WO2016064251A1 - Textile processing device - Google Patents

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WO2016064251A1
WO2016064251A1 PCT/KR2015/011291 KR2015011291W WO2016064251A1 WO 2016064251 A1 WO2016064251 A1 WO 2016064251A1 KR 2015011291 W KR2015011291 W KR 2015011291W WO 2016064251 A1 WO2016064251 A1 WO 2016064251A1
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WO
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oxide
insulating substrate
planar heating
layer
fabric
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PCT/KR2015/011291
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French (fr)
Korean (ko)
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류도형
김동제
박성환
김보민
하정민
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(주)솔라세라믹
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Publication date
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    • DTEXTILES; PAPER
    • D06TREATMENT OF TEXTILES OR THE LIKE; LAUNDERING; FLEXIBLE MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • D06CFINISHING, DRESSING, TENTERING OR STRETCHING TEXTILE FABRICS
    • D06C7/00Heating or cooling textile fabrics
    • DTEXTILES; PAPER
    • D06TREATMENT OF TEXTILES OR THE LIKE; LAUNDERING; FLEXIBLE MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • D06FLAUNDERING, DRYING, IRONING, PRESSING OR FOLDING TEXTILE ARTICLES
    • D06F35/00Washing machines, apparatus, or methods not otherwise provided for
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F26DRYING
    • F26BDRYING SOLID MATERIALS OR OBJECTS BY REMOVING LIQUID THEREFROM
    • F26B9/00Machines or apparatus for drying solid materials or objects at rest or with only local agitation; Domestic airing cupboards
    • DTEXTILES; PAPER
    • D06TREATMENT OF TEXTILES OR THE LIKE; LAUNDERING; FLEXIBLE MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • D06FLAUNDERING, DRYING, IRONING, PRESSING OR FOLDING TEXTILE ARTICLES
    • D06F34/00Details of control systems for washing machines, washer-dryers or laundry dryers
    • D06F34/28Arrangements for program selection, e.g. control panels therefor; Arrangements for indicating program parameters, e.g. the selected program or its progress

Definitions

  • the present invention relates to a textile processing apparatus, and more particularly, to a textile processing apparatus for improving conditions such as drying, unwrinkling, deodorization, or smoothing of a fabric such as a garment or a sock.
  • Clothes dryers and irons are two examples.
  • a dedicated treatment apparatus capable of restoring or improving the condition of the fabric after washing or after wearing the garment is desirable. Since such a dedicated processing device occupies a separate space, it is expected that user convenience may be maximized if it has excellent space utilization and can achieve high efficiency in processing to achieve a quick and clear effect.
  • the technical problem to be solved by the present invention relates to a fabric processing apparatus for improving the condition of worn or used fabrics or fabrics after washing, excellent space utilization, fast fabric processing and user convenience It is to provide an improved fabric processing apparatus.
  • the cabinet housing having an opening on at least one side, the planar heating plate for heat radiation toward the fabric to be treated at least on the other side;
  • a cover frame which opens and closes the opening while entering and exiting through the opening of the housing;
  • a controller for power control of the planar heating plate.
  • the planar heating plate may include a first insulating substrate, a conductive planar heating layer formed on the first insulating substrate, and electrode patterns formed on the planar heating layer to apply a current.
  • the first insulating substrate may include a glass including soda lime glass, heat resistant glass, tempered glass, crystallized glass, or two or more laminated materials thereof; Ceramics including quartz, aluminum oxide, calcium fluoride or yttrium oxide; Any one or a combination thereof.
  • the first insulating substrate and the planar heating layer may have a transmittance of a visible light region for viewing the inside of the cabinet housing.
  • the planar heating layer may have a surface resistance in the range of 5 ⁇ / ⁇ to 50 ⁇ / ⁇ .
  • the planar heating layer is indium oxide (InO 2 ); Tin oxide (SnO 2 ); Indium tin oxide (ITO); Zinc oxide (ZnO); At least one of these oxides may be the main matrix, and the matrix may comprise any one or a mixture of materials doped with a base metal, metal, or metalloid.
  • the planar heating layer may include fluorine-doped tin oxide.
  • the planar heating layer may include any one or a mixture of carbon nanotubes, graphene, fullerene, and carbon fibers.
  • the planar heating layer may be formed on a side facing the inside of the cabinet housing on the insulating substrate.
  • a dielectric buffer layer may be included between the first insulating substrate and the planar heating layer.
  • the dielectric buffer layer may be formed of silicon oxide (SiO 2 ), ceria (CeO 2 ), aluminum oxide (Al 2 O 3 ) manganese oxide (MnO 2 ), iron oxide (Fe 2 O 3 ), magnesium oxide (MgO), and titanium oxide ( TiO 2 ) may include at least one.
  • the first insulating substrate may include a reflective layer, a heat dissipating layer, a heat insulating layer, or a laminated structure of two or more thereof on an opposite surface of the surface on which the planar heating layer is formed.
  • the cover frame includes a main frame for sliding in and out through the opening and mounting the fabric; And a cover part coupled to the body frame to open and close the opening of the housing.
  • the body frame may have a multistage structure.
  • the apparatus may further include a user interface module for inputting and outputting information regarding the control of the fabric processing apparatus. It may further include at least one of a humidity sensor, an ultrasonic humidifier, a fragrance apparatus, and a sterilization apparatus.
  • the apparatus may further include an air flow guide part for inducing air flow inside the cabinet housing. It may further include at least one granular heating unit.
  • the granular heating part may include a plate-like strip structure or a curved pillar structure.
  • Fabric processing apparatus for solving the above technical problem, cabinet housing having an opening on at least one side; A drawer frame entering and exiting through the opening of the cabinet housing; A door frame that opens and closes the opening of the cabinet housing and includes a planar heating plate that radiates heat toward the fabric; And a controller for power control of the planar heating plate.
  • the planar heating plate may include a first insulating substrate, a conductive planar heating layer formed on the first insulating substrate, and electrode patterns formed on the planar heating layer to apply a current.
  • Fabric processing apparatus for solving the above technical problem, cabinet housing having an opening on at least one side, the planar heating plate for heat radiation toward the fabric to be treated at least on the other side; A display element layer laminated on the planar heating plate and for visually obscuring or displaying information on the fabric to be processed in the cabinet housing transmitted through the planar heating plate; A cover frame which opens and closes the opening while entering and exiting through the opening of the cabinet housing; And a control unit for power control of the planar heating plate, wherein the planar heating plate is formed on a first insulating substrate, a conductive planar heating layer formed on one surface of the first insulating substrate, and the planar heating layer to apply current. It includes electrode patterns for.
  • the display device layer includes a thermo-chromic layer stacked on the other surface opposite to the one surface of the first insulating substrate and a second insulating substrate stacked on the thermochromic layer to display color. can do.
  • the display device layer may further include a third insulating substrate stacked between the first insulating substrate and the thermochromic layer.
  • the apparatus may further include a spacer for forming a gap between the third insulating substrate and the first insulating substrate.
  • the third insulating substrate may be bonded to the first insulating substrate.
  • At least one of the second insulating substrate and the third insulating substrate may include glass including soda lime glass, heat resistant glass, tempered glass, crystallized glass, or two or more laminated materials thereof; Ceramics including quartz, aluminum oxide, calcium fluoride or yttrium oxide; Any one or a combination thereof. At least one of the second insulating substrate and the third insulating substrate may have a transmittance of a visible light region for viewing the inside of the cabinet housing.
  • the thermochromic layer may include a material of any one of vanadium dioxide (VO 2 ), titanium (III) oxide (Ti 2 O 3 ), niobium oxide (NbO 2 ), and nickel sulfide (NiS).
  • the thermochromic layer may include molybdenum (Mo), tungsten (W), niobium (Nb), tantalum (Ta), iron (Fe), aluminum (Al), titanium (Ti), tin (Sn), and nickel (Ni). Dopant containing at least one of the materials may be doped.
  • the color of the thermochromic layer may be changed according to the temperature change caused by the heat generation of the planar heating plate.
  • the display element layer includes an electro-chromic layer stacked on the other surface opposite to the one surface of the first insulating substrate and a fourth insulating substrate stacked on the electrochromic layer to display color. can do.
  • the display device layer may further include a fifth insulating substrate stacked between the first insulating substrate and the electrochromic layer.
  • the semiconductor device may further include a spacer for forming a gap between the fifth insulating substrate and the first insulating substrate.
  • the fifth insulating substrate may be bonded to the first insulating substrate.
  • At least one of the fourth insulating substrate and the fifth insulating substrate may include glass including soda lime glass, heat resistant glass, tempered glass, crystallized glass, or two or more laminated materials thereof; Ceramics including quartz, aluminum oxide, calcium fluoride or yttrium oxide; Any one or a combination thereof. At least one of the fourth insulating substrate and the fifth insulating substrate may have a transmittance of a visible light region for viewing the inside of the cabinet housing.
  • the electrochromic layer may include at least one of a dye material, a polymer material, a metal oxide material, and a conductive material.
  • a dye material e.g., a polymer material, a metal oxide material, and a conductive material.
  • the metal oxide-based material may include tungsten oxide, molybdenum oxide, iridium oxide, indium oxide, titanium oxide, nickel oxide, vanadium oxide, and Prussian blue.
  • the conductive material include titanium oxide, zinc oxide, tin oxide, zirconium oxide, cerium oxide, yttrium oxide, boron oxide, magnesium oxide, strontium titanate, potassium titanate, barium titanate, calcium titanate, calcium oxide, ferrite, Hafnium oxide, tungsten oxide, iron oxide, copper oxide, nickel oxide, cobalt oxide, barium oxide, strontium oxide, vanadium oxide and aluminosilicates.
  • the apparatus may further include a user interface module for inputting and outputting information regarding the control of the fabric processing apparatus.
  • Fabric processing apparatus for solving the above technical problem, cabinet housing having an opening on at least one side; A drawer frame entering and exiting through the opening of the cabinet housing; A door frame including a planar heating plate which opens and closes the opening of the cabinet housing and heat radiates toward the fabric to be treated; And a display element layer laminated on the planar heating plate and visually obscuring the fabric to be processed in the cabinet housing transmitted through the planar heating plate, or for displaying information. And a control unit for power control of the planar heating plate, wherein the planar heating plate is formed on a first insulating substrate, a conductive planar heating layer formed on one surface of the first insulating substrate, and the planar heating layer to apply current. For electrode patterns.
  • the fabric inside the cabinet housing by heat treating the fabric inside the cabinet housing by a planar heating plate coupled to the cabinet housing or door frame, unlike in the case of using heated steam as the main heat source, it is troublesome in use such as supply of water. It is hygienic which is free from secondary pollution and there is no secondary contamination of the fabric resulting from contaminated water, and a high temperature and high pressure airtight device for steam generation is not required, and thus a safe and long life textile processing apparatus can be provided.
  • planar heating layer is not only capable of stable temperature rise within a short time due to the characteristics of the resistive thin film, but also has an advantage of improving stability by limiting the temperature rise at a high temperature and uniformly heating the entire surface toward the inside of the cabinet housing. have.
  • the interior of the job processing device can be obstructed or the aesthetic design can be displayed after the fabric processing is completed, thereby obtaining an interior effect.
  • FIG. 1A and 1B are perspective views of a cabinet housing and a fabric processing apparatus according to one embodiment of the present invention.
  • Figure 2a is a cross-sectional view showing a laminated structure of the planar heating plate according to an embodiment of the present invention
  • Figure 2b is a perspective view of a clothes processing apparatus according to another embodiment of the present invention.
  • FIG. 3 shows a fabric processing apparatus according to another embodiment of the present invention.
  • 4A and 4B illustrate granular heating units according to various embodiments of the present disclosure.
  • FIG. 5 is a perspective view showing a fabric processing apparatus according to another embodiment of the present invention.
  • 6A is a cross-sectional view illustrating a laminated structure of a planar heating plate according to another embodiment of the present invention.
  • FIG. 6B is a cross-sectional view illustrating a detailed laminated structure of an embodiment of the planar heating plate illustrated in FIG. 6A.
  • FIG. 6C is a cross-sectional view illustrating a detailed laminated structure of another embodiment of the planar heating plate shown in FIG. 6A.
  • FIG. 6D is a cross-sectional view illustrating a detailed laminated structure of still another embodiment of the planar heating plate shown in FIG. 6A.
  • FIG. 6E is a cross-sectional view illustrating a detailed laminated structure of still another embodiment of the planar heating plate shown in FIG. 6A.
  • FIG. 7 is a reference diagram illustrating a state of color development in a cabinet housing of the fabric processing apparatus according to the operation of the display element layer.
  • first, second, etc. are used herein to describe various members, parts, regions, layers, and / or parts, these members, parts, regions, layers, and / or parts are defined by these terms. It is obvious that not. These terms are only used to distinguish one member, part, region, layer or portion from another region, layer or portion. Thus, the first member, part, region, layer or portion, which will be discussed below, may refer to the second member, component, region, layer or portion without departing from the teachings of the present invention.
  • 'fabric' as used herein is a concept that includes wearable clothes, socks, towels, shoes, beddings such as duvets may also correspond.
  • FIGS. 1A-1B are perspective views of a cabinet housing 10 and a fabric processing apparatus 100 according to one embodiment of the invention.
  • the fabric processing apparatus 100 includes a cabinet housing 10.
  • Cabinet housing 10 may have a size and shape suitable to accommodate the processing capacity of the fabric, such as top, bottom, dress, socks, shoes, tie or duvet.
  • One side of the cabinet housing 10 has an opening 10H. Entry and exit of the lid frame 20 is made through the opening 10H as indicated by the arrow K.
  • FIG. 1A and 1B the fabric processing apparatus 100 includes a cabinet housing 10.
  • Cabinet housing 10 may have a size and shape suitable to accommodate the processing capacity of the fabric, such as top, bottom, dress, socks, shoes, tie or duvet.
  • One side of the cabinet housing 10 has an opening 10H. Entry and exit of the lid frame 20 is made through the opening 10H as indicated by the arrow K.
  • the other side of the cabinet housing 10 may be provided with a planar heating plate 30 for processing the fabric in the cabinet housing 10.
  • the planar heating plate 30 is a glass laminate structure including a conductive heating layer for supplying heat into the cabinet housing 10 by heat radiation, which will be described later in detail with reference to FIG. 2.
  • the planar heating plate 30 may be mounted on the inner wall of the cabinet housing 10 to be concealed so as not to be exposed to the outside of the cabinet housing 10, but preferably, as shown in FIG. It may be exposed to the outside to form one side wall of the cabinet housing 10.
  • the planar heating plate 30 may be provided not only on the illustrated side surface of the cabinet housing 10, but also on another side surface 10S2, an opposite surface 10S3, a top surface or a bottom surface of the cabinet housing 10, thereby processing fabric.
  • a two-sided or three-sided heating system may be configured.
  • the planar heating plate 30 may be fixed to the frame of the cabinet housing 10 to occupy all or partially occupy the side surface 10S1.
  • the corresponding side surface 10S1 of the cabinet housing 10 to which the planar heating plate 30 is applied may constitute the front surface of the fabric processing apparatus 100.
  • a user interface module 11 is also provided for inputting and outputting information relating to the control of the fabric processing apparatus.
  • the user interface module 11 may receive a power control command for heat generation of the fabric processing apparatus 100 or a control command for operation of a component to be described later, and display the result according to the input control command as display information. It may be.
  • the user interface module 11 for power control of the fabric processing apparatus 100 may be provided on the front surface 10S1 as shown in FIG. 1A.
  • the user interface module 11 ′ may be provided on the cover portion 21 of the cover frame 20 as shown in FIG. 2B.
  • the cover part 21 may comprise the front surface of the textile processing apparatus 100.
  • the user interface module 11 includes a user input unit for receiving a command for controlling time or intensity for at least one of heating, humidifying, deodorizing, sterilizing, and smelling inside the cabinet housing 10, and for displaying the same. It may include a display unit.
  • the user input may include, but is not limited to, mechanical buttons, capacitive or pressure sensitive buttons, or optical buttons.
  • the user interface module 11 is connected to a control unit (see 30CC in FIG. 2A), and the control unit controls power and time applied to the planar heating plate 30 based on the signal received from the user interface module 11, It may be electrically connected to and controlled by a humidifying apparatus, a fragrance apparatus, a sterilizing apparatus, or a granular heating unit to be described later.
  • the fabric processing apparatus 100 may further be provided with a speaker or a light emitting system capable of audibly or visually recognizing information such as the start, progress, and end of the fabric processing process.
  • the cabinet housing 10 may include an outlet 12 for external discharge of vapor or odor molecules that may be generated in the processing of the fabric.
  • the illustrated outlet 12 illustrates the slit shape.
  • outlet 12 may be disposed on top of cabinet housing 10.
  • Suitable dust and / or antimicrobial filters in the outlet 12 may be combined to prevent direct release of steam or odors.
  • a suitable fan may also be coupled to the outlet 12 to facilitate the release of steam or air.
  • the cabinet housing 10 may be provided with an air inlet.
  • the air inlet is for assisting the air flow inside the housing during the processing of the fabric through the inflow of outside air, and a fan and / or a suitable air filter may be coupled thereto.
  • the air inlet may be provided on any side, bottom or top surface of the cabinet housing 10, but the present invention is not limited thereto.
  • a cover frame 20 is provided that can open and close the opening 10H of the cabinet housing 10.
  • the lid frame 20 can open and close the opening 10H by entering and exiting through the opening 10H.
  • the cover frame 20 is coupled to the main body frame 22 and the main body frame 22 which can slide in and out through the opening 10H and mount the fabric CT1, and the cover part which opens and closes the opening 10H ( 21).
  • a limiting member (not shown) may be provided to prevent the cover frame 20 from being separated from the cabinet housing 10 when the cover frame 20 is pulled out.
  • the body frame 22 comprises a hanger member 23 for mounting of the fabric CT1 to be treated.
  • the hanger member 23 may have any form in which the fabric CT1 to be processed can be unfolded so that the fabric can be uniformly subjected to heat applied from the wrinkled fabric and the planar heating plate, and FIG. The typical hanger member 23 which can be made to shoulder can be illustrated.
  • Body frame 22 may have a single mounting space up and down as shown, but the present invention is not limited thereto.
  • the body frame 22 may have a multistage structure, in which case each stage may be comprised of a breathable wall.
  • each stage of the multi-stage structure may independently enter and exit through the opening 10H of the cabinet housing 10.
  • the fabric processing apparatus 100 may further include one or more air flow guides 24 for creating a circulation of internal air or a flow of air in a predetermined direction during heat treatment by the planar heating plate 30.
  • the air flow guide 24 may be a fan or a blower member, and as shown by arrow 24K, the air flow may be made by discharging the air in a predetermined direction.
  • the air flow guide 24 is not limited to discharging air, but may also induce air flow in the cabinet housing by sucking air. The air flow helps to apply heat evenly to the fabric CT1 to be treated by circulating inside the cabinet housing 10 or inducing a constant flow from below to above or inducing convection.
  • a linear member such as an elastic wire fixed to the inner side of the body frame 22 or the cover portion 21 may be provided.
  • the body frame 22 may be provided with a granular heating element (see 45a in FIG. 4A and 45B in FIG. 4B).
  • the granular heating element will be described later with reference to FIGS. 4A and 4B.
  • the body frame 22 may be combined with a humidifier, a fragrance apparatus, a disinfecting apparatus or a granular heat generating unit, which will be described later.
  • Figure 2a is a cross-sectional view showing a laminated structure of the planar heating plate 30 according to an embodiment of the present invention
  • Figure 2b is a perspective view of a fabric processing apparatus 100 'according to another embodiment of the present invention.
  • the planar heating plate 30 may include a planar heating layer 30HT formed on the first insulating substrate 30S-1 and the first insulating substrate 30S-1.
  • the first insulating substrate 30S-1 is an insulator and may include glass or ceramic material capable of high temperature operation.
  • the glass may be soda lime glass, heat resistant glass, tempered glass, crystallized glass or two or more laminated materials thereof.
  • the ceramic material may be quartz, aluminum oxide, calcium fluoride or yttrium oxide.
  • the first insulating substrate 30S-1 may be transparent glass having heat resistance.
  • the first insulating substrate 30S-1 may be a combination such as a laminated structure of the glass and the ceramic.
  • 'transparent' means that the transmittance of visible light is completely transparent or translucent within the range of 30% to 99%, and preferably sufficient to see the interior 10 of the cabinet housing 10. It means the transmittance of the degree.
  • the planar heating layer 30HT is formed on the side facing the inside of the cabinet housing 10 of the first insulating substrate 30S-1, to achieve stability in use, and to planar heating layer from the external environment. (30HT) can be protected.
  • the planar heating layer 30HT may include a conductive thin film, and the conductive thin film is a resistive film capable of generating heat within a range of 80 ° C to 600 ° C by the flow of current. Considering the nominal power range of the home, the surface resistance of the planar heating layer 30HT may be in the range of 5 ⁇ / ⁇ to 50 ⁇ / ⁇ .
  • the planar heating layer 30HT may include a conductive metal oxide.
  • the conductive metal oxide may be spray pyrolysis deposition (hereinafter referred to as SPD), chemical vapor deposition (CVD), atomic layer vapor deposition (ALD) using a suitable precursor on the substrate 30S-1, or sputtering and thermal It may be formed by physical vapor deposition such as deposition.
  • the planar heating layer 30HT may coat a slurry of conductive particles such as carbon nanotubes (CNT), graphene, and fullerene on the first insulating substrate 30S-1 and heat-treat the same. It may be formed by a wet method. However, the wet method is difficult to uniformly apply and thick film, so that it is difficult to produce the opposite method, and thus, the vapor deposition method using the conductive metal oxide is preferable.
  • the SPD method forms a droplet containing a raw material compound as a precursor, and evaporation, high temperature reaction, thermal decomposition, reaction between a carrier gas and a precursor of the solvent contained in the droplet while the droplet is transferred through the droplet delivery flow path (for example, an oxidation or reduction reaction), involving at least one or two or more steps of formation of clusters and formation of gas molecules (in this specification, intermediate products of each reaction step are collectively referred to as gaseous precursors).
  • the vapor phase precursor is a vapor deposition apparatus in which a thin film is transferred to a first insulating substrate 30S-1, which is a target object heated to a film formation temperature in advance.
  • the delivery of the precursor may be accomplished via ultrasonic spraying, spray spraying or vaporization.
  • the conductive metal oxide may include, for example, indium oxide (InO 2 ), tin oxide (SnO 2 ), indium tin oxide (ITO), or zinc oxide (ZnO).
  • the planar heating layer 30HT includes a base metal such as boron (B), fluorine (F) or chlorine (Cl), a metal such as aluminum (Al), or magnesium (Mg) in addition to the constituent material forming the main matrix.
  • a metalloid such as Si) may be doped.
  • the conductive metal oxide is a transparent heating layer, and may include tin oxide (FTO) doped with fluorine having a low resistance and high transmittance.
  • FTO tin oxide
  • the FTO film can obtain a high transparency, high quality heat generating layer by atmospheric pressure CVD or SPD.
  • the FTO membrane has scratch resistance, abrasion resistance and moisture resistance, its application is preferable.
  • the precursor solution for forming the FTO film is SnCl 4 ⁇ 5H 2 O, (C 4 H 9 ) 2 Sn (CH 3 COO) 2 , (CH 3 ) 2 SnCl 2 , or (C 4 H 9 ) 3 as a tin precursor.
  • the dopant fluorine precursor compounds such as NH 4 F, CF 3 Br, CF 2 Cl 2 , CH 3 CClF 2 , CF 3 COOH, or CH 3 CHF 2 can be used.
  • These precursors may be mixed with distilled water or alcohol to have a predetermined weight ratio F / Sn to prepare a liquid raw material, and then droplets may be generated.
  • the FTO film can be formed by maintaining the temperature of the substrate 30S-1, which is the workpiece, at 400 ° C to 600 ° C, and spraying the gas phase precursor onto the substrate 30S-1.
  • the FTO film has a transmittance of 80% or more in the visible light band and enables stable heating from about 80 ° C. to about 600 ° C.
  • the high-temperature heating characteristics of FTO are superior to carbon-based heating elements using graphene, carbon nanotubes, or carbon fibers, and the FTO has a small thermal mass, so that not only at low temperature of 5 ° C / min but also at high temperature of 30 ° C / min Stable heating characteristics can be maintained even at an elevated temperature.
  • using the FTO provides a fabric processing apparatus having durability and long life even in a high temperature and high humidity environment in a textile processing apparatus that a conventional carbon-based heating body cannot implement. Can be.
  • the electrode patterns 30E1 and 30E2 are formed on the planar heating layer 30HT, preferably on the transparent planar heating layer.
  • the electrode patterns 30E1 and 30E2 may be metal films such as aluminum or copper or composite materials such as conductive oxides or nitrides.
  • the electrode patterns 30E1 and 30E2 may be formed between the first insulating substrate 30S-1 and the planar heating layer 30HT, but the present invention is not limited thereto.
  • the electrode patterns 30E1 and 30E2 are not limited to those arranged in the horizontal direction as shown in FIG. 2A, and may be arranged in the vertical direction or a combination of the horizontal and vertical patterns.
  • the heat of resistance is radiated onto the fabric inside the cabinet housing (see 10 in FIG. 1A) in a radiant manner to heat the fabric.
  • a protective layer for moisture proof or antifouling may be further formed on the planar heating layer 30HT on which the electrode patterns 30E1 and 30E2 are formed.
  • the protective layer may be a transparent metal oxide such as magnesium oxide (MgO), but the present invention is not limited thereto.
  • the heat source by the planar heating layer 30HT according to the embodiment of the present invention unlike the treatment by the high temperature steam, the high temperature and high pressure caused by the supply of water required for steam use, secondary contamination of the fabric by steam obtained from contaminated water or steam generation Additional facilities such as hermetic devices are not required, so there is no hassle in use, such as water supply, hygiene is desirable, and the high temperature and high pressure hermetic devices are not required, so stability can be improved.
  • planar heating layer 30HT can not only stably raise the temperature in a short time due to the characteristics of the resistive thin film, but also perform heat treatment by a radiation method, so that a high temperature requiring a large amount of heat and time to raise the temperature of boiling specific heat Unlike steam, thermal efficiency and processing time are fast.
  • the surface heating layer (30HT) using the FTO self-limiting the temperature rise at a high temperature is improved stability.
  • planar heating layer 30HT has an advantage of enabling uniform heating over the entire area toward the inside of the cabinet housing.
  • planar heating plate when the planar heating plate is provided on two or more sides of the cabinet housing 10, there is an advantage that a heating zone of uniform temperature may be provided between the planar heating plates facing each other.
  • a dielectric buffer layer 30BF may be provided between the first insulating substrate 30S-1 and the planar heating layer 30HT.
  • the dielectric buffer layer 30BF may not only improve the bonding force between the first insulating substrate 30S-1 and the planar heating layer 30HT, but also may increase the planar heating layer (i) from the first insulating substrate 30S-1 during high temperature use.
  • 30HT serves to prevent mechanical and / or electrical deterioration of the planar heating layer 30HT due to impurities diffused into the 30HT.
  • an alkali metal such as sodium (Na) or potassium (K) is released from the soda-lime glass by heat generation by the surface heating layer 30HT. Ions may diffuse into the planar heating layer 30HT, and cracks or peeling may occur in the planar heating layer 30HT by these ions.
  • the dielectric buffer layer 30BF is silicon oxide (SiO 2 ), ceria (CeO 2 ), aluminum oxide (Al 2 O 3 ) manganese oxide (MnO 2 ), iron oxide (Fe 2 O 3 ), magnesium oxide It may include at least one of (MgO) and titanium oxide (TiO 2 ).
  • the dielectric buffer layer 30BF may be formed by, for example, a liquid phase method.
  • the transparent dielectric buffer layer of SiO 2 may be a silicon precursor such as tetraethyl silicate ((C 2 H 5 ) 4 SiO 4 ) as a starting material and an alcohol for dispersion thereof.
  • the alcohol-based solvent may be formed by using a liquid raw material including a solvent such as ethyl alcohol, methyl alcohol, glycerol, propylene glycol, isopropyl alcohol, isobutyl alcohol, polyvinyl alcohol, cyclohexanol and octyl alcohol.
  • a solvent such as ethyl alcohol, methyl alcohol, glycerol, propylene glycol, isopropyl alcohol, isobutyl alcohol, polyvinyl alcohol, cyclohexanol and octyl alcohol.
  • This relatively small, non-toxic ethyl alcohol may be further mixed with water or distilled water, and the concentration of the silicon precursor in the liquid solvent may be in the range of 0.1 to 0.4 mol%.
  • nitric acid may be further added as a catalyst in the liquid solvent.
  • the nitric acid catalyst may promote the oxidation reaction of silicon in the liquid phase method to improve the deposition rate of the dielectric buffer layer 30BF of SiO 2 .
  • the molar concentration of nitric acid in the liquid raw material may be about 0.1 mol% to 5 mol%.
  • the transparent dielectric buffer layer of SiO 2 may be formed by immersing a glass substrate in the liquid raw material, coating the liquid raw material on the glass substrate, drying and sintering the liquid raw material.
  • the speed of immersing the glass substrate in the liquid raw material may be performed within a range of about 1 cm / min to about 10 cm / min.
  • the thickness of the dielectric buffer layer 30BF can be achieved by adjusting the concentration of the silicon precursor, eg, tetraethyl silicon oxide, in the liquid solution. As the concentration of the silicon precursor increases, the thickness of the transparent dielectric buffer layer 30BF formed increases.
  • the molar concentration of the silicon precursor in the liquid raw material may be selected in the range of about 0.1 to 0.4 mol%.
  • the average thickness of the dielectric buffer layer 30BF preferably the transparent dielectric buffer layer of SiO 2 , is in the range of 60 nm to 120 nm.
  • the average thickness of the transparent dielectric buffer layer of SiO 2 is less than 60 nm, it does not block diffusion of the alkali metal ions, and when it exceeds 120 nm, the transparent conductive layer 30HT of the FTO deposited thereon and the coefficient of thermal expansion Due to the difference, cracks may occur in the planar heating layer 30HT, resulting in a defect.
  • the average thickness of the dielectric buffer layer 30BF preferably the transparent dielectric buffer layer of SiO 2
  • the functional layer 30AF may be further formed on a surface opposite to one surface of the first insulating substrate 30S-1 on which the planar heating layer 30HT is formed.
  • the functional layer 30AF may be a reflective layer.
  • the reflective layer may provide a mirror surface with respect to the outside of the cabinet housing. For example, when the planar heating plate 30 'provided in the cabinet housing 10 of the fabric processing apparatus 100' includes the reflective layer, as shown in FIG. 2B, the user may have the planar heating plate 30 having the reflective layer. ') Can be used as a mirror to maximize space utilization of the fabric processing apparatus 100'.
  • the functional layer 30AF may be a heat dissipation layer for blocking heat radiated from the planar heating layer 30HT to the outside of the cabinet housing to improve thermal efficiency.
  • the heat dissipation layer may be a thin film layer of metal or metal oxide.
  • the heat dissipation layer transmits visible light to the inside of the cabinet housing from the outside and blocks the infrared region to have a heat dissipation effect.
  • the metal may be silver (Ag), titanium (Ti), stainless, or a mixture thereof, and the metal oxide may be tin oxide.
  • the functional layer 30AF may be a heat insulating layer.
  • the heat insulating layer may be a resin or a glass substrate that can provide a double structure by providing an air layer between the heat resistant resin, the glass substrate, or the first insulating substrate 30S-1.
  • the heat insulation layer may prevent the risk of burns when the user contacts the planar heating plate 30.
  • the above-described embodiments of the functional layer 30A may have a laminated structure in which two or more of them are combined with each other.
  • FIG. 3 illustrates a fabric processing apparatus 200 according to another embodiment of the present invention.
  • the fabric processing apparatus 200 may further include a humidity sensor 41 for measuring humidity inside the cabinet housing (see 10 of FIG. 1A).
  • the humidity sensor 41 may be coupled to an inner wall of the cabinet housing 10 or to a cover frame (see 20 in FIG. 1B) that enters into the cabinet housing 10.
  • the controller (30CC of FIG. 2A) may perform power control of the planar heating plate based on the signal received from the humidity sensor 41. For example, when the humidity is higher than the humidity set based on the signal obtained from the humidity sensor 41, power may be further supplied to increase the temperature or the amount of heat supplied inside the cabinet housing 10. On the contrary, it is determined that the fabric treatment is completed, the control unit may block the power supply to the planar heating plate.
  • the fabric processing apparatus 200 may further include an ultrasonic humidifying device 42 for supplying moisture into the cabinet housing 10.
  • the ultrasonic humidifier 42 is preferable to the steam apparatus in that it does not require airtightness of high temperature and high pressure, and the moisture supplied to the fabric by the humidification of the fabric is softened and finally dried by the planar heating plate.
  • the ultrasonic humidifier 42 is shown as being coupled to the inner sidewall of the cabinet housing 10, but this is illustrative, and the ultrasonic humidifier 42 is coupled to the upper wall of the interior of the cabinet housing 10 and directed downward. Spraying may also be promoted.
  • the ultrasonic humidifier 42 may be coupled to the top or side of the lid frame 20.
  • the fabric processing apparatus 200 may further include a fragrance apparatus 43 for framing the fabric to be treated.
  • the fragrance apparatus 43 may remove or smell the smell soaked in the fabric to refresh the fabric.
  • the fragrance apparatus 43 is also shown coupled to the inner sidewall of the cabinet housing 10, but this is illustrative, and the fragrance apparatus 43 may be coupled to an upper wall of the interior of the cabinet housing 10. In another example, the fragrance apparatus 43 may be coupled to the top or side of the cover frame 20.
  • the fabric processing apparatus 200 may further include a sterilization apparatus 44 for sterilizing the fabric to be treated.
  • the disinfection device 44 may be a device for supplying a disinfectant into the cabinet housing 10 by spraying or vaporizing, or may be an ultraviolet lamp, or may be provided inside the cabinet housing 10.
  • the fabric processing apparatus 200 may further include at least one granular heat generating portion 45 for improving the condition of the fabric, such as a handkerchief, socks, or shoes.
  • the granular heating units 45a and 45b may have a plate-shaped strip structure 45P1 or a curved pillar structure 45P2.
  • the plate-like strip structure 45P1 shows the formation of the above-described heating layer on the glass or ceramic substrate of the plate-like strip structure.
  • the plate-like strip structure 45P1 is suitable for mounting a handkerchief or a towel to improve its condition.
  • the curved surface is not limited to the illustrated plate, but may be a convex sphere or ellipsoid, and may have a structure suitable for insertion into a sock or shoe.
  • the above-described heating layer may be formed on an insulator formed of the curved pillar structure 45P2, and thus manufactured.
  • FIG. 5 is a perspective view showing a fabric processing apparatus 300 according to another embodiment of the present invention.
  • the fabric processing apparatus 300 includes a cabinet housing 10 ′ having an opening 10H on at least one side.
  • Cabinet housing 10 ′ may include an outlet (not shown) for external discharge of vapor or odor molecules that may be generated during processing of the fabric.
  • the outlet can be disposed above the cabinet housing 10 '.
  • the outlet may be fitted with a suitable dust and / or antimicrobial filter to prevent direct release of steam or odors.
  • the air inlet may be provided in the cabinet housing 10 '.
  • the air inlet is for assisting the air flow inside the housing during the processing of the fabric through the inflow of outside air, and a fan and / or a suitable air filter may be combined.
  • the air inlet may be provided on any side, bottom or top surface of the cabinet housing 10 ', but the present invention is not limited thereto.
  • Appropriate restricting devices may be placed so that the drawer frame 22 'is not completely separated from the cabinet housing 10' when withdrawing the drawer frame 22 'from the opening 10H of the cabinet housing 10'.
  • the drawer frame 22 ' may be equipped with a fabric to be treated, and a hanger member 23 may be provided for this purpose.
  • the drawer frame 22 ' may have one mounting space up and down as shown, but the present invention is not limited thereto.
  • the drawer frame 22 ′ may have a multi-stage structure, and each stage may independently enter and exit through the opening 10H of the cabinet housing 10.
  • the multi-stage structure may also be comprised of breathable walls.
  • the door frame 21 ' is coupled to the cabinet housing 10'.
  • the door frame 21 ' may be coupled to the cabinet housing 10' in a hinged manner.
  • the side surface of the door frame 21 ' may be provided with a planar heating plate 30 that radiates heat toward the fabric to be treated.
  • a planar heating plate 30 may also be provided on the side surface 10S1, the opposing side surface, the rear surface, the upper surface, or the bottom surface of the cabinet housing 10 ′, thereby forming a three-dimensional heating system of two or more surfaces.
  • a user interface module may be provided on the door frame 21 ′, which is electrically connected to the control unit to provide heating, humidification, deodorization, sterilization and fragrance inside the cabinet housing 10. Allow time or intensity control for at least one.
  • the user interface module may include a suitable user input and a display for displaying it.
  • a speaker or a light emitting system may be further provided to the user to visually or visually recognize the processing of the fabric.
  • the door frame 21 'coupled to the cabinet housing 10' is opened and the cabinet housing 10 ' After completely entering the interior, the fabric processing process can be prepared by closing the door frame 21 '.
  • the fabric processing apparatus 300 is an ultrasonic humidifying apparatus 42, a fragrance apparatus 43, and a sterilizing apparatus 44 as an auxiliary apparatus for improving the condition of the fabric. ) May have at least one.
  • the fabric processing apparatus 300 may further include at least one or more granular heat generating units (see 45 in FIG. 3) for improving the condition of the fabric, such as a handkerchief, socks, or shoes.
  • the granular heat generating unit may have a plate-shaped strip structure 45P1 or a curved pillar structure 45P2.
  • FIG. 6 is a perspective view showing a fabric processing apparatus 300 according to another embodiment of the present invention.
  • 6A is a cross-sectional view showing a laminated structure of the planar heating plate 30 according to another embodiment of the present invention
  • FIG. 6B is a cross-sectional view showing a detailed laminated structure of an embodiment of the planar heating plate 30 shown in FIG. 6A
  • 6C is a cross-sectional view showing a detailed laminated structure of another embodiment of the planar heating plate 30 shown in FIG. 6A.
  • the fabric processing apparatus has an cabinet housing 10 having an opening on at least one side and a planar heating plate that radiates heat toward the fabric to be treated on at least the other side, through the opening of the cabinet housing 10. And a control unit for power control of the cover frame 20 and the planar heating plate 30 to open and close the opening.
  • the planar heating plate 30 is formed on the conductive planar heating layer 30HT and the planar heating layer 30HT formed on one surface of the first insulating substrate 30S-1 and the first insulating substrate 30S-1. It is formed to include the electrode patterns (30E1, 30E2) for applying a current.
  • the display element layer 30DEF is present on the opposite surface of the first insulating substrate 30S-1 of the planar heating plate 30 instead of the functional layer 30AF described above.
  • the display element layer 30DEF is laminated on the opposite side of the first insulating substrate 30S-1 of the planar heating plate 30 and visually shows the fabric to be processed in the cabinet housing 10 transmitted through the planar heating plate 30. Or to display the information.
  • the display element layer 30DEF is a thermo-chromic layer 30THC stacked on the first insulating substrate 30S-1 and a second insulating substrate stacked on the thermochromic layer 30THC. 30S-2.
  • the color of the thermochromic layer 30THC may change according to a temperature change caused by the heat generation of the planar heating plate 30.
  • current I flows through the planar heating layer 30HT, so that the resistance heat is transferred to the entire surface of the planar heating layer 30HT. Will occur over time.
  • the thermochromic layer 30THC develops color due to its inherent properties. As color development changes with temperature, various designs can be displayed on the surface of the cabinet housing 10 of the fabric processing apparatus.
  • thermochromic layer 30THC includes a material of any one of vanadium dioxide (VO 2 ), titanium (III) oxide (Ti 2 O 3 ), niobium oxide (NbO 2 ), and nickel sulfide (NiS). can do.
  • the thermochromic layer 30THC includes molybdenum (Mo), tungsten (W), niobium (Nb), tantalum (Ta), iron (Fe), aluminum (Al), titanium (Ti), tin (Sn), And a dopant including at least one material of nickel (Ni).
  • the thermochromic layer 30THC may be formed by sputtering coating of the thermochromic material on the first insulating substrate 30S-1.
  • Thermochromic material is a material whose crystal structure changes due to a thermochromic phenomenon that is phase-transformed at a specific temperature (phase transition temperature), and thus the physical properties (electrical conductivity, infrared transmittance, etc.) change rapidly. It has a characteristic that the transmittance and reflectance of the near infrared ray change. Accordingly, the thermochromic layer 30THC prevents the inflow of thermal energy by blocking infrared rays in the high temperature summer, and reduces the cooling load and transmits infrared rays in the low temperature winter, thereby reducing the heating load. There is also. By doping the thermochromic material, the phase transition temperature of the thermochromic material can be controlled, and in general, the higher the doping ration of the dopant, the lower the phase transition temperature of the thermochromic material.
  • the second insulating substrate 30S-2 is stacked on the surface opposite to the stacking surface of the thermochromic layer 30THC stacked on the first insulating substrate 30S-1, and the thermochromic layer 30THC is stacked. It shows the color development of.
  • the second insulating substrate 30S-2 is an insulator and may include glass or ceramic material capable of high temperature operation.
  • the glass may be soda lime glass, heat resistant glass, tempered glass, crystallized glass or two or more laminated materials thereof.
  • the ceramic material may be quartz, aluminum oxide, calcium fluoride or yttrium oxide.
  • the second insulating substrate 30S-2 may have a transmittance of a visible light region for viewing the inside of the cabinet housing 10.
  • the second insulating substrate 30S-2 may be transparent glass having heat resistance.
  • the second insulating substrate 30S-2 may be a combination such as a laminated structure of the glass and the ceramic.
  • the second insulating substrate 30S-2 may be replaced by a protective film for protecting the thermochromic layer 30THC, not simply a glass or ceramic material.
  • a protective film may be a film of a transparent material that is durable despite the heat generation and color development of the thermochromic layer 30THC.
  • the display element layer 30DEF is present on the opposite side of the first insulating substrate 30S-1 of the planar heating plate 30, and as a component constituting the display element layer 30DEF, in FIG. 6B.
  • a third insulating substrate 30S-3 is further included.
  • the material of the third insulating substrate 30S-3 is similar to that of the second insulating substrate 30S-2.
  • the third insulating substrate 30S-3 is present between the first insulating substrate 30S-1 and the thermo-chromic layer 30THC.
  • the thermo-chromic layer 30THC is stacked on the third insulating substrate 30S-3.
  • the third insulating substrate 30S-3 may be bonded to the first insulating substrate 30S-1.
  • a transparent adhesive material or a transparent adhesive may be used for bonding bonding of the third insulating substrate 30S-3 and the first insulating substrate 30S-1.
  • the third insulating substrate 30S-3 may form a gap with the first insulating substrate 30S-1, that is, a predetermined gap.
  • a spacer 30SP is formed between the third insulating substrate 30S-3 and the first insulating substrate 30S-1 to form a gap AG.
  • the material of the spacer 30SP aluminum, zinc alloy steel, FRP, etc. may be used, such as a welding spacer bar (welding bar) applying a high frequency welding method and an insulating spacer maximizing insulation.
  • a foam spacer such as a silicone material and an absorbent material mixture and a resin series may be used.
  • the position of the spacer 30SP shown in FIG. 6C is merely exemplary and may be present at various positions between the third insulating substrate 30S-3 and the first insulating substrate 30S-1, as necessary.
  • FIG. 6D is a cross-sectional view showing a detailed laminated structure of another embodiment of the planar heating plate 30 shown in FIG. 6A
  • FIG. 6E is a detailed laminated structure of another embodiment of the planar heating plate 30 shown in FIG. 6A. It is a cross-sectional view.
  • the display element layer 30DEF described above is present on the opposite surface of the first insulating substrate 30S-1 of the planar heating plate 30.
  • the display element layer 30DEF is laminated on the opposite surface of the first insulating substrate 30S-1 of the planar heating plate 30.
  • the display element layer 30DEF is the electro-chromic layer 30ELC stacked on the first insulating substrate 30S-1 and the fourth insulating substrate stacked on the electrochromic layer 30ELC. 30S-4.
  • the electrochromic layer 30ELC may be colored by the voltage difference applied thereto.
  • the electrochromic layer 30ELC may include an electrochromic material, a pair of electrodes for voltage application, an electrolyte, and the like.
  • the electrochromic material may include a dye material, a polymer material, a metal oxide material, a conductive material, and the like.
  • pigment-based materials and polymer-based materials azobenzene-based, anthraquinone-based, diarylethene-based, dihydroprene-based, dipyridine-based, styryl-based, styrylspiropyranic, spirooxazine-based, spirothiopyran-based and thio-based Indigoid series, tetrathiafulbarene series, terephthalic acid series, triphenylmethane series, triphenylamine series, naphthopyran series, viologen series, pyrazoline series, phenazine series, phenylenediamine series, phenoxazine series, phenothiazine series, Phthalocyanine-based, fluoranthene-based, full-gid-based, benzo
  • the metal oxide-based material may include tungsten oxide, molybdenum oxide, iridium oxide, indium oxide, titanium oxide, nickel oxide, vanadium oxide, and Prussian blue.
  • the conductive material titanium oxide, zinc oxide, tin oxide, zirconium oxide, cerium oxide, yttrium oxide, boron oxide, magnesium oxide, strontium titanate, potassium titanate, barium titanate, calcium titanate, calcium oxide, Ferrite, hafnium oxide, tungsten oxide, iron oxide, copper oxide, nickel oxide, cobalt oxide, barium oxide, strontium oxide, vanadium oxide and aluminosilicate, and the like.
  • This electrochromic layer 30ELC may comprise electrodes, and by applying a voltage to these electrodes, the electrochromic layer is developed.
  • the material of the electrode is not particularly limited as long as it is a material having conductivity, and since it is necessary to maintain the light transmittance, a transparent electrode containing a transparent material is used.
  • the material of the transparent electrode is not particularly limited, and tin-doped indium oxide, fluorine-doped tin oxide, antimony-doped tin oxide, or the like is used.
  • the electrodes of the electrochromic layer 30ELC may have a matrix array structure such as an active matrix or a passive matrix for realizing dynamic image information, as is well known in the display field.
  • the electrode may have a specific structure in a suitable shape, pattern, or arrangement of the conductive film.
  • the electrochromic layer 30ELC may have a structure in which an organic electrochromic compound is supported on conductive or semiconducting fine particles. Ultrafine particles are sintered on the electrode surface, and the organic electrochromic compound which has polar groups, such as a silanol group, a carboxyl group, and a phosphonic acid, is made to adsorb
  • This structure utilizes a strong surface area effect of ultra-fine particles, so that electrons are efficiently injected into the organic electrochromic compound, so that the color development density is high, and the color development and discoloration speed are high.
  • a transparent membrane can also be formed as a display layer using ultra fine particles, a high white reflectance can also be obtained.
  • a plurality of types of organic electrochromic compounds may be supported on the conductive or semiconductive fine particles.
  • the electrochromic layer 30ELC may include an electrolyte and transfer charges by moving ions between the electrodes, thereby causing a color reaction.
  • electrolyte material inorganic ionic salts such as alkali metal salts and alkaline earth metal salts, quaternary ammonium salts or acids and supporting salts of alkalis can also be used. More specifically, LiClO4, LiBF4, LiAsF6, LiPF6, LiCF3SO3, LiCF3COO, KCl, NaClO3, NaCl, NaBF4, NaSCN, KBF4, Mg (ClO4) 2, Mg (BF4) 2 and the like may be included. Ionic liquids can also be used. More specifically, the organic ionic liquid has a molecular structure exhibiting a liquid phase in a wide temperature range including room temperature.
  • the fourth insulating substrate 30S-4 is stacked on the surface opposite to the stacking surface of the electrochromic layer 30ELC stacked on the first insulating substrate 30S-1, and the electrochromic layer 30ELC is stacked. It shows the color development of.
  • the fourth insulating substrate 30S-4 is an insulator and may include glass or ceramic material capable of high temperature operation.
  • the glass may be soda lime glass, heat resistant glass, tempered glass, crystallized glass or two or more laminated materials thereof.
  • the ceramic material may be quartz, aluminum oxide, calcium fluoride or yttrium oxide.
  • the fourth insulating substrate 30S-4 may have a transmittance of a visible light region for viewing the inside of the cabinet housing 10.
  • the fourth insulating substrate 30S-4 may be transparent glass having heat resistance.
  • the fourth insulating substrate 30S-4 may be a combination such as a laminated structure of the glass and the ceramic.
  • the fourth insulating substrate 30S-4 may be replaced with a protective film for protecting the electrochromic layer 30ELC, not simply a glass or ceramic material.
  • a protective film may be a film of a transparent material that is durable despite the heat generation and color development of the electrochromic layer 30ELC.
  • a display element layer 30DEF is present on the opposite side of the first insulating substrate 30S-1 of the planar heating plate 30, and as a component constituting the display element layer 30DEF, FIG. 6D.
  • a fifth insulating substrate 30S-5 is further included. The material of the fifth insulating substrate 30S-5 is similar to that of the fourth insulating substrate 30S-4.
  • the fourth insulating substrate 30S-5 is present between the first insulating substrate 30S-1 and the electrochromic layer 30ELC.
  • the electrochromic layer 30ELC is laminated on the fifth insulating substrate 30S-5.
  • the fifth insulating substrate 30S-5 may be bonded to the first insulating substrate 30S-1.
  • a transparent adhesive material or a transparent adhesive may be used.
  • the fifth insulating substrate 30S-5 may form a predetermined gap AG, that is, a predetermined spaced distance from the first insulating substrate 30S-1.
  • a spacer 30SP is formed between the fifth insulating substrate 30S-5 and the first insulating substrate 30S-1 to form a gap AG.
  • the material of the spacer 30SP is disclosed during the description of FIG. 6C described above. Since a gap is formed between the fifth insulating substrate 30S-5 and the first insulating substrate 30S-1, an air layer may be formed to obtain a heat insulating effect that minimizes heat loss.
  • the above-described user interface module 11 displays input of control information for color development of the display element layer 30DEF and corresponding display information. That is, the user interface module 11 may receive a power control command for generating heat of the fabric processing apparatus 100 or a control command for color development, and display the result according to the input control command as display information.
  • the user interface module 11 may include a user input unit capable of receiving a command for time or intensity control for color development and a display unit for displaying the same.
  • the controller (30CC in FIG. 2A) controls the power and time applied to the planar heating plate 30 based on the control information received from the user interface module 11, and the humidification device, the smell diffusion device, the antibacterial device, or the granular heat generation to be described later.
  • control unit 30CC of FIG. 2A is connected to the electrochromic layer 30ELC.
  • the display element layer 30DEF is allowed to develop.
  • the fabric processing apparatus having an opening on at least one side; A drawer frame entering and exiting through the opening of the cabinet housing; A door frame including a planar heating plate which opens and closes the opening of the cabinet housing and heat radiates toward the fabric to be treated; And a display element layer laminated on the planar heating plate and visually obscuring the fabric to be processed in the cabinet housing transmitted through the planar heating plate, or for displaying information.
  • a control unit for power control of the planar heating plate wherein the planar heating plate is formed on a first insulating substrate, a conductive planar heating layer formed on one surface of the first insulating substrate, and the planar heating layer to apply current. It may include electrode patterns for.
  • the characteristics of the cabinet housing, the drawer frame, the door frame, the control unit, and the planar heating plate correspond to the contents described with reference to FIGS. 1A through 5, and the features of the display element layer are described with reference to FIGS. 6A through 6E. In this regard, detailed description is omitted.
  • FIG. 7 is a reference diagram illustrating an image state colored in the cabinet housing 10 of the fabric processing apparatus according to the operation of the display element layer 30DEF. Since the display element layer 30DEF having the thermochromic layer 30THC is colored according to the temperature change according to the fabric processing operation of the fabric processing apparatuses 100 and 100 ', the fabric processing apparatuses 100 and 100' Allows the interior of the image to be hidden or allows the image to appear in color. Therefore, the display element layer 30DEF having the thermochromic layer 30THC may be colored depending on temperature change according to the fabric processing operation of the fabric processing apparatuses 100 and 100 '.
  • the electrochromic layer 30ELC may be driven according to a user's selection. Can be. Accordingly, the internal appearance of the fabric processing apparatuses 100 and 100 'is blocked by the driving of the electrochromic layer 30ELC, or an image due to color development can be displayed. Accordingly, the electrochromic layer 30ELC may be independently colored by applying power regardless of the fabric processing operation of the fabric processing apparatuses 100 and 100 '.
  • the fabric processing apparatus may be provided to be integrated with the room in a built-in manner or movably installed as an independent household appliance, but the present invention is not limited thereto.
  • the present invention can be used in the industry for improving conditions such as drying, unwrinkling, deodorization, or smoothing of fabrics such as garments or socks.

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Textile Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Resistance Heating (AREA)

Abstract

The present invention relates to a textile processing device for improving the condition of a textile, such as clothes or socks, through drying, wrinkle removal, deodorization, or smoothing, for example. A textile processing device according to an embodiment of the present invention may comprise: a cabinet housing, which has an opening on at least one side surface thereof, and which has a planar heat-emitting plate at least on another side surface thereof so as to radiate heat towards the textile to be treated; a cover frame which moves in/out via the opening of the housing, thereby opening/closing the opening; and a control unit for controlling power of the planar heat-emitting plate.

Description

직물 처리 장치Textile processing unit
본 발명은 직물 처리 장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는, 의복 또는 양말과 같은 직물의 건조, 주름 펴기, 소취, 또는 스무딩과 같은 컨디션을 향상시키기 위한 직물 처리 장치에 관한 것이다.TECHNICAL FIELD The present invention relates to a textile processing apparatus, and more particularly, to a textile processing apparatus for improving conditions such as drying, unwrinkling, deodorization, or smoothing of a fabric such as a garment or a sock.
의복, 넥타이 또는 양말과 같이 착용한 직물의 착용 후 또는 세탁 후에 냄새, 구김, 또는 뻣뻣함을 제거하여, 상기 직물의 컨디션을 복원 또는 향상시키는 다양한 장치와 방법이 있다. 빨래 건조기와 다리미가 그 대표적인 예이다.There are a variety of devices and methods that remove odors, wrinkles, or stiffness after wearing or washing a worn fabric, such as a garment, tie, or sock, to restore or improve the condition of the fabric. Clothes dryers and irons are two examples.
상용의 빨래 건조기는 세탁기에 필적할만한 크기를 갖거나 세탁기에 겸용되어 큰 부피를 차지하거나, 간단히 의복이나 양말을 처리하기에는 그 비용, 효과가 충분하지 못한 문제가 있다. 또한, 전용 빨래 건조기가 아닌 세탁기 겸용 건조기의 경우에는, 세탁조에서 구김없이 빠른 건조를 시키기가 어렵고, 세탁조의 비위생적 상태에서 직물의 소취와 컨디션 향상은 어려울 수 있다.Commercial laundry dryers have a size comparable to that of a washing machine or are combined with a washing machine to occupy a large volume, or have a problem in that its cost and effectiveness are not sufficient to simply process clothes or socks. In addition, in the case of a washing machine combined dryer other than the dedicated laundry dryer, it is difficult to dry quickly in the washing tank without wrinkles, and it may be difficult to deodorize and improve the condition of the fabric in an unsanitary state of the washing tank.
따라서, 세탁 이후나 의복의 착용 후 직물의 컨디션을 복원 또는 향상시킬 수 있는 전용 처리 장치는 바람직하다. 이러한 전용 처리 장치는 별도의 공간을 차지하는 것이기 때문에 뛰어난 공간 활용성을 갖고, 처리시 고효율을 달성하여 신속하고 분명한 효과를 달성할 수 있다면, 사용자 편의성이 극대화될 수 있을 것으로 예측된다.Therefore, a dedicated treatment apparatus capable of restoring or improving the condition of the fabric after washing or after wearing the garment is desirable. Since such a dedicated processing device occupies a separate space, it is expected that user convenience may be maximized if it has excellent space utilization and can achieve high efficiency in processing to achieve a quick and clear effect.
본 발명이 해결하고자 하는 기술적 과제는, 착용되거나 사용된 직물 또는 세탁 후 직물의 컨디션을 향상시키기 위한 직물 처리 장치에 관한 것으로서, 공간 활용성이 우수하고, 빠른 시간 내 직물 처리가 가능하고, 사용자 편의성이 향상된 직물 처리 장치를 제공하는 것이다.The technical problem to be solved by the present invention relates to a fabric processing apparatus for improving the condition of worn or used fabrics or fabrics after washing, excellent space utilization, fast fabric processing and user convenience It is to provide an improved fabric processing apparatus.
상기 기술적 과제를 해결하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 직물 처리 장치는, 적어도 일 측면에 개구를 갖고, 적어도 타 측면에 처리될 직물을 향하여 열 복사하는 면상 발열판을 갖는 캐비닛 하우징; 상기 하우징의 상기 개구를 통하여 출입하면서 상기 개구를 개폐하는 덮개 프레임; 및 상기 면상 발열판의 전력 제어를 위한 제어부를 포함한다. Fabric processing apparatus according to an embodiment of the present invention for solving the above technical problem, the cabinet housing having an opening on at least one side, the planar heating plate for heat radiation toward the fabric to be treated at least on the other side; A cover frame which opens and closes the opening while entering and exiting through the opening of the housing; And a controller for power control of the planar heating plate.
상기 면상 발열판은 제 1 절연성 기판, 상기 제 1 절연성 기판 상에 형성된 도전성의 면상 발열층 및 상기 면상 발열층 상에 형성되어 전류를 인가하기 위한 전극 패턴들을 포함할 수 있다. 상기 제 1 절연성 기판은 소다 라임 유리, 내열 유리, 강화 유리, 결정화 유리 또는 이의 2 이상의 적층 재료를 포함하는 유리; 석영, 알루미늄 산화물, 칼슘 불화물 또는 이트륨 산화물을 포함하는 세라믹; 중 어느 하나 또는 이의 조합을 포함할 수 있다. The planar heating plate may include a first insulating substrate, a conductive planar heating layer formed on the first insulating substrate, and electrode patterns formed on the planar heating layer to apply a current. The first insulating substrate may include a glass including soda lime glass, heat resistant glass, tempered glass, crystallized glass, or two or more laminated materials thereof; Ceramics including quartz, aluminum oxide, calcium fluoride or yttrium oxide; Any one or a combination thereof.
상기 제 1 절연성 기판 및 상기 면상 발열층은 상기 캐비닛 하우징 내부를 투시하기 위한 가시광선 영역의 투과도를 가질 수 있다. 상기 면상 발열층은 5 Ω/□ 내지 50 Ω/□의 범위 내의 표면 저항을 가질 수 있다.The first insulating substrate and the planar heating layer may have a transmittance of a visible light region for viewing the inside of the cabinet housing. The planar heating layer may have a surface resistance in the range of 5 Ω / □ to 50 Ω / □.
상기 면상 발열층은 인듐 산화물(InO2); 주석 산화물(SnO2); 인듐 주석 산화물(ITO); 아연 산화물(ZnO); 이들 산화물들 중 적어도 어느 하나를 주된 메트릭스로 하고, 상기 메트릭스에 비금속, 금속, 또는 준금속이 도핑된 재료 중 어느 하나 또는 이들의 혼합물을 포함할 수 있다. 상기 면상 발열층은 불소 도핑된 주석 산화물을 포함할 수 있다. 상기 면상 발열층은 탄소 나노튜브, 그래핀, 플러린, 및 탄소 섬유 중 어느 하나 또는 이들의 혼합물을 포함할 수 있다. 상기 면상 발열층은 상기 절연성 기판 상의 상기 캐비닛 하우징의 내부를 바라보는 측면에 형성될 수 있다. The planar heating layer is indium oxide (InO 2 ); Tin oxide (SnO 2 ); Indium tin oxide (ITO); Zinc oxide (ZnO); At least one of these oxides may be the main matrix, and the matrix may comprise any one or a mixture of materials doped with a base metal, metal, or metalloid. The planar heating layer may include fluorine-doped tin oxide. The planar heating layer may include any one or a mixture of carbon nanotubes, graphene, fullerene, and carbon fibers. The planar heating layer may be formed on a side facing the inside of the cabinet housing on the insulating substrate.
상기 제1 절연성 기판과 상기 면상 발열층 사이에 유전체 버퍼층을 포함할 수 있다. 상기 유전체 버퍼층은 실리콘 산화물(SiO2), 세리아(CeO2), 알루미늄 산화물(Al2O3) 망간 산화물(MnO2), 철 산화물(Fe2O3), 마그네슘 산화물(MgO) 및 타이타늄 산화물(TiO2) 중 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다.A dielectric buffer layer may be included between the first insulating substrate and the planar heating layer. The dielectric buffer layer may be formed of silicon oxide (SiO 2 ), ceria (CeO 2 ), aluminum oxide (Al 2 O 3 ) manganese oxide (MnO 2 ), iron oxide (Fe 2 O 3 ), magnesium oxide (MgO), and titanium oxide ( TiO 2 ) may include at least one.
상기 제1 절연성 기판의 상기 면상 발열층이 형성된 면의 반대면 상에, 반사층, 방열층, 단열층 또는 이들 중 2 이상의 적층 구조를 포함할 수 있다. The first insulating substrate may include a reflective layer, a heat dissipating layer, a heat insulating layer, or a laminated structure of two or more thereof on an opposite surface of the surface on which the planar heating layer is formed.
상기 덮개 프레임은, 상기 개구를 통하여 슬라이딩 방식으로 출입하고 상기 직물을 거치하는 본체 프레임; 및 상기 본체 프레임에 결합되어 상기 하우징의 상기 개구를 개폐하는 덮개부를 포함할 수 있다. 상기 본체 프레임은 다단 구조를 가질 수 있다. The cover frame includes a main frame for sliding in and out through the opening and mounting the fabric; And a cover part coupled to the body frame to open and close the opening of the housing. The body frame may have a multistage structure.
상기 직물 처리 장치의 제어에 관한 정보를 입력 및 출력하기 위한 사용자 인터페이스 모듈을 더 포함할 수 있다. 습도 센서, 초음파 가습 장치, 발향 장치 및 제균 장치 중 적어도 어느 하나를 더 포함할 수 있다. 상기 캐비닛 하우징 내부의 공기 흐름을 유도하는 공기 흐름 유도부를 더 포함할 수 있다. 적어도 하나 이상의 입상 발열부를 더 포함할 수 있다. 상기 입상 발열부는 판상 스트립 구조 또는 곡면 필라 구조를 포함할 수 있다.The apparatus may further include a user interface module for inputting and outputting information regarding the control of the fabric processing apparatus. It may further include at least one of a humidity sensor, an ultrasonic humidifier, a fragrance apparatus, and a sterilization apparatus. The apparatus may further include an air flow guide part for inducing air flow inside the cabinet housing. It may further include at least one granular heating unit. The granular heating part may include a plate-like strip structure or a curved pillar structure.
상기 기술적 과제를 해결하기 위한 본 발명의 다른 실시예에 따른 직물 처리 장치는, 적어도 일 측면에 개구를 갖는 캐비닛 하우징; 상기 캐비닛 하우징의 상기 개구를 통하여 출입하는 서랍 프레임; 상기 캐비닛 하우징의 상기 개구를 개폐하고, 상기 직물을 향하여 열 복사하는 면상 발열판을 포함하는 도어 프레임; 및 상기 면상 발열판의 전력 제어를 위한 제어부를 포함한다. Fabric processing apparatus according to another embodiment of the present invention for solving the above technical problem, cabinet housing having an opening on at least one side; A drawer frame entering and exiting through the opening of the cabinet housing; A door frame that opens and closes the opening of the cabinet housing and includes a planar heating plate that radiates heat toward the fabric; And a controller for power control of the planar heating plate.
상기 캐비닛 하우징 또는 상기 서랍 프레임에 설치되는 적어도 하나 이상의 입상 투명 발열부를 포함할 수 있다. 상기 면상 발열판은 제 1 절연성 기판, 상기 제 1 절연성 기판 상에 형성된 도전성의 면상 발열층 및 상기 면상 발열층 상에 형성되어 전류를 인가하기 위한 전극 패턴들을 포함할 수 있다.It may include at least one or more granular transparent heating unit installed in the cabinet housing or the drawer frame. The planar heating plate may include a first insulating substrate, a conductive planar heating layer formed on the first insulating substrate, and electrode patterns formed on the planar heating layer to apply a current.
상기 기술적 과제를 해결하기 위한 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 직물 처리 장치는, 적어도 일 측면에 개구를 갖고, 적어도 타 측면에 처리될 직물을 향하여 열 복사하는 면상 발열판을 갖는 캐비닛 하우징; 상기 면상 발열판 상에 적층되고, 상기 면상 발열판을 통해 투과되는 상기 캐비닛 하우징 내의 상기 처리될 직물을 시각적으로 가리거나, 정보를 표시하기 위한 디스플레이 소자 층; 상기 캐비닛 하우징의 상기 개구를 통하여 출입하면서 상기 개구를 개폐하는 덮개 프레임; 및 상기 면상 발열판의 전력 제어를 위한 제어부를 포함하고, 상기 면상 발열판은 제 1 절연성 기판, 상기 제 1 절연성 기판의 일면 상에 형성된 도전성의 면상 발열층 및 상기 면상 발열층 상에 형성되어 전류를 인가하기 위한 전극 패턴들을 포함한다.Fabric processing apparatus according to another embodiment of the present invention for solving the above technical problem, cabinet housing having an opening on at least one side, the planar heating plate for heat radiation toward the fabric to be treated at least on the other side; A display element layer laminated on the planar heating plate and for visually obscuring or displaying information on the fabric to be processed in the cabinet housing transmitted through the planar heating plate; A cover frame which opens and closes the opening while entering and exiting through the opening of the cabinet housing; And a control unit for power control of the planar heating plate, wherein the planar heating plate is formed on a first insulating substrate, a conductive planar heating layer formed on one surface of the first insulating substrate, and the planar heating layer to apply current. It includes electrode patterns for.
상기 디스플레이 소자 층은 상기 제 1 절연성 기판의 상기 일면과 반대되는 타면 상에 적층된 써모크로믹(thermo-chromic) 층 및 상기 써모크로믹 층 상에 적층되어 발색을 표시하는 제2 절연성 기판을 포함할 수 있다. 상기 디스플레이 소자 층은 상기 제 1 절연성 기판과 상기 써모크로믹 층 사이에 적층되는 제 3 절연성 기판을 더 포함할 수 있다. 상기 제 3 절연성 기판과 상기 제 1 절연성 기판 사이에 공극 형성을 위한 스페이서를 더 포함할 수 있다. 상기 제 3 절연성 기판은 상기 제 1 절연성 기판과 본딩 결합될 수 있다. The display device layer includes a thermo-chromic layer stacked on the other surface opposite to the one surface of the first insulating substrate and a second insulating substrate stacked on the thermochromic layer to display color. can do. The display device layer may further include a third insulating substrate stacked between the first insulating substrate and the thermochromic layer. The apparatus may further include a spacer for forming a gap between the third insulating substrate and the first insulating substrate. The third insulating substrate may be bonded to the first insulating substrate.
상기 제 2 절연성 기판 및 상기 제 3 절연성 기판 중 적어도 하나는 소다 라임 유리, 내열 유리, 강화 유리, 결정화 유리 또는 이의 2 이상의 적층 재료를 포함하는 유리; 석영, 알루미늄 산화물, 칼슘 불화물 또는 이트륨 산화물을 포함하는 세라믹; 중 어느 하나 또는 이의 조합을 포함할 수 있다. 상기 제 2 절연성 기판 및 상기 제 3 절연성 기판 중 적어도 하나는 상기 캐비닛 하우징 내부를 투시하기 위한 가시광선 영역의 투과도를 가질 수 있다. At least one of the second insulating substrate and the third insulating substrate may include glass including soda lime glass, heat resistant glass, tempered glass, crystallized glass, or two or more laminated materials thereof; Ceramics including quartz, aluminum oxide, calcium fluoride or yttrium oxide; Any one or a combination thereof. At least one of the second insulating substrate and the third insulating substrate may have a transmittance of a visible light region for viewing the inside of the cabinet housing.
상기 써모크로믹 층은 이산화바나듐(VO2), 산화티타늄(Ⅲ)(Ti2O3), 산화나이오븀(NbO2) 및 황화니켈(NiS) 중 어느 하나의 물질을 포함할 수 있다. 상기 써모크로믹 층은 몰리브덴(Mo), 텅스텐(W), 니오븀(Nb), 탄탈륨(Ta), 철(Fe), 알루미늄(Al), 타이타늄(Ti), 주석(Sn), 및 니켈(Ni) 중 적어도 하나의 물질을 포함하는 도펀트(dopant)가 도핑될 수 있다. 상기 써모크로믹 층은 상기 면상 발열판의 발열에 따른 온도 변화에 따라 발색이 변화될 수 있다. The thermochromic layer may include a material of any one of vanadium dioxide (VO 2 ), titanium (III) oxide (Ti 2 O 3 ), niobium oxide (NbO 2 ), and nickel sulfide (NiS). The thermochromic layer may include molybdenum (Mo), tungsten (W), niobium (Nb), tantalum (Ta), iron (Fe), aluminum (Al), titanium (Ti), tin (Sn), and nickel (Ni). Dopant containing at least one of the materials may be doped. The color of the thermochromic layer may be changed according to the temperature change caused by the heat generation of the planar heating plate.
상기 디스플레이 소자 층은 상기 제 1 절연성 기판의 상기 일면과 반대되는 타면 상에 적층된 일렉트로크로믹(electro-chromic) 층 및 상기 일렉트로크로믹 층 상에 적층되어 발색을 표시하는 제 4 절연성 기판을 포함할 수 있다. 상기 디스플레이 소자 층은 상기 제 1 절연성 기판과 상기 일렉트로크로믹 층 사이에 적층되는 제 5 절연성 기판을 더 포함할 수 있다. 상기 제 5 절연성 기판과 상기 제 1 절연성 기판 사이에 공극 형성을 위한 스페이서를 더 포함할 수 있다. 상기 제 5 절연성 기판은 상기 제 1 절연성 기판과 본딩 결합될 수 있다. The display element layer includes an electro-chromic layer stacked on the other surface opposite to the one surface of the first insulating substrate and a fourth insulating substrate stacked on the electrochromic layer to display color. can do. The display device layer may further include a fifth insulating substrate stacked between the first insulating substrate and the electrochromic layer. The semiconductor device may further include a spacer for forming a gap between the fifth insulating substrate and the first insulating substrate. The fifth insulating substrate may be bonded to the first insulating substrate.
상기 제 4 절연성 기판 및 상기 제 5 절연성 기판 중 적어도 하나는 소다 라임 유리, 내열 유리, 강화 유리, 결정화 유리 또는 이의 2 이상의 적층 재료를 포함하는 유리; 석영, 알루미늄 산화물, 칼슘 불화물 또는 이트륨 산화물을 포함하는 세라믹; 중 어느 하나 또는 이의 조합을 포함할 수 있다. 상기 제 4 절연성 기판 및 상기 제 5 절연성 기판 중 적어도 하나는 상기 캐비닛 하우징 내부를 투시하기 위한 가시광선 영역의 투과도를 가질 수 있다. At least one of the fourth insulating substrate and the fifth insulating substrate may include glass including soda lime glass, heat resistant glass, tempered glass, crystallized glass, or two or more laminated materials thereof; Ceramics including quartz, aluminum oxide, calcium fluoride or yttrium oxide; Any one or a combination thereof. At least one of the fourth insulating substrate and the fifth insulating substrate may have a transmittance of a visible light region for viewing the inside of the cabinet housing.
상기 일렉트로크로믹 층은 색소계 물질, 폴리머계 물질, 금속 산화물계 물질 및 도전성 물질 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 상기 색소계 물질 및 폴리머계 물질로서, 아조벤젠계, 안트라퀴논계, 디아릴에텐계, 디하이드로프렌계, 디피리딘계, 스티릴계, 스티릴스피로피란계, 스피로옥사진계, 스피로티오피란계, 티오인디고이드계, 테트라티아풀바렌계, 테레프탈산계, 트리페닐메탄계, 트리페닐아민계, 나프토피란계, 바이올로겐계, 피라졸린계, 페나진계, 페닐렌디아민계, 페녹사진계, 페노티아진계, 프탈로시아닌계, 플루오란텐계, 풀기드계, 벤조피란계, 메탈로센계 물질을 포함할 수 있다. 상기 금속 산화물계 물질로서, 산화텅스텐, 산화몰리브덴, 산화이리듐, 산화인듐, 산화티타늄, 산화니켈, 산화바나듐 및 프러시안 블루를 포함할 수 있다. 상기 도전성 물질로서, 산화티타늄, 산화아연, 산화주석, 산화지르코늄, 산화세륨, 산화이트륨, 산화붕소, 산화마그네슘, 티타늄산스트론튬, 티타늄산칼륨, 티타늄산바륨, 티타늄산칼슘, 산화칼슘, 페라이트, 산화하프늄, 산화텅스텐, 산화철, 산화구리, 산화니켈, 산화코발트, 산화바륨, 산화스트론튬, 산화바나듐 및 알루미노규산염을 포함할 수 있다. The electrochromic layer may include at least one of a dye material, a polymer material, a metal oxide material, and a conductive material. As the pigment-based material and the polymer-based material, azobenzene-based, anthraquinone-based, diarylethene-based, dihydroprene-based, dipyridine-based, styryl-based, styrylspiropyranic-based, spiroxazine-based, spirothiopyran-based and thio-based Indigoid series, tetrathiafulbarene series, terephthalic acid series, triphenylmethane series, triphenylamine series, naphthopyran series, viologen series, pyrazoline series, phenazine series, phenylenediamine series, phenoxazine series, phenothiazine series, And phthalocyanine-based, fluoranthene-based, full-gid-based, benzopyran-based, and metallocene-based materials. The metal oxide-based material may include tungsten oxide, molybdenum oxide, iridium oxide, indium oxide, titanium oxide, nickel oxide, vanadium oxide, and Prussian blue. Examples of the conductive material include titanium oxide, zinc oxide, tin oxide, zirconium oxide, cerium oxide, yttrium oxide, boron oxide, magnesium oxide, strontium titanate, potassium titanate, barium titanate, calcium titanate, calcium oxide, ferrite, Hafnium oxide, tungsten oxide, iron oxide, copper oxide, nickel oxide, cobalt oxide, barium oxide, strontium oxide, vanadium oxide and aluminosilicates.
상기 직물 처리 장치의 제어에 관한 정보를 입력 및 출력하기 위한 사용자 인터페이스 모듈을 더 포함할 수 있다. The apparatus may further include a user interface module for inputting and outputting information regarding the control of the fabric processing apparatus.
상기 기술적 과제를 해결하기 위한 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 직물 처리 장치는, 적어도 일 측면에 개구를 갖는 캐비닛 하우징; 상기 캐비닛 하우징의 상기 개구를 통하여 출입하는 서랍 프레임; 상기 캐비닛 하우징의 상기 개구를 개폐하고, 처리될 직물을 향하여 열 복사하는 면상 발열판을 포함하는 도어 프레임; 및 상기 면상 발열판 상에 적층되고, 상기 면상 발열판을 통해 투과되는 상기 캐비닛 하우징 내의 상기 처리될 직물을 시각적으로 가리거나, 정보 표시를 위한 디스플레이 소자 층; 상기 면상 발열판의 전력 제어를 위한 제어부를 포함하고, 상기 면상 발열판은 제 1 절연성 기판, 상기 제 1 절연성 기판의 일면 상에 형성된 도전성의 면상 발열층 및 상기 면상 발열층 상에 형성되어 전류를 인가하기 위한 전극 패턴들을 포함한다.Fabric processing apparatus according to another embodiment of the present invention for solving the above technical problem, cabinet housing having an opening on at least one side; A drawer frame entering and exiting through the opening of the cabinet housing; A door frame including a planar heating plate which opens and closes the opening of the cabinet housing and heat radiates toward the fabric to be treated; And a display element layer laminated on the planar heating plate and visually obscuring the fabric to be processed in the cabinet housing transmitted through the planar heating plate, or for displaying information. And a control unit for power control of the planar heating plate, wherein the planar heating plate is formed on a first insulating substrate, a conductive planar heating layer formed on one surface of the first insulating substrate, and the planar heating layer to apply current. For electrode patterns.
본 발명의 실시예에 따르면, 캐비닛 하우징 또는 도어 프레임에 결합된 면상 발열판에 의해 상기 캐비닛 하우징 내부의 직물을 가열 처리함으로써, 주 열원으로서 가열된 스팀을 사용하는 경우와 달리 물의 공급과 같은 사용상의 번거로움이 없고, 오염된 물로부터 초래되는 직물의 이차적 오염이 없어 위생상 바람직하며, 스팀 발생을 위한 고온 고압 기밀 장치가 필요하지 않아 안전하고 장수명을 갖는 직물 처리 장치가 제공될 수 있다.According to an embodiment of the present invention, by heat treating the fabric inside the cabinet housing by a planar heating plate coupled to the cabinet housing or door frame, unlike in the case of using heated steam as the main heat source, it is troublesome in use such as supply of water. It is hygienic which is free from secondary pollution and there is no secondary contamination of the fabric resulting from contaminated water, and a high temperature and high pressure airtight device for steam generation is not required, and thus a safe and long life textile processing apparatus can be provided.
또한, 상기 면상 발열층은 저항성 박막의 특성상 빠른 시간 내에 안정적 승온이 가능할 뿐만 아니라 고온에서 승온이 스스로 제한되어 안정성이 개선되고, 캐비닛 하우징의 내부를 향해 전면적에 걸쳐 균일한 가열을 할 수 있는 이점이 있다.In addition, the planar heating layer is not only capable of stable temperature rise within a short time due to the characteristics of the resistive thin film, but also has an advantage of improving stability by limiting the temperature rise at a high temperature and uniformly heating the entire surface toward the inside of the cabinet housing. have.
또한, 상기 면상 발열층의 반대면에 디스플레이 소자 층을 적층함으로써, 직물 처리 완료 후에는 직무 처리 장치의 내부 모습이 가려지도록 하거나, 심미적인 디자인을 표시할 수 있도록 하여, 인테리어 효과를 얻을 수 있다. In addition, by laminating the display element layer on the opposite side of the planar heating layer, the interior of the job processing device can be obstructed or the aesthetic design can be displayed after the fabric processing is completed, thereby obtaining an interior effect.
도 1a 및 도 1b는 본 발명의 일 실시예에 따른 캐비닛 하우징 및 직물 처리 장치의 사시도이다. 1A and 1B are perspective views of a cabinet housing and a fabric processing apparatus according to one embodiment of the present invention.
도 2a는 본 발명의 일 실시예에 따른 면상 발열판의 적층 구조를 도시하는 단면도이며, 도 2b는 본 발명의 다른 실시예에 따른 의류 처리 장치의 사시도이다. Figure 2a is a cross-sectional view showing a laminated structure of the planar heating plate according to an embodiment of the present invention, Figure 2b is a perspective view of a clothes processing apparatus according to another embodiment of the present invention.
도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따른 직물 처리 장치를 도시한다.Figure 3 shows a fabric processing apparatus according to another embodiment of the present invention.
도 4a 및 도 4b는 본 발명의 다양한 실시예에 따른 입상 발열부들을 도시한다.4A and 4B illustrate granular heating units according to various embodiments of the present disclosure.
도 5는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 직물 처리 장치를 도시하는 사시도이다.5 is a perspective view showing a fabric processing apparatus according to another embodiment of the present invention.
도 6a는 본 발명의 다른 실시예에 따른 면상 발열판의 적층 구조를 도시한 단면도이다.6A is a cross-sectional view illustrating a laminated structure of a planar heating plate according to another embodiment of the present invention.
도 6b는 도 6a에 도시된 면상 발열판에 관한 일 실시예의 상세한 적층 구조를 도시한 단면도이다. FIG. 6B is a cross-sectional view illustrating a detailed laminated structure of an embodiment of the planar heating plate illustrated in FIG. 6A.
도 6c는 도 6a에 도시된 면상 발열판에 관한 다른 실시예의 상세한 적층 구조를 도시한 단면도이다. 6C is a cross-sectional view illustrating a detailed laminated structure of another embodiment of the planar heating plate shown in FIG. 6A.
도 6d는 도 6a에 도시된 면상 발열판에 관한 또 다른 실시예의 상세한 적층 구조를 도시한 단면도이다. FIG. 6D is a cross-sectional view illustrating a detailed laminated structure of still another embodiment of the planar heating plate shown in FIG. 6A.
도 6e는 도 6a에 도시된 면상 발열판에 관한 또 다른 실시예의 상세한 적층 구조를 도시한 단면도이다. 6E is a cross-sectional view illustrating a detailed laminated structure of still another embodiment of the planar heating plate shown in FIG. 6A.
도 7은 디스플레이 소자 층의 동작에 따른 직물 처리 장치의 캐비닛 하우징에 발색된 상태를 예시한 참조도이다.FIG. 7 is a reference diagram illustrating a state of color development in a cabinet housing of the fabric processing apparatus according to the operation of the display element layer.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다. Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
본 발명의 실시예들은 당해 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위하여 제공되는 것이며, 하기 실시예는 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 하기 실시예에 한정되는 것은 아니다.  오히려, 이들 실시예는 본 개시를 더욱 충실하고 완전하게 하고, 당업자에게 본 발명의 사상을 완전하게 전달하기 위하여 제공되는 것이다. The embodiments of the present invention are provided to more fully explain the present invention to those skilled in the art, and the following examples can be modified in various other forms, and the scope of the present invention is It is not limited to an Example. Rather, these embodiments are provided so that this disclosure will be thorough and complete, and will fully convey the inventive concept to those skilled in the art.
또한, 이하의 도면에서 각 층의 두께나 크기는 설명의 편의 및 명확성을 위하여 과장된 것이며, 도면상에서 동일 부호는 동일한 요소를 지칭한다. 본 명세서에서 사용된 바와 같이, 용어 "및/또는" 는 해당 열거된 항목 중 어느 하나 및 하나 이상의 모든 조합을 포함한다. In addition, in the following drawings, the thickness or size of each layer is exaggerated for convenience and clarity of description, the same reference numerals in the drawings refer to the same elements. As used herein, the term “and / or” includes any and all combinations of one or more of the listed items.
본 명세서에서 사용된 용어는 특정 실시예를 설명하기 위하여 사용되며, 본 발명을 제한하기 위한 것이 아니다.  본 명세서에서 사용된 바와 같이, 단수 형태는 문맥상 다른 경우를 분명히 지적하는 것이 아니라면, 복수의 형태를 포함할 수 있다.  또한, 본 명세서에서 사용되는 경우 "포함한다(comprise)" 및/또는 "포함하는(comprising)"은 언급한 형상들, 숫자, 단계, 동작, 부재, 요소 및/또는 이들 그룹의 존재를 특정하는 것이며, 하나 이상의 다른 형상, 숫자, 동작, 부재, 요소 및/또는 그룹들의 존재 또는 부가를 배제하는 것이 아니다. The terminology used herein is for the purpose of describing particular embodiments only and is not intended to be limiting of the invention. As used herein, the singular forms "a", "an" and "the" may include the plural forms as well, unless the context clearly indicates otherwise. Also, as used herein, "comprise" and / or "comprising" specifies the presence of the mentioned shapes, numbers, steps, actions, members, elements and / or groups of these. It is not intended to exclude the presence or the addition of one or more other shapes, numbers, acts, members, elements and / or groups.
본 명세서에서 제 1, 제 2 등의 용어가 다양한 부재, 부품, 영역, 층들 및/또는 부분들을 설명하기 위하여 사용되지만, 이들 부재, 부품, 영역, 층들 및/또는 부분들은 이들 용어에 의해 한정되어서는 안됨은 자명하다.  이들 용어는 하나의 부재, 부품, 영역, 층 또는 부분을 다른 영역, 층 또는 부분과 구별하기 위하여만 사용된다.  따라서, 이하 상술할 제 1 부재, 부품, 영역, 층 또는 부분은 본 발명의 가르침으로부터 벗어나지 않고서도 제 2 부재, 부품, 영역, 층 또는 부분을 지칭할 수 있다. Although the terms first, second, etc. are used herein to describe various members, parts, regions, layers, and / or parts, these members, parts, regions, layers, and / or parts are defined by these terms. It is obvious that not. These terms are only used to distinguish one member, part, region, layer or portion from another region, layer or portion. Thus, the first member, part, region, layer or portion, which will be discussed below, may refer to the second member, component, region, layer or portion without departing from the teachings of the present invention.
본 명세서에서 사용되는 '직물'이란 용어는, 착용 가능한 의복, 양말, 수건, 신발을 포함하는 개념이며, 이불과 같은 침구류도 이에 해당될 수 있다.The term 'fabric' as used herein is a concept that includes wearable clothes, socks, towels, shoes, beddings such as duvets may also correspond.
도 1a 내지 도 1b는 본 발명의 일 실시예에 따른 캐비닛 하우징(10) 및 직물 처리 장치(100)의 사시도이다. 1A-1B are perspective views of a cabinet housing 10 and a fabric processing apparatus 100 according to one embodiment of the invention.
도 1a 및 도 1b를 참조하면, 직물 처리 장치(100)는 캐비닛 하우징(10)을 포함한다. 캐비닛 하우징(10)은 상의, 하의, 원피스, 양말, 신발, 넥타이 또는 이불과 같은 직물의 처리 용량을 고려하여 이를 수용하기에 적합한 크기와 형상을 가질 수 있다. 캐비닛 하우징(10)의 일 측면은 개구(10H)를 갖는다. 개구(10H)를 통하여 화살표 K로 나타낸 바와 같이 덮개 프레임(20)의 출입이 이루어진다.1A and 1B, the fabric processing apparatus 100 includes a cabinet housing 10. Cabinet housing 10 may have a size and shape suitable to accommodate the processing capacity of the fabric, such as top, bottom, dress, socks, shoes, tie or duvet. One side of the cabinet housing 10 has an opening 10H. Entry and exit of the lid frame 20 is made through the opening 10H as indicated by the arrow K. FIG.
캐비닛 하우징(10)의 타 측면에는 캐비닛 하우징(10) 내의 직물을 처리하기 위한 면상 발열판(30)이 제공될 수 있다. 면상 발열판(30)은 열 복사에 의해 캐비닛 하우징(10) 내부로 열을 공급하기 위한 도전성 발열층을 포함하는 유리 적층 구조이며, 이에 관하여는 도 2를 참조하여 상세히 후술하도록 한다. The other side of the cabinet housing 10 may be provided with a planar heating plate 30 for processing the fabric in the cabinet housing 10. The planar heating plate 30 is a glass laminate structure including a conductive heating layer for supplying heat into the cabinet housing 10 by heat radiation, which will be described later in detail with reference to FIG. 2.
면상 발열판(30)은 캐비닛 하우징(10)의 내측벽에 탑재되어 캐비닛 하우징(10)의 외측으로 노출되지 않도록 은폐될 수도 있지만, 바람직하게는, 도 1a에 도시된 바와 같이 캐비닛 하우징(10)의 외부로 노출되어 캐비닛 하우징(10)의 일 측벽을 구성할 수도 있다. 또한, 면상 발열판(30)은 캐비닛 하우징(10)의 도시된 측면뿐만 아니라, 캐비닛 하우징(10)의 또 다른 측면(10S2), 대향면(10S3), 상면 또는 저면에도 제공될 수 있어, 직물 처리를 위한 양 면 또는 3 면 발열 시스템이 구성될 수도 있다. 양면 또는 3면 발열 시스템의 경우로서, 서로 대향하는 2 개의 측면(10S1, 10S3)에 면상 발열판이 각각 배치되는 경우 일정한 간격으로 이격되어 대면적의 균일한 가열존을 형성할 수 있는 이점이 있다.The planar heating plate 30 may be mounted on the inner wall of the cabinet housing 10 to be concealed so as not to be exposed to the outside of the cabinet housing 10, but preferably, as shown in FIG. It may be exposed to the outside to form one side wall of the cabinet housing 10. In addition, the planar heating plate 30 may be provided not only on the illustrated side surface of the cabinet housing 10, but also on another side surface 10S2, an opposite surface 10S3, a top surface or a bottom surface of the cabinet housing 10, thereby processing fabric. A two-sided or three-sided heating system may be configured. In the case of a two-sided or three-sided heating system, when the planar heating plates are respectively disposed on two side surfaces 10S1 and 10S3 facing each other, there is an advantage that a uniform heating zone having a large area can be formed at regular intervals.
면상 발열판(30)은 캐비닛 하우징(10)의 골격 프레임에 고정되어 측면(10S1)을 모두 점유하거나 부분적으로 점유할 수 있다. 면상 발열판(30)이 적용된 캐비닛 하우징(10)의 해당 측면(10S1)이 직물 처리 장치(100)의 전면을 구성할 수 있다. 또한, 직물 처리 장치의 제어에 관한 정보를 입력 및 출력하기 위한 사용자 인터페이스 모듈(11)이 구비되어 있다. 사용자 인터페이스 모듈(11)은 직물 처리 장치(100)의 발열을 위한 전력 제어 명령 또는 후술할 구성요소의 동작을 위한 제어 명령을 입력받을 수 있고, 입력된 제어 명령에 따른 결과를 표시 정보로서 디스플레이할 수도 있다. 이 경우, 직물 처리 장치(100)의 전력 제어를 위한 사용자 인터페이스 모듈(11)은, 도 1a에 도시된 바와 같이 전면(10S1)에 제공될 수 있다. 다른 실시예에서, 도 2b에 도시된 바와 같이 덮개 프레임(20)의 덮개부(21) 상에 사용자 인터페이스 모듈(11')이 제공될 수도 있다. 이 경우, 덮개부(21)가 직물 처리 장치(100)의 전면을 구성할 수도 있다.The planar heating plate 30 may be fixed to the frame of the cabinet housing 10 to occupy all or partially occupy the side surface 10S1. The corresponding side surface 10S1 of the cabinet housing 10 to which the planar heating plate 30 is applied may constitute the front surface of the fabric processing apparatus 100. A user interface module 11 is also provided for inputting and outputting information relating to the control of the fabric processing apparatus. The user interface module 11 may receive a power control command for heat generation of the fabric processing apparatus 100 or a control command for operation of a component to be described later, and display the result according to the input control command as display information. It may be. In this case, the user interface module 11 for power control of the fabric processing apparatus 100 may be provided on the front surface 10S1 as shown in FIG. 1A. In another embodiment, the user interface module 11 ′ may be provided on the cover portion 21 of the cover frame 20 as shown in FIG. 2B. In this case, the cover part 21 may comprise the front surface of the textile processing apparatus 100.
사용자 인터페이스 모듈(11)은 캐비닛 하우징(10)의 내부의 가열, 가습, 소취, 제균 및 발향 중 적어도 어느 하나를 위한 시간 또는 강도 제어를 위한 명령을 수신을 할 수 있는 사용자 입력부와 이의 표시를 위한 표시부를 포함할 수 있다. 상기 사용자 입력부는 비제한적 예로서 기계식 버튼, 정전식 또는 감압식 버튼, 또는 광학 버튼을 포함할 수 있다. 사용자 인터페이스 모듈(11)은 제어부(도 2a의 30CC 참조)에 연결되고, 상기 제어부는 사용자 인터페이스 모듈(11)로부터 수신된 신호를 기초로 면상 발열판(30)에 인가되는 전력 및 시간을 제어하고, 후술될 가습 장치, 발향 장치, 제균 장치 또는 입상 발열부에 전기적으로 연결되어 이를 제어할 수도 있다. 또한, 직물 처리 장치(100)에는 사용자에게 직물의 처리 과정의 시작, 진행 정도 및 종료와 같은 정보를 청각이나 시각적으로 인식시킬 수 있는 스피커 또는 발광 시스템이 더 제공될 수도 있다. The user interface module 11 includes a user input unit for receiving a command for controlling time or intensity for at least one of heating, humidifying, deodorizing, sterilizing, and smelling inside the cabinet housing 10, and for displaying the same. It may include a display unit. The user input may include, but is not limited to, mechanical buttons, capacitive or pressure sensitive buttons, or optical buttons. The user interface module 11 is connected to a control unit (see 30CC in FIG. 2A), and the control unit controls power and time applied to the planar heating plate 30 based on the signal received from the user interface module 11, It may be electrically connected to and controlled by a humidifying apparatus, a fragrance apparatus, a sterilizing apparatus, or a granular heating unit to be described later. In addition, the fabric processing apparatus 100 may further be provided with a speaker or a light emitting system capable of audibly or visually recognizing information such as the start, progress, and end of the fabric processing process.
캐비닛 하우징(10)은 직물의 처리시 발생될 수 있는 증기 또는 냄새 분자의 외부 배출을 위한 배출구(12)를 포함할 수 있다. 도시된 배출구(12)는 슬릿 형태를 예시한다. 일 실시예에서, 배출구(12)는 캐비닛 하우징(10)의 상부에 배치될 수 있다. 배출구(12)에 적합한 먼지 및/또는 항균 필터가 결합되어 증기 또는 냄새의 직접적인 방출을 방지할 수 있다. 또한, 배출구(12)에도 적합한 팬이 결합되어 증기 또는 공기의 방출을 촉진할 수 있다. The cabinet housing 10 may include an outlet 12 for external discharge of vapor or odor molecules that may be generated in the processing of the fabric. The illustrated outlet 12 illustrates the slit shape. In one embodiment, outlet 12 may be disposed on top of cabinet housing 10. Suitable dust and / or antimicrobial filters in the outlet 12 may be combined to prevent direct release of steam or odors. A suitable fan may also be coupled to the outlet 12 to facilitate the release of steam or air.
또한, 도시하지는 않았지만, 캐비닛 하우징(10)에는 공기 유입구가 제공될 수도 있다. 상기 공기 유입구는 외기의 유입을 통해 직물의 처리시 하우징 내부의 공기 흐름을 돕기 위한 것으로서 팬 및/또는 적합한 공기 필터가 이에 결합될 수도 있다. 상기 공기 유입구는 캐비닛 하우징(10)의 여하의 측면, 저면 또는 상면에 제공될 수 있으며, 본 발명이 이에 제한되는 것은 아니다.In addition, although not shown, the cabinet housing 10 may be provided with an air inlet. The air inlet is for assisting the air flow inside the housing during the processing of the fabric through the inflow of outside air, and a fan and / or a suitable air filter may be coupled thereto. The air inlet may be provided on any side, bottom or top surface of the cabinet housing 10, but the present invention is not limited thereto.
캐비닛 하우징(10)의 개구(10H)를 개폐할 수 있는 덮개 프레임(20)이 제공된다. 덮개 프레임(20)은 개구(10H)를 통하여 출입함으로써 개구(10H)를 개폐할 수 있다. 덮개 프레임(20)은 개구(10H)를 통하여 슬라이딩 방식으로 출입하고 직물(CT1)을 거치할 수 있는 본체 프레임(22)과 본체 프레임(22)에 결합되어 개구(10H)를 개폐하는 덮개부(21)를 포함할 수 있다.A cover frame 20 is provided that can open and close the opening 10H of the cabinet housing 10. The lid frame 20 can open and close the opening 10H by entering and exiting through the opening 10H. The cover frame 20 is coupled to the main body frame 22 and the main body frame 22 which can slide in and out through the opening 10H and mount the fabric CT1, and the cover part which opens and closes the opening 10H ( 21).
캐비닛 하우징(10) 내에는 덮개 프레임(20)의 인출시 덮개 프레임(20)이 캐비닛 하우징(10)으로부터 분리되지 않도록 제한 부재(미도시)가 제공될 수도 있다. 본체 프레임(22)은 처리될 직물(CT1)의 거치를 위한 옷걸이 부재(23)를 포함한다. 옷걸이 부재(23)는 직물의 구김 제거와 면상 발열판으로부터 인가되는 열을 직물이 균일하게 받을 수 있도록 처리될 직물(CT1)이 펼쳐질 수 있는 여하의 형태를 가질 수 있으며, 도 1b는 상의를 펼쳐서 거치할 수 있는 어깨 걸림이 가능한 통상의 옷걸이 부재(23)를 예시한다. In the cabinet housing 10, a limiting member (not shown) may be provided to prevent the cover frame 20 from being separated from the cabinet housing 10 when the cover frame 20 is pulled out. The body frame 22 comprises a hanger member 23 for mounting of the fabric CT1 to be treated. The hanger member 23 may have any form in which the fabric CT1 to be processed can be unfolded so that the fabric can be uniformly subjected to heat applied from the wrinkled fabric and the planar heating plate, and FIG. The typical hanger member 23 which can be made to shoulder can be illustrated.
본체 프레임(22)은 도시된 바와 같이 상하로 단일한 거치 공간을 가질 수 있지만 본 발명이 이에 제한되는 것은 아니다. 예를 들면, 본체 프레임(22)은 다단 구조를 가질 수 있으며, 이 경우, 각 단들은 통기성 벽체로 구성될 수 있다. 또한, 상기 다단 구조의 각 단들은 독립적으로 캐비닛 하우징(10)의 개구(10H)를 통하여 출입할 수도 있다. Body frame 22 may have a single mounting space up and down as shown, but the present invention is not limited thereto. For example, the body frame 22 may have a multistage structure, in which case each stage may be comprised of a breathable wall. In addition, each stage of the multi-stage structure may independently enter and exit through the opening 10H of the cabinet housing 10.
일 실시예에서, 직물 처리 장치(100)는 면상 발열판(30)에 의한 열처리 동안 내부 공기의 순환 또는 소정 방향으로의 공기의 흐름을 만들기 위한 하나 이상의 공기 흐름 유도부(24)를 더 포함할 수 있다. 공기 흐름 유도부(24)는 팬 또는 블로어 부재일 수 있으며, 화살표 24K로 나타낸 바와 같이 소정 방향으로 공기를 배출함으로써 공기의 흐름을 만들 수 있다. 공기 흐름 유도부(24)는 공기를 배출하는 것에 한정되는 것은 아니며, 공기를 흡입함으로써 캐비닛 하우징 내 공기의 흐름을 만들 수도 있다. 상기 공기의 흐름은 캐비닛 하우징(10)의 내부에서 순환하거나 하방에서 상방으로 일정한 흐름을 유도하거나 대류를 유도하여 처리될 직물(CT1)에 골고루 열이 인가될 수 있도록 돕는다.In one embodiment, the fabric processing apparatus 100 may further include one or more air flow guides 24 for creating a circulation of internal air or a flow of air in a predetermined direction during heat treatment by the planar heating plate 30. . The air flow guide 24 may be a fan or a blower member, and as shown by arrow 24K, the air flow may be made by discharging the air in a predetermined direction. The air flow guide 24 is not limited to discharging air, but may also induce air flow in the cabinet housing by sucking air. The air flow helps to apply heat evenly to the fabric CT1 to be treated by circulating inside the cabinet housing 10 or inducing a constant flow from below to above or inducing convection.
도시하지는 않았으나, 직물 처리 동안 직물(CT1)의 구김을 펴거나 방지하기 위해 직물(CT1)에 인장력을 제공할 수 있도록 직물의 가장자리를 고정하기 위한 클램프와 이를 본체 프레임(22)이나 덮개부(21)에 고정시키기 위해 본체 프레임(22)이나 덮개부(21)의 내측에 고정되는 탄성 와이어와 같은 선형 부재가 마련될 수 있다. Although not shown, clamps for fixing the edges of the fabric to provide tension to the fabric CT1 to prevent crease or unwrapping of the fabric CT1 during fabric processing, and the body frame 22 or cover 21 In order to be fixed to the), a linear member such as an elastic wire fixed to the inner side of the body frame 22 or the cover portion 21 may be provided.
일부 실시예에서, 본체 프레임(22)에는 입상 발열체(도 4a의 45a, 및 도 4b의 45b 참조)가 제공될 수 있다. 상기 입상 발열체에 관하여는 도 4a 및 도 4b를 참조하여 후술하도록 한다. 또한, 본체 프레임(22)에는 가습 장치, 발향 장치, 제균 장치 또는 입상 발열부가 결합될 수 있으며, 이에 관하여는 후술하도록 한다.In some embodiments, the body frame 22 may be provided with a granular heating element (see 45a in FIG. 4A and 45B in FIG. 4B). The granular heating element will be described later with reference to FIGS. 4A and 4B. In addition, the body frame 22 may be combined with a humidifier, a fragrance apparatus, a disinfecting apparatus or a granular heat generating unit, which will be described later.
도 2a는 본 발명의 일 실시예에 따른 면상 발열판(30)의 적층 구조를 도시하는 단면도이며, 도 2b는 본 발명의 다른 실시예에 따른 직물 처리 장치(100')의 사시도이다. Figure 2a is a cross-sectional view showing a laminated structure of the planar heating plate 30 according to an embodiment of the present invention, Figure 2b is a perspective view of a fabric processing apparatus 100 'according to another embodiment of the present invention.
도 2a를 참조하면, 면상 발열판(30)은 제 1 절연성 기판(30S-1) 및 제 1 절연성 기판(30S-1) 상에 형성된 면상 발열층(30HT)을 포함할 수 있다. 제 1 절연성 기판(30S-1)은 절연체이며, 고온 운영이 가능한 유리 또는 세라믹 재료를 포함할 수 있다. 상기 유리는 소다 라임 유리, 내열 유리, 강화 유리, 결정화 유리 또는 이의 2 이상의 적층 재료일 수 있다. 상기 세라믹 재료는 석영, 알루미늄 산화물, 칼슘 불화물 또는 이트륨 산화물일 수 있다. 상기 바람직하게는, 제 1 절연성 기판(30S-1)은 내열성을 가지면서 투명한 유리일 수 있다. 또는, 제 1 절연성 기판(30S-1)는 상기 유리와 세라믹의 적층 구조와 같은 조합체일 수도 있다. 본 명세서에서 '투명하다'라는 것은 가시 광선의 투과율이 30 % 내지 99 %의 범위 내로서 완전 투명하거나 반투명한 것을 의미하며, 바람직하게는 캐비닛 하우징(10)의 내부(10)를 투시하기에 충분한 정도의 투과율을 의미한다.Referring to FIG. 2A, the planar heating plate 30 may include a planar heating layer 30HT formed on the first insulating substrate 30S-1 and the first insulating substrate 30S-1. The first insulating substrate 30S-1 is an insulator and may include glass or ceramic material capable of high temperature operation. The glass may be soda lime glass, heat resistant glass, tempered glass, crystallized glass or two or more laminated materials thereof. The ceramic material may be quartz, aluminum oxide, calcium fluoride or yttrium oxide. Preferably, the first insulating substrate 30S-1 may be transparent glass having heat resistance. Alternatively, the first insulating substrate 30S-1 may be a combination such as a laminated structure of the glass and the ceramic. As used herein, 'transparent' means that the transmittance of visible light is completely transparent or translucent within the range of 30% to 99%, and preferably sufficient to see the interior 10 of the cabinet housing 10. It means the transmittance of the degree.
일 실시예에서, 면상 발열층(30HT)은 제 1 절연성 기판(30S-1)의 캐비닛 하우징(10)의 내부를 바라보는 측면에 형성되어, 사용상의 안정성을 도모하고, 외부 환경으로부터 면상 발열층(30HT)을 보호할 수 있다. 면상 발열층(30HT)은 도전성 박막을 포함할 수 있으며, 상기 도전성 박막은 전류의 흐름에 의해 80 ℃ 내지 600 ℃의 범위 내의 발열이 가능한 저항막이다. 가정의 공칭 전력 범위를 고려할 때, 면상 발열층(30HT)의 표면 저항은 5 Ω/□ 내지 50 Ω/□의 범위 내일 수 있다. 면상 발열층(30HT)은 도전성 금속 산화물을 포함할 수 있다. 상기 도전성 금속 산화물은 기판(30S-1) 상에 적합한 전구체를 이용해 분무 열분해 증착 (spray pyrolysis deposition; 이하 SPD라 함), 화학적 기상 증착(CVD), 원자층 기상 증착(ALD)되거나, 스퍼터링 및 열증착과 같은 물리적 기상 증착에 의해 형성될 수 있다. 다른 예로서, 면상 발열층(30HT)는 탄소나노튜브(CNT), 그래핀(graphene), 풀러렌(fullerene)와 같은 도전성 파티클의 슬러리를 제 1 절연성 기판(30S-1)에 코팅하고 이를 열처리하는 습식법에 의해 형성될 수도 있다. 그러나, 이러한 습식법은 균일한 도포와 후막 처리가 어려워 대향 생산에 어려움이 있으므로, 상기 도전성 금속 산화물을 이용한 기상 증착법이 바람직하다.In one embodiment, the planar heating layer 30HT is formed on the side facing the inside of the cabinet housing 10 of the first insulating substrate 30S-1, to achieve stability in use, and to planar heating layer from the external environment. (30HT) can be protected. The planar heating layer 30HT may include a conductive thin film, and the conductive thin film is a resistive film capable of generating heat within a range of 80 ° C to 600 ° C by the flow of current. Considering the nominal power range of the home, the surface resistance of the planar heating layer 30HT may be in the range of 5 Ω / □ to 50 Ω / □. The planar heating layer 30HT may include a conductive metal oxide. The conductive metal oxide may be spray pyrolysis deposition (hereinafter referred to as SPD), chemical vapor deposition (CVD), atomic layer vapor deposition (ALD) using a suitable precursor on the substrate 30S-1, or sputtering and thermal It may be formed by physical vapor deposition such as deposition. As another example, the planar heating layer 30HT may coat a slurry of conductive particles such as carbon nanotubes (CNT), graphene, and fullerene on the first insulating substrate 30S-1 and heat-treat the same. It may be formed by a wet method. However, the wet method is difficult to uniformly apply and thick film, so that it is difficult to produce the opposite method, and thus, the vapor deposition method using the conductive metal oxide is preferable.
상기 SPD 법은 전구체로서 원료 화합물을 포함하는 액적을 형성하고, 상기 액적이 액적 전달 유로를 통하여 전달되는 동안 상기 액적에 함유된 용매의 증발, 고온 반응, 열 분해, 운반 기체와 전구체 사이의 반응(예를 들면, 산화 또는 환원 반응), 클러스터의 형성 및 기체 분자의 형성 중 적어도 어느 하나 또는 2 이상의 단계들을 수반하면서(본 명세서에서는, 각 반응 단계의 중간 생성물들을 통칭하여 기상 전구체라 칭한다), 상기 기상 전구체가 미리 성막 온도까지 가열된 피처리체인 제 1 절연성 기판(30S-1) 상에 전달되어 박막이 형성되는 증착 기구이다. 상기 전구체의 전달은 초음파 분무, 스프레이 분무 또는 기화 방식을 통해 달성될 수 있다.The SPD method forms a droplet containing a raw material compound as a precursor, and evaporation, high temperature reaction, thermal decomposition, reaction between a carrier gas and a precursor of the solvent contained in the droplet while the droplet is transferred through the droplet delivery flow path ( For example, an oxidation or reduction reaction), involving at least one or two or more steps of formation of clusters and formation of gas molecules (in this specification, intermediate products of each reaction step are collectively referred to as gaseous precursors). The vapor phase precursor is a vapor deposition apparatus in which a thin film is transferred to a first insulating substrate 30S-1, which is a target object heated to a film formation temperature in advance. The delivery of the precursor may be accomplished via ultrasonic spraying, spray spraying or vaporization.
상기 도전성 금속 산화물은, 예를 들면, 인듐 산화물(InO2), 주석 산화물(SnO2), 인듐 주석 산화물(ITO) 또는 아연 산화물(ZnO)을 포함할 수 있다. 면상 발열층(30HT)에는 주된 매트릭스를 형성하는 구성 재료 이외에 붕소(B), 불소(F) 또는 염소(Cl)와 같은 비금속, 또는 알루미늄(Al), 또는 마그네슘(Mg)과 같은 금속 또는 실리콘(Si)과 같은 준금속이 도핑될 수도 있다.The conductive metal oxide may include, for example, indium oxide (InO 2 ), tin oxide (SnO 2 ), indium tin oxide (ITO), or zinc oxide (ZnO). The planar heating layer 30HT includes a base metal such as boron (B), fluorine (F) or chlorine (Cl), a metal such as aluminum (Al), or magnesium (Mg) in addition to the constituent material forming the main matrix. A metalloid such as Si) may be doped.
바람직하게는, 상기 도전성 금속 산화물은, 투명 발열층이며, 저저항 고투과율을 갖는 불소가 도핑된 주석 산화물(FTO)을 포함할 수 있다. 상기 FTO 막은 상압 CVD 또는 SPD에 의해 고투명성의 고품질의 발열층을 얻을 수 있다. 또한, 상기 FTO 막은 내스크래치, 내마모성 및 내습성을 가지므로 이의 적용이 바람직하다. Preferably, the conductive metal oxide is a transparent heating layer, and may include tin oxide (FTO) doped with fluorine having a low resistance and high transmittance. The FTO film can obtain a high transparency, high quality heat generating layer by atmospheric pressure CVD or SPD. In addition, since the FTO membrane has scratch resistance, abrasion resistance and moisture resistance, its application is preferable.
상기 FTO 막의 형성을 위한 전구체 용액은 주석 전구체로서 SnCl4·5H2O, (C4H9)2Sn(CH3COO)2, (CH3)2SnCl2, 또는 (C4H9)3SnH 와 같은 화합물을 포함할 수 있다. 도펀트인 불소 전구체로서, NH4F, CF3Br, CF2Cl2, CH3CClF2, CF3COOH, 또는 CH3CHF2 와 같은 화합물이 사용될 수 있다. 이들 전구체를 소정 중량비 F/Sn 를 갖도록 증류수 또는 알코올에 혼합하여 액상 원료를 제조한 후, 액적을 발생시킬 수 있다. 피처리체인 기판(30S-1)의 온도는 400 ℃ 내지 600 ℃로 유지하고, 기상 전구체를 기판(30S-1) 상에 분사함으로써 상기 FTO 막을 형성할 수 있다.The precursor solution for forming the FTO film is SnCl 4 · 5H 2 O, (C 4 H 9 ) 2 Sn (CH 3 COO) 2 , (CH 3 ) 2 SnCl 2 , or (C 4 H 9 ) 3 as a tin precursor. Compounds such as SnH. As the dopant fluorine precursor, compounds such as NH 4 F, CF 3 Br, CF 2 Cl 2 , CH 3 CClF 2 , CF 3 COOH, or CH 3 CHF 2 can be used. These precursors may be mixed with distilled water or alcohol to have a predetermined weight ratio F / Sn to prepare a liquid raw material, and then droplets may be generated. The FTO film can be formed by maintaining the temperature of the substrate 30S-1, which is the workpiece, at 400 ° C to 600 ° C, and spraying the gas phase precursor onto the substrate 30S-1.
상기 FTO 막은 가시광선 대역에서 80% 이상의 투과율을 가지며, 약 80 ℃로부터 약 600 ℃까지 안정적인 가열이 가능하다. 이러한 FTO의 고열 가열 특성은, 그래핀, 탄소 나노튜브 또는 탄소 섬유를 이용한 탄소계 가열체보다 우수하며, 상기 FTO는 열 질량이 작아 5 ℃/min 의 저속 승온시뿐만 아니라 30 ℃/min의 고속 승온시에도 안정된 가열 특성을 유지할 수 있다. 또한, 상기 FTO는 환원성 분위기는 물론 산화성 분위기에서도 안정하기 때문에, 상기 FTO를 이용하면 종래의 탄소계 가열체가 구현할 수 없는 직물 처리 장치 내의 고온 다습한 환경에서도 내구성과 장수명을 갖는 직물 처리 장치가 제공될 수 있다.The FTO film has a transmittance of 80% or more in the visible light band and enables stable heating from about 80 ° C. to about 600 ° C. The high-temperature heating characteristics of FTO are superior to carbon-based heating elements using graphene, carbon nanotubes, or carbon fibers, and the FTO has a small thermal mass, so that not only at low temperature of 5 ° C / min but also at high temperature of 30 ° C / min Stable heating characteristics can be maintained even at an elevated temperature. In addition, since the FTO is stable in a reducing atmosphere as well as in an oxidizing atmosphere, using the FTO provides a fabric processing apparatus having durability and long life even in a high temperature and high humidity environment in a textile processing apparatus that a conventional carbon-based heating body cannot implement. Can be.
면상 발열층(30HT), 바람직하게는 투명 면상 발열층 상에는 전극 패턴(30E1, 30E2)이 형성된다. 전극 패턴(30E1, 30E2)은 알루미늄 또는 구리와 같은 금속 필름이나 도전성 산화물 또는 질화물과 같은 복합 재료일 수 있다. 전극 패턴(30E1, 30E2)은 제 1 절연성 기판(30S-1)과 면상 발열층(30HT)의 사이에 형성될 수도 있으며, 본 발명이 이에 제한되는 것은 아니다. 전극 패턴(30E1, 30E2)을 통하여 전원(30PS)으로부터 제어부(30CC)를 통해 전력이 공급되면, 면상 발열층(30HT)을 통하여 전류 I가 흐르게 되어 저항열이 투명 면상 발열층(30HT)의 전면적에 걸쳐 발생하게 된다.The electrode patterns 30E1 and 30E2 are formed on the planar heating layer 30HT, preferably on the transparent planar heating layer. The electrode patterns 30E1 and 30E2 may be metal films such as aluminum or copper or composite materials such as conductive oxides or nitrides. The electrode patterns 30E1 and 30E2 may be formed between the first insulating substrate 30S-1 and the planar heating layer 30HT, but the present invention is not limited thereto. When power is supplied from the power supply 30PS to the control unit 30CC through the electrode patterns 30E1 and 30E2, current I flows through the planar heating layer 30HT, so that the heat of resistance is the entire area of the transparent planar heating layer 30HT. Will occur over time.
전극 패턴(30E1, 30E2)은 도 2a에 도시된 것과 같이 수평 방향으로 배열된 것에 한정되는 것은 아니며, 수직 방향으로 또는 수평과 수직 패턴의 조합으로 배열될 수도 있을 것이다.The electrode patterns 30E1 and 30E2 are not limited to those arranged in the horizontal direction as shown in FIG. 2A, and may be arranged in the vertical direction or a combination of the horizontal and vertical patterns.
상기 저항열은 복사 방식으로 캐비닛 하우징(도 1a의 10 참조)의 내부의 직물 상으로 방사되어 직물을 열처리하게 된다. 전극 패턴(30E1, 30E2)이 형성된 면상 발열층(30HT) 상에는 방습 또는 방오를 위한 보호층이 더 형성될 수 있다. 상기 보호층은 마그네슘 산화물(MgO)과 같은 투명한 금속 산화물일 수 있으며, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다.  The heat of resistance is radiated onto the fabric inside the cabinet housing (see 10 in FIG. 1A) in a radiant manner to heat the fabric. A protective layer for moisture proof or antifouling may be further formed on the planar heating layer 30HT on which the electrode patterns 30E1 and 30E2 are formed. The protective layer may be a transparent metal oxide such as magnesium oxide (MgO), but the present invention is not limited thereto.
본 발명의 실시예에 따른 면상 발열층(30HT)에 의한 열원은 고온 스팀에 의한 처리와 달리 스팀 사용시 요구되는 물의 공급, 오염된 물로부터 얻어지는 스팀에 의한 직물의 이차적 오염 또는 스팀 발생시 초래되는 고온 고압 기밀 장치와 같은 부대 시설이 요구되지 않아 물 공급과 같은 사용상의 번거로움이 없고, 위생상 바람직할 뿐만 아니라 상기 고온 고압 기밀 장치가 요구되지 않아 안정성이 제고될 수 있다. 또한, 면상 발열층(30HT)은 저항성 박막의 특성상 빠른 시간 내에 안정적 승온이 가능할 뿐만 아니라, 복사 방식에 의해 열처리를 하기 때문에, 비열이 큰 물을 끓는 온도까지 승온시키는데 많은 열량과 시간을 요구하는 고온 스팀과 달리 열효율과 처리 시간이 빠른 이점이 있다. 또한, FTO를 이용한 면상 발열층(30HT)는 고온에서 승온이 스스로 제한되어 안정성이 개선된다. The heat source by the planar heating layer 30HT according to the embodiment of the present invention, unlike the treatment by the high temperature steam, the high temperature and high pressure caused by the supply of water required for steam use, secondary contamination of the fabric by steam obtained from contaminated water or steam generation Additional facilities such as hermetic devices are not required, so there is no hassle in use, such as water supply, hygiene is desirable, and the high temperature and high pressure hermetic devices are not required, so stability can be improved. In addition, the planar heating layer 30HT can not only stably raise the temperature in a short time due to the characteristics of the resistive thin film, but also perform heat treatment by a radiation method, so that a high temperature requiring a large amount of heat and time to raise the temperature of boiling specific heat Unlike steam, thermal efficiency and processing time are fast. In addition, the surface heating layer (30HT) using the FTO self-limiting the temperature rise at a high temperature is improved stability.
또한, 면상 발열층(30HT)는 캐비닛 하우징의 내부를 향해 전면적에 걸쳐 균일한 가열을 할 수 있는 이점이 있다. 일부 실시예에서, 상기 면상 발열판이 캐비닛 하우징(10)의 2 이상의 측면에 제공되는 경우 서로 대향하는 면상 발열판 사이에 균일한 온도의 가열 영역이 제공될 수 있는 이점이 있다.In addition, the planar heating layer 30HT has an advantage of enabling uniform heating over the entire area toward the inside of the cabinet housing. In some embodiments, when the planar heating plate is provided on two or more sides of the cabinet housing 10, there is an advantage that a heating zone of uniform temperature may be provided between the planar heating plates facing each other.
일 실시예에서는, 제 1 절연성 기판(30S-1)과 면상 발열층(30HT) 사이에 유전체 버퍼층(30BF)이 제공될 수 있다. 유전체 버퍼층(30BF)은 제 1 절연성 기판(30S-1)와 면상 발열층(30HT) 사이의 접합력을 향상시킬 수도 있을 뿐만 아니라, 고온 사용 중 제 1 절연성 기판(30S-1)으로부터 면상 발열층(30HT)으로 확산되는 불순물에 의한 면상 발열층(30HT)의 기계적 및/또는 전기적 열화를 방지하는 역할을 한다. 예를 들면, 제 1 절연성 기판(30S-1)이 소다라임 유리인 경우에, 면상 발열층(30HT)에 의한 발열에 의해 상기 소다라임 유리로부터 나트륨(Na) 또는 칼륨(K)과 같은 알카리 금속 이온이 면상 발열층(30HT)으로 확산될 수 있으며, 이들 이온에 의해 면상 발열층(30HT)에 균열이 발생하거나 박리 현상이 일어날 수 있다.In one embodiment, a dielectric buffer layer 30BF may be provided between the first insulating substrate 30S-1 and the planar heating layer 30HT. The dielectric buffer layer 30BF may not only improve the bonding force between the first insulating substrate 30S-1 and the planar heating layer 30HT, but also may increase the planar heating layer (i) from the first insulating substrate 30S-1 during high temperature use. 30HT) serves to prevent mechanical and / or electrical deterioration of the planar heating layer 30HT due to impurities diffused into the 30HT. For example, in the case where the first insulating substrate 30S-1 is soda-lime glass, an alkali metal such as sodium (Na) or potassium (K) is released from the soda-lime glass by heat generation by the surface heating layer 30HT. Ions may diffuse into the planar heating layer 30HT, and cracks or peeling may occur in the planar heating layer 30HT by these ions.
일 실시예에서, 유전체 버퍼층(30BF)은 실리콘 산화물(SiO2), 세리아(CeO2), 알루미늄 산화물(Al2O3) 망간 산화물(MnO2), 철 산화물(Fe2O3), 마그네슘 산화물(MgO) 및 타이타늄 산화물(TiO2) 중 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다. 유전체 버퍼층(30BF)은, 예를 들면, 액상법에 의해 형성될 수 있다. 예를 들면, 상기 액상법의 경우, 상기 SiO2의 투명 유전체 버퍼층은, 출발 물질로서 테트라에틸 실리콘 산화물(tetraethyl silicate; ((C2H5)4SiO4)과 같은 실리콘 전구체와 이의 분산을 위한 알코올계 용매를 포함하는 액상 원료를 이용하여 형성될 수 있다. 상기 알코올계 용매는, 에틸알콜, 메틸알콜, 글리세롤, 프로필렌 글리콜, 이소프로필알콜, 이소부틸알콜, 폴리비닐알콜, 사이클로헥사놀, 옥틸알콜, 데카놀, 헥사테카놀, 에틸렌글리콜, 1.2-옥테인디올, 1,2-도데케인디올 및 1,2-헥사데케인디올 중 어느 하나 또는 이들의 혼합물일 수 있으며, 바람직하게는, 탄소 함량이 비교적 작고 무독성인 에틸알콜이다. 또한, 상기 용매로서, 물 또는 증류수가 더 혼합될 수 있다. 상기 액상 용매 내의 상기 실리콘 전구체의 농도는 0.1 내지 0.4 몰%의 범위 내일 수 있다. In one embodiment, the dielectric buffer layer 30BF is silicon oxide (SiO 2 ), ceria (CeO 2 ), aluminum oxide (Al 2 O 3 ) manganese oxide (MnO 2 ), iron oxide (Fe 2 O 3 ), magnesium oxide It may include at least one of (MgO) and titanium oxide (TiO 2 ). The dielectric buffer layer 30BF may be formed by, for example, a liquid phase method. For example, in the liquid phase method, the transparent dielectric buffer layer of SiO 2 may be a silicon precursor such as tetraethyl silicate ((C 2 H 5 ) 4 SiO 4 ) as a starting material and an alcohol for dispersion thereof. The alcohol-based solvent may be formed by using a liquid raw material including a solvent such as ethyl alcohol, methyl alcohol, glycerol, propylene glycol, isopropyl alcohol, isobutyl alcohol, polyvinyl alcohol, cyclohexanol and octyl alcohol. , Decanol, hexatecanol, ethylene glycol, 1.2-octanediol, 1,2-dodecanediol and 1,2-hexadecanediol, or a mixture thereof, preferably, a carbon content This relatively small, non-toxic ethyl alcohol may be further mixed with water or distilled water, and the concentration of the silicon precursor in the liquid solvent may be in the range of 0.1 to 0.4 mol%.
일부 실시예에서, 상기 액상 용매 내에 질산(HNO3)이 촉매로서 더 첨가될 수 있다. 상기 질산 촉매는 액상법에서 실리콘의 산화 반응을 촉진하여 상기 SiO2의 유전체 버퍼층(30BF)의 성막 속도를 향상시킬 수 있다. 일 실시예에서, 상기 액상 원료 내의 질산의 몰 농도는 약 0.1 몰% 내지 5 몰%일 수 있다. In some embodiments, nitric acid (HNO 3 ) may be further added as a catalyst in the liquid solvent. The nitric acid catalyst may promote the oxidation reaction of silicon in the liquid phase method to improve the deposition rate of the dielectric buffer layer 30BF of SiO 2 . In one embodiment, the molar concentration of nitric acid in the liquid raw material may be about 0.1 mol% to 5 mol%.
상기 액상 원료 내에 유리 기판을 침지시켜 상기 액상 원료를 상기 유리 기판 상에 코팅하고 이를 건조한 후 소결함으로써 SiO2의 투명 유전체 버퍼층을 형성할 수 있다. 상기 액상 원료 내에 유리 기판을 침지시키는 속도는 약 1 cm/min 내지 약 10 cm/min의 범위 내에서 수행될 수 있다. 유전체 버퍼층(30BF)의 두께는 액상 용액 내 실리콘 전구체, 예를 들면, 테트라에틸 실리콘 산화물의 농도를 조절함으로써 달성될 수 있다. 상기 실리콘 전구체의 농도가 클수록 형성되는 투명 유전체 버퍼층(30BF)의 두께가 증가한다. 일 실시예에서, 상기 액상 원료 내의 실리콘 전구체의 몰 농도는 약 0.1 내지 0.4 몰%의 범위 내에서 선택될 수 있다.The transparent dielectric buffer layer of SiO 2 may be formed by immersing a glass substrate in the liquid raw material, coating the liquid raw material on the glass substrate, drying and sintering the liquid raw material. The speed of immersing the glass substrate in the liquid raw material may be performed within a range of about 1 cm / min to about 10 cm / min. The thickness of the dielectric buffer layer 30BF can be achieved by adjusting the concentration of the silicon precursor, eg, tetraethyl silicon oxide, in the liquid solution. As the concentration of the silicon precursor increases, the thickness of the transparent dielectric buffer layer 30BF formed increases. In one embodiment, the molar concentration of the silicon precursor in the liquid raw material may be selected in the range of about 0.1 to 0.4 mol%.
유전체 버퍼층(30BF), 바람직하게는, 상기 SiO2의 투명 유전체 버퍼층의 평균 두께는 60 nm 내지 120 nm의 범위 내이다. 상기 SiO2의 투명 유전체 버퍼층의 평균 두께가 60 nm 미만인 경우에는 상기 알카리 금속 이온의 확산을 차단하지 못하며, 120 nm를 초과하는 경우에는 상부에 증착되는 FTO의 투명 도전층(30HT)과 열팽창 계수의 차이에 의해 면상 발열층(30HT)에 크랙이 발생되어 불량이 초래될 수 있다. 바람직하게는, 유전체 버퍼층(30BF), 바람직하게는, SiO2의 투명 유전체 버퍼층의 평균 두께는 80 nm 내지 100 nm의 범위 내이다.The average thickness of the dielectric buffer layer 30BF, preferably the transparent dielectric buffer layer of SiO 2 , is in the range of 60 nm to 120 nm. When the average thickness of the transparent dielectric buffer layer of SiO 2 is less than 60 nm, it does not block diffusion of the alkali metal ions, and when it exceeds 120 nm, the transparent conductive layer 30HT of the FTO deposited thereon and the coefficient of thermal expansion Due to the difference, cracks may occur in the planar heating layer 30HT, resulting in a defect. Preferably, the average thickness of the dielectric buffer layer 30BF, preferably the transparent dielectric buffer layer of SiO 2 , is in the range of 80 nm to 100 nm.
일부 실시예에서는, 면상 발열층(30HT)이 형성된 제 1 절연성 기판(30S-1)의 일면의 반대면 상에는 기능층(30AF)이 더 형성될 수 있다. 기능층(30AF)는 반사층일 수 있다. 상기 반사층은 캐비닛 하우징의 외부에 대하여 거울면을 제공할 수 있다. 예를 들면, 도 2b에 도시된 바와 같이 직물 처리 장치(100')의 캐비닛 하우징(10)에 제공되는 면상 발열판(30')이 반사층을 포함하는 경우, 사용자는 상기 반사층을 갖는 면상 발열판(30')을 거울로서 사용하여 직물 처리 장치(100')의 공간 활용성을 극대화할 수 있다.In some embodiments, the functional layer 30AF may be further formed on a surface opposite to one surface of the first insulating substrate 30S-1 on which the planar heating layer 30HT is formed. The functional layer 30AF may be a reflective layer. The reflective layer may provide a mirror surface with respect to the outside of the cabinet housing. For example, when the planar heating plate 30 'provided in the cabinet housing 10 of the fabric processing apparatus 100' includes the reflective layer, as shown in FIG. 2B, the user may have the planar heating plate 30 having the reflective layer. ') Can be used as a mirror to maximize space utilization of the fabric processing apparatus 100'.
다른 실시예에서, 기능층(30AF)은 면상 발열층(30HT)으로부터 캐비닛 하우징의 외부로 방사되는 열을 차단하여 열효율을 향상시키기 위한 방열층일 수 있다. 상기 방열층은 금속 또는 금속 산화물의 박막층일 수 있다. 상기 방열층은 외부로부터 캐비닛 하우징의 내부로 가시광선은 투과시키고 적외선 영역은 차단하여 방열 효과를 갖는다. 상기 금속은 은(Ag), 티타늄(Ti), 스테인레스 또는 이들의 혼합물일 수 있으며, 상기 금속 산화물은 주석 산화물일 수 있다. In another embodiment, the functional layer 30AF may be a heat dissipation layer for blocking heat radiated from the planar heating layer 30HT to the outside of the cabinet housing to improve thermal efficiency. The heat dissipation layer may be a thin film layer of metal or metal oxide. The heat dissipation layer transmits visible light to the inside of the cabinet housing from the outside and blocks the infrared region to have a heat dissipation effect. The metal may be silver (Ag), titanium (Ti), stainless, or a mixture thereof, and the metal oxide may be tin oxide.
또 다른 실시예에서, 기능층(30AF)는 단열층일 수도 있다. 예를 들면, 상기 단열층은 내열성 수지, 유리 기판 또는 제 1 절연성 기판(30S-1)와의 사이에 공기층을 제공하여 이중 구조를 제공할 수 있는 수지 또는 유리 기판일 수도 있다. 상기 단열층은 사용자가 면상 발열판(30)에 접촉시 화상의 위험을 방지할 수도 있다. 도시하지는 않았으나, 기능층(30A)의 전술한 실시예들은 서로 2 이상이 조합된 적층 구조를 가질 수도 있다.In another embodiment, the functional layer 30AF may be a heat insulating layer. For example, the heat insulating layer may be a resin or a glass substrate that can provide a double structure by providing an air layer between the heat resistant resin, the glass substrate, or the first insulating substrate 30S-1. The heat insulation layer may prevent the risk of burns when the user contacts the planar heating plate 30. Although not shown, the above-described embodiments of the functional layer 30A may have a laminated structure in which two or more of them are combined with each other.
도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따른 직물 처리 장치(200)를 도시한다.3 illustrates a fabric processing apparatus 200 according to another embodiment of the present invention.
도 3을 참조하면, 직물 처리 장치(200)는 캐비닛 하우징(도 1a의 10 참조)의 내부의 습도를 측정하기 위한 습도 센서(41)를 더 포함할 수 있다. 습도 센서(41)는 캐비닛 하우징(10)의 내측벽에 결합되거나, 캐비닛 하우징(10)의 내부로 들어가는 덮개 프레임(도 1b의 20 참조)에 결합될 수 있다. 제어부(도 2a의 30CC)는 습도 센서(41)로부터 수신된 신호를 기초로 면상 발열판의 전력 제어를 수행할 수 있다. 예를 들면, 습도 센서(41)로부터 얻어진 신호에 기초하여 설정된 습도보다 높은 경우 전력을 더 공급하여 캐비닛 하우징(10) 내부의 온도 또는 공급 열량을 증가시킬 수 있다. 그 반대의 경우, 직물 처리가 완료된 것으로 판단하여, 상기 제어부는 면상 발열판으로의 전력 공급을 차단할 수도 있다.Referring to FIG. 3, the fabric processing apparatus 200 may further include a humidity sensor 41 for measuring humidity inside the cabinet housing (see 10 of FIG. 1A). The humidity sensor 41 may be coupled to an inner wall of the cabinet housing 10 or to a cover frame (see 20 in FIG. 1B) that enters into the cabinet housing 10. The controller (30CC of FIG. 2A) may perform power control of the planar heating plate based on the signal received from the humidity sensor 41. For example, when the humidity is higher than the humidity set based on the signal obtained from the humidity sensor 41, power may be further supplied to increase the temperature or the amount of heat supplied inside the cabinet housing 10. On the contrary, it is determined that the fabric treatment is completed, the control unit may block the power supply to the planar heating plate.
일 실시예에서, 직물 처리 장치(200)는 캐비닛 하우징(10)의 내부로 수분을 공급하기 위한 초음파 가습 장치(42)를 더 포함할 수 있다. 초음파 가습 장치(42)는 고온 고압의 기밀을 요구하지 않는 점에서 스팀 장치에 비하여 바람직하며, 가습에 의해 직물로 공급된 수분은 직물을 연화시키고 면상 발열판에 의해 최종적으로 건조하는 방식으로 직물의 컨디션을 향상시킨다. 초음파 가습 장치(42)는 캐비닛 하우징(10)의 내부 측벽에 결합된 것으로 도시되어 있지만 이는 예시적이며, 초음파 가습 장치(42)는 캐비닛 하우징(10)의 내부의 상측벽에 결합되어 하방으로의 분무를 촉진할 수도 있다. 다른 예에서, 초음파 가습 장치(42)는 덮개 프레임(20)의 상부 또는 측부에 결합될 수도 있다.In one embodiment, the fabric processing apparatus 200 may further include an ultrasonic humidifying device 42 for supplying moisture into the cabinet housing 10. The ultrasonic humidifier 42 is preferable to the steam apparatus in that it does not require airtightness of high temperature and high pressure, and the moisture supplied to the fabric by the humidification of the fabric is softened and finally dried by the planar heating plate. To improve. The ultrasonic humidifier 42 is shown as being coupled to the inner sidewall of the cabinet housing 10, but this is illustrative, and the ultrasonic humidifier 42 is coupled to the upper wall of the interior of the cabinet housing 10 and directed downward. Spraying may also be promoted. In another example, the ultrasonic humidifier 42 may be coupled to the top or side of the lid frame 20.
일 실시예에서, 직물 처리 장치(200)는 처리될 직물에 향기를 입히기 위한 발향 장치(43)를 더 포함할 수 있다. 발향 장치(43)는 직물에 배어있는 냄새를 제거하거나 향기를 입혀 직물을 리프레싱할 수 있다. 발향 장치(43)도 캐비닛 하우징(10)의 내부 측벽에 결합된 것으로 도시되어 있지만 이는 예시적이며, 발향 장치(43)는 캐비닛 하우징(10)의 내부의 상측벽에 결합될 수도 있다. 다른 예에서, 발향 장치(43)는 덮개 프레임(20)의 상부 또는 측부에 결합될 수도 있다.In one embodiment, the fabric processing apparatus 200 may further include a fragrance apparatus 43 for framing the fabric to be treated. The fragrance apparatus 43 may remove or smell the smell soaked in the fabric to refresh the fabric. The fragrance apparatus 43 is also shown coupled to the inner sidewall of the cabinet housing 10, but this is illustrative, and the fragrance apparatus 43 may be coupled to an upper wall of the interior of the cabinet housing 10. In another example, the fragrance apparatus 43 may be coupled to the top or side of the cover frame 20.
다른 실시예에서, 직물 처리 장치(200)는 처리될 직물의 살균을 위한 제균 장치(44)를 더 포함할 수 있다. 제균 장치(44)는 스프레이 방식이나 기화 방식으로 살균제를 캐비닛 하우징(10) 내부로 공급하는 장치이거나 자외선 램프일 수도 있으며, 캐비닛 하우징(10)의 내부에 제공될 수 있다. In another embodiment, the fabric processing apparatus 200 may further include a sterilization apparatus 44 for sterilizing the fabric to be treated. The disinfection device 44 may be a device for supplying a disinfectant into the cabinet housing 10 by spraying or vaporizing, or may be an ultraviolet lamp, or may be provided inside the cabinet housing 10.
또 다른 실시예에서, 직물 처리 장치(200)는 손수건, 양말, 또는 신발과 같은 직물의 컨디션을 향상시키기 위한 적어도 하나 이상의 입상 발열부(45)를 더 포함할 수도 있다. 도 4a 및 도 4b는 본 발명의 다양한 실시예에 따른 입상 발열부(45a, 45b)는 판상 스트립 구조(45P1)를 갖거나 곡면 필라 구조(45P2)를 가질 수 있다. In another embodiment, the fabric processing apparatus 200 may further include at least one granular heat generating portion 45 for improving the condition of the fabric, such as a handkerchief, socks, or shoes. 4A and 4B, the granular heating units 45a and 45b according to various embodiments of the present disclosure may have a plate-shaped strip structure 45P1 or a curved pillar structure 45P2.
판상 스트립 구조(45P1)는 판상 스트립 구조의 유리 또는 세라믹 기판 상에 전술한 발열층을 형성한 것을 도시한다. 판상 스트립 구조(45P1)는 손수건이나 수건을 거치하여 이의 컨디션을 향상시키기에 적합하다. The plate-like strip structure 45P1 shows the formation of the above-described heating layer on the glass or ceramic substrate of the plate-like strip structure. The plate-like strip structure 45P1 is suitable for mounting a handkerchief or a towel to improve its condition.
곡면 필라 구조(45P2)에서, 곡면은 도시된 판상에 한정되는 것은 아니며, 볼록한 구 또는 타원체일 수 있으며, 양말이나 신발의 내부로 삽입되기 적합한 구조를 가질 수 있다. 곡면 필라 구조(45P2)로 성형된 절연체 상에 전술한 발열층을 형성하여 이를 제조할 수 있다. 양말의 내부로 곡면 필라 구조(44P2)가 삽입된 경우 양말이 늘어나면서 형태를 갖추게 되고, 곡면 필라 구조의 상기 발열층에 전력이 인가되면 상기 양말의 주름이 펴지면서 열처리가 수행될 수 있다.In the curved pillar structure 45P2, the curved surface is not limited to the illustrated plate, but may be a convex sphere or ellipsoid, and may have a structure suitable for insertion into a sock or shoe. The above-described heating layer may be formed on an insulator formed of the curved pillar structure 45P2, and thus manufactured. When the curved pillar structure 44P2 is inserted into the socks, the socks are stretched to have a shape, and when electric power is applied to the heating layer of the curved pillar structure, the socks may be wrinkled to expand and heat treatment may be performed.
도 5는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 직물 처리 장치(300)를 도시하는 사시도이다. 도시된 부재들 중 전술한 부재들과 동일한 참조 번호를 갖는 부재들에 관하여는 모순되지 않는 한 전술한 개시 사항을 참조할 수 있다.5 is a perspective view showing a fabric processing apparatus 300 according to another embodiment of the present invention. Reference may be made to the above-described disclosure as long as there is no contradiction with respect to the ones having the same reference numerals as the aforementioned ones.
도 5를 참조하면, 직물 처리 장치(300)는 적어도 일 측면에 개구(10H)를 갖는 캐비닛 하우징(10')을 포함한다. 캐비닛 하우징(10')은 직물의 처리시 발생될 수 있는 증기 또는 냄새 분자의 외부 배출을 위한 배출구(미도시)를 포함할 수 있다. 일 실시예에서, 상기 배출구는 캐비닛 하우징(10')의 상부에 배치될 수 있다. 상기 배출구에는 적합한 먼지 및/또는 항균 필터가 결합되어 증기 또는 냄새의 직접적인 방출을 방지할 수 있다. 도시하지는 않았지만, 캐비닛 하우징(10')에는 공기 유입구가 제공될 수도 있다. 상기 공기 유입구는 외기의 유입을 통해 직물의 처리시 하우징 내부의 공기 흐름을 돕기 위한 것으로서 팬 및/또는 적합한 공기 필터가 결합될 수도 있다. 상기 공기 유입구는 캐비닛 하우징(10')의 여하의 측면, 저면 또는 상면에 제공될 수 있으며, 본 발명이 이에 제한되는 것은 아니다.Referring to FIG. 5, the fabric processing apparatus 300 includes a cabinet housing 10 ′ having an opening 10H on at least one side. Cabinet housing 10 ′ may include an outlet (not shown) for external discharge of vapor or odor molecules that may be generated during processing of the fabric. In one embodiment, the outlet can be disposed above the cabinet housing 10 '. The outlet may be fitted with a suitable dust and / or antimicrobial filter to prevent direct release of steam or odors. Although not shown, the air inlet may be provided in the cabinet housing 10 '. The air inlet is for assisting the air flow inside the housing during the processing of the fabric through the inflow of outside air, and a fan and / or a suitable air filter may be combined. The air inlet may be provided on any side, bottom or top surface of the cabinet housing 10 ', but the present invention is not limited thereto.
캐비닛 하우징(10)의 개구(10H)를 통하여 서랍 프레임(22')이 출입한다. 서랍 프레임(22')을 캐비닛 하우징(10')의 개구(10H)로부터 인출할 때 서랍 프레임(22')이 캐비닛 하우징(10')으로부터 완전히 분리되지 않도록 적합한 제한 장치를 둘 수 있다. The drawer frame 22 'enters and exits through the opening 10H of the cabinet housing 10. Appropriate restricting devices may be placed so that the drawer frame 22 'is not completely separated from the cabinet housing 10' when withdrawing the drawer frame 22 'from the opening 10H of the cabinet housing 10'.
서랍 프레임(22')에는 처리될 직물이 거치될 수 있으며, 이를 위하여 옷걸이 부재(23)가 제공될 수 있다. 서랍 프레임(22')은 도시된 바와 같이 상하로 하나의 거치 공간을 가질 수 있지만 본 발명이 이에 제한되는 것은 아니다. 예를 들면, 서랍 프레임(22')은 다단 구조를 가질 수 있으며, 각 단들은 독립적으로 캐비닛 하우징(10)의 개구(10H)를 통하여 출입할 수도 있다. 또한 상기 다단 구조는 통기성 벽체로 구성될 수도 있다.The drawer frame 22 'may be equipped with a fabric to be treated, and a hanger member 23 may be provided for this purpose. The drawer frame 22 'may have one mounting space up and down as shown, but the present invention is not limited thereto. For example, the drawer frame 22 ′ may have a multi-stage structure, and each stage may independently enter and exit through the opening 10H of the cabinet housing 10. The multi-stage structure may also be comprised of breathable walls.
캐비닛 하우징(10')에는 도어 프레임(21')이 결합된다. 도어 프레임(21')은 힌지 방식으로 캐비닛 하우징(10')에 결합될 수 있다. 도어 프레임(21')의 측부에는 처리될 직물을 향하여 열 복사하는 면상 발열판(30)이 제공될 수 있다. 면상 발열판(30)에 관하여는 전술한 개시 사항을 참조할 수 있다. 도시하지는 않았으나, 캐비닛 하우징(10')의 측면(10S1), 대향 측면, 뒷면, 상면 또는 저면에도 면상 발열판(30)이 제공되어 양 면 또는 3 면 이상의 입체 발열 시스템이 구성될 수도 있다.The door frame 21 'is coupled to the cabinet housing 10'. The door frame 21 'may be coupled to the cabinet housing 10' in a hinged manner. The side surface of the door frame 21 'may be provided with a planar heating plate 30 that radiates heat toward the fabric to be treated. Regarding the planar heating plate 30, reference may be made to the above disclosure. Although not shown, a planar heating plate 30 may also be provided on the side surface 10S1, the opposing side surface, the rear surface, the upper surface, or the bottom surface of the cabinet housing 10 ′, thereby forming a three-dimensional heating system of two or more surfaces.
일 실시예에서, 도어 프레임(21') 상에 사용자 인터페이스 모듈이 제공될 수 있으며, 상기 사용자 인터페이스 모듈은 제어부와 전기적으로 연결되어 캐비닛 하우징(10) 내부의 가열, 가습, 소취, 제균 및 발향 중 적어도 어느 하나를 위한 시간 또는 강도 제어를 할 수 있도록 한다. 상기 사용자 인터페이스 모듈은 적합한 사용자 입력부와 이의 표시를 위한 표시부를 포함할 수 있다. 또한, 사용자에게 직물의 처리 과정을 청각이나 시각적으로 인식시킬 수 있는 스피커 또는 발광 시스템이 더 제공될 수도 있다. In one embodiment, a user interface module may be provided on the door frame 21 ′, which is electrically connected to the control unit to provide heating, humidification, deodorization, sterilization and fragrance inside the cabinet housing 10. Allow time or intensity control for at least one. The user interface module may include a suitable user input and a display for displaying it. In addition, a speaker or a light emitting system may be further provided to the user to visually or visually recognize the processing of the fabric.
처리될 직물의 거치를 위해 서랍 프레임(22')을 캐비닛 하우징(10')으로부터 인출할 때는 캐비닛 하우징(10')에 결합된 도어 프레임(21')을 개방하고, 캐비닛 하우징(10')의 내부로 완전히 들어간 후, 도어 프레임(21')을 폐쇄함으로써 직물 처리 과정이 준비될 수 있다.When the drawer frame 22 'is withdrawn from the cabinet housing 10' for mounting of the fabric to be processed, the door frame 21 'coupled to the cabinet housing 10' is opened and the cabinet housing 10 ' After completely entering the interior, the fabric processing process can be prepared by closing the door frame 21 '.
도시하지는 아니하였으나, 도 3을 참조하여 전술한 바와 같이, 직물 처리 장치(300)는 직물의 컨디션을 향상시키기 위한 보조적 장치로서 초음파 가습 장치(42), 발향 장치(43), 및 제균 장치(44) 중 적어도 어느 하나를 가질 수 있다. 또한, 직물 처리 장치(300)는 손수건, 양말, 또는 신발과 같은 직물의 컨디션을 향상시키기 위한 적어도 하나 이상의 입상 발열부(도 3의 45 참조)를 더 포함할 수도 있다. 도 4a 및 도 4b를 참조하여 설명한 바와 같이 상기 입상 발열부는 판상 스트립 구조(45P1)를 갖거나 곡면 필라 구조(45P2)를 가질 수 있다. Although not shown, as described above with reference to FIG. 3, the fabric processing apparatus 300 is an ultrasonic humidifying apparatus 42, a fragrance apparatus 43, and a sterilizing apparatus 44 as an auxiliary apparatus for improving the condition of the fabric. ) May have at least one. In addition, the fabric processing apparatus 300 may further include at least one or more granular heat generating units (see 45 in FIG. 3) for improving the condition of the fabric, such as a handkerchief, socks, or shoes. As described above with reference to FIGS. 4A and 4B, the granular heat generating unit may have a plate-shaped strip structure 45P1 or a curved pillar structure 45P2.
도 6은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 직물 처리 장치(300)를 도시하는 사시도이다. 도 6a는 본 발명의 다른 실시예에 따른 면상 발열판(30)의 적층 구조를 도시하는 단면도이며, 도 6b는 도 6a에 도시된 면상 발열판(30)에 관한 일 실시예의 상세한 적층 구조를 도시한 단면도이고, 도 6c는 도 6a에 도시된 면상 발열판(30)에 관한 다른 실시예의 상세한 적층 구조를 도시한 단면도이다. 6 is a perspective view showing a fabric processing apparatus 300 according to another embodiment of the present invention. 6A is a cross-sectional view showing a laminated structure of the planar heating plate 30 according to another embodiment of the present invention, and FIG. 6B is a cross-sectional view showing a detailed laminated structure of an embodiment of the planar heating plate 30 shown in FIG. 6A. 6C is a cross-sectional view showing a detailed laminated structure of another embodiment of the planar heating plate 30 shown in FIG. 6A.
도 6a, 도 6b 및 도 6c 중에 도시된 부재들 중 전술한 부재들과 동일한 참조 번호를 갖는 부재들에 관하여는 모순되지 않는 한 전술한 개시 사항을 참조할 수 있다.Reference may be made to the above-described disclosure as long as there is no contradiction with respect to members having the same reference numerals as the aforementioned members among the members shown in FIGS. 6A, 6B and 6C.
도 6a를 참조하면, 직물 처리 장치는 적어도 일 측면에 개구를 갖고, 적어도 타 측면에 처리될 직물을 향하여 열 복사하는 면상 발열판을 갖는 캐비닛 하우징(10), 캐비닛 하우징(10)의 개구를 통하여 출입하면서 개구를 개폐하는 덮개 프레임(20) 및 면상 발열판(30)의 전력 제어를 위한 제어부를 포함한다. 이때, 상기 면상 발열판(30)은 제 1 절연성 기판(30S-1), 제 1 절연성 기판(30S-1)의 일면 상에 형성된 도전성의 면상 발열층(30HT) 및 면상 발열층(30HT) 상에 형성되어 전류를 인가하기 위한 전극 패턴들(30E1, 30E2)을 포함한다. Referring to FIG. 6A, the fabric processing apparatus has an cabinet housing 10 having an opening on at least one side and a planar heating plate that radiates heat toward the fabric to be treated on at least the other side, through the opening of the cabinet housing 10. And a control unit for power control of the cover frame 20 and the planar heating plate 30 to open and close the opening. At this time, the planar heating plate 30 is formed on the conductive planar heating layer 30HT and the planar heating layer 30HT formed on one surface of the first insulating substrate 30S-1 and the first insulating substrate 30S-1. It is formed to include the electrode patterns (30E1, 30E2) for applying a current.
도 6b를 참조하면, 면상 발열판(30)의 제 1 절연성 기판(30S-1)의 반대면 상에는 전술한 기능층(30AF) 대신에 디스플레이 소자 층(30DEF)이 존재한다. 디스플레이 소자 층(30DEF)은 면상 발열판(30)의 제 1 절연성 기판(30S-1)의 반대면 상에 적층되고, 면상 발열판(30)을 통해 투과되는 캐비닛 하우징(10) 내의 처리될 직물을 시각적으로 가리거나, 정보 표시 기능을 수행한다. Referring to FIG. 6B, the display element layer 30DEF is present on the opposite surface of the first insulating substrate 30S-1 of the planar heating plate 30 instead of the functional layer 30AF described above. The display element layer 30DEF is laminated on the opposite side of the first insulating substrate 30S-1 of the planar heating plate 30 and visually shows the fabric to be processed in the cabinet housing 10 transmitted through the planar heating plate 30. Or to display the information.
이러한, 디스플레이 소자 층(30DEF)은 제 1 절연성 기판(30S-1) 상에 적층된 써모크로믹(thermo-chromic) 층(30THC) 및 써모크로믹 층(30THC) 상에 적층된 제 2 절연성 기판(30S-2)을 포함할 수 있다. The display element layer 30DEF is a thermo-chromic layer 30THC stacked on the first insulating substrate 30S-1 and a second insulating substrate stacked on the thermochromic layer 30THC. 30S-2.
써모크로믹 층(30THC)은 면상 발열판(30)의 발열에 따른 온도 변화에 따라 발색이 변화될 수 있다. 전극 패턴(30E1, 30E2)을 통하여 전원(30PS)으로부터 제어부(30CC)를 통해 전력이 공급되면, 면상 발열층(30HT)을 통하여 전류 I가 흐르게 되어 저항열이 면상 발열층(30HT)의 전면적에 걸쳐 발생하게 된다. 이에 따라, 온도 변화가 발생함으로 인해, 써모크로믹 층(30THC)은 고유의 성질에 의해 발색을 일으킨다. 온도 변화에 따라 발색이 변화됨에 따라, 직물 처리 장치의 캐비닛 하우징(10)의 표면에 다양한 디자인의 디스플레이가 가능하다. 이를 위해, 써모크로믹 층(30THC)은 이산화바나듐(VO2), 산화티타늄(Ⅲ)(Ti2O3), 산화나이오븀(NbO2) 및 황화니켈(NiS) 중 어느 하나의 물질을 포함할 수 있다. 또한, 써모크로믹 층(30THC)은 몰리브덴(Mo), 텅스텐(W), 니오븀(Nb), 탄탈륨(Ta), 철(Fe), 알루미늄(Al), 타이타늄(Ti), 주석(Sn), 및 니켈(Ni) 중 적어도 하나의 물질을 포함하는 도펀트(dopant)가 도핑된 것일 수 있다. The color of the thermochromic layer 30THC may change according to a temperature change caused by the heat generation of the planar heating plate 30. When electric power is supplied from the power supply 30PS through the electrode patterns 30E1 and 30E2 through the control unit 30CC, current I flows through the planar heating layer 30HT, so that the resistance heat is transferred to the entire surface of the planar heating layer 30HT. Will occur over time. Accordingly, due to the temperature change, the thermochromic layer 30THC develops color due to its inherent properties. As color development changes with temperature, various designs can be displayed on the surface of the cabinet housing 10 of the fabric processing apparatus. To this end, the thermochromic layer 30THC includes a material of any one of vanadium dioxide (VO 2 ), titanium (III) oxide (Ti 2 O 3 ), niobium oxide (NbO 2 ), and nickel sulfide (NiS). can do. In addition, the thermochromic layer 30THC includes molybdenum (Mo), tungsten (W), niobium (Nb), tantalum (Ta), iron (Fe), aluminum (Al), titanium (Ti), tin (Sn), And a dopant including at least one material of nickel (Ni).
써모크로믹 층(30THC)은 써모크로믹 물질을 제 1 절연성 기판(30S-1) 상에 스퍼터링(sputtering) 코팅함으로써 형성될 수 있다. 써모크로믹 물질은 특정 온도(상전이 온도)에서 상전이 되는 써모크로믹 현상에 의해 결정구조가 바뀌어 물리적 성질(전기 전도도, 적외선 투과율 등)이 급격히 변화하는 물질로, 상 전이 전/후로 태양광 특히, 근적외선의 투과율 내지 반사율이 변화하는 특성을 갖는다. 이에 따라, 써모크로믹 층(30THC)은 온도가 높은 여름철에는 적외선을 차단시킴으로써 열 에너지의 유입을 막아 냉방부하를 감소시키고 온도가 낮은 겨울에는 적외선을 투과시킴으로써 난방부하를 감소시킬 수 있는 부수적인 효과도 있다. 써모크로믹 물질에 도펀트를 도핑함으로써, 써모크로믹 물질의 상전이 온도를 제어할 수 있으며, 일반적으로, 도펀트의 도핑 비(doping ration)가 높을수록 써모크로믹 물질의 상전이 온도는 낮아진다. The thermochromic layer 30THC may be formed by sputtering coating of the thermochromic material on the first insulating substrate 30S-1. Thermochromic material is a material whose crystal structure changes due to a thermochromic phenomenon that is phase-transformed at a specific temperature (phase transition temperature), and thus the physical properties (electrical conductivity, infrared transmittance, etc.) change rapidly. It has a characteristic that the transmittance and reflectance of the near infrared ray change. Accordingly, the thermochromic layer 30THC prevents the inflow of thermal energy by blocking infrared rays in the high temperature summer, and reduces the cooling load and transmits infrared rays in the low temperature winter, thereby reducing the heating load. There is also. By doping the thermochromic material, the phase transition temperature of the thermochromic material can be controlled, and in general, the higher the doping ration of the dopant, the lower the phase transition temperature of the thermochromic material.
제 2 절연성 기판(30S-2)은 제 1 절연성 기판(30S-1) 상에 적층되는 써모크로믹 층(30THC)의 적층 면과 반대되는 면 상에 적층되는 것으로, 써모크로믹 층(30THC)의 발색을 표시한다. 제 2 절연성 기판(30S-2)은 절연체이며, 고온 운영이 가능한 유리 또는 세라믹 재료를 포함할 수 있다. 상기 유리는 소다 라임 유리, 내열 유리, 강화 유리, 결정화 유리 또는 이의 2 이상의 적층 재료일 수 있다. 상기 세라믹 재료는 석영, 알루미늄 산화물, 칼슘 불화물 또는 이트륨 산화물일 수 있다. 또한, 제 2 절연성 기판(30S-2)은 캐비닛 하우징(10) 내부를 투시하기 위한 가시광선 영역의 투과도를 가질 수 있다. 즉, 제 2 절연성 기판(30S-2)은 내열성을 가지면서 투명한 유리일 수 있다. 또는, 제 2 절연성 기판(30S-2)은 상기 유리와 세라믹의 적층 구조와 같은 조합체일 수도 있다. 한편, 제 2 절연성 기판(30S-2)은 유리 또는 세라믹 재료가 아닌, 단순히 써모크로믹 층(30THC)을 보호하기 위한 보호 필름으로 대체될 수도 있다. 이러한 보호 필름은 써모크로믹 층(30THC)의 발열및 발색에도 불구하고 내구성이 견고한 투명한 재질의 필름이 사용될 수 있다.The second insulating substrate 30S-2 is stacked on the surface opposite to the stacking surface of the thermochromic layer 30THC stacked on the first insulating substrate 30S-1, and the thermochromic layer 30THC is stacked. It shows the color development of. The second insulating substrate 30S-2 is an insulator and may include glass or ceramic material capable of high temperature operation. The glass may be soda lime glass, heat resistant glass, tempered glass, crystallized glass or two or more laminated materials thereof. The ceramic material may be quartz, aluminum oxide, calcium fluoride or yttrium oxide. In addition, the second insulating substrate 30S-2 may have a transmittance of a visible light region for viewing the inside of the cabinet housing 10. That is, the second insulating substrate 30S-2 may be transparent glass having heat resistance. Alternatively, the second insulating substrate 30S-2 may be a combination such as a laminated structure of the glass and the ceramic. On the other hand, the second insulating substrate 30S-2 may be replaced by a protective film for protecting the thermochromic layer 30THC, not simply a glass or ceramic material. Such a protective film may be a film of a transparent material that is durable despite the heat generation and color development of the thermochromic layer 30THC.
도 6c를 참조하면, 면상 발열판(30)의 제 1 절연성 기판(30S-1)의 반대면 상에는 디스플레이 소자 층(30DEF)이 존재하되, 디스플레이 소자 층(30DEF)을 이루는 구성요소로서, 도 6b에서 기술한 써모크로믹(thermo-chromic) 층(30THC) 및 제 2 절연성 기판(30S-2) 이외에, 제 3 절연성 기판(30S-3)을 더 포함하고 있다. 제 3 절연성 기판(30S-3)의 재질도 제 2 절연성 기판(30S-2)의 재질과 유사하다.Referring to FIG. 6C, the display element layer 30DEF is present on the opposite side of the first insulating substrate 30S-1 of the planar heating plate 30, and as a component constituting the display element layer 30DEF, in FIG. 6B. In addition to the thermo-chromic layer 30THC and the second insulating substrate 30S-2 described above, a third insulating substrate 30S-3 is further included. The material of the third insulating substrate 30S-3 is similar to that of the second insulating substrate 30S-2.
제 3 절연성 기판(30S-3)은 제 1 절연성 기판(30S-1)과 써모크로믹(thermo-chromic) 층(30THC) 사이에 존재한다. 써모크로믹(thermo-chromic) 층(30THC)은 제 3 절연성 기판(30S-3) 상에 적층되어 있다. 이때, 제 3 절연성 기판(30S-3)은 제 1 절연성 기판(30S-1)과 본딩 결합될 수 있다. 제 3 절연성 기판(30S-3)과 제 1 절연성 기판(30S-1)의 본딩 결합을 위해, 투명 접착 재질 또는 투명 접착제가 사용될 수 있다.The third insulating substrate 30S-3 is present between the first insulating substrate 30S-1 and the thermo-chromic layer 30THC. The thermo-chromic layer 30THC is stacked on the third insulating substrate 30S-3. In this case, the third insulating substrate 30S-3 may be bonded to the first insulating substrate 30S-1. For bonding bonding of the third insulating substrate 30S-3 and the first insulating substrate 30S-1, a transparent adhesive material or a transparent adhesive may be used.
한편, 제 3 절연성 기판(30S-3)은 제 1 절연성 기판(30S-1)과 일정한 공극(AG) 즉 일정하게 이격된 간격을 형성할 수 있다. 이를 위해, 제 3 절연성 기판(30S-3)과 제 1 절연성 기판(30S-1) 사이에 공극(AG) 형성을 위한 스페이서(30SP)가 구비되어 있다. 스페이서(30SP)의 재질로는, 알루미늄, 아연합금강, FRP 등이 있으며, 고주파용접 방식을 적용한 Welding Spacer Bar(용접간봉) 및 단열성을 극대화 시킨 단열 스페이서 등이 사용될 수도 있다. 또한, 금속외의 물질로서, 실리콘 소재와 흡습재 혼합, 수지계열 등 폼형태의 스페이서가 사용될 수 있다. 제 3 절연성 기판(30S-3)과 제 1 절연성 기판(30S-1) 사이에 공극이 형성됨으로 인해, 공기층을 형성하여 열손실을 최소화하는 단열 효과를 얻을 수 있다. 도 6c에 도시된 스페이서(30SP)의 위치는 예시적인 것에 불과하며, 필요에 따라 제 3 절연성 기판(30S-3)과 제 1 절연성 기판(30S-1) 사이의 다양한 위치에 존재할 수 있다. Meanwhile, the third insulating substrate 30S-3 may form a gap with the first insulating substrate 30S-1, that is, a predetermined gap. To this end, a spacer 30SP is formed between the third insulating substrate 30S-3 and the first insulating substrate 30S-1 to form a gap AG. As the material of the spacer 30SP, aluminum, zinc alloy steel, FRP, etc. may be used, such as a welding spacer bar (welding bar) applying a high frequency welding method and an insulating spacer maximizing insulation. In addition, as a material other than a metal, a foam spacer such as a silicone material and an absorbent material mixture and a resin series may be used. Since a gap is formed between the third insulating substrate 30S-3 and the first insulating substrate 30S-1, an air layer may be formed to obtain a heat insulating effect that minimizes heat loss. The position of the spacer 30SP shown in FIG. 6C is merely exemplary and may be present at various positions between the third insulating substrate 30S-3 and the first insulating substrate 30S-1, as necessary.
도 6d는 도 6a에 도시된 면상 발열판(30)에 관한 또 다른 실시예의 상세한 적층 구조를 도시한 단면도이고, 도 6e는 도 6a에 도시된 면상 발열판(30)에 관한 또 다른 실시예의 상세한 적층 구조를 도시한 단면도이다. 도 6a, 도 6d 및 도 6e 중에 도시된 부재들 중 전술한 부재들과 동일한 참조 번호를 갖는 부재들에 관하여는 모순되지 않는 한 전술한 개시 사항을 참조할 수 있다.6D is a cross-sectional view showing a detailed laminated structure of another embodiment of the planar heating plate 30 shown in FIG. 6A, and FIG. 6E is a detailed laminated structure of another embodiment of the planar heating plate 30 shown in FIG. 6A. It is a cross-sectional view. Reference may be made to the foregoing disclosure as long as there is no contradiction with respect to members having the same reference numerals as the above-mentioned members among the members shown in FIGS. 6A, 6D, and 6E.
도 6d를 참조하면, 면상 발열판(30)의 제 1 절연성 기판(30S-1)의 반대면 상에는 전술한 디스플레이 소자 층(30DEF)이 존재한다. 디스플레이 소자 층(30DEF)은 면상 발열판(30)의 제 1 절연성 기판(30S-1)의 반대면 상에 적층된다. 이러한, 디스플레이 소자 층(30DEF)은 제 1 절연성 기판(30S-1) 상에 적층된 일렉트로크로믹(electro-chromic) 층(30ELC) 및 일렉트로크로믹 층(30ELC) 상에 적층된 제 4 절연성 기판(30S-4)을 포함할 수 있다. Referring to FIG. 6D, the display element layer 30DEF described above is present on the opposite surface of the first insulating substrate 30S-1 of the planar heating plate 30. The display element layer 30DEF is laminated on the opposite surface of the first insulating substrate 30S-1 of the planar heating plate 30. The display element layer 30DEF is the electro-chromic layer 30ELC stacked on the first insulating substrate 30S-1 and the fourth insulating substrate stacked on the electrochromic layer 30ELC. 30S-4.
일렉트로크로믹 층(30ELC)은 인가되는 전압차에 의해 발색될 수 있다. 이를 위해, 일렉트로크로믹 층(30ELC)은 일렉트로크로믹 물질, 전압 인가를 위한 한 쌍의 전극들, 전해질 등을 포함할 수 있다.The electrochromic layer 30ELC may be colored by the voltage difference applied thereto. To this end, the electrochromic layer 30ELC may include an electrochromic material, a pair of electrodes for voltage application, an electrolyte, and the like.
일렉트로크로믹 물질은 색소계 물질, 폴리머계 물질, 금속 산화물계 물질 및 도전성 물질 등을 포함할 수 있다. 이러한, 색소계 물질 및 폴리머계 물질로서 아조벤젠계, 안트라퀴논계, 디아릴에텐계, 디하이드로프렌계, 디피리딘계, 스티릴계, 스티릴스피로피란계, 스피로옥사진계, 스피로티오피란계, 티오인디고이드계, 테트라티아풀바렌계, 테레프탈산계, 트리페닐메탄계, 트리페닐아민계, 나프토피란계, 바이올로겐계, 피라졸린계, 페나진계, 페닐렌디아민계, 페녹사진계, 페노티아진계, 프탈로시아닌계, 플루오란텐계, 풀기드계, 벤조피란계, 메탈로센계 물질 등을 포함할 수 있다. 또한, 금속 산화물계 물질로서, 산화텅스텐, 산화몰리브덴, 산화이리듐, 산화인듐, 산화티타늄, 산화니켈, 산화바나듐 및 프러시안 블루를 포함할 수 있다. 또한, 상기 도전성 물질로서, 산화티타늄, 산화아연, 산화주석, 산화지르코늄, 산화세륨, 산화이트륨, 산화붕소, 산화마그네슘, 티타늄산스트론튬, 티타늄산칼륨, 티타늄산바륨, 티타늄산칼슘, 산화칼슘, 페라이트, 산화하프늄, 산화텅스텐, 산화철, 산화구리, 산화니켈, 산화코발트, 산화바륨, 산화스트론튬, 산화바나듐 및 알루미노규산염 등을 포함할 수 있다. The electrochromic material may include a dye material, a polymer material, a metal oxide material, a conductive material, and the like. As such pigment-based materials and polymer-based materials, azobenzene-based, anthraquinone-based, diarylethene-based, dihydroprene-based, dipyridine-based, styryl-based, styrylspiropyranic, spirooxazine-based, spirothiopyran-based and thio-based Indigoid series, tetrathiafulbarene series, terephthalic acid series, triphenylmethane series, triphenylamine series, naphthopyran series, viologen series, pyrazoline series, phenazine series, phenylenediamine series, phenoxazine series, phenothiazine series, Phthalocyanine-based, fluoranthene-based, full-gid-based, benzopyran-based, metallocene-based materials, and the like. In addition, the metal oxide-based material may include tungsten oxide, molybdenum oxide, iridium oxide, indium oxide, titanium oxide, nickel oxide, vanadium oxide, and Prussian blue. Further, as the conductive material, titanium oxide, zinc oxide, tin oxide, zirconium oxide, cerium oxide, yttrium oxide, boron oxide, magnesium oxide, strontium titanate, potassium titanate, barium titanate, calcium titanate, calcium oxide, Ferrite, hafnium oxide, tungsten oxide, iron oxide, copper oxide, nickel oxide, cobalt oxide, barium oxide, strontium oxide, vanadium oxide and aluminosilicate, and the like.
이러한 일렉트로크로믹 층(30ELC)은 전극들을 포함할 수 있으며, 이러한 전극들에 전압을 인가함으로써, 일렉트로크로믹 층을 발색시킨다. 전극의 재료로서는, 도전성을 갖는 재료이면 특히 한정되지 않고, 광의 투과성을 유지할 필요가 있기 때문에, 투명한 재료를 포함하는 투명 전극이 이용된다. 투명 전극의 재료로서는, 특히 한정되지 않고, 주석 도핑된 산화인듐, 불소 도핑된 산화주석, 안티몬 도핑된 산화주석 등이 이용된다. 또한, 일렉트로크로믹 층(30ELC)의 전극은 디스플레이 분야에서 잘 알려진 바와 같이, 동적 화상 정보의 구현을 위하여 능동 매트릭스 또는 수동 매트릭스와 같은 행렬 어레이 구조를 가질 수 있다. 또한, 정지 화상 정보의 구현을 위해, 전극은 도전성 필름의 적합한 형상, 패턴, 또는 배치로 특정 구조를 가질 수도 있다.This electrochromic layer 30ELC may comprise electrodes, and by applying a voltage to these electrodes, the electrochromic layer is developed. The material of the electrode is not particularly limited as long as it is a material having conductivity, and since it is necessary to maintain the light transmittance, a transparent electrode containing a transparent material is used. The material of the transparent electrode is not particularly limited, and tin-doped indium oxide, fluorine-doped tin oxide, antimony-doped tin oxide, or the like is used. In addition, the electrodes of the electrochromic layer 30ELC may have a matrix array structure such as an active matrix or a passive matrix for realizing dynamic image information, as is well known in the display field. In addition, for the implementation of still image information, the electrode may have a specific structure in a suitable shape, pattern, or arrangement of the conductive film.
또한, 일렉트로크로믹 층(30ELC)으로서, 도전성 또는 반도체성 미립자에 유기 일렉트로크로믹 화합물(chemical)을 담지한 구조를 가질 수 있다. 전극 표면에 초미립자를 소결하여, 그 초미립자의 표면에 실라놀기, 카르복실기, 포스폰산 등의 극성기를 갖는 유기 일렉트로크로믹 화합물을 흡착시킨 구조이다. 본 구조는, 초미립자의 강한 표면적 효과를 이용하여, 효율적으로 유기 일렉트로크로믹 화합물에 전자가 주입되기 때문에, 발색 농도가 높고, 발색 및 소색 속도가 높다. 또한, 초미립자를 이용하여 표시층으로서 투명한 멤브레인을 형성할 수도 있으므로, 높은 백색 반사율을 얻을 수도 있다. 또한, 도전성 또는 반도체성 미립자에 복수 종류의 유기 일렉트로크로믹 화합물을 담지할 수도 있다.In addition, the electrochromic layer 30ELC may have a structure in which an organic electrochromic compound is supported on conductive or semiconducting fine particles. Ultrafine particles are sintered on the electrode surface, and the organic electrochromic compound which has polar groups, such as a silanol group, a carboxyl group, and a phosphonic acid, is made to adsorb | suck to the surface of this ultrafine particle. This structure utilizes a strong surface area effect of ultra-fine particles, so that electrons are efficiently injected into the organic electrochromic compound, so that the color development density is high, and the color development and discoloration speed are high. Moreover, since a transparent membrane can also be formed as a display layer using ultra fine particles, a high white reflectance can also be obtained. In addition, a plurality of types of organic electrochromic compounds may be supported on the conductive or semiconductive fine particles.
또한, 일렉트로크로믹 층(30ELC)은 전해질을 포함할 수 있으며, 전극들 사이에서 이온을 이동시키는 것으로 전하를 이동시켜, 발색 반응을 일으킨다. 전해질 재료로서는, 알칼리 금속염, 알칼리 토류 금속염 등의 무기 이온염, 4급 암모늄염 또는 산류, 및 알칼리류의 지지염을 이용할 수도 있다. 보다 구체적으로는, LiClO4, LiBF4, LiAsF6, LiPF6, LiCF3SO3, LiCF3COO, KCl, NaClO3, NaCl, NaBF4, NaSCN, KBF4, Mg(ClO4)2,Mg(BF4)2 등이 포함될 수도 있다. 또한, 이온성 액체도 이용할 수도 있다. 보다 구체적으로는, 유기의 이온성 액체는, 실온을 포함하는 폭넓은 온도 영역에서 액상을 나타내는 분자 구조를 갖는다. In addition, the electrochromic layer 30ELC may include an electrolyte and transfer charges by moving ions between the electrodes, thereby causing a color reaction. As the electrolyte material, inorganic ionic salts such as alkali metal salts and alkaline earth metal salts, quaternary ammonium salts or acids and supporting salts of alkalis can also be used. More specifically, LiClO4, LiBF4, LiAsF6, LiPF6, LiCF3SO3, LiCF3COO, KCl, NaClO3, NaCl, NaBF4, NaSCN, KBF4, Mg (ClO4) 2, Mg (BF4) 2 and the like may be included. Ionic liquids can also be used. More specifically, the organic ionic liquid has a molecular structure exhibiting a liquid phase in a wide temperature range including room temperature.
제 4 절연성 기판(30S-4)은 제 1 절연성 기판(30S-1) 상에 적층되는 일렉트로크로믹 층(30ELC)의 적층 면과 반대되는 면 상에 적층되는 것으로, 일렉트로크로믹 층(30ELC)의 발색을 표시한다. 제 4 절연성 기판(30S-4)은 절연체이며, 고온 운영이 가능한 유리 또는 세라믹 재료를 포함할 수 있다. 상기 유리는 소다 라임 유리, 내열 유리, 강화 유리, 결정화 유리 또는 이의 2 이상의 적층 재료일 수 있다. 상기 세라믹 재료는 석영, 알루미늄 산화물, 칼슘 불화물 또는 이트륨 산화물일 수 있다. 또한, 제 4 절연성 기판(30S-4)은 캐비닛 하우징(10) 내부를 투시하기 위한 가시광선 영역의 투과도를 가질 수 있다. 즉, 제 4 절연성 기판(30S-4)은 내열성을 가지면서 투명한 유리일 수 있다. 또는, 제 4 절연성 기판(30S-4)은 상기 유리와 세라믹의 적층 구조와 같은 조합체일 수도 있다. 한편, 제 4 절연성 기판(30S-4)은 유리 또는 세라믹 재료가 아닌, 단순히 일렉트로크로믹 층(30ELC)을 보호하기 위한 보호 필름으로 대체될 수도 있다. 이러한 보호 필름은 일렉트로크로믹 층(30ELC)의 발열및 발색에도 불구하고 내구성이 견고한 투명한 재질의 필름이 사용될 수 있다. The fourth insulating substrate 30S-4 is stacked on the surface opposite to the stacking surface of the electrochromic layer 30ELC stacked on the first insulating substrate 30S-1, and the electrochromic layer 30ELC is stacked. It shows the color development of. The fourth insulating substrate 30S-4 is an insulator and may include glass or ceramic material capable of high temperature operation. The glass may be soda lime glass, heat resistant glass, tempered glass, crystallized glass or two or more laminated materials thereof. The ceramic material may be quartz, aluminum oxide, calcium fluoride or yttrium oxide. In addition, the fourth insulating substrate 30S-4 may have a transmittance of a visible light region for viewing the inside of the cabinet housing 10. That is, the fourth insulating substrate 30S-4 may be transparent glass having heat resistance. Alternatively, the fourth insulating substrate 30S-4 may be a combination such as a laminated structure of the glass and the ceramic. On the other hand, the fourth insulating substrate 30S-4 may be replaced with a protective film for protecting the electrochromic layer 30ELC, not simply a glass or ceramic material. Such a protective film may be a film of a transparent material that is durable despite the heat generation and color development of the electrochromic layer 30ELC.
도 6e를 참조하면, 면상 발열판(30)의 제 1 절연성 기판(30S-1)의 반대면 상에는 디스플레이 소자 층(30DEF)이 존재하되, 디스플레이 소자 층(30DEF)을 이루는 구성요소로서, 도 6d에서 기술한 일렉트로크로믹 층(30ELC) 및 제 4 절연성 기판(30S-4) 이외에, 제 5 절연성 기판(30S-5)을 더 포함하고 있다. 제 5 절연성 기판(30S-5)의 재질도 제 4 절연성 기판(30S-4)의 재질과 유사하다.Referring to FIG. 6E, a display element layer 30DEF is present on the opposite side of the first insulating substrate 30S-1 of the planar heating plate 30, and as a component constituting the display element layer 30DEF, FIG. 6D. In addition to the electrochromic layer 30ELC and the fourth insulating substrate 30S-4 described above, a fifth insulating substrate 30S-5 is further included. The material of the fifth insulating substrate 30S-5 is similar to that of the fourth insulating substrate 30S-4.
제 4 절연성 기판(30S-5)은 제 1 절연성 기판(30S-1)과 일렉트로크로믹 층(30ELC) 사이에 존재한다. 일렉트로크로믹 층(30ELC)은 제 5 절연성 기판(30S-5) 상에 적층되어 있다. 이때, 제 5 절연성 기판(30S-5)은 제 1 절연성 기판(30S-1)과 본딩 결합될 수 있다. 제 5 절연성 기판(30S-5)과 제 1 절연성 기판(30S-1)의 본딩 결합을 위해, 투명 접착 재질 또는 투명 접착제가 사용될 수 있다.The fourth insulating substrate 30S-5 is present between the first insulating substrate 30S-1 and the electrochromic layer 30ELC. The electrochromic layer 30ELC is laminated on the fifth insulating substrate 30S-5. In this case, the fifth insulating substrate 30S-5 may be bonded to the first insulating substrate 30S-1. In order to bond the fifth insulating substrate 30S-5 and the first insulating substrate 30S-1, a transparent adhesive material or a transparent adhesive may be used.
한편, 제 5 절연성 기판(30S-5)은 제 1 절연성 기판(30S-1)과 일정한 공극(AG) 즉 일정하게 이격된 간격을 형성할 수 있다. 이를 위해, 제 5 절연성 기판(30S-5)과 제 1 절연성 기판(30S-1) 사이에 공극(AG) 형성을 위한 스페이서(30SP)가 구비되어 있다. 스페이서(30SP)의 재질은 전술한 도 6c의 설명 중에 개시되어 있다. 제 5 절연성 기판(30S-5)과 제 1 절연성 기판(30S-1) 사이에 공극이 형성됨으로 인해, 공기층을 형성하여 열손실을 최소화하는 단열 효과를 얻을 수 있다. Meanwhile, the fifth insulating substrate 30S-5 may form a predetermined gap AG, that is, a predetermined spaced distance from the first insulating substrate 30S-1. To this end, a spacer 30SP is formed between the fifth insulating substrate 30S-5 and the first insulating substrate 30S-1 to form a gap AG. The material of the spacer 30SP is disclosed during the description of FIG. 6C described above. Since a gap is formed between the fifth insulating substrate 30S-5 and the first insulating substrate 30S-1, an air layer may be formed to obtain a heat insulating effect that minimizes heat loss.
전술한 사용자 인터페이스 모듈(11)은 디스플레이 소자 층(30DEF)의 발색을 위한 제어 정보의 입력 및 이에 따른 표시 정보를 디스플레이한다. 즉, 사용자 인터페이스 모듈(11)은 직물 처리 장치(100)의 발열을 위한 전력 제어 명령 또는 발색을 위한 제어 명령을 입력받을 수 있고, 입력된 제어 명령에 따른 결과를 표시 정보로서 디스플레이할 수도 있다. 사용자 인터페이스 모듈(11)은 발색을 위한 시간 또는 강도 제어를 위한 명령을 수신을 할 수 있는 사용자 입력부와 이의 표시를 위한 표시부를 포함할 수 있다. 제어부(도 2a의 30CC)는 사용자 인터페이스 모듈(11)로부터 수신된 제어 정보를 기초로 면상 발열판(30)에 인가되는 전력 및 시간을 제어하고, 후술될 가습 장치, 발향 장치, 제균 장치 또는 입상 발열부에 전기적으로 연결되어 이를 제어할 수도 있다. 특히, 사용자 인터페이스 모듈(11)로부터 일렉트로크로믹 층(30ELC)을 갖는 디스플레이 소자 층(30DEF)의 구동에 대한 제어 정보를 수신하면, 제어부(도 2a의 30CC)는 일렉트로크로믹 층(30ELC)에 포함된 전극에 전류를 인가하도록 제어함으로써, 디스플레이 소자 층(30DEF)이 발색되도록 한다. The above-described user interface module 11 displays input of control information for color development of the display element layer 30DEF and corresponding display information. That is, the user interface module 11 may receive a power control command for generating heat of the fabric processing apparatus 100 or a control command for color development, and display the result according to the input control command as display information. The user interface module 11 may include a user input unit capable of receiving a command for time or intensity control for color development and a display unit for displaying the same. The controller (30CC in FIG. 2A) controls the power and time applied to the planar heating plate 30 based on the control information received from the user interface module 11, and the humidification device, the smell diffusion device, the antibacterial device, or the granular heat generation to be described later. It can also be electrically connected to the unit to control it. In particular, upon receiving control information for driving the display element layer 30DEF having the electrochromic layer 30ELC from the user interface module 11, the control unit 30CC of FIG. 2A is connected to the electrochromic layer 30ELC. By controlling the application of current to the included electrodes, the display element layer 30DEF is allowed to develop.
한편, 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 직물 처리 장치는, 적어도 일 측면에 개구를 갖는 캐비닛 하우징; 상기 캐비닛 하우징의 상기 개구를 통하여 출입하는 서랍 프레임; 상기 캐비닛 하우징의 상기 개구를 개폐하고, 처리될 직물을 향하여 열 복사하는 면상 발열판을 포함하는 도어 프레임; 및 상기 면상 발열판 상에 적층되고, 상기 면상 발열판을 통해 투과되는 상기 캐비닛 하우징 내의 상기 처리될 직물을 시각적으로 가리거나, 정보 표시를 위한 디스플레이 소자 층; 상기 면상 발열판의 전력 제어를 위한 제어부를 포함하고, 상기 면상 발열판은 제 1 절연성 기판, 상기 제 1 절연성 기판의 일면 상에 형성된 도전성의 면상 발열층 및 상기 면상 발열층 상에 형성되어 전류를 인가하기 위한 전극 패턴들을 포함할 수 있다. 여기서, 캐비닛 하우징, 서랍 프레임, 도어 프레임, 제어부, 면상 발열판의 특징은 전술한 도 1a 내지 도 5를 설명하는 내용과 대응하고, 디스플레이 소자 층에 대한 특징은 전술한 도 6a 내지 6e를 설명하는 내용과 대응한다는 점에서, 상세한 설명는 생략한다. On the other hand, the fabric processing apparatus according to another embodiment of the present invention, the cabinet housing having an opening on at least one side; A drawer frame entering and exiting through the opening of the cabinet housing; A door frame including a planar heating plate which opens and closes the opening of the cabinet housing and heat radiates toward the fabric to be treated; And a display element layer laminated on the planar heating plate and visually obscuring the fabric to be processed in the cabinet housing transmitted through the planar heating plate, or for displaying information. And a control unit for power control of the planar heating plate, wherein the planar heating plate is formed on a first insulating substrate, a conductive planar heating layer formed on one surface of the first insulating substrate, and the planar heating layer to apply current. It may include electrode patterns for. Here, the characteristics of the cabinet housing, the drawer frame, the door frame, the control unit, and the planar heating plate correspond to the contents described with reference to FIGS. 1A through 5, and the features of the display element layer are described with reference to FIGS. 6A through 6E. In this regard, detailed description is omitted.
도 7은 디스플레이 소자 층(30DEF)의 동작에 따라 직물 처리 장치의 캐비닛 하우징(10)에 발색된 이미지 상태를 예시한 참조도이다. 써모크로믹 층(30THC)을 갖는 디스플레이 소자 층(30DEF)은 직물 처리 장치(100, 100')의 직물 처리 동작에 따른 온도 변화에 따라 발색이 이루어짐으로 인해, 직물 처리 장치(100, 100')의 내부 모습이 가려지도록 하거나, 발색에 의한 이미지가 표시될 수 있도록 한다. 따라서, 써모크로믹 층(30THC)을 갖는 디스플레이 소자 층(30DEF)은 직물 처리 장치(100, 100')의 직물 처리 동작에 따른 온도 변화에 종속적으로 발색이 이루어질 수 있다. FIG. 7 is a reference diagram illustrating an image state colored in the cabinet housing 10 of the fabric processing apparatus according to the operation of the display element layer 30DEF. Since the display element layer 30DEF having the thermochromic layer 30THC is colored according to the temperature change according to the fabric processing operation of the fabric processing apparatuses 100 and 100 ', the fabric processing apparatuses 100 and 100' Allows the interior of the image to be hidden or allows the image to appear in color. Therefore, the display element layer 30DEF having the thermochromic layer 30THC may be colored depending on temperature change according to the fabric processing operation of the fabric processing apparatuses 100 and 100 '.
한편, 일렉트로크로믹 층(30ELC)을 갖는 디스플레이 소자 층(30DEF)은 직물 처리 장치(100, 100')의 직물 처리 동작에 관계 없이, 사용자의 선택에 따라 일렉트로크로믹 층(30ELC)이 구동될 수 있다. 이에 따라, 일렉트로크로믹 층(30ELC)의 구동에 의해 직물 처리 장치(100, 100')의 내부 모습이 가려지도록 하거나, 발색에 의한 이미지가 표시될 수 있도록 한다. 따라서, 일렉트로크로믹 층(30ELC)는 직물 처리 장치(100, 100')의 직물 처리 동작에 무관하게, 전원을 인가함으로 인해 독립적으로 발색이 가능하다.Meanwhile, in the display element layer 30DEF having the electrochromic layer 30ELC, regardless of the fabric processing operation of the fabric processing apparatuses 100 and 100 ', the electrochromic layer 30ELC may be driven according to a user's selection. Can be. Accordingly, the internal appearance of the fabric processing apparatuses 100 and 100 'is blocked by the driving of the electrochromic layer 30ELC, or an image due to color development can be displayed. Accordingly, the electrochromic layer 30ELC may be independently colored by applying power regardless of the fabric processing operation of the fabric processing apparatuses 100 and 100 '.
전술한 실시예들에 따른 직물 처리 장치는 실내에 독립적 가전 제품으로 이동 가능하게 설치되거나 빌트인 방식으로 실내와 일체화되도록 제공될 수 있으며, 본 발명이 이에 제한되는 것은 아니다.The fabric processing apparatus according to the above-described embodiments may be provided to be integrated with the room in a built-in manner or movably installed as an independent household appliance, but the present invention is not limited thereto.
이상에서 설명한 본 발명이 전술한 실시예 및 첨부된 도면에 한정되지 않으며, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능하다는 것은, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어 명백할 것이다. The present invention described above is not limited to the above-described embodiments and the accompanying drawings, and various substitutions, modifications, and changes are possible within the scope not departing from the technical spirit of the present invention. It will be evident to those who have knowledge of.
본 발명은 의복 또는 양말과 같은 직물의 건조, 주름 펴기, 소취, 또는 스무딩과 같은 컨디션을 향상시키기 위한 산업에 이용될 수 있다.The present invention can be used in the industry for improving conditions such as drying, unwrinkling, deodorization, or smoothing of fabrics such as garments or socks.

Claims (44)

  1. 적어도 일 측면에 개구를 갖고, 적어도 타 측면에 처리될 직물을 향하여 열 복사하는 면상 발열판을 갖는 캐비닛 하우징;A cabinet housing having an opening on at least one side and a planar heating plate that radiates heat towards the fabric to be treated at least on the other side;
    상기 하우징의 상기 개구를 통하여 출입하면서 상기 개구를 개폐하는 덮개 프레임; 및A cover frame which opens and closes the opening while entering and exiting through the opening of the housing; And
    상기 면상 발열판의 전력 제어를 위한 제어부를 포함하는 직물 처리 장치.Fabric processing apparatus comprising a control unit for power control of the planar heating plate.
  2. 청구항 1에 있어서,The method according to claim 1,
    상기 면상 발열판은 제 1 절연성 기판, 상기 제 1 절연성 기판 상에 형성된 도전성의 면상 발열층 및 상기 면상 발열층 상에 형성되어 전류를 인가하기 위한 전극 패턴들을 포함하는 직물 처리 장치.The planar heating plate may include a first insulating substrate, a conductive planar heating layer formed on the first insulating substrate, and electrode patterns formed on the planar heating layer to apply current.
  3. 청구항 2에 있어서,The method according to claim 2,
    상기 제 1 절연성 기판은 소다 라임 유리, 내열 유리, 강화 유리, 결정화 유리 또는 이의 2 이상의 적층 재료를 포함하는 유리; 석영, 알루미늄 산화물, 칼슘 불화물 또는 이트륨 산화물을 포함하는 세라믹; 중 어느 하나 또는 이의 조합을 포함하는 직물 처리 장치.The first insulating substrate may include a glass including soda lime glass, heat resistant glass, tempered glass, crystallized glass, or two or more laminated materials thereof; Ceramics including quartz, aluminum oxide, calcium fluoride or yttrium oxide; Fabric processing apparatus comprising any one or a combination thereof.
  4. 청구항 2에 있어서,The method according to claim 2,
    상기 제 1 절연성 기판 및 상기 면상 발열층은 상기 캐비닛 하우징 내부를 투시하기 위한 가시광선 영역의 투과도를 갖는 직물 처리 장치.And the first insulating substrate and the planar heating layer have a transmittance of a visible light region for viewing the inside of the cabinet housing.
  5. 청구항 2에 있어서,The method according to claim 2,
    상기 면상 발열층은 5 Ω/□ 내지 50 Ω/□의 범위 내의 표면 저항을 갖는 직물 처리 장치.The planar heating layer has a surface resistance in the range of 5 Ω / □ to 50 Ω / □.
  6. 청구항 2에 있어서,The method according to claim 2,
    상기 면상 발열층은 인듐 산화물(InO2); 주석 산화물(SnO2); 인듐 주석 산화물(ITO); 아연 산화물(ZnO); 이들 산화물들 중 적어도 어느 하나를 주된 메트릭스로 하고, 상기 메트릭스에 비금속, 금속, 또는 준금속이 도핑된 재료 중 어느 하나 또는 이들의 혼합물을 포함하는 직물 처리 장치.The planar heating layer is indium oxide (InO 2 ); Tin oxide (SnO 2 ); Indium tin oxide (ITO); Zinc oxide (ZnO); A textile processing apparatus comprising at least one of these oxides as a major metric and comprising any or a mixture of materials doped with a base metal, metal, or metalloid.
  7. 청구항 2에 있어서,The method according to claim 2,
    상기 면상 발열층은 불소 도핑된 주석 산화물을 포함하는 직물 처리 장치.And the planar heating layer comprises fluorine-doped tin oxide.
  8. 청구항 2에 있어서,The method according to claim 2,
    상기 면상 발열층은 탄소 나노튜브, 그래핀, 플러린, 및 탄소 섬유 중 어느 하나 또는 이들의 혼합물을 포함하는 직물 처리 장치.The planar heating layer is fabric processing apparatus comprising any one or a mixture of carbon nanotubes, graphene, fullerene, and carbon fibers.
  9. 청구항 2에 있어서,The method according to claim 2,
    상기 면상 발열층은 상기 절연성 기판 상의 상기 캐비닛 하우징의 내부를 바라보는 측면에 형성되는 직물 처리 장치.The planar heating layer is formed on a side facing the inside of the cabinet housing on the insulating substrate.
  10. 청구항 2에 있어서,The method according to claim 2,
    상기 제1 절연성 기판과 상기 면상 발열층 사이에 유전체 버퍼층을 포함하는 직물 처리 장치.And a dielectric buffer layer between the first insulating substrate and the planar heating layer.
  11. 청구항 10에 있어서,The method according to claim 10,
    상기 유전체 버퍼층은 실리콘 산화물(SiO2), 세리아(CeO2), 알루미늄 산화물(Al2O3) 망간 산화물(MnO2), 철 산화물(Fe2O3), 마그네슘 산화물(MgO) 및 타이타늄 산화물(TiO2) 중 적어도 어느 하나를 포함하는 직물 처리 장치.The dielectric buffer layer may be formed of silicon oxide (SiO 2 ), ceria (CeO 2 ), aluminum oxide (Al 2 O 3 ) manganese oxide (MnO 2 ), iron oxide (Fe 2 O 3 ), magnesium oxide (MgO), and titanium oxide ( Textile processing apparatus comprising at least one of TiO 2 ).
  12. 청구항 2에 있어서,The method according to claim 2,
    상기 제1 절연성 기판의 상기 면상 발열층이 형성된 면의 반대면 상에, 반사층, 방열층, 단열층 또는 이들 중 2 이상의 적층 구조를 포함하는 직물 처리 장치.A fabric processing apparatus comprising a reflective layer, a heat dissipating layer, a heat insulating layer, or a laminated structure of two or more thereof, on a surface opposite to a surface on which the planar heating layer of the first insulating substrate is formed.
  13. 청구항 1에 있어서, 상기 덮개 프레임은, The method according to claim 1, The cover frame,
    상기 개구를 통하여 슬라이딩 방식으로 출입하고 상기 직물을 거치하는 본체 프레임; 및A main frame which slides in and out through the opening and mounts the fabric; And
    상기 본체 프레임에 결합되어 상기 하우징의 상기 개구를 개폐하는 덮개부를 포함하는 직물 처리 장치.And a cover part coupled to the body frame to open and close the opening of the housing.
  14. 청구항 13에 있어서,The method according to claim 13,
    상기 본체 프레임은 다단 구조를 갖는 직물 처리 장치.The fabric frame has a multi-stage structure.
  15. 청구항 1에 있어서, The method according to claim 1,
    상기 직물 처리 장치의 제어에 관한 정보를 입력 및 출력하기 위한 사용자 인터페이스 모듈을 더 포함하는 직물 처리 장치.And a user interface module for inputting and outputting information relating to the control of the fabric processing apparatus.
  16. 청구항 1에 있어서,The method according to claim 1,
    습도 센서, 초음파 가습 장치, 발향 장치 및 제균 장치 중 적어도 어느 하나를 더 포함하는 직물 처리 장치.Textile processing apparatus further comprising at least one of a humidity sensor, ultrasonic humidifier, fragrance apparatus and sterilization apparatus.
  17. 청구항 1에 있어서,The method according to claim 1,
    상기 캐비닛 하우징 내부의 공기 흐름을 유도하는 공기 흐름 유도부를 더 포함하는 직물 처리 장치.Fabric processing apparatus further comprises an air flow inducing unit for inducing air flow inside the cabinet housing.
  18. 청구항 1에 있어서,The method according to claim 1,
    적어도 하나 이상의 입상 발열부를 더 포함하는 직물 처리 장치.Fabric processing apparatus further comprising at least one granular heating portion.
  19. 청구항 18에 있어서,The method according to claim 18,
    상기 입상 발열부는 판상 스트립 구조 또는 곡면 필라 구조를 포함하는 직물 처리 장치.The granular heating portion includes a plate-like strip structure or a curved pillar structure.
  20. 적어도 일 측면에 개구를 갖는 캐비닛 하우징;A cabinet housing having an opening on at least one side;
    상기 캐비닛 하우징의 상기 개구를 통하여 출입하는 서랍 프레임;A drawer frame entering and exiting through the opening of the cabinet housing;
    상기 캐비닛 하우징의 상기 개구를 개폐하고, 상기 직물을 향하여 열 복사하는 면상 발열판을 포함하는 도어 프레임; 및A door frame that opens and closes the opening of the cabinet housing and includes a planar heating plate that radiates heat toward the fabric; And
    상기 면상 발열판의 전력 제어를 위한 제어부를 포함하는 직물 처리 장치.Fabric processing apparatus comprising a control unit for power control of the planar heating plate.
  21. 청구항 20에 있어서,The method of claim 20,
    상기 캐비닛 하우징 또는 상기 서랍 프레임에 설치되는 적어도 하나 이상의 입상 투명 발열부를 포함하는 의류 처리 장치.Clothing processing apparatus comprising at least one granular transparent heating unit installed in the cabinet housing or the drawer frame.
  22. 청구항 20에 있어서,The method of claim 20,
    상기 면상 발열판은 제 1 절연성 기판, 상기 제 1 절연성 기판 상에 형성된 도전성의 면상 발열층 및 상기 면상 발열층 상에 형성되어 전류를 인가하기 위한 전극 패턴들을 포함하는 직물 처리 장치.The planar heating plate may include a first insulating substrate, a conductive planar heating layer formed on the first insulating substrate, and electrode patterns formed on the planar heating layer to apply current.
  23. 적어도 일 측면에 개구를 갖고, 적어도 타 측면에 처리될 직물을 향하여 열 복사하는 면상 발열판을 갖는 캐비닛 하우징;A cabinet housing having an opening on at least one side and a planar heating plate that radiates heat towards the fabric to be treated at least on the other side;
    상기 면상 발열판 상에 적층되고, 상기 면상 발열판을 통해 투과되는 상기 캐비닛 하우징 내의 상기 처리될 직물을 시각적으로 가리거나, 정보를 표시하기 위한 디스플레이 소자 층;A display element layer laminated on the planar heating plate and for visually obscuring or displaying information on the fabric to be processed in the cabinet housing transmitted through the planar heating plate;
    상기 캐비닛 하우징의 상기 개구를 통하여 출입하면서 상기 개구를 개폐하는 덮개 프레임; 및A cover frame which opens and closes the opening while entering and exiting through the opening of the cabinet housing; And
    상기 면상 발열판의 전력 제어를 위한 제어부를 포함하고,A control unit for power control of the planar heating plate,
    상기 면상 발열판은 제 1 절연성 기판, 상기 제 1 절연성 기판의 일면 상에 형성된 도전성의 면상 발열층 및 상기 면상 발열층 상에 형성되어 전류를 인가하기 위한 전극 패턴들을 포함하는 직물 처리 장치.The planar heating plate may include a first insulating substrate, a conductive planar heating layer formed on one surface of the first insulating substrate, and electrode patterns formed on the planar heating layer to apply current.
  24. 청구항 23에 있어서,The method according to claim 23,
    상기 디스플레이 소자 층은 상기 제 1 절연성 기판의 상기 일면과 반대되는 타면 상에 적층된 써모크로믹(thermo-chromic) 층 및 상기 써모크로믹 층 상에 적층되어 발색을 표시하는 제2 절연성 기판을 포함하는 직물 처리 장치.The display device layer includes a thermo-chromic layer stacked on the other surface opposite to the one surface of the first insulating substrate and a second insulating substrate stacked on the thermochromic layer to display color. Fabric processing device.
  25. 청구항 24에 있어서,The method of claim 24,
    상기 디스플레이 소자 층은 상기 제 1 절연성 기판과 상기 써모크로믹 층 사이에 적층되는 제 3 절연성 기판을 더 포함하는 직물 처리 장치.And the display element layer further comprises a third insulating substrate stacked between the first insulating substrate and the thermochromic layer.
  26. 청구항 25에 있어서,The method according to claim 25,
    상기 제 3 절연성 기판과 상기 제 1 절연성 기판 사이에 공극 형성을 위한 스페이서를 더 포함하는 직물 처리 장치. And a spacer for forming voids between said third insulating substrate and said first insulating substrate.
  27. 청구항 25에 있어서,The method according to claim 25,
    상기 제 3 절연성 기판은 상기 제 1 절연성 기판과 본딩 결합된 직물 처리 장치. And the third insulating substrate is bonded to the first insulating substrate.
  28. 청구항 24 및 청구항 25 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 24 and 25,
    상기 제 2 절연성 기판 및 상기 제 3 절연성 기판 중 적어도 하나는 소다 라임 유리, 내열 유리, 강화 유리, 결정화 유리 또는 이의 2 이상의 적층 재료를 포함하는 유리; 석영, 알루미늄 산화물, 칼슘 불화물 또는 이트륨 산화물을 포함하는 세라믹; 중 어느 하나 또는 이의 조합을 포함하는 직물 처리 장치.At least one of the second insulating substrate and the third insulating substrate may include glass including soda lime glass, heat resistant glass, tempered glass, crystallized glass, or two or more laminated materials thereof; Ceramics including quartz, aluminum oxide, calcium fluoride or yttrium oxide; Fabric processing apparatus comprising any one or a combination thereof.
  29. 청구항 24 및 청구항 25 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 24 and 25,
    상기 제 2 절연성 기판 및 상기 제 3 절연성 기판 중 적어도 하나는 상기 캐비닛 하우징 내부를 투시하기 위한 가시광선 영역의 투과도를 갖는 직물 처리 장치.At least one of the second insulating substrate and the third insulating substrate has a transmittance of visible light region for seeing inside the cabinet housing.
  30. 청구항 24에 있어서,The method of claim 24,
    상기 써모크로믹 층은 이산화바나듐(VO2), 산화티타늄(Ⅲ)(Ti2O3), 산화나이오븀(NbO2) 및 황화니켈(NiS) 중 어느 하나의 물질을 포함한 직물 처리 장치.The thermochromic layer comprises a material of any one of vanadium dioxide (VO 2 ), titanium (III) oxide (Ti 2 O 3 ), niobium oxide (NbO 2 ) and nickel sulfide (NiS).
  31. 청구항 24에 있어서, The method of claim 24,
    상기 써모크로믹 층은 몰리브덴(Mo), 텅스텐(W), 니오븀(Nb), 탄탈륨(Ta), 철(Fe), 알루미늄(Al), 타이타늄(Ti), 주석(Sn), 및 니켈(Ni) 중 적어도 하나의 물질을 포함하는 도펀트(dopant)가 도핑된 직물 처리 장치.The thermochromic layer may include molybdenum (Mo), tungsten (W), niobium (Nb), tantalum (Ta), iron (Fe), aluminum (Al), titanium (Ti), tin (Sn), and nickel (Ni). A dopant-doped fabric processing apparatus comprising at least one of the materials.
  32. 청구항 24에 있어서, The method of claim 24,
    상기 써모크로믹 층은 상기 면상 발열판의 발열에 따른 온도 변화에 따라 발색이 변화되는 직물 처리 장치.The thermochromic layer is a fabric processing apparatus that the color change in accordance with the temperature change according to the heat of the planar heating plate.
  33. 청구항 23에 있어서,The method according to claim 23,
    상기 디스플레이 소자 층은 상기 제 1 절연성 기판의 상기 일면과 반대되는 타면 상에 적층된 일렉트로크로믹(electro-chromic) 층 및 상기 일렉트로크로믹 층 상에 적층되어 발색을 표시하는 제 4 절연성 기판을 포함하는 직물 처리 장치.The display element layer includes an electro-chromic layer stacked on the other surface opposite to the one surface of the first insulating substrate and a fourth insulating substrate stacked on the electrochromic layer to display color. Fabric processing device.
  34. 청구항 33에 있어서,The method according to claim 33,
    상기 디스플레이 소자 층은 상기 제 1 절연성 기판과 상기 일렉트로크로믹 층 사이에 적층되는 제 5 절연성 기판을 더 포함하는 직물 처리 장치.And the display element layer further comprises a fifth insulating substrate stacked between the first insulating substrate and the electrochromic layer.
  35. 청구항 34에 있어서,The method of claim 34, wherein
    상기 제 5 절연성 기판과 상기 제 1 절연성 기판 사이에 공극 형성을 위한 스페이서를 더 포함하는 직물 처리 장치. And a spacer for forming voids between said fifth insulating substrate and said first insulating substrate.
  36. 청구항 34에 있어서,The method of claim 34, wherein
    상기 제 5 절연성 기판은 상기 제 1 절연성 기판과 본딩 결합된 직물 처리 장치. And the fifth insulating substrate is bonded to the first insulating substrate.
  37. 청구항 33 및 청구항 34 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 33 and 34,
    상기 제 4 절연성 기판 및 상기 제 5 절연성 기판 중 적어도 하나는 소다 라임 유리, 내열 유리, 강화 유리, 결정화 유리 또는 이의 2 이상의 적층 재료를 포함하는 유리; 석영, 알루미늄 산화물, 칼슘 불화물 또는 이트륨 산화물을 포함하는 세라믹; 중 어느 하나 또는 이의 조합을 포함하는 직물 처리 장치.At least one of the fourth insulating substrate and the fifth insulating substrate may include glass including soda lime glass, heat resistant glass, tempered glass, crystallized glass, or two or more laminated materials thereof; Ceramics including quartz, aluminum oxide, calcium fluoride or yttrium oxide; Fabric processing apparatus comprising any one or a combination thereof.
  38. 청구항 33 및 청구항 34 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 33 and 34,
    상기 제 4 절연성 기판 및 상기 제 5 절연성 기판 중 적어도 하나는 상기 캐비닛 하우징 내부를 투시하기 위한 가시광선 영역의 투과도를 갖는 직물 처리 장치.At least one of the fourth insulating substrate and the fifth insulating substrate has a transmittance of a visible light region for seeing inside the cabinet housing.
  39. 청구항 33에 있어서,The method according to claim 33,
    상기 일렉트로크로믹 층은 색소계 물질, 폴리머계 물질, 금속 산화물계 물질 및 도전성 물질 중 적어도 하나를 포함하는 직물 처리 장치.And the electrochromic layer comprises at least one of a dye material, a polymer material, a metal oxide material, and a conductive material.
  40. 청구항 39에 있어서, The method of claim 39,
    상기 색소계 물질 및 폴리머계 물질로서, 아조벤젠계, 안트라퀴논계, 디아릴에텐계, 디하이드로프렌계, 디피리딘계, 스티릴계, 스티릴스피로피란계, 스피로옥사진계, 스피로티오피란계, 티오인디고이드계, 테트라티아풀바렌계, 테레프탈산계, 트리페닐메탄계, 트리페닐아민계, 나프토피란계, 바이올로겐계, 피라졸린계, 페나진계, 페닐렌디아민계, 페녹사진계, 페노티아진계, 프탈로시아닌계, 플루오란텐계, 풀기드계, 벤조피란계, 메탈로센계 물질을 포함하는 직물 처리 장치.As the pigment-based material and the polymer-based material, azobenzene-based, anthraquinone-based, diarylethene-based, dihydroprene-based, dipyridine-based, styryl-based, styrylspiropyranic-based, spiroxazine-based, spirothiopyran-based and thio-based Indigoid series, tetrathiafulbarene series, terephthalic acid series, triphenylmethane series, triphenylamine series, naphthopyran series, viologen series, pyrazoline series, phenazine series, phenylenediamine series, phenoxazine series, phenothiazine series, Textile processing apparatus comprising a phthalocyanine-based, fluoranthene-based, full-gid, benzopyran-based, metallocene-based material.
  41. 청구항 39에 있어서, The method of claim 39,
    상기 금속 산화물계 물질로서, 산화텅스텐, 산화몰리브덴, 산화이리듐, 산화인듐, 산화티타늄, 산화니켈, 산화바나듐 및 프러시안 블루를 포함하는 직물 처리 장치. A fabric processing apparatus comprising tungsten oxide, molybdenum oxide, iridium oxide, indium oxide, titanium oxide, nickel oxide, vanadium oxide, and Prussian blue as the metal oxide-based material.
  42. 청구항 39에 있어서, The method of claim 39,
    상기 도전성 물질로서, 산화티타늄, 산화아연, 산화주석, 산화지르코늄, 산화세륨, 산화이트륨, 산화붕소, 산화마그네슘, 티타늄산스트론튬, 티타늄산칼륨, 티타늄산바륨, 티타늄산칼슘, 산화칼슘, 페라이트, 산화하프늄, 산화텅스텐, 산화철, 산화구리, 산화니켈, 산화코발트, 산화바륨, 산화스트론튬, 산화바나듐 및 알루미노규산염을 포함하는 직물 처리 장치. Examples of the conductive material include titanium oxide, zinc oxide, tin oxide, zirconium oxide, cerium oxide, yttrium oxide, boron oxide, magnesium oxide, strontium titanate, potassium titanate, barium titanate, calcium titanate, calcium oxide, ferrite, Fabric processing apparatus comprising hafnium oxide, tungsten oxide, iron oxide, copper oxide, nickel oxide, cobalt oxide, barium oxide, strontium oxide, vanadium oxide and aluminosilicate.
  43. 청구항 23에 있어서, The method according to claim 23,
    상기 직물 처리 장치의 제어에 관한 정보를 입력 및 출력하기 위한 사용자 인터페이스 모듈을 더 포함하는 직물 처리 장치.And a user interface module for inputting and outputting information relating to the control of the fabric processing apparatus.
  44. 적어도 일 측면에 개구를 갖는 캐비닛 하우징;A cabinet housing having an opening on at least one side;
    상기 캐비닛 하우징의 상기 개구를 통하여 출입하는 서랍 프레임;A drawer frame entering and exiting through the opening of the cabinet housing;
    상기 캐비닛 하우징의 상기 개구를 개폐하고, 처리될 직물을 향하여 열 복사하는 면상 발열판을 포함하는 도어 프레임; 및A door frame including a planar heating plate which opens and closes the opening of the cabinet housing and heat radiates toward the fabric to be treated; And
    상기 면상 발열판 상에 적층되고, 상기 면상 발열판을 통해 투과되는 상기 캐비닛 하우징 내의 상기 처리될 직물을 시각적으로 가리거나, 정보 표시를 위한 디스플레이 소자 층;A display element layer laminated on the planar heating plate and visually obscuring the fabric to be processed in the cabinet housing transmitted through the planar heating plate, or for displaying information;
    상기 면상 발열판의 전력 제어를 위한 제어부를 포함하고,A control unit for power control of the planar heating plate,
    상기 면상 발열판은 제 1 절연성 기판, 상기 제 1 절연성 기판의 일면 상에 형성된 도전성의 면상 발열층 및 상기 면상 발열층 상에 형성되어 전류를 인가하기 위한 전극 패턴들을 포함하는 직물 처리 장치.The planar heating plate may include a first insulating substrate, a conductive planar heating layer formed on one surface of the first insulating substrate, and electrode patterns formed on the planar heating layer to apply current.
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