) or (Y2-2). In the following formulas, R 1 , p 1 and p 2 are as defined above, and * 1 and * 2 correspond to * 1 or * 2 in the above formula (1).
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
 中でも、式(Y1-1)、または(Y2-1)で表される複素環が好ましい。 Among them, the heterocyclic ring represented by the formula (Y1-1) or (Y2-1) is preferable.
 また、Y1及びY2は同一であっても同一でなくともよく、同一の複素環であることがより好ましい。 In addition, Y 1 and Y 2 may or may not be the same, and are more preferably the same heterocyclic ring.
 中でも、下記表に示す化合物が好ましく、化合物(1-1)、(1-3)、(1-11)、(1-13)、(1-21)、(1-23)、(1-31)、(1-33)がさらに好ましい。 Among them, compounds shown in the following table are preferable, and compounds (1-1), (1-3), (1-11), (1-13), (1-21), (1-23), (1-) are preferable. 31) and (1-33) are more preferable.
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000018
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000018
 化合物(2)について詳細に説明する。 The compound (2) will be described in detail.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
 式(2)中、Y1は、上記式(Y1-1)、(Y1-2)、(Y2-1)、または(Y2-2)で表される複素環が好ましい。中でも、式(Y1-1)、または(Y2-1)で表される複素環がより好ましい。即ち、下記表に示す化合物が好ましく、化合物(2-1)、(2-3)がさらに好ましい。 In formula (2), Y 1 is preferably a heterocycle represented by the above formula (Y1-1), (Y1-2), (Y2-1) or (Y2-2). Among them, the heterocyclic ring represented by formula (Y1-1) or (Y2-1) is more preferable. That is, the compounds shown in the following table are preferable, and the compounds (2-1) and (2-3) are more preferable.
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000020
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000020
 化合物(3)について詳細に説明する。 The compound (3) will be described in detail.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
 式(3)中、Y2は、上記式(Y1-1)、(Y1-2)、(Y2-1)、または(Y2-2)で表される複素環が好ましい。中でも、式(Y1-1)、または(Y2-1)で表される複素環がより好ましい。即ち、下記表に示す化合物が好ましく、化合物(3-1)、(3-3)がさらに好ましい。 In formula (3), Y 2 is preferably a heterocycle represented by the above formula (Y1-1), (Y1-2), (Y2-1) or (Y2-2). Among them, the heterocyclic ring represented by formula (Y1-1) or (Y2-1) is more preferable. That is, the compounds shown in the following table are preferable, and the compounds (3-1) and (3-3) are more preferable.
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000022
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000022
 2.製造方法
 本発明の製造方法の概要は、下記スキームで表される。下記スキーム中、Y1及びY2はそれぞれ上記と同義である。また、下記スキーム中、Z1及びZ2は、それぞれ独立に、環の構成要素としてSを少なくとも1個含む5員の複素環を表す。
2. Production method The outline of the production method of the present invention is represented by the following scheme. In the following schemes, Y 1 and Y 2 are each as defined above. In the following schemes, Z 1 and Z 2 each independently represent a 5-membered heterocyclic ring containing at least one S as a ring component.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
 即ち、本発明の化合物(1)は、化合物(1-X2)を酸化した後(酸化工程:工程1)、得られた化合物(1-X1)に、塩基の存在下、アジド化合物を反応させることにより化合物(Z1)を製造し(環化工程(1):工程2)、酸化することにより製造できる(酸化工程:工程21)。 That is, after oxidizing the compound (1-X2) (oxidation step: step 1), the compound (1) of the present invention is reacted with an azide compound in the presence of a base to the obtained compound (1-X1) Thus, the compound (Z1) can be produced (cyclization step (1): step 2), and can be produced by oxidation (oxidation step: step 21).
 同様に、本発明の化合物(2)は、化合物(2-X2)を酸化した後(酸化工程:工程1)、得られた化合物(2-X1)に、塩基の存在下、アジド化合物を反応させることにより化合物(Z2)を製造し(環化工程(1):工程2)、酸化することにより製造できる(酸化工程:工程21)。 Similarly, after oxidizing the compound (2-X2) (oxidation step: step 1), the compound (2) of the present invention reacts the azide compound to the obtained compound (2-X1) in the presence of a base The compound (Z2) is produced by cyclization (cyclization step (1): step 2), and can be produced by oxidation (oxidation step: step 21).
 また、本発明の化合物(3)は、化合物(3-X2)を酸化した後(酸化工程:工程1)、得られた化合物(3-X1)に、塩基の存在下、アジド化合物を反応させることにより化合物(Z3)を製造し(環化工程(1):工程2)、酸化することにより製造できる(酸化工程:工程21)。 In the compound (3) of the present invention, after oxidizing the compound (3-X2) (oxidation step: step 1), the resulting compound (3-X1) is reacted with an azide compound in the presence of a base Thus, the compound (Z3) can be produced (cyclization step (1): step 2), and can be produced by oxidation (oxidation step: step 21).
 Z1又はZ2で表される複素環としては、下記式で表される複素環が挙げられる。 Examples of the heterocycle represented by Z 1 or Z 2 include heterocycles represented by the following formulae.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024
 中でも、チオフェン環、チアゾール環が好ましい。 Among them, thiophene ring and thiazole ring are preferable.
 Z1又はZ2で表される複素環は、置換基を有していなくともよく、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子;脂肪族炭化水素基;アルコキシ基;及びハロゲン化アルキル基から選ばれる1種以上で置換されていることも好ましい。 The heterocyclic group represented by Z 1 or Z 2 may not have a substituent, and is a halogen atom such as a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom; an aliphatic hydrocarbon group; an alkoxy group; It is also preferable that it is substituted by at least one selected from a substituted alkyl group.
 上記Z1又はZ2で表される複素環を置換するハロゲン原子、脂肪族炭化水素基、アルコキシ基、ハロゲン化アルキル基としては、上記Y1又はY2で表される複素環を置換するハロゲン原子、脂肪族炭化水素基、アルコキシ基、ハロゲン化アルキル基と同じものを用いることができる。 As the halogen atom, aliphatic hydrocarbon group, alkoxy group and halogenated alkyl group which substitutes the heterocycle represented by Z 1 or Z 2 , halogen which substitutes the heterocycle represented by Y 1 or Y 2 The same atoms, aliphatic hydrocarbon groups, alkoxy groups, and halogenated alkyl groups can be used.
 Z1又はZ2で表される複素環としては、具体的には、下記式で表される芳香族環が好ましい。 Examples of the heterocyclic ring represented by Z 1 or Z 2, specifically, the aromatic ring is preferably represented by the following formula.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
 式(ZY1)または(ZY2)中、R1、p1、p2は上記と同義であり、*a、*bの一方が式(Z1)~(Z3)における*1であり、他方が*2である。 In formulas (ZY1) or (ZY2), R 1 , p1 and p2 are as defined above, and one of * a and * b is * 1 in formulas (Z1) to (Z3) and the other is * 2 is there.
 2-1.酸化工程:工程1
 工程1では、上記化合物(1-X2)、(2-X2)又は(3-X2)と、酸化剤とを反応させることにより、化合物(1-X1)、(2-X1)又は(3-X1)を得ることができる。
2-1. Oxidation step: step 1
In step 1, the compound (1-X1), (2-X1) or (3-) is reacted by reacting the above compound (1-X2), (2-X2) or (3-X2) with an oxidizing agent. X1) can be obtained.
 前記化合物(1-X2)、(2-X2)、及び(3-X2)の具体的構造及び好ましい構造は、化合物(1)、(2)及び(3)の具体的構造及び好ましい構造に対応する。 The specific structures and preferred structures of the compounds (1-X2), (2-X2) and (3-X2) correspond to the specific structures and preferred structures of the compounds (1), (2) and (3). Do.
 前記酸化剤としては、例えば、メタクロロ過安息香酸(mCPBA)等の過カルボン酸、過酸化水素を用いることができ、過カルボン酸を用いることが好ましい。 As the oxidizing agent, for example, percarboxylic acid such as metachloroperbenzoic acid (mCPBA) and hydrogen peroxide can be used, and percarboxylic acid is preferably used.
 前記酸化剤の量は、化合物(1-X2)、(2-X2)又は(3-X2)1モルに対して、0.1モル以上、10モル以下が好ましく、より好ましくは0.5モル以上、5モル以下である。 The amount of the oxidizing agent is preferably 0.1 mol or more and 10 mol or less, more preferably 0.5 mol, per 1 mol of the compound (1-X2), (2-X2) or (3-X2). Above, it is 5 mol or less.
 前記酸化工程:工程1における反応溶媒としては、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン、ジクロロプロパン等のハロゲン系溶媒;メタノール、エタノール、n-プロパノール、2-プロパノール、n-ブタノール等のアルコール系溶媒;酢酸、トリフルオロ酢酸等のカルボン酸系溶媒;水;或いはこれらの混合溶媒;が挙げられ、ハロゲン系溶媒が好ましい。 Said oxidation step: As a reaction solvent in step 1, for example, halogen solvents such as dichloromethane, chloroform, dichloroethane, dichloropropane; alcohol solvents such as methanol, ethanol, n-propanol, 2-propanol, n-butanol, etc .; acetic acid And carboxylic acid solvents such as trifluoroacetic acid; water; or mixed solvents thereof; and halogen solvents are preferable.
 反応温度は、-80℃以上、60℃以下が好ましく、より好ましくは0℃以上、40℃以下である。 The reaction temperature is preferably −80 ° C. or more and 60 ° C. or less, more preferably 0 ° C. or more and 40 ° C. or less.
 2-2.環化工程:工程2
 工程2では、上記化合物(1-X1)、(2-X1)又は(3-X1)に、塩基の存在下、アジド化合物を反応させることで、化合物(Z1)、(Z2)又は(Z3)を得ることができる。
2-2. Cyclization step: step 2
In step 2, the compound (Z1), (Z2) or (Z3) is reacted by reacting the azide compound with the compound (1-X1), (2-X1) or (3-X1) in the presence of a base. You can get
 前記化合物(1-X1)、(2-X1)、及び(3-X1)の具体的構造及び好ましい構造は、化合物(1)、(2)及び(3)の具体的構造及び好ましい構造に対応する。 The specific structures and preferred structures of the compounds (1-X1), (2-X1) and (3-X1) correspond to the specific structures and preferred structures of the compounds (1), (2) and (3). Do.
 前記アジド化合物としては、例えば、ジフェニルホスホリルアジド(DPPA)、ビス(4-ニトロフェニル)ホスホリルアジド等のジアリールホスホリルアジド;トリメチルシリルアジド(TMSA)等のトリアルキルシリルアジド;等の有機アジド化合物及びナトリウムアジドなどの無機アジド化合物が好ましい。 Examples of the azide compound include diaryl phosphoryl azides such as diphenyl phosphoryl azide (DPPA) and bis (4-nitrophenyl) phosphoryl azide; trialkylsilyl azides such as trimethylsilyl azide (TMSA); organic azide compounds such as sodium azide Inorganic azide compounds such as are preferred.
 前記アジド化合物の量は、前記化合物(1-X1)、(2-X1)又は(3-X1)1モルに対して、0.5モル以上、10モル以下が好ましく、より好ましくは1モル以上、8モル以下、さらに好ましくは1モル以上、5モル以下である。アジド化合物の量がこの範囲にあると、収率や反応効率が良好である。 The amount of the azide compound is preferably 0.5 mol or more and 10 mol or less, more preferably 1 mol or more, per 1 mol of the compound (1-X1), (2-X1) or (3-X1). 8 mol or less, more preferably 1 mol or more and 5 mol or less. When the amount of the azide compound is in this range, the yield and the reaction efficiency are good.
 前記有機アジド化合物は、例えば、ポリマー担持されていてもよい。中でも、ジフェニルホスホリルアジド(DPPA)及びトリメチルシリルアジド等のトリアルキルシリルアジド化合物が好ましい。 The organic azide compound may be, for example, supported by a polymer. Among them, trialkylsilyl azide compounds such as diphenyl phosphoryl azide (DPPA) and trimethylsilyl azide are preferable.
 前記アジド化合物として、トリアルキルシリルアジドを用いる場合、さらに、スルホニルハライド化合物又はリン酸ハライド化合物を共存させてもよい。 When a trialkylsilyl azide is used as the azide compound, a sulfonyl halide compound or a phosphoric acid halide compound may be allowed to coexist.
 (スルホニルハライド化合物)
 前記スルホニルハライド化合物としては、例えば、メタンスルホニルクロリド、エタンスルホニルクロリド、プロパンスルホニルクロリド、イソプロパンスルホニルクロリド、ブタンスルホニルクロリド、ペンタンスルホニルクロリド、ヘキサンスルホニルクロリド等のアルキルスルホニルクロリド化合物;ベンゼンスルホニルクロリド、2-メチルベンゼンスルホニルクロリド、3-メチルベンゼンスルホニルクロリド、4-メチルベンゼンスルホニルクロリド、2-クロロベンゼンスルホニルクロリド、3-クロロベンゼンスルホニルクロリド、4-クロロベンゼンスルホニルクロリド、2-ブロモベンゼンスルホニルクロリド、3-ブロモベンゼンスルホニルクロリド、4-ブロモベンゼンスルホニルクロリド、2-ヨードベンゼンスルホニルクロリド、3-ヨードベンゼンスルホニルクロリド、4-ヨードベンゼンスルホニルクロリド、2-フルオロベンゼンスルホニルクロリド、3-フルオロベンゼンスルホニルクロリド、4-フルオロベンゼンスルホニルクロリド、2-トリフルオロメチルベンゼンスルホニルクロリド、3-トリフルオロメチルベンゼンスルホニルクロリド、4-トリフルオロメチルベンゼンスルホニルクロリド等のアリールスルホニルクロリド化合物;塩化スルフリル;等のスルホニルクロリド化合物;ノナフルオロブタンスルホン酸フルオリド、フェニルスルホン酸フルオリド等のスルホニルフルオリド化合物;等が挙げられる。中でも、スルホニルクロリド化合物が好ましく、アリールスルホニルクロリド化合物がより好ましく、4-メチルベンゼンスルホニルクロリドがさらに好ましい。
(Sulfonyl halide compounds)
Examples of the sulfonyl halide compounds include alkylsulfonyl chloride compounds such as methanesulfonyl chloride, ethanesulfonyl chloride, propanesulfonyl chloride, isopropane sulfonyl chloride, butane sulfonyl chloride, pentane sulfonyl chloride, hexane sulfonyl chloride and the like; benzene sulfonyl chloride, 2- Methylbenzenesulfonyl chloride, 3-methylbenzenesulfonyl chloride, 4-methylbenzenesulfonyl chloride, 2-chlorobenzenesulfonyl chloride, 3-chlorobenzenesulfonyl chloride, 4-chlorobenzenesulfonyl chloride, 2-bromobenzenesulfonyl chloride, 3-bromobenzenesulfonyl chloride , 4-bromobenzenesulfonyl chloride, 2-iodobenzenes Phonyl chloride, 3-iodobenzenesulfonyl chloride, 4-iodobenzenesulfonyl chloride, 2-fluorobenzenesulfonyl chloride, 3-fluorobenzenesulfonyl chloride, 4-fluorobenzenesulfonyl chloride, 2-trifluoromethylbenzenesulfonyl chloride, 3-trifluoro Arylsulfonyl chloride compounds such as methylbenzenesulfonyl chloride and 4-trifluoromethylbenzenesulfonyl chloride; sulfonyl chloride compounds such as sulfuryl chloride; sulfonyl fluoride compounds such as nonafluorobutanesulfonic acid fluoride and phenylsulfonic acid fluoride; Be Among them, sulfonyl chloride compounds are preferable, arylsulfonyl chloride compounds are more preferable, and 4-methylbenzene sulfonyl chloride is more preferable.
 前記スルホニルハライド化合物の量は、前記化合物(1-X1)、(2-X1)又は(3-X1)1モルに対して、0.5モル以上、20モル以下が好ましく、より好ましくは1モル以上、15モル以下、さらに好ましくは1モル以上、13モル以下、特に好ましくは1モル以上、10モル以下である。スルホニルハライド化合物の量がこの範囲にあると、収率や反応効率が良好である。 The amount of the sulfonyl halide compound is preferably 0.5 mol or more and 20 mol or less, more preferably 1 mol, per 1 mol of the compound (1-X1), (2-X1) or (3-X1). The amount is 15 mol or less, more preferably 1 mol or more and 13 mol or less, and particularly preferably 1 mol or more and 10 mol or less. When the amount of the sulfonyl halide compound is in this range, the yield and the reaction efficiency are good.
 (リン酸ハライド化合物)
 前記リン酸ハライド化合物としては、例えば、ジメチルホスホリルクロリド、ジエチルホスホリルクロリド、ジプロピルホスホリルクロリド、ジイソプロピルホスホリルクロリド、ジブチルホスホリルクロリド等のジアルキルホスホリルクロリド化合物;ビス(2,2,2-トリクロロエチル)ホスホリルクロリド等のジハロゲン化アルキルホスホリルクロリド化合物;2-クロロ-2-オキソ-1,3,2-ジオキサホスホラン;ジフェニルホスホリルクロリド、ビス(2-メチルフェニル)ホスホリルクロリド、ビス(3-メチルフェニル)ホスホリルクロリド、ビス(4-メチルフェニル)ホスホリルクロリド、ビス(3,5-ジメチルフェニル)ホスホリルクロリド、ビス(2-クロロフェニル)ホスホリルクロリド、ビス(3-クロロフェニル)ホスホリルクロリド、ビス(4-クロロフェニル)ホスホリルクロリド、ビス(3,5-ジクロロフェニル)ホスホリルクロリド等のジアリールホスホリルクロリド化合物;1,2-フェニレンホスホロクロリデート;等が挙げられる。中でも、ジハロゲン化アルキルホスホリルクロリド化合物、ジアリールホスホリルクロリド化合物が好ましく、ビス(2,2,2-トリクロロエチル)ホスホリルクロリド、ジフェニルホスホリルクロリドがより好ましい。
(Phosphorus halide compound)
Examples of the phosphoric acid halide compound include dialkylphosphoryl chloride compounds such as dimethyl phosphoryl chloride, diethyl phosphoryl chloride, dipropyl phosphoryl chloride, diisopropyl phosphoryl chloride, dibutyl phosphoryl chloride and the like; bis (2,2,2-trichloroethyl) phosphoryl chloride Dihalogenated alkyl phosphoryl chloride compounds such as 2-chloro-2-oxo-1,3,2-dioxaphospholane; diphenyl phosphoryl chloride, bis (2-methylphenyl) phosphoryl chloride, bis (3-methylphenyl) phosphoryl Chloride, bis (4-methylphenyl) phosphoryl chloride, bis (3,5-dimethylphenyl) phosphoryl chloride, bis (2-chlorophenyl) phosphoryl chloride, bis (3-chlorophenyl) phosphoryl chloride Rofeniru) phosphoryl chloride, bis (4-chlorophenyl) phosphoryl chloride, bis (3,5-dichlorophenyl) diaryl phosphoryl chloride compound such as phosphoryl chloride; 1,2-phenylene phosphorochloridate; and the like. Among them, dihalogenated alkyl phosphoryl chloride compounds and diaryl phosphoryl chloride compounds are preferable, and bis (2,2,2-trichloroethyl) phosphoryl chloride and diphenyl phosphoryl chloride are more preferable.
 前記リン酸ハライド化合物の量は、前記化合物(1-X1)、(2-X1)又は(3-X1)1モルに対して、0.5モル以上、20モル以下が好ましく、より好ましくは1モル以上、15モル以下、さらに好ましくは1モル以上、13モル以下、特に好ましくは1モル以上、10モル以下である。リン酸ハライド化合物の量がこの範囲にあると、収率や反応効率が良好である。 The amount of the phosphoric acid halide compound is preferably 0.5 mol or more and 20 mol or less, more preferably 1 per 1 mol of the compound (1-X1), (2-X1) or (3-X1). The molar amount is 15 to 1 mol, more preferably 1 to 13 mol, and particularly preferably 1 to 10 mol. When the amount of the phosphoric acid halide compound is in this range, the yield and the reaction efficiency are good.
 前記アジド化合物を反応させる際に共存させる塩基としては、例えば、ピリジン;N-メチルイミダゾール、イミダゾール等のイミダゾール化合物;水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化セシウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等のアルカリ金属塩化合物;水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化バリウム、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウム等のアルカリ土類金属塩化合物;リチウムメトキシド、ナトリウムメトキシド、カリウムメトキシド、リチウムエトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムエトキシド、リチウムイソプロポキシド、ナトリウムイソプロポキシド、カリウムイソプロポキシド、リチウムtert-ブトキシド、ナトリウムtert-ブトキシド、カリウムtert-ブトキシド、リチウムtert-アミルアルコキシド、ナトリウムtert-アミルアルコキシド、カリウムtert-アミルアルコキシド等のアルコキシアルカリ金属化合物;水素化リチウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム等の水素化金属化合物;トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、トリブチルアミン、トリペンチルアミン、トリヘキシルアミン、トリオクチルアミン、トリアリルアミン、ピリジン、2-メチルピリジン、3-メチルピリジン、4-メチルピリジン、N-メチルモルホリン、N,N-ジメチルシクロヘキシルアミン、N,N-ジメチルアニリン、N-メチルイミダゾール、1,4-ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセ-7-エンなどの3級アミン;等が挙げられる。中でも、ピリジン、イミダゾール化合物、アルカリ金属塩化合物、3級アミンが好ましく、より好ましくはピリジン、N-メチルイミダゾール、炭酸カリウム、トリエチルアミンであり、さらに好ましくはピリジン、炭酸カリウム、トリエチルアミンである。 Examples of the base to be made to coexist when reacting the azide compound include, for example, pyridine; imidazole compounds such as N-methylimidazole and imidazole; lithium hydroxide, sodium hydroxide, cesium hydroxide, lithium carbonate, sodium carbonate, potassium carbonate, Alkaline metal salt compounds such as cesium carbonate; alkaline earth metal salt compounds such as magnesium hydroxide, calcium hydroxide, barium hydroxide, magnesium carbonate, calcium carbonate, and barium carbonate; lithium methoxide, sodium methoxide, potassium methoxide, Lithium ethoxide, sodium ethoxide, potassium ethoxide, lithium isopropoxide, sodium isopropoxide, potassium isopropoxide, lithium tert-butoxide, sodium tert-butoxide, Alkoxy alkali metal compounds such as aluminum tert-butoxide, lithium tert-amyl alkoxide, sodium tert-amyl alkoxide, potassium tert-amyl alkoxide; Hydrogenated metal compounds such as lithium hydride, sodium hydride and potassium hydride; trimethylamine, triethylamine , Tripropylamine, diisopropylethylamine, tributylamine, tripentylamine, trihexylamine, trioctylamine, triarylamine, pyridine, 2-methylpyridine, 3-methylpyridine, 4-methylpyridine, N-methylmorpholine, N, N-dimethylcyclohexylamine, N, N-dimethylaniline, N-methylimidazole, 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane, 1,8-diaza Tertiary amines, such as cyclo [5.4.0] undec-7-ene; and the like. Among them, pyridine, an imidazole compound, an alkali metal salt compound and a tertiary amine are preferable, more preferably pyridine, N-methylimidazole, potassium carbonate and triethylamine are more preferable, and pyridine, potassium carbonate and triethylamine are more preferable.
 前記塩基の量は、前記化合物(1-X1)、(2-X1)又は(3-X1)1モルに対して、0.5モル以上、10モル以下が好ましく、より好ましくは1モル以上、8モル以下、さらに好ましくは1モル以上、7モル以下、特に好ましくは1モル以上、5モル以下である。 The amount of the base is preferably 0.5 mol or more and 10 mol or less, more preferably 1 mol or more, per 1 mol of the compound (1-X1), (2-X1) or (3-X1). It is 8 mol or less, more preferably 1 mol or more and 7 mol or less, and particularly preferably 1 mol or more and 5 mol or less.
 工程2における上記反応時、反応溶媒は用いないことが好ましい。 At the time of the above-mentioned reaction in step 2, it is preferred not to use a reaction solvent.
 反応溶媒を用いる場合、反応に影響を及ぼさない範囲で用いることができ、例えば、エーテル系溶媒、芳香族系溶媒、エステル系溶媒、炭化水素系溶媒、ハロゲン系溶媒、ケトン系溶媒、アミド系溶媒等を用いることができる。 When a reaction solvent is used, it can be used in a range which does not affect the reaction. For example, ether solvents, aromatic solvents, ester solvents, hydrocarbon solvents, halogen solvents, ketone solvents, amide solvents Etc. can be used.
 前記エーテル系溶媒としては、例えば、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、メチルテトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、シクロペンチルメチルエーテル、t-ブチルメチルエーテル、ジオキサン等が挙げられる。 Examples of the ether solvents include diethyl ether, dipropyl ether, diisopropyl ether, dibutyl ether, tetrahydrofuran, methyltetrahydrofuran, dimethoxyethane, cyclopentyl methyl ether, t-butyl methyl ether, dioxane and the like.
 前記芳香族系溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等が挙げられる。 Examples of the aromatic solvents include benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene, dichlorobenzene and the like.
 前記エステル系溶媒としては、例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等が挙げられる。 Examples of the ester solvents include methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, isopropyl acetate, butyl acetate and the like.
 前記炭化水素系溶媒としては、例えば、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン等が挙げられる。 Examples of the hydrocarbon solvent include pentane, hexane, cyclohexane, heptane and the like.
 前記ハロゲン系溶媒としては、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン、ジクロロプロパン等が挙げられる。 Examples of the halogen-based solvent include dichloromethane, chloroform, dichloroethane, dichloropropane and the like.
 前記ケトン系溶媒としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等が挙げられる。 Examples of the ketone solvents include acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and the like.
 前記アミド系溶媒としては、例えば、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン、1,3-ジメチル-3,4,5,6-テトラヒドロ-(1H)-ピリミジン等が挙げられる。 Examples of the amide solvents include N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, 1,3-dimethyl-3,4,5,6-tetrahydrofuran And-(1H) -pyrimidine and the like.
 また、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド系溶媒、スルホラン等のスルホン系溶媒を用いることができる。 In addition, nitrile solvents such as acetonitrile, sulfoxide solvents such as dimethylsulfoxide, and sulfone solvents such as sulfolane can be used.
 反応温度は、反応収率を高める観点から0℃以上、200℃以下が好ましく、30℃以上、180℃以下がより好ましく、40℃以上、150℃以下がさらに好ましい。反応温度は、マイクロウェーブを用いて調節してもよい。 The reaction temperature is preferably 0 ° C. or more and 200 ° C. or less, more preferably 30 ° C. or more and 180 ° C. or less, and still more preferably 40 ° C. or more and 150 ° C. or less from the viewpoint of enhancing the reaction yield. The reaction temperature may be adjusted using microwaves.
 2-3.酸化工程:工程21
 工程21では、上記化合物(Z1)、(Z2)又は(Z3)と、酸化剤とを反応させることにより、化合物(1)、(2)又は(3)を得ることができる。
2-3. Oxidation step: step 21
In step 21, compound (1), (2) or (3) can be obtained by reacting the above compound (Z1), (Z2) or (Z3) with an oxidizing agent.
 前記化合物(Z1)、(Z2)、及び(Z3)の具体的構造及び好ましい構造は、化合物(1)、(2)及び(3)の具体的構造及び好ましい構造に対応する。 The specific structures and preferable structures of the compounds (Z1), (Z2) and (Z3) correspond to the specific structures and preferable structures of the compounds (1), (2) and (3).
 前記酸化剤としては、メタクロロ過安息香酸(mCPBA)等の過カルボン酸、過酸化水素を用いることができ、過酸化水素を用いることが好ましい。 As the oxidizing agent, a percarboxylic acid such as metachloroperbenzoic acid (mCPBA) or hydrogen peroxide can be used, and hydrogen peroxide is preferably used.
 前記酸化剤の量は、化合物(Z1)、(Z2)又は(Z3)1モルに対して、0.1モル以上、10モル以下が好ましく、より好ましくは0.5モル以上、5モル以下である。 The amount of the oxidizing agent is preferably 0.1 mol or more and 10 mol or less, more preferably 0.5 mol or more and 5 mol or less, per 1 mol of the compound (Z1), (Z2) or (Z3) is there.
 前記酸化工程:工程21における反応溶媒としては、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン、ジクロロプロパン等のハロゲン系溶媒;メタノール、エタノール、n-プロパノール、2-プロパノール、n-ブタノール等のアルコール系溶媒;酢酸、トリフルオロ酢酸等のカルボン酸系溶媒;水;或いはこれらの混合溶媒;が挙げられ、カルボン酸系溶媒が好ましい。 Said oxidation step: The reaction solvent in step 21 is, for example, halogen solvents such as dichloromethane, chloroform, dichloroethane, dichloropropane; alcohol solvents such as methanol, ethanol, n-propanol, 2-propanol, n-butanol, etc .; acetic acid And carboxylic acid solvents such as trifluoroacetic acid; water; and mixed solvents thereof; and carboxylic acid solvents are preferable.
 反応温度は、0℃以上、120℃以下が好ましく、より好ましくは40℃以上、100℃以下である。 The reaction temperature is preferably 0 ° C. or more and 120 ° C. or less, more preferably 40 ° C. or more and 100 ° C. or less.
 2-4.化合物(1-X2)、(2-X2)及び(3-X2)の製造
 上記化合物(1-X2)、(2-X2)又は(3-X2)としては、市販品を用いてもよいし、下記スキームで表される方法により製造したものを用いてもよい。下記スキーム中、Z1及びZ2はそれぞれ上記と同義である。また、Rx1~Rx12は、環形成用官能基を表す。
2-4. Preparation of Compounds (1-X2), (2-X2) and (3-X2) As the above compounds (1-X2), (2-X2) or (3-X2), commercially available products may be used. And those produced by the method represented by the following scheme may be used. In the following schemes, Z 1 and Z 2 are each as defined above. Further, R x1 to R x12 represent a ring forming functional group.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000026
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 即ち、化合物(1-X2)は、化合物(1-X3)と化合物(1-X4)とを反応させ、さらに酸を反応させることにより製造できる(環化工程(2):工程3)。化合物(2-X2)又は(3-X2)は、化合物(2-X3)又は化合物(3-X3)に酸を反応させることにより製造できる(環化工程(3):工程4)。また、化合物(2-X2)又は(3-X2)は、化合物(2-X4)又は化合物(3-X4)にケトン、カルボン酸誘導体などを反応させることによっても製造できる(環化工程(4):工程5)。 That is, the compound (1-X2) can be produced by reacting the compound (1-X3) with the compound (1-X4) and further reacting an acid (cyclization step (2): step 3). The compound (2-X2) or (3-X2) can be produced by reacting an acid with the compound (2-X3) or the compound (3-X3) (cyclization step (3): step 4). The compound (2-X2) or (3-X2) can also be produced by reacting the compound (2-X4) or the compound (3-X4) with a ketone, a carboxylic acid derivative or the like (cyclization step (4 ): Step 5).
 前記Rx1~Rx12で表される環形成用官能基は、水素原子;フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子;炭素数5~7のアルキル基;-OH;-SH;-NHPx1;又は-Mx1(Lx1kxが好ましく、前記アルキル基に含まれるメチレン基は、-S-、-O-又は-N(Px1)-に置き換わっていてもよく、前記アルキル基に含まれる水素原子は、-OPx2又は-SPx2に置換されていてもよい。 The ring-forming functional group represented by each of R x1 to R x12 is a hydrogen atom; a halogen atom such as a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom; an alkyl group having 5 to 7 carbon atoms; ; -NHP x1; or -M x1 (L x1) kx is preferably a methylene group contained in the alkyl group, -S -, - O-or -N (P x1) - may be replaced in the The hydrogen atom contained in the alkyl group may be substituted by -OP x2 or -SP x2 .
 Px1は、アミノ基の保護基を表し、具体的には、tert-ブトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、9-フルオレニルメチルオキシカルボニル基、2,2,2-トリクロロエトキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基等のカルバメート系保護基;トリフルオロアセチル基等のアミド系保護基;フタロイル基等のイミド系保護基;p-トルエンスルホニル基、2-ニトロベンゼンスルホニル基等のスルホンアミド系保護基;が挙げられる。中でも、アミノ基の保護基としては、カルバメート系保護基又はスルホンアミド系保護基が好ましく、tert-ブトキシカルボニル基又はp-トルエンスルホニル基が特に好ましい。 P x1 represents a protective group for an amino group, and specifically, tert-butoxycarbonyl group, benzyloxycarbonyl group, 9-fluorenylmethyloxycarbonyl group, 2,2,2-trichloroethoxycarbonyl group, allyl A carbamate type protecting group such as an oxycarbonyl group; an amide type protecting group such as a trifluoroacetyl group; an imide type protecting group such as a phthaloyl group; a sulfonamide type protecting group such as a p-toluenesulfonyl group or a 2-nitrobenzenesulfonyl group; It can be mentioned. Among them, as a protecting group of an amino group, a carbamate protecting group or a sulfonamide protecting group is preferable, and a tert-butoxycarbonyl group or a p-toluenesulfonyl group is particularly preferable.
 Px2は、炭素数2~3のアルキル基を表し、複数(好ましくは2つ)の-OPx2又は-SPx2が1つの炭素原子に結合している場合、複数(好ましくは2つ)のPx2が一緒になって、環を形成していてもよい。 P x2 represents an alkyl group having a carbon number of 2 to 3, and when a plurality (preferably 2) of -OP x2 or -SP x2 is bonded to one carbon atom, a plurality (preferably 2) of P x2 may be taken together to form a ring.
 Mx1は、ホウ素原子又はスズ原子を表す。 M x1 represents a boron atom or a tin atom.
 Lx1は、炭素数1~6のアルキル基、-OH、炭素数1~6のアルコキシ基、炭素数6~10のアリールオキシ基又は炭素数7~10のアラルキルオキシ基を表し、複数のLx1は、Mx1とともに環を形成していてもよい。 L x1 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, -OH, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, an aryloxy group having 6 to 10 carbon atoms or an aralkyloxy group having 7 to 10 carbon atoms; x1 may form a ring with M x1 .
 Lx1で表されるアルキル基としては、R1で表される脂肪族炭化水素基として例示したアルキル基と同様の基が挙げられ、該アルキル基の炭素数は1~4であることが好ましい。Lx1で表されるアルコキシ基としては、前記R1で表される脂肪族炭化水素基として例示したアルキル基に-O-が結合した基が挙げられ、該アルコキシ基の炭素数は1~4が好ましい。Lx1で表されるアリールオキシ基としては、フェニルオキシ基等が挙げられ、該アリールオキシ基の炭素数は6~8が好ましい。さらにLx1で表されるアラルキルオキシ基としては、ベンジルオキシ基等が挙げられ、炭素数は7~8が好ましい。 Examples of the alkyl group represented by L x1 include the same groups as the alkyl groups exemplified as the aliphatic hydrocarbon group represented by R 1 , and the alkyl group preferably has 1 to 4 carbon atoms . Examples of the alkoxy group represented by L x1 include groups in which -O- is bonded to the alkyl group exemplified as the aliphatic hydrocarbon group represented by R 1 above, and the alkoxy group has 1 to 4 carbon atoms Is preferred. Examples of the aryloxy group represented by L x1 include a phenyloxy group and the like, and the aryloxy group preferably has 6 to 8 carbon atoms. Furthermore, examples of the aralkyloxy group represented by L x1 include a benzyloxy group and the like, and a carbon number of 7 to 8 is preferable.
 kxは、Mx1の種類に応じて2又は3の整数を表す。kxは、Mx1がホウ素原子の場合は2であり、Mx1がスズ原子の場合は3である。 kx represents an integer of 2 or 3 depending on the type of M x1 . kx is 2 when M x1 is a boron atom, and 3 when M x1 is a tin atom.
 Mx1がホウ素原子の場合、*-Mx1(Lx1kxとしては、下記式(Om-1)~(Om-4)で表される基等が挙げられる。下記式中、Rx14は、水素原子、又は、炭素数1~4のアルキル基(好ましくは水素原子)を表す。*は、結合手を表す。 When M x1 is a boron atom, examples of * -M x1 (L x1 ) kx include groups represented by the following formulas (Om-1) to (Om-4). In the following formulae, R x14 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (preferably a hydrogen atom). * Represents a bond.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000027
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000027
 Mx1がスズ原子の場合、*-Mx1(Lx1kxとしては、下記式(Om-5)または(Om-6)で表される基等が挙げられる。下記式中、*は、結合手を表す。 When M x1 is a tin atom, * -M x1 (L x1 ) kx includes a group represented by the following formula (Om-5) or (Om-6). In the following formula, * represents a bond.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000028
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000028
 中でも、上記式(Om-1)、(Om-2)、(Om-5)、(Om-6)で表される基が好ましい。 Among them, groups represented by the above formulas (Om-1), (Om-2), (Om-5) and (Om-6) are preferable.
 環化工程(2):工程3
 工程3では、触媒を共存させてもよい。
Cyclization process (2): Process 3
In step 3, a catalyst may be coexistent.
 前記触媒としては、金属触媒が挙げられ、パラジウム系触媒、ニッケル系触媒、鉄系触媒、銅系触媒、ロジウム系触媒、ルテニウム系触媒などの遷移金属触媒が挙げられる。中でも、パラジウム系触媒が好ましい。 Examples of the catalyst include metal catalysts, and transition metal catalysts such as palladium catalysts, nickel catalysts, iron catalysts, copper catalysts, rhodium catalysts, and ruthenium catalysts. Among them, palladium catalysts are preferred.
 前記パラジウム系触媒としては、例えば、塩化パラジウム(II)、臭化パラジウム(II)、ヨウ化パラジウム(II)、酸化パラジウム(II)、硫化パラジウム(II)、テルル化パラジウム(II)、水酸化パラジウム(II)、セレン化パラジウム(II)、パラジウムシアニド(II)、パラジウムアセテート(II)、パラジウムトリフルオロアセテート(II)、パラジウムアセチルアセトナート(II)、ジアセテートビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)、ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)、ジクロロビス(アセトニトリル)パラジウム(II)、ジクロロビス(ベンゾニトリル)パラジウム(II)、ジクロロ[1,2-ビス(ジフェニルホスフィノ)エタン]パラジウム(II)、ジクロロ[1,3-ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパン]パラジウム(II)、ジクロロ[1,4-ビス(ジフェニルホスフィノ)ブタン]パラジウム(II)、ジクロロ[1,1-ビス(ジフェニルホスフィノフェロセン)]パラジウム(II)、ジクロロ[1,1-ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン]パラジウム(II)ジクロロメタン付加体、ビス(ジベンジリデンアセトン)パラジウム(0)、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0)、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0)クロロホルム付加体、ジクロロ[1,3-ビス(2,6-ジイソプロピルフェニル)イミダゾール-2-イリデン](3-クロロピリジル)パラジウム(II)、ビス(トリ-tert-ブチルホスフィン)パラジウム(0)、ジクロロ[2,5-ノルボルナジエン]パラジウム(II)、ジクロロビス(エチレンジアミン)パラジウム(II)、ジクロロ(1,5-シクロオクタジエン)パラジウム(II)、ジクロロビス(メチルジフェニルホスフィン)パラジウム(II)、ジクロロビス(トリフェニルアルシン)パラジウム(II)等が挙げられる。これらの触媒は、一種のみを用いてもよく、二種以上を用いてもよい。 Examples of the palladium-based catalyst include palladium (II) chloride, palladium (II) bromide, palladium (II) iodide, palladium (II) oxide, palladium (II) sulfide, palladium (II) telluride, and the like. Palladium (II), palladium (II) selenide, palladium cyanide (II), palladium acetate (II), palladium trifluoroacetate (II), palladium acetylacetonate (II), diacetate bis (triphenylphosphine) palladium (II), tetrakis (triphenylphosphine) palladium (0), dichlorobis (triphenylphosphine) palladium (II), dichlorobis (acetonitrile) palladium (II), dichlorobis (benzonitrile) palladium (II), dichloro 1,2-bis (diphenylphosphino) ethane] palladium (II), dichloro [1,3-bis (diphenylphosphino) propane] palladium (II), dichloro [1,4-bis (diphenylphosphino) butane] Palladium (II), dichloro [1,1-bis (diphenylphosphinoferrocene)] palladium (II), dichloro [1,1-bis (diphenylphosphino) ferrocene] palladium (II) dichloromethane adduct, bis (dibenzylidene Acetone) Palladium (0), Tris (dibenzylideneacetone) dipalladium (0), Tris (dibenzylideneacetone) dipalladium (0) chloroform adduct, dichloro [1,3-bis (2,6-diisopropylphenyl) imidazole -2-ylidene] (3-chloropyridyl Palladium (II), bis (tri-tert-butylphosphine) palladium (0), dichloro [2,5-norbornadiene] palladium (II), dichlorobis (ethylenediamine) palladium (II), dichloro (1,5-cyclooctadiene) And the like) palladium (II), dichlorobis (methyldiphenylphosphine) palladium (II), dichlorobis (triphenylarsine) palladium (II) and the like. These catalysts may be used alone or in combination of two or more.
 前記化合物(1-X3)と触媒とのモル比(化合物(1-X3):触媒)は、一般に1:0.0001~1:0.5程度であり特に限定されないが、収率や反応効率の観点から1:0.001~1:0.4が好ましく、1:0.005~1:0.3がより好ましく、1:0.01~1:0.2がさらに好ましい。 The molar ratio of the compound (1-X3) to the catalyst (compound (1-X3): catalyst) is generally about 1: 0.0001 to 1: 0.5 and is not particularly limited, but the yield and reaction efficiency From the point of view of 1: 0.001 to 1: 0.4 is preferable, 1: 0.005 to 1: 0.3 is more preferable, and 1: 0.01 to 1: 0.2 is more preferable.
 前記触媒には、特定の配位子を配位させてもよい。 The catalyst may be coordinated with a specific ligand.
 前記配位子としては、例えば、トリメチルホスフィン、トリエチルホスフィン、トリ(n-ブチル)ホスフィン、トリ(イソプロピル)ホスフィン、トリ(tert-ブチル)ホスフィン、トリ-tert-ブチルホスホニウムテトラフルオロボラート、ビス(tert-ブチル)メチルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、ジフェニル(メチル)ホスフィン、トリフェニスホスフィン、トリス(o-トリル)ホスフィン、トリス(m-トリル)ホスフィン、トリス(p-トリル)ホスフィン、トリス(2-フリル)ホスフィン、トリス(2-メトキシフェニル)ホスフィン、トリス(3-メトキシフェニル)ホスフィン、トリス(4-メトキシフェニル)ホスフィン、2-ジシクロヘキシルホスフィノビフェニル、2-ジシクロヘキシルホスフィノ-2’-メチルビフェニル、2-ジシクロヘキシルホスフィノ-2’,4’,6’-トリイソプロピル-1,1’-ビフェニル、2-ジシクロヘキシルホスフィノ-2’,6’-ジメトキシ-1,1’-ビフェニル、2-ジシクロヘキシルホスフィノ-2’-(N,N’-ジメチルアミノ)ビフェニル、2-ジフェニルホスフィノ-2’-(N,N’-ジメチルアミノ)ビフェニル、2-(ジ-tert-ブチル)ホスフィノ-2’-(N,N’-ジメチルアミノ)ビフェニル、2-(ジ-tert-ブチル)ホスフィノビフェニル、2-(ジ-tert-ブチル)ホスフィノ-2’-メチルビフェニル、1,2-ビス(ジフェニルホスフィノ)エタン、1,3-ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパン、1,4-ビス(ジフェニルホスフィノ)ブタン、1,2-ビス(ジシクロヘキシルホスフィノ)エタン、1,3-ビス(ジシクロヘキシルホスフィノ)プロパン、1,4-ビス(ジシクロヘキシルホスフィノ)ブタン、1,2-ビスジフェニルホスフィノエチレン、1,1’-ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン、1,2-エチレンジアミン、N,N,N’,N’-テトラメチルエチレンジアミン、2,2’-ビピリジル、1,3-ジフェニルジヒドロイミダゾリリデン、1,3-ジメチルジヒドロイミダゾリリデン、ジエチルジヒドロイミダゾリリデン、1,3-ビス(2,4,6-トリメチルフェニル)ジヒドロイミダゾリリデン、1,3-ビス(2,6-ジイソプロピルフェニル)ジヒドロイミダゾリリデン、1,10-フェナントロリン、5,6-ジメチル-1,10-フェナントロリン、バトフェナントロリン等が挙げられる。これらの配位子は、一種のみを用いてもよく、二種以上を用いてもよい。 Examples of the ligand include trimethyl phosphine, triethyl phosphine, tri (n-butyl) phosphine, tri (isopropyl) phosphine, tri (tert-butyl) phosphine, tri-tert-butyl phosphonium tetrafluoroborate, bis ( tert-Butyl) methyl phosphine, tricyclohexyl phosphine, diphenyl (methyl) phosphine, triphenis phosphine, tris (o-tolyl) phosphine, tris (m-tolyl) phosphine, tris (p-tolyl) phosphine, tris (2- furyl ) Phosphine, tris (2-methoxyphenyl) phosphine, tris (3-methoxyphenyl) phosphine, tris (4-methoxyphenyl) phosphine, 2-dicyclohexylphosphinobiphenyl, 2-dicyclo Xylphosphino-2'-methylbiphenyl, 2-dicyclohexylphosphino-2 ', 4', 6'-triisopropyl-1,1'-biphenyl, 2-dicyclohexylphosphino-2 ', 6'-dimethoxy-1,1 '-Biphenyl, 2-dicyclohexylphosphino-2'-(N, N'-dimethylamino) biphenyl, 2-diphenylphosphino-2 '-(N, N'-dimethylamino) biphenyl, 2- (di-tert) -Butyl) phosphino-2 '-(N, N'-dimethylamino) biphenyl, 2- (di-tert-butyl) phosphinobiphenyl, 2- (di-tert-butyl) phosphino-2'-methylbiphenyl, 1 , 2-bis (diphenylphosphino) ethane, 1,3-bis (diphenylphosphino) propane, 1,4-bis ( Phenylphosphino) butane, 1,2-bis (dicyclohexylphosphino) ethane, 1,3-bis (dicyclohexylphosphino) propane, 1,4-bis (dicyclohexylphosphino) butane, 1,2-bisdiphenylphosphino Ethylene, 1,1′-bis (diphenylphosphino) ferrocene, 1,2-ethylenediamine, N, N, N ′, N′-tetramethylethylenediamine, 2,2′-bipyridyl, 1,3-diphenyldihydroimidazolyl Den, 1,3-dimethyldihydroimidazolylidene, diethyldihydroimidazolylidene, 1,3-bis (2,4,6-trimethylphenyl) dihydroimidazolylidene, 1,3-bis (2,6-diisopropylphenyl) ) Dihydroimidazolylidene, 1, 10-phenanthroline, 5, 6-dimethyl-1,10-phenanthroline, batophenanthroline and the like. One of these ligands may be used alone, or two or more thereof may be used.
 配位子を配位させる場合、触媒と配位子とのモル比(触媒:配位子)は、一般に1:0.5~1:10程度であり特に限定されないが、収率や反応効率の観点から1:1~1:8が好ましく、1:1~1:7がより好ましく、1:1~1:5がさらに好ましい。 When coordinating a ligand, the molar ratio of catalyst to ligand (catalyst: ligand) is generally about 1: 0.5 to 1:10 and is not particularly limited, but the yield and reaction efficiency In view of the above, 1: 1 to 1: 8 is preferable, 1: 1 to 1: 7 is more preferable, and 1: 1 to 1: 5 is more preferable.
 化合物(1-X3)と塩基とのモル比(化合物(1-X3):塩基)は、一般に1:1~1:10程度であり特に限定されないが、収率や反応効率の観点から1:1.5~1:8が好ましく、1:1.8~1:6がより好ましく、1:2~1:5がさらに好ましい。 The molar ratio of the compound (1-X3) to the base (compound (1-X3): base) is generally about 1: 1 to 1:10 and is not particularly limited, but from the viewpoint of yield and reaction efficiency 1: 1.5 to 1: 8 is preferable, 1: 1.8 to 1: 6 is more preferable, and 1: 2 to 1: 5 is more preferable.
 工程3において、化合物(1-X3)と化合物(1-X4)とを反応させた後に、反応させる酸としては、塩酸、硝酸、硫酸等の無機酸が好ましく、塩酸が特に好ましい。 In the step 3, after reacting the compound (1-X3) with the compound (1-X4), the acid to be reacted is preferably an inorganic acid such as hydrochloric acid, nitric acid or sulfuric acid, and hydrochloric acid is particularly preferable.
 工程3における反応溶媒としては、反応に影響を及ぼさない限り特に限定されることはなく、例えば、エーテル系溶媒、芳香族系溶媒、エステル系溶媒、炭化水素系溶媒、ハロゲン系溶媒、ケトン系溶媒、アミド系溶媒等を用いることができる。 The reaction solvent in step 3 is not particularly limited as long as it does not affect the reaction, and, for example, ether solvents, aromatic solvents, ester solvents, hydrocarbon solvents, halogen solvents, ketone solvents And amide solvents can be used.
 前記エーテル系溶媒としては、例えば、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、メチルテトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、シクロペンチルメチルエーテル、t-ブチルメチルエーテル、1,4-ジオキサン等が挙げられる。 Examples of the ether solvents include diethyl ether, dipropyl ether, diisopropyl ether, dibutyl ether, tetrahydrofuran, methyltetrahydrofuran, dimethoxyethane, cyclopentyl methyl ether, t-butyl methyl ether, 1,4-dioxane and the like.
 前記芳香族系溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等が挙げられる。 Examples of the aromatic solvents include benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene, dichlorobenzene and the like.
 前記エステル系溶媒としては、例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等が挙げられる。 Examples of the ester solvents include methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, isopropyl acetate, butyl acetate and the like.
 前記炭化水素系溶媒としては、例えば、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン等が挙げられる。 Examples of the hydrocarbon solvent include pentane, hexane, heptane and the like.
 前記ハロゲン系溶媒としては、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン、ジクロロプロパン等が挙げられる。 Examples of the halogen-based solvent include dichloromethane, chloroform, dichloroethane, dichloropropane and the like.
 前記ケトン系溶媒としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等が挙げられる。 Examples of the ketone solvents include acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and the like.
 前記アミド系溶媒としては、例えば、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン、1,3-ジメチル3,4,5,6-テトラヒドロ-(1H)-ピリミジン等が挙げられる。 Examples of the amide solvents include N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, 1,3-dimethyl 3,4,5,6-tetrahydro- (1H) -pyrimidine and the like.
 また、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド系溶媒、スルホラン等のスルホン系溶媒を用いることができる。 In addition, nitrile solvents such as acetonitrile, sulfoxide solvents such as dimethylsulfoxide, and sulfone solvents such as sulfolane can be used.
 これらの中でも、トルエン、キシレン、テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン、N,N-ジメチルホルムアミドが特に好ましい。 Among these, toluene, xylene, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane and N, N-dimethylformamide are particularly preferable.
 反応温度は特に限定されないが、反応収率を高める観点から0℃以上、200℃以下が好ましい。反応温度は、マイクロウェーブを用いて調節してもよい。 The reaction temperature is not particularly limited, but is preferably 0 ° C. or more and 200 ° C. or less from the viewpoint of enhancing the reaction yield. The reaction temperature may be adjusted using microwaves.
 工程3としては、例えば下記スキームで表される工程を好ましく採用できる。 As Step 3, for example, a step represented by the following scheme can be preferably employed.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000029
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000029
 上記スキーム中、Px1、Px2、Mx1、Lx1、kx、Z1、Z2は上記と同義である。X1はハロゲン原子を表す。 In the above scheme, P x1 , P x2 , M x1 , L x1 , kx, Z 1 and Z 2 are as defined above. X 1 represents a halogen atom.
 環化工程(3):工程4
 工程4において、化合物(2-X3)又は化合物(3-X3)に反応させる酸としては、環化工程(2):工程3において用いられる酸として例示した酸と同様の酸を用いることができ、無機酸が好ましく、塩酸が特に好ましい。
Cyclization process (3): Process 4
As the acid to be reacted with the compound (2-X3) or the compound (3-X3) in the step 4, cyclization step (2): The same acid as the acid exemplified as the acid used in the step 3 can be used. And inorganic acids are preferred, and hydrochloric acid is particularly preferred.
 工程4における反応溶媒としては、環化工程(2):工程3において用いられる反応溶媒と同様の溶媒を用いることができ、例えば、トルエン、キシレン、テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン、N,N-ジメチルホルムアミドが特に好ましい。 As the reaction solvent in step 4, a solvent similar to the reaction solvent used in cyclization step (2): step 3 can be used. For example, toluene, xylene, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, N, N- Dimethylformamide is particularly preferred.
 反応温度は、反応収率を高める観点から0℃以上、200℃以下が好ましい。反応温度は、マイクロウェーブを用いて調節してもよい。 The reaction temperature is preferably 0 ° C. or more and 200 ° C. or less from the viewpoint of enhancing the reaction yield. The reaction temperature may be adjusted using microwaves.
 工程4としては、例えば、下記スキームで表される工程を好ましく採用できる。下記スキーム中、Px1、Px2、Z1は上記と同義である。 As the step 4, for example, a step represented by the following scheme can be preferably employed. In the following schemes, P x1 , P x2 and Z 1 are as defined above.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000030
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000030
 環化工程(4):工程5
 工程5において用いる酸化剤としては、上記酸化工程:工程1で用いられる酸化剤と同様の酸化剤を用いることができ、メタクロロ過安息香酸等の過カルボン酸が好ましい。
Cyclization process (4): Process 5
As the oxidizing agent used in step 5, the same oxidizing agent as the oxidizing agent used in the above-mentioned oxidation step: step 1 can be used, and a percarboxylic acid such as metachloroperbenzoic acid is preferable.
 工程5における反応溶媒としては、上記酸化工程:工程1における反応溶媒と同様の溶媒を用いることができ、ハロゲン系溶媒が好ましい。 As the reaction solvent in step 5, the same solvent as the reaction solvent in the above-mentioned oxidation step: step 1 can be used, and a halogen-based solvent is preferable.
 工程5としては、例えば、下記スキームで表される工程を好ましく採用できる。下記スキーム中、Px1は上記と同義である。 As Step 5, for example, a step represented by the following scheme can be preferably employed. In the following schemes, P x1 is as defined above.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000031
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000031
 3.テトラゾロピリジン多量体
 本発明の化合物(1)、(2)又は(3)から導かれる構造単位として、式(I)、(IIA)、(IIB)、(IIC)又は(IID)で表される構造単位(以下、単に「構造単位(I)」、「構造単位(IIA)」、「構造単位(IIB)」、「構造単位(IIC)」又は「構造単位(IID)」という場合がある。)を含むテトラゾロピリジン多量体も本発明の技術的範囲に包含される。
3. Tetrazolopyridine multimer As a structural unit derived from the compound (1), (2) or (3) of the present invention, it is represented by the formula (I), (IIA), (IIB), (IIC) or (IID) Structural unit (hereinafter simply referred to as “structural unit (I)”, “structural unit (IIA)”, “structural unit (IIB)”, “structural unit (IIC)” or “structural unit (IID)” Also included within the technical scope of the present invention is a tetrazolopyridine multimer comprising
 式(1)、(2)又は(3)から導かれる構造単位を有することで、化合物のLUMOが下がる傾向があり、半導体材料(n型あるいは両極性)として有用である。 Having a structural unit derived from the formula (1), (2) or (3) tends to lower the LUMO of the compound, and is useful as a semiconductor material (n-type or ambipolar).
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000032
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000032
 式(I)、(IIA)、(IIB)、(IIC)及び(IID)中、Y1、Y2、Y11及びY12は、それぞれ独立に、環の構成要素として-SO2-を少なくとも1個含む5員の複素環を表す。Dは、結合手を表す。 In formulas (I), (IIA), (IIB), (IIC) and (IID), Y 1 , Y 2 , Y 11 and Y 12 are each independently at least —SO 2 — as a ring component It represents a 5-membered heterocyclic ring containing one. D represents a bond.
 構造単位(I)、(IIA)、(IIB)、(IIC)、及び構造単位(IID)におけるY1及びY2の具体例及び好ましい範囲は、式(1)~(3)におけるY1及びY2の具体例及び好ましい範囲と同じである。 Structural units (I), (IIA), (IIB), (IIC), and specific examples and preferred ranges of Y 1 and Y 2 in the structural unit (IID) is and Y 1 in the formula (1) to (3) is the same as the specific examples and preferred ranges of Y 2.
 上記Y11又はY12で表される複素環としては、下記式で表される複素環が挙げられる。 Examples of the heterocycle represented by the above Y 11 or Y 12 include the heterocycles represented by the following formula.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000033
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000033
 中でも、ジオキソチオフェン環、ジオキソチアゾール環が好ましい。 Among them, dioxothiophene ring and dioxothiazole ring are preferable.
 上記Y11又はY12で表される複素環は、置換基を有していなくともよく、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子;脂肪族炭化水素基;アルコキシ基;及びハロゲン化アルキル基から選ばれる1種以上で置換されていることも好ましい。 The heterocyclic group represented by Y 11 or Y 12 does not have to have a substituent, and is a halogen atom such as a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom; an aliphatic hydrocarbon group; an alkoxy group; It is also preferable to be substituted by at least one selected from a halogenated alkyl group.
 上記Y11又はY12で表される複素環を置換するハロゲン原子、脂肪族炭化水素基、アルコキシ基、ハロゲン化アルキル基としては、上記Y1又はY2で表される複素環を置換するハロゲン原子、脂肪族炭化水素基、アルコキシ基、ハロゲン化アルキル基と同じものを用いることができる。 As the halogen atom, aliphatic hydrocarbon group, alkoxy group and halogenated alkyl group for substituting the heterocyclic ring represented by Y 11 or Y 12 above, halogen for substituting the heterocyclic ring represented by Y 1 or Y 2 above The same atoms, aliphatic hydrocarbon groups, alkoxy groups, and halogenated alkyl groups can be used.
 上記Y11又はY12で表される複素環としては、具体的には、下記式で表される環が好ましい。 Examples of the heterocyclic ring represented by the above Y 11 or Y 12, specifically, the ring is preferably represented by the following formula.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000034
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000034
 上記式(Y11)または(Y12)中、R1は、式(Y1)または(Y2)におけるR1と同じである。Dは、式(I)、(IIA)、(IIB)、(IIC)または(IID)におけるDと同じである。qは0~1の整数を表す。*a、*bの一方が式(I)、(IIA)、(IIB)、(IIC)または(IID)における*1であり、他方が*2である。 In the above formula (Y11) or (Y12), R 1 is the same as R 1 in the formula (Y1) or (Y2). D is the same as D in formula (I), (IIA), (IIB), (IIC) or (IID). q represents an integer of 0 to 1; One of * a and * b is * 1 in formula (I), (IIA), (IIB), (IIC) or (IID), and the other is * 2.
 上記構造単位(I)を含む化合物としては、具体的には、下記式(I-1)で表される化合物が挙げられる。下記式(I-1)中、Y11及びY12は、前記と同じである。A1は、置換されていてもよい芳香族環を表す。n1は、1以上の整数を表す。R3はそれぞれ独立に、水素原子、又はアルキル基を表す。 Specifically as a compound containing the said structural unit (I), the compound represented by following formula (I-1) is mentioned. In the following formula (I-1), Y 11 and Y 12 are the same as above. A 1 represents an aromatic ring which may be substituted. n1 represents an integer of 1 or more. Each R 3 independently represents a hydrogen atom or an alkyl group.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000035
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000035
 上記構造単位(IIA)、(IIB)、(IIC)及び(IID)のいずれかを含む化合物としては、下記式で表される化合物(II-1A)~(II-1J)が挙げられる。中でも、化合物(II-1A)又は化合物(II-1C)が好ましい。 Examples of the compound containing any of the above structural units (IIA), (IIB), (IIC) and (IID) include compounds (II-1A) to (II-1J) represented by the following formulas. Among them, compound (II-1A) or compound (II-1C) is preferable.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000036
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000036
 式(II-1A)~(II-1J)中、Y1、Y2、Y11及びY12は、前記と同じである。A1は、それぞれ独立に、置換されていてもよい芳香族環を表す。n2は、1以上の整数を表す。 In formulas (II-1A) to (II-1J), Y 1 , Y 2 , Y 11 and Y 12 are the same as above. Each A 1 independently represents an aromatic ring which may be substituted. n2 represents an integer of 1 or more.
 上記A1で表される芳香族環としては、芳香族炭化水素環、芳香族複素環が挙げられる。 The aromatic ring represented by A 1, an aromatic hydrocarbon ring, aromatic heterocyclic ring.
 上記芳香族炭化水素環としては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環等が挙げられ、ベンゼン環が好ましい。 As said aromatic hydrocarbon ring, a benzene ring, a naphthalene ring, an anthracene ring, a phenanthrene ring etc. are mentioned, for example, A benzene ring is preferable.
 上記芳香族複素環としては、例えば、下記式で表される芳香族複素環が挙げられる。下記式中、R3は、水素原子又はアルキル基を表し、R4は、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基又はハロゲン化アルキル基を表す。 As said aromatic heterocyclic ring, the aromatic heterocyclic ring represented by a following formula is mentioned, for example. In the following formulae, R 3 represents a hydrogen atom or an alkyl group, and R 4 represents a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group or a halogenated alkyl group.
 中でも、チオフェン環、チアゾール環、ピリジン環、ピロール環、イミダゾール環、フラン環、オキサゾール環等が好ましい。 Among them, thiophene ring, thiazole ring, pyridine ring, pyrrole ring, imidazole ring, furan ring, oxazole ring and the like are preferable.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000037
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000037
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000038
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000038
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000039
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000039
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000040
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000040
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000041
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000041
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000042
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000042
 また、上記A1で表される芳香族環は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子で置換されていることが好ましい。このハロゲン原子としては、臭素原子、ヨウ素原子が好ましく、臭素原子が特に好ましい。ハロゲン原子の置換数は、1~2が好ましく、1が特に好ましい。 Further, the aromatic ring represented by A 1 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, it is preferably substituted with a halogen atom such as iodine atom. As this halogen atom, a bromine atom and an iodine atom are preferable, and a bromine atom is particularly preferable. The number of substitution of the halogen atom is preferably 1 to 2, particularly preferably 1.
 上記A1で表される芳香族環は、ハロゲン原子以外の置換基を有していてもよい。ハロゲン原子以外の置換基としては、例えば、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルキル基等が挙げられる。 The aromatic ring represented by the above A 1 may have a substituent other than a halogen atom. As a substituent other than a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, a halogenated alkyl group etc. are mentioned, for example.
 前記アルキル基としては、R1の脂肪族炭化水素基として例示したアルキル基と同様の基が挙げられ、該アルキル基の炭素数は好ましくは1~30、より好ましくは1~24である。 Examples of the alkyl group include the same groups as the alkyl groups exemplified as the aliphatic hydrocarbon group of R 1 , and the carbon number of the alkyl group is preferably 1 to 30, and more preferably 1 to 24.
 前記アルコキシ基としては、前記アルキル基に-O-が結合した基が挙げられ、該アルコキシ基の炭素数は好ましくは1~30、より好ましくは1~24である。 Examples of the alkoxy group include groups in which -O- is bonded to the alkyl group, and the number of carbon atoms of the alkoxy group is preferably 1 to 30, and more preferably 1 to 24.
 前記ハロゲン化アルキル基としては、前記アルキル基の水素原子がフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子(特に好ましくはフッ素原子)で置換された基が挙げられ、該ハロゲン化アルキル基の炭素数は好ましくは1~30、より好ましくは1~10、さらに好ましくは1~4である。 Examples of the halogenated alkyl group include groups in which a hydrogen atom of the alkyl group is substituted with a halogen atom such as a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom (particularly preferably a fluorine atom). The carbon number of the group is preferably 1 to 30, more preferably 1 to 10, and still more preferably 1 to 4.
 前記ハロゲン化アルキル基としては、具体的には、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、ノナフルオロブチル基等のペルフルオロアルキル基等が挙げられ、トリフルオロメチル基が特に好ましい。 Specific examples of the halogenated alkyl group include perfluoroalkyl groups such as trifluoromethyl group, pentafluoroethyl group, heptafluoropropyl group, nonafluorobutyl group and the like, and a trifluoromethyl group is particularly preferable.
 上記A1で表される芳香族環のうち、芳香族炭化水素環は、2位、又は5位でテトラゾロピリジンのピリジン環と結合していることが好ましく、芳香族複素環は、2位でテトラゾロピリジンのピリジン環と結合していることが好ましい。 Among the aromatic rings represented by A 1 above, the aromatic hydrocarbon ring is preferably bonded to the pyridine ring of tetrazolopyridine at the 2- or 5-position, and the aromatic heterocyclic ring is preferably in the 2-position. Preferably bonded to the pyridine ring of tetrazolopyridine.
 上記A1で表される芳香族環としては、下記式で表される芳香族環が好ましい。 The aromatic ring represented by A 1, the aromatic ring is preferably represented by the following formula.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000043
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000043
 式(Ar1)~(Ar16)中、R3はそれぞれ独立に、水素原子、又はアルキル基を表す。R4はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、又はハロゲン化アルキル基を表す。n2は0~2の整数、n3は0~1の整数、n4は0~4の整数、n5は0~3の整数を表す。 In formulas (Ar1) to (Ar16), each R 3 independently represents a hydrogen atom or an alkyl group. Each R 4 independently represents a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, or a halogenated alkyl group. n2 is an integer of 0 to 2, n3 is an integer of 0 to 1, n4 is an integer of 0 to 4, and n5 is an integer of 0 to 3.
 上記R4で表されるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられ、臭素原子、ヨウ素原子が好ましい。 The halogen atom represented by R 4, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, a bromine atom, an iodine atom.
 上記R3で表されるアルキル基、上記R4で表されるアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルキル基としては、それぞれ上記Y1で表される複素環が有していてもよい脂肪族酸化水素基として例示したアルキル基、アルコキシ基又はハロゲン化アルキル基と同様の基が挙げられる。 As the alkyl group represented by R 3 above, the alkyl group represented by R 4 above, the alkoxy group, and the halogenated alkyl group, aliphatic oxidation which the heterocycle represented by Y 1 above may have, respectively The same groups as the alkyl group, the alkoxy group or the halogenated alkyl group exemplified as the hydrogen group can be mentioned.
 上記A1としては、具体的には、下記式で表される構造単位がより好ましい。 As the A 1, specifically, it is more preferably a structural unit represented by the following formula.
 下記式(Ar1-1)、(Ar2-1)、(Ar4-1)において、X2は2位に結合していることが好ましく、下記式(Ar3-1)において、X2は4位に結合していることが好ましい。 In the following formulas (Ar1-1), (Ar2-1) and (Ar4-1), X 2 is preferably bonded to the 2-position, and in the following formula (Ar 3-1), X 2 is at the 4-position It is preferred that they be linked.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000044
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000044
 上記式(Ar1-1)~(Ar16-1)中、R3は、上記と同義である。R5は、アルキル基、アルコキシ基、又はハロゲン化アルキル基を表す。X2は、ハロゲン原子を表す。n6は0~1の整数、n7は0~3の整数、n8は0~2の整数、n9は0~4の整数を表す。*は結合手を表す。 In the above formulas (Ar1-1) to (Ar16-1), R 3 is as defined above. R 5 represents an alkyl group, an alkoxy group or a halogenated alkyl group. X 2 represents a halogen atom. n6 is an integer of 0 to 1, n7 is an integer of 0 to 3, n8 is an integer of 0 to 2, and n9 is an integer of 0 to 4. * Represents a bond.
 式(Ar1-1)、(Ar2-1)、(Ar3-1)、(Ar4-1)中、X2で表されるハロゲン原子は、上記R4で表されるハロゲン原子と同様であり、臭素原子又はヨウ素原子が好ましく、臭素原子がより好ましい。R5は、それぞれ、上記R4で表されるアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルキル基と同様であり、アルコキシ基、ハロゲン化アルキル基が好ましい。n6、n7、n8、n9は、0~1の整数が好ましい。 In the formulas (Ar1-1), (Ar2-1), (Ar3-1) and (Ar4-1), the halogen atom represented by X 2 is the same as the halogen atom represented by R 4 above, A bromine atom or an iodine atom is preferred, and a bromine atom is more preferred. R 5 is respectively the same as the alkyl group, alkoxy group or halogenated alkyl group represented by R 4 above, preferably an alkoxy group or halogenated alkyl group. n6, n7, n8 and n9 are preferably integers of 0 to 1.
 化合物(I-1)としては、例えば、下記式(I-I)で表される化合物が挙げられる。
H-A10-Y40-A11-H  (I-I)
Examples of the compound (I-1) include compounds represented by the following formula (II).
H-A 10 -Y 40 -A 11 -H (I-I)
 上記式中、Y40は、式(I)で表される構造を表す。 In the above formulae, Y 40 represents a structure represented by formula (I).
 A10及びA11は、式(Ar1-1)~(Ar8-1)のいずれかで表される構造を表し、A10又はA11としては、式(Ar1-1)又は(Ar1-2)で表される基が好ましく、式(Ar1-2)で表される基がより好ましい。 A 10 and A 11 represent a structure represented by any one of formulas (Ar1-1) to (Ar8-1), and as A 10 or A 11 , a group represented by formula (Ar1-1) or (Ar 1-2) The group represented by is preferable, and the group represented by the formula (Ar1-2) is more preferable.
 A10とA11は同一であることが好ましい。 Preferably, A 10 and A 11 are identical.
 上記式(I-I)で表される化合物としては、具体的には、下記表に示される化合物が好ましい。中でも、化合物(I-I-1)~(I-I-12)が好ましい。 Specifically as a compound represented by said Formula (II), the compound shown by the following table is preferable. Among them, compounds (II-1) to (II-12) are preferable.
 下記表中、(Y-I-1)~(Y-I-4)は、それぞれ下記式で表されるユニットを表す。 In the following table, (Y-I-1) to (Y-I-4) each represent a unit represented by the following formula.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000045
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000045
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000046
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000046
 化合物(II-1)としては、例えば、下記式(II-I)で表される化合物が挙げられる。
50-A20-Y51  (II-I)
Examples of the compound (II-1) include compounds represented by the following formula (II-I).
Y 50 -A 20 -Y 51 (II-I)
 上記式中、Y50及びY51は、式(IIA)~(IID)のいずれかで表される構造を表す。 In the above formulae, Y 50 and Y 51 each represent a structure represented by any one of formulas (IIA) to (IID).
 A20は、式(Ar1-1)~(Ar16-1)のいずれかで表される構造を表し、A20としては、式(Ar1-3)、(Ar3-2)、(Ar13-1)で表される構造が好ましい。 A 20 represents a structure represented by any one of formulas (Ar1-1) to (Ar16-1), and as A 20 , formulas (Ar1-3), (Ar3-2), (Ar13-1) The structure represented by is preferable.
 上記式(II-I)で表される化合物としては、具体的には、下記表に示される化合物が好ましい。中でも、化合物(II-I-97)~(II-I-120)がより好ましく、化合物(II-I-98)、(II-I-99)、(II-I-105)、(II-I-108)、(II-I-110)、(II-I-111)、(II-I-117)、(II-I-120)がさらに好ましい。 Specifically as a compound represented by the said Formula (II-I), the compound shown by the following table is preferable. Among them, compounds (II-I-97) to (II-I-120) are more preferable, and compounds (II-I-98), (II-I-99), (II-I-105), (II-) More preferred are I-108), (II-I-110), (II-I-111), (II-I-117) and (II-I-120).
 下記表中、(Y-II-1)~(Y-II-12)は、下記式で表されるユニットを表す。 In the following table, (Y-II-1) to (Y-II-12) represent a unit represented by the following formula.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000047
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000047
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000048
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000048
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000049
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000049
 3-1.テトラゾロピリジン多量体の製造方法
 上記化合物(I-1)の製造方法の概要は、下記スキームで表される。下記式中、X3は、ハロゲン原子を表す。M1は、Mx1と同義であり、L1はLx1と同義であり、k1はkxと同義であり、A1は上記と同義である。R3、Y11、Y12、Z11、Z12は、上記と同義である。
3-1. Method of Producing Tetrazolopyridine Multimer An outline of a method of producing the above compound (I-1) is represented by the following scheme. In the following formulae, X 3 represents a halogen atom. M 1 has the same meaning as M x1 , L 1 has the same meaning as L x1 , k1 has the same meaning as kx, and A 1 has the same meaning as described above. R 3 , Y 11 , Y 12 , Z 11 and Z 12 are as defined above.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000050
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000050
 即ち、化合物(I-1)は、3通りのルートで製造できる。 That is, compound (I-1) can be produced by three routes.
 (ルート1)
 化合物(I-X6)と化合物(I-X4)とを反応させて芳香族環を付加した後(芳香族環付加工程(1):工程6)、得られた化合物(I-X5)と酸化剤とを反応させ(酸化工程:工程7)、得られた化合物(I-X2)に、塩基の存在下、アジド化合物を反応させることにより化合物(ZI-1)を製造し(環化工程(1):工程8)、酸化することにより製造できる(酸化工程:工程31)。
(Route 1)
After the compound (I-X6) and the compound (I-X4) are reacted to add an aromatic ring (aromatic cycloaddition step (1): step 6), the compound (I-X5) obtained and oxidation are carried out The compound (ZI-1) is produced by reacting an azide compound with an agent (oxidation step: step 7), and reacting the resulting compound (I-X2) with an azide compound in the presence of a base (cyclization step (cyclization step 1): Step 8), can be manufactured by oxidation (oxidation step: step 31).
 (ルート2)
 化合物(I-X3)と化合物(I-X4)とを反応させて芳香族環を付加した後(芳香族環付加工程(1):工程9)、得られた化合物(I-X2)に、塩基の存在下、アジド化合物を反応させることにより化合物(ZI-1)を製造し(環化工程(1):工程8)、酸化することにより製造できる(酸化工程:工程31)。
(Route 2)
After the compound (I-X3) and the compound (I-X4) are reacted to add an aromatic ring (aromatic cycloaddition step (1): step 9), the compound (I-X2) obtained is The compound (ZI-1) can be produced by reacting an azide compound in the presence of a base (cyclization step (1): step 8) and oxidation (oxidation step: step 31).
 (ルート3)
 化合物(I-X1)と化合物(I-X4)とを反応させて芳香族環を付加することにより化合物(ZI-1)を製造し(芳香族環付加工程(1):工程10)、酸化することにより製造できる(酸化工程:工程31)。
(Route 3)
Compound (ZI-1) is produced by reacting compound (I-X1) with compound (I-X4) to add an aromatic ring (aromatic ring addition step (1): step 10), oxidation (Oxidation step: step 31).
 また、上記化合物(II-1A)~(II-1J)の製造方法の概要は、下記スキームで表される。なお、下記スキームでは、上記化合物(II-1A)~(II-IJ)をまとめて化合物(II-1)で表す。 Further, the outline of the method for producing the above compounds (II-1A) to (II-1J) is represented by the following scheme. In the following scheme, the compounds (II-1A) to (II-IJ) are collectively represented by a compound (II-1).
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000051
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000051
 ただし、上記スキームにおいて、下記式(II)で表される構造は、下記式(IIA)、(IIB)、(IIC)及び(IID)のいずれかで表される構造を意味するものとする。 However, in the above-mentioned scheme, a structure represented by the following formula (II) means a structure represented by any one of the following formulas (IIA), (IIB), (IIC) and (IID).
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000052
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000052
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000053
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000053
 上記スキームにおいて、下記式(ZII)で表される構造は、下記式(ZIIA)、(ZIIB)、(ZIIC)及び(ZIID)のいずれかで表される構造を意味するものとする。 In the above scheme, the structure represented by the following formula (ZII) means a structure represented by any of the following formulas (ZIIA), (ZIIB), (ZIIC) and (ZIID).
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000054
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000054
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000055
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000055
 また、下記式(II-X3)で表される構造は、下記式(IIA-X3)、(IIB-X3)、(IIC-X3)及び(IID-X3)のいずれかで表される構造を意味するものとする。 Further, the structure represented by the following formula (II-X3) is a structure represented by any one of the following formulas (IIA-X3), (IIB-X3), (IIC-X3) and (IID-X3) Shall be meant.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000056
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000056
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000057
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000057
 さらに、下記式(II-X6)で表される構造は、下記式(IIA-X6)、(IIB-X6)、(IIC-X6)及び(IID-X6)のいずれかで表される構造を意味するものとする。 Furthermore, the structure represented by the following formula (II-X6) is a structure represented by any one of the following formulas (IIA-X6), (IIB-X6), (IIC-X6) and (IID-X6) Shall be meant.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000058
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000058
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000059
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000059
 化合物(II-1A)~(II-1J)は、3通りのルートで製造できる。 Compounds (II-1A) to (II-1J) can be produced by three routes.
 (ルート1)
 化合物(II-X6)と化合物(II-X4)とを反応させて芳香族環を付加した後(芳香族環付加工程(2):工程11)、得られた化合物(II-X5)と酸化剤とを反応させ(酸化工程:工程12)、得られた化合物(II-X2)に塩基の存在下、アジド化合物を反応させることにより化合物(ZII-1)を製造し(環化工程(1):工程13)、酸化することにより製造できる(酸化工程:工程32)。
(Route 1)
After the compound (II-X6) and the compound (II-X4) are reacted to add an aromatic ring (aromatic cycloaddition step (2): step 11), oxidation with the compound (II-X5) obtained The compound (ZII-1) is produced by reacting the compound (II) with an agent (oxidation step: step 12), and reacting the resulting compound (II-X2) with an azide compound in the presence of a base (cyclization step (1 ): Step 13), can be produced by oxidation (oxidation step: step 32).
 (ルート2)
 化合物(II-X3)と化合物(II-X4)とを反応させて芳香族環を付加した後(芳香族環付加工程(2):工程14)、得られた化合物(II-X2)に、塩基の存在下、アジド化合物を反応させることにより化合物(ZII-1)を製造し(環化工程(1):工程13)、酸化することにより製造できる(酸化工程:工程32)。
(Route 2)
After compound (II-X3) and compound (II-X4) are reacted to add an aromatic ring (aromatic cycloaddition step (2): step 14), the compound (II-X2) obtained is The compound (ZII-1) can be produced by reacting an azide compound in the presence of a base (cyclization step (1): step 13) and oxidation (oxidation step: step 32).
 (ルート3)
 化合物(II-X1)と化合物(II-X4)とを反応させて芳香族環を付加することにより化合物(ZII-1)を製造し(芳香族環付加工程(2):工程15)、酸化することにより製造できる(酸化工程:工程32)。
(Route 3)
Compound (ZII-1) is produced by reacting compound (II-X1) with compound (II-X4) to add an aromatic ring (aromatic cycloaddition step (2): step 15), oxidation (Oxidation step: step 32).
 芳香族環付加工程(1):工程6、9、10 Aromatic cycloaddition step (1): Steps 6, 9, 10
 (工程6)
 工程6では、化合物(I-X6)と、化合物(I-X4)とを反応させることにより、化合物(I-X5)を製造できる。
1(L1k1-(A1n1-R3  (I-X4)
(Step 6)
In step 6, compound (I-X5) can be produced by reacting compound (I-X6) with compound (I-X4).
M 1 (L 1 ) k 1- (A 1 ) n 1 -R 3 (I-X 4)
 式中、A1、M1、L1、R3、k1、n1は、上記と同義である。 In the formula, A 1 , M 1 , L 1 , R 3 , k 1 and n 1 are as defined above.
 本工程で用いられる化合物(I-X6)としては、上記化合物(1-X2)のうち、R1がハロゲン原子である化合物が挙げられる。 Examples of the compound (I-X6) used in this step include compounds in which R 1 is a halogen atom among the above-mentioned compounds (1-X2).
 (工程9)
 工程9では、化合物(I-X3)と、化合物(I-X4)とを反応させることにより、化合物(I-X2)を製造できる。
(Step 9)
In step 9, compound (I-X2) can be produced by reacting compound (I-X3) with compound (I-X4).
 本工程で用いられる化合物(I-X3)としては、上記化合物(1-X1)のうち、R1がハロゲン原子である化合物が挙げられる。 Examples of the compound (I-X3) used in this step include compounds in which R 1 is a halogen atom among the above-mentioned compounds (1-X1).
 (工程10)
 工程10では、化合物(I-X1)と化合物(I-X4)とを反応させることにより、化合物(ZI-1)を製造できる。
(Step 10)
In step 10, compound (ZI-1) can be produced by reacting compound (I-X1) with compound (I-X4).
 本工程で用いられる化合物(I-X1)としては、上記で例示した化合物(1)のうち、R1がハロゲン原子である化合物が挙げられる。 Examples of the compound (I-X1) used in this step include, among the compounds (1) exemplified above, compounds in which R 1 is a halogen atom.
 式(I-X4)におけるM1、L1、k1は、式(1-X4-1)におけるMx1、Lx1、kxと同様であり、化合物(I-X4)としては、下記式で表される化合物が挙げられる。
10(L10k10-A20-R3  (I-X4-I)
M 1 , L 1 and k 1 in the formula (I-X4) are the same as M x1 , L x1 and kx in the formula (1-X4-1), and as the compound (I-X4), Compounds are mentioned.
M 10 (L 10 ) k 10 -A 20 -R 3 (I-X4-I)
 ただし、式中、R3は上記と同義である。A20は、下記式(Ar1-1)~(Ar16-1)のいずれかで表される構造を表し、A20としては、式(Ar1-2)で表される構造が好ましい。*-M10(L10k10は、上記式(Om-1)~(Om-6)のいずれかで表される基を表す。 However, in the formula, R 3 is as defined above. A 20 represents a structure represented by any one of the following formulas (Ar1-1) ~ (Ar16-1), as the A 20, the structure of Formula (Ar1-2) are preferred. * -M 10 (L 10 ) k 10 represents a group represented by any of the above formulas (Om-1) to (Om-6).
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000060
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000060
 中でも、下記表に示す化合物が好ましく、より好ましくは化合物(I-X4-I-45)~(I-X4-I-66)であり、さらに好ましくは化合物(I-X4-I-45)又は(I-X4-I-56)である。 Among them, the compounds shown in the following table are preferable, more preferably compounds (I-X4-I-45) to (I-X4-I-66), and still more preferably compounds (I-X4-I-45) or (I-X4-I-56).
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000061
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000061
 化合物(I-X4)の量は、化合物(I-X6)、化合物(I-X3)又は(I-X1)1モルに対して、0.6~10モルが好ましく、より好ましくは0.8~6モルである。 The amount of compound (I-X4) is preferably 0.6 to 10 moles, more preferably 0.8, per 1 mole of compound (I-X6), compound (I-X3) or (I-X1). ~ 6 moles.
 さらに、化合物(I-X6)、化合物(I-X3)又は化合物(I-X1)と化合物(I-X4)とを反応させる際には、環化工程(2):工程3で例示した触媒と同様の触媒を同様の条件で用いることができる。 Furthermore, when reacting the compound (I-X6), the compound (I-X3) or the compound (I-X1) with the compound (I-X4), the cyclization step (2): the catalyst exemplified in the step 3 The same catalysts can be used under the same conditions.
 前記触媒には、環化工程(2):工程3で例示した配位子と同様の特定の配位子を同様の条件で配位させてもよい。 In the catalyst, a specific ligand similar to the ligand exemplified in the cyclization step (2): step 3 may be coordinated under the same conditions.
 さらに化合物(I-X6)、化合物(I-X3)又は化合物(I-X1)と化合物(I-X4)を反応させる際、環化工程(2):工程3で例示した塩基と同様の塩基を同様の条件で共存させてもよい。 Furthermore, when reacting compound (I-X6), compound (I-X3) or compound (I-X1) with compound (I-X4), cyclization step (2): a base similar to the base exemplified in step 3 May coexist under the same conditions.
 工程6、9、10で用いられる反応溶媒は、環化工程(2):工程3で用いられる反応溶媒と同様であり、同様の条件で用いることができる。 The reaction solvent used in Steps 6, 9 and 10 is the same as the reaction solvent used in the cyclization step (2): Step 3, and can be used under the same conditions.
 工程6、9、10の反応温度は環化工程(2):工程3と同様である。 The reaction temperature of steps 6, 9 and 10 is the same as in cyclization step (2): step 3.
 3-2.芳香族環付加工程(2):工程11、14、15 3-2. Aromatic cycloaddition step (2): Steps 11, 14, 15
 (工程11)
 工程11では、化合物(II-X6)と、下記式(II-X4)で表される化合物と反応させることにより、化合物(II-X5)を製造できる。
4-(A2n1-X4  (II-X4)
(Step 11)
In step 11, compound (II-X5) can be produced by reacting compound (II-X6) with a compound represented by the following formula (II-X4).
X 4 - (A 2) n1 -X 4 (II-X4)
 式中、A2、n1は、上記と同義である。X4は、ハロゲン原子を表す。 In the formula, A 2 and n 1 are as defined above. X 4 represents a halogen atom.
 (工程14)
 工程14では、化合物(II-X3)と、化合物(II-X4)とを反応させることにより、化合物(II-X2)を製造できる。
(Step 14)
In step 14, compound (II-X2) can be produced by reacting compound (II-X3) with compound (II-X4).
 (工程15)
 工程15では、化合物(II-X1)と、化合物(II-X4)とを反応させることにより、化合物(ZII-1)を製造できる。
(Step 15)
In step 15, compound (ZII-1) can be produced by reacting compound (II-X1) with compound (II-X4).
 式(II-X6)、(II-X3)及び(II-X1)中、M10、L10、k10は、それぞれ、式(1-X4-1)におけるMx1、Lx1、kxと同様である。 In formulas (II-X6), (II-X3) and (II-X1), M 10 , L 10 and k 10 are respectively the same as M x1 , L x1 and k x in formula (1-X4-1) is there.
 化合物(II-X6)としては、化合物(1-X2)、(2-X2)又は(3-X2)に、式(Om-1)~(Om-6)のいずれかで表される基が結合した化合物が挙げられる。 As the compound (II-X6), a group represented by any one of formulas (Om-1) to (Om-6) in the compound (1-X2), (2-X2) or (3-X2) The compound which couple | bonded is mentioned.
 化合物(II-X3)としては、化合物(1-X1)、(2-X1)又は(3-X1)に、式(Om-1)~(Om-6)のいずれかで表される基が結合した化合物が挙げられる。 As the compound (II-X3), a group represented by any one of the formulas (Om-1) to (Om-6) in the compound (1-X1), (2-X1) or (3-X1) can be mentioned The compound which couple | bonded is mentioned.
 化合物(II-X1)としては、化合物(Z1)、(Z2)又は(Z3)に、式(Om-1)~(Om-6)のいずれかで表される基が結合した化合物が挙げられる。 Examples of the compound (II-X1) include compounds in which a group represented by any one of the formulas (Om-1) to (Om-6) is bonded to the compound (Z1), (Z2) or (Z3) .
 式(II-X4)におけるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子が挙げられ、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子が好ましい。 The halogen atom in the formula (II-X4) includes a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom, and a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom is preferable.
 化合物(II-X4)としては、下記式で表される化合物等が挙げられる。
40-A10-X40  (II-X4-I)
Examples of the compound (II-X4) include compounds represented by the following formulae.
X 40 -A 10 -X 40 (II-X4-I)
 ただし、式中、A10は、下記式のいずれかで表される単位を表し、X40は、臭素原子又はヨウ素原子を表す。 However, in the formula, A 10 represents a unit represented by any of the following formulas, and X 40 represents a bromine atom or an iodine atom.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000062
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000062
 中でも、下記表に示す化合物が好ましく、化合物(II-X4-I-2)、(II-X4-I-3)、(II-X4-I-9)、(II-X4-I-12)(II-X4-I-14)、(II-X4-I-15)、(II-X4-I-21)、(II-X4-I-24)がより好ましい。 Among them, compounds shown in the following table are preferable, and compounds (II-X4-I-2), (II-X4-I-3), (II-X4-I-9), (II-X4-I-12) (II-X4-I-14), (II-X4-I-15), (II-X4-I-21) and (II-X4-I-24) are more preferable.
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000063
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000063
 化合物(II-X4)の量は、化合物(II-X6)、化合物(II-X3)又は化合物(II-X1)1モルに対して、0.6~5モルが好ましく、より好ましくは0.8~3モルである。 The amount of compound (II-X4) is preferably 0.6 to 5 moles, more preferably 0. 1 mole per 1 mole of compound (II-X6), compound (II-X3) or compound (II-X1). 8 to 3 moles.
 化合物(II-X6)、化合物(II-X3)又は化合物(II-X1)と化合物(II-X4)とを反応させる際に共存させる触媒は、環化工程(2):工程3で例示した触媒と同様である。化合物(II-X4)と触媒とのモル比(化合物(II-X4):触媒)は、一般に1:0.0001~1:1.0程度であり特に限定されないが、収率や反応効率の観点から1:0.001~1:0.8が好ましく、1:0.005~1:0.6がより好ましく、1:0.01~1:0.4がさらに好ましい。 The catalyst coexisting when the compound (II-X6), the compound (II-X3) or the compound (II-X1) and the compound (II-X4) are reacted is exemplified in the cyclization step (2): step 3 It is similar to the catalyst. The molar ratio of the compound (II-X4) to the catalyst (compound (II-X4): catalyst) is generally about 1: 0.0001 to 1: 1.0 and is not particularly limited, but the yield and reaction efficiency From the viewpoint, 1: 0.001 to 1: 0.8 is preferable, 1: 0.005 to 1: 0.6 is more preferable, and 1: 0.01 to 1: 0.4 is more preferable.
 前記触媒には、環化工程(2):工程3で例示した配位子を、同様の条件で配位させてもよい。 In the catalyst, the ligand exemplified in the cyclization step (2): step 3 may be coordinated under the same conditions.
 工程11、14、15では、環化工程(2):工程3で例示した塩基を、同様の条件で共存させてもよい。 In Steps 11, 14 and 15, the cyclization step (2): the bases exemplified in Step 3 may be allowed to coexist under the same conditions.
 また、本工程において、反応溶媒も環化工程(2):工程3と同様の溶媒を同様の条件で用いることができる。 Moreover, in this process, the reaction solvent as the cyclization process (2): the same solvent as the process 3 can be used under the same conditions.
 さらに反応温度も、環化工程(2):工程3と同様に調整できる。 Furthermore, the reaction temperature can also be adjusted in the same manner as in the cyclization step (2): step 3.
 3-3.酸化工程:工程7、12
 工程7または工程12では、化合物(I-X5)又は化合物(II-X5)と、酸化剤とを反応させることにより、化合物(I-X2)又は化合物(II-X2)を得ることができる。
3-3. Oxidation step: Steps 7 and 12
In step 7 or step 12, compound (I-X5) or compound (II-X2) can be obtained by reacting compound (I-X5) or compound (II-X5) with an oxidizing agent.
 前記酸化剤としては、前記酸化工程:工程1で例示した酸化剤と同様の化合物を、同様の条件で用いることができる。 As the oxidizing agent, compounds similar to the oxidizing agents exemplified in the oxidation step: step 1 can be used under the same conditions.
 また、反応溶媒、反応温度についても、酸化工程:工程1と同様の条件を採用できる。 In addition, the same conditions as in the oxidation step: step 1 can be adopted for the reaction solvent and the reaction temperature.
 3-4.環化工程(1):工程8、13
 工程8または工程13では、化合物(I-X2)又は化合物(II-X2)に、塩基の存在下、アジド化合物を反応させることにより、化合物(ZI-1)又は化合物(ZII-1)を得ることができる。
3-4. Cyclization process (1): processes 8 and 13
In step 8 or step 13, compound (Z-I-1) or compound (ZII-1) is obtained by reacting compound (I-X2) or compound (II-X2) with an azide compound in the presence of a base. be able to.
 前記アジド化合物としては、環化工程(1):工程2で例示したアジド化合物と同様の化合物を、同様の条件で用いることができる。 As the azide compound, the same compounds as the azide compound exemplified in the cyclization step (1): step 2 can be used under the same conditions.
 また、アジド化合物を反応させる際に共存させる塩基も、環化工程(1):工程2で例示した塩基と同様であり、同様の条件で用いることができる。 Moreover, the base to be made to coexist when making the azide compound react is also the same as the base exemplified in the cyclization step (1): step 2, and can be used under the same conditions.
 更に、反応溶媒、反応温度についても、環化工程(1):工程2と同様の条件を採用できる。 Furthermore, as for the reaction solvent and the reaction temperature, the same conditions as in the cyclization step (1): step 2 can be adopted.
 3-5.酸化工程:工程31、32
 工程31または工程32では、化合物(ZI-1)又は化合物(ZII-1)と、酸化剤とを反応させることにより、本発明の化合物(I-1)又は化合物(II-1)を得ることができる。
3-5. Oxidation step: Steps 31 and 32
In step 31 or step 32, compound (I-1) or compound (II-1) of the present invention is obtained by reacting compound (ZI-1) or compound (ZII-1) with an oxidizing agent. Can.
 前記酸化剤としては、前記酸化工程:工程21で例示した酸化剤と同様の化合物を、同様の条件で用いることができる。 As the oxidizing agent, compounds similar to the oxidizing agents exemplified in the oxidation step: step 21 can be used under the same conditions.
 また、反応溶媒、反応温度についても、酸化工程:工程21と同様の条件を採用できる。 In addition, with regard to the reaction solvent and the reaction temperature, the same conditions as in the oxidation step: step 21 can be adopted.
 4.有機半導体材料
 本発明の化合物(1)、(2)及び(3)は、LUMO準位を低くできるとともに、熱安定性が優れ、さらには種々の官能基を付加することも容易であるため、有機半導体材料として優れており、本発明の化合物(1)、(2)又は(3)を用いて得られる有機半導体材料も本発明の技術的範囲に包含される。式(1)、(2)又は(3)から導かれる構造単位(I)、(IIA)、(IIB)、(IIC)及び(IID)を有することで、LUMOが下がる傾向があり、n型あるいは両極性半導体材料として有用である。
4. Organic Semiconductor Material The compounds (1), (2) and (3) of the present invention can lower the LUMO level, have excellent thermal stability, and are easy to add various functional groups. Organic semiconductor materials which are excellent as organic semiconductor materials and obtained using the compound (1), (2) or (3) of the present invention are also included in the technical scope of the present invention. By having the structural units (I), (IIA), (IIB), (IIC) and (IID) derived from the formulas (1), (2) or (3), the LUMO tends to be lowered, n-type Alternatively, it is useful as an ambipolar semiconductor material.
 前記有機半導体材料としては、式(I)で表される構造単位と、1種又は2種以上のドナー性ユニットとを有する高分子化合物が好ましい。 As said organic-semiconductor material, the high molecular compound which has a structural unit represented by Formula (I), and 1 type, or 2 or more types of donor property units is preferable.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000064
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000064
 式(I)中、Y1、Y2、Y11及びY12は、上記と同義である。 In formula (I), Y 1 , Y 2 , Y 11 and Y 12 are as defined above.
 上記化合物(1)~(3)から導かれる構造単位(I)、(IIA)、(IIB)、(IIC)及び(IID)は電子受容性であり、拡張π共役系でのアクセプター性ユニットとしての機能が期待できるため、1種又は2種以上のドナー性ユニットとを組み合わせてドナー-アクセプター型半導体高分子化合物とすることが好ましく、構造単位(I)とドナー性ユニットとを交互に配置することが好ましい。 The structural units (I), (IIA), (IIB), (IIC) and (IID) derived from the above compounds (1) to (3) are electron accepting, and as an acceptor unit in the extended π conjugated system Preferably, one or more types of donor units are combined to form a donor-acceptor type semiconductor polymer compound, and structural units (I) and donor units are alternately arranged. Is preferred.
 構造単位(I)とドナー性ユニットとは、芳香族環を介して結合していてもよい。 The structural unit (I) and the donor unit may be linked via an aromatic ring.
 前記構造単位(I)としては、上記式(Y-I-1)~(Y-I-4)で表されるユニット(構造単位)が好ましく、式(Y-I-1)で表される構造単位が特に好ましい。 As the structural unit (I), units (structural units) represented by the above formulas (Y-I-1) to (Y-I-4) are preferable, and are represented by the formula (Y-I-1) Structural units are particularly preferred.
 また前記高分子化合物には、式(I)、(IIA)、(IIB)、(IIC)及び(IID)で表される構造単位の1種又は2種以上が含まれていてもよい。 Further, the polymer compound may contain one or more of structural units represented by formulas (I), (IIA), (IIB), (IIC) and (IID).
 こうした高分子化合物は、特に、有機エレクトロルミネッセンス素子、有機薄膜トランジスタ素子等の有機エレクトロデバイス、有機半導体材料、光電変換素子、有機電子デバイス、太陽電池、太陽電池モジュール用途等に有用である。 Such a polymer compound is particularly useful for organic electroluminescent devices, organic electrodevices such as organic thin film transistor devices, organic semiconductor materials, photoelectric conversion devices, organic electronic devices, solar cells, solar cell module applications and the like.
 前記ドナー性ユニットとしては、下記式(Dn-1)~(Dn-15)で表される構造単位(基)が挙げられる。 Examples of the donor unit include structural units (groups) represented by the following formulas (Dn-1) to (Dn-15).
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000065
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000065
 式(Dn-1)~(Dn-15)中、R30は、それぞれ独立に、脂肪族炭化水素基を表す。R31は、水素原子又は脂肪族炭化水素基を表す。*は、結合手を表す。 In formulas (Dn-1) to (Dn-15), each R 30 independently represents an aliphatic hydrocarbon group. R 31 represents a hydrogen atom or an aliphatic hydrocarbon group. * Represents a bond.
 R30又はR31で表される脂肪族炭化水素基は、Y1で表される複素環を置換していてもよい脂肪族炭化水素基として例示した基と同様であり、炭素数は1~30が好ましく、より好ましくは1~24、さらに好ましくは1~20である。 The aliphatic hydrocarbon group represented by R 30 or R 31 is the same as the group exemplified as the aliphatic hydrocarbon group which may substitute the heterocycle represented by Y 1 , and the carbon number is 1 to 30 is preferable, more preferably 1 to 24, further preferably 1 to 20.
 本発明の高分子化合物は、例えば、上述した式(I-1)で表される化合物と、式(5)で表される化合物とを反応させることにより製造できる(以下、化合物(1)と化合物(5)を反応させる工程を「カップリング工程」という場合がある。)。 The polymer compound of the present invention can be produced, for example, by reacting the compound represented by the above-mentioned formula (I-1) with the compound represented by the formula (5) (hereinafter referred to as compound (1) and The step of reacting the compound (5) may be referred to as "coupling step".
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000066
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000066
 式中、A1、M1、L1、k1、Y11、Y12、X3は上記と同義であり、X3はハロゲン原子を表す。A6は、ドナー性ユニットを表す。n10は、0又は1の整数を表す。nxは、1以上の整数を表す。 In the formula, A 1 , M 1 , L 1 , k 1 , Y 11 , Y 12 and X 3 are as defined above, and X 3 represents a halogen atom. A 6 represents a donor unit. n10 represents an integer of 0 or 1; nx represents an integer of 1 or more.
 A6は、上記式(Dn-1)~(Dn-12)のいずれかで表される基が好ましく、式(Dn-4)、(Dn-6)及び(Dn-7)のいずれかで表される基がより好ましい。 A 6 is preferably a group represented by any one of formulas (Dn-1) to (Dn-12) above, and any one of formulas (Dn-4), (Dn-6) and (Dn-7) The group represented is more preferable.
 X3のハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられ、臭素原子が好ましい。 The halogen atom of X 3, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, a bromine atom.
 n10は、0が好ましい。 N10 is preferably 0.
 化合物(I-1)と、化合物(5)のモル比は、1:99~99:1の範囲が好ましく、20:80~80:20の範囲がより好ましく、40:60~60:40の範囲が更に好ましい。 The molar ratio of the compound (I-1) to the compound (5) is preferably in the range of 1:99 to 99: 1, more preferably in the range of 20:80 to 80:20, and preferably 40:60 to 60:40. A range is more preferred.
 カップリング工程における触媒としては、環化工程(2):工程3で例示した触媒と同様の触媒を同様の条件で用いることができる。 As a catalyst in the coupling step, a catalyst similar to the catalyst exemplified in the cyclization step (2): step 3 can be used under the same conditions.
 前記触媒には、環化工程(2):工程3で例示した配位子と同様の特定の配位子を同様の条件で配位させてもよい。 In the catalyst, a specific ligand similar to the ligand exemplified in the cyclization step (2): step 3 may be coordinated under the same conditions.
 さらに環化工程(2):工程3で例示した塩基と同様の塩基を同様の条件で共存させてもよい。 Furthermore, in the cyclization step (2): a base similar to the base exemplified in step 3 may coexist under the same conditions.
 カップリング工程で用いられる反応溶媒は、環化工程(2):工程3で用いられる反応溶媒と同様であり、同様の条件で用いることができる。 The reaction solvent used in the coupling step is the same as the reaction solvent used in the cyclization step (2): step 3, and can be used under the same conditions.
 さらに、カップリング工程の反応温度は環化工程(2):工程3と同様である。 Furthermore, the reaction temperature of the coupling step is the same as in the cyclization step (2): step 3.
 上記本発明の化合物は、電子受容性が高く、LUMO準位を低くできるため、有機電子デバイス、例えば、有機エレクトロルミネッセンス素子、有機薄膜トランジスタ素子等の有機エレクトロデバイス、有機半導体材料、光電変換素子、有機電子デバイス、太陽電池、太陽電池モジュール用途等に有用である。 The compounds according to the present invention have high electron acceptability and can lower the LUMO level, and therefore organic electronic devices, for example, organic electroluminescent devices, organic electrodevices such as organic thin film transistor devices, organic semiconductor materials, photoelectric conversion devices, organic It is useful for electronic devices, solar cells, solar cell module applications and the like.
 本願は、2017年9月13日に出願された日本国特許出願第2017-176221号に基づく優先権の利益を主張するものである。上記日本国特許出願第2017-176221号の明細書の全内容が、本願に参考のため援用される。 The present application claims the benefit of priority based on Japanese Patent Application No. 2017-176221 filed on Sep. 13, 2017. The entire content of the specification of the above-mentioned Japanese Patent Application No. 2017-176221 is incorporated herein by reference.
 以下、実施例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明はもとより下記実施例によって制限を受けるものではなく、前・後記の趣旨に適合し得る範囲で適当に変更を加えて実施することも勿論可能であり、それらはいずれも本発明の技術的範囲に包含される。なお、以下においては、特に断りのない限り、「部」は「質量部」を、「%」は「質量%」を意味する。 EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be more specifically described by way of examples. However, the present invention is of course not limited by the following examples, and appropriate modifications may be made as long as the present invention can be applied to the purpose. Of course, implementation is also possible, and all of them are included in the technical scope of the present invention. In the following, “parts” means “parts by mass” and “%” means “% by mass” unless otherwise noted.
 合成例1:
 2-(2,2-ジメトキシエチルアミノ)メチルチオフェンの合成
Synthesis Example 1:
Synthesis of 2- (2,2-dimethoxyethylamino) methyl thiophene
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000067
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000067
 3口フラスコに2-thiophenecarboxyaldehyde(2.24g,20mmol)、aminoacetaldehydedimethylacetal(2.2g,20mmol)、p-toluenesulfonsulfonicacid(10mg)、および無水エタノール(20mL)を入れ,90℃で4時間撹拌した。反応終了後、水素化ホウ素ナトリウム(760mg,20mmol)を入れさらに2時間加熱撹拌した。水を加え反応停止させたのち、酢酸エチル(AcOEt)により抽出を行った。溶媒を濃縮しシリカゲルカラムクロマトグラフィー(Hexane/AcOEt=1:1)を用いて精製し、目的化合物を4.05g得た。 In a three-necked flask, 2-thiophenecarbaldehyde (2.24 g, 20 mmol), aminoacetaldehydedimethylacetal (2.2 g, 20 mmol), p-toluenesulfonylsulfonic acid (10 mg), and absolute ethanol (20 mL) were added and stirred at 90 ° C. for 4 hours. After completion of the reaction, sodium borohydride (760 mg, 20 mmol) was added, and the mixture was further heated and stirred for 2 hours. The reaction was quenched by the addition of water and extracted with ethyl acetate (AcOEt). The solvent was concentrated and purified using silica gel column chromatography (Hexane / AcOEt = 1: 1) to obtain 4.05 g of the objective compound.
 合成例2:
 2-(2,2-ジメトキシエチル-p-トルエンスルホニルアミノ)メチルチオフェンの合成
Synthesis Example 2:
Synthesis of 2- (2,2-dimethoxyethyl-p-toluenesulfonylamino) methyl thiophene
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000068
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000068
 2口フラスコに、上記スキームに示したチオフェン誘導体(4.05g,20mmol)、ピリジン(4.7g,60mmol)、および無水ジクロロメタン(20mL)中、0℃で塩化トルエンスルフォン酸(4.6g,24mmol)を加え6時間撹拌した。反応終了後,水を加え反応停止させたのち,ジクロロメタンにより抽出を行った。溶媒を濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(Hexane/AcOEt=1:1)を用いて精製し、目的化合物を5.45g(収率77%)得た。 In a two-necked flask, thiophene derivative (4.05 g, 20 mmol), pyridine (4.7 g, 60 mmol) shown in the above scheme, and toluenesulfonic acid chloride (4.6 g, 24 mmol) at 0 ° C. in anhydrous dichloromethane (20 mL) ) Was added and stirred for 6 hours. After completion of the reaction, water was added to stop the reaction, and then extraction was performed with dichloromethane. The solvent was concentrated and purified using silica gel column chromatography (Hexane / AcOEt = 1: 1) to obtain 5.45 g (yield 77%) of the desired compound.
 合成例3:
 チエノ[3,2-c]ピリジンの合成(工程4)
Synthesis Example 3:
Synthesis of thieno [3,2-c] pyridine (step 4)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000069

 
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000069

 
 100mLフラスコに、上記スキームに示したチオフェン(5.45g,15mmol)、塩酸(5mL)、および1,4-ジオキサン(20mL)を入れ、一晩還流した。反応終了後、水酸化ナトリウム水溶液を用いて中和し、ジクロロメタンにより抽出を行った。溶媒を濃縮しシリカゲルカラムクロマトグラフィー(Hexane/AcOEt=1:1)を用いて精製、目的化合物を1.37g(収率66%)得た。 In a 100 mL flask, thiophene (5.45 g, 15 mmol) shown in the above scheme, hydrochloric acid (5 mL), and 1,4-dioxane (20 mL) were placed and refluxed overnight. After completion of the reaction, the reaction solution was neutralized using aqueous sodium hydroxide solution and extracted with dichloromethane. The solvent was concentrated and purified using silica gel column chromatography (Hexane / AcOEt = 1: 1) to obtain 1.37 g (yield 66%) of the objective compound.
 合成例4:
 チエノ[3,2-c]ピリジン-N-オキシドの合成(工程1)
Synthesis Example 4:
Synthesis of thieno [3,2-c] pyridine-N-oxide (step 1)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000070
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000070
 ナスフラスコにチエノピリジン(Thienopyridine)(1.37g,10.1mmol)、メタクロロ過安息香酸(mCPBA)(2.6g,15mmol)、および無水ジクロロメタン(50mL)を入れ、-5℃で2日撹拌した。反応終了後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え有機層をジクロロメタンで抽出し、無水硫酸ナトリウムを用いて乾燥させた。濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(CHCl3/MeOH=20:1)を用いて精製しチエノ[3,2-c]ピリジン-N-オキシド(Thienopyridine N-oxide)を520mg(収率34%)得た。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 7.29 (d, J =5.5 Hz, 1H), 7.66 (d, J =5.5 Hz, 1H), 7.72 (d, J =7.0 Hz, 1H), 8.17 (dd, J =1.6, 7.0 Hz, 1H), 8.76 (d, J =1.6 Hz, 1H).
In an eggplant flask, thienopyridine (Thienopyridine) (1.37 g, 10.1 mmol), metachloroperbenzoic acid (mCPBA) (2.6 g, 15 mmol), and anhydrous dichloromethane (50 mL) were charged, and stirred at -5 ° C for 2 days. After completion of the reaction, a saturated aqueous solution of sodium hydrogen carbonate was added and the organic layer was extracted with dichloromethane and dried using anhydrous sodium sulfate. After concentration, the residue is purified by silica gel column chromatography (CHCl 3 / MeOH = 20: 1) to obtain 520 mg (yield 34%) of thieno [3,2-c] pyridine-N-oxide (Thienopyridine N-oxide). The
1 H NMR (400 MHz, CDCl 3 ) δ 7.29 (d, J = 5.5 Hz, 1 H), 7.66 (d, J = 5.5 Hz, 1 H), 7.72 (d, J = 7.0 Hz, 1 H), 8. 17 (dd , J = 1.6, 7.0 Hz, 1 H), 8. 76 (d, J = 1.6 Hz, 1 H).
 実施例1:
 チエノテトラゾロピリジン(化合物(Tz-1))の合成(工程2)
Example 1:
Synthesis of Thienotetrazolopyridine (Compound (Tz-1)) (Step 2)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000071
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000071
 ねじ口試験管にチエノ[3,2-c]ピリジン-N-オキシド(Thienopyridine N-oxide)(520mg,3.45mmol)、ジフェニルリン酸アジド(DPPA)(4.7g,17mmol)、および無水ピリジン(75mL,6.9mmol)を入れ、窒素雰囲気下、120℃で24時間撹拌した。反応液を直接シリカゲルカラムクロマトグラフィー(CH2Cl2/MeOH=50:1)により精製することにより、チエノテトラゾロピリジン(Thienotetrazolopyridine)(化合物(Tz-1))を288mg(収率47%)得た。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 7.61 (d, J =7.3 Hz, 1H), 7.83 (d, J =5.4 Hz, 1H), 8.10 (d, J =5.4 Hz, 1H), 8.66 (d, J =7.3 Hz, 1H).
Thieno [3,2-c] pyridine-N-oxide (520 mg, 3.45 mmol), diphenylphosphate azide (DPPA) (4.7 g, 17 mmol), and anhydrous pyridine in a screw-cap test tube (75 mL, 6.9 mmol) was added and stirred at 120 ° C. for 24 hours under a nitrogen atmosphere. The reaction solution is directly purified by silica gel column chromatography (CH 2 Cl 2 / MeOH = 50: 1) to obtain 288 mg (yield 47%) of thienotetrazolopyridine (compound (Tz-1)). The
1 H NMR (400 MHz, CDCl 3 ) δ 7.61 (d, J = 7.3 Hz, 1 H), 7.83 (d, J = 5.4 Hz, 1 H), 8. 10 (d, J = 5.4 Hz, 1 H), 8. 66 (d , J = 7.3 Hz, 1 H).
 合成例5:
 2-トリブチルスタンニルチエノ[3,2-c]ピリジンの合成
Synthesis Example 5:
Synthesis of 2-tributylstannylthieno [3,2-c] pyridine
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000072
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000072
 2口フラスコにチエノピリジン(Thienopyridine)(408mg,3.0mmol)、および無水テトラヒドロフラン(30mL)中、-78℃でジイソプロピルアミン(0.21mL,5.4mmol)、ブチルリチウム(2.6M,1.7mL)より発生させたリチウムジイソプロピルアミド(LDA)を加え1時間撹拌した。次いで、塩化トリブチルスズ(1.3mL,4.8mmol)を加え室温でさらに2時間撹拌した。水を加え反応停止させたのち、ジエチルエーテルにより抽出を行った。溶媒を濃縮しアルミナカラムクロマトグラフィー(Hexane/AcOEt=1:1)を用いて精製し、目的化合物を1.83g定量的に得た。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.76-0.95 (m, 9H), 1.20-1.41 (m, 12H), 1.49-1.69 (m, 6H), 7.47 (s, 1H), 7.79 (d, J =5.5 Hz, 1H), 8.35 (d, J =5.5 Hz, 1H), 9.09 (s, 1H).
Dithioneamine (0.21 mL, 5.4 mmol) at −78 ° C. in a two-necked flask with thienopyridine (408 mg, 3.0 mmol) and anhydrous tetrahydrofuran (30 mL), butyl lithium (2.6 M, 1.7 mL) 2.) The generated lithium diisopropylamide (LDA) was added and stirred for 1 hour. Then, tributyltin chloride (1.3 mL, 4.8 mmol) was added and the mixture was further stirred at room temperature for 2 hours. The reaction was quenched by the addition of water and extracted with diethyl ether. The solvent was concentrated and purified using alumina column chromatography (Hexane / AcOEt = 1: 1) to quantitatively obtain 1.83 g of the objective compound.
1 H NMR (400 MHz, CDCl 3 ) δ 0.76-0.95 (m, 9H), 1.20-1.41 (m, 12H), 1.49-1.69 (m, 6H), 7.47 (s, 1H), 7.79 (d, J = 5.5 Hz, 1 H), 8. 35 (d, J = 5.5 Hz, 1 H), 9.09 (s, 1 H).
 合成例6:
 1,4-ビス(ヘキシルオキシ)-2,5-ビス(チエノ[3,2-c]ピリジン-2-イル)ベンゼンの合成(工程11)
Synthesis Example 6:
Synthesis of 1,4-bis (hexyloxy) -2,5-bis (thieno [3,2-c] pyridin-2-yl) benzene (Step 11)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000073
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000073
 耐圧試験管に2,5-dibromo-1,4-hexyloxybenzene(143mg,0.33mmol)、2-stannylthienopyridine(425mg,1.0mmol)、Pd(PPh34(38mg,0.033mmol)、および無水トルエン(2mL)を入れ、マイクロウェーブ反応装置を用い180℃で10分撹拌した。反応終了後、溶媒を濃縮しシリカゲルカラムクロマトグラフィー(Hexane/AcOEt=5:1)を用いて精製し、目的化合物(黄色固体)を71mg(収率38%)得た。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.87 (t, J =7.2 Hz, 3H), 1.28-1.40 (m, 4H), 1.90-1.99 (m, 2H), 4.16 (t, J =6.5 Hz, 2H), 7.34 (s, 1H), 7.76 (d, J =5.5 Hz, 1H), 7.87 (s, 1H), 8.42 (d, J =5.5 Hz, 1H), 9.08 (s, 1H).
2,5-dibromo-1,4-hexyloxybenzene (143 mg, 0.33 mmol), 2-stannyl thienopyridine (425 mg, 1.0 mmol), Pd (PPh 3 ) 4 (38 mg, 0.033 mmol), and anhydrous in test tubes Toluene (2 mL) was charged and stirred at 180 ° C. for 10 minutes using a microwave reactor. After completion of the reaction, the solvent was concentrated and purified using silica gel column chromatography (Hexane / AcOEt = 5: 1) to obtain 71 mg (yield 38%) of a target compound (yellow solid).
1 H NMR (400 MHz, CDCl 3 ) δ 0.87 (t, J = 7.2 Hz, 3 H), 1.28-1.40 (m, 4 H), 1.90-1.99 (m, 2 H), 4.16 (t, J = 6.5 Hz, 2H), 7.34 (s, 1 H), 7. 76 (d, J = 5.5 Hz, 1 H), 7. 87 (s, 1 H), 8.42 (d, J = 5.5 Hz, 1 H), 9.08 (s, 1 H).
 合成例7:
 1,4-ビス(ヘキシルオキシ)-2,5-ビス(チエノ[3,2-c]ピリジン-N-オキシド-2-イル)ベンゼンの合成(工程12)
Synthesis Example 7:
Synthesis of 1,4-bis (hexyloxy) -2,5-bis (thieno [3,2-c] pyridine-N-oxid-2-yl) benzene (Step 12)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000074
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000074
 mCPBAを1.5当量から3.0当量へと変更し、反応温度を室温、反応時間を14時間とした以外は、合成例4と同様にして合成を行った(230mg,収率51%)。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.87 (t, J =7.2 Hz, 3H), 1.28-1.40 (m, 4H), 1.90-1.99 (m, 2H), 4.16 (t, J =6.5 Hz, 2H), 7.34 (s, 1H), 7.76 (d, J =5.5 Hz, 1H), 7.87 (s, 1H), 8.42 (d, J =5.5 Hz, 1H), 9.08 (s, 1H).
The synthesis was performed in the same manner as in Synthesis Example 4 except that mCPBA was changed from 1.5 equivalents to 3.0 equivalents, the reaction temperature was room temperature, and the reaction time was 14 hours (230 mg, 51% yield). .
1 H NMR (400 MHz, CDCl 3 ) δ 0.87 (t, J = 7.2 Hz, 3 H), 1.28-1.40 (m, 4 H), 1.90-1.99 (m, 2 H), 4.16 (t, J = 6.5 Hz, 2H), 7.34 (s, 1 H), 7. 76 (d, J = 5.5 Hz, 1 H), 7. 87 (s, 1 H), 8.42 (d, J = 5.5 Hz, 1 H), 9.08 (s, 1 H).
 実施例2:
 1,4-ビス(ヘキシルオキシ)-2,5-ビス(チエノテトラゾロピリジン-2-イル)ベンゼン(化合物(Tz-2))の合成(工程13)
Example 2:
Synthesis of 1,4-bis (hexyloxy) -2,5-bis (thienotetrazolopyridin-2-yl) benzene (compound (Tz-2)) (step 13)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000075
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000075
 DPPAを10当量、無水ピリジンを4当量とした以外は実施例1と同様にして化合物(Tz-2)の合成を行った(21mg,収率16%)。 The compound (Tz-2) was synthesized in the same manner as in Example 1 except that 10 equivalents of DPPA and 4 equivalents of anhydrous pyridine were used (21 mg, 16% yield).
 合成例8:
 4,4’-ジヘキシル-5,5’-ビス(チエノ[3,2-c]ピリジン-2-イル)ジチオフェンの合成(工程11)
Synthesis Example 8:
Synthesis of 4,4'-dihexyl-5,5'-bis (thieno [3,2-c] pyridin-2-yl) dithiophene (Step 11)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000076
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000076
 スズ体の原料を2.5当量とした以外、合成例6と同様にして合成を行った(53mg,収率14%)。 The synthesis was performed in the same manner as in Synthesis Example 6 (53 mg, yield 14%) except that the amount of the tin material was 2.5 equivalents.
 合成例9:
 4,4’-ジヘキシル-5,5’-ビス(チエノ[3,2-c]ピリジン-N-オキシド-2-イル)ジチオフェンの合成(工程12)
Synthesis Example 9:
Synthesis of 4,4'-dihexyl-5,5'-bis (thieno [3,2-c] pyridine-N-oxid-2-yl) dithiophene (step 12)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000077
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000077
 mCPBAを1.5当量から3.0当量へと変更し、反応温度を室温とした以外は、合成例4と同様にして合成を行った(57mg,収率98%)。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.79-0.90 (m, 3H), 1.16-1.44 (m, 6H), 1.52-1.69 (m, 2H), 2.78 (t, J = 7.9 Hz, 2H),7.29 (s, 1H), 7.65 (s, 1H), 7.71 (d, J=5.5 Hz, 1H), 8.16 (d, J =5.5 Hz, 1H), 8.74 (s, 1H).
The synthesis was performed in the same manner as in Synthesis Example 4 except that mCPBA was changed from 1.5 equivalents to 3.0 equivalents, and the reaction temperature was set to room temperature (57 mg, yield 98%).
1 H NMR (400 MHz, CDCl 3 ) δ 0.79-0.90 (m, 3H), 1.16-1.44 (m, 6H), 1.52-1.69 (m, 2H), 2.78 (t, J = 7.9 Hz, 2H), 7.29 (s, 1H), 7.65 (s, 1H), 7.71 (d, J = 5.5 Hz, 1 H), 8.16 (d, J = 5.5 Hz, 1 H), 8.74 (s, 1 H).
 実施例3:
 4,4’-ジヘキシル-5,5’-ビス(チエノテトラゾロピリジン-2-イル)ジチオフェン(化合物(Tz-3))の合成(工程13)
Example 3:
Synthesis of 4,4′-Dihexyl-5,5′-bis (thienotetrazolopyridin-2-yl) dithiophene (Compound (Tz-3)) (Step 13)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000078
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000078
 DPPAを10当量、無水ピリジンを4当量とした以外は実施例1と同様にして化合物(Tz-3)の合成を行った(33mg,収率54%)。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, J =7.4 Hz, 3H), 1.30-1.46 (m, 6H), 1.68-1.78 (m, 2H), 2.86 (t, J = 7.9 Hz, 2H),7.13 (s, 1H), 7.56 (d, J =7.3 Hz, 1H), 8.07 (s, 1H), 8.65 (d, J =7.3 Hz, 1H).
The compound (Tz-3) was synthesized in the same manner as in Example 1 except that 10 equivalents of DPPA and 4 equivalents of anhydrous pyridine were used (33 mg, 54% yield).
1 H NMR (400 MHz, CDCl 3 ) δ 0.88 (t, J = 7.4 Hz, 3 H), 1.30-1. 46 (m, 6 H), 1. 68-1. 78 (m, 2 H), 2. 86 (t, J = 7.9 Hz, 2H), 7.13 (s, 1 H), 7.56 (d, J = 7.3 Hz, 1 H), 8.07 (s, 1 H), 8. 65 (d, J = 7.3 Hz, 1 H).
 合成例10:
 1,3-ビス(チエノ[3,2-c]ピリジン-2-イル)-6,7-ジブチル-ナフト[2,3-b]チオフェン-4,9-ジオンの合成(工程11)
Synthesis Example 10:
Synthesis of 1,3-Bis (thieno [3,2-c] pyridin-2-yl) -6,7-dibutyl-naphtho [2,3-b] thiophene-4,9-dione (Step 11)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000079
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000079
 合成例6と同様にして合成を行った(220mg,quant.)。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.90 (t, J =7.4 Hz, 3H), 1.29-1.38 (m, 2H), 1.57-1.76 (m, 2H), 2.75 (t, J = 7.9 Hz, 2H), 7.80 (d, J =5.5 Hz, 1H), 8.06 (s, 1H), 8.18 (s, 1H), 8.51 (d, J=5.5 Hz, 1H), 9.17 (s, 1H).
The synthesis was performed in the same manner as in Synthesis Example 6 (220 mg, quant.).
1 H NMR (400 MHz, CDCl 3 ) δ 0.90 (t, J = 7.4 Hz, 3 H), 1.29-1.38 (m, 2 H), 1.57-1.76 (m, 2 H), 2.75 (t, J = 7.9 Hz, 2H), 7.80 (d, J = 5.5 Hz, 1 H), 8.06 (s, 1 H), 8.18 (s, 1 H), 8.51 (d, J = 5.5 Hz, 1 H), 9.17 (s, 1 H).
 合成例11:
 1,3-ビス(チエノ[3,2-c]ピリジン-N-オキシド-2-イル)-6,7-ジブチル-ナフト[2,3-b]チオフェン-4,9-ジオンの合成(工程12)
Synthesis Example 11:
Synthesis of 1,3-Bis (thieno [3,2-c] pyridine-N-oxido-2-yl) -6,7-dibutyl-naphtho [2,3-b] thiophene-4,9-dione (step) 12)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000080
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000080
 mCPBAを1.5当量から3.0当量へと変更し、反応温度を室温とした以外は、合成例4と同様にして合成を行った(134mg,収率58%)。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.90 (br t, 3H), 1.29-1.38 (br m, 2H), 1.57-1.76 (br m, 2H), 2.75 (br t, 2H), 7.80 (br d, 1H), 8.08 (br s, 1H), 8.38 (br s, 1H), 8.44 (br d, 1H), 8.99 (s, 1H).
The synthesis was carried out in the same manner as in Synthesis Example 4 except that mCPBA was changed from 1.5 equivalents to 3.0 equivalents and the reaction temperature was changed to room temperature (134 mg, yield 58%).
1 H NMR (400 MHz, CDCl 3 ) δ 0.90 (br t, 3 H), 1.29-1.38 (br m, 2 H), 1.57-1.76 (br m, 2 H), 2.75 (br t, 2 H), 7.80 (br d, 1 H), 8.08 (br s, 1 H), 8. 38 (br s, 1 H), 8.44 (br d, 1 H), 8.99 (s, 1 H).
 実施例4:
 1,3-ビス(チエノテトラゾロピリジン-2-イル)-6,7-ジブチル-ナフト[2,3-b]チオフェン-4,9-ジオン(化合物(Tz-4))の合成(工程13)
Example 4:
Synthesis of 1,3-Bis (thienotetrazolopyridin-2-yl) -6,7-dibutyl-naphtho [2,3-b] thiophene-4,9-dione (compound (Tz-4)) (Step 13) )
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000081
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000081
 DPPAを10当量、無水ピリジンを4当量とした以外は実施例1と同様にして化合物(Tz-4)の合成を行った(39mg,収率28%)。 The compound (Tz-4) was synthesized in the same manner as in Example 1 except that 10 equivalents of DPPA and 4 equivalents of anhydrous pyridine were used (39 mg, yield 28%).
 実施例5:
 実施例4で得られた化合物(Tz-4)と、酸化剤とを反応させることにより、化合物(Tz-4-1)を得ることができると考えられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000082
Example 5:
It is thought that the compound (Tz-4-1) can be obtained by reacting the compound (Tz-4) obtained in Example 4 with an oxidizing agent.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000082
 合成例12:
 ジチエノピリジン-N-オキシドの合成(工程1)
Synthesis Example 12:
Synthesis of dithienopyridine-N-oxide (step 1)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000083
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000083
 ジチエノピリジン(Dithienopyridine)を論文(Synthesis, 1989, 2, 130.)を参考に合成した。次いで、原料をチエノピリジン(thienopyridine)からジチエノピリジン(dithienopyridine)へと変更し、反応温度を室温とした以外は、合成例4と同様にして合成を行った(333mg,収率80%)。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 7.40 (d, J =5.5 Hz, 1H), 7.57 (d, J =5.5 Hz, 1H), 7.61 (d, J =5.5 Hz, 1H), 7.98 (d, J =5.5 Hz, 1H), 8.85 (s, 1H).
Dithienopyridine was synthesized with reference to the paper (Synthesis, 1989, 2, 130.). Next, the raw material was changed from thienopyridine to dithienopyridine, and the reaction was performed in the same manner as in Synthesis Example 4 except that the reaction temperature was changed to room temperature (333 mg, yield 80%).
1 H NMR (400 MHz, CDCl 3 ) δ 7.40 (d, J = 5.5 Hz, 1 H), 7.57 (d, J = 5.5 Hz, 1 H), 7.61 (d, J = 5.5 Hz, 1 H), 7.98 (d , J = 5.5 Hz, 1 H), 8. 85 (s, 1 H).
 実施例6:
 ジチエノテトラゾロピリジン(化合物(Tz-5))の合成(工程2)
Example 6:
Synthesis of dithienotetrazolopyridine (compound (Tz-5)) (step 2)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000084
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000084
 実施例1と同様にして化合物(Tz-5)の合成を行った(94mg,収率81%)。1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 7.70 (d, J =5.5 Hz, 1H), 7.76 (d, J =5.5 Hz, 1H), 8.08 (d, J =5.5 Hz, 1H), 8.12 (d, J =5.5 Hz, 1H). The compound (Tz-5) was synthesized as in Example 1 (94 mg, yield 81%). 1 H NMR (400 MHz, CDCl 3 ) δ 7.70 (d, J = 5.5 Hz, 1 H), 7.76 (d, J = 5.5 Hz, 1 H), 8.08 (d, J = 5.5 Hz, 1 H), 8.12 (d , J = 5.5 Hz, 1 H).
 合成例13:
 1,3-ビス(チエノ[3,2-c]ピリジン-2-イル)-6,7-ジヘキシル-ナフト[2,3-b]チオフェン-4,9-ジオンの合成(工程11)
Synthesis Example 13:
Synthesis of 1,3-Bis (thieno [3,2-c] pyridin-2-yl) -6,7-dihexyl-naphtho [2,3-b] thiophene-4,9-dione (Step 11)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000085
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000085
 攪拌時間を20分に変更した以外は、合成例6と同様にして合成を行った(103mg,収率51%)。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, J =7.4 Hz, 3H), 1.27-1.44 (m, 6H), 1.59-1.69 (m, 2H), 2.74 (t, J = 7.9 Hz, 2H),7.80 (d, J =5.5 Hz, 1H), 8.07 (s, 1H), 8.18 (s, 1H), 8.51 (d, J =5.5 Hz, 1H), 8.17 (s, 1H).
The synthesis was carried out in the same manner as in Synthesis Example 6 except that the stirring time was changed to 20 minutes (103 mg, 51% yield).
1 H NMR (400 MHz, CDCl 3 ) δ 0.88 (t, J = 7.4 Hz, 3 H), 1.27-1.44 (m, 6 H), 1.59-1.69 (m, 2 H), 2.74 (t, J = 7.9 Hz, 2H), 7.80 (d, J = 5.5 Hz, 1 H), 8.07 (s, 1 H), 8.18 (s, 1 H), 8.51 (d, J = 5.5 Hz, 1 H), 8.17 (s, 1 H).
 合成例14:
 1,3-ビス(チエノ[3,2-c]ピリジン-N-オキシド-2-イル)-6,7-ジヘキシル-ナフト[2,3-b]チオフェン-4,9-ジオンの合成(工程12)
Synthesis Example 14:
Synthesis of 1,3-Bis (thieno [3,2-c] pyridine-N-oxido-2-yl) -6,7-dihexyl-naphtho [2,3-b] thiophene-4,9-dione (step) 12)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000086
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000086
 mCPBAを1.5当量から3.0当量へと変更し、反応温度を-5℃から0℃に変更した以外は、合成例4と同様にして合成を行った(47mg,44%)。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.88 (m, 3H), 1.27-1.44 (m, 6H), 1.59-1.69 (m, 2H), 2.75 (t, J = 7.9 Hz, 2H), 7.39 (br d, 1H), 7.53 (br d, 1H), 7.94 (s, 1H), 7.96 (s, 1H), 8.89 (s, 1H).
Synthesis was carried out in the same manner as in Synthesis Example 4 except that mCPBA was changed from 1.5 equivalents to 3.0 equivalents and the reaction temperature was changed from -5 ° C to 0 ° C (47 mg, 44%).
1 H NMR (400 MHz, CDCl 3 ) δ 0.88 (m, 3 H), 1.27-1.44 (m, 6 H), 1.59-1.69 (m, 2 H), 2.75 (t, J = 7.9 Hz, 2 H), 7.39 ( br d, 1 H), 7.53 (br d, 1 H), 7. 94 (s, 1 H), 7. 96 (s, 1 H), 8. 89 (s, 1 H).
 実施例7:
 1,3-ビス(チエノテトラゾロピリジン-2-イル)-6,7-ジヘキシル-ナフト[2,3-b]チオフェン-4,9-ジオン(化合物(Tz-10))の合成(工程13)
Example 7:
Synthesis of 1,3-Bis (thienotetrazolopyridin-2-yl) -6,7-dihexyl-naphtho [2,3-b] thiophene-4,9-dione (compound (Tz-10)) (Step 13) )
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000087
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000087
 DPPAを10当量、無水ピリジンを10当量とした以外は、実施例1と同様にして化合物(Tz-10)の合成を行った(22mg,44%)。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.88 (t, J =7.4 Hz, 3H), 1.27-1.44 (m, 6H), 1.59-1.69 (m, 2H), 2.77 (t, J = 7.9 Hz, 2H),7.63 (d, J =7.7 Hz, 1H), 8.10 (s, 1H), 8.70 (s, 1H), 8.73 (d, J =7.7 Hz, 1H).
The compound (Tz-10) was synthesized in the same manner as in Example 1 except that 10 equivalents of DPPA and 10 equivalents of anhydrous pyridine were used (22 mg, 44%).
1 H NMR (400 MHz, CDCl 3 ) δ 0.88 (t, J = 7.4 Hz, 3 H), 1.27-1.44 (m, 6 H), 1.59-1.69 (m, 2 H), 2.77 (t, J = 7.9 Hz, 2H), 7.63 (d, J = 7.7 Hz, 1 H), 8. 10 (s, 1 H), 8. 70 (s, 1 H), 8. 73 (d, J = 7.7 Hz, 1 H).
 実施例8:
 実施例7で得られた上記化合物(Tz-10)と、酸化剤とを反応させることにより、下記化合物(Tz-10-1)を得ることができると考えられる。
Example 8:
It is considered that the following compound (Tz- 10-1) can be obtained by reacting the above-mentioned compound (Tz-10) obtained in Example 7 with an oxidizing agent.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000088
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000088
 実施例9:
 ナスフラスコに、下記スキームに示すThienotetrazolopyridine(115mg、0.15mmol)、mCPBA(0.43g、1.5mmol)、および無水ジクロロメタン(10mL)を入れ、還流下で2日間撹拌する。反応終了後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、有機層をジクロロメタンで抽出し、無水硫酸ナトリウムを用いて乾燥させる。濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(CHCl3/MeOH=10:1)を用いて精製すると、下記スキームに示す混合物が得られると考えられる。
Example 9:
In an eggplant flask, Thienotetrazolopyridine (115 mg, 0.15 mmol) shown in the following scheme, mCPBA (0.43 g, 1.5 mmol), and anhydrous dichloromethane (10 mL) are added, and stirred under reflux for 2 days. After completion of the reaction, saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution is added, and the organic layer is extracted with dichloromethane and dried using anhydrous sodium sulfate. After concentration, purification using silica gel column chromatography (CHCl 3 / MeOH = 10: 1) is considered to give a mixture shown in the following scheme.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000089
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000089
 合成例15:
 4,9-ビス(チエノ[3,2-c]ピリジン-N-オキシド-2-イル)-N,N-ジエチルヘキシル-1,2,3,6,7,8-ヘキサヒドロピレン-2,7-ジアザ-1,3,6,8-テトラオンの合成
Synthesis Example 15:
4,9-Bis (thieno [3,2-c] pyridine-N-oxid-2-yl) -N, N-diethylhexyl-1,2,3,6,7,8-hexahydropyrene-2, Synthesis of 7-diaza-1,3,6,8-tetraone
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000090

 
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000090

 
 mCPBAを1.5当量から3.0当量へと変更し、反応温度を-5℃から0℃に変更した以外は、合成例4と同様にして合成を行った。(98mg,77%)。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.76-1.00 (m, 6H), 1.14-1.45 (m, 8H), 1.74-1.97 (m, 2H), 4.05 (m, 2H), 7.35 (s, 1H), 7.50 (s, 1H), 7.75 (d, J =6.3 Hz, 2H), 8.23 (d, J =6.3 Hz, 2H), 8.76 (s, 1H).
The synthesis was performed in the same manner as in Synthesis Example 4 except that mCPBA was changed from 1.5 equivalents to 3.0 equivalents and the reaction temperature was changed from -5 ° C to 0 ° C. (98 mg, 77%).
1 H NMR (400 MHz, CDCl 3 ) δ 0.76-1.00 (m, 6H), 1.14-1.45 (m, 8H), 1.74-1.97 (m, 2H), 4.05 (m, 2H), 7.35 (s, 1H) ), 7.50 (s, 1 H), 7. 75 (d, J = 6.3 Hz, 2 H), 8.23 (d, J = 6.3 Hz, 2 H), 8. 76 (s, 1 H).
 実施例10:
 4,9-ビス(チエノテトラゾロピリジン-2-イル)-N,N-ジエチルヘキシル-1,2,3,6,7,8-ヘキサヒドロピレン-2,7-ジアザ-1,3,6,8-テトラオン(化合物(Tz-11))の合成
Example 10:
4,9-Bis (thienotetrazolopyridin-2-yl) -N, N-diethylhexyl-1,2,3,6,7,8-hexahydropyrene-2,7-diaza-1,3,6 , 8-Tetraone (Compound (Tz-11)) Synthesis
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000091
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000091
 DPPAを10当量,無水ピリジンを10当量とし、反応時間を20時間とした以外は、実施例1と同様にして合成を行った(17mg,収率15%)。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 0.76-1.00 (m, 12H), 1.14-1.45 (m, 16H), 1.74-1.97 (m, 4H), 4.05 (m, 2H), 7.65 (d, J =7.2 Hz, 2H), 8.16 (s, 2H), 8.74 (d, J =7.2 Hz, 2H), 8.84 (s, 2H).
The synthesis was performed in the same manner as in Example 1 except that 10 equivalents of DPPA and 10 equivalents of anhydrous pyridine were used, and the reaction time was 20 hours (17 mg, 15% yield).
1 H NMR (400 MHz, CDCl 3 ) δ 0.76-1.00 (m, 12 H), 1.14-1.45 (m, 16 H), 1.74-1.97 (m, 4 H), 4.05 (m, 2 H), 7.65 (d, J = 7.2 Hz, 2 H), 8. 16 (s, 2 H), 8. 74 (d, J = 7.2 Hz, 2 H), 8.84 (s, 2 H).
 合成例16:
 ジブロモジチエノピリジンの合成
Synthesis Example 16:
Synthesis of dibromodithienopyridine
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000092
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000092
 2口フラスコに、ジチエノピリジン(Dithienopyridine)(100mg,0.5mmol)、および無水THF(10mL)中、-78℃でブチルリチウム(2.6M,0.7mL)を加え1時間撹拌したのち、臭素(0.06mL,1.1mmol)を加え室温でさらに2時間撹拌した。水を加え反応停止させたのち、ジエチルエーテルにより抽出を行った。溶媒を濃縮しカラムクロマトグラフィー(Hexane/AcOEt=1:1)を用いて精製し、目的化合物を得た(110mg,収率62%)。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 7.50 (s, 1H), 7.61 (s, 1H), 8.90 (s, 1H).
In a two-necked flask, dithienopyridine (100 mg, 0.5 mmol) and butyl lithium (2.6 M, 0.7 mL) in anhydrous THF (10 mL) at -78 ° C and stirred for 1 hour, then bromine (0.06 mL, 1.1 mmol) was added and the mixture was further stirred at room temperature for 2 hours. The reaction was quenched by the addition of water and extracted with diethyl ether. The solvent was concentrated and purified by column chromatography (Hexane / AcOEt = 1: 1) to obtain the desired compound (110 mg, yield 62%).
1 H NMR (400 MHz, CDCl 3 ) δ 7.50 (s, 1 H), 7.61 (s, 1 H), 8. 90 (s, 1 H).
 合成例17:
 ジブロモジチエノピリジン-N-オキシドの合成
Synthesis Example 17:
Synthesis of dibromodithienopyridine-N-oxide
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000093
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000093
 反応温度を室温とした以外は、合成例4と同様にして上記スキームに示す合成を行った(228mg,収率42%)。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 7.35 (s, 1H), 7.94 (s, 1H), 8.59 (s, 1H).
The synthesis shown in the above scheme was performed in the same manner as in Synthesis Example 4 except that the reaction temperature was set to room temperature (228 mg, 42% yield).
1 H NMR (400 MHz, CDCl 3 ) δ 7.35 (s, 1 H), 7.94 (s, 1 H), 8. 59 (s, 1 H).
 実施例11:
 ジブロモジチエノテトラピリジンの合成
Example 11:
Synthesis of dibromodithienotetrapyridine
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000094
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000094
 実施例1と同様にして上記スキームに示す合成を行った(55mg,収率28%)。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 8.07 (s, 1H), 8.08 (s, 1H).
The synthesis shown in the above scheme was performed in the same manner as in Example 1 (55 mg, yield 28%).
1 H NMR (400 MHz, CDCl 3 ) δ 8.07 (s, 1 H), 8.08 (s, 1 H).
 合成例18:
 窒素雰囲気下、ねじ口試験管に、下記スキームに示す4-bromo-tert-butylbenzene(640mg、3mmol)、2-stnnylthienopyridine(1.53g、3.6mmol)、Pd(PPh34(346mg、0.3mmol)、および無水トルエン(5mL)を入れ、マイクロウェーブ反応装置で、180℃で10分加熱撹拌した。反応終了後、溶媒を濃縮しシリカゲルカラムクロマトグラフィー(Hexane/AcOEt=5:1)を用いて精製し、目的化合物を876mg得た。
Synthesis Example 18:
4-bromo-tert-butylbenzene (640 mg, 3 mmol), 2-stnnylthienopyridine (1.53 g, 3.6 mmol), Pd (PPh 3 ) 4 (346 mg, 0) as shown in the following scheme. .3 mmol) and anhydrous toluene (5 mL) were added, and the mixture was heated and stirred in a microwave reactor at 180 ° C. for 10 minutes. After completion of the reaction, the solvent was concentrated and purified using silica gel column chromatography (Hexane / AcOEt = 5: 1) to obtain 876 mg of the objective compound.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000095
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000095
 合成例19:
 ナスフラスコに、下記スキームに示すThienopyridine(876mg、3mmol)、mCPBA(1.29g、4.5mmol)、および無水ジクロロメタン(20mL)を入れ、室温で16時間撹拌した。反応終了後,飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え有機層をジクロロメタンで抽出し、無水硫酸ナトリウムを用いて乾燥させた。濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(CHCl3/MeOH=20:1)を用いて精製しN-oxideを607mg得た(収率71%)。
Synthesis Example 19:
In an eggplant flask, Thienopyridine (876 mg, 3 mmol), mCPBA (1.29 g, 4.5 mmol), and anhydrous dichloromethane (20 mL) shown in the following scheme were placed, and stirred at room temperature for 16 hours. After completion of the reaction, a saturated aqueous solution of sodium hydrogen carbonate was added and the organic layer was extracted with dichloromethane and dried using anhydrous sodium sulfate. After concentration, purification was performed using silica gel column chromatography (CHCl 3 / MeOH = 20: 1) to obtain 607 mg of N-oxide (yield 71%).
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000096
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000096
 合成例20:
 ねじ口試験官に、下記スキームに示すN-oxide(607mg、2.1mmol)、H22(2mL、ca.21mmol)、および酢酸(10mL)を入れ、80℃で2時間撹拌した。反応液に水を入れ濾過し、メタノールで洗浄することにより、目的化合物を337mg(収率50%)得た。
Synthesis Example 20:
A screw tester was charged with N-oxide (607 mg, 2.1 mmol), H 2 O 2 (2 mL, ca. 21 mmol), and acetic acid (10 mL) shown in the following scheme, and stirred at 80 ° C. for 2 hours. The reaction solution was poured into water, filtered, and washed with methanol to obtain 337 mg (yield 50%) of a target compound.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000097
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000097
 実施例12:
 窒素雰囲気下、ねじ口試験官に、下記スキームに示すN-oxide(337mg、1mmol)、DPPA(1.2g、5mmol)、および無水ピリジン(395mg、5mmol)を入れ、窒素雰囲気、120℃で24時間撹拌する。その結果、下記スキームに示す目的化合物が得られると考えられる。
Example 12:
In a nitrogen atmosphere, the screw point tester is charged with N-oxide (337 mg, 1 mmol), DPPA (1.2 g, 5 mmol) and anhydrous pyridine (395 mg, 5 mmol) shown in the following scheme, and 24 at 120 ° C. in a nitrogen atmosphere. Stir for hours. As a result, it is considered that the target compound shown in the following scheme is obtained.
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000098
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000098
 合成例21:
 2,6-ビス(トリメチルスタンニル-ジチオフェン(BDT-SnMe3)の合成
Synthesis Example 21:
2,6-bis (trimethylstannyl - dithiophene (BDT-SnMe 3)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000099
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000099
 2口フラスコに、上記スキームに示すベンゾジチオフェン誘導体(360mg,0.59mmol)、および無水THF(20mL)を入れ、-78℃でブチルリチウム(2.6M,0.5mL)を加え1時間撹拌した。その後、塩化トリメチルスズ(1M,1.48mL)を加え、室温でさらに一晩撹拌した。水を加えて反応を停止させたのち、ジエチルエーテルにより抽出を行った。溶媒を濃縮し、アルミナカラムクロマトグラフィー(Hexane/AcOEt=1:1)を用いて精製し、GPCにより目的化合物を332mg(収率72%)得た。 In a two-necked flask, the benzodithiophene derivative (360 mg, 0.59 mmol) shown in the above scheme and anhydrous THF (20 mL) were added, butyl lithium (2.6 M, 0.5 mL) was added at -78.degree. C. and stirred for 1 hour did. After that, trimethyltin chloride (1 M, 1.48 mL) was added and further stirred overnight at room temperature. The reaction was quenched by the addition of water and extracted with diethyl ether. The solvent was concentrated and purified using alumina column chromatography (Hexane / AcOEt = 1: 1) to obtain 332 mg (yield 72%) of the target compound by GPC.
 実施例13:
 高分子化合物の合成
Example 13:
Synthesis of macromolecular compounds
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000100
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000100
 耐圧試験管にジブロモジチエノテトラゾロピリジン(10mg,0.025mmol)、BDT-SnMe3(1.0当量)、Pd2(dba)3(5mol%)、P(o-tol)3(20mol%)および無水トルエン(4mL)、DMF(1mL)を入れ、80℃で2日加熱撹拌した。反応終了後、メタノールで再沈殿を行い、得られた固体はソックスレー抽出した(メタノール、アセトン、塩化メチレン、クロロホルム)。そのうちクロロホルム抽出分の溶媒を濃縮し目的化合物(赤色固体)を11mg(M=2300,M/M=1.47)得た。このポリマーは溶解性が高いので、分取GPCを使い高分子量成分だけ回収した。フラクション1(Fr1)は、M=8900,M/M=1.49,フラクション2(Fr2)は、M=4800,M/M=1.40であった。 Dibromodithieno tetrazolopyridine (10 mg, 0.025 mmol), BDT-SnMe 3 (1.0 equivalent), Pd 2 (dba) 3 (5 mol%), P (o-tol) 3 (20 mol%) in a pressure resistant test tube ), Anhydrous toluene (4 mL) and DMF (1 mL) were added, and the mixture was heated and stirred at 80 ° C. for 2 days. After completion of the reaction, reprecipitation was performed with methanol, and the obtained solid was Soxhlet extracted (methanol, acetone, methylene chloride, chloroform). Among them, the solvent of the chloroform extract was concentrated to obtain 11 mg ( Mn = 2300, Mw / Mn = 1.47) of the target compound (red solid). Since this polymer is highly soluble, only high molecular weight components were recovered using preparative GPC. The fraction 1 (Fr1) was Mn = 8900, Mw / Mn = 1.49, and the fraction 2 (Fr2) was Mn = 4800, Mw / Mn = 1.40.
 密度汎関数法によるシミュレーション
 下記式で表される化合物について、それぞれ、密度汎関数法によるシミュレーションを行って、LUMO準位、HOMO準位を計算した。結果を表9に示す。なお、溶解性の関係から、上記化合物の合成は長鎖の置換基の化合物について行った。一方、エネルギー準位(HOMO/LUMO)は置換基の長短で大きく変わらないところ、分子の数が増加すると計算時間に長時間を要するため、シミュレーションは短鎖の置換基の化合物について行うこととした。
Simulation by Density Functional Theory The density functional theory simulation was performed for each of the compounds represented by the following formulas to calculate the LUMO level and the HOMO level. The results are shown in Table 9. From the viewpoint of solubility, the above compounds were synthesized for long chain substituents. On the other hand, the energy level (HOMO / LUMO) does not change largely due to the length of the substituent, but the calculation time is long as the number of molecules increases, so the simulation was performed on the compound of the short chain substituent .
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000101
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000101
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000102
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000102
 上記シミュレーションにより、本発明の化合物は、LUMO準位を低くできており、有機半導体材料として有用であることが明らかになった。 From the above simulation, it was revealed that the compound of the present invention can lower the LUMO level and is useful as an organic semiconductor material.
 本発明の化合物は、電子受容性が高く、LUMO準位を低く維持できるため、有機電子デバイス、例えば、有機エレクトロルミネッセンス素子、有機薄膜トランジスタ素子等の有機エレクトロデバイス、有機半導体材料、光電変換素子、有機電子デバイス、太陽電池、太陽電池モジュール用途等に有用である。 Since the compound of the present invention has high electron acceptability and can maintain the LUMO level low, organic electronic devices such as organic electroluminescent devices, organic electrodevices such as organic thin film transistor devices, organic semiconductor materials, photoelectric conversion devices, organic compounds It is useful for electronic devices, solar cells, solar cell module applications and the like.

Claims (8)

  1.  下記式(1)~(3)のいずれかで表される化合物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001

    [式(1)~(3)中、
     Y1及びY2は、それぞれ独立に、環の構成要素として-SO2-を少なくとも1個含む5員の複素環を表す。]
    A compound represented by any one of the following formulas (1) to (3).
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001

    [In formulas (1) to (3),
    Y 1 and Y 2 each independently represent a 5-membered heterocyclic ring containing at least one —SO 2 — as a ring component. ]
  2.  Y1及びY2が、それぞれ独立に、下記式(Y1)または(Y2)で表される複素環である請求項1に記載の化合物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002

    [式(Y1)または(Y2)中、
     R1は、ハロゲン原子、脂肪族炭化水素基、アルコキシ基、又はハロゲン化アルキル基を表す。
     p1は0~2の整数、p2は0~1の整数を表す。
     *a、*bの一方が式(1)~(3)における*1であり、他方が*2である。]
    The compound according to claim 1, wherein Y 1 and Y 2 are each independently a heterocycle represented by the following formula (Y1) or (Y2).
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002

    [In the formula (Y1) or (Y2),
    R 1 represents a halogen atom, an aliphatic hydrocarbon group, an alkoxy group, or a halogenated alkyl group.
    p1 is an integer of 0 to 2, and p2 is an integer of 0 to 1.
    One of * a and * b is * 1 in the formulas (1) to (3), and the other is * 2. ]
  3.  下記式(I)、(IIA)、(IIB)、(IIC)及び(IID)のいずれかで表される構造単位を有する化合物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003

    [式(I)、(IIA)、(IIB)、(IIC)及び(IID)中、
     Y1、Y2、Y11及びY12は、それぞれ独立に、環の構成要素として-SO2-を少なくとも1個含む5員の複素環を表す。
     Dは、結合手を表す。]
    The compound which has a structural unit represented by either of following formula (I), (IIA), (IIB), (IIC), and (IID).
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003

    [In the formulas (I), (IIA), (IIB), (IIC) and (IID),
    Y 1 , Y 2 , Y 11 and Y 12 each independently represent a 5-membered heterocyclic ring containing at least one —SO 2 — as a ring component.
    D represents a bond. ]
  4.  下記式(I-1)及び(II-1A)~(II-1J)のいずれかで表される請求項3に記載の化合物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004

    [式(I-1)及び(II-1A)~(II-1J)中、
     Y1、Y2、Y11及びY12は、それぞれ独立に、環の構成要素として-SO2-を少なくとも1個含む5員の複素環を表す。
     A1は、置換基を有していてもよい芳香族環を表す。
     n1及びn2は、それぞれ独立に、1以上の整数を表す。
     R3はそれぞれ独立に、水素原子、又はアルキル基を表す。]
    The compound according to claim 3, which is represented by any one of the following formulas (I-1) and (II-1A) to (II-1J).
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004

    [In the formulas (I-1) and (II-1A) to (II-1J),
    Y 1 , Y 2 , Y 11 and Y 12 each independently represent a 5-membered heterocyclic ring containing at least one —SO 2 — as a ring component.
    A 1 represents an aromatic ring which may have a substituent.
    n1 and n2 each independently represent an integer of 1 or more.
    Each R 3 independently represents a hydrogen atom or an alkyl group. ]
  5.  式(I)で表される構造単位と、1種又は2種以上のドナー性ユニットとを有する高分子化合物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005

    [式(I)中、Y11及びY12は、それぞれ独立に、環の構成要素として-SO2-を少なくとも1個含む5員の複素環を表す。]
    A high molecular compound having a structural unit represented by the formula (I) and one or more types of donor units.
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005

    [In formula (I), Y 11 and Y 12 each independently represent a 5-membered heterocyclic ring containing at least one —SO 2 — as a ring component. ]
  6.  前記ドナー性ユニットが、式(Dn-1)~(Dn-15)のいずれかで表される構造単位である請求項5に記載の高分子化合物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006

    [式(Dn-1)~(Dn-15)中、
     R30は、それぞれ独立に、脂肪族炭化水素基を表す。
     R31は、水素原子又は脂肪族炭化水素基を表す。
     *は、結合手を表す。]
    The polymer compound according to claim 5, wherein the donor unit is a structural unit represented by any one of formulas (Dn-1) to (Dn-15).
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006

    [In the formulas (Dn-1) to (Dn-15),
    Each R 30 independently represents an aliphatic hydrocarbon group.
    R 31 represents a hydrogen atom or an aliphatic hydrocarbon group.
    * Represents a bond. ]
  7.  請求項1~4のいずれかに記載の化合物又は請求項5または6に記載の高分子化合物を含む有機半導体材料。 An organic semiconductor material comprising the compound according to any one of claims 1 to 4 or the polymer compound according to claim 5 or 6.
  8.  請求項7に記載の有機半導体材料を含む有機電子デバイス。 An organic electronic device comprising the organic semiconductor material according to claim 7.
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