본 발명은 기재층; 선 격자 패턴을 포함하는 나노 와이어 그리드 편광층; 및 1 이상의 정보 식별층을 포함하되, 상기 기재층과 접하는 외측면, 기재층과 나노 와이어 그리드 편광층 사이의 내측면 및 나노 와이어 그리드 편광층과 접하는 외측면 중 적어도 하나의 위치에 정보 식별층이 1 이상 존재하도록 상기 기재층, 나노와이어 그리드 편광층 및 정보식별층이 적층된 보안필름을 제공한다.The present invention is a substrate layer; A nanowire grid polarizing layer comprising a line grid pattern; And at least one information identification layer, wherein the information identification layer is located at at least one of an outer side contacting the base layer, an inner side surface between the base layer and the nanowire grid polarization layer, and an outer side surface contacting the nanowire grid polarization layer. It provides a security film in which the base layer, the nanowire grid polarization layer and the information identification layer is laminated so that at least one exists.
먼저, 본 발명의 보안필름은 도 1 내지 6을 통해 확인할 수 있듯이 다양한 적층 구조로 제조가 가능하다. 즉, 일 예로 기재층의 일면에 정보 식별층을 적층한 후, 다른 일면에 나노 와이어 그리드 편광(이하, NWGP)층을 형성함으로써 기재층을 사이에 두고 정보 식별층과 NWGP층이 이격되어 있는 형태(도 1 참조)로 제조할 수 있다. 이때, 정보 식별층과 NWGP층의 형성순서는 반드시 이에 제한되지 않고, NWGP층을 먼저 형성한 후 정보 식별층을 형성하는 것도 가능하며, 정보 식별층은 추가적으로 기재층과 나노 와이어 그리드 편광판 사이(도 4 참조) 또는 나노와이어 그리드 편광판과 접하는 외측면(도 5 참조)에 추가로 형성할 수도 있다.First, the security film of the present invention can be produced in a variety of laminated structure as can be seen through Figures 1 to 6. That is, for example, after the information identification layer is laminated on one surface of the base layer, a nanowire grid polarization (hereinafter referred to as NWGP) layer is formed on the other side so that the information identification layer and the NWGP layer are separated from each other with the base layer interposed therebetween. (See FIG. 1). In this case, the order of formation of the information identification layer and the NWGP layer is not necessarily limited thereto, and the information identification layer may be formed after the NWGP layer is first formed, and the information identification layer may additionally be formed between the base layer and the nanowire grid polarizer (FIG. 4) or an outer surface (see FIG. 5) in contact with the nanowire grid polarizer.
또한, 기재층의 일면에 NWGP층을 형성한 후, NWGP층의 상부에 정보 식별층을 적층하여 도 2와 같은 단면 구조를 갖는 보안필름으로 제조할 수도 있고, 기재층의 일면에 정보 식별층을 먼저 형성한 후, 정보 식별층의 상면에 NWGP층을 형성하여 도 3과 같은 단면 구조를 갖는 보안필름으로 제조할 수도 있다. 이 경우 역시, 정보식별층은 어느 한 층에만 한정되어 형성될 필요는 없으며, 한 층에만 형성될 경우라도 단층 형태로 형성될 수도 있고, 2 장 이상이 합지 내지 코팅된 형태로 적층(도 6 참조)될 수도 있다. 다만, 도 2 및 도 5와 같이 NWGP 층이 기재층과 정보식별층 사이에 형성되는 것이 NWGP의 선 패턴이 손상되는 것을 최소화할 수 있다는 점에서 좀더 유리할 수는 있다.In addition, after the NWGP layer is formed on one surface of the substrate layer, the information identification layer may be laminated on the NWGP layer to manufacture a security film having a cross-sectional structure as shown in FIG. 2, or the information identification layer may be formed on one surface of the substrate layer. After forming first, the NWGP layer may be formed on the upper surface of the information identification layer to manufacture a security film having a cross-sectional structure as shown in FIG. 3. In this case, too, the information identification layer need not be limited to any one layer, and may be formed in a single layer even when only one layer is formed, and two or more sheets are laminated or coated (see FIG. 6). May be applied. However, it may be more advantageous in that the NWGP layer is formed between the base layer and the information identification layer as shown in FIGS. 2 and 5 in order to minimize the damage of the line pattern of the NWGP.
본 발명에서 보안 필름 적층시 상기 NWGP층의 경우, 열과 압력으로 패턴을 찍어 눌러 패턴을 전사하는 엠보싱 프로세스에 의해서도 형성할 수 있으나, 보다 바람직하게는 경화와 동시에 패턴을 전사하는 롤투롤 코팅 프로세스에 의한 임프린팅법을 적용할 수 있고, 정보 식별층의 적층 방법은 코팅, 인쇄, 엠보싱 등의 방법으로서 동일 기술분야에서 적용가능한 적층법이라면 제한되지 않고 사용될 수 있다.In the present invention, the NWGP layer may be formed by an embossing process of transferring a pattern by pressing a pattern with heat and pressure when laminating a security film, but more preferably by a roll-to-roll coating process of transferring a pattern simultaneously with curing. The imprinting method can be applied, and the lamination method of the information identification layer can be used without limitation as long as it is a lamination method applicable in the art as a method of coating, printing, embossing, and the like.
본 발명의 보안필름은 나노 와이어 그리드 편광층에 의한 빛의 투과와 반사 원리를 이용하는 것이므로, 특정 방향에서는 빛이 투과함에 따라 관찰되지 않던 정보 식별층의 보안요소(도 8의 오른쪽 사진 참조)가 필름의 방향을 틀어주거나 또 다른 편광필름 등의 사용에 의해 관찰될 수 있는 것(도 8의 왼쪽 사진 참조)이다. 또한, 여러 장의 정보 식별층을 동시에 포함할 경우, 방향에 따라 관찰되는 보안요소들이 변화하여 보안 기능이 더욱 향상될 수 있으며, 반사와 투과 모드를 극대화하기 위해서 매우 정밀한 공정으로 WGP의 선 패턴의 피치, 높이, 선폭 등을 제어하므로 위·변조가 용이하게 이루어질 수가 없다.Since the security film of the present invention uses the principle of light transmission and reflection by the nanowire grid polarization layer, the security element of the information identification layer that is not observed as the light transmits in a specific direction (see the right photo of FIG. 8) is a film. It can be observed by rotating the direction of or by the use of another polarizing film (see the left photo of Figure 8). In addition, when multiple layers of information identification are included at the same time, the security elements observed according to the direction may be changed to further improve the security function, and the pitch of the line pattern of the WGP is highly precise in order to maximize the reflection and transmission modes. , Height, line width, etc. are controlled, so forgery and alteration cannot be made easily.
이하, 본 발명의 보안필름을 구성하는 각의 층에 대하여 구체적으로 설명한다.Hereinafter, each layer constituting the security film of the present invention will be described in detail.
[기재층][Base layer]
본 발명의 바람직한 양태에 따르면, 상기 기재층은 투명 필름 또는 유리 필름일 수 있으며, 구체적으로, 상기 투명 필름은 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름; 폴리카보네이트 필름; 폴리프로필렌 필름; 폴리에틸렌 필름; 폴리스티렌 필름; 폴리에폭시 필름; 고리형 올레핀계 중합체(COP) 필름; 고리형 올레핀계 공중합체(COC) 필름; 폴리카보네이트계 수지와 고리형 올레핀계 중합체의 공중합체 필름; 및 폴리카보네이트계 수지와 고리형 올레핀계 공중합체의 공중합체 필름으로 구성된 군에서 선택되는 필름에서 선택될 수 있다.According to a preferred embodiment of the present invention, the base layer may be a transparent film or a glass film, specifically, the transparent film is a polyethylene terephthalate film; Polycarbonate film; Polypropylene film; Polyethylene film; Polystyrene film; Polyepoxy film; Cyclic olefin polymer (COP) film; Cyclic olefin copolymer (COC) films; Copolymer films of polycarbonate resins and cyclic olefin polymers; And it may be selected from the film selected from the group consisting of a copolymer film of the polycarbonate resin and the cyclic olefin copolymer.
상기 기재층은 패턴층과 정보 식별층을 지지하는 역할을 하며 두께는 기계적 강도 및 유연성에 있어서 유리하도록 5㎛ 내지 100㎛일 수 있으며, 보다 바람직하게는 10㎛ 내지 50㎛일 수 있다. 통상적으로 디스플레이와 같이 가혹조건에 적용되는 편광필름의 경우 3장 이상의 필름을 합지시켜 기재층으로 사용하였으므로 두께가 100㎛를 초과한다. 이에 반해 본 발명에 따른 보안필름은 가혹 조건에서의 물성보다는 보안 기능이 요구되는 것이므로 5㎛ 내지 100㎛의 두께로 박막화하여 제조되어 적용범위가 보다 확대될 수 있다.The base layer serves to support the pattern layer and the information identification layer, and the thickness may be 5 μm to 100 μm, and more preferably 10 μm to 50 μm, to favor mechanical strength and flexibility. In general, in the case of a polarizing film applied to harsh conditions such as a display, since three or more films are laminated and used as a base layer, the thickness exceeds 100 μm. On the contrary, since the security film according to the present invention is required to have a security function rather than physical properties under severe conditions, a thin film having a thickness of 5 μm to 100 μm may be manufactured to expand the scope of application.
[패턴층][Pattern Layer]
본 발명의 바람직한 양태에 따르면, 나노 와이어 그리드 편광층에 포함된 선 격자 패턴은 일정한 두께를 갖는 라인이 일정한 폭으로 평행하게 배열되어 형성한 무늬로써, 측면에서 보았을 때 그 단면은 평탄한 산과 골이 반복되는 형태를 나타낸다. 이때, 본 발명의 선 격자 패턴의 높이 즉, 산의 높이는 25 내지 300nm 이고, 오목부(골)의 폭 즉, 하나의 볼록부(산) 끝지점에서 인접한 볼록부의 시작점까지의 간격인 선폭은 5 내지 75 nm이며, 특히 편광효율을 보다 극대화하는 측면에서 Aspect(높이/선폭) ratio는 0.1 내지 3.0을 만족하는 것이 바람직하다.According to a preferred embodiment of the present invention, the line lattice pattern included in the nanowire grid polarization layer is a pattern formed by arranging lines having a constant thickness in parallel with a constant width, and when viewed from the side, the cross section has a flat peak and valleys. It shows the form to become. At this time, the height of the line grid pattern of the present invention, that is, the height of the mountain is 25 to 300nm, the width of the concave (gol), that is, the line width, which is the interval from the end of one convex (mountain) to the start of the adjacent convex portion is 5 To 75 nm, and in particular, aspect (height / line width) ratio is preferably 0.1 to 3.0 in terms of further maximizing polarization efficiency.
또한, 본 발명의 바람직한 양태에 따르면, 상기 선 격자 패턴에서 피치(pitch)값은 50 내지 150nm인 것이 바람직하다. 여기서 피치(pitch)는 임의의 산(볼록부)이 형성된 시작 부분에서 다음 산이 형성되는 시작점까지의 측정한 거리, 즉, 상기 선 격자 패턴을 이루는 볼록부의 주기를 가리킨다. 일반적으로 나노 편광필름은 피치가 가시광 파장의 절반 가량의 값을 가질 때 편광현상이 뚜렷해지며 보다 우수한 편광특성(소광비, extinction ratio)을 기대하기 위해서는 피치 값은 작을수록 이상적이다.Further, according to a preferred embodiment of the present invention, the pitch value in the line lattice pattern is preferably 50 to 150 nm. Herein, the pitch refers to the measured distance from the start of any mountain (convex) to the start point of the next mountain, that is, the period of the convex forming the line grid pattern. In general, the nano-polarizing film becomes a polarization phenomenon when the pitch has a value of about half of the visible light wavelength, and the smaller the pitch value is ideal to expect better polarization characteristics (extinction ratio).
다만, 본 발명에서 상기 선 패턴의 피치는 식각공정의 곤란함과 생산효율 저하 방지를 고려하여 50nm 이상으로 형성하는 것이 바람직하며, 특히, 본 발명에서는 정보 식별층의 보안요소가 뚜렷이 보여야 하는 반사 모드와 보안요소가 투명하게 보여야하는 투과 모드의 차이가 뚜렷하게 나타나야 하므로 피치는 150nm 이하로 제어하는 것이 바람직하다. 피치가 상기 범위내의 값으로 제어될 경우, 편광(반사 모드)와 투과 모드의 특성이 뚜렷하게 나타나므로 보안 요소로서의 기능이 보다 강화될 수 있다.However, in the present invention, the pitch of the line pattern is preferably formed to be 50 nm or more in consideration of the difficulty of the etching process and the reduction of the production efficiency, in particular, in the present invention, the reflection mode in which the security element of the information identification layer must be clearly seen. The pitch should be controlled to 150 nm or less, because the difference between the transmission mode and the security element should be transparent. When the pitch is controlled to a value within the above range, the characteristics of the polarization (reflection mode) and transmission mode are clearly seen, so that the function as a security element can be further enhanced.
한편, 본 발명의 바람직한 양태에 따르면, 상기 나노 와이어 그리드 편광층에 포함된 선 격자 패턴은 알루미늄, 구리, 크롬, 백금, 금, 은, 니켈 및 이들의 합금을 포함하는 그룹으로부터 선택된 어느 하나의 금속 입자를 포함할 수 있다. 이때, 상기 금속 입자의 입경이 지나치게 클 경우 패터닝성에 문제가 발생할 수 있으므로 100nm를 넘지 않는 것이 바람직하며, 보다 바람직하게는 입경이 1 내지 100nm일 수 있다.Meanwhile, according to a preferred embodiment of the present invention, the line grid pattern included in the nanowire grid polarizing layer is any one metal selected from the group consisting of aluminum, copper, chromium, platinum, gold, silver, nickel and alloys thereof. It may include particles. In this case, when the particle diameter of the metal particles is too large, a problem may occur in the patterning property, so that the particle size does not exceed 100 nm, and more preferably, the particle diameter may be 1 to 100 nm.
상기 나노 와이어 그리드 편광층의 선 격자 패턴은 금속 입자 단독으로 형성된 패턴일 수 있으며, 금속입자에 경화성 수지를 추가적으로 포함하여 형성된 패턴일 수도 있다. 경화성 수지를 추가적으로 포함하여 상기 선 격자 패턴을 형성할 경우에는 보다 구체적으로, 경화성 수지 내부에 금속 입자가 포함된 상태로 패턴을 형성하거나, 경화성 수지로 선 격자 패턴의 하부 골격이 형성한 후, 골격 상부에 금속입자를 10 내지 300 nm의 높이로 적층하여 패턴을 형성할 수 있다.The line lattice pattern of the nanowire grid polarization layer may be a pattern formed by metal particles alone, or may be a pattern formed by additionally including a curable resin in the metal particles. In the case of forming the line grid pattern by additionally including a curable resin, more specifically, the pattern is formed in a state in which the metal particles are contained in the curable resin, or the lower frame of the line grid pattern is formed of the curable resin, and then the skeleton Metal particles may be stacked on top of each other to form a pattern with a height of 10 to 300 nm.
본 발명에서 상기 선 격자 패턴을 금속 입자 단독으로 형성할 경우, 기재층에 금속을 일정 두께로 증착하고, 패턴을 형성한 후 드라이(dry)에칭과 같은 식각공정을 통해 선 격자를 형성시킬 수 있다. 또한, 경화성 수지를 더 포함하여 패턴을 형성할 경우, 경화성 수지 단독 또는 경화성 수지와 금속입자의 혼합물을 기재층의 일면에 도포한 후, 선 격자 모양이 형성되어 있는 스탬프 또는 패턴 몰드로 전사하고 수지를 경화시키는 단계로 패턴을 형성할 수 있다. 이때, 스탬프는 니켈 전주 도금으로 제작된 것일 수 있고, 마스터 패턴 몰드는 용융 실리카 혹은 실리콘 웨이퍼 위에 간섭 리쏘그래피 법으로 선 격자 모양이 패턴화된 것일 수 있다. 다만, 본 발명에서 선 격자 패턴을 형성하는 방법이 반드시 이에 제한되는 것은 아니다.In the present invention, when the line lattice pattern is formed by the metal particles alone, a metal lattice may be deposited on the base layer to a predetermined thickness, and the line lattice may be formed through an etching process such as dry etching after forming the pattern. . In addition, in the case of forming a pattern by further including a curable resin, the curable resin alone or a mixture of the curable resin and metal particles is applied to one surface of the base layer, then transferred to a stamp or pattern mold having a line lattice shape, and the resin The pattern may be formed by hardening. In this case, the stamp may be made of nickel electroplating, and the master pattern mold may be patterned by a line lattice pattern on an fused silica or silicon wafer by an interference lithography method. However, the method of forming the line grid pattern in the present invention is not necessarily limited thereto.
본 발명에서 경화성 수지와 금속입자를 혼합한 상태로 선 격자 패턴을 형성할 경우, 상기 금속 나노입자는 경화성 수지 내에 분산되어 있거나, 용융되어 경화성 수지와 혼합되어 있는 것일 수 있으며, 이 때, 분산물 또는 혼합물은 금속 나노입자를 전체 혼합물 중량대비 10 내지 90중량% 포함할 수 있다. 상기 금속 나노입자의 함량은 편광 및 반사효율 향상을 고려하여 10중량% 이상인 것이 바람직하나 다만 입자의 뭉침에 의한 분산성 또는 패터닝성의 저하를 방지하기 위해서는 90중량%를 초과하지 않도록 하는 것이 바람직하다.In the present invention, when the line lattice pattern is formed in a state in which the curable resin and the metal particles are mixed, the metal nanoparticles may be dispersed in the curable resin, or may be melted and mixed with the curable resin. Alternatively, the mixture may include 10 wt% to 90 wt% of the metal nanoparticles based on the total weight of the mixture. The content of the metal nanoparticles is preferably 10% by weight or more in consideration of improving polarization and reflection efficiency, but it is preferable not to exceed 90% by weight in order to prevent the dispersibility or the patterning property from deteriorating due to the aggregation of particles.
반면, 경화성 수지를 단독으로 사용하여 하부 골격을 형성한 경우라면, 경화성 수지에 의해 형성된 패턴 하부 골격의 볼록부에 금속입자를 적층시키는 단계가 후속적으로 수행되어야 한다. 금속입자를 적층시킬 때는, 우선 경화성 수지 상부에 금속층을 형성하고, 볼록부에만 선택적으로 금속층이 남아 있게 하기 위해 에칭공정을 진행하게 되는데, 금속층을 형성 후 에칭공정을 원활하게 하기 위해서는 경화성 수지에 의해 형성된 선 격자 패턴의 볼록부가 가능한 높은 것이 바람직하며, 최소 50nm는 만족하는 것이 보다 유리하다.On the other hand, when the lower skeleton is formed by using the curable resin alone, the step of laminating the metal particles on the convex portions of the pattern lower skeleton formed by the curable resin should be subsequently performed. When laminating metal particles, first, a metal layer is formed on the curable resin, and an etching process is performed so that the metal layer remains selectively on the convex portion. In order to smooth the etching process after forming the metal layer, It is preferable that the convex portion of the formed line grating pattern is as high as possible, and it is more advantageous to satisfy at least 50 nm.
경화성 수지 상부에 금속입자를 적층시키는 방법은 스퍼터링, 열증착, 전자선 증착, 또는 고분자와 금속을 동시에 식각하여 금속층을 형성하는 건식 에칭방법 등의 방법을 이용하여 형성할 수 있으나, 이에 제한되지는 않는다. 다만, 에칭 공정시 선 격자 패턴의 볼록부에만 선택적으로 금속을 형성시키기 용이하고, 충분한 편광 및 반사 효율을 나타내기 위해 에칭 후 최종 적층된 금속층의 두께는 50nm 이상이 되도록 제어하되, 금속의 산화나 필름의 유연성 저하 방지를 위하여 그 두께는 300nm를 초과하지 않도록 하는 것이 바람직하다. The method of stacking the metal particles on the curable resin may be formed using a method such as sputtering, thermal deposition, electron beam deposition, or a dry etching method of simultaneously etching a polymer and a metal to form a metal layer, but is not limited thereto. . However, in the etching process, it is easy to selectively form a metal only in the convex portion of the line lattice pattern, and in order to exhibit sufficient polarization and reflection efficiency, the thickness of the final laminated metal layer after the etching is controlled to be 50 nm or more, In order to prevent the film from falling in flexibility, it is desirable that the thickness thereof does not exceed 300 nm.
본 발명의 바람직한 양태에 따르면, 상기 경화성 수지는 UV 경화 반응에 의해 패턴을 형성할 수 있는 종류의 수지를 사용할 수 있으며 아크릴계 수지, 메타아크릴계 수지, 폴리비닐계 수지, 폴리에스테르계 수지, 스티렌계 수지, 알키드계 수지, 아미노계 수지, 폴리우레탄계 수지 및 실리콘계 수지를 포함하는 그룹으로부터 선택된 1종 이상인 것이 바람직하다. According to a preferred embodiment of the present invention, the curable resin may be a resin of a type capable of forming a pattern by UV curing reaction, acrylic resin, methacrylic resin, polyvinyl resin, polyester resin, styrene resin It is preferable that it is 1 or more types chosen from the group containing alkyd resin, amino resin, polyurethane resin, and silicone resin.
이때, 보다 구체적인 경화성 수지의 종류로는 불포화폴리에스테르, 메틸메타크릴레이트, 에틸메타크릴레이트, 이소부틸메타크릴레이트, 노말부틸메타크릴레이트, 노말부틸메틸메타크릴레이트, 아크릴산, 메타크릴산, 히드록시에틸메타크릴레이트, 히드록시프로필메타크릴레이트, 히드록시에틸아크릴레이트, 아크릴아미드, 메티롤아크릴아미드, 글리시딜메타크릴레이트, 에틸아크릴레이트, 이소부틸아크릴레이트, 노말부틸아크릴레이트, 2-에틸헥실아크릴레이트의 단독중합체, 이들의 공중합체 또는 삼원 공중합체 등이 있을 수 있다.At this time, more specific types of curable resins include unsaturated polyester, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, isobutyl methacrylate, normal butyl methacrylate, normal butyl methyl methacrylate, acrylic acid, methacrylic acid, and hydride. Hydroxyethyl methacrylate, hydroxypropyl methacrylate, hydroxyethyl acrylate, acrylamide, metyrolacrylamide, glycidyl methacrylate, ethyl acrylate, isobutyl acrylate, normal butyl acrylate, 2- Homopolymers of ethylhexyl acrylate, copolymers or terpolymers thereof, and the like.
[정보식별층] [Information identification layer]
본 발명의 바람직한 양태에 따르면, 상기 정보식별층은 홀로그램, 색변환 잉크, 형광물질, 나노 광학렌즈 및 미세문자를 포함하는 그룹으로부터 선택된 1종 이상의 보안요소를 포함하는 것일 수 있다. 본 발명에서 상기 정보 식별층을 구성하는 보안요소는 통상적인 방법에 따라 제조된 것일 수 있으며, 사용되는 용도에 따라 복수의 보안요소를 동시에 포함한 다층구조일 수 있다.According to a preferred embodiment of the present invention, the information identification layer may include one or more security elements selected from the group consisting of holograms, color conversion inks, fluorescent materials, nano-optical lenses and micro-letters. In the present invention, the security element constituting the information identification layer may be manufactured according to a conventional method, it may be a multi-layer structure including a plurality of security elements at the same time according to the use.
본 발명에서 상기 홀로그램은 일예로, 홀로그램 원판(shim)을 엠보싱하여 홀로그램 효과를 부과한 후 알루미늄 금속을 약 20 내지 100㎚ 정도로 증착시킨 반사형 홀로그램 금속층 및 상기 반사형 홀로그램 금속층 상부에 폴리에스테르, PMMA(Polymethylmethacrylate), 폴리아미드, 폴리카보네이트, 셀룰로오스계 에스테르 및 폴리아세탈 수지 등으로부터 선택된 소재로 형성된 보호층이 2 내지 6㎛ 두께로 적층된 기본 구조를 포함할 수 있다.In the present invention, the hologram is, for example, the embossed hologram disc (shim) and impart a hologram effect, and then a reflective holographic metal layer deposited on aluminum metal about 20 to 100 nm and polyester, PMMA on the reflective holographic metal layer A protective layer formed of a material selected from polymethylmethacrylate, polyamide, polycarbonate, cellulose ester, polyacetal resin, and the like may include a basic structure having a thickness of 2 to 6 μm.
또한, 상기 보호층 상부에 왁스, 실리콘 왁스, 불화탄소 수지, 실리콘 수지 등으로 이루어진 이형층과 상기 이형층 상부에 폴리에스테르, 폴리아크릴레이트, 폴리카보네이트, 셀루로오스 에스테르, 폴리아세탈 및 폴리아미드 등으로부터 선택된 1종 이상의 캐리어 필름층이 추가적으로 적층 될 수 있으며, 상기 반사형 홀로그램 금속층 하부에는 아크릴수지, 에폭시 수지, 비닐수지, 폴리이미드, 폴리에스터 수지, 우레탄 수지 중에서 선택된 1 종 이상의 접착제 층이 형성될 수 있다.In addition, a release layer made of wax, silicon wax, fluorocarbon resin, silicone resin, etc. on the protective layer and polyester, polyacrylate, polycarbonate, cellulose ester, polyacetal, polyamide, etc., on the release layer. One or more carrier film layers selected from may be further laminated, and at least one adhesive layer selected from acrylic resin, epoxy resin, vinyl resin, polyimide, polyester resin, and urethane resin may be formed under the reflective holographic metal layer. Can be.
본 발명에서 상기 정보 식별층의 보안요소로 색변환 잉크를 적용할 경우, 폴리에스터 수지에 색변환 물질로서 펄안료 가령, MERCK사 제품인 Iriodin Red, Blue, Green 등을 혼합하여 박막의 필름을 형성하여 사용할 수 있다. 이때, 상기 폴리에스터 수지는 크랙현상을 방지하고 색변환 효과를 극대화하기 위하여 분자량이 21,000 내지 26,000인 것이 바람직하며, 색변환 물질은 수지층 표면의 광택도와 평활도를 고려하여 평균 입경이 5 내지 25㎛ 인 것이 바람직하다.In the present invention, when applying the color conversion ink as a security element of the information identification layer, by mixing a pearl pigment, for example, Iriodin Red, Blue, Green, etc. manufactured by MERCK as a color conversion material to the polyester resin to form a thin film Can be used. In this case, the polyester resin preferably has a molecular weight of 21,000 to 26,000 in order to prevent cracking and maximize the color conversion effect, the color conversion material is 5 to 25㎛ average particle diameter in consideration of the gloss and smoothness of the surface of the resin layer Is preferably.
한편, 본 발명에서는 상기 정보 식별층의 보안요소로서, 가시광선(380 내지 780nm)하에서는 투명하되 비가시광선의 파장에서는 특정 색상을 발현하는 이른바 형광물질을 선택하여 적용하는 것도 가능하다. 바람직한 형광물질로는 유기 황화물(organic phosphors)을 선택할 수 있으며 형광물질을 폴리에스테르 등의 수지와 혼합하여 투명 증착층 위에 인쇄한 후, 열풍 등에 의해 건조함으로써 형광체 인쇄부를 형성하여 정보 식별층으로 사용할 수 있다.In the present invention, as the security element of the information identification layer, it is also possible to select and apply a so-called fluorescent material that is transparent under visible light (380 to 780 nm) but expresses a specific color at a wavelength of invisible light. Organic phosphors may be selected as a preferable phosphor, and the phosphor may be mixed with a resin such as polyester and printed on a transparent deposition layer, and then dried by hot air to form a phosphor printing unit to be used as an information identification layer. have.
나아가, 배경패턴에 점선 또는 망점을 밀집시킨 형태로 배치하여 14 내지 18%의 농도를 같는 스크린 톤을 형성하고, 가로 0.25 내지 0.30㎜, 세로 0.25 내지 0.30㎜ 및 간격 0.20 내지 0.29㎜의 미세문자를 삽입함으로써 현혹효과로 인해 확대경으로 확인시에만 식별가능한 보안요소를 적용할 수도 있다. 이때, 상기 미세문자의 농도는 스크린 톤의 농도보다 2 내지 3%정도로만 진하게 하는 것이 복사나 출력을 통해 재현이 불가능하게 할 수 있으나, 상기 스크린 농도 및 미세문자의 크기는 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.Further, by arranging the dotted pattern or dotted dots in the background pattern to form a screen tone having the same concentration of 14 to 18%, fine characters of 0.25 to 0.30 mm horizontal, 0.25 to 0.30 mm vertically and 0.20 to 0.29 mm spacing. By inserting the dazzle effect, the identifiable security element can be applied only when confirmed by the magnifying glass. At this time, the concentration of the fine text is only 2 to 3% thicker than the density of the screen tone may be impossible to reproduce through copying or output, the screen density and the size of the fine text is not necessarily limited thereto.
이 밖에도 본 발명의 상기 보안요소는 상술한 요소들에 제한되지 않고, 용지의 제조과정에서 특정부위에 문양이나 문자를 넣어 투과광(transmitted light)에서 동 문양이나 문자를 볼 수 있도록 만든 보안요소인 은화(Watermark) 및 용지에 삽입한 얇은 선형 필름으로 반사광에서는 잘 볼 수 없으나 투과광에서는 선명하게 식별할 수 있는 보안요소인 은선(Security thread)도 적용할 수 있다. 또한, 요판 잉크(Intaglio Ink), 자성 잉크(Magnetic Ink), 적외선 잉크(Infrared Ink), 색변환 잉크(CSI: Color-Shifting Ink) 및 메타메릭 잉크 쌍(Metameric Ink Pair) 등의 특수 잉크도 적용 대상이 될 수 있으며, Seegram®(㈜렌텍코리아)과 같은 나노광학렌즈 등을 적용할 수도 있다.In addition, the security element of the present invention is not limited to the above-described elements, a silver coin that is a security element made to see the pattern or characters in the transmitted light (transmitted light) by inserting a pattern or a character on a specific part in the manufacturing process of the paper It is a thin linear film inserted in watermark and paper, and it is hard to see in reflected light, but security thread, which is clearly visible in transmitted light, can also be applied. In addition, special inks such as Intaglio Ink, Magnetic Ink, Infrared Ink, Color-Shifting Ink (CSI), and Metameric Ink Pair are also applied. It can be a target, and nano-optic lenses such as Seegram® can be applied.