WO2018166562A1 - Device and method for generating monochromatic radiation of a radiation source with line spectrum - Google Patents

Device and method for generating monochromatic radiation of a radiation source with line spectrum Download PDF

Info

Publication number
WO2018166562A1
WO2018166562A1 PCT/DE2018/100219 DE2018100219W WO2018166562A1 WO 2018166562 A1 WO2018166562 A1 WO 2018166562A1 DE 2018100219 W DE2018100219 W DE 2018100219W WO 2018166562 A1 WO2018166562 A1 WO 2018166562A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
radiation
line
radiation source
source
line spectrum
Prior art date
Application number
PCT/DE2018/100219
Other languages
German (de)
French (fr)
Inventor
Alexei Erko
Nils WEBER
Alexander Firsov
Karl Bauer
Michael Merkel
Original Assignee
Focus Gmbh
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Focus Gmbh filed Critical Focus Gmbh
Publication of WO2018166562A1 publication Critical patent/WO2018166562A1/en

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
    • G21K—TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
    • G21K1/00—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating
    • G21K1/06—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating using diffraction, refraction or reflection, e.g. monochromators
    • G21K1/067—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating using diffraction, refraction or reflection, e.g. monochromators using surface reflection, e.g. grazing incidence mirrors, gratings
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/18—Diffraction gratings
    • G02B5/1838—Diffraction gratings for use with ultraviolet radiation or X-rays

Definitions

  • the invention relates to a device and a method for generating monochromatic radiation of a radiation source with line spectrum, as in particular for the photoelectron spectroscopy (PES) in the field of Uitravioiettstrahiung (UV) and in particular the
  • VUV Vacuum ultraviolet radiation
  • UPS ultraviolet PES
  • the PES mainly deals with chemical compounds and electronic properties of a material. This happens via the excitation of an electron to the exit from a material (photoelectron) and the determination of its energy and direction.
  • the energy of the photoelectron is essentially determined by the energy of the exciting photon, the bonding conditions in the material and the so-called work function. In order to be able to determine the contribution of the binding relationships as accurately as possible, the contributions of the
  • the efficiency is defined as the ratio of the photons emitted by a source to those usable on a sample for the excitation of photons falling from the electron and is a quality factor of a PES device.
  • the object of the present invention is to provide a device and a method with which the spectral broadening of
  • Emission lines of Strayoungs provoken with line spectrum is monochromatizable to values of separated lines and at the same time an improvement of the efficiency compared to the prior art is achieved.
  • the present invention is a cheaper alternative of
  • the line source radiation source may be any radiation source known in the art which may be so
  • Stray sources of the required type are, for example
  • Ais gas discharge lamp can be in particular a cold cathode - low pressure (1X10 "2 mbar - 1X10" 1 mbar) - capillary - Helium gas discharge lamp (eng Coid capiliary cathod discharge.) Are used. Furthermore, for example, based on electron cyclotron resonance heating
  • Piasma radiation sources or duoplasmatron Piasmastrahlungs provoken used. All Strahiungs provoken can eg with noble gases but also Other gases are operated, which spectral lines in different energy ranges or different energy can be generated.
  • the Strayoungs bruise with line spectrum is equipped with all necessary for the operation of devices such as pumps and gas supplies.
  • the device according to the invention for generating monochromatic radiation of a radiation source with a line spectrum additionally has at least one first off-axis reflection zone plate.
  • the at least one off-axis reflection zone plate is arranged to a
  • Reflection zone plate is in particular their line density.
  • Monochromatization (narrowing the spectral width around a given energy, eg that of a line of a line spectrum) of radiation.
  • the off-axis Refiexionszonenpiatten are therefore used as monochromators that provide monochromatic radiation (separated lines) for further use in a beam path (send out).
  • An off-axis reflection zone plate here means that in particular the diffraction ⁇ 1. Order applies.
  • the use of the diffraction ⁇ 2nd order or higher is conceivable, due to the low intensities but not of technical importance.
  • Order is suppressed by a first aperture.
  • the irradiated portion of the reflection zone plate is shifted from the center of gravity of the 0th order diffraction beam points, so that portions of the zone plate structure that bend in higher order are irradiated (off axis setting or fresnel center offsef) or only corresponding portions as a zone plate are created.
  • the energy difference between the spectral lines to be separated must be large enough to allow enough spacing between the exit angles to allow only the desired line to pass through the aperture and reach the sample.
  • Off-axis Refiexionszonenplatten the type of the invention can be prepared in a manner known in the art by means of electron beam lithography.
  • the arrangement of the off-axis reflection zone plate takes place after
  • the transmission maximization (of the reflected radiation) is, in addition to the angles of incidence, at least determined by the parameters of the distance from the source (gas discharge lamp) and the quality of a provided vacuum.
  • a maximization (optimization) takes the expert case by case.
  • For an optimal alignment of the off-axis Refiexionszonenplatten is provided in one embodiment, on the same substrate on which the off-axis reflection zone plate is applied to create a Zonenpiatte that reflects in the visible region of the spectrum. This simplifies and shortens the adjustment of the off-axis reflection zone plate, which is thus used e.g. with lasers is feasible.
  • At least two are off-axis
  • Reflection zone plates for the separation of lines from a line spectrum of a line spectrum radiation source provided e.g. for the
  • He__l__alpha and Heji_alpha - lines that can be arranged optionally.
  • a changer for the plates may be provided. A change takes place by moving the zone plates in parallel.
  • the device has a first diaphragm, which is arranged in the beam path after the off-axis reflection zone plate.
  • the first diaphragm is arranged in the image plane of the Refiexionszonenpiatte and designed in an advantageous manner as slit diaphragm. Your location in the picture plane of the
  • Refiexionszonenpiatte depends on the energy of the line to be separated and therefore adjust accordingly.
  • the size of the aperture is advantageous to choose so that they to the dispersion and
  • Spectra lines cuts off. Typical aperture sizes are in the range of 0.5 mm to 2 mm. The lower limit of the aperture size is determined by the lateral resolution of the Refiexionszonenpiatte. Apertures smaller than this will not benefit monochromatization and affect efficiency. The first stop thus prevents some of the intensity of the undesired lines caused by the dispersion of the
  • the device according to the invention for generating monochromatic radiation of a radiation source with a line spectrum is, according to one embodiment, equipped with a second diaphragm which defines the source location of the lamp and limits it to a sharply outlined region.
  • This diaphragm is arranged in the immediate vicinity of an exit location of radiation of the gas discharge lamp.
  • the energy resolution of the device according to the invention is limited by the swelling size, gap width and dispersion of the off-axis reflection zone plate (angle ⁇ ). It is here 1 .17 eV (FWHM) for HeJ lines
  • Beam path a refocusing arranged so that it images the first aperture reduced to a sample. This increases the radiolucency in a focal spot on the sample.
  • Refocusing mirror is an ellipsoidal mirror.
  • All optical elements of the device are located in an evacuable housing.
  • the inventive method for generating monochromatic radiation of a radiation source with line spectrum has at least the following steps. First, the emission of radiation from a source having a line spectrum, such as, e.g. a gas discharge lamp. Subsequently, the separation of a predetermined line of the line spectrum from the radiation with an off-axis Refiexionszonenplatte, by reflection at the same. Subsequently, limiting the extension of the radiation reflected by the off-axis reflection zone plate (the predetermined separated line) at the location of a location image of the predetermined spectral line.
  • a source having a line spectrum such as, e.g. a gas discharge lamp.
  • the radiation of the source is spatially limited, so that a Source is created. This step follows the step of emitting the radiation.
  • the latter two embodiments represent an increase in efficiency, i. the total transmitted radiation, e.g. used to irradiate a sample to perform PES.
  • the device according to the invention and the corresponding ones thereof are advantageously used
  • a beam provided by the device according to the invention is preferably used to measure spectra of the photoelectron emission spectroscopy (PES) on a sample.
  • PES photoelectron emission spectroscopy
  • the device according to the invention monochromatizes the radiation of a line-spectrum radiation source in such a way that individual lines are separated with optimized efficiency.
  • the optical components of the device are inexpensive.
  • Image is not to scale.
  • the line spectrum radiation source is a cold cathode low pressure capillary helium gas discharge lamp.
  • the glass capillary also acts as a second aperture at the same time.
  • the glass capillary (0 1, 7 mm) is interrupted after 5 cm to allow a better pumping, here there is a pressure of about 0, 1 mbar.
  • the rays strike the off-axis reflection zone plate with a divergence of ⁇ 1 ° after 150 mm with an incident angle of 1 1, 5 °.
  • the desired spectral line is diffracted there and imaged at an angle of 21, 18 ° on the first diaphragm (at the location of the townscape).
  • the reflection zone plate has a square base area of 40 mm in length and about 10 mm in width, a Fresnel center offset of 45 mm in the beam direction and a mean line density of
  • Exit slot by a factor of five to the sample. Be with the given aperture, or the glass capillary, and the off-axis reflection zone plate

Abstract

The invention relates to a device and method for generating monochromatic radiation of a radiation source with line spectrum. Said device comprises at least one radiation source (1) which produces a line spectrum, and an off-axis reflection zone plate (3). According to the invention, the off-axis reflection zone plate (3) is designed to separate a predetermined spectral line of the radiation source line spectrum. A diaphragm (4) is located in the optical path downstream of the off-axis reflection zone plate (3) at the location of a local image of the predetermined spectral line.

Description

Bezeichnung  description
Vorrichtung und Verfahren zur Generierung monochromatischer Strahlung einer Strahiungsqueile mit Linienspektrum Apparatus and method for generating monochromatic radiation of a radiation source with line spectrum
Technisches Gebiet Technical area
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung und ein Verfahren zur Generierung monochromatischer Strahlung einer Strahiungsquelle mit Linienspektrum, wie Sie insbesondere für die Photoeiektronen-Spektroskopie (PES) im Bereich der Uitravioiettstrahiung (UV) und hier insbesondere der The invention relates to a device and a method for generating monochromatic radiation of a radiation source with line spectrum, as in particular for the photoelectron spectroscopy (PES) in the field of Uitravioiettstrahiung (UV) and in particular the
Vakuumultravioiettstrahlung (VUV) eingesetzt wird und in diesem Fall auch als UPS (ultraviolett PES) bezeichnet wird.  Vacuum ultraviolet radiation (VUV) is used and in this case also referred to as UPS (ultraviolet PES).
Stand der Technik State of the art
Mit der PES werden vorwiegend Aussagen über chemische Verbindungen und elektronische Eigenschaften eines Materials getroffen. Dies geschieht über die Anregung eines Elektrons bis zum Austritt aus einem Material (Photoeiektron) und der Bestimmung dessen Energie und Richtung. Die Energie des Photoelektrons ist dabei im Wesentlichen bestimmt durch die Energie des anregenden Photons, die Bindungsverhältnisse im Material und die sogenannte Austrittsarbeit. Um den Beitrag der Bindungsverhältnisse möglichst genau bestimmen zu können, müssen die Beiträge der The PES mainly deals with chemical compounds and electronic properties of a material. This happens via the excitation of an electron to the exit from a material (photoelectron) and the determination of its energy and direction. The energy of the photoelectron is essentially determined by the energy of the exciting photon, the bonding conditions in the material and the so-called work function. In order to be able to determine the contribution of the binding relationships as accurately as possible, the contributions of the
Austrittsarbeit und der des anregenden Photons möglichst genau bestimmt sein. Letzteres bezieht sich sowohl auf die Bestimmtheit der Energie absolut der Photonen als auch auf die spektrale Reinheit der für die UPS genutzten Photonen im Mittel über eine PES Messung. In dem Aufsatz 1 von J.A. Work function and that of the exciting photon be determined as accurately as possible. The latter relates both to the definiteness of the absolute energy of the photons and to the spectral purity of the photons used for the UPS on average via a PES measurement. In the essay 1 of J.A.
Kinsinger et al. (Spectral Evaluation of a Sealed Helium Discharge Lamp for Studies in Photoelectron Spectroscopy, Analytical Chemistry, Vol. 44, 1972, S. 773-777) sind die Auswirkungen verschiedener spektraler Verunreinigungen auf die Analyse von Spektren der PES beschrieben. Neben Verunreinigungen im Spektrum der Strahiungsquelle mit Linienspektrum, verursacht durch Verunreinigungen eines eingesetzten Gases, sind auch Linien verschiedener Emissionsvorgänge des Gases als Verursacher benannt. Der Einfluss verschiedener Linien, aufgrund verschiedener Kinsinger et al. (Spectral Evaluation of a Sealed Helium Discharge Lamp for Studies in Photoelectron Spectroscopy, Analytical Chemistry, Vol. 44, 1972, pp. 773-777) are the effects of various spectral Impurities on the analysis of spectra of PES described. In addition to impurities in the spectrum of the radiation source with line spectrum, caused by contamination of a gas used, also lines of various emission processes of the gas are named as the cause. The influence of different lines, due to different
Emissionsvorgänge ist auch in dem Aufsatz 2 von M. Himmerlich (Surface characterization of indium Compounds as functiona! layers for (opto)electronic and sensoric applications, Dissertationsschrift , Fakultät für Mathematik und Naturwissenschaften der Technischen Universität Ilmenau, Deutschland, 2008, S. 15-18) besprochen. Linien die z.B. für Helium Gasentladungslampen zur Nutzung in Betracht kommen sind unter anderen die nach der Lyman- Serie im Wasserstoff benannten HeJ__alpha und HeJI__alpha, wobei die He_l_beta als auch He__ll__beta Linien als störende Satelliten der Emission processes are also described in the essay 2 by M. Himmerlich (Surface characterization of indium Compounds as function! Layers for (opto) electronic and sensory applications, Dissertationsschrift, Faculty of Mathematics and Natural Sciences of the Technical University of Ilmenau, Germany, 2008, p. 18). Lines which are e.g. Helium gas discharge lamps for use include the HeJ__alpha and HeJI__alpha named after the Lyman series in hydrogen, where the He_l_beta and He__ll__beta lines are interfering satellites of the
entsprechenden Alpha-Linien betrachtet werden. Entsprechendes gilt auch für die Linienspektren anderer Gasarten (z.B. Argon oder Xenon). corresponding alpha lines are considered. The same applies to the line spectra of other types of gas (for example, argon or xenon).
Vorrichtungen zur Generierung monochromatischer Strahlung einer Devices for generating monochromatic radiation
Strahiungsquelie mit Linienspektrum für die Photoelektronen-Spektroskopie, sind aus dem Stand der Technik bekannt. In dem Aufsatz 1 und dem Aufsatz 3 von F. Reinert und S. Hüfner (Photoemission spectroscopy— from eariy days to recent applications, New Journal of Physics, Vol. 7, 2005, 97, S. 1 -34) sind die Möglichkeiten der Monochromatisierung und Auswirkungen auf die Effizienz der, aus einer Gasentladungslampe zur Verfügung stehenden nutzbaren Photonen besprochen. Monochromatoren sind demnach kritische Komponenten in der Optik von PES-Vorrichtungen. Line-spectrum radiation sources for photoelectron spectroscopy are known from the prior art. In the essay 1 and the essay 3 of F. Reinert and S. Hüfner (Photoemission spectroscopy from days to recent applications, New Journal of Physics, Vol. 7, 2005, 97, pp. 1-34), the possibilities of Monochromatization and effects on the efficiency of usable from a gas discharge lamp usable photons discussed. Monochromators are therefore critical components in the optics of PES devices.
Die Effizienz ist dabei definiert als das Verhältnis der von einer Quelle ausgestrahlten Photonen zu denen, die auf eine Probe zur Anregung von Elektronen fallenden Photonen nutzbar sind und ist ein Gütefaktor einer PES- Vorrichtung. The efficiency is defined as the ratio of the photons emitted by a source to those usable on a sample for the excitation of photons falling from the electron and is a quality factor of a PES device.
In der DE 195 42 879 A1 , die den nächsten Stand der Technik bildet, ist eine Reflexionszonenplatte als Spektrograph für die Strahlung einer VUV-Quelle in einer UPS-Vorrichtung vorgeschlagen. Die Refiexionszonenpiatte wird hier eingesetzt um die Strahiungsquelle spektral und räumlich aufzulösen, d.h. eine gleichzeitige scharfe Abbildung von mehreren Wellenlängen zu erzeugen, was für die Effizienz und spektrale Reinheit ungünstig ist. In DE 195 42 879 A1, which forms the closest prior art, is a reflection zone plate as a spectrograph for the radiation of a VUV source in proposed a UPS device. The reflection zone plate is used here to spectrally and spatially resolve the radiation source, ie to produce a simultaneous sharp image of several wavelengths, which is unfavorable for the efficiency and spectral purity.
Aufgabenstellung task
Die Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es eine Vorrichtung und ein Verfahren anzugeben, mit denen die spektrale Verbreiterung von The object of the present invention is to provide a device and a method with which the spectral broadening of
Emissionsiinien von Strahiungsquellen mit Linienspektrum bis auf werte separierter Linien monochromatisierbar ist und zugleich eine Verbesserung der Effizienz gegenüber dem Stand der Technik erzielt wird. Zudem soll die vorliegende Erfindung eine kostengünstigere Alternative der Emission lines of Strayoungsquellen with line spectrum is monochromatizable to values of separated lines and at the same time an improvement of the efficiency compared to the prior art is achieved. In addition, the present invention is a cheaper alternative of
Monochromatisierung von Strahiungsquellen mit Linienspektrum, Monochromatization of radiation sources with line spectrum,
insbesondere Gasentladungslampen ermöglichen, als aus dem Stand der Technik bekannt. in particular gas discharge lamps, as known from the prior art.
Die Aufgabe wird durch den Gegenstand des Anspruch 1 und das Verfahren des Anspruchs 8 gelöst. Vorteilhafte Ausgestaltungen sind Gegenstand der Unteransprüche. The object is solved by the subject matter of claim 1 and the method of claim 8. Advantageous embodiments are the subject of the dependent claims.
Bei der Strahlungsquelle mit Linienspektrum kann es sich um jedwede, aus dem Stand der Technik bekannte Strahlungsquelle handeln, die so The line source radiation source may be any radiation source known in the art which may be so
eingerichtet ist, dass sie ein Linienspektrum erzeugt. Mögliche is set up to produce a line spectrum. Possible
Strahiungsquellen der geforderten Art sind zum Beispiel Stray sources of the required type are, for example
Gasentladungslampen, wie es auch einem Ausführungsbeispiel entspricht. Ais Gasentladungslampe kann insbesondere eine Kaltkathoden - Niederdruck (1X10"2 mbar - 1X10"1 mbar) - Kapillar - Helium-Gasentladungslampe (eng. Coid cathod capiliary discharge) eingesetzt werden. Des Weiteren sind z.B. auf Elektron-Zyklotron-Resonanz-Heizung beruhende Gas discharge lamps, as it corresponds to an embodiment. Ais gas discharge lamp can be in particular a cold cathode - low pressure (1X10 "2 mbar - 1X10" 1 mbar) - capillary - Helium gas discharge lamp (eng Coid capiliary cathod discharge.) Are used. Furthermore, for example, based on electron cyclotron resonance heating
Piasmastrahlungsquelien oder aber Duoplasmatron-Piasmastrahlungsquellen einsetzbar. Alle Strahiungsquellen können z.B. mit Edelgasen aber auch anderen Gasen betrieben werden, wodurch Spektrallinien in unterschiedlichen Energiebereichen bzw. unterschiedlicher Energie erzeugbar sind. Piasma radiation sources or duoplasmatron Piasmastrahlungsquellen used. All Strahiungsquellen can eg with noble gases but also Other gases are operated, which spectral lines in different energy ranges or different energy can be generated.
Die Strahiungsquelle mit Linienspektrum ist dabei mit allen zur Betreibung notwendigen Vorrichtungen wie Pumpen und Gaszuführungen ausgestattet. The Strayoungsquelle with line spectrum is equipped with all necessary for the operation of devices such as pumps and gas supplies.
Die erfindungsgemäße Vorrichtung zur Generierung monochromatischer Strahlung einer Strahiungsquelle mit Linienspektrum weist darüber hinaus mindestens eine erste off-axis-Reflexionszonenplatte auf. Die mindestens eine off-axis Reflexionszonenplatte ist dabei dazu eingerichtet, eine The device according to the invention for generating monochromatic radiation of a radiation source with a line spectrum additionally has at least one first off-axis reflection zone plate. The at least one off-axis reflection zone plate is arranged to a
vorbestimmte Linie aus dem Spektrum der Strahiungsquelle durch Beugung an derselben heraus zu separieren. Die Kenngröße der off-axis to separate out predetermined line from the spectrum of Strahiungsquelle by diffraction at the same out. The characteristic of the off-axis
Reflexionszonenplatte ist dabei insbesondere ihre Liniendichte. Die Reflection zone plate is in particular their line density. The
Separierung von Linien ist hier Synonym zu verstehen für die Separation of lines is to be understood here as a synonym
Monochromatisierung (Eingrenzung der spektralen Breite um eine gegebenen Energie, z. B. die einer Linie eines Linienspektrums) von Strahlung. Die off- axis Refiexionszonenpiatten werden demnach als Monochromatoren verwendet, die monochromatische Strahlung (separierte Linien) zur weiteren Verwendung in einem Strahlengang bereitstellen (aussenden). Monochromatization (narrowing the spectral width around a given energy, eg that of a line of a line spectrum) of radiation. The off-axis Refiexionszonenpiatten are therefore used as monochromators that provide monochromatic radiation (separated lines) for further use in a beam path (send out).
Eine off-axis Reflexionszonenpiatte bedeutet hier, dass insbesondere die Beugung ± 1 . Ordnung zur Anwendung kommt. Die Nutzung der Beugung ± 2. Ordnung oder höherer ist denkbar, aufgrund der geringen Intensitäten aber nicht von technischer Bedeutung. Die Beugung ± 1 . Ordnung wird aufgrund ihrer Energieabhängigkeit und Intensität genutzt. Der Beugungsstrahl 0. An off-axis reflection zone plate here means that in particular the diffraction ± 1. Order applies. The use of the diffraction ± 2nd order or higher is conceivable, due to the low intensities but not of technical importance. The diffraction ± 1. Order is used because of its energy dependence and intensity. The diffraction beam 0.
Ordnung wird von einer ersten Blende unterdrückt. Der bestrahlte Teil der Reflexionszonenpiatte wird aus dem Schwerpunkt der Strahischnittpunkte der Beugung 0. Ordnung verschoben, so dass Teile der Zonenplattenstruktur, die in höherer Ordnung beugen, bestrahlt werden (,off axis setting' oder„fresnel center offsef) oder nur entsprechende Teile als Zonenplatte angelegt sind. Order is suppressed by a first aperture. The irradiated portion of the reflection zone plate is shifted from the center of gravity of the 0th order diffraction beam points, so that portions of the zone plate structure that bend in higher order are irradiated (off axis setting or fresnel center offsef) or only corresponding portions as a zone plate are created.
Der Austrittswinkei der 1 . Ordnung der off-axis Refiexionszonenpiatten hängt dabei vom Einfallswinkel gemäß /? = arccos cos( - λ/d), mit a = streifender Einfallswinkel, λ = Wellenlänge der Strahlung und d = lokale Periode ab. Der Energieunterschied zwischen den zu trennenden spektralen Linien muss groß genug sein um genügend große Abstände zwischen den Austrittswinkein zu erreichen, damit nur die gewünschte Linie die Blende passiert und die Probe erreicht. The exit angle of the 1. Order of the off-axis Refiexionszonenpiatten depends on the angle of incidence according to /? = arccos cos (- λ / d), with a = grazing Angle of incidence, λ = wavelength of the radiation and d = local period. The energy difference between the spectral lines to be separated must be large enough to allow enough spacing between the exit angles to allow only the desired line to pass through the aperture and reach the sample.
Off-axis Refiexionszonenplatten der erfindungsgemäßen Art können auf dem Fachmann bekannte Art mittels Elektronenstrahllithographie hergestellt werden. Off-axis Refiexionszonenplatten the type of the invention can be prepared in a manner known in the art by means of electron beam lithography.
Die Anordnung der off-axis Reflexionszonenplatte erfolgt nach dem The arrangement of the off-axis reflection zone plate takes place after
Gesichtspunkt der Transmissionsmaximierung eines Monochromators. Flache Einfallswinkel sind dabei bevorzugt. Insbesondere ein streifender Einfall mit Einfallswinkeln (zur Ebene der Zonenplatte) kleiner 15° ist hierbei vorteilhaft. Die Transmissionsmaximierung (der reflektierten Strahlung) ist neben den Einfallswinkeln mindestens mitbestimmt durch die Kenngrößen der Entfernung von der Quelle (Gasentladungslampe) und der Güte eines bereitgestellten Vakuums. Eine Maximierung (Optimierung) nimmt der Fachmann Fallweise vor. Für eine optimale Ausrichtung der off-axis Refiexionszonenplatten ist in einer Ausführungsform vorgesehen, auf dem gleichen Substrat auf dem die off-axis Reflexionszonenplatte angelegt ist, eine Zonenpiatte anzulegen, die im sichtbaren Bereich des Spektrums reflektiert. Dadurch vereinfachet und verkürzt sich die Justierung der off-axis Reflexionszonenplatte, die damit z.B. mit Lasern durchführbar ist. Viewpoint of the transmission maximization of a monochromator. Flat angles of incidence are preferred. In particular, a grazing incidence with angles of incidence (to the plane of the zone plate) smaller than 15 ° is advantageous here. The transmission maximization (of the reflected radiation) is, in addition to the angles of incidence, at least determined by the parameters of the distance from the source (gas discharge lamp) and the quality of a provided vacuum. A maximization (optimization) takes the expert case by case. For an optimal alignment of the off-axis Refiexionszonenplatten is provided in one embodiment, on the same substrate on which the off-axis reflection zone plate is applied to create a Zonenpiatte that reflects in the visible region of the spectrum. This simplifies and shortens the adjustment of the off-axis reflection zone plate, which is thus used e.g. with lasers is feasible.
In einer Ausführungsform, sind mindestens zwei off-axis In one embodiment, at least two are off-axis
Refiexionszonenplatten zur Separierung von Linien aus einem Linienspektrum einer Strahiungsqueile mit Linienspektrum, bereitgestellt, z.B. für die Reflection zone plates for the separation of lines from a line spectrum of a line spectrum radiation source, provided e.g. for the
He__l__alpha und Heji_alpha - Linien, die wahlweise anordenbar sind. Hierfür kann z.B. ein Wechsler für die Platten vorgesehen sein. Ein Wechsel findet statt, indem die Zonenplatten parallel verschoben werden. Insbesondere, sind mehrere Zonenplatten für die Separierung unterschiedlicher Wellenlängen dabei auf einem Substrat angelegt, was die Handhabung eines Wechsels von Linie zu Linie erleichtert. He__l__alpha and Heji_alpha - lines that can be arranged optionally. For this example, a changer for the plates may be provided. A change takes place by moving the zone plates in parallel. In particular, there are several zone plates for the separation of different wavelengths thereby applied to a substrate, which facilitates the handling of a change from line to line.
Zusätzlich weist die Vorrichtung eine erste Blende auf, die im Strahlengang nach der off-axis Reflexionszonenplatte angeordnet ist. Die erste Blende ist in der Bildebene der Refiexionszonenpiatte angeordnet und in vorteilhafter Weise als Schlitzblende gestaltet. Ihre Lage in der Bildebene der In addition, the device has a first diaphragm, which is arranged in the beam path after the off-axis reflection zone plate. The first diaphragm is arranged in the image plane of the Refiexionszonenpiatte and designed in an advantageous manner as slit diaphragm. Your location in the picture plane of the
Refiexionszonenpiatte ist von der Energie der zu separierenden Linie abhängig und daher entsprechend anzupassen. Die Größe der Blende ist vorteilhaft so zu wählen, dass sie an die Dispersions- und Refiexionszonenpiatte depends on the energy of the line to be separated and therefore adjust accordingly. The size of the aperture is advantageous to choose so that they to the dispersion and
Abbiidungseigenschaft der Refiexionszonenpiatte angepasst ist und Image of the Refiexionszonenpiatte is adjusted and
mindestens das Ortsbild der vorbestimmten Spektraliinie (reflektiert von der Refiexionszonenpiatte) durchiässt und dabei störende benachbarte at least the location image of the predetermined Spektraliinie (reflected from the Refiexionszonenpiatte) durchiässt and thereby disturbing adjacent
Spektraiiinien abschneidet. Typische Blendengrößen liegen im Bereich von 0.5 mm bis 2 mm. Die untere Grenze der Blendengröße ist durch das laterale Auflösungsvermögen der Refiexionszonenpiatte bestimmt. Blenden die kleiner sind als dieses bewirken keinen Vorteil für die Monochromatisierung und beeinträchtigen die Effizienz. Die erste Blende verhindert somit, dass ein Teil der Intensität der unerwünschten Linien, die durch die Dispersion der Spectra lines cuts off. Typical aperture sizes are in the range of 0.5 mm to 2 mm. The lower limit of the aperture size is determined by the lateral resolution of the Refiexionszonenpiatte. Apertures smaller than this will not benefit monochromatization and affect efficiency. The first stop thus prevents some of the intensity of the undesired lines caused by the dispersion of the
Refiexionszonenpiatte vom Abbildungsort weggebeugt werden, für den Probenort doch noch erreichbar ist. Die Größe der ersten Blende ist folglich individuell an die gegebene Anordnung anzupassen. Der Fachmann kann die benötigte Ausführung leicht mit gängigen Methoden (Erfassung des Refiexionszonenpiatte be weggebeugt from the imaging site, for the sample is still accessible. The size of the first panel is therefore individually adapted to the given arrangement. The skilled person can easily perform the required design with common methods (detection of the
Ortsbildes/Abbiidung) ermittein. Ortsbildes / Abbiidung).
Die erfindungsgemäße Vorrichtung zur Generierung monochromatischer Strahlung einer Strahlungsquelle mit Linienspektrum ist entsprechend einer Ausführungsform mit einer zweiten Blende ausgestattet, die den Queilort der Lampe definiert und auf einen scharf umrissenen Bereich einschränkt. Diese Blende ist in unmittelbarer Nähe zu einem Austrittsort von Strahlung der Gasentladungslampe angeordnet. Die so definierte Quelle verbessert, hinsichtlich der spektralen Breite, die Separierung einzelner Linien, durch eine Minimierung der negativen Einflüsse der Dispersion der The device according to the invention for generating monochromatic radiation of a radiation source with a line spectrum is, according to one embodiment, equipped with a second diaphragm which defines the source location of the lamp and limits it to a sharply outlined region. This diaphragm is arranged in the immediate vicinity of an exit location of radiation of the gas discharge lamp. The source thus defined improves, with respect to the spectral width, the separation of individual lines, by a Minimizing the negative effects of the dispersion of
Reflexionszonenplatte. Reflecting zone plate.
Die Energieauflösung der erfindungsgemäßen Vorrichtung ist durch die Quellgröße, Spaltbreite und Dispersion der off-axis Reflexionszonenplatte (Winkel ß) begrenzt. Sie beträgt hier 1 .17 eV (FWHM) für HeJ Linien The energy resolution of the device according to the invention is limited by the swelling size, gap width and dispersion of the off-axis reflection zone plate (angle β). It is here 1 .17 eV (FWHM) for HeJ lines
(21 ,219 eV), bei einer Liniendichte von 812.7 Linien per Millimeter auf der Reflexionszonenplatte. Die Transmission der off-axis Reflexionszonenplatte beträgt 20 % bei 21 ,219 eV. (21, 219 eV), with a line density of 812.7 lines per millimeter on the reflection zone plate. The transmission of the off-axis reflection zone plate is 20% at 21, 219 eV.
In einer weiteren Ausführungsform ist hinter der ersten Blende im In a further embodiment, behind the first panel in
Strahlengang ein Refokussierspiegel so angeordnet, dass er die erste Blende verkleinert auf eine Probe abbildet. Damit wird die Strahidichte in einem Brennfleck auf der Probe erhöht. Eine vorteilhafte Ausführung des Beam path a refocusing arranged so that it images the first aperture reduced to a sample. This increases the radiolucency in a focal spot on the sample. An advantageous embodiment of
Refokussierspiegels ist ein Ellipsoidspiegel. Refocusing mirror is an ellipsoidal mirror.
Alle optischen Elemente der Vorrichtung befinden sich in einem evakuierbaren Gehäuse. All optical elements of the device are located in an evacuable housing.
Das erfindungsgemäße Verfahren zur Generierung monochromatischer Strahlung einer Strahiungsquelle mit Linienspektrum weist mindestens die folgenden Schritte auf. Zunächst das Aussenden von Strahlung aus einer Quelle mit einem Linienspektrum, wie z.B. einer Gasentladungslampe. Darauf folgend die Separierung einer vorbestimmten Linie des Linienspektrums aus der Strahlung mit einer off-axis Refiexionszonenplatte, durch Reflexion an derselben. Anschließend die Begrenzung der Ausdehnung der, von der off- axis Reflexionszonenplatte reflektierten Strahlung (die vorbestimmte separierte Linie) am Ort eines Ortsbildes der vorbestimmten Spektrallinie. The inventive method for generating monochromatic radiation of a radiation source with line spectrum has at least the following steps. First, the emission of radiation from a source having a line spectrum, such as, e.g. a gas discharge lamp. Subsequently, the separation of a predetermined line of the line spectrum from the radiation with an off-axis Refiexionszonenplatte, by reflection at the same. Subsequently, limiting the extension of the radiation reflected by the off-axis reflection zone plate (the predetermined separated line) at the location of a location image of the predetermined spectral line.
In einer Ausführungsform des erfindungsgemäßen Verfahrens zur In one embodiment of the method according to the invention for
Generierung monochromatischer Strahlung einer Strahiungsquelle mit Linienspektrum wird die Strahlung der Quelle räumlich begrenzt, so dass ein Quellort entsteht. Dieser Schritt folgt auf den Schritt des Aussendens der Strahlung. Generating monochromatic radiation from a radiation source with line spectrum, the radiation of the source is spatially limited, so that a Source is created. This step follows the step of emitting the radiation.
Die beiden letztgenannten Ausführungsformen bedeuten eine Erhöhung der Effizienz, d.h. der gesamt transmittierten Strahlung, die z.B. zur Bestrahlung einer Probe, zur Durchführung von PES genutzt wird. The latter two embodiments represent an increase in efficiency, i. the total transmitted radiation, e.g. used to irradiate a sample to perform PES.
Zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens wird in vorteilhafter Weise die erfindungsgemäße Vorrichtung und deren entsprechende For carrying out the method according to the invention, the device according to the invention and the corresponding ones thereof are advantageously used
Ausführungsformen genutzt. Embodiments used.
Ein durch die erfindungsgemäße Vorrichtung bereitgestellter Strahl wird bevorzugt genutzt, um an einer Probe Spektren der Photoelektron- Emissionsspektroskopie (PES) zu messen. A beam provided by the device according to the invention is preferably used to measure spectra of the photoelectron emission spectroscopy (PES) on a sample.
Die erfindungsgemäße Vorrichtung monochromatisiert die Strahlung einer Strahiungsquelie mit Linienspektrum, derart das einzelne Linien separiert werden bei gleichzeitiger optimierter Effizienz. Die optischen Komponenten der Vorrichtung sind dabei kostengünstig. The device according to the invention monochromatizes the radiation of a line-spectrum radiation source in such a way that individual lines are separated with optimized efficiency. The optical components of the device are inexpensive.
Ausführungsbeispiele embodiments
Die Erfindung soll in einem Ausführungsbeispiel und anhand von einer Figur näher erläutert werden. The invention will be explained in more detail in an embodiment and with reference to a figure.
Die Fig. 1 zeigt eine Strahiungsquelie mit Linienspektrum 1 mit erster 4 und zweiter Blende 2, off-axis Reflexionszonenplatten angelegt auf einem Substrat 3 und Refokussierspiegel 5. Ein Strahlengang 6 ist mit abgebildet. Die 1 shows a radiation source with line spectrum 1 with first 4 and second aperture 2, off-axis reflection zone plates applied to a substrate 3 and refocussing mirror 5. A beam path 6 is also shown. The
Abbildung ist nicht maßstäblich. Image is not to scale.
In dem Ausführungsbeispiel ist die Strahiungsquelie mit Linienspektrum eine Kaltkathoden - Niederdruck - Kapillar - Helium-Gasentladungslampe. Zur Druckverbesserung der Vakuumapparatur und zur Reduzierung des In the exemplary embodiment, the line spectrum radiation source is a cold cathode low pressure capillary helium gas discharge lamp. to Pressure improvement of the vacuum apparatus and to reduce the
Gasverbrauchs ist am Ende des Brennraums eine Glaskapillare eingesetzt. Die Glaskapillare wirkt auch gleichzeitig als zweite Blende. Die Glaskapillare (0 1 ,7 mm) ist nach 5 cm unterbrochen, um ein besseres Pumpen zu ermöglichen, hier herrscht ein Druck von ca. 0, 1 mbar. Die Strahlen treffen mit einer Divergenz von ±1 ° nach 150 mm auf die off-axis-Reflexionszonenplatte mit einem Einfallswinkel von 1 1 ,5°. Die gewünschte Spektraliinie wird dort gebeugt und unter einem Winkel von 21 , 18° auf die erste Blende (am Ort des Ortsbildes) abgebildet. Dafür hat die Reflexionszonenplatte eine quadratische Grundfläche von 40 mm Länge und etwa 10 mm Breite, einen„fresnel center offset" von 45 mm in Strahlrichtung und eine mittlere Liniendichte von Gas consumption is used at the end of the combustion chamber, a glass capillary. The glass capillary also acts as a second aperture at the same time. The glass capillary (0 1, 7 mm) is interrupted after 5 cm to allow a better pumping, here there is a pressure of about 0, 1 mbar. The rays strike the off-axis reflection zone plate with a divergence of ± 1 ° after 150 mm with an incident angle of 1 1, 5 °. The desired spectral line is diffracted there and imaged at an angle of 21, 18 ° on the first diaphragm (at the location of the townscape). For this purpose, the reflection zone plate has a square base area of 40 mm in length and about 10 mm in width, a Fresnel center offset of 45 mm in the beam direction and a mean line density of
812.7 Linien per Millimeter. Sie ist für HeJ__alpha Strahlung mit einer Energie von 21 .219 eV so ausgelegt, dass unter einem streifenden Einfallswinkel von 1 1 .5° die 1 . Beugungsordnung einer 150 mm entfernten Quelle auf eine 150 mm entfernte Bildebene mit einem streifenden Ausfaliswinkel von 21 .18° abgebildet wird. Der Abbildungsfaktor beträgt 1 : 1 sagittal und 1 :2 meridionai. Die Energieauflösung beträgt 1 .17 eV (FWHM) für He_! Linien. Das Bild der runden Kapillare ist ellipsenförmig. Folglich ist der Austrittsschi itz rechteckig ausgeformt. Der darauffolgende Eilipsoidspiegel verkleinert den 812.7 lines per millimeter. It is designed for HeJ__alpha radiation with an energy of 21 .219 eV so that under a grazing angle of incidence of 1 1 .5 ° the 1. Diffraction order of a 150 mm distant source is displayed on a 150 mm distant image plane with a grazing Ausfaliswinkel of 21 .18 °. The imaging factor is 1: 1 sagittal and 1: 2 meridionai. The energy resolution is 1 .17 eV (FWHM) for He_! Lines. The image of the round capillary is elliptical. Consequently, the exit Schi itz formed rectangular. The following Eilipsoidspiegel reduces the
Austrittsschlitz um den Faktor fünf auf die Probe. Mit den gegebenen Blenden, bzw. der Glaskapillare, und der off-axis Reflexionszonenplatte werden Exit slot by a factor of five to the sample. Be with the given aperture, or the glass capillary, and the off-axis reflection zone plate
Strahlgrößen am Probenort (Brennflecke) kleiner 300 erreicht. Beam sizes at the sample location (focal spots) less than 300 reached.

Claims

Patentansprüche claims
1 . Vorrichtung zur Generierung monochromatischer Strahlung einer 1 . Apparatus for generating monochromatic radiation of a
Strahiungsquelie mit Linienspektrum, mindestens aufweisend eine Strahlungsquelle (1 ), die ein Linienspektrum erzeugt, und eine erste off-axis-Reflexionszonenplatte (3),  Line spectrum radiation source comprising at least one radiation source (1) producing a line spectrum and a first off-axis reflection zone plate (3),
dadurch gekennzeichnet, dass  characterized in that
die erste off-axis Refiexionszonenplatte (3) eingerichtet ist zur  the first off-axis Refiexionszonenplatte (3) is set up for
Separierung einer vorbestimmten Spektraliinie des Linienspektrums der Strahiungsquelie, und eine erste Blende (4) in einem Strahiengang nach der off-axis Refiexionszonenplatte (3) am Ort eines Ortbildes der vorbestimmten Spektraliinie angeordnet ist.  Separating a predetermined spectral line of the line spectrum of the radiation source, and a first aperture (4) in a beam path after the off-axis Refiexionszonenplatte (3) at the location of a location image of the predetermined Spektraliinie is arranged.
2. Vorrichtung zur Generierung monochromatischer Strahlung einer 2. Apparatus for generating monochromatic radiation of a
Strahiungsquelie mit Linienspektrum nach Anspruch 1 ,  Line-spectrum radiation source according to claim 1,
dadurch gekennzeichnet, dass  characterized in that
die Strahiungsquelie (1 ) eine Gasentladungslampe ist.  the radiation source (1) is a gas discharge lamp.
3. Vorrichtung zur Generierung monochromatischer Strahlung einer 3. Apparatus for generating monochromatic radiation of a
Strahiungsquelie mit Linienspektrum, nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass  Straieungsquelie with line spectrum, according to claim 1 or 2, characterized in that
ein Quellort der Strahiungsquelie mit Linienspektrum (1 ) durch eine zweite Blende (2) definiert ist.  a source location of the radiation source with line spectrum (1) is defined by a second diaphragm (2).
4. Vorrichtung zur Generierung monochromatischer Strahlung einer 4. Apparatus for generating monochromatic radiation of a
Strahiungsquelie mit Linienspektrum, nach einem der vorhergehenden Ansprüche,  Radiation source with line spectrum, according to one of the preceding claims,
dadurch gekennzeichnet, dass  characterized in that
ein Refokussierspiegei (5) so angeordnet ist, dass er die erste Blende (4) verkleinert auf eine Probe (7) abbildet. Vorrichtung zur Generierung monochromatischer VUV-Strablung einer Strahlungsquelle mit Linienspektrum, nach einem der vorhergehenden Ansprüche, a refocusing mirror (5) is arranged so as to image the first diaphragm (4) in a reduced manner onto a sample (7). Device for generating monochromatic VUV streaking of a radiation source with line spectrum, according to one of the preceding claims,
dadurch gekennzeichnet, dass characterized in that
mehrere off-axis-Ref!exionszonenp!atten (3) auf einem Substrat angelegt sind, wobei die Reflexionszonenplatten (3) durch lineare Verschiebung wechselbar sind. a plurality of off-axis reflection zone capsules (3) are applied to a substrate, the reflective zone plates (3) being exchangeable by linear displacement.
Vorrichtung zur Generierung monochromatischer Strahlung einer Strahlungsquelle mit Linienspektrum, nach Anspruch 5, Device for generating monochromatic radiation of a radiation source with line spectrum, according to claim 5,
dadurch gekennzeichnet, dass characterized in that
eine der off-axis-Refiexionszonenplatten (3) für Strahlung im optischen Bereich ausgelegt ist. one of the off-axis Refiexionszonenplatten (3) is designed for radiation in the optical range.
Verfahren zur Generierung monochromatischer Strahlung einer Strahlungsquelle mit Linienspektrum mindestens aufweisend die folgenden Schritte, Method for generating monochromatic radiation of a line-source radiation source comprising at least the following steps,
a. Aussenden von Strahlung aus einer Strahlungsquelle mit  a. Emitting radiation from a radiation source with
Linienspektrum,  Line spectrum,
b. Separierung einer vorbestimmten Linie des Linienspektrums aus der Strahlungquelle mit einer off-axis Refiexionszonenplatte, durch Reflexion an der Selben,  b. Separation of a predetermined line of the line spectrum from the radiation source with an off-axis reflection zone plate, by reflection at the same,
c. Begrenzung der Ausdehnung der von der off-axis  c. Limiting the extent of the off-axis
Reflexionszonenplatte reflektierten Strahlung am Ort eines Ortsbiides der vorbestimmten Spektrallinie.  Reflection zone plate reflected radiation at the location of a Ortsbiides the predetermined spectral line.
Verfahren zur Generierung monochromatischer Strahlung einer Strahlungsquelle mit Linienspektrum nach Anspruch 7, A method of generating monochromatic radiation of a line-source radiation source according to claim 7,
gekennzeichnet durch den zusätzlichen Schritt: characterized by the additional step:
Begrenzung der Strahlung der Gasentladungslampe, so dass ein Quellort entsteht, folgend das Aussenden von Strahlung. Limiting the radiation of the gas discharge lamp, so that a source occurs, following the emission of radiation.
9. Verfahren zur Generierung monochromatischer Strahlung einer Strahlungsquelie mit Linienspektrum nach Anspruch 7 oder 8, gekennzeichnet durch den zusätzlichen Schritt 9. A method for generating monochromatic radiation of a radiation source with line spectrum according to claim 7 or 8, characterized by the additional step
Verkleinerung des Ortsbildes durch Fokussierung der von der off-axis Reflexionszonenplatte separierten Linie,  Reduction of the location image by focusing the line separated from the off-axis reflection zone plate,
PCT/DE2018/100219 2017-03-13 2018-03-12 Device and method for generating monochromatic radiation of a radiation source with line spectrum WO2018166562A1 (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102017105275.5A DE102017105275B4 (en) 2017-03-13 2017-03-13 Apparatus and method for generating monochromatic radiation of a radiation source with line spectrum
DE102017105275.5 2017-03-13

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2018166562A1 true WO2018166562A1 (en) 2018-09-20

Family

ID=62046613

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/DE2018/100219 WO2018166562A1 (en) 2017-03-13 2018-03-12 Device and method for generating monochromatic radiation of a radiation source with line spectrum

Country Status (2)

Country Link
DE (1) DE102017105275B4 (en)
WO (1) WO2018166562A1 (en)

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19542679A1 (en) 1995-11-16 1997-05-22 Bastian Dr Niemann X=ray spectrograph optics
DE19700615A1 (en) * 1996-01-10 1997-07-17 Bastian Dr Niemann Condenser monochromator arrangement for X=rays
US20080084967A1 (en) * 2006-10-10 2008-04-10 Rigaku Corporation X-ray optical system
DE102007048743A1 (en) * 2007-10-08 2009-04-09 Ifg-Institute For Scientific Instruments Gmbh Energetic composition determining method for e.g. x-ray radiation, of source, involves reflecting and diffracting different wavelength areas of irradiated x-ray radiation, and detecting x-ray radiation in pre-defined receiver areas
DE102013207160A1 (en) * 2013-04-19 2014-10-23 Helmholtz-Zentrum Berlin Für Materialien Und Energie Gmbh Apparatus and method for determining the energetic composition of electromagnetic waves

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19542679A1 (en) 1995-11-16 1997-05-22 Bastian Dr Niemann X=ray spectrograph optics
DE19700615A1 (en) * 1996-01-10 1997-07-17 Bastian Dr Niemann Condenser monochromator arrangement for X=rays
US20080084967A1 (en) * 2006-10-10 2008-04-10 Rigaku Corporation X-ray optical system
DE102007048743A1 (en) * 2007-10-08 2009-04-09 Ifg-Institute For Scientific Instruments Gmbh Energetic composition determining method for e.g. x-ray radiation, of source, involves reflecting and diffracting different wavelength areas of irradiated x-ray radiation, and detecting x-ray radiation in pre-defined receiver areas
DE102013207160A1 (en) * 2013-04-19 2014-10-23 Helmholtz-Zentrum Berlin Für Materialien Und Energie Gmbh Apparatus and method for determining the energetic composition of electromagnetic waves

Non-Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
BURGE R E ET AL: "An x-ray projection method using zone plates for mask preparation with sub-micron sizes", MICROELECTRONIC ENGINEERING, ELSEVIER PUBLISHERS BV., AMSTERDAM, NL, vol. 6, no. 1-4, 1 December 1987 (1987-12-01), pages 227 - 232, XP024436916, ISSN: 0167-9317, [retrieved on 19871201], DOI: 10.1016/0167-9317(87)90042-6 *
ERKO A ET AL: "High-resolution diffraction X-ray optics", GUANGXUE JINGMI GONGCHENG/OPTICS AND PRECISION ENGINEERING, vol. 15, no. 12, December 2007 (2007-12-01), pages 1816 - 1822, XP009506682 *
F. REINERT; S. HÜFNER: "Photoemission spectroscopy—from early days to recent applications", NEW JOURNAL OF PHYSICS, vol. 7, no. 97, 2005, pages 1 - 34
J.A. KINSINGER ET AL.: "Spectral Evaluation of a Sealed Helium Discharge Lamp for Studies in Photoelectron Spectroscopy", ANALYTICAL CHEMISTRY, vol. 44, 1972, pages 773 - 777
JAN METJE ET AL: "Monochromatization of femtosecond XUV light pulses with the use of reflection zone plates", OPTICS EXPRESS, vol. 22, no. 9, 28 April 2014 (2014-04-28), pages 10747, XP055490942, DOI: 10.1364/OE.22.010747 *
M. HIMMERLICH: "Dissertationsschrift", 2008, FAKULTÄT FÜR MATHEMATIK UND NATURWISSENSCHAFTEN, article "Surface characterization of indium compounds as functional layers for (opto)electronic and sensoric applications", pages: 15 - 16
MATEUSZ IBEK ET AL: "Monochromatizing and focussing femtosecond high-order harmonic radiation with one optical element", REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS., vol. 84, no. 10, 1 October 2013 (2013-10-01), US, pages 103102, XP055490874, ISSN: 0034-6748, DOI: 10.1063/1.4822114 *

Also Published As

Publication number Publication date
DE102017105275A1 (en) 2018-09-13
DE102017105275B4 (en) 2019-02-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE112015001072B4 (en) Fluorescence spectrometer
DE112021002841T5 (en) System and method for X-ray absorption spectroscopy using a crystal analyzer and multiple detector elements
DE102007057252A1 (en) Method for measuring outgassing in EUV lithography apparatus and EUV lithography apparatus
DE102019124919B4 (en) Microscopic system for testing structures and defects on EUV lithography photomasks
WO2022017883A1 (en) Residual gas analyser, and euv lithography system having a residual gas analyser
WO2021165078A1 (en) Method for operating an optical assembly for euv lithography, and optical assembly for euv lithography
DE4228366A1 (en) Fluorimeter for ion concn. measurement - has diffraction grating displaced by scanner for simultaneous or rapid sequential prodn. of different excitation wavelengths
DE102017105275B4 (en) Apparatus and method for generating monochromatic radiation of a radiation source with line spectrum
DE102014223326B4 (en) Method for predicting at least one illumination parameter for evaluating a lighting setting and method for optimizing a lighting setting
DE102012214932B4 (en) Test sample apparatus and test method for a sub-wavelength optical microscope
DE102017200934A1 (en) Method for operating a manipulator of a projection exposure apparatus
DE102017127122B4 (en) Spectrometric meter
DE102012000038A1 (en) laser device
DE102016200271A1 (en) Device for generating and measuring an emission
DE102022210352A1 (en) EUV reflectometer and measurement method
DE60317302T3 (en) High flux X-ray source
DE102020209482A1 (en) Method for calibration, device for supplying a calibration gas to a vacuum, calibration substance, system for forming a vacuum environment and projection exposure system
EP2237079B1 (en) Device for homogenising coherent radiation
DE102013225498A1 (en) Test device for EUV optics
DE10307884A1 (en) Method for determining optimal grating parameters for the production of a diffraction grating for a VUV spectrometer
DE102012013530B3 (en) Apparatus for measuring resonant inelastic X-ray scattering of a sample
DE102008036569A1 (en) Honeycomb condenser to homogenize light beam intensity has cylindrical micro-lenses for application to light beam of oblong cross section
WO2014096976A2 (en) Method and device for generating narrowband, short-wave, coherent laser radiation, more particularly for xuv microscopy
DE202016009150U1 (en) Light source with controllable spectrum
DE102016206202A1 (en) Optical assembly with a rinsing device and optical arrangement with it

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 18719744

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 18719744

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1