WO2016027028A1 - Device for obtaining fingerprints - Google Patents

Device for obtaining fingerprints Download PDF

Info

Publication number
WO2016027028A1
WO2016027028A1 PCT/FR2015/052204 FR2015052204W WO2016027028A1 WO 2016027028 A1 WO2016027028 A1 WO 2016027028A1 FR 2015052204 W FR2015052204 W FR 2015052204W WO 2016027028 A1 WO2016027028 A1 WO 2016027028A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
winding
sensor
acquisition
finger
fingerprint
Prior art date
Application number
PCT/FR2015/052204
Other languages
French (fr)
Inventor
Jean-François Mainguet
Original Assignee
Commissariat A L'energie Atomique Et Aux Energies Alternatives
Safran
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Commissariat A L'energie Atomique Et Aux Energies Alternatives, Safran filed Critical Commissariat A L'energie Atomique Et Aux Energies Alternatives
Publication of WO2016027028A1 publication Critical patent/WO2016027028A1/en

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06VIMAGE OR VIDEO RECOGNITION OR UNDERSTANDING
    • G06V40/00Recognition of biometric, human-related or animal-related patterns in image or video data
    • G06V40/10Human or animal bodies, e.g. vehicle occupants or pedestrians; Body parts, e.g. hands
    • G06V40/12Fingerprints or palmprints
    • G06V40/1382Detecting the live character of the finger, i.e. distinguishing from a fake or cadaver finger
    • G06V40/1394Detecting the live character of the finger, i.e. distinguishing from a fake or cadaver finger using acquisition arrangements
    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06VIMAGE OR VIDEO RECOGNITION OR UNDERSTANDING
    • G06V40/00Recognition of biometric, human-related or animal-related patterns in image or video data
    • G06V40/10Human or animal bodies, e.g. vehicle occupants or pedestrians; Body parts, e.g. hands
    • G06V40/12Fingerprints or palmprints
    • G06V40/13Sensors therefor
    • G06V40/1318Sensors therefor using electro-optical elements or layers, e.g. electroluminescent sensing

Definitions

  • the present application relates to the field of electronic devices in general, and more particularly relates to the field of fingerprint acquisition devices. Presentation of the prior art
  • Various devices and methods have been proposed for performing an electronic acquisition of a fingerprint, that is to say to provide an image of the pattern formed by the crests and troughs of the skin of a finger, of several fingers, or from the palm of the hand.
  • optical sensors, capacitive sensors, thermal sensors, ultrasonic sensors, and electric field sensors have been proposed.
  • TFT Thin Film Transistor
  • transistor TFT Thin Film Transistor
  • transistors formed by successive deposition of conductive, insulating and semiconductive layers on the support substrate.
  • the semiconductor channel-forming region of the transistor is produced by depositing a layer of a semiconductor material, for example hydrogenated amorphous silicon or polycrystalline silicon (polycrystalline rendering after annealing, for example).
  • IGZO of the "Indium Gallium Zinc Oxide" - indium gallium zinc oxide
  • this deposit may be preceded by a deposit of a conductive layer for forming a gate electrode, source or drain of the transistor.
  • the optical, thermal and capacitive impression sensors made in TFT technology have the advantage of being relatively inexpensive, in particular by virtue of the use of a support substrate made of a low-cost material such as glass (instead of a monocrystalline silicon substrate generally used to make transistors), and to be easily integrable in many types of electronic devices, and in particular in devices already using TFT technology to perform other functions, for example to make screens.
  • a fingerprint acquisition device may include one or more fraud protection devices.
  • a relatively common method of fraud is to affix on the sensor an artificial reproduction of the fingerprint, for example a fake finger made by molding in a material such as clay, modeling clay, gelatin or gelatin. silicone.
  • False finger detectors have been proposed in which the electrical conductivity of the finger is measured by means of electrodes arranged in contact with the finger. This method has the disadvantage of requiring contact between the user's finger and at least one electrode of the false detector fingers. This can pose practical design problems, and in the long run, reliability problems of the fingerprint acquisition device. In addition, this method of detection, widespread, has already been bypassed by some fraudsters who use false fingers in materials with electrical conductivities substantially identical to those of human skin.
  • a magnetic field fingerprint acquisition device comprising a plurality of pixels each comprising a coil and means for measuring the inductance of this coil.
  • This document indicates that inductance measurements can be used to detect fraud attempts, but does not explain how to perform such detections.
  • a disadvantage of this fingerprint acquisition device lies in its very great complexity of implementation, if it is desired to acquire images at a resolution usable by the usual fingerprint recognition devices. For example, if it is desired to acquire images at a resolution of 500 pixels per inch or more, is not a inter pixel ⁇ 50.8 microns or less, each reel must fit into a lower zone of width equal to or 50.8 ⁇ m. As a result, the coils inevitably have a low number of turns, and therefore a low sensitivity. In addition, because of their small size, the coils generate a magnetic field on a shallow depth.
  • such coils do not allow to create a penetrating magnetic field in the inner layers of the skin.
  • such a sensor only makes it possible to obtain images at resolutions very much lower than those which can typically be obtained with optical, thermal or capacitive sensors made using TFT technology.
  • an embodiment provides a device for acquiring fingerprints or palmar, comprising: a fingerprint sensor comprising, on a support substrate, a plurality of finger acquisition cells, each cell comprising a photoelectric, pyroelectric, capacitive or piezoelectric conversion element, and at least one TFT transistor; and a false finger detector having at least one conductive winding and a measuring circuit of a magnitude representative of the inductance of this winding, wherein the winding is disposed above the substrate.
  • the winding and the sensor are superimposed.
  • the device comprises several windings superimposed on acquisition zones that are distinct from the sensor.
  • the winding and the sensor are not superimposed.
  • the senor is a scroll sensor, having an acquisition surface smaller than the surface of the impression to be acquired.
  • the assembly formed by the sensor and the winding is coated with an insulating protective layer.
  • the thickness of the protective insulating layer above the winding is less than 50 ⁇ m and preferably less than 10 ⁇ m.
  • the winding is made of a transparent conductive material.
  • each cell comprises a photoelectric conversion element, and the winding is in an opaque conductive material.
  • the inner end of the winding is connected to an application node of a reference potential of a subacute cell.
  • the acquisition cells are arranged in a matrix.
  • the substrate is transparent. According to one embodiment, the inductance measurement operations carried out by the measurement circuit and the fingerprint acquisition operations by the sensor are not implemented simultaneously.
  • the acquisition of a fingerprint by the sensor comprises several successive phases of acquisition of portions of the cavity, these successive phases being separated in pairs by a phase of measuring the inductance of the sensor. 'winding.
  • Figure 1 is a schematic top view of an example of an embodiment of a fingerprint acquisition device
  • Figure 2 is an enlarged schematic sectional view of a portion of the fingerprint acquisition device of Figure 1;
  • Figure 3 is a schematic top view of an alternative embodiment of a fingerprint acquisition device
  • Figure 4 is a schematic top view of another alternative embodiment of a fingerprint acquisition device.
  • FIG. 5 is a diagram illustrating, in block form, an example of a control method of a fingerprint acquisition device of the type described in relation to FIGS. 1 to 4.
  • Figure 1 is a schematic top view of an example of an embodiment of a device 100 for acquiring fingerprints.
  • the device 100 comprises an optical impression sensor 110, thermal, capacitive or pressure, made in TFT technology.
  • the impression sensor 110 comprises, on a support substrate 112, for example an insulating substrate, a plurality of elementary acquisition cells 114 each comprising at least one photoelectric conversion element, pyroelectric, capacitive or piezoelectric, and a TFT transistor. control of this element.
  • the cells are for example regularly distributed on the substrate with a pitch between
  • the senor 110 comprises a plurality of cells 114 arranged in rows and columns.
  • the sensor 110 comprises six rows and five columns.
  • the sensor 110 comprises 200 to 400 lines and 300 to 500 columns.
  • Such a sensor is for example suitable for static acquisition, that is to say to acquire an image of the impression without the user's finger moving relative to the sensor.
  • the sensor 110 may comprise a single row of cells 114, or a small number of lines, for example 2 to 10 lines.
  • Such a sensor is for example adapted to a scrolling acquisition, that is to say to acquire an image of the fingerprint in several sections when the finger of the user scrolls with respect to the sensor.
  • the device 100 further comprises a circuit 116 (CTRL) for controlling the elementary cells 114 of the sensor 110, and a circuit 118 (RD) for reading the output values of the cells 114.
  • CTRL circuit 116
  • RD circuit 118
  • the control circuit 116 and the read circuit 118 are adapted to simultaneously simultaneously control and read the cells 114 of the same line of the sensor 110, the different lines of the sensor 110 can be read successively.
  • the device 100 further comprises a conductive winding 130 disposed above the sensor 110, the ends of which are connected to a circuit 132 for measuring the inductance of this winding, or a magnitude representative of the inductance of this winding.
  • the circuit 132 is adapted to apply a voltage or a current across the winding 130, and to measure a current / voltage phase shift to deduce the value of the inductance of the winding 130.
  • winding 130 is preferably a planar winding, that is to say that the different turns of the winding are disposed substantially in the same plane, in the same conductive level of the device, an additional conductive level can be provided, for connect the inner end of the winding to the circuit 132.
  • the outer dimensions of the winding 130 are substantially identical to the dimensions of the sensor 110.
  • the described embodiments are not limited to to this particular case.
  • the winding may be smaller than the sensor and be disposed opposite a central portion of the sensor.
  • the winding 130 preferably comprises a high number of turns, for example greater than 4 and preferably greater than 10, or even greater than 100, in order to increase its own value of inductance and thus the sensitivity of the system. Note that the number of turns of the winding 130 can be conditioned by the minimum track width that can be formed in the considered technology.
  • a winding in A planar spiral consisting of 100 turns, having a conductive track width of 3 ⁇ m and an inter-turn spacing of 3 ⁇ m wide, has a bulk equivalent to that of a disk of 1.2 mm diameter. If several conductive levels are available to carry out the winding, the number of turns may be increased, or the surface space decreased. Alternatively, a magnetic material may be added around the winding and / or in the center of the winding, to increase the detection sensitivity.
  • the inventors have found that the presence of a real finger above winding 130 modifies the value of its inductance, whereas the presence of a false finger does not modify or modify it in different proportions.
  • the winding 130 and the circuit 132 thus form elements of a false finger detector.
  • the inventors have found that a winding having a vacuum inductance of 19.4 ⁇ sees its inductance rise to 20.540 ⁇ in the presence of a real finger placed above the winding, then that the presence of a false finger made of a printed paper or silicone material above the winding, reduces the inductance to a value of 19.8 ⁇ .
  • the detector may further comprise a unit (not shown) for processing the measurements provided by the circuit 132, adapted to determine, from these measurements, whether a real finger is placed above the winding 130.
  • the winding 130 is preferably disposed in an area of the device 100 above which the user poses or inevitably passes his finger during a fingerprint acquisition. This avoids fraudulent use in which a user would place a real finger on the false finger detector, and a false finger on the fingerprint sensor, to deceive the security device.
  • the winding 130 may be replaced by a plurality of smaller surface windings distributed over the surface of the sensor so as to ensure that under normal conditions of use the user's finger covers at least one winding.
  • it can be provided to check the consistency between the detection carried out via the conductive winding (s), and the image of the impression.
  • the conductive winding 130 may be coated with an insulating passivation layer (not visible in FIG. 1), for example a protective lacquer or a layer of nitride or silicon oxide, providing the device 100 with a high degree of robustness.
  • an insulating passivation layer for example a protective lacquer or a layer of nitride or silicon oxide, providing the device 100 with a high degree of robustness.
  • the distance between the winding 130 and the user's finger that is to say the distance between the average plane of the winding 130 and the upper face of the device 100 is relatively low, for example less than 50 ⁇ m and preferably less than 10 ⁇ m.
  • FIG. 2 is an enlarged schematic sectional view of an exemplary embodiment of the fingerprint acquisition device 100 of FIG. 1. More particularly, FIG. 2 is a schematic view of an elementary cell 114 and FIG. a portion of the winding 130, according to the sectional plane F2 of FIG.
  • the senor 110 is an optical sensor made of TFT technology.
  • the substrate 114 is a transparent substrate, for example made of glass.
  • Each cell 114 of the sensor 110 comprises a photoelectric conversion element 201 and at least one access transistor or transistor 203 for controlling this element.
  • the element 201 comprises a phototransistor 205 and a capacity 207 for storing the photogenerated charges by the phototransistor 205.
  • the phototransistor 205 comprises a stack comprising, in order from the surface of the substrate 112, a conductive grid 209, an insulator gate 211, and a semiconductor region 213 for channel formation. At its ends, the channel forming region 213 is respectively connected to a source conductive electrode 215 and a drain conductor electrode 217.
  • the capacitor 207 includes a stack comprising, in order from the surface of the substrate 112, a first conductive electrode 219 connected to the gate 209 of the phototransistor 205, an insulating region 221 formed in the same insulating level as the gate insulator 211 of the phototransistor 205 and a second conductive electrode 223 connected to the drain electrode 217 of the phototransistor 205.
  • the access transistor 203 comprises a stack comprising, in order from the surface of the substrate, a conductive grid 225 formed in the same direction. conductive level as the gate 209, a gate insulator 227 formed in the same insulating level as the regions 211 and 221, and a semiconductor region 229 channel forming, formed in the same semiconductor level as the region 213.
  • the channel forming region 229 is respectively connected to a source conductive electrode 231 and a drain conductor electrode 233.
  • the gate electrodes 209 and 225 of the transistors 205 and 203 are formed in a first non-transparent conductive level, for example aluminum or molybdenum
  • the lower electrode 219 of the capacitor 207 is formed in a first transparent conductive level by example of the ITO (of the English "Indium Tin Oxide" - indium tin oxide)
  • the source and drain electrodes 231 and 233 of the transistor 203 are formed in the same second non-transparent conductive level, for example aluminum or molybdenum
  • the electrodes 215, 217 and 223 are formed in the same second transparent conductive level, for example ITO.
  • the assembly of the cell 114 comprising the phototransistor 205, the capacitor 207 and the access transistor 203 is covered by an insulating layer 235, this layer being surmounted, facing the transistor 203, by a screen opaque 237, for example aluminum or molybdenum.
  • the conductive winding 130 is formed above the insulating layer 235, in a third transparent conductive level, for example in ITO.
  • a fourth conductive level (not visible in FIG. 2), for example a transparent conductive level, can be provided for connecting the end Inside the winding 130 to the impedance measuring circuit 132.
  • the inner end of the winding 130 can be connected to an available reference potential in a pixel or elementary acquisition cell. acente, for example the mass, which avoids the realization of an additional layer specifically to connect this inner end to the circuit 132.
  • a transparent passivation layer 239 covers the entire structure comprising the sensor 110 and the winding 130.
  • the operation of the fingerprint acquisition device 100 of FIG. 2 is as follows.
  • the user places a finger on or above the upper surface of the passivation layer 239.
  • a backlight light source not shown, disposed on the underside side of the substrate 112, illuminates the finger through the device 100
  • the backlighting light passes in particular through the device 100 at the level of the capacitor 207, which consists solely of transparent layers and which is not surmounted by an opaque layer.
  • the conductive winding 130 is made in a transparent conductive level, it does not prevent the passage of light from the backlight source.
  • the light is then reflected by the finger towards the phototransistor 205, with more or less attenuation depending on whether the finger portion above the cell 114 corresponds to a peak or a hollow of the skin of the finger.
  • the light reflected by the finger is converted into electric charges by the phototransistor 205. These charges are stored in the capacitor 207 and can be read by an external circuit, for example the circuit 118 of Figure 1, via the transistor. 203.
  • the provision of a transparent conductive winding 130 advantageously makes it possible to arrange the winding 130 as close as possible the fingerprint acquisition area, and preferably facing the fingerprint acquisition area, without disturbing the operation of the fingerprint sensor.
  • the phototransistor 205 and the capacitor 207 may be replaced by a pyroelectric element (not shown) to provide a thermal sensor.
  • the sensor 110 does not require a backlight light source for its operation, and the device 100 may be opaque.
  • the conductive winding 130 can then be formed in a non-transparent conductive level, for example aluminum or molybdenum, preferably near the elementary cells acquisition of imprint, for example in the central position.
  • the winding 130 may be of a non-transparent material, for example aluminum or molybdenum.
  • the winding 130 can then advantageously be formed in the same level as the opaque screen 237 of FIG. 2.
  • the winding 130 and the opaque screen 237 of FIG. 2 are combined, that is to say that, in each cell, the winding 130 covers the transistor 203 and serves as an opaque mask to prevent the photo-generation of electric charges by the transistor 203.
  • FIG. 3 is a view from above schematically illustrating an alternative embodiment of the fingerprint acquisition device of FIGS. 1 and 2.
  • the fingerprint acquisition device 300 comprises a scrolling fingerprint sensor 310, that is to say to say a sensor having an acquisition area smaller than the impression area to be acquired.
  • the user scrolls in front of the sensor (or the sensor scrolls in front of the finger of the user) so that the sensor can acquire a complete image of the fingerprint.
  • the sensor 310 may be an optical sensor, thermal, capacitive or pressure, made in TFT technology, for example a sensor of the type described in connection with Figures 1 and 2.
  • the device 300 further comprises a false finger detector of the type described in relation with FIGS. 1 and 2, that is to say based on an inductance measurement.
  • the false finger detector comprises two conductive windings 330 and 330 'disposed respectively upstream and downstream of the sensor 310 with respect to the direction of movement of the finger in front of the sensor 310.
  • the windings 330 and 330 ' may be the same or similar.
  • the dimensions and the position of the windings 330 and 330 ' are preferably chosen so that the user can not scroll his finger in front of the sensor 310 without also passing in front of the windings 330 and 330'.
  • the area occupied by the sensor 310 and the windings 330 and 330 ' is smaller than the surface of a fingerprint, for example less than 1 cm 2.
  • each of the windings 330 and 330 ' has external dimensions of the same order as those of the sensor
  • the windings 330 and 330 ' are not arranged opposite the sensor 310, they can be made of a non-transparent conductive material, for example copper or aluminum, even if the sensor 310 is an optical sensor.
  • the prediction of two conductive windings increases the reliability detection.
  • the device 300 may comprise a single conductive winding placed upstream or downstream of the sensor 310 relative to the direction of travel of the finger, or comprise a number of conductive windings greater than two.
  • the windings 330 and 330 ' may have dimensions, and therefore different inductance values.
  • FIG. 4 is a view from above schematically illustrating another variant embodiment of the fingerprint acquisition device 100 of FIGS. 1 and 2.
  • the fingerprint acquisition device 400 of FIG. 4 comprises elements that are common with FIG. the device 100 of Figure 1. In the following, only the differences between the devices of Figures 1 and 4 will be detailed.
  • the device 400 comprises an optical, thermal, capacitive or pressure fingerprint sensor 110, made of TFT technology, similar or identical to that of FIG. 1.
  • the matrix of elementary cells 114 is divided into several sub-matrices each comprising several cells 114, corresponding to several acquisition zones distinct from the sensor, four zones 412a, 412b, 412c and 412d in the example of FIG. 4, each acquisition zone being adapted to perform a static acquisition of a part of the fingerprint or the palm of the user.
  • the device 400 further comprises a circuit 116
  • CTRL for controlling the elementary cells 114
  • RD circuit 118
  • the circuits 116 and 118 are for example identical or similar to those of the device 100 of FIG.
  • the device 400 further comprises a conductive winding 430 disposed above each of the acquisition zones of the sensor 110, ie four conductive windings 430 in the example of FIG. 4.
  • Each conductive winding 430 of the device 400 is for example identical or similar to the winding 130 of the device 100 of FIG. non-limiting example, each winding 430 has outer dimensions substantially identical to those of the acquisition area above which it is located.
  • Each winding 430 has its ends connected to a circuit 132 for measuring the inductance of this winding.
  • the windings 430 and the circuit 132 form elements of a false finger detector.
  • an object for example a finger
  • the finger When an object, for example a finger, it may or may not cover an acquisition zone.
  • the finger can cover most of the area 412a, and not cover or cover only a small portion of the areas 412b, 412c and 412d.
  • the detection of real finger will be positive in the zone 412a and negative in the other zones.
  • the device can then check the coherence between the image acquired by the sensor 110 and the inductance measurements made by the circuit 132.
  • the decision of authenticity of the finger (or the palm) can be taken independently for each area covered by the finger. If all the areas that provided part of the fingerprint image are considered valid, the acquired fingerprint can be considered authentic.
  • zones having provided a part of the image of the impression are considered as invalid, an alarm can be triggered.
  • This makes it possible to detect, in the same acquisition phase, the presence on a part of the surface of the sensor, of an authentic finger, and, on another part of the surface of the sensor, of a false. A number of false detections may possibly be tolerated. Spatial and temporal consolidations can be planned to improve the robustness of the system.
  • each zone of the sensor may be between 2 and 100 mm 2.
  • the area and the number of zones can be adapted according to the intended use.
  • a sensor intended for the acquisition of a fingerprint may have a size of approximately 13 ⁇ 20 mm, and may be divided into 6 to 12 zones each surmounted by a conductive winding.
  • a sensor for acquisition of the fingerprint of four fingers simultaneously can have a size of about 80x80 mm, and be divided into 64 to 256 zones each surmounted by a conductive winding.
  • the inventors have determined that, in fingerprint acquisition devices of the type described with reference to FIGS. 1 to 4, it is preferable not to make an inductance measurement of the conductive winding (s) of the detector. false fingers at the same time as one acquires a fingerprint via the fingerprint sensor.
  • the application of a voltage or a current across the conductor winding to measure its inductance may indeed cause, at the level of the TFT transistors of the fingerprint sensor, electromagnetic interferences or disturbances likely to cause malfunctions of the sensor.
  • a second false finger detection operation can also be implemented just after the acquisition of the fingerprint.
  • an alternation of false finger detection operations and fingerprint acquisition operations can be provided, preferably at a relatively high frequency, for example greater than or equal to 10 Hz.
  • the acquisition of an image of a fingerprint may comprise several successive phases of acquisition of portions of the fingerprint.
  • slices or lines of the image of the finger are successively acquired by the sensor 310.
  • lines of the image of the Finger can be acquired and read successively by the sensor 110.
  • FIG. 5 is a diagram illustrating, in the form of blocks, a nonlimiting example of such a method of controlling a fingerprint acquisition device comprising an inductance-type false-finger detector of the type described in FIG. relationship with Figure 3.
  • the device is for example in a standby mode, and monitors the possible arrival of a finger above the sensor. This detection can be performed by measuring the inductance of a conductive winding of the device, or by any other suitable means.
  • a step 503 for detecting a false finger, comprising measuring the inductance of a conductive winding of the device, is implemented.
  • step 505 the device determines whether the inductance value measured in step 503 is likely to correspond to the presence of a false finger on the sensor. This determination can be made by checking whether the inductance value is lower than a low threshold, corresponding to the presence, above the winding, of a material insufficiently conductive compared to a real finger, for example a false latex finger, or greater than a high threshold, corresponding to the presence, above the winding, of a material too conductive compared to a real finger, for example a false metal finger.
  • a false finger detection counter may be incremented in a step 507 (CPT). Alternatively, an alarm can be triggered at this stage. The process can then proceed to step 509.
  • step 509 an image viewed by the fingerprint sensor of the device, corresponding to a portion of the image of the fingerprint, is acquired and stored.
  • a step 511 (FINGER STILL PRESENT?)
  • the device checks whether a finger is still present above the sensor. If a finger is still present, steps 503 to 511 are repeated. If the finger is no longer present, the acquisition process ends. The image of the impression can then be reconstructed during a step 513, from the image portions acquired during the successive iterations of the step 509.
  • the device can also, in taking into account the value of the false finger detection counter (step 507), decide whether or not to trigger an alarm. By way of example, a false detection error rate of less than or equal to 1% may be acceptable.
  • TFT structures described with reference to FIG. 2 Other types of TFT structures may be provided, for example TFT structures in which the gate electrodes of the transistors are disposed on the side of the semiconductor layer opposite to the support substrate.
  • the described embodiments are not limited to the particular examples described above of arrangement of the conductive winding (s) of the false finger detector with respect to the fingerprint sensor.
  • the described embodiments are not limited to the aforementioned examples of control methods of the fingerprint acquisition device.
  • the modes described embodiments are not limited to this particular case. Depending on the circumstances, it will be possible to simultaneously perform the false finger detection by inductance measurement and the acquisition of an image of the fingerprint.
  • the embodiments described can be adapted to adapted devices. to simultaneously acquire the fingerprints of several fingers of a user, or to acquire the imprint of the palm of a user.
  • the sensor 110 may comprise 1400 to 1600 lines and 1500 to 1700 columns of elementary cells, and, to achieve a device for acquiring a palm footprint (fingerprint of the palm or the entire hand), the sensor 110 may comprise 2600 to 2800 lines and 3900 to 4100 columns.

Abstract

The invention relates to a device (100) for obtaining finger or palm prints, comprising: a print sensor (110) provided with, on a supporting substrate (112), a plurality of cells (114) for obtaining prints, each cell (114) comprising a photoelectric, pyroelectric, capacitive or piezoelectric conversion element (201), and at least one TFT transistor; and a false finger detector comprising at least one conductive winding (130) and a circuit (132) for measuring a variable representing the inductance of said winding (130).

Description

DISPOSITIF D 'ACQUISITION D 'EMPREINTES DIGITALES  DEVICE FOR ACQUIRING DIGITAL IMPRESSIONS
La présente demande de brevet revendique la priorité de la demande de brevet français FR14/57928 qui sera considérée comme faisant partie intégrante de la présente description. The present patent application claims the priority of the French patent application FR14 / 57928 which will be considered as an integral part of the present description.
Domaine Field
La présente demande concerne le domaine des dispositifs électroniques de façon générale, et vise plus particulièrement le domaine des dispositifs d'acquisition d'empreintes digitales. Exposé de l'art antérieur  The present application relates to the field of electronic devices in general, and more particularly relates to the field of fingerprint acquisition devices. Presentation of the prior art
Divers dispositifs et méthodes ont été proposés pour réaliser une acquisition électronique d'une empreinte digitale, c'est-à-dire pour fournir une image du motif formé par les crêtes et creux de la peau d'un doigt, de plusieurs doigts, ou de la paume de la main. On a notamment proposé des capteurs optiques, des capteurs capacitifs, des capteurs thermiques, des capteurs à ultrasons, et des capteurs à champ électrique.  Various devices and methods have been proposed for performing an electronic acquisition of a fingerprint, that is to say to provide an image of the pattern formed by the crests and troughs of the skin of a finger, of several fingers, or from the palm of the hand. In particular, optical sensors, capacitive sensors, thermal sensors, ultrasonic sensors, and electric field sensors have been proposed.
On s'intéresse ici plus particulièrement aux capteurs d'empreintes digitales optiques, thermiques, capacitifs ou à pression, réalisés en technologie TFT (de l'anglais "Thin Film Transistor" - transistor en couches minces), c'est-à-dire comportant, sur un substrat de support, une ou plusieurs cellules élémentaires d'acquisition, chaque cellule comportant un élément de conversion photoélectrique, pyroélectrique, capacitif, ou piézoélectrique, et un ou plusieurs transistors TFT permettant de commander cet élément. Par transistor TFT, on entend ici des transistors formés par dépôts successifs de couches conductrices, isolantes et semiconductrices sur le substrat de support. En particulier, dans un transistor TFT, la région semiconductrice de formation de canal du transistor est réalisée par dépôt d'une couche d'un matériau semiconducteur, par exemple du silicium amorphe hydrogéné, du silicium polycristallin (rendu polycristallin après un recuit par exemple) , ou encore un matériau de type IGZO (de l'anglais "Indium Gallium Zinc Oxyde" - oxyde d'indium gallium zinc), ce dépôt pouvant être précédé d'un dépôt d'une couche conductrice servant à former une électrode de grille, de source ou de drain du transistor. Les capteurs d'empreintes optiques, thermiques et capacitifs réalisés en technologie TFT présentent l'avantage d'être relativement peu onéreux, notamment grâce à l'utilisation d'un substrat de support en un matériau à faible coût tel que le verre (au lieu d'un substrat en silicium monocristallin généralement utilisé pour réaliser des transistors), et d'être facilement intégrables dans de nombreux types de dispositifs électroniques, et en particulier dans des dispositifs utilisant déjà la technologie TFT pour réaliser d'autres fonctions, par exemple pour réaliser des écrans d' affichage . We are more particularly interested in optical, thermal, capacitive or pressure fingerprint sensors, made in TFT (Thin Film Transistor) technology, that is to say comprising, on a support substrate, one or more elementary acquisition cells, each cell comprising a photoelectric, pyroelectric, capacitive conversion element, or piezoelectric, and one or more TFT transistors for controlling this element. By transistor TFT is meant here transistors formed by successive deposition of conductive, insulating and semiconductive layers on the support substrate. In particular, in a TFT transistor, the semiconductor channel-forming region of the transistor is produced by depositing a layer of a semiconductor material, for example hydrogenated amorphous silicon or polycrystalline silicon (polycrystalline rendering after annealing, for example). or a type of material IGZO (of the "Indium Gallium Zinc Oxide" - indium gallium zinc oxide), this deposit may be preceded by a deposit of a conductive layer for forming a gate electrode, source or drain of the transistor. The optical, thermal and capacitive impression sensors made in TFT technology have the advantage of being relatively inexpensive, in particular by virtue of the use of a support substrate made of a low-cost material such as glass (instead of a monocrystalline silicon substrate generally used to make transistors), and to be easily integrable in many types of electronic devices, and in particular in devices already using TFT technology to perform other functions, for example to make screens.
Outre le capteur d'empreintes proprement dit, un dispositif d'acquisition d'empreintes digitales peut comprendre un ou plusieurs dispositifs de protection contre les fraudes. Une méthode de fraude relativement répandue consiste à apposer sur le capteur une reproduction artificielle de l'empreinte d'un doigt, par exemple un faux doigt réalisé par moulage dans un matériau tel que l'argile, la pâte à modeler, la gélatine ou le silicone. In addition to the fingerprint sensor itself, a fingerprint acquisition device may include one or more fraud protection devices. A relatively common method of fraud is to affix on the sensor an artificial reproduction of the fingerprint, for example a fake finger made by molding in a material such as clay, modeling clay, gelatin or gelatin. silicone.
On a proposé des détecteurs de faux doigts dans lesquels on mesure la conductivité électrique du doigt par l'intermédiaire d'électrodes disposées au contact du doigt. Cette méthode présente l'inconvénient de nécessiter un contact entre le doigt de l'utilisateur et au moins une électrode du détecteur de faux doigts. Ceci peut poser des problèmes pratiques de conception, et à long terme, des problèmes de fiabilité du dispositif d'acquisition d'empreintes digitales. En outre, cette méthode de détection, largement répandue, a déjà été contournée par certains fraudeurs qui utilisent des faux doigts en des matériaux présentant des conductivités électriques sensiblement identiques à celles de la peau humaine. False finger detectors have been proposed in which the electrical conductivity of the finger is measured by means of electrodes arranged in contact with the finger. This method has the disadvantage of requiring contact between the user's finger and at least one electrode of the false detector fingers. This can pose practical design problems, and in the long run, reliability problems of the fingerprint acquisition device. In addition, this method of detection, widespread, has already been bypassed by some fraudsters who use false fingers in materials with electrical conductivities substantially identical to those of human skin.
Il a en outre été proposé, dans le document WO2014/015095, un dispositif d'acquisition d'empreintes digitales à champ magnétique, comportant une pluralité de pixels comportant chacun une bobine et des moyens de mesure de l'inductance de cette bobine. Ce document indique que les mesures d'inductance peuvent être utilisées pour détecter des tentatives de fraude, mais n'explique toutefois pas comment effectuer de telles détections. Un inconvénient de ce dispositif d'acquisition d'empreintes digitales réside dans sa très grande complexité de réalisation, si l'on souhaite acquérir des images à une résolution exploitable par les dispositifs de reconnaissance d'empreintes digitales usuels. A titre d'exemple, si on souhaite acquérir des images à une résolution de 500 pixels par pouce ou plus, soit un pas inter¬ pixel de 50,8 um ou moins, chaque bobine doit tenir dans une zone de largeur inférieure ou égale à 50,8 um. Il en résulte que les bobines ont inévitablement un faible nombre de tours, et donc une faible sensibilité. En outre, du fait de leur petite taille, les bobines génèrent un champ magnétique sur une faible profondeur.It has also been proposed in WO2014 / 015095, a magnetic field fingerprint acquisition device comprising a plurality of pixels each comprising a coil and means for measuring the inductance of this coil. This document indicates that inductance measurements can be used to detect fraud attempts, but does not explain how to perform such detections. A disadvantage of this fingerprint acquisition device lies in its very great complexity of implementation, if it is desired to acquire images at a resolution usable by the usual fingerprint recognition devices. For example, if it is desired to acquire images at a resolution of 500 pixels per inch or more, is not a inter pixel ¬ 50.8 microns or less, each reel must fit into a lower zone of width equal to or 50.8 μm. As a result, the coils inevitably have a low number of turns, and therefore a low sensitivity. In addition, because of their small size, the coils generate a magnetic field on a shallow depth.
En particulier, de telles bobines ne permettent pas de créer un champ magnétique pénétrant dans les couches internes de la peau. En pratique, un tel capteur ne permet d'obtenir des images qu'à des résolutions très nettement inférieures à celles que l'on peut typiquement obtenir avec des capteurs optiques, thermiques ou capacitifs réalisés en technologie TFT. In particular, such coils do not allow to create a penetrating magnetic field in the inner layers of the skin. In practice, such a sensor only makes it possible to obtain images at resolutions very much lower than those which can typically be obtained with optical, thermal or capacitive sensors made using TFT technology.
Résumé summary
Ainsi, un mode de réalisation prévoit un dispositif d'acquisition d'empreintes digitales ou palmaires, comprenant : un capteur d'empreintes comportant, sur un substrat de support, une pluralité de cellules d'acquisition d'empreintes, chaque cellule comportant un élément de conversion photoélectrique, pyroélectrique, capacitif ou piézoélectrique, et au moins un transistor TFT ; et un détecteur de faux doigts comportant au moins un enroulement conducteur et un circuit de mesure d'une grandeur représentative de l'inductance de cet enroulement, dans lequel l'enroulement est disposé au-dessus du substrat. Thus, an embodiment provides a device for acquiring fingerprints or palmar, comprising: a fingerprint sensor comprising, on a support substrate, a plurality of finger acquisition cells, each cell comprising a photoelectric, pyroelectric, capacitive or piezoelectric conversion element, and at least one TFT transistor; and a false finger detector having at least one conductive winding and a measuring circuit of a magnitude representative of the inductance of this winding, wherein the winding is disposed above the substrate.
Selon un mode de réalisation, l'enroulement et le capteur sont superposés .  According to one embodiment, the winding and the sensor are superimposed.
Selon un mode de réalisation, le dispositif comprend plusieurs enroulements superposés à des zones d'acquisition distinctes du capteur.  According to one embodiment, the device comprises several windings superimposed on acquisition zones that are distinct from the sensor.
Selon un mode de réalisation, l'enroulement et le capteur ne sont pas superposés .  According to one embodiment, the winding and the sensor are not superimposed.
Selon un mode de réalisation, le capteur est un capteur à défilement, présentant une surface d'acquisition inférieure à la surface de l'empreinte à acquérir.  According to one embodiment, the sensor is a scroll sensor, having an acquisition surface smaller than the surface of the impression to be acquired.
Selon un mode de réalisation, l'ensemble formé par le capteur et l'enroulement est revêtu d'une couche isolante de protection.  According to one embodiment, the assembly formed by the sensor and the winding is coated with an insulating protective layer.
Selon un mode de réalisation, l'épaisseur de la couche isolante de protection au-dessus de l'enroulement est inférieure à 50 um et de préférence inférieure à 10 um.  According to one embodiment, the thickness of the protective insulating layer above the winding is less than 50 μm and preferably less than 10 μm.
Selon un mode de réalisation, l'enroulement est en un matériau conducteur transparent.  According to one embodiment, the winding is made of a transparent conductive material.
Selon un mode de réalisation, chaque cellule comprend un élément de conversion photoélectrique, et l'enroulement est en un matériau conducteur opaque .  According to one embodiment, each cell comprises a photoelectric conversion element, and the winding is in an opaque conductive material.
Selon un mode de réalisation, l'extrémité intérieure de l'enroulement est reliée à un noeud d'application d'un potentiel de référence d'une cellule sous- acente .  According to one embodiment, the inner end of the winding is connected to an application node of a reference potential of a subacute cell.
Selon un mode de réalisation, les cellules d'acquisition sont disposées en matrice.  According to one embodiment, the acquisition cells are arranged in a matrix.
Selon un mode de réalisation, le substrat est transparent. Selon un mode de réalisation, les opérations de mesure d'inductance effectuées par le circuit de mesure et les opérations d'acquisition d'empreinte par le capteur ne sont pas mises en oeuvre simultanément. According to one embodiment, the substrate is transparent. According to one embodiment, the inductance measurement operations carried out by the measurement circuit and the fingerprint acquisition operations by the sensor are not implemented simultaneously.
Selon un mode de réalisation, l'acquisition d'une empreinte digitale par le capteur comprend plusieurs phases successives d'acquisition de portions de l'empreinte, ces phases successives étant séparées deux à deux par une phase de mesure de l'inductance de l'enroulement.  According to one embodiment, the acquisition of a fingerprint by the sensor comprises several successive phases of acquisition of portions of the cavity, these successive phases being separated in pairs by a phase of measuring the inductance of the sensor. 'winding.
Brève description des dessins Brief description of the drawings
Ces caractéristiques et avantages, ainsi que d'autres, seront exposés en détail dans la description suivante de modes de réalisation particuliers faite à titre non limitatif en relation avec les figures jointes parmi lesquelles :  These and other features and advantages will be set forth in detail in the following description of particular embodiments in a non-limiting manner with reference to the accompanying drawings in which:
la figure 1 est une vue de dessus schématique d'un exemple d'un mode de réalisation d'un dispositif d'acquisition d'empreintes digitales ;  Figure 1 is a schematic top view of an example of an embodiment of a fingerprint acquisition device;
la figure 2 est une vue en coupe schématique agrandie d'une portion du dispositif d'acquisition d'empreintes digitales de la figure 1 ;  Figure 2 is an enlarged schematic sectional view of a portion of the fingerprint acquisition device of Figure 1;
la figure 3 est une vue de dessus schématique d'une variante de réalisation d'un dispositif d'acquisition d'empreintes digitales ;  Figure 3 is a schematic top view of an alternative embodiment of a fingerprint acquisition device;
la figure 4 est une vue de dessus schématique d'une autre variante de réalisation d'un dispositif d'acquisition d'empreintes digitales ; et  Figure 4 is a schematic top view of another alternative embodiment of a fingerprint acquisition device; and
la figure 5 est un diagramme illustrant, sous forme de blocs, un exemple d'un procédé de commande d'un dispositif d'acquisition d'empreintes digitales du type décrit en relation avec les figures 1 à 4.  FIG. 5 is a diagram illustrating, in block form, an example of a control method of a fingerprint acquisition device of the type described in relation to FIGS. 1 to 4.
Description détaillée  detailed description
Par souci de clarté, de mêmes éléments ont été désignés par de mêmes références aux différentes figures et, de plus, comme cela est habituel dans la représentation des circuits intégrés, les diverses figures ne sont pas tracées à l'échelle. Par ailleurs, dans la suite de la description, sauf indication contraire, les termes "approximativement", "sensiblement", "environ", et "de l'ordre de", etc., signifient "à 20% près", et des références directionnelles telles que "supérieur", "inférieur", "surmontant", "au-dessus", etc., s'appliquent à des dispositifs orientés de la façon illustrée dans les vues correspondantes, étant entendu que, dans la pratique, ces dispositifs peuvent être orientés différemment. For the sake of clarity, the same elements have been designated by the same references in the various figures and, moreover, as is customary in the representation of the integrated circuits, the various figures are not drawn to scale. By elsewhere, in the remainder of the description, unless otherwise indicated, the terms "approximately", "substantially", "about", and "of the order of", etc., mean "to within 20%", and references such as "upper", "lower", "overlying", "over", etc., apply to devices oriented in the manner illustrated in the corresponding views, it being understood that, in practice, such devices can be oriented differently.
La figure 1 est une vue de dessus schématique d'un exemple d'un mode de réalisation d'un dispositif 100 d'acquisition d'empreintes digitales.  Figure 1 is a schematic top view of an example of an embodiment of a device 100 for acquiring fingerprints.
Le dispositif 100 comprend un capteur d'empreintes 110 optique, thermique, capacitif ou à pression, réalisé en technologie TFT. Le capteur d'empreintes 110 comprend, sur un substrat de support 112, par exemple un substrat isolant, une pluralité de cellules élémentaires d'acquisition 114 comportant chacune au moins un élément de conversion photoélectrique, pyroélectrique, capacitif ou piézoélectrique, et un transistor TFT de commande de cet élément. Les cellules sont par exemple régulièrement réparties sur le substrat avec un pas compris entre The device 100 comprises an optical impression sensor 110, thermal, capacitive or pressure, made in TFT technology. The impression sensor 110 comprises, on a support substrate 112, for example an insulating substrate, a plurality of elementary acquisition cells 114 each comprising at least one photoelectric conversion element, pyroelectric, capacitive or piezoelectric, and a TFT transistor. control of this element. The cells are for example regularly distributed on the substrate with a pitch between
10 et 100 um. Dans l'exemple représenté, le capteur 110 comprend une pluralité de cellules 114 disposées en lignes et en colonnes. Les modes de réalisation décrits ne se limitent pas à l'exemple schématique de la figure 1 dans lequel le capteur 110 comprend six lignes et cinq colonnes. A titre d'exemple non limitatif, le capteur 110 comprend 200 à 400 lignes et 300 à 500 colonnes. Un tel capteur est par exemple adapté à une acquisition statique, c'est-à-dire à acquérir une image de l'empreinte sans que le doigt de l'utilisateur ne bouge par rapport au capteur. A titre de variante, le capteur 110 peut comprendre une seule ligne de cellules 114, ou un faible nombre de lignes, par exemple 2 à 10 lignes. Un tel capteur est par exemple adapté à une acquisition à défilement, c'est-à-dire à acquérir une image de l'empreinte en plusieurs tronçons lorsque le doigt de l'utilisateur défile par rapport au capteur. Dans cet exemple, le dispositif 100 comprend en outre un circuit 116 (CTRL) de commande des cellules élémentaires 114 du capteur 110, et un circuit 118 (RD) de lecture des valeurs de sortie des cellules 114. A titre d'exemple non limitatif, le circuit de commande 116 et le circuit de lecture 118 sont adaptés à commander simultanément et à lire simultanément les cellules 114 d'une même ligne du capteur 110, les différentes lignes du capteur 110 pouvant être lues successivement. 10 and 100 μm. In the example shown, the sensor 110 comprises a plurality of cells 114 arranged in rows and columns. The embodiments described are not limited to the schematic example of FIG. 1 in which the sensor 110 comprises six rows and five columns. By way of non-limiting example, the sensor 110 comprises 200 to 400 lines and 300 to 500 columns. Such a sensor is for example suitable for static acquisition, that is to say to acquire an image of the impression without the user's finger moving relative to the sensor. Alternatively, the sensor 110 may comprise a single row of cells 114, or a small number of lines, for example 2 to 10 lines. Such a sensor is for example adapted to a scrolling acquisition, that is to say to acquire an image of the fingerprint in several sections when the finger of the user scrolls with respect to the sensor. In this example, the device 100 further comprises a circuit 116 (CTRL) for controlling the elementary cells 114 of the sensor 110, and a circuit 118 (RD) for reading the output values of the cells 114. As a nonlimiting example , the control circuit 116 and the read circuit 118 are adapted to simultaneously simultaneously control and read the cells 114 of the same line of the sensor 110, the different lines of the sensor 110 can be read successively.
Selon un aspect d'un mode de réalisation, le dispositif 100 comprend en outre un enroulement conducteur 130 disposé au- dessus du capteur 110, dont les extrémités sont reliées à un circuit 132 de mesure de l'inductance de cet enroulement, ou d'une grandeur représentative de l'inductance de cet enroulement. A titre d'exemple, le circuit 132 est adapté à appliquer une tension ou un courant aux bornes de l'enroulement 130, et à mesurer un déphasage courant/tension pour en déduire la valeur de l'inductance de l'enroulement 130. L'enroulement 130 est de préférence un enroulement planaire, c'est-à-dire que les différentes spires de l'enroulement sont disposées sensiblement dans un même plan, dans un même niveau conducteur du dispositif, un niveau conducteur supplémentaire pouvant être prévu, pour relier l'extrémité intérieure de l'enroulement au circuit 132. Dans l'exemple représenté, vu de dessus, les dimensions extérieures de l'enroulement 130 sont sensiblement identiques aux dimensions du capteur 110. Les modes de réalisation décrits ne se limitent toutefois pas à ce cas particulier. A titre de variante, en vue de dessus, l'enroulement peut être plus petit que le capteur et être disposé en regard d'une partie centrale du capteur. L'enroulement 130 comprend de préférence un nombre de spires élevé, par exemple supérieur à 4 et de préférence supérieur à 10, voire supérieur à 100, afin d'augmenter sa valeur propre d'inductance et ainsi la sensibilité du système. On notera que le nombre de spires de l'enroulement 130 peut être conditionné par la largeur de piste minimale qui peut être formée dans la technologie considérée. A titre d'exemple, un enroulement en spirale planaire composé de 100 spires, ayant une largeur de piste conductrice de 3 um et un espacement inter-spires de 3 um de large, présente un encombrement équivalent à celui d'un disque de 1,2 mm de diamètre. Si on dispose de plusieurs niveaux conducteurs pour réaliser l'enroulement, le nombre de spires peut être augmenté, ou l'encombrement en surface diminué. A titre de variante, un matériau magnétique peut être ajouté autour de l'enroulement et/ou au centre de l'enroulement, pour augmenter la sensibilité de détection. According to one aspect of an embodiment, the device 100 further comprises a conductive winding 130 disposed above the sensor 110, the ends of which are connected to a circuit 132 for measuring the inductance of this winding, or a magnitude representative of the inductance of this winding. For example, the circuit 132 is adapted to apply a voltage or a current across the winding 130, and to measure a current / voltage phase shift to deduce the value of the inductance of the winding 130. winding 130 is preferably a planar winding, that is to say that the different turns of the winding are disposed substantially in the same plane, in the same conductive level of the device, an additional conductive level can be provided, for connect the inner end of the winding to the circuit 132. In the example shown, seen from above, the outer dimensions of the winding 130 are substantially identical to the dimensions of the sensor 110. However, the described embodiments are not limited to to this particular case. Alternatively, in top view, the winding may be smaller than the sensor and be disposed opposite a central portion of the sensor. The winding 130 preferably comprises a high number of turns, for example greater than 4 and preferably greater than 10, or even greater than 100, in order to increase its own value of inductance and thus the sensitivity of the system. Note that the number of turns of the winding 130 can be conditioned by the minimum track width that can be formed in the considered technology. For example, a winding in A planar spiral consisting of 100 turns, having a conductive track width of 3 μm and an inter-turn spacing of 3 μm wide, has a bulk equivalent to that of a disk of 1.2 mm diameter. If several conductive levels are available to carry out the winding, the number of turns may be increased, or the surface space decreased. Alternatively, a magnetic material may be added around the winding and / or in the center of the winding, to increase the detection sensitivity.
Les inventeurs ont constaté que la présence d'un vrai doigt au-dessus de l'enroulement 130 modifie la valeur de son inductance, alors que la présence d'un faux doigt ne la modifie pas ou la modifie dans des proportions différentes. L'enroulement 130 et le circuit 132 forment ainsi des éléments d'un détecteur de faux doigt. A titre d'exemple non limitatif, les inventeurs ont constaté qu'un enroulement présentant une inductance à vide de 19,4 μΗ voit son inductance passer à 20,540 μΗ en présence d'un vrai doigt placé au-dessus de l'enroulement, alors que la présence d'un faux doigt en un matériau de type papier imprimé ou silicone au-dessus de l'enroulement, ramène l'inductance à une valeur de 19,8 μΗ. Le détecteur peut en outre comprendre une unité (non représentée) de traitement des mesures fournies par le circuit 132, adapté à déterminer, à partir de ces mesures, si un vrai doigt est placé au-dessus de l'enroulement 130. L'enroulement 130 est de préférence disposé dans une zone du dispositif 100 au- dessus de laquelle l'utilisateur pose ou passe inévitablement son doigt lors d'une acquisition d'empreinte digitale. Ceci permet d'éviter une utilisation frauduleuse dans laquelle un utilisateur placerait un vrai doigt sur le détecteur de faux doigt, et un faux doigt sur le capteur d'empreintes, en vue de tromper le dispositif de sécurité. A titre de variante, l'enroulement 130 peut être remplacé par plusieurs enroulements de plus petite surface, répartis sur la surface du capteur de façon à garantir que, dans des conditions normales d'utilisation, le doigt de l'utilisateur recouvre au moins un enroulement. De plus, pour augmenter la robustesse aux fraudes, on peut prévoir de vérifier la cohérence entre la détection effectuée via le ou les enroulements conducteurs, et l'image de l'empreinte. The inventors have found that the presence of a real finger above winding 130 modifies the value of its inductance, whereas the presence of a false finger does not modify or modify it in different proportions. The winding 130 and the circuit 132 thus form elements of a false finger detector. By way of nonlimiting example, the inventors have found that a winding having a vacuum inductance of 19.4 μΗ sees its inductance rise to 20.540 μΗ in the presence of a real finger placed above the winding, then that the presence of a false finger made of a printed paper or silicone material above the winding, reduces the inductance to a value of 19.8 μΗ. The detector may further comprise a unit (not shown) for processing the measurements provided by the circuit 132, adapted to determine, from these measurements, whether a real finger is placed above the winding 130. The winding 130 is preferably disposed in an area of the device 100 above which the user poses or inevitably passes his finger during a fingerprint acquisition. This avoids fraudulent use in which a user would place a real finger on the false finger detector, and a false finger on the fingerprint sensor, to deceive the security device. Alternatively, the winding 130 may be replaced by a plurality of smaller surface windings distributed over the surface of the sensor so as to ensure that under normal conditions of use the user's finger covers at least one winding. In addition, to increase robustness to fraud, it can be provided to check the consistency between the detection carried out via the conductive winding (s), and the image of the impression.
Un avantage d'un tel détecteur de faux doigt est que le doigt n'a pas besoin d'être en contact avec l'enroulement conducteur 130 pour permettre son authentification. Ainsi, l'enroulement conducteur 130 peut être revêtu d'une couche isolante de passivation (non visible sur la figure 1) , par exemple un vernis protecteur ou une couche de nitrure ou d'oxyde de silicium, procurant une grande robustesse au dispositif 100. De préférence, pour permettre une détection fiable, la distance entre l'enroulement 130 et le doigt de l'utilisateur, c'est-à-dire la distance entre le plan moyen de l'enroulement 130 et la face supérieure du dispositif 100, est relativement faible, par exemple inférieure à 50 um et de préférence inférieure à 10 um.  An advantage of such a false finger detector is that the finger does not need to be in contact with the conductive winding 130 to enable its authentication. Thus, the conductive winding 130 may be coated with an insulating passivation layer (not visible in FIG. 1), for example a protective lacquer or a layer of nitride or silicon oxide, providing the device 100 with a high degree of robustness. Preferably, to allow reliable detection, the distance between the winding 130 and the user's finger, that is to say the distance between the average plane of the winding 130 and the upper face of the device 100 is relatively low, for example less than 50 μm and preferably less than 10 μm.
La figure 2 est une vue en coupe schématique agrandie d'un exemple de réalisation du dispositif d'acquisition d'empreintes digitales 100 de la figure 1. Plus particulièrement, la figure 2 est une vue schématique d'une cellule élémentaire 114 et d'une portion de l'enroulement 130, selon le plan de coupe F2 de la figure 1.  FIG. 2 is an enlarged schematic sectional view of an exemplary embodiment of the fingerprint acquisition device 100 of FIG. 1. More particularly, FIG. 2 is a schematic view of an elementary cell 114 and FIG. a portion of the winding 130, according to the sectional plane F2 of FIG.
Dans cet exemple, le capteur 110 est un capteur optique réalisé en technologie TFT. Le substrat 114 est un substrat transparent, par exemple en verre. Chaque cellule 114 du capteur 110 comprend un élément de conversion photoélectrique 201 et au moins un transistor d'accès ou transistor 203 de commande de cet élément. L'élément 201 comprend un phototransistor 205 et une capacité 207 de stockage des charges photogénérées par le phototransistor 205. Le phototransistor 205 comprend un empilement comportant, dans l'ordre à partir de la surface du substrat 112, une grille conductrice 209, un isolant de grille 211, et une région semiconductrice 213 de formation de canal. A ses extrémités, la région de formation de canal 213 est reliée respectivement à une électrode conductrice de source 215 et à une électrode conductrice de drain 217. La capacité 207 comprend un empilement comportant, dans l'ordre à partir de la surface du substrat 112, une première électrode conductrice 219 connectée à la grille 209 du phototransistor 205, une région isolante 221 formée dans le même niveau isolant que l'isolant de grille 211 du phototransistor 205, et une deuxième électrode conductrice 223 connectée à l'électrode de drain 217 du phototransistor 205. Le transistor d'accès 203 comprend un empilement comportant, dans l'ordre à partir de la surface du substrat, une grille conductrice 225 formée dans le même niveau conducteur que la grille 209, un isolant de grille 227 formé dans le même niveau isolant que les régions 211 et 221, et une région semiconductrice 229 de formation de canal, formée dans le même niveau semiconducteur que la région 213. A ses extrémités, la région de formation de canal 229 est reliée respectivement à une électrode conductrice de source 231 et à une électrode conductrice de drain 233. Dans cet exemple, les électrodes de grille 209 et 225 des transistors 205 et 203 sont formées dans un premier niveau conducteur non transparent, par exemple de l'aluminium ou du molybdène, l'électrode inférieure 219 de la capacité 207 est formée dans un premier niveau conducteur transparent, par exemple de l'ITO (de l'anglais "Indium Tin Oxyde" - oxyde d' indium étain) , les électrodes de source et drain 231 et 233 du transistor 203 sont formées dans un même deuxième niveau conducteur non transparent, par exemple de l'aluminium ou du molybdène, et les électrodes 215, 217 et 223 sont formées dans un même deuxième niveau conducteur transparent, par exemple de l'ITO.In this example, the sensor 110 is an optical sensor made of TFT technology. The substrate 114 is a transparent substrate, for example made of glass. Each cell 114 of the sensor 110 comprises a photoelectric conversion element 201 and at least one access transistor or transistor 203 for controlling this element. The element 201 comprises a phototransistor 205 and a capacity 207 for storing the photogenerated charges by the phototransistor 205. The phototransistor 205 comprises a stack comprising, in order from the surface of the substrate 112, a conductive grid 209, an insulator gate 211, and a semiconductor region 213 for channel formation. At its ends, the channel forming region 213 is respectively connected to a source conductive electrode 215 and a drain conductor electrode 217. The capacitor 207 includes a stack comprising, in order from the surface of the substrate 112, a first conductive electrode 219 connected to the gate 209 of the phototransistor 205, an insulating region 221 formed in the same insulating level as the gate insulator 211 of the phototransistor 205 and a second conductive electrode 223 connected to the drain electrode 217 of the phototransistor 205. The access transistor 203 comprises a stack comprising, in order from the surface of the substrate, a conductive grid 225 formed in the same direction. conductive level as the gate 209, a gate insulator 227 formed in the same insulating level as the regions 211 and 221, and a semiconductor region 229 channel forming, formed in the same semiconductor level as the region 213. At its ends, the channel forming region 229 is respectively connected to a source conductive electrode 231 and a drain conductor electrode 233. In this example, the the gate electrodes 209 and 225 of the transistors 205 and 203 are formed in a first non-transparent conductive level, for example aluminum or molybdenum, the lower electrode 219 of the capacitor 207 is formed in a first transparent conductive level by example of the ITO (of the English "Indium Tin Oxide" - indium tin oxide), the source and drain electrodes 231 and 233 of the transistor 203 are formed in the same second non-transparent conductive level, for example aluminum or molybdenum, and the electrodes 215, 217 and 223 are formed in the same second transparent conductive level, for example ITO.
Dans l'exemple représenté, l'ensemble de la cellule 114 comprenant le phototransistor 205, la capacité 207 et le transistor d'accès 203 est recouvert par une couche isolante 235, cette couche étant surmontée, en regard du transistor 203, par un écran opaque 237, par exemple en aluminium ou en molybdène. In the example shown, the assembly of the cell 114 comprising the phototransistor 205, the capacitor 207 and the access transistor 203 is covered by an insulating layer 235, this layer being surmounted, facing the transistor 203, by a screen opaque 237, for example aluminum or molybdenum.
Dans cet exemple, l'enroulement conducteur 130 est formé au-dessus de la couche isolante 235, dans un troisième niveau conducteur transparent, par exemple en ITO. Un quatrième niveau conducteur (non visible sur la figure 2) , par exemple un niveau conducteur transparent, peut être prévu pour relier l'extrémité intérieure de l'enroulement 130 au circuit de mesure d'impédance 132. A titre de variante avantageuse, l'extrémité intérieure de l'enroulement 130 peut être reliée à un potentiel de référence disponible dans un pixel ou cellule élémentaire d'acquisition sous- acente, par exemple la masse, ce qui évite la réalisation d'une couche supplémentaire spécifiquement pour relier cette extrémité intérieure au circuit 132. In this example, the conductive winding 130 is formed above the insulating layer 235, in a third transparent conductive level, for example in ITO. A fourth conductive level (not visible in FIG. 2), for example a transparent conductive level, can be provided for connecting the end Inside the winding 130 to the impedance measuring circuit 132. As an advantageous variant, the inner end of the winding 130 can be connected to an available reference potential in a pixel or elementary acquisition cell. acente, for example the mass, which avoids the realization of an additional layer specifically to connect this inner end to the circuit 132.
Une couche de passivation transparente 239 recouvre l'ensemble de la structure comprenant le capteur 110 et l'enroulement 130.  A transparent passivation layer 239 covers the entire structure comprising the sensor 110 and the winding 130.
Le fonctionnement du dispositif d'acquisition d'empreintes digitales 100 de la figure 2 est le suivant. L'utilisateur place un doigt sur ou au-dessus de la surface supérieure de la couche de passivation 239. Une source lumineuse de rétroéclairage, non représentée, disposée du côté de la face inférieure du substrat 112, éclaire le doigt à travers le dispositif 100. Dans l'exemple de la figure 2, la lumière de rétroéclairage passe notamment à travers le dispositif 100 au niveau de la capacité 207, qui est constituée uniquement de couches transparentes et qui n'est pas surmontée par une couche opaque. L'enroulement conducteur 130 étant réalisé dans un niveau conducteur transparent, il n'empêche pas le passage de la lumière provenant de la source de rétroéclairage. La lumière est alors réfléchie par le doigt en direction du phototransistor 205, avec une atténuation plus ou moins importante selon que la portion de doigt située au-dessus de la cellule 114 correspond à une crête ou à un creux de la peau du doigt. La lumière réfléchie par le doigt est convertie en charges électriques par le phototransistor 205. Ces charges sont stockées dans la capacité 207 et peuvent être lues par un circuit extérieur, par exemple le circuit 118 de la figure 1, par l'intermédiaire du transistor d'accès 203.  The operation of the fingerprint acquisition device 100 of FIG. 2 is as follows. The user places a finger on or above the upper surface of the passivation layer 239. A backlight light source, not shown, disposed on the underside side of the substrate 112, illuminates the finger through the device 100 In the example of FIG. 2, the backlighting light passes in particular through the device 100 at the level of the capacitor 207, which consists solely of transparent layers and which is not surmounted by an opaque layer. The conductive winding 130 is made in a transparent conductive level, it does not prevent the passage of light from the backlight source. The light is then reflected by the finger towards the phototransistor 205, with more or less attenuation depending on whether the finger portion above the cell 114 corresponds to a peak or a hollow of the skin of the finger. The light reflected by the finger is converted into electric charges by the phototransistor 205. These charges are stored in the capacitor 207 and can be read by an external circuit, for example the circuit 118 of Figure 1, via the transistor. 203.
On notera que dans le cas d'un capteur d'empreintes optique, du type décrit en relation avec la figure 2, la prévision d'un enroulement conducteur 130 transparent permet avantageusement de pouvoir disposer l'enroulement 130 au plus près de la zone d'acquisition d'empreintes, et de préférence en regard de la zone d'acquisition d'empreintes, sans perturber le fonctionnement du capteur d'empreintes. Note that in the case of an optical impression sensor, of the type described in relation to FIG. 2, the provision of a transparent conductive winding 130 advantageously makes it possible to arrange the winding 130 as close as possible the fingerprint acquisition area, and preferably facing the fingerprint acquisition area, without disturbing the operation of the fingerprint sensor.
A titre de variante, le phototransistor 205 et la capacité 207 peuvent être remplacés par un élément pyroélectrique (non représenté) pour réaliser un capteur thermique. Dans ce cas, le capteur 110 ne nécessite pas de source lumineuse de rétroéclairage pour son fonctionnement, et le dispositif 100 peut être opaque. L'enroulement conducteur 130 peut alors être formé dans un niveau conducteur non transparent, par exemple en aluminium ou en molybdène, de préférence à proximité des cellules élémentaires d'acquisition d'empreinte, par exemple en position centrale .  Alternatively, the phototransistor 205 and the capacitor 207 may be replaced by a pyroelectric element (not shown) to provide a thermal sensor. In this case, the sensor 110 does not require a backlight light source for its operation, and the device 100 may be opaque. The conductive winding 130 can then be formed in a non-transparent conductive level, for example aluminum or molybdenum, preferably near the elementary cells acquisition of imprint, for example in the central position.
Par ailleurs, on notera que dans le cas d'un capteur optique, si l'enroulement 130 est disposé de façon qu'une quantité suffisante de lumière soit reçue par chaque cellule 114, l'enroulement 130 peut être en un matériau non transparent, par exemple en aluminium ou en molybdène. A titre d'exemple, on peut prévoir de réaliser l'enroulement 130 en un matériau opaque, et de dimensionner et disposer l'enroulement 130 de façon que la surface de chaque cellule 114 revêtue par l'enroulement soit inférieure ou égale à la moitié de la surface totale de la cellule. L'enroulement 130 peut alors avantageusement être formé dans le même niveau que l'écran opaque 237 de la figure 2. Dans un mode de réalisation particulièrement avantageux, l'enroulement 130 et l'écran opaque 237 de la figure 2 (revêtant le transistor 203) sont confondus, c'est-à-dire que, dans chaque cellule, l'enroulement 130 recouvre le transistor 203 et sert de masque opaque permettant d'éviter la photo-génération de charges électriques par le transistor 203.  Furthermore, it will be noted that in the case of an optical sensor, if the winding 130 is arranged so that a sufficient quantity of light is received by each cell 114, the winding 130 may be of a non-transparent material, for example aluminum or molybdenum. By way of example, it is possible to make the winding 130 of an opaque material, and to size and arrange the winding 130 so that the surface of each cell 114 coated by the winding is less than or equal to half of the total surface of the cell. The winding 130 can then advantageously be formed in the same level as the opaque screen 237 of FIG. 2. In a particularly advantageous embodiment, the winding 130 and the opaque screen 237 of FIG. 2 (coating the transistor 203) are combined, that is to say that, in each cell, the winding 130 covers the transistor 203 and serves as an opaque mask to prevent the photo-generation of electric charges by the transistor 203.
La réalisation de l'enroulement 130 en un matériau opaque permet avantageusement d'obtenir un enroulement présentant une meilleure conductivité électrique que ce qui peut typiquement être obtenu avec des matériaux conducteurs transparents . La figure 3 est une vue de dessus illustrant très schématiquement une variante de réalisation du dispositif d'acquisition d'empreintes digitales des figures 1 et 2. Dans l'exemple de la figure 3, le dispositif d'acquisition d'empreintes digitales 300 comprend un capteur d'empreintes digitales 310 à défilement, c'est-à-dire à dire un capteur présentant une surface d'acquisition inférieure à la surface d'empreinte à acquérir. Lors d'une acquisition, l'utilisateur fait défiler son doigt devant le capteur (ou le capteur défile devant le doigt de l'utilisateur) de façon que le capteur puisse acquérir une image complète de l'empreinte digitale. Le capteur 310 peut être un capteur optique, thermique, capacitif ou à pression, réalisé en technologie TFT, par exemple un capteur du type décrit en relation avec les figures 1 et 2. The embodiment of the winding 130 in an opaque material advantageously makes it possible to obtain a winding having a better electrical conductivity than can typically be obtained with transparent conductive materials. FIG. 3 is a view from above schematically illustrating an alternative embodiment of the fingerprint acquisition device of FIGS. 1 and 2. In the example of FIG. 3, the fingerprint acquisition device 300 comprises a scrolling fingerprint sensor 310, that is to say to say a sensor having an acquisition area smaller than the impression area to be acquired. During an acquisition, the user scrolls in front of the sensor (or the sensor scrolls in front of the finger of the user) so that the sensor can acquire a complete image of the fingerprint. The sensor 310 may be an optical sensor, thermal, capacitive or pressure, made in TFT technology, for example a sensor of the type described in connection with Figures 1 and 2.
Le dispositif 300 comprend en outre un détecteur de faux doigt du type décrit en relation avec les figures 1 et 2, c'est- à-dire basé sur une mesure d'inductance. Dans l'exemple de la figure 3, le détecteur de faux doigts comprend deux enroulements conducteurs 330 et 330', disposés respectivement en amont et en aval du capteur 310 par rapport au sens de défilement du doigt devant le capteur 310. Les enroulements 330 et 330' peuvent être identiques ou similaires. Les dimensions et la position des enroulements 330 et 330' sont de préférence choisies de façon que l'utilisateur ne puisse pas faire défiler son doigt devant le capteur 310 sans passer aussi devant les enroulements 330 et 330'. A titre d'exemple, la surface occupée par le capteur 310 et les enroulements 330 et 330' est inférieure à la surface d'une empreinte digitale, par exemple inférieure à 1 cm^ . A titre d'exemple non limitatif, chacun des enroulements 330 et 330' a des dimensions extérieures du même ordre que celles du capteur The device 300 further comprises a false finger detector of the type described in relation with FIGS. 1 and 2, that is to say based on an inductance measurement. In the example of FIG. 3, the false finger detector comprises two conductive windings 330 and 330 'disposed respectively upstream and downstream of the sensor 310 with respect to the direction of movement of the finger in front of the sensor 310. The windings 330 and 330 'may be the same or similar. The dimensions and the position of the windings 330 and 330 'are preferably chosen so that the user can not scroll his finger in front of the sensor 310 without also passing in front of the windings 330 and 330'. By way of example, the area occupied by the sensor 310 and the windings 330 and 330 'is smaller than the surface of a fingerprint, for example less than 1 cm 2. By way of nonlimiting example, each of the windings 330 and 330 'has external dimensions of the same order as those of the sensor
310. Les enroulements 330 et 330' n'étant pas disposés en regard du capteur 310, ils peuvent être réalisés en un matériau conducteur non transparent, par exemple en cuivre ou en aluminium, et ce même si le capteur 310 est un capteur optique. La prévision de deux enroulements conducteurs permet d'augmenter la fiabilité de la détection. Toutefois, à titre de variante, le dispositif 300 peut comprendre un unique enroulement conducteur placé en amont ou en aval du capteur 310 par rapport au sens de défilement du doigt, ou comprendre un nombre d'enroulements conducteurs supérieur à deux. Par ailleurs, les enroulements 330 et 330' peuvent avoir des dimensions, et donc des valeurs d'inductance différentes . 310. The windings 330 and 330 'are not arranged opposite the sensor 310, they can be made of a non-transparent conductive material, for example copper or aluminum, even if the sensor 310 is an optical sensor. The prediction of two conductive windings increases the reliability detection. However, alternatively, the device 300 may comprise a single conductive winding placed upstream or downstream of the sensor 310 relative to the direction of travel of the finger, or comprise a number of conductive windings greater than two. Furthermore, the windings 330 and 330 'may have dimensions, and therefore different inductance values.
La figure 4 est une vue de dessus illustrant schématiquement une autre variante de réalisation du dispositif d'acquisition d'empreintes digitales 100 des figures 1 et 2. Le dispositif d'acquisition d'empreintes digitales 400 de la figure 4 comprend des éléments communs avec le dispositif 100 de la figure 1. Dans la suite, seules les différences entre les dispositifs des figures 1 et 4 seront détaillées.  FIG. 4 is a view from above schematically illustrating another variant embodiment of the fingerprint acquisition device 100 of FIGS. 1 and 2. The fingerprint acquisition device 400 of FIG. 4 comprises elements that are common with FIG. the device 100 of Figure 1. In the following, only the differences between the devices of Figures 1 and 4 will be detailed.
Le dispositif 400 comprend un capteur d'empreintes 110 optique, thermique, capacitif ou à pression, réalisé en technologie TFT, similaire ou identique à celui de la figure 1. Dans l'exemple de la figure 4, la matrice de cellules élémentaires 114 est divisée en plusieurs sous-matrices comportant chacune plusieurs cellules 114, correspondant à plusieurs zones d'acquisition distinctes du capteur, quatre zones 412a, 412b, 412c et 412d dans l'exemple de la figure 4, chaque zone d'acquisition étant adaptée à effectuer une acquisition statique d'une partie de l'empreinte d'un doigt ou de la paume de l'utilisateur.  The device 400 comprises an optical, thermal, capacitive or pressure fingerprint sensor 110, made of TFT technology, similar or identical to that of FIG. 1. In the example of FIG. 4, the matrix of elementary cells 114 is divided into several sub-matrices each comprising several cells 114, corresponding to several acquisition zones distinct from the sensor, four zones 412a, 412b, 412c and 412d in the example of FIG. 4, each acquisition zone being adapted to perform a static acquisition of a part of the fingerprint or the palm of the user.
Le dispositif 400 comprend en outre un circuit 116 The device 400 further comprises a circuit 116
(CTRL) de commande des cellules élémentaires 114, et un circuit 118 (RD) de lecture des valeurs de sortie des cellules 114. Les circuits 116 et 118 sont par exemple identiques ou similaires à ceux du dispositif 100 de la figure 1. (CTRL) for controlling the elementary cells 114, and a circuit 118 (RD) for reading the output values of the cells 114. The circuits 116 and 118 are for example identical or similar to those of the device 100 of FIG.
Le dispositif 400 comprend en outre un enroulement conducteur 430 disposé au-dessus de chacune des zones d'acquisition du capteur 110, soit quatre enroulements conducteurs 430 dans l'exemple de la figure 4. Chaque enroulement conducteur 430 du dispositif 400 est par exemple identique ou similaire à l'enroulement 130 du dispositif 100 de la figure 1. A titre d'exemple non limitatif, chaque enroulement 430 a des dimensions extérieures sensiblement identiques à celles de la zone d'acquisition au-dessus de laquelle il se trouve. Chaque enroulement 430 a ses extrémités reliées à un circuit 132 de mesure de l'inductance de cet enroulement. Les enroulements 430 et le circuit 132 forment des éléments d'un détecteur de faux doigt . The device 400 further comprises a conductive winding 430 disposed above each of the acquisition zones of the sensor 110, ie four conductive windings 430 in the example of FIG. 4. Each conductive winding 430 of the device 400 is for example identical or similar to the winding 130 of the device 100 of FIG. non-limiting example, each winding 430 has outer dimensions substantially identical to those of the acquisition area above which it is located. Each winding 430 has its ends connected to a circuit 132 for measuring the inductance of this winding. The windings 430 and the circuit 132 form elements of a false finger detector.
Lorsqu'un objet, par exemple un doigt, est placé sur le capteur 110, il peut recouvrir ou non une zone d'acquisition. A titre d'exemple illustratif, le doigt peut recouvrir la majeure partie de la zone 412a, et ne pas couvrir ou couvrir seulement une faible partie des zones 412b, 412c et 412d. Dans ce cas, si le doigt est authentique, la détection de vrai doigt sera positive dans la zone 412a et négative dans les autres zones. Le dispositif peut alors vérifier la cohérence entre l'image acquise par le capteur 110 et les mesures d'inductance réalisées par le circuit 132. A titre d'exemple, la décision d'authenticité du doigt (ou de la paume) peut être prise indépendamment pour chaque zone recouverte par le doigt. Si toutes les zones ayant fourni une partie de l'image de l'empreinte sont considérées valides, l'empreinte acquise peut être considérée comme étant authentique. Si en revanche des zones ayant fourni une partie de l'image de l'empreinte sont considérées comme non valides, une alarme peut être déclenchée. Ceci permet de détecter, dans une même phase d'acquisition, la présence sur une partie de la surface du capteur, d'un doigt authentique, et, sur une autre partie de la surface du capteur, d'un faux. Un certain nombre de fausses détections peut éventuellement être toléré. Des consolidations spatiales et temporelles peuvent être prévues pour améliorer la robustesse du système.  When an object, for example a finger, is placed on the sensor 110, it may or may not cover an acquisition zone. By way of illustrative example, the finger can cover most of the area 412a, and not cover or cover only a small portion of the areas 412b, 412c and 412d. In this case, if the finger is authentic, the detection of real finger will be positive in the zone 412a and negative in the other zones. The device can then check the coherence between the image acquired by the sensor 110 and the inductance measurements made by the circuit 132. By way of example, the decision of authenticity of the finger (or the palm) can be taken independently for each area covered by the finger. If all the areas that provided part of the fingerprint image are considered valid, the acquired fingerprint can be considered authentic. If, on the other hand, zones having provided a part of the image of the impression are considered as invalid, an alarm can be triggered. This makes it possible to detect, in the same acquisition phase, the presence on a part of the surface of the sensor, of an authentic finger, and, on another part of the surface of the sensor, of a false. A number of false detections may possibly be tolerated. Spatial and temporal consolidations can be planned to improve the robustness of the system.
A titre d'exemple, la surface de chaque zone du capteur peut être comprise entre 2 et 100 mm^ . La surface et le nombre de zones peut être adapté en fonction de l'utilisation envisagée. A titre d'exemple, un capteur destiné à l'acquisition de l'empreinte d'un doigt peut avoir une taille d'environ 13x20 mm, et être divisé en 6 à 12 zones surmontées chacune par un enroulement conducteur. A titre de variante, un capteur destiné à l'acquisition de l'empreinte de quatre doigts simultanément peut avoir une taille d'environ 80x80 mm, et être divisé en 64 à 256 zones surmontées chacune par un enroulement conducteur. By way of example, the area of each zone of the sensor may be between 2 and 100 mm 2. The area and the number of zones can be adapted according to the intended use. By way of example, a sensor intended for the acquisition of a fingerprint may have a size of approximately 13 × 20 mm, and may be divided into 6 to 12 zones each surmounted by a conductive winding. Alternatively, a sensor for acquisition of the fingerprint of four fingers simultaneously can have a size of about 80x80 mm, and be divided into 64 to 256 zones each surmounted by a conductive winding.
En pratique, les inventeurs ont déterminé que, dans des dispositifs d'acquisition d'empreintes digitales du type décrit en relation avec les figures 1 à 4, il est préférable de ne pas effectuer une mesure d'inductance du ou des enroulements conducteurs du détecteur de faux doigts en même temps que l'on acquière une empreinte via le capteur d'empreintes. L'application d'une tension ou d'un courant aux bornes de l'enroulement conducteur pour mesurer son inductance risque en effet de provoquer, au niveau des transistors TFT du capteur d'empreintes, des interférences ou perturbations électromagnétiques susceptibles d'entraîner des dysfonctionnements du capteur.  In practice, the inventors have determined that, in fingerprint acquisition devices of the type described with reference to FIGS. 1 to 4, it is preferable not to make an inductance measurement of the conductive winding (s) of the detector. false fingers at the same time as one acquires a fingerprint via the fingerprint sensor. The application of a voltage or a current across the conductor winding to measure its inductance may indeed cause, at the level of the TFT transistors of the fingerprint sensor, electromagnetic interferences or disturbances likely to cause malfunctions of the sensor.
Pour éviter de tels dysfonctionnements, on peut prévoir d'effectuer les opérations de détection de faux doigt et d'acquisition d'empreinte successivement. De préférence, on prévoit alors un temps relativement court, par exemple inférieur à 50 ms et de préférence inférieur à 10 ms entre la fin d'une phase de détection de faux doigt et le début d'une phase d'acquisition d'empreinte, afin de prévenir une utilisation frauduleuse dans laquelle un utilisateur mal intentionné substituerait un faux doigt à un vrai doigt entre l'opération de détection de faux doigt et l'opération d'acquisition d'empreinte. Pour plus de sécurité, une deuxième opération de détection de faux doigt peut en outre être mise en oeuvre juste après l'acquisition de l'empreinte. A titre de variante, pour renforcer encore la sécurité du dispositif, une alternance d'opérations de détection de faux doigt et d'opérations d'acquisitions de l'empreinte du doigt peut être prévue, de préférence à une fréquence relativement élevée, par exemple supérieure ou égale à 10 Hz.  To avoid such malfunctions, it is possible to perform the fingerprint detection and fingerprint acquisition operations successively. Preferably, provision is then made for a relatively short time, for example less than 50 ms and preferably less than 10 ms between the end of a false finger detection phase and the start of a fingerprint acquisition phase, to prevent fraudulent use in which a malicious user would substitute a false finger for a real finger between the false finger detection operation and the fingerprint acquisition operation. For added security, a second false finger detection operation can also be implemented just after the acquisition of the fingerprint. Alternatively, to further enhance the security of the device, an alternation of false finger detection operations and fingerprint acquisition operations can be provided, preferably at a relatively high frequency, for example greater than or equal to 10 Hz.
Dans certains capteurs optiques, thermiques, capacitifs, ou à pression, réalisés en technologie TFT, l'acquisition d'une image d'une empreinte digitale peut comporter plusieurs phases successives d'acquisition de portions de l'empreinte. A titre d'exemple, dans le capteur de la figure 3, des tranches ou lignes de l'image du doigt sont acquises successivement par le capteur 310. De plus, dans le capteur de la figure 1, des lignes de l'image du doigt peuvent être acquises et lues successivement par le capteur 110. Dans ce cas, on peut prévoir un procédé de commande du dispositif dans lequel, entre deux phases successives d'acquisition d'une portion de l'image du doigt, on prévoit une phase de détection de faux doigt, ce qui procure un niveau de sécurité particulièrement élevé au dispositif . In certain optical, thermal, capacitive, or pressure sensors, made in TFT technology, the acquisition of an image of a fingerprint may comprise several successive phases of acquisition of portions of the fingerprint. By way of example, in the sensor of FIG. 3, slices or lines of the image of the finger are successively acquired by the sensor 310. Moreover, in the sensor of FIG. 1, lines of the image of the Finger can be acquired and read successively by the sensor 110. In this case, it is possible to provide a control method for the device in which, between two successive phases of acquisition of a portion of the image of the finger, a phase is provided. false finger detection, which provides a particularly high level of security to the device.
La figure 5 est un diagramme illustrant, sous forme de blocs, un exemple non limitatif d'un tel procédé de commande d'un dispositif d'acquisition d'empreintes digitales comprenant un détecteur de faux doigts à mesure d'inductance du type décrit en relation avec la figure 3.  FIG. 5 is a diagram illustrating, in the form of blocks, a nonlimiting example of such a method of controlling a fingerprint acquisition device comprising an inductance-type false-finger detector of the type described in FIG. relationship with Figure 3.
Lors d'une étape 501 (FINGER DETECTED ?) , le dispositif est par exemple dans un mode de veille, et surveille l'arrivée éventuelle d'un doigt au-dessus du capteur. Cette détection peut être effectuée par mesure de l'inductance d'un enroulement conducteur du dispositif, ou par tout autre moyen adapté.  During a step 501 (FINGER DETECTED?), The device is for example in a standby mode, and monitors the possible arrival of a finger above the sensor. This detection can be performed by measuring the inductance of a conductive winding of the device, or by any other suitable means.
Si un objet, par exemple un doigt, est détecté sur le capteur, une étape 503 (SENSE L) de détection de faux doigt, comprenant la mesure de l'inductance d'un enroulement conducteur du dispositif, est mise en oeuvre.  If an object, for example a finger, is detected on the sensor, a step 503 (SENSE L) for detecting a false finger, comprising measuring the inductance of a conductive winding of the device, is implemented.
Lors d'une étape 505 (SPOOF ?) postérieure à l'étape 503, le dispositif détermine si la valeur d'inductance mesurée à l'étape 503 est susceptible de correspondre à la présence d'un faux doigt sur le capteur. Cette détermination peut se faire en vérifiant si la valeur d'inductance est inférieure à un seuil bas, correspondant à la présence, au-dessus de l'enroulement, d'un matériau insuffisamment conducteur par rapport à un vrai doigt, par exemple un faux doigt en latex, ou supérieure à un seuil haut, correspondant à la présence, au-dessus de l'enroulement, d'un matériau trop conducteur par rapport à un vrai doigt, par exemple un faux doigt métallique. In a step 505 (SPOOF?) Subsequent to step 503, the device determines whether the inductance value measured in step 503 is likely to correspond to the presence of a false finger on the sensor. This determination can be made by checking whether the inductance value is lower than a low threshold, corresponding to the presence, above the winding, of a material insufficiently conductive compared to a real finger, for example a false latex finger, or greater than a high threshold, corresponding to the presence, above the winding, of a material too conductive compared to a real finger, for example a false metal finger.
Si un faux doigt est détecté, un compteur de détection de faux doigt peut être incrémenté lors d'une étape 507 (CPT) . A titre de variante, une alarme peut être déclenchée à ce stade. Le procédé peut alors se poursuivre à l'étape 509.  If a false finger is detected, a false finger detection counter may be incremented in a step 507 (CPT). Alternatively, an alarm can be triggered at this stage. The process can then proceed to step 509.
Lors d'une étape 509 (READ) postérieure à l'étape 505, une image vue par le capteur d'empreintes du dispositif, correspondant à une portion de l'image de l'empreinte du doigt, est acquise et mémorisée.  During a step 509 (READ) subsequent to step 505, an image viewed by the fingerprint sensor of the device, corresponding to a portion of the image of the fingerprint, is acquired and stored.
Lors d'une étape 511 (FINGER STILL PRESENT ?) , le dispositif vérifie si un doigt est toujours présent au-dessus du capteur. Si un doigt est toujours présent, les étapes 503 à 511 sont réitérées. Si le doigt n'est plus présent, le procédé d'acquisition se termine. L'image de l'empreinte peut alors être reconstruite lors d'une étape 513, à partir des portions d'images acquises lors des itérations successives de l'étape 509. Lors de l'étape 513, le dispositif peut en outre, en tenant compte de la valeur du compteur de détections de faux doigt (étape 507) , décider de déclencher ou non une alarme. A titre d'exemple, un taux d'erreur de détections de faux inférieur ou égal à 1% peut être acceptable.  During a step 511 (FINGER STILL PRESENT?), The device checks whether a finger is still present above the sensor. If a finger is still present, steps 503 to 511 are repeated. If the finger is no longer present, the acquisition process ends. The image of the impression can then be reconstructed during a step 513, from the image portions acquired during the successive iterations of the step 509. In the step 513, the device can also, in taking into account the value of the false finger detection counter (step 507), decide whether or not to trigger an alarm. By way of example, a false detection error rate of less than or equal to 1% may be acceptable.
Des modes de réalisation particuliers ont été décrits. Diverses variantes et modifications apparaîtront à l'homme de l'art.  Particular embodiments have been described. Various variations and modifications will be apparent to those skilled in the art.
En particulier, les modes de réalisation décrits ne se limitent pas aux exemples particuliers de structures TFT décrites en relation avec la figure 2. D'autres types de structures TFT peuvent être prévues, par exemple des structures TFT dans lesquelles les électrodes de grille des transistors sont disposées du côté de la couche semiconductrice opposé au substrat de support .  In particular, the embodiments described are not limited to the particular examples of TFT structures described with reference to FIG. 2. Other types of TFT structures may be provided, for example TFT structures in which the gate electrodes of the transistors are disposed on the side of the semiconductor layer opposite to the support substrate.
Par ailleurs, les modes de réalisation décrits ne se limitent pas aux exemples particuliers décrits ci-dessus de disposition du ou des enroulements conducteurs du détecteur de faux doigt par rapport au capteur d'empreintes. Moreover, the described embodiments are not limited to the particular examples described above of arrangement of the conductive winding (s) of the false finger detector with respect to the fingerprint sensor.
De plus, les modes de réalisation décrits ne se limitent pas aux exemples susmentionnés de procédés de commande du dispositif d'acquisition d'empreintes digitales. En particulier, bien que l'on ait indiqué ci-dessus comme préférable de séparer temporellement les phases de mesure d'inductance par le détecteur de faux doigts, et les phases d'acquisition d'image par le capteur d'empreintes, les modes de réalisation décrits ne se limitent pas à ce cas particulier. En fonction des circonstances, on pourra prévoir d'effectuer simultanément la détection de faux doigt par mesure d'inductance et l'acquisition d'une image de l'empreinte digitale .  In addition, the described embodiments are not limited to the aforementioned examples of control methods of the fingerprint acquisition device. In particular, although it has been indicated above that it is preferable to temporally separate the inductance measurement phases by the false finger detector, and the image acquisition phases by the fingerprint sensor, the modes described embodiments are not limited to this particular case. Depending on the circumstances, it will be possible to simultaneously perform the false finger detection by inductance measurement and the acquisition of an image of the fingerprint.
En outre, bien que l'on ait décrit ci-dessus des exemples de réalisation de dispositifs adaptés à l'acquisition d'une empreinte d'un seul doigt d'un utilisateur, les modes de réalisation décrits peuvent être adaptés à des dispositifs adaptés à acquérir simultanément les empreintes de plusieurs doigts d'un utilisateur, ou à acquérir l'empreinte de la paume d'un utilisateur. A titre d'exemple illustratif et non limitatif, dans l'exemple de la figure 1, pour réaliser un dispositif adapté à acquérir en parallèle les empreintes de quatre doigts d'un utilisateur, le capteur 110 peut comporter 1400 à 1600 lignes et 1500 à 1700 colonnes de cellules élémentaires, et, pour réaliser un dispositif d'acquisition d'une empreinte palmaire (empreinte de la paume ou de la main entière) , le capteur 110 peut comporter 2600 à 2800 lignes et 3900 à 4100 colonnes.  In addition, although embodiments of devices adapted to the acquisition of a fingerprint of a single finger of a user have been described above, the embodiments described can be adapted to adapted devices. to simultaneously acquire the fingerprints of several fingers of a user, or to acquire the imprint of the palm of a user. By way of illustrative and non-limiting example, in the example of FIG. 1, to produce a device adapted to acquire in parallel the fingerprints of a user's fingers, the sensor 110 may comprise 1400 to 1600 lines and 1500 to 1700 columns of elementary cells, and, to achieve a device for acquiring a palm footprint (fingerprint of the palm or the entire hand), the sensor 110 may comprise 2600 to 2800 lines and 3900 to 4100 columns.

Claims

REVENDICATIONS
1. Dispositif (100 ; 300 ; 400) d'acquisition d'empreintes digitales ou palmaires, comprenant : A fingerprint or palmar acquisition device (100; 300; 400) comprising:
un capteur d'empreintes (110 ; 310 ; 410) comportant, sur un substrat de support (112), une pluralité de cellules (114) d'acquisition d'empreintes, chaque cellule (114) comportant un élément (201) de conversion photoélectrique, pyroélectrique, capacitif ou piézoélectrique, et au moins un transistor TFT (203) ; et  a fingerprint sensor (110; 310; 410) having, on a support substrate (112), a plurality of finger acquisition cells (114), each cell (114) having a conversion element (201). photoelectric, pyroelectric, capacitive or piezoelectric, and at least one TFT transistor (203); and
un détecteur de faux doigts comportant au moins un enroulement conducteur (130 ; 330, 330' ; 430) et un circuit (132) de mesure d'une grandeur représentative de l'inductance de cet enroulement (130 ; 330, 330' ; 430),  a false finger detector having at least one conductive winding (130; 330,330 '; 430) and a circuit (132) for measuring a magnitude representative of the inductance of said winding (130; 330,330; )
dans lequel ledit au moins un enroulement (130 ; 330, 330' ; 430) est disposé au-dessus du substrat.  wherein said at least one winding (130; 330, 330 '; 430) is disposed above the substrate.
2. Dispositif (100 ; 400) selon la revendication 1, dans lequel l'enroulement (130 ; 430) et le capteur (110 ; 410) sont superposés .  The device (100; 400) according to claim 1, wherein the winding (130; 430) and the sensor (110; 410) are superimposed.
3. Dispositif (400) selon la revendication 2, comprenant plusieurs enroulements (430) superposés à des zones d'acquisition (412a, 412b, 412c, 412d) distinctes du capteur (410) .  3. Device (400) according to claim 2, comprising a plurality of windings (430) superimposed on acquisition areas (412a, 412b, 412c, 412d) separate from the sensor (410).
4. Dispositif (300) selon la revendication 1, dans lequel, l'enroulement (330, 330') et le capteur (310) ne sont pas superposés .  4. Device (300) according to claim 1, wherein the winding (330, 330 ') and the sensor (310) are not superimposed.
5. Dispositif (300) selon l'une quelconque des revendications 1 à 4, dans lequel le capteur (310) est un capteur à défilement, présentant une surface d'acquisition inférieure à la surface de l'empreinte à acquérir.  5. Device (300) according to any one of claims 1 to 4, wherein the sensor (310) is a scroll sensor having an acquisition surface smaller than the surface of the impression to be acquired.
6. Dispositif (100 ; 300 ; 400) selon l'une quelconque des revendications 1 à 5, dans lequel l'ensemble formé par le capteur (110 ; 310 ; 410) et l'enroulement (130 ; 330, 330' ; 430) est revêtu d'une couche isolante de protection (239) .  The device (100; 300; 400) according to any one of claims 1 to 5, wherein the assembly formed by the sensor (110; 310; 410) and the winding (130; 330,330; ) is coated with an insulating protective layer (239).
7. Dispositif (100 ; 300 ; 400) selon la revendication 6, dans lequel l'épaisseur de la couche isolante de protection (239) au-dessus de l'enroulement (130 ; 330, 330' ; 430) est inférieure à 50 um et de préférence inférieure à 10 um. The device (100; 300; 400) according to claim 6, wherein the thickness of the protective insulating layer. (239) above the winding (130; 330,330 '; 430) is less than 50 μm and preferably less than 10 μm.
8. Dispositif (100 ; 300 ; 400) selon l'une quelconque des revendications 1 à 7, dans lequel l'enroulement (130 ; 330, 330' ; 430) est en un matériau conducteur transparent.  The device (100; 300; 400) according to any one of claims 1 to 7, wherein the winding (130; 330,330 '; 430) is of a transparent conductive material.
9. Dispositif (100 ; 300 ; 400) selon l'une quelconque des revendications 1 à 7, dans lequel chaque cellule (114) comprend un élément de conversion photoélectrique, et l'enroulement (130 ; 330, 330' ; 430) est en un matériau conducteur opaque .  The device (100; 300; 400) according to any one of claims 1 to 7, wherein each cell (114) comprises a photoelectric conversion element, and the winding (130; 330,330 '; 430) is in an opaque conductive material.
10. Dispositif (100 ; 400) selon l'une quelconque des revendications 1 à 9, dans lequel l'extrémité intérieure de l'enroulement (130 ; 430) est reliée à un noeud d'application d'un potentiel de référence d'une cellule (114) sous-jacente .  The device (100; 400) according to any one of claims 1 to 9, wherein the inner end of the winding (130; 430) is connected to an application node of a reference potential of an underlying cell (114).
11. Dispositif (100 ; 300 ; 400) selon l'une quelconque des revendications 1 à 10, dans lequel les cellules d'acquisition (114) sont disposées en matrice.  11. Device (100; 300; 400) according to any one of claims 1 to 10, wherein the acquisition cells (114) are arranged in a matrix.
12. Dispositif (100 ; 300 ; 400) selon l'une quelconque des revendications 1 à 11, dans lequel le substrat (112) est transparent.  The device (100; 300; 400) according to any one of claims 1 to 11, wherein the substrate (112) is transparent.
13. Procédé de commande d'un dispositif (100 ; 300 ; 400) selon l'une quelconque des revendications 1 à 12, dans lequel les opérations de mesure d'inductance effectuées par le circuit de mesure (132) et les opérations d'acquisition d'empreinte par le capteur (110 ; 310 ; 410) ne sont pas mises en oeuvre simultanément .  A method of controlling a device (100; 300; 400) according to any one of claims 1 to 12, wherein the inductance measuring operations performed by the measuring circuit (132) and the operations of fingerprint acquisition by the sensor (110; 310; 410) are not performed simultaneously.
14. Procédé selon la revendication 13, dans lequel l'acquisition d'une empreinte digitale par le capteur (110 ; 310 ; 410) comprend plusieurs phases successives (509) d'acquisition de portions de l'empreinte, ces phases successives étant séparées deux à deux par une phase (503) de mesure de l'inductance de l'enroulement (130 ; 330, 330' ; 430) .  14. The method of claim 13, wherein the acquisition of a fingerprint by the sensor (110; 310; 410) comprises several successive phases (509) of acquisition portions of the footprint, these successive phases being separated two by two by a phase (503) for measuring the inductance of the winding (130; 330, 330 '; 430).
PCT/FR2015/052204 2014-08-22 2015-08-13 Device for obtaining fingerprints WO2016027028A1 (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR1457928 2014-08-22
FR1457928A FR3025042B1 (en) 2014-08-22 2014-08-22 DEVICE FOR ACQUIRING DIGITAL IMPRESSIONS

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2016027028A1 true WO2016027028A1 (en) 2016-02-25

Family

ID=52339225

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/FR2015/052204 WO2016027028A1 (en) 2014-08-22 2015-08-13 Device for obtaining fingerprints

Country Status (2)

Country Link
FR (1) FR3025042B1 (en)
WO (1) WO2016027028A1 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108241841A (en) * 2016-12-26 2018-07-03 长春方圆光电技术有限责任公司 A kind of anti-vacation refers to palm print collection system

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR1457928A (en) 1964-12-30 1966-11-04 Joy Mfg Co Adjustable mount for rock punches
US6774396B1 (en) * 1999-01-20 2004-08-10 Lg Philips Lcd Co., Ltd. Thin film transistor type optical sensor
WO2012158950A1 (en) * 2011-05-17 2012-11-22 Cross Match Technologies, Inc. Fingerprint sensors
WO2014015095A1 (en) 2012-07-20 2014-01-23 Authentec, Inc. Finger sensor including magnetic field sensing pixels and corresponding method of sensing finger characteristics

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR1457928A (en) 1964-12-30 1966-11-04 Joy Mfg Co Adjustable mount for rock punches
US6774396B1 (en) * 1999-01-20 2004-08-10 Lg Philips Lcd Co., Ltd. Thin film transistor type optical sensor
WO2012158950A1 (en) * 2011-05-17 2012-11-22 Cross Match Technologies, Inc. Fingerprint sensors
WO2014015095A1 (en) 2012-07-20 2014-01-23 Authentec, Inc. Finger sensor including magnetic field sensing pixels and corresponding method of sensing finger characteristics

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108241841A (en) * 2016-12-26 2018-07-03 长春方圆光电技术有限责任公司 A kind of anti-vacation refers to palm print collection system

Also Published As

Publication number Publication date
FR3025042A1 (en) 2016-02-26
FR3025042B1 (en) 2018-05-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP3376544B1 (en) Optical imaging device
CA2206825C (en) Fingerprints reading system
FR2739977A1 (en) MONOLITHIC SENSOR OF DIGITAL IMPRESSIONS
FR3065307A1 (en) DEVICE FOR CAPTURING AN IMPRESSION OF A BODY PART.
FR3044408B1 (en) THERMAL PATTERN SENSOR WITH HORIZONTAL PYROELECTRIC CAPABILITY
FR2755526A1 (en) SYSTEM FOR READING DIGITAL IMPRESSIONS WITH INTEGRATED HEATING RESISTORS
EP2904425B1 (en) Method and device for detecting ionising radiation using a pixellated photodetector
FR3054696A1 (en) THERMAL PATTERN SENSOR WITH MUTUALIZED HEATING ELEMENTS
EP3210162A1 (en) Device for acquiring digital fingerprints
EP2836896B1 (en) Touch sensor and a fabrication method therefor
EP2908109A1 (en) Bolometric detector with MIM structure including a thermometer element
FR3054698A1 (en) ACTIVE THERMAL PATTERN SENSOR COMPRISING A PASSIVE MATRIX OF PIXELS
FR2954854A1 (en) PHOTODETECTOR WITH PLASMON STRUCTURE
WO2013153327A1 (en) User interface device having transparent electrodes
EP3384256B1 (en) Method for capturing a heat pattern
FR3044409A1 (en) THERMAL PATTERN SENSOR COMPRISING A HIGH PYROELECTRIC PORTION WITH HIGH THERMAL CONDUCTIVITY
CA2959650A1 (en) Heat pattern sensors with encapsulated bolometers
FR3069938A1 (en) THERMO-RESISTIVE CAPSULE CAPTURE DEVICE ADAPTED TO PASSIVE ADDRESSING
EP3435285B1 (en) Thermal sensor with two superimposed pyroelectric portions, for measuring a load differential
EP2823441B1 (en) Procedure and device for counting objects
WO2016027028A1 (en) Device for obtaining fingerprints
WO2004061757A1 (en) Method of determining the living character of an element bearing a fingerprint
EP3276585B1 (en) Active thermal sensor adapted to large pixels
FR2849273A1 (en) Structure of matrix of multispectral detectors, comprises layers of semiconductor material separated by thin dielectric layers and feedthroughs for collecting electric charges
EP4149232A1 (en) Matrix device for image sensor, comprising thin-film transistors and organic photodiodes

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 15759900

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 15759900

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1